JP6049774B2 - 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 - Google Patents
薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6049774B2 JP6049774B2 JP2015018336A JP2015018336A JP6049774B2 JP 6049774 B2 JP6049774 B2 JP 6049774B2 JP 2015018336 A JP2015018336 A JP 2015018336A JP 2015018336 A JP2015018336 A JP 2015018336A JP 6049774 B2 JP6049774 B2 JP 6049774B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- light emitting
- deposition
- film deposition
- emitting layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 title claims description 242
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 239
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 221
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 218
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 173
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 166
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 98
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 53
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 275
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 49
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- YOZHUJDVYMRYDM-UHFFFAOYSA-N 4-(4-anilinophenyl)-3-naphthalen-1-yl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=C(C=2C(=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 YOZHUJDVYMRYDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBPCKEZNJVJYTC-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1 MBPCKEZNJVJYTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
Description
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。
図1は、本発明の第1実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に図示した斜視図であり、図2は、図1の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図であり、図3は、図1の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
図6は、本発明の第2実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に図示した斜視図である。
図7は、本発明の第3実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に図示した斜視図であり、図8は、図7の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図であり、図9は、図7の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
図10は、本発明の第4実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第4実施形態による薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着源1210、蒸着源ノズル部1220及びパターニングスリットシート1250を備える。ここで、蒸着源1210は、その内部に蒸着物質1215が満たされる坩堝1211と、坩堝1211を加熱させて坩堝1211の内部に満たされた蒸着物質1215を蒸着源ノズル部1220側に蒸発させるためのヒータ1212とを備える。一方、蒸着源1210の一側には蒸着源ノズル部1220が配され、蒸着源ノズル部1220にはY軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル1221が形成される。一方、蒸着源1210と基板600との間にはパターニングスリットシート1250及びフレーム1255がさらに備えられ、パターニングスリットシート1250にはX軸方向に沿って複数のパターニングスリット1251が形成される。そして、蒸着源1210及び蒸着源ノズル部1220とパターニングスリットシート1250とは、連結部材1235によって結合される。
110 蒸着源
120 蒸着源ノズル部
130 遮断板アセンブリー
150 パターニングスリットシート
Claims (21)
- 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
前記薄膜蒸着装置は複数の薄膜蒸着アセンブリーを備え、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーのそれぞれは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第1方向に対して垂直な第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記基板が、前記薄膜蒸着装置に対して前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成され、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源には、少なくとも赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料又は補助層材料が備えられ、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源のうち、赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料のうちいずれか一つが備えられた二つの蒸着源の間に、補助層材料が備えられた少なくとも一つの蒸着源が配されることを特徴とする薄膜蒸着装置。 - 前記薄膜蒸着アセンブリーは少なくとも5つ備えられ、前記少なくとも5つの薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源にはそれぞれ、青色発光層材料、補助層材料、緑色発光層材料、補助層材料及び赤色発光層材料が順に備えられることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着アセンブリーは少なくとも5つ備えられ、前記少なくとも5つの薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源にはそれぞれ、青色発光層材料、補助層材料、赤色発光層材料、補助層材料及び緑色発光層材料が順に備えられることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源に備えられた各蒸着物質が順に前記基板上に蒸着されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源に備えられた蒸着物質は、少なくとも二つの発光層材料の間に一つの補助層材料を介在して前記基板上に蒸着されることを特徴とする請求項4に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記基板は、前記蒸着物質が蒸着される面と平行な前記第1方向に沿って移動することを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記各薄膜蒸着アセンブリーの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源は、各蒸着源毎に蒸着温度が制御可能に備えられることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項9に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項9に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離で離隔して形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、前記2列の蒸着源ノズルは互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項14に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、
前記2列の蒸着源ノズルのうち第1側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第2側端部に向かうように配され、
前記2列の蒸着源ノズルのうち第2側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第1側端部に向かうように配されることを特徴とする請求項14に記載の薄膜蒸着装置。 - 基板上に薄膜を形成する薄膜蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法において、
前記基板を前記薄膜蒸着装置に対して所定距離で離隔して配する段階と、
前記薄膜蒸着装置と前記基板のうちいずれか一方を他方に対して相対的に移動させつつ、前記薄膜蒸着装置から放射される蒸着物質を前記基板上に蒸着する段階と、を含み、
前記薄膜蒸着装置は、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第1方向に対して垂直な第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備える薄膜蒸着アセンブリーを複数備え、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源には、少なくとも赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料又は補助層材料が備えられ、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源のうち、赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料のうちいずれか一つが備えられた二つの蒸着源の間に、補助層材料が備えられた少なくとも一つの蒸着源が配されることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記蒸着物質を前記基板上に蒸着する段階は、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーに備えられた青色発光層材料、補助層材料、緑色発光層材料、補助層材料及び赤色発光層材料を順に前記基板上に蒸着する段階を含む請求項17に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記蒸着物質を前記基板上に蒸着する段階は、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリーに備えられた青色発光層材料、補助層材料、赤色発光層材料、補助層材料及び緑色発光層材料を順に前記基板上に蒸着する段階を含む請求項17に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記複数の薄膜蒸着アセンブリーの各蒸着源に備えられた各蒸着物質を順に前記基板上に蒸着することを特徴とする請求項17に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記蒸着物質を前記基板上に蒸着する段階は、
前記複数の薄膜蒸着アセンブリー毎に蒸着温度を制御する段階をさらに含む請求項17に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20100039496 | 2010-04-28 | ||
KR10-2010-0039496 | 2010-04-28 | ||
KR1020110031288A KR101801351B1 (ko) | 2010-04-28 | 2011-04-05 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 유기 발광 표시 장치 |
KR10-2011-0031288 | 2011-04-05 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011097909A Division JP5985796B2 (ja) | 2010-04-28 | 2011-04-26 | 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015120982A JP2015120982A (ja) | 2015-07-02 |
JP6049774B2 true JP6049774B2 (ja) | 2016-12-21 |
Family
ID=45391457
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013128405A Active JP5628972B2 (ja) | 2010-04-28 | 2013-06-19 | 薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光表示装置の製造方法及びこれを利用して製造された有機発光表示装置 |
JP2015018336A Active JP6049774B2 (ja) | 2010-04-28 | 2015-02-02 | 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013128405A Active JP5628972B2 (ja) | 2010-04-28 | 2013-06-19 | 薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光表示装置の製造方法及びこれを利用して製造された有機発光表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5628972B2 (ja) |
KR (1) | KR101801351B1 (ja) |
CN (1) | CN103474447B (ja) |
DE (1) | DE102011017648B4 (ja) |
TW (2) | TWI527285B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101803511B1 (ko) * | 2016-02-18 | 2017-11-30 | 주식회사 아마다스 | 디지털 도어락의 인터페이스 모듈장치 |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5328726B2 (ja) | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
JP5677785B2 (ja) | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101084184B1 (ko) | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101174875B1 (ko) | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101193186B1 (ko) | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101202348B1 (ko) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
US8894458B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
KR101223723B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101723506B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101738531B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20120045865A (ko) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20120065789A (ko) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR101760897B1 (ko) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 |
KR101840654B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101852517B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101857249B1 (ko) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101826068B1 (ko) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR101919021B1 (ko) * | 2011-12-15 | 2019-02-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 발광다이오드 제조용 증착 장비 |
KR101996435B1 (ko) * | 2012-07-10 | 2019-07-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR102013315B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
US9461277B2 (en) | 2012-07-10 | 2016-10-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display apparatus |
KR101632298B1 (ko) | 2012-07-16 | 2016-06-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 평판 표시장치 및 그 제조방법 |
KR102363252B1 (ko) | 2014-11-12 | 2022-02-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
CN104775091A (zh) * | 2015-04-10 | 2015-07-15 | 安徽铜峰电子股份有限公司 | 用于形成金属化薄膜屏带的喷涂装置挡板 |
JP6570561B2 (ja) * | 2017-02-07 | 2019-09-04 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置及び蒸着源 |
US20200123646A1 (en) * | 2017-09-28 | 2020-04-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition particle ejecting device, vapor deposition apparatus, and vapor deposition film forming method |
CN109957761A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 基于线性蒸发器真空镀膜单体机 |
CN109957755A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 光学蒸发真空镀膜机 |
CN109957760A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 线性真空镀膜单体蒸发器 |
KR102604312B1 (ko) * | 2018-09-11 | 2023-11-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
CN112575308B (zh) * | 2019-09-29 | 2023-03-24 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置 |
CN111128809A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-08 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 多层堆栈薄膜的沉积装置及方法 |
CN113193022B (zh) * | 2021-04-26 | 2022-09-09 | 睿馨(珠海)投资发展有限公司 | 一种高分辨率amoled显示器件及其制备方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2425263Y (zh) * | 2000-05-29 | 2001-03-28 | 葛世潮 | 有机发光二极管照明装置 |
JP4704605B2 (ja) * | 2001-05-23 | 2011-06-15 | 淳二 城戸 | 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2003077662A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-03-14 | Junji Kido | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および製造装置 |
US6815723B2 (en) * | 2001-12-28 | 2004-11-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
JP3877613B2 (ja) * | 2002-03-05 | 2007-02-07 | 三洋電機株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
CN100459220C (zh) * | 2002-09-20 | 2009-02-04 | 株式会社半导体能源研究所 | 制造系统以及发光元件的制作方法 |
JP2004238688A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-26 | Sony Corp | 有機発光素子の製造装置、および表示装置の製造システム |
JP2004349101A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Seiko Epson Corp | 膜形成方法、膜形成装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
JP2004355975A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Sony Corp | 表示装置の製造方法 |
US7339139B2 (en) * | 2003-10-03 | 2008-03-04 | Darly Custom Technology, Inc. | Multi-layered radiant thermal evaporator and method of use |
JP4758889B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2011-08-31 | パナソニック電工株式会社 | 有機発光素子 |
US7273663B2 (en) * | 2004-08-20 | 2007-09-25 | Eastman Kodak Company | White OLED having multiple white electroluminescence units |
EP1717339A2 (de) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Applied Films GmbH & Co. KG | Kontinuierliche Beschichtungsanlage |
JP2006324649A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 有機半導体装置の作製方法 |
KR100729089B1 (ko) * | 2005-08-26 | 2007-06-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광표시장치 및 그 제조방법 |
JP4767000B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-09-07 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR100829761B1 (ko) * | 2007-05-16 | 2008-05-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광 소자 |
JP2009049223A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Seiko Epson Corp | 発光装置 |
JP2009170200A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Sony Corp | 表示装置の製造方法 |
JP4915356B2 (ja) * | 2008-01-29 | 2012-04-11 | セイコーエプソン株式会社 | 発光素子、表示装置および電子機器 |
KR20100039496A (ko) | 2008-10-08 | 2010-04-16 | 엘지전자 주식회사 | Iptv 수신기 및 상기 iptv 수신기의 채널 변경 방법 |
-
2011
- 2011-04-05 KR KR1020110031288A patent/KR101801351B1/ko active IP Right Grant
- 2011-04-26 TW TW103125269A patent/TWI527285B/zh active
- 2011-04-26 TW TW100114360A patent/TWI540777B/zh active
- 2011-04-27 CN CN201310381944.3A patent/CN103474447B/zh active Active
- 2011-04-28 DE DE102011017648.9A patent/DE102011017648B4/de active Active
-
2013
- 2013-06-19 JP JP2013128405A patent/JP5628972B2/ja active Active
-
2015
- 2015-02-02 JP JP2015018336A patent/JP6049774B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101803511B1 (ko) * | 2016-02-18 | 2017-11-30 | 주식회사 아마다스 | 디지털 도어락의 인터페이스 모듈장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5628972B2 (ja) | 2014-11-19 |
KR101801351B1 (ko) | 2017-11-27 |
JP2013214524A (ja) | 2013-10-17 |
TWI540777B (zh) | 2016-07-01 |
TWI527285B (zh) | 2016-03-21 |
TW201442318A (zh) | 2014-11-01 |
JP2015120982A (ja) | 2015-07-02 |
KR20110120213A (ko) | 2011-11-03 |
DE102011017648A1 (de) | 2012-03-01 |
TW201214826A (en) | 2012-04-01 |
CN103474447B (zh) | 2016-09-21 |
CN103474447A (zh) | 2013-12-25 |
DE102011017648B4 (de) | 2017-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6049774B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP5985796B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP5677827B2 (ja) | 薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法及びこれにより製造された有機発光ディスプレイ装置 | |
KR101193186B1 (ko) | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 | |
KR101097311B1 (ko) | 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치 | |
JP5847437B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 | |
JP5364731B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
KR101760897B1 (ko) | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 | |
JP5328726B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP5611718B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 | |
KR101840654B1 (ko) | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 | |
KR101146996B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 | |
JP5328727B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP5211114B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
KR20120029895A (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 | |
KR20120012300A (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 | |
KR101097334B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
KR101234231B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 | |
KR101193189B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151013 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160923 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161025 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6049774 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |