JP2019515331A - 光変更機能部分を有する被覆された物品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

本明細書に記載された１つ以上の実施の形態によれば、被覆された物品は、透明な基板および光学的被覆膜を含むことができる。透明基板は、主表面を有してもよく、光学的被覆膜は、透明基板の主表面上に配置され、空気側表面を形成してもよい。光学的被覆膜は、堆積された材料の１つ以上の層と、被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させることができる１つ以上の光変更機能部分と、を含むことができる。被覆された物品は、約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、約５０％以上の平均明所透過率を有し、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示すことができる。

Description

関連出願の相互参照

本出願は、２０１６年４月２１日に出願された米国仮出願第６２／３２５，５４３号の米国特許法第１１９条による優先権の利益を主張し、その内容が全体として参照により本明細書に援用され組み込まれる。

本開示は、被覆された物品およびその作製方法、さらに具体的には、透明基板上に耐久性および／または耐引っ掻き性光学的被覆膜を有する被覆された物品に関する。

カバー物品は、電子製品内の重要なデバイスを保護し、入力および／または表示、および／または他の多くの機能のためのユーザインタフェースを提供するために使用されることが多い。このような製品としては、スマートフォン、ｍｐ３プレーヤー、コンピュータタブレットなどのモバイルデバイスが挙げられる。カバー物品としてはまた、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶などに使用される物品）、家電物品、または、ある程度の透明性、耐引っ掻き性、耐摩耗性またはそれらの組み合わせを必要とする任意の物品も挙げられる。これらの用途は、しばしば、耐引っ掻き性および、最大光透過率および最小反射率に関連して強い光学的性能特性を必要とする。さらに、いくつかのカバー用途では、反射および／または透過率において表示または知覚される色が、視野角が変化する場合に感知できる程に変化しないことが必要とされる。これは、ディスプレイ用途では、反射または透過における色が視野角によって感知できる程に変化すると、製品の使用者がディスプレイの色または明るさの変化を知覚し、ディスプレイの知覚される品質を低下させる可能性があるからである。他の用途では、色の変化は、審美的要件または他の機能的要件に悪影響を与える可能性がある。

カバー物品の光学的性能は、様々な反射防止性被覆膜を使用することによって改善することができるが、既知の反射防止性被覆膜は磨耗または擦過の影響を受けやすい。このような擦過は、反射防止性被覆膜によって達成される光学的性能の改善を損なう可能性がある。例えば、光学フィルタは、多くの場合、異なる屈折率を有する多層の被覆膜から作製され、光学的に透明な誘電性材料（例えば、酸化物、窒化物、およびフッ化物）から作製される。このような光学フィルタに使用される典型的な酸化物のほとんどが、モバイルデバイス、建築物品、輸送物品または家電物品において使用するための硬度のような必要な機械的特性を有していない、バンド・ギャップの広い材料である。

擦過損傷は、対向面の物体（例えば、指）からの往復滑り接触を含む場合がある。加えて、擦過損傷は熱を発生させることがあり、これが、膜材料中の化学結合を劣化させ、フレーキングおよび他の種類のカバーガラスへの損傷を引き起こす可能性がある。擦過損傷は、引っ掻き傷を引き起こす単一事象よりも長い期間にわたって被ることが多いので、擦過損傷を受けている被覆材料は酸化することもあり、それが被覆膜の耐久性をさらに低下させる可能性がある。

既知の反射防止性被覆膜は、引っ掻き損傷も受けやすく、多くの場合、そのような被覆膜がその上に配置される下層の基板よりも引っ掻き損傷の影響をさらに受けやすい。いくつかの例では、そのような引っ掻き損傷の主要部分は、典型的には、長さが延長されており約１００ｎｍから約５００ｎｍの範囲内の深さを有する材料内の単一溝を含んでいる微小延性引っ掻き傷を含む。微小延性引っ掻き傷は、表面下亀裂、摩擦性の亀裂、細かい破砕および／または磨耗のような他のタイプの目に見える損傷を伴い得る。このような引っ掻き傷および他の目に見える損傷の大半は、単一の接触事象で起こる鋭い接触によって引き起こされることが示唆されている。カバー基板上に顕著な引っ掻き傷がいったん現れると、引っ掻き傷が光散乱の増加を引き起こし、それがディスプレイ上の画像の明るさ、透明度およびコントラストを著しく低下させる可能性があるため、物品の外観が劣化する。顕著な引っ掻き傷は、タッチセンシティブディスプレイを含む物品の精度および信頼性にも影響を及ぼし得る。単独事象による引っ掻き損傷は、擦過損傷と対比させることができる。単独事象による引っ掻き損傷は、硬い対向面の物体（例えば、砂、砂利およびサンドペーパー）からの往復滑り接触のような複数の接触事象によって引き起こされるのではなく、また、膜材料中の化学結合を劣化させたりフレーキングおよび他のタイプの損傷をもたらしたりことがある熱を典型的に発生させることもない。さらに、単一事象による引っ掻き傷は、典型的には、酸化を引き起こさないまたは擦過損傷を引き起こす同じ条件を含まず、したがって、擦過損傷を防止するために利用されることが多い解決策が引っ掻き傷も防止することはない場合がある。さらに、既知の引っ掻きおよび擦過損傷の解決策は、光学的特性を損なうことが多い。

第１の実施の形態によれば、被覆された物品が提供される。この物品は、主表面を有する透明基板と、その透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、を含み、その光学的被覆膜は、堆積された材料の１つ以上の層と、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって、被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分と、を含み、被覆された物品は、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、被覆された物品は、約５０％以上の平均明所透過率を有し、被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、その角度色ずれは、√（（ａ^＊ _２−ａ^＊ _１）^２＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）^２）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２は、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す。

第１の実施の形態による第２の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間の粗い界面、光学的被覆膜の１つの層と基板との間の粗い界面および粗い空気側表面、のうちの少なくとも１つを含む。

第２の実施の形態による第３の実施の形態において、その粗さは、５ｎｍ以上のＲ_ａによって特徴付けられる。

第２の実施の形態による第４の実施の形態において、その粗さは、５ｎｍ以上のＲ_ｑによって特徴付けられる。

第１から４の実施の形態のいずれか１つによる第５の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間、または光学的被覆膜と基板との間に配置される光散乱性部材を含む。

第１から５の実施の形態のいずれか１つによる第６の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、光学的被覆膜の１つの層内に配置される光散乱性部材を含む。

第５または第６の実施の形態による第７の実施の形態において、その光散乱性部材は、約１ｎｍから約１マイクロメートルの平均最大寸法を有する。

第５から７の実施の形態のいずれか１つによる第８の実施の形態において、その光散乱性部材のうちの少なくともいくつかは固体粒子である。

第１から第８実施の形態のいずれか１つによる第９の実施の形態において、その基板は、非晶質基板または結晶質基板を含む。

第１から第９実施の形態のいずれか１つによる第１０の実施の形態において、国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、その基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれは√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）^２）で定義され、基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）で定義され、基準点が基板の色座標である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）^２）で定義される。
第１から第１０の実施の形態のいずれか１つによる第１１の実施の形態において、被覆された物品は約５０％以下のヘイズ値を有する。

第１２の実施の形態によれば、被覆された物品が提供される。この物品は、主表面を有する透明基板と、その透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、を含み、その光学的被覆膜は、少なくとも３００ｎｍの厚さを有する耐引っ掻き性層を含み、その耐引っ掻き性層は、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、その光学的被覆膜は、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を含み、その光変更機能部分は、その耐引っ掻き性層中にまたは耐引っ掻き性層により形成された界面に配置されており、被覆された物品は、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、被覆された物品は、約５０％以上の平均明所透過率を有し、被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、その角度色ずれは、√（（ａ^＊ _２−ａ^＊ _１）^２＋（ｂ^＊ _２−ｂ^＊ _１）^２）により定義され、ａ^＊１およびｂ^＊１は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２は、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す。

第１２の実施の形態による第１３の実施の形態において、
その少なくとも１つの光変更機能部分は、その耐引っ掻き性層と別の層とによって形成された粗い界面を含む。

第１２または第１３の実施の形態による第１４の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、その光学的被覆膜中のその耐引っ掻き性層と隣接する層との間に配置される光散乱性部材を含む。

また、第１２から第１４の実施の形態のいずれか１つの実施の形態による第１５の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、その耐引っ掻き性層中に配置される光散乱性部材を含む。

第１２から第１５の実施の形態のいずれか１つの実施の形態による第１６の実施の形態において、国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、その基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれは√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）で定義され、基準点が基板の色座標である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）^２）で定義される。

第１７の実施の形態によれば、被覆された物品が提供される。この物品は、主表面を有する透明基板と、その透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、を含み、その光学的被覆膜は、第１の層と耐引っ掻き性層とを含み、その第１の層は、透明基板に隣接して、透明基板が０．１以内の屈折率を有し、その耐引っ掻き性層は、その第１の層の上に配置されて、少なくとも３００ｎｍの厚さを有し、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、その光学的被覆膜は、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を有しており、その光変更機能部分は、その耐引っ掻き性層中にまたは耐引っ掻き性層と第１の層とにより形成された界面に配置されており、被覆された物品は、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、被覆された物品は、約５０％以上の平均明所透過率を有し、被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、その角度色ずれは、√（（ａ^＊２−ａ^＊１）²＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）²）により定義され、ａ^＊１およびｂ^＊１は、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊２およびｂ^＊２は、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す。

第１７の実施の形態による第１８の実施の形態において、その第１の層はＢａＦ２を含む。

第１７または第１８の実施の形態による第１９の実施の形態において、その少なくとも１つの光変更機能部分は、その耐引っ掻き性層とその第１の層との間の粗い界面を含む。

第１７から１９の実施の形態のいずれか１つによる第２０の実施の形態において、国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標は、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、その基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれは√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、および、基準点が基板の色座標である場合、色ずれは√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される。

さらなる特徴および利点を、以下に続く詳細な説明に記載することとし、一部は、その説明から当業者に容易に明らかになる、または、以下に続く詳細な説明、特許請求の範囲および添付の図面を含む本明細書に記載の実施の形態を実施することによって認識されるであろう。

前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は単に例示的なものであり、特許請求の範囲内の性質および特徴を理解するための概要または枠組みを提供することを意図していることを理解されたい。添付図面は、さらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれ、その一部を構成する。図面は、１つ以上の実施の形態を示し、説明とともに、様々な実施の形態の原理および動作を説明する役割を果たす。

本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の断面側面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の断面側面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の側断面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の側断面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の側断面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、被覆された物品の側断面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、図５の被覆された物品における距離の関数としての屈折率のプロットである。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示的なＢａＦ_２被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示的なＢａＦ_２被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示的なＢａＦ_２被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示的なＢａＦ_２被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ２被覆膜上に堆積された例示的なＳｉＮｘ被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ２被覆膜上に堆積された例示的なＳｉＮｘ被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ２被覆膜上に堆積された例示的なＳｉＮｘ被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載の１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ２被覆膜上に堆積された例示的なＳｉＮｘ被覆膜の原子間力顕微鏡写真を示す。 本明細書に記載された１つ以上の実施の形態による、例示的な被覆膜の波長の関数としての全透過率を示すグラフである。 本明細書に記載された１つ以上の実施の形態による、例示的な被覆膜の波長の関数としての正反射率を示すグラフである。

ここで、様々な実施の形態を詳細に参照し、その例を添付図面に示す。本明細書では、基板上に配置される光学的被覆膜（１つ以上の別個の層を含み得る）を含む被覆された物品の実施の形態を説明する。光学的被覆膜は、１つ以上の光変更機能部分を含む。光学的被覆膜に組み込まれた光変更機能部分は、本明細書で説明するように、反射率振動を低減し、可視色を低減し、および／または、角度色ずれを低減することができる。本明細書に記載された光学的被覆膜に含まれ得る光変更機能部分は、限定はしないが、層界面における粗さ、または光学的被覆膜の層中または端部に光散乱性部材を含むことなどの、光散乱構造要素を含むことができる。層および光散乱性部材の粗い界面は、被覆された物品全体の反射からの光学干渉が非コヒーレントであり、被覆された物品の反射率および／または透過率スペクトルにおいて振動を低減させるように、光学的被覆膜中に光を散乱させることができる。

一般に、同じ屈折率を有さない被覆された物品の任意の２つの層の間の界面に、ある反射率が存在し得る。被覆された物品の実施の形態において、これは、空気と光学的被覆膜との間の界面、光学的被覆膜とそれが上に堆積された基板との間の界面、および、光学的被覆膜のうちの任意の２つの層の間の界面を含むことができる。各界面からの反射率は、被覆された物品の全反射率スペクトルに寄与する。被覆された物品の一部の実施の形態において、被覆された物品の２つ以上の界面と相互作用する反射、透過または入射光波は、周波数、位相、偏光、空間、時間またはこれらのパラメータの組み合わせにおいて固定されたまたは明確に定義された関係を有することによりコヒーレントとなることができ、この固定されたまたは明確に定義された関係は、観察者が気付くのに充分な大きさの空間および時間にわたって維持される。例えば、２つの異なる界面によって生成される反射率スペクトルは、同様の波長を有してもよく、各反射率スペクトルは、被覆された物品の全反射率スペクトルに建設的に寄与することができ。コヒーレント干渉を生成する界面は、光学的被覆膜の単一層から、または共通層を共有しない被覆された物品の２つ以上の界面からであってもよい。

また、光学的被覆膜からの２つ以上の干渉反射波がコヒーレントである場合、被覆された物品の反射スペクトルにおける振動が存在し得る。例えば、コヒーレント反射波は、反射振動の大きさを増大させる強め合う干渉を引き起こす可能性がある。反射スペクトルにおけるそのような振動は、特に、被覆された物品が非垂直入射角で見られる場合、または視角が変化する場合に、反射率および／または透過率において望ましくない感知可能な色を生じさせる可能性がある。

１つ以上の実施の形態によれば、反射波のコヒーレンスは、光学的被覆膜に組み込まれる１つ以上の光変更機能部分を含むことによって低減または実質的に排除され得る。光変更機能部分は、反射波のコヒーレンスを乱すように被覆された物品の反射率を乱し得、それにより、垂直または非垂直な角度で見たときに被覆された物品に感知可能な色を生じさせることができる測定可能な干渉パターンを減少させる。この破壊は、少なくとも、１つ以上の界面からの反射波の散乱、または特定の界面からの反射波の位相の変化によって達成することができる。

一部の実施の形態において、望ましくない強め合う干渉は、本明細書で「耐引っ掻き性」層と呼ばれる光学的被覆膜の単一層の空気側および基板側の界面からのコヒーレント反射波によって特に引き起こされ得る。本明細書に記載の実施の形態において、１つ以上の耐引っ掻き性層を光学的被覆膜に含むことができる。これらの耐引っ掻き性層は、比較的厚く（例えば約３００ｎｍより厚く、そして最大１０マイクロメートル）および硬質（例えば、８ＧＰａより大きいバーコビッチ硬度を有する）であってもよい。これらの耐引っ掻き性層は、被覆された物品に所望の物理的特性、例えば高い硬度および耐磨耗性を付与することができる。しかし、それらは、空気側および基板側の界面で他の層とのコヒーレント反射波を生成し、干渉による反射振動を増加させることがある。１つ以上の実施の形態において、光変更機能部分は、耐引っ掻き性層中または端部において光学的被覆膜内に提供されてもよい。

図１を参照すると、１つ以上の実施の形態による被覆された物品１００は、基板１１０と、基板１１０上に配置される光学的被覆膜１２０とを含むことができる。基板１１０は、対向する主表面１１２，１１４および対向する副表面１１６，１１８を含む。光学的被覆膜１２０は図１に示されるように第１の対向する主表面１１２上に配置されているが、光学的被覆膜１２０は、第１の対向する主表面１１２の上に配置されることに加えて、またはその代わりに、第２の対向する主表面１１４および／または対向する副表面１１６，１１８の一方または両方に配置されてもよい。光学的被覆膜１２０は空気側表面１２２を形成する。１つ以上の光変更機能部分が光学的被覆膜１２０中に設けられてもよく、その実施の形態は本明細書に記載されている。

光学的被覆膜１２０は、少なくとも１つの材料の少なくとも１つの層を含む。「層」という用語は、単一の層を含むことができ、または１つ以上の副層を含むことができる。このような副層は、互いに直接接触していてもよい。副層は、同じ材料または２つ以上の異なる材料から形成されてもよい。１つ以上の代替実施の形態において、このような副層は、それらの間に配置される異なる材料の介在層を有することができる。１つ以上の実施の形態において、層は、１つ以上の連続した途切れることのない層および／または１つ以上の不連続で途切れた層（すなわち、互いに隣接して形成された異なる材料を有する層）を含むことができる。１つの層または副層は、不連続堆積プロセスまたは連続堆積プロセスを含む、当該技術分野における任意の既知の方法によって形成することができる。１つ以上の実施の形態において、層は、連続堆積プロセスのみを使用して、あるいは、不連続堆積プロセスのみを用いて形成することができる。

本明細書で使用される「配置」という用語は、当該技術分野において任意の公知のまたは開発される方法を使用して、表面上に材料を被覆、堆積および／または形成することを含む。配置される材料は、本明細書で定義されるような層を構成することができる。本明細書で使用される場合、「上に配置される」という語句は、材料が表面に直接接触するように材料を表面上に形成することを含むか、あるいは、材料が、材料と表面との間に配置される１つ以上の介在材料を有する表面上に形成される実施の形態を含む。介在する材料は、本明細書で定義されるような層を構成することができる。

１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜１２０の単一層または複数の層を、真空蒸着技術、例えば、化学的蒸着（例えば、プラズマ強化化学的蒸着（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学的蒸着、大気圧化学的蒸着およびプラズマ強化大気圧化学的蒸着）、物理的蒸着（例えば、反応性または非反応性スパッタリングまたはレーザーアブレーション）、熱または電子ビーム蒸着および／または原子層蒸着によって、基板１１０上に堆積させることができる。噴霧、浸漬、スピンコーティング、またはスロットコーティング（例えば、ゾルゲル材料を使用する）のような液体ベースの方法もまた使用され得る。一般に、蒸着技術は、薄膜を生成するために使用され得る様々な真空蒸着方法を含むことができる。例えば、物理的蒸着法は物理的プロセス（加熱またはスパッタリングのような）を用いて材料の蒸気を生成し、次にこれを被覆される対象上に堆積させる。

光学的被覆膜１２０は、約１００ｎｍから約１０マイクロメートルの厚さを有することができ、例えば、光学的被覆膜は、約２００ｎｍ、３００ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１マイクロメートル、２マイクロメートル、３マイクロメートル、４マイクロメートル、５マイクロメートル、６マイクロメートル、７マイクロメートルまたはさらには８マイクロメートル以上であり、約１０マイクロメートル以下である厚さを有することができる。

１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜１２０は、耐引っ掻き性層を含むか、またはそれからなることができる。ここで図２Ａを参照すると、下地層１５４の上に配置される耐引っ掻き性層１５０を含む被覆された物品１００が示されている。１つの実施の形態によれば、耐引っ掻き性層１５０は、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ダイヤモンド様カーボン、またはそれらの組み合わせから選択される１つ以上の材料を含むことができる。耐引っ掻き性層１５０に使用される例示的な材料としては、無機カーバイド、窒化物、酸化物、ダイヤモンド様材料、またはそれらの組み合わせを挙げることができる。耐引っ掻き性層１５０に好適な材料の例としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物、金属オキシカーバイドおよび／またはそれらの組み合わせが挙げられる。例示的金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＴａおよびＷが挙げられる。耐引っ掻き性層１５０で利用することができる材料の具体例としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド様カーボン、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙおよびこれらの組み合わせを挙げることができる。耐引っ掻き性層１５０はまた、硬度、靭性、または耐擦過性／耐磨耗性を改善するために、ナノコンポジット材料、または制御された微細構造を有する材料を含み得る。例えば、耐引っ掻き性層１５０は、約５ｎｍから約３０ｎｍまでの範囲内の寸法のナノクリスタルを含むことができる。実施の形態において、耐引っ掻き性層１５０は、変態強化ジルコニア、部分安定化ジルコニア、またはジルコニア強化アルミナを含むことができる。実施の形態において、耐引っ掻き性層１５０は、破壊靭性値が約１ＭＰａ√ｍより大きく、同時に約８ＧＰａより大きい硬度値を示す。

１つ以上の実施の形態において、耐引っ掻き性層１５０は組成勾配を含むことができる。例えば、耐引っ掻き性層１５０は、Ｓｉ、Ａｌ、ＯおよびＮのうちのいずれか１つ以上の濃度が変化して屈折率を増加または減少させるＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙの組成勾配を含むことができる。屈折率勾配はまた、多孔度を用いて形成することもできる。このような勾配は、２０１４年４月２８日に出願された「Ｓｃｒａｔｃｈ−Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ Ａｒｔｉｃｌｅｓ ｗｉｔｈ ａ Ｇｒａｄｉｅｎｔ Ｌａｙｅｒ」と題する米国特許出願第１４／２６２２２４号明細書により詳しく記載されており、その公報の全体が参照により本明細書に組み込まれる。

耐引っ掻き性層１５０は、他の層と比較して比較的厚くてよく、例えば、約３００ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１マイクロメートル、２マイクロメートル、３マイクロメートル、４マイクロメートル、５マイクロメートル、６マイクロメートル、７マイクロメートル、またはさらには８マイクロメートル以上である。例えば、耐引っ掻き性層は、約３００ｎｍから約１０マイクロメートルの厚さを有することができる。

１つ以上の実施の形態において、下地層１５４は、基板１１０の屈折率と類似の屈折率を有する材料で構成されてもよい。例えば、下地層１５４は、基板１１０の屈折率の約０．１、０．０５、またはさらに０．０１以内の屈折率を有することができる。下地層１５４の材料は基板１１０の組成に依存し得るが、基板がガラスである実施の形態では、ＢａＦ２が下地層１５４に好適な材料であり得る。下地層１５４の屈折率と基板１１０の屈折率とを調和させることにより、基板表面１１２から生じる反射を低減することができる。

本明細書に記載された光学的被覆膜は、１つ以上の光変更機能部分を有することができる。例えば、図２Ａに概略的に示すように、光学的被覆膜１２０は、光学的被覆膜中の２つの隣接する層、例えば下地層１５４および耐引っ掻き性層１５０の間に粗い界面１２４を含むことができる。被覆された物品１００の他の界面は、基板表面１１２（図２Ａには粗く示されていない）および光学的被覆膜１２０の空気側表面１２２における界面のように粗い場合がある。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、その算術平均粗さ（Ｒ_ａ）またはそのルート二乗平均平方根粗さ（Ｒ_ｑ）により特徴付けることができる。Ｒ_ａおよびＲ_ｑは、下記式により求めることができる。

式中、ｎは測定位置の数を表し、ｙは測定された高さを表する。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、５ｎｍ、１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、３５ｎｍ、またはさらに４０ｎｍ以上のＲａを有することができる。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、５ｎｍ、１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、３５ｎｍ、またはさらに４０ｎｍ以上のＲｑを有することができる。

実施の形態によれば、粗い界面は、種々の方法により、例えば、限定はされないが、粗さを生み出す層中に結晶形態を成長させること、化学エッチングのような化学的プロセッシング、または機械的エッチング、切断、道具処理などのような機械的プロセッシング、により生成することができる。例えば、１つの実施の形態において、ＢａＦ２は、クラウンタイプ結晶形態を有する下地層１５４のような光学的被覆膜１２０の１つの層として堆積させることができる。このようなＢａＦ２の堆積の１つの実施の形態を、以下の実施例において説明する。堆積後、（界面１２４における）下地層１５４の上面は粗くてもよく、耐引っ掻き性層１５０などの別の層は、粗い界面１２４において下地層１５４上に堆積されてもよい。耐引っ掻き性層１５０の堆積が比較的着実である場合、図２Ａに示すように、空気側表面１２２に粗い表面が存在してもよい。別の実施の形態において、空気側表面１２２は滑らかであってもよい。例えば、空気側表面１２２は、図２Ｂの実施の形態に示すように、研磨（化学的または機械的）またはラミネーションによって平滑化することができる。もう１つの実施の形態において、空気側表面１２２は、ＰＥＣＶＤのような被覆プロセスを組み込むことにより滑らかにすることができるが、このプロセスは、平坦化効果を有するようになるものであり、結果として、粗い埋め込まれた界面の上面に堆積された層において滑らかな空気側表面１２２を得るものである。

粗いまたは滑らかな層を、光学的被覆膜１２０の任意の層として堆積させることができると解すべきである。例えば、被覆された物品１００の任意の界面は、例えば、粗い結晶層を成長させることまたは粗い界面の上に一定厚さの層を成長させることのような本明細書に記載されている方法によって粗くすることができる。粗い界面は、平坦な表面の形成を促進させる研磨または堆積技術によって平滑にすることができる。

図２Ａまたは２Ｂに示される実施の形態において、下地層１５４が基板１１０と類似または同一の屈折率を有する場合、基板１１０の主表面１１２には反射はほとんどなく、反射のかなりの部分が空気側表面１２２および粗い界面１２４から生じる。しかしながら、理論に拘泥することはないが、粗い面１２４における光散乱が、粗い面１２４および空気側表面１２２からの反射率の干渉を、より弱いコヒーレントまたは非コヒーレントにし、被覆された物品１００の反射率および／または透過率スペクトルにおける振動を低減させると考えられている。

１つ以上の実施の形態において、光散乱性部材を、光学的被覆膜１２０の１つ以上の層中にまたは１つ以上の界面において配置することができる。例えば、ここで図３を参照すると、光散乱性部材１８０は、下地層１５４および耐引っ掻き性層１５０のような、光学的被覆膜１２０中の２つの隣接する層の間に配置されてもよい。同様に図３に示すように、光散乱性部材１８０は、耐引っ掻き性層１５０のような、光学的被覆膜１２０の１つの層中に配置されてもよい。一部の実施の形態において、光散乱性部材１８０は、耐引っ掻き性層中に配置されるが層の界面１２４には配置されない、またはその逆であってもよい。

図３に示すように、光散乱性部材１８０は、実質的に球形であってもよい。しかしながら、他の実施の形態において、光散乱性部材１８０は、鋭い角度の形状を含む粒子を含む、丸みのあるまたは実質的に平坦な表面を有する不規則な形状の物体のような他の形状または形状因子を有してもよい。光散乱性部材１８０は、様々なサイズを有することができる。１つの実施の形態において、各光散乱性部材１８０は、約１ｎｍから約１マイクロメートルまで（例えば、約１ｎｍから約９００ｎｍまで、約１ｎｍから約８００ｎｍまで、約１ｎｍから約７００ｎｍまで、約１ｎｍから約６００ｎｍまで、約１ｎｍから約５００ｎｍまで、約１ｎｍから約４００ｎｍまで、約１ｎｍから約３００ｎｍまで、約１ｎｍから約２００ｎｍまで、約１ｎｍから約１００ｎｍまで、約１ｎｍから約５０ｎｍまで、または約１ｎｍから約２５ｎｍまで）の最大寸法を有する。本明細書で使用する「最大寸法」は、光散乱性部材１８０を通る個々の光散乱性部材１８０の表面間の最大距離を指す。例えば、球状光散乱性部材１８０の最大寸法は、球の直径である。「平均最大寸法」は、ガラス物品１００のすべての光散乱性部材１８０の最大寸法の平均を指す。

光散乱性部材１８０は、光散乱性部材１８０に隣接する光学的被覆膜１２０の他の部分と異なる組成または相を含むことができる。実施の形態において、光散乱体１８０は、固体および／または気体を含んでいてもよく、空隙を含んでいてもよい。さらに、光散乱性部材１８０の一部は、互いに異なる組成または相を有することができることを理解すべきである。

光散乱性部材１８０は、それらが異なる波長を有する光に異なる影響を与えるように、様々な大きさおよび形状を有することができる。１つの実施の形態において、光散乱性部材１８０は、可視スペクトル全体（すなわち、約４００ｎｍから約７００ｎｍまでの範囲内の光）にわたって光を散乱させるのに好適な寸法分布を有する。光散乱性粒子の量は、界面の表面積ごとに変化し得る。しかしながら、本明細書に記載の被覆された物品１００を生成する方法は、光散乱性部材１８０の寸法、形状、寸法分布および／または相対量を制御することができることを理解されたい。

さらなる実施の形態において、光変更機能部分は、高屈折率層１５０の下側、上側またはその中に、格子またはメタマテリアル表面のような設計された光学位相修飾表面または界面を含むことができる。例えば、本明細書に記載されている種々の実施の形態において粗い界面が配置されている所において格子を配置することができる。本明細書で使用される場合、「メタマテリアル」は、所望の電磁的特性を作り出すための、材料要素の周期的な配置からなる構造を指す。電磁的特性は、原子または分子の周期的な配置から生じる。メタマテリアルは、限定されるものではないが、自然界には見られない性質を生み出すための物質の周期的な配列を作り出すリソグラフィーまたは自己組織化によって生成することができる。

もう１つの実施の形態において、光変更機能部分は、耐引っ掻き性層１５０中、上側または下側において、屈折率のパターン化されたまたはランダムな変化を含むことができる。これらの変化は、反射光または透過光の方向転換または位相修正を引き起こし得る。１つ以上の実施の形態において、変化は、外部反射ヘイズを最小限に抑えるように、主に前方向の散乱を引き起こすことができる。例えば、下地層１５４は、別個の粒子または界面を含まなくてもよい。むしろ、一部の実施の形態においては、下地層１５４は、屈折率の平滑または漸進的な変化を含むことができ、見掛けの鋭い界面は有さず、下地層１５４は屈折率の空間的変化も有することができ、これは、例えば、格子様または散乱様の効果を有することができ、結果的に、反射されたまたは透過された光波の位相または局部角含有量の変化を導く。そのようなことが、米国特許第９，５８８，２６３号明細書に記載されており、その公報が参照により本明細書に組み込まれる。

本明細書に記載されている光変更機能部分、例えば、耐引っ掻き性層中の図２および３を参照して説明されているものを、光学的被覆膜１２０の他の実施の形態に組み込むことができることを理解されたい。例えば、追加の実施の形態が、図４および５を参照して本明細書に提供される。記載された光変更機能部分は、図４および図５の実施の形態の耐引っ掻き性層１５０中に組み込むことができる。しかしながら、本明細書に記載された光変更機能部分は、被覆された物品１００の多くの実施の形態の中に、特に被覆された物品１００の耐引っ掻き性層１５０中に組み込むことができることを理解されたい。説明された光変更機能部分の配置は、任意の被覆された物品１００のいずれの層中にも組み込むことができるので、本明細書に具体的に記載されている被覆された物品１００の実施の形態には限定されない。

光散乱性成分の材料は、光学的被覆膜１２０の隣接する材料とは異なる屈折率を有していてもよい。例えば、光散乱性成分１８０の材料の屈折率は、光学的被覆膜１２０中の隣接材料の屈折率から少なくとも約１％、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約４％、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、またはさらに少なくとも約５０％異なって（すなわち、より大きいまたはより小さい）いてもよい。

１つ以上の実施の形態において、図４に示すように、光学的被覆膜１２０は、複数の層（１３０Ａ、１３０Ｂ）を含んでよい反射防止性被覆膜１３０を含むことができる。１つ以上の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０は、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂのような２つの層を含む周期１３２を含むことができる。図４に示すように、反射防止性被覆膜１３０は、複数の周期１３２を含むことができる。他の実施の形態において、単一の周期は、低ＲＩ層、中間ＲＩ層、高ＲＩ層のような３つの層を含むことができる。本開示の全体を通じて、図４は、周期１３２を有する光学的被覆膜１２０の例示的な実施の形態であり、本明細書に記載の光学的被覆膜１２０の特性（例えば、色、硬度など）および材料は、図４の実施の形態に限定されるべきではないことを理解すべきである。

本明細書で用いられる「低ＲＩ」、「高ＲＩ」および「中間ＲＩ」という用語は、屈折率（「ＲＩ」）に関する互いの相対値を示している（すなわち、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩ）。１つ以上の実施の形態において、「低ＲＩ」という用語は、低ＲＩ層とともに使用される場合、約１．３から約１．７までまたは１．７５までの範囲を含む。１つ以上の実施の形態において、「高ＲＩ」という用語は、高ＲＩ層とともに使用される場合、約１．７から約２．５まで（例えば、約１．８５以上）の範囲を含む。１つ以上の実施の形態において、「中間ＲＩ」という用語は、周期の第３の層とともに使用される場合、約１．５５から約１．８までの範囲を含む。一部の実施の形態において、低ＲＩ、高ＲＩおよび／または中間ＲＩの範囲は重複してもよい。しかし、ほとんどの場合、反射防止性被覆膜１３０の層は、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩ（「中間ＲＩ」は、３層周期の場合に適用することができる）というＲＩに関する一般的関係を有する。１つ以上の実施の形態において、低ＲＩ層と高ＲＩ層との屈折率の差は、約０．０１以上、約０．０５以上、約０．１以上、またはさらに約０．２以上であってもよい。

例えば、図４において、周期１３２は、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂを含むことができる。光学的被覆膜１２０に複数の周期が含まれる場合、低ＲＩ層１３０Ａ（「Ｌ」で示される）および高ＲＩ層１３０Ｂ（「Ｈ」で示される）は、以下の層の順番：Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ・・・またはＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌ・・・で交互になり、それにより、低ＲＩ層と高ＲＩ層とが、光学的被覆膜１２０の物理的厚さに沿って交互になる。図４に示す一部の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０は、４つの周期１３２を含み、各周期１３２が、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂを含んでいる。一部の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０は、最大２５の周期を含むことができる。例えば、反射防止性被覆膜１３０は、約２から約２０までの周期、約２から約１５までの周期、約２から約１０までの周期、約２から約１２までの周期、約３から約８までの周期、または約３から約６までの周期を含むことができる。

反射防止性被覆膜１３０に使用するのに好適な材料の例としては、限定されないが、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、ＣｅＦ_３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、耐引っ掻き性層に使用するのに好適であると以下に引用される他の材料、および、当技術分野で公知の他の材料が挙げられる。低ＲＩ層１３０Ａにおいて使用するのに好適な材料のいくつかの例としては、限定するものではないが、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、 ＡｌＯｘＮｙ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙおよびＣｅＦ_３が挙げられる。低ＲＩ層１３０Ａで使用するための材料の窒素含有量は、（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３およびＭｇＡｌ_２Ｏ_４のような材料において）最小限に抑えることができる。高ＲＩ層１３０Ｂにおいて使用するのに好適な材料のいくつかの例としては、限定するものではないが、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３およびダイヤモンド様カーボンが挙げられる。１つ以上の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂは、高い硬度（例えば、８ＧＰａを超える硬度）を有することができ、上記の高ＲＩ材料は、高い硬度および／または耐引っ掻き性を備えることができる。高ＲＩ層１３０Ｂの材料の酸素含有量は、特にＳｉＮ_ｘまたはＡｌＮ_ｘ材料において、最小限に抑えることができる。ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ材料は、酸素ドープされたＡｌＮ_ｘ（すなわち、ＡｌＮ_ｘ結晶構造（例えば、ウルツ鉱）を有していてもよく、ＡｌＯＮ結晶構造を有する必要はない）と考えることができる。例示的なＡｌＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約０原子％から約２０原子％までの酸素、または約５原子％から約１５原子％までの酸素を含み、一方で３０原子％から約５０原子％までの窒素を含むことができる。例示的なＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約１０原子％から約３０原子％までまたは約１５原子％から約２５原子％までのケイ素、約２０原子％から約４０原子％までまたは約２５原子％から約３５原子％までのアルミニウム、約０原子％から約２０原子％までまたは約１原子％から約２０原子％までの酸素、および約３０原子％から約５０原子％までの窒素を含むことができる。上記材料は、約３０重量％まで水素化されてもよい。中間屈折率を有する材料が望まれる場合、一部の実施の形態において、ＡｌＮおよび／またはＳｉＯ_ｘＮ_ｙを利用することができる。耐引っ掻き性層１５０は、高ＲＩ層での使用に好適であるとして開示された材料のいずれかを含むことができることを理解されたい。

図４に示すような１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜１２０は、高ＲＩ層として一体化された耐引っ掻き性層１５０を含み、１つ以上の低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂは、耐引っ掻き性層１５０の上に配置され得る。耐引っ掻き性層は、光学的被覆膜１２０全体または被覆された物品１００全体の中で最も厚い高ＲＩ層として交互に画定されてもよい。理論に束縛されるものではないが、被覆された物品１００は、比較的薄い量の材料が耐引っ掻き性層１５０の上に堆積されている場合に、押し込み深さにおいて増加した硬度を示すと考えられている。しかしながら、耐引っ掻き性層１５０の上に低ＲＩおよび高ＲＩ層を含めることは、被覆された物品１００の光学的特性を向上させることができる。一部の実施の形態において、比較的少ない層（例えば、１、２、３、４または５層のみ）が耐引っ掻き性層１５０の上に配置されてもよく、これらの層はそれぞれ比較的薄く（例えば、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、またはさらに２５ｎｍ未満）てよい。

１つ以上の実施の形態によれば、耐引っ掻き性層１５０は、１つ以上の光変更機能部分を含んでいてもよい。光変更機能部分を耐引っ掻き性層１５０中に組み込むことは、被覆された物品１００の反射率および／または透過率スペクトルにおける振動を低減するのに役立つことができ、それにより被覆された物品の反射干渉の大部分が耐引っ掻き性層の界面１５５で生じることになる。例えば、図４に示すように、耐引っ掻き性層１５０に隣接する界面１５５は、本明細書で説明するように粗くてもよい。界面１５５の一方または両方が粗くてもよい。一部の実施の形態において、層１３０Ａと１３０Ｂとの間の界面および／もしくは層１３０Ｂと１４０との間の界面ようなさらなる界面、またはさらに被覆された物品１００の空気側表面１２２が粗くてもよい。

１つ以上の実施の形態において、他の光変更機能部分が耐引っ掻き性層１５０中に存在してよい。例えば、本明細書に記載の光散乱性部材１８０を、耐引っ掻き性層１５０中にまたは界面１５５に堆積させることができる。さらなる実施の形態において、光学的被覆膜１２０の他の層が、高ＲＩ層１３０Ｂまたは低ＲＩ層１３０Ａのような光変更機能部分を含むことができる。

１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜１２０は、図４に示すように反射防止性被覆膜１３０の上に配置される１つ以上のさらなる最上部被覆膜１４０を含むことができる。１つ以上の実施の形態において、さらなる最上部被覆膜１４０は、清浄化しやすい被覆膜を含むことができる。好適な清浄化しやすい被覆膜の１例が、２０１２年１１月３０日に出願された「ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＲ ＭＡＫＩＮＧ ＯＦ ＧＬＡＳＳ ＡＲＴＩＣＬＥＳ ＷＩＴＨ ＯＰＴＩＣＡＬ ＡＮＤ ＥＡＳＹ−ＴＯ−ＣＬＥＡＮ ＣＯＡＴＩＮＧＳ」と題する米国特許出願第１３／６９０，９０４号明細書に記載されており、米国特許出願公開第２０１４／０１１３０８３号として公開されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。清浄化しやすい被覆膜は、約５ｎｍから約５０ｎｍまでの範囲内の厚さを有してもよく、フッ素化シランなどの既知の材料を含んでもよい。清浄化しやすい被覆膜は、代替的にまたは付加的に、低摩擦被覆膜または表面処理を含むことができる。例示的な低摩擦被覆膜材料は、ダイヤモンド様カーボン、シラン（例えば、フルオロシラン）、ホスホネート、アルケンおよびアルキンを含むことができる。一部の実施の形態において、清浄化しやすい被覆膜は、約１ｎｍから約４０ｎｍまで、約１ｎｍから約３０ｎｍまで、約１ｎｍから約２５ｎｍまで、約１ｎｍから約２０ｎｍまで、約１ｎｍから約１５ｎｍまで、約１ｎｍから約１０ｎｍまで、約５ｎｍから約５０ｎｍまで、約１０ｎｍから約５０ｎｍまで、約１５ｎｍから約５０ｎｍまで、約７ｎｍから約２０ｎｍまで、約７ｎｍから約１５ｎｍまで、約７ｎｍから約１２ｎｍまで、または約７ｎｍから約１０ｎｍまでの範囲内、および、それらの間のすべての範囲内および副範囲内の厚さを有することができる。

最上部被覆膜１４０は、耐引っ掻き性層１５０に使用するのに好適なものとして開示されている材料のいずれかを含む耐引っ掻き性層の１つまたは複数を含むことができる。一部の実施の形態において、さらなる被覆膜１４０は、清浄化しやすい材料と耐引っ掻き性材料との組み合わせを含む。１つの例において、この組み合わせは、清掃化しやすい材料とダイヤモンド様カーボンとを含む。このようなさらなる最上部被覆膜１４０は、約５ｎｍから約２０ｎｍまでの範囲内の厚さを有することができる。さらなる被覆膜１４０の構成要素は、別々の層に設けられてもよい。例えば、ダイヤモンド様カーボンを第１の層として配置し、ダイヤモンド様カーボンの第１の層上に第２の層として清浄化しやすい材料を配置することができる。第１の層および第２の層の厚さは、さらなる被覆膜のために上記で提供された範囲内とすることができる。例えば、ダイヤモンド様カーボンの第１の層は、約１ｎｍから約２０ｎｍまたは約４ｎｍから約１５ｎｍまで（またはより具体的には約１０ｎｍ）の厚さを有することができ、清浄化しやすい材料の第２の層は、約１ｎｍから約１０ｎｍまで（またはより具体的には約６ｎｍ）の厚さを有することができる。ダイヤモンド様被覆膜は、四面体非晶質カーボン（Ｔａ−Ｃ）、Ｔａ−Ｃ：Ｈ、および／または、ａ−Ｃ−Ｈを含むことができる。

１つ以上の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０の層の少なくとも１つ（例えば、低ＲＩ層１３０Ａまたは高ＲＩ層１３０Ｂ）は、特定の光学的厚さ（または光学的厚さの範囲）を含むことができる。本明細書で使用される「光学的厚さ」という用語は、層の物理的厚さと屈折率との積を指す。１つ以上の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０の層のうちの少なくとも１つが、約２ｎｍから約２００ｎｍまで、約１０ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５から約５００ｎｍまで、または約１５から約５０００ｎｍまでの範囲内の光学的厚さを有することができる。一部の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０の層のすべてが、各々、約２ｎｍから約２００ｎｍまで、約１０ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５から約５００ｎｍまで、または約１５から約５０００ｎｍまでの範囲内の光学的厚さを有することができる。一部の実施の形態において、反射防止性被覆膜１３０のうちの少なくとも１つの層が、約５０ｎｍ以上の光学厚さを有する。一部の実施の形態において、低ＲＩ層１０３Ａの各々が、約２ｎｍから約２００ｎｍまで、約１０ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５から約５００ｎｍまで、または約１５から約５０００ｎｍまでの範囲内の光学的厚さを有する。一部の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂの各々が、約２ｎｍから約２００ｎｍまで、約１０ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５から約５００ｎｍまで、または約１５から約５０００ｎｍまでの範囲内の光学的厚さを有する。３層周期を有する実施の形態において、中間ＲＩ層の各々が、約２ｎｍから約２００ｎｍまで、約１０ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５ｎｍから約１００ｎｍまで、約１５から約５００ｎｍまで、または約１５から約５０００ｎｍまでの範囲内の光学的厚さを有する。

１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜は、図５に示すように、各々が、それぞれの厚さに沿った組成勾配を含むことができる１つ以上の勾配層を含むことができる。１つの実施の形態において、光学的被覆膜１２０は、底部勾配層１７０、耐引っ掻き性層１５０（上述のような）および最上部勾配層１６０を含むことができる。図６は、図５の光学的被覆膜１２０の屈折率プロファイルの１例を示す。基板１１０、底部勾配層１７０、耐引っ掻き性層１５０および最上部勾配層１６０は、図６の屈折率プロファイルの上のそれらの対応する部分にマークされている。底部勾配層１７０は、基板１１０と直接接触して配置されてよい。耐引っ掻き性層１５０は、底部勾配層１７０の上側にあってよく、最上部勾配層は、耐引っ掻き性層１５０に直接接触して上側にあってよい。耐引っ掻き性層１５０は、ＳｉＮ_ｘのような高屈折率の比較的硬い材料を１種または２種以上含むことができる。実施の形態において、耐引っ掻き性層１５０の厚さは、他の実施の形態において耐引っ掻き性層１５０を参照して説明したように、約３００ｎｍから数マイクロメートルまでであってもよい。底部勾配層１７０は、基板１１０と接触する部分における基板の屈折率程度（これは比較的低くてよい）から耐引っ掻き性層１５０に接触する部分における耐引っ掻き性層１５０の屈折率（これは比較的高くてよい）まで変化する屈折率を有することができる。底部勾配層１７０は、約１０ｎｍから数マイクロメートルまで、例えば５０ｎｍから１０００ｎｍまで、１００ｎｍから１０００ｎｍまで、または５００ｎｍから１０００ｎｍまでの厚さを有することができる。最上部勾配層１６０は、耐引っ掻き性層１５０に接触する部分における耐引っ掻き性層１５０の屈折率程度（これは比較的高くてもよい）から空気側表面１２２における空気界面における比較的低い屈折率まで変化する屈折率を有することができる。最上部勾配層１６０の（空気側表面１２２における）最上部分は、１．３５から１．５５までの屈折率を有する材料、例えば、限定されるものではないが、ケイ酸塩ガラス、シリカ、リンガラス、またはフッ化マグネシウムを含むことができる。

被覆された物品１００の他の実施の形態で説明したように、耐引っ掻き性層１５０は、粗い界面１６５または（他の実施の形態に示されている）光散乱性部材のような光変更機能部分を含むことができる。

１つ以上の実施の形態において、基板の側における底部勾配層１７０の屈折率は、基板１１０の屈折率の０．２以内（例えば、０．１５、０．１、０．０５、０．０２、または０．０１以内）であってよい。耐引っ掻き性層１５０の側における底部勾配層１７０の屈折率は、耐引っ掻き性層１５０の屈折率の０．２以内（例えば０．１５、０．１、０．０５、０．０２または０．０１以内）であってよい。耐引っ掻き性層１５０の側における最上部勾配層１６０は、耐引っ掻き性層１５０の屈折率の０．２以内（例えば、０．１５、０．１、０．０５、０．０２または０．０１以内）であってよい。空気側表面１２２の側における最上部勾配層１６０の屈折率は、約１．３５から約１．５５までであってよい。実施の形態において、耐引っ掻き性層の屈折率は、少なくとも約１．７５、１．８、またはさらに１．９であってよい。

基板１１０は、無機材料を含んでいてよく、非晶質基板、結晶質基板またはそれらの組み合わせを挙げることができる。基板１１０は、人工材料および／または天然に存在する材料（例えば、石英およびポリマー）から形成されてもよい。例えば、一部の例においては、基板１１０が有機物として特徴付けられてもよく、具体的にはポリマーであってもよい。好適なポリマーの例としては、限定はされないが、熱可塑性材料、例えば、ポリスチレン（ＰＳ）（スチレンコポリマーおよびブレンドを含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（コポリマーおよびブレンドを含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンテレフタレートコポリマーを含むコポリマーおよびブレンドを含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）および環状ポリオレフィン（環状−ＰＯ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含むアクリルポリマー（コポリマーおよびブレンドを含む）、熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）およびこれらのポリマーの互いのブレンドが挙げられる。他の例示的なポリマーとしては、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。

一部の特定の実施の形態においては、基板１１０は、具体的には、ポリマー、プラスチックおよび／または金属基板を除外することができる。基板１１０がアルカリ含有基板（すなわち、基板が１種または２種以上のアルカリを含む）として特徴付けられることがある。１つ以上の実施の形態において、基板は、約１．４５から約１．５５までの範囲内の屈折率を示す。特定の実施の形態において、基板１１０は、少なくとも５個、少なくとも１０個、少なくとも１５個、または少なくとも２０個の試料を用いてボール−オン−リング試験を使用して測定した場合に０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上１．５％以上、またはさらに２％以上である、１つ以上の対向する主表面の上の表面における平均歪み対破損を示すことができる。特定の実施の形態において、基板１１０は、約１．２％、約１．４％、約１．６％、約１．８％、約２．２％、約２．４％、約２．６％、約２．８％、または約３％以上の、１つ以上の対向する主表面の上の表面における平均歪み対破損を示すことができる。

好適な基板１１０は、約３０ＧＰａから約１２０ＧＰａまでの範囲内の弾性率（またはヤング率）を示すことができる。１部の例において、基板の弾性率は、約３０ＧＰａから約１１０ＧＰａまで、約３０ＧＰａから約１００ＧＰａまで、約３０ＧＰａから約９０ＧＰａまで、約３０ＧＰａから約８０ＧＰａまで、約３０ＧＰａから約７０ＧＰａまで、約４０ＧＰａから約１２０ＧＰａまで、約５０ＧＰａから約１２０ＧＰａまで、約６０ＧＰａから約１２０ＧＰａまで、約７０ＧＰａから約１２０ＧＰａまでの範囲内、および、それらの間のすべての範囲内および副範囲内であってもよい。

１つ以上の実施の形態において、非晶質基板は、強化されていてよいまたは強化されていなくてよいガラスを含むことができる。適したガラスの例として、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラスおよびアルカリアルミノホウケイ酸ガラスが挙げられる。いくつかの変形例では、ガラスには酸化リチウムを含まない場合がある。１つ以上の代替的な実施の形態において、基板１１０は、ガラスセラミック基板（強化または非強化であってよい）のような結晶質基板を含むことができ、またはサファイアのような単結晶構造を含むことができる。１つ以上の特定の実施の形態において、基板１１０は、非晶質ベース（例えば、ガラス）および結晶質クラッド（例えば、サファイア層、多結晶質アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）層）を含む。

１つ以上の実施の形態による基板１１０は、（本明細書に記載のバーコビッチ圧子硬度試験により測定した）物品の硬度を下回る硬度を有してよい。基板１１０の硬度は、限定はされないがバーコビッチ圧子硬度試験またはビッカース硬度試験を含む当該分野で既知の方法を用いて測定することができる。

基板１１０は、実質的に光学的に透明または透明であってよく、光の散乱を含まなくてよい。このような実施の形態において、基板１１０は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上または約９２％以上の光学的波長領域にわたる平均光透過率を示すことができる。１つ以上の代替的な実施の形態において、基板１１０は、不透明であってもよく、または約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満、または約０．５％未満の光学的波長領域にわたる平均光透過率を示すことができる。一部の実施の形態において、これらの光反射率および透過率値は、（基板の両主表面上の反射率または透過率を考慮に入れた）全反射率または全透過率であってもよく、または基板の一方側で観察されてもよい（すなわち、反対側の表面を考慮に入れずに、空気側表面１２２のみにおいて）。別段の指定がない限り、基板表面１１２に対して入射照明角度０度で、基板単独の平均反射率または透過率が測定される（ただし、そのような測定は入射照明角度４５度または６０度で行われてもよい）。基板１１０は、任意に、白色、黒色、赤色、青色、緑色、黄色、オレンジなどの色を呈することができる。

追加的にまたは代替的に、基板１１０の物理的厚さは、審美的および／または機能的な理由のためにその寸法のうちの１つ以上に沿って変化してもよい。例えば、基板１１０の縁部は、基板１１０のより中央部分の領域に比較して厚くてもよい。基板１１０の長さ、幅および物理的厚さの寸法は、物品１００の用途または使用に応じて変化してもよい。

基板１１０は、種々の異なるプロセスを使用して提供することができる。例えば、基板１１０がガラスのような非晶質基板を含む場合、様々な形成方法は、フロートガラスプロセス、および、フュージョンドローおよびスロットドローなどのダウンドロープロセスを含むことができる。

いったん形成されると、基板１１０は、強化基板を形成するために強化されてもよい。本明細書で使用される「強化された基板」という用語は、例えば、基板表面のより小さいイオンに対してより大きいイオンをイオン交換することによって、化学的に強化された基板を指すことができる。しかしながら、当該技術分野において公知の他の強化方法、例えば、熱焼き戻し、または圧縮応力および中央張力領域を作るように基板の部分間の熱膨張係数の不一致の利用が利用されて、強化基板を形成することができる。

基板１１０がイオン交換プロセスによって化学的に強化される場合、基板の表面層のイオンは、同じ原子価または酸化状態を有するより大きいイオンによって置換されるか、またはそれと交換される。イオン交換プロセスは、典型的には、基板内のより小さいイオンと交換されるより大きいイオンを含有する溶融塩浴中に基板を浸漬することによって実行される。当業者によれば、限定はされないが、浴組成および温度、浸漬時間、塩浴（または浴）の中への基板の浸漬回数、複数の塩浴の使用、およびアニーリング、洗浄などの追加の工程を含むイオン交換プロセスのパラメータが、一般に、基板の組成および、強化操作の結果として生じる基板の所望の圧縮応力（ＣＳ）および圧縮応力層深さ（または層の深さ）によって決められることが理解されるであろう。例として、アルカリ金属含有ガラス基板のイオン交換は、限定されるものではないがより大きなアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩および塩化物などの塩を含有する少なくとも１つの溶融浴に浸漬することによって達成することができる。溶融塩浴の温度は、典型的には、約３８０℃から約４５０℃までの範囲内であり、浸漬時間は約１５分から約４０時間までの範囲内である。しかし、上述したものとは異なる温度および浸漬時間を使用することもできる。

加えて、ガラス基板が複数のイオン交換浴に浸漬されそれら浸漬の間に洗浄および／またはアニーリング工程が設けられているイオン交換プロセスの非限定的な例が、ガラス基板が、異なる濃度の塩浴中での複数の連続したイオン交換処理における浸漬によって強化される米国特許第８，５６１，４２９号明細書、および、ガラス基板が、流出イオンで希釈された第１の浴中でのイオン交換、続いて第１の浴よりも流出イオンの濃度が小さい第２の浴での浸漬により強化される、「Ｄｕａｌ Ｓｔａｇｅ Ｉｏｎ Ｅｘｃｈａｎｇｅ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｉｎｇ ｏｆ Ｇｌａｓｓ」と題する、２００８年、７月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／０８４，３９８号からの優先権を主張する、２０１２年、１１月２０日出願のＣｈｒｉｓｔｏｐｈｅｒ Ｍ． Ｌｅｅらの米国特許第８，３１２，７３９号明細書に記載されている。米国特許第８，５６１，４２９号および米国特許第８，３１２，７３９号の内容は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

イオン交換によって達成された化学的強化の程度は、中心張力（ＣＴ）、表面ＣＳおよび層の深さ（ＤＯＬ）のパラメータに基づいて定量することができる。表面ＣＳは、強化されたガラスの表面付近またはその中で様々な深さにおいて測定することができる。最大ＣＳ値は、強化された基板の表面（ＣＳｓ）における測定されたＣＳを含むことができる。ガラス基板内の圧縮応力層に隣接する内部領域について計算されたＣＴは、ＣＳ、物理的厚さｔ、およびＤＯＬから計算することができる。ＣＳおよびＤＯＬは、当技術分野で知られている手段を用いて測定される。このような手段としては、限定はされないが、Ｌｕｃｅｏ Ｃｏ．、Ｌｔｄ．（東京、日本）製のＦＳＭ−６０００などの市販の装置を用いた表面応力（ＦＳＭ）の測定が挙げられ、ＣＳおよびＤＯＬを測定する方法が、「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ Ｆｌａｔ Ｇｌａｓｓ」と題するＡＳＴＭ １４２２Ｃ−９９および「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｎｏｎ−Ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｖｅ Ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｅｄｇｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｔｒｅｓｓｅｓ ｉｎ Ａｎｎｅａｌｅｄ， Ｈｅａｔ−Ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｅｄ， ａｎｄ Ｆｕｌｌｙ−Ｔｅｍｐｅｒｅｄ Ｆｌａｔ Ｇｌａｓｓ」と題するＡＳＴＭ１２７９．１９７７９に記載されており、それらの内容が参照により全体として本明細書に組み込まれる。表面応力の測定は、ガラス基板の複屈折に関連する応力的光学係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依存する。次に、ＳＯＣは、繊維および四点曲げ法（いずれも、「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｇｌａｓｓ Ｓｔｒｅｓｓ−Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ」と題するＡＳＴＭ規格Ｃ７７０−９８（２００８）に記載されており、それら内容が参照により全体として本明細書に組み込まれる）およびバルクシリンダー法のような当業界で公知の方法によって測定される。ＣＳとＣＴとの関係は、以下の式によって与えられる。

ＣＴ＝（ＣＳ・ＤＯＬ）／（ａ−２ＤＯＬ）
式中、ａは、ガラス物品の物理的厚さ（μｍ）である。本開示の様々な個所において、ＣＴおよびＣＳは本明細書ではメガパスカル（ＭＰａ）で表され、物理的厚さａはマイクロメートル（μｍ）またはミリメートル（ｍｍ）で表され、ＤＯＬはマイクロメートル（μｍ）で表される。

１つ実施の形態において、強化された基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上または８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有することができる。強化された基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＬ、および／または、１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａもしくは５０ＭＰａ以上）であるが１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有することができる。１つ以上の特定の実施の形態において、強化された基板は、以下の５００ＭＰａより大きい表面ＣＳ、１５μｍより大きいＤＯＬおよび１８ＭＰａより大きいＣＴのうちの１つ以上を有する。

基板１１０に使用することができる例示的ガラスとしては、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物またはアルカリアルミノホウケイ酸ガラス組成物を挙げることができるが、他のガラス組成物も考えられる。そのようなガラス組成物は、イオン交換プロセスによって化学的に強化することができる。ガラス組成物の１例は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３およびＮａ_２Ｏを含み、（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％であり、Ｎａ_２Ｏ≧９モル％である。１つの実施の形態において、ガラス組成物は、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。さらなる実施の形態において、基板１１０は、アルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５重量％となるように、１種または２種以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含む。好適なガラス組成物は、一部の実施の形態において、さらに、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯおよびＣａＯのうちの少なくとも１つを含む。特定の実施の形態において、基板に使用されるガラス組成物は、６１から７５モル％までのＳｉＯ_２、７から１５モル％までのＡｌ_２Ｏ_３、０から１２モル％までのＢ_２Ｏ_３、９から２１モル％までのＮａ_２Ｏ、０から４モル％までのＫ_２Ｏ、０から７モル％までのＭｇＯおよび０から３モル％までのＣａＯを含むことができる。

基板に好適なガラス組成物のさらなる例は、６０から７０モル％までのＳｉＯ_２、６から１４モル％までのＡｌ_２Ｏ_３、０から１５モル％までのＢ_２Ｏ_３、０から１５モル％までのＬｉ_２Ｏ、０から２０モル％までのＮａ_２Ｏ、０から１０モル％までのＫ_２Ｏ、０から８モル％までのＭｇＯ、０から１０モル％までのＣａＯ、０から５モル％までのＺｒＯ_２、０から１モル％までのＳｎＯ_２、０から１モル％までのＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含むが、ただし、１２モル％≦（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）≦２０モル％および０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

基板に好適なガラス組成物のなおさらなる例は：６３．５から６６．５モル％までのＳｉＯ２、８から１２モル％までのＡｌ_２Ｏ_３、０から３モル％までのＢ_２Ｏ_３、０から５モル％までのＬｉ_２Ｏ、８から１８モル％までのＮａ_２Ｏ、０から５モル％までのＫ_２Ｏ、１から７モル％までのＭｇＯ、０から２．５モル％までのＣａＯ、０から３モル％までのＺｒＯ_２、０．０５から０．２５モル％までのＳｎＯ_２、０．０５から０．５モル％までのＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含むが、ただし、１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％および２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

特定の実施の形態において、基板１１０に好適なアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、アルミナ、少なくとも一つのアルカリ金属を含み、一部の実施の形態においては、５０モル％を超えるＳｉＯ_２を含み、他の実施の形態においては、少なくとも５８モル％のＳｉＯ_２を含み、さらに他の実施の形態においては、少なくとも６０モル％のＳｉＯ_２を含み、ただし、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）が１よりも大きく、この成分比はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。このガラス組成物は、特定の実施の形態において、５８から７２モル％までのＳｉＯ_２、９から１７モル％までのＡｌ_２Ｏ_３、２から１２モル％までのＢ_２Ｏ_３、８から１６モル％までのＮａ_２Ｏおよび０から４モル％までのＫ２Ｏを含み、ただし、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）が１より大きい。

さらに別の実施の形態において、基板は、６４から６８モル％までのＳｉＯ_２、１２から１６モル％までのＮａ_２Ｏ、８から１２モル％までのＡｌ₂Ｏ_３、０から３モル％までのＯ_３、２から５モル％までのＫ₂Ｏ、４から６モル％までのＭｇＯおよび０から５モル％までのＣａＯ（ただし、６６モル％≦ＳｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ｂ₂Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ₂Ｏ＋Ｂ₂Ｏ_３）−Ａｌ₂Ｏ_３≦２モル％、２モル％≦Ｎａ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ_３≦６モル％、および４モル％≦（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）−Ａｌ₂Ｏ_３≦１０モル％である。）を含むアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を含むことができる。

代替的な実施の形態において、基板１１０は、２モル％以上のＡｌ₂Ｏ_３および／もしくはＺｒＯ₂または４モル％以上のＡｌ₂Ｏ_３および／もしくはＺｒＯ₂を含むアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を含むことができる。

基板１１０が結晶質基板を含む場合、基板は、Ａｌ₂Ｏ_３を含んでよい単結晶を含むことができる。このような単結晶質基板は、サファイアと呼ばれる。結晶質基板のための他の好適な材料としては、多結晶質アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ₂Ｏ_４）が挙げられる。

任意に、結晶質基板１１０は、強化または非強化であってよいガラスセラミック基板を含むことができる。好適なガラスセラミックスの例としては、Ｌｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ_３−ＳｉＯ₂系（すなわちＬＡＳ系）ガラスセラミックス、ＭｇＯ−Ａｌ₂Ｏ_３−ＳｉＯ₂系（すなわちＭＡＳ系）ガラスセラミックス、および／または、β−石英固溶体、β−スポジュメンｓｓ、コージェライト、および二ケイ酸リチウムを含む支配的な結晶相を含むガラスセラミックスを挙げることができる。ガラスセラミック基板は、本明細書で開示される化学的強化プロセスを使用して強化することができる。１つ以上の実施の形態において、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｍｇ₂＋に対する２Ｌｉ＋の交換が起こり得るＬｉ₂ＳＯ_４溶融塩中で強化することができる。

１つ以上の実施の形態に係る基板１１０は、基板１１０の様々な部分において約１００μｍから約５ｍｍの範囲の物理的厚さを有することができる。基板１１０の物理的厚さの例としては、約１００μｍから約５００μｍまで（例えば、１００、２００、３００、４００または５００μｍ）の範囲である。基板１１０の物理的厚ささらなる例としては、約５００μｍから約１０００μｍまで（例えば、５００、６００、７００、８００、９００または１０００μｍ）の範囲である。基板１１０は、約１ｍｍよりも大きな物理的厚さ（例えば、約２、３、４または５ｍｍ）を有することができる。１つ以上の特定の実施の形態において、基板１１０は、２ｍｍ以下、または１ｍｍ未満の物理的厚さを有することができる。基板１１０は、表面の欠陥の影響を除去または低減するために、酸研磨または他の方法で処理することができる。

光学的被覆膜１２０および／または物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される硬度の観点から記述することができる。本明細書中で使用される場合、「バーコビッチ圧子硬度試験」は、表面をダイヤモンド製バーコビッチ圧子で押し込むことによって、その表面上の材料の硬度を測定することを含む。バーコビッチ圧子硬度試験は、通常は、Ｏｌｉｖｅｒ， Ｗ．Ｃ．； Ｐｈａｒｒ， Ｇ． Ｍ． Ａｎ ｉｍｐｒｏｖｅｄ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｆｏｒ ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ ｈａｒｄｎｅｓｓ ａｎｄ ｅｌａｓｔｉｃ ｍｏｄｕｌｕｓ ｕｓｉｎｇ ｌｏａｄ ａｎｄ ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ ｓｅｎｓｉｎｇ ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ． Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｒｅｓ．， Ｖｏｌ． ７， Ｎｏ． ６， １９９２， １５６４−１５８３およびＯｌｉｖｅｒ， Ｗ．Ｃ．； Ｐｈａｒｒ， Ｇ．Ｍ． Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｈａｒｄｎｅｓｓ ａｎｄ Ｅｌａｓｔｉｃ Ｍｏｄｕｌｕｓ ｂｙ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ： Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｕｎｄｅｒｓｔａｎｄｉｎｇ ａｎｄ Ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔｓ ｔｏ Ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ． Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｒｅｓ．， Ｖｏｌ． １９， Ｎｏ． １， ２００４， ３−２０に示された方法を用いて、被覆された物品１００の空気側表面１２２（または、反射防止性被覆膜における任意の１つ以上の層の表面）をダイヤモンド製バーコビッチ圧子で押し込んで約５０ｎｍから約１０００ｎｍまでの範囲内の押し込み深さ（または光学的被覆膜１２０の全厚のうちいずれか小さい方）のくぼみを形成し、押し込み深さの全範囲またはこの押し込み深さの一部（例えば、約１００ｎｍから約６００ｎｍまでの範囲内）に沿ったこのくぼみからの最大硬度を測定することを含む。本明細書で使用される場合、硬度は、平均硬度ではなく、ある範囲内の押し込み深さに沿って測定された最大硬度を指す。

典型的に、バーコビッチ圧子の使用によるようなナノ圧子押し込み測定方法において、被覆膜が下地基板よりも硬い場合、測定される硬度は、浅い押し込み深さ（例えば、２５ｎｍ未満または５０ｎｍ未満）においては可塑性領域の進行により初期は増加するように見え、次に、より深い押し込み深さ（例えば、５０ｎｍから約５００ｎｍまでまたは１０００ｎｍ）において最大値またはプラトーに達する。その後、下地基板の影響により、さらに深い押し込み深さでは、硬度が低下し始める。被覆膜と比較してより大きな硬度を有する基板が利用される場合、同じ効果が見られる。しかしながら、硬度は、下地基板の影響により、より深い押し込み深さで増加する。

押し込み深さ範囲および特定の押し込み深さ範囲における硬度値は、下地基板１１０の影響なしに、本明細書に記載のその光学的被覆膜１２０およびその層の特定の硬度応答を識別するように選択することができる。バーコビッチ圧子を用いて光学的被覆膜１２０（基板１１０上に配置される場合）の硬度を測定する場合、材料の永久変形領域（可塑性帯）は材料の硬度と相関がある。押し込み中、弾性応力場が、この永久変形領域を充分に超えて延びる。押し込み深さが増加すると、見掛けの硬度および弾性率は、下地基板１１０との応力場相互作用の影響を受ける。硬度に対する基板の影響は、より深い押し込み深さ（すなわち、典型的には光学的被覆膜１２０の約１０％を超える深さ）において生じる。さらに、硬度応答が、押し込みプロセス中に充分な可塑性を発現させるための特定の最小荷重を必要とするというさらなる複雑さがある。その特定の最小荷重に先立って、硬度は一般的に増加する傾向を示す。

（小さな負荷としても特徴付けられ得る）小さな押し込み深さ（例えば、最大約５０ｎｍ）では、材料の見かけの硬度は、押し込み深さに対して劇的に増加するように見える。この小さな押し込み深さ領域は、硬度の真の指標ではないが、その代わりに、圧子の有限の曲率半径に相関がある前述の可塑性帯の発達を反映する。中間押し込み深さでは、見かけの硬度は最大レベルに近づく。より深い押し込み深さでは、押し込み深さが増加するにつれて基板の影響がより顕著になる。押し込み深さが光学的被覆膜の厚さの約３０％を超えると、硬度は劇的に低下し始めることがある。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面１２２において測定した場合、約５ＧＰａ以上、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上または約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ単位以上、１８ＧＰａ以上、またはさらには２０ＧＰａ以上）の硬度を示すことができる。１つ以上の実施の形態において、光学的被覆膜１２０は、バーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面１２２において測定した場合、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上または約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ単位以上、１８ＧＰａ以上、またはさらには２０ＧＰａ以上）の硬度を示すことができる。さらに、高ＲＩ層１３０Ｂおよび／または耐引っ掻き性層１５０の材料の硬度は具体的に特徴付けることができる。一部の実施の形態において、バーコビッチ圧子硬度試験により測定した場合、高ＲＩ層および／または耐引っ掻き性層１５０の最大硬度は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上またはさらには約２０ＧＰａ以上であり得る。層の硬度は、測定される層が最上層である被覆された物品を分析することによって測定することができる。硬さを測定する層が埋設層である場合、その硬度は、上に重なる層を含まない被覆された物品を生成し、次いで硬度について被覆された物品を試験することによって測定することができる。そのような測定された硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍまで、約１００ｎｍから約４００ｎｍまで、約１００ｎｍから約５００ｎｍまで、約１００ｎｍから約６００ｎｍまで、約２００ｎｍから約３００ｎｍまで、約２００ｎｍから約４００ｎｍまで、約２００ｎｍから約５００ｎｍまでまたは約２００ｎｍから約６００ｎｍまで）の押し込み深さに沿って、被覆された物品１００、光学的被覆膜１２０、高ＲＩ層１３０Ｂおよび／または耐引っ掻き性層１５０によって示され得るものである。１つ以上の実施の形態において、物品は、基板の硬度（空気側表面１２２とは反対側の表面で測定することができる）よりも高い硬度を示す。

光学的被覆膜１２０／空気の界面の反射光と、光学的被覆膜１２０／基板１１０の界面の反射波との間の光干渉は、分光反射率および／または透過率の振動をもたらし、それにより物品１００中の見かけの色を作成することができる。本明細書で用いられる「透過率」という用語は、材料（例えば、物品、基板または光学的膜またはそれらの一部）を透過した所定の波長範囲内の入射光パワーの百分率として定義される。「反射率」という用語は、同様に、材料（例えば、物品、基板または光学的膜またはそれらの一部）から反射された所定の波長範囲内の入射光パワーの百分率として定義される。透過率および反射率は、特定の線幅を使用して測定される。本明細書で使用される「平均透過率」は、定義された波長領域にわたって材料を透過した入射光パワーの平均量を指す。本明細書で使用される「平均反射率」は、材料によって反射された入射光パワーの平均量を指す。反射率は、（例えば、吸収体に結合された裏表面上に屈折率整合油を用いる、または他の既知の方法などにより、被覆された物品１００の非被覆裏表面（例えば、図３の１１４）からの反射を除去する場合）空気側表面１２２のみにおいて測定される場合、片側反射率として測定することができる。１つ以上の実施の形態において、透過率および反射率の特性評価のスペクトル分解能は、５ｎｍまたは０．０２ｅＶ未満である。色は反射でより顕著になることがある。角度色は、入射照明角での分光反射率振動のずれにより、視野角に伴って反射においてずれることがある。視野角による透過における角度色ずれもまた、入射照明角度での分光透過率振動の同じシフトに起因する。入射照明角に伴って観察される色および角度色のずれは、特に、蛍光灯および一部のＬＥＤ照明のような鮮明なスペクトル特性を有する照明下では、多くの場合デバイス使用者にとって邪魔になるか、または好ましくない。透過における角度色のずれは、反射における色ずれの要因ともなり、逆もまた同様である。透過および／または反射における角度色ずれの要因としては、視野角による角度色ずれ、または、特定の光源または試験システムによって規定される（ある程度角度から独立した）材料吸収によって生じる可能性のある特定の白色点から離れた角度色ずれも挙げられる。

本明細書に記載の物品は、可視スペクトル内または近傍の特定の波長範囲にわたる平均光透過率と片側平均光反射率を示す。さらに、本明細書に記載の物品は、可視スペクトル内または近傍の特定の波長範囲にわたる平均可視明所反射率および平均可視明所反射率を示す。実施の形態において、平均光透過率、片側平均光反射率、平均可視明所反射率および平均可視明所反射率を測定するための波長範囲（本明細書では「波長領域」と呼ばれることもある）は、約４５０ｎｍから約６５０ｎｍまで、約４２０ｎｍから約６８０ｎｍまで、約４２０ｎｍから約７００ｎｍまで、約４２０ｎｍから約７４０ｎｍまで、約４２０ｎｍから約８５０ｎｍまでまたは約４２０ｎｍから約９５０ｎｍまでであり得る。別段の指定がない限り、平均光透過率、片側平均光反射率、平均可視明所反射率および平均可視明所反射率は、空気側表面１２２の垂直線に近い入射照明角、例えば約０度から約１０度までの範囲内の入射角で測定される（しかし、そのような測定は、例えば３０度、４５度、または６０度のような他の入射照明角度で収集されてもよい）。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、（例えば、吸収体に結合された裏表面上に屈折率整合油を用いる、または他の既知の方法などにより、物品の非被覆裏表面からの反射を除去する場合）空気側表面１２２のみにおいて測定された場合、約５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、またはさらには約２％以下の平均片側光反射率を光学的波長領域にわたって示すことができる。実施の形態において、平均片側光反射率は、約０．４％から約９％まで、約０．４％から約８％まで、約０．４％から約７％まで、約０．４％から約６％までまたは約０．４％から約５％までの範囲内であってよい。１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、光学的波長領域にわたって、約５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上、９８％以上または９９％以上の平均光透過率を示す。一部の実施の形態において、被覆された物品１００は、約９９．５％から約９０％、９２％、９４％、９６％、９８％または９９％までの範囲内の光透過率を示すことができる。

一部の実施の形態において、被覆された物品１００は、光学的波長領域にわたって、約５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、またさらには約０．８％以下の平均可視明所反射率を示すことができる。本明細書で使用される明所反射率は、人間の眼の感度にしたがって波長スペクトルに対する反射率を重み付けすることによって人間の眼の応答を模倣するものである。明所反射率は、ＣＩＥ色空間規約などの既知の規約にしたがう、反射光の輝度または三刺激Ｙ値として定義することもできる。平均明所反射率は、以下の式において、分光反射率Ｒ（λ）に発光スペクトルＩ（λ）および目の分光応答に関するＣＩＥカラーマッチング機能ｙ（λ）を掛けたものとして定義される。

一部の実施の形態において、物品１００は、光学的波長領域にわたって、約５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、約８５％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９６％以上またはさらには約９８％以上の平均可視明所透過率を示すことができる。平均明所透過率は、以下の式において、分光透過率Ｔ（λ）に発光スペクトルＩ（λ）および目の分光応答に関するＣＩＥカラーマッチング機能ｙ（λ）を掛けたものとして定義される。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システム（本明細書で「色座標」と呼ぶ）における反射率および透過率において測定可能な色（またはその欠如）を示す。透過率色座標は、透過率における観察されたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色座標を指し、反射率色座標は、反射率における観察されたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色座標を指す。透過率の色座標または反射率の色座標は、Ａ光源（タングステンフィラメント照明を示す）、Ｂ光源（昼光模擬光源）、Ｃ光源（昼光模擬光源）、Ｄシリーズの光源（自然の昼光を示す）およびＦシリーズの光源（さまざまなタイプの蛍光照明を示す）を含む、ＣＩＥにより決められた標準的光源を含み得る、種々の光源光タイプのもとで測定することができる。具体的な光源としては、ＣＩＥによって定義されたＦ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５が挙げられる。さらに、反射率の色座標および透過率の色座標は、垂直（０度）、５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度のような異なる観測された入射角で測定することができる。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、垂直入射角度、または５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の入射角度で見たときの透過率および／または反射率において約１０、８、６、５、４、３、２またはさらには１以下のａ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、垂直入射角度、または５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の入射角度で見たときの透過率および／または反射率において約１０、８、６、５、４、３、２またはさらには１以下のｂ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、垂直入射角度、または５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の入射角度で見たときの透過率および／または反射率において約−１０、−８、−６、−５、−４、−３、−２またはさらには−１以上のａ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、垂直入射角度、または５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の入射角度で見たときの透過率および／または反射率において約−１０、−８、−６、−５、−４、−３、−２またはさらには−１以上のｂ^＊を有する。

１つ以上の実施の形態において、基準点と、透過率の色座標または反射率の色座標との間で、基準点の色ずれを測定することができる。基準点の色ずれは、基準点の色座標と観測された色座標（反射または透過のいずれか）との間の色の相違を測定するものである。反射率基準点の色ずれ（反射率における基準点の色ずれと呼ばれることもある）は、反射色座標と基準点との間の相違を指す。透過率基準点の色ずれ（透過率における基準点色ずれと呼ばれることもある）は、透過色座標と基準点との間の相違を指す。基準点の色ずれを決定するために、基準点が選択される。本明細書に記載の実施の形態によれば、基準点は、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システム（色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率または反射率色座標の原点であってもよい。他に記載がなければ、本明細書に記載の物品のＬ^＊座標は基準点と同じであり、色ずれに影響しないことを理解されたい。物品の基準点色ずれが基板に関して規定される場合、物品の透過率色座標が基板の透過率色座標と比較され、物品の反射率色座標が基板の反射率色座標と比較される。特記しない限り、基準点の色ずれは、被覆された物品１００の空気側表面１２２に対して垂直な角度で測定された場合、基準点と透過率または反射率における色座標との間で測定されたずれを指す。しかしながら、基準点の色ずれは、５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度のような垂直でない入射角に基づいて決めることもできることを理解されたい。加えて、特に明記しない限り、反射率色座標は物品の空気側表面１２２のみで測定される。しかしながら、本明細書に記載された反射率色座標は、２面測定（物品の２つの面からの反射がいずれも含まれる）または１面測定（物品の空気側表面１２２からの反射のみが測定される）を用いて、物品の空気側表面１２２および物品の反対側（すなわち、図１の主表面１１４）の両方において、測定することができる。これらのうち、１面反射率測定は、典型的には、反射防止性被覆膜のために低い基準点色ずれを達成するにはより難しい測定法であり、これは、物品の裏面が黒色インクまたはＬＣＤまたはＯＬＥＤデバイスのような光吸収媒体に結合される用途（例えば、スマートフォンなど）に関わるものである。

基準点が色座標：ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０（原点）の場合、基準点の色ずれは、以下の式によって算出される。

基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）
基準点が色座標：ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２の場合、基準点の色ずれは、以下の式によって算出される。

基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）
基準点が基板の色座標である場合、基準点の色ずれは、以下の式によって算出される。

基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）
１つ以上の実施の形態において、反射率および／または透過率における基準点色ずれは、開示された基準点のうちの１つに対して測定した場合、約１０未満、約９未満、約８未満、約７未満、約６未満、約５未満、約４未満、約３未満、約２．５未満、約２未満、約１．８未満、約１．６未満、約１．４未満、約１．２未満、約１未満、約０．８未満、約０．６未満、約０．４未満またはさらには約０．２５未満である。

本開示の１つの態様は、光源下で垂直でない入射角度で見た場合でも反射率および／または透過率において無色を呈する被覆された物品１００に関する。１つ以上の実施の形態において、本明細書に記載の被覆された物品１００は、視野角が変わった場合、反射率および／または透過率における可視色の変化を最小限にすることができる、すなわち角度がずれたときに同じ色を知覚することができる。このようなことは、被覆された物品１００の反射率または透過率における角度色ずれによって特徴付けることができる。角度色ずれは、以下の式を用いて求めることができる。角度色ずれ＝√（（ａ^＊２−ａ^＊１）^２＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）^２）。角度色ずれの式において、ａ^＊１およびｂ^＊１は、（垂直入射を含んでいてもよい）基準照明角度で見たときの物品のａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊２およびｂ^＊２は、入射照明角度で見たときの物品のａ^＊およびｂ^＊座標を表すが、ただし、入射照明角度は基準照明角度と異なり、場合によっては、基準照明角度と少なくとも約１度、２度または約５度相違する。他に明記しない限り、本明細書に記載された物品のＬ^＊座標は、いかなる角度または基準点においても同じであり、色ずれに影響しないことを理解すべきである。

基準照明角度としては、垂直入射（すなわち、０度）、または、垂直入射から、例えば、５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度を挙げることができる。しかしながら、他に述べられていない限り、基準照明角度は垂直入射角度である。入射照明角度は、例えば、基準照明角度から約５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度であってもよい。１つ以上の実施の形態において、基準照明角度は０度から１０度までの範囲内であってもよく、入射照明角度は３０度から６０度までの範囲内であってもよい。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、光源下における０から１０度まで（例えば、５以下、４以下、３以下または２以下）の入射照明角度から３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への反射率および／または透過率における角度色ずれを有する。一部の実施の形態において、反射率および／または透過率における角度色ずれは、約１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下、２以下、１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下または０．１以下である。一部の実施の形態において、角度色ずれを約０とすることができる。光源としては、Ａ光源（タングステンフィラメント照明を示す）、Ｂ光源（昼光模擬光源）、Ｃ光源（昼光模擬光源）、Ｄシリーズ光源（自然昼光を示す）およびＦシリーズ光源（さまざまなタイプの蛍光照明を示す）を含む、ＣＩＥにより決められた標準的光源を挙げることができる。特定の例において、物品は、ＣＩＥ Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源、またはより具体的にはＣＩＥ Ｆ２光源下において、基準照明角度から、入射照明角度で見た場合に約２以下の反射率および／または透過率における角度色ずれを示す。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、基準照明角度に対して所定の範囲内のすべての入射照明角度において約１０以下（例えば、５以下、４以下、３以下または２以下）の反射率および／または透過率における角度色ずれを有する。例えば、被覆された物品１００は、基準照明角度から約５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の基準照明角度からの範囲のすべての入射照明角度において約１０以下、５以下、４以下、３以下または２以下の角度色ずれを有することができる。さらなる実施の形態において、被覆された物品１００は、基準照明角度から約５度、１０度、１５度、３０度、４５度または６０度の基準照明角度からの範囲のすべての入射照明角度において約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下または０．１以下の角度色ずれを有することができる。

１つ以上の実施の形態において、被覆された物品１００は、直径が８ｍｍである供給ポートの上の開口を用いて、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ ｐｌｕｓ（登録商標）の名でＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒから供給されるヘイズメーターを使用して擦過側で測定した場合、約１０％以下のヘイズ値を示す。一部の実施の形態において、ヘイズ値は、約７０％以下、５０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下、約９％以下、約約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下または約０．３％以下であってよい。一部の特定の実施の形態において、物品１００は、約０．１％から約１０％まで、約０．１％から約９％まで、約０．１％から約８％まで、約０．１％から約７％まで、約０．１％から約６％まで、約０．１％から約５％まで、約０．１％から約４％まで、約０．１％から約３％まで、約０．１％から約２％まで、約０．１％から約１％まで、０．３％から約１０％まで、約０．５％から約１０％まで、約１％から約１０％まで、約２％から約１０％まで、約３％から約１０％まで、約４％から約１０％まで、約５％から約１０％まで、約６％から約１０％まで、約７％から約１０％まで、約１％から約８％まで、約２％から約６％まで、約３％から約５％までの範囲内、およびそれらの間のすべての範囲内および副範囲内のヘイズを示す。

被覆された物品を製造するために、イオン交換されたガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社からＧｏｒｉｌｌａガラスとして市販されている）の上に粗さ誘導性光散乱層としてＢａＦ_２を堆積させた。具体的には、高温で電子ビーム蒸着によりＢａＦ_２膜を成長させて、クラウン型の結晶形態を作ると、粗さが得られる。ＢａＦ_２膜を、基板を約２００℃に加熱する石英ランプを備えたＴｅｍｅｓｃａｌ ＢＪＤ−１８００電子ビーム蒸発装置において３オングストローム／秒で、堆積させた。堆積前のベース圧力は１．２×１０^−６トルであった。ＢａＦ_２膜の粗さは、結晶核生成および成長の動力学のために膜厚が増加するにつれて増加した。粗さは、Ｖｅｅｃｏ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ原子間力顕微鏡を用いて測定した。また、図７Ａ〜７Ｄは、ガラス基板上に堆積されたＢａＦ_２膜の顕微鏡画像を示す。表１は、各被覆サンプルについてのＢａＦ_２の厚さおよび粗さの測定値を示し、さらに図７Ａ〜図７Ｄの凡例を提供する。粗さは、Ｒ_ａ（絶対値粗さの算術平均）およびＲ_ｑ（二乗平均平方根粗さ）として測定した。比較として、ガラス基板は、１ｎｍ未満の粗さ（ＲａまたはＲｑ）であった。

さらに、１５０℃でプラズマ−熱ＨＤＰＣＶＤを用いてＰＥＣＶＤによって先に記載したＢａＦ_２層の最上部に２マイクロメートルのＳｉＮ_ｘ層を堆積させた。堆積は、基板が置かれるプラテンを駆動するＲＦ供給によって設定される基板バイアスとは無関係に高いイオン化を達成するために誘導結合プラズマ源を利用した。ＰＥＣＶＤは、かなりコンフォーマルな被覆プロセスであり、堆積したときの粗さが比較的小さい。ＢａＦ_２層の粗さは、ＢａＦ_２層の最上部に２マイクロメートルのＳｉＮ_ｘを堆積した後、かなり保存されていた。図８Ａ〜８Ｄは、ガラス基板上のＢａＦ_２膜上に堆積された堆積ＳｉＮ_ｘ膜の顕微鏡画像を示す。表１は、各被覆サンプルについてのＳｉＮ_ｘ層およびＢａＦ_２層の厚さならびにＳｉＮ_ｘ層の粗さ測定値を示し、さらに図８Ａ〜８Ｄの凡例を提供する。

ガラス基板／ＢａＦ_２／ＳｉＮ_ｘ被覆物品は、バーコビッチ圧子硬度値が１７から２１ＧＰａまでであり、被覆されていない基板は硬度が約７ＧＰａであった。これらのサンプルについて弾性率値を測定すると、１９２から２１２ＧＰａまでの範囲内であった。

作製した試料を、可視スペクトルを通る全透過率と正反射率について評価した。図９は、波長の関数としての全透過率（正反射光と拡散光の合計）を示す。図１０は、波長の関数としての（入射角６度での）正反射率を示す。図９および１０において、それぞれ、参照番号５０２は、３００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｍのＳｉＮ_ｘ被覆膜を有するサンプルを表し、参照番号５０４は、３００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｍのＳｉＮ_ｘ被覆膜を有するサンプルを表し、参照番号５０６は、３００ｎｍのＢａＦ₂層および２０００ｎｍのＳｉＮ_ｘ被覆膜を有するサンプルを表し、参照番号５０８は、３００ｎｍのＢａＦ₂層および２０００ｎｍのＳｉＮ_ｘ被覆膜を有するサンプルを表す。さらに、参照番号５１０は、被覆されていない基板の比較例を表し、参照番号５１２は、２マイクロメートルのＳｉＮ_ｘ（比較的滑らかな被覆膜）のみを被覆されたガラス基板を表す。図９および図１０に示すように、粗い層を加えることにより、透過率および反射率の急峻なスペクトル振動が平滑化され、粗さが増加すると振動は平滑化する。

サンプルはさらに、反射角度色ずれ（Ｆ２光源を用いて６度から４０度までに変化、４０度で測定したサンプルを６度で測定したときのサンプルと比較）、ヘイズ、および（Ｄ６５光源）を用いた合計平均明所透過率について評価した。結果を表３に示す。

正反射率が、粗いＢａＦ_２層を含めることによって大幅に低減されているが、全透過率は、実質的に維持されており、わずかに低下しているだけである（表３に示されるように、２４００ｎｍの厚さのＢａＦ₂層について約８５％の合計明所平均透過率から約７８％まで）。ＢａＦ₂のより厚い層は、より多くの光散乱をもたらし、それがスペクトル振動を平滑化し、正反射率を減少させると考えられている。また、正反射率効果の低減は、粗い表面の従来の「防眩」効果に関係があるとも考えられている。さらに、粗いＢａＦ₂光散乱中心を組み込んだサンプルは、光散乱により作られる分光平滑化のおかげで、角度を変化させたときの反射色の変動の範囲が小さい。より厚いＢａＦ₂層を有するサンプルは、より多くの光散乱を示し、スペクトルをより平滑化する。散乱中心の横方向のサイズに依存して、光散乱は色効果も作り出す（ＲａｙｌｅｉｇｈまたはＭｉｅ散乱でよく知られているように）。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
被覆された物品であって、
主表面を有する透明基板と、
透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
を含み、光学的被覆膜が、堆積された材料の１つ以上の層と、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって、被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分と、を含み、
被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、角度色ずれが、√（（ａ^＊２−ａ^＊１）²＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）²）により定義され、ａ^＊１およびｂ^＊１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ ₂が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。

実施形態２
少なくとも１つの光変更機能部分が、
光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間の粗い界面、
光学的被覆膜の１つの層と基板との間の粗い界面、および
粗い空気側表面
のうちの少なくとも１つを含む、実施形態１に記載の被覆された物品。

実施形態３
粗さが、５ｎｍ以上のＲ_ａによって特徴付けられる、実施形態２に記載の被覆された物品。

実施形態４
粗さが、５ｎｍ以上のＲ_ｑによって特徴付けられる、実施形態２に記載の被覆された物品。

実施形態５
少なくとも１つの光変更機能部分が、光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間、または光学的被覆膜と基板との間に配置される光散乱性部材を含む、実施形態１から４のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態６
少なくとも１つの光変更機能部分が、光学的被覆膜の１つの層内に配置される光散乱性部材を含む、実施形態１から５のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態７
光散乱性部材が、約１ｎｍから約１マイクロメートルの平均最大寸法を有する、実施形態５または６に記載の被覆された物品。

実施形態８
光散乱性部材のうちの少なくともいくつかが固体粒子である、実施形態５から７のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態９
基板が、非晶質基板または結晶質基板を含む、実施形態１から８のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態１０
国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、
基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
基準点が基板の色座標である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、実施形態１から９のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態１１
被覆された物品が約５０％以下のヘイズ値を有する、実施形態１から１０のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態１２
被覆された物品であって、
主表面を有する透明基板と、
透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
を含み、光学的被覆膜が、少なくとも３００ｎｍの厚さを有する耐引っ掻き性層を含み、耐引っ掻き性層が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、光学的被覆膜が、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を含み、光変更機能部分が、耐引っ掻き性層中にまたは耐引っ掻き性層により形成された界面に配置されており、
被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、角度色ずれが、√（（ａ^＊２−ａ^＊１）²＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）^２）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ ₂が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。

実施形態１３
少なくとも１つの光変更機能部分が、耐引っ掻き性層と別の層とによって形成された粗い界面を含む、実施形態１２に記載の被覆された物品。

実施形態１４
少なくとも１つの光変更機能部分が、光学的被覆膜中の耐引っ掻き性層と隣接する層との間に配置される光散乱性部材を含む、実施形態１２または１３に記載の被覆された物品。

実施形態１５
少なくとも１つの光変更機能部分が、耐引っ掻き性層中に配置される光散乱性部材を含む、実施形態１２から１４のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態１６
国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、
基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
基準点が基板の色座標である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、実施形態１２から１５のいずれか１つに記載の被覆された物品。

実施形態１７
被覆された物品であって、
主表面を有する透明基板と、
透明基板の主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
を含み、光学的被覆膜が、第１の層と耐引っ掻き性層とを含み、第１の層が、透明基板に隣接して、透明基板が０．１以内の屈折率を有し、耐引っ掻き性層が、第１の層の上に配置されて、少なくとも３００ｎｍの厚さを有し、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、光学的被覆膜が、被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を有しており、光変更機能部分が、耐引っ掻き性層中にまたは耐引っ掻き性層と第１の層とにより形成された界面に配置されており、
被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、角度色ずれが、√（（ａ^＊ _２−ａ^＊ _１）²＋（ｂ^＊ _２−ｂ^＊ _１）²）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。

実施形態１８
第１の層がＢａＦ_２を含む、実施形態１７に記載の被覆された物品。

実施形態１９
少なくとも１つの光変更機能部分が、耐引っ掻き性層と第１の層との間の粗い界面を含む、実施形態１７または１８に記載の被覆された物品。

実施形態２０
国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または基板の透過率色座標を含み、
基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
基準点が色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
基準点が基板の色座標である場合、色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、実施形態１７から１９のいずれか１つに記載の被覆された物品。

１００ 被覆された物品
１１０ 基板
１１２、１１４ 主表面
１１６、１１８ 副表面
１２０ 光学的被覆膜
１２２ 空気側表面
１２４ 界面
１３０Ａ 低ＲＩ層
１３０Ｂ 高ＲＩ層
１３２ 周期
１４０ 最上部被覆膜
１５０ 耐引っ掻き性層
１５４ 下地層
１５５ 界面
１６０ 最上部勾配層
１６５ 粗い界面
１７０ 底部勾配層
１８０ 光散乱性部材
５０２、５０４、５０６、５０８、５１０、５１２ 参照番号

Claims (10)

1. 被覆された物品であって、
   主表面を有する透明基板と、
   該透明基板の該主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
   を含み、該光学的被覆膜が、堆積された材料の１つ以上の層と、前記被覆された物品を通って伝播するまたは前記被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって、前記被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分と、を含み、
   前記被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
   前記被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
   前記被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から前記空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、該角度色ずれが、√（（ａ^＊２−ａ^＊１）²＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）²）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。
2. 前記少なくとも１つの光変更機能部分が、
   前記光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間の粗い界面、
   前記光学的被覆膜の層と前記基板との間の粗い界面、および
   粗い空気側表面
   のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の被覆された物品。
3. 前記少なくとも１つの光変更機能部分が、前記光学的被覆膜の層中、
   前記光学的被覆膜中の２つの隣接する層の間、または前記光学的被覆膜と前記基板との間に配置される光散乱性部材を含む、請求項１または２に記載の被覆された物品。
4. 国際照明委員会の光源下における垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける前記物品透過率色座標が、前記空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、該基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または前記基板の前記透過率色座標を含み、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、前記色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
   前記基準点が前記基板の前記色座標である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、請求項１から３のいずれか１項に記載の被覆された物品。
5. 被覆された物品であって、
   主表面を有する透明基板と、
   該透明基板の該主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
   を含み、該光学的被覆膜が、少なくとも３００ｎｍの厚さを有する耐引っ掻き性層を含み、該耐引っ掻き性層が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、前記光学的被覆膜が、前記被覆された物品を通って伝播するまたは被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって、前記被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を含み、該光変更機能部分が、前記耐引っ掻き性層中にまたは前記耐引っ掻き性層により形成された界面に配置されており、
   前記被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
   前記被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
   前記被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から前記空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、該角度色ずれが、√（（ａ^＊ _２−ａ^＊ _１）²＋（ｂ^＊ _２−ｂ^＊ _１）²）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。
6. 前記少なくとも１つの光変更機能部分が、前記耐引っ掻き性層中に、または前記光学的被覆膜中の前記耐引っ掻き性層と隣接する層との間に配置される光散乱性部材を含む、請求項５に記載の被覆された物品。
7. 国際照明委員会の光源下における垂直入射での前記Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける前記物品透過率色座標が、前記空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、該基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または前記基板の前記透過率色座標を含み、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、前記色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
   前記基準点が前記基板の前記色座標である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）²＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、請求項５または６に記載の被覆された物品。
8. 被覆された物品であって、
   主表面を有する透明基板と、
   該透明基板の該主表面の上に配置されて空気側表面を形成している光学的被覆膜と、
   を含み、該光学的被覆膜が、第１の層と耐引っ掻き性層とを含み、該第１の層が、前記透明基板に隣接して、前記透明基板が０．１以内の屈折率を有し、該耐引っ掻き性層が、前記第１の層の上に配置されて、少なくとも３００ｎｍの厚さを有し、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示す材料を含んでおり、前記光学的被覆膜が、前記被覆された物品を通って伝播するまたは前記被覆された物品により反射される光波のコヒーレンスを低下させることによって前記被覆された物品の反射率スペクトルにおける振動を低減させる少なくとも１つの光変更機能部分を有しており、該光変更機能部分が、前記耐引っ掻き性層中にまたは前記耐引っ掻き性層と前記第１の層とにより形成された界面に配置されており、
   前記被覆された物品が、約５０ｎｍ以上の押し込み深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記空気側表面の上で測定された場合に約８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
   前記被覆された物品が、約５０％以上の平均明所透過率を有し、
   前記被覆された物品の国際照明委員会の光源下におけるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける物品透過率色座標が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度から前記空気側表面に対して３０から６０度までの範囲内の入射照明角度への約１０未満の角度色ずれを示し、該角度色ずれが、√（（ａ^＊２−ａ^＊１）²＋（ｂ^＊２−ｂ^＊１）²）により定義され、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１が、０から１０度までの範囲内の基準照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２が、３０から６０度までの範囲内の入射照明角度で見たときのａ^＊およびｂ^＊座標を表す、被覆された物品。
9. 前記少なくとも１つの光変更機能部分が、前記耐引っ掻き性層と前記第１の層との間の粗い界面を含む、請求項８に記載の被覆された物品。
10. 国際照明委員会の光源下における垂直入射での前記Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色システムにおける前記物品透過率色座標が、前記空気側表面で測定された場合に基準点からの約１０未満の基準点色ずれを示し、該基準点が、色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）、または前記基板の前記透過率色座標を含み、
    前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）である場合、前記色ずれが√（（ａ^＊ _物品）²＋（ｂ^＊ _物品）²）で定義され、
    前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝−２、ｂ^＊＝−２）である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品＋２）²＋（ｂ^＊ _物品＋２）²）で定義され、
    前記基準点が前記基板の前記色座標である場合、前記色ずれが√（ａ^＊ _物品−ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品−ｂ^＊ _基板）²）で定義される、請求項８または９に記載の被覆された物品。

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