JP4855781B2 - 反射防止ハードコートフィルム、光学素子および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面にハードコート層、反射防止層をこの順に少なくとも設けた反射防止ハードコートフィルムに関する。さらに本発明は、当該反射防止ハードコートフィルムを用いた偏光板等の光学素子に関する。本発明の反射防止ハードコートフィルム、光学素子は画像表示装置、特にＣＲＴ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）およびＥＬディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に用いられる。

各種画像表示装置の一つにＬＣＤがあるが、ＬＣＤの高視野角化、高精細化、高速応答性、色再現性などに関する技術革新に伴い、ＬＣＤを利用するアプリケーションもノートパソコンやモニターからテレビへと変化しつつある。ＬＣＤの基本的な構成は、二枚の透明電極を有する平板状ガラスの間に一定間隔のギャップがスペーサーにより設けられており、そこに、液晶材料が注入、封止されており、平板状ガラスの表裏面には偏光板が貼付されている。偏光板は傷付き易いため、従来は、ＬＣＤ表面にガラスやプラスチックからなるカバープレートを装着し、ＬＣＤ表面に貼付している偏光板への傷付き防止を図っていた。しかし、カバープレートを装着するとコスト、重量の面で不利であり、次第に表面にハードコート処理が施された偏光板が用いられるようになってきた。ハードコート処理は、通常、透明プラスチックフィルム基材にハードコート層を設けたハードコートフィルムを偏光板表面に設けることにより行われる。

さらに、ハードコートフィルムを各種画像表示装置に貼着した場合、ディスプレイ表面、すなわち、偏光板の表面での光の反射によりディスプレイの視認性が低下する。そのため、ハードコートフィルムにはさらなる視認性の向上が要求されている。特に、カーナビゲーション用モニター、ビデオカメラ用モニター、携帯電話、ＰＨＳ等の屋外で使用する頻度の高い各種携帯情報端末は表面反射による視認性の低下が顕著である。このため偏光板には反射防止処理を施すことが一般的となっている。特に前記携帯情報端末機器に装着される偏光板では、反射防止処理が必要不可欠になっている。

反射防止処理は、一般的に真空蒸着法やスパッタリング法、ＣＶＤ法等の乾式法により、またはダイやグラビアロール塗工機を用いた湿式法によって、屈折率の異なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体または低屈折率材料からなる単層積層体を作製し、可視光領域の反射をできるだけ低減させるような設計が行われている。一般的には、工程を複雑にすることなく製造することができること、また低コスト化を実現できることから、単層構成の反射防止層（低屈折率層）が工業的に用いられている。

しかし、反射防止ハードコートフィルムにおける反射防止層は、通常、０．１〜０．５μｍの薄膜で構成されており、層間の密着性が弱いために、ハードコート層との界面破壊が生じやすく、膜強度や、耐薬品性などの耐久性を満足することが困難である。

ＬＣＤのアプリケーションが家庭用のテレビに移行することにより、一般的な家庭用テレビの使用者は、ＬＣＤを使用したテレビであっても従来のガラス製のＣＲＴを利用したテレビと同様な取り扱いを行うことが容易に想定される。そのため、反射防止ハードコートフィルムには更なる硬度アップと、膜強度、耐薬品性の向上が要求されている。

上記膜強度、耐薬品性を向上させるための対策として、コロナ放電処理などの各種表面改質処理により、ハードコート層と反射防止層の積層界面での密着性を高める方法が提案されている（特許文献１）。これらの改質により反射防止層を塗工後の膜強度、耐薬品性の改善は見られるものの、ハードコート層に処理ムラが起こりやすく、この上に反射防止層を塗工した場合には、塗工ムラが起こりやすく、反射防止特性の点で問題がある。

また反射防止ハードコートフィルムの高屈折率ハードコート層を、反応性有機珪素化合物を含有する電離放射線硬化型樹脂を主体として形成することによって、反射防止層が高屈折率ハードコート層に対して優れた密着性を有する反射防止ハードコートフィルムが提案されている（特許文献２）。しかし、特許文献２では、反応性有機珪素化合物が、ハードコート層の樹脂成分の１０〜１００重量％を占めているため、密着性とともに硬度を満足させることが困難である。
特開平９−２２２５０３号公報 特開平９−２２６０６２号公報

本発明は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、ハードコート層、反射防止層がこの順で、それぞれ少なくとも１層、形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、
ハードコート層と反射防止層との密着性が良好であり、高硬度を有し、かつ反射防止特性を損なわず良好な耐擦傷性を有する反射防止ハードコートフィルムを提供することを目的とする。

また本発明は反射防止ハードコートフィルムを用いた光学素子を提供すること、さらには前記フィルムまたは光学素子を有する画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記ハードコートフィルム等により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、ハードコート層、反射防止層がこの順で、それぞれ少なくとも１層、形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、
ハードコート層と反射防止層とが直接接する界面を形成する層において、
ハードコート層形成材料は、（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）と、硬化性化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．０１〜３重量部の（メタ）アクリレート基を有する反応性シリコーン（Ｂ）を含有しており、
かつ、前記反射防止層形成材料は、シロキサン成分を有する化合物を含有することを特徴とする反射防止ハードコートフィルム、に関する。

上記本発明は、ハードコート層形成材料として、（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）を用いることによりハードコート層に、硬度を付与している。また、弾性および可撓性（屈曲性）を与えている。また、前記硬化性化合物（Ａ）に対して、（メタ）アクリレート基を有する反応性シリコーン（Ｂ）を含有させているが、その割合を硬化性化合物（Ａ）に対して前記所定量の低い割合としているためハードコート層の硬度を損なうことがない。一方、反射防止層においてもシロキサン成分を含有させている。これらにより、ハードコート層と反射防止層の界面での密着性を向上させて、その結果、反射防止層がハードコート層との界面で剥離するのを防止することができる。かかる本発明によれば、ハードコート層の表面にコロナ処理等の表面改質処理等を施さなくても、反射防止層との密着性を向上させることができるため、ハードコート層は塗工ムラなく設けることができ、反射防止層の反射防止特性を損なうことがない。またハードコート層に反応性シリコーン（Ｂ）を所定量含有し、かつ反射防止層には、シロキサン成分を含有しているため、耐擦傷性も優れている。さらには、反射防止層は耐薬品性の点でも優れている。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反応性シリコーン（Ｂ）は、一分子中に、シロキサン構造を有するシリコーン部分を有し、かつ（メタ）アクリレート基を有するものを用いることができる。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、シロキサン構造としては、−（Ｓｉ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ）−、の繰り返し単位を有するポリシロキサン単位（前記Ｒ¹、Ｒ²は、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基である。）を有するものが好ましい。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、ポリシロキサン単位としては、一般式（１）：

で表されるジメチルシロキサン単位を有するものが好ましい。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反応性シリコーン（Ｂ）は、活性水素基を有することが好ましい。反応性シリコーン（Ｂ）は、（メタ）アクリレート基に加えて、活性水素基を有する場合には、ハードコート層と反射防止層との密着性を、より向上させることができる。また、反射防止特性、耐擦傷性、耐薬品性の点でも好ましい。前記活性水素基は、ヒドロキシル基であることが好ましい。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反応性シリコーン（Ｂ）としては、一般式（２）：

で表される、メチル−３−（３−アクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、
および／または一般式（３）：

で表される、メチル−３−（２−アクリロイル−３−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、を有するものを例示できる。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反応性シリコーン（Ｂ）としては、一般式（４）：

で表される、メチル，末端アクリレート基のポリエチレングリコールプロピルエーテル単位（ｘは、１〜１０の整数である。）、および、
一般式（５）：

で表される、メチル，末端ヒドロキシ基のポリエチレングリコールプロピルエーテル単位（ｘは、１〜１０の整数である。）、を有するものを例示できる。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反応性シリコーン（Ｂ）としては、一般式（６）：

で表される（Ｒは、少なくとも一つが、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有する。）化合物の混合物（当該混合物において、Ｒは、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基を有する。）を例示できる。

前記一般式（６）で表される化合物は、一般式（７）：

で表される構造を有するものが好ましい。

前記一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、シロキサン構造を有する置換基が、一般式（８）：

で表される単位（ｘ１は、１〜７である。）を有するものが好ましい。

前記一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、活性水素基を有する置換基が、一般式（９）：

で表される単位を有することが好ましい。

前記一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、アクリレート基を有する置換基が、一般式（１０）：

で表される単位（ｍ、ｎはそれぞれが同一または異なっていてよく、１〜１０の整数である。ｌは、１〜５である。）を有することが好ましい。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、ハードコート層の厚みは２〜５０μｍで制御するのが好ましい。

前記反射防止ハードコートフィルムにおいて、反射防止層形成材料は、エチレングリコール換算による平均分子量が５００〜１００００であるシロキサンオリゴマー（Ｃ）、およびポリスチレン換算による数平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物（Ｄ）を含有するものが好適である。

前記反射防止反射防止ハードコートフィルムにおいて、反射防止層に、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子が含有されているものが好適である。

前記反射防止ハードコートフィルムは、ハードコート層の表面を凹凸形状とすることにより、光防眩性を付与することができる。

さらに本発明は、光学素子の片面または両面に、前記反射防止ハードコートフィルムが積層されていることを特徴とする光学素子、に関する。

さらに本発明は、前記反射防止ハードコートフィルム、または前記光学素子を有する画像表示装置、に関する。

本発明の反射防止ハードコートフィルムは、偏光子、偏光板等の光学素子に好適に用いることができ、高硬度を有し、かつ反射防止特性を損なわず良好な耐擦傷性を有するものであり、家庭用テレビ等のＬＣＤ等の画像表示装置に対しても好適に用いることができる。

本発明の反射防止ハードコートフィルムを、図面を参照しながら説明する。本発明のハードコートフィルム４は、図１に示すように、透明プラスチックフィルム基材１の片面にハードコート層２、反射防止層３をこの順で有する。また本発明では、図２に示すように、ハードコート層の表面を凹凸形状とすることができる。図２の反射防止ハードコートフィルム６は、ハードコート層２中に微粒子５を含有させて、ハードコート層表面を凹凸形状としたものであり、その上に反射防止層３を有する。なお、図１、２には示していないが、透明プラスチックフィルム基材１のもう一方の片面には、さらに、ハードコート層２および／または反射防止層３を設けることも可能である。また、図１、図２では、ハードコート層２、反射防止層３は１層を有する場合を例示しているが、これらは２層以上であってもよい。ただし、ハードコート層と反射防止層とが直接接する界面を形成する層においては、本発明に記載の各形成材料が用いられる。

本発明の透明プラスチック基材フィルムとしては、透明性を阻害しないものを特に制限なく使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、環状オレフィン、トリアセチルセルロース、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル等があげられる。これらは延伸加工したものを用いることができる。これらの中でも、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエチレンテレフタレートフィルムが、機械的強度や寸法安定性に優れる点で好ましい。また、フィルム面内の位相差が非常に少ないという点でトリアセチルセルロースも好ましい。このような透明プラスチックフィルム基材の厚み、適用される材料によって適宜選択されることになるが、一般には２５〜５００μｍ程度であり、好ましくは４０〜２００μｍである。透明プラスチック基材フィルムの屈折率は、特に制限されないが、通常、１．３〜１．８程度、特に１．４〜１．７であることが好ましい。

ハードコート層形成材料は、ハードコート層形成材料は、（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）と、（メタ）アクリレート基を有する反応性シリコーン（Ｂ）を含有する。

本発明の（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）は、熱、紫外線または電子線により硬化する（メタ）アクリレート基を有する化合物であり、例えば、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等があげられる。（メタ）アクリレートはアクリレートおよび／またはメタクリレートであり、本発明において（メタ）は同様の意味である。

また、硬化性化合物（Ａ）としては、（メタ）アクリレート基を有する反応性希釈剤を用いることができる。反応性希釈剤としては、エチレンオキサイド変性フェノールの（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールの（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールの（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールの（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート等があげられる。また、硬化性化合物（Ａ）としては、ブタンジオールジグリセリンエーテルジアクリレート、イソシアヌル酸の（メタ）アクリレート、等があげられる。

前記硬化性化合物（Ａ）は、１種でもよく、または２種以上を併用してもよい。上記硬化性化合物（Ａ）として反応性希釈剤を用いる場合には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート等の３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましい。これらはハードコート層の硬度をより優れたものとするうえで好ましい。

（メタ）アクリレート基を有する反応性シリコーン（Ｂ）は、一分子中に、シロキサン構造を有するシリコーン部分を有し、かつ（メタ）アクリレート基を有するものを特に制限なく使用できる。

シロキサン構造は、特に制限されないが、−（Ｓｉ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ）−、の繰り返し単位を有するものがあげられる。シロキサン構造は、通常、これらが繰り返すポリシロキサン単位を有する。前記Ｒ¹、Ｒ²は、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基等があげられる。シロキサン構造としては、一般式（１）：

で表されるジメチルシロキサン単位があげられる。

また反応性シリコーン（Ｂ）は、活性水素基を有するものが好ましい。活性水素基としては、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基等があげられる。これらのなかでも、ヒドロキシル基が好適である。また反応性シリコーン（Ｂ）は、（メタ）アクリレート基に加えて、アリルエーテル基を有するものを用いることができる。

反応性シリコーン（Ｂ）における、（メタ）アクリレート基およびヒドロキシル基は、例えば、前記シロキサン構造における、Ｒ¹、Ｒ²を、前記官能基を有する置換基を有するものとすることにより導入できる。前記置換基は、（メタ）アクリレート基またはヒドロキシル基を有する置換基をそれぞれ有していてもよく、１つの置換基が、（メタ）アクリレート基およびヒドロキシル基を有していてもよい。また、これら置換基を組み合わせて、（メタ）アクリレート基およびヒドロキシル基を、反応性シリコーン（Ｂ）に導入することができる。

例えば、１つの置換基が、（メタ）アクリレート基およびヒドロキシル基を有するシロキサン単位としては、一般式（２）：

で表される、メチル−３−（３−アクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、
または一般式（３）：

で表される、メチル−３−（２−アクリロイル−３−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、を例示できる。

例えば、（メタ）アクリレート基を有するシロキサン単位としては、一般式（４）：

で表される、メチル，末端アクリレート基のポリエチレングリコールプロピルエーテル単位、を例示できる。一般式（４）中のｘは、１〜１０の整数である。

例えば、ヒドロキシル基を有するシロキサン単位としては、一般式（５）：

で表される、メチル，末端ヒドロキシ基のポリエチレングリコールプロピルエーテル単位、を例示できる。一般式（５）中のｘは、１〜１０の整数である。

反応性シリコーン（Ｂ）が、前記一般式（１）のジメチルシロキサン単位と、一般式（２）および／または一般式（３）で表される（メタ）アクリレート基およびヒドロキシル基を有するシロキサン単位を有する場合には、一般式（１）：一般式（２）および／または一般式（３）の成分割合（モル比）は、通常、１００：１〜５０であるのが好ましく、さらには１００：３〜３０であるのが好ましい。

反応性シリコーン（Ｂ）が、前記一般式（１）のジメチルシロキサン単位と、一般式（４）で表される（メタ）アクリレート基を有するシロキサン単位および一般式（５）で表されるヒドロキシル基を有するシロキサン単位を有する場合には、一般式（１）：一般式（４）：一般式（５）の成分割合（モル比）は、通常、１００：１〜２０：０〜２０であるのが好ましく、さらには１００：３〜１０：３〜１０であるのが好ましい。

また、反応性シリコーン（Ｂ）としては、前記シロキサン構造を導入するとともに、（メタ）アクリレート基を導入し、さらには活性水素基を導入した化合物を用いることができる。例えば、ジイソシアネート化合物から得られるイソシアヌル酸に、シロキサン構造を導入するとともに、（メタ）アクリレート基を導入し、さらに活性水素基を導入した化合物を用いることができる。当該化合物としては、例えば、下記一般式（６）：

で表される（ただし、一般式（６）において、Ｒは、少なくとも一つが、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有する。）化合物の混合物（当該混合物において、Ｒは、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基を有する。）があげられる。

イソシアヌル酸が、６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の骨格単位は、例えば、一般式（７）：

で表されるものを、単位（ｂ）として表すことができる。

前記Ｒのなかで、シロキサン構造を有する置換基としては、例えば、一般式（８）：

で表されるものを例示できる。一般式（８）は、ポリジメチルシロキサン単位（ｄ）とともに、一部にメチル，ヒドロキシプロピルシロキサン単位（ｃ）を有する化合物のヒドロキシル基が、単位（ｂ）の一部である、６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基とウレタン結合している。ポリジメチルシロキサン単位（ｄ）におけるｘ１は、１〜７である。

前記Ｒのなかで、活性水素基を有する置換基としては、例えば、一般式（９）：

で表されるものを例示できる。一般式（９）は、単位（ｂ）の一部である、６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基がカルボキシル化している。またはこれは脱炭酸してアミノ基となっている。

前記Ｒのなかで、アクリレート基を有する置換基としては、例えば、一般式（１０）：

で表されるものを例示できる。一般式（１０）は、単位（ｂ）の一部である、６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基と脂肪族ポリエステルとがウレタン結合し、さらに末端グリコールがアクリレート化されている単位（ａ）を有する。単位（ａ）におけるｍ、ｎはそれぞれが同一または異なっていてよく、１〜１０の整数である。ｌは、１〜５である。

反応性シリコーン（Ｂ）が、前記一般式（７）乃至（１０）で表される６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の誘導体の場合、前記単位（ａ）：単位（ｂ）：単位（ｃ）：単位（ｄ）の成分割合（モル比）は、単位（ｂ）を１００としたとき、単位（ａ）は、通常、１０〜１００、好ましくは３０〜６０、単位（ｃ）は、通常、５〜８０、好ましくは、１０〜６０、単位（ｄ）は、通常、１０〜４００、好ましくは、１００〜３００である。

なお、反応性シリコーン（Ｂ）の各成分の割合（モル比）は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルの積分曲線から求めた。また反応性シリコーン（Ｂ）の重量平均分子量は、ＧＰＣにより測定した。重量平均分子量は、５００〜１５００００であるのが好ましく、２０００〜１０００００であるのが好ましい。

反応性シリコーン（Ｂ）の使用量は、硬化性化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．０１〜３重量部である。好ましくは、０．０５〜２重量部、さらに好ましくは０．１〜１重量部である。反応性シリコーン（Ｂ）の使用量が０．０１重量部未満では、ハードコート層と反射防止層との充分な密着性の向上効果が得られない。また耐擦傷性の改善向上の点でも好ましくない。耐薬品性の点でも好ましくない。一方、３重量部を超える場合には、ハードコート層の硬度が低下し、耐擦傷性の点でも好ましくない。

ハードコート形成材料の硬化は、熱硬化、紫外線等の電離放射線硬化を行うことができ、硬化手段に応じて各種の重合開始剤を用いることができる。硬化手段に紫外線を用いる場合には、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４´−ジメトキレベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；キサントン；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；その他、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン等を例示できる。これらは単独でまたは２種以上の混合物として使用できる。重合開始剤の使用量は、ハードコート形成材料の全樹脂成分｛成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計量｝１００に対して１０重量部以下程度、さらには１〜７重量部が好ましい。

ハードコート層形成材料には、無機の超微粒子を添加することができる。無機の超微粒子としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、酸化インジウム、酸化アンチモン等があげられる。またこれらの複合物も使用することができる。これらのなかでも酸化チタン、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムが好ましい。これら超微粒子は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

無機の超微粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下であるのが好ましい。平均粒径１００ｎｍを超える場合には、光の散乱が発生し、ハードコート層の透過率が低下したり、着色したりして、透明性の点では好ましくない。無機の超微粒子の平均粒径は、５０ｎｍ以下であるのが好ましく、さらには３０ｎｍ以下であるのが好ましい。

無機の超微粒子は、その配合量に応じてハードコート層の見かけの屈折率を調整する機能を有する。透明プラスチックフィルム基材の屈折率とハードコート層の屈折率は近似していることが好ましい。そのため、ハードコート層形成材料の調製にあたっては、前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率とハードコート層の屈折率の差（ｄ）が小さくなるように、無機の超微粒子の配合量を適宜に調整するのが好ましい。前記屈折率差（ｄ）が大きいと、ハードコートフィルムに入射した外光の反射光が虹色の色相を呈する干渉縞と呼ばれる現象が発生し、表示品位を落としてしまう。特に、ハードコートフィルムを備えた画像表示装置が使用される頻度の高いオフィスでは、蛍光灯として、三波長蛍光灯が非常に増加してきている。三波長蛍光灯は、特定の波長の発光強度が強く、物がはっきり見える特徴を有するが、この三波長蛍光灯下では更に干渉縞が顕著に現れることが判っている。

前記屈折率差（ｄ）は０．０４以下が好ましい。更に好ましくは０．０２以下である。例えば、透明プラスチックフィルム基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、実施例のハードコート形成材料においては、無機の超微粒子として酸化チタンを用い、これをハードコート形成材料の全樹脂成分に対して３０〜４０％程度配合することで、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率約１．６４に対する屈折率差（ｄ）を０．０２以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。また、透明プラスチックフィルム基材として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、無機の超微粒子に酸化ケイ素を用い、これをハードコート形成材料の全樹脂成分に対し３５〜４５％程度配合することで、トリアセチルセルロースフィルムの屈折率約１．４８に対する屈折率差（ｄ）を上記同様に０．０２以下に制御することができすることができ、干渉縞の発生を抑制することができる。

またハードコート形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。レベリング剤としては、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を適宜選択して使用するのが好ましい。より好ましくはシリコーン系のレベリング剤である。シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等があげられる。フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤の配合量は、ハードコート層形成材料の全樹脂成分１００重量部に対して、５重量部以下、さらには０．０１〜５重量部の範囲とするのが好ましい。

ハードコート形成材料の硬化手段に、紫外線を用いる場合において、前記レベリング剤をハードコート形成材料に配向しておくと、予備乾燥および溶媒乾燥時に当該レベリング剤が空気界面にブリードしてくるので、酸素による紫外線硬化型樹脂の硬化阻害を防ぐことができ、最表面においても十分な硬度を有するハードコート層を得ることができる。また、シリコーン系のレベリング剤はハードコート層表面へのブリードにより滑り性が付与されるために耐擦傷性も向上することもできる。

さらにハードコート形成材料には、必要に応じ、性能を損なわない範囲で、顔料、充頃剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロビー化剤等を使用してもよい。これらは単独で使用されてもよいし、２種類以上併用されてもよい。

ハードコート層は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、前記ハードコート形成材料を塗工後に硬化により硬化塗膜層であるハードコート層を形成することにより行う。ハードコート形成材料は、塗工にあたり、溶媒に溶解した溶液として塗工することができる。ハードコート形成材料を溶液として塗工した場合には、乾燥後に、硬化する。

溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；イソプロピルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類等があげられる。これら溶媒は１種を単独で、または２種以上を混合して用いることができる。溶液の固形分濃度は、通常、７０重量％以下が好ましく、より好ましくは３０〜６０重量％である。

前記ハードコート形成材料を透明プラスチックフィルム基材上に塗工する方法としては、公知のファンテンコート、ダイコート、スピンコート、スプレーコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等の塗工法を用いることができる。

前記ハードコート形成材料の硬化手段は特に制限されないが、電離放射線硬化が好ましい。その手段には各種活性エネルギーを用いることができるが、紫外線が好適である。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などの線源が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ²未満の場合は、硬化が不十分となるため、ハードコート層の硬度が低下する場合がある。また５０００ｍＪ／ｃｍ²を超えると、ハードコート層が着色して透明性が低下する。

前記ハードコート形成材料の硬化により得られる硬化塗膜層であるハードコート層の厚みは特に制限されないが、前記の通り、２〜５０μｍにすることが好ましい。ハードコート層の厚みは５〜３０μｍ、さらには１５〜２５μｍであるのが好ましい。厚みが２μｍより薄すぎると硬度が下がり易く、５０μｍより厚すぎるとハードコート層自体にクラックが発生したり、ハードコート層の硬化収縮によりハードコートフィルムがハードコート面にカールして実用上問題となる場合がある。

なお、ハードコート層は、通常、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂を用いて透明プラスチックフィルム基材上に２〜１０μｍ程度の薄い塗膜として形成される。しかし、前記厚みではハードコート層の厚さが十分でないために、ガラス上に塗工した場合の鉛筆硬度が４Ｈ以上の特性を有するハードコート樹脂であっても、下地である透明プラスチックフィルム基材の影響を受け、透明プラスチックフィルム基材上に形成したハードコート層の表面硬度は鉛筆硬度にて２Ｈ以下となるのが一般的である。３Ｈ以上の硬度が必要な場合は、ハードコート層の膜厚を１５〜２５μｍに設定することが好ましい。

ハードコート層の表面は微細凹凸構造にして防眩性を付与することができる。表面に微細凹凸構造を形成する方法は特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。たとえば、前記ハードコート層の形成に用いたフィルムの表面を、予め、サンドブラストやエンボスロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理してフィルム表面に微細凹凸構造を付与する方法等により、ハードコート層を形成する材料そのものの表面を微細凹凸構造に形成する方法があげられる。また、ハードコート層上に別途ハードコート層を塗工付加し、当該樹脂皮膜層表面に、金型による転写方式等により微細凹凸構造を付与する方法があげられる。また、図２のようにハードコート層に微粒子を分散含有させて微細凹凸構造を付与する方法などがあげられる。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上の方法を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を複合させた層として形成してもよい。前記ハードコート層の形成方法のなかでも、微細凹凸構造表面の形成性等の観点より、微粒子４を分散含有するハードコート層を設ける方法が好ましい。

以下、微粒子を分散含有させてハードコート層を設ける方法について説明する。微粒子４としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカやジルコニア、チタニア、酸化カルシウム等の金属酸化物や導電性を有するアルミナ、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の無機系導電性微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子やシリコーン系微粒子などがあげられる。なお、これらの形状は特に制限されずビーズ状の球形であってもよく、粉末等の不定型のものであってもよい。これら微粒子４は１種または２種以上を適宜に選択して用いることができる。微粒子の平均粒子径は１〜３０μｍ、好ましくは２〜２０μｍである。また、微粒子には、屈折率制御や、導電性付与の目的で、金属酸化物の超微粒子などを分散、含浸しても良い。微粒子の割合は、微粒子の平均粒子径、ハードコート層の厚さ等を考慮して適宜に決定されるが、一般的に、樹脂１００重量部に対して、２〜６０重量部程度であり、さらには５〜４０重量部とするのが好ましい。

前記反射防止層形成材料は、シロキサン成分を有する化合物を含有する。当該化合物としては、例えば、加水分解性アルコキシシランがあげられる。その例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン等があげられる。これらのなかでも、硬化膜の耐擦傷性を向上させる点からテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。

また反射防止層形成材料としては、エチレングリコール換算による平均分子量が５００〜１００００であるシロキサンオリゴマー（Ｃ）、およびポリスチレン換算による数平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物（Ｄ）を含有する硬化性樹脂組成物を用いることができる。当該硬化性樹脂組成物は、特開２００４−１６７８２７号公報に記載のものを用いることができる。また、シロキサンオリゴマー（Ｃ）またはフルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物（Ｄ）を単独で用いることもできる。

シロキサンオリゴマー（Ｃ）は、前記平均分子量の範囲のものを特に制限なく使用することができる。シロキサンオリゴマー（Ｃ）は、加水分解性アルコキシシランを重合することにより調製することができ、市販のシロキサンオリゴマーをそのまま使用することができる。シロキサンオリゴマー（Ｃ）は、加水分解性アルコキシシランを大量のアルコール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）に入れ、水と酸触媒（塩酸、硝酸など）の存在下、室温で数時間反応させ、部分的に加水分解後縮重合させることによって得られる。シロキサンオリゴマー（Ｃ）の重合度は加水分解性アルコキシシランと水の添加量によって制御できる。加水分解性アルコキシシランとしては、前記例示のものを用いることができる。

フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物（Ｄ）は、ポリスチレン換算による数平均分子量が５０００以上のものを特に制限なく使用できる。フッ素化合物（Ｄ）は、たとえば、ゾル−ゲル反応によって縮合可能なアルコキシシリル基を有するパーフルオロアルキルアルコキシシランと、一般式（Ｉ）：Ｓｉ（ＯＲ¹）₄（式中、Ｒ¹は炭素数１〜５のアルキル基を示す）で表されるテトラアルコキシシランを主成分とする加水分解性アルコキシシランを、アルコール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）中で有機酸（たとえばシュウ酸等）やエステル類の存在下で加熱し縮重合させることにより得られる。得られた化合物（Ｄ）中には、ポリシロキサン構造が導入されている。

なお、これらの反応成分の比率は特に制限されないが、通常、パーフルオロアルキルアルコキシシラン１モルに対して、加水分解性アルコキシシラン１〜１００モル程度、さらには２〜１０モルとするのが好適である。

パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式（ＩＩ）：ＣＦ₃（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ²）₃（式中、Ｒ²は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。

一般式（Ｉ）：Ｓｉ（ＯＲ¹）₄（式中、Ｒ¹は炭素数１〜５のアルキル基を示す）で表されるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどがあげられる。これらのなかでもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが好ましい。なお、フッ素化合物（Ｄ）の調製にあたっては、前記一般式（Ｉ）で例示のテトラアルコキシシランを、加水分解性アルコキシシランの、通常、８０モル％以上とし、これに一般式（Ｉ）に含まれない前述の加水分解性アルコキシシランを用いることができる。

フッ素化合物（Ｄ）は、水酸基および／またはエポキシ基を有することが好ましい。フッ素化合物（Ｄ）の水酸基および／またはエポキシ基は、シロキサンオリゴマー（Ｃ）またはフッ素化合物（Ｄ）のポリシロキサン構造と反応して、硬化膜の皮膜強度が強くなり、耐擦傷性をさらに向上させることができる。水酸基および／またはエポキシ基は、フルオロアルキル構造に導入されていいてもよく、ポリシロキサン構造に導入されていてもよい。水酸基および／またはエポキシ基はこれら官能基を有する化合物を共重合することにより導入できる。

本発明の硬化性樹脂組成物中の前記シロキサンオリゴマー（Ｃ）とフッ素化合物（Ｄ）の混合割合は、当該組成物から得られる硬化膜の用途に応じて適宜に調製される。シロキサンオリゴマー（Ｃ）の割合が多くなると、フッ素化合物（Ｄ）の割合が少なくなり、硬化膜の屈折率が上昇したり、防汚染性が低下する傾向がある。一方、シロキサンオリゴマー（Ｃ）の割合が少なくなると、硬化膜の皮膜強度が弱くなり、耐擦傷性が低下する傾向がある。これらの観点から、硬化性樹脂組成物中、シロキサンオリゴマー（Ｃ）の割合は、シロキサンオリゴマー（Ｃ）とフッ素化合物（Ｄ）の合計に対して、通常、固形分で５〜９０重量％であるのが好ましい。より好ましくは、３０〜７５重量％である。

硬化性樹脂組成物には架橋性化合物を配合することができる。架橋性化合物としては、たとえば、メラミン樹脂、グリコール類、アクリル系樹脂、アジド類、イソシアネート類などがあげられる。これらのなかでも硬化性樹脂組成物の保存安定性から、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化メラミンまたはこれらの誘導体などのメラミン樹脂が好ましい。架橋性化合物の使用割合は、フッ素化合物（Ｄ）１００重量部に対して、７０重量部以下が好ましい。より好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは５〜３０重量部である。

硬化性樹脂組成物には酸発生剤を配合することができる。酸発生剤は、硬化性樹脂組成物中で均一に溶解し、硬化性樹脂組成物を分解したり、硬化膜の皮膜透明性を低下させないものが好ましい。酸発生剤としては、ｐ−トルエンスルホン酸、安息香酸等の有機酸や、トリアジン系化合物等の光酸発生剤などがあげられる。酸発生剤の使用割合は、フッ素化合物（Ｄ）１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましい。より好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。

反射防止層形成材料には、膜強度を改善するために無機のゾルを添加することができる。無機のゾルの平均粒径は、２〜５０ｎｍのものが好ましく、５〜３０ｎｍのものがより好ましい。無機のゾルとしては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セリア等があげられる。これらのなかでもシリカゾルが好ましい。無機のゾルの添加量は、反射防止層形成材料の全固形分の８０重量％以下、好ましくは１０〜８０重量％である。

上記では、ウェット方式に用いる反射防止層形成材料を説明したが、反射防止層の形成はドライ方式を採用することができる。前記反射防止層の形成材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等を用いることができる。反射防止機能をより大きく発現させるためには、酸化チタン層と酸化ケイ素層との積層体を用いることが好ましく、適切な光学設計を行うことにより、可視光線の波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の反射を均一に低減させることが可能である。ただし、ハードコート層と直接接触する反射防止層の防止層形成材料は、シロキサン成分を有する化合物ものを用いる。

反射防止層の一般的なメカニズムを説明する。光は物体に当たるとその界面での反射、内部での吸収、散乱といった現象を繰り返して物体の背面に透過していく。画像表示装置にハードコートフィルムを装着した際、画像の視認性を低下させる要因のひとつに空気とハードコート層界面での光の反射があげられる。反射防止層は、その表面反射を低減させる。

反射防止層としては、厚みおよび屈折率を厳密に制御した光学薄膜（反射防止層）をハードコート層表面に積層したものがあげられる。これは、光の干渉効果を利用した入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現させる方法である。

光の干渉効果に基づく反射防止層の設計において、その干渉効果を上げるには、反射防止層とハードコート層の屈折率差を大きくすることである。例えば、基材上に２〜５層の光学薄膜（前記厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜）を積層する多層反射防止層では、屈折率の異なる成分を所定の厚さだけ複数層形成することで、反射防止層の光学設計に自由度が増し、より反射防止効果を向上させ、分光反射特性も可視光領域でフラットにすることが可能になってくる。光学薄膜の各層の厚み精度が要求されるため、一般的にはドライ方式である真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等で各層の形成が行われている。

また、ハードコート層基材上に単層の光学薄膜を積層することによっても反射防止効果を発現させることが可能である。反射防止層を単層にする設計においても、反射防止機能を最大限引き出すためには、反射防止層とハードコート層の屈折率差を大きくする必要がある。上記反射防止層の膜厚をｄ、屈折率をｎ、入射光の波長をλとすると、反射防止層の膜厚とその屈折率との間でｎｄ＝λ／４なる関係式が成立する。反射防止層の屈折率が基材の屈折率より小さい場合は、上記関係式が成立する条件では反射率が最小となる。例えば、反射防止層の屈折率が１．４５である場合は、可視光線中の５５０ｎｍの波長の入射光に対して、反射率を最小にする反射防止層の膜厚は９５ｎｍとなる。

反射防止機能を発現させる可視光線の波長領域は、３８０〜７８０ｎｍであり、特に視感度が高い波長領域は４５０〜６５０ｎｍの範囲であり、その中心波長である５５０ｎｍの反射率を最小にする設計を行なうことが一般的に行われている。

単層で反射防止層を設計する場合、その厚み精度は、多層反射防止膜の厚み精度ほど厳密ではなく、設計厚みに対し±１０％の範囲、つまり設計波長が９５ｎｍの場合は、８６ｎｍ〜１０５ｎｍの範囲であれば問題なく使用できる。このことより、一般的に単層の反射防止層の形成には、ウェット方式であるファンテンコート、ダイコート、スピンコート、スプレーコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等の塗工法が用いられている。なお、塗工にあたり、前記反射防止層形成材料は、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等の一般的な溶剤で希釈してもよく、希釈することなくそのまま塗工することもできる。

反射防止層を形成する際の乾燥および硬化の温度は特に制限されず、通常、６０〜１５０℃、好ましくは７０〜１３０℃であり、通常、１〜３０分間、生産性を考慮した場合には１〜１０分間程度行うのが好ましい。また、乾燥および硬化後に、さらに加熱処理を行うことで、より高硬度の反射防止ハードコートフィルムが得られる。加熱処理の温度は特に制限されず、通常、４０〜１３０℃、好ましくは５０〜１００℃であり、通常、１分間〜１００時間、耐擦傷性を向上させるには１０時間以上行うのが好ましい。なお、温度、時間は前記範囲に制限されず、適宜に調製できる。加熱は、ホットプレート、オーブン、ベルト炉などによる方法が適宜に採用される。

前記反射防止層の形成材料として用いる無機微粒子としては、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子を用いるのが好ましい。中空で球状の酸化ケイ素超微粒子は、平均粒子径が５〜３００ｎｍ程度であることが好ましく、該超微粒子は細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されてなる中空球状であり、該空洞内に該微粒子調製時の溶媒および／または気体を包含してなる。前記空洞を形成するための前駆体物質が該空洞内に残存してなることが好ましい。前記外殻の厚さは１〜５０ｎｍ程度の範囲にあり、且つ平均粒子径の１／５０〜１／５程度の範囲にあることが好ましい。前記外殻が複数の被覆層からなることが好ましい。前記細孔が閉塞され、前記空洞が前記外殻により密封されてなることが好ましい。反射防止層中において、多孔質または空洞が維持されており、反射防止層の屈折率を低減させることが可能なため、好ましく用いることができる。

中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の平均粒子径は５〜３００ｎｍ程度にある。平均粒子径が５ｎｍ未満では球状微粒子における外殻の体積割合が増加し、空洞の容積の割合が低下する傾向があり、他方、平均粒子径が３００ｎｍを超えると安定した分散液が得にくくなり、また、該超微粒子を含有する反射防止層の透明性が低下し易いからである。中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の好ましい平均粒子径は１０〜２００ｎｍの範囲である。なお、上記平均粒子径は動的光散乱法によって求めることができる。

中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の製造方法は、例えば、下記工程（ａ）〜工程（ｃ）を有する。中空で球状の酸化ケイ素超微粒子は、分散液として得られる。このような中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の製造方法としては、例えば、特開２０００−２３３６１１号公報に開示されたシリカ系微粒子の製造方法が好適に採用される。
（ａ）珪酸塩の水溶液および／または酸性珪酸液と、アルカリ可溶の無機化合物水溶液とを、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液または、必要に応じて種粒子が分散したｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に同時に添加し、酸化ケイ素をＳｉＯ₂で表し、酸化ケイ素以外の無機化合物をＭＯ_xで表したときのモル比（ＭＯ_x／ＳｉＯ₂）が０．３〜１．０の範囲にある核粒子分散液を調製する工程。
（ｂ）前記核粒子分散液に酸化ケイ素源を添加して、核粒子に第１酸化ケイ素被覆層を形成する工程。
（ｃ）前記分散液に酸を加え、前記核粒子を構成する元素の一部または全部を除去する工程。

前記中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の分散液は各種マトリクス成分と混合することにより、反射防止形成用塗工液を作成することができる。各種マトリクス成分は、ハードコート層の表面に被膜を形成し得る成分をいい、ハードコート層との密着性や硬度、塗工性等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができる。例えば、従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの有機樹脂があげられる。また前記の単層で反射防止層を形成する材料として例示したゾル−ゲル系材料等をマトリクス成分として用いることができる。

マトリクス成分として有機樹脂を用いる場合には、例えば、前記中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の分散媒としての水をアルコール等の有機溶媒で置換した有機溶媒分散液、必要に応じて前記超微粒子を公知のカップリング剤で処理した後、有機溶媒に分散させた有機溶媒分散液とマトリクスとを適当な有機溶剤で希釈して、反射防止形成用塗工液とすることができる。

一方、マトリクス成分としてゾル−ゲル系材料を用いる場合には、例えば、アルコキシシラン等の金属アルコキシドとアルコールの混合液に、水および触媒としての酸またはアルカリを加えることにより、アルコキシシラン等の部分加水分解物を得て、これに前記分散液を混合し、必要に応じて有機溶剤で希釈して、塗布液とすることができる。

塗工液中の、前記酸化ケイ素超微粒子とマトリクス成分の重量割合は、酸化ケイ素超微粒子／マトリクス＝１／９９〜９／１の範囲が好ましい。前記重量割合が９／１を超えると反射防止層の強度が不足して実用性に欠ける場合がある。一方、前記重量割合が１／９９未満では前記酸化ケイ素超微粒子の添加効果が現れにくい場合がある。

上記ハードコート層の表面に形成される反射防止層の屈折率は、酸化ケイ素超微粒子とマトリクス成分等の混合比率および使用するマトリクスの屈折率によっても異なるが、１．２〜１．４２と低屈折率となる。なお、本発明の酸化ケイ素超微粒子自体の屈折率は、１．２〜１．３８である。

ハードコートフィルムのハードコート層上に反射防止層を設けた反射防止ハードコートフィルムは、鉛筆硬度の点で好ましい。前超微粒子を含有するハードコート層表面は微小凹凸を形成しており、それが鉛筆の滑りに影響する（鉛筆が引っかかりやすく力が伝わり易くなっている）。

反射防止層は画像表示装置の最表面に装着される頻度が高いため、外部環境からの汚染を受けやすい。特に、身近においては指紋や手垢、汗や整髪料等の汚染物が付着しやすく、その付着で表面反射率が変化したり、付着物が白く浮きでて見えて表示内容が不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が目立ちやすくなる。この様な場合は、上記付着防止性、易除去性に関する機能を付与するために、フッ素基含有のシラン系化合物やフッ素基含有の有機化合物等を反射防止層上に積層することができる。

ハードコートフィルムの作製、反射防止ハードコートフィルムの作製にあたっては、透明プラスチックフィルム基材、さらにハードコート層に各種表面処理を行うことによって、透明プラスチックフィルム基材とハードコート層、ハードコート層と反射防止層の接着性を向上させることができる。その表面処理としては、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。また、トリアセチルセルロースを透明プラスチックフィルム基材として用いた場合の表面処理としてはアルカリ鹸化処理が好ましい。アルカリ鹸化処理は、トリアセチルセルロースフィルム表面をアルカリ溶液に浸潰した後、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１〜３Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ〜２Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、２５〜９０℃の範囲が好ましく、４０〜７０℃がさらに好ましい。その後、水洗処理、乾燥処理を行い、表面処理を施したトリアセチルセルロースを得ることができる。

反射防止ハードコートフィルムは、通常、その透明プラスチックフィルム基材側を、粘着剤や接着剤を介して、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤの表面に貼り合わせて用いることができる。

またハードコートフィルム、反射防止ハードコートフィルムは、通常、その透明プラスチックフィルム基材側を、粘着剤や接着剤を介して、ＬＣＤやＥＬＤに用いられている光学素子に貼り合せることができる。貼り合わせにあたり、透明プラスチックフィルム基材には、前記同様の表面処理を施すことができる。

光学素子としては、例えば、偏光子または偏光板があげられる。偏光板は、通常、偏光子の片側または両側に透明保護フィルムを有するものが一般に用いられる。偏光子の両面に透明保護フィルムを設ける場合は、表裏の透明保護フィルムは、同じ材料であっても良いし、異なる材料であってもよい。偏光板は、通常、液晶セルの両側に配置される。通常、偏光板は、２枚の偏光板の吸収軸が互いに略直交するように配置される。

偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

前記偏光子は、通常、片側または両側に透明保護フィルムが設けられ偏光板として用いられる。透明保護フィルムは透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。上記透明保護フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・エチレン・スチレン共重合体、スチレン・マレイミド共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体などのスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、等の透明樹脂からなるフィルムがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂等の透明樹脂からなるフィルムもあげられる。さらに芳香族ポリイミドやポリイミドアミド等のイミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルブチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂や前記樹脂のブレンド物等の透明樹脂からなるフィルムなどもあげられる。

また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、たとえば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板等の保護フィルムに適用した場合には歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。

前記透明保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性の点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等があげられる。セルロース系樹脂としては、富士写真フイルム（株）製の製品名「フジタック」等、ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製の製品名「ゼオノア」、ＪＳＲ（株）製の製品名「アートン」等があげられる。

透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。より好ましくは５〜２００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがより好ましい。上記の範囲であれば、偏光子を機械的に保護し、高温高湿下に曝されても偏光子が収縮せず、安定した光学特性を保つことができる。

また、透明保護フィルムは、できるだけ色付きがないことが好ましい。したがって、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）・ｄ（ただし、ｎｘはフィルム平面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率、ｄはフィルム厚みである。）で表されるフィルム厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。

前記透明保護フィルムは、フィルム面内の位相差値および厚み方向の位相差値が液晶表示装置の視野角特性に影響を及ぼす場合があるので、位相差値が最適化されたものを用いることが好ましい。ただし、位相差値の最適化が望まれる透明保護フィルムは、液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムであり、液晶セルに遠い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムは、液晶表示装置の光学特性を変化させることはないので、この限りではない。

前記液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムの位相差値としては、フィルム面内の位相差値（Ｒｅ：（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ）が０〜５ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、０〜３ｎｍである。更に好ましくは、０〜１ｎｍである。厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）は、０〜１５ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜１２ｎｍである。更に好ましくは０〜１０ｎｍである。特に好ましくは０〜５ｎｍである。最も好ましくは、０〜３ｎｍである。

ハードコートフィルム等を積層した偏光板は、ハードコートフィルム等に透明保護フィルム、偏光子、透明保護フィルムを順次に積層したものでもよいし、ハードコートフィルム等に偏光子、透明保護フィルムを順次に積層したものでもよい。

その他、透明保護フィルムの偏光子を接着させない面は、ハードコート層やスティッキング防止や目的とした処理を施したものであってもよい。ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。なお、前記ハードコート層、スティッキング防止層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。

また偏光板の層間へ、例えばハードコート層、プライマー層、接着剤層、粘着剤層、帯電防止層、導電層、ガスバリヤー層、水蒸気遮断層、水分遮断層等を挿入、または偏光板表面へ積層しても良い。また、偏光板の各層を作成する段階では、例えば、導電性粒子あるいは帯電防止剤、各種微粒子、可塑剤等を各層の形成材料に添加、混合等することにより改良を必要に応じておこなっても良い。

前記透明保護フィルムの偏光子との積層方法は、特に限定されず、例えばアクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいはホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミンやシュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより湿度や熱の影響で剥がれにくく光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。前記接着剤としては、偏光子の原料であるポリビルアルコールとの接着性に優れる点より、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。

前記ノルボルネン系樹脂を含む高分子フィルムを透明保護フィルムとして、偏光子と積層する場合の粘着剤としては、透明性に優れ、複屈折などが小さく、薄い層として用いても充分に粘着力を発揮できるものが好ましい。そのような粘着剤としては、例えば、ポリウレタン系樹脂溶液とポリイソシアネート樹脂溶液を混合するドライラミネート用接着剤、スチレンブタジエンゴム系接着剤、エポキシ系二液硬化型接着剤、例えば、エポキシ樹脂とポリチオールの二液からなるもの、エポキシ樹脂とポリアミドの二液からなるものなどを用いることができ、特に溶剤型接着剤、エポキシ系二液硬化型接着剤が好ましく、透明のものが好ましい。接着剤によっては、適当な接着用下塗り剤を用いることで接着力を向上させることができるものがあり、そのような接着剤を用いる場合は接着用下塗り剤を用いることが好ましい。

上記接着用下塗り剤としては、接着性を向上できる層であれば特に制限はないが、例えば、同一分子内にアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基等の反応性官能基と加水分解性のアルコキシシリル基とを有するシラン系カップリング剤、同一分子内にチタンを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するチタネート系カップリング剤、および同一分子内にアルミニウムを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するアルミネート系カップリング剤等のいわゆるカップリング剤、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂、ウレタン系樹脂、エステルウレタン系樹脂等の有機反応性基を有する樹脂を用いることができる。なかでも、工業的に取扱いやすいという観点から、シラン系カップリング剤を含有する層であることが好ましい。

光学素子としては、実用に際して、前記偏光板に、他の光学素子（光学層）を積層した光学フィルムを用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。楕円偏光板、光学補償付き偏光板等では偏光板側にハードコートフィルムが付与される。

さらに必要に応じて、耐擦傷性、耐久性、耐候性、耐湿熱性、耐熱性、耐湿性、透湿性、帯電防止性、導電性、層間の密着性向上、機械的強度向上等の各種特性、機能等を付与するための処理、または機能層の挿入、積層等を行うこともできる。

反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ、前記透明保護フィルム等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。

反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。

反射板は前記偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。

なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。

偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。

楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青または黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。

また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板または反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。

視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理または／および収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどがあげられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。

また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。

偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部または全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。

輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。

前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回りまたは右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。

従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。

可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層または２層以上の位相差層からなるものであってよい。

なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層または３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。

また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層または３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。

前記光学素子へのハードコートフィルムの積層、さらには偏光板への各種光学層の積層は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行うことができるが、これらを予め積層したものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。

前述した偏光板や、偏光板を少なくとも１層積層されている光学フィルム等の光学素子の少なくとも片面には、前記ハードコートフィルムが設けられているが、ハードコートフィルムが設けられていない面には、液晶セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましい。

前記接着剤または粘着剤にはベースポリマーに応じた架橋剤を含有させることができうる。また粘着層等は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層などであってもよい。

偏光板、光学フィルム等の光学素子への粘着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物または混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解または分散させた１０〜４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で光学素子上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを光学素子上に移着する方式などがあげられる。粘着層は、各層で異なる組成または種類等のものの重畳層として設けることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には１〜５００μｍであり、５〜２００μｍが好ましく、特に１０〜１００μｍが好ましい。

粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。

なお本発明において、上記した光学素子を形成する偏光子や透明保護フィルムや光学層等、また粘着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。

本発明のハードコートフィルムを設けた光学素子は液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学素子、および必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学素子を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。

液晶セルの片側または両側に前記光学素子を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による光学素子は液晶セルの片側または両側に設置することができる。両側に光学素子を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層または２層以上配置することができる。

次いで有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。

有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。

有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。

このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。

電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。

位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。

すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。

この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。

以下、本発明の実施例について説明する。なお、各例中、「部」、「％」は特記しない限り、重量基準である。

実施例１
（透明プラスチックフィルム基材）
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率：１．４８）を用いた。

（反応性シリコーン（Ｂ））
ジメチルシロキサン単位／メチル，３−アクリロイル−２−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位／メチル，２−アクリロイル−３−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位を、順に、モル比で、１００：２０：５の共重合割合で有する化合物（大日本インキ化学工業社製，ＰＣ−４１３１）を用いた。これを反応性シリコーン（Ｂ１）とする。反応性シリコーン（Ｂ１）は、一般式（１）、（２）、（３）の単位を有する化合物に相当する。反応性シリコーン（Ｂ１）の重量平均分子量は１０００−２００００であった。重量平均分子量の測定にあたり、ＧＰＣの測定条件は、測定機器：東ソー製ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ、カラム：東ソー製，Ｇ４０００Ｈ_XL＋Ｇ２０００Ｈ_XL＋Ｇ１０００Ｈ_XL（各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ，計９０ｃｍ）、カラム温度：４０℃、溶離液：テトラヒドロフラン、流速：０．８ｍｌ／分、入り口圧：６．６MＰａ、標準試料：ポリスチレン、とした。

（ハードコート層形成材料）
硬化性化合物（Ａ１）として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００部、ブタンジオールジグリセリンエーテルジアクリレート９．３部を用いた。当該硬化性化合物（Ａ１）、および上記反応性シリコーン（Ｂ１）を０．５部、重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４）４．５部を、酢酸ブチルにより固形分濃度が６５％となるように希釈してハードコート形成材料（溶液）を調製した。これをハードコート層形成材料とする。

（ハードコートフィルムの作製）
上記透明プラスチックフィルム基材表面に、上記ハードコート層形成材料をバーコーターにて塗工し、１００℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥し、その後、メタルハライドランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、硬化処理して厚み７μｍのハードコート層を形成したハードコートフィルムを得た。ハードコート層の屈折率は１．５１であった。

（反射防止層形成材料）
シロキサンオリゴマー（Ｃ）として、コルコートＮ１０３（コルコート社製，固形分２％）を用いた。平均分子量は９５０のジメチルシロキサンオリゴマーであった。フッ素化合物（Ｄ）として、オプスターＪＴＡ１０５（ＪＳＲ社製，固形分５％）を用いた。フッ素化合物（Ｄ）のポリスチレン換算による数平均分子量は８０００であった。また硬化剤としては、ＪＴＡ１０５Ａ（ＪＳＲ社製，固形分５％）を用いた。オプスターＪＴＡ１０５を１００部、ＪＴＡ１０５Ａを１部、コルコートＮ１０３を５９０部および酢酸ブチル１５１．５部を混合して反射防止層形成材料を調製した。

（反射防止層の形成）
上記反射防止層形成材料を、ハードコート層上に、ワイヤーバーを用いて硬化後の厚みが約１００ｎｍとなるように塗工し、１２０℃で３分間加熱することにより乾燥および硬化して反射防止層（厚さ０．１μｍ，屈折率１．４３）を形成して、反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例２
実施例１において、ハードコート層の厚みを２０μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例３
（ハードコート層形成材料）
硬化性化合物（Ａ２）として、イソシアヌル酸アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、イソホロンジイソシアネートポリウレタンを含有する組成からなる紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製，ユニディック１７−８０６）を用いた。当該硬化性化合物（Ａ２）１００部、実施例１に記載の反応性シリコーン（Ｂ１）を０．５部、重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４）４．５部を、酢酸ブチルにより固形分濃度が４０％となるように希釈してハードコート形成材料（溶液）を調製した。

実施例１において、ハードコート層形成材料を、上記記載のものに変更したこと以外は、実施例１と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例４
（反応性シリコーン（Ｂ））
ジメチルシロキサン単位／メチル，ヒドロキシプロピルシロキサン単位／６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸／末端アクリレート基を有する脂肪族ポリエステルを、順に、モル比で、２８６：４５：１００：４５の割合で有する化合物（大日本インキ化学工業社製，ＰＣ−４１３３）を用いた。これを反応性シリコーン（Ｂ２）とする。反応性シリコーン（Ｂ２）は、一般式（７）、（８）、（９）、（１０）の単位を有する化合物に相当する。反応性シリコーン（Ｂ２）の重量平均分子量の測定条件は、前述の反応性シリコーン（Ｂ１）の重量平均分子量の測定条件と同じである。

実施例３において、ハードコート層形成材料の調製に、反応性シリコーン（Ｂ１）の代わりに、反応性シリコーン（Ｂ２）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例５
（反応性シリコーン（Ｂ））
ジメチルシロキサン単位／メチル，末端アクリレート基のポリエチレングリコールプロピルエーテルシロキサン／メチル，末端ヒドロキシル基のポリエチレングリコールプロピルエーテルシロキサンを、順に、モル比で、１００：８：６の割合で有する共重合物（大日本インキ化学工業社製，ＰＣ−４１５１）を用いた。これを反応性シリコーン（Ｂ３）とする。反応性シリコーン（Ｂ３）は、一般式（１）、（４）、（５）の単位を有する化合物に相当する。反応性シリコーン（Ｂ３）の重量平均分子量は、４３２０であった。反応性シリコーン（Ｂ３）の重量平均分子量の測定条件は、前述の反応性シリコーン（Ｂ１）の重量平均分子量の測定条件と同じである。

実施例３において、ハードコート層形成材料の調製に、反応性シリコーン（Ｂ１）の代わりに、反応性シリコーン（Ｂ３）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例６
実施例５において、ハードコート層形成材料の調製の際に、反応性シリコーン（Ｂ３）の添加量を、０．０１部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例７
実施例５において、ハードコート層形成材料の調製の際に、反応性シリコーン（Ｂ３）の添加量を、２部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例８
実施例５において、ハードコート層の厚みを２０μｍに変更したこと以外は、実施例５と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例９
実施例１において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

実施例１０
実施例２において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

実施例１１
（反射防止層形成材料）
シロキサンオリゴマー（Ｃ）として、コルコートＮ１０３（コルコート社製，固形分２重量％）を用いた。平均分子量は９５０のジメチルシロキサンオリゴマーであった。フッ素化合物（Ｄ）として、オプスターＪＴＡ１０５（ＪＳＲ社製，固形分５重量％）を用いた。フッ素化合物（Ｄ）のポリスチレン換算による数平均分子量は８０００であった。また硬化剤としては、ＪＴＡ１０５Ａ（ＪＳＲ社製，固形分５重量％）を用いた。オプスターＪＴＡ１０５を２３部、ＪＴＡ１０５Ａを０．２部、コルコートＮ１０３を５４部、アクリル基を有するシランカップリング剤で表面処理を行い疎水化した直径６０ｎｍの中空で球状の酸化ケイ素超微粒子２３部を、イソプロピルアルコール／酢酸ブチル／メチルイソブチルケトン（５４／１４／３２：重量比）の混合溶媒中に分散させ、固形分濃度を２．０％に調整した、反射防止層の形成材料を得た。

実施例１０において、反射防止層形成材料を、上記記載のものに変更したこと以外は、実施例１０と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。なお、形成された反射防止層は、屈折率１．３９、であった。

実施例１２
実施例５において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

実施例１３
実施例８において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

実施例１４
実施例５において、ハードコート層形成材料の調製の際に、反応性シリコーン（Ｂ３）の添加量を、３部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

実施例１５
実施例８において、ハードコート層形成材料の調製の際に、平均粒径３μｍの架橋アクリル粒子（ＭＸ３００，綜研化学（株）製）６０部を加えたこと以外は、実施例８と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。反射防止ハードコートフィルムは防眩性を有していた。

比較例１
実施例１において、ハードコート層形成材料の調製に、反応性シリコーン（Ｂ１）を配合しなかったこと以外は、実施例１と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

比較例２
実施例３において、ハードコート層形成材料の調製に、反応性シリコーン（Ｂ１）を配合しなかったこと以外は、実施例３と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

比較例３
実施例５において、ハードコート層形成材料の調製の際に、反応性シリコーン（Ｂ３）の添加量を、４部に変更したこと以外は、実施例５と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

比較例４
実施例３において、ハードコート層形成材料の調製に、反応性シリコーン（Ｂ１）の代わりに、（メタ）アクリレート基を有しない非反応性シリコーン（ジメチルシロキサン：B４）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして反射防止ハードコートフィルムを得た。

比較例５
比較例１において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

比較例６
比較例２において得られた反射防止ハードコートフィルムに、さらに、９０℃で１０時間加熱処理を施した。

上記で作製した反射防止ハードコートフィルムに係わる屈折率、厚みは下記方法により行ったものである。その値を表１に示す。また、ハードコート層形成材料、反射防止層形成材料の各構成成分等を表１に示す。

（屈折率）
アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、透明プラスチックフィルム基材およびハードコート層の測定面に対して測定光を入射させるようにして、該装置に示される規定の測定方法により測定を行った。

（ハードコート層の厚み）
（株）ミツトヨ製のマイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。透明プラスチックフィルム基材にハードコート層を設けたハードコートフィルムの厚みを測定し、基材の厚みを差し引くことでハードコート層の膜厚を算出した。

（反射防止層の厚み）
大塚電子（株）製の瞬間マルチ側光システムであるＭＣＰＤ２０００（商品名）を用い、干渉スペクトルの波形より算出した。

また得られた反射防止ハードコートフィルムについて下記評価を行った。結果を表１に示す。

（反射率）
反射防止ハードコートフィルムの反射防止層が形成されていない面に三菱レイヨン製黒色アクリル板（厚さ２．０ｍｍ）を厚さ約２０μｍの粘着剤にて貼り合わせ裏面の反射をなくしたものについて、ハードコート層（または反射防止層）表面の反射率を測定した。反射率は、（株）島津製作所製のＵＶ２４００ＰＣ（８°傾斜積分球付き）分光光度計を用いて、分光反射率（鏡面反射率＋拡散反射率）を測定し、Ｃ光源／２°視野の全反射率（Ｙ値）を計算により求めた。

（密着性）
反射防止ハードコートフィルムの反射防止層が形成されていない面を、ガラス板に厚さ約２０μｍの粘着剤にて貼り付けた後、反射防止層表面について、ＪＩＳ Ｋ−５４００記載の碁盤目剥離試験に従い試験を実施した。その結果を、剥離数／１００、で表した。

（鉛筆硬度）
反射防止ハードコートフィルムの反射防止層が形成されていない面を、ガラス板に載せ、反射防止層表面について、ＪＩＳ Ｋ−５４００記載の鉛筆硬度試験（但し、荷重５００ｇ）に従い試験を実施した。

（耐擦傷性）
反射防止ハードコートフィルムを、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの大きさに切断し、反射防止層が形成されていない面をガラス板に載せた。直径２５ｍｍの円柱の平滑な断面に、スチールウール＃００００に加重４００ｇにて、反射防止層表面を毎秒約１００ｍｍの速度で１０往復した。試験後に以下の基準で目視評価した。
◎：キズが全くない。
○：細かなキズが数本あるが視認性に影響はない。
△：細かなキズはあるが視認性に影響はない。
×：明らかなキズがあり視認性を損なう。

本発明の反射防止ハードコートフィルムの断面図の一例である。 本発明の反射防止ハードコートフィルムの断面図の一例である。

符号の説明

１・・・透明プラスチックフィルム基材
２・・・ハードコート層
３・・・反射防止層
４・・・反射防止ハードコートフィルム
５・・・微粒子
６・・・微細凹凸構造を有する反射防止ハードコートフィルム

Claims (19)

1. 透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、硬化塗膜層であるハードコート層、反射防止層がこの順で、それぞれ少なくとも１層、形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、
   ハードコート層と反射防止層とが直接接する界面を形成しており、
   前記ハードコート層は、（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）と、硬化性化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．０１〜３重量部の（メタ）アクリレート基を有する反応性シリコーン（Ｂ）を含有するハードコート層形成材料で形成され、
   かつ、前記反射防止層は、シロキサン成分を有する化合物を含有する反射防止層形成材料で形成されていることを特徴とする反射防止ハードコートフィルム。
2. 反応性シリコーン（Ｂ）は、一分子中に、シロキサン構造を有するシリコーン部分を有し、かつ（メタ）アクリレート基を有することを特徴とする請求項１記載の反射防止ハードコートフィルム。
3. シロキサン構造が、−（Ｓｉ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ）−、の繰り返し単位を有するポリシロキサン単位（前記Ｒ¹、Ｒ²は、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基である。）を有することを特徴とする請求項２記載の反射防止ハードコートフィルム。
4. ポリシロキサン単位が、一般式（１）：
   

   

   
   
   で表されるジメチルシロキサン単位であることを特徴とする請求項３記載の反射防止ハードコートフィルム。
5. 反応性シリコーン（Ｂ）が、活性水素基を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
6. 活性水素基が、ヒドロキシル基であることを特徴とする請求項５記載の反射防止ハードコートフィルム。
7. 反応性シリコーン（Ｂ）が、一般式（２）：
   

   

   
   
   で表される、メチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、
   および／または一般式（３）：
   

   

   
   
   で表される、メチル−３−（２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロポキシ）プロピルシロキサン単位、を有することを特徴とする請求項６記載の反射防止ハードコートフィルム。
8. 反応性シリコーン（Ｂ）が、一般式（４）：
   

   

   
   
   で表される、メチル基と、末端アクリレート基のポリエチレングリコールプロピルエーテル基とを有するシロキサン単位（ｘは、１〜１０の整数である。）、および、
   一般式（５）：
   

   

   
   
   で表される、メチル基と、末端ヒドロキシ基のポリエチレングリコールプロピルエーテル基とを有するシロキサン単位（ｘは、１〜１０の整数である。）、を有することを特徴とする請求項６記載の反射防止ハードコートフィルム。
9. 透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、硬化塗膜層であるハードコート層、反射防止層がこの順で、それぞれ少なくとも１層、形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、
   ハードコート層と反射防止層とが直接接する界面を形成しており、
   前記ハードコート層は、（メタ）アクリレート基を有する硬化性化合物（Ａ）と、一般式（６）：
   

   

   
   
   で表される（Ｒは、少なくとも一つが、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有する。）化合物の混合物（当該混合物において、Ｒは、シロキサン構造を有する置換基、（メタ）アクリレート基を有する置換基および活性水素基を有する置換基を有する。）を含有するハードコート層形成材料で形成され、
   前記硬化性化合物（Ａ）１００重量部に対して、前記一般式（６）で表される化合物の混合物の含有量が０．０１〜３重量部であり、
   かつ、前記反射防止層は、シロキサン成分を有する化合物を含有する反射防止層形成材料で形成されていることを特徴とする反射防止ハードコートフィルム。
10. 一般式（６）で表される化合物は、一般式（７）：
    

    

    
    
    で表される構造を有することを特徴とする請求項９記載の反射防止ハードコートフィルム。
11. 一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、シロキサン構造を有する置換基が、一般式（８）：
    

    

    
    
    で表される単位（ｘ１は、１〜７である。）を有することを特徴とする請求項９または１０記載の反射防止ハードコートフィルム。
12. 一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、活性水素基を有する置換基が、一般式（９）：
    

    

    
    
    で表される単位を有することを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
13. 一般式（６）で表される化合物におけるＲのなかで、アクリレート基を有する置換基が、一般式（１０）：
    

    

    
    
    で表される単位（ｍ、ｎはそれぞれが同一または異なっていてよく、１〜１０の整数である。ｌは、１〜５である。）を有することを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
14. ハードコート層の厚みが２〜５０μｍであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
15. 反射防止層形成材料が、エチレングリコール換算による平均分子量が５００〜１００００であるシロキサンオリゴマー（Ｃ）、およびポリスチレン換算による数平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
16. 反射防止層に、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子が含有されていることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
17. ハードコート層の表面が凹凸形状となっており光防眩性を有することを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム。
18. 光学素子の片面または両面に、請求項１〜１７のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルムが積層されていることを特徴とする光学素子。
19. 請求項１〜１７のいずれかに記載の反射防止ハードコートフィルム、または請求項１８記載の光学素子を有する画像表示装置。

Images