JP2006249532A - 皮膜形成装置及び有機高分子皮膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理室内において、保持部材により保持された基板に対して、モノマーガスを反応させて皮膜を形成するための皮膜形成装置であって、前記保持部材の表面を、有機高分子皮膜により被覆したことを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
この問題を解決するために、特許文献1には、基材(被着物)を所定の角度で傾斜させ、基材の一方の面を下向きになるように差し込むことができるように構成された櫛状の保持部材(ホルダー治具)が開示されている。
しかしながら、特許文献1に開示される保持部材では、保持部材から生じる発塵により、基板表面に形成される異物突起をなくすことはできなかった。更に、特許文献1に開示される皮膜形成装置は、保持部材と基板とが線状に接触しており、この部分にも皮膜が形成されるために、皮膜形成後に基板を保持部材から取り外す際に、せっかく基板上に形成された皮膜が剥離してしまうことがあった。また、保持部材が金属やセラミックスから構成されるような場合には、基板を保持部材に保持する際に基板表面を傷つけてしまうことがあった。
即ち、本発明の皮膜形成装置は、請求項1に記載の通り、処理室内において、保持部材により保持された基板に対して、モノマーガスを反応させて皮膜を形成するための皮膜形成装置であって、前記保持部材の表面を、有機高分子皮膜により被覆したことを特徴とする。
請求項2に記載の皮膜形成装置は、請求項1に記載の皮膜形成装置において、前記保持部材は、前記処理室内において、前記基板を立設させて保持することを特徴とする。
請求項3に記載の皮膜形成装置は、請求項2に記載の皮膜形成装置において、前記保持部材は、複数の前記基板を隣接させて保持することを特徴とする。
請求項4に記載の皮膜形成装置は、請求項1又は2に記載の皮膜形成装置において、前記保持部材は、前記基板を点接触により支持することを特徴とする。
請求項5に記載の皮膜形成装置は、請求項1乃至3のいずれかに記載の皮膜形成装置において、前記保持部材は、金属又はセラミックスで構成されることを特徴とする。
また、本発明の有機高分子皮膜の形成方法は、請求項6に記載の通り、請求項1乃至5の何れかに記載の皮膜形成装置を使用して、前記基板に前記有機高分子皮膜を形成することを特徴とする。
導入されるモノマーガスについては、モノマーガスを反応させて基板に皮膜を形成することができるものであれば制限するものではない。例えば、基板にポリイミド皮膜を形成する場合であれば、モノマーガスの組み合わせとして、無水ピロメリト酸(PMDA)と、4,4'−オキシジアニリン(ODA)との組み合わせ、或いは、PMDAと3,5’−ジアミノ安息香酸(DBA)との組み合わせ等が挙げられる。
前記有機高分子皮膜としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、ポリウレタン等があり、この皮膜を、真空装置を用いた蒸着重合法や物理的蒸着法、或いは、化学的気相成長法等により形成する。
また、有機高分子被膜により被覆される部位は、少なくとも、保持部材が基材と接触する部位及び基材表面に対向する部位とする。尚、基板表面に対向する部位を被覆するのは、保持部材が基板表面から離れていても、基板近傍に生じる気流によって粉塵が保持部材から基板表面に付着することがあるためである。
また、複数の基板を隣接して立設した状態で保持できる構造とすることが好ましい。複数の基板に同時に皮膜を形成することができるからである。尚、基板を隣接させる方法としては、例えば、複数の基板が平行に所定の間隔をおいて整列して配置させる方法等がある。更に、保持部材の構造は、基板を点接触により支持して保持できる構造とすることが好ましい。基板と保持部材との接触部分が少なくなるので、この接合部分に形成される皮膜が少なくなり、基材を保持部材から取り外す際に、基材に形成された皮膜の剥離を防ぐことができるためである。
また、保持部材を構成する材料についても特に制限はないが、金属又はセラミックスから構成することが好ましい。
図1は、ポリイミド皮膜を形成するための皮膜形成装置1の略断面図である。
皮膜形成装置1は、処理室2を備え、処理室2には、ガス導入バルブ(図示せず)を介してモノマーガスを導入する一対の第1ガス導入口3及び第2ガス導入口4と、排気バルブ(図示しない)を介して、排気作動を行うための油拡散ポンプ(図示しない)に連通する真空排気口5とが設けられている。また、保持部材6は、処理室2内の架台11上に設けられており、円板形状の基板7を保持している。また、皮膜形成装置1には、内部の温度を制御できる温度制御手段8が設けられており、蒸着重合反応に必要な熱を供給できるように構成されている。
保持部材6は、有機高分子皮膜により被覆され、図2に示すように、湾曲凹部6aと、湾曲凹部6aを処理室2内に固定するための脚部6bとから構成され、基板7の両側と底面を支持している。基板7は、保持部材6の湾曲凹部6aの対向する部位間に挟持され、且つ、基板7の角部が湾曲凹部6aと点状に接触して支持できるようになっている。尚、この湾曲凹部6aは、線状部材により構成し、その外径は、最大でも3mm以下とする。
保持部材6を被覆する有機高分子膜としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、ポリウレタン等を使用できる。
尚、本発明において保持部材6は、基板7を点接触により保持できる構造であればよく、図2に示す構造以外の変形例を図3に示す。図示する保持部材9は、基板10を立設するために湾曲凹状に形成された基部9aと、基部9aの上方に配置され、基板10の両側を支持するために、基板10の直径方向を処理室2の底面に対して平行乃至傾斜させて構成された環状部9bと、環状部9bを処理室2内に固定するために、環状部9aに設けられた脚部9cとから構成される。
上記図1及び図2を参照して説明した実施の形態の皮膜形成装置1を使用して、アルミナ基板7に皮膜を形成する方法を具体的に説明する。
(実施例1)
真空排気口5に連なる排気バルブ(図示しない)により真空排気を作動させて装置1の内部圧力を10−2Paに減圧し、この圧力状態を保ちながら温度制御手段8により、その内部を200℃に加熱して、この状態を保持する。そして、予め温度制御手段8により、208℃に加熱した気体状態のピロメリト酸二無水物(PMDA)を第1ガス導入口3から導入する一方で、予め温度制御手段8により190℃に加熱した気体状態の4,4'−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)を第2ガス導入口4から導入して、基板7の表面で蒸着重合反応を30分に亘って進行させ、基板7の表面に0.5μmの膜厚のポリイミド膜を形成した。尚、保持部材6の表面のポリイミド被膜の厚さは、0.5μmとした。
また、この処理の際に、処理室2内に発生する粒径0.3,0.5,1.0,5.0,10.0μmのダスト発生量を測定した結果を図4に示す。
次に、処理室2内に発生するダスト量の比較をするために、実施例1の保持部材6の代わりに、ポリイミド被膜の厚さを1.0μmとして、実施例1と同様にアルミナ基板に被膜を形成して、実施例1と同様にしてダスト発生量を測定し、その結果を図4に示す。
2 処理室
3 第1ガス導入口
4 第2ガス導入口
5 真空排気口
6 保持部材
7 基板
8 温度制御手段
9 保持部材
10 基板
11 架台
Claims (6)
- 処理室内において、保持部材により保持された基板に対して、モノマーガスを反応させて皮膜を形成するための皮膜形成装置であって、前記保持部材の表面を、有機高分子皮膜により被覆したことを特徴とする皮膜形成装置。
- 前記保持部材は、前記処理室内において、前記基板を立設させて保持することを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成装置。
- 前記保持部材は、複数の前記基板を隣接させて保持することを特徴とする請求項2に記載の皮膜形成装置。
- 前記保持部材は、前記基板を点接触により支持することを特徴とする請求項1又は2に記載の皮膜形成装置。
- 前記保持部材は、金属又はセラミックスで構成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の皮膜形成装置。
- 請求項1乃至5の何れかに記載の皮膜形成装置を使用して、前記基板に前記有機高分子皮膜を形成することを特徴とする有機高分子皮膜の形成方法。
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JP2009228050A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 被成膜物の支持機構 |
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- 2005-03-11 JP JP2005069654A patent/JP4594137B2/ja active Active
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