JPH10319872A - アクティブマトリクス有機発光ダイオード表示装置 - Google Patents
アクティブマトリクス有機発光ダイオード表示装置Info
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- JPH10319872A JPH10319872A JP10003037A JP303798A JPH10319872A JP H10319872 A JPH10319872 A JP H10319872A JP 10003037 A JP10003037 A JP 10003037A JP 303798 A JP303798 A JP 303798A JP H10319872 A JPH10319872 A JP H10319872A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Control Of El Displays (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発光素子の三次元集積及び室温製造が可能な
低廉なアクティブマトリクス発光表示装置を提供する。 【解決手段】 表示装置は、有機発光ダイオード(OL
ED)のアクティブマトリクスアレイを動作させるため
の回路を備える。アクティブマトリックスOLED表示
装置は、駆動トランジスタの導通を制御してOLEDに
定電流を供給するアモルファスシリコンまたはポリシリ
コンのパストランジスタを使用する動的なアナログメモ
リを組み込む。LCD装置とは異なり、OLEDは、連
続駆動電流に応答して光を発する。OLED回路を使用
するフラットパネル表示装置は、バックライトが要らな
いため、従来のLCD装置よりもはるかに薄い。発光装
置を既存の回路の上に配置できることが、無機LEDで
は不可能である三次元集積を可能にし、ほぼ100%の
充填率を有する構造の設計を可能にする。アクティブマ
トリクスOLED表示装置はまた、ランダムアクセス表
示書き込みに特に適した静的デジタルメモリを使用する
ことができる。
低廉なアクティブマトリクス発光表示装置を提供する。 【解決手段】 表示装置は、有機発光ダイオード(OL
ED)のアクティブマトリクスアレイを動作させるため
の回路を備える。アクティブマトリックスOLED表示
装置は、駆動トランジスタの導通を制御してOLEDに
定電流を供給するアモルファスシリコンまたはポリシリ
コンのパストランジスタを使用する動的なアナログメモ
リを組み込む。LCD装置とは異なり、OLEDは、連
続駆動電流に応答して光を発する。OLED回路を使用
するフラットパネル表示装置は、バックライトが要らな
いため、従来のLCD装置よりもはるかに薄い。発光装
置を既存の回路の上に配置できることが、無機LEDで
は不可能である三次元集積を可能にし、ほぼ100%の
充填率を有する構造の設計を可能にする。アクティブマ
トリクスOLED表示装置はまた、ランダムアクセス表
示書き込みに特に適した静的デジタルメモリを使用する
ことができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子、方法、
装置及び回路における改良に関する。より具体的には、
本発明は、フラットパネル表示装置などに使用されるア
クティブマトリクスアレイに有機発光ダイオード(OL
ED)を使用する改良に関する。
装置及び回路における改良に関する。より具体的には、
本発明は、フラットパネル表示装置などに使用されるア
クティブマトリクスアレイに有機発光ダイオード(OL
ED)を使用する改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のアクティブマトリクス液晶表示
(LCD)装置は、ピクセルごとに短期間(small inte
rval)保持回路を構成することによって動作する。この
回路は、ピクセルがリフレッシュされるまで一定の電荷
をLCDライトバルブに保持する。マトリクス配置され
た複数のピクセルの内、同一行の全ピクセルが同時並列
に帯電する。一つの行のピクセルが帯電すると、別の行
のピクセルが順次に帯電してゆく。表示画面のすべての
行を通じてこの手順が繰り返し連続して行われ、画面を
連続的にリフレッシュする。
(LCD)装置は、ピクセルごとに短期間(small inte
rval)保持回路を構成することによって動作する。この
回路は、ピクセルがリフレッシュされるまで一定の電荷
をLCDライトバルブに保持する。マトリクス配置され
た複数のピクセルの内、同一行の全ピクセルが同時並列
に帯電する。一つの行のピクセルが帯電すると、別の行
のピクセルが順次に帯電してゆく。表示画面のすべての
行を通じてこの手順が繰り返し連続して行われ、画面を
連続的にリフレッシュする。
【0003】表示装置は通常、一つの表示画面に100
万個を超えるピクセルを使用することがある。従って、
表示画面を16ms(ミリ秒)ごとに(すなわち1秒あた
り約60回)リフレッシュすることができるよう、セッ
トポイントを、短期間にピクセルにロードできることが
重要である。一定の電荷を保持回路に書き込むのには数
マイクロ秒しか要しないため、1000以上の行を有す
る表示画面を16ms以内にリフレッシュすることができ
る。
万個を超えるピクセルを使用することがある。従って、
表示画面を16ms(ミリ秒)ごとに(すなわち1秒あた
り約60回)リフレッシュすることができるよう、セッ
トポイントを、短期間にピクセルにロードできることが
重要である。一定の電荷を保持回路に書き込むのには数
マイクロ秒しか要しないため、1000以上の行を有す
る表示画面を16ms以内にリフレッシュすることができ
る。
【0004】LCDは、反射光または透過光を用いる場
合において、広くその用途が見いだされているが、多く
の状況において、自己発光性表示装置が望ましい。換言
するならば、LCD装置は、LCDを介して光線を発す
るバックライトとともに動作するため、フラットパネル
表示装置の厚さがバックライトの厚さによって増大す
る。加えて、アクティブマトリクスLCDシステムは、
偏光光学系と、低い開口率により、光源光の90%まで
が吸収されてしまい、効率が低いという欠点を抱えてい
る。
合において、広くその用途が見いだされているが、多く
の状況において、自己発光性表示装置が望ましい。換言
するならば、LCD装置は、LCDを介して光線を発す
るバックライトとともに動作するため、フラットパネル
表示装置の厚さがバックライトの厚さによって増大す
る。加えて、アクティブマトリクスLCDシステムは、
偏光光学系と、低い開口率により、光源光の90%まで
が吸収されてしまい、効率が低いという欠点を抱えてい
る。
【0005】バックライトをなくせば、フラットパネル
表示装置を既存の表示装置よりもはるかに薄くすること
ができるのでバックライト無しの表示装置を提供するこ
とが望まれている。また、より低い駆動装置コスト及び
より高い効率で動作し、より薄いパネル表示装置を提供
することも望まれている。
表示装置を既存の表示装置よりもはるかに薄くすること
ができるのでバックライト無しの表示装置を提供するこ
とが望まれている。また、より低い駆動装置コスト及び
より高い効率で動作し、より薄いパネル表示装置を提供
することも望まれている。
【0006】「Organic Electroluminescent Device
s」Science, Vol. 273, 884(1996年8月16
日)によると、一見、無機LEDがすべての点で理想的
に思われよう。無機LEDは、優れた量子効率を有し、
数ボルトのバイアス電圧しか要さず、すべての色で使用
可能であり、非常に信頼性が高い。
s」Science, Vol. 273, 884(1996年8月16
日)によると、一見、無機LEDがすべての点で理想的
に思われよう。無機LEDは、優れた量子効率を有し、
数ボルトのバイアス電圧しか要さず、すべての色で使用
可能であり、非常に信頼性が高い。
【0007】しかし、無機LEDは、コスト、集積及び
温度という三つの主要な問題を抱えている。無機LED
表示装置は、カラーマッチングされた個々のLEDから
アセンブルしなければならず、個々のLEDを正しく配
置し、配線結合しなければならないない。各文字が5×
7ピクセルを使用する(従って、各色に35個のLED
を使用する)場合、装置の表示文字数が約10〜15文
字を超えると費用が極端に増大する。無機LEDはま
た、一般に、エピタキシャル成長を要し、従って、ピク
セル回路を効果的にオーバレイすることができず、ほぼ
100%の充填率を有する装置を得ることはできない。
最後に、無機LEDは、室温をはるかに超える高温で加
工される。
温度という三つの主要な問題を抱えている。無機LED
表示装置は、カラーマッチングされた個々のLEDから
アセンブルしなければならず、個々のLEDを正しく配
置し、配線結合しなければならないない。各文字が5×
7ピクセルを使用する(従って、各色に35個のLED
を使用する)場合、装置の表示文字数が約10〜15文
字を超えると費用が極端に増大する。無機LEDはま
た、一般に、エピタキシャル成長を要し、従って、ピク
セル回路を効果的にオーバレイすることができず、ほぼ
100%の充填率を有する装置を得ることはできない。
最後に、無機LEDは、室温をはるかに超える高温で加
工される。
【0008】図15は、従来の有機LED1の基本構造
を示す。エレクトロルミネセンス活性材料でできた1枚
以上の有機膜2が、2個の電極、すなわち低仕事関数陰
極6と高仕事関数陽極4との間に挟まれている。高仕事
関数陽極4は透明である。直流バイアスの印加状態で、
電子が陰極6から有機材料に注入され、空孔が陽極4か
ら有機材料に注入される。電子及び空孔は、印加された
電場により、互いに向かって移動して衝突し、発光励起
状態を形成する。このエネルギーが、透明な陽極4を通
過して放出する光となる。有機膜2は、蒸着、化学的自
己アセンブリ(chemical self assembly)、スピンキャ
ストなどによって形成することができる。有機膜2の厚
さは、単分子層数枚分から約3,000Åまでの範囲で
ある。
を示す。エレクトロルミネセンス活性材料でできた1枚
以上の有機膜2が、2個の電極、すなわち低仕事関数陰
極6と高仕事関数陽極4との間に挟まれている。高仕事
関数陽極4は透明である。直流バイアスの印加状態で、
電子が陰極6から有機材料に注入され、空孔が陽極4か
ら有機材料に注入される。電子及び空孔は、印加された
電場により、互いに向かって移動して衝突し、発光励起
状態を形成する。このエネルギーが、透明な陽極4を通
過して放出する光となる。有機膜2は、蒸着、化学的自
己アセンブリ(chemical self assembly)、スピンキャ
ストなどによって形成することができる。有機膜2の厚
さは、単分子層数枚分から約3,000Åまでの範囲で
ある。
【0009】「Integrated Multicolor Organic LED
Array」と題するNormanらの米国特許第5,424,
560号は、ネガ層を設けることによって形成されるO
LEDアレイを開示している。複数の異なる色の有機層
がネガ層の上でパターン付けされて、選択されたアレイ
の複数の領域に複数の異なる色のLEDを形成してい
る。1個のトランジスタがネガ層の中に一体化されて、
外部の接続パッドによって順次に「オン」にされるネガ
層の各行に駆動電流を提供する。
Array」と題するNormanらの米国特許第5,424,
560号は、ネガ層を設けることによって形成されるO
LEDアレイを開示している。複数の異なる色の有機層
がネガ層の上でパターン付けされて、選択されたアレイ
の複数の領域に複数の異なる色のLEDを形成してい
る。1個のトランジスタがネガ層の中に一体化されて、
外部の接続パッドによって順次に「オン」にされるネガ
層の各行に駆動電流を提供する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの引用
例は、発光素子の三次元集積及び室温製造が可能な低廉
なアクティブマトリクス発光表示装置を提供するという
認識に欠け、或いは実際にそのような装置を提供するこ
とができていない。
例は、発光素子の三次元集積及び室温製造が可能な低廉
なアクティブマトリクス発光表示装置を提供するという
認識に欠け、或いは実際にそのような装置を提供するこ
とができていない。
【0011】本発明は、そこで、三次元集積が容易とな
り、室温での製造が可能な低廉なアクティブマトリクス
発光表示装置を提供することを目的とする。
り、室温での製造が可能な低廉なアクティブマトリクス
発光表示装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ゲートライン、データライン及びピクセ
ルを含むピクセル電子系を有する二次元アレイを含むア
クティブマトリクスOLED表示装置を提供する。各ピ
クセルは、データラインの一つからデータ信号を受け取
ってこれを通過させるパストランジスタと、該パストラ
ンジスタからのデータ信号に応じて動作し、有機発光ダ
イオード(以下、OLEDという)に該データ信号に応
じた連続駆動電流を供給する駆動トランジスタを有す
る。データ信号は連続駆動電流を制御し、駆動トランジ
スタが、データ信号によって動作すると、OLEDがそ
の連続駆動信号を受け取って発光する。
に、本発明は、ゲートライン、データライン及びピクセ
ルを含むピクセル電子系を有する二次元アレイを含むア
クティブマトリクスOLED表示装置を提供する。各ピ
クセルは、データラインの一つからデータ信号を受け取
ってこれを通過させるパストランジスタと、該パストラ
ンジスタからのデータ信号に応じて動作し、有機発光ダ
イオード(以下、OLEDという)に該データ信号に応
じた連続駆動電流を供給する駆動トランジスタを有す
る。データ信号は連続駆動電流を制御し、駆動トランジ
スタが、データ信号によって動作すると、OLEDがそ
の連続駆動信号を受け取って発光する。
【0013】また、本発明では、該パストランジスタか
らデータ信号を受け取りそのデータ信号を一旦記憶する
記憶手段を設ける構成も好適である。
らデータ信号を受け取りそのデータ信号を一旦記憶する
記憶手段を設ける構成も好適である。
【0014】各ゲートラインはマトリクス配置された複
数のピクセルの内の同一行のピクセルに接続されてい
る。各データラインは同一列のピクセルに接続されてい
る。従って、各ピクセルは、1つのゲートライン及び1
つのデータラインによって個々にアドレス指定すること
ができる。
数のピクセルの内の同一行のピクセルに接続されてい
る。各データラインは同一列のピクセルに接続されてい
る。従って、各ピクセルは、1つのゲートライン及び1
つのデータラインによって個々にアドレス指定すること
ができる。
【0015】ここで、上記各パストランジスタ及び駆動
トランジスタは、それぞれ、薄膜トランジスタ(TF
T)を用いることができる。
トランジスタは、それぞれ、薄膜トランジスタ(TF
T)を用いることができる。
【0016】また、本発明の他の態様は、ピクセルごと
に、連続駆動電流が駆動TFTを通過してOLEDの陽
極に流れ込んだのち、すべてのピクセルに接続された共
通の陰極層に流れ込むことを特徴とする。
に、連続駆動電流が駆動TFTを通過してOLEDの陽
極に流れ込んだのち、すべてのピクセルに接続された共
通の陰極層に流れ込むことを特徴とする。
【0017】この態様の第一の変形では、連続駆動電流
が駆動TFTを通過してOLEDの陰極に流れ込んだの
ち、すべてのピクセルに接続された共通陽極層に流れ込
むことを特徴とする。
が駆動TFTを通過してOLEDの陰極に流れ込んだの
ち、すべてのピクセルに接続された共通陽極層に流れ込
むことを特徴とする。
【0018】また上記態様の第二の変形では、OLED
の陽極を通って陰極層に流れ込んだのちに駆動TFTを
通って流れる連続駆動電流を提供する。また第三の変形
では、OLEDの陰極を通って陽極層に流れ込んだの
ち、駆動TFTを通過して流れる連続駆動電流を提供す
る。
の陽極を通って陰極層に流れ込んだのちに駆動TFTを
通って流れる連続駆動電流を提供する。また第三の変形
では、OLEDの陰極を通って陽極層に流れ込んだの
ち、駆動TFTを通過して流れる連続駆動電流を提供す
る。
【0019】各ピクセルに記憶手段を設ける場合、該記
憶手段は、アナログデータ信号を記憶するコンデンサで
あってもよい。或いは、記憶手段は、素子が電力を受け
る限りデジタルデータ信号を保持する静的セルであって
もよい。
憶手段は、アナログデータ信号を記憶するコンデンサで
あってもよい。或いは、記憶手段は、素子が電力を受け
る限りデジタルデータ信号を保持する静的セルであって
もよい。
【0020】また、本発明の他の態様は、ゲートライ
ン、データライン及びピクセルを含むピクセル電子系の
二次元アレイを有するアクティブマトリクスOLED表
示装置を作動させる方法に関する。この方法は、ピクセ
ルごとに、ゲートライン信号によってパストランジスタ
を動作させ、データ信号をデータラインからパストラン
ジスタに供給し、該パストランジスタを通ったデータ信
号を記憶し、データ信号を駆動トランジスタに送出し、
そのデータ信号によってOLEDへの連続駆動電流を調
整し、OLEDから光ビームを放射させるものである。
ン、データライン及びピクセルを含むピクセル電子系の
二次元アレイを有するアクティブマトリクスOLED表
示装置を作動させる方法に関する。この方法は、ピクセ
ルごとに、ゲートライン信号によってパストランジスタ
を動作させ、データ信号をデータラインからパストラン
ジスタに供給し、該パストランジスタを通ったデータ信
号を記憶し、データ信号を駆動トランジスタに送出し、
そのデータ信号によってOLEDへの連続駆動電流を調
整し、OLEDから光ビームを放射させるものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の理解をより完全と
するために、本発明の好適な実施の形態(以下、実施形
態という)について、図面を用いて説明する。なお、各
図において、図中、同様な符号が同様な部品を表してい
る。
するために、本発明の好適な実施の形態(以下、実施形
態という)について、図面を用いて説明する。なお、各
図において、図中、同様な符号が同様な部品を表してい
る。
【0022】以下に詳述するように、本発明は、アナロ
グまたはデジタルメモリを使用してOLEDのアクティ
ブマトリクスアレイを動作させるための回路を提供す
る。必要ならば、既存のOLED特性を用いてほぼ線形
の発光挙動を満たすことができる。すべての性能測度が
連続したOLEDの改良によって利益を受ける。LCD
装置に必要である照明装置をなくすことにより、既存の
バックライト表示装置よりもはるかに薄いフラットパネ
ル表示装置が可能である。発光層を既存の回路の上に配
置できることが、ほぼ100%の充填率をもつ構造の設
計において三次元集積を可能にする。これは、一般にエ
ピタキシャル成長を要し、ひいては、このタイプの三次
元集積ができない無機LEDに勝る利点である。単色ま
たはカラーの動作が前面または背面発光設計のいずれか
で可能である。ピクセル回路のレイアウトは、種々の優
先項目、例えば最大充填率、カラー処理、製造しやすさ
または操作しやすさに依存して最適化することができ
る。
グまたはデジタルメモリを使用してOLEDのアクティ
ブマトリクスアレイを動作させるための回路を提供す
る。必要ならば、既存のOLED特性を用いてほぼ線形
の発光挙動を満たすことができる。すべての性能測度が
連続したOLEDの改良によって利益を受ける。LCD
装置に必要である照明装置をなくすことにより、既存の
バックライト表示装置よりもはるかに薄いフラットパネ
ル表示装置が可能である。発光層を既存の回路の上に配
置できることが、ほぼ100%の充填率をもつ構造の設
計において三次元集積を可能にする。これは、一般にエ
ピタキシャル成長を要し、ひいては、このタイプの三次
元集積ができない無機LEDに勝る利点である。単色ま
たはカラーの動作が前面または背面発光設計のいずれか
で可能である。ピクセル回路のレイアウトは、種々の優
先項目、例えば最大充填率、カラー処理、製造しやすさ
または操作しやすさに依存して最適化することができ
る。
【0023】OLEDは現在、典型的な発光表示装置の
発光輝度(300cd/m2)の30倍を超える発光輝度
(>10,000cd/m2)が可能である。これらの素子
の寿命を延ばす急速な進歩が素子の寿命を10,000
時間超に延ばした。現在OLEDの300cd/m2での面
積あたりの電力消費は、約0.04W/cm2であり、こ
れは表示装置の用途における電力消費の好適範囲にあ
る。輝度、耐久性及び効率におけるさらなる改良が期待
される。例えば、表示装置の輝度は、表示装置全体に重
ねられる平面マイクロレンズアレイに対する発光の立体
角を調節することにより、おそらくさらに高めることが
できる。
発光輝度(300cd/m2)の30倍を超える発光輝度
(>10,000cd/m2)が可能である。これらの素子
の寿命を延ばす急速な進歩が素子の寿命を10,000
時間超に延ばした。現在OLEDの300cd/m2での面
積あたりの電力消費は、約0.04W/cm2であり、こ
れは表示装置の用途における電力消費の好適範囲にあ
る。輝度、耐久性及び効率におけるさらなる改良が期待
される。例えば、表示装置の輝度は、表示装置全体に重
ねられる平面マイクロレンズアレイに対する発光の立体
角を調節することにより、おそらくさらに高めることが
できる。
【0024】蓄積された電荷がライトバルブの状態をセ
ットするアクティブマトリクスLCD装置とは異なり、
OLEDは、連続駆動電流に応答して光を発する。高解
像度OLED表示装置を駆動するには、表示装置のフレ
ーミング期間を通じて各ピクセルダイオードがプログラ
ム可能な順方向バイアス電流を受けることを要する。例
えば、60Hz表示装置の場合、フレーミング期間は約1
6msである。アナログまたはデジタルメモリを用いて、
フレーミング期間中のピクセル状態を記憶することがで
きる。
ットするアクティブマトリクスLCD装置とは異なり、
OLEDは、連続駆動電流に応答して光を発する。高解
像度OLED表示装置を駆動するには、表示装置のフレ
ーミング期間を通じて各ピクセルダイオードがプログラ
ム可能な順方向バイアス電流を受けることを要する。例
えば、60Hz表示装置の場合、フレーミング期間は約1
6msである。アナログまたはデジタルメモリを用いて、
フレーミング期間中のピクセル状態を記憶することがで
きる。
【0025】[実施形態1]図1は、ピクセル状態を記
憶する実施形態1に係るアナログ駆動回路を示す。アナ
ログ駆動回路100の各ピクセル102は、パスTFT
104、コンデンサ106、駆動TFT108及びOL
ED110を含む。一つの列のパスTFT104がゲー
トラインnによって「オン」にされる。オンになると、
行nの列mのパスTFT104は、データラインmから
の電圧レベルをピクセル102のコンデンサ106に記
憶させる。行nのパスTFT104がゲートラインnに
よってオフにされたのち、駆動TFT108のゲートラ
インnに入力された信号が、現在のフレーミング期間
中、OLED110への電流を調整する。アナログ駆動
回路100では、電流は、駆動TFT108を通ってO
LED110の陽極に流れ込んだのち、アナログ駆動回
路100のすべてのOLED素子110に接続された共
通陰極層に流れ込む。
憶する実施形態1に係るアナログ駆動回路を示す。アナ
ログ駆動回路100の各ピクセル102は、パスTFT
104、コンデンサ106、駆動TFT108及びOL
ED110を含む。一つの列のパスTFT104がゲー
トラインnによって「オン」にされる。オンになると、
行nの列mのパスTFT104は、データラインmから
の電圧レベルをピクセル102のコンデンサ106に記
憶させる。行nのパスTFT104がゲートラインnに
よってオフにされたのち、駆動TFT108のゲートラ
インnに入力された信号が、現在のフレーミング期間
中、OLED110への電流を調整する。アナログ駆動
回路100では、電流は、駆動TFT108を通ってO
LED110の陽極に流れ込んだのち、アナログ駆動回
路100のすべてのOLED素子110に接続された共
通陰極層に流れ込む。
【0026】駆動TFT108のゲートキャパシタンス
がフレーミング期間全体を通じて信号を保持するのに十
分であるならば、コンデンサ106を省くこともでき
る。しかし、コンデンサ106を含めることには利点が
ある。駆動TFT108のゲートキャパシタンスは、お
そらく、信号を必要な期間保持するのには不十分であ
る。加えて、パスTFT104が切り換えられると、そ
の寄生キャパシタンスが駆動TFT108のゲートの電
圧レベルに変化を生じさせ、正しいゲート電圧を印加す
ることを困難にする。このように、コンデンサ106を
含めるさらなる利点は、この寄生キャパシタンスの影響
を減らすことにある。
がフレーミング期間全体を通じて信号を保持するのに十
分であるならば、コンデンサ106を省くこともでき
る。しかし、コンデンサ106を含めることには利点が
ある。駆動TFT108のゲートキャパシタンスは、お
そらく、信号を必要な期間保持するのには不十分であ
る。加えて、パスTFT104が切り換えられると、そ
の寄生キャパシタンスが駆動TFT108のゲートの電
圧レベルに変化を生じさせ、正しいゲート電圧を印加す
ることを困難にする。このように、コンデンサ106を
含めるさらなる利点は、この寄生キャパシタンスの影響
を減らすことにある。
【0027】図1のアナログ駆動回路100を実現する
のに使用される4ピクセル交差部の好ましい例を図2に
示す。図2は、2枚の金属層、ポリシリコン層及び回路
コンタクトを示す。第一の金属層は、陽極112、11
4、116及び118、データライン120、Vddラ
イン124ならびにコンタクト126及び128を含
む。第二の金属層は、ゲートライン122及びコンデン
サ106の一方のプレートを含む。コンデンサ106の
もう一方のプレートはVddラインによって形成され
る。ポリシリコン層はパスTFT104及び駆動TFT
108を含む。コンタクト126はパスTFT104を
コンデンサ106に接続する。コンタクト128は駆動
TFT108をOLED110の陽極118に接続す
る。
のに使用される4ピクセル交差部の好ましい例を図2に
示す。図2は、2枚の金属層、ポリシリコン層及び回路
コンタクトを示す。第一の金属層は、陽極112、11
4、116及び118、データライン120、Vddラ
イン124ならびにコンタクト126及び128を含
む。第二の金属層は、ゲートライン122及びコンデン
サ106の一方のプレートを含む。コンデンサ106の
もう一方のプレートはVddラインによって形成され
る。ポリシリコン層はパスTFT104及び駆動TFT
108を含む。コンタクト126はパスTFT104を
コンデンサ106に接続する。コンタクト128は駆動
TFT108をOLED110の陽極118に接続す
る。
【0028】この配置形態は、トップゲートまたはボト
ムゲートのTFTをパスTFT104及び駆動TFT1
08として使用することを可能とする。コンデンサ10
6が必要ならば、このコンデンサ106はVddライン
124の上にじかに製造することができるため、実質的
な追加区域を要しない。上述したように、これは、一般
にエピタキシャル成長を要し、ひいては、このタイプの
三次元集積ができない無機LEDに比較してOLEDが
優れる点の一つである。素子の配置形態、それらの製造
に用いられる層及び加工方法に関して本明細書に記載す
る回路の実現に可能なレイアウト変形が数多くある。図
2で述べる説明には限定されない。
ムゲートのTFTをパスTFT104及び駆動TFT1
08として使用することを可能とする。コンデンサ10
6が必要ならば、このコンデンサ106はVddライン
124の上にじかに製造することができるため、実質的
な追加区域を要しない。上述したように、これは、一般
にエピタキシャル成長を要し、ひいては、このタイプの
三次元集積ができない無機LEDに比較してOLEDが
優れる点の一つである。素子の配置形態、それらの製造
に用いられる層及び加工方法に関して本明細書に記載す
る回路の実現に可能なレイアウト変形が数多くある。図
2で述べる説明には限定されない。
【0029】Vddライン124は、ゲートライン12
2またはデータライン120に対して並行に配置するこ
ともできる。この実施形態1では、データライン120
の固有キャパシタンスを最小限にするため、Vddライ
ン124はデータライン120に対して並行である。
2またはデータライン120に対して並行に配置するこ
ともできる。この実施形態1では、データライン120
の固有キャパシタンスを最小限にするため、Vddライ
ン124はデータライン120に対して並行である。
【0030】パスTFT104は、フレーミング期間を
通じて、安定なゲートバイアスを駆動TFT108に保
持することが好ましい。つまり、パスTFT104は、
フレーミング期間中駆動TFT108のゲート電圧を安
定して維持することが可能であることが好ましい。他の
ピクセル列が駆動されている間、パスTFT104に通
じるデータラインが変動する可能性がある。従って、フ
レーミング期間中、電荷がメモリセルの中に漏れる、ま
たはメモリセルの外に漏れるおそれがある。セル中の電
圧誤差Vg-errorは次式(1)によって求められる。
通じて、安定なゲートバイアスを駆動TFT108に保
持することが好ましい。つまり、パスTFT104は、
フレーミング期間中駆動TFT108のゲート電圧を安
定して維持することが可能であることが好ましい。他の
ピクセル列が駆動されている間、パスTFT104に通
じるデータラインが変動する可能性がある。従って、フ
レーミング期間中、電荷がメモリセルの中に漏れる、ま
たはメモリセルの外に漏れるおそれがある。セル中の電
圧誤差Vg-errorは次式(1)によって求められる。
【0031】
【数1】 Vg-error=Ileakage・τframe/Cpixel ・・・(1) ただし、Ileakageは漏れ電流であり、τframeはフレー
ミング期間であり、Cpixelはピクセルキャパシタンス
である。
ミング期間であり、Cpixelはピクセルキャパシタンス
である。
【0032】グレーレベル(Grey Level)解像度は、
一部、この誤差によって決定されることがある。例え
ば、ピクセルセルの電圧が約8ボルトの有用なプログラ
ミング範囲に及ぶならば、200のグレーレベルを有す
るためには、電圧誤差を、悪くとも、約40mVより良く
なるよう(約40mV未満)に制御しなければならない。
トランジスタの漏れ電流は、TFTを狭くすることによ
って最小限にすることができる。例えば、30cm2/V
・secの移動度で、300fA/μmの漏れ電流の5μm×
15μmのポリシリコンTFTは、コンデンサ106の
容量が約0.5pFであることを要する。図2において上
述したように、コンデンサ106は、Vddライン12
4の上または下にじかに製造することができるため、さ
らなる領域は必要はない。TFTの漏れをさらに制御す
るもう一つの方法は、パストランジスタ104にダブル
ゲートTFTを使用することである。
一部、この誤差によって決定されることがある。例え
ば、ピクセルセルの電圧が約8ボルトの有用なプログラ
ミング範囲に及ぶならば、200のグレーレベルを有す
るためには、電圧誤差を、悪くとも、約40mVより良く
なるよう(約40mV未満)に制御しなければならない。
トランジスタの漏れ電流は、TFTを狭くすることによ
って最小限にすることができる。例えば、30cm2/V
・secの移動度で、300fA/μmの漏れ電流の5μm×
15μmのポリシリコンTFTは、コンデンサ106の
容量が約0.5pFであることを要する。図2において上
述したように、コンデンサ106は、Vddライン12
4の上または下にじかに製造することができるため、さ
らなる領域は必要はない。TFTの漏れをさらに制御す
るもう一つの方法は、パストランジスタ104にダブル
ゲートTFTを使用することである。
【0033】16msのフレーミング期間内にピクセルセ
ル102にデータを書き込むのに使用可能な時間の長さ
は、表示装置のラインタイム、つまり各ラインの選択期
間に依存する。ディスプレイの幅が480ラインの場
合、この時間は約32マイクロ秒である。帯電時間と増
幅器処理時間(amplifier settling time)とを合わせ
た時間がこの制限時間内に収まらなければならない。一
般に、ポリシリコンTFTを用いる場合、好ましいオン
電流が得られるため、帯電時間は問題にならない。ポリ
シリコンを用いる場合、漏れが、表示装置の設計に関す
る主要な問題になりがちである。アモルファスシリコン
TFTを用いる場合、移動度は「オン」状態でポリシリ
コンより低く、漏れもまたより低い。
ル102にデータを書き込むのに使用可能な時間の長さ
は、表示装置のラインタイム、つまり各ラインの選択期
間に依存する。ディスプレイの幅が480ラインの場
合、この時間は約32マイクロ秒である。帯電時間と増
幅器処理時間(amplifier settling time)とを合わせ
た時間がこの制限時間内に収まらなければならない。一
般に、ポリシリコンTFTを用いる場合、好ましいオン
電流が得られるため、帯電時間は問題にならない。ポリ
シリコンを用いる場合、漏れが、表示装置の設計に関す
る主要な問題になりがちである。アモルファスシリコン
TFTを用いる場合、移動度は「オン」状態でポリシリ
コンより低く、漏れもまたより低い。
【0034】ピクセルセル帯電時間は、セルが、その初
期状態で高として書き込まれているか低として書き込ま
れているかに依存する。NMOSトランジスタゲートは
本来、論理0(low)状態を通し易く、論理1(hi
gh)を通過を減らす(degrade)ため、この非対称性
が生じる。図3は、上記に概説した特性を有するパスT
FTに関し、データをコンデンサ106に0.5pF書き
込む場合のこの効果を説明する。図3に示すように、4
V信号の書き込み時間は1マイクロ秒に満たないが、1
2V信号の書き込み時間は4マイクロ秒を超える。いず
れの時間も32μsの許容帯電時間の範囲内に十分あ
る。より速い高レベル帯電時間が必要であるならば、ゲ
ートライン「オン」電圧を増大すればよい。あるいはま
た、NMOSパスTFT104の代わりにCMOS双方
向トランジスタを使用してもよい。但し、CMOSを採
用した場合、設計及び加工が複雑になる。
期状態で高として書き込まれているか低として書き込ま
れているかに依存する。NMOSトランジスタゲートは
本来、論理0(low)状態を通し易く、論理1(hi
gh)を通過を減らす(degrade)ため、この非対称性
が生じる。図3は、上記に概説した特性を有するパスT
FTに関し、データをコンデンサ106に0.5pF書き
込む場合のこの効果を説明する。図3に示すように、4
V信号の書き込み時間は1マイクロ秒に満たないが、1
2V信号の書き込み時間は4マイクロ秒を超える。いず
れの時間も32μsの許容帯電時間の範囲内に十分あ
る。より速い高レベル帯電時間が必要であるならば、ゲ
ートライン「オン」電圧を増大すればよい。あるいはま
た、NMOSパスTFT104の代わりにCMOS双方
向トランジスタを使用してもよい。但し、CMOSを採
用した場合、設計及び加工が複雑になる。
【0035】現在、アモルファスシリコン素子とポリシ
リコン素子とを同じガラス基板上でモノリシックに集積
することが可能である。これにより、パスTFT用のア
モルファスシリコンの好ましい低漏れ電流特性と、駆動
TFT用のポリシリコンにおいて可能な、好ましい高い
「オン」電流とを組み合わせることが可能となる。パス
TFT104がアモルファスシリコンとポリシリコンと
の混成物から構成されれば、パスTFT104は、コン
デンサ106を小さくする、またはなくすことができる
ほどその漏れ電流を低くすることができる。しかし、ポ
リシリコンパスTFT104を用いて得られるものに匹
敵しうる帯電時間を達成するためには、より幅の広いア
モルファスシリコンパスTFT104が必要になるかも
しれない。当然これはより多くの領域を消費し、ひいて
はピクセルの充填率を下げる可能性はある。
リコン素子とを同じガラス基板上でモノリシックに集積
することが可能である。これにより、パスTFT用のア
モルファスシリコンの好ましい低漏れ電流特性と、駆動
TFT用のポリシリコンにおいて可能な、好ましい高い
「オン」電流とを組み合わせることが可能となる。パス
TFT104がアモルファスシリコンとポリシリコンと
の混成物から構成されれば、パスTFT104は、コン
デンサ106を小さくする、またはなくすことができる
ほどその漏れ電流を低くすることができる。しかし、ポ
リシリコンパスTFT104を用いて得られるものに匹
敵しうる帯電時間を達成するためには、より幅の広いア
モルファスシリコンパスTFT104が必要になるかも
しれない。当然これはより多くの領域を消費し、ひいて
はピクセルの充填率を下げる可能性はある。
【0036】アクティブマトリクス表示装置のアナログ
駆動回路100の一つの好ましい例は、300cd/m2で
白色光を発する72SPIアレイのピクセルを使用す
る。各ピクセルは、12ボルトで約35マイクロアンペ
アの最大電流を必要とする。電流及び電圧の必要条件
は、幅30μm、長さ15μmのサイズで、30cm2/
V・secの移動度を有するポリシリコン駆動TFT10
8を用いて容易に満たすことができる。このサイズは、
72SPIピクセルの領域のごく一部でしかない。ピク
セルサイズが縮小するため、電流の必要条件、ひいては
駆動トランジスタの幅もまた縮小する。トランジスタ占
有面積は、TFTの幅wと長さlとの比率w/lを変化
させ、アレイの駆動電圧を調節することにより、ある程
度はさらに最適化することができる。
駆動回路100の一つの好ましい例は、300cd/m2で
白色光を発する72SPIアレイのピクセルを使用す
る。各ピクセルは、12ボルトで約35マイクロアンペ
アの最大電流を必要とする。電流及び電圧の必要条件
は、幅30μm、長さ15μmのサイズで、30cm2/
V・secの移動度を有するポリシリコン駆動TFT10
8を用いて容易に満たすことができる。このサイズは、
72SPIピクセルの領域のごく一部でしかない。ピク
セルサイズが縮小するため、電流の必要条件、ひいては
駆動トランジスタの幅もまた縮小する。トランジスタ占
有面積は、TFTの幅wと長さlとの比率w/lを変化
させ、アレイの駆動電圧を調節することにより、ある程
度はさらに最適化することができる。
【0037】明かに、ピクセル設計におけるTFTの寸
法及び駆動電圧の実際の設計選択は、TFT及びダイオ
ード特性の詳細なモデルを要する。例えば、パストラン
ジスタの漏れが、仕様の範囲内でもっとも達成し難いパ
ラメータであるならば、データラインにおける電圧スイ
ングを最小限にして漏れを減らすべきである。これを実
行する一つの方法として、必要な信号電圧スイングを減
らすため、駆動TFT108の幅を広げる方法がある。
法及び駆動電圧の実際の設計選択は、TFT及びダイオ
ード特性の詳細なモデルを要する。例えば、パストラン
ジスタの漏れが、仕様の範囲内でもっとも達成し難いパ
ラメータであるならば、データラインにおける電圧スイ
ングを最小限にして漏れを減らすべきである。これを実
行する一つの方法として、必要な信号電圧スイングを減
らすため、駆動TFT108の幅を広げる方法がある。
【0038】OLEDは、すべてのダイオードと同様、
本来は非線形素子である。OLEDは、電流が電圧依存
性を示し、この依存性は、ほぼ指数関数的であるか、電
力法則依存性にほぼ従っている。換言するならば、電圧
における小さな変化が、電流、ひいてはダイオードのバ
イアス点に依存するOLEDの明るさにおける大きな変
化を生み出す。図4は、典型的なOLEDと、30cm2
/V・secの移動度を有し、幅30μm、長さ15μm
であるポリシリコンTFTとを72SPIのピクセルア
レイに配したものに、15ボルトのVddを加えた場合
において、何種類かのゲート電圧に対する負荷ライン
(load line)特性を示す。4〜12ボルトのドレイン
−ソース電圧では、セットポイントは、TFTの飽和状
態から直線期間まで異なる。
本来は非線形素子である。OLEDは、電流が電圧依存
性を示し、この依存性は、ほぼ指数関数的であるか、電
力法則依存性にほぼ従っている。換言するならば、電圧
における小さな変化が、電流、ひいてはダイオードのバ
イアス点に依存するOLEDの明るさにおける大きな変
化を生み出す。図4は、典型的なOLEDと、30cm2
/V・secの移動度を有し、幅30μm、長さ15μm
であるポリシリコンTFTとを72SPIのピクセルア
レイに配したものに、15ボルトのVddを加えた場合
において、何種類かのゲート電圧に対する負荷ライン
(load line)特性を示す。4〜12ボルトのドレイン
−ソース電圧では、セットポイントは、TFTの飽和状
態から直線期間まで異なる。
【0039】図5は、図4に使用するものと同じ条件の
下で、ダイオード電流Idiode及びダイオード輝度L
diodeを駆動TFTゲート電圧の関数として示す。ダイ
オード及びTFTの非線形性にもかかわらず、0〜30
0cd/m2の所望の範囲のゲート電圧に関し、4〜12ボ
ルトのゲートバイアスで、明るさの挙動は線形に近い。
これは、データラインを駆動するのに使用されるデジタ
ル・アナログ変換器が、通常、各グレーレベルあたり一
定の電圧間隔で電圧スイングを発生するため、表示装置
の設計上非常に有利な特徴となり得る。データライン電
圧の等しい増分が所望の輝度範囲にわたり、光の強さの
等しい増分を生じさせるようにピクセルを設計すること
により、データ駆動電子系からの使用可能なある数のグ
レーレベルを適切に利用することができる。従って、こ
の回路は、高レベル及び低レベルでダイオードを駆動す
ることができるだけでなく、適度な補正のみによるグレ
ースケール制御が可能であることが示される。
下で、ダイオード電流Idiode及びダイオード輝度L
diodeを駆動TFTゲート電圧の関数として示す。ダイ
オード及びTFTの非線形性にもかかわらず、0〜30
0cd/m2の所望の範囲のゲート電圧に関し、4〜12ボ
ルトのゲートバイアスで、明るさの挙動は線形に近い。
これは、データラインを駆動するのに使用されるデジタ
ル・アナログ変換器が、通常、各グレーレベルあたり一
定の電圧間隔で電圧スイングを発生するため、表示装置
の設計上非常に有利な特徴となり得る。データライン電
圧の等しい増分が所望の輝度範囲にわたり、光の強さの
等しい増分を生じさせるようにピクセルを設計すること
により、データ駆動電子系からの使用可能なある数のグ
レーレベルを適切に利用することができる。従って、こ
の回路は、高レベル及び低レベルでダイオードを駆動す
ることができるだけでなく、適度な補正のみによるグレ
ースケール制御が可能であることが示される。
【0040】図5はまた、もう一つの重要な特徴を示
す。ダイオード電流は、バイアスの印加とともに急速に
増大し、小さなバイアス誤差によっても潜在的な焼き尽
きの危険をもたらす。しかし、「オン」状態にある駆動
TFT108のチャネル抵抗が好適にも保護抵抗として
作用する。これは、ダイオードを通過する電流が指数関
数的に増大することを防ぐ。換言するならば、「オン」
の駆動TFT108のチャネル抵抗は、電流が電圧の線
形変化とともに指数関数的に増大し、ダイオードを焼き
尽かせることを防ぐスパイク保護機構として作用する。
実際、ダイオード電流は、約5ボルトを超えると線形に
満たない上昇しか見せない。
す。ダイオード電流は、バイアスの印加とともに急速に
増大し、小さなバイアス誤差によっても潜在的な焼き尽
きの危険をもたらす。しかし、「オン」状態にある駆動
TFT108のチャネル抵抗が好適にも保護抵抗として
作用する。これは、ダイオードを通過する電流が指数関
数的に増大することを防ぐ。換言するならば、「オン」
の駆動TFT108のチャネル抵抗は、電流が電圧の線
形変化とともに指数関数的に増大し、ダイオードを焼き
尽かせることを防ぐスパイク保護機構として作用する。
実際、ダイオード電流は、約5ボルトを超えると線形に
満たない上昇しか見せない。
【0041】駆動TFT108はまた、アモルファスシ
リコンで作製することも可能である。しかし、アモルフ
ァスシリコンTFTの低い移動度(0.3cm2/V・se
c)は、ポリシリコンまたは単結晶シリコンの場合に比
べ、より幅の広い、つまり大きい駆動トランジスタが必
要であることを意味する。TFTの幅を広くする実際的
な限界は、TFTがピクセル領域の大部分を占有し、他
の素子の余地を残さなくなる点である。しかし、アモル
ファスシリコンTFTの「オン」電流は、数百cd/m2の
オーダの適度な輝度をアモルファスシリコン駆動TFT
で十分に実現することができるほど大きい。さらには、
OLED素子がより効率的になるにつれ、より小さなア
モルファスシリコン駆動TFTのダイオードへの使用及
びより高い輝度が実施可能になる。
リコンで作製することも可能である。しかし、アモルフ
ァスシリコンTFTの低い移動度(0.3cm2/V・se
c)は、ポリシリコンまたは単結晶シリコンの場合に比
べ、より幅の広い、つまり大きい駆動トランジスタが必
要であることを意味する。TFTの幅を広くする実際的
な限界は、TFTがピクセル領域の大部分を占有し、他
の素子の余地を残さなくなる点である。しかし、アモル
ファスシリコンTFTの「オン」電流は、数百cd/m2の
オーダの適度な輝度をアモルファスシリコン駆動TFT
で十分に実現することができるほど大きい。さらには、
OLED素子がより効率的になるにつれ、より小さなア
モルファスシリコン駆動TFTのダイオードへの使用及
びより高い輝度が実施可能になる。
【0042】図6〜図10は、アナログ駆動回路100
の5種の変形を示す。
の5種の変形を示す。
【0043】図1及び図6の回路100及び300に
は、ピクセルレベルでダイオードコンタクトの一つが回
路の残り部分と分けられており、全てのダイオードに共
通であるという利点がある。これは、有機層と、図1の
陰極層または図6の陽極層の形成を妨げることのない設
計を可能にする。さらには、これは、さらなるラインを
ピクセルに設けることを回避させる。
は、ピクセルレベルでダイオードコンタクトの一つが回
路の残り部分と分けられており、全てのダイオードに共
通であるという利点がある。これは、有機層と、図1の
陰極層または図6の陽極層の形成を妨げることのない設
計を可能にする。さらには、これは、さらなるラインを
ピクセルに設けることを回避させる。
【0044】図7及び図8のアナログ駆動回路400及
び500は、ピクセルレベルで、ダイオードの両側が回
路と電気的に接続されているため、その点に関しては余
り好ましくはない。これは、余計な配線がより多くの基
板領域を占有するためだけでなく、配線の配置形態が、
有機層をパターンニングしてビア(vias、孔)及び
コンタクトを設けることを要し、有機発光ダイオード材
料においては、このビア等を設ける手法が十分に確立さ
れていないためである。
び500は、ピクセルレベルで、ダイオードの両側が回
路と電気的に接続されているため、その点に関しては余
り好ましくはない。これは、余計な配線がより多くの基
板領域を占有するためだけでなく、配線の配置形態が、
有機層をパターンニングしてビア(vias、孔)及び
コンタクトを設けることを要し、有機発光ダイオード材
料においては、このビア等を設ける手法が十分に確立さ
れていないためである。
【0045】図9及び図10のアナログ駆動回路600
及び700は、図1及び図6の回路100及び300と
はわずかに異なる。図9のアナログ回路600は、NM
OSトランジスタ104及び108の代わりにPMOS
トランジスタ604及び608を使用する。同様に、図
10のアナログ回路700は、NMOSトランジスタ3
04及び308の代わりにPMOSトランジスタ704
及び708を使用する。PMOSトランジスタのゲート
ラインは「high」にセットされ、データをPMOS
トランジスタを通過させる際には「low」に下げられ
る。
及び700は、図1及び図6の回路100及び300と
はわずかに異なる。図9のアナログ回路600は、NM
OSトランジスタ104及び108の代わりにPMOS
トランジスタ604及び608を使用する。同様に、図
10のアナログ回路700は、NMOSトランジスタ3
04及び308の代わりにPMOSトランジスタ704
及び708を使用する。PMOSトランジスタのゲート
ラインは「high」にセットされ、データをPMOS
トランジスタを通過させる際には「low」に下げられ
る。
【0046】PMOSは、図9に示すように、装置上
で、同一の陰極を共用するダイオードに特に適した技術
である。理由は、駆動TFTのチャネルコンダクタンス
がゲート−ソース電圧差によって決まり、TFTのソー
ス側が安定な基準電圧に接続されているるからである。
ダイオードを「オン」にすることは、ゲート−ソース電
圧に影響しない。これは、駆動TFTのソースがOLE
Dの陽極に接続されている図1とは対照的である。図1
の場合には、「オン」状態にあるダイオードでの電圧降
下がゲート−ソース電圧を下げる。これは「ソース退化
(source degeneration)」として知られる効果であ
る。駆動TFTの方がオンにしやすいため、ソース退化
をなくした設計により、より低い信号電圧、及びより小
さなTFTを使用して、表示装置中に同じ輝度レベルを
達成することができる。
で、同一の陰極を共用するダイオードに特に適した技術
である。理由は、駆動TFTのチャネルコンダクタンス
がゲート−ソース電圧差によって決まり、TFTのソー
ス側が安定な基準電圧に接続されているるからである。
ダイオードを「オン」にすることは、ゲート−ソース電
圧に影響しない。これは、駆動TFTのソースがOLE
Dの陽極に接続されている図1とは対照的である。図1
の場合には、「オン」状態にあるダイオードでの電圧降
下がゲート−ソース電圧を下げる。これは「ソース退化
(source degeneration)」として知られる効果であ
る。駆動TFTの方がオンにしやすいため、ソース退化
をなくした設計により、より低い信号電圧、及びより小
さなTFTを使用して、表示装置中に同じ輝度レベルを
達成することができる。
【0047】図11及び図12は、アナログ駆動回路1
00のさらに別の2種の変形例を示す。図11及び図1
2のアナログ回路800及び900は、隣接するゲート
ラインnを駆動TFT808及び908のソース接続に
使用、即ち駆動TFTのソースがゲートラインに接続さ
れている。図11に示すように、ゲートラインを使用し
て該ゲートラインに対応する行の各ピクセルを開き(選
択し)、対応する隣接行のOLED810を通る電流の
戻り経路を形成することが可能である。従って、ゲート
ラインnがその対応する行のOLED駆動TFT808
にデータを伝送したのち、ゲートラインnはlowにな
り、アナログ回路800の電流戻り経路になる。
00のさらに別の2種の変形例を示す。図11及び図1
2のアナログ回路800及び900は、隣接するゲート
ラインnを駆動TFT808及び908のソース接続に
使用、即ち駆動TFTのソースがゲートラインに接続さ
れている。図11に示すように、ゲートラインを使用し
て該ゲートラインに対応する行の各ピクセルを開き(選
択し)、対応する隣接行のOLED810を通る電流の
戻り経路を形成することが可能である。従って、ゲート
ラインnがその対応する行のOLED駆動TFT808
にデータを伝送したのち、ゲートラインnはlowにな
り、アナログ回路800の電流戻り経路になる。
【0048】例えばアナログ回路800が640ライン
表示装置のあるピクセルを表すならば、ゲートラインn
は、ゲートラインnがlowである639ライン期間中
にアナログ回路800の電流を引き込む。電流及びコン
デンサリファレンスは、一つのライン期間中で異なる
が、光出力が逸脱しているこの時間の量は取るに足らな
いほどであり、表示装置を見る人の視認性に対して有意
な影響を及ぼさない。
表示装置のあるピクセルを表すならば、ゲートラインn
は、ゲートラインnがlowである639ライン期間中
にアナログ回路800の電流を引き込む。電流及びコン
デンサリファレンスは、一つのライン期間中で異なる
が、光出力が逸脱しているこの時間の量は取るに足らな
いほどであり、表示装置を見る人の視認性に対して有意
な影響を及ぼさない。
【0049】図12のアナログ駆動回路900は、アナ
ログ回路800のNMOSトランジスタ804及び80
8の代わりにPMOSトランジスタ904及び908を
使用する。これは、ダイオードに共通の陰極(現在この
方が製造しやすい)の使用が可能となるため有利であ
る。PMOSトランジスタ908のゲートラインnは通
常はhighにセットされ、データを書き込むときにl
owにされる。従って、ゲートラインnは通常、電流を
OLED910に供給するために使用される。
ログ回路800のNMOSトランジスタ804及び80
8の代わりにPMOSトランジスタ904及び908を
使用する。これは、ダイオードに共通の陰極(現在この
方が製造しやすい)の使用が可能となるため有利であ
る。PMOSトランジスタ908のゲートラインnは通
常はhighにセットされ、データを書き込むときにl
owにされる。従って、ゲートラインnは通常、電流を
OLED910に供給するために使用される。
【0050】現在、OLEDに適用することができる何
百種もの公知の有機化合物が、ポリマー化合物及び分子
化合物ともに存在する。これらの化合物に基づくすべて
の素子は、TFTによる励起に適した電気的特性を有す
るため、本発明は、まだ調査されていないものを含め、
そのような化合物すべてに当てはまる。本発明のOLE
Dは、発光体物質、例えばポリ[2−メトキシ−5−
(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−1,4−フェニレ
ンビニレン](MEH−PPV)またはトリス(8−ヒ
ドロキシ)キノリン アルミニウム(AlQ)を使用す
ることができる。正孔注入物質、例えばN,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)1−
1′ビフェニル−4,4′ジアミン(TPD)もまた、
さらなる電子輸送層、ドーパント、電解質、緩衝層など
と同様、適用することができる。TPDのような物質
は、インジウムスズ酸化物(ITO)によって形成され
る陽極層の仕事関数に十分に適した電子親和性を有す
る。ITOは透明に製造することができるため、通常、
OLED110の陽極側が、光放射側である。陰極コン
タクトは、例えば、不透明な金属導体、例えばアルミニ
ウム、カルシウムまたはマグネシウム銀である。OLE
D表示素子を構成する場合、OLED110がおそらく
は最後に製造されるため、アナログ駆動回路100は、
背面発光表示装置に使用される可能性が非常に高い。こ
の構成において、潜在的にもろく損傷しやすい陰極コン
タクトは、有利な連続層として形成され、ピクセル層で
のパターン付けを要しない。図6のアナログ駆動回路3
00は、100%近い充填率の連続ITO層を有するこ
とができ有利である。
百種もの公知の有機化合物が、ポリマー化合物及び分子
化合物ともに存在する。これらの化合物に基づくすべて
の素子は、TFTによる励起に適した電気的特性を有す
るため、本発明は、まだ調査されていないものを含め、
そのような化合物すべてに当てはまる。本発明のOLE
Dは、発光体物質、例えばポリ[2−メトキシ−5−
(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−1,4−フェニレ
ンビニレン](MEH−PPV)またはトリス(8−ヒ
ドロキシ)キノリン アルミニウム(AlQ)を使用す
ることができる。正孔注入物質、例えばN,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)1−
1′ビフェニル−4,4′ジアミン(TPD)もまた、
さらなる電子輸送層、ドーパント、電解質、緩衝層など
と同様、適用することができる。TPDのような物質
は、インジウムスズ酸化物(ITO)によって形成され
る陽極層の仕事関数に十分に適した電子親和性を有す
る。ITOは透明に製造することができるため、通常、
OLED110の陽極側が、光放射側である。陰極コン
タクトは、例えば、不透明な金属導体、例えばアルミニ
ウム、カルシウムまたはマグネシウム銀である。OLE
D表示素子を構成する場合、OLED110がおそらく
は最後に製造されるため、アナログ駆動回路100は、
背面発光表示装置に使用される可能性が非常に高い。こ
の構成において、潜在的にもろく損傷しやすい陰極コン
タクトは、有利な連続層として形成され、ピクセル層で
のパターン付けを要しない。図6のアナログ駆動回路3
00は、100%近い充填率の連続ITO層を有するこ
とができ有利である。
【0051】図13は、例えば図6のアナログ駆動回路
300を使用する前面発光表示装置の連続陽極層170
に可能な電流経路150及び152を示す。電流は陽極
から流れて有機層を通過し、ピクセル化された陰極(ピ
クセル毎にパターンニングされた陰極)に達し、最後に
は「オン」の駆動TFT156に達する。ピクセル駆動
回路300は、露出した陰極コンタクト領域160、1
62及び164の分離されたアイランドを有する表示領
域を備えて形成されている。そして、連続する電子伝導
層166がコーティングされる。必要ならば、さらなる
層(図示せず)を連続する電子伝導層166の上に形成
することもできる。そして、連続する正孔伝導層16
8、例えばTPDを形成する。更に連続する陽極コンタ
クト層170として、例えばITOを、連続して正孔伝
導層168の上に形成する。連続する電子伝導層166
の広がり抵抗(spreading resistance、平面方向の抵
抗)が低すぎるならば、図示する電流経路152により
隣接するピクセルからのクロストーク発光を生じる。隣
接するピクセルどうしの相互作用を避けるために必要な
条件の一つは、抵抗値が R172<<R174 を満たすことである。ただし、R172は、陽極コンタク
ト層170のシート抵抗であり、R174は、電子伝導層
166のピクセル間抵抗である。
300を使用する前面発光表示装置の連続陽極層170
に可能な電流経路150及び152を示す。電流は陽極
から流れて有機層を通過し、ピクセル化された陰極(ピ
クセル毎にパターンニングされた陰極)に達し、最後に
は「オン」の駆動TFT156に達する。ピクセル駆動
回路300は、露出した陰極コンタクト領域160、1
62及び164の分離されたアイランドを有する表示領
域を備えて形成されている。そして、連続する電子伝導
層166がコーティングされる。必要ならば、さらなる
層(図示せず)を連続する電子伝導層166の上に形成
することもできる。そして、連続する正孔伝導層16
8、例えばTPDを形成する。更に連続する陽極コンタ
クト層170として、例えばITOを、連続して正孔伝
導層168の上に形成する。連続する電子伝導層166
の広がり抵抗(spreading resistance、平面方向の抵
抗)が低すぎるならば、図示する電流経路152により
隣接するピクセルからのクロストーク発光を生じる。隣
接するピクセルどうしの相互作用を避けるために必要な
条件の一つは、抵抗値が R172<<R174 を満たすことである。ただし、R172は、陽極コンタク
ト層170のシート抵抗であり、R174は、電子伝導層
166のピクセル間抵抗である。
【0052】横方向抵抗つまりピクセル間抵抗R
174は、二つの理由から非常に高い値である。第一は、
有機材料は導体として劣り、移動度が低いことである。
第二は、連続する電子伝導層166及び場合によって必
要となるさらなる電子伝導層が、その動作原理から非常
に薄いことが求められる(すなわち、<100nm)こと
である。従って、このような広がり抵抗は、連続する陽
極コンタクト層170をパターン付けしないまま残すこ
とができることを保証している。従って、このレイアウ
トは、当然、前面発光表示装置に向いている。十分なプ
ロセス制御及び適切なマスクセットを用いると、前面発
光設計は、図2、7、11及び12に示すピクセル回路
の上にOLEDを配置してほぼ100%の充填率の素子
を得ることができる。連続する陽極コンタクト層170
を陰極材料に代え、十分なマスクセットを使用すると、
使用する材料に依存して、反射性、半透明または透明材
料を用いた連続する上部電極を有する背面発光設計に適
したプロセスが得られる。
174は、二つの理由から非常に高い値である。第一は、
有機材料は導体として劣り、移動度が低いことである。
第二は、連続する電子伝導層166及び場合によって必
要となるさらなる電子伝導層が、その動作原理から非常
に薄いことが求められる(すなわち、<100nm)こと
である。従って、このような広がり抵抗は、連続する陽
極コンタクト層170をパターン付けしないまま残すこ
とができることを保証している。従って、このレイアウ
トは、当然、前面発光表示装置に向いている。十分なプ
ロセス制御及び適切なマスクセットを用いると、前面発
光設計は、図2、7、11及び12に示すピクセル回路
の上にOLEDを配置してほぼ100%の充填率の素子
を得ることができる。連続する陽極コンタクト層170
を陰極材料に代え、十分なマスクセットを使用すると、
使用する材料に依存して、反射性、半透明または透明材
料を用いた連続する上部電極を有する背面発光設計に適
したプロセスが得られる。
【0053】[実施形態2]図14は、OLEDピクセ
ル202にデジタル駆動回路200を使用する本発明の
実施形態2の構成を示す。ピクセル202は、ゲートラ
インn、データラインm、Vdd及びVssへの接続、
パスTFT204、単一ビットのSRAMセル206、
駆動TFT208及びOLED210を含む。「1」ま
たは「0」の2進値は、各ピクセル202に設けられた
単一ビットSRAMセル206に記憶される。単一ビッ
トSRAMセル206は、例えば、ポリシリコンNMO
Sの静的メモリセルである。
ル202にデジタル駆動回路200を使用する本発明の
実施形態2の構成を示す。ピクセル202は、ゲートラ
インn、データラインm、Vdd及びVssへの接続、
パスTFT204、単一ビットのSRAMセル206、
駆動TFT208及びOLED210を含む。「1」ま
たは「0」の2進値は、各ピクセル202に設けられた
単一ビットSRAMセル206に記憶される。単一ビッ
トSRAMセル206は、例えば、ポリシリコンNMO
Sの静的メモリセルである。
【0054】単一ビットSRAMセル206で失われる
電荷は、負荷トランジスタを通過する電荷の流れによっ
て復元される。ゲートラインがパスTFT204を「オ
ン」にして、データラインm上のビット値(「0」また
は「1」)がSRAMセル206へ書き込まれる。記憶
されたビットは、駆動TFT208のゲートを制御す
る。駆動TFT208を「オン」にすると、電流を1個
のOLED210に流すことができる。駆動TFT20
8をオフにすると、OLED210がオフになる。
電荷は、負荷トランジスタを通過する電荷の流れによっ
て復元される。ゲートラインがパスTFT204を「オ
ン」にして、データラインm上のビット値(「0」また
は「1」)がSRAMセル206へ書き込まれる。記憶
されたビットは、駆動TFT208のゲートを制御す
る。駆動TFT208を「オン」にすると、電流を1個
のOLED210に流すことができる。駆動TFT20
8をオフにすると、OLED210がオフになる。
【0055】この設計はピクセル(202)1個あたり
6個のトランジスタを要し、漏れ電流による影響を受け
ない。従って、この設計は、ピクセル202の状態を無
期限に保持する。従って、この実施形態2では、ランダ
ムアクセス法によって表示装置に書き込むことができ、
フレーミングサイクルを不要にすることができる。デュ
ーティサイクルの変調によってグレイスケールを表示可
能とすることもできる。この設計のレイアウトは、より
大きな数及び接続度のトランジスタにより、より領域集
中的であることができる。上記に説明し、図14に説明
する態様では、NMOS TFT204、208、21
2、214、216、218及び共通陰極を用いてい
る。当然、PMOSまたはCMOS及び共通陽極を接続
して使用するする変形を施しても良い。
6個のトランジスタを要し、漏れ電流による影響を受け
ない。従って、この設計は、ピクセル202の状態を無
期限に保持する。従って、この実施形態2では、ランダ
ムアクセス法によって表示装置に書き込むことができ、
フレーミングサイクルを不要にすることができる。デュ
ーティサイクルの変調によってグレイスケールを表示可
能とすることもできる。この設計のレイアウトは、より
大きな数及び接続度のトランジスタにより、より領域集
中的であることができる。上記に説明し、図14に説明
する態様では、NMOS TFT204、208、21
2、214、216、218及び共通陰極を用いてい
る。当然、PMOSまたはCMOS及び共通陽極を接続
して使用するする変形を施しても良い。
【0056】特定の実施態様を具体的に参照しながら本
発明を本明細書に詳細に説明したが、本発明はこれらの
実施形態には限定されない。本明細書の目的は、請求項
によって定義される本発明の真髄及び範囲に該当するす
べての変形、代替及び等価を包含することである。例え
ば、本発明は、発光ダイオードを使用して像を形成する
すべてのタイプの表示装置に適用することができる。こ
のような表示装置には、フラットパネル表示装置、フラ
ット照明装置、計器インジケータ、サインなどがある。
発明を本明細書に詳細に説明したが、本発明はこれらの
実施形態には限定されない。本明細書の目的は、請求項
によって定義される本発明の真髄及び範囲に該当するす
べての変形、代替及び等価を包含することである。例え
ば、本発明は、発光ダイオードを使用して像を形成する
すべてのタイプの表示装置に適用することができる。こ
のような表示装置には、フラットパネル表示装置、フラ
ット照明装置、計器インジケータ、サインなどがある。
【図1】 本発明の実施形態1のアナログアクティブマ
トリクスOLEDアレイを示す回路図である。
トリクスOLEDアレイを示す回路図である。
【図2】 図1の回路を実現するための4ピクセル交差
部の好ましいレイアウト例を示す図である。
部の好ましいレイアウト例を示す図である。
【図3】 パスTFTの帯電時間シミュレーションを示
す図である。
す図である。
【図4】 OLED及び駆動TFTについての幾つかの
ゲート電圧における負荷ライン特性を表す図である。
ゲート電圧における負荷ライン特性を表す図である。
【図5】 図4の負荷特性の解とダイオード電流及びダ
イオード発光輝度のプロットを含む図である。
イオード発光輝度のプロットを含む図である。
【図6】 図1の回路設計の駆動段の第一の変形を示す
図である。
図である。
【図7】 図1の回路設計の駆動段の第二の変形を示す
図である。
図である。
【図8】 図1の回路設計の駆動段の第三の変形を示す
図である。
図である。
【図9】 図1の回路設計の駆動段の第四の変形を示す
図である。
図である。
【図10】 図1の回路設計の駆動段の第五の変形を示
す図である。
す図である。
【図11】 図1の回路設計の駆動段の第六の変形を示
す図である。
す図である。
【図12】 図1の回路設計の駆動段の第七の変形を示
す図である。
す図である。
【図13】 前面発光表示装置の連続陽極層に可能な電
流経路を示す図である。
流経路を示す図である。
【図14】 本発明の実施形態2のOLEDピクセルの
デジタル駆動回路を示す回路図である。
デジタル駆動回路を示す回路図である。
【図15】 従来のOLEDの略図である。
100,300,400,500,600,700,8
00,900 アナログ駆動回路、102 ピクセル、
104 パスTFT、106 コンデンサ、108 駆
動TFT、110,810,910 OLED、11
2,114,116,118 陽極、120 データラ
イン、122 ゲートライン、124 Vddライン、
126,128 コンタクト、150 電流経路、20
0 デジタル駆動回路。
00,900 アナログ駆動回路、102 ピクセル、
104 パスTFT、106 コンデンサ、108 駆
動TFT、110,810,910 OLED、11
2,114,116,118 陽極、120 データラ
イン、122 ゲートライン、124 Vddライン、
126,128 コンタクト、150 電流経路、20
0 デジタル駆動回路。
Claims (1)
- 【請求項1】 二次元アレイに配設された複数のピクセ
ルと、 それぞれが、前記複数のピクセルの内の対応する一行の
ピクセルに接続された複数のゲートラインと、 それぞれが前記複数のピクセルの内の対応する一列のピ
クセルに接続された複数のデータラインと、を含み、 前記複数のピクセルのそれぞれは、 対応するゲートラインに接続され、ゲート信号に応じ、
対応するデータラインから供給される連続駆動電流を制
御するデータ信号を通過させるパストランジスタと、 前記パストランジスタが前記データ信号を通過させる
と、前記データ信号に応じて連続駆動電流を有機発光ダ
イオードに供給する駆動トランジスタと、 供給される前記連続駆動信号に応じて発光する有機発光
ダイオードと、 を有することを特徴とするアクティブマトリクス有機発
光ダイオード表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78523297A | 1997-01-17 | 1997-01-17 | |
US08/785,232 | 1997-01-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10319872A true JPH10319872A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=25134836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10003037A Withdrawn JPH10319872A (ja) | 1997-01-17 | 1998-01-09 | アクティブマトリクス有機発光ダイオード表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10319872A (ja) |
Cited By (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000231347A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-22 | Sanyo Electric Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2001067018A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-03-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | El表示装置およびその駆動方法並びに電子装置 |
JP2001222256A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-08-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
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