JP5201932B2 - 供給装置、及び有機蒸着装置 - Google Patents
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Description
ホール輸送層、発光層、電子輸送層等は一般に有機材料で構成されており、このような有機材料の膜の成膜には蒸着装置が広く用いられる。
蒸着容器212の内部には、粉体の有機蒸着材料200が配置されている。
有機蒸着材料200が蒸発温度以上の温度に加熱されると、蒸着容器212内に、有機材料蒸気が充満し、放出口224から真空槽211内に放出される。
有機材料蒸気を放出させながら、基板205を一枚ずつ放出口224上を通過させれば、複数枚の基板205に逐次有機薄膜を形成することが可能になる。
実際の生産現場では、有機蒸着材料を250℃〜450℃に加熱しながら120時間以上連続して成膜処理を行うため、蒸着容器212内の有機蒸着材料200は長時間高温に曝されることになり、蒸着容器中の水分と反応して変質したり、加熱による分解が進行し、加熱初期の状態に比べ、有機蒸着材料200が劣化してしまう。
特に、従来の装置では、有機蒸着材料を供給する筒と、加熱手段とが直接接しているため、加熱手段が加熱されると筒や回転軸が加熱され、凸条間の溝内の有機蒸着材料も加熱される。
本発明は供給装置であって、前記回転軸を振動させる振動手段を有する供給装置である。
本発明は有機蒸着装置であって、真空槽と、放出装置と、前記供給装置とを有し、前記供給装置の前記高温体が配置された空間が、前記放出装置の内部空間に接続され、前記放出装置には、前記真空槽の内部空間と前記放出装置の内部空間とを接続する放出口が形成された有機蒸着装置である。
成膜装置1は、搬送室2を有しており、搬送室2には、搬入室3aと、搬出室3bと、前処理室4と、1又は複数の蒸着装置10a〜10cと、1又は複数のスパッタリング装置8と、マスク貯蔵室7とがそれぞれ接続されている。
成膜対象物は搬入室3aに搬入される。
発光層は、2色以上の異なる色の有機薄膜(着色膜)が基板81表面上の予め決められた異なる領域にそれぞれ形成されて構成される。
図3は蒸着装置10bの斜視図、図4は蒸着装置10bの断面図を示しており、この蒸着装置10bは、真空槽11と、真空槽11内部に配置された放出装置50と、放出装置50に接続された1又は複数(ここでは3台)の供給装置20a〜20cとを有している。
供給装置20a〜20cは、供給室30と、高温体22とを有しており、供給室30は、収容部32と、回転軸35と、接続管33と、蒸発室21と、加熱手段25と、振動手段46とを有している。
収容部32の底部はすり鉢状になっており、該底部の略中央位置には開口が形成されている。
蒸発室21は箱状であって、収容部32の下方に配置されており、その天井には開口が形成されている。
接続管33の構成は特に限定されないが、ここでは、収容部32の底部が下方に伸ばされ、その伸ばされた下部分に、収容部32の開口と連通する貫通孔が形成され、該下部分からなる外筒38と、貫通孔の内壁面と外壁面が密着する金属製の内筒37とで構成されている。
回転軸35は、凸条36が形成された部分が、収容部32の開口よりも上方位置から、蒸発室21の開口よりも下方位置に亘るように、接続管33に挿入され、回転軸35の先端が蒸発室21の内部に突き出されている。
収容部32は収容される有機蒸着材料39は粉体である。
このときの回転方向は、回転軸35を、螺合する雌ネジに挿入したと仮定した時に、回転によって先端が雌ネジから突き出る方向になっており、回転軸35が回転すると有機蒸着材料39が、収容部32から、凸条36と凸条36の間の溝に入り込み、凸条36の斜面上を通って、接続管33の内部を下方に移動する。
ここでは振動手段46は回転軸35に取り付けられており、振動手段46に電源45から通電し、振動させると、回転軸35が振動する。
回転軸35の凸条36が形成された部分のうち、蒸発室21の開口から下方に突き出た部分は、接続管33で覆われている。
高温体22は、蒸発室21内部の接続管33下端の真下位置に配置されている。
凸部22aの横断面面積は回転軸35の横断面面積と略等しく、凸部22aは回転軸35の真下に位置している。
従って、凸条36と凸条36との間の溝の下端から真下に落下する有機蒸着材料39は、回転軸35の回転によって、凸部22aと高温容器22bの側壁との間に、凸部22aを取り囲むように配置される。
バルブ57を閉じると蒸発室21が放出装置50から遮断され、バルブ57を開けると、蒸発室21が放出装置50に接続され、蒸気が蒸発室21から放出装置50に供給される。
供給管52の下方には複数の噴出口53が形成され、供給管52に供給された蒸気は噴出口53から容器51の底面に向かって放出される。
蓋54には複数の放出口55が形成されており、蒸気は放出口55を通って真空槽11内部に放出される。
ここでは、容器51と蓋54の周囲には冷却板67が離間して配置されている。図3では冷却板67は省略してある。
冷却板67の放出口55上の位置には、放出口55が露出する開口が形成されている。開口の大きさは、放出口55から放出される蒸気が接触しない程度に大きくされているので、冷却板67で蒸気が析出されない。
揺動手段58は、マスク18と基板81とを相対的に静止させた状態で、基板ホルダに保持された基板と、放出装置50とを水平面内で直線的な一方向又は二方向に往復移動させるか、水平面内で円運動させるようになっている。
従って、基板81は放出口55に対して水平面内で相対的に移動するから、基板81表面に到達する蒸気の量が均一になり、膜厚均一な薄膜が形成される。
図2は成膜対象物である基板81の断面図であり、基板81の表面には下部電極膜82が形成され、下部電極膜82表面には、ホール注入層、ホール輸送層等の他の有機薄膜83が形成されている。
真空槽11内部には予めマスク18が配置されている。マスク18には開口17が形成されている。
各色の有機蒸着材料39で成膜すべき有機薄膜の膜厚は決まっており、その膜厚の有機薄膜を成膜するために有機蒸着材料39の必要量もそれぞれ予め分かっている。
各蒸発室21を放出装置50から遮断しておき、各高温体22を所定温度(例えば200℃〜300℃)に昇温させておく。
基板81と放出装置50とを相対的に水平面内で移動させながら、蒸気を放出口55から放出させると、基板81の表面上に、選択された色の着色層が成長する。
高温体22に配置された有機蒸着材料39が無くなると、蒸発室21の内部の圧力が低下し、蒸気放出量が低下して、着色層の成長が停まる。
以上は、ホストとドーパントとが同じ供給装置20a〜20cの収容部32に配置された場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、有機蒸着材料39として、ホール注入材料、ホール輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料等を供給装置20a〜20cに収容しておき、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層を成膜してもよい。
この場合も、ホストとドーパントは混合して同じ供給装置20a〜20cに収容してもよいし、別の供給装置20a〜20cに収容して成膜を行ってもよい。
回転軸35の凸条36の表面研磨処理は、化学研磨であってもよいし、機械研磨であってもよい。
高温体22の形状や設置場所も特に限定されず、有機蒸着材料を高温体22に配置可能であれば、接続管33下端の斜め下方に配置してもよい。
Claims (3)
- 底部はすり鉢状に形成され、有機蒸着材料が収容される収容部と、
一端が前記収容部の前記底部に形成された収容部開口に接続され、他端が前記収容部の下方に位置する蒸発室に形成された蒸発室開口に接続される接続管と、
外周に凸条が螺旋状に設けられ、前記接続管に挿入された回転軸と、を有し、
前記接続管の下端と前記回転軸の下端とは、前記蒸発室内に配置された高温体が前記有機蒸着材料の蒸発温度以上に加熱された時でも、前記高温体からの熱で前記接続管内の前記有機蒸着材料が、溶融温度以上に昇温しない大きさの距離に離間され、
前記収容部に前記有機蒸着材料を収容し、前記接続管の中心軸線を中心に前記回転軸を回転させると、前記有機蒸着材料は、前記凸条と前記凸条の間の隙間を通って、前記収容部から前記蒸発室内に落下し、前記高温体に前記有機蒸着材料が配置され、前記高温体によって加熱されて前記有機蒸着材料の蒸気が発生するように構成された供給装置。 - 前記回転軸を振動させる振動手段を有する請求項1記載の供給装置。
- 真空槽と、放出装置と、請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の供給装置とを有し、
前記供給装置の前記高温体が配置された空間が、前記放出装置の内部空間に接続され、
前記放出装置には、前記真空槽の内部空間と前記放出装置の内部空間とを接続する放出口が形成された有機蒸着装置。
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WO2010123027A1 (ja) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 蒸着処理装置および蒸着処理方法 |
KR101069842B1 (ko) | 2009-05-11 | 2011-10-04 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 기판 처리 시스템 |
TWI472639B (zh) | 2009-05-22 | 2015-02-11 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜沉積設備 |
TWI475124B (zh) | 2009-05-22 | 2015-03-01 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜沉積設備 |
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US8882921B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
US8802200B2 (en) | 2009-06-09 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Method and apparatus for cleaning organic deposition materials |
US9174250B2 (en) | 2009-06-09 | 2015-11-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Method and apparatus for cleaning organic deposition materials |
KR101097311B1 (ko) | 2009-06-24 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치 |
KR101117720B1 (ko) | 2009-06-25 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법 |
JP4758513B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 容器のスクリーニング方法 |
KR20110014442A (ko) | 2009-08-05 | 2011-02-11 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101127575B1 (ko) | 2009-08-10 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치 |
KR101127578B1 (ko) | 2009-08-24 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
JP5676175B2 (ja) | 2009-08-24 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8486737B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same |
JP5328726B2 (ja) | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
JP5677785B2 (ja) | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8696815B2 (en) | 2009-09-01 | 2014-04-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
US20110097495A1 (en) * | 2009-09-03 | 2011-04-28 | Universal Display Corporation | Organic vapor jet printing with chiller plate |
KR101134951B1 (ko) | 2009-09-28 | 2012-04-10 | 주식회사 선익시스템 | 증착장치의 증발원 및 이의 제어방법 |
US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
JP4974036B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2012-07-11 | 株式会社ジャパンディスプレイセントラル | 有機el装置の製造方法 |
KR101146982B1 (ko) | 2009-11-20 | 2012-05-22 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법 |
WO2011081025A1 (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-07 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
KR101172275B1 (ko) * | 2009-12-31 | 2012-08-08 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 기화 장치 및 이의 제어 방법 |
KR101174874B1 (ko) * | 2010-01-06 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 소스, 박막 증착 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법 |
KR101084184B1 (ko) | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101174875B1 (ko) | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101193186B1 (ko) | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
JP5473675B2 (ja) * | 2010-03-01 | 2014-04-16 | 株式会社アルバック | 薄膜形成装置 |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101202348B1 (ko) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP5520678B2 (ja) * | 2010-04-20 | 2014-06-11 | 株式会社アルバック | 蒸着装置及び蒸着方法 |
US8894458B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
KR101223723B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101673017B1 (ko) | 2010-07-30 | 2016-11-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
JP2012052187A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Kaneka Corp | 蒸着装置、成膜方法及び有機el装置の製造方法 |
JP5564573B2 (ja) | 2010-09-03 | 2014-07-30 | 株式会社アルバック | 保護膜形成方法、表面平坦化方法 |
JP5530874B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2014-06-25 | 株式会社カネカ | 蒸着装置 |
KR20120029166A (ko) | 2010-09-16 | 2012-03-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101678056B1 (ko) | 2010-09-16 | 2016-11-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101723506B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101738531B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20120045865A (ko) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20120065789A (ko) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
JP5797275B2 (ja) | 2010-12-13 | 2015-10-21 | ポスコ | 連続コーティング装置 |
KR101760897B1 (ko) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 |
KR101923174B1 (ko) | 2011-05-11 | 2018-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 정전 척, 상기 정전 척을 포함하는 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR101320434B1 (ko) | 2011-05-12 | 2013-10-23 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 원료물질 공급 제어장치 |
KR101857992B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-05-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101840654B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101852517B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101857249B1 (ko) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR20130004830A (ko) | 2011-07-04 | 2013-01-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR101826068B1 (ko) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20130010730A (ko) | 2011-07-19 | 2013-01-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 소스 및 이를 구비한 증착 장치 |
KR20130015144A (ko) | 2011-08-02 | 2013-02-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원어셈블리, 유기층증착장치 및 이를 이용한 유기발광표시장치의 제조 방법 |
KR20130069037A (ko) | 2011-12-16 | 2013-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR102015872B1 (ko) | 2012-06-22 | 2019-10-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101959974B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
US9461277B2 (en) | 2012-07-10 | 2016-10-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display apparatus |
KR102013315B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
US9496524B2 (en) | 2012-07-10 | 2016-11-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method |
KR101632298B1 (ko) | 2012-07-16 | 2016-06-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 평판 표시장치 및 그 제조방법 |
JP5985302B2 (ja) * | 2012-08-13 | 2016-09-06 | 株式会社カネカ | 真空蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
KR102048051B1 (ko) | 2012-09-04 | 2019-11-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 환경 검사용 마스크 조립체 및 이를 포함하는 증착 설비 |
KR102013318B1 (ko) | 2012-09-20 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101994838B1 (ko) | 2012-09-24 | 2019-10-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20140050994A (ko) | 2012-10-22 | 2014-04-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조 방법 |
KR102052069B1 (ko) | 2012-11-09 | 2019-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR102075525B1 (ko) | 2013-03-20 | 2020-02-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
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KR102081284B1 (ko) | 2013-04-18 | 2020-02-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
KR102037376B1 (ko) | 2013-04-18 | 2019-10-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
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KR102108361B1 (ko) | 2013-06-24 | 2020-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착률 모니터링 장치, 이를 구비하는 유기층 증착 장치, 증착률 모니터링 방법, 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102162797B1 (ko) | 2013-12-23 | 2020-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
JP2016040789A (ja) * | 2015-12-28 | 2016-03-24 | 日東電工株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス発光層の製造方法 |
JP7044542B2 (ja) * | 2017-12-26 | 2022-03-30 | 株式会社アルバック | 有機薄膜製造装置、蒸発源 |
WO2021107224A1 (ko) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 엘지전자 주식회사 | 증착 장치 |
JP7535831B1 (ja) | 2024-01-15 | 2024-08-19 | 株式会社テクノブレイズ | 有機材料用蒸発源、及び有機材料蒸着装置 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60237638A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-26 | Sony Corp | 薄膜型磁気記録媒体の製法 |
JPS63171874A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-15 | Fuji Electric Co Ltd | フラツシユ蒸着蒸発源 |
JPH01279749A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-10 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体製造装置 |
JPH0949072A (ja) * | 1995-08-10 | 1997-02-18 | Ulvac Japan Ltd | 有機化合物用蒸発源 |
JPH10195641A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-28 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜形成装置 |
JP3485297B2 (ja) * | 1997-03-17 | 2004-01-13 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜の製造方法及び製造装置 |
JP2000068055A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Tdk Corp | 有機el素子用蒸発源、この有機el素子用蒸発源を用いた有機el素子の製造装置および製造方法 |
JP2001308082A (ja) * | 2000-04-20 | 2001-11-02 | Nec Corp | 液体有機原料の気化方法及び絶縁膜の成長方法 |
JP4599727B2 (ja) * | 2001-02-21 | 2010-12-15 | 株式会社デンソー | 蒸着装置 |
JP2003160856A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着装置と薄膜形成方法およびそれらを用いた表示装置 |
JP2003268552A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Watanabe Shoko:Kk | 気化器及びそれを用いた各種装置並びに気化方法 |
JP2003293121A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-15 | Cluster Ion Beam Technology Kk | 蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝 |
JP2003321765A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | 有機物の蒸着方法及びこの方法に用いられる蒸着装置ならびに蒸発源 |
JP2004131768A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂薄膜の蒸着装置 |
JP4380319B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2009-12-09 | ソニー株式会社 | 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2004346371A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成膜方法及び装置 |
JP4387775B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2009-12-24 | 株式会社リコー | 有機薄膜の形成方法及びその形成装置 |
JP4454387B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2010-04-21 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置 |
JP4516499B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2010-08-04 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機物蒸着装置 |
US7501152B2 (en) * | 2004-09-21 | 2009-03-10 | Eastman Kodak Company | Delivering particulate material to a vaporization zone |
JP4641417B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-03-02 | トッキ株式会社 | 有機el素子の製造装置並びに有機el素子 |
US7625601B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-12-01 | Eastman Kodak Company | Controllably feeding organic material in making OLEDs |
US7213347B2 (en) * | 2005-05-03 | 2007-05-08 | Eastman Kodak Company | Metering material to promote rapid vaporization |
US20070098891A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Eastman Kodak Company | Vapor deposition apparatus and method |
JP2007186750A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Noboru Naruo | 蒸発源と蒸発方法 |
JP2007224394A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 |
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