KR20230038501A - 눈부심 방지 표면 및 박형의 내구성 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품 - Google Patents

눈부심 방지 표면 및 박형의 내구성 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품 Download PDF

Info

Publication number
KR20230038501A
KR20230038501A KR1020237003830A KR20237003830A KR20230038501A KR 20230038501 A KR20230038501 A KR 20230038501A KR 1020237003830 A KR1020237003830 A KR 1020237003830A KR 20237003830 A KR20237003830 A KR 20237003830A KR 20230038501 A KR20230038501 A KR 20230038501A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
less
display
incidence
angle
Prior art date
Application number
KR1020237003830A
Other languages
English (en)
Inventor
샨돈 디 하트
칼 윌리엄 코흐 Iii
카를로 안토니 코식 윌리엄스
린 린
카메론 로버트 넬슨
제임스 조셉 프라이스
자얀타 세나위랏네
플로렌스 크리스틴 모니크 베리에
데이비드 리 위드맨
Original Assignee
코닝 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닝 인코포레이티드 filed Critical 코닝 인코포레이티드
Publication of KR20230038501A publication Critical patent/KR20230038501A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4272—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
    • C03C2204/08—Glass having a rough surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/34—Masking
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/101—Nanooptics

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 텍스처링된 표면 영역; 및 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사방지 코팅을 포함한다. 상기 텍스처링된 표면 영역은 구조적 특징부 및 50nm에서 300nm까지의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함한다. 기판은 PPD140으로 측정한 스파클이 5% 미만이고 입사각 0˚에서 투과 헤이즈가 40% 미만입니다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 상기 물품은 또한 가시광선 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타낸다.

Description

눈부심 방지 표면 및 박형의 내구성 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품
본 특허 출원은 35 U.S.C. § 119(e) 하에 2020년 7월 9일에 출원된 "DISPLAY ARTICLES WITH DIFFRACTIVE, ANTIGLARE SURFACES AND METHODS OF MAKING THE SAME"라는 제목의 미국 가출원 번호 제63/049,843호의 우선권의 이익을 주장하며, 그 내용은 전체가 여기에 참조로 인용되고 통합된다.
본 출원은 공동 소유 및 양도된, "TEXTURED REGION TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCLUDING A LOW REFRACTIVE INDEX SUBSTRATE WITH HIGHER ELEVATED SURFACES AND LOWER ELEVATED SURFACES AND A HIGH REFRACTIVE INDEX MATERIAL DISPOSED ON THE LOWER ELEVATED SURFACES"라는 제목으로 ______________에 출원된 미국 특허 출원 번호 __________(D31977), "ANTI-GLARE SUBSTRATE FOR A DISPLAY ARTICLE INCLUDING A TEXTURED REGION WITH PRIMARY SURFACE FEATURES AND SECONDARY SURFACE FEATURES IMPARTING A SURFACE ROUGHNESS THAT INCREASES SURFACE SCATTERING"라는 제목으로 ______________에 출원된 미국 특허 출원 번호 __________(D31038/32632), "TEXTURED REGION OF A SUBSTRATE TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCORPORATING SURFACE FEATURES WITH AN ELLIPTICAL PERIMETER OR SEGMENTS THEREOF, AND METHOD OF MAKING THE SAME"이라는 제목으로 ______________에 출원된 미국 특허 출원 번호 __________ (D32630/32632); 및 "DISPLAY ARTICLES WITH DIFFRACTIVE, ANTIGLAARE SURFACES AND THIN, DURABLE ANTIREFLECTION COATINGS"라는 제목으로 __________에 출원된 미국 특허 출원 번호 __________(D32647)에 관한 것이지만 이에 우선권을 주장하지는 않는다. 전술한 각각의 미국 특허 출원, 간행물 및 특허 문서의 전체 개시 내용은 본 명세서에 참고로 통합된다.
본 개시는 일반적으로 박형의 내구성이 있는 반사 방지 코팅을 갖는 텍스처링된, 눈부심 방지 표면(예를 들어, 회절, 조면화 및 기타 텍스처링된 모폴로지)을 갖는 디스플레이 물품, 특히 눈부심 방지 특성 및 반사 방지 코팅을 갖는 텍스처링된 표면 영역을 갖는 하나 이상의 주 표면을 갖는 기판을 포함하는 디스플레이 물품에 관한 것이다.
눈부심 방지 표면은 LCD 스크린, 태블릿, 스마트폰, OLED 및 터치 스크린과 같은 디스플레이 장치에서 주변광의 경면 반사(specular reflection)를 방지하거나 줄이기 위해 종종 사용된다. 많은 디스플레이 장치에서, 이러한 눈부심 방지 표면은 유리의 하나 이상의 표면 및/또는 유리 상의 필름에 일정 레벨의 거칠기를 제공하여 입사광을 확산 및 산란시킴으로써 형성된다. 거친 유리 표면 형태의 눈부심 방지 표면은 종종 이러한 디스플레이 장치의 전면에 사용되어 디스플레이에서 외부 반사의 명백한 가시성을 줄이고 다양한 조명 조건에서 디스플레이의 가독성을 향상시킨다.
디스플레이 물품에 사용되는 유리 기판에 눈부심 방지 특성을 부여하기 위한 종래의 접근법은 어느 정도 성공적이었다. 전형적으로, 이러한 접근법은 기판의 표면 및/또는 그러한 기판 상의 필름 내에서 랜덤화된 표면 거칠기 프로파일을 사용하는 데 사용되어 왔다. 그러나, 이들 접근법은 높은 헤이즈 및/또는 높은 디스플레이 스파클을 갖는 유리 기판 및 디스플레이 물품을 생성하였다. 높은 헤이즈 레벨은 사용자를 향해 높은 각도의 광을 산란시켜 검은색 레벨을 '바랜(washed out)' 것처럼 보이게 하여 디스플레이 대비를 줄일 수 있다. 높은 디스플레이 스파클 레벨은 픽셀 밝기의 원치 않는 랜덤 변화로 시야각에 따라 변하는 거친 모양을 결과한다.
또한, 커버 물품은 종종 전자 제품 내의 장치를 보호하고, 입력 및/또는 디스플레이 및/또는 많은 다른 기능을 위한 사용자 인터페이스를 제공하는 데 사용된다. 이러한 제품에는 스마트폰, 스마트 시계, mp3 플레이어 및 컴퓨터 태블릿과 같은 모바일 장치가 포함된다. 이러한 디스플레이 물품은 또한 약간의 투명성, 내스크래치성, 내마모성 또는 이들의 조합으로부터 이익을 얻을 수 있다. 이러한 응용 분야는 최대 광 투과율과 최소 반사율 측면에서 내스크래치성 및 강력한 광학 성능 특성을 요구하는 경우가 많다. 또한, 일부 커버 적용의 경우, 반사 및/또는 투과에서 나타내거나 인지되는 색상이 시야각이 변경될 때 눈에 띄게 변경되지 않는 것이 유리하다. 디스플레이 응용 분야에서 이는 반사 또는 투과의 색상이 시야각에 따라 상당한 정도로 변하는 경우 제품 사용자가 디스플레이의 색상 또는 밝기의 변화를 인지하여 디스플레이의 인지 품질을 저하시킬 수 있기 때문이다. 다른 응용 분야에서 색상의 변화는 장치의 미적 외관이나 기타 기능적 측면에 부정적인 영향을 미칠 수 있다.
이러한 디스플레이 물품은 종종 패키징 제약이 있는 적용(예: 모바일 장치)에 사용된다. 특히, 이러한 적용 중 다수는 전체 두께 감소, 심지어 몇 퍼센트의 감소로부터 상당한 이점을 얻을 수 있다. 또한, 그러한 디스플레이 및 비-디스플레이 물품을 사용하는 많은 적용은 예를 들어 원자재 비용의 최소화, 공정 복잡성의 최소화 및 수율 향상을 통해 낮은 제조 비용으로부터 이점을 얻는다. 기존 디스플레이 및 비-디스플레이 물품에 필적하는 광학적 및 기계적 특성 성능 속성을 가진 더 작은 패키징은 또한 제조 비용 절감에 대한 요구에 부응할 수 있다(예: 원자재 비용 절감, 반사 방지 구조의 층 수 감소, 등을 통해서).
커버 디스플레이 물품의 광학 성능은 다양한 반사 방지 코팅을 사용하여 개선될 수 있으나, 알려진 반사 방지 코팅은 마멸(wear) 또는 마모(abrasion)되기 쉽다. 이러한 마모는 반사 방지 코팅에 의해 달성된 광학 성능 향상을 손상시킬 수 있다. 마모 손상에는 반대쪽 물체(예: 손가락)의 왕복 슬라이딩 접촉이 포함될 수 있다. 또한 마모 손상은 열을 발생시켜 막 재료의 화학적 결합을 저하시키고 커버 유리에 박리 및 기타 유형의 손상을 일으킬 수 있다. 마모 손상은 스크래치를 유발하는 단일 이벤트보다 장기간에 걸쳐 발생하는 경우가 많기 때문에 마모 손상이 발생한 코팅 재료도 산화되어 코팅의 내구성을 더욱 저하시킬 수 있다.
이러한 고려의 관점에서, 경면 반사 억제, 낮은 스파클 및 낮은 이미지 선명도를 포함하지만 이에 제한되지 않는 개선된 눈부심 방지 특성을 갖는 디스플레이 물품 및 기판에 대한 필요가 있다. 또한, 이러한 동일한 디스플레이 물품이 내마모성 및 반사 방지 광학 특성도 가질 필요가 있다.
본 개시의 일 관점에 따르면, 다음을 포함하는 디스플레이 물품이 제공된다: 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된(textured) 표면 영역; 및 상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅. 상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 추가로, 상기 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시(photopic) 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
본 개시의 또 다른 관점에 따르면, 다음을 포함하는 디스플레이 물품이 제공된다: 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역; 및 상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅. 상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 또한, 상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하며, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 추가로, 각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함한다. 추가로, 상기 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
본 개시의 또 다른 관점에 따르면, 다음을 포함하는 디스플레이 물품이 제공된다: 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의되는 조면화된 표면 영역; 및 기판의 주 표면에 의해 정의된 조면화된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅. 상기 조면화된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 20nm 내지 2000nm 제곱 평균 제곱근(root-mean-square, RMS) 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 추가로, 상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 추가로, 각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함한다. 추가로, 상기 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 1% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
추가적인 특징 및 장점은 다음의 상세한 설명에서 설명되며, 상기 설명으로부터 당업자에게 쉽게 명백해지거나 다음의 상세한 설명, 청구항 및 첨부된 도면을 포함하는, 본원에 기재된 바와 같은 구현예를 실행함으로써 인식될 것이다.
전술한 일반적인 설명 및 다음의 상세한 설명 모두가 단지 예시일 뿐이며, 개요 또는 프레임워크를 제공하여 청구된 본 개시의 본질 및 특징을 이해시키기 위한 것임이 이해된다.
첨부된 도면은 본 개시의 원리에 대한 추가 이해를 제공하기 위해 포함되며, 본 명세서에 통합되어 그 일부를 구성한다. 도면은 하나 이상의 구현예(들)를 예시하고, 설명과 함께, 예로서 본 개시의 원리 및 작동을 설명한다. 본 명세서 및 도면에 개시된 개시의 다양한 특징이 임의의 모든 조합으로 사용될 수 있음이 이해된다.
본 개시의 이들 및 다른 특징, 관점 및 이점은 본 개시의 다음의 상세한 설명을 첨부 도면을 참조하여 읽을 때 더 잘 이해된다:
도 1a는 본 개시의 일 구현예에 따른 디스플레이 물품의 단면 개략도이다.
도 1b는 본 개시의 일 구현예에 따른 디스플레이 물품의 단면 개략도이다.
도 1c는 본 개시의 일 구현예에 따른 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품의 단면 개략도이다.
도 1d는 본 개시의 일 구현예에 따른 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품의 단면 개략도이다.
도 2는 본 개시의 일 구현예에 따른 회절 눈부심 방지 구조의 단면 개략도이다.
도 3a 및 3b는 본 개시의 구현예에 따른 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조에 대한 구조 깊이의 함수로서 각각 반사 및 투과에서의 회절 효율의 플롯이다.
도 4a-4c는 본 개시의 구현예에 따라 각각 15%, 30% 및 70%의 충전율에서 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조에 대한 구조 깊이의 함수로서 반사에서의 회절 효율의 플롯이다.
도 5는 본 개시의 구현예에 따라 변화하는 입사광 파장을 갖는 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 표면에 대한 구조 깊이의 함수로서 반사에서의 회절 효율의 플롯이다.
도 6은 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품의 제조 방법의 개략적인 흐름도이다.
도 7a-7d는 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품에 사용되는 기판의 회절 표면 영역의 광학 현미경 사진이다.
도 8은 본 개시의 구현예에 따라 디스플레이 물품에 사용되는 기판의 회절 표면 영역의 2개의 구조적 특징부를 형성하기 위한 에칭 시간의 함수로서의 에칭 깊이의 플롯이다.
도 9a 및 9b는 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품에 사용되는 회절 표면 영역의 일부로서 상이한 크기 및 충전율을 갖는 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 이미지 선명도(DOI)의 플롯이다.
도 10a 및 10b는, 본 개시의 구현예에 따른, 디스플레이 물품에 사용되는 기판의 회절 표면 영역의 일부로서 상이한 크기 및 충전율을 갖는 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서의 픽셀 전력 편차(PPD140) 및 헤이즈의 플롯이다.
도 10c 및 10d는 본 개시의 구현예에 따르면, 디스플레이 물품에 사용된 기판의 회절 표면 영역의 일부로서 상이한 크기 및 충전율을 갖는 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서의 픽셀 전력 편차(PPD140) 및 헤이즈의 플롯이다.
도 11a는 본 개시의 일 구현예에 따른, 약 150 nm의 깊이 및 약 50%의 충전율을 갖는 구조적 특징부의 제1 세트를 갖는 회절 표면 영역의 광학 이미지 및 표면 높이 분포 바(bar)이다.
도 11b는 본 개시의 실시예에 따른, 상이한 회절 표면 영역을 갖는 3개의 물품에 대한 반사율의 진폭 대 반사율 각도(도)를 갖는 각도 플롯이다.
도 12는 본 개시의 일 구현예에 따른, 회절 표면 영역을 갖는 디스플레이 물품에 대한 반사율의 진폭 대 반사율 각도를 갖는 각도 플롯이다.
도 13a 및 도 13b는 본 개시의 일 구현예에 따른, 디스플레이 물품을 제조하는 방법에 사용되는 에칭제 및 마스크를 제거하기 전과 후, 회절 표면 영역을 갖는 디스플레이 물품의 광학 이미지이다.
도 14는 본 개시의 일 구현예에 따른, 디스플레이 물품의 회절 표면 영역의 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 이미지 선명도(DOI)의 플롯이다.
도 15는 본 개시의 구현예에 따라 육각형성(hexagonality, H)을 나타내기 위해 육각형 패턴으로 배열된 회절 표면 영역의 7개의 구조적 특징부의 개략도이다.
도 16a 및 16b는 각각 본 개시의 일 구현예에 따른, 디스플레이 물품의 회절 표면 영역의 최근접 이웃 분포 및 패턴 주기도 플롯이다.
도 17a 및 17b는 각각 본 개시의 일 구현예에 따른, 디스플레이 물품의 회절 표면 영역의 최근접 이웃 분포 및 패턴 주기도 플롯이다.
도 18a는 본원에 개시된 임의의 물품을 포함하는 예시적인 전자 장치의 평면도이다.
도 18b는 도 18a의 예시적인 전자 장치의 사시도이다.
도 19는 본 개시의 일 구현예에 따른 디스플레이 물품의 탄성 계수 및 경도 대 만입 깊이의 플롯이다.
도 20a는 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품 및 비교용 디스플레이 물품의 제1 표면 경면 반사율 대 파장의 플롯이다.
도 20b 및 20c는 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품 및 비교용 디스플레이 물품의 경면 반사율 측정의 개략도이다.
도 21은 본 개시의 구현예에 따른 디스플레이 물품의 2면 총 투과율 대 파장의 플롯이다.
도 22a-22c는 본 개시의 구현예에 따른 다양한 입사각에 대한 제1 표면 경면 반사율 대 파장의 플롯이다.
도 23은 본 개시의 구현예에 따른 6"의 입사도에 대한 2면 경면 반사율 대 파장의 플롯이다.
도 24는 본 개시의 디스플레이 물품의 광학 특성을 측정하기 위한 광학 설정의 개략도이다.
다음의 상세한 설명에서, 제한이 아니라 설명의 목적으로, 특정 세부사항을 개시하는 예시적인 구현예가 제시되어 본 개시의 다양한 원리의 완전한 이해를 제공한다. 그러나 본 개시의 이점을 갖는 당업자에게는 본 개시가 본원에 개시된 특정 세부 사항에서 벗어나는 다른 구현예에서 실시될 수 있음이 명백할 것이다. 또한, 잘 알려진 장치, 방법 및 재료에 대한 설명은 본 개시의 다양한 원리에 대한 설명을 모호하게 하지 않기 위해 생략될 수 있다. 마지막으로, 적용 가능한 경우, 동일한 참조 번호는 동일한 요소를 지칭한다.
범위는 "약" 하나의 특정 값, 및/또는 "약" 또 다른 특정 값으로 본원에서 표현될 수 있다. 이러한 범위가 표현되는 경우, 다른 구현예는 하나의 특정 값에서 및/또는 다른 특정 값까지를 포함한다. 유사하게, 선행사 "약"을 사용하여, 값들이 근사치로 표현될 때, 특정 값이 다른 구현예를 형성한다는 것이 이해될 것이다. 각각의 범위의 끝점이 다른 끝점과 관련하여, 그리고 다른 끝점과 독립적으로 모두 중요하다는 것이 더욱 이해될 것이다.
예를 들어, "위", "아래", "오른쪽", "왼쪽", "앞", "뒤", "상단", "하단"와 같이 본원에서 사용되는 방향 용어는 단지 도면을 참조하여 만들어진 것이며, 절대적인 방향을 의미하는 것은 아니다.
달리 명시되지 않는 한, 본원에 제시된 방법이 이의 단계를 특정 순서로 수행되기를 요구하는 것으로 해석되는 것은 의도되지 않는다. 따라서, 방법 청구항이 그 단계에 따라야 할 순서를 실제로 언급하지 않거나, 또는 단계가 특정 순서로 제한된다는 것이 청구항 또는 설명에서 달리 구체적으로 언급되지 않는 경우, 어떤 식으로든 순서가 추론되도록 의도되지 않는다. 이는 다음을 포함하는, 해석에 대한 모든 가능한 비명시적 근거에 적용된다: 단계 배열 또는 작업 흐름과 관련된 논리 문제; 문법적 구성 또는 구두점에서 파생된 일반 의미; 명세서에 기술된 구현예의 수 또는 유형.
본원에 사용되는, 표현 '하나' 및 '상기'는 문맥상 명백하게 달리 지시하지 않는 한, 복수 지시대상을 포함한다. 따라서, 예를 들어, "구성요소"에 대한 언급은 문맥상 명백하게 달리 나타나지 않는 한, 둘 이상의 이러한 구성요소를 갖는 관점을 포함한다.
본원에서 사용되는, 표현 "평균 텍스처 높이(Rtext)"는 본 개시의 디스플레이 물품의 기판의 주 표면의 텍스처링된 표면 영역의 구조적 특징의 특성이며 나노미터(nm) 단위로 보고된다. 또한, 조면화된 표면 영역을 포함하는 텍스처링된 표면 영역(예를 들어, 에칭 및/또는 샌드블라스팅 공정을 통해 생성됨)에 대해, Rtext는 조면화된 표면 영역의 평균 표면 거칠기(Rq)로 정의되며 평균 제곱근(RMS) 나노미터(nm) 단위로 보고될 수 있다. 회절 표면 영역을 포함하는 텍스처링된 표면 영역에 대해, 본원에 기술된 바와 같이, Rtext는 회절 표면 영역과 관련된 구조적 특징부(예를 들어, 기둥, 구멍 등)의 2개의 높이 또는 깊이 사이의 평균 높이 차이로 정의된다.
본원에서 사용되는 표현 "베르코비치 압자 경도 시험"은 다이아몬드 베르코비치 압자로 재료의 표면을 압입하여 표면의 경도를 측정하는 것을 포함한다. 베르코비치 압자 경도 시험은 약 50 nm 내지 약 1000 nm 범위(또는 반사 방지 코팅 또는 층의 전체 두께 중 더 작은 것)에서 압입 깊이까지 압입을 형성하기 위해 다이아몬드 베르코비치 압입자로 본 개시의 디스플레이 물품(100)의 반사 방지 코팅(60)의 공기측 표면(61)(도 1c-1e 및 상응하는 설명 참조)을 압입하는 단계 및 이 만입 깊이(예를 들어, 약 100 nm 내지 약 500 nm의 깊이 범위에서)의 지정된 세그먼트를 따라, 또는 특정 만입 깊이에서(예를 들어, 100 nm의 깊이에서, 500 nm의 깊이에서 등) 일반적으로 다음의 방법을 사용하여 전체 압흔 깊이 범위를 따라 다양한 지점에서 이 압흔으로부터 경도를 측정하는 단계를 포함한다: Oliver, W.C.; Pharr, G. M., "An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments", J. Mater. Res., Vol. 7, No. 6, 1992, 1564-1583; and Oliver, W.C. 및 Pharr, G.M, "Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology", J. Mater. Res., Vol. 19, No. 1, 2004, 3-20. 또한, 경도가 만입 깊이 범위(예를 들어, 약 100nm 내지 약 500nm의 깊이 범위)에 걸쳐 측정될 때, 그 결과는 지정된 범위 내의 최대 경도로 보고될 수 있으며, 최대값은 해당 범위 내의 각 깊이에서 취해지는 측정치에서 선택된다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "경도" 및 "최대 경도"는 경도 값의 평균이 아니라 측정된 경도 값을 지칭한다. 유사하게 압입 깊이에서 경도를 측정할 때 Berkovich Indenter Hardness Test에서 얻은 경도 값은 특정 압입 깊이에 대해 제공된다.
본 개시의 관점는 일반적으로 기계적 강도 및 내마모성과 함께 반사 방지(AR) 및 눈부심 방지(AG) 광학 특성의 조합을 갖는 디스플레이 물품에 관한 것이다. 이러한 디스플레이 물품은 AR 또는 AG 성질 및 특성만을 갖는 물품에 비해 유리하게 더 낮은 제1 표면 경면 반사율 수준(예를 들어, 0.015% 만큼 낮음)을 가지며, 이는 또한 더 높은 디스플레이 명암비, 색역 및 중성 반사 색상 수준을 용이하게 한다. 보다 구체적으로, 디스플레이 물품은 박형의 내구성 있는 다층 AR 코팅을 갖는 하나 이상의 텍스처링된 AG 기판 표면(예를 들어, 회절, 조면화된 및 다른 텍스처링된 모폴로지)을 갖는다. 또한, 이러한 물품의 AG 텍스처링된 표면 영역은 투과 및 반사 모두에서 빛을 산란시킬 수 있으므로 디스플레이에서 묻힌 반사의 외관을 감소시킬 수도 있다. 또한, 이러한 디스플레이 물품 및 기판은 낮은 픽셀 전력 편차(PPD140) 및 낮은 투과 헤이즈와 같은 눈부심 방지 특성을 갖는 텍스처링된 표면 영역을 사용한다. 이러한 디스플레이 물품은 또한 몇몇 구현예에서 50 nm 이상의 만입 깊이를 따라 베르코비치 압자 경도 시험에 의해 측정된 바와 같이 제품이 8GPa 이상의 최대 경도를 나타낼 수 있게 하는 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 갖는 AR 코팅을 포함한다. 텍스처링된 표면 영역은 이를 사용하는 디스플레이 물품이 5% 미만의 PPD140 및 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타내도록 할 수 있다.
본 개시의 관점은 일반적으로 회절, 눈부심 방지 표면을 갖는 디스플레이 물품 및 이를 제조하는 방법, 구체적으로 회절 표면 영역 및 눈부심 방지 특성을 갖는 하나 이상의 주 표면을 갖는 기판을 포함하는 디스플레이 물품에 관한 것이다. 일반적으로, 본 개시의 디스플레이 물품 및 기판은 낮은 이미지 선명도(DOI), 낮은 픽셀 전력 편차(PPD140) 및 낮은 투과 헤이즈와 같은, 눈부심 방지 특성을 갖는 엔지니어링된 회절 표면 영역을 사용한다. 이들 각각의 눈부심 방지 특성은 디스플레이 적용에 바람직하며, 종래의 접근법은 이러한 눈부심 방지 특성의 조합을 달성하지 못했다. 본 개시의 관점에 따른 회절 표면 영역은 100 ㎛ 미만의 직경, 125 ㎛ 미만의 피치 및 40 내지 55%의 충전율을 갖는 홀 및/또는 필러와 같은 구조적 특징부를 갖는다. 이들 홀 및/또는 필러를 포함하는 회절 표면 영역은, 이들을 사용하는 디스플레이 물품이 80% 미만의 1차 표면 반사율 DOI, 4% 미만의 PPD140 및 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타내도록 할 수 있다. 또한, 이러한 특성은 회절 표면 영역 위에 임의의 반사 방지 코팅 구조의 추가로 존재 없이도 달성될 수 있다. 또한, 회절 표면 영역은, 일부 구현예에서, 120 내지 200 nm의 높이 및/또는 깊이를 갖는 표면 높이의 다중 모드 분포(예를 들어, 이중 모드 분포)를 가질 수 있으며, 이는 회절 간섭을 통해 경면 반사율을 감소시킬 수 있다.
회절 표면 영역을 포함하는, 본 개시의 디스플레이 물품은 반사 방지 특성을 달성하기 위해 종래의 접근법을 갖는 디스플레이 물품에 비해 몇 가지 이점을 제공한다. 예를 들어, 본 개시의 디스플레이 물품은 회절 광산란을 사용하여, 10배 이상 경면 반사율을 억제할 수 있으며, 또한 낮은 헤이즈, 낮은 스파클, 및 높은 기계적 내구성의 조합을 달성할 수 있다. 높은 기계적 내구성은 회절 표면 영역의 구조적 특징부의 상대적으로 낮은 종횡비와 관련이 있다. 또한, 본 개시에 따른 일부 디스플레이 물품은 회절 표면 영역 및 다층 반사 방지 코팅 구조를 사용하여 20배, 50배, 또는 심지어 100배 이상의 경면 감소를 달성한다. 본 개시의 디스플레이 물품의 또 다른 이점은 회절 표면 영역의, 1 마이크론 미만, 또는 250 nm 미만의 제어된 구조 깊이와 함께, 평면 계단형 및 반평면 모폴로지가 종래 에칭된, 눈부심 방지 유리 기판에 비해 유리 재료 및 에칭 화학물질(HF와 같은)를 훨씬 적게 사용하여 이들을 쉽게 제작할 수 있게 하여 환경 폐기물 감소 및 잠재적 비용 이점으로 유도한다는 것이다. 다양한 공정이 이들 구조를 생성하기 위해 사용될 수 있고(예컨대, 유기 마스크 및 에칭, 유기 마스크 및 증착, 유기 마스크 및 액상 침착 산화물), 이는 낮은 제조 비용을 유지하는 데 도움을 줄 수 있다. 이러한 디스플레이 물품의 또 다른 장점은 이들이 종래의 눈부심 방지 접근법으로는 달성할 수 없는 눈부심 방지, 광학 특성의 조합을 나타낼 수 있다는 것이다. 예를 들어, 회절 표면 영역을 혼입하는 본 개시의 디스플레이 물품은 80% 미만의 DOI, 2% 미만의 PPD140 및 5% 미만의 헤이즈를 달성한다.
도 1a 및 1b를 참조하면, 디스플레이 물품(100)은 복수의 주 표면(12 및 14) 및 소정의 두께(13)를 갖는 기판(10)을 포함하는 것으로 도시된다. 기판(10)의 주 표면(12)은 또한 회절 표면 영역(30a)을 포함한다. 따라서, 주 표면(12)은 회절 표면 영역(30a)이 도 1a에 도시된 바와 같이 기판(10)으로부터 또는 기판(10)의 일부로부터 형성되도록 그 위에 정의된 회절 표면 영역(30a)을 갖는다. 일부 구현(미도시)에서, 회절 표면 영역(30a)은 또한 기판(10)의 주 표면(14)에 의해 정의될 수 있다. 또한, 일부 구현에서, 회절 표면 영역(30a)은 주 표면(12 및 14) 모두에 의해 정의된다. 또한 도 1a에 도시된 바와 같이, 회절 표면 영역(30a)은 다중 모드 분포에서 복수의 상이한 높이 및/또는 깊이를 포함하는 복수의 구조적 특징부(20)를 포함한다.
도 1a 및 도 1b에 도시된 회절 표면 영역(30a)을 다시 참조하면, 이는 기판(10)의 주 표면(12) 위 또는 아래에 몇 개의 가능한 개별 높이 또는 깊이 레벨의 고정된 세트를 갖는 원형 필러 또는 홀(즉, 구조적 특징부(20))로 구성된 표면을 기술할 수 있다. 각 피처(20)는, 일부 경우에서, 단일 높이 또는 깊이를 특징으로 하는 평면 상단을 가질 수 있다. 이들 특징부(20)는 동일하거나 한정된 수의 상이한 직경을 가질 수 있다. 특징부(20)의 배치는 랜덤일 수 있지만, 이는 설계에 의한 것이거나 의도적으로 엔지니어링된 것이며 제조 공정의 랜덤 기능은 아니다. 제조 공정은 몇몇 형태의 정밀하고 엔지니어링된 마스킹을 사용하여 설계된 특징부 형상을 정확하게(일부 허용 오차 내에서) 생성할 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, "다중 모드 분포"에서 복수의 상이한 높이를 갖는 복수의 구조적 특징부(20)(도 1a 및 도 1b에 예시적인 형태로 도시됨)를 갖는 회절 표면 영역(30a)은 회절 표면 영역이 주로 2개(예컨대 이중 모드 분포), 3개(예컨대, 삼중 모드 분포), 4개, 5개 또는 그 이상의 뚜렷하고 의도적으로 엔지니어링된 평균 또는 주 높이로 이루어짐을 의미하고, 이러한 평균 또는 주 높이는 각각 너비가 높이들 사이의 수직 분리보다 작거나 비슷한 분포로 이루어진다. 도 1a 및 도 1b를 다시 참조하면, 예시적인 회절 표면 영역(30a)은 이중 모드 분포에서 복수의 높이 및/또는 깊이를 포함한다. 또한, 본원에서 사용된 바와 같이, "이중 모드 분포"는 회절 표면 영역(30a)이 주로 두 개의 뚜렷하고 의도적으로 엔지니어링된 평균 또는 주 높이로 이루어짐을 의미하고, 이러한 평균 또는 주 높이들 각각은 너비가 높이들 사이의 수직 분리보다 작거나 비슷한 분포로 이루어진다.
구현예에서, 복수의 구조적 특징부(20)는 필러 및/또는 홀을 포함하고 이러한 필러 및/또는 홀은 표면 높이 및/또는 깊이의 다중 모드 분포를 구성한다. 일부 구현에 따르면, 회절 표면 영역(30a)은 원형, 정사각형, 육각형, 다각형 또는 불규칙한 구조적 특징부(20)의 2차원 어레이를 포함할 수 있다.또한, 이러한 구조적 특징부(20)는 정렬된 또는 반정렬된 어레이 - 재현 가능하게 제조되고 그 기능에 대해 제조 공정 랜덤성에 의존하지 않는 임의의 다양한 어레이 체계로 배열될 수 있다. 이와 같이, 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현예에서, 회절 표면 영역(30a)은 다중 모드 분포로 복수의 상이한 높이를 포함하고 반정렬 또는 정렬 어레이로 표면 영역(30a)에 걸쳐 분포되는 복수의 구조적 특징부(20)를 포함한다.
도 1a 및 1b의 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 기판(10)은 법선으로부터 0˚의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 4% 미만의 스파클을 나타낼 수 있다. 기판(10)은 또한 법선으로부터 20˚의 입사각에서 80% 미만의 DOI를 나타낼 수 있다. 또한, 디스플레이 물품(100)의 기판(10)은 법선으로부터 0˚의 입사각으로부터 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낼 수 있다. 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현예는 또한 이들 광학 특성의 조합을 나타낼 수 있다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현에 따르면, 회절 표면 영역(30a)의 다중 모드 분포는 제1 평균 높이(24a)(또는, 상호교환적으로 제1 평균 깊이(24a)로 지칭됨)의 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a') 및 제2 평균 높이(24b)(또는, 상호교환적으로 제1 평균 깊이(24b)로 지칭됨)의 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')을 더욱 포함한다. 디스플레이 물품(100)의 구현예에 따르면, 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a')은 도 1a에 예시적인 형태로 도시된 바와 같이, 필러(22a)일 수 있다. 디스플레이 물품(100)의 구현예에 따르면, 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a')은 도 1b에 예시적인 형태로 도시된 바와 같이, 홀(22a')일 수 있다. 이들 구현예 중 일부에 따르면, 구조적 관점에서, 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')은 한 세트의 리가멘트(ligaments)(22b)(예컨대, 필라(22a) 사이에 위치된 도 1에 도시된 바와 같은) 또는 메사(mesas)(22b')(예컨대, 홀(22a') 사이에 위치된 도 1b에 도시된 바와 같은)일 수 있다. 구현에 따르면, 리가멘트(22b)는, 제1 부분이 필러(22a)로 구성될 때, 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a') 사이의 리가멘트, 매트릭스, 또는 기타 유사한 구조일 수 있다. 또한, 메사(22b')는 제1 부분이 홀(22a')로 구성될 때, 구조적 특징부 제1 부분(22a, 22a') 사이의 메사, 플래토(plateaus), 매트릭스, 또는 기타 유사한 구조일 수 있다. 그러나, 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a')과 같은 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')이 제2 평균 표면 높이(24b)를 갖는 표면 높이의 분포를 포함한다는 것도 이해되어야 한다. 또한, 필러(22a)의 제1 평균 높이(24a) 또는 홀(22a')의 제1 평균 깊이(24a)는 회절 표면 영역(30a)의 구성에 따라 약 25 nm 내지 약 300 nm, 약 50 nm 내지 약 250 nm, 약 75 nm 내지 약 225 nm, 약 100 nm 내지 약 200 nm, 약 120 nm 내지 약 180 nm, 또는 약 130 nm 내지 약 170 nm 범위일 수 있다.
앞서 언급한 바와 같이, 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)은 다중 모드 분포로 상이한 높이의 복수의 구조적 특징부(20)를 포함할 수 있는 회절 표면 영역(30a)을 갖는 기판(10)을 포함한다. 상기 다중 모드 분포는 복수의 표면 높이 모드를 가질 수 있으며, 예를 들어, 상기 분포는 이중 모드 (예를 들어, 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a') 및 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')을 가짐), 삼중 모드, 사중 모드, 오중 모드 등일 수 있다. 구현예에서, 회절 표면 영역(30a)은 각각의 이러한 모드가 표면 높이의 분포 내에서 표면 높이의 별개의 피크 vs. 면적 비율을 특징으로 하도록 구성된다. 이들 피크는 각각의 모드와 관련된 별개의 피크 사이의 피크 표면 높이 값으로부터 적어도 20%, 적어도 50% 또는 적어도 80%의 면적 분율 감소에 의해 구별될 수 있다. 또한, 각 모드의 피크는 다양한 폭을 가질 수 있으며 면적 비율은 분포의 피크 사이에서 0으로 떨어질 필요가 없다. 그러나 일부 구현예에서, 표면 높이 대 면적 차트 상의 각각의 피크 사이의 높이에 대한 면적 비율은 0으로 떨어지거나 0에 근접할 수 있다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 회절 표면 영역(30a)의 다중 모드 분포는 제1 평균 높이(24a) 및 제2 평균 높이(24b) 사이의 차이가 약 25 nm 내지 약 300 nm, 약 50 nm 내지 약 250 nm, 약 75 nm 내지 약 225 nm, 약 100 nm 내지 약 200 nm, 약 120 nm 내지 약 200 nm, 약 120 nm 내지 약 180 nm, 또는 약 130 nm 내지 약 170 nm인 것을 더욱 특징으로 할 수 있다. 예를 들어, 제1 평균 높이(24a) 및 제2 평균 높이(24b) 사이의 차이는 약 25 nm, 50 nm, 75 nm, 100 nm, 125 nm, 150 nm, 175 nm, 200 nm, 225 nm, 250 nm, 275 nm, 300 nm, 및 상술한 수준 사이의 모든 높이 차이일 수 있다. 일부 구현예에서, 제1 평균 높이(24a) 및 제2 평균 높이(24b) 사이의 차이는 공기 중의 가시광 파장의 약 1/4, 또는 가시광선 파장의 1/4의 홀수 배수(odd multiples)에 해당하는 범위에 있을 수 있다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 구현예는 회절 표면 영역(30a)이 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a')의 제1 평균 높이(24a)에 대응하는 제1 평면 영역(21a) 및 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')의 제2 평균 높이(24b)에 대응하는 제2 평면 영역(21b)을 포함하도록 구성된다. 즉, 각각의 제1 및 제2 평면 영역(21a, 21b)은 이들 영역이 동일한 표면 높이에 가깝다는 의미에서 평면이다(즉, 복수의 구조적 특징부(20)의 표면 높이의 표면 높이 vs. 면적 비율 분포의 한 모드 내에서). 또한, 이들 각각의 평면 영역(21a 및 21b)은 50 nm 제곱 평균 제곱근(root-mean-square, RMS) 변동 미만, 20nm RMS 미만, 10nm RMS 미만, 5nm RMS 미만, 2nm RMS 미만 또는 1nm RMS 미만의 평면 영역 내의 표면 높이 변동(또는 거칠기)을 특징으로 할 수 있다. 예를 들어, 이들 평면 영역(21a 및 21b) 각각은 0.1nm RMS 내지 50nm RMS, 0.1nm RMS 내지 20nm RMS, 0.1nm RMS 내지 10nm RMS, 또는 0.1nm RMS 내지 1nm RMS의 표면 높이 변동을 특징으로 할 수 있다. 또한, 일부 구현예에 따르면, 평면 영역(21a 및 21b)은 또한 개별 하위 영역 또는 5㎛2 초과, 10㎛2 초과, 20㎛2 초과, 50㎛2 초과, 또는 100㎛2 초과의 각 도메인 내의 평균 면적을 갖는 도메인(미도시)을 포함할 수 있다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현예에 따르면, 앞서 언급한 바와 같이, 회절 표면 영역(30a)은 둘 이상의 평면 영역(예컨대, 제1 및 제2 평면 영역(21a 및 21b))을 포함할 수 있다. 또한, 이들 각각의 평면 영역(예를 들어, 플래토, 메사 등)은 실질적으로 평면일 수 있는데, 이는 회절 표면 영역(30a)의 50% 이상, 80% 이상 또는 90% 이상이 평면임을 의미한다. 일부 구현예에서, 제1 및 제2 평면 영역(21a, 21b)의 총 표면적은 회절 표면 영역(30a)의 총 표면적의 적어도 50%, 적어도 60%, 적어도 70%, 적어도 80%, 또는 적어도 90%이다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현에 따르면, 물품은 낮은 레벨의 스파클을 특징으로 한다. 일반적으로, 이들 물품의 기판(10)과 관련된 회절 표면 영역(30a)은 "스파클"이라고 불리는 이미지 아티팩트(artifact)를 야기하는 광 편향을 생성할 수 있다. 디스플레이 "스파클" 또는 "다즐(dazzle)"은 예를 들어, LCD, OLED, 터치 스크린 등과 같은 픽셀화된 디스플레이 시스템에 눈부심 방지 또는 광산란 표면을 도입할 때 발생할 수 있는 일반적으로 바람직하지 않은 부작용이고, 프로젝션 또는 레이저 시스템에서 관찰되고 특성화되는 "스파클" 또는 "스펙클(speckle)"의 유형과 기원이 상이하다. 스파클은 디스플레이의 매우 미세한 입자 모양과 관련이 있으며 디스플레이의 시야각 변화에 따라 입자 패턴이 변하는 것처럼 보일 수 있다. 디스플레이 스파클은 대략 픽셀 수준 크기 척도에서 밝고 어두운 점 또는 유색 점으로 나타날 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "픽셀 전력 편차" 및 "PPD140"이라는 용어는 디스플레이 스파클에 대한 정량적 측정을 지칭한다. 또한, 본원에서 사용되는 "스파클"이라는 용어는 "픽셀 전력 편차" 및 "PPD140"과 상호교환적으로 사용된다. PPD140은 다음 절차에 따라 디스플레이 픽셀의 이미지 분석으로 계산된다. 그리드 상자가 각 LCD 픽셀 주위에 그려진다. 그런 다음 각 그리드 상자 내의 총 전력이 전하-결합 장치(charge-coupled device, CCD) 카메라 데이터에서 계산되고 각 픽셀의 총 전력으로 할당된다. 따라서 각 LCD 픽셀의 총 전력은 평균 및 표준 편차를 계산할 수 있는 숫자의 어레이가 된다. PPD140 값은 픽셀당 총 전력의 표준 편차를 픽셀당 평균 전력으로 나눈 값(100배)으로 정의된다. 아이(eye) 시뮬레이터 카메라에 의해 각 LCD 픽셀에서 수집된 총 전력이 측정되고 총 픽셀 전력의 표준 편차(PPD140)가 일반적으로 약 30×30 LCD 픽셀을 포함하는 측정 영역에서 계산된다.
PPD140 값을 얻기 위해 사용되는 측정 시스템 및 이미지 처리 계산의 세부 사항은 "Apparatus and Method for Determining Sparkle"이라는 명칭의 미국 특허 번호 9,411,180에 설명되어 있으며, PPD 측정과 관련된 두드러진 부분은 전체적으로 참조로 본원에 통합된다. 또한, 달리 언급되지 않는 한, SMS-1000 시스템(Display-Messtechnik & Systeme GmbH & Co. KG)이 사용되어 본 개시의 PPD140 측정을 생성하고 평가한다. PPD140 측정 시스템은 다음을 포함한다: 복수의 픽셀을 포함하는 픽셀화된 소스(예를 들어, Lenovo Z50 140ppi 랩탑), 여기서 복수의 픽셀 각각은 참조 인덱스 i 및 j를 가지며; 및 픽셀화된 소스로부터 발생하는 광경로를 따라 광학적으로 배치된 이미징 시스템. 이미징 시스템은 광학 경로를 따라 배치되고 제2 복수의 픽셀을 포함하는 픽셀화된 민감 영역을 갖는 이미징 장치, 여기서 제2 복수의 픽셀 각각은 인덱스 m 및 n으로 참조되고; 및 픽셀화된 소스와 이미징 장치 사이의 광학 경로 상에 배치된 다이어프램을 포함하며, 다이어프램은 픽셀화된 소스에서 발생하는 이미지에 대해 조정 가능한 수집 각도를 갖는다. 이미지 처리 계산은 투명 샘플의 픽셀화된 이미지를 획득하는 단계, 픽셀화된 이미지는 복수의 픽셀을 포함하며; 픽셀화된 이미지에서 인접한 픽셀 사이의 경계를 결정하는 단계; 픽셀화된 이미지의 각 소스 픽셀에 대한 통합된 에너지를 얻기 위해 경계 내에서 통합하는 단계; 및 각각의 소스 픽셀에 대한 통합된 에너지의 표준 편차를 계산하는 단계를 포함하며, 표준 편차는 픽셀당 전력 분산이다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 모든 "PPD140" 및 "스파클" 값, 속성 및 한계는 인치당 140픽셀(PPI)의 픽셀 밀도를 갖는 디스플레이 장치(본원에서 "PPD140"이라고도 함)를 사용하는 시험 설정으로 계산 및 평가된다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현에 따르면, 기판 (10)은 140ppi LCD 디스플레이로 법선으로부터 0˚의 입사각에서 PPD140으로 측정될 때, 4%, 3.5%, 3%, 2.5%, 2%, 1.5%, 1%, 0.5 미만의 스파클 및 상기 레벨 사이의 모든 스파클 임계값을 나타낸다. 예를 들어, 기판(10)은 법선으로부터 0˚의 입사각에서 PPD140으로 측정될 때, 3.5%, 3.25%, 3%, 2.75%, 2.5%, 2.25%, 2%, 1.75%, 1.5%, 1.25%, 1%, 0.75%, 0.5%의 스파클 및 상기 레벨 사이의 모든 스파클 값을 나타낼 수 있다.
도 1a 및 도 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 물품은 또한 낮은 이미지 선명도(DOI) 값으로 나타나는 바와 같이 최적의 눈부심 방지 성능을 위해 구성될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "DOI"는 100*(Rs- R0.3˚)/Rs이고, 여기서 Rs는 본 개시의 디스플레이 물품(100)의 회절 표면 영역(30a)으로 향하는 입사광(법선으로부터 20˚)으로부터 측정된 경면 반사 플럭스이고, R0.3˚는 경면 반사 플럭스 Rs에서 0.3˚에서 동일한 입사광으로 측정된 반사 플럭스이다. 달리 언급되지 않는한, 본 개시에서 보고된 DOI 값 및 측정은 "Standard Test Method for Instrumental Measurement of Distinctness-of-Image (DOI) Gloss of Coated Surfaces using a Rhopoint IQ Gloss Haze & DOI Meter” (Rhopoint Instruments Ltd.)"로 명명된 ASTM D5767-18에 따라 얻어진다. 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현예에 따르면, 기판(10)은 법선에서 20˚의 입사각에서 측정된 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65%, 60%, 55%, 50%, 45%, 40% 미만의 DOI 및 상기 레벨 사이의 모든 DOI 임계값을 나타낸다. 예를 들어, 기판(10)은 법선으로부터 20˚의 입사각에서 측정된 87.5%, 85%, 82.5%, 80%, 77.5%, 75%, 72.5%, 70%, 67.5%, 65%, 62.5%, 60%, 57.5%, 55%, 52.5%, 50%, 47.5%, 45%, 42.5%, 40%의 DOI 및 상기 레벨 사이의 모든 DOI 값을 나타낼 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "투과 헤이즈" 및 "헤이즈"는 "Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics"로 명명된 ASTM D1003에 따라 약 ±2.5°의 각뿔 외부에서 산란되는 투과 광의 백분율을 지칭하며, 그 내용은 전체가 본원에 참조로서 통합된다. 광학적으로 매끄러운(smooth) 표면의 경우, 투과 헤이즈는 일반적으로 0에 가깝다. 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현에 따르면, 물품은 20% 미만의 헤이즈를 특징으로 할 수 있다. 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현에 따르면, 기판(10)은 또한 법선으로부터 0˚의 입사각에서 측정된, 20%, 15%, 10%, 5% 미만의 투과 헤이즈 및 전술한 레벨 사이의 모든 헤이즈 임계값을 나타낼 수 있다. 예로서, 기판(10)은 법선으로부터 0˚의 입사각에서 측정된 17%, 16%, 15%, 14%, 13%, 12%, 11%, 10%, 9%, 8%, 7%, 6%, 5%, 4%, 3%, 2%, 1%의 투과 헤이즈 및 상기 레벨 사이의 모든 헤이즈 값을 나타낼 수 있다.
도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현에 따르면, 기판(10)의 회절 표면 영역(30a)은 경면 반사율(Rs) 및 절대 경면 반사율(%R)을 감소시킬 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "경면 반사율(Rs)"은 +/- 0.1˚의 원뿔 각도 내에서의 기판(10)의 제1 표면(예를 들어, 주 표면(12))으로부터의 전체 반사 광으로 정의되거나, 상기 경면 각도 범위 내 광의 피크 강도로 정의된다. 또한, Rhopoint IQ 미터는 20˚ 입사각에서 조명되고 후면 반사율이 없는 1.567의 인덱스를 갖는 평면 유리에 대해 최대 100으로 정규화되는 광택 단위의 Rs 값을 보고한다. 이와 같이, 유리는 4.91%의 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)을 갖는 것으로 알려져 있으며, Rhopoint IQ 미터에 의해 보고된 광택 단위(gloss units, GU)의 Rs 값은 4.91/100의 계수를 곱함으로써 절대 경면 반사율(%R)로 전환될 수 있다. 이와 같이, 디스플레이 물품(100)의 구현은 이들이 회절 표면 영역(30a)이 없는 기판의 동일한 표면에 비해 2배, 4배, 5배 또는 10배 이상의 경면 반사율(Rs) 또는 절대 경면 반사율(%R)의 감소를 나타내도록 구성된다. 구현예들에서, 회절 표면 영역(30a)을 포함하는 기판(10)(예를 들어, 약 1.51의 굴절률을 갖는 유리 조성물)은 450nm 및 650nm 사이의 파장에서, 법선으로부터 20˚의 입사각에서 측정될 때, 2% 미만, 1.5% 미만, 1% 미만, 0.8% 미만, 0.6% 미만, 0.5% 미만, 0.4% 미만 또는 심지어 0.25% 미만의 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)을 나타낼 수 있다.
도 1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현에 따르면, 반사 방지 코팅(60)의 구조는 하기 표 1A에 나열된 디자인으로 구성될 수 있다. 이 구현에서, 반사 방지 코팅(60)은 260.5 nm의 총 두께를 갖고, 105.9 nm 두께 및 SiOxNy 조성을 갖는 내스크래치성 층을 사용한다.
표 1A
Figure pct00001
도 1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 다른 구현에 따르면, 반사 방지 코팅(60)의 구조는 하기 표 1B에 나열된 디자인으로 구성될 수 있다. 이 구현에서, 반사 방지 코팅(60)은 338.4nm의 총 두께를 갖고, 158.5nm의 두께와 SiNx 조성을 갖는 스크래치 방지층을 사용한다.
표 1B
Figure pct00002
도 1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 추가 구현에 따르면, 반사 방지 코팅(60)의 구조는 하기 표 1C에 나열된 디자인으로 구성될 수 있다. 이 구현에서, 반사방지 코팅(60)은 301.48nm의 총 두께를 갖고, 135.0nm의 두께와 SiNx 조성을 갖는 스크래치 방지층을 사용한다.
표 1C
Figure pct00003
도 1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 추가 구현에 따르면, 반사 방지 코팅(60)의 구조는 하기 표 1D에 나열된 디자인으로 구성될 수 있다. 이 구현에서, 반사 방지 코팅(60)은 295.5 nm의 총 두께를 갖고, 128.0 nm 두께 및 SiNx 조성을 갖는 스크래치 방지층을 사용한다.
표 1D
Figure pct00004
이제 도 1d를 참조하면, 디스플레이 물품(100)은 (다음 섹션에서 달리 언급하지 않는 한) 실질적으로 동일한 기능, 구조 및 속성을 갖는 동일한 번호의 부재를 갖는, 도 1c에 도시된 디스플레이 물품(100)과 동일한 특징 및 속성을 가지고 도시되어 있다. 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 디스플레이 물품(100)의 눈부심 방지 효과를 추가로 개선하기 위해 기판(10)의 주 표면(12) 상에 배치되는, 도 1c의 물품(100)에 사용된 코팅(60)과 동일하거나 실질적으로 유사한 반사방지 코팅(60)을 사용한다. 그러나, 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 도 1c에 도시된 물품(100)에 의해 채용된 회절 표면 영역(30a)과는 대조적으로 기판(10)의 주 표면(12)에 의해 정의되는 조면화된 표면 영역(30b)을 사용한다. 따라서, 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)의 반사방지 코팅(60)은 조면화된 표면 영역(30b) 상에 배치된다.
다시 도 1d를 참조하면, 조면화된 표면 영역(30b)은 복수의 구조적 특징부(20)를 포함한다. 일부 관점에서, 조면화된 표면 영역(30b)은 당업자에 의해 이해되는 바와 같은 다양한 에칭을 통해서 및/또는 기판(10)의 주 표면(12)에 대한 샌드블라스팅 공정을 통해서 형성되는 무작위로 또는 반-무작위적으로 형성된 구조적 특징부(20)를 갖는 표면이다. 일부 구현예에 따르면, 조면화된 표면 영역(30b)의 대부분의 구조적 특징부(20)는 1㎛ 내지 125㎛, 1㎛ 내지 100㎛, 1㎛ 내지 75㎛, 1㎛ 내지 50㎛, 1㎛ 내지 40㎛, 1㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 125㎛, 5㎛ 내지 100㎛, 5㎛ 내지 75㎛, 5㎛ 내지 60㎛, 5㎛ 내지 50㎛, 5㎛ 내지 40㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 10㎛ 내지 60㎛, 10㎛ 내지 100㎛, 및 전술한 범위 내의 측면 치수 범위인 측면 에칭된 특징부 치수(즉, X-Y 치수)를 갖는다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현예에서, 조면화된 표면 영역(30b)은 20nm 내지 2000nm RMS 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 갖는다. 추가 구현에 따르면, 조면화된 표면 영역(30b)은 10nm 내지 2500nm, 10nm 내지 2000nm, 10nm 내지 1500nm, 20nm 내지 2500nm, 20nm 내지 2000nm, 20 nm 내지 1500 nm, 50 nm 내지 2500 nm, 50 nm 내지 2000 nm, 50 nm 내지 1500 nm, 50 nm 내지 1000 nm, 50 nm 내지 500 nm, 50 nm 내지 250 nm, 100 nm 내지 2500 nm, 100 nm 내지 2000 nm, 100 nm 내지 1500 nm, 100 nm 내지 1000 nm, 100 nm 내지 500 nm, 100 nm 내지 250 nm, 및 상기 범위 사이의 모든 표면 거칠기 값의 RMS 변동에서 평균 표면 거칠기(Rq)를 갖는다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현에서, 조면화된 표면 영역(30b)은 그의 구조적 특징부(20)가 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이를 갖도록 기술될 수 있다. 제1 평균 높이는 조면화된 표면 영역(30b)의 피크의 평균 높이에 해당하고, 제2 평균 높이는 피크 사이의 골의 깊이에 해당한다. 그러한 구성에서, 조면화된 표면 영역(30b)의 제1 평균 높이와 제2 평균 높이 사이의 차이는 10 nm 내지 500 nm, 10 nm 내지 250 nm, 25 nm 내지 500 nm, 25 nm 내지 250 nm, 50 nm 내지 500 nm, 50 nm 내지 250 nm, 50 nm 내지 150 nm, 100 nm 내지 200 nm, 120 nm 내지 200 nm, 및 상기 범위 사이의 모든 높이 차이의 범위일 수 있다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 이 구성에서, 디스플레이 물품(100)은 법선에서 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 측정한, 1% 미만, 0.9%, 0.8%, 0.7%, 0.6%, 0.5%, 0.4% 미만, 0.3% 미만, 0.2% 미만 또는 심지어 0.1% 미만의 제1 표면 평균 경면(또는 평균 명소시 경면) 반사율(%R)을 나타낼 수 있다. 또한, 일부 구현예에 따르면, 디스플레이 물품(100)은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 입사각에서 측정된, 1%, 0.9%, 0.8%, 0.7%, 0.6%, 0.5%, 0.4% 미만, 0.3% 미만, 0.2% 미만 또는 심지어 0.1% 미만의 제1 표면 평균 경면(또는 평균 명소시 경면) 반사율(%R)을 나타낼 수 있다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 또한 일부 구현예에 따라 법선으로부터 0˚의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)로 측정할 때 5% 미만의 스파클을 나타낼 수 있다. 일부 구현에서, 도 1d에 예시적인 형태로 도시된 디스플레이 물품(100)은 법선에서 0˚의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)로 측정할 때 5%, 4.5%, 4%, 3.5%, 3%, 2.5%, 2%, 1.5%, 1% 또는 0.5% 미만의 스파클 수준을 나타낼 수 있다. 일부 관점에서, 도 1d의 디스플레이 물품(100)은 5%에서 0.1%, 5%에서 0.5%, 5%에서 1% 및 상기 범위의 임의의 스파클 수준의 스파클 수준을 나타낸다.
다시 도 1d의 디스플레이 물품(100)을 참조하면, 물품은 구현예에 따라 40% 미만의 투과 헤이즈 값을 나타낼 수 있다. 일부 구현에서, 도 1d에 예시적인 형태로 도시된 디스플레이 물품(100)은 40%, 35%, 30%, 25%, 20%, 15%, 10% 또는 5% 미만의 투과 헤이즈 수준을 나타낼 수 있다. 일부 구현예에서, 도 1d의 디스플레이 물품(100)은 1D는 50% 내지 1%, 50% 내지 5%, 40% 내지 1%, 40% 내지 5%, 30% 내지 1%, 30% 내지 5%, 20% 내지 1%, 20% 내지 5%, 및 상기 범위의 모든 투과율 헤이즈 값의 투과 헤이즈 수준을 나타낼 수 있다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 법선에서 20˚의 입사각에서 측정했을 때 이미지 선명도(DOI) 수준이 80% 이하일 수도 있다. 일부 구현에서, 도 1d에 예시적인 형태로 도시된 디스플레이 물품(100)은 법선에서 20˚의 입사각에서 측정했을 때 99%, 95%, 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65%, 60% 또는 55% 미만의 DOI 수준을 나타낼 수 있다. 일부 관점에서, 도 1d의 디스플레이 물품(100)은 99% 내지 40%, 99% 내지 50%, 95% 내지 40%, 95% 내지 50%, 90% 내지 40%, 90% 내지 50%, 85% 내지 40%, 85%에서 50%, 80%에서 40%, 및 80% 내지 50%, 및 상기 범위의 모든 DOI 수준의 DOI 수준을 나타낸다.
도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 또한 다양한 색상 특성으로 특징지을 수 있다. 일부 구현예에서, 이러한 디스플레이 물품(100)은 1000럭스로 측정할 때 최대 60, 최대 50, 또는 최대 40의 주변 명암비를 나타낸다. 일부 구현예에서, 이러한 디스플레이 물품(100)은 100 입사 럭스로 측정할 때 최대 15, 최대 12.5, 최대 10, 최대 7.5, 최대 5, 또는 최대 2.5의 주변 명암비를 나타낸다. 도 1d에 도시된 이들 디스플레이 물품(100)은 100럭스의 직접 명암비에서 최소 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 또는 이를 초과하는 색재현율을 나타낼 수 있다. 일부 구현예에서, 이러한 디스플레이 물품(100)은 1000럭스의 주변 명암비에서 적어도 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 또는 훨씬 더 높은 수준의 색재현율을 나타낼 수 있다.
일부 구현에 따르면, 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)은 높은 수준의 색상 중립성을 나타낼 수 있다. 일부 관점에서, 디스플레이 물품(100)은 법선으로부터 6˚ 및 20˚의 각 입사각에서 0.5, 0.25, 0.1 또는 0.05 미만의 제1 표면 반사 색상(√(a*2+b*2))을 나타낼 수 있다. 일부 구현예에서, 디스플레이 물품(100)은 법선으로부터 0˚ 내지 60˚의 모든 입사각에서 5, 4, 3, 2 또는 1 미만의 제1 표면 반사 색상(√(a*2+b*2))을 나타낼 수 있다. 일부 구현에 따르면, 디스플레이 물품(100)은 2˚ 수용각을 사용하여 0˚ 입사각에서 2, 1.5, 1, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6 또는 0.5 미만의 2면(즉, 기판(10)의 주 표면(12, 14) 및 표면(12, 14) 중 하나에 배치된 하나의 반사 방지 코팅(60) 모두를 통해) 투과된 색상(√(a*2+b*2))을 나타낼 수 있다.
도 1c 및 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)을 참조하면, 반사 방지 코팅(60)의 공기측 표면(61)에서 베르코비치 압자 경도 시험(Berkovich Indenter Hardness Test)에 의해 50nm 이상의 압입 깊이를 따라 측정된 바와 같이 각각 8GPa 이상의 최대 경도를 나타낼 수 있다. 일부 구현예에서, 디스플레이 물품(100)은 , 50 nm 이상 또는 100 nm 이상의 압입 깊이를 따라 Berkovich Indenter Hardness Test로 측정한 8 GPa, 9 GPa, 10 GPa, 11 GPa, 12 GPa, 13 GPa, 14 GPa, 15 GPa, 16 GPa, 17 GPa, 18 GPa, 19 GPa, 20 GPa 또는 그 초과의 최대 경도 수준을 나타낼 수 있다.
이제 도 1e를 참조하면, 디스플레이 물품(100)은 실질적으로 동일한 기능, 구조 및 특성을 갖는 유사한 번호의 요소(다음 섹션에서 달리 언급되지 않는 한)를 갖는, 도 1c 및 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)과 동일한 속성으로 도시된다. 도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)은 디스플레이 물품(100)의 눈부심 방지 효과를 추가로 개선하기 위해 기판(10)의 주 표면(12) 상에 배치된 바와 같이, 도 1c 및 도 1d에 도시된 물품(100)에 사용된 코팅(60)과 동일하거나 실질적으로 유사한 반사 방지 코팅(60)을 사용한다. 또한, 도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)은 기판(10)의 주 표면(12)에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역(31)을 사용한다. 이와 같이, 도 1d에 도시된 디스플레이 물품(100)의 반사방지 코팅(60)은 보다 구체적으로, 텍스처링된 표면 영역(31) 상에 배치된다. 좀 더 구체적으로, 텍스처링된 표면 영역(31)은 본 개시의 디스플레이 물품(100)에서 사용된 회절 표면 영역(30a)(도 1a 내지 도 1c 참조), 조면화된 표면 영역(30b)(도 1d 참조) 및 기타 텍스처링되거나 조면화된 주 표면(10)을 포함한다.
도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현예에서, 텍스처링된 표면 영역(31)은 20 nm 내지 2000 nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 갖는다. 추가 구현에 따르면, 조면화된 표면 영역(30b)은 10nm 내지 2500nm, 10nm 내지 2000nm, 10nm 내지 1500nm, 20nm 내지 2500nm, 20nm 내지 2000nm, 20nm 내지 1500 nm, 50 nm 내지 2500 nm, 50 nm 내지 2000 nm, 50 nm 내지 1500 nm, 50 nm 내지 1000 nm, 50 nm 내지 500 nm, 50 nm 내지 250 nm, 100 nm 내지 2500 nm, 100 nm 내지 2000 nm, 100 nm 내지 1500 nm, 100 nm 내지 1000 nm, 100 nm 내지 500 nm, 100 nm 내지 250 nm, 및 상기 범위 사이의 모든 텍스처 높이 값의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 갖는다. 또한, 조면화된 표면 영역(30b)(예를 들어, 에칭 및/또는 샌드블라스팅 공정을 통해 생성됨)을 포함하는 텍스처링된 표면 영역(31)에 대해, Rtext는 조면화된 표면 영역(30b)의 구조적 특징부(20)의 평균 표면 거칠기(Rq)로 정의될 수 있으며, RMS(root-mean-squared) 나노미터 단위로 보고된다. 회절 표면 영역(30a)을 포함하는 텍스처링된 표면 영역(31)에 대해, 본 개시에 기재된 바와 같이, Rtext는 회절 표면 영역과 관련된 구조적 특징부(20)(예를 들어, 필러, 홀 등)의 2개의 높이 또는 깊이 사이의 평균 높이 차이로 정의된다.
도 1a-1e를 다시 참조하면, 디스플레이 물품(100)의 기판(10)은 약 40 mol% 내지 80 mol% 실리카 및 하나 이상의 다른 성분, 예컨대 알루미나, 산화칼슘, 산화나트륨, 산화붕소 등의 밸런스를 갖는 다성분 유리 조성물로 구성될 수 있다. 일부 구현에서, 기판(10)의 벌크 조성은 알루미노실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리 및 포스포실리케이트 유리로 이루어진 군으로부터 선택된다. 다른 구현에서, 기판(10)의 벌크 조성은 알루미노실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리로 이루어진 군으로부터 선택된다. 추가 구현에서, 기판(10)은 약 90 중량% 이상의 유리 성분 및 세라믹 성분을 포함하는 유리-세라믹 재료를 포함하지만 이에 제한되지 않는 유리-계 기판이다. 디스플레이 물품(100)의 다른 구현에서, 기판(10)은 회절 표면 영역(30a)의 개발 및 유지에 적합한 내구성 및 기계적 특성을 갖는 중합체 재료일 수 있다.
도 1a-1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일 구현예에서, 기판(10)은 알루미나, 적어도 하나의 알칼리 금속, 및 일부 구현예에서, 50 mol% 초과의 SiO2, 다른 구현예에서, 적어도 58 mol% SiO2, 및 또 다른 구현예에서, 적어도 60 mol% SiO2를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하는 벌크 조성물을 갖고, 여기서 (Al2O3(mol%) + B2O3(mol%)) / ∑ 알칼리 금속 개질제(mol%)의 비는 1 초과이고, 여기서 개질제는 알칼리 금속 산화물이다. 상기 유리는, 특정 구현예에서, 다음을 포함하거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 이루어진다: 약 58 mol% 내지 약 72 mol% SiO2; 약 9 mol% 내지 약 17 mol% Al2O3; 약 2 mol% 내지 약 12 mol% B2O3; 약 8mol% 내지 약 16mol% Na2O; 및 0 mol% 내지 약 4 mol% K2O, 여기서 (Al2O3(mol%) + B2O3(mol%)) / ∑ 알칼리 금속 개질제(mol%)의 비는 1 초과이고, 여기서 개질제는 알칼리 금속 산화물이다.
디스플레이 물품(100)의 또 다른 구현예에서, 도 1a 내지 도 1e에 도시된 바와 같이, 기판(10)은 다음을 포함하거나, 다음으로 필수적으로 이루어지거나, 이루어지는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하는 벌크 조성물을 갖는다: 약 61 mol% 내지 약 75 mol% SiO2; 약 7 mol% 내지 약 15 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 12 mol% B2O3; 약 9mol% 내지 약 21mol% Na2O; 0 mol% 내지 약 4 mol% K2O; 0 mol% 내지 약 7 mol% MgO; 및 0 mol% 내지 약 3 mol% CaO.
또 다른 구현예에서, 기판(10)은 다음을 포함하거나, 다음으로 필수적으로 이루어지거나, 또는 이루어지는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하는 벌크 조성을 갖는다: 약 60 mol% 내지 약 70 mol% SiO2; 약 6 mol% 내지 약 14 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 15 mol% B2O3; 0 mol% 내지 약15 mol% Li2O; 0 mol% 내지 약 20 mol% Na2O; 0 mol% 내지 약 10 mol% K2O; 0 mol% 내지 약 8 mol% MgO; 0 mol% 내지 약 10 mol% CaO; 0 mol% 내지 약 5 mol% ZrO2; 0 mol% 내지 약 1 mol% SnO2; 0 mol% 내지 약 1 mol% CeO2; 약 50 ppm 미만의 As2O3; 및 약 50 ppm 미만의 Sb2O3; 여기서 12 mol% Li2O+Na2O+K2O ≤ 20 mol% 및 0 mol% ≤ MgO+Ca ≤ 10 mol%.
또 다른 구현예에서, 기판(10)은 다음을 포함하거나, 다음으로 필수적으로 이루어지거나, 또는 이루어지는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하는 벌크 조성을 갖는다: 약 64 mol% 내지 약 68 mol% SiO2; 약 12 mol% 내지 약 16 mol% Na2O; 약 8 mol% 내지 약 12 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 3 mol% B2O3; 약 2 mol% 내지 약 5 mol% K2O; 약 4 mol% 내지 약 6 mol% MgO; 및 0 mol% 내지 약 5 mol% CaO, 여기서 66 mol% SiO2+B2O3+CaO ≤ 69 mol%; Na2O+K2O+B2O3+MgO+CaO+SrO > 10 mol%; 5 mol% ≤ MgO+CaO+SrO ≤ 8 mol%; (Na2O+B2O3)―Al2O3 ≤ 2 mol%; 2 mol% ≤ Na2O―Al2O3 ≤ 6 mol%; 및 4 mol% ≤ (Na2O+K2O)―Al2O3 ≤ 10 mol%.
다른 구현예에서, 기판(10)은 SiO2, Al2O3, P2O5 및 적어도 하나의 알칼리 금속 산화물(R2O)을 포함하는 벌크 조성을 가지며, 여기서 0.75>[(P2O5(mol%)+R2O(mol%))/M2O3(mol%)]≤1.2이고, M2O3=Al2O3 +B2O3이다. 일부 구현예에서, [(P2O5(mol%)+R2O(mol%))/M2O3(mol%)]=1이고, 일부 구현예에서 유리는 B2O3를 포함하지 않고, M2O3=Al2O3이다. 기판(10)은 일부 구현예에서 다음을 포함한다: 약 40 내지 약 70mol% SiO2; 0 내지 약 28mol% B2O3; 약 0 내지 약 28 mol% Al2O3; 약 1 내지 약 14 mol% P2O5; 및 약 12 내지 약 16 mol% R2O. 일부 구현예에서, 유리 기판은 다음을 포함한다: 약 40 내지 약 64 mol% SiO2; 0 내지 약 8 mol% B2O3; 약 16 내지 약 28 mol% Al2O3; 약 2 내지 약 12 mol% P2O5; 및 약 12 내지 약 16 mol% R2O. 기판(10)은 MgO 또는 CaO와 같은 적어도 하나의 알칼리 토금속 산화물을 더욱 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다.
일부 구현예에서, 기판(10)은 리튬이 실질적으로 없는 벌크 조성물을 갖고; 즉, 유리는 1 mol% 미만의 Li2O, 다른 구현예에서, 0.1 mol% 미만의 Li2O 및, 다른 구현예에서, 0.01 mol% Li2O, 및 또 다른 구현예에서, 0 mol% Li2O를 포함한다. 일부 구현예에서, 이러한 유리는 비소, 안티몬 및 바륨 중 적어도 하나가 없고; 즉, 유리는 1 mol% 미만, 다른 구현예에서, 0.1 mol% 미만, 및 또 다른 구현예에서, 0 mol%의 As2O3, Sb2O3, 및/또는 BaO를 포함한다.
도 1a 내지 도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 다른 구현예에서, 기판(10)은 Corning® Eagle XG® glass, Corning® Gorilla® glass, Corning® Gorilla® Glass 2, Corning® Gorilla® Glass 3, Corning® Gorilla® Glass 4 또는 Corning® Gorilla® Glass 5와 같은, 소정의 유리 조성을 포함하거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 이루어지는 벌크 조성을 갖는다.
다른 구현예에 따르면, 도 1a-1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 기판(10)은 당업계에 공지된 화학적 또는 열적 수단에 의해 강화된 이온 교환가능한 유리 조성을 가질 수 있다. 일 구현예에서, 기판(10)은 이온 교환에 의해 화학적으로 강화된다. 이 공정에서, 기판(10)의 주 표면(12) 및/또는 주 표면(14)의 또는 그 부근의 금속 이온은 유리 기판의 금속 이온과 동일한 원자가를 갖는 더 큰 금속 이온으로 교환된다. 교환은 일반적으로 기판(10)을 예를 들어 더 큰 금속 이온을 함유하는 용융 염욕과 같은 이온 교환 매체와 접촉시킴으로써 수행된다. 금속 이온은 전형적으로 예를 들어 알칼리 금속 이온과 같은 1가 금속 이온이다. 하나의 비제한적 예에서, 이온 교환에 의해 나트륨 이온을 함유하는 기판(10)의 화학적 강화는 질산칼륨(KNO3) 등과 같은 용융 칼륨염을 포함하는 이온 교환 욕에 기판(10)을 침지함으로써 달성된다. 하나의 특정 구현예에서, 기판(10)의 표면층의 이온 및 더 큰 이온은 Li+(유리에 존재할 때), Na+, K+, Rb+ 및 Cs+와 같은 1가 알칼리 금속 양이온이다. 대안적으로, 기판(10)의 표면층의 1가 양이온은 Ag+ 등과 같은, 알칼리 금속 양이온 이외의 1가 양이온으로 대체될 수 있다.
도 1a 내지 도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현예에서, 이온 교환 공정에서 더 큰 금속 이온에 의한 작은 금속 이온의 대체는 주 표면(12)으로부터 압축 응력 하에 있는 깊이(52)("층의 깊이"라고 함)까지 연장하는, 기판(10) 내 압축 응력 영역(50)을 생성한다. 압축 응력 영역은 주 표면(14)으로부터 본질적으로 압축 응력 영역(50)에 필적하는 깊이(도 1a-1e에 도시되지 않음)까지 연장하는 유리 기판에 형성될 수 있음이 이해되어야 한다. 보다 구체적으로, 유리 기판의 주 표면(14)에서의 이러한 압축 응력은 유리 기판 내부 내의 인장 응력("중심 장력"이라고도 함)에 의해 균형을 이룬다. 일부 구현예에서, 본원에 기술된 기판(10)의 주 표면(12)은, 이온 교환에 의해 강화되었을 때, 적어도 350MPa의 압축 응력을 가지고, 압축 응력 하의 영역은 주 표면(12) 아래에서 적어도 15 ㎛의 깊이(52), 즉 층의 깊이까지 연장한다.
이온 교환 공정은 전형적으로 유리 내의 더 작은 이온과 교환될 더 큰 이온을 함유하는 용융 염욕에 기판(10)을 침지함으로써 수행된다. 욕 조성 및 온도, 침지 시간, 염욕(또는 염욕들)내 유리의 침지 횟수, 다중 염욕 사용, 어닐링, 세척 등과 같은 추가 단계를 포함하나 이에 국한되지 않는, 이온 교환 공정에 대한 파라미터는, 일반적으로 강화 작업의 결과로서 유리의 조성과 원하는 층의 깊이 및 유리의 압축 응력에 의해 결정됨이 당업자에게 이해될 것이다. 예로서, 알칼리 금속 함유 유리의 이온 교환은 보다 큰 알칼리 금속 이온의 질산염, 황산염 및 염화물과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는 염을 함유하는 적어도 하나의 용융 욕에의 침지에 의해 달성될 수 있다. 용융 염 욕의 온도는 전형적으로 약 380℃ 내지 약 450℃ 범위인 반면, 침지 시간은 약 15분 내지 약 16시간 범위이다. 그러나 위에서 설명한 것과 다른 온도 및 침지 시간도 사용될 수 있다. 이러한 이온 교환 처리는, 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성을 갖는 기판(10)과 함께 사용될 때, 약 10㎛ 내지 적어도 50㎛ 범위의 깊이(52)(층의 깊이)를 갖는 압축 응력 영역(50)을 결과하고, 압축 응력은 약 200MPa 내지 약 800MPa의 범위이고, 중심 장력은 약 100MPa 미만이다.
도 1a-1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 회절 표면 영역(30a), , 조면화된 표면 영역(30b) 및 텍스처링된 표면 영역(31)을 생성하기 위해 사용될 수 있는 에칭 공정으로서, 일부 구현예에 따르면, 이온 교환 공정 동안 더 큰 알칼리 금속 이온으로 대체될 수 있는 알칼리 금속 이온을 기판(10)으로부터 제거할 수 있고, 회절 표면 영역(30a), 조면화된 표면 영역(30b) 및 텍스처링된 표면 영역(31)의 형성 및 개발 후에 디스플레이 물품(100)에서 압축 응력 영역(50)을 개발하는 것이 바람직하다. 다른 구현예에서, 압축 응력 영역(50)은 아래에 설명된 바와 같이 이들 영역의 형성과 관련된 다양한 처리와 관련된 영역(50)에서 층의 깊이의 일부 손실을 설명하기에 충분한 깊이(52)로 회절 표면 영역(30a), 조면화된 표면 영역(30b) 및 텍스처링된 표면 영역(31)의 개발 전에 기판(10)에서 개발될 수 있다. 대안적으로, 회절 표면 영역(30a), 조면화된 표면 영역(30b) 및 텍스처링된 표면 영역(31)은 기판 에칭 공정이 아닌 첨가제 또는 코팅 공정에 의해 생성될 수 있으며, 이 경우 이러한 첨가제 또는 코팅 공정 전에 압축 응력 영역(50)을 개발하는 것이 바람직할 수 있다.
도 1a 내지 도 1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 다른 구현예에 따르면, 물품은 회절 표면 영역(30a), 조면화된 표면 영역(30b) 및 텍스처링된 표면 영역(31) 위에 배치되는 세탁하기 쉬운(Easy-to-Cleaning, ETC) 코팅(미도시)을 더욱 포함할 수 있다. 대부분의 구현예에서, ETC 코팅은 그 표면 모폴로지가 일반적으로 영역들(30a, 30b, 31)의 하부 모폴로지를 미러링하도록 임의의 영역들(30a, 30b, 31) 위에 침착된다. 일 구현예에서, 디스플레이 물품(100)은 영역들(30a, 30b, 31)의 적어도 일부 상에 침착된 얼룩 방지 플루오르-계 ETC 코팅을 더욱 포함한다. 구현예에서, ETC 코팅은 영역들(30a, 30b, 31)에 양소성(amphiphobicity)(즉, 소수성 및 소유성, 또는 오일과 물 모두에 대한 친화성 결여)을 제공하기 위해 플루오르 말단기를 갖는 적어도 하나의 양소성(amphiphobic) 물질을 포함하며, 따라서 물 및/또는 오일에 의한 표면의 습윤을 최소화한다. ETC 코팅의 플루오르 말단기는 -OH 말단기를 갖는 표면보다 덜 극성이며, 따라서 입자와 액체 사이의 수소(즉, 반 데르 발스) 결합을 최소화한다. 지문 유분 및 지문과 관련된 이물질의 경우, 결합- 및 부착-이 최소화된다. 결과적으로, 사람의 손가락으로부터 ETC 코팅으로의 지문 유분 및 이물질의 대량 이동이 최소화된다. 일 구현예에서, ETC 코팅은 디스플레이 물품(100)의 회절 표면 영역(30a) 상의 말단 OH 기에서 발견되는 수소를 예를 들어, 플루오르-함유 모노머(예컨대, 플루오로실란)과 같은, 플루오르-계 모이어티와 교환하여 말단 플루오르화기를 갖는 유리를 형성함으로써 형성된다.
다른 구현예에서, 도 1a-1e에 도시된 디스플레이 물품(100)의 ETC 코팅은 플루오르-말단 분자 사슬의 자가-조립 단층을 포함한다. 또 다른 구현예에서, ETC 코팅은 얇은 플루오로-폴리머 코팅을 포함하고, 또 다른 구현예에서, ETC 코팅은 실리카 수트(soot) 입자에 부착된 곁사슬(pendent) 플루오로탄소 기를 갖도록 처리된 실리카 수트 입자를 포함한다. 이러한 ETC 코팅은 디핑, 증기 코팅, 분무, 롤러를 사용한 적용, 또는 당업계에 공지된 다른 적절한 방법에 의해 디스플레이 물품(100)의 회절 표면 영역(30a)에 적용될 수 있다. ETC 코팅이 적용된 후, 이는 약 25℃ 내지 약 150℃ 범위의 온도에서, 또 다른 구현예에서는 약 40℃ 내지 약 100℃ 범위의 온도에서 "경화"될 수 있다. 경화 시간은 약 1시간 내지 약 4시간 범위일 수 있으며, 40-95% 수분을 함유하는 분위기에서 수행될 수 있다. 경화 후, ETC 코팅을 갖는 디스플레이 물품(100)은 용매 린싱되어 임의의 비결합 코팅을 제거할 수 있고, 사용 전에 공기 건조될 수 있다.
도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 참조하면, 구현예는 회절 표면 영역(30a)이 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a') 및 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')을 갖는 복수의 구조적 특징부(20)를 포함하도록 구성된다. 또한, 구조적 특징부의 제1 부분(22a)(예를 들어, 필러), (22a')(예를 들어, 홀)은 125 ㎛ 미만의 피치(42a)에 의해 정의될 수 있으며, 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')은 피치(42a)와 실질적으로 동일하거나 상이한 피치(42b)(도 1a 참조)에 의해 정의될 수 있다. 일부 구현에 따르면, 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')(예컨대, 리가멘트, 메사)은 125 ㎛ 미만의 피치(42b)로 정의될 수 있으며, 피치(42a)는 피치(42b)와 실질적으로 동일하거나 상이하다. 또한, 본원에서 사용되는 바와 같이, 구조적 특징부의 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')의 피치(42a 및 42b)는 본 개시의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 바와 같이 이들 특징부의 피치 값이다. 이와 같이, 구조적 특징부의 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')의 피치(42a 및/또는 42b)는 각각, 125㎛, 110㎛, 100㎛, 90㎛, 80㎛, 70㎛, 60㎛, 50㎛, 40㎛, 30㎛, 20㎛ 및 상기 피치 값의 이러한 상한 임계값 사이의 모든 피치 값 미만일 수 있다. 구현예에서, 피치 값(42a, 42b)은 더 낮은 임계값을 가질 수 있으며, 예를 들어 피치 값은 약 2 마이크론 초과, 5 마이크론 초과, 또는 10 마이크론 초과일 수 있다.
도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품(100)을 다시 한번 참조하면, 구현예는 구조적 특징부의 제1 또는 제2 부분(22a, 22a'(예컨대, 필러 또는 홀) 또는 22b, 22b'(예컨대, 리가멘트 또는 메사) 각각이 약 30% 내지 70%의 충전율에 있고, 다른 부분(즉, 22a, 22a' 또는 22b, 22b')은 100%에서 제1 또는 제2 부분(22a, 22a' 또는 22b, 22b')의 충전율을 뺀 충전율에 있도록, 구성된다. 따라서, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부의 제1 부분(22a, 22a') 또는 구조적 특징부의 제2 부분(22b, 22b')은 약 30% 내지 70%, 약 35% 내지 65%, 약 40% 내지 60%, 또는 약 40% 내지 55%의 충전율로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 또는 제2 부분(22a, 22a' 또는 22b, 22b')은 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%의 충전율 및 상기 값들 사이의 모든 충전율 레벨을 갖도록, 회절 표면 영역(30a) 내에 구성될 수 있다.
다시 도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품(100)을 참조하면, 회절 표면 영역(30a)은 복수의 구조적 특징부(20) 각각이, 예를 들어, 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')이, 100 ㎛ 미만의 직경(32a, 32b)을 갖도록, 기판(10)의 주 표면(12) 내에 배열된다. 또한, 본원에서 사용된 바와 같이, 구조적 특징부의 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')의 직경(32a, 32b)은 본 개시의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 바와 같이, 전체 폭 높이 최대치(full width height maximum, FWHM)에서 이들 특징부의 유효 직경 또는 최장 폭 치수를 나타낸다. 이와 같이, 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')의 구조적 특징부의 직경(32a, 32b)은 100㎛, 90㎛, 80㎛, 70㎛, 60㎛, 50㎛, 40㎛, 30㎛, 20㎛, 10㎛ 미만, 및 전술한 직경보다 작은 모든 직경 값일 수 있다.
도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 일부 구현예에 따르면, 회절 표면 영역(30a)은 각각의 구조적 특징부(20)가 10보다 큰 종횡비를 갖도록 구성된다. 달리 언급되지 않는 한, 각각의 구조적 특징부(20), 예를 들어, 구조적 특징부의 제1 및 제2 부분(22a, 22a' 및 22b, 22b')의 종횡비는, 평균 직경(32a, 32b)을 각각의 평균 높이(24a, 24b)로 나눈 값으로 주어진다. 일부 구현에서, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)의 종횡비는 10 초과, 20 초과, 50 초과 또는 100 초과이다. 예를 들어, 20㎛의 평균 직경(32a) 및 0.2㎛의 평균 높이(24a)를 갖는 구조적 특징부(22a, 22a')의 제1 부분은 100의 종횡비에 대응한다. 보다 일반적으로, 이들 종횡비를 특징으로 하는 회절 표면 영역(30a)은 적어도 임의의 배율 보조 장치 없이 주변 조명 하에서 볼 때 실질적으로 편평하거나 평면이다.
도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품의 일부 구현에 따르면, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)는 주기(47)에 따라 구성되어 눈부심 방지 특성을 달성할 수 있다. 디스플레이 물품(100)의 일부 구현에서, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)는 1㎛ 내지 200㎛, 5㎛ 내지 200㎛, 5㎛ 내지 150㎛, 5㎛ 내지 100㎛, 5㎛ 내지 50㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 20㎛ 내지 150㎛, 20㎛ 내지 100㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 및 상기 범위 사이의 모든 주기 값 범위인 주기(47)로 구성된다. 예를 들어, 구조적 특징부(20)는 적용이 특정 DOI 타겟을 가지고 있는 경우와 같이, 0.3° 부근의 산란광 성분을 최대화하는 이점이 있는, 디스플레이 물품(100)의 최종 용도 적용을 위해 약 100㎛ 정도(예를 들어, 약 70 내지 200㎛)의 비교적 큰 주기(47)로 구성될 수 있다. 이러한 DOI 타겟은 경면 반사 방향으로부터 0.3° 또는 그 근처에 산란광 성분을 필요로 할 수 있으며, 이는 상대적으로 큰 구조적 특징부(20)에 의해 향상될 수 있다. DOI 요구 사항이 엄격하지 않은 디스플레이 물품(100)의 최종 용도 적용의 경우, 예를 들어, 약 5 내지 30 ㎛ 범위의 주기(47)를 갖는 더 작은 구조적 특징부(20)가 바람직할 수 있고, 일부 구현에 따르면, 색상 및/또는 모아레(Moire) 아티팩트를 최소화하기 위해 세미-랜덤화된다. X-Y 차원에서 특징부 랜덤화의 레벨과 유형이 낮은 PPD를 달성하는 동시에 모아레 또는 색상 밴딩과 같은 다른 디스플레이 아티팩트를 최소화하는 데 매우 중요할 수 있다. 다른 말로 하면, 전통적이고 완벽하게 정렬된 격자형 구조는 본 개시의 물품에 바람직하지 않다. 또한 약 5 내지 30 ㎛m 범위의 구조적 특징부가 DOI에 영향을 줄 수 있고, 예컨대, 90 이하 또는 80 이하와 같은, DOI 값을 달성하도록 설계될 수 있어, DOI에 약간의 영향을 미치기 위해 더 큰 구조적 특징부(20)을 갖는 것이 필수적이지는 않다. 주기(47)에서 구조적 특징부(20)의 랜덤화는 최소 거리 또는 평균 거리의 1.2, 1.3, 1.4 또는 1.5배로 제한될 수 있는 분포 범위에 걸쳐 최근접 이웃 거리의 변화를 특징으로 할 수 있다. 이러한 더 작은 주기(47)는 경면 반사를 더 효과적으로 억제할 수 있지만, 디스플레이 커버 적용에서 스파클(즉, PPD140에 의해 측정됨)과 같은 아티팩트를 감소시키는 데 더 바람직한 것으로 여겨진다. 일부 구현예에서, 주기(47)는 5㎛ 내지 30㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 및 10㎛ 내지 20㎛의 범위로 구성될 수 있으며, 이는 바람직하고 낮은 스파클 레벨을 유지하면서, DOI를 90 미만, 또는 심지어 80 미만으로 낮출 수 있다.
이제 도 2를 참조하면, 회절, 눈부심 방지 구조의 단면 개략도가 제공된다. 도 2에 개략적으로 도시된 바와 같이, 회절 광학 모델은 회절 표면 영역(30a)의 원리를 예시할 수 있다. 광학 모델링 계산은 상용 소프트웨어 패키지인 Gsolverⓒ를 사용하여 수행되었다. Gsolverⓒ 패키지는 엄밀한 결합파 분석을 사용하여 회절 격자의 광학 성능을 제어할 수 있는 맥스웰 방정식의 해답을 찾는다. 회절 표면 영역(30a)을 개발하는 맥락에서, Gsolverⓒ 소프트웨어는 도 2에 도시된 바와 같이 선형의 직사각형 회절 눈부심 방지 구조에 적용될 수 있다. 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조의 직사각형 특성은 구조적 특징부(20)가 필러, 홀, 메사, 플래토, 다각형 및 기타 별개의 비-직사각형 형상을 포함할 수 있다는 의미에서 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)에서 벗어난다는 점에 유의해야 한다. 그럼에도 불구하고, 도 2에 도시된 개략도 상에서 수행된 계산은 경향을 나타내고 본 개시의 원리와 일치하는 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)의 정의에 유용한 데이터를 제공한다. 특히, 도 2에 도시된 바와 같이, 모델링된 회절 눈부심 방지 구조는 20 ㎛의 주기를 가지며 550 nm에서 1.518의 굴절률을 갖는 유리 기판의 표면 내에 통합된다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 파장 550nm의 입사광은 20도의 입사각으로 회절 눈부심 방지 구조에 향한다. 최적의 눈부심 방지 특성을 위해, 일반적으로 0차 반사광(즉, 경면광)을 억제하는 것이 바람직하다.
이제 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조에 대한 구조 깊이의 함수로서 반사 및 투과 각각에서의 회절 효율의 플롯이 제공된다. 이 플롯은 Gsolverⓒ 소프트웨어에서 개발되었다. 도 3a에 도시된 바와 같이, 회절 눈부심 방지 구조는 20㎛의 주기를 가지며 0 내지 0.5㎛ 범위의 구조 깊이가 모델링된다. 또한, 도 3a에 도시된 바와 같이, 0 내지 5차의 플롯이 도시되어 있다(즉, m = 0 내지 5). 특히 0차 곡선은 경면 반사율의 진폭이며, 도면에 도시된 바와 같이, 구조 깊이 0.14 내지 0.15 ㎛에서 0%에 가깝게 억제된다. 또한, 경면 반사율은 공기 중 광의 파장의 약 1/4에 해당하는 약 0.12 내지 0.17 ㎛의 구조 깊이 범위에서 평면 유리에 비해 10 배 억제될 수 있다. 경면 반사율의 두 번째 최소값은 3/4 파장 구조 깊이에서 관찰된다. 도 3b에 도시된 바와 같이, 도 2 및 3a에 도시된 것과 동일한 구조에 대한 투과된 회절 차수의 진폭이 제공된다. 디스플레이 적용의 경우, 0차, 즉 경면 투과율을 최대화하는 것이 바람직할 수 있다. 경면 투과율은 ~0.15 ㎛의 구조 깊이에서 평면 유리 투과율의 78% 초과이며, 이는 또한 경면 반사율 최소화를 위해 선호되는 깊이이다. 총 투과율(모든 각도를 고려함)은 평면 유리 값에 근접하게 유지되고, 투과율에서 대부분의 산란광은 바람직한 구현예에 대해 경면 방향의 10도 또는 5도 이내이다.
이제 도 4a-4c를 참조하면, 각각 15%, 30% 및 70%의 충전율에서 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조에 대한 구조 깊이의 함수로서 반사에서의 회절 효율의 플롯이 제공된다. 특히, 15%, 30% 및 70%에서 이러한 충전율을 갖는 회절 구조는 0차(경면) 반사율이 0으로 떨어지는 것을 허용하지 않는다. 이는, 간단한 이중 모드 높이, 이와 같은 단일 재료 구조에 대해 선호되는 충전율이, 도 2에 모델링되고 도시된 바와 같이, 50%에 가깝거나, 35% 내지 65% 범위임을 나타낸다.
이제 도 5를 참조하면, 다양한 입사 광 파장을 갖는 도 2에 도시된 회절 눈부심 방지 구조에 대한 구조 깊이의 함수로서 반사에서의 회절 효율의 플롯이 제공된다. 특히, 상기 도면은 입사광 파장이, 특히 0차에서, 경면 반사 억제에 미치는 영향을 예시한다. 최적의 구조 깊이는 파장에 따라 다르지만, 도 5에 도시된 바와 같이, 첫 번째 1/4 파장 최소(화살표) 근처의 단일 구조 깊이는 450에서 650nm의 모든 가시광선 파장에 대한 경면 반사율의 10배 감소를 성공적으로 달성할 수 있다. 이는 가시 범위에서 경면 반사율의 광대역 억제가 이중 모드 표면 높이 분포를 갖는 도 2에 모델링된 바와 같은 기본적인 회절 눈부심 방지 구조를 사용하여 실행 가능하다는 것을 보여준다.
도 2-5를 다시 참조하면, 이들 도면은 일반적으로 경면 투과율을 최대화하면서 경면 반사율을 최소화하도록 구성되는 디스플레이 물품(100)에 대한 가이드를 제공한다. 또한, 이들 도면은 회절 눈부심 방지 구조의 깊이(예를 들어, 회절 표면 영역(30a)에 대한 일반적인 근거로 작용하는)가 경면 반사율에 어떻게 영향을 미치는지를 예시한다. 앞서 언급한 바와 같이, 도 2의 모델링된 선형 회절 눈부심 방지 구조는 도 1a-1c에 도시된 디스플레이 물품(100)의 회절 표면 영역(30a)과는 상이하며, 이는 후자가 정렬된 또는 반정렬된 어레이로 배치되는 필러, 홀, 다각형 및 기타 별개의 특징부와 같은, 복수의 구조적 특징부(20)를 함유하기 때문이다. 그러나, 도 2-5에 도시된 기본 회절 구조의 모델링의 관점에서, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)의 높이 또는 깊이는 바람직하게는 50 내지 250nm, 75 내지 225nm, 100 내지 200nm, 120 내지 190nm 또는 140 내지 190nm로 유지된다.
보다 일반적으로, 회절 표면 영역(30a)의 구조적 특징부(20)의 2차원 어레이는 표면 영역(30a)에 대한 의도된 구조가 정의되면 광학 리소그래피(포토마스크), 잉크젯 인쇄, 레이저 패터닝 및/또는 스크린 인쇄와 같은, 많은 공정에 의해 제작될 수 있다. 공정의 선택은 구조적 특징부(20)의 해상도(예를 들어, 직경 및/또는 피치 측면에서)와 주어진 공정의 기술적 능력에 따라 달라진다. 일부 구현예에서, 일단 회절 표면 영역(30a)의 구조적 파라미터가 정의되면(예를 들어, 필러 또는 홀, 평균 높이, 피치, 직경, 주기 등), 설계는 컴퓨터 지원 설계(CAD) 파일로 변환된 후, 이를 기판(10)으로 전달하여, "엔지니어링된" 회절 표면 영역(30a)을 생성하기 위해, 전술한 공정 중 임의의 것과 함께 사용될 수 있다.
이제 도 6을 참조하면, 디스플레이 물품(즉, 도 1a-1c에 도시되고 설명된 디스플레이 물품(100))을 제조하는 방법(200)의 개략적인 흐름도가 제공된다. 상기 방법(200)은 다음을 포함한다: 소정의 두께(13) 및 주 표면(12)을 포함하는 기판(10)을 마스크로 마스킹하는 단계(202); 기판(10)의 주 표면(12) 내에 또는 그 위에 회절 표면 영역(30a)을 형성하는 단계(204); 및 기판(10)으로부터 마스크를 제거하는 단계(206). 방법(200)의 최종 결과는 예를 들어 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같은 디스플레이 물품(100)이다. 도 6에 도시된 방법(200)의 다른 구현예에서, 마스크를 포함하는 단계(202 및 206)는 사용되지 않고 단계(204)는 기판(10)의 주 표면(12) 내에 또는 그 위에 조면화된 표면 영역(30b)을 형성하도록 수행된다. 방법(200)의 이 구현예의 최종 결과는 예를 들어, 도 1d에 도시된 바와 같은 디스플레이 물품(100)이다.
일부 구현예에서, 도 6에 도시된 방법(200)은 회절 표면 영역(30a) or 조면화된 표면 영역(30b) 위에 반사 방지 코팅(60)을 형성하는 단계(208)를 더욱 포함하여, 디스플레이 물품(100)을 정의한다(도 1c 및 1d 참조). 이전 구현예에서, 회절 표면 영역(30a)은 다중 모드 분포로 복수의 상이한 높이를 포함하는 복수의 구조적 특징부(20)를 포함한다. 또한, 다중 모드 분포는 제1 평균 높이(24a)에서 구조적 특징부(22a, 22a')의 제1 부분 및 제2 평균 높이(24b)에서 구조적 특징부(22b, 22b')의 제2 부분을 더욱 포함한다. 또한, 방법(200)에 따라 제작된 기판(10)은, 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140으로 측정했을 때 4% 미만의 스파클, 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 DOI, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다.
디스플레이 물품(100)을 제조하는 도 6에 도시된 방법(200)의 일부 구현에 따르면(도 1a-1c 및 이전 설명 참조), 기판(10)을 마스킹하는 단계(202)는 스크린 인쇄 마스킹, 잉크젯 인쇄 마스킹 및 포토레지스트 마스킹 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 회절 표면 영역(30a)을 형성하는 단계(204)는 마스크를 통해 기판(10)의 주 표면(12)을 에칭하여, 회절 표면 영역(30a)을 형성하는, 에칭 단계를 포함하며, 여기서 각각의 구조적 특징부는 50 nm 내지 250 nm 깊이의 홀이다. 예를 들어, 단계(204)는 유리 조성물을 포함하는 기판(10)을 HF/HNO3 에칭제로 에칭함으로써 수행될 수 있다. 구현예들에서, 단계 (204)에서 사용된 습식 에칭 용액은 불산(HF, 49 w/w%) 및 질산(HNO3, 69 w/w%)과 0.1-5 v/v% HF 및 0.1-5 v/v% HNO3의 조합으로 이루어질 수 있다. 100-250 nm 에칭 깊이를 달성하는 데 사용되는 일반적인 농도는 0.1 v/v% HF/1 v/v% HNO3 ~ 0.5 v/v% HF/1 v/v% HNO3 용액이다. 예를 들어, 단계 (204)에서의 에칭은 실온 내지 약 45℃에서 딥 또는 분사 에칭 공정을 사용하여 수행될 수 있다. 다른 구현예에서, 회절 표면 영역(30a)을 형성하는 단계(204)는 마스크를 통해 기판(10)의 주 표면(12) 상에 필름을 침착하여(예를 들어, 스퍼터링, 증발 또는 화학 증착에 의해) 회절 표면 영역(30a)을 형성하는, 침착 단계를 포함할 수 있고, 각 구조적 특징부는 50nm 내지 250nm 높이의 필러이다. 회절 표면 영역은 마스킹과 '건식 에칭', 플라즈마 기반 에칭, 반응성 이온 에칭, 또는 기타 진공 기반 에칭 방법에 의해 형성될 수도 있다. 일부 구현예에서, 이러한 필름은 액상 실리카 층 또는 기타 산화물 층을 갖는 마스크를 통해 침착된 후, 마스크 제거 및 리프트 오프가 뒤따를 수 있다.
본원에 개시된 물품(100)(예를 들어, 도 1c 내지 도 1e에 도시된 바와 같음)은 장치 물품, 예를 들어, 디스플레이가 있는 장치 물품(또는 디스플레이 장치 물품)(예: 휴대폰, 태블릿, 컴퓨터, 내비게이션 시스템, 웨어러블 장치(예: 시계) 등)을 포함하는 가전제품), 증강 현실 디스플레이, 헤드업 디스플레이, 안경 기반 디스플레이, 건축 장치 제품, 운송 장치 제품(예: 자동차, 기차, 항공기, 해상 공예 등), 기기 장치 물품, 또는 약간의 투명성, 내스크래치성, 내마모성 또는 이들의 조합으로부터 이익을 얻는 장치 물품에 통합될 수 있다. 본원에 개시된 임의의 물품을 포함하는 예시적인 장치 물품이 (예를 들어, 도 1c 내지 도 1e에 도시된 물품(100)과 일치하는) 도 18a 및 도 18b에 도시되어 있다. 구체적으로, 도 18a 및 도 18b는 전면(1804), 후면(1806) 및 측면(1808)을 갖는 하우징(1802); 적어도 부분적으로 하우징 내부에 있거나 전체적으로 하우징 내부에 있고 적어도 컨트롤러, 메모리 및 하우징의 전면에 또는 그에 인접한 디스플레이(1810)를 포함하는 전기 구성요소(미도시); 및 디스플레이 위에 있도록 하우징의 전면에 또는 그 위에 있는 커버 기판(1812)을 포함하는 소비자 전자 장치(1800)를 도시한다. 일부 구현예에서, 커버 기판(1812)은 본원에 개시된 임의의 물품을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 하우징 또는 커버 유리의 일부 중 적어도 하나는 본원에 개시된 물품을 포함한다.
실시예
다음 실시예는 본 개시에 의해 제공되는 다양한 특징 및 이점을 설명하며, 본 발명 및 첨부된 청구범위를 제한하는 것으로 의도되지 않는다.
실시예 1
일반적으로 도 7a-7d를 참조하면, 포토마스크/포토 리소그래피 공정이 사용되어 이들 이미지에 도시된 회절 표면 영역 구조가 개발되었다. 이 경우, 감광성 폴리머(즉, 포토레지스트)가 노광 및 개발되어 기판(예를 들어, 기판(10)) 상에 3차원 릴리프 이미지를 형성한다. 일반적으로, 이상적인 포토레지스트 이미지는 레지스트의 두께를 통과하는 수직 벽과 함께(스핀 코팅 가능한 레지스트의 경우 < 3㎛, 드라이 필름 레지스트의 경우 < 20㎛, 스크린 코팅 가능한 포토레지스트의 경우 < 15㎛), 기판 평면에서 설계되거나 의도된 패턴의 정확한 모양을 갖는다. 노출되었을 때, 최종 레지스트 패턴은 기판의 일부가 레지스트로 덮여 있고 다른 부분은 완전히 노출된 바이너리(binary)이다. 도 6에 도시된 방법(200)과 일치하는, 전형적인 포토리소그래피 공정을 위한 공정 단계의 일반적인 순서는 다음과 같다: 기판 준비(세척 및 탈수 후 스핀 코팅 가능한 레지스트용 접착 촉진제, 예를 들어 헥사메틸 디실라잔(HMDS), 포토레지스트 스핀 코팅, 프리베이크, 노출 및 개발(즉, 단계 202), 이후 바이너리 이미지를 유리 상으로 전사하기 위한 습식 에칭 공정(즉, 단계 204). 최종 단계는 레지스트 패턴이 하부 층으로 전사된 후 레지스트를 박리하는 것이다(즉, 단계 206). 일부 경우에서, 습식 에칭 공정 동안 레지스트 접착을 보장하기 위해 포스트 베이크 및 포스트 노광 베이크 단계가 요구된다.
이제 도 7a-7d를 참조하면, 홀에 대해 100 내지 250 nm 범위의 바람직한 에칭 깊이를 갖는 본 실시예에 따라 제조된 알루미노실리케이트 유리 기판의 회절 표면 영역의 광학 현미경 사진이 제공된다. 이러한 회절 표면 영역은 전술한 포토마스킹 공정에 이어 에칭 공정에 따라 제조되었다. 보다 구체적으로, 도 7a-7d의 샘플을 제조하기 위해 사용된 습식 에칭 용액은 불화수소산(HF, 49 w/w%) 및 질산(HNO3, 69 w/w%)과 0.1-5 v/v% HF 및 0.1-5 v/v% HNO3로 이루어졌다. 상기 실시예에서, 100-250 nm 에칭 깊이를 달성하기 위해 사용된 에칭제의 농도는 0.1 v/v% HF/1 v/v% HNO3 내지 0.5 v/v% HF/1 v/v% HNO3 범위였다. 도 7a 및 7b는 2개의 공간 주파수에서 회절 표면 영역의 구조적 특징부의 2차원(2D) 정렬 어레이를 나타낸다: (a) 17㎛의 피치를 갖는 12㎛의 직경을 갖는 구조적 특징부(도 7a)("12-17" 어레이로 지칭됨); 및 (b) 직경이 25㎛이고 피치가 50㎛인 구조적 특징부("25-50" 어레이로 지칭됨). 정렬된 어레이의 표면은 20 내지 50%의 충전율을 갖는 육각형 패킹 또는 정사각형 패킹 어레이를 사용하여 설계되었다. 또한, 도 7c 및 7d는 2개의 공간 주파수에서 랜덤하게 패킹된 구조를 갖는 회절 표면 영역의 구조적 특징부의 2D 어레이를 보여준다: (a) 60㎛의 최소 피치를 갖는 50㎛ 구조적 특징부 직경(도 7c)("50-60" 어레이로 지칭됨); 및 (b) 14㎛의 최소 피치를 갖는 12㎛ 구조적 특징부 직경("12-14" 어레이로 지칭됨).
이제 도 8을 참조하면, 이 실시예에 따른 회절 표면 영역의 2개의 구조적 특징부를 형성하기 위해 에칭 시간의 함수로서 에칭 깊이의 플롯이 제공된다. 이 실시예에서, 12㎛ 및 50㎛의 직경을 갖는 구조적 특징부는 다양한 에칭 시간에서 에칭되고 생성된 에칭 깊이가 플롯된다(예를 들어, 각각 도 7d 및 7c에 도시된 구조와 일치함). 이 실시예에서, 기판은 유리 조성물이며 HF의 49부피% 저장액으로 에칭되었다. 에칭 깊이는 스타일러스 기반 프로파일로미터(Z 깊이 해상도가 < 5㎛, < 200㎛ 스캔, 3mg 힘의 3개 영역으로 설정됨) 또는 Bruker ContourGT-X 백색광 간섭계(단일 시야 이미지에서 20x 또는 50x 대물 렌즈, 녹색 협대역 조명 포함)을 사용하여 측정되었다. 도 8로부터 명백한 바와 같이, 더 큰 구조적 특징부(즉, 약 50㎛의 직경의 것)는 더 작은 구조적 특징부(즉, 약 12㎛의 직경의 것)에 비해 더 긴 시간에 더 빠르게 에칭하고, 이는 당업자에게 동일한 에칭제 및 하나의 마스크를 사용하여 다른 깊이 또는 높이에서 다른 크기의 특징부를 갖도록 회절 표면 영역을 엔지니어링하는 것을 허용한다.
이제 도 9a 및 9b를 참조하면, 위의 도 7c 및 7d에 도시된 회절 표면 영역의 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 DOI의 플롯이 제공되며, 이는 상이한 크기 및 충전율을 갖는다. 도 9a에 도시된 바와 같이, 36% 및 50%의 충전율에서 구조적 특징부의 50-60 어레이의 DOI 레벨이 에칭 깊이의 함수로서 도시되어 있다(또한 도 7c 참조). 유사하게, 도 9b에 도시된 바와 같이, 20% 및 50%의 충전율에서 구조적 특징부의 12-14 어레이의 DOI 레벨이 에칭 깊이의 함수로서 도시된다(또한 도 7d 참조). 도 9a 및 9b로부터 명백한 바와 같이, 구조적 특징부의 두 어레이는 도 2-5에 도시되고 이전에 약술된 모델링에 의해 일반적으로 예측되거나 그렇지 않으면 제안된 바와 같이 최소 DOI가 약 150 내지 180nm의 에칭 깊이에서 관찰된다는 것을 입증한다.
이제 도 10a 및 10b를 참조하면, 이 실시예로부터 상이한 크기 및 충전율을 갖는 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 측정된 PPD140 및 헤이즈의 플롯이 제공된다. 도 10a 및 10b에 도시된 바와 같이, 36% 및 50%의 충전율에서 구조적 특징부의 50-60 어레이(도 7c 참조)는 0.2㎛ 미만의 낮은 에칭 깊이에서 최소 PPD140 및 헤이즈 값을 나타낸다. 도 10c 및 10d와 관련하여, 이 실시예로부터 상이한 크기 및 충전율을 갖는 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 측정된 PPD140 및 헤이즈의 플롯이 제공된다. 도 10c 및 10d에 도시된 바와 같이, 20% 및 50%의 충전율에서 구조적 특징부의 12-17 어레이(또한 도 7a 참조)는 또한 0.2㎛ 미만의 낮은 에칭 깊이에서 최소 PPD140 및 헤이즈 값을 나타낸다. 보다 일반적으로, 도 10a-10d는 각각 60㎛ 및 17㎛의 주기에서 이러한 구조적 특징부들의 어레이가 에칭 깊이의 함수로서 PPD140 및 헤이즈 증가를 나타낸다는 것을 입증한다. 또한, 더 큰 공간 주파수를 갖는 샘플(즉, 50-60 어레이)은 에칭 깊이가 증가함에 따라 PPD140에 더 많은 영향을 미치고(도 10a 참조), 더 높은 주파수를 갖는 샘플(즉, 12-17 어레이)은 에칭 깊이가 증가함에 따라 헤이즈에 더 많은 영향을 미친다(도 10d 참조).
실시예 2
본 실시예에 따르면, 0.15㎛, 0.2㎛ 및 0.23㎛의 깊이(샘플 950, 951, 952 각각)를 갖는 구조적 특징부(즉, 홀)의 어레이가 본 개시의 원리와 일치하는 방법에 따라 유리 기판 상에 개발되었다. 아래 표 2는 상기 샘플에서 측정되는 광학 특성을 열거하고, 이는 PPD140(%, 0°에서 디스플레이 유닛으로 측정됨), 투과율(%), 헤이즈(%, 0°에서 투과율로 측정됨), DOI(결합됨, %, 20°에서 반사율로 측정됨), 및 경면 반사율, Rs(결합, %, 20°에서 반사율로 측정됨)을 포함한다. 표 2에서 명백한 바와 같이, 에칭 깊이가 0.15㎛인 샘플(950)은 DOI < 80%, PPD140 < 2% 및 헤이즈 < 5%를 나타내며, 이는 본 개시와 일치하는 회절 표면 영역과 일치한다. 깊이가 0.2 및 0.23㎛인 다른 샘플은 이러한 광학 특성 조합을 나타내지 않는다. 이는 다른 선호되는 적용에 따라 다를 수 있는 특성의 목표 조합을 달성하는 데 있어 선호되는 깊이 범위의 값을 예시한다.
표 2
Figure pct00005
이제 도 11a를 참조하면, 표 2로부터의 광학 특성의 최상의 조합을 갖는 샘플(샘플 950)의 회절 표면 영역의 광학 이미지 및 표면 높이 분포 막대가 제공된다. 보다 구체적으로, 이 샘플(샘플 950)의 구조적 특징부는 약 150nm의 깊이, 50%의 충전율, 12㎛의 특징부 직경/크기 및 14㎛의 최소 피치를 갖는다. 이제 도 11b를 참조하면, 이 실시예에서 표 2로부터의 샘플의 각도 스펙트럼 플롯이 제공된다. 보다 구체적으로, 도 11b의 플롯은 샘플 950-952에 대한 반사율의 진폭 대 반사각을 보여준다. 샘플 951 및 952와 비교하여 샘플 950에 대해 경면 반사율의 감소가 관찰된다는 것이 도 11b로부터 명백하다. Rhopoint IQ Gloss 헤이즈 & DOI 미터는 표 2에 열거된 바와 같이, Rs 값을 광택 단위(GU)로 보고하며, 이는 20°입사각에서 조명되고 후면 반사율이 없는 1.567의 인덱스를 갖는 평면 유리에 대해 최대 100으로 정규화됨에 유의해야 한다. 이러한 유리는 4.91%의 1차 표면 절대 반사율(%R) 값을 갖는 것으로 알려져 있다. 따라서 Rhopoint IQ 미터에 의해 보고된 Rs 값은 4.91/100의 계수를 곱하여 절대 경면 반사율 값(%R 값)으로 변환될 수 있다. 따라서 0°에서 Rs 진폭이 ~6인 샘플 950은 6/100 * 4.91% = ~0.295%의 1차 표면 절대 경면 반사율 값(%R)에 해당한다.
실시예 3
본 실시예에 따르면, 회절 표면 영역을 정의하는 구조적 특징부의 어레이를 갖는 샘플이 스크린 인쇄 및 에칭을 사용하여 유리 표면 상에 필러를 생성하여 만들어졌다. 목표 필러 크기/직경은 스크린 인쇄 패턴에서 75㎛였으며, 유리 상의 에칭제로 습윤 후 약 100㎛ 직경에 가깝게 확장되었다. 또한, 이 샘플의 목표 피치는 55%의 목표 충전율을 가진 육각형 패턴의 125㎛였다(실제 충전율은 56%에 가까움). 스크린 인쇄 패턴은 깨끗한 유리 표면에 잉크를 사용하여 만들어졌다. 표 3은 다양한 에칭 깊이(즉, 필러 높이)를 결과하는 다양한 에칭 시간과 이러한 샘플과 관련된 광학 특성(스파클, 헤이즈, DOI 및 Rs)을 반영하는 이 실시예에 따라 만들어진 샘플을 열거한다. 또한, 앞서 언급한 바와 같이, 1차 표면 경면 반사율(Rs, 광택 단위(GU))은 4.91/100의 계수를 곱함으로써 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)로 변환될 수 있다. 표 3으로부터 명백한 바와 같이, 광학 특성 측정 측면에서 최적의 에칭 깊이 범위는 공기 중 광의 ~1/4 파장에 해당한다, 즉 0.141 및 0.172 ㎛의 에칭 깊이에 있는 샘플.
표 3
Figure pct00006
이제 도 12를 참조하면, ~0.172㎛의 에칭 깊이를 갖는 이 실시예의 샘플(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)에 대한 각도 스펙트럼 플롯이 반사율의 진폭 vs 반사각을 나타내는 플롯으로 제공된다. 도 12 및 표 3으로부터 명백한 바와 같이, 낮은 DOI 및 낮은 Rs를 얻기 위한 최적의 에칭 깊이는 구조적 특징부에 대해 120 내지 180nm 범위에 있고, 다른 에칭 깊이는 이러한 광학 특성의 조합을 나타내지 않는다.
이제 도 14를 참조하면, 본 실시예의 구조적 특징부에 대한 에칭 깊이의 함수로서 DOI의 플롯이 제공되며 상기 표 3에 상세히 설명되어 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 바람직한 에칭 깊이는 DOI의 감소와 관련하여 0.1~0.2㎛ 사이의 광의 약 1/4 파장이다. 또한, DOI 측면에서 두 번째로 바람직한 에칭 깊이는 0.4 내지 0.5㎛ 사이의 에칭 깊이에서 광의 약 3/4 파장에 위치된다. 3/4 파장 에칭 깊이는 표 3의 더 높은 PPD140 값에 의해 나타난 바와 같은 투과광에 미치는 영향 및 1/4 파장 에칭 깊이의 샘플에 비해 DOI에 미치는 더 적은 영향으로 인해 덜 바람직할 수 있다. 이러한 결과는 이전에 설명한 회절 눈부심 방지 광학 모델과 일반적으로 일치한다.
실시예 4
본 개시의 디스플레이 물품의 회절 표면 영역이 표면 높이의 다중 모드 분포(예를 들어, 표면 높이의 이중 모드 분포)를 갖는 구조적 특징부를 사용하지만, 이러한 회절 표면 영역의 구현예는 X-Y 차원에서 특징부의 공간적 랜덤화를 사용한다. 본 실시예에서, 두 개의 X-Y 패턴 랜덤화가 회절 표면 영역에 사용된다 - "강체 구(hard sphere)" 분포와 "푸아송 디스크" 분포. 전자의 강체 구 패턴 설계는 대략 50% 충전율의 구조적 특징부를 목표로 했으며, 이 패턴에 따라 각각 12㎛ 및 50㎛ 직경을 갖는 구조적 특징부를 갖는 샘플이 준비되었다. 후자의 푸아송 디스크 패턴 설계는 대략 36% 충전율의 구조적 특징부를 목표로 했다. 이러한 각 X-Y 랜덤화 체계는 다양한 충전율, 특징부 깊이 및 반사 방지 코팅과의 조합의 구조적 특징부를 가진 회절 표면 영역을 목표로 할 수도 있다. 또한, 이 실시예와 앞서 언급으로부터 명백한 바와 같이, X-Y 차원에서 특징부 랜덤화의 레벨과 유형은 낮은 PPD를 달성하는 동시에 모아레 또는 색상 밴딩과 같은 다른 디스플레이 아티팩트를 최소화하는 데 매우 중요할 수 있다.
X-Y 패턴 랜덤화는 상이한 방식으로 정의될 수 있다. 하나의 방법은 육각형성(hexagonality, H)의 정의를 보여주는 도 15의 육각형성이다. 육각형성은 패턴이 육각형 격자에 얼마나 가까운지를 국소적으로 정량화하기 위한 메트릭(metric)이다. 패턴의 각 점에 대해, 해당 점의 육각형성(H)은 임의의 축에 대한 6개의 가장 가까운 이웃의 각도를 사용하여 계산된다. 평균 육각형성(H)은 식 (1)에 의해 다음과 같이 정의될 수 있다:
Figure pct00007
(1)
여기서 k는 하나의 구조적 특징부에 대한 6개의 가장 가까운 이웃 구조적 특징부에 대해 1 내지 6이고 αk는 임의의 축에 대한 6개의 가장 가까운 이웃 구조적 특징부 각각의 각도를 나타낸다. 이와 같이, 본 개시의 디스플레이 물품의 회절 표면 영역의 맥락에서, 복수의 구조적 특징부의 공간 분포는 본 개시의 구현예에 따라 0.4 내지 1.0 범위의 평균 육각형성(H)을 가질 수 있다. 도 15에 도시된 바와 같이, 변수 αk는 6개의 가장 가까운 이웃의 각도를 나타낸다. 육각형 격자에서, 이 6개의 각도는 모두 60도(π/3 라디안)만큼 차이가 나므로, 6개의 피가수(summand)의 지수(exponent)는 2π 라디안만큼 다르고 총합(summation)에서 6개의 복소수(complex numbers)는 모두 동일하다. 이 경우 H는 단일성(unity)이다. 패턴의 평균 육각형성(H)을 완전한 육각형 격자로부터의 편차의 전역 메트릭으로 취할 수 있으며, 이는 패턴이 균일한 경우에 유용하다. 완벽한 육각형 격자는 1.0의 평균 육각형성(H)을 갖는다. 점의 완전 랜덤, 고정 푸아송 분포는 대략 0.36 또는 36%의 평균 육각형성(H)을 갖는다. 이와 같이, 도 1a 및 1b에 도시된 디스플레이 물품(100)의 구현예에 따르면, 복수의 구조적 특징부(20)는 H가 0.4 내지 0.95, 0.4 내지 0.9, 0.4 내지 0.8, 0.36 내지 0.9, 0.36 내지 0.8, 0.36 내지 0.7, 및 상기 범위 사이의 모든 평균 육각형성(H) 값 및 범위이도록 하는 비-랜덤 공간 분포를 특징으로 할 수 있다.
또한 강체 구 랜덤화 패턴에 관하여, 이 패턴은 도 7c 및 7d에 도시된 회절 표면 영역의 구조적 특징부의 형성에 사용되었다. 이러한 패턴은 패턴을 생성하기 위한 분자 역학 시뮬레이션 도구(LAMMPS)를 사용하여 생성되었다. 특징부를 나타내는 "분자" 가스는 초기에 2차원 육각 격자에 배치되어 충전율을 50%로 고정했다. 그런 다음 가스는 가열되었고 2차원에서 랜덤화되었다. 분자에는 최소 지정 간격을 유지하기 위해 반발성 강체-구 포텐셜이 부여되었다. 도 7c의 예시적인 패턴은 49%의 평균 육각형성(H)을 가지며(또한 도 15 참조), 이는 정규 격자로부터의 큰 편차를 나타낸다. "12-14" 및 "50-60" 어레이는 동일한 패턴 기하학을 갖는다: 50-60 패턴은 단순히 12-14 패턴을 50/12의 전체 인수로 확대한 것이다. 이 스케일링은 충전율, 육각형성 또는 특징부 분포 함수(명백한 축 스케일링 제외)에 영향을 미치지 않지만 당연히 텍스처의 광학 성능에는 영향을 미친다. 12/14 패턴의 가장 가까운 이웃 거리(X-Y 공간에서 특징부의 중심 간 간격으로 정의됨)의 분포가 도 16a에 도시된다. 이의 주기도는 도 16b에 도시된다. 공간 주파수 대신에, 도 16b의 X-축은 0.55㎛의 광 파장에 대해 비-경면 산란 각도(도)로 변환된다.
다른 50/60 어레이로의 전환(도 9a 및 10a 참조)은 가장 가까운 이웃 거리의 더 큰 분포와 더 낮은 충전율(36%)을 갖는다. 이러한 샘플의 구조적 특징부는 "다트 던지기" 알고리즘을 사용하여 생성된 푸아송 디스크 패턴으로 배열되었다. 이 알고리즘은 절대적인 최소 특징부 간격(이 실시예에서는 60㎛)을 보장하지만 공간을 채우는 데 매우 효율적이지는 않다. 평균 육각형성(H)은 41%로 더 낮다. 50/60 푸아송 디스크 패턴에 대한 가장 가까운 이웃 거리의 분포가 도 17a에 도시되어 있다. 이의 주기도는 도 17b에 도시되어 있다. 공간 주파수 대신에, 도 17b의 X-축은 0.55㎛의 광 파장에 대해 비-경면 산란 각도(단위: 도)로 변환된다.
실시예 5A
본 실시예("실시예 5A"로 표시된 샘플)에서, 약 15%의 투과 헤이즈, 100nm 내지 300nm 범위의 평균 표면 거칠기(Rq) 및 5 ㎛ 내지 30 ㎛ 범위의 주요 측면 에칭 특징부 치수(a majority of lateral etched features dimensions)를 갖는 조면화된 표면 영역을 갖는 강화 유리 기판이 제조되었다. 이 예에서, 조면화된 표면 영역은 2단계 HF 에칭 공정으로 준비되었다. 다음으로, 조면화된 표면 영역은 표 1B의 개시 내용에서 앞서 기술된 반사 방지 코팅(60)의 구현예와 일치하는 5층 AR 코팅으로 코팅되었다.
기계적 성질과 관련하여, 본 실시예(Ex. 5A)의 디스플레이 물품은 100 nm 초과의 만입 깊이(구체적으로, @140-160 nm)에서 11.8 GPa의 최대 경도; 500 nm 미만(구체적으로는 338.4 nm)의 AR 코팅의 총 두께 및 35% 초과(구체적으로는 53.7%)의 고굴절률 재료의 백분율을 특징으로 한다. 그의 기판 표면 모폴로지에 관하여, 이 예의 디스플레이 물품은 본 개시의 분야의 숙련자에 의해 쉽게 이해되는 유역 알고리즘을 통해 측정되고 계산된, 80.2nm(Sa), 96.4nm(Sq)의 방사상 평균 표면 거칠기 전력 스펙트럼 밀도(PSD) 및 ~4㎛의 평균 측면 피처 크기를 특징으로 한다.
하기 표 4A에 주어진 바와 같이 본 실시예의 디스플레이 물품에 대해 광학 성질을 측정하였다.
표 4A - Ex. 5A의 측정된 광학 성질
Figure pct00008
이제 도 19를 참조하면, 본 실시예(실시예 5A)에 따른 디스플레이 물품의 탄성 계수 및 경도(GPa) 대 만입 깊이(nm)의 플롯이 제공된다. 도 19에 도시된 바와 같이, 측정된 겉보기 경도 및 모듈러스는 Berkovich Indenter Hardness Test를 이용하여 측정하였으며, 압입 깊이 140 내지 160 nm에서 관찰된 최대 경도는 11.8 GPa였다.
실시예 5B
본 실시예("Ex. 5B"로 표시된 샘플)에서, 약 30%의 투과 헤이즈, 100nm 내지 300nm 범위의 평균 표면 거칠기(Rq) 및 5 ㎛ 내지 30 ㎛ 범위의 주요 측면 에칭 특징부 치수를 갖는 조면화된 표면 영역을 갖는 강화 유리 기판이 제조되었다. 이 예에서, 조면화된 표면 영역은 HF 에칭 단계에 이어 샌드블라스팅 단계를 포함하는 공정으로 준비되었다. 다음으로, 조면화된 표면 영역은 표 1B의 개시 내용에서 앞서 기술된 반사 방지 코팅(60)의 실시예와 일치하는 5층 AR 코팅으로 코팅되었다.
기계적 성질과 관련하여, 본 실시예(실시예 5B)의 디스플레이 물품은 100nm보다 큰 만입 깊이(구체적으로, @140-160nm)에서 11.8GPa의 최대 경도; 500 nm 미만(구체적으로는 338.4 nm)의 AR 코팅의 총 두께 및 35% 초과의(구체적으로는 53.7%) 고굴절률 재료의 백분율를 특징으로 한다. 그의 기판 표면 모폴로지에 관하여, 이 예의 디스플레이 물품은 본 발명의 분야의 숙련자에 의해 쉽게 이해되는 유역 알고리즘을 통해 측정되고 계산된, 239.6nm(Sa), 306.1nm(Sq)의 방사상 평균 표면 거칠기 전력 스펙트럼 밀도(PSD) 및 ~8㎛의 평균 측면 특징부 크기를 특징으로 한다.
또한 이 실시예에서, 비교 대조군 샘플은 베어(bare) 강화된 유리 기판("비교예 5A"로 표시됨); 조면화된 표면 영역을 갖는 강화된 유리 기판("비교예 5B"로 표시됨); 및 단지 베어 강화된 유리 기판 및 전술한 반사 방지 코팅("비교예 5C"로 표시됨)만으로 제조되었다.
상기 실시예의 디스플레이 물품(실시예 5B 및 비교예 5C)에 대해 광학 성질을 각각 하기 표 4B 및 4B1에 나타낸 바와 같이 측정하였다.
표 4B - 실시예 5B의 측정된 광학적 성질
Figure pct00009
표 4B1 - 비교예 5C의 측정된 광학적 성질
Figure pct00010
이제 도 20a를 참조하면, 본 실시예(실시예 5B)에 따른 디스플레이 물품(실시예 5B) 및 비교 디스플레이 물품(비교예 5A-5C)의 가시광 및 근적외선 파장(nm)에 대한 제1 표면 경면 반사율(%R)의 플롯이 제공된다. 5C). 도 20a에서 알 수 있는 바와 같이, 조면화된 표면 영역 및 그 위에 배치된 5층 AR 코팅을 갖는 강화 유리 기판을 갖는 예의 경면 반사율은 베어 강화된 유리 및 동일한 5층 AR 코팅 기판을 갖는 비교 샘플보다 대략 10배 낮다.
이제 도 20b 및 20c를 참조하면, 본 개시의 실시예에 따른 디스플레이 물품 및 비교용 디스플레이 물품의 경면 반사율 측정의 개략도가 도시되어 있으며, 도 20a의 데이터 및 결과를 해석하는 데 사용될 수 있다. 도 20b 및 도 20c에 도시된 바와 같이, 광 빔은 5층 AR 코팅(좌측)(예를 들어, 비교예 5C)을 갖는 비교 베어 유리 및 조면화된 표면 영역 및 동일한 5층 AR 코팅(오른쪽)(예: 실시예 5B)를 갖는 본 개시의 디스플레이 물품 상에 샘플 법선에 대해 각도 θs로 입사한다. 경면 반사율은 입사 평면에 대향하고 입사 빔(도 20b 및 20c 참조)에 공액인 2도 원뿔 내에서 반사된 광 전력을 입사 전력으로 나눈 것으로 정의된다. 비교 샘플(예: 비교예 5C)의 경우 총 반사율(~0.7%)이 2도 원뿔 내에서 측정되며 경면 반사율과 동일하다. 조면화된 표면 영역 및 5층 AR 코팅(예를 들어, 실시예 5B)을 갖는 본 개시에 따른 디스플레이 물품의 경우, 광은 대부분의 반사광 방향의 ~+/- 15? 이내의 광도로 각도의 연속체로 산란된다(도 2에서 원추형으로 도시됨). 이 경우 나머지는 검출기의 각도 시야 밖에 있기 때문에 검출기는 전체 반사광의 일부만 캡처한다. 디스플레이 물품 표면(예를 들어, 실시예 5B)의 총 반사율(모든 각도에 걸쳐 적분됨)은 비교 샘플의 기재 표면(예를 들어, 비교 실시예 5C)과 동일하다고 가정한다. 이는 예(예: 실시예 5B)의 표면의 경면 반사율이 RDXC*η로 주어지며, 여기서 η는 총 반사광으로 나눈 검출기 원뿔 내 반사광 전력의 비율이다. 또한, η는 AR 코팅이 없는 눈부심 방지 표면(예: 비교예 5B)(실시예 5B와 동일한 AG 처리)의 경면 반사율 및 베어 강화된 유리 기판 표면(예: 비교예 5A)의 경면 반사율을 측정함으로써 측정되며, 따라서 η = RAG/RGG이다. 계산된 RDXC*(RAG/RGG)의 값은 상기 실시예의 샘플(실시예 5B, 계산됨)에 대해서 도 20a에서 짧은 쇄선/긴 쇄선으로 나타내었으며, 상기 실시예(실시예 5B, 측정됨)의 측정값과 잘 일치함을 보여준다.
실시예 5C
본 실시예("Ex. 5C"로 표시된 샘플)에서, 약 30%의 투과 헤이즈, 100nm 내지 300nm 범위의 평균 표면 거칠기(Rq) 및 5 ㎛ 내지 30 ㎛ 범위의 주요 측면 에칭 특징부 치수를 갖는 조면화된 표면 영역을 갖는 강화 유리 기판이 제조되었다. 이 예에서, 조면화된 표면 영역은 HF 에칭 단계에 이어 샌드블라스팅 단계를 포함하는 공정으로 준비되었다. 다음으로, 조면화된 표면 영역은 표 1B의 개시 내용에서 앞서 기술된 반사 방지 코팅(60)의 실시예와 일치하는 5층 AR 코팅으로 코팅되었다.
기계적 성질과 관련하여, 본 실시예(실시예 5C)의 디스플레이 물품은 100nm보다 큰 만입 깊이(구체적으로, @140-160nm)에서 11.8GPa의 최대 경도; 500 nm 미만(구체적으로는 338.4 nm)의 AR 코팅의 총 두께 및 35% 초과의(구체적으로는 53.7%) 고굴절률 재료의 백분율를 특징으로 한다. 그의 기판 표면 모폴로지에 관하여, 이 예의 디스플레이 물품은 본 발명의 분야의 숙련자에 의해 쉽게 이해되는 유역 알고리즘을 통해 측정되고 계산된, 165.8nm(Sa), 207.5nm(Sq)의 방사상 평균 표면 거칠기 전력 스펙트럼 밀도(PSD) 및 ~6㎛의 평균 측면 특징부 크기를 특징으로 한다.
하기 표 4C에 주어진 바와 같이 본 실시예의 디스플레이 물품에 대해 광학적 성질을 측정하였다.
표 4C - 실시예 5C의 측정된 광학적 성질
Figure pct00011
이제 도 21을 참조하면, 전술한 예(실시예 5A-5C)에서 디스플레이 물품의 2면 총 투과율(T%) 대 파장(nm)의 플롯이 제공된다. 앞서 언급한 바와 같이, 강화 유리 기판의 하나의 주 표면은 조면화된 표면 영역 및 그 위에 배치된 5층 다층 AR 코팅을 포함하고; 유리 기판의 다른 주 표면은 베어이다. 베어 유리 표면은 ~4%의 반사율을 가지며 이러한 샘플의 최대 투과율을 약 96%로 제한한다. 도 21에 도시된 바와 같이, 각 샘플에 대해 가시광선 평균 투과율 수준을 얻었다: 94.28%(실시예 5A); 93.65%(실시예 5B); 및 93.72%(실시예 5C). 850nm의 적외선(IR) 파장에서의 투과율 수준은 93%보다 크고 940nm에서는 92%보다 크다.
이제 도 22a 내지 도 22c를 참조하면, 전술한 샘플(실시예 5A, 도 22a, 실시예 5B, 도 22b 및 실시예 5C, 도 22c)에 대한 다양한 입사각(6˚, 20˚, 45˚ 및 60˚)에 대한 제1 표면 경면 반사율(R%) 대 파장(nm)의 플롯이 제공된다. 도 22a에서, 실시예 5A에 대해서, 425 nm 내지 950 nm의 전체 파장 범위에 걸친 반사율은 0 내지 20도의 모든 각도에 대해 0.4% 미만으로 유지된다. 425nm에서 950nm까지의 전체 파장 범위에 대한 반사율은 0-45도의 모든 각도에서 1.1% 미만으로 유지된다. 도 22b에서, 실시예 5B에 대해서, 425 nm 내지 950 nm의 전체 파장 범위에 걸친 반사율은 0 내지 20도의 모든 각도에 대해 0.06% 미만으로 유지된다. 425nm에서 950nm까지의 전체 파장 범위에 대한 반사율은 0-45도의 모든 각도에서 0.3% 미만으로 유지됩니다. 도 22c에서, 실시예 5C에 대해서, 425 nm 내지 950 nm의 전체 파장 범위에 걸친 반사율은 0 내지 20도의 모든 각도에 대해 0.06% 미만으로 유지된다. 425nm에서 950nm까지의 전체 파장 범위에 대한 반사율은 0-45도의 모든 각도에서 0.3% 미만으로 유지된다.
이제 도 23을 참조하면, 앞선 샘플들(실시예 5A-5C) 및 베어, 강화된 유리 기판 및 5층 AR 코팅을 갖는 비교예(비교예 5C)에 대해 6˚의 입사도에 대한 2면 경면 반사율(R%) 대 파장(nm)의 플롯이 제공된다. 앞선 예(실시예 5A-5C)의 각 샘플의 한 면은 5층 AR 코팅 및 조면화된 표면 영역을 포함하고, 다른 면은 베어 유리이다. 실시예(실시예 5A-5C)의 2면 반사율은 5층 AR 코팅만을 갖는 비교예(비교예 5C)의 2면 반사율보다 3배 초과로 낮으며, 이는 평평한 후면으로 인해 ~4%이다. 실시예(실시예 5A-5C)의 편평한 후면으로부터 경면 반사율의 감소는 도 20b 및 도 20c에 도시된 바와 같이 투과광 및 반사광의 각도 재분배에 의해 야기된다. 후방 산란광의 각도 재분배의 결과로, 실시예(실시예 5A-5C) 중 하나가 5층 AR 코팅이 있는 베어 유리 기판(비교예 5C)과 비교하여 조면화된 영역과 함께 사용되는 경우 5층 AR 코팅의 층 스택에서 묻힌 반사율의 인식이 크게 감소할 것으로 믿어진다.
도 20a, 21, 22a-22c 및 23, 및 표 4A-4C에서 나타낸 바와 같이, 전술한 실시예에서 보고된 광학 성질 및 측정에 대해 추가로, 반사율 및 투과율 값은 편광 평균으로 보고된다. 즉, s- 및 p-편광 값을 단일 평균으로 결합한 평균 값이다. 명소시 평균(Y), L*, a* 및 b* 값은 10°관찰자 및 D65 광원으로 CIE 1964 표준에 따라 알려진 방법을 사용하여 측정된 샘플 데이터로부터 계산되었다. 이들은 가시광선에 대한 인간의 눈의 반응에 따라 가중치를 생성한다. 경면 반사율은 Agilent Cary 5000 UV-Vis-NIR 분광광도계를 사용하여 +/- 1도의 각도 범위에서 측정되었다. 제1 표면 반사율 값은 유리 샘플의 후면을 광 흡수체에 연결하기 위해 인덱스 매칭 오일을 사용하여 얻었다. 또한 투과 헤이즈는 BYK Gardner Haze-Gard로 측정하였다. 비결합(2면) DOI는 Rhopoint IQ 광택계를 사용하여 측정되었다. 결합 DOI는 과거 데이터에서 파생된 관계를 사용하여 비결합 DOI 값에서 추정되었다. Perkin-Elmer Lambda 950 분광광도계를 사용하여 총 투과율을 측정했다.
또한 앞선 실시예의 광학적 성질과 관련하여 흰색에 대한 디스플레이의 명암비(CR)는 다음 수학식 2에 의해 정의될 수 있다.
Figure pct00012
(2)
여기서 Lwhitescreen과 Lblackscreen은 각각 흰색과 검은색 화면의 휘도이고 Lambientlight는 디스플레이에서 반사되는 주변광의 휘도이다. 이 정의에 따르면 가장 높은 CR은 외부(주변) 조명이 없을 때 찾을 수 있다. 또한, 디스플레이 및 관련 커버 유리와 관련된 CR 비율 및 색 재현율은 다음과 같은 두 가지 다른 조명 조건에서 측정되었다. 1) 주변 CR(ACR): 균일한 확산(전방향) D65 백색광 조명 하에서 CR 측정; 및 2) 직접 CR(DCR): 지향성/시준된 백색광 조명 하에서 CR 측정.
ACR(주변 명암비) 측정
본 개시의 디스플레이 물품 및 전술한 실시예의 이러한 측정을 위해 사용된 확산 조명 기반 시스템은 주로 광섬유를 통해 연결된 D65 LED 조명이 장착된 적분 구 기반 조명 소스로 구성된다. ACR 측정은 National Institute of Standards and Technologies에서 개발한 디스플레이의 ACR 측정 방법/절차인 NISTIR 6738에 따라 수행하였다. 시험(유리) 샘플의 처리되지 않은 면을 인덱스 매칭 오일이 있는 OLED 디스플레이에 연결하여 측정을 수행했다. 디스플레이의 밝기는 모든 명암비 및 색 재현율 측정 동안 380Cd/m2로 유지되었다. TOP 200 광학 프로브가 장착된 Instrument Systems의 CAS140D 분광복사계를 사용하여 샘플/디스플레이 장치에서 광휘도를 측정했다.
DCR(직접 명암비) 측정
DCR 측정에서, 시준된(D65) LED 광원이 조명원으로 사용되었다. 이제 도 24를 참조하면, 본 개시 및 상기 실시예에서 디스플레이 물품의 DCR을 측정하기 위한 광학 설정의 개략도가 제공된다. 도 24에 도시된 바와 같이, 각각의 시험편을 인덱스 매칭 오일을 통해 OLED 디스플레이 표면에 결합시켰다. 또한 도 24에 도시된 바와 같이, 빛의 입사각(AOI)은 10°로 설정하였고, 디스플레이와 외부 광원의 휘도는 분광복사계를 정반사 방향(-10°)에 위치시켜 검출하였다. 외부 광원의 강도는 LED 광원에 대한 전류를 제어하거나 광학 경로에 적절한 ND(Neutral Density) 필터를 배치하여 제어했다. DCR 측정에 앞서 시험편을 조도계(코니카 미놀타의 모델 A58U-223)로 교체하여 각 조명 조건에 대한 조도(in lux)를 측정하였다. ACR 설정과 유사하게, TOP 200 광학 프로브(Instrument Systems)가 장착된 CAS140D 분광복사계를 사용하여 샘플/디스플레이 장치에서 광휘도를 측정했다. TOP200 광학 프로브의 수집(원뿔) 각도는 1도로 설정되었다. 디스플레이가 시험편과 결합된 상태에서 디스플레이에 흑백 이미지를 로딩한 상태에서 포토픽 휘도를 측정하였다. 명암은 백색 화면의 휘도를 흑색 화면의 휘도로 나누어 계산하였다. 보정된 광원 소스/ND 필터 설정을 사용하여 시험 시편을 조명하여 다양한 조도 강도에서 동일한 절차를 따랐다.
색상 재현율 영역(CGA) 측정
명암비(CR) 측정 외에, 외부 조명 하에서의 성능 색상은 본 발명의 디스플레이 물품의 매우 중요한 특성일 수 있다. 색상 성능은 특정 디스플레이 장치가 생성하는 색상 범위로 정의할 수 있다. 주어진 디스플레이에 대한 색상 정보는 CIE 1976 색 공간 다이어그램에서 빨강/파랑/녹색(RGB)에 대한 색도 좌표를 지정하여 나타낼 수 있다. 삼각형 내부 영역은 주어진 디스플레이 조명 조건에서 사용 가능한 색상에 비례한다. CIE 1976 다이어그램의 전체 영역은 육안으로 볼 수 있는 전체 색상 범위를 나타낸다. 따라서 주어진 디스플레이에 사용 가능한 색상은 색 공간에서 삼각형의 면적을 측정하여 평가할 수 있다. 이러한 원리를 고려하여 전술한 실시예에서는 가변 조도에서 디스플레이의 색상 재현율 영역(CGA: Color gamut area) 측정을 수행하였다. 색상 재현율 영역(CGA)은 다양한 조도 강도에서 빨강(u'R, v'R), 녹색(u'G, v'G) 및 파란색(u'B, v'B) 색상에 대하여 색공간(CIE 1976(u',v'))의 색도좌표를 측정하여 얻을 수 있다. 여기서, CGA는 적색, 녹색 및 청색 이미지로 점등된 상태에서 결합된 시험편으로 디스플레이에 대한 RGB 색상 삼각형의 CIE(u', v') 좌표를 측정하여 계산할 수 있다. RGB 삼각형(CGA)의 면적은 디스플레이/시험편 유닛을 통해 방출되는 색상 수에 비례한다. 삼각형의 면적은 식 (3)에 의해 주어진 헤론 공식을 사용하여 측정되었다.
Figure pct00013
(3)
여기서 a, b 및 c는 각각 다음 식 (3A), (3B) 및 (3C)에 따라 찾을 수 있다.
Figure pct00014
(3A)
Figure pct00015
(3B)
Figure pct00016
(3C)
다양한 조명 강도 및 조명 조건에서 CGA를 측정하기 위해 동일한 절차가 적용되었다. 확산 조명 하의 CGA는 보정된 적분구 설정을 사용하여 수행한 반면 DCR 설정은 직접/평행 조명 하에서 CGA를 측정하는 데 사용되었다. 가장 큰 CGA는 외부 조명이 없을 때 찾을 수 있다. 따라서 더 나은 이해를 위해 주어진 조도에서의 CGA는 외부 조도가 없는 원래 값에 대한 백분율로 표시된다.
[0172] 본원에 약술된 바와 같이, 본 개시의 제1 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 및 상기 주 표면 상에 정의된 회절 표면 영역을 갖는, 주 표면을 포함한다. 상기 회절 표면 영역은 다중 모드(multimodal) 분포에서 복수의 상이한 높이를 포함하는 복수의 구조적 특징부를 포함한다. 또한, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 4% 미만의 스파클, 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI), 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다.
제2 관점에 따르면, 제1 관점이 제공되고, 여기서 상기 복수의 구조적 특징부는 제1 평균 높이를 갖는 구조적 특징부의 제1 부분 및 제2 평균 높이를 갖는 구조적 특징부의 제2 부분을 더욱 포함한다.
제3 관점에 따르면, 제2 관점이 제공되며, 상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 50 nm 내지 250 nm의 차이를 갖는다.
제4 관점에 따르면, 제2 관점이 제공되며, 상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 120 nm 내지 200 nm의 차이를 갖는다.
제5 관점에 따르면, 제2 내지 제4 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 회절 표면 영역은 제1 평균 높이에 대응하는 제1 평면 영역 및 제2 평균 높이에 대응하는 제2 평면 영역을 더욱 포함한다. 상기 제1 평면 영역 및 제2 평면 영역 각각은 50 nm 미만의 제곱 평균 제곱근(root-mean-square, RMS) 높이 변동을 포함한다.
제6 관점에 따르면, 제5 관점이 제공되며, 상기 제1 및 제2 평면 영역은 회절 표면 영역의 총 표면적의 적어도 50%인 총 표면적을 갖는다.
제7 관점에 따르면, 제1 내지 제6 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 소정의 유리 조성물을 포함한다.
제8 관점에 따르면, 제1 내지 제7 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 2% 미만의 스파클을 더욱 나타낸다.
제9 관점에 따르면, 제1 내지 제8 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 5% 미만의 투과 헤이즈를 더욱 나타낸다.
제10 관점에 따르면, 제1 내지 제9 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 1% 미만의 1차 표면 절대 경면 반사율(specular reflectance)(%R)을 더욱 나타낸다.
제11 관점에 따르면, 제1 내지 제10 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 디스플레이 물품은, 기판의 주 표면 상에 배치되는 반사 방지 코팅을 더욱 포함한다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는(alternating) 고 굴절률 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 미만의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 또한, 상기 물품은 법선으로부터 20°의 입사각에서 0.1% 미만의 1차-표면 절대 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
본 개시의 제12 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 및 상기 주 표면 상에 정의된 회절 표면 영역을 갖는, 주 표면을 포함한다. 상기 회절 표면 영역은 125 ㎛ 미만의 피치 및 30% 내지 70%의 충전율(fill fraction)을 포함하는 복수의 구조적 특징부를 포함하고, 각 구조적 특징부는 100 ㎛ 미만의 직경을 포함한다. 또한, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 4% 미만의 스파클, 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI), 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다.
제13 관점에 따르면, 제12 관점이 제공되며, 상기 기판은 소정의 유리 조성물을 포함한다.
제14 관점에 따르면, 제12 또는 제13 관점이 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 2% 미만의 스파클을 더욱 나타낸다.
제15 관점에 따르면, 제12 내지 제14 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 5% 미만의 투과 헤이즈를 더욱 나타낸다.
제16 관점에 따르면, 제12 내지 제15 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 1% 미만의 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)을 더욱 나타낸다.
제17 관점에 따르면, 제12 내지 제16 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부 중 제1 부분은 50 nm 내지 250 nm의 제1 평균 높이를 갖는 필러(pillars)를 포함한다.
제18 관점에 있어서, 제17 관점이 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부는 다중 모드 분포에서 복수의 높이를 더욱 포함한다. 상기 다중 모드 분포는 제1 평균 높이의 구조적 특징부의 제1 부분 및 제2 평균 높이의 구조적 특징의 제2 부분을 더욱 포함한다. 또한, 상기 분포의 제1 부분은 30 내지 70%의 제1 충전율을 갖고 상기 분포의의 제2 부분은 100%에서 제1 충전율을 뺀 제2 충전율을 갖는다.
제19 관점에 따르면, 제12 내지 제16 관점 중 어느 하나가 제공되며, 복수의 구조적 특징부의 제1 부분은 50 nm 내지 250 nm의 제1 평균 깊이를 갖는 홀(holes)을 포함한다.
제20 관점에 따르면, 제19 관점이 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부는 다중 모드 분포에서 복수의 깊이를 더욱 포함한다. 상기 다중 모드 분포는 제1 평균 깊이의 구조적 특징부의 제1 부분 및 제2 평균 깊이의 구조적 특징부의 제2 부분을 더욱 포함한다. 또한, 상기 분포의 제1 부분은 30 내지 70%의 제1 충전율을 갖고, 상기 분포의 제2 부분은 100%에서 제1 충전율을 뺀 제2 충전율을 갖는다.
제21 관점에 따르면, 제12 내지 제20 관점 중 어느 하나가 제공되고, 상기 충전율은 40% 내지 55%이다.
제22 관점에 따르면, 제12 내지 제21 관점 중 어느 하나가 제공되고, 각 구조적 특징부는 10 초과의 종횡비를 더욱 포함한다.
제23 관점에 따르면, 제12 내지 제22 관점 중 어느 하나가 제공되고, 상기 복수의 구조적 특징부는 5 ㎛ 내지 100 ㎛의 주기(period)를 더욱 포함한다.
제24 관점에 따르면, 제12 내지 제16 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 디스플레이 물품은 기판의 주 표면 상에 배치되는 반사 방지 코팅을 더욱 포함한다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 미만의 굴절률을 포함하고, 상기 기판의 굴절률과 동일하거나 더 크다. 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 또한, 상기 물품은 법선으로부터 20°의 입사각에서 0.1% 미만의 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
본 개시의 제25 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은, 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 및 상기 주 표면 상에 정의된 회절 표면 영역을 갖는, 주 표면을 포함한다. 상기 회절 표면 영역은 125 ㎛ 미만의 피치, 30% 내지 70%의 충전율을 포함하는 복수의 구조적 특징부를 포함한다. 또한, 각 구조적 특징부는 50 nm 내지 250 nm의 높이 또는 깊이를 포함한다.
제26 관점에 따르면, 제25 관점이 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부는 비-랜덤 공간 분포를 더욱 포함한다.
제27 관점에 따르면, 제25 또는 제26 관점이 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 4% 미만의 스파클, 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI), 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다.
제28 관점에 따르면, 제25 내지 제27 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부의 비-랜덤 공간 분포는 0.4 초과 내지 1.0 미만의 평균 육각형성(hexagonality, H)을 포함하고, 여기서 하나의 구조적 특징부의 육각형성(H)은 하기 식 (1)에 의해 제공된다:
Figure pct00017
(1)
여기서 k는 상기 하나의 구조적 특징부에 대한 6개의 가장 가까운 이웃 구조적 특징부에 대해 1 내지 6이고, αk는 임의의(arbitrary) 축에 대한 6개의 가장 가까운 이웃 구조적 특징부 각각의 각도를 나타낸다.
제29 관점에 따르면, 제25 내지 제28 관점 중 어느 하나가 제공되며, 복수의 구조적 특징부의 제1 부분은 50 nm 내지 250 nm의 제1 평균 높이를 갖는다.
제30 관점에 따르면, 제29 관점이 제공되며, 각 필러의 높이는 120 nm 내지 180 nm이다.
제31 관점에 따르면, 제25 내지 제28 관점 중 어느 하나가 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부의 제1 부분은 50 nm 내지 250 nm의 제1 평균 깊이를 갖는 홀을 포함한다.
제32 관점에 따르면, 제31 관점이 제공되며, 각 홀의 깊이는 120 nm 내지 180 nm이다.
제33 관점에 따르면, 제25 내지 제32 중 어느 하나가 제공되며, 상기 디스플레이 물품은 기판의 주 표면 상에 배치되는 반사 방지 코팅을 더욱 포함한다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 미만의 굴절률을 포함하고, 기판의 굴절률과 동일하거나 더 크다. 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 또한, 상기 물품은 법선으로부터 20°의 입사각에서 0.3% 미만의 1차 표면 절대 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
본 개시의 제34 관점은 디스플레이 물품의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판을 마스크로 마스킹하는 단계; 상기 마스크로 기판의 주 표면 내에 회절 표면 영역을 형성하는 단계; 및 상기 기판으로부터 마스크를 제거하는 단계를 포함한다. 상기 회절 표면 영역은 다중 모드 분포에서 복수의 상이한 높이를 포함하는 복수의 구조적 특징부를 포함한다. 상기 다중 모드 분포는 제1 평균 높이의 구조적 특징부의 제1 부분 및 제2 평균 높이의 구조적 특징부의 제2 부분을 더욱 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 4% 미만의 스파클, 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI), 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다.
제35 관점에 따르면, 제34 관점이 제공되며, 상기 마스킹 단계는 스크린 프린트 마스킹, 잉크젯 프린트 마스킹, 포토레지스트 마스킹 중 하나 이상을 포함한다.
제36 관점에 따르면, 제34 또는 제35 관점이 제공되며, 상기 형성 단계는 마스크를 통해 기판의 주 표면을 에칭하여 회절 표면 영역을 형성하는, 에칭 단계를 포함하고, 각 구조적 특징부는 50 nm 내지 250 nm의 깊이를 포함하는 홀이다.
제37 관점에 따르면, 제34 또는 제35 관점이 제공되며, 상기 형성 단계는 마스크를 통해 기판의 주 표면 상에 필름을 침착(deposit)하여 회절 표면 영역을 형성하는, 침착 단계를 포함하고, 각 구조적 특징부는 50 nm 내지 250 nm의 높이를 포함하는 필러이다.
제38 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된(textured) 표면 영역; 및 상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함한다. 상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 추가로, 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시(photopic) 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
제39 관점에 따르면, 제38 관점이 제공되며, 상기 코팅된 물품은 50 nm 이상의 만입 깊이(indentation depth)를 따라 베르코비치(Berkovich) 압자 경도 시험에 의해 반사 방지 코팅의 공기측 표면에서 측정된 8 GPa 이상의 최대 경도 나타낸다.
제40 관점에 따르면, 제39 관점이 제공되며, 상기 복수의 구조적 특징부는 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이를 더 포함한다.
제41 관점에 따르면, 제40 관점이 제공되며, 상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 50 nm 내지 250 nm의 차이를 갖는다.
제42 관점에 따르면, 제40 관점이 제공되며, 상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 120 nm 내지 200 nm의 차이를 갖는다.
제43 관점에 따르면, 제38 내지 제42 중 어느 하나가 제공되며, 상기 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)은 450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만이다.
제44 관점에 따르면, 제38 내지 제43 중 어느 하나가 제공되며, 상기 스파클은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 3% 미만이다.
제45 관점에 따르면, 제38 내지 제44 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함한다.
제46 관점에 따르면, 제38 내지 제45 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 85% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타낸다.
제47 관점에 따르면, 제38 내지 제46 중 어느 하나가 제공되며, 투과 헤이즈는 법선으로부터 0˚의 입사각에서 30% 미만이다.
제48 관점은 소비자 전자 제품에 관한 것이다. 상기 소비자 전자 제품은 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징; 적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 상기 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 상기 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및 상기 디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함한다. 상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 관점 38-47 중 어느 하나의 물품을 포함한다.
제49 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역; 및 상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함한다. 상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함한다. 추가로 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
제50 관점에 따르면, 제49 관점이 제공되며, 상기 저 굴절률 층 중 하나는 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 영역 바로 위에 배치된다.
제51 관점에 따르면, 제49 또는 제50 관점이 제공되며, 각각의 저 굴절률 층은 SiO2 또는 SiOx를 포함한다.
제52 관점에 따르면, 제49 내지 제51 중 어느 하나가 제공되며, 상기 반사 방지 코팅은 가장 두꺼운 고 굴절률 층인 내스크래치성 층을 더 포함하고, 상기 내스크래치성 층은 50nm 내지 200nm의 물리적 두께를 갖는 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함하고, 추가로 복수의 교번하는 고 굴절률 및 저 굴절률 층은 3개 내지 6개 층의 범위이다.
제53 관점에 따르면, 제52 관점이 제공되며, 상기 반사 방지 코팅의 총 물리적 두께는 200nm 내지 350nm이고 상기 내스크래치성 층의 물리적 두께는 약 75nm 내지 175nm이다.
제54 관점에 따르면, 제52 관점이 제공되며, 상기 반사 방지 코팅의 총 물리적 두께는 250nm 내지 340nm이고 상기 내스크래치성 층의 물리적 두께는 100nm 내지 160nm이다.
제55 관점에 따르면, 제49 내지 제54 중 어느 하나가 제공되며, 복수의 구조적 특징부는 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이를 더 포함한다.
제56 관점에 따르면, 제49 내지 제55 중 어느 하나가 제공되며, 코팅된 제품은 50 nm 이상의 만입 깊이를 따라 베르코비치 압자 경도 시험에 의해 반사 방지 코팅의 공기측 표면에서 측정된 8 GPa 이상의 최대 경도를 나타낸다.
제57 관점에 따르면, 제55 또는 제56 관점이 제공되며, 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 120 nm 내지 200 nm의 차이를 갖는다.
제58 관점에 따르면, 제57 관점이 제공되며, 450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만의 제1 표면 평균 명소시(photopic) 경면 반사율(%R)이다.
제59 관점에 따르면, 제49 내지 제58 중 어느 하나가 제공되며, 상기 스파클은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 3% 미만이다.
제60 관점에 따르면, 제49 내지 제59 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함한다.
제61 관점에 따르면, 제49 내지 제60 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타낸다.
제62 관점에 따르면, 제49 내지 제61 중 어느 하나가 제공되며, 투과 헤이즈는 법선으로부터 0˚의 입사각에서 30% 미만이다.
제63 관점은 소비자 전자 제품에 관한 것이다. 상기 소비자 전자 제품은 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징; 적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및 디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함하며, 상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 제49 내지 제62 관점 중 어느 하나의 물품을 포함한다.
제64 관점은 디스플레이 물품에 관한 것이다. 상기 디스플레이 물품은 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판; 상기 주 표면에 의해 정의되는 조면화된 표면 영역; 및 기판의 주 표면의 조면화된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함한다. 상기 조면화된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 20nm 내지 2000nm 제곱 평균 제곱근(root-mean-square, RMS) 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 포함한다. 상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 포함한다. 각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함한다. 각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함한다. 추가로 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 1% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타낸다.
제65 관점에 따르면, 제64 관점이 제공되며, 상기 저 굴절률 층 중 하나는 기판의 주 표면에 의해 한정된 조면화된 표면 영역 상에 직접 배치된다.
제66 관점에 따르면, 제64 또는 제65 관점이 제공되며, 각각의 저 굴절률 층은 SiO2 또는 SiOx를 포함한다.
제67 관점에 따르면, 제64 내지 제66 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함한다.
제68 관점에 따르면, 제64 내지 제67 중 어느 하나가 제공되며, 상기 조면화된 표면 영역은 50nm 내지 250nm 제곱 평균 제곱근(RMS) 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 포함한다.
제69 관점에 따르면, 제64 내지 제68 중 어느 하나가 제공되며, 상기 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)은 450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만이다.
제70 관점에 따르면, 제64 내지 제69 중 어느 하나가 제공되며, 상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타낸다.
제71 관점에 따르면, 제64 내지 제70 중 어느 하나가 제공되며, 상기 물품은 법선으로부터 6˚ 및 20˚의 각 입사각에서 < 0.5의 제1 표면 반사 색상(√(a*2+b*2))을 나타낸다.
제72 관점에 따르면, 제64 내지 제70 중 어느 하나가 제공되며, 상기 물품은 2도의 수용각을 사용하여 0˚의 입사각에서 1 미만의 2면 투과색(√(a*2+b*2))을 나타낸다.
제73 관점은 소비자 전자 제품에 관한 것이다. 상기 소비자 전자 제품은 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징; 적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및 상기 디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함한다. 상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 제64 내지 제72 관점 중 어느 하나의 물품을 포함한다. 본 개시의 사상 및 다양한 원리로부터 실질적으로 벗어나지 않고 본 개시의 전술한 구현예에 대해 많은 변형 및 수정이 이루어질 수 있다. 이러한 모든 수정 및 변형은 본 개시의 범위 내에 포함되고 다음 청구범위에 의해 보호되는 것으로 의도된다.

Claims (36)

  1. 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판;
    상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된(textured) 표면 영역; 및
    상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함하며,
    상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함하고,
    상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타내며,
    상기 반사 방지 코팅은 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고,
    각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함하고,
    추가로 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시(photopic) 경면 반사율(%R)을 나타내는, 디스플레이 물품.
  2. 청구항 1에 있어서,
    코팅된 물품은 50 nm 이상의 만입 깊이(indentation depth)를 따라 베르코비치(Berkovich) 압자 경도 시험에 의해 반사 방지 코팅의 공기측 표면에서 측정된 8 GPa 이상의 최대 경도 나타내는, 디스플레이 물품.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수의 구조적 특징부는 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이를 더 포함하는, 디스플레이 물품.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 50 nm 내지 250 nm의 차이를 갖는, 디스플레이 물품.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 120 nm 내지 200 nm의 차이를 갖는, 디스플레이 물품.
  6. 청구항 1-5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)은 450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만인, 디스플레이 물품.
  7. 청구항 1-6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스파클은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 3% 미만인, 디스플레이 물품.
  8. 청구항 1-7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함하는, 디스플레이 물품.
  9. 청구항 1-8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타내는, 디스플레이 물품.
  10. 청구항 1-9 중 어느 한 항에 있어서,
    투과 헤이즈는 법선으로부터 0˚의 입사각에서 30% 미만인, 디스플레이 물품.
  11. 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징;
    적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 상기 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 상기 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및
    상기 디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함하며,
    상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 청구항 1-10 중 어느 한 항의 물품을 포함하는, 소비자 전자 제품.
  12. 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판;
    상기 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역; 및
    상기 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함하며,
    상기 텍스처링된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 50nm 내지 300nm의 평균 텍스처 높이(Rtext)를 포함하고,
    상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타내며,
    상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 포함하고,
    각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함하며,
    각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함하고,
    추가로 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 0.3% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타내는, 디스플레이 물품.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 저 굴절률 층 중 하나는 기판의 주 표면에 의해 정의된 텍스처링된 영역 바로 위에 배치되는, 디스플레이 물품.
  14. 청구항 12 또는 13에 있어서,
    각각의 저 굴절률 층은 SiO2 또는 SiOx를 포함하는, 디스플레이 물품.
  15. 청구항 12-14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반사 방지 코팅은 가장 두꺼운 고 굴절률 층인 내스크래치성 층을 더 포함하고, 상기 내스크래치성 층은 50nm 내지 200nm의 물리적 두께를 갖는 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함하고, 추가로 복수의 교번하는 고 굴절률 및 저 굴절률 층은 3개 내지 6개 층의 범위인, 디스플레이 물품.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 반사 방지 코팅의 총 물리적 두께는 200nm 내지 350nm이고 상기 내스크래치성 층의 물리적 두께는 약 75nm 내지 175nm인, 디스플레이 물품.
  17. 청구항 15에 있어서,
    상기 반사 방지 코팅의 총 물리적 두께는 250nm 내지 340nm이고 상기 내스크래치성 층의 물리적 두께는 100nm 내지 160nm인, 디스플레이 물품.
  18. 청구항 12-17 중 어느 한 항에 있어서,
    복수의 구조적 특징부는 제1 평균 높이 및 제2 평균 높이를 더 포함하는, 디스플레이 물품.
  19. 청구항 12-18 중 어느 한 항에 있어서,
    코팅된 제품은 50 nm 이상의 만입 깊이를 따라 베르코비치 압자 경도 시험에 의해 반사 방지 코팅의 공기측 표면에서 측정된 8 GPa 이상의 최대 경도를 나타내는, 디스플레이 물품.
  20. 청구항 18 또는 19에 있어서,
    제1 평균 높이 및 제2 평균 높이는 120 nm 내지 200 nm의 차이를 갖는, 디스플레이 물품.
  21. 청구항 12-20 중 어느 한 항에 있어서,
    450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만의 제1 표면 평균 명소시(photopic) 경면 반사율(%R)인, 디스플레이 물품.
  22. 청구항 12-21 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스파클은 법선으로부터 0°의 입사각에서 PPD140에 의해 측정될 때 3% 미만인, 디스플레이 물품.
  23. 청구항 12-22 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함하는, 디스플레이 물품.
  24. 청구항 12-23 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타내는, 디스플레이 물품.
  25. 청구항 12-24 중 어느 한 항에 있어서,
    투과 헤이즈는 법선으로부터 0˚의 입사각에서 30% 미만인, 디스플레이 물품.
  26. 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징;
    적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및
    디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함하며,
    상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 청구항 12-25 중 어느 한 항의 물품을 포함하는, 소비자 전자 제품.
  27. 소정의 두께 및 주 표면을 포함하는 기판;
    상기 주 표면에 의해 정의되는 조면화된 표면 영역; 및
    기판의 주 표면의 조면화된 표면 영역 상에 배치된 반사 방지 코팅을 포함하며,
    상기 조면화된 표면 영역은 복수의 구조적 특징부 및 20nm 내지 2000nm 제곱 평균 제곱근(root-mean-square, RMS) 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 포함하고,
    상기 기판은 법선으로부터 0°의 입사각에서 픽셀 전력 편차(PPD140)에 의해 측정될 때 5% 미만의 스파클, 및 법선으로부터 0°의 입사각에서 40% 미만의 투과 헤이즈를 나타내며,
    상기 반사 방지 코팅은 200 nm 내지 500 nm의 총 물리적 두께 및 복수의 교번하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 상기 반사 방지 코팅은 총 3개 내지 9개의 층을 가지며,
    각각의 저 굴절률 층은 약 1.8 이하의 굴절률을 포함하고, 각각의 고 굴절률 층은 1.8 초과의 굴절률을 포함하며,
    각각의 고 굴절률 층은 Si3N4, SiNx 및 SiOxNy 중 하나를 포함하고,
    추가로 물품은 450nm 내지 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚ 내지 20˚의 임의의 입사각에서 1% 미만의 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)을 나타내는, 디스플레이 물품.
  28. 청구항 27에 있어서,
    상기 저 굴절률 층 중 하나는 기판의 주 표면에 의해 한정된 조면화된 표면 영역 상에 직접 배치되는, 디스플레이 물품.
  29. 청구항 27 또는 28에 있어서,
    각각의 저 굴절률 층은 SiO2 또는 SiOx를 포함하는, 디스플레이 물품.
  30. 청구항 27-29 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 유리 기판 또는 유리-세라믹 기판을 포함하는, 디스플레이 물품.
  31. 청구항 27-30 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조면화된 표면 영역은 50nm 내지 250nm 제곱 평균 제곱근(RMS) 변동의 평균 표면 거칠기(Rq)를 포함하는, 디스플레이 물품.
  32. 청구항 27-31 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 표면 평균 명소시 경면 반사율(%R)은 450nm에서 650nm의 파장에서 법선으로부터 약 5˚에서 20˚의 임의의 입사각에서 0.1% 미만인, 디스플레이 물품.
  33. 청구항 27-32 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 법선으로부터 20°의 입사각에서 80% 미만의 이미지 선명도(DOI)를 더 나타내는, 디스플레이 물품.
  34. 청구항 27-33 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물품은 법선으로부터 6˚ 및 20˚의 각 입사각에서 < 0.5의 제1 표면 반사 색상(√(a*2+b*2))을 나타내는, 디스플레이 물품.
  35. 청구항 27-33 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물품은 2도의 수용각을 사용하여 0˚의 입사각에서 1 미만의 2면 투과색(√(a*2+b*2))을 나타내는, 디스플레이 물품.
  36. 전면, 후면 및 측면을 포함하는 하우징;
    적어도 부분적으로 하우징 내에 있는 전기 구성요소로서, 전기 구성요소는 컨트롤러, 메모리 및 디스플레이를 포함하고, 디스플레이는 하우징의 전면에 있거나 이에 인접한, 전기 구성요소; 및
    상기 디스플레이 위에 배치된 커버 기판을 포함하며,
    상기 하우징 또는 커버 기판의 적어도 일부는 청구항 27-35 중 어느 한 항의 물품을 포함하는, 소비자 전자 제품.
KR1020237003830A 2020-07-09 2021-07-08 눈부심 방지 표면 및 박형의 내구성 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품 KR20230038501A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202063049843P 2020-07-09 2020-07-09
US63/049,843 2020-07-09
PCT/US2021/040774 WO2022011072A1 (en) 2020-07-09 2021-07-08 Display articles with antiglare surfaces and thin, durable antireflection coatings

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230038501A true KR20230038501A (ko) 2023-03-20

Family

ID=77155899

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237003830A KR20230038501A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 눈부심 방지 표면 및 박형의 내구성 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품
KR1020237003829A KR20230038500A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 회절, 눈부심 방지 표면 및 얇고, 내구성이 있는 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품
KR1020237003995A KR20230038505A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 회절, 눈부심 방지 표면을 갖는 디스플레이 물품 및 이의 제조 방법
KR1020237004657A KR20230038240A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 상위 상승된 표면 및 하위 상승된 표면 및 하위 상승된 표면 상에 배치된 고 굴절률 물질을 갖는 저굴절률 기판을 포함하는 경면 반사율을 감소시키기 위한 텍스처링된 영역

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237003829A KR20230038500A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 회절, 눈부심 방지 표면 및 얇고, 내구성이 있는 반사 방지 코팅을 갖는 디스플레이 물품
KR1020237003995A KR20230038505A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 회절, 눈부심 방지 표면을 갖는 디스플레이 물품 및 이의 제조 방법
KR1020237004657A KR20230038240A (ko) 2020-07-09 2021-07-08 상위 상승된 표면 및 하위 상승된 표면 및 하위 상승된 표면 상에 배치된 고 굴절률 물질을 갖는 저굴절률 기판을 포함하는 경면 반사율을 감소시키기 위한 텍스처링된 영역

Country Status (7)

Country Link
US (8) US20220009824A1 (ko)
EP (5) EP4178925A1 (ko)
JP (1) JP2023534198A (ko)
KR (4) KR20230038501A (ko)
CN (5) CN116113610A (ko)
TW (6) TW202217364A (ko)
WO (6) WO2022011068A1 (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
CN111204989A (zh) * 2018-11-22 2020-05-29 康宁股份有限公司 低翘曲的强化制品以及制造其的不对称离子交换方法
US20220009824A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering
WO2022115553A1 (en) * 2020-11-30 2022-06-02 Corning Incorporated Textured glass-based articles with multiple haze levels and processes of producing the same
KR20240032065A (ko) * 2021-07-06 2024-03-08 코닝 인코포레이티드 2개, 3개 또는 4개의 고도에서 하나 이상의 표면을 포함하는 텍스처링된 영역과 하나 이상의 표면의 적어도 일부를 제공하는 표면 특징부를 갖는 디스플레이 물품용 눈부심 방지 기판 및 그 제조 방법
WO2023192030A1 (en) * 2022-03-30 2023-10-05 Corning Incorporated Multi-level structured surface for anti-glare application and associated methods
WO2024091468A1 (en) * 2022-10-28 2024-05-02 Corning Incorporated Articles with anti-glare surfaces exhibiting low sparkle with minimal color artifacts
WO2024091642A2 (en) * 2022-10-28 2024-05-02 Corning Incorporated Articles with anti-glare surfaces with sloped transition surfaces and associated methods
WO2024118373A1 (en) * 2022-11-30 2024-06-06 Corning Incorporated Textured articles and methods for making the same
US20240191099A1 (en) 2022-12-08 2024-06-13 Corning Incorporated Coated articles with an anti-fingerprint coating or surface-modifying layer and methods of making the same

Family Cites Families (407)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3067021A (en) 1955-12-08 1962-12-04 Wheelabrator Corp Subbing surfaces
US3150032A (en) 1956-06-25 1964-09-22 Rubenstein David Abuse resistant articles of manufacture and method of making
US3413058A (en) 1964-07-09 1968-11-26 Minnesota Mining & Mfg Reflex-reflecting articles
JPS58127463A (ja) 1982-01-25 1983-07-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 密着形イメ−ジセンサ
DE3422289A1 (de) 1984-06-15 1985-12-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur verbesserung der gebrauchseigenschaften von tufted-bodenbelaegen
EP0166363B1 (en) 1984-06-26 1991-08-07 Asahi Glass Company Ltd. Low reflectance transparent material having antisoiling properties
LU86722A1 (fr) 1986-12-23 1988-07-14 Glaverbel Feuille en matiere vitreuse portant un dessin grave et procede pour graver un dessin sur un substrat en matiere vitreuse
US4945282A (en) 1987-12-10 1990-07-31 Hitachi, Ltd. Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same
DE68917171T2 (de) 1988-02-18 1995-03-30 Mitsui Toatsu Chemicals S-alkylthiocarbamat-Basisharz, dieses Harz enthaltende Kunststofflinse und Verfahren zu ihrer Herstellung.
JPH02156448A (ja) 1988-12-08 1990-06-15 Daicel Chem Ind Ltd 光磁気記録媒体
JPH0277434A (ja) 1989-05-29 1990-03-16 Toray Ind Inc 透明被覆層を有する成形体
USD326303S (en) 1989-07-25 1992-05-19 Ray Cook Company Golf putter head
US5535056A (en) 1991-05-15 1996-07-09 Donnelly Corporation Method for making elemental semiconductor mirror for vehicles
TW266301B (ko) 1991-09-19 1995-12-21 Philips Nv
JP2668472B2 (ja) 1991-10-17 1997-10-27 信越化学工業株式会社 含フッ素有機ケイ素化合物
JP2875945B2 (ja) 1993-01-28 1999-03-31 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Ｃｖｄにより大面積のガラス基板上に高堆積速度でシリコン窒化薄膜を堆積する方法
BE1007662A3 (nl) 1993-10-18 1995-09-05 Philips Electronics Nv Beeldweergeefinrichting met een beeldscherm voorzien van een antistatische en lichtabsorberende bekledingslaag.
US5737472A (en) 1993-12-17 1998-04-07 Audio-Images S.A.R.L. Optical fiber with multiple point lateral illumination
US5909314A (en) 1994-02-15 1999-06-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical functional materials and process for producing the same
US5618619A (en) 1994-03-03 1997-04-08 Monsanto Company Highly abrasion-resistant, flexible coatings for soft substrates
JP3374299B2 (ja) 1994-04-20 2003-02-04 大日本印刷株式会社 防眩フィルム
JPH07331115A (ja) 1994-06-10 1995-12-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd 反射防止膜用組成物
DE4430363A1 (de) 1994-08-26 1996-02-29 Leybold Ag Optische Linse aus einem klarsichtigen Kunststoff
EP0728618A3 (en) 1995-02-22 1996-11-06 Gentex Corp Anti-glare rear view mirror for motor vehicles
FR2730990B1 (fr) * 1995-02-23 1997-04-04 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
US6482524B1 (en) 1997-03-11 2002-11-19 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Substrate having a treatment surface
JP2002510292A (ja) 1997-07-02 2002-04-02 ニュートロジーナ・コーポレイション 脂漏性皮膚炎、フケ、乾癬及びニキビを治療するジクロロフェニルイミダゾールジオキソランを含有する組成物の使用方法及び該組成物
US5867239A (en) 1997-10-17 1999-02-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Wide angle optical retarder
JPH11125704A (ja) 1997-10-22 1999-05-11 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシート及びその製造方法
TW415888B (en) 1998-02-17 2000-12-21 Nippon Kayaku Kk Transparent sheet or film
JP2000121806A (ja) 1998-10-19 2000-04-28 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜
JP3900506B2 (ja) 1998-11-06 2007-04-04 Ｊｓｒ株式会社 液状硬化性樹脂組成物、その硬化物および反射防止膜
JP2000275404A (ja) 1999-03-24 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性を有する反射防止膜およびその製造方法
EP1208150A4 (en) 1999-06-11 2005-01-26 Sydney Hyman IMAGE FORMING MATERIAL
US9786194B2 (en) 1999-06-11 2017-10-10 Sydney Hyman Image making medium compositions and images
EP1069088A1 (en) 1999-07-16 2001-01-17 Asahi Glass Co., Ltd. Antiglare-antireflection film and process for producing it
US6254913B1 (en) 1999-08-27 2001-07-03 Morinda, Inc. Morinda citrifolia dietary fiber and method
JP2001281406A (ja) 2000-03-28 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP2001281402A (ja) 2000-03-29 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性フイルム、防眩性反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置
KR100761184B1 (ko) 2000-04-20 2007-10-04 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 경화성 수지 조성물, 경화 필름 및 복합 제품
JP2001311806A (ja) 2000-04-27 2001-11-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光拡散性シート、その製造方法および透過型スクリーン
WO2002000772A1 (fr) 2000-06-28 2002-01-03 Teijin Limited Film polyester a double orientation, film adhesif et film lamelle
JP4225675B2 (ja) 2000-09-07 2009-02-18 富士フイルム株式会社 防眩性反射防止フィルムおよび液晶表示装置
US6743516B2 (en) 2000-09-29 2004-06-01 Guardian Industries Corporation Highly durable hydrophobic coatings and methods
JP2002202402A (ja) 2000-10-31 2002-07-19 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムおよび画像表示装置
US6663950B2 (en) 2000-11-14 2003-12-16 Cpfilms, Inc. Optically active film composite
US7253861B2 (en) 2000-12-28 2007-08-07 Asahi Glass Company Liquid crystal optical element comprising a resin layer having a surface hardness of b or less
CN1318722A (zh) 2001-01-17 2001-10-24 任春严 多种能源利用装置
JP2002210906A (ja) 2001-01-23 2002-07-31 Teijin Ltd 光学用ポリエステルフィルムおよび積層体
JP2002212317A (ja) 2001-01-24 2002-07-31 Teijin Ltd 光学用フィルムおよび積層体
CN1312450A (zh) 2001-02-28 2001-09-12 任春严 节水、节能的装置和方法
US20040005482A1 (en) 2001-04-17 2004-01-08 Tomio Kobayashi Antireflection film and antireflection layer-affixed plastic substrate
US20020167629A1 (en) 2001-05-11 2002-11-14 Blanchard Randall D. Sunlight readable display with reduced ambient specular reflection
JP3656591B2 (ja) 2001-06-28 2005-06-08 ソニー株式会社 光学記録媒体製造用スタンパの製造方法および光学記録媒体の製造方法
EP1275623A1 (en) 2001-07-09 2003-01-15 VIDEOCOLOR S.p.A. Method for manufacturing a glass front plate for CRT coated with a both glossy and friction-resistant external layer
WO2003009767A1 (en) 2001-07-20 2003-02-06 Element Six B.V. Cutting tool and method
JP2003026826A (ja) 2001-07-23 2003-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光学用ポリエステルフィルム、ハードコートフィルムおよびその製造方法
EP1419286A1 (en) 2001-08-20 2004-05-19 Nova-Plasma Inc. Coatings with low permeation of gases and vapors
KR100953927B1 (ko) 2001-09-04 2010-04-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 코팅 조성물, 그것으로 형성된 코팅, 반사 방지막, 반사방지 필름 및 화상 표시장치
JP2003082127A (ja) 2001-09-07 2003-03-19 Teijin Dupont Films Japan Ltd 光学用二軸配向ポリエステルフィルムおよびその積層体
AT413560B (de) 2001-09-26 2006-03-15 Swarco Futurit Verkehrssignals Fahrbahn-markierungsleuchte
CN100526067C (zh) 2001-11-09 2009-08-12 东丽株式会社 玻璃保护薄膜
JP4036076B2 (ja) 2001-12-12 2008-01-23 チッソ株式会社 液晶性フルオレン誘導体およびその重合体
US7414009B2 (en) 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
ATE302424T1 (de) 2002-02-25 2005-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd Blendschutz- und entspiegelungsbeschichtung, polarisationsplatte und display-bauelement damit
FR2836912B1 (fr) 2002-03-06 2004-11-26 Saint Gobain Susbstrat transparent a revetement antireflets avec proprietes de resistance a l'abrasion
JP4174344B2 (ja) 2002-03-15 2008-10-29 日東電工株式会社 反射防止フィルム、その製造方法、光学素子および画像表示装置
JP4096163B2 (ja) 2002-06-05 2008-06-04 富士ゼロックス株式会社 画像構造及びこれを作成する画像形成装置
JP2004029240A (ja) 2002-06-24 2004-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法
JP4393042B2 (ja) 2002-08-05 2010-01-06 大日本印刷株式会社 防眩性反射防止部材、及び光学部材
TWI266073B (en) 2002-08-15 2006-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizing plate and image display device
US8618219B2 (en) 2002-10-15 2013-12-31 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Propylene copolymers for adhesive applications
EP1978381A1 (en) 2002-11-25 2008-10-08 FUJIFILM Corporation Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
TW586322B (en) 2002-12-18 2004-05-01 Prodisc Technology Inc Rear projection screen, optical component of a rear projection screen and method for manufacturing thereof
KR101059718B1 (ko) 2003-01-21 2011-08-29 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 적층 필름
JP2004244594A (ja) 2003-02-17 2004-09-02 Asahi Kasei Corp 環状共役ジエン系共重合体
US7463821B2 (en) 2003-03-20 2008-12-09 Pixar Flat panel image to film transfer method and apparatus
JP2004294616A (ja) 2003-03-26 2004-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び装置並びに防眩性反射防止フィルム
JP2004291303A (ja) 2003-03-26 2004-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び装置並びに防眩性反射防止フィルム
JP4217097B2 (ja) 2003-04-03 2009-01-28 ダイセル化学工業株式会社 防眩性フィルム
JP2004333901A (ja) 2003-05-08 2004-11-25 Optimax Technology Corp 防眩反射防止膜の製造方法
US20040233174A1 (en) 2003-05-19 2004-11-25 Robrecht Michael J. Vibration sensing touch input device
FR2856627B1 (fr) 2003-06-26 2006-08-11 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique
JP4475016B2 (ja) 2003-06-30 2010-06-09 東レ株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置
KR20050007940A (ko) 2003-07-12 2005-01-21 삼성전자주식회사 면광원 장치, 이의 제조 방법, 이를 이용한 백라이트어셈블리 및 이를 갖는 액정표시장치
JP2005042072A (ja) 2003-07-25 2005-02-17 Fuji Photo Film Co Ltd 硬化性組成物及びそれを用いた硬化処理物品
JP2005070724A (ja) 2003-08-05 2005-03-17 Asahi Glass Co Ltd プラズマディスプレイパネル用光学フィルタ
CN100564349C (zh) 2003-10-01 2009-12-02 大阪瓦斯株式会社 多官能(甲基)丙烯酸酯及其制备方法
TW200517458A (en) 2003-10-06 2005-06-01 Dainippon Printing Co Ltd Antiglare film
JP2005187640A (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Tosoh Corp マレイミド・オレフィン共重合体組成物
JP2005187639A (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Tosoh Corp 透明性樹脂組成物
JP2005227415A (ja) 2004-02-12 2005-08-25 Crd:Kk 反射防止フィルム及びディスプレイ用板
FR2866643B1 (fr) 2004-02-24 2006-05-26 Saint Gobain Substrat, notamment verrier, a surface hydrophobe, avec une durabilite amelioree des proprietes hydrophobes
JP2005246296A (ja) 2004-03-05 2005-09-15 Hitachi Chem Co Ltd 有機物直接塗装用光触媒性金属酸化物−有機物質混合液、金属酸化物含有組成物、光触媒性被膜の製造法、得られた光触媒性被膜及び光触媒性部材
JP4544952B2 (ja) 2004-03-31 2010-09-15 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP2005300576A (ja) 2004-04-06 2005-10-27 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
JPWO2005121265A1 (ja) 2004-06-11 2008-04-10 東レ株式会社 シロキサン系塗料、光学物品およびシロキサン系塗料の製造方法
JP2006003676A (ja) 2004-06-18 2006-01-05 Lintec Corp 表示画面用機能フィルム及びその製造法
US7550067B2 (en) 2004-06-25 2009-06-23 Guardian Industries Corp. Coated article with ion treated underlayer and corresponding method
JP2006047504A (ja) 2004-08-02 2006-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止積層体
WO2006024500A1 (en) 2004-09-03 2006-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Film forming material and preparation of surface relief and optically anisotropic structures by irradiating a film of the said material
KR20060024545A (ko) 2004-09-14 2006-03-17 (주)케이디티 고휘도 유기 발광 표시장치
JP4674074B2 (ja) 2004-10-12 2011-04-20 リケンテクノス株式会社 ハードコートフィルム及び反射防止フィルム
KR100715500B1 (ko) 2004-11-30 2007-05-07 (주)케이디티 미세공동 유기 발광 소자와 광 여기 발광층을 이용한 광원
US20060153979A1 (en) 2004-11-30 2006-07-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate using the anti-glare and anti-reflection film, and liquid crystal display device using the polarizing plate
US7390099B2 (en) 2004-12-22 2008-06-24 Nitto Denko Corporation Hard-coated antiglare film and method of manufacturing the same
CN100502609C (zh) 2004-12-29 2009-06-17 郑岩 场致发光线
JP4855781B2 (ja) 2005-02-01 2012-01-18 日東電工株式会社 反射防止ハードコートフィルム、光学素子および画像表示装置
TW200700510A (en) 2005-02-25 2007-01-01 Optimax Tech Corp Inorganic-organic hybrid nanocomposite antiglare and antireflection coatings
US7149032B2 (en) 2005-03-29 2006-12-12 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Anti-glare film
CN1653880A (zh) 2005-04-07 2005-08-17 杨崇杰 设施立地向阳园
JP2006352105A (ja) 2005-05-19 2006-12-28 Sharp Corp 光送信デバイスおよびそれを用いた光源装置
CN100394215C (zh) 2005-05-26 2008-06-11 财团法人工业技术研究院 三维纳米多孔薄膜及其制造方法
US7593004B2 (en) 2005-06-02 2009-09-22 Eastman Kodak Company Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes
US7535462B2 (en) 2005-06-02 2009-05-19 Eastman Kodak Company Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer
US20060286465A1 (en) 2005-06-15 2006-12-21 Ji-Suk Kim Film type filter and display apparatus comprising the same
JP5283146B2 (ja) 2005-07-01 2013-09-04 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
TWI292340B (en) 2005-07-13 2008-01-11 Ind Tech Res Inst Antireflective transparent zeolite hardcoat film, method for fabricating the same, and solution capable of forming said transparent zeolite film
FR2889202B1 (fr) 2005-08-01 2007-09-14 Saint Gobain Procede de depot d'une couche anti-rayure
JP2007055064A (ja) 2005-08-24 2007-03-08 Toray Ind Inc 積層ポリエステルフィルム
US8480282B2 (en) 2005-08-30 2013-07-09 Lg Display Co., Ltd. Reflective plate and method for manufacturing the same and backlight unit for liquid crystal display device using the same
JP2007072372A (ja) 2005-09-09 2007-03-22 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、その製造方法、および画像表示装置
CN1936623A (zh) 2005-09-20 2007-03-28 车王电子股份有限公司 后视镜的玻璃镜片
JP4849068B2 (ja) 2005-09-21 2011-12-28 コニカミノルタオプト株式会社 防眩性反射防止フィルム及び防眩性反射防止フィルムの製造方法
JP2007086521A (ja) 2005-09-22 2007-04-05 Fujifilm Corp 反射防止積層体
CN1940601A (zh) 2005-09-26 2007-04-04 力特光电科技股份有限公司 抗眩抗反射膜及使用该膜的偏光板和显示装置
JP2007114377A (ja) 2005-10-19 2007-05-10 Fujifilm Corp 防眩フィルム、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2009037735A (ja) 2005-10-28 2009-02-19 Toshiba Corp 平面型画像表示装置
KR100709879B1 (ko) 2005-11-18 2007-04-20 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 필름형 필터
KR20070054850A (ko) 2005-11-24 2007-05-30 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널용 필름형 전면 필터 및 그의제조방법
JP2007156205A (ja) 2005-12-07 2007-06-21 Toray Ind Inc 平面ディスプレイ用フィルター、平面ディスプレイおよび平面ディスプレイ用フィルターの製造方法
KR101224621B1 (ko) 2005-12-14 2013-01-22 도레이첨단소재 주식회사 도전성/자성 입자를 함유한 하드코트 및 방현성 반사 방지필름의 제조방법
US7553543B2 (en) 2005-12-16 2009-06-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Composite structure having a fluoroelastomeric anti-reflective coating with non-fluorinated cross-linking
CN2859579Y (zh) 2005-12-29 2007-01-17 深圳市中柏电脑技术有限公司 带防护层的液晶显示器
US8013845B2 (en) 2005-12-30 2011-09-06 Flatfrog Laboratories Ab Optical touch pad with multilayer waveguide
DE102006002596A1 (de) 2006-01-18 2007-07-19 Tesa Ag Verbundfolie
ITMI20060094A1 (it) 2006-01-20 2007-07-21 Alice Engineering Pellicola trasferibile per il tivestimento di superfici procedimento per la sua realizzazione e procedimento di applicazione
JP2007240707A (ja) 2006-03-07 2007-09-20 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム及び画像表示装置
FR2898295B1 (fr) 2006-03-10 2013-08-09 Saint Gobain Substrat transparent antireflet presentant une couleur neutre en reflexion
US8124215B2 (en) 2006-03-28 2012-02-28 Nitto Denko Corporation Hard-coated antiglare film, method of manufacturing the same, optical device, polarizing plate, and image display
JP2007271953A (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd レンズアレイシートおよび透過型スクリーン
EP2016620A2 (en) 2006-04-17 2009-01-21 Omnivision Cdm Optics, Inc. Arrayed imaging systems and associated methods
EP1847569B1 (de) 2006-04-21 2010-01-06 Ems-Chemie Ag Transparente Polyamid-Formmassen
JP2007298667A (ja) 2006-04-28 2007-11-15 Hitachi Chem Co Ltd 光学フィルタ
JP5252811B2 (ja) 2006-05-16 2013-07-31 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
JP4119925B2 (ja) 2006-05-25 2008-07-16 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
US7796123B1 (en) 2006-06-20 2010-09-14 Eastman Kodak Company Touchscreen with carbon nanotube conductive layers
JP2008003425A (ja) 2006-06-23 2008-01-10 Nippon Zeon Co Ltd 偏光板
CN101432639A (zh) 2006-08-11 2009-05-13 夏普株式会社 反射防止膜、偏光板、液晶显示元件和显示元件
KR101406122B1 (ko) 2006-08-14 2014-06-12 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 방현성 광학 적층체
WO2008020610A1 (fr) 2006-08-18 2008-02-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Stratifié optique, polariseur et unité d'affichage d'image
TW200835597A (en) 2006-10-30 2008-09-01 Lofo High Tech Film Gmbh Plasticizer for protective films
JP5125345B2 (ja) 2007-09-19 2013-01-23 日立化成工業株式会社 液晶表示装置
JP5048304B2 (ja) 2006-11-02 2012-10-17 リケンテクノス株式会社 ハードコートフィルムおよび反射防止フィルム
WO2008062605A1 (en) 2006-11-21 2008-05-29 Nittetsu Mining Co., Ltd Resin composition, anti-reflection coating material, anti-dazzling coating material, anti-reflection coating, anti-reflection film, anti-dazzling film, corrosion protective coating, corrosion protective coating material, coating material, and coating film
FR2909187B1 (fr) 2006-11-23 2009-01-02 Essilor Int Article d'optique comportant un revetement anti-abrasion et anti-rayures bicouche, et procede de fabrication
KR20080048578A (ko) 2006-11-29 2008-06-03 김현회 광고기능을 가지는 디스플레이용 보호필터 제조방법 및 그보호필터
KR20080057443A (ko) 2006-12-20 2008-06-25 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP2008158156A (ja) 2006-12-22 2008-07-10 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルム、その製造方法及び表示装置
JP5298857B2 (ja) 2007-01-12 2013-09-25 コニカミノルタ株式会社 反射防止フィルムの製造方法
WO2008097507A1 (en) 2007-02-06 2008-08-14 American Solar Technologies, Inc. Solar electric module with redirection of incident light
BE1017460A6 (nl) 2007-02-09 2008-10-07 Leo Vermeulen Consulting Lvc Lenticulair folie.
US7567383B2 (en) 2007-02-14 2009-07-28 Sony Corporation Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same
JP4155337B1 (ja) 2007-02-21 2008-09-24 ソニー株式会社 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
JP5170083B2 (ja) 2007-03-12 2013-03-27 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
TW200848835A (en) 2007-06-12 2008-12-16 Eternal Chemical Co Ltd Scratch-resistant optical film having organic particles with highly uniform particle size
US8325418B2 (en) 2007-06-28 2012-12-04 Sony Corporation Optical film, its manufacturing method, anti-glare polarizer using the same, and display apparatus
WO2009008240A1 (ja) 2007-07-10 2009-01-15 Konica Minolta Opto, Inc. 防眩性フィルム、これを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置
JP2009025384A (ja) 2007-07-17 2009-02-05 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
US20120131730A1 (en) 2007-08-10 2012-05-31 Gilad Shoham Contoured Face Shields and Method of Producing Optically Clear Parts
TW200910169A (en) 2007-08-24 2009-03-01 Onetouch Technologies Co Ltd Touch panel structure
JP2009088503A (ja) 2007-09-14 2009-04-23 Mitsubishi Chemicals Corp 太陽電池用積層カバー基板、太陽電池、並びに、太陽電池用積層カバー基板の製造方法
EP2188048A4 (en) 2007-09-21 2012-08-08 Chemwelltech Co Ltd PHOTOCATALYTIC ANTI-REFLECTION COMPOSITION AND THE COMPOSITE GLASS COMPOSITE COATED TO THE COMPOSITION
WO2009041528A1 (ja) 2007-09-26 2009-04-02 Citizen Holdings Co., Ltd. 時計用カバーガラス
WO2009065490A2 (de) 2007-11-21 2009-05-28 Lofo High Tech Film Gmbh Verwendung bestimmter uv-absorber in flächigen materialien und/oder linsen und damit zusammenhängende erfindungsgegenstände
KR101415573B1 (ko) 2007-11-30 2014-07-04 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치
US8888965B2 (en) 2007-11-30 2014-11-18 Anna University—Chennai Non-stoichiometric titanium nitride films
CN101897247A (zh) 2007-12-12 2010-11-24 株式会社普利司通 光学滤波器、显示器用光学滤波器以及具有该光学滤波器的显示器和等离子体显示器面板
CN201165502Y (zh) 2007-12-13 2008-12-17 叶隆泰 抗反射防静电透明胶膜
JP2009149468A (ja) 2007-12-20 2009-07-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラス基板の製造方法及び結晶化ガラス基板
JP2009175725A (ja) 2007-12-28 2009-08-06 Nippon Shokubai Co Ltd 防眩性積層体
FR2928461B1 (fr) 2008-03-10 2011-04-01 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
JP5478836B2 (ja) 2008-05-01 2014-04-23 ソニー株式会社 光記録媒体、液状活性エネルギー線硬化型反応性架橋樹脂組成物
CA2629555A1 (en) 2008-05-14 2009-11-14 Gerard Voon Related/overlapping innovations in health/energy/transport/farming and infrastructure
EP2307328A1 (en) 2008-07-11 2011-04-13 Corning Incorporated Glass with compressive surface for consumer applications
WO2010014163A1 (en) 2008-07-29 2010-02-04 Corning Incorporated Dual stage ion exchange for chemical strengthening of glass
JP5326407B2 (ja) 2008-07-31 2013-10-30 セイコーエプソン株式会社 時計用カバーガラス、および時計
KR20100013836A (ko) 2008-08-01 2010-02-10 제일모직주식회사 시트움 저항성이 우수한 광학 시트 및 이를 이용한액정표시장치용 백라이트 유닛
FR2934689B1 (fr) 2008-08-04 2010-09-17 Essilor Int Article d'optique comportant une couche antistatique limitant la perception des franges d'interferences, presentant une excellente transmission lumineuse et son procede de fabrication.
JP2010061044A (ja) 2008-09-05 2010-03-18 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置
JP2010125719A (ja) 2008-11-28 2010-06-10 Nippon Steel Chem Co Ltd 飛散防止性能付きガラス
US20100149483A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Chiavetta Iii Stephen V Optical Filter for Selectively Blocking Light
JP2010167410A (ja) 2008-12-26 2010-08-05 Fujifilm Corp 中空微粒子の製造方法、それにより得られる中空微粒子及びその分散液、並びにこの中空微粒子を用いた反射防止フィルム
JP4678437B2 (ja) 2008-12-29 2011-04-27 ソニー株式会社 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置
KR101915868B1 (ko) 2008-12-30 2018-11-06 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사방지 용품 및 이의 제조 방법
JP5724171B2 (ja) * 2009-01-09 2015-05-27 ソニー株式会社 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置
FR2940966B1 (fr) 2009-01-09 2011-03-04 Saint Gobain Substrat hydrophobe comprenant un primage du type oxycarbure de silicium active par plasma
JP2010191412A (ja) 2009-01-21 2010-09-02 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
JP2010244016A (ja) 2009-03-18 2010-10-28 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム、偏光板、透過型液晶ディスプレイ
WO2010114135A1 (ja) 2009-03-30 2010-10-07 新日本製鐵株式会社 プレコート金属板及びその製造方法
JP5658435B2 (ja) 2009-03-31 2015-01-28 リンテック株式会社 マスクフィルム用部材、それを用いたマスクフィルムの製造方法及び感光性樹脂印刷版の製造方法
US9376593B2 (en) 2009-04-30 2016-06-28 Enki Technology, Inc. Multi-layer coatings
JP5486840B2 (ja) 2009-05-14 2014-05-07 リンテック株式会社 反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板
TWI477615B (zh) 2009-06-05 2015-03-21 Sumitomo Chemical Co Production method of inorganic particle composite
CN201483977U (zh) 2009-08-31 2010-05-26 沈阳木本实业有限公司 一种多功能书写板
CN102024508B (zh) 2009-09-14 2013-05-01 群康科技(深圳)有限公司 导电片结构
US9051423B2 (en) 2009-09-16 2015-06-09 3M Innovative Properties Company Fluorinated coating and phototools made therewith
KR101378603B1 (ko) 2009-10-16 2014-03-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 디스플레이 패널
KR20110047596A (ko) 2009-10-30 2011-05-09 동우 화인켐 주식회사 하드 코팅용 조성물, 이를 포함하는 하드 코팅 필름 및 편광 필름
US9987820B2 (en) 2009-11-17 2018-06-05 Arkema France Multilayer structures containing biopolymers
KR101276621B1 (ko) 2009-12-31 2013-06-19 코오롱인더스트리 주식회사 보호필름
KR20180049184A (ko) 2010-03-26 2018-05-10 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 텍스쳐화 필름 및 이의 제조 방법
CN201732354U (zh) 2010-04-11 2011-02-02 宸鸿科技(厦门)有限公司 加强触控面板接合强度的堆栈结构
US8992786B2 (en) 2010-04-30 2015-03-31 Corning Incorporated Anti-glare surface and method of making
US9017566B2 (en) 2010-04-30 2015-04-28 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
CN201707457U (zh) 2010-05-21 2011-01-12 许福义 多层膜屏幕保护贴
JP5533257B2 (ja) 2010-05-25 2014-06-25 Ｊｎｃ株式会社 重合性液晶化合物、組成物およびその重合体
US9056584B2 (en) 2010-07-08 2015-06-16 Gentex Corporation Rearview assembly for a vehicle
TWI547746B (zh) 2010-07-13 2016-09-01 元太科技工業股份有限公司 顯示器
US20120070603A1 (en) 2010-09-21 2012-03-22 Fu-Yi Hsu Screen protective sticker
US9823209B2 (en) 2010-10-05 2017-11-21 Anpac Bio-Medical Science Co., Ltd. Micro-devices for disease detection
AU2015252116A1 (en) 2010-10-05 2015-11-26 Anpac Bio-Medical Science Co., Ltd. Micro-Devices For Disease Detection
GB2485522B (en) 2010-10-11 2012-10-31 Fu-Yi Hsu Screen protective sticker structure
FR2966934B3 (fr) 2010-10-27 2012-12-21 Fu-Yi Hsu Structure de film adhesif de protection d'ecran
US9652089B2 (en) 2010-11-09 2017-05-16 Tpk Touch Solutions Inc. Touch panel stackup
CN201945707U (zh) 2011-01-18 2011-08-24 深圳市盛波光电科技有限公司 一种3d立体显示偏光片
CN102109630B (zh) 2011-01-18 2013-01-23 深圳市盛波光电科技有限公司 一种3d立体显示偏光片及其制备方法
JP6013378B2 (ja) 2011-02-28 2016-10-25 コーニング インコーポレイテッド ディスプレイのスパークルが低い防眩表面を有するガラス
US9411180B2 (en) 2011-02-28 2016-08-09 Corning Incorporated Apparatus and method for determining sparkle
CN201984393U (zh) 2011-03-18 2011-09-21 深圳市中柏电脑技术有限公司 一种电脑一体机
TWI444944B (zh) 2011-03-29 2014-07-11 E Ink Holdings Inc 彩色顯示器以及顯示器製造方法
JP5736214B2 (ja) 2011-03-31 2015-06-17 株式会社日本触媒 （メタ）アクリル重合体を含む成形体の製造方法
JP6117478B2 (ja) 2011-04-22 2017-04-19 日東電工株式会社 粘着型機能性フィルム及び表示装置
JP2012228811A (ja) 2011-04-26 2012-11-22 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 合成樹脂積層体
KR101121207B1 (ko) 2011-05-03 2012-03-22 윤택진 내식성이 우수한 저굴절 특성의 반사 방지 코팅 조성물, 및 이의 제조방법
KR20120129643A (ko) 2011-05-20 2012-11-28 동우 화인켐 주식회사 방현성 반사방지 코팅용 조성물, 이를 이용한 방현성 반사방지 필름, 편광판 및 표시장치
US9573842B2 (en) 2011-05-27 2017-02-21 Corning Incorporated Transparent glass substrate having antiglare surface
US9535280B2 (en) 2011-05-27 2017-01-03 Corning Incorporated Engineered antiglare surface to reduce display sparkle
WO2013023359A1 (zh) 2011-08-16 2013-02-21 深圳市盛波光电科技有限公司 一种薄型一体化的3d立体显示偏光片及其制备方法
CN202182978U (zh) 2011-08-19 2012-04-04 天马微电子股份有限公司 一种液晶光阀眼镜及立体显示系统
CN202177751U (zh) 2011-08-19 2012-03-28 天马微电子股份有限公司 一种液晶光阀眼镜及立体显示系统
CN202171708U (zh) 2011-08-19 2012-03-21 天马微电子股份有限公司 液晶光阀眼镜及立体显示系统
CN202615053U (zh) 2011-08-19 2012-12-19 天马微电子股份有限公司 一种3d液晶眼镜
CN202177765U (zh) 2011-08-19 2012-03-28 天马微电子股份有限公司 一种液晶光阀眼镜及立体显示系统
KR20130031689A (ko) 2011-09-21 2013-03-29 삼성코닝정밀소재 주식회사 적층체
FR2982607A1 (fr) 2011-11-16 2013-05-17 Saint Gobain Materiau fonctionnel a haute durabilite
US20130127202A1 (en) 2011-11-23 2013-05-23 Shandon Dee Hart Strengthened Glass and Glass Laminates Having Asymmetric Impact Resistance
CN109384399A (zh) 2011-11-30 2019-02-26 康宁股份有限公司 具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品的制备方法
US20150174625A1 (en) * 2011-11-30 2015-06-25 Corning Incorporated Articles with monolithic, structured surfaces and methods for making and using same
US9023457B2 (en) 2011-11-30 2015-05-05 Corning Incorporated Textured surfaces and methods of making and using same
US8968831B2 (en) 2011-12-06 2015-03-03 Guardian Industries Corp. Coated articles including anti-fingerprint and/or smudge-reducing coatings, and/or methods of making the same
CN103171230A (zh) 2011-12-21 2013-06-26 鼎力光学有限公司 功能性保护贴的制造方法
US9932663B2 (en) 2011-12-23 2018-04-03 Hong Kong Baptist University Sapphire thin film coated substrate
CN103305816B (zh) 2012-03-14 2015-07-15 北京科技大学 一种高功率的微波等离子体金刚石膜化学气相沉积装置
JP2012132022A (ja) 2012-03-26 2012-07-12 Grandex Co Ltd コーティング塗料
CN102627407B (zh) 2012-04-13 2014-06-18 苏州耀亮光电科技有限公司 一种玻璃满面防眩和局部不防眩处理工艺
KR20150003731A (ko) 2012-04-17 2015-01-09 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 적층체
JP2013226666A (ja) 2012-04-24 2013-11-07 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 合成樹脂積層体
ES2688323T3 (es) 2012-05-22 2018-10-31 Dsm Ip Assets B.V. Composición y proceso para producir un recubrimiento de óxido inorgánico poroso
DE102012208700A1 (de) * 2012-05-24 2013-11-28 Takata AG Gurtaufroller
WO2013181007A1 (en) * 2012-05-29 2013-12-05 Corning Incorporated Method for texturing a glass surface
CN202904161U (zh) 2012-06-28 2013-04-24 天马微电子股份有限公司 液晶光阀及液晶光阀3d眼镜
US9581731B2 (en) 2012-07-09 2017-02-28 Corning Incorporated Anti-glare and anti-sparkle transparent structures
US9588263B2 (en) 2012-08-17 2017-03-07 Corning Incorporated Display element having buried scattering anti-glare layer
KR102047017B1 (ko) 2012-10-03 2019-11-20 코닝 인코포레이티드 표면-개질 유리 기판
TWI606986B (zh) 2012-10-03 2017-12-01 康寧公司 用於保護玻璃表面的物理氣相沉積層
US10487009B2 (en) 2012-10-12 2019-11-26 Corning Incorporated Articles having retained strength
JP2016001201A (ja) 2012-10-17 2016-01-07 旭硝子株式会社 反射防止性を有するガラスの製造方法
US8854623B2 (en) 2012-10-25 2014-10-07 Corning Incorporated Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample
CN202924088U (zh) 2012-11-06 2013-05-08 东莞市纳利光学材料有限公司 一种防眩光保护膜
CN202924096U (zh) 2012-11-07 2013-05-08 东莞市纳利光学材料有限公司 一种抗冲击自动修复防眩膜
US20140131091A1 (en) 2012-11-09 2014-05-15 Nicholas James Smith Phase transformation coating for improved scratch resistance
CN203025361U (zh) 2012-11-14 2013-06-26 东莞市纳利光学材料有限公司 一种液晶显示器用防眩膜
KR20140061842A (ko) 2012-11-14 2014-05-22 백승호 반사방지 효과, 초친수 작용 및 UV-Cut 특성을 갖는 수계 광촉매 제조 및 이를 적용한 유리제품
US9718249B2 (en) 2012-11-16 2017-08-01 Apple Inc. Laminated aluminum oxide cover component
CN102923969B (zh) 2012-11-22 2015-01-07 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 可见光减反射和防油污双功能镀膜玻璃及其制备方法
US20140154661A1 (en) 2012-11-30 2014-06-05 Corning Incorporated Durable glass articles for use as writable erasable marker boards
CN103013219B (zh) 2012-12-10 2014-07-16 合肥乐凯科技产业有限公司 一种防眩硬涂层用固化树脂组成物及防眩硬涂膜
CN103013196A (zh) 2012-12-18 2013-04-03 上海迪道科技有限公司 用于无机非金属材料表面改性的超薄纳米涂层的制造方法
TWI493270B (zh) 2012-12-28 2015-07-21 E Ink Holdings Inc 顯示裝置及顯示裝置的製造方法
EA201591273A1 (ru) 2013-01-08 2015-12-30 Байер Материальсайенс Аг Пленка обратной проекции с эффектом "день/ночь"
CN103099529B (zh) 2013-01-30 2013-12-04 华建耐尔特（北京）低碳科技有限公司 节能导光多功能窗帘
WO2014117333A1 (en) 2013-01-30 2014-08-07 Stokvis Tapes (Shanghai) Co. Ltd. Display devices and methods of assembly
DE112014000891T5 (de) 2013-02-19 2015-11-26 Asahi Glass Company, Limited Verfahren zum Bewerten optischer Eigenschaften von transparentem Substrat
KR101336935B1 (ko) 2013-03-05 2013-12-03 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101578914B1 (ko) 2013-03-15 2015-12-18 주식회사 엘지화학 플라스틱 필름
RU2015146081A (ru) 2013-03-28 2017-05-04 Керамтек-Этек Гмбх Керамический материал с функциональным покрытием
CN103254670B (zh) 2013-04-03 2016-05-11 沭阳凤凰美术颜料有限公司 一种玻璃画颜料
KR20140126039A (ko) 2013-04-22 2014-10-30 삼성전자주식회사 디스플레이 장치
US20140320422A1 (en) 2013-04-26 2014-10-30 Georgia Tech Research Coporation Touch-sensitive panel for a communication device
US9798163B2 (en) 2013-05-05 2017-10-24 High Performance Optics, Inc. Selective wavelength filtering with reduced overall light transmission
US9359261B2 (en) 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
CN203260587U (zh) 2013-05-13 2013-10-30 明基材料有限公司 有机发光显示器
WO2014190014A1 (en) 2013-05-23 2014-11-27 Corning Incorporated Glass-film laminates with controlled failure strength
CN103302934B (zh) 2013-05-25 2015-09-23 甘春丽 一种防污调光隔热膜
EP3008135B1 (de) 2013-06-14 2019-10-23 Covestro Deutschland AG Blendfreie, mikrostrukturierte und speziell beschichtete folie
CN105474054B (zh) 2013-06-21 2018-03-13 Lg化学株式会社 偏光器保护膜，该保护膜的制备方法，以及含有该保护膜的偏光板
JP2015006650A (ja) 2013-06-26 2015-01-15 須知 晃一 システム構成構造細胞複合諸物体の製造方法と構成材料
JP5650347B1 (ja) 2013-07-18 2015-01-07 日本合成化学工業株式会社 樹脂成形体、ディスプレイ用保護板及びタッチパネル基板、並びに樹脂成形体の自己修復方法
CA2890473A1 (en) 2013-07-27 2015-02-05 Zeguo Qiu A method for automatic classification separately collection and automatic transportation of solid waste
CN203620645U (zh) 2013-08-01 2014-06-04 京程科技股份有限公司 二氧化钛—二氧化硅光触媒薄膜的结构
CN203535376U (zh) 2013-08-22 2014-04-09 威赛尼特科技有限公司 光学正投硬幕
JP2013234571A (ja) 2013-08-28 2013-11-21 Taruno Kazuo 未来の別の美瑛街に出来る世界遺産を目指す為の永遠に壊さないクリスタルダイヤ硝子ビルに伴う終身介護システムの著作権原本。
CN104418511B (zh) 2013-08-28 2016-12-28 中国科学院理化技术研究所 在玻璃基板上构造超亲水的增透复合涂层的方法
JP6253655B2 (ja) 2013-08-30 2017-12-27 株式会社日本触媒 （メタ）アクリル系樹脂
US20150111725A1 (en) 2013-10-21 2015-04-23 Peter C. Van Buskirk Photocatalytic thin film devices
US10324353B2 (en) 2013-10-22 2019-06-18 Vlyte Innovations Limited Wide operating temperature range electrophoretic device
CN104559625A (zh) 2013-10-28 2015-04-29 常州光辉化工有限公司 一种热熔型自发光道路标线涂料及其生产工艺
KR101517051B1 (ko) 2013-10-30 2015-05-04 김종현 안전거울 및 이의 제작방법
CN203567294U (zh) 2013-11-21 2014-04-30 深圳市瑞丰锦铭科技有限公司 一种新型屏幕保护膜
WO2015084253A1 (en) 2013-12-02 2015-06-11 Ng Poh Mun Louis We glass business and coating technology
US10088572B2 (en) 2013-12-05 2018-10-02 Delaval Holding Ab Time-of-flight camera system, robot milking system comprising a time-of-flight camera system and method of operating a time-of-flight camera system
US9880328B2 (en) 2013-12-12 2018-01-30 Corning Incorporated Transparent diffusers for lightguides and luminaires
WO2015095288A2 (en) 2013-12-19 2015-06-25 Corning Incorporated Textured surfaces for display applications
TWI522241B (zh) 2013-12-25 2016-02-21 恆顥科技股份有限公司 用於貼合於基板的貼膜
CN203689480U (zh) 2013-12-25 2014-07-02 龚士杰 一种双触控智能镜屏
US20150185554A1 (en) 2013-12-31 2015-07-02 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Liquid crystal display and method for manufacturing the same
WO2015108266A1 (ko) * 2014-01-20 2015-07-23 엠엔지솔루션 주식회사 보호글래스 제조 방법
WO2015115154A1 (ja) 2014-01-29 2015-08-06 日本合成化学工業株式会社 樹脂成形体、及びその用途
CN103823307B (zh) 2014-02-14 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 真三维立体成像装置和显示装置
JP6474383B2 (ja) 2014-02-24 2019-03-06 キヤノンオプトロン株式会社 防汚膜付光学部材およびタッチパネル式ディスプレイ
JP2015169874A (ja) 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法
JP2015171770A (ja) 2014-03-11 2015-10-01 新日鉄住金化学株式会社 飛散防止性能付きガラス
WO2015137196A1 (ja) 2014-03-14 2015-09-17 日本電気硝子株式会社 ディスプレイのカバー部材及びその製造方法
DE102014104798B4 (de) 2014-04-03 2021-04-22 Schott Ag Harte anti-Reflex-Beschichtungen sowie deren Herstellung und Verwendung
CN103921487B (zh) 2014-04-04 2015-09-30 武汉理工大学 一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法
CN104977633B (zh) 2014-04-08 2018-07-17 株式会社巴川制纸所 保护膜、薄膜层压体和偏光板
CN106461811B (zh) 2014-04-09 2019-03-12 美国陶氏有机硅公司 光学元件
CN103934756B (zh) 2014-04-20 2016-10-05 杭州道盈信息科技有限公司 防眩光玻璃的制作工艺
TWI599489B (zh) 2014-04-25 2017-09-21 財團法人工業技術研究院 面板封裝結構
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
KR101489358B1 (ko) 2014-05-12 2015-02-06 이상필 압축공기용 정화장치
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
CN103964705A (zh) 2014-05-12 2014-08-06 无锡海特新材料研究院有限公司 多功能汽车玻璃贴膜的制备方法
CN106537190B (zh) 2014-05-23 2019-08-16 康宁股份有限公司 具有减少的划痕与指纹可见性的低反差减反射制品
JPWO2015190374A1 (ja) 2014-06-10 2017-04-20 富士フイルム株式会社 光学機能層形成用組成物、これを用いた固体撮像素子およびカメラモジュール、ならびに光学機能層のパターン形成方法、固体撮像素子及びカメラモジュールの製造方法
JP2016009172A (ja) 2014-06-26 2016-01-18 大日本印刷株式会社 調光装置および区画部材
CN106470954A (zh) 2014-07-09 2017-03-01 旭硝子欧洲玻璃公司 低闪光的玻璃板
DE112015003283B4 (de) 2014-07-16 2018-05-03 Asahi Glass Company, Limited Abdeckglas
GB2523859B (en) 2014-08-01 2016-10-19 Dupont Teijin Films U S Ltd Partnership Polyester film assembly
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
JP2016041778A (ja) 2014-08-14 2016-03-31 株式会社巴川製紙所 保護フィルム、フィルム積層体および偏光板
CN105445820A (zh) 2014-08-21 2016-03-30 宸鸿科技(厦门)有限公司 光学膜组件
CN105446558B (zh) 2014-08-27 2019-06-28 欧浦登（顺昌）光学有限公司 一种双层单面导电线电极膜的电容式触摸屏及制造方法
DE102014013527A1 (de) 2014-09-12 2016-03-17 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines beschichteten, chemisch vorgespannten Glassubstrats mit Antifingerprint-Eigenschaften sowie das hergestellte Glassubstrat
DE102014013550A1 (de) 2014-09-12 2016-03-31 Schott Ag Beschichtetes chemisch vorgespanntes flexibles dünnes Glas
JPWO2016047059A1 (ja) 2014-09-22 2017-07-06 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 反射防止部材
US20160368308A1 (en) 2014-10-14 2016-12-22 Corning Incorporated Method of decorating a substrate surface and articles thereby
US10690818B2 (en) * 2014-10-31 2020-06-23 Corning Incorporated Anti-glare substrates with a uniform textured surface and low sparkle and methods of making the same
US9586857B2 (en) * 2014-11-17 2017-03-07 International Business Machines Corporation Controlling fragmentation of chemically strengthened glass
JP6693420B2 (ja) 2014-11-20 2020-05-13 Ａｇｃ株式会社 透明板、タッチパッド、およびタッチパネル
CN105737103B (zh) 2014-12-10 2018-07-20 深圳市光峰光电技术有限公司 波长转换装置及相关荧光色轮和投影装置
CN204727835U (zh) 2014-12-31 2015-10-28 东莞市纳利光学材料有限公司 一种双结构的抗菌抗眩抗刮保护膜
CN104845544B (zh) 2014-12-31 2017-05-03 东莞市纳利光学材料有限公司 一种双结构的抗菌抗眩抗刮保护膜及制备方法
US11229131B2 (en) 2015-01-19 2022-01-18 Corning Incorporated Enclosures having an anti-fingerprint surface
JP6720473B2 (ja) 2015-04-09 2020-07-08 Dic株式会社 発光装置、照明器具及び情報表示装置ならびに発光装置の製造方法
CN107848873A (zh) * 2015-05-15 2018-03-27 康宁股份有限公司 包含光提取特征的玻璃制品及其制造方法
JP6601492B2 (ja) 2015-05-22 2019-11-06 ダイキン工業株式会社 表面処理層を有する物品の製造方法
US9809730B2 (en) 2015-06-10 2017-11-07 Upm Raflatac Oy Printable label comprising a clear face layer and a clear adhesive layer
WO2016204009A1 (ja) 2015-06-16 2016-12-22 Ｊｘエネルギー株式会社 シート状透明積層体、それを備えた透明スクリーン、およびそれを備えた映像投影システム
DE102015007830B4 (de) * 2015-06-18 2017-12-28 e.solutions GmbH Optische Baugruppe, elektronisches Gerät und Kraftfahrzeug mit einer optischen Baugruppe sowie Verfahren zum Herstellen einer optischen Baugruppe
JP2015167470A (ja) 2015-06-23 2015-09-24 墫野　和夫 国の全額借金返済と都道府県市町村区の全額借金返済後に対して自給自足型の農業及び漁業及び林業及び中小企業が世界トップの日本円銀行団体と世界最高銀行団体に成る為の完全自給自足物流通システムに対しての知的所有財産を使った財団経営の未来的農業漁業林業一体型中小工企業体システム。
CN108139515B (zh) 2015-07-07 2021-05-04 3M创新有限公司 用于光定向制品的聚氨酯层
DE102015213075A1 (de) 2015-07-13 2017-01-19 Schott Ag Asymmetrisch aufgebaute, auf beiden Oberflächenseiten chemisch vorgespannte Dünnglasscheibe, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
CN106378880A (zh) 2015-07-27 2017-02-08 惠州市德赛西威汽车电子股份有限公司 车载中控一体化塑胶曲面面板模内装饰成型的制造方法
CN204894681U (zh) 2015-08-19 2015-12-23 东莞市银通玻璃有限公司 一种高强度装饰玻璃
KR20170028190A (ko) 2015-09-03 2017-03-13 주식회사 엠코드 차량용 디스플레이의 글래스 또는 필름 코팅층 및 그 코팅방법
CN108025962B (zh) 2015-09-11 2021-04-30 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于生产具有耐用功能性涂层的钢化玻璃制品的方法及具有耐用功能性涂层的钢化玻璃制品
CN117331157A (zh) 2015-09-11 2024-01-02 日本电气硝子株式会社 显示器用罩部件及其制造方法
EP3300520B1 (en) 2015-09-14 2020-11-25 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
CN106338783B (zh) 2015-09-17 2018-08-14 湖北航天化学技术研究所 一种防眩抗反射光学膜及其制备方法和应用
CN205368144U (zh) 2016-01-12 2016-07-06 慧思维（天津）科技有限公司 防眩增透玻璃
US11795102B2 (en) 2016-01-26 2023-10-24 Corning Incorporated Non-contact coated glass and related coating system and method
CN107924003B (zh) 2016-02-01 2020-08-25 Ａｇｃ株式会社 透光性结构体
EP3411228A1 (en) 2016-02-05 2018-12-12 SABIC Global Technologies B.V. Foldable cover assembly, method of manufacture, and device comprising the foldable cover assembly
CN105688560A (zh) 2016-02-26 2016-06-22 侯英翔 提高煤的经济价值及煤作为降尘材料的制作方法
EP3210947A1 (en) 2016-02-29 2017-08-30 Agfa-Gevaert Method of manufacturing an etched glass article
KR20180121568A (ko) 2016-03-09 2018-11-07 코닝 인코포레이티드 복합적으로 굽은 유리 제품의 냉간 형성
CN105859148B (zh) 2016-03-29 2018-03-20 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 一种玻璃表面防眩涂层材料及其制备方法
CN205687804U (zh) 2016-04-01 2016-11-16 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 截止蓝紫光和减反射可见光显示屏保护基片
US10401539B2 (en) 2016-04-21 2019-09-03 Corning Incorporated Coated articles with light-altering features and methods for the production thereof
CN115028356B (zh) 2016-04-29 2024-07-12 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 高强度超薄玻璃以及其制造方法
CN105843452B (zh) 2016-05-13 2019-11-01 中航华东光电有限公司 一种集成电阻触摸功能的低反射oled显示装置
CN106113837A (zh) 2016-07-08 2016-11-16 安徽省光学膜材料工程研究院有限公司 一种屏幕滤光保护片
CN205818592U (zh) 2016-07-08 2016-12-21 安徽省光学膜材料工程研究院有限公司 一种屏幕滤光保护片
KR102424807B1 (ko) * 2016-08-11 2022-07-22 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판의 에칭 기반 평탄화를 위한 방법
JP2019189465A (ja) 2016-08-29 2019-10-31 Ａｇｃ株式会社 防眩性板ガラスの製造方法
CN106199812B (zh) 2016-08-30 2019-08-06 苏州柔彩新材料科技有限公司 一种薄化多功能偏光片及其制备方法和应用
CN106431004A (zh) 2016-09-06 2017-02-22 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 截止蓝光和减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法
KR102616406B1 (ko) 2016-09-30 2023-12-20 엘지디스플레이 주식회사 표시장치
KR102505252B1 (ko) 2016-12-30 2023-03-03 코닝 인코포레이티드 잔류 압축 응력을 갖는 광학 코팅(optical coating)이 있는 코팅된 제품
CN106941545A (zh) 2017-05-05 2017-07-11 浙江昱鑫光电科技有限公司 手机3d曲面盖板
CN107310209A (zh) 2017-05-19 2017-11-03 合肥市惠科精密模具有限公司 一种多功能amoled屏保护膜
CN107042642A (zh) 2017-06-14 2017-08-15 深圳市利和腾鑫科技有限公司 一种防爆膜的加工方法
JP6745410B2 (ja) 2017-08-04 2020-08-26 株式会社ダイセル 防眩フィルム
US11548810B2 (en) 2017-09-14 2023-01-10 Corning Incorporated Textured glass-based articles with scratch resistance and methods of making the same
FR3072958B1 (fr) * 2017-10-30 2022-05-06 Eurokera Article vitroceramique muni d'une couche et procede d'obtention
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
CN115432936B (zh) * 2018-07-09 2023-09-01 日本板硝子株式会社 玻璃板
CN111094200B (zh) 2018-08-17 2022-01-07 康宁股份有限公司 具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品
US11116098B2 (en) 2018-12-10 2021-09-07 Corning Incorporated Dynamically bendable automotive interior display systems
US11372137B2 (en) * 2019-05-29 2022-06-28 Apple Inc. Textured cover assemblies for display applications
WO2020243210A1 (en) 2019-05-30 2020-12-03 Corning Incorporated Textured glass articles and methods of making the same
US20220009824A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering
EP4259587A1 (en) 2020-12-11 2023-10-18 Corning Incorporated Cover glass articles for camera lens and sensor protection and apparatus with the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022011068A1 (en) 2022-01-13
TW202219552A (zh) 2022-05-16
TW202217363A (zh) 2022-05-01
US11977206B2 (en) 2024-05-07
WO2022011072A1 (en) 2022-01-13
EP4178924A1 (en) 2023-05-17
EP4178923A1 (en) 2023-05-17
TW202217364A (zh) 2022-05-01
US20220011467A1 (en) 2022-01-13
US20240192407A1 (en) 2024-06-13
WO2022011070A9 (en) 2022-02-17
US11940593B2 (en) 2024-03-26
US20220011468A1 (en) 2022-01-13
CN116133998A (zh) 2023-05-16
TW202216629A (zh) 2022-05-01
WO2022011073A1 (en) 2022-01-13
US20220011466A1 (en) 2022-01-13
US20240230955A1 (en) 2024-07-11
CN116157369A (zh) 2023-05-23
EP4178925A1 (en) 2023-05-17
CN118295048A (zh) 2024-07-05
TW202208882A (zh) 2022-03-01
WO2022011071A1 (en) 2022-01-13
KR20230038240A (ko) 2023-03-17
WO2022011070A1 (en) 2022-01-13
WO2022011069A1 (en) 2022-01-13
CN115843290A (zh) 2023-03-24
KR20230038500A (ko) 2023-03-20
TW202217422A (zh) 2022-05-01
EP4178924B1 (en) 2024-05-15
US20220009824A1 (en) 2022-01-13
CN116113610A (zh) 2023-05-12
US11971519B2 (en) 2024-04-30
EP4375255A2 (en) 2024-05-29
EP4178926B1 (en) 2024-05-15
EP4178926A1 (en) 2023-05-17
US20220011478A1 (en) 2022-01-13
JP2023534198A (ja) 2023-08-08
WO2022011073A9 (en) 2022-02-10
KR20230038505A (ko) 2023-03-20
US20220011477A1 (en) 2022-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11971519B2 (en) Display articles with antiglare surfaces and thin, durable antireflection coatings
KR101934133B1 (ko) 방현 표면을 갖는 투명 유리 기판
JP6586092B2 (ja) ディスプレイ用途のための起伏加工表面
KR102101944B1 (ko) 낮은 디스플레이 스파클을 갖는 방현 표면을 구비한 유리
CN113891866B (zh) 纹理化玻璃制品及其制造方法
CN106470954A (zh) 低闪光的玻璃板
KR20130058705A (ko) 방현 표면 및 제조 방법
TW202120967A (zh) 具紋理、防眩玻璃製品及其製作方法
CN117836248A (zh) 具有包括在两个、三个或四个高程处的一个或多个表面和提供部分一个或多个表面的至少一部分的表面特征的纹理区域的用于显示器制品的防眩光基板及其制作方法