JP7362622B2 - 光変換特徴を有する被覆物品およびその製造方法 - Google Patents

Description

関連出願の説明

本出願は、その内容が依拠され、下記に全て述べられているように引用される、２０１８年１月９日に出願された米国仮特許出願第６２／６１５２２６号の優先権の恩恵を主張するものである。

本開示は、被覆物品およびその製造方法に関し、より詳しくは、透明基板上に耐久性および／または耐引掻性光学コーティングを有する被覆物品に関する。

電気製品内の重要デバイスを保護して、入力および／または表示のためのユーザーインターフェース、および／または多くの他の機能を提供するために、カバー物品が多くの場合で使用されている。そのような製品に、スマートフォン、ｍｐ３プレーヤー、およびコンピュータタブレットなどの携帯機器がある。カバー物品には、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶などに使用される物品）、電気器具物品、もしくはある程度の透明性、耐引掻性、耐摩耗性、またはその組合せを必要とする任意の物品もある。これらの用途は、多くの場合、耐引掻性、並びに最大光透過率および最小反射率に関する強力な光学性能特徴を求める。さらに、あるカバー用途では、視角が変えられたときに、反射および／または透過で示されるまたは知覚される色が感知できるほどには変わらないことが求められる。ディスプレイ用途において、これは、反射または透過における色が視角により感知される程度まで変化すると、その製品のユーザは、ディスプレイの色または輝度の変化（ディスプレイの知覚品質を低下させ得る）に気付くからである。他の用途において、色の変化は、審美的要件または他の機能要件に悪影響を及ぼすことがある。

カバー物品の光学性能は、様々な反射防止（「ＡＲ」）コーティングを使用することによって、改善することができる；しかしながら、公知の反射防止コーティングは、損耗または摩耗を受けやすい。そのような摩耗は、反射防止コーティングにより達成されるいずれの光学性能の改善も損ない得る。例えば、光学フィルタは、多くの場合、異なる屈折率を有し、光学的に透明な誘電材料（例えば、酸化物、窒化物、およびフッ化物）から製造された多層コーティングから製造される。そのような光学フィルタに使用される典型的な酸化物のほとんどは、バンドギャップが広い材料であり、これは、携帯機器、建築物品、輸送物品または電気器具物品に使用するための、硬度などの必要不可欠な機械的性質を有していない。

摩耗損傷は、反対面の物体（例えば、指）からの往復滑り接触を含み得る。それに加え、摩耗損傷は熱を生じ得、これは、フイルム材料における化学結合を劣化させ、カバーガラスに対する剥離および他のタイプの損傷を生じ得る。摩耗損傷は、大抵、引っ掻きを生じる単事象よりも長い期間に亘り経験されるので、摩耗損傷を経験する被覆材料は酸化する可能性もあり、これにより、コーティングの耐久性がさらに劣化し得る。

公知の反射防止コーティングは、引っ掻き損傷も受けやすく、多くの場合、そのようなコーティングが配置されている下層の基板よりも引っ掻き損傷をさらに受けやすい。ある場合には、そのような引っ掻き損傷のかなりの部分は微小延性引っ掻き傷を含み、これは、典型的に、長い長さを有する材料における、約１００ｎｍから約５００ｎｍの範囲の深さを有する１つの溝を含む。微小延性引っ掻き傷は、表面下の亀裂、摩擦亀裂、欠け落ち、および／または摩耗などの他のタイプの目に見える損傷を伴うことがある。証拠により、そのような引っ掻き傷および他の目に見える損傷の大半が、単一接触事象で生じる鋭い接触により生じることが示唆される。カバー基板上に著しい引っ掻き傷が一旦現れると、引っ掻き傷は光散乱を増加させ、これにより、ディスプレイの輝度、透明度およびコントラストが著しく低下するであろうから、その物品の外観が損なわれる。著しい引っ掻き傷は、タッチセンサー式ディスプレイを備えた物品の精度と信頼性にも影響を与え得る。単事象の引っ掻き損傷は、硬い反対面の物体（例えば、砂、砂利および研磨紙）からの往復滑り接触などの多重接触事象により生じず、熱（フイルム材料における化学結合を劣化させ、剥離および他のタイプを生じ得る）も一般に生じない。それに加え、単事象の引っ掻きは、一般に、酸化を生じず、または摩耗損傷を生じる同じ条件を含まず、したがって、摩耗損傷を防ぐのに多くの場合で利用される解決策でも、引っ掻き傷が防がれないであろう。さらに、公知の引っ掻きおよび摩耗損傷の解決策は、大抵、光学的性質を損なう。

光散乱「防眩」機能を有する粗面またはざらついた表面が、表示画面に使用するために製造されてきた。これらの表面は、反射像を拡散させるまたはぼかすことにより、また正反射を減少させることによって、周囲照明下でディスプレイの可読性を増す。これらの種類のざらついた表面に薄い（＜３００ｎｍ）反射防止コーティングが加えられて、光散乱（ざらついた表面から）および干渉に基づく反射防止（コーティングから）の効果を組み合わせてきた。これらのタイプのコーティングは、典型的に、低い耐引掻性および高い引っ掻き傷視認性を被る。

最近、高い耐引掻性および低い引っ掻き傷視認性を有する、高硬度の反射防止コーティングが実証された。例えば、特許文献１から７を参照のこと。これらのコーティングは、ディスプレイ用途に有益な、高硬度、高い耐引掻性、低い反射率、および小さい色ずれの組合せを達成するために、５００ｎｍ超（ある場合には、１０００ｎｍ超、１５００ｎｍ超、または２０００ｎｍ超）の厚さを有する。

米国特許第９０７９８０２号明細書 米国特許第９３５９２６１号明細書 米国特許第９３６６７８４号明細書 米国特許第９３３５４４４号明細書 米国特許第９７２６７８６号明細書 米国特許出願公開第２０１５／０３２２２７０号明細書 米国特許出願公開第２０１７／０３０７７９０号明細書

比較的厚い耐引掻性光学コーティングを、表面のざらつきからの光散乱効果、または光学コーティングからの色が制御された反射防止効果のいずれも損なわずに、ざらついた防眩表面上に均一に堆積できることが、ここに示されている。さらに、有利な性質が得られる。詳しくは、引っ掻き傷を隠し、周囲反射を抑える能力が、光散乱表面を低反射率光学コーティングと組み合わせることによって、最大になる。

ざらついた光散乱化学強化ガラス表面の、均一な色制御された低反射率硬質光学コーティングとの組合せが、ここに記載されている。その高硬度により、引っ掻き傷の形成が最小になる。低反射率および光散乱は共同して、ディスプレイの可読性を増す、グレアを減少させる、または眼の疲れを最小にする。光散乱バックグラウンドは、ある日常的な表面引っ掻き傷および関連するタイプの損傷に由来する散乱光を隠すのに役立つので、この光散乱表面（光変換特徴(light-altering features)）により、二次的な引っ掻き傷隠蔽機構も与えられる。光散乱特徴および低反射率特徴は組み合わさって、グレアを最小にし、特に屋外環境において、ディスプレイの可読性、見掛け色域、および／または見掛け輝度を最大にする。

追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載されたような実施の形態を実施することによって認識されるであろう。例えば、様々な特徴は、以下の実施の形態にしたがって組み合わされることがある。

実施の形態１．
被覆物品において、
光散乱を誘発するざらつきのある表面または粗面を含む主面を有する透明基板；および
その透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含み、３００ｎｍ超の物理的厚さを有する光学コーティング；
を備え、
約５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により空気側表面で測定して、約１０ＧＰａ以上の最大硬度を示す、被覆物品。

実施の形態２．
前記主面が、（ｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ｑ、および（ｉｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ａの少なくとも一方の粗さを有する、実施の形態１の被覆物品。

実施の形態３．
前記光学コーティングが、ざらついた表面のＲ_ａまたはＲ_ｑより大きい物理的厚さを有する、実施の形態２の被覆物品。

実施の形態４．
前記光学コーティングが、６００ｎｍ超の物理的厚さを有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態５．
４．５％未満、または４％未満の少なくとも一方の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態６．
明所視平均として、約０．５％未満、または約０．２５％未満、または０．２％未満、または０．１５％未満、または０．１％未満、またはそれより小さいの少なくとも１つの片面正反射率をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態７．
ほぼ垂直の入射角から４０度の入射角までで、約０．５％未満、および６０度の入射角で、３％未満、または１．５％未満、または１％未満の少なくとも一方の片面正反射率をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態８．
約０．０５超、または０．１％超、かつ約０．５以下、または約１以下、または約１．５以下、または約２．０以下、または約３．０以下の両面拡散反射率（ＳＣＥ）をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態９．
約５．５未満の両面全反射率（ＳＣＩ）をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１０．
１６未満、１２未満、１０未満、５未満、またさらには２未満の絶対値を有するａ^＊およびｂ^＊反射色値をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１１．
約６超、約１０から約１６、約１６超、約１０から約２０、約１０から約３０、約１０から約４０、および約１０から約５０の少なくとも１つの絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊、および
約４％から約７％、および１０％未満の少なくとも一方の主面での透過ヘイズ値、
をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１２．
６未満、５未満、４未満、および２未満の少なくとも１つの絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊、および
１０％超、２０％超、２５％超、２７％超、４０％超、５０％超、および６０％超の少なくとも１つの主面の透過ヘイズ値、
をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１３．
９５未満、９０未満、８０未満、または７０未満の少なくとも１つの２０度ＤＯＩをさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１４．
８０未満、または６０未満の６０度光沢度をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１５．
８０％超、９０％超、９４％超の少なくとも１つの全（両面、可視正反射＋拡散）光透過率をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１６．
１０％未満、または５％未満の少なくとも一方のＰＰＤで測定されたスパークル性能（１４０ピクセル・パー・インチを有するディスプレイに関する）をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１７．
２５サイクル／分の速度で１サイクルに亘る４ｋｇ荷重（スプライン、シャフト、コレットおよび錘ホルダの質量を含む全荷重）下での１５０グリットのガーネット引っ掻き試験後に、前記物品が、
６．０％未満、または５．０％未満の、および／または２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満の、および／または１％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および
６．０％未満、または５．０％未満の、２％未満、１％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、両面全反射率（ＳＣＩ）、
の少なくとも１つを有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１８．
２５サイクル／分の速度での５０サイクルに亘る、１ｋｇの総質量の荷重下での、４００グリットのＫｏｖａｘ研磨紙によるＴａｂｅｒ（登録商標）摩耗試験後に、前記物品が、
７．５％未満、６．０％未満、または５．０％未満の、および／または３％未満、２％未満、または１％未満しか未研磨値から変化していない、両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
５％未満、３％未満、２％未満、または１％未満の、および／または３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および／または
８．０％未満の、および／または３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面全反射率（ＳＣＩ）、
の少なくとも１つを有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態１９．
１２ＧＰａ以上、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上の少なくとも１つの硬度をさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態２０．
少なくとも１２ＧＰａの硬度および３００ｎｍ超の光学コーティングの厚さをさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態２１．
少なくとも１４ＧＰａの硬度および少なくとも５００ｎｍの光学コーティングの厚さをさらに有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態２２．
国際照明委員会の光源下での垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色系における物品の透過率および／または反射率色座標が、空気側表面で測定して基準点から約１０未満の基準点色ずれを示し、基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）、（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）、または基板のそれぞれの透過率または反射率色座標を含み、
基準点が色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）である場合、色ずれは、√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）^２）により定義され、
基準点が色座標（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）である場合、色ずれは、√（（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）により定義され、
基準点が基板の色座標である場合、色ずれは、√（（ａ^＊ _物品－ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品－ｂ^＊ _基板）^２）により定義される、実施の形態１の被覆物品。

実施の形態２３．
前記被覆物品が、約５０％以下の透過ヘイズ値を有する、実施の形態１の被覆物品。

実施の形態２４．
前記基板が、非晶質基板または結晶基板からなる、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態２５．
前記被覆物品が、約５０％以上の平均明所視透過率を有する、先の実施の形態のいずれかの被覆物品。

実施の形態２６．
先の実施の形態のいずれかの被覆物品を備えた電子機器。

先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、例示に過ぎず、請求項の性質および特徴を理解するために概要または骨子を提供する意図があることが理解されよう。添付図面は、さらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、１つ以上の実施の形態を示しており、説明と共に、様々な実施の形態の原理および作動を説明する働きをする。

ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、被覆物品の断面側面図 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、図５の被覆物品における距離の関数としての屈折率のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示のＢａＦ_２コーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示のＢａＦ_２コーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示のＢａＦ_２コーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上の例示のＢａＦ_２コーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ_２コーティング上に堆積された例示のＳｉＮ_ｘコーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ_２コーティング上に堆積された例示のＳｉＮ_ｘコーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ_２コーティング上に堆積された例示のＳｉＮ_ｘコーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、ガラス基板上のＢａＦ_２コーティング上に堆積された例示のＳｉＮ_ｘコーティングの原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、例示のコーティングに関する波長の関数としての全透過率を示すグラフ ここに記載された１つ以上の実施の形態による、例示のコーティングに関する波長の関数としての正反射率を示すグラフ 光変換特徴を上に有する基板表面の原子間力顕微鏡写真 光変換特徴を上に有する基板表面の原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光学コーティングがその上に配置された、図１１Ａにおける基板表面の原子間力顕微鏡写真 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光学コーティングがその上に配置された、図１１Ｂにおける基板表面の原子間力顕微鏡写真 光変換特徴を上に有する基板に関する表面中への変位（ｘ軸にｎｍで表されている）に対するヤング率（左手のｙ軸にＧＰａで表されている）および硬度（右手のｙ軸にＧＰａで表されている）の各々のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングを上に有する基板に関する表面中への変位（ｘ軸にｎｍで表されている）に対するヤング率（左手のｙ軸にＧＰａで表されている）および硬度（右手のｙ軸にＧＰａで表されている）の各々のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関するｘ軸上の波長（ｎｍで表されている）に対するｙ軸の第一面反射率（％で表されている）のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関するｘ軸上の波長（ｎｍで表されている）に対するｙ軸の透過率（％で表されている）のプロット 光変換特徴を有するもの、並びにここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関する明色座標のプロット（様々な視角に関するＤ６５光源下での第一面反射色） 光変換特徴を有するもの、並びにここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関する明色座標のプロット（６度の入射角でのＤ６５光源下での両面透過色） ガラス基板に関する、ガーネット引っ掻き試験の画像 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングの両方が上に配置されたガラス基板に関する、ガーネット引っ掻き試験の画像 ガラス基板に関する、「Ｔａｂｅｒ」摩耗試験の画像 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングの両方が上に配置されたガラス基板に関する、「Ｔａｂｅｒ」摩耗試験の画像 ここに記載された１つ以上の実施の形態による、様々なＡＧ（防眩）ヘイズレベルを有する例示の物品に関する波長（ｘ軸にｎｍで表されている）に対する第一面正反射率（６度の入射角に関して、ｙ軸に％で表されている）のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、様々なＡＧヘイズレベルを有する例示の物品に関する波長（ｘ軸にｎｍで表されている）に対する第一面正反射率（４０度の入射角に関して、ｙ軸に％で表されている）のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、様々なＡＧヘイズレベルを有する例示の物品に関する波長（ｘ軸にｎｍで表されている）に対する第一面正反射率（６０度の入射角に関して、ｙ軸に％で表されている）のプロット ここに記載された１つ以上の実施の形態による、様々なＡＧヘイズレベルを有する例示の物品に関する明色座標のプロット（様々な入射角に関するＤ６５光源下での第一面反射色） 光変換特徴を有するもの、並びにここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関する、ヘイズ（ｘ軸に沿って％で表されている）に対する光沢（６０度で測定され、ｙ軸に沿った単位で表されている）のプロット 光変換特徴を有するもの、並びにここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関する、ヘイズ（ｘ軸に沿って％で表されている）に対する像の鮮明度（ＤＯＩ）（２０度の入射角で測定され、ｙ軸に沿った単位で表されている）のプロット 光変換特徴を有するもの、並びにここに記載された１つ以上の実施の形態による、光変換特徴および光学コーティングが上に配置されたものを含む、基板に関する、ヘイズ（ｘ軸に沿って％で表されている）に対する画素力偏差(Pixel Power Deviation)（ＰＰＤ）（ｙ軸に沿って％で表されている）のプロット

その例が添付図面に示されている、様々な実施の形態を、ここで詳しく参照する。基板上に配置された光学コーティング（１つ以上の個別層を含むことがある）を備えた被覆物品の実施の形態が、ここに記載されている。その光学コーティングは、１つ以上の光変換特徴を備える。光学コーティングに組み込まれたその光変換特徴は、ここに記載されたように、反射率振動を減少させる、目に見える色を減少させる、および／または角度色ずれを減少させることがある。ここに記載された光学コーティングに含まれることがある光変換特徴は、制限なく、光学コーティングの層内またはそのエッジへの光散乱部材の含有または層界面での粗さなどの光散乱構造要素を含むことがある。層の粗い界面および光散乱部材は、被覆物品全体の反射からの光学干渉が非コヒーレントであり、被覆物品の反射率および／または透過率スペクトルにおける振動が減少するように、光学コーティング内で光を散乱させることがある。代わりに、または上記に加え、光変換特徴は、光学コーティングが配置される基板上またはその中、および／または基板と光学コーティングとの間の界面に存在することがある。

一般に、ある反射率が、同じ屈折率を持たない、被覆物品内の任意の２つの層の間の界面に存在することがある。被覆物品の実施の形態において、この界面として、光学コーティングと空気との間の界面、光学コーティングとそれが堆積される基板との間の界面、および光学コーティングの任意の２つの層の間の界面が挙げられるであろう。各界面からの反射率は、被覆物品の全反射率スペクトルに寄与する。被覆物品のいくつかの実施の形態において、被覆物品の２つ以上の界面と相互作用する反射、透過、または入射光波は、周波数、位相、偏光、空間、時間、またはこれらのパラメータの組合せにおける固定されたまたは特定の関係を有することによって、コヒーレントであることがあり、この固定されたまたは特定の関係は、観察者が気付くほど十分に大きい空間および時間の範囲に亘り維持される。例えば、２つの異なる界面で生じる反射率スペクトルは、同様の波長を有することがあり、各反射率スペクトルは、被覆物品の全反射率スペクトルに建設的に寄与することがある。コヒーレント干渉を生じる界面は、光学コーティング内の単一層から、または共通層を共有しない、被覆物品の２つ以上の界面からであることがある。

ディスプレイの可読性を最大にでき、可視、ＩＲ、またはマイクロ波／ＲＦ電磁放射線に対する透明性も有し得る低反射率、低グレアの極めて耐引掻性である構成要素を提供できる、低反射率で、色が制御された光散乱ハードコートガラス物品が、この分野で必要とされている。光散乱表面の低反射率コーティングとの組合せにより、ユーザに到達する正反射の絶対強度を減少させること、並びに表示面からの反射像の見掛けの鮮明さ（明白さ）を減少させることの両方によって、明るく照られた周囲環境におけるディスプレイの可読性が最大になる。

光散乱表面（光変換特徴を有する）は、例えば、ガラス表面のサンドブラストおよびエッチングと、それに続く、そのガラス表面の化学強化（Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス基板など）によって、形成されることがある。高硬度は、例えば、低反射率および薄い色を有するように設計された高硬度の多層光学干渉フイルムを使用して、ざらついたガラス表面の薄膜被覆（蒸発、スパッタリング、またはＣＶＤ被覆）により、テクスチャの形成後に与えることができる。

光散乱表面（光変換特徴を有する）の適合する硬質光学コーティングとの組合せは、以下の機構の１つ以上によって、引っ掻き傷視認性を減少させる：
（ｉ）引っ掻き傷は、その表面が高硬度であるために形成しない；
（ｉｉ）砂などの摩耗粒子による表面との摩擦接触は、表面の粗さにより減少する。例えば、光変換特徴は、物品表面と研磨材との間の接触面積を減少させ、それによって、起こり得る摩耗に曝される物品表面の面積を減少させる、および／または物品表面と研磨材との間の摩擦係数を減少させ、これにより、研磨材がより容易に物品表面から離れるであろう。減少した摩擦は、さらに、硬質コーティングの上面への、シランまたはフルオロシランの「洗浄し易い」層などの有機「単分子層」タイプのコーティングの付加により達成されることがある；および／または
（ｉｉｉ）ざらついた表面は、特定のタイプの引っ掻き傷により生じる光散乱と似ているように見える光散乱を生じるので、形成する引っ掻き傷は、ユーザにそれほど見えない（「隠れる」）。

したがって、ここに記載されたような構造的特徴および性質属性、例えば：
－未研磨状態における：
（ａ）４．５％未満、またさらには４％未満の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
（ｂ）０．５％未満、例えば、４５０ｎｍから５５０ｎｍ、６００ｎｍまたは６５０ｎｍの波長について０．２５％未満、もしくは明所視平均として約０．２％または約０．１５％未満または０．１％未満の片面正反射率、
（ｃ）ほぼ垂直な入射角から４０度の入射角までの、約０．５％未満、かつ６０度の入射角での３％未満、１．５％未満、または１％未満の片面正反射率、
（ｄ）約０．０５超または０．１超、かつ約０．５、または約１、または約１．５、または約２．０、または約３．０以下の両面拡散反射率（ＳＣＥ）、
（ｅ）約５．５未満の両面全反射率（ＳＣＩ）、
（ｆ）１６未満、１２未満、１０未満、５未満、またさらには２未満の絶対値を有するａ^＊およびｂ^＊反射色値。より高い色値（例えば、６超、または１０～１６、もしくはそれより大きい絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊）は、高い色彩効果を向上させるため（または低下させないため）に、下層の基板上のより低いヘイズ値（例えば、４～７％、または１０％未満）と共に使用されることがある。より低い色値（例えば、６未満、または５未満、または４未満、または２未満の絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊）は、薄い色をさらに促進するために、下層の基板上のより高いヘイズ値（例えば、１０％超、または２０％超、または２５％超、または２７％超、または４０％超、または５０％超、または６０％超）と共に使用されることがある。例えば、下層の基板上のより高いヘイズは、望ましくない（ある用途にとって）反射色を弱めるために使用することができる、
（ｇ）９５未満、または９０未満、または８０未満、または７０未満の２０度ＤＯＩ、
（ｈ）８０未満、または６０未満の６０度光沢度、
（ｉ）８０％超、または９０％超、または９４％超の全（両面、可視の正＋拡散）光透過率、および／または
（ｊ）１０％未満、または５％未満のＰＰＤで測定されたスパークル性能（１４０ピクセル・パー・インチを有するディスプレイに関する）。
－引っ掻き／研磨状態における、２５サイクル／分の速度で、１サイクル試験のガーネット４ｋｇ（スプライン、シャフト、コレットおよび錘ホルダの質量を含む全荷重）後の：
（ｋ）２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、６．０％未満、または５．０％未満の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
（ｌ）１％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満の両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および／または
（ｍ）２％未満、１％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、６．０％未満、または５．０％未満の両面全反射率（ＳＣＩ）。
－引っ掻き／研磨状態における、２５サイクル／分の速度での５０サイクル試験のＫｏｖｘ １ｋｇ（総質量）後の：
（ｎ）３％未満、２％未満、または１％未満しか未研磨値から変化していない、７．５％未満、６．０％未満、または５．０％未満の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
（ｏ）３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、５％未満、３％未満、２％未満、または１％未満の両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および／または
（ｐ）３％未満、２％未満、１％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、８．０％未満の両面全反射率（ＳＣＩ）
のいくつかまたは全てを兼ね備える表面がざらついたハードコート物品が作られた。

すなわち、先の（ａ～ｐ）のいずれか１つ以上は、（ａ～ｐ）のいずれか他のものとの任意と全ての組合せで、および／または以下に限られないが、物品および／または光学コーティングの硬度；表面粗さ；光学コーティング、基板、および／または上部コーティングの厚さ；光学コーティング内の層の厚さ（物理的および／または光学的）および／または配置；基板、光変換特徴、光学コーティング、および／または上部コーティングの材料；光変換特徴の配置；基板の組成および／または強化属性；および／またはヘイズを含む、ここに記載されたような物品の物理的性質の任意と全ての組合せで、使用してもよい。

粗い光散乱表面テクスチャがあるけれども、本出願の発明者等は、意外なことに、硬質光学コーティング内の光学干渉層の光学コヒーレンスを維持し、それゆえ、光学コーティング内の光学干渉層に由来する所望の低反射率および制御された色性能を維持しながら、このざらついた表面を厚い光学コーティングで被覆できることを見出した。光を散乱させる粗面は、光線のコヒーレンスを減少させる傾向もあり、これは、光学コーティング中の干渉に基づく光管理層の光学効率を減少させる、例えば、それらの反射防止または色管理特性を乱す傾向にあるであろうから、この結果は、意外であると考えられる。このことは、表面粗さが４０～５００ｎｍ ＲＭＳの範囲にあり、光学コーティングの厚さが０．６～３マイクロメートルの範囲にある、本発明の好ましい実施の形態におけるような、ざらついた表面の平均表面粗さより厚さが実質的に大きい光学コーティングにとって、特に意外である。理論で束縛する意図はないが、本出願の発明者等は、これは、そのコーティングの厚さより大きい傾向にある、ざらついた表面の比較的大きい横方向特徴サイズ、並びに無作為テクスチャからの比較的限定された回折効果のためであると考えている。

いくつかの実施の形態において、望ましくない建設的干渉は、具体的に、「耐引掻性」層とここに称される光学コーティングの単一層の空気側と基板側での界面からのコヒーレント反射波により生じることがある。ここに記載された実施の形態において、１つ以上の耐引掻性層が、光学コーティング内に含まれることがある。これらの耐引掻性層は、比較的厚く（約３００ｎｍ超、および１０マイクロメートルまでなど）、硬質（１０ＧＰａ超のバーコビッチ硬度を有するなど）であることがある。これらの耐引掻性層は、増加した硬度および耐磨損性などの所望の物理的特徴を被覆物品に与えるであろう。しかしながら、それらは、空気側の界面と基板側の他の層との界面で、コヒーレンス反射波を生じ、干渉のために反射振動を増加させることがある。１つ以上の実施の形態において、光変換特徴は、耐引掻性層内またはそのエッジで、光学コーティング内に設けられることがある。それに代えて、または上記に加え、光変換特徴は、光学コーティングが上に配置されている基板上または基板内、および／または基板と光学コーティングとの間の界面に存在することがある。

図１を参照すると、１つ以上の実施の形態による被覆物品１００は、基板１１０、および基板１１０上に配置された光学コーティング１２０を備えることがある。基板１１０は、互いに反対の主面１１２、１１４および互いに反対の副面１１６、１１８を有する。光学コーティング１２０は、第１の主面１１２上に配置されていると、図１に示されている；しかしながら、光学コーティング１２０は、第１の主面１１２上に配置されていることに加え、またはそれに代えて、第２の主面１１４上および／または互いに反対の副面１１６、１１８の一方または両方の上に配置されてもよい。光学コーティング１２０は、空気側表面１２２を形成する。１つ以上の光変換特徴が光学コーティング１２０内に設けられることがあり、その実施の形態がここに記載されている。それに代えて、または上記に加え、光変換特徴は、光学コーティング１２０が上に配置されている基板上または基板内、および／または基板１１０と光学コーティング１２０との間の界面に存在することがある。

光学コーティング１２０は、少なくとも１種類の材料の少なくとも１つの層を備える。「層」という用語は、単一層を含むことがある、または１つ以上の副層を含むことがある。そのような副層は、互いに直接接触することがある。副層は、同じ材料または２種類以上の異なる材料から形成されることがある。１つ以上の代わりの実施の形態において、そのような副層は、間に配置された異なる材料の介在層を有することがある。１つ以上の実施の形態において、１つの層は、１つ以上の隣接した連続層および／または１つ以上の不連続の断続層（すなわち、互いに隣接して形成された異なる材料の層）を含むことがある。１つの層または副層は、個別堆積過程または連続堆積過程を含む、当該技術分野におけるどの公知の方法によって形成されてもよい。１つ以上の実施の形態において、その層は、連続堆積過程のみ、または代わりに、個別堆積過程のみを使用して形成されることがある。

ここに用いられているように、「配置する」という用語は、被覆、堆積、および／または当該技術分野で任意の公知の方法または将来開発される方法を使用した表面上の材料の形成を含む。配置された材料は、ここに定義されるような、層を構成することがある。ここに用いられているように、「上に配置された」という句は、材料が表面と直接接触するように表面上に材料を形成することを含む、また代わりに、材料と表面の間に１つ以上の介在材料が配置されて、材料が表面上に形成された実施の形態を含む。その介在材料は、ここに定義されるような、層を構成することがある。

１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０の単一層または多層が、例えば、化学的気相成長法（例えば、プラズマ支援化学的気相成長法（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学的気相成長法、大気圧化学的気相成長法、およびプラズマ支援大気圧化学的気相成長法）、物理的気相成長法（例えば、反応性または非反応性スパッタリングまたはレーザアブレーション）、熱または電子線蒸発および／または原子層堆積などの真空蒸着によって、基板１１０上に堆積されることがある。吹き付け、浸漬、回転塗布、またはスロット塗布（例えば、ゾルゲル材料）などの液体系方法も使用されることがある。一般に、気相成長技術は、薄膜を製造するために使用できる様々な真空蒸着法を含むことができる。例えば、物理的気相成長法は、材料の蒸気を生成するために物理過程（加熱またはスパッタリングなど）を使用し、その蒸気が、被覆される物体上に堆積される。

光学コーティング１２０は、約１００ｎｍから約１０マイクロメートルの厚さを有することがある。例えば、その光学コーティングは、約２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以上、３２５ｎｍ以上、３５０ｎｍ以上、３７５ｎｍ以上、４００ｎｍ以上、５００ｎｍ以上、６００ｎｍ以上、７００ｎｍ以上、８００ｎｍ以上、９００ｎｍ以上、１マイクロメートル以上、２マイクロメートル以上、３マイクロメートル以上、４マイクロメートル以上、５マイクロメートル以上、６マイクロメートル以上、７マイクロメートル以上、またさらには８マイクロメートル以上、かつ約１０マイクロメートル以下の厚さを有することがある。

１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０は、耐引掻性層を含むまたはそれからなることがある。ここで図２Ａを参照すると、下位層１５４の上に配置された耐引掻性層１５０を備える被覆物品１００が示されている。１つの実施の形態によれば、耐引掻性層１５０は、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ：Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ダイヤモンド状炭素、またはその組合せから選択された１種類以上の材料から作られることがある。耐引掻性層１５０に使用される例示の材料としては、無機炭化物、窒化物、酸化物、ダイヤモンド状炭素、またはその組合せが挙げられるであろう。耐引掻性層１５０に適した材料の例としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物、金属オキシ炭化物、および／またはその組合せが挙げられる。例示の金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＴａおよびＷが挙げられる。耐引掻性層１５０に利用してよい材料の具体例としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙ、およびその組合せが挙げられるであろう。耐引掻性層１５０は、硬度、靭性、または耐摩耗性／摩耗抵抗を改善するために、ナノ複合材料、または微細構造が制御された材料から作られることもある。例えば、耐引掻性層１５０は、約５ｎｍから約３０ｎｍのサイズ範囲にあるナノ微結晶を含むことがある。実施の形態において、耐引掻性層１５０は、転移強化ジルコニア、部分安定化ジルコニア、またはジルコニア強化アルミナから作られることがある。実施の形態において、耐引掻性層１５０は、約１ＭＰａ√ｍ超の破壊靭性値を示すと同時に、約１０ＧＰａ超の硬度値を示す。

１つ以上の実施の形態において、耐引掻性層１５０は、組成勾配を含むことがある。例えば、耐引掻性層１５０は、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙの組成勾配を含むことがあり、ここで、Ｓｉ、Ａｌ、ＯおよびＮのいずれか１つ以上の濃度が、屈折率を増減させるために変えられている。屈折率勾配は、気孔率を使用して形成することもできる。そのような勾配は、ここにその全てが引用される、２０１４年４月２８日に出願された、「Scratch-Resistant Articles with a Gradient Layer」と題する、米国特許出願第１４／２６２２２４号明細書により詳しく記載されている。

耐引掻性層１５０は、約３００ｎｍ以上、３２５ｎｍ以上、３５０ｎｍ以上、３７５ｎｍ以上、４００ｎｍ以上、４２５ｎｍ以上、４５０ｎｍ以上、４７５ｎｍ以上、５００ｎｍ以上、５２５ｎｍ以上、５５０ｎｍ以上、５７５ｎｍ以上、６００ｎｍ以上、７００ｎｍ以上、８００ｎｍ以上、９００ｎｍ以上、１マイクロメートル以上、２マイクロメートル以上、３マイクロメートル以上、４マイクロメートル以上、５マイクロメートル以上、６マイクロメートル以上、７マイクロメートル以上、またさらには８マイクロメートル以上など、他の層と比べて比較的厚いことがある。例えば、耐引掻性層は、約３００ｎｍから約１０マイクロメートルの厚さを有することがある。その耐引掻性層の厚さが薄くなりすぎると（例えば、５００ｎｍ未満、４７５ｎｍ未満、４５０ｎｍ未満、４２５ｎｍ未満、４００ｎｍ未満、３７５ｎｍ未満、３５０ｎｍ未満、または３２５ｎｍ未満）、ひいては、その物品の硬度が低下し、引っ掻き傷をより受けやすくなる。例えば、１４ＧＰａの硬度は、約５００ｎｍ以上の厚さの耐引掻性層を使用することによって、適切に得られるであろう。

１つ以上の実施の形態において、下位層１５４は、基板１１０の屈折率と同様の屈折率を有する材料からなることがある。例えば、下位層１５４は、基板１１０の屈折率の約０．１以内、０．０５以内、またさらには０．０１以内の屈折率を有することがある。下位層１５４の材料は、基板１１０の組成に依存することがあるが、基板がガラスである実施の形態において、ＢａＦ_２が、下位層１５４に適した材料であろう。下位層１５４の屈折率を基板１１０の屈折率に一致させると、基板表面１１２で生じる反射が減少するであろう。

ここに記載された光学コーティングは、１つ以上の光変換特徴を含むことがある。例えば、図２Ａに概略示されるように、光学コーティング１２０は、下位層１５４および耐引掻性層１５０など、光学コーティングにおける２つの隣接層の間に粗い界面１２４を含むことがある。基板表面１１２での界面（図２Ａに粗いと示されていないが、基板自体の粗面により、または表面１１２での光学コーティング内の光変換特徴により、生成される）、および光学コーティング１２０の空気側表面１２２での界面など、被覆物品１００の他の界面が粗いことがある。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、その算術平均粗さ（Ｒ_ａ）または二乗平均平方根粗さ（Ｒ_ｑ）により特徴付けられることがある。Ｒ_ａおよびＲ_ｑは、式：

から決定されることがあり、式中、ｎは測定位置の数を表し、ｙは測定高さを表す。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、５ｎｍ以上、１０ｎｍ以上、１５ｎｍ以上、２０ｎｍ以上、２５ｎｍ以上、３０ｎｍ以上、３５ｎｍ以上、４０ｎｍ以上、５０ｎｍ以上、６０ｎｍ以上、７０ｎｍ以上、８０ｎｍ以上、９０ｎｍ以上、１００ｎｍ以上、１１０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以上、１４０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以上、１６０ｎｍ以上、１６５ｎｍ以上、１７０ｎｍ以上、１７５ｎｍ以上、１８０ｎｍ以上、１９０ｎｍ以上、またさらには２００ｎｍ以上のＲ_ａを有することがある。４０ｎｍ、５０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍ、１２０ｎｍ、１３０ｎｍ、１４０ｎｍ、１５０ｎｍ、１６０ｎｍ、１６５ｎｍ、１７０ｎｍ、１７５ｎｍ、１８０ｎｍ、１９０ｎｍ、２００ｎｍ、２１０ｎｍ、２２０ｎｍ、２２５ｎｍ、２３０ｎｍ、２４０ｎｍ、２５０ｎｍ、２６０ｎｍ、２７０ｎｍ、またさらには２７５ｎｍ。１つ以上の実施の形態において、粗い界面は、５ｎｍ以上、１０ｎｍ以上、１５ｎｍ以上、２０ｎｍ以上、２５ｎｍ以上、３０ｎｍ以上、３５ｎｍ以上、４０ｎｍ以上、５０ｎｍ以上、６０ｎｍ以上、７０ｎｍ以上、８０ｎｍ以上、９０ｎｍ以上、１００ｎｍ以上、１１０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以上、１４０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以上、１６０ｎｍ以上、１６５ｎｍ以上、１７０ｎｍ以上、１７５ｎｍ以上、１８０ｎｍ以上、１９０ｎｍ以上、２００ｎｍ以上、２１０ｎｍ以上、２２０ｎｍ以上、２２５ｎｍ以上、２３０ｎｍ以上、２４０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以上、２６０ｎｍ以上、２７０ｎｍ以上、２７５ｎｍ以上、３００ｎｍ以上、３５０ｎｍ以上、４００ｎｍ以上、５００ｎｍ以上、またさらには６００ｎｍ以上、かつ１マイクロメートル（またはμｍ）まで、またはある場合には、２マイクロメートルまで、および先の数値の間の任意の範囲または部分的範囲、例えば、４０ｎｍから３００ｎｍ、５０ｎｍから３５０ｎｍ、または５０ｎｍから４００ｎｍ、または５０ｎｍから５００ｎｍ、または５０ｎｍから５５０ｎｍ、または５０ｎｍから６００ｎｍ、または５０ｎｍから６５０ｎｍ、または５０ｎｍから７００ｎｍ、または５０ｎｍから１０００ｎｍ、または６０ｎｍから３５０ｎｍ、または６０ｎｍから４００ｎｍ、または６０ｎｍから５００ｎｍ、または６０ｎｍから５５０ｎｍ、または６０ｎｍから６００ｎｍ、または６０ｎｍから６５０ｎｍ、または６０ｎｍから７００ｎｍ、または６０ｎｍから１０００ｎｍ、または７０ｎｍから３５０ｎｍ、または７０ｎｍから４００ｎｍ、または７０ｎｍから５００ｎｍ、または７０ｎｍから５５０ｎｍ、または７０ｎｍから６００ｎｍ、または７０ｎｍから６５０ｎｍ、または７０ｎｍから７００ｎｍ、または７０ｎｍから１０００ｎｍ、または９０ｎｍから３５０ｎｍ、または９０ｎｍから４００ｎｍ、または９０ｎｍから５００ｎｍ、または９０ｎｍから５５０ｎｍ、または９０ｎｍから６００ｎｍ、または９０ｎｍから６５０ｎｍ、または９０ｎｍから７００ｎｍ、または９０ｎｍから１０００ｎｍ、または１００ｎｍから３５０ｎｍ、または１００ｎｍから４００ｎｍ、または１００ｎｍから５００ｎｍ、または１００ｎｍから５５０ｎｍ、または１００ｎｍから６００ｎｍ、または１００ｎｍから６５０ｎｍ、または１００ｎｍから７００ｎｍ、または１００ｎｍから１０００ｎｍ、または１２０ｎｍから３５０ｎｍ、または１２０ｎｍから４００ｎｍ、または１２０ｎｍから５００ｎｍ、または１２０ｎｍから５５０ｎｍ、または１２０ｎｍから６００ｎｍ、または１２０ｎｍから６５０ｎｍ、または１２０ｎｍから７００ｎｍ、または１２０ｎｍから１０００ｎｍ、または１４０ｎｍから３５０ｎｍ、または１４０ｎｍから４００ｎｍ、または１４０ｎｍから５００ｎｍ、または１４０ｎｍから５５０ｎｍ、または１４０ｎｍから６００ｎｍ、または１４０ｎｍから６５０ｎｍ、または１４０ｎｍから７００ｎｍ、または１４０ｎｍから１０００ｎｍ、または１６０ｎｍから３５０ｎｍ、または１６０ｎｍから４００ｎｍ、または１６０ｎｍから５００ｎｍ、または１６０ｎｍから５５０ｎｍ、または１６０ｎｍから６００ｎｍ、または１６０ｎｍから６５０ｎｍ、または１６０ｎｍから７００ｎｍ、または１６０ｎｍから１０００ｎｍ、または１８０ｎｍから３５０ｎｍ、または１８０ｎｍから４００ｎｍ、または１８０ｎｍから５００ｎｍ、または１８０ｎｍから５５０ｎｍ、または１８０ｎｍから６００ｎｍ、または１８０ｎｍから６５０ｎｍ、または１８０ｎｍから７００ｎｍ、または１８０ｎｍから１０００ｎｍ、または２００ｎｍから３５０ｎｍ、または２００ｎｍから４００ｎｍ、または２００ｎｍから５００ｎｍ、または２００ｎｍから５５０ｎｍ、または２００ｎｍから６００ｎｍ、または２００ｍから６５０ｎｍ、または２００ｎｍから７００ｎｍ、または２００ｎｍから１０００ｎｍ、または２２０ｎｍから３５０ｎｍ、または２２０ｎｍから４００ｎｍ、または２２０ｎｍから５００ｎｍ、または２２０ｎｍから５５０ｎｍ、または２２０ｎｍから６００ｎｍ、または２２０ｎｍから６５０ｎｍ、または２２０ｎｍから７００ｎｍ、または２２０ｎｍから１０００ｎｍ、または２４０ｎｍから３５０ｎｍ、または２４０ｎｍから４００ｎｍ、または２４０ｎｍから５００ｎｍ、または２４０ｎｍから５５０ｎｍ、または２４０ｎｍから６００ｎｍ、または２４０ｎｍから６５０ｎｍ、または２４０ｎｍから７００ｎｍ、または２４０ｎｍから１０００ｎｍ、または２６０ｎｍから３５０ｎｍ、または２６０ｎｍから４００ｎｍ、または２６０ｎｍから５００ｎｍ、または２６０ｎｍから５５０ｎｍ、または２６０ｎｍから６００ｎｍ、または２６０ｎｍから６５０ｎｍ、または２６０ｎｍから７００ｎｍ、または２６０ｎｍから１０００ｎｍ、または２８０ｎｍから３５０ｎｍ、または２８０ｎｍから４００ｎｍ、または２８０ｎｍから５００ｎｍ、または２８０ｎｍから５５０ｎｍ、または２８０ｎｍから６００ｎｍ、または２８０ｎｍから６５０ｎｍ、または２８０ｎｍから７００ｎｍ、または２８０ｎｍから１０００ｎｍ、または３００ｎｍから３５０ｎｍ、または３００ｎｍから４００ｎｍ、または３００ｎｍから５００ｎｍ、または３００ｎｍから５５０ｎｍ、または３００ｎｍから６００ｎｍ、または３００ｍから６５０ｎｍ、または３００ｎｍから７００ｎｍ、または３００ｎｍから１０００ｎｍのＲ_ｑを有することがある。

粗さは、光学形状測定（例えば、Ｚｙｇｏ干渉系を使用する）および表面接触形状測定（例えば、原子間力顕微鏡法、ＡＦＭを使用する）など、粗さを測定するためのどの公知の技術を使用して測定してもよい。測定の表面積は、試料上に見つけられる表面特徴のタイプの統計学的に代表的な試料を捕捉するのに十分に大きい。例えば、ｘ－ｙ面でおよそ５０μｍ×５０μｍの特徴を有する防眩表面について、適切な測定表面積は、少なくとも５００μｍ×５００μｍであろう。ある場合には、試料面積の辺の長さは、１０と３０の間の横方向特徴サイズであることがあり、これは、テクスチャまたは粗さの表面トポグラフィーに依存する。

実施の形態によれば、粗い界面は、以下に限られないが、粗さを生じる層内の結晶形態の成長、化学的エッチングなどの化学処理、機械的エッチング、切断、飾り細工などの機械加工などの様々な方法によって生成されるこがある。例えば、１つの実施の形態において、ＢａＦ_２が、クラウンタイプの微結晶形態を有する、下位層１５４などの光学コーティング１２０の層として堆積されることがある。ＢａＦ_２の堆積などの実施の形態が、以下の実施例に説明されている。堆積後、下位層１５４の上面（界面１２４での）は粗いことがあり、耐引掻性層１５０などの別の層が、粗い界面１２４で下位層１５４の上に堆積されることがある。耐引掻性層１５０の堆積が比較的一貫している場合、ひいては、図２Ａに示されるように、粗面が空気側表面１２２に存在するであろう。別の実施の形態において、空気側表面１２２が滑らかであることがある。例えば、空気側表面１２２は、図２Ｂの実施の形態に示されるように、研磨（化学的または機械的）により、または積層により平滑化されることがある。別の実施の形態において、空気側表面１２２は、平坦化効果を有するように調整されたＰＥＣＶＤなどの被覆過程を含むために、滑らかであることがあり、よって、粗い埋没界面の上に堆積された層に滑らかな空気側表面１２２がもたらされる。

粗いまたは滑らかな層は、光学コーティング１２０のどの層として堆積されてもよいことを認識すべきである。例えば、被覆物品１００における任意の界面は、例えば、粗い結晶層を成長させること、または粗い界面の上に厚さが一貫した層を成長させることなどの、ここに記載された方法により、粗く作られることがある。粗い界面は、平面形成を促進する研磨または堆積技術によって、滑らかに作られることがある。

図２Ａまたは２Ｂに示された実施の形態において、下位層１５４が基板１１０と同様または同一の屈折率を有する場合、基板１１０の主面１１２にほとんど反射がなく、反射のはるかに大半は、空気側表面１２２および粗い界面１２４に由来するであろう。しかしながら、理論で束縛されないが、粗面１２４での光散乱により、粗面１２４および空気側表面１２２からの反射干渉が生じると考えられる。

１つ以上の実施の形態において、光散乱部材が、光学コーティング１２０の１つ以上の層内または１つ以上の界面に配置されることがある。例えば、ここで図３を参照すると、光散乱部材１８０が、下位層１５４および耐引掻性層１５０など、光学コーティング１２０内の２つの隣接する層の間に配置されることがある。また図３に示されるように、光散乱部材１８０は、耐引掻性層１５０などの光学コーティング１２０の層内に配置されることがある。いくつかの実施の形態において、光散乱部材１８０は、その耐引掻性層内に配置されているが、層の界面１２４にはない、またはその逆も同様である。あるいは、または上記に加え、光散乱部材１８０は、光学コーティングが上に配置されている基板上または基板内、および／または基板と光学コーティングとの間の界面に存在することがある。

図３に示されるように、光散乱部材１８０は、実質的に球状の形状であることがある。しかしながら、他の実施の形態において、光散乱部材１８０は、鋭角特徴を有する粒子を含む、曲面または実質的な平面を有する不規則な形状の本体など、他の形状または形状因子を有してもよい。光散乱部材１８０は、様々なサイズを有することがある。１つの実施の形態において、各光散乱部材１８０は、約１ｎｍから約１マイクロメートル（約１ｎｍから約９００ｎｍ、約１ｎｍから約８００ｎｍ、約１ｎｍから約７００ｎｍ、約１ｎｍから約６００ｎｍ、約１ｎｍから約５００ｎｍ、約１ｎｍから約４００ｎｍ、約１ｎｍから約３００ｎｍ、約１ｎｍから約２００ｎｍ、約１ｎｍから約１００ｎｍ、約１ｎｍから約５０ｎｍ、または約１ｎｍから約２５ｎｍ）の最大寸法を有することがある。ここに用いられているように、「最大寸法」は、光散乱部材１８０を通る個々の光散乱部材１８０の表面間の最大距離を称する。例えば、球状の光散乱部材１８０の最大寸法は、その球体の直径である。「平均最大寸法」は、被覆物品１００の全ての光散乱部材１８０の最大寸法の平均を称する。

光散乱部材１８０は、光散乱部材１８０に隣接する光学コーティング１２０の他の部分と異なる組成または相を含むことがある。実施の形態において、光散乱部材１８０は、固体および／または気体を含むことがある、または空間を含むことがある。光散乱部材１８０のいくらかは、互いに異なる組成または相を有してもよいことをさらに理解すべきである。

光散乱部材１８０は、様々なサイズおよび形状を有することがあり、よって、それらは、異なる波長を持つ光に異なって影響する。１つの実施の形態において、光散乱部材１８０は、全可視スペクトルに亘る光（すなわち、約４００ｎｍから約７００ｎｍの範囲内の光）を散乱させるのに適したサイズ分布を有する。光散乱粒子の量は、界面の表面積当たりで異なることがある。しかしながら、ここに記載されたような被覆物品１００を製造する方法は、光散乱部材１８０のサイズ、形状、サイズ分布、および／または相対量を制御することができるであろうことを理解すべきである。

追加の実施の形態において、前記光変換特徴は、耐引掻性層１５０の下、上、または中の回折格子またはメタマテリアル表面など、設計された光学位相変調表面または界面を含むことがある。例えば、ここに記載された様々な実施の形態において、粗い界面が位置付けられるところに、回折格子が位置付けられることがある。ここに用いられているように、「メタマテリアル」は、所望の電磁特性を作るために材料要素の周期的配置からなる構造を称する。電磁特性は、原子または分子の周期的配置から生じる。メタマテリアルは、制限なく、物質の周期的配置を作り、自然に見られない性質を生じるリソグラフィーまたは自己組織化により、製造されることがある。

別の実施の形態において、前記光変換特徴は、耐引掻性層１５０内、上、または下に屈折率のパターン化または無作為変動を含むことがある。これらの変動は、反射光または透過光の向け直しまたは位相変調を生じることがある。１つ以上の実施の形態において、その変動は、外部反射ヘイズを最小にするように、主に前方散乱を生じることがある。例えば、下位層１５４は、別個の粒子または界面を含まないことがある。そうではなく、いくつかの実施の形態において、下位層１５４は、明白なシャープな界面を持たず、屈折率の滑らかなまたは段階的変化を含むことがあり、ここで、下位層１５４は、例えば、反射または透過光波の位相または局所角度の変化をもたらす回折格子様または散乱様効果を有し得る、屈折率の空間的変動も有し得る。そのようなものが、ここに引用される、米国特許第９５８８２６３号明細書に記載されている。

耐引掻性層における図２および３を参照して記載されたものなどの、ここに記載された光変換特徴は、光学コーティング１２０の他の実施の形態に組み込まれてもよいことを理解すべきである。例えば、追加の実施の形態が、図４および５を参照して、ここに与えられる。記載された光変換特徴は、図４および５の実施の形態の耐引掻性層１５０に組み込まれてもよい。しかしながら、ここに記載された光変換特徴は、被覆物品１００の多くの実施の形態および特に、被覆物品１００の耐引掻性層１５０中に組み込まれることがあることを認識すべきである。記載された光変換特徴の位置決めは、ここに具体的に記載された被覆物品１００の実施の形態に限定されるべきではない。何故ならば、その光変換特徴は、どの被覆物品１００のどの層に組み込まれてもよいからである。それに代えて、または上記に加え、光変換特徴は、光学コーティングが上に配置されている基板上または基板内、および／または基板と光学コーティングとの間の界面に存在することがある。

光散乱部材の材料は、光学コーティング１２０の隣接材料と異なる屈折率を有することがある。例えば、光散乱部材１８０の材料の屈折率は、光学コーティング１２０の隣接材料の屈折率と、少なくとも約１％、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約４％、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、またさらには少なくとも約５０％異なる（すなわち、それより大きいか小さい）ことがある。

図４に示されるような、１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０は、複数の層（１３０Ａ、１３０Ｂ）を含むことがある反射防止コーティング１３０を備えることがある。１つ以上の実施の形態において、反射防止コーティング１３０は、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂなど、２つの層を含む周期１３２を含むことがある。図４に示されるように、反射防止コーティング１３０は、複数の周期１３２を含むことがある。他の実施の形態において、単一周期は、低ＲＩ層、中間ＲＩ層、および高ＲＩ層などの３層を含むことがある。本開示全体に亘り、図４は、周期１３２を有する光学コーティング１２０の例示の実施の形態であり、ここに記載された光学コーティング１２０の性質（例えば、色、硬度など）および材料は、図４の実施の形態に限定されるべきではないことを理解すべきである。

ここに用いられているように、「低ＲＩ」、「高ＲＩ」および「中間ＲＩ」という用語は、屈折率（「ＲＩ」）の互いに対する相対値（すなわち、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩ）を称する。１つ以上の実施の形態において、「低ＲＩ」という用語は、低ＲＩ層に使用される場合、約１．３から約１．７または１．７５の範囲を含む。１つ以上の実施の形態において、「高ＲＩ」という用語は、高ＲＩ層に使用される場合、約１．７から約２．５（例えば、約１．８５以上）の範囲を含む。１つ以上の実施の形態において、「中間ＲＩ」という用語は、周期の第３の層に使用される場合、約１．５５から約１．８の範囲を含む。いくつかの実施の形態において、低ＲＩ、高ＲＩ、および／または中間ＲＩの範囲は重複することがある；しかしながら、ほとんどの場合、反射防止コーティング１３０の層は、低ＲＩ＜中間ＲＩ＜高ＲＩ（ここで、「中間ＲＩ」は、３層周期の場合に適用される）のＲＩに関する一般的関係を有する。１つ以上の実施の形態において、低ＲＩ層と高ＲＩ層の屈折率の差は、約０．０１以上、約０．０５以上、約０．１以上、またさらには約０．２以上であることがある。

例えば、図４において、周期１３２は、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂを含むことがある。光学コーティング１２０に複数の周期が含まれる場合、低ＲＩ層１３０Ａ（「Ｌ」と指定される）および高ＲＩ層１３０Ｂ（「Ｈ」と指定される）は、低ＲＩ層および高ＲＩ層が光学コーティング１２０の物理的厚さに沿って交互になるように、以下の層の順序：Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈ・・・またはＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌ・・・で交互になる。図４に示された実施の形態において、反射防止コーティング１３０は、４つの周期１３２を含み、ここで、各周期１３２は低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂを含む。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１３０は、２５周期までを含むことがある。例えば、反射防止コーティング１３０は、約２から約２０周期、約２から約１５周期、約２から約１０周期、約２から約１２周期、約３から約８周期、または約３から約６周期を含むことがある。

反射防止コーティング１３０に使用するのに適している例示の材料としては、制限なく、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、ＣｅＦ_３、高分子、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、耐引掻性層に使用するのに適していると下記に挙げられる他の材料、および当該技術分野に公知の他の材料が挙げられる。低ＲＩ層１３０Ａに使用するのに適した材料のいくつかの例に、制限なく、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、およびＣｅＦ_３がある。低ＲＩ層１３０Ａに使用する材料の窒素含有量は最小であることがある（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３およびＭｇＡｌ_２Ｏ_４などの材料において）。高ＲＩ層１３０Ｂに使用するのに適した材料のいくつかの例に、制限なく、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ；Ｈ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、およびダイヤモンド状炭素がある。１つ以上の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂは、高硬度（例えば、８ＧＰａ超の硬度）を有することがあり、先に列挙された高ＲＩ材料は、高硬度および／または耐引掻性を有することがある。高ＲＩ層１３０Ｂの材料の酸素含有量は、特に、ＳｉＮ_ｘおよびＡｌＮ_ｘにおいて、最小であることがある。ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ材料は、酸素がドープされたＡｌＮ_ｘであると考えられることがある（すなわち、それらは、ＡｌＮ_ｘ結晶構造（例えば、ウルツ鉱）を有することがあり、ＡｌＯＮ結晶構造を有する必要はない）。例示のＡｌＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約０原子％から約２０原子％の酸素、または約５原子％から約１５原子％の酸素を含むことがある一方で、３０原子％から約５０原子％の窒素を含む。例示のＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ高ＲＩ材料は、約１０原子％から約３０原子％または約１５原子％から約２５原子％のケイ素、約２０原子％から約４０原子％または約２５原子％から約３５原子％のアルミニウム、約０原子％から約２０原子％または約１原子％から約２０原子％の酸素、および約３０原子％から約５０原子％の窒素を含むことがある。先の材料は、約３０質量％まで水素化されることがある。中間屈折率を有する材料が望ましい場合、いくつかの実施の形態は、ＡｌＮおよび／またはＳｉＯ_ｘＮ_ｙを利用することがある。耐引掻性層１５０は、高ＲＩ層に使用に適していると開示された材料のいずれから作られてもよいことを理解すべきである。

図４に示されたような、１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０は、高ＲＩ層として一体化された耐引掻性層１５０を含むことがあり、１つ以上の低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂが、耐引掻性層１５０の上に位置付けられることがある。この耐引掻性層は、代わりに、光学コーティング１２０全体または被覆物品１００全体における最も厚い高ＲＩ層と定義されることもある。理論で束縛されるものではないが、被覆物品１００は、耐引掻性層１５０の上に比較的薄い量の材料が堆積される場合、圧入深さで増加した硬度を示すことがあると考えられる。しかしながら、耐引掻性層１５０の上に低ＲＩ層と高ＲＩ層を含めると、被覆物品１００の光学的性質が向上することがある。いくつかの実施の形態において、耐引掻性層１５０の上に比較的少ない層（例えば、たった１、２、３、４、または５層）が位置付けられることがあり、これらの層の各々は比較的薄い（例えば、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、またさらには２５ｎｍ未満）ことがある。

１つ以上の実施の形態によれば、耐引掻性層１５０は、１つ以上の光変換特徴を含むことがある。耐引掻性層１５０中に光変換特徴を含むことは、被覆物品１００の反射干渉の多くの割合がその耐引掻性層の界面１５５で生じる場合、その被覆物品の反射率および／または透過率スペクトルにおける振動を減少させる働きをすることがある。例えば、図４に示されるように、耐引掻性層１５０に隣接した界面１５５は、ここに記載されたように、粗いことがある。界面１５５の一方または両方が粗いことがある。いくつかの実施の形態において、層１３０Ａと１３０Ｂの間の界面、および／または１３０Ｂと１４０の間の界面などの追加の界面、またさらには被覆物品１００の空気側表面１２２が、粗いことがある。それに代えて、または上記に加え、基板表面１１２が粗いことがある、および／または基板表面１１２と光学コーティング１３０Ａの間の界面が粗いことがある。

１つ以上の実施の形態において、耐引掻性層１５０中に他の光変換特徴が存在することがある。例えば、ここに記載されたような、光散乱部材１８０が、耐引掻性層１５０内または界面１５５に堆積されることがある。追加の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂまたは低ＲＩ層１３０Ａなどの光学コーティング１２０の他の層が、光変換特徴を含むことがある。それに代えて、または上記に加え、光散乱部材１８０が、基板１１０上（主面１１２および１１４の１つ以上の上を含む）または基板１１０内、および／または基板１１０と光学コーティング１２０との間の界面に存在することがある。

１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０は、図４に示されるように、反射防止コーティング１３０上に配置された１つ以上の追加の上部コーティング１４０を含むことがある。１つ以上の実施の形態において、追加の上部コーティング１４０は、洗浄し易いコーティングを含むことがある。適切な洗浄し易いコーティングの例が、ここに全てが引用される、米国特許出願公開第２０１４／０１１３０８３号明細書に記載されている。この洗浄し易いコーティングは、約５ｎｍから約５０ｎｍの範囲の厚さを有することがあり、フッ素化シランなどの公知の材料を含むことがある。この洗浄し易いコーティングは、代わりにまたは加えて、低摩擦コーティングまたは表面処理を含むことがある。例示の低摩擦コーティング材料としては、ダイヤモンド状炭素、シラン（例えば、フルオロシラン）、ホスホネート、アルケン、およびアルキンが挙げられるであろう。いくつかの実施の形態において、その洗浄し易いコーティングは、約１ｎｍから約４０ｎｍ、約１ｎｍから約３０ｎｍ、約１ｎｍから約２５ｎｍ、約１ｎｍから約２０ｎｍ、約１ｎｍから約１５ｎｍ、約１ｎｍから約１０ｎｍ、約５ｎｍから約５０ｎｍ、約１０ｎｍから約５０ｎｍ、約１５ｎｍから約５０ｎｍ、約７ｎｍから約２０ｎｍ、約７ｎｍから約１５ｎｍ、約７ｎｍから約１２ｎｍ、約７ｎｍから約１０ｎｍ、約１ｎｍから約９０ｎｍ、約５ｎｍから約９０ｎｍ、約１０ｎｍから約９０ｎｍ、または約５ｎｍから約１００ｎｍの範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲の厚さを有することがある。

上部コーティング１４０は、耐引掻性層、または耐引掻性層１５０に使用するのに適していると開示された材料のいずれかから作られた層を含むことがある。いくつかの実施の形態において、追加の上部コーティング１４０は、洗浄し易い材料および耐引掻性材料の組合せを含む。一例において、その組合せは、洗浄し易い材料およびダイヤモンド状炭素を含む。そのような追加の上部コーティング１４０は、約５ｎｍから約２０ｎｍの範囲の厚さを有することがある。追加の上部コーティング１４０の成分は、別々の層に設けられることがある。例えば、ダイヤモンド状炭素は第１の層として配置されることがあり、洗浄し易い材料は、ダイヤモンド状炭素の第１の層の上の第２の層として配置することができる。第１の層と第２の層の厚さは、その追加の上部コーティングについて先に与えられた範囲内にあるであろう。例えば、ダイヤモンド状炭素の第１の層は、約１ｎｍから約２０ｎｍまたは約４ｎｍから約１５ｎｍ（もしくはより具体的に約１０ｎｍ）の厚さを有することがあり、洗浄し易い材料の第２の層は、約１ｎｍから約１０ｎｍ（またはより具体的に約６ｎｍ）の厚さを有することがある。このダイヤモンド状コーティングは、四面体非晶質炭素（Ｔａ－Ｃ）、Ｔａ－Ｃ：Ｈ、および／またはａ－Ｃ－Ｈを含むことがある。

１つ以上の実施の形態において、反射防止コーティング１３０の層（低ＲＩ層１３０Ａまたは高ＲＩ層１３０Ｂなど）の少なくとも１つは、特定の光学的厚さ（または光学的厚さ範囲）を有することがある。ここに用いられているように、「光学的厚さ」という用語は、層の物理的厚さと屈折率の積を称する。１つ以上の実施の形態において、反射防止コーティング１３０の層の少なくとも１つは、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、または約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１３０の層の全ては、各々、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、または約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１３０の少なくとも１つの層は、約５０ｎｍ以上の光学的厚さを有する。いくつかの実施の形態において、低ＲＩ層１３０Ａの各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、または約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。いくつかの実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂの各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、または約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。３層周期の実施の形態において、中間ＲＩ層の各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約１００ｎｍ、約１５ｎｍから約５００ｎｍ、または約１５ｎｍから約５０００ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。いくつかの実施の形態において、前記耐引掻性層は、前記光学コーティングにおいて最も厚い層である、および／またはその光学コーティングにおけるどの他の層の屈折率よりも高い屈折率を有する。

１つ以上の実施の形態において、前記光学コーティングは、１つ以上の勾配層を含むことがあり、その各々は、図５に示されるように、それぞれの厚さに沿って組成勾配を含むことがある。１つの実施の形態において、光学コーティング１２０は、底部勾配層１７０、耐引掻性層１５０（先に記載されたような）、および上部勾配層１６０を含むことがある。図６は、図５の光学コーティング１２０の例示の屈折率プロファイルを示している。基板１１０、底部勾配層１７０、耐引掻性層１５０、および上部勾配層１６０は、図６の屈折率プロファイル上の対応する部分で印付けられている。底部勾配層１７０は、基板１１０と直接接触して位置付けられることがある。耐引掻性層１５０は底部勾配層１７０の上にあることがあり、前記上部勾配層は、耐引掻性層１５０の上に直接接触していることがある。耐引掻性層１５０は、ＳｉＮ_ｘなどの、高屈折率を有する１種類以上の比較的硬い材料から作られることがある。実施の形態において、耐引掻性層１５０の厚さは、他の実施の形態において耐引掻性層１５０に関して記載されているように、約３００ｎｍから数マイクロメートルまでであることがある。底部勾配層１７０は、基板１１０と接触する部分におけるほぼ基板の屈折率（比較的低いであろう）から、耐引掻性層１５０と接触する部分における耐引掻性層１５０の屈折率（比較的高いであろう）まで変動する屈折率を有することがある。底部勾配層１７０は、５０ｎｍから１０００ｎｍ、１００ｎｍから１０００ｎｍ、または５００ｎｍから１０００ｎｍなど、約１０ｎｍから数マイクロメートルの厚さを有することがある。上部勾配層１６０は、耐引掻性層１５０と接触する部分でのほぼ耐引掻性層１５０の屈折率（比較的高いであろう）から、空気側表面１２２での空気界面での比較的低い屈折率まで変動する屈折率を有することがある。上部勾配層１６０の最上部（空気側表面１２２での）は、以下に限られないが、ケイ酸塩ガラス、シリカ、リンガラス、またはフッ化マグネシウムなどの、１．３５から１．５５の屈折率を持つ材料から作られることがある。

被覆物品１００の他の実施の形態に記載されているように、耐引掻性層１５０は、粗い界面１６５または光散乱部材（他の実施の形態に示された）などの光変換特徴を含むことがある。それに代えて、または上記に加え、その光変換特徴は、光学コーティングが上に配置されている基板上または基板内、および／または基板と光学コーティング（具体的に、底部勾配層）との間の界面に存在することがある。

１つ以上の実施の形態において、前記基板での底部勾配層１７０の屈折率は、基板１１０の屈折率の０．２以内（０．１５以内、０．１以内、０．０５以内、０．０２以内、または０．０１以内など）であることがある。耐引掻性層１５０での底部勾配層１７０の屈折率は、耐引掻性層１５０の屈折率の０．２以内（０．１５以内、０．１以内、０．０５以内、０．０２以内、または０．０１以内など）であることがある。耐引掻性層１５０での上部勾配層１６０の屈折率は、耐引掻性層１５０の屈折率の０．２以内（０．１５以内、０．１以内、０．０５以内、０．０２以内、または０．０１以内など）であることがある。空気側表面１２２での上部勾配層１６０の屈折率は、約１．３５から約１．５５であることがある。実施の形態において、その耐引掻性層の屈折率は、少なくとも約１．７５、１．８、またさらには１．９であることがある。

基板１１０は、無機材料を含むことがあり、非晶質基板、結晶基板、またはその組合せを含むことがある。基板１１０は、人工材料および／または天然由来の材料（例えば、石英および高分子）から形成されることがある。例えば、ある場合には、基板１１０は、有機として特徴付けられることがあり、具体的に、高分子であることがある。適切な高分子の例としては、制限なく、ポリスチレン（ＰＳ）（スチレン共重合体およびブレンドを含む）、ポリカーボネート（ＰＣ）（共重合体およびブレンドを含む）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンテレフタレート共重合体を含む、共重合体およびブレンドを含む）、ポリオレフィン（ＰＯ）および環状ポリオレフィン（環状－ＰＯ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含むアクリルポリマー（共重合体およびブレンドを含む）、熱可塑性ウレタン（ＴＰＵ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）およびこれらの高分子の互いとのブレンドを含む、熱可塑性プラスチックが挙げられる。他の例示の高分子としては、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、およびシリコーン樹脂が挙げられる。

いくつかの特定の実施の形態において、基板１１０は、高分子、プラスチックおよび／または金属基板を明確に排除することがある。基板１１０は、アルカリ含有基板と特徴付けられることがある（すなわち、その基板は１種類以上のアルカリを含む）。１つ以上の実施の形態において、その基板は、約１．４５から約１．５５の範囲の屈折率を示す。特定の実施の形態において、基板１１０は、少なくとも５、少なくとも１０、少なくとも１５、または少なくとも２０の試料を使用するボール・オン・リング試験を用いて測定して、０．５％以上、０．６％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、１．１％以上、１．２％以上、１．３％以上、１．４％以上、１．５％以上、またさらには２％以上の、１つ以上の主面上の表面での平均破壊歪みを示すことがある。特定の実施の形態において、基板１１０は、約１．２％以上、約１．４％以上、約１．６％以上、約１．８％以上、約２．２％以上、約２．４％以上、約２．６％以上、約２．８％以上、または約３％以上の、１つ以上の主面上の表面での平均破壊歪みを示すことがある。

「破壊歪み」という用語は、追加の荷重を印加せずに、光学コーティング１２０、基板１１０、または両方に同時に、亀裂が伝搬し、典型的に、ここに定義されたように、所定の材料、層またはフイルムに壊滅的な破壊をもたらし、ことによると、別の材料、層またはフイルムにつながる、歪みを称する。すなわち、基板が破損しない光学コーティング１２０の破損は、破壊を構成し、基板１１０の破損も、破壊を構成する。「平均」という用語は、平均破壊歪みまたは任意の他の性質に関して使用される場合、５つの試料についてのそのような性質の測定値の数学的平均に基づく。典型的に、亀裂発生歪みの測定値は、通常の実験室条件下で反復可能であり、多数の試料において測定された亀裂発生歪みの標準偏差は、観測歪みの０．０１％ほど小さいことがある。ここに用いられているような平均破壊歪みは、リング・オン・リング引張試験を使用して測定した。しかしながら、特に明記のない限り、ここに記載された破壊歪みの測定値は、ここに全てが引用される、「Coated Articles with Optical Coatings Having Residual Compressive Stress」と題する、国際公開第２０１８／１２５６７６号に記載されているような、リング・オン・リング試験からの測定値を称する。

適切な基板１１０は、約３０ＧＰａから約１２０ＧＰａの範囲の弾性率（またはヤング率）を示すことがある。ある場合には、その基板の弾性率は、約３０ＧＰａから約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａから約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａから約１２０ＧＰａの範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲にあることがある。いくつかの例では、ヤング率は、音波共鳴（ＡＳＴＭ Ｅ１８７５）、共鳴超音波スペクトロスコピー、またはバーコビッチ圧子を使用したナノインデンテーションにより測定されることがある。

１つ以上の実施の形態において、非晶質基板はガラスを含むことがあり、そのガラスは、強化されていても、されていなくてもよい。適切なガラスの例としては、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスが挙げられる。いくつかの変種において、ガラスは、リチアを含まないことがある。１つ以上の代わりの実施の形態において、基板１１０は、ガラスセラミック基板（強化されていても、されていなくてもよい）などの結晶基板を含むことがある、またはサファイアなどの単結晶構造を含むことがある。１つ以上の特定の実施の形態において、基板１１０は、非晶質ベース（例えば、ガラス）および結晶質クラッド（例えば、サファイア層、多結晶アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡＬ_２Ｏ_４）層）を含む。

１つ以上の実施の形態の基板１１０は、物品の硬度（ここに記載されたバーコビッチ圧子硬度試験により測定される）より小さい硬度を有することがある。基板１１０の硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験を使用して測定される。

基板１１０は、実質的に光学的に透明であり、透き通っており、光散乱がないことがある。そのような実施の形態において、基板１１０は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上、または約９２％以上の、可視光範囲に亘る平均光透過率を示すことがある。１つ以上の代わりの実施の形態において、基板１１０は、不透明である、または約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満、または約０．５％未満の、可視光範囲に亘る平均光透過率を示すことがある。いくつかの実施の形態において、これらの光反射率および透過率の値は、全反射率または全透過率（基板の両方の主面の反射率または透過率を考慮する）であることがある、または基板の片面で観測されることがある（すなわち、反対の面を考慮せずに、空気側表面１２２のみの）。特に明記のない限り、基板のみの平均反射率または透過率は、基板表面１１２に対して０度の入射照明角で測定される（しかしながら、そのような測定値は、４５度または６０度の入射照明角で与えられることがある）。基板表面１１２は、必要に応じて、白、黒、赤、青、緑、黄、オレンジなどの色を示すことがある。

それに加え、またはそれに代えて、基板１１０の物理的厚さは、審美的および／または機能的理由のために、その寸法の１つ以上に沿って変動することがある。例えば、基板１１０のエッジは、基板１１０のより中央の領域と比べて、より厚いことがある。基板１１０の長さ、幅および物理的厚さの寸法も、基板１１０の用途または使途にしたがって、変動することがある。

基板１１０は、様々な異なる過程を使用して提供されることがある。例えば、基板１１０がガラスなどの非晶質基板を含む場合、様々な成形方法としては、フロートガラス過程およびフュージョンドロー法やスロットドロー法などのダウンドロー法が挙げられる。

基板１１０は、一旦成形されたら、強化基板を形成するために、強化されることがある。ここに用いられているように、「強化基板」という用語は、例えば、基板の表面内のより小さいイオンのより大きいイオンによるイオン交換によって、化学強化された基板を称することがある。しかしながら、熱的テンパリング、または圧縮応力領域と中央張力領域を作るための基板の複数の部分の間の熱膨張係数の不一致の利用など、当該技術分野で公知の他の強化方法を利用して、強化基板を形成してもよい。

基板１１０がイオン交換過程により化学強化される場合、基板の表面層内のイオンが、同じ価数または酸化状態を有するより大きいイオンで置換－交換－される。イオン交換過程は、典型的に、基板中のより小さいイオンと交換されるべきより大きいイオンを含有する溶融塩浴中に基板を浸漬することによって行われる。以下に限られないが、浴の組成と温度、浸漬時間、（複数の）塩浴中の基板の浸漬回数、徐冷、洗浄などの追加の工程を含む、イオン交換過程のパラメータは、一般に、基板の組成および強化操作により生じる基板の所望の圧縮応力（ＣＳ）、圧縮応力層の深さ（または層の深さ）により決まることが、当業者により認識されるであろう。一例として、アルカリ金属含有ガラス基板のイオン交換は、以下に限られないが、より大きいアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩、および塩化物などの塩を含有する少なくとも１つの溶融塩浴中の浸漬により行われることがある。その溶融塩浴の温度は、一般に、約３８０℃から約４５０℃までの範囲にあり、一方で、浸漬時間は、約１５分から約４０時間に及ぶ。しかしながら、先に記載されたものと異なる温度と浸漬時間も使用してよい。

加えて、複数の浸漬の間に洗浄工程および／または徐冷工程が行われる、多数のイオン交換浴中にガラス基板が浸漬されるイオン交換過程の非限定例が、異なる濃度の複数の塩浴中の、多数の連続したイオン交換処理における浸漬によって、ガラス基板が強化される、米国特許第８５６１４２９号明細書、およびガラス基板が、流出イオンにより希釈された第１の浴中のイオン交換と、その後の、第１の浴より小さい濃度の流出イオンを有する第２の浴中の浸漬とにより強化される、米国特許第８３１２７３９号明細書に記載されている。米国特許第８５６１４２９号、および同第８３１２７３９号の各明細書の内容が、ここに全て引用される。

イオン交換により達成される化学強化の程度は、中央張力（ＣＴ）、表面ＣＳ、圧縮深さ（ＤＯＣ）、およびカリウムイオンの層の深さ（ＤＯＬ）のパラメータに基づいて定量化されることがある。圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、有限会社折原製作所（日本国）により製造されているＦＳＭ－６０００などの市販の計器を使用する表面応力測定器（ＦＳＭ）によって測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関連する、応力光学係数（ＳＯＣ）の精密測定に依存する。次に、ＳＯＣは、その内容がここに全て引用される、「Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient」と題する、ＡＳＴＭ基準Ｃ７７０－１６に記載された手順Ｃ（ガラスディスク法）にしたがって測定される。屈折近視野（ＲＮＦ）法またはＳＣＡＬＰを使用して、応力プロファイルの属性を測定してもよい。応力プロファイルを測定するためにＲＮＦ法が使用される場合、ＳＣＡＬＰにより与えられる最大ＣＴ値がＲＮＦ法に利用される。詳しくは、ＲＮＦにより測定された応力プロファイルは、ＳＣＡＬＰ測定により与えられる最大ＣＴ値に対して力平衡され、較正される。このＲＮＦ法は、ここに全てが引用される、「Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample」と題する米国特許第８８５４６２３号明細書に記載されている。詳しくは、ＲＮＦ法は、基準ブロックに隣接してガラス物品を配置する工程、１Ｈｚと５０Ｈｚの間の速度で直交偏光の間で切り換えられる偏光切替光線を生成する工程、その偏光切替光線の出力量を測定する工程、および偏光切替基準信号を生成する工程を含み、直交偏光の各々の出力の測定量は互いの５０％以内にある。この方法は、偏光切替光線を、ガラス試料中の異なる深さについて、ガラス試料および基準ブロックに透過させ、次いで、リレー光学系を使用して、透過した偏光切替光線を信号光検出器に中継する工程をさらに含み、その信号光検出器は偏光切替検出器信号を生成する。この方法は、検出器信号を基準信号で割って、正規化検出器信号を形成する工程、およびその正規化検出器信号からガラス試料のプロファイル特徴を決定する工程も含む。屈折近視野（ＲＮＦ）法またはＳＣＡＬＰを使用して、応力プロファイルの属性を測定してもよい。応力プロファイルを測定するためにＲＮＦ法が使用される場合、ＳＣＡＬＰにより与えられる最大ＣＴ値がＲＮＦ法に利用される。詳しくは、ＲＮＦにより測定された応力プロファイルは、ＳＣＡＬＰ測定により与えられる最大ＣＴ値に対して力平衡され、較正される。詳しくは、ＲＮＦ法は、基準ブロックに隣接してガラス物品を配置する工程、１Ｈｚと５０Ｈｚの間の速度で直交偏光の間で切り換えられる偏光切替光線を生成する工程、その偏光切替光線の出力量を測定する工程、および偏光切替基準信号を生成する工程を含み、直交偏光の各々の出力の測定量は互いの５０％以内にある。この方法は、偏光切替光線を、ガラス試料中の異なる深さについて、ガラス試料および基準ブロックに透過させ、次いで、リレー光学系を使用して、透過した偏光切替光線を信号光検出器に中継する工程をさらに含み、その信号光検出器は偏光切替検出器信号を生成する。この方法は、検出器信号を基準信号で割って、正規化検出器信号を形成する工程、およびその正規化検出器信号からガラス試料のプロファイル特徴を決定する工程も含む。最大ＣＴ値は、当該技術分野で公知の散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）技術を使用して測定される。

１つの実施の形態において、強化基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、例えば、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上、または８００ＭＰａ以上の表面ＣＳを有し得る。その強化基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＬ、および／または１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａ、または５０ＭＰａ以上）であるが、１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有することがある。ＤＯＣは、基板の厚さ（ｔ）の０．０５倍から約０．３・ｔ、例えば、約０．０５・ｔから約０．２５・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．２４・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．２３・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．２２・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．２１・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．２０・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．１９・ｔ、または約０．０５・ｔから約０．１８・ｔであることがある。１つ以上の特定の実施の形態において、その強化基板は、以下の内の１つ以上を有する：５００ＭＰａ超の表面ＣＳ、１５μｍ超のＤＯＬ、約０．０５・ｔから約０．２２・ｔのＤＯＣ、および１８ＭＰａ超のＣＴ。

基板１１０に使用されることのある例示のガラスとしては、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物またはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラス組成物が挙げられるが、他のガラス組成物も考えられる。そのようなガラス組成物は、イオン交換過程により化学強化されることができる。そのガラス組成物の一例は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３およびＮａ_２Ｏを含み、ここで、（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％、およびＮａ_２Ｏ≧９モル％である。ある実施の形態において、そのガラス組成物は少なくとも６質量％の酸化アルミニウムを含む。さらなる実施の形態において、基板１１０は、アルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５質量％であるように、１種類以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含む。適切なガラス組成は、いくつかの実施の形態において、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、およびＣａＯの内の少なくとも１つをさらに含む。特定の実施の形態において、その基板に使用されるガラス組成は、６１～７５モル％のＳｉＯ_２、７～１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、９～２１モル％のＮａ_２Ｏ、０～４モル％のＫ_２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、および０～３モル％のＣａＯを含み得る。

前記基板に適したさらなる例示のガラス組成は、６０～７０モル％のＳｉＯ_２、６～１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＢ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＬｉ_２Ｏ、０～２０モル％のＮａ_２Ｏ、０～１０モル％のＫ_２Ｏ、０～８モル％のＭｇＯ、０～１０モル％のＣａＯ、０～５モル％のＺｒＯ_２、０～１モル％のＳｎＯ_２、０～１モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで、１２モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２０モル％、０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

前記基板に適したさらに別の例示のガラス組成は、６３．５～６６．５モル％のＳｉＯ_２、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、０～５モル％のＬｉ_２Ｏ、８～１８モル％のＮａ_２Ｏ、０～５モル％のＫ_２Ｏ、１～７モル％のＭｇＯ、０～２．５モル％のＣａＯ、０～３モル％のＺｒＯ_２、０．０５～０．２５モル％のＳｎＯ_２、０．０５～０．５モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで、１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％、２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

特定の実施の形態において、基板１１０に適したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成は、アルミナ、少なくとも１種類のアルカリ金属、およびいくつかの実施の形態において、５０モル％超のＳｉＯ_２、他の実施の形態において、少なくとも５８モル％のＳｉＯ_２、さらに他の実施の形態において、少なくとも６０モル％のＳｉＯ_２を含み、ここで、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）は１より大きく、この比において、成分はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。このガラス組成は、特定の実施の形態において、５８～７２モル％のＳｉＯ_２、９～１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、２～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、８～１６モル％のＮａ_２Ｏ、および０～４モル％のＫ_２Ｏを含み、ここで、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）は１より大きい。

さらに別の実施の形態において、前記基板は、６４～６８モル％のＳｉＯ_２、１２～１６モル％のＮａ_２Ｏ、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、２～５モル％のＫ_２Ｏ、４～６モル％のＭｇＯ、および０～５モル％のＣａＯを含み、ここで、６６モル％≦ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）－Ａｌ_２Ｏ_３≦２モル％、２モル％≦ＮａＯ－Ａｌ_２Ｏ_３≦６モル％、および４モル％≦（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）－Ａｌ_２Ｏ_３≦１０モル％であるアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を含むことがある。

代わりの実施の形態において、前記基板１１０は、２モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３および／またはＺｒＯ_２または４モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３および／またはＺｒＯ_２を含むアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物から作られることがある。

基板１１０が結晶基板を含む場合、その基板は単結晶を含むことがあり、その単結晶はＡｌ_２Ｏ_３を含むことがある。そのような単結晶基板は、サファイアと称される。結晶基板に適した他の材料としては、多結晶アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）が挙げられる。

必要に応じて、結晶基板１１０はガラスセラミック基板を含むことがあり、そのガラスセラミック基板は強化されていても、されていなくてもよい。適切なガラスセラミックの例としては、Ｌｉ_２Ｏ・Ａｌ_２Ｏ_３・ＳｉＯ_２系（すなわち、ＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・ＳｉＯ_２系（すなわち、ＭＡＳ系）ガラスセラミック、および／またはβ－石英固溶体、β－スポジュメン固溶体、コージエライト、および二ケイ酸リチウムを含む主結晶相を含むガラスセラミックが挙げられるであろう。そのガラスセラミック基板は、ここに開示された化学強化過程を使用して強化されることがある。１つ以上の実施の形態において、ＭＡＳ系ガラスセラミック基板は、Ｌｉ_２ＳＯ_４溶融塩中で強化されることがあり、それによって、Ｍｇ^２＋の２Ｌｉ^＋による交換が起こり得る。

１つ以上の実施の形態による基板１１０は、基板１１０の様々な部分において約１００μｍから約５ｍｍに及ぶ物理的厚さを有し得る。例示の基板１１０の物理的厚さは、約１００μｍから約５００μｍ（例えば、１００、２００、３００、４００または５００μｍ）に及ぶ。さらなる例示の基板１１０の物理的厚さは、約５００μｍから約１０００μｍ（例えば、５００、６００、７００、８００、９００または１０００μｍ）に及ぶ。基板１１０は、約１ｍｍ超（例えば、約２、３、４、または５ｍｍ）の物理的厚さを有することがある。１つ以上の特定の実施の形態において、基板１１０は、２ｍｍ以下、または１ｍｍ以下の物理的厚さを有することがある。基板１１０は、表面傷の影響をなくすまたは減少させるために、酸磨きまたは他のやり方で処理されることがある。

光学コーティング１２０および／または物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験により測定された硬度に関して記載されることがある。ここに用いられているように、「バーコビッチ圧子硬度試験」は、ダイヤモンド製バーコビッチ圧子で表面を窪ませることによって材料のその表面での硬度を測定する工程を含む。バーコビッチ圧子硬度試験は、ダイヤモンド製バーコビッチ圧子で被覆物品１００の空気側表面１２２（または反射防止コーティング中の層の内のいずれか１つ以上の表面）を窪ませて、約５０ｎｍから約１０００ｎｍの範囲の圧入深さ（または光学コーティング１２０の全厚、いずれか小さいほう）まで窪みを形成する工程、および一般に、Oliver, W.C.; Pharr, G.M. An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments. J. Mater. Res., Vol. 7, No. 6, 1992, 1564-1583；およびOliver, W.C.; Pharr, G.M. Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology. J. Mater. Res., Vol. 19, No. 1, 2004, 3-20に述べられた方法を使用して、全圧入深さ範囲またはこの圧入深さの一部（例えば、約１００ｎｍから約６００ｎｍの範囲）に沿ってこの圧入から最大硬度を測定する工程を含む。ここに用いられているように、硬度は、圧入深さのある範囲に沿って測定される最大硬度を称し、平均硬度ではない。

典型的に、下層の基板よりもコーティングが硬い場合の、ナノインデンテーション測定方法（バーコビッチ圧子の使用などによる）において、測定硬度は、浅い圧入深さ（例えば、２５ｎｍ未満または５０ｎｍ未満）での塑性領域の発生により、最初に増加するようであり、その後、増加し、より深い圧入深さ（例えば、５０ｎｍから約５００ｎｍまたは１０００ｎｍまで）で最大値または水平域に到達する。その後、硬度は、下層の基板の影響により、さらにより深い圧入深さで減少し始める。コーティングと比べてより大きい硬度を有する基板が利用される場合、同じ効果が見られる；しかしながら、その硬度は、下層の基板の影響により、より深い圧入深さで増加する。

圧入深さ範囲および特定の圧入深さ範囲での硬度値は、下層の基板１１０の影響なく、ここに記載された光学コーティング１２０およびその層の特定の硬度反応を特定するために選択することができる。バーコビッチ圧子で光学コーティング１２０（基板１１０上に配置されている場合）の硬度を測定するときに、材料の永久歪みの領域（塑性領域）が、その材料の硬度に関連付けられる。圧入中、弾性応力場が、この永久歪み領域をはるかに超えて延在する。圧入深さが増加するにつれて、見掛け硬度および弾性率が、下層の基板１１０との応力場相互作用の影響を受ける。硬度に対する基板の影響は、より深い圧入深さ（すなわち、典型的に、光学コーティング１２０の約１０％を超える深さ）で起こる。さらに、その硬度反応には、圧入過程中に全塑性を生じさせるのに特定の最小荷重が必要であることが、さらに複雑なことである。その特定の最小荷重の前に、硬度は、一般に増加する傾向を示す。

小さい圧入深さ（小さい荷重と特徴付けられることもある）（例えば、約５０ｎｍまで）では、材料の見掛け硬度は、圧入深さに対して劇的に増加するようである。この小さい圧入深さの範囲は、硬度の真の計量を表さず、代わりに、上述した塑性領域の発生を反映し、これは、圧子の有限曲率半径に関連する。中間の圧入深さでは、見掛け硬度は、最大レベルに近づく。より深い圧入深さでは、基板の影響は、圧入深さが増加するにつれて、より著しくなる。圧入深さが光学コーティングの厚さの約３０％を一旦超えると、硬度は劇的に低下し始めるであろう。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験により、空気側表面１２２で測定して、約１０ＧＰａ以上、または約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、またさらには２０ＧＰａ以上）の硬度を示すことがある。１つ以上の実施の形態において、光学コーティング１２０は、バーコビッチ圧子硬度試験により、空気側表面１２２で測定して、約１０ＧＰａ以上、または約１２ＧＰａ以上（例えば、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上、１８ＧＰａ以上、またさらには２０ＧＰａ以上）の最大硬度を示すことがある。それに加え、高ＲＩ層１３０Ｂおよび／または耐引掻性層１５０の材料の硬度が、具体的に特徴付けられることがある。いくつかの実施の形態において、バーコビッチ圧子硬度試験により測定される、高ＲＩ層および／または耐引掻性層１５０の最大硬度は、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１５ＧＰａ以上、約１８ＧＰａ以上、またさらには約２０ＧＰａ以上であることがある。層の硬度は、測定される層が最上層である被覆物品を分析することによって、測定されることがある。硬度について測定すべき層が埋没層である場合、その硬度は、上部層を含まない被覆物品を製造し、その後、硬度についてその被覆物品を試験することによって、測定されることがある。そのような測定硬度値は、約５０ｎｍ以上、または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、または約２００ｎｍから約６００ｎｍ）の圧入深さに沿って、被覆物品１００、光学コーティング１２０、高ＲＩ層１３０Ｂ、および／または耐引掻性層１５０により示されることがある。１つ以上の実施の形態において、その物品は、基板の硬度（空気側表面１２２から反対の表面について測定することができる）より大きい硬度を示す。

光学コーティング１２０／空気界面および光学コーティング１２０／基板１１０界面からの反射波の間の光学干渉は、物品１００に明らかな色を生じるスペクトル反射率および／または透過率振動をもたらし得る。ここに用いられているように、「透過率」という用語は、材料（例えば、物品、基板、もしくは光学膜またはその部分）を透過した所定の波長範囲内の入射光パワーの割合として定義される。「反射率」という用語は、同様に、材料（例えば、物品、基板、もしくは光学膜またはその部分）から反射した所定の波長範囲内の入射光パワーの割合として定義される。透過率および反射率は、特定の線幅を使用して測定される。ここに用いられているように、「平均透過率」は、所定の波長範囲に亘り材料を透過した入射光パワーの平均量を称する。ここに用いられているように、「平均反射率」は、その材料により反射された入射光パワーの平均量を称する。反射率は、空気側表面１２２のみで測定される場合（例えば、吸収体に結合された背面上の屈折率整合油の使用、または他の公知の方法などにより、被覆物品１００の被覆されていない背面（例えば、図３の１１４）からの反射を除去する場合）、片面（または第一面）反射率として測定されることがある。１つ以上の実施の形態において、透過率および反射率の特徴付けのスペクトル分解能は、５ｎｍまたは０．０２ｅＶ未満である。前記色は、反射においてより著しいであろう。角度色は、入射照明角によるスペクトル反射率振動におけるずれにより、視角により反射でずれることがある。視角による透過率における角度色ずれも、入射照明角によるスペクトル透過率振動における同じずれによる。観測色および入射照明角による角度色ずれは、多くの場合、特に蛍光照明およびいくつかのＬＥＤ照明などのスペクトル特性が急な照明下で、機器のユーザにとって気をそらすまたは不愉快である。透過率における角度色ずれは、反射における色ずれの一因となることがある、またはその逆も同様である。透過率および／または反射率における角度色ずれにおける要因は、視角による角度色ずれ、もしくは特定の照明または試験システムにより規定される材料吸収（角度とはいくぶん関係ない）により生じるであろうある種の白点から離れる角度色ずれも含むことがある。

ここに記載された物品は、可視スペクトル内またはその近くの指定波長範囲に亘る平均光透過率および片面平均光反射率を示す。それに加え、ここに記載された物品は、可視スペクトル内またはその近くの指定波長範囲に亘る平均可視明所視反射率および平均可視明所視反射率を示す。実施の形態において、平均光透過率、片面平均光反射率、平均可視明所視反射率、および平均可視明所視反射率を測定するための波長範囲は、約４５０ｎｍから約６５０ｎｍ、約４２０ｎｍから約６８０ｎｍ、約４２０ｎｍから約７００ｎｍ、約４２０ｎｍから約７４０ｎｍ、約４２０ｎｍから約８５０ｎｍ、または約４２０ｎｍから約９５０ｎｍであることがある；特に明記のない限り、これらの数量は、約４２０ｎｍから約７００ｎｍの波長範囲について与えられる。特に明記のない限り、平均光透過率、片面平均光反射率、平均可視明所視反射率、および平均可視明所視反射率は、約０度から約１０度の入射角など、空気側表面１２２に対してほぼ直角な入射照明角で測定される（しかしながら、そのような測定値は、例えば、３０度、４５度、または６０度などの、他の入射照明角で収集されてもよい）。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、空気側表面１２２のみで測定される場合（例えば、吸収体に結合された背面上の屈折率整合油の使用、または他の公知の方法などにより、物品の被覆されていない背面からの反射を除去する場合）、可視光範囲に亘り、約５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下、約０．４％以下、約０．３％以下、または約０．２％以下、約０．１５％以下、約０．１％以下、またさらには約０．０５％以下の平均片面光反射率（明所視平均であることがあり、正反射率であることがある）を示すことがある。実施の形態において、平均片面光反射率は、約０．４％から約９％、約０．４％から約８％、約０．４％から約７％、約０．４％から約６％、または約０．４％から約５％の範囲にあることがある。実施の形態において、平均片面光反射率は、約０．２％から約９％、約０．２％から約８％、約０．２％から約７％、約０．２％から約６％、または約０．２％から約５％の範囲にあることがある。１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、可視光範囲に亘り、約５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上、９８％以上、または９９％以上の平均光透過率を示す。実施の形態において、被覆物品１００は、約９９．５から約９０％、９２％、９４％、９６％、９８％、または９９％の範囲の光透過率を示すことがある。

いくつかの実施の形態において、被覆物品１００は、可視光範囲に亘り、約５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．８％以下、約０．７％以下、約０．６％以下、約０．５％以下、約０．４％以下、約０．３％以下、または約０．２５％以下、約０．１５％以下、約０．１％以下、またさらには約０．０５％以下の平均可視明所視反射率を示すことがある。ここに用いられているように、明所視反射率は、ヒトの眼の感度にしたがって波長スペクトルに対して反射率を重み付けすることによってヒトの眼の感度を模倣する。明所視反射率は、ＣＩＥ色空間技法などの公知の技法にしたがって、反射光の三刺激Ｙ値、または輝度として定義されることもある。平均明所視反射率は、ヒトのスペクトル感度に関連する、光源スペクトルＩ（λ）およびＣＩＥの等色関数

が乗じられたスペクトル反射率Ｒ（λ）として、下記の式に定義される：

いくつかの実施の形態において、物品１００は、可視光範囲に亘り、約５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、約８５％以上、約９０％以上、約９２％以上、約９４％以上、約９６％以上、またさらには約９８％以上の平均可視明所視透過率を示すことがある。平均明所視透過率は、ヒトのスペクトル感度に関連する、光源スペクトルＩ（λ）およびＣＩＥの等色関数

が乗じられたスペクトル透過率Ｔ（λ）として、下記の式に定義される：

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色系（ここでは「色座標」と称される）における反射率および透過率の測定可能な色（またはその欠如）を示す。透過率色座標は、透過率において観察されたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色座標を称し、反射率色座標は、反射率において観察されたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色座標を称する。透過率色座標または反射率色座標は、様々な光源タイプの下で測定されることがあり、その光源タイプとしては、Ａ光源（タングステン照明を表す）、Ｂ光源（昼光模擬光源）、Ｃ光源（昼光模擬光源）、Ｄ系統光源（自然照明を表す）、およびＦ系統光源（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含む、ＣＩＥにより決定されたような標準光源が挙げられる。特定光源としては、ＣＩＥにより定義されたような、Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５が挙げられる。それに加え、反射率色座標および透過率色座標は、直角（０度）、５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度など、異なる観測入射角で測定されることがある。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、直角入射角、もしくは５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の入射角で見たときに、透過率および／または反射率において、約１０、８、６、５、４、３、２、またさらには１以下のａ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、直角入射角、もしくは５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の入射角で見たときに、透過率および／または反射率において、約１０、８、６、５、４、３、２、またさらには１以下のｂ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、直角入射角、もしくは５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の入射角で見たときに、透過率および／または反射率において、約－１０、－８、－６、－５、－４、－３、－２、またさらには－１以上のａ^＊を有する。１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、直角入射角、もしくは５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の入射角で見たときに、透過率および／または反射率において、約－１０、－８、－６、－５、－４、－３、－２、またさらには－１以上のｂ^＊を有する。

１つ以上の実施の形態において、基準点色ずれは、基準点と、透過率色座標または反射率色座標との間で測定されることがある。その基準点色ずれは、基準点色座標と観測色座標（反射または透過のいずれか）との間の色の差を測定する。反射率基準点色ずれ（反射率における基準点色ずれと称されることもある）は、反射色座標と基準点との間の差を称する。透過率基準点色ずれ（透過率における基準点色ずれと称されることもある）は、透過色座標と基準点との間の差を称する。基準点色ずれを決定するために、基準点が選択される。ここに記載された実施の形態によれば、基準点は、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊測色系における基点（色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、座標（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）、または基板の透過率または反射率色座標であることがある。特に明記のない限り、ここに記載された物品のＬ^＊座標は、基準点と同じであり、色ずれに影響しないことを理解すべきである。その物品の基準点色ずれが、基板に関して定義される場合、その物品の透過率色座標が、基板の透過率色座標と比べられ、物品の反射率色座標が、基板の反射率色座標と比べられる。特に明記のない限り、基準点色ずれは、基準点と、被覆物品１００の空気側表面１２２に対して直角で測定されたような透過率または反射率の色座標との間で測定されたずれを称する。しかしながら、基準点色ずれは、５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度など、非直角の入射角に基づいて決定されてもよいことを理解すべきである。それに加え、特に明記のない限り、反射率色座標は、その物品の空気側表面１２２のみで測定される。しかしながら、ここに記載された反射率色座標は、両面測定（物品の両面からの反射が両方含まれる）、または片面測定（物品の空気側表面１２２からの反射のみが測定される）のいずれかを使用して、物品の空気側表面１２２および物品の反対側（すなわち、図１の主面１１４）の両方で測定することができる。これらの内、片面反射率測定は、一般に、反射防止コーティングについて低い基準点色ずれを達成するためのより困難な計量であり、これは、物品の背面が、黒色インクもしくはＬＣＤまたはＯＬＥＤ装置などの光吸収媒体に結合される用途（スマートフォンなど）に関連する。

基準点が色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０（基点）である場合、基準点色ずれは、以下の式：基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）^２）により計算される。

基準点が色座標ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２である場合、基準点色ずれは、以下の式：基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）により計算される。

基準点が基板の色座標である場合、基準点色ずれは、以下の式：基準点色ずれ＝√（（ａ^＊ _物品－ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品－ｂ^＊ _基板）^２）により計算される。

１つ以上の実施の形態において、反射率および／または透過率における基準点色ずれは、開示された基準点の内の１つに対して測定して、約１０未満、約９未満、約８未満、約７未満、約６未満、約５未満、約４未満、約３未満、約２．５未満、約２未満、約１．８未満、約１．６未満、約１．４未満、約１．２未満、約１未満、約０．８未満、約０．６未満、約０．４未満、またさらには約０．２５未満である。

本開示の１つの態様は、照明下において非直角入射角で見たときにさえ、反射率および／または透過率において無色を示す被覆物品１００に関する。１つ以上の実施の形態において、ここに記載された被覆物品１００は、視角が変えられたときに、反射率および／または透過率における可視色の変化が最小であることがある、または同じ色が角度シフトで知覚されることがある。それは、反射率または透過率において被覆物品１００の角度色ずれにより特徴付けることができる。角度色ずれは、以下の式：角度色ずれ＝√（（ａ^＊ _２－ａ^＊ _１）^２＋（ｂ^＊ _２－ｂ^＊ _１）^２）を使用して、決定されることがある。角度色ずれの式において、入射照明角度が、基準照明角度と異なり、ある場合には、少なくとも約１度、２度または約５度だけ基準照明角度と異なるという条件で、ａ^＊ _１およびｂ^＊ _１は、基準照明角度（垂直入射を含むことがある）で見たときの、物品のａ^＊およびｂ^＊座標を表し、ａ^＊ _２およびｂ^＊ _２は、入射照明角度で見たときの、物品のａ^＊およびｂ^＊座標を表す。特に明記のない限り、ここに記載された物品のＬ^＊座標は、任意の角度または基準点で同じであり、色ずれに影響しないことを理解すべきである。

基準照明角度は、垂直入射（すなわち、０度）、もしくは、例えば、垂直入射から５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度を含むことがある。しかしながら、特に明記のない限り、基準照明角度は、垂直入射角度、またはほぼ垂直（すなわち、垂直の１０度以内）入射角度である。入射照明角度は、例えば、基準照明角度から５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度であることがある。１つ以上の実施の形態において、基準照明角度は、０から１０度の範囲にあることがあり、入射照明角度は、３０から６０度の範囲にあることがある。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、照明下において、０～１０度（例えば、５以下、４以下、３以下、または２以下）の入射照明角度から３０～６０度の範囲にある入射照明角度の反射率および／または透過率における角度色ずれを有する。いくつかの実施の形態において、反射率および／または透過率における角度色ずれは、約１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下、２以下、１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下、または０．１以下である。いくつかの実施の形態において、角度色ずれは、約０であることがある。前記光源は、Ａ光源（タングステン照明を表す）、Ｂ光源（昼光模擬光源）、Ｃ光源（昼光模擬光源）、Ｄ系統光源（自然照明を表す）、およびＦ系統光源（様々なタイプの蛍光照明を表す）を含む、ＣＩＥにより決定されたような標準光源を含み得る。具体例において、前記物品は、ＣＩＥのＦ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源下、またはより具体的に、ＣＥＩのＦ２光源下で、基準照明角度から、入射照明角度で見たときに、約２以下の反射率および／または透過率における角度色ずれを示す。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、基準照明角度に対して所定の範囲内の全ての入射照明角度で、約１０以下（例えば、５以下、４以下、３以下、または２以下）の反射率および／または透過率における角度色ずれを有する。例えば、被覆物品１００は、基準照明角度から、この基準照明角度より約５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の範囲の全ての入射照明角度で、約１０以下、５以下、４以下、３以下、または２以下の角度色ずれを有することがある。追加の実施の形態において、被覆物品１００は、基準照明角度から、この基準照明角度より約５度、１０度、１５度、２０度、３０度、４０度、４５度、または６０度の範囲の全ての入射照明角度で、約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下、または０．１以下の角度色ずれを有することがある。

１つ以上の実施の形態において、被覆物品１００は、ソースポート上で直径８ｍｍの開口を使用して、商標名Ｈａｚｅ－Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓ（登録商標）でＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒにより供給されるヘイズメーターを使用して研磨側で測定して、約１０％以下のヘイズ値を示す。ある場合には、試料は最初に研磨され、次いで、その研磨の程度を定量化するために、研磨後のヘイズが測定されることがある。特に明記のない限り、ここに使用したヘイズの全ての値は、先の様式で測定した。いくつかの実施の形態において、ヘイズは、約７０％以下、５０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、約５％以下、約４％以下、約３％以下、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下、または約０．３％以下であることがある。いくつかの特定の実施の形態において、物品１００は、約０．１％から約１０％、約０．１％から約９％、約０．１％から約８％、約０．１％から約７％、約０．１％から約６％、約０．１％から約５％、約０．１％から約４％、約０．１％から約３％、約０．１％から約２％、約０．１％から約１％、約０．３％から約１０％、約０．５％から約１０％、約１％から約１０％、約２％から約１０％、約３％から約１０％、約４％から約１０％、約５％から約１０％、約６％から約１０％、約７％から約１０％、約１％から約８％、約２％から約６％、約３％から約５％の範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲のヘイズを示す。

反射率測定－ＳＣＩ、ＳＣＥ、および（ＳＣＩ－ＳＣＥ）
１つ以上の実施の形態において、前記物品は、全反射率（ＳＣＩ）、拡散反射率（ＳＣＥ）、および／または正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）を示す。これらの反射率値は、直径６ｍｍの開口でコニカミノルタＣＭ７００ｄを使用し、以下の工程１～１９を順番に行うことによって、測定される。

１．ＣＭ７００ｄの毎日のベンチ検定を行って、その適切な機能を確認する。コニカミノルタにより指定されたような別途手順。

２．装置の電源をオンに切り換える。

３．プログラムをオンにして、装置との接続を確立する。

４．プログラムで指示されたように装置を較正する。

５．プログラムに新たなＳＣＥ／ＳＣＩデータ受信表計算テンプレートを取り込む。

６．開いた開口から装置に侵入する粒子を避けるために、ＣＭ７００ｄにキャップをまだ取り付けた状態で、圧縮空気を使用して、試料保持器を洗浄する。

７．工程ａ～ｄの洗浄手順を順番にしたがって、試料を洗浄する：
ａ．きれいな布きれをメタノールで濡らし、２つの試料表面を擦る。試料の向きを示す印を消さないように注意する；
ｂ．湿式洗浄後、新たな布きれを使用することによって、試料を直ちに洗浄し、メタノール残留物／汚れが除去されるまで、２つの表面を再び擦る。黒色バックグラウンドを背にして試料を置き、頻繁に検査する；
ｃ．試料の２つの表面に亘り圧縮空気を吹き付けて、遊離した埃粒子および布からの繊維を除去する；
ｄ．試料をその後に工程に移動させる。

８．標識としてマーカーを使用して、装置の固定具上に試料を置く。研磨側を下向きにして、ＣＭ７００ｄの開口に面するようにする。マーカーは上向きであるが、まだ試料の上端に沿って載っていることに留意のこと。矢印は左上を指し、今では、数字が右上にある。

９．プログラムで測定に名前を付ける。３つの非研磨位置（トラックの間の区域）をベースラインとして測定し、それらにラベルする。操作者に近いトラックを底部トラックと指定し、一方で、他方を上部トラックと呼ぶ。

１０．固定具の左上の角に試料をスライドさせて、上部トラックの右スポットを測定し、それにラベルする。

１１．上端が印に揃うまで試料を上端にスライドさせて、上部トラックの中間スポットを測定し、それにラベルする。

１２．上端で右上の角に試料をスライドさせて、上部トラックの左スポットを測定し、それにラベルする。各トラックについて、右、中間、および左のスポットの中心は、その特定の試験に使用した開口の直径（特に明記のない限り６ｍｍ）だけ間隔が空けられるべきである。また、全体として見た右、中間、および左のスポットは、測定されているトラックの長さと幅に亘りおおよそ中心にあるべきである。

１３．底端および２つの底部角を使用して、底部トラックについて、全過程を繰り返す。

１４．９の測定値が記録されたことを確認する（各トラックにつき３、およびトラック間の空間につき３）。そのようにしたら、この試料を保管し、もしあれば、別のものを測定する。

データ分析－データ計算プログラム（例えば、Ｍａｔｌａｂ）を使用
１５．測定値をエクスポートする。ＣＭ７００ｄプログラムの全関連データセットをコピーし、それをエクセルファイルにペーストする。そのエクセルファイルを指定のホルダにセーブし、そのホルダが、アウトプットを受信するための別のエクセルファイルも含むことを確認する。

１６．データ計算プログラム（例えば、Ｍａｔｌａｂ）を使用して、９スポットの各々について以下の式を計算して、ＳＣＥに関する９の値を得る。

式中、ＳＣＥ^＊は、加重平均ＳＣＥであり；ＳＣＥは、各波長に関するＣＭ７００ｄからの未加工測定結果であり；λは、各計算について、１０ｎｍだけ増加する、４００ｎｍから７００ｎｍの波長であり；ＳはＤ６５スペクトル照明（ＣＩＥ １９３１ １０度）であり；Ｙは、スペクトル発光効率関数（ＣＩＥ １９３１ １０度）である。

１７．各数値（ＣＥＩ^＊）は、そのスポットに関する除外された散乱成分（ＳＣＥ）の加重平均である。

１８．１つのトラック（摩耗トラックのいずれか一方、または摩耗トラック間の空間）における３つのスポットの各々に関するＳＣＥ値の平均をとる。これが、その試料トラックに関する摩耗後のＳＣＥ値である。５．ＳＣＥ値の変化は、摩耗前のＳＣＥ値（摩耗トラック間の空間からとして）と各摩耗トラックに関して工程１～４により計算されたＳＣＥ値との間の差をとることによって、計算することができる。

１９．全反射率（ＳＣＩ）を測定し、次に、ＳＣＩからＳＣＥを引くことによって、正反射率を計算する。

「Ｔａｂｅｒ」摩耗試験
１つ以上の実施の形態において、物品を、その様々な性質（ＳＣＩ、ＳＣＥ、およびＳＣＩ－ＳＣＥ）を測定する前に、研磨する。物品を研磨するために、以下の工程（１から１８－「Ｔａｂｅｒ」摩耗試験）を順番に実施することよって、Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒ ５７５０を使用した。

１．デジタル角度計を使用して、５７５０ Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒの「Ｔａｂｅｒ」研磨器および試料固定具が水平であるか調べ、確認する（「Ｔａｂｅｒ」シャフトと試料ホルダとの間の差は、０．３度未満であるべきである）。

２．スプラインの潤滑を調べる。錘を載せずに、鋼製スプラインを上下に動かして、各ジョブを開始する前の摩擦の明白な兆候があるか否かを確かめる。摩擦の明白な兆候がある場合、スプラインに潤滑油を指す。

３．試料の着座区域を調べる。固定具に圧縮空気を吹き付け、メタノールを使用して拭き取りを行い、遊離した粒子／埃および油を取り除いて、摩耗トラックの反対側の潜在的な引っ掻き傷および汚染を避ける。

４．圧縮空気を吹き付けて、遊離した埃粒子を除去することによって、試料を洗浄する。必要であれば、メタノールを使用して、試料を洗浄して、特に目的の研磨側にある、潤滑油および他のタイプの汚染物質を除去する。

５．試料の側を特定して、研磨／引っ掻きを行う。

６．目的の研磨側と反対の側の方向の記載のために試料に印を付ける。目的の研磨側と反対に方向の記載（重要）のために試料に印を付ける。１つの角を指す矢印を使用し、同じ端部に沿って反対側に試料番号を書き留める。

７．着座区域に試料を据え付ける。目的の研磨側を上にする。

８．Ｗｅａｒａｓｅｒ（登録商標）の先端を新しくする。その先端の露出深さは、深さゲージを使用して調節すべきでありり、コレットを締め付けることによって、「Ｗｅａｒａｓｅｒ」を固定する。リフェース片をリフェースプレート上に接着する。「Ｔａｂｅｒ」ユニットに設けられたレーザガイドを使用して、毎回、その片の新たな区域上にトラック経路の位置を揃える。その研磨器のカバーを開け、トラック長さを３インチ（７５ｍｍ）に設定する。リフェース条件は、２５サイクルについて、２５サイクル／分に設定すべきである。この工程で、追加の錘を配置する必要はない。総質量は、スプライン、シャフト、コレットの個々の質量にホルダの質量を加えたものであるべきである（スプライン＋シャフト＋錘ホルダ＋コレット＝３５０ｇ）。

９．「Ｔａｂｅｒ」ユニット上の緑色のスタートボタンを押すことによって、リフェース過程を開始する。

１０．リフェースが終わった後にスプラインからコレットを外し、「Ｗｅａｒａｓｅｒ」の先端に空気を吹き付けて、遊離した粒子を取り除く。

１１．リフェースにより「Ｗｅａｒａｓｅｒ」の一定の深さが除去されるので、よって、露出深さが短くなる。深さゲージを使用して、「Ｗｅａｒａｓｅｒ」の露出深さを再調節し、スプライン上にコレットを再び取り付ける。

１２．「Ｔａｂｅｒ」ユニット上で摩耗トラックの長さを１インチ（２５ｍｍ）にリセットする。

１３．総質量を１３５０ｇとなるように、追加の１ｋｇの外部錘を重ねる。部材の個々の質量について、「Ｔａｂｅｒ」マニュアルを参照のこと。

１４．手動で、または電気ねじ回しを使用して、固定具を目標位置に動かす。試料の着座区域の隣の標識線の内の１つにレーザビームを揃える。

１５．「Ｔａｂｅｒ」ユニットのサイクル速度（特に明記のない限り、２５サイクル／分）およびサイクル数（特に明記のない限り、１０）を設定する。

１６．緑色のスタートボタンを押すことによって、研磨を開始する。

１７．工程８からを繰り返して、所望の数のトラックが作製されるまで、同じ試料の別のトラックを研磨する。

１８．所望の数のトラック（特に明記のない限り、２つ）が研磨された後、一時的保管のために、固定具から試料を取る。各追加の試料について、工程３からを繰り返す。

Ｋｏｖａｘ試験
Ｋｏｖａｘ試験について、以下を除いて、「Ｔａｂｅｒ」研磨試験（先に記載）にしたがって、「Ｔａｂｅｒ」Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒを使用した。「Ｗｅａｒａｓｅｒ」の先端の代わりに、日本国東京都所在のＫｏｖａｘから入手できる４００グリットの「Ｅａｇｌｅ」酸化アルミニウム研磨紙から作製された研磨材を使用した。次に、この試験の工程８および９は単に、リフェースの代わりに、先端に新たな研磨紙片を取り付けることに変える。Ｋｏｖａｘ試験は、ここに述べられたような様々な規定の荷重とサイクルで、行うことができる。

ガーネット引っ掻き試験
ガーネット引っ掻き試験について、以下を除いて、「Ｔａｂｅｒ」研磨試験（先に記載）にしたがって、「Ｔａｂｅｒ」Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒを使用した。「Ｗｅａｒａｓｅｒ」の先端の代わりに、ミネソタ州、セントポール所在の３Ｍにより製造された１５０グリットのガーネット研磨紙から製造された研磨材を使用した。次に、この試験の工程８および９は、リフェースの代わりに、先端に新たな研磨紙片を取り付けることに変える。ガーネット引っ掻き試験は、ここに述べられたような様々な規定の荷重とサイクルで、行うことができる。典型的に、ガーネット引っ掻き試験は、「Ｔａｂｅｒ」Ｌｉｎｅａｒ Ａｂｒａｓｅｒで１ｋｇ、２ｋｇ、または４ｋｇの総質量（スプライン、シャフト、コレット、および錘ホルダの質量を含む）のいずれかで行われる。

光沢度試験
１つ以上の実施の形態において、ここに記載された物品は光沢度を示した。光沢度の測定は、以下のように、Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．から入手できるＲｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ（商標）装置で行った。光沢は、表面上で反射した直射日光の輝度に関連する視覚であり、光がそこから反射したときに、「輝く」ように見える表面の知覚を記載する。反射率の高い表面は、光沢があると決定される；反射性の低い表面は半光沢または艶消しである。光沢計は、規定の角度での試料からの光の反射を測定することによって、この効果を定量化する。Ｇｌｏｓｓ Ｕｎｉｔ（ＧＵ）は、ＩＳＯ ２８１３およびＡＳＴＭ Ｄ５２３を含む国際標準において定義されている。ＧＵは、公知の屈折率のガラス標準からの反射光の量により決定される。従来の光沢計の光学素子は、６０度および８５度の角度で使用され、これらの光学素子は、上述した国際光沢標準に十分に適合する。

像の鮮明度試験
１つ以上の実施の形態において、ここに記載された物品は、像の鮮明度（ＤＯＩ）値を示した。ＤＯＩの測定は、英国所在のＲｈｏｐｏｉｎｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．，から入手できる「Ｒｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ」（２０度の入射の設定での隅角光度計）で行った。表面のＤＯＩ値は、ゼロと百の間の数値である；完全に歪んでいない像を示す表面は１００の値に戻る。何故ならば、その値は、像が識別できなくなるにつれて、減少するからである。

画素力偏差試験
１つ以上の実施の形態において、ここに記載された物品は、画素力偏差（ＰＰＤ）値を示した。ＰＰＤ値の測定は、ここに全てが引用される、「Apparatus and Method for Determining Sparkle」と題する、米国特許第９４１１１８０号明細書に記載されているように行った。例えば、試験試料による表示イメージに対する、試験試料のない標準表示イメージの比較（すなわち、ＰＰＤ値は、ディスプレイ・バックグラウンドからの変動のない試料のものに対応する）。

実施例１
被覆物品を製造するために、イオン交換されたガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃ．から「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスとして市販されている）上に粗さ誘発光散乱層としてＢａＦ_２を堆積させた。詳しくは、高温での電子ビーム蒸着によりＢａＦ_２膜を成膜して、粗さをもたらすクラウンタイプの微結晶形態を生じる。ＢａＦ_２膜は、基板を約２００℃に加熱する石英灯を備えたＴｅｍｅｓｃａｌ ＢＪＤ－１８００電子ビーム蒸発ユニットにおいて、３オングストローム／秒で堆積させた。堆積前の基本圧力は、１．２×１０^－６トル（約１６０×１０^－６Ｐａ）であった。微結晶核形成および成長の動態のために、膜厚が増加するにつれて、ＢａＦ_２膜の粗さが増加した。粗さは、Ｖｅｅｃｏ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ原子間力顕微鏡を使用して測定した。図７Ａ～７Ｄは、ガラス基板上に堆積されたＢａＦ_２膜の顕微鏡画像を示す。表１は、各被覆試料に関するＢａＦ_２の厚さおよび粗さの測定値を示し、それに加え、図７Ａ～７Ｄの説明を与えている。粗さは、Ｒ_ａ（粗さの絶対値の算術平均）およびＲ_ｑ（二乗平均平方根粗さ）として測定した。比較として、ガラス基板は、１ｎｍ未満の粗さ（Ｒ_ａまたはＲ_ｑ）を有した。

それに加え、先に記載されたＢａＦ_２層の上に、１５０℃でのプラズマ熱ＨＤＰＣＶＤを使用して、ＰＥＣＶＤによりＳｉＮ_ｘの２マイクロメートルの層を堆積させた。堆積には、基板バイアスに関係ない高イオン化を得るために、誘導結合プラズマを使用した。このバイアスは、基板が載せられたプラテンを駆動するＲＦ源により設定される。ＰＥＣＶＤは、かなり適合する被覆過程であり、堆積されたときに、比較的わずかしか粗さがない。ＢａＦ_２層の粗さは、ＢａＦ_２層上に２マイクロメートルのＳｉＮ_ｘ層の堆積後に、ほとんど維持された。図８Ａ～８Ｄは、ガラス基板上のＢａＦ_２膜の上に堆積されたＳｉＮ_ｘ膜の顕微鏡画像を示す。表２は、各被覆試料に関する、ＳｉＮ_ｘ層とＢａＦ_２膜の厚さおよびＳｉＮ_ｘ層の粗さの測定値を示し、それに加え、図８Ａ～８Ｄの説明を与えている。

ガラス基板／ＢａＦ_２／ＳｉＮ_ｘ被覆物品は、１７～２１ＧＰａのバーコビッチ圧子硬度値を有するのに対し、未被覆の基板は約７ＧＰａの硬度を有した。これらの試料について、弾性率値を測定し、それらの値は１９２～２１２ＧＰａの範囲にあった。

製造した試料を、可視スペクトルに亘り全透過率および正反射率について評価した。図９は、波長の関数としての全透過率（反射光および散光の合計）を示す。図１０は、波長の関数としての正反射率（６°の入射角での）を示す。それぞれ、図９および１０において、参照番号５０２は、３００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｍのＳｉＮ_ｘコーティングを有する試料を表し、参照番号５０４は、６００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｎのＳｉＮ_ｘコーティングを有する試料を表し、参照番号５０６は、１２００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｎのＳｉＮ_ｘコーティングを有する試料を表し、参照番号５０８は、２４００ｎｍのＢａＦ_２層および２０００ｎｎのＳｉＮ_ｘコーティングを有する試料を表す。それに加え、参照番号５１０は、未被覆基板の比較例を表し、参照番号５１２は、２マイクロメートルのＳｉＮ_ｘ（比較的滑らかなコーティング）のみで被覆されたガラス基板を表す。図９および１０に示されるように、急なスペクトル振動が、粗い層の追加により、透過率並びに反射率において平滑化され、振動が、粗さの増加により平滑化される。

それに加え、試料を、反射角度色ずれ（Ｆ２光源について、６度から４０度、４０度で測定された試料が、６度で測定されたときのそれ自体と比較されている）、ヘイズ、および全平均明所視透過率（Ｄ６５光源）について評価した。その結果が、表３に示されている。

正反射率は、粗いＢａＦ_２層の含有により著しく減少したのに対し、全透過率は実質的に維持され、表３に示されるように、非常にわずかしか低下していない（全明所視平均透過率の約８５％から、２４００ｎｍ厚のＢａＦ_２層の約７８％まで）。ＢａＦ_２のより厚い層は、より多くの光散乱を導入し、これにより、スペクトル振動が平滑化され、正反射率が減少すると考えられる。正反射率効果の減少は、粗面の従来の「防眩」効果に関連することも考えられる。それに加え、粗いＢａＦ_２光散乱中心を含む試料は、光散乱により生じるスペクトル平滑化のために、角度変化による反射色におけるより小さい範囲の変動を示す。より厚いＢａＦ_２層を有する試料は、より多くの光散乱を有し、より多くのスペクトル平滑化を有する。散乱中心の横方向サイズに応じて、光散乱は、色彩効果も生じることができる（レイリーまたはミー散乱においてよく知られているように）。

実施例２
被覆物品を製造するために、イオン交換されたガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃ．から「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスとして市販されている）に、サンドブラスト処理を行い、その後酸磨きして、表面上に７％のヘイズを生じることによって、その表面の一方に光変換特徴を設けた。図１１Ａおよび１１Ｂは、表面の８０マイクロメートルの正方形窓に亘り測定された、２つの異なる試料の顕微鏡写真を示している。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定された表面粗さが、表４に示されている。

次に、光変換特徴を有する表面の各々の上に、光学コーティングを配置した。その光学コーティングは、表５に述べたような構造を有した。

基板の表面の各々に光学コーティングを配置した後、試料の粗さを再び測定し、その結果が表６に示されている。図１２Ａおよび１２Ｂは、光学コーティングの配置後の、それぞれ、図１１Ａおよび１１Ｂの試料の表面を示している。

表４および６の値の比較から分かるように、基板の表面上に最初に位置されたままの光変換特徴（表面粗さの形態にある）は、その上に比較的厚い（マイクロメートルの程度の）光学コーティングを配置した後でさえも、まだ存在した。それゆえ、比較的厚い光学コーティングは、光変換特徴の有益な性質に対して悪影響がない。その代わりに、比較的厚い光学コーティングは、光変換特徴の有益な性質に悪影響を及ぼさずに、試料に追加の有益な性質を与えることが分かった。例えば、比較的厚い光学コーティングは、より高い最大硬度およびより高い弾性率を物品に与える；物品の第一面反射率を減少させる；および物品の両面全透過率を増加させることが分かった。

図１３Ａおよび１３Ｂは、それぞれ、図１１Ａ～Ｂの記載にしたがって調製された試料、および図１２Ａ～Ｂの記載にしたがって調製された試料に関する、硬度および弾性率（両方とも、ここに記載されたバーコビッチ圧子試験により測定された）のグラフである。図１３Ａおよび１３Ｂのグラフにおいて、線１３０２は、図１１Ａ～Ｂの試料を表し、線１３０４は、図１２Ａ～Ｂの試料を表す。弾性率および最大硬度が、下記の表７に示されている。図１３Ａ～Ｂおよび表７から分かるように、光学コーティングは、物品の弾性率および最大硬度の両方を増加させる。弾性率および硬度が高いほど、物品の耐引掻性が有益になる。例えば、より高い耐引掻性は、表示装置に、粗面上に落とされたおよび／または研磨された後でさえも、より長期間に亘り見た目でより美しい、より頑強なカバーを与えることができる。

図１８Ａ～Ｂおよび１９Ａ～Ｂは、図１２Ａ～Ｂの試料の光学コーティングが、摩耗事象の際に引っ掻き傷を減少させるのにどれだけ役立つかを示している。

図１８Ａ～Ｂは、ガーネット引っ掻き試験（先に記載）の結果を示しており、図１８Ａは、光変換特徴を持たない「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラス基板に関し、図１８Ｂは、図１２Ａ～Ｂの試料と一致する被覆物品に関する。図１８Ａ～Ｂの各々において、３つの引っ掻き傷跡がある：最上部の引っ掻き傷跡（図１８Ａ～Ｂに１と表記）は、２５サイクル／分の速度および１キログラム（ｋｇ）の荷重で行った１サイクル試験であり；真ん中の引っ掻き傷跡（図１８Ａ～Ｂに２と表記）は、２５サイクル／分の速度および２ｋｇの荷重で行った１サイクル試験であり；最下部の引っ掻き傷跡（図１８Ａ～Ｂに４と表記）は、２５サイクル／分の速度および４ｋｇの荷重で行った１サイクル試験であった。図１８Ａ～Ｂは、画像取込装置と試料との間に配置された「環状ライト」により得た。図１８Ａの図１８Ｂとの比較から、図１２Ａ～Ｂの調製に対応する試料が、他方よりも見にくい引っ掻き傷を有し、それゆえ、より見た目に美しかったことが分かる。

図１９Ａ～Ｂは、「Ｔａｂｅｒ」研磨試験（先に記載）の結果を示しており、図１９Ａは、光変換特徴を持たない「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラス基板に関し、図１９Ｂは、図１２Ａ～Ｂの試料のものと一致する様式で調製された被覆物品に関する。図１９Ａ～Ｂの各々において、２つの引っ掻き傷跡がある。各引っ掻き傷跡は、ＣＳ１７研磨材（Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手）による、２５サイクル／分の速度および１３５０ｋｇの荷重で行った１０サイクル試験の結果である。図１９Ａ～Ｂは、画像取込装置と試料との間に配置された「環状ライト」により得た。図１９Ａの図１９Ｂとの比較から、図１２Ａ～Ｂの調製に対応する試料が、他方よりも見にくい引っ掻き傷を有し、それゆえ、より見た目に美しかったことが分かる。

それに加え、光学コーティングは、物品に、減少した第一面正反射率、および増加した両面（または全）透過率を与える。図１４は、光変換特徴を持たない基板（線１４００）、光変換特徴を有する図１１Ａ～Ｂによる基板（線１４０２）、および光変換特徴と光学コーティングを有する図１２Ａ～Ｂによる基板（線１４０４）に関する第一面反射率を示している。図１５は、光変換特徴を持たない基板（線１５００）、光変換特徴を有する図１１Ａ～Ｂによる基板（線１５０２）、および光変換特徴と光学コーティングを有する図１２Ａ～Ｂによる基板（線１５０４）に関する両面（または全）透過率を示している。図１４および１５から分かるように、この実施の形態による試料は、可視光範囲に亘り１％未満の第一面反射率を達成することができ、また同じ可視光範囲に亘り９２％超の全透過率も達成することができた。減少した正反射率、および増加した透過率は、表示装置に、特に、明るい周辺光条件下で、よりよい可読性を与える。

さらに、被覆物品の色は、主に光学コーティング自体の色により決定される。図１６は、６、２０、４０、および６０度の入射角に関するＤ６５光源下での第一面反射色を示すのに対し、図１７は、Ｄ６５光源に関する垂直入射での両面透過色を示す。菱形のデータ点（１６０２、１７０２）は、図１１Ａ～Ｂのものに一致する試料の色を示すのに対し、円形のデータ点（１６０４、１７０４）は、図１２Ａ～Ｂのものに一致する試料の色を示す。図１６および１７から分かるように、コーティングを持たない（しかし、光変換特徴を有する、試料１１Ａ～Ｂ）物品の色は、（０，０）のａ^＊、ｂ^＊座標を非常に密接に中心とする。被覆物品（光変換特徴と光学コーティングを有する、試料１２Ａ～Ｂ）は、未被覆物品（図１１Ａ～Ｂ）から増加した色を有するが、特に、４０および６０度の入射角での反射、並びに両面透過において、まだ非常に最小である。それゆえ、着色基板が望ましい場合、それは、光学コーティングを変えて、そのようにすることによって、達成できるであろう。

実施例３
（実施例３Ａ）被覆物品を製造するために、イオン交換されたガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃ．から「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスとして市販されている）に、サンドブラスト処理を行い、その後酸磨きして、表面上に４％のヘイズを生じることによって、その表面の一方に光変換特徴を設けた。次に、光変換特徴を有する表面上に、光学コーティングを配置した。その光学コーティングは、表８に述べられたような構造を有した。

（実施例３Ｂ）その表面上に７％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成したことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（実施例３Ｃ）その表面上に２７％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成したことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（実施例３Ｄ）その表面上に４２％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成したことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（実施例３Ｅ）その表面上に５０％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成したことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（実施例３Ｆ）その表面上に６０％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成したことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（比較例３Ｇ）その表面上に７％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成し、その光変換特徴上に光学コーティングを配置しなかったことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

（比較例３Ｈ）その表面上に２７％のヘイズを生じるように光変換特徴を形成し、その光変換特徴上に光学コーティングを配置しなかったことを除いて、被覆物品を、実施例３Ａと同じように調製した。

実施例３Ａ～３Ｆは、様々な入射角で低い片面正反射率を達成した。図２０～２２は、実施例３Ａ～３Ｆに関する、ｘ軸に沿ってｎｍで表された波長に対するｙ軸に沿ったパーセントで表された第一面の正反射率を示しており、図２０は６度の入射角に関し、図２１は４０度の入射角に関し、図２２は６０度の入射角に関する。図２０において、線２０３Ａは実施例３Ａの反射率であり、線２０３Ｂは実施例３Ｂの反射率であり、線２０３Ｃは実施例３Ｃの反射率であり、線２０３Ｄは実施例３Ｄの反射率であり、線２０３Ｅは実施例３Ｅの反射率であり、線２０３Ｆは実施例３Ｆの反射率である。図２１において、線２１３Ａは実施例３Ａの反射率であり、線２１３Ｂは実施例３Ｂの反射率であり、線２１３Ｃは実施例３Ｃの反射率であり、線２１３Ｄは実施例３Ｄの反射率であり、線２１３Ｅは実施例３Ｅの反射率であり、線２１３Ｆは実施例３Ｆの反射率である。図２２において、線２２３Ａは実施例３Ａの反射率であり、線２２３Ｂは実施例３Ｂの反射率であり、線２２３Ｃは実施例３Ｃの反射率であり、線２２３Ｄは実施例３Ｄの反射率であり、線２２３Ｅは実施例３Ｅの反射率であり、線２２３Ｆは実施例３Ｆの反射率である。図２０～２２から、本発明のハードコートのざらついた試料の片面（第一面）正反射率は、５０ｎｍから５５０ｎｍ、６００ｎｍ、または６５０ｎｍの波長について、０．５％未満またさらには０．２５％未満であり得ることが分かる。これらの反射率値は、ほぼ直角の入射角から４０度の入射角まで、低く０．５％未満のままであり得（図２０および２１参照）、６０度の入射角では、いくつかの試料について、３％未満、１．５％未満、または１％未満のままであり得る（図２２、および下記の表９参照）。

図２３は、６、２０、４０、および６０度の入射角でのＤ６５光源下の実施例３Ａ～Ｆの第一面反射色を示す。図２３において、線２３３Ａは実施例３Ａの反射色であり、線２３３Ｂは実施例３Ｂの反射色であり、線２３３Ｃは実施例３Ｃの反射色であり、線２３３Ｄは実施例３Ｄの反射色であり、線２３３Ｅは実施例３Ｅの反射色であり、線２３３Ｆは実施例３Ｆの反射色である。４２％、５０％および６０％のそれぞれのヘイズ値を有する実施例３Ｃ～Ｅにおけるような、光学コーティングの堆積前の下層の基板上のヘイズが高いと、反射色がより弱められた。したがって、例えば、ディスプレイ用途におけるような、弱い色が好ましい状況において、下層の基板上により高いヘイズ値を使用することができる。あるいは、例えば、眼鏡におけるような、強い色が好ましい状況において、４％および７％のそれぞれのヘイズ値を有する実施例３Ａおよび３Ｂにおけるような、下層の基板により低いヘイズ値を使用することができる。いずれの場合でも、ａ^＊およびｂ^＊の反射色値は、例えば、図２３から分かるように、１６未満、１２未満、１０未満、５未満、またさらには２未満の絶対値を有し得る。

次いで、実施例３Ａ～Ｆ並びに較例３ＧおよびＨを、以下のように反射率値を使用して、耐引掻性および耐摩耗性について試験した。詳しくは、３つの反射率値：全反射率（ＳＣＩ）、拡散反射率（ＳＣＥ）、および正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）を調べた。ＳＣＩ、ＳＣＥ、および正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）を、上述したような手順にしたがって、コニカミノルタＣＭ７００ｄ装置で測定した。実施例３Ａ～Ｆの各々、並びに比較例３ＧおよびＨの各々について、基準点として、試料にどのような研磨も行う前に、反射率を測定した。次に、各実施例３Ａ～Ｆの試料を、１ｋｇの荷重（総質量）および２５サイクル／分の速度での５０サイクルを使用して、Ｋｏｖａｘ試験（先に記載した）にしたがって研磨した。次に、各実施例３Ａ～Ｆの別の試料を、４ｋｇの荷重（スプライン、シャフト、コレット、および錘ホルダの質量を含む全荷重）および２５サイクル／分の速度での１サイクルを使用して、ガーネット試験（先に記載した）にしたがって研磨した。研磨前、Ｋｏｖａｘ研磨後、およびガーネット研磨後の各試料の全反射率ＳＣＩ、並びに研磨前、Ｋｏｖａｘ研磨後、およびガーネット研磨後の各試料の拡散反射率ＳＣＥ、並びに研磨前、Ｋｏｖａｘ研磨後、およびガーネット研磨後の各試料の正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）が、下記の表１０に報告されている。

引っ掻きサイクルが一回のガーネット試験は、現実の引っ掻き傷の大半が１サイクル事象であるので、現実の引っ掻きにより関係があると考えられる。５０サイクルのＫｏｖａｘ試験は、スマートフォン、タッチスクリーン、スマートウォッチ、および自動車用ディスプレイなどの用途における現実の引っ掻き傷にそれほど関係がないアブレイシブ摩耗試験に過ぎないが、Ｋｏｖａｘ試験は、多いサイクル数および結果としての高密度の引っ掻き傷（より光学的に均一な引っ掻き／摩耗区域が生じる）のために、いくぶんより高いレベルの再現性を提供するであろう。

表１０の値は、３つの試料の複製品の各々についての３つの測定スポットの平均を使用した、ＳＣＥおよびＳＣＩのＤ６５明所視平均を表し、各試料の１つの引っ掻き傷跡は、ガーネット引っ掻き試験のためであり、各試料の２つの引っ掻き傷跡はＫｏｖａｘ試験のためである。各平均データ点についての値の範囲は、概して、ＳＣＩについて、±０．５以下程度、およびＳＣＥについて、±０．１以下程度であった。

表１０におけるＳＣＥおよびＳＣＩ値は、ガラス試料の後方の未処理表面からの約４％の反射率を含む。試料の前面反射率は、示されたＳＣＥおよびＳＣＩ値から４％を差し引くことにより、少なくとも低散乱試料について、近似することができる。測定が「両面」測定と示されている場合、試料の背面は、測定に含まれ、吸収体への光結合により除去されていない反射率を有する（背面反射率が除去されている場合、これは、「片面」または「第一面」測定と示される）。

実施例４
（実施例４Ａから４Ｌ）被覆物品を製造するために、イオン交換されたガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃ．から「Ｇｏｒｉｌｌａ」ガラスとして市販されている）に、サンドブラスト処理を行い、その後酸磨きして、表面上に様々なヘイズレベルを生じることによって、その表面の一方に光変換特徴を設けた。次に、光変換特徴を有する表面上に、光学コーティングを配置した。その光学コーティングは、先の表８に述べられたような構造を有した。実施例４Ａから４Ｌは、下記の表１１に述べられたヘイズレベルで製造された。

（比較例４Ｍから４Ｓ）比較例４Ｍから４Ｓは、これらの比較例の上に光学コーティングが配置されなかったことを除いて、実施例４Ａから４Ｌと同じ様式で製造した。比較例４Ｍから４Ｓは、下記の表１１に述べられたヘイズレベルを有した。

次に、実施例４Ａから４Ｌを、以下のように、様々な防眩および光学－ディスプレイ－カバー－ガラスメトリクス下でその性能について調べた。光沢（６０度、先に記載されたように測定）、先に記載されたように、２０度の入射角で測定された像の鮮明度（ＤＯＩ）、および先に記載されたように測定された画素力偏差（ＰＰＤ）を調べた。ＰＰＤは、光変換特徴を有する表面で覆われた画素化ディスプレイ上のきめまたはスパークルの外観に相関する。

図２４は、ｘ軸上のヘイズ％に対するｙ軸上の光沢（６０度で測定）のプロットである。図２４は、両面測定でとられた比較例４Ｍ～Ｓに対応する三角形のデータ点；両面測定でとられた実施例４Ａ～Ｌに対応する円形データ点；片面測定でとられた比較例４Ｍ～Ｓに対応する菱形データ点；および片面測定でとられた実施例４Ａ～Ｌに対応する正方形データ点を含む。片面測定を行うために、測定されている試料の背面は、背面反射を除去するために光吸収体に結合されたのに対し、両面測定は、そのように結合された光吸収体は含まなかった。

図２５は、ｘ軸上のヘイズ％に対するｙ軸上のＤＯＩ（２０度で測定）のプロットである。図２５は、両面測定でとられた比較例４Ｍ～Ｓに対応する三角形のデータ点；両面測定でとられた実施例４Ａ～Ｌに対応する円形データ点；片面測定でとられた比較例４Ｍ～Ｓに対応する菱形データ点；および片面測定でとられた実施例４Ａ～Ｌに対応する正方形データ点を含む。片面測定を行うために、測定されている試料の背面は、背面反射を除去するために光吸収体に結合されたのに対し、両面測定は、そのように結合された光吸収体は含まなかった。

図２６は、ｘ軸上のヘイズ％に対するｙ軸上のＰＰＤ（１４０ピクセル・パー・インチを有する下層のディスプレイについて測定）のプロットである。図２６は、比較例４Ｍ～Ｓに対応する三角形のデータ点；および実施例４Ａ～Ｌに対応する円形データ点を含む。

図２４～２６は、それぞれ、光沢、ＤＯＩ、およびＰＰＤが、光学コーティングを含まない試料と比べた場合、ざらついた光変換（または防眩）特徴を有する基板表面上に耐引掻性光学コーティングを追加することにより、維持されている、わずかに改善されている、または実質的に低下していないことを示す。

ここに用いられているように、「約」という用語は、量、サイズ、配合、パラメータ、および他の数量と特徴が、正確ではなく、正確である必要ないが、許容範囲、変換係数、丸め、測定誤差など、および当業者に公知の他の要因を反映して、要望通りに、近似および／またはより大きいかより小さいことがあることを意味する。値または範囲の端点を記載する上で、「約」という用語が使用されている場合、その開示は、言及されているその特定の値または端点を含むと理解すべきである。明細書における数値または範囲の端点に「約」が付いていようとなかろうと、その数値または範囲の端点は、以下の２つの実施の形態：「約」で修飾されているもの、および「約」で修飾されていないものを含むことが意図されている。それらの範囲の各々の端点は、他方の端点に関してと、他方の端点に関係なくの両方で有意であることがさらに理解されよう。

ここに用いられているような、「実質的」、「実質的に」などの用語、およびその変種は、記載された特徴が、ある値または記載と等しいまたはほぼ等しいことを指摘する意図がある。例えば、「実質的に平らな」表面は、平らまたはほぼ平らである表面を意味する意図がある。さらに、「実質的に」は、２つの値が等しいまたはほぼ等しいことを意味する意図がある。いくつかの実施の形態において、「実質的に」は、互いの約５％以内、または互いの約２％以内など、互いの約１０％以内の値を意味することがある。

ここに用いられているような方向を示す用語－例えば、上、下、右、左、前、後ろ、上部、底部、内側、外側－は、描かれた図面に関してのみ用いられ、絶対的な向きを暗示する意図はない。

ここに用いられているように、名詞は、「少なくとも１つの」対象を指し、明確に反対であると示されていない限り、「たった１つ」の対象に限定されるべきではない。それゆえ、例えば、「成分」への言及は、文脈が明らかに別なふうに示していない限り、そのような成分を２つ以上有する実施の形態を含む。

本開示の精神および範囲から逸脱せずに、本開示に様々な改変および変更を行えることが当業者に明白であろう。それゆえ、本開示は、そのような改変および変更を、それらが、付随に特許請求の範囲およびその等価物の範囲内に入るという条件で包含することが意図されている。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
被覆物品において、
光散乱を誘発する粗面を含む主面を有する透明基板、および
前記透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含み、３００ｎｍ超の物理的厚さを有する光学コーティング、
を備え、
約５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記空気側表面で測定して、約１０ＧＰａ以上の最大硬度を示す、被覆物品。

実施形態２
前記主面が、（ｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ｑ、および（ｉｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ａの少なくとも一方の粗さを有する、実施形態１に記載の被覆物品。

実施形態３
前記光学コーティングが、前記粗面のＲ_ａまたはＲ_ｑより大きい物理的厚さを有する、実施形態２に記載の被覆物品。

実施形態４
前記光学コーティングが、６００ｎｍ超の物理的厚さを有する、実施形態１から３のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態５
４．５％未満、または４％未満の少なくとも一方の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）をさらに有する、実施形態１から４のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態６
明所視平均として、約０．５％未満、または約０．２５％未満、または０．２％未満、または０．１５％未満、または０．１％未満、またはそれより小さいの少なくとも１つの片面正反射率をさらに有する、実施形態１から６のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態７
ほぼ垂直の入射角から４０度の入射角までで、約０．５％未満、および６０度の入射角で、３％未満、または１．５％未満、または１％未満の少なくとも一方の片面正反射率をさらに有する、実施形態１から６のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態８
約０．０５超、または０．１％超、かつ約０．５以下、または約１．０以下、または約１．５以下、または約２．０以下、または約３．０以下の両面拡散反射率（ＳＣＥ）をさらに有する、実施形態１から７のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態９
約５．５未満の両面全反射率（ＳＣＩ）をさらに有する、実施形態１から８のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１０
１６未満、１２未満、１０未満、５未満、または２未満の絶対値を有するａ^＊およびｂ^＊反射色値をさらに有する、実施形態１から９のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１１
約６超、約１０から約１６、約１６超、約１０から約２０、約１０から約３０、約１０から約４０、および約１０から約５０の少なくとも１つの絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊、および
約４％から約７％、および１０％未満の少なくとも一方の前記主面での透過ヘイズ値、
をさらに有する、実施形態１から１０のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１２
６未満、５未満、４未満、および２未満の少なくとも１つの絶対値を有するａ^＊および／またはｂ^＊、および
１０％超、２０％超、２５％超、２７％超、４０％超、５０％超、および６０％超の少なくとも１つの前記主面の透過ヘイズ値、
をさらに有する、実施形態１から１０のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１３
９５未満、９０未満、８０未満、または７０未満の少なくとも１つの２０度ＤＯＩをさらに有する、実施形態１から１２のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１４
８０未満、または６０未満の６０度光沢度をさらに有する、実施形態１から１３のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１５
８０％超、９０％超、９４％超の少なくとも１つの全光透過率をさらに有する、実施形態１から１４のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１６
１０％未満、または５％未満の少なくとも一方の画素力偏差（ＰＰＤ）で測定されたスパークル性能をさらに有する、実施形態１から１５のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１７
２５サイクル／分の速度で１サイクルに亘る４ｋｇ荷重下での１５０グリットのガーネット引っ掻き試験後に、前記物品が、
６．０％未満、または５．０％未満の、および／または２．０％未満、１．０％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
３．０％未満、２．０％未満、１．０％未満、または０．５％未満の、および／または１．０％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および
６．０％未満、または５．０％未満の、２．０％未満、１．０％未満、０．５％未満、または０．２％未満しか未研磨値から変化していない、両面全反射率（ＳＣＩ）、
の少なくとも１つを有する、実施形態１から１６のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１８
２５サイクル／分の速度での５０サイクルに亘る、１ｋｇの総質量の荷重下での、４００グリットのＫｏｖａｘ研磨紙による「Ｔａｂｅｒ」摩耗試験後に、前記物品が、
７．５％未満、６．０％未満、または５．０％未満の、および／または３．０％未満、２．０％未満、または１．０％未満しか未研磨値から変化していない、両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）、
５．０％未満、３．０％未満、２．０％未満、または１．０％未満の、および／または３．０％未満、２．０％未満、１．０％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面拡散反射率（ＳＣＥ）、および／または
８．０％未満の、および／または３．０％未満、２．０％未満、１．０％未満、または０．５％未満しか未研磨値から変化していない、両面全反射率（ＳＣＩ）、
の少なくとも１つを有する、実施形態１から１７のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態１９
１２ＧＰａ以上、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上の少なくとも１つの硬度をさらに有する、実施形態１から１８のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態２０
少なくとも１２ＧＰａの硬度および３００ｎｍ超の光学コーティングの厚さをさらに有する、実施形態１から１９のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態２１
少なくとも１４ＧＰａの硬度および少なくとも５００ｎｍの光学コーティングの厚さをさらに有する、実施形態１から２０のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態２２
国際照明委員会の光源下での垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色系における前記物品の透過率および／または反射率色座標が、前記空気側表面で測定して基準点から約１０未満の基準点色ずれを示し、該基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）、（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）、または前記基板のそれぞれの透過率または反射率色座標を含み、
前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）^２）により定義され、
前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）により定義され、
前記基準点が前記基板の色座標である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品－ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品－ｂ^＊ _基板）^２）により定義される、実施形態１に記載の被覆物品。

実施形態２３
前記被覆物品が、約５０％以下の透過ヘイズ値を有する、実施形態１に記載の被覆物品。

実施形態２４
前記基板が、非晶質基板または結晶基板からなる、実施形態１から２３のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態２５
前記被覆物品が、約５０％以上の平均明所視透過率を有する、実施形態１から２４のいずれか１つに記載の被覆物品。

実施形態２６
実施形態１から２５のいずれか１つに記載の被覆物品を備えた電子機器。

１００ 被覆物品
１１０ 基板
１１２、１１４ 主面
１１６、１１８ 副面
１２０ 光学コーティング
１２２ 空気側表面
１２４、１６５ 粗い界面
１３０ 反射防止コーティング
１３０Ａ 低ＲＩ層
１３０Ｂ 高ＲＩ層
１３２ 周期
１４０ 上部コーティング
１５０ 耐引掻性層
１５４ 下位層
１５５ 界面
１６０ 上部勾配層
１７０ 底部勾配層
１８０ 光散乱部材

Claims (12)

1. 被覆物品において、
   光散乱を誘発する粗面を含む主面を有する透明基板、および
   前記透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含み、２００ｎｍ超の物理的厚さを有する光学コーティング、
   を備え、
   ５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記空気側表面で測定して、１０ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
   前記主面が、（ｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ｑ、および（ｉｉ）１００ｎｍ以上のＲ_ａの少なくとも一方の粗さを有す、被覆物品。
2. 被覆物品において、
   光散乱を誘発する粗面を含む主面を有する透明基板、および
   前記透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含み、１００ｎｍから１０マイクロメートルの物理的厚さを有する光学コーティング、
   を備え、
   前記１つ以上の材料層が、５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記１つ以上の材料層の内のいずれか１つ以上の層の表面で測定して、８ＧＰａ以上の最大硬度を示す高屈折率（ＲＩ）層および／または耐引掻性（ＳＣＲ）層を含み、
   前記主面が、２０ｎｍから２０００ｎｍの二乗平均平方根粗さ（Ｒ_ｑ）を有す、被覆物品。
3. 被覆物品において、
   光散乱を誘発する粗面を含む主面を有する透明基板、および
   前記透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含み、１００ｎｍから１０マイクロメートルの物理的厚さを有する光学コーティング、
   を備え、
   前記１つ以上の材料層が、５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記１つ以上の材料層の内のいずれか１つ以上の層の表面で測定して、８ＧＰａ以上の最大硬度を示す高屈折率（ＲＩ）層および／または耐引掻性（ＳＣＲ）層を含み、
   前記被覆物品が、１％未満以下の明所視平均としての片面正反射率を有す、被覆物品。
4. 被覆物品において、
   主面を有する透明基板、
   前記透明基板の主面上に配置され、空気側表面を形成する光学コーティングであって、１つ以上の材料層を含む、光学コーティング、および
   光散乱を誘発する複数の光変換特性であって、前記光学コーティングおよび前記透明基板の前記主面のうちの１つ以上が、前記複数の光変換特性から構成される、光変換特性
   を備え、
   前記１つ以上の材料層が、５０ｎｍ以上の圧入深さに沿ってバーコビッチ圧子硬度試験により前記１つ以上の材料層の内のいずれか１つ以上の層の表面で測定して、８Ｐａ以上の最大硬度を示す高屈折率（ＲＩ）層および／または耐引掻性（ＳＣＲ）層を含み、
   前記被覆物品が、１％未満以下の明所視平均としての片面正反射率を有す、被覆物品。
5. ４．５％未満、または４％未満の少なくとも一方の両面正反射率（ＳＣＩ－ＳＣＥ）をさらに有する、請求項１から４いずれか１項記載の被覆物品。
6. 明所視平均として、０．５％未満、または０．２５％未満、または０．２％未満、または０．１５％未満、または０．１％未満、またはそれより小さいの少なくとも１つの片面正反射率をさらに有する、請求項１から５いずれか１項記載の被覆物品。
7. １６未満、１２未満、１０未満、５未満、または２未満の絶対値を有するａ^＊およびｂ^＊反射色値をさらに有する、請求項１から６いずれか１項記載の被覆物品。
8. １２ＧＰａ以上、１４ＧＰａ以上、１６ＧＰａ以上の少なくとも１つの硬度をさらに有する、請求項１から７いずれか１項記載の被覆物品。
9. 国際照明委員会の光源下での垂直入射でのＬ^＊ａ^＊ｂ^＊測色系における前記被覆物品の透過率および／または反射率色座標が、前記空気側表面で測定して基準点から１０未満の基準点色ずれを示し、該基準点は、色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）、（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）、または前記透明基板のそれぞれの透過率または反射率色座標を含み、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝０、ｂ＝^＊０）である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品）^２＋（ｂ^＊ _物品）^２）により定義され、
   前記基準点が前記色座標（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品＋２）^２＋（ｂ^＊ _物品＋２）^２）により定義され、
   前記基準点が前記透明基板の色座標である場合、前記色ずれは、√（（ａ^＊ _物品－ａ^＊ _基板）^２＋（ｂ^＊ _物品－ｂ^＊ _基板）^２）により定義される、請求項１から８いずれか１項記載の被覆物品。
10. 前記被覆物品が、５０％以下の透過ヘイズ値を有する、請求項１から９いずれか１項記載の被覆物品。
11. 前記被覆物品が、５０％以上の平均明所視透過率を有する、請求項１から１０いずれか１項記載の被覆物品。
12. 請求項１から１１いずれか１項記載の被覆物品を備えた電子機器。

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