TW202217363A - 具防眩表面及薄的耐用抗反射塗層之顯示器製品 - Google Patents

Abstract

本文描述了一種顯示器製品，該顯示器製品包含：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一紋理化表面區域；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於該紋理化表面區域上。該紋理化表面區域包含結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )。該基板在一0°入射角下展現出如藉由PPD ₁₄₀測量的小於5%的一閃爍、及小於40%的一透射率霧度。該抗反射塗層包含交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。該製品亦展現出在可見波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

Description

具防眩表面及薄的耐用抗反射塗層之顯示器製品

相關申請案之交叉引用

本專利申請案根據專利法主張2020年7月9日提交的名稱為「DISPLAY ARTICLES WITH DIFFRACTIVE, ANTIGLARE SURFACES AND METHODS OF MAKING THE SAME」的美國臨時申請案第63/049,843號之優先權權益，該臨時申請案之全部內容以引用方式併入本文中。

本申請案係關於以下所共同擁有並受讓的專利申請案，但並不主張該等專利申請案之優先權：美國專利申請案序列第__________ (D31977)號，名稱為「TEXTURED REGION TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCLUDING A LOW REFRACTIVE INDEX SUBSTRATE WITH HIGHER ELEVATED SURFACES AND LOWER ELEVATED SURFACES AND A HIGH REFRACTIVE INDEX MATERIAL DISPOSED ON THE LOWER ELEVATED SURFACES」且提交於______________；美國專利申請案序列第__________ (D31038/32632)號，名稱為「ANTI-GLARE SUBSTRATE FOR A DISPLAY ARTICLE INCLUDING A TEXTURED REGION WITH PRIMARY SURFACE FEATURES AND SECONDARY SURFACE FEATURES IMPARTING A SURFACE ROUGHNESS THAT INCREASES SURFACE SCATTERING」且提交於______________；美國專利申請案序列第__________ (D32630/32632)號，名稱為「TEXTURED REGION OF A SUBSTRATE TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCORPORATING SURFACE FEATURES WITH AN ELLIPTICAL PERIMETER OR SEGMENTS THEREOF, AND METHOD OF MAKING THE SAME」且提交於______________；及美國專利申請案序列第__________ (D32647)號，名稱為「TDISPLAY ARTICLES WITH DIFFRACTIVE, ANTIGLARE SURFACES AND THIN, DURABLE ANTIREFLECTION COATINGS」且提交於______________。前述美國專利申請案、公開案及專利文件中之每一者之全部揭露內容以引用方式併入本文中。

本揭露總體係關於具有紋理化防眩表面(例如，繞射、粗化及其他紋理化形態)與薄的耐用抗反射塗層之顯示器製品，特定而言係關於包含一或多個主表面具有紋理化表面區域的基板的顯示器製品，該紋理化表面區域上具有防眩特性及抗反射塗層。

防眩表面常用於諸如LCD螢幕、平板電腦、智慧型手機、OLED及觸控螢幕的顯示裝置中以避免或減少周圍光之鏡面反射。在許多顯示裝置中，此等防眩表面係藉由向玻璃之一或多個表面及/或玻璃上的膜提供一定位凖的粗糙度以擴散及散射入射光來形成。粗化玻璃表面形式的防眩表面常用於此等顯示裝置之前表面上，以降低來自顯示器的外部反射之明顯可見度並改善顯示器在不同照明條件下的可讀性。

用於在顯示器製品中所採用的玻璃基板上給予防眩性質的習知方法在一定程度上取得了成功。通常，此等方法已用於在基板之表面中及/或此類基板上的膜內採用隨機化表面粗糙度輪廓。然而，此等方法導致玻璃基板及顯示器製品具有高霧度及/或高顯示閃爍。高霧度位凖可因朝向使用者散射高角度光而降低顯示對比度，從而使黑色位準顯得『褪色』。高顯示閃爍位凖係像素亮度中的不需要的隨機變化，該等變化導致隨著視角偏移的粒狀外觀。

另外，護罩製品常用於保護電子產品內的裝置，提供用於輸入及/或顯示及/或許多其他功能之使用者介面。此類產品包括行動裝置，例如智慧型手機、智慧型手錶、mp3播放器及平板電腦。此等顯示器製品亦可受益於一定透明度、耐刮性、耐磨性或它們的組合。此等應用通常需要耐刮性以及就最大透光率及最小反射率而言的強光學效能特性。此外，對於一些護罩應用，在反射及/或透射中展現出的或感知到的色彩不會隨著視角改變而可察覺地改變。在顯示應用中，這是因為若反射或透射中的色彩隨著視角改變至可察覺程度，則產品使用者將感知到顯示器色彩或亮度之變化，這可能降低所感知到的顯示器品質。在其他應用中，色彩之變化可負面地影響裝置之美學外觀或其他功能態樣。

此等顯示器製品常用於具有封裝約束的應用(例如，行動裝置)。特定而言，此等應用中之許多可顯著受益於整體厚度的減少，甚至是百分之幾的減少。另外，採用此類顯示器製品及非顯示器製品的許多應用例如透過原料成本最小化、製程複雜性最小化及良率改善而受益於低製造成本。具有與現有顯示器製品及非顯示器製品相當的光學及機械特性效能屬性的較小封裝亦可服務降低製造成本的期望(例如，透過減少原料成本，透過減少抗反射結構中的層數等)。

護罩顯示器製品之光學效能可藉由使用各種抗反射塗層來改善；然而，已知的抗反射塗層易於磨損或磨耗。此種磨耗可損害抗反射塗層所達成的任何光學效能改善。磨耗損壞可包括來自相對面物件(例如，手指)的往復滑動接觸。另外，磨耗損壞可產生熱量，這可劣化膜材料中的化學鍵並引起護罩玻璃之剝落及其他類型之損壞。由於磨耗損壞通常比導致劃痕的單個事件經歷更長的時間，經歷磨耗損壞的所安置塗層材料亦可能氧化，這進一步劣化塗層之耐用性。

鑒於此等考慮，需要具有改善之防眩特性之顯示器製品及基板，該等改善之防眩特性包括但不限於鏡面反射之抑制、低閃爍及低影像清晰度。此外，需要此等相同顯示器製品亦具有耐磨性及抗反射光學特性。

根據本揭露之一態樣，提供了一種顯示器製品，包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上。該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。此外，該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。另外，該製品展現出在自約450 nm至650 nm的可見光譜中在與法線成約5°至20°的一入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

根據本揭露之另一個態樣，提供了一種顯示器製品，包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上。該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。此外，該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層包含總共三(3)至九(9)層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。另外，每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者。另外，該製品展現出在自約450 nm至650 nm的可見光譜中在與法線成約5°至20°的一入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

根據本揭露之另一態樣，提供了一種顯示器製品，包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一粗化表面區域，該粗化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該粗化表面區域上。該粗化表面區域包含複數個結構特徵及自20 nm至2000 nm平均紋理高度均方根(root-mean-square，RMS)變化的一平均表面粗糙度( R _q )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。此外，該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層包含總共三(3)至九(9)層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。另外，每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者。另外，該製品展現出在自約450 nm至650 nm的可見光譜中在與法線成約5°至20°的一入射角下小於1%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

將在隨後的詳細描述中闡述附加特徵及優點，且熟習此項技術者自該描述將容易明白或者藉由實踐如本文所描述之實施例(包括隨後的詳細描述、申請專利範圍以及附圖)將認識到該等附加特徵及優點。

應理解，前述一般描述及以下詳細描述二者僅僅係示範性的，且意欲提供用於理解所主張保護的本揭露之本質及特性的概述或框架。

附圖經包括來提供對本揭露之原理的進一步理解，且併入本說明書中並構成本說明書之一部分。圖式例示出一或多個實施例且連同描述一起藉由實例解釋本揭露之原理及操作。應理解，本說明書及圖式中所揭示的本揭露之各種特徵可以任何及所有組合使用。

在以下詳細描述中，出於解釋而非限制之目的，闡述了揭示具體細節的示範性實施例以提供對本揭露之各種原理的透徹理解。然而，已受益於本揭露的熟習此項技術者將明白，可在脫離本文所揭示之具體細節的其他實施例中實踐本揭露。此外，對熟知裝置、方法及材料的描述可省略，以免使本揭露之各種原理之描述模糊。最後，在適用情況下，相同參考數字係指相同元件。

範圍在本文中可表達為自「約」一個特定值及/或至「約」另一個特定值。當表達此範圍時，另一個實施例包括從一個特定值及/或到另一個特定值。相似地，當藉由使用前述詞「約」將值表達為近似值時，將理解的是，特定值形成另一個實施例。將進一步理解的是，範圍中之每一者之端點在與另一個端點相關及與另一個端點無關方面均有意義。

如本文所用之方向性術語(例如，「向上」、「向下」、「右」、「左」、「前」、「後」、「頂部」、「底部」)僅參考如所繪製之圖，且並不意欲暗示絕對定向。

除非另外明確指出，否則決不意欲將本文所闡述之任何方法解釋為需要按特定次序執行其步驟。因此，在方法請求項實際上並未列舉其步驟要遵循的次序、或並未在請求項或描述中另外具體指出步驟應限於特定次序之情況下，決不意欲在任何態樣中推斷次序。這對於任何可能的非表達解釋基礎來說是如此，包括：關於步驟排列的邏輯事項或操作流程；自語法組織或標點推導出的普通意義；說明書中所描述的實施例之數目或類型。

如本文所用，除非上下文另外明確說明，否則單數形式「一個/種(a/an)」、及「該/該等(the)」包括複數指示物。因此，除非上下文另外清楚指示，否則例如對一「組件」的引用包括具有二或更多個此類組件的態樣。

如本文所用，「平均紋理高度( R _text )」係本揭露之顯示器製品之基板之主表面的紋理化區域之結構特徵之特性，且以奈米(nm)為單位報告。此外，對於包含粗化表面區域的紋理化表面區域(例如，如透過蝕刻及/或噴砂製程產生的)， R _text 定義為粗化表面區域之平均表面粗糙度( R _q )，且可以均方根(root-mean-square，RMS)奈米(nm)為單位報告。對於如本揭露所描述之包含繞射表面區域的紋理化表面區域， R _text 定義為與繞射表面區域相關聯的結構特徵(例如，柱、孔等)之兩個高度或深度之間的平均高度差。

如本文所用，「玻氏(Berkovich)壓頭硬度試驗」包括藉由用金剛石玻氏壓頭壓入材料之表面來在該表面上測量材料之硬度。玻氏壓頭硬度試驗包括：用金剛石玻氏壓頭壓入本揭露之顯示器製品100 (參見第1C圖至第1E圖及對應描述)之抗反射塗層60之空氣側表面61以形成壓痕，該壓痕之壓入深度在自約50 nm至約1000 nm範圍(或整個抗反射塗層或層厚度，以較小者為準)內；及在沿著整個壓入深度範圍的各個點處、沿著此壓入深度之指定段(例如，在自約100 nm至約500 nm深度範圍內)或在特定壓入深度處(例如，在100 nm深度處，在500 nm深度處等)根據此壓入測量硬度，這通常使用以下文獻中所闡述的方法：Oliver, W.C.; Pharr, G. M., 「An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments」, J. Mater. Res., 第7卷，第6期，1992，1564-1583；及Oliver, W.C.與Pharr, G.M., 「Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology」, J. Mater. Res., 第19卷，第1期，2004，3-20。此外，當在壓入深度範圍內(例如，在自約100 nm至約500 nm深度範圍內)測量硬度時，結果可報告為指定範圍內的最大硬度，其中該最大值係選自在該範圍內的每個深度處獲得的測量結果。如本文所用，「硬度」及「最大硬度」均係指所測量的硬度值，而不是硬度值之平均值。相似地，當在壓入深度處測量硬度時，自玻氏壓頭硬度試驗獲得的硬度值係針對該特定壓入深度得到的。

本揭露之態樣總體係關於具有抗反射(antireflective，AR)及防眩(antiglare，AG)光學特性之組合以及機械強度及耐磨損性之顯示器製品。與僅具有AR或AG性質及特性的製品相比，此等顯示器製品有利地具有較低的第一表面鏡面反射率位凖(例如，低至0.015%)，這亦促進較高的顯示器對比度、色域及中性反射色彩位凖。更特定而言，顯示器製品具有一或多個紋理化AG基板表面(例如，繞射、粗化及其他紋理化形態)與薄的耐用多層AR塗層。此外，由於此等製品之AG紋理化表面區域可在透射及反射二者中散射光，該AG紋理化表面區域亦可減少顯示器中隱藏反射的出現。此外，此等顯示器製品及基板採用具有防眩性質的紋理化表面區域，諸如低像素功率偏差(PPD ₁₄₀)及低透射霧度。此等顯示器製品亦包括具有複數個交替的高折射率層及低折射率層的AR塗層，該AR塗層在一些實施例中可使製品能夠展現出8 GPa或更大的最大硬度，如藉由玻氏壓頭硬度試驗沿著50 nm或更大壓入深度測量的。紋理化表面區域可使採用紋理化表面區域的顯示器製品能夠展現出小於5%的PPD ₁₄₀及小於40%的透射霧度。

本揭露之態樣總體亦係關於具有繞射防眩表面之顯示器製品及其製造方法，特定而言係關於包含一或多個主表面具有繞射表面區域及防眩特性的基板的顯示器製品。一般而言，本揭露之顯示器製品及基板採用具有防眩性質之專設繞射表面區域，該等防眩性質諸如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)、低像素功率偏差(PPD ₁₄₀)及低透射霧度。此等防眩性質中之每一者係顯示器應用所要的，且習知方法尚未達成此防眩性質組合。根據本揭露之態樣，繞射表面區域具有直徑小於100 μm、節距小於125 μm且填充分數為40%至55%的結構特徵，諸如孔及/或柱。包括此等孔及/或柱的繞射表面區域可使採用繞射表面區域的顯示器製品能夠展現出小於80%的第一表面反射率DOI、小於4%的PPD ₁₄₀及小於20%的透射霧度。此外，此等性質能夠在繞射表面區域之上不另外存在任何抗反射塗層之情況下達成。此外，在一些實施例中，繞射表面區域可具有高度及/或深度為自120 nm至200 nm的表面高度之多模式分佈(例如，雙模式分佈)，這可透過繞射干涉降低鏡面反射率。

相比利用習知方法來達成抗反射特性的顯示器製品，包括繞射表面區域的本揭露之顯示器製品提供若干優點。例如，本揭露之顯示器製品可使用繞射光散射以10倍或更多倍因子抑制鏡面反射率，同時亦達成低霧度、低閃爍及高機械耐久性之組合。高機械耐久性與繞射表面區域之結構特徵之相對低的縱橫比相關聯。另外，根據本揭露的一些顯示器製品採用繞射表面區域及多層抗反射塗層結構來達成大於20倍、50倍或甚至100倍的鏡面反射減少。本揭露之顯示器製品之另一優點在於，繞射表面區域之平面臺階狀及半平面形態連同小於1 μm或小於250 nm的受控結構深度一起允許容易以與習知的經蝕刻防眩玻璃基板相比低得多的玻璃材料及蝕刻化學品(諸如HF)消耗來製造顯示器製品，從而導致更少的環境浪費及潛在成本效益。可採用各種製程來創建此等結構(例如，有機遮罩及蝕刻、有機遮罩及氣相沉積、有機遮罩及液相沉積氧化物)，這可有助於保持低製造成本。此等顯示器製品之進一步優點在於，顯示器製品可展現出防眩、習知防眩方法未達成的光學性質之組合。例如，併入繞射表面區域的本揭露之顯示器製品已達成小於80%的DOI、小於2%的PPD ₁₄₀及小於5%的霧度。

參考第1A圖及第1B圖，將顯示器製品100描繪為包括具有複數個主表面12及14及厚度13的基板10。基板10之主表面12亦包括繞射表面區域30a。因此，主表面12上界定有繞射表面區域30a，使得繞射表面區域30a係由基板10形成或以其他方式形成為基板10之一部分，如第1A圖所展示。在一些實施方案(未展示出)中，繞射表面區域30a亦可由基板10之主表面14界定。此外，在一些實施方案中，繞射表面區域30a係由主表面12及14二者界定。同樣如第1A圖所描繪，繞射表面區域30a包括複數個結構特徵20，該複數個結構特徵20包含呈多模式分佈的複數個不同高度及/或深度。

再次參考第1A圖及第1B圖所展示的繞射表面區域30a，它可描述包含在基板10之主表面12上方或下方具有一組固定的幾個可能離散高度或深度位凖的圓柱或圓孔(即，結構特徵20)的表面。在一些情況下，每個特徵20可具有特徵在於單一高度或深度的平面頂部。此等特徵20可具有相同直徑或有限數目的不同直徑。特徵20之放置可以係隨機的，但這是設計使然或以其他方式特意專設的而不是製造製程之隨機功能。製造製程可使用某種形式的精密專設遮罩來精確地(在一定公差內)生產所設計特徵形狀。如本文所用，複數個結構特徵20具有呈「多模式分佈」的複數個不同高度的繞射表面區域30a (如第1A圖及第1B圖中的示範性形式所展示)意指繞射表面區域30a主要由兩個(例如，雙模式分佈)、三個(例如，三模式分佈)、四個、五個或更多個相異且特意專設的平均高度或主高度組成，且此等平均高度或主高度中之每一個由其寬度小於或相當於高度之間的垂直隔距的分佈組成。再次參考第1A圖及第1B圖，示範性繞射表面區域30a包含呈雙模式分佈的複數個高度及/或深度。此外，如本文所用，「雙模式分佈」意指繞射表面區域30a主要由兩個相異且特意專設的平均高度或主高度組成，且此等平均高度或主高度中之每一個由其寬度小於或相當於高度之間的垂直隔距的分佈組成。

在實施例中，複數個結構特徵20包括柱及/或孔，且此等柱及/或孔構成表面高度及/或深度之多模式分佈。根據一些實施方案，繞射表面區域30a可包含二維陣列的圓形、正方形、六角形、多邊形或不規則結構特徵20。此外，此等結構特徵20可配置成有序或半有序陣列——本質上是可重複製造且不視製造製程隨機性而定來達成它們的功能的各種陣列方案中之任何一種。因此，在第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之一些實施例中，繞射表面區域30a包含以下複數個結構特徵20，該複數個結構特徵20包含呈多模式分佈的複數個不同高度且以半有序或有序陣列跨表面區域30a分佈。

再次參考第1A圖及第1B圖之顯示器製品100，基板10可展現出小於4%的閃爍，如在與法線成0°的入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的。基板10亦可展現出在與法線成20°的入射角下小於80%的DOI。此外，顯示器製品100之基板10可展現出在與法線成0°的入射角下小於20%的透射率霧度。第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之實施例亦可展現出此等光學性質之組合。

根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之一些實施方案，繞射表面區域30a之多模式分佈進一步包括在第一平均高度24a (或可互換地稱為第一平均深度24a)處的第一部分結構特徵22a、22a’及在第二平均高度24b (或可互換地稱為第一平均深度24b)處的第二部分結構特徵22b、22b’。根據顯示器製品100之實施例，第一部分結構特徵22a、22a’可以係柱22a，如第1A圖中的示範性形式所展示。根據顯示器製品100之實施例，第一部分結構特徵22a、22a’可以係孔22a’，如第1B圖中的示範性形式所展示。根據此等實施例中之一些，自結構觀點來看，第二部分結構特徵22b、22b’可以係位於第一部分結構特徵22a、22a’之間的一組韌帶22b (如第1A圖所展示，位於柱22a之間)或台面22b’ (如第1B圖所展示，位於孔22a’之間)。根據實施方案，當第一部分結構特徵22a、22a’經組態為柱22a時，韌帶22b可以係位於該第一部分之間的韌帶、基質或其他可比較結構。此外，當第一部分結構特徵22a、22a’經組態為孔22a’時，台面22b’可以係位於該第一部分之間的台面、平台、基質或其他可比較結構。然而，應理解，第二部分結構特徵22b、22b’跟第一部分結構特徵22a、22a’一樣包括具有第二平均高度24b的表面高度分佈。此外，視繞射表面區域30a之組態而定，柱22a之第一平均高度24a或孔22a’之第一平均深度24a之範圍可為自約25 nm至約300 nm、自約50 nm至約250 nm、自約75 nm至約225 nm、自約100 nm至約200 nm、自約120 nm至約180 nm或自約130 nm至約170 nm。

如先前所指出，第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100包括具有繞射表面區域30a的基板10，該繞射表面區域30a可包括呈多模式分佈的不同高度的複數個結構特徵20。此多模式分佈可具有複數個表面高度模式，例如，該分佈可以係雙模式(例如，具有第一部分結構特徵22a、22a’與第二部分結構特徵22b、22b’)、三模式、四模式、五模式等。在實施例中，繞射表面區域30a經組態成使得此等模式中之每一個之特徵在於表面高度對表面高度分佈內的面積分數的明顯尖峰。此等尖峰可藉由自與模式中之每一個相關聯的明顯尖峰之間的尖峰表面高度值減少至少20%、至少50%或至少80%的面積分數來區分。此外，模式中之每一個之尖峰可具有不同寬度，且面積分數不需要在分佈之尖峰之間下降至零。然而，在一些實施例中，表面高度對面積圖上的尖峰中之每一個之間中的高度之面積分數可下降至零或接近於零。

再次參考第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100，繞射表面區域30a之多模式分佈之進一步特徵可在於使得第一平均高度24a與第二平均高度24b之間的差異為自約25 nm至約300 nm、自約50 nm至約250 nm、自約75 nm至約225 nm、自約100 nm至約200 nm、自約120 nm至約200 nm、自約120 nm至約180 nm或自約130 nm至約170 nm。例如，第一平均高度24a與第二平均高度24b之間的差異可為約25 nm、50 nm、75 nm、100 nm ，125 nm、150 nm、175 nm、200 nm、225 nm、250 nm、275 nm、300 nm及前述位凖之間的所有高度差。在一些實施例中，第一平均高度24a與第二平均高度24b之間的差異可在與約¼空氣中可見光波長、或約¼可見光波長之奇數倍相對應的範圍內。

再次參考第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100，實施例經組態成使得繞射表面區域30a包括與第一平均高度24a的第一部分結構特徵22a、22a’相對應的第一平面區域21a及與第二平均高度24b的第二部分結構特徵22b、22b’相對應的第二平面區域21b。亦即，第一平面區域21a及第二平面區域21b中之每一者分別係平面的，因為此等區域具有接近相同的表面高度(即，在表面高度對複數個結構特徵20之表面高度之面積分數分佈的一個模式內)。此外，此等平面區域21a及21b中之每一者之特徵可在於平面區域內小於50 nm均方根(root-mean-square，RMS)變化、小於20 nm RMS、小於10 nm RMS、小於5 nm RMS、小於2 nm RMS或小於1 nm RMS的表面高度變化(或粗糙度)。例如，此等平面區域21a及21b中之每一者之特徵可在於自0.1 nm RMS至50 nm RMS、自0.1 nm RMS至20 nm RMS、自0.1 nm RMS至10 nm RMS或0.1 nm RMS至1 nm RMS的表面高度變化。此外，根據一些實施例，平面區域21a及21b亦可包括在每個域內具有大於5 μm ²、大於10 μm ²、大於20 μm ²、大於50 μm ²或大於100 μm ²的平均面積的個別次區域或域(未展示出)。

根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之一些實施例，如先前所指出，繞射表面區域30a可包括二或更多個平面區域(例如，第一平面區域21a及第二平面區域21b)。此外，此等平面區域(例如，平台、台面等)中之每一者可以係實質平面的，意指多於50%、多於80%或多於90%的繞射表面區域30a係平面的。在一些實施例中，第一平面區域21a及第二平面區域21b之總表面積係繞射表面區域30a之總表面之至少50%、至少60%、至少70%、至少80或至少90%。

根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之實施方案，該製品之特徵在於低閃爍位凖。一般而言，與此等製品之基板10相關聯的繞射表面區域30a可產生光偏轉，從而導致叫作「閃爍」的影像假影。顯示「閃爍」或「眩目」通常是在將防眩或光散射表面引入諸如例如LCD、OLED、觸控螢幕或類似物的像素化顯示系統中時可能發生的不合需副效應，且在類型及起源上與在投影或雷射系統中已觀察到及表徵的「閃爍」或「斑點」類型不同。閃爍與顯示器之極細粒狀外觀相關聯，且隨著顯示器視角改變可顯現出具有顆粒圖案偏移。顯示閃爍可表現為近似像素級尺度的亮點及暗點或有色點。

如本文所用，術語「像素功率偏差」及「PPD ₁₄₀」係指顯示閃爍之定量測量。此外，如本文所用，術語「閃爍」與「像素功率偏差」及「PPD ₁₄₀」互換使用。PPD ₁₄₀係根據以下程序藉由顯示像素之影像分析來計算的。在每個LCD像素周圍繪製一網格框。然後根據電荷耦合裝置(charge-coupled device，CCD)攝影機資料計算每個網格框內的總功率，並將該總功率分配為每個像素之總功率。因此，每個LCD像素之總功率變成一數字數組，可計算該總功率之均值及標準偏差。PPD ₁₄₀值定義為每像素之總功率除以每像素之平均功率(乘以100)的標準偏差。測量眼模擬器攝影機自每個LCD像素收集的總功率，並跨測量區計算總像素功率(PPD ₁₄₀)之標準偏差，該測量區通常包含約30x30個LCD像素。

用於獲得PPD ₁₄₀值的測量系統及影像處理計算之細節描述於名稱為「Apparatus and Method for Determining Sparkle」的美國專利第9,411,180號中，該專利之與PPD測量相關的突出部分以引用方式整體併入本文中。此外，除非另外指出，否則採用SMS-1000系統(Display-Messtechnik & Systeme GmbH & Co. KG)來產生及評估本揭露之PPD ₁₄₀測量結果。PPD ₁₄₀測量系統包括：包含複數個像素的像素化源(例如，Lenovo Z50 140 ppi膝上型電腦)，其中該複數個像素中之每一個具有參考索引 i及 j；及沿著源自像素化源的光程光學安置的成像系統。該成像系統包含：沿著光程安置且具有像素化敏感區的成像裝置，該像素化敏感區包含第二複數個像素，其中該第二複數個像素中之每一個用索引 m及 n參考；及安置於像素化源與成像裝置之間的光程上的膜片，其中該膜片針對源自像素化源的影像具有可調收集角。影像處理計算包括：獲取透明樣品之像素化影像，該像素化影像包含複數個像素；判定像素化影像中相鄰像素之間的邊界；在邊界內進行積分以獲得像素化影像中每個源像素之積分能量；及計算每個源像素之積分能量之標準偏差，其中該標準偏差係每像素色散之功率。如本文所用，所有「PPD ₁₄₀」及「閃爍」值、屬性及限制均利用試驗裝置進行計算及評估，該試驗裝置採用具有每吋140像素(pixels per inch，PPI)的像素密度(本文中亦稱為「PPD ₁₄₀」)的顯示裝置。

根據第1A圖及第1B圖所展示的顯示器製品100之一些實施方案，基板10所展現的閃爍為小於4%、3.5%、3%、2.5%、2%、1.5%、1%、0.5%及前述位凖之間的所有閃爍臨界值，如用140 ppi LCD顯示器在與法線成0°的入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的。例如，基板10可展現的閃爍為3.5%、3.25%、3%、2.75%、2.5%、2.25%、2%、1.75%、1.5%、1.25%、1%、0.75%、0.5%及前述位凖之間的所有閃爍值，如在與法線成0°的入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的。

再次參考第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100，該製品亦可經組態以獲得最佳防眩效能，如低影像清晰度(distinctness of image，DOI)值所體現的。如本文所用，「DOI」等於100*(R _s- R _0.3°)/R _s，其中R _s係自指向本揭露之顯示器製品100之繞射表面區域30a上的入射光(在與法線成20°下)測量的鏡面反射率通量，且R _0.3°係自0.3°下的相同入射光根據鏡面反射率通量R _s測量的反射率通量。除非另外指出，否則本揭露中所報告的DOI值及測量結果係根據名稱為「Standard Test Method for Instrumental Measurement of Distinctness-of-Image (DOI) Gloss of Coated Surfaces using a Rhopoint IQ Gloss Haze & DOI Meter」 (Rhopoint Instruments Ltd.)的ASTM D5767-18獲得。根據第1A圖及第1B圖所展示的顯示器製品100之一些實施例，基板10所展現的DOI為小於90%、85%、80%、75%、70%、65%、60%、55%、50%、45%、40%及前述位凖之間的所有DOI臨界值，如在與法線成20°的入射角下測量的。例如，基板10可展現的DOI為87.5%、85%、82.5%、80%、77.5%、75%、72.5%、70%、67.5%、65%、62.5%、60%、57.5%、55%、52.5%、50%、47.5%、45%、42.5%、40%及前述位凖之間的所有DOI值，如在與法線成20°的入射角下測量的。

如本文所用，術語「透射霧度」及「霧度」係指根據名稱為「Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics」的ASTM D1003在約± 2.5°的角錐之外散射的透射光之百分比，ASTM D1003之內容以引用方式整體併入本文中。對於光學平滑表面，透射霧度通常接近於零。根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之實施方案，該等製品之特徵可在於小於20%的霧度。根據第1A圖及第1B圖所展示的顯示器製品100之實施方案，基板10亦可展現的透射率霧度為小於20%、15%、10%、5%及前述位凖之間的所有霧度臨界值，如在與法線成0°的入射角下測量的。作為一實例，基板10可展現的透射率霧度為17%、16%、15%、14%、13%、12%、11%、10%、9%、8%、7%、6%、5%、4%、3%、2%、1%及前述位凖之間的所有霧度值，如在與法線成0°的入射角下測量的。

根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之一些實施方案，基板10之繞射表面區域30a可達成鏡面反射率( Rs)及絕對鏡面反射率(% R)之降低。如本文所用，「鏡面反射率( Rs)」定義為在+/- 0.1°的錐角內來自基板10之第一表面(例如，主表面12)的總反射光，或定義為在此鏡面角度範圍內的光之尖峰強度。此外，Rhopoint IQ Meter報告，對於在20°入射角下照射具有1.567折射率且無背表面反射率的平板玻璃，以光澤度單位為單位的 Rs值正規化為最大值100。因此，已知玻璃具有4.91%的第一表面絕對鏡面反射率(% R)，Rhopoint IQ Meter所報告的以光澤度單位(gloss unit，GU)為單位的 Rs值可藉由乘以因子4.91/100轉換為絕對鏡面反射率(% R)。因此，顯示器製品100之實施方案經組態成使得該等實施方案與無繞射表面區域30a的基板之相同表面相比展現出鏡面反射率( Rs)或絕對鏡面反射率(% R)以因子2、因子4、因子5、或因子10或更多降低。在實施例中，包括繞射表面區域30a的基板10 (例如，具有約1.51折射率的玻璃組成物)可展現的第一表面絕對鏡面反射率(% R)為小於2%、小於1.5%、小於1%、小於0.8%、小於0.6%、小於0.5%、小於0.4%或甚至小於0.25%，如在與法線成20°的入射角下在介於450 nm與650 nm之間的波長處測量的。

現在參考第1C圖，顯示器製品100經描繪成具有與第1A圖及第1B圖所展示的顯示器製品100相同的特徵及屬性，其中相同編號的元件具有實質相同的功能及結構。此外，第1C圖所描繪的顯示器製品100採用安置於基板10之主表面12上的抗反射塗層60，以進一步改善顯示器製品100之防眩效果。在實施例中，如第1C圖所描繪具有抗反射塗層60的顯示器製品100特別有益於要求透射率及一定程度透射散射的最終用途應用(例如，有益於包括導致次表面反射的特徵的顯示裝置，該等特徵諸如觸控感測器層、薄膜電晶體層、氧化銦錫層及其他次表面特徵)。在實施例中，抗反射塗層60係根據經製備以達成採用抗反射塗層的製品之防眩、光學性質的多層抗反射塗層或膜結構來組態。作為一實例，抗反射塗層60包括複數個交替的低折射率層62及高折射率層64。在一些實施方案中，抗反射塗層60可具有總共三(3)至九(9)個層，例如，總共3個層、4個層、5個層、6個層、7個層、8個層或9個層。此外，低折射率層62中之每一個包含小於或等於約1.8及與基板10之折射率幾乎相同或大於基板10之折射率的折射率；且高折射率層64中之每一個包含大於1.8的折射率。在此組態中，顯示器製品100可展現的第一表面絕對鏡面反射率(% R)為小於0.5%、小於0.4%、小於0.3%、小於0.2%或甚至小於0.1%，如在與法線成0°至20°的入射角下測量的。此外，根據一些實施例，顯示器製品100可展現的第一表面絕對鏡面反射率(% R)為小於0.5%、小於0.4%、小於0.3%、小於0.2%或甚至小於0.1%，如在與法線成0°至20°的入射角下在介於450 nm與650 nm之間的一或多個波長處測量的。

藉由在第1C圖所展示的顯示器製品100中添加抗反射塗層60所提供的防眩效果應該在比例意義上近似相加。亦即，第1A圖及第1B圖所展示的顯示器製品100之繞射表面區域30a可以因子10降低基板10之主表面12之鏡面反射率，且添加抗反射塗層60可進一步以因子10降低鏡面反射率，從而導致第1C圖之顯示器製品100之鏡面反射率以因子約100降低。因此，根據一些實施例，據信，根據第1C圖組態的顯示器製品100可展現的第一表面絕對鏡面反射率(% R)為小於0.1%、小於0.08%、小於0.06%、小於0.05%、小於0.04%或甚至小於0.025%，如在與法線成0°至20°的入射角下在介於450 nm與650 nm之間的一或多個波長處測量的。

在一示範性實施例中，如第1C圖所展示，抗反射塗層60之低折射率層62直接安置於基板10之主表面12之繞射表面區域30a上。此外，根據第1C圖所展示實施例，低折射率層62安置為顯示器製品100之最頂層，且抗反射塗層60具有總共五(5)層，即，具有五(5)個低折射率及高折射率層：62/64/62/64/62的多層結構。用於低折射率層62之合適材料包括：SiO ₂、Al ₂O ₃、GeO ₂、SiO _x、AlO _xN _y、SiO _xN _y、SiAl _yO _xN _y、MgO及MgAl ₂O ₄。用於高折射率層64之合適材料包括：Al ₂O ₃、AlO _xN _y、SiO _xN _y、SiAl _yO _xN _y、AlN、SiN _x、Si ₃N ₄、Nb ₂O ₅、Ta ₂O ₅、HfO ₂、TiO ₂、ZrO ₂、Y ₂O ₃及類鑽碳。此外，低折射率層62及高折射率層64中之每一者之厚度之範圍可為自約1 nm至約250 nm，且抗反射塗層60之總厚度之範圍可為自約5 nm至3000 nm、5 nm至2500 nm、5 nm至2000 nm、自5 nm至1500 nm、自5 nm至1000 nm、自5 nm至750 nm、自5 nm至500 nm、自5 nm至450 nm、自5 nm至400 nm、自5 nm至350 nm、自5 nm至300 nm、自5 nm至275 nm、自5 nm至260 nm、自5 nm至250 nm、自100 nm至500 nm、自100 nm至400 nm、自100 nm至350 nm、自100 nm至300 nm、自100 nm至275 nm、自100 nm至250 nm、自200 nm至500 nm、自200 nm至400 nm、自200 nm至350 nm、自200 nm至300 nm、自200 nm至275 nm、自200 nm至250 nm、自250 nm至350 nm、自250 nm至340 nm及前述範圍內的所有厚度值。

根據第1C圖所描繪的顯示器製品100之一些實施例，抗反射塗層60可經組態有耐刮層。在一些實施例中，耐刮層可以係離基板10最遠、最中間或最低的高折射率層64。在一些實施方案中，耐刮層係抗反射塗層60中最厚的高折射率層64，且亦可包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者。耐刮層亦可具有自50 nm至2000 nm、自50 nm至1000 nm、自50 nm至500 nm、自50 nm至400 nm、自50 nm至300 nm、自50 nm至200 nm、50 nm至150 nm、75 nm至175 nm、100 nm至160 nm及前述範圍內的所有厚度值的實體厚度。

根據第1C圖所描繪的顯示器製品100之一實施方案，抗反射塗層60可經組態有如下表1A所列出的設計。在此實施方案中，抗反射塗層60具有260.5 nm的總厚度，且採用具有105.9 nm厚度及SiO _xN _y組成物的耐刮層。 表1A

層	材料	折射率(在550 nm下)	消光係數(在550 nm下)	厚度(nm)
空氣		1.000	0
1	SiO 2	1.461	0	85.9
2	SiO xN y	1.997	3.6 e-4	105.9
3	SiO 2	1.461	0	22.3
4	SiO xN y	1.997	3.6 e-4	21.4
5	SiO 2	1.461	0	25.00
基板	離子交換增強玻璃	1.510
總厚度				260.5

根據第1C圖所描繪的顯示器製品100之另一個實施方案，抗反射塗層60可經組態有如下表1B所列出的設計。在此實施方案中，抗反射塗層60具有338.4 nm的總厚度，且採用具有158.5 nm厚度及SiN _x組成物的耐刮層。 表1B

層	材料	折射率(在550 nm下)	消光係數(在550 nm下)	厚度(nm)
空氣		1.000	0
1	SiO 2	1.471	0	94.6
2	SiN x	2.028	0.00057	158.5
3	SiO 2	1.456	0	37.2
4	SiN x	2.041	0.00057	23.1
5	SiO 2	1.449	0	25.0
基板	離子交換增強玻璃	1.508
總厚度				338.4

根據第1C圖所描繪的顯示器製品100之又一個實施方案，抗反射塗層60可經組態有如下表1C所列出的設計。在此實施方案中，抗反射塗層60具有301.48 nm的總厚度，且採用具有135.0 nm厚度及SiN _x組成物的耐刮層。 表1C

層	材料	折射率(在550 nm下)	厚度(nm)
空氣		1
1	SiO 2	1.477	87.7
2	SiN x	2.041	135.0
3	SiO 2	1.477	38.6
4	SiN x	2.041	15.2
5	SiO 2	1.477	25.0
基板	離子交換增強玻璃	1.506
總厚度			301.48

根據第1C圖所描繪的顯示器製品100之又一個實施方案，抗反射塗層60可經組態有如下表1D所列出的設計。在此實施方案中，抗反射塗層60具有295.5 nm的總厚度，且採用具有128.0 nm厚度及SiN _x組成物的耐刮層。 表1D

層	材料	折射率(在550 nm下)	厚度(nm)
空氣		1
1	SiO 2	1.465	90.4
2	SiN x	2.043	128.0
3	SiO 2	1.465	37.8
4	SiN x	2.043	14.4
5	SiO 2	1.465	25.0
基板	離子交換增強玻璃	1.506
總厚度			295.5

現在參考第1D圖，顯示器製品100經描繪成具有與第1C圖所展示的顯示器製品100相同的特徵及屬性，其中相同編號的元件具有實質相同的功能、結構及性質(除非在以下部分中另外指出)。第1D圖所描繪的顯示器製品100採用抗反射塗層60，該抗反射塗層60與第1C圖中的製品100所採用的塗層60相同或實質相似，安置於基板10之主表面12上以進一步改善顯示器製品100之防眩效果。然而，第1D圖所描繪的顯示器製品100採用由基板10之主表面12界定的粗化表面區域30b，與第1C圖所展示的製品100所採用的繞射表面區域30a相反。因此，第1D圖所展示的顯示器製品100之抗反射塗層60安置於粗化表面區域30b上。

再次參考第1D圖，粗化表面區域30b包含複數個結構特徵20。在一些態樣中，粗化表面區域30b係具有隨機或半隨機形成的結構特徵20的表面，該等結構特徵20透過指向基板10之主表面12的各種蝕刻及/或噴砂製程形成，如熟習此項技術者所理解的。根據一些實施例，粗化表面區域30b之大部分結構特徵20具有側向蝕刻特徵尺寸(即，X-Y尺寸)，該等側向蝕刻特徵尺寸之範圍為自1 μm至125 μm、1 μm至100 μm、1 μm至75 μm、1 μm至50 μm、1 μm至40 μm、1 μm至30 μm、5 μm至125 μm、5 μm至100 μm、5 μm至75 μm、5 μm至60 μm、5 μm至50 μm、5 μm至40 μm、5 μm至30 μm、10 μm至60 μm、10 μm至100 μm及前述範圍內的側向尺寸。

在第1D圖所展示的顯示器製品100之實施例中，粗化表面區域30b具有自20 nm至2000 nm RMS變化的平均表面粗糙度( R _q )。根據另外的實施方案，粗化表面區域30b具有在以下RMS變化中的平均表面粗糙度( R _q )：自10 nm至2500 nm、10 nm至2000 nm、10 nm至1500 nm、20 nm至2500 nm、20 nm至2000 nm、20 nm至1500 nm、50 nm至2500 nm、50 nm至2000 nm、50 nm至1500 nm、50 nm至1000 nm、50 nm至500 nm、50 nm至250 nm、100 nm至2500 nm、100 nm至2000 nm、100 nm至1500 nm、100 nm至1000 nm、100 nm至500 nm、100 nm至250 nm及前述範圍之間的所有表面粗糙度值。

在第1D圖所展示的顯示器製品100之一些實施方案中，粗化表面區域30b可經描述成使得粗化表面區域30b之特徵結構20具有第一平均高度及第二平均高度。第一平均高度對應於粗化表面區域30b之尖峰之平均高度，且第二平均高度對應於尖峰之間的槽之深度。在此類組態中，粗化表面區域30b之第一平均高度與第二平均高度之間的差異之範圍可為自10 nm至500 nm、10 nm至250 nm、25 nm至500 nm、25 nm至250 nm、50 nm至500 nm、50 nm至250 nm、50 nm至150 nm、100 nm至200 nm、120 nm至200 nm及前述範圍之間的所有高度差。

再次參考第1D圖所展示的顯示器製品100，在此組態中，顯示器製品100可展現的第一表面平均鏡面(或平均適光鏡面)反射率(% R)為小於1%、0.9%、0.8%、0.7%、0.6%、0.5%、小於0.4%、小於0.3%、小於0.2%或甚至小於0.1%，如在與法線成約5°至20°的任何入射角下測量的。此外，根據一些實施例，顯示器製品100可展現的第一表面平均鏡面(或平均適光鏡面)反射率(% R)為小於1%、0.9%、0.8%、0.7%、0.6%、0.5%、小於0.4%、小於0.3%、小於0.2%或甚至小於0.1%，如在與法線成約5°至20°的入射角下在自450 nm至650 nm的波長處測量的。

根據一些實施例，第1D圖所展示的顯示器製品100亦可展現出小於5%的閃爍，如在與法線成0°的入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的。在一些實施方案中，第1D圖中以示範性形式展示的顯示器製品100可展現的閃爍位凖為小於5%、4.5%、4%、3.5%、3%、2.5%、2%、1.5%、1%或0.5%，如在與法線成0°的入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的。在一些態樣中，第1D圖之顯示器製品100所展現的閃爍位凖為自5%至0.1%、自5%至0.5%、自5%至1%及前述範圍內的所有閃爍位凖。

再次參考第1D圖之顯示器製品100，根據一些實施例，製品可展現出小於40%的透射率霧度值。在一些實施方案中，第1D圖中以示範性形式展示的顯示器製品100可展現的透射率霧度位凖為小於40%、35%、30%、25%、20%、15%、10%或5%。在一些實施例中，第1D圖之顯示器製品100可展現的透射率霧度位凖為自50%至1%、50%至5%、40%至1%、40%至5%、30%至1%、30%至5%、20%至1%、20%至5%及前述範圍內的所有透射率霧度值。

第1D圖所展示的顯示器製品100亦可展現出80%或更小的影像清晰度(distinctness of image，DOI)位凖，如在與法線成20°的入射角下測量的。在一些實施方案中，第1D圖中以示範性形式展示的顯示器製品100可展現的DOI位凖為小於99%、95%、90%、85%、80%、75%、70%、65%、60%或55%，如在與法線成20°的入射角下測量的。在一些態樣中，第1D圖之顯示器製品100所展現的DOI位凖為自99%至40%、自99%至50%、自95%至40%、自95%至50%、自90%至40%、自90%至50%、自85%至40%、自85%至50%、自80%至40%、及自80%至50%以及前述範圍內的所有DOI位凖。

第1D圖所展示的顯示器製品100之特徵亦可在於各種色彩特性。在一些實施例中，此等顯示器製品100所展現的周圍對比率為至多60、至多50或至多40，如以1000 lux測量的。在一些實施例中，此等顯示器製品100所展現的周圍對比率為至多15、至多12.5、至多10、至多7.5、至多5或至多2.5，如以100入射lux測量的。第1D圖所描繪的此等顯示器製品100在100 lux直接對比率下可展現的色域位凖為至少15、20、25、30、35、40、45、50、55、60或甚至更高位凖。在一些實施例中，此等顯示器製品100在1000 lux周圍對比率下可展現的色域位凖為至少40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90或甚至更高位凖。

根據一些實施方案，第1D圖所展示的顯示器製品100可展現出高度的色彩中性。在一些態樣中，顯示器製品100在與法線成6°及20°的每個入射角下可展現出小於0.5、0.25、0.1或0.05的第一表面反射色彩(√(a* ²+b* ²))。在一些實施例中，顯示器製品100在與法線成0°至60°的所有入射角下可展現出小於5、4、3、2或1的第一表面反射色彩(√(a* ²+b* ²))。根據一些實施方案，顯示器製品100在使用2°接受角的0°入射下可展現出小於2、1.5、1、0.9、0.8、0.7、0.6或0.5的二表面(即，穿過基板10之兩個主表面12、14及安置於表面12、14中之一者上的一個抗反射塗層60)透射色彩(√(a* ²+b* ²))。

參考第1C圖及第1D圖所描繪的顯示器製品100，每個顯示器製品可展現出8 GPa或更大的最大硬度，如藉由玻氏壓頭硬度試驗在抗反射塗層60之空氣側表面61上沿著50 nm或更大的壓入深度測量的。在一些實施方案中，顯示器製品100可展現的最大硬度位凖8 GPa、9 GPa、10 GPa、11 GPa、12 GPa、13 GPa、14 GPa、15 GPa、16 GPa、17 GPa、18 GPa、19 GPa、20 GPa或更高，如藉由玻氏壓頭硬度試驗沿著50 nm或更大、或100 nm或更大的壓入深度測量的。

現在參考第1E圖，顯示器製品100經描繪成具有與第1C圖及第1D圖所展示的顯示器製品100相同的屬性，其中相同編號的元件具有實質相同的功能、結構及性質(除非在以下部分中另外指出)。第1E圖所描繪的顯示器製品100採用抗反射塗層60，該抗反射塗層60與第1C圖及第1D圖中的製品100所採用的塗層60相同或實質相似，安置於基板10之主表面12上以進一步改善顯示器製品100之防眩效果。此外，第1E圖所描繪的顯示器製品100採用由基板10之主表面12界定的紋理化表面區域31。因此，第1D圖所展示的顯示器製品100之抗反射塗層60安置於紋理化表面區域31上。更具體而言，紋理化表面區域31包括繞射表面區域30a (參見第1A圖至第1C圖)、粗化表面區域30b (參見第1D圖)及本揭露之顯示器製品100中所採用的基板10之其他紋理化或粗化主表面。

在第1E圖所展示的顯示器製品100之實施例中，紋理化表面區域31具有自20 nm至2000 nm 的平均紋理高度( R _text )。根據另外的實施方案，紋理化表面區域30b具有在以下範圍內的平均紋理高度( R _text )：自10 nm至2500 nm、10 nm至2000 nm、10 nm至1500 nm、20 nm至2500 nm、20 nm至2000 nm、20 nm至1500 nm、50 nm至2500 nm、50 nm至2000 nm、50 nm至1500 nm、50 nm至1000 nm、50 nm至500 nm、50 nm至250 nm、100 nm至2500 nm、100 nm至2000 nm、100 nm至1500 nm、100 nm至1000 nm、100 nm至500 nm、100 nm至250 nm及前述範圍之間的所有紋理高度值。此外，對於包含粗化表面區域30b的紋理化表面區域31 (例如，如透過蝕刻及/或噴砂製程產生的)， R _text 可定義為粗化表面區域30b之結構特徵20之平均表面粗糙度( R _q )，且以均方根(root-mean-square，RMS)奈米為單位報告。對於如本揭露所描述之包含繞射表面區域30a的紋理化表面區域31， R _text 定義為與繞射表面區域相關聯的結構特徵20 (例如，柱、孔等)之兩個高度或深度之間的平均高度差。

再次參考第1A圖至第1E圖，顯示器製品100之基板10可經組態有多組分玻璃組成物，該多組分玻璃組成物具有約40 mol ％至80 mol ％二氧化矽及平衡的一或多種其他成分，例如，氧化鋁、氧化鈣、氧化鈉、氧化硼等。在一些實施方案中，基板10之整體組成物係選自由以下組成之群：鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃及磷矽酸鹽玻璃。在其他實施方案中，基板10之整體組成物係選自由以下組成之群：鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、磷矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、鹼性鋁矽酸鹽玻璃及鹼性鋁硼矽酸鹽玻璃。在另外的實施方案中，基板10係玻璃為基的基板，包括但不限於包含約90重量%或更大的玻璃組分及陶瓷組分的玻璃陶瓷材料。在顯示器製品100之其他實施方案中，基板10可以係聚合物材料，具有適合於繞射表面區域30a之開發及保持的耐久性及機械性質。

在第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之一個實施例中，基板10具有包含鹼性鋁矽酸鹽玻璃的整體組成物，該鹼性鋁矽酸鹽玻璃包含氧化鋁、至少一種鹼金屬及在一些實施例中大於50 mol %的SiO ₂、在其他實施例中至少58 mol %的SiO ₂、且在再一些實施例中至少60 mol %的SiO ₂，其中比率(Al ₂O ₃(mol%) + B ₂O ₃(mol%)) / ∑鹼金屬改質劑(mol%) ＞ 1，其中該等改質劑係鹼金屬氧化物。在特定實施例中，此玻璃包含以下、本質上由以下組成或由以下組成：約58 mol %至約72 mol %的SiO ₂；約9 mol %至約17 mol %的Al ₂O ₃；約2 mol %至約12 mol %的B ₂O ₃；約8 mol %至約16 mol %的Na ₂O；及0 mol %至約4 mol %的K ₂O，其中比率(Al ₂O ₃(mol%) + B ₂O ₃(mol%)) / ∑鹼金屬改質劑(mol%) ＞ 1，其中該等改質劑係鹼金屬氧化物。

在顯示器製品100之另一個實施例中，如第1A圖至第1E圖所展示，基板10具有包含鹼性鋁矽酸鹽玻璃的整體組成物，該鹼性鋁矽酸鹽玻璃包含以下、本質上由以下組成或由以下組成：約61 mol %至約75 mol %的SiO ₂；約7 mol %至約15 mol %的Al ₂O ₃；0 mol %至約12 mol %的B ₂O ₃；約9 mol %至約21 mol %的Na ₂O；0 mol %至約4 mol %的K ₂O；0 mol %至約7 mol %的MgO；及0 mol %至約3 mol %的CaO。

在又另一個實施例中，基板10具有包含鹼性鋁矽酸鹽玻璃的整體組成物，該鹼性鋁矽酸鹽玻璃包含以下、本質上由以下組成或由以下組成：約60 mol %至約70 mol %的SiO ₂；約6 mol %至約14 mol %的Al ₂O ₃；0 mol %至約15 mol %的B ₂O ₃；0 mol %至約15 mol %的Li ₂O；0 mol %至約20 mol %的Na ₂O；0 mol %至約10 mol %的K ₂O；0 mol %至約8 mol %的MgO；0 mol %至約10 mol %的CaO；0 mol %至約5 mol %的ZrO ₂；0 mol %至約1 mol %的SnO ₂；0 mol %至約1 mol %的CeO ₂；小於約50 ppm As ₂O ₃；及小於約50 ppm Sb ₂O ₃；其中12 mol %≦Li ₂O+Na ₂O+K ₂O≦20 mol %且0 mol %≦MgO+Ca≦10 mol %。

在再另一個實施例中，基板10具有包含鹼性鋁矽酸鹽玻璃的整體組成物，該鹼性鋁矽酸鹽玻璃包含以下、本質上由以下組成或由以下組成：約64 mol %至約68 mol %的SiO ₂；約12 mol %至約16 mol %的Na ₂O；約8 mol %至約12 mol %的Al ₂O ₃；0 mol %至約3 mol %的B ₂O ₃；2 mol %至約5 mol %的K ₂O；4 mol %至約6 mol %的MgO；及0 mol %至約5 mol %的CaO，其中：66 mol %≦SiO ₂+B ₂O ₃+CaO≦69 mol %；Na ₂O+K ₂O+B ₂O ₃+MgO+CaO+SrO＞10 mol %；5 mol %≦MgO+CaO+SrO≦8 mol %；(Na ₂O+B ₂O ₃)—Al ₂O ₃≦2 mol %；2 mol %≦Na ₂O—Al ₂O ₃≦6 mol %；及4 mol %≦(Na ₂O+K ₂O)—Al ₂O ₃≦10 mol %。

在其他實施例中，基板10具有包含SiO ₂、Al ₂O ₃、P ₂O ₅及至少一種鹼金屬氧化物(R ₂O)的整體組成物，其中0.75＞[(P ₂O ₅(mol %)+R ₂O (mol %))/M ₂O ₃(mol %)]≦1.2，其中M ₂O ₃═Al ₂O ₃+B ₂O ₃。在一些實施例中，[(P ₂O ₅(mol %)+R ₂O (mol %))/M ₂O ₃(mol %)]=1，且在一些實施例中，玻璃不包含B ₂O ₃，且M ₂O _3═Al ₂O ₃。在一些實施例中，基板10包含：約40 mol %至約70 mol %的SiO ₂；0 mol %至約28 mol %的B ₂O ₃；約0 mol %至約28 mol %的Al ₂O ₃；約1 mol %至約14 mol %的P ₂O ₅；及約12 mol %至約16 mol %的R ₂O。在一些實施例中，玻璃基板包含：約40 mol %至約64 mol %的SiO ₂；0 mol %至約8 mol %的B ₂O ₃；約16 mol %至約28 mol %的Al ₂O ₃；約2 mol %至約12 mol %的P ₂O ₅；及約12 mol %至約16 mol %的R ₂O。基板10可進一步包含至少一種鹼土金屬氧化物，諸如但不限於MgO或CaO。

在一些實施例中，基板10具有實質上不含鋰的整體組成物；即，玻璃包含小於1 mol %的Li ₂O、且在其他實施例中小於0.1 mol %的Li ₂O、且在其他實施例中0.01 mol % Li ₂O、且在再一些實施例中0 mol %的Li ₂O。在一些實施例中，此類玻璃不含砷、銻及鋇中之至少一者；即，玻璃包含小於1 mol %的As ₂O ₃、Sb ₂O ₃及/或BaO、且在其他實施例中小於0.1 mol %的As ₂O ₃、Sb ₂O ₃及/或BaO、且在再一些實施例中0 mol %的As ₂O ₃、Sb ₂O ₃及/或BaO。

在第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之其他實施例中，基板10具有包含玻璃組成物、本質上由玻璃組成物組成或由玻璃組成物組成的整體組成物，該玻璃組成物諸如Corning® Eagle XG® glass、Corning® Gorilla® glass、Corning® Gorilla® Glass 2、Corning® Gorilla® Glass 3、Corning® Gorilla® Glass 4或Corning® Gorilla® Glass 5。

根據其他實施例，第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之基板10可具有藉由本領域已知的化學手段或熱手段增強的離子可交換玻璃組成物。在一個實施例中，基板10藉由離子交換化學增強。在此過程中，基板10之主表面12及/或主表面14處或附近的金屬離子被交換成具有與玻璃基板中的金屬離子相同的價的較大金屬離子。交換通常藉由將基板10與離子交換介質諸如例如含有較大金屬離子的熔鹽浴接觸來進行。金屬離子通常係單價金屬離子，諸如例如鹼金屬離子。在一個非限制性實例中，藉由離子交換化學增強含有鈉離子的基板10係藉由將基板10浸入包含諸如硝酸鉀(KNO ₃)或類似物的熔鉀鹽的離子交換浴中來完成。在一個特定實施例中，基板10之表面層中的離子以及較大離子係單價鹼金屬陽離子，諸如Li ⁺(當存在於玻璃中時)、Na ⁺、K ⁺、Rb ⁺及Cs ⁺。替代地，基板10之表面層中的單價陽離子可用鹼金屬陽離子之外的單價陽離子諸如Ag ⁺或類似者替換。

在第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之此等實施例中，在離子交換過程中用較大金屬離子替換小金屬離子在基板10中創建自主表面12延伸至一定深度52 (稱為「層深度」)的處於壓縮應力下的壓縮應力區域50。亦應理解，可在玻璃基板中形成本質上與壓縮應力區域50相當的自主表面14延伸至一定深度(未在第1A圖至第1E圖中展示出)的壓縮應力區域。更特定而言，玻璃基板之主表面14處的此壓縮應力被玻璃基板內部內的張拉應力(亦稱為「中心張力」)平衡。在一些實施例中，當藉由離子交換增強時，本文所描述之基板10之主表面12具有至少350 MPa的壓縮應力，且處於壓縮應力下的區域延伸至在主表面12下至少15 μm的深度52，即，層深度。

離子交換過程通常藉由將基板10浸入含有待與玻璃中的較小離子交換的較大離子的熔鹽浴中來進行。熟習此項技術者將瞭解，離子交換過程之參數通常由玻璃之組成物及所要層深度及作為增強操作之結果的玻璃之壓縮應力判定，該等參數包括但不限於浴組成物及溫度、浸入時間、玻璃在鹽浴(或多個浴)中的浸入次數、多種鹽浴之使用、諸如退火、洗滌的附加步驟及類似者。舉例而言，含鹼金屬玻璃之離子交換可藉由浸入至少一種含有鹽的熔浴中來達成，該鹽諸如但不限於硝酸鹽、硫酸鹽及較大鹼金屬離子之氯化物。熔鹽浴之溫度通常在自約380℃至多達約450℃之範圍內，而浸入時間之範圍為自約15分鐘至多達約16小時。然而，亦可使用不同於上述彼等溫度及浸入時間的溫度及浸入時間。此類離子交換處理與具有鹼性鋁矽酸鹽玻璃組成物的基板10一起採用時會產生壓縮應力區域50，該壓縮應力區域50具有範圍自約10 μm至多達至少50 μm的深度52 (層深度)與範圍自約200 MPa至多達約800 MPa的壓縮應力及小於約100 MPa的中心張力。

根據一些實施例，由於可採用來創建第1A圖至第1E圖所展示的顯示器製品100之繞射表面區域30a、粗化表面區域30b及紋理化表面區域31的蝕刻製程可自基板10去除原本將在離子交換過程期間用較大鹼金屬離子替換的鹼金屬離子，因此優先在繞射表面區域30a、粗化表面區域30b及紋理化表面區域31之形成及開發之後在顯示器製品100中開發壓縮應力區域50。在其他實施例中，可在繞射表面區域30a、粗化表面區域30b及紋理化表面區域31之開發之前在基板10中開發達深度52的壓縮應力區域50，該深度52足以解決區域50中與跟形成此等區域相關聯的各種處理相關聯的層深度之一些損失，如以下所概括。替代地，繞射表面區域30a、粗化表面區域30b及紋理化表面區域31可藉由添加或塗層製程而非基板蝕刻製程來創建，在此種情況下，可需要在此添加或塗層製程之前開發壓縮應力區域50。

根據第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之另一個實施方案，該製品可進一步包括安置於繞射表面區域30a、粗化表面區域30b及紋理化表面區域31之上的易清潔(easy-to-clean，ETC)塗層(未展示出)。在大多數實施例中，ETC塗層沉積於區域30a、30b及31之上，使得ETC塗層之表面形態通常反映區域30a、30b及31之下層形態。在一個實施例中，顯示器製品100進一步包括安置於區域30a、30b及31之至少一部分上的耐汙氟基ETC塗層。在實施例中，ETC塗層包含具有氟終止基團的至少一種兩疏物質以提供具有兩疏性(即，疏水性及疏油性，對油及水缺乏親和力)的區域30a、30b及31，從而將水及/或油對表面的潤濕最小化。ETC塗層之氟終止基團之極性小於具有-OH終止基團的表面，且因此可將顆粒與液體之間的氫(即，凡得瓦)鍵結最小化。對於與指紋相關聯的指紋油及碎屑，鍵結及黏合被最小化。因此，自人手指至ETC塗層的指紋油及碎屑質量輸送被最小化。在一個實施例中，ETC塗層藉由以下方式來形成：用氟基部份，諸如例如含氟單體(例如，氟矽烷)，交換在顯示器製品100之繞射表面區域30a上的終止OH基團中發現的氫以形成具有末端氟化基團的玻璃。

在另一個實施例中，第1A圖至第1E圖所描繪的顯示器製品100之ETC塗層包含氟終止分子鏈之自組裝單層。在又另一個實施例中，ETC塗層包含薄氟聚合物塗層，而在又另一個實施例中，ETC塗層包含已經處理以具有附著於煤煙顆粒的氟碳側基的二氧化矽煤煙顆粒。此類ETC塗層可藉由浸漬、汽化塗層、噴塗、用輥施加或本領域已知的其他合適方法施加於顯示器製品100之繞射表面區域30a。已施加ETC塗層後，可在範圍自約25℃至多達約150℃的溫度下且在另一個實施例中在範圍自約40℃至多達約100℃的溫度下「固化」ETC塗層。固化時間之範圍可為自約1小時至多達約4小時，且固化可在含有40%至95%水分的氛圍中進行。固化後，可在使用之前用溶劑沖洗具有ETC塗層的顯示器製品100以去除任何未結合塗層。

再次參考第1A圖至第1C圖所描繪的顯示器製品100，實施例經組態成其中繞射表面區域30a包括具有第一部分結構特徵22a、22a’及第二部分結構特徵22b、22b’的複數個結構特徵20。此外，第一部分結構特徵22a (例如，柱)、22a’ (例如，孔)可由小於125 μm的節距42a界定，且第二部分結構特徵22b、22b’可由與節距42a實質上相同或不同的節距42b (參見第1A圖)界定。根據一些實施方案，第二部分結構特徵22b、22b’ (例如，韌帶、台面)可由小於125 μm的節距42b界定，且節距42a與節距42b實質上相同或不同。此外，如本文所用，第一部分結構特徵22a、22a’之節距42a及第二部分結構特徵22b、22b’之節距42b係此等特徵之節距值，如熟習此項技術者通常理解的。因此，第一部分結構特徵22a、22a’之節距42a及/或第二部分結構特徵22b、22b’之節距42b可小於125 μm、110 μm、100 μm、90 μm、80 μm、70 μm、60 μm、50 μm、40 μm、30 μm、20 μm及節距值之此等上臨界之間的所有節距值。在實施例中，節距42a、42b可具有下臨界，例如，節距值可大於約2微米、大於5微米或大於10微米。

再次參考第1A圖至第1C圖所描繪的顯示器製品100，實施例經組態成使得第一部分結構特徵22a、22a’ (例如，柱或孔)或第二部分結構特徵22b、22b’ (例如，韌帶或台面)之填充分數為自約30%至70%，而另一部分(即，22a、22a’或22b、22b’)之填充分數為100%減去第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’之填充分數。因此，繞射表面區域30a之第一部分結構特徵22a、22a’或第二部分結構特徵22b、22b’可以自約30%至70%、自約35%至65%、自約40%至60%或自約40%至55%的填充分數組態。例如，第一部分22a、22a’或第二部分22b、22b’可經組態於繞射表面區域30a內，使得它們具有30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%及前述值之間的所有填充分數位凖的填充分數。

仍然參考第1A圖至第1C圖所描繪的顯示器製品100，繞射表面區域30a經組配於基板10之主表面12內，使得複數個結構特徵20中之每一者(例如，第一部分22a、22a’及第二部分22b、22b’)具有小於100 μm的直徑32a、32b。此外，如本文所用，第一部分結構特徵22a、22a’之直徑32a及第二部分結構特徵22b、22b’之直徑32b代表此等特徵在其全寬半高值(full width height maximum，FWHM)處的有效直徑或最長寬度尺寸，如熟習此項技術者通常理解的。因此，第一部分結構特徵22a、22a’之節距32a及/或第二部分結構特徵22b、22b’之直徑32b可小於100 μm、90 μm、80 μm、70 μm、60 μm、50 μm、40 μm、30 μm、20 μm、10 μm及小於前述直徑的所有直徑值。

根據第1A圖至第1C圖所描繪的顯示器製品100之一些實施例，繞射表面區域30a經組態成使得結構特徵20中之每一者具有多於10的縱橫比。除非另外指出，否則結構特徵20中之每一者(例如，第一部分結構特徵22a、22a’及第二部分結構特徵22b、22b’)之縱橫比由平均直徑32a、32b除以各別平均高度24a、24b給出。在一些實施方案中，繞射表面區域30a之結構特徵20之縱橫比多於10、多於20、多於50或多於100。例如，具有20 μm平均直徑32a及0.2 μm平均高度24a的第一部分結構特徵22a、22a’對應於100的縱橫比。更一般而言，特徵在於此等縱橫比的繞射表面區域30a係實質平坦或平面的，如至少在沒有任何放大輔助之情況下在周圍照明下所觀察的。

根據第1A圖至第1C圖所展示的顯示器製品之一些實施方案，繞射表面區域30a之結構特徵20可根據週期47組態以達成防眩性質。在顯示器製品100之一些實施方案中，繞射表面區域30a之結構特徵20經組態有週期47，該週期47之範圍為自1 μm至200 μm、自5 μm至200 μm、自5 μm至150 μm、自5 μm至100 μm、自5 μm至50 μm、自5 μm至30 μm、自20 μm至150 μm、自20 μm至100 μm、自10 μm至30 μm、自10 μm至20 μm及前述範圍之間的所有週期值。例如，結構特徵20可經組態有約100 μm (例如，自約70 μm至200 μm)量級的相對大的週期47以用於顯示器製品100之最終用途應用，諸如在應用具有特定DOI目標之情況下，該顯示器製品100因將接近0.3°的散射光分量最大化而受益。此類DOI目標可要求與鏡面反射方向成0.3°或接近0.3°的散射光分量，這可藉由相對大的結構特徵20來增強。對於DOI要求不那麼嚴格的顯示器製品100之最終用途應用，例如具有以下週期47的較小結構特徵20可能係合需的，該週期47之範圍為自約5 μm至30 μm，且根據一些實施方案，該週期47係半隨機化的以將色彩及/或莫耳紋假影最小化。X-Y維度中特徵隨機化之位凖及類型對於達成低PPD同時亦將其他顯示假影諸如莫耳紋或色帶最小化可能非常重要。換言之，傳統的完美有序的類光柵結構對於本揭露之製品而言不是較佳的。範圍為自約5 μm至30 μm的結構特徵20可影響DOI，且可經設計以達成例如低於90或低於80的DOI值，因此沒有必要具有較大結構特徵20來對DOI產生一些影響。週期47處的結構特徵20之隨機化之特徵可在於最近鄰距離在分佈範圍內的變化，該分佈範圍可被限制為最小距離或平均距離的1.2倍、1.3倍、1.4倍或1.5倍。此等較小週期47仍可有效地抑制鏡面反射，但據信更需要減少顯示器護罩應用中的假影，諸如閃爍(即，如藉由PPD ₁₄₀測量的)。在一些實施例中，週期47之範圍可經組態成自5 μm至30 μm、自10 μm至30 μm及自10 μm至20 μm，這可將DOI降低至小於90或甚至小於80，同時仍保持合需的低閃爍位凖。

現在參考第2圖，提供了繞射防眩結構之橫剖面示意圖。如第2圖所示意性展示的，繞射光學模型可說明繞射表面區域30a之原理。光學建模計算係使用商品軟體套件Gsolver©進行的。Gsolver©套件採用嚴謹耦合波分析來尋找馬克士威方程式(Maxwell’s equation)之解，該方程式可控制繞射光柵之光學效能。在開發繞射表面區域30a之上下文中，Gsolver©軟體可應用於如第2圖所展示的線性的矩形繞射防眩結構。注意，第2圖所展示的繞射防眩結構之矩形本質偏離繞射表面區域30a之結構特徵20，因為結構特徵20可包含柱、孔、台面、平台、多邊形及其他離散的非矩形形狀。然而，在第2圖所展示的示意圖上進行的計算演示了趨勢並提供了在與本揭露之原理一致的繞射表面區域30a之結構特徵20之界定中有用的資料。值得注意的是，如第2圖所展示，所建模之繞射防眩結構具有20 μm週期，且整合於在550 nm處具有1.518折射率的玻璃基板之表面內。此外，如第2圖所展示，550 nm波長處的入射光以20度入射角指向繞射防眩結構。為獲得最佳防眩性質，通常需要抑制零階反射光(即，鏡面光)。

現在參考第3A圖及第3B圖，分別提供了反射及透射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩結構之結構深度之函數的繪圖。此等繪圖係自Gsolver©軟體開發的。如第3A圖所展示，繞射防眩結構具有20 μm的週期，且建模了範圍自0 μm至0.5 μm的結構深度。此外，如第3A圖所展示，顯示了零階至第五階(即，m = 0至5)的繪圖。值得注意的是，零階曲線係鏡面反射率之幅度，且如圖所顯示在0.14 μm至0.15 μm結構深度處被抑制成接近於0%。另外，與在對應於約¼空氣中光波長的約0.12 μm至0.17 μm結構深度範圍內的平板玻璃相比，鏡面反射率可以因子10被抑制。在¾波長結構深度處觀察到鏡面反射率之第二個最小值。如第3B圖所展示，提供了與第2圖及第3A圖所展示的相同的結構之透射繞射階之幅度。對於顯示器應用，可需要將零階，即鏡面透射率，最大化。在約0.15 μm結構深度處，鏡面透射率比平板玻璃透射率大78%，這亦是最小化鏡面反射率的較佳深度。對於較佳實施例，總透射率(考慮所有角度)保持接近於平板玻璃值，且透射中的大部分散射光在鏡面方向之10度或5度內。

現在參考第4A圖至第4C圖，提供了分別在15%、30%及70%填充分數下反射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩結構之結構深度之函數的繪圖。值得注意的是，具有此等15%、30%及70%填充分數的繞射結構不允許零階(鏡面)反射率降低至零。這表明對於諸如此類的簡單的雙模式高度、單一材料結構之較佳填充分數接近於50%、或在35%至65%之範圍內，如第2圖所建模及描繪的。

現在參考第5圖，提供了在不同入射光波長下反射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩表面之結構深度之函數的繪圖。特定而言，此圖說明瞭入射光波長特別是在零階處對鏡面反射抑制的影響。儘管最佳結構深度隨波長變化，如第5圖所展示，但接近第一個¼波長最小值(箭頭處)的單個結構深度可成功地達成將自450 nm至650 nm的所有可見光波長之鏡面反射率降低10倍。這表明使用如第2圖所建模的具有雙模式表面高度分佈的基本繞射防眩結構在可見光範圍內對鏡面反射率進行寬頻抑制係可行的。

再次參考第2圖至第5圖，此等圖總體為將顯示器製品100組態成在將鏡面透射率最大化的同時將鏡面反射率最小化提供指導。此外，此等圖說明瞭繞射防眩結構(例如，用作繞射表面區域30a之一般基礎)之深度如何影響鏡面反射率。如先前所指出，第2圖之所建模的線性繞射防眩結構與第1A圖至第1C圖所展示的顯示器製品100之繞射表面區域30a不同，因為後者含有安置成有序或半有序陣列的複數個結構特徵20，諸如柱、孔、多邊形及其他離散特徵。然而，鑒於第2圖至第5圖所展示的基本繞射結構之建模，繞射表面區域30a之結構特徵20之高度或深度較佳地保持於自50 nm至250 nm、自75 nm至225 nm、自100 nm至200 nm、自120 nm至190 nm或自140 nm至190 nm。

更一般而言，一旦已定義表面區域30a之預期結構，即可藉由許多製程來製造繞射表面區域30a之二維陣列結構特徵20，該等製程諸如光學微影(光罩)、噴墨印刷、雷射圖案化及/或網版印刷。製程之選擇視結構特徵20之解析度(例如，就直徑及/或節距而言)及給定製製程之技術能力而定。在一些實施例中，一旦已定義表面區域30a之結構參數(例如，柱或孔、平均高度、節距、直徑、週期等)，即可將設計轉換為電腦輔助設計(computer-aided design，CAD)文件且然後將該CAD文件與前述製程中之任一種一起使用以將該設計轉移至基板10以創建『專設』繞射表面區域30a。

現在參考第6圖，提供了製造顯示器製品(即，第1A圖至第1C圖所展示及描述的顯示器製品100)之方法200之示意流程圖。方法200包括：用遮罩遮蔽包含厚度13及主表面12的基板10之步驟202；在基板10之主表面12內或該主表面12上形成繞射表面區域30a之步驟204；及自基板10去除遮罩之步驟206。方法200之最終結果係顯示器製品100，例如如第1A圖及第1B圖所描繪。在第6圖所展示的方法200之其他實施例中，不採用涉及遮罩的步驟202及206，而是進行步驟204以在基板10之主表面12內或該主表面12上形成粗化表面區域30b。方法200之此實施例之最終結果係例如如第1D圖所描繪的顯示器製品100。

在一些實施例中，第6圖所展示的方法200進一步包括：在繞射表面區域30a或粗化表面區域30b之上形成防眩塗層60以界定顯示器製品100 (參見第1C圖及第1D圖)之步驟208。在前一實施例中，繞射表面區域30a包含複數個結構特徵20，該複數個結構特徵20包含呈多模式分佈的複數個不同高度。此外，多模式分佈進一步包含在第一平均高度24a處的第一部分結構特徵22a、22a’及在第二平均高度24b處的第二部分結構特徵22b、22b’。另外，根據方法200製造的基板10展現出如在與法線成0°入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的小於4%的閃爍、在與法線成20°入射角下小於80%的DOI、及在與法線成0°入射角下小於20%的透射率霧度。

根據第6圖所描繪的製造顯示器製品100 (參見第1A圖至第1C圖及先前之描述)之方法200之一些實施方案，遮蔽基板10之步驟202可包括網版印刷遮蔽、噴墨印刷遮蔽及光阻劑遮蔽中之一或多者。在一些實施例中，形成繞射表面區域30a之步驟204包括經由遮罩蝕刻基板10之主表面12以形成繞射表面區域30a，其中每個結構特徵係在自50 nm至250 nm深度處的孔。步驟204例如可藉由利用HF/HNO ₃蝕刻劑蝕刻包含玻璃組成物的基板10來進行。在實施例中，步驟204所採用的濕蝕刻溶液可由氫氟酸(HF，49 w/w%)及硝酸(HNO ₃，69 w/w%)組合與0.1 v/v%至5 v/v%的HF及0.1 v/v%至5 v/v%的HNO ₃組成。用於達成100 nm至250 nm蝕刻深度的典型濃度係0.1 v/v%的HF/1 v/v%的HNO3至0.5 v/v%的HF/1 v/v%的HNO3溶液。例如，步驟204中的蝕刻可使用浸漬或噴塗蝕刻製程自室溫至約45℃進行。在其他實施例中，形成繞射表面區域30a之步驟204可包括經由遮罩(例如，藉由濺鍍、蒸發或化學氣相沉積)在基板10之主表面12上沉積膜以形成繞射表面區域30a，其中每個結構特徵係在自50 nm至250 nm深度處的孔。繞射表面區域30a亦可藉由遮蔽加上『乾蝕刻』、電漿為基的蝕刻、反應離子蝕刻或其他真空為基的蝕刻方法來形成。在一些實施例中，此種膜可經由遮罩與液相二氧化矽層或其他氧化物層一起沉積，接著進行遮罩去除及剝離。

本文所揭示之製品100 (例如，如第1C圖至第1E圖所展示)可併入裝置製品中，例如，具有顯示器(或顯示裝置製品)的裝置製品(例如，消費者電子產品，包括行動電話、平板電腦、電腦、導航系統、穿戴式裝置(例如，手錶)及類似者)、擴增實境顯示器、抬頭顯示器、玻璃為基的顯示器、建築裝置製品、運輸裝置製品(例如，汽車、列車、飛機、船舶等)、電氣裝置製品或受益於一定透明度、耐刮性、耐磨性或它們的組合的任何裝置製品。併入本文所揭示之製品中之任一種的示範性裝置製品(例如，與第1C圖至第1E圖所描繪的製品100一致)展示於第18A圖及第18B圖中。具體而言，第18A圖及第18B圖展示消費者電子裝置1800，該消費者電子裝置1800包括：外殼1802，該外殼1802具有前表面1804、背表面1806及側表面1808；電子組件(未展示出)，該等電子組件至少部分地位於外殼內部或完全位於外殼內且至少包括控制器、記憶體及位於外殼前表面處或與之相鄰的顯示器1810；及護罩基板1812，該護罩基板1812位於外殼前表面處或之上使得它位於顯示器之上。在一些實施例中，護罩基板1812可包括本文所揭示之製品中之任一種。在一些實施例中，外殼之一部分或護罩玻璃中之至少一者包含本文所揭示之製品。 實例

以下實例描述本揭露所提供的各種特徵及優點，且決不意欲限制本發明及所附申請專利範圍。

實例1

總體參考第7A圖至第7D圖，使用光罩/光學微影製程來開發此等影像所展示的繞射表面區域結構。在此情況下，對光敏聚合物(即，光阻劑)進行曝光及顯影，以在基板(例如，基板10)上形成三維浮雕影像。一般而言，理想的光阻劑影像在基板平面中具有設計圖案或預期圖案之精確形狀，其中垂直壁貫穿抗蝕劑之厚度(對於可旋塗抗蝕劑為＜ 3 μm，對於乾膜抗蝕劑為＜ 20 μm，而對於可網版塗佈光阻劑為＜ 15 μm)。在曝光時，最終抗蝕劑圖案係二進制的，其中基板之部分覆蓋有抗蝕劑，而其他部分則完全未被覆蓋。與第6圖所描繪的方法200一致的典型光刻製程之處理步驟的一般順序如下：基板製備(清潔及脫水，接著進行將助黏劑例如六甲基二矽氮烷(HMDS)用於可旋塗抗蝕劑)，光阻劑旋塗，預烘烤，曝光及顯影(即，步驟202)，接著進行濕蝕刻製程以將二進制影像轉移至玻璃上(即，步驟204)。最終步驟係在抗蝕劑圖案已轉移至下層中之後剝離抗蝕劑(即，步驟206)。在一些情況下，需要後烘烤及曝光後烘烤步驟以確保濕蝕刻製程期間的抗蝕劑黏合。

現在參考第7A圖至第7D圖，提供了根據此實例製備的鋁矽酸鹽玻璃基板之繞射表面區域之光學顯微照片，其中孔之較佳蝕刻深度在100 nm至250 nm範圍內。此等繞射表面區域係根據前述光罩製程接著進行蝕刻製程製備的。更特定而言，用於製備第7A圖至第7D圖之樣品的濕蝕刻溶液由氫氟酸(HF，49 w/w%)及硝酸(HNO ₃，69 w/w%)與0.1 v/v%至5 v/v%的HF及0.1 v/v%至5 v/v%的HNO ₃組成。關於此實例，經採用來達成100 nm至250 nm蝕刻深度的濃度之範圍為自0.1 v/v%的HF/1 v/v%的HNO ₃至0.5 v/v%的HF/1 v/v%的HNO ₃。第7A圖及第7B圖展示兩個空間頻率下的繞射表面區域之二維(2D)有序陣列結構特徵：(a)具有12 μm直徑與17 μm節距的結構特徵(第7A圖) (稱為「12-17」陣列)；及(b)具有25 μm直徑與50 μm節距的結構特徵(稱為「25-50」陣列)。有序陣列之表面係使用六角形充填或正方形充填陣列設計的，其中填充分數自20%至50%變化。此外，第7C圖及第7D圖展示在兩個空間頻率下的具有隨機充填結構的繞射表面區域之2D陣列結構特徵：(a)具有60 μm最小節距的50 μm結構特徵直徑(第7C圖) (稱為「50-60」陣列)；及(b)具有14 μm最小節距的12 μm結構特徵直徑(稱為「12-14」陣列)。

現在參考第8圖，根據此實例，提供了蝕刻深度作為形成繞射表面區域之兩個結構特徵的蝕刻時間之函數的繪圖。在此實例中，蝕刻具有12 μm及50 μm直徑的結構特徵且為所得蝕刻深度繪圖(例如，分別與第7D圖及第7C圖所展示的結構一致)。在此實例中，基板係玻璃組成物且用49 vol%的HF儲備溶液進行蝕刻。蝕刻深度係使用觸針為基的輪廓儀(Z深度解析度設置＜ 5 μm，＜ 200 μm掃描，3 mg力下的3個區域)或Bruker ContourGT-X白光干涉儀(20倍或50倍物鏡，綠色窄頻光，單視場影像)測量的。如自第8圖明顯可見，與較小結構特徵(即，直徑約12 μm的彼等結構特徵)相比，較大結構特徵(即，直徑約50 μm的彼等結構特徵)在更長的時間內蝕刻得更快，這允許使用相同的蝕刻劑及一個遮罩將繞射表面區域特設成具有在不同深度或高度的不同大小的特徵。

現在參考第9A圖及第9B圖，提供了以上在第7C圖及第7D圖中描繪為具有不同大小及填充分數之繞射表面區域之結構特徵之DOI作為蝕刻深度之函數的繪圖。如第9A圖所展示，作為蝕刻深度之函數展示在36%及50%填充分數下的50-60陣列結構特徵(亦參見第7C圖)之DOI位凖。相似地，如第9B圖所展示，作為蝕刻深度之函數展示在20%及50%填充分數下的12-14陣列結構特徵(亦參見第7D圖)之DOI位凖。如自第9A圖及第9B圖明顯可見，兩種陣列的結構特徵都說明在自約150 nm至180 nm的蝕刻深度處觀察到最小DOI，如先前所概述及第2圖至第5圖所展示的建模所通常預測或以其他方式建議的。

現在參考第10A圖及第10B圖，根據此實例，提供了具有不同大小及填充分數之結構特徵之所測量PPD ₁₄₀及霧度作為蝕刻深度之函數的繪圖。如第10A圖及第10B圖所展示，在36%及50%填充分數下50-60陣列結構特徵(亦參見第7C圖)在小於0.2 μm的低蝕刻深度處展現出最小PPD ₁₄₀及霧度值。關於第10C圖及第10D圖，根據此實例，提供了具有不同大小及填充分數之結構特徵之所測量PPD ₁₄₀及霧度作為蝕刻深度之函數的繪圖。如第10C圖及第10D圖，在20%及50%填充分數下12-17陣列結構特徵(亦參見第7A圖)在小於0.2 μm的低蝕刻深度處亦展現出最小PPD ₁₄₀及霧度值。更一般而言，第10A圖至第10D圖說明分別在60 μm及17 μm週期處的此等結構特徵陣列顯示PPD140及霧度作為蝕刻深度之函數增加。此外，隨著蝕刻深度增加，具有較大空間頻率的樣品(即，50-60陣列)對PPD ₁₄₀的影響更大(參見第10A圖)，而隨著蝕刻深度增加，具有較高頻率的樣品(即，12-17陣列)對霧度的影響更大(參見第10D圖)。

實例2

根據此實例，根據與本揭露之原理一致的方法在0.15 μm、0.2 μm及0.23 μm深度的玻璃基板(分別為樣品950、951、952)上開發了結構特徵(即，孔)陣列。下表2列出在此等樣品上測量的光學性質，包括PPD ₁₄₀(%，如在0°下以顯示器單元為單位測量的)、霧度(%，如在0°下以透射率為單位測量的)、DOI (耦合，%，如在20°下以反射率為單位測量的)及鏡面反射率 Rs(耦合，%，如在20°下以反射率為單位測量的)。如自表2明顯可見，具有0.15 μm蝕刻深度的樣品(950)展現出DOI ＜ 80%、PPD ₁₄₀＜ 2%及霧度＜ 5%，這與根本揭露一致的繞射表面區域一致。具有0.2 μm及0.23 μm深度的其他樣品沒有展現出此光學性質組合。這說明了在達成性質之目標組合中較佳的深度範圍之值，該值對於不同較佳應用可變化。 表2

樣品	深度(μm)	PPD 140	透射率	霧度	DOI (耦合，%)	Rs(耦合，GU)
950	0.15	1.34	92.9	4.85	76	5.9
951	0.2	1.61	92.9	8.18	93	12.5
952	0.23	1.77	92.9	9.07	97	26.1

現在參考第11A圖，提供了具有來自表2 (樣品950)的光學性質之最佳組合之繞射表面區域之光學影像及表面高度分佈條。更具體而言，此樣品(樣品950)之結構特徵具有約150 nm的深度、50%的填充分數、12 μm的特徵直徑/大小及14 μm的最小節距。現在參考第11B圖，在此實例中，提供了來自表2的樣品之角譜繪圖。更特定而言，第11B圖之繪圖展示樣品950-952之反射率幅度對反射角。如自第11B圖明顯可見，觀察到樣品950相較於樣品951及952鏡面反射率降低。注意，Rhopoint IQ Gloss Haze & DOI Meter報告，對於在20°入射角下照射具有1.567折射率且無背表面反射率的平板玻璃，表2所列出的以光澤度單位(gloss unit，GU)為單位的 Rs值正規化為最大值100。已知此種玻璃具有4.91%的第一表面絕對反射率(% R)值。因此，Rhopoint IQ Meter所報告的 Rs值可藉由乘以因子4.91/100轉換為絕對鏡面反射率值(% R值)。因此，在0°下 Rs幅度為約6的樣品950對應於6/100 * 4.91% = ~0.295%的第一表面絕對鏡面反射率值(% R)。

實例3

根據此實例，使用網版印刷及蝕刻來製造具有界定繞射表面區域的結構特徵陣列的樣品，從而在玻璃表面上產生柱。網版印刷圖案上的目標柱大小/直徑為75 μm，該目標柱大小/直徑在玻璃上用蝕刻劑潤濕後膨脹至約100 μm。此外，此等樣品之目標節距為125 μm，呈六邊形圖案，且目標填充分數為55% (實際填充分數接近於56%)。網版印刷圖案係在乾淨的玻璃表面上使用油墨製成的。表3列出根據此實例製造的樣品，該等樣品反映導致各種蝕刻深度(即，柱高度)及與此等樣品相關聯的光學性質(閃爍、霧度、DOI及 Rs)的各種蝕刻時間。此外，如先前所指出，第一表面絕對鏡面反射率( Rs，以光澤度單位(gloss unit，GU)為單位)可藉由將它們乘以因子4.91/100轉換為第一表面絕對鏡面反射率(% R)。如自表3明顯可見，就光學性質測量而言的最佳蝕刻深度範圍對應於約1/4空氣中光波長，即，樣品之蝕刻深度為0.141 μm至0.172 μm。 表3

樣品ID	蝕刻時間 (s)	蝕刻深度(μm)	140PPI下的%閃爍	%霧度	耦合DOI	耦合 Rs(GU)
C17-T10a-75H-E30-Bare-C	30	0.099	2.9	0.35	78.6	41.0
C17-T10a-75H-E45-Bare-C	45	0.141	4.5	0.44	49.0	24.5
C17-T10a-75H-E60-Bare-C	60	0.172	4.9	0.44	37.3	12.7
C17-T10a-75H-E75-Bare-C	75	0.203	11.1	0.58	72.7	18.7
C17-T10a-75H-E90-Bare-C	90	0.260	13.1	0.57	89.2	27.1
C17-T10a-75H-E130-Bare-C	130	0.339	16.5	0.97	92.3	40.2
C17-T10a-75H-E145-Bare-C	145	0.396	19.5	1.19	80.5	20.5
C17-T10a-75H-E160-Bare-C	160	0.420	9.9	1.35	61.7	15.3
C17-T10a-75H-E175-Bare-C	175	0.448	9.8	1.49	62.5	30.9
C17-T10a-75H-E190-Bare-C	190	0.505	25.7	1.96	79.7	20.9
C17-T10a-75H-E205-Bare-C	205	0.531	15.9	2.06	86.1	25.6

現在參考第12圖，在此實例中，提供了具有約0.172 μm蝕刻深度的樣品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)之角譜繪圖，其中該繪圖描繪反射率幅度對反射角。如自第12圖及表3明顯可見，對於結構特徵，用於獲得低DOI及低 Rs的最佳蝕刻深度在120 nm至180 nm之範圍內，而其他蝕刻深度沒有展現出此光學性質組合。

現在參考第13A圖及第13B圖，提供了第3圖及表12所描繪具有0.172 μm蝕刻深度的樣品(C17-T10a-75H-E60-Bare-C)之繞射表面區域及結構特徵之光學影像，如在作為網版印刷及蝕刻製程之一部分的去除油墨之前及之後觀察到的。如先前所指出，在此實例描述中，此等結構之目標大小/直徑為約75 μm；然而，在油墨乾燥後膨脹時，經網版印刷之特徵(即，遮罩)之實際大小之範圍對於第13A圖所描繪的特定特徵為自101 μm至110 μm。此外，如自第13B圖明顯可見，此等油墨圈周圍的區域被蝕刻，從而形成了此實例之柱。

現在參考第14圖，提供了此實例且上面在表3中詳述之結構特徵之DOI作為蝕刻深度之函數的繪圖。如先前所指出，考慮到DOI之減少，較佳蝕刻深度為約¼光波長，介於0.1 μm與0.2 μm之間。另外，就DOI而言，第二較佳蝕刻深度位於約¾光波長處，介於0.4 μm與0.5 μm之間的蝕刻深度處。¾波長蝕刻深度由於如表3中的較高PPD ₁₄₀所顯示對透射光的影響以及相對於¼波長蝕刻深度的樣品而言對DOI的較小影響而可能係不太合需的。此等結果總體與先前所描述之繞射防眩光學模型一致。

實例4

雖然本揭露之顯示器製品之繞射表面區域採用具有表面高度之多模式分佈(例如，表面高度之雙模式分佈)的結構特徵，此等繞射表面區域之實施例採用特徵在X-Y維度中的空間隨機化。在此實例中，針對繞射表面區域採用兩個X-Y圖案隨機化——「硬球」分佈及「帕松(Poisson)圓盤」分佈。前一種硬球圖案設計以近似50%填充分數的結構特徵為目標，且根據此圖案製備結構特徵分別具有12 μm及50 μm直徑的樣品。後一種帕松圓盤圖案設計以近似36%填充分數的結構特徵為目標。此等X-Y隨機化方案中之每一者亦可以具有不同填充分數、特徵深度及防眩塗層組合的結構特徵的繞射表面區域為目標。此外，如自此實例明顯可見及先前所指出，X-Y維度中特徵隨機化之位凖及類型對於達成低PPD同時亦將其他顯示假影諸如莫耳紋或色帶最小化可能非常重要。

X-Y圖案隨機化可以不同方式定義。一種方法係六角百分比，第15圖展示六角百分比( H)之定義。六角百分比係用於局部量化圖案與六角點陣之接近程度的度量。對於圖案中的每個點，該點處的六角百分比( H)係使用其六個最近鄰相對於任意軸的角度計算的。平均六角百分比( H)可由方程式(1)定義如下：

(1) 其中 k= 1至6係對於該一個結構特徵的六個最近鄰結構特徵，而 α _k 代表該等六個最近鄰結構特徵中之每一個與一任意軸的角度。因此，在本揭露之顯示器製品之繞射表面區域之上下文中，複數個結構特徵之空間分佈可具有根據本揭露之實施例範圍為自0.4至1.0的六角百分比( H)。如第15圖所展示，變數 a _k 代表六個最近鄰之角度。關於六角點陣，此等六個角度全部相差60度(π/3弧度)，因此六個被加數之折射率相差2π弧度，且求和中的六個複數全部相同。 H在該情況下為一。可將圖案之平均六角百分比( H)作為與完美六角點陣的偏差的全域度量，這在圖案均一時係有用的。完美六角點陣具有1.0的平均六角百分比( H)。點之完全隨機、平穩的帕松分佈具有近似0.36或36%的平均六角百分比( H)。因此，根據第1A圖及第1B圖所描繪的顯示器製品100之實施例，複數個結構特徵20之特徵可在於非隨機空間分佈。使得 H之範圍為自0.4至0.95、自0.4至0.9、自0.4至0.8、自0.36至0.9、自0.36至0.8、自0.36至0.7及前述範圍之間的所有平均六角百分比( H)值及範圍。

進一步關於硬球隨機化圖案，此圖案用於形成第7C圖及第7D圖所描繪的繞射表面區域之結構特徵。此等圖案係使用分子動力學模擬工具(molecular dynamics simulation tool，LAMMPS)以產生該圖案來產生。最初將代表特徵的「分子」氣體放置於二維六角點陣上以將填充分數固定於50%。然後將氣體加熱並使其在二維中隨機化。向分子賦予了推斥硬球勢以保持最小的指定間距。第7C圖中的示範性圖案具有49%的平均六角百分比( H) (亦參見第15圖)，這表明與規則點陣的偏差大。「12-14」及「50-60」陣列具有相同的圖案幾何形狀：50-60圖案只是按總因子50/12放大的12-14圖案。此放大不影響填充分數、六角百分比或特徵分佈函數(明顯的軸放大除外)，但它影響紋理之光學效能。12/14圖案之最近鄰距離(定義為X-Y空間中特徵之中心到中心間距)分佈展示於第16A圖中。該12/14圖案之週期圖展示於第16B圖中。代替空間頻率，第16B圖之X軸經轉換為以度為單位的離鏡面散射角以用於0.55 μm的光波長。

轉向另一50/60陣列(參見第9A圖及第10A圖)，它具有更大的最近鄰距離分佈及更低的填充分數(36%)。此等樣品之結構特徵經配置成帕松圓盤圖案，該圖案係使用「飛鏢投擲(dart throwing)」演算法產生的。此演算法確保絕對最小特徵間距(在此實例中係60 μm)，但在填充空間下並不十分有效。平均六角百分比(H)更低，為41%。50/60帕松圓盤圖案之最近鄰距離分佈展示於第17A圖中。該50/60帕松圓盤圖案之週期圖展示於第17B圖中。代替空間頻率，第17B圖之X軸經轉換為以度為單位的離鏡面散射角以用於0.55 μm的光波長。

實例5A

在此實例(表示為「實例5A」的樣品)中，增強玻璃基板經製備成具有粗化表面區域，該粗化表面區域具有約15%的透射率霧度、在100 nm至300 nm之範圍內的平均表面粗糙度( R _q )及在5 μm至30 μm之範圍內的大部分側向蝕刻深度尺寸。在此實例中，粗化表面區域係利用二步HF蝕刻製程製備的。接下來，用與表1B中的本揭露先前所描述的抗反射塗層60之實施例一致的五層AR塗層塗佈粗化表面區域。

就機械性質而言，此實例(實例5A)之顯示器製品之特徵在於，在大於100 nm (具體而言，在140 nm-160 nm處)的壓入深度處最大硬度為11.8 GPa，AR塗層總厚度小於500 nm (具體而言，338.4 nm)及高折射率材料之百分比大於35% (具體而言，53.7%)。至於顯示器製品之基板表面形態，此實例之顯示器製品之特徵在於，徑向平均表面粗糙度功率譜密度(power spectral density，PSD)為80.2 nm ( S _a )、96.4 nm ( S _q )及平均側向特徵大小為約4 μm，如透過熟習此項技術者已經理解的分水嶺演算法(Watershed algorithm)測量及計算的。

測量此實例之顯示器製品之光學性質，如下表4A中給出的。 表4A——實例5A之所測量光學性質

第一表面反射率%平均	6°	20°	45°	60°
R% (450 nm-650 nm)	0.039	0.045	0.218	1.788
R% (適光，Y)	0.042	0.045	0.196	1.758
R% (840 nm-860 nm)	0.200	0.238	1.062	4.736
R% (930 nm-950 nm)	0.431	0.553	2.147	7.104
第一表面反射明度及色彩度量	6°	20°	45°	60°
L*	0.38	0.40	1.77	14.16
a*	-0.07	-0.03	1.75	5.23
b*	-0.03	0.08	1.54	9.78
二表面透射光度量，僅塗佈於1個表面上	0°
T% (450 nm-650 nm)	94.28
T% (840 nm-860 nm)	94.62
T% (930 nm-950 nm)	93.71
L*	97.74
a*	0.02
b*	0.62
第一表面對比率度量
直接對比率(100 lux)	3.6
周圍對比率(1000 lux)	61
色域(直接對比率)	18.9
色域(周圍對比率)	88
其他光學度量
閃爍% (PPD)	1.1
耦合DOI (%)	89 (估計)
非耦合DOI (%)	98.8
霧度(%)	15.9

現在參考第19圖，提供了根據此實例(實例5A)的顯示器製品之彈性模數及硬度(GPa)對壓入深度(nm)之繪圖。如第19圖所展示，所測量表觀硬度及模數係使用玻氏壓頭硬度試驗測量的，在140 nm至160 nm的壓入深度處觀察到最大硬度為11.8 GPa。

實例5B

在此實例(表示為「實例5B」的樣品)中，增強玻璃基板經製備成具有粗化表面區域，該粗化表面區域具有約30%的透射率霧度、在100 nm至300 nm之範圍內的平均表面粗糙度( R _q )及在5 μm至30 μm之範圍內的大部分側向蝕刻深度尺寸。在此實例中，粗化表面區域係利用包括HF蝕刻步驟接著是噴砂步驟的製程製備的。接下來，用與表1B中的本揭露先前所描述的抗反射塗層60之實施例一致的五層AR塗層塗佈粗化表面區域。

就機械性質而言，此實例(實例5B)之顯示器製品之特徵在於，在大於100 nm (具體而言，在140 nm-160 nm處)的壓入深度處最大硬度為11.8 GPa，AR塗層總厚度小於500 nm (具體而言，338.4 nm)及高折射率材料之百分比大於35% (具體而言，53.7%)。至於顯示器製品之基板表面形態，此實例之顯示器製品之特徵在於，徑向平均表面粗糙度功率譜密度(power spectral density，PSD)為239.6 nm ( S _a )、306.1 nm ( S _q )及平均側向特徵大小為約8 μm，如透過熟習此項技術者已經理解的分水嶺演算法測量及計算的。

同樣在此實例中，用僅裸的增強玻璃基板(表示為「比較例5A」)；僅具有粗化表面區域的增強玻璃基板(表示為「比較例5B」)；及僅裸的增強玻璃基板及前述抗反射塗層(表示為「比較例5C」)製備比較對照樣品。

測量此實例(實例5B及比較例5C)之顯示器製品之光學性質，分別如下表4B及4B1中給出的。 表4B——實例5B之所測量光學性質

第一表面反射率%平均	6°	20°	45°	60°
R% (450 nm-650 nm)	0.016	0.019	0.064	0.364
R% (適光，Y)	0.018	0.022	0.066	0.416
R% (840 nm-860 nm)	0.036	0.041	0.145	0.894
R% (930 nm-950 nm)	0.063	0.079	0.293	1.507
第一表面反射明度及色彩度量	6°	20°	45°	60°
L*	0.15	0.17	0.54	3.25
a*	-0.04	-0.03	0.30	1.30
b*	0.01	0.02	0.31	1.46
二表面透射光度量，僅塗佈於1個表面上	0°
T% (適光，Y)	93.66
T% (840 nm-860 nm)	93.34
T% (930 nm-950 nm)	92.30
L*	97.50
a*	-0.08
b*	0.57
第一表面對比率度量
直接對比率(100 lux)	13.5
周圍對比率(1000 lux)	60
色域(直接對比率)	59.7
色域(周圍對比率)	88
其他光學度量
閃爍% (PPD)	4.5
耦合DOI (%)	2.7 (估計)
非耦合DOI (%)	55
透射率霧度(%)	30

表4B1——比較例5C之所測量光學性質

第一表面反射率%平均	6°	20°	45°	60°
R% (適光，Y)	0.71	0.69	1.53	5.30
R% (840 nm-860 nm)	1.37	1.50	3.02	7.48
R% (930 nm-950 nm)	2.17	2.49	4.92	10.02
第一表面反射明度及色彩度量	6°	20°	45°	60°
L*	6.43	6.27	12.77	27.56
a*	-2.72	-2.54	5.27	5.27
b*	-1.16	1.48	2.95	2.83
二表面透射光度量，僅塗佈於1個表面上	0°
T% (適光，Y)	94.51
T% (840 nm-860 nm)	93.89
T% (930 nm-950 nm)	93.15
L*	97.84
a*	0.06
b*	0.46

現在參考第20A圖，提供了根據此實例(實例5B)的顯示器製品及比較顯示器製品(比較例5A-5C)之第一表面鏡面反射率(% R)對可見及近紅外(IR)波長(nm)之繪圖。如自第20A圖明顯可見，增強玻璃基板具有粗化表面區域及安置於粗化表面區域上的5層AR塗層的實例之鏡面反射率比具有裸的增強玻璃及相同5層AR塗層的比較樣品低近似一個數量級。

現在參考第20B圖及第20C圖，描繪了根據本揭露之實施例的顯示器製品及比較顯示器製品之鏡面反射率測量之示意性圖解，且該等示意性圖解可用於解釋第20A圖之資料及結果。如第20B圖及第20C圖所展示，光束相對於樣品法線以角度θ _s入射於具有5層AR塗層的對比裸玻璃(左側) (例如，比較例5C)及具有粗化表面區域及相同5層AR塗層的本揭露之顯示器製品(右側) (例如，實例5B)上。鏡面反射率定義為在對著入射平面並與入射光束共軛的2度錐(參見第20B圖及第20C圖)內反射的光功率除以入射功率。對於比較樣品(例如，比較例5C)，總反射率(約0.7%)係在2度錐內測量的且等於鏡面反射率。對於根據本揭露的具有粗化表面區域及5層AR塗層的顯示器製品(例如，實例5B)，光經散射成角度之連續體(展示為第2圖中的錐)，其中大部分光強度落在鏡面反射方向之約+/-15°內。在此情況下，偵測器僅捕獲總反射光之一部分，因為其餘部分落在偵測器之視場角之外。假定顯示器製品表面(例如，實例5B)之總反射率(在所有角度上積分)與比較樣品之基板表面(例如，比較例5C)相同。這意指實例(例如，實例5B)之表面之鏡面反射率由R _DXC*η給出，其中η係偵測器錐內的反射光功率除以總反射光的分數。此外，η可藉由測量不具有AR塗層的抗反射表面(例如，比較例5B) (與實例5B相同的AG處理)之鏡面反射率及裸的增強玻璃基板表面(例如，比較例5A)之鏡面反射率來計算，使得η = R _AG/R _GG。R _DXC*(R _AG/R _GG)之計算值在第20A圖中展示為用於此實例(實例5B，所計算的)之樣品的短劃/長劃線，且表明與此實例(實例5B，所測量的)之測量值吻合良好。

實例5C

在此實例(表示為「實例5C」的樣品)中，增強玻璃基板經製備成具有粗化表面區域，該粗化表面區域具有約30%的透射率霧度、在100 nm至300 nm之範圍內的平均表面粗糙度( R _q )及在5 μm至30 μm之範圍內的大部分側向蝕刻深度尺寸。在此實例中，粗化表面區域係利用包括HF蝕刻步驟接著是噴砂步驟的製程製備的。接下來，用與表1B中的本揭露先前所描述的抗反射塗層60之實施例一致的五層AR塗層塗佈粗化表面區域。

就機械性質而言，此實例(實例5C)之顯示器製品之特徵在於，在大於100 nm (具體而言，在140 nm-160 nm處)的壓入深度處最大硬度為11.8 GPa，AR塗層總厚度小於500 nm (具體而言，338.4 nm)及高折射率材料之百分比大於35% (具體而言，53.7%)。至於顯示器製品之基板表面形態，此實例之顯示器製品之特徵在於，徑向平均表面粗糙度功率譜密度(power spectral density，PSD)為165.8 nm ( S _a )、207.5 nm ( S _q )及平均側向特徵大小為約6 μm，如透過熟習此項技術者已經理解的分水嶺演算法測量及計算的。

測量此實例之顯示器製品之光學性質，如下表4C中給出的。 表4C——實例5C之所測量光學性質

第一表面反射率%平均	6°	20°	45°	60°
R% (450 nm-650 nm)	0.015	0.023	0.071	0.422
R% (適光，Y)	0.018	0.022	0.066	0.416
R% (840 nm-860 nm)	0.041	0.043	0.188	1.361
R% (930 nm-950 nm)	0.072	0.093	0.415	2.362
第一表面反射明度及色彩度量	6°	20°	45°	60°
L*	0.16	0.20	0.60	3.76
a*	-0.03	0.01	0.29	1.69
b*	-0.01	-0.01	0.30	2.13
二表面透射光度量，僅塗佈於1個表面上	0°
T% (適光，Y)	93.72
T% (840 nm-860 nm)	93.70
T% (930 nm-950 nm)	92.43
L*	97.52
a*	-0.01
b*	0.63
第一表面對比率度量
直接對比率(100 lux)	10.7
周圍對比率(1000 lux)	59
色域(直接對比率)	55.6
色域(周圍對比率)	88
其他光學度量
閃爍% (PPD)	3.8
耦合DOI (%)	25 (估計)
非耦合DOI (%)	84
霧度(%)	30

現在參考第21圖，提供了前述實例(實例5A-5C)中的顯示器製品之二表面總反射率( T%)對波長(nm)之繪圖。如先前所指出，增強玻璃基板之一個主表面包括粗化表面區域及安置於粗化表面區域上的5層多層AR塗層；而玻璃基板之另一個主表面係裸的。裸玻璃基板具有約4%的反射率，從而將此等樣品之最大透射率限制為約96%。如第21圖所展示，為樣品中之每一者獲得了可見適光平均透射率位凖：94.28% (實例5A)；93.65% (實例5B)；及93.72% (實例5C)。透射率位凖在850 nm紅外(IR)波長處大於93%且在940 nm處大於92%。

現在參考第22A圖至第22C圖提供了對於各種入射角(6°、20°、45°及60°)的前述實例(實例5A，第22A圖；實例5B，第22B圖；及實例5C，第22C圖)之第一表面鏡面反射率( R%)對波長(nm)之繪圖。在第22A圖中，針對實例5A，對於0度-20度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於0.4%。對於0度-45度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於1.1%。在第22B圖中，針對實例5B，對於0度-20度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於0.06%。對於0度-45度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於0.3%。至於第22C圖，針對實例5C，對於0度-20度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於0.06%。對於0度-45度的所有角度，在範圍為自425 nm至950 nm的整個波長範圍內的反射率保持低於0.3%。

現在參考第23圖，提供了對於6°入射角的前述實例(實例5A-5C)及具有裸的增強玻璃基板及5層AR塗層的比較例(比較例5C)之二表面鏡面反射率( R%)對波長(nm)之繪圖。來自前述實例(實例5A-5C)的樣品中之每一者之一側包含5層AR塗層及粗化表面區域，而另一側係裸玻璃。實例(實例5A-5C)之二表面鏡面反射率比僅具有5層AR塗層的比較例(比較例5C)之二表面反射率低多於因子3，由於背表面平坦，該比較例之二表面反射率為約4%。實例(實例5A-5C)之平坦背表面的鏡面反射率降低係由透射光及反射光之角度重新分佈引起的，如第20B圖及第20C圖所展示。由於背向散射光之角度重新分佈，據信，與具有5層AR塗層的裸玻璃基板(比較例5C)相比，在實例(實例5A-5C)中之一者與粗化表面區域一起採用之情況下對來自5層AR塗層中層堆疊的埋入反射率的感知將顯著降低。

進一步關於前述實例中所報告的光學性質及測量結果，如第20A圖、第21圖、第22A圖至第22C圖及第23圖以及表4A-4C所展示，反射率及透射率值報告為極化平均值。亦即，平均值將s極化值及p極化值組合成單個平均值。適光平均值(Y)、L*、a*及b*值係使用已知方法根據CIE 1964標準利用10°觀測器及D65光源自所測量樣品資料計算的。此等值根據人眼對可見光的反應創建加權值。鏡面反射率係使用Agilent Cary 5000 UV-Vis-NIR分光光度計在+/- 1度之角度範圍內測量的。第一表面反射率值係藉由使用折射率匹配油將玻璃樣品之背表面耦合至光吸收體來獲得的。此外，透射霧度係藉由BYK Gardner Haze-Gard測量的。非耦合(二表面) DOI係使用Rhopoint IQ光澤度計測量的。耦合DOI係使用自歷史資料推導出的關係根據非耦合DOI值估計的。總透射率係使用Perkin-Elmer Lambda 950分光光度計測量的。

同樣關於前述實例中的光學性質，針對白色的顯示器之對比率(contrast ratio，CR)可由以下方程式(2)定義：

(2) 其中 L _whitescreen 及 L _blackscreen 分別係白色螢幕及黑色螢幕之輝度，且 L _ambientlight 係自顯示器反射的周圍光之輝度。根據此定義，最高CR可在不存在外部(周圍)光之情況下找到。此外，在兩種不同照明條件下測量了與顯示器及相關護罩玻璃相關聯的CR比率及色域，如下：1)周圍CR (Ambient CR，ACR)：在均勻漫射(全向) D65白光照明下的CR測量；及2)直接CR (Direct CR，DCR)：在定向/準直白光照明下的CR測量。

ACR (周圍對比率)測量

本揭露之顯示器製品及前述實例中的彼等顯示器製品的此等測量所採用的漫射照明為基的系統主要由配備有透過光纖連接的D65 LED光的積分球為基的照明源組成。ACR測量係藉由以下NISTIR 6738進行的，NISTIR 6738係一種由國家標準技術協會所開發的測量顯示器之ACR的方法/程序。測量係藉由用折射率匹配油將試驗(玻璃)樣品之未處理側耦合至OLED顯示器上進行的。顯示器之亮度在所有對比率及色域測量期間保持在380 Cd/m ²。使用配備有TOP 200光學探針的Instrument Systems之CAS140D分光輻射計來測量樣品/顯示器單元之適光輝度。

DCR (直接對比率)測量

在DCR測量中，使用準直(D65) LED光源作為照明源。現在參考第24圖，提供了用於測量本揭露及前述實例中的顯示器製品之DCR的光學裝置之示意圖。如第24圖所描繪，每個試驗標本都透過折射率匹配油耦合至OLED顯示器之表面上。同樣如第24圖所描繪，光之入射角(Angle of Incident，AOI)經設置為10°，同時藉由將分光輻射計放置於鏡面反射方向(-10°)來偵測顯示器及外部光源之輝度。藉由控制到達LED源的電流及/或藉由在光程中放置適當的中性密度(neutral density，ND)濾光片來控制外部光源之強度。在DCR測量之前，藉由用照度計(來自Konica Minolta的型號A58U-223)替換試驗標本來測量每個照明條件的光照度強度(以lux為單位)。與ACR裝置相似，使用配備有TOP 200光學探針(Instrument Systems)的儀器系統之CAS140D分光輻射計來測量樣品/顯示器單元之適光輝度。TOP 200光學探針之收集(錐)角設置為1度。當顯示器與試驗標本耦合時，顯示器之適光輝度係在顯示器分別加載有黑影像及白影像時測量的。藉由將白螢幕之輝度除以黑螢幕之輝度來計算對比度。藉由使用校準之光源/ND濾光片裝置照射試驗標本在各種不同照度強度下遵循相同的程序。

色域面積(Color Gamut Area，CGA)測量

除了對比率(contrast ratio，CR)測量之外，外部照明下的表現色彩可以係本揭露之顯示器製品之極重要性質。色彩表現可定義為特定顯示裝置產生的色彩之範圍。給定顯示器之色彩資訊藉由在CIE 1976色彩空間圖中指定紅/藍/綠(red/blue/green，RGB)之色度坐標來表示。三角內的面積與給定顯示照明條件下的可用色彩成正比。CIE 1976圖之總面積表示對人眼可見的全範圍色彩。因此，可藉由測量色彩空間中的三角面積來估評給定顯示器之可利用色彩。考慮到此原理，在前述實例中進行了可變照度下顯示器之色域面積(color gamut area，CGA)之測量。色域面積(color gamut area，CGA)可藉由測量可變照度下紅色(u’R, v’R)、綠色(u’G, v’G)及藍色(u’B, v’B)在色彩空間(CIE 1976 (u’,v’))中的色度坐標來獲得。在此，CGA可藉由測量具有耦合試驗標本且以紅色、綠色及藍色影像發光的顯示器之RGB色三角之CIE (u’, v’)坐標來計算。RGB三角面積(CGA)與透過顯示器/試驗標本單元發出的色彩數目成正比。三角面積藉由使用由以下方程式(3)給出的海龍公式三角面積來測量：

(3) 其中 a、 b及 c可分別根據以下方程式(3A)、(3B)及(3C)找到：

(3A)

(3B)

(3C) 應用相同的程序來測量各種光照強度及光照條件下的CGA。漫射照明下的CGA藉由使用校準之積分球裝置進行，而DCR裝置用於測量直接/準直照明下的CGA。最大CGA可在存在外部照明之情況下找到。因此，為獲得更好的理解，任何給定照度下的CGA均以相對於其不具有任何外部照度的原始值的百分比表示。

如本文所概述，本揭露之第一態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包含：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；及界定有一繞射表面區域的該主表面。該繞射表面區域包含複數個結構特徵，該複數個結構特徵包含呈一多模式分佈的複數個不同高度。此外，該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於4%的一閃爍、在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在與法線成0°的一入射角下小於20%的一透射率霧度。

根據第二態樣，提供了該第一態樣，其中該複數個結構特徵進一步包含具有一第一平均高度的一第一部分結構特徵及具有一第二平均高度的一第二部分結構特徵。

根據第三態樣，提供了該第二態樣，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自50 nm至250 nm的一差異。

根據第四態樣，提供了該第三態樣，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自120 nm至200 nm的一差異。

根據第五態樣，提供了該第二態樣至該第四態樣中任一項，其中該繞射表面區域進一步包含對應於該第一平均高度的一第一平面區域及對應於該第二平均高度的一第二平面區域。此外，該第一平面區域及該第二平面區域中之每一者包含小於50 nm的一均方根(root-mean-square，RMS)高度變化。

根據第六態樣，提供了該第五態樣，其中該第一平面區域及該第二平面區域具有一總表面積，該總表面積係該繞射表面區域之一總表面積之至少50%。

根據第七態樣，提供了該第一態樣至該第六態樣中任一項，其中該基板包含一玻璃組成物。

根據第八態樣，提供了該第一態樣至該第七態樣中任一項，其中該基板進一步展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的小於2%的一閃爍。

根據第九態樣，提供了該第一態樣至該第八態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成0°的一入射角下小於5%的一透射率霧度。

根據第十態樣，提供了該第一態樣至該第九態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於1%的一第一表面絕對鏡面反射率(% R)。

根據第十一態樣，提供了該第一態樣至該第十態樣中任一項，進一步包含：一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於該基板之該主表面上。該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。此外，該製品展現出在與法線成20°的一入射角下小於0.1%的一第一表面絕對鏡面反射率(% R)。

本揭露之第十二態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包含：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；且該主表面界定有一繞射表面區域。該繞射表面區域包含複數個結構特徵，該複數個結構特徵包含小於125 μm的一節距及自30%至70%的一填充分數，每個結構特徵包含小於100 μm的一直徑。此外，該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(pixel power deviation，PPD)測量的小於4%的一閃爍、在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在與法線成0°的一入射角下小於20%的一透射率霧度。

根據第十三態樣，提供了第十二態樣，其中該基板包含一玻璃組成物。

根據第十四態樣，提供了該第十二態樣或該第十三態樣，其中該基板進一步展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由PPD ₁₄₀測量的小於2%的一閃爍。

根據第十五態樣，提供了該第十二態樣至該第十四態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成0°的一入射角下小於5%的一透射率霧度。

根據第十六態樣，提供了該第十二態樣至該第十五態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於1%的一第一表面絕對鏡面反射率(% R)。

根據第十七態樣，提供了該第十二態樣至該第十六態樣中任一項，其中該複數個結構特徵之一第一部分包含具有自50 nm至250 nm的一第一平均高度的柱。

根據第十八態樣，提供了該第十七態樣，其中該複數個結構特徵進一步包含呈一多模式分佈的複數個高度。該多模式分佈進一步包含在該第一平均高度處的該第一部分結構特徵及在一第二平均高度處的一第二部分結構特徵。此外，該分佈之該第一部分具有自30%至70%的一第一填充分數，且該分佈之該第二部分具有100%減去該第一填充分數的一第二填充分數。

根據第十九態樣，提供了該第十二態樣至該第十六態樣中任一項，其中該複數個結構特徵之一第一部分包含具有自50 nm至250 nm的一第一平均深度的孔。

根據第二十態樣，提供了該第十九態樣，其中該複數個結構特徵進一步包含呈一多模式分佈的複數個深度。該多模式分佈進一步包含在該第一平均深度處的該第一部分結構特徵及在一第二平均深度處的一第二部分結構特徵。此外，該分佈之該第一部分具有自30%至70%的一第一填充分數，且該分佈之該第二部分具有100%減去該第一填充分數的一第二填充分數。

根據第二十一態樣，提供了該第十二態樣至該第二十態樣中任一項，其中該填充分數為自40%至55%。

根據第二十二態樣，提供了該第十二態樣至該第二十一態樣中任一項，其中每個結構特徵進一步包含多於10的一縱橫比。

根據第二十三態樣，提供了該第十二態樣至該第二十二態樣中任一項，其中該複數個結構特徵進一步包含自5 μm至100 μm的一週期。

根據第二十四態樣，提供了該第十二態樣至該第十六態樣中任一項，進一步包含：一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於該基板之該主表面上。該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8及與該基板之一折射率幾乎相同或大於該基板之該折射率的一折射率。該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。此外，該製品展現出在與法線成20°的一入射角下小於0.1%的一第一表面絕對鏡面反射率(% R)。

本揭露之第二十五態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包含：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；且該主表面界定有一繞射表面區域。該繞射表面區域包含複數個結構特徵，該複數個結構特徵包含小於125 μm的一節距及自30%至70%的一填充分數。此外，每個結構特徵包含自50 nm至250 nm的一高度或深度。

根據第二十六態樣，提供了該第二十五態樣，其中該複數個結構特徵進一步包含一非隨機空間分佈。

根據第二十七態樣，提供了該第二十五態樣或該第二十六態樣，該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於4%的一閃爍、在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在與法線成0°的一入射角下小於20%的一透射率霧度。

根據第二十八態樣，提供了該第二十五態樣至該第二十七態樣中任一項，其中該複數個特徵結構之該非隨機空間分佈包含自大於0.4至小於1.0的一平均六角百分比( H)，其中一個結構特徵之該六角百分比( H)由方程式(1)給出：

(1) 其中 k= 1至6係對於該一個結構特徵的六個最近鄰結構特徵，而 α _k 代表該等六個最近鄰結構特徵中之每一個與一任意軸的角度。

根據第二十九態樣，提供了該第二十五態樣至該第二十八態樣中任一項，其中該複數個結構特徵之一第一部分包含具有自50 nm至250 nm的一第一平均高度的柱。

根據第三十態樣，提供了該第二十九態樣，其中每個柱之該高度為自120 nm至180 nm。

根據第三十一態樣，提供了該第二十五態樣至該第二十八態樣中任一項，其中該複數個結構特徵之一第一部分包含具有自50 nm至250 nm的一第一平均深度的孔。

根據第三十二態樣，提供了該第三十一態樣，其中每個孔之該深度為自120 nm至180 nm。

根據第三十三態樣，提供了該第二十五態樣至該第三十二態樣中任一項，進一步包含：一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於該基板之該主表面上。該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8及與該基板之一折射率幾乎相同或大於該基板之該折射率的一折射率。該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。此外，該製品展現出在與法線成20°的一入射角下小於0.1%的一第一表面絕對鏡面反射率(% Rs)。

本揭露之第三十四態樣係關於一種製造一顯示器製品之方法。該方法包含以下步驟：用一遮罩遮蔽包含一厚度及一主表面的一基板；在該基板之該主表面內形成一繞射表面區域；及自該基板去除該遮罩。該繞射表面區域包含複數個結構特徵，該複數個結構特徵包含呈一多模式分佈的複數個不同高度。該多模式分佈進一步包含在一第一平均高度處的一第一部分結構特徵及在一第二平均高度處的一第二部分結構特徵。此外，該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於4%的一閃爍、在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)、及在與法線成0°的一入射角下小於20%的一透射率霧度。

根據第三十五態樣，提供了該三十四態樣，其中該遮蔽步驟包含網版印刷遮蔽、噴墨印刷遮蔽、光阻劑遮蔽中之一或多者。

根據第三十六態樣，提供了該三十四態樣或該第三十五態樣，其中該形成步驟包含經由該遮罩蝕刻該基板之該主表面以形成該繞射表面區域，且其中每個結構特徵係包含自50 nm至250 nm的一深度的一孔。

根據第三十七態樣，提供了該第三十四態樣或該第三十五態樣，其中該形成步驟包含經由該遮罩在該基板之該主表面上沉積一膜以形成該繞射表面區域，且其中每個結構特徵係包含自50 nm至250 nm的一高度的一柱。

本揭露之第三十八態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上。該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。此外，該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

根據第三十九態樣，提供了該第三十八態樣，其中經塗佈之製品展現出如藉由一玻氏壓頭硬度試驗在該抗反射塗層之一空氣側表面上沿著50 nm或更大的一壓入深度測量的8 GPa或更大的最大硬度。

根據第四十態樣，提供了該第三十八態樣，其中該複數個結構特徵進一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。

根據第四十一態樣，提供了該第四十態樣，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自50 nm至250 nm的一差異。

根據第四十二態樣，提供了該第四十態樣，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自120 nm至200 nm的一差異。

根據第四十三態樣，提供了該第三十八態樣至該第四十二態樣中任一項，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。

根據第四十四態樣，提供了該第三十八態樣至該第四十三態樣中任一項，其中該閃爍如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於3%。

根據第四十五態樣，提供了該第三十八態樣至該第四十四態樣中任一項，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根據第四十六態樣，提供了該第三十八態樣至該第四十五態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於85%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)。

根據第四十七態樣，提供了該第三十八態樣至該第四十六態樣中任一項，其中該透射率霧度在與法線成0°的一入射角下小於30%。

本揭露之第四十八態樣係關於一種消費者電子產品。該消費者電子產品包括：一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面；電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上。該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含該第三十八態樣至該第四十七態樣中任一項所述之製品。

本揭露之第四十九態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上。該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層包含總共三(3)至九(9)層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者。此外，該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

根據第五十態樣，提供了該第四十九態樣，其中該等低折射率層中之一個係直接安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化區域。

根據第五十一態樣，提供了該第四十九態樣或該第五十態樣，其中每個低折射率層包含SiO ₂或SiO _x。

根據第五十二態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十一態樣中任一項，其中該抗反射塗層進一步包含一耐刮層，該耐刮層係最厚的該高折射率層，其中該耐刮層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者，具有自50 nm至200 nm的一實體厚度，且進一步地其中該複數個交替的高折射率層及低折射率層之範圍為三(3)至六(6)層。

根據第五十三態樣，提供了該第五十二態樣，其中該抗反射塗層之該總實體厚度為自200 nm至350 nm且該耐刮層之該總實體厚度為自約75 nm至175 nm。

根據第五十四態樣，提供了該第五十二態樣，其中該抗反射塗層之該總實體厚度為自250 nm至340 nm且該耐刮層之該總實體厚度為自100 nm至160 nm。

根據第五十五態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十四態樣中任一項，其中該複數個結構特徵進一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。

根據第五十六態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十五態樣中任一項，其中經塗佈之製品展現出如藉由一玻氏壓頭硬度試驗在該抗反射塗層之一空氣側表面上沿著50 nm或更大的一壓入深度測量的8 GPa或更大的最大硬度。

根據第五十七態樣，提供了該五十五態樣或該第五十六態樣，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自120 nm至200 nm的一差異。

根據第五十八態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十七態樣中任一項，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。

根據第五十九態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十八態樣中任一項，其中該閃爍如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於3%。

根據第六十態樣，提供了該第四十九態樣至該第五十九態樣中任一項，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根據第六十一態樣，提供了該第四十九態樣至該第六十態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)。

根據第六十二態樣，提供了該第四十九態樣至該第六十一態樣中任一項，其中該透射率霧度在與法線成0°的一入射角下小於30%。

本揭露之第六十三態樣係關於一種消費者電子產品。該消費者電子產品包括：一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面；電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上。該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含該第四十九態樣至該第六十二態樣中任一項所述之製品。

本揭露之第六十四態樣係關於一種顯示器製品。該顯示器製品包括：一基板，該基板包含一厚度及一主表面；一粗化表面區域，該粗化表面區域係由該主表面界定；及一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面之該粗化表面區域上。該粗化表面區域包含複數個結構特徵及自20 nm至2000 nm平均紋理高度均方根(root-mean-square，RMS)變化的一平均表面粗糙度( R _q )。該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度。該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層具有總共三(3)至九(9)層。該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率。每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者。此外，該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於1%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。

根據第六十五態樣，提供了該第六十四態樣，其中該等低折射率層中之一個係直接安置於由該基板之該主表面界定的該粗化表面區域。

根據第六十六態樣，提供了該第六十四態樣或該第六十五態樣，其中每個低折射率層包含SiO ₂或SiO _x。

根據第六十七態樣，提供了該第六十四態樣至該第六十六態樣中任一項，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。

根據第六十八態樣，提供了該第六十四態樣至該第六十七態樣中任一項，其中該粗化表面區域包含自50 nm至250 nm平均紋理高度均方根(root-mean-square，RMS)變化的一平均表面粗糙度( R _q )。

根據第六十九態樣，提供了該第六十四態樣至該第六十八態樣中任一項，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。

根據第七十態樣，提供了該第六十四態樣至該第六十九態樣中任一項，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(distinctness of image，DOI)。

根據第七十一態樣，提供了該第六十四態樣至該第七十態樣中任一項，其中該製品展現出在與法線成6°及20°的每個入射角下＜ 0.5的一第一表面反射色彩(√(a* ²+b* ²))。

根據第七十二態樣，提供了該第六十四態樣至該第七十態樣中任一項，其中該製品展現出在使用一2度接受角的一0°入射角下＜ 1的一二表面透射色彩(√(a* ²+b* ²))。

本揭露之第七十三態樣係關於一種消費者電子產品。該消費者電子產品包括：一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面；電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上。該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含該第六十四態樣至該第七十二態樣中任一項所述之製品。在實質上不脫離本揭露之精神及各種原理之情況下，可對本揭露之上述實施例做出許多變型及修改。所有此類修改及變型意欲在本文中包括於本揭露之範疇內且受以下申請專利範圍保護。

10:基板 12,14:主表面 13:厚度 20:結構特徵 21a:第一平面區域 21b:第二平面區域 22a,22a’:第一部分結構特徵 22b,22b’:第二部分結構特徵 24a:第一平均高度/第一平均深度 24b:第二平均高度/第二平均深度 30a:繞射表面區域 30b:粗化表面區域 31:紋理化表面區域 32a:第一部分結構特徵之直徑 32b:第二部分結構特徵之直徑 42a:第一部分結構特徵之節距 42b:第二部分結構特徵之節距 47:週期 50:壓縮應力區域 52:深度 60:抗反射塗層 61:空氣側表面 62:低折射率層 64:高折射率層 100:顯示器製品 200:方法 202,204,206,208:方法步驟 1800:消費者電子裝置 1802:外殼 1804:前表面 1806:背表面 1808:側表面 1810:顯示器 1812:護罩基板

當參考附圖閱讀本揭露之以下詳細描述時，可更好地理解本揭露之此等及其他特徵、態樣及優點。

第1A圖係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之橫剖面示意圖。

第1B圖係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之橫剖面示意圖。

第1C圖係根據本揭露之一實施例的具有抗反射塗層之顯示器製品之橫剖面示意圖。

第1D圖係根據本揭露之一實施例的具有抗反射塗層之顯示器製品之橫剖面示意圖。

第1E圖係根據本揭露之一實施例的具有抗反射塗層之顯示器製品之橫剖面示意圖。

第2圖係根據本揭露之一實施例的繞射防眩結構之橫剖面示意圖。

第3A圖及第3B圖分別係根據本揭露之實施例的反射及透射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩結構之結構深度之函數的繪圖。

第4A圖至第4C圖係根據本揭露之實施例的分別在15%、30%及70%填充分數下反射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩結構之結構深度之函數的繪圖。

第5圖係根據本揭露之實施例的在不同入射光波長下反射之繞射效率作為第2圖所描繪的繞射防眩表面之結構深度與之函數的繪圖。

第6圖係根據本揭露之一實施例的製造顯示器製品之方法之示意流程圖。

第7A圖至第7D圖係根據本揭露之實施例的顯示器製品中所採用的基板之繞射表面區域之光學顯微照片。

第8圖係根據本揭露之實施例的蝕刻深度作為形成顯示器製品中所採用的基板之繞射表面區域之兩個結構特徵的蝕刻時間之函數的繪圖。

第9A圖及第9B圖係根據本揭露之實施例的具有不同大小及填充分數之結構特徵之影像清晰度(distinctness of image，DOI)作為蝕刻深度之函數的繪圖，該等結構特徵係顯示器製品中所採用的基板之繞射表面區域之一部分。

第10A圖及第10B圖係根據本揭露之實施例的具有不同大小及填充分數之結構特徵之像素功率偏差(PPD ₁₄₀)及霧度作為蝕刻深度之函數的繪圖，該等結構特徵係顯示器製品中所採用的基板之繞射表面區域之一部分。

第10C圖及第10D圖係根據本揭露之實施例的具有不同大小及填充分數之結構特徵之像素功率偏差(PPD ₁₄₀)及霧度作為蝕刻深度之函數的繪圖，該等結構特徵係顯示器製品中所採用的基板之繞射表面區域之一部分。

第11A圖係根據本揭露之一實施例的具有第一組結構特徵之繞射表面區域之光學影像及表面高度分佈條，該第一組結構特徵具有約150 nm的深度及約50%的填充分數。

第11B圖係根據本揭露之實施例的具有不同繞射表面區域之三個製品之反射率幅度對反射角度(以度為單位)的角度繪圖。

第12圖係根據本揭露之一實施例的具有繞射表面區域之顯示器製品之反射率幅度對反射角度(以度為單位)的角度繪圖。

第13A圖及第13B圖係根據本揭露之一實施例的在去除製造顯示器製品之方法中所採用的遮罩及蝕刻劑之前及之後的具有繞射表面區域之顯示器製品之光學影像。

第14圖係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之繞射表面區域之結構特徵之影像清晰度(distinctness of image，DOI)作為蝕刻深度之函數的繪圖。

第15圖係根據本揭露之一實施例的繞射表面區域之配置成六角形圖案以描繪六角百分比( H)的七個結構特徵之示意性繪圖。

第16A圖及第16B圖分別係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之繞射表面區域之最近鄰分佈及圖案週期圖繪圖。

第17A圖及第17B圖分別係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之繞射表面區域之最近鄰分佈及圖案週期圖繪圖。

第18A圖係併入本文所揭示之製品中之任一種的示範性電子裝置之平面圖。

第18B圖係第18A圖之示範性電子裝置之透視圖。

第19圖係根據本揭露之一實施例的顯示器製品之彈性模數及硬度對壓入深度之繪圖。

第20A圖係根據本揭露之實施例的顯示器製品及比較顯示器製品之第一表面鏡面反射率對波長之繪圖。

第20B圖及第20C圖係根據本揭露之實施例的顯示器製品及比較顯示器製品之鏡面反射率測量之示意性圖解。

第21圖係根據本揭露之實施例的顯示器製品之二表面總透射率對波長之繪圖。

第22A圖至第22C圖係根據本揭露之實施例的對於各種入射角的第一表面鏡面反射率對波長之繪圖。

第23圖係根據本揭露之實施例的對於6°入射角的二表面鏡面反射率對波長之繪圖。

第24圖係用於測量本揭露之顯示器製品之光學性質之光學裝置的示意圖。

國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

10:基板

12,14:主表面

13:厚度

20:結構特徵

21a:第一平面區域

21b:第二平面區域

22a:第一部分結構特徵

22b:第二部分結構特徵

24a:第一平均高度/第一平均深度

24b:第二平均高度/第二平均深度

30a:繞射表面區域

32a:第一部分結構特徵之直徑

32b:第二部分結構特徵之直徑

42a:第一部分結構特徵之節距

42b:第二部分結構特徵之節距

47:週期

50:壓縮應力區域

52:深度

100:顯示器製品

Claims (36)

1. 一種顯示器製品，包含： 一基板，該基板包含一厚度及一主表面； 一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及 一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上， 其中該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )， 其中該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度， 其中該抗反射塗層包含複數個交替的高折射率層及低折射率層， 其中該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率，且 進一步地其中該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。
2. 如請求項1所述之顯示器製品，其中經塗佈之製品展現出如藉由一玻氏壓頭硬度試驗在該抗反射塗層之一空氣側表面上沿著50 nm或更大的一壓入深度測量的8 GPa或更大的最大硬度。
3. 如請求項1所述之顯示器製品，其中該複數個結構特徵進一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。
4. 如請求項3所述之顯示器製品，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自50 nm至250 nm的一差異。
5. 如請求項3所述之顯示器製品，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自120 nm至200 nm的一差異。
6. 如請求項1-5中任一項所述之顯示器製品，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。
7. 如請求項1-5中任一項所述之顯示器製品，其中該閃爍如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於3%。
8. 如請求項1-5中任一項所述之顯示器製品，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。
9. 如請求項1-5中任一項所述之顯示器製品，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於85%的一影像清晰度(DOI)。
10. 如請求項1-5中任一項所述之顯示器製品，其中該透射率霧度在與法線成0°的一入射角下小於30%。
11. 一種消費者電子產品，包含： 一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面； 電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及 一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上， 其中該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含如請求項1-5中任一項所述之製品。
12. 一種顯示器製品，包含： 一基板，該基板包含一厚度及一主表面； 一紋理化表面區域，該紋理化表面區域係由該主表面界定；及 一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化表面區域上， 其中該紋理化表面區域包含複數個結構特徵及自50 nm至300 nm的一平均紋理高度( R _text )，且 其中該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度， 其中該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層包含總共三(3)至九(9)層， 其中該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率， 其中每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者，且 進一步地其中該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.3%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。
13. 如請求項12所述之顯示器製品，其中該等低折射率層中之一個係直接安置於由該基板之該主表面界定的該紋理化區域。
14. 如請求項13所述之顯示器製品，其中每個低折射率層包含SiO ₂或SiO _x。
15. 如請求項14所述之顯示器製品，其中該抗反射塗層進一步包含一耐刮層，該耐刮層係最厚的該高折射率層，其中該耐刮層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者，具有自50 nm至200 nm的一實體厚度，且進一步地其中該複數個交替的高折射率層及低折射率層之範圍為三(3)至六(6)層。
16. 如請求項15所述之顯示器製品，其中該抗反射塗層之該總實體厚度為自200 nm至350 nm且該耐刮層之該總實體厚度為自約75 nm至175 nm。
17. 如請求項15所述之顯示器製品，其中該抗反射塗層之該總實體厚度為自250 nm至340 nm且該耐刮層之該總實體厚度為自100 nm至160 nm。
18. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該複數個結構特徵進一步包含一第一平均高度及一第二平均高度。
19. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中經塗佈之製品展現出如藉由一玻氏壓頭硬度試驗在該抗反射塗層之一空氣側表面上沿著50 nm或更大的一壓入深度測量的8 GPa或更大的最大硬度。
20. 如請求項18所述之顯示器製品，其中該第一平均高度及該第二平均高度具有自120 nm至200 nm的一差異。
21. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。
22. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該閃爍如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於3%。
23. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。
24. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(DOI)。
25. 如請求項12-17中任一項所述之顯示器製品，其中該透射率霧度在與法線成0°的一入射角下小於30%。
26. 一種消費者電子產品，包含： 一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面； 電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及 一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上， 其中該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含如請求項12-17中任一項所述之製品。
27. 一種顯示器製品，包含： 一基板，該基板包含一厚度及一主表面； 一粗化表面區域，該粗化表面區域係由該主表面界定；及 一抗反射塗層，該抗反射塗層係安置於由該基板之該主表面之該粗化表面區域上， 其中該粗化表面區域包含複數個結構特徵及自20 nm至2000 nm平均紋理高度均方根(RMS)變化的一平均表面粗糙度( R _q )， 其中該基板展現出如在與法線成0°的一入射角下藉由像素功率偏差(PPD ₁₄₀)測量的小於5%的一閃爍、及在與法線成0°的一入射角下小於40%的一透射率霧度， 其中該抗反射塗層包含自200 nm至500 nm的一總實體厚度及複數個交替的高折射率層及低折射率層，其中該抗反射塗層具有總共三(3)至九(9)層， 其中該等低折射率層中之每一個包含小於或等於約1.8的一折射率，且該等高折射率層中之每一個包含大於1.8的一折射率， 其中每個高折射率層包含Si ₃N ₄、SiN _x及SiO _xN _y中之一者，且 進一步地其中該製品展現出在自450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於1%的一第一表面平均適光鏡面反射率(% R)。
28. 如請求項27所述之顯示器製品，其中該等低折射率層中之一個係直接安置於由該基板之該主表面界定的該粗化表面區域。
29. 如請求項28所述之顯示器製品，其中每個低折射率層包含SiO ₂或SiO _x。
30. 如請求項27所述之顯示器製品，其中該基板包含一玻璃基板或一玻璃陶瓷基板。
31. 如請求項27-30中任一項所述之顯示器製品，其中該粗化表面區域包含自50 nm至250 nm平均紋理高度均方根(RMS)變化的一平均表面粗糙度( R _q )。
32. 如請求項27-30中任一項所述之顯示器製品，其中該第一表面平均適光鏡面反射率(% R)在自約450 nm至650 nm的波長處在與法線成約5°至20°的任何入射角下小於0.1%。
33. 如請求項27-30中任一項所述之顯示器製品，其中該基板進一步展現出在與法線成20°的一入射角下小於80%的一影像清晰度(DOI)。
34. 如請求項27-30中任一項所述之顯示器製品，其中該製品展現出在與法線成6°及20°的每個入射角下＜ 0.5的一第一表面反射色彩(√(a* ²+b* ²))。
35. 如請求項27-30中任一項所述之顯示器製品，其中該製品展現出在使用一2度接受角的一0°入射角下＜ 1的一二表面透射色彩(√(a* ²+b* ²))。
36. 一種消費者電子產品，包含： 一外殼，該外殼包含一前表面、一背表面及側表面； 電子組件，該等電子組件至少部分地位於該外殼內，該等電子組件包含一控制器、一記憶體及一顯示器，該顯示器位於該外殼之該前表面處或與之相鄰；及 一護罩基板，該護罩基板係安置於該顯示器之上， 其中該外殼或該護罩基板中之至少一個部分包含如請求項27-30中任一項所述之製品。

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