JP3439636B2 - 早期安定型埋立処分方法 - Google Patents
早期安定型埋立処分方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般廃棄物、産業
廃棄物等の最終処分場における埋立技術に係り、閉鎖に
要する期間の短縮を図る早期安定型埋立処分方法を提供
することを目的とする。 【０００２】 【従来の技術】最終処分場における浸出水の水量水質
は、埋立ごみ質、降雨等の気象条件、埋立構造、埋立地
の規模、集水面積の大小、埋立期間、ごみ埋立経過時間
等により異なり、埋立地固有の特徴が見られる。たとえ
ば、浸出水中の有機性汚濁成分は埋立初期には高濃度で
あるが、経年的に減少し、数年後には生物分解可能な、
あるいは困難な有機物が残ってくる。また、焼却残渣や
不燃ごみを埋め立てる場合には、無機物が多いのでこれ
らに由来するＳＳや無機塩類が含まれることになる。ま
た、焼却残渣中や不燃ごみ中に生物分解が容易な有機物
が多い場合は、ＢＯＤ，ＣＯＤ，Ｔ−Ｎ，ＮＨ4 +−Ｎ等
が比較的高濃度になる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】埋立処分場における浸
出水は、埋立後に既に長い年月を経た既設埋立区画から
出る浸出水も、埋立後の年月が短い新設埋立区画から出
る浸出水も、廃棄物の存在しない未設埋立区画から出る
浸出水をも一元的に集水し、その全量を同一工程におい
て処理している。埋立処分場の閉鎖は、処分場の全域に
おける埋立が完了した後に、浸出水中の重金属、塩分等
の有害成分の濃度が許容値以下に低下し、浸出水の水質
が安定した時点で行なっている。 【０００４】したがって、埋立処分場の供用開始から閉
鎖までに要する期間は長年月となり、浸出水処理施設に
おける処理プラントの規模や処理能力は、処分場に降る
全降水量を対象として設定する必要があった。 【０００５】本発明は上記した課題を解決するものであ
り、浸出水の水質を早期に安定化し、埋立の開始から閉
鎖までの期間を短縮する早期安定型埋立処分方法を提供
することを目的とする。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の早期安定型埋立処分方法は、埋立処分に
先立って廃棄物をごみ質別に貯留し、貯留した廃棄物に
抽出溶媒としての水を散布し、廃棄物に浸透する抽出溶
媒により廃棄物中の有害成分を溶解して除去し、抽出溶
媒および有害成分を浸出水として浸出水処理設備で処理
し、浸出水処理設備で回収する処理水を抽出溶媒として
循環利用し、浸出水の水質が安定した廃棄物を埋め立て
るものであって、埋立処分場にごみ質別の独立した区画
を設け、各区画に対する抽出溶媒の散布を、廃棄物のご
み質に応じて散布量、散布頻度を異ならせて調整して行
うものである。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１において、埋立処分場１には複
数の独立した区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを設けてお
り、各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄには集排水手段とし
て竪型集排水管２を設けている。各区画１ａ，１ｂ，１
ｃ，１ｄは、廃棄物Ａをごみ質別に貯留する領域をな
し、一時的な貯留場所であってもよく、最終的な貯留場
所であってもよい。 【０００８】各竪型集排水管２は導管３および導管３の
途中に設けた開閉弁４を介して浸出水処理施設５に接続
している。各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの上方には散
水管６を配置しており、各散水管６は散水弁７を介して
循環配管８に連通し、循環配管８は基端側が浸出水処理
施設５に接続している。 【０００９】浸出水処理施設５は、第１凝集沈殿処理設
備、生物処理設備、第２凝集沈殿処理設備、砂ろ過処理
設備、活性炭吸着処理設備などを備えている。第１凝集
沈殿処理設備は、浸出水原水のカルシウムを除去して、
配管・ポンプ類のスケーリングを防止するものであり、
カルシウム除去剤を併用したアルカリ凝集沈殿処理を行
なう。生物処理設備は、接触酸化型の循環脱窒法を採用
しており、充填材表面の微生物を利用して、原水中の有
機物の分解と窒素成分の除去を行なう。第２凝集沈殿処
理設備は、生物処理水中の汚濁物質を薬品によって凝集
させ、重力沈殿除去するものであり、ＣＯＤや色度成分
の除去に効果的な弱酸性凝集沈殿処理を行なう。砂ろ過
処理設備は、凝集沈殿処理水中に残る微細な浮遊物質な
どを、アンスラサイトと珪砂によるろ材で捕捉し、除去
する。活性炭吸着処理装置は、活性炭の強力な吸着能力
によってＣＯＤや色度成分などを除去する。 【００１０】廃棄物Ａの埋立処分に際しては廃棄物Ａを
ごみ質別に分類して各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに貯
留する。廃棄物Ａとしては、一般家庭から出る一般廃棄
物、工場等から出る産業廃棄物、都市ごみ焼却施設から
出る焼却残渣や不燃ごみ等がある。 【００１１】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに廃棄物Ａ
を貯留する状態において、各散水弁７を開放し、散水管
６から抽出溶媒としの水を散布する。廃棄物Ａに浸透す
る抽出溶媒は廃棄物Ａに含まれる有害成分を溶解して除
去し、有害成分とともに浸出水として流出する。各区画
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに対する抽出溶媒の散布は、各
区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの廃棄物Ａのごみ質に応じ
て調整し、散布量、散布頻度等を異ならせ、有害成分の
溶解が困難なごみ質ほど抽出溶媒の供給量を多くする。 【００１２】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄにおける浸
出水は、各開閉弁４を開放する状態において各導管３を
通って浸出水処理施設５に流入する。浸出水処理施設５
においては上述の各処理を行なって浸出水を処理し、回
収した処理水は抽出溶媒として循環配管８を通して各区
画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに循環し、一部の処理水は減
菌処理後に放流する。 【００１３】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出る浸
出水はその水質を個別に管理し、浸出水の水質が予め設
定した許容基準値に安定した時点で、当該区画１ａ，１
ｂ，１ｃ，１ｄにおける抽出溶媒の散布を終了する。抽
出作業の終了した区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄにおける
廃棄物Ａは最終の埋立区域に搬送しても良いし、当該区
画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを最終処分の場所としても良
い。 【００１４】浸出水の処理に際しては、各開閉弁４を適
宜に開閉操作し、各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出
る浸出水を選択的に浸出水処理施設５に導き、浸出水の
性状に応じた処理を行なうことも可能であり、各区画１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出る浸出水を選択的に混合
し、浸出水処理施設５へ流入する浸出水の性状を調整す
ることも可能である。 【００１５】 【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、廃棄
物をごみ質別に貯留し、浸出水処理設備で回収する処理
水を抽出溶媒として循環利用しながら廃棄物に散布する
ことにより、雨水によらずに人為的に廃棄物中の有害成
分を溶解し、早期に浸出水の水質を安定化することがで
き、埋立の開始から閉鎖までの期間を短縮することがで
きる。
廃棄物等の最終処分場における埋立技術に係り、閉鎖に
要する期間の短縮を図る早期安定型埋立処分方法を提供
することを目的とする。 【０００２】 【従来の技術】最終処分場における浸出水の水量水質
は、埋立ごみ質、降雨等の気象条件、埋立構造、埋立地
の規模、集水面積の大小、埋立期間、ごみ埋立経過時間
等により異なり、埋立地固有の特徴が見られる。たとえ
ば、浸出水中の有機性汚濁成分は埋立初期には高濃度で
あるが、経年的に減少し、数年後には生物分解可能な、
あるいは困難な有機物が残ってくる。また、焼却残渣や
不燃ごみを埋め立てる場合には、無機物が多いのでこれ
らに由来するＳＳや無機塩類が含まれることになる。ま
た、焼却残渣中や不燃ごみ中に生物分解が容易な有機物
が多い場合は、ＢＯＤ，ＣＯＤ，Ｔ−Ｎ，ＮＨ4 +−Ｎ等
が比較的高濃度になる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】埋立処分場における浸
出水は、埋立後に既に長い年月を経た既設埋立区画から
出る浸出水も、埋立後の年月が短い新設埋立区画から出
る浸出水も、廃棄物の存在しない未設埋立区画から出る
浸出水をも一元的に集水し、その全量を同一工程におい
て処理している。埋立処分場の閉鎖は、処分場の全域に
おける埋立が完了した後に、浸出水中の重金属、塩分等
の有害成分の濃度が許容値以下に低下し、浸出水の水質
が安定した時点で行なっている。 【０００４】したがって、埋立処分場の供用開始から閉
鎖までに要する期間は長年月となり、浸出水処理施設に
おける処理プラントの規模や処理能力は、処分場に降る
全降水量を対象として設定する必要があった。 【０００５】本発明は上記した課題を解決するものであ
り、浸出水の水質を早期に安定化し、埋立の開始から閉
鎖までの期間を短縮する早期安定型埋立処分方法を提供
することを目的とする。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の早期安定型埋立処分方法は、埋立処分に
先立って廃棄物をごみ質別に貯留し、貯留した廃棄物に
抽出溶媒としての水を散布し、廃棄物に浸透する抽出溶
媒により廃棄物中の有害成分を溶解して除去し、抽出溶
媒および有害成分を浸出水として浸出水処理設備で処理
し、浸出水処理設備で回収する処理水を抽出溶媒として
循環利用し、浸出水の水質が安定した廃棄物を埋め立て
るものであって、埋立処分場にごみ質別の独立した区画
を設け、各区画に対する抽出溶媒の散布を、廃棄物のご
み質に応じて散布量、散布頻度を異ならせて調整して行
うものである。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１において、埋立処分場１には複
数の独立した区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを設けてお
り、各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄには集排水手段とし
て竪型集排水管２を設けている。各区画１ａ，１ｂ，１
ｃ，１ｄは、廃棄物Ａをごみ質別に貯留する領域をな
し、一時的な貯留場所であってもよく、最終的な貯留場
所であってもよい。 【０００８】各竪型集排水管２は導管３および導管３の
途中に設けた開閉弁４を介して浸出水処理施設５に接続
している。各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの上方には散
水管６を配置しており、各散水管６は散水弁７を介して
循環配管８に連通し、循環配管８は基端側が浸出水処理
施設５に接続している。 【０００９】浸出水処理施設５は、第１凝集沈殿処理設
備、生物処理設備、第２凝集沈殿処理設備、砂ろ過処理
設備、活性炭吸着処理設備などを備えている。第１凝集
沈殿処理設備は、浸出水原水のカルシウムを除去して、
配管・ポンプ類のスケーリングを防止するものであり、
カルシウム除去剤を併用したアルカリ凝集沈殿処理を行
なう。生物処理設備は、接触酸化型の循環脱窒法を採用
しており、充填材表面の微生物を利用して、原水中の有
機物の分解と窒素成分の除去を行なう。第２凝集沈殿処
理設備は、生物処理水中の汚濁物質を薬品によって凝集
させ、重力沈殿除去するものであり、ＣＯＤや色度成分
の除去に効果的な弱酸性凝集沈殿処理を行なう。砂ろ過
処理設備は、凝集沈殿処理水中に残る微細な浮遊物質な
どを、アンスラサイトと珪砂によるろ材で捕捉し、除去
する。活性炭吸着処理装置は、活性炭の強力な吸着能力
によってＣＯＤや色度成分などを除去する。 【００１０】廃棄物Ａの埋立処分に際しては廃棄物Ａを
ごみ質別に分類して各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに貯
留する。廃棄物Ａとしては、一般家庭から出る一般廃棄
物、工場等から出る産業廃棄物、都市ごみ焼却施設から
出る焼却残渣や不燃ごみ等がある。 【００１１】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに廃棄物Ａ
を貯留する状態において、各散水弁７を開放し、散水管
６から抽出溶媒としの水を散布する。廃棄物Ａに浸透す
る抽出溶媒は廃棄物Ａに含まれる有害成分を溶解して除
去し、有害成分とともに浸出水として流出する。各区画
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに対する抽出溶媒の散布は、各
区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの廃棄物Ａのごみ質に応じ
て調整し、散布量、散布頻度等を異ならせ、有害成分の
溶解が困難なごみ質ほど抽出溶媒の供給量を多くする。 【００１２】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄにおける浸
出水は、各開閉弁４を開放する状態において各導管３を
通って浸出水処理施設５に流入する。浸出水処理施設５
においては上述の各処理を行なって浸出水を処理し、回
収した処理水は抽出溶媒として循環配管８を通して各区
画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに循環し、一部の処理水は減
菌処理後に放流する。 【００１３】各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出る浸
出水はその水質を個別に管理し、浸出水の水質が予め設
定した許容基準値に安定した時点で、当該区画１ａ，１
ｂ，１ｃ，１ｄにおける抽出溶媒の散布を終了する。抽
出作業の終了した区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄにおける
廃棄物Ａは最終の埋立区域に搬送しても良いし、当該区
画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを最終処分の場所としても良
い。 【００１４】浸出水の処理に際しては、各開閉弁４を適
宜に開閉操作し、各区画１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出
る浸出水を選択的に浸出水処理施設５に導き、浸出水の
性状に応じた処理を行なうことも可能であり、各区画１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄから出る浸出水を選択的に混合
し、浸出水処理施設５へ流入する浸出水の性状を調整す
ることも可能である。 【００１５】 【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、廃棄
物をごみ質別に貯留し、浸出水処理設備で回収する処理
水を抽出溶媒として循環利用しながら廃棄物に散布する
ことにより、雨水によらずに人為的に廃棄物中の有害成
分を溶解し、早期に浸出水の水質を安定化することがで
き、埋立の開始から閉鎖までの期間を短縮することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態における埋立処分方法を示す
摸式図である。 【符号の説明】 Ａ 廃棄物 １ 埋立処分場 １ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ 区画 ２ 竪型集排水管 ３ 導管 ４ 開閉弁 ５ 浸出水処理施設 ６ 散水管 ７ 散水弁 ８ 循環配管
摸式図である。 【符号の説明】 Ａ 廃棄物 １ 埋立処分場 １ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ 区画 ２ 竪型集排水管 ３ 導管 ４ 開閉弁 ５ 浸出水処理施設 ６ 散水管 ７ 散水弁 ８ 循環配管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B09B 1/00
C02F 1/00
C02F 3/00
C02F 9/00
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 埋立処分に先立って廃棄物をごみ質別に
貯留し、貯留した廃棄物に抽出溶媒としての水を散布
し、廃棄物に浸透する抽出溶媒により廃棄物中の有害成
分を溶解して除去し、抽出溶媒および有害成分を浸出水
として浸出水処理設備で処理し、浸出水処理設備で回収
する処理水を抽出溶媒として循環利用し、浸出水の水質
が安定した廃棄物を埋め立てるものであって、埋立処分
場にごみ質別の独立した区画を設け、各区画に対する抽
出溶媒の散布を、廃棄物のごみ質に応じて散布量、散布
頻度を異ならせて調整して行うことを特徴とする早期安
定型埋立処分方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23529297A JP3439636B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 早期安定型埋立処分方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23529297A JP3439636B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 早期安定型埋立処分方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1176967A JPH1176967A (ja) | 1999-03-23 |
| JP3439636B2 true JP3439636B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=16983959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23529297A Expired - Fee Related JP3439636B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 早期安定型埋立処分方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3439636B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6512504B1 (en) | 1999-04-27 | 2003-01-28 | Semiconductor Energy Laborayory Co., Ltd. | Electronic device and electronic apparatus |
| JP4298131B2 (ja) | 1999-05-14 | 2009-07-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置の作製方法 |
| TW527735B (en) | 1999-06-04 | 2003-04-11 | Semiconductor Energy Lab | Electro-optical device |
| TW556357B (en) | 1999-06-28 | 2003-10-01 | Semiconductor Energy Lab | Method of manufacturing an electro-optical device |
| JP4472073B2 (ja) | 1999-09-03 | 2010-06-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置及びその作製方法 |
| TW522453B (en) | 1999-09-17 | 2003-03-01 | Semiconductor Energy Lab | Display device |
| JP2001092413A (ja) | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Ｅｌ表示装置および電子装置 |
| TW511298B (en) | 1999-12-15 | 2002-11-21 | Semiconductor Energy Lab | EL display device |
-
1997
- 1997-09-01 JP JP23529297A patent/JP3439636B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1176967A (ja) | 1999-03-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |