JPH09231499A - 信号機用光源カバー、それを備えた信号機及び信号機用光源カバーの清浄化方法 - Google Patents

信号機用光源カバー、それを備えた信号機及び信号機用光源カバーの清浄化方法

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JPH09231499A
JPH09231499A JP8282805A JP28280596A JPH09231499A JP H09231499 A JPH09231499 A JP H09231499A JP 8282805 A JP8282805 A JP 8282805A JP 28280596 A JP28280596 A JP 28280596A JP H09231499 A JPH09231499 A JP H09231499A
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source cover
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photocatalyst
traffic
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JP8282805A
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Toshiya Watabe
俊也 渡部
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 降雨により自己清浄化（セルフクリーニン
グ）され、或いは散水や水濯ぎ程度で清掃可能になる信
号機光源用カバーの提供。 【解決手段】 光触媒粒子を含有する表面層を備えた信
号機光源用カバー。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、信号機用光源カバ
ー、及びその清浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】信号機用光源カバーは、自動車等の排気
ガス中の燃焼生成物や大気中に浮遊する煤塵の堆積によ
り汚れる。
【０００３】
【発明の解決すべき課題】このような信号機用光源カバ
ーの汚れは赤、緑、黄からなる横断指示表示を見にくく
するため、放置すると交通安全上支障を来す。また、都
市の美的景観を乱す一因をなす。また、信号機用光源カ
バーは高所にあるため、清掃作業は危険であり、かつ時
間もかかる。本発明の目的は、危険な清掃作業を伴わな
い、降雨により自己清浄化（セルフクリーニング）され
る表面を有する信号機用光源カバー、それを備えた信号
機、及び信号機用光源カバーの清浄化方法を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、危険な清掃作業を伴わ
ない、散水や水濯ぎ程度で清掃可能な表面を有する信号
機用光源カバー、及びその清浄化方法を提供することに
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、光触媒を含有
する表面層を形成した部材において、光触媒を光励起す
ると、部材の表面が高度に親水化されるという発見に基
づく。この現象は以下に示す機構により進行すると考え
られる。すなわち、光触媒の価電子帯上端と伝導帯下端
とのエネルギーギャップ以上のエネルギーを有する光が
光触媒に照射されると、光触媒の価電子帯中の電子が励
起されて伝導電子と正孔が生成し、そのいずれかまたは
双方の作用により、おそらく表面に極性が付与され、水
や水酸基等の極性成分が集められる。そして伝導電子と
正孔のいずれかまたは双方と、上記極性成分との協調的
な作用により、表面と前記表面に化学的に吸着した汚染
物質との化学結合を切断すると共に、表面に化学吸着水
が吸着し、さらに物理吸着水層がその上に形成されるの
である。また、一旦部材表面が高度に親水化されたなら
ば、部材を暗所に保持しても、表面の親水性はある程度
の期間持続する。
【０００５】本発明では、信号機用光源カバー基材の表
面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えたセルフクリ
ーニング性屋外表示板を提供する。光触媒を含有する表
面層を備えることにより、光触媒の光励起に応じて、表
面層の表面は親水性を呈するので、信号機用光源カバー
の表面が降雨にさらされた時に付着堆積物及び／又は汚
染物が雨滴により洗い流されるのが可能となる。
【０００６】本発明では、信号機用光源カバー基材の表
面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えた易清掃性信
号機用光源カバーを提供する。光触媒を含有する表面層
を備えることにより、光触媒の光励起に応じて、表面層
の表面は親水性を呈するので、信号機用光源カバーの表
面を水で洗浄するのが容易になる。
【０００７】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリカが含有されているようにする。シリ
カが含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に近い
高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持した
ときの親水維持性が向上する。その理由はシリカは構造
中に水を蓄えることができることと関係していると思わ
れる。
【０００８】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらに固体超強酸が含有されているようにする。
超強酸が含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に
近い高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持
したときの親水維持性が向上する。その理由は表面層に
超強酸が含有されると、表面の極性が、光の有無にかか
わらず極端に大きな状態にあるために、疎水性分子より
も極性分子である水分子を選択的に吸着させやすい。そ
のため安定な物理吸着水層が形成されやすく、暗所に保
持しても、表面の親水性をかなり長期にわたり高度に維
持できる。
【０００９】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリコーンが含有されているようにする。
シリコーンが含有されることにより、光触媒の光励起に
よって、シリコーン中のシリコン原子に結合する有機基
の少なくとも一部が水酸基に置換され、さらにその上に
物理吸着水層が形成されることにより、表面が水濡れ角
０゜に近い高度の親水性を呈するようになると共に、暗
所に保持したときの親水維持性が向上する。
【００１０】本発明においては、信号機用光源と、請求
項１〜１０に記載の信号機用光源カバーと、その上に設
けられた庇を備えた信号機であって、かつ前記信号機用
光源カバーの略真上にはスリット状の穴が穿たれている
ことを特徴とする信号機を提供する。信号機用光源カバ
ーの略真上に穴が穿たれていることにより、信号機用光
源カバーに雨があたるようになり、信号機用光源カバー
に付着した堆積物、汚染物が雨滴により洗い流されるの
が可能となる。また、穿たれた穴がごく細いスリット状
であることにより、太陽光が信号機用光源カバーにあた
ることを原因として横断指示表示が見にくくなるのを防
止することができる。
【００１１】本発明の好ましい態様においては、信号機
用光源カバーの略真下にも穴が穿たれているようにす
る。このようにすることにより、侵入した降雨は信号機
用光源カバー上を伝った後速やかに流下するようにな
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の具体的な構成につ
いて説明する。本発明における信号機用光源カバーの表
面には、図１又は図２に示すように、基材の表面に光触
媒を含む層が形成されている。このような表面構造をと
ることで、信号機用光源カバーの表面は、光触媒の光励
起に応じて高度に親水化されるのである。それにより、
表面の親水性が親油性より強まる。それにより、信号機
用光源カバーの表面が降雨にさらされた時に付着堆積物
及び／又は汚染物が雨滴により洗い流されるようにな
る。さらに、信号機用光源カバーの表面を水で洗浄する
のが容易になる。
【００１３】図１においては、表面層が光触媒のみから
なる場合には、光触媒は酸化物であることが好ましい。
そうすることにより、酸化物は環境中の汚染物質が吸着
していない状態では親水性を示すので、光励起作用によ
りその汚染物質を排斥させ、吸着水層を形成させること
で、親水性を呈しやすく、一様な水膜が形成できる。図
２において、Ｍは金属元素を示す。従って、図２の場
合、最表面は一般の無機酸化物からなる。この場合も、
酸化物は環境中の汚染物質が吸着していない状態では親
水性を示すので、上記無機酸化物以外に表面層に混入す
る光触媒の光励起作用によりその汚染物質を排斥させ、
吸着水層を形成させることで、一様な水膜が形成でき
る。
【００１４】本発明における信号機用光源カバーは、道
路用信号機の光源カバー、鉄道信号機の光源カバー等に
利用でき、材質としては、ポリカーボネート、アクリル
等の透明プラスチック基材又はそのハードコート板、ガ
ラス等の透明カバー板が好適に利用できる。
【００１５】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギー
（すなわち短い波長）の光（励起光）を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起（光励起）が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナター
ゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、酸化錫、酸化亜
鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二
鉄、チタン酸ストロンチウム等が好適に利用できる。こ
こで光触媒の光励起に用いる光源としては、太陽光；街
灯、常夜灯等の環境にある光源；指示表示用の光源等が
利用できる。光触媒の光励起により、基材表面が高度に
親水化されるためには、励起光の照度は、０．００１ｍ
Ｗ／ｃｍ２以上あればよいが、０．０１ｍＷ／ｃｍ２以
上だと好ましく、０．１ｍＷ／ｃｍ２以上だとより好ま
しい。
【００１６】光触媒を含有する表面層の膜厚は、０．４
μｍ以下にするのが好ましい。そうすれば、光の乱反射
による白濁を防止することができ、表面層は実質的に透
明となる。さらに、光触媒を含有する表面層の膜厚を
０．２μｍ以下にすると一層好ましい。 そうすれば、
光の干渉による表面層の発色を防止することができる。
また、表面層が薄ければ薄いほどその透明度は向上す
る。更に、膜厚を薄くすれば、表面層の耐摩耗性が向上
する。上記表面層の表面に、更に、親水化可能な耐摩耗
性又は耐食性の保護層や他の機能膜を設けても良い。
【００１７】上記表面層には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎのよう
な金属を添加することができる。前記金属を添加した表
面層は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させる
ことができる。
【００１８】上記表面層には、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ、Ｏｓのような白金族金属を添加することがで
きる。前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元
活性を増強でき、脱臭浄化作用等が向上する。また、光
触媒以外に固体超強酸を添加した場合には、白金族金属
の添加により固体超強酸の酸度が向上するので、親水維
持性も向上し、付着水の水膜化がより促進されると共
に、ある程度長期間光触媒に励起光が照射されない場合
の親水維持性も向上する。
【００１９】基材がナトリウムのようなアルカリ網目修
飾イオンを含むガラス（ソーダライムガラス、並板ガラ
ス等）の場合には、基材と表面層との間にシリカ等の中
間層を形成してもよい。そうすれば、焼成中にアルカリ
網目修飾イオンが基材から表面層へ拡散するのが防止さ
れ、光触媒機能がよりよく発揮される。
【００２０】親水性とは、表面に水を滴下したときにな
じみやすい性質をいい、一般に水濡れ角が９０゜未満の
状態をいう。本発明における高度の親水性とは、表面に
水を滴下したときに非常になじみやすい性質をいい、よ
り具体的には水濡れ角が１０゜以下程度になる状態をい
う。特に、セルフクリーニング性、水による易清掃性に
はＰＣＴ／ＪＰ９６／００７３４に開示したように、水
濡れ角が１０゜以下であると好ましく、５゜以下ではよ
り好ましい。
【００２１】本発明における固体酸には、硫酸担持Ａｌ
２Ｏ３、硫酸担持ＴｉＯ２、硫酸担持ＺｒＯ２、硫酸担
持ＳｎＯ２、硫酸担持Ｆｅ２Ｏ３、硫酸担持ＳｉＯ２、
硫酸担持ＨｆＯ２、ＴｉＯ２／ＷＯ３、ＷＯ３／ＳｎＯ
２、ＷＯ３／ＺｒＯ２、ＷＯ３／Ｆｅ２Ｏ３、ＳｉＯ２
・Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２、ＴｉＯ２／Ａｌ２
Ｏ３、ＴｉＯ２／ＺｒＯ２等が好適に利用できる。
【００２２】次に、表面層の形成方法について説明す
る。まず、表面層が光触媒のみからなる場合の製法につ
いて、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場合を例にと
り説明する。この場合の方法は、大別して３つの方法が
ある。１つの方法はゾル塗布焼成法であり、他の方法は
有機チタネート法であり、他の方法は電子ビーム蒸着法
である。 （１）ゾル塗布焼成法 アナターゼ型酸化チタンゾルを、基材表面に、スプレー
コーティング法、ディップコーティング法、フローコー
ティング法、スピンコーティング法、ロールコーティン
グ法等の方法で塗布し、焼成する。 （２）有機チタネート法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテート、チタンキレート等の
有機チタネートに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）を添加し、アルコール（エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等）などの非水溶媒で希釈した後、部分
的に加水分解を進行させながら又は完全に加水分解を進
行させた後、混合物をスプレーコーティング法、ディッ
プコーティング法、フローコーティング法、スピンコー
ティング法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、
乾燥させる。乾燥により、有機チタネートの加水分解が
完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタンの脱水縮
重合により無定型酸化チタンの層が基材表面に形成され
る。その後、アナターゼの結晶化温度以上の温度で焼成
して、無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化チタンに相
転移させる。 （３）電子ビーム蒸着法 酸化チタンのターゲットに電子ビームを照射することに
より、基材表面に無定型酸化チタンの層を形成する。そ
の後、アナターゼの結晶化温度以上の温度で焼成して、
無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化チタンに相転移さ
せる。
【００２３】次に、表面層が光触媒とシリカからなる場
合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場合を
例にとり説明する。この場合の方法は、例えば、以下の
３つの方法がある。１つの方法はゾル塗布焼成法であ
り、他の方法は有機チタネート法であり、他の方法は４
官能性シラン法である。 （１）ゾル塗布焼成法 アナターゼ型酸化チタンゾルとシリカゾルとの混合液
を、基材表面にスプレーコーティング法、ディップコー
ティング法、フローコーティング法、スピンコーティン
グ法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、焼成す
る。 （２）有機チタネート法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテート、チタンキレート等の
有機チタネートに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）とシリカゾルを添加し、アルコール（エタノール、
プロパノール、ブタノール等）などの非水溶媒で希釈し
た後、部分的に加水分解を進行させながら又は完全に加
水分解を進行させた後、混合物をスプレーコーティング
法、ディップコーティング法、フローコーティング法、
スピンコーティング法、ロールコーティング法等の方法
で塗布し、乾燥させる。乾燥により、有機チタネートの
加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタ
ンの脱水縮重合により無定型酸化チタンの層が基材表面
に形成される。その後、アナターゼの結晶化温度以上の
温度で焼成して、無定型酸化チタンをアナターゼ型酸化
チタンに相転移させる。 （３）４官能性シラン法 テトラアルコキシシラン（テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメ
トキシシラン等）とアナターゼ型酸化チタンゾルとの混
合物を基材の表面にスプレーコーティング法、ディップ
コーティング法、フローコーティング法、スピンコーテ
ィング法、ロールコーティング法等の方法で塗布し、必
要に応じて加水分解させてシラノールを形成した後、加
熱等の方法でシラノールを脱水縮重合に付す。
【００２４】次に、表面層が光触媒と固体酸からなる場
合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタン、固体酸
がＴｉＯ２／ＷＯ３の場合を例にとり説明する。この場
合の方法は、タングステン酸のアンモニア溶解液とアナ
ターゼ型酸化チタンゾルとを混合し、必要に応じて希釈
液（水、エタノール等）で希釈した混合物を基材の表面
にスプレーコーティング法、ディップコーティング法、
フローコーティング法、スピンコーティング法、ロール
コーティング法等の方法で塗布し、焼成する。
【００２５】次に、表面層が光触媒とシリコーンからな
る場合について、光触媒がアナターゼ型酸化チタンの場
合を例にとり説明する。この場合の方法は、未硬化の若
しくは部分的に硬化したシリコーン又はシリコーンの前
駆体からなる塗料とアナターゼ型酸化チタンゾルとを混
合し、シリコーンの前駆体を必要に応じて加水分解させ
た後、混合物を基材の表面にスプレーコーティング法、
ディップコーティング法、フローコーティング法、スピ
ンコーティング法、ロールコーティング法等の方法で塗
布し、加熱等の方法でシリコーンの前駆体の加水分解物
を脱水縮重合に付して、アナターゼ型酸化チタン粒子と
シリコーンからなる表面層を形成する。形成された表面
層は、紫外線を含む光の照射によりアナターゼ型酸化チ
タンが光励起されることにより、シリコーン分子中のケ
イ素原子に結合した有機基の少なくとも一部を水酸基に
置換され、さらにその上に物理吸着水層が形成されて、
高度の親水性を呈する。ここでシリコーンの前駆体に
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチルトリプ
ロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
フェニルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメト
キシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、フェニル
メチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシ
ラン、フェニルメチルジブトキシシラン、フェニルメチ
ルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、及びそれらの加水分解物、それらの混
合物が好適に利用できる。
【００２６】次に、本発明に係る信号機について説明す
る。本発明に係る信号機は図３又は図４に示すように、
光源カバー１の真上の部分だけ、庇２において紙面方向
にスリット状に穴が穿たれているようにする。この穴は
太陽光の入射による指示表示の視認性を低下させないよ
うになるべく細いのが好ましく、幅５ｃｍ以内、より好
ましくは幅２ｃｍ以内がよい。また図４のように穴部が
深いスリットを形成するように、庇２に突起部が設けら
れていてもよい。この場合には、太陽光の入射による指
示表示の視認性の低下はより生じにくくなる。
【００２７】
【実施例】まず、１０ｃｍ角のＰＭＭＡ板表面に、プラ
イマー塗料（東芝シリコーン、ＰＨ９３をトルエン溶媒
で６倍に希釈した塗料）をスプレーコーティング法にて
塗布後室温で乾燥させて、基板をプライマー樹脂層で被
覆した。次に、シリコーン系ハードコーティング剤（東
芝シリコーン、トスガード）をフローコーティング法に
て塗布し、９０℃で３時間乾燥し、プライマー樹脂層の
上にハードコート層を形成した。さらに、ハードコート
層表面を、コロナ表面処理装置（春日電機）により、電
極にワイヤー電極を用い、電極先端と試料表面とのギャ
ップ２ｍｍ、電圧２６ｋＶ、周波数３９ｋＨｚ、試料送
り速度４．２ｍ／分の条件で、高周波コロナ放電処理し
て＃１試料を得た。一方、アナターゼ型酸化チタンゾル
５６重量部（日産化学、ＴＡ−１５、平均粒径１２ｎ
ｍ）とシリカゾル３３重量部（日本合成ゴム、グラスカ
Ａ液）を混合し、エタノールで希釈後、更にメチルトリ
メトキシシラン１１重量部（日本合成ゴム、グラスカＢ
液）を添加し、酸化チタン含有塗料組成物を調整した。
上記塗料組成物を、＃１試料に、フローコーティング法
にて塗布し、９０℃で３時間熱処理して硬化させ、＃２
試料を得た。この＃２試料を、紫外線光源（三共電気、
ブラックライトブルー（ＢＬＢ）蛍光灯）を用いて試料
の表面に０．６ｍＷ／ｃｍ２の紫外線照度で約４８時間
紫外線を照射し、＃３試料を得た。比較のため、１０ｃ
ｍ角のＰＭＭＡ板試料も準備した。まず、＃３試料とＰ
ＭＭＡ板試料に水滴を滴下し、滴下後の様子の観察及び
水との接触角の測定を行った。ここで水との接触角は接
触角測定器（協和界面科学、ＣＡ−Ｘ１５０）を用い、
滴下後３０秒後の水との接触角で評価した。その結果＃
３試料はマイクロシリンジから試料表面に水滴を滴下さ
れると、水滴が一様に水膜状に試料表面を拡がる様子が
観察された。また３０秒後の水との接触角は約０゜まで
高度に親水化されていた。それに対し、ＰＭＭＡ板試料
ではマイクロシリンジから試料表面に水滴を滴下される
と、水滴は表面にややなじむものの、一様に水膜状にな
るまでには至らなかった。また３０秒後の水との接触角
は６０゜であった。
【００２８】次に、疎水性カーボンブラック１重量部、
親水性カーボンブラック１重量部からなる粉体混合物を
１．０５ｇ／リッターの濃度で水に懸濁させたスラリー
を調製した。４５度に傾斜させた＃３試料及びＰＭＭＡ
板試料に上記スラリー１５０ｍｌを流下させて１５分間
乾燥させ、次いで蒸留水１５０ｍｌを流下させて１５分
間乾燥させ、このサイクルを２５回反復した。試験前後
の色差変化を，色差計（東京電色）を用いて計測した。
色差は日本工業規格（ＪＩＳ）Ｈ０２０１に従い、ΔＥ
＊表示を用いた。その結果、ＰＭＭＡ板試料では色差変
化２２と大きかったのに対し、＃３試料では色差変化は
０．６に止まった。
【００２９】
【発明の効果】本発明では、信号機光源用カバー基材の
表面に、光触媒粒子を含有する表面層を備えるようにす
ることにより、信号機光源用カバー表面は、光触媒の光
励起に応じて高度の親水性を呈し、降雨により自己清浄
化（セルフクリーニング）され、或いは散水や水濯ぎ程
度で清掃可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る信号機光源用カバーの表面構造
を示す図。
【図２】 本発明に係る信号機光源用カバーの他の表面
構造を示す図。
【図３】 本発明に係る信号機の一態様を示す図。
【図４】 本発明に係る信号機の他の態様を示す図。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 信号機用光源カバー基材の表面に、光触
    媒粒子を含有する表面層を備え、前記光触媒の光励起に
    応じて、前記層の表面は親水性を呈し、以て屋外表示板
    の前記層が降雨にさらされた時に付着堆積物及び／又は
    汚染物が雨滴により洗い流されるのを可能にするセルフ
    クリーニング性屋外表示板。
  2. 【請求項２】 信号機用光源カバー基材の表面に、光触
    媒粒子を含有する表面層を備え、前記光触媒の光励起に
    応じて、前記層の表面は親水性を呈し、以て屋外表示板
    の前記層表面を水で洗浄するのが容易になる易清掃性屋
    外表示板。
  3. 【請求項３】 前記表面層には、さらにシリカが含有さ
    れていることを特徴とする請求項１、２に記載の信号機
    用光源カバー。
  4. 【請求項４】 前記表面層には、さらに固体酸が含有さ
    れていることを特徴とする請求項１、２に記載の信号機
    用光源カバー。
  5. 【請求項５】 前記表面層には、さらにシリコーンが含
    有されていることを特徴とする請求項１、２に記載の信
    号機用光源カバー。
  6. 【請求項６】 前記表面層の表面は、前記光触媒の光励
    起に応じて、水との接触角に換算して１０゜以下の親水
    性を呈することを特徴とする請求項１〜５に記載の信号
    機用光源カバー。
  7. 【請求項７】 前記表面層の表面は、前記光触媒の光励
    起に応じて、水との接触角に換算して５゜以下の親水性
    を呈することを特徴とする請求項１〜５に記載の信号機
    用光源カバー。
  8. 【請求項８】 前記表面層の膜厚は０．４μｍ以下であ
    ることを特徴とする請求項１〜７に記載の信号機用光源
    カバー。
  9. 【請求項９】 前記表面層の膜厚は０．２μｍ以下であ
    ることを特徴とする請求項１〜７に記載の信号機用光源
    カバー。
  10. 【請求項１０】 前記表面層の表面に、さらに親水化可
    能な保護層が設けられていることを特徴とする請求項１
    〜５に記載の信号機用光源カバー。
  11. 【請求項１１】 信号機用光源と、請求項１〜１０に記
    載の信号機用光源カバーと、その上に設けられた庇を備
    えた信号機であって、かつ前記信号機用光源カバーの略
    真上にはスリット状の穴が穿たれていることを特徴とす
    る信号機。
  12. 【請求項１２】 前記信号機用光源カバーの略真下にも
    穴が穿たれていることを特徴とする請求項１１に記載の
    信号機。
  13. 【請求項１３】 請求項１１又は１２の信号機を準備す
    る工程と；前記信号機を屋外に配置する工程と；前記信
    号機用光源カバーの表面層に含有される光触媒を光励起
    することにより、前記層の表面を親水性にする工程と；
    前記信号機用光源カバーを前記スリット状の穴から侵入
    する降雨にさらして、前記層の表面に付着する堆積物及
    び／又は汚染物を雨滴により洗い流させる工程；からな
    る信号機用光源カバーのセルフクリーニング方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１〜１０の信号機用光源カバー
    を準備する工程と；前記信号機用光源カバーの表面層に
    含有される光触媒を光励起することにより、前記層の表
    面を親水性にする工程と；前記信号機用光源カバーを水
    で濯ぐことにより、前記層の表面に付着する堆積物及び
    ／又は汚染物を表面から釈放させて水により洗い流す工
    程；からなる信号機用光源カバーの清浄化方法。
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