KR20050121648A - Ic 카드 - Google Patents

Ic 카드 Download PDF

Info

Publication number
KR20050121648A
KR20050121648A KR1020050105259A KR20050105259A KR20050121648A KR 20050121648 A KR20050121648 A KR 20050121648A KR 1020050105259 A KR1020050105259 A KR 1020050105259A KR 20050105259 A KR20050105259 A KR 20050105259A KR 20050121648 A KR20050121648 A KR 20050121648A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
card
chip
terminal
bonding
substrate
Prior art date
Application number
KR1020050105259A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100845065B1 (ko
Inventor
히로타카 니시자와
요스케 유카와
타카시 토쯔카
Original Assignee
가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 filed Critical 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼
Publication of KR20050121648A publication Critical patent/KR20050121648A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100845065B1 publication Critical patent/KR100845065B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/067Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
    • G06K19/07Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
    • G06K19/077Constructional details, e.g. mounting of circuits in the carrier
    • G06K19/0772Physical layout of the record carrier
    • G06K19/07735Physical layout of the record carrier the record carrier comprising means for protecting against electrostatic discharge
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/067Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
    • G06K19/07Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/067Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
    • G06K19/07Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
    • G06K19/073Special arrangements for circuits, e.g. for protecting identification code in memory
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/067Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
    • G06K19/07Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
    • G06K19/077Constructional details, e.g. mounting of circuits in the carrier
    • G06K19/0772Physical layout of the record carrier
    • G06K19/07732Physical layout of the record carrier the record carrier having a housing or construction similar to well-known portable memory devices, such as SD cards, USB or memory sticks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5388Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates for flat cards, e.g. credit cards
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/60Protection against electrostatic charges or discharges, e.g. Faraday shields
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/62Protection against overvoltage, e.g. fuses, shunts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/05624Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05638Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/05647Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H01L2224/48228Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item the bond pad being disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/165Containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01021Scandium [Sc]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01039Yttrium [Y]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01055Cesium [Cs]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/1016Shape being a cuboid
    • H01L2924/10161Shape being a cuboid with a rectangular active surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1301Thyristor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S257/00Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
    • Y10S257/922Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes with means to prevent inspection of or tampering with an integrated circuit, e.g. "smart card", anti-tamper

Abstract

반도체 집적회로 칩의 코스트를 상승시키지 않고 그것에 대한 정전파괴방지를 강화할 수 있는 IC 카드를 제공한다.
카드 기판(1)에 반도체 집적회로 칩(2)을 가지고, 복수개의 접속단자(3)를 노출시킨 IC 카드이다. 상기 접속단자는 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자(4)에 접속되며, 반도체 집적회로 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자(7, 8, 9)가 집적되고, 카드 기판에는 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자 예를 들면 면실장형의 배리스터(varistor)(11)가 실장된다. 배리스터는 제1 과전압 보호소자를 상회하는 전류허용능력을 가지는 가변저항소자이다. 배리스터에는 반도체 집적회로 칩에 내장된 제1 과전압 보호소자의 특성이나 능력과의 관계가 고려되어 있으므로, 그것에 의한 정전파괴 방지효과를 용이하게 실효한 것으로 할 수 있다.

Description

IC 카드{IC CARD}
본 발명은 IC 카드에 실장되어 있는 반도체 집적회로 칩의 정전파괴(ESD(Electrostatic Discharge)파괴라고도 칭함)를 제어하는 기술에 관한 것으로, 예를 들면 멀티미디어 카드 등의 메모리 카드에 적용하는 유효한 기술에 관한 것이다.
멀티미디어의 데이터 저장용으로서 소형 경량화를 실현한 여러가지의 메모리 카드가 제공되고 있다. 예를 들면, 메모리와 메모리 컨트롤러를 카드 기판에 탑재하여 적은 수의 신호로 호스트장치와 인터페이스가 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 멀티미디어 카드가 제공되고 있다.
이러한 종류의 메모리 카드는 소형 경량화를 우선시키기 때문에, 호스트장치에 접속되는 접속단자를 카드 기판에서 노출시키고, 특별한 단자보호 커버 등의 기구는 설치되어 있지 않다. 따라서, 호스트장치에서 메모리 카드를 이탈시켰을 때, 노출단자에 닿거나 하면, 그 노출단자에 접속하는 반도체 집적회로 칩이 파괴될 염려가 있다. 통상, 반도체 집적회로 칩에는 입력회로의 정전파괴를 방지하기 위한 입력 보호회로가 함께 집적되어 있다. 입력 보호회로는 예를 들면 입력단자의 입력신호 진폭전압에 대해 역 접속상태가 되는 다이오드 등의 소자를 전원단자와의 사이에 배치하여 구성된다. 그러나, 그와 같은 메모리 카드는 단체(單體)로 운반되거나 호스트장치에서 빈번하게 착탈되는 경우도 예상되어 정전파괴방지를 강화하는 것의 유용성이 본 발명자에 의해 발견되었다.
여기서, 상기 메모리 카드와는 기술분야가 다르지만, 정전파괴에 대한 입력보호를 강화하는 기술로서, 특개평 10-209379호 공보에 기재의 기술이 있다. 이것은 반도체기판 상의 전극층에 대해 정전기가 방전할 수 있는 간격(방전 갭)을 사이에 두고 금속배선층을 형성함으로써, 전극층에 정전기가 진입했을 때, 그 정전기를 금속배선층에 향해 방전시켜, 전극층에 진입한 정전기가 반도체소자 내부에 진입하는 것을 방지하려고 하는 것이다. 또, 특개평 7-271937호 공보에는 반도체 집적회로 칩 밖에 정전파괴방지를 위한 외장 MOSFET의 게이트·소스전극간 보호다이오드를 채용한 회로가 나타나 있다.
또, 각종 회로의 과전압보호의 관점에서, 반도체 세라믹스를 사용한 배리스터가 제공되고 있다.
본 발명자는 접속단자를 노출한 메모리 카드 등의 IC 카드에 관한 정전파괴방지를 강화하는 관점에서, 이하의 검토를 행했다.
첫째, 정전파괴방지의 강화에 유용한 에너지 내량을 얻는 데에 소자 사이즈가 큰 제너다이오드 등을 반도체 집적회로 칩에 집적하면, 회로소자가 미세화된 중에서 면적효율이 나쁘게 되고, 현저하게 코스트를 상승시키는 것이 명백하게 되었다.
둘째, 반도체 집적회로 칩에 과전압 보호용의 소자를 외장하여 정전파괴방지 강화책을 강구하는 경우, 반도체 집적회로 칩에 내장된 과전압 보호회로의 특성이나 능력과의 관계를 고려하지 않으면 정전파괴방지의 실효가 향상되지 않으며, 또 외장 회로소자가 너무 크거나, 너무 많거나 하여 IC 카드의 사이즈나 두께를 크게할 염려가 있다는 것이 명백하게 되었다. 상기 종래기술에는 그와 같은 관점은 나타나 있지 않다. 본 명세서에서 과전압이란 정전적으로 발생하는 서지(surge)전압 혹은 과도전압을 의미한다.
세째, 외장 회로소자에 의한 정전파괴방지 강화책을 강구해도, 취급자의 무지 등에 의한 예기치 않은 취급을 받은 경우라도 파괴로부터 절대로 피할 수 있다는 보증은 없으므로, 더욱 만전을 기할 필요가 있다.
네째, 반도체 집적회로 칩의 입력회로가 정전파괴되도, 메모리의 데이터만은 무사한 경우도 상정할 수 있으며, 그와 같은 때는 메모리 카드의 데이터 리커버리를 가능하게 하는 것이, 데이터 구제라는 점에서 우수하고, 메모리 카드의 기억매체로서의 안전성도 높일 수 있다.
다섯째, 외장 회로소자에 의한 정전파괴방지 강화책을 강구하면, 적어도 그 만큼 카드 기판 상의 빈 영역이 줄고, 그와 같은 경우에도 신호선의 바람직하지 않은 리크에 의한 오동작의 원인이 되는 배선패턴의 밀집이나 본딩와이어의 밀집을 피할 수 있는 연구도 필요하게 된다. 이것은 메모리 카드의 기억용량을 증대시킬 때에도 필요한 고려이다.
본 발명의 목적은 반도체 집적회로 칩의 코스트를 상승시키지 않고 그것에 대한 정전파괴방지를 강화할 수 있는 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은 카드의 사이즈나 두께를 크게 변화시키지 않고, 반도체 집적회로 칩에 과전압 보호소자를 외장하여 정전파괴방지를 강화할 수 있는 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 그 밖의 목적은 취급자의 무지 등에 의한 예기치 않은 취급에 기인한 정전파괴의 예방도 기대할 수 있는 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 그 밖의 목적은 반도체 집적회로 칩의 입력회로가 정전파괴되도, 메모리의 데이터가 무사한 경우에는 메모리 카드의 데이터를 용이하게 리커버리하는 것이 가능한 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 그 밖의 목적은 외장 회로소자에 의한 정전파괴방지 강화책에 의해 카드 기판 상의 빈 영역이 줄어도, 신호선의 바람직하지 않은 리크에 의한 오동작의 원인이 되는 배선패턴의 밀집이나 본딩와이어의 밀집을 피할 수 있는 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 비교적 작은 사이즈에 비교적 큰 기억용량을 가지는 IC 카드를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 상기 및 그 밖의 목적과 신규한 특징은 본 명세서의 기술 및 첨부도면에서 명백하게 될 것이다.
본원에서 개시되는 발명 중 대표적인 것의 개요를 간단하게 설명하면 다음과 같다.
〔1〕 반도체 집적회로 칩에 집적된 제1 과전압 보호소자와의 관계를 고려하여 정전파괴방지를 강화할 수 있는 제2 과전압 보호소자를 반도체 집적회로 칩에 외장한다. 즉, 카드 기판에 반도체 집적회로 칩을 가지고, 복수개의 접속단자를 노출시킨 IC 카드로서, 상기 접속단자는 상기 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자에 접속되며, 상기 반도체 집적회로 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되고, 상기 카드 기판에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자가 실장되어 있다.
이 때, 제1 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자는 상기 제1 과전압 보호소자를 상회하는 전류허용능력을 가지는 가변저항소자이다.
제2 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자에 정격전압보다도 큰 전압을 인가함으로써 규정의 펄스전류를 흘리는 데에 필요한 인가전압은 상기 제1 과전압 보호소자의 관계로 보아 상기 규정의 펄스전류보다도 적은 전류밖에 흘릴 수 없는 전압이다.
제3 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자는 상기 제1 과전압 보호소자보다도 큰 파괴전압을 가지는 가변저항소자이다.
제4 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자는 상기 제1 과전압 보호소자보다도 큰 용량을 가지는 소자이다.
이것에 의해 고속 서지펄스를 저저항으로 바이패스(by-pass)할 수 있다.
제5 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자의 항복전압은 상기 제1 과전압 보호소자의 파괴전압보다도 작다.
제6 관점에 의하면, 상기 제2 과전압 보호소자의 항복전압은 상기 제1 과전압 보호소자에 의해 보호되는 회로의 파괴전압보다도 작다.
상기 어느 관점에 있어서도, 제2 과전압 보호소자에는 반도체 집적회로 칩에 내장된 제1 과전압 보호소자의 특성이나 능력과의 관계가 고려되어 있으므로, 그것에 의한 정전파괴 방지효과를 실효있는 것으로 할 수 있다.
상기 제2 과전압 보호소자는 일단을 상기 카드 기판의 전원용 접속단자에 접속하며, 타단을 신호용 접속단자에 접속해도 좋다. 이 신호용 접속단자는 반도체 집적회로 칩의 대응 외부단자에 접속되어 있다. 이때, 상기 신호용 접속단자에서 대응하는 제2 과전압 보호소자에 도달 할 때까지의 신호전파 거리는, 상기 신호용 접속단자에서 반도체 집적회로 칩의 대응 외부단자에 도달 할 때까지의 신호전파 거리보다도 짧다. 이것에 의해, 과전압에 의해 제2 과전압 보호소자가 기능하기 전에 반도체 집적회로 칩이 과전압에 의한 파괴적인 영향을 직접 받는 것을 저지할 수 있다.
상기 제2 과전압 보호소자로는 반도체 세라믹스를 주체로 한 면실장형의 배리스터, 칩 다이오드 어레이, 칩 콘덴서 또는 칩 트랜지스터를 채용해도 좋다. 이것은 제2 과전압 보호소자의 실장면적 혹은 점유면적을 작게 하는 것을 가능하게 한다. 면실장에 의해 제조코스트를 저감할 수 있다.
IC 카드로서 멀티미디어 카드와 같은 메모리 카드를 상정했을 때, 상기 반도체 칩은 컨트롤러 칩이며, 이 컨트롤러 칩에 접속되는 단수 또는 복수개의 메모리 칩(예를 들면 불휘발성 메모리 칩)이 더 상기 카드 기판에 탑재된다. 상기 컨트롤러 칩은 외부에서의 지시에 따라 상기 메모리 칩에 대한 리드·라이트 동작을 제어하는 메모리 컨트롤 기능을 가진다.
데이터 시큐리티(security) 혹은 저작권 보호 등을 고려하는 경우에는, 상기 컨트롤러 칩에는 상기 메모리 칩에 기록 데이터에 대해 암호화를 행하며, 상기 메모리 칩에서 판독한 데이터에 대해서 복호(復號)를 행하는 기밀보호 기능을 채용해도 좋다.
IC 카드의 제조과정에서도 정전파괴의 방지를 고려하면, 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자를 상기 카드 기판에 먼저 실장하고, 그 후에 상기 접속단자에 상기 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자를 접속하면 좋다. 이것에 의해, 상기 반도체 집적회로 칩을 접속하는 공정에서 제2 과전압 보호소자에 의한 보호를 받는다.
〔2〕 카드 기판에 반도체 집적회로 칩을 가지고, 복수개의 접속단자가 노출되며, 상기 접속단자에는 상기 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자가 접속되고, 상기 반도체 집적회로 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되며, 상기 카드 기판에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자가 실장된 IC 카드에 관한 것으로, 상기 제2 과전압 보호소자는 카드 기판에 형성되어 있는 도전패턴에 면실장으로 접속해도 좋다. 제2 과전압 보호소자의 실장코스트를 저감할 수 있다.
IC 카드로서 멀티미디어 카드와 같은 메모리 카드를 상정했을 때, 상기 반도체 칩은 컨트롤러 칩이며, 이 컨트롤러 칩에 접속되는 단수 또는 복수개의 메모리 칩이 더 상기 카드 기판에 탑재되게 된다. 이때 상기 접속단자와 컨트롤러 칩의 외부단자와의 접속에 본딩와이어를 이용하며, 상기 컨트롤러 칩과 메모리 칩과의 접속에 본딩와이어를 이용해도 좋다. 이것에 의해, 상기 본딩와이어에 의한 접속과 동기능의 다수의 배선패턴을 카드 기판에 밀집시켜 형성하지 않아도 된다. 컨트롤러 칩이나 메모리 칩의 상방공간을 배선에 이용할 수 있다. 따라서, 카드 기판의 코스트 저감에 기여할 수 있다.
복수개의 메모리 칩을 본딩와이어로 컨트롤러 칩에 병렬적으로 접속할 때, 본딩와이어의 배선 길이를 짧게한다는 관점에서, 상기 메모리 칩을 각각의 외부단자가 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 복수개 중복된 상태로 상기 카드 기판에 실장하면 좋다. 이것에 의해, 각각의 메모리 칩을 중복되지 않게 배치하는 경우에 비해, 컨트롤러 칩과의 거리가 짧게 되며, 본딩와이어의 배선 길이가 짧게 된다. 따라서, 본딩와이어의 바람직하지 않은 접촉이나 단선의 염려를 저감할 수 있다. 특히 이때, 상기 카드 기판의 상기 일면의 표면적은 상기 메모리 칩 및 컨트롤러 칩의 총 면적보다도 크게 되어 있다는 조건을 유지하면 좋다. 이것은 카드 기판의 일면에만 배선층을 형성한다는 제약조건에도 충분히 대처할 수 있을 만큼의 여유 스페이스를 카드 기판에 확보할 수 있도록 하기 위한 고려이다. 단순히 카드 기판의 면적을 작게 하기 위해 메모리 칩을 중복하여 실장하는 것과는 사고방식이 다르다.
〔3〕 복수개의 메모리 칩과 상기 메모리 칩을 제어하는 컨트롤러 칩을 카드 기판의 일면에 실장하여 이루어지는 IC 카드에 관한 것으로, 상기 메모리 칩은 각각의 외부단자를 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 복수개 중복된 상태로 상기 카드 기판에 실장할 때, 상기 컨트롤러 칩에서 서로 동일 신호를 받는 메모리 칩의 외부단자를 본딩와이어로 순차 직렬 접속한다. 소위 스티치 꿰맴과 같은 본딩수법을 채용한다. 컨트롤러 칩에서 각 외부단자에 각각 본딩와이어로 접속하는 경우에 비해 본딩와이어를 전체로서 짧게 할 수 있으며, 이 점에서도, 본딩와이어의 밀집에 의한 바람직하지 않은 접촉이나 단선의 염려를 저감할 수 있다.
또, 복수개의 메모리 칩과 상기 메모리 칩을 제어하는 컨트롤러 칩을 카드 기판의 일면에 실장하여 이루어지는 IC 카드에 관한 것으로, 상기 메모리 칩을 각각의 외부단자를 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 복수개 중복된 상태로 상기 카드 기판에 실장할 때, 상기 메모리 칩의 칩 선택신호 입력용의 외부단자를 불휘발성 메모리 칩의 외부단자 배열의 끝에 위치시켜, 각각 따로따로 본딩와이어로 상기 컨트롤러 칩에 접속한다. 복수개의 메모리 칩이 각각 칩 선택되어야 할 구성에서는, 칩 선택신호 입력용의 외부단자는 컨트롤러 칩의 칩 선택신호 출력용 외부단자에 각각 접속되어 있지 않으면 안되고, 상기 스티치본딩과 같은 수법을 채용할 수 없지만, 칩 선택용 외부단자는 메모리 칩의 끝에 배치되어 있으므로, 그 밖의 본딩와이어에 방해되지 않고 필요한 접속을 취하는 것이 용이하게 된다.
〔4〕 카드 기판에 실장되는 메모리 칩 및 컨트롤러 칩 등의 배열에 관해서는, 열 모양의 배열을 채용해도 좋다. 즉, 메모리 칩은 컨트롤러 칩에 접속되며, 카드 기판에 형성된 접속단자는 상기 컨트롤러 칩의 소정의 외부단자에 접속되고, 상기 컨트롤러 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되며, 상기 카드 기판에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자가 실장되어 있다. 그리고, 상기 접속단자에서 멀어지는 거리를, 상기 제2 과전압 보호소자, 컨트롤러 칩, 복수개의 메모리 칩의 순으로 크게 하여, 그들을 상기 카드 기판의 한변에서 대향변에 향해 열 모양으로 배치한다. 이 열 모양 배치에 의해, 최종적으로 과전압을 퇴피시키기 위한 제2 과전압 보호소자가 과전압 인가단인 접속단자에 가장 가깝고, 데이터를 저장한 메모리 칩이 가장 멀게 되며, 반도체 칩의 정전파괴방지라는 관점, 그리고, 데이터 보호라는 관점에서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.
이 경우에도 전술과 마찬가지로, 상기 메모리 칩을 각각의 외부단자가 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 중복된 상태로 상기 카드 기판에 실장해도 좋다.
카드 기판에 실장되는 메모리 칩 및 컨트롤러 칩 등의 배열은 열 모양 배열에 한정되지 않는다. 상기 카드 기판의 인접 2변 중 한쪽 변에 따라 상기 복수개의 접속단자가 배열되어 있을 때, 상기 인접 2변의 다른쪽 변에 길이방향을 따라 메모리 컨트롤러를 배치하고, 상기 복수개의 메모리 칩을 상기 접속단자의 배열방향과는 거의 직각 방향으로 병렬시킨다. 카드 기판에서 노출되는 접속단자는 상기 컨트롤러 칩의 소정의 외부단자에 접속되며, 상기 컨트롤러 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되고, 상기 메모리 칩은 상기 컨트롤러 칩에 접속된다. 접속단자와 컨트롤러 칩을 카드 기판의 인접 2변에 붙여 배치하는 레이아웃 구성에 의하면, 메모리 칩의 실장밀도 혹은 실장개수를 늘리는 것이 용이하게 된다. 상기 메모리 칩은 각각의 외부단자를 노출하도록 위치를 어긋나게 한 상태로 복수개 중복된 제1 그룹과, 동일하게 복수개 중복된 제2 그룹으로 나누어진 상태로 병렬하면, IC 카드의 높이도 억제하는 것이 용이하게 된다. 상기 카드 기판에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자를 상기 접속단자의 배열방향에 따라 실장해도 좋다.
〔5〕 카드 기판의 양면에 도전패턴을 형성하여 IC 카드를 구성하는 경우에, 도전패턴의 접속에는 일반적으로 카드 기판을 관통하는 스루홀을 이용할 수 있다. 이때, 상기 스루홀은 상기 반도체 집적회로 칩과 함께 카드 기판의 타면을 덮는 몰드영역에서 바깥에 배치하면 좋다. 압력을 가하여 몰드를 행할 때, 몰드수지가 스루홀을 통해 카드 기판의 뒷면으로 누설되는 염려를 배제할 수 있다.
IC 카드에서 노출되는 접속단자에 스루홀을 형성하는 경우, 당해 스루홀을 상기 접속단자의 접동면에 대해 편의한 위치에 형성하면 좋다. 이것에 의해, IC 카드를 장착 슬롯에서 착탈하여도, 슬롯의 단자는 스루홀에 접접(摺接)하지 않고, 기계적인 힘이 작용하는 일은 없으므로, 접속단자의 패턴에 스루홀에서 크랙이 생기거나 하여 손상하는 염려를 미연에 방지할 수 있다.
카드 기판의 일면에 복수개의 접속단자가 노출되며, 상기 카드 기판의 타면에 반도체 집적회로 칩이 실장되고, 상기 접속단자에 상기 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자가 접속되며, 상기 반도체 집적회로 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되고, 상기 카드 기판의 타면에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자가 실장된 IC 카드에 관한 것으로, 상기 반도체 집적회로 칩 및 제2 과전압 보호소자와 함께 카드 기판의 타면을 금속 캡으로 덮으면 좋다. 또, 이 금속 캡은 판금의 드로잉, 단조법, 다이캐스트법으로 형성할 수 있다. 이것에 의해, 수지 캡에 비해 EMI(Electro Magnetic Interference : 전자파방해) 대책이 되며, 기계적인 조임에 의한 밀봉이나 고온의 캡 밀봉도 가능하게 된다. 수지 캡에 있어서도, 페라이트(ferrite) 등의 전자파 흡수재료를 혼합하는 것도 가능하다. ESD 대책으로서는 카본 등의 도전입자를 혼합할 수 있다.
카드 기판 근방에서 발생하는 정전기방전에 의한 영향을 완화하기 위해 카드 기판에 도전성 실드 패턴을 채용해도 좋다. 즉, 카드 기판의 일면에 복수개의 접속단자가 노출되며, 상기 카드 기판의 타면에 반도체 집적회로 칩이 실장된 IC 카드로서, 상기 접속단자는 상기 반도체 집적회로 칩의 소정의 외부단자에 접속되고, 상기 반도체 집적회로 칩에는 상기 외부단자에 접속하는 제1 과전압 보호소자가 집적되며, 상기 카드 기판의 타면에는 상기 접속단자에 접속하는 제2 과전압 보호소자가 실장되고, 상기 카드 기판의 일면에는 상기 접속단자를 제외하는 영역에 도전성 실드 패턴을 형성하며, 상기 도전성 실드패턴을 그라운드전원 공급용의 상기 접속단자에 접속하고, 또 어느 접속단자라도 비접촉으로 한다. 상기 도전성 실드 패턴은 정전기를 분산시킨다.
〔6〕 IC 카드 취급자의 무지 등에 의한 예기치 않은 취급을 받았을 때의 정전파괴의 예방이라는 관점에서, 복수개의 접속단자를 노출시켜 반도체 집적회로 칩을 실장하고 있는 IC 카드의 표면에, 당해 IC 카드를 손가락으로 쥐는 위치를 명시하기 위한 표시(예를 들면 착탈시에 손가락으로 쥐는 위치에 인쇄한 손가락 형상의 표시)를 만들어 둔다. 또, IC 카드의 표면에 상기 접속단자에 닿지 않도록 촉구하는 주의서를 붙인다. 또한, IC 카드를 포장한 포장재에 IC 카드의 상기 접속단자에 닿지 않도록 촉구하는 주의서를 붙여 둔다.
〔7〕 기억 데이터의 리커버리라는 관점에 착안한 IC 카드는 복수개의 접속단자를 노출시켜, 카드 기판에 복수개의 메모리 칩과 상기 메모리 칩을 제어하는 컨트롤러 칩을 실장하고, 상기 접속단자는 상기 컨트롤러 칩의 제1 군의 외부단자에 접속되며, 상기 메모리 칩은 상기 컨트롤러 칩의 제2 군의 외부단자에 접속되고, 상기 제2 군의 외부단자에 접속하는 데이터 평가용 단자를 상기 카드 기판에 형성해 둔다.
상기에 의하면, 컨트롤러 칩이 정전파괴 등에 의해 메모리 컨트롤동작 불가능으로 되었을 때, 외부에서 상기 데이터 평가용 단자를 통해 상기 메모리 칩을 직접 억세스 제어할 수 있다. 이것에 의해, 컨트롤러 칩이 파괴되어도, 메모리 칩에 데이터가 남아 있으면, 이것은 용이하게 회복할 수 있다.
상기 컨트롤러 칩의 제2 군의 외부단자에 포함되는 출력단자를 고출력 임피던스상태로 제어하는 제어단자를 상기 카드 기판에 더 설치하여도 좋다. 파괴된 컨트롤러 칩이 바람직하지 않은 신호출력 상태로 된 경우에 이것을 용이하게 해소할 수 있다.
상기 컨트롤러 칩은 상기 메모리 칩에 기록 데이터에 대해 암호화를 행하고, 상기 메모리 칩에서 판독한 데이터에 대해서 복호를 행하는 기밀보호 기능을 가지는 경우가 있다. 이 경우에는, 데이터의 회복은 IC 카드의 메이커 혹은 그 허가를 얻은 자 등이, 메모리 칩에서 판독된 데이터를 복호하여 데이터의 회복을 도모하게 된다.
〔8〕 상기 데이터 평가용 단자를 구비한 IC 카드에 대한 데이터 리커버리의 가장 심플한 수법은, 상기 컨트롤러 칩에 의한 메모리 칩의 제어를 불가능한 상태로 하는 제1 처리와, 상기 데이터 평가용 단자에서 메모리 칩을 제어하여 데이터를 판독하는 제2 처리를 포함한다. 컨트롤러 칩이 상기 기밀보호 기능을 가지는 경우를 상정했을 때의 데이터 리커버리 방법은, 상기 컨트롤러 칩의 상기 제2 군의 외부단자에 포함되는 출력단자를 고출력 임피던스 상태로 제어하는 제1 처리와, 상기 데이터 평가용 단자에서 메모리를 제어하여 데이터를 판독하는 제2 처리와, 상기 제2 처리에서 판독한 데이터를 복호하는 제3 처리와, 상기 제3 처리에서 복호한 데이터를 다른 IC 카드에 기록하는 제4 처리를 포함한다.
이것에 의해, 반도체 집적회로 칩의 입력회로가 정전 파괴되어도, 메모리의 데이터가 무사한 경우에는 메모리 카드의 데이터를 용이하게 리커버리 할 수 있다.
< 배리스터에 의한 정전파괴 방지기능의 강화 >
먼저, 배리스터 등의 외장 회로소자에 의해 반도체집적회로에 대한 정전파괴 방지기능을 강화하기 위한 원리적인 구성에 대해서 설명한다.
도 1에는 본 발명에 관한 IC 카드의 일예가 하나의 접속단자에 관해서 나타나 있다. 동 도면에 나타내는 IC 카드는 카드 기판(1)에 반도체 집적회로 칩(2)을 가지고, 대표적으로 나타낸 접속단자(3)를 노출시키고 있다. 접속단자(3)는 IC 카드가 착탈되는 호스트장치에 당해 IC 카드를 전기적으로 접속하기 위한 인터페이스 단자이다.
상기 접속단자(3)는 상기 반도체 집적회로 칩(2)의 소정의 외부단자(4)에 접속되어 있다. 외부단자(4)는 예를 들면 입력단자이며, 신호선(5)을 통해 예를 들면 입력회로 초단의 CMOS 인버터에 접속되어 있다. CMOS 인버터는 회로의 그라운드단자(Vss)와 전원단자(Vcc)와의 사이에 직렬배치된 p채널형의 전계효과트랜지스터(단위 MOS 트랜지스터라고도 기록함)(Q1) 및 n채널형의 MOS 트랜지스터(Q2)로 구성된다. 상기 반도체 집적회로 칩(2)에는 상기 외부단자(4)에 접속하는 제1 과전압 보호소자로서 다이오드(7, 8), 사이리스터(thyristor)(9) 및 클램프(clamp) MOS 트랜지스터(Q5)가 집적되며, 상기 카드 기판(1)에는 상기 접속단자(3)에 접속하는 제2 과전압 보호소자로서 배리스터(11)가 실장되어 있다. 상기 다이오드(7, 8), 사이리스터(9) 및 클램프 MOS 트랜지스터(Q5)는 입력 보호회로(6)를 구성한다.
또한, MOS 트랜지스터의 소스 및 드레인은 동작전압의 방향에 따라 상대적으로 결정하는 개념이지만, 본 명세서에서는 편의상, 동작전원(Vss, Vcc)에 의한 통상 동작상태로 결정되는 명칭을 단자의 명칭으로서 이용한다.
상기 다이오드(7)의 애노드(anode)는 입력신호선(4)에, 캐소드(cathode)는 전원단자(Vcc)에 접속되며, 타방의 다이오드(8)의 캐소드는 입력신호선(4)에, 애노드는 그라운드단자(Vss)에 접속되어 있다. 사이리스터(9)는 pnp 트랜지스터(Q3)와 npn 트랜지스터(Q4)에 의해 등가적으로 구성되며, 애노드가 입력신호선(4)에, 캐소드가 그라운드단자(Vss)에 접속된다. MOS 트랜지스터(Q5)는 게이트·소스가 그라운드단자(Vss)에, 드레인이 입력신호선(4)에 접속된, 소위 다이오드 접속형태의 클램프 MOS 트랜지스터이다.
12, 13은 입력 보호저항이다. Q6, Q7은 게이트·소스가 접속된 소위 다이오드 접속형식의 p채널형 클램프 MOS 트랜지스터, n채널형 클램프 MOS 트랜지스터이다. 상기 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)는 상기 입력 보호회로(6)에서 과전압이 누설될 경우에 대처하기 위한 보조적인 기능을 가지는 회로소자이며, 단독으로는 제1 과전압 보호소자가 될수 없으나, 다른 회로소자와 협동으로 과전압 보호소자로 될수 있는 것이다.
접속단자(3)에는 정상상태에서 그라운드전압(Vss)에서 전원전압(Vcc)의 사이의 전압진폭을 가지는 신호가 입력된다. 이때, 상기 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5, Q6, Q7)는 모두 역 접속상태로 되어 있다.
정전방전 등에 의해 접속단자(3)에 정극성의 과전압이 인가되면, 다이오드(7)가 순방향 접속상태가 되며, 또, 사이리스터(9)의 애노드가 순방향 소자전압을 초과하여 온상태가 되고, 이것에 의해 과전압은 전원전압(Vcc), 그라운드전압(Vss)에 흘러들어, 후단으로의 전달이 저지 혹은 완화된다. 클램프 MOS 트랜지스터(Q6)는 그 정극성의 과전압이 조금 누설되어도 온 동작하여 전원전압(Vcc)으로 흐르려고 한다.
한편, 정전방전 등으로 접속단자(3)에 부극성의 과전압이 인가되면, 이번은 다이오드(8)가 순방향 접속상태가 되며, 또 클램프 MOS 트랜지스터(Q5)가 온상태가 되고, 이것에 의해 과전압은 그라운드전압(Vss)에 흘러들어, 후단으로의 전달이 저지 혹은 완화된다. 클램프 MOS 트랜지스터(Q7)는 그 부극성의 과전압이 조금 누설되어도 온 동작하여 그라운드전압(Vss)으로 흐르려고 한다.
상기 배리스터(11)는 입력 보호회로(6)의 상기 과전압 보호소자 동작이 한계에 도달하기 전에 과전압 소자동작에 들어갈 수 있도록 설정된 회로소자이며, 정전파괴 방지기능 혹은 과전압 보호기능을 강화하려고 하는 것이다. 상기 배리스터(11)는 제너다이오드 등을 백 투 백(back to back)으로 접속한 회로와 등가 혹은 치환 가능하다.
여기서는 배리스터(11)에는 반도체 세라믹을 이용한 적층칩 배리스터를 채용한다. 이 배리스터(11)는 도2 축단면도에 예시되는 바와 같이, 면실장 가능한 작은 칩 모양을 하고, 양단에 도전성의 측면전극(20, 21)을 가지며, 한쪽의 측면전극(20)에는 타방의 측면전극(21)에 향해 한쌍의 층간전극(22, 23)이 설치되고, 타방의 측면전극(21)에는 상기 한쌍의 층간전극(22, 23)의 사이에 위치시킨 다른 층간전극(24)이 상기 한쪽의 측면전극(20)에 향해 설치되고, 측면전극(20, 21) 및 층간전극(22, 23, 24)의 사이는 반도체 세라믹스(25)로 충족되어 있다.
도 3에는 상기 배리스터(11)의 특성이 나타나 있다. 배리스터(11)는 가변저항소자이며, 도 3의 전류 - 전압(I - V)특성을 가지며, 통상의 정상 사용상태에서는 50㎂의 누설전류 이하에서 동작하고, 실사용, 즉 접속단자(3)에서의 신호입력에 영향을 주지않는다. 이 상태는 디바이스로서 여러가지 제공되고 있는 배리스터의 데이터시트 등에 기술되어 있는 고유의 정격전압(사용전압이라고도 칭함)(Vwm) 이하에서 사용함으로써 얻을 수 있다. 반도체 집적회로 칩에 이상한 고전압이 들어오기 시작하면, 비교적 낮은 전압에서는 반도체 집적회로 칩 내부의 입력 보호회로가 동작하기 시작하지만, 과전압에 대해, 입력 보호회로의 다이오드 등의 과전압 보호소자의 전류허용능력이 부족하게 되어 전류가 포화한다. 이것에 의해 배리스터(11)의 동작전류가 흐르기 시작한다. 그러면, 과전압이 항복전압(Vb) 부근에 도달하면, 전압은 전류에 의하지 않고 거의 일정하게 되는 저저항으로 되며, 그 이상의 과도 대전압에 대해서는 클램프전압(Vc)을 이론상의 한계로 하여, 높은 에너지 허용치로 반도체 집적회로 칩의 정전파괴를 방지한다.
예를 들면, 에너지 내성(耐性)레벨이 0.2J(주울)의 배리스터(11)를 외장한 IC 카드에, 내장 반도체 집적회로 칩의 정전파괴 내성인 수백 볼트 ~ 2킬로 볼트를 훨씬 초과하는 10키로 볼트(10kV)를 1000A로 10나노초(10nS) 인가한 경우를 상정한다. 이때의 에너지량은 10kV ×1000A ×10nS = 0.1J이며, 이 에너지량은 배리스터(11)의 상기 에너지 내성레벨 이하이므로, 정전파괴는 방지된다.
도 3에서 클램프전압(Vc)은 규정펄스전류, 예를 들면 1A를 8.20초 흘릴때의 단자전압(측면전극 간의 전압)으로 하고, 항복전압(Vb)은 예를 들면 1㎃의 전류를 흘릴때의 단자전압으로 하여 규정할 수 있다. 정성적(定性的)으로 설명하면, 항복전압(Vb)은 그 범위에서 직류를 인가하여도 I - V특성의 가역성을 용이하게 유지할 수 있는 전압으로서 정의할 수 있다. 클램프전압(Vc)은 그것을 몇회 초과하면 파괴에 도달할 가능성이 극히 높으며 혹은 파괴에 도달하는 전압으로서 정의할 수 있다.
상기 배리스터(11)의 특성은 입력 보호회로(6)의 과전압 보호소자의 특성을 고려하면, 다음과 같이 규정할 수 있다.
첫째, 배리스터(11)는 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5), 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)를 상회하는 전류허용능력을 가지는 가변저항소자로서 규정할 수 있다.
둘째, 상기 배리스터(11)에 정격전압보다도 큰 전압을 인가함으로써 규정의 펄스전류를 흘리는 데에 필요한 인가전압, 예를 들면 항복전압(Vb) 또는 그 근방의 전압은 상기 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터, 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)의 관계로 보아, 만약 파괴하지 않으면, 상기 규정의 펄스전류보다도 적은 전류밖에 흘릴 수 없는 전압이다.
셋째, 상기 배리스터(11)는 상기 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5), 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)보다도 큰 파괴전압을 가지는 가변저항소자이다.
넷째, 상기 배리스터(11)는 상기 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5), 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)보다도 큰 부유용량을 가지는 가변저항소자이다. 도 2의 구조에서 이해되듯이, 전원단자에 이용하는 경우는, 반도체 세라믹스는 유전체는 아니지만 비교적 큰 용량성분을 가지는 것은 분명하다. 이와 같은 부유용량 성분은 과도전압의 변화를 완화하도록 작용하므로, 큰 쪽이 정전파괴방지에 유용하다. 신호단자에 사용하는 경우는 고속 신호에 응답할 수 있도록 허용범위 내에서 저용량화가 필요하다.
다섯째, 상기 배리스터(11)의 항복전압은 상기 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5), 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)의 파괴전압보다도 작다. 배리스터(11)는 입력 보호회로(6)가 파괴되기 전에 항복하여 과전압을 피할 수 있다.
여섯째, 상기 배리스터(11)의 항복전압은 상기 입력 보호회로(6)의 다이오드(7, 8), 사이리스터(9), 클램프 MOS 트랜지스터(Q5), 게다가 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)에 의해 보호되는 회로, 예를 들면 MOS 트랜지스터(Q1, Q2)로 이루어지는 CMOS 인버터회로의 파괴전압보다도 작다.
상기에서 설명한 바와 같이, 배리스터(11)에는 반도체 집적회로 칩(2)에 내장된 입력 보호회로(6)를 구성하는 다이오드(7, 8) 등의 과전압 보호소자의 특성이나 능력과의 관계가 고려되어 있으므로, 배리스터(11)에 의한 정전파괴 방지효과를 실효있는 것으로 할 수 있다.
상기 접속단자(3)에서 배리스터(11)에 이르기까지의 신호전파 거리는 상기 접속단자(3)에서 반도체 집적회로 칩(2)의 대응 외부단자(4)에 이르기까지의 신호전파 거리보다도 짧게 되어 있다. 이것에 의해, 과전압에 의해 배리스터(11)가 기능하기 전에 반도체 집적회로 칩(2)이 과전압에 의한 파괴적인 영향을 직접 받는 것을 저지할 수 있다.
상기 배리스터(11)에는 반도체 세라믹스를 주체로 한 면실장형의 배리스터를 채용하고 있으므로, 배리스터(11)의 실장면적 혹은 점유면적을 작게 하는 것이 가능하게 된다. 이 면실장에 의해 IC 카드의 제조 코스트를 저감할 수 있다.
< 멀티미디어 카드에의 적용 >
다음에, 상기 배리스터(11)를 이용한 IC 카드를 멀티미디어 카드에 적용한 구체예를 설명한다.
도 4에는 멀티미디어 카드의 접속단자에 대한 배리스터의 접속태양이 예시되어 있다. 멀티미디어 카드는 그 표준화 단체에 의한 사양에 의하면, 24㎜ ×32㎜ ×1.4㎜의 카드 치수를 가진다. 카드 기판(1)에는 접속단자로서, 칩 셀렉터신호(CS)를 입력하는 접속단자(3a), 커맨드(CMD)를 입력하는 접속단자(3b), 클록신호(CLK)를 입력하는 접속단자(3c), 데이터(DAT)를 입출력하는 접속단자(3d), 전원전압(Vcc)이 공급되는 접속단자(3e) 및 그라운드전압(Vss)이 공급되는 2개의 접속단자(3f, fg)를 가진다. 그들 접속단자(3a ~ 3g)는 도면의 30으로 나타내는 영역에 실장되어 있는 도시를 생략하는 컨트롤러 칩이나 불휘발성 메모리 칩에 접속되어 있다. 또한, 도 4에서의 접속단자(3a ~ 3g)의 배치는 실제의 멀티미디어 카드와는 상이하게 도시하고 있다.
상기 카드 기판(1)에는 상기 접속단자(3a ~ 3e)와 접속단자(3e, 3g)와의 사이에 각각 배리스터(11a ~ 11e)가 실장되어 있다. 도 4에서 배리스터는 대응단자에 1개씩 설치되어 있지만, 복수개 직렬로 접속하여 이용해도 좋다.
특히 전원전압(Vcc)을 받는 접속단자(3e)에 배치된 배리스터(11e)는 바이패스 콘덴서로서의 기능시키는 것이므로, 바이패스 콘덴서로 치환하거나 혹은 도 4와 같이 더 바이패스 콘덴서(31)를 병렬시켜도 좋다.
도 5에는 회로소자 실장상태를 주(主)로 하여 상기 멀티미디어 카드의 구성을 평면적으로 예시하고 있다. 도 6은 그 종단도면이다. 카드 기판(1)은 유리에폭시수지 등으로 구성되며, 그 카드 기판(1)의 뒷면에는 상기 접속단자(3a ~ 3g)가 도전패턴으로 형성되어 있다. 카드 기판(1)의 표면에는 배선패턴이나 도전패턴을 통해 상기 배리스터(11a ~ 11e), 컨트롤러 칩(33), 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)이 실장되어 있다. 도면에서, 36은 스루홀(40)을 통해 대응하는 접속단자(3a ~ 3g)에 접속된 도전패턴, 35는 배리스터(11a ~ 11e)의 일단을 그라운드전압(Vss)에 접속하기 위한 배선패턴이다. 배리스터(11a ~ 11e)는 배선패턴(35)과 접속단자(3a ~ 3e)에 걸쳐 면실장되어 있다.
도면에서 38, 39는 본딩패턴, 37은 대응하는 본딩패턴(38)과 도전패턴(36)을 접속하는 배선패턴이다. 상기 도전패턴(36)과 컨트롤러 칩(33)의 대응하는 외부단자(50)와는 본딩와이어(41)로 접속되며, 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(51)와 대응하는 본딩패턴(39)과는 본딩와이어(42)로 접속된다. 본딩패턴(39)과 한쪽의 불휘발성 메모리 칩(34a)의 대응 외부단자(52a)와의 접속은 본딩와이어(43a)로 접속되며, 본딩패턴(39)과 다른쪽의 불휘발성 메모리 칩(34b)의 대응 외부단자(52b)와의 접속은 본딩와이어(43b)로 접속된다. 반도체 집적회로 칩은 소위 베어(bear) 칩이며, 그들의 상기 외부단자(50, 51, 52a, 52b)는 알루미늄, 알루미늄 합금이나 동 등의 본딩패드이다.
상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)은 예를 들면 전기적으로 재기록 가능한 플래시 메모리 칩이다. 플래시 메모리 칩은 예를 들면 컨트롤 게이트, 플로팅 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 불휘발성 메모리셀 트랜지스터를 매트릭스 배열한 메모리셀 어레이를 가지며, 외부에서 공급되는 커맨드와 어드레스에 따라, 데이터 판독, 소거, 기록, 베리파이(verify) 등의 동작을 행하도록 되어 있다. 이 플래시 메모리 칩으로 이루어지는 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)은 외부단자(52a, 52b)로서, 칩 선택을 지시하는 칩 이네이블신호(칩 선택신호라고도 칭함)(/CE)의 입력단자, 기록동작을 지시하는 라이트 이네이블신호(/WE)의 입력단자, 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7), 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)를 커먼·데이터의 입출력 또는 어드레스의 입력의 어느 쪽에 이용할까를 지시하는 커먼·데이터 이네이블신호(/CDE)의 입력단자, 출력동작을 지시하는 아웃 풋 이네이블신호(/OE)의 입력단자, 데이터 래치 타이밍을 지시하는 클록신호(/SC)의 입력단자, 기록동작 중을 외부에 지시하는 레디·비지신호(R/B)의 출력단자, 리셋신호(/RES)의 입력단자를 가진다.
상기 컨트롤러 칩(33)은 외부에서의 지시에 따라 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)에 대한 리드·라이트동작을 제어하며, 또한 데이터 시큐리티 혹은 저작권 보호 등을 고려하여, 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)에 기록하는 데이터에 대해 암호화를 행하고, 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)에서 판독한 데이터에 대해 복호를 행하는 기밀보호 기능을 구비하고 있다.
컨트롤러 칩(33)의 외부단자(50)는 접속단자(3a ~ 3g)의 입출력기능에 대응되며, 멀티미디어 카드의 선택동작을 지시하는 셀렉터신호(CS)의 입력단자, 멀티미디어 카드의 동작을 지시하는 커맨드(CMD)를 시리얼 입력하는 입력단자, 외부단자(50)의 신호 입출력동작의 동기신호로 간주되는 클록신호(CLK)의 입력단자, 시리얼로 데이터(DAT)를 입출력하는 단자 및 전원전압(Vcc)과 그라운드전압(Vss)의 입력단자가 된다. 컨트롤러 칩(33)에는 상기 외부단자(50) 내, 입력단자에 대응하여 도 1에서 설명한 입력 보호회로(6) 및 클램프 MOS 트랜지스터(Q6, Q7)도 집적되어 있다.
컨트롤러 칩(33)에서의 메모리 억세스를 위한 외부단자(51)로서, 불휘발성 메모리 칩(34a)에 대한 칩 선택신호(/CE0)의 출력단자, 불휘발성 메모리 칩(34b)에 대한 칩 선택신호(/CE1)의 출력단자를 가지고, 또한 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)의 외부단자에 대응되며 또 그것과는 입출력방향이 반대로 된 외부단자를 가진다.
< 본딩와이어 접속 >
상술한 바와 같이, 상기 접속단자(3a ~ 3g)와 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(50)와의 접속에 본딩와이어(41)를 이용하며, 상기 컨트롤러 칩(33)과 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)과의 접속에 본딩와이어(43a, 43b)를 이용함으로써, 상기 본딩와이어에 의한 접속과 동기능의 다수의 배선패턴을 카드 기판(1)에 밀집시켜 형성하지 않아도 된다. 컨트롤러 칩(33)이나 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)의 상방공간을 배선에 이용할 수 있다. 요컨대, 본딩와이어의 공중배선에 의해, 기판배선을 간략화하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 카드 기판(1)의 코스트 저감에 기여할 수 있다.
< 어긋나게 중복한 실장 >
도 5의 구성에서는 2개의 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)을 본딩와이어로 컨트롤러 칩(33)에 병렬적으로 접속하고 있다. 이때, 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)을 각각의 외부단자(52a, 52b)가 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 중복한 상태로 상기 카드 기판(1)에 실장하고 있다. 이것에 의해, 각각의 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)을 겹치지 않게 배치하는 경우에 비해, 컨트롤러 칩(33)과의 거리가 짧게 되며, 본딩와이어(43a, 43b)의 배선 길이가 짧게 된다. 따라서, 본딩와이어의 바람직하지 않은 접촉이나 단선의 염려를 저감할 수 있다. 복수개의 불휘발성 메모리 칩을 적층할 때의 어긋나는 량은 상층 칩의 본딩용 외부단자의 아래에는 하나 하층의 칩이 존재할 수 있는 범위로 결정되면 된다. 본딩용 외부단자의 아래에 하층의 칩이 존재하고 있지 않으면, 본딩시의 기계적인 힘에 의한 칩 손상의 염려가 있기 때문이다.
특히 이때, 상기 카드 기판(1)의 상기 일면의 표면적은 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b) 및 컨트롤러 칩(33)의 총 면적보다도 크게 되어 있다는 조건을 만족하고 있다. 이것은 카드 기판의 일면에만 배선층을 형성한다는 제약 조건에도 충분히 대처할 수 있는 만큼의 여유 스페이스를 카드 기판(1)에 확보할 수 있도록 하기 위한 고려이다. 단순히 카드 기판(1)의 면적을 작게 하기 위해 불휘발성 메모리 칩을 중복하여 실장하는 것과는 사고방식이 다르다.
< 열 모양 레이아웃 >
도 5의 예에서는 카드 기판(1)에 실장되는 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b) 및 컨트롤러 칩(33) 등의 배열에 관해서는 열 모양의 배열을 채용하고 있다. 즉, 배리스터(11a ~ 11e), 컨트롤러 칩(33), 복수개의 메모리 칩(34a, 34b)의 순으로 상기 멀티미디어 카드의 접속단자(3a ~ 3g)에서 멀어지는 거리를 크게하여, 그들을 상기 카드 기판(1)의 한변에서 대향변에 향해 열 모양으로 배치하고 있다. 이 열 모양 배치에 의해, 최종적으로 과전압을 피하기 위한 제2 배리스터(11a ~ 11e)가 과전압 인가단인 접속단자(3a ~ 3g)에 가장 가깝고, 데이터를 저장한 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)이 가장 멀게 되며, 고속펄스의 서지흡수에 효과가 있으므로, 상기 배리스터(11a ~ 11e)에 의한 컨트롤러 칩(33)의 정전파괴방지의 강화라는 점, 그리고, 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)의 기억데이터 보호라는 점에서, 높은 신뢰성을 얻을 수 있다.
< 접속단자에 대한 스루홀의 편의 >
도 5에 나타내는 바와 같이 스루홀(40)은 접속단자(3a ~ 3g)에 대해서 편의한 위치에 설치되어 있다. 즉, 도 7의 (A)에 상세가 예시되는 바와 같이, IC 카드에서 노출되는 접속단자(3a)에 스루홀(40)을 형성하는 경우, 당해 스루홀(40)을 상기 접속단자(3a)의 접동면에 대해 편의한 위치에 형성한다. 편의시키는 위치는 도 7의 (B)이라도 좋다. 이것에 의해, IC 카드를 장착 슬롯에서 착탈하여도 슬롯의 단자(40A)는 스루홀(40)에 접접(摺接)하지 않고, 스루홀(40)에는 기계적인 힘이 작용되는 일은 없으므로, 접속단자(3a)의 패턴에 스루홀(40)에서 균열이 가거나 스루홀 구멍주변이 마모 등으로 손상할 염려를 미연에 방지할 수 있다.
< 몰드영역 바깥에 스루홀 형성 >
도 6에서, 상기 컨트롤러 칩(33) 및 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)은 전체로서 열경화성수지(55)로 몰드되어 있다. 배리스터 소자는 몰드 내에 삽입하거나, 몰드 바깥에 설치하는 것도 가능하다. 이때, 열경화성수지(55)에 의한 몰드영역에는 스루홀(40)을 포함하지 않도록 되어 있다. 따라서, 압력을 가해 몰드를 행할 때, 몰드수지(55)가 스루홀(40)을 통해 카드 기판(1)의 뒤쪽으로 누설되어, 몰드불량을 생기게 하는 염려를 배제할 수 있다.
< 금속 캡 >
도 6에서, 몰드 바깥에 배리스터를 설치한 경우의 배리스터(11a ~ 11e), 컨트롤러 칩(33) 및 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)이 실장되어 있는 카드 기판(1)의 표면은 금속 캡(56)으로 덮여있다. 이것에 의해, 수지 캡에 비해, EMI(Electro Magnetic Interference : 전자파 방해)대책이 되며, 기계적인 조임에 의한 밀봉이나 고온의 캡 밀봉도 가능하게 된다.
도 25에는 상기 금속 캡(56)의 구조가 여러 종류 나타나 있다. (A)는 1개씩 분리하여 단조로 제조된 경우를 나타내고, 라벨 부착용의 근소한 단차부도 형성되어 있다. (B)는 단조후에 블랭킹(blanking)으로 1개씩 분리하여 제조한 경우를 나타낸다. (C)는 판금굽힘성형으로 제조한 경우를 나타낸다. (D)는 (C)의 판금굽힘성형으로 제조된 금속 캡을 뒷면에서 본 사시도이다. 코너부는 굽힘성형 가공시에 주름지므로, 미리 노치(notch)가 형성되어 있다.
< 스티치본딩 >
도 8에는 불휘발성 메모리 칩의 접속에 스티치본딩을 적용한 멀티미디어 카드가 부분적으로 나타난다. 도 9는 스티치본딩 부분의 종단면도이다. 도 5와 같이, 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)이 각각의 외부단자(52a, 52b)를 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 복수개 중복된 상태로 상기 카드 기판(1)에 실장되어 있으며, 이때, 상기 컨트롤러 칩(33)에서 상호 동일신호를 받는 불휘발성 메모리 칩의 외부단자(52a, 52b)를 본딩와이어(57)로 순차 직렬 접속하고 있다. 소위 스티치 꿰맴과 같은 본딩수법, 즉 스티치본딩이 채용되고 있다. 도 5와 같이 컨트롤러 칩(33)에서 각 외부단자(52a, 52b)에 각각 본딩와이어(43a, 43b)로 접속하는 경우에 비해, 본딩와이어를 전체로서 짧게 할 수 있고, 또 본딩패턴 영역에서의 본딩와이어수를 저감할 수 있으며, 이 점에서도 본딩와이어의 밀집에 의한 바람직하지 않은 접촉이나 단선의 염려를 저감할 수 있다. 또한, 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)에 대한 칩 선택은 각각 행하지 않으면 안되므로, 칩 선택신호(/CE0, /CE1)를 전달하기 위한 본딩와이어(43a, 43b)에는 스티치본딩을 채용할 수 없으며, 도 5와 같은 본딩형식 대로 되어 있다.
스티치본딩을 행하는 경우, 사용하는 와이어본드의 본딩형식에 따라 본딩패드(52a)에 대한 본딩방법이 다르다. 도 10의 (A)는 네일헤드본딩을 이용하는 경우이며, 이때, 와이어본더의 구조상, 본딩와이어 종단은 초생달 모양으로 잘게 썰리므로, 다음의 본딩기점은 종점과는 다른 위치에 설정되지 않으면 안된다. 따라서, 필연적으로 복수개로 분단된 본딩와이어(57, 57)에 의해 스티치본딩이 완료된다. 이것에 대해, 도 10의 (B)는 웨지본딩을 이용하는 경우이며, 이것을 서포트하는 와이어본더를 이용하면 본딩와이어를 도중에 끊지 않고 차례차례로 다른 위치에서 본딩을 행할 수 있다. 따라서, 이 방식에 의하면 1개의 본딩와이어(57)로 스티치본딩을 행할 수 있다.
도 11에는 불휘발성 메모리 칩의 4장 스택구조의 멀티미디어 카드의 구성을 평면적으로 예시하고 있다. 도 12는 그 종단면도이다. 4장 스택의 경우도 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)을 외부단자(52a ~52d)를 노출하도록 위치를 어긋나게 하여 중복한 상태로 상기 카드 기판(1)에 실장되어 있다. 이때, 상기 컨트롤러 칩(33)에서 서로 동일신호를 받는 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)의 외부단자(52a ~ 52d)는 상기 스티치본딩과 같이, 본딩와이어(60)로 순차 직렬 접속하고 있다. 또한 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)에 대한 칩 선택은 각각 행하지 않으면 안되므로, 칩 선택신호(/CE0 ~ /CE3)를 전달하기 위한 본딩와이어(43a ~ 43d)에는 스티치본딩을 채용하지 않고, 도 5와 같은 본딩 형식대로 되어 있다. 단, 칩 선택신호를 ID 커맨드화 하면 스티치본딩화 하는 것도 가능하다.
< 실드패턴 >
도 11의 구성에서는 카드 기판(1)의 근방에서 생기는 정전기 방전에 의한 영향을 한층 완화하기 위해 카드 기판(1)에 도 12에 나타내는 도전성 실드패턴(61)을 채용하고 있다. 즉, 카드 기판(1)에서의 접속단자(3a ~ 3g)의 노출면에, 폭 넓은 도전성 실드패턴(61)이 형성되어 있다. 이 도전성 실드패턴(61)은 특히 제한되지 않지만, 그라운드전원(Vss) 공급용의 상기 접속단자(3f, 3g)에 접속되며, 혹은 비교적 표면적이 크기 때문에 그대로 플로팅으로 해도 좋다. 이 도전성 실드패턴(61)은 정전기를 분산시킬 수 있다.
< 칩단에 CS 입력단자 >
도 11에 나타내는 바와 같이, 복수개의 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)을 어긋나게 하여 스택한 구조에서, 상기 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)의 외부단자(52a ~ 52d)중 칩 선택신호(/CE0 ~ /CE3)의 입력단자를 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)의 각각의 외부단자 배열의 끝에 위치시켜, 각각 따로따로 본딩와이어(43a ~ 43d)로 상기 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(51)에 접속하고 있다. 도 8의 스택구조도 완전히 동일하다. 도 8 및 도 11에 나타내는 바와 같이, 복수개의 불휘발성 메모리 칩이 각각 칩 선택되어야 할 구성에서는 불휘발성 메모리 칩의 외부단자 중 칩 선택신호 입력용의 외부단자는 컨트롤러 칩(33)의 칩 선택신호 출력용 외부단자(51)에 각각 접속되지 않으면 안되고, 이 부분에 상기 스티치본딩과 같은 수법을 채용할 수 없을 지라도, 전술과 같이 칩 선택신호 입력용의 외부단자는 불휘발성 메모리 칩의 끝에 배치되어 있으므로, 그 밖의 본딩와이어에 방해되지 않게 필요한 접속을 취하는 것이 용이하다. 불휘발성 메모리 칩의 스택수가 많을수록, 그 효과는 현저하게 된다. 또, 도 5와 같이, 불휘발성 메모리 칩의 스택수가 2장일 때, 정밀도가 높은 와이어본더를 이용하면 1개의 본딩패턴에서 병렬하여 2개의 본딩와이어를 꺼내는 것이 용이한 경우에, 스티치본딩을 채용하고 있지 않는 때에도, 칩끝에 칩 선택신호 입력용 외부단자를 배치하는 구성을 채용해도 아무런 문제는 없다.
< 스택한 불휘발성 메모리 칩의 복수 그룹화 실장 >
도 13에는 멀티미디어 카드의 또 다른 예를 나타낸다. 도 14는 그 부분적인 종단면도이다. 도 13에 나타내는 멀티미디어 카드는 불휘발성 메모리 칩을 2장씩 스택한 것을 카드 기판(1)에 2조(組) 실장하여, 일면에만 상기 접속단자와 함께 배선패턴 및 본딩패턴을 형성한 단상배선의 카드 기판(1)을 이용하도록 구성한 것이다. 이 구조는 기판에 반도체 베어 칩을 실장하는 소위 COB(Chip On Board)구조가 적용되어 있다.
도 13에서, 접속단자(3a ~ 3g), 배선패턴(35, 37), 본딩패턴(38), 본딩패턴(39A, 39C) 및 배선패턴(39B)은 카드 기판(1)의 탑재측에 전부 형성되어 있다. 상기 접속단자(3a ~ 3g)와 배선패턴(35)은 카드 기판(1)에 형성한 개구에서 표면에 노출하여, 배리스터(11a ~ 11e)를 접속 가능하게 되어 있다. 동일하게, 상기 본딩패턴(38, 39A, 39C)도 카드 기판(1)에 형성한 개구에서 표면에 노출하여, 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(50, 51), 불휘발성 메모리 칩(34a ~ 34d)의 외부단자(52a 52d)에 본딩 가능하게 되어 있다. 도 13에서는 본딩패턴(39A)과 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)의 외부단자(52a, 52b)와의 본딩, 그리고, 본딩패턴(39C)와 불휘발성 메모리 칩(34c, 34d)의 외부단자(52c, 52d)와의 본딩에 스티치본딩을 채용하고 있지 않지만, 칩 선택신호를 제외하고 도 8과 동일한 스티치본딩을 채용해도 된다.
도 13과 같이 불휘발성 메모리 칩을 2장씩 스택한 것을 카드 기판(1)에 2조 실장하면, 도 11과 같은 4장 스택구조에 비해 두께 치수를 작게 할 수 있다. 따라서, 불휘발성 메모리 칩을 4장씩 스택한 것을 카드 기판(1)에 2조 실장하면, 도 11과 같은 4장 스택구조와 같은 두께로 2배의 기억용량을 얻을 수 있다.
또한, 복수개의 접속단자(3a ~ 3g)가 카드 기판(1)의 한변에 따라 배열되어 있을 때, 그 인접 변에 길이방향을 따라 카드 컨트롤러(33)를 배치하며, 상기 접속단자(3a ~ 3g)의 배열방향과는 거의 직각인 방향으로 상기 불휘발성 메모리 칩을 병렬시키면, 카드 기판(1)의 판면에 대해서 효율적으로 불휘발성 메모리 칩의 실장이 가능하게 된다.
상기 분할 스택구조, 그리고, 카드 기판(1)의 2변에 붙여 접속단자(3a ~ 3g)와 컨트롤러 칩(33)을 배치하는 구조의 각각에 의해, 규정 사이즈의 카드 기판에 불휘발성 메모리 칩을 실장하는 밀도를 높이거나 혹은 실장개수를 늘리는 것이 용이하게 된다.
도 15에는 상기 분할 스택구조와 카드 기판의 인접 2변에 붙여 접속단자와 컨트롤러 칩을 배치하는 구조를 적용한 다른 멀티미디어 카드의 예를 나타낸다. 동 도면의 예는 카드 기판(1)의 양면에 상기 접속단자와 함께 배선패턴 및 본딩패턴을 형성한 점과, 스택한 불휘발성 메모리 칩의 방향이 일치되어 있는 점에서 도 13과 상이하게 된다.
도 15에서, 접속단자(3a ~ 3g), 배선패턴(39B)은 카드 기판의 뒷면에 형성되며, 배선패턴(35, 37), 본딩패턴(38), 본딩패턴(39A, 39C)은 카드 기판(1)의 표면에 형성되어 있다. 상기 배선패턴(39B)과 본딩패턴(39A, 39C)과의 접속에는 스루홀(40A)이 이용되고 있다. 도 15도 도 13과 동일하게 스티치본딩을 채용하고 있지 않지만, 칩 선택신호를 제외하고 도 8과 동일한 스티치본딩을 채용해도 된다.
도 15의 멀티미디어 카드도 도 13과 같이, 상기 분할 스택구조, 그리고, 카드 기판(1)의 2변에 붙여 접속단자(3a ~ 3g)와 컨트롤러 칩(33)을 배치하는 구조의 각각에 의해, 규정 사이즈의 카드 기판에 불휘발성 메모리 칩을 실장하는 밀도를 높이거나, 혹은 실장개수를 늘리는 것이 용이하다.
이때 몰드 내부의 스루홀은 구멍부를 도전 페이스트(paste), 솔더레지스터 등으로 매립하고, 몰드수지의 누설을 대책하는 구조를 채용해도 좋다.
< 메모리 칩, 컨트롤러 칩의 스택구조 >
도 16 및 도 17에는 메모리 칩의 위에 컨트롤러 칩을 올려 양자를 스택한 예를 나타낸다. 도 16에서는 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(51)는 불휘발성 메모리 칩(34)의 외부단자(52)와는 본딩와이어(70)로 직접 칩간 본딩으로 접속되어 있으나, 불휘발성 메모리 칩(34)에의 동작전원(Vss, Vcc)의 급전저항을 작게 하기 위해, 카드 기판(1)의 뒷면에 전원배선패턴(71A, 72A)을 형성하고, 스루홀(71D, 72D)에서 접속된 본딩패턴(71B, 72B)과 불휘발성 메모리 칩(34)을 본딩와이어(71C, 72C)로 접속하고 있다. 단 불휘발성 메모리 칩(34)으로의 급전저항이 충분히 낮은 경우는 단자(51)와 단자(52)에서 Vcc, Vss를 급전해도 좋다. 배리스터(11a ~ 11e)의 실장구조 등은 전술과 동일하며, 도 15와 동일기능을 가지는 회로요소에는 동일 참조번호를 붙여 그 상세한 설명을 생략한다.
도 17은 LOC(Lead On Chip)를 이용하여 메모리 칩과 컨트롤러 칩을 스택하는 구조가 예시된다. 73a ~ 73g에서 나타내는 것은, LOC용의 리드프레임의 리드의 일부를 각각 나타내고 있다. 전원(Vcc, Vss)용의 리드(73e, 73f)는 예를 들면 각각 갈고리형(鉤型)으로 연재되어 패스바(74A, 74B)를 형성하고 있다. 불휘발성 메모리 칩(34)은 그 패스바(74A, 74B)에 고정되며, 컨트롤러 칩(33)은 불휘발성 메모리 칩(34)에 고정되어 있다. 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(50)는 본딩와이어(4)로 리드(73a ~ 73g)에 접속되어 있다. 또, 컨트롤러 칩(33)의 외부단자(51)는 불휘발성 메모리 칩(34)의 외부단자(52)와 본딩와이어(70)에 의해 직접 칩간 본딩으로 접속되어 있지만, 불휘발성 메모리 칩(34)으로의 동작전원(Vss, Vcc)의 급전은 급전저항을 작게 하기 위해, 상기 패스바(74A, 74B)와 불휘발성 메모리 칩(34)을 본딩와이어(75, 75)로 접속하고 있다. 배리스터(11a ~ 11e)는 대응하는 리드의 사이에 Ag 페이스트 등의 도전 페이스트에 의해 면실장되어 있다.
도 18에는 COB구조를 적용한 IC 카드의 다른 예를 나타낸다. 도 19는 그 IC 카드의 종단면도, 도 20은 도 18의 IC 카드의 카드 기판 저면에 형성되어 있는 도전패턴의 설명도이다. 카드 기판(84)의 저면에는 도전패턴(80a ~ 80g)이 형성되며, 각각에 대응하여 카드 기판(84)에는 개구(81a ~ 81g)가 형성되어 있다. 상기 도전패턴(80a ~ 80f)은 IC 카드에서 노출되는 접속단자를 구성한다. 반도체 집적회로 칩(83)은 상기 개구(81g)를 통해 도전패턴(80f)에 접속되며, 기판전위로서 그라운드전압(Vss)이 공급된다. 반도체 집적회로 칩(83)의 외부단자를 구성하는 본딩패드(85a ~ 85f)는 개구(81a ~ 81f)를 통해 접속전극(80a ~ 80f)에 본딩와이어로 접속된다. 그리고, 전술과 같이 반도체 집적회로 칩(83)에 대한 정전파괴의 방지를 강화하기 위해 반도체 세라믹을 주체로 하는 배리스터(82a ~ 82e)가 개구(81a ~ 81g)를 통해 접속전극(80a ~ 80f)과 도전패턴(80g)과의 사이에 Ag 페이스트 등의 도전성 페이스트로 면실장되어 있다.
< 주의서 >
도 21에는 정전파괴 방지용의 주의서를 가지는 IC 카드 등이 예시되어 있다. 복수개의 접속단자를 노출시켜 반도체 집적회로 칩을 실장한 상기 멀티미디어 카드 등의 IC 카드의 표면에는 도 21의 (A)에 나타내는 바와 같이, 상기 접속단자(3a ~ 3g)에 닿지 않도록 촉구하는 주의서(90), 예를 들면 「접속단자에 손대지마」의 주의서가 붙어 있다. 또, 본 영역에 제조관리 코드를 기입해도 좋다. 또, 도 21의 (B)에 예시되는 바와 같이, IC 카드를 손가락으로 쥐는 위치를 명시하기 위한 표시, 예를 들면 착탈시에 손가락으로 쥐는 위치에 인쇄한 손가락 모양의 주의표시(91)를 만들어 둔다. 또 도 21의 (B)에 예시하는 바와 같이, IC 카드를 포장한 라미네이트 필름, 종이상자(紙箱), 플라스틱 케이스 등의 포장재(92)에, IC 카드의 상기 접속단자(3a ~ 3g)에 닿지 않도록 촉구하는 주의서(93)를 붙여도 좋다.
상기 주의서(90, 93)나 표시(91)는 IC 카드 취급자의 무지 등에 의한 예기치 않은 취급에 의해 IC 카드가 정전파괴되는 것을 예방하는 데에 유용하다.
< IC 카드의 조립방법 >
도 22에는 도 4 및 도 5 등에 나타내는 IC 카드의 조립방법을 나타낸다. 먼저, PCB기판 또는 테이프기판 등의 카드 기판의 소정 도전패턴에 배리스터를 실장한다(S1). 실장에는 땜납 페이스트 또는 은 페이스트 등을 이용한다. 그 후 페이스트의 경화(베이크)를 행하여(S2), 필요 개수의 반도체 집적회로 칩을 카드 기판 상의 도전패턴에 다이접착(다이본딩)한다(S3). 그리고, 플라즈마 크리닝으로 카드 기판의 표면을 크리닝한다(S4). 그후, 다이본딩한 반도체 집접회로 칩의 본딩패드와 도전패턴을 금 본딩와이어를 이용하여 열초음파로 본딩한다(S5). 그리고, 반도체 집적회로 칩과 본딩와이어에 대해 수지 포팅밀봉을 행하고(S6), 수지 베이크에 의해 수지를 경화시키며(S7), 마지막으로 그 위에서 금속 캡을 카드 기판에 접착 고정하며, 혹은 플라스틱 인설트 몰드로 고정한다.
상기와 같이, 배리스터를 카드 기판에 먼저 실장하고, 그 후에, 상기 반도체 집적회로 칩의 다이본딩이나 와이어본딩을 행하기 때문에, IC 카드의 조립시에 배리스터에 의한 보호를 받아, IC 카드의 수율을 향상시킬 수 있다. 단, 온도조건 등의 제조상의 형편에 의해 배리스터를 나중에 실장해도 된다.
< 데이터 리커버리 단자 >
도 23에는 데이터 리커버리의 관점에 착안한 IC 카드가 예시된다. 기본적인 구성은 도 5와 동일하며, 상이점은 복수개의 데이터 리커버리 단자를 가지는 것이다. 도 23에서는 데이터 리커버리 단자의 접속상태를 강조하기 위해 컨트롤러 칩(33)과 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)과의 접속상태에 관해서는 도시를 간략화하고 있다. 도 23에서 도 5와 동일 기능을 가지는 회로요소에는 동일 부호를 붙여 그 상세한 설명을 생략한다.
컨트롤러 칩(33)은, 도 5에는 도시를 생략하고 있으나 외부단자(51)의 하나로서 내부에서 풀업(pull up)한 테스트신호(/TEST)의 입력단자(단순히 테스트단자(/TEST)라고도 기록함)를 가진다. 그 테스트단자(/TEST)는 로레벨이 입력되어 있을 때, 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)과의 인터페이스단자, 특히 출력단자 및 입출력단자를 고출력 임피던스상태, 또는 입출력동작 불가능한 상태로 제어한다.
카드 기판(1)에는 상기 컨트롤러 칩(33)의 메모리 인터페이스측의 모든 외부단자(51)에 배선(91)으로 일대일 대응으로 접속된 데이터 리커버리 단자(92)가 형성되어 있다. 또, 상기 컨트롤러 칩(33)의 카드 인터페이스측의 외부단자(50) 중 그라운드전원(Vss)용의 외부단자에 배선(95)으로 접속된 데이터 리커버리용 그라운드단자(96)와, 동일하게, 상기 컨트롤러 칩(33)의 카드 인터페이스측의 외부단자(50) 중 전원전압(Vcc)용의 외부단자에 배선(93)으로 접속된 데이터 리커버리용 전원단자(94)가 설치되어 있다. 도 23에서, 90으로 나타내는 것은 정전파괴방지를 위해 카드 기판(1)에 추가된 가드 링(guard ring)이다. 이 가드 링(90)은 카드 기판(1)을 주회(周回)하며, 회로의 그라운드 전원단자에 접속되어 있다.
데이터 평가용 단자(92, 94, 96)가 상기 카드 기판(1)에 형성되어 있으므로, 컨트롤러 칩(33)이 정전파괴 등에 의해 메모리 컨트롤동작이 불가능하게 되었을 때, 외부에서 상기 데이터 평가용 단자(92, 94, 96)를 통해 상기 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)를 직접 억세스 제어할 수 있다. 이것에 의해, 컨트롤러 칩(33)이 파괴되어도, 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)에 데이터가 남아 있으면, 이것을 용이하게 회복할 수 있다.
상기 컨트롤러 칩(33)은 상기 불휘발성 메모리에 기록하는 데이터에 대해 암호화를 행하며, 상기 불휘발성 메모리에서 판독한 데이터에 대해 복호를 행하는 기밀보호 기능을 가지는 경우, 데이터의 회복은 IC 카드의 메이커 혹은 그 허가를 얻은 자 등이 불휘발성 메모리 칩에서 판독한 데이터를 복호하여 데이터의 회복을 도모하게 된다.
< 데이터 리커버리 방법 >
도 24에는 상기 데이터 평가용 단자를 구비한 IC 카드에 대한 데이터 리커버리의 처리순서가 예시되어 있다.
상기 입력 보호회로나 배리스터에 의해 정전파괴를 피하지 못하였던 것 등에 의해 컨트롤러가 동작불능이 된 멀티미디어 카드(MMC) 등을 데이터 리커버리의 대상으로 한다(S10). 그 밖의 물리적으로 접속단자가 파괴된 MMC 데이터 리커버리 대상으로 하는 것은 가능하다. 먼저, 대상 MMC에서 캡(56)을 벗기고(S11), 데이터 평가용 단자(92, 94, 96)에 테스터 등의 프로브를 연결한다(S12). 그리고 테스트신호(/TEST)의 입력단자를 로레벨로 고정하여, 컨트롤러 칩(33)의 메모리 인터페이스용 단자를 높은 임피던스상태(입출력동작 불가능한 상태)로 제어한다(S13). 이것에 의해, MMC 내장의 불휘발성 메모리 칩은 컨트롤러 칩의 제어에서 해방되며, 데이터 평가용 단자(92, 94, 96)에서 직접 억세스 가능하게 되고, 이 상태에서, 불휘발성 메모리 칩에서 데이터를 판독한다(S14). 여기서, 상기 컨트롤러 칩(33)은 상기 불휘발성 메모리 칩에 기록하는 데이터에 대해 암호화를 행하며, 상기 불휘발성 메모리에서 판독한 데이터에 대해 복호를 행하는 기밀보호 기능을 가지고 있으므로, 컨트롤러 칩(33)을 경유하지 않고 판독된 데이터에 대해서는 암호해독이 행해진다. 이와 같이 한 암호해독된 데이터는 새로운 MMC에 통상과 같이 접속단자(3a ~ 3g)를 통해 기록된다(S15). 이것에 의해 데이터 리커버리된 새로운 MMC가 유저에 제공된다(S16). 이때, 컨트롤러 칩의 암호 사양은 카드의 제조 트레이스(trace) 코드 또는 불휘발성 메모리에 기록한 제조코스트에 의해 확정할 수 있다.
이것에 의해, 컨트롤러 칩(33)의 입력회로가 정전 파괴되어도, 불휘발성 메모리 칩(34a, 34b)의 데이터가 무사한 경우에는, 메모리 카드의 데이터를 용이하게 리커버리하는 것이 가능하게 된다.
< 플래시 메모리 칩 >
여기서, 상기 플래시 메모리 칩에 관해서 설명해 둔다. 도 26에는 플래시 메모리 칩의 일예를 나타낸다. 동 도면에서, 103으로 나타내는 것은 메모리 어레이이며, 메모리 매트(mat), 데이터 래치회로 및 센스 래치회로를 가진다. 메모리 매트(103)는 전기적으로 소거 및 기록 가능한 불휘발성의 메모리셀 트랜지스터를 다수 가진다. 메모리셀 트랜지스터는 예를 들면 도 27에 예시되는 바와 같이, 반도체기판 혹은 메모리 웰(SUB)에 형성된 소스(S) 및 드레인(D)과, 채널영역에 터널산화막을 통해 형성된 플로팅 게이트(FG), 그리고 플로팅 게이트에 층간 절연막을 통해 중복된 컨트롤 게이트(CG)를 가지고 구성된다. 컨트롤 게이트(CG)는 워드선(106)에, 드레인(D)은 비트선(105)에, 소스(S)는 도시를 생략하는 소스선에 접속된다.
외부 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)는 어드레스 입력단자, 데이터 입력단자, 데이터 출력단자, 커맨드 입력단자에 병용된다. 외부 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 입력된 X 어드레스 신호는 멀티플렉서(107)를 통해 X 어드레스 버퍼(108)에 공급된다. X 어드레스 디코더(109)는 X 어드레스 버퍼(108)에서 출력되는 내부 상보 어드레스 신호를 디코드하여 워드선을 구동한다.
상기 비트선(105)의 일단측에는 도시를 생략하는 센스 래치회로가 설치되며, 타단에는 동일하게 도시를 생략하는 데이터 래치회로가 설치되어 있다. 비트선(105)은 Y 어드레스 디코더(111)에서 출력되는 선택신호에 기초하여 Y 게이트 어레이회로(113)에서 선택된다. 외부 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 입력된 Y 어드레스신호는 Y 어드레스 카운터(112)에 프리세트 되어, 프리세트 값을 기점으로 순차 인크리먼트된 어드레스신호가 상기 Y 어드레스 디코더(111)에 공급된다.
Y 게이트 어레이회로(113)에서 선택된 비트선은 데이터 출력동작시에는 출력 버퍼(115)의 입력단자에 도통되며, 데이터 입력동작시에는 데이터 제어회로(116)를 통해 입력버퍼(117)의 출력단자에 도통된다. 출력버퍼(115), 입력버퍼(117)와 상기 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)와의 접속은 상기 멀티플렉서(107)로 제어된다. 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 공급되는 커맨드는 멀티플렉서(107) 및 입력버퍼(117)를 통해 모드 제어회로(118)에 공급된다. 상기 데이터 제어회로(116)는 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 공급되는 데이터 외에, 모드 제어회로(118)의 제어에 따른 논리치의 데이터를 메모리 어레이(103)에 공급 가능하게 한다.
제어신호 버퍼회로(119)에는 억세스 제어신호로서 상기 칩 이네이블신호(/CE), 아웃풋 이네이블신호(/OE), 라이트 이네이블신호(/WE), 데이터 래치 타이밍을 지시하는 신호(/SC), 리셋신호(/RES) 및 커맨드·데이터 이네이블신호(/CDE)가 공급된다. 모드 제어회로(118)는 그들 신호의 상태에 따라 외부와의 신호 인터페이스 기능 등을 제어하고, 또, 커맨드 코드에 따라서 내부동작을 제어한다. 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에 대한 커맨드 또는 데이터 입력의 경우, 상기 신호(/CDE)가 어서트(assert)되고, 커맨드이면 더욱 신호(/WE)가 어서트, 데이터이면 신호(/WE)가 네게이트(negate)된다. 어드레스 입력이면, 상기 신호(/CDE)가 네게이트 되고, 신호(/WE)가 어서트 된다. 이것에 의해, 모드 제어회로(118)는 외부 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 멀티플렉서 입력되는 커맨드, 데이터 및 어드레스를 구별할 수 있다. 모드 제어회로(118)는 소거나 기록 동작 중에 레디·비지신호(R/B)를 어서트하여 그 상태를 외부에 알릴 수 있다.
내부 전원회로(120)는 기록, 소거, 베리파이, 판독 등을 위한 각종 동작전원(121)을 생성하여, 상기 X 어드레스 디코드(109)나 메모리셀 어레이(103)에 공급한다.
상기 모드 제어회로(118)는 커맨드에 따라서 플래시 메모리를 전체적으로 제어한다. 플래시 메모리의 동작은 기본적으로 커맨드에 의해 결정된다. 플래시 메모리에 할당되어 있는 커맨드는 판독, 소거, 기록 등의 커맨드로 된다.
플래시 메모리는 그 내부상태를 나타내기 위해 스테이터스 레지스터(122)를 가지고, 그 내용은 신호(/OE)를 어서트하므로서 입출력단자(I/O 0 ~ I/O 7)에서 판독할 수 있다.
이상 본 발명자에 의해 행해진 발명을 실시형태에 기초하여 구체적으로 설명했으나, 본 발명은 그것에 한정되지 않고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러가지 변경 가능한 것은 말할 필요도 없다.
예를 들면, 본 발명은 멀티미디어 카드 이외의 메모리 카드, 예를 들면 컴팩트 플래시 메모리 등에도 적용할 수 있다. 또, 메모리 칩을 어긋나게 하여 스택하는 구조, IC 카드의 접속단자에 대해 스루홀을 편의시키는 구조, 몰드영역 바깥에 스루홀을 형성하는 구조, 스택된 반도체 집적회로 칩에 대한 스티치본딩, 칩의 끝의 CS 입력단자를 배치하는 구조, 스택한 불휘발성 메모리를 복수 그룹으로 나누어 실장하는 IC 카드, 주의서, 그리고, 데이터 리커버리 단자를 가지는 IC 카드는, 반드시 배리스터를 가지는 구성에 적용하는 것에 한정되지 않는다. 본 발명의 IC 카드에 실장되는 메모리는 불휘발성 메모리에 한정되는 것은 아니고, 휘발성 메모리(SRAM, DRAM 등)라도 된다. 또, 불휘발성 메모리와 휘발성 메모리와의 쌍방이 탑재되는 IC 카드라도 좋다.
이상의 설명에서는 주로 본 발명자에 의해 행해진 발명을 그 배경으로 된 이용분야인 메모리 카드에 적용한 경우에 관해서 설명했으나, 본 발명은 그것에 한정되지 않고, 통장, 크레디트 카드, ID 카드 등의 IC 카드의 용도에도 적용할 수 있다.
본원에서 개시되는 발명 중 대표적인 것에 의해 얻어지는 효과를 간단하게 설명하면 다음과 같다.
즉, 반도체 집적회로 칩의 코스트를 상승시키지 않고 그것에 대한 정전파괴방지를 강화할 수 있는 IC 카드를 제공할 수 있다.
IC 카드의 카드의 사이즈나 두께를 크게 변화시키지 않고, 반도체 집적회로 칩에 과전압 보호소자를 외장하여 정전파괴방지를 강화할 수 있다.
취급자의 무지 등에 의한 예기치 않은 취급에 기인한 IC 카드의 정전파괴의 예방도 기대할 수 있다.
반도체 집적회로 칩의 입력회로가 정전파괴되도, 메모리의 데이터가 무사한 경우에는 메모리 카드의 데이터를 용이하게 리커버리하는 것이 가능한 IC 카드를 제공할 수 있다.
배리스터 등의 외장 회로소자에 의한 정전파괴방지 강화책에 의해 IC 카드의 카드 기판 상의 빈영역이 줄어도, 신호선의 바람직하지 않은 리크에 의한 오동작의 원인이 되는 배선패턴의 밀집이나 본딩와이어의 밀집을 피할 수 있다.
비교적 작은 사이즈로 비교적 큰 기억용량을 가지는 IC 카드의 실현이 가능하게 된다.
도 1은 본 발명에 관한 IC 카드의 일예를 하나의 접속단자에 관해서 도시한 회로도,
도 2는 배리스터의 단면구조의 일예를 나타내는 축(軸)단면도,
도 3은 배리스터의 특성을 나타내는 Ⅰ-Ⅴ선 도면,
도 4는 멀티미디어 카드의 접속단자에 대한 배리스터의 접속태양을 예시하는 설명도,
도 5는 회로소자 실장상태를 주로 하여 멀티미디어 카드의 구성을 평면적으로 예시한 설명도,
도 6은 도 5의 멀티미디어 카드의 종(縱)단면도,
도 7은 멀티미디어 카드의 접속단자에 대해 스루홀을 편의(偏倚)시킨 상태를 나타내는 설명도,
도 8은 불휘발성 메모리 칩의 접속에 스티치(stitch)본딩을 적용한 멀티미디어 카드를 부분적으로 나타내는 평면도,
도 9는 스티치본딩 부분의 종단면도,
도 10은 네일헤드(nail head)본딩을 이용하는 경우와 웨지(wedge)본딩을 이용하는 경우의 와이어본딩 상태를 나타내는 설명도,
도 11은 불휘발성 메모리 칩의 4장 스택(stack)구조의 멀티미디어 카드의 구성을 평면적으로 예시한 설명도,
도 12는 도 11의 멀티미디어 카드의 단면구조를 예시하는 종단면도,
도 13은 메모리 칩의 분할 스택구조와 카드 기판의 인접 2변에 붙여 접속단자와 컨트롤러 칩을 배치하는 구조를 적용한 멀티미디어 카드를 예시하는 평면도,
도 14는 도 13의 멀티미디어 카드의 부분 종단면도,
도 15는 메모리 칩의 분할 스택구조와 카드 기판의 인접 2변에 붙여 접속단자와 컨트롤러 칩을 배치하는 구조를 적용한 다른 멀티미디어 카드를 예시하는 평면도,
도 16은 메모리 칩의 위에 컨트롤러 칩을 올려 양자(兩者)를 스택한 메모리 카드를 예시하는 평면도,
도 17은 LOC를 이용하여 메모리 칩과 컨트롤러 칩을 스택한 메모리 카드를 예시하는 평면도,
도 18은 COB 구조를 적용한 IC 카드의 다른 예를 나타내는 평면도,
도 19는 도 18의 IC 카드의 종단면도,
도 20은 도 18의 IC 카드의 카드 기판 저면(底面)에 형성되어 있는 도전(導電)패턴의 설명도,
도 21은 정전파괴 방지용의 주의서나 주의표시를 가지는 IC 카드를 예시하는 설명도,
도 22는 배리스터(varistor)를 실장한 IC 카드의 조립방법을 예시하는 플로우챠트,
도 23은 데이터 리커버리(recovery)의 관점에 착안한 IC 카드의 평면도,
도 24는 데이터 평가용 단자를 구비한 IC 카드에 대한 데이터 리커버리 처리의 순서를 예시하는 플로우챠트,
도 25는 금속 캡의 구조를 수(數)종류 예시하는 설명도,
도 26은 플래시 메모리 칩의 구성을 예시하는 블럭도,
도 27은 플래시 메모리 칩용의 불휘발성 메모리셀 트랜지스터의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.

Claims (6)

  1. 표면(表面) 및 상기 표면과 반대측의 이면(裏面)을 가지고, 상기 표면에 형성된 복수의 전극 패턴을 가지는 기판과,
    상기 기판의 표면에 배치된 제1 플래시 메모리 칩과,
    상기 제1 플래시 메모리 칩 상에 적층된 제2 플래시 메모리 칩과,
    상기 기판의 표면에 배치되어, 상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩을 제어하기 위한 컨트롤러 칩을 가지고,
    상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩의 각각은, 그 주면에 제어단자용 본딩 패드와 공통 접속단자용 본딩 패드를 가지며,
    상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩의 공통 접속단자용 본딩 패드는, 제1 본딩와이어에 의해 서로 접속되고,
    상기 제1 플래시 메모리 칩의 공통 접속단자용 본딩 패드는, 또 상기 제1 본딩와이어와 다른 제2 본딩와이어에 의해, 상기 기판의 표면에 형성된 복수의 전극 패턴과 접속되며,
    상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩과 상기 제1 및 제2 본딩와이어는, 몰드 수지로 밀봉되어 있는 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 플래시 메모리 칩의 제어단자용 본딩 패드는, 상기 제1 및 제2 본딩와이어와는 다른 제3 본딩와이어에 의해, 상기 기판의 표면에 형성된 복수의 전극 패턴에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제2 플래시 메모리 칩의 제어단자용 본딩 패드는, 상기 제1, 제2 및 제3 본딩와이어와는 다른 제4 본딩와이어에 의해, 상기 기판의 표면에 형성된 복수의 전극 패턴에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩의 공통 접속단자용 본딩 패드는, 어드레스데이터용 단자인 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 플래시 메모리 칩의 공통 접속단자용 본딩 패드는, 칩 선택신호를 공급하기 위한 단자인 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제4 본딩와이어의 길이는, 상기 제1 및 제2 본딩와이어의 길이보다 길고, 상기 제2 플래시 메모리 칩의 선택신호를 공급하기 위한 단자는, 상기 제2 플래시 메모리 칩의 일단부(一端部)에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 메모리 카드.
KR1020050105259A 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드 KR100845065B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34431099A JP3822768B2 (ja) 1999-12-03 1999-12-03 Icカードの製造方法
JPJP-P-1999-00344310 1999-12-03

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000066122A Division KR100859389B1 (ko) 1999-12-03 2000-11-08 Ic 카드

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050121648A true KR20050121648A (ko) 2005-12-27
KR100845065B1 KR100845065B1 (ko) 2008-07-09

Family

ID=18368260

Family Applications (10)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000066122A KR100859389B1 (ko) 1999-12-03 2000-11-08 Ic 카드
KR1020050105254A KR100750944B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105259A KR100845065B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105253A KR100749398B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105255A KR100750945B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105257A KR100883242B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105256A KR100685270B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105258A KR100883243B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020070124664A KR100871959B1 (ko) 1999-12-03 2007-12-04 Ic 카드
KR1020080090793A KR100900106B1 (ko) 1999-12-03 2008-09-16 Ic 카드

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000066122A KR100859389B1 (ko) 1999-12-03 2000-11-08 Ic 카드
KR1020050105254A KR100750944B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드

Family Applications After (7)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050105253A KR100749398B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105255A KR100750945B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105257A KR100883242B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105256A KR100685270B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020050105258A KR100883243B1 (ko) 1999-12-03 2005-11-04 Ic 카드
KR1020070124664A KR100871959B1 (ko) 1999-12-03 2007-12-04 Ic 카드
KR1020080090793A KR100900106B1 (ko) 1999-12-03 2008-09-16 Ic 카드

Country Status (4)

Country Link
US (8) US6573567B1 (ko)
JP (1) JP3822768B2 (ko)
KR (10) KR100859389B1 (ko)
TW (1) TW503464B (ko)

Families Citing this family (171)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001672A (en) * 1997-02-25 1999-12-14 Micron Technology, Inc. Method for transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink
US7830666B2 (en) * 2000-01-06 2010-11-09 Super Talent Electronics, Inc. Manufacturing process for single-chip MMC/SD flash memory device with molded asymmetric circuit board
US7872871B2 (en) * 2000-01-06 2011-01-18 Super Talent Electronics, Inc. Molding methods to manufacture single-chip chip-on-board USB device
US20080185694A1 (en) * 1999-08-04 2008-08-07 Super Talent Electronics, Inc. Processes of Manufacturing Portable Electronic Storage Devices Utilizing Lead Frame Connectors
JP3822768B2 (ja) * 1999-12-03 2006-09-20 株式会社ルネサステクノロジ Icカードの製造方法
JP3815936B2 (ja) * 2000-01-25 2006-08-30 株式会社ルネサステクノロジ Icカード
US6641049B2 (en) * 2000-08-31 2003-11-04 Pacusma Company, Ltd. Integrated circuit card with multiple integral electronic modules
JP2002124626A (ja) * 2000-10-16 2002-04-26 Hitachi Ltd 半導体装置
KR100348102B1 (ko) * 2001-01-17 2002-08-09 삼성전자 주식회사 광학적 문자 인식을 통한 반도체 제품의 마킹 결함 검사방법
US7352199B2 (en) * 2001-02-20 2008-04-01 Sandisk Corporation Memory card with enhanced testability and methods of making and using the same
US6858925B2 (en) * 2001-04-02 2005-02-22 Renesas Technology Corp. Semiconductor device and a method of manufacturing the same
US7220615B2 (en) * 2001-06-11 2007-05-22 Micron Technology, Inc. Alternative method used to package multimedia card by transfer molding
US20040135241A1 (en) * 2002-11-18 2004-07-15 Storcard, Inc. Secure transaction card with a large storage volume
JP2003060046A (ja) * 2001-08-09 2003-02-28 Murata Mfg Co Ltd 半導体集積回路およびそれを用いた電子装置
US6843421B2 (en) * 2001-08-13 2005-01-18 Matrix Semiconductor, Inc. Molded memory module and method of making the module absent a substrate support
US6680219B2 (en) * 2001-08-17 2004-01-20 Qualcomm Incorporated Method and apparatus for die stacking
US6798693B2 (en) * 2001-09-18 2004-09-28 Kilopass Technologies, Inc. Semiconductor memory cell and memory array using a breakdown phenomena in an ultra-thin dielectric
JP4599059B2 (ja) * 2001-09-18 2010-12-15 キロパス テクノロジー インコーポレイテッド 超薄膜誘電体のブレークダウン現象を利用した半導体メモリセルセル及びメモリアレイ
US6766960B2 (en) 2001-10-17 2004-07-27 Kilopass Technologies, Inc. Smart card having memory using a breakdown phenomena in an ultra-thin dielectric
US6700151B2 (en) * 2001-10-17 2004-03-02 Kilopass Technologies, Inc. Reprogrammable non-volatile memory using a breakdown phenomena in an ultra-thin dielectric
JP2003188262A (ja) * 2001-12-14 2003-07-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体素子
KR20030083306A (ko) * 2002-04-20 2003-10-30 삼성전자주식회사 메모리 카드
US6992925B2 (en) * 2002-04-26 2006-01-31 Kilopass Technologies, Inc. High density semiconductor memory cell and memory array using a single transistor and having counter-doped poly and buried diffusion wordline
US6898116B2 (en) * 2002-04-26 2005-05-24 Kilopass Technologies, Inc. High density semiconductor memory cell and memory array using a single transistor having a buried N+ connection
US6940751B2 (en) * 2002-04-26 2005-09-06 Kilopass Technologies, Inc. High density semiconductor memory cell and memory array using a single transistor and having variable gate oxide breakdown
US6777757B2 (en) * 2002-04-26 2004-08-17 Kilopass Technologies, Inc. High density semiconductor memory cell and memory array using a single transistor
TWI299559B (en) * 2002-06-19 2008-08-01 Inpaq Technology Co Ltd Ic substrate with over voltage protection function and method for manufacturing the same
JP4102800B2 (ja) * 2002-08-16 2008-06-18 富士通株式会社 取引端末装置および取引端末制御方法
EP1540581A2 (en) * 2002-09-17 2005-06-15 Axalto S.A. Hybrid card
US7042772B2 (en) * 2002-09-26 2006-05-09 Kilopass Technology, Inc. Methods and circuits for programming of a semiconductor memory cell and memory array using a breakdown phenomenon in an ultra-thin dielectric
US7031209B2 (en) * 2002-09-26 2006-04-18 Kilopass Technology, Inc. Methods and circuits for testing programmability of a semiconductor memory cell and memory array using a breakdown phenomenon in an ultra-thin dielectric
JP3866178B2 (ja) * 2002-10-08 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ Icカード
US20040084766A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-06 Pei-Ying Shieh System-in-a-package device
KR100616057B1 (ko) * 2002-11-29 2006-08-28 가부시끼가이샤 도시바 반도체 집적 회로 장치
JP2004214258A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Renesas Technology Corp 半導体モジュール
EP1447809A1 (fr) * 2003-02-14 2004-08-18 SCHLUMBERGER Systèmes Carte à multi-puce
JP4128473B2 (ja) * 2003-03-07 2008-07-30 松下電器産業株式会社 半導体装置
US6791891B1 (en) 2003-04-02 2004-09-14 Kilopass Technologies, Inc. Method of testing the thin oxide of a semiconductor memory cell that uses breakdown voltage
KR20100107057A (ko) * 2003-07-03 2010-10-04 르네사스 일렉트로닉스 가부시키가이샤 반도체 카드 디바이스
US6924664B2 (en) * 2003-08-15 2005-08-02 Kilopass Technologies, Inc. Field programmable gate array
JP4330411B2 (ja) * 2003-09-24 2009-09-16 三洋電機株式会社 回路装置
US7126219B2 (en) * 2003-10-09 2006-10-24 Kingpak Technology Inc. Small memory card
JP4272968B2 (ja) * 2003-10-16 2009-06-03 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置および半導体チップ制御方法
US7253517B2 (en) * 2003-10-28 2007-08-07 Raytheon Company Method and apparatus for combining multiple integrated circuits
JP2007041629A (ja) * 2003-11-04 2007-02-15 Renesas Technology Corp メモリカード及び半導体装置
JP2005150154A (ja) * 2003-11-11 2005-06-09 Sharp Corp 半導体モジュールとその実装方法
US7095104B2 (en) * 2003-11-21 2006-08-22 International Business Machines Corporation Overlap stacking of center bus bonded memory chips for double density and method of manufacturing the same
JP2007066922A (ja) * 2003-11-28 2007-03-15 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置
US8998620B2 (en) * 2003-12-02 2015-04-07 Super Talent Technology, Corp. Molding method for COB-EUSB devices and metal housing package
US8102657B2 (en) 2003-12-02 2012-01-24 Super Talent Electronics, Inc. Single shot molding method for COB USB/EUSB devices with contact pad ribs
JP4361380B2 (ja) * 2004-01-23 2009-11-11 富士通株式会社 光モジュール
US7064973B2 (en) * 2004-02-03 2006-06-20 Klp International, Ltd. Combination field programmable gate array allowing dynamic reprogrammability
US6972986B2 (en) * 2004-02-03 2005-12-06 Kilopass Technologies, Inc. Combination field programmable gate array allowing dynamic reprogrammability and non-votatile programmability based upon transistor gate oxide breakdown
US20050218929A1 (en) * 2004-04-02 2005-10-06 Man Wang Field programmable gate array logic cell and its derivatives
US7402855B2 (en) 2004-05-06 2008-07-22 Sidense Corp. Split-channel antifuse array architecture
US9123572B2 (en) 2004-05-06 2015-09-01 Sidense Corporation Anti-fuse memory cell
US8735297B2 (en) 2004-05-06 2014-05-27 Sidense Corporation Reverse optical proximity correction method
US7755162B2 (en) 2004-05-06 2010-07-13 Sidense Corp. Anti-fuse memory cell
US7310242B2 (en) * 2004-05-21 2007-12-18 General Motors Corporation Self-shielding high voltage distribution box
US7164290B2 (en) * 2004-06-10 2007-01-16 Klp International, Ltd. Field programmable gate array logic unit and its cluster
US20050275427A1 (en) * 2004-06-10 2005-12-15 Man Wang Field programmable gate array logic unit and its cluster
US6903935B1 (en) * 2004-07-16 2005-06-07 Tien-Tzu Chen Memory card with a static electricity conducting board
US7135886B2 (en) * 2004-09-20 2006-11-14 Klp International, Ltd. Field programmable gate arrays using both volatile and nonvolatile memory cell properties and their control
US7348661B2 (en) * 2004-09-24 2008-03-25 Intel Corporation Array capacitor apparatuses to filter input/output signal
KR101117957B1 (ko) * 2004-09-24 2012-02-16 엘지이노텍 주식회사 인너팩의 보호회로모듈
TW200612347A (en) * 2004-10-06 2006-04-16 Advanced Flash Memory Card Technology Co Ltd Structure of memory card and producing method thereof
JP4710496B2 (ja) * 2004-10-26 2011-06-29 株式会社デンソー 回路基板及び電子回路装置
KR100585163B1 (ko) * 2004-11-27 2006-06-01 삼성전자주식회사 메모리 카드 및 그 제조방법
US7397646B2 (en) 2004-11-30 2008-07-08 Tdk Corporation Surge absorption circuit
JP2006155521A (ja) 2004-12-01 2006-06-15 Oki Electric Ind Co Ltd Icカード
JP2006172122A (ja) 2004-12-15 2006-06-29 Toshiba Corp カード状記憶装置
CN100405880C (zh) * 2004-12-24 2008-07-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 引脚连接结构及其脚位定义的修改方法
KR100761755B1 (ko) * 2005-02-28 2007-09-28 삼성전자주식회사 입출력 비트구조를 조절할 수 있는 반도체 메모리 장치
DE102005014176B4 (de) * 2005-03-29 2009-08-20 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erstellen einer Schutzanordnung zum Schutz eines Elektronikbausteins vor elektrostatischen Entladungen und entsprechend ausgebildeter Elektronikbaustein
JP4309368B2 (ja) * 2005-03-30 2009-08-05 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
US7193436B2 (en) * 2005-04-18 2007-03-20 Klp International Ltd. Fast processing path using field programmable gate array logic units
US7719845B1 (en) * 2005-04-26 2010-05-18 Amkor Technology, Inc. Chamfered memory card module and method of making same
JP2007004775A (ja) * 2005-05-23 2007-01-11 Toshiba Corp 半導体メモリカード
JP2007026421A (ja) * 2005-06-15 2007-02-01 Toshiba Corp 携帯型記憶装置
JP2007019415A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Renesas Technology Corp 半導体装置およびその製造方法
US7317630B2 (en) * 2005-07-15 2008-01-08 Atmel Corporation Nonvolatile semiconductor memory apparatus
JP4715371B2 (ja) 2005-07-29 2011-07-06 Tdk株式会社 サージ吸収素子及びサージ吸収回路
US7429785B2 (en) * 2005-10-19 2008-09-30 Littelfuse, Inc. Stacked integrated circuit chip assembly
US7515391B2 (en) * 2005-10-19 2009-04-07 Littlefuse, Inc. Linear low capacitance overvoltage protection circuit
US7489488B2 (en) * 2005-10-19 2009-02-10 Littelfuse, Inc. Integrated circuit providing overvoltage protection for low voltage lines
US20070102529A1 (en) * 2005-11-08 2007-05-10 Macsema, Inc. Information devices
JP2007183776A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2007205908A (ja) * 2006-02-02 2007-08-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 重量センサ
WO2007123143A1 (ja) * 2006-04-21 2007-11-01 Panasonic Corporation メモリカード
TW200743035A (en) * 2006-05-09 2007-11-16 Siliconware Precision Industries Co Ltd Circuit card module and method for fabricating the same
FR2902213B1 (fr) * 2006-06-08 2008-10-17 Thomson Licensing Sas Carte electronique dotee de fonctions securitaires
KR100828956B1 (ko) * 2006-06-27 2008-05-13 하나 마이크론(주) Usb 메모리 패키지 및 그 제조 방법
TWI301984B (en) * 2006-07-04 2008-10-11 Orient Semiconductor Elect Ltd Memory card with electrostatic discharge protection
US7659608B2 (en) * 2006-09-15 2010-02-09 Stats Chippac Ltd. Stacked die semiconductor device having circuit tape
JP2008078367A (ja) * 2006-09-21 2008-04-03 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2008084263A (ja) * 2006-09-29 2008-04-10 Renesas Technology Corp メモリカードおよびその製造方法
US7859814B2 (en) * 2006-10-19 2010-12-28 Littelfuse, Inc. Linear low capacitance overvoltage protection circuit using a blocking diode
US20080106415A1 (en) * 2006-11-08 2008-05-08 Macsema, Inc. Information tag
US7691668B2 (en) * 2006-12-19 2010-04-06 Spansion Llc Method and apparatus for multi-chip packaging
KR101221807B1 (ko) * 2006-12-29 2013-01-14 페어차일드코리아반도체 주식회사 전력 소자 패키지
US8079528B2 (en) * 2007-01-10 2011-12-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Input/output pads placement for a smart card chip
TWI380427B (en) * 2007-01-16 2012-12-21 Advanced Semiconductor Eng Substrate and the semiconductor package comprising the same
KR100851549B1 (ko) 2007-02-01 2008-08-11 삼성전자주식회사 메모리 모듈
US8446750B2 (en) 2007-02-01 2013-05-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory module using optical signal
US7709278B2 (en) * 2007-02-26 2010-05-04 Sandisk Corporation Method of making PCB circuit modification from multiple to individual chip enable signals
US7778057B2 (en) * 2007-02-26 2010-08-17 Sandisk Corporation PCB circuit modification from multiple to individual chip enable signals
JP4913640B2 (ja) * 2007-03-19 2012-04-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP5137179B2 (ja) * 2007-03-30 2013-02-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
TW200846797A (en) * 2007-05-28 2008-12-01 Wen-Jyh Sah Circuit board and display apparatus
CN101689252A (zh) * 2007-06-15 2010-03-31 松下电器产业株式会社 存储卡及其制造方法
US8399973B2 (en) * 2007-12-20 2013-03-19 Mosaid Technologies Incorporated Data storage and stackable configurations
US7867819B2 (en) * 2007-12-27 2011-01-11 Sandisk Corporation Semiconductor package including flip chip controller at bottom of die stack
TWI421996B (zh) * 2008-01-10 2014-01-01 Ind Tech Res Inst 靜電放電防護架構
JP2009266258A (ja) 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Ltd 半導体装置
US8816486B2 (en) * 2008-05-12 2014-08-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Pad structure for 3D integrated circuit
DE102008024479A1 (de) * 2008-05-21 2009-12-03 Epcos Ag Elektrische Bauelementanordnung
JP2010003290A (ja) * 2008-05-22 2010-01-07 Panasonic Corp リムーバブルメモリカード
EP2133915A1 (de) * 2008-06-09 2009-12-16 Micronas GmbH Halbleiteranordnung mit besonders gestalteten Bondleitungen und Verfahren zum Herstellen einer solchen Anordnung
JP5253901B2 (ja) 2008-06-20 2013-07-31 株式会社東芝 メモリシステム
JP2010021449A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Toshiba Corp 半導体装置
TW201007917A (en) * 2008-08-05 2010-02-16 Kun Yuan Technology Co Ltd Method for fabricating package structure of stacked chips
KR20100021856A (ko) * 2008-08-18 2010-02-26 삼성전자주식회사 관통 전극을 갖는 반도체장치의 형성방법 및 관련된 장치
USD794641S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD794643S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD794034S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD795262S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD794642S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD795261S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
USD794644S1 (en) * 2009-01-07 2017-08-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
US20100182092A1 (en) * 2009-01-19 2010-07-22 Tremblay John C Power sensitive variable attenuator
KR101555637B1 (ko) * 2009-03-27 2015-09-24 삼성전자주식회사 스마트 카드
KR20100109243A (ko) * 2009-03-31 2010-10-08 삼성전자주식회사 반도체 패키지
KR20100129600A (ko) * 2009-06-01 2010-12-09 삼성전자주식회사 반도체 장치 및 이를 포함하는 데이터 저장 장치
JP2010288233A (ja) * 2009-06-15 2010-12-24 Toshiba Corp 暗号処理装置
US8476749B2 (en) * 2009-07-22 2013-07-02 Oracle America, Inc. High-bandwidth ramp-stack chip package
JP2011048756A (ja) * 2009-08-28 2011-03-10 Toshiba Corp メモリモジュール
USD628202S1 (en) 2009-10-20 2010-11-30 Sandisk Corporation MicroSD memory card with different color surfaces
US8690283B2 (en) 2009-10-20 2014-04-08 Sandisk Il Ltd. Method and system for printing graphical content onto a plurality of memory devices and for providing a visually distinguishable memory device
USD638431S1 (en) 2009-10-20 2011-05-24 Sandisk Corporation MicroSD memory card with a semi-transparent color surface
JP5297992B2 (ja) 2009-12-15 2013-09-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 外部記憶装置
JP5413189B2 (ja) * 2009-12-28 2014-02-12 ソニー株式会社 カード型装置
JP2012043372A (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 Fujitsu Component Ltd カードモジュール及びカードモジュールの製造方法
TWI452665B (zh) 2010-11-26 2014-09-11 矽品精密工業股份有限公司 具防靜電破壞及防電磁波干擾之封裝件及其製法
US8681546B2 (en) * 2011-02-22 2014-03-25 Apple Inc. Variable impedance control for memory devices
FR2975528B1 (fr) * 2011-05-17 2014-02-28 Alstom Transport Sa Dispositif d'isolation electrique d'un plan conducteur presentant un premier potentiel electrique par rapport a un deuxieme potentiel, comprenant des moyens de diminution de la valeur du champ electrostatique en un point du bord peripherique du plan conducteur
JP2013025691A (ja) * 2011-07-25 2013-02-04 Japan Radio Co Ltd カード型電子装置
JP2013030712A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Toshiba Corp 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法
US8368192B1 (en) * 2011-09-16 2013-02-05 Powertech Technology, Inc. Multi-chip memory package with a small substrate
KR101900423B1 (ko) * 2011-09-19 2018-09-21 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
US9082632B2 (en) 2012-05-10 2015-07-14 Oracle International Corporation Ramp-stack chip package with variable chip spacing
JP5740372B2 (ja) * 2012-09-12 2015-06-24 株式会社東芝 半導体メモリカード
KR101540147B1 (ko) * 2012-10-31 2015-07-28 삼성전기주식회사 오작동 방지 기능이 구비된 전력 모듈 및 그 제어 방법
KR102084553B1 (ko) 2013-01-03 2020-03-04 삼성전자주식회사 메모리 시스템
TW201507076A (zh) * 2013-08-02 2015-02-16 Toshiba Kk 半導體裝置
US20150049448A1 (en) * 2013-08-13 2015-02-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device
JP6235423B2 (ja) * 2014-06-30 2017-11-22 東芝メモリ株式会社 半導体装置
KR101608226B1 (ko) * 2014-11-20 2016-04-14 주식회사 아모텍 감전보호소자 및 이를 구비한 휴대용 전자장치
KR20160068546A (ko) * 2014-12-05 2016-06-15 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치의 입력 회로 및 이를 이용한 반도체 시스템
DE102016205966A1 (de) * 2016-04-11 2017-10-12 Zf Friedrichshafen Ag Elektronische Einheit mit ESD-Schutzanordnung
JP6790705B2 (ja) * 2016-10-13 2020-11-25 セイコーエプソン株式会社 回路装置、発振器、電子機器及び移動体
US9953930B1 (en) * 2016-10-20 2018-04-24 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package structure and method for manufacturing the same
JP2018202026A (ja) * 2017-06-08 2018-12-27 株式会社オリンピア 遊技機
KR102440366B1 (ko) * 2018-01-04 2022-09-05 삼성전자주식회사 메모리 카드 및 이를 포함하는 전자 장치
JP2020053655A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 キオクシア株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US11166363B2 (en) * 2019-01-11 2021-11-02 Tactotek Oy Electrical node, method for manufacturing electrical node and multilayer structure comprising electrical node
TWI681695B (zh) 2019-01-31 2020-01-01 瑞昱半導體股份有限公司 可避免搭配運作的記憶體晶片效能降級的信號處理電路
US10892236B2 (en) * 2019-04-30 2021-01-12 Qualcomm Incorporated Integrated circuit having a periphery of input/output cells
FR3102642B1 (fr) * 2019-10-23 2022-07-15 Safran Electronics & Defense Carte électronique comprenant un premier plan de masse et un deuxième plan de masse
CN110867435A (zh) * 2019-10-30 2020-03-06 北京新忆科技有限公司 存储器
US11329035B2 (en) * 2020-04-16 2022-05-10 International Business Machines Corporation Tetherless chip module
JP2022147368A (ja) * 2021-03-23 2022-10-06 キオクシア株式会社 メモリデバイス

Family Cites Families (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2567970B1 (fr) 1984-07-23 1989-04-28 Normetex Pompe a vide integralement seche et etanche a mouvement rectiligne de compression alternative
US4918631A (en) * 1984-09-07 1990-04-17 Casio Computer Co., Ltd. Compact type electronic information card
JPS61193283A (ja) 1985-02-20 1986-08-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Icカ−ド
JPH0755587B2 (ja) 1985-10-21 1995-06-14 日立マクセル株式会社 Icカ−ド
JPH0682405B2 (ja) 1986-01-14 1994-10-19 カシオ計算機株式会社 テストプログラム起動方式
JPH06104394B2 (ja) * 1986-06-11 1994-12-21 株式会社東芝 携帯可能記憶媒体
JPS63149191A (ja) * 1986-12-15 1988-06-21 日立マクセル株式会社 Icカ−ド
US4861656A (en) * 1986-12-24 1989-08-29 Tdk Corporation Optical recording medium
JPS63211049A (ja) 1987-02-27 1988-09-01 Toshiba Corp 携帯可能電子装置
JPS6444171A (en) 1987-08-12 1989-02-16 Ricoh Kk Picture signal processor
US4896058A (en) * 1988-04-26 1990-01-23 North American Philips Corp. TTL circuit having ramped current output
US5048510A (en) 1988-08-29 1991-09-17 American Medical Systems, Inc. Inflatable penile prosthesis with satellite reservoir
JPH02240792A (ja) * 1989-03-15 1990-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Icカード用端末装置
JPH02249088A (ja) 1989-03-22 1990-10-04 Toshiba Corp メモリカードシステム
JPH03144823A (ja) * 1989-10-31 1991-06-20 N T T Data Tsushin Kk Icカードとホスト装置間の通信制御装置
JP3104795B2 (ja) 1990-04-26 2000-10-30 株式会社日立製作所 半導体装置及びその製造方法
EP0454447A3 (en) 1990-04-26 1993-12-08 Hitachi Ltd Semiconductor device assembly
JPH04302164A (ja) 1991-03-29 1992-10-26 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH0521714A (ja) 1991-07-10 1993-01-29 Fujitsu Ltd 過電圧保護回路
JP3006208B2 (ja) 1991-08-23 2000-02-07 株式会社村田製作所 チップ型バリスタの製造方法
JPH05324949A (ja) * 1992-05-20 1993-12-10 Mitsubishi Electric Corp Icカード入出力制御回路
FR2694840B1 (fr) * 1992-08-13 1994-09-09 Commissariat Energie Atomique Module multi-puces à trois dimensions.
CH686325A5 (de) * 1992-11-27 1996-02-29 Esec Sempac Sa Elektronikmodul und Chip-Karte.
GB9307623D0 (en) * 1993-04-13 1993-06-02 Jonhig Ltd Data writing to eeprom
JPH07271937A (ja) 1994-03-29 1995-10-20 Sony Corp 情報カード
US5451763A (en) * 1994-07-05 1995-09-19 Alto Corporation Personal medical IC card and read/write unit
JPH0830747A (ja) * 1994-07-20 1996-02-02 Sony Corp メモリカード
JPH08129627A (ja) 1994-11-01 1996-05-21 Fujitsu Ltd メモリカード及び集積回路
JP3559322B2 (ja) 1994-11-14 2004-09-02 株式会社東芝 薄型複合icカードの製造方法
JPH08167017A (ja) * 1994-12-14 1996-06-25 Mitsubishi Electric Corp Icカード
JP3059349B2 (ja) 1994-12-19 2000-07-04 シャープ株式会社 Icカード、及びフラッシュメモリの並列処理方法
JPH08190615A (ja) 1995-01-09 1996-07-23 Seiko Epson Corp メモリーカード
US5684291A (en) * 1995-06-01 1997-11-04 American Express Trs Refundable prepaid telephone card
US5506499A (en) * 1995-06-05 1996-04-09 Neomagic Corp. Multiple probing of an auxilary test pad which allows for reliable bonding to a primary bonding pad
WO1997004376A1 (en) * 1995-07-20 1997-02-06 Dallas Semiconductor Corporation Secure module with microprocessor and co-processor
JP2734424B2 (ja) 1995-08-16 1998-03-30 日本電気株式会社 半導体装置
US6002177A (en) * 1995-12-27 1999-12-14 International Business Machines Corporation High density integrated circuit packaging with chip stacking and via interconnections
JPH09282900A (ja) * 1996-04-11 1997-10-31 Oki Electric Ind Co Ltd メモリモジュール
US5815426A (en) * 1996-08-13 1998-09-29 Nexcom Technology, Inc. Adapter for interfacing an insertable/removable digital memory apparatus to a host data part
US5837153A (en) * 1997-01-15 1998-11-17 Kawan; Joseph C. Method and system for creating and using a logotype contact module with a smart card
JP4100732B2 (ja) 1997-01-22 2008-06-11 ローム株式会社 半導体装置
JPH10203066A (ja) * 1997-01-28 1998-08-04 Hitachi Ltd 非接触icカード
JPH10214232A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Rohm Co Ltd Icカードおよびicカードの運用方法
JP4212068B2 (ja) * 1997-05-19 2009-01-21 ローム株式会社 Icカードおよびicチップモジュール
US5987357A (en) 1997-07-30 1999-11-16 Intermedics Inc. Stackable microelectronic components with self-addressing scheme
GB9720148D0 (en) * 1997-09-22 1997-11-26 Innes John Centre Innov Ltd Gene silencing materials and methods
JP3901811B2 (ja) * 1997-10-15 2007-04-04 カルソニックカンセイ株式会社 積算装置および積算方法
JPH11168185A (ja) * 1997-12-03 1999-06-22 Rohm Co Ltd 積層基板体および半導体装置
JP3481444B2 (ja) 1998-01-14 2003-12-22 シャープ株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP2865102B2 (ja) 1998-01-19 1999-03-08 株式会社日立製作所 マルチチップモジュール
JPH11273400A (ja) 1998-03-24 1999-10-08 Hitachi Ltd 記憶装置
JPH11296430A (ja) 1998-04-08 1999-10-29 Hitachi Ltd 記憶装置およびフラッシュメモリ
US6315195B1 (en) * 1998-04-17 2001-11-13 Diebold, Incorporated Transaction apparatus and method
US6040622A (en) 1998-06-11 2000-03-21 Sandisk Corporation Semiconductor package using terminals formed on a conductive layer of a circuit board
WO2000007143A1 (fr) * 1998-07-31 2000-02-10 Matsushita Electronics Corporation Element portable a utilisation bidirectionnelle, systeme de communication, procede de communication, terminal, support lisible par un ordinateur et comportant un programme enregistre
JP4097403B2 (ja) 1998-12-02 2008-06-11 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US7093991B2 (en) * 1999-05-25 2006-08-22 Silverbrook Research Pty Ltd Combined printer and binder
JP3822768B2 (ja) 1999-12-03 2006-09-20 株式会社ルネサステクノロジ Icカードの製造方法
US6376904B1 (en) * 1999-12-23 2002-04-23 Rambus Inc. Redistributed bond pads in stacked integrated circuit die package
US6621155B1 (en) * 1999-12-23 2003-09-16 Rambus Inc. Integrated circuit device having stacked dies and impedance balanced transmission lines
JP3768761B2 (ja) * 2000-01-31 2006-04-19 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
CN1218276C (zh) * 2000-04-28 2005-09-07 株式会社日立制作所 集成电路卡
US6858925B2 (en) * 2001-04-02 2005-02-22 Renesas Technology Corp. Semiconductor device and a method of manufacturing the same
US6900528B2 (en) * 2001-06-21 2005-05-31 Micron Technology, Inc. Stacked mass storage flash memory package
US6843421B2 (en) * 2001-08-13 2005-01-18 Matrix Semiconductor, Inc. Molded memory module and method of making the module absent a substrate support
JP4564215B2 (ja) * 2001-09-26 2010-10-20 株式会社東芝 フラッシュメモリ書き替え回路、icカード用lsi、icカード及びフラッシュメモリ書き替え方法
US6731011B2 (en) * 2002-02-19 2004-05-04 Matrix Semiconductor, Inc. Memory module having interconnected and stacked integrated circuits
JP4497874B2 (ja) * 2002-12-13 2010-07-07 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路及びicカード
US20050067694A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Pon Florence R. Spacerless die stacking
US7064430B2 (en) * 2004-08-31 2006-06-20 Stats Chippac Ltd. Stacked die packaging and fabrication method
US20060267173A1 (en) * 2005-05-26 2006-11-30 Sandisk Corporation Integrated circuit package having stacked integrated circuits and method therefor
US20070287824A1 (en) * 2006-06-08 2007-12-13 Johnson Mitchell T Waterbased polyurethane floor coating composition
JP4302164B2 (ja) 2006-12-15 2009-07-22 三洋電機株式会社 照明装置及び投写型映像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7538418B2 (en) 2009-05-26
KR100750944B1 (ko) 2007-08-22
KR20050121642A (ko) 2005-12-27
KR20050121643A (ko) 2005-12-27
US20100277963A1 (en) 2010-11-04
US6573567B1 (en) 2003-06-03
US20010011766A1 (en) 2001-08-09
KR100685270B1 (ko) 2007-02-22
US7224052B2 (en) 2007-05-29
US7547961B2 (en) 2009-06-16
JP3822768B2 (ja) 2006-09-20
KR20050121647A (ko) 2005-12-27
KR100883243B1 (ko) 2009-02-10
KR100859389B1 (ko) 2008-09-22
US6431456B2 (en) 2002-08-13
US7267287B2 (en) 2007-09-11
US8018038B2 (en) 2011-09-13
US20070102799A1 (en) 2007-05-10
KR20050121645A (ko) 2005-12-27
KR20080010370A (ko) 2008-01-30
KR100750945B1 (ko) 2007-08-22
US20070102798A1 (en) 2007-05-10
KR100845065B1 (ko) 2008-07-09
TW503464B (en) 2002-09-21
US20070102530A1 (en) 2007-05-10
US7768110B2 (en) 2010-08-03
JP2001160125A (ja) 2001-06-12
KR20050121646A (ko) 2005-12-27
KR100883242B1 (ko) 2009-02-10
KR100871959B1 (ko) 2008-12-08
US20030209793A1 (en) 2003-11-13
KR20080092316A (ko) 2008-10-15
KR100900106B1 (ko) 2009-06-01
KR20050121644A (ko) 2005-12-27
KR100749398B1 (ko) 2007-08-14
US20080023562A1 (en) 2008-01-31
KR20010060270A (ko) 2001-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100845065B1 (ko) Ic 카드
KR100809142B1 (ko) Ic 카드
US8274141B2 (en) Semiconductor memory card and semiconductor memory device
JP2006164302A (ja) 不揮発性記憶装置
US8629547B2 (en) Semiconductor chip package
JP2008305429A (ja) 不揮発性記憶装置
JPWO2007000798A1 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130621

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140626

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150618

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee