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  1. プラスチック基板上に、EL素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、容量と、を有する画素を有し、
    前記プラスチック基板と対向する、プラスチック材でなるカバー材を有し、
    前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、第1の配線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのゲートは、第2の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記EL素子と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタは、第1の半導体領域と、前記第1の半導体領域上の第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜上の前記ゲートとを有し、
    前記第1の半導体領域は、第2の半導体領域と同一の半導体層に含まれ、
    前記第2の半導体領域は、前記第1の絶縁膜を間に挟んで、第1の導電膜と重なる領域を有し、
    前記第1の導電膜は、前記容量の一方の端子として機能し、
    前記第1の導電膜は、前記第3の配線と直接接続され、
    前記第1の配線は、第1の方向に延びており、
    前記第2の配線は、第2の方向に延びており、
    前記第3の配線は、前記第1の方向に沿うように延びる部分を有し、
    前記第1の導電膜は、前記第2の方向に沿うように延びる部分を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記半導体層は、多結晶半導体であることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1又は請求項2において、
    前記ゲート電極は、モリブデンを有することを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    前記第1の導電膜は、モリブデンを有することを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記第1の配線はソース配線であり、前記第2の配線はゲート配線であることを特徴とする半導体装置。
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