JP7376360B2 - 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 - Google Patents
多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7376360B2 JP7376360B2 JP2019548585A JP2019548585A JP7376360B2 JP 7376360 B2 JP7376360 B2 JP 7376360B2 JP 2019548585 A JP2019548585 A JP 2019548585A JP 2019548585 A JP2019548585 A JP 2019548585A JP 7376360 B2 JP7376360 B2 JP 7376360B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- carbon
- less
- porous carbon
- composite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 327
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 325
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 322
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 230
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 191
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 title description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 title description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 488
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 381
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 294
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 257
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 212
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 claims description 194
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 141
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 70
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 55
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 49
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 48
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 39
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 32
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 claims description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 16
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 15
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 14
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 claims description 11
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims description 9
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N trisilane Chemical compound [SiH3][SiH2][SiH3] VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 191
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 172
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 167
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 130
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 125
- -1 amine compounds Chemical class 0.000 description 75
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 72
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 69
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 58
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 58
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 58
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 54
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 52
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 241000894007 species Species 0.000 description 49
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 48
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 46
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 45
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 41
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 40
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 39
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 39
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 38
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 37
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 34
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 34
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 33
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 33
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 32
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 30
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 30
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 28
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 27
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 26
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 25
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 24
- 229910021387 carbon allotrope Inorganic materials 0.000 description 24
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 24
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 21
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 18
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 18
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 17
- 239000002153 silicon-carbon composite material Substances 0.000 description 17
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 16
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 15
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 15
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 14
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 14
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 13
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 13
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 13
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 13
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 12
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 11
- 239000012704 polymeric precursor Substances 0.000 description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 11
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 11
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 11
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 10
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 10
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical class [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 9
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 9
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 8
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 8
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 8
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 8
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 7
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 7
- 238000010902 jet-milling Methods 0.000 description 7
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 7
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 6
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 6
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 6
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000002482 conductive additive Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 6
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 6
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N phenylacetone Chemical compound CC(=O)CC1=CC=CC=C1 QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000006561 solvent free reaction Methods 0.000 description 6
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 5
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000000495 cryogel Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 229920005610 lignin Polymers 0.000 description 5
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 5
- 238000010951 particle size reduction Methods 0.000 description 5
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 5
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 5
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 5
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000000190 proton-induced X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000001812 pycnometry Methods 0.000 description 5
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 5
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930091371 Fructose Natural products 0.000 description 4
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 4
- 239000005715 Fructose Substances 0.000 description 4
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 4
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 4
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 4
- 229910021386 carbon form Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Substances OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 4
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 4
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JDTCYQUMKGXSMX-UHFFFAOYSA-N dimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][SiH](C)C JDTCYQUMKGXSMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UCMVNBCLTOOHMN-UHFFFAOYSA-N dimethyl(silyl)silane Chemical compound C[SiH](C)[SiH3] UCMVNBCLTOOHMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- IQCYANORSDPPDT-UHFFFAOYSA-N methyl(silyl)silane Chemical compound C[SiH2][SiH3] IQCYANORSDPPDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 4
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000235 small-angle X-ray scattering Methods 0.000 description 4
- 229910021384 soft carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 4
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][Si](C)(C)C VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 3
- SBLRHMKNNHXPHG-UHFFFAOYSA-N 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound FC1COC(=O)O1 SBLRHMKNNHXPHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910012851 LiCoO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 3
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 3
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 3
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 3
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 3
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 3
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 3
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 3
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 3
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 3
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 3
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 3
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 3
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxol-2-one Chemical compound O=C1OC=CO1 VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKDLTXYXODKDEA-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutan-2-one Chemical compound CCC(=O)CC1=CC=CC=C1 GKDLTXYXODKDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGCZTXZTJXYWCO-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropanal Chemical compound O=CCCC1=CC=CC=C1 YGCZTXZTJXYWCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- 235000006491 Acacia senegal Nutrition 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000856 Amylose Polymers 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 2
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 2
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 2
- 239000002000 Electrolyte additive Substances 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- 229910010707 LiFePO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 2
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920001222 biopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 2
- IWJMQXOBCQTQCF-UHFFFAOYSA-N but-3-enal Chemical compound C=CCC=O IWJMQXOBCQTQCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052800 carbon group element Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical compound FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009838 combustion analysis Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 2
- 229920001795 coordination polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000000840 electrochemical analysis Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 2
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M lithium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 2
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000002464 physical blending Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000329 polyazepine Polymers 0.000 description 2
- 229920000323 polyazulene Polymers 0.000 description 2
- 229920001088 polycarbazole Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920000417 polynaphthalene Polymers 0.000 description 2
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 2
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 2
- UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N silafluorene Chemical compound C12=CC=CC=C2CC2=C1C=CC=[Si]2 UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(1-methyl-2,3,4,5-tetraphenylsilol-1-yl)propyl]azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CCC[Si]1(C)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 2
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 2
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWXCKIMTKACHI-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobuta-1,3-diene 2-methylbuta-1,3-diene Chemical compound C=CC(C)=C.ClC=CC=C VGWXCKIMTKACHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 100676-05-9 Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC1C(O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(O)C(O)C2O)CO)O1 OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethyl-6-methylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CCC1=CC(C)=C(N)C(CC)=C1N PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBPWDGRYHFQTRC-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxycyclohexan-1-one Chemical compound CCOC1CCCCC1=O WBPWDGRYHFQTRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- USEGQJLHQSTGHW-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-2-methylprop-1-ene Chemical group CC(=C)CBr USEGQJLHQSTGHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOFIWCXMXPVSAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2,6-bis(methylsulfanyl)benzene-1,3-diamine Chemical compound CSC1=CC(C)=C(N)C(SC)=C1N AOFIWCXMXPVSAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- 239000003341 Bronsted base Substances 0.000 description 1
- 239000005997 Calcium carbide Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-IGMARMGPSA-N Carbon-12 Chemical compound [12C] OKTJSMMVPCPJKN-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-OUBTZVSYSA-N Carbon-13 Chemical compound [13C] OKTJSMMVPCPJKN-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-NJFSPNSNSA-N Carbon-14 Chemical compound [14C] OKTJSMMVPCPJKN-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000223760 Cinnamomum zeylanicum Species 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N D-Cellobiose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021545 Dilithium tetrabromonickelate(II) Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920004466 Fluon® PCTFE Polymers 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004459 Kel-F® PCTFE Polymers 0.000 description 1
- 229920006370 Kynar Polymers 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015643 LiMn 2 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002995 LiNi0.8Co0.15Al0.05O2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015014 LiNiCoAlO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001290 LiPF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001228 Li[Ni1/3Co1/3Mn1/3]O2 (NCM 111) Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002774 Maltodextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000005913 Maltodextrin Substances 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N Maltose Natural products O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 1
- 229920001007 Nylon 4 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- LGCMKPRGGJRYGM-UHFFFAOYSA-N Osalmid Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1O LGCMKPRGGJRYGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002377 Polythiazyl Polymers 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-RMMQSMQOSA-N Raffinose Natural products O(C[C@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O[C@@]2(CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O2)O1)[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-RMMQSMQOSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N Sorbitan monooleate Chemical group CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006355 Tefzel Polymers 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-UHFFFAOYSA-N UNPD196149 Natural products OC1C(O)C(CO)OC1(CO)OC1C(O)C(O)C(O)C(COC2C(C(O)C(O)C(CO)O2)O)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGMPCOZULZMORK-UHFFFAOYSA-N [F].C=C.CC=C Chemical group [F].C=C.CC=C UGMPCOZULZMORK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXLWPHXXIPDVKM-UHFFFAOYSA-L [Li+].[Li+].CCCCCCCC(C(C(=O)[O-])(Cl)Cl)(Cl)Cl.CCCCCCCC(C(C(=O)[O-])(Cl)Cl)(Cl)Cl Chemical compound [Li+].[Li+].CCCCCCCC(C(C(=O)[O-])(Cl)Cl)(Cl)Cl.CCCCCCCC(C(C(=O)[O-])(Cl)Cl)(Cl)Cl LXLWPHXXIPDVKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SYRDSFGUUQPYOB-UHFFFAOYSA-N [Li+].[Li+].[Li+].[O-]B([O-])[O-].FC(=O)C(F)=O Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]B([O-])[O-].FC(=O)C(F)=O SYRDSFGUUQPYOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJASJHNHBZQZAK-UHFFFAOYSA-N [N].C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 Chemical compound [N].C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 VJASJHNHBZQZAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- KVBYPTUGEKVEIJ-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-diol;formaldehyde Chemical compound O=C.OC1=CC=CC(O)=C1 KVBYPTUGEKVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N beta-maltose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910021418 black silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-AKLPVKDBSA-N carbane Chemical compound [15CH4] VNWKTOKETHGBQD-AKLPVKDBSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007833 carbon precursor Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-YPZZEJLDSA-N carbon-10 atom Chemical compound [10C] OKTJSMMVPCPJKN-YPZZEJLDSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-BJUDXGSMSA-N carbon-11 Chemical compound [11C] OKTJSMMVPCPJKN-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017803 cinnamon Nutrition 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Natural products CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical compound OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N dilithium;[oxido(oxoboranyloxy)boranyl]oxy-oxoboranyloxyborinate Chemical compound [Li+].[Li+].O=BOB([O-])OB([O-])OB=O PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical compound C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical class [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000010006 flight Effects 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002173 high-resolution transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N imidazolide Chemical compound C1=C[N-]C=N1 JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVFSDGKDKFSOTB-UHFFFAOYSA-K iron(3+);triacetate Chemical compound [Fe+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O PVFSDGKDKFSOTB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002561 ketenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- LQJIDIOGYJAQMF-UHFFFAOYSA-N lambda2-silanylidenetin Chemical compound [Si].[Sn] LQJIDIOGYJAQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- GUWHRJQTTVADPB-UHFFFAOYSA-N lithium azide Chemical compound [Li+].[N-]=[N+]=[N-] GUWHRJQTTVADPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940031993 lithium benzoate Drugs 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001386 lithium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001496 lithium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- URLCIQQRJXWBIF-UHFFFAOYSA-M lithium;4-cyclohexylbutanoate Chemical compound [Li+].[O-]C(=O)CCCC1CCCCC1 URLCIQQRJXWBIF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M lithium;benzoate Chemical compound [Li+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XKPJKVVZOOEMPK-UHFFFAOYSA-M lithium;formate Chemical compound [Li+].[O-]C=O XKPJKVVZOOEMPK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZJZXSOKJEJFHCP-UHFFFAOYSA-M lithium;thiocyanate Chemical compound [Li+].[S-]C#N ZJZXSOKJEJFHCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229940035034 maltodextrin Drugs 0.000 description 1
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 1
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006262 metallic foam Substances 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N methane;molecular fluorine Chemical compound C.FF QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000002772 monosaccharides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 1
- 229910021423 nanocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002121 nanofiber Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KJLFZWJDCDJCFB-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ni+2] KJLFZWJDCDJCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N nitrate group Chemical group [N+](=O)([O-])[O-] NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229920001542 oligosaccharide Polymers 0.000 description 1
- 150000002482 oligosaccharides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002632 poly(dichlorophosphazene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229940065514 poly(lactide) Drugs 0.000 description 1
- 229920002627 poly(phosphazenes) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920001551 polystannane Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000009703 powder rolling Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-ZQSKZDJDSA-N raffinose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO[C@@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O2)O)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-ZQSKZDJDSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013341 scale-up Methods 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002620 silicon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021430 silicon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000001988 small-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000001464 small-angle X-ray scattering data Methods 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 238000004901 spalling Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[2-[2-[bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]amino]-5-bromophenoxy]ethoxy]-4-methyl-n-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]anilino]acetate Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)C(OCCOC=2C(=CC=C(Br)C=2)N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)=C1 CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K trilithium;phosphate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])([O-])=O TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/362—Composites
- H01M4/366—Composites as layered products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/32—Manganese, technetium or rhenium
- B01J23/34—Manganese
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/74—Iron group metals
- B01J23/745—Iron
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/74—Iron group metals
- B01J23/755—Nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/029—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition of monosilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/24—Deposition of silicon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/24—Electrodes characterised by structural features of the materials making up or comprised in the electrodes, e.g. form, surface area or porosity; characterised by the structural features of powders or particles used therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/26—Electrodes characterised by their structure, e.g. multi-layered, porosity or surface features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/30—Electrodes characterised by their material
- H01G11/32—Carbon-based
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/30—Electrodes characterised by their material
- H01G11/32—Carbon-based
- H01G11/34—Carbon-based characterised by carbonisation or activation of carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/30—Electrodes characterised by their material
- H01G11/32—Carbon-based
- H01G11/38—Carbon pastes or blends; Binders or additives therein
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/30—Electrodes characterised by their material
- H01G11/50—Electrodes characterised by their material specially adapted for lithium-ion capacitors, e.g. for lithium-doping or for intercalation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/84—Processes for the manufacture of hybrid or EDL capacitors, or components thereof
- H01G11/86—Processes for the manufacture of hybrid or EDL capacitors, or components thereof specially adapted for electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/04—Processes of manufacture in general
- H01M4/0402—Methods of deposition of the material
- H01M4/0421—Methods of deposition of the material involving vapour deposition
- H01M4/0428—Chemical vapour deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/13—Electrodes for accumulators with non-aqueous electrolyte, e.g. for lithium-accumulators; Processes of manufacture thereof
- H01M4/139—Processes of manufacture
- H01M4/1393—Processes of manufacture of electrodes based on carbonaceous material, e.g. graphite-intercalation compounds or CFx
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/13—Electrodes for accumulators with non-aqueous electrolyte, e.g. for lithium-accumulators; Processes of manufacture thereof
- H01M4/139—Processes of manufacture
- H01M4/1395—Processes of manufacture of electrodes based on metals, Si or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/362—Composites
- H01M4/364—Composites as mixtures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/38—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of elements or alloys
- H01M4/386—Silicon or alloys based on silicon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/58—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of inorganic compounds other than oxides or hydroxides, e.g. sulfides, selenides, tellurides, halogenides or LiCoFy; of polyanionic structures, e.g. phosphates, silicates or borates
- H01M4/583—Carbonaceous material, e.g. graphite-intercalation compounds or CFx
- H01M4/587—Carbonaceous material, e.g. graphite-intercalation compounds or CFx for inserting or intercalating light metals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/04—Hybrid capacitors
- H01G11/06—Hybrid capacitors with one of the electrodes allowing ions to be reversibly doped thereinto, e.g. lithium ion capacitors [LIC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M2004/021—Physical characteristics, e.g. porosity, surface area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M2004/026—Electrodes composed of, or comprising, active material characterised by the polarity
- H01M2004/027—Negative electrodes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Description
本発明の実施形態は、一般に、リチウムの極めて耐久性の高い挿入(インターカレーション)を示す新規な材料の製造方法に関する。新規な材料は、多孔質足場、例えば、ミクロ細孔、メソ細孔および/またはマクロ細孔を含む細孔容積を有するカーボン(炭素)を含み、前記容積はシリコン(ケイ素)で含浸されている。炭素足場の適切な前駆体には、糖およびポリオール、有機酸、フェノール化合物、およびアミン化合物が含まれるが、これらに限定されない。シリコンの適切な前駆体には、シラン、ジシラン、トリシラン、およびテトラシランが含まれるが、これらに限定されない。シリコンで含浸された多孔質足場は、残りの表面積を減少させるためにさらに被覆することができ、例えば、炭素または伝導性ポリマーで被覆することができる。このようなシリコン含浸炭素材料および炭素-または伝導性ポリマー-被覆シリコン含浸炭素材料は、リチウムの挿入に関して顕著な耐久性を示す。
一般的に言って、本発明の実施形態は、シリコンが多孔質足場材料の細孔容積内に付着される複合材料の製造に関する。多孔質足場材料は、様々な異なる材料を含むことができる。特定の実施形態において、多孔質足場材料は、ミクロ細孔、メソ細孔、および/またはマクロ細孔を有する多孔質炭素材料である。具体的には、多孔質炭素材料は、5~1000nmの範囲の細孔を供給し、後に細孔にシリコンが充填される。したがって、本開示は、シリコンが多孔質足場材料の細孔容積内に付着される複合材料の製造方法に関する。複合体は、リチウムの非常に耐久性のある挿入を示し、したがって、最適化されたリチウム貯蔵および利用性質を供給する。これらの新規な複合体は、多数の電気エネルギー貯蔵デバイスにおいて、例えば、リチウム系電気エネルギー貯蔵デバイス(例えば、リチウムイオン電池)における電極材料として使用することができる。本明細書に開示される新規な複合体を含む電極は、高い可逆的容量、高い第1サイクル効率、高出力性能、またはそれらのいずれかの組み合わせを示す。本発明者らは、このような改善された電気化学的性能が、シリコン(ケイ素)の寸法、サイクル中のケイ素および炭素材料の一体性、安定なSEI層の形成、足場材料の物理化学的性質、例えば、炭素足場の表面積および細孔容積性質、および他の性質に関連することを見いだし、ならびにそれらの材料を製造および組み合わせるために使用される手法を見いだした。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間の間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、多孔質炭素材料を生成させる工程;
c)ケイ素含有前駆体の存在下で多孔質炭素材料を高温に付して、シリコンを含浸させた炭素材料を形成する工程
を有してよい。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間の間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、多孔質炭素材料を生成させる工程;
c)ケイ素含有前駆体の存在下で多孔質炭素材料を高温に付して、シリコンを含浸させた炭素材料を形成する工程;および
d)シリコン含浸炭素材料のまわりに伝導性ポリマーを適用して、伝導性ポリマーネットワーク内に埋設されたシリコン含浸炭素材料を得る工程
を有してよい。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間の間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、多孔質炭素材料を生成させる工程;
c)ケイ素含有前駆体の存在下で多孔質炭素材料を高温に付して、シリコンを含浸させた炭素材料を形成する工程;
d)シリコン含浸炭素材料上に炭素層を適用して、炭素被覆されたシリコン含浸炭素材料を得る工程;および
e)シリコン含浸炭素材料のまわりに伝導性ポリマーを適用して、炭素被覆され、さらに伝導性ポリマーネットワーク内に埋設されたシリコン含浸炭素材料を生成する工程
を有してよい。
下記の記載において、種々の実施形態の理解をもたらすために、幾つかの具体的な詳細が説明される。しかしながら、当業者は、本発明がこれらの詳細な説明を用いなくても実施できるものと理解している。他の場合において、実施例の記載が不必要に不明瞭になることを回避するために、既知の構造は示されていないか詳細が記載されている。文脈上他の意味に解すべき場合を除き、以下の明細書および請求項を通じて、用語「含有」およびそれらの変形例、例えば、「含有する」および「含む」は、開放的な用語であり、すなわち、「包含するが、限定されない」といった包括的な意味を有すると解釈される。さらに、本明細書においてもたらされる表題は、利便性のためだけであり、請求項に記載された本発明の範囲および意義を説明するものではない。
本明細書で使用されるように、および他に記載のない限り、以下の用語は下記に特定されるような意味を有する。
本発明の実施形態の目的のために、多孔質足場を使用してよく、多孔質足場の中にシリコンを含浸させる。この文脈では、多孔質足場は、様々な材料を含むことができる。いくつかの実施形態において、多孔質足場材料は、主として炭素、例えば硬質炭素を含む。他の実施形態において、炭素の他の同素体もまた使用でき、例えば、黒鉛、非晶質カーボン、ダイヤモンド、C60、カーボンナノチューブ(例えば、単層および/または多層)、グラフェンおよび/または炭素繊維を含む。炭素材料への多孔性の導入は、種々の手段によって達成することができる。例えば、炭素材料における多孔性は、ポリマー前駆体、および/または処理条件の調節によって達成することができ、前記多孔質炭素材料を作成し、次のセクションで詳細に説明する。
ポリマー前駆体から多孔質炭素材料を調製する方法は、当該技術分野で公知である。例えば、炭素材料の製造方法は、米国特許第7,723,262号、同8,293,818号、同8,404,384号、同8,654,507号、8,916,296号、9,269,502号、米国特許出願12/965,709号および13/486,731号、ならびに国際特許出願PCT/US2014/029106号に記載されており、これらの全開示は全ての目的のために参照によりその全体が本明細書に援用される。したがって、一実施形態において、本開示は、上述の炭素材料またはポリマーゲルのいずれかを調製する方法を提供する。炭素材料は、単一の前駆体、例えば、糖類材料、具体的には、ショ糖、フルクトース、グルコース、デキストリン、マルトデキストリン、澱粉、アミロペクチン、アミロース、リグニン、アラビアゴム、当該技術分野で知られている他の糖類、およびそれらの組合せのいずれかの熱分解によって合成することができる。あるいは、炭素材料は、複合樹脂の熱分解によって合成されてもよい。例えば、ポリマー前駆体、具体的には、フェノール、レゾルシノール、ビスフェノールA、尿素、メラミン、および当該技術分野で知られている他の適切な化合物、およびこれらの組合せを用いて、水、エタノール、メタノール、および当該技術分野で知られている他の溶媒などの適切な溶媒中で、ホルムアルデヒド、フルフラール、当該技術分野で知られている他の架橋剤、およびこれらの組み合わせの架橋剤を用いて、ゾル-ゲル法によって形成できる。樹脂は、酸または塩基性であってもよく、触媒を含んでいてもよい。触媒は揮発性であっても不揮発性であってもよい。熱分解温度および滞留時間は、当該技術分野で知られているように変化することができる。
ナノ寸法のシリコンは、取り扱いが困難であり、従来の電極において処理することが困難である。高い表面積および凝集することの好ましさのために、均一な分散および被覆は、特別な手順および/またはバインダーシステムを必要とする。既存の黒鉛アノード材料の交換のための珠玉(ドロップ)であるために、次世代のSi-C材料はミクロン寸法である必要がある。実施形態において、複合体の寸法分布は比較的均一であり、例えば、範囲内で上下の境界を有し、Dv10が5nm以上であり、Dv50が500nm以上5μm以下であり、Dv90が50μm以下である。特定の実施形態において、複合粒子は、Dv10が50nm以上であり、Dv50が1μm~10μmであり、Dv90が30μm以下である粒子寸法分布を有する。特定の他の実施形態において、複合粒子は、以下の寸法分布:Dv10が100nm以上、Dv50が2μm~8μmであり、Dv90が20μm以下である粒子寸法分布を有する。特定のさらなる実施形態において、複合粒子は、Dv10が250nm以上であり、Dv50が4μm~6μmであり、Dv90が15μm以下である粒子寸法分布を有する。
誘電加熱は、高周波交番電場を印加する方法、または電波またはマイクロ波の電磁放射が誘電体材料を加熱する方法である。分子の回転は、電気双極子モーメントを有する極性分子を含む材料中で起こり、その結果、それらは電磁場でそれらを整列させることになる。電磁場が振動している場合には、電磁場は、電磁波または急速に振動する電場にあるので、これらの分子は、整列することにより連続的に回転する。これは双極子回転または双極性分極と呼ばれる。電磁場が交番すると、分子は方向を逆にする。回転分子は、(電気力を介して)他の分子を押し、引っ張り、および衝突すると、前記材料中の隣接する分子および原子にエネルギーを分配する。一旦分散されると、このエネルギーは熱として現れる。
炭素材料は、マイクロ波を吸収することができ、すなわち、マイクロ波放射、すなわち、電磁スペクトルの領域における赤外線および電波によって容易に加熱される。より具体的には、それらは、300~0.3GHzの周波数に対応する0.001m~1mの波長を有する波と定義される。マイクロ波電場の存在下で加熱される炭素の能力は、その誘電正接tanδ = ε''/ε'によって定義される。誘電正接は、2つのパラメータ、誘電率(または実誘電率)ε'と、誘電損失係数(または虚誘電率)ε''から構成され、ε=ε'-iε''[式中、εは複素誘電率である。]によって定義される。誘電率(ε')は、入射エネルギーのどれだけが反射され、どれだけ吸収されるかを求め、一方、誘電損失係数(ε'')は材料内の熱の形態における電気エネルギーの散逸を測定する。最適なマイクロ波エネルギー結合のためには、中程度のε'の値がε'''の高い値に結合されるべきであり(および高い値のtanδ)、マイクロ波エネルギーを熱エネルギーに変換する。したがって、いくつかの材料は、誘電加熱を可能にするために十分に高い損失係数を有さない(マイクロ波を透過させる)が、他の材料、例えば、いくつかの無機酸化物および大部分の炭素材料は、優れたマイクロ波吸収体である。一方、導電体材料はマイクロ波を反射する。例えば、黒鉛および高度に黒鉛化された炭素は、かなりの割合のマイクロ波放射を反射することができる。非局在化π電子が比較的広い領域で自由に移動することができる炭素の場合には、非局在化π電子は、比較的広い領域で自由に移動することができ、付加的かつ非常に興味のある現象が発生する可能性がある。いくつかの電子の運動エネルギーは、それらが材料から飛び出すことを可能にすることがあり、その結果、周囲の大気がイオン化される。巨視的なレベルでは、この現象はスパークまたは電気アーク形成として認識される。しかし、微視的なレベルでは、これらのホットスポットは実際にはプラズマである。これらのプラズマの大部分は、空間および時間の視点からのマイクロプラズマとみなすことができる、それは、空間の小さな領域に閉じ込められ、最後に、第2のわずかな部分だけに限定されるからである。このようなマイクロプラズマの集中的な生成は、関与する方法にとって重要な意味を有することができる。
本発明の実施形態は、1つ以上のマイクロ波吸収材料から複合材料を合成する方法に関する。本明細書において、前記マイクロ波吸収材はマイクロ波放射に曝されることにより加熱され、マイクロ波加熱された材料の細孔内または細孔内で熱分解する1つまたは複数の追加の原材料に導入される。実施形態において、マイクロ波加熱された材料は、例えば、多孔質であり、例えば、ミクロ細孔、メソ細孔、またはマクロ細孔、またはそれらの組み合わせを含む。実施形態において、多孔質誘導加熱材料は炭素材料である。多孔質マイクロ波加熱炭素材料は、本質的にマイクロ波を吸収することができ、またはドープされた材料がマイクロ波を吸収することができるような化学種でドープされていてもよい。マイクロ波によって多孔質基材材料を加熱することにより、反応器システム内、例えば、材料容器、反応器壁、および反応器内の大気(気体)の他の材料を直接加熱することなく、基材粒子の局所的な加熱が可能になる。この局所的な加熱は、高効率化を可能とし、ケイ素含有反応体原料の高度に局在化された分解を与える。この点に関する適切な反応原料としては、ケイ素含有ガスおよびケイ素含有液体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。1つの実施形態において、ケイ素含有供給原料はシランガスである。他の適切なケイ素含有種には、ジシラン、トリシラン、テトラシラン、およびそれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。したがって、本明細書に開示された方法は、均質なシリコン複合粒子を製造する利点を提供する。
a)マイクロ波吸収性多孔質足場材が5~1000nmの範囲の細孔容積を有するマイクロ波吸収性多孔質足場材料を生成する工程;および
b)ケイ素含有供給原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によってマイクロ波吸収性多孔質足場材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程
を有してなる。
a)ポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、5~1000nmの範囲の細孔容積を有するマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を生成する工程;および
c)ケイ素含有供給原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によってマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程:
を有してなる。
a)ポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、5~1000nmの範囲の細孔容積を有する多孔質炭素材料を生成させる工程;
c)マイクロ波加熱可能な材料で多孔質炭素材料をドーピングする工程;および
d)ケイ素含有供給原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によって、得られたマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程
を有してなる。
a)ポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して、5~1000nmの範囲の細孔容積を有する多孔質炭素材料を生成させる工程;および
c)ケイ素含有供給原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によってマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程
を有してなる。
e)ポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間にわたって、得られた混合物を貯蔵する工程;
f)得られたポリマー材料を炭化して、5~1000nmの範囲の細孔容積を有する多孔質炭素材料を生成させる工程;
g)ケイ素含有供給原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によってマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程;および
h)シリコン含浸炭素材料の上に炭素層を適用して、炭素で被覆されたシリコン含浸炭素材料を得る工程
を有してなる。
e)ポリマー前駆体材料を混合し、前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で時間にわたって貯蔵する工程;
f)得られたポリマー材料を炭化して、5~1000nmの範囲の細孔容積を有するマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を生成させる工程;
g)ケイ素含有原料の分解を可能にするのに十分な温度に、ケイ素含有供給原料の存在下で、マイクロ波によってマイクロ波吸収性多孔質炭素材料を加熱して、シリコンで含浸された炭素材料を得る工程;および
h)シリコン含浸炭素材料の周囲に伝導性ポリマーを適用して、伝導性ポリマーネットワーク内にさらに埋め込まれたシリコン含浸炭素材料を得る工程
を有してなる。
特定の実施形態において、多孔質足場およびケイ素含有複合体の合成は、同じ反応容器または類似の反応容器内の異なる工程で起こり得る。例えば、炭化水素を含む炭素前駆体を反応容器に仕込むことができる。この文脈での炭化水素には、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、ノナンおよびデカンが含まれるが、これらに限定されない。炭化水素は、炭化水素種の分子量および反応器の温度と圧力に応じて、気体または液体の状態にできる。反応器の条件(圧力と温度)を制御して、炭化水素種の熱分解を促進し、多孔質炭素足場を生成できる。
理論に束縛されるものではないが、シリコン含浸足場を製造するために使用される多孔質足場が、ナノ特徴および/またはナノ寸法のケイ素材料を残して、足場が分解または除去されるような後プロセスの条件に付される可能性がある。このように、最終的なナノ寸法および/またはナノ特徴ケイ素材料が足場を含まないという意味で、足場は「使い捨て」とみなすことができる。
特定の実施形態において、多孔質足場は、シラン含有前駆体に対する足場の親和性を高める部分を含むように官能化される。例えば、特定の実施形態における多孔質足場材料は、他の種が炭素マトリックスに物理的または化学的に組み込まれ、ケイ素含有前駆体に対する親和性を高める炭素足場である。これに関するこの種には、ケイ素およびケイ素含有化合物、フッ素などのハロゲンおよびハロゲン含有化合物が含まれるが、これらに限定されない。
特定の実施形態において、シラン含有前駆体は、多孔質足場に対する親和性を高める部分を含むように官能化される。例えば、特定の実施形態におけるケイ素含有前駆体は、多孔質足場、例えば多孔質炭素足場に対する親和性を高めるために他の種が物理的または化学的に組み込まれたケイ素含有前駆体である。これに関するこの種には、炭素および炭素含有化合物、フッ素などのハロゲンおよびハロゲン含有化合物が含まれるが、これらに限定されない。そのような官能化ケイ素含有前駆体の具体例には、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、メチルジシラン、ジメチルジシラン、トリメチルジシラン、テトラメチルジシラン、ヘキサメチルシラン、およびそれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。
特定の実施形態において、シラン含有前駆体および多孔質炭素足場の両方が官能化されて、互いに対するそれぞれの親和性が増加する。例えば、ケイ素含有前駆体は、多孔質足場、例えば多孔質炭素足場に対する親和性を高めるために他の種が物理的または化学的に組み込まれたケイ素含有前駆体であり、多孔質炭素足場も官能化されて、ケイ素含有前駆体に対する親和性を高めるために、他の種が炭素マトリックスに物理的または化学的に組み込まれている。そのような実施形態によれば、シリコンを官能化する種には、炭素および炭素含有化合物、フッ素などのハロゲン、およびハロゲン含有化合物が含まれるが、これらに限定されない。そのような官能化ケイ素含有前駆体の具体例には、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、メチルジシラン、ジメチルジシラン、トリメチルジシラン、テトラメチルジシラン、ヘキサメチルシラン、およびそれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。同じように、また、そのような実施形態によれば、炭素足場を官能化する種には、ケイ素およびケイ素含有化合物、フッ素などのハロゲンおよびハロゲン含有化合物が含まれるが、これらに限定されない。
理論に拘束されるものではないが、多孔質炭素材料へのシリコン含浸を介して生成される複合材料の電気化学的性能は、被覆、例えば炭素材料の複合材料の被覆によって達成できる。これに関連して、表面層は、現在のセクションで説明した炭素層、または後続のセクションで説明した別の適切な層、例えば導電性ポリマー層を含むことができる。
c)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
d)得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;および
e)静的または攪拌反応器内でケイ素含有反応物の存在下で多孔質炭素材料を高温に付し、シリコン含浸炭素材料を得る工程
が含まれてよい。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c)静的または攪拌反応器内でケイ素含有反応物の存在下で多孔質炭素材料を高温に付し、シリコン含浸炭素材料を得る工程;および
d)静的または攪拌反応器内の炭素含有反応物の存在下で、シリコン含浸炭素材料を高温に付し、最終的に炭素被覆されたケイ素-炭素複合材料を生成する工程
が含まれてよい。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c)静的または攪拌反応器内でケイ素含有反応物の存在下で多孔質炭素材料を高温に付し、シリコン含浸炭素材料を得る工程;
d)静的または攪拌反応器内の導電性ポリマーの存在下で、シリコン含浸炭素材料を高温に付し、最終的に導電性ポリマー被覆されたケイ素-炭素複合材料を生成する工程;および
e)必要に応じて、(d)の材料を熱分解する工程
が含まれてよい。
a)ポリマーおよび/またはポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b)得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c)静的または攪拌反応器内でケイ素含有反応物の存在下で多孔質炭素材料を高温に付し、シリコン含浸炭素材料を得る工程;および
d)シリコン含浸炭素材料を水熱炭化に付して、水熱炭化により最終的に炭素被覆されたシリコン含浸炭素材料を含む複合体を生成する工程
が含まれてよい。
液体媒体にシリコンアロイの粒子を懸濁する。
が含まれてよい。
多孔質ケイ素材料を含む複合材料は、容量、安定性および電力性能によって規定されるような電気化学的性能をさらに向上させるために、様々な表面処理または性質を有することができる。一実施形態において、複合体は、1nm~10μmの厚さを有するイオン伝導性ポリマーによって覆われる。別の実施形態において、複合体は、1nm~10μmの厚さを有するセラミック保護被覆によって覆われる。さらに別の実施形態において、複合体は、1nm~10μmの厚さを有する有機膜によって覆われる。厚さは、限定されるものではないが、XPSスパッタリング、FIB/SEMまたはSIMSのような当技術分野で公知の種々の技術を用いて測定することができる。
上述のように、本開示の実施形態は、多孔質炭素足場のコア、およびシランガスの存在下で、CVDによってナノシリコンを含浸または他の形態で導入した、または他の適切な技術を用いて製造された、足場コアの上のナノシリコン、さらに、いずれかの最終的な被覆、例えば、プロパンの存在下でのCVDによってまたは他の適切な技術によって達成されるカーボン、または伝導性ポリマーによる被覆を有する複合材料に関する。このような複合体は、リチウムの非常に耐久性のある挿入を示し、リチウム系(またはナトリウム系)または他の電気貯蔵デバイスのアノード材料として極めて有用である。理論に束縛されるものではないが、多孔質炭素足場の所望の細孔容積構造(例えば、5~1000nmの範囲または本明細書に開示した他の範囲の他の範囲であるシリコン充填細孔)において充填の結果として得られるナノ寸法のシリコンは、カーボンまたは伝導性ポリマー被覆を含めて、複合体の他の構成要素の有利な性質と共に、少なくとも部分的には、その調製方法によって、製造パラメータの変動により、異なるおよび有利な性質を有する複合材料を与えることができ、例えば、複合体がリチウムイオンエネルギー貯蔵デバイスのアノードを有する場合に、電気化学的性能を達成すると考えられる。
上述したように、伝統的なリチウム系エネルギー貯蔵デバイスは、黒鉛状のアノード材料を含む。黒鉛状炭素の欠点は、リチウムイオン電池において多数ある。1つの欠点において、黒鉛は、電池動作中に位相および体積変化を受ける。すなわち、リチウムが挿入されたときに物理的に膨張/収縮する材料であるが、個々のシートを物理的に横方向に移動させて低エネルギー保存状態を維持する。第2に、黒鉛は低い容量を有する。黒鉛の規則的な結晶構造が与えられると、1つのリチウムイオンを貯蔵するのに6個の炭素を必要とする。構造体は、追加のリチウムを収容することができない。第3に、リチウムイオンの移動を2D平面に制限し、電池における材料の動力学およびレート能力を低下させる。これは、黒鉛が、電力が必要とされる高レートで良好に機能しないことを意味する。この電力の不利益は、全電気自動車におけるリチウムイオン電池を使用する際の制限要因の一つである。
#Li=Q×3.6×MM/(C%×F)
[式中、Qは、リチウム金属に対して5mVと2.0Vの間の電圧で測定されたリチウム取出容量(mAh/g)であり、
MMは、72、すなわち、6個の炭素の分子量であり、
Fは、96500のファラデー定数であり、
C%は、CHNOまたはXPSにより測定された構造物中に存在する炭素の質量%である。]。
La(nm)=(2.4×10-10)λ4 laser R-1 (1)
ここで、R=ID/IG (2)
新規な複合材料の性能モデル
18650型セルの近似的な大きさおよびエネルギーをシミュレートするためにフルセルモデルを開発した。LCOを、標準のカソードとして選択した。モデルは、材料性質(密度、充填、体積膨張)、電気化学的性能特性(動作電圧、容量、不可逆容量)、およびセルレベル変化(必要とされる電解質、空隙容量)を説明する。第1表は、市販のセルからのセルレベル性質と、モデルからの出力とを比較する。同様の値は、モデルを用いて計算され、システムレベルの変化を表すモデルの能力の信頼度を供する。
多孔質炭素足場材料の例
種々の多孔質炭素足場材料を検討のために得た。第3表は、炭素の物理化学的属性の一覧を記載している。
カーボン13は、アルゴン中で5mol%のH2ガス中で1時間1100℃に加熱された市販のカーボン1であった。
多孔質シリコン足場上へのシリコン付着による種々の複合材料の製造
この例では、現在の開示に従って様々な異なる複合材料を製造した。シリコンは、本明細書に一般的に記載されているように、シランガスを用いた化学気相成長技術によって、多孔質炭素足場内に埋め込んだ。この特定の例では、試料を、窒素ガスと混合された2モル%のシランガス流を有する管炉で処理し、記載されているように様々な時間および温度に保持した。試料処理の要約を第4表に示す。
多孔質シリコン足場上にシリコン付着を介して種々の複合材料を製造し、続いて化学蒸着を行い、粒子を取り囲む炭素層の形成
記載するような高温および時間でプロパンガスを使用して、先の例からのいくつかの試料をさらに処理して、管炉において行って、化学蒸着によって表面炭素層を形成した。製造データを第5表に要約する。
種々の複合材料の物理化学的性質
上記例による種々の試料の表面積、細孔容積および細孔容積分布を、本開示に記載されているように窒素吸着によって決定した。第6表にデータをまとめた。
種々の複合材料の電気化学的性質
上記例において多様な複合体を製造した。複合体試料を、それらの電気化学的性質について検討した。第7表は、ハーフセルにおいてアノードとして試験された材料についてのデータを示す。ここで、アノードは活物質、バインダー、および電極質量に対して60%、20%、20%の伝導性カーボンで構成されている。これらの試料をハーフセルに組み立て、c/10のレートで5サイクル試験した。電気化学的試験データを第7表にまとめる。他に記載されない限り、サイクル7からサイクル25までの平均クーロン効率および容量保持が報告され、サイクル6での容量を報告する。
黒鉛とのブレンドにおける種々の複合材料の電気化学的特徴
上記例によれば、多様な複合体を製造した。選択された数の試料を、それらの電気化学的性質について検討した。第8表は、ハーフセルにおいてアノードとして試験した材料についてのデータを示す。ここで、アノードは、活物質、バインダー、および、電極質量に対して80%、10%、10%の伝導性カーボンで構成されている。活物質はさらに黒鉛を含み、黒鉛の%および試料の%を、500~800mAh/gの範囲の近似容量を実現するように調整した。試料13において、電極は、24%の試料13および76%の黒鉛を含んでいた。試料14において、電極は、30%の試料14と70%の黒鉛とを含んでいた。試料15において、電極は、19%の試料15および81%の黒鉛を含んでいた。試料32において、電極は、24%の試料32および76%の黒鉛を含んでいた。試料33において、電極は、27%の試料33と73%の黒鉛とを含んでいた。試料35において、電極は、24%の試料35および76%の黒鉛を含んでいた。これらの試料は、ハーフセルに組み立て、C/10のレートで5サイクル、さらにC/5でサイクル試験した。電気化学的試験データを第8表にまとめる。他に記載されない限り、サイクル7からサイクル25までの平均クーロン効率および容量保持を報告し、サイクル6での容量を報告する。
シリコン蒸着によるミクロ多孔質炭素材料の細孔の充填
ミクロ細孔質カーボン(カーボン3)について、ケイ素とカーボンとを含む複合材料を作成するために、120分(試料31)または150分(試料34)にわたってシラン処理する前と後の細孔容積分布について調べた。これらの試料の細孔容積分布を図1に示す。わかるように、ミクロ細孔範囲における細孔容積の実質的な減少があり、シリコンを用いた炭素足場内のミクロ細孔の充填と一致している。
混合されたミクロ-、メソ-、およびマクロ多孔質の性質を有するカーボン(カーボン2)について、ケイ素とカーボンとを含む複合材料を作成するために、60分(試料11)または90分(試料9)にわたってシラン処理する前と後の細孔容積分布について調べた。これらの試料の細孔容積分布を図2に示す。わかるように、ミクロ細孔範囲、メソ細孔範囲およびマクロ細孔範囲における細孔容積の実質的な減少があり、シリコンを有する炭素足場内のミクロ細孔、メソ細孔、およびマクロ細孔の充填と一致している。
シリコン付着によるマクロ多孔質炭素材料の細孔の充填
マクロ多孔性を有するカーボン(カーボン4)について、ケイ素とカーボンとを含む複合材料を作成するために、90分にわたってシラン処理する前と後(試料8)、またはシランで90分処理した後にプロパンで30分間処理した後(試料10)、またはシランで120分間処理した後にプロパンでさらに10分間処理した後(試料13)の細孔容積分布について調べた。これらの試料の細孔容積分布を図3に示す。わかるように、マクロ細孔範囲の細孔容積の実質的な減少があり、シリコンを用いた炭素足場内のマクロ細孔の充填と一致している。さらに、後続のプロパン処理すると(粒子表面上に追加の炭素を層状化すると)、マクロ細孔容積にはさらなる損失があった。理論に拘束されるものではないが、この観察は、マクロ細孔容積の減少を伴うマクロ細孔のキャッピングを与えるCVD炭素被覆と一致する。
CVDによる多孔質炭素足場内のキャッピングオフ
熱化学蒸着による炭素被覆多孔質材料は、カーボンで細孔を充填するのではなく、ミクロ細孔をキャップする。これは、純粋にミクロ多孔質のカーボン(カーボン3)上の炭素CVDによって最もよく観察される。以下の表に見られるように、材料の比表面積は、1720m2/gが6m2/gまで低下する。また、細孔容積も無視できる値まで減少する。キャッピングの証拠は、窒素ピクノメトリーデータ、ペレット密度およびアセトンピクノメトリーに見られる。ダイ内の粉末を2000kg/cm2の圧力で圧縮することによって、ペレットを測定した。アセトン中に粉末を浸漬し、液体の変位を測定することにより、アセトンピクノメトリーを測定した。出発の見かけの骨格密度は、純粋なミクロ多孔質カーボンについて2.24g/ccである。材料上のカーボンのCVD後、見かけの骨格密度は、1.49g/ccに低下し、材料におけるボイド空間の形成を示唆する。データを第9表にまとめ、図4の細孔容積分布にグラフで示す。
フルセルコインセルにおける複合材料の電気化学的特徴付け
複合体試料の電気化学的性能を、80%の活物質、10%の伝導性カーボンおよび10%のバインダーを含むアノードとしての材料について試験した。活性は、試験される試料30%と、70%の黒鉛とをさらに含む。
付着ガスの平均自由経路の計算
150pm寸法または300pm寸法分子のいずれかについて、平均自由行程(MFP)を、技術分野で知られているようなガス運動理論に従って、様々な異なる温度、圧力および気体について計算した(第10表)。当該技術分野で知られているように、追加の計算が理解される。
アノードを、本明細書に一般的に記載された手順に従って作成した。試験されるアノード材料を、典型的には黒鉛で希釈し、400~700mAh/gの範囲で達成する。各試料についてのブレンド中の黒鉛のパーセントは以下に記載され、そのような場合に、電極配合物は、一般に、80%の活物質(黒鉛ブレンド中の材料)、10%の伝導性向上剤、例えばスーパーP、および10%バインダー、例えばSBR-CMCからなる。いくつかの場合には、材料は黒鉛の非存在下で試験され、そのような場合に、典型的には、アノード配合物中に、60%の活物質、20%の伝導性増強剤、および20%のバインダーを含む。ある場合には、アノードは、アノード配合物中に90%の活物質、5%の伝導性増強剤、および5%のバインダーを含んでいた。使用された電極は、1M LiPF6 EC:DEC+10%FECであり、リチウム金属をカソードとし、ハーフセルのコインセルを構成した。本明細書に一般的に記載されているように、セルを電気化学的に試験した。電圧をC/10レートで0.8Vから0.005Vに5サイクル、続いてC/5レートで25サイクルを繰り返した。サイクルの後、コインセルを最終的な時間で100%の電荷状態にし、次いで、分解し、電気化学試験前の開始厚さと比較して、アノードの厚さを測定した。製造された異なる種類の試料は、黒鉛系、カーボン複合ナノシリコン、カーボン複合ナノ特徴シリコン、カーボン複合酸化ケイ素(SiOx)、ならびに多孔質炭素足場上にシラン付着、および炭化水素化学気相成長を介して達成される最終的な炭素被覆を介して製造されたカーボン-シリコン複合体(C-Si-C複合体)であった。試料は、本明細書の他の場所に記載された一般的な手順に従って製造された。また、カーボンと複合されない、裸のナノシリコンを含むいくつかの試料も含まれる。別段の記載がない限り、重量または体積のいずれかの容量は、脱リチウム化材料の容量を意味する。これらの試料は、以下の第11表にまとめる。
シリコン含浸足場の製造に適した反応器の種類の例
シリコン含浸足場の生成は、さまざまな種類の反応器で実現できる。場合によっては、多孔質足場は多孔質炭素足場である。ある場合には、ケイ素含有前駆体は、ガス、例えば、シランまたはジシランガス、またはケイ素含有および非ケイ素含有(例えば窒素、アルゴンなど)ガスの混合物である。場合によっては、ケイ素含有前駆体は液体、または液体と気体の混合物である。例えば、ケイ素含有前駆体は、トリシラン液体、テトラシラン液体、またはそのような液体とシランまたはジシランなどのケイ素含有ガスとの混合物であり得る。反応器内の反応条件は変えることができる。例えば、方法の1つ以上の工程での反応容器の温度を制御して、ケイ素含有前駆体のケイ素への分解を達成できる。これに関する例示的な温度範囲は、300~600℃、例えば300~500℃、例えば300~400℃、例えば400~600℃、例えば400~500℃、例えば500~600℃である。方法の1つ以上の工程での反応容器の温度を制御して、炭化水素材料の炭素への分解を達成できる。これに関する例示的な温度範囲は、400~900℃、例えば400~800℃、例えば400~700℃、例えば400~600℃、例えば400~500℃、例えば500~900℃、例えば500~800℃、例えば500~700℃、例えば500~600℃、例えば600~900℃、例えば600~800℃、例えば600~700℃、例えば700~900℃、例えば700~800℃、例えば800~900℃である。特定の他の実施形態において、方法の1つ以上の工程での反応容器温度を制御して、炭化水素材料の炭素への分解およびケイ素含有前駆体のケイ素への分解を達成できる。これに関する例示的な温度範囲は、400~600℃、例えば400~500℃、例えば500~600℃である。
触媒ドープ多孔質炭素材料上でのシラン分解からのケイ素炭素複合体の製造
特定の実施形態において、多孔質炭素足場を1つ以上の触媒でドープする。多孔質炭素内に触媒が存在することにより、その後のケイ素炭素複合体の製造が容易になる。理論に拘束されるものではないが、多孔質炭素の細孔内における触媒の存在は、ケイ素炭素複合体のシリコン部分に付着し分解するために、ケイ素含有反応体、例えばケイ素含有ガス、例えばシランの部位を与える。重要なことに、多孔質炭素中の触媒の存在は、炭素粒子の外表面、または炭素粒子自体の外側(例えば、熱反応器壁、または合成反応器内の他の非炭素表面)に対抗して、炭素の細孔内でのケイ素の優先的付着を可能にする。触媒ドープされた多孔質炭素の製造方法は、当該技術分野で公知であり、炭素と触媒を混合すること、触媒溶液中に炭素粒子を懸濁させた後、炭素粒子を捕集し乾燥させること、多孔質炭素が生成されたポリマー樹脂内に触媒を含有させることを含む。この点に関する適切な触媒としては、これらに限定されるものではないが、ニッケル、銅、鉄、マンガン、金、アルミニウム、スズ、パラジウム、白金ルテニウム、ロジウム、イリジウム、およびこれらの組み合わせが挙げられる。理論に拘束されるものではないが、金属触媒の場合に、この触媒効果は、ニッケルおよび金の場合と同様にアロイ化反応を介して、または金属表面でSi-H結合がより容易に切断される水素化効果(白金またはニッケルなど)を介して進行することができる。上記触媒の適切な前駆体としては、それらの塩および他の酸化された形態、例えば、それらの対応する酸化物、ハロゲン化物塩、硝酸塩、炭酸塩、カルボン酸塩、硫酸塩等、およびそれらの組合せが挙げられる。多孔質炭素足場内の触媒の濃度は、例えば0.1~20%、例えば0.5%~10%、例えば1%~5%である、例えば1%~4%の範囲で変化させることができる。いくつかの実施形態において、ケイ素炭素複合体の製造後に触媒を除去することができ、例えば、触媒を溶解するが、炭素を溶解せず、シリコンを溶解しない媒体に溶解させることによって除去できる。
触媒をドープした多孔質炭素材料でのジシラン、トリシラン、またはテトラシラン分解からのケイ素炭素複合材料の製造
炭素足場を水が入った容器に入れ、一定時間攪拌して分散させる。攪拌しながら、金属塩(例えば、酢酸ニッケル)を添加し、一定時間攪拌して、金属塩の炭素毛管細孔取り込みを促進する。溶液中の金属塩の量は、所望のM:C比(例、2wt%)を達成できるように制御される。次に、モル過剰量の還元剤(例えば、NaBH4)を添加する。このプロセス中に、金属は化学的に還元され、同時に炭素細孔内に分布する。同時に、還元副産物(例えば、酢酸ナトリウム、ホウ酸塩など)が生成され、すすぎと乾燥によって除去できる。最後に、還元性雰囲気(5mol%H2/Arなど)での熱処理による追加の還元/アニーリング工程を実行して、残留揮発物を除去する。特定の実施形態において、後続のシリコン堆積は、大気圧および約430℃の温度の炉内で得られたM/C複合材料上にシリコン前駆体としてシランガスを使用する化学気相堆積により実行され、所望のSi/C複合材料が得られる。特定の実施形態において、ケイ素含有前駆体は、ジシラン、トリシラン、またはテトラシラン、またはそれらの混合物であり、金属触媒ドープ多孔質炭素材料と組み合わされ、温度を、多孔質炭素材料の細孔内に後に存在する、ケイ素含有前駆体のケイ素への分解を達成するために上昇させる。反応容器は、大気圧より低くても、等しくても、または高くてもよい。反応容器の温度は、例えば150~450℃、例えば200~450℃、例えば300~450℃に上昇させることができる。特定の実施形態において、ケイ素含有前駆体は液体トリシランまたはテトラシラン、または次の1つ以上:シラン、ジシラン、トリシラン、およびテトラシランを含む液体混合物である。この実施形態において、圧力は1~760ミリトールであり得、温度は300~450℃であり得る。特定の他の実施形態において、ケイ素含有前駆体は、モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシランおよびテトラクロロシランのうちの1つ以上を含む液体である。この実施形態において、圧力は1~760ミリトールであり得、温度は300~1100℃であり得る。
ケイ素含有前駆体の臨界点でのまたはその近傍でのケイ素炭素複合体の製造
特定の実施形態において、ケイ素炭素複合材料は、多孔質炭素足場およびケイ素含有前駆体から生成され、ケイ素含有前駆体はシラン、ジシラン、トリシラン、またはテトラシランであり、反応容器内の温度と圧力はケイ素含有前駆体の臨界点に対応する。ケイ素含有前駆体がシランである特定の実施形態において、シランの臨界点は、約48.4バールの圧力および269.7Kの温度に対応する。理論に縛られるものではないが、超臨界ガスは、液相と気相の間に明確な違いがなくなるので、独自の特性を持つことが知られている。これらの材料は、気体のような固体に容易に浸透でき、液体のような他の材料を溶解できる。したがって、ガス分子は、表面積の大きい炭素の表面に吸着することが強く望まれる。表面のメタンは、分子が非常に高密度で単層および多層に詰め込まれるにつれて、さらに高密度になる。さまざまな温度と圧力でのシランのシランガス吸着挙動を制御すると、細孔がガス分子の寸法に対応できる大きさであれば、炭素細孔内のシランの密度を制御できる。したがって、シランは反応器壁ではなく炭素に優先的に吸着されるので、これによりシランの利用率が高くなる。臨界点でのまたは臨界点付近の圧力でシランを含むガス混合物において、シランは炭素表面に高密度層を形成する強い選択性を持ち、キャリアガスは反応器の他の場所で亜臨界ガスとして存在する。特定の実施形態において、ガスは、純粋なシランの臨界点でのまたはその近くの純粋なシランである。特定の他の実施形態において、ガスはシランと不活性キャリアガスとの混合物であり、ガス混合物は混合物の臨界点にまたはその近くにある。ここで説明するプロセスと反応器は、シランが分解できる温度で、しかし、シランが炭素材料の表面を強く優先する圧力で、炭素、シラン、キャリアガスを扱うことにより、この効果を利用するように設計されている。
実施形態1.
多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. ポリマー前駆体材料を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b. 得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c. ケイ素含有前駆体、およびケイ素含有前駆体よりも高い温度で分解する炭化水素材料の存在下で、多孔質炭素材料を高温に付す工程;
d. 温度を上昇させてケイ素含有前駆体を分解して、シリコン含浸炭素材料を得る工程;および
e. 温度をさらに上昇させて炭化水素材料を分解して、炭素被覆されたシリコン含浸炭素材料を得る工程
を含む製造方法。
実施形態2.
多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. ポリマー前駆体材料を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b. 得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c. ケイ素含有前駆体、およびケイ素含有前駆体と比較して同様の温度で分解する炭化水素材料の存在下で、多孔質炭素材料を高温に付す工程;および
d. 温度を上げて、ケイ素含有前駆体をケイ素に分解すると同時に炭化水素材料を炭素に分解して、炭素被覆されたシリコン含浸炭素材料を得る工程
を含む製造方法。
実施形態3.
多孔質ケイ素材料の製造方法であって、以下の工程:
a) 多孔質使い捨て足場を準備する工程;
b) ケイ素含有前駆材料の分解を介して、多孔質使い捨て足場内にケイ素を含浸させる工程;および
c) 多孔質使い捨て足場を熱分解または溶解し、それにより、多孔質使い捨て足場を実質的に含まない多孔質ケイ素材料を生成する工程
を含む製造方法。
実施形態4.
シリコンの含浸が、ケイ素含有ガスの存在下で450~700℃の温度の反応器内で処理することにより達成される、実施形態1~3のいずれか一に記載の方法。
実施形態5.
ケイ素の含浸が、シランの存在下で450~600℃の温度の反応器で処理することにより達成される、実施形態1~3のいずれか一に記載の方法。
実施形態6.
ケイ素含有前駆体が、シラン、ジシラン、トリシラン、テトラシラン、またはそれらの組み合わせである、実施形態1~3のいずれか一に記載の方法。
実施形態7.
炭化水素材料がメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、ノナンまたはデカン、またはそれらの組み合わせである、実施形態1~2のいずれか一に記載の方法。
実施形態8.
反応容器の圧力が大気圧未満である、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態9.
前記反応容器の圧力が大気圧である、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態10.
前記反応容器の圧力が大気圧より高い、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態11.
1つ以上の工程において、反応容器の圧力および温度が、ケイ素含有前駆体が超臨界状態になるようなものである、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態12.
1つ以上の工程において、反応容器の圧力および温度が、炭化水素材料が超臨界状態になるようなものである、実施形態1~2のいずれか一に記載の方法。
実施形態13.
反応器の種類が、管状炉、流動床反応器、ロータリーキルン反応器、エレベータキルン、またはローラーハースキルンである、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態14.
反応器の種類がバッチ反応器、連続攪拌槽反応器、栓流反応器、半バッチ反応器、充填床反応器、振動バッフル反応器、膜反応器、または管状反応器を含む、実施形態1~7のいずれか一に記載の方法。
実施形態15.
多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. ポリマー前駆体材料を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b. 得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;および
c. 多孔質炭素材料をケイ素含有前駆体の存在に付し、温度範囲にわたって温度を循環させる工程であって、温度範囲の下限はケイ素含有前駆体の分解温度より低く、温度範囲の上限はケイ素含有前駆体の分解温度より高い工程
を含む製造方法。
実施形態16.
ケイ素含有前駆体がシランである、実施形態15に記載の方法。
実施形態17.
多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. ポリマー前駆体材料を混合し、得られた混合物を前駆体の重合を可能にするのに十分な温度で期間にわたって保存する工程;
b. 得られたポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;および
c. 多孔質炭素材料をケイ素含有前駆体の存在に付し、圧力範囲にわたって圧力を循環させる工程であって、圧力範囲の下限はケイ素含有前駆体の臨界圧力より低く、圧力範囲の上限はケイ素含有前駆体の臨界圧力より高い工程
を含む製造方法。
実施形態18.
ケイ素含有前駆体がシランである、実施形態17に記載の方法。
実施形態19.
多孔質足場をケイ素含有前駆体と接触させる前に、多孔質足場を触媒と接触させることをさらに含む、実施形態1~18のいずれか一に記載の方法。
実施形態20.
触媒が、アルミニウム、ニッケルもしくはマンガン、またはそれらの組み合わせである、実施形態19に記載の方法。
上記から、本発明の特定の実施形態が例示の目的で本明細書に記載されたが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく様々な修正を行うことができることが理解されよう。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲による場合を除いて限定されない。
Claims (19)
- 多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. 2種以上のポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を2種以上のポリマー前駆体の重合を可能にするために20℃~600℃の温度で2時間~48時間の範囲の期間にわたって保存し、ポリマー材料を形成する工程;
b. ポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c. ケイ素含有前駆体、およびケイ素含有前駆体よりも高い温度で分解する炭化水素材料の存在下で、多孔質炭素材料を高温に付す工程;
d. 温度を300℃~500℃に上昇させてケイ素含有前駆体を分解して、それによりシリコンを多孔質炭素材料の細孔内に含浸する工程;および
e. 温度をさらに上昇させて炭化水素材料を分解して、炭素被覆された複合材料を得る工程を含み、
多孔質炭素材料の細孔内へのシリコンの含浸は、多孔質炭素材料の細孔容積と比較して複合材料の細孔容積を減少させる、製造方法。 - 多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. 2種以上のポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を2種以上のポリマー前駆体の重合を可能にするために20℃~600℃の温度で2時間~48時間の範囲の期間にわたって保存し、ポリマー材料を形成する工程;
b. ポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;
c. ケイ素含有前駆体、およびケイ素含有前駆体と比較して同様の温度で分解する炭化水素材料の存在下で、多孔質炭素材料を高温に付す工程;および
d. 温度を400℃~500℃に上げて、ケイ素含有前駆体をケイ素に分解し、それによりシリコンを多孔質炭素材料の細孔内に含侵すると同時に炭化水素材料を炭素に分解して、炭素被覆された複合材料を得る工程を含み、
多孔質炭素材料の細孔内へのシリコンの含浸は、多孔質炭素材料の細孔容積と比較して複合材料の細孔容積を減少させる、製造方法。 - ケイ素が、ケイ素含有ガスの存在下で400~500℃の温度の反応器内で処理することにより多孔質炭素材料の細孔内に含浸される、請求項1または2に記載の方法。
- ケイ素が、シランの存在下で450~500℃の温度の反応器で処理することにより多孔質炭素材料内に含浸される、請求項1または2に記載の方法。
- ケイ素含有前駆体が、シラン、ジシラン、トリシラン、テトラシラン、またはそれらの組み合わせである、請求項1または2に記載の方法。
- 炭化水素材料がメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、ノナンまたはデカン、またはそれらの組み合わせである、請求項1または2に記載の方法。
- 反応容器の圧力が大気圧未満である、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 反応容器の圧力が大気圧である、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 反応容器の圧力が大気圧より高い、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 1つ以上の工程において、反応容器の圧力および温度が、ケイ素含有前駆体が超臨界状態になるようなものである、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 1つ以上の工程において、反応容器の圧力および温度が、炭化水素材料が超臨界状態になるようなものである、請求項1または2に記載の方法。
- 反応器の種類が、管状炉、流動床反応器、ロータリーキルン反応器、エレベータキルン、またはローラーハースキルンである、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 反応器の種類がバッチ反応器、連続攪拌槽反応器、栓流反応器、半バッチ反応器、充填床反応器、振動バッフル反応器、膜反応器、または管状反応器を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. 2種以上のポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を2種以上のポリマー前駆体の重合を可能にするために20℃~600℃の温度で2時間~48時間の範囲の期間にわたって保存しポリマー材料を形成する工程;
b. ポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;および
c. 多孔質炭素材料をケイ素含有前駆体の存在に付し、300℃~500℃の温度範囲にわたって温度を循環させる工程であって、温度範囲の下限はケイ素含有前駆体の分解温度より低く、温度範囲の上限はケイ素含有前駆体の分解温度より高く、それによりシリコンを多孔質炭素材料の細孔内に含浸する工程を含み、
多孔質炭素材料の細孔内へのシリコンの含浸は、多孔質炭素材料の細孔容積と比較して複合材料の細孔容積を減少させる、製造方法。 - ケイ素含有前駆体がシランである、請求項14に記載の方法。
- 多孔質炭素足場およびケイ素を含む複合材料の製造方法であって、以下の工程:
a. 2種以上のポリマー前駆体を混合し、得られた混合物を2種以上のポリマー前駆体の重合を可能にするために20℃~600℃の温度で2時間~48時間の範囲の期間にわたって保存しポリマー材料を形成する工程;
b. ポリマー材料を炭化して多孔質炭素材料を生成する工程;および
c. 300℃~500℃の温度範囲で多孔質炭素材料をケイ素含有前駆体の存在に付し、圧力範囲にわたって圧力を循環させる工程であって、圧力範囲の下限はケイ素含有前駆体の臨界圧力より低く、圧力範囲の上限はケイ素含有前駆体の臨界圧力より高く、それによりシリコンを多孔質炭素材料の細孔内に含侵する工程を含み、
多孔質炭素材料の細孔内へのシリコンの含浸は、多孔質炭素材料の細孔容積と比較して複合材料の細孔容積を減少させる、製造方法。 - ケイ素含有前駆体がシランである、請求項16に記載の方法。
- 多孔質足場をケイ素含有前駆体と接触させる前に、多孔質足場を触媒と接触させることをさらに含む、請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。
- 触媒が、アルミニウム、ニッケルもしくはマンガン、またはそれらの組み合わせである、請求項18に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023183215A JP2024012371A (ja) | 2017-03-09 | 2023-10-25 | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201762469424P | 2017-03-09 | 2017-03-09 | |
US62/469,424 | 2017-03-09 | ||
PCT/US2018/021843 WO2018165610A1 (en) | 2017-03-09 | 2018-03-09 | Decomposition of silicon-containing precursors on porous scaffold materials |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023183215A Division JP2024012371A (ja) | 2017-03-09 | 2023-10-25 | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020514231A JP2020514231A (ja) | 2020-05-21 |
JP7376360B2 true JP7376360B2 (ja) | 2023-11-08 |
Family
ID=63448802
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019548585A Active JP7376360B2 (ja) | 2017-03-09 | 2018-03-09 | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 |
JP2023183215A Pending JP2024012371A (ja) | 2017-03-09 | 2023-10-25 | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023183215A Pending JP2024012371A (ja) | 2017-03-09 | 2023-10-25 | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11611071B2 (ja) |
EP (1) | EP3593369A4 (ja) |
JP (2) | JP7376360B2 (ja) |
KR (2) | KR102571014B1 (ja) |
CN (2) | CN110582823A (ja) |
WO (1) | WO2018165610A1 (ja) |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9409777B2 (en) | 2012-02-09 | 2016-08-09 | Basf Se | Preparation of polymeric resins and carbon materials |
WO2014143213A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Energ2 Technologies, Inc. | Composite carbon materials comprising lithium alloying electrochemical modifiers |
US10195583B2 (en) | 2013-11-05 | 2019-02-05 | Group 14 Technologies, Inc. | Carbon-based compositions with highly efficient volumetric gas sorption |
WO2015137980A1 (en) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | Energ2 Technologies, Inc. | Novel methods for sol-gel polymerization in absence of solvent and creation of tunable carbon structure from same |
US20190097222A1 (en) | 2015-08-14 | 2019-03-28 | Energ2 Technologies, Inc. | Composites of porous nano-featured silicon materials and carbon materials |
KR102637617B1 (ko) | 2015-08-28 | 2024-02-19 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 극도로 내구성이 우수한 리튬 인터칼레이션을 나타내는 신규 물질 및 그의 제조 방법 |
JP6670448B2 (ja) * | 2016-08-16 | 2020-03-25 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 蓄電モジュール |
US11028242B2 (en) * | 2019-06-03 | 2021-06-08 | Enevate Corporation | Modified silicon particles for silicon-carbon composite electrodes |
US20220123282A1 (en) * | 2018-11-08 | 2022-04-21 | Nexeon Limited | Electroactive Materials for Metal-Ion Batteries |
GB2584615C (en) * | 2019-05-20 | 2023-10-25 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for metal-ion batteries |
GB201818232D0 (en) | 2018-11-08 | 2018-12-26 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for metal-ion batteries |
GB201818235D0 (en) | 2018-11-08 | 2018-12-26 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for metal-ion batteries |
GB2580033B (en) | 2018-12-19 | 2021-03-10 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for metal-Ion batteries |
US10508335B1 (en) | 2019-02-13 | 2019-12-17 | Nexeon Limited | Process for preparing electroactive materials for metal-ion batteries |
US11905593B2 (en) | 2018-12-21 | 2024-02-20 | Nexeon Limited | Process for preparing electroactive materials for metal-ion batteries |
GB2587328B (en) * | 2019-09-10 | 2021-12-22 | Nexeon Ltd | Composite materials and methods |
GB202003864D0 (en) * | 2019-09-10 | 2020-04-29 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for use in metal-ion batteries |
KR102493546B1 (ko) * | 2019-10-09 | 2023-01-30 | 유미코아 | 배터리의 음극에 사용하기 위한 분말 및 그러한 분말을 포함하는 배터리 |
US10964940B1 (en) | 2020-09-17 | 2021-03-30 | Nexeon Limited | Electroactive materials for metal-ion batteries |
TWI736268B (zh) * | 2020-05-18 | 2021-08-11 | 國立臺灣大學 | 製造多顆被覆碳層的一氧化矽顆粒之方法 |
WO2021241752A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 昭和電工株式会社 | チタン酸化物-シリコン複合体およびその用途 |
JP7323720B2 (ja) * | 2020-08-03 | 2023-08-08 | ネグゼオン・リミテッド | 金属イオン電池用電気活性材料 |
KR20230051676A (ko) * | 2020-08-18 | 2023-04-18 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 규소-탄소 복합체 |
US11639292B2 (en) | 2020-08-18 | 2023-05-02 | Group14 Technologies, Inc. | Particulate composite materials |
US11335903B2 (en) | 2020-08-18 | 2022-05-17 | Group14 Technologies, Inc. | Highly efficient manufacturing of silicon-carbon composites materials comprising ultra low z |
EP4146595A1 (en) * | 2020-08-18 | 2023-03-15 | Group14 Technologies, Inc. | Manufacturing of silicon-carbon composites materials |
US11174167B1 (en) | 2020-08-18 | 2021-11-16 | Group14 Technologies, Inc. | Silicon carbon composites comprising ultra low Z |
CN114132929B (zh) * | 2020-09-04 | 2023-07-28 | 比亚迪股份有限公司 | 一种碳化硅粉的制备方法及碳化硅粉 |
KR20230086667A (ko) * | 2020-09-25 | 2023-06-15 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 전기화학적 특성이 향상된 규소-탄소 복합재 |
EP4222109A1 (en) * | 2020-09-30 | 2023-08-09 | Group14 Technologies, Inc. | Methods of passivation to control oxygen content and reactivity of silicon-carbon composite materials |
CN116457309A (zh) * | 2020-09-30 | 2023-07-18 | 14集团技术公司 | 控制硅-碳复合材料的氧含量和反应性的钝化方法 |
CN116114085A (zh) * | 2020-10-08 | 2023-05-12 | 尤米科尔公司 | 含碳基质颗粒的粉末和用于蓄电池的负电极中的包含此类粉末的复合粉末 |
JP2023550266A (ja) * | 2020-10-23 | 2023-12-01 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | ケイ素含有複合粒子の製造方法 |
WO2022093752A1 (en) | 2020-10-26 | 2022-05-05 | Lsp Technologies, Inc. | System and method for in-process corrosion inhibition in laser peening |
US11827969B1 (en) * | 2021-03-24 | 2023-11-28 | Waymo Llc | Durable, optically transparent, and superhydrophobic coating |
CN113078318B (zh) | 2021-03-26 | 2023-08-08 | 广东凯金新能源科技股份有限公司 | 一种三维多孔硅碳复合材料、其制备方法及其应用 |
US20220380606A1 (en) | 2021-05-25 | 2022-12-01 | Ionobell, Inc. | Silicon material and method of manufacture |
CN117836239A (zh) * | 2021-07-06 | 2024-04-05 | 14集团技术公司 | 第14族复合物 |
CN113539703B (zh) * | 2021-07-19 | 2023-07-07 | 桂林电子科技大学 | 一种MOFs衍生物Co-Ni-B-P复合材料及其制备方法和应用 |
GB2616590A (en) * | 2021-10-21 | 2023-09-20 | Nexeon Ltd | Electroactive materials for metal-ion batteries |
GB2612092A (en) * | 2021-10-21 | 2023-04-26 | Nexeon Ltd | Process for preparing electroactive materials for metal-ion batteries |
CN113991085A (zh) * | 2021-10-28 | 2022-01-28 | 周花姐 | 一种炭硅材料及碳硅炭材料的制备方法 |
WO2023093893A1 (zh) | 2021-11-27 | 2023-06-01 | 兰溪致德新能源材料有限公司 | 纳米硅氧碳结构复合材料、其制备方法、负极和电化学装置 |
US11945726B2 (en) | 2021-12-13 | 2024-04-02 | Ionobell, Inc. | Porous silicon material and method of manufacture |
CN114335533A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-04-12 | 珠海冠宇电池股份有限公司 | 一种负极材料及包括该负极材料的电池 |
CN114544714B (zh) * | 2022-02-25 | 2023-10-27 | 电子科技大学 | MOFs导电聚合物复合薄膜气体传感器及制备方法 |
CN114744196B (zh) * | 2022-03-28 | 2024-03-12 | 蜂巢能源科技股份有限公司 | 一种c掺杂和包覆的无钴正极材料及制备方法和锂离子电池 |
CN117174841A (zh) * | 2022-05-27 | 2023-12-05 | 溧阳天目先导电池材料科技有限公司 | 一种用于锂离子电池的复合储锂材料及制备方法和应用 |
KR20230172978A (ko) * | 2022-06-16 | 2023-12-26 | 에스케이온 주식회사 | 리튬 이차 전지용 음극 활물질, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지 |
CN114864915B (zh) * | 2022-06-23 | 2023-07-21 | 格龙新材料科技(常州)有限公司 | 一种多孔硅/碳纳米管复合材料的制备方法 |
WO2024020397A2 (en) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | Aspen Aerogels, Inc. | Composite materials with tunable porosity, preparation and uses thereof |
CN115849389B (zh) * | 2022-08-19 | 2024-03-01 | 希纳高科(江苏)有限公司 | 一种混合溶剂体系快速制备二氧化硅气凝胶粉体的方法 |
CN115497748B (zh) * | 2022-09-20 | 2023-12-08 | 上海汉禾生物新材料科技有限公司 | 一种酶解木质素基碳包覆硬碳材料、制备方法及其应用 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003303588A (ja) | 2002-02-07 | 2003-10-24 | Hitachi Maxell Ltd | 電極材料およびその製造方法、並びに非水二次電池用負極および非水二次電池 |
JP2006117475A (ja) | 2004-10-22 | 2006-05-11 | National Institute For Materials Science | シリコンナノワイヤーの製造方法 |
JP2009249279A (ja) | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Qinghua Univ | シリコンナノ構造体の製造方法 |
JP2013229347A (ja) | 2007-11-12 | 2013-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 非水電解質二次電池負極材の活物質用多結晶珪素粒子の製造方法 |
JP2015519719A (ja) | 2012-06-18 | 2015-07-09 | シラ ナノテクノロジーズ インク | 膨張特性を有する電池活物質用のマルチシェル構造体 |
JP2016132608A (ja) | 2015-01-22 | 2016-07-25 | 株式会社豊田中央研究所 | 複合体及びその製造方法 |
Family Cites Families (330)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1226544A (ja) | 1967-05-11 | 1971-03-31 | ||
US3619428A (en) | 1968-04-05 | 1971-11-09 | Constant V David | Porous particle fabrication process |
US3518123A (en) | 1968-06-10 | 1970-06-30 | Leesona Corp | Metal/air battery |
US3876505A (en) | 1972-12-08 | 1975-04-08 | Calgon Corp | Manufacture of activated carbon from sized coal |
JPS5339107B2 (ja) | 1973-03-17 | 1978-10-19 | ||
US3892580A (en) | 1973-03-26 | 1975-07-01 | Corning Glass Works | Method of making porous inorganic bodies |
US3977901A (en) | 1974-10-23 | 1976-08-31 | Westinghouse Electric Corporation | Metal/air cells and improved air electrodes for use therein |
US4082694A (en) | 1975-12-24 | 1978-04-04 | Standard Oil Company (Indiana) | Active carbon process and composition |
AU2574477A (en) | 1976-06-04 | 1978-12-07 | Ici Ltd | Siliceous materials |
JPS5441913A (en) | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Kanebo Ltd | Carbonncarbon composite material and method of making same |
US4628834A (en) | 1981-10-14 | 1986-12-16 | Mckelvie Alastair H | Vibratory fluidized bed reactor |
US4543341A (en) | 1983-12-23 | 1985-09-24 | Massachusetts Institute Of Technology | Synthesis and processing of monosized oxide powders |
US4580404A (en) | 1984-02-03 | 1986-04-08 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for adsorbing and storing hydrogen at cryogenic temperatures |
JPH07105316B2 (ja) | 1985-08-13 | 1995-11-13 | 旭硝子株式会社 | 電気二重層コンデンサ用分極性電極及びその製造方法 |
US4769197A (en) | 1987-02-02 | 1988-09-06 | United Technologies Corporation | Method for molding precured high temperature resins |
US4843015A (en) | 1987-11-05 | 1989-06-27 | Westvaco Corporation | Method for determining volatile phosphorus in carbon |
US4999330A (en) | 1988-03-22 | 1991-03-12 | Universite Du Quebec A Trois-Rivieres | High-density adsorbent and method of producing same |
US4997804A (en) | 1988-05-26 | 1991-03-05 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Low density, resorcinol-formaldehyde aerogels |
US4873218A (en) | 1988-05-26 | 1989-10-10 | The United States Department Of Energy | Low density, resorcinol-formaldehyde aerogels |
US4954469A (en) | 1988-08-01 | 1990-09-04 | Robinson Ken K | Granulated activated carbon for water treatment |
JPH02300222A (ja) | 1989-05-15 | 1990-12-12 | Maruzen Petrochem Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物 |
EP0418514B1 (en) | 1989-07-29 | 1994-05-18 | Sony Corporation | Carbonaceous material and a non-aqueous electrochemical cell using the same |
JP3060474B2 (ja) | 1989-07-29 | 2000-07-10 | ソニー株式会社 | 電池用負極およびその製造方法ならびにこれを用いた非水電解液電池 |
JPH0390615A (ja) | 1989-08-30 | 1991-04-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 高分子量ポリエステルの溶融紡糸方法 |
US5061416A (en) | 1989-10-30 | 1991-10-29 | Norton Company | Process for the manufacture of friable silicon nitride bodies |
JPH0459806A (ja) | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Unitika Ltd | マクロポーラス型球状フェノールアルデヒド樹脂の製造方法 |
JPH04139174A (ja) | 1990-09-28 | 1992-05-13 | Asahi Denka Kogyo Kk | 新規イソシアヌレート型エステル誘導体 |
US5294498A (en) | 1991-03-02 | 1994-03-15 | Sony Corporation | Anode material, method for producing it and non-aqueous electrolyte cell employing such anode materials |
JP3094567B2 (ja) | 1991-10-30 | 2000-10-03 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
JPH05156121A (ja) | 1991-12-04 | 1993-06-22 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フェノール樹脂成形材料 |
US5260855A (en) | 1992-01-17 | 1993-11-09 | Kaschmitter James L | Supercapacitors based on carbon foams |
JPH05311512A (ja) | 1992-05-01 | 1993-11-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリエステル繊維の製造方法 |
JP2873988B2 (ja) | 1992-05-25 | 1999-03-24 | 東海カーボン株式会社 | プラズマエッチング用電極板 |
US5420168A (en) | 1993-04-01 | 1995-05-30 | The Regents Of The University Of California | Method of low pressure and/or evaporative drying of aerogel |
GB9313501D0 (en) | 1993-06-30 | 1993-08-11 | Nycomed Imaging As | Improvements in or relating to polymer materials |
US5508341A (en) | 1993-07-08 | 1996-04-16 | Regents Of The University Of California | Organic aerogel microspheres and fabrication method therefor |
US5965483A (en) | 1993-10-25 | 1999-10-12 | Westvaco Corporation | Highly microporous carbons and process of manufacture |
US5710092A (en) | 1993-10-25 | 1998-01-20 | Westvaco Corporation | Highly microporous carbon |
JP2735491B2 (ja) | 1993-10-25 | 1998-04-02 | ウェストヴァコ コーポレイション | 微細孔活性炭とその製造方法 |
US5416056A (en) | 1993-10-25 | 1995-05-16 | Westvaco Corporation | Production of highly microporous activated carbon products |
US5626637A (en) | 1993-10-25 | 1997-05-06 | Westvaco Corporation | Low pressure methane storage with highly microporous carbons |
US5465603A (en) | 1993-11-05 | 1995-11-14 | General Electric Company | Optically improved diamond wire die |
JPH0859919A (ja) | 1994-08-23 | 1996-03-05 | Sumitomo Durez Co Ltd | フェノ−ル樹脂組成物 |
JPH08112539A (ja) | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Tokai Carbon Co Ltd | 高純度炭素質粉末調製用のボールミル器材及びその製造方法 |
IT1271325B (it) | 1994-12-23 | 1997-05-27 | Poli Ind Chimica Spa | Composti diastereomericamente puri derivati da 3-oxo e 3-tioxo-4-azaandrostani e loro uso come antiandrogeni |
US5626977A (en) | 1995-02-21 | 1997-05-06 | Regents Of The University Of California | Composite carbon foam electrode |
US5858486A (en) | 1995-02-27 | 1999-01-12 | Sgl Carbon Composites, Inc. | High purity carbon/carbon composite useful as a crucible susceptor |
DE69630741T2 (de) | 1995-03-06 | 2004-09-30 | Sony Corp. | Sekundärzelle für nichtwässrige Elektrolyten |
US5674642A (en) | 1995-06-02 | 1997-10-07 | Regents Of The University Of Minnesota | High capacity high rate materials |
US5726118A (en) | 1995-08-08 | 1998-03-10 | Norit Americas, Inc. | Activated carbon for separation of fluids by adsorption and method for its preparation |
US5614460A (en) | 1995-08-23 | 1997-03-25 | Syracuse University | Microporous carbons for fuel gas storage |
JPH0963905A (ja) | 1995-08-29 | 1997-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電気二重層キャパシタおよびその製造方法 |
US6096456A (en) | 1995-09-29 | 2000-08-01 | Showa Denko K.K. | Film for a separator of electrochemical apparatus, and production method and use thereof |
GB9522476D0 (en) | 1995-11-02 | 1996-01-03 | Boc Group Plc | Method and vessel for the storage of gas |
US5670571A (en) | 1995-11-03 | 1997-09-23 | Georgia-Pacific Resins, Inc. | Process for producing a dispersed novolac resin and use in a binder system for thermal insulation |
KR100722071B1 (ko) | 1995-11-14 | 2007-08-16 | 오사까 가스 가부시키가이샤 | 리튬이차전지용음극재료,그의제조방법및그를이용한이차전지 |
WO1997020768A1 (en) | 1995-12-07 | 1997-06-12 | Sandia Corporation | Methods of preparation of carbon materials for use as electrodes in rechargeable batteries |
JPH09275042A (ja) | 1996-02-09 | 1997-10-21 | Honda Motor Co Ltd | 有機溶媒系電気二重層コンデンサ電極用活性炭 |
JPH09328308A (ja) | 1996-04-10 | 1997-12-22 | Mitsubishi Chem Corp | 活性炭及びその製造方法、並びにこれを用いたキャパシタ |
CA2176452C (en) | 1996-05-13 | 2008-12-02 | Qiming Zhong | Method for reducing the surface area of carbonaceous powders |
US6268081B1 (en) | 1996-07-02 | 2001-07-31 | Ensci Inc | Battery element containing efficiency improving additives |
US5891822A (en) | 1996-09-17 | 1999-04-06 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Production process of active carbon used for electrode for organic solvent type electric double layer capacitor |
FR2753963B1 (fr) | 1996-09-30 | 1998-12-24 | Schlumberger Cie Dowell | Coulis de cimentation et methode de conception d'une formulation |
US5744258A (en) | 1996-12-23 | 1998-04-28 | Motorola,Inc. | High power, high energy, hybrid electrode and electrical energy storage device made therefrom |
CN1217706A (zh) | 1997-01-09 | 1999-05-26 | 日本酸素株式会社 | 多孔碳材料及其制造方法 |
US6309446B1 (en) | 1997-02-17 | 2001-10-30 | Kanebo, Ltd. | Activated carbon for adsorptive storage of gaseous compound |
US6338809B1 (en) | 1997-02-24 | 2002-01-15 | Superior Micropowders Llc | Aerosol method and apparatus, particulate products, and electronic devices made therefrom |
JP3709267B2 (ja) | 1997-02-26 | 2005-10-26 | エア・ウォーター株式会社 | メソポアカーボンおよびその製造方法 |
US6205016B1 (en) | 1997-06-04 | 2001-03-20 | Hyperion Catalysis International, Inc. | Fibril composite electrode for electrochemical capacitors |
US5945084A (en) | 1997-07-05 | 1999-08-31 | Ocellus, Inc. | Low density open cell organic foams, low density open cell carbon foams, and methods for preparing same |
US6117585A (en) | 1997-07-25 | 2000-09-12 | Motorola, Inc. | Hybrid energy storage device |
US6911412B2 (en) | 1998-02-24 | 2005-06-28 | Cabot Corporation | Composite particles for electrocatalytic applications |
US6310762B1 (en) | 1998-03-03 | 2001-10-30 | Jeol Ltd. | Carbon material for electric double layer capacitor, method of producing same, electric double layer capacitor and method of fabricating same |
US6443490B2 (en) | 1998-06-12 | 2002-09-03 | William E. Webb | Dual mode stabilizer for backhoe loaders and backhoe attachments |
US6069107A (en) | 1998-06-17 | 2000-05-30 | Aer Energy Resources, Inc. | Recharge catalyst with thin film carbon coating, metal-air electrode including said catalyst and methods for making said catalyst and electrode |
WO2000011688A1 (en) | 1998-08-25 | 2000-03-02 | Kanebo, Limited | Electrode material and method for producing the same |
US6072693A (en) | 1998-11-02 | 2000-06-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Electric double layer capacitor and separator therefor |
EP1138051B1 (en) | 1998-12-05 | 2006-04-19 | Energy Storage Systems Pty, Ltd | A charge storage device |
JP2001089119A (ja) | 1999-04-30 | 2001-04-03 | Adchemco Corp | 炭素質材料およびその製造方法およびこれを用いた電気二重層キャパシタ |
US6865068B1 (en) | 1999-04-30 | 2005-03-08 | Asahi Glass Company, Limited | Carbonaceous material, its production process and electric double layer capacitor employing it |
US6589694B1 (en) | 1999-05-14 | 2003-07-08 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | Positive electrode active material, positive electrode active material composition and lithium ion secondary battery |
JP3601581B2 (ja) | 1999-06-11 | 2004-12-15 | 東洋紡績株式会社 | バナジウム系レドックスフロー電池用炭素電極材 |
US6242127B1 (en) | 1999-08-06 | 2001-06-05 | Microporous Products, L.P. | Polyethylene separator for energy storage cell |
US6225257B1 (en) | 1999-09-14 | 2001-05-01 | Niagara Mohawk Power Corporation | Post-carbonization treatment of microporous carbons for enhancement of methane and natural gas storage properties |
US6339528B1 (en) | 1999-09-16 | 2002-01-15 | Ness Capacitor Co., Ltd. | Metal oxide electrode for supercapacitor and manufacturing method thereof |
JP2001118753A (ja) | 1999-10-21 | 2001-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電気二重層キャパシタ用活性炭およびその製造方法 |
JP2001278609A (ja) | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Sumitomo Durez Co Ltd | 酸素含有炭素材の製造方法 |
US7005181B2 (en) | 2000-04-06 | 2006-02-28 | American Aerogel Corporation | Organic, open cell foam materials, their carbonized derivatives, and methods for producing same |
US7625839B2 (en) | 2000-05-09 | 2009-12-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Activated carbon for use in electric double layer capacitors |
ES2274884T3 (es) | 2000-05-11 | 2007-06-01 | Tokuyama Corporation | Silicio policristalino y proceso de produccion correspondiente. |
JP2001332304A (ja) | 2000-05-24 | 2001-11-30 | Sony Corp | 電解質およびそれを用いた電池 |
EP1168389B1 (en) | 2000-06-27 | 2005-09-07 | Asahi Glass Co., Ltd. | Activated carbon material, process for producing the same and electric double layer capacitor employing the same |
US6815121B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-11-09 | Electrovaya Inc. | Particulate electrode including electrolyte for a rechargeable lithium battery |
US20030170548A1 (en) | 2000-09-07 | 2003-09-11 | Masashi Otsuki | Additive for non-aqueous liquid electrolyte, non-aqueous liquid electrolyte secondary cell and non-aqueous liquid electrolyte electric double layer capacitor |
JP2002128514A (ja) | 2000-10-16 | 2002-05-09 | Nisshinbo Ind Inc | 炭素質材料、電気二重層キャパシタ用分極性電極及び電気二重層キャパシタ |
US6815105B2 (en) | 2000-10-23 | 2004-11-09 | The Regents Of The University Of California | Fuel cell apparatus and method thereof |
JP2004513529A (ja) | 2000-11-09 | 2004-04-30 | エフオーシー フランケンブルク オイル カンパニー エスト. | スーパーキャパシタおよび当該スーパーキャパシタを製造する方法 |
FR2817387B1 (fr) | 2000-11-27 | 2003-03-21 | Ceca Sa | Cellules de stockage d'energie a double couche electrochimique a haute densite d'energie et forte densite de puissance |
US20020122985A1 (en) | 2001-01-17 | 2002-09-05 | Takaya Sato | Battery active material powder mixture, electrode composition for batteries, secondary cell electrode, secondary cell, carbonaceous material powder mixture for electrical double-layer capacitors, polarizable electrode composition, polarizable electrode, and electrical double-layer capacitor |
FR2821616B1 (fr) | 2001-03-01 | 2003-05-30 | Pica | Charbon actif a capacite d'adsorption elevee et a faible teneur en residuel phosphorique, son procede de preparation et des applications |
US20020168314A1 (en) | 2001-03-08 | 2002-11-14 | Roemmler Mike G. | Method of making expanded graphite with high purity and related products |
US6764667B1 (en) | 2001-03-09 | 2004-07-20 | Steiner, Iii Stephen A. | Method for the formation of aerogel precursor using rapid gelation two-step catalysis |
EP1248307A1 (en) | 2001-04-03 | 2002-10-09 | Hitachi, Ltd. | Lead-acid battery |
CN1172397C (zh) | 2001-06-12 | 2004-10-20 | 王立都 | 采用磁化工艺制备蓄电池用液态低钠硅盐电介质及其用途 |
EP1280215A1 (fr) | 2001-07-26 | 2003-01-29 | University of Liege | Matériau carboné poreux |
US20040248790A1 (en) | 2001-09-03 | 2004-12-09 | Shuji Hinuma | Novel secretory proteins and dna thereof |
TW504841B (en) | 2001-09-27 | 2002-10-01 | Nanya Technology Corp | Manufacture method of memory cell of flash memory |
US7218489B2 (en) | 2001-10-04 | 2007-05-15 | Ise Corporation | High-power ultracapacitor energy storage pack and method of use |
US20030108785A1 (en) | 2001-12-10 | 2003-06-12 | Wu L. W. | Meso-porous carbon and hybrid electrodes and method for producing the same |
US7378450B2 (en) | 2001-12-27 | 2008-05-27 | University Of Connecticut | Aerogel and metallic compositions |
JP2004067498A (ja) | 2002-06-13 | 2004-03-04 | Kashima Oil Co Ltd | 活性炭およびそれを用いた電気二重層キャパシタ |
US20030012722A1 (en) | 2002-07-02 | 2003-01-16 | Jie Liu | High yiel vapor phase deposition method for large scale sing walled carbon nanotube preparation |
JP4076381B2 (ja) | 2002-07-05 | 2008-04-16 | 横浜ゴム株式会社 | 熱可塑性エラストマー組成物 |
KR20050037557A (ko) | 2002-07-22 | 2005-04-22 | 아스펜 에어로겔, 인코퍼레이티드 | 폴리이미드 에어로겔, 탄소 에어로겔 및 금속 카바이드에어로겔, 및 이들의 제조방법 |
KR100984989B1 (ko) | 2002-07-30 | 2010-10-04 | 혼다 기켄 고교 가부시키가이샤 | 활성탄, 그 제조 방법, 분극성 전극 및 전기 2 중층커패시터 |
AU2003271224A1 (en) | 2002-10-17 | 2004-05-04 | Mochida Isao | Fibrous nano-carbon and preparation method thereof |
JP4025995B2 (ja) | 2002-11-26 | 2007-12-26 | 信越化学工業株式会社 | 非水電解質二次電池負極材及びその製造方法並びにリチウムイオン二次電池 |
JP2004203715A (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Honda Motor Co Ltd | アルカリ賦活活性炭、その製造方法、それを含む電気二重層コンデンサ用分極性電極、及び該電極を含む電気二重層コンデンサ |
JP2004221332A (ja) | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Gun Ei Chem Ind Co Ltd | 電気二重層キャパシタの電極用活性炭組成物及びその製造方法 |
JP3585043B2 (ja) | 2003-01-22 | 2004-11-04 | メルク・ホエイ株式会社 | 医薬用吸着剤及びその製法 |
CN1781203A (zh) | 2003-02-18 | 2006-05-31 | 日本电气株式会社 | 燃料电池用电极,燃料电池及其制造方法 |
KR100480969B1 (ko) | 2003-03-10 | 2005-04-14 | 한국에너지기술연구원 | 일산화탄소에 대한 내피독성 지지체를 이용한 연료전지용전극촉매 |
US7385801B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-06-10 | Fuji Jukogyo Kabushiki Kaisha | Organic electrolyte capacitor |
SE0300975D0 (sv) | 2003-04-03 | 2003-04-03 | Protista Internat Ab | Chromatographic separation method, separation device and process for the preparation of a separation medium for use therein |
JP2004315283A (ja) | 2003-04-15 | 2004-11-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 多孔質カーボン粒子及びその製造方法 |
EP1622830A2 (en) | 2003-05-09 | 2006-02-08 | McGill University | Process for the production of activated carbon |
US7432221B2 (en) | 2003-06-03 | 2008-10-07 | Korea Institute Of Energy Research | Electrocatalyst for fuel cells using support body resistant to carbon monoxide poisoning |
JPWO2004110930A1 (ja) | 2003-06-12 | 2006-07-20 | 松下電器産業株式会社 | ナノ粒子含有複合多孔体およびその製造方法 |
US20050250011A1 (en) | 2004-04-02 | 2005-11-10 | Maxwell Technologies, Inc. | Particle packaging systems and methods |
US7754382B2 (en) | 2003-07-30 | 2010-07-13 | Tdk Corporation | Electrochemical capacitor having at least one electrode including composite particles |
US7914704B2 (en) | 2003-08-04 | 2011-03-29 | Zeon Corporation | Binder for electric double layer capacitor electrode |
JP4662730B2 (ja) | 2003-09-12 | 2011-03-30 | ローム アンド ハース カンパニー | エネルギー貯蔵装置において有用なマクロレティキュラー炭質材料 |
JP4960702B2 (ja) | 2003-09-18 | 2012-06-27 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼイション | 高性能エネルギー蓄積装置 |
JP3764157B2 (ja) | 2003-10-10 | 2006-04-05 | 東洋炭素株式会社 | 高純度炭素系材料及びセラミックス膜被覆高純度炭素系材料 |
JP2005136397A (ja) | 2003-10-10 | 2005-05-26 | Showa Denko Kk | 活性炭及びそれを用いた電極材料並びに電気二重層キャパシタ |
KR100813485B1 (ko) | 2003-10-31 | 2008-03-13 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 전지 전극용 탄소 재료 및 그 제조방법 |
JP4391198B2 (ja) | 2003-10-31 | 2009-12-24 | オルガノ株式会社 | 活性炭前駆体、活性炭、活性炭の製造方法及び電気二重層キャパシタ用分極性電極 |
JP4754813B2 (ja) | 2003-12-01 | 2011-08-24 | 肇 田門 | カーボン材料の製造方法及びタブレット状乾燥ゲル |
US20050135993A1 (en) | 2003-12-23 | 2005-06-23 | Jun Xu | Manganese oxide based materials as ion intercalation hosts in lithium batteries |
US7311776B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-12-25 | The Regents Of The University Of California | Localized synthesis and self-assembly of nanostructures |
US7255924B2 (en) | 2004-01-13 | 2007-08-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Carbon nanoarchitectures with ultrathin, conformal polymer coatings for electrochemical capacitors |
US7449165B2 (en) | 2004-02-03 | 2008-11-11 | Ut-Battelle, Llc | Robust carbon monolith having hierarchical porosity |
US20050196336A1 (en) | 2004-03-05 | 2005-09-08 | Chatterjee Arup K. | Activated graphitic carbon and metal hybrids thereof |
WO2005088658A1 (ja) | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Power Systems Co., Ltd. | 蓄電要素及び電気二重層キャパシタ |
US7799733B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-09-21 | Council Of Scientific And Industrial Research | Process for preparing high surface area carbon |
US7521140B2 (en) | 2004-04-19 | 2009-04-21 | Eksigent Technologies, Llc | Fuel cell system with electrokinetic pump |
WO2005118910A1 (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Yamanashi University | 超臨界流体又は亜臨界流体を用いた酸化物薄膜、又は金属積層薄膜の成膜方法、及び成膜装置 |
KR101205661B1 (ko) | 2004-06-04 | 2012-11-27 | 고꾸리쯔다이가꾸호오징 야마나시다이가꾸 | 초임계 유체 또는 아임계 유체를 이용한 산화물 박막, 또는금속 적층 박막의 성막 방법, 및 성막 장치 |
GB0413324D0 (en) | 2004-06-15 | 2004-07-21 | Johnson Matthey Plc | Gas diffusion substrate |
US7245478B2 (en) | 2004-08-16 | 2007-07-17 | Maxwell Technologies, Inc. | Enhanced breakdown voltage electrode |
EP1786008B1 (en) | 2004-08-18 | 2013-12-18 | Nippon Oil Corporation | Raw material carbon composition for carbon material for electrode of electric double layer capacitor |
CN100336774C (zh) | 2004-10-18 | 2007-09-12 | 成都理工大学 | 一种合成热稳定性钛酸铝的工艺 |
US20060093915A1 (en) | 2004-11-04 | 2006-05-04 | Lundquist Eric G | Carbons useful in energy storage devices |
JP2006179697A (ja) | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Nippon Oil Corp | 電気二重層キャパシタの電極用炭素材の原料炭組成物 |
JP2006248848A (ja) | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Jfe Chemical Corp | 多孔質炭素材料の製造方法および多孔質炭素材料の処理方法 |
DE102005011940A1 (de) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von beschichteten Kohlenstoffpartikel und deren Verwendung in Anodenmaterialien für Lithium-Ionenbatterien |
JP2006264993A (ja) | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 炭素材の製造方法、炭素材、二次電池用負極材、非水電解質二次電池 |
US20060223965A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Aspen Aerogels Inc. | High strength organic-inorganic hybrid gel materials |
WO2006113424A2 (en) | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Drexel University | Nanocellular high surface area material and methods for use and production thereof |
KR101257966B1 (ko) | 2005-05-27 | 2013-04-24 | 수미토모 케미칼 컴퍼니 리미티드 | 전기 이중층 캐패시터 |
JP4968425B2 (ja) | 2005-08-04 | 2012-07-04 | 戸田工業株式会社 | 球状多孔性炭素粒子粉末及びその製造法 |
US20070048605A1 (en) | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Pez Guido P | Stable electrolyte counteranions for electrochemical devices |
JPWO2007026492A1 (ja) | 2005-08-30 | 2009-03-05 | 富士重工業株式会社 | リチウムイオンキャパシタ |
JP4708152B2 (ja) | 2005-10-18 | 2011-06-22 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 電気二重層キャパシタ電極用炭素材の製造方法 |
CN113594543A (zh) | 2005-10-20 | 2021-11-02 | 三菱化学株式会社 | 锂二次电池以及其中使用的非水电解液 |
US7723262B2 (en) | 2005-11-21 | 2010-05-25 | Energ2, Llc | Activated carbon cryogels and related methods |
BRPI0619176A8 (pt) | 2005-11-30 | 2018-04-03 | Energ2 Inc | material de armazenamento de hidrogênio de nanocompósito de espuma à base de carbono |
CN101351909B (zh) | 2005-12-02 | 2010-09-15 | 株式会社杰士汤浅 | 非水电解质电池及其制造方法 |
CN101326675B (zh) | 2005-12-06 | 2012-06-06 | 雷沃尔特科技有限公司 | 双功能空气电极 |
US20080132632A1 (en) | 2006-03-02 | 2008-06-05 | Schiraldi David A | Absorbent compositions with clay aerogels and methods for forming absorbent compositions |
WO2007116971A1 (ja) | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | リチウム二次電池正極材料用リチウム遷移金属系化合物粉体、その製造方法、その噴霧乾燥体およびその焼成前駆体、並びに、それを用いたリチウム二次電池用正極およびリチウム二次電池 |
CN1877888A (zh) | 2006-05-19 | 2006-12-13 | 清华大学 | 硬碳-锂金属氮化物复合负极材料及其制备方法 |
WO2007137794A1 (en) | 2006-05-31 | 2007-12-06 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Porous carbon electrode with conductive polymer coating |
JP2008008539A (ja) | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Sharp Corp | 加熱調理器 |
JP5210504B2 (ja) | 2006-06-30 | 2013-06-12 | 関西熱化学株式会社 | 活性炭の高純度化方法、および活性炭用高純度化装置 |
US7722991B2 (en) | 2006-08-09 | 2010-05-25 | Toyota Motor Corporation | High performance anode material for lithium-ion battery |
KR100839613B1 (ko) | 2006-09-11 | 2008-06-19 | 주식회사 씨앤테크 | 카본나노튜브를 활용한 복합소결재료 및 그 제조방법 |
JP5371765B2 (ja) | 2006-10-09 | 2013-12-18 | ブリティッシュ アメリカン タバコ (インヴェストメンツ) リミテッド | 高分子材料製のバラバラの固体粒子を製造する方法 |
JP2008094925A (ja) | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Nagoya Oil Chem Co Ltd | 難燃処理液、難燃性繊維材料及びそれを用いた内装材 |
ES2583176T3 (es) | 2006-10-20 | 2016-09-19 | Air Water Inc. | Material en polvo para electrodo de carbono |
KR101438854B1 (ko) | 2006-11-08 | 2014-09-05 | 더 큐레이터스 오브 더 유니버시티 오브 미주리 | 높은 표면적 탄소 및 이를 생산하기 위한 공정 |
WO2008118199A2 (en) | 2006-11-09 | 2008-10-02 | Indspec Chemical Corporation | Method of stabilizing resorcinol resins and gel compositions made therefrom |
US7835136B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-11-16 | Energ2, Inc. | Electric double layer capacitance device |
KR100818263B1 (ko) | 2006-12-19 | 2008-03-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다공성 음극 활물질, 그 제조 방법 및 이를 채용한 음극과리튬 전지 |
US20100163791A1 (en) | 2006-12-28 | 2010-07-01 | Hiroshi Fukui | Porous Silicon-Containing Carbon-Based Composite Material, Electrode and Battery Formed Therefrom |
CN1986401A (zh) | 2007-01-10 | 2007-06-27 | 华东理工大学 | 一种改进方法制备的多孔微球活性炭 |
US20080173239A1 (en) * | 2007-01-24 | 2008-07-24 | Yuri Makarov | Method, system, and apparatus for the growth of SiC and related or similar material, by chemical vapor deposition, using precursors in modified cold-wall reactor |
US20100092830A1 (en) | 2007-02-01 | 2010-04-15 | National Institute Of Advanced Industrial Science | Electrode catalyst for a fuel cell, and fuel cell using the same |
JP4983304B2 (ja) | 2007-02-26 | 2012-07-25 | 新神戸電機株式会社 | エネルギ変換デバイス |
US20080201925A1 (en) | 2007-02-28 | 2008-08-28 | Maxwell Technologies, Inc. | Ultracapacitor electrode with controlled sulfur content |
US20080204973A1 (en) | 2007-02-28 | 2008-08-28 | Maxwell Technologies, Inc. | Ultracapacitor electrode with controlled iron content |
AR067238A1 (es) | 2007-03-20 | 2009-10-07 | Commw Scient Ind Res Org | Dispositivos optimizados para el almacenamiento de energia |
US8143185B2 (en) | 2007-03-26 | 2012-03-27 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Photocatalytic deposition of metals and compositions comprising the same |
US7642333B2 (en) | 2007-05-21 | 2010-01-05 | Georgia-Pacific Chemicals Llc | Anhydride and resorcinol latent catalyst system for improving cure characteristics of phenolic resins |
JP2008294314A (ja) | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Sanyo Electric Co Ltd | キャパシタ |
JP4458117B2 (ja) | 2007-06-01 | 2010-04-28 | 株式会社豊田中央研究所 | 非水系空気電池及びその触媒 |
US7731988B2 (en) | 2007-08-03 | 2010-06-08 | Zimmer, Inc. | Multi-polymer hydrogels |
US20090053594A1 (en) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Johnson Lonnie G | Rechargeable air battery and manufacturing method |
JP5311930B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2013-10-09 | 住友化学株式会社 | シリコンの製造方法 |
US7933114B2 (en) | 2007-08-31 | 2011-04-26 | Corning Incorporated | Composite carbon electrodes useful in electric double layer capacitors and capacitive deionization and methods of making the same |
KR101557481B1 (ko) | 2007-10-02 | 2015-10-02 | 아토테크 도이칠란드 게엠베하 | 결정질 크롬 합금 증착물 |
KR100937961B1 (ko) | 2007-10-18 | 2010-01-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 연료 전지용 담체, 이를 포함하는 연료 전지용 촉매,막-전극 어셈블리 및 연료전지 시스템 |
KR100911845B1 (ko) | 2007-10-30 | 2009-08-11 | 한국과학기술연구원 | 초고용량 커패시터용 탄소 에어로젤 및 이의 제조방법 |
US8119288B2 (en) | 2007-11-05 | 2012-02-21 | Nanotek Instruments, Inc. | Hybrid anode compositions for lithium ion batteries |
US8613973B2 (en) | 2007-12-06 | 2013-12-24 | International Business Machines Corporation | Photovoltaic device with solution-processed chalcogenide absorber layer |
US7986509B2 (en) | 2008-01-17 | 2011-07-26 | Fraser Wade Seymour | Composite electrode comprising a carbon structure coated with a thin film of mixed metal oxides for electrochemical energy storage |
US9941709B2 (en) | 2009-02-25 | 2018-04-10 | Cf Traverse Llc | Hybrid energy storage device charging |
JP5412909B2 (ja) | 2008-03-24 | 2014-02-12 | 日本ゼオン株式会社 | 鉛蓄電池用電極および鉛蓄電池 |
US8277974B2 (en) | 2008-04-25 | 2012-10-02 | Envia Systems, Inc. | High energy lithium ion batteries with particular negative electrode compositions |
CN101284665A (zh) | 2008-05-08 | 2008-10-15 | 华东理工大学 | 浸渍金属盐二次炭化制备中孔沥青基球形活性炭的方法 |
US9786944B2 (en) | 2008-06-12 | 2017-10-10 | Massachusetts Institute Of Technology | High energy density redox flow device |
KR101721269B1 (ko) | 2008-06-12 | 2017-03-29 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 고 에너지 밀도 산화환원 유동 장치 |
US8361659B2 (en) | 2008-06-20 | 2013-01-29 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Lithium-alloying-material/carbon composite |
JP5573673B2 (ja) | 2008-06-24 | 2014-08-20 | パナソニック株式会社 | 電気化学素子 |
CN101318648B (zh) | 2008-07-10 | 2011-05-11 | 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 | 石墨粉的制备方法及设备 |
CN102089240B (zh) | 2008-07-15 | 2016-06-08 | 杜伊斯堡-艾森大学 | 插入硅和/或锡的多孔碳基底 |
CN102160231B (zh) | 2008-09-22 | 2014-06-18 | 株式会社杰士汤浅国际 | 铅蓄电池 |
US8318122B2 (en) | 2008-10-10 | 2012-11-27 | Headwaters Tech Innovation Llc | Preparation of a carbon nanomaterial using a reverse microemulsion |
CN102282704A (zh) | 2008-11-18 | 2011-12-14 | 康奈尔大学 | 碳涂覆的阳极材料 |
US8293818B2 (en) | 2009-04-08 | 2012-10-23 | Energ2 Technologies, Inc. | Manufacturing methods for the production of carbon materials |
JP5495887B2 (ja) | 2009-04-28 | 2014-05-21 | 株式会社デンソー | 非水電解液電池用負極及び非水電解液電池 |
KR101093705B1 (ko) | 2009-04-29 | 2011-12-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 리튬 이차 전지 |
US20100285358A1 (en) | 2009-05-07 | 2010-11-11 | Amprius, Inc. | Electrode Including Nanostructures for Rechargeable Cells |
GB2470056B (en) | 2009-05-07 | 2013-09-11 | Nexeon Ltd | A method of making silicon anode material for rechargeable cells |
US9853292B2 (en) | 2009-05-11 | 2017-12-26 | Nexeon Limited | Electrode composition for a secondary battery cell |
JP5310251B2 (ja) | 2009-05-18 | 2013-10-09 | 信越化学工業株式会社 | 非水電解質二次電池用負極材の製造方法 |
EP2436070A4 (en) | 2009-05-28 | 2014-01-22 | Univ Texas | NOVEL COMPOUND ANODE MATERIALS FOR LITHIUM ION BATTERIES |
US10366802B2 (en) | 2009-06-05 | 2019-07-30 | University of Pittsburgh—of the Commonwealth System of Higher Education | Compositions including nano-particles and a nano-structured support matrix and methods of preparation as reversible high capacity anodes in energy storage systems |
KR101830879B1 (ko) | 2009-07-01 | 2018-02-21 | 바스프 에스이 | 초고순도의 합성 탄소 물질 |
DE102009033739A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-27 | Evonik Degussa Gmbh | Nanostrukturierte Silizium-Kohlenstoff-Komposite für Batterieelektroden |
CN101604743A (zh) | 2009-07-24 | 2009-12-16 | 长春锂源新能源科技有限公司 | 锂离子电池复合负极材料及制备方法 |
JP5752696B2 (ja) | 2009-09-29 | 2015-07-22 | ジョージア テック リサーチ コーポレイション | 電極、リチウムイオン電池ならびにこれらを作製する方法および使用する方法 |
JP5678372B2 (ja) | 2009-11-30 | 2015-03-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 窒素含有多孔質炭素材料とその製造方法、及び該窒素含有多孔質炭素材料を用いた電気二重層キャパシタ |
WO2011072256A1 (en) | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Energ2, Inc. | Carbon materials comprising an electrochemical modifier |
KR102184848B1 (ko) | 2010-01-18 | 2020-12-02 | 에네베이트 코포레이션 | 전기화학적 축전지용 복합재 박막 |
WO2011102054A1 (ja) | 2010-02-18 | 2011-08-25 | 株式会社 村田製作所 | 全固体二次電池用電極活物質および全固体二次電池 |
WO2011112992A1 (en) | 2010-03-12 | 2011-09-15 | Energ2, Inc. | Mesoporous carbon materials comprising bifunctional catalysts |
US20120045685A1 (en) | 2010-04-06 | 2012-02-23 | Nec Tokin Corporation | Electric storage device |
CN102214817A (zh) * | 2010-04-09 | 2011-10-12 | 清华大学 | 一种碳/硅/碳纳米复合结构负极材料及其制备方法 |
US20110287189A1 (en) | 2010-05-12 | 2011-11-24 | Enerize Corporation | Method of the electrode production |
US9876221B2 (en) | 2010-05-14 | 2018-01-23 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Negative active material for rechargeable lithium battery and rechargeable lithium battery including same |
WO2011156599A2 (en) | 2010-06-09 | 2011-12-15 | Georgia-Pacific Chemicals Llc | Methods for producing precursor solutions and sol-gels for nano-engineered carbon materials and non-engineered carbon materials created therefrom |
WO2011157013A1 (zh) | 2010-06-18 | 2011-12-22 | 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 | 锂离子电池复合硬碳负极材料及其制备方法 |
CN101969120B (zh) | 2010-09-15 | 2012-08-08 | 超威电源有限公司 | 铅酸蓄电池极板制造工艺 |
TWI503277B (zh) | 2010-09-17 | 2015-10-11 | Furukawa Electric Co Ltd | 多孔質矽粒子及多孔質矽複合物粒子、及其等之製造方法 |
CN103261090A (zh) | 2010-09-30 | 2013-08-21 | 艾纳G2技术公司 | 储能颗粒的增强式装填 |
US20120264020A1 (en) | 2010-10-07 | 2012-10-18 | Applied Sciences, Inc. | Method of depositing silicon on carbon nanomaterials |
DE102010049249A1 (de) | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Poröses Kohlenstofferzeugnis, Verfahren für seine Herstellung und Verwendung desselben |
FR2967669B1 (fr) | 2010-11-23 | 2012-11-30 | Hutchinson | Nouveau materiau carbone poreux monolithique modifie au soufre, son procede de preparation et ses utilisations pour le stockage et la restitution d'energie |
EP2643840A4 (en) | 2010-11-26 | 2014-05-28 | Basf Se | PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF POROUS CARBONACEOUS MATERIAL CONTAINING NITROGEN |
CN102479949B (zh) | 2010-11-30 | 2015-05-27 | 比亚迪股份有限公司 | 一种锂离子电池的负极活性材料及其制备方法以及一种锂离子电池 |
US8482900B2 (en) | 2010-11-30 | 2013-07-09 | Corning Incorporated | Porous carbon for electrochemical double layer capacitors |
US9397338B2 (en) | 2010-12-22 | 2016-07-19 | Enevate Corporation | Electrodes, electrochemical cells, and methods of forming electrodes and electrochemical cells |
CN103370756B (zh) | 2010-12-28 | 2018-05-11 | 巴斯福股份公司 | 包含增强的电化学特性的碳材料 |
DE102011004564A1 (de) | 2011-02-23 | 2012-08-23 | Evonik Litarion Gmbh | Elektrodenmaterial mit hoher Kapazität |
CA3051078C (en) | 2011-03-07 | 2022-07-12 | Exide Technologies | Energy storage devices comprising carbon-based additives and methods of making thereof |
US20120262127A1 (en) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | Energ2 Technologies, Inc. | Flow ultracapacitor |
RU2584124C2 (ru) | 2011-05-18 | 2016-05-20 | С-Энг Ко., Лтд. | Трехмерная сетчатая структура, способ изготовления трехмерной сетчатой структуры и устройство для изготовления трехмерной сетчатой структуры |
US20120305651A1 (en) | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrochemical capacitor battery hybrid energy storage device capable of self-recharging |
US10522836B2 (en) | 2011-06-03 | 2019-12-31 | Basf Se | Carbon-lead blends for use in hybrid energy storage devices |
US8871116B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-10-28 | Corning Incorporated | Hydrochloric acid washing of carbon and graphite for making conductive ink for ultracapacitors |
FR2981643B1 (fr) | 2011-10-25 | 2013-12-27 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation d'un materiau composite silicium/carbone, materiau ainsi prepare, et electrode notamment electrode negative, comprenant ce materiau. |
CN102509781B (zh) | 2011-10-27 | 2015-11-04 | 上海交通大学 | 硅碳复合负极材料及其制备方法 |
CN103107315B (zh) | 2011-11-10 | 2016-03-30 | 北京有色金属研究总院 | 一种纳米硅碳复合材料及其制备方法 |
US8993172B2 (en) * | 2011-12-10 | 2015-03-31 | Kalptree Energy, Inc. | Li-ion battery and battery active components on metal wire |
HUE034878T2 (hu) | 2011-12-22 | 2018-03-28 | Cabot Corp | Korom és annak alkalmazása ólom-sav akkumulátorokhoz |
WO2013106782A2 (en) | 2012-01-11 | 2013-07-18 | Energ2 Technologies, Inc. | Hard carbon materials |
US9139441B2 (en) | 2012-01-19 | 2015-09-22 | Envia Systems, Inc. | Porous silicon based anode material formed using metal reduction |
EP2812379A4 (en) | 2012-02-09 | 2015-12-02 | Georgia Pacific Chemicals Llc | PREPARATION OF POLYMER RESINS AND CARBON MATERIALS |
EP2812378A4 (en) | 2012-02-09 | 2015-11-04 | Georgia Pacific Chemicals Llc | PROCESSES FOR PREPARING POLYMER PARTICLES IN GELIFIED FORM |
US9409777B2 (en) | 2012-02-09 | 2016-08-09 | Basf Se | Preparation of polymeric resins and carbon materials |
CN104394853B (zh) | 2012-02-19 | 2017-10-10 | 纳维基因股份有限公司 | 多孔性纳米结构在递送中的用途 |
JP6047799B2 (ja) | 2012-03-23 | 2016-12-21 | アイオン株式会社 | 蓄電デバイスの電極用活性炭及び蓄電デバイスの電極用活性炭の製造方法 |
CN102623680B (zh) | 2012-04-05 | 2014-03-12 | 中南大学 | 具有三维预留孔结构的硅碳复合负极材料及其制备方法 |
CN102820455A (zh) | 2012-08-02 | 2012-12-12 | 天津市贝特瑞新能源科技有限公司 | 一种锂离子电池硬碳负极材料及其制备方法和其应用 |
US9929400B2 (en) | 2012-08-06 | 2018-03-27 | Ut-Battelle, Llc | High capacity monolithic composite Si/carbon fiber electrode architectures synthesized from low cost materials and process technologies |
WO2014031903A1 (en) | 2012-08-22 | 2014-02-27 | Krishnan Subramaniam Chitoor | Methods and systems for accessing a pericardial space and preventing strokes arising from the left atrial appendage |
US10374221B2 (en) | 2012-08-24 | 2019-08-06 | Sila Nanotechnologies, Inc. | Scaffolding matrix with internal nanoparticles |
US9067848B2 (en) | 2012-10-19 | 2015-06-30 | California Institute Of Technology | Nanostructured carbon materials for adsorption of methane and other gases |
KR101804368B1 (ko) | 2012-11-26 | 2017-12-04 | 조지아-퍼시픽 케미칼즈 엘엘씨 | 폴리머 수지 및 탄소 재료의 제조 방법 |
CN104884488B (zh) | 2012-11-29 | 2016-11-23 | 佐治亚-太平洋化工品有限公司 | 使用悬浮或者乳液聚合制备酚醛树脂珠 |
CN103094528B (zh) | 2013-01-09 | 2016-05-04 | 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 | 一种锂离子动力与储能电池用硬碳负极材料及其制备方法 |
JP5339107B1 (ja) | 2013-02-27 | 2013-11-13 | 東洋紡株式会社 | 圧縮耐久性に優れた網状構造体 |
KR101580039B1 (ko) | 2013-03-13 | 2015-12-23 | 주식회사 엘지화학 | 다공성 탄소-실리콘 복합체의 제조방법 및 이에 의해 제조된 다공성 탄소-실리콘 복합체 |
KR20160011178A (ko) | 2013-03-13 | 2016-01-29 | 에너지2 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 개선된 유화 및 현탁 중합 방법 및 이로부터 유래된 탄소의 개선된 전기화학성능 |
WO2014143213A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Energ2 Technologies, Inc. | Composite carbon materials comprising lithium alloying electrochemical modifiers |
WO2014160385A2 (en) * | 2013-03-14 | 2014-10-02 | Energ2 Technologies, Inc. | Energy storage devices based on hybrid carbon electrode systems |
KR101325952B1 (ko) | 2013-04-01 | 2013-11-07 | 한국기계연구원 | 경화성 폴리머 바인더를 활용한 고성능 기능성 활성 탄소 슈퍼 커패시터 및 이의 제조방법 |
CN110289418A (zh) | 2013-06-12 | 2019-09-27 | 14族科技公司 | 包含效率增强剂的高容量硬碳材料 |
US9136064B2 (en) | 2013-07-26 | 2015-09-15 | Corning Incorporated | Carbon for high voltage EDLCs |
CN104347857B (zh) | 2013-07-29 | 2017-07-07 | 华为技术有限公司 | 锂离子二次电池负极活性材料及其制备方法、锂离子二次电池负极极片和锂离子二次电池 |
CN103456929B (zh) | 2013-09-04 | 2015-08-12 | 中南大学 | 一种锂硫电池正极材料及其制备方法 |
KR20160058173A (ko) | 2013-09-20 | 2016-05-24 | 조지아-퍼시픽 케미칼즈 엘엘씨 | 습식 겔을 제조하고 그로부터 건식 겔을 제조하는 방법 |
US10195583B2 (en) | 2013-11-05 | 2019-02-05 | Group 14 Technologies, Inc. | Carbon-based compositions with highly efficient volumetric gas sorption |
US10224537B2 (en) | 2013-11-29 | 2019-03-05 | Sila Nanotechnologies, Inc. | Fluorides in nanoporous, electrically-conductive scaffolding matrix for metal and metal-ion batteries |
CN103746098B (zh) | 2013-12-25 | 2015-08-12 | 中南大学 | 一种富氮多模蜂窝碳-硫复合正极材料的制备方法 |
JP2015130287A (ja) | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 株式会社デンソー | 炭素複合体及び蓄電デバイス |
US9735430B2 (en) | 2014-01-23 | 2017-08-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electrode, power storage device, and electronic device |
WO2015137980A1 (en) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | Energ2 Technologies, Inc. | Novel methods for sol-gel polymerization in absence of solvent and creation of tunable carbon structure from same |
KR20150117545A (ko) | 2014-04-10 | 2015-10-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극 활물질, 그 제조방법 및 이를 포함한 리튬 이차 전지 |
US20150306570A1 (en) | 2014-04-29 | 2015-10-29 | Ut-Battelle, Llc | Metal-carbon composites and methods for their production |
DE102014211012A1 (de) | 2014-06-10 | 2015-12-17 | Robert Bosch Gmbh | Herstellungsverfahren für einen Silicium-Kohlenstoff-Komposit |
JP5796263B1 (ja) | 2014-07-30 | 2015-10-21 | 有限会社 トラスト21 | 編成樹脂の製造装置及び編成樹脂の製造方法 |
CN104108698B (zh) | 2014-07-30 | 2015-11-18 | 兰州理工大学 | 高掺杂量氮硫共掺杂有序介孔碳的制备方法 |
US9742001B2 (en) | 2014-08-07 | 2017-08-22 | Nanotek Instruments, Inc. | Graphene foam-protected anode active materials for lithium batteries |
US10340520B2 (en) | 2014-10-14 | 2019-07-02 | Sila Nanotechnologies, Inc. | Nanocomposite battery electrode particles with changing properties |
JP6503700B2 (ja) | 2014-11-21 | 2019-04-24 | 日立化成株式会社 | リチウムイオン二次電池用負極材、負極およびリチウムイオン二次電池 |
JP6609909B2 (ja) | 2014-11-21 | 2019-11-27 | 日立化成株式会社 | リチウムイオン二次電池用負極材、リチウムイオン二次電池用負極、及びリチウムイオン二次電池 |
WO2016201253A1 (en) | 2015-06-11 | 2016-12-15 | Massachusetts Institute Of Technology | Pyrolyzed porous carbon materials and ion emitters |
US20190097222A1 (en) | 2015-08-14 | 2019-03-28 | Energ2 Technologies, Inc. | Composites of porous nano-featured silicon materials and carbon materials |
KR102637617B1 (ko) | 2015-08-28 | 2024-02-19 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 극도로 내구성이 우수한 리튬 인터칼레이션을 나타내는 신규 물질 및 그의 제조 방법 |
EP3360181B1 (en) | 2015-10-06 | 2021-10-27 | Arcactive Limited | Improved lead-acid battery electrode |
WO2017066703A1 (en) | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Energ2 Technologies, Inc. | Low-gassing carbon materials for improving performance of lead acid batteries |
US10008338B2 (en) | 2016-01-13 | 2018-06-26 | Lawrence Livermore National Security, Llc | High temperature oxygen treated carbon aerogels |
CN105680023B (zh) * | 2016-04-06 | 2018-11-09 | 上海璞泰来新能源科技股份有限公司 | 一种高倍率硅基复合材料的制备方法、负极材料和锂电池 |
CN106207108B (zh) * | 2016-07-09 | 2018-07-27 | 太原理工大学 | 基于高分子发泡微球的硅碳复合材料及其制备方法与应用 |
EP3685415A1 (en) | 2017-09-20 | 2020-07-29 | Energ2 Technologies, Inc. | Hydrated carbon material powder and use of it for preparation of an electrode for an electrical storage device |
KR101942815B1 (ko) | 2017-11-13 | 2019-01-30 | 한국과학기술연구원 | 친환경적인 다공성 탄화규소 구조체의 제조방법 |
AU2019212361B2 (en) | 2018-01-24 | 2023-04-13 | Basf Se | Methods for preparing carbon materials |
US20200144619A1 (en) | 2018-09-05 | 2020-05-07 | Basf Se | Carbon materials for improving performance of lead acid batteries |
US11905593B2 (en) | 2018-12-21 | 2024-02-20 | Nexeon Limited | Process for preparing electroactive materials for metal-ion batteries |
KR20230052901A (ko) | 2020-08-10 | 2023-04-20 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 열진동 보조 화학 기상 침투 |
US11335903B2 (en) | 2020-08-18 | 2022-05-17 | Group14 Technologies, Inc. | Highly efficient manufacturing of silicon-carbon composites materials comprising ultra low z |
KR20230051676A (ko) | 2020-08-18 | 2023-04-18 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 규소-탄소 복합체 |
US11174167B1 (en) | 2020-08-18 | 2021-11-16 | Group14 Technologies, Inc. | Silicon carbon composites comprising ultra low Z |
US20220059818A1 (en) | 2020-08-18 | 2022-02-24 | Group14 Technologies, Inc. | Lithium-silicon battery |
EP4146595A1 (en) | 2020-08-18 | 2023-03-15 | Group14 Technologies, Inc. | Manufacturing of silicon-carbon composites materials |
US11639292B2 (en) | 2020-08-18 | 2023-05-02 | Group14 Technologies, Inc. | Particulate composite materials |
KR20230086667A (ko) | 2020-09-25 | 2023-06-15 | 그룹14 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 전기화학적 특성이 향상된 규소-탄소 복합재 |
EP4222109A1 (en) | 2020-09-30 | 2023-08-09 | Group14 Technologies, Inc. | Methods of passivation to control oxygen content and reactivity of silicon-carbon composite materials |
-
2018
- 2018-03-09 KR KR1020197029095A patent/KR102571014B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-09 US US16/491,423 patent/US11611071B2/en active Active
- 2018-03-09 EP EP18763890.3A patent/EP3593369A4/en active Pending
- 2018-03-09 KR KR1020237028489A patent/KR20230128140A/ko active Search and Examination
- 2018-03-09 WO PCT/US2018/021843 patent/WO2018165610A1/en unknown
- 2018-03-09 CN CN201880029192.5A patent/CN110582823A/zh active Pending
- 2018-03-09 CN CN202310870924.6A patent/CN116978701A/zh active Pending
- 2018-03-09 JP JP2019548585A patent/JP7376360B2/ja active Active
-
2023
- 2023-01-19 US US18/156,926 patent/US20230327087A1/en active Pending
- 2023-10-25 JP JP2023183215A patent/JP2024012371A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003303588A (ja) | 2002-02-07 | 2003-10-24 | Hitachi Maxell Ltd | 電極材料およびその製造方法、並びに非水二次電池用負極および非水二次電池 |
JP2006117475A (ja) | 2004-10-22 | 2006-05-11 | National Institute For Materials Science | シリコンナノワイヤーの製造方法 |
JP2013229347A (ja) | 2007-11-12 | 2013-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 非水電解質二次電池負極材の活物質用多結晶珪素粒子の製造方法 |
JP2009249279A (ja) | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Qinghua Univ | シリコンナノ構造体の製造方法 |
JP2015519719A (ja) | 2012-06-18 | 2015-07-09 | シラ ナノテクノロジーズ インク | 膨張特性を有する電池活物質用のマルチシェル構造体 |
JP2016132608A (ja) | 2015-01-22 | 2016-07-25 | 株式会社豊田中央研究所 | 複合体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200020935A1 (en) | 2020-01-16 |
JP2024012371A (ja) | 2024-01-30 |
CN116978701A (zh) | 2023-10-31 |
US20230327087A1 (en) | 2023-10-12 |
EP3593369A4 (en) | 2021-03-03 |
EP3593369A1 (en) | 2020-01-15 |
KR102571014B1 (ko) | 2023-08-25 |
WO2018165610A1 (en) | 2018-09-13 |
CN110582823A (zh) | 2019-12-17 |
KR20190122805A (ko) | 2019-10-30 |
JP2020514231A (ja) | 2020-05-21 |
US11611071B2 (en) | 2023-03-21 |
KR20230128140A (ko) | 2023-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7376360B2 (ja) | 多孔質足場材料の上のケイ素含有前駆体の分解 | |
JP7458445B2 (ja) | リチウムの非常に耐久性のある挿入を有する新規な材料およびその製造方法 | |
JP2023543793A (ja) | 電気化学的特性を向上させたシリコン-カーボン複合材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211207 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220303 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220607 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221004 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221226 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20230207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230303 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20230313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230926 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7376360 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |