JP2003003250A - 真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法 - Google Patents
真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法Info
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- JP2003003250A JP2003003250A JP2001188990A JP2001188990A JP2003003250A JP 2003003250 A JP2003003250 A JP 2003003250A JP 2001188990 A JP2001188990 A JP 2001188990A JP 2001188990 A JP2001188990 A JP 2001188990A JP 2003003250 A JP2003003250 A JP 2003003250A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、チャンバー内に舞い上がる粉塵
が、被着物の一方の面に付着するのを防いで、被着物の
一方の面に高品質の有機被膜を形成することができる真
空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を
提供すること。 【解決手段】 本発明の真空蒸着重合装置は、内部の空
気を外部に排出して真空状にすることができるチャンバ
ーＢと、モノマーをガス化させることが可能なガス発生
器１４ａ、１４ｂと、このガス発生器１４ａ、１４ｂで
ガス化されたモノマーガスをチャンバーＢ内に導くガス
導入管１５ａ、１５ｂと、チャンバーＢ内でモノマーガ
スを拡散させて有機皮膜を蒸着形成する被着物である基
板１１とを備え、チャンバーＢ内で、基板１１を所定の
傾斜角度Ｃで傾斜させて、基板１１の一方の面１１ａを
下向きにした状態で、基板１１に有機被膜を蒸着形成す
るようにした。
が、被着物の一方の面に付着するのを防いで、被着物の
一方の面に高品質の有機被膜を形成することができる真
空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を
提供すること。 【解決手段】 本発明の真空蒸着重合装置は、内部の空
気を外部に排出して真空状にすることができるチャンバ
ーＢと、モノマーをガス化させることが可能なガス発生
器１４ａ、１４ｂと、このガス発生器１４ａ、１４ｂで
ガス化されたモノマーガスをチャンバーＢ内に導くガス
導入管１５ａ、１５ｂと、チャンバーＢ内でモノマーガ
スを拡散させて有機皮膜を蒸着形成する被着物である基
板１１とを備え、チャンバーＢ内で、基板１１を所定の
傾斜角度Ｃで傾斜させて、基板１１の一方の面１１ａを
下向きにした状態で、基板１１に有機被膜を蒸着形成す
るようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被着物に有機被膜
を蒸着形成する真空蒸着重合装置及びそれを用いた有機
被膜の形成方法に関する。
を蒸着形成する真空蒸着重合装置及びそれを用いた有機
被膜の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の真空蒸着重合装置は、図５に示す
ように、チャンバーＡ内に、金属、あるいはセラミック
ス等からなる複数の基板１を、ホルダー治具２に略垂直
状に立てて整列させた状態で装着可能になっている。ま
た、ホルダー治具２の下部には、ホルダー治具２の外形
面積よりも大きい面積で、方形に形成されたガス整流板
３が略水平状に配設されている。そして、ホルダー治具
２は、ガス整流板３の上面に着脱可能になっている。
ように、チャンバーＡ内に、金属、あるいはセラミック
ス等からなる複数の基板１を、ホルダー治具２に略垂直
状に立てて整列させた状態で装着可能になっている。ま
た、ホルダー治具２の下部には、ホルダー治具２の外形
面積よりも大きい面積で、方形に形成されたガス整流板
３が略水平状に配設されている。そして、ホルダー治具
２は、ガス整流板３の上面に着脱可能になっている。
【０００３】また、ガス整流板３の下方には、モノマー
ガスをチャンバーＡ内に導入するための、ガス導入管４
ａ、４ｂが配設されている。前記ガス導入管４ａ、４ｂ
には、外部に配置した、モノマーをガス化させるための
ガス発生器５ａ、５ｂ及びバルブ６ａ、６ｂが繋がって
従来の真空蒸着重合装置が構成されている。このような
従来の真空蒸着重合装置は、ガス発生器５ａ、５ｂでガ
ス化したモノマーガスをチャンバーＡ内に導いて拡散さ
せることにより重合反応して、有機被膜であるポリイミ
ド膜を、基板１１の一方と他方の面１ａ、１ｂに所定の
厚さで形成することができるようになっている。
ガスをチャンバーＡ内に導入するための、ガス導入管４
ａ、４ｂが配設されている。前記ガス導入管４ａ、４ｂ
には、外部に配置した、モノマーをガス化させるための
ガス発生器５ａ、５ｂ及びバルブ６ａ、６ｂが繋がって
従来の真空蒸着重合装置が構成されている。このような
従来の真空蒸着重合装置は、ガス発生器５ａ、５ｂでガ
ス化したモノマーガスをチャンバーＡ内に導いて拡散さ
せることにより重合反応して、有機被膜であるポリイミ
ド膜を、基板１１の一方と他方の面１ａ、１ｂに所定の
厚さで形成することができるようになっている。
【０００４】前述のような従来の真空蒸着重合装置を用
いて、有機被膜であるポリイミド膜を真空蒸着重合法で
基板１に形成する従来の有機被膜形成方法は、まず、チ
ャンバーＡ内のガス整流板３上に、複数の基板１を略垂
直状に整列させて装着したホルダー治具２を取り付け
る。次に、チャンバーＡを真空排気しながら、略２００
℃に加熱して、基板１を略２００℃の温度に保持する。
これと平行して、ガス発生器５ａ、５ｂも、所定温度に
加熱が行われてモノマーがガス化される。前記それぞれ
のガス発生器５ａ、５ｂでガス化されるモノマーガスは
＜ＯＤＡ＞と＜ＰＭＤＡ＞の２種類あり、この２種類の
モノマーガスがバルブ６ａ、６ｂを開くことにより、チ
ャンバーＡ内に連続的に流入して供給される。
いて、有機被膜であるポリイミド膜を真空蒸着重合法で
基板１に形成する従来の有機被膜形成方法は、まず、チ
ャンバーＡ内のガス整流板３上に、複数の基板１を略垂
直状に整列させて装着したホルダー治具２を取り付け
る。次に、チャンバーＡを真空排気しながら、略２００
℃に加熱して、基板１を略２００℃の温度に保持する。
これと平行して、ガス発生器５ａ、５ｂも、所定温度に
加熱が行われてモノマーがガス化される。前記それぞれ
のガス発生器５ａ、５ｂでガス化されるモノマーガスは
＜ＯＤＡ＞と＜ＰＭＤＡ＞の２種類あり、この２種類の
モノマーガスがバルブ６ａ、６ｂを開くことにより、チ
ャンバーＡ内に連続的に流入して供給される。
【０００５】前記２種類のモノマーガスは、ガス導入管
４ａ、４ｂの開口部（図示せず）から、チャンバーＡの
下部領域に吹き出されて、ガス整流板３の上方に拡散
し、チャンバーＡの内壁から、基板１やホルダー治具
２、及びガス整流板３やガス導入管４ａ、４ｂ等の全て
の表面において、重合反応して有機被膜であるポリイミ
ド膜となる。このポリイミド膜は、下地の形状に忠実に
堆積成長して、所定の厚さに形成することができる。
４ａ、４ｂの開口部（図示せず）から、チャンバーＡの
下部領域に吹き出されて、ガス整流板３の上方に拡散
し、チャンバーＡの内壁から、基板１やホルダー治具
２、及びガス整流板３やガス導入管４ａ、４ｂ等の全て
の表面において、重合反応して有機被膜であるポリイミ
ド膜となる。このポリイミド膜は、下地の形状に忠実に
堆積成長して、所定の厚さに形成することができる。
【０００６】前記モノマーガスは、常温では粉末の個体
になることにより、チャンバーＡ内の低温部には、モノ
マーガスが冷やされて粉末状の個体となった粉塵を析出
することができる。また、モノマーガスの略５０％は、
未反応のまま外部に排気され、排気管（図示せず）内に
設けた冷却トップ（図示せず）に、前記粉塵が多量に析
出付着して回収される。
になることにより、チャンバーＡ内の低温部には、モノ
マーガスが冷やされて粉末状の個体となった粉塵を析出
することができる。また、モノマーガスの略５０％は、
未反応のまま外部に排気され、排気管（図示せず）内に
設けた冷却トップ（図示せず）に、前記粉塵が多量に析
出付着して回収される。
【０００７】即ち、本質的にチャンバーＡ内は、モノマ
ーの粉塵汚染が定常的に発生しており、チャンバーＡの
真空排気工程、及びモノマーガスをチャンバーＡ内に導
入時に発生する乱気流によって、モノマーガスが粉末状
に固体となった粉塵がチャンバーＡ内に舞い上がってい
た。
ーの粉塵汚染が定常的に発生しており、チャンバーＡの
真空排気工程、及びモノマーガスをチャンバーＡ内に導
入時に発生する乱気流によって、モノマーガスが粉末状
に固体となった粉塵がチャンバーＡ内に舞い上がってい
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、チャンバーＡ
内に舞い上がった粉塵は、粒子の大きさがミクロンサイ
ズと微細なために、チャンバーＡ内を掃除機等により、
丁寧にクリーニングしても容易に除去することができ
ず、チャンバーＡ内に舞い上がった粉塵は、下方に垂直
状に落下する。この垂直状に落下する粉塵は、ホルダー
治具２に略垂直状に装着した複数の基板１の隙間Ｆの内
部にも落下して、基板１の一方と他方の表面１ａ、１ｂ
に付着していた。この基板１の表面１ａ、１ｂに付着し
た微細な粉塵は、ポリイミド膜の蒸着膜の厚さに比例し
て成長増大して、異物突起として観察できるまでに成長
する性質がある。
内に舞い上がった粉塵は、粒子の大きさがミクロンサイ
ズと微細なために、チャンバーＡ内を掃除機等により、
丁寧にクリーニングしても容易に除去することができ
ず、チャンバーＡ内に舞い上がった粉塵は、下方に垂直
状に落下する。この垂直状に落下する粉塵は、ホルダー
治具２に略垂直状に装着した複数の基板１の隙間Ｆの内
部にも落下して、基板１の一方と他方の表面１ａ、１ｂ
に付着していた。この基板１の表面１ａ、１ｂに付着し
た微細な粉塵は、ポリイミド膜の蒸着膜の厚さに比例し
て成長増大して、異物突起として観察できるまでに成長
する性質がある。
【０００９】そのために、従来の真空蒸着重合装置で有
機被膜を形成した基板１を、例えばサーマルヘッド（図
示せず）に用いた場合、サーマルヘッドの微細な発熱抵
抗体や、給電体等を形成する、一方に表面１ａ側に異物
突起が発生すると、発熱抵抗体の抵抗値不良や給電体の
断線や短絡等が発生して、サーマルヘッドの製造歩留ま
り、あるいは製造品質等を低下させるおそれがあった。
また、基板１を用いたサーマルヘッドに異物突起がある
と、サーマルプリンタによる印刷品質に敏感に反応し、
印画面の濃淡ムラ、あるいは傷不良等が発生するおそれ
があった。本発明は前述したような問題点に鑑みてなさ
れたもので、チャンバー内に舞い上がる粉塵が、被着物
の一方の面に付着するのを防いで、被着物の一方の面に
高品質の有機被膜を形成することができる真空蒸着重合
装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を提供するこ
とを目的とする。
機被膜を形成した基板１を、例えばサーマルヘッド（図
示せず）に用いた場合、サーマルヘッドの微細な発熱抵
抗体や、給電体等を形成する、一方に表面１ａ側に異物
突起が発生すると、発熱抵抗体の抵抗値不良や給電体の
断線や短絡等が発生して、サーマルヘッドの製造歩留ま
り、あるいは製造品質等を低下させるおそれがあった。
また、基板１を用いたサーマルヘッドに異物突起がある
と、サーマルプリンタによる印刷品質に敏感に反応し、
印画面の濃淡ムラ、あるいは傷不良等が発生するおそれ
があった。本発明は前述したような問題点に鑑みてなさ
れたもので、チャンバー内に舞い上がる粉塵が、被着物
の一方の面に付着するのを防いで、被着物の一方の面に
高品質の有機被膜を形成することができる真空蒸着重合
装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を提供するこ
とを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の第１の解決手段として本発明の真空蒸着重合装置は、
内部の空気を外部に排出して真空状にすることができる
チャンバーと、モノマーをガス化させることが可能なガ
ス発生器と、このガス発生器でガス化されたモノマーガ
スを前記チャンバー内に導くガス導入管と、前記チャン
バー内で前記モノマーガスを拡散させて有機皮膜を蒸着
形成する被着物とを備え、前記チャンバー内で、前記被
着物を所定の傾斜角度で傾斜させ、前記被着物の一方の
面を下向きにした状態で、前記被着物に前記有機被膜を
蒸着形成することを特徴とする真空蒸着重合装置。
の第１の解決手段として本発明の真空蒸着重合装置は、
内部の空気を外部に排出して真空状にすることができる
チャンバーと、モノマーをガス化させることが可能なガ
ス発生器と、このガス発生器でガス化されたモノマーガ
スを前記チャンバー内に導くガス導入管と、前記チャン
バー内で前記モノマーガスを拡散させて有機皮膜を蒸着
形成する被着物とを備え、前記チャンバー内で、前記被
着物を所定の傾斜角度で傾斜させ、前記被着物の一方の
面を下向きにした状態で、前記被着物に前記有機被膜を
蒸着形成することを特徴とする真空蒸着重合装置。
【００１１】また、前記課題を解決するための第２の解
決手段として、前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には前記被着物を装着可能
なホルダー治具を配設し、前記被着物は、前記ホルダー
治具の装着面に前記傾斜角度で傾斜整列させて装着した
構成とした。
決手段として、前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には前記被着物を装着可能
なホルダー治具を配設し、前記被着物は、前記ホルダー
治具の装着面に前記傾斜角度で傾斜整列させて装着した
構成とした。
【００１２】また、前記課題を解決するための第３の解
決手段として、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜６０度の角度で傾斜させた構成とした。
決手段として、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜６０度の角度で傾斜させた構成とした。
【００１３】また、前記課題を解決するための第４の解
決手段として、前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には、前記被着物を装着面
に対して略垂直状に整列させて装着可能なホルダー治具
を有し、このホルダー治具、又は前記ガス整流板を所定
の角度で傾斜させることにより、前記被着物が前記傾斜
角度で傾斜して前記一方の面が下向きになる構成とし
た。
決手段として、前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には、前記被着物を装着面
に対して略垂直状に整列させて装着可能なホルダー治具
を有し、このホルダー治具、又は前記ガス整流板を所定
の角度で傾斜させることにより、前記被着物が前記傾斜
角度で傾斜して前記一方の面が下向きになる構成とし
た。
【００１４】また、前記課題を解決するための第５の解
決手段として、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜３０度の角度で傾斜させた構成とした。
決手段として、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜３０度の角度で傾斜させた構成とした。
【００１５】また、前記課題を解決するための第６の解
決手段として、内部の空気を外部に排出して真空状にす
ることができるチャンバーと、モノマーをガス化させる
ことが可能なガス発生器と、このガス発生器から発生す
るモノマーガスを前記チャンバー内に導くガス導入管
と、前記チャンバー内で前記モノマーガスを拡散させて
有機膜を蒸着形成する被着物とを備え、前記チャンバー
内に配設したガス整流板上に前記被着物を載置し、前記
被着物の上方に防塵板を配設した状態で、前記被着物に
前記有機被膜を蒸着形成するような構成とした。
決手段として、内部の空気を外部に排出して真空状にす
ることができるチャンバーと、モノマーをガス化させる
ことが可能なガス発生器と、このガス発生器から発生す
るモノマーガスを前記チャンバー内に導くガス導入管
と、前記チャンバー内で前記モノマーガスを拡散させて
有機膜を蒸着形成する被着物とを備え、前記チャンバー
内に配設したガス整流板上に前記被着物を載置し、前記
被着物の上方に防塵板を配設した状態で、前記被着物に
前記有機被膜を蒸着形成するような構成とした。
【００１６】また、前記課題を解決するための第７の解
決手段として本発明の有機被膜の形成方法は、請求項１
乃至請求項６記載のいずれか１項の真空蒸着装置を用い
て、前記被着物に前記有機被膜を蒸着形成するような方
法とした。
決手段として本発明の有機被膜の形成方法は、請求項１
乃至請求項６記載のいずれか１項の真空蒸着装置を用い
て、前記被着物に前記有機被膜を蒸着形成するような方
法とした。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の真空蒸着重合装
置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を図面に基づい
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る真空蒸着重合装置の模式図であり、図２は本発明の第
２の実施の形態を説明する真空蒸着重合装置の模式図で
あり、図３は本発明の第２の実施の形態の変形例を示す
模式図であり、図４は本発明の第３の実施の形態を説明
する真空蒸着重合装置の模式図である。
置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を図面に基づい
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る真空蒸着重合装置の模式図であり、図２は本発明の第
２の実施の形態を説明する真空蒸着重合装置の模式図で
あり、図３は本発明の第２の実施の形態の変形例を示す
模式図であり、図４は本発明の第３の実施の形態を説明
する真空蒸着重合装置の模式図である。
【００１８】まず、本発明の第１の実施の形態の真空蒸
着重合装置は、図１に示すように、内部の空気を外部に
排出して真空状にすることができるチャンバーＢ内に、
例えば、サーマルヘッド（図示せず）に用いられる、金
属、又はセラミックス等からなる被着物である複数の基
板１１を、整列傾斜させて装着可能なホルダー治具１２
が配設されている。前記ホルダー治具１２は、装着面１
２ａに基板１１の厚さより幅広の形成した複数の装着溝
１２ｂを有し、この幅広の装着溝１２ｂに、基板１１を
同方向に傾斜させて装着可能になっている。そして、装
着溝１２ｂに傾斜させて装着した基板１１は、垂直線Ｙ
に対して所定の傾斜角度Ｃで傾斜するようになってい
る。前記基板１１は、傾斜角度Ｃで傾斜させてホルダー
治具に装着することにより、一方の面１１ａが下向き、
他方の面１１ｂが上向きになるようになっている。ま
た、ホルダー治具１２は、チャンバーＢ内に導入される
モノマーガスの流れを整えるためのガス整流板１３上に
着脱可能に載置されている。そして、ガス整流板１３
は、水平線Ｘに対して略平行（水平状）に配置されてい
る。
着重合装置は、図１に示すように、内部の空気を外部に
排出して真空状にすることができるチャンバーＢ内に、
例えば、サーマルヘッド（図示せず）に用いられる、金
属、又はセラミックス等からなる被着物である複数の基
板１１を、整列傾斜させて装着可能なホルダー治具１２
が配設されている。前記ホルダー治具１２は、装着面１
２ａに基板１１の厚さより幅広の形成した複数の装着溝
１２ｂを有し、この幅広の装着溝１２ｂに、基板１１を
同方向に傾斜させて装着可能になっている。そして、装
着溝１２ｂに傾斜させて装着した基板１１は、垂直線Ｙ
に対して所定の傾斜角度Ｃで傾斜するようになってい
る。前記基板１１は、傾斜角度Ｃで傾斜させてホルダー
治具に装着することにより、一方の面１１ａが下向き、
他方の面１１ｂが上向きになるようになっている。ま
た、ホルダー治具１２は、チャンバーＢ内に導入される
モノマーガスの流れを整えるためのガス整流板１３上に
着脱可能に載置されている。そして、ガス整流板１３
は、水平線Ｘに対して略平行（水平状）に配置されてい
る。
【００１９】また、モノマーをガス化させることが可能
なガス発生器１４ａ、１４ｂが、チャンバーＢの外部に
配設されている。そして、ガス発生器１４ａ、１４ｂで
ガスかされたモノマーガスをチャンバーＢ内に導入する
ための、ガス導入管１５ａ、１５ｂが、ガス整流板１２
の下方に配設されている。前記ガス導入管１５ａ、１５
ｂには、外部のガス発生器１４ａ、１４ｂ及びバルブ１
６ａ、１６ｂが繋がっている。
なガス発生器１４ａ、１４ｂが、チャンバーＢの外部に
配設されている。そして、ガス発生器１４ａ、１４ｂで
ガスかされたモノマーガスをチャンバーＢ内に導入する
ための、ガス導入管１５ａ、１５ｂが、ガス整流板１２
の下方に配設されている。前記ガス導入管１５ａ、１５
ｂには、外部のガス発生器１４ａ、１４ｂ及びバルブ１
６ａ、１６ｂが繋がっている。
【００２０】また、ガス導入管１５ａ、１５ｂに設けた
複数の開口部（図示せず）からは、ガス発生器１４ａ、
１４ｂから導入されたモノマーガスが、チャンバーＢ内
に吹き出すようになっている。また、チャンバーＢの一
方側には、外部の真空ポンプ（図示せず）に繋がる排気
口（図示せず）が設けられており、この排気口には、未
反応のモノマーガスを冷却して粉末状に固体化するため
の冷却トラップ（図示せず）が配設されている。
複数の開口部（図示せず）からは、ガス発生器１４ａ、
１４ｂから導入されたモノマーガスが、チャンバーＢ内
に吹き出すようになっている。また、チャンバーＢの一
方側には、外部の真空ポンプ（図示せず）に繋がる排気
口（図示せず）が設けられており、この排気口には、未
反応のモノマーガスを冷却して粉末状に固体化するため
の冷却トラップ（図示せず）が配設されている。
【００２１】また、チャンバーＢの外周面には、チャン
バーＢ内を加熱するためのヒーター（図示せず）が全面
に配置されて、モノマーガスが温度低下して粉末状に固
体化するのを防止している。そして、基板１１を、例え
ばサーマルヘッドに用いる場合には、ホルダー治具１２
の装着溝１２ｂに装着して、下向きの一方の面１１ａ側
に、発熱抵抗体等が形成されるようになっている。
バーＢ内を加熱するためのヒーター（図示せず）が全面
に配置されて、モノマーガスが温度低下して粉末状に固
体化するのを防止している。そして、基板１１を、例え
ばサーマルヘッドに用いる場合には、ホルダー治具１２
の装着溝１２ｂに装着して、下向きの一方の面１１ａ側
に、発熱抵抗体等が形成されるようになっている。
【００２２】また、基板１１の傾斜角度Ｃは、図１に示
すように、１０〜６０度の範囲が良い。なぜならば、傾
斜角度Ｃを１０度以下にすると、基板１１の上方から落
下する、モノマーガスが固体化した微細な粉塵が、基板
１１の一方の面１１ａ側に付着する確率が高まり、従来
例で説明した異物突起が増大するおそれがある。また、
傾斜角度Ｃが６０度以上になると、一方の面１１ａ側に
付着する粉塵は皆無とすることができるが、複数枚の基
板１１を一括処理する場合、それぞれの基板１１の整列
間隔が狭くなり、一方の面１１ａに形成する有機被膜で
あるポリイミド膜の厚さが不均一になるおそれがある。
すように、１０〜６０度の範囲が良い。なぜならば、傾
斜角度Ｃを１０度以下にすると、基板１１の上方から落
下する、モノマーガスが固体化した微細な粉塵が、基板
１１の一方の面１１ａ側に付着する確率が高まり、従来
例で説明した異物突起が増大するおそれがある。また、
傾斜角度Ｃが６０度以上になると、一方の面１１ａ側に
付着する粉塵は皆無とすることができるが、複数枚の基
板１１を一括処理する場合、それぞれの基板１１の整列
間隔が狭くなり、一方の面１１ａに形成する有機被膜で
あるポリイミド膜の厚さが不均一になるおそれがある。
【００２３】その対策として、ホルダー治具１２に傾斜
整列させる基板１１の整列間隔を広げることにより、ポ
リイミド膜の厚さを均一にすることができるが、このよ
うに基板１１の整列間隔を広げると、ホルダー治具１２
に装着できる基板１１の枚数が少なくなる。そのため
に、基板１１の１回当たりの処理枚数（バッチ処理枚
数）が少なくなり、有機膜形成の生産性が低下して、コ
ストアップになる。即ちに、基板１１の傾斜角度Ｃは、
１０〜６０度の角度が良いが、好ましくは２０〜４０度
の角度であれば更に良い。
整列させる基板１１の整列間隔を広げることにより、ポ
リイミド膜の厚さを均一にすることができるが、このよ
うに基板１１の整列間隔を広げると、ホルダー治具１２
に装着できる基板１１の枚数が少なくなる。そのため
に、基板１１の１回当たりの処理枚数（バッチ処理枚
数）が少なくなり、有機膜形成の生産性が低下して、コ
ストアップになる。即ちに、基板１１の傾斜角度Ｃは、
１０〜６０度の角度が良いが、好ましくは２０〜４０度
の角度であれば更に良い。
【００２４】このような第１の実施の形態における、有
機被膜の形成方法を説明すると、複数の基板１１を、垂
直線Ｙに対して傾斜角度Ｃで傾斜整列させて装着したホ
ルダー治具１２を、水平線Ｘと略平行（水平状）にチャ
ンバーＢ内に配置したガス整流板１３上に載置して取り
付ける。そして、チャンバーＢの扉（図示せず）を閉じ
て内部を密閉し、チャンバーＢを加熱、及び真空排気と
を行い、基板１１の温度を略２００℃に加熱保持した状
態で真空度を１０-2Ｐａ以下とする。
機被膜の形成方法を説明すると、複数の基板１１を、垂
直線Ｙに対して傾斜角度Ｃで傾斜整列させて装着したホ
ルダー治具１２を、水平線Ｘと略平行（水平状）にチャ
ンバーＢ内に配置したガス整流板１３上に載置して取り
付ける。そして、チャンバーＢの扉（図示せず）を閉じ
て内部を密閉し、チャンバーＢを加熱、及び真空排気と
を行い、基板１１の温度を略２００℃に加熱保持した状
態で真空度を１０-2Ｐａ以下とする。
【００２５】一方、モノマーをガス化させるためのガス
発生器１４ａ、１４ｂを、所定の温度に加熱保持した状
態で、バルブ１６ａ、１６ｂを開口すると、２種類のポ
リイミド形成のモノマーガス＜ＯＤＡ＞、＜ＰＭＤＡ＞
が、ガス導入管１５ａ、１５ｂを介して、ガス整流板１
３の下方から、チャンバーＢの上方の内壁に向けて吹き
出し、チャンバーＢの上方に２種類のモノマーガスが拡
散する。すると、穏やかに基板１１上に、２種類のモノ
マーガスが重合反応して、一方と他方の表面１１ａ、１
１ｂに、ポリイミド膜を堆積形成することができる。
発生器１４ａ、１４ｂを、所定の温度に加熱保持した状
態で、バルブ１６ａ、１６ｂを開口すると、２種類のポ
リイミド形成のモノマーガス＜ＯＤＡ＞、＜ＰＭＤＡ＞
が、ガス導入管１５ａ、１５ｂを介して、ガス整流板１
３の下方から、チャンバーＢの上方の内壁に向けて吹き
出し、チャンバーＢの上方に２種類のモノマーガスが拡
散する。すると、穏やかに基板１１上に、２種類のモノ
マーガスが重合反応して、一方と他方の表面１１ａ、１
１ｂに、ポリイミド膜を堆積形成することができる。
【００２６】この２種類のモノマーガスが重合反応して
堆積形成されたポリイミド膜は、そして、下向きなった
一方の表面１１ａには、上方から落下する粉塵が付着し
ないことが、繰り返しの成膜実験により確認された。そ
のために、一方の面１１ａに、異物欠陥等のない高品位
のポリイミド膜を堆積形成することができる。また、上
向きになった他方の面１１ｂには、粉塵が付着するが、
基板１１をサーマルヘッドに用いる場合は、一方の面１
１ａ側に発熱抵抗体等を形成するので、サーマルヘッド
における品質上の問題はない。
堆積形成されたポリイミド膜は、そして、下向きなった
一方の表面１１ａには、上方から落下する粉塵が付着し
ないことが、繰り返しの成膜実験により確認された。そ
のために、一方の面１１ａに、異物欠陥等のない高品位
のポリイミド膜を堆積形成することができる。また、上
向きになった他方の面１１ｂには、粉塵が付着するが、
基板１１をサーマルヘッドに用いる場合は、一方の面１
１ａ側に発熱抵抗体等を形成するので、サーマルヘッド
における品質上の問題はない。
【００２７】また、本発明の真空蒸着重合装置の第２の
実施の形態は、図２に示すように、チャンバーＢ内に
は、水平線Ｘに対して１０〜３０度の傾斜角度Ｄで傾斜
させたガス整流板１３を配置する。また、ホルダー治具
２２には、装着面２２ａに対して基板１１を略垂直状に
直立させて装着している。そして、傾斜角度Ｄで傾斜さ
せたガス整流板１３上に、ホルダー治具２２を載置する
ことにより、基板１１は、垂直線Ｙに対して傾斜角度Ｄ
の角度で傾斜すると共に、一方の面１１ａが下向きにな
る。
実施の形態は、図２に示すように、チャンバーＢ内に
は、水平線Ｘに対して１０〜３０度の傾斜角度Ｄで傾斜
させたガス整流板１３を配置する。また、ホルダー治具
２２には、装着面２２ａに対して基板１１を略垂直状に
直立させて装着している。そして、傾斜角度Ｄで傾斜さ
せたガス整流板１３上に、ホルダー治具２２を載置する
ことにより、基板１１は、垂直線Ｙに対して傾斜角度Ｄ
の角度で傾斜すると共に、一方の面１１ａが下向きにな
る。
【００２８】そのために、チャンバーＢ内に舞い上がっ
た微細な粉塵が基板１１の一方の面１１ａに付着するの
を防ぐことができ、一方の面１１ａに高品位のポリイミ
ド膜を堆積形成することができる。本発明の第２の実施
の形態では、ガス整流板１３の傾斜角度Ｄを１０〜３０
度の範囲に傾斜させたもので説明したが、第２の実施の
形態の変形例として、図３に示すように、ガス整流板１
３は、水平線Ｘと平行な水平状に配設する。
た微細な粉塵が基板１１の一方の面１１ａに付着するの
を防ぐことができ、一方の面１１ａに高品位のポリイミ
ド膜を堆積形成することができる。本発明の第２の実施
の形態では、ガス整流板１３の傾斜角度Ｄを１０〜３０
度の範囲に傾斜させたもので説明したが、第２の実施の
形態の変形例として、図３に示すように、ガス整流板１
３は、水平線Ｘと平行な水平状に配設する。
【００２９】そして、この水平状のガス整流板１３の上
に、装着面３２ａを水平線Ｘに対して傾斜角度Ｄで傾斜
させたホルダー治具３２を載置する。このホルダー治具
３２には、被着物である基板１１が、装着面３２ａに対
して略垂直状に整列して装着している。そのために、水
平状のガス整流板１３上にホルダー治具３２を載置する
と、複数の基板１１は、垂直線Ｙに対して傾斜角度Ｄで
傾斜するようになっている。即ち、本発明の第２の実施
の形態は、ホルダー治具１２、又はガス整流板１３を所
定の角度で傾斜させることにより、被着物である基板１
１を所定の傾斜角度Ｄで傾斜させて一方の面１１ａを下
向きにすることができるようになっている。
に、装着面３２ａを水平線Ｘに対して傾斜角度Ｄで傾斜
させたホルダー治具３２を載置する。このホルダー治具
３２には、被着物である基板１１が、装着面３２ａに対
して略垂直状に整列して装着している。そのために、水
平状のガス整流板１３上にホルダー治具３２を載置する
と、複数の基板１１は、垂直線Ｙに対して傾斜角度Ｄで
傾斜するようになっている。即ち、本発明の第２の実施
の形態は、ホルダー治具１２、又はガス整流板１３を所
定の角度で傾斜させることにより、被着物である基板１
１を所定の傾斜角度Ｄで傾斜させて一方の面１１ａを下
向きにすることができるようになっている。
【００３０】また、本発明の第３の実施の形態の真空蒸
着重合装置は、図４に示すように、ガス整流板１３の上
に、被着物である基板１１を垂直状に装着したホルダー
治具１２を載置する。そして、基板１１の上方に屋根型
をした防塵板１７を配設した状態て、ガス発生器１４
ａ、１４ｂでモノマーをガス化させたモノマーガスを、
チャンバーＢ内に導いて、基板１１にポリイミド膜から
なる有機被膜を蒸着形成する。
着重合装置は、図４に示すように、ガス整流板１３の上
に、被着物である基板１１を垂直状に装着したホルダー
治具１２を載置する。そして、基板１１の上方に屋根型
をした防塵板１７を配設した状態て、ガス発生器１４
ａ、１４ｂでモノマーをガス化させたモノマーガスを、
チャンバーＢ内に導いて、基板１１にポリイミド膜から
なる有機被膜を蒸着形成する。
【００３１】このような第３の実施の形態は、基板１１
上に防塵板１７を配設することにより、基板１１の上方
から落下してくる、モノマーガスが固体化した粉末状の
粉塵を、防塵板１７で受け止めることができる。そのた
めに、本発明の第３の実施の形態基板は、防塵板１７
で、基板１１の一方と他方の面１１ａ、１１ｂに粉塵が
付着するのを防ぐことができる。
上に防塵板１７を配設することにより、基板１１の上方
から落下してくる、モノマーガスが固体化した粉末状の
粉塵を、防塵板１７で受け止めることができる。そのた
めに、本発明の第３の実施の形態基板は、防塵板１７
で、基板１１の一方と他方の面１１ａ、１１ｂに粉塵が
付着するのを防ぐことができる。
【００３２】このような第１〜第３の実施の形態の本発
明の真空蒸着重合装置を用いて形成した有機被膜は、基
板１１の凹凸に対して膜厚のバラツキを抑えて、高精度
な有機被膜を形成することができる。また、本発明の有
機被膜形成方法によれば、形成された有機膜中に溶媒を
含まないので、脱ガスやピンホールの少ない有機膜を形
成でき、安価で高精度な有機被膜を形成することができ
る。そのために、真空プロセスを多用する、例えば薄膜
型サーマルヘッド（図示せず）の有機保温層を形成する
のに最適である。また、本発明の実施の形態の説明で
は、基板１１をサーマルヘッドに用いたもので説明した
が、その他の有機被膜の形成用途においても、本発明の
真空蒸着装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を適
用しても良い。
明の真空蒸着重合装置を用いて形成した有機被膜は、基
板１１の凹凸に対して膜厚のバラツキを抑えて、高精度
な有機被膜を形成することができる。また、本発明の有
機被膜形成方法によれば、形成された有機膜中に溶媒を
含まないので、脱ガスやピンホールの少ない有機膜を形
成でき、安価で高精度な有機被膜を形成することができ
る。そのために、真空プロセスを多用する、例えば薄膜
型サーマルヘッド（図示せず）の有機保温層を形成する
のに最適である。また、本発明の実施の形態の説明で
は、基板１１をサーマルヘッドに用いたもので説明した
が、その他の有機被膜の形成用途においても、本発明の
真空蒸着装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法を適
用しても良い。
【００３３】
【発明の効果】本発明の真空蒸着重合装置は、チャンバ
ー内で、被着物を所定の傾斜角度で傾斜させ、被着物の
一方の面を下向きにした状態で、前記被着物に有機被膜
を蒸着形成するようにしたので、所定の角度で下向きに
傾斜させた被着物の一方の面に、固体化したモノマーガ
スの粉塵が付着するのを防ぐことができる。そのため
に、有機被膜を形成するときの製造歩留まり、あるいは
製造品質等が顕著に改善され、有機被膜を有するサーマ
ルヘッド等の高精細なデバイスの性能向上に寄与でき
る。
ー内で、被着物を所定の傾斜角度で傾斜させ、被着物の
一方の面を下向きにした状態で、前記被着物に有機被膜
を蒸着形成するようにしたので、所定の角度で下向きに
傾斜させた被着物の一方の面に、固体化したモノマーガ
スの粉塵が付着するのを防ぐことができる。そのため
に、有機被膜を形成するときの製造歩留まり、あるいは
製造品質等が顕著に改善され、有機被膜を有するサーマ
ルヘッド等の高精細なデバイスの性能向上に寄与でき
る。
【００３４】また、前記チャンバー内には、ガス発生器
から流入するモノマーガスの流れを整えるガス整流板を
有し、このガス整流板上には、被着物を所定の傾斜角度
で傾斜整列させて装着可能なホルダー治具を配設したの
で、ホルダー治具で、被着物を所定の傾斜角度で確実に
傾斜させて、一方の面を確実に下向きすることができ
る。そのために、被着物の一方の面に粉塵が付着するの
を防ぐことができる。
から流入するモノマーガスの流れを整えるガス整流板を
有し、このガス整流板上には、被着物を所定の傾斜角度
で傾斜整列させて装着可能なホルダー治具を配設したの
で、ホルダー治具で、被着物を所定の傾斜角度で確実に
傾斜させて、一方の面を確実に下向きすることができ
る。そのために、被着物の一方の面に粉塵が付着するの
を防ぐことができる。
【００３５】また、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直
状態から１０〜６０度の角度で傾斜させたので、被着物
の上方から落下する粉塵が、下向きの被着物の一方の面
に付着するのを確実に防ぐことができる。
状態から１０〜６０度の角度で傾斜させたので、被着物
の上方から落下する粉塵が、下向きの被着物の一方の面
に付着するのを確実に防ぐことができる。
【００３６】また、ガス整流板上には、前記被着物を装
着面に対して略垂直状に整列させて装着可能なホルダー
治具を有し、このホルダー治具、又は前記ガス整流板を
所定の角度で傾斜させることにより、前記被着物が前記
傾斜角度で傾斜して前記一方の面が下向きになるので、
被着物をホルダー治具の装着面に対して垂直状に装着し
ても、被着物を所定の傾斜角度で傾斜させることができ
る。そのために、ホルダー治具に一度に数多くの被着物
を装着できので、被着物の１回当たりの処理枚数（バッ
チ処理枚数）を多くすることができ、有機皮膜形成の生
産性を向上させて、コストダウンが可能になる。
着面に対して略垂直状に整列させて装着可能なホルダー
治具を有し、このホルダー治具、又は前記ガス整流板を
所定の角度で傾斜させることにより、前記被着物が前記
傾斜角度で傾斜して前記一方の面が下向きになるので、
被着物をホルダー治具の装着面に対して垂直状に装着し
ても、被着物を所定の傾斜角度で傾斜させることができ
る。そのために、ホルダー治具に一度に数多くの被着物
を装着できので、被着物の１回当たりの処理枚数（バッ
チ処理枚数）を多くすることができ、有機皮膜形成の生
産性を向上させて、コストダウンが可能になる。
【００３７】また、前記傾斜角度は、前記被着物を垂直
状態から１０〜３０度の角度で傾斜させたので、被着物
の上方から落下する粉塵が被着物の一方の面に付着する
のを確実に防ぐことができる。
状態から１０〜３０度の角度で傾斜させたので、被着物
の上方から落下する粉塵が被着物の一方の面に付着する
のを確実に防ぐことができる。
【００３８】また、チャンバー内に配設したガス整流板
上に被着物を載置し、被着物の上方に防塵板を配設した
状態で、被着物に有機被膜を蒸着形成するようにしたの
で、被着物の上方から落下する粉塵を、防塵板で受け止
めることができる。そのために、被着物の一方と他方の
両面に粉塵が付着するのを防ぐことができ、異物突起の
ない高性能な有機被膜を形成することができる。
上に被着物を載置し、被着物の上方に防塵板を配設した
状態で、被着物に有機被膜を蒸着形成するようにしたの
で、被着物の上方から落下する粉塵を、防塵板で受け止
めることができる。そのために、被着物の一方と他方の
両面に粉塵が付着するのを防ぐことができ、異物突起の
ない高性能な有機被膜を形成することができる。
【００３９】また、本発明の有機被膜の形成方法は、請
求項１乃至請求項６記載のいずれか１項の真空蒸着装置
を用いて、前記被着物に前記有機被膜を蒸着形成するよ
うにしたので、被着物に有機被膜を形成時に、モノマー
ガスが固体化した粉塵が、被着物の一方の面に付着する
のを防ぐことができ、一方の面に異物突起等のない高品
質の有機被膜を形成することができる。
求項１乃至請求項６記載のいずれか１項の真空蒸着装置
を用いて、前記被着物に前記有機被膜を蒸着形成するよ
うにしたので、被着物に有機被膜を形成時に、モノマー
ガスが固体化した粉塵が、被着物の一方の面に付着する
のを防ぐことができ、一方の面に異物突起等のない高品
質の有機被膜を形成することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明する真空蒸着
重合装置の模式図である。
重合装置の模式図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態を説明する真空蒸着
重合装置の模式図である。
重合装置の模式図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の変形例を示す模式
図である。
図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態を説明する真空蒸着
重合装置の模式図である。
重合装置の模式図である。
【図５】従来の真空蒸着重合装置の模式図である。
１１ 基板
１１ａ 一方の面
１１ｂ 他方の面
１２ ホルダー治具
１２ａ 装着面
１３ ガス整流板
１４ａ ガス発生器
１４ｂ ガス発生器
１５ａ ガス導入管
１５ｂ ガス導入管
１６ａ バルブ
１６ｂ バルブ
１７ 防塵板
Claims (7)
- 【請求項１】 内部の空気を外部に排出して真空状にす
ることができるチャンバーと、モノマーをガス化させる
ことが可能なガス発生器と、このガス発生器でガス化さ
れたモノマーガスを前記チャンバー内に導くガス導入管
と、前記チャンバー内で前記モノマーガスを拡散させて
有機皮膜を蒸着形成する被着物とを備え、前記チャンバ
ー内で、前記被着物を所定の傾斜角度で傾斜させ、前記
被着物の一方の面を下向きにした状態で、前記被着物に
前記有機被膜を蒸着形成することを特徴とする真空蒸着
重合装置。 - 【請求項２】 前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には前記被着物を装着可能
なホルダー治具を配設し、前記被着物は、前記ホルダー
治具の装着面に前記傾斜角度で傾斜整列させて装着した
ことを特徴とすることを特徴とする請求項１記載の真空
蒸着重合装置。 - 【請求項３】 前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜６０度の角度で傾斜させたことを特徴とする
請求項１、又は２記載の真空蒸着重合装置。 - 【請求項４】 前記チャンバー内には、前記ガス発生器
から流入する前記モノマーガスの流れを整えるガス整流
板を有し、このガス整流板上には、前記被着物を装着面
に対して略垂直状に整列させて装着可能なホルダー治具
を有し、このホルダー治具、又は前記ガス整流板を所定
の角度で傾斜させることにより、前記被着物が前記傾斜
角度で傾斜して前記一方の面が下向きになることを特徴
とする請求項１記載の真空蒸着重合装置。 - 【請求項５】 前記傾斜角度は、前記被着物を垂直状態
から１０〜３０度の角度で傾斜させたことを特徴とする
請求項４記載の真空蒸着重合装置。 - 【請求項６】 内部の空気を外部に排出して真空状にす
ることができるチャンバーと、モノマーをガス化させる
ことが可能なガス発生器と、このガス発生器から発生す
るモノマーガスを前記チャンバー内に導くガス導入管
と、前記チャンバー内で前記モノマーガスを拡散させて
有機膜を蒸着形成する被着物とを備え、前記チャンバー
内に配設したガス整流板上に前記被着物を載置し、前記
被着物の上方に防塵板を配設した状態で、前記被着物に
前記有機被膜を蒸着形成するようにしたことを特徴とす
る真空蒸着重合装置。 - 【請求項７】 請求項１乃至請求項６記載のいずれか１
項の真空蒸着重合装置を用いて、前記被着物に前記有機
被膜を蒸着形成することを特徴とする有機被膜の形成方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001188990A JP2003003250A (ja) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法 |
| CN 02124747 CN1396301A (zh) | 2001-06-22 | 2002-06-24 | 真空蒸镀聚合装置及采用该装置的有机被膜的形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001188990A JP2003003250A (ja) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003003250A true JP2003003250A (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=19027984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001188990A Withdrawn JP2003003250A (ja) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003003250A (ja) |
| CN (1) | CN1396301A (ja) |
Cited By (66)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006249532A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Ulvac Japan Ltd | 皮膜形成装置及び有機高分子皮膜の形成方法 |
| WO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111076A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
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| US8846547B2 (en) | 2010-09-16 | 2014-09-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the thin film deposition apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
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| US8859325B2 (en) | 2010-01-14 | 2014-10-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
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| US8865252B2 (en) | 2010-04-06 | 2014-10-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same |
| US8871542B2 (en) | 2010-10-22 | 2014-10-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method |
| US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| US8882922B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic layer deposition apparatus |
| US8882921B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| US8882920B2 (en) | 2009-06-05 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| US8882556B2 (en) | 2010-02-01 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
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