JP3442669B2 - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハや液晶ディスプレイ用のガラス基板などの基板に対し
て例えば塗布液の塗布処理などを行う基板処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程におけるフォ
トリソグラフィー技術においては半導体ウエハ(以下ウ
エハという)の表面にレジストを塗布し、この塗布レジ
ストを所定パターンに露光処理し、更に現像処理して所
定パターンのレジスト膜が形成される。このような一連
の処理は、塗布/現像部に露光部を接続した装置により
行われる。
【0003】図9及び図10はこのような装置の従来例
を示す概観図であり、基板例えば半導体ウエハを25枚
収納した基板カセットCはカセットステーションA1の
カセットステ−ジ1に搬入される。カセットステーショ
ンA1には処理ステーションA2が接続されており、処
理ステーションA2にはインターフェイスステーション
A3を介して露光ステーションA4が接続されている。
前記カセットステ−ジ1上のカセットC内のウエハW
は、受け渡しアーム11により取り出されて処理ステー
ションA2に送られる。処理ステーションA2は、ウエ
ハWが多段に載置される棚ユニットを3個(12、1
3、14)備えており、棚ユニット12、13、14の
各棚は、加熱部、冷却部、ウエハWの受け渡し部などと
して構成されている。更に処理ステーションA2はウエ
ハWにレジスト液を塗布する塗布ユニット15、露光後
のウエハWを現像する現像ユニット16及びウエハ搬送
手段17を備えている。
【0004】ウエハ搬送手段17は、進退自在、水平方
向に回転自在、昇降自在に構成されており、棚ユニット
12の中の受け渡し部を通じて受け取ったウエハWを棚
ユニット12、13、14(例えば加熱部や冷却部や疎
水化部など)と塗布ユニット15との間で搬送し、また
棚ユニット13の中の受け渡し部を通じて受け取った露
光後のウエハWを棚ユニット12、13、14の加熱部
や冷却部と現像ユニット16との間で搬送する。なお1
8は受け渡しアームである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の塗
布、現像装置の使い方として、例えばレジスト液の塗布
ユニット15の数を増やす場合があり、処理ユニットA
2には塗布ユニット15だけを配置し、次段に別の処理
ステーションを継ぎ足すことがある。この場合1基のウ
エハ搬送手段17に対して塗布ユニット15を上下に4
個配置して処理を行うとウエハWの搬送が追いつかなく
なってスループットが落ちるため、一つの処理ステーシ
ョンには2個の塗布ユニットと1基のウエハ搬送手段1
7を持たせて、その処理ステーションを複数接続すると
いう考え方も検討されている。しかしながらその場合ウ
エハWは、一の処理ステーションのウエハ搬送手段→受
け渡し部→隣りの処理ステーションのウエハ搬送手段→
塗布ユニットの経路で流れるため、ウエハWの受け渡し
に時間がかかり、スループットが低くなるという課題が
ある。
【0006】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、基板を処理する処理ユニット
及び基板の搬送手段を備えた処理ステーションを用いて
基板の処理を行う装置において、スループットの高い処
理を行うことのできる装置を提供することにある。また
本発明の他の目的は、スル−プットの高い装置を組立て
る上で製造、組立が容易な装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る基
板処理装置は、 (a)複数の基板を収納した基板カセットを載置する載
置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して
基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセット
ステ−ションと、このカセットステ−ションに接続さ
れ、前記受け渡し手段により搬送された基板を処理する
処理ステ−ションと、を有し、 (b)前記処理ステ−ションは、複数のステ−ションブ
ロックを接続してなり、複数のステ−ションブロックの
うち少なくともカセットステ−ション側から数えてk番
目(kは1以上の整数)のステ−ションブロックと(k
+1)番目のステ−ションブロックとは平面的な大きさ
が同じであると共に、基板に対して塗布液を塗布する処
理ユニットと塗布液が塗布された基板を加熱するための
加熱部が配置された棚を含む棚ユニットと処理ユニット
及び棚ユニットに対して基板の受け渡しをする基板搬送
手段とを備え、 (C)k番目及び(k+1)番目のステ−ションブロッ
クは、基板搬送手段、棚ユニット及び処理ユニットの配
置のレイアウトが同一であり、k番目のステ−ションブ
ロックの基板搬送手段が自己のステ−ションブロックの
処理ユニットと(k+1)番目のステ−ションブロック
の処理ユニットとの両方に対して基板の受け渡しができ
るように構成され、またk番目のステ−ションブロック
の基板搬送手段から基板が(k+1)番目の棚ユニット
の受け渡し部に受け渡すことができる ように構成されて
いることを特徴とする。このような構成によれば、一の
ステ−ションブロック内に送られた基板は、当該ステ−
ションブロック内の処理ユニットが塞がっていれば、隣
りのステ−ションブロックの処理ユニットに基板搬送手
段により直接に搬送されるので、処理ユニットの数を増
やすにあたって、高いスル−プットを確保できる。更に
この発明によれば、ステ−ションブロックをいわば汎用
化でき、これらをシステムに応じて所望の数だけ接続す
ればよいので、製造及び組み立てが用意である。
【0008】
【0009】
【0010】これら発明において、処理ユニットは、
えばレジスト液を基板に塗布処理するものであり、カセ
ットステ−ション側から数えて最終段のステ−ションブ
ロック側には露光装置が接続され、当該最終段のステ−
ションブロック内の処理ユニットは、前記露光装置にて
露光された基板に対して現像処理するものである構成で
ある。この場合、最終段のステ−ションブロックは、当
該ステ−ションブロック専用の清浄気体フィルタユニッ
トを備えており、周囲が壁部で囲まれていてブロック内
が閉じられた空間である構成とすることができる。また
本発明においては、基板搬送手段は、基板を搬送する進
退自在なアームを備えると共にそのアームが鉛直軸周り
及び上下に移動自在に構成され、前記棚ユニットを第1
の棚ユニットとすると、前記基板に加熱を施す加熱部及
び冷却処理を施す冷却部を複数積層して構成された第2
の棚ユニットが、前記基板搬送手段の回転中心から見て
前記第1の棚ユニットの方向に対して直角な方向に設け
られ、処理ユニットは複数積層されると共に、前記基板
搬送手段の回転中心から見て前記第1の棚ユニット及び
第2の棚ユニットとは別の方向に設けられ、k番目のス
テーションブロックから(k+1)番目のステーション
ブロックに至るまでの第1の棚ユニットと基板搬送手段
との並びが一直線である構成とすることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に本発明を基板の塗布、現像
装置に適用した実施の形態について説明する。図1はこ
の実施の形態の概略平面図、図2は内部を透視して示す
概観図である。図中S1はカセットステーション、S2
は処理ステーション、S3はインターフェイスステーシ
ョン、S4は露光ステーションである。
【0012】カセットステーションS1は、複数の基板
例えば25枚のウエハWを収納した基板カセットである
ウエハカセット(以下単にカセットという)Cを載置す
るカセットステ−ジ、例えば4個のカセットCを載置す
るカセットステ−ジ21と、カセットステ−ジ21上の
カセットCと後述の受け渡し部との間でウエハWの受け
渡しを行うための受け渡し手段である受け渡しアーム2
2とを備えている。受け渡しアーム22は、昇降自在、
X、Y方向移動自在、鉛直軸まわりに移動自在に構成さ
れている。
【0013】処理ステーションS2は、複数のステーシ
ョンブロック例えばウエハにレジストを塗布するための
2個のステーションブロックB1、B2と、露光後のウ
エハに対して現像を行うステ−ションブロックB3とを
接続して構成される。カセットステーションS1側から
見て1番目のステーションブロックB1及び2番目のス
テーションブロックB2は各部分の配置のレイアウトも
含めて同一の構成であり、処理ユニットである2個の塗
布ユニット3と多段の棚を有する2個の棚を有する2個
の棚ユニットR1、R2と、基板搬送手段であるウエハ
搬送手段5と、を備えている。
【0014】2個の塗布ユニット3は2段に積み重ねて
設けられており、その構成について図3を参照しながら
簡単に述べる。31はカップであり、このカップ31内
に真空吸着機能を有する回転自在なスピンチャック32
が設けられている。このスピンチャック32は昇降機構
33により昇降自在に構成されており、カップ31の上
方側に位置しているときに、前記ウエハ搬送手段5のア
ーム51との間でウエハWの受け渡しが行われる。この
ウエハWの受け渡しについては、アーム51がカバ−3
0に形成された搬送口30aからカバ−30内に進入
し、アーム51上のウエハWをスピンチャック32がそ
の下方側から相対的に上昇して受け取り、またその逆の
動作によってスピンチャック32側からアーム51に受
け渡される。34は吐出ノズル、35はレジスト液供給
管、36はノズルを水平移動させる支持アームであり、
スピンチャック32上のウエハWの表面に吐出ノズル3
4からレジスト液を滴下し、スピンチャック32を回転
させてレジスト液をウエハW上に仲展させ塗布する。
【0015】ステーションブロックB1、B2内の各部
のレイアウトについては、ステーションブロックB1
(B2)内におけるカセットステーションS1側には一
方の棚ユニットR1が設けられており、カセットステー
ションS1から見て棚ユニットR1の奥側にウエハ搬送
手段5が配置されている。なお以後の説明ではカセット
ステーションS1側を手前側、露光ステーションS4側
を奥側として述べることにする。他方の棚ユニットR2
はカセットステーションS1側から見てウエハ搬送手段
5の左側に、また塗布ユニット3はウエハ搬送手段5の
右側に配置されており、搬送手段5によって棚ユニット
R1、R2及び塗布ユニット3に対してウエハWの受け
渡しが行われる。
【0016】前記棚ユニットR1(R2)は、図4に示
すようにウエハWを加熱するための加熱部41、ウエハ
を冷却する冷却部42、ウエハ表面を疎水化する疎水化
部43が縦に配列されており、一方の棚ユニットR1に
おいては、カセットステーションS1の受け渡しアーム
22とステーションブロックB1の搬送手段4との間で
ウエハWの受け渡しを行うための受け渡し台を備えた受
け渡し部44とウエハWの位置合わせを行うためのアラ
イメント部45とが設けられている。この例では、ステ
ーションブロックB1の棚ユニットR1には、アライメ
ント部45が設けられ、隣りのステーションブロックB
2の棚ユニットR1にはアライメント部45は設けられ
ておらず、この点では両棚ユニットR1、R1の間で差
異があるが、棚ユニットR1を設けるという点では同一
の構成であり、本発明の請求項でいうステーションブロ
ックB1、B2が同一の構成であることに相当する。
【0017】前記ウエハ搬送手段5は図5に示すように
ウエハWを保持するアーム51と、このアーム51を進
退自在に支持する基台52と、この基台52を昇降自在
に支持する一対の案内レ−ル53、54と、これら案内
レ−ル53、54の上端及び下端を夫々連結する連結部
材55、56と、案内レ−ル53、54を及び連結部材
55、56よりなる枠体57を鉛直軸周りに回転自在に
駆動するために案内レ−ル下端の連結部材56に一体的
に取り付けられた回転駆動部57と、案内レ−ル上端の
連結部材55に設けられた回転軸部58と、を備えてい
る。
【0018】アーム51は、夫々ウエハWを保持し得る
ように3段構成になっており、その各格段にそれぞれ設
けられた例えば3片の爪部59の上にウエハWの周縁を
載せるようになっている。アーム51の基端部は基台5
6の長手方向に設けられた案内溝50に沿ってスライド
移動し得るようになっている。そのスライド移動による
アーム51の進退移動は、図示しない駆動手段により駆
動制御される。また基台52の昇降移動は、図示しない
別の駆動手段により駆動制御される。従ってそれら2つ
の図示しない駆動手段、案内溝50、前記案内レ−ル5
3、54及び前記回転駆動部57は、アーム51を鉛直
軸周りに回転自在かつ昇降自在かつ進退自在に駆動する
駆動部を構成している。なお59aは、アーム51の上
にウエハWが有るか無いかを検出する光センサを取り付
けたセンサ支持部材であり、基台52に固定されてい
る。
【0019】ステーションブロックB1、B2は、既述
のように同一の構成であり、カセットステーションS1
側から見てステーションブロックB2がステーションブ
ロックB1の奥側になるようにかつ互に同じ向きになる
ように接続されている。図2においてステーションブロ
ックB1とB2との境界に線が引かれているが、この境
界線は壁を示すものではなく床面及び天井部の接合部を
便宜上示したものである。そしてこの実施の形態で重要
なことは、ステーションブロックB1のウエハ搬送手段
5は、自己のステーションブロックB1の塗布ユニット
4と隣のステーションブロックB2の塗布ユニット4と
に対してウエハWの受け渡し(アクセス)を行うことが
できることである。
【0020】ここで説明が容易なようにステーションブ
ロックB1内の塗布ユニット3及びウエハ搬送手段5の
符号を夫々3−B1及び5−B1とし、ステーションブ
ロックB2内の塗布ユニット3及びウエハ搬送手段5の
符号を夫々3−B2及び5−B2とする。塗布ユニット
3−B1においては、ウエハ搬送手段5−B1に対向す
る領域に搬送口30a(図4参照)が形成され、また塗
布ユニット3−B2においてはウエハ搬送手段3−B1
及び3−B2に対向する領域に搬送口30aが形成され
ている。そして図6に示すようにウエハ搬送手段5−B
1の回転中心Pは、両塗布ユニット3−B1、3−B2
の各スピンチャック32の中心Qから等距離に位置して
おり、アーム51が同じストロ−クで各スピンチャック
32に対してウエハWの受け渡しができるようになって
いる。このことは塗布ユニット3−B2に着目すれば、
両ウエハ搬送手段5−B1、5−B2からウエハWの受
け渡しが可能であることを意味している。
【0021】次いでウエハに対して現像を行うステーシ
ョンB3について述べると、このステーションB3にお
いては、ステーションブロックB2寄り及びインターフ
ェイスステーションS3寄りに夫々棚ユニットR3、R
4が設けられると共に、左側に棚ユニットR5が、また
右側に2個ずつ上下に現像ユニット6が夫々設けられて
いる。棚ユニットR3〜R5は、既述の棚ユニットR
1、R2とほぼ同じ構成であり、加熱部や冷却部が配置
されている。ただし棚ユニットR3、R4には、夫々ス
テーションB2、インターフェイスステーションS3と
の間でウエハWの受け渡しを行うための受け渡し部が設
けられている。
【0022】また現像ユニット6は、図3に示した塗布
ユニット3とほぼ同一の構成であるが、例えば現像液供
給ノズルはウエハWの直径方向に配列された多数の供給
孔が設けられている点などに差異がある。前記棚ユニッ
トR3〜R5及び現像ユニット6に囲まれた領域の中央
部には、例えば既述のウエハ搬送手段5と同様のウエハ
搬送手段61が配置されており、棚ユニットR3〜R5
及び現像ユニット6、6の間でウエハWの搬送を行う。
【0023】そしてこのステーションブロックB3は、
各ユニットR3〜R5及び6が置かれている空間が閉じ
られている。ここでいう空間が閉じられているとは、左
右が装置本体の外装体である壁部分であり、隣りのステ
ーションブロックB2、インターフェイスステーション
S3との間に夫々仕切り壁62、63が設けられ(図
1、図7参照)、更に天井部にフィルタユニットFが設
けられていて外部からの空気がこのフィルタユニットF
を通って中に入っていくように構成されているというこ
とである。図7中64はウエハWの受け渡し口である。
【0024】フィルタユニットFは、空気を清浄化する
ためのフィルタ、空気中のアルカリ成分例えばアンモニ
ア成分やアミンを除去するために酸成分が添加されてい
る化学フィルタ、及び吸い込みファンなどを備えてい
る。この実施の形態ではレジスト液として化学増幅型の
レジストを用いており、このため現像処理雰囲気にアル
カリ成分が入り込むことを防止する必要があるので、ス
テーションブロックB内を閉じた空間とし、化学フィル
タを用いて外部からのアルカリ成分の侵入を防いでい
る。
【0025】なお化学増幅型のレジストは、露光するこ
とにより酸が生成し、この酸が加熱処理により拡散して
触媒として作用し、レジスト材料の主成分であるベ−ス
樹脂を分解したり分子構造を変えて現像液に対して可溶
化するものである。従ってこの種のレジストを用いた場
合、空気中に含まれている微量なアンモニアや壁の塗料
などから発生するアミンなどのアルカリ成分がレジスト
表面部の酸と接触すると、酸による触媒反応が抑制さ
れ、パターンの形状が劣化するためアルカリ成分を除去
する必要がある。
【0026】装置全体の説明に戻ると、ステーションブ
ロックB3の隣りにはインターフェイスステーションS
3が接続され、このインターフェイスステーションS3
の奥側には、レジスト膜が形成されたウエハWに対して
露光を行うための露光ステーションS4が接続されてい
る。インターフェイスステーションS3は、ステーショ
ンブロックB3と露光ステーションS4との間でウエハ
Wの受け渡しを行うための受け渡しアームISAやバッ
ファカセットBFCなどが設けられている。
【0027】次に上述の実施の形態の作用について説明
する。先ず自動搬送ロボット(あるいは作業者)により
例えば25枚のウエハWを収納したカセットCがカセッ
トステ−ジ21に搬入され、受け渡しアーム22によ
り、カセットC内からウエハWが取り出されてステーシ
ョンブロックB1の棚ユニットR1内の受け渡し部44
内に置かれる。このウエハWは疎水化部43(図5参
照)で疎水化された後、塗布ユニット3−B1に搬送さ
れ、レジストが塗布される。続いて棚ユニットR1また
はR2の加熱部41で加熱され、冷却部42で冷却され
た後、ステーションブロックB2の棚ユニットR1の受
け渡し部44を介してウエハ搬送手段5−B2に受け渡
される。なおレジストの塗布処理に比べて加熱冷却に要
する時間が長いため、加熱部41、冷却部42の数を多
くしてある。
【0028】ここでステーションブロックB1の説明に
戻るが、ウエハWが順次棚ユニットR1の受け渡し部4
4に送られ、塗布ユニット3−B1が塞がっているとき
には、ウエハ搬送手段5−B1は隣りのステーションブ
ロックB2の塗布ユニット3−B2にウエハWを直接搬
送する。そしてレジストが塗布された後、ウエハ搬送手
段5−B2により取り出されて例えばステーションブロ
ックB2内の加熱部41、冷却部42に順次搬送され
る。なお塗布ユニット3−B1でレジストが塗布された
ウエハWは、処理しているロットのウエハ枚数などに応
じて隣りのステーションブロックB2で加熱、冷却する
ようにしてもよいし、また塗布ユニット3−B2でレジ
ストが塗布されたウエハWは、ウエハ搬送手段5−B1
によりステーションブロックB1内の棚ユニットR1
(R2)に搬送して加熱、冷却するようにしてもよい。
このようにステ−ションブロックB1あるいはステーシ
ョンブロックB2で一連の処理がされたウエハWは、ウ
エハ搬送手段5−B2からステーションブロックB3の
棚ユニットR3の受け渡し部44→ウエハ搬送手段61
→棚ユニットR4の受け渡し部44→インターフェイス
ステーションS3の受け渡しアームISA→露光ステー
ションS4の経路で搬送され、露光ステーションS4に
て露光が行われる。
【0029】露光後のウエハWは逆の経路でステーショ
ンブロックB3に送られ、例えば化学増幅型のレジスト
を用いた場合、棚ユニットR3(あるいはR5、R6)
にて加熱、冷却され、現像ユニット6にて現像処理され
る。その後ウエハWはステーションブロックB2を介し
てB1に送られ、棚ユニットR1の受け渡し部44を介
して例えば元のカセットC内に戻される。
【0030】上述実施の形態では、カセットステーショ
ンS1からステーションブロックB1に送られたウエハ
Wを自己の塗布ユニット3−B1のみならず隣のステー
ションブロックB2の塗布ユニット3−B2にも直接受
け渡すことができ、また塗布ユニット3−B2にて処理
されたウエハWは、両ステーションブロックB1、B2
のウエハ搬送手段5−B1、5−B2のいずれからもア
クセス可能である。従ってステーションブロックB1の
塗布ユニット3−B1が塞がっている場合には、ステー
ションブロックB1から受け渡し部44及び隣りのステ
ーションブロックB2のウエハ搬送手段5−B2を介在
させることなく直接塗布ユニット3−B2に受け渡さ
れ、その後例えばステーションブロックB2内にて加熱
処理されるため、塗布ユニットの数を増やすにあたっ
て、平面的に並べられた例えば2個の塗布ユニット(こ
の例では3−B1、3−B2)に夫々専用の2基のウエ
ハ搬送手段を設ける場合に比べ、高いスループットを得
ることができる。更にステーションブロックB1、B2
を同一の構成としているので、いわば汎用化されたブロ
ックを塗布ユニット3の必要な数に応じて継ぎ足してい
けばよいので、製造、組立が容易であり、コスト的にも
有利である。
【0031】以上において本発明は、レジストの塗布処
理を行うステーションブロックB1(B2)の接続数が
2個に限らず3個以上であってもよい。上述の実施の形
態に係るステーションブロックB1、B2は夫々特許請
求の範囲でいうk番目(k=1)、(k+1)番目のス
テーションブロックに対応するものである。また現像処
理を行うステーションブロックB3についても適宜継ぎ
足していくようにしてもよい。
【0032】更に、図8は他の実施の形態を示す図であ
る。この例は、先の実施の形態のステーションブロック
B1、B2を一つのブロックC1として構成したものつ
まり構造的に一体化したものであり、他の部分は先の実
施の形態と同様である。棚ユニット、塗布ユニット及び
ウエハ搬送手段については変わるところがないので、既
述の符号と同一の符号を付してある。なお特許請求の範
囲の記載と対応させると、カセットステーションS1に
近い方の塗布ユニット3(3−1)が第1の処理ユニッ
トに、他方の塗布ユニット3(3−2)が第2の処理ユ
ニットに夫々相当する。またカセットステーションS1
に近い方のウエハ搬送手段5(5−1)が第1の基板搬
送手段に、他方のウエハ搬送手段5(5−2)が第2の
基板搬送手段に夫々相当する。
【0033】このような実施の形態においてもウエハ搬
送手段5(5−1)が両方の塗布ユニット3(3−1、
3−2)に対してウエハの受け渡しを行うことができる
ので、塗布ユニットの数を増やしながら、高いスループ
ットが得られる。
【0034】なお本発明ではステーションブロックB1
(B2)あるいはC1内に塗布ユニット3と現像ユニッ
ト6とを混在させてもよいし、ステーションブロックB
3内に塗布ユニット3と現像ユニット6とを混在させて
もよい。また現像処理を行うステーションブロックB3
は、開放されていてもよく、例えばステーションブロッ
クB2との間に仕切り壁がなくともよい。そしてまたス
テーションブロックB2のウエハ搬送手段5−B2はス
テーションブロックB3内の現像ユニット3に対しても
ウエハWの受け渡しができるように構成してもよい。基
板としてはウエハに限らず液晶ディスプレイ用のガラス
基板であってもよい。また本発明は塗布、現像装置に限
らず、例えばSiO2 の前駆物質の溶液をウエハ上にス
ピンコーティングにより塗布する塗布ユニットを処理ス
テーションに設け、塗布後のウエハを加熱してSiO2
膜を形成する塗布装置に適用してもよい。
【0035】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、処理ユニ
ットを複数備えた基板処理装置において高いスループッ
トを得ることができるという効果がある。また処理ユニ
ットを含む同一構成のステーションブロックを複数接続
する構成を採用することによってステーションブロック
を汎用化できるので製造、組立が容易でコスト的にも有
利であるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る塗布、現像装置を示
す概観図である。
【図2】本発明の実施の形態に係る塗布、現像装置を示
す概略平面図である。
【図3】塗布ユニットを示す断面図である。
【図4】棚ユニットを示す側面図である。
【図5】ウエハ搬送手段を示す斜視図である。
【図6】ウエハ搬送手段が塗布ユニットに対してウエハ
の受け渡しを行う様子を示す概略平面図である。
【図7】現像を行うためのステーションブロックを示す
概観図である。
【図8】本発明の他の実施の形態に係る塗布、現像装置
を示す概略平面図である。
【図9】従来の塗布、現像装置を示す概観図である。
【図10】従来の塗布、現像装置を示す概略平面図であ
る。
【符号の説明】
S1 カセットステーション S2 処理ステーション S3 インターフェイスステーション S4 露光ステーション W ウエハ C ウエハカセット 21 カセットステージ 22 受け渡しアーム B1〜B3 ステーションブロック 3 塗布ユニット 30a 搬送口 32 スピンチャック R1〜R5 棚ユニット 5 ウエハ搬送手段 51 アーム 52 基台 6 現像ユニット 61 ウエハ搬送手段 C1 ステーションブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−247674(JP,A) 特開 平5−251337(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 H01L 21/68

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)複数の基板を収納した基板カセッ
    トを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カ
    セットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、
    を含むカセットステ−ションと、このカセットステ−シ
    ョンに接続され、前記受け渡し手段により搬送された基
    板を処理する処理ステ−ションと、を有し、 (b)前記処理ステ−ションは、複数のステ−ションブ
    ロックを接続してなり、複数のステ−ションブロックの
    うち少なくともカセットステ−ション側から数えてk番
    目(kは1以上の整数)のステ−ションブロックと(k
    +1)番目のステ−ションブロックとは平面的な大きさ
    が同じであると共に、基板に対して塗布液を塗布する処
    理ユニットと塗布液が塗布された基板を加熱するための
    加熱部が配置された棚を含む棚ユニットと処理ユニット
    及び棚ユニットに対して基板の受け渡しをする基板搬送
    手段とを備え、 (C)k番目及び(k+1)番目のステ−ションブロッ
    クは、基板搬送手段、棚ユニット及び処理ユニットの配
    置のレイアウトが同一であり、k番目のステ−ションブ
    ロックの基板搬送手段が自己のステ−ションブロックの
    処理ユニットと(k+1)番目のステ−ションブロック
    の処理ユニットとの両方に対して基板の受け渡しができ
    るように構成され、またk番目のステ−ションブロック
    の基板搬送手段から基板が(k+1)番目の棚ユニット
    の受け渡し部に受け渡すことができる ように構成されて
    いることを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 前記k番目のステ−ションブロックは、
    カセットステ−ションに接続される第1番目のステーシ
    ョンブロックであり、このステ−ションブロックの棚ユ
    ニットの受け渡し部に対して前記カセットステーション
    の受け渡し手段からも基板の受け渡しを行うことができ
    るように構成されていることを特徴とする請求項1記載
    基板処理装置。
  3. 【請求項3】 処理ユニットは、レジスト液を基板に塗
    布処理するものであり、 カセットステ−ション側から数えて最終段のステ−ショ
    ンブロック側には露光装置に接続されるインターフェイ
    スステイションが接続され、当該最終段のステ−ション
    ブロック内には、前記露光装置にて露光された基板に対
    して現像処理するためのユニットが含まれていることを
    特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
  4. 【請求項4】 最終段のステ−ションブロックは、当該
    ステ−ションブロック専用の清浄気体フィルタユニット
    を備えており、周囲が壁部で囲まれていてブロック内が
    閉じられた空間であることを特徴とする請求項3記載の
    基板処理装置。
  5. 【請求項5】 前記棚ユニットは上部側に基板を加熱す
    る加熱部が設けられ、下部側に基板を冷却する冷却部
    設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のい
    ずれかに記載の基板処理装置。
  6. 【請求項6】 基板搬送手段は、基板を搬送する進退自
    在なアームを備えると共にそのアームが鉛直軸周り及び
    上下に移動自在に構成され、 前記棚ユニットを第1の棚ユニットとすると、前記基板
    に加熱を施す加熱部及び冷却処理を施す冷却部を複数積
    層して構成された第2の棚ユニットが、前記基板搬送手
    段の回転中心から見て前記第1の棚ユニットの方向に対
    して直角な方向に設けられ、 処理ユニットは複数積層されると共に、前記基板搬送手
    段の回転中心から見て前記第1の棚ユニット及び第2の
    棚ユニットとは別の方向に設けられ、k番目のステーシ
    ョンブロックから(k+1)番目のステーションブロッ
    クに至るまでの第1の棚ユニットと基板搬送手段との並
    びが一直線であることを特徴とする請求項1ないし5の
    いずれかに 記載の基板処理装置。
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