CN116157369A - 具防眩表面及薄的耐用抗反射涂层的显示器制品 - Google Patents

Abstract

本文描述了一种显示器制品，包含：基板，所述基板包含厚度及主表面；纹理化表面区域；及抗反射涂层，所述抗反射涂层是安置于所述纹理化表面区域上。所述纹理化表面区域包含结构特征及自50nm至300nm的平均纹理高度(R_text)。所述基板在0°入射角下展现出如通过PPD₁₄₀测量的小于5％的闪烁、及小于40％的透射率雾度。所述抗反射涂层包含交替的高折射率层及低折射率层。所述低折射率层中的每一个包含小于或等于1.8的折射率，且所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率。所述制品亦展现出在可见波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.3％的第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

Description

具防眩表面及薄的耐用抗反射涂层的显示器制品

相关申请的交叉引用

本专利申请案根据专利法请求2020年7月9日提交的名称为“DISPLAYARTICLESWITH DIFFRACTIVE,ANTIGLARE SURFACES AND METHODS OF MAKING THESAME”的美国临时申请案第63/049,843号的优先权权益，该临时申请案的全部内容以引用方式并入本文中。

本申请案涉及以下所共同拥有并受让的专利申请案，但并不请求该等专利申请案的优先权：美国专利申请案序列第__________(D31977)号，名称为“TEXTURED REGIONTOREDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCLUDING ALOW REFRACTIVE INDEXSUBSTRATE WITHHIGHER ELEVATED SURFACES AND LOWER ELEVATED SURFACESAND AHIGH REFRACTIVEINDEX MATERIAL DISPOSED ON THE LOWER ELEVATEDSURFACES”且提交于______________；美国专利申请案序列第__________(D31038/32632)号，名称为“ANTI-GLARE SUBSTRATEFOR ADISPLAY ARTICLE INCLUDING ATEXTURED REGION WITH PRIMARY SURFACE FEATURESAND SECONDARYSURFACE FEATURES IMPARTING A SURFACE ROUGHNESS THATINCREASESSURFACE SCATTERING”且提交于______________；美国专利申请案序列第__________(D32630/32632)号，名称为“TEXTURED REGION OF ASUBSTRATE TOREDUCESPECULAR REFLECTANCE INCORPORATING SURFACE FEATURES WITH ANELLIPTICALPERIMETER OR SEGMENTS THEREOF,AND METHOD OF MAKING THESAME”且提交于______________；及美国专利申请案序列第__________(D32647)号，名称为“TDISPLAYARTICLES WITH DIFFRACTIVE,ANTIGLARE SURFACES AND THIN,DURABLE ANTIREFLECTIONCOATINGS”且提交于______________。前述美国专利申请案、公开案及专利文件中的每一者的全部公开内容以引用方式并入本文中。

技术领域

本公开总体涉及具有纹理化防眩表面(例如，绕射、粗化及其他纹理化形态)与薄的耐用抗反射涂层的显示器制品，特定而言涉及包含一或多个主表面具有纹理化表面区域的基板的显示器制品，该纹理化表面区域上具有防眩特性及抗反射涂层。

背景技术

防眩表面常用于诸如LCD屏幕、平板计算机、智能型手机、OLED及触控屏幕的显示设备中以避免或减少周围光的镜面反射。在许多显示设备中，此等防眩表面是通过向玻璃的一或多个表面及/或玻璃上的膜提供一定水平的粗糙度以扩散及散射入射光来形成。粗化玻璃表面形式的防眩表面常用于此等显示设备之前表面上，以降低来自显示器的外部反射的明显可见度并改善显示器在不同照明条件下的可读性。

用于在显示器制品中所采用的玻璃基板上给予防眩性质的习知方法在一定程度上取得了成功。通常，此等方法已用于在基板的表面中及/或此类基板上的膜内采用随机化表面粗糙度轮廓。然而，此等方法导致玻璃基板及显示器制品具有高雾度及/或高显示闪烁。高雾度水平可因朝向用户散射高角度光而降低显示对比度，从而使黑色水平显得‘褪色’。高显示闪烁水平是像素亮度中的不需要的随机变化，该等变化导致随着视角偏移的粒状外观。

另外，护罩制品常用于保护电子产品内的装置，提供用于输入及/或显示及/或许多其他功能的用户接口。此类产品包括行动装置，例如智能型手机、智能型手表、mp3播放器及平板计算机。此等显示器制品亦可受益于一定透明度、耐刮性、耐磨性或它们的组合。此等应用通常需要耐刮性以及就最大透光率及最小反射率而言的强光学性能特性。此外，对于一些护罩应用，在反射及/或透射中展现出的或感知到的色彩不会随着视角改变而可察觉地改变。在显示应用中，这是因为若反射或透射中的色彩随着视角改变至可察觉程度，则产品用户将感知到显示器色彩或亮度的变化，这可能降低所感知到的显示器质量。在其他应用中，色彩的变化可负面地影响装置的美学外观或其他功能方面。

此等显示器制品常用于具有封装约束的应用(例如，行动装置)。特定而言，此等应用中的许多可显著受益于整体厚度的减少，甚至是百分之几的减少。另外，采用此类显示器制品及非显示器制品的许多应用例如透过原料成本最小化、工艺复杂性最小化及良率改善而受益于低制造成本。具有与现有显示器制品及非显示器制品相当的光学及机械特性性能属性的较小封装亦可服务降低制造成本的期望(例如，透过减少原料成本，透过减少抗反射结构中的层数等)。

护罩显示器制品的光学性能可通过使用各种抗反射涂层来改善；然而，已知的抗反射涂层易于磨损或磨耗。此种磨耗可损害抗反射涂层所达成的任何光学性能改善。磨耗损坏可包括来自相对面对象(例如，手指)的往复滑动接触。另外，磨耗损坏可产生热量，这可劣化膜材料中的化学键并引起护罩玻璃的剥落及其他类型的损坏。由于磨耗损坏通常比导致划痕的单个事件经历更长的时间，经历磨耗损坏的所安置涂层材料亦可能氧化，这进一步劣化涂层的耐用性。

鉴于此等考虑，需要具有改善的防眩特性的显示器制品及基板，该等改善的防眩特性包括但不限于镜面反射的抑制、低闪烁及低影像清晰度。此外，需要此等相同显示器制品亦具有耐磨性及抗反射光学特性。

发明内容

根据本公开的一方面，提供了一种显示器制品，包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一纹理化表面区域，该纹理化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于由该基板的该主表面界定的该纹理化表面区域上。该纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的一平均纹理高度(R_text)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。此外，该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。另外，该制品展现出在自约450nm至650nm的可见光谱中在与法线成约5°至20°的一入射角下小于0.3％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

根据本公开的另一个方面，提供了一种显示器制品，包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一纹理化表面区域，该纹理化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于由该基板的该主表面界定的该纹理化表面区域上。该纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的一平均纹理高度(R_text)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。此外，该抗反射涂层包含自200nm至500nm的一总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中该抗反射涂层包含总共三(3)至九(9)层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。另外，每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。另外，该制品展现出在自约450nm至650nm的可见光谱中在与法线成约5°至20°的一入射角下小于0.3％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

根据本公开的另一方面，提供了一种显示器制品，包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一粗化表面区域，该粗化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于由该基板的该主表面界定的该粗化表面区域上。该粗化表面区域包含多个结构特征及自20nm至2000nm平均纹理高度均方根(root-mean-square，RMS)变化的一平均表面粗糙度(R_q)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。此外，该抗反射涂层包含自200nm至500nm的一总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中该抗反射涂层包含总共三(3)至九(9)层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。另外，每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。另外，该制品展现出在自约450nm至650nm的可见光谱中在与法线成约5°至20°的一入射角下小于1％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

将在随后的详细描述中阐述附加特征及优点，且所属领域的技术人员自该描述将容易明白或者通过实践如本文所描述的实施方式(包括随后的详细描述、权利要求书以及附图)将认识到该等附加特征及优点。

应理解，前述一般描述及以下详细描述二者仅仅是示范性的，且意欲提供用于理解所请求保护的本公开的本质及特性的概述或框架。

附图被包括来提供对本公开的原理的进一步理解，且并入本说明书中并构成本说明书的一部分。附图例示出一或多个实施方式且连同描述一起通过实例解释本公开的原理及操作。应理解，本说明书及附图中所公开的本公开的各种特征可以任何及所有组合使用。

附图说明

当参考附图阅读本公开的以下详细描述时，可更好地理解本公开的此等及其他特征、方面及优点。

图1A是根据本公开的一实施方式的显示器制品的横剖面示意图。

图1B是根据本公开的一实施方式的显示器制品的横剖面示意图。

图1C是根据本公开的一实施方式的具有抗反射涂层的显示器制品的横剖面示意图。

图1D是根据本公开的一实施方式的具有抗反射涂层的显示器制品的横剖面示意图。

图1E是根据本公开的一实施方式的具有抗反射涂层的显示器制品的横剖面示意图。

图2是根据本公开的一实施方式的绕射防眩结构的横剖面示意图。

图3A及图3B分别是根据本公开的实施方式的反射及透射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。

图4A至图4C是根据本公开的实施方式的分别在15％、30％及70％填充分数下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。

图5是根据本公开的实施方式的在不同入射光波长下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩表面的结构深度与之函数的绘图。

图6是根据本公开的一实施方式的制造显示器制品的方法的示意流程图。

图7A至图7D是根据本公开的实施方式的显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的光学显微照片。

图8是根据本公开的实施方式的蚀刻深度作为形成显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的两个结构特征的蚀刻时间的函数的绘图。

图9A及图9B是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的影像清晰度(distinctness of image，DOI)作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图10A及图10B是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的像素功率偏差(PPD₁₄₀)及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图10C及图10D是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的像素功率偏差(PPD₁₄₀)及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图11A是根据本公开的一实施方式的具有第一组结构特征的绕射表面区域的光学影像及表面高度分布条，该第一组结构特征具有约150nm的深度及约50％的填充分数。

图11B是根据本公开的实施方式的具有不同绕射表面区域的三个制品的反射率幅度对反射角度(以度为单位)的角度绘图。

图12是根据本公开的一实施方式的具有绕射表面区域的显示器制品的反射率幅度对反射角度(以度为单位)的角度绘图。

图13A及图13B是根据本公开的一实施方式的在去除制造显示器制品的方法中所采用的掩模及蚀刻剂之前及之后的具有绕射表面区域的显示器制品的光学影像。

图14是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的结构特征的影像清晰度(distinctness of image，DOI)作为蚀刻深度的函数的绘图。

图15是根据本公开的一实施方式的绕射表面区域的配置成六角形图案以描绘六角百分比(H)的七个结构特征的示意性绘图。

图16A及图16B分别是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的最近邻分布及图案周期图绘图。

图17A及图17B分别是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的最近邻分布及图案周期图绘图。

图18A是并入本文所公开的制品中的任一种的示范性电子装置的平面图。

图18B是图18A的示范性电子装置的立体图。

图19是根据本公开的一实施方式的显示器制品的弹性模数及硬度对压入深度的绘图。

图20A是根据本公开的实施方式的显示器制品及比较显示器制品的第一表面镜面反射率对波长的绘图。

图20B及图20C是根据本公开的实施方式的显示器制品及比较显示器制品的镜面反射率测量的示意性图解。

图21是根据本公开的实施方式的显示器制品的二表面总透射率对波长的绘图。

图22A至图22C是根据本公开的实施方式的对于各种入射角的第一表面镜面反射率对波长的绘图。

图23是根据本公开的实施方式的对于6°入射角的二表面镜面反射率对波长的绘图。

图24是用于测量本公开的显示器制品的光学性质的光学装置的示意图。

具体实施方式

在以下详细描述中，出于解释而非限制的目的，阐述了公开具体细节的示范性实施方式以提供对本公开的各种原理的透彻理解。然而，已受益于本公开的所属领域的技术人员将明白，可在脱离本文所公开的具体细节的其他实施方式中实践本公开。此外，对熟知装置、方法及材料的描述可省略，以免使本公开的各种原理的描述模糊。最后，在适用情况下，相同参考数字是指相同元件。

范围在本文中可表达为自“约”一个特定值及/或至“约”另一个特定值。当表达此范围时，另一个实施方式包括从一个特定值及/或到另一个特定值。相似地，当通过使用前述词“约”将值表达为近似值时，将理解的是，特定值形成另一个实施方式。将进一步理解的是，范围中的每一者的端点在与另一个端点相关及与另一个端点无关方面均有意义。

如本文所用的方向性术语(例如，“向上”、“向下”、“右”、“左”、“前”、“后”、“顶部”、“底部”)仅参考如所绘制的图，且并不意欲暗示绝对定向。

除非另外明确指出，否则决不意欲将本文所阐述的任何方法解释为需要按特定次序执行其步骤。因此，在方法权利要求实际上并未列举其步骤要遵循的次序、或并未在权利要求或描述中另外具体指出步骤应限于特定次序的情况下，决不意欲在任何方面中推断次序。这对于任何可能的非表达解释基础来说是如此，包括：关于步骤排列的逻辑事项或操作流程；自语法组织或标点推导出的普通意义；说明书中所描述的实施方式的数目或类型。

如本文所用，除非上下文另外明确说明，否则单数形式“一个/种(a/an)”、及“该/该等(the)”包括复数指示物。因此，除非上下文另外清楚指示，否则例如对一“组件”的引用包括具有二或更多个此类组件的方面。

如本文所用，“平均纹理高度(R_text)”是本公开的显示器制品的基板的主表面的纹理化区域的结构特征的特性，且以纳米(nm)为单位报告。此外，对于包含粗化表面区域的纹理化表面区域(例如，如透过蚀刻及/或喷砂工艺产生的)，R_text定义为粗化表面区域的平均表面粗糙度(R_q)，且可以均方根(root-mean-square，RMS)纳米(nm)为单位报告。对于如本公开所描述的包含绕射表面区域的纹理化表面区域，R_text定义为与绕射表面区域相关联的结构特征(例如，柱、孔等)的两个高度或深度之间的平均高度差。

如本文所用，“玻氏(Berkovich)压头硬度试验”包括通过用金刚石玻氏压头压入材料的表面来在该表面上测量材料的硬度。玻氏压头硬度试验包括：用金刚石玻氏压头压入本公开的显示器制品100(参见图1C至图1E及对应描述)的抗反射涂层60的空气侧表面61以形成压痕，该压痕的压入深度在自约50nm至约1000nm范围(或整个抗反射涂层或层厚度，以较小者为准)内；及在沿着整个压入深度范围的各个点处、沿着此压入深度的指定段(例如，在自约100nm至约500nm深度范围内)或在特定压入深度处(例如，在100nm深度处，在500nm深度处等)根据此压入测量硬度，这通常使用以下文献中所阐述的方法：Oliver,W.C.；Pharr,G.M.,“An improved technique for determining hardness and elasticmodulus using load and displacement sensing indentation experiments”,J.Mater.Res.,第7卷，第6期，1992，1564-1583；及Oliver,W.C.与Pharr,G.M.,“Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation:Advances in Understanding and Refinements to Methodology”,J.Mater.Res.,第19卷，第1期，2004，3-20。此外，当在压入深度范围内(例如，在自约100nm至约500nm深度范围内)测量硬度时，结果可报告为指定范围内的最大硬度，其中该最大值是选自在该范围内的每个深度处获得的测量结果。如本文所用，“硬度”及“最大硬度”均是指所测量的硬度值，而不是硬度值的平均值。相似地，当在压入深度处测量硬度时，自玻氏压头硬度试验获得的硬度值是针对该特定压入深度得到的。

本公开的方面总体涉及具有抗反射(antireflective，AR)及防眩(antiglare，AG)光学特性的组合以及机械强度及耐磨损性的显示器制品。与仅具有AR或AG性质及特性的制品相比，此等显示器制品有利地具有较低的第一表面镜面反射率水平(例如，低至0.015％)，这亦促进较高的显示器对比度、色域及中性反射色彩水平。更特定而言，显示器制品具有一或多个纹理化AG基板表面(例如，绕射、粗化及其他纹理化形态)与薄的耐用多层AR涂层。此外，由于此等制品的AG纹理化表面区域可在透射及反射二者中散射光，该AG纹理化表面区域亦可减少显示器中隐藏反射的出现。此外，此等显示器制品及基板采用具有防眩性质的纹理化表面区域，诸如低像素功率偏差(PPD₁₄₀)及低透射雾度。此等显示器制品亦包括具有多个交替的高折射率层及低折射率层的AR涂层，该AR涂层在一些实施方式中可使制品能够展现出8GPa或更大的最大硬度，如通过玻氏压头硬度试验沿着50nm或更大压入深度测量的。纹理化表面区域可使采用纹理化表面区域的显示器制品能够展现出小于5％的PPD₁₄₀及小于40％的透射雾度。

本公开的方面总体亦涉及具有绕射防眩表面的显示器制品及其制造方法，特定而言涉及包含一或多个主表面具有绕射表面区域及防眩特性的基板的显示器制品。一般而言，本公开的显示器制品及基板采用具有防眩性质的专设绕射表面区域，该等防眩性质诸如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)、低像素功率偏差(PPD₁₄₀)及低透射雾度。此等防眩性质中的每一者是显示器应用所要的，且习知方法尚未达成此防眩性质组合。根据本公开的方面，绕射表面区域具有直径小于100μm、节距小于125μm且填充分数为40％至55％的结构特征，诸如孔及/或柱。包括此等孔及/或柱的绕射表面区域可使采用绕射表面区域的显示器制品能够展现出小于80％的第一表面反射率DOI、小于4％的PPD₁₄₀及小于20％的透射雾度。此外，此等性质能够在绕射表面区域之上不另外存在任何抗反射涂层的情况下达成。此外，在一些实施方式中，绕射表面区域可具有高度及/或深度为自120nm至200nm的表面高度的多模式分布(例如，双模式分布)，这可透过绕射干涉降低镜面反射率。

相比利用习知方法来达成抗反射特性的显示器制品，包括绕射表面区域的本公开的显示器制品提供若干优点。例如，本公开的显示器制品可使用绕射光散射以10倍或更多倍因子抑制镜面反射率，同时亦达成低雾度、低闪烁及高机械耐久性的组合。高机械耐久性与绕射表面区域的结构特征的相对低的纵横比相关联。另外，根据本公开的一些显示器制品采用绕射表面区域及多层抗反射涂层结构来达成大于20倍、50倍或甚至100倍的镜面反射减少。本公开的显示器制品的另一优点在于，绕射表面区域的平面台阶状及半平面形态连同小于1μm或小于250nm的受控结构深度一起允许容易以与习知的被蚀刻防眩玻璃基板相比低得多的玻璃材料及蚀刻化学品(诸如HF)消耗来制造显示器制品，从而导致更少的环境浪费及潜在成本效益。可采用各种工艺来创建此等结构(例如，有机掩模及蚀刻、有机掩模及气相沉积、有机掩模及液相沉积氧化物)，这可有助于保持低制造成本。此等显示器制品的进一步优点在于，显示器制品可展现出防眩、习知防眩方法未达成的光学性质的组合。例如，并入绕射表面区域的本公开的显示器制品已达成小于80％的DOI、小于2％的PPD₁₄₀及小于5％的雾度。

参考图1A及图1B，将显示器制品100描绘为包括具有多个主表面12及14及厚度13的基板10。基板10的主表面12亦包括绕射表面区域30a。因此，主表面12上界定有绕射表面区域30a，使得绕射表面区域30a是由基板10形成或以其他方式形成为基板10的一部分，如图1A所展示。在一些实施方案(未展示出)中，绕射表面区域30a亦可由基板10的主表面14界定。此外，在一些实施方案中，绕射表面区域30a是由主表面12及14二者界定。同样如图1A所描绘，绕射表面区域30a包括多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度及/或深度。

再次参考图1A及图1B所展示的绕射表面区域30a，它可描述包含在基板10的主表面12上方或下方具有一组固定的几个可能离散高度或深度水平的圆柱或圆孔(即，结构特征20)的表面。在一些情况下，每个特征20可具有特征在于单一高度或深度的平面顶部。此等特征20可具有相同直径或有限数目的不同直径。特征20的放置可以是随机的，但这是设计使然或以其他方式特意专设的而不是制造工艺的随机功能。制造工艺可使用某种形式的精密专设掩模来精确地(在一定公差内)生产所设计特征形状。如本文所用，多个结构特征20具有呈“多模式分布”的多个不同高度的绕射表面区域30a(如图1A及图1B中的示范性形式所展示)意指绕射表面区域30a主要由两个(例如，双模式分布)、三个(例如，三模式分布)、四个、五个或更多个相异且特意专设的平均高度或主高度组成，且此等平均高度或主高度中的每一个由其宽度小于或相当于高度之间的垂直隔距的分布组成。再次参考图1A及图1B，示范性绕射表面区域30a包含呈双模式分布的多个高度及/或深度。此外，如本文所用，“双模式分布”意指绕射表面区域30a主要由两个相异且特意专设的平均高度或主高度组成，且此等平均高度或主高度中的每一个由其宽度小于或相当于高度之间的垂直隔距的分布组成。

在实施方式中，多个结构特征20包括柱及/或孔，且此等柱及/或孔构成表面高度及/或深度的多模式分布。根据一些实施方案，绕射表面区域30a可包含二维阵列的圆形、正方形、六角形、多边形或不规则结构特征20。此外，此等结构特征20可配置成有序或半有序阵列——本质上是可重复制造且不视制造工艺随机性而定来达成它们的功能的各种阵列方案中的任何一种。因此，在图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方式中，绕射表面区域30a包含以下多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度且以半有序或有序阵列跨表面区域30a分布。

再次参考图1A及图1B的显示器制品100，基板10可展现出小于4％的闪烁，如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的。基板10亦可展现出在与法线成20°的入射角下小于80％的DOI。此外，显示器制品100的基板10可展现出在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方式亦可展现出此等光学性质的组合。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方案，绕射表面区域30a的多模式分布进一步包括在第一平均高度24a(或可互换地称为第一平均深度24a)处的第一部分结构特征22a、22a’及在第二平均高度24b(或可互换地称为第一平均深度24b)处的第二部分结构特征22b、22b’。根据显示器制品100的实施方式，第一部分结构特征22a、22a’可以是柱22a，如图1A中的示范性形式所展示。根据显示器制品100的实施方式，第一部分结构特征22a、22a’可以是孔22a’，如图1B中的示范性形式所展示。根据此等实施方式中的一些，自结构观点来看，第二部分结构特征22b、22b’可以是位于第一部分结构特征22a、22a’之间的一组韧带22b(如图1A所展示，位于柱22a之间)或台面22b’(如图1B所展示，位于孔22a’之间)。根据实施方案，当第一部分结构特征22a、22a’被组态为柱22a时，韧带22b可以是位于该第一部分之间的韧带、基质或其他可比较结构。此外，当第一部分结构特征22a、22a’被组态为孔22a’时，台面22b’可以是位于该第一部分之间的台面、平台、基质或其他可比较结构。然而，应理解，第二部分结构特征22b、22b’跟第一部分结构特征22a、22a’一样包括具有第二平均高度24b的表面高度分布。此外，视绕射表面区域30a的组态而定，柱22a的第一平均高度24a或孔22a’的第一平均深度24a的范围可为自约25nm至约300nm、自约50nm至约250nm、自约75nm至约225nm、自约100nm至约200nm、自约120nm至约180nm或自约130nm至约170nm。

如先前所指出，图1A及图1B所描绘的显示器制品100包括具有绕射表面区域30a的基板10，该绕射表面区域30a可包括呈多模式分布的不同高度的多个结构特征20。此多模式分布可具有多个表面高度模式，例如，该分布可以是双模式(例如，具有第一部分结构特征22a、22a’与第二部分结构特征22b、22b’)、三模式、四模式、五模式等。在实施方式中，绕射表面区域30a被组态成使得此等模式中的每一个的特征在于表面高度对表面高度分布内的面积分数的明显尖峰。此等尖峰可通过自与模式中的每一个相关联的明显尖峰之间的尖峰表面高度值减少至少20％、至少50％或至少80％的面积分数来区分。此外，模式中的每一个的尖峰可具有不同宽度，且面积分数不需要在分布的尖峰之间下降至零。然而，在一些实施方式中，表面高度对面积图上的尖峰中的每一个之间中的高度的面积分数可下降至零或接近于零。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，绕射表面区域30a的多模式分布的进一步特征可在于使得第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异为自约25nm至约300nm、自约50nm至约250nm、自约75nm至约225nm、自约100nm至约200nm、自约120nm至约200nm、自约120nm至约180nm或自约130nm至约170nm。例如，第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异可为约25nm、50nm、75nm、100nm、125nm、150nm、175nm、200nm、225nm、250nm、275nm、300nm及前述水平之间的所有高度差。在一些实施方式中，第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异可在与约1/4空气中可见光波长、或约1/4可见光波长的奇数倍相对应的范围内。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成使得绕射表面区域30a包括与第一平均高度24a的第一部分结构特征22a、22a’相对应的第一平面区域21a及与第二平均高度24b的第二部分结构特征22b、22b’相对应的第二平面区域21b。亦即，第一平面区域21a及第二平面区域21b中的每一者分别是平面的，因为此等区域具有接近相同的表面高度(即，在表面高度对多个结构特征20的表面高度的面积分数分布的一个模式内)。此外，此等平面区域21a及21b中的每一者的特征可在于平面区域内小于50nm均方根(root-mean-square，RMS)变化、小于20nm RMS、小于10nm RMS、小于5nm RMS、小于2nm RMS或小于1nm RMS的表面高度变化(或粗糙度)。例如，此等平面区域21a及21b中的每一者的特征可在于自0.1nm RMS至50nm RMS、自0.1nm RMS至20nm RMS、自0.1nm RMS至10nm RMS或0.1nm RMS至1nm RMS的表面高度变化。此外，根据一些实施方式，平面区域21a及21b亦可包括在每个域内具有大于5μm²、大于10μm²、大于20μm²、大于50μm²或大于100μm²的平均面积的个别次区域或域(未展示出)。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方式，如先前所指出，绕射表面区域30a可包括二或更多个平面区域(例如，第一平面区域21a及第二平面区域21b)。此外，此等平面区域(例如，平台、台面等)中的每一者可以是实质平面的，意指多于50％、多于80％或多于90％的绕射表面区域30a是平面的。在一些实施方式中，第一平面区域21a及第二平面区域21b的总表面积是绕射表面区域30a的总表面的至少50％、至少60％、至少70％、至少80或至少90％。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方案，该制品的特征在于低闪烁水平。一般而言，与此等制品的基板10相关联的绕射表面区域30a可产生光偏转，从而导致叫作“闪烁”的影像假影。显示“闪烁”或“眩目”通常是在将防眩或光散射表面引入诸如例如LCD、OLED、触控屏幕或类似物的像素化显示系统中时可能发生的不合需副效应，且在类型及起源上与在投影或激光系统中已观察到及表征的“闪烁”或“斑点”类型不同。闪烁与显示器的极细粒状外观相关联，且随着显示器视角改变可显现出具有颗粒图案偏移。显示闪烁可表现为近似像素级尺度的亮点及暗点或有色点。

如本文所用，术语“像素功率偏差”及“PPD₁₄₀”是指显示闪烁的定量测量。此外，如本文所用，术语“闪烁”与“像素功率偏差”及“PPD₁₄₀”互换使用。PPD₁₄₀是根据以下程序通过显示像素的影像分析来计算的。在每个LCD像素周围绘制一网格框。然后根据电荷耦合装置(charge-coupled device，CCD)摄影机数据计算每个网格框内的总功率，并将该总功率分配为每个像素的总功率。因此，每个LCD像素的总功率变成一数字阵列，可计算该总功率的均值及标准偏差。PPD₁₄₀值定义为每像素的总功率除以每像素的平均功率(乘以100)的标准偏差。测量眼仿真器摄影机自每个LCD像素收集的总功率，并跨测量区计算总像素功率(PPD₁₄₀)的标准偏差，该测量区通常包含约30x30个LCD像素。

用于获得PPD₁₄₀值的测量系统及图像处理计算的细节描述于名称为“Apparatusand Method for Determining Sparkle”的美国专利第9,411,180号中，该专利的与PPD测量相关的突出部分以引用方式整体并入本文中。此外，除非另外指出，否则采用SMS-1000系统(Display-Messtechnik&Systeme GmbH&Co.KG)来产生及评估本公开的PPD₁₄₀测量结果。PPD₁₄₀测量系统包括：包含多个像素的像素化源(例如，Lenovo Z50 140ppi便携式计算机)，其中该多个像素中的每一个具有参考索引i及j；及沿着源自像素化源的光程光学安置的成像系统。该成像系统包含：沿着光程安置且具有像素化敏感区的成像装置，该像素化敏感区包含第二多个像素，其中该第二多个像素中的每一个用索引m及n参考；及安置于像素化源与成像装置之间的光程上的膜片，其中该膜片针对源自像素化源的影像具有可调收集角。图像处理计算包括：获取透明样品的像素化影像，该像素化影像包含多个像素；判定像素化影像中相邻像素之间的边界；在边界内进行积分以获得像素化影像中每个源像素的积分能量；及计算每个源像素的积分能量的标准偏差，其中该标准偏差是每像素色散的功率。如本文所用，所有“PPD₁₄₀”及“闪烁”值、属性及限制均利用试验装置进行计算及评估，该试验装置采用具有每英寸140像素(pixels per inch，PPI)的像素密度(本文中亦称为“PPD₁₄₀”)的显示设备。

根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的一些实施方案，基板10所展现的闪烁为小于4％、3.5％、3％、2.5％、2％、1.5％、1％、0.5％及前述水平之间的所有闪烁临界值，如用140ppi LCD显示器在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的。例如，基板10可展现的闪烁为3.5％、3.25％、3％、2.75％、2.5％、2.25％、2％、1.75％、1.5％、1.25％、1％、0.75％、0.5％及前述水平之间的所有闪烁值，如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，该制品亦可被组态以获得最佳防眩性能，如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)值所体现的。如本文所用，“DOI”等于100*(R_s-R_0.3°)/R_s，其中R_s是自指向本公开的显示器制品100的绕射表面区域30a上的入射光(在与法线成20°下)测量的镜面反射率通量，且R_0.3°是自0.3°下的相同入射光根据镜面反射率通量R_s测量的反射率通量。除非另外指出，否则本公开中所报告的DOI值及测量结果是根据名称为“Standard Test Method for Instrumental Measurement ofDistinctness-of-Image(DOI)Gloss of Coated Surfaces using a Rhopoint IQ GlossHaze&DOI Meter”(Rhopoint Instruments Ltd.)的ASTM D5767-18获得。根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的一些实施方式，基板10所展现的DOI为小于90％、85％、80％、75％、70％、65％、60％、55％、50％、45％、40％及前述水平之间的所有DOI临界值，如在与法线成20°的入射角下测量的。例如，基板10可展现的DOI为87.5％、85％、82.5％、80％、77.5％、75％、72.5％、70％、67.5％、65％、62.5％、60％、57.5％、55％、52.5％、50％、47.5％、45％、42.5％、40％及前述水平之间的所有DOI值，如在与法线成20°的入射角下测量的。

如本文所用，术语“透射雾度”及“雾度”是指根据名称为“Standard Test Methodfor Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics”的ASTM D1003在约±2.5°的角锥的外散射的透射光的百分比，ASTM D1003的内容以引用方式整体并入本文中。对于光学平滑表面，透射雾度通常接近于零。根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方案，该等制品的特征可在于小于20％的雾度。根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的实施方案，基板10亦可展现的透射率雾度为小于20％、15％、10％、5％及前述水平之间的所有雾度临界值，如在与法线成0°的入射角下测量的。作为一实例，基板10可展现的透射率雾度为17％、16％、15％、14％、13％、12％、11％、10％、9％、8％、7％、6％、5％、4％、3％、2％、1％及前述水平之间的所有雾度值，如在与法线成0°的入射角下测量的。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方案，基板10的绕射表面区域30a可达成镜面反射率(Rs)及绝对镜面反射率(％R)的降低。如本文所用，“镜面反射率(Rs)”定义为在+/-0.1°的锥角内来自基板10的第一表面(例如，主表面12)的总反射光，或定义为在此镜面角度范围内的光的尖峰强度。此外，Rhopoint IQ Meter报告，对于在20°入射角下照射具有1.567折射率且无背表面反射率的平板玻璃，以光泽度单位为单位的Rs值正规化为最大值100。因此，已知玻璃具有4.91％的第一表面绝对镜面反射率(％R)，Rhopoint IQ Meter所报告的以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位的Rs值可通过乘以因子4.91/100转换为绝对镜面反射率(％R)。因此，显示器制品100的实施方案被组态成使得该等实施方案与无绕射表面区域30a的基板的相同表面相比展现出镜面反射率(Rs)或绝对镜面反射率(％R)以因子2、因子4、因子5、或因子10或更多降低。在实施方式中，包括绕射表面区域30a的基板10(例如，具有约1.51折射率的玻璃组成物)可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于2％、小于1.5％、小于1％、小于0.8％、小于0.6％、小于0.5％、小于0.4％或甚至小于0.25％，如在与法线成20°的入射角下在介于450nm与650nm之间的波长处测量的。

现在参考图1C，显示器制品100被描绘成具有与图1A及图1B所展示的显示器制品100相同的特征及属性，其中相同编号的元件具有实质相同的功能及结构。此外，图1C所描绘的显示器制品100采用安置于基板10的主表面12上的抗反射涂层60，以进一步改善显示器制品100的防眩效果。在实施方式中，如图1C所描绘具有抗反射涂层60的显示器制品100特别有益于要求透射率及一定程度透射散射的最终用途应用(例如，有益于包括导致次表面反射的特征的显示设备，该等特征诸如触控传感器层、薄膜晶体管层、氧化铟锡层及其他次表面特征)。在实施方式中，抗反射涂层60是根据被制备以达成采用抗反射涂层的制品的防眩、光学性质的多层抗反射涂层或膜结构来组态。作为一实例，抗反射涂层60包括多个交替的低折射率层62及高折射率层64。在一些实施方案中，抗反射涂层60可具有总共三(3)至九(9)个层，例如，总共3个层、4个层、5个层、6个层、7个层、8个层或9个层。此外，低折射率层62中的每一个包含小于或等于约1.8及与基板10的折射率几乎相同或大于基板10的折射率的折射率；且高折射率层64中的每一个包含大于1.8的折射率。在此组态中，显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成0°至20°的入射角下测量的。此外，根据一些实施方式，显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成0°至20°的入射角下在介于450nm与650nm之间的一或多个波长处测量的。

通过在图1C所展示的显示器制品100中添加抗反射涂层60所提供的防眩效果应该在比例意义上近似相加。亦即，图1A及图1B所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a可以因子10降低基板10的主表面12的镜面反射率，且添加抗反射涂层60可进一步以因子10降低镜面反射率，从而导致图1C的显示器制品100的镜面反射率以因子约100降低。因此，根据一些实施方式，据信，根据图1C组态的显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.1％、小于0.08％、小于0.06％、小于0.05％、小于0.04％或甚至小于0.025％，如在与法线成0°至20°的入射角下在介于450nm与650nm之间的一或多个波长处测量的。

在一示范性实施方式中，如图1C所展示，抗反射涂层60的低折射率层62直接安置于基板10的主表面12的绕射表面区域30a上。此外，根据图1C所展示实施方式，低折射率层62安置为显示器制品100的最顶层，且抗反射涂层60具有总共五(5)层，即，具有五(5)个低折射率及高折射率层：62/64/62/64/62的多层结构。用于低折射率层62的合适材料包括：SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO_x、AlO_xN_y、SiO_xN_y、SiAl_yO_xN_y、MgO及MgAl₂O₄。用于高折射率层64的合适材料包括：Al₂O₃、AlO_xN_y、SiO_xN_y、SiAl_yO_xN_y、AlN、SiN_x、Si₃N₄、Nb₂O₅、Ta₂O₅、HfO₂、TiO₂、ZrO₂、Y₂O₃及类钻碳。此外，低折射率层62及高折射率层64中的每一者的厚度的范围可为自约1nm至约250nm，且抗反射涂层60的总厚度的范围可为自约5nm至3000nm、5nm至2500nm、5nm至2000nm、自5nm至1500nm、自5nm至1000nm、自5nm至750nm、自5nm至500nm、自5nm至450nm、自5nm至400nm、自5nm至350nm、自5nm至300nm、自5nm至275nm、自5nm至260nm、自5nm至250nm、自100nm至500nm、自100nm至400nm、自100nm至350nm、自100nm至300nm、自100nm至275nm、自100nm至250nm、自200nm至500nm、自200nm至400nm、自200nm至350nm、自200nm至300nm、自200nm至275nm、自200nm至250nm、自250nm至350nm、自250nm至340nm及前述范围内的所有厚度值。

根据图1C所描绘的显示器制品100的一些实施方式，抗反射涂层60可被组态有耐刮层。在一些实施方式中，耐刮层可以是离基板10最远、最中间或最低的高折射率层64。在一些实施方案中，耐刮层是抗反射涂层60中最厚的高折射率层64，且亦可包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。耐刮层亦可具有自50nm至2000nm、自50nm至1000nm、自50nm至500nm、自50nm至400nm、自50nm至300nm、自50nm至200nm、50nm至150nm、75nm至175nm、100nm至160nm及前述范围内的所有厚度值的实体厚度。

根据图1C所描绘的显示器制品100的一实施方案，抗反射涂层60可被组态有如下表1A所列出的设计。在此实施方案中，抗反射涂层60具有260.5nm的总厚度，且采用具有105.9nm厚度及SiO_xN_y组成物的耐刮层。

表1A

根据图1C所描绘的显示器制品100的另一个实施方案，抗反射涂层60可被组态有如下表1B所列出的设计。在此实施方案中，抗反射涂层60具有338.4nm的总厚度，且采用具有158.5nm厚度及SiN_x组成物的耐刮层。

表1B

根据图1C所描绘的显示器制品100的又一个实施方案，抗反射涂层60可被组态有如下表1C所列出的设计。在此实施方案中，抗反射涂层60具有301.48nm的总厚度，且采用具有135.0nm厚度及SiN_x组成物的耐刮层。

表1C

根据图1C所描绘的显示器制品100的又一个实施方案，抗反射涂层60可被组态有如下表1D所列出的设计。在此实施方案中，抗反射涂层60具有295.5nm的总厚度，且采用具有128.0nm厚度及SiN_x组成物的耐刮层。

表1D

现在参考图1D，显示器制品100被描绘成具有与图1C所展示的显示器制品100相同的特征及属性，其中相同编号的元件具有实质相同的功能、结构及性质(除非在以下部分中另外指出)。图1D所描绘的显示器制品100采用抗反射涂层60，该抗反射涂层60与图1C中的制品100所采用的涂层60相同或实质相似，安置于基板10的主表面12上以进一步改善显示器制品100的防眩效果。然而，图1D所描绘的显示器制品100采用由基板10的主表面12界定的粗化表面区域30b，与图1C所展示的制品100所采用的绕射表面区域30a相反。因此，图1D所展示的显示器制品100的抗反射涂层60安置于粗化表面区域30b上。

再次参考图1D，粗化表面区域30b包含多个结构特征20。在一些方面中，粗化表面区域30b是具有随机或半随机形成的结构特征20的表面，该等结构特征20透过指向基板10的主表面12的各种蚀刻及/或喷砂工艺形成，如所属领域的技术人员所理解的。根据一些实施方式，粗化表面区域30b的大部分结构特征20具有侧向蚀刻特征尺寸(即，X-Y尺寸)，该等侧向蚀刻特征尺寸的范围为自1μm至125μm、1μm至100μm、1μm至75μm、1μm至50μm、1μm至40μm、1μm至30μm、5μm至125μm、5μm至100μm、5μm至75μm、5μm至60μm、5μm至50μm、5μm至40μm、5μm至30μm、10μm至60μm、10μm至100μm及前述范围内的侧向尺寸。

在图1D所展示的显示器制品100的实施方式中，粗化表面区域30b具有自20nm至2000nm RMS变化的平均表面粗糙度(R_q)。根据另外的实施方案，粗化表面区域30b具有在以下RMS变化中的平均表面粗糙度(R_q)：自10nm至2500nm、10nm至2000nm、10nm至1500nm、20nm至2500nm、20nm至2000nm、20nm至1500nm、50nm至2500nm、50nm至2000nm、50nm至1500nm、50nm至1000nm、50nm至500nm、50nm至250nm、100nm至2500nm、100nm至2000nm、100nm至1500nm、100nm至1000nm、100nm至500nm、100nm至250nm及前述范围之间的所有表面粗糙度值。

在图1D所展示的显示器制品100的一些实施方案中，粗化表面区域30b可被描述成使得粗化表面区域30b的结构特征20具有第一平均高度及第二平均高度。第一平均高度对应于粗化表面区域30b的尖峰的平均高度，且第二平均高度对应于尖峰之间的槽的深度。在此类组态中，粗化表面区域30b的第一平均高度与第二平均高度之间的差异的范围可为自10nm至500nm、10nm至250nm、25nm至500nm、25nm至250nm、50nm至500nm、50nm至250nm、50nm至150nm、100nm至200nm、120nm至200nm及前述范围之间的所有高度差。

再次参考图1D所展示的显示器制品100，在此组态中，显示器制品100可展现的第一表面平均镜面(或平均适光镜面)反射率(％R)为小于1％、0.9％、0.8％、0.7％、0.6％、0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成约5°至20°的任何入射角下测量的。此外，根据一些实施方式，显示器制品100可展现的第一表面平均镜面(或平均适光镜面)反射率(％R)为小于1％、0.9％、0.8％、0.7％、0.6％、0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成约5°至20°的入射角下在自450nm至650nm的波长处测量的。

根据一些实施方式，图1D所展示的显示器制品100亦可展现出小于5％的闪烁，如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的。在一些实施方案中，图1D中以示范性形式展示的显示器制品100可展现的闪烁水平为小于5％、4.5％、4％、3.5％、3％、2.5％、2％、1.5％、1％或0.5％，如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的。在一些方面中，图1D的显示器制品100所展现的闪烁水平为自5％至0.1％、自5％至0.5％、自5％至1％及前述范围内的所有闪烁水平。

再次参考图1D的显示器制品100，根据一些实施方式，制品可展现出小于40％的透射率雾度值。在一些实施方案中，图1D中以示范性形式展示的显示器制品100可展现的透射率雾度水平为小于40％、35％、30％、25％、20％、15％、10％或5％。在一些实施方式中，图1D的显示器制品100可展现的透射率雾度水平为自50％至1％、50％至5％、40％至1％、40％至5％、30％至1％、30％至5％、20％至1％、20％至5％及前述范围内的所有透射率雾度值。

图1D所展示的显示器制品100亦可展现出80％或更小的影像清晰度(distinctness of image，DOI)水平，如在与法线成20°的入射角下测量的。在一些实施方案中，图1D中以示范性形式展示的显示器制品100可展现的DOI水平为小于99％、95％、90％、85％、80％、75％、70％、65％、60％或55％，如在与法线成20°的入射角下测量的。在一些方面中，图1D的显示器制品100所展现的DOI水平为自99％至40％、自99％至50％、自95％至40％、自95％至50％、自90％至40％、自90％至50％、自85％至40％、自85％至50％、自80％至40％、及自80％至50％以及前述范围内的所有DOI水平。

图1D所展示的显示器制品100的特征亦可在于各种色彩特性。在一些实施方式中，此等显示器制品100所展现的周围对比率为至多60、至多50或至多40，如以1000lux测量的。在一些实施方式中，此等显示器制品100所展现的周围对比率为至多15、至多12.5、至多10、至多7.5、至多5或至多2.5，如以100入射lux测量的。图1D所描绘的此等显示器制品100在100lux直接对比率下可展现的色域水平为至少15、20、25、30、35、40、45、50、55、60或甚至更高水平。在一些实施方式中，此等显示器制品100在1000lux周围对比率下可展现的色域水平为至少40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90或甚至更高水平。

根据一些实施方案，图1D所展示的显示器制品100可展现出高度的色彩中性。在一些方面中，显示器制品100在与法线成6°及20°的每个入射角下可展现出小于0.5、0.25、0.1或0.05的第一表面反射色彩(√(a*²+b*²))。在一些实施方式中，显示器制品100在与法线成0°至60°的所有入射角下可展现出小于5、4、3、2或1的第一表面反射色彩(√(a*²+b*²))。根据一些实施方案，显示器制品100在使用2°接受角的0°入射下可展现出小于2、1.5、1、0.9、0.8、0.7、0.6或0.5的二表面(即，穿过基板10的两个主表面12、14及安置于表面12、14中的一者上的一个抗反射涂层60)透射色彩(√(a*²+b*²))。

参考图1C及图1D所描绘的显示器制品100，每个显示器制品可展现出8GPa或更大的最大硬度，如通过玻氏压头硬度试验在抗反射涂层60的空气侧表面61上沿着50nm或更大的压入深度测量的。在一些实施方案中，显示器制品100可展现的最大硬度水平8GPa、9GPa、10GPa、11GPa、12GPa、13GPa、14GPa、15GPa、16GPa、17GPa、18GPa、19GPa、20GPa或更高，如通过玻氏压头硬度试验沿着50nm或更大、或100nm或更大的压入深度测量的。

现在参考图1E，显示器制品100被描绘成具有与图1C及图1D所展示的显示器制品100相同的属性，其中相同编号的元件具有实质相同的功能、结构及性质(除非在以下部分中另外指出)。图1E所描绘的显示器制品100采用抗反射涂层60，该抗反射涂层60与图1C及图1D中的制品100所采用的涂层60相同或实质相似，安置于基板10的主表面12上以进一步改善显示器制品100的防眩效果。此外，图1E所描绘的显示器制品100采用由基板10的主表面12界定的纹理化表面区域31。因此，图1D所展示的显示器制品100的抗反射涂层60安置于纹理化表面区域31上。更具体而言，纹理化表面区域31包括绕射表面区域30a(参见图1A至图1C)、粗化表面区域30b(参见图1D)及本公开的显示器制品100中所采用的基板10的其他纹理化或粗化主表面。

在图1E所展示的显示器制品100的实施方式中，纹理化表面区域31具有自20nm至2000nm的平均纹理高度(R_text)。根据另外的实施方案，纹理化表面区域30b具有在以下范围内的平均纹理高度(R_text)：自10nm至2500nm、10nm至2000nm、10nm至1500nm、20nm至2500nm、20nm至2000nm、20nm至1500nm、50nm至2500nm、50nm至2000nm、50nm至1500nm、50nm至1000nm、50nm至500nm、50nm至250nm、100nm至2500nm、100nm至2000nm、100nm至1500nm、100nm至1000nm、100nm至500nm、100nm至250nm及前述范围之间的所有纹理高度值。此外，对于包含粗化表面区域30b的纹理化表面区域31(例如，如透过蚀刻及/或喷砂工艺产生的)，R_text可定义为粗化表面区域30b的结构特征20的平均表面粗糙度(R_q)，且以均方根(root-mean-square，RMS)纳米为单位报告。对于如本公开所描述的包含绕射表面区域30a的纹理化表面区域31，R_text定义为与绕射表面区域相关联的结构特征20(例如，柱、孔等)的两个高度或深度之间的平均高度差。

再次参考图1A至图1E，显示器制品100的基板10可被组态有多组分玻璃组成物，该多组分玻璃组成物具有约40mol％至80mol％二氧化硅及平衡的一或多种其他成分，例如，氧化铝、氧化钙、氧化钠、氧化硼等。在一些实施方案中，基板10的整体组成物是选自由以下组成的群：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃及磷硅酸盐玻璃。在其他实施方案中，基板10的整体组成物是选自由以下组成的群：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃及碱性铝硼硅酸盐玻璃。在另外的实施方案中，基板10是玻璃为基的基板，包括但不限于包含约90重量％或更大的玻璃组分及陶瓷组分的玻璃陶瓷材料。在显示器制品100的其他实施方案中，基板10可以是聚合物材料，具有适合于绕射表面区域30a的开发及保持的耐久性及机械性质。

在图1A至图1E所描绘的显示器制品100的一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含氧化铝、至少一种碱金属及在一些实施方式中大于50mol％的SiO₂、在其他实施方式中至少58mol％的SiO₂、且在再一些实施方式中至少60mol％的SiO₂，其中比率(Al₂O₃(mol％)+B₂O₃(mol％))/∑碱金属改质剂(mol％)>1，其中该等改质剂是碱金属氧化物。在特定实施方式中，此玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约58mol％至约72mol％的SiO₂；约9mol％至约17mol％的Al₂O₃；约2mol％至约12mol％的B₂O₃；约8mol％至约16mol％的Na₂O；及0mol％至约4mol％的K₂O，其中比率(Al₂O₃(mol％)+B₂O₃(mol％))/∑碱金属改质剂(mol％)>1，其中该等改质剂是碱金属氧化物。

在显示器制品100的另一个实施方式中，如图1A至图1E所展示，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约61mol％至约75mol％的SiO₂；约7mol％至约15mol％的Al₂O₃；0mol％至约12mol％的B₂O₃；约9mol％至约21mol％的Na₂O；0mol％至约4mol％的K₂O；0mol％至约7mol％的MgO；及0mol％至约3mol％的CaO。

在又另一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约60mol％至约70mol％的SiO₂；约6mol％至约14mol％的Al₂O₃；0mol％至约15mol％的B₂O₃；0mol％至约15mol％的Li₂O；0mol％至约20mol％的Na₂O；0mol％至约10mol％的K₂O；0mol％至约8mol％的MgO；0mol％至约10mol％的CaO；0mol％至约5mol％的ZrO₂；0mol％至约1mol％的SnO₂；0mol％至约1mol％的CeO₂；小于约50ppm As₂O₃；及小于约50ppm Sb₂O₃；其中12mol％≦Li₂O+Na₂O+K₂O≦20mol％且0mol％≦MgO+Ca≦10mol％。

在再另一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约64mol％至约68mol％的SiO₂；约12mol％至约16mol％的Na₂O；约8mol％至约12mol％的Al₂O₃；0mol％至约3mol％的B₂O₃；2mol％至约5mol％的K₂O；4mol％至约6mol％的MgO；及0mol％至约5mol％的CaO，其中：66mol％≦SiO₂+B₂O₃+CaO≦69mol％；Na₂O+K₂O+B₂O₃+MgO+CaO+SrO>10mol％；5mol％≦MgO+CaO+SrO≦8mol％；(Na₂O+B₂O₃)—Al₂O₃≦2mol％；2mol％≦Na₂O—Al₂O₃≦6mol％；及4mol％≦(Na₂O+K₂O)—Al₂O₃≦10mol％。

在其他实施方式中，基板10具有包含SiO₂、Al₂O₃、P₂O₅及至少一种碱金属氧化物(R₂O)的整体组成物，其中0.75>[(P₂O₅(mol％)+R₂O(mol％))/M₂O₃(mol％)]≦1.2，其中M₂O₃═Al₂O₃+B₂O₃。在一些实施方式中，[(P₂O₅(mol％)+R₂O(mol％))/M₂O₃(mol％)]＝1，且在一些实施方式中，玻璃不包含B₂O₃，且M₂O_3═Al₂O₃。在一些实施方式中，基板10包含：约40mol％至约70mol％的SiO₂；0mol％至约28mol％的B₂O₃；约0mol％至约28mol％的Al₂O₃；约1mol％至约14mol％的P₂O₅；及约12mol％至约16mol％的R₂O。在一些实施方式中，玻璃基板包含：约40mol％至约64mol％的SiO₂；0mol％至约8mol％的B₂O₃；约16mol％至约28mol％的Al₂O₃；约2mol％至约12mol％的P₂O₅；及约12mol％至约16mol％的R₂O。基板10可进一步包含至少一种碱土金属氧化物，诸如但不限于MgO或CaO。

在一些实施方式中，基板10具有实质上不含锂的整体组成物；即，玻璃包含小于1mol％的Li₂O、且在其他实施方式中小于0.1mol％的Li₂O、且在其他实施方式中0.01mol％Li₂O、且在再一些实施方式中0mol％的Li₂O。在一些实施方式中，此类玻璃不含砷、锑及钡中的至少一者；即，玻璃包含小于1mol％的As₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO、且在其他实施方式中小于0.1mol％的As₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO、且在再一些实施方式中0mol％的As₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO。

在图1A至图1E所描绘的显示器制品100的其他实施方式中，基板10具有包含玻璃组成物、本质上由玻璃组成物组成或由玻璃组成物组成的整体组成物，该玻璃组成物诸如

Eagle

glass、

glass、

Glass 2、

Glass 3、

Glass 4或

Glass5。

根据其他实施方式，图1A至图1E所描绘的显示器制品100的基板10可具有通过本领域已知的化学手段或热手段增强的离子可交换玻璃组成物。在一个实施方式中，基板10通过离子交换化学增强。在此过程中，基板10的主表面12及/或主表面14处或附近的金属离子被交换成具有与玻璃基板中的金属离子相同的价的较大金属离子。交换通常通过将基板10与离子交换介质诸如例如含有较大金属离子的熔盐浴接触来进行。金属离子通常是单价金属离子，诸如例如碱金属离子。在一个非限制性实例中，通过离子交换化学增强含有钠离子的基板10是通过将基板10浸入包含诸如硝酸钾(KNO₃)或类似物的熔钾盐的离子交换浴中来完成。在一个特定实施方式中，基板10的表面层中的离子以及较大离子是单价碱金属阳离子，诸如Li⁺(当存在于玻璃中时)、Na⁺、K⁺、Rb⁺及Cs⁺。替代地，基板10的表面层中的单价阳离子可用碱金属阳离子的外的单价阳离子诸如Ag⁺或类似者替换。

在图1A至图1E所描绘的显示器制品100的此等实施方式中，在离子交换过程中用较大金属离子替换小金属离子在基板10中创建自主表面12延伸至一定深度52(称为“层深度”)的处于压缩应力下的压缩应力区域50。亦应理解，可在玻璃基板中形成本质上与压缩应力区域50相当的自主表面14延伸至一定深度(未在图1A至图1E中展示出)的压缩应力区域。更特定而言，玻璃基板的主表面14处的此压缩应力被玻璃基板内部内的张拉应力(亦称为“中心张力”)平衡。在一些实施方式中，当通过离子交换增强时，本文所描述的基板10的主表面12具有至少350MPa的压缩应力，且处于压缩应力下的区域延伸至在主表面12下至少15μm的深度52，即，层深度。

离子交换过程通常通过将基板10浸入含有待与玻璃中的较小离子交换的较大离子的熔盐浴中来进行。所属领域的技术人员将了解，离子交换过程的参数通常由玻璃的组成物及所要层深度及作为增强操作的结果的玻璃的压缩应力判定，该等参数包括但不限于浴组成物及温度、浸入时间、玻璃在盐浴(或多个浴)中的浸入次数、多种盐浴的使用、诸如退火、洗涤的附加步骤及类似者。举例而言，含碱金属玻璃的离子交换可通过浸入至少一种含有盐的熔浴中来达成，该盐诸如但不限于硝酸盐、硫酸盐及较大碱金属离子的氯化物。熔盐浴的温度通常在自约380℃至多达约450℃的范围内，而浸入时间的范围为自约15分钟至多达约16小时。然而，亦可使用不同于上述彼等温度及浸入时间的温度及浸入时间。此类离子交换处理与具有碱性铝硅酸盐玻璃组成物的基板10一起采用时会产生压缩应力区域50，该压缩应力区域50具有范围自约10μm至多达至少50μm的深度52(层深度)与范围自约200MPa至多达约800MPa的压缩应力及小于约100MPa的中心张力。

根据一些实施方式，由于可采用来创建图1A至图1E所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a、粗化表面区域30b及纹理化表面区域31的蚀刻工艺可自基板10去除原本将在离子交换过程期间用较大碱金属离子替换的碱金属离子，因此优先在绕射表面区域30a、粗化表面区域30b及纹理化表面区域31的形成及开发之后在显示器制品100中开发压缩应力区域50。在其他实施方式中，可在绕射表面区域30a、粗化表面区域30b及纹理化表面区域31的开发之前在基板10中开发达深度52的压缩应力区域50，该深度52足以解决区域50中与跟形成此等区域相关联的各种处理相关联的层深度的一些损失，如以下所概括。替代地，绕射表面区域30a、粗化表面区域30b及纹理化表面区域31可通过添加或涂层工艺而非基板蚀刻工艺来创建，在此种情况下，可需要在此添加或涂层工艺之前开发压缩应力区域50。

根据图1A至图1E所描绘的显示器制品100的另一个实施方案，该制品可进一步包括安置于绕射表面区域30a、粗化表面区域30b及纹理化表面区域31之上的易清洁(easy-to-clean，ETC)涂层(未展示出)。在大多数实施方式中，ETC涂层沉积于区域30a、30b及31之上，使得ETC涂层的表面形态通常反映区域30a、30b及31的下层形态。在一个实施方式中，显示器制品100进一步包括安置于区域30a、30b及31的至少一部分上的耐污氟基ETC涂层。在实施方式中，ETC涂层包含具有氟终止基团的至少一种两疏物质以提供具有两疏性(即，疏水性及疏油性，对油及水缺乏亲和力)的区域30a、30b及31，从而将水及/或油对表面的润湿最小化。ETC涂层的氟终止基团的极性小于具有-OH终止基团的表面，且因此可将颗粒与液体之间的氢(即，凡得瓦)键结最小化。对于与指纹相关联的指纹油及碎屑，键结及粘合被最小化。因此，自人手指至ETC涂层的指纹油及碎屑质量输送被最小化。在一个实施方式中，ETC涂层通过以下方式来形成：用氟基部份，诸如例如含氟单体(例如，氟硅烷)，交换在显示器制品100的绕射表面区域30a上的终止OH基团中发现的氢以形成具有末端氟化基团的玻璃。

在另一个实施方式中，图1A至图1E所描绘的显示器制品100的ETC涂层包含氟终止分子链的自组装单层。在又另一个实施方式中，ETC涂层包含薄氟聚合物涂层，而在又另一个实施方式中，ETC涂层包含已被处理以具有附着于煤烟颗粒的氟碳侧基的二氧化硅煤烟颗粒。此类ETC涂层可通过浸渍、汽化涂层、喷涂、用辊施加或本领域已知的其他合适方法施加于显示器制品100的绕射表面区域30a。已施加ETC涂层后，可在范围自约25℃至多达约150℃的温度下且在另一个实施方式中在范围自约40℃至多达约100℃的温度下“固化”ETC涂层。固化时间的范围可为自约1小时至多达约4小时，且固化可在含有40％至95％水分的氛围中进行。固化后，可在使用之前用溶剂冲洗具有ETC涂层的显示器制品100以去除任何未结合涂层。

再次参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成其中绕射表面区域30a包括具有第一部分结构特征22a、22a’及第二部分结构特征22b、22b’的多个结构特征20。此外，第一部分结构特征22a(例如，柱)、22a’(例如，孔)可由小于125μm的节距42a界定，且第二部分结构特征22b、22b’可由与节距42a实质上相同或不同的节距42b(参见图1A)界定。根据一些实施方案，第二部分结构特征22b、22b’(例如，韧带、台面)可由小于125μm的节距42b界定，且节距42a与节距42b实质上相同或不同。此外，如本文所用，第一部分结构特征22a、22a’的节距42a及第二部分结构特征22b、22b’的节距42b是此等特征的节距值，如所属领域的技术人员通常理解的。因此，第一部分结构特征22a、22a’的节距42a及/或第二部分结构特征22b、22b’的节距42b可小于125μm、110μm、100μm、90μm、80μm、70μm、60μm、50μm、40μm、30μm、20μm及节距值的此等上临界之间的所有节距值。在实施方式中，节距42a、42b可具有下临界，例如，节距值可大于约2微米、大于5微米或大于10微米。

再次参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成使得第一部分结构特征22a、22a’(例如，柱或孔)或第二部分结构特征22b、22b’(例如，韧带或台面)的填充分数为自约30％至70％，而另一部分(即，22a、22a’或22b、22b’)的填充分数为100％减去第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’的填充分数。因此，绕射表面区域30a的第一部分结构特征22a、22a’或第二部分结构特征22b、22b’可以自约30％至70％、自约35％至65％、自约40％至60％或自约40％至55％的填充分阵列态。例如，第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’可被组态于绕射表面区域30a内，使得它们具有30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％及前述值之间的所有填充分数字凖的填充分数。

仍然参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，绕射表面区域30a被组配于基板10的主表面12内，使得多个结构特征20中的每一者(例如，第一部分22a、22a’及第二部分22b、22b’)具有小于100μm的直径32a、32b。此外，如本文所用，第一部分结构特征22a、22a’的直径32a及第二部分结构特征22b、22b’的直径32b代表此等特征在其全宽半高值(full widthheight maximum，FWHM)处的有效直径或最长宽度尺寸，如所属领域的技术人员通常理解的。因此，第一部分结构特征22a、22a’的节距32a及/或第二部分结构特征22b、22b’的直径32b可小于100μm、90μm、80μm、70μm、60μm、50μm、40μm、30μm、20μm、10μm及小于前述直径的所有直径值。

根据图1A至图1C所描绘的显示器制品100的一些实施方式，绕射表面区域30a被组态成使得结构特征20中的每一者具有多于10的纵横比。除非另外指出，否则结构特征20中的每一者(例如，第一部分结构特征22a、22a’及第二部分结构特征22b、22b’)的纵横比由平均直径32a、32b除以各别平均高度24a、24b给出。在一些实施方案中，绕射表面区域30a的结构特征20的纵横比多于10、多于20、多于50或多于100。例如，具有20μm平均直径32a及0.2μm平均高度24a的第一部分结构特征22a、22a’对应于100的纵横比。更一般而言，特征在于此等纵横比的绕射表面区域30a是实质平坦或平面的，如至少在没有任何放大辅助的情况下在周围照明下所观察的。

根据图1A至图1C所展示的显示器制品的一些实施方案，绕射表面区域30a的结构特征20可根据周期47组态以达成防眩性质。在显示器制品100的一些实施方案中，绕射表面区域30a的结构特征20被组态有周期47，该周期47的范围为自1μm至200μm、自5μm至200μm、自5μm至150μm、自5μm至100μm、自5μm至50μm、自5μm至30μm、自20μm至150μm、自20μm至100μm、自10μm至30μm、自10μm至20μm及前述范围之间的所有周期值。例如，结构特征20可被组态有约100μm(例如，自约70μm至200μm)量级的相对大的周期47以用于显示器制品100的最终用途应用，诸如在应用具有特定DOI目标的情况下，该显示器制品100因将接近0.3°的散射光分量最大化而受益。此类DOI目标可要求与镜面反射方向成0.3°或接近0.3°的散射光分量，这可通过相对大的结构特征20来增强。对于DOI要求不那么严格的显示器制品100的最终用途应用，例如具有以下周期47的较小结构特征20可能是合需的，该周期47的范围为自约5μm至30μm，且根据一些实施方案，该周期47是半随机化的以将色彩及/或莫耳纹假影最小化。X-Y维度中特征随机化的水平及类型对于达成低PPD同时亦将其他显示假影诸如莫耳纹或色带最小化可能非常重要。换言之，传统的完美有序的类光栅结构对于本公开的制品而言不是较佳的。范围为自约5μm至30μm的结构特征20可影响DOI，且可被设计以达成例如低于90或低于80的DOI值，因此没有必要具有较大结构特征20来对DOI产生一些影响。周期47处的结构特征20的随机化的特征可在于最近邻距离在分布范围内的变化，该分布范围可被限制为最小距离或平均距离的1.2倍、1.3倍、1.4倍或1.5倍。此等较小周期47仍可有效地抑制镜面反射，但据信更需要减少显示器护罩应用中的假影，诸如闪烁(即，如通过PPD₁₄₀测量的)。在一些实施方式中，周期47的范围可被组态成自5μm至30μm、自10μm至30μm及自10μm至20μm，这可将DOI降低至小于90或甚至小于80，同时仍保持合需的低闪烁水平。

现在参考图2，提供了绕射防眩结构的横剖面示意图。如图2所示意性展示的，绕射光学模型可说明绕射表面区域30a的原理。光学建模计算是使用商品软件套件

进行的。

套件采用严谨耦合波分析来寻找马克士威方程式(Maxwell’s equation)的解，该方程式可控制绕射光栅的光学性能。在开发绕射表面区域30a之上下文中，

软件可应用于如图2所展示的线性的矩形绕射防眩结构。注意，图2所展示的绕射防眩结构的矩形本质偏离绕射表面区域30a的结构特征20，因为结构特征20可包含柱、孔、台面、平台、多边形及其他离散的非矩形形状。然而，在图2所展示的示意图上进行的计算演示了趋势并提供了在与本公开的原理一致的绕射表面区域30a的结构特征20的界定中有用的数据。值得注意的是，如图2所展示，所建模的绕射防眩结构具有20μm周期，且整合于在550nm处具有1.518折射率的玻璃基板的表面内。此外，如图2所展示，550nm波长处的入射光以20度入射角指向绕射防眩结构。为获得最佳防眩性质，通常需要抑制零阶反射光(即，镜面光)。

现在参考图3A及图3B，分别提供了反射及透射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。此等绘图是自

软件开发的。如图3A所展示，绕射防眩结构具有20μm的周期，且建模了范围自0μm至0.5μm的结构深度。此外，如图3A所展示，显示了零阶至第五阶(即，m＝0至5)的绘图。值得注意的是，零阶曲线是镜面反射率的幅度，且如图所显示在0.14μm至0.15μm结构深度处被抑制成接近于0％。另外，与在对应于约1/4空气中光波长的约0.12μm至0.17μm结构深度范围内的平板玻璃相比，镜面反射率可以因子10被抑制。在3/4波长结构深度处观察到镜面反射率的第二个最小值。如图3B所展示，提供了与图2及图3A所展示的相同的结构的透射绕射阶的幅度。对于显示器应用，可需要将零阶，即镜面透射率，最大化。在约0.15μm结构深度处，镜面透射率比平板玻璃透射率大78％，这亦是最小化镜面反射率的较佳深度。对于较佳实施方式，总透射率(考虑所有角度)保持接近于平板玻璃值，且透射中的大部分散射光在镜面方向的10度或5度内。

现在参考图4A至图4C，提供了分别在15％、30％及70％填充分数下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。值得注意的是，具有此等15％、30％及70％填充分数的绕射结构不允许零阶(镜面)反射率降低至零。这表明对于诸如此类的简单的双模式高度、单一材料结构的较佳填充分数接近于50％、或在35％至65％的范围内，如图2所建模及描绘的。

现在参考图5，提供了在不同入射光波长下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩表面的结构深度的函数的绘图。特定而言，此图说明了入射光波长特别是在零阶处对镜面反射抑制的影响。尽管最佳结构深度随波长变化，如图5所展示，但接近第一个1/4波长最小值(箭头处)的单个结构深度可成功地达成将自450nm至650nm的所有可见光波长的镜面反射率降低10倍。这表明使用如图2所建模的具有双模式表面高度分布的基本绕射防眩结构在可见光范围内对镜面反射率进行宽带抑制是可行的。

再次参考图2至图5，此等图总体为将显示器制品100组态成在将镜面透射率最大化的同时将镜面反射率最小化提供指导。此外，此等图说明了绕射防眩结构(例如，用作绕射表面区域30a的一般基础)的深度如何影响镜面反射率。如先前所指出，图2的所建模的线性绕射防眩结构与图1A至图1C所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a不同，因为后者含有安置成有序或半有序阵列的多个结构特征20，诸如柱、孔、多边形及其他离散特征。然而，鉴于图2至图5所展示的基本绕射结构的建模，绕射表面区域30a的结构特征20的高度或深度较佳地保持于自50nm至250nm、自75nm至225nm、自100nm至200nm、自120nm至190nm或自140nm至190nm。

更一般而言，一旦已定义表面区域30a的预期结构，即可通过许多工艺来制造绕射表面区域30a的二维阵列结构特征20，该等工艺诸如光学平板印刷(光罩)、喷墨印刷、激光图案化及/或网版印刷。工艺的选择视结构特征20的分辨率(例如，就直径及/或节距而言)及给定工艺的技术能力而定。在一些实施方式中，一旦已定义表面区域30a的结构参数(例如，柱或孔、平均高度、节距、直径、周期等)，即可将设计转换为计算机辅助设计(computer-aided design，CAD)文件且然后将该CAD文件与前述工艺中的任一种一起使用以将该设计转移至基板10以创建‘专设’绕射表面区域30a。

现在参考图6，提供了制造显示器制品(即，图1A至图1C所展示及描述的显示器制品100)的方法200的示意流程图。方法200包括：用掩模遮蔽包含厚度13及主表面12的基板10的步骤202；在基板10的主表面12内或该主表面12上形成绕射表面区域30a的步骤204；及自基板10去除掩模的步骤206。方法200的最终结果是显示器制品100，例如如图1A及图1B所描绘。在图6所展示的方法200的其他实施方式中，不采用涉及掩模的步骤202及206，而是进行步骤204以在基板10的主表面12内或该主表面12上形成粗化表面区域30b。方法200的此实施方式的最终结果是例如如图1D所描绘的显示器制品100。

在一些实施方式中，图6所展示的方法200进一步包括：在绕射表面区域30a或粗化表面区域30b之上形成防眩涂层60以界定显示器制品100(参见图1C及图1D)的步骤208。在前一实施方式中，绕射表面区域30a包含多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，多模式分布进一步包含在第一平均高度24a处的第一部分结构特征22a、22a’及在第二平均高度24b处的第二部分结构特征22b、22b’。另外，根据方法200制造的基板10展现出如在与法线成0°入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°入射角下小于80％的DOI、及在与法线成0°入射角下小于20％的透射率雾度。

根据图6所描绘的制造显示器制品100(参见图1A至图1C及先前的描述)的方法200的一些实施方案，遮蔽基板10的步骤202可包括网版印刷遮蔽、喷墨印刷遮蔽及光刻胶遮蔽中的一或多者。在一些实施方式中，形成绕射表面区域30a的步骤204包括通过掩模蚀刻基板10的主表面12以形成绕射表面区域30a，其中每个结构特征是在自50nm至250nm深度处的孔。步骤204例如可通过利用HF/HNO₃蚀刻剂蚀刻包含玻璃组成物的基板10来进行。在实施方式中，步骤204所采用的湿蚀刻溶液可由氢氟酸(HF，49w/w％)及硝酸(HNO₃，69w/w％)组合与0.1v/v％至5v/v％的HF及0.1v/v％至5v/v％的HNO₃组成。用于达成100nm至250nm蚀刻深度的典型浓度是0.1v/v％的HF/1v/v％的HNO3至0.5v/v％的HF/1v/v％的HNO₃溶液。例如，步骤204中的蚀刻可使用浸渍或喷涂蚀刻工艺自室温至约45℃进行。在其他实施方式中，形成绕射表面区域30a的步骤204可包括通过掩模(例如，通过溅镀、蒸发或化学气相沉积)在基板10的主表面12上沉积膜以形成绕射表面区域30a，其中每个结构特征是在自50nm至250nm深度处的孔。绕射表面区域30a亦可通过遮蔽加上‘干蚀刻’、等离子体为基的蚀刻、反应离子蚀刻或其他真空为基的蚀刻方法来形成。在一些实施方式中，此种膜可通过掩模与液相二氧化硅层或其他氧化物层一起沉积，接着进行掩模去除及剥离。

本文所公开的制品100(例如，如图1C至图1E所展示)可并入装置制品中，例如，具有显示器(或显示设备制品)的装置制品(例如，消费者电子产品，包括行动电话、平板计算机、计算机、导航系统、穿戴式装置(例如，手表)及类似者)、扩增实境显示器、抬头显示器、玻璃为基的显示器、建筑装置制品、运输装置制品(例如，汽车、列车、飞机、船舶等)、电气装置制品或受益于一定透明度、耐刮性、耐磨性或它们的组合的任何装置制品。并入本文所公开的制品中的任一种的示范性装置制品(例如，与图1C至图1E所描绘的制品100一致)展示于图18A及图18B中。具体而言，图18A及图18B展示消费者电子装置1800，该消费者电子装置1800包括：外壳1802，该外壳1802具有前表面1804、背表面1806及侧表面1808；电子组件(未展示出)，该等电子组件至少部分地位于外壳内部或完全位于外壳内且至少包括控制器、内存及位于外壳前表面处或与之相邻的显示器1810；及护罩基板1812，该护罩基板1812位于外壳前表面处或之上使得它位于显示器之上。在一些实施方式中，护罩基板1812可包括本文所公开的制品中的任一种。在一些实施方式中，外壳的一部分或护罩玻璃中的至少一者包含本文所公开的制品。

实例

以下实例描述本公开所提供的各种特征及优点，且决不意欲限制本发明及所附权利要求书。

实例1

总体参考图7A至图7D，使用光罩/光学平板印刷工艺来开发此等影像所展示的绕射表面区域结构。在此情况下，对光敏聚合物(即，光刻胶)进行曝光及显影，以在基板(例如，基板10)上形成三维浮雕影像。一般而言，理想的光刻胶影像在基板平面中具有设计图案或预期图案的精确形状，其中垂直壁贯穿抗蚀剂的厚度(对于可旋涂抗蚀剂为<3μm，对于干膜抗蚀剂为<20μm，而对于可网版涂覆光刻胶为<15μm)。在曝光时，最终抗蚀剂图案是二进制的，其中基板的部分覆盖有抗蚀剂，而其他部分则完全未被覆盖。与图6所描绘的方法200一致的典型光刻工艺的处理步骤的一般顺序如下：基板制备(清洁及脱水，接着进行将助粘剂例如六甲基二硅氮烷(HMDS)用于可旋涂抗蚀剂)，光刻胶旋涂，预烘烤，曝光及显影(即，步骤202)，接着进行湿蚀刻工艺以将二进制影像转移至玻璃上(即，步骤204)。最终步骤是在抗蚀剂图案已转移至下层中之后剥离抗蚀剂(即，步骤206)。在一些情况下，需要后烘烤及曝光后烘烤步骤以确保湿蚀刻工艺期间的抗蚀剂粘合。

现在参考图7A至图7D，提供了根据此实例制备的铝硅酸盐玻璃基板的绕射表面区域的光学显微照片，其中孔的较佳蚀刻深度在100nm至250nm范围内。此等绕射表面区域是根据前述光罩工艺接着进行蚀刻工艺制备的。更特定而言，用于制备图7A至图7D的样品的湿蚀刻溶液由氢氟酸(HF，49w/w％)及硝酸(HNO₃，69w/w％)与0.1v/v％至5v/v％的HF及0.1v/v％至5v/v％的HNO₃组成。关于此实例，被采用来达成100nm至250nm蚀刻深度的浓度的范围为自0.1v/v％的HF/1v/v％的HNO₃至0.5v/v％的HF/1v/v％的HNO₃。图7A及图7B展示两个空间频率下的绕射表面区域的二维(2D)有序阵列结构特征：(a)具有12μm直径与17μm节距的结构特征(图7A)(称为“12-17”阵列)；及(b)具有25μm直径与50μm节距的结构特征(称为“25-50”阵列)。有序阵列的表面是使用六角形充填或正方形充填阵列设计的，其中填充分数自20％至50％变化。此外，图7C及图7D展示在两个空间频率下的具有随机充填结构的绕射表面区域的2D阵列结构特征：(a)具有60μm最小节距的50μm结构特征直径(图7C)(称为“50-60”阵列)；及(b)具有14μm最小节距的12μm结构特征直径(称为“12-14”阵列)。

现在参考图8，根据此实例，提供了蚀刻深度作为形成绕射表面区域的两个结构特征的蚀刻时间的函数的绘图。在此实例中，蚀刻具有12μm及50μm直径的结构特征且为所得蚀刻深度绘图(例如，分别与图7D及图7C所展示的结构一致)。在此实例中，基板是玻璃组成物且用49vol％的HF储备溶液进行蚀刻。蚀刻深度是使用触针为基的轮廓仪(Z深度分辨率设置<5μm，<200μm扫描，3mg力下的3个区域)或Bruker ContourGT-X白光干涉仪(20倍或50倍物镜，绿色窄频光，单视场影像)测量的。如自图8明显可见，与较小结构特征(即，直径约12μm的彼等结构特征)相比，较大结构特征(即，直径约50μm的彼等结构特征)在更长的时间内蚀刻得更快，这允许使用相同的蚀刻剂及一个掩模将绕射表面区域特设成具有在不同深度或高度的不同大小的特征。

现在参考图9A及图9B，提供了以上在图7C及图7D中描绘为具有不同大小及填充分数的绕射表面区域的结构特征的DOI作为蚀刻深度的函数的绘图。如图9A所展示，作为蚀刻深度的函数展示在36％及50％填充分数下的50-60阵列结构特征(亦参见图7C)的DOI水平。相似地，如图9B所展示，作为蚀刻深度的函数展示在20％及50％填充分数下的12-14阵列结构特征(亦参见图7D)的DOI水平。如自图9A及图9B明显可见，两种阵列的结构特征都说明在自约150nm至180nm的蚀刻深度处观察到最小DOI，如先前所概述及图2至图5所展示的建模所通常预测或以其他方式建议的。

现在参考图10A及图10B，根据此实例，提供了具有不同大小及填充分数的结构特征的所测量PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图。如图10A及图10B所展示，在36％及50％填充分数下50-60阵列结构特征(亦参见图7C)在小于0.2μm的低蚀刻深度处展现出最小PPD₁₄₀及雾度值。关于图10C及图10D，根据此实例，提供了具有不同大小及填充分数的结构特征的所测量PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图。如图10C及图10D，在20％及50％填充分数下12-17阵列结构特征(亦参见图7A)在小于0.2μm的低蚀刻深度处亦展现出最小PPD₁₄₀及雾度值。更一般而言，图10A至图10D说明分别在60μm及17μm周期处的此等结构特征阵列显示PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数增加。此外，随着蚀刻深度增加，具有较大空间频率的样品(即，50-60阵列)对PPD₁₄₀的影响更大(参见图10A)，而随着蚀刻深度增加，具有较高频率的样品(即，12-17阵列)对雾度的影响更大(参见图10D)。

实例2

根据此实例，根据与本公开的原理一致的方法在0.15μm、0.2μm及0.23μm深度的玻璃基板(分别为样品950、951、952)上开发了结构特征(即，孔)阵列。下表2列出在此等样品上测量的光学性质，包括PPD₁₄₀(％，如在0°下以显示器单元为单位测量的)、雾度(％，如在0°下以透射率为单位测量的)、DOI(耦合，％，如在20°下以反射率为单位测量的)及镜面反射率Rs(耦合，％，如在20°下以反射率为单位测量的)。如自表2明显可见，具有0.15μm蚀刻深度的样品(950)展现出DOI<80％、PPD₁₄₀<2％及雾度<5％，这与根本公开一致的绕射表面区域一致。具有0.2μm及0.23μm深度的其他样品没有展现出此光学性质组合。这说明了在达成性质的目标组合中较佳的深度范围的值，该值对于不同较佳应用可变化。

表2

现在参考图11A，提供了具有来自表2(样品950)的光学性质的最佳组合的绕射表面区域的光学影像及表面高度分布条。更具体而言，此样品(样品950)的结构特征具有约150nm的深度、50％的填充分数、12μm的特征直径/大小及14μm的最小节距。现在参考图11B，在此实例中，提供了来自表2的样品的角谱绘图。更特定而言，图11B的绘图展示样品950-952的反射率幅度对反射角。如自图11B明显可见，观察到样品950相较于样品951及952镜面反射率降低。注意，Rhopoint IQ Gloss Haze&DOI Meter报告，对于在20°入射角下照射具有1.567折射率且无背表面反射率的平板玻璃，表2所列出的以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位的Rs值正规化为最大值100。已知此种玻璃具有4.91％的第一表面绝对反射率(％R)值。因此，Rhopoint IQ Meter所报告的Rs值可通过乘以因子4.91/100转换为绝对镜面反射率值(％R值)。因此，在0°下Rs幅度为约6的样品950对应于6/100*4.91％＝～0.295％的第一表面绝对镜面反射率值(％R)。

实例3

根据此实例，使用网版印刷及蚀刻来制造具有界定绕射表面区域的结构特征阵列的样品，从而在玻璃表面上产生柱。网版印刷图案上的目标柱大小/直径为75μm，该目标柱大小/直径在玻璃上用蚀刻剂润湿后膨胀至约100μm。此外，此等样品的目标节距为125μm，呈六边形图案，且目标填充分数为55％(实际填充分数接近于56％)。网版印刷图案是在干净的玻璃表面上使用油墨制成的。表3列出根据此实例制造的样品，该等样品反映导致各种蚀刻深度(即，柱高度)及与此等样品相关联的光学性质(闪烁、雾度、DOI及Rs)的各种蚀刻时间。此外，如先前所指出，第一表面绝对镜面反射率(Rs，以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位)可通过将它们乘以因子4.91/100转换为第一表面绝对镜面反射率(％R)。如自表3明显可见，就光学性质测量而言的最佳蚀刻深度范围对应于约1/4空气中光波长，即，样品的蚀刻深度为0.141μm至0.172μm。

表3

现在参考图12，在此实例中，提供了具有约0.172μm蚀刻深度的样品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)的角谱绘图，其中该绘图描绘反射率幅度对反射角。如自图12及表3明显可见，对于结构特征，用于获得低DOI及低Rs的最佳蚀刻深度在120nm至180nm的范围内，而其他蚀刻深度没有展现出此光学性质组合。

现在参考图13A及图13B，提供了图3及表12所描绘具有0.172μm蚀刻深度的样品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)的绕射表面区域及结构特征的光学影像，如在作为网版印刷及蚀刻工艺的一部分的去除油墨之前及之后观察到的。如先前所指出，在此实例描述中，此等结构的目标大小/直径为约75μm；然而，在油墨干燥后膨胀时，被网版印刷的特征(即，掩模)的实际大小的范围对于图13A所描绘的特定特征为自101μm至110μm。此外，如自图13B明显可见，此等油墨圈周围的区域被蚀刻，从而形成了此实例的柱。

现在参考图14，提供了此实例且上面在表3中详述的结构特征的DOI作为蚀刻深度的函数的绘图。如先前所指出，考虑到DOI的减少，较佳蚀刻深度为约1/4光波长，介于0.1μm与0.2μm之间。另外，就DOI而言，第二较佳蚀刻深度位于约3/4光波长处，介于0.4μm与0.5μm之间的蚀刻深度处。3/4波长蚀刻深度由于如表3中的较高PPD₁₄₀所显示对透射光的影响以及相对于1/4波长蚀刻深度的样品而言对DOI的较小影响而可能是不太合需的。此等结果总体与先前所描述的绕射防眩光学模型一致。

实例4

虽然本公开的显示器制品的绕射表面区域采用具有表面高度的多模式分布(例如，表面高度的双模式分布)的结构特征，此等绕射表面区域的实施方式采用特征在X-Y维度中的空间随机化。在此实例中，针对绕射表面区域采用两个X-Y图案随机化——“硬球”分布及“帕松(Poisson)圆盘”分布。前一种硬球图案设计以近似50％填充分数的结构特征为目标，且根据此图案制备结构特征分别具有12μm及50μm直径的样品。后一种帕松圆盘图案设计以近似36％填充分数的结构特征为目标。此等X-Y随机化方案中的每一者亦可以具有不同填充分数、特征深度及防眩涂层组合的结构特征的绕射表面区域为目标。此外，如自此实例明显可见及先前所指出，X-Y维度中特征随机化的水平及类型对于达成低PPD同时亦将其他显示假影诸如莫耳纹或色带最小化可能非常重要。

X-Y图案随机化可以不同方式定义。一种方法是六角百分比，图15展示六角百分比(H)的定义。六角百分比是用于局部量化图案与六角点阵的接近程度的度量。对于图案中的每个点，该点处的六角百分比(H)是使用其六个最近邻相对于任意轴的角度计算的。平均六角百分比(H)可由方程式(1)定义如下：

其中k＝1至6是对于该一个结构特征的六个最近邻结构特征，而α_k代表该等六个最近邻结构特征中的每一个与一任意轴的角度。因此，在本公开的显示器制品的绕射表面区域之上下文中，多个结构特征的空间分布可具有根据本公开的实施方式范围为自0.4至1.0的六角百分比(H)。如图15所展示，变量a_k代表六个最近邻的角度。关于六角点阵，此等六个角度全部相差60度(π/3弧度)，因此六个被加数的折射率相差2π弧度，且求和中的六个复数全部相同。H在该情况下为一。可将图案的平均六角百分比(H)作为与完美六角点阵的偏差的全局度量，这在图案均一时是有用的。完美六角点阵具有1.0的平均六角百分比(H)。点的完全随机、平稳的帕松分布具有近似0..36或36％的平均六角百分比(H)。因此，根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方式，多个结构特征20的特征可在于非随机空间分布。使得H的范围为自0.4至0.95、自0.4至0.9、自0.4至0.8、自0.36至0.9、自0.36至0.8、自0.36至0.7及前述范围之间的所有平均六角百分比(H)值及范围。

进一步关于硬球随机化图案，此图案用于形成图7C及图7D所描绘的绕射表面区域的结构特征。此等图案是使用分子动力学仿真工具(molecular dynamics simulationtool，LAMMPS)以产生该图案来产生。最初将代表特征的“分子”气体放置于二维六角点阵上以将填充分数固定于50％。然后将气体加热并使其在二维中随机化。向分子赋予了推斥硬球势以保持最小的指定间距。图7C中的示范性图案具有49％的平均六角百分比(H)(亦参见图15)，这表明与规则点阵的偏差大。“12-14”及“50-60”阵列具有相同的图案几何形状：50-60图案只是按总因子50/12放大的12-14图案。此放大不影响填充分数、六角百分比或特征分布函数(明显的轴放大除外)，但它影响纹理的光学性能。12/14图案的最近邻距离(定义为X-Y空间中特征的中心到中心间距)分布展示于图16A中。该12/14图案的周期图展示于图16B中。代替空间频率，图16B的X轴被转换为以度为单位的离镜面散射角以用于0.55μm的光波长。

转向另一50/60阵列(参见图9A及图10A)，它具有更大的最近邻距离分布及更低的填充分数(36％)。此等样品的结构特征被配置成帕松圆盘图案，该图案是使用“飞镖投掷(dart throwing)”算法产生的。此算法确保绝对最小特征间距(在此实例中是60μm)，但在填充空间下并不十分有效。平均六角百分比(H)更低，为41％。50/60帕松圆盘图案的最近邻距离分布展示于图17A中。该50/60帕松圆盘图案的周期图展示于图17B中。代替空间频率，图17B的X轴被转换为以度为单位的离镜面散射角以用于0.55μm的光波长。

实例5A

在此实例(表示为“实例5A”的样品)中，增强玻璃基板被制备成具有粗化表面区域，该粗化表面区域具有约15％的透射率雾度、在100nm至300nm的范围内的平均表面粗糙度(R_q)及在5μm至30μm的范围内的大部分侧向蚀刻深度尺寸。在此实例中，粗化表面区域是利用二步HF蚀刻工艺制备的。接下来，用与表1B中的本公开先前所描述的抗反射涂层60的实施方式一致的五层AR涂层涂覆粗化表面区域。

就机械性质而言，此实例(实例5A)的显示器制品的特征在于，在大于100nm(具体而言，在140nm-160nm处)的压入深度处最大硬度为11.8GPa，AR涂层总厚度小于500nm(具体而言，338.4nm)及高折射率材料的百分比大于35％(具体而言，53.7％)。至于显示器制品的基板表面形态，此实例的显示器制品的特征在于，径向平均表面粗糙度功率谱密度(powerspectral density，PSD)为80.2nm(S_a)、96.4nm(S_q)及平均侧向特征大小为约4μm，如透过所属领域的技术人员已经理解的分水岭算法(Watershed algorithm)测量及计算的。

测量此实例的显示器制品的光学性质，如下表4A中给出的。

表4A——实例5A的所测量光学性质

现在参考图19，提供了根据此实例(实例5A)的显示器制品的弹性模数及硬度(GPa)对压入深度(nm)的绘图。如图19所展示，所测量表观硬度及模数是使用玻氏压头硬度试验测量的，在140nm至160nm的压入深度处观察到最大硬度为11.8GPa。

实例5B

在此实例(表示为“实例5B”的样品)中，增强玻璃基板被制备成具有粗化表面区域，该粗化表面区域具有约30％的透射率雾度、在100nm至300nm的范围内的平均表面粗糙度(R_q)及在5μm至30μm的范围内的大部分侧向蚀刻深度尺寸。在此实例中，粗化表面区域是利用包括HF蚀刻步骤接着是喷砂步骤的工艺制备的。接下来，用与表1B中的本公开先前所描述的抗反射涂层60的实施方式一致的五层AR涂层涂覆粗化表面区域。

就机械性质而言，此实例(实例5B)的显示器制品的特征在于，在大于100nm(具体而言，在140nm-160nm处)的压入深度处最大硬度为11.8GPa，AR涂层总厚度小于500nm(具体而言，338.4nm)及高折射率材料的百分比大于35％(具体而言，53.7％)。至于显示器制品的基板表面形态，此实例的显示器制品的特征在于，径向平均表面粗糙度功率谱密度(powerspectral density，PSD)为239.6nm(S_a)、306.1nm(S_q)及平均侧向特征大小为约8μm，如透过所属领域的技术人员已经理解的分水岭算法测量及计算的。

同样在此实例中，用仅裸的增强玻璃基板(表示为“比较例5A”)；仅具有粗化表面区域的增强玻璃基板(表示为“比较例5B”)；及仅裸的增强玻璃基板及前述抗反射涂层(表示为“比较例5C”)制备比较对照样品。

测量此实例(实例5B及比较例5C)的显示器制品的光学性质，分别如下表4B及4B1中给出的。

表4B——实例5B的所测量光学性质

表4B1——比较例5C的所测量光学性质

现在参考图20A，提供了根据此实例(实例5B)的显示器制品及比较显示器制品(比较例5A-5C)的第一表面镜面反射率(％R)对可见及近红外(IR)波长(nm)的绘图。如自图20A明显可见，增强玻璃基板具有粗化表面区域及安置于粗化表面区域上的5层AR涂层的实例的镜面反射率比具有裸的增强玻璃及相同5层AR涂层的比较样品低近似一个数量级。

现在参考图20B及图20C，描绘了根据本公开的实施方式的显示器制品及比较显示器制品的镜面反射率测量的示意性图解，且该等示意性图解可用于解释图20A的资料及结果。如图20B及图20C所展示，光束相对于样品法线以角度θ_s入射于具有5层AR涂层的对比裸玻璃(左侧)(例如，比较例5C)及具有粗化表面区域及相同5层AR涂层的本公开的显示器制品(右侧)(例如，实例5B)上。镜面反射率定义为在对着入射平面并与入射光束共轭的2度锥(参见图20B及图20C)内反射的光功率除以入射功率。对于比较样品(例如，比较例5C)，总反射率(约0.7％)是在2度锥内测量的且等于镜面反射率。对于根据本公开的具有粗化表面区域及5层AR涂层的显示器制品(例如，实例5B)，光被散射成角度的连续体(展示为图2中的锥)，其中大部分光强度落在镜面反射方向的约+/-15°内。在此情况下，检测器仅捕获总反射光的一部分，因为其余部分落在检测器的视场角之外。假定显示器制品表面(例如，实例5B)的总反射率(在所有角度上积分)与比较样品的基板表面(例如，比较例5C)相同。这意指实例(例如，实例5B)的表面的镜面反射率由R_DXC*η给出，其中η是检测器锥内的反射光功率除以总反射光的分数。此外，η可通过测量不具有AR涂层的抗反射表面(例如，比较例5B)(与实例5B相同的AG处理)的镜面反射率及裸的增强玻璃基板表面(例如，比较例5A)的镜面反射率来计算，使得η＝R_AG/R_GG。R_DXC*(R_AG/R_GG)的计算值在图20A中展示为用于此实例(实例5B，所计算的)的样品的短划/长划线，且表明与此实例(实例5B，所测量的)的测量值吻合良好。

实例5C

在此实例(表示为“实例5C”的样品)中，增强玻璃基板被制备成具有粗化表面区域，该粗化表面区域具有约30％的透射率雾度、在100nm至300nm的范围内的平均表面粗糙度(R_q)及在5μm至30μm的范围内的大部分侧向蚀刻深度尺寸。在此实例中，粗化表面区域是利用包括HF蚀刻步骤接着是喷砂步骤的工艺制备的。接下来，用与表1B中的本公开先前所描述的抗反射涂层60的实施方式一致的五层AR涂层涂覆粗化表面区域。

就机械性质而言，此实例(实例5C)的显示器制品的特征在于，在大于100nm(具体而言，在140nm-160nm处)的压入深度处最大硬度为11.8GPa，AR涂层总厚度小于500nm(具体而言，338.4nm)及高折射率材料的百分比大于35％(具体而言，53.7％)。至于显示器制品的基板表面形态，此实例的显示器制品的特征在于，径向平均表面粗糙度功率谱密度(powerspectral density，PSD)为165.8nm(S_a)、207.5nm(S_q)及平均侧向特征大小为约6μm，如透过所属领域的技术人员已经理解的分水岭算法测量及计算的。

测量此实例的显示器制品的光学性质，如下表4C中给出的。

表4C——实例5C的所测量光学性质

现在参考图21，提供了前述实例(实例5A-5C)中的显示器制品的二表面总反射率(T％)对波长(nm)的绘图。如先前所指出，增强玻璃基板的一个主表面包括粗化表面区域及安置于粗化表面区域上的5层多层AR涂层；而玻璃基板的另一个主表面是裸的。裸玻璃基板具有约4％的反射率，从而将此等样品的最大透射率限制为约96％。如图21所展示，为样品中的每一者获得了可见适光平均透射率水平：94.28％(实例5A)；93.65％(实例5B)；及93.72％(实例5C)。透射率水平在850nm红外(IR)波长处大于93％且在940nm处大于92％。

现在参考图22A至图22C提供了对于各种入射角(6°、20°、45°及60°)的前述实例(实例5A，图22A；实例5B，图22B；及实例5C，图22C)的第一表面镜面反射率(R％)对波长(nm)的绘图。在图22A中，针对实例5A，对于0度-20度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于0.4％。对于0度-45度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于1.1％。在图22B中，针对实例5B，对于0度-20度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于0.06％。对于0度-45度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于0.3％。至于图22C，针对实例5C，对于0度-20度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于0.06％。对于0度-45度的所有角度，在范围为自425nm至950nm的整个波长范围内的反射率保持低于0.3％。

现在参考图23，提供了对于6°入射角的前述实例(实例5A-5C)及具有裸的增强玻璃基板及5层AR涂层的比较例(比较例5C)的二表面镜面反射率(R％)对波长(nm)的绘图。来自前述实例(实例5A-5C)的样品中的每一者的一侧包含5层AR涂层及粗化表面区域，而另一侧是裸玻璃。实例(实例5A-5C)的二表面镜面反射率比仅具有5层AR涂层的比较例(比较例5C)的二表面反射率低多于因子3，由于背表面平坦，该比较例的二表面反射率为约4％。实例(实例5A-5C)的平坦背表面的镜面反射率降低是由透射光及反射光的角度重新分布引起的，如图20B及图20C所展示。由于背向散射光的角度重新分布，据信，与具有5层AR涂层的裸玻璃基板(比较例5C)相比，在实例(实例5A-5C)中的一者与粗化表面区域一起采用的情况下对来自5层AR涂层中层叠层的埋入反射率的感知将显著降低。

进一步关于前述实例中所报告的光学性质及测量结果，如图20A、图21、图22A至图22C及图23以及表4A-4C所展示，反射率及透射率值报告为极化平均值。亦即，平均值将s极化值及p极化值组合成单个平均值。适光平均值(Y)、L*、a*及b*值是使用已知方法根据CIE1964标准利用10°观测器及D65光源自所测量样品数据计算的。此等值根据人眼对可见光的反应创建加权值。镜面反射率是使用Agilent Cary 5000UV-Vis-NIR分光亮度计在+/-1度的角度范围内测量的。第一表面反射率值是通过使用折射率匹配油将玻璃样品的背表面耦合至光吸收体来获得的。此外，透射雾度是通过BYK Gardner Haze-Gard测量的。非耦合(二表面)DOI是使用Rhopoint IQ光泽度计测量的。耦合DOI是使用自历史资料推导出的关系根据非耦合DOI值估计的。总透射率是使用Perkin-Elmer Lambda 950分光亮度计测量的。

同样关于前述实例中的光学性质，针对白色的显示器的对比率(contrast ratio，CR)可由以下方程序(2)定义：

其中L_whitescreen及L_blackscreen分别是白色屏幕及黑色屏幕的辉度，且L_ambientlight是自显示器反射的周围光的辉度。根据此定义，最高CR可在不存在外部(周围)光的情况下找到。此外，在两种不同照明条件下测量了与显示器及相关护罩玻璃相关联的CR比率及色域，如下：1)周围CR(Ambient CR，ACR)：在均匀漫射(全向)D65白光照明下的CR测量；及2)直接CR(Direct CR，DCR)：在定向/准直白光照明下的CR测量。

ACR(周围对比率)测量

本公开的显示器制品及前述实例中的彼等显示器制品的此等测量所采用的漫射照明为基的系统主要由配备有透过光纤连接的D65 LED光的积分球为基的照明源组成。ACR测量是通过以下NISTIR 6738进行的，NISTIR 6738是一种由国家标准技术协会所开发的测量显示器的ACR的方法/程序。测量是通过用折射率匹配油将试验(玻璃)样品的未处理侧耦合至OLED显示器上进行的。显示器的亮度在所有对比率及色域测量期间保持在380Cd/m²。使用配备有TOP 200光学探针的Instrument Systems的CAS140D分光辐射计来测量样品/显示器单元的适光辉度。

DCR(直接对比率)测量

在DCR测量中，使用准直(D65)LED光源作为照明源。现在参考图24，提供了用于测量本公开及前述实例中的显示器制品的DCR的光学装置的示意图。如图24所描绘，每个试验标本都透过折射率匹配油耦合至OLED显示器的表面上。同样如图24所描绘，光的入射角(Angle of Incident，AOI)被设置为10°，同时通过将分光辐射计放置于镜面反射方向(-10°)来检测显示器及外部光源的辉度。通过控制到达LED源的电流及/或通过在光程中放置适当的中性密度(neutral density，ND)滤光片来控制外部光源的强度。在DCR测量之前，通过用照度计(来自Konica Minolta的型号A58U-223)替换试验标本来测量每个照明条件的光照度强度(以lux为单位)。与ACR装置相似，使用配备有TOP 200光学探针(InstrumentSystems)的仪器系统的CAS140D分光辐射计来测量样品/显示器单元的适光辉度。TOP 200光学探针的收集(锥)角设置为1度。当显示器与试验标本耦合时，显示器的适光辉度是在显示器分别加载有黑影像及白影像时测量的。通过将白屏幕的辉度除以黑屏幕的辉度来计算对比度。通过使用校准的光源/ND滤光片装置照射试验标本在各种不同照度强度下遵循相同的程序。

色域面积(Color Gamut Area，CGA)测量

除了对比率(contrast ratio，CR)测量之外，外部照明下的表现色彩可以是本公开的显示器制品的极重要性质。色彩表现可定义为特定显示设备产生的色彩的范围。给定显示器的色彩信息通过在CIE 1976色彩空间图中指定红/蓝/绿(red/blue/green，RGB)的色度坐标来表示。三角内的面积与给定显示照明条件下的可用色彩成正比。CIE 1976图的总面积表示对人眼可见的全范围色彩。因此，可通过测量色彩空间中的三角面积来估评给定显示器的可利用色彩。考虑到此原理，在前述实例中进行了可变照度下显示器的色域面积(color gamut area，CGA)的测量。色域面积(color gamut area，CGA)可通过测量可变照度下红色(u’R,v’R)、绿色(u’G,v’G)及蓝色(u’B,v’B)在色彩空间(CIE 1976(u’,v’))中的色度坐标来获得。在此，CGA可通过测量具有耦合试验标本且以红色、绿色及蓝色影像发光的显示器的RGB色三角的CIE(u’,v’)坐标来计算。RGB三角面积(CGA)与透过显示器/试验标本单元发出的色彩数目成正比。三角面积通过使用由以下方程序(3)给出的海龙公式三角面积来测量：

其中a、b及c可分别根据以下方程序(3A)、(3B)及(3C)找到：

应用相同的程序来测量各种光照强度及光照条件下的CGA。漫射照明下的CGA通过使用校准的积分球装置进行，而DCR装置用于测量直接/准直照明下的CGA。最大CGA可在存在外部照明的情况下找到。因此，为获得更好的理解，任何给定照度下的CGA均以相对于其不具有任何外部照度的原始值的百分比表示。

如本文所概述，本公开的第一方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；及界定有一绕射表面区域的该主表面。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈一多模式分布的多个不同高度。此外，该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的一闪烁、在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的一入射角下小于20％的一透射率雾度。

根据第二方面，提供了该第一方面，其中该多个结构特征进一步包含具有一第一平均高度的一第一部分结构特征及具有一第二平均高度的一第二部分结构特征。

根据第三方面，提供了该第二方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自50nm至250nm的一差异。

根据第四方面，提供了该第二方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自120nm至200nm的一差异。

根据第五方面，提供了该第二方面至该第四方面中任一项，其中该绕射表面区域进一步包含对应于该第一平均高度的一第一平面区域及对应于该第二平均高度的一第二平面区域。此外，该第一平面区域及该第二平面区域中的每一者包含小于50nm的一均方根(root-mean-square，RMS)高度变化。

根据第六方面，提供了该第五方面，其中该第一平面区域及该第二平面区域具有一总表面积，该总表面积是该绕射表面区域的一总表面积的至少50％。

根据第七方面，提供了该第一方面至该第六方面中任一项，其中该基板包含一玻璃组成物。

根据第八方面，提供了该第一方面至该第七方面中任一项，其中该基板进一步展现出如在与法线成0°的一入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的一闪烁。

根据第九方面，提供了该第一方面至该第八方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成0°的一入射角下小于5％的一透射率雾度。

根据第十方面，提供了该第一方面至该第九方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的一入射角下小于1％的一第一表面绝对镜面反射率(％R)。

根据第十一方面，提供了该第一方面至该第十方面中任一项，进一步包含：一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的一入射角下小于0.1％的一第一表面绝对镜面反射率(％R)。

本公开的第十二方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；且该主表面界定有一绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的一节距及自30％至70％的一填充分数，每个结构特征包含小于100μm的一直径。此外，该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(pixel power deviation，PPD)测量的小于4％的一闪烁、在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的一入射角下小于20％的一透射率雾度。

根据第十三方面，提供了第十二方面，其中该基板包含一玻璃组成物。

根据第十四方面，提供了该第十二方面或该第十三方面，其中该基板进一步展现出如在与法线成0°的一入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的一闪烁。

根据第十五方面，提供了该第十二方面至该第十四方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成0°的一入射角下小于5％的一透射率雾度。

根据第十六方面，提供了该第十二方面至该第十五方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的一入射角下小于1％的一第一表面绝对镜面反射率(％R)。

根据第十七方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，其中该多个结构特征的一第一部分包含具有自50nm至250nm的一第一平均高度的柱。

根据第十八方面，提供了该第十七方面，其中该多个结构特征进一步包含呈一多模式分布的多个高度。该多模式分布进一步包含在该第一平均高度处的该第一部分结构特征及在一第二平均高度处的一第二部分结构特征。此外，该分布的该第一部分具有自30％至70％的一第一填充分数，且该分布的该第二部分具有100％减去该第一填充分数的一第二填充分数。

根据第十九方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，其中该多个结构特征的一第一部分包含具有自50nm至250nm的一第一平均深度的孔。

根据第二十方面，提供了该第十九方面，其中该多个结构特征进一步包含呈一多模式分布的多个深度。该多模式分布进一步包含在该第一平均深度处的该第一部分结构特征及在一第二平均深度处的一第二部分结构特征。此外，该分布的该第一部分具有自30％至70％的一第一填充分数，且该分布的该第二部分具有100％减去该第一填充分数的一第二填充分数。

根据第二十一方面，提供了该第十二方面至该第二十方面中任一项，其中该填充分数为自40％至55％。

根据第二十二方面，提供了该第十二方面至该第二十一方面中任一项，其中每个结构特征进一步包含多于10的一纵横比。

根据第二十三方面，提供了该第十二方面至该第二十二方面中任一项，其中该多个结构特征进一步包含自5μm至100μm的一周期。

根据第二十四方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，进一步包含：一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8及与该基板的一折射率几乎相同或大于该基板的该折射率的一折射率。该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的一入射角下小于0.1％的一第一表面绝对镜面反射率(％R)。

本公开的第二十五方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；且该主表面界定有一绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的一节距及自30％至70％的一填充分数。此外，每个结构特征包含自50nm至250nm的一高度或深度。

根据第二十六方面，提供了该第二十五方面，其中该多个结构特征进一步包含一非随机空间分布。

根据第二十七方面，提供了该第二十五方面或该第二十六方面，该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的一闪烁、在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的一入射角下小于20％的一透射率雾度。

根据第二十八方面，提供了该第二十五方面至该第二十七方面中任一项，其中该多个结构特征的该非随机空间分布包含自大于0.4至小于1.0的一平均六角百分比(H)，其中一个结构特征的该六角百分比(H)由方程式(1)给出：

其中k＝1至6是对于该一个结构特征的六个最近邻结构特征，而α_k代表该等六个最近邻结构特征中的每一个与一任意轴的角度。

根据第二十九方面，提供了该第二十五方面至该第二十八方面中任一项，其中该多个结构特征的一第一部分包含具有自50nm至250nm的一第一平均高度的柱。

根据第三十方面，提供了该第二十九方面，其中每个柱的该高度为自120nm至180nm。

根据第三十一方面，提供了该第二十五方面至该第二十八方面中任一项，其中该多个结构特征的一第一部分包含具有自50nm至250nm的一第一平均深度的孔。

根据第三十二方面，提供了该第三十一方面，其中每个孔的该深度为自120nm至180nm。

根据第三十三方面，提供了该第二十五方面至该第三十二方面中任一项，进一步包含：一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8及与该基板的一折射率几乎相同或大于该基板的该折射率的一折射率。该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的一入射角下小于0.1％的一第一表面绝对镜面反射率(％Rs)。

本公开的第三十四方面涉及一种制造一显示器制品的方法。该方法包含：用一掩模遮蔽包含一厚度及一主表面的一基板；在该基板的该主表面内形成一绕射表面区域；及自该基板去除该掩模。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈一多模式分布的多个不同高度。该多模式分布进一步包含在一第一平均高度处的一第一部分结构特征及在一第二平均高度处的一第二部分结构特征。此外，该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的一闪烁、在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的一入射角下小于20％的一透射率雾度。

根据第三十五方面，提供了该三十四方面，其中该遮蔽步骤包含网版印刷遮蔽、喷墨印刷遮蔽、光刻胶遮蔽中的一或多者。

根据第三十六方面，提供了该三十四方面或该第三十五方面，其中该形成步骤包含通过该掩模蚀刻该基板的该主表面以形成该绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的一深度的一孔。

根据第三十七方面，提供了该第三十四方面或该第三十五方面，其中该形成步骤包含通过该掩模在该基板的该主表面上沉积一膜以形成该绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的一高度的一柱。

本公开的第三十八方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一纹理化表面区域，该纹理化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于由该基板的该主表面界定的该纹理化表面区域上。该纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的一平均纹理高度(R_text)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。此外，该制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.3％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

根据第三十九方面，提供了该第三十八方面，其中被涂覆的制品展现出如通过一玻氏压头硬度试验在该抗反射涂层的一空气侧表面上沿着50nm或更大的一压入深度测量的8GPa或更大的最大硬度。

根据第四十方面，提供了该第三十八方面，其中该多个结构特征进一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。

根据第四十一方面，提供了该第四十方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自50nm至250nm的一差异。

根据第四十二方面，提供了该第四十方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自120nm至200nm的一差异。

根据第四十三方面，提供了该第三十八方面至该第四十二方面中任一项，其中该第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

根据第四十四方面，提供了该第三十八方面至该第四十三方面中任一项，其中该闪烁如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于3％。

根据第四十五方面，提供了该第三十八方面至该第四十四方面中任一项，其中该基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根据第四十六方面，提供了该第三十八方面至该第四十五方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的一入射角下小于85％的一影像清晰度(distinctnessof image，DOI)。

根据第四十七方面，提供了该第三十八方面至该第四十六方面中任一项，其中该透射率雾度在与法线成0°的一入射角下小于30％。

本公开的第四十八方面涉及一种消费者电子产品。该消费者电子产品包括：一外壳，该外壳包含一前表面、一背表面及侧表面；电子组件，该等电子组件至少部分地位于该外壳内，该等电子组件包含一控制器、一内存及一显示器，该显示器位于该外壳的该前表面处或与之相邻；及一护罩基板，该护罩基板是安置于该显示器之上。该外壳或该护罩基板中的至少一个部分包含该第三十八方面至该第四十七方面中任一项所述的制品。

本公开的第四十九方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一纹理化表面区域，该纹理化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于由该基板的该主表面界定的该纹理化表面区域上。该纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的一平均纹理高度(R_text)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。该抗反射涂层包含自200nm至500nm的一总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中该抗反射涂层包含总共三(3)至九(9)层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。此外，该制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.3％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

根据第五十方面，提供了该第四十九方面，其中该等低折射率层中的一个是直接安置于由该基板的该主表面界定的该纹理化区域。

根据第五十一方面，提供了该第四十九方面或该第五十方面，其中每个低折射率层包含SiO₂或SiO_x。

根据第五十二方面，提供了该第四十九方面至该第五十一方面中任一项，其中该抗反射涂层进一步包含一耐刮层，该耐刮层是最厚的该高折射率层，其中该耐刮层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者，具有自50nm至200nm的一实体厚度，且进一步地其中该多个交替的高折射率层及低折射率层的范围为三(3)至六(6)层。

根据第五十三方面，提供了该第五十二方面，其中该抗反射涂层的该总实体厚度为自200nm至350nm且该耐刮层的该总实体厚度为自约75nm至175nm。

根据第五十四方面，提供了该第五十二方面，其中该抗反射涂层的该总实体厚度为自250nm至340nm且该耐刮层的该总实体厚度为自100nm至160nm。

根据第五十五方面，提供了该第四十九方面至该第五十四方面中任一项，其中该多个结构特征进一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。

根据第五十六方面，提供了该第四十九方面至该第五十五方面中任一项，其中被涂覆的制品展现出如通过一玻氏压头硬度试验在该抗反射涂层的一空气侧表面上沿着50nm或更大的一压入深度测量的8GPa或更大的最大硬度。

根据第五十七方面，提供了该五十五方面或该第五十六方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自120nm至200nm的一差异。

根据第五十八方面，提供了该第四十九方面至该第五十七方面中任一项，其中该第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

根据第五十九方面，提供了该第四十九方面至该第五十八方面中任一项，其中该闪烁如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于3％。

根据第六十方面，提供了该第四十九方面至该第五十九方面中任一项，其中该基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根据第六十一方面，提供了该第四十九方面至该第六十方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness ofimage，DOI)。

根据第六十二方面，提供了该第四十九方面至该第六十一方面中任一项，其中该透射率雾度在与法线成0°的一入射角下小于30％。

本公开的第六十三方面涉及一种消费者电子产品。该消费者电子产品包括：一外壳，该外壳包含一前表面、一背表面及侧表面；电子组件，该等电子组件至少部分地位于该外壳内，该等电子组件包含一控制器、一内存及一显示器，该显示器位于该外壳的该前表面处或与之相邻；及一护罩基板，该护罩基板是安置于该显示器之上。该外壳或该护罩基板中的至少一个部分包含该第四十九方面至该第六十二方面中任一项所述的制品。

本公开的第六十四方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包括：一基板，该基板包含一厚度及一主表面；一粗化表面区域，该粗化表面区域是由该主表面界定；及一抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面的该粗化表面区域上。该粗化表面区域包含多个结构特征及自20nm至2000nm平均纹理高度均方根(root-mean-square，RMS)变化的一平均表面粗糙度(R_q)。该基板展现出如在与法线成0°的一入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的一闪烁、及在与法线成0°的一入射角下小于40％的一透射率雾度。该抗反射涂层包含自200nm至500nm的一总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中该抗反射涂层具有总共三(3)至九(9)层。该等低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的一折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的一折射率。每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。此外，该制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于1％的一第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

根据第六十五方面，提供了该第六十四方面，其中该等低折射率层中的一个是直接安置于由该基板的该主表面界定的该粗化表面区域。

根据第六十六方面，提供了该第六十四方面或该第六十五方面，其中每个低折射率层包含SiO₂或SiO_x。

根据第六十七方面，提供了该第六十四方面至该第六十六方面中任一项，其中该基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根据第六十八方面，提供了该第六十四方面至该第六十七方面中任一项，其中该粗化表面区域包含自50nm至250nm平均纹理高度均方根(root-mean-square，RMS)变化的一平均表面粗糙度(R_q)。

根据第六十九方面，提供了该第六十四方面至该第六十八方面中任一项，其中该第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

根据第七十方面，提供了该第六十四方面至该第六十九方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的一入射角下小于80％的一影像清晰度(distinctness ofimage，DOI)。

根据第七十一方面，提供了该第六十四方面至该第七十方面中任一项，其中该制品展现出在与法线成6°及20°的每个入射角下<0.5的一第一表面反射色彩(√(a*²+b*²))。

根据第七十二方面，提供了该第六十四方面至该第七十方面中任一项，其中该制品展现出在使用一2度接受角的一0°入射角下<1的一二表面透射色彩(√(a*²+b*²))。

本公开的第七十三方面涉及一种消费者电子产品。该消费者电子产品包括：一外壳，该外壳包含一前表面、一背表面及侧表面；电子组件，该等电子组件至少部分地位于该外壳内，该等电子组件包含一控制器、一内存及一显示器，该显示器位于该外壳的该前表面处或与之相邻；及一护罩基板，该护罩基板是安置于该显示器之上。该外壳或该护罩基板中的至少一个部分包含该第六十四方面至该第七十二方面中任一项所述的制品。在实质上不脱离本公开的精神及各种原理的情况下，可对本公开之上述实施方式做出许多变型及修改。所有此类修改及变型意欲在本文中包括于本公开的范畴内且受以下权利要求书保护。

Claims (36)

1.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；

纹理化表面区域，所述纹理化表面区域是由所述主表面界定；及

抗反射涂层，所述抗反射涂层是安置于由所述基板的所述主表面界定的所述纹理化表面区域上，

其中所述纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的平均纹理高度(R_text)，

其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的闪烁、及在与法线成0°的入射角下小于40％的透射率雾度，

其中所述抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层，

其中所述低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的折射率，且所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率，且

进一步地其中所述制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.3％的第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

2.如权利要求1所述的显示器制品，其中被涂覆的制品展现出如通过玻氏压头硬度试验在所述抗反射涂层的空气侧表面上沿着50nm或更大的压入深度测量的8GPa或更大的最大硬度。

3.如权利要求1所述的显示器制品，其中所述多个结构特征进一步包含第一平均高度及第二平均高度。

4.如权利要求3所述的显示器制品，其中所述第一平均高度及所述第二平均高度具有自50nm至250nm的差异。

5.如权利要求3所述的显示器制品，其中所述第一平均高度及所述第二平均高度具有自120nm至200nm的差异。

6.如权利要求1-5中任一项所述的显示器制品，其中所述第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

7.如权利要求1-6中任一项所述的显示器制品，其中所述闪烁如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于3％。

8.如权利要求1-7中任一项所述的显示器制品，其中所述基板包含玻璃基板或玻璃陶瓷基板。

9.如权利要求1-8中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于85％的影像清晰度(DOI)。

10.如权利要求1-9中任一项所述的显示器制品，其中所述透射率雾度在与法线成0°的入射角下小于30％。

11.一种消费者电子产品，包含：

外壳，所述外壳包含前表面、背表面及侧表面；

电子组件，所述电子组件至少部分地位于所述外壳内，所述电子组件包含控制器、内存及显示器，所述显示器位于所述外壳的所述前表面处或与之相邻；及

护罩基板，所述护罩基板是安置于所述显示器之上，

其中所述外壳或所述护罩基板中的至少一个部分包含如权利要求1-10中任一项所述的制品。

12.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；

纹理化表面区域，所述纹理化表面区域是由所述主表面界定；及

抗反射涂层，所述抗反射涂层是安置于由所述基板的所述主表面界定的所述纹理化表面区域上，

其中所述纹理化表面区域包含多个结构特征及自50nm至300nm的平均纹理高度(R_text)，且

其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的闪烁、及在与法线成0°的入射角下小于40％的透射率雾度，

其中所述抗反射涂层包含自200nm至500nm的总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中所述抗反射涂层包含总共三(3)至九(9)层，

其中所述低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的折射率，且所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率，

其中每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者，且

进一步地其中所述制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.3％的第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

13.如权利要求12所述的显示器制品，其中所述低折射率层中的一个是直接安置于由所述基板的所述主表面界定的所述纹理化区域。

14.如权利要求12或权利要求13所述的显示器制品，其中每个低折射率层包含SiO₂或SiO_x。

15.如权利要求12-14中任一项所述的显示器制品，其中所述抗反射涂层进一步包含耐刮层，所述耐刮层是最厚的所述高折射率层，其中所述耐刮层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者，具有自50nm至200nm的实体厚度，且进一步地其中所述多个交替的高折射率层及低折射率层的范围为三(3)至六(6)层。

16.如权利要求15所述的显示器制品，其中所述抗反射涂层的所述总实体厚度为自200nm至350nm且所述耐刮层的所述总实体厚度为自约75nm至175nm。

17.如权利要求15所述的显示器制品，其中所述抗反射涂层的所述总实体厚度为自250nm至340nm且所述耐刮层的所述总实体厚度为自100nm至160nm。

18.如权利要求12-17中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征进一步包含第一平均高度及第二平均高度。

19.如权利要求12-18中任一项所述的显示器制品，其中被涂覆的制品展现出如通过玻氏压头硬度试验在所述抗反射涂层的空气侧表面上沿着50nm或更大的压入深度测量的8GPa或更大的最大硬度。

20.如权利要求18或权利要求19所述的显示器制品，其中所述第一平均高度及所述第二平均高度具有自120nm至200nm的差异。

21.如权利要求12-20中任一项所述的显示器制品，其中所述第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

22.如权利要求12-21中任一项所述的显示器制品，其中所述闪烁如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于3％。

23.如权利要求12-22中任一项所述的显示器制品，其中所述基板包含玻璃基板或玻璃陶瓷基板。

24.如权利要求12-23中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)。

25.如权利要求12-24中任一项所述的显示器制品，其中所述透射率雾度在与法线成0°的入射角下小于30％。

26.一种消费者电子产品，包含：

外壳，所述外壳包含前表面、背表面及侧表面；

电子组件，所述电子组件至少部分地位于所述外壳内，所述电子组件包含控制器、内存及显示器，所述显示器位于所述外壳的所述前表面处或与之相邻；及

护罩基板，所述护罩基板是安置于所述显示器之上，

其中所述外壳或所述护罩基板中的至少一个部分包含如权利要求12-25中任一项所述的制品。

27.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；

粗化表面区域，所述粗化表面区域是由所述主表面界定；及

抗反射涂层，所述抗反射涂层是安置于所述基板的所述主表面的所述粗化表面区域上，

其中所述粗化表面区域包含多个结构特征及自20nm至2000nm平均纹理高度均方根(RMS)变化的平均表面粗糙度(R_q)，

其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于5％的闪烁、及在与法线成0°的入射角下小于40％的透射率雾度，

其中所述抗反射涂层包含自200nm至500nm的总实体厚度及多个交替的高折射率层及低折射率层，其中所述抗反射涂层具有总共三(3)至九(9)层，

其中所述低折射率层中的每一个包含小于或等于约1.8的折射率，且所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率，

其中每个高折射率层包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者，且

进一步地其中所述制品展现出在自450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于1％的第一表面平均适光镜面反射率(％R)。

28.如权利要求27所述的显示器制品，其中所述低折射率层中的一个是直接安置于由所述基板的所述主表面界定的所述粗化表面区域。

29.如权利要求27或权利要求28所述的显示器制品，其中每个低折射率层包含SiO₂或SiO_x。

30.如权利要求27-29中任一项所述的显示器制品，其中所述基板包含玻璃基板或玻璃陶瓷基板。

31.如权利要求27-30中任一项所述的显示器制品，其中所述粗化表面区域包含自50nm至250nm平均纹理高度均方根(RMS)变化的平均表面粗糙度(R_q)。

32.如权利要求27-31中任一项所述的显示器制品，其中所述第一表面平均适光镜面反射率(％R)在自约450nm至650nm的波长处在与法线成约5°至20°的任何入射角下小于0.1％。

33.如权利要求27-32中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)。

34.如权利要求27-33中任一项所述的显示器制品，其中所述制品展现出在与法线成6°及20°的每个入射角下<0.5的第一表面反射色彩(√(a*²+b*²))。

35.如权利要求27-33中任一项所述的显示器制品，其中所述制品展现出在使用2度接受角的0°入射角下<1的二表面透射色彩(√(a*²+b*²))。

36.一种消费者电子产品，包含：

外壳，所述外壳包含前表面、背表面及侧表面；

电子组件，所述电子组件至少部分地位于所述外壳内，所述电子组件包含控制器、内存及显示器，所述显示器位于所述外壳的所述前表面处或与之相邻；及

护罩基板，所述护罩基板是安置于所述显示器之上，

其中所述外壳或所述护罩基板中的至少一个部分包含如权利要求27-35中任一项所述的制品。

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