JP2014157357A5 - 液晶表示装置 - Google Patents
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- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims 8
Claims (9)
- 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記第２の導電膜は、前記コンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜上に、前記コンタクトホールに対応した凹部が設けられ、
前記スペーサは、前記凹部と重なる領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第４の絶縁膜と、
前記第４の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、
前記第４の絶縁膜は、第２のコンタクトホールを有し、
前記スペーサと前記第１のコンタクトホールと前記第２のコンタクトホールとは、重なる領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜上に、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールに対応した凹部が設けられ、
前記スペーサは、前記凹部と重なる領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記第２の導電膜は、前記コンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜の表面に、前記コンタクトホールにより生じた凹部を有し、
前記スペーサは、前記凹部と重なる領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第４の絶縁膜と、
前記第４の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、
前記第４の絶縁膜は、第２のコンタクトホールを有し、
前記スペーサと前記第１のコンタクトホールと前記第２のコンタクトホールとは、重なる領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜の表面に、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールにより生じた凹部を有し、
前記スペーサは、前記凹部と重なる領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記第２の導電膜は、前記コンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜上に、前記コンタクトホールに対応した凹部が設けられ、
前記スペーサは、前記凹部に設けられた領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第４の絶縁膜と、
前記第４の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、
前記第４の絶縁膜は、第２のコンタクトホールを有し、
前記スペーサと前記第１のコンタクトホールと前記第２のコンタクトホールとは、重なる領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜上に、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールに対応した凹部が設けられ、
前記スペーサは、前記凹部に設けられた領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記第２の導電膜は、前記コンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜の表面に、前記コンタクトホールにより生じた凹部を有し、
前記スペーサは、前記凹部に設けられた領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の液晶層と、
を有し、
前記第１の基板は、
前記第１の基板上の遮光機能を有する膜と、
前記遮光機能を有する膜上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の半導体膜と、
前記半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第１の導電膜と、
前記第１の導電膜上の第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上の第４の絶縁膜と、
前記第４の絶縁膜上の第２の導電膜と、
前記第２の導電膜上のスペーサと、
を有し、
前記半導体膜は、多結晶シリコンであり、
前記半導体膜は、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つとを有し、
前記チャネル形成領域は、前記遮光機能を有する膜および前記第１の導電膜と重なる領域を有し、
前記ソース領域またはドレイン領域の少なくとも一つは、前記遮光機能を有する膜と重ならない領域を有し、
前記第３の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、
前記第４の絶縁膜は、第２のコンタクトホールを有し、
前記スペーサと前記第１のコンタクトホールと前記第２のコンタクトホールとは、重なる領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールを介して前記半導体膜と電気的に接続され、
前記第２の導電膜の表面に、前記第１のコンタクトホールおよび前記第２のコンタクトホールにより生じた凹部を有し、
前記スペーサは、前記凹部に設けられた領域を有し、
前記スペーサは、前記半導体膜と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記第２の導電膜は、光を透過する機能を有することを特徴とする液晶表示装置。
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