JP4915033B2 - 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、半導体素子、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン等のマイクロデバイス、さらにはフォトマスク（レチクル）等の製造に際してリソグラフィ工程で用いられる露光装置、該露光装置にインラインにて接続される基板処理装置、及びこれら露光装置及び基板処理装置を含んで構成されるリソグラフィシステム、並びに前記露光装置又はリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、上述した半導体素子等のマイクロデバイスの製造を行う際のリソグラフィ工程では、種々の露光装置が用いられている。近年では、マスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを投影光学系を介してフォトレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、「ウエハ」と総称する）上に転写する露光装置が主として用いられている。この種の露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）が主流であったが、最近ではレチクルとウエハとを投影光学系に対し同期して走査させて露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）も多く用いられるようになってきた。
【０００３】
リソグラフィ工程には、露光装置を用いた露光工程に前後して、ウエハの表面にレジストを塗布するレジスト塗布工程や、レチクルパターンの転写後のウエハを現像する現像工程が含まれる。かかるレジスト塗布工程や現像工程で用いられる装置として、例えばウエハを高速回転させながらそのウエハ上にレジストを滴下し、ウエハの回転を利用してウエハ表面にレジストを均一に塗布するスピンコータ又はノズルとウエハとを相対移動するスキャンコータ等のレジスト塗布装置（コータ）の機能と、現像装置（デベロッパ）の機能とを併せ持ったコータ・デベロッパ（以下、「Ｃ／Ｄ」と略述する）と呼ばれる塗布・現像装置がある。
【０００４】
リソグラフィ工程では、上記のレジスト塗布工程、露光工程、現像工程などの処理工程毎に、処理ロット（処理の対象であるウエハのロット）を投入する煩雑さを避け、また、最近多く用いられるようになってきた高感度レジストの一種である化学増幅型レジストなどの化学的特性を維持しつつ、スループットを向上させる目的で、露光装置の例えば右横あるいは左横又は前方（あるいは後方）に、Ｃ／Ｄを設置し、これらを直接あるいは接続部を介して接続し、被処理体（被処理ウエハ）を装置間で自動で搬送する、広くインライン接続と呼ばれるシステム構成が多く採用されている。
【０００５】
かかる露光装置とＣ／Ｄとのインライン接続を採用するリソグラフィシステムでは、露光装置とＣ／Ｄとの間には、ウエハを相互間で受け渡すための、受け渡し部が設けられていることが殆どである。また、Ｃ／Ｄは、装置内にウエハの搬送系を持っており、塗布工程が行われる塗布部と現像工程が行われる現像部と受渡し部との間で、一定の手順で被処理ウエハを循環搬送している。また、露光装置も、装置内に搬送系を持っており、露光が行われるウエハステージと受渡し部との間で被処理ウエハを循環搬送することがなされている。
【０００６】
この他、上記のリソグラフィシステムでは、更に必要に応じて、冷却部やベーク部、さらに必要に応じて被処理ウエハを一時的に保管しておくバッファ部が設けられていることも多い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
露光装置とＣ／Ｄとをインライン接続したリソグラフィシステムにおいては、受け渡し部でウエハの受け渡しを行う際に、そのウエハの受け渡しが確実に行われるように装置間で通信を行うため、それぞれの装置には、通信と搬送制御を行う制御部が設けられている。
【０００８】
しかしながら、従来のリソグラフィシステムでは、互いの装置間は、受け渡し部でのウエハの受け渡しに関わる通信、例えばウエハの受け渡し要求、受け渡し可能・禁止、受け渡し完了、などウエハの受け渡しに関する通信を、逐次リアルタイムにのみ行っていた。
【０００９】
そのため、Ｃ／Ｄ側が、自装置内のウエハの搬送を最適に行うよう、一定の手順に従って循環搬送を行い、その循環搬送中に露光処理前のウエハを露光装置側に送るため、受け渡し部を介して送ろうとしても、相手側の露光装置が受け取れないことや、受け渡し部から、露光装置側で露光処理済みのウエハを受け取ろうとしても未だそのウエハが受け渡し部に送られて来ていないなどの状態が生じることがあった。そのため、余計な待ち時間や、場合により循環搬送の空振りが起こり、次の循環のタイミングまでウエハの搬送が行われないなどの事態が起こっていた。
【００１０】
一方、露光装置では、ウエハステージ上で、絶え間なくウエハの処理が行われる程効率が良い。そのため、ウエハステージ上のウエハが存在しない空き状態がなるべく生じないように、ウエハステージ上へのウエハの搬入と露光処理済みのウエハのウエハステージからの搬出とを交互に、あるいは同時に行う必要がある。露光後のウエハでは、化学変化が持続しており、なるべく即座にしかもウエハ毎にばらつかないように搬出し、次のＣ／Ｄでのベーク・現像の工程に回す必要がある。
【００１１】
かかる事情を考慮し、露光装置側では、装置内への搬入、装置外への搬出の順序でウエハ搬送を行っているが、受け渡し部から露光処理前のウエハを受け取ろうとしても、Ｃ／Ｄ側からまだ送られて来ないので受け取れないことや、露光処理済みのウエハを受け渡し部を介してＣ／Ｄ側へ送り出そうとしても、Ｃ／Ｄ側が受け取れないなどの状態が生じることがあった。このような場合、一定期間待って、露光未処理のウエハが送られて来るか監視し、もし一定時間待っても来ず、かつその時点で露光処理が終わっていれば、ウエハの搬入をとりやめ、露光処理済みのウエハの搬出動作を行うように、循環動作を切り替えるため、空振りと一定時間の待ち時間ロスとが生じることがあった。
【００１２】
以上の説明は、露光装置内の搬送系がウエハの搬入とウエハの搬出を交互に行う場合であるが、仮にウエハの搬入と搬出とを同時に行う場合でも、受け渡し部での律速により待ち時間ロスは生じてしまう。
【００１３】
すなわち、それぞれの装置は自己完結して最適に動くことが可能でも、受け渡し部を中心に、連携させた場合、Ｃ／Ｄ側のウエハ搬送の巡回動作と、露光装置側のウエハ搬送の巡回動作とが合わず、しばしば無駄時間、空振りが起こり、スループット低下を招くことがあった。
【００１４】
しかるに、従来は、ウエハはその直径が８インチ（約２００ｍｍ）以下のものが中心であり、ウエハの管理をロット毎に行っていたため、上述した時間ロスや空振り等に起因するスループットの低下はそれほど大きな問題とはなっていなかった。
【００１５】
しかしながら、ウエハサイズは半導体素子の高集積化に伴って更に大型化し、今後は直径１２インチ（約３００ｍｍ）ウエハの時代となり、今後の運用としてはウエハ毎のウエハ管理が必須になるであろうと言われている。このようなウエハ毎の管理を行う運用では、上述した時間ロスや空振り等に起因するスループットの低下が従来に増して大きな問題になることは確実である。
【００１６】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、基板処理装置とインライン接続され、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供することにある。
【００１７】
本発明の第２の目的は、露光装置にインライン接続され、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることが可能な基板処理装置を提供することにある。
【００１８】
本発明の第３の目的は、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるリソグラフィシステム及びデバイス製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記基板処理装置に対して送信する制御装置と、を備える露光装置である。
【００２０】
本明細書において、「情報」なる用語は、データあるいはデータの集合の他、信号をも含む広義の概念である。
【００２１】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報を、次の動作の開始に先立って基板処理装置に対して送信する。これにより、基板処理装置側に処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、その動作の開始に先立って決定させることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。また、前記情報は、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含む。これにより、例えば情報を受け取った基板処理装置では、露光処理済みの基板を取りに行った際に、もし数秒で露光装置側から露光処理済みの基板が送られて来るならば、その間だけ待ち、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【００２７】
この場合において、請求項２に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板処理装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、例えば制御装置から基板処理装置に対して、基板を搬出するまで所定秒待てというような情報が出力される。この場合も、基板処理装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００２８】
また、上記請求項１及び２に記載の各露光装置において、請求項３に記載の露光装置の如く、前記制御装置は、更に、前記特定情報として、基板の搬送に関する情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置は、基板処理装置から基板の搬送に関する情報を受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定するので、基板処理装置側における基板の搬送に関する効率に加え、露光装置側における基板の搬送に関する効率も向上する。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの一層の向上が可能となる。
【００２９】
請求項４に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記基板処理装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することを特徴とする制御装置と、を備える露光装置である。
【００３０】
これによれば、前記制御装置は、前記特定情報として、前記基板処理装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置では、その情報により基板処理装置側が基板の送り出しが可能となるタイミングを知ることができるので、なるべく無駄時間が生じることなく、基板の受け取りが可能となるような基板の搬送に関する次の動作を決定することができる。例えば、制御装置では、基板を受け取りに行った際に、基板処理装置側が送り出し可能となるまでの時間が短い、例えば１、２秒である場合には、その時間だけ待って基板を受け取り、非常に時間がかかるならば、受けとるための搬送動作を行わず基板を搬出する動作のみを行うこととすれば、ロス時間が短縮される。すなわち、基板を受け取りに行って一定時間待つという無駄な動作が生じないようになる。このため、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
【００３１】
この場合において、請求項５に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、基板処理装置側から制御装置に対して、例えば基板の送り出しが可能となるまで所定秒待てというような情報が送られる。かかる場合も、制御装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００３２】
また、上記請求項４及び５に記載の各露光装置において、請求項６に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記基板処理装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。かかる場合には、情報を受け取った制御装置では、露光処理済みの基板を基板処理装置へ渡そうとした際に、もし数秒で、基板処理装置側が基板の受け取りが可能となるならば、その間だけ待ち、長く時間が掛かるならば、他の動作、例えば基板の搬入動作を先に行った後、基板を基板処理装置へ渡すことが可能となり、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【００３３】
また、上記請求項４〜６に記載の各露光装置において、請求項７に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、基板処理装置側から制御装置に対して、例えば基板の受け取りが可能となるまで所定秒待てというような情報が送られる。かかる場合も、制御装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００３４】
請求項８に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する制御装置と、を備える基板処理装置である。
【００３５】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報を、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する。これにより、露光装置側に処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作を、その動作の開始に先立って決定させることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることが可能となる。
【００３９】
この場合において、請求項９に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の搬送を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４０】
また、上記請求項８及び９に記載の各基板処理装置において、請求項１０に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。
【００４１】
また、上記請求項８〜１０に記載の各基板処理装置において、請求項１１に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４２】
また、上記請求項８〜１１に記載の各基板処理装置において、請求項１２に記載の基板処理装置の如く、前記制御装置は、さらに、前記特定情報として、前記露光装置から基板の搬送に関する情報を受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置は、露光装置から基板の搬送に関する情報を受け取り、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定するので、露光装置側における基板の搬送に関する効率に加え、基板処理装置側における基板の搬送に関する効率も向上する。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの一層の向上が可能となる。
【００４３】
請求項１３に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記露光装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する制御装置と、を備える基板処理装置である。
【００４４】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記露光装置から受信する。これにより、制御装置が、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作を、その動作の開始に先立って決定することができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることが可能となる。
【００４５】
この場合において、請求項１４に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４６】
また、上記請求項１３及び１４に記載の各基板処理装置において、請求項１５に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記露光装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。
【００４７】
また、上記請求項１３〜１５に記載の各基板処理装置において、請求項１６に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４８】
請求項１７に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置とを備え、前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、予め定めた優先権を有する装置が、相手方の装置に要求却下情報を送り、前記相手方の装置は、前記要求却下情報に従って前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステムである。
【００４９】
これによれば、前記露光装置と前記基板処理装置との間で送受信される情報は、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を含み、前記双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、予め定めた優先権を有する装置が、相手方の装置に要求却下情報を送り、前記相手方の装置は、前記要求却下情報に従って前記抑制情報を取り下げることとすることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの向上が可能となる。
【００５０】
この場合において、露光装置と基板処理装置との間で直接前記情報を送受信しても良いが、請求項１７に記載のリソグラフィシステムの如く、前記露光装置と前記基板処理装置との間の前記情報の送受信を仲介する別の装置を更に備えることとしても良い。
【００５１】
請求項１９に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置と、前記露光装置と前記基板処理装置とを統括して制御する上位装置とを備え、前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、前記上位装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステムである。
これによれば、前記露光装置と前記基板処理装置との間で送受信される情報は、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を含み、前記双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、前記上位装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、前記抑制情報を取り下げさせることとすることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの向上が可能となる。
請求項２０に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、前記基板処理装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記基板処理装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する露光装置である。
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
この場合において、請求項２１に記載の露光装置の如く、前記複数の搬送動作は、前記基板処理装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むこととすることができる。
また、この場合において、請求項２２に記載の露光装置の如く、前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、前記複数の搬送動作は、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むこととすることができる。
請求項２３に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、前記露光装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記露光装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する基板処理装置である。
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
この場合において、請求項２４に記載の基板処理装置の如く、前記複数の搬送動作とは、前記露光装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むこととすることができる。
また、この場合において、請求項２５に記載の基板処理装置の如く、前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、前記複数の搬送動作とは、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むこととすることができる。
【００５２】
請求項２６に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する工程を含むデバイス製造方法である。
【００５３】
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５４】
請求項２７に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が前記露光装置から受信する工程と、前記基板処理装置が、前記情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する工程と、を含むデバイス製造方法である。
【００５５】
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５６】
請求項２８に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ工程では、本発明の基板処理装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法である。
【００５７】
これによれば、リソグラフィ工程において、本発明の基板処理装置が用いられるので、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図４に基づいて説明する。
【００５９】
図１には、本発明に係る露光装置及び基板処理装置を含んで構成された一実施形態に係るリソグラフィシステムの構成が示されている。
【００６０】
この図１に示されるリソグラフィシステム１００は、露光装置１０と、基板処理装置としてのＣ／Ｄ５０と、これらの装置１０、５０をインラインにて接続するインライン・インタフェース部（以下、「インラインＩ／Ｆ部」と呼ぶ）１１０とを備えている。このリソグラフィシステム１００は、クリーンルーム内に設置されている。
【００６１】
以下においては、便宜上、図１における紙面内の左右方向をＸ軸方向、図１における紙面内でこれに直交する方向（上下方向）をＹ軸方向、及びこれらＸ軸、Ｙ軸に直交する紙面直交方向をＺ軸方向として、説明を行うものとする。
【００６２】
前記露光装置１０は、図１に示されるように、そのＹ軸方向の中央やや−Ｙ側寄りの部分に配置された仕切り壁１４により、その内部が露光室１２Ａとローダ室１２Ｂとに区画されたチャンバ１６を備えている。この内、ローダ室１２Ｂ内に、露光装置側の基板搬送系としてのウエハローダ系４０の大部分が収納され、露光室１２Ａ内に不図示のレチクルのパターンをウエハステージＷＳＴ上の基板としてのウエハＷに転写する露光装置本体（ウエハステージＷＳＴ及び投影光学系ＰＬ以外の部分は図示省略）が収納されている。
【００６３】
ウエハローダ系４０は、Ｘ軸方向に延びるＸガイド１８と、この上方（図１における紙面手前側）に位置し、Ｙ軸方向に延びるＹガイド２０とを搬送ガイドとして備えている。Ｙガイド２０は、仕切り壁１４を貫通した状態で設けられている。また、ローダ室１２Ｂ内のＸガイド１８の−Ｙ側には、Ｘ軸方向に所定間隔を隔ててキャリア台２２Ａ、２２Ｂが配置され、これらのキャリア台２２Ａ、２２Ｂ上に、複数枚のウエハを収納可能なオープンキャリア（Open Carrier：以下、適宜「ＯＣ」と略述する）２４Ａ、２４Ｂが載置されている。これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂは、チャンバ１６の−Ｙ側の側壁に設けられた不図示の扉によって開閉可能な不図示の出し入れ口を介して出し入れされるようになっている。これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂの出し入れは、ＰＧＶ（Person Guided Vehicle：手動型搬送車）によって搬送しオペレータの手作業によって行っても良いが、ＡＧＶ（Automated Guided Vehicle：自走型搬送車）により搬送した後、自動的に行うようにしても良い。勿論、ＯＨＴ（Over Head Transfer）を用いて、上方からＯＣ２４Ａ、２４Ｂをキャリア台２２Ａ、２２Ｂ上にそれぞれ設置しても構わない。また、ＯＣ２４Ａ、２４Ｂは、Ｃ／Ｄ５０とのインラインによる運用ではなく、露光装置１０内に直接ウエハを投入する際に用いられる。
【００６４】
前記Ｘガイド１８上には、不図示の駆動装置に駆動されＸガイド１８に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）２６が設けられている。
また、Ｙガイド２０には、不図示の駆動装置によって駆動され、該Ｙガイド２０に沿って移動するウエハ・ロードアーム２８とウエハ・アンロードアーム３０とが設けられている。
【００６５】
さらに、Ｙガイド２０の−Ｙ方向端部の−Ｘ側の位置で、キャリア台２２Ａ、２２Ｂの間には、ターンテーブル（回転テーブル）３２が配置され、このターンテーブル３２からＹ方向に所定距離隔てた位置に不図示のウエハエッジセンサが配置されている。
【００６６】
図示は省略されているが、ウエハステージＷＳＴは、防振パッドによって保持された定盤上でＸＹ２次元移動し、このウエハステージＷＳＴに保持されたウエハＷに対してレチクルパターンが転写されるようになっている。
【００６７】
この他、ローダ室１２Ｂ内には、上記のウエハローダ系４０の各部を制御するとともに、後述するＣ／Ｄ側の制御装置との間で通信回線を介して情報の交換、すなわち通信を行うローダ制御装置３４が設けられている。
【００６８】
前記インラインＩ／Ｆ部１１０は、露光装置１０を構成するチャンバ１６の−Ｘ側に配置されたチャンバ１１２、該チャンバ１１２内部の＋Ｘ側の端部近傍に配置されたインライン受け渡し部１１４及び該インライン受け渡し部１１４の−Ｘ側に配置された水平多関節型ロボット１１６等を備えている。
【００６９】
前記インライン受け渡し部１１４は、図２に示されるように、基台１２２と、該基台１２２上にＹ軸方向に所定間隔で設けられた３本１組の支持ピンから成るウエハ受け渡し部１２４Ａ、１２４Ｂとを備えている。
【００７０】
なお、インライン受け渡し部は、図２に示されるものに限らず、例えば図３に示されるように、上下方向に所定間隔で配置され不図示の駆動機構によって連動して上下方向に駆動されるロード側のウエハ受け渡し部１２６Ａ及びアンロード側のウエハ受け渡し部１２６Ｂを有する構成としても良い。ウエハ受け渡し部１２６Ａ、１２６Ｂは、板状部材と、該板状部材の上面に固定された３本１組の支持ピンを、それぞれ有している。
【００７１】
図１に戻り、チャンバ１１２の内部には、ウエハＷを一時的に保管するためのバッファキャリア１２０が載置されるキャリア台１１８も必要に応じて配置される。
【００７２】
前記Ｃ／Ｄ５０は、図１に示されるように、Ｘ軸方向に隣接して配置された２つのチャンバ５２、５４を備えている。一方のチャンバ５２の内部には、Ｙ軸方向に延びるＹガイド５６が配置されている。Ｙガイド５６上には、不図示の駆動装置に駆動されＹガイド５６に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）５８が設けられている。
【００７３】
また、チャンバ５２の内部のＹガイドの−Ｘ側の位置には、キャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０ＣがＹ軸方向に沿って配置されている。これらのキャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上に、ＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅがそれぞれ載置されている。これらのＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅは、チャンバ５２の−Ｘ側の側壁に設けられた不図示の扉によって開閉可能な不図示の出し入れ口を介して出し入れされるようになっている。ＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅの出し入れは、ＰＧＶによって搬送しオペレータの手作業によって行っても良いが、ＡＧＶにより搬送した後、自動的に行うようにしても良い。勿論、ＯＨＴを用いて、上方からＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅをキャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上にそれぞれ載置しても構わない。
【００７４】
この他、チャンバ５２の内部には、Ｃ／Ｄ５０の構成各部を統括的に制御する塗布・現像制御装置６２が設けられている。塗布・現像制御装置６２は、Ｃ／Ｄ５０内のウエハの搬送系等の他、前述したインラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６等をも制御する。また、この塗布・現像制御装置６２は、露光装置１０側のローダ制御装置３４との間で通信（ウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報の他、処理能力（スループット）の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を決定させるための情報（これについては、後に詳述する）のやりとり、すなわち送受信）をも行う。
【００７５】
チャンバ５２のチャンバ５４との境界部分には、Ｙ軸方向中央やや−Ｙ側寄りの位置に、基板受け渡し部６４が設けられている。この基板受け渡し部６４は、基台とこの基台上に固定された３本１組の支持ピンとから構成されている。
【００７６】
チャンバ５４の内部には、基板受け渡し部６４の＋Ｘ側に、Ｘ軸方向に延びるＸガイド６６が配置されている。このＸガイド６６上には、不図示の駆動装置に駆動されＸガイド６６に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）６８が設けられている。
【００７７】
また、チャンバ５４の内部には、Ｘガイド６６の＋Ｙ側に、第１現像部７０、第２現像部７２、及びベーク部７４が図１における左から右に順次配置されている。また、Ｘガイド６６の−Ｙ側には、第１塗布部７６、第２塗布部７８、冷却部８０が、第１現像部７０、第２現像部７２、及びベーク部７４にそれぞれ対向して配置されている。
【００７８】
前記第１塗布部７６及び第２塗布部７８は、スピンコータを有している。このスピンコータは、水平にしたウエハ上にレジストを滴下しウエハを回転させることにより、ウエハ上に均一なレジスト膜を形成する。このスピンコータは、レジスト供給系、スピンモータ、カップの組み合わせにより構成される。回転数は、毎分、数千回転まで可能になっている。
【００７９】
前記ベーク部７４は、ベーキング装置を備えている。このベーキング装置としは、抵抗加熱方式、赤外線加熱方式等を用いることができる。ここでは、ベーキング装置により、プリベーク（ＰＢ）及び現像前ベーク（post-exposure bake：ＰＥＢ）を行う。前者は、ウエハ上にレジストを塗布した後、塗布膜中の残留溶剤の蒸発と塗布膜とウエハの密着性強化のために実施する熱処理である。露光前に行うために、ポリマーが重合したり、添加物の熱分解が生じない温度以下で行う。また、後者は、単一波長の光で露光した場合の定在波効果によるレジストパターン（レジスト側壁形状）の変形を軽減するため、露光後現像処理前に行う熱処理である。また、化学増幅型レジストの露光後の触媒反応促進の目的でも行う。
【００８０】
前記冷却部８０は、例えばクーリングプレートと呼ばれる冷却された平坦なプレートを備えている。このプレートは、例えば冷却水の循環等により冷却される。この他、ペルチェ効果による電子冷却を利用する場合もある。本実施形態では、ＰＢの際に加熱されたウエハを露光装置１０内で影響のない温度まで冷却する。
【００８１】
前記第１現像部７０及び第２現像部７２は、露光装置１０により露光され、レジストにパターン像が形成されたウエハを現像する現像装置を備えている。この現像装置としては、スピン式、ディップ式、あるいはスプレー式等のいずれの方式をも用いることができる。
【００８２】
さらに、Ｘガイド６６の＋Ｘ側のチャンバ５４とチャンバ１１２との境界部分には、基板受け渡し部８２が設けられている。この基板受け渡し部８２は、基台とこの基台上に固定された３本１組の支持ピンとから構成されている。
【００８３】
図４には、リソグラフィシステム１００の制御系の構成がブロック図にて示されている。この図４に示されるように、露光装置１０側の制御系は、前述したローダ制御装置３４の他、ウエハステージＷＳＴ及び不図示のレチクルステージ等を制御するステージ制御装置３６、及びこれらローダ制御装置３４、ステージ制御装置３６等を介して露光装置全体を統括的に制御する主制御装置３８を備えている。
【００８４】
一方、Ｃ／Ｄ５０側の制御系は、塗布・現像制御装置６２を中心として構成され、この塗布・現像制御装置６２によって、スカラーロボット５８、６８、１１６等が制御される。また、本実施形態では、スカラーロボット５８、６８、１１６、Ｘガイド６６、及びＹガイド５６等によって、Ｃ／Ｄ側の基板搬送系が構成されている。
【００８５】
次に、リソグラフィシステム１００によるウエハの処理動作について説明する。
【００８６】
前提として、基板としてのウエハＷが、ロット（例えば２５枚）単位でＯＣ２４Ａ〜２４Ｅ内にそれぞれ収納され、これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅが、キャリア台２２Ａ、２２Ｂ、６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上にそれぞれ載置されているものとする。但し、ＯＣ２４Ａ、２４Ｂを、バッファキャリア１２０と同様に露光装置内のバッファとして用いても良い。
【００８７】
ここでは、一例として、ＯＣ２４Ｄ内のウエハＷを処理する場合について説明する。なお、以下の各部の動作は、図４に示される塗布・現像制御装置６２、並びに主制御装置３８の管理下にあるローダ制御装置３４、ステージ制御装置３６によって実行されるが、以下においては、説明を簡略化するため、特に必要がある場合以外は、これらの制御装置に関する記述は省略するものとする。
【００８８】
まず、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第１枚目のウエハ（Ｗ1とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置する。このとき、スカラーロボット６８は、図１における左端位置に移動しているものとする。そこで、スカラーロボット６８は、基板受け渡し部６４上からウエハＷ1を例えば第１塗布部７６内に搬入する。これにより、第１塗布部７６内のスピンコータにより前述したようにしてレジストの塗布が開始される。
【００８９】
上記のスカラーロボット６８の動作と並行して、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第２枚目のウエハ（Ｗ2とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置している。そこで、スカラーロボット６８はそのウエハＷ2を基板受け渡し部６４上から第２塗布部７８に搬入する。そして、ウエハＷ1のレジスト塗布が終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1を第１塗布部７６から取り出してベーク部７４に搬入する。これにより、ベーク部７４内のベーキング装置によりウエハＷ1の加熱処理（ＰＢ）が開始される。
【００９０】
上記のウエハＷ1のベーク部への搬入が行われるまでの間に、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第３枚目のウエハ（Ｗ3とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置している。そこで、スカラーロボット６８はそのウエハＷ3を基板受け渡し部６４上から第１塗布部７６内に搬入する。
【００９１】
そして、ウエハＷ1のＰＢが終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1をベーク部７４から取り出して冷却部８０内に搬入する。これにより、冷却部８０内部でウエハＷ1の冷却が開始される。この冷却は、露光装置１０内で影響のない温度、一般的には、例えば２０〜２５℃の範囲で定められる露光装置１０の露光室１２Ａ内の空調系の目標温度を目標温度として行われる。なお、最近の露光装置では、微小線幅のパターンをウエハ上に転写形成するため、温度管理は重要な項目である。これは、ごく僅かな温度変化によるウエハの膨張・収縮であっても、それが線幅異常や重ね合わせ不良など種々の悪影響を招くからである。但し、冷却後、露光装置のウエハステージＷＳＴまで搬送されるまでの、温度変化を考慮して冷却時の目標温度を定めても良い。
【００９２】
次に、スカラーロボット６８は、レジスト塗布の終了したウエハＷ2を第２塗布部７８から取り出してベーク部８０に搬入し、続いてその時点で既にスカラーロボット５８によって基板受け渡し部６４上に載置されている第４枚目のウエハ（Ｗ4とする）を、基板受け渡し部６４から第２塗布部７８に搬入する。
【００９３】
そして、冷却部８０内でウエハＷ1の冷却が終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1を基板受け渡し部８２上に載置する。次いで、スカラーロボット６８は、ベーク部７４内のウエハＷ2のＰＢが終了すると、そのウエハＷ2をベーク部７４から取り出して冷却部８０に搬入する。次に、スカラーロボット６８は、レジスト塗布の終了したウエハＷ3を第１塗布部７６から取り出し、ベーク部７４内に搬入した後、その時点で既にスカラーロボット５８によって基板受け渡し部６４上に載置されている第５枚目のウエハ（Ｗ5とする）を、基板受け渡し部６４から第１塗布部７６に搬入する。これ以降、Ｃ／Ｄ５０内では、上記と同様の一連のウエハに対するレジスト塗布、ＰＢ、冷却、及びこれらの一連の処理に伴う上記のウエハの搬送動作が順次繰り返し行われ、ウエハＷが順次基板受け渡し部８２上に載置される。
【００９４】
前記インラインＩ／Ｆ部１１０内では、スカラーロボット１１６が、基板受け渡し部８２上に順次載置される露光前のウエハＷを、インライン受け渡し部１１４のロード側のウエハ受け渡し部、例えばウエハ受け渡し部１２４Ａ上に順次載置する。
【００９５】
所定時間経過後に、後述するようにして、露光装置１０側で第１枚目のウエハＷ1に対する露光が終了し、そのウエハＷ1が露光装置１０側のスカラーロボット２６により、ウエハ受け渡し部１２４Ｂに搬送された時点以降、スカラーロボット１１６は、上記の基板受け渡し部８２から露光前のウエハＷをウエハ受け渡し部１２４Ａ上に搬送し載置する動作と、露光が終了したウエハＷをウエハ受け渡し部１２４Ｂから基板受け渡し部８２上に搬送し載置する動作とを、所定の順序で、繰り返し行うこととなる。
【００９６】
前述の如くして、インラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６により、ウエハ受け渡し部１２４Ｂから基板受け渡し部８２上に搬送され載置された露光済みの第１枚目のウエハＷ1は、スカラーロボット６８によりベーク部７４内に搬入され、該ベーク部７４内のベーキング装置によりＰＥＢが行われる。ベーク部７４内には、複数枚のウエハを同時に収容可能である。
【００９７】
一方、ＰＥＢが終了したウエハＷ1は、スカラーロボット６８によりベーク部７４から取り出され、例えば第１現像部７０内に搬入され、該第１現像部７０内の現像装置により現像が開始される。
【００９８】
この現像中に、スカラーロボット６８は、露光が終了した第２枚目のウエハＷ2が基板受け渡し部８２上に載置されている場合には、そのウエハＷ2をウエハ受け渡し部８２からベーク部７４内に搬入する。これにより、該ベーク部７４内のベーキング装置によりＰＥＢが行われる。次に、スカラーロボット６８は、次のウエハＷを基板受け渡し部８２上に載置する、あるいは、ＰＥＢが終了したウエハＷ2を第２現像部７２に搬入する等の動作を、所定の順序で行う。
【００９９】
そして、ウエハＷ1の現像が終了すると、スカラーロボット６８はウエハＷ1を第１現像部７０から取り出し、基板受け渡し部６４上に載置する。このウエハＷ1は、最終的にスカラーロボット５８により、ＯＣ２４Ｄ内の所定の収納段に搬入されることになる。以降、Ｃ／Ｄ５０内では、第２枚目以降のウエハに対して、ウエハＷ1と同様の手順で、ＰＥＢ、現像、及びウエハの搬送が繰り返し行われることとなる。
【０１００】
これまでの説明を纏めると、第１枚目のウエハの露光終了直後までは、塗布・現像制御装置６２の管理下にある、Ｃ／Ｄ５０内の構成各部、及びインラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６等によって、ＯＣ２４Ｄからのウエハの取り出し、レジスト塗布、ＰＢ、冷却及びこれらの動作に伴うウエハの搬送が所定の手順及び順序で繰り返し行われ、露光前のウエハがウエハ受け渡し部１２４Ａに順次載置される。また、第１枚目のウエハの露光終了直後以後は、ＯＣ２４Ｄからのウエハの取り出し、レジスト塗布、ＰＢ、冷却及びこれらの動作に伴うウエハの搬送動作と、ウエハ受け渡し部１２４Ｂに順次載置される露光済みのウエハに対するＰＥＢ、現像、ＯＣ２４Ｄ内へのウエハの搬入及びこれらの動作に伴うウエハの搬送動作とが、所定の手順及び順序で繰り返し行われることになる。
【０１０１】
一方、露光装置１０側では、まず、スカラーロボット２６が、Ｘガイド１８に沿って左端位置まで移動し、チャンバ１６の開口を介してインライン受け渡し部１１４からウエハＷ1を受け取る。次いで、スカラーロボット２６は、Ｘガイド１８に沿ってターンテーブル３２の前方まで右側に移動し、ウエハＷ1をターンテーブル３２上に載置した後、直ちに、スカラーロボット２６は、次のウエハＷ2を受け取るため、Ｘガイド１８に沿って左端位置に向かって移動する。
【０１０２】
その後、不図示の駆動系によりターンテーブル３２が回転駆動され、これによってターンテーブル３２に保持されたウエハＷ1が回転される。このウエハＷ1の回転中に、ウエハエッジセンサによってウエハエッジの検出が行われ、その検出信号に基づいてローダ制御装置３４によって、ウエハＷ1のノッチの方向、及びウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量（方向及び大きさ）が求められる。ローダ制御装置３４は、ターンテーブル３２を回転させてウエハＷのノッチ部の方向を所定方向に合わせる。
【０１０３】
このとき、ロードアーム２８は所定のウエハ受け取り位置にあり、ターンテーブル３２上のウエハＷ1を受け取るが、この際に、先に求められたウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量のＹ方向成分を補正できる位置まで一旦移動した後受け取る。その後、ロードアーム２８は、所定のローディングポジションに待機しているウエハステージＷＳＴの上方に向かってＹガイド２０に沿って移動を開始する。
【０１０４】
このとき、スカラーロボット２６は、その時点の前にスカラーロボット１１６によって、インライン受け渡し部１１４のウエハ受け渡し部１２４Ａに載置されていたウエハＷ2を既に受け取っている。そこで、ロードアーム２８がＸガイド１８から一定距離以上離れると、Ｘガイド１８に沿ってターンテーブル３２の前方まで右側に移動し、ウエハＷ2をターンテーブル３２上に載置する。その後、スカラーロボット２６は、所定の待機位置に移動するとともに、ターンテーブル３２の回転及びウエハエッジセンサによるウエハエッジ検出が開始され、その後ローダ制御装置３４によってウエハＷ2のノッチの方向、及びウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量（方向及び大きさ）が算出されることとなる。
【０１０５】
ロードアーム２８は、ウエハステージＷＳＴの上方までウエハＷ1を搬送すると、該ウエハＷ1をウエハステージＷＳＴに渡す。この場合において、ロードアーム２８からウエハステージＷＳＴにウエハＷ1が渡される直前に、上記偏心量のＸ成分が補正されるようにウエハステージＷＳＴがＸ軸方向に微少駆動される。
【０１０６】
そして、ウエハステージＷＳＴ上に渡されたウエハＷ1に対する露光動作が行われる。なお、この露光は、例えば、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷ1上の各ショット領域を不図示のレチクルステージに保持されたレチクルのパターンの投影光学系ＰＬ（図１参照）による投影位置に位置決めする動作と、レチクルを露光用照明光で照明してレチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介して各ショット領域に転写する動作とを、繰り返すことにより行われる。
【０１０７】
勿論、走査露光方式の露光を行うタイプの場合には、レチクル（レチクルステージ）とウエハＷ1（ウエハステージＷＳＴ）とを各ショット領域の露光のための走査開始位置へ位置決めする動作と、レチクルとウエハＷ1とを同期移動しつつレチクル上のスリット状の照明領域を露光用照明光により照明して、レチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ1上の各ショット領域に逐次転写する走査露光動作とを、繰り返すことにより行われる。
【０１０８】
上記の露光が終了すると、ウエハステージＷＳＴがアンローディングポジション、すなわち前述したローディングポジションまで移動し、アンロードアーム３０が、露光済みのウエハＷ1を受け取り、Ｘガイド１８上方まで搬送して、そこに待機しているスカラーロボット２６に渡す。そして、スカラーロボット２６により、ウエハＷ1が搬送され、最終的にインライン受け渡し部１１４のアンロード側のウエハ受け渡し部１２４Ｂに渡される。
【０１０９】
この場合において、スカラーロボット２６が、干渉しない位置までインライン受け渡し部１１４側へ移動すると、ロードアーム２８が、回転調整の終了したウエハＷ2をターンテーブル３２上から受け取り、ローディングポジションに待機しているウエハステージ上方に向けて搬送し、ウエハステージＷＳＴ上に渡す。
【０１１０】
その後、ウエハステージＷＳＴ上に渡されたウエハＷ2に対する露光動作が行われる。以後、露光装置１０内では、ウエハ受け渡し部１２４Ａに載置された第３枚目のウエハ（Ｗ3とする）以降のウエハを順次取り込み、前述と同様の経路でウエハステージＷＳＴ上に搬送し、露光を行った後、最終的にインライン受け渡し部１１４のアンロード側のウエハ受け渡し部１２４Ｂに渡すという処理が繰り返し行われることとなる。
【０１１１】
上述したように、本実施形態のリソグラフィシステムでは、Ｃ／Ｄ５０及びインラインＩ／Ｆ部１１０、露光装置１０のそれぞれでウエハＷの搬送の巡回動作（循環動作）が行われているが、双方間でウエハＷの受け渡しに関して、無駄時間（ロス時間）や、空振りが極力発生しないように、Ｃ／Ｄ５０側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４との間で、次のような情報の送受信が通信回線を介して行われている（図４参照）。
【０１１２】
すなわち、ローダ制御装置３４では、塗布・現像制御装置６２に対し、処理能力（スループット）の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報、例えば次のａ．〜ｄ．のような情報を、Ｃ／Ｄ５０及びインラインＩ／Ｆ部１１０側（以下、便宜上「Ｃ／Ｄ側」と呼ぶ）の次の動作の開始に先立って送出する。
ａ． 露光装置１０側のウエハローダ系がウエハＷを受け取り可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｂ． インライン受け渡し部１１４へのウエハの搬送をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば、「露光装置１０側のウエハローダ系がウエハの受け取りが可能となるまであと何秒待て」というような情報
ｃ． 露光装置１０側のウエハローダ系が、ウエハＷを送り出し可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｄ． インライン受け渡し部１１４でのウエハＷの受け取りのための動作をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば「ウエハＷを搬出するので何秒待て」というような情報
ここで、上記ａ．及びｃ．における「予定時間」とは、理論的に（計算上）求められる時間、例えば画角、露光量（走査型露光装置では、画角はスキャン長などに対応し、露光量はスキャン速度などをファクタとして含む）、アライメント時間などに基づいて計算により求められる時間を意味する。また、「予測時間」とは、上記予定時間を基準として、実際に行った結果、又は行いつつある状態を加味した時間、例えば、このロットはリトライ時間が長いとかの情報を加味した時間を意味する。これを更に詳述すると、予測時間は、計算により正確に求まる予定時間と異なり、不確定な要素を含む時間である。例えば、アライメント時間などはアライメントマークが見つけ難いと、計算上の時間に比べてより多くの時間が掛かったりするので、実際にウエハの循環搬送を行った結果得られる実績に基づいて、リトライ時間を求める必要がある。リトライ時間を左右するものとして、例えば搬送系の場合、各搬送アーム等のバキューム吸着に要する時間などがある。
【０１１３】
また、前述のアライメント時間が掛かるとか、アライメントでリトライが多いとかの現象は、特定のロット、すなわち特定のプロセスのウエハに集中して起こり易い。従って、例えば、ロットの先頭数枚のウエハで計算時間よりも実際の処理時間が長ければ、予測時間をその実績に合わせて長めに再設定して、相手側の装置（本実施形態では、Ｃ／Ｄ又は露光装置）に伝える。但し、予測時間は、ロットの先頭数枚に限らず、一日に処理するウエハの処理時間の平均、あるいは複数ロットの処理時間の平均などに基づいて、決定しても良い。
【０１１４】
一方、塗布・現像制御装置６２では、ローダ制御装置３４に対し、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報、例えば次のｅ．〜ｈ．のような情報を、露光装置１０側の次の動作の開始に先立って送出する。
ｅ．Ｃ／Ｄ側がウエハＷを受け取り可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｆ．インライン受け渡し部１１４へのウエハの搬送をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば、「Ｃ／Ｄ側がウエハの受け取りが可能となるまであと何秒待て」というような情報
ｇ．Ｃ／Ｄ側がウエハＷを送り出し可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｈ．インライン受け渡し部１１４でのウエハの受け取りのための動作をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば「ウエハＷを搬出するので何秒待て」というような情報
従って、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、ローダ制御装置３４から通信回線を介して塗布・現像制御装置６２に対して、上記の処理能力の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を決定させるための情報が、その次の動作の開始に先立って送出されると、この情報を受けた塗布・現像制御装置６２は、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する特定の動作を、次の動作として、その特定の動作の開始に先立って決定することができる。
【０１１５】
これを更に詳述すると、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ａ．の情報に基づき、露光装置１０側がウエハＷの受け取りが可能となるタイミングを知ることができるので、なるべく無駄時間が生じることなく、ウエハＷの受け渡しが可能となるようなウエハの搬送に関する次の動作を決定することができる。より具体的には、塗布・現像制御装置６２では、例えば、ウエハＷを露光装置１０側へ渡す際に、露光装置１０が受取り可能となるまでの時間が短い、例えば１〜２秒である場合には、その時間だけ待ってウエハＷをインライン受け渡し部のウエハ受け渡し部１２４Ａを介して露光装置１０側に渡し、非常に時間がかかるならば、ウエハＷを受け渡すための搬送動作を行わず、あるいは必要に応じて、バッファキャリア１２０内に収納し、インライン受け渡し部１１４のウエハ受け渡し部１２４ＢからのウエハＷの受け取り動作のみを行うことができる。
このようにすることにより、ロス時間が短縮される。
【０１１６】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｂ．の情報に基づき、その待ち時間に応じて、なるべく無駄時間が生じることなく、効率的なウエハＷの搬送に関する動作を決定することができる。
【０１１７】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｃ．の情報に基づき、露光処理済みのウエハＷを取りに行った際に、もし数秒で露光装置１０側から露光処理済みのウエハＷが送られて来るならば、その間だけ待って受け取ることにすることができる。このようにすることにより、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【０１１８】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｄ．の情報に基づき、その待ち時間に応じて、なるべく効率的なウエハＷの搬送に関する動作を決定することができる。
【０１１９】
また、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、塗布・現像制御装置６２から通信回線を介して露光装置１０側のローダ制御装置３４に、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報が、次の動作の開始に先立って送出されると、この情報を受けたローダ制御装置３４は、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する特定の動作を、次の動作として、その特定の動作の開始に先立って決定することができる。
【０１２０】
すなわち、露光装置１０側のローダ制御装置３４は、上記ｅ．〜ｈ．の情報に基づき、上記ａ．〜ｄ．の情報をそれぞれ受け取った塗布・現像制御装置６２と同様にして、ウエハＷの搬送に関する次の動作を決定することができる。これにより、Ｃ／Ｄ側のウエハの搬送状態を一定時間毎に監視してウエハ搬送の循環動作を切り替える必要がなくなるので、その分ロス時間を少なくすることができる。
【０１２１】
これまでの説明から明らかなように、本実施形態では、ローダ制御装置３４によって、露光装置側の制御装置が構成され、塗布・現像制御装置６２によって基板処理装置としてのＣ／Ｄ側の制御装置が構成されている。しかしながら、これに限らず、露光装置側の制御装置として、Ｃ／Ｄ側に前述したａ．〜ｄ．の情報を送信する機能を有する第１の制御装置と、Ｃ／Ｄ側から前述したｅ．〜ｈ．の情報を受信する機能を有する第２の制御装置とを設けても良い。Ｃ／Ｄ側の制御装置についても同様である。
【０１２２】
以上詳細に説明したように、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、露光装置１０とＣ／Ｄ側との間で、ウエハＷの搬送に関する情報がやり取りされ、両装置で互いに、相手方装置からの情報に基づいて処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定することができる。換言すれば、Ｃ／Ｄ側及び露光装置１０側がそれぞれ装置内で自己完結して最適に動くのではなく、お互いに相手方装置のウエハ搬送に関する情報を考慮して、双方の搬送の巡回動作を合わせることで、露光装置１０とＣ／Ｄ５０とをインラインにて接続しているにもかかわらず、無駄時間や空振りを発生させずスループットを向上、改善でき、これにより、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上が可能となる。この結果、半導体素子等のデバイスの生産性の向上を図ることが可能になる。
【０１２３】
但し、上述したｂ．、ｄ．、ｆ．、ｈ．のような搬送抑制情報を、双方の制御装置３４、６２が同時に発した場合には、互いに搬送の条件が成り立たない場合が生じ得る。かかる場合には、予め優先権をどちらかの制御装置に与えておき、優先権を持つ方が要求却下情報を送ることで、相手方の制御装置は、その要求却下情報に基づいて自己の発した搬送抑制情報が、受け付けられなかったことを判断し、その抑制情報を取り下げ、次の処理を行うようにしても良い。
【０１２４】
また、本実施形態では、Ｃ／Ｄ５０が、自装置内に塗布工程、現像工程などの各工程の処理部を複数持っており、処理の終わったウエハから順番に搬送を行うように、循環搬送の順序を必要に応じて、最適に切り替えることが可能である場合には、その機能を最大限発揮させることも可能である。
【０１２５】
なお、上記実施形態では、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４とが、お互いに、相手方装置に対して、前述したような処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報を送る場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４とのいずれかのみが、相手方の装置に対して前述したような処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報を送ることとしても良い。かかる場合であっても、この情報を受け取った相手方の制御装置では、前述と同様にして、自己の装置内においては極力無駄時間や空振りが発生しないようにウエハＷの搬送動作を決定し、実行することができるので、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上は可能である。
【０１２６】
なお、上記実施形態では、露光装置１０（ローダ制御装置３４）とＣ／Ｄ５０（塗布・現像制御装置６２）とが、通信回線を介して前記情報を送受信するが、この通信回線としては、パラレル通信回線、シリアル通信回線などの有線の回線は勿論、無線、赤外線、その他を用いて情報をやりとりしても良い。また、例えばパラレル通信を行う場合には既存の信号線の空き線を使用しても良い。シリアル通信を行う場合には、従来やりとりされていた信号（又は情報）に上記情報を付け加えるだけで良い。
【０１２７】
なお、上記実施形態では、インラインＩ／Ｆ部１１０を介して基板処理装置としてのＣ／Ｄ５０と、露光装置１０とをインライン接続する場合について説明したが、本発明がこれに限定されることはなく、基板処理装置と露光装置とを直接接続しても良い。また、基板処理装置、露光装置の構成も上記実施形態の構成は、一例に過ぎない。すなわち、上記実施形態では、露光装置１０の内部のウエハローダ系４０として、ロード側とアンロード側との搬送系が一部共通の系を用いる場合について説明したが、ロード側とアンロード側の搬送系を全く独立した系によって構成しても良い。この場合には、露光装置内でウエハの搬入と搬出とを同時に並行して行うことが可能となる。このような場合でも、本発明では、基板処理装置側による基板の搬入・搬出の予定時間が分るので、搬入に時間が掛かるようであれば、露光処理と搬出を優先して行い、一方搬出に時間が掛かるようであれば、基板が露光装置内に滞らない程度に、搬入を行えば良く、結果的に効率の良い運用が可能となる。
【０１２８】
また、上記実施形態では、Ｃ／Ｄ側に３つのスカラーロボット５８、６８、１１６が設けられた場合について説明したが、これに限らず、単一のロボットが所定の経路に沿って移動しながらウエハを循環搬送することとしても良い。さらに、スカラーロボット６８を２組設け、露光前処理と露光後処理とで使い分けるようにしても良い。また、ウエハの搬送系を構成するスカラーロボット５８、６８、１１６は、予め設定された手順で、これら循環動作（巡回）を行うが、各ロボット毎に巡回を行っても良く、全体で一連の循環動作を行っても良い。また、Ｃ／Ｄ５０内の構成としてはごく一般的な装置構成の一例を示したが、Ｃ／Ｄ内の処理は前述した実施形態で説明した順番で行われなくとも良く、記載されなかった処理を含んでも構わない。
【０１２９】
また、塗布部、現像部、冷却部、ベーク部等の各工程部も必要に応じて複数設置しても良く、基板の搬送系はこれらに応じて必要な搬送動作を行えば良い。また、基板処理装置としては、露光装置にインライン接続が可能なものであれば、Ｃ／Ｄに限らず、レジスト塗布装置（コータ）、現像装置（デベロッパ）は勿論、その他の検査装置などであっても構わない。
【０１３０】
また、上記実施形態では、ウエハキャリアとしてＯＣを用いる場合について説明したが、これに限らず、フロントオープニングユニファイドポッド（Front Opening Unified Pod ：ＦＯＵＰ）等の開閉型のウエハキャリアを用いても構わない。
【０１３１】
また、上記実施形態では、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とが通信回線を介して、ウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報のみならず、上述したａ．〜ｈ．のような情報をも送受信するものとしたが、本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、図５に示されるように、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とが通信回線を介して、露光装置１０及びＣ／Ｄ５０の上位装置であるホストコンピュータ９０に接続される場合には、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とは、相互間でウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報の送受信のみを行い、上述したａ．〜ｈ．のような情報は、ホストコンピュータ９０を介してやりとりすることとしても良い。
【０１３２】
この図５に示されるシステム構成の場合には、前述の如く、優先順位を設けることなく、ホストコンピュータ９０が、制御装置６２、３４の双方から同時に前記抑制情報が発せられ、その衝突が生じた場合に、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、他方の装置にその抑制情報を取り下げさせることとしても良い。
【０１３３】
勿論、ホストコンピュータ９０に限らず、ホストコンピュータと露光装置１０及びＣ／Ｄ５０との間に中間制御装置が存在する場合には、その中間制御装置を介して上述したａ．〜ｈ．のような情報をやりとりしても良いし、制御装置６２、３４の双方から同時に前記抑制情報が発せられ、その衝突が生じた場合に、中間制御装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、他方の装置にその抑制情報を取り下げさせることとしても良い。
【０１３４】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴが１つ設けられた露光装置について説明したが、これに限らず、いわゆるツインステージ（ダブルステージ）であって、ウエハのローディングポジションが２箇所に設定されているときなどにも本発明を適用することは可能である。また、所定枚数のウエハ毎にそれに対応する照明条件やレチクルの種類などに基づいて前述した予定時間、予測時間を求めるようにしても良い。
【０１３５】
《デバイス製造方法》
次に、上述した実施形態に係るリソグラフィシステムをリソグラフィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
【０１３６】
図６には、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。図６に示されるように、まず、ステップ３０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ３０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３０３（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
【０１３７】
次に、ステップ３０４（ウエハ処理ステップ）において、ステップ３０１〜ステップ３０３で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ３０５（デバイス組立ステップ）において、ステップ３０４で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップ３０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。
【０１３８】
最後に、ステップ３０６（検査ステップ）において、ステップ３０５で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【０１３９】
図７には、半導体デバイスの場合における、上記ステップ３０４の詳細なフロー例が示されている。図７において、ステップ３１１（酸化ステップ）においてはウエハの表面を酸化させる。ステップ３１２（ＣＶＤステップ）においてはウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ３１３（電極形成ステップ）においてはウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ３１４（イオン打込みステップ）においてはウエハにイオンを打ち込む。以上のステップ３１１〜ステップ３１４それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【０１４０】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ３１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ３１６（露光ステップ）において、マスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップ３１７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像する。このステップ３１５〜３１７の処理が、上記実施形態のリソグラフィシステム１００によって行われる。
【０１４１】
そして、ステップ３１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ３１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【０１４２】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【０１４３】
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法によると、ステップ３１５〜３１７の処理工程（リソグラフィ工程）において、上記実施形態のリソグラフィシステム１００が用いられ、露光装置１０とＣ／Ｄ５０との間で、ウエハの搬送に関する情報がやり取りされ、両装置が、お互いに、あるいは一方の装置が相手方の装置からの前記情報に基づいて処理能力の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定し、実行する。このため、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上が可能となり、結果的にデバイスの生産性の向上を図ることが可能になる。特に、例えばＦ2レーザ光源等の真空紫外光源を露光用光源として用いる場合には、投影光学系ＰＬの解像力の向上とあいまって、例えば最小線幅が０．１μｍ程度であってもその生産性の向上が可能である。
【０１４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る露光装置によれば、基板処理装置とインライン接続された場合に、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることができるという効果がある。
【０１４５】
また、本発明に係る基板処理装置によれば、露光装置にインライン接続された場合に、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることができるという効果がある。
【０１４６】
また、本発明に係るリソグラフィシステムによれば、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるという効果がある。
【０１４７】
また、本発明に係るデバイス製造方法によれば、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るリソグラフィシステムの構成を概略的に示す平面図である。
【図２】図１のインライン受け渡し部を拡大して示す斜視図である。
【図３】インライン受け渡し部の他の構成例を示す斜視図である。
【図４】図１のリソグラフィシステムのウエハ搬送に関連する制御系の構成を概略的に示すブロック図である。
【図５】変形例に係るリソグラフィシステムのウエハ搬送に関連する制御系の構成を概略的に示すブロック図である。
【図６】本発明に係るデバイス製造方法の実施形態を説明するためのフローチャートである。
【図７】図６のステップ３０４における処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１０…露光装置、３４…ローダ制御装置（露光装置側の制御装置）、４０…ウエハローダ系（露光装置側の基板搬送系）、５０…Ｃ／Ｄ（基板処理装置）、５６…Ｙガイド（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、５８…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、６２…塗布・現像制御装置（基板処理装置側の制御装置）、６６…Ｘガイド（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、６８…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、９０…ホストコンピュータ（別の装置、上位装置）、１００…リソグラフィシステム、１１４…インライン受け渡し部（受け渡し部）、１１６…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、Ｗ…ウエハ（基板）。
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、半導体素子、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン等のマイクロデバイス、さらにはフォトマスク（レチクル）等の製造に際してリソグラフィ工程で用いられる露光装置、該露光装置にインラインにて接続される基板処理装置、及びこれら露光装置及び基板処理装置を含んで構成されるリソグラフィシステム、並びに前記露光装置又はリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、上述した半導体素子等のマイクロデバイスの製造を行う際のリソグラフィ工程では、種々の露光装置が用いられている。近年では、マスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを投影光学系を介してフォトレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、「ウエハ」と総称する）上に転写する露光装置が主として用いられている。この種の露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）が主流であったが、最近ではレチクルとウエハとを投影光学系に対し同期して走査させて露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）も多く用いられるようになってきた。
【０００３】
リソグラフィ工程には、露光装置を用いた露光工程に前後して、ウエハの表面にレジストを塗布するレジスト塗布工程や、レチクルパターンの転写後のウエハを現像する現像工程が含まれる。かかるレジスト塗布工程や現像工程で用いられる装置として、例えばウエハを高速回転させながらそのウエハ上にレジストを滴下し、ウエハの回転を利用してウエハ表面にレジストを均一に塗布するスピンコータ又はノズルとウエハとを相対移動するスキャンコータ等のレジスト塗布装置（コータ）の機能と、現像装置（デベロッパ）の機能とを併せ持ったコータ・デベロッパ（以下、「Ｃ／Ｄ」と略述する）と呼ばれる塗布・現像装置がある。
【０００４】
リソグラフィ工程では、上記のレジスト塗布工程、露光工程、現像工程などの処理工程毎に、処理ロット（処理の対象であるウエハのロット）を投入する煩雑さを避け、また、最近多く用いられるようになってきた高感度レジストの一種である化学増幅型レジストなどの化学的特性を維持しつつ、スループットを向上させる目的で、露光装置の例えば右横あるいは左横又は前方（あるいは後方）に、Ｃ／Ｄを設置し、これらを直接あるいは接続部を介して接続し、被処理体（被処理ウエハ）を装置間で自動で搬送する、広くインライン接続と呼ばれるシステム構成が多く採用されている。
【０００５】
かかる露光装置とＣ／Ｄとのインライン接続を採用するリソグラフィシステムでは、露光装置とＣ／Ｄとの間には、ウエハを相互間で受け渡すための、受け渡し部が設けられていることが殆どである。また、Ｃ／Ｄは、装置内にウエハの搬送系を持っており、塗布工程が行われる塗布部と現像工程が行われる現像部と受渡し部との間で、一定の手順で被処理ウエハを循環搬送している。また、露光装置も、装置内に搬送系を持っており、露光が行われるウエハステージと受渡し部との間で被処理ウエハを循環搬送することがなされている。
【０００６】
この他、上記のリソグラフィシステムでは、更に必要に応じて、冷却部やベーク部、さらに必要に応じて被処理ウエハを一時的に保管しておくバッファ部が設けられていることも多い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
露光装置とＣ／Ｄとをインライン接続したリソグラフィシステムにおいては、受け渡し部でウエハの受け渡しを行う際に、そのウエハの受け渡しが確実に行われるように装置間で通信を行うため、それぞれの装置には、通信と搬送制御を行う制御部が設けられている。
【０００８】
しかしながら、従来のリソグラフィシステムでは、互いの装置間は、受け渡し部でのウエハの受け渡しに関わる通信、例えばウエハの受け渡し要求、受け渡し可能・禁止、受け渡し完了、などウエハの受け渡しに関する通信を、逐次リアルタイムにのみ行っていた。
【０００９】
そのため、Ｃ／Ｄ側が、自装置内のウエハの搬送を最適に行うよう、一定の手順に従って循環搬送を行い、その循環搬送中に露光処理前のウエハを露光装置側に送るため、受け渡し部を介して送ろうとしても、相手側の露光装置が受け取れないことや、受け渡し部から、露光装置側で露光処理済みのウエハを受け取ろうとしても未だそのウエハが受け渡し部に送られて来ていないなどの状態が生じることがあった。そのため、余計な待ち時間や、場合により循環搬送の空振りが起こり、次の循環のタイミングまでウエハの搬送が行われないなどの事態が起こっていた。
【００１０】
一方、露光装置では、ウエハステージ上で、絶え間なくウエハの処理が行われる程効率が良い。そのため、ウエハステージ上のウエハが存在しない空き状態がなるべく生じないように、ウエハステージ上へのウエハの搬入と露光処理済みのウエハのウエハステージからの搬出とを交互に、あるいは同時に行う必要がある。露光後のウエハでは、化学変化が持続しており、なるべく即座にしかもウエハ毎にばらつかないように搬出し、次のＣ／Ｄでのベーク・現像の工程に回す必要がある。
【００１１】
かかる事情を考慮し、露光装置側では、装置内への搬入、装置外への搬出の順序でウエハ搬送を行っているが、受け渡し部から露光処理前のウエハを受け取ろうとしても、Ｃ／Ｄ側からまだ送られて来ないので受け取れないことや、露光処理済みのウエハを受け渡し部を介してＣ／Ｄ側へ送り出そうとしても、Ｃ／Ｄ側が受け取れないなどの状態が生じることがあった。このような場合、一定期間待って、露光未処理のウエハが送られて来るか監視し、もし一定時間待っても来ず、かつその時点で露光処理が終わっていれば、ウエハの搬入をとりやめ、露光処理済みのウエハの搬出動作を行うように、循環動作を切り替えるため、空振りと一定時間の待ち時間ロスとが生じることがあった。
【００１２】
以上の説明は、露光装置内の搬送系がウエハの搬入とウエハの搬出を交互に行う場合であるが、仮にウエハの搬入と搬出とを同時に行う場合でも、受け渡し部での律速により待ち時間ロスは生じてしまう。
【００１３】
すなわち、それぞれの装置は自己完結して最適に動くことが可能でも、受け渡し部を中心に、連携させた場合、Ｃ／Ｄ側のウエハ搬送の巡回動作と、露光装置側のウエハ搬送の巡回動作とが合わず、しばしば無駄時間、空振りが起こり、スループット低下を招くことがあった。
【００１４】
しかるに、従来は、ウエハはその直径が８インチ（約２００ｍｍ）以下のものが中心であり、ウエハの管理をロット毎に行っていたため、上述した時間ロスや空振り等に起因するスループットの低下はそれほど大きな問題とはなっていなかった。
【００１５】
しかしながら、ウエハサイズは半導体素子の高集積化に伴って更に大型化し、今後は直径１２インチ（約３００ｍｍ）ウエハの時代となり、今後の運用としてはウエハ毎のウエハ管理が必須になるであろうと言われている。このようなウエハ毎の管理を行う運用では、上述した時間ロスや空振り等に起因するスループットの低下が従来に増して大きな問題になることは確実である。
【００１６】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、基板処理装置とインライン接続され、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供することにある。
【００１７】
本発明の第２の目的は、露光装置にインライン接続され、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることが可能な基板処理装置を提供することにある。
【００１８】
本発明の第３の目的は、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるリソグラフィシステム及びデバイス製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記基板処理装置に対して送信する制御装置と、を備える露光装置である。
【００２０】
本明細書において、「情報」なる用語は、データあるいはデータの集合の他、信号をも含む広義の概念である。
【００２１】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報を、次の動作の開始に先立って基板処理装置に対して送信する。これにより、基板処理装置側に処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、その動作の開始に先立って決定させることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。また、前記情報は、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含む。これにより、例えば情報を受け取った基板処理装置では、露光処理済みの基板を取りに行った際に、もし数秒で露光装置側から露光処理済みの基板が送られて来るならば、その間だけ待ち、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【００２７】
この場合において、請求項２に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板処理装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、例えば制御装置から基板処理装置に対して、基板を搬出するまで所定秒待てというような情報が出力される。この場合も、基板処理装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００２８】
また、上記請求項１及び２に記載の各露光装置において、請求項３に記載の露光装置の如く、前記制御装置は、更に、前記特定情報として、基板の搬送に関する情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置は、基板処理装置から基板の搬送に関する情報を受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定するので、基板処理装置側における基板の搬送に関する効率に加え、露光装置側における基板の搬送に関する効率も向上する。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの一層の向上が可能となる。
【００２９】
請求項４に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記基板処理装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することを特徴とする制御装置と、を備える露光装置である。
【００３０】
これによれば、前記制御装置は、前記特定情報として、前記基板処理装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置では、その情報により基板処理装置側が基板の送り出しが可能となるタイミングを知ることができるので、なるべく無駄時間が生じることなく、基板の受け取りが可能となるような基板の搬送に関する次の動作を決定することができる。例えば、制御装置では、基板を受け取りに行った際に、基板処理装置側が送り出し可能となるまでの時間が短い、例えば１、２秒である場合には、その時間だけ待って基板を受け取り、非常に時間がかかるならば、受けとるための搬送動作を行わず基板を搬出する動作のみを行うこととすれば、ロス時間が短縮される。すなわち、基板を受け取りに行って一定時間待つという無駄な動作が生じないようになる。このため、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
【００３１】
この場合において、請求項５に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、基板処理装置側から制御装置に対して、例えば基板の送り出しが可能となるまで所定秒待てというような情報が送られる。かかる場合も、制御装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００３２】
また、上記請求項４及び５に記載の各露光装置において、請求項６に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記基板処理装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。かかる場合には、情報を受け取った制御装置では、露光処理済みの基板を基板処理装置へ渡そうとした際に、もし数秒で、基板処理装置側が基板の受け取りが可能となるならば、その間だけ待ち、長く時間が掛かるならば、他の動作、例えば基板の搬入動作を先に行った後、基板を基板処理装置へ渡すことが可能となり、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【００３３】
また、上記請求項４〜６に記載の各露光装置において、請求項７に記載の露光装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。かかる場合には、基板処理装置側から制御装置に対して、例えば基板の受け取りが可能となるまで所定秒待てというような情報が送られる。かかる場合も、制御装置では、その待ち時間に応じて、なるべく効率的な基板の搬送に関する動作を決定することができる。
【００３４】
請求項８に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する制御装置と、を備える基板処理装置である。
【００３５】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報を、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する。これにより、露光装置側に処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作を、その動作の開始に先立って決定させることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることが可能となる。
【００３９】
この場合において、請求項９に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の搬送を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４０】
また、上記請求項８及び９に記載の各基板処理装置において、請求項１０に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。
【００４１】
また、上記請求項８〜１０に記載の各基板処理装置において、請求項１１に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４２】
また、上記請求項８〜１１に記載の各基板処理装置において、請求項１２に記載の基板処理装置の如く、前記制御装置は、さらに、前記特定情報として、前記露光装置から基板の搬送に関する情報を受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することとすることができる。かかる場合には、制御装置は、露光装置から基板の搬送に関する情報を受け取り、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定するので、露光装置側における基板の搬送に関する効率に加え、基板処理装置側における基板の搬送に関する効率も向上する。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの一層の向上が可能となる。
【００４３】
請求項１３に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記露光装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する制御装置と、を備える基板処理装置である。
【００４４】
これによれば、制御装置は、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記露光装置から受信する。これにより、制御装置が、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作を、その動作の開始に先立って決定することができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることが可能となる。
【００４５】
この場合において、請求項１４に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４６】
また、上記請求項１３及び１４に記載の各基板処理装置において、請求項１５に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記露光装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むこととすることができる。
【００４７】
また、上記請求項１３〜１５に記載の各基板処理装置において、請求項１６に記載の基板処理装置の如く、前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記搬送系に抑制させるための情報を含むこととすることができる。
【００４８】
請求項１７に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置とを備え、前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、予め定めた優先権を有する装置が、相手方の装置に要求却下情報を送り、前記相手方の装置は、前記要求却下情報に従って前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステムである。
【００４９】
これによれば、前記露光装置と前記基板処理装置との間で送受信される情報は、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を含み、前記双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、予め定めた優先権を有する装置が、相手方の装置に要求却下情報を送り、前記相手方の装置は、前記要求却下情報に従って前記抑制情報を取り下げることとすることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの向上が可能となる。
【００５０】
この場合において、露光装置と基板処理装置との間で直接前記情報を送受信しても良いが、請求項１７に記載のリソグラフィシステムの如く、前記露光装置と前記基板処理装置との間の前記情報の送受信を仲介する別の装置を更に備えることとしても良い。
【００５１】
請求項１９に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置と、前記露光装置と前記基板処理装置とを統括して制御する上位装置とを備え、前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、前記上位装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステムである。
これによれば、前記露光装置と前記基板処理装置との間で送受信される情報は、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を含み、前記双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、前記上位装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、前記抑制情報を取り下げさせることとすることができる。従って、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの向上が可能となる。
請求項２０に記載の発明は、基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、前記基板処理装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記基板処理装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する露光装置である。
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
この場合において、請求項２１に記載の露光装置の如く、前記複数の搬送動作は、前記基板処理装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むこととすることができる。
また、この場合において、請求項２２に記載の露光装置の如く、前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、前記複数の搬送動作は、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むこととすることができる。
請求項２３に記載の発明は、露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、前記露光装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記露光装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する基板処理装置である。
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理における処理能力、すなわちスループットの向上が可能となる。
この場合において、請求項２４に記載の基板処理装置の如く、前記複数の搬送動作とは、前記露光装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むこととすることができる。
また、この場合において、請求項２５に記載の基板処理装置の如く、前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、前記複数の搬送動作とは、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むこととすることができる。
【００５２】
請求項２６に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する工程を含むデバイス製造方法である。
【００５３】
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５４】
請求項２７に記載の発明は、露光装置と、該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が前記露光装置から受信する工程と、前記基板処理装置が、前記情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する工程と、を含むデバイス製造方法である。
【００５５】
これによれば、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５６】
請求項２８に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ工程では、本発明の基板処理装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法である。
【００５７】
これによれば、リソグラフィ工程において、本発明の基板処理装置が用いられるので、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットを向上させることができ、これにより最終的に生産されるデバイスの生産性を向上させることができる。
【００５８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図４に基づいて説明する。
【００５９】
図１には、本発明に係る露光装置及び基板処理装置を含んで構成された一実施形態に係るリソグラフィシステムの構成が示されている。
【００６０】
この図１に示されるリソグラフィシステム１００は、露光装置１０と、基板処理装置としてのＣ／Ｄ５０と、これらの装置１０、５０をインラインにて接続するインライン・インタフェース部（以下、「インラインＩ／Ｆ部」と呼ぶ）１１０とを備えている。このリソグラフィシステム１００は、クリーンルーム内に設置されている。
【００６１】
以下においては、便宜上、図１における紙面内の左右方向をＸ軸方向、図１における紙面内でこれに直交する方向（上下方向）をＹ軸方向、及びこれらＸ軸、Ｙ軸に直交する紙面直交方向をＺ軸方向として、説明を行うものとする。
【００６２】
前記露光装置１０は、図１に示されるように、そのＹ軸方向の中央やや−Ｙ側寄りの部分に配置された仕切り壁１４により、その内部が露光室１２Ａとローダ室１２Ｂとに区画されたチャンバ１６を備えている。この内、ローダ室１２Ｂ内に、露光装置側の基板搬送系としてのウエハローダ系４０の大部分が収納され、露光室１２Ａ内に不図示のレチクルのパターンをウエハステージＷＳＴ上の基板としてのウエハＷに転写する露光装置本体（ウエハステージＷＳＴ及び投影光学系ＰＬ以外の部分は図示省略）が収納されている。
【００６３】
ウエハローダ系４０は、Ｘ軸方向に延びるＸガイド１８と、この上方（図１における紙面手前側）に位置し、Ｙ軸方向に延びるＹガイド２０とを搬送ガイドとして備えている。Ｙガイド２０は、仕切り壁１４を貫通した状態で設けられている。また、ローダ室１２Ｂ内のＸガイド１８の−Ｙ側には、Ｘ軸方向に所定間隔を隔ててキャリア台２２Ａ、２２Ｂが配置され、これらのキャリア台２２Ａ、２２Ｂ上に、複数枚のウエハを収納可能なオープンキャリア（Open Carrier：以下、適宜「ＯＣ」と略述する）２４Ａ、２４Ｂが載置されている。これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂは、チャンバ１６の−Ｙ側の側壁に設けられた不図示の扉によって開閉可能な不図示の出し入れ口を介して出し入れされるようになっている。これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂの出し入れは、ＰＧＶ（Person Guided Vehicle：手動型搬送車）によって搬送しオペレータの手作業によって行っても良いが、ＡＧＶ（Automated Guided Vehicle：自走型搬送車）により搬送した後、自動的に行うようにしても良い。勿論、ＯＨＴ（Over Head Transfer）を用いて、上方からＯＣ２４Ａ、２４Ｂをキャリア台２２Ａ、２２Ｂ上にそれぞれ設置しても構わない。また、ＯＣ２４Ａ、２４Ｂは、Ｃ／Ｄ５０とのインラインによる運用ではなく、露光装置１０内に直接ウエハを投入する際に用いられる。
【００６４】
前記Ｘガイド１８上には、不図示の駆動装置に駆動されＸガイド１８に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）２６が設けられている。
また、Ｙガイド２０には、不図示の駆動装置によって駆動され、該Ｙガイド２０に沿って移動するウエハ・ロードアーム２８とウエハ・アンロードアーム３０とが設けられている。
【００６５】
さらに、Ｙガイド２０の−Ｙ方向端部の−Ｘ側の位置で、キャリア台２２Ａ、２２Ｂの間には、ターンテーブル（回転テーブル）３２が配置され、このターンテーブル３２からＹ方向に所定距離隔てた位置に不図示のウエハエッジセンサが配置されている。
【００６６】
図示は省略されているが、ウエハステージＷＳＴは、防振パッドによって保持された定盤上でＸＹ２次元移動し、このウエハステージＷＳＴに保持されたウエハＷに対してレチクルパターンが転写されるようになっている。
【００６７】
この他、ローダ室１２Ｂ内には、上記のウエハローダ系４０の各部を制御するとともに、後述するＣ／Ｄ側の制御装置との間で通信回線を介して情報の交換、すなわち通信を行うローダ制御装置３４が設けられている。
【００６８】
前記インラインＩ／Ｆ部１１０は、露光装置１０を構成するチャンバ１６の−Ｘ側に配置されたチャンバ１１２、該チャンバ１１２内部の＋Ｘ側の端部近傍に配置されたインライン受け渡し部１１４及び該インライン受け渡し部１１４の−Ｘ側に配置された水平多関節型ロボット１１６等を備えている。
【００６９】
前記インライン受け渡し部１１４は、図２に示されるように、基台１２２と、該基台１２２上にＹ軸方向に所定間隔で設けられた３本１組の支持ピンから成るウエハ受け渡し部１２４Ａ、１２４Ｂとを備えている。
【００７０】
なお、インライン受け渡し部は、図２に示されるものに限らず、例えば図３に示されるように、上下方向に所定間隔で配置され不図示の駆動機構によって連動して上下方向に駆動されるロード側のウエハ受け渡し部１２６Ａ及びアンロード側のウエハ受け渡し部１２６Ｂを有する構成としても良い。ウエハ受け渡し部１２６Ａ、１２６Ｂは、板状部材と、該板状部材の上面に固定された３本１組の支持ピンを、それぞれ有している。
【００７１】
図１に戻り、チャンバ１１２の内部には、ウエハＷを一時的に保管するためのバッファキャリア１２０が載置されるキャリア台１１８も必要に応じて配置される。
【００７２】
前記Ｃ／Ｄ５０は、図１に示されるように、Ｘ軸方向に隣接して配置された２つのチャンバ５２、５４を備えている。一方のチャンバ５２の内部には、Ｙ軸方向に延びるＹガイド５６が配置されている。Ｙガイド５６上には、不図示の駆動装置に駆動されＹガイド５６に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）５８が設けられている。
【００７３】
また、チャンバ５２の内部のＹガイドの−Ｘ側の位置には、キャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０ＣがＹ軸方向に沿って配置されている。これらのキャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上に、ＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅがそれぞれ載置されている。これらのＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅは、チャンバ５２の−Ｘ側の側壁に設けられた不図示の扉によって開閉可能な不図示の出し入れ口を介して出し入れされるようになっている。ＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅの出し入れは、ＰＧＶによって搬送しオペレータの手作業によって行っても良いが、ＡＧＶにより搬送した後、自動的に行うようにしても良い。勿論、ＯＨＴを用いて、上方からＯＣ２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅをキャリア台６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上にそれぞれ載置しても構わない。
【００７４】
この他、チャンバ５２の内部には、Ｃ／Ｄ５０の構成各部を統括的に制御する塗布・現像制御装置６２が設けられている。塗布・現像制御装置６２は、Ｃ／Ｄ５０内のウエハの搬送系等の他、前述したインラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６等をも制御する。また、この塗布・現像制御装置６２は、露光装置１０側のローダ制御装置３４との間で通信（ウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報の他、処理能力（スループット）の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を決定させるための情報（これについては、後に詳述する）のやりとり、すなわち送受信）をも行う。
【００７５】
チャンバ５２のチャンバ５４との境界部分には、Ｙ軸方向中央やや−Ｙ側寄りの位置に、基板受け渡し部６４が設けられている。この基板受け渡し部６４は、基台とこの基台上に固定された３本１組の支持ピンとから構成されている。
【００７６】
チャンバ５４の内部には、基板受け渡し部６４の＋Ｘ側に、Ｘ軸方向に延びるＸガイド６６が配置されている。このＸガイド６６上には、不図示の駆動装置に駆動されＸガイド６６に沿って移動する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）６８が設けられている。
【００７７】
また、チャンバ５４の内部には、Ｘガイド６６の＋Ｙ側に、第１現像部７０、第２現像部７２、及びベーク部７４が図１における左から右に順次配置されている。また、Ｘガイド６６の−Ｙ側には、第１塗布部７６、第２塗布部７８、冷却部８０が、第１現像部７０、第２現像部７２、及びベーク部７４にそれぞれ対向して配置されている。
【００７８】
前記第１塗布部７６及び第２塗布部７８は、スピンコータを有している。このスピンコータは、水平にしたウエハ上にレジストを滴下しウエハを回転させることにより、ウエハ上に均一なレジスト膜を形成する。このスピンコータは、レジスト供給系、スピンモータ、カップの組み合わせにより構成される。回転数は、毎分、数千回転まで可能になっている。
【００７９】
前記ベーク部７４は、ベーキング装置を備えている。このベーキング装置としは、抵抗加熱方式、赤外線加熱方式等を用いることができる。ここでは、ベーキング装置により、プリベーク（ＰＢ）及び現像前ベーク（post-exposure bake：ＰＥＢ）を行う。前者は、ウエハ上にレジストを塗布した後、塗布膜中の残留溶剤の蒸発と塗布膜とウエハの密着性強化のために実施する熱処理である。露光前に行うために、ポリマーが重合したり、添加物の熱分解が生じない温度以下で行う。また、後者は、単一波長の光で露光した場合の定在波効果によるレジストパターン（レジスト側壁形状）の変形を軽減するため、露光後現像処理前に行う熱処理である。また、化学増幅型レジストの露光後の触媒反応促進の目的でも行う。
【００８０】
前記冷却部８０は、例えばクーリングプレートと呼ばれる冷却された平坦なプレートを備えている。このプレートは、例えば冷却水の循環等により冷却される。この他、ペルチェ効果による電子冷却を利用する場合もある。本実施形態では、ＰＢの際に加熱されたウエハを露光装置１０内で影響のない温度まで冷却する。
【００８１】
前記第１現像部７０及び第２現像部７２は、露光装置１０により露光され、レジストにパターン像が形成されたウエハを現像する現像装置を備えている。この現像装置としては、スピン式、ディップ式、あるいはスプレー式等のいずれの方式をも用いることができる。
【００８２】
さらに、Ｘガイド６６の＋Ｘ側のチャンバ５４とチャンバ１１２との境界部分には、基板受け渡し部８２が設けられている。この基板受け渡し部８２は、基台とこの基台上に固定された３本１組の支持ピンとから構成されている。
【００８３】
図４には、リソグラフィシステム１００の制御系の構成がブロック図にて示されている。この図４に示されるように、露光装置１０側の制御系は、前述したローダ制御装置３４の他、ウエハステージＷＳＴ及び不図示のレチクルステージ等を制御するステージ制御装置３６、及びこれらローダ制御装置３４、ステージ制御装置３６等を介して露光装置全体を統括的に制御する主制御装置３８を備えている。
【００８４】
一方、Ｃ／Ｄ５０側の制御系は、塗布・現像制御装置６２を中心として構成され、この塗布・現像制御装置６２によって、スカラーロボット５８、６８、１１６等が制御される。また、本実施形態では、スカラーロボット５８、６８、１１６、Ｘガイド６６、及びＹガイド５６等によって、Ｃ／Ｄ側の基板搬送系が構成されている。
【００８５】
次に、リソグラフィシステム１００によるウエハの処理動作について説明する。
【００８６】
前提として、基板としてのウエハＷが、ロット（例えば２５枚）単位でＯＣ２４Ａ〜２４Ｅ内にそれぞれ収納され、これらのＯＣ２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、２４Ｄ、２４Ｅが、キャリア台２２Ａ、２２Ｂ、６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ上にそれぞれ載置されているものとする。但し、ＯＣ２４Ａ、２４Ｂを、バッファキャリア１２０と同様に露光装置内のバッファとして用いても良い。
【００８７】
ここでは、一例として、ＯＣ２４Ｄ内のウエハＷを処理する場合について説明する。なお、以下の各部の動作は、図４に示される塗布・現像制御装置６２、並びに主制御装置３８の管理下にあるローダ制御装置３４、ステージ制御装置３６によって実行されるが、以下においては、説明を簡略化するため、特に必要がある場合以外は、これらの制御装置に関する記述は省略するものとする。
【００８８】
まず、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第１枚目のウエハ（Ｗ1とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置する。このとき、スカラーロボット６８は、図１における左端位置に移動しているものとする。そこで、スカラーロボット６８は、基板受け渡し部６４上からウエハＷ1を例えば第１塗布部７６内に搬入する。これにより、第１塗布部７６内のスピンコータにより前述したようにしてレジストの塗布が開始される。
【００８９】
上記のスカラーロボット６８の動作と並行して、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第２枚目のウエハ（Ｗ2とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置している。そこで、スカラーロボット６８はそのウエハＷ2を基板受け渡し部６４上から第２塗布部７８に搬入する。そして、ウエハＷ1のレジスト塗布が終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1を第１塗布部７６から取り出してベーク部７４に搬入する。これにより、ベーク部７４内のベーキング装置によりウエハＷ1の加熱処理（ＰＢ）が開始される。
【００９０】
上記のウエハＷ1のベーク部への搬入が行われるまでの間に、スカラーロボット５８が、ＯＣ２４Ｄ内から第３枚目のウエハ（Ｗ3とする）を取り出し、基板受け渡し部６４上に載置している。そこで、スカラーロボット６８はそのウエハＷ3を基板受け渡し部６４上から第１塗布部７６内に搬入する。
【００９１】
そして、ウエハＷ1のＰＢが終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1をベーク部７４から取り出して冷却部８０内に搬入する。これにより、冷却部８０内部でウエハＷ1の冷却が開始される。この冷却は、露光装置１０内で影響のない温度、一般的には、例えば２０〜２５℃の範囲で定められる露光装置１０の露光室１２Ａ内の空調系の目標温度を目標温度として行われる。なお、最近の露光装置では、微小線幅のパターンをウエハ上に転写形成するため、温度管理は重要な項目である。これは、ごく僅かな温度変化によるウエハの膨張・収縮であっても、それが線幅異常や重ね合わせ不良など種々の悪影響を招くからである。但し、冷却後、露光装置のウエハステージＷＳＴまで搬送されるまでの、温度変化を考慮して冷却時の目標温度を定めても良い。
【００９２】
次に、スカラーロボット６８は、レジスト塗布の終了したウエハＷ2を第２塗布部７８から取り出してベーク部８０に搬入し、続いてその時点で既にスカラーロボット５８によって基板受け渡し部６４上に載置されている第４枚目のウエハ（Ｗ4とする）を、基板受け渡し部６４から第２塗布部７８に搬入する。
【００９３】
そして、冷却部８０内でウエハＷ1の冷却が終了すると、スカラーロボット６８は、そのウエハＷ1を基板受け渡し部８２上に載置する。次いで、スカラーロボット６８は、ベーク部７４内のウエハＷ2のＰＢが終了すると、そのウエハＷ2をベーク部７４から取り出して冷却部８０に搬入する。次に、スカラーロボット６８は、レジスト塗布の終了したウエハＷ3を第１塗布部７６から取り出し、ベーク部７４内に搬入した後、その時点で既にスカラーロボット５８によって基板受け渡し部６４上に載置されている第５枚目のウエハ（Ｗ5とする）を、基板受け渡し部６４から第１塗布部７６に搬入する。これ以降、Ｃ／Ｄ５０内では、上記と同様の一連のウエハに対するレジスト塗布、ＰＢ、冷却、及びこれらの一連の処理に伴う上記のウエハの搬送動作が順次繰り返し行われ、ウエハＷが順次基板受け渡し部８２上に載置される。
【００９４】
前記インラインＩ／Ｆ部１１０内では、スカラーロボット１１６が、基板受け渡し部８２上に順次載置される露光前のウエハＷを、インライン受け渡し部１１４のロード側のウエハ受け渡し部、例えばウエハ受け渡し部１２４Ａ上に順次載置する。
【００９５】
所定時間経過後に、後述するようにして、露光装置１０側で第１枚目のウエハＷ1に対する露光が終了し、そのウエハＷ1が露光装置１０側のスカラーロボット２６により、ウエハ受け渡し部１２４Ｂに搬送された時点以降、スカラーロボット１１６は、上記の基板受け渡し部８２から露光前のウエハＷをウエハ受け渡し部１２４Ａ上に搬送し載置する動作と、露光が終了したウエハＷをウエハ受け渡し部１２４Ｂから基板受け渡し部８２上に搬送し載置する動作とを、所定の順序で、繰り返し行うこととなる。
【００９６】
前述の如くして、インラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６により、ウエハ受け渡し部１２４Ｂから基板受け渡し部８２上に搬送され載置された露光済みの第１枚目のウエハＷ1は、スカラーロボット６８によりベーク部７４内に搬入され、該ベーク部７４内のベーキング装置によりＰＥＢが行われる。ベーク部７４内には、複数枚のウエハを同時に収容可能である。
【００９７】
一方、ＰＥＢが終了したウエハＷ1は、スカラーロボット６８によりベーク部７４から取り出され、例えば第１現像部７０内に搬入され、該第１現像部７０内の現像装置により現像が開始される。
【００９８】
この現像中に、スカラーロボット６８は、露光が終了した第２枚目のウエハＷ2が基板受け渡し部８２上に載置されている場合には、そのウエハＷ2をウエハ受け渡し部８２からベーク部７４内に搬入する。これにより、該ベーク部７４内のベーキング装置によりＰＥＢが行われる。次に、スカラーロボット６８は、次のウエハＷを基板受け渡し部８２上に載置する、あるいは、ＰＥＢが終了したウエハＷ2を第２現像部７２に搬入する等の動作を、所定の順序で行う。
【００９９】
そして、ウエハＷ1の現像が終了すると、スカラーロボット６８はウエハＷ1を第１現像部７０から取り出し、基板受け渡し部６４上に載置する。このウエハＷ1は、最終的にスカラーロボット５８により、ＯＣ２４Ｄ内の所定の収納段に搬入されることになる。以降、Ｃ／Ｄ５０内では、第２枚目以降のウエハに対して、ウエハＷ1と同様の手順で、ＰＥＢ、現像、及びウエハの搬送が繰り返し行われることとなる。
【０１００】
これまでの説明を纏めると、第１枚目のウエハの露光終了直後までは、塗布・現像制御装置６２の管理下にある、Ｃ／Ｄ５０内の構成各部、及びインラインＩ／Ｆ部１１０内のスカラーロボット１１６等によって、ＯＣ２４Ｄからのウエハの取り出し、レジスト塗布、ＰＢ、冷却及びこれらの動作に伴うウエハの搬送が所定の手順及び順序で繰り返し行われ、露光前のウエハがウエハ受け渡し部１２４Ａに順次載置される。また、第１枚目のウエハの露光終了直後以後は、ＯＣ２４Ｄからのウエハの取り出し、レジスト塗布、ＰＢ、冷却及びこれらの動作に伴うウエハの搬送動作と、ウエハ受け渡し部１２４Ｂに順次載置される露光済みのウエハに対するＰＥＢ、現像、ＯＣ２４Ｄ内へのウエハの搬入及びこれらの動作に伴うウエハの搬送動作とが、所定の手順及び順序で繰り返し行われることになる。
【０１０１】
一方、露光装置１０側では、まず、スカラーロボット２６が、Ｘガイド１８に沿って左端位置まで移動し、チャンバ１６の開口を介してインライン受け渡し部１１４からウエハＷ1を受け取る。次いで、スカラーロボット２６は、Ｘガイド１８に沿ってターンテーブル３２の前方まで右側に移動し、ウエハＷ1をターンテーブル３２上に載置した後、直ちに、スカラーロボット２６は、次のウエハＷ2を受け取るため、Ｘガイド１８に沿って左端位置に向かって移動する。
【０１０２】
その後、不図示の駆動系によりターンテーブル３２が回転駆動され、これによってターンテーブル３２に保持されたウエハＷ1が回転される。このウエハＷ1の回転中に、ウエハエッジセンサによってウエハエッジの検出が行われ、その検出信号に基づいてローダ制御装置３４によって、ウエハＷ1のノッチの方向、及びウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量（方向及び大きさ）が求められる。ローダ制御装置３４は、ターンテーブル３２を回転させてウエハＷのノッチ部の方向を所定方向に合わせる。
【０１０３】
このとき、ロードアーム２８は所定のウエハ受け取り位置にあり、ターンテーブル３２上のウエハＷ1を受け取るが、この際に、先に求められたウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量のＹ方向成分を補正できる位置まで一旦移動した後受け取る。その後、ロードアーム２８は、所定のローディングポジションに待機しているウエハステージＷＳＴの上方に向かってＹガイド２０に沿って移動を開始する。
【０１０４】
このとき、スカラーロボット２６は、その時点の前にスカラーロボット１１６によって、インライン受け渡し部１１４のウエハ受け渡し部１２４Ａに載置されていたウエハＷ2を既に受け取っている。そこで、ロードアーム２８がＸガイド１８から一定距離以上離れると、Ｘガイド１８に沿ってターンテーブル３２の前方まで右側に移動し、ウエハＷ2をターンテーブル３２上に載置する。その後、スカラーロボット２６は、所定の待機位置に移動するとともに、ターンテーブル３２の回転及びウエハエッジセンサによるウエハエッジ検出が開始され、その後ローダ制御装置３４によってウエハＷ2のノッチの方向、及びウエハ中心とターンテーブル３２の中心との偏心量（方向及び大きさ）が算出されることとなる。
【０１０５】
ロードアーム２８は、ウエハステージＷＳＴの上方までウエハＷ1を搬送すると、該ウエハＷ1をウエハステージＷＳＴに渡す。この場合において、ロードアーム２８からウエハステージＷＳＴにウエハＷ1が渡される直前に、上記偏心量のＸ成分が補正されるようにウエハステージＷＳＴがＸ軸方向に微少駆動される。
【０１０６】
そして、ウエハステージＷＳＴ上に渡されたウエハＷ1に対する露光動作が行われる。なお、この露光は、例えば、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷ1上の各ショット領域を不図示のレチクルステージに保持されたレチクルのパターンの投影光学系ＰＬ（図１参照）による投影位置に位置決めする動作と、レチクルを露光用照明光で照明してレチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介して各ショット領域に転写する動作とを、繰り返すことにより行われる。
【０１０７】
勿論、走査露光方式の露光を行うタイプの場合には、レチクル（レチクルステージ）とウエハＷ1（ウエハステージＷＳＴ）とを各ショット領域の露光のための走査開始位置へ位置決めする動作と、レチクルとウエハＷ1とを同期移動しつつレチクル上のスリット状の照明領域を露光用照明光により照明して、レチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ1上の各ショット領域に逐次転写する走査露光動作とを、繰り返すことにより行われる。
【０１０８】
上記の露光が終了すると、ウエハステージＷＳＴがアンローディングポジション、すなわち前述したローディングポジションまで移動し、アンロードアーム３０が、露光済みのウエハＷ1を受け取り、Ｘガイド１８上方まで搬送して、そこに待機しているスカラーロボット２６に渡す。そして、スカラーロボット２６により、ウエハＷ1が搬送され、最終的にインライン受け渡し部１１４のアンロード側のウエハ受け渡し部１２４Ｂに渡される。
【０１０９】
この場合において、スカラーロボット２６が、干渉しない位置までインライン受け渡し部１１４側へ移動すると、ロードアーム２８が、回転調整の終了したウエハＷ2をターンテーブル３２上から受け取り、ローディングポジションに待機しているウエハステージ上方に向けて搬送し、ウエハステージＷＳＴ上に渡す。
【０１１０】
その後、ウエハステージＷＳＴ上に渡されたウエハＷ2に対する露光動作が行われる。以後、露光装置１０内では、ウエハ受け渡し部１２４Ａに載置された第３枚目のウエハ（Ｗ3とする）以降のウエハを順次取り込み、前述と同様の経路でウエハステージＷＳＴ上に搬送し、露光を行った後、最終的にインライン受け渡し部１１４のアンロード側のウエハ受け渡し部１２４Ｂに渡すという処理が繰り返し行われることとなる。
【０１１１】
上述したように、本実施形態のリソグラフィシステムでは、Ｃ／Ｄ５０及びインラインＩ／Ｆ部１１０、露光装置１０のそれぞれでウエハＷの搬送の巡回動作（循環動作）が行われているが、双方間でウエハＷの受け渡しに関して、無駄時間（ロス時間）や、空振りが極力発生しないように、Ｃ／Ｄ５０側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４との間で、次のような情報の送受信が通信回線を介して行われている（図４参照）。
【０１１２】
すなわち、ローダ制御装置３４では、塗布・現像制御装置６２に対し、処理能力（スループット）の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報、例えば次のａ．〜ｄ．のような情報を、Ｃ／Ｄ５０及びインラインＩ／Ｆ部１１０側（以下、便宜上「Ｃ／Ｄ側」と呼ぶ）の次の動作の開始に先立って送出する。
ａ． 露光装置１０側のウエハローダ系がウエハＷを受け取り可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｂ． インライン受け渡し部１１４へのウエハの搬送をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば、「露光装置１０側のウエハローダ系がウエハの受け取りが可能となるまであと何秒待て」というような情報
ｃ． 露光装置１０側のウエハローダ系が、ウエハＷを送り出し可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｄ． インライン受け渡し部１１４でのウエハＷの受け取りのための動作をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば「ウエハＷを搬出するので何秒待て」というような情報
ここで、上記ａ．及びｃ．における「予定時間」とは、理論的に（計算上）求められる時間、例えば画角、露光量（走査型露光装置では、画角はスキャン長などに対応し、露光量はスキャン速度などをファクタとして含む）、アライメント時間などに基づいて計算により求められる時間を意味する。また、「予測時間」とは、上記予定時間を基準として、実際に行った結果、又は行いつつある状態を加味した時間、例えば、このロットはリトライ時間が長いとかの情報を加味した時間を意味する。これを更に詳述すると、予測時間は、計算により正確に求まる予定時間と異なり、不確定な要素を含む時間である。例えば、アライメント時間などはアライメントマークが見つけ難いと、計算上の時間に比べてより多くの時間が掛かったりするので、実際にウエハの循環搬送を行った結果得られる実績に基づいて、リトライ時間を求める必要がある。リトライ時間を左右するものとして、例えば搬送系の場合、各搬送アーム等のバキューム吸着に要する時間などがある。
【０１１３】
また、前述のアライメント時間が掛かるとか、アライメントでリトライが多いとかの現象は、特定のロット、すなわち特定のプロセスのウエハに集中して起こり易い。従って、例えば、ロットの先頭数枚のウエハで計算時間よりも実際の処理時間が長ければ、予測時間をその実績に合わせて長めに再設定して、相手側の装置（本実施形態では、Ｃ／Ｄ又は露光装置）に伝える。但し、予測時間は、ロットの先頭数枚に限らず、一日に処理するウエハの処理時間の平均、あるいは複数ロットの処理時間の平均などに基づいて、決定しても良い。
【０１１４】
一方、塗布・現像制御装置６２では、ローダ制御装置３４に対し、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報、例えば次のｅ．〜ｈ．のような情報を、露光装置１０側の次の動作の開始に先立って送出する。
ｅ．Ｃ／Ｄ側がウエハＷを受け取り可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｆ．インライン受け渡し部１１４へのウエハの搬送をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば、「Ｃ／Ｄ側がウエハの受け取りが可能となるまであと何秒待て」というような情報
ｇ．Ｃ／Ｄ側がウエハＷを送り出し可能となるまでの予測時間（又は予定時間）の情報
ｈ．インライン受け渡し部１１４でのウエハの受け取りのための動作をＣ／Ｄ側に抑制させるための情報、例えば「ウエハＷを搬出するので何秒待て」というような情報
従って、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、ローダ制御装置３４から通信回線を介して塗布・現像制御装置６２に対して、上記の処理能力の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を決定させるための情報が、その次の動作の開始に先立って送出されると、この情報を受けた塗布・現像制御装置６２は、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する特定の動作を、次の動作として、その特定の動作の開始に先立って決定することができる。
【０１１５】
これを更に詳述すると、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ａ．の情報に基づき、露光装置１０側がウエハＷの受け取りが可能となるタイミングを知ることができるので、なるべく無駄時間が生じることなく、ウエハＷの受け渡しが可能となるようなウエハの搬送に関する次の動作を決定することができる。より具体的には、塗布・現像制御装置６２では、例えば、ウエハＷを露光装置１０側へ渡す際に、露光装置１０が受取り可能となるまでの時間が短い、例えば１〜２秒である場合には、その時間だけ待ってウエハＷをインライン受け渡し部のウエハ受け渡し部１２４Ａを介して露光装置１０側に渡し、非常に時間がかかるならば、ウエハＷを受け渡すための搬送動作を行わず、あるいは必要に応じて、バッファキャリア１２０内に収納し、インライン受け渡し部１１４のウエハ受け渡し部１２４ＢからのウエハＷの受け取り動作のみを行うことができる。
このようにすることにより、ロス時間が短縮される。
【０１１６】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｂ．の情報に基づき、その待ち時間に応じて、なるべく無駄時間が生じることなく、効率的なウエハＷの搬送に関する動作を決定することができる。
【０１１７】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｃ．の情報に基づき、露光処理済みのウエハＷを取りに行った際に、もし数秒で露光装置１０側から露光処理済みのウエハＷが送られて来るならば、その間だけ待って受け取ることにすることができる。このようにすることにより、空振りしなくても良くなるので、効率が良くなる。
【０１１８】
また、塗布・現像制御装置６２では、例えば上記ｄ．の情報に基づき、その待ち時間に応じて、なるべく効率的なウエハＷの搬送に関する動作を決定することができる。
【０１１９】
また、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、塗布・現像制御装置６２から通信回線を介して露光装置１０側のローダ制御装置３４に、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報が、次の動作の開始に先立って送出されると、この情報を受けたローダ制御装置３４は、処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する特定の動作を、次の動作として、その特定の動作の開始に先立って決定することができる。
【０１２０】
すなわち、露光装置１０側のローダ制御装置３４は、上記ｅ．〜ｈ．の情報に基づき、上記ａ．〜ｄ．の情報をそれぞれ受け取った塗布・現像制御装置６２と同様にして、ウエハＷの搬送に関する次の動作を決定することができる。これにより、Ｃ／Ｄ側のウエハの搬送状態を一定時間毎に監視してウエハ搬送の循環動作を切り替える必要がなくなるので、その分ロス時間を少なくすることができる。
【０１２１】
これまでの説明から明らかなように、本実施形態では、ローダ制御装置３４によって、露光装置側の制御装置が構成され、塗布・現像制御装置６２によって基板処理装置としてのＣ／Ｄ側の制御装置が構成されている。しかしながら、これに限らず、露光装置側の制御装置として、Ｃ／Ｄ側に前述したａ．〜ｄ．の情報を送信する機能を有する第１の制御装置と、Ｃ／Ｄ側から前述したｅ．〜ｈ．の情報を受信する機能を有する第２の制御装置とを設けても良い。Ｃ／Ｄ側の制御装置についても同様である。
【０１２２】
以上詳細に説明したように、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、露光装置１０とＣ／Ｄ側との間で、ウエハＷの搬送に関する情報がやり取りされ、両装置で互いに、相手方装置からの情報に基づいて処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定することができる。換言すれば、Ｃ／Ｄ側及び露光装置１０側がそれぞれ装置内で自己完結して最適に動くのではなく、お互いに相手方装置のウエハ搬送に関する情報を考慮して、双方の搬送の巡回動作を合わせることで、露光装置１０とＣ／Ｄ５０とをインラインにて接続しているにもかかわらず、無駄時間や空振りを発生させずスループットを向上、改善でき、これにより、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上が可能となる。この結果、半導体素子等のデバイスの生産性の向上を図ることが可能になる。
【０１２３】
但し、上述したｂ．、ｄ．、ｆ．、ｈ．のような搬送抑制情報を、双方の制御装置３４、６２が同時に発した場合には、互いに搬送の条件が成り立たない場合が生じ得る。かかる場合には、予め優先権をどちらかの制御装置に与えておき、優先権を持つ方が要求却下情報を送ることで、相手方の制御装置は、その要求却下情報に基づいて自己の発した搬送抑制情報が、受け付けられなかったことを判断し、その抑制情報を取り下げ、次の処理を行うようにしても良い。
【０１２４】
また、本実施形態では、Ｃ／Ｄ５０が、自装置内に塗布工程、現像工程などの各工程の処理部を複数持っており、処理の終わったウエハから順番に搬送を行うように、循環搬送の順序を必要に応じて、最適に切り替えることが可能である場合には、その機能を最大限発揮させることも可能である。
【０１２５】
なお、上記実施形態では、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４とが、お互いに、相手方装置に対して、前述したような処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報を送る場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、Ｃ／Ｄ側の塗布・現像制御装置６２と、露光装置１０側のローダ制御装置３４とのいずれかのみが、相手方の装置に対して前述したような処理能力の向上に寄与するウエハＷの搬送に関する次の動作を決定させるための情報を送ることとしても良い。かかる場合であっても、この情報を受け取った相手方の制御装置では、前述と同様にして、自己の装置内においては極力無駄時間や空振りが発生しないようにウエハＷの搬送動作を決定し、実行することができるので、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上は可能である。
【０１２６】
なお、上記実施形態では、露光装置１０（ローダ制御装置３４）とＣ／Ｄ５０（塗布・現像制御装置６２）とが、通信回線を介して前記情報を送受信するが、この通信回線としては、パラレル通信回線、シリアル通信回線などの有線の回線は勿論、無線、赤外線、その他を用いて情報をやりとりしても良い。また、例えばパラレル通信を行う場合には既存の信号線の空き線を使用しても良い。シリアル通信を行う場合には、従来やりとりされていた信号（又は情報）に上記情報を付け加えるだけで良い。
【０１２７】
なお、上記実施形態では、インラインＩ／Ｆ部１１０を介して基板処理装置としてのＣ／Ｄ５０と、露光装置１０とをインライン接続する場合について説明したが、本発明がこれに限定されることはなく、基板処理装置と露光装置とを直接接続しても良い。また、基板処理装置、露光装置の構成も上記実施形態の構成は、一例に過ぎない。すなわち、上記実施形態では、露光装置１０の内部のウエハローダ系４０として、ロード側とアンロード側との搬送系が一部共通の系を用いる場合について説明したが、ロード側とアンロード側の搬送系を全く独立した系によって構成しても良い。この場合には、露光装置内でウエハの搬入と搬出とを同時に並行して行うことが可能となる。このような場合でも、本発明では、基板処理装置側による基板の搬入・搬出の予定時間が分るので、搬入に時間が掛かるようであれば、露光処理と搬出を優先して行い、一方搬出に時間が掛かるようであれば、基板が露光装置内に滞らない程度に、搬入を行えば良く、結果的に効率の良い運用が可能となる。
【０１２８】
また、上記実施形態では、Ｃ／Ｄ側に３つのスカラーロボット５８、６８、１１６が設けられた場合について説明したが、これに限らず、単一のロボットが所定の経路に沿って移動しながらウエハを循環搬送することとしても良い。さらに、スカラーロボット６８を２組設け、露光前処理と露光後処理とで使い分けるようにしても良い。また、ウエハの搬送系を構成するスカラーロボット５８、６８、１１６は、予め設定された手順で、これら循環動作（巡回）を行うが、各ロボット毎に巡回を行っても良く、全体で一連の循環動作を行っても良い。また、Ｃ／Ｄ５０内の構成としてはごく一般的な装置構成の一例を示したが、Ｃ／Ｄ内の処理は前述した実施形態で説明した順番で行われなくとも良く、記載されなかった処理を含んでも構わない。
【０１２９】
また、塗布部、現像部、冷却部、ベーク部等の各工程部も必要に応じて複数設置しても良く、基板の搬送系はこれらに応じて必要な搬送動作を行えば良い。また、基板処理装置としては、露光装置にインライン接続が可能なものであれば、Ｃ／Ｄに限らず、レジスト塗布装置（コータ）、現像装置（デベロッパ）は勿論、その他の検査装置などであっても構わない。
【０１３０】
また、上記実施形態では、ウエハキャリアとしてＯＣを用いる場合について説明したが、これに限らず、フロントオープニングユニファイドポッド（Front Opening Unified Pod ：ＦＯＵＰ）等の開閉型のウエハキャリアを用いても構わない。
【０１３１】
また、上記実施形態では、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とが通信回線を介して、ウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報のみならず、上述したａ．〜ｈ．のような情報をも送受信するものとしたが、本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、図５に示されるように、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とが通信回線を介して、露光装置１０及びＣ／Ｄ５０の上位装置であるホストコンピュータ９０に接続される場合には、塗布・現像制御装置６２とローダ制御装置３４とは、相互間でウエハの受け渡しのためのリアルタイム通信情報の送受信のみを行い、上述したａ．〜ｈ．のような情報は、ホストコンピュータ９０を介してやりとりすることとしても良い。
【０１３２】
この図５に示されるシステム構成の場合には、前述の如く、優先順位を設けることなく、ホストコンピュータ９０が、制御装置６２、３４の双方から同時に前記抑制情報が発せられ、その衝突が生じた場合に、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、他方の装置にその抑制情報を取り下げさせることとしても良い。
【０１３３】
勿論、ホストコンピュータ９０に限らず、ホストコンピュータと露光装置１０及びＣ／Ｄ５０との間に中間制御装置が存在する場合には、その中間制御装置を介して上述したａ．〜ｈ．のような情報をやりとりしても良いし、制御装置６２、３４の双方から同時に前記抑制情報が発せられ、その衝突が生じた場合に、中間制御装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、他方の装置にその抑制情報を取り下げさせることとしても良い。
【０１３４】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴが１つ設けられた露光装置について説明したが、これに限らず、いわゆるツインステージ（ダブルステージ）であって、ウエハのローディングポジションが２箇所に設定されているときなどにも本発明を適用することは可能である。また、所定枚数のウエハ毎にそれに対応する照明条件やレチクルの種類などに基づいて前述した予定時間、予測時間を求めるようにしても良い。
【０１３５】
《デバイス製造方法》
次に、上述した実施形態に係るリソグラフィシステムをリソグラフィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
【０１３６】
図６には、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。図６に示されるように、まず、ステップ３０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ３０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３０３（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
【０１３７】
次に、ステップ３０４（ウエハ処理ステップ）において、ステップ３０１〜ステップ３０３で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ３０５（デバイス組立ステップ）において、ステップ３０４で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップ３０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。
【０１３８】
最後に、ステップ３０６（検査ステップ）において、ステップ３０５で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【０１３９】
図７には、半導体デバイスの場合における、上記ステップ３０４の詳細なフロー例が示されている。図７において、ステップ３１１（酸化ステップ）においてはウエハの表面を酸化させる。ステップ３１２（ＣＶＤステップ）においてはウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ３１３（電極形成ステップ）においてはウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ３１４（イオン打込みステップ）においてはウエハにイオンを打ち込む。以上のステップ３１１〜ステップ３１４それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【０１４０】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ３１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ３１６（露光ステップ）において、マスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップ３１７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像する。このステップ３１５〜３１７の処理が、上記実施形態のリソグラフィシステム１００によって行われる。
【０１４１】
そして、ステップ３１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ３１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【０１４２】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【０１４３】
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法によると、ステップ３１５〜３１７の処理工程（リソグラフィ工程）において、上記実施形態のリソグラフィシステム１００が用いられ、露光装置１０とＣ／Ｄ５０との間で、ウエハの搬送に関する情報がやり取りされ、両装置が、お互いに、あるいは一方の装置が相手方の装置からの前記情報に基づいて処理能力の向上に寄与するウエハの搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定し、実行する。このため、Ｃ／Ｄ５０及び露光装置１０で行われる一連のウエハの処理におけるスループットの向上が可能となり、結果的にデバイスの生産性の向上を図ることが可能になる。特に、例えばＦ2レーザ光源等の真空紫外光源を露光用光源として用いる場合には、投影光学系ＰＬの解像力の向上とあいまって、例えば最小線幅が０．１μｍ程度であってもその生産性の向上が可能である。
【０１４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る露光装置によれば、基板処理装置とインライン接続された場合に、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることができるという効果がある。
【０１４５】
また、本発明に係る基板処理装置によれば、露光装置にインライン接続された場合に、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図ることができるという効果がある。
【０１４６】
また、本発明に係るリソグラフィシステムによれば、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるという効果がある。
【０１４７】
また、本発明に係るデバイス製造方法によれば、一連の基板の処理におけるスループットの向上を図り、これによりデバイスの生産性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るリソグラフィシステムの構成を概略的に示す平面図である。
【図２】図１のインライン受け渡し部を拡大して示す斜視図である。
【図３】インライン受け渡し部の他の構成例を示す斜視図である。
【図４】図１のリソグラフィシステムのウエハ搬送に関連する制御系の構成を概略的に示すブロック図である。
【図５】変形例に係るリソグラフィシステムのウエハ搬送に関連する制御系の構成を概略的に示すブロック図である。
【図６】本発明に係るデバイス製造方法の実施形態を説明するためのフローチャートである。
【図７】図６のステップ３０４における処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１０…露光装置、３４…ローダ制御装置（露光装置側の制御装置）、４０…ウエハローダ系（露光装置側の基板搬送系）、５０…Ｃ／Ｄ（基板処理装置）、５６…Ｙガイド（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、５８…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、６２…塗布・現像制御装置（基板処理装置側の制御装置）、６６…Ｘガイド（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、６８…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、９０…ホストコンピュータ（別の装置、上位装置）、１００…リソグラフィシステム、１１４…インライン受け渡し部（受け渡し部）、１１６…スカラーロボット（基板処理装置側の基板搬送系の一部）、Ｗ…ウエハ（基板）。
Claims (28)
- 基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、
基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、
前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記基板処理装置に対して送信する制御装置と、を備える露光装置。 - 前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板処理装置側に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、更に、前記特定情報として、基板の搬送に関する情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
- 基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、
基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、
前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記基板処理装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記基板処理装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することを特徴とする制御装置と、を備える露光装置。 - 前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
- 前記情報は、前記基板処理装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むことを特徴とする請求項４又は５に記載の露光装置。
- 前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
- 露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、
基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、
前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する制御装置と、を備える基板処理装置。 - 前記情報は、前記受け渡し部への基板の搬送を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
- 前記情報は、前記基板搬送系が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の基板処理装置。
- 前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記露光装置側に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記制御装置は、さらに、前記特定情報として、前記露光装置から基板の搬送に関する情報を受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定することを特徴とする請求項８〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、
基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と、
前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を前記露光装置から受信し、該情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する制御装置と、を備える基板処理装置。 - 前記情報は、前記受け渡し部での基板の受け取りのための動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
- 前記情報は、前記露光装置側が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかを含むことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の基板処理装置。
- 前記情報は、前記受け渡し部への基板の送り出しの動作を前記基板搬送系に抑制させるための情報を含むことを特徴とする請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 露光装置と、
該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置とを備え、
前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、予め定めた優先権を有する装置が、相手方の装置に要求却下情報を送り、前記相手方の装置は、前記要求却下情報に従って前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記露光装置と前記基板処理装置との間の前記抑制情報の送受信を仲介する別の装置を更に備えることを特徴とする請求項１７に記載のリソグラフィシステム。
- 露光装置と、
該露光装置にインラインにて接続され、前記露光装置との間で、基板の搬送に関する情報として、相手方の装置に対して基板の搬送動作を抑制させるための抑制情報を送受信する基板処理装置と、
前記露光装置と前記基板処理装置とを統括して制御する上位装置とを備え、
前記露光装置と前記基板処理装置の双方の装置からの前記抑制情報が同時に発生した場合、前記上位装置が、処理能力をより向上するとの観点から総合的に判断して、所定の一方の装置に要求却下情報を送り、前記抑制情報を取り下げることを特徴とするリソグラフィシステム。 - 基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、
基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、
前記基板処理装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記基板処理装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する露光装置。 - 前記複数の搬送動作とは、前記基板処理装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むことを特徴とする請求項２０に記載の露光装置。
- 前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、
前記複数の搬送動作とは、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むことを特徴とする請求項２１に記載の露光装置。 - 露光装置とインラインにて接続される基板処理装置であって、
基板を搬送するとともに前記露光装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系を備え、
前記露光装置から受信した処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報に基づいて、前記露光装置と前記基板搬送系との間の基板の搬送において、複数の搬送動作のうちの次の動作を処理能力が向上するように決定する基板処理装置。 - 前記複数の搬送動作とは、前記露光装置と前記基板搬送系との一方から他方への基板の搬出動作と、前記他方からの基板の搬入動作とを含むことを特徴とする請求項２３に記載の基板処理装置。
- 前記受け渡し部は、基板を収納して待機させる基板収納部を含み、
前記基板の搬送動作とは、更に、前記基板処理装置から前記基板収納部への基板の搬送動作を含むことを特徴とする請求項２４に記載の基板処理装置。 - 露光装置と、
該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、
処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を決定させるための特定情報として、前記基板搬送系が基板を受け取り可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が、前記次の動作の開始に先立って前記露光装置に対して送信する工程を含むデバイス製造方法。 - 露光装置と、
該露光装置にインラインにて接続された基板処理装置とを備えるリソグラフィシステムを用いてデバイスを製造するデバイス製造方法であって、
処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報として、前記露光装置側が基板を送り出し可能となるまでの予測時間及び予定時間のいずれかの情報を、前記基板処理装置が前記露光装置から受信する工程と、
前記基板処理装置が、前記情報に基づいて処理能力が向上するような基板の搬送に関する次の動作を予め決定する工程と、を含むデバイス製造方法。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項８〜１６又は２３〜２５のいずれか一項に記載の基板処理装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001148056A JP4915033B2 (ja) | 2000-06-15 | 2001-05-17 | 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 |
| KR1020010032099A KR100752083B1 (ko) | 2000-06-15 | 2001-06-08 | 노광장치, 기판처리장치 및 리소그래피 시스템, 및디바이스 제조방법 |
| SG200103491A SG101453A1 (en) | 2000-06-15 | 2001-06-13 | Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method |
| EP01305175A EP1164437A3 (en) | 2000-06-15 | 2001-06-14 | Lithographic system |
| CNB01118812XA CN1248054C (zh) | 2000-06-15 | 2001-06-14 | 曝光装置、基片处理单元和光刻系统及器件制造方法 |
| US09/880,067 US20010053291A1 (en) | 2000-06-15 | 2001-06-14 | Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method |
| TW090114532A TWI244118B (en) | 2000-06-15 | 2001-06-15 | Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method |
| US10/443,758 US6698944B2 (en) | 2000-06-15 | 2003-05-23 | Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000179407 | 2000-06-15 | ||
| JP2000179407 | 2000-06-15 | ||
| JP2000-179407 | 2000-06-15 | ||
| JP2001148056A JP4915033B2 (ja) | 2000-06-15 | 2001-05-17 | 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002075853A JP2002075853A (ja) | 2002-03-15 |
| JP4915033B2 true JP4915033B2 (ja) | 2012-04-11 |
Family
ID=26593973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001148056A Expired - Fee Related JP4915033B2 (ja) | 2000-06-15 | 2001-05-17 | 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20010053291A1 (ja) |
| EP (1) | EP1164437A3 (ja) |
| JP (1) | JP4915033B2 (ja) |
| KR (1) | KR100752083B1 (ja) |
| CN (1) | CN1248054C (ja) |
| SG (1) | SG101453A1 (ja) |
| TW (1) | TWI244118B (ja) |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0936198A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン |
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| JP2005136364A (ja) | 2003-10-08 | 2005-05-26 | Zao Nikon Co Ltd | 基板搬送装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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| JP2007116017A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Nikon Corp | プロセス処理装置 |
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| JP2008091508A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Canon Inc | 処理装置 |
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| JP2009135169A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
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| JP5128918B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP5001828B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
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| JP6122299B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | 処理装置、処理方法、及びデバイスの製造方法 |
| JP6312379B2 (ja) | 2013-07-19 | 2018-04-18 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法 |
| JP6123740B2 (ja) * | 2014-06-17 | 2017-05-10 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造ライン及び半導体装置の製造方法 |
| TWI749514B (zh) | 2015-02-23 | 2021-12-11 | 日商尼康股份有限公司 | 測量裝置、微影系統、以及元件製造方法 |
| KR20230130161A (ko) | 2015-02-23 | 2023-09-11 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 관리 방법, 중첩 계측 방법 및 디바이스 제조 방법 |
| CN111948912A (zh) | 2015-02-23 | 2020-11-17 | 株式会社尼康 | 基板处理系统及基板处理方法、以及组件制造方法 |
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| US6282457B1 (en) | 1996-06-07 | 2001-08-28 | Tokyo Electron Limited | Device for controlling treating station |
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| JPH11176911A (ja) | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
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-
2001
- 2001-05-17 JP JP2001148056A patent/JP4915033B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-08 KR KR1020010032099A patent/KR100752083B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-06-13 SG SG200103491A patent/SG101453A1/en unknown
- 2001-06-14 US US09/880,067 patent/US20010053291A1/en not_active Abandoned
- 2001-06-14 EP EP01305175A patent/EP1164437A3/en not_active Withdrawn
- 2001-06-14 CN CNB01118812XA patent/CN1248054C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-15 TW TW090114532A patent/TWI244118B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-05-23 US US10/443,758 patent/US6698944B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030231289A1 (en) | 2003-12-18 |
| SG101453A1 (en) | 2004-01-30 |
| CN1248054C (zh) | 2006-03-29 |
| EP1164437A2 (en) | 2001-12-19 |
| CN1330292A (zh) | 2002-01-09 |
| EP1164437A3 (en) | 2004-02-11 |
| KR20010113001A (ko) | 2001-12-24 |
| JP2002075853A (ja) | 2002-03-15 |
| TWI244118B (en) | 2005-11-21 |
| KR100752083B1 (ko) | 2007-08-24 |
| US20010053291A1 (en) | 2001-12-20 |
| US6698944B2 (en) | 2004-03-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080326 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100729 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100811 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101012 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110922 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111118 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111227 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120109 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150203 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150203 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |