CN112575308B - 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置 - Google Patents

一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置 Download PDF

Info

Publication number
CN112575308B
CN112575308B CN201910931051.9A CN201910931051A CN112575308B CN 112575308 B CN112575308 B CN 112575308B CN 201910931051 A CN201910931051 A CN 201910931051A CN 112575308 B CN112575308 B CN 112575308B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
nozzle
outlet
flow
crucible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910931051.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112575308A (zh
Inventor
任三兵
樊俊飞
李山青
熊斐
汪义如
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Original Assignee
Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Baoshan Iron and Steel Co Ltd filed Critical Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Priority to CN201910931051.9A priority Critical patent/CN112575308B/zh
Priority to JP2022519381A priority patent/JP7407916B2/ja
Priority to KR1020227008548A priority patent/KR20220046657A/ko
Priority to US17/762,302 priority patent/US20220356556A1/en
Priority to EP20868378.9A priority patent/EP4012067B1/en
Priority to PCT/CN2020/117883 priority patent/WO2021057922A1/zh
Publication of CN112575308A publication Critical patent/CN112575308A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112575308B publication Critical patent/CN112575308B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/543Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on the vapor source
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,所述真空镀膜装置设于钢板的下方,包括坩埚,其外侧设有感应加热器,所述坩埚顶部通过蒸汽管道连有布流箱体,所述蒸汽管道至所述布流箱体方向上设有调压阀和分流阀,所述布流箱体内设有一水平向的稳压板,所述布流箱体顶部连有若干个子喷嘴;所述分流阀内设有若干个气流分配腔,所述气流分配腔的总面积S分流与所述蒸汽管道的径向面积S管道之比大于等于0.1,即:S分流/S管道≥0.1。本发明能形成均匀的喷射流,使高温蒸汽和低温钢板接触时,在钢板表面形成均匀镀层,从后续子喷嘴形成的金属层不断的覆盖至前端蒸镀金属层上,从而一次形成高效的金属镀层。

Description

一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,更具体地说,涉及一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置。
背景技术
物理蒸发镀(PVD)是指在真空条件下加热被镀金属,使之以气态的方式沉积到基材上形成镀膜的工艺技术。根据加热方式的不同又分为电加热(电阻或感应式)和电子束枪加热(EBPVD)等。真空镀膜作为表面改性和镀膜工艺,已经在电子、玻璃、塑料等行业得到了广泛的应用,真空镀膜技术主要优点在于其环保、良好的镀膜性能和可镀物质的多样性。连续带钢运用真空镀膜技术的关键在于镀膜生产连续化、大面积、高速率、大规模生产等几个方面,从上世纪八十年代开始,世界各大钢铁公司都对此技术进行了大量的研究,随着热镀锌和电镀锌技术的成熟,该技术正在受到空前的重视,并被人为是创新型的表面镀膜工艺。
而在真空镀膜的过程中关键点就是如何通过喷嘴的布置得到厚度均匀一致的镀层。国外目前公开的资料中,主要包含以下几个方面:
1)蒸发坩埚与布流喷嘴一体式结构
欧洲专利BE1009321A6、BE1009317A61分别公开了如图1、图2的坩埚喷嘴结构,在图1的结构中,坩埚1上部加上盖2,使得上盖2和炉壁之间形成喷嘴结构,用于蒸发金属的直接喷射。在图2的结构中,则在蒸发坩埚中添加过滤板3,而后由顶部的狭缝喷嘴用于金属蒸汽的喷射。在这两个装置喷嘴的设计过程中,一个采用了拉瓦尔喷嘴结构,另一个采用了收缩喷嘴,而喷嘴的朝向位置一个是侧向喷射,另一个是垂直喷射。
在专利JPS59177370A、US4552092A中亦公开了相关蒸发坩埚及喷嘴结构,图3给出了一种带自动补充金属液的坩埚喷嘴结构,喷嘴4采用较宽的出口,在坩埚上部也布置了加热器5用于蒸汽等的加热。图4给出的坩埚喷嘴结构中其结构由一侧弧形6展开,侧向喷射,在坩埚壁的外侧同样布置了加热管7用于壁面的加热。
2)蒸发坩埚与布流喷嘴分体式结构
在专利WO2018/020311A1公布了一种分体式坩埚喷嘴结构,如图5所示,在该装置中,坩埚在底部连接一个金属液供给槽8,其上部通过分体式管道9将金属蒸汽送至管状的分配器和前端的蒸汽喷嘴中,而后金属蒸汽通过喷嘴以高速将蒸汽喷射至金属板材。
在专利CN103249860A公开了一种分体式布流器及喷嘴结构,如图6所示,通过一个管道将蒸汽送至上部水平管道10中,水平管道10顶部具有多孔喷嘴,用以将金属蒸汽均匀的喷涂在金属板材表面。
在专利CN101175866A公开了一种金属蒸汽布流器及喷嘴形式,如图7所示了喷嘴的截面形式,布流器管道11外部缠绕导线从而实现对管道的加热,喷嘴部分为方形外壳,如图8所示,方形外壳12内部嵌套了另一种材质的环形管道,用于金属蒸汽的喷射,喷嘴使用的蒸汽出口形式为多孔式。
上述这些专利都涉及到了在镀膜过程中喷嘴的具体形式,但是并不能表明利用这些喷嘴进行的镀膜都能达到均匀的程度,例如图7和图8来说,由于其孔采用间隔的圆孔用以在钢板表面形成均匀的涂层,而基于高压气体在沿小孔喷出以后,形成放射状的圆斑,所以在钢板运动的过程中,这种圆斑和圆斑之间如果不重合,则很容易形成长条状的涂层;而圆斑和圆斑之间太靠近,则圆斑之间的重合部分又容易形成较厚的涂层,而不重合部分形成较薄的涂层,从而出现钢板之间涂层的不均匀。
此外,这些专利并未给出如何实现带钢快速高效实现真空镀的方法,而在现场带钢生产线的匹配来说,在高拉速的情况下,需要真空镀的镀锌流量一次达到要求,这就需要不断的增大输送管直径和增加蒸发器的容积,与此同时还需增大喷嘴开口度,开口度的加大,不利于纵向截面形成均匀的喷射层,所以需要避免。
发明内容
针对现有技术中存在的上述缺陷,本发明的目的是提供一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,能形成均匀的喷射流,使高温蒸汽和低温钢板接触时,在钢板表面形成均匀镀层,从后续子喷嘴形成的金属层不断的覆盖至前端蒸镀金属层上,从而一次形成高效的金属镀层。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,所述真空镀膜装置设于钢板的下方,包括坩埚,其外侧设有感应加热器,所述坩埚顶部通过蒸汽管道连有布流箱体,所述蒸汽管道至所述布流箱体方向上设有调压阀和分流阀,所述布流箱体内设有一水平向的稳压板,所述布流箱体顶部连有若干个子喷嘴;
所述分流阀内设有若干个气流分配腔,所述气流分配腔的总面积S分流与所述蒸汽管道的径向面积S管道之比大于等于0.1,即:
S分流/S管道≥0.1。
所述子喷嘴为平行等距设置,所述子喷嘴出口间距与所述钢板运行速度关系如下:
当所述钢板运行速度为30~60m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为50~100mm;
当所述钢板运行速度为61~100m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为100~150mm;
当所述钢板运行速度为101~150m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为150~200mm;
当所述钢板运行速度为151~200m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为200~300mm。
所述子喷嘴出口设置为狭缝型或多孔型,且所述子喷嘴出口面积S出口与所述蒸汽管道和所述坩埚顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.05~5,即:
S出口/S入口≥0.05~5。
所述狭缝型子喷嘴出口设置为直线形或者曲线形。
所述多孔型子喷嘴出口设置为矩形、圆形或梯形。
所述子喷嘴为石墨、陶瓷或者金属材质制成。
所述稳压板设置为多孔结构,其上的孔形状为矩形、圆形、三角形、梯形或者是狭缝形。
所述稳压板上的孔隙总面积S孔隙总面积与所述蒸汽管道和所述坩埚顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.1,即:
S孔隙总面积/S出口≥0.1。
所述稳压板上的孔形状为矩形、圆形或三角形。
所述稳压板上孔隙的走向为直线、曲线或者多层结构。
本发明所提供的一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,金属蒸汽由感应坩埚熔化蒸发获得,蒸汽通过管道进入到布流装置,布流装置中布置导流柱和稳压板,金属蒸汽通过导流柱后其流向得到了改变,分为2~5层蒸汽流股,这些蒸汽流股随后分配至相应的子喷嘴中,子喷嘴内部具有多孔结构的稳压板,子喷嘴之间采用平行等距布置,当蒸汽通过稳压板后由各级喷嘴喷出,形成均匀的喷射流,当高温蒸汽和低温钢板接触时,在钢板表面形成了均匀镀层。从后续子喷嘴形成的金属层不断的覆盖至前端蒸镀金属层上,从而一次形成高效的金属镀层,本发明投入少,操作简单,未来可以和真空镀膜技术成套输出。
附图说明
图1是欧洲专利BE1009321A6的示意图;
图2是欧洲专利BE1009317A61的示意图;
图3是专利JPS59177370A的示意图;
图4是专利US4552092A的示意图;
图5是专利WO2018/020311A1的示意图;
图6是专利CN103249860A的示意图;
图7是专利CN101175866A的示意图;
图8是图7中方形外壳的示意图;
图9是本发明真空镀膜装置的结构示意图;
图10是图9真空镀膜装置中分流阀内型示意图,其中,(a)是2级分流阀,(b)是3级分流阀,(c)是3级分流阀;
图11是图10分流阀中S分流与S管道示意图;
图12是本发明真空镀膜装置参数面积分类示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例进一步说明本发明的技术方案。
请结合图9至图12所示,本发明所提供的一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,所述真空镀膜装置设于钢板100的下方,包括坩埚13,坩埚13内盛有金属液14,坩埚13外侧设有感应加热器15,所述坩埚13顶部通过蒸汽管道16连有布流箱体17,所述蒸汽管道16至所述布流箱体17方向上依次设有调压阀18和分流阀19,所述布流箱体17内设有一水平向的稳压板20,所述布流箱体17顶部连有若干个子喷嘴21。
较佳的,所述分流阀19的形状可以是圆形、三角形、梯形及长方形等各种形状,其主要作用就是布置在所述蒸汽管道16内并将管道内来流蒸汽平均分配至子喷嘴21。所述分流阀19内设有若干个气流分配腔1901,所述气流分配腔1901的总面积S分流与所述蒸汽管道16的径向面积S管道之比大于等于0.1,即:
S分流/S管道≥0.1。
较佳的,当使用2级子喷嘴21时,可采用如图10的(a)中分流阀19,当使用3级子喷嘴21时,可采用如图10的(b)中分流阀19,当使用3级子喷嘴21时,可采用如图10的(c)中分流阀19。
较佳的,所述子喷嘴21为平行等距设置,所述子喷嘴21出口间距与所述钢板100运行速度关系如下:
当所述钢板100运行速度为30~60m/min时,所述子喷嘴21出口中心线距离为50~100mm;
当所述钢板100运行速度为61~100m/min时,所述子喷嘴21出口中心线距离为100~150mm;
当所述钢板100运行速度为101~150m/min时,所述子喷嘴21出口中心线距离为150~200mm;
当所述钢板100运行速度为151~200m/min时,所述子喷嘴21出口中心线距离为200~300mm。
较佳的,所述子喷嘴21工作中内部压力为500~500000Pa。
较佳的,所述子喷嘴21的材质可以为石墨、陶瓷或者金属,以及其它可以进行加工的材料。
较佳的,所述子喷嘴21出口设置为狭缝型或多孔型,且所述子喷嘴21出口面积S出口与所述蒸汽管道16和所述坩埚13顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.05~5,即:
S出口/S入口≥0.05~5。
较佳的,所述狭缝型子喷嘴出口设置为直线形或者曲线形,所述多孔型子喷嘴出口设置为矩形、圆形或梯形。
较佳的,所述稳压板20设置为多孔结构,其上的孔形状为矩形、圆形、三角形、梯形或者是狭缝形。
较佳的,所述稳压板20上的孔隙总面积S孔隙总面积与所述蒸汽管道16和所述坩埚13顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.1,即:
S孔隙总面积/S出口≥0.1。
较佳的,所述稳压板20上的孔形状为矩形、圆形或三角形,所述稳压板20上孔隙的走向为直线、曲线或者多层结构。
较佳的,所述金属液14可包含的范围为锌、镁、铝、锡、镍、铜、铁等金属,此外还包含这些元素的低熔点(低于2000℃)氧化物。
较佳的,钢板100在真空镀膜前先经过等离子装置清洗,预热温度达到80~300℃。
本发明真空镀膜装置具体工作过程如下:
1)金属块体在坩埚13中受到感应加热器15的作用熔化成金属液14,金属液14在更高的过热度和低压下开始汽化,逐步形成金属蒸汽22;
2)开始阶段,与坩埚13相连的蒸汽管道16上的调压阀18处于关闭状态,随着金属液14不断的汽化,坩埚13内腔的蒸汽压力不断增大,当坩埚13内腔的压力达到一定压力时,开启调压阀18,使其保持一定的压力流出;
3)此时需同时增大感应加热器15从而使得调压阀18开启减小的压力得到补充,调整感应加热器15的功率范围,使得坩埚13内腔的压力保持在恒定的范围;
4)调压阀18开启后,金属蒸汽22沿蒸汽管道16向布流箱体17流动,由于分流阀19的作用,分为2~5层蒸汽流股,这些蒸汽流股随后分配至相应的布流箱体17中,布流箱体17内部具有多孔结构的稳压板20,子喷嘴21之间采用平行等距布置;
5)蒸汽流股由于稳压板20的作用,使得分散的高速流压力降低,并均匀的沿稳压板20上的小孔流出,随后从子喷嘴21的出口均匀的流出,由于子喷嘴21的出口狭小,使得金属蒸汽22流出时形成了较大的速度;
6)此时在其上方布置了运动的钢板100,金属蒸汽22温度较高,遇到温度较低的钢板100时,迅速凝固,形成了金属镀膜23。由于子喷嘴21之间平行等距设置,可一次性完成较大厚度的镀膜。
实施例
采用钢板100表面蒸镀锌,钢板100宽度为1000mm,进行清洗干燥后,钢带100加热至150℃。感应加热器15加热将锌蒸发,并通过控制功率使得坩埚13内的锌达到30000Pa压力,此时调压阀18处于关闭状态。当坩埚13内气体压力达到30000Pa后,打开调压阀18,金属蒸汽22进入蒸汽管道16,分流阀19采用圆形2级分流,其中S分流/S管道=0.4,稳压板20为多孔结构,S孔隙总面积/S出口=4,子喷嘴21内部工作压力为10000Pa,子喷嘴21材质为石墨,子喷嘴21出口采用狭缝型,为长方形,其中S出口/S入口=1。
本技术领域中的普通技术人员应当认识到,以上的实施例仅是用来说明本发明,而并非用作为对本发明的限定,只要在本发明的实质精神范围内,对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求书范围内。

Claims (5)

1.一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,所述真空镀膜装置设于钢板的下方,其特征在于:包括坩埚,其外侧设有感应加热器,所述坩埚顶部通过蒸汽管道连有布流箱体,所述蒸汽管道至所述布流箱体方向上设有调压阀和分流阀,所述布流箱体内设有一水平向的稳压板,所述布流箱体顶部连有若干个子喷嘴;
所述分流阀内设有若干个气流分配腔,所述气流分配腔的总面积S分流与所述蒸汽管道的径向面积S管道之比大于等于0.1,即:
S分流/S管道≥0.1,
所述稳压板设置为多孔结构,其上的孔形状为矩形、圆形、三角形、梯形或者是狭缝形,
所述稳压板上的孔隙总面积S孔隙总面积与所述蒸汽管道和所述坩埚顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.1,即:
S孔隙总面积/S出口≥0.1,
所述子喷嘴出口设置为狭缝型或多孔型,且所述子喷嘴出口面积S出口与所述蒸汽管道和所述坩埚顶部连接位置面积S入口之比大于等于0.05~5,即:
S出口/S入口≥0.05~5
所述子喷嘴内部工作压力为500~500000Pa,
所述子喷嘴为平行等距设置,所述子喷嘴出口间距与所述钢板运行速度关系如下:
当所述钢板运行速度为30~60m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为50~100mm;
当所述钢板运行速度为61~100m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为100~150mm;
当所述钢板运行速度为101~150m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为150~200mm;
当所述钢板运行速度为151~200m/min时,所述子喷嘴出口中心线距离为200~300mm,
所述子喷嘴之间采用平行等距布置,当蒸汽通过稳压板后由各级喷嘴喷出,形成均匀的喷射流,当高温蒸汽和低温钢板接触时,在钢板表面形成了均匀镀层;从后续子喷嘴形成的金属层不断的覆盖至前端蒸镀金属层上,从而一次形成高效的金属镀层。
2.如权利要求1所述一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,其特征在于:所述狭缝型子喷嘴出口设置为直线形或者曲线形。
3.如权利要求1所述一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,其特征在于:所述多孔型子喷嘴出口设置为矩形、圆形或梯形。
4.如权利要求1所述一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,其特征在于:所述子喷嘴为石墨、陶瓷或者金属材质制成。
5.如权利要求1所述一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置,其特征在于:所述稳压板上孔隙的走向为直线、曲线或者多层结构。
CN201910931051.9A 2019-09-29 2019-09-29 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置 Active CN112575308B (zh)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910931051.9A CN112575308B (zh) 2019-09-29 2019-09-29 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置
JP2022519381A JP7407916B2 (ja) 2019-09-29 2020-09-25 真空コーティングデバイス
KR1020227008548A KR20220046657A (ko) 2019-09-29 2020-09-25 진공 코팅 장치
US17/762,302 US20220356556A1 (en) 2019-09-29 2020-09-25 Vacuum coating device
EP20868378.9A EP4012067B1 (en) 2019-09-29 2020-09-25 Vacuum coating device
PCT/CN2020/117883 WO2021057922A1 (zh) 2019-09-29 2020-09-25 一种真空镀膜装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910931051.9A CN112575308B (zh) 2019-09-29 2019-09-29 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112575308A CN112575308A (zh) 2021-03-30
CN112575308B true CN112575308B (zh) 2023-03-24

Family

ID=75110700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910931051.9A Active CN112575308B (zh) 2019-09-29 2019-09-29 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220356556A1 (zh)
EP (1) EP4012067B1 (zh)
JP (1) JP7407916B2 (zh)
KR (1) KR20220046657A (zh)
CN (1) CN112575308B (zh)
WO (1) WO2021057922A1 (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3527259A1 (de) * 1984-07-30 1986-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Duennfilm-herstellungsgeraet
CN101855380A (zh) * 2007-10-12 2010-10-06 安赛乐米塔尔法国公司 用于在金属带上沉积合金镀膜的工业蒸汽发生器
CN105088147A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 坩埚结构
CN206289295U (zh) * 2016-11-30 2017-06-30 信利(惠州)智能显示有限公司 一种线性蒸发源

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4552092A (en) 1984-09-19 1985-11-12 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Vacuum vapor deposition system
BE1009321A6 (fr) 1995-05-17 1997-02-04 Centre Rech Metallurgique Dispositif de revetement d'une bande d'acier galvanisee.
BE1009317A6 (fr) 1995-05-10 1997-02-04 Centre Rech Metallurgique Dispositif et installation pour revetir une bande d'acier.
JP5394061B2 (ja) 2005-05-31 2014-01-22 タタ、スティール、ネダーランド、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップ 基材を被覆する装置および方法
JP5568729B2 (ja) * 2005-09-06 2014-08-13 国立大学法人東北大学 成膜装置および成膜方法
US20100159132A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Veeco Instruments, Inc. Linear Deposition Source
RU2521827C2 (ru) * 2010-02-05 2014-07-10 Санам Ко., Лтд. Способ получения керамического проводника, система для его получения и сверхпроводящий проводник с его применением
KR101801351B1 (ko) * 2010-04-28 2017-11-27 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 유기 발광 표시 장치
US20120052216A1 (en) * 2010-08-27 2012-03-01 Applied Materials, Inc. Gas distribution showerhead with high emissivity surface
US9267203B2 (en) 2010-12-13 2016-02-23 Posco Continuous coating apparatus
KR101245129B1 (ko) * 2010-12-30 2013-03-25 엘아이지에이디피 주식회사 증착 장비의 증착물질 공급장치 및 이를 이용한 증착물질 공급방법
CN102758185A (zh) * 2011-04-29 2012-10-31 深圳富泰宏精密工业有限公司 分流器
KR101852517B1 (ko) * 2011-05-25 2018-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR20140130437A (ko) * 2012-02-23 2014-11-10 아사히 가라스 가부시키가이샤 불소 함유 유기 규소 화합물 박막의 제조 장치 및 제조 방법
JP2014088591A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Canon Tokki Corp 蒸着装置及び蒸着方法
WO2018020296A1 (en) 2016-07-27 2018-02-01 Arcelormittal Apparatus and method for vacuum deposition
CN110678575B (zh) * 2017-05-31 2021-08-31 株式会社爱发科 成膜装置和成膜方法
KR102098455B1 (ko) * 2017-12-26 2020-04-07 주식회사 포스코 연속 증착 장치 및 연속 증착 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3527259A1 (de) * 1984-07-30 1986-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Duennfilm-herstellungsgeraet
CN101855380A (zh) * 2007-10-12 2010-10-06 安赛乐米塔尔法国公司 用于在金属带上沉积合金镀膜的工业蒸汽发生器
CN105088147A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 坩埚结构
CN206289295U (zh) * 2016-11-30 2017-06-30 信利(惠州)智能显示有限公司 一种线性蒸发源

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220046657A (ko) 2022-04-14
JP7407916B2 (ja) 2024-01-04
EP4012067B1 (en) 2023-11-15
US20220356556A1 (en) 2022-11-10
CN112575308A (zh) 2021-03-30
WO2021057922A1 (zh) 2021-04-01
EP4012067A4 (en) 2022-10-26
JP2022549904A (ja) 2022-11-29
EP4012067A1 (en) 2022-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017528602A (ja) 構成部品、バンド状の材料又はツールの表面にコーティングを形成する装置
WO2022017422A1 (zh) 一种采用导流板式结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
WO2021057921A1 (zh) 一种真空镀膜装置
CN112575308B (zh) 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置
CN112708855B (zh) 一种具有导流式真空镀膜喷嘴的真空镀膜装置
CN113957392B (zh) 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN112575294B (zh) 一种具有双隔板的真空镀膜装置
CN112553578B (zh) 一种具有抑流式喷嘴的真空镀膜装置
CN113957390B (zh) 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置
CN113957389B (zh) 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN112553579B (zh) 一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置
CN113957391B (zh) 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN115679269A (zh) 真空镀膜不稳定期的蒸汽捕集装置、真空镀膜装置及方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant