KR20120081811A - 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 - Google Patents

증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20120081811A
KR20120081811A KR1020110003155A KR20110003155A KR20120081811A KR 20120081811 A KR20120081811 A KR 20120081811A KR 1020110003155 A KR1020110003155 A KR 1020110003155A KR 20110003155 A KR20110003155 A KR 20110003155A KR 20120081811 A KR20120081811 A KR 20120081811A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
deposition source
deposition
reflector
nozzles
protruding
Prior art date
Application number
KR1020110003155A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101760897B1 (ko
Inventor
최영묵
강희철
김채웅
Original Assignee
삼성모바일디스플레이주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성모바일디스플레이주식회사 filed Critical 삼성모바일디스플레이주식회사
Priority to KR1020110003155A priority Critical patent/KR101760897B1/ko
Priority to US13/328,524 priority patent/US20120174865A1/en
Priority to CN201210008397.XA priority patent/CN102586738B/zh
Priority to JP2012002535A priority patent/JP5993577B2/ja
Priority to TW101101052A priority patent/TWI557963B/zh
Priority to EP12150711.5A priority patent/EP2476774B1/en
Publication of KR20120081811A publication Critical patent/KR20120081811A/ko
Priority to US14/946,686 priority patent/US9748483B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101760897B1 publication Critical patent/KR101760897B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
    • H10K71/441Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour in the presence of solvent vapors, e.g. solvent vapour annealing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

본 발명의 일 측면은 대형 기판 양산 공정에 용이하게 적용될 수 있으며, 증착 공정 중에 발생할 수 있는 노즐 막힘 현상을 방지하여 제조 수율 및 증착 효율을 시킬 수 있는 증착원 및 이를 이용한 유기막 증착 장치를 제공한다.

Description

증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치{Deposition source and apparatus for organic layer deposition having the same}
본 발명은 증착원 및 유기막 증착 장치에 관한 것으로, 상세하게는 대형 기판 양산 공정에 용이하게 적용될 수 있고, 증착 공정 중에 노즐이 막히는 것을 방지할 수 있는 증착원 및 유기막 증착 장치에 관한 것이다.
디스플레이 장치들 중, 유기 발광 디스플레이 장치는 시야각이 넓고 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어 차세대 디스플레이 장치로서 주목을 받고 있다.
일반적으로, 유기 발광 디스플레이 장치는 애노드와 캐소드에서 주입되는 정공과 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하는 원리로 색상을 구현할 수 있도록, 애노드와 캐소드 사이에 발광층을 삽입한 적층형 구조를 가지고 있다. 그러나, 이러한 구조로는 고효율 발광을 얻기 어렵기 때문에, 각각의 전극과 발광층 사이에 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층 및 정공 주입층 등의 중간층을 선택적으로 추가 삽입하여 사용하고 있다.
그러나, 발광층 및 중간층 등의 유기 박막의 미세 패턴을 형성하는 것이 실질적으로 매우 어렵고, 상기 층에 따라 적색, 녹색 및 청색의 발광 효율이 달라지기 때문에, 종래의 유기막 증착 장치로는 대면적(5G 이상의 마더 글래스(mother-glass))에 대한 패터닝이 불가능하여 만족할 만한 수준의 구동 전압, 전류 밀도, 휘도, 색순도, 발광 효율 및 수명 등을 가지는 대형 유기 발광 디스플레이 장치를 제조할 수 없는 바, 이의 개선이 시급하다.
한편, 유기 발광 디스플레이 장치는 서로 대향된 제1 전극 및 제2 전극 사이에 발광층 및 이를 포함하는 중간층을 구비한다. 이때 상기 전극들 및 중간층은 여러 방법으로 형성될 수 있는데, 그 중 한 방법이 증착이다. 증착 방법을 이용하여 유기 발광 디스플레이 장치를 제작하기 위해서는, 박막 등이 형성될 기판 면에, 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(fine metal mask: FMM)를 밀착시키고 박막 등의 재료를 증착하여 소정 패턴의 박막을 형성한다.
본 발명은 제조가 용이하고, 대형 기판 양산 공정에 용이하게 적용될 수 있으며, 증착 공정 중에 노즐이 막히는 것을 방지할 수 있는 증착원 및 유기막 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 증착원은, 일렬로 배열된 제1 증착원 및 제2 증착원과, 상기 제1 증착원의 일 측에 배치되며, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원이 배열된 방향에 따라 복수 개의 제1 증착원 노즐들이 형성된 제1 증착원 노즐부와, 상기 제2 증착원의 일 측에 배치되며, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원이 배열된 방향에 따라 복수 개의 제2 증착원 노즐들이 형성된 제2 증착원 노즐부와, 상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제1 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터와, 상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제2 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제4 돌출 리플렉터 및 제5 돌출 리플렉터을 구비하며, 상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 서로를 향하여 틸트될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원은 호스트 물질을 방사하며, 상기 제2 증착원은 도펀트 물질을 방사할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제3 돌출 리플렉터를 더 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제3 돌출 리플렉터는 상기 제2 증착원에 인접하는 상기 제1 및 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제4 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제6 돌출 리플렉터를 더 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제6 돌출 리플렉터는 상기 제1 증착원에 인접하는 상기 제4 및 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제1 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제4 돌출 리플렉터와 제5 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제2 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 중 상기 제2 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제1 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 중 상기 제1 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제2 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기막 증착 장치는, 기판상에 박막을 형성하기 위한 유기막 증착 장치에 있어서, 증착 물질을 방사하는 증착원과, 상기 증착원의 일 측에 배치되며, 제1 방향을 따라 복수 개의 증착원 노즐들이 형성되는 증착원 노즐부와, 상기 증착원 노즐부와 대향되게 배치되고, 상기 제1 방향에 대해 수직인 제2 방향을 따라 복수 개의 패터닝 슬릿들이 형성되는 패터닝 슬릿 시트를 포함하고, 상기 기판이 상기 유기막 증착 장치에 대하여 상기 제1 방향을 따라 이동하면서 증착이 수행되고, 상기 증착원, 상기 증착원 노즐부 및 상기 패터닝 슬릿 시트는 일체로 형성되며, 상기 증착원은, 서로 다른 증착물질은 방사하는 제1 증착원 및 제2 증착원을 포함하며, 상기 증착원 노즐부는, 상기 제1 증착원의 일 측에 배치되며 상기 제1 방향을 따라 복수 개의 제1 증착원 노즐들이 형성되는 제1 증착원 노즐부와, 상기 제2 증착원의 일 측에 배치되며 상기 제1 방향을 따라 복수 개의 제2 증착원 노즐들이 형성되는 제2 증착원 노즐부를 포함하고, 상기 제1 증착원 노즐부 및 상기 제2 증착원 노즐부 각각의 복수 개의 증착원 노즐들은 소정 각도 틸트 되도록 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원은 호스트 물질을 방사하며, 상기 제2 증착원은 도펀트 물질을 방사할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 상기 제1 방향을 따라 일렬로 배열될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원 노즐부는 상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제1 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제3 돌출 리플렉터를 더 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제3 돌출 리플렉터는 상기 제2 증착원에 인접하는 상기 제1 및 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제2 증착원 노즐부는 상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제2 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제4 돌출 리플렉터 및 제5 돌출 리플렉터를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제4 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제6 돌출 리플렉터를 더 구비할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제6 돌출 리플렉터는 상기 제1 증착원에 인접하는 상기 제4 및 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제1 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제4 돌출 리플렉터와 제5 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제2 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 중 상기 제2 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제1 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 중 상기 제1 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제2 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 증착원 및 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트는 연결 부재에 의해 결합되어 일체로 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 증착 물질의 이동 경로를 가이드 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 증착원 및 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트 사이의 공간을 외부로부터 밀폐하도록 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 유기막 증착 장치는 상기 기판과 소정 정도 이격되도록 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 기판이 상기 유기막 증착 장치에 대하여 상기 제1 방향을 따라 이동하면서, 상기 기판상에 상기 증착 물질이 연속적으로 증착될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 유기막 증착 장치의 상기 패터닝 슬릿 시트는 상기 기판보다 작게 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원에서 방사되는 상기 호스트 물질의 적어도 일부와 상기 제2 증착원에서 방사되는 상기 도펀트 물질의 적어도 일부가 혼합될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 상기 제1 방향을 따라 나란하게 배치될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 서로 마주보는 방향으로 틸트될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 상기 기판 전체에 걸쳐서 상기 호스트 물질과 상기 도펀트 물질의 혼합비율이 균일해지도록 틸트될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 각각 선형 소스(linear source)로 형성될 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일측면에 따르면, 제조가 용이하고, 대형 기판 양산 공정에 용이하게 적용될 수 있으며, 증착 공정 중에 발생할 수 있는 노즐 막힘 현상을 방지하여 제조 수율 및 증착 효율을 시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 증착원을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2a는 도 1의 I-I을 따라 취한 단면도이다.
도 2b는 도 1의 II-II을 따라 취한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 과한 증착원을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 4은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4의 유기막 증착 장치의 개략적인 측면도이다.
도 6은 도 4의 유기막 증착 장치의 개략적인 평면도이다.
도 7는 본 발명의 증착 장치를 이용하여 제조된 액티브 매트릭스형 유기 발광 디스플레이 장치의 단면을 도시한 것이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 증착원을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2a는 도 1의 I-I을 따라 취한 단면도이며, 도 2b는 도 1의 II-II을 따라 취한 단면도이다.
도 1 내지 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 증착원(10)은 제1 증착원(110)과 제2 증착원(120)으로 이루어질 수 있다. 제1 증착원(110)과 제2 증착원(120)은 각각 증착 물질(117a, 117b)을 기화시켜서 피증착체(도 4의 400) 상에 박막을 형성한다.
상세하게는, 제1 증착원(110)은 증착 물질(117a)로서 호스트 물질을 구비하며, 제2 증착원(120)은 증착 물질(117b)로서 도펀트 물질을 구비할 수 있다. 호스트 물질(117a)과 도펀트 물질(117b)의 승화 온도가 서로 다르기 때문에, 호스트 물질(117a)과 도펀트 물질(117b)을 동시에 증착하기 위해서, 증착원 및 노즐부를 복수로 구성한다.
즉, 제1 증착원(110)은 그 내부에 호스트 물질(117a)이 채워지는 도가니(111)와, 도가니(111)를 가열시켜 도가니(111) 내부에 채워진 호스트 물질(117a)을 도가니(111)의 일 측, 상세하게는 피증착체를 향하여 증발시키기 위한 히터(112)를 포함한다. 한편, 제2 증착원(120)은 그 내부에 도펀트 물질(117b)이 채워지는 도가니(121)와, 도가니(121)를 가열시켜 도가니(121) 내부에 채워진 도펀트 물질(117b)을 도가니(121)의 일 측, 상세하게는 피증착체를 향하여 증발시키기 위한 히터(122)를 포함한다.
여기서, 상기 호스트 물질로는 트리스(8-히드록시-퀴놀리나토)알루미늄 (Alq3), 9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (AND), 3-Tert-부틸-9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (TBADN), 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (DPVBi), 4,4'-비스Bis(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (p-DMDPVBi), Tert(9,9-디아릴플루오렌)s (TDAF), 2-(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌(BSDF), 2,7-비스(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌 (TSDF), 비스(9,9-디아릴플루오렌)s (BDAF), 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디-(tert-부틸)페닐 (p-TDPVBi), 1,3-비스(카바졸-9-일)벤젠 (mCP), 1,3,5-트리스(카바졸-9-일)벤젠 (tCP), 4,4',4"-트리스(카바졸-9-일)트리페닐아민 (TcTa), 4,4'-비스(카바졸-9-일)비페닐 (CBP), 4,4'-비스Bis(9-카바졸일)-2,2'-디메틸-비페닐 (CBDP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디메틸-플루오렌 (DMFL-CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-비스bis(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-4CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디-톨일-플루오렌 (DPFL-CBP), 9,9-비스(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-2CBP) 등이 사용될 수 있다.
상기 도펀트 물질로는 DPAVBi (4,4'-비스[4-(디-p-톨일아미노)스티릴]비페닐), ADN (9,10-디(나프-2-틸)안트라센), TBADN (3-터트-부틸-9,10-디(나프-2-틸)안트라센) 등이 사용될 수 있다.
제1 및 제2 증착원(110, 120)의 일 측, 상세하게는 제1 및 제2 증착원(110, 120)에서 피증착체(도 4의 400)를 향하는 측에는 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)가 배치된다. 그리고, 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)에는, 피증착체(도 4의 400)의 이동 방향(A)을 따라서 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 형성된다. 여기서, 상기 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들은 등 간격으로 형성될 수 있다. 제1 및 제2 증착원(110, 120) 내에서 기화된 증착 물질(117a, 117b)은 이와 같은 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)를 통과하여 피증착체인 기판(도 4의 400) 쪽으로 향하게 되는 것이다.
제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 상에는 A 방향 즉 기판(도 4의 400)의 스캔 방향을 따라서 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 형성된다. 다수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 스캔 방향으로 존재하므로, 개별 증착원 노즐 간 플럭스(flux) 차이가 발생하여도 그 차이가 상쇄되어 증착 균일도가 일정하게 유지되는 효과를 얻을 수 있다.
제1 증착원 노즐부(130)와 제2 증착원 노즐부(140)에 형성된 복수 개의 증착원 노즐(113)(123)들이 소정 각도 틸트(tilt)되어 배치될 수 있다. 즉, 제1 증착원 노즐(113)은 제2 증착원 노즐(123)을 향하여 틸트되고, 제2 증착원 노즐(123)은 제1 증착원 노즐(113)을 향하여 틸트된다.
상세히, 도펀트의 함량은 박막 형성 재료에 따라 가변적이지만, 일반적으로 박막 형성 재료 (호스트와 도펀트의 총중량) 100 중량부를 기준으로 하여 3 내지 20 중량부인 것이 바람직하다. 만약 도펀트의 함량이 상기 범위를 벗어나면 유기 발광 소자의 발광 특성이 저하될 수 있다. 그런데, 만약 제1 및 제2 증착원 노즐(113)(123)들이 틸트되지 않고 피증착체를 향하여 서로 평행하게 배치된다면, 기판(400)에는 증착 초기에는 도펀트 물질이 증착되고, 증착 중반에는 도펀트 물질과 호스트 물질이 교차하여 증착되고, 증착 후반에는 호스트 물질이 증착된다. 즉, 각 영역별로 호스트 물질과 도펀트 물질의 혼합비율 차이가 균일하지 아니하게 된다.
따라서 본 실시예에서는 증착원 노즐(113)(123)들이 소정 각도 틸트되어 배치되도록 한다. 여기서, 제1 증착원 노즐부(130)의 제1 증착원 노즐(113)들과 제2 증착원 노즐부(140)의 제2 증착원 노즐(123)들은 서로 마주보도록 틸트될 수 있다. 즉, 제1 증착원 노즐부(130)의 증착원 노즐(113)들은 제2 증착원(120) 쪽을 바라보도록 틸트되고, 제2 증착원 노즐부(140)의 증착원 노즐(123)들은 제1 증착원(110) 쪽을 바라보도록 틸트될 수 있다.
이와 같은 구성에 의하여, 기판 전체에 걸쳐서 호스트 물질과 도펀트 물질의 혼합비율이 균일해지는 효과를 얻을 수 있다. 그리고 호스트 물질과 도펀트 물질이 균일한 비율로 함유된 혼합물로 박막층을 형성할 경우, 색 좌표, 광 효율, 구동 전압, 수명 모두의 면에서 향상된 특성을 나타낼 수 있다.
제1 증착원 노즐부(130) 및 제2 증착원 노즐부(140) 각각은 리플렉터(124, 124a, 124b; 224, 224a, 224b)와 냉각판(116, 126)을 구비할 수 있다.
상세하게는, 제1 증착원 노즐부(130)은 상부 리플렉터(114), 제1 돌출 리플렉터(114a), 제2 돌출 리플렉터(114b), 제3 돌출 리플렉터(114c) 및 냉각판(116)을 더 구비할 수 있다. 상부 리플렉터(114)는 제1 증착원(110)의 상부에 위치되며, 히터(112) 상에 배치된다. 상부 리플렉터(114)는 히터(112)에서 발생된 열이 외부로 발산되는 것을 차단할 수 있다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)는 상부 리플렉터(114)의 일단에서 패터닝 슬릿 시트(150)을 향하여 연장되도록 형성된다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)는 서로 일정한 간격을 두고 제1 증착원 노즐들(113)의 배열과 평형하게 형성된다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b) 사이에는 제1 증착원 노즐들(113)이 배치된다. 또한, 제3 돌출 리플렉터(114c)는 제1 돌출 리플렉터(114a)와 제2 돌출 리플렉터(114b) 각각의 일단에서 이들을 연결하도록 형성된다. 구체적으로는 제3 돌출 리플렉터(114c)는 제2 증착원(120)에 인접한 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)의 단부를 연결하도록 형성된다. 제1, 2, 및 3 리플렉터(114a, 114b, 114c)의 높이는 제1 증착원 노즐(113)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
제1 증착원 노즐(113)을 통해 방출되는 증착물질(117a) 중 일부는 냉각판(116)으로 흘러나오게 된다. 냉각판(116)으로 흘러나온 증착물질(117a)은 응고되며, 증착 공정이 계속되면 냉각판(116, 126) 상에서 응고된 증착물질의 양이 증가하여 제1 증착원 노즐(113)을 막는 문제가 발생한다. 또한, 본 발명의 일 실시예는 제1 증착원 노즐(113)이 제2 증착원 노즐(123)을 향하여 틸트되어 있으므로 냉각판(116)에서 응고되는 증착물질에 의해 제1 증착원 노즐(113)이 막히는 현상이 빈번히 일어난다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 제1, 2, 및 3 리플렉터(114a, 114b, 114c)가 제1 증착원 노즐(113)의 주위를 둘러싸기 때문에 냉각판(116)에서 응고되어 자라는 증착물질이 제1 증착원 노즐(113)을 막는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제2 증착원 노즐부(140)은 상부 리플렉터(124), 제4 돌출 리플렉터(124a) , 제5 돌출 리플렉터(124b), 제6 돌출 리플렉터(124c) 및 냉각판(126)을 더 구비할 수 있다. 상부 리플렉터(124)는 제2 증착원(120)의 상부에 위치되며, 히터(122) 상에 배치된다. 상부 리플렉터(124)는 히터(122)에서 발생된 열이 외부로 발산되는 것을 차단할 수 있다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)는 상부 리플렉터(124)의 일단에서 패터닝 슬릿 시트(150)을 향하여 연장되도록 형성된다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)는 서로 일정한 간격을 두고 제2 증착원 노즐들(123)의 배열과 평형하게 형성된다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b) 사이에는 제2 증착원 노즐들(123)이 배치된다. 또한, 제6 돌출 리플렉터(124c)는 제4 돌출 리플렉터(124a)와 제5 돌출 리플렉터(124b) 각각의 일단에서 이들을 연결하도록 형성된다. 구체적으로는 제6 돌출 리플렉터(124c)는 제1 증착원(110)에 인접한 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)의 단부를 연결하도록 형성된다. 제4, 5, 및 6 리플렉터(124a, 124b, 124c)의 높이는 제2 증착원 노즐(123)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
제2 증착원 노즐(123)을 통해 방출되는 증착물질(117b) 중 일부는 냉각판(126)으로 흘러나오게 된다. 냉각판(126)으로 흘러나온 증착물질(117b)은 응고되며, 증착 공정이 계속되면 냉각판(126) 상에서 응고된 증착물질의 양이 증가하여 제2 증착원 노즐(123)을 막는 문제가 발생한다. 또한, 본 발명의 일 실시예는 제2 증착원 노즐(123)이 제1 증착원 노즐(113)을 향하여 틸트되어 있으므로 냉각판(126)에서 응고되는 증착물질에 의해 제2 증착원 노즐(123)이 막히는 현상이 빈번히 일어난다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 제4, 5, 및 6 리플렉터(124a, 124b, 124c)가 제2 증착원 노즐(123)의 주위를 둘러싸기 때문에 냉각판(126)에서 응고되어 자라는 증착물질이 제2 증착원 노즐(123)을 막는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 증착원을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3에 도시된 증착원(20)은 제1 증착원 노즐(113) 양측에 제1 돌출 리플렉터(114a)와 제2 돌출 리플렉터(114b)가 배치되고, 제2 증착원 노즐(123) 양측에 제4 돌출 리플렉터(124a)와 제5 돌출 리플렉터(124b)가 배치된다는 점에서 도 1에 도시된 증착원(10)과 동일하지만, 도 3에 도시된 증착원(20)은 제3 리플렉터(114c)와 제6 리플렉터(124c)를 구비하지 않으며, 더미 증착원 노즐(113a, 123a)을 구비한다는 점에서 도 1에 도시된 증착원(10)과 차이가 있다.
즉, 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)는 서로 일정한 간격을 두고 제1 증착원 노즐들(113)의 배열과 평형하게 형성된다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b) 사이에는 제1 증착원 노즐들(113)이 배치된다. 제1 및 제 2 리플렉터(114a, 114b)의 높이는 제1 증착원 노즐(113)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
복수 개의 제1 증착원 노즐(113) 중 제2 증착원(120)에 가장 인접한 개구가 형성되지 않은 더미 노즐(113a)이다. 더미 노즐(113a)은 개구가 형성되지 않았으므로 더미 노즐(113a)을 통해서 제1 증착원(110) 내의 증착물질이 방출되지 않는다. 복수 개의 제1 증착원 노즐(113) 중 가장 앞서서 배치되는 증착원 노즐에서 증착원 노즐이 막히는 문제가 빈번하게 발생하는데, 도 4에 도시된 증착원(20)은 복수 개의 제1 증착원 노즐(113) 중 가장 앞서서 배치되는 증착원 노즐이 더미 노즐(113a)이므로 증착원 노즐이 막히는 문제를 방지할 수 있다.
제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)는 서로 일정한 간격을 두고 제2 증착원 노즐들(123)의 배열과 평형하게 형성된다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b) 사이에는 제2 증착원 노즐들(123)이 배치된다. 제4 및 제5 리플렉터(124a, 124b)의 높이는 제2 증착원 노즐(123)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
복수 개의 제2 증착원 노즐(123) 중 제1 증착원(110)에 가장 인접한 개구가 형성되지 않은 더미 노즐(123a)이다. 더미 노즐(123a)은 개구가 형성되지 않았으므로 더미 노즐(123a)을 통해서 제2 증착원(120) 내의 증착물질이 방출되지 않는다. 복수 개의 제2 증착원 노즐(123) 중 가장 앞서서 배치되는 증착원 노즐에서 증착원 노즐이 막히는 문제가 빈번하게 발생하는데, 도 4에 도시된 증착원(20)은 복수 개의 제2 증착원 노즐(123) 중 가장 앞서서 배치되는 증착원 노즐이 더미 노즐(123a)이므로 증착원 노즐이 막히는 문제를 방지할 수 있다.
도 4은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 5는 도 4의 유기막 증착 장치의 개략적인 측면도이고, 도 6은 도 4의 유기막 증착 장치의 개략적인 평면도이다.
도 4, 도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치(100)는 제1 증착원(110), 제2 증착원(120), 제1 증착원 노즐부(130), 제2 증착원 노즐부(140) 및 패터닝 슬릿 시트(150)를 포함한다.
여기서, 도 4, 도 5 및 도 6에는 설명의 편의를 위해 챔버를 도시하지 않았지만, 도 4 내지 도 6의 모든 구성은 적절한 진공도가 유지되는 챔버 내에 배치되는 것이 바람직하다. 이는 증착 물질의 직진성을 확보하기 위함이다.
상세히, 제1 및 제2 증착원(110, 120) 각각에서 방출된 증착 물질(117a, 117b)이 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 및 패터닝 슬릿 시트(150)를 통과하여 기판(400)에 원하는 패턴으로 증착되게 하려면, 기본적으로 챔버(미도시) 내부는 FMM 증착 방법과 동일한 고진공 상태를 유지해야 한다. 또한 패터닝 슬릿 시트(150)의 온도가 제1 및 제2 증착원(110, 120) 온도보다 충분히 낮아야(약 100°이하) 한다. 왜냐하면, 패터닝 슬릿 시트(150)의 온도가 충분히 낮아야만 온도에 의한 패터닝 슬릿 시트(150)의 열팽창 문제를 최소화할 수 있기 때문이다.
이러한 챔버(미도시) 내에는 피 증착체인 기판(400)이 배치된다. 상기 기판(400)은 평판 표시장치용 기판이 될 수 있는데, 다수의 평판 표시장치를 형성할 수 있는 마더 글라스(mother glass)와 같은 대면적 기판이 적용될 수 있다.
여기서, 본 발명의 일 실시예에서는, 기판(400)이 유기막 증착 장치(100)에 대하여 상대적으로 이동하면서 증착이 진행되는 것을 일 특징으로 한다.
상세히, 기존 FMM 증착 방법에서는 FMM 크기가 기판 크기와 동일하게 형성되어야 한다. 따라서, 기판 사이즈가 증가할수록 FMM도 대형화되어야 하며, 이로 인해 FMM 제작이 용이하지 않고, FMM을 인장하여 정밀한 패턴으로 얼라인(align) 하기도 용이하지 않다는 문제점이 존재하였다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치(100)는, 유기막 증착 장치(100)와 기판(400)이 서로 상대적으로 이동하면서 증착이 이루어지는 것을 일 특징으로 한다. 다시 말하면, 유기막 증착 장치(100)와 마주보도록 배치된 기판(400)이 Y축 방향을 따라 이동하면서 연속적으로 증착을 수행하게 된다. 즉, 기판(400)이 도 1의 화살표 A 방향으로 이동하면서 스캐닝(scanning) 방식으로 증착이 수행되는 것이다. 여기서, 도면에는 기판(400)이 챔버(미도시) 내에서 Y축 방향으로 이동하면서 증착이 이루어지는 것으로 도시되어 있으나, 본 발명의 사상은 이에 제한되지 아니하며, 기판(400)은 고정되어 있고 유기막 증착 장치(100) 자체가 Y축 방향으로 이동하면서 증착을 수행하는 것도 가능하다 할 것이다.
따라서, 본 발명의 유기막 증착 장치(100)에서는 종래의 FMM에 비하여 훨씬 작게 패터닝 슬릿 시트(150)를 만들 수 있다. 즉, 본 발명의 유기막 증착 장치(100)의 경우, 기판(400)이 Y축 방향을 따라 이동하면서 연속적으로, 즉 스캐닝(scanning) 방식으로 증착을 수행하기 때문에, 패터닝 슬릿 시트(150)의 X축 방향 및 Y축 방향의 길이는 기판(400)의 길이보다 훨씬 작게 형성될 수 있는 것이다. 이와 같이, 종래의 FMM에 비하여 훨씬 작게 패터닝 슬릿 시트(150)를 만들 수 있기 때문에, 본 발명의 패터닝 슬릿 시트(150)는 그 제조가 용이하다. 즉, 패터닝 슬릿 시트(150)의 에칭 작업이나, 그 이후의 정밀 인장 및 용접 작업, 이동 및 세정 작업 등 모든 공정에서, 작은 크기의 패터닝 슬릿 시트(150)가 FMM 증착 방법에 비해 유리하다. 또한, 이는 디스플레이 장치가 대형화될수록 더욱 유리하게 된다.
이와 같이, 유기막 증착 장치(100)와 기판(400)이 서로 상대적으로 이동하면서 증착이 이루어지기 위해서는, 유기막 증착 장치(100)와 기판(400)이 일정 정도 이격되는 것이 바람직하다. 이에 대하여는 뒤에서 상세히 기술하기로 한다.
한편, 챔버 내에서 상기 기판(400)과 대향하는 측에는, 증착 물질(117a, 117b)이 수납 및 가열되는 제1 및 제2 증착원(110, 120)이 배치된다. 상기 제1 및 제2 증착원(110, 120) 내에 수납되어 있는 증착 물질(117a, 117b)이 기화됨에 따라 기판(400)에 증착이 이루어진다.
상세하게는, 제1 증착원(110)은 증착 물질(117a)로서 호스트 물질을 구비하며, 제2 증착원(120)은 증착 물질(117b)로서 도펀트 물질을 구비할 수 있다. 호스트 물질(117a)과 도펀트 물질(117b)의 승화 온도가 서로 다르기 때문에, 호스트 물질(117a)과 도펀트 물질(117b)을 동시에 증착하기 위해서, 증착원 및 노즐부를 복수로 구성한다.
즉, 챔버 내에서 기판(400)과 대향하는 측에는, 증착 물질이 수납 및 가열되는 제1 증착원(110) 및 제2 증착원(120)이 배치된다. 제1 증착원(110) 및 제2 증착원(120) 내에 수납되어 있는 증착 물질이 기화됨에 따라 기판(400)에 증착이 이루어진다. 다시 말해, 제1 증착원(110)은 그 내부에 호스트 물질(117a)이 채워지는 도가니(111)와, 도가니(111)를 가열시켜 도가니(111) 내부에 채워진 호스트 물질(117a)을 도가니(111)의 일 측, 상세하게는 제1 증착원 노즐부(130) 측으로 증발시키기 위한 히터(112)를 포함한다. 한편, 제2 증착원(120)은 그 내부에 도펀트 물질(117b)이 채워지는 도가니(121)와, 도가니(121)를 가열시켜 도가니(121) 내부에 채워진 도펀트 물질(117b)을 도가니(121)의 일 측, 상세하게는 제2 증착원 노즐부(140) 측으로 증발시키기 위한 히터(122)를 포함한다.
여기서, 상기 호스트 물질로는 트리스(8-히드록시-퀴놀리나토)알루미늄 (Alq3), 9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (AND), 3-Tert-부틸-9,10-디(나프티-2-일)안트라센 (TBADN), 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (DPVBi), 4,4'-비스Bis(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디메틸페닐 (p-DMDPVBi), Tert(9,9-디아릴플루오렌)s (TDAF), 2-(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌(BSDF), 2,7-비스(9,9'-스피로비플루오렌-2-일)-9,9'-스피로비플루오렌 (TSDF), 비스(9,9-디아릴플루오렌)s (BDAF), 4,4'-비스(2,2-디페닐-에텐-1-일)-4,4'-디-(tert-부틸)페닐 (p-TDPVBi), 1,3-비스(카바졸-9-일)벤젠 (mCP), 1,3,5-트리스(카바졸-9-일)벤젠 (tCP), 4,4',4"-트리스(카바졸-9-일)트리페닐아민 (TcTa), 4,4'-비스(카바졸-9-일)비페닐 (CBP), 4,4'-비스Bis(9-카바졸일)-2,2'-디메틸-비페닐 (CBDP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디메틸-플루오렌 (DMFL-CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-비스bis(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-4CBP), 4,4'-비스(카바졸-9-일)-9,9-디-톨일-플루오렌 (DPFL-CBP), 9,9-비스(9-페닐-9H-카바졸)플루오렌 (FL-2CBP) 등이 사용될 수 있다.
상기 도펀트 물질로는 DPAVBi (4,4'-비스[4-(디-p-톨일아미노)스티릴]비페닐), ADN (9,10-디(나프-2-틸)안트라센), TBADN (3-터트-부틸-9,10-디(나프-2-틸)안트라센) 등이 사용될 수 있다.
Figure pat00001
DPAVBi
Figure pat00002
ADN
Figure pat00003
TBADN
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치(100)는 호스트 물질(117a)을 증착하는 제1 증착원(110)과 도펀트 물질(117b)을 증착하는 제2 증착원(120)을 구비하여, 기판(400)상에 호스트 물질과 도펀트 물질을 동시에 증착할 수 있도록 하는 것을 일 특징으로 한다. 이와 같이 호스트 물질과 도펀트 물질을 동시에 증착하는 것이 가능해짐으로써, 공정이 더욱 간단하고 빨라지며, 소자 효율 또한 향상하는 효과를 얻을 수 있다.
제1 및 제2 증착원(110, 120)의 일 측, 상세하게는 제1 및 제2 증착원(110, 120)에서 기판(400)을 향하는 측에는 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)가 배치된다. 그리고, 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)에는, Y축 방향 즉 기판(400)의 스캔 방향을 따라서 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 형성된다. 여기서, 상기 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들은 등 간격으로 형성될 수 있다. 제1 및 제2 증착원(110, 120) 내에서 기화된 증착 물질(117a, 117b)은 이와 같은 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140)를 통과하여 피 증착체인 기판(400) 쪽으로 향하게 되는 것이다. 이와 같이, 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 상에 Y축 방향 즉 기판(400)의 스캔 방향을 따라서 복수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 형성될 경우, 패터닝 슬릿 시트(150)의 각각의 패터닝 슬릿(151)들을 통과하는 증착 물질에 의해 형성되는 패턴의 크기는 증착원 노즐(113, 123) 하나의 크기에만 영향을 받으므로(즉, X축 방향으로는 증착원 노즐(113, 123)이 하나만 존재하는 것에 다름 아니므로), 음영(shadow)이 발생하지 않게 된다. 또한, 다수 개의 증착원 노즐(113, 123)들이 스캔 방향으로 존재하므로, 개별 증착원 노즐 간 플럭스(flux) 차이가 발생하여도 그 차이가 상쇄되어 증착 균일도가 일정하게 유지되는 효과를 얻을 수 있다.
제1 증착원 노즐부(130)와 제2 증착원 노즐부(140)에 형성된 복수 개의 증착원 노즐(113)(123)들이 소정 각도 틸트(tilt)되어 배치될 수 있다. 즉, 증착원 노즐(113)(123)들은 YZ 평면상에서 소정 각도 기울어지도록 틸트(tilt)되어 형성될 수 있다.
상세히, 도펀트의 함량은 박막 형성 재료에 따라 가변적이지만, 일반적으로 박막 형성 재료 (호스트와 도펀트의 총중량) 100 중량부를 기준으로 하여 3 내지 20 중량부인 것이 바람직하다. 만약 도펀트의 함량이 상기 범위를 벗어나면 유기 발광 소자의 발광 특성이 저하될 수 있다. 그런데, 만약 증착원 노즐(113)(123)들이 Z축과 평행하게 배치된다면, 기판(400)에는 증착 초기에는 도펀트 물질이 증착되고, 증착 중반에는 도펀트 물질과 호스트 물질이 교차하여 증착되고, 증착 후반에는 호스트 물질이 증착된다. 즉, 각 영역별로 호스트 물질과 도펀트 물질의 혼합비율 차이가 균일하지 아니하게 된다.
따라서 본 실시예에서는 증착원 노즐(113)(123)들이 소정 각도 틸트되어 배치되도록 한다. 여기서, 제1 증착원 노즐부(130)의 증착원 노즐(113)들과 제2 증착원 노즐부(140)의 증착원 노즐(123)들은 서로 마주보도록 틸트될 수 있다. 즉, 제1 증착원 노즐부(130)의 증착원 노즐(113)들은 제2 증착원(120) 쪽을 바라보도록 틸트되고, 제2 증착원 노즐부(140)의 증착원 노즐(123)들은 제1 증착원(110) 쪽을 바라보도록 틸트될 수 있다.
이와 같은 구성에 의하여, 기판 전체에 걸쳐서 호스트 물질과 도펀트 물질의 혼합비율이 균일해지는 효과를 얻을 수 있다. 그리고 호스트 물질과 도펀트 물질이 균일한 비율로 함유된 혼합물로 박막층을 형성할 경우, 색 좌표, 광 효율, 구동 전압, 수명 모두의 면에서 향상된 특성을 나타낼 수 있다.
제1 증착원 노즐부(130) 및 제2 증착원 노즐부(140) 각각은 리플렉터(124, 124a, 124b; 224, 224a, 224b)와 냉각판(116, 126)을 구비할 수 있다.
상세하게는, 제1 증착원 노즐부(130)은 상부 리플렉터(114), 제1 돌출 리플렉터(114a), 제2 돌출 리플렉터(114b), 제3 돌출 리플렉터(114c) 및 냉각판(116)을 더 구비할 수 있다. 상부 리플렉터(114)는 제1 증착원(110)의 상부에 위치되며, 히터(112) 상에 배치된다. 상부 리플렉터(114)는 히터(112)에서 발생된 열이 외부로 발산되는 것을 차단할 수 있다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)는 상부 리플렉터(114)의 일단에서 패터닝 슬릿 시트(150)을 향하여 연장되도록 형성된다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)는 서로 일정한 간격을 두고 제1 증착원 노즐들(113)의 배열과 평형하게 형성된다. 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b) 사이에는 제1 증착원 노즐들(113)이 배치된다. 또한, 제3 돌출 리플렉터(114c)는 제1 돌출 리플렉터(114a)와 제2 돌출 리플렉터(114b) 각각의 일단에서 이들을 연결하도록 형성된다. 구체적으로는 제3 돌출 리플렉터(114c)는 제2 증착원(120)에 인접한 제1 및 제2 돌출 리플렉터(114a, 114b)의 단부를 연결하도록 형성된다. 제1, 2, 및 3 리플렉터(114a, 114b, 114c)의 높이는 제1 증착원 노즐(113)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
제1 증착원 노즐(113)을 통해 방출되는 증착물질(117a) 중 일부는 냉각판(116)으로 흘러나오게 된다. 냉각판(116)으로 흘러나온 증착물질(117a)은 응고되며, 증착 공정이 계속되면 냉각판(116, 126) 상에서 응고된 증착물질의 양이 증가하여 제1 증착원 노즐(113)을 막는 문제가 발생한다. 또한, 본 발명의 일 실시예는 제1 증착원 노즐(113)이 제2 증착원 노즐(123)을 향하여 틸트되어 있으므로 냉각판(116)에서 응고되는 증착물질에 의해 제1 증착원 노즐(113)이 막히는 현상이 빈번히 일어난다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 제1, 2, 및 3 리플렉터(114a, 114b, 114c)가 제1 증착원 노즐(113)의 주위를 둘러싸기 때문에 냉각판(116)에서 응고되어 자라는 증착물질이 제1 증착원 노즐(113)을 막는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제2 증착원 노즐부(140)은 상부 리플렉터(124), 제4 돌출 리플렉터(124a) , 제5 돌출 리플렉터(124b), 제6 돌출 리플렉터(124c) 및 냉각판(126)을 더 구비할 수 있다. 상부 리플렉터(124)는 제2 증착원(120)의 상부에 위치되며, 히터(122) 상에 배치된다. 상부 리플렉터(124)는 히터(122)에서 발생된 열이 외부로 발산되는 것을 차단할 수 있다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)는 상부 리플렉터(124)의 일단에서 패터닝 슬릿 시트(150)을 향하여 연장되도록 형성된다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)는 서로 일정한 간격을 두고 제2 증착원 노즐들(123)의 배열과 평형하게 형성된다. 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b) 사이에는 제2 증착원 노즐들(123)이 배치된다. 또한, 제6 돌출 리플렉터(124c)는 제4 돌출 리플렉터(124a)와 제5 돌출 리플렉터(124b) 각각의 일단에서 이들을 연결하도록 형성된다. 구체적으로는 제6 돌출 리플렉터(124c)는 제1 증착원(110)에 인접한 제4 및 제5 돌출 리플렉터(124a, 124b)의 단부를 연결하도록 형성된다. 제4, 5, 및 6 리플렉터(124a, 124b, 124c)의 높이는 제2 증착원 노즐(123)의 높이와 동일하거나 더 클 수 있다.
제2 증착원 노즐(123)을 통해 방출되는 증착물질(117b) 중 일부는 냉각판(126)으로 흘러나오게 된다. 냉각판(126)으로 흘러나온 증착물질(117b)은 응고되며, 증착 공정이 계속되면 냉각판(126) 상에서 응고된 증착물질의 양이 증가하여 제2 증착원 노즐(123)을 막는 문제가 발생한다. 또한, 본 발명의 일 실시예는 제2 증착원 노즐(123)이 제1 증착원 노즐(113)을 향하여 틸트되어 있으므로 냉각판(126)에서 응고되는 증착물질에 의해 제2 증착원 노즐(123)이 막히는 현상이 빈번히 일어난다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 제4, 5, 및 6 리플렉터(124a, 124b, 124c)가 제2 증착원 노즐(123)의 주위를 둘러싸기 때문에 냉각판(126)에서 응고되어 자라는 증착물질이 제2 증착원 노즐(123)을 막는 것을 방지할 수 있다.
한편, 제1 및 제2 증착원(110, 120)과 기판(400) 사이에는 패터닝 슬릿 시트(150) 및 프레임(155)이 더 구비된다. 프레임(155)은 대략 창문 틀과 같은 형태로 형성되며, 그 내측에 패터닝 슬릿 시트(150)가 결합된다. 그리고, 패터닝 슬릿 시트(150)에는 X축 방향을 따라서 복수 개의 패터닝 슬릿(151)들이 형성된다. 제1 및 제2 증착원(110, 120) 내에서 기화된 증착 물질(117a, 117b)은 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 및 패터닝 슬릿 시트(150)를 통과하여 피 증착체인 기판(400) 쪽으로 향하게 되는 것이다. 이때, 상기 패터닝 슬릿 시트(150)는 종래의 파인 메탈 마스크(FMM) 특히 스트라이프 타입(stripe type)의 마스크의 제조 방법과 동일한 방법인 에칭을 통해 제작될 수 있다. 이때, 증착원 노즐(113, 123)들의 총 개수보다 패터닝 슬릿(151)들의 총 개수가 더 많게 형성될 수 있다.
한편, 상술한 제1 및 제2 증착원(110, 120)(및 이와 결합된 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140))과 패터닝 슬릿 시트(150)는 서로 일정 정도 이격되도록 형성될 수 있으며, 제1 및 제2 증착원(110, 120)(및 이와 결합된 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140))과 패터닝 슬릿 시트(150)는 연결 부재(135)에 의하여 서로 연결될 수 있다. 즉, 제1 및 제2 증착원(110, 120), 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 및 패터닝 슬릿 시트(150)가 연결 부재(135)에 의해 연결되어 서로 일체로 형성될 수 있는 것이다. 여기서 연결 부재(135)들은 증착원 노즐(113, 123)을 통해 배출되는 증착 물질이 분산되지 않도록 증착 물질의 이동 경로를 가이드 할 수 있다. 도면에는 연결 부재(135)가 제1 및 제2 증착원(110, 120), 제1 및 제2 증착원 노즐부(130, 140) 및 패터닝 슬릿 시트(150)의 좌우 방향으로만 형성되어 증착 물질의 X축 방향만을 가이드 하는 것으로 도시되어 있으나, 이는 도시의 편의를 위한 것으로, 본 발명의 사상은 이에 제한되지 아니하며, 연결 부재(135)가 박스 형태의 밀폐형으로 형성되어 증착 물질의 X축 방향 및 Y축 방향 이동을 동시에 가이드 할 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치(100)는 기판(400)에 대하여 상대적으로 이동하면서 증착을 수행하며, 이와 같이 유기막 증착 장치(100)가 기판(400)에 대하여 상대적으로 이동하기 위해서 패터닝 슬릿 시트(150)는 기판(400)으로부터 일정 정도 이격되도록 형성된다.
상세히, 종래의 FMM 증착 방법에서는 기판에 음영(shadow)이 생기지 않도록 하기 위하여 기판에 마스크를 밀착시켜서 증착 공정을 진행하였다. 그러나, 이와 같이 기판에 마스크를 밀착시킬 경우, 기판과 마스크 간의 접촉에 의한 불량 문제가 발생한다는 문제점이 존재하였다. 또한, 마스크를 기판에 대하여 이동시킬 수 없기 때문에, 마스크가 기판과 동일한 크기로 형성되어야 한다. 따라서, 디스플레이 장치가 대형화됨에 따라 마스크의 크기도 커져야 하는데, 이와 같은 대형 마스크를 형성하는 것이 용이하지 아니하다는 문제점이 존재하였다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 관한 유기막 증착 장치(100)에서는 패터닝 슬릿 시트(150)가 피 증착체인 기판(400)과 소정 간격을 두고 이격되도록 배치되도록 한다.
이와 같은 본 발명에 의해서 마스크를 기판보다 작게 형성한 후, 마스크를 기판에 대하여 이동시키면서 증착을 수행할 수 있게 됨으로써, 마스크 제작이 용이해지는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 기판과 마스크 간의 접촉에 의한 불량을 방지하는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 공정에서 기판과 마스크를 밀착시키는 시간이 불필요해지기 때문에, 제조 속도가 향상되는 효과를 얻을 수 있다.
도 7는 본 발명의 증착 장치를 이용하여 제조된 액티브 매트릭스형 유기 발광 디스플레이 장치의 단면을 도시한 것이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 글라스재 또는 플라스틱재의 기판(50)상에 버퍼층(51)이 형성되어 있고, 이 위에 박막 트랜지스터(TFT)와, 유기 전계 발광 소자(OLED)가 형성된다.
기판(50)의 버퍼층(51) 상에 소정 패턴의 활성층(52)이 구비된다. 활성층(52)의 상부에는 게이트 절연막(53)이 구비되고, 게이트 절연막(53) 상부의 소정 영역에는 게이트 전극(54)이 형성된다. 게이트 전극(54)은 박막 트랜지스터 온/오프 신호를 인가하는 게이트 라인(미도시)과 연결되어 있다. 게이트 전극(54)의 상부로는 층간 절연막(55)이 형성되고, 컨택 홀을 통해 소스/드레인 전극(56)(57)이 각각 활성층(52)의 소스/드레인 영역(52b)(52c)에 접하도록 형성된다. 소스/드레인 전극(56)(57) 상부로는 SiO2, SiNx 등으로 이루어진 패시베이션막(58)이 형성되고, 패시베이션막(58)의 상부에는 아크릴(acryl), 폴리 이미드(polyimide), BCB(Benzocyclobutene) 등의 유기물질로 평탄화막(59)이 형성되어 있다. 평탄화막(59)의 상부에 유기 전계 발광 소자(OLED)의 애노드 전극이 되는 화소 전극(61)이 형성되고, 이를 덮도록 유기물로 화소 정의막(Pixel Define Layer: 60)이 형성된다. 화소 정의막(60)에 소정의 개구를 형성한 후, 화소 정의막(60)의 상부 및 개구가 형성되어 외부로 노출된 화소 전극(61)의 상부에 유기막(62)을 형성한다. 유기막(62)은 발광층을 포함한 것이 된다. 본 발명은 반드시 이와 같은 구조로 한정되는 것은 아니며, 다양한 유기 발광 디스플레이 장치의 구조가 그대로 적용될 수 있음은 물론이다.
유기 전계 발광 소자(OLED)는 전류의 흐름에 따라 적, 녹, 청색의 빛을 발광하여 소정의 화상 정보를 표시하는 것으로, 박막 트랜지스터의 드레인 전극(56)에 연결되어 이로부터 플러스 전원을 공급받는 화소 전극(61)과, 전체 화소를 덮도록 구비되어 마이너스 전원을 공급하는 대향 전극(63), 및 이들 화소 전극(61)과 대향 전극(63)의 사이에 배치되어 발광하는 유기막(62)으로 구성된다.
화소 전극(61)과 대향 전극(63)은 유기막(62)에 의해 서로 절연되어 있으며, 유기막(62)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기막(62)에서 발광이 이뤄지도록 한다.
유기막(62)은 저분자 또는 고분자 유기막이 사용될 수 있는 데, 저분자 유기막을 사용할 경우 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 발광층(EML: Emission Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. 이들 저분자 유기막은 진공증착의 방법으로 형성된다.
고분자 유기막의 경우에는 대개 홀 수송층(HTL) 및 발광층(EML)으로 구비된 구조를 가질 수 있으며, 이때, 홀 수송층으로 PEDOT를 사용하고, 발광층으로 PPV(Poly-Phenylenevinylene)계 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)계 등 고분자 유기물질을 사용하며, 이를 스크린 인쇄나 잉크젯 인쇄방법 등으로 형성할 수 있다.
이와 같은 유기막은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 다양한 실시예들이 적용될 수 있음은 물론이다.
화소 전극(61)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(63)은 캐소드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 화소 전극(61)과 대향 전극(63)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.
화소 전극(61)은 투명 전극 또는 반사형 전극으로 구비될 수 있는 데, 투명전극으로 사용될 때에는 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3로 구비될 수 있고, 반사형 전극으로 사용될 때에는 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3를 형성할 수 있다.
한편, 대향 전극(63)도 투명 전극 또는 반사형 전극으로 구비될 수 있는 데, 투명전극으로 사용될 때에는 대향 전극(63)이 캐소드 전극으로 사용되므로, 일함수가 작은 금속 즉, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg, 및 이들의 화합물이 유기막(62)의 방향을 향하도록 증착한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등의 투명 전극 형성용 물질로 보조 전극층이나 버스 전극 라인을 형성할 수 있다. 그리고, 반사형 전극으로 사용될 때에는 위 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg, 및 이들의 화합물을 전면 증착하여 형성한다.
이와 같은 유기 발광 디스플레이 장치에서, 발광층을 포함하는 유기막(62) 등은 상술한 유기막 증착 장치(도 1의 100 참조)에 의해서 형성될 수 있다. 본 발명은 이 외에도, 유기 TFT의 유기막 또는 무기막 등의 증착에도 사용할 수 있으며, 기타, 다양한 소재의 성막 공정에 적용 가능하다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10, 20: 증착원 110: 제1 증착원
120: 제 2증착원 111, 121: 도가니
112, 122: 히터 116, 126: 냉각판
114, 124: 상부 리플렉터 113: 제1 증착원 노즐
123: 제2 증착원 노즐 130: 제1 증착원 노즐부
140: 제2 증착원 노즐부 114a: 제1 돌출 리플렉터
114b: 제2 돌출 리플렉터 114c: 제3 돌출 리플렉터
124a: 제4 돌출 리플렉터 124b: 제5 돌출 리플렉터
124c: 제6 돌출 리플렉터 150: 패터닝 슬릿 시트
151: 패터닝 슬릿

Claims (34)

  1. 일렬로 배열된 제1 증착원 및 제2 증착원;
    상기 제1 증착원의 일 측에 배치되며, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원이 배열된 방향에 따라 복수 개의 제1 증착원 노즐들이 형성된 제1 증착원 노즐부;
    상기 제2 증착원의 일 측에 배치되며, 상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원이 배열된 방향에 따라 복수 개의 제2 증착원 노즐들이 형성된 제2 증착원 노즐부;
    상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제1 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터; 및
    상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제2 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제4 돌출 리플렉터 및 제5 돌출 리플렉터;을 구비하며,
    상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 서로를 향하여 틸트된 것을 특징으로 하는 증착원
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 증착원은 호스트 물질을 방사하며, 상기 제2 증착원은 도펀트 물질을 방사하는 것을 특징으로 하는 증착원.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제3 돌출 리플렉터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착원.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제3 돌출 리플렉터는 상기 제2 증착원에 인접하는 상기 제1 및 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 것을 특징으로 하는 증착원.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제4 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제6 돌출 리플렉터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착원.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제6 돌출 리플렉터는 상기 제1 증착원에 인접하는 상기 제4 및 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 것을 특징으로 하는 증착원.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제1 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 증착원.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제4 돌출 리플렉터와 제5 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제2 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 증착원.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 중 상기 제2 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제1 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 증착원.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 중 상기 제1 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제2 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 증착원.
  11. 기판상에 박막을 형성하기 위한 유기막 증착 장치에 있어서,
    증착 물질을 방사하는 증착원;
    상기 증착원의 일 측에 배치되며, 제1 방향을 따라 복수 개의 증착원 노즐들이 형성되는 증착원 노즐부; 및
    상기 증착원 노즐부와 대향되게 배치되고, 상기 제1 방향에 대해 수직인 제2 방향을 따라 복수 개의 패터닝 슬릿들이 형성되는 패터닝 슬릿 시트를 포함하고,
    상기 기판이 상기 유기막 증착 장치에 대하여 상기 제1 방향을 따라 이동하면서 증착이 수행되고,
    상기 증착원, 상기 증착원 노즐부 및 상기 패터닝 슬릿 시트는 일체로 형성되며,
    상기 증착원은, 서로 다른 증착물질은 방사하는 제1 증착원 및 제2 증착원을 포함하며,
    상기 증착원 노즐부는, 상기 제1 증착원의 일 측에 배치되며 상기 제1 방향을 따라 복수 개의 제1 증착원 노즐들이 형성되는 제1 증착원 노즐부와, 상기 제2 증착원의 일 측에 배치되며 상기 제1 방향을 따라 복수 개의 제2 증착원 노즐들이 형성되는 제2 증착원 노즐부를 포함하고,
    상기 제1 증착원 노즐부 및 상기 제2 증착원 노즐부 각각의 복수 개의 증착원 노즐들은 소정 각도 틸트 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원은 호스트 물질을 방사하며, 상기 제2 증착원은 도펀트 물질을 방사하는 것을 특징으로 하는 유기막 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 상기 제1 방향을 따라 일렬로 배열되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원 노즐부는 상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제1 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제3 돌출 리플렉터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제3 돌출 리플렉터는 상기 제2 증착원에 인접하는 상기 제1 및 제2 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 제2 증착원 노즐부는 상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 사이에 두고 상기 제2 증착원 노즐들의 양측을 따라 배치되는 제4 돌출 리플렉터 및 제5 돌출 리플렉터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제4 돌출 리플렉터의 일단과 상기 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 제6 돌출 리플렉터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제6 돌출 리플렉터는 상기 제1 증착원에 인접하는 상기 제4 및 제5 돌출 리플렉터의 일단을 연결하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  20. 제14항에 있어서,
    상기 제1 돌출 리플렉터와 제2 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제1 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  21. 제17항에 있어서,
    상기 제4 돌출 리플렉터와 제5 돌출 리플렉터의 높이는 상기 제2 증착원 노즐의 높이보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  22. 제14항에 있어서,
    상기 복수 개의 제1 증착원 노즐들 중 상기 제2 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제1 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  23. 제17항에 있어서,
    상기 복수 개의 제2 증착원 노즐들 중 상기 제1 증착원에 가장 인접한 것은 더미 증착원 노즐이며, 상기 더미 증착원 노즐은 상기 제2 증착원 내의 증착물질이 방사되지 못하도록 개구가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  24. 제11항에 있어서,
    상기 증착원 및 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트는 연결 부재에 의해 결합되어 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 연결 부재는 상기 증착 물질의 이동 경로를 가이드 하는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  26. 제24항에 있어서,
    상기 연결 부재는 상기 증착원 및 상기 증착원 노즐부와 상기 패터닝 슬릿 시트 사이의 공간을 외부로부터 밀폐하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  27. 제11항에 있어서,
    상기 유기막 증착 장치는 상기 기판과 소정 정도 이격되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  28. 제11항에 있어서,
    상기 기판이 상기 유기막 증착 장치에 대하여 상기 제1 방향을 따라 이동하면서, 상기 기판상에 상기 증착 물질이 연속적으로 증착되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  29. 제11항에 있어서,
    상기 유기막 증착 장치의 상기 패터닝 슬릿 시트는 상기 기판보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  30. 제12항에 있어서,
    상기 제1 증착원에서 방사되는 상기 호스트 물질의 적어도 일부와 상기 제2 증착원에서 방사되는 상기 도펀트 물질의 적어도 일부가 혼합되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  31. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 상기 제1 방향을 따라 나란하게 배치되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  32. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 서로 마주보는 방향으로 틸트되어 있는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  33. 제12항에 있어서,
    상기 제1 증착원 노즐들과 상기 제2 증착원 노즐들은 상기 기판 전체에 걸쳐서 상기 호스트 물질과 상기 도펀트 물질의 혼합비율이 균일해지도록 틸트되어 있는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
  34. 제11항에 있어서,
    상기 제1 증착원과 상기 제2 증착원은 각각 선형 소스(linear source)로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기막 증착 장치.
KR1020110003155A 2011-01-12 2011-01-12 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 KR101760897B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110003155A KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2011-01-12 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치
US13/328,524 US20120174865A1 (en) 2011-01-12 2011-12-16 Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
CN201210008397.XA CN102586738B (zh) 2011-01-12 2012-01-09 沉积源和包括沉积源的有机层沉积装置
JP2012002535A JP5993577B2 (ja) 2011-01-12 2012-01-10 蒸着源及びこれを備える有機膜蒸着装置
TW101101052A TWI557963B (zh) 2011-01-12 2012-01-11 沉積源設備以及包含其之有機層沉積設備
EP12150711.5A EP2476774B1 (en) 2011-01-12 2012-01-11 Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
US14/946,686 US9748483B2 (en) 2011-01-12 2015-11-19 Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110003155A KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2011-01-12 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120081811A true KR20120081811A (ko) 2012-07-20
KR101760897B1 KR101760897B1 (ko) 2017-07-25

Family

ID=45509270

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110003155A KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2011-01-12 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20120174865A1 (ko)
EP (1) EP2476774B1 (ko)
JP (1) JP5993577B2 (ko)
KR (1) KR101760897B1 (ko)
CN (1) CN102586738B (ko)
TW (1) TWI557963B (ko)

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101416589B1 (ko) * 2012-10-17 2014-07-08 주식회사 선익시스템 공정 중 도가니의 교체가 가능한 하향식 증발원 및 이를 구비하는 박막 증착장치
US8852687B2 (en) 2010-12-13 2014-10-07 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8859325B2 (en) 2010-01-14 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8859043B2 (en) 2011-05-25 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8865252B2 (en) 2010-04-06 2014-10-21 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8871542B2 (en) 2010-10-22 2014-10-28 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8882922B2 (en) 2010-11-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8882556B2 (en) 2010-02-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
CN104178732A (zh) * 2013-05-21 2014-12-03 三星显示有限公司 沉积源和有机层沉积设备
US8906731B2 (en) 2011-05-27 2014-12-09 Samsung Display Co., Ltd. Patterning slit sheet assembly, organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus, and the organic light-emitting display apparatus
US8951349B2 (en) 2009-11-20 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8951610B2 (en) 2011-07-04 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8968829B2 (en) 2009-08-25 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8973525B2 (en) 2010-03-11 2015-03-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US9012258B2 (en) 2012-09-24 2015-04-21 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing an organic light-emitting display apparatus using at least two deposition units
US9206501B2 (en) 2011-08-02 2015-12-08 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using an organic layer deposition apparatus having stacked deposition sources
US9246135B2 (en) 2012-07-10 2016-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
US9249493B2 (en) 2011-05-25 2016-02-02 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same
US9279177B2 (en) 2010-07-07 2016-03-08 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9293645B2 (en) 2013-05-22 2016-03-22 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus, method thereof and method for forming quantum-dot layer using the same
US9388488B2 (en) 2010-10-22 2016-07-12 Samsung Display Co., Ltd. Organic film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9450140B2 (en) 2009-08-27 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
US9748483B2 (en) 2011-01-12 2017-08-29 Samsung Display Co., Ltd. Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
KR20170111780A (ko) * 2016-03-29 2017-10-12 주식회사 선익시스템 다수 종류의 증착물질의 혼합비율을 보완하여 줄 수 있는 복합증발장치
KR101866956B1 (ko) * 2016-12-30 2018-06-14 주식회사 선익시스템 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원
KR20190009530A (ko) * 2017-07-19 2019-01-29 엘지전자 주식회사 증착 장치
US10246769B2 (en) 2010-01-11 2019-04-02 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR20190080044A (ko) * 2017-12-28 2019-07-08 주식회사 선익시스템 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원
CN110195210A (zh) * 2019-07-03 2019-09-03 京东方科技集团股份有限公司 坩埚、蒸发源及蒸镀设备
KR20190129368A (ko) * 2018-05-10 2019-11-20 임우빈 증착 공정용 멀티 노즐 증착기
KR20200079814A (ko) * 2018-12-26 2020-07-06 주식회사 에스에프에이 고온 증착 소스
US10854815B2 (en) 2018-07-30 2020-12-01 Samsung Display Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing display apparatus
US11335892B2 (en) 2013-05-16 2022-05-17 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
KR20220092079A (ko) * 2020-12-24 2022-07-01 주식회사 에스에프에이 증착원 및 증착 장치

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8882920B2 (en) * 2009-06-05 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR101174874B1 (ko) * 2010-01-06 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 소스, 박막 증착 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
CN104099571A (zh) * 2013-04-01 2014-10-15 上海和辉光电有限公司 蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法
KR102216676B1 (ko) * 2014-07-07 2021-02-18 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법
JP6567349B2 (ja) * 2015-07-15 2019-08-28 シャープ株式会社 蒸着方法及び蒸着装置
CN105088147B (zh) 2015-09-11 2017-09-26 京东方科技集团股份有限公司 坩埚结构
CN108305957B (zh) * 2017-01-12 2020-04-07 上海和辉光电有限公司 一种有机发光显示面板的制造方法
JP6586535B2 (ja) 2017-04-26 2019-10-02 株式会社アルバック 蒸発源及び成膜装置
US20200123646A1 (en) * 2017-09-28 2020-04-23 Sharp Kabushiki Kaisha Vapor deposition particle ejecting device, vapor deposition apparatus, and vapor deposition film forming method
JP2020002388A (ja) * 2018-06-25 2020-01-09 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源
JP6526880B1 (ja) * 2018-06-29 2019-06-05 キヤノントッキ株式会社 蒸発源及び蒸着装置
JP2020132985A (ja) * 2019-02-25 2020-08-31 株式会社アルバック 真空処理装置及び真空処理方法
KR20210028314A (ko) 2019-09-03 2021-03-12 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
CN112011762B (zh) * 2020-07-28 2023-05-23 云谷(固安)科技有限公司 一种蒸镀装置
JP7314210B2 (ja) 2021-06-30 2023-07-25 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット
JP7314209B2 (ja) * 2021-06-30 2023-07-25 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット

Family Cites Families (500)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57194252A (en) 1981-05-25 1982-11-29 Fuji Photo Film Co Ltd Vapor depositing device by electron beam
JPS6053745B2 (ja) 1981-07-31 1985-11-27 アルバツク成膜株式会社 二元蒸着によつて不均質光学的薄膜を形成する方法
JPS5959237U (ja) 1982-10-15 1984-04-18 鐘通工業株式会社 切換可能の永久磁石チヤツク
KR890002747B1 (ko) 1983-11-07 1989-07-26 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 이온 빔에 의한 성막방법 및 그 장치
JPH0682642B2 (ja) 1985-08-09 1994-10-19 株式会社日立製作所 表面処理装置
US4792378A (en) 1987-12-15 1988-12-20 Texas Instruments Incorporated Gas dispersion disk for use in plasma enhanced chemical vapor deposition reactor
JPH02247372A (ja) 1989-03-17 1990-10-03 Mitsubishi Electric Corp 薄膜成膜方法
JP3125279B2 (ja) 1991-02-25 2001-01-15 東海カーボン株式会社 真空蒸着用黒鉛ルツボ
JP2572861Y2 (ja) 1991-05-13 1998-05-25 テイエチケー株式会社 直線運動用スライドユニット
JP2534431Y2 (ja) 1991-08-30 1997-04-30 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
JPH0598425A (ja) 1991-10-04 1993-04-20 Mitsubishi Electric Corp 薄膜形成装置
JPH05230628A (ja) 1992-02-18 1993-09-07 Fujitsu Ltd 金属膜形成装置、金属膜形成装置における金属材回収方法
JP2797233B2 (ja) 1992-07-01 1998-09-17 富士通株式会社 薄膜成長装置
FR2695943B1 (fr) 1992-09-18 1994-10-14 Alsthom Cge Alcatel Procédé de dépôt en phase vapeur d'un film en verre fluoré sur un substrat.
JP3395801B2 (ja) 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
JPH0827568A (ja) 1994-07-19 1996-01-30 Toshiba Corp 蒸気発生方法及びその装置
US6045671A (en) 1994-10-18 2000-04-04 Symyx Technologies, Inc. Systems and methods for the combinatorial synthesis of novel materials
JP3401356B2 (ja) 1995-02-21 2003-04-28 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法
JP2887836B2 (ja) * 1995-04-27 1999-05-10 富士ゼロックス株式会社 インクジェットプリントヘッドおよび画像記録装置
KR0151312B1 (ko) 1995-07-27 1998-10-15 배순훈 2열종대로 공급되는 부품의 역방향 피딩 장치
JPH0995776A (ja) 1995-09-29 1997-04-08 Sony Corp 真空蒸着装置
JPH1050478A (ja) 1996-04-19 1998-02-20 Toray Ind Inc 有機電界発光素子およびその製造方法
CH691680A5 (de) 1996-10-15 2001-09-14 Unaxis Deutschland Gmbh Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage.
US6091195A (en) 1997-02-03 2000-07-18 The Trustees Of Princeton University Displays having mesa pixel configuration
US6274198B1 (en) 1997-02-24 2001-08-14 Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. Shadow mask deposition
JPH10270535A (ja) 1997-03-25 1998-10-09 Nikon Corp 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法
KR100257219B1 (ko) 1997-10-23 2000-05-15 박용관 가스배관용 폴리에틸렌 밸브의 개폐 안전 구동장치 및 그 방법
JP3948082B2 (ja) 1997-11-05 2007-07-25 カシオ計算機株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
US6337102B1 (en) 1997-11-17 2002-01-08 The Trustees Of Princeton University Low pressure vapor phase deposition of organic thin films
US6099649A (en) 1997-12-23 2000-08-08 Applied Materials, Inc. Chemical vapor deposition hot-trap for unreacted precursor conversion and effluent removal
JP2000068054A (ja) 1998-08-26 2000-03-03 Hokuriku Electric Ind Co Ltd El素子の製造方法
KR20000019254A (ko) 1998-09-08 2000-04-06 석창길 화학 기상 증착 장치의 박막 두께 균일도 개선을 위한 장치
US6280821B1 (en) 1998-09-10 2001-08-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Reusable mask and method for coating substrate
US6384529B2 (en) 1998-11-18 2002-05-07 Eastman Kodak Company Full color active matrix organic electroluminescent display panel having an integrated shadow mask
US6222198B1 (en) 1998-11-20 2001-04-24 Mems Optical Inc. System and method for aligning pattern areas on opposing substrate surfaces
CA2374448A1 (en) 1999-01-26 2000-08-03 Dbs Beschichtung Und Systeme-Technik Gmbh Method for coating the inside of pipes and coating system
US6610150B1 (en) 1999-04-02 2003-08-26 Asml Us, Inc. Semiconductor wafer processing system with vertically-stacked process chambers and single-axis dual-wafer transfer system
JP3734239B2 (ja) 1999-04-02 2006-01-11 キヤノン株式会社 有機膜真空蒸着用マスク再生方法及び装置
JP4136185B2 (ja) 1999-05-12 2008-08-20 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンス多色ディスプレイ及びその製造方法
US6469439B2 (en) 1999-06-15 2002-10-22 Toray Industries, Inc. Process for producing an organic electroluminescent device
EP1115268A1 (en) 1999-07-07 2001-07-11 Sony Corporation Method and apparatus for manufacturing flexible organic el display
JP2001028325A (ja) 1999-07-13 2001-01-30 Tdk Corp チップ部品の搬送装置及び搬送方法並びに電極形成装置
JP2001052862A (ja) 1999-08-04 2001-02-23 Hokuriku Electric Ind Co Ltd 有機el素子の製造方法と装置
JP4352522B2 (ja) 1999-09-01 2009-10-28 ソニー株式会社 発光型平面表示素子
JP4187367B2 (ja) 1999-09-28 2008-11-26 三洋電機株式会社 有機発光素子、その製造装置およびその製造方法
KR20010050711A (ko) 1999-09-29 2001-06-15 준지 키도 유기전계발광소자, 유기전계발광소자그룹 및 이런소자들의 발광스펙트럼의 제어방법
WO2001030404A1 (ko) 1999-10-29 2001-05-03 E. One Co., Ltd. Scent diffusion apparatus and method thereof
KR20010039298A (ko) 1999-10-29 2001-05-15 김영남 전계 방출 표시기
KR100302159B1 (ko) 1999-10-29 2001-09-22 최중호 향발생장치 및 방법
KR100388903B1 (ko) 1999-12-10 2003-06-25 삼성에스디아이 주식회사 평면형 음극선관용 섀도우마스크 프레임 조립체
JP2001185350A (ja) 1999-12-24 2001-07-06 Sanyo Electric Co Ltd 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
TW490714B (en) 1999-12-27 2002-06-11 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and method for forming a film
KR100653515B1 (ko) 1999-12-30 2006-12-04 주식회사 팬택앤큐리텔 이동통신 시스템의 단말기
JP3754859B2 (ja) 2000-02-16 2006-03-15 キヤノン株式会社 画像表示装置の製造法
US20030021886A1 (en) 2000-02-23 2003-01-30 Baele Stephen James Method of printing and printing machine
KR20010092914A (ko) 2000-03-27 2001-10-27 윤종용 섀도우 링을 구비하는 정전척
JP3802309B2 (ja) 2000-03-28 2006-07-26 株式会社アドテックエンジニアリング 多層回路基板製造における位置合わせ装置及び露光装置
JP4053209B2 (ja) 2000-05-01 2008-02-27 三星エスディアイ株式会社 有機elディスプレイの製造方法
TW593622B (en) 2000-05-19 2004-06-21 Eastman Kodak Co Method of using predoped materials for making an organic light-emitting device
CN2425263Y (zh) 2000-05-29 2001-03-28 葛世潮 有机发光二极管照明装置
DE60143926D1 (de) 2000-06-22 2011-03-10 Junji Kido Vorrichtung und Verfahren zum Vakuum-Ausdampfen
KR20020000201A (ko) 2000-06-23 2002-01-05 최승락 레이저와 기상을 이용한 엘씨디 세정 방법
TW505942B (en) 2000-06-29 2002-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for forming pattern onto panel substrate
TW451601B (en) 2000-08-07 2001-08-21 Ind Tech Res Inst The fabrication method of full color organic electroluminescent device
JP2002075638A (ja) 2000-08-29 2002-03-15 Nec Corp マスク蒸着方法及び蒸着装置
JP2002099095A (ja) 2000-09-25 2002-04-05 Orc Mfg Co Ltd 自動両面露光装置およびその方法
JP2002175878A (ja) 2000-09-28 2002-06-21 Sanyo Electric Co Ltd 層の形成方法及びカラー発光装置の製造方法
TW594395B (en) 2000-09-29 2004-06-21 Nippon Zeon Co Photoresist composition for insulating film, insulating film for organic electroluminescent element, and process for producing the same
KR100726132B1 (ko) 2000-10-31 2007-06-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
US7078070B2 (en) 2000-11-07 2006-07-18 Helix Technology Inc. Method for fabricating an organic light emitting diode
US6468496B2 (en) 2000-12-21 2002-10-22 Arco Chemical Technology, L.P. Process for producing hydrogen peroxide
KR100625403B1 (ko) 2000-12-22 2006-09-18 주식회사 하이닉스반도체 버추얼 채널 에스디램
KR100698033B1 (ko) 2000-12-29 2007-03-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기 전계발광소자 및 그 제조 방법
US6558735B2 (en) 2001-04-20 2003-05-06 Eastman Kodak Company Reusable mass-sensor in manufacture of organic light-emitting devices
KR100405080B1 (ko) 2001-05-11 2003-11-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 실리콘 결정화방법.
KR100463212B1 (ko) 2001-05-19 2004-12-23 주식회사 아이엠티 건식 표면 클리닝 장치
JP4704605B2 (ja) 2001-05-23 2011-06-15 淳二 城戸 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法
KR20020091457A (ko) 2001-05-30 2002-12-06 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 박막 트랜지스터 액정표시장치의 색특성 제어방법
US20020197393A1 (en) 2001-06-08 2002-12-26 Hideaki Kuwabara Process of manufacturing luminescent device
JP2003003250A (ja) 2001-06-22 2003-01-08 Alps Electric Co Ltd 真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法
KR100406059B1 (ko) 2001-06-22 2003-11-17 미래산업 주식회사 트레이 피더용 트랜스퍼
JP2003077662A (ja) * 2001-06-22 2003-03-14 Junji Kido 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および製造装置
KR100732742B1 (ko) 2001-06-27 2007-06-27 주식회사 하이닉스반도체 포커스 모니터링 방법
US6483690B1 (en) 2001-06-28 2002-11-19 Lam Research Corporation Ceramic electrostatic chuck assembly and method of making
US6554969B1 (en) 2001-07-11 2003-04-29 Advanced Micro Devices, Inc. Acoustically enhanced deposition processes, and systems for performing same
JP3705237B2 (ja) 2001-09-05 2005-10-12 ソニー株式会社 有機電界発光素子を用いた表示装置の製造システムおよび製造方法
KR200257218Y1 (ko) 2001-09-07 2001-12-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기발광소자용 마스크장치
KR100437768B1 (ko) 2001-09-13 2004-06-30 엘지전자 주식회사 박막증착장치
US20090208754A1 (en) 2001-09-28 2009-08-20 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
TW591202B (en) 2001-10-26 2004-06-11 Hermosa Thin Film Co Ltd Dynamic film thickness control device/method and ITS coating method
KR100730111B1 (ko) 2001-10-26 2007-06-19 삼성에스디아이 주식회사 유기 el 소자의 마스크용 프레임
KR100430336B1 (ko) 2001-11-16 2004-05-03 정광호 양산용 유기 전계 발광소자의 제작장치
KR100450978B1 (ko) 2001-11-26 2004-10-02 주성엔지니어링(주) 정전척
US20030101937A1 (en) 2001-11-28 2003-06-05 Eastman Kodak Company Thermal physical vapor deposition source for making an organic light-emitting device
JP2003159786A (ja) 2001-11-28 2003-06-03 Seiko Epson Corp 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置
KR100490534B1 (ko) 2001-12-05 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
SG149680A1 (en) 2001-12-12 2009-02-27 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and film formation method and cleaning method
JP2003197531A (ja) 2001-12-21 2003-07-11 Seiko Epson Corp パターニング装置、パターニング方法、電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、及び電子機器
TW200305773A (en) 2001-12-26 2003-11-01 Pentax Corp Projection Aligner
US20090169868A1 (en) 2002-01-29 2009-07-02 Vanderbilt University Methods and apparatus for transferring a material onto a substrate using a resonant infrared pulsed laser
US6919139B2 (en) 2002-02-14 2005-07-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electroluminescent iridium compounds with phosphinoalkoxides and phenylpyridines or phenylpyrimidines and devices made with such compounds
US6897164B2 (en) 2002-02-14 2005-05-24 3M Innovative Properties Company Aperture masks for circuit fabrication
US7006202B2 (en) 2002-02-21 2006-02-28 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Mask holder for irradiating UV-rays
KR100595310B1 (ko) 2002-02-22 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 마스크 고정장치 및 그를 이용한 uv조사장치
US20030168013A1 (en) 2002-03-08 2003-09-11 Eastman Kodak Company Elongated thermal physical vapor deposition source with plural apertures for making an organic light-emitting device
JP2003297562A (ja) 2002-03-29 2003-10-17 Sanyo Electric Co Ltd 蒸着方法
KR100501306B1 (ko) 2002-04-01 2005-07-18 (주) 휴네텍 도광판 제조방법 및 제조장치와 이를 위한 도광판 제조용입자분사장치
KR100469252B1 (ko) 2002-04-12 2005-02-02 엘지전자 주식회사 쉐도우 마스크 및 그를 이용한 풀칼라 유기 el 표시소자
US6749906B2 (en) 2002-04-25 2004-06-15 Eastman Kodak Company Thermal physical vapor deposition apparatus with detachable vapor source(s) and method
JP2003321767A (ja) 2002-04-26 2003-11-14 Seiko Epson Corp 薄膜の蒸着方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び電子機器
EP1554301B1 (en) 2002-05-03 2010-09-22 THE UNITED STATES GOVERNMENT as represented by THE DEPARTMENT OF HEALTH AND HUMAN SERVICES Dengue vaccine containing a common 30 nucleotide deletion in the 3'-utr of dengue types 1 and 2.
US20030232563A1 (en) 2002-05-09 2003-12-18 Isao Kamiyama Method and apparatus for manufacturing organic electroluminescence device, and system and method for manufacturing display unit using organic electroluminescence devices
JP4030350B2 (ja) 2002-05-28 2008-01-09 株式会社アルバック 分割型静電吸着装置
JP4292777B2 (ja) 2002-06-17 2009-07-08 ソニー株式会社 薄膜形成装置
CN100464440C (zh) 2002-06-03 2009-02-25 三星移动显示器株式会社 用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件
US20030221620A1 (en) 2002-06-03 2003-12-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Vapor deposition device
KR100908232B1 (ko) 2002-06-03 2009-07-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
JP2004086136A (ja) 2002-07-01 2004-03-18 Seiko Epson Corp 光トランシーバの製造方法及び調整装置
JP4286496B2 (ja) 2002-07-04 2009-07-01 株式会社半導体エネルギー研究所 蒸着装置及び薄膜作製方法
MY164487A (en) 2002-07-11 2017-12-29 Molecular Imprints Inc Step and repeat imprint lithography processes
JP2004043898A (ja) 2002-07-12 2004-02-12 Canon Electronics Inc 蒸着用マスク、および有機エレクトロルミネセンス表示装置
JP2004069414A (ja) 2002-08-05 2004-03-04 Nec Corp プラズマディスプレイパネルにおけるマスクと基板との間のギャップの測定方法
KR100397196B1 (ko) 2002-08-27 2003-09-13 에이엔 에스 주식회사 유기 반도체 장치의 유기물질 증착원 장치 및 그 방법
JP2004091858A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Toyota Industries Corp 真空蒸着装置及び方法並びに蒸着膜応用製品の製造方法
JP2004103269A (ja) 2002-09-05 2004-04-02 Sanyo Electric Co Ltd 有機el表示装置の製造方法
TWI252706B (en) * 2002-09-05 2006-04-01 Sanyo Electric Co Manufacturing method of organic electroluminescent display device
JP2004103341A (ja) 2002-09-09 2004-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2004107764A (ja) 2002-09-20 2004-04-08 Ulvac Japan Ltd 薄膜形成装置
CN100459220C (zh) 2002-09-20 2009-02-04 株式会社半导体能源研究所 制造系统以及发光元件的制作方法
US7067170B2 (en) 2002-09-23 2006-06-27 Eastman Kodak Company Depositing layers in OLED devices using viscous flow
US6911671B2 (en) 2002-09-23 2005-06-28 Eastman Kodak Company Device for depositing patterned layers in OLED displays
US20040086639A1 (en) 2002-09-24 2004-05-06 Grantham Daniel Harrison Patterned thin-film deposition using collimating heated mask asembly
JP4139186B2 (ja) 2002-10-21 2008-08-27 東北パイオニア株式会社 真空蒸着装置
JP2004143521A (ja) 2002-10-24 2004-05-20 Sony Corp 薄膜形成装置
KR100504477B1 (ko) 2002-11-05 2005-08-03 엘지전자 주식회사 유기 el의 열 소스 장치
KR100532657B1 (ko) 2002-11-18 2005-12-02 주식회사 야스 다증발원을 이용한 동시증착에서 균일하게 혼합된 박막의증착을 위한 증발 영역조절장치
JP4072422B2 (ja) 2002-11-22 2008-04-09 三星エスディアイ株式会社 蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機el素子の製造方法
JP2004225058A (ja) 2002-11-29 2004-08-12 Sony Corp 成膜装置および表示パネルの製造装置とその方法
JP2004183044A (ja) 2002-12-03 2004-07-02 Seiko Epson Corp マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器
JP2004199919A (ja) 2002-12-17 2004-07-15 Tohoku Pioneer Corp 有機el表示パネルの製造方法
JP4380319B2 (ja) * 2002-12-19 2009-12-09 ソニー株式会社 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2004207142A (ja) 2002-12-26 2004-07-22 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器
KR100646160B1 (ko) 2002-12-31 2006-11-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 순차측면결정화를 위한 마스크 및 이를 이용한 실리콘결정화 방법
WO2004068910A1 (ja) 2003-01-24 2004-08-12 Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. 発光装置及びその製造方法、並びに前記発光装置を用いた電気機器
US20040144321A1 (en) 2003-01-28 2004-07-29 Eastman Kodak Company Method of designing a thermal physical vapor deposition system
US7211461B2 (en) 2003-02-14 2007-05-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing apparatus
EP1458019A3 (de) 2003-03-13 2005-12-28 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung Mobiler transportabler elektrostatischer Substrathalter
JP4230258B2 (ja) 2003-03-19 2009-02-25 東北パイオニア株式会社 有機elパネル、有機elパネルの製造方法
JP3966292B2 (ja) 2003-03-27 2007-08-29 セイコーエプソン株式会社 パターンの形成方法及びパターン形成装置、デバイスの製造方法、導電膜配線、電気光学装置、並びに電子機器
KR100520305B1 (ko) 2003-04-04 2005-10-13 한국전자통신연구원 레이저 변위 센서를 이용하여 마스크와 기판 사이의간격을 측정하는 간격 측정 장치 및 그 방법
JP3915734B2 (ja) 2003-05-12 2007-05-16 ソニー株式会社 蒸着マスクおよびこれを用いた表示装置の製造方法、ならびに表示装置
JP2004342455A (ja) 2003-05-15 2004-12-02 Tokki Corp フラットパネルディスプレイ製造装置
JP2007500794A (ja) 2003-05-16 2007-01-18 エスブイティー アソーシエイツ インコーポレイテッド 薄膜蒸着エバポレーター
JP2004349101A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Seiko Epson Corp 膜形成方法、膜形成装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置
JP2004355975A (ja) 2003-05-29 2004-12-16 Sony Corp 表示装置の製造方法
US6995035B2 (en) 2003-06-16 2006-02-07 Eastman Kodak Company Method of making a top-emitting OLED device having improved power distribution
KR100517255B1 (ko) 2003-06-20 2005-09-27 주식회사 야스 유기 발광소자 박막 제작을 위한 선형 노즐 증발원
US7410919B2 (en) 2003-06-27 2008-08-12 International Business Machines Corporation Mask and substrate alignment for solder bump process
JP4599871B2 (ja) 2003-06-30 2010-12-15 ブラザー工業株式会社 液滴噴射装置
KR100724478B1 (ko) 2003-06-30 2007-06-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 제조방법
WO2005004229A1 (ja) 2003-07-08 2005-01-13 Future Vision Inc. 基板ステージ用静電チャック及びそれに用いる電極ならびにそれらを備えた処理システム
JP4124046B2 (ja) 2003-07-10 2008-07-23 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置
US6837939B1 (en) * 2003-07-22 2005-01-04 Eastman Kodak Company Thermal physical vapor deposition source using pellets of organic material for making OLED displays
JP2005044592A (ja) 2003-07-28 2005-02-17 Toyota Industries Corp 蒸着用マスク、この蒸着用マスクを用いた成膜方法及びこの蒸着用マスクを用いた成膜装置
EP2369035B9 (en) 2003-08-04 2014-05-21 LG Display Co., Ltd. Evaporation source
KR100656845B1 (ko) 2003-08-14 2006-12-13 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광층 증착용 증착원
KR100542997B1 (ko) 2003-08-07 2006-01-20 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치 및 그의 제조방법
KR20050028943A (ko) 2003-09-17 2005-03-24 삼성전자주식회사 저압 화학기상증착 장치의 압력조절 시스템
US7339139B2 (en) 2003-10-03 2008-03-04 Darly Custom Technology, Inc. Multi-layered radiant thermal evaporator and method of use
KR100889764B1 (ko) 2003-10-04 2009-03-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체및, 그것을 이용한 박막 증착 방법
US20050079418A1 (en) 2003-10-14 2005-04-14 3M Innovative Properties Company In-line deposition processes for thin film battery fabrication
JP4547599B2 (ja) 2003-10-15 2010-09-22 奇美電子股▲ふん▼有限公司 画像表示装置
KR20050039140A (ko) 2003-10-24 2005-04-29 삼성전자주식회사 바라트론 센서
CN1618716B (zh) 2003-11-12 2011-03-16 周星工程股份有限公司 装载锁及使用其的装载锁腔室
KR100520159B1 (ko) 2003-11-12 2005-10-10 삼성전자주식회사 다중 안테나를 사용하는 직교주파수분할다중 시스템에서간섭신호 제거 장치 및 방법
JP2005163099A (ja) 2003-12-02 2005-06-23 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、有機el装置の製造方法、有機el装置
JP2005165015A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Seiko Epson Corp 膜形成用マスク、膜形成装置、電気光学装置および電子機器
KR200342433Y1 (ko) 2003-12-04 2004-02-21 현대엘씨디주식회사 고압 분사형 유기물 증착 도가니
JP2005174843A (ja) 2003-12-15 2005-06-30 Sony Corp 蒸着用マスクおよびその製造方法
KR101061843B1 (ko) 2003-12-19 2011-09-02 삼성전자주식회사 다결정용 마스크 및 이를 이용한 규소 결정화 방법
JP2005206939A (ja) 2003-12-26 2005-08-04 Seiko Epson Corp 薄膜形成方法、薄膜形成装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、及び電子機器
JP4475967B2 (ja) 2004-01-29 2010-06-09 三菱重工業株式会社 真空蒸着機
JP2005213616A (ja) 2004-01-30 2005-08-11 Pioneer Electronic Corp 蒸着方法および装置ならびにプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP4441282B2 (ja) 2004-02-02 2010-03-31 富士フイルム株式会社 蒸着マスク及び有機el表示デバイスの製造方法
US20050166844A1 (en) 2004-02-03 2005-08-04 Nicholas Gralenski High reflectivity atmospheric pressure furnace for preventing contamination of a work piece
KR100712096B1 (ko) 2004-02-19 2007-04-27 삼성에스디아이 주식회사 유기전계 발광표시장치의 제조방법
JP2005235568A (ja) 2004-02-19 2005-09-02 Seiko Epson Corp 蒸着装置及び有機el装置の製造方法
JP4366226B2 (ja) 2004-03-30 2009-11-18 東北パイオニア株式会社 有機elパネルの製造方法、有機elパネルの成膜装置
JP2005293968A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Sanyo Electric Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2005296737A (ja) 2004-04-07 2005-10-27 Mikuni Corp ビートプレート
US7273526B2 (en) 2004-04-15 2007-09-25 Asm Japan K.K. Thin-film deposition apparatus
US20050244580A1 (en) 2004-04-30 2005-11-03 Eastman Kodak Company Deposition apparatus for temperature sensitive materials
US7302990B2 (en) 2004-05-06 2007-12-04 General Electric Company Method of forming concavities in the surface of a metal component, and related processes and articles
JP4455937B2 (ja) 2004-06-01 2010-04-21 東北パイオニア株式会社 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法
JP4734508B2 (ja) 2004-06-21 2011-07-27 京セラ株式会社 Elディスプレイおよびその製造方法
JP4545504B2 (ja) 2004-07-15 2010-09-15 株式会社半導体エネルギー研究所 膜形成方法、発光装置の作製方法
KR100696472B1 (ko) 2004-07-15 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법
KR20060007211A (ko) 2004-07-19 2006-01-24 삼성전자주식회사 노광 시스템
KR20060008602A (ko) 2004-07-21 2006-01-27 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광층 증착 방법
JP4121514B2 (ja) 2004-07-22 2008-07-23 シャープ株式会社 有機発光素子、及び、それを備えた表示装置
US7449831B2 (en) 2004-08-02 2008-11-11 Lg Display Co., Ltd. OLEDs having inorganic material containing anode capping layer
US7273663B2 (en) 2004-08-20 2007-09-25 Eastman Kodak Company White OLED having multiple white electroluminescence units
JP2006057173A (ja) 2004-08-24 2006-03-02 Tohoku Pioneer Corp 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法
KR100579406B1 (ko) 2004-08-25 2006-05-12 삼성에스디아이 주식회사 수직 이동형 유기물 증착 장치
KR100623696B1 (ko) 2004-08-30 2006-09-19 삼성에스디아이 주식회사 고효율 유기 전계 발광 소자 및 그의 제조방법
EP1802177A4 (en) 2004-09-08 2010-04-14 Toray Industries ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
KR101070539B1 (ko) 2004-09-08 2011-10-05 도레이 카부시키가이샤 증착 마스크 및 이를 사용한 유기 전계 발광 장치의 제조 방법
KR20060028115A (ko) 2004-09-24 2006-03-29 삼성탈레스 주식회사 통신 단말기의 한글 입력 방법
KR100719991B1 (ko) 2004-09-30 2007-05-21 산요덴키가부시키가이샤 일렉트로루미네센스 소자
KR101121417B1 (ko) 2004-10-28 2012-03-15 주성엔지니어링(주) 표시소자의 제조장치
KR100669757B1 (ko) 2004-11-12 2007-01-16 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 소자
TWI447840B (zh) 2004-11-15 2014-08-01 尼康股份有限公司 基板搬運裝置、基板搬運方法以及曝光裝置
CN100555709C (zh) 2004-11-16 2009-10-28 国际商业机器公司 包括电介质覆盖层的有机发光器件及其制造方法
US20060102078A1 (en) 2004-11-18 2006-05-18 Intevac Inc. Wafer fab
KR100708654B1 (ko) 2004-11-18 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체
US8128753B2 (en) 2004-11-19 2012-03-06 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for depositing LED organic film
US7748343B2 (en) 2004-11-22 2010-07-06 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Electrohydrodynamic spraying system
KR20060056706A (ko) 2004-11-22 2006-05-25 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 형성 방법
KR100603403B1 (ko) 2004-11-25 2006-07-20 삼성에스디아이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 및 이를 이용한 유기 전계 발광소자의 제조방법
KR100700013B1 (ko) 2004-11-26 2007-03-26 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광소자 및 그의 제조 방법
KR100708655B1 (ko) 2004-11-27 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 소자
KR20060060994A (ko) 2004-12-01 2006-06-07 삼성에스디아이 주식회사 증착 소스 및 이를 구비한 증착 장치
KR100700641B1 (ko) 2004-12-03 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 레이저 조사 장치, 패터닝 방법 및 그를 이용한 레이저열전사 패터닝 방법과 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조 방법
KR20060065978A (ko) 2004-12-11 2006-06-15 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 슬릿 마스크
JP4553124B2 (ja) 2004-12-16 2010-09-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空蒸着方法及びelディスプレイ用パネル
JP4510609B2 (ja) 2004-12-21 2010-07-28 株式会社アルバック 基板とマスクのアライメント方法および有機薄膜蒸着方法ならびにアライメント装置
KR20060073367A (ko) 2004-12-24 2006-06-28 엘지전자 주식회사 클리닝룸의 유기물 처리장치
KR101157322B1 (ko) 2004-12-31 2012-06-15 엘지디스플레이 주식회사 스퍼터링장치의 반송유닛
KR100645719B1 (ko) 2005-01-05 2006-11-14 삼성에스디아이 주식회사 물질증착용 증착원 및 이를 구비한 증착장치
JP4384109B2 (ja) 2005-01-05 2009-12-16 三星モバイルディスプレイ株式會社 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム
KR100796148B1 (ko) 2005-01-05 2008-01-21 삼성에스디아이 주식회사 수직이동형 증착시스템
KR100600357B1 (ko) 2005-01-05 2006-07-18 삼성에스디아이 주식회사 증착시스템용 증착원의 구동축 밀폐장치 및 이를 구비한증착시스템
US7538828B2 (en) 2005-01-10 2009-05-26 Advantech Global, Ltd Shadow mask deposition system for and method of forming a high resolution active matrix liquid crystal display (LCD) and pixel structures formed therewith
KR101200693B1 (ko) 2005-01-11 2012-11-12 김명희 대면적 유기박막 제작용 선형 다점 도가니 장치
KR20060083510A (ko) 2005-01-17 2006-07-21 삼성전자주식회사 결함성 부산물들을 제거하는 포토마스크 장비
JP2006210038A (ja) 2005-01-26 2006-08-10 Seiko Epson Corp マスクの製造方法
KR100666574B1 (ko) 2005-01-31 2007-01-09 삼성에스디아이 주식회사 증발원
KR100703427B1 (ko) 2005-04-15 2007-04-03 삼성에스디아이 주식회사 증발원 및 이를 채용한 증착장치
JP4440837B2 (ja) 2005-01-31 2010-03-24 三星モバイルディスプレイ株式會社 蒸発源及びこれを採用した蒸着装置
KR100661908B1 (ko) 2005-02-07 2006-12-28 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR100719314B1 (ko) 2005-03-31 2007-05-17 세메스 주식회사 기판 이송 장치 및 기판 상에 유기 박막을 증착하는 장치
US7918940B2 (en) 2005-02-07 2011-04-05 Semes Co., Ltd. Apparatus for processing substrate
KR20060092387A (ko) 2005-02-17 2006-08-23 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 멀티 슬릿 마스크
KR20060098755A (ko) 2005-03-07 2006-09-19 에스케이씨 주식회사 유기 발광 다이오드의 진공 증착 장치 및 방법
KR100687007B1 (ko) 2005-03-22 2007-02-26 세메스 주식회사 유기전계 발광 소자 제조에 사용되는 유기 박박 증착 장치
JP2006275433A (ja) 2005-03-29 2006-10-12 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 吸収式小型冷却及び冷凍装置
KR100705316B1 (ko) 2005-03-30 2007-04-09 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법
KR100637714B1 (ko) 2005-03-31 2006-10-25 세메스 주식회사 기판 처리 장치
JP4777682B2 (ja) 2005-04-08 2011-09-21 株式会社ブイ・テクノロジー スキャン露光装置
KR100773249B1 (ko) 2005-04-18 2007-11-05 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광층 형성용 마스크
EP1717339A2 (de) 2005-04-20 2006-11-02 Applied Films GmbH & Co. KG Kontinuierliche Beschichtungsanlage
JP4701815B2 (ja) 2005-04-26 2011-06-15 株式会社アルバック 成膜装置
KR100940549B1 (ko) 2005-04-28 2010-02-10 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 정전척 장치
KR20060114462A (ko) 2005-04-29 2006-11-07 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법
KR100810632B1 (ko) 2005-04-29 2008-03-06 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치
KR101219036B1 (ko) 2005-05-02 2013-01-07 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
KR100700493B1 (ko) 2005-05-24 2007-03-28 삼성에스디아이 주식회사 효율적인 필라멘트 배열 구조를 갖는 촉매 강화 화학 기상증착 장치
KR100670344B1 (ko) 2005-05-30 2007-01-16 삼성에스디아이 주식회사 기판과 마스크의 정렬 장치 및 정렬 방법
KR100797787B1 (ko) 2005-06-03 2008-01-24 주식회사 아이엠티 레이저를 이용한 건식세정시스템
KR20060127743A (ko) 2005-06-06 2006-12-13 스미토모덴키고교가부시키가이샤 질화물 반도체 기판과 그 제조 방법
JP4591222B2 (ja) 2005-06-09 2010-12-01 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び画像形成装置
US7296673B2 (en) 2005-06-10 2007-11-20 Applied Materials, Inc. Substrate conveyor system
KR101174154B1 (ko) 2005-06-13 2012-08-14 엘지디스플레이 주식회사 스퍼터링 장치
US20070017445A1 (en) 2005-07-19 2007-01-25 Takako Takehara Hybrid PVD-CVD system
ATE376078T1 (de) 2005-07-28 2007-11-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Bedampfervorrichtung
JP4959961B2 (ja) 2005-07-29 2012-06-27 株式会社ジャパンディスプレイセントラル 有機el素子の製造方法
CN100451838C (zh) 2005-07-29 2009-01-14 友达光电股份有限公司 对准系统及对准方法
JP4873399B2 (ja) 2005-08-08 2012-02-08 五鈴精工硝子株式会社 赤外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法
JP4655812B2 (ja) 2005-08-08 2011-03-23 カシオ計算機株式会社 楽音発生装置、及びプログラム
JP4894193B2 (ja) * 2005-08-09 2012-03-14 ソニー株式会社 蒸着装置、および表示装置の製造システム
JP4785856B2 (ja) 2005-08-25 2011-10-05 日立造船株式会社 真空蒸着用アライメント装置
US8070145B2 (en) 2005-08-26 2011-12-06 Nikon Corporation Holding unit, assembly system, sputtering unit, and processing method and processing unit
JP5007949B2 (ja) 2005-08-26 2012-08-22 株式会社ニコン 保持装置、組立てシステム、並びに加工方法及び加工装置
KR100729089B1 (ko) 2005-08-26 2007-06-14 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그 제조방법
KR100711885B1 (ko) 2005-08-31 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 증착원 및 이의 가열원 제어방법
KR20070035796A (ko) 2005-09-28 2007-04-02 엘지전자 주식회사 유기 전계발광 표시소자의 제조장치
KR20070037848A (ko) 2005-10-04 2007-04-09 삼성전자주식회사 유기 발광 표시 장치
KR100697663B1 (ko) 2005-10-27 2007-03-20 세메스 주식회사 유기물 증착 장치
JP4767000B2 (ja) * 2005-11-28 2011-09-07 日立造船株式会社 真空蒸着装置
KR101254335B1 (ko) 2005-11-29 2013-04-12 황창훈 금속판 벨트 증발원을 이용한 선형 유기소자 양산장비
KR100741142B1 (ko) 2005-11-29 2007-07-23 주식회사 알파로보틱스 복수의 테이블을 가진 리니어 가이드 장치
JP4666219B2 (ja) 2005-12-02 2011-04-06 セイコーエプソン株式会社 コンテナ
KR100696550B1 (ko) 2005-12-09 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 증착 장치
KR100696547B1 (ko) 2005-12-09 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 증착 방법
US20070178225A1 (en) * 2005-12-14 2007-08-02 Keiji Takanosu Vapor deposition crucible, thin-film forming apparatus comprising the same, and method of producing display device
JP2007186787A (ja) * 2005-12-14 2007-07-26 Hitachi Displays Ltd 蒸着坩堝並びにこれを備えた薄膜形成装置、及び表示装置の製造方法
US20070137568A1 (en) 2005-12-16 2007-06-21 Schreiber Brian E Reciprocating aperture mask system and method
US20070148337A1 (en) 2005-12-22 2007-06-28 Nichols Jonathan A Flame-perforated aperture masks
KR100752321B1 (ko) 2005-12-23 2007-08-29 주식회사 두산 백색 유기 전계 발광소자
KR100729097B1 (ko) 2005-12-28 2007-06-14 삼성에스디아이 주식회사 증발원 및 이를 이용한 박막 증착방법
KR101340899B1 (ko) 2006-01-06 2013-12-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 소자용 노즐장치
US7645483B2 (en) 2006-01-17 2010-01-12 Eastman Kodak Company Two-dimensional aperture array for vapor deposition
JP4692290B2 (ja) 2006-01-11 2011-06-01 セイコーエプソン株式会社 マスクおよび成膜方法
JP5064810B2 (ja) 2006-01-27 2012-10-31 キヤノン株式会社 蒸着装置および蒸着方法
US7576394B2 (en) 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
KR20070080635A (ko) 2006-02-08 2007-08-13 주식회사 아바코 유기물증발 보트
FR2897164B1 (fr) 2006-02-09 2008-03-14 Commissariat Energie Atomique Realisation de cavites pouvant etre remplies par un materiau fluidique dans un compose microtechnologique optique
US20070190235A1 (en) 2006-02-10 2007-08-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film forming apparatus, film forming method, and manufacturing method of light emitting element
KR100736218B1 (ko) 2006-02-21 2007-07-06 (주)얼라이드 테크 파인더즈 횡 방향의 다중 전극 구조를 가지는 평행 평판형 플라즈마소스
JP2007227086A (ja) 2006-02-22 2007-09-06 Tokyo Electron Ltd 成膜装置および発光素子の製造方法
KR20070084973A (ko) 2006-02-22 2007-08-27 삼성전기주식회사 고출력 반도체 레이저소자
US20090304924A1 (en) 2006-03-03 2009-12-10 Prasad Gadgil Apparatus and method for large area multi-layer atomic layer chemical vapor processing of thin films
KR100994505B1 (ko) 2006-03-06 2010-11-15 엘아이지에이디피 주식회사 바이폴라 전극 패턴이 형성된 정전 척
US8691323B2 (en) 2006-03-06 2014-04-08 Nalco Company Method and apparatus for monitoring and controlling the application of performance enhancing materials to creping cylinders
JP2007242436A (ja) 2006-03-09 2007-09-20 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス装置
KR100768212B1 (ko) 2006-03-28 2007-10-18 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착 방법 및 유기 발광 표시장치의 제조방법
KR20070098122A (ko) 2006-03-31 2007-10-05 삼성전자주식회사 반도체 제조설비
JP2007291506A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Canon Inc 成膜方法
JP4948021B2 (ja) 2006-04-13 2012-06-06 株式会社アルバック 触媒体化学気相成長装置
KR20070105595A (ko) 2006-04-27 2007-10-31 두산메카텍 주식회사 유기박막 증착장치
KR20070112668A (ko) 2006-05-22 2007-11-27 세메스 주식회사 유기발광소자 박막 제작을 위한 선형증발원
US7835001B2 (en) 2006-05-24 2010-11-16 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Method of aligning a substrate, mask to be aligned with the same, and flat panel display apparatus using the same
KR101264329B1 (ko) 2006-07-18 2013-05-14 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 그를 이용한 기판 정렬 방법
KR100770653B1 (ko) 2006-05-25 2007-10-29 에이엔 에스 주식회사 박막형성용 증착장치
KR101248004B1 (ko) 2006-06-29 2013-03-27 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자의 증착 스템과, 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법
KR100800125B1 (ko) 2006-06-30 2008-01-31 세메스 주식회사 유기발광소자 증착장비의 소스셔터 및 기판 제어방법
WO2008004792A1 (en) 2006-07-03 2008-01-10 Yas Co., Ltd. Multiple nozzle evaporator for vacuum thermal evaporation
KR100980729B1 (ko) 2006-07-03 2010-09-07 주식회사 야스 증착 공정용 다중 노즐 증발원
JP2008019477A (ja) 2006-07-13 2008-01-31 Canon Inc 真空蒸着装置
US7910386B2 (en) 2006-07-28 2011-03-22 General Electric Company Method of making organic light emitting devices
KR100723627B1 (ko) 2006-08-01 2007-06-04 세메스 주식회사 유기 박막 증착 장치의 증발원
KR100815265B1 (ko) 2006-08-28 2008-03-19 주식회사 대우일렉트로닉스 마이크로 히터 및 도가니 제조 방법, 그리고 이들을 구비한유기물 진공 증착 장치
US7322248B1 (en) 2006-08-29 2008-01-29 Eastman Kodak Company Pressure gauge for organic materials
JP4971723B2 (ja) 2006-08-29 2012-07-11 キヤノン株式会社 有機発光表示装置の製造方法
KR100787457B1 (ko) 2006-08-31 2007-12-26 삼성에스디아이 주식회사 기판 정렬 장치 및 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치용제조 장치
US20080241805A1 (en) 2006-08-31 2008-10-02 Q-Track Corporation System and method for simulated dosimetry using a real time locating system
US20080057183A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Spindler Jeffrey P Method for lithium deposition in oled device
JP5063969B2 (ja) 2006-09-29 2012-10-31 東京エレクトロン株式会社 蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法および蒸着装置の使用方法
KR100739309B1 (ko) 2006-10-13 2007-07-12 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기 전계발광표시장치
KR100823508B1 (ko) 2006-10-19 2008-04-21 삼성에스디아이 주식회사 증발원 및 이를 구비한 증착 장치
JP4809186B2 (ja) 2006-10-26 2011-11-09 京セラ株式会社 有機elディスプレイおよびその製造方法
KR100836471B1 (ko) 2006-10-27 2008-06-09 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 이를 이용한 증착 장치
KR100839380B1 (ko) 2006-10-30 2008-06-19 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 진공 증착 장치
US20080100201A1 (en) 2006-10-31 2008-05-01 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Organic electroluminescence device and fabricating method thereof
KR100823511B1 (ko) 2006-11-10 2008-04-21 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법
JP4768584B2 (ja) 2006-11-16 2011-09-07 財団法人山形県産業技術振興機構 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置
KR20080045886A (ko) 2006-11-21 2008-05-26 삼성전자주식회사 유기막 증착용 마스크 및 그 제조방법, 이를 포함하는유기전계 발광표시장치의 제조방법
KR20080046761A (ko) 2006-11-23 2008-05-28 엘지디스플레이 주식회사 기판이송장치 및 이를 구비하는 박막 형성 장치
KR20080048653A (ko) 2006-11-29 2008-06-03 엘지디스플레이 주식회사 마스크 장치 및 그를 이용한 평판 표시 장치의 제조방법
US20080131587A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Boroson Michael L Depositing organic material onto an oled substrate
US8092601B2 (en) 2006-12-13 2012-01-10 Ascentool, Inc. System and process for fabricating photovoltaic cell
KR20080055124A (ko) 2006-12-14 2008-06-19 엘지디스플레이 주식회사 증착 장치
JP2008153543A (ja) 2006-12-19 2008-07-03 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック
JP2008156686A (ja) 2006-12-22 2008-07-10 Seiko Epson Corp マスクおよびマスク蒸着装置
KR20080060400A (ko) 2006-12-27 2008-07-02 엘지디스플레이 주식회사 어레이 기판의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 광 발생장치의 제조 방법
KR20080061774A (ko) 2006-12-28 2008-07-03 엘지전자 주식회사 액정표시장치의 마스크를 정렬하는 장치 및 방법
KR20080061666A (ko) 2006-12-28 2008-07-03 세메스 주식회사 유기 박막 증착 장치
KR20080061132A (ko) 2006-12-28 2008-07-02 엘지디스플레이 주식회사 유기막 증착 장치
KR20080062212A (ko) 2006-12-29 2008-07-03 세메스 주식회사 유기 박막 증착 장치
KR100899279B1 (ko) 2007-01-26 2009-05-27 창원대학교 산학협력단 상면 평판냉각기와 측면 열유도판을 결합한 리니어모터의 냉각장치
JP2008196003A (ja) 2007-02-13 2008-08-28 Seiko Epson Corp 蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
KR101403328B1 (ko) 2007-02-16 2014-06-05 엘아이지에이디피 주식회사 돌기 모양의 전극 패턴을 가지는 바이폴라 정전척 및 이를이용한 기판 처리 방법
JP2008223102A (ja) * 2007-03-14 2008-09-25 Seiko Epson Corp 蒸着装置、および蒸着方法
KR101394922B1 (ko) 2007-03-30 2014-05-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
JP4909152B2 (ja) 2007-03-30 2012-04-04 キヤノン株式会社 蒸着装置及び蒸着方法
WO2008121793A1 (en) 2007-03-30 2008-10-09 The Penn State Research Foundation Mist fabrication of quantum dot devices
KR100830318B1 (ko) 2007-04-12 2008-05-16 삼성에스디아이 주식회사 발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2008274373A (ja) 2007-05-02 2008-11-13 Optnics Precision Co Ltd 蒸着用マスク
JP2008285719A (ja) 2007-05-17 2008-11-27 Fujifilm Corp 真空蒸着方法
KR20080102898A (ko) 2007-05-22 2008-11-26 삼성전자주식회사 백색-발광 유기 발광 소자, 이의 제조 방법 및 인-라인증착 시스템용 증착기
KR101409524B1 (ko) 2007-05-28 2014-06-20 엘지디스플레이 주식회사 기판 이송 장치
KR101288599B1 (ko) 2007-05-29 2013-07-22 엘지디스플레이 주식회사 기판 이송 장치
JP2008300056A (ja) 2007-05-29 2008-12-11 Shinko Electric Co Ltd マスクアライメント装置
KR20080109559A (ko) 2007-06-13 2008-12-17 주식회사 하이닉스반도체 국부적 변형조명을 제공하는 마스크 및 제조 방법
JP5277571B2 (ja) 2007-06-18 2013-08-28 セイコーエプソン株式会社 ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法
KR20100037089A (ko) 2007-06-19 2010-04-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 변위 스케일을 제조하는 시스템 및 방법
JP5081516B2 (ja) 2007-07-12 2012-11-28 株式会社ジャパンディスプレイイースト 蒸着方法および蒸着装置
JP5132213B2 (ja) 2007-07-18 2013-01-30 富士フイルム株式会社 蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子
KR20090017910A (ko) 2007-08-16 2009-02-19 엘지디스플레이 주식회사 쉐도우 마스크 및 이를 이용한 유기 전계발광소자의제조방법
JP2009049223A (ja) 2007-08-21 2009-03-05 Seiko Epson Corp 発光装置
KR101167546B1 (ko) 2007-09-10 2012-07-20 가부시키가이샤 알박 증착 장치
JP4889607B2 (ja) 2007-09-10 2012-03-07 株式会社アルバック 供給装置、蒸着装置
JP4904237B2 (ja) 2007-09-25 2012-03-28 ヤマハ発動機株式会社 基板処理装置、表面実装機、印刷機、検査機、及び塗布機
KR20090038733A (ko) 2007-10-16 2009-04-21 주식회사 실트론 Soi 웨이퍼의 표면 거칠기 개선을 위한 열처리 방법 및이를 위한 열처리 장치
KR100972636B1 (ko) 2007-10-22 2010-07-27 네오뷰코오롱 주식회사 증착 마스크 유닛
KR100790718B1 (ko) 2007-11-05 2008-01-02 삼성전기주식회사 고출력 반도체 레이저소자
KR100889872B1 (ko) 2007-11-08 2009-03-24 (주)와이티에스 디스플레이용 글라스 기판 얼라인 시스템의 얼라인 카메라진직도 자동 보정방법
JP5280667B2 (ja) 2007-11-08 2013-09-04 株式会社ジャパンディスプレイ 有機el表示装置の製造方法及び蒸着マスクのクリーニング方法
KR100928136B1 (ko) 2007-11-09 2009-11-25 삼성모바일디스플레이주식회사 유기물 선형 증착 장치
KR100908658B1 (ko) 2007-11-20 2009-07-21 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치
JP5046882B2 (ja) * 2007-11-21 2012-10-10 三菱重工業株式会社 インライン式成膜装置
KR100903624B1 (ko) 2007-11-23 2009-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR20090062088A (ko) 2007-12-12 2009-06-17 삼성전자주식회사 유기 발광 장치 및 이의 제조방법
KR100979189B1 (ko) 2007-12-20 2010-08-31 다이나믹솔라디자인 주식회사 연속 기판 처리 시스템
US8298338B2 (en) 2007-12-26 2012-10-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Chemical vapor deposition apparatus
JP4725577B2 (ja) 2007-12-28 2011-07-13 カシオ計算機株式会社 表示装置の製造方法
JP2009170200A (ja) 2008-01-15 2009-07-30 Sony Corp 表示装置の製造方法
KR20090079765A (ko) 2008-01-17 2009-07-22 이태환 중력을 이용한 동력발생장치
KR101415551B1 (ko) 2008-01-25 2014-07-04 (주)소슬 정전척, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR100964224B1 (ko) 2008-02-28 2010-06-17 삼성모바일디스플레이주식회사 증착 장치 및 박막 형성 방법
KR101352567B1 (ko) 2008-03-04 2014-01-24 삼성테크윈 주식회사 리니어 이송 스테이지 장치
KR100994114B1 (ko) 2008-03-11 2010-11-12 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 형성 방법
KR100922763B1 (ko) 2008-03-13 2009-10-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조 방법
KR20090107702A (ko) 2008-04-10 2009-10-14 엘지디스플레이 주식회사 박막 증착방법 및 장비
US7943202B2 (en) 2008-05-07 2011-05-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Apparatus and methods for providing a static interferometric display device
KR100953658B1 (ko) 2008-06-05 2010-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기전계발광 표시장치
WO2009153856A1 (ja) 2008-06-17 2009-12-23 キヤノンアネルバ株式会社 防着カバー付きキャリアおよび防着カバー着脱装置
JP5368013B2 (ja) 2008-06-24 2013-12-18 共同印刷株式会社 フレキシブル有機elディスプレイの製造方法
KR20100000128A (ko) 2008-06-24 2010-01-06 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시장치용 증착 마스크 유닛
KR20100000129A (ko) 2008-06-24 2010-01-06 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시장치용 증착 마스크 유닛
KR20100002381A (ko) 2008-06-30 2010-01-07 (주)드림젯코리아 흡착가열방식의 인쇄물거치대를 구비한 평판프린터
KR20100026655A (ko) 2008-09-01 2010-03-10 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기전계발광 소자의 제조방법
KR100961110B1 (ko) 2008-09-02 2010-06-07 삼성엘이디 주식회사 교류구동 발광장치
WO2010036805A2 (en) 2008-09-24 2010-04-01 Massachusetts Institute Of Technology Photon processing with nanopatterned materials
KR101592013B1 (ko) 2008-10-13 2016-02-05 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101487382B1 (ko) 2008-10-22 2015-01-29 주식회사 원익아이피에스 인라인 반도체 제조시스템
JP5157825B2 (ja) 2008-10-29 2013-03-06 ソニー株式会社 有機elディスプレイの製造方法
KR101017654B1 (ko) 2008-11-26 2011-02-25 세메스 주식회사 기판 척킹 부재, 이를 갖는 기판 처리 장치 및 이를 이용한기판 처리 방법
KR101542398B1 (ko) 2008-12-19 2015-08-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 장치 및 그 제조 방법
KR101117645B1 (ko) 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR20100099806A (ko) 2009-03-04 2010-09-15 삼성전자주식회사 홀로그래픽 노광 장치
US9062369B2 (en) 2009-03-25 2015-06-23 Veeco Instruments, Inc. Deposition of high vapor pressure materials
US8202671B2 (en) 2009-04-28 2012-06-19 Nikon Corporation Protective apparatus, mask, mask forming apparatus, mask forming method, exposure apparatus, device fabricating method, and foreign matter detecting apparatus
KR101108151B1 (ko) 2009-04-30 2012-01-31 삼성모바일디스플레이주식회사 증착 장치
JP5323581B2 (ja) 2009-05-08 2013-10-23 三星ディスプレイ株式會社 蒸着方法及び蒸着装置
KR101074790B1 (ko) 2009-05-22 2011-10-19 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101084168B1 (ko) 2009-06-12 2011-11-17 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
JP5620146B2 (ja) * 2009-05-22 2014-11-05 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置
JP5623786B2 (ja) 2009-05-22 2014-11-12 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置
KR101067709B1 (ko) 2009-05-28 2011-09-28 주식회사 태성기연 자기부상방식 판유리 이송장치
KR20100130786A (ko) 2009-06-04 2010-12-14 삼성모바일디스플레이주식회사 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법
US8882921B2 (en) 2009-06-08 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR101074792B1 (ko) * 2009-06-12 2011-10-19 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101097311B1 (ko) 2009-06-24 2011-12-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치
KR101117719B1 (ko) 2009-06-24 2012-03-08 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101117720B1 (ko) 2009-06-25 2012-03-08 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법
KR101127575B1 (ko) 2009-08-10 2012-03-23 삼성모바일디스플레이주식회사 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치
US20110033621A1 (en) 2009-08-10 2011-02-10 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus including deposition blade
JP5676175B2 (ja) 2009-08-24 2015-02-25 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法
KR101127578B1 (ko) 2009-08-24 2012-03-23 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
US8486737B2 (en) 2009-08-25 2013-07-16 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
JP5328726B2 (ja) 2009-08-25 2013-10-30 三星ディスプレイ株式會社 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法
KR20110021090A (ko) 2009-08-25 2011-03-04 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 제조 용 쉐도우 마스크
JP5677785B2 (ja) 2009-08-27 2015-02-25 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法
KR101174877B1 (ko) 2009-08-27 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법
US8696815B2 (en) 2009-09-01 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US20110052795A1 (en) 2009-09-01 2011-03-03 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
CN102482760B (zh) 2009-09-15 2014-07-02 夏普株式会社 蒸镀方法和蒸镀装置
CN102024908A (zh) 2009-09-23 2011-04-20 乐金显示有限公司 有机发光器件及其制造方法
KR20110032589A (ko) 2009-09-23 2011-03-30 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광소자
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR101146982B1 (ko) 2009-11-20 2012-05-22 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치 및 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법
KR101030030B1 (ko) 2009-12-11 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체
US20110262625A1 (en) 2010-01-11 2011-10-27 Hyun-Sook Park Thin film deposition apparatus
KR101084184B1 (ko) 2010-01-11 2011-11-17 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101174875B1 (ko) 2010-01-14 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101193186B1 (ko) 2010-02-01 2012-10-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
JP4745447B2 (ja) 2010-02-04 2011-08-10 キヤノンアネルバ株式会社 基板搬送装置及び真空処理装置
KR101174879B1 (ko) 2010-03-09 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 조립방법
KR101156441B1 (ko) 2010-03-11 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR100965416B1 (ko) 2010-03-12 2010-06-24 엘아이지에이디피 주식회사 다중 전극 패턴을 가지는 정전척
KR20110110525A (ko) 2010-04-01 2011-10-07 삼성전자주식회사 무선 전력 전송 장치 및 방법
KR101801351B1 (ko) 2010-04-28 2017-11-27 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 유기 발광 표시 장치
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
KR101779475B1 (ko) 2010-06-22 2017-09-19 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광소자 및 이의 제조방법
KR101223723B1 (ko) 2010-07-07 2013-01-18 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101182448B1 (ko) 2010-07-12 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법
KR101146996B1 (ko) 2010-07-12 2012-05-23 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR101146997B1 (ko) 2010-07-12 2012-05-23 삼성모바일디스플레이주식회사 패터닝 슬릿 시트 인장 장치
KR101673017B1 (ko) 2010-07-30 2016-11-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법
KR20120029166A (ko) 2010-09-16 2012-03-26 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101678056B1 (ko) 2010-09-16 2016-11-22 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR20120029895A (ko) 2010-09-17 2012-03-27 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
US8022448B1 (en) 2010-10-05 2011-09-20 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for evaporation including test wafer holder
KR101730498B1 (ko) 2010-10-22 2017-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101723506B1 (ko) 2010-10-22 2017-04-19 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101738531B1 (ko) 2010-10-22 2017-05-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR20120045865A (ko) 2010-11-01 2012-05-09 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR20120057290A (ko) 2010-11-26 2012-06-05 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR20120065789A (ko) 2010-12-13 2012-06-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR101223725B1 (ko) 2011-01-10 2013-01-17 삼성디스플레이 주식회사 유기발광표시장치 및 그 제조방법
KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2017-07-25 삼성디스플레이 주식회사 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치
WO2012099012A1 (ja) 2011-01-20 2012-07-26 シャープ株式会社 坩堝および蒸着装置
JP5331264B2 (ja) 2011-03-10 2013-10-30 シャープ株式会社 蒸着装置及び蒸着方法
WO2012124563A1 (ja) 2011-03-14 2012-09-20 シャープ株式会社 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着方法
JP2012211352A (ja) 2011-03-30 2012-11-01 Hitachi High-Technologies Corp 蒸発源並びに有機elデバイス製造装置及び有機elデバイス製造方法
KR101857992B1 (ko) 2011-05-25 2018-05-16 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR20120131543A (ko) 2011-05-25 2012-12-05 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 유기층 증착 장치용 프레임 시트 조립체 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101840654B1 (ko) 2011-05-25 2018-03-22 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR20120131548A (ko) 2011-05-25 2012-12-05 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치
KR101852517B1 (ko) 2011-05-25 2018-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
US8614144B2 (en) 2011-06-10 2013-12-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for fabrication of interconnect structure with improved alignment for semiconductor devices
KR101705823B1 (ko) 2011-06-30 2017-02-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 소자
KR101826068B1 (ko) 2011-07-04 2018-02-07 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치
KR20130015144A (ko) 2011-08-02 2013-02-13 삼성디스플레이 주식회사 증착원어셈블리, 유기층증착장치 및 이를 이용한 유기발광표시장치의 제조 방법
KR20130069037A (ko) 2011-12-16 2013-06-26 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR20130095063A (ko) 2012-02-17 2013-08-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치와, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR102015872B1 (ko) 2012-06-22 2019-10-22 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101959974B1 (ko) 2012-07-10 2019-07-16 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101959975B1 (ko) 2012-07-10 2019-07-16 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR102013315B1 (ko) 2012-07-10 2019-08-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
US9461277B2 (en) 2012-07-10 2016-10-04 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting display apparatus
US9496524B2 (en) 2012-07-10 2016-11-15 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
KR20140010303A (ko) 2012-07-16 2014-01-24 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101944918B1 (ko) 2012-08-03 2019-02-08 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 어셈블리, 유기층 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR102013318B1 (ko) 2012-09-20 2019-08-23 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR101971199B1 (ko) 2012-09-21 2019-08-14 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR101994838B1 (ko) 2012-09-24 2019-10-01 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR20140050994A (ko) 2012-10-22 2014-04-30 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조 방법
KR102052069B1 (ko) 2012-11-09 2019-12-05 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치

Cited By (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8968829B2 (en) 2009-08-25 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9450140B2 (en) 2009-08-27 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
US9224591B2 (en) 2009-10-19 2015-12-29 Samsung Display Co., Ltd. Method of depositing a thin film
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US9660191B2 (en) 2009-11-20 2017-05-23 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8951349B2 (en) 2009-11-20 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US10287671B2 (en) 2010-01-11 2019-05-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US10246769B2 (en) 2010-01-11 2019-04-02 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8859325B2 (en) 2010-01-14 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8882556B2 (en) 2010-02-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8973525B2 (en) 2010-03-11 2015-03-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US9453282B2 (en) 2010-03-11 2016-09-27 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8865252B2 (en) 2010-04-06 2014-10-21 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9136310B2 (en) 2010-04-28 2015-09-15 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9279177B2 (en) 2010-07-07 2016-03-08 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8871542B2 (en) 2010-10-22 2014-10-28 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method
US9388488B2 (en) 2010-10-22 2016-07-12 Samsung Display Co., Ltd. Organic film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8882922B2 (en) 2010-11-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8852687B2 (en) 2010-12-13 2014-10-07 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US9748483B2 (en) 2011-01-12 2017-08-29 Samsung Display Co., Ltd. Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
US8859043B2 (en) 2011-05-25 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9249493B2 (en) 2011-05-25 2016-02-02 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same
US8906731B2 (en) 2011-05-27 2014-12-09 Samsung Display Co., Ltd. Patterning slit sheet assembly, organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus, and the organic light-emitting display apparatus
US8951610B2 (en) 2011-07-04 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US9206501B2 (en) 2011-08-02 2015-12-08 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using an organic layer deposition apparatus having stacked deposition sources
US9246135B2 (en) 2012-07-10 2016-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
US9012258B2 (en) 2012-09-24 2015-04-21 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing an organic light-emitting display apparatus using at least two deposition units
KR101416589B1 (ko) * 2012-10-17 2014-07-08 주식회사 선익시스템 공정 중 도가니의 교체가 가능한 하향식 증발원 및 이를 구비하는 박막 증착장치
US11335892B2 (en) 2013-05-16 2022-05-17 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
US11778890B2 (en) 2013-05-16 2023-10-03 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
CN104178732B (zh) * 2013-05-21 2018-01-30 三星显示有限公司 沉积源和有机层沉积设备
CN104178732A (zh) * 2013-05-21 2014-12-03 三星显示有限公司 沉积源和有机层沉积设备
US9673410B2 (en) 2013-05-22 2017-06-06 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus, method thereof and method for forming quantum-dot layer using the same
US9293645B2 (en) 2013-05-22 2016-03-22 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus, method thereof and method for forming quantum-dot layer using the same
KR20170111780A (ko) * 2016-03-29 2017-10-12 주식회사 선익시스템 다수 종류의 증착물질의 혼합비율을 보완하여 줄 수 있는 복합증발장치
KR101866956B1 (ko) * 2016-12-30 2018-06-14 주식회사 선익시스템 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원
KR20190009530A (ko) * 2017-07-19 2019-01-29 엘지전자 주식회사 증착 장치
KR20190080044A (ko) * 2017-12-28 2019-07-08 주식회사 선익시스템 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원
KR20190129368A (ko) * 2018-05-10 2019-11-20 임우빈 증착 공정용 멀티 노즐 증착기
US10854815B2 (en) 2018-07-30 2020-12-01 Samsung Display Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing display apparatus
KR20200079814A (ko) * 2018-12-26 2020-07-06 주식회사 에스에프에이 고온 증착 소스
CN110195210A (zh) * 2019-07-03 2019-09-03 京东方科技集团股份有限公司 坩埚、蒸发源及蒸镀设备
CN110195210B (zh) * 2019-07-03 2022-02-22 京东方科技集团股份有限公司 坩埚、蒸发源及蒸镀设备
KR20220092079A (ko) * 2020-12-24 2022-07-01 주식회사 에스에프에이 증착원 및 증착 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US9748483B2 (en) 2017-08-29
CN102586738A (zh) 2012-07-18
EP2476774B1 (en) 2013-05-29
CN102586738B (zh) 2016-08-10
KR101760897B1 (ko) 2017-07-25
US20120174865A1 (en) 2012-07-12
JP5993577B2 (ja) 2016-09-14
TWI557963B (zh) 2016-11-11
TW201244221A (en) 2012-11-01
EP2476774A1 (en) 2012-07-18
US20160079534A1 (en) 2016-03-17
JP2012146658A (ja) 2012-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101760897B1 (ko) 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치
KR101084184B1 (ko) 박막 증착 장치
KR101097311B1 (ko) 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치
US9206501B2 (en) Method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using an organic layer deposition apparatus having stacked deposition sources
JP6049774B2 (ja) 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法
KR101174875B1 (ko) 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
JP5985796B2 (ja) 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法
KR101193186B1 (ko) 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
US9224591B2 (en) Method of depositing a thin film
WO2012124512A1 (ja) 蒸着装置、蒸着方法、及び有機el表示装置
KR20120029895A (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
JP2011047035A (ja) 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法
KR20110014442A (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR20110021623A (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101097334B1 (ko) 박막 증착 장치
KR101889919B1 (ko) 유기층증착장치
KR101234231B1 (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101193189B1 (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant