JP4849068B2 - 防眩性反射防止フィルム及び防眩性反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に、少なくともハードコート層及び反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムにおいて、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第1の凹凸構造が設けられ、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の反対側である第2表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第2表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第2の凹凸構造が設けられ、かつ、前記防眩性反射防止フィルムの平均総膜厚が20〜70μmであることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
(2)前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の側に、前記ハードコート層及び前記反射防止層がこの順に設けられ、前記第1の凹凸構造が、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記ハードコート層の表面に設けられることを特徴とする前記(1)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(3)前記第1の凹凸構造が、前記熱可塑性フィルムの前記第1表面に設けられることを特徴とする前記(2)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(4)前記第2の凹凸構造が、前記熱可塑性フィルムの前記第2表面に設けられることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(5)前記第1の凹凸構造が設けられた面と、前記第2の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)が異なることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(6)前記第2の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)bが、前記第1の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)aの1/5〜3/4の範囲であることを特徴とする前記(5)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(7)前記熱可塑性樹脂フィルム及び前記ハードコート層が実質的に防眩性を付与する微粒子を含有しないことを特徴とする前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(8)熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に、ハードコート層及び前記ハードコート層に反射防止層を設ける工程を有する防眩性反射防止フィルムの製造方法において、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第1の凹凸構造を設ける工程、及び、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の反対側である第2表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第2表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第2の凹凸構造を設ける工程を有し、かつ、前記防眩性反射防止フィルムの平均総膜厚が20〜70μmであることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(9)前記第1の凹凸形状を設ける工程及び前記第2の凹凸形状を設ける工程が、凹凸型ローラで型押しすることで行われることを特徴とする前記(8)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(10)前記ハードコート層及び前記反射防止層は、前記熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に設けられ、前記第1の凹凸形状を設ける工程が、前記ハードコート層を設ける工程の前に行われることを特徴とする前記(8)または(9)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(11)前記ハードコート層及び前記反射防止層は、前記熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に設けられ、前記第1の凹凸形状を設ける工程が、前記ハードコート層を設ける工程及び前記反射防止層を設ける工程の間に行われることを特徴とする前記(8)または(9)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(12)前記第1の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状が金属材料またはセラミック材料から形成されており、前記第2の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状がゴム材料で形成されていることを特徴とする前記(9)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(13)前記第1の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状がゴム材料で形成されており、前記第2の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状が金属材料またはセラミック材料から形成されていることを特徴とする前記(9)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
1 ダイ
2 流延用ベルト
3、3′ 凹凸型ローラ
4 バックロール
5 テンター
6 フィルム乾燥装置
7 巻き取りロール
10 静電気除去装置
21 巻き出しロール
22 ダイ
23 フィルム乾燥装置
24 凹凸型ローラ
25 バックロール
26、26′ 硬化装置
27 巻き取りロール
28、28′ ガス吹き付け口
32 ニップロール
33 剥離ロール
34 空洞ローラ
G 放電ガス
G′ 励起放電ガス
P 送液ポンプ
130 大気圧プラズマ放電処理装置
131 大気圧プラズマ放電処理容器
132 放電空間
135 ロール電極(第1電極)
136 角筒型電極群(第2電極)
140 電界印加手段
141 第1電源
142 第2電源
143 第1フィルター
144 第2フィルター
150 ガス供給手段
151 ガス発生装置
152 給気口
153 排気口
160 電極温度調節手段
161 配管
164、167 ガイドロール
165、166 ニップロール
168、169 仕切板
(1)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
(2)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
(3)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明基材フィルムを被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した基材フィルムとをネガ型から剥離する方法。
(4)目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
(5)光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
(6)基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して基材表面を凹凸形状にする方法。
(7)表面を工作機械等で切削加工する方法。
(8)球、多角体等各種形状の粒子を、基材表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、基材表面を凹凸形状にする方法。
(9)球、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを基材表面に塗布し、基材表面を凹凸形状にする方法。
(10)基材表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、基材表面を凹凸形状にする方法。
ここで、Mはウェブの任意時点での質量、NはMを110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
一般に光学フィルムに用いられる透明フィルム支持体としては、セルロースエステルフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、本発明では、製造が容易であること、活性エネルギー線硬化樹脂層への接着性がよいこと、光学的に等方性であること、光学的に透明性であることから、熱可塑性樹脂フィルムとしてセルロースエステルフィルムが好ましい。セルロースエステルフィルムの内では、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の面から好ましい。具体的には、例えば、コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX2M、KC4UY、KC8UY(以上、コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独または混合して用いることができる。
式(II) 0≦X≦2.5
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
セルロースエステルフィルムを用いる場合には、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
本発明では、支持体に紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、チバスペシャルティケミカルズ製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、チバスペシャルティケミカルズ製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(B)で表される化合物が好ましく用いられる。
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
本発明において、セルロースエステルフィルム中に防眩性を付与しない程度に微粒子を含有していることが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の2次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類(特にメチル基を有するアルコキシシラン類)、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmで、より好ましくは7〜16nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のAEROSIL(アエロジル)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはAEROSIL(アエロジル)200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばAEROSIL(アエロジル)200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9:0.1の範囲で使用できる。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、芳香族環を少なくとも二つ有し、かつ少なくとも二つの芳香族環が平面構造を有する化合物、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。
本発明のハードコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
〔(R1)a(R2)b(R3)c(R4)dZ〕w+〔MeXv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えばI、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線の照射時において光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。
活性エネルギー線硬化樹脂層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層は界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、シリコン系またはフッ素系界面活性剤が好ましい。
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する際に溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。
こうして得た活性エネルギー線硬化樹脂層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整し、また防眩性を調整する為に、無機化合物あるいは有機化合物の微粒子を含んでもよい。
本発明では、前記ハードコート層の表面に反射防止層を設け防眩性反射防止フィルムとする。
バックコート層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低
屈折率層
帯電防止層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
上記ハードコート層には、反射防止層との密着性を向上するために、特開2002−182004号、同2004−52028号、特許第3508342号、特開2002−139602号、同2002−282777号等の明細書中に記載の、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、アルカリ処理及びオゾン酸化処理等の表面処理を行うことが好ましい。
本発明に用いられる低屈折率層では以下の中空シリカ系微粒子が好ましく用いられる。
中空微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
本発明に用いられる低屈折率層には、ゾルゲル素材としてテトラアルコキシシラン化合物またはその加水分解物が含有されることが好ましい。
本発明においては、反射率の低減のために凹凸形状の透明支持体、ハードコート層と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることが好ましい。また、該透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のためにさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
本発明に用いられる偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KV8UY−HA、KV8UX−RHA以上コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、同2003−170492記載の方法で作製することができる。または、さらにディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
本発明の偏光板を画像表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明に係る防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜け等もなく、その効果が長期間維持され、特にMVA型画像表示装置では顕著な効果が認められる。また、色ムラ、ギラツキや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
〔防眩性反射防止フィルム1の作製〕
(セルローストリアセテートフィルム1の作製)
下記のようにして、下記ドープ組成物1を用いて透明なセルローストリアセテートフィルム1を作製した。
セルローストリアセテート(平均酢化度62.0%) 100質量部
可塑剤(トリメチロールプロパントリベンゾエート) 5質量部
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 5質量部
紫外線吸収剤(2−〔5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4−メチル−6−(t−ブチル)フェノール) 1質量部
紫外線吸収剤(2−〔(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェノール) 1質量部
微粒子(アエロジルR972V、日本アエロジル(株)製) 0.3質量部
メチレンクロライド 430質量部
エタノール 90質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。
上記セルローストリアセテートフィルム1上に下記ハードコート層塗布液1をダイコーターにてドライ膜厚として10μmになるように塗布した後、ハードコート層の残留溶媒量が2%以下になるまで乾燥した。次いで、図7の凹凸面形成装置を用いてハードコート層上に凹凸形状を付与した。
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液1とした。
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ製) 25質量部
BYK−331(ビックケミ−ジャパン社製) 0.25質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 101質量部
酢酸エチル 101質量部
(凹凸形状の形成)
下記凹凸型ローラ1により凹凸部を押し付けてフィルム表面を凹凸形状とした。次いでフィルム表面に紫外線照射を行い硬化させた。
凹凸型ローラ1:図7で示した石英ガラス製空洞ローラ
ローラ表面に表面粗さ0.5μmの凹凸面を形成、溝の断面形状は図5(A)、直径300mm、幅1.4m
石英ガラス製空洞ローラの表面凹凸形状は以下の要領で作製した。
配置:図7参照
凹凸型ローラ1近傍の雰囲気:ガス吹き付け口28、28′より窒素ガスを吹き付け 〔反射防止層の塗設〕
反射防止層の屈折率の測定は下記の通りである。
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記で作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はU−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400〜700nm)の反射率の測定を行った。
上記フィルムのハードコート層上に、下記中屈折率層塗布液1及び低屈折率層塗布液1を塗布、紫外線照射、乾燥して防眩性反射防止フィルム1を作製した。
下記材料を攪拌、混合し中屈折率層塗布液1とした。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(マトリックス) 9質量部
イルガキュア184(光重合開始剤) 1.5質量部
イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ製;光重合開始剤)
0.8質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 250質量部
イソプロピルアルコール(IPA) 500質量部
メチルエチルケトン(MEK) 180質量部
BYK−UV3510(ビックケミ−ジャパン社製) 0.3質量部
中屈折率層の厚さは120nm、屈折率は1.62であった。
下記材料を攪拌、混合し低屈折率層塗布液1とした。
下記中空シリカ系微粒子分散液 18質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM503)
4質量部
FZ−2222(日本ユニカー製、10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶
液) 0.2質量部
酢酸 3.5質量部
イソプロピルアルコー−ル(IPA) 425質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 425質量部
アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート 0.3質量部
低屈折率層の厚さは95nm、屈折率は1.37であった。
テトラエトキシシラン230gとエタノール440gを混合し、これに酢酸水溶液(10%)を100g添加した後に、25℃で28時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
平均粒径5nm、SiO2濃度20%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl2O3として1.02%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20%の中空シリカ系微粒子分散液を調製した。
上記防眩性反射防止フィルム1の作製において、セルローストリアセテートフィルム1の作製時に図1の位置でハードコート層を設ける側とは反対の面に下記凹凸面形成装置で凹凸面を形成したセルローストリアセテートフィルム2を用いた以外は防眩性反射防止フィルム1と同様にして、防眩性反射防止フィルム2を作製した。
下記凹凸型ローラにより凹凸部を押し付けてフィルムのハードコート層を形成する側とは反対の面を凹凸形状とした。ウェブの残留溶媒は120質量%であった。
凹凸型ローラ2:レーザーにより凹凸高低差1.5μm、山ピッチ15μmの凹凸面を形成、溝の断面形状は図5(A)、直径100mm、幅1.4m、鉄材に表面非晶質クロムメッキ(ローラ形状は図4参照)、対向するバックロールはゴム製ロールを使用
〔防眩性反射防止フィルム3の作製〕
上記防眩性反射防止フィルム2の作製において、セルローストリアセテートフィルム2のハードコート層を設ける側とは反対の面に、凹凸型ローラ2において凹凸高低差3μm、山ピッチ30μmに変更した凹凸型ローラ3を用いセルローストリアセテートフィルム3を作製し、さらに、ハードコート層表面に、凹凸型ローラ1においてサンドプラスと条件を変更し表面粗さ1.0μmの凹凸形状に調整した凹凸型ローラ4を用いた以外は防眩性反射防止フィルム2と同様にして、防眩性反射防止フィルム3を作製した。
セルローストリアセテートフィルム1の作製において、図1に示す位置でハードコート層を設ける側に下記凹凸型ローラ5により凹凸形状を付与したセルロースエステルフィルム4を用い支持体フィルム形状がハードコート層表面に再現し易い様にハードコート層の塗布・乾燥・UV照射を下向きで実施し、ハードコート層表面への凹凸加工を実施しない以外は防眩性反射防止フィルム1の作製と同様にして防眩性反射防止フィルム4を作製した。
下記凹凸型ローラにより凹凸部を押し付けてフィルムのハードコート層を形成する側を凹凸形状とした。ウェブの残留溶媒は120質量%であった。
凹凸型ローラ5:レーザーにより凹凸高低差3μm、山ピッチ10μmの凹凸面を形成、溝の断面形状は図5(A)、直径100mm、幅1.4m、鉄材に表面非晶質クロムメッキ(ローラ形状は図4参照)、対向するバックロールはゴム製ロールを使用
〔防眩性反射防止フィルム5〜12の作製〕
防眩性反射防止フィルム4の作製において、セルローストリアセテートフィルム4に下記条件で凹凸面を形成し、さらに表1に記載のフィルム膜厚に変更した以外は、防眩性反射防止フィルム4と同様にして防眩性反射防止フィルム5〜12を作製した。
下記凹凸型ローラにより凹凸部を押し付けてフィルムのハードコート層を形成する側とは反対の面を凹凸形状とした。ウェブの残留溶媒は120質量%であった。
凹凸型ローラ6:レーザーにより凹凸高低差2μm、山ピッチ25μmの凹凸面を形成、溝の断面形状は図5(A)、直径100mm、幅1.4m、シリコンゴム製(ローラ形状は図4参照)、凹凸型ローラ5の対向ロールとして使用
〔防眩性反射防止フィルム13の作製〕
セルローストリアセテートフィルム1を用いて、下記ハードコート層塗布液2をダイコーターにてドライ膜厚として10μmになるように塗布した以外は防眩性反射防止フィルム1と同様にして防眩性反射防止フィルム13を作製した。
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液2とした。
合成シリカ微粒子(平均粒子径4.5μm) 40質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ(株)製) 25質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 101質量部
酢酸エチル 101質量部
〔防眩性反射防止フィルムの評価〕
得られた防眩性反射防止フィルム1〜13について、下記の評価を行った。防眩性反射防止フィルムの構成及び評価結果を表1に示す。
上記作製した各々のフィルム試料について、フィルム試料1枚をJIS K−6714に従って、ヘイズメーター(1001DP型、日本電色工業(株)製)を使用して測定した。
凹凸形状を形成し、製造開始時と1000m製造時の光学フィルム(中屈折率層塗布液1及び低屈折率層塗布液1を塗布する前)について、目視にて表面を観察し、以下の基準で評価した。
○:膜表面にややムラが認められるが実用上問題ない
×:膜表面にムラが多く認められる
(ギラツキ感の評価)
上記作製した各フィルム試料に、ルーバーを有する蛍光灯の拡散光を映し、表面のギラツキ感を以下に示す基準に則り、目視評価した。
○:ほとんどギラツキが認められない
△:わずかにギラツキが認められる
×:明らかに、ギラツキが認められる
〔防眩性反射防止フィルム21〜25の作製〕
実施例1の防眩性反射防止フィルム3の作製において、ハードコート層を設ける側とは反対の面に形成する凹凸を、凹凸型ローラ2の凹凸形状をレーザー照射条件を変更することにより表2に示すような裏面側の表面粗さ(Ra)bに変化させた以外は防眩性反射防止フィルム2と同様にして、防眩性反射防止フィルム21〜25を作製した。なお、視認側の表面粗さ(Ra)aは0.9μmであった。
下記の方法に従って、実施例1で作製した防眩性反射防止フィルム1、2、5と、位相差フィルムであるコニカミノルタタックKC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)、各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
厚さ120μmの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
実施例1の防眩性反射防止フィルム2及び5の作製において、下記方法によりハードコート層1表面に大気圧プラズマ放電処理を行ってから中屈折率層、低屈折率層を塗設する以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム2′、5′を作製した。
図8に示す大気圧プラズマ放電処理装置を用い、装置の2個の電極の電極間隙を1mmとし、装置の放電空間に下記ガスを供給し、上記作製したハードコート層1上に大気圧プラズマ放電処理を行った。各装置の第1電極に第1の高周波電源として神鋼電機社製(50kHz)の高周波電源を使用し、高周波電界10kV/mm及び出力密度1W/cm2で、また、第2電極に第2の高周波電源としてパール工業社製(13.56MHz)の高周波電源を使用し、高周波電界0.8kV/mm及び出力密度5.0W/cm2で印加し、プラズマ放電放電を行った。このときの各装置の放電空間における窒素ガスの放電開始電界は3.7kV/mmであった。また、ロール電極はドライブを用いてハードコート層付きフィルムの搬送を同期して回転させた。両電極を80℃になるように調節保温して行った。
放電ガス:窒素 100.0体積%
実施例1で得られた、防眩性反射防止フィルム2、5を比較にして、上記作製した防眩性反射防止フィルム2′、5′について、上記ヘイズ、ムラ、ギラツキの評価に加えて、下記の密着性の評価を行った。その結果、防眩性反射防止フィルム2、5は、密着性が△の評価であったが、防眩性反射防止フィルム2′、5′いずれもヘイズ、ムラ、ギラツキに優れ、かつ密着性が○の評価であり、本発明の効果以外にも密着性の向上した防眩性反射防止フィルムが得られることが確認された。
防眩性反射防止フィルムの表面に片刃のカミソリの刃を面に対して90°の角度で切り込みを1mm間隔で縦横11本入れ、1mm角の碁盤目を100個作成する。ニチバン製セロハンテープを碁盤目上に貼り付け、テープの一端を手で持ち力強く引き剥がす。このとき、100個の碁盤目で反射防止膜が剥がれている面積の割合を目視で観察して以下のランクに従い評価した。
○:全く剥がれなかった
△:剥がれたが面積は20%未満であった
×:20%以上の面積が剥がれた
Claims (13)
- 熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に、少なくともハードコート層及び反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムにおいて、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第1の凹凸構造が設けられ、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の反対側である第2表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第2表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第2の凹凸構造が設けられ、かつ、前記防眩性反射防止フィルムの平均総膜厚が20〜70μmであることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
- 前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の側に、前記ハードコート層及び前記反射防止層がこの順に設けられ、前記第1の凹凸構造が、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記ハードコート層の表面に設けられることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 前記第1の凹凸構造が、前記熱可塑性フィルムの前記第1表面に設けられることを特徴とする請求の範囲第2項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 前記第2の凹凸構造が、前記熱可塑性フィルムの前記第2表面に設けられることを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 前記第1の凹凸構造が設けられた面と、前記第2の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)が異なることを特徴とする請求の範囲第1項〜第4項のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 前記第2の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)bが、前記第1の凹凸構造が設けられた面の表面粗さ(Ra)aの1/5〜3/4の範囲であることを特徴とする請求の範囲第5項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 前記熱可塑性樹脂フィルム及び前記ハードコート層が実質的に防眩性を付与する微粒子を含有しないことを特徴とする請求の範囲第1項〜第6項のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
- 熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に、ハードコート層及び前記ハードコート層に反射防止層を設ける工程を有する防眩性反射防止フィルムの製造方法において、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第1の凹凸構造を設ける工程、及び、前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第1表面の反対側である第2表面に、または前記熱可塑性樹脂フィルムの前記第2表面に設けられた層の表面に、防眩性を付与する第2の凹凸構造を設ける工程を有し、かつ、前記防眩性反射防止フィルムの平均総膜厚が20〜70μmであることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
- 前記第1の凹凸形状を設ける工程及び前記第2の凹凸形状を設ける工程が、凹凸型ローラで型押しすることで行われることを特徴とする請求の範囲第8項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層及び前記反射防止層は、前記熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に設けられ、前記第1の凹凸形状を設ける工程が、前記ハードコート層を設ける工程の前に行われることを特徴とする請求の範囲第8項または第9項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層及び前記反射防止層は、前記熱可塑性樹脂フィルムの第1表面の側に設けられ、前記第1の凹凸形状を設ける工程が、前記ハードコート層を設ける工程及び前記反射防止層を設ける工程の間に行われることを特徴とする請求の範囲第8項または第9項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
- 前記第1の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状が金属材料またはセラミック材料から形成されており、前記第2の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状がゴム材料で形成されていることを特徴とする請求の範囲第9項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
- 前記第1の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状がゴム材料で形成されており、前記第2の凹凸形状を設ける際に用いられる凹凸ローラは、凹凸形状が金属材料またはセラミック材料から形成されていることを特徴とする請求の範囲第9項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
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KR100926504B1 (ko) * | 2007-12-31 | 2009-11-17 | 제일모직주식회사 | 하드코트층을 구비한 플라스틱 시트 및 하드코팅 조성물 |
CN101909858A (zh) * | 2008-03-24 | 2010-12-08 | 夏普株式会社 | 纳米压印薄膜的制造方法、显示装置以及液晶显示装置 |
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EP2275259A1 (de) * | 2009-07-14 | 2011-01-19 | Pantec GS Systems AG | Druck- oder Prägewerk und Arbeitszylinder hierfür |
TWI468280B (zh) * | 2009-12-24 | 2015-01-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 增亮膜製備方法及其採用之滾壓件 |
CN102109710A (zh) * | 2009-12-25 | 2011-06-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 增亮膜制造方法及其采用的滚压件 |
JP5987269B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP5987268B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 |
US20110242850A1 (en) * | 2010-04-06 | 2011-10-06 | Skc Haas Display Films Co., Ltd. | Double-sided light guide plate manufactured with micro-patterned carrier |
EP2560048A4 (en) * | 2010-04-13 | 2017-08-23 | Asahi Kasei E-materials Corporation | Self-supporting film, self-supporting structure, method for manufacturing self-supporting film, and pellicle |
CN102331592A (zh) * | 2010-07-14 | 2012-01-25 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 光学膜制造装置和制造方法 |
JPWO2012108209A1 (ja) * | 2011-02-09 | 2014-07-03 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
JPWO2012108208A1 (ja) * | 2011-02-09 | 2014-07-03 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
JP5785138B2 (ja) * | 2011-08-03 | 2015-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 塗膜付きフィルムの製造方法 |
TW201307915A (zh) * | 2011-08-03 | 2013-02-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 導光板製作裝置及方法 |
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CN102702966B (zh) * | 2012-05-24 | 2014-08-06 | 长兴化学材料(珠海)有限公司 | 减反射组合物及其制造方法与用途 |
CN102873975B (zh) * | 2012-10-24 | 2015-06-10 | 新协力包装制品(深圳)有限公司 | 辊筒、辊筒制作方法及处理系统 |
TWI547378B (zh) * | 2013-04-05 | 2016-09-01 | 三菱麗陽股份有限公司 | 積層結構體及其製造方法、物品 |
US20150056438A1 (en) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Sukgyung AT Co ., Ltd. | Hollow Silica Particles, Method of Manufacturing the Same, Composition Including the Same and Sheet with Inner Cavities |
EP3195024B1 (en) * | 2014-08-22 | 2021-11-17 | Sunlight Aerospace Inc. | Flexible and tunable anti-reflection skin |
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WO2016075824A1 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | リンテック株式会社 | 封止シート、電子デバイス用部材および電子デバイス |
US9391700B1 (en) | 2015-06-16 | 2016-07-12 | Sunlight Photonics Inc. | Integrated optical receiver skin |
JP6623058B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2019-12-18 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止光学体の形成方法およびディスプレイパネル |
TWI821234B (zh) | 2018-01-09 | 2023-11-11 | 美商康寧公司 | 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 |
JP2019164255A (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 株式会社ダイセル | 反射防止フィルム |
JPWO2020067134A1 (ja) * | 2018-09-25 | 2021-09-02 | 日本電気硝子株式会社 | 透明物品 |
JP7417267B2 (ja) * | 2019-12-03 | 2024-01-18 | 株式会社トライテック | 搬送用ローラおよびその製造方法 |
CN111057261B (zh) * | 2019-12-20 | 2022-05-03 | 合肥乐凯科技产业有限公司 | 一种防眩硬化膜及其制备方法 |
US20220011477A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Textured region to reduce specular reflectance including a low refractive index substrate with higher elevated surfaces and lower elevated surfaces and a high refractive index material disposed on the lower elevated surfaces |
CN112409836A (zh) * | 2020-12-22 | 2021-02-26 | 常州山由帝杉防护材料制造有限公司 | 一种光催化抗菌涂层及其制备装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002221612A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-08-09 | Takiron Co Ltd | 光拡散シート |
JP2004029240A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 |
JP2005156615A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4017273B2 (ja) | 1998-12-25 | 2007-12-05 | 株式会社巴川製紙所 | 防眩材料及びそれを用いた偏光フィルム |
WO2000053689A1 (fr) * | 1999-03-09 | 2000-09-14 | Toto Ltd. | Element hydrophile, son procede de preparation, agent de revetement et appareil de preparation |
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US6963451B2 (en) * | 2001-11-22 | 2005-11-08 | Takiron Co., Ltd. | Light diffusive sheet |
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2002221612A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-08-09 | Takiron Co Ltd | 光拡散シート |
JP2004029240A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 |
JP2005156615A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置 |
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