CN113891866B - 纹理化玻璃制品及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了玻璃制品，其包括：包含厚度和主表面的玻璃基材；以及被主表面限定的纹理化区域。纹理化区域包括多个表面下丘状物，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度。此外，基材的主表面是基本平坦的。

Description

纹理化玻璃制品及其制造方法
优先权要求
本申请根据35U.S.C.§119，要求2019年5月30日提交的美国临时申请第62/854,714号的优先权，其全文通过引用结合入本文。
技术领域
本公开内容总体上涉及纹理化玻璃制品及其制造方法，具体地，涉及具有低闪光特性的纹理化玻璃制品及其离子交换蚀刻制造方法。
背景技术
防眩光表面常用于显示器装置，例如LCD屏幕、平板、智能手机、OLED和触摸屏，以避免或减少环境光的镜面反射。在许多显示器装置中，通过向玻璃的一个或多个表面提供粗糙度水平使得入射光铺展和散射，来形成这些防眩光表面。粗糙化玻璃表面形式的防眩光表面常用于这些显示器装置的前表面上，以降低来自显示器的外部反射的明显可见性并且改善显示器在不同照明条件下的可读性。
当在显示系统中结合防眩光或光散射表面时，会发生显示器“闪光”或“闪耀”的现象。闪光是对于非均匀像素光强度分布的表述。此外，闪光与非常细小的粒状外观相关，看上去会随着显示器的可视角改变使得颗粒图案发生偏移。当通过防眩光表面观察像素化显示器(例如LCD)时，会观察到这种类型的闪光。随着显示器装置的分辨率不断增加(特别是对于手持式电子装置而言)，用于这些装置的像素阵列的像素节距不断减小，这放大了不合乎希望的闪光影响。
制造纹理化玻璃表面的常规方案对于生产具有良好的防眩光性质的一些表面是成功的。但是，这些纹理化表面展现出高度闪光。旨在降低闪光的通用表面处理和其他工艺倾向于成功地降低闪光，但是这以防眩光性质(例如DOI)作为代价。此外，建立具有低闪光的纹理化表面的常规蚀刻方案无法成功地以可靠的方式获得小于5微米的表面特征和小于1％的闪光水平。除此之外，常规蚀刻方案常常依赖于蚀刻剂(例如，HF)，这会导致安全和环境风险。
鉴于这些考虑，存在对于纹理化玻璃表面和制品的需求，包括具有低闪光特性的表面和制品。还存在对于此类表面和制品的制造方法的需求，其能够适用于以低成本以及最小化的安全和环境风险来进行制造。
发明内容
根据本公开内容的方面，提供的玻璃制品包括：包含厚度和主表面的玻璃基材；以及由主表面所限定的纹理化区域。纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度。此外，基材的主表面是基本平坦的。
根据本公开内容的方面，提供的玻璃制品包括：包含厚度和主表面的玻璃基材；以及由主表面所限定的纹理化区域。纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度。此外，玻璃制品包括小于1％的闪光，这是通过140个像素每英寸(PPI)光源通过像素功率分布(PPD)测得的。此外，基材的主表面是基本平坦的。
根据本公开内容的另一个方面，提供了玻璃制品的制造方法，其包括：提供包含厚度和主表面的玻璃基材；以及将玻璃基材浸没在熔融蚀刻剂浴中持续10分钟至1000分钟的蚀刻持续时间，该蚀刻剂浴处于350℃至500℃的蚀刻温度。蚀刻剂浴包含：(a)30％至约48％KNO3(或者0％至约95％KNO3)；(b)30％至约48％NaNO3(或者0％至约95％NaNO3)；(c)3％至10％K2CO3或Na2CO3；以及(d)0.1％至30％锂盐。进行浸没从而在玻璃基材中形成纹理化区域，并且所述纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。此外，基材的主表面是基本平坦的。
在以下的详细描述中提出了本文的其他特征和优点，其中的特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所述的各种实施方式而被认识。
要理解的是，上面的一般性描述和下面的详细描述都仅仅是示例性的，用来提供理解所要求保护的本公开的性质和特点的总体评述或框架。
所含附图用于进一步理解本公开内容的原理，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图图示说明了本公开内容的一个或多个实施方式，并与说明书一起用来说明例如本公开内容的原理和操作。要理解的是，在本说明书和附图中揭示的本公开内容的各种特征可以以任意和所有的组合使用。作为非限制性例子，本公开的各种特征可根据如下方面相互组合。
附图说明
参照附图，阅读本公开的以下详细描述，可以更好地理解本公开的这些方面、特征和优点以及其他的方面、特征和优点，其中：
图1是根据本公开内容方面的纹理化防眩光玻璃制品的横截面示意图。
图2A是根据本公开内容方面的纹理化玻璃制品的扫描电子显微镜(SEM)图像。
图2B是图2A所示的SEM图像的放大部分。
图3A是结合了本文公开内容的任意制品的示例性电子装置的平面图。
图3B是图3A的示例性电子装置的透视图。
图4是根据本公开内容方面的纹理化玻璃制品制造方法的示意性流程图。
图5A-5D分别是具有四种玻璃组成的纹理化玻璃制品的照片，根据本公开内容的方面，它们在含有锂离子和不含有锂离子的熔盐浴中进行蚀刻。
具体实施方式
在以下的详述中，为了说明而非限制，给出了说明具体细节的示例性实施方式，以提供对本公开内容的各个原理的充分理解。但是，对于本领域普通技术人员显而易见的是，在从本说明书获益后，可以以不同于本文详述的其它实施方式实施本公开内容。此外，可能省略了对于众所周知的器件、方法和材料的描述，以免混淆本发明的各个原理的描述。最后，在任何适用的情况下，相同的附图标记表示相同的元件。
本文中，范围可以表示为从“约”另一个具体值开始和/或至“约”另一个具体值终止。当表述这样的范围时，另一个实施方式包括自所述一个具体数值始和/或至所述另一具体数值止。类似地，当用先行词“约”将数值表示为近似值时，应理解具体数值构成了另一个实施方式。还会理解的是，每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。
本文所用的方向术语，例如上、下、左、右、前、后、顶、底，仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来表示绝对的取向。
除非另有明确表述，否则都不旨在将本文所述的任意方法理解为需要使其步骤以具体顺序进行。因此，当方法权利要求实际上没有陈述为其步骤遵循一定的顺序或者其没有在权利要求书或说明书中以任意其他方式具体表示步骤限于具体的顺序，都不旨在暗示该任意特定顺序。这样同样适用于任何可能的未明确表述的解释依据，包括：关于设置步骤或操作流程的逻辑；由语法结构或标点获得的一般含义；说明书所述的实施方式的数量或种类。
除非上下文另外清楚地说明，否则，本文所用的单数形式“一个”、“一种”以及“该”包括复数指代。因此，例如，提到的“一种组件”包括具有两种或更多种这类组件的方面，除非文本中有另外的明确表示。
“光泽度”、“光泽度水平”或者类似术语指的是例如表面光泽度、亮度或发光度，并且更具体来说，指的是根据ASTM方案D523用标样进行校准(例如使用合乎标准的黑色玻璃标样)测量的镜面反射率，其全文通过引用结合入本文。通常在20°、60°和85°的入射光角度进行常见光泽度测量，最常见的光泽度测量在60°进行。除非另有说明，否则本公开内容中记录的光泽度的量是根据ASTM D523的“标准光泽度单位(SGU)”(即，“30SGU至100SGU的光泽度”)或者无单位数字(即，“30至100的光泽度”)，它们是可互换的标示。
如本文所用，术语“透射雾度”和“雾度”表示根据ASTM方法D1003(题为“StandardTest Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics(透明塑料的雾度和发光透射率的标准测试方法)”，其全文通过引用结合入本文)测定的在约±2.5°的角度圆锥以外散射的透射光的百分比。对于光学平滑的表面，透射雾度通常接近于零(即，0％)。除非本文另有说明，否则记录的雾度值的单位是“％”，来表示根据ASTM D1003测得的雾度百分比。
如本文所用，术语“透射率”定义为给定波长范围内，透射过材料(例如，制品、基材或者光学膜或其部分)的入射光功率的百分比。除非本文另有说明，否则记录的透射率数值的单位是“％”，来表示测得的特定波长范围内穿过材料的入射光学功率的百分比。术语“反射率”类似地定义为给定波长范围内，从材料(例如，制品、基材或者光学膜或其部分)反射的入射光功率的百分比。当仅在制品的基材的第一主表面进行测量时，测得的反射率为单侧反射率(本文也称作“第一表面反射率”)，例如通过在连接到吸收器的背表面使用折射率匹配的油或者其他已知方法。
如本文所用，术语“像素功率偏差”和“PPD”指的是显示器闪光的定量测量。此外，如本文所用，术语“闪光”与“像素功率偏差”和“PPD”是可互换使用的。根据如下过程对显示器像素进行图像分析来计算PPD。在每个LCD像素周围画出格箱。然后由CCD照相机数据计算各个格箱内的总功率，并定为每个像素的总功率。从而每个LCD像素的总功率成为一排数字，从这些数字可以计算平均值和标准偏差。PPD值定义为每个像素的总功率的标准偏差除以每个像素的平均功率(乘以100)。测量由眼睛模拟器照相机从每个LCD像素收集的总功率，并计算测量区域上的总像素功率的标准偏差(PPD)，所述测量区域通常包括大约30×30个LCD像素。
用于获得PPD值的测量系统以及图像处理计算的细节参见题为“Apparatus andMethod for Determining Sparkle(用于确定闪光的设备和方法)”的美国专利第9,411,180号所述，其与PPD测量相关的重要部分通过引用全部结合入本文。此外，除非另有说明，否则采用SMS-1000系统(显示器测量技术和系统公司(Display-Messtechnik&SystemeGmbH&Co.KG))来对本公开内容的PPD测量进行生成和评估。PPD测量系统包括：包含多个像素的像素源(例如，联想Z50 140ppi笔记本电脑)，其中，所述多个像素中的每一个具有参照指数i和j；以及沿着源自像素源的光路以光学方式布置的成像系统。成像系统包括：沿着光路布置且具有像素敏感区域的成像装置，所述像素敏感区域包括第二组多个像素，其中，所述第二组多个像素中的每一个涉及指数m和n；以及布置在位于像素源和成像装置之间的光路上的控光装置，其中，所述控光装置对于像素源中发射的图像具有可调节的收集角。图像处理计算包括：取得透明样品的像素化图像，所述像素化图像包括多个像素；确定像素化图像的相邻像素之间的边界；在边界内积分以得到像素化图像中的各个源像素的积分能量；计算各个源像素的积分能量的标准偏差，其中所述标准偏差是每个像素分散的功率。如本文所用，所有的“PPD”和“闪光”值、属性和限制都是用采用像素密度为140个像素每英寸(PPI)的显示器装置的测试设备进行计算和评估的(本文也称作“PPD140”)。此外，除非本文另有说明，否则记录的闪光单位是“％”，来表示在像素密度为140个像素每英寸的显示器装置上观察到的闪光百分比。
本公开内容的方面大体上属于纹理化玻璃制品，具体来说，属于具有低闪光的纹理化玻璃制品。这些玻璃制品具有纹理化区域，其包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。本公开内容的方面包括这些制品的制造方法，其包括用包含锂盐的熔融蚀刻剂浴对玻璃基材进行蚀刻。更一般地来说，制备本公开内容的纹理化玻璃制品的方案产生了具有多个丘状物的纹理化区域，每个丘状物具有0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸和5nm至200nm的平均高度。
参见图1，显示的纹理化玻璃制品100包括具有多个主表面12和14以及厚度13的玻璃基材10。玻璃制品100还包括纹理化区域30a，其由主表面12所限定。在一些实施方式中，纹理化区域30a由基材10形成或者以任意其他方式作为基材10的一部分，如图1所示。在(未示出的)一些实践方式中，纹理化区域30由主表面14所限定。此外，在一些实践方式中，纹理化区域30a由主表面12和14这两者所限定。根据图1所示的纹理化玻璃制品100的实践方式，基材10的每个主表面12和14是基本平坦的。根据制品100的其他实践方式，基材10的主表面12和14中仅一个是基本平坦的(未示出)。
此外，如图1所示，纹理化区域30a包括多个表面下丘状物22。这些丘状物22分别包括顶表面22b和基底22a。基底22a位于低于基材10的主表面12。由此，并且除非另有说明，否则本公开内容中的术语“表面下丘状物”指的是每个丘状物的基底位置低于限定了它们的基材的主表面。此外，根据一些实施方式，每个丘状物22的基底22a低于主表面12的距离为24a。在一些实践方式中，每个丘状物22的基底22a限定了基材10的主表面12中的沟或沟状特征。对于每个丘状物22的顶表面22b，这个表面可以位于低于基材10的主表面12，如图1所示限定为距离24b。根据其他实践方式，一个或多个丘状物的顶表面22b可以与基材的主表面12是基本平坦的。在其他实践方式中，一个或多个丘状物22的顶表面22b位于高于基材10的主表面12。
根据纹理化玻璃制品100的实施方式，所述多个丘状物22的丘状物具有台地(mesa)状外观，基底22a是基本圆化形状，顶表面22b是基本平坦的。在其他实践方式中，丘状物22是较不规则形状，基底22a和顶表面22b中的一个或多个具有较不规则形状。此外，根据一些实践方式，丘状物可以表征为金字塔形状，基底22a是正方形形状，顶表面22b限定了锋利或圆化顶端状特征。
再次参见图1，纹理化玻璃制品100的所述多个丘状物22可以定义为平均横向特征尺寸32和平均高度34。根据纹理化玻璃制品100的实施方式，丘状物的平均横向特征尺寸32大于平均高度34。在一些实践方式中，平均横向特征尺寸32比平均高度34大了如下倍数：1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、6、7、8、9、10、15、20、30、40、50、60、70、80、90、100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1500、2000、2500、3000、3500、4000、4500、5000、5500、6000、6500、7000、7500、8000、8500、9000、9500、10000，以及这些值之间的所有倍数。
根据图1所示的纹理化玻璃制品100a的一些实践方式，纹理化区域30a的所述多个丘状物22(包括它们的平均横向特征尺寸32和平均高度34)构造成降低当制品用于显示器装置时与其相关的闪光水平。通过对纹理化区域30a内取样的丘状物22的横向特征尺寸和高度取平均值分别得到所述多个丘状物22的平均横向特征尺寸32和平均高度34，这是通过本公开内容领域的技术人员所理解的分析和统计取样技术测得的。对于分析技术，本公开内容领域的技术人员可以采用一种或多种分析仪器来测量平均横向特征尺寸32和平均高度34，例如对于特别小的特征(例如，<10μm)采用原子力显微镜(AFM)。对于统计技术，技术人员可以通过对主表面12进行拍照并测量取样的至少十个(10个)特征的最大尺度来获得平均横向特征尺寸32和平均高度34。在其他情况下，可以采用更大的样品尺寸，这通过本公开内容领域技术人员进行适当判断来获得统计学上显著的结果。因此，在本公开内容中，所述多个丘状物22的术语“平均横向特征尺寸”和“平均高度”可以与术语“平均最大横向特征尺寸”和“平均最大高度”或者类似术语互换使用。
在图1所示的纹理化玻璃制品100的实施方式中，所述多个丘状物22的平均横向特征尺寸32大于或等于约0.01μm。在一些实践方式中，平均横向特征尺寸32可以是：0.01μm至20μm，0.01μm至10μm，0.1μm至10μm，0.1μm至5μm，0.1μm至3μm，0.2μm至2μm，或者这些范围内的任何横向特征尺寸或子范围。例如，所述多个丘状物22的平均横向特征尺寸32可以是：0.01μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.4μm、0.5μm、1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、15μm、20μm，以及这些横向尺寸内的所有横向特征尺寸。
根据图1所示的纹理化玻璃制品100的一些实施方式，所述多个丘状物22的平均高度34大于或等于约1nm。在一些实践方式中，平均高度34可以是：1nm至10000nm，1nm至5000nm，1nm至1000nm，5nm至5000nm，5nm至1000nm，5nm至200nm，或者这些范围内的任意平均高度或子范围。例如，所述多个丘状物22的平均高度34可以是：1nm、2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、125nm、150nm、175nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm、2000nm、3000nm、4000nm、5000nm、7500nm、10000nm，以及这些平均高度值中的所有平均高度。
根据图1所示的纹理化玻璃制品100的实践方式，制品表征为低的闪光水平。通常来说，与这些制品的暴露特征相关的粗糙度会开始像多个透镜起作用，其产生被称为“闪光”的图像伪影。当向像素化显示器系统(例如LCD、OLED或者触摸屏等)引入防眩光或光散射表面时，通常会发生不合乎希望的显示器“闪光”或“闪耀”的副作用，其在类型和起源上不同于投射或激光系统中观察到和表征的“闪光”或“斑点”的类型。闪光与显示器的非常细小的粒状外观相关，随着显示器的观察角度的变化，可能看上去会使得颗粒图案偏移。显示器闪光可证实为近似像素水平尺寸规格的亮点和暗点或者有色点。
如图1大致所示，纹理化玻璃制品100的纹理化区域30a可以构造成使得闪光最小化。在一些实施方式中，纹理化区域30a构造成使得闪光最小化，同时维持适用于显示器装置应用的降低眩光功能(例如，对于DOI而言，如本公开内容稍后更详细描述)。根据一些实施方式，纹理化玻璃制品100的纹理化区域30a构造成使得制品表征为闪光是1％或更小，这是通过PPD分布测得的。在其他方面中，本公开内容的纹理化玻璃制品100可以构造成使得闪光为：1％或更小，0.9％或更小，0.8％或更小，0.7％或更小，0.6％或更小，0.5％或更小，0.4％或更小，0.3％或更小，0.2％或更小，0.1％或更小，以及这些上限值之间的所有闪光水平和闪光子范围，这是通过PPD分布测得的。例如，纹理化玻璃制品100可以具有1％、0.75％、0.5％、0.25％、0.1％、0.075％、0.05％、0.025％的闪光，以及这些值之间的所有闪光水平。
再次参见图1所示的纹理化玻璃制品100，制品还可以构造成具有最佳防眩光性能，这表现为低的图像清晰度(DOI)值。如本文所用，“DOI”等于100*(Rs-R0.3°)/Rs，式中，Rs是引导到本公开内容的纹理化玻璃制品的纹理化区域30a上的入射光(偏离法向30°)所测得的镜面反射通量，以及R0.3°是从相同的入射光以相对于镜面反射通量(Rs)为0.3°测得的反射通量。除非另有说明，否则本公开内容所记录的DOI值和测量是根据ASTM D5767-18的用于涂覆表面的图像清晰度(DOI)光泽的仪器测量的标准测试方法，采用Rhopoint IQ光泽雾度和DOI计(Rhopoint IQ Gloss Haze&DOI Meter)(Rhopoint仪器有限公司(RhopointInstruments Ltd.))测得的。注意的是，本公开内容的纹理化玻璃制品100可以展现出低的闪光(例如，小于1％)，而没有明显降低防眩光性能，表现为低的DOI值。在实践方式中，相信本公开内容的纹理化玻璃制品100展现出99.5％或更小的DOI。在其他实施方式中，相信本公开内容的纹理化玻璃制品100展现出小于99.5％、99％、95％、90％、85％、80％、75％、70％的DOI，以及这些上限值之间的所有DOI水平。
根据图1所示的纹理化玻璃制品100的实践方式，制品可以表征为雾度是30％或更小。在其他实践方式中，对于特定应用，与本公开内容的原理一致的纹理化玻璃制品100可以制造成雾度水平最高至90％。在其他实践方式中，纹理化玻璃制品100可以表征为具有如下雾度水平范围：3％至90％，3％至30％，1％至90％，3％至30％，1％至10％，0.1％至100％，0.1％至30％，0.1％至10％，0.02％至0.1％，以及这些雾度范围之间的所有雾度水平和雾度子范围。
根据图1所示的纹理化制品100的实践方式，制品可以表征为具有如下光泽度：30至100，30至90，40至100，40至90，50至100，50至90，以及这些光泽度水平之间的所有光泽度值和光泽度子范围，这是以20°入射角测得的。根据图1所示的纹理化制品100的实践方式，制品可以表征为具有如下光泽度，约为：50至150，50至120，60至150，60至120，70至150，70至120，以及这些光泽度水平之间的所有光泽度值和光泽度子范围，这是以60°入射角测得的。根据图1所示的纹理化制品100的实践方式，制品可以表征为具有如下光泽度(通过ASTMD523进行测量)，约为：50至150，50至120，60至150，60至120，70至150，70至120，90至150，90至120，以及这些光泽度水平之间的所有光泽度值和光泽度子范围，这是以85°入射角测得的。
在一个或多个实施方式中，图1所示的纹理化玻璃制品100的平均透光率可以是至少70％、75％、80％、85％、90％、95％，或者位于或高于这些透射率水平的任意透射率水平或范围，这是在约400nm至约800nm的可见光谱内测得的。例如，玻璃制品100的平均透光率可以是70％、75％、80％、85％、90％、91％、92％、93％、94％、95％、96％、97％、98％、99％，或者这些透射率水平之间的任何透射率水平，这是在约400nm至约800nm的可见光谱内测得的。
再次参见图1，纹理化玻璃制品100的玻璃基材10可以构造成具有多组分玻璃组成，其具有约40摩尔％至80摩尔％二氧化硅和余量的一种或多种其他构成组分，例如：氧化铝、氧化钙、氧化钠、氧化硼等。在一些实践方式中，玻璃基材10的块体组成选自下组：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃和磷硅酸盐玻璃。在其他实践方式中，玻璃基材10的块体组成选自下组：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。在其他实践方式中，玻璃基材10是基于玻璃的基材，包括但不限于：包含约90重量％或更多的玻璃组分与陶瓷组分的玻璃陶瓷材料。
在图1所示的纹理化玻璃制品100的一个实施方式中，玻璃基材10的块体组成包括碱性铝硅酸盐玻璃，其包含：氧化铝，至少一种碱金属，以及在一些实施方式中大于50摩尔％SiO2和在其他实施方式中至少58％以及在其他实施方式中至少60摩尔％SiO2，其中，比例(Al2O3(摩尔％)+B2O3(摩尔％))/∑碱金属改性剂(摩尔％)>1，式中，改性剂是碱金属氧化物。在具体实施方式中，这种玻璃包含如下组分、基本由如下组分构成或者由如下组分构成：约58摩尔％至约72摩尔％SiO2，约9摩尔％至约17摩尔％Al2O3，约2摩尔％至约12摩尔％B2O3，约8摩尔％至约16摩尔％Na2O，以及0摩尔％至约4摩尔％K2O，其中，比例(Al2O3(摩尔％)+B2O3(摩尔％))/∑碱金属改性剂(摩尔％)>1，式中，改性剂是碱金属氧化物。
在纹理化玻璃制品100的另一个实施方式中，如图1所示，玻璃基材10的块体组成包括碱性铝硅酸盐玻璃，其包含以下组分、基本由以下组分构成或者由以下组分构成：约61摩尔％至约75摩尔％SiO2，约7摩尔％至约15摩尔％Al2O3，0摩尔％至约12摩尔％B2O3，约9摩尔％至约21摩尔％Na2O，0摩尔％至约4摩尔％K2O，0摩尔％至约7摩尔％MgO，以及0摩尔％至约3摩尔％CaO。
在另一个实施方式中，玻璃基材10的块体组成包括碱性铝硅酸盐玻璃，其包含以下组分、基本由以下组分构成或者由以下组分构成：约60摩尔％至约70摩尔％SiO2，约6摩尔％至约14摩尔％Al2O3，0摩尔％至约15摩尔％B2O3，0摩尔％至约15摩尔％Li2O，0摩尔％至约20摩尔％Na2O，0摩尔％至约10摩尔％K2O，0摩尔％至约8摩尔％MgO，0摩尔％至约10摩尔％CaO，0摩尔％至约5摩尔％ZrO2，0摩尔％至约1摩尔％SnO2，0摩尔％至约1摩尔％CeO2，小于约50ppm As2O3，以及小于约50ppm Sb2O3，其中，12摩尔％≤Li2O+Na2O+K2O≤20摩尔％且0摩尔％≤MgO+Ca≤10摩尔％。
在另一个实施方式中，玻璃基材10的块体组成包括碱性铝硅酸盐玻璃，其包含以下组分、基本由以下组分构成或者由以下组分构成：约64摩尔％至约68摩尔％SiO2，约12摩尔％至约16摩尔％Na2O，约8摩尔％至约12摩尔％Al2O3，0摩尔％至约3摩尔％B2O3，约2摩尔％至约5摩尔％K2O，约4摩尔％至约6摩尔％MgO，和0摩尔％至约5摩尔％CaO，其中，66摩尔％≤SiO2+B2O3+CaO≤69摩尔％，Na2O+K2O+B2O3+MgO+CaO+SrO>10摩尔％，5摩尔％≤MgO+CaO+SrO≤8摩尔％，(Na2O+B2O3)–Al2O3≤2摩尔％，2摩尔％≤Na2O–Al2O3≤6摩尔％，以及4摩尔％≤(Na2O+K2O)–Al2O3≤10摩尔％。
在其他实施方式中，玻璃基材10的块体组成包含SiO2、Al2O3、P2O5和至少一种碱金属氧化物(R2O)，其中，0.75>[(P2O5(摩尔％)+R2O(摩尔％))/M2O3(摩尔％)]≤1.2，式中，M2O3＝Al2O3+B2O3。在一些实施方式中，[(P2O5(摩尔％)+R2O(摩尔％))/M2O3(摩尔％)]＝1，以及在一些实施方式中，玻璃不包含B2O3且M2O3＝Al2O3。在一些实施方式中，玻璃基材包含：约40至约70摩尔％SiO2，0至约28摩尔％B2O3，约0至约28摩尔％Al2O3，约1至约14摩尔％P2O5，以及约12至约16摩尔％R2O。在一些实施方式中，玻璃基材包含：约40至约64摩尔％SiO2，0至约8摩尔％B2O3，约16至约28摩尔％Al2O3，约2至约12摩尔％P2O5，以及约12至约16摩尔％R2O。玻璃基材10还可以包含至少一种碱土金属氧化物，例如但不限于，MgO或者CaO。
在一些实施方式中，玻璃基材10的块体组成基本不含锂，即玻璃包含小于1摩尔％Li2O，以及在其他实施方式中，玻璃包含小于0.1摩尔％Li2O，和在其他实施方式中，玻璃包含小于0.01摩尔％的Li2O，和在其他实施方式中，玻璃包含0摩尔％Li2O。在一些实施方式中，此类玻璃不含砷、锑和钡中的至少一种，即玻璃包含小于1摩尔％(在其他实施方式中，小于0.1摩尔％以及在其他实施方式中0摩尔％)的As2O3、Sb2O3和/或BaO。
在图1所示的纹理化玻璃制品100的其他实施方式中，玻璃基材10的块体组成包括以下玻璃组合物、基本由以下玻璃组合物构成或者由以下玻璃组合物构成：Eagle/>玻璃、/>玻璃、/>玻璃2、玻璃3、/>玻璃4、或者/> 玻璃5。在图1所示的纹理化玻璃制品100的一些实践方式中，玻璃基材10可以具有以下标记为“玻璃A”、“玻璃B”、“玻璃C”、“康宁/>Eagle/>玻璃”、或者“康宁/>玻璃5”的任意组成。玻璃A具有如下组成(以摩尔％计)：63.65％SiO2、16.19％Al2O3、2.67％P2O5、0.38％B2O3、0.33％MgO、8.07％Li2O、8.11％Na2O、0.52％K2O、0.05％SnO2和0.02％Fe2O3。玻璃B具有如下组成(以摩尔％计)：63.59％SiO2、15.07％Al2O3、2.51％P2O5、2.40％B2O3、5.95％Li2O、9.26％Na2O、0.04％SnO2和1.18％ZnO。玻璃C具有如下组成(以摩尔％计)：70.6％SiO2、12.7％Al2O3、2％B2O3、8.2％Li2O、2.4％Na2O、2.9％MgO、0.05％SnO2和0.9％ZnO。康宁/>Eagle/>玻璃具有如下组成(以摩尔％计)：67.71％SiO2、11.03％Al2O3、9.65％B2O3、2.26％MgO、8.81％CaO和0.54％SrO。康宁/>玻璃5具有如下组成(以摩尔％计)：63.63％SiO2、15.64％Al2O3、2.47％P2O5、6.22％Li2O、10.82％Na2O、0.07％SnO2和1.16％ZnO。
根据其他实施方式，图1所示的纹理化玻璃制品100的玻璃基材10可以具有可离子交换的玻璃组成，其通过本领域已知的化学方式或热方式进行强化。在一个实施方式中，通过离子交换对玻璃基材进行化学强化。在这个过程中，在玻璃基材10的主表面12a和/或主表面12b处或者附近的金属离子被较大的金属离子交换，所述较大的金属离子具有与玻璃基材中的金属离子相同的价态。通常将玻璃基材10与离子交换介质(例如含有较大金属离子的熔盐浴)接触来进行交换。金属离子通常是单价金属离子，例如碱金属离子。在一个非限制性例子中，通过将玻璃基材10浸入包含熔融钾盐(例如，硝酸钾(KNO3)等)的离子交换浴中，来完成含有钠离子的玻璃基材10的化学强化(例如，在如图4所示和下文所述的方法400的蚀刻步骤406期间)。在一个具体实施方式中，玻璃基材10的表面层中的离子以及所述较大的离子是一价碱金属阳离子，例如Li+(当玻璃中存在的时候)、Na+、K+、Rb+和Cs+。或者，玻璃基材10的表面层中的一价阳离子可以被碱金属阳离子以外的一价阳离子(例如Ag+等)代替。
在图1所示的纹理化玻璃制品100的这些实施方式中，在离子交换过程中用较大金属离子替换小的金属离子，这在玻璃基材10中产生从主表面12延伸到深度52(称作“层深度”)的处于压缩应力的压缩应力区域50。应理解的是，可以在玻璃基材中形成从主表面14延伸到深度的压缩应力区域(图1中未示出)，其自然与压缩应力区域50是相当的。更具体来说，玻璃基材的主表面处的这个压缩应力被玻璃基材内部的拉伸应力(也称作“中心张力”)平衡。在一些实施方式中，当通过离子交换强化，本文所述的玻璃基材10的主表面12具有至少200MPa的压缩应力(即，最小压缩应力(CS))，并且处于压缩应力的区域延伸到主表面12下方5μm至200μm的深度52(即，压缩深度(DOC))。根据纹理化玻璃制品100的一些实施方式，压缩应力区域50具有如下最小CS：100MPa、150MPa、200MPa、250MPa、300MPa、350MPa、400MPa、450MPa、500MPa、600MPa、700MPa、800MPa、900MPa、1000MPa，或者水平之间的任何最小CS值。此外，根据纹理化玻璃制品100的一些实践方式，压缩应力区域50延伸到深度52，从而使得其可以表征为DOC是：1μm至300μm，1μm至200μm，5μm至300μm，5μm至200μm，5μm至100μm，以及这些DOC范围之间的所有DOC值和子范围。
此外，对于图1所示的纹理化玻璃制品100，可以通过将玻璃基材10浸入熔盐浴中来进行离子交换过程，所述熔盐浴含有要与玻璃中的较小离子进行交换的较大离子。如下文会进一步详细所述，本公开内容的方法(参见例如，图4所示的玻璃制品的制造方法400)包括作为离子交换过程的一部分建立起纹理化区域30a。此外，本领域技术人员会理解的是，离子交换工艺的参数包括但不限于浴组成和温度、浸入时间、玻璃在盐浴(或多个盐浴)中的浸入次数、多盐浴的使用、其它的步骤(例如退火和洗涤等)，它们通常是基于玻璃组成、所需的层深度、所需的压缩应力水平和纹理化区域中所希望的特定属性所决定的。例如，含碱金属的玻璃的离子交换可以通过以下方式实现：浸泡在至少一种包含盐的熔盐浴中，所述盐是例如较大碱金属离子的硝酸盐、硫酸盐和氯化物，但不限于此。熔盐浴的温度通常是约380℃至最高至约450℃，而浸入时间是约15分钟至最高至约16小时。但是，也可以采用与上述不同的温度和浸没时间。当用于具有碱性铝硅酸盐玻璃组成的玻璃基材10时，此类离子交换处理会导致压缩应力区域50，所述压缩应力区域50的深度52(层深度)是约10μm至最高至至少50μm，压缩应力范围是约200MPa至最高至约1000MPa，以及中心张力是小于约100MPa。
根据图1所示的纹理化玻璃制品100的另一个实践方式，制品还可以包括布置在纹理化区域30a上方的易清洁(ETC)涂层(未示出)。在大多数实施方式中，ETC涂层沉积在纹理化区域30上方，使得其表面形貌大致是下方纹理化区域30a的形貌的镜像。在一个实施方式中，纹理化玻璃制品100还包括沉积在至少一部分的纹理化区域30a上的防污氟基ETC涂层。在实施方式中，ETC涂层包含至少一种具有氟端基的两疏性物质，为纹理化区域30a提供两疏性(即，疏水性和疏油性，或者同时缺乏对于油和水的亲和性)，从而使得水和/或油对于表面的润湿最小化。ETC涂层的氟端基的极性小于具有OH-端基的表面，因此使得颗粒与液体之间的氢键(即，范德华力)最小化。对于指印油和与指印相关的碎片，使得结合和附着最小化。因此，使得指印油和碎片从人体手指到ETC涂层的传质最小化。在一个实施方式中，ETC涂层是通过以下方式形成：用氟基部分(例如含氟单体(例如氟硅烷))交换纹理化玻璃制品100的纹理化区域30a上的OH端基团中存在的氢，以形成具有氟化端基的玻璃。
在另一个实施方式中，图1所示的纹理化玻璃制品100的ETC涂层包含氟端接分子链的自组装单层。在另一个实施方式中，ETC涂层包括薄的氟聚合物涂层，以及在另一个实施方式中，ETC涂层包含二氧化硅烟炱颗粒，其经过处理从而具有与烟炱颗粒附连的侧接的氟碳基团。可以通过浸渍、蒸气涂覆、喷涂、辊涂或者本领域已知的其他合适的方法，将此类ETC涂层施加到纹理化玻璃制品100的纹理化区域30a。在施加了ETC涂层之后，其可以在约25℃至最高至约150℃的温度范围(在另一个实施方式中，温度范围是约40℃至最高至约100℃)进行“固化”。固化时间可以是约1小时至最高至约4小时，并且可以在含有40-95％水分的气氛中进行。在固化之后，具有ETC涂层的纹理化玻璃制品100可以用溶剂进行冲洗，以除去任何未结合的涂料，以及在使用前进行空气干燥。
现参见图2A，提供了与图1所示的纹理化玻璃制品100一致的纹理化玻璃制品的扫描电子显微镜(SEM)图像(比例尺为1μm)。此外，图2B是图2A所示的SEM图像的选定部分，放大了5倍，比例尺约为200nm。由图2A和2B得以证实，纹理化玻璃制品包括由基材的主表面所限定的纹理化区域。此外，纹理化区域包括沿着基材的主表面随机分布的多个表面下丘状物。这些丘状物分别具有2μm或更小的平均横向特征尺寸。由这些附图得以证实，每个表面下丘状物具有顶表面和基底(即，每个丘状物的底部)。在图2A和2B所示的实施方式中，每个表面下丘状物的顶表面低于基材的主表面。
现参见图3A和3B，本文所揭示的纹理化玻璃制品100(参见图1)可以被整合到另一制品中，例如具有显示屏的制品(或显示器制品)(例如，消费者电子件，包括移动电话、平板、电脑和导航系统等)，建筑制品，运输制品(例如，车辆、火车、飞行器、航海器等)，电器制品，或者任意需要部分透明性、耐划痕性、耐磨性或其组合的制品。结合了如本文所揭示的任意玻璃制品(包括纹理化玻璃制品100)的示例性制品如图3A和3B所示。具体来说，图3A和3B显示消费者电子装置300，其包括：具有前表面304、背表面306和侧表面308的外壳302；(未示出的)电子组件，其至少部分位于或者完全位于外壳内并且至少包括控制器、存储器和位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻的显示器310；以及位于外壳的前表面或者在外壳的前表面上方的覆盖基材312，从而使其位于显示器上方。在一些实施方式中，覆盖基材312或者外壳302的一部分中的至少一个可以包括本文所揭示的任意玻璃制品(例如，图1所示的纹理化玻璃制品100)。
现参见图4，提供的示意性流程图显示纹理化玻璃制品(例如，如图1所示的纹理化玻璃制品100)的制造方法400。除非另有说明，否则图1和4中所示的纹理化玻璃制品100的相同附图标记元素具有相同或基本相似的功能或结构。如图4所示，方法400包括：提供具有主表面的玻璃基材的步骤402(例如，如图1所示的具有主表面12、14的玻璃基材10)。如图4进一步所示，方法400可以包括：在对基材进行蚀刻的步骤406之前(下文更详细描述)，对玻璃基材进行加热的任选步骤404。在方法400的一些实施方式中，通过如下方式进行基材的任选加热步骤404：将基材加热到200℃至用于后续对基材进行蚀刻的步骤406中所采用的蚀刻温度(例如，350℃至500℃)之间的温度。例如，可以通过将基材加热到200℃、250℃、300℃、350℃、400℃、450℃、500℃来进行任选步骤404，以及这些温度值之间的所有温度和温度子范围。通常来说，任选步骤404进行的时间足以将玻璃基材均匀加热至规定温度。在一些方面中，基材的加热步骤404通过如下方式进行：将基材加热到300℃至用于后续蚀刻温度(例如，350℃至500℃)之间的温度。
再次参见纹理化玻璃制品的制造方法400(如图4所示)，该方法还包括：在蚀刻温度下，在熔融蚀刻剂浴中对玻璃基材进行蚀刻(或者任意其他方式浸没)持续蚀刻持续时间的步骤406。在方法400的实施方式中，蚀刻持续时间是10分钟至1000分钟，以及蚀刻温度是350℃至500℃。例如，可以在350℃、375℃、400℃、425℃、450℃、475℃、500℃的蚀刻温度进行步骤406，以及这些温度值之间的所有温度和温度子范围；以及蚀刻持续时间是10分钟、50分钟、100分钟、150分钟、200分钟、250分钟、300分钟、400分钟、500分钟、600分钟、700分钟、800分钟、900分钟、1000分钟，以及这些蚀刻持续时间值之间的所有蚀刻持续时间和持续时间子范围。根据方法400的一些实施方式，进行步骤406的蚀刻温度是360℃至400℃以及蚀刻持续时间是20分钟至100分钟。
在图4所示的方法400的一些实践方式中，步骤406的熔融蚀刻剂浴是熔盐浴。此外，(以重量计)熔盐浴可以包含：(a)30％至约48％KNO3，(b)30％至约48％NaNO3，(c)3％至10％K2CO3或Na2CO3，以及0.1％至30％锂盐。此外，进行步骤406从而在玻璃基材中形成纹理化区域(例如，玻璃基材10中的纹理化区域30a)，该纹理化区域包括多个表面下丘状物(例如，图1和4所示的表面下丘状物22)。每个表面下丘状物包括顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。此外，基材的主表面是基本平坦的。在图4所示的方法400的一些实践方式中，完成步骤402和406(具有或者不具有任选的步骤404)得到了与图1所示且与之前所述的纹理化玻璃制品100相一致的纹理化玻璃制品。
再次参见图4，根据方法400的玻璃基材的蚀刻步骤406可以采用具有合适组成的熔融蚀刻剂浴。如上文所述，(以重量计)熔融蚀刻剂浴可以包含：(a)30％至约48％KNO3(例如，pH为7至9的中性盐)；(b)30％至约48％NaNO3(例如，pH为7至9的中性盐)；(c)3％至10％的K2CO3、Na2CO3、LiCO3、K3PO4、Na3PO4、Li3PO4、KOH、NaOH和/或LiOH(例如，pH大于9的盐)；以及(d)0.1％至30％锂盐。在一些实践方式中，锂盐可以选自下组：LiNO3、Li2CO3、Li2SO4和LiCl。在一些实践方式中，熔融蚀刻浴的中性盐((a)KNO3和(b)NaNO3)中的任一种或者两种可以完全或者部分被以下一种或多种取代：LiNO3、K2SO4、Na2SO4、Li2SO4、KCl、NaC和/或LiCl。在方法400的一些实践方式中，进行步骤406的熔融蚀刻剂浴包含(以重量计)：(a)45％至约48％KNO3；(b)45％至约48％NaNO3；(c)3％至7％Na2CO3；以及(d)0.5％至3％LiNO3。
根据图4所示的方法400的一些实践方式，通过完成步骤402和406(具有或者不具有任选步骤404)所得到的纹理化玻璃制品同时包括纹理化区域(例如，具有多个表面下丘状物22的纹理化区域30a)和压缩应力区域，该压缩应力区域具有200MPa的最小压缩应力(CS)以及5μm至200μm的DOC(例如，压缩应力区域50)(参见图1和4)。由此，可以进行方法400的实施方式从而使得纹理化玻璃制品在完成了熔融蚀刻剂浴中的基材的蚀刻步骤406之后同时建立起了纹理化区域和压缩应力区域。有利的是，可以进行方法400来同时强化玻璃基材和对其进行蚀刻从而形成纹理化区域(作为包含多个表面下丘状物)。
不受限于理论，相信图4所示的方法400可以根据成核和蚀刻机制在玻璃基材中同时获得纹理化区域和压缩应力区域。当玻璃基材浸没在饱和了高pH组分(例如，K2CO3、Li2CO3等)的熔盐浴中的时候(即，步骤406)，这些高pH无机盐晶体在玻璃基材的主表面上成核并生长。此外，晶体能够在熔融蚀刻剂浴的升高的温度下对玻璃基材的主表面进行蚀刻，导致建立起包含多个表面下丘状物的纹理化区域(参见例如图2A和2B)。可以通过如下方式对表面下丘状物的深度(例如，图1所示的平均高度34)和尺寸(例如，图1所示的平均横向特征尺寸32)以及它们的密度进行控制：经由调整方法的蚀刻步骤(例如，步骤406)中的蚀刻时间和温度，来调节这些晶体的成核和生长。此外，相信根据本公开内容的方法建立起来的纹理化区域及其多个表面下丘状物可以影响纹理化玻璃制品的各种光学性质，包括：防眩光性(例如，DOI为99.5％或更小)以及低闪光(例如，140PPI光源通过PPD测得的闪光小于1％)。
再次参见图4所示的方法400，根据一些实施方式，该方法还包括配置成去除来自蚀刻步骤406的过量蚀刻剂和浸出的基材组分的去除步骤(未示出)。也就是说，在方法400的步骤402和406之后，通过用去离子水冲洗主表面12上的蚀刻剂，去除来自这些步骤的过量熔融蚀刻剂以及任何来自基材10的疏松和残留组分。本公开领域技术人员会理解的是，可以在去除步骤中采用各种机械和/水性清洁方案，从而在没有对基材10的表面造成实质性影响的情况下去除过量蚀刻剂和沥滤基材组分。
实施例
以下实施例说明了本公开所提供的各种特征和优点，它们不以任何方式构成对本发明或所附权利要求书的限制。
实施例1
根据与本公开内容原理一致的如下方法，分别制备厚度为0.5mm、0.7mm、0.8mm和1.1mm的玻璃A、玻璃B、玻璃C和康宁Eagle/>玻璃的纹理化玻璃样品。具体来说，样品经受与本公开内容上文所述方法一致的纹理化玻璃制品制造方法。具体来说，将玻璃基材预热到300℃的温度持续15分钟；浸没到保持在390℃的两个熔盐蚀刻剂浴的一个中，持续105分钟的蚀刻持续时间；在工作台上冷却回到环境温度；以及然后在去离子水中清洁。将没有锂盐构成组分的比较例熔盐蚀刻剂浴(浴1A)用于一半的样品：200g KNO3，20g Na2CO3，以及180g NaNO3。另一熔盐蚀刻剂浴(浴1B)与本公开内容的蚀刻剂浴相一致：200g KNO3，3.2g LiNO3，20g Na2CO3，以及176.8g NaNO3。
现参见图5A-5D，提供了根据这个实施例形成的纹理化玻璃制品的照片，分别包含玻璃A、玻璃B、玻璃C和Eagle玻璃的基材。具体来说，图5A-5D的左手边分别显示浸没在浴1A中的玻璃样品，而图5A-5D的右手边分别显示浸没在浴1B中的玻璃样品。由附图的左手边得以证实，经受没有锂盐构成组分的熔盐浴(浴1A)的玻璃样品在边缘光照明下看上去是透澈的。相反地，附图的右手边显示经受了具有锂盐构成组分的熔融蚀刻剂浴(浴1B)的玻璃样品含有明显的雾度水平。在放大的情况下，证实这些样品中观察到的雾度与包含多个表面下丘状物的纹理化区域相关，如本公开内容上文详细描述的那样。
实施例2
根据这个实施例，根据与本公开内容原理一致的如下方法制备了四组厚度为1.1mm的康宁玻璃5的纹理化玻璃样品(长50mm乘以宽50mm)(实施例2A-2D)。具体来说，样品经受与本公开内容上文所述方法一致的纹理化玻璃制品制造方法。具体来说，玻璃基材浸没在保持在380℃的熔盐蚀刻剂浴中持续65分钟的蚀刻持续时间；在工作台上冷却回到环境温度；以及然后在去离子水中清洁。另一熔盐蚀刻剂浴与本公开内容的蚀刻剂浴相一致(以重量计)：47％KNO3，47％NaNO3，5％Na2CO3，以及1％LiNO3。
现参见下表1，通过对这个实施例中的四组样品中的样品(即，实施例2A-2D)分别进行测试从而建立起光学数据。具体来说，在表1中提供了这些样品的透射率(“％T”)、雾度(“％雾度”)、光泽度(“光泽度20°”、“光泽度60°”和“光泽度85°”)、图像清晰度(“DOI”)和闪光(“％闪光140PPI”)数据。此外，记录了每个样品的“A”侧和“B”侧这两者上进行测量的数据，这对应于样品的两个相对主表面。
表1：纹理化玻璃制品的光学数据
根据第1个方面，提供了一种玻璃制品。玻璃制品包括：包含厚度和主表面的玻璃基材；以及被主表面限定的纹理化区域。纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度。此外，基材的主表面是基本平坦的。
根据第2个方面，提供了第1个方面，其中，所述多个丘状物包括0.2μm至2μm的平均横向特征尺寸。
根据第3个方面，提供了第1个方面，其中，每个丘状物的顶表面基本平行于主表面。
根据第4个方面，提供了第1个方面，其中，每个丘状物的顶表面低于玻璃基材的主表面。
根据第5个方面，提供了第1个方面，其中，每个丘状物的基底限定了主表面中的沟。
根据第6个方面，提供了第1至第5个方面中任一项，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
根据第7个方面，提供了第1个方面，其中，玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力(CS)和5μm至200μm的压缩深度(DOC)。
根据第8个方面，提供了一种玻璃制品。玻璃制品包括：包含厚度和主表面的玻璃基材；以及被主表面限定的纹理化区域。纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度。玻璃制品包括小于1％的闪光，这是通过140个像素每英寸(PPI)光源通过像素功率分布(PPD)测得的。此外，基材的主表面是基本平坦的。
根据第9个方面，提供了第8个方面，其中，所述多个丘状物包括0.2μm至2μm的平均横向特征尺寸。
根据第10个方面，提供了第8个方面，其中，玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力(CS)和5μm至200μm的压缩深度(DOC)。
根据第11个方面，提供了第8个方面，其中，玻璃制品还包括可见光谱中至少90％的透射率。
根据第12个方面，提供了第8个方面，其中，玻璃制品还包括0.1％至10％(或者0.1％至90％)的透射雾度。
根据第13个方面，提供了第8个方面，其中，玻璃制品还包括70至120(或者40-150)的光泽度，这是以60°入射角测得的。
根据第14个方面，提供了第8至第13个方面中任一项，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
根据第15个方面，提供了一种玻璃制品的制造方法。该方法包括：提供包含厚度和主表面的玻璃基材；以及将玻璃基材浸没在熔融蚀刻剂浴中持续10分钟至1000分钟的蚀刻持续时间，该蚀刻剂浴处于350℃至500℃的蚀刻温度。该蚀刻剂浴包含(以重量计)：
(a)30％至约48％KNO3(或者0％至约95％KNO3)；
(b)30％至约48％NaNO3(或者0％至约95％NaNO3)；
(c)3％至10％K2CO3或Na2CO3；以及
(d)0.1％至30％锂盐。
进行浸没从而在玻璃基材中形成纹理化区域，并且所述纹理化区域包括多个表面下丘状物(hillock)，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面。此外，基材的主表面是基本平坦的。
根据第16个方面，提供了第15个方面，其中，锂盐选自下组：LiNO3、Li2CO3、Li2SO4和LiCl。
根据第17个方面，提供了第15个方面，其还包括：将玻璃基材加热到200℃与蚀刻温度之间的温度，其中，在浸没步骤之前进行该加热步骤。
根据第18个方面，提供了第15个方面，其中，所述多个丘状物还包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸和5nm至200nm的平均高度。
根据第19个方面，提供了第15个方面，其中，玻璃制品还包括小于1％的闪光，这是通过140个像素每英寸(PPI)光源通过像素功率分布(PPD)测得的。
根据第20个方面，提供了第15个方面，其中，浸没步骤还进行成使得玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力(CS)和5μm至200μm的压缩深度(DOC)。
根据第21个方面，提供了第15至第20个方面中任一项，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
根据第22个方面，提供了第15个方面，其中，蚀刻剂浴包含(以重量计)：
(a)45％至约48％KNO3；
(b)45％至约48％NaNO3；
(c)3％至7％Na2CO3；以及
(d)0.5％至3％LiNO3。
根据第23个方面，提供了第22个方面，其中蚀刻温度是360℃至400℃，以及蚀刻持续时间是20分钟至100分钟。
可以对本公开内容的上文所述的实施方式进行许多改变和改进，而不明显背离本公开的精神和各个原理。所有这些变化和修改旨在包括在该说明书和所附权利要求保护的范围内。

Claims (23)

1.一种玻璃制品，其包含：
包括厚度和主表面的玻璃基材；以及
被主表面限定的纹理化区域；
其中，纹理化区域包括多个表面下丘状物，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面，
其中，所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度，以及
其中，基材的主表面是平坦的。
2.如权利要求1所述的玻璃制品，其中，所述多个丘状物包括0.2μm至2μm的平均横向特征尺寸。
3.如权利要求1-2中任一项所述的玻璃制品，其中，每个丘状物的顶表面平行于主表面。
4.如权利要求1-2中任一项所述的玻璃制品，其中，每个丘状物的顶表面低于玻璃基材的主表面。
5.如权利要求1-2中任一项所述的玻璃制品，其中，每个丘状物的基底在主表面中限定了沟。
6.如权利要求1-2中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
7.如权利要求1-2中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力和5μm至200μm的压缩深度。
8.一种玻璃制品，其包含：
包括厚度和主表面的玻璃基材；以及
被主表面限定的纹理化区域；
其中，纹理化区域包括多个表面下丘状物，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面，
其中，所述多个丘状物包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸以及5nm至200nm的平均高度，
其中，玻璃制品包括小于1％的闪光，这是通过140个像素每英寸光源通过像素功率分布测得的，以及
其中，基材的主表面是平坦的。
9.如权利要求8所述的玻璃制品，其中，所述多个丘状物包括0.2μm至2μm的平均横向特征尺寸。
10.如权利要求8-9中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力和5μm至200μm的压缩深度。
11.如权利要求8-9中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃制品还包括可见光谱中至少90％的透射率。
12.如权利要求8-9中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃制品还包括0.1％至10％的透射雾度。
13.如权利要求8-9中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃制品还包括70至120的光泽度，这是以60°入射角测得的。
14.如权利要求8-9中任一项所述的玻璃制品，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
15.一种制造玻璃制品的方法，其包括：
提供包括厚度和主表面的玻璃基材；以及
将玻璃基材浸没在熔融蚀刻剂浴中持续10分钟至1000分钟的蚀刻持续时间，该蚀刻剂浴处于350℃至500℃的蚀刻温度，
其中，蚀刻剂浴包含，以重量计：
(a)30％至48％KNO3；
(b)30％至48％NaNO3；
(c)3％至10％K2CO3或Na2CO3；以及
(d)0.1％至30％锂盐；
其中，进行浸没从而在玻璃基材中形成纹理化区域，并且所述纹理化区域包括多个表面下丘状物，每个丘状物具有顶表面和基底，基底位于低于基材的主表面，以及
其中，基材的主表面是平坦的。
16.如权利要求15所述的方法，其中，锂盐选自下组：LiNO3、Li2CO3、Li2SO4和LiCl。
17.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其还包括：
将玻璃基材加热到200℃与蚀刻温度之间的温度，其中，在浸没步骤之前进行该加热步骤。
18.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中，所述多个丘状物还包括0.1μm至3μm的平均横向特征尺寸和5nm至200nm的平均高度。
19.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中，玻璃制品还包括小于1％的闪光，这是通过140个像素每英寸光源通过像素功率分布测得的。
20.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中，浸没步骤还进行成使得玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域，以及其中，压缩应力区域包括200MPa的最小压缩应力和5μm至200μm的压缩深度。
21.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中，玻璃基材包括选自下组的组成：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃以及碱性铝硼硅酸盐玻璃。
22.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其中，蚀刻剂浴包含，以重量计：
(a)45％至48％KNO3；
(b)45％至48％NaNO3；
(c)3％至7％Na2CO3；以及
(d)0.5％至3％LiNO3。
23.如权利要求22所述的方法，其中，蚀刻温度是360℃至400℃，以及蚀刻持续时间是20分钟至100分钟。
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