JP4993810B2 - 半導体装置の作製方法 - Google Patents

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    • G02F1/13454—Drivers integrated on the active matrix substrate

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はゲッタリング技術を用いた半導体装置の作製方法に関する。特に本発明は、半導体膜の結晶化において触媒作用のある金属元素を添加して作製される結晶質半導体膜を用いた半導体装置の作製方法に関する。
【０００２】
なお、本明細書中において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。
【０００３】
【従来の技術】
結晶構造を有する半導体膜（以下、結晶質半導体膜という）を用いた代表的な半導体素子として薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと記す）が知られている。ＴＦＴはガラスなどの絶縁基板上に集積回路を形成する技術として注目され、駆動回路一体型液晶表示装置などが実用化されつつある。従来からの技術において、結晶質半導体膜は、プラズマＣＶＤ法や減圧ＣＶＤ法で堆積した非晶質半導体膜を、加熱処理やレーザーアニール法（レーザー光の照射により半導体膜を結晶化させる技術）により作製されている。
【０００４】
こうして作製される結晶質半導体膜は多数の結晶粒の集合体であり、その結晶方位は任意な方向に配向して制御不能であるため、ＴＦＴの特性を制限する要因となっている。このような問題点に対し、特開平７−１８３５４０号公報で開示される技術は、ニッケルなど半導体膜の結晶化に対し触媒作用のある金属元素を添加して結晶質半導体膜を作製するものであり、結晶化に必要とする加熱温度を低下させる効果ばかりでなく、結晶方位の配向性を単一方向に高めることが可能である。このような結晶質半導体膜でＴＦＴを形成すると、電界効果移動度の向上のみでなく、サブスレッショルド係数（Ｓ値）が小さくなり、飛躍的に電気的特性を向上させることが可能となっている。
【０００５】
しかし、触媒作用のある金属元素を添加する故に、結晶質半導体膜の膜中或いは膜表面には、当該金属元素が残存し、得られる素子の特性をばらつかせるなどの問題がある。その一例は、ＴＦＴにおいてオフ電流が増加し、個々の素子間でばらつくなどの問題がある。即ち、結晶化に対し触媒作用のある金属元素は、一旦、結晶質半導体膜が形成されてしまえば、かえって不要な存在となってしまう。
【０００６】
リンを用いたゲッタリングは、このような金属元素を結晶質半導体膜の特定の領域から除去するための手法として有効に活用されている。例えば、ＴＦＴのソース・ドレイン領域にリンを添加して４５０〜７００℃の熱処理を行うことで、チャネル形成領域から当該金属元素を容易に除去することが可能である。
【０００７】
リンはイオンドープ法（ＰＨ3などをプラズマで解離して、イオンを電界で加速して半導体中に注入する方法であり、基本的にイオンの質量分離を行わない方法を指す）で結晶質半導体膜に注入するが、ゲッタリングのために必要なリン濃度は１×１０20/cm3以上である。イオンドープ法によるリンの添加は、結晶質半導体膜の非晶質化をもたらすが、リン濃度の増加は、その後のアニールによる再結晶化の妨げとなり問題となっている。また、高濃度のリンの添加は、ドーピングに必要な処理時間の増大をもたらし、ドーピング工程におけるスループットを低下させるので問題となっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、金属元素を用いて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成する工程と、エッチングストッパーとなる膜（バリア層）を形成する工程と、第２の半導体膜を形成する工程と、希ガス元素を含む第３の半導体膜（ゲッタリングサイト）を形成する工程と、ゲッタリングサイトに金属元素をゲッタリングさせる工程と、前記第２の半導体膜及び第３の半導体膜を除去する工程とを有している。
【００１０】
また、希ガス元素を含む第３の半導体膜（ゲッタリングサイト）を形成する工程は、非晶質構造または結晶構造を有する半導体膜を形成した後、該半導体膜に希ガス元素を添加すればよい。また、希ガス元素を添加する方法としてはイオンドープ法またはイオン注入法を用いればよい。なお、膜剥がれが生じないように成膜条件を調節する。
【００１１】
また、希ガス元素に加え、Ｈ、Ｈ2、Ｏ、Ｏ2、Ｐから選ばれた一種または複数種を添加してもよい。このように複数の元素を添加することにより相乗的にゲッタリング効果が得られる。中でもＯ、Ｏ2は効果的であり、成膜条件または成膜後の添加により、第２の半導体膜または第３の半導体膜中におけるＳＩＭＳ分析での酸素濃度を５×１０18／ｃｍ3以上、好ましくは１×１０19／ｃｍ3〜１×１０22／ｃｍ3の濃度範囲とするとゲッタリング効率が向上する。なお、希ガス元素はほとんど拡散しないが、希ガス元素に加えて添加する他の元素が拡散しやすい場合、第２の半導体膜の膜厚を調節して、添加した他の元素が後の熱処理で第１の半導体膜に拡散しないようにすることが好ましい。また、第２の半導体膜だけでなく、バリア層も他の元素の拡散を防止する機能を有する。
【００１２】
また、希ガス元素を含む第３の半導体膜（ゲッタリングサイト）を形成する工程としては、希ガス元素を含む原料ガスを用いたプラズマＣＶＤ法や減圧熱ＣＶＤ法で希ガス元素を含む第３の半導体膜を成膜してもよい。ただし、膜剥がれが生じないように成膜条件を調節する。
【００１３】
シランガス（ＳｉＨ4：１００sccm）を成膜ガス（流量）に用い、アルゴンガス流量を０sccm、１００sccm、２００sccm、３００sccm、４００sccm、５００sccmとそれぞれ変化させて成膜した膜厚２０００Åのアモルファスシリコン膜（サンプルA〜L）の内部応力を測定した実験結果を表１に示す。
【００１４】
【表１】
Figure 0004993810
【００１５】
また、図１６に表1をグラフ化したものを示すとともに、比較例としてパルス発振でアモルファスシリコン膜を示した。ＲＦパルス発振でアモルファスシリコン膜を成膜した場合、その膜は圧縮応力（約―９.７×１０9（ｄｙｎｅｓ／ｃｍ2））を示すため膜剥がれが生じるおそれがある。従って、表１に示した引張応力（１．１２〜１．６８×１０9（ｄｙｎｅｓ／ｃｍ2））を有する条件でＲＦ連続発振で成膜することが好ましい。希ガス元素を含まない第２の半導体膜としてサンプルＡ、Ｂの条件で形成すればよく、希ガス元素を含む第３の半導体膜としてサンプルＣ〜Ｌのいずれか一の条件で形成することが好ましい。
【００１６】
なお、上記実験で用いたプラズマＣＶＤ法(ＰＣＶＤ装置)によるアモルファスシリコン膜は、ＲＦパワー３５Ｗ、０．２５Ｔｏｒｒの成膜圧力で成膜したものである。
【００１７】
一般的に内部応力は、引張応力と圧縮応力とがある。基板に対して薄膜が収縮しようとするときには、基板はそれを妨げる方向に引っ張るため薄膜を内側にして変形し、これを引張応力と呼んでいる。一方、薄膜が伸張しようとするときには、基板は押し縮められ薄膜を外側にして形成するので、これを圧縮応力と呼んでいる。
【００１８】
また、スパッタ法で希ガス元素を含む第３の半導体膜を成膜してもよい。このように成膜段階で希ガス元素を含む第３の半導体膜を得た後、さらに希ガス元素を添加してゲッタリング効率を向上させてもよい。
【００１９】
本明細書で開示する１つ目の発明の構成は、
非晶質構造を有する第１の半導体膜に金属元素を添加する第１工程と、
前記第１の半導体膜を結晶化させて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成する第２工程と、
前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面にバリア層を形成する第３の工程と、
前記バリア層上に第２の半導体膜を形成する第４工程と、
前記第２の半導体膜上に希ガス元素を１×１０19〜１×１０22／ｃｍ3の濃度で含む第３の半導体膜を形成する第５工程と、
前記第３の半導体膜に前記金属元素をゲッタリングして、結晶構造を有する第１の半導体膜中の前記金属元素を除去または低減する第６工程と、
前記第２の半導体膜及び第３の半導体膜を除去する第７工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。
【００２０】
上記構成において、前記第５の工程は、半導体膜を形成する工程と、該半導体膜に希ガス元素を添加する工程、もしくは、プラズマＣＶＤ法または減圧熱ＣＶＤ法で希ガス元素を含む第３の半導体膜を成膜する工程、もしくは、スパッタ法で希ガス元素を含む第３の半導体膜を成膜する工程とすればよい。
【００２１】
また、上記構成において、希ガス元素を添加する場合、前記希ガス元素に加えて、Ｏ、Ｏ2、Ｐ、Ｈ、Ｈ2から選ばれた一種または複数種を同一工程または順次添加することが好ましい。
【００２２】
また、上記構成において、前記第３の半導体膜は、プラズマＣＶＤ法、減圧熱ＣＶＤ法、またはスパッタ法によって形成された非晶質構造または結晶構造を有する半導体膜の単層またはこれらの積層であることを特徴としている。また、前記第３の半導体膜は、引張応力を有することが望ましい。
【００２３】
また、本発明は上記構成に限定されず、第３の半導体膜を形成せずに第２の半導体膜の上層のみに希ガス元素を添加してゲッタリングサイトを形成してもよい。
【００２４】
また、本発明の２つ目の発明の構成は、
非晶質構造を有する第１の半導体膜に金属元素を添加する第１工程と、
前記第１の半導体膜を結晶化させて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成する第２工程と、
前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面にバリア層を形成する第３の工程と、
前記バリア層上に第２の半導体膜を形成する第４工程と、
前記第２の半導体膜の上層に希ガス元素を１×１０19〜１×１０22／ｃｍ3の濃度で添加する第５工程と、
前記第２の半導体膜の上層に前記金属元素をゲッタリングして、結晶構造を有する第１の半導体膜中の前記金属元素を除去または低減する第６工程と、
前記第２の半導体膜を除去する第７工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法である。
【００２５】
上記構成において、前記第５工程における前記希ガス元素に加えて、Ｏ、Ｏ2、Ｐ、Ｈ、Ｈ2から選ばれた一種または複数種を同一工程または順次添加することが好ましい。
【００２６】
また、上記２つの構成において、前記第２の半導体膜は、プラズマＣＶＤ法、減圧熱ＣＶＤ法、またはスパッタ法によって形成された非晶質構造または結晶構造を有する半導体膜の単層またはこれらの積層であることを特徴としている。また、前記第２の半導体膜は、引張応力を有することが望ましい。
【００２７】
また、上記各構成において、前記金属元素はＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕから選ばれた一種または複数種であることを特徴としている。
【００２８】
また、上記各構成において、前記第２工程は、加熱処理、強光を照射する処理、またはレーザー光（波長４００nm以下のエキシマレーザー光や、ＹＡＧレーザーの第２高調波、第３高調波）を照射する処理の内、いすれか一の処理、もしくはこれらを組み合わせた処理であることを特徴としている。
【００２９】
また、上記各構成において、前記バリア層を形成する第３の工程は、オゾンを含む溶液で前記結晶構造を有する半導体膜の表面を酸化する工程、もしくは酸素雰囲気下の紫外線の照射で前記結晶構造を有する半導体膜の表面を酸化する工程である工程とすればよい。
【００３０】
また、上記各構成において、前記第６工程は、加熱処理、もしくは前記非晶質構造を有する半導体膜に強光を照射する処理、もしくは加熱処理を行い、且つ、前記非晶質構造を有する半導体膜に強光を照射する処理であることを特徴としている。
【００３１】
また、上記各構成において、強光を照射する場合、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、高圧ナトリウムランプ、または高圧水銀ランプから射出された光を用いればよい。
【００３２】
また、上記各構成において、前記希ガス元素はＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれた一種または複数種であることを特徴としている。
【００３３】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、以下に説明する。
【００３４】
本発明の特徴の一つは、結晶質半導体膜上にバリア層及び半導体膜を形成するプロセスと、結晶質半導体膜上方に希ガス元素を含む半導体膜（ゲッタリングサイト）を形成するプロセスと、加熱処理するプロセスとを有しており、該加熱処理により結晶質半導体膜に含まれる金属が移動してバリア層および半導体膜（希ガス元素のイオンを含まない半導体膜）を通り抜け、ゲッタリングサイト（希ガス元素のイオンを含む半導体膜）に捕獲され、結晶質半導体膜から金属元素を除去または低減することである。なお、加熱処理に代えて強光を照射してもよいし、加熱処理と同時に強光を照射してもよい。
【００３５】
（実施の形態１）
以下に代表的な作製手順を簡略に図１を用いて示す。
【００３６】
図１（Ａ）中、１００は、絶縁表面を有する基板、１０１は下地絶縁膜、１０２は非晶質構造を有する半導体膜である。
【００３７】
まず、基板１００上にブロッキング層として酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜からなる下地絶縁膜１０１を形成する。ここでは下地絶縁膜１０１として２層構造（膜厚５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜、膜厚１００ｎｍの酸化窒化シリコン膜）を用いるが、単層膜または２層以上積層させた構造を用いても良い。ただし、ブロッキング層を設ける必要がない場合には下地絶縁膜を形成しなくともよい。
【００３８】
次いで、下地絶縁膜上に非晶質構造を有する半導体膜１０２を公知の手段により結晶化して結晶構造を有する半導体膜１０４を形成する。（図１（Ｂ））
【００３９】
本発明において、結晶構造を有する半導体膜は、プラズマＣＶＤ法、減圧熱ＣＶＤ法、またはスパッタ法で得られる非晶質構造を有する半導体膜１０２に金属元素を添加した後、加熱処理または強光の照射によって結晶化を行えばよい。ここでは、アモルファスシリコン膜（非晶質シリコン膜）を形成し、ニッケルを含む溶液を非晶質シリコン膜上に塗布してニッケル含有層１０３を形成する。
【００４０】
結晶化の後、フッ酸を含むエッチャント、例えば希フッ酸やＦＰＭ（フッ酸、過酸化水素水、純水との混合液）で偏析した金属元素を除去または低減してもよい。また、フッ酸を含むエッチャントで表面をエッチング処理した場合には、強光を照射して表面を平坦化することが望ましい。
【００４１】
また、上記結晶化の後、さらに結晶化を改善するためのレーザー光または強光の照射を行ってもよい。この結晶化を改善するためのレーザー光または強光の照射の後にフッ酸を含むエッチャントで偏析した金属元素を除去または低減してもよく、さらに強光を照射して表面を平坦化してもよい。
【００４２】
なお、結晶構造を有する半導体膜１０４中の酸素濃度（ＳＩＭＳ分析）は、５×１０18／ｃｍ3以下となるように形成することが望ましい。
【００４３】
次いで、結晶構造を有する半導体膜１０４上に珪素を主成分とするバリア層１０５を形成する。なお、このバリア層１０５は極薄いものでよく、自然酸化膜であってもよいし、酸素を含む雰囲気下において紫外線の照射によりオゾンを発生させて酸化させる酸化膜であってもよい。また、このバリア層１０５として、炭素、即ち有機物の除去のために行われるヒドロ洗浄と呼ばれる表面処理に使用するオゾンを含む溶液で酸化させた酸化膜であってもよい。このバリア層１０５は、主にエッチングストッパーとして用いるものである。また、このバリア層１０５を形成した後、チャネルドープを行い、その後、強光を照射して活性化させてもよい。
【００４４】
次いで、バリア層１０５上に第２の半導体膜１０６を形成する。この第２の半導体膜１０６は非晶質構造を有する半導体膜であってもよいし、結晶構造を有する半導体膜であってもよい。この第２の半導体膜１０６の膜厚は、５〜５０ｎｍ、好ましくは１０〜２０ｎｍとする。第２の半導体膜１０６には、酸素（ＳＩＭＳ分析での濃度が５×１０18／ｃｍ3以上、好ましくは１×１０19／ｃｍ3以上）を含有させてゲッタリング効率を向上させることが望ましい。
【００４５】
次いで、第２の半導体膜１０６上に希ガス元素を含む第３の半導体膜（ゲッタリングサイト）１０７を形成する。この第３の半導体膜１０７はプラズマＣＶＤ法、減圧熱ＣＶＤ法、またはスパッタ法を用いた非晶質構造を有する半導体膜であってもよいし、結晶構造を有する半導体膜であってもよい。第３の半導体膜は、成膜段階で希ガス元素を含む半導体膜であってもよいし、希ガス元素を含んでいない半導体膜の成膜後に希ガス元素を添加してもよい。図１では成膜段階で希ガス元素を含む第３の半導体膜１０７を形成した後、さらに希ガス元素を選択的に添加して第３の半導体膜１０８を形成した例を示した。また、第２の半導体膜と第３の半導体膜とを大気に触れることなく連続的に成膜してもよい。また、第２の半導体膜の膜厚と第３の半導体膜の膜厚との和は３０〜２００ｎｍ、例えば５０ｎｍとすればよい。
【００４６】
本発明は、第２の半導体膜１０６によって、第１の半導体膜１０４と第３の半導体膜（ゲッタリングサイト）１０８との間隔を空けている。ゲッタリングの際、金属元素はゲッタリングサイトの境界付近に集まりやすい傾向があるため、本発明のように第２の半導体膜１０６によって、ゲッタリングサイトの境界を第１の半導体膜１０４から遠ざけてゲッタリング効率を向上させることが望ましい。加えて、第２の半導体膜１０６は、ゲッタリングの際、ゲッタリングサイトに含まれる不純物元素が拡散して第１の半導体膜の界面に達することがないようにブロッキングする効果も有している。また、第２の半導体膜１０６は、希ガス元素を添加する場合、第１の半導体膜にダメージを与えないように保護する効果も有している。
【００４７】
次いで、ゲッタリングを行う。ゲッタリングを行う工程としては、窒素雰囲気中で４５０〜８００℃、１〜２４時間、例えば５５０℃にて１４時間の熱処理を行えばよい。また、熱処理に代えて強光を照射してもよい。また、熱処理に加えて強光を照射してもよい。このゲッタリングにより、図１（Ｅ）中の矢印の方向にニッケルが移動し、バリア層１０５で覆われた半導体膜１０４に含まれる金属元素の除去、または金属元素の濃度の低減が行われる。ここでは、ニッケルが第１の半導体膜１０４に偏析しないよう全て第３の半導体膜１０８に移動させ、第１の半導体膜１０４に含まれるニッケルがほとんど存在しない、即ち膜中のニッケル濃度が１×１０18／ｃｍ3以下、望ましくは１×１０17／ｃｍ3以下になるように十分ゲッタリングする。
【００４８】
次いで、バリア層１０５をエッチングストッパーとして、１０６、１０８で示した半導体膜のみを選択的に除去した後、半導体膜１０４を公知のパターニング技術を用いて所望の形状の半導体層１０９を形成する。
【００４９】
次いで、半導体層の表面をフッ酸を含むエッチャントで洗浄した後、ゲート絶縁膜１１０となる珪素を主成分とする絶縁膜を形成する。この表面洗浄とゲート絶縁膜の形成は、大気にふれさせずに連続的に行うことが望ましい。
【００５０】
次いで、ゲート絶縁膜表面を洗浄した後、ゲート電極１１１を形成し、半導体にｎ型を付与する不純物元素（Ｐ、Ａｓ等）、ここではリンを適宜添加して、ソース領域１１２及びドレイン領域１１３を形成する。添加した後、不純物元素を活性化するために加熱処理、強光の照射、またはレーザー光の照射を行う。また、活性化と同時にゲート絶縁膜へのプラズマダメージやゲート絶縁膜と半導体層との界面へのプラズマダメージを回復することができる。特に、室温〜３００℃の雰囲気中において、表面または裏面からＹＡＧレーザーの第２高調波を照射して不純物元素を活性化させることは非常に有効である。ＹＡＧレーザーはメンテナンスが少ないため好ましい活性化手段である。
【００５１】
以降の工程は、層間絶縁膜１１５を形成し、水素化を行って、ソース領域、ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、ソース電極１１６、ドレイン電極１１７を形成してＴＦＴを完成させる。
【００５２】
こうして得られたＴＦＴは、少なくともチャネル形成領域１１４に含まれていたニッケル元素は除去され、且つ、希ガス元素も含有していない。
【００５３】
また、本発明は図１の構造に限定されず、必要があればチャネル形成領域とドレイン領域（またはソース領域）との間にＬＤＤ領域を有する低濃度ドレイン（ＬＤＤ：Lightly Doped Drain）構造としてもよい。この構造はチャネル形成領域と、高濃度に不純物元素を添加して形成するソース領域またはドレイン領域との間に低濃度に不純物元素を添加した領域を設けたものであり、この領域をＬＤＤ領域と呼んでいる。さらにゲート絶縁膜を介してＬＤＤ領域をゲート電極と重ねて配置させた、いわゆるＧＯＬＤ（Gate-drain Overlapped LDD）構造としてもよい。
【００５４】
また、ここではｎチャネル型ＴＦＴを用いて説明したが、半導体にｎ型を付与する不純物元素に代えて、半導体にｐ型を付与する不純物元素を用いることによってｐチャネル型ＴＦＴを形成することができることは言うまでもない。
【００５５】
また、ここではトップゲート型ＴＦＴを例として説明したが、ＴＦＴ構造に関係なく本発明を適用することが可能であり、例えばボトムゲート型（逆スタガ型）ＴＦＴや順スタガ型ＴＦＴに適用することが可能である。
【００５６】
（実施の形態２）
また、実施の形態１に示した第３の半導体膜を形成せずに第２の半導体膜の上層のみに希ガス元素を添加してゲッタリングサイトを形成してもよい。ここではその一例を図２を用いて説明する。
【００５７】
実施の形態１と同様にバリア層２０５までを形成する。実施の形態１に従って、基板２００上に下地絶縁膜２０１、結晶構造を有する半導体膜２０４を形成した後、バリア層２０５を形成する。実施の形態１と同様に、ここでもニッケルを用いて結晶化を行う。なお、図２（Ａ）は図１（Ａ）に対応し、図２（Ｂ）は図１（Ｂ）に対応している。
【００５８】
次いで、バリア層２０５上に第２の半導体膜２０６を形成する。（図２（Ｃ））この第２の半導体膜２０６は、希ガス元素を含まない。非晶質構造を有する半導体膜であってもよいし、結晶構造を有する半導体膜であってもよい。第２の半導体膜２０６には、酸素（ＳＩＭＳ分析での濃度が５×１０18／ｃｍ3以上、好ましくは１×１０19／ｃｍ3以上）を含有させてゲッタリング効率を向上させることが望ましい。
【００５９】
次いで、第２の半導体膜２０６の上層に希ガス元素を添加する。図２（Ｄ）に示したように希ガス元素が添加された領域を２０７で示した。この２０７の領域がゲッタリングサイトとなる。
【００６０】
次いで、ゲッタリングを行う。ゲッタリングを行う工程としては、窒素雰囲気中で４５０〜８００℃、１〜２４時間、例えば５５０℃にて１４時間の熱処理を行えばよい。また、熱処理に代えて強光を照射してもよい。また、熱処理に加えて強光を照射してもよい。このゲッタリングにより、図２（Ｅ）中の矢印の方向にニッケルが移動し、バリア層２０５で覆われた半導体膜２０４に含まれる金属元素の除去、または金属元素の濃度の低減が行われる。ここでは、ニッケルが第１の半導体膜２０４に偏析しないよう全て第２の半導体膜の上層２０７に移動させ、第１の半導体膜２０４に含まれるニッケルがほとんど存在しないように十分ゲッタリングする。
【００６１】
次いで、バリア層２０５をエッチングストッパーとして、２０６、２０７で示した半導体膜のみを選択的に除去した後、半導体膜２０４を公知のパターニング技術を用いて所望の形状の半導体層２０８を形成する。
【００６２】
以降の工程は、実施の形態１に従って、ゲート絶縁膜２０９、ゲート電極２１０を形成し、半導体にｎ型を付与する不純物元素の添加を行ってソース領域２１１、ドレイン領域２１２を形成した後、層間絶縁膜２１４を形成し、水素化を行って、ソース領域、ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、ソース電極２１５、ドレイン電極２１６を形成してＴＦＴを完成させる。
【００６３】
こうして得られたＴＦＴも、少なくともチャネル形成領域２１３に含まれていたニッケル元素は除去され、且つ、チャネル形成領域２１３に希ガス元素を含有していない。
【００６４】
以上の構成でなる本発明について、以下に示す実施例でもってさらに詳細な説明を行うこととする。
【００６５】
（実施例）
［実施例１］
ここでは、同一基板上に画素部と、画素部の周辺に設ける駆動回路のＴＦＴ（ｎチャネル型ＴＦＴ及びｐチャネル型ＴＦＴ）を同時に作製する方法について図３〜図５を用いて説明する。
【００６６】
まず、本実施例ではコーニング社の＃７０５９ガラスや＃１７３７ガラスなどに代表されるバリウムホウケイ酸ガラス、またはアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラスからなる基板２００を用いる。なお、基板３００としては、透光性を有する基板であれば限定されず、石英基板を用いても良い。また、本実施例の処理温度に耐えうる耐熱性を有するプラスチック基板を用いてもよい。
【００６７】
次いで、基板３００上に酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成る下地膜３０１を形成する。本実施例では下地膜３０１として２層構造を用いるが、前記絶縁膜の単層膜または２層以上積層させた構造を用いても良い。下地膜３０１の一層目としては、プラズマＣＶＤ法を用い、ＳｉＨ4、ＮＨ3、及びＮ2Ｏを反応ガスとして成膜される酸化窒化シリコン膜３０１ａを１０〜２００nm（好ましくは５０〜１００nm）形成する。本実施例では、膜厚５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜３０１ａ（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝２７％、Ｎ＝２４％、Ｈ＝１７％）を形成した。次いで、下地膜３０１のニ層目としては、プラズマＣＶＤ法を用い、ＳｉＨ4及びＮ2Ｏを反応ガスとして成膜される酸化窒化シリコン膜３０１ｂを５０〜２００ｎｍ（好ましくは１００〜１５０nm）の厚さに積層形成する。本実施例では、膜厚１００ｎｍの酸化窒化シリコン膜３０１ｂ（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝５９％、Ｎ＝７％、Ｈ＝２％）を形成した。
【００６８】
次いで、下地膜上に半導体層３０２〜３０６を形成する。半導体層３０２〜３０６は、非晶質構造を有する半導体膜を公知の手段（スパッタ法、ＬＰＣＶＤ法、またはプラズマＣＶＤ法等）により成膜した後、公知の結晶化処理（レーザー結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの触媒を用いた熱結晶化法等）を行って得られた結晶質半導体膜を所望の形状にパターニングして形成する。この半導体層３０２〜３０６の厚さは２５〜８０ｎｍ（好ましくは３０〜６０ｎｍ）の厚さで形成する。結晶質半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコンまたはシリコンゲルマニウム（ＳｉXＧｅ1-X（Ｘ＝０．０００１〜０．０２））合金、例えばシリコンに対してゲルマニウムの含有量が０．０２〜２原子％のシリコンゲルマニウム膜で形成すると良い。
【００６９】
本実施例では、プラズマＣＶＤ法を用い、５５ｎｍの非晶質シリコン膜を成膜した後、ニッケルを含む溶液を非晶質シリコン膜上に保持させた。この非晶質シリコン膜に脱水素化（５００℃、１時間）を行った後、熱結晶化（５５０℃、４時間）を行い、さらに結晶化を改善するためのレーザーアニ―ル処理を行って結晶質シリコン膜を形成した。そして、実施の形態１に従って、オゾンを含む溶液により表面に極薄い酸化膜を形成した後、酸化膜上に酸素（ＳＩＭＳ分析での濃度が５×１０18／ｃｍ3以上、好ましくは１×１０19／ｃｍ3以上）を含む第２の半導体膜、希ガス元素を含む第３の半導体膜を形成する。次いで、実施の形態１に従って、加熱処理を行うゲッタリングを行った後、酸化膜をエッチングストッパーとして第２の半導体膜及び第３の半導体膜を除去し、結晶質シリコン膜のパターニングを行い、その後、酸化膜を除去した。こうして、ニッケル濃度が１×１０18／ｃｍ3以下、好ましくは１×１０17／ｃｍ3以下となった結晶質シリコン膜からなる半導体層３０２〜３０６を形成した。この半導体層３０２〜３０６のパターニングが終了した状態は、実施の形態１における図１（Ｆ）に相当する。なお、上記酸化膜を形成した後、ＴＦＴのしきい値を制御するために微量な不純物元素（ボロンまたはリン）のドーピング（チャネルドープとも呼ばれる）を適宜行ってもよい。
【００７０】
次いで、半導体層３０２〜３０６の表面をバッファーフッ酸等のフッ酸系のエッチャントで洗浄した後、プラズマＣＶＤ法またはスパッタ法を用い、厚さを４０〜１５０ｎｍとして珪素を主成分とする絶縁膜３０７を形成する。本実施例では、プラズマＣＶＤ法により１１５ｎｍの厚さで酸化窒化シリコン膜（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝５９％、Ｎ＝７％、Ｈ＝２％）で形成した。勿論、このゲート絶縁膜となる絶縁膜は酸化窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良い。
【００７１】
次いで、図３（Ａ）に示すように、ゲート絶縁膜３０７上に膜厚２０〜１００ｎｍの第１の導電膜３０８と、膜厚１００〜４００ｎｍの第２の導電膜３０９とを積層形成する。本実施例では、膜厚３０ｎｍのＴａＮ膜からなる第１の導電膜３０８と、膜厚３７０ｎｍのＷ膜からなる第２の導電膜３０９を積層形成した。ＴａＮ膜はスパッタ法で形成し、Ｔａのターゲットを用い、窒素を含む雰囲気内でスパッタした。また、Ｗ膜は、Ｗのターゲットを用いたスパッタ法で形成した。その他に６フッ化タングステン（ＷＦ6）を用いる熱ＣＶＤ法で形成することもできる。
【００７２】
なお、本実施例では、第１の導電膜３０８をＴａＮ、第２の導電膜３０９をＷとしたが、特に限定されず、いずれもＴａ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｄから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料で単層または積層を用いればよい。また、リン等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜を用いてもよい。また、ＡｇＰｄＣｕ合金を用いてもよい。また、第１の導電膜をタンタル（Ｔａ）膜で形成し、第２の導電膜をＷ膜とする組み合わせ、第１の導電膜を窒化チタン（ＴｉＮ）膜で形成し、第２の導電膜をＷ膜とする組み合わせ、第１の導電膜を窒化タンタル（ＴａＮ）膜で形成し、第２の導電膜をＡｌ膜とする組み合わせ、第１の導電膜を窒化タンタル（ＴａＮ）膜で形成し、第２の導電膜をＣｕ膜とする組み合わせとしてもよい。
【００７３】
次に、フォトリソグラフィ法を用いてレジストからなるマスク３１０〜３１５を形成し、電極及び配線を形成するための第１のエッチング処理を行う。第１のエッチング処理では第１及び第２のエッチング条件で行う。本実施例では第１のエッチング条件として、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma：誘導結合型プラズマ）エッチング法を用い、エッチング用ガスにＣＦ4とＣｌ2とＯ2とを用い、それぞれのガス流量比を２５／２５／１０（ｓｃｃｍ）とし、１Paの圧力でコイル型の電極に５００WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入してプラズマを生成してエッチングを行った。なお、エッチング用ガスとしては、Ｃｌ2、ＢＣｌ3、ＳｉＣｌ4、ＣＣｌ4などを代表とする塩素系ガスまたはＣＦ4、ＳＦ6、ＮＦ3などを代表とするフッ素系ガス、またはＯ2を適宜用いることができる。ここでは、松下電器産業（株）製のＩＣＰを用いたドライエッチング装置（Model Ｅ６４５−□ＩＣＰ）を用いた。基板側（試料ステージ）にも１５０WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。この第１のエッチング条件によりＷ膜をエッチングして第１の導電層の端部をテーパー形状とする。第１のエッチング条件でのＷに対するエッチング速度は２００．３９ｎｍ／ｍｉｎ、ＴａＮに対するエッチング速度は８０．３２ｎｍ／ｍｉｎであり、ＴａＮに対するＷの選択比は約２．５である。また、この第１のエッチング条件によって、Ｗのテーパー角は、約２６°となる。
【００７４】
この後、レジストからなるマスク３１０〜３１５を除去せずに第２のエッチング条件に変え、エッチング用ガスにＣＦ4とＣｌ2とを用い、それぞれのガス流量比を３０／３０（ｓｃｃｍ）とし、１Paの圧力でコイル型の電極に５００WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入してプラズマを生成して約３０秒程度のエッチングを行った。基板側（試料ステージ）にも２０WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。ＣＦ4とＣｌ2を混合した第２のエッチング条件ではＷ膜及びＴａＮ膜とも同程度にエッチングされる。第２のエッチング条件でのＷに対するエッチング速度は５８．９７ｎｍ／ｍｉｎ、ＴａＮに対するエッチング速度は６６．４３ｎｍ／ｍｉｎである。なお、ゲート絶縁膜上に残渣を残すことなくエッチングするためには、１０〜２０％程度の割合でエッチング時間を増加させると良い。
【００７５】
上記第１のエッチング処理では、レジストからなるマスクの形状を適したものとすることにより、基板側に印加するバイアス電圧の効果により第１の導電層及び第２の導電層の端部がテーパー形状となる。このテーパー部の角度は１５〜４５°とすればよい。
【００７６】
こうして、第１のエッチング処理により第１の導電層と第２の導電層から成る第１の形状の導電層３１６〜３２１（第１の導電層３１６ａ〜３２１ａと第２の導電層３１６ｂ〜３２１ｂ）を形成する。図示しないが、ゲート絶縁膜となる絶縁膜３０７のうち、第１の形状の導電層３１６〜３２１で覆われない領域は１０〜２０nm程度エッチングされ薄くなった領域が形成される。
【００７７】
そして、本実施例は、第１のエッチング処理に引き続き、レジストからなるマスクを除去せずに第２のエッチング処理を行う。ここでは、エッチング用ガスにＳＦ6とＣｌ2とＯ2とを用い、それぞれのガス流量比を２４／１２／２４（ｓｃｃｍ）とし、１．３Paの圧力でコイル型の電極に７００WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入してプラズマを生成してエッチングを２５秒行った。基板側（試料ステージ）にも１０WのＲＦ（13.56MHz）電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。第２のエッチング処理でのＷに対するエッチング速度は２２７．３ｎｍ／ｍｉｎ、ＴａＮに対するエッチング速度は３２．１ｎｍ／ｍｉｎであり、ＴａＮに対するＷの選択比は７．１であり、絶縁膜３０７であるＳｉＯＮに対するエッチング速度は３３．７ｎｍ／ｍｉｎであり、ＴａＮに対するＷの選択比は６．８３である。このようにエッチングガス用ガスにＳＦ6を用いた場合、絶縁膜３０７との選択比が高いので膜減りを抑えることができる。また、駆動回路のＴＦＴにおいては、テーパ−部のチャネル長方向の幅が長ければ長いほど信頼性が高いため、テーパ−部を形成する際、ＳＦ6を含むエッチングガスでドライエッチングを行うことが有効である。
【００７８】
この第２のエッチング処理によりＷのテーパー角は７０°となった。この第２のエッチング処理により第２の導電層３２２ｂ〜３２７ｂを形成する。一方、第１の導電層は、ほとんどエッチングされず、第１の導電層３２２ａ〜３２７ａを形成する。また、上記第２のエッチング処理において、ＣＦ4とＣｌ2とＯ2とをエッチングガスに用いることも可能である。
【００７９】
次いで、レジストからなるマスクを除去した後、第１のドーピング処理を行って図３（Ｃ）の状態を得る。ドーピングは第１の導電層３２２ａ〜３２７ａを不純物元素に対するマスクとして用いて第１の導電層のテーパー部下方の半導体層に不純物元素が添加されないようにドーピングする。本実施例では、不純物元素としてＰ（リン）を用い、フォスフィン（ＰＨ3）５％水素希釈ガス、ガス流量３０ｓｃｃｍにてプラズマドーピングを行った。こうして、第１の導電層と重なる低濃度不純物領域（ｎ--領域）３２８を自己整合的に形成する。この低濃度不純物領域３２８へ添加されたリン（Ｐ）の濃度は、１×１０17〜１×１０19/cm3である。
【００８０】
また、第１のドーピング処理は、第１の導電層のテーパー部下方の半導体層に不純物元素が添加されるようにドーピングしてもよい。その場合には、第１の導電層のテーパー部の膜厚に従って濃度勾配を有することになる。
【００８１】
次いで、レジストからなるマスク３２９〜３３０を形成した後、第２のドーピング処理を行い、半導体層にｎ型を付与する不純物元素を添加する。（図４（Ａ））なお、後にｐチャネル型ＴＦＴの活性層となる半導体層はマスク３２９、３３０で覆う。ドーピング処理はイオンドープ法、若しくはイオン注入法で行えば良い。ここでは、ｎ型を付与する不純物元素としてリンを用い、フォスフィン（ＰＨ3）５％水素希釈ガスとしたイオンドープ法を用いて添加する。
【００８２】
第２のドーピング処理により、後にロジック回路部のｎチャネル型ＴＦＴとなる半導体層３０３には、導電層３２３がリンに対するマスクとなり、自己整合的に高濃度不純物領域（ｎ+領域）３４３、３４４が形成される。また、この第２のドーピング処理時、テーパー部の下方にも添加して低濃度不純物領域（ｎ-領域）３３３、３３４を形成する。よって、後に形成されるロジック回路部のｎチャネル型ＴＦＴは、ゲート電極と重なる領域（ＧＯＬＤ領域）のみを備える。なお、低濃度不純物領域（ｎ-領域）３３３、３３４においては、第１の導電層のテーパー部と重なる半導体層において、第１の導電層のテーパー部の端部から内側に向かって不純物濃度（Ｐ濃度）が次第に低くなっている。
【００８３】
また、第２のドーピング処理により、後にサンプリング回路部のｎチャネル型ＴＦＴとなる半導体層３０５には、マスク３３１で覆われなかった領域に高濃度不純物領域３４５、３４６が形成され、マスク３３１で覆われた領域には低濃度不純物領域（ｎ--領域）３３５、３３６が形成される。従って、後にサンプリング回路部のｎチャネル型ＴＦＴは、ゲート電極と重ならない低濃度不純物領域（ＬＤＤ領域）のみを備える。
【００８４】
また、第２のドーピング処理により、後に画素部のｎチャネル型ＴＦＴとなる半導体層３０６には、マスク３３２で覆われなかった領域に高濃度不純物領域３４７〜３５０が形成され、マスク３３２で覆われた領域には低濃度不純物領域（ｎ--領域）３３７〜３４０が形成される。従って、後に画素部のｎチャネル型ＴＦＴは、ゲート電極と重ならない低濃度不純物領域（ＬＤＤ領域）のみを備える。また、後に画素部の容量部となる領域には、自己整合的に高濃度不純物領域３５０が形成され、テーパー部の下方には低濃度不純物領域（ｎ-領域）３４１、３４２が形成される。
【００８５】
第２のドーピング処理により、高濃度不純物領域３４３〜３５０には、３×１０19〜１×１０21/cm3の濃度範囲でｎ型を付与する不純物元素が添加される。
【００８６】
また、第２のドーピング処理の前後で希ガス元素を添加してもよく、その場合、後の熱処理でさらにゲッタリングすることができる。また、その場合には全ての半導体層の端部に添加されるようなマスクを第２のドーピング処理で用いることが望ましい。
【００８７】
次いで、マスク３２９〜３３２を除去した後、後にｎチャネル型ＴＦＴの活性層となる半導体層をレジストからなるマスク３５１〜３５３で覆い、第３のドーピング処理を行う。（図４（Ｂ））テーパー部を通過してｐ型の不純物元素が添加され、低濃度でｐ型の不純物元素を含む領域（ゲート電極と重なる領域（ＧＯＬＤ領域）３５４ｂ〜３５７ｂ）が形成される。この第３のドーピング処理により、低濃度でｎ型の不純物元素をふくみ、且つ高濃度でｐ型の不純物元素を含む領域３５４ａ〜３５７ａを形成する。領域３５４ａ〜３５７ａには低濃度のリンが含まれているが、ボロンの濃度を６×１０19〜６×１０20/cm3となるようにドーピング処理し、ｐチャネル型ＴＦＴのソース領域およびドレイン領域として機能するために何ら問題は生じない。
【００８８】
また、本実施例では第１のドーピング処理、第２のドーピング処理、第３のドーピング処理の順に行ったが、特に限定されず、工程順序を自由に変更してもよい。
【００８９】
次いで、レジストからなるマスク３５１〜３５３を除去して、第１の層間絶縁膜３５８を形成する。この第１の層間絶縁膜３５８としては、プラズマＣＶＤ法またはスパッタ法を用い、厚さを１０〜２００ｎｍとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。
【００９０】
次いで、図４（Ｃ）に示すように、それぞれの半導体層に添加された不純物元素を活性化処理する工程を行う。この活性化工程はＹＡＧレーザーまたはエキシマレーザーを裏面から照射することによって行う。裏面から照射することによって、ゲート電極と絶縁膜を介して重なる不純物領域の活性化を行うことができる。
【００９１】
また、本実施例では、上記活性化の前に第１の層間絶縁膜を形成した例を示したが、上記活性化を行った後、第１の層間絶縁膜を形成する工程としてもよい。
【００９２】
次いで、窒化シリコン膜からなる第２の層間絶縁膜３５９を形成して熱処理（３００〜５５０℃で１〜１２時間の熱処理）を行い、半導体層を水素化する工程を行う。本実施例では、窒素雰囲気中で４１０℃、１時間の熱処理を行った。この工程は第２の層間絶縁膜３５９に含まれる水素により半導体層のダングリングボンドを終端する工程である。第１の層間絶縁膜の存在に関係なく半導体層を水素化することができる。水素化の他の手段として、プラズマ水素化（プラズマにより励起された水素を用いる）を行っても良い。
【００９３】
次いで、第２の層間絶縁膜３５９上に有機絶縁物材料から成る第３の層間絶縁膜３６０を形成する。本実施例では膜厚１．６μｍのアクリル樹脂膜を形成した。次いで、各高濃度不純物領域に達するコンタクトホールを形成するためのパターニングを行う。本実施例では複数のエッチング処理を行った。本実施例では第２の層間絶縁膜をエッチングストッパーとして第３の層間絶縁膜をエッチングした後、第１の層間絶縁膜をエッチングストッパーとして第２の層間絶縁膜をエッチングしてから第１の層間絶縁膜をエッチングした。
【００９４】
次いで、高濃度不純物領域とそれぞれ電気的に接続する電極３６１〜３６９と、高濃度不純物領域３４９と電気的に接続する画素電極３７０を形成する。これらの電極及び画素電極の材料は、ＡｌまたはＡｇを主成分とする膜、またはそれらの積層膜等の反射性の優れた材料を用いる。
【００９５】
以上の様にして、ｎチャネル型ＴＦＴ４０６及びｐチャネル型ＴＦＴ４０５からなるロジック回路部４０３と、ｎチャネル型ＴＦＴ４０８及びｐチャネル型ＴＦＴ４０７からなるサンプリング回路部４０４とを有する駆動回路４０１と、ｎチャネルＴＦＴ４０９からなる画素ＴＦＴ及び保持容量４１０とを有する画素部４０２とを同一基板上に形成することができる。（図５）
【００９６】
なお、本実施例ではｎチャネル型ＴＦＴ４０９は、ソース領域およびドレイン領域の間に二つのチャネル形成領域を有した構造（ダブルゲート構造）となっているが、本実施例はダブルゲート構造に限定されることなく、チャネル形成領域が一つ形成されるシングルゲート構造もしくは三つ形成されるトリプルゲート構造であっても良い。
【００９７】
本実施例では、第２のドーピング処理により、自己整合的またはマスクによって各回路に適した高濃度不純物領域を作り分けることを特徴としている。ｎチャネル型ＴＦＴ４０６、４０８、４０９のＴＦＴの構造は、いずれも低濃度ドレイン（ＬＤＤ：Lightly Doped Drain）構造となっている。さらにｎチャネル型ＴＦＴ４０６は、ゲート絶縁膜を介してＬＤＤ領域をゲート電極と重ねて配置させた、いわゆるＧＯＬＤ構造である。また、ｎチャネル型ＴＦＴ４０８、４０９は、ゲート電極と重ならない領域（ＬＤＤ領域）のみを備えている構造である。なお、本明細書では、絶縁膜を介してゲート電極と重なる低濃度不純物領域（ｎ-領域）をＧＯＬＤ領域と呼び、ゲート電極と重ならない低濃度不純物領域（ｎ--領域）をＬＤＤ領域と呼ぶ。このゲート電極と重ならない領域（ＬＤＤ領域）のチャネル方向の幅は、第２のドーピング処理時のマスクを適宜変更することで自由設定することができる。また、第１のドーピング処理の条件を変え、テーパー部の下方にも不純物元素が添加されるようにすれば、ｎチャネル型ＴＦＴ４０８、４０９は、ゲート電極と重なる領域（ＧＯＬＤ領域）と、ゲート電極と重ならない領域（ＬＤＤ領域）とを両方備えた構造とすることも可能である。
【００９８】
なお、本実施例は半導体層３０２〜３０６の形成の際、実施の形態１の半導体層の形成方法に代えて、実施の形態２の半導体層の形成方法を適用することは可能である。
【００９９】
［実施例２］
本実施例では、実施の形態１とは異なる方法で結晶化を行った例を図６に示す。
【０１００】
まず、実施の形態１と同様に基板７００上に下地絶縁膜７０１、非晶質半導体膜７０２を形成する。次いで、シリコンを主成分とする絶縁膜を形成し、レジストからなるマスク７０３を形成する。次いで、マスク７０３を用いて絶縁膜を選択的に除去してマスク７０４を形成する。（図６（Ａ））
【０１０１】
次いでマスク７０３を除去した後、金属含有層７０５を形成する。ここでは、マスク７０４で覆われていない領域に位置する非晶質半導体膜に金属元素が選択的に添加される。（図６（Ｂ））
【０１０２】
次いで、加熱処理を行い結晶化させて結晶構造を有する半導体膜７０６を形成する。この加熱処理は、電気炉の熱処理または強光の照射を用いればよい。電気炉の熱処理で行う場合は、５００℃〜６５０℃で４〜２４時間、例えば５５０℃、４時間で行えばよい。図６（Ｃ）中の矢印に示す方向にニッケルが拡散するとともに結晶化が進む。この加熱処理により絶縁膜からなるマスク７０４と接している非晶質半導体膜がニッケルの作用により結晶化される。
【０１０３】
次いで、マスク７０４を除去して結晶構造を有する半導体膜７０６を得る。（図６（Ｄ））
【０１０４】
以降の工程は実施の形態１または実施例１に従えばよい。なお、図６（Ｄ）は、図１（Ｂ）に相当する。
【０１０５】
また、本実施例は実施の形態２と組み合わせることが可能である。
【０１０６】
［実施例３］
本実施例では、実施例１で作製したアクティブマトリクス基板から、アクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する工程を以下に説明する。説明には図７を用いる。
【０１０７】
まず、実施例１に従い、図５の状態のアクティブマトリクス基板を得た後、図５のアクティブマトリクス基板上に配向膜を形成しラビング処理を行う。なお、本実施例では配向膜を形成する前に、アクリル樹脂膜等の有機樹脂膜をパターニングすることによって基板間隔を保持するための柱状のスペーサを所望の位置に形成した。また、柱状のスペーサに代えて、球状のスペーサを基板全面に散布してもよい。
【０１０８】
次いで、対向基板を用意する。この対向基板には、着色層、遮光層が各画素に対応して配置されたカラーフィルタが設けられている。また、駆動回路の部分にも遮光層を設けた。このカラーフィルタと遮光層とを覆う平坦化膜を設けた。次いで、平坦化膜上に透明導電膜からなる対向電極を画素部に形成し、対向基板の全面に配向膜を形成し、ラビング処理を施した。
【０１０９】
そして、画素部と駆動回路が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板とをシール材で貼り合わせる。シール材にはフィラーが混入されていて、このフィラーと柱状スペーサによって均一な間隔を持って２枚の基板が貼り合わせられる。その後、両基板の間に液晶材料を注入し、封止剤（図示せず）によって完全に封止する。液晶材料には公知の液晶材料を用いれば良い。このようにしてアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。そして、必要があれば、アクティブマトリクス基板または対向基板を所望の形状に分断する。さらに、公知の技術を用いて偏光板等を適宜設けた。そして、公知の技術を用いてＦＰＣを貼りつけた。
【０１１０】
こうして得られた液晶モジュールの構成を図７の上面図を用いて説明する。なお、図５に相当する部分には同一の符号を用いた。
【０１１１】
図７で示す上面図は、画素部、駆動回路、ＦＰＣ（フレキシブルプリント配線板：Flexible Printed Circuit）８１１を貼り付ける外部入力端子８０９、外部入力端子と各回路の入力部までを接続する配線８１０などが形成されたアクティブマトリクス基板と、カラーフィルタなどが設けられた対向基板８００とがシール材８０７を介して貼り合わされている。
【０１１２】
ゲート配線側駆動回路４０１ａと重なるように対向基板側に遮光層８０３ａが設けられ、ソース配線側駆動回路４０１ｂと重なるように対向基板側に遮光層８０３ｂが形成されている。また、画素部４０２上の対向基板側に設けられたカラーフィルタ８０２は遮光層と、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の着色層とが各画素に対応して設けられている。実際に表示する際には、赤色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層、青色（Ｂ）の着色層の３色でカラー表示を形成するが、これら各色の着色層の配列は任意なものとする。
【０１１３】
ここでは、カラー化を図るためにカラーフィルタ８０２を対向基板に設けているが特に限定されず、アクティブマトリクス基板を作製する際、アクティブマトリクス基板にカラーフィルタを形成してもよい。
【０１１４】
また、カラーフィルタにおいて隣り合う画素の間には遮光層が設けられており、表示領域以外の箇所を遮光している。また、ここでは、駆動回路を覆う領域にも遮光層８０３ａ、８０３ｂを設けているが、駆動回路を覆う領域は、後に液晶表示装置を電子機器の表示部として組み込む際、カバーで覆うため、特に遮光層を設けない構成としてもよい。また、アクティブマトリクス基板を作製する際、アクティブマトリクス基板に遮光層を形成してもよい。
【０１１５】
また、上記遮光層を設けずに、対向基板と対向電極の間に、カラーフィルタを構成する着色層を複数層重ねた積層で遮光するように適宜配置し、表示領域以外の箇所（各画素電極の間隙）や、駆動回路を遮光してもよい。
【０１１６】
また、外部入力端子にはベースフィルムと配線から成るＦＰＣ８１１が異方性導電性樹脂で貼り合わされている。さらに補強板で機械的強度を高めている。
【０１１７】
以上のようにして作製される液晶モジュールは各種電子機器の表示部として用いることができる。
【０１１８】
なお、上記液晶モジュールは、ＡＣ駆動としてもよいし、ＤＣ駆動としてもよい。
【０１１９】
また、本実施例は実施の形態１、実施の形態２、実施例１、または実施例２のいずれか一と自由に組み合わせることができる。
【０１２０】
［実施例４］
実施例１または実施例３では画素電極が反射性を有する金属材料で形成された反射型の表示装置の例を示したが、本実施例では画素電極を透光性を有する導電膜で形成した透過型の表示装置の例を示す。
【０１２１】
層間絶縁膜１１００を形成する工程までは実施例１と同じであるので、ここでは省略する。実施例１に従って層間絶縁膜を形成した後、透光性を有する導電膜からなる画素電極１１０１を形成する。透光性を有する導電膜としては、ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ2Ｏ3―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等を用いればよい。
【０１２２】
その後、層間絶縁膜１１００にコンタクトホールを形成する。次いで、画素電極１１０１と重なる接続電極１１０２を形成する。この接続電極１１０２は、コンタクトホールを通じてドレイン領域と接続されている。また、この接続電極１１０２と同時に他のＴＦＴのソース電極またはドレイン電極も形成する。
【０１２３】
また、ここでは全ての駆動回路を基板上に形成した例を示したが、駆動回路の一部に数個のＩＣを用いてもよい。
【０１２４】
以上のようにしてアクティブマトリクス基板が形成される。このアクティブマトリクス基板を用い、実施例３に従って液晶モジュールを作製し、バックライト１１０４、導光板１１０５を設け、カバー１１０６で覆えば、図８に示すアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。なお、カバー１１０６と液晶モジュールは接着剤や有機樹脂を用いて貼り合わせる。また、基板と対向基板を貼り合わせる際、枠で囲んで有機樹脂を枠と基板との間に充填して接着してもよい。また、透過型であるので偏光板１１０３は、アクティブマトリクス基板と対向基板の両方に貼り付ける。
【０１２５】
なお、本実施例は実施例１乃至３のいずれか一と組み合わせることが可能である。
【０１２６】
［実施例５］
本実施例では、ＥＬ（Electro Luminescence）素子を備えた発光表示装置を作製する例を図９に示す。
【０１２７】
図９（Ａ）は、ＥＬモジュールをを示す上面図、図９（Ｂ）は図９（Ａ）をＡ−Ａ’で切断した断面図である。絶縁表面を有する基板９００（例えば、ガラス基板、結晶化ガラス基板、もしくはプラスチック基板等）に、画素部９０２、ソース側駆動回路９０１、及びゲート側駆動回路９０３を形成する。これらの画素部や駆動回路は、上記実施例に従えば得ることができる。また、９１８はシール材、９１９はＤＬＣ膜であり、画素部および駆動回路部はシール材９１８で覆われ、そのシール材は保護膜９１９で覆われている。さらに、接着材を用いてカバー材９２０で封止されている。熱や外力などによる変形に耐えるためカバー材９２０は基板９００と同じ材質のもの、例えばガラス基板を用いることが望ましく、サンドブラスト法などにより図９に示す凹部形状（深さ３〜１０μｍ）に加工する。さらに加工して乾燥剤９２１が設置できる凹部（深さ５０〜２００μｍ）を形成することが望ましい。また、多面取りでＥＬモジュールを製造する場合、基板とカバー材とを貼り合わせた後、ＣＯ2レーザー等を用いて端面が一致するように分断してもよい。
【０１２８】
なお、９０８はソース側駆動回路９０１及びゲート側駆動回路９０３に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）９０９からビデオ信号やクロック信号を受け取る。なお、ここではＦＰＣしか図示されていないが、このＦＰＣにはプリント配線基盤（ＰＷＢ）が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにＦＰＣもしくはＰＷＢが取り付けられた状態をも含むものとする。
【０１２９】
次に、断面構造について図９（Ｂ）を用いて説明する。基板９００上に絶縁膜９１０が設けられ、絶縁膜９１０の上方には画素部９０２、ゲート側駆動回路９０３が形成されており、画素部９０２は電流制御用ＴＦＴ７１１とそのドレインに電気的に接続された画素電極９１２を含む複数の画素により形成される。また、ゲート側駆動回路９０３はｎチャネル型ＴＦＴ９１３とｐチャネル型ＴＦＴ９１４とを組み合わせたＣＭＯＳ回路を用いて形成される。
【０１３０】
これらのＴＦＴ（９１１、９１３、９１４を含む）は、上記実施例１に従って作製すればよい。
【０１３１】
画素電極９１２はＥＬ素子の陽極として機能する。また、画素電極９１２の両端にはバンク９１５が形成され、画素電極９１２上にはＥＬ層９１６およびＥＬ素子の陰極９１７が形成される。
【０１３２】
ＥＬ層９１６としては、発光層、電荷輸送層または電荷注入層を自由に組み合わせてＥＬ層（発光及びそのためのキャリアの移動を行わせるための層）を形成すれば良い。例えば、低分子系有機ＥＬ材料や高分子系有機ＥＬ材料を用いればよい。また、ＥＬ層として一重項励起により発光（蛍光）する発光材料（シングレット化合物）からなる薄膜、または三重項励起により発光（リン光）する発光材料（トリプレット化合物）からなる薄膜を用いることができる。また、電荷輸送層や電荷注入層として炭化珪素等の無機材料を用いることも可能である。これらの有機ＥＬ材料や無機材料は公知の材料を用いることができる。
【０１３３】
陰極９１７は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線９０８を経由してＦＰＣ９０９に電気的に接続されている。さらに、画素部９０２及びゲート側駆動回路９０３に含まれる素子は全て陰極９１７、シール材９１８、及び保護膜９１９で覆われている。
【０１３４】
なお、シール材９１８としては、できるだけ可視光に対して透明もしくは半透明な材料を用いるのが好ましい。また、シール材９１８はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。
【０１３５】
また、シール材９１８を用いて発光素子を完全に覆った後、すくなくとも図９に示すようにＤＬＣ膜等からなる保護膜９１９をシール材９１８の表面（露呈面）に設けることが好ましい。また、基板の裏面を含む全面に保護膜を設けてもよい。ここで、外部入力端子（ＦＰＣ）が設けられる部分に保護膜が成膜されないように注意することが必要である。マスクを用いて保護膜が成膜されないようにしてもよいし、ＣＶＤ装置でマスキングテープとして用いるテフロン等のテープで外部入力端子部分を覆うことで保護膜が成膜されないようにしてもよい。
【０１３６】
以上のような構造でＥＬ素子をシール材９１８及び保護膜で封入することにより、ＥＬ素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水分や酸素等のＥＬ層の酸化による劣化を促す物質が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の高い発光装置を得ることができる。
【０１３７】
また、画素電極を陰極とし、ＥＬ層と陽極を積層して図９とは逆方向に発光する構成としてもよい。図１０にその一例を示す。なお、上面図は同一であるので省略する。
【０１３８】
図１０に示した断面構造について以下に説明する。基板１０００としては、ガラス基板や石英基板の他にも、半導体基板または金属基板も使用することができる。基板１０００上に絶縁膜１０１０が設けられ、絶縁膜１０１０の上方には画素部１００２、ゲート側駆動回路１００３が形成されており、画素部１００２は電流制御用ＴＦＴ１０１１とそのドレインに電気的に接続された画素電極１０１２を含む複数の画素により形成される。また、ゲート側駆動回路１００３はｎチャネル型ＴＦＴ１０１３とｐチャネル型ＴＦＴ１０１４とを組み合わせたＣＭＯＳ回路を用いて形成される。
【０１３９】
画素電極１０１２はＥＬ素子の陰極として機能する。また、画素電極１０１２の両端にはバンク１０１５が形成され、画素電極１０１２上にはＥＬ層１０１６およびＥＬ素子の陽極１０１７が形成される。
【０１４０】
陽極１０１７は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線１００８を経由してＦＰＣ１００９に電気的に接続されている。さらに、画素部１００２及びゲート側駆動回路１００３に含まれる素子は全て陽極１０１７、シール材１０１８、及びＤＬＣ等からなる保護膜１０１９で覆われている。また、カバー材１０２１と基板１０００とを接着剤で貼り合わせた。また、カバー材には凹部を設け、乾燥剤１０２１を設置する。
【０１４１】
なお、シール材１０１８としては、できるだけ可視光に対して透明もしくは半透明な材料を用いるのが好ましい。また、シール材１０１８はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。
【０１４２】
また、図１０では、画素電極を陰極とし、ＥＬ層と陽極を積層したため、発光方向は図１０に示す矢印の方向となっている。
【０１４３】
なお、本実施例は実施例１乃至４のいずれか一と組み合わせることが可能である。
【０１４４】
［実施例６］
本実施例では、実施例１とは異なる例を図１１に示す。
【０１４５】
まず、絶縁表面を有する基板１１上に導電膜を形成し、パターニングを施すことにより走査線１２を形成する。この走査線１２は後に形成される活性層を光から保護する遮光層としても機能する。ここでは基板１１として石英基板を用い、走査線１２としてポリシリコン膜（膜厚５０ｎｍ）とタングステンシリサイド（Ｗ−Ｓｉ）膜（膜厚１００ｎｍ）の積層構造を用いた。また、ポリシリコン膜はタングステンシリサイドから基板への汚染を保護するものである。
【０１４６】
次いで、走査線１２を覆う絶縁膜１３ａ、１３ｂを膜厚１００〜１０００ｎｍ（代表的には３００〜５００ｎｍ）で形成する。ここではＣＶＤ法を用いた膜厚１００ｎｍの酸化シリコン膜とＬＰＣＶＤ法を用いた膜厚２８０ｎｍの酸化シリコン膜を積層させた。
【０１４７】
次いで、非晶質半導体膜を膜厚１０〜１００ｎｍで形成する。ここでは膜厚６９ｎｍの非晶質シリコン膜（アモルファスシリコン膜）をＬＰＣＶＤ法を用いて形成した。次いで、この非晶質半導体膜を結晶化させる技術として実施の形態１または実施の形態２に示した技術を用いて結晶化、ゲッタリング、パターニングを行い結晶質シリコン膜の不要な部分を除去して、半導体層１４を形成する。
【０１４８】
次いで、保持容量を形成するため、マスクを形成して半導体層の一部（保持容量とする領域）にリンをドーピングする。
【０１４９】
次いで、マスクを除去し、半導体層を覆う絶縁膜を形成した後、マスクを形成して保持容量とする領域上の絶縁膜を選択的に除去する。
【０１５０】
次いで、マスクを除去し、熱酸化を行って絶縁膜（ゲート絶縁膜）１５を形成する。この熱酸化によって最終的なゲート絶縁膜の膜厚は８０ｎｍとなった。なお、保持容量とする領域上に他の領域より薄い絶縁膜を形成した。
【０１５１】
次いで、ＴＦＴのチャネル領域となる領域にｐ型またはｎ型の不純物元素を低濃度に添加するチャネルドープ工程を全面または選択的に行った。このチャネルドープ工程は、ＴＦＴしきい値電圧を制御するための工程である。なお、ここではジボラン（Ｂ2Ｈ6）を質量分離しないでプラズマ励起したイオンドープ法でボロンを添加した。もちろん、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよい。
【０１５２】
次いで、絶縁膜１５、及び絶縁膜１３ａ、１３ｂ上にマスクを形成し、走査線１２に達するコンタクトホールを形成する。そして、コンタクトホールの形成後、マスクを除去する。
【０１５３】
次いで、導電膜を形成し、パターニングを行ってゲート電極１６および容量配線１７を形成する。ここでは、リンがドープされたシリコン膜（膜厚１５０ｎｍ）とタングステンシリサイド（膜厚１５０ｎｍ）との積層構造を用いた。なお、保持容量は、絶縁膜１５を誘電体とし、容量配線１７と半導体層の一部とで構成されている。
【０１５４】
次いで、ゲート電極１６および容量配線１７をマスクとして自己整合的にリンを低濃度に添加する。この低濃度に添加された領域のリンの濃度が、１×１０16〜５×１０18ａｔｏｍｓ／ｃｍ3、代表的には３×１０17〜３×１０18ａｔｏｍｓ／ｃｍ3となるように調整する。
【０１５５】
次いで、マスクを形成してリンを高濃度に添加し、ソース領域またはドレイン領域となる高濃度不純物領域を形成する。この高濃度不純物領域のリンの濃度が１×１０20〜１×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3（代表的には３×１０19〜３×１０20/cm3）となるように調整する。なお、半導体層１４のうち、ゲート電極１６と重なる領域はチャネル形成領域となり、マスクで覆われた領域は低濃度不純物領域となりＬＤＤ領域として機能する。そして、不純物元素の添加後、マスクを除去する。
【０１５６】
次いで、画素と同一基板上に形成される駆動回路に用いるｐチャネル型ＴＦＴを形成するために、マスクでｎチャネル型ＴＦＴとなる領域を覆い、ボロンを添加してソース領域またはドレイン領域を形成する。
【０１５７】
次いで、マスク４１２を除去した後、ゲート電極１６および容量配線１７を覆うパッシベーション膜１８を形成する。ここでは、酸化シリコン膜を７０ｎｍの膜厚で形成した。次いで、半導体層にそれぞれの濃度で添加されたｎ型またはｐ型不純物元素を活性化するための熱処理または強光の照射処理工程を行う。ここでは裏面からＹＡＧレーザーを照射して活性化を行った。ＹＡＧレーザーに代えてエキシマレーザーを照射してもよい。
【０１５８】
次いで、有機樹脂材料からなる層間絶縁膜１９を形成する。ここでは膜厚４００ｎｍのアクリル樹脂膜を用いた。次いで、半導体層に達するコンタクトホールを形成した後、電極２０及びソース配線２１を形成する。本実施例では電極２０及びソース配線２１を、Ｔｉ膜を１００ｎｍ、Ｔｉを含むアルミニウム膜を３００ｎｍ、Ｔｉ膜１５０ｎｍをスパッタ法で連続して形成した３層構造の積層膜とした。
【０１５９】
次いで、水素化処理をおこなった後、アクリルからなる層間絶縁膜２２を形成する。次いで、層間絶縁膜２２上に遮光性を有する導電膜１００ｎｍを成膜し、遮光層２３を形成する。次いで、層間絶縁膜２４を形成する。次いで、電極２０に達するコンタクトホール形成する。次いで、１００ｎｍの透明導電膜（ここでは酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）膜）を形成した後、パターニングして画素電極２５を形成する。
【０１６０】
なお、本実施例は一例であって本実施例の工程に限定されないことはいうまでもない。例えば、各導電膜としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、シリコン（Ｓｉ）から選ばれた元素、または前記元素を組み合わせた合金膜（代表的には、Ｍｏ―Ｗ合金、Ｍｏ―Ｔａ合金）を用いることができる。また、各絶縁膜としては、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜や酸化窒化シリコン膜や有機樹脂材料（ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）等）膜を用いることができる。
【０１６１】
なお、本実施例は実施例１乃至５のいずれか一と組み合わせることが可能である。
【０１６２】
［実施例７］
実施例１では、トップゲート型ＴＦＴを例に説明したが、本発明は図１２に示すボトムゲート型ＴＦＴにも適用することができる。
【０１６３】
図１２（Ａ）は、画素部の画素の一つを拡大した上面図であり、図１２（Ａ）において、点線Ａ−Ａ'で切断した部分が、図１２（Ｂ）の画素部の断面構造に相当する。
【０１６４】
図１２に示す画素部において、画素ＴＦＴ部はＮチャネル型ＴＦＴで形成されている。基板上５１にゲート電極５２が形成され、その上に窒化珪素からなる第１絶縁膜５３ａ、酸化珪素からなる第２絶縁膜５３ｂが設けられている。また、第２絶縁膜上には、活性層としてソース領域またはドレイン領域５４〜５６と、チャネル形成領域５７、５８と、前記ソース領域またはドレイン領域とチャネル形成領域の間にＬＤＤ領域５９、６０が形成される。また、チャネル形成領域５７、５８は絶縁層６１、６２で保護される。絶縁層６１、６２及び活性層を覆う第１の層間絶縁膜６３にコンタクトホールを形成した後、ソース領域５４に接続する配線６４が形成され、ドレイン領域５６に配線６５が接続され、さらにその上にパッシベーション膜６６が形成される。そして、その上に第２の層間絶縁膜６７が形成される。さらに、その上に第３の層間絶縁膜６８が形成され、ＩＴＯ、ＳｎＯ2等の透明導電膜からなる画素電極６９が配線６５と接続される。また、７０は画素電極６９と隣接する画素電極である。
【０１６５】
本実施例では、活性層を上述した実施の形態１または実施の形態２に従って形成する。
【０１６６】
本実施例では一例としてチャネルストップ型のボトムゲート型のＴＦＴの例を示したが特に限定されない。
【０１６７】
なお、本実施例では、画素部の画素ＴＦＴのゲート配線をダブルゲート構造としているが、オフ電流のバラツキを低減するために、トリプルゲート構造等のマルチゲート構造としても構わない。また、開口率を向上させるためにシングルゲート構造としてもよい。
【０１６８】
また、画素部の容量部は、第１絶縁膜及び第２絶縁膜を誘電体として、容量配線７１と、ドレイン領域５６とで形成されている。
【０１６９】
なお、図１２で示した画素部はあくまで一例に過ぎず、特に上記構成に限定されないことはいうまでもない。
【０１７０】
なお、本実施例は実施例１乃至４のいずれか一と組み合わせることが可能である。
【０１７１】
［実施例８］
本発明を実施して形成された駆動回路や画素部は様々なモジュール（アクティブマトリクス型液晶モジュール、アクティブマトリクス型ＥＬモジュール、アクティブマトリクス型ＥＣモジュール）に用いることができる。即ち、それらを表示部に組み込んだ電子機器全てに本発明を実施できる。
【０１７２】
その様な電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型ディスプレイ）、カーナビゲーション、プロジェクタ、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）などが挙げられる。それらの一例を図１３〜図１５に示す。
【０１７３】
図１３（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２００１、画像入力部２００２、表示部２００３、キーボード２００４等を含む。本発明を表示部２００３に適用することができる。
【０１７４】
図１３（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６等を含む。本発明を表示部２１０２に適用することができる。
【０１７５】
図１３（Ｃ）はモバイルコンピュータ（モービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表示部２２０５等を含む。本発明は表示部２２０５に適用できる。
【０１７６】
図１３（Ｄ）はゴーグル型ディスプレイであり、本体２３０１、表示部２３０２、アーム部２３０３等を含む。本発明は表示部２３０２に適用することができる。
【０１７７】
図１３（Ｅ）はプログラムを記録した記録媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであり、本体２４０１、表示部２４０２、スピーカ部２４０３、記録媒体２４０４、操作スイッチ２４０５等を含む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてＤＶＤ（Ｄｉｇｔｉａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本発明は表示部２４０２に適用することができる。
【０１７８】
図１３（Ｆ）はデジタルカメラであり、本体２５０１、表示部２５０２、接眼部２５０３、操作スイッチ２５０４、受像部（図示しない）等を含む。本発明を表示部２５０２に適用することができる。
【０１７９】
図１４（Ａ）はフロント型プロジェクターであり、投射装置２６０１、スクリーン２６０２等を含む。本発明は投射装置２６０１の一部を構成する液晶モジュール２８０８に適用することができる。
【０１８０】
図１４（Ｂ）はリア型プロジェクターであり、本体２７０１、投射装置２７０２、ミラー２７０３、スクリーン２７０４等を含む。本発明は投射装置２７０２の一部を構成する液晶モジュール２８０８に適用することができる。
【０１８１】
なお、図１４（Ｃ）は、図１４（Ａ）及び図１４（Ｂ）中における投射装置２６０１、２７０２の構造の一例を示した図である。投射装置２６０１、２７０２は、光源光学系２８０１、ミラー２８０２、２８０４〜２８０６、ダイクロイックミラー２８０３、プリズム２８０７、液晶モジュール２８０８、位相差板２８０９、投射光学系２８１０で構成される。投射光学系２８１０は、投射レンズを含む光学系で構成される。本実施例は三板式の例を示したが、特に限定されず、例えば単板式であってもよい。また、図１４（Ｃ）中において矢印で示した光路に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するためのフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１８２】
また、図１４（Ｄ）は、図１４（Ｃ）中における光源光学系２８０１の構造の一例を示した図である。本実施例では、光源光学系２８０１は、リフレクター２８１１、光源２８１２、レンズアレイ２８１３、２８１４、偏光変換素子２８１５、集光レンズ２８１６で構成される。なお、図１４（Ｄ）に示した光源光学系は一例であって特に限定されない。例えば、光源光学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１８３】
ただし、図１４に示したプロジェクターにおいては、透過型の電気光学装置を用いた場合を示しており、反射型の電気光学装置及びＥＬモジュールでの適用例は図示していない。
【０１８４】
図１５（Ａ）は携帯電話であり、本体２９０１、音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示部２９０４、操作スイッチ２９０５、アンテナ２９０６、画像入力部（ＣＣＤ、イメージセンサ等）２９０７等を含む。本発明を表示部２９０４に適用することができる。
【０１８５】
図１５（Ｂ）は携帯書籍（電子書籍）であり、本体３００１、表示部３００２、３００３、記憶媒体３００４、操作スイッチ３００５、アンテナ３００６等を含む。本発明は表示部３００２、３００３に適用することができる。
【０１８６】
図１５（Ｃ）はディスプレイであり、本体３１０１、支持台３１０２、表示部３１０３等を含む。本発明は表示部３１０３に適用することができる。
【０１８７】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器の作製方法に適用することが可能である。また、本実施例の電子機器は実施例１〜７のどのような組み合わせからなる構成を用いても実現することができる。
【０１８８】
【発明の効果】
本発明により、高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することができる。
【０１８９】
また、希ガス元素を添加する場合、その処理時間は、１分または２分程度の短時間で高濃度の希ガス元素を半導体膜に添加することができるため、リンを用いたゲッタリングと比較してスループットが格段に向上する。
【０１９０】
また、リンを用いたゲッタリングと比較して、希ガス元素による本発明のゲッタリング能力は高く、さらに高濃度、例えば１×１０20〜５×１０21／cm3で添加できるため、結晶化に用いる金属元素の添加量を多くすることができる。即ち、結晶化に用いる金属元素の添加量を多くすることによって結晶化の処理時間をさらに短時間で行うことが可能となる。また、結晶化の処理時間を変えない場合には、結晶化に用いる金属元素の添加量を多くすることによって、さらなる低温で結晶化することができる。また、結晶化に用いる金属元素の添加量を多くすることによって、自然核の発生を低減することができ、良好な結晶質半導体膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ＴＦＴの作製工程を示す図。
【図２】 ＴＦＴの作製工程を示す図。
【図３】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示す図。
【図４】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示す図。
【図５】 アクティブマトリクス基板の作製工程を示す図。
【図６】 半導体膜の結晶化を示す図。
【図７】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の上面図。
【図８】 透過型の例を示す図。
【図９】 ＥＬモジュールを示す上面図及び断面図。
【図１０】 ＥＬモジュールを示す断面図。
【図１１】 アクティブマトリクス基板の断面図。
【図１２】 アクティブマトリクス基板の断面図及び上面図。
【図１３】 電子機器の一例を示す図。
【図１４】 電子機器の一例を示す図。
【図１５】 電子機器の一例を示す図。
【図１６】 アルゴンガス流量と膜の内部応力との関係を示すグラフ。

Claims (13)

  1. 非晶質構造を有する第１の半導体膜の結晶化に対し触媒作用のある金属元素を、前記非晶質構造を有する第１の半導体膜に添加し、
    前記非晶質構造を有する第１の半導体膜を結晶化させて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成し、
    前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面にバリア層を形成し、
    前記バリア層上に第２の半導体膜を形成し、
    前記第２の半導体膜上に希ガス元素を含む第３の半導体膜を形成し、
    前記第３の半導体膜に前記金属元素をゲッタリングして、前記結晶構造を有する第１の半導体膜中の前記金属元素を低減し、
    前記バリア層をエッチングストッパーとして用いて、前記第２の半導体膜及び前記第３の半導体膜を除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  2. 請求項１において、
    前記第３の半導体膜に、前記希ガス元素を１×１０１９〜１×１０２２／ｃｍ３の濃度で添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  3. 非晶質構造を有する第１の半導体膜の結晶化に対し触媒作用のある金属元素を、前記非晶質構造を有する第１の半導体膜に添加し、
    前記非晶質構造を有する第１の半導体膜を結晶化させて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成し、
    前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面にバリア層を形成し、
    前記バリア層上に第２の半導体膜を形成し、
    前記第２の半導体膜上に第３の半導体膜を形成し、
    前記第３の半導体膜に希ガス元素を添加し、
    前記第３の半導体膜に前記金属元素をゲッタリングして、前記結晶構造を有する第１の半導体膜中の前記金属元素を低減し、
    前記バリア層をエッチングストッパーとして用いて、前記第２の半導体膜及び前記第３の半導体膜を除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
    前記第３の半導体膜に、さらにＯ、Ｏ２、Ｐ、Ｈ、Ｈ２から選ばれた一種または複数種を添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  5. 非晶質構造を有する第１の半導体膜の結晶化に対し触媒作用のある金属元素を、前記非晶質構造を有する第１の半導体膜に添加し、
    前記非晶質構造を有する第１の半導体膜を結晶化させて結晶構造を有する第１の半導体膜を形成し、
    前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面にバリア層を形成し、
    前記バリア層上に第２の半導体膜を形成し、
    前記第２の半導体膜の上層に希ガス元素を添加し、
    前記第２の半導体膜の上層に前記金属元素をゲッタリングして、前記結晶構造を有する第１の半導体膜中の前記金属元素を低減し、
    前記バリア層をエッチングストッパーとして用いて、前記第２の半導体膜を除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  6. 請求項５において、
    前記第２の半導体膜の上層に、前記希ガス元素を１×１０１９〜１×１０２２／ｃｍ３の濃度で添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  7. 請求項５または請求項６において、
    前記第２の半導体膜の上層に、さらにＯ、Ｏ２、Ｐ、Ｈ、Ｈ２から選ばれた一種または複数種を添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  8. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
    加熱処理、強光を照射する処理、またはレーザー光を照射する処理の内、いずれか一の処理、もしくはこれらを組み合わせた処理によって、前記非晶質構造を有する第１の半導体膜を結晶化させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
  9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
    加熱処理または強光を照射する処理によって、前記金属元素をゲッタリングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
  10. 請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
    前記金属元素は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕから選ばれた一種または複数種であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
  11. 請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
    前記バリア層を、オゾンを含む溶液で前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面を酸化することによって形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  12. 請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
    前記バリア層を、紫外線の照射で前記結晶構造を有する第１の半導体膜の表面を酸化することによって形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
  13. 請求項１乃至請求項１２のいずれか一項において、
    前記希ガス元素は、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれた一種または複数種であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
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