CN116133998A

CN116133998A - 具有绕射防眩表面的显示器制品及其制造方法

Info

Publication number: CN116133998A
Application number: CN202180059815.5A
Authority: CN
Inventors: 冯江蔚; 尚登·迪伊·哈特; 卡尔·威廉·科赫三世; 卡梅伦·罗伯特·尼尔森; 瓦格萨·西那拉特内; 威廉·艾伦·伍德
Original assignee: Corning Inc
Current assignee: Corning Inc
Priority date: 2020-07-09
Filing date: 2021-07-08
Publication date: 2023-05-16
Also published as: CN115843290A; WO2022011073A9; EP4178926B1; US20220009824A1; TW202216629A; KR20230038505A; US11940593B2; US20240192407A1; TW202217422A; WO2022011072A1; EP4178925A1; US11977206B2; WO2022011070A1; KR20230038501A; TW202208882A; US20220011468A1; EP4178926A1; WO2022011069A1; US20220011466A1; EP4178924B1

Abstract

本文描述了一种显示器制品，所述显示器制品包括：基板，所述基板包含厚度及主表面；且所述主表面上界定有绕射表面区域。所述绕射表面区域包含多个结构特征，所述多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

Description

具有绕射防眩表面的显示器制品及其制造方法

技术领域

本申请案根据专利法请求2020年7月9日提交的美国临时申请案序列第63/049,843号的优先权权益，该临时申请案的内容是本文的依托且以引用方式整体并入本文中。

本公开总体涉及具有绕射防眩表面的显示器制品及其制造方法，特定而言涉及包含一或多个主表面具有绕射表面区域及防眩特性的基板的显示器制品。

背景技术

防眩表面常用于诸如LCD屏幕、平板计算机、智能型手机、OLED及触控屏幕的显示设备中以避免或减少周围光的镜面反射。在许多显示设备中，此等防眩表面是通过向玻璃的一或多个表面及/或玻璃上的膜提供一定水平的粗糙度以扩散及散射入射光来形成。粗糙化玻璃表面形式的防眩表面常用于此等显示设备的前表面上，以降低来自显示器的外部反射的明显可见度并改善显示器在不同照明条件下的可读性。

用于在显示器制品中所采用的玻璃基板上给予防眩性质的习知方法在一定程度上取得了成功。通常，此等方法已用于在基板的表面中及/或此类基板上的膜内采用随机化表面粗糙度轮廓。然而，此等方法导致玻璃基板及显示器制品具有高雾度及/或高显示闪烁。高雾度水平可因朝向用户散射高角度光而降低显示对比度，从而使黑色水平显得‘褪色’。高显示闪烁水平是像素亮度中的不需要的随机变化，该等变化导致随着视角偏移的粒状外观。

鉴于此等考虑，需要具有改善的防眩特性的显示器制品及基板，该等改善的防眩特性包括但不限于镜面反射的抑制、低闪烁及低影像清晰度。亦需要制造此类显示器制品及基板的方法。

发明内容

根据本公开的一方面，提供了一种显示器制品，该显示器制品包括：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image；DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

根据本公开的一方面，提供了一种显示器制品，该显示器制品包括：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的节距及自30％至70％的填充分数，每个结构特征包含小于100μm的直径。此外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image；DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

根据本公开的一方面，提供了一种显示器制品，该显示器制品包括：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的节距、自30％至70％的填充分数。此外，每个结构特征包含自50nm至250nm的高度或深度。在一些情况下，该多个结构特征进一步包含非随机空间分布。

根据本公开的另一个方面，提供了一种制造显示器制品的方法，该方法包括：用掩模遮蔽包含厚度及主表面的基板；在该基板的该主表面内形成绕射表面区域；及自该基板去除该掩模。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，该多个结构特征进一步包含在第一平均高度处的该第一部分结构特征及在第二平均高度处的第二部分结构特征。另外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image；DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

将在随后的详细描述中阐述附加特征及优点，且所属领域的技术人员自该描述将容易明白或者通过实践如本文所描述的实施方式(包括随后的详细描述、权利要求书以及附图)将认识到该等附加特征及优点。

应理解，前述一般描述及以下详细描述二者仅仅是示范性的，且意欲提供用于理解所请求保护的本公开的本质及特性的概述或框架。

附图被包括以提供对本公开的原理的进一步理解，且并入本说明书中并构成本说明书的一部分。附图例示出一或多个实施方式且连同描述一起通过实例解释本公开的原理及操作。应理解，本说明书及附图中所公开的本公开的各种特征可以任何及所有组合使用。

附图说明

当参考附图阅读本公开的以下详细描述时，可更好地理解本公开的此等及其他特征、方面及优点。

图1A是根据本公开的一实施方式的显示器制品的横剖面示意图。

图1B是根据本公开的一实施方式的显示器制品的横剖面示意图。

图1C是根据本公开的一实施方式的具有抗反射涂层的显示器制品的横剖面示意图。

图2是根据本公开的一实施方式的绕射防眩结构的横剖面示意图。

图3A及图3B分别是根据本公开的实施方式的反射及透射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。

图4A至图4C是根据本公开的实施方式的分别在15％、30％及70％填充分数下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。

图5是根据本公开的实施方式的在不同入射光波长下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩表面的结构深度与的函数的绘图。

图6是根据本公开的一实施方式的制造显示器制品的方法的示意流程图。

图7A至图7D是根据本公开的实施方式的显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的光学显微照片。

图8是根据本公开的实施方式的蚀刻深度作为形成显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的两个结构特征的蚀刻时间的函数的绘图。

图9A及图9B是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的影像清晰度(distinctness of image，DOI)作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图10A及图10B是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的像素功率偏差(PPD₁₄₀)及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图10C及图10D是根据本公开的实施方式的具有不同大小及填充分数的结构特征的像素功率偏差(PPD₁₄₀)及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图，该等结构特征是显示器制品中所采用的基板的绕射表面区域的一部分。

图11A是根据本公开的一实施方式的具有第一组结构特征的绕射表面区域的光学影像及表面高度分布条，该第一组结构特征具有约150nm的深度及约50％的填充分数。

图11B是根据本公开的实施方式的具有不同绕射表面区域的三个制品的反射率幅度对反射角度(以度为单位)的角度绘图。

图12是根据本公开的一实施方式的具有绕射表面区域的显示器制品的反射率幅度对反射角度(以度为单位)的角度绘图。

图13A及图13B是根据本公开的一实施方式的在去除制造显示器制品的方法中所采用的掩模及蚀刻剂之前及之后的具有绕射表面区域的显示器制品的光学影像。

图14是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的结构特征的影像清晰度(distinctness of image，DOI)作为蚀刻深度的函数的绘图。

图15是根据本公开的一实施方式的绕射表面区域的配置成六角形图案以描绘六角百分比(H)的七个结构特征的示意性绘图。

图16A及图16B分别是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的最近邻分布及图案周期图绘图。

图17A及图17B分别是根据本公开的一实施方式的显示器制品的绕射表面区域的最近邻分布及图案周期图绘图。

具体实施方式

在以下详细描述中，出于解释而非限制的目的，阐述了公开具体细节的示范性实施方式以提供对本公开的各种原理的透彻理解。然而，已受益于本公开的所属领域的技术人员将明白，可在脱离本文所公开的具体细节的其他实施方式中实践本公开。此外，对熟知装置、方法及材料的描述可省略，以免使本公开的各种原理的描述模糊。最后，在适用情况下，相同参考数字是指相同元件。

范围在本文中可表达为自“约”一个特定值及/或至“约”另一个特定值。当表达此范围时，另一个实施方式包括自一个特定值及/或至另一个特定值。相似地，当通过使用前述词“约”将值表达为近似值时，将理解的是，特定值形成另一个实施方式。将进一步理解的是，范围中的每一者的端点在与另一个端点相关及与另一个端点无关方面均有意义。

如本文所用的方向性术语(例如，“向上”、“向下”、“右”、“左”、“前”、“后”、“顶部”、“底部”)仅参考如所绘制的图，且并不意欲暗示绝对定向。

除非另外明确指出，否则决不意欲将本文所阐述的任何方法解释为需要按特定次序执行其步骤。因此，在方法权利要求实际上并未列举其步骤要遵循的次序、或并未在权利要求或描述中另外具体指出步骤应限于特定次序的情况下，决不意欲在任何方面中推断次序。这对于任何可能的非表达解释基础来说是如此，包括：关于步骤排列的逻辑事项或操作流程；自语法组织或标点推导出的普通意义；说明书中所描述的实施方式的数目或类型。

如本文所用，除非上下文另外清楚说明，否则单数形式“一(a/an)”及“该”包括多个引用物。因此，除非上下文另外清楚指示，否则例如对一“组件”的引用包括具有二或更多个此类组件的方面。

本公开的方面总体涉及具有绕射防眩表面的显示器制品及其制造方法，特定而言涉及包含一或多个主表面具有绕射表面区域及防眩特性的基板的显示器制品。一般而言，本公开的显示器制品及基板采用具有防眩性质的专设绕射表面区域，该等防眩性质诸如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)、低像素功率偏差(PPD₁₄₀)及低透射雾度。此等防眩性质中的每一者是显示应用所要的，且习知方法尚未达成此种防眩性质组合。根据本公开的方面，绕射表面区域具有直径小于100μm、节距小于125μm且填充分数为40％至55％的结构特征，诸如孔及/或柱。包括此等孔及/或柱的绕射表面区域可使采用绕射表面区域的显示器制品能够展现出小于80％的第一表面反射率DOI、小于4％的PPD₁₄₀及小于20％的透射雾度。此外，此等性质能够在绕射表面区域之上不另外存在任何抗反射涂层的情况下达成。此外，在一些实施方式中，绕射表面区域可具有高度及/或深度为自120nm至200nm的表面高度的多模式分布(例如，双模式分布)，这可透过绕射干涉降低镜面反射率。

相比利用习知方法来达成抗反射特性的显示器制品，包括绕射表面区域的本公开的显示器制品提供若干优点。例如，本公开的显示器制品可使用绕射光散射以10倍或更多倍因子抑制镜面反射率，同时亦达成低雾度、低闪烁及高机械耐久性的组合。高机械耐久性与绕射表面区域的结构特征的相对低的纵横比相关联。另外，根据本公开的一些显示器制品采用绕射表面区域及多层抗反射涂层结构来达成大于20倍、50倍或甚至100倍的镜面反射减少。本公开的显示器制品的另一优点在于，绕射表面区域的平面台阶状及半平面形态连同小于1μm或小于250nm的受控结构深度一起允许容易以相比习知的被蚀刻防眩玻璃基板低得多的玻璃材料及蚀刻化学品(诸如HF)消耗来制造显示器制品，从而导致更少的环境浪费及潜在成本效益。可采用各种工艺来创建此等结构(例如，有机掩模及蚀刻、有机掩模及气相沉积、有机掩模及液相沉积氧化物)，这可有助于保持低制造成本。此等显示器制品的进一步优点在于，显示器制品可展现出防眩、习知防眩方法未达成的光学性质的组合。例如，并入绕射表面区域的本公开的显示器制品已达成小于80％的DOI、小于2％的PPD₁₄₀及小于5％的雾度。

参考图1A及图1B，将显示器制品100描绘为包括具有多个主表面12及14及厚度13的基板10。基板10的主表面12亦包括绕射表面区域30a。因此，主表面12上界定有绕射表面区域30a，使得绕射表面区域30a是由基板10形成或以其他方式形成为基板10的一部分，如图1A所展示。在一些实施方案(未展示出)中，绕射表面区域30a亦可通过基板10的主表面14界定。此外，在一些实施方案中，绕射表面区域30a是通过主表面12及14二者界定。同样如图1A所描绘，绕射表面区域30a包括多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度及/或深度。

再次参考图1A及图1B所展示的绕射表面区域30a，它可描述包含在基板10的主表面12上方或下方具有一组固定的几个可能离散高度或深度水平的圆柱或圆孔(即，结构特征20)的表面。在一些情况下，每个特征20可具有特征在于单一高度或深度的平面顶部。此等特征20可具有相同直径或有限数目的不同直径。特征20的放置可以是随机的，但这是设计使然或以其他方式特意专设的而不是制造工艺的随机功能。制造工艺可使用某种形式的精密专设掩模来精确地(在一定公差内)生产所设计特征形状。如本文所用，多个结构特征20具有呈“多模式分布”的多个不同高度的绕射表面区域30a(如图1A及图1B中的示范性形式所展示)意指绕射表面区域主要由两个(例如，双模式分布)、三个(例如，三模式分布)、四个、五个或更多个相异且特意专设的平均高度或主高度组成，且此等平均高度或主高度中的每一个由其宽度小于或相当于高度之间的垂直隔距的分布组成。再次参考图1A及图1B，示范性绕射表面区域30a包含呈双模式分布的多个高度及/或深度。此外，如本文所用，“双模式分布”意指绕射表面区域主要由两个相异且特意专设的平均高度或主高度组成，且此等平均高度或主高度中的每一个由其宽度小于或相当于高度之间的垂直隔距的分布组成。

在实施方式中，多个结构特征20包括柱及/或孔，且此等柱及/或孔构成表面高度及/或深度的多模式分布。根据一些实施方案，绕射表面区域30a可包含二维阵列的圆形、正方形、六角形、多边形或不规则结构特征20。此外，此等结构特征20可排列成有序或半有序阵列——本质上是可重复制造且不视制造工艺随机性而定来达成它们的功能的各种阵列方案中的任何一种。因此，在图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方式中，绕射表面区域30a包含以下多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度且以半有序或有序阵列跨表面区域30a分布。

再次参考图1A及图1B的显示器制品100，基板10可展现出小于4％的闪烁，如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的。基板10亦可展现出在与法线成20°的入射角下小于80％的DOI。此外，显示器制品100的基板10可展现出在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方式亦可展现出此等光学性质的组合。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方案，绕射表面区域30a的多模式分布进一步包括在第一平均高度24a(或可互换地称为第一平均深度24a)处的第一部分结构特征22a、22a’及在第二平均高度24b(或可互换地称为第一平均深度24b)处的第二部分结构特征22b、22b’。根据显示器制品100的实施方式，第一部分结构特征22a、22a’可以是柱22a，如图1A中的示范性形式所展示。根据显示器制品100的实施方式，第一部分结构特征22a、22a’可以是孔22a’，如图1B中的示范性形式所展示。根据此等实施方式中的一些，自结构观点来看，第二部分结构特征22b、22b’可以是位于第一部分结构特征22a、22a’之间的一组韧带22b(如图1A所展示，位于柱22a之间)或台面22b’(如图1B所展示，位于孔22a’之间)。根据实施方案，当第一部分结构特征22a、22a’被组态为柱22a时，韧带22b可以是位于该第一部分之间的韧带、基质或其他可比较结构。此外，当第一部分结构特征22a、22a’被组态为孔22a’时，台面22b’可以是位于该第一部分之间的台面、平台、基质或其他可比较结构。然而，应理解，第二部分结构特征22b、22b’跟第一部分结构特征22a、22a’一样包括具有第二平均表面高度24b的表面高度分布。此外，视绕射表面区域30a的组态而定，柱22a的第一平均高度24a或孔22a’的第一平均深度24a的范围可为自约25nm至约300nm、自约50nm至约250nm、自约75nm至约225nm、自约100nm至约200nm、自约120nm至约180nm或自约130nm至约170nm。

如先前所指出，图1A及图1B所描绘的显示器制品100包括具有绕射表面区域30a的基板10，该绕射表面区域30a可包括呈多模式分布的不同高度的多个结构特征20。此多模式分布可具有多个表面高度模式，例如，该分布可以是双模式(例如，具有第一部分结构特征22a、22a’与第二部分结构特征22b、22b’)、三模式、四模式、五模式等。在实施方式中，绕射表面区域30a被组态成使得此等模式中的每一个的特征在于表面高度对表面高度分布内的面积分数的明显尖峰。此等尖峰可通过自与模式中的每一个相关联的明显尖峰之间的尖峰表面高度值减少至少20％、至少50％或至少80％的面积分数来区分。此外，模式中的每一个的尖峰可具有不同宽度，且面积分数不需要在分布的尖峰之间下降至零。然而，在一些实施方式中，表面高度对面积图上的尖峰中的每一个之间中的高度的面积分数可下降至零或接近于零。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，绕射表面区域30a的多模式分布的进一步特征可在于使得第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异为自约25nm至约300nm、自约50nm至约250nm、自约75nm至约225nm、自约100nm至约200nm、自约120nm至约200nm、自约120nm至约180nm或自约130nm至约170nm。例如，第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异可为约25nm、50nm、75nm、100nm 125nm、150nm、175nm、200nm、225nm、250nm、275nm、300nm及前述水平之间的所有高度差。在一些实施方式中，第一平均高度24a与第二平均高度24b之间的差异可在与约1/4空气中可见光波长、或约1/4可见光波长的奇数倍相对应的范围内。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成使得绕射表面区域30a包括与第一平均高度24a的第一部分结构特征22a、22a’相对应的第一平面区域21a及与第二平均高度24b的第二部分结构特征22b、22b’相对应的第二平面区域21b。亦即，第一平面区域21a及第二平面区域21b中的每一者分别是平面的，因为此等区域具有接近相同的表面高度(即，在表面高度对多个结构特征20的表面高度的面积分数分布的一个模式内)。此外，此等平面区域21a及21b中的每一者的特征可在于平面区域内小于50nm均方根(root-mean-square，RMS)变化、小于20nm RMS、小于10nm RMS、小于5nm RMS、小于2nm RMS或小于1nm RMS的表面高度变化(或粗糙度)。例如，此等平面区域21a及21b中的每一者的特征可在于自0.1nm RMS至50nm RMS、自0.1nm RMS至20nm RMS、自0.1nm RMS至10nm RMS或0.1nm RMS至1nm RMS的表面高度变化。此外，根据一些实施方式，平面区域21a及21b亦可包括在每个域内具有大于5μm²、大于10μm²、大于20μm²、大于50μm²或大于100μm²的平均面积的个别次区域或域(未展示出)。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方式，如先前所指出，绕射表面区域30a可包括二或更多个平面区域(例如，第一平面区域21a及第二平面区域21b)。此外，此等平面区域(例如，平台、台面等)中的每一者可以是实质平面的，意指多于50％、多于80％或多于90％的绕射表面区域30a是平面的。在一些实施方式中，第一平面区域21a及第二平面区域21b的总表面积是绕射表面区域30a的总表面的至少50％、至少60％、至少70％、至少80或至少90％。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方案，该制品的特征在于低闪烁水平。一般而言，与此等制品的基板10相关联的绕射表面区域30a可产生光偏转，从而导致叫作“闪烁”的影像假影。显示“闪烁”或“眩目”通常是在将防眩或光散射表面引入诸如例如LCD、OLED、触控屏幕或类似物的像素化显示系统中时可能发生的不合需副效应，且在类型及起源上与在投影或激光系统中已观察到及表征的“闪烁”或“斑点”类型不同。闪烁与显示器的极细粒状外观相关联，且随着显示器视角改变可显现出具有颗粒图案偏移。显示闪烁可表现为近似像素级尺度的亮点及暗点或有色点。

如本文所用，术语“像素功率偏差”及“PPD₁₄₀”是指显示闪烁的定量测量。此外，如本文所用，术语“闪烁”可与“像素功率偏差”及“PPD₁₄₀”互换地使用。PPD₁₄₀是通过根据以下程序对显示像素进行影像分析来计算。在每个LCD像素周围绘制一网格框。然后根据电荷耦合装置(charge-coupled device，CCD)摄影机数据计算每个网格框内的总功率，并将该总功率分配为每个像素的总功率。因此，每个LCD像素的总功率变成一数字阵列，可计算该总功率的平均值及标准偏差。PPD₁₄₀值定义为每像素的总功率除以每像素的平均功率(乘以100)的标准偏差。测量眼仿真器摄影机自每个LCD像素收集的总功率，并跨测量区计算总像素功率(PPD₁₄₀)的标准偏差，该测量区通常包含约30x30个LCD像素。

用于获得PPD₁₄₀值的测量系统及图像处理计算的细节描述于名称为“Apparatusand Method for Determining Sparkle”的美国专利第9,411,180号中，该专利的与PPD测量结果相关的突出部分以引用方式整体并入本文中。此外，除非另外指出，否则采用SMS-1000系统(Display-Messtechnik&Systeme GmbH&Co.KG)来产生及评估本公开的PPD₁₄₀测量结果。PPD₁₄₀测量系统包括：包含多个像素的像素化源(例如，Lenovo Z50 140ppi便携式计算机)，其中该多个像素中的每一个具有参考索引i及j；及沿着源自像素化源的光程光学安置的成像系统。该成像系统包含：沿着光程安置且具有像素化敏感区的成像装置，该像素化敏感区包含第二多个像素，其中该第二多个像素中的每一个用索引m及n参考；及安置于像素化源与成像装置之间的光程上的膜片，其中该膜片针对源自像素化源的影像具有可调收集角。图像处理计算包括：获取透明样品的像素化影像，该像素化影像包含多个像素；判定像素化影像中相邻像素之间的边界；在边界内进行积分以获得像素化影像中每个源像素的积分能量；及计算每个源像素的积分能量的标准偏差，其中该标准偏差是每像素色散的功率。如本文所用，所有“PPD₁₄₀”及“闪烁”值、属性及限制是利用测试装置进行计算及评估，该测试装置采用具有每英寸140像素(pixels per inch，PPI)的像素密度(本文中亦称为“PPD₁₄₀”)的显示设备。

根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的一些实施方案，基板10所展现的闪烁为小于4％、3.5％、3％、2.5％、2％、1.5％、1％、0.5及前述水平之间的所有闪烁临界值，如用140ppi LCD显示器在与法线成0°入射角下通过PPD₁₄₀测量的。例如，基板10可展现的闪烁为3.5％、3.25％、3％、2.75％、2.5％、2.25％、2％、1.75％、1.5％、1.25％、1％、0.75％、0.5％及前述水平之间的所有闪烁值，如在与法线成0°入射角下通过PPD₁₄₀测量的。

再次参考图1A及图1B所描绘的显示器制品100，该制品亦可被组态以获得最佳防眩性能，如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)值所体现。如本文所用，“DOI”等于100*(R_s-R_0.3°)/R_s，其中R_s是自指向本公开的显示器制品100的绕射表面区域30a上的入射光(在与法线成20°下)测量的镜面反射率通量，且R_0.3°是自0.3°下的相同入射光根据镜面反射率通量R_s测量的反射率通量。除非另外指出，否则本公开中所报告的DOI值及测量结果是根据名称为“Standard Test Method for Instrumental Measurement ofDistinctness-of-Image(DOI)Gloss of Coated Surfaces using a Rhopoint IQ GlossHaze&DOI Meter”(Rhopoint Instruments Ltd.)的ASTM D5767-18获得。根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的一些实施方式，基板10所展现的DOI为小于90％、85％、80％、75％、70％、65％、60％、55％、50％、45％、40％及前述水平之间的所有DOI临界值，如在与法线成20°入射角下测量的。例如，基板10可展现的DOI为87.5％、85％、82.5％、80％、77.5％、75％、72.5％、70％、67.5％、65％、62.5％、60％、57.5％、55％、52.5％、50％、47.5％、45％、42.5％、40％及前述水平之间的所有DOI值，如在与法线成20°入射角下测量的。

如本文所用，术语“透射雾度”及“雾度”是指根据名称为“Standard Test Methodfor Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics”的ASTM D1003在约±2.5°的角锥的外散射的透射光的百分比，ASTM D1003的内容以引用方式整体并入本文中。对于光学平滑表面，透射雾度通常接近于零。根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方案，该等制品的特征可在于小于20％的雾度。根据图1A及图1B所展示的显示器制品100的实施方案，基板10亦可展现的透射率雾度为小于20％、15％、10％、5％及前述水平之间的所有雾度临界值，如在与法线成0°入射角下测量的。作为一实例，基板10可展现的透射率雾度为17％、16％、15％、14％、13％、12％、11％、10％、9％、8％、7％、6％、5％、4％、3％、2％、1％及前述水平之间的所有雾度值，如在与法线成0°入射角下测量的。

根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的一些实施方案，基板10的绕射表面区域30a可达成镜面反射率(Rs)及绝对镜面反射率(％R)的降低。如本文所用，“镜面反射率(Rs)”定义为在+/-0.1°的锥角内来自基板10的第一表面(例如，主表面12)的总反射光，或定义为在此镜面角度范围内的光的尖峰强度。此外，Rhopoint IQ Meter报告，对于在20°入射角下照射具有1.567折射率且无背表面反射率的平板玻璃，以光泽度单位为单位的Rs值正规化为最大值100。因此，已知玻璃具有4.91％的第一表面绝对镜面反射率(％R)，Rhopoint IQ Meter所报告的以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位的Rs值可通过乘以因子4.91/100转换为绝对镜面反射率(％R)。因此，显示器制品100的实施方案被组态成使得它们与无绕射表面区域30a的基板的相同表面相比展现出镜面反射率(Rs)或绝对镜面反射率(％R)以因子2、因子4、因子5、或因子10或更多降低。在实施方式中，包括绕射表面区域30a的基板10(例如，具有约1.51的折射率的玻璃组成物)可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于2％、小于1.5％、小于1％、小于0.8％、小于0.6％、小于0.5％、小于0.4％或甚至小于0.25％，如在与法线成20°入射角下在介于450nm与650nm之间的波长处测量的。

现在参考图1C，显示器制品100被描绘成具有与图1A及图1B所展示的显示器制品100相同的特征及属性，其中相同编号的元件具有实质相同的功能及结构。此外，图1C所描绘的显示器制品100采用安置于基板10的主表面12上的抗反射涂层60，以进一步改善显示器制品100的防眩效果。在实施方式中，如图1C所描绘具有抗反射涂层60的显示器制品100特别有益于要求透射率及一定程度透射散射的最终用途应用(例如，有益于包括导致次表面反射的特征的显示设备，该等特征诸如触控传感器层、薄膜晶体管层、氧化铟锡层及其他次表面特征)。在实施方式中，抗反射涂层60是根据被制备以达成采用抗反射涂层的制品的防眩、光学特性的多层抗反射涂层或膜结构来组态。在一些实施方案中，抗反射涂层60可具有总共三(3)至九(9)层，例如，总共3层、4层、5层、6层、7层、8层或9层。作为一实例，抗反射涂层60包括多个交替的低折射率层62及高折射率层64。此外，低折射率层62中的每一个包含小于约1.8及与基板10的折射率几乎相同或大于基板10的折射率的折射率；且高折射率层64中的每一个包含大于1.8的折射率。在此组态中，显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成0°至20°入射角下测量的。此外，根据一些实施方式，显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.5％、小于0.4％、小于0.3％、小于0.2％或甚至小于0.1％，如在与法线成0°至20°入射角下在介于450nm与650nm之间的一或多个波长处测量的。

通过在图1C所展示的显示器制品100中添加抗反射涂层60所提供的防眩效果应该在比例意义上近似相加。亦即，图1A及图1B所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a可以因子10降低基板10的主表面12的镜面反射率，且添加抗反射涂层60可进一步以因子10降低镜面反射率，从而导致图1C的显示器制品100的镜面反射率以因子约100降低。因此，根据一些实施方式，据信，根据图1C组态的显示器制品100可展现的第一表面绝对镜面反射率(％R)为小于0.1％、小于0.08％、小于0.06％、小于0.05％、小于0.04％或甚至小于0.025％，如在与法线成0°至20°入射角下在介于450nm与650nm之间的一或多个波长处测量的。

在一示范性实施方式中，如图1C所展示，抗反射涂层60的低折射率层62直接安置于基板10的主表面12的绕射表面区域30a上。此外，根据图1C所展示的实施方式，低折射率层62安置为显示器制品100的最顶层。用于低折射率层62的合适材料包括：SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO_x、AlO_xN_y、SiO_xN_y、SiAl_yO_xN_y、MgO及MgAl₂O₄。用于高折射率层64的合适材料包括：Al₂O₃、AlO_xN_y、SiO_xN_y、SiAl_yO_xN_y、AlN、SiN_x、Si₃N₄、HfO₂、TiO₂、ZrO₂、Y₂O₃及类钻碳。此外，低折射率层62及高折射率层64中的每一者的厚度的范围可为自约1nm至约250nm，且抗反射涂层60的总厚度的范围可为自约5nm至3000nm、5nm至2500nm、5nm至2000nm、自5nm至1500nm、自5nm至1000nm、自5nm至750nm、自5nm至500nm、自5nm至450nm、自5nm至400nm、自5nm至350nm、自5nm至300nm、自5nm至275nm、自5nm至260nm、自5nm至250nm、自100nm至500nm、自100nm至400nm、自100nm至350nm、自100nm至300nm、自100nm至275nm、自100nm至250nm、自200nm至500nm、自200nm至400nm、自200nm至350nm、自200nm至300nm、自200nm至275nm、自200nm至250nm、自250nm至350nm、自250nm至340nm及前述范围内的所有厚度值。

根据图1C所描绘的显示器制品100的一些实施方式，抗反射涂层60可被组态有耐刮层。在一些实施方式中，耐刮层可以是离基板10最远、最中间或最低的高折射率层64。在一些实施方案中，耐刮层是抗反射涂层60中最厚的高折射率层64，且亦可包含Si₃N₄、SiN_x及SiO_xN_y中的一者。耐刮层亦可具有自50nm至2000nm、自50nm至1000nm、自50nm至500nm、自50nm至400nm、自50nm至300nm、自50nm至200nm、50nm至150nm、75nm至175nm、100nm至160nm及前述范围内的所有厚度值的实体厚度。

再次参考图1A至图1C，显示器制品100的基板10可被组态有多组分玻璃组成物，该多组分玻璃组成物具有约40mol％至80mol％二氧化硅及平衡的一或多种其他成分，例如，氧化铝、氧化钙、氧化钠、氧化硼等。在一些实施方案中，基板10的整体组成物是选自由以下组成的群：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃及磷硅酸盐玻璃。在其他实施方案中，基板10的整体组成物是选自由以下组成的群：铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃及碱性铝硼硅酸盐玻璃。在另外的实施方案中，基板10是玻璃为基的基板，包括但不限于包含约90重量％或更大的玻璃组分以及陶瓷组分的玻璃陶瓷材料。在显示器制品100的其他实施方案中，基板10可以是聚合物材料，具有适合于绕射表面区域30a的开发及保持的耐久性及机械特性。

在图1A至图1C所描绘的显示器制品100的一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含氧化铝、至少一种碱金属及在一些实施方式中大于50mol％的SiO₂、在其他实施方式中至少58mol％的SiO₂、且在再一些实施方式中至少60mol％的SiO₂，其中比率(Al₂O₃(mol％)+B₂O₃(mol％))/∑碱金属改质剂(mol％)>1，其中该等改质剂是碱金属氧化物。在特定实施方式中，此玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约58mol％至约72mol％的SiO₂；约9mol％至约17mol％的Al₂O₃；约2mol％至约12mol％的B₂O₃；约8mol％至约16mol％的Na₂O；及0mol％至约4mol％的K₂O，其中比率(Al₂O₃(mol％)+B₂O₃(mol％))/∑碱金属改质剂(mol％)>1，其中该等改质剂是碱金属氧化物。

在显示器制品100的另一个实施方式中，如图1A至图1C所展示，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约61mol％至约75mol％的SiO₂；约7mol％至约15mol％的Al₂O₃；0mol％至约12mol％的B₂O₃；约9mol％至约21mol％的Na₂O；0mol％至约4mol％的K₂O；0mol％至约7mol％的MgO；及0mol％至约3mol％的CaO。

在又另一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约60mol％至约70mol％的SiO₂；约6mol％至约14mol％的Al₂O₃；0mol％至约15mol％的B₂O₃；0mol％至约15mol％的Li₂O；0mol％至约20mol％的Na₂O；0mol％至约10mol％的K₂O；0mol％至约8mol％的MgO；0mol％至约10mol％的CaO；0mol％至约5mol％的ZrO₂；0mol％至约1mol％的SnO₂；0mol％至约1mol％的CeO₂；小于约50ppm As₂O₃；及小于约50ppm Sb₂O₃；其中12mol％≦Li₂O+Na₂O+K₂O≦20mol％且0mol％≦MgO+Ca≦10mol％。

在再另一个实施方式中，基板10具有包含碱性铝硅酸盐玻璃的整体组成物，该碱性铝硅酸盐玻璃包含以下、本质上由以下组成或由以下组成：约64mol％至约68mol％的SiO₂；约12mol％至约16mol％的Na₂O；约8mol％至约12mol％的Al₂O₃；0mol％至约3mol％的B₂O₃；约2mol％至约5mol％的K₂O；约4mol％至约6mol％的MgO；及0mol％至约5mol％的CaO，其中：66mol％≦SiO₂+B₂O₃+CaO≦69mol％；Na₂O+K₂O+B₂O₃+MgO+CaO+SrO>10mol％；5mol％≦MgO+CaO+SrO≦8mol％；(Na₂O+B₂O₃)-Al₂O₃≦2mol％；2mol％≦Na₂O-Al₂O₃≦6mol％；及4mol％≦(Na₂O+K₂O)-Al₂O₃≦10mol％。

在其他实施方式中，基板10具有包含SiO₂、Al₂O₃、P₂O₅及至少一种碱金属氧化物(R₂O)的整体组成物，其中0.75>[(P₂O₅(mol％)+R₂O(mol％))/M₂O₃(mol％)]≦1.2，其中M₂O₃＝Al₂O₃+B₂O₃。在一些实施方式中，[(P₂O₅(mol％)+R₂O(mol％))/M₂O₃(mol％)]＝1，且在一些实施方式中，玻璃不包括B₂O₃，且M₂O₃＝Al₂O₃。在一些实施方式中，基板10包含：约40mol％至约70mol％的SiO₂；0mol％至约28mol％的B₂O₃；约0mol％至约28mol％的Al₂O₃；约1mol％至约14mol％的P₂O₅；及约12mol％至约16mol％的R₂O。在一些实施方式中，玻璃基板包含：约40mol％至约64mol％的SiO₂；0mol％至约8mol％的B₂O₃；约16mol％至约28mol％的Al₂O₃；约2mol％至约12mol％的P₂O₅；及约12mol％至约16mol％的R₂O。基板10可进一步包含至少一种碱土金属氧化物，诸如但不限于MgO或CaO。

在一些实施方式中，基板10具有实质上不含锂的整体组成物；即，玻璃包含小于1mol％的Li₂O、且在其他实施方式中小于0.1mol％的Li₂O、且在其他实施方式中0.01mol％Li₂O、且在再一些实施方式中0mol％的Li₂O。在一些实施方式中，此类玻璃不含砷、锑及钡中的至少一者；即，玻璃包含小于1mol％的Al₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO、且在其他实施方式中小于0.1mol％的Al₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO、且在再一些实施方式中0mol％的Al₂O₃、Sb₂O₃及/或BaO。

在图1A至图1C所描绘的显示器制品100的其他实施方式中，基板10具有包含玻璃组成物、本质上由玻璃组成物组成或由玻璃组成物组成的整体组成物，该玻璃组成物诸如

Eagle

glass、

glass、

Glass 2、

Glass 3、

Glass 4或

Glass 5。

根据其他实施方式，图1A至图1C所描绘的显示器制品100的基板10可具有通过本领域已知的化学手段或热手段增强的离子可交换玻璃组成物。在一个实施方式中，基板10通过离子交换化学增强。在此过程中，基板10的主表面12及/或主表面14处或附近的金属离子被交换成具有与玻璃基板中的金属离子相同的价的较大金属离子。交换通常通过将基板10与离子交换介质诸如例如含有较大金属离子的熔盐浴接触来进行。金属离子通常是单价金属离子，诸如例如碱金属离子。在一个非限制性实例中，通过离子交换化学增强含有钠离子的基板10是通过将基板10浸入包含诸如硝酸钾(KNO₃)或类似物的熔钾盐的离子交换浴中来完成。在一个特定实施方式中，基板10的表面层中的离子以及较大离子是单价碱金属阳离子，诸如Li⁺(当存在于玻璃中时)、Na⁺、K⁺、Rb⁺及Cs⁺。替代地，基板10的表面层中的单价阳离子可用碱金属阳离子的外的单价阳离子诸如Ag⁺或类似者替换。

在图1A至图1C所描绘的显示器制品100的此等实施方式中，在离子交换过程中用较大金属离子替换小金属离子在基板10中创建自主表面12延伸至一定深度52(称为“层深度”)的处于压缩应力下的压缩应力区域50。亦应理解，可在玻璃基板中形成本质上与压缩应力区域50相当的自主表面14延伸至一定深度(未在图1中展示出)的压缩应力区域。更特定而言，玻璃基板的主表面14处的此压缩应力被玻璃基板内部内的张拉应力(亦称为“中心张力”)平衡。在一些实施方式中，当通过离子交换增强时，本文所描述的基板10的主表面12具有至少350MPa的压缩应力，且处于压缩应力下的区域延伸至在主表面12下方至少15μm的深度52，即，层深度。

离子交换过程通常通过将基板10浸入含有待与玻璃中的较小离子交换的较大离子的熔盐浴中来进行。所属领域的技术人员将了解，离子交换过程的参数通常由玻璃的组成物及所要层深度及作为增强操作的结果的玻璃的压缩应力判定，该等参数包括但不限于浴组成物及温度、浸入时间、玻璃在盐浴(或多个浴)中的浸入次数、多种盐浴的使用、诸如退火、洗涤的附加步骤及类似者。举例而言，含碱金属玻璃的离子交换可通过浸入至少一种含有盐的熔浴中来达成，该盐诸如但不限于硝酸盐、硫酸盐及较大碱金属离子的氯化物。熔盐浴的温度通常在自约380℃至多达约450℃的范围内，而浸入时间的范围为自约15分钟至多达约16小时。然而，亦可使用不同于上述彼等温度及浸入时间的温度及浸入时间。此类离子交换处理与具有碱性铝硅酸盐玻璃组成物的基板10一起采用时会产生压缩应力区域50，该压缩应力区域50具有范围自约10μm至多达至少50μm的深度52(层深度)与范围自约200MPa至多达约800MPa的压缩应力及小于约100MPa的中心张力。

根据一些实施方式，由于可采用来创建图1A至图1C所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a的蚀刻工艺可自基板10去除原本将在离子交换过程期间用较大碱金属离子替换的碱金属离子，因此优选在绕射表面区域30a的形成及开发之后在显示器制品100中开发压缩应力区域50。在其他实施方式中，可在绕射表面区域30a的开发之前在基板10中开发达深度52的压缩应力区域50，该深度52足以解决区域50中与跟形成绕射表面区域30a相关联的各种处理相关联的层深度的一些损失，如下所概括。替代地，绕射表面区域30a可通过添加或涂层工艺而非基板蚀刻工艺来创建，在此种情况下，可需要在此添加或涂层工艺之前开发压缩应力区域50。

根据图1A至图1C所描绘的显示器制品100的另一个实施方案，该制品可进一步包括安置于绕射表面区域30a之上的易清洁(easy-to-clean，ETC)涂层(未展示出)。在大多数实施方式中，ETC涂层沉积于绕射表面区域30a之上，使得ETC涂层的表面形态通常反映绕射表面区域30a的下层形态。在一个实施方式中，显示器制品100进一步包括安置于绕射表面区域30a的至少一部分上的耐污氟基ETC涂层。在实施方式中，ETC涂层包含具有氟终止基团的至少一种两疏物质以提供具有两疏性(即，疏水性及疏油性，对油及水缺乏亲和力)的绕射表面区域30a，从而将水及/或油对表面的润湿最小化。ETC涂层的氟终止基团的极性小于具有-OH终止基团的表面，且因此可将颗粒与液体之间的氢(即，凡得瓦)键结最小化。对于与指纹相关联的指纹油及碎屑，键结及粘合被最小化。因此，自人手指至ETC涂层的指纹油及碎屑质量输送被最小化。在一个实施方式中，ETC涂层通过以下方式来形成：用氟基部份，诸如例如含氟单体(例如，氟硅烷)，交换在显示器制品100的绕射表面区域30a上的终止OH基团中发现的氢以形成具有末端氟化基团的玻璃。

在另一个实施方式中，图1A至图1C所描绘的显示器制品100的ETC涂层包含氟终止分子链的自组装单层。在又另一个实施方式中，ETC涂层包含薄氟聚合物涂层，而在又另一个实施方式中，ETC涂层包含已被处理以具有附着于煤烟颗粒的氟碳侧基的二氧化硅煤烟颗粒。此类ETC涂层可通过浸渍、汽化涂层、喷涂、用辊施加或本领域已知的其他合适方法施加于显示器制品100的绕射表面区域30a。已施加ETC涂层后，可在范围自约25℃至多达约150℃的温度下且在另一个实施方式中在范围自约40℃至多达约100℃的温度下“固化”ETC涂层。固化时间的范围可为自约1小时至多达约4小时，且固化可在含有40％至95％水分的氛围中进行。固化后，可在使用之前用溶剂冲洗具有ETC涂层的显示器制品100以去除任何未结合涂层。

再次参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成其中绕射表面区域30a包括具有第一部分结构特征22a、22a’及第二部分结构特征22b、22b’的多个结构特征20。此外，第一部分结构特征22a(例如，柱)、22a’(例如，孔)可由小于125μm的节距42a界定，且第二部分结构特征22b、22b’可由与节距42a实质上相同或不同的节距42b(参见图1A)界定。根据一些实施方案，第二部分结构特征22b、22b’(例如，韧带、台面)可由小于125μm的节距42b界定，且节距42a与节距42b实质上相同或不同。此外，如本文所用，第一部分结构特征22a、22a’的节距42a及第二部分结构特征22b、22b’的节距42b是此等特征的节距值，如所属领域的技术人员通常理解的。因此，第一部分结构特征22a、22a’的节距42a及/或第二部分结构特征22b、22b’的节距42b可小于125μm、110μm、100μm、90μm、80μm、70μm、60μm、50μm、40μm、30μm、20μm及节距值的此等上临界之间的所有节距值。在实施方式中，节距42a、42b可具有下临界，例如，节距值可大于约2微米、大于5微米或大于10微米。

再次参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，实施方式被组态成使得第一部分结构特征22a、22a’(例如，柱或孔)或第二部分结构特征22b、22b’(例如，韧带或台面)的填充分数为自约30％至70％，而另一部分(即，22a、22a’或22b、22b’)的填充分数是100％减去第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’的填充分数。因此，绕射表面区域30a的第一部分结构特征22a、22a’或第二部分结构特征22b、22b’的填充分数可被组态为自约30％至70％、自约35％至65％、自约40％至60％或自约40％至55％。例如，第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’可被组态于绕射表面区域30a内，使得它们具有30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％及前述值之间的所有填充分数字凖的填充分数。

仍然参考图1A至图1C所描绘的显示器制品100，绕射表面区域30a被组配于基板10的主表面12内，使得多个结构特征20中的每一者，例如第一部分22a、22a’及第二部分22b、22b’，具有小于100μm的直径32a、32b。此外，如本文所用，第一部分结构特征22a、22a’的直径32a及第二部分结构特征22b、22b’的直径32b表示此等特征在其全宽半高值(full widthheight maximum，FWHM)处的有效直径或最长宽度尺寸，如所属领域的技术人员通常理解的。因此，第一部分结构特征22a、22a’的直径32a及/或第二部分结构特征22b、22b’的直径32b可小于100μm、90μm、80μm、70μm、60μm、50μm、40μm、30μm、20μm、10μm及小于前述直径的所有直径值。

根据图1A至图1C所描绘的显示器制品100的一些实施方式，绕射表面区域30a被组态成使得结构特征20中的每一者具有多于10的纵横比。除非另外指出，否则结构特征20中的每一者(例如，第一部分结构特征22a、22a’及第二部分结构特征22b、22b’)的纵横比由平均直径32a、32b除以各别平均高度24a、24b给出。在一些实施方案中，绕射表面区域30a的结构特征20的纵横比多于10、多于20、多于50或多于100。例如，具有20μm平均直径32a及0.2μm平均高度24a的第一部分结构特征22a、22a’对应于100的纵横比。更一般而言，特征在于此等纵横比的绕射表面区域30a是实质平坦或平面的，如至少在没有任何放大辅助的情况下在周围照明下所观察的。

根据图1A至图1C所展示的显示器制品的一些实施方案，绕射表面区域30a的结构特征20可根据周期47组态以达成防眩特性。在显示器制品100的一些实施方案中，绕射表面区域30a的结构特征20被组态有周期47，该周期47的范围为自1μm至200μm、自5μm至200μm、自5μm至150μm、自5μm至100μm、自5μm至50μm、自5μm至30μm、自20μm至150μm、自20μm至100μm、自10μm至30μm、自10μm至20μm及前述范围之间的所有周期值。例如，结构特征20可被组态有约100μm(例如，自约70μm至200μm)量级的相对大的周期47以用于显示器制品100的最终用途应用，诸如在应用具有特定DOI目标的情况下，该显示器制品100因将接近0.3°的散射光分量最大化而受益。此类DOI目标可要求与镜面反射方向成0.3°或接近0.3°的散射光分量，这可通过相对大的结构特征20来增强。对于DOI要求不那么严格的显示器制品100的最终用途应用，例如具有以下周期47的较小结构特征20可能是合需的，该周期47的范围为自约5μm至30μm，且根据一些实施方案，该周期47是半随机化的以将色彩及/或摩尔纹假影(Moiréartifacts)最小化。已发现，X-Y维度中特征随机化的水平及类型对于达成低PPD同时亦将其他显示假影诸如摩尔纹或色带最小化可能极重要。换言之，传统的完美有序的类光栅结构对于本公开的制品而言不是较佳的。亦已发现，范围自约5μm至30μm的结构特征20可影响DOI，且可被设计以达成例如低于90或低于80的DOI值，因此没有必要具有较大结构特征20来对DOI产生一些影响。周期47处的结构特征20的随机化的特征可在于最近邻距离在分布范围内的变化，该分布范围可被限制为最小距离或平均距离的1.2倍、1.3倍、1.4倍或1.5倍。此等较小周期47仍可有效地抑制镜面反射，但据信更需要减少显示器护罩应用中的假影，诸如闪烁(即，如通过PPD₁₄₀测量的)。在一些实施方式中，周期47的范围可被组态为自5μm至30μm、自10μm至30μm及自10μm至20μm，这可将DOI降低至小于90或甚至小于80，同时仍保持合需的低闪烁水平。

现在参考图2，提供了绕射防眩结构的横剖面示意图。如图2所示意性展示的，绕射光学模型可说明绕射表面区域30a的原理。光学建模计算是使用商品软件套件

进行的。

套件采用严谨耦合波分析来寻找马克士威方程式(Maxwell’sequation)的解，该方程式可控制绕射光栅的光学性能。在开发绕射表面区域30a之上下文中，

软件可应用于如图2所展示的线性的矩形绕射防眩结构。注意，图2所展示的绕射防眩结构的矩形本质偏离绕射表面区域30a的结构特征20，因为结构特征20可包含柱、孔、台面、平台、多边形及其他离散的非矩形形状。然而，在图2所展示的示意图上进行的计算说明了趋势并提供了在与本公开的原理一致的绕射表面区域30a的结构特征20的界定中有用的数据。值得注意的是，如图2所展示，所建模的绕射防眩结构具有20μm的周期，且整合于玻璃基板的在550nm处具有1.518折射率的表面内。此外，如图2所展示，550nm波长处的入射光以20度入射角指向绕射防眩结构。为获得最佳防眩特性，通常需要抑制零阶反射光(即，镜面光)。

现在参考图3A及图3B，分别提供了反射及透射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。此等绘图是自

软件开发的。如图3A所展示，绕射防眩结构具有20μm的周期，且建模了范围为自0μm至0.5μm的结构深度。此外，如图3A所展示，显示了零阶至第五阶(即，m＝0至5)的绘图。值得注意的是，零阶曲线是镜面反射率的幅度，且如图所显示在0.14μm至0.15μm结构深度处被抑制成接近于0％。另外，与在对应于约1/4空气中光波长的约0.12μm至0.17μm结构深度范围内的平板玻璃相比，镜面反射率可以因子10被抑制。在3/4波长结构深度处观察到镜面反射率的第二个最小值。如图3B所展示，提供了与图2及图3A所展示的相同的结构的透射绕射阶的幅度。对于显示应用，可需要将零阶，即镜面透射率，最大化。在约0.15μm结构深度处，镜面透射率比平板玻璃透射率大78％，这亦是最小化镜面反射率的较佳深度。对于较佳实施方式，总透射率(考虑所有角度)保持接近于平板玻璃值，且透射中的大部分散射光在镜面方向的10度或5度内。

现在参考图4A至图4C，提供了分别在15％、30％及70％填充分数下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩结构的结构深度的函数的绘图。值得注意的是，具有此等15％、30％及70％填充分数的绕射结构不允许零阶(镜面)反射率降低至零。这表明对于诸如此类的简单的双模式高度、单一材料结构的较佳填充分数接近于50％、或在35％至65％的范围内，如图2所建模及描绘的。

现在参考图5，提供了在不同入射光波长下反射的绕射效率作为图2所描绘的绕射防眩表面的结构深度的函数的绘图。特定而言，此图说明了入射光波长特别是在零阶处对镜面反射抑制的影响。尽管最佳结构深度随波长变化，如图5所展示，但接近第一个1/4波长最小值(箭头处)的单个结构深度可成功地达成将自450nm至650nm的所有可见光波长的镜面反射率降低10倍。这表明使用如图2所建模的具有双模式表面高度分布的基本绕射防眩结构在可见光范围内对镜面反射率进行宽带抑制是可行的。

再次参考图2至图5，此等图总体为将显示器制品100组态成在将镜面透射率最大化的同时将镜面反射率最小化提供指导。此外，此等图说明了绕射防眩结构(例如，用作绕射表面区域30a的一般基础)的深度如何影响镜面反射率。如先前所指出，图2的所建模的线性绕射防眩结构与图1A至图1C所展示的显示器制品100的绕射表面区域30a不同，因为后者含有安置成有序或半有序阵列的多个结构特征20，诸如柱、孔、多边形及其他离散特征。然而，鉴于图2至图5所展示的基本绕射结构的建模，绕射表面区域30a的结构特征20的高度或深度较佳地保持于自50nm至250nm、自75nm至225nm、自100nm至200nm、自120nm至190nm或自140nm至190nm。

更一般而言，一旦已定义表面区域30a的预期结构，即可通过许多工艺来制造绕射表面区域30a的二维阵列结构特征20，该等工艺诸如光学平板印刷(光罩)、喷墨印刷、激光图案化及/或网版印刷。工艺的选择视结构特征20的分辨率(例如，就直径及/或节距而言)及给定工艺的技术能力而定。在一些实施方式中，一旦已定义表面区域30a的结构参数(例如，柱或孔、平均高度、节距、直径、周期等)，即可将设计转换为计算机辅助设计(computer-aided design，CAD)文件且然后将该CAD文件与前述工艺中的任一种一起使用以将该设计转移至基板10以创建‘专设’绕射表面区域30a。

现在参考图6，提供了制造显示器制品(即，图1A至图1C所展示及描述的显示器制品100)的方法200的示意流程图。方法200包括：用掩模遮蔽包含厚度13及主表面12的基板10的步骤202；在基板10的主表面12内形成绕射表面区域30a的步骤204；及自基板10去除掩模的步骤206。方法200的最终结果是例如如图1A及图1B所描绘的显示器制品100。在一些实施方式中，方法200进一步包括：在绕射表面区域30a之上形成防眩涂层60以界定显示器制品100(参见图1C)的步骤208。绕射表面区域30a包含多个结构特征20，该多个结构特征20包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，多模式分布进一步包含在第一平均高度24a处的第一部分结构特征22a、22a’及在第二平均高度24b处的第二部分结构特征22b、22b’。另外，根据方法200制造的基板10展现出如在与法线成0°入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°入射角下小于80％的DOI、及在与法线成0°入射角下小于20％的透射率雾度。

根据图6所描绘的制造显示器制品100(参见图1A至图1C及先前的描述)的方法200的一些实施方案，遮蔽基板10的步骤202可包括网版印刷遮蔽、喷墨印刷遮蔽及光刻胶遮蔽中的一或多者。在一些实施方式中，形成绕射表面区域30a的步骤204包括通过掩模蚀刻基板10的主表面12以形成绕射表面区域30a，其中每个结构特征是在自50nm至250nm深度处的孔。步骤204例如可通过利用HF/HNO₃蚀刻剂蚀刻包含玻璃组成物的基板10来进行。在实施方式中，步骤204所采用的湿蚀刻溶液可由氢氟酸(HF，49w/w％)及硝酸(HNO₃，69w/w％)组合与0.1v/v％至5v/v％的HF及0.1v/v％至5v/v％的HNO₃组成。用于达成100nm至250nm蚀刻深度的典型浓度是0.1v/v％的HF/1v/v％的HNO₃至0.5v/v％的HF/1v/v％的HNO₃溶液。例如，步骤204中的蚀刻可使用浸渍或喷涂蚀刻工艺自室温至约45℃进行。在其他实施方式中，形成绕射表面区域30a的步骤204可包括通过掩模(例如，通过溅镀、蒸发或化学气相沉积)在基板10的主表面12上沉积膜以形成绕射表面区域30a，其中每个结构特征是在自50nm至250nm深度处的孔。绕射表面区域亦可通过遮蔽加上‘干蚀刻’、等离子体为基的蚀刻、反应离子蚀刻或其他真空为基的蚀刻方法来形成。在一些实施方式中，此种膜可通过掩模与液相二氧化硅层或其他氧化物层一起沉积，接着进行掩模去除及剥离。

实例

以下实例描述本公开所提供的各种特征及优点，且决不意欲限制本发明及所附权利要求书。

实例1

总体参考图7A至图7D，使用光罩/光学平板印刷工艺来开发此等影像所展示的绕射表面区域结构。在此情况下，对光敏聚合物(即，光刻胶)进行曝光及显影，以在基板(例如，基板10)上形成三维浮雕影像。一般而言，理想的光刻胶影像在基板平面中具有设计图案或预期图案的精确形状，其中垂直壁贯穿抗蚀剂的厚度(对于可旋涂抗蚀剂是<3μm，对于干膜抗蚀剂为<20μm，而对于可网版涂覆光刻胶为<15μm)。在曝光时，最终抗蚀剂图案是二进制的，其中基板的部分覆盖有抗蚀剂，而其他部分则完全未被覆盖。与图6所描绘的方法200一致的典型光刻工艺的处理步骤的一般顺序如下：基板制备(清洁及脱水，接着进行将助粘剂例如六甲基二硅氮烷(HMDS)用于可旋涂抗蚀剂)，光刻胶旋涂，预烘烤，曝光及显影(即，步骤202)，接着进行湿蚀刻工艺以将二进制影像转移至玻璃上(即，步骤204)。最终步骤是在抗蚀剂图案已转移至下层中之后剥离抗蚀剂(即，步骤206)。在一些情况下，需要后烘烤及曝光后烘烤步骤以确保湿蚀刻工艺期间的抗蚀剂粘合。

现在参考图7A至图7D，提供了根据此实例制备的铝硅酸盐玻璃基板的绕射表面区域的光学显微照片，其中孔的较佳蚀刻深度在100nm至250nm范围内。此等绕射表面区域是根据前述光罩工艺接着进行蚀刻工艺制备的。更特定而言，用于制备图7A至图7D的样品的湿蚀刻溶液由氢氟酸(HF，49w/w％)及硝酸(HNO₃，69w/w％)与0.1v/v％至5v/v％的HF及0.1v/v％至5v/v％的HNO₃组成。对于此实例，被采用来达成100nm至250nm蚀刻深度的蚀刻剂浓度的范围是自0.1v/v％的HF/1v/v％的HNO₃至0.5v/v％的HF/1v/v％的HNO₃。图7A及图7B展示两个空间频率下的绕射表面区域的二维(2D)有序阵列结构特征：(a)具有12μm直径与17μm节距的结构特征(图7A)(称为“12-17”阵列)；及(b)具有25μm直径与50μm节距的结构特征(称为“25-50”阵列)。有序阵列的表面是使用六角形充填或正方形充填阵列设计的，其中填充分数自20％至50％变化。此外，图7C及图7D展示在两个空间频率下的具有随机充填结构的绕射表面区域的2D阵列结构特征：(a)具有60μm最小节距的50μm结构特征直径(图7C)(称为“50-60”阵列)；及(b)具有14μm最小节距的12μm结构特征直径(称为“12-14”阵列)。

现在参考图8，根据此实例，提供了蚀刻深度作为形成绕射表面区域的两个结构特征的蚀刻时间的函数的绘图。在此实例中，蚀刻具有12μm及50μm直径的结构特征且为所得蚀刻深度绘图(例如，分别与图7D及图7C所展示的结构一致)。在此实例中，基板是玻璃组成物且用49vol％的HF储备溶液进行蚀刻。蚀刻深度是使用触针为基的轮廓仪(Z深度分辨率设置<5μm，<200μm扫描，3mg力下的3个区域)或Bruker ContourGT-X白光干涉仪(20倍或50倍物镜，绿色窄频光，单视场影像)测量的。如自图8明显可见，与较小结构特征(即，直径约12μm的彼等结构特征)相比，较大结构特征(即，直径约50μm的彼等结构特征)在更长的时间内蚀刻得更快，这允许使用相同的蚀刻剂及一个掩模将绕射表面区域特设成具有在不同深度或高度的不同大小的特征。

现在参考图9A及图9B，提供了以上在图7C及图7D中描绘为具有不同大小及填充分数的绕射表面区域的结构特征的DOI作为蚀刻深度的函数的绘图。如图9A所展示，作为蚀刻深度的函数展示在36％及50％填充分数下的50-60阵列结构特征(亦参见图7C)的DOI水平。相似地，作为蚀刻深度的函数展示在20％及50％填充分数下的12-14阵列结构特征(亦参见图7D)的DOI水平。如自图9A及图9B明显可见，两种阵列的结构特征说明在自约150nm至180nm的蚀刻深度处观察到最小DOI，如先前所概述及图2至图5所展示的建模所通常预测或以其他方式建议的。

现在参考图10A及图10B，根据此实例，提供了具有不同大小及填充分数的结构特征的所测量PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图。如图10A及图10B所展示，在36％及50％填充分数下50-60阵列结构特征(亦参见图7C)在小于0.2μm的低蚀刻深度处展现出最小PPD₁₄₀及雾度值。关于图10C及图10D，根据此实例，提供了具有不同大小及填充分数的结构特征的所测量PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数的绘图。如图10C及图10D，在20％及50％填充分数下12-17阵列结构特征(亦参见图7A)在小于0.2μm的低蚀刻深度处亦展现出最小PPD₁₄₀及雾度值。更一般而言，图10A至图10D说明分别在60μm及17μm周期处的此等结构特征阵列显示PPD₁₄₀及雾度作为蚀刻深度的函数增加。此外，随着蚀刻深度增加，具有较大空间频率的样品(即，50-60阵列)对PPD₁₄₀的影响更大(参见图10A)，而随着蚀刻深度增加，具有较高频率的样品(即，12-17阵列)对雾度的影响更大(参见图10D)。

实例2

根据此实例，根据与本公开的原理一致的方法在0.15μm、0.2μm及0.23μm深度的玻璃基板(分别为样品950、951、952)上开发了结构特征(即，孔)阵列。下表1列出在此等样品上测量的光学特性，包括PPD₁₄₀(％，如在0°下以显示器单元为单位测量的)、雾度(％，如在0°下以透射率为单位测量的)、DOI(耦合，％，如在20°下以反射率为单位测量的)及镜面反射率Rs(耦合，％，如在20°下以反射率为单位测量的)。如自表1明显可见，具有0.15μm蚀刻深度的样品(950)展现出DOI<80％、PPD₁₄₀<2％及雾度<5％，这与根本公开一致的绕射表面区域一致。具有0.2μm及0.23μm深度的其他样品没有展现出此光学特性组合。这说明了在达成特性的目标组合中较佳的深度范围的值，该值对于不同较佳应用可变化。

表1

现在参考图11A，提供了具有来自表1(样品950)的光学特性的最佳组合的绕射表面区域的光学影像及表面高度分布条。更具体而言，此样品(样品950)的结构特征具有约150nm的深度、50％的填充分数、12μm的特征直径/大小及14μm的最小节距。现在参考图11B，在此实例中，提供了来自表1的样品的角谱绘图。更特定而言，图11B的绘图展示样品950-952的反射率幅度对反射角。如自图11B明显可见，观察到样品950相比样品951及952镜面反射率降低。注意，Rhopoint IQ Gloss Haze&DOI Meter报告，对于在20°入射角下照射具有1.567折射率且无背表面反射率的平板玻璃，表1所列出的以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位的Rs值正规化为最大值100。已知此种玻璃具有4.91％的第一表面绝对反射率(％R)值。因此，Rhopoint IQ Meter所报告的Rs值可通过乘以因子4.91/100转换为绝对镜面反射率值(％R值)。因此，在0°下Rs幅度为～6的样品950对应于6/100*4.91％＝～0.295％的第一表面绝对镜面反射率值(％R)。

实例3

根据此实例，使用网版印刷及蚀刻来制造具有界定绕射表面区域的结构特征阵列的样品，从而在玻璃表面上产生柱。网版印刷图案上的目标柱大小/直径为75μm，该目标柱大小/直径在玻璃上用蚀刻剂润湿后膨胀至约100μm。此外，此等样品的目标节距为125μm，呈六边形图案，且目标填充分数为55％(实际填充分数接近于56％)。网版印刷图案是在干净的玻璃表面上使用油墨制成的。表2列出根据此实例制造的样品，该等样品反映导致各种蚀刻深度(即，柱高度)及与此等样品相关联的光学特性(闪烁、雾度、DOI及Rs)的各种蚀刻时间。此外，如先前所指出，第一表面绝对镜面反射率(Rs，以光泽度单位(gloss unit，GU)为单位)可通过将它们乘以因子4.91/100转换为第一表面绝对镜面反射率(％R)。如自表2明显可见，就光学特性测量而言的最佳蚀刻深度范围对应于约1/4空气中光波长，即，样品的蚀刻深度为0.141μm至0.172μm。

表2

现在参考图12，在此实例中，提供了具有约0.172μm蚀刻深度的样品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)的角谱绘图，其中该绘图描绘反射率幅度对反射角。如自图12及表2明显可见，对于结构特征，用于获得低DOI及低Rs的最佳蚀刻深度在120nm至180nm的范围内，而其他蚀刻深度没有展现出此光学特性组合。

现在参考图13A及图13B，提供了图12及表12所描绘具有0.172μm蚀刻深度的样品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)的绕射表面区域及结构特征的光学影像，如在作为网版印刷及蚀刻工艺的一部分的去除油墨之前及之后观察到的。如先前所指出，在此实例描述中，此等结构的目标大小/直径为约75μm；然而，在油墨干燥后膨胀时，被网版印刷的特征(即，掩模)的实际大小的范围对于图13A所描绘的特定特征为自101μm至110μm。此外，如自图13B明显可见，此等油墨圈周围的区域被蚀刻，从而形成了此实例的柱。

现在参考图14，提供了此实例且上面在表2中详述的结构特征的DOI作为蚀刻深度的函数的绘图。如先前所指出，考虑到DOI的减少，较佳蚀刻深度为约1/4光波长，介于0.1μm与0.2μm之间。另外，就DOI而言，第二较佳蚀刻深度位于约3/4光波长处，介于0.4μm与0.5μm之间的蚀刻深度处。3/4波长蚀刻深度由于如表2中的较高PPD₁₄₀所显示对透射光的影响以及相对于1/4波长蚀刻深度的样品而言对DOI的较小影响而可能是不太合需的。此等结果总体与先前所描述的绕射防眩光学模型一致。

实例4

虽然本公开的显示器制品的绕射表面区域采用具有表面高度的多模式分布(例如，表面高度的双模式分布)的结构特征，此等绕射表面区域的实施方式采用特征在X-Y维度中的空间随机化。在此实例中，针对绕射表面区域采用两个X-Y图案随机化——“硬球”分布及“帕松(Poisson)圆盘”分布。前一种硬球图案设计以近似50％填充分数的结构特征为目标，且根据此图案制备结构特征分别具有12μm及50μm直径的样品。后一种帕松圆盘图案设计以近似36％填充分数的结构特征为目标。此等X-Y随机化方案中的每一者亦可以具有不同填充分数、特征深度及防眩涂层组合的结构特征的绕射表面区域为目标。此外，如自此实例明显可见及先前所指出，X-Y维度中特征随机化的水平及类型对于达成低PPD同时亦将其他显示假影诸如摩尔纹或色带最小化可能极重要。

X-Y图案随机化可以不同方式定义。一种方法是六角百分比，图15展示六角百分比(H)的定义。六角百分比是用于局部量化图案与六角点阵的接近程度的度量。对于图案中的每个点，该点处的六角百分比(H)是使用其六个最近邻相对于任意轴的角度计算的。平均六角百分比(H)可由方程式(1)定义如下：

其中k＝1至6是对于一个结构特征的六个最近邻结构特征，而a_k表示六个最近邻结构特征中的每一个与任意轴的角度。因此，在本公开的显示器制品的绕射表面区域之上下文中，多个结构特征的空间分布可具有根据本公开的实施方式范围为自0.4至1.0的六角百分比(H)。如图15所展示，变量ak表示六个最近邻的角度。关于六角点阵，此等六个角度全部相差60度(π/3弧度)，因此六个被加数的折射率相差2π弧度，且求和中的六个复数全部相同。H在该情况下为一。可将图案的平均六角百分比(H)作为与完美六角点阵的偏差的全局度量，这在图案均一时是有用的。完美六角点阵具有1.0的平均六角百分比(H)。点的完全随机、平稳的帕松分布具有近似0.36或36％的平均六角百分比(H)。因此，根据图1A及图1B所描绘的显示器制品100的实施方式，多个结构特征20的特征可在于非随机空间分布。使得H的范围为自0.4至0.95、自0.4至0.9、自0.4至0.8、自0.36至0.9、自0.36至0.8、自0.36至0.7及前述范围之间的所有平均六角百分比(H)值及范围。

进一步关于硬球随机化图案，此图案用于形成图7C及图7D所描绘的绕射表面区域的结构特征。此等图案是使用分子动力学仿真工具(molecular dynamics simulationtool，LAMMPS)以产生该图案来产生。最初将表示特征的“分子”气体放置于二维六角点阵上以将填充分数固定于50％。然后将气体加热并使其在二维中随机化。向分子赋予了推斥硬球势，以保持最小的指定间距。图7C中的示范性图案具有49％的平均六角百分比(H)(亦参见图15)，这表明与规则点阵的偏差大。“12-14”及“50-60”阵列具有相同的图案几何形状：50-60图案只是按总因子50/12放大的12-14图案。此放大不影响填充分数、六角百分比或特征分布函数(明显的轴放大除外)，但它确实影响纹理的光学性能。12/14图案的最近邻距离(定义为X-Y空间中的特征的中心到中心间距)分布展示于图16A中。该12/14图案的周期图展示于图16B中。代替空间频率，图16B的X轴被转换为以度为单位的离镜面散射角以用于0.55μm的光波长。

转向另一50/60阵列(参见图9A及图10A)，它具有更大的最近邻距离分布及更低的填充分数(36％)。此等样品的结构特征被配置成帕松圆盘图案，该图案是使用“飞镖投掷(dart throwing)”算法产生的。此算法确保绝对最小特征间距(在此实例中为60μm)，但在填充空间下并不十分有效。平均六角百分比(H)更低，为41％。50/60帕松圆盘图案的最近邻距离分布展示于图17A中。该50/60帕松圆盘图案的周期图展示于图17B中。代替空间频率，图17B的X轴被转换为以度为单位的离镜面散射角以用于0.55μm的光波长。

如本文所概述，本公开的第一方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。此外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的一入射角下小于20％的一透射率雾度。

根据第二方面，提供了该第一方面，其中该多个结构特征进一步包含具有第一平均高度的第一部分结构特征及具有第二平均高度的第二部分结构特征。

根据第三方面，提供了该第二方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自50nm至250nm的一差异。

根据第四方面，提供了该第二方面，其中该第一平均高度及该第二平均高度具有自120nm至200nm的差异。

根据第五方面，提供了该第二方面至该第四方面中任一项，其中该绕射表面区域进一步包含对应于该第一平均高度的第一平面区域及对应于该第二平均高度的第二平面区域。此外，该第一平面区域及该第二平面区域中的每一者包含小于50nm的均方根(root-mean-square，RMS)高度变化。

根据第六方面，提供了该第五方面，其中该第一平面区域及该第二平面区域具有一总表面积，该总表面积是该绕射表面区域的总表面积的至少50％。

根据第七方面，提供了该第一方面至该第六方面中任一项，其中该基板包含玻璃组成物。

根据第八方面，提供了该第一方面至该第七方面中任一项，其中该基板进一步展现出如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的闪烁。

根据第九方面，提供了该第一方面至该第八方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成0°的入射角下小于5％的透射率雾度。

根据第十方面，提供了该第一方面至该第九方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

根据第十一方面，提供了该第一方面至该第十方面中任一项，进一步包含：抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于约1.8的折射率，且该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的入射角下小于0.1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

本公开的第十二方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的节距及自30％至70％的填充分数，每个结构特征包含小于100μm的直径。此外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness ofimage，DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

根据第十三方面，提供了第十二方面，其中该基板包含玻璃组成物。

根据第十四方面，提供了该第十二方面或该第十三方面，其中该基板进一步展现出如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的闪烁。

根据第十五方面，提供了该第十二方面至该第十四方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成0°的入射角下小于5％的透射率雾度。

根据第十六方面，提供了该第十二方面至该第十五方面中任一项，其中该基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

根据第十七方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，其中该多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均高度的柱。

根据第十八方面，提供了该第十七方面，其中该多个结构特征进一步包含呈多模式分布的多个高度。该多模式分布进一步包含在该第一平均高度处的该第一部分结构特征及在第二平均高度处的第二部分结构特征。此外，该分布的该第一部分具有自30％至70％的第一填充分数，且该分布的该第二部分具有100％减去该第一填充分数的第二填充分数。

根据第十九方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，其中该多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均深度的孔。

根据第二十方面，提供了该第十九方面，其中该多个结构特征进一步包含呈多模式分布的多个深度。该多模式分布进一步包含在该第一平均深度处的该第一部分结构特征及在该第二平均深度处的第二部分结构特征。此外，该分布的该第一部分具有自30％至70％的第一填充分数，且该分布的该第二部分具有100％减去该第一填充分数的第二填充分数。

根据第二十一方面，提供了该第十二方面至该第二十方面中任一项，其中该填充分数为自40％至55％。

根据第二十二方面，提供了该第十二方面至该第二十一方面中任一项，其中每个结构特征进一步包含多于10的纵横比。

根据第二十三方面，提供了该第十二方面至该第二十二方面中任一项，其中该多个结构特征进一步包含自5μm至100μm的周期。

根据第二十四方面，提供了该第十二方面至该第十六方面中任一项，进一步包含：抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于约1.8及与该基板的折射率几乎相同或大于该基板的该折射率的折射率。该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的入射角下小于0.1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

本公开的第二十五方面涉及一种显示器制品。该显示器制品包含：基板，该基板包含厚度及主表面；且该主表面上界定有绕射表面区域。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含小于125μm的节距、自30％至70％的填充分数。此外，每个结构特征包含自50nm至250nm的高度或深度。

根据第二十六方面，提供了该第二十五方面，其中该多个结构特征进一步包含非随机空间分布。

根据第二十七方面，提供了该第二十五方面或该第二十六方面，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

根据第二十八方面，提供了该第二十五方面至该第二十七方面中任一项，其中该多个结构特征的该非随机空间分布包含自大于0.4至小于1.0的平均六角百分比(H)，其中一个结构特征的该六角百分比(H)由方程式(1)给出：

其中k＝1至6是对于该一个结构特征的六个最近邻结构特征，而a_k表示该等六个最近邻结构特征中的每一个与任意轴的角度。

根据第二十九方面，提供了该第二十五方面至该第二十八方面中任一项，其中该多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均高度的柱。

根据第三十方面，提供了该第二十九方面，其中每个柱的该高度为自120nm至180nm。

根据第三十一方面，提供了该第二十五方面至该第二十八方面中任一项，其中该多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均深度的孔。

根据第三十二方面，提供了该第三十一方面，其中每个孔的该深度为自120nm至180nm。

根据第三十三方面，提供了该第二十五方面至该第三十二方面中任一项，进一步包含：抗反射涂层，该抗反射涂层是安置于该基板的该主表面上。该抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层。该等低折射率层中的每一个包含小于约1.8及与该基板的一折射率几乎相同或大于该基板的该折射率的折射率。该等高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率。此外，该制品展现出在与法线成20°的入射角下小于0.1％的第一表面绝对镜面反射率(％Rs)。

本公开的第三十四方面涉及一种制造一显示器制品的方法。该方法包含：用掩模遮蔽包含厚度及主表面的基板；在该基板的该主表面内形成绕射表面区域；及自该基板去除该掩模。该绕射表面区域包含多个结构特征，该多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度。该多模式分布进一步包含在第一平均高度处的第一部分结构特征及在第二平均高度处的第二部分结构特征。此外，该基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率偏差(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

根据第三十五方面，提供了该三十四方面，其中该遮蔽步骤包含网版印刷遮蔽、喷墨印刷遮蔽、光刻胶遮蔽中的一或多者。

根据第三十六方面，提供了该三十四方面或该第三十五方面，其中该形成步骤包含通过该掩模蚀刻该基板的该主表面以形成该绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的深度的孔。

根据第三十七方面，提供了该第三十四方面或该第三十五方面，其中该形成步骤包含通过该掩模在该基板的该主表面上沉积膜以形成该绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的高度的柱。

在实质上不脱离本公开的精神及各种原理的情况下，可对本公开之上述实施方式做出许多变型及修改。所有此类修改及变型意欲在本文中包括于本公开的范畴内且受以下权利要求书保护。

Claims

1.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；且

所述主表面上界定有绕射表面区域，

其中所述绕射表面区域包含多个结构特征，所述多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度，且

其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率分布(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

2.如权利要求1所述的显示器制品，其中所述多个结构特征进一步包含具有第一平均高度的第一部分结构特征及具有第二平均高度的第二部分结构特征。

3.如权利要求2所述的显示器制品，其中所述第一平均高度及所述第二平均高度具有自50nm至250nm的差异。

4.如权利要求2所述的显示器制品，其中所述第一平均高度及所述第二平均高度具有自120nm至200nm的差异。

5.如权利要求2至4中任一项所述的显示器制品，其中所述绕射表面区域进一步包含对应于所述第一平均高度的第一平面区域及对应于所述第二平均高度的第二平面区域，且

进一步地其中所述第一平面区域及所述第二平面区域中的每一者包含小于50nm的均方根(RMS)高度变化。

6.如权利要求5所述的显示器制品，其中所述第一平面区域及所述第二平面区域具有总表面积，所述总表面积是所述绕射表面区域的总表面积的至少50％。

7.如权利要求1至6中任一项所述的显示器制品，其中所述基板包含玻璃基板或玻璃陶瓷基板。

8.如权利要求1至7中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的闪烁。

9.如权利要求1至8中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成0°的入射角下小于5％的透射率雾度。

10.如权利要求1至9中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

11.如权利要求1至10中任一项所述的显示器制品，进一步包含：

抗反射涂层，所述抗反射涂层是安置于所述基板的所述主表面上，

其中所述抗反射涂层包含多个交替的高折射率层及低折射率层，

其中所述低折射率层中的每一个包含小于约1.8的折射率，且其中所述高折射率层中的每一个包含大于1.8的折射率，且

进一步地其中所述制品展现出在与法线成20°的入射角下小于0.3％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

12.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；且

所述主表面上界定有绕射表面区域，

其中所述绕射表面区域包含多个结构特征，所述多个结构特征包含小于125μm的节距及自30％至70％的填充分数，每个结构特征包含小于100μm的直径，且

进一步地其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率分布(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

13.如权利要求12所述的显示器制品，其中所述基板包含玻璃基板或玻璃陶瓷基板。

14.如权利要求12或权利要求13所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出如在与法线成0°的入射角下通过PPD₁₄₀测量的小于2％的闪烁。

15.如权利要求12至14中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成0°的入射角下小于5％的透射率雾度。

16.如权利要求12至15中任一项所述的显示器制品，其中所述基板进一步展现出在与法线成20°的入射角下小于1％的第一表面绝对镜面反射率(％R)。

17.如权利要求12至16中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均高度的柱。

18.如权利要求17所述的显示器制品，

其中所述多个结构特征进一步包含呈多模式分布的多个高度，

其中所述多个结构特征进一步包含在所述第一平均高度处的所述第一部分结构特征及在第二平均高度处的第二部分结构特征，且

进一步地其中所述第一部分结构特征具有自30％至70％的第一填充分数，且所述第二部分结构特征具有100％减去所述第一填充分数的第二填充分数。

19.如权利要求12至16中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均深度的孔。

20.如权利要求19所述的显示器制品，

其中所述多个结构特征进一步包含呈多模式分布的多个深度，

其中所述多个结构特征进一步包含在所述第一平均深度处的所述第一部分结构特征及在第二平均深度处的第二部分结构特征，且

21.如权利要求12至20中任一项所述的显示器制品，其中所述填充分数为自40％至55％。

22.如权利要求12至21中任一项所述的显示器制品，其中每个结构特征进一步包含多于10的纵横比。

23.如权利要求12至22中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征进一步包含自5μm至100μm的周期。

24.如权利要求12至16中任一项所述的显示器制品，进一步包含：

25.一种显示器制品，包含：

基板，所述基板包含厚度及主表面；且

所述主表面上界定有绕射表面区域，

其中所述绕射表面区域包含多个结构特征，所述多个结构特征包含小于125μm的节距、自30％至70％的填充分数，且

进一步地其中每个结构特征包含自50nm至250nm的高度或深度。

26.如权利要求25所述的显示器制品，其中所述多个结构特征进一步包含非随机空间分布。

27.如权利要求25或权利要求26所述的显示器制品，其中所述基板展现出如在与法线成0°的入射角下通过像素功率分布(PPD₁₄₀)测量的小于4％的闪烁、在与法线成20°的入射角下小于80％的影像清晰度(DOI)、及在与法线成0°的入射角下小于20％的透射率雾度。

28.如权利要求25至27中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征的所述非随机空间分布包含自大于0.4至小于1.0的平均六角百分比(H)，其中一个结构特征的所述六角百分比(H)由方程式(1)给出：

其中k＝1至6是对于所述一个结构特征的六个最近邻结构特征，而a_k表示所述六个最近邻结构特征中的每一个与任意轴的角度。

29.如权利要求25至28中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均高度的柱。

30.如权利要求29所述的显示器制品，其中每个柱的所述高度为自120nm至180nm。

31.如权利要求25至28中任一项所述的显示器制品，其中所述多个结构特征的第一部分包含具有自50nm至250nm的第一平均深度的孔。

32.如权利要求31所述的显示器制品，其中每个孔的所述深度为自120nm至180nm。

33.如权利要求25至32中任一项所述的显示器制品，进一步包含：

34.一种制造显示器制品的方法，包含：

用掩模遮蔽包含厚度及主表面的基板；

用所述掩模在所述基板的所述主表面内形成绕射表面区域；及

自所述基板去除所述掩模，

其中所述绕射表面区域包含多个结构特征，所述多个结构特征包含呈多模式分布的多个不同高度，其中所述多个结构特征进一步包含在第一平均高度处的第一部分结构特征及在第二平均高度处的第二部分结构特征，且

35.如权利要求34所述的方法，其中所述遮蔽步骤包含网版印刷遮蔽、喷墨印刷遮蔽、光刻胶遮蔽中的一或多者。

36.如权利要求34或权利要求35所述的方法，其中所述形成步骤包含：通过所述掩模蚀刻所述基板的所述主表面以形成所述绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的深度的孔。

37.如权利要求34或权利要求35所述的方法，其中所述形成步骤包含：通过所述掩模在所述基板的所述主表面上沉积膜以形成所述绕射表面区域，且其中每个结构特征是包含自50nm至250nm的高度的柱。