JP2023553986A - カメラレンズ及びセンサー保護用のカバーガラス物品とそれを備えた装置 - Google Patents

Abstract

外側光学膜構造体がその上に配置された外側主表面と内側光学膜構造体がその上に配置された内側主表面とを有する基板を備えるカバーガラス物品が説明される。前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、最外低屈折率層を含む。前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層とを含む。前記第１の複数の層のうち各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層のうち各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成る。また、該カバーガラス物品は９５％超の平均明所視透過率と、１０ＧＰａ超の最大硬度とを示す。

Description

関連出願

本出願は、２０２０年１２月１１日に出願された米国仮特許出願第６３／１２４３９４号の優先権の利益を主張するものであり、その内容全体を本開示に引用する。

本開示はカメラレンズ及びセンサー保護用のカバーガラス物品、特に、外側及び内側光学膜構造体が設けられた基板を有し高い硬度、明所視透過率、及び赤外透過率を示すカバーガラス物品に関する。

カバーガラス物品は電子製品及びシステム、例えば携帯装置、スマートフォン、コンピュータタブレット、手持ち装置、車両表示器、及び表示器、カメラ、光源、及び／又はセンサーを備える他の電子装置内の重要な装置及び部品を保護するためにしばしば使用される。これらのカバーガラス物品はまた、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶などで使用される物品）、電化製品、又は幾らかの透明性、傷防止性、耐摩耗性、又はそれらの組み合わせを必要とする任意の物品において使用されうる。これらの物品は、例えば運転者支援、自動運転、又は保全用途用に自動車内に配置されたカメラ及び赤外線センサーを備えてもよい。静止監視カメラはまた、破損、傷、又は他の種類の損傷に耐性がある強化カバーガラスを含む保護筐体を必要とする。

カバーガラス物品のこれらの用途はしばしば機械的及び環境耐久性、破損耐性、損傷耐性、傷耐性、及び強い光学性能特性の組み合わせを要求する。例えば、カバーガラス物品は、これらの物品で覆われる又は保護される部品に依って可視波長域、赤外波長域、又は他の波長範囲で高い光透過率及び低反射率を示すように要求されることがある。幾つかの用途では、カバーガラス物品は１つの波長域、例えば可視波長域で動作するカメラ、センサー、及び／又は光源を覆うように要求される。しかし、多くの新たな用途では、単一のカバーガラス物品は様々な波長域で動作する複数のカメラ、センサー、及び光源を覆うように要求される。また、他の新たな用途では、複数のカバーガラス物品は様々な波長域で動作する複数のカメラ、センサー、及び光源を独立して覆うように要求される。

従って、カメラレンズ及びセンサー保護用の改善されたカバーガラス物品、特に高い硬度とこれらに限定されないが明所視透過率及び赤外透過率を含む高い光透過率の組み合わせを示すカバーガラス物品が必要とされている。

本開示の１つの態様によれば、互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備えるカバーガラス物品が提供され、前記基板の前記外側主表面上に外側光学膜構造体が配置され、前記基板の前記内側主表面上に内側光学膜構造体が配置される。前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層とを含む。前記第１の複数の層のうち各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層のうち各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成る。また、該カバーガラス物品は前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、更に該カバーガラス物品は前記外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本開示の別の態様によれば、互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備えるカバーガラス物品が提供され、前記基板の前記外側主表面上に外側光学膜構造体が配置され、前記基板の前記内側主表面上に内側光学膜構造体が配置される。前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層とを含む。前記第１の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、又はＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚから成り、約５ｎｍから２０００ｎｍの物理的厚みを有し、第２の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＨｆＯ_２、又はＡｌ_２Ｏ_３から成り、５ｎｍから５００ｎｍの物理的厚みを有する。また、該カバーガラス物品は、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、更に該カバーガラス物品は、外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本開示の追加の態様によれば、ハウジングと、前記ハウジング内に構成されたカメラ、センサー、及び光源のうち少なくとも１つと、前記ハウジング内の基板とを備える装置が提供され、前記基板は互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有し、カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを覆って配置され、前記基板の前記外側主表面に外側光学膜構造体が配置され、前記基板の前記内側主表面に内側光学膜構造体が配置される。前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面に配置された低又は高屈折率層と、カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを空気間隙を挟んで覆って配置された最内低又は高屈折率層とを含む。前記第１の複数の層の各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層の各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成る。また、前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、更に前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

追加の特徴及び利点は下記の詳細な説明で明らかにされ、その説明から部分的には当業者には容易に明白であるか、又は下記の詳細な説明、請求項、及び添付図面を含む本明細書に記載された実施形態を実施することで理解されるであろう。

上記概要説明と下記の詳細な説明の両方とも単に例示であり、請求項の特質及び特性を理解するための概観又は枠組みを提供するよう意図されていることは理解されるべきである。添付図面は更なる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれ一部をなしている。図面は１つ以上の実施形態を例示し、記述内容と共に様々な実施形態の原理と動作を説明するよう働く。
本開示の実施形態に係るカバーガラス物品（例えば、カメラ、センサーなど用）の側断面図である。 本開示の実施形態に係るカバーガラス物品の側断面図である。 本開示の実施形態に係るハウジングと、カメラ、センサー、及び光源のうち２つ以上と、カバーガラス物品とを備える装置（例えば、携帯電話）の斜視図である。 図２に描かれた装置の線IIＡ‐IIＡに沿った断面図である。 本開示の実施形態に係るハウジングと、カメラ、センサー、及び光源のうち１つ以上と、カメラ、センサー、及び光源を覆う本開示に係る光学膜構造体を一部に有するカバーガラス物品とを備える装置（例えば、携帯電話）の斜視図である。 本開示の実施形態に係るハウジングと、カメラ、センサー、及び光源のうち１つ以上と、カメラ、センサー、及び光源のそれぞれを覆う本開示に係るカバーガラス物品とを備える装置（例えば、携帯電話）の斜視図である。 本開示の実施形態に係るハウジングと、カメラ、センサー、及び光源のうち１つ以上と、カメラ、センサー、及び光源の１つ以上を覆う本開示に係るカバーガラス物品とを備える装置（例えば、携帯電話）の斜視図である。 本開示の実施例１に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例１に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例１に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例１に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例２に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例２に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例２に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例２に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例３に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例３に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例３に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例３に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例４に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例４に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例４に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例４に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例５に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例５に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例５に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例５に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例６に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例６に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例６に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例６に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例７に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例７に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例７に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例７に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例８に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例８に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例８に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例８に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例９に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例９に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例９に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例９に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例１０に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例１０に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施例１０に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射率対波長の垂直入射角でのグラフである。 本開示の実施例１０に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面反射色の０～９０度全入射角に対するグラフである。 本開示の実施形態に係るカバーガラス物品を製造する方法の概略図である。

下記の詳細な説明では、限定ではなく説明のために、特定の詳細を開示する実施形態が明記され本開示の様々な原理の完全な理解を提供する。しかし、本開示はそれらの特定の詳細から逸脱する他の実施形態で実施されてもよいことは、本開示の利益を享受する当業者には明らかであろう。また、周知の装置、方法、及び材料の説明は、本開示の様々な原理の説明を不明瞭にしないために省略されることがある。また、適用可能ならどこでも、類似の符号は類似の部品を指す。

範囲は本明細書で「約」特定の値から及び／又は「約」別の特定の値までとして表されうる。そのような範囲を表す時、別の実施形態はその特定の値から及び／又はその別の特定の値までを含む。同様に、例えば先行する「約」の使用により値が近似値として表される時、その特定の値は別の実施形態を形成することは理解されるであろう。各範囲の端点は他の端点と関連してまた他の端点と独立して意味があることも理解されるであろう。

本書で使用される方向の用語、例えば上方、下方、右、左、前、後、上面、底面は描かれた図を参照してのみ使用され、絶対的な方向を示唆するように意図されていない。

そうでないと明確に記述されていない限り、本書で明らかにされるどんな方法も、特定の順序でそのステップが実行されることを要求していると解釈されることを決して意図していない。従って、方法請求項がそのステップが従う順序を実際に明記しない場合、又は請求項でも説明でもステップが特定の順序に限定されるべきであると明記されていない場合、順序がどんな点でも推測されることは決して意図されていない。この事は、ステップの配列又は動作フローに関する論理事項、文法構成又は句読点から導出される平易な意味、本書で説明される実施形態の数又は種類を含む、解釈のためのどんな可能な非明示の根拠にも当てはまる。

本書で使用されるように、文脈からそうでないと明らかに指示されない限り、英語の単数形「a」、「an」、及び「the」は複数の指示対象を含む。従って、例えば、１つの構成要素への言及は、文脈からそうでないと明らかに示されない限り、２つ以上のそのような構成要素を有する態様を含む。

本書で使用されるように、用語「配置する」は、当分野で任意の既知の又は開発される方法を使って材料を表面上に材料を表面上に被覆する、蒸着する、及び／又は形成することを含む。配置された材料は本書で定義される層を構成してもよい。本書で使用されるように、句「上に配置される」は材料を表面と直接接触するようにその表面上に形成すること、及び材料が１つ以上の介在する材料を挟んで表面上に形成される実施形態を含む。介在する材料は本書で定義される層を構成してもよい。

本書で使用されるように、用語「低ＲＩ層」及び「高ＲＩ層」は本開示に係るカバーガラス物品の光学膜構造体の層の屈折率（ＲＩ）の相対値を指す（即ち、低ＲＩ層＜高ＲＩ層）。従って、低ＲＩ層は高ＲＩ層の屈折率値より小さい屈折率値を有する。また、本書で使用されるように、「低ＲＩ層」及び「低屈折率層」は交換可能で同じ意味を持つ。同様に、「高ＲＩ層」及び「高屈折率層」は交換可能で同じ意味を持つ。

本書で使用されるように、用語「強化された基板」は、例えば基板表面のより小さなイオンのより大きなイオンとのイオン交換により化学的に強化され本開示のカバーガラス物品に使用される基板を指す。しかし、当分野で既知の他の強化方法、例えば熱焼もどし又は基板の部分間の熱膨張係数の不一致を利用して圧縮応力及び中央張力領域を作ることが強化された基板を形成するのに利用されてもよい。

本書で使用されるように、「バーコビッチ圧子硬度試験」及び「バーコビッチ硬度試験」は交換可能に使用され、材料の表面での硬度をダイヤモンドバーコビッチ圧子でその表面を押し込むことで測定するための試験を指す。バーコビッチ圧子硬度試験は本開示のカバーガラス物品の外側又は内側光学膜構造体の最外表面（例えば、露出表面）をダイヤモンドバーコビッチ圧子で押し込み、約５０ｎｍから約１０００ｎｍの範囲（又は外側又は内側光学膜構造体の全体厚みのどちらか小さい方）の押し込み深さまでのへこみを形成し、このへこみから全押し込み深さ範囲又はこの押し込み深さの一部（例えば、約１００ｎｍから約６００ｎｍの範囲）に沿って最大硬度を測定することを含む。この試験はOliver, W.C.; Pharr, G. M. An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments. J. Mater. Res., Vol. 7, No. 6, 1992, 1564-1583;及びOliver, W.C.; Pharr, G.M. Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology. J. Mater. Res., Vol. 19, No. 1, 2004, 3-20に明記された方法を概ね使用する。本書で使用されるように、「硬度」及び「最大硬度」のそれぞれは交換可能に、ある範囲の押し込み深さに沿って測定された最大硬度（平均硬度ではない）を指す。

本書で使用されるように、用語「透過率」は材料（例えば、物品、基板、又は光学膜もしくはその一部）を透過する指定された波長範囲内の入射光パワーの割合と定義される。用語「反射率」は材料（例えば、物品、基板、又は光学膜もしくはその一部）から反射される指定された波長範囲内の入射光パワーの割合と定義される。透過率及び反射率は特定の線幅を使って測定される。本書で使用されるように、「平均透過率」は材料を透過する入射光パワーの規定波長領域に亘る平均量を指す。本書で使用されるように、「平均反射率」は材料によって反射される入射光パワーの平均量を指す。

本書で使用されるように、「明所視反射率」は人間の目の応答を人間の目の感度に従って反射率又は透過率を波長スペクトルに対して重み付けすることで模倣する。明所視反射率はまた、ＣＩＥ色空間規格などの知られた規格に従って反射光の輝度又は三刺激Ｙ値と定義されてもよい。３８０ｎｍから７２０ｎｍの波長範囲について本書で使用される「平均明所視反射率」は下記の式でスペクトル反射率Ｒ(λ)に光源スペクトルＩ(λ)と目のスペクトル応答に関係するＣＩＥ等色関数ｙ^－(λ)を掛けたものと定義される。

また、「平均反射率」は当業者が理解する測定原理に従って可視波長域又は８４０ｎｍから９５０ｎｍの赤外波長域などの他の波長範囲に亘って測定されうる。そうでないと記述されない限り、本開示において報告されるか又は参照される全ての反射率値は、基板の両主表面及びカバーガラス物品の光学膜構造体を通す試験、例えば２表面平均明所視反射率に関連する。

カメラシステムの使い易さはカメラシステムの全反射量に関係しうる。明所視反射率は可視光カメラシステムにとって特に重要である。カメラシステム又はカメラレンズを覆うカバーガラスのより低い反射率は、カメラシステムにおけるゴースト像を生成しうる多重はね返り反射を低減しうる。従って、反射率はカメラシステムにおける画像品質と重要な関係がある。

本書で使用されるように、「明所視透過率」は下記の式でスペクトル透過率Ｔ(λ)に光源スペクトルＩ(λ)と目のスペクトル応答に関係するＣＩＥ等色関数ｙ^－(λ)を掛けたものと定義される。

また、「平均透過率」は当業者が理解する測定原理に従って可視波長域又は８４０ｎｍから９５０ｎｍの赤外波長域などの他の波長範囲に亘って測定されうる。そうでないと記述されない限り、本開示において報告されるか又は参照される全ての透過率値は、基板の両主表面及びカバーガラス物品の光学膜構造体を通す試験、例えば２表面平均明所視透過率に関連する。

本書で使用されるように、「透過色」及び「反射色」は、Ｄ６５光源下のＣＩＥ Ｌ^＊,ａ^＊,ｂ^＊表色系の色に関して本開示のカバーガラス物品を透過した又は反射された色を指す。より具体的には、「透過色」及び「反射色」は、√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)によって与えられるが、これはこれらの色座標は、例えば０度から１０度の入射角範囲に亘ってカバーガラス物品の基板の主表面を通るＤ６５光の透過率又は反射率により測定されるからである。

本開示は概ね強化ガラス基板（例えば、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ Ｇｌａｓｓ（登録商標）製品）を含む基板と外側及び内側光学膜構造体を使用するカバーガラス物品に向けられる。これらのカバーガラス物品は高硬度と傷耐性と低光反射を有する。本開示の光学膜構造体は新しい多層膜構造体を示し、本開示のカバーガラス物品はカメラレンズ、センサー、及び／又は光源保護ガラス用に構成された新しいシステムレベル構成を反映する。傷及び反射は両方ともカメラ、センサー、及び光源性能に有害であり、信号喪失、画像歪み、及び関連する画像乱れを引き起こす。しかし、電子装置におけるカメラ、センサー、及び光源の数が増加し撮像及び検知の必要性が増大し続けている時、最適化された傷及び損傷耐性と広い波長域に亘る光透過率とを有する保護カバーガラス物品の必要性が増大し続ける。本開示のカバーガラス物品はこれらの増大する必要性に新しい光学膜構造体とシステムレベル構成で対処する。

本開示のカバーガラス物品はカメラレンズ、センサー、及び／又は光源保護（他の部品、例えばボタン、スピーカー、マイクロホンなどの保護と共に）のために使用されうる。これらのカバーガラス物品は高硬度と所望の光学特性（高明所視透過率及び赤外透過率を含む）の組み合わせを示す外側及び内側光学膜構造体を使用する。カバーガラス物品は傷防止層を外側及び内側光学膜構造体の一方又は両方内に含みうる。また、これらの物品の光学膜構造体は、複数の交互する高及び低屈折率層を含みうり、各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成り、各低屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成る。

機械的特性に関して、カバーガラス物品はバーコビッチ硬度試験により外側光学膜構造体における１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘って測定された１０ＧＰａ以上の最大硬度を示しうる。光学特性に関して、カバーガラス物品は０～４０度の入射角で基板の主表面を通して測定された９５％又は９７％さえ超える平均明所視透過率を示しうる。カバーガラス物品はまた、０～１０度の入射角で８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで測定された８５％超の赤外透過率を示しうる。また、カバーガラス物品は、０～１０度、０～２０度、０～６０度の入射角、又は０～９０度の全入射角で２以下の低透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を示す。

これらのカバーガラス物品はカメラ及び／又はセンサー組立体と共にカメラ／センサーシステムとして使用されうる。例えば、システムは１）撮像センサー、赤外線（ＩＲ）センサー、又は任意の種類の光センサーであってよいセンサー、２）入射光を集束させる、平行光線にする、又は成形するレンズ、複数のレンズ、又はレンズ状システム、３）光源、及び４）本開示の両面カバーガラス物品の１つ以上を含みうる。これらのシステムの幾つかの態様では、外側及び内側光学膜構造体を有する単一のカバーガラス物品は、複数のセンサー、レンズ、及び／又は光源の保護カバーとして使用される。これらの複数のセンサーはまた、１つ以上の赤外線センサー（ＩＲ飛行時間センサー又は光検出及び測距（ＬＩＤＡＲ）センサーなど）と組み合わされた１つ以上のカメラを含みうる。他の関係する態様では、外側及び内側光学膜構造体を有する複数のカバーガラス物品は独立して複数のセンサー、レンズ、及び／又は光源を保護するのに使用される。追加の関係する態様では、本開示に従って構成された外側及び内側光学膜構造体によって画定された１つ以上の部分を有するカバーガラス物品は、１つ以上のセンサー、レンズ、及び／又は光源を保護するのに使用されうる。

また、本開示のカバーガラス物品はカメラ又はＩＲシステムの性能を改善し保護するために最適化されうる。基板の各主面上の外側及び内側光学膜構造体は反射を低減し、カメラ／センサーシステムにおけるゴースト像、画像フレア、画像ブルーム、及び他の画像乱れを低減する。外側光学膜構造体の最外表面の高硬度は、ひっかき傷及び他の形態の機械的損傷（例えば画像乱れ、ぼやけ、又は低下したＩＲセンサー感度を生じさせカメラ又はセンサーシステムの性能を時間と共に劣化させ易い）への高い耐性を提供する。これらのカメラ／センサーシステムはスマートフォン、車両カメラ、及びセンサーシステムの表と裏組立体などの用途で普及しつつある。

図１Ａ及び１Ｂを参照すると、１つ以上の実施形態に係るカバーガラス物品１００は基板１１０と基板１１０上に配置された外側光学膜構造体１３０ａと内側光学膜構造体１３０ｂとを含んでよい。基板１１０は互いに反対側の主表面１１２、１１４と互いに反対側の副表面１１６、１１８とを有する。外側光学膜構造体１３０ａが図１Ａ及び１Ｂに示すように第１主表面１１２上に配置され、内側光学膜構造体１３０ｂが反対側の第２主表面１１４に配置される。また、幾つかの実施形態によれば、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂの１つ以上が互いに反対側の副表面１１６、１１８の一方又は両方上に追加で配置されうる。

外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれは少なくとも１つの材料層を含む。本書で使用されるように、用語「層」は単一層又は１つ以上のサブ層を含んでよい。このようなサブ層は互いに直接接触してもよい。サブ層は同じ材料、又は２つ以上の異なる材料から形成されてもよい。１つ以上の他の実施形態では、このようなサブ層はそれらの間に配置された異なる材料の介在層を有してもよい。１つ以上の実施形態では、１つの層は１つ以上の隣接した途切れのない層及び／又は１つ以上の不連続で途切れた層（即ち、互いに隣接して形成された異なる材料を有する層）を含んでもよい。１つの層又はサブ層は、個別蒸着又は連続蒸着プロセスを含む当分野で既知の任意の方法で形成されてよい。１つ以上の実施形態では、層は連続蒸着プロセスだけ又は或いは個別蒸着プロセスだけを使って形成されてもよい。

１つ以上の実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれの単一層又は複数の層は基板１１０上に真空蒸着法、例えば化学気相成長（例えば、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学気相成長、大気圧化学気相成長、及びプラズマ大気圧化学気相成長）、物理的気相成長（例えば、反応性又は非反応性スパッタリング又はレーザーアブレーション）、熱又は電子ビーム蒸発、及び／又は原子層蒸着により配置されてもよい。液体ベース法、例えば噴霧、浸漬、スピン被覆、又はスロット被覆（例えば、ゾル‐ゲル材料を使用する）も使用してよい。一般に、気相成長法は薄膜を生成するのに使用されうる様々な真空蒸着法を含んでもよい。例えば、物理的気相成長は物理的処理（例えば、加熱又はスパッタリング）を使用して材料蒸気を生成し、材料蒸気は被覆する物体上に堆積する。外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂを製造する好適な方法は反応性スパッタリング、金属モード反応性スパッタリング、及びＰＥＣＶＤ法を含む。

外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれは約１００ｎｍから約１０μｍの厚みを有しもよい。例えば、光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂは約２００ｎｍ以上、３００ｎｍ、３２５ｎｍ、３５０ｎｍ、３７５ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、又は８μｍ以上で約１０μｍ以下の厚みを有してもよい。外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂは同じ厚み又は異なる厚みを有してよい。

１つ以上の実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂは図１Ａ及び１Ｂに示すようにそれぞれ第１及び第２傷防止層１５０ａ及び１５０ｂを含む又はから成ってもよい。例えば、主表面１１２上に配置された傷防止層１５０ａと主表面１１４上に配置された傷防止層１５０ｂとを含むカバーガラス物品１００が図１Ａ及び１Ｂに描かれている。１つの実施形態によれば、傷防止層１５０ａ及び１５０ｂは、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ／ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ダイヤモンド状炭素、又はそれらの組み合わせから選択された１つ以上の材料から成ってよい。傷防止層１５０ａ及び１５０ｂで使用される代表的な材料は無機カーバイド、窒化物、酸化物、ダイヤモンド状材料、又はそれらの組み合わせを含んでよい。傷防止層１５０ａ及び１５０ｂのための適切な材料の例は、金属酸化物、金属窒化物、金属オキシ窒化物、金属炭化物、金属オキシ炭化物、及び／又はそれらの組み合わせを含む。代表的な金属はＢ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、及びＷを含む。傷防止層１５０ａ、１５０ｂに使用されうる材料の具体的例は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙ、及びそれらの組み合わせを含んでよい。幾つかの実施形態では、傷防止層１５０ａ、１５０ｂはＴａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＳｉＮ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、及びそれらの組み合わせを含んでよい。他の実施形態では、傷防止層１５０ａ、１５０ｂの１つ以上は超格子のナノ層ＡｌＮ_ｘ／ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙであってよい。これは２０１８年２月１日に公開された米国特許出願公開第２０１８／００２９９２９号に詳述されており、その重要な部分を本開示に引用する。幾つかの実施形態では、傷防止層１５０ａ、１５０ｂのそれぞれは約１ＭＰａ√ｍを超える破壊靭性値を示し、同時にバーコビッチ硬度試験により測定された約１０ＧＰａを超える硬度値を示す。

１つ以上の実施形態では、傷防止層１５０ａ、１５０ｂのそれぞれは組成勾配を有してもよい。例えば、傷防止層１５０ａ、１５０ｂはＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙの組成勾配を含んでもよく、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、及びＮのいずれか１つ以上の濃度が変えられ屈折率を増加又は減少させる。屈折率勾配はまた、孔隙率を使って形成されてもよい。このような勾配は２０１４年１１月１３日に公開された米国特許出願公開第２０１４／０３３４００６号により完全に記載されており、その全体を本書に引用する。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバー物品１００に代表的に示された傷防止層１５０ａ、１５０ｂのそれぞれは、他の層（例えば、低ＲＩ層１３０Ａ、高ＲＩ層１３０Ｂ、キャッピング層１３１など）と比べて相対的に厚く、例えば約５０ｎｍ以上、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、３００ｎｍ、３２５ｎｍ、３５０ｎｍ、３７５ｎｍ、４００ｎｍ、４２５ｎｍ、４５０ｎｍ、４７５ｎｍ、５００ｎｍ、５２５ｎｍ、５５０ｎｍ、５７５ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、又は８μｍ以上であってよい。例えば、傷防止層１５０ａ、１５０ｂは約５０ｎｍから約１０μｍ、約１００ｎｍから約１０μｍ、約１５０ｎｍから約１０μｍの厚み及びそれらの範囲間の全ての厚み値と範囲の厚みを有してもよい。

図１Ａ及び１Ｂに示し概略述べたように、本開示のカバーガラス物品１００は外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂを含む。光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂのそれぞれは、複数の交互する低及び高屈折率（ＲＩ）層１３０Ａ及び１３０Ｂを含む。幾つかの実施形態によれば、光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれは、２つ以上の層（例えば、低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂ）から成る周期１３２を含む。また、光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれは、複数の周期１３２、例えば３～３０周期、３～２５周期、３～２０周期、及びこれらの範囲内の全ての周期を含んでもよい。また、光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂの周期１３２の数及び／又は層の数は異なりうる。また、幾つかの好適な実施形態では、光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂの周期１３２の数は、各構造体１３０ａ、１３０ｂが少なくとも５層、例えば交互する低及び高ＲＩ層１３０Ａ及び１３０Ｂの合計少なくとも５層（例えば、２周期１３２と追加のキャッピング層１３１、低ＲＩ層１３０Ａ、又は高ＲＩ層１３０Ｂ）を含むように構成されうる。他の実施形態では、周期１３２は３層、例えば低ＲＩ層１３０Ａ、中ＲＩ層（図１Ａ及び１Ｂに不図示）、及び高ＲＩ層１３０Ｂから成る周期でありうり、中ＲＩ層は低ＲＩ層１３０Ａと高ＲＩ層１３０Ｂの間の屈折率を有する。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバー物品１００の幾つかの実施形態では、外側光学膜構造体１３０ａは第１の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａを含み、最外低屈折率層１３０Ａが露出している（例えば、空気に）。幾つかの実施形態では、最外低屈折率層はキャッピング層１３１であり、外側光学膜構造体１３０ａの最外層として働き、低ＲＩ層１３０Ａと同じ組成及び屈折率範囲を有する。幾つかの実施形態によれば、外側光学膜構造体１３０ａの最外層１３０Ａ／１３１は露出せず上面被膜１４０がその上に配置されることがある（図１Ａ及び１Ｂ参照）。幾つかの実施形態では、外側光学膜構造体１３０ａの各高ＲＩ層１３０Ｂは窒化物（例えば、ＳｉＮ_ｘ）又はオキシ窒化物（例えば、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ）から成る。別の実施形態（図１Ａ及び１Ｂに代表的に示された）では、第１の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａは、基板１１０の外側主表面１１２に接触する低屈折率層１３０Ａを更に含む。また、カバーガラス物品１００の実施形態は、第１の複数の交互する高及び低屈折率層が高ＲＩ層１３０Ｂと同じ組成と少なくとも５０ｎｍの物理的厚みを有する第１傷防止層１５０ａを更に含むように構成されうる。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の幾つかの実施形態によれば、内側光学膜構造体１３０ｂは第２の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａを含む。また、これら第２の複数の交互する層は基板１１０の内側主表面１１４に配置された低屈折率層１３０Ａ又は高屈折率層１３０Ｂと最内（即ち、図１Ａ及び１Ｂに描かれた物品１００の底に向かって）低屈折率層１３０Ａ又は高屈折率層１３０Ｂを含む。幾つかの例では、最内低屈折率層１３０Ａ又は高屈折率層１３０Ｂは露出する。幾つかの実施形態によれば、内側光学膜構造体１３０ｂの第２の複数の交互する層の最内層１３０Ａ／１３０Ｂは最内キャッピング層１３１として働きうる。最内キャッピング層１３１は内側光学膜構造体１３０ｂの最内層（低ＲＩ層１３０Ａ又は高ＲＩ層１３０Ｂと同じ組成と屈折率範囲を有する、図１Ａ及び１Ｂ参照）として働く。幾つかの実施形態では、内側光学膜構造体１３０ｂの各高ＲＩ層１３０Ｂは酸化物（例えば、Ｎｂ_２Ｏ_５）又は窒化物（例えば、ＳｉＮ_ｘ）から成る。別の実施形態では、第２の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａは、基板１１０の内側主表面１１４に接触する低屈折率層１３０Ａ（図１Ａに代表的に示された）又は高屈折率層１３０Ｂ（図１Ｂに代表的に示された）を更に含む。また、カバーガラス物品１００の実施形態は、第２の複数の交互する高及び低屈折率層１３０Ｂ及び１３０Ａが高ＲＩ層１３０Ｂと同じ組成と少なくとも５０ｎｍの物理的厚みを有する第２傷防止層１５０ｂを更に含むように構成されうる。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の１つ以上の実施形態では、用語「低ＲＩ」は、低ＲＩ層１３０Ａ及び／又はキャッピング層１３１と共に使用される時、約１．３から約１．７又は１．７５の範囲を含む。１つ以上の実施形態では、用語「高ＲＩ」は、高ＲＩ層１３０Ｂ及び／又は傷防止層１５０ａ、１５０ｂと共に使用される時、約１．７から約２．５の範囲（例えば、約１．８５以上）を含む。１つ以上の実施形態では、用語「中ＲＩ」は、周期１３２の第３層と共に使用される時、約１．５５から約１．８の範囲を含む。幾つかの実施形態では、低ＲＩ、高ＲＩ、及び／又は中ＲＩの範囲は部分的に重なってもよいが、大多数の例では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのそれぞれの層はＲＩに関して概ね低ＲＩ＜中ＲＩ＜高ＲＩの関係がある（中ＲＩが３層周期の場合で使用される場合）。１つ以上の実施形態では、低ＲＩ層１３０Ａ（及び／又はキャッピング層１３１）及び高ＲＩ層１３０Ｂ（及び／又は傷防止層１５０ａ、１５０ｂ）のそれぞれの屈折率の違いは約０．０１以上、約０．０５以上、約０．１以上、又は約０．２以上であってよい。

例として、図１Ａ及び１Ｂで、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂの周期１３２は低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを含んでよい。複数の周期が外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂのどちらか又は両方に含まれる時、低ＲＩ層１３０Ａ（「Ｌ」と呼ぶ）及び高ＲＩ層１３０Ｂ（「Ｈ」と呼ぶ）は次の層順序、Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ...又はＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌ...で交互して、低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂが光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの物理的厚みに沿って交互しうる。図１Ａに描かれた実施形態では、外側光学膜構造体１３０ａは２つの周期１３２とキャッピング層１３１を含み、各周期１３２は低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを含む。図１Ａに描かれた実施形態ではまた、内側光学膜構造体１３０ｂは４つの周期１３２とキャッピング層１３１を含み、各周期１３２は低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを含む。図１Ｂに描かれた実施形態では、外側光学膜構造体１３０ａは２つの周期１３２とキャッピング層１３１を含み、各周期１３２は低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを含む。図１Ｂに描かれた実施形態ではまた、内側光学膜構造体１３０ｂは４つの周期１３２と追加の高ＲＩ層１３０Ｂを含み、各周期１３２は高ＲＩ層１３０Ｂ及び低ＲＩ層１３０Ａを含む。幾つかの実施形態では、前述したように、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂのそれぞれは３０個までの周期１３２を含んでよい。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の外側及び内側光学膜構造体１３０ａ及び１３０ｂで使用するのに適した材料例は、限定されないが、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙ、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、ＣｅＦ_３、ダイヤモンド状炭素、及びそれらの組み合わせを含む。低ＲＩ層１３０Ａで使用するのに適した材料の幾つかの例は、限定されないが、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙ、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ_ｘＯ_ｙ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、及びＣｅＦ_３を含む。カバーガラス物品１００の幾つかの実施形態では、各低ＲＩ層１３０ＡはＳｉＯ_２又はＭｇＦ_２を含む。低ＲＩ層１３０Ａで使用される材料（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３及びＭｇＡｌ_ｘＯ_ｙなどの材料）の窒素含有量は最小にされてもよい。高ＲＩ層１３０Ｂで使用するのに適した材料の幾つかの例は、限定されないが、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ／ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、及びダイヤモンド状炭素を含む。幾つかの実施形態によれば、カバーガラス物品１００の外側光学膜構造体１３０ａの各高ＲＩ層１３０ＢはＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、又はＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚを含む。他の実施形態では、１つ以上の高ＲＩ層１３０Ｂは超格子ナノ層ＡｌＮ_ｘ／ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙであってもよい。また、カバー物品１００の幾つかの実施形態は、内側光学膜構造体１３０ｂがＳｉＮ_ｘ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、又はＡｌ_２Ｏ_３を含むように構成される。１つ以上の実施形態では、高ＲＩ層１３０Ｂは高硬度（例えば、８ＧＰａ超の硬度）を有してもよく、上記列挙された高ＲＩ材料は高硬度及び／又は傷耐性を有してもよい。

高ＲＩ層１３０Ｂの材料、特にＳｉＮ_ｘ又はＡｌＮ_ｘ材料の酸素含有量は最小にされてもよい。ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ材料は酸素が添加されたＡｌＮ_ｘ（即ち、ＡｌＮ_ｘ結晶構造（例えば、ウルツ鉱）を持ちＡｌＯＮ結晶構造を持つ必要はない）であると考えてよい。代表的なＡｌＯ_ｘＮ_ｙ又はＳｉＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は約０原子％から約２０原子％酸素又は約５原子％から約１５原子％酸素と３０原子％から約５０原子％窒素を含んでもよい。代表的なＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ高ＲＩ材料は約１０原子％から約３０原子％又は約１５原子％から約２５原子％ケイ素、約２０原子％から約４０原子％又は約２５原子％から約３５原子％アルミニウム、約０原子％から約２０原子％又は約１原子％から約２０原子％酸素、及び約３０原子％から約５０原子％窒素を含んでもよい。上記材料は約３０質量％まで水素添加されてもよい。中屈折率を有する材料が中ＲＩ層として望まれる場合、幾つかの実施形態はＡｌＮ及び／又はＳｉＯ_ｘＮ_ｙを使用してもよい。第１又は第２傷防止層１５０ａ、１５０ｂは高ＲＩ層１３０Ｂに使用するのに適すると開示された材料のいずれから成ってもよいことは理解されるべきである。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の実施形態では、主にＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、及び／又はＳｉＯ_ｘＮ_ｙの組み合わせから成る外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂは高硬度、光透過性、及び化学及び環境耐久性の故に幾つかの用途で有利であると分かっている。例えば、これらの材料でできた多層被覆試料（例えば、これらの光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの代表となる）に、４００グリットＡｌ_２Ｏ_３サンドペーパーで５０摩耗サイクル（１ｃｍ^２接触面積当たり負荷１ｋｇ）の前摩耗と続く３５℃の５％ＮａＣｌ水溶液に７日間漬けることから成る厳しい化学耐久性試験が行われた。ＮａＣｌ溶液浸漬前後で腐食、分解、剥離も、他の目に見える変化も、化学処置後にこれらの材料及びこれらの材料でできた多層膜の光学顕微鏡検査を行って観察されなかった。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の１つ以上の実施形態では、外側及び／又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂは高ＲＩ層１３０Ｂとして一体化される傷防止層１５０ａ、１５０ｂを含んでもよく、１つ以上の低ＲＩ層１３０Ａ、高ＲＩ層１３０Ｂ、及び／又はキャッピング層１３１が傷防止層１５０ａ、１５０ｂ上に配置されてよい。また、第１傷防止層１５０ａに関して、図１Ａ及び１Ｂに示されているように、任意選択の上面被膜１４０も傷防止層１５０ａ上に配置されてよい。傷防止層１５０ａ、１５０ｂは全体外側及び／又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ内又は全体カバーガラス物品１００内の最も厚い高ＲＩ層１３０Ｂと規定されてもよい。理論に縛られることなく、相対的に薄い量の材料が傷防止層１５０ａ、１５０ｂ上に配置されるなら、カバーガラス物品１００は押し込み深さにおいて増加した硬度を示すことがあると考えられている。しかし、傷防止層１５０ａ、１５０ｂ上に低ＲＩ層１３０Ａ及び高ＲＩ層１３０Ｂを設けることは、カバーガラス物品１００の光学特性を改善することがある。幾つかの実施形態では、相対的に数層（例えば、１、２、３、４、又は５層）が傷防止層１５０ａ、１５０ｂ上に配置されてよく、これらの層はそれぞれ相対的に薄くてもよい（例えば、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、又は２５ｎｍ未満）。

１つ以上の実施形態では、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、外側光学膜構造体１３０ａ上に配置された１つ以上の追加の上面被膜１４０を含んでもよい。１つ以上の実施形態では、追加の上面被膜１４０は洗浄し易い被膜であってもよい。適切な洗浄し易い被膜の例は、２０１４年４月２４日に公開された米国特許出願公開第２０１４／０１１３０８３号に記載されており、その全体を本書に引用する。洗浄し易い被膜は約５ｎｍから約５０ｎｍの範囲内の厚みを有し、フッ素化シランなどの既知の材料から成ってもよい。洗浄し易い被膜は或いは又は加えて低摩擦被膜又は表面処理を含んでもよい。代表的な低摩擦被膜材料はダイヤモンド状炭素、シラン（例えば、フルオロシラン）、ホスホン酸塩、アルケン、及びアルキンを含んでもよい。幾つかの実施形態では、上面被膜１４０の洗浄し易い被膜は約１ｎｍから約４０ｎｍ、約１ｎｍから約３０ｎｍ、約１ｎｍから約２５ｎｍ、約１ｎｍから約２０ｎｍ、約１ｎｍから約１５ｎｍ、約１ｎｍから約１０ｎｍ、約５ｎｍから約５０ｎｍ、約１０ｎｍから約５０ｎｍ、約１５ｎｍから約５０ｎｍ、約７ｎｍから約２０ｎｍ、約７ｎｍから約１５ｎｍ、約７ｎｍから約１２ｎｍ、約７ｎｍから約１０ｎｍ、約１ｎｍから約９０ｎｍ、約５ｎｍから約９０ｎｍ、約１０ｎｍから約９０ｎｍ、又は約５ｎｍから約１００ｎｍの範囲及びそれらの間の全ての範囲及び部分範囲内の厚みを有してよい。

上面被膜１４０は傷防止層１５０ａ及び／又は１５０ｂで使用するのに適していると開示された材料のいずれかから成る傷防止層１５０ａ、１５０ｂを含んでもよい。幾つかの実施形態では、追加の上面被膜１４０は洗浄し易い材料と傷防止材料の組み合わせから成る。１つの例では、その組み合わせは洗浄し易い材料とダイヤモンド状炭素を含む。このような追加の上面被膜１４０は約５ｎｍから約２０ｎｍの範囲内の厚みを有してもよい。追加の被膜１４０の構成要素は別々の層として設けられてもよい。例えば、ダイヤモンド状炭素は第１層として配置され、洗浄し易い材料はダイヤモンド状炭素の第１層上に第２層として配置されうる。第１層及び第２層の厚みは追加の被膜について上述した範囲内であってよい。例えば、ダイヤモンド状炭素の第１層は約１ｎｍから約２０ｎｍ又は約４ｎｍから約１５ｎｍ（又はより具体的には約１０ｎｍ）の厚みを有してもよく、洗浄し易い材料の第２層は約１ｎｍから約１０ｎｍ（又はより具体的には約６ｎｍ）の厚みを有してよい。ダイヤモンド状被膜は４面体非晶質炭素（Ｔａ‐Ｃ）、Ｔａ‐Ｃ：Ｈ、及び／又はａ‐Ｃ‐Ｈを含んでもよい。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の実施形態によれば、外側光学膜構造体１３０ａの各高ＲＩ層１３０Ｂは、約５ｎｍから約２０００ｎｍ、約５ｎｍから約１５００ｎｍ、約５ｎｍから約１０００ｎｍの範囲の、及びこれらの値の間の全ての厚み及び範囲の物理的厚みを有しうる。例えば、これらの高ＲＩ層１３０Ｂは５ｎｍ、１０ｎｍ、２０ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、２５０ｎｍ、５００ｎｍ、７５０ｎｍ、１０００ｎｍ、１２５０ｎｍ、１５００ｎｍ、１７５０ｎｍ、２０００ｎｍ、及びこれらの値の間の全ての厚み値の物理的厚みを有しうる。また、内側光学膜構造体１３０ｂの各高ＲＩ層１３０Ｂは、約５ｎｍから約５００ｎｍ、約５ｎｍから約４００ｎｍ、約５ｎｍから約３００ｎｍの範囲の、及びこれらの値の間の全ての厚み及び範囲の物理的厚みを有しうる。例として、これらの高ＲＩ層１３０Ｂのそれぞれは５ｎｍ、１０ｎｍ、２０ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、３００ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、及びこれらの値の間の全ての厚み値の物理的厚みを有しうる。また、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の幾つかの実施形態によれば、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの各低ＲＩ層１３０Ａは、約５ｎｍから３００ｎｍ、約５ｎｍから２５０ｎｍ、約５ｎｍから２００ｎｍの、及びこれらの値の間の全ての厚み及び範囲の物理的厚みを有しうる。例えば、これらの低ＲＩ層１３０Ａのそれぞれは５ｎｍ、１０ｎｍ、２０ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、３００ｎｍ、及びこれらの値の間の全ての厚み値の物理的厚みを有しうる。

１つ以上の実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの層の少なくとも１つ（例えば、低ＲＩ層１３０Ａ又は高ＲＩ層１３０Ｂ）は特定の光学厚み（又は光学厚み範囲）を有してもよい。本書で使用されるように、用語「光学厚み」は層の物理的厚みと屈折率の積を指す。１つ以上の実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの層の少なくとも１つは、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、又は約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲内の光学厚みを有してもよい。幾つかの実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの全ての層はそれぞれ、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、又は約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲内の光学厚みを有してもよい。幾つかの実施形態では、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂのどちらか又は両方の少なくとも１つの層は約５０ｎｍ以上の光学厚みを有する。幾つかの実施形態では、各低ＲＩ層１３０Ａは約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、又は約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲内の光学厚みを有する。幾つかの実施形態では、各高ＲＩ層１３０Ｂは約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、又は約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲内の光学厚みを有する。３層周期１３２を含む実施形態では、各中ＲＩ層は約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、又は約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲内の光学厚みを有する。幾つかの実施形態では、傷防止層１５０ａ及び／又は１５０ｂは外側及び／又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂにおける最も厚い層であり、及び／又は光学膜構造体内のどんな他の層よりも高い屈折率を有する。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の基板１１０は無機材料を含んでもよく、非晶質基板、結晶質基板、又はそれらの組み合わせから成ってもよい。基板１１０は人工材料及び／又は天然の材料（例えば、石英及び重合体）から形成されてもよい。例えば、幾つかの例では、基板１１０は有機と特徴付けられ具体的には重合体であってよい。適切な重合体の例は、限定されないが、ポリスチレン（ＰＳ）（スチレン共重合体及び混合物を含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（共重合体及び混合物を含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンテレフタレート共重合体を含む共重合体及び混合物を含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）及び環状ポリオレフィン（環状ＰＯ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含むアクリルポリマー（共重合体及び混合物を含む）、熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、及びこれらの重合体の混合物を含む熱可塑性樹脂を含む。他の代表的な重合体はエポキシ、スチレン、フェノール、メラミン、及びシリコーン樹脂を含む。

幾つかの特定の実施形態では、基板１１０は具体的に重合体、プラスチック、及び／又は金属基板を除外してよい。基板１１０はアルカリ含有基板（即ち、1つ以上のアルカリを含む基板）と特徴付けられてもよい。１つ以上の実施形態では、基板１１０は約１．４５から約１．５５の範囲内の屈折率を示す。特定の実施形態では、基板１１０は１つ以上の主表面の表面における０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上、１．５％以上、又は２％以上の平均破断歪み（ボール・オン・リング試験を使い少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５、又は少なくとも２０個の試料を使って測定された）を示してもよい。特定の実施形態では、基板１１０は１つ以上の主表面の表面における約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％、又は約３％以上の平均破断歪みを示してもよい。

用語「破断歪み」はひび割れが追加の負荷の印加なしに外側又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ、基板１１０、又は両方内を同時に伝搬する時の歪みを指し、特定の材料、層、又は膜及び多分別の材料、層、又は膜（本書に記述された）へのブリッジの破局的な破断を通常引き起こす。即ち、基板１１０の破損のない光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの破損が破断であり、基板１１０の破損も破断である。平均破断歪み又は任意の他の特性について使用される時の用語「平均」は５つの試料のそのような特性の測定値の数学的平均に基づく。通常、ひび割れ開始歪み測定値は通常実験室条件下で再現されうり、多数の試料で測定されたひび割れ開始歪みの標準偏差は観測された歪みの０．０１％位の小ささでありうる。本書で使用される平均破断歪みはリング・オン・リング張力試験を使って測定された。しかし、そうでないと記述されない限り、本書に記載された破断歪み測定値は、２０１８年７月５日に公開された国際公開第２０１８／１２５６７６号に記載されているリング・オン・リング試験による測定値を指す。この文献全体を本書に引用する。

適切な基板１１０は約３０ＧＰａから約１２０ＧＰａの範囲の弾性率（又はヤング率）を示しうる。幾つかの例では、基板１１０の弾性率は約３０ＧＰａから約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａから約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａから約１２０ＧＰａの範囲、及びそれらの間の全ての範囲及び部分範囲内であってよい。幾つかの例では、ヤング率は音響共振（ＡＳＴＭ Ｅ１８７５）、共鳴超音波分光法、又はバーコビッチ圧子を使ったナノ押し込みにより測定されてよい。

１つ以上の実施形態では、非晶質基板はガラスから成っていてよく、そのガラスは、強化されていても、いなくてもよい。適切なガラスの例は、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、及びアルカリアルミノホウケイ酸ガラスを含む。幾つかの変形例では、そのガラスは酸化リチウムを含まないことがある。１つ以上の他の実施形態では、基板１１０は、結晶質基板、例えば、ガラスセラミック基板（強化されていても、いなくてもよい）から成るか、又は単結晶構造体、例えば、サファイアから成ってよい。１つ以上の特定の実施形態では、基板１１０は、非晶質ベース（例えば、ガラス）及び結晶質クラッド（例えば、サファイア層、多結晶アルミナ層及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ_ｘＯ_ｙ）層）を含む。ガラスセラミック基板は１つ以上の結晶相、例えば二ケイ酸リチウム、葉長石、ベータ石英、又はベータリシア輝石（構造体内の残留ガラスと結合されうる）を含んでもよい。これらのガラスセラミック基板は望ましくは光学的に透明で化学的に強化されていてよく、例えば米国特許第１０６１１６７５号、米国特許出願公開第２０２０／０２３１４９１号、米国特許出願公開第２０２０／０２２３７４４号、及び米国特許出願公開第２０２０／０１４８５９１号に記載されている。これらのそれぞれの全体を本書に引用する。

１つ以上の実施形態の基板１１０は、物品の硬度（本書に記載されたバーコビッチ圧子硬度試験により測定される）より小さい硬度を有してもよい。基板１１０の硬度はバーコビッチ圧子硬度試験を使って測定される。

基板１１０は、概ね光学的に澄んだ、透明な、及び光散乱がなくてよい。そのような実施形態では、基板１１０は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上、又は約９２％以上の可視光領域に亘る平均光透過率を示してよい。幾つかの実施形態では、これらの光反射率及び透過率値は、全反射率又は全透過率（基板１１０の両主表面での反射率又は透過率を考慮に入れた）であっても、又は基板１１０の１つの面だけで観測されてもよい（即ち、反対側の表面１１４を考慮に入れず、主表面１１２だけ）。そうでないと記述されない限り、基板１１０だけの平均反射率又は透過率は、主表面１１２に対して０度の入射照明角度で測定される（しかし、そのような測定は、４５度又は６０度の入射照明角度で行われてもよい）。基板１１０は、色、例えば、白、黒、赤、青、緑、黄、橙などを任意選択で示してよい。

加えて又は或いは、基板１１０の物理的厚みは、審美的及び／又は機能的理由のために、その寸法の１つ以上に沿って変化してもよい。例えば、基板１１０の縁は基板１１０のより中央領域に比べてより厚くてもよい。基板１１０の長さ、幅、及び物理的厚み寸法も、物品１００の用途又は使途に応じて変化してもよい。

基板１１０は、様々な異なるプロセスを使用して提供されてもよい。例えば、基板１１０が、ガラスなどの非晶質基板から成る場合、様々な形成方法は、フロートガラスプロセス及びダウンドロープロセス、例えば、融合ドロー及びスロットドローを含みうる。

形成後、基板１１０は強化基板を形成するために強化されてもよい。本書で使用するように、用語「強化基板」は、例えば、基板の表面内にあるより小さいイオンをより大きいイオンとイオン交換することにより、化学的に強化された基板を指すことがある。しかし、当分野で既知の他の強化方法、例えば、焼き戻し、又は圧縮応力領域と中央張力領域を作るために基板の部分間の熱膨張係数の不一致を利用するを強化基板を形成するのに使用してもよい。

基板１１０がイオン交換処理により化学的に強化される場合、基板１１０の表面層内のイオンが、同じ原子価又は酸化数を有するより大きいイオンと置換又は交換される。イオン交換処理は、通常、基板を、その基板中のより小さいイオンと交換されるより大きいイオンを含む溶融塩液中に浸漬することにより行われる。これらに限定されないが、液の組成と温度、浸漬時間、溶融塩液への基板１１０の浸漬回数、複数の溶融塩液の使用、アニール、洗浄などの追加のステップを含むイオン交換処理のパラメータは概ね、基板１１０の組成と強化で得られた基板１１０の所望の圧縮応力（ＣＳ）、圧縮応力層の深さ（又は層の深さ）によって決められることを当業者は理解するであろう。例として、アルカリ金属含有ガラス基板のイオン交換は、これらに限定されないが、より大きいアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩、及び塩化物などの塩を含む少なくとも１つの溶融液に浸漬することにより達成されてよい。溶融塩液の温度は、通常、約３８０℃から約４５０℃までの範囲内であり、浸漬時間は、約１５分から約４０時間までの範囲である。しかし、上述したのと異なる温度及び浸漬時間も使用してよい。

また、ガラス基板が複数のイオン交換液に浸漬され、浸漬の間に洗浄及び／又は焼きなましステップが実行されるイオン交換プロセスの非限定の例が、米国特許第８５６１４２９号（ガラス基板が複数の連続するイオン交換処理で異なる濃度の塩液に浸漬されて強化される）及び米国特許第８３１２７３９号（ガラス基板が流出イオンで希釈された第１液でのイオン交換と次に第１液より小さい濃度の流出イオンを含む第２液に浸漬されることにより強化される）に記載されている。米国特許第８５６１４２９号及び米国特許第８３１２７３９号の内容全体を本書に引用する。

イオン交換により達成される化学的強化の程度は、中央張力（ＣＴ）、表面ＣＳ、圧縮深さ（ＤＯＣ）、及びカリウムイオンの層の深さ（ＤＯＬ）のパラメータに基づいて定量化されうる。圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、有限会社折原製作所（日本）により製造されたＦＳＭ－６０００などの市販の計器を使用して、表面応力計（ＦＳＭ）により測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関係する応力光学係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依存する。次に、ＳＯＣは、「Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient」と題するＡＳＴＭ規格Ｃ７７０－１６に記載されている手順Ｃ（ガラスディスク法）に従って測定される。この文献の内容全体を本書に引用する。屈折近視野（ＲＮＦ）法又は散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）手法を応力プロファイルを測定するのに使用してよい。応力プロファイルを測定するのにＲＮＦ法が使用される場合、ＳＣＡＬＰにより与えられる最大ＣＴ値がＲＮＦ法で利用される。特に、ＲＮＦにより測定された応力プロファイルは、ＳＣＡＬＰ測定により与えられる最大ＣＴ値に対して力平衡され較正される。ＲＮＦ法は、２０１４年１０月７日に発行された米国特許第８８５４６２３号に記載されており、その全体を本書に引用する。特に、ＲＮＦ法は、基準ブロックに隣接してガラス物品を配置すること、１Ｈｚから５０Ｈｚまでの頻度で直交する偏光間で切り換えられる偏光切換光ビームを生成すること、その偏光切換光ビームのパワー量を測定すること、及び偏光切換基準信号を生成することを含み、直交する偏光のそれぞれの測定されたパワー量は互いの５０％以内にある。この方法は、偏光切換光ビームをガラス試料中の異なる深さに向けガラス試料及び基準ブロックを通過させ、次に、リレー光学系を使用して透過した偏光切換光ビームを信号光検出器に中継することを更に含み、信号光検出器は偏光切換検出器信号を生成する。この方法はまた、検出器信号を基準信号で割算して、正規化検出器信号を形成すること、及びその正規化検出器信号からガラス試料に特有のプロファイルを求めることも含む。屈折近視野（ＲＮＦ）法又はＳＣＡＬＰは応力プロファイルを測定するのに使用されてよい。ＲＮＦ法を応力プロファイルを測定するのに使用する場合、ＳＣＡＬＰが提供する最大ＣＴ値がＲＮＦ法で利用される。特に、ＲＮＦにより測定された応力プロファイルは、ＳＣＡＬＰ測定により与えられる最大ＣＴ値に対して力平衡され較正される。特に、ＲＮＦ法は基準ブロックに隣接してガラス物品を配置すること、１Ｈｚから５０Ｈｚまでの頻度で直交する偏光間で切り換えられる偏光切換光ビームを生成すること、その偏光切換光ビームのパワー量を測定すること、及び偏光切換基準信号を生成することを含み、直交する偏光のそれぞれの測定されたパワー量は互いの５０％以内にある。この方法は、偏光切換光ビームをガラス試料中の異なる深さに向けガラス試料及び基準ブロックを通過させ、次に、リレー光学系を使用して透過した偏光切換光ビームを信号光検出器に中継することを更に含み、信号光検出器は偏光切換検出器信号を生成する。この方法はまた、検出器信号を基準信号で割算して、正規化検出器信号を形成すること、及びその正規化検出器信号からガラス試料に特有のプロファイルを求めることも含む。最大ＣＴ値は当分野で既知の散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）手法を使用して測定される。

１つの実施形態では、強化基板１１０は２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上（例えば、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上、又は８００ＭＰａ以上）の表面ＣＳを有しうる。強化基板１１０は１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＣ、及び／又は１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａ、又は５０ＭＰａ以上）で、１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有してよい。ＤＯＣは基板１１０の厚みｔの０．０５倍から約０．３ｔ、例えば約０．０５ｔから約０．２５ｔ、又は約０．０５ｔから約０．２４ｔ、又は約０．０５ｔから約０．２３ｔ、又は約０．０５ｔから約０．２２ｔ、又は約０．０５ｔから約０．２１ｔ、又は約０．０５ｔから約０．２０ｔ、又は約０．０５ｔから約０．１９ｔ、又は約０．０５ｔから約０．１８ｔであってよい。１つ以上の特定の実施形態では、強化基板１１０は５００ＭＰａ超の表面ＣＳ、１５μｍ超のＤＯＬ、約０．０５ｔから約０．２２ｔのＤＯＣ、及び１８ＭＰａ超のＣＴのうち１つ以上を有する。

基板１１０に使用されうるガラスの例は、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物又はアルカリアルミノホウケイ酸ガラス組成物を含んでよいが、他のガラス組成物も考えられる。そのようなガラス組成物は、イオン交換処理によって化学的に強化されうる。１つのガラス組成物例は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＮａ_２Ｏを含み、（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％でＮａ_２Ｏ≧９モル％である。１つの実施形態では、ガラス組成物は６質量％以上の酸化アルミニウムを含む。他の実施形態では、基板１１０は、アルカリ土類酸化物の含有量が５質量％以上であるように、１種類以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含む。幾つかの実施形態では、適切なガラス組成物は、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、又はＣａＯの少なくとも１つを更に含む。特定の実施形態では、基板１１０に使用されるガラス組成物は、６１～７５モル％のＳｉＯ_２、７～１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、９～２１モル％のＮａ_２Ｏ、０～４モル％のＫ_２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、及び０～３モル％のＣａＯを含みうる。

基板１１０に適した追加の例のガラス組成物は、６０～７０モル％のＳｉＯ_２、６～１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＢ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＬｉ_２Ｏ、０～２０モル％のＮａ_２Ｏ、０～１０モル％のＫ_２Ｏ、０～８モル％のＭｇＯ、０～１０モル％のＣａＯ、０～５モル％のＺｒＯ_２、０～１モル％のＳｎＯ_２、０～１モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、１２モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２０モル％で０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

基板１１０に適した更に別の例のガラス組成物は、６３．５～６６．５モル％のＳｉＯ_２、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、０～５モル％のＬｉ_２Ｏ、８～１８モル％のＮａ_２Ｏ、０～５モル％のＫ_２Ｏ、１～７モル％のＭｇＯ、０～２．５モル％のＣａＯ、０～３モル％のＺｒＯ_２、０．０５～０．２５モル％のＳｎＯ_２、０．０５～０．５モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％で２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

特定の実施形態では、基板１１０に適したアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物は、アルミナ、少なくとも１つのアルカリ金属、及び幾つかの実施形態では、５０モル％超のＳｉＯ_２、他の実施形態では、５８モル％以上のＳｉＯ_２、及び更に他の実施形態では、６０モル％以上のＳｉＯ_２を含み、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（即ち、改質剤の合計）は１より大きく、この比において、成分はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。特定の実施形態では、このガラス組成物は、５８～７２モル％のＳｉＯ_２、９～１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、２～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、８～１６モル％のＮａ_２Ｏ、及び０～４モル％のＫ_２Ｏを含み、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（即ち、改質剤の合計）は１より大きい。

更に別の実施形態では、基板１１０は、６４～６８モル％のＳｉＯ_２、１２～１６モル％のＮａ_２Ｏ、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、２～５モル％のＫ_２Ｏ、４～６モル％のＭｇＯ、及び０～５モル％のＣａＯを含み、６６モル％≦ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）－Ａｌ_２Ｏ_３≦２モル％、２モル％≦Ｎａ_２Ｏ－Ａｌ_２Ｏ_３≦６モル％、及び４モル％≦（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）－Ａｌ_２Ｏ_３≦１０モル％である、アルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよい。

別の実施形態では、基板１１０は、２モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＺｒＯ_２、又は４モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＺｒＯ_２を含むアルカリアルミノケイ酸ガラス組成物を含んでよい。

基板１１０が結晶質基板から成る場合、その基板は単結晶から成りうり、Ａｌ_２Ｏ_３を含んでよい。そのような単結晶基板は、サファイアと呼ばれる。結晶質基板の他の適切な材料は、多結晶アルミナ及び／又はスピネル（ＭｇＡｌ_ｘＯ_ｙ）を含む。

任意選択で、結晶質基板１１０は、ガラスセラミック基板から成りうり、強化されていてもいなくてもよい。適切なガラスセラミックの例は、Ｌｉ_２Ｏ‐Ａｌ_２Ｏ_３‐ＳｉＯ_２系（即ち、ＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ‐Ａｌ_２Ｏ_３‐ＳｉＯ_２系（即ち、ＭＡＳ系）ガラスセラミック、及び／又はβ‐石英固溶体、β‐スポジュメン固溶体、コージエライト、及び二ケイ酸リチウムを含む主要結晶相を有するガラスセラミックを含んでよい。ガラスセラミック基板は、本書に開示した化学的強化処理を使用して強化されてもよい。１つ以上の実施形態では、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｌｉ_２ＳＯ_４溶融塩中で強化されてもよく、２Ｌｉ^＋のＭｇ^２＋との交換が起こりうる。

１つ以上の実施形態に係る基板１１０は、その様々な部分で約１００μｍから約５ｍｍの範囲の物理的厚みを有しうる。例示の基板１１０の物理的厚みは約１００μｍから約５００μｍの範囲（例えば、１００、２００、３００、４００又は５００μｍ）である。追加の例示の基板１１０の物理的厚みは約５００μｍから約１０００μｍの範囲（例えば、５００、６００、７００、８００、９００又は１０００μｍ）である。基板１１０は約１ｍｍ超（例えば、約２、３、４、又は５ｍｍ）の物理的厚みを有してよい。１つ以上の特定の実施形態では、基板１１０は２ｍｍ以下又は１ｍｍ未満の物理的厚みを有してよい。基板１１０は表面欠陥の影響をなくす又は低下させるために、酸磨き又は他のやり方で処理されてもよい。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の硬度に関して、通常、ナノ押し込み測定法（例えば、バーコビッチ圧子を使用する）では、被膜が下敷き基板より硬い場合、測定された硬度は、浅い押し込み深さ（例えば、２５ｎｍ未満又は５０ｎｍ未満）における塑性領域の発達により最初は増加するように見え、次により深い押し込み深さ（例えば、５０ｎｍから約５００ｎｍ又は１０００ｎｍ）において増加し最大値又は横ばいに達することがある。その後、硬度は下敷き基板の影響によって更により深い押し込み深さにおいて減少し始める。被膜に比べてより大きな硬度を持つ基板１１０を使用する場合、同じ影響が見られうるが、下敷き基板の影響によってより深い押し込み深さにおいて硬度は増加する。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００に関して、下敷き基板１１０の影響なく外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ及び構造体の層の特定の硬度応答を特定するために、押し込み深さ範囲及びある押し込み深さ範囲での硬度値を選択できる。基板１１０上に配置された光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの硬度をバーコビッチ圧子で測定する場合、材料の永久変形領域（塑性領域）はその材料の硬度に関係する。押し込みの間、弾性応力場は永久変形領域をずっと超えて広がる。押し込み深さが増加する時、見かけの硬度及び係数は下敷き基板１１０との応力場相互作用によって影響される。硬度への基板１１０の影響はより深い押し込み深さ（即ち、通常外側又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの全厚みの約１０％超の深さ）で生じる。また、厄介な事は、硬度応答が押し込み時、完全な塑性を発達させるのにある最小の負荷を必要とすることである。その最小の負荷の前に、硬度は概ね増加傾向を示す。

外側又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂにおける小さい押し込み深さ（小さい負荷と記述されてもよい）（例えば、約５０ｎｍまで）において、材料の見かけの硬度は、押し込み深さに対して劇的に増加するように見える。この小さい押し込み深さ領域は、硬度の真の計量を与えないが、代わり、圧子の有限曲率半径に関係する上記の塑性領域の発達を反映する。中間の押し込み深さにおいて、見かけの硬度は最高レベルに接近する。より深い押し込み深さにおいて、押し込み深さが増加すると、基板１１０の影響がより顕著になる。押し込み深さが光学被膜厚みの約３０％を超えると、硬度は劇的に減少し始めることがある。

１つ以上の実施形態では、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、約１０ＧＰａ以上、約１１ＧＰａ以上、又は約１２ＧＰａ以上の最大硬度（バーコビッチ圧子硬度試験により外側光学膜構造体１３０ａにおいて約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さに亘って測定された）を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は外側光学膜構造体１３０ａにおいて測定された１０ＧＰａ、１１ＧＰａ、１２ＧＰａ、１３ＧＰａ、１４ＧＰａ、１５ＧＰａ、１６ＧＰａ、１７ＧＰａ、１８ＧＰａ、１９ＧＰａ、２０ＧＰａの、又はより大きな最大硬度を示しうる。１つ以上の実施形態では、カバーガラス物品１００は、約１０ＧＰａ以上、約１１ＧＰａ以上、又は約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、又は２０ＧＰａ以上）の最大硬度（バーコビッチ圧子硬度試験により内側光学膜構造体１３０ｂにおいて約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さに亘って測定された）を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は内側光学膜構造体１３０ｂにおいて測定された１０ＧＰａ、１１ＧＰａ、１２ＧＰａ、１３ＧＰａ、１４ＧＰａ、１５ＧＰａ、１６ＧＰａ、１７ＧＰａ、１８ＧＰａ、１９ＧＰａ、２０ＧＰａの、又はより大きな最大硬度を示しうる。

図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００の硬度に更に関して、高ＲＩ層１３０Ｂ及び／又は傷防止層１５０ａ、１５０ｂの材料の硬度が具体的に記述される。幾つかの実施形態では、バーコビッチ圧子硬度試験により測定された高ＲＩ層１３０Ｂ及び／又は傷防止層１５０ａ、１５０ｂの最大硬度は、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、又は約２０ＧＰａ以上であってもよい。特定の層（例えば、高ＲＩ層１３０Ｂ）の硬度はカバーガラス物品１００を分析することで測定されてもよく、測定される層は外側光学膜構造体１３０ａの最外層又は内側光学膜構造体１３０ｂの最内層である。硬度を測定する層が埋め込み層であれば、上に載る層を含まないカバーガラス物品を作り、次に硬度を求めてその物品を試験することでその硬度を測定してもよい。そのような測定された硬度値は、カバーガラス物品１００、外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ、高ＲＩ層１３０Ｂ、及び／又は傷防止層１５０ａ、１５０ｂによって約５０ｎｍ以上又は約１００ｎｍ以上の押し込み深さに沿って示され、連続する押し込み深さ範囲に対してある硬度値超に維持されてもよい。幾つかの実施形態では、この連続する押し込み深さ範囲は約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、約２００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約８００ｎｍ、約２００ｎｍから約１０００ｎｍ、約３００ｎｍから約５００ｎｍ、約３００ｎｍから約８００ｎｍ、又は約３００ｎｍから約１０００ｎｍでありうる。１つ以上の実施形態では、カバーガラス物品１００は基板１１０の硬度（外側又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂを取り除いて主表面１１２又は１１４について測定されうる）を超える硬度を示す。

幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、４００から７００ｎｍの光波長領域に亘って、垂直入射、０から１０度、０から２０度、０から３０度、又は０から４０度の入射角において約９５％以上、約９６％以上、約９７％以上、約９８％以上、又は約９８．５％以上の平均明所視透過率又は平均可視透過率を示してよい。カバーガラス物品１００はまた、４００から７００ｎｍの光波長領域に亘って、垂直入射又は０から６０度の入射角において約８５％以上、約８８％以上、約８９％以上、又は約９０％以上の平均明所視又は可視透過率を示してよい。また、カバーガラス物品１００はまた、３５０から７５０ｎｍの光波長領域に亘って、垂直入射、０から１０度、０から２０度、又は０から３０度の入射角において約９２％以上、約９４％以上、約９５％以上、約９６％以上、約９７％以上、又は約９８％以上の平均明所視又は可視透過率を示してよい。また、カバーガラス物品１００は、３５０から７５０ｎｍの光波長領域に亘って、０から６０度の入射角において約８５％以上、約８８％以上、約８９％以上、又は約９０％以上の平均明所視又は可視透過率を示してよい。

幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍの波長領域に亘って、垂直入射又は０から１０度の入射角において約８８％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９５％以上、約９６％以上、約９７％以上、又は約９８％以上の平均赤外透過率を示してもよい。カバーガラス物品１００はまた、８４０ｎｍから８６０ｎｍの波長領域に亘って、０から３０度の入射角において約８８％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９５％以上、約９６％以上、又は約９７％以上の平均赤外透過率を示してもよい。カバーガラス物品１００はまた、９３０ｎｍから９５０ｎｍの波長領域に亘って、０から３０度の入射角において約８５％以上、約８８％以上、約９０％以上、約９１％以上、約９２％以上、又は約９３％以上の平均赤外透過率を示してもよい。

幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、垂直入射、０から１０度、又は０から９０度の全入射角に亘って測定されたＤ６５光源で２未満、１．５未満、又は１未満の透過色（√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)によって与えられる）を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は、垂直入射、０から１０度、又は０から９０度の全入射角に亘って測定された２未満、１．９、１．８、１．７、１．６、１．５、１．４、１．３、１．２、１．１、１．０、０．９、０．８、０．７、０．６、０．５の、又はより低い透過色を示しうる。

幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、垂直入射、０から１０度、又は０から９０度の全入射角に亘って測定されたＤ６５光源で１０以下、８未満、６未満、５未満、又は４未満の反射色（√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)によって与えられる）を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は、垂直入射、０から１０度、又は０から９０度の全入射角に亘って測定された１０、９、８、７、６、５、４の、又はより低い反射色を示しうる。

幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、４００から７００ｎｍの光波長領域に亘って、垂直入射又は０から１０度の入射角において２％未満、１．８％未満、約１．５％未満、約１．０％未満、約０．９％未満、又は０．８５％未満の平均明所視反射率又は平均反射率を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は、垂直入射又は０から１０度の入射角において１．９％、１．８％、１．７％、１．６％、１．５％、１．４％、１．３％、１．２％、１．１％、１．０％、０．９％、０．８５％の、又はより低い平均明所視又は可視反射率を示しうる。同様に、幾つかの実施形態によれば、図１Ａ及び１Ｂに描かれたカバーガラス物品１００は、８４０ｎｍから９５０ｎｍの赤外波長領域に亘って、垂直入射又は０から１０度の入射角において１０％未満、９％未満、８％未満、７％未満、６％未満、５％未満、４％未満、３％未満、又は２％未満の平均反射率を示してもよい。例えば、カバーガラス物品１００は、垂直入射又は０から１０度の入射角において１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％の、又はより低い平均赤外反射率（即ち、８４０ｎｍから９５０ｎｍ）を示しうる。

図２及び２Ａを参照すると、装置２００はハウジング２０２と、カメラ２１０（例えば、可視光カメラ）、センサー２２０（例えば、赤外線センサー）、及び光源２３０のうち２つ以上と、本開示の実施形態に係るカバーガラス物品１００（例えば、図１Ａ及び１Ｂに示され上述された）とを備える。他の実施形態では、装置２００はカメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つ以上を備える。幾つかの実施形態では、装置２００は図２に描かれたマイクロホン２４０を備える。また、装置２００は携帯電話、スマートフォン、コンピュータタブレット、手持ち電子装置、車両表示器、又は表示器、カメラ、光源、及び／又はセンサーを備える任意の他の電子装置でありうる。幾つかの追加の実施形態によれば、図２及び２Ａに描かれた装置２００は建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶などで使用される物品）、電化製品、又は幾らかの透明性、傷防止性、耐摩耗性、又はそれらの組み合わせを必要とし本開示のカバーガラス物品１００を使用する任意の物品として想像されうる。

図２及び２Ａを再び参照すると、ハウジング２０２と、ハウジング２０２内に構成された少なくとも１つのカメラ２１０、少なくとも１つのセンサー２２０、及び光源２３０と、ハウジング２０２内の基板１１０とを備える装置２００が描かれており、基板１１０は互いに反対側の外側主表面１１２と内側主表面１１４（図１Ａ及び１Ｂ参照）を有し、基板１１０は少なくとも１つのカメラ２１０、少なくとも１つのセンサー２２０、及び光源２３０を覆って配置される。また、基板１１０の外側主表面１１２には外側光学膜構造体１３０ａが配置され、基板１１０の内側主表面１１４には内側光学膜構造体１３０ｂが配置されている。また、外側光学膜構造体１３０ａは第１の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａから成り、該第１の複数の層は最外低屈折率層（例えば、キャッピング層１３１）を含む（図１Ａ及び１Ｂに示すように）。また、幾つかの例では、この最外低屈折率層は空気へ露出している。或いは、最外低屈折率層は上面被膜１４０によって覆われてもよい。また、内側光学膜構造体１３０ｂは第２の複数の交互する高屈折率層１３０Ｂ及び低屈折率層１３０Ａから成り、該第２の複数の層は、基板１１０の内側主表面１１４に配置された低又は高屈折率層（１３０Ａ又は１３０Ｂ）と、少なくとも１つのカメラ２１０、少なくとも１つのセンサー２２０、及び光源２３０を空気間隙３００を挟んで覆って配置された最内低又は高屈折率層とを含む。外側光学膜構造体１３０ａの第１の複数の層の各高屈折率層１３０Ｂは窒化物又はオキシ窒化物から成り、内側光学膜構造体１３０ｂの第２の複数の層の各高屈折率層１３０Ｂは酸化物又は窒化物から成る。また、基板１１０と外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂは、基板１１０の主表面１１２、１１４を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示す。また、基板１１０と外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂは、外側光学膜構造体１３０ａにおいて約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

前述したように、図２及び２Ａは、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ被膜を主表面１１２、１１４に有する単一のカバーガラス物品１００が複数のカメラ及びセンサーを保護する耐久性のある光学的に透明なカバーとして使用される装置２００を描く。本開示のカバーガラス物品１００を使用する図２Ｂ～２Ｄに描かれた追加の装置２００構成を考えうる。例えば、図２Ｂに描かれているように、装置２００はハウジング２０２と、カメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つ以上と、表示領域（図示されないが表示部１００ｂの下）と、カメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０を覆い光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂを有する光学膜部１００ａ及び表示部１００ｂを含むカバーガラス物品１００とを備えうる。任意選択で、装置２００はまた、１つ以上のマイクロホン２４０、スピーカー２５０、及び／又はボタン２６０を備えてもよく、これらのマイクロホン２４０、スピーカー２５０、及び／又はボタン２６０も光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂを有するカバーガラス物品１００の光学膜部１００ａによって覆われているか、又は露出した穴であるか、カバーガラス物品１００と同じでない異なるカバー材料を有してもよい。これらの構成では、カバーガラス物品１００はまた、表示部１００ｂ（例えば、装置の表示領域にある）が光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂのうち１つだけ、又は光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂと異なる光学膜被覆を有するか、又は光学膜被覆を持たないように構成されてもよい。このような構成では、装置２００で使用されるカバーガラス物品１００は、スマートフォン、タブレット、ラップトップ、スマートウォッチ、又は１つ以上のセンサー（カメラ又は赤外線（ＩＲ）センサーでありうる）の近くに表示器を有する類似の装置の表カバー上に任意選択の可視又はＩＲ発光体／光源と共に使用されうる。この用途では、両面光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂは装置２００のカメラ２１０又はセンサー２２０部だけを覆うカバーガラス物品１００の光学膜部１００ａに存在してもよい。そのため、カバーガラス物品１００は異なる領域（例えば、光学膜部１００ａ、表示部１００ｂなど）に異なる被膜を有するか又は１つの領域に被膜を有し、別の領域に被膜を持たない単一基板１１０を備えてもよい。

図２Ａ～２Ｄに描かれた装置２００を再び参照すると、カバーガラス物品１００の少なくともどこかの部分は、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂをその主表面１１２、１１４上に有する基板１１０を備える（下記の実施例によって具現化されるように）。或いは、基板１１０の複数の断片がカバーガラス物品１００の異なる領域に存在してもよい（不図示）。幾つかの用途で、任意選択で好ましくは、カバーガラス物品１００は表示器と１つ以上のカメラ２１０又はセンサー２２０の両方を覆う単一の基板１１０を備えてよく、表示部１００ｂの片面ハード被膜が装置の表示領域を覆い、光学膜部１００ａの光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの両面被膜が１つ以上のカメラ２１０又はセンサー２２０を覆う。表示部１００ｂの片面ハード被膜は基板１１０の外側主表面１１２上の外側光学膜構造体１３０ａ（本開示及び／又は下記の実施例に詳述された）と同じであってもよく、１つ以上のカメラ２１０又はセンサー２２０を覆うカバーガラス物品１００の光学膜部１００ａは、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂの両面被膜を取り込む（本開示及び／又は下記の実施例に詳述されるように）。装置２００において、該表示領域内の基板１１０の裏面に光学膜構造体１３０ｂがないので、カバーガラス物品１００の表示部１００ｂの裏側は、基板１１０の裏面と該表示領域の間に接着剤で光学的に接着されてもよい。

本開示の別の実施形態では、ハウジング２０２と、カメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つ以上と、複数のカバーガラス物品１００とを有し、各物品１００はカメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つを覆う、装置２００が図２Ｃに描かれている。同様に、本開示の別の実施形態によれば、ハウジング２０２と、カメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つ以上と、カメラ２１０、センサー２２０、及び光源２３０のうち１つ以上を覆う複数のカバーガラス物品１００とを有する装置２００が図２Ｄに描かれている。このように、図２Ｃ及び２Ｄに描かれた装置２００のそれぞれは、スマートフォン、タブレット、ラップトップ、スマートウォッチ、又は類似の装置の表示器のない裏側に使用されるカバーガラス物品１００を備えてよい。本開示で概説されたカバーガラス物品１００の切断された別々の断片は個々の又は複数のセンサー、カメラ、及び／又は光源を覆ってもよい。カバーガラス物品１００の複数の断片は同じで、同じ光学特性、硬度、及び両面被膜構造体（即ち、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ）を有してよい。或いは、カバーガラス物品１００の複数の断片は異なる被膜又は被膜組み合わせを有してもよい。例えば、カバーガラス物品１００の１つの断片は両面被膜を有し、光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂが高可視及びＩＲ透過率を可能にする一方、別のセンサーを覆う別のカバーガラス物品１００は被覆されていないか、又は片面被膜を有するか、又はＩＲ波長範囲で高透過率及び可視波長範囲で低透過率を有するか、又は他の波長選択光学的効果を有してもよい。

図１３を参照すると、カバーガラス物品１００（図１Ａ及び１Ｂと前述の説明を参照）を製造する方法５００が概略描かれている。特に、方法５００は基板１１０の外側主表面１１２上に外側光学膜構造体１３０ａを形成するステップ５０２と、基板１１０の内側主表面１１４上に内側光学膜構造体１３０ｂを形成するステップ５０４とを含む。図１３に描かれた方法５００の幾つかの実施形態によれば、ステップ５０２及び５０４は逆の順に又は同時に実行されうることは理解されるべきである。また、方法５００は外側及び／又は内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂ上にキャッピング層１３１を形成する任意選択のステップ５０６を含む。方法５００はまた、外側光学膜構造体１３０ａ上に上面被膜１４０を形成する任意選択のステップ５０８を含んでよい。また、ステップ５０２～５０８のそれぞれは真空蒸着法、例えば化学気相成長（例えば、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学気相成長、大気圧化学気相成長、及びプラズマ大気圧化学気相成長）、物理的気相成長（例えば、反応性又は非反応性スパッタリング又はレーザーアブレーション）、熱又は電子ビーム蒸発及び／又は原子層蒸着によりで実行されてもよい。液体ベース法、例えば噴霧、浸漬、スピン被覆、又はスロット被覆（例えば、ゾル‐ゲル材料を使用する）も使用してよい。通常、ステップ５０２～５０８で使用する気相成長法は薄膜を生成するのに使用されうる様々な真空蒸着法を含んでもよい。例えば、物理的気相成長は物理的処理（例えば、加熱又はスパッタリング）を使用して、材料の蒸気を生成し、被覆する物体上に堆積させる。ステップ５０２及び５０４に従って外側及び内側光学膜構造体１３０ａ、１３０ｂを生成する好適な方法は、反応性スパッタリング、金属モード反応性スパッタリング、及びＰＥＣＶＤ処理を含む。最後に、基板１００は方法５００のステップ５０２～５０８の前に任意選択で本開示で前述したように化学的に強化されうることは理解されるべきである。

実施例
下記の実施例は本開示が提供する様々な特徴及び利点を説明し、本発明及び添付の請求項を限定するように決して意図されていない。

これらの実施例では、カバーガラス物品は本開示の方法に従って（例えば、反応性スパッタリング、金属モード反応性スパッタリング、及びＰＥＣＶＤ法により）表１～１０のそれぞれに記述したように形成された。光学特性は、カバーガラス物品の光学膜構造体の各層について実験で測定された屈折率（ｎとｋ）値から始まる伝達行列モデリングにより得た。下記の実施例で報告されるカバーガラス物品硬度値は本開示で前述したバーコビッチ硬度試験法を使って得られた。

実施例１
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表１に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１９層（層１～１９）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１４ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表１Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表１Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から４０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９７．４％、８４０から８６０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９８％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９５％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．３％を有する。

図３Ａ及び３Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図３Ｂ及び３Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図３Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝１より小さい低透過色を有する。

実施例２
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表２に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１９層（層１～１９）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１４ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表２Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表２Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から３０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８％、８４０から８６０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞９６％、９３０から９５０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞９３％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．２％を有する。

図４Ａ及び４Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図４Ｂ及び４Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図４Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝１より小さい低透過色を有する。

実施例３
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表３に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は５層（層１～５）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度を有し、内側光学膜構造体（層７～１５）は外側光学膜構造体と類似又はより高い硬度を示すように構成されている。

この実施例で測定された光学特性が下記の表３Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表３Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．４％、８４０から８６０ｎｍ、０から３０度入射角でＴｘ＞９０％、９３０から９５０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞８７％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．３％を有する。

図５Ａ及び５Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図５Ｂ及び５Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図５Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝１．５より小さい低透過色を有する。

実施例４
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表４に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は７層（層１～７）を有し、１４ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１０ＧＰａ超の硬度とを有する。また、内側光学膜構造体（層９～１７）は外側光学膜構造体と類似又はより高い硬度を示すように構成されている。

この実施例で測定された光学特性が下記の表４Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表４Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８％、８４０から８６０ｎｍ、０から４０度入射角でＴｘ＞９１．５％、９３０から９５０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞９３．５％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．４％を有する。

図６Ａ及び６Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図６Ｂ及び６Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図６Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝２より小さい低透過色を有する。

実施例５
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表５に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は５層（層１～５）を有し、１０ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度を有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表５Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表５Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から３０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．５％、８４０から８６０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９３．５％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞８８％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜０．９％を有する。

図７Ａ及び７Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図７Ｂ及び７Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図７Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．９より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．５より小さい低透過色を有する。

実施例６
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表６に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は７層（層１～７）を有し、１４ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１０ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表６Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表６Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．５％、８４０から８６０ｎｍ、０から４０度入射角でＴｘ＞９３．０％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９４．５％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１％を有する。

図８Ａ及び８Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図８Ｂ及び８Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図８Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝２より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．５より小さい低透過色を有する。

実施例７
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表７に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１９層（層１～１９）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１４ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表７Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表７Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．５％、８４０から８６０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞９２．０％、９３０から９５０ｎｍ、０から２０度入射角でＴｘ＞９２．５％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．３％を有する。

図９Ａ及び９Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図９Ｂ及び９Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図９Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝２．５より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝１．０より小さい低透過色を有する。

実施例８
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表８に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１１層（層１～１１）を有し、１４ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１０ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表８Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表８Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．０％、８４０から８６０ｎｍ、０から４０度入射角でＴｘ＞９１．０％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９３．０％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１％を有する。

図１０Ａ及び１０Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図１０Ｂ及び１０Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図１０Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝２より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．５より小さい低透過色を有する。

実施例９
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表９に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１９層（層１～１９）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１４ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表９Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表９Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．０％、８４０から８６０ｎｍ、０から４０度入射角でＴｘ＞９６．０％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９６．０％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．２％を有する。

図１１Ａ及び１１Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図１１Ｂ及び１１Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図１１Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．７より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．７より小さい低透過色を有する。

実施例１０
カバーガラス物品がこの実施例のために作成され、下記の表１０に記述された構造を有していた。外側光学膜構造体は１９層（層１～１９）を有し、１５ＧＰａ超の測定された最大押し込み硬度と５００ｎｍ押し込み深さにおける１４ＧＰａ超の硬度とを有する。

この実施例で測定された光学特性が下記の表１０Ａにまとめられている。特に光透過率対波長範囲のデータが報告される。表１０Ａから明らかなように、この実施例は４００から７００ｎｍの波長範囲、０から２０度入射角で２表面平均透過率Ｔｘ＞９８．０％、８４０から８６０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９８．０％、９３０から９５０ｎｍ、０から１０度入射角でＴｘ＞９６．５％、及び０から１０度入射角で平均明所視反射率（Ｙ）、Ｒｘ＜１．４％を有する。

図１２Ａ及び１２Ｃに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過率と反射率対波長の垂直入射角でのそれぞれのグラフが提供される。また、図１２Ｂ及び１２Ｄに示すように、この実施例に係るカバーガラス物品のモデル化された２表面透過色と反射色の０～９０度全入射角に対するそれぞれのグラフが提供される。図１２Ｂから明らかなように、この実施例のカバーガラス物品は、０～９０度全入射角に亘って√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．６より小さく０～２０度入射角で√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)＝０．６より小さい低透過色を有する。

本書で概説したように、本開示の第１の態様は、互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備えるカバーガラス物品である。基板の外側主表面に外側光学膜構造体が配置され、基板の内側主表面に内側光学膜構造体が配置される。外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第２の複数の層は基板の内側主表面に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層を含む。第１の複数の層の各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、第２の複数の層の各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成る。また、カバーガラス物品は、基板の主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、カバーガラス物品は、外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第２の態様は、第１の態様に係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、基板の主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第３の態様は、第１又は第２の態様に係るカバーガラス物品であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む。

本書で概説したように、本開示の第４の態様は、第１～第３の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む。

本書で概説したように、本開示の第５の態様は、第１～第４の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層である。

本書で概説したように、本開示の第６の態様は、第１～第５の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、カバーガラス物品は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第７の態様は、第４～第６の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する。

本書で概説したように、本開示の第８の態様は、第１～第７の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む。

本書で概説したように、本開示の第９の態様は、第１～第８の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、４００ｎｍから７００ｎｍで、基板の主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第１０の態様は、第１～第９の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、基板の主表面を通して０から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第１１の態様は、第１～第１０の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第１２の態様は、第１～第１１の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、基板はガラス基板である。

本書で概説したように、本開示の第１３の態様は、互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備えるカバーガラス物品である。基板の外側主表面に外側光学膜構造体が配置され、基板の内側主表面に内側光学膜構造体が配置される。外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第２の複数の層は基板の内側主表面に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層を含む。第１の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、又はＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚから成り、約５ｎｍから２００ｎｍの物理的厚みを有し、第２の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＨｆＯ_２、又はＡｌ_２Ｏ_３から成り、約５ｎｍから５００ｎｍの物理的厚みを有する。また、カバーガラス物品は、基板の主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、カバーガラス物品は、外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第１４の態様は、第１３の態様に係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、基板の主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第１５の態様は、第１３又は第１４の態様に係るカバーガラス物品であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む。

本書で概説したように、本開示の第１６の態様は、第１３～第１５の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む。

本書で概説したように、本開示の第１７の態様は、第１３～第１６の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層であり、第１及び第２の複数の層の各低屈折率層はＳｉＯ_２、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙ、又はＭｇＦ_２を含み５ｎｍから３００ｎｍの物理的厚みを有する。

本書で概説したように、本開示の第１８の態様は、第１３～第１７の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、カバーガラス物品は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第１９の態様は、第１６～第１８の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する。

本書で概説したように、本開示の第２０の態様は、第１３～第１９の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む。

本書で概説したように、本開示の第２１の態様は、第１３～第２０の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、４００ｎｍから７００ｎｍで、基板の主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第２２の態様は、第１３～第２１の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、基板の主表面を通して０から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第２３の態様は、第１３～第２２の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第２４の態様は、第１３～第２３の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、基板はガラス基板である。

本書で概説したように、本開示の第２５の態様は、ハウジングと、ハウジング内に構成されたカメラ、センサー、及び光源のうち少なくとも１つと、ハウジング内の基板とを備える装置であり、基板は互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有し、カメラ、センサー、及び光源のうち該少なくとも１つを覆って配置され、基板の外側主表面に外側光学膜構造体が配置され、基板の内側主表面に内側光学膜構造体が配置される。外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第１の複数の層は最外低屈折率層を含む。また、内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、第２の複数の層は基板の内側主表面に配置された低又は高屈折率層と、カメラ、センサー、及び光源のうち該少なくとも１つを空気間隙を挟んで覆って配置された最内低又は高屈折率層とを含む。第１の複数の層の各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、第２の複数の層の各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成る。また、基板と外側及び内側光学膜構造体は、基板の主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示す。また、基板と外側及び内側光学膜構造体は、外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第２６の態様は、第２５の態様に係る装置であり、基板と外側及び内側光学膜構造体は、８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、基板の主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第２７の態様は、第２５又は第２６の態様に係る装置であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は基板の内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む。

本書で概説したように、本開示の第２８の態様は、第２５～第２７の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む。

本書で概説したように、本開示の第２９の態様は、第２５～第２８の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層である。

本書で概説したように、本開示の第３０の態様は、第２５～第２９の態様のいずれかに係る装置であり、第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、基板と外側及び内側光学膜構造体は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第３１の態様は、第２８～第３０の態様のいずれかに係る装置であり、第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する。

本書で概説したように、本開示の第３２の態様は、第２５～第３１の態様のいずれかに係る装置であり、第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む。

本書で概説したように、本開示の第３３の態様は、第２５～第３２の態様のいずれかに係る装置であり、基板と外側及び内側光学膜構造体は、４００ｎｍから７００ｎｍで、基板の主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第３４の態様は、第２５～第３３の態様のいずれかに係る装置であり、基板と外側及び内側光学膜構造体は、基板の主表面を通して０から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第３５の態様は、第２５～第３４の態様のいずれかに係る装置であり、基板と外側及び内側光学膜構造体は、内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す。

本書で概説したように、本開示の第３６の態様は、第２５～第３５の態様のいずれかに係る装置であり、センサーは赤外線センサーで、カメラは可視光カメラである。

本書で概説したように、本開示の第３７の態様は、第２５～第３６の態様のいずれかに係る装置であり、基板はガラス基板である。

本書で概説したように、本開示の第３８の態様は、第１～第１２の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第３９の態様は、第１～第１２の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は８４０ｎｍから９５０ｎｍで基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第４０の態様は、第１３～第２４の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第４１の態様は、第１３～第２４の態様のいずれかに係るカバーガラス物品であり、このカバーガラス物品は８４０ｎｍから９５０ｎｍで基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第４２の態様は、第２５～第３７の態様のいずれかに係る装置であり、カバーガラス物品は基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第４３の態様は、第２５～第３７の態様のいずれかに係る装置であり、カバーガラス物品は８４０ｎｍから９５０ｎｍで基板の主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す。

本書で概説したように、本開示の第４４の態様は、第２５の態様に係る装置であり、カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つは該カメラ、センサー、及び光源のうち２つ以上であり、基板はカメラ、センサー、及び光源のうち該２つ以上を覆って配置される。

本開示の要旨と様々な原理から逸脱することなく様々な改良及び変更が本開示の上述した実施形態に成されうる。そのような改良及び変更は全て本開示の範囲に含まれ、添付の請求項によって保護されるように意図されている。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
カバーガラス物品であって、
互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備え、
前記基板の前記外側主表面上に外側光学膜構造体が配置され、
前記基板の前記内側主表面上に内側光学膜構造体が配置され、
前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含み、
前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層とを含み、
前記第１の複数の層のうち各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層のうち各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成り、
該カバーガラス物品は前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、
更に該カバーガラス物品は前記外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す、カバーガラス物品。

実施形態２
該カバーガラス物品は８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す、実施形態１記載のカバーガラス物品。

実施形態３
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は、前記基板の前記外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は、前記基板の前記内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む、実施形態１又は２記載のカバーガラス物品。

実施形態４
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む、実施形態１～３のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態５
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層である、実施形態１～４のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態６
前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、該カバーガラス物品は、前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す、実施形態１～５のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態７
前記第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する、実施形態４～６のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態８
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む、実施形態１～７のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態９
４００ｎｍから７００ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す実施形態１～８のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１０
前記基板の前記主表面を通して０度から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す実施形態１～９のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１１
前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す実施形態１～１０のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１２
前記基板はガラス基板である、実施形態１～１１のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１３
カバーガラス物品であって、
互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有する基板を備え、
前記基板の前記外側主表面上に外側光学膜構造体が配置され、
前記基板の前記内側主表面上に内側光学膜構造体が配置され、
前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含み、
前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層とを含み、
前記第１の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、又はＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚから成り、約５ｎｍから２０００ｎｍの物理的厚みを有し、第２の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＨｆＯ_２、又はＡｌ_２Ｏ_３から成り、５ｎｍから５００ｎｍの物理的厚みを有し、
該カバーガラス物品は、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、
更に該カバーガラス物品は、外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す、カバーガラス物品。

実施形態１４
該カバーガラス物品は８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す、実施形態１３記載のカバーガラス物品。

実施形態１５
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は、前記基板の前記外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は、前記基板の前記内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む、実施形態１３又は１４記載のカバーガラス物品。

実施形態１６
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む、実施形態１３～１５のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１７
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層であり、前記第１及び第２の複数の層の各低屈折率層はＳｉＯ_２、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙ、又はＭｇＦ_２から成り５ｎｍから３００ｎｍの物理的厚みを有する、実施形態１３～１６のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１８
前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、該カバーガラス物品は、前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す、実施形態１３～１７のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態１９
前記第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する、実施形態１６～１８のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２０
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む、実施形態１３～１９のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２１
４００ｎｍから７００ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す実施形態１３～２０のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２２
前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す実施形態１３～２１のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２３
前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す実施形態１３～２２のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２４
前記基板はガラス基板である、実施形態１３～２３のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態２５
装置であって、
ハウジングと、
前記ハウジング内に構成されたカメラ、センサー、及び光源のうち少なくとも１つと、
前記ハウジング内の基板と
を備え、
前記基板は互いに反対側の外側主表面及び内側主表面を有し、カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを覆って配置され、
前記基板の前記外側主表面に外側光学膜構造体が配置され、
前記基板の前記内側主表面に内側光学膜構造体が配置され、
前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含み、
前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面に配置された低又は高屈折率層と、カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを空気間隙を挟んで覆って配置された最内低又は高屈折率層とを含み、
前記第１の複数の層の各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層の各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成り、
前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角で測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、
更に前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す、装置。

実施形態２６
前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す、実施形態２５記載の装置。

実施形態２７
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は前記基板の前記外側主表面に接触する低屈折率層を更に含み、前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は前記基板の前記内側主表面に接触する低又は高屈折率層を含む、実施形態２５又は２６記載の装置。

実施形態２８
前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層を更に含む、実施形態２５～２７のいずれかに記載の装置。

実施形態２９
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層のそれぞれは少なくとも５層である、実施形態２５～２８のいずれかに記載の装置。

実施形態３０
前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層を更に含み、前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す、実施形態２５～２９のいずれかに記載の装置。

実施形態３１
前記第１の傷防止高屈折率層は５００ｎｍ以上の物理的厚みを有する、実施形態２８～３０のいずれかに記載の装置。

実施形態３２
前記第１及び第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は異なる数の層を含む、実施形態２５～３１のいずれかに記載の装置。

実施形態３３
前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、４００ｎｍから７００ｎｍで、基板の主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す、実施形態２５～３２のいずれかに記載の装置。

実施形態３４
前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角においてＤ６５光源で測定された２未満の透過色√(ａ^＊２＋ｂ^＊２)を更に示す、実施形態２５～３３のいずれかに記載の装置。

実施形態３５
前記基板と前記外側及び内側光学膜構造体は、前記内側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す、実施形態２５～３４のいずれかに記載の装置。

実施形態３６
前記センサーは赤外線センサーであり、前記カメラは可視光カメラである、実施形態２５～３５のいずれかに記載の装置。

実施形態３７
前記基板はガラス基板である、実施形態２５～３６のいずれかに記載の装置。

実施形態３８
前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す実施形態１～１２のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態３９
８４０ｎｍから９５０ｎｍで前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す実施形態１～１２のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態４０
前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す実施形態１３～２４のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態４１
８４０ｎｍから９５０ｎｍで前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す実施形態１３～２４のいずれかに記載のカバーガラス物品。

実施形態４２
前記カバーガラス物品は前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す、実施形態２５～３７のいずれかに記載の装置。

実施形態４３
前記カバーガラス物品は８４０ｎｍから９５０ｎｍで前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す、実施形態２５～３７のいずれかに記載の装置。

実施形態４４
カメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つは前記カメラ、センサー、及び光源のうち２つ以上であり、前記基板は前記カメラ、センサー、及び光源のうち前記２つ以上を覆って配置される、実施形態２５記載の装置。

１００ カバーガラス物品
１１０ 基板
１１２ 外側主表面
１１４ 内側主表面
１３０ａ 外側光学膜構造体
１３０ｂ 内側光学膜構造体
１３０Ａ 低屈折率層
１３０Ｂ 高屈折率層
１３１ キャッピング層
１５０ａ、１５０ｂ 傷防止層
２００ 装置
２０２ ハウジング
２１０ カメラ
２２０ センサー
２３０ 光源
３００ 空気間隙

Claims (10)

1. カバーガラス物品［１００］であって、
   互いに反対側の外側主表面［１１２］及び内側主表面［１１４］を有する基板［１１０］を備え、
   前記基板の前記外側主表面上に外側光学膜構造体［１３０ａ］が配置され、
   前記基板の前記内側主表面上に内側光学膜構造体［１３０ｂ］が配置され、
   前記外側光学膜構造体は第１の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層［１３０Ｂ、１３０Ａ］を備え、前記第１の複数の層は最外低屈折率層を含み、
   前記内側光学膜構造体は第２の複数の交互する高屈折率層及び低屈折率層［１３０Ｂ、１３０Ａ］を備え、前記第２の複数の層は前記基板の前記内側主表面上に配置された低又は高屈折率層と最内低又は高屈折率層［１３１又は１３０Ｂ］とを含み、
   前記第１の複数の層のうち各高屈折率層は窒化物又はオキシ窒化物から成り、前記第２の複数の層のうち各高屈折率層は酸化物又は窒化物から成り、
   該カバーガラス物品は前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均明所視透過率を示し、
   更に該カバーガラス物品は前記外側光学膜構造体において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を示す、カバーガラス物品。
2. 前記第１の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、又はＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚから成り、約５ｎｍから２０００ｎｍの物理的厚みを有し、第２の複数の層の各高屈折率層はＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＳｉＡｌ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＨｆＯ_２、又はＡｌ_２Ｏ_３から成り、５ｎｍから５００ｎｍの物理的厚みを有する、請求項１記載のカバーガラス物品。
3. 前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された２．０％未満の平均明所視反射率を更に示す請求項１又は２記載のカバーガラス物品。
4. ８４０ｎｍから９５０ｎｍで前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角で測定された１０％未満の平均反射率を更に示す請求項１～３のいずれかに記載のカバーガラス物品。
5. ８４０ｎｍから８６０ｎｍ又は９３０ｎｍから９５０ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から１０度の入射角において測定された８５％超の赤外透過率を更に示す請求項１～４のいずれかに記載のカバーガラス物品。
6. 前記第１の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第１の傷防止高屈折率層［１５０ａ］を更に含む、請求項１～５のいずれかに記載のカバーガラス物品。
7. 前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層は５０ｎｍ以上の物理的厚みを有する第２の傷防止高屈折率層［１５０ｂ］を更に含み、該カバーガラス物品は、前記内側光学膜構造体［１３０ｂ］において約１００ｎｍから約５００ｎｍの押し込み深さ範囲に亘るバーコビッチ硬度試験により測定された１０ＧＰａ超の最大硬度を更に示す、請求項１～６のいずれかに記載のカバーガラス物品。
8. ４００ｎｍから７００ｎｍで、前記基板の前記主表面を通して０から４０度の入射角において測定された９５％超の平均透過率を更に示す請求項１～７のいずれかに記載のカバーガラス物品。
9. 前記基板［１１０］はガラス基板である、請求項１～８のいずれかに記載のカバーガラス物品。
10. 装置［２００］であって、
    ハウジング［２０２］と、
    前記ハウジング内に構成されたカメラ［２１０］、センサー［２２０］、及び光源［２３０］のうち少なくとも１つと、
    前記ハウジング内の請求項１～９のいずれかに記載のカバーガラス物品［１００］と
    を備え、
    前記カバーガラス物品の前記基板はカメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを覆って配置され、
    前記内側光学膜構造体［１３０ｂ］の前記第２の複数の交互する高屈折率及び低屈折率層の前記最内低又は高屈折率層［１３１又は１３０Ｂ］がカメラ、センサー、及び光源のうち前記少なくとも１つを空気間隙［３００］を挟んで覆って配置されている、装置。

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