JP5280667B2 - 有機el表示装置の製造方法及び蒸着マスクのクリーニング方法 - Google Patents
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Description
(1) 蒸着マスク交換の判定を行い、交換する場合には、これまでの蒸着マスクを排出し、新しい蒸着マスクを蒸着室に搬入する。
(2) 素子基板を蒸着室内に搬入して、素子基板と蒸着マスクのアライメントを行って合体する。
(3) 蒸着法を用いて、有機膜を蒸着マスクを通して素子基板上に堆積させ、有機膜のパターニングを行う。
(4) 有機膜の堆積が済んだ素子基板と蒸着マスクを解体し、素子基板を蒸着室から排出させる。
(5) 蒸着マスクの使用回数が設定回数を超えた場合、蒸着マスクを排出し、上記(1)の工程に戻る。
上記工程の中で、(3)以外の工程においては、シャッター等により素子基板や蒸着マスクには有機膜が堆積されないようにする。
(1) 搬送トレイ上で、蒸着マスクと素子基板を合体する。
(2) 素子基板と蒸着マスクのアライメントを行う。
(3) 合体した蒸着マスクと素子基板を搭載したトレイを蒸着室内を移動させ、蒸着法を用いて、有機膜を素子基板上に蒸着マスクを通して堆積させ、有機膜のパターニングを行う。
(4) 蒸着マイクと素子基板を搭載したトレイを蒸着室から排出し、有機膜の堆積が済んだ素子基板を蒸着マスクから解体する。素子基板は次のプロセスへ送られ、蒸着マスクは次の素子基板と合体するため、アライメント前の工程に戻される。
(5) 蒸着マスクの使用回数が設定回数を超えた場合、蒸着マスクを排出し、新規の蒸着マスクを搬入して上記(1)の工程に戻る。
上記プロセスで大きなポイントは薄膜片の除去工程とフラッシング工程を設けたことである。これにより、蒸着工程における蒸着マスクに起因した異物の発生を防止でき、インラインでの蒸着マスククリーニングを可能にしている。
Claims (15)
- 蒸着マスクのクリーニング方法であって、
クリーニング準備室に前記蒸着マスクを搬入し、前記クリーニング準備室の圧力をマスククリーニング室内の圧力に合わせる工程と、
前記マスククリーニング室に前記蒸着マスクを搬入し、前記蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、
レーザ光を照射した蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程と、
前記剥離片を除去した前記蒸着マスクをフラッシング室に搬送し、該フラッシング室でパーティクルをモニターしながら排気とガス導入とを1サイクル以上行って微小異物を除去するフラッシング工程と、
前記フラッシング工程を終了した前記蒸着マスクをマスク排出室に転送し、該マスク排出室を排気する工程と、がインラインで行われることを特徴とする蒸着マスクのクリーニング方法。 - 前記蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程が、前記蒸着マスクの静電除去工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程が、前記堆積物の剥離片を集塵シートによって除去することを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記集塵シートが帯電していることを特徴とする請求項3に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が有機EL層を形成する有機膜であることを特徴とする請求項1乃至4に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が、少なくともIZO、ITO、ZnOのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至4に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が、少なくともAl、Cu、Crのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至4に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記フラッシング工程を終了した蒸着マスクをマスク排出室に転送し、該マスク排出室を排気する工程の後、前記クリーニングした蒸着マスクを液体を用いて洗浄することを特徴とする請求項1乃至4に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記液体として、少なくともアルコール、ハイドロフルオロエーテルのいずれかを用いることを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記液体を用いて洗浄する工程において、超音波洗浄を併用することを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 蒸発源の上方あるいは横を移動することによって素子基板上に有機EL層を、蒸着マスクを用いてマトリクス状に蒸着する工程を含む有機EL表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクと前記素子基板を合体する工程と、
前記合体した蒸着マスクと素子基板を蒸着室に移動して、蒸着法を用いて前記素子基板上に有機膜をパターニングする工程と、
前記合体した蒸着マスクと素子基板を前記蒸着室から排出して前記素子基板を前記蒸着マスクから解体する工程と、
前記蒸着マスクのクリーニング工程と、を含み
前記蒸着マスクのクリーニング工程は、
前記解体した蒸着マスクをクリーニング準備室に搬入し、該クリーニング準備室の圧力をマスククリーニング室内の圧力に合わせる工程と
前記マスククリーニング室に前記蒸着マスクを搬入し、前記蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、
レーザ光を照射した蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程と、
前記剥離片を除去した前記蒸着マスクをフラッシング室に搬送し、該フラッシング室でパーティクルをモニターしながら排気とガス導入とを1サイクル以上行って微小異物を除去するフラッシング工程と、
前記フラッシング工程を終了した前記蒸着マスクをマスク排出室に転送し、該マスク排出室を排気する工程と、がインラインで行われることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記蒸着マスクを用いて前記素子基板に対して蒸着をした後、前記蒸着マスクは他の素子基板の蒸着に使用されるまでの間に、前記クリーニング工程を経ることを特徴とする請求項11に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 蒸発源の上方あるいは横を移動することによって、素子基板上にマトリクス状に形成された有機EL層の上に、上部電極を蒸着マスクを用いて蒸着する工程を含む有機EL表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクと前記素子基板を合体する工程と、
前記合体した蒸着マスクと素子基板を蒸着室に移動して、蒸着法を用いて前記素子基板上に電極膜をパターニングする工程と、
前記合体した蒸着マスクと素子基板を前記蒸着室から排出して前記素子基板を前記蒸着マスクから解体する工程と、
前記蒸着マスクのクリーニング工程と、を含み
前記蒸着マスクのクリーニング工程は、
前記解体した前記蒸着マスクをクリーニング準備室に搬入し、該クリーニング準備室の圧力をマスククリーニング室内の圧力に合わせる工程と
前記マスククリーニング室に前記蒸着マスクを搬入し、前記蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、
レーザ光を照射した前記蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程と、
前記剥離片を除去した前記蒸着マスクをフラッシング室に搬送し、該フラッシング室でパーティクルをモニターしながら排気とガス導入とを1サイクル以上行って微小異物を除去するフラッシング工程と、
前記フラッシング工程を終了した前記蒸着マスクをマスク排出室に転送し、該マスク排出室を排気する工程と、がインラインで行われることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記蒸着マスクを用いて前記素子基板に対して蒸着をした後、前記蒸着マスクは他の素子基板の蒸着に使用されるまでの間に、前記クリーニング工程を経ることを特徴とする請求項13に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 請求項11乃至14に記載の有機EL表示装置の製造方法において、前記堆積物の剥離片を除去する工程の前後のいずれかにおいて静電除去を行なうことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
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