JP2022549904A - 真空コーティングデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
物理蒸着(PVD)とは、真空条件下でコーティングされる金属を加熱して、基材上に気体状の様式で金属を堆積させてコーティングを形成する加工技術のことをいう。物理蒸着は、加熱方法によって電気加熱(抵抗または誘導)および電子ビームPVD(EBPVD)に分類され得る。表面修飾およびコーティング加工として、電子工学、ガラス、プラスチック、および、その他の産業において、真空コーティングが広く用いられてきた。真空コーティング技術の主たる利点としては、環境保護、良好なコーティング性能およびコーティング材料の多様性が挙げられる。連続帯鋼に真空コーティング技術を適用するための鍵としては、連続的であり、領域が広く、高速であり、かつ、大規模のコーティング製造のようないくつかの態様が挙げられる。1980年代以来、世界の主要な鉄鋼会社は、この技術について多くの研究を実行してきた。溶融亜鉛メッキおよび電気亜鉛メッキ技術の成熟とともに、この技術は、これまでにない注目を集めてきており、かつ、革新的な表面コーティング加工であると考えられている。
出願BE1009321A6およびBE1009317A61は各々、図1および図2に示されているようなるつぼノズル構造を開示している。図1の構造では、るつぼ1の上部に上蓋2が配置され、上蓋2と炉壁との間に、蒸発した金属の直接噴霧のためのノズル構造が形成されるようになっている。図2の構造では、蒸発るつぼにフィルタープレート3が追加的に配置され、かつ、そのときには頂部におけるスリットノズルから金属蒸気が噴霧される。2つのデバイスのノズル設計工程では、一方はドラバルノズルを採用し、かつ、他方は先細ノズルを採用する。ノズルの配向に関しては、一方は横方向噴霧を採用し、かつ、他方は鉛直方向噴霧を採用する。
出願WO2018/020311A1は、分割るつぼノズル構造を開示している。図5に示されているように、該デバイスでは、るつぼの底が溶融金属供給タンク8に接続され、かつ、供給タンク8の上部が、分割パイプライン9を通して前端にて管状分配器および蒸気ノズルへと金属蒸気を搬送し;かつ、その後、ノズルが高速で金属板に金属蒸気を噴霧する。
先行技術における上記の欠点を解決するため、本発明は、高温の蒸気が低温の鋼板に接触するときに鋼板の表面上に均一なコーティングが形成され得;かつ、後に続くサブノズルによって形成された噴霧流が形成された堆積金属層を連続的に覆い、真空条件下で鋼帯の効率のよいコーティングを達成するように、均一な噴霧流を形成し得る真空コーティングデバイスを提供することを目的とする。
ダイバーターバルブには複数の気流分配チャンバーが配置され;かつ、半径方向における蒸気パイプラインの総断面積(Sパイプライン)に対する半径方向における気流分配チャンバーの総断面積(S分配)の比が0.1であり、すなわち:
S分配/Sパイプライン≧0.1である。
鋼板の移動速度が30~60m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が50~100mmであり;
鋼板の移動速度が61~100m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が100~150mmであり;
鋼板の移動速度が101~150m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が150~200mmであり;かつ、
鋼板の移動速度が151~200m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が200~300mmである。
本発明の技術的解決策は、添付の図面および実施形態を参照して、以下でさらに説明される。
鋼板100の移動速度が30~60m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が50~100mmであり;
鋼板100の移動速度が61~100m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が100~150mmであり;
鋼板100の移動速度が101~150m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が150~200mmであり;かつ、
鋼板100の移動速度が151~200m/分であるとき、サブノズル出口の中心線距離が200~300mmである。
1)るつぼ13において誘導ヒーター15によって金属ブロックが加熱され、かつ、溶融金属14へと溶かされ、かつ、溶融金属14は、いっそう高い程度の過熱および低圧にて蒸発して、次第に金属蒸気22を形成する。
Claims (9)
- 真空コーティングデバイスであって、当該真空コーティングデバイスは:
るつぼを有し;
前記るつぼの外側に配置された誘導ヒーターを有し;
蒸気パイプラインを通して前記るつぼの頂部に接続された流れ分配ボックスを有し;
前記蒸気パイプラインが前記流れ分配ボックスと連通する方向に順番に配置された圧力調整バルブおよびダイバーターバルブを有し;
前記流れ分配ボックスに配置された水平圧力安定化プレートを有し;
前記流れ分配ボックスの頂部に接続された複数のサブノズルを有し;
前記ダイバーターバルブには複数の気流分配チャンバーが配置され;
半径方向における前記蒸気パイプラインの断面積(Sパイプライン)に対する半径方向における前記気流分配チャンバーの総断面積(S分配)の比が、0.1より大きいか、または、0.1に等しく、すなわち:
S分配/Sパイプライン≧0.1である、
前記真空コーティングデバイス。 - 前記サブノズルが等間隔で平行に配置され、前記サブノズルがサブノズル出口を備え;かつ、前記サブノズル出口間の距離と鋼板の移動速度が以下の関係を満たし:
前記の鋼板の移動速度が30~60m/分であるとき、前記サブノズル出口の中心線距離が50~100mmであり;
前記の鋼板の移動速度が61~100m/分であるとき、前記サブノズル出口の中心線距離が100~150mmであり;
前記の鋼板の移動速度が101~150m/分であるとき、前記サブノズル出口の中心線距離が150~200mmであり;かつ、
前記の鋼板の移動速度が151~200m/分であるとき、前記サブノズル出口の中心線距離が200~300mmである、
請求項1に記載の真空コーティングデバイス。 - 前記サブノズル出口が、スリットタイプまたは多孔タイプのものであるように設定され、かつ、前記蒸気パイプラインと前記るつぼの頂部との間の接合部の面積(S入口)に対する前記サブノズル出口の面積の合計(S出口)の比が0.05~5である、請求項1に記載の真空コーティングデバイス。
- 前記のスリットタイプのサブノズル出口が、直線状であるように、または、湾曲するように設定される、請求項3に記載の真空コーティングデバイス。
- 前記の多孔タイプのサブノズル出口が、長方形、円形または台形であるように設定される、請求項3に記載の真空コーティングデバイス。
- 前記サブノズルが、グラファイト、セラミックまたは金属材料製である、請求項3に記載の真空コーティングデバイス。
- 前記圧力安定化プレートが多孔構造のものであり、かつ、孔が長方形、円形、三角形、台形またはスリット状である、請求項1に記載の真空コーティングデバイス。
- 前記蒸気パイプラインと前記るつぼの頂部との間の接合部の面積(S入口)に対する前記圧力安定化プレートにおける孔の総面積(S総孔面積)の比が、0.1より大きいか、または、0.1に等しく、すなわち、
S総孔面積/S入口≧0.1である、
請求項1に記載の真空コーティングデバイス。 - 前記圧力安定化プレートにおける前記孔が、方向に関して直線状であるか、湾曲しているか、または、多層構造のものである、請求項8に記載の真空コーティングデバイス。
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