TWI664724B - 有機層沉積裝置 - Google Patents

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TWI664724B
TWI664724B TW101118074A TW101118074A TWI664724B TW I664724 B TWI664724 B TW I664724B TW 101118074 A TW101118074 A TW 101118074A TW 101118074 A TW101118074 A TW 101118074A TW I664724 B TWI664724 B TW I664724B
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蔣允豪
柳在光
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三星顯示器有限公司
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Abstract

本發明揭露一種有機層沉積裝置，係可在沉積製程期間精確地對齊基板。此裝置包含：沉積源、沉積源噴嘴單元及圖案化狹縫片。圖案化狹縫片和基板隔開且較基板小，以及具有以垂直於第一方向之第二方向排列的複數個圖案化狹縫。當基板在第一方向相對於此沉積裝置移動時執行沉積。圖案化狹縫片包含彼此隔開的第一對準標記及第二對準標記。基板包含彼此隔開的第一對準圖案及第二對準圖案。此沉積裝置也包含用於分別拍攝第一對準標記/圖樣及第二對準標記/圖樣之第一照像機組件及第二照像機組件。基板的移動速度是和第一照像機組件及第二照像機組件的拍攝速度同步。

Description

有機層沉積裝置
相關專利申請的交互參照
此申請案主張於2011年7月4日向韓國智慧財產局所提交的韓國專利申請號10-2011-0066125的優先權及效益，其所揭露之內容全部在此被納入以供參考。
根據本發明之實施例的一或多個觀點是有關於有機層沉積裝置及使用其以製造有機發光顯示裝置的方法。
有機發光顯示裝置相較於其他顯示裝置具有更大的視角、更好的對比特性、以及更快的反應速度，因而其作為下一代的顯示裝置已引起關注。
有機發光顯示裝置包含在相對於彼此排列之第一電極及第二電極之間且含有發射層的中間層。電極及中間層可經由不同的方法形成，其中之一是對每一電極及中間層執行個別沉積法。當有機發光顯示裝置是藉由使用個別沉積法製造時，具有與待形成之有機層相同圖案的精細金屬光罩(FMM)通常是被設置以緊密地接觸基板，以及為了形成具有期望的圖案之有機層，有機材料沉積在FMM上方。
為了闡述使用FMM之個別沉積法的缺點，根據本發明之實施例的一或多個觀點提供一種有機層沉積裝置，其可簡單地應用至大規模生產大尺寸顯示裝置，且可在沉積製程期間精確地對齊基板。
根據本發明之實施例的一觀點，提供一種用於在基板上形成有機層的有機層沉積裝置。此裝置包含配置以排出沉積材料之沉積源、位在沉積源的一側且包含以第一方向排列的複數個沉積源噴嘴之沉積源噴嘴單元、以及位在沉積源噴嘴單元的對側且具有以垂直於第一方向之第二方向排列的複數個圖案化狹縫之圖案化狹縫片。在第一方向及第二方向中的至少之一的圖案化狹縫片是小於基板。沉積是當基板與圖案化狹縫片隔開且在第一方向相對於有機層沉積裝置移動時執行。圖案化狹縫片包含彼此分開設置的第一對準標記及第二對準標記。基板包含彼此分開設置的第一對準圖案及第二對準圖案。有機層沉積裝置進一步包含用於拍攝第一對準標記及第一對準圖案的第一照相機組件，以及用於拍攝第二對準標記及第二對準圖案的第二照相機組件。基板的移動速度是與第一照相機組件及第二照相機組件的拍攝速度同步，使得基板適當地與有機層沉積裝置對齊時，藉第一照相機組件所捕捉之第一對準圖案的影像實質上是彼此相同，以及藉第二照相機組件所捕捉之第二對準圖案的影像實質上是彼此相同。
沉積源、沉積源噴嘴單元、以及圖案化狹縫片是整體形成為一體。
沉積源及沉積源噴嘴單元、以及圖案化狹縫片可藉由用於引導沉積材料移動的連接構件而整體連接為一體。
連接構件可被形成以密封在沉積源、沉積源噴嘴單元、以及圖案化狹縫片之間的空間。
複數個沉積源噴嘴可傾斜一角度。
複數個沉積源噴嘴可包含在第一方向排成兩列的沉積源噴嘴。此兩列沉積源噴嘴可傾斜以面對彼此。
複數個沉積源噴嘴可包含在第一方向排成兩列的沉積源噴嘴。在此兩列之中，位在圖案化狹縫片的第一側之一列的沉積源噴嘴可排列以面對圖案化狹縫片的第二側。在此兩列之中，位在圖案化狹縫片的第二側之另一列的沉積源噴嘴可排列以面對圖案化狹縫片的第一側。
第一對準圖案可包含沿著第一方向排列的複數個第一標記，第二對準圖案可包含沿著第一方向排列的複數個第二標記，以及在第二方向之第一對準圖案及第二對準圖案是彼此隔開。
複數個第一標記及複數個第二標記的形狀及尺寸可為相同。
在複數個第一標記之間的距離實質上可相等於在複數個第二標記之間的距離。
複數個第一標記及複數個第二標記中的每一標記可具有十字的形狀。
複數個第一標記或複數個第二標記中的每一標記可具有多邊形的形狀。
複數個第一標記或複數個第二標記中的每一標記可具有三角形的形狀。
第一對準圖案及第二對準圖案可具有鋸齒形狀。
基板可以實質上等速度在第一方向移動，第一照像機組件及第二照像機組件可在時間間隔分別拍攝第一對準圖案及第二對準圖案，第一照相機組件可捕捉每一含有第一對準圖案之多個影像，以及第二照相機組件可捕捉每一含有第二對準圖案之多個影像，其數量與含有第一對準圖案之影像的數量相等。
第一照相機組件及第二照像機組件可位在基板上方以分別對應於第一對準標記及第二對準標記。
有機層沉積裝置可進一步控制器，係用於依據第一照相機組件及第二照相機組件所捕捉的資訊而判定基板及圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
控制器可藉由比較第一照像機組件所拍攝之第一對準圖案及第一對準標記的影像之間的第一距離以及第二照像機組件所拍攝之第二對準圖案及第二對準標記的影像之間的第二距離，而判定在實質上垂直於第一方向的第二方向中基板及圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
控制器可藉由比較第一照相機組件所捕捉之第一對準標記的影像及第二照相機組件所捕捉之第二對準標記的影像，而判定圖案化狹縫片是否在第一方向傾斜。
控制器可判定在第一方向中第一對準標記的捕捉影像及第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，可在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之前時，判定圖案化狹縫片是朝向在第一方向的第一對準標記傾斜，以及可在第二對準標記的捕捉影像是位 在第一對準標記的捕捉影像之後時，判定圖案化狹縫片是朝向在第一方向的第二對準標記傾斜。
控制器可藉由比較第一照相機組件所捕捉的第一對準圖案的影像及第二照相機組件所捕捉的第二對準圖案的影像，而判定基板是否在第一方向傾斜。
控制器可判定在第一方向中第一對準標記的捕捉影像及第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，可在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之前時判定基板是朝向在第一方向的第一對準標記傾斜，以及可在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之後時判定基板是朝向在第一方向的第二對準標記傾斜。
基板及圖案化狹縫片可依據控制器判定之對齊的程度，藉由移動基板或圖案化狹縫片而彼此對齊。
圖案化狹縫片可進一步包含在第一方向和第一對準標記隔開的第三對準標記，以及在第一方向和第二對準標記隔開的第四對準標記。
第一對準標記及第三對準標記之間的距離可相等於在第二對準標記及第四對準標記之間的距離。
在第二方向之第一對準標記及第二對準標記可彼此隔開，以及在第二方向之第三對準標記及第四對準標記可彼此隔開。
在第一對準標記及第二對準標記之間的距離實質上可相等於在第三對準標記及第四對準標記之間的距離。
有機層沉積裝置可進一步包含第三照相機組件及第四照相機組件。
第三照相機組件及第四照相機組件可位在基板上方以分別對應於第三對準標記及第四對準標記。
根據本發明之另一觀點，提供一種用於在基板上形成有機層的有機層沉積裝置，此裝置包含配置以排出沉積材料之沉積源；位在沉積源之一側且包含以第一方向排列的複數個沉積源噴嘴之沉積源噴嘴單元；位在沉積源噴嘴單元之對側且具有以第一方向排列的複數個圖案化狹縫之圖案化狹縫片，在第一方向或實質上垂直於第一方向之第二方向中的至少之一的圖案化狹縫片是小於基板；以及包含以第一方向位在沉積源噴嘴單元與圖案化狹縫片之間且將沉積源噴嘴單元與圖案化狹縫片之間的空間劃分為複數個子沉積空間的複數個阻隔板之阻隔板組件。有機層沉積裝置及基板是彼此隔開。有機層沉積裝置或基板在沉積期間是相對於另一方移動。基板包含彼此分開設置的第一對準圖案及第二對準圖案。有機層沉積裝置進一步包含用於拍攝第一對準標記及第一對準圖案之第一照相機組件，以及用於拍攝第二對準標記及第二對準圖案之第二照相機組件。基板的移動速度是與第一照相機組件及第二照相機組件的拍攝速度同步，使得基板適當地與有機層沉積裝置對齊時，藉第一照相機組件所捕捉之第一對準圖案的影像實質上是彼此相同，以及藉第二照相機組件所捕捉之第二對準圖案的影像實質上是彼此相同。
複數個阻隔板可在實質上垂直於第一方向之第二方向延伸。
阻隔板組件可包含含有複數個第一阻隔板的第一阻隔板組件，以及含有複數個第二阻隔板的第二阻隔板組件。
複數個第一阻隔板及複數個第二阻隔板可在實質上垂直於第一方向之第二方向延伸。
複數個第一阻隔板可分別對應於複數個第二阻隔板而排列。
第一對準標記可包含沿著第一方向排列的複數個第一標記。第二對準標記可包含沿著第一方向排列的複數個第二標記。第一對準標記及第二對準標記可在第二方向彼此隔開。
複數個第一標記及複數個第二標記的形狀及尺寸可為相同。
複數個第一標記之間的距離可相等於在複數個第二標記之間的距離。
複數個第一標記及複數個第二標記中的每一標記可具有十字的形狀。
複數個第一標記或複數個第二標記中的每一標記可具有多邊形的形狀。
基板可以實質上等速度在第一方向移動，第一照像機組件及第二照像機組件可在時間間隔分別拍攝第一對準圖案及第二對準圖案，第一照相機組件可捕捉每一含有第一對準圖案之多個影像，第二照相機組件可捕捉每一含有第二對準圖案之多個影像，其數量與含有第一對準圖案之影像的數量相等。
第一照相機組件及第二照相機組件可位在基板上方以分別對應於第一對準標記及第二對準標記。
有機層沉積裝置可進一步包含控制器，係用於依據第一照相機組件及第二照相機組件所捕捉的資訊而判定基板及圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
控制器可藉由比較第一照相機組件所拍攝的第一對準圖案及第一對準標記的影像之間的第一距離以及第二照相機組件所拍攝的第二對準圖案及第二對準標記的影像之間的第二距離，而判定在實質上垂直於第一方向的第二方向中基板及圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
控制器可藉由比較第一照相機組件所捕捉之第一對準標記的影像及第二照相機組件所捕捉之第二對準標記的影像，而判定圖案化狹縫片是否在第一方向傾斜。
控制器可判定在第一方向中第一對準標記的捕捉影像及第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，可在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之前時判定圖案化狹縫片是朝向在第一方向的第一對準標記傾斜，以及在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之後時判定圖案化狹縫片是朝向在第一方向的第二對準標記傾斜。
控制器可藉由比較第一照相機組件所捕捉的第一對準圖案的影像及第二照相機組件所捕捉的第二對準圖案的影像，而判定基板是否在第一方向傾斜。
控制器可判定在第一方向之中第一對準標記的捕捉影像及第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，可在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之前時判定基板是朝向在第一方向的第一對準標記傾斜，以及在第二對準標記的捕捉影像是位在第一對準標記的捕捉影像之後時判定基板是朝向在第一方向的第二對準標記傾斜。
基板及圖案化狹縫片可依據控制器判定之對齊的程度，藉由移動基板或圖案化狹縫片而彼此對齊。
圖案化狹縫片可進一步包含在第一方向和第一對準標記隔開的第三對準標記，以及在第一方向和第二對準標記隔開的第四對準標記。
有機層沉積裝置可進一步包含第三照相機組件及第四照相機組件。第三照相機組件及第四照相機組件可位在基板上方以分別對應於第三對準標記及第四對準標記。
30‧‧‧基板
31‧‧‧絕緣層
32‧‧‧閘極絕緣層
33‧‧‧層間絕緣層
34‧‧‧鈍化層
35‧‧‧像素定義層
40‧‧‧薄膜電晶體
41‧‧‧半導體主動層
42‧‧‧閘極電極
43‧‧‧源極/汲極電極
50‧‧‧電容
51‧‧‧第一電容電極
52‧‧‧第二電容電極
60‧‧‧有機發光二極體
61‧‧‧第一電極
62‧‧‧第二電極
63‧‧‧有機發射層
64‧‧‧開口
100‧‧‧第一有機層沉積裝置
100'、100"、100'''、100a、101‧‧‧有機層沉積裝置
110、110'、110"‧‧‧沉積源
111‧‧‧冷卻
112‧‧‧坩鍋
115‧‧‧沉積材料
120、120"‧‧‧沉積源噴嘴單元
121、121'、121"‧‧‧沉積源噴嘴
121a'‧‧‧第一沉積源噴嘴
121b'‧‧‧第二沉積源噴嘴
130‧‧‧第一阻隔板組件
131‧‧‧第一阻隔板
132‧‧‧阻隔板框架
135‧‧‧連接構件
140‧‧‧第二阻隔板組件
141‧‧‧第二阻隔板
142‧‧‧第二阻隔板框架
150、150'‧‧‧圖案化狹縫片
151‧‧‧圖案化狹縫
152‧‧‧第一對準標記
152'‧‧‧第三對準標記
153‧‧‧第二對準標記
153'‧‧‧第四對準標記
155‧‧‧框架
161‧‧‧第一照相機組件
161'‧‧‧第三照相機組件
162‧‧‧第二照相機組件
162'‧‧‧第四照相機組件
170‧‧‧控制器
200‧‧‧第二有機層沉積裝置
300‧‧‧第三有機層沉積裝置
400‧‧‧第四有機層沉積裝置
500、500'‧‧‧基板
502‧‧‧第一對準圖案
502a‧‧‧第一標記
503‧‧‧第二對準圖案
503a‧‧‧第二標記
600‧‧‧靜電夾盤
602‧‧‧第一對準圖案
603‧‧‧第二對準圖案
610‧‧‧第一運送單元
620‧‧‧第二運動單元
710‧‧‧裝載單元
712‧‧‧第一料架
714‧‧‧傳送機械手
716‧‧‧傳送室
718‧‧‧第一反轉室
719‧‧‧第一反轉機械手
720‧‧‧卸載單元
722‧‧‧第二料架
724‧‧‧射出機械手
726‧‧‧射出室
728‧‧‧第二反轉室
729‧‧‧第二反轉機械手
730‧‧‧沉積單元
731‧‧‧第一腔室
732‧‧‧第二腔室
A、B‧‧‧第一對準圖案及第一對準標記之間的距離
A'、B'‧‧‧第二對準圖案及第二對準標記之間的距離
D1‧‧‧第一對準標記及第二對準標記之間的距離
D2‧‧‧第一對準圖案及第二對準圖案之間的距離
h1‧‧‧第一對準標記及第二對準標記的Y軸座標之間的差距
h2‧‧‧第一對準圖案及第二對準圖案的Y軸座標之間的差距
P、θ‧‧‧箭頭
S‧‧‧沉積空間
θ1‧‧‧圖案化狹縫片扭曲的角度
θ2‧‧‧基板扭曲的角
本發明之上述及其他特徵將藉由參照附圖詳細地描述其例示性實施例而變得更加明顯，其中：第1圖係為根據本發明之一實施例之包含有機層沉積裝置的有機層沉積系統之示意圖；第2圖係描繪第1圖之有機層沉積系統的一修改例子；第3圖係為根據本發明之一實施例之有機層沉積裝置之透視示意圖； 第4圖係為在平行於YZ平面的平面所截取之第3圖的有機層沉積裝置之剖面示意圖；第5圖係為在平行於XZ平面的平面所截取之第3圖的有機層沉積裝置之剖面示意圖；第6圖係為描繪根據本發明之一實施例之基板及圖案化狹縫片的排列之平面圖；第7圖係為描繪第6圖的排列的一修改例子之平面圖；第8圖係描繪根據本發明之一實施例之分別由第3圖的第一照相機組件及第二照相機組件捕捉之第一對準圖案及第二對準圖案的影像；第9圖係描繪當第3圖的基板及圖案化狹縫片在第一方向彼此適當地對齊時，第一對準圖案及第二對準圖案以及第一對準標記及第二對準標記的排列；第10圖係描繪當第3圖的基板在X軸方向移動時，第一對準圖案及第二對準圖案以及第一對準標記及第二對準標記的排列；第11圖係描繪當第3圖的圖案化狹縫片在箭頭‘θ’所指的方向扭曲時，第一對準圖案及第二對準圖案以及第一對準標記及第二對準標記的排列；第12圖係描繪根據本發明之一實施例，當第3圖的基板在箭頭‘θ’所指的方向扭曲時，第一對準圖案及第二對準圖案以及第一對準標記及第二對準標記的排列； 第13圖係描繪根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置的透視示意圖；第14圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置之透視示意圖；第15圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置之透視示意圖；第16圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置之透視剖視示意圖；第17圖係為在平行於YZ平面的平面所截取之第16圖的有機層沉積裝置之剖面示意圖；第18圖係為在平行於XZ平面的平面所截取之第16圖的有機層沉積裝置之剖面示意圖；第19圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置之透視剖視示意圖；以及第20圖係為根據本發明之一實施例之藉由使用有機沉積裝置所製造的有機發光顯示器之剖面圖。
本發明現在將參照其中顯示本發明的例示性實施例的附圖而被更充分地描述。圖式中，層及區域的厚度為了清晰起見而誇大。圖式中相似的參考數字代表相似的元件，因而多餘或重複的描述可被省略。
一般而言，使用精細金屬光罩(FMM)的沉積方法是不適用於製造使用具有5G尺寸之母玻璃的較大裝置，即1100mm x 1300mm或 更大。換句話說，當使用如此大的光罩時，光罩可能因為其自身的重量而彎曲，因而扭曲圖樣。這是不利於近期朝向高清晰度圖樣之趨勢。
第1圖係為根據本發明之一實施例之包含有機層沉積裝置的有機層沉積系統之示意圖。第2圖係描繪第1圖之有機層沉積系統的一修改例子。
參照第1圖，有機層沉積裝置包含裝載單元710、沉積單元730、卸載單元720、第一運送單元610及第二運送單元620。
裝載單元710可包含第一料架(rack)712、傳送機械手714、傳送室716以及第一反轉室718。
沉積材料未施加於其上之複數個基板500是堆疊在第一料架712上。傳送機械手714自第一料架712拿起基板500的其中之一，將其放置在第二運送單元620所輸送的靜電夾盤(chuck)600上，且移動基板500設置於其上之靜電夾盤600至傳送室716。
第一反轉室718鄰接傳送室716而設置。位在第一反轉室718的第一反轉機械手719反轉靜電夾盤600且接著將其裝載至沉積單元730的第一運送單元610上。
參照第1圖，傳送機械手714放置基板500的其中之一至靜電夾盤600的上表面，且基板500設置於其上之靜電夾盤600是裝載入傳送室716。第一反轉機械手719反轉靜電夾盤600使得在沉積單元730的基板500上下翻轉。
卸載單元720是被建構以與上述裝載單元710的相反方式操作。更具體地，在第二反轉室728的第二反轉機械手729反轉在其上具 有基板500且通過沉積單元730之靜電夾盤600，且接著移動在其上設置有基板500之靜電夾盤600至射出室726。接著，射出機械手724自射出室726移除在其上設置有基板500之靜電夾盤600，自靜電夾盤600分離基板500且接著裝載基板500至第二料架722上。自基板500分離的靜電夾盤600經由第二運動單元620返回至裝載單元710。
然而，本發明並不限於以上之描述。舉例來說，當基板500最初設置在靜電夾盤600上時，基板500可被固定至靜電夾盤600的下表面且接著被移動至沉積單元730。在這種情況下，舉例來說，第一反轉室718、第一反轉機械手719、第二反轉室728以及第二反轉機械手729不被使用。
沉積單元730可包含至少一沉積室。參照第1圖，沉積單元730可包含第一至第四有機層沉積裝置100、200、300及400位於其中之第一腔室731。雖然第1圖描繪共四個有機層沉積裝置，即第一至第四有機層沉積裝置100至400是安裝在第一腔室731中，可安裝在第一腔室731之有機層沉積裝置的總數目可根據沉積材料及沉積條件而變化。第一腔室731在沉積製程期間是維持在真空狀態。
參照第2圖，根據本發明之另一實施例，沉積單元730可包含彼此連接的第一腔室731及第二腔室732，第一有機層沉積裝置100及第二有機層沉積裝置200可位在第一腔室731中，以及第三有機層沉積裝置300及第四有機層沉積裝置400可位在第二腔室732中。根據本發明之另一實施例，有機層沉積系統可包含超過兩個的腔室。
在第1圖所描繪之實施例中，基板500設置於其上之靜電夾盤600藉由第一運送單元610可至少被移動至沉積單元730或可被依序移動至裝載單元710、沉積單元730以及卸載單元720。與卸載單元720中之基板500分離的靜電夾盤600藉由第二運送單元620而移動返回至裝載單元710。
第3圖係為根據本發明之一實施例之有機層沉積裝置101之透視示意圖。第4圖係為第3圖所繪示的有機層沉積裝置101在平行於YZ平面的平面所截取之剖面示意圖。第5圖係為第3圖所繪示的有機層沉積裝置101在平行於XZ平面的平面所截取之平面示意圖。
參照第3圖至第5圖，根據當前實施例之有機層沉積裝置101包含沉積源110、沉積源噴嘴單元120、圖案化狹縫片150、第一照相機組件161、第二照相機組件162以及控制器170。
具體地，在使用FMM的沉積方法中，第1圖的第一腔室731應基本上維持在高真空狀態，使得自沉積源110排出的沉積材料115可通過沉積源噴嘴單元120及圖案化狹縫片150，且接著以期望的圖樣被沉積至基板500上。此外，圖案化狹縫片150的溫度應是充分地低於沉積源110的溫度。在這方面，圖案化狹縫片150的溫度可能是約100℃或更少。圖案化狹縫片150的溫度應是充分地低以便減少圖案化狹縫片150的熱膨脹。
作為沉積靶基板的基板500是設置在第一腔室731中。基板500可以是用於平面顯示器的基板。用於製造複數個平面顯示器的大基板，像是母玻璃可使用作為基板500。其他基板也可被使用。
在當前實施例中，當基板500是相對於有機層沉積裝置101移動(例如連續地移動)時，沉積被執行。
尤其是，在典型的FMM沉積方法中，FMM的尺寸通常是相等於基板的尺寸。因此，因為FMM的尺寸隨著基板變大而增加，製造大的FMM既不簡單也不易延伸FMM以精準地對齊圖樣。
為了克服這問題，在根據當前實施例之有機層沉積裝置101中，沉積可在有機層沉積裝置101或基板500相對於另一方移動時執行。換句話說，沉積可在被設置例如是面對有機層沉積裝置101之基板500在Y軸方向移動時連續地執行。也就是，基板500在第6圖的箭頭P所指之方向，即第一方向移動時，沉積可以掃描的方式執行。
在根據當前實施例之有機層沉積裝置101中，圖案化狹縫片150可小於(例如顯著地小於)傳統沉積方法中所使用的FMM。換句話說，在有機層沉積裝置101中，沉積是當基板500在Y軸方向移動時連續地執行，即以掃描的方式。因此，圖案化狹縫片150在X軸及/或Y軸方向的長度可顯著地小於基板500在X軸及/或Y軸方向的長度。如上所述，因為圖案化狹縫片150可被形成為小於(例如顯著地小於)傳統沉積方法中所使用的FMM，製造使用在本發明之實施例中的圖案化狹縫片150是相對簡單的。換句話說，相較於使用較大FMM的傳統沉積方法，使用小於傳統沉積方法中所使用的FMM之圖案化狹縫片150在所有製程中是更方便的，包含蝕刻及其他後續製程，像是精確的延伸、焊接(welding)、移動及清洗製程。舉例來說，此對於相對大的顯示器裝置是更有利的。
包含並加熱沉積材料115的沉積源110是位在第一腔室731之基板500所在的一側之對側。當沉積材料115在沉積源110被蒸發時，沉積材料115是沉積在基板500上。
舉例來說，沉積源110包含裝滿沉積材料115的坩鍋112，以及加熱坩鍋112以蒸發坩鍋112中之沉積材料115朝向坩鍋112之一側的冷卻塊111。冷卻塊111防止或減少來自坩鍋112外部的熱輻射，即進入腔室。冷卻塊111可包含加熱坩鍋112的加熱器(未顯示)。
沉積源噴嘴單元120位在沉積源110的一側，且特別是在沉積源110面對基板500的那一側。沉積源噴嘴單元120包含可在Y軸方向，即基板500的掃描方向，以相等間距排列之複數個沉積源噴嘴121。在沉積源110中蒸發的沉積材料115通過沉積源噴嘴單元120朝向沉積靶基板500。如上所述，當沉積源噴嘴單元120包含以Y軸方向，也就是以基板500的掃描方向排列之複數個沉積源噴嘴121時，由通過圖案化狹縫片150之複數個圖案化狹縫151中的每一個排出的沉積材料所形成之圖樣的尺寸是受到沉積源噴嘴121中之一的尺寸影響(因為只有一個沉積源噴嘴121在X軸方向)。因此，沒有陰影區域可被形成在基板500上。此外，因為複數個沉積源噴嘴121是排列在基板500的掃描方向，即使在沉積源噴嘴121之間的通量有差異，此差異可被補償且沉積均一性可維持恆定或實質上恆定。
圖案化狹縫片150及框架155是位在沉積源110及基板500之間。框架155的形狀纇似於窗戶框架。圖案化狹縫片150是黏合至框架155內側。圖案化狹縫片150具有以X軸方向排列之複數個圖案化狹縫 151。在沉積源110中蒸發的沉積材料115通過沉積源噴嘴單元120及圖案化狹縫片150而朝向基板500。圖案化狹縫片150可藉由蝕刻而製造，其方法與使用在傳統製造FMM的方法相同，特別是有條紋的FMM(striped FMM)。在這方面，圖案化狹縫151的總數目可大於沉積源噴嘴121的總數目。
此外，沉積源110及連接至沉積源110的沉積源噴嘴單元120可被排列以一距離(例如一預定的距離)和圖案化狹縫片150分開。沉積源110及連接至沉積源110的沉積源噴嘴單元120可藉由連接構件135而連接至圖案化狹縫片150。也就是，沉積源110、沉積源噴嘴單元120以及圖案化狹縫片150可藉由經連接構件135來彼此連接而整體地形成為一體。連接構件135可引導通過沉積源噴嘴121排出之沉積材料115直線移動且不會在X軸方向流動。參照如第4圖描繪之實施例，連接構件135只形成在沉積源、沉積源噴嘴單元120及圖案化狹縫片150的左側及右側，以引導沉積材料115不在X軸方向流動；然而，本發明之觀點並不限於此。舉例來說，連接構件135可以密封盒的形式形成，以便引導沉積材料115不在X軸及Y軸方向流動。
如上所述，根據當前實施例之有機層沉積裝置101在相對於基板500移動時執行沉積。為了相對於基板500移動有機層沉積裝置101，圖案化狹縫片150是以一距離(例如一預定的距離)和基板500分開設置。
尤其是，在使用FMM的傳統沉積方法中，為了防止在基板上形成陰影區域，沉積是以FMM與基板緊密接觸來執行。然而，當FMM 緊密接觸基板而使用時，此接觸可能導致損壞。此外，在典型的沉積方法中，光罩的尺寸是與基板的尺寸相同，因為光罩不可相對於基板而移動。因此，光罩的尺寸隨著顯示器變大而增加。然而，製造這樣大的光罩是不容易的。
為了克服此問題，在根據當前實施例之有機層沉積裝置101中，圖案化狹縫片150被排列而以一距離(例如一預定的距離)與基板500分開設置(或定位)。
如上所述，根據本發明之實施例，光罩是形成為小於基板，以及沉積是在光罩相對於基板移動時執行。因此，光罩可輕易地被製造。此外，可能發生在傳統沉積製程中由於基板與FMM之間的接觸而導致之損壞可被防止。而且，因為在沉積製程期間定位圖案化狹縫片150(不像FMM)與基板緊密接觸是不必要的，製造時間可被減少。
在本發明的一實施例中，有機層沉積裝置101可進一步包含第一對準圖案502及第二對準圖案503、第一對準標記152及第二對準標記153、第一照相機組件161及第二照相機組件162以及控制器170以使基板500及圖案化狹縫片150彼此對齊。
第一對準圖案502及第二對準圖案503沿著基板500的移動方向P形成在基板500上。第一對準圖案502及第二對準圖案503可形成在基板500的兩端而彼此分開設置。第一對準圖案502可包含沿著基板500的移動方向P排列之複數個第一標記502a(如第6圖所示)，以及第二對準圖案503可包含沿著基板500的移動方向P排列之複數個第二標記503a(如第6圖所示)。複數個第一標記502a及複數個第二標記503a中的每 一標記可具有例如十字的形狀。在複數個第一標記502a中之兩緊鄰的標記(例如最接近的標記)之間的距離可以是相同的，以及在複數個第二標記503a中之兩緊鄰的標記之間的距離也可以是相同的。此外及/或可選擇地，在複數個第一標記502a中之兩緊鄰的標記之間的距離可相等於在複數個第二標記503a中之兩緊鄰的標記之間的距離。
第一對準標記152及第二對準標記153可位在或接近圖案化狹縫片150之各自的末端(例如在徑向或縱向方向的末端)。第一對準標記152及第二對準標記153可在垂直於移動方向P的方向(第二方向)彼此分開設置。第一對準標記152及第二對準標記153中之每一對準標記可具有圓形的形狀。然而，本發明並不限於此，且第一對準標記152及第二對準標記153中之每一對準標記可具有多邊形的形狀或任何其他適合的形狀。舉例來說，若第一對準標記152及第二對準標記153中之每一對準標記具有直角三角形(例如直角)的形狀，第一對準標記152及第二對準標記153的斜邊可面對圖案化狹縫151。
當基板500及圖案化狹縫片150彼此適當地對齊時，接著第一對準標記152及第二對準標記153是位在第一對準圖案502及第二對準圖案503之間。這將在稍後描述。
第一照相機組件161及第二照相機組件162可位在基板500上或上方以分別對應於第一對準標記152及第二對準標記153。第一照相機組件161可拍攝在基板500上之第一對準圖案502及第一對準標記152，以及第二照相機組件162可拍攝在基板500上之第二對準圖案503及第二對準標記153。因為基板500是透明的，第一照相機組件161及第二 照相機組件162可分別拍攝自基板500所觀看到的第一對準標記152及第二對準標記153。第一照相機組件161及第二照相機組件162在垂直於移動方向P之第二方向對齊。
控制器170可藉由分析第一照相機組件161及第二照相機組件162所捕捉之資訊判定基板500及圖案化狹縫片150彼此對齊的程度，以及可控制驅動器(未顯示)以依據對齊程度移動基板500或圖案化狹縫片150。
第3圖所繪示之基板500與圖案化狹縫片150的對位(alignment)現在將參照第6圖至第12圖描述。
第6圖係為描繪根據本發明之一實施例之自第一照相機組件161及第二照相機組件162所觀看到的基板500及圖案化狹縫片150的排列之平面圖。
參照第6圖，基板500是在Y軸方向移動。第一對準圖案502及第二對準圖案503是平行於基板500移動之Y軸方向而排列。第一對準圖案502及第二對準圖案503可位在基板500各自的末端以在垂直於Y軸方向之X軸方向彼此隔開。
位在圖案化狹縫片150之第一對準標記152及第二對準標記153可在第二方向中彼此隔開，且可位在第一對準圖案502及第二對準圖案503之間。
第7圖係為描繪第6圖的排列的一修改例子之平面圖。參照第7圖，基板500'可包含每一具有複數個三角形的形狀之第一對準圖案602及第二對準圖案603。在第一對準圖案602及第二對準圖案603的每一 對準圖案中，每一具有直角三角形(例如直角)形狀之複數個對準標記可以鋸齒形式連續地排列。然而，本發明不限於此，舉例來說，複數個多角形的對準標記可連續地排列在第一對準圖案602及第二對準圖案603中的每一個。
第8圖係描繪根據本發明之一實施例之分別由第3圖的第一照相機組件161及第二照相機組件162捕捉之第一對準圖案502及第二對準圖案503的影像。具體地，在第8圖中，左圖表示第一照相機組件161所捕捉之第一對準圖案502的影像，以及右圖表示第二照相機組件162所捕捉之第二對準圖案503的影像。因為第一照相機組件161及第二照相機組件162的拍攝速度可與基板500的移動速度同步，第一照相機組件161可捕捉第一對準圖案502的相同影像(或實質上相同的影像)以及第二照相機組件162可捕捉第二對準圖案503的相同影像(或實質上相同的影像)。更具體地，第一照相機組件161及第二照相機組件162的每一個可捕捉在時間間隔(例如一預定的時間間隔)移動之基板500的影像。因為基板500在第一照相機組件161及第二照相機組件162的拍攝操作期間是以規律的速度移動，第一照相機組件161及第二照相機組件162可分別捕捉第一對準圖案502及第二對準圖案503的相同影像(或實質上相同的影像)。
第9圖係描繪當第3圖的基板500及圖案化狹縫片150在第一方向彼此適當地對齊時，第一對準圖案502及第二對準圖案503以及第一對準標記152及第二對準標記153的排列。
參照第3圖及第9圖，第一照相機組件161可位在第一對準標記152上方，第二照相機組件162可位在第二對準標記153上方，第一 照相機組件161可捕捉如第9圖左圖所示之第一對準圖案502及第一對準標記152的影像，以及第二照相機組件162可捕捉如第9圖右圖所示之第二對準圖案503及第二對準標記153的影像。若基板500及圖案化狹縫片150彼此適當地對齊，則第一對準圖案502及第一對準標記152之間的距離A相等於第二對準圖案503及第二對準標記153之間的距離A'。
第10圖係描繪當第3圖的基板500在X軸方向移動時，第一對準圖案502及第二對準圖案503以及第一對準標記152及第二對準標記153的排列。
參照第10圖，當基板500在X軸方向移動時，第一對準圖案502及第一對準標記152之間的距離B小於第二對準圖案503及第二對準標記153之間的距離B'。
若基板500在X軸方向移動，控制器170控制驅動器(未顯示)以(B'-B)/2距離在X軸方向移動基板500。
第11圖係描繪當第3圖的圖案化狹縫片在箭頭‘θ’所指的方向扭曲時，第一對準圖案及第二對準圖案以及第一對準標記及第二對準標記的排列。若圖案化狹縫片150是在θ方向被扭曲，其表示圖案化狹縫片150是相對於Z軸以逆時針(在θ方向)或順時針(在反θ方向)移動。
參照第11圖，若圖案化狹縫片150在’θ’方向(逆時針)被扭曲，則在Y軸方向中，藉由第二照相機組件162捕捉之第二對準標記153的影像是位在藉由第一照相機組件161捕捉之第一對準標記152的影像之前。換句話說，第二對準標記153的Y軸座標是相對於第一對準標記152而言以‘h1’的差距大於第一對準標記152的Y軸座標。圖案化狹縫片150 扭曲的程度可藉由計算在第一對準標記152及第二對準標記153之間的距離D1以及在第一對準標記152及第二對準標記153的Y軸座標之間的差距h1而量測。詳細地，圖案化狹縫片150扭曲的角度θ1等於反正切(h1/D1)。在這種情況下，控制器170控制驅動器(未顯示)以反正切(h1/D1)角度在反θ方向(順時針)移動圖案化狹縫片150。
第12圖係描繪根據本發明之一實施例，當第3圖的基板500在箭頭‘θ’所指的方向扭曲時，第一對準圖案502及第二對準圖案503以及第一對準標記152及第二對準標記153的排列。若基板500是在θ方向被扭曲，其表示基板500是相對於Z軸以逆時針(在θ方向)或順時針(在反θ方向)移動。
參照第12圖，若基板500在θ方向(逆時針)被扭曲，則在Y軸方向中，藉由第二照相機組件162捕捉之第二對準圖案503的影像是位在藉由第一照相機組件161捕捉之第一對準圖案502的影像之前。換句話說，第二對準圖案503的Y軸座標是相對於第一對準圖案502而言以‘h2’的差距大於第一對準圖案502的Y軸座標。基板500扭曲的程度可藉由計算在第一對準圖案502及第二對準圖案503之間的距離D2以及在第一對準圖案502及第二對準圖案503的Y軸座標之間的差距h2而量測。詳細地，基板500扭曲的角度θ2等於反正切(h2/D2)。在這種情況下，控制器170控制驅動器(未顯示)以反正切(h2/D2)角度在反θ方向(順時針)移動基板500。
如上所述，根據本發明之一實施例，不僅在基板500是以垂直於移動方向(第一方向)的方向移動時，而且在基板500在移動方向 (第一方向)被扭曲時，第3圖的有機層沉積裝置101能夠控制基板500與圖案化狹縫片150的對位。
第13圖係描繪根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置100a的透視示意圖。參照第13圖，相較於第3圖的有機層沉積裝置101，有機層沉積裝置100a進一步包含第三對準標記152'、第四對準標記153'、第三照相機組件161'以及第四照相機組件162'。
具體地，有機層沉積裝置100a的圖案化狹縫片150'可進一步包含第三對準標記152'及第四對準標記153'。在第一方向(Y軸方向)中，第三對準標記152'可和第一對準標記152隔開以及第四對準標記153'可和第二對準標記153隔開。在第一對準標記152及第三對準標記152'之間的距離可相等於在第二對準標記153及第四對準標記153'之間的距離。第一對準標記152及第二對準標記153在第二方向(X軸方向)中是彼此隔開，以及第三對準標記152'及第四對準標記153'在第二方向(X軸方向)中也是彼此隔開。第一對準標記152及第二對準標記153之間的距離可相等於第三對準標記152'及第四對準標記153'之間的距離。
第一至第四照相機組件161、162、161'及162'可位在基板500上以分別對應於第一至第四對準標記152、153、152'及153'。第三照相機組件161'及第四照相機組件162'的拍攝速度可與基板500的移動速度同步。因此，由第三照相機組件161'捕捉之第一對準圖案502的影像可具有相同(或實質上相同)的形狀及大小，以及由第四照相機組件162'捕捉之第二對準圖案503的影像可具有相同(或實質上相同)的形狀及大小。
第14圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置100'之透視示意圖。參照第14圖，有機層沉積裝置100'包含沉積源110'、沉積源噴嘴單元120以及圖案化狹縫片150。沉積源110'包含裝滿沉積材料115的坩鍋112，以及加熱坩鍋112以蒸發在坩鍋112中的沉積材料115朝向沉積源噴嘴單元120的冷卻塊111。具有平面形狀的沉積源噴嘴單元120是位在沉積源110'的一側。沉積源噴嘴單元120包含以Y軸方向排列的複數個沉積源噴嘴121'。圖案化狹縫片150及框架155位在沉積源110'及基板500之間。圖案化狹縫片150具有以X軸方向排列的複數個圖案化狹縫151。沉積源110'及沉積源噴嘴單元120可藉由連接構件135連接至圖案化狹縫片150。
在當前實施例中，形成在沉積源噴嘴單元120上之複數個沉積源噴嘴121'以一角度(例如一預定的角度)傾斜，不像第3圖的有機層沉積裝置101。特別是，沉積源噴嘴121'可包含排列在各列之第一沉積源噴嘴121a'及第二沉積源噴嘴121b'。第一沉積源噴嘴121a'及第二沉積源噴嘴121b'可被排列在各列以交替成鋸齒狀圖樣。第一沉積源噴嘴121a'及第二沉積源噴嘴121b'可在XZ平面上以一角度(例如一預定的角度)傾斜。
在本發明之當前實施例中，第一沉積源噴嘴121a'及第二沉積源噴嘴121b'被排列為彼此傾斜一角度(例如一預定的角度)。在第一列的第一沉積源噴嘴121a'及在第二列的第二沉積源噴嘴121b'可傾斜以面對彼此。也就是說，在沉積源噴嘴單元120的左側部分之第一列的第一沉積源噴嘴121a'可傾斜以面對圖案化狹縫片150的右側部分，以及在沉 積源噴嘴單元121的右側部分之第二列的第二沉積源噴嘴121b'可傾斜以面對圖案化狹縫片150的左側部分。
由於根據當前實施例之有機層沉積裝置100'的結構，沉積材料115的沉積可被調整以減少在基板500上之有機層的中心及末端部分之間的厚度變化，以及提高有機層的厚度均勻性。此外，沉積材料115的使用效率也可被提高。
第15圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置之透視示意圖。參照第15圖，根據當前實施例之有機層沉積裝置包含複數個有機層沉積裝置，稱為第一有機層沉積裝置100、第二有機層沉積裝置200以及第三有機層沉積裝置300，其每一具有於第4圖至第6圖所繪示之有機層沉積裝置的結構。換句話說，根據當前實施例之有機層沉積裝置可包含多沉積源單元，係包含複數個沉積源及其並存地(例如同時地)排出用於形成紅色(R)發射層、綠色(G)發射層以及藍色(B)發射層的沉積材料。
特別是，根據當前實施例之有機層沉積裝置包含第一有機層沉積裝置100、第二有機層沉積裝置200以及第三有機層沉積裝置300。第一有機層沉積裝置100至第三有機層沉積裝置300實質上具有與參照第4至第6圖所描述之有機層沉積裝置101相同的結構，因而其詳細的描述將不在此提供。
第一有機層沉積裝置100至第三有機層沉積裝置300的沉積源可分別包含不同的沉積材料。舉例來說，第一有機層沉積裝置100可包含用於形成紅色(R)發射層的沉積材料，第二有機層沉積裝置200可 包含用於形成綠色(G)發射層的沉積材料，以及第三有機層沉積裝置300可包含用於形成藍色(B)發射層的沉積材料。
換句話說，在製造有機發光顯示裝置的傳統方法中，分開的腔室及光罩被使用以形成每種顏色發射層。然而，當根據當前實施例之有機層沉積裝置被使用時，R發射層、G發射層以及B發射層可在同時間以單一多沉積源單元而形成。因此，製造有機發光顯示裝置需要的時間被減少(例如大幅減少)。此外，有機發光顯示裝置可使用減少數量的腔室而製造，使得設備成本也可被減少(例如顯著減少)。
雖然未被繪示，為了對應於圖案化狹縫片的沉積區域不會重疊在基板500上，第一有機層沉積裝置100的圖案化狹縫片、第二有機層沉積裝置200的圖案化狹縫片以及第三有機層沉積裝置300的圖案化狹縫片可以固定距離相對於彼此而並列。換句話說，若第一有機層沉積裝置100、第二有機層沉積裝置200及第三有機層沉積裝置300分別被使用以沉積R發射層、G發射層以及B發射層，接著第一有機層沉積裝置100的圖案化狹縫、第二有機層沉積裝置200的圖案化狹縫以及第三有機層沉積裝置300的圖案化狹縫被排列為不對齊彼此，因此分別形成R發射層、G發射層以及B發射層於基板500的不同區域。
此外，用以形成R發射層、G發射層以及B發射層的沉積材料可具有不同的沉積溫度。因此，分別的第一、第二以及第三有機層沉積裝置100、200以及300之沉積源的溫度可設為不同。
雖然第15圖繪示三個有機層沉積裝置100、200及300，本發明並不限於此。換句話說，根據本發明之另一實施例的有機層沉積裝 置可包含複數個有機層沉積裝置，其每一有機層沉積裝置包含不同的沉積材料。舉例來說，根據本發明之另一實施例的有機層沉積裝置可包含五個有機層沉積裝置，係分別含有用於R發射層、G發射層、B發射層、R發射層的輔助層R'以及G發射層的輔助層G'。
如上所述，複數個有機層可與複數個有機層沉積裝置同時(例如在相同時間)形成，因而製造產率及沉積效率可被提高。此外，整體的製造製程可被簡化以及製造成本可被減少。
第16圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置100"之透視剖視示意圖。第17圖係為在平行於第16圖的有機層沉積裝置100"的YZ平面的平面所截取之剖面示意圖。第18圖係為在平行於第16圖的有機層沉積裝置100"的XZ平面的平面所截取之剖面示意圖。
參照第16圖至第18圖，根據當前實施例之有機層沉積裝置100"包含沉積源110"、沉積源噴嘴單元120"、第一阻隔板組件130以及圖案化狹縫片150。
雖然為了方便解釋而未繪示在第16至18圖中，有機層沉積裝置100"的所有組件可位在維持在適當的真空度之腔室(未顯示)內。為了允許沉積材料115以實質上直線移動通過有機層沉積裝置100"，腔室維持在適當的真空。
在腔室中，為沉積靶基板的基板500藉由靜電夾盤600輸送。基板500可為用於平面顯示器的基板。用於製造複數個平面顯示器的大基板，像是母玻璃可使用作為基板500。也可使用其他基板。
在本發明的實施例中，基板500可相對於有機層沉積裝置100"移動。舉例來說，基板500可以箭頭P的方向相對於有機層沉積裝置100"移動。
相似於上述參照第3至5圖之先前實施例，在根據當前實施例之有機層沉積裝置100"中，圖案化狹縫片150可小於(例如明顯較小)使用在傳統沉積方法中的FMM。換句話說，在有機層沉積裝置100"中，當基板500在T軸方向移動時，沉積是以例如掃描的方式連續地執行。因此，圖案化狹縫片150在Y軸方向的長度可能\小於(例如明顯較小)基板500的長度，且圖案化狹縫片150在X軸方向的寬度與基板500在X軸方向的寬度實質上是彼此相等的。然而，即使圖案化狹縫片150在X軸方向的寬度小於基板500在X軸方向的寬度，當基板500或有機層沉積裝置100"是相對於彼此移動時，沉積可在基板500上以掃描的方式執行。
如上所述，因為圖案化狹縫片150被形成為小於(例如明顯較小)使用在傳統沉積方法中的FMM，相對地更容易製造使用在本發明之實施例中的圖案化狹縫片150。換句話說，相較於使用較大FMM的傳統沉積方法，使用小於使用在傳統沉積方法中的FMM之圖案化狹縫片150在所有製程中是更方便的，包含蝕刻及其他後續製程像是精確的延伸、接合、移動及清洗製程。此可更有利於較大的顯示裝置。
包含及加熱沉積材料115的沉積源110"位在腔室之基板500所在的一側之對側。
沉積源110"包含填滿沉積材料115的坩鍋112以及圍繞坩鍋112的冷卻塊111。冷卻塊111防止或減少自坩鍋112外部，舉例來說，進入腔室的熱輻射。冷卻塊111可包含加熱坩鍋112的加熱器(未顯示)。
沉積源噴嘴單元120"位在沉積源110"的一側，且特別是在沉積源110"面對基板500的那一側。沉積源噴嘴單元120"包含可沿著X軸方向以相等間距排列之複數個沉積源噴嘴121"。在沉積源110"中被蒸發的沉積材料115通過沉積源噴嘴單元120"的沉積源噴嘴121"朝向為沉積靶的基板500。
第一阻隔板組件130位在沉積源噴嘴單元120"的一側。第一阻隔板組件130包含複數個第一阻隔板131以及覆蓋第一阻隔板131的側邊之阻隔板框架132。複數個第一阻隔板131可沿著X軸方向以相等的間距平行於彼此排列。此外，每一第一阻隔板131可平行於第16圖中的YZ平面排列，且可具有矩形形狀。如上所述排列之複數個第一阻隔板131把沉積源噴嘴單元120"及圖案化狹縫片150之間的沉積空間劃分成複數個子沉積空間S。在根據當前實施例之有機層沉積裝置100"中，如第18圖所示，沉積空間被第一阻隔板131劃分成分別對應於沉積材料115透過其排出的沉積源噴嘴121"之子沉積空間S。
第一阻隔板131可分別位在相鄰的沉積源噴嘴121"之間。換句話說，每一沉積源噴嘴121"可位在兩相鄰的第一阻隔板131之間。每一沉積源噴嘴121"可位在兩相鄰的第一阻隔板131之間的中點。然而，本發明不限於此結構。舉例來說，複數個沉積源噴嘴121"可位在兩相鄰的 第一阻隔板131之間。在這種情況下，複數個沉積源噴嘴121"也可分別位在兩相鄰的第一阻隔板131之間的中點。
如上所述，因為第一阻隔板131把沉積源噴嘴單元120"及圖案化狹縫片150之間的空間劃分成複數個子沉積空間S，透過每一沉積源噴嘴121"排出的沉積材料115不會與透過其他沉積源噴嘴121"排出的沉積材料115混合，且通過圖案化狹縫片150的圖案化狹縫151以被沉積在基板500上。換句話說，第一阻隔板131引導透過沉積源噴嘴121"排出的沉積材料115直線移動，即在Z軸方向移動。
如上所述，沉積材料115藉由安裝第一阻隔板131而被迫使以直線移動，使得相較於沒有安裝阻隔板的案例，較小的陰影區域可被形成在基板500上。因此，有機層沉積裝置100"及基板500可以一距離(例如一預定的距離)彼此分開。這將於稍後詳細描述。
覆蓋第一阻隔板131的側邊之阻隔板框架132維持第一阻隔板131的位置以及引導透過沉積源噴嘴121"排出的沉積材料115不會在Y軸方向流動。
沉積源噴嘴單元120"及第一阻隔板組件130可以一距離(例如一預定的距離)彼此隔開。如此可防止自沉積源單元110"輻射的熱被傳導至第一阻隔板組件130。然而，本發明的觀點並不限於此。舉例來說，當適當的熱絕緣體(未顯示)是位在沉積源噴嘴單元120"及第一阻隔板組件130之間時，沉積源噴嘴單元120"及第一阻隔板組件130可以在其間的熱絕緣體而連接在一起。
此外，第一阻隔板組件130可被建構以自有機層沉積裝置100"脫離。在根據當前實施例之有機層沉積裝置100"中，沉積空間藉由使用第一阻隔板組件130而被圍住，使得維持未沉積(undeposited)的沉積材料115大部份是位在第一阻隔板組件130內。因此，因為第一阻隔板組件130是建構以能夠自有機層沉積裝置100"脫離，當大量的沉積材料115在長期沉積製程之後置於第一阻隔板組件130時，為了回收沉積材料115，第一阻隔板組件130可自有機層沉積裝置100"脫離，且接著置於分開的沉積材料回收裝置。由於根據本實施例之有機層沉積裝置100"的結構，沉積材料115的回收率可被增加，使得沉積效率可被改善，因而可減少製造成本。
圖案化狹縫片150及框架155設置在沉積源110"及基板500之間。框架155的形狀可相似於窗框。圖案化狹縫片150黏結在框架155裡面。圖案化狹縫片150具有以X軸方向排列的複數個圖案化狹縫151。圖案化狹縫151在Y軸方向延伸。在沉積源110"中被蒸發且通過沉積源噴嘴121"的沉積材料115，通過圖案化狹縫151朝向基板500。
圖案化狹縫片150可由金屬薄膜形成。圖案化狹縫片150被固定至框架155使得張力施加於其上。換句話說，圖案化狹縫片150可藉由框架155在一或兩個相反方向而被拉動(例如拉伸)。圖案化狹縫151可藉由蝕刻圖案化狹縫片150為條紋圖樣而形成。
在根據當前實施例之有機層沉積裝置100"中，圖案化狹縫151的總數目可大於沉積源噴嘴121"的總數目。此外，位在兩相鄰的第一阻隔板131之間的圖案化狹縫151的數目可能大於位在兩相鄰的第一阻隔 板131之間的沉積源噴嘴121"。圖案化狹縫151的數目可相等於將被形成在基板500上之沉積圖樣的數目。
第一阻隔板組件130及圖案化狹縫片150可以一距離(例如一預定的距離)彼此隔開，以及可藉由第二連接構件133連接。第一阻隔板組件130的溫度可能因為沉積源110"的高溫而增加至100℃或更高。因此，為了防止第一阻隔板組件130的熱傳導至圖案化狹縫片150，第一阻隔板組件130及圖案化狹縫片150是以一距離(例如一預定的距離)彼此分開。
如上所述，根據當前實施例之有機層沉積裝置100"在相對於基板500移動時執行沉積。為了相對於基板500移動有機層沉積裝置100"，圖案化狹縫片150與基板500隔開一距離(例如一預定的距離)。此外，為了防止當圖案化狹縫片150和基板500彼此隔開時在基板500上形成較大之陰影區域，第一阻隔板131被排列在沉積源噴嘴單元120"及圖案化狹縫片150之間以迫使沉積材料115以直線方向移動。因此，可能在基板500上形成之陰影區域的大小被減少(例如大幅減少)。
在使用FMM之典型的沉積方法中，為了減少或防止在基板上之陰影區域的生成，沉積是在FMM及基板緊密接觸下而執行。然而，當FMM被使用以與基板緊密接觸時，此接觸可能導致缺損，像是在形成在基板上之圖樣上的刮痕。此外，在典型的沉積方法中，因為光罩不能相對於基板移動，光罩的尺寸是與基板的尺寸相同。因此，光罩的尺寸隨顯示裝置變大而增加。然而，製造這樣的大尺寸光罩並不容易。
為了克服這問題，在根據當前實施例之有機層沉積裝置100"中，圖案化狹縫片150是以一距離(例如一預定的距離)和基板500隔開。如此藉由安裝第一阻隔板131可幫助減少形成在基板500上之陰影區域的大小。
如上所述，當圖案化狹縫片150被製造為小於基板500時，圖案化狹縫片150可在沉積期間相對於基板500而移動。因此，不再需要製造使用在傳統沉積方法中的大尺寸FMM。此外，因為基板500及圖案化狹縫片150是彼此隔開，因為彼此之間的接觸而導致的缺損可被防止。此外，因為在沉積製程期間不需要將基板500接觸圖案化狹縫片150，製造速度可被提高。
第19圖係為根據本發明之另一實施例之有機層沉積裝置100'''之透視示意圖。
參照第19圖，根據當前實施例之有機層沉積裝置100'''包含沉積源110"、沉積源噴嘴單元120"、第一阻隔板組件130、第二阻隔板組件140以及圖案化狹縫片150。
雖然為了方便解釋而未繪示在第19圖中，有機層沉積裝置100'''的所有組件可位在維持在適當的真空度之腔室(未顯示)內。為了允許沉積材料115以實質上直線移動通過有機層沉積裝置100'''，腔室維持在適當的真空。
為沉積靶基板的基板500位在腔室中。包含且加熱沉積材料115的沉積源110"位在腔室之基板500所在的一側之對側。
沉積源110"及圖案化狹縫片150的結構實質上是相同於參照第16圖所描述的實施例中的結構，因此其詳細的描述將不在此提供。第一阻隔板組件130實質上也相同於參照第16圖所描述的實施例的阻隔板組件，因此其詳細的描述將不在此提供。
在當前的實施例中，第二阻隔板組件140位在第一阻隔板組件130的一側。第二阻隔板組件140包含複數個第二阻隔板141，以及覆蓋第二阻隔板141的側邊之第二阻隔板框架142。
複數個第二阻隔板141可沿著X軸方向以相等的間距平行於彼此而排列。此外，每一第二阻隔板141可被形成以在第19圖的YZ平面上延伸，即垂直於X軸方向。
如上所述排列的複數個第一阻隔板131及複數個第二阻隔板141在沉積源噴嘴單元120"及圖案化狹縫片150之間劃分沉積空間。藉由第一阻隔板131及第二阻隔板141將沉積空間劃分成分別對應於沉積材料115透過其排出的沉積源噴嘴121"之子沉積空間。
第二阻隔板141可被設置以分別對應於第一阻隔板131。換句話說，第二阻隔板141可分別與第一阻隔板131對齊。每一對相對應的第一阻隔板131及第二阻隔板141可位在相同的平面上。雖然第一阻隔板131及第二阻隔板141分別被繪示為在X軸方向具有相同的寬度，本發明的觀點並不限於此。換句話說，應精確地對齊圖案化狹縫151的第二阻隔板141可被形成較薄，反之可能不需要精確地對齊圖案化狹縫151的第一阻隔板131可被形成較厚。這樣使其較容易製造有機層沉積裝置100'''。
如第1圖所示，複數個有機層沉積裝置100'''可連續地位在腔室中。在這種情況下，複數個有機層沉積裝置100'''可被使用以分別沉積不同的沉積材料。舉例來說，複數個有機層沉積裝置100'''可具有不同的圖案化狹縫圖樣，使得不同顏色例如是紅色、綠色及藍色的像素可透過沉積製程而被並存地(例如同時地)定義。
第20圖係為根據本發明之一實施例之藉由使用有機沉積裝置所製造的主動矩陣有機發光顯示器之剖面圖。
參照第20圖，主動矩陣有機發光顯示裝置形成在基板30上。基板30可由透明材料例如玻璃、塑膠或金屬而形成。像是緩衝層的絕緣層31是形成在基板30的整個表面上。
薄膜電晶體(TFT)40、電容50以及有機發光二極體(OLED)60設置在絕緣層31上，如第20圖所示。
半導體主動層41形成在絕緣層31的上表面上(例如以預定的圖樣形成)。閘極絕緣層32是形成以覆蓋半導體主動層41。半導體主動層41可包含p-型或n-型半導體材料。
電容50的第一電容電極51及TFT 40的閘極電極42形成在相對應於半導體主動層41之閘極絕緣層32的上部。層間絕緣層33是形成以覆蓋第一電容電極51及閘極電極42。接著，層間絕緣層33及閘極絕緣層32藉由例如乾蝕刻而被蝕刻以形成曝露部分半導體主動層41的接觸孔。
接著，第二電容電極52及源極/汲極電極43形成在層間絕緣層33上。源極/汲極電極43通過接觸孔接觸半導體主動層41。鈍化層34 是形成以覆蓋第二電容電極52及源極/汲極電極43，且被蝕刻以曝露一部分源極/汲極電極43。絕緣層(未顯示)可進一步形成在鈍化層34上以平坦化鈍化層34。
此外，OLED 60藉由發射紅色、綠色或藍色光作為通過其間的電流以顯示影像資訊(例如預定的影像資訊)。OLED 60包含位在鈍化層34上的第一電極61。第一電極61電性連接至TFT 40的源極/汲極電極43。
像素定義層35是形成以覆蓋第一電極61。開口64形成在像素定義層35，以及有機發射層63形成在由開口64所界定的區域。第二電極62形成在有機發射層63上。
定義個別像素的像素定義層35是由有機材料形成。像素定義層35也平坦化基板30中形成第一電極61之區域的表面，特別是鈍化層34的表面。
第一電極61及第二電極62是彼此絕緣的，且分別供應相反極性的電壓至有機發射層63以引起發光。
有機發射層63可由低分子量有機材料或高分子量有機材料形成。當使用低分子量有機材料時，有機發射層63可具有單一或多層結構，係包含選自於由電洞注入層(HIL)、電洞傳輸層(HTL)、發射層(EML)、電子傳輸層(ETL)、以及電子注入層(EIL)組成的群組中的至少之一。可用的有機材料的例子可包含銅鈦菁(CuPc)、N,N’-二(萘-1-基)-N,N’-二苯基-聯苯胺(NPB)、三-8-羥基喹啉鋁(Alq3)及類似物。這樣的低分子量有機材料可使用藉由使用有機層沉積裝置的真空沉積而被沉 積，像是在第1至19圖所繪示的那些。進一步地，第1及2圖的有機層沉積裝置100、200、300以及/或400可被第3至5圖的有機層沉積裝置101、第13圖的有機層沉積裝置100a、第14圖的有機層沉積裝置100'、第15圖的有機層沉積裝置100、200、300、第16至18圖的有機層沉積裝置100"或第19圖的有機層沉積裝置100'''中之任一適合者所取代。
在有機發射層63形成之後，第二電極62可藉由和用以形成有機發射層63相同的沉積方法而形成。
第一電極61可作為陽極而第二電極62可作為陰極，或反之亦然。第一電極61可被圖樣化以對應於個別的像素區域，以及第二電極62可被形成以覆蓋所有像素。
第一電極61可形成為透明電極或反射電極。這樣的透明電極可由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、或氧化銦(In2O3)形成。這樣的反射電極可藉由形成來自於銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銦(Ir)、鉻(Cr)或其化合物的反射層以及在反射層上形成ITO、IZO、ZnO或In2O3層而形成。第一電極61可藉由例如濺鍍形成一層及接著藉由例如光蝕刻來圖樣化該層而形成。
第二電極62也可形成為透明電極或反射電極。當第二電極62是形成為透明電極時，則第二電極62作為陰極。為此，這樣的透明電極可藉由在層間層63的表面上沉積像是鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、銀(Ag)、鎂(Mg)或其化合物之具有低功函數的金屬以及由ITO、IZO、ZnO、In2O3或類似物就此形成 輔助電極層或匯流排電極線於其上而形成。當第二電極是形成為反射電極時，反射電極可藉由在有機發射層63的整個表面上沉積Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或其化合物而形成。第二電極62可藉由使用和用以形成上述有機發射層63相同的方法而形成。
上述根據本發明之實施例的有機層沉積裝置可被應用至形成有機TFT的有機層或無機層，以及形成不同材料的層。
如上所述，根據本發明之觀點的有機層沉積裝置可輕易地被製造且可簡單地被應用至大尺寸顯示器之大規模製造。有機層沉積裝置可提高製造產率及沉積效率，可允許沉積材料被再使用，以及可允許基板及有機層沉積裝置精確地彼此對齊。
當本發明已參考其例示性實施例而被特別地顯示及描述時，此技術領域具有通常知識者將理解的是，各種形式與細節的改變可在未脫離如下述申請專利範圍及其均等物所定義之本發明的精神與範疇而被製作。

Claims (49)

  1. 一種用於在一基板上形成一有機層之有機層沉積裝置，該有機層沉積裝置包括：一沉積源，係配置以排出一沉積材料；一沉積源噴嘴單元，係位在該沉積源的一側且包含以一第一方向排列的複數個沉積源噴嘴；以及一圖案化狹縫片，係位在該沉積源噴嘴單元的對側且具有以垂直於該第一方向之一第二方向排列的複數個圖案化狹縫，在該第一方向及該第二方向中的至少之一的該圖案化狹縫片是小於該基板；其中沉積是當該基板與該圖案化狹縫片間隔且在該第一方向相對於該有機層沉積裝置移動時執行；該圖案化狹縫片包括彼此分開設置的一第一對準標記及一第二對準標記；該基板包括彼此分開設置的一第一對準圖案及一第二對準圖案，該第一對準圖案及該第二對準圖案平行於該基板移動的第一方向排列；該有機層沉積裝置進一步包括用於拍攝該第一對準標記及該第一對準圖案之一第一照相機組件，以及用於拍攝該第二對準標記及該第二對準圖案之一第二照相機組件；以及該基板的移動速度是與該第一照相機組件及該第二照相機組件之拍攝速度同步，使得該基板適當地與該有機層沉積裝置對齊時，藉該第一照相機組件所捕捉之該第一對準圖案的影像實質上是彼此相同，以及藉該第二照相機組件所捕捉之該第二對準圖案的影像實質上是彼此相同；其中該第一對準標記及該第二對準標記分別形成於該基板之兩相對端側上，且該圖案化狹縫片的該第一對準標記及該第二對準標記位於該基板的該第一對準圖案及該第二對準圖案之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該沉積源、該沉積源噴嘴單元以及該圖案化狹縫片是整體形成為一體。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該沉積源、該沉積源噴嘴單元以及該圖案化狹縫片是藉由用以引導該沉積材料移動之連接構件而整體連接為一體。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之有機層沉積裝置，其中該連接構件是形成以密封在該沉積源、該沉積源噴嘴單元及該圖案化狹縫片之間的一空間。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個沉積源噴嘴是以一角度傾斜。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個沉積源噴嘴包括在該第一方向排成兩列的沉積源噴嘴，其中排成兩列的該些沉積源噴嘴是傾斜以面對彼此。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個沉積源噴嘴包括在該第一方向排成兩列的沉積源噴嘴；在該兩列之中，位在該圖案化狹縫片的一第一側之一列的該些沉積源噴嘴是排列以面對該圖案化狹縫片的一第二側；以及在該兩列之中，位在該圖案化狹縫片的該第二側之另一列的該些沉積源噴嘴是排列以面對該圖案化狹縫片的該第一側。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該第一對準圖案包括沿著該第一方向排列的複數個第一標記，該第二對準圖案包括沿著該第一方向排列的複數個第二標記，以及該第一對準圖案及該第二對準圖案在該第二方向彼此隔開。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記及該複數個第二標記的形狀及尺寸係為相同。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記之間的距離實質上是相等於該複數個第二標記之間的距離。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記及該複數個第二標記中的每一標記具有一十字的形狀。
  12. 如申請專利範圍第8項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記或該複數個第二標記中的每一標記具有一多邊形的形狀。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記或該複數個第二標記中的每一標記具有一三角形的形狀。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之有機層沉積裝置，其中該第一對準圖案及該第二對準圖案具有一鋸齒形狀。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該基板以實質上等速度在該第一方向移動，該第一照相機組件及該第二照相機組件在時間間隔分別拍攝該第一對準圖案及該第二對準圖案，該第一照相機組件是配置以捕捉每一含有該第一對準圖案之多個影像，以及該第二照相機組件是配置以捕捉每一含有該第二對準圖案之多個影像，其數量與含有該第一對準圖案之影像的數量相等。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該第一照相機組件及該第二照相機組件是位在該基板上方以分別對應於該第一對準標記及該第二對準標記。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，進一步包括一控制器，係用於依據該第一照相機組件及該第二照相機組件所捕捉的資訊而判定該基板及該圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所拍攝之該第一對準圖案及該第一對準標記的影像之間的一第一距離以及該第二照相機組件所拍攝之該第二對準圖案及該第二對準標記的影像之間的一第二距離，而判定在實質上垂直於該第一方向的該第二方向中該基板及該圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
  19. 如申請專利範圍第17項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所捕捉之該第一對準標記的影像及該第二照相機組件所捕捉之該第二對準標記的影像，而判定該圖案化狹縫片是否於該第一方向傾斜。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以判定在該第一方向中該第一對準標記的捕捉影像及該第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，以在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之前時判定該圖案化狹縫片是朝向在該第一方向的該第一對準標記傾斜，以及在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之後時判定該圖案化狹縫片是朝向在該第一方向的該第二對準標記傾斜。
  21. 如申請專利範圍第17項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所捕捉的該第一對準圖案的影像及該第二照相機組件所捕捉的該第二對準圖案的影像，而判定該基板是否在該第一方向傾斜。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以判定在該第一方向中該第一對準標記的捕捉影像及該第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，以在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之前時判定該基板是朝向在該第一方向的該第一對準標記傾斜，以及在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之後時判定該基板是朝向在該第一方向的該第二對準標記傾斜。
  23. 如申請專利範圍第17項所述之有機層沉積裝置，其中該基板及該圖案化狹縫片依據該控制器判定之對齊的程度，藉由移動該基板或該圖案化狹縫片而彼此對齊。
  24. 如申請專利範圍第1項所述之有機層沉積裝置，其中該圖案化狹縫片進一步包括在該第一方向和該第一對準標記隔開的一第三對準標記，以及在該第一方向和該第二對準標記隔開的一第四對準標記。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之有機層沉積裝置，其中該第一對準標記及該第三對準標記之間的距離等於該第二對準標記及該第四對準標記之間的距離。
  26. 如申請專利範圍第24項所述之有機層沉積裝置，其中在該第二方向的該第一對準標記及該第二對準標記是彼此隔開，以及在該第二方向的該第三對準標記及該第四對準標記是彼此隔開。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之有機層沉積裝置，其中在第一對準標記及該第二對準標記之間的距離實質上等於該第三對準標記及該第四對準標記之間的距離。
  28. 如申請專利範圍第24項所述之有機層沉積裝置，進一步包括一第三照相機組件及一第四照相機組件，其中該第三照相機組件及該第四照相機組件是位在該基板上方以分別對應於該第三對準標記及該第四對準標記。
  29. 一種用於在一基板上形成一有機層之有機層沉積裝置，該有機層沉積裝置包括：一沉積源，係配置以排出一沉積材料；一沉積源噴嘴單元，係位在該沉積源的一側且包含以一第一方向排列的複數個沉積源噴嘴；一圖案化狹縫片，係位在該沉積源噴嘴單元的對側且具有以該第一方向排列的複數個圖案化狹縫，在該第一方向或垂直於該第一方向的一第二方向中的至少之一的該圖案化狹縫片是小於該基板；以及一阻隔板組件，係包含以該第一方向位在該沉積源噴嘴單元與該圖案化狹縫片之間且將該沉積源噴嘴單元與該圖案化狹縫片之間的一空間劃分為複數個子沉積空間的複數個阻隔板；其中該有機層沉積裝置及該基板是彼此隔開；該有機層沉積裝置或該基板在沉積期間是相對於另一方移動；該基板包括彼此分開設置的一第一對準圖案及一第二對準圖案，該第一對準圖案及該第二對準圖案平行於該基板移動的第一方向排列；該圖案化狹縫片包括彼此分開設置的一第一對準標記及一第二對準標記；該有機層沉積裝置進一步包括用於拍攝該第一對準標記及該第一對準圖案之一第一照相機組件，以及用於拍攝該第二對準標記及該第二對準圖案之一第二照相機組件；以及該基板的移動速度是與該第一照相機組件及該第二照相機組件之拍攝速度同步，使得該基板適當地與該有機層沉積裝置對齊時，藉該第一照相機組件所捕捉之該第一對準圖案的影像實質上是彼此相同，以及藉該第二照相機組件所捕捉之該第二對準圖案的影像實質上是彼此相同；其中該第一對準標記及該第二對準標記分別形成於該基板之兩相對端側上，且該圖案化狹縫片的該第一對準標記及該第二對準標記位於該基板的該第一對準圖案及該第二對準圖案之間。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個阻隔板在該第二方向延伸。
  31. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該阻隔板組件包括含有複數個第一阻隔板的一第一阻隔板組件，以及含有複數個第二阻隔板的一第二阻隔板組件。
  32. 如申請專利範圍第31項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一阻隔板及該複數個第二阻隔板在該第二方向延伸。
  33. 如申請專利範圍第32項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一阻隔板係分別對應於該複數個第二阻隔板而排列。
  34. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該第一對準圖案包括沿著該第一方向排列的複數個第一標記，該第二對準圖案包括沿著該第一方向排列的複數個第二標記，以及該第一對準圖案及該第二對準圖案在該第二方向彼此隔開。
  35. 如申請專利範圍第34項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記及該複數個第二標記的形狀及尺寸係為相同。
  36. 如申請專利範圍第34項所述之有機層沉積裝置，其中在該複數個第一標記之間的距離是相等於在該複數個第二標記之間的距離。
  37. 如申請專利範圍第36項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記及該複數個第二標記中的每一標記具有一十字的形狀。
  38. 如申請專利範圍第34項所述之有機層沉積裝置，其中該複數個第一標記或該複數個第二標記中的每一標記具有一多邊形的形狀。
  39. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該基板以實質上等速度在該第一方向移動，該第一照相機組件及該第二照相機組件在時間間隔分別拍攝該第一對準圖案及該第二對準圖案，該第一照相機組件是配置以捕捉每一含有該第一對準圖案之多個影像，以及該第二照相機組件是配置以捕捉每一含有該第二對準圖案之多個影像，其數量與含有該第一對準圖案之影像的數量相等。
  40. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該第一照相機組件及該第二照相機組件是位在該基板上方以分別對應於該第一對準標記及該第二對準標記。
  41. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，進一步包括一控制器，係用於依據該第一照相機組件及該第二照相機組件所捕捉的資訊而判定該基板及該圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
  42. 如申請專利範圍第41項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所拍攝的該第一對準圖案及該第一對準標記的影像之間的一第一距離以及該第二照相機組件所拍攝的該第二對準圖案及該第二對準標記的影像之間的一第二距離，而判定在實質上垂直於該第一方向的該第二方向中該基板及該圖案化狹縫片彼此對齊的程度。
  43. 如申請專利範圍第41項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所捕捉之該第一對準標記的影像及該第二照相機組件所捕捉之該第二對準標記的影像，而判定該圖案化狹縫片是否在該第一方向傾斜。
  44. 如申請專利範圍第43項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以判定在該第一方向中該第一對準標記的捕捉影像及該第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，以在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之前時判定該圖案化狹縫片是朝向在該第一方向的該第一對準標記傾斜，以及在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之後時判定該圖案化狹縫片是朝向在該第一方向的該第二對準標記傾斜。
  45. 如申請專利範圍第41項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以藉由比較該第一照相機組件所捕捉的該第一對準圖案的影像及該第二照相機組件所捕捉的該第二對準圖案的影像，而判定該基板是否在該第一方向傾斜。
  46. 如申請專利範圍第45項所述之有機層沉積裝置，其中該控制器是配置以判定在該第一方向中該第一對準標記的捕捉影像及該第二對準標記的捕捉影像的位置之間的差距，以在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之前時判定該基板是朝向在該第一方向的該第一對準標記傾斜，以及在該第二對準標記的捕捉影像是位在該第一對準標記的捕捉影像之後時判定該基板是朝向在該第一方向的該第二對準標記傾斜。
  47. 如申請專利範圍第41項所述之有機層沉積裝置，其中該基板及該圖案化狹縫片依據該控制器判定之對齊的程度，藉由移動該基板或該圖案化狹縫片而彼此對齊。
  48. 如申請專利範圍第29項所述之有機層沉積裝置，其中該圖案化狹縫片進一步包括在該第一方向和該第一對準標記隔開的一第三對準標記，以及在該第一方向和該第二對準標記隔開的一第四對準標記。
  49. 如申請專利範圍第48項所述之有機層沉積裝置，進一步包括一第三照相機組件及一第四照相機組件，其中該第三照相機組件及該第四照相機組件是位在該基板上方以分別對應於該第三對準標記及該第四對準標記。
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