JP2013526710A - 容器ガス放出検査方法 - Google Patents

Abstract

被覆処理製品の検査方法を提供する。上述方法では、被覆表面に隣接する気層へと被覆表面から放出される少なくとも１種の揮発性種を測定し、結果を同一試験条件の下で測定する少なくとも１つの参照物体と比較する。したがって、被覆材の有無及び／又は被覆材の物理的及び／又は化学的性質を判定可能である。本方法は、例えば容器といった被覆品目の検査に有用である。有機ケイ素前駆体から生成されるＰＥＣＶＤ被覆材、特に遮断性被覆材の検査への適用についても開示する。

Description

以下の米国仮特許出願、即ち：２００９年５月１３日出願の第６１／１７７，９８４号；２００９年７月２日出願の第６１／２２２，７２７号；２００９年７月２４日出願の第６１／２１３，９０４号；２００９年８月１７日出願の第６１／２３４，５０５号；２００９年１１月１４日出願の第６１／２６１，３２１号；２００９年１１月２０日出願の第６１／２６３，２８９号；２００９年１２月１１日出願の第６１／２８５，８１３号；２０１０年１月２５出願の第６１／２９８，１５９号；２０１０年１月２９出願の第６１／２９９，８８８号；２０１０年３月２６出願の第６１／３１８，１９７号；２０１０年５月１１日出願の第６１／３３３，６２５号；及び２０１０年１１月１２日出願の第６１／４１３，３３４号；及び２０１０年５月１２日出願の米国特許出願第１２／７７９，００７号は全て参照により全体が本明細書に組み込まれる。

同様に参照により全体が本明細書に組み込まれるものは、以下の欧州特許出願、即ち：２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５５．２；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７６０．２；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５６．０；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５８．６；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７６１．０；及び２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５７．８である。これらの欧州特許出願は特段の記載が無い限り本発明の実施において一般的に使用できる装置、容器、前駆体、被覆材及び方法（特に被覆材、方法及び被覆材を調べるための検査方法）を記載している。それらはまた、本明細書において参照するＳｉＯ_x遮断性被覆及び潤滑性被覆材も記載している。

更に参照により本明細書に組み込まれるものは２０１１年５月１１日に出願されたＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７であり、これは本発明の方法により検査することができる被覆材及び被覆品目（特にシリンジ）をやはり記載している。

本明細書を通してＥＰ２２５１６７１Ａ２（これは上記したＥＰ１０１６２７５８．６に相当し、そしてやはり本出願への優先権の適用を構成する）を参照する。これにおいては、本発明の基礎を形成する一般的なガス放出方法が記載及び例示されており、そしてこのため、この点に関するその内容は参照により特に本明細書に組み込まれる。

技術分野
本発明は、生物学的に活性な化合物又は血液を保存するための被覆容器を製造する技術分野に関する。特に本発明は、容器を被覆するための容器処理システム、容器を被覆及び検査するための容器処理システム、容器処理システムのための携帯型容器ホルダー、容器内面を被覆するためのプラズマ促進化学蒸着装置、容器内面を被覆するための方法、容器を被覆及び検査するための方法、容器処理の方法、容器処理システムの使用法、コンピューターに読み込み可能な媒体、及びプログラム要素に関する。

被覆処理製品の検査方法を提供する。上述方法では、被覆表面に隣接する気層へと被覆表面から放出される少なくとも１種の揮発性種を測定し、結果を同一試験条件の下で測定する少なくとも１つの参照物体と比較する。したがって、被覆材の有無及び／又は被覆材の物理的及び／又は化学的性質を判定可能である。本方法は、例えば容器といった被覆品目の検査に有用である。有機ケイ素前駆体から生成されるＰＥＣＶＤ被覆材、特に遮断性被覆材の検査への適用についても開示する。

本開示はまた、例えば静脈穿刺やその他の医学的検体採集、医薬品の保管と配送、及びその他の目的に使用する複数の同一容器といった、容器処理の改良方法に関する。かかる容器はこれらの目的で多量に使用されるため、製造費用が比較的安価でありながら保管及び使用における信頼性が高いことが必須である。

背景技術
真空採血管は、医学的分析のために患者から血液を採取するために使用される。管は真空状態で販売される。患者の血液を管内部へと移送するには、両頭皮下注射針の一端を患者の血管に挿入し、両頭針のもう一方の端にある真空採血管の閉包部を穿孔する。真空採血管内が真空であるため血液が吸引され（より正確には、血液が患者の血圧により押し出され）針を通って真空採血管へと流れ、管内の圧力が増大し、したがって血液流入の誘因である圧力差が減少する。血液流入は一般に針が除去されるまで、又は圧力差が小さくなり過ぎて流入を喚起できなくなるまで継続する。

真空採血管には、使用前の管の効率的で便宜な流通と保管を促進する目的で、実質的な保存可能期間が設けられている。例えば、1年の保存可能期間が望ましく、及び場合によっては１８カ月、２４カ月、３６カ月といった次第に長期な保存可能期間もまた望ましい。管は、欠陥管の提供はほとんど（好ましくはまったく）ないことを条件に、少なくとも分析に必要な血液を吸引するのに必須であるレベル（共通基準は、管が元来の吸引量の少なくとも90%を保持すること）で、本質的に完全真空状態を維持することが望ましい。

欠陥管の使用により、瀉血専門医は十分な血液を吸引できない場合がある。瀉血専門医はその後、1つ以上の追加管を入手及び使用して、適切な血液検体を採取しなければならない。

使用前にシリンジを薬剤で充填する手間を省く充填済みシリンジが、一般に製造・販売されている。シリンジは、一部の例では、食塩水、注射用染料、又は薬学的に活性な製剤で充填される。

一般に、充填済みシリンジの遠位端は蓋で覆われており、近位端はプランジャーで塞がれている。充填済みシリンジは使用前に無菌パッケージ材で包装されている場合がある。充填済みシリンジを使用するには、包装及び蓋を除去し、場合により皮下注射針又はその他の搬送導管をバレル遠位端に装着し、搬送導管又はシリンジを使用位置に移動し（皮下注射針を患者の血管に挿入する、シリンジの内容物を洗浄するための装置へと挿入する、など）、プランジャーをバレル内へと前進させてバレルの内容物を注入する。

充填済みシリンジの製造における重要事項の1つとして、シリンジの含有物が好ましくは実質的な保存可能期間を有することが挙げられ、期間中には、シリンジを満たす物質をそれを包含するバレル壁から分離して、充填済み含有物へのバレルの構成物質の浸出を防止すること、又はその逆が重要である。

シリンジに関するさらなる検討事項として、プランジャーをバレルに押し込む場合に移動可能であることを確保することが挙げられる。この目的のために、潤滑性被覆材、例えば上記引用出願に記載されている潤滑性被覆材が望ましい。

これらの容器の多くは安価で多量に使用されるため、特定の用途については、製造費用を高額なレベルに増加させることなく信頼性ある必要保存可能期間が得られることが有用である。

ここ数十年間、大部分の非経腸治療薬はバイアル又は充填済みシリンジのようなI型医療用等級のホウケイ酸塩ガラスコンテナ中でエンドユーザーに供給されている。ホウケイ酸塩ガラスの比較的強度のある非透過性で不活性の表面は大部分の医薬品に対しては十分機能している。しかしながら高価格、複雑及び感受性の高い生物医薬の最近の出現、並びに自動インジェクターのような最新のデリバリーシステムは、ガラスの物理的及び化学的な難点、例えば金属による汚染及び破損の可能性やその他の問題点をあからさまにしている。更にまた、ガラスは保存中に滲出し、保存されている物質を損なう場合がある数種の成分を含有している。より詳細には、ホウケイ酸塩容器は下記のような多くの欠点を呈する。

・ ガラスは多くの元素（ケイ素、酸素、ホウ素、アルミニウム、ナトリウム、カルシウム）と痕跡量の他のアルカリ及び土類金属の不均質な混合物を含有する砂から製造される。Ｉ型ホウケイ酸塩ガラスは概ね７６％ＳｉＯ₂、１０．５％Ｂ₂Ｏ₃、５％Ａｌ₂Ｏ₃、７％Ｎａ₂Ｏ及び１．５％ＣａＯよりなり、そしてしばしば鉄、マグネシウム、亜鉛、銅その他のような微量金属を含有する。ホウケイ酸塩ガラスの不均質な性質は分子レベルで非均一な表面化学的特徴を形成する。ガラス容器を作成するために使用されるガラス形成工程は１２００℃もの高温にコンテナの特定部分を曝露する。このような高温下においては、アルカリイオンは局所的表面に移行し、そして酸化物を形成する。ホウケイ酸塩ガラス機器から抽出されたイオンの存在は一部の生物学的薬品の分解、凝集及び変性に関与する場合がある。多くの蛋白及び他の生物学的薬品は、それらがガラスバイアル又はシリンジ中では溶液として十分安定ではないため、凍結乾燥（フリーズドライ）される。

・ ガラスシリンジ中ではバレル中にプランジャーをスライドさせるための潤滑剤として典型的にはシリコンオイルが使用されている。シリコン油状物はインスリン及び一部の他の生物学的薬品のような蛋白溶液の沈殿に関与することが示唆されている。更にまた、シリコンオイル被覆材はしばしば非均一であり、市場におけるシリンジの不具合をもたらす。

・ ガラス容器は製造、充填操作、出荷及び使用の間に破損又は分解しやすく、これはガラス粒子が薬品に進入する可能性があることを意味している。ガラス粒子の存在は多くのＦＤＡのＷａｒｎｉｎｇ Ｌｅｔｔｅｒｓ及び製品リコールの原因となっている。

・ ガラス形成工程は、より新しい自動インジェクター及びデリバリーシステムの一部で必要とされる厳密な寸法上の耐容性をもたらさない。

その結果、一部の企業は、非透過性を欠いているがガラスより大きい寸法耐容性及びより少ない破損をもたらすプラスチック容器に転向している。

プラスチックは破損、寸法耐容性及び表面均一性に関してはガラスよりも優れているが、一次医薬品パッケージのためのプラスチックの使用は以下の短所のために制限されたままである。

・ 表面特性：プレシリンジ及びバイアルに適するプラスチックは一般的に、疎水性の表面を呈し、これはしばしば機器に含有される生物学的薬品の安定性を低下させる。

・ ガス（酸素）透過性：プラスチックは小分子ガスを機器内部（又は外部)に透過させる。プラスチックのガス透過性はガラスのものよりも顕著に高値であり、そして多くの場合において（エピネフリンのような酸素感受性薬品の場合等)、プラスチックはその理由のために許容されない。

・ 水蒸気透過性：プラスチックは水蒸気をガラスよりも高い程度にまで機器を通過させる。これは固体（凍結乾燥）薬品のシェルフライフに悪影響を与える場合がある。或いは、液体製品は乾燥環境において水分を失う場合がある。

・ 滲出物及び抽出物：プラスチック容器は滲出又は抽出されて薬品中に入る可能性がある有機化合物を含有する。これらの化合物は薬品を汚染させたり、及び／又は薬品の安定性に悪影響を与える場合がある。

明らかに、プラスチック及びガラス容器は各々、医薬品一次パッケージにおいて特定の利点をもたらすものの、何れも、全ての薬品、生物学的薬剤又は他の治療薬に対して最適ではない。即ち、ガラスの特性に近づいたガス及び溶質の遮断特性を有するプラスチック容器、特にプラスチックシリンジが望まれている。更にまた、十分な潤滑特性を有するプラスチックシリンジ、及び、シリンジ内容物との適合性がある潤滑性被覆材が必要とされている。

上記引用出願の１つに記載されているような有機ケイ素前駆体を用いながらＰＥＣＶＤにより作成された遮断性被覆材又は潤滑性被覆材でプラスチック容器を被覆することにより、そのような所望の容器を提供することができる。しかしながら、商業的生産を確保するためには、被覆材の検査を可能にする検査方法も必要である。

関連性が見込まれる特許の非網羅的リストには、米国特許６，０６８，８８４号及び４，８４４，９８６号、及び米国公開特許出願２００６００４６００６号及び２００４０２６７１９４号が含まれる。

発明の概要
本発明は表面、特に被覆表面、そして特記すれば有機ケイ素前駆体から作成されたＰＥＣＶＤ被覆材で被覆されたプラスチック表面を検査するための方法を提供する。検査は検査品目からのガス放出、特に被覆基板からのガス放出を検出することにより実施される。本発明はその主要出願において、例えば容器壁上に被覆された遮断層を通過する、容器壁のガス放出を検出することによる容器検査のための方法を提供する。本発明は更に本発明によるガス放出方法により検査を実施する、容器の被覆材及び検査を包含する方法に関する。特定の態様において、本発明はＰＥＣＶＤ被覆手順及び検査手順を包含する方法に関し、後者はガス放出方法により実施する。

本発明のガス放出方法は検査素材の特性の迅速で正確な測定を可能にする。例えば、被覆材、例えば遮断性被覆材がプラスチック基板上に存在するかを、迅速及び正確に測定できる。

本発明は更に上記及び／又は下記の方法手順を実施するために設計された装置（例えば容器処理システムの容器処理ステーション）に関する。そのような処理ステーションの例２０、３０、５５０１〜５５０４は図１及び図１５〜図１７に記載するとおりである。

本発明は更に、容器処理システムのような装置のプロセッサにより実行される場合に、それが上記及び／又は下記の方法手順を実施するように装置を制御するようにプロセッサを指示するように適合された、表面の検査のためのコンピュータープログラムが格納されているコンピューター読み取り可能な媒体に関する。

本発明は更に、容器処理システムのような装置のプロセッサにより実行される場合に、それが上記及び／又は下記の方法手順を実施するように装置を制御するようにプロセッサを指示するように適合された、表面の検査のためのプログラム要素又はコンピュータープログラムに関する。

即ち、プロセッサは本発明の方法の実施形態を実施するように装備されている。コンピュータープログラムは何れかの適するプログラム言語、例えばＣ＋＋で書かれていて良く、そしてコンピューター読み取り可能な媒体、例えばＣＤ−ＲＯＭに格納されていて良い。更にまた、コンピュータープログラムはワールドワイドウエブのようなネットワークから入手してよく、それより画像処理装置又はプロセッサ、又は何れかの適当なコンピューターにダウンロードしてよい。

本発明のある態様は、ガス放出揮発性種の測定を行う前に、検査品目の素材から発生する、又は、検査品目と接触する充填素材、例えば二酸化炭素、窒素、アルゴン、キセノン、クリプトン、炭素原子１〜４個を有する低級炭化水素、例えば、エチレン、エタン、又はメタン、炭素原子１〜４個を有する低級ハロゲン化炭化水素、例えば、塩化メチル、塩化メチレン、フッ化メチル又はトリフルオロエタン、又は炭素原子１〜４個を有する低級炭化水素エーテル、例えばジエチルエーテル又はジメチルエーテル又はエチルメチルエーテルを含む充填素材から発生する、揮発性種であってよい被覆品目による揮発性種ガス放出を測定することにより、シリンジ又は採血管のような、第１の素材で作成されている物体として環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）熱可塑性鋳造基板上のＳｉＯ_x被覆材のような、第１の素材から作成され、そして表面を有する基板又は他の物体の上の被覆材又は遮断層を検査するための方法及びシステム（“ガス放出方法”）である 。前記方法は被覆表面を形成するために基板の表面に被覆材が塗布されている被覆処理製品を検査するために使用できる。前記方法は例えば遮断層の存在下又は非存在下に測定に対して有効な条件下に実施する。例えば前記方法は、所定の基準に合致しない被覆製品又は損傷を受けた被覆製品を識別して排除するために、被覆処理のためのインライン処理制御として使用できる。

一般的に、「揮発性種」とは試験条件における気体又は蒸気であり、そして、希ガス、二酸化炭素、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、空気、窒素、酸素、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基板成分、被覆材の揮発性反応生成物、及びこれらの組み合わせよりなる群から選択してよく、場合により空気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気又はこれらの組み合わせである。揮発性種は検査前に検査品目に充填してよく、或いは充填されない素材中に存在してよい（例えば揮発性基板成分又は被覆材の残留反応性生物）。前記方法は１種のみ又は数種の揮発性種を測定するために使用できるが、生物学的に活性なにより、複数の異なる揮発性種を測定してよく、そして場合により検査物体から放出される実質的に全ての揮発物質を測定する。

本発明の別の態様は例えば遮断層の存在に関して物体を検査するための方法であり、この場合、方法は充填素材で検査物体を充填することを包含する。この方法において、第１の素材の少なくとも部分から作成された物体が提供され、その物体は表面を有し、その物体は場合により少なくとも部分的な遮断層を第１の素材と表面との間に有する（１態様においては、遮断層は物体の表面を形成し、即ち、物体は遮断層で被覆される）。場合により、充填素材は第１の素材に可溶であるか、これにより吸収又は吸着され、そして物体は充填素材と接触する。ガス放出は表面の少なくとも一部分から測定される。前記方法は例えば遮断層の存在下又は非存在下に測定に対して有効な条件下に実施される。

充填素材はガス放出方法の感度を増強できる。特に、２つの検査種、例えば被覆されている基板と被覆されていない基板の間の判別を簡素化できる。充填素材はまた２種の素材の間で、異なる量の異なる素材により結合され、そしてガス放出される場合に、判別を可能にする。

非被覆とSiO_x被覆プラスチック品目の判別は後にガス放出され測定されることができるガス(例えば充填素材）を吸収するプラスチック品目の能力に依存している。プラスチック中のガスの溶解度はプラスチック中に滞留できるガスの量の重要な決定因子であり、したがって、適する非被覆ｖｓ被覆品目の判別を可能にする特定のガスの能力の良好な予測を可能にする。本発明の１つの態様において、充填素材でプラスチックを充填することによりプラスチック中に吸収又は吸着されるガスの量を増大させることが好都合である。これはガス放出測定の間に放出されたガス放出揮発性種のより高値の量をもたらし、これにより読み取りを増強することができる。

本発明の特定の態様においては、ガス放出測定の上昇した感度は二酸化炭素を使用することにより、及び／又は、二酸化炭素(例えば二酸化炭素ガス）、Ｎ₂、Ａｒ、キセノン、クリプトン、炭素原子１〜４個を有する低級炭化水素、例えば、エチレン、エタン、又はメタン、炭素原子１〜４個を有する低級ハロゲン化炭化水素、例えば、塩化メチル、塩化メチレン、フッ化メチル又はトリフルオロエタン、又は炭素原子１〜４個を有する低級炭化水素エーテル、例えばジエチルエーテル又はジメチルエーテル又はエチルメチルエーテルにより基板をスパイクすることにより実現できる。窒素、水及び酸素の溶解度が低値となるＣＯＣ基板を試験する場合はＣＯ₂の使用が特に有用である。

一般的に、本発明のガス放出方法は以下の手順を含む。

（ａ）検査物体としての生成物の提供；

（ｃ）物体表面に隣接する気層へ検査物体から放出される少なくとも１種の揮発性種の測定；及び、

（ｄ）手順（ｃ）の結果と同一試験条件下での少なくとも１種の参照物体に関する手順（ｃ）の結果との比較、したがって特定の素材又は検査物体、例えば基板上の被覆材の特定の成分の有無の判定。

典型的には、本発明の被覆基板を検査するためのガス放出方法は以下の手順を含む。

(ａ) 検査物体としての被覆材を含む生成物の提供；

(ｃ)被覆表面に隣接する気層へと検査物体から放出される少なくとも1種の揮発性種の測定；及び、

(ｄ) 手順（ｃ）の結果と同一試験条件下での少なくとも１種の参照物体に関する手順（ｃ）の結果との比較、したがって被覆材の有無及び/又は被覆材又は被覆された基板の物理的及び/又は化学的性質の判定。

ガス放出方法における被覆材の物理的及び/又は化学的性質は、遮断性、ぬれ張力、及び組成物からなる群から選択される場合があり、場合により遮断性である。

有利には手順（ｃ）は、被覆表面に隣接する気層内の少なくとも１種の揮発性種の質量流速率又は体積流速率を測定することにより実行される。

場合により、参照物体（ｉ）は非被覆基板である、又は（ｉｉ）は参照被覆材で被覆された基板である。これは、例えばガス放出法を被覆材の有無を判定するために使用する（参照物体は非被覆基板である可能性あり）か、被覆材の性質を例えば既知の性質を有する被覆材と比較して判定するか、一般的な検査材料を既知材料と比較するかにより、異なる。特定の被覆材を用いて被覆材を識別する場合は、典型として参照被覆材を選択することもできる。

ガス放出方法は、追加手順として手順（ａ）と（ｃ）の間に被覆表面を通して圧力差が提供される、及び、圧力差なしでより高い揮発性種の質量流速率又は体積流速率が実現される可能性があるといった、被覆表面に隣接する気層における気圧を変更する手順（ｂ）を含むことができる。この場合、揮発性種は圧力差の低い側に向かって移動する。被覆物体が容器である場合、容器内腔と外部との圧力差を確立して、被覆容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する。圧力差は、例えば容器内の気層を少なくとも一部真空化することにより達成される場合がある。この場合、揮発性種は容器内腔へのガス放出として測定される可能性がある。

圧力差を創出するために真空状態としている場合、基板の被覆表面と真空源の間に介在する測定セルを利用して、測定を実行可能である。

他の態様において、検査物体が手順（ａ）において揮発性種、場合により大気、窒素、酸素、水蒸気、二酸化炭素、希ガス及びそれらの複合体からなる群から選択される揮発性種に接触する、場合により検査物体の材質上／内への揮発性種の吸収を可能とする場合がある。次に後続の、検査物体からの揮発性種の放出を手順（ｃ）で測定する。材質が異なれば（例えば被覆材及び基板）吸収量及び吸収性も異なるため、これにより被覆材の有無及び特性の判定が簡素化される可能性がある。

基板はポリマー化合物である、場合によりポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、又はそれらの複合体である可能性がある。本発明のガス放出方法はＣＯＣ、ポリエチレンテレフタレート及びポリプロピレンの検査のために特に有利である。

本発明の文脈において、ガス放出方法により特徴付けられる被覆材は如何なる被覆材であってもよいが、典型的には例えば本明細書及び本明細書のパラグラフ１〜３において引用した出願に記載されている有機ケイ素前駆体からＰＥＣＶＤにより調製される被覆材であり、これらの出願は、本発明を適用できる被覆材を指すために明らかに参照するものとする。例えば被覆材は遮断層であることができ、場合によりＳｉＯ_x層であり、ここでｘは約１．５〜約２．９である。別の例に関しては、被覆材は定義のセクション又は引用出願において定義されるとおりに特徴付けられる潤滑層、及び／又は、定義のセクション又は引用出願において定義されるとおりに特徴付けられる疎水性層であることができる。

ガス放出方法により検査される製品の被覆方法が、真空条件下で実行されるＰＥＣＶＤ被覆である場合、後続のガス放出測定はＰＥＣＶＤに使用した真空状態を中断することなく行う場合がある。

測定される揮発性種は、被覆材から放出される揮発性種、基板から放出される揮発性種、又は両方の複合体である場合がある。一態様において、揮発性種は被覆材から放出される揮発性種、場合により揮発性被覆材成分であり、被覆材の有無、性質、及び／又は組成物を判定する検査が行われる。別の態様において、揮発性種は基板から放出される揮発性種、被覆材の有無及び／又は被覆材の遮断性を判定する検査が行われる。

本発明のガス放出方法は、容器壁上の被覆材の有無及び特性を判定するのに最適である。したがって、被覆基板は壁を有する容器であり、被覆処理中にその内面又は外面の少なくとも一部が被覆される可能性がある。例えば、被覆材は容器壁の内面に付着する。

被覆材の有無の判別、及び／又は被覆材の物理的及び／又は化学的性質の判定に有効な条件に、１時間未満、又は１分未満、又は５０秒未満、又は４０秒未満、又は３０秒未満、又は２０秒未満、又は１５秒未満、又は１０秒未満、又は８秒未満、又は６秒未満、又は４秒未満、又は３秒未満、又は２秒未満、又は１秒未満の試験期間が含まれる場合がある。

放出率及び／又は測定される揮発性種の種類に関して参照物体と検査物体の、例えば、差異を増大させるために、揮発性種放出率は雰囲気圧及び／又は温度及び／又は湿度を変更することで変更可能である。本発明による充填素材の使用は同じ目的のために機能する。

測定は例えば微小流動手法により実施してよい。

ある態様において、ガス放出はマイクロカンチレバー測定技術を使用して測定される。例えば、測定は以下により実行可能である。

（ｉ）
（ａ）ガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも１つのマイクロカンチレバーの提供；

（ｂ）マイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露；及び、

（ｃ）移動又は異なる形状の検出、場合によりマイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線、例えばレーザービームの照射による、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定による検出；又は、

（ｉｉ）
（ａ）ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも１つのマイクロカンチレバーの提供；

（ｂ）マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露；及び、

（ｃ）異なる共鳴周波数の検出、例えば調和振動センサーの使用。

ガス放出方法を実行する装置、例えば上述のマイクロカンチレバーからなる装置もまた検討される。

本発明のガス放出方法を使用して、例えば蒸気を放出する物質上の遮断層を検査可能であり、検査方法はいくつかの手順からなる。ガス放出する及び少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。本発明の態様において、遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。遮断層を通り抜ける放出ガスを測定する。圧力差が存在する場合、測定は一般に遮断層の低圧側で行う。

本発明の他の態様は本開示及び添付の図面から明らかにされる。

本開示の実施態様に記載の容器処理システムを示す概略図である。 本開示の実施態様に記載の被覆ステーションの容器ホルダーの概略断面図である。 充填済みシリンジとしての使用のために適合されたシリンジ及び蓋の分解縦断面図である。 処理用シリンジバレル及び別の容器を処理するための本発明の別の実施態様である。 図４の処理容器の拡大詳細図である。 被覆材を通る物質のガス放出を示す概略図である。 容器壁から容器内部へのガス放出誘導のための試験設定、及び容器と真空源の間に介在する測定セルを利用するガス放出測定の概略断面図である。 複数容器のための図７の試験設定上で測定されたガス放出質量流速率の図である。 図８に示すエンドポイントデータの分析を示す棒グラフである。 二重壁の採血管アセンブリの斜視図である。 例えば図１、図２、及び図４の実施態様と併用可能な容器ホルダーの別の構造である。 処理容器のアセンブリの概略図である。アセンブリは、前記図の何れかの装置と併用可能である。 ＥＰ２２５１６７１Ａ２の実施例１９で測定されたガス放出質量流速率のプロットである。 線状ラックを示す図である。 本発明の実施形態に記載の容器処理システムの配置図である。 本発明の別の実施形態に記載の容器処理システムの配置図である。 本発明の実施形態に記載の容器処理システムの処理ステーションを示す。 本発明の実施形態に記載の携帯型容器ホルダーを示す。 ＥＰ２２５１６７１Ａ２の実施例１０のデータを示す図７の試験セットアップにおいて測定されたガス放出質量流速率のプロットである。

図面内で使用する参照符号を以下に示している。

発明の詳細な説明
本発明について、複数の実施形態を示す添付図面を参照しながら、ここからとりわけより詳細な説明を行う。しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施形態に制限されるものではない。むしろこれらの実施形態は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。類似番号は、類似又は対応する要素に言及する。

定義のセクション
本発明の文脈において、以下の定義及び略称を使用する。

ＲＦは無線周波数（高周波）、ｓｃｃｍは標準立方センチメートル毎分（ｓｔａｎｄａｒｄ ｃｕｂｉｃ ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）を指す。

本発明の文脈における用語「少なくとも」は、前述用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。用語「からなる」はその他の要素又は手順が含まれる場合があり、単数形物質は別途指定がない限り複数である場合がある。パラメーターの範囲を示す場合は、範囲の限度として示されるパラメーターの値及び該範囲内に含まれるパラメーターの全ての値を開示することを意図している。

「第１」及び「第２」又は類似の、例えば処理ステーション又は処理機器を指す用語は、存在する処理ステーション又は機器の最低数を示すが、必ずしも処理ステーション及び機器の順番又は合計数を表すものではない。これらの用語は、処理ステーション又は各ステーションで行われる特定の処理の数を制限するものではない。

本発明の目的において、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合：
又は
を少なくとも１つ有する化合物であり、これは、酸素原子１つ及び有機炭素原子１つ（有機炭素原子は少なくとも１つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。ＰＥＣＶＤ装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体は、任意の有機ケイ素前駆体である。有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれらの前駆体２つ以上の複合体からなる群から選択されてもよい。

ＰＥＣＶＤ前駆体、ガス状反応体又は処理ガス、及び搬送ガスの供給量は、明細書及び請求項において「標準体積」と表わす場合がある。充填物の標準体積又はガスのその他の固定量は標準温度及び圧力において固定量のガスが占有する体積である（供給の実際の温度及び圧力には関係ない）。標準体積は体積の異なる単位を用いて測定でき、そのうえ本開示及び請求項の範囲内である。例えばガスの同じ固定量は標準立方センチメートルの数、標準立方メートルの数、又は標準立方フィートの数で表現される。標準体積はまた、異なる標準温度及び圧力を用いて定義することができ、そのうえ本開示及び請求項の範囲内である。例えば、標準温度は０℃であることができ、そして標準圧力は７６０トールであることができ（従来どおり）、或いは標準温度は２０℃であることができ、そして標準圧力は１トールであることができる。しかしながら、ある例において如何なる標準を使用する場合も、特定のパラメーターを特記することなく２種以上の異なるガスの層大量を比較する場合は、特段の記載が無い限り、同じ単位の標準温度、及び標準圧力を各ガスに関して使用すべきである。

ＰＥＣＶＤ前駆体、ガス状反応体又は処理ガス、及び搬送ガスの相当する供給率は、明細書中、時間の単位当たりの標準体積で表わす。例えば、実施例においては、流速はｓｃｃｍと略記される分当たりの標準立方センチメートルとして表わす。他のパラメーターと同様、秒や時間のような時間の他の単位も使用できるが、２種以上のガスの流速を比較する場合は、特段の記載が無い限り一貫したパラメーターを使用すべきである。
本発明の文脈における「容器」は、少なくとも1つの開口部と内面を定義する壁を有するいずれかの種類の容器である場合がある。被覆材基板は内腔を有する容器の内壁であることができる。本発明は特定の体積の容器には必ずしも限定されないが、内腔が０．５〜５０ｍＬ、場合により１〜１０ｍＬ、場合により０．５〜５ｍＬ、場合により１〜３ｍＬの空隙容積を有する容器が考えられる。基板表面は少なくとも１種の開口部及び内面を有する容器の内面の部分又は全てであることができる。

本発明の文脈における用語「少なくとも」は、前述用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。したがって、本発明の文脈における容器は、１つ以上の開口部を有する。検体管の開口部（１つ）又はシリンジバレルの開口部（２つ）のように、１つ又は２つの開口部が望ましい。容器が２つの開口部を有する場合、それらは同一又は異なるサイズである場合がある。開口部が２つ以上である場合、１つの開口部は本発明に記載のＰＥＣＶＤ被覆方法のガス吸入のために使用し、その他の開口部は蓋をするか開口状態にすることが可能である。本発明に記載の容器は、例えば血液、尿などの生物学的流体を採取／保管する検体管、生物学的に活性な化合物又は組成物（薬剤又は医薬組成物）を保管／搬送するシリンジ（又はシリンジバレルなどその一部）、生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を保管するバイアル、生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を搬送する導管（例えばカテーテル）、流体例えば生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を把持するキュベットである可能性がある。

容器はいずれかの形状をとる場合があり、少なくとも１つの開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器が望ましい。通常、容器の内部壁は、例えば検体管又はシリンジバレルのようにシリンダー状の形状をしている。検体管又はシリンジ又はその一部（例えばシリンジバレル）が特に望ましい。

本発明の文脈における「疎水性層」は、前述被覆材で被覆される表面のぬれ張力を、非被覆表面と比較して低下させる被覆材を意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板及び被覆の両方の機能である。適切な変更を伴う同様のことが、用語「疎水性」が使用されるその他の文脈に適用される。用語「親水性」はその反対を意味し、すなわち参照検体と比較してぬれ張力が増大することを意味する。本発明の疎水性層はそれらの疎水性及び疎水性を与えるための処理条件により主に定義され、そして場合により実験式又は総和式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zに従った組成を有することができる。

これは一般的に原子比Ｓｉ_wＯ_xＣ_yを有し、ここでｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、好ましくはｗは１であり、ｘは約０．５〜１．５であり、そしてｙは０．９〜２．０であり、より好ましくはｗは１であり、ｘは０．７〜１．２であり、そしてｙは０．９〜２．０である。原子比はＸＰＳ（Ｘ線光電子スペクトル分析）により測定できる。Ｈ原子を考慮すれば、被覆材は１つの態様において式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zを有し、例えばここで、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、そしてｚは約２〜約９である。典型的には、原子比は、本発明の特定の被覆材においてはＳｉ１００：Ｏ８０-１１０：Ｃ１００−１５０である。特記すれば原子比はＳｉ１００：Ｏ９２−１０７：Ｃ１１６−１３３であってもよく、そしてそのような被覆材は１００％炭素＋酸素＋ケイ素に標準化すれば３６％〜４１％炭素を含有する。

これらのｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は本明細書全体を通じて実験式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zに適用される。本明細書全体を通じて使用されるｗ、ｘ、ｙ、及びｚの値は分子中の原子の数又は型に関する制限としてではなく、比又は実験式（例えば被覆材に関する）として理解すべきである。例えば、分子組成Ｓｉ₄Ｏ₄Ｃ₈Ｈ₂₄を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式におけるｗ、ｘ、ｙ、及びｚの各々を最大公約数４で割ることにより得られる以下の実験式Ｓｉ₁Ｏ₁Ｃ₂Ｈ₆により記載することができる。ｗ、ｘ、ｙ、及びｚの値はまた、整数に限定されない。例えば、（非環状）オクタメチルトリシロキサン、分子組成Ｓｉ₃Ｏ₂Ｃ₈Ｈ₂₄、はＳｉ₁Ｏ_0.67Ｃ_2.67Ｈ₈にまで減じることができる。

「ぬれ張力」とは、表面の疎水性又は親水性の特定の測定値である。本発明の文脈における望ましいぬれ張力の測定方法は、ＡＳＴＭＤ２５７８又はＡＳＴＭＤ２５７８内で説明される方法の改良法である。方法では、標準のぬれ張力溶液（ダイン溶液と呼ばれる）を使用して、溶液が２秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。これが膜のぬれ張力である。本明細書内で使用される手順はＡＳＴＭＤ２５７８のものとは異なり、基板は平板プラスチック膜ではなく、「ＰＥＴ管を形成するためのプロトコル」に従い製造され（対照を除き）「管内部を疎水性層で被覆するためのプロトコル」に従い被覆された管である（ＥＰ２２５１６７１Ａ２の実施例９を参照）。

本発明に記載の「潤滑性被覆材」は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材を指す。言い換えれば、非被覆の参照表面と比較して被覆表面の摩擦抵抗を低下させる被覆材である。本発明の潤滑層は、非被覆表面よりも低い摩擦抵抗及び低い摩擦抵抗を与える処理条件により主に定義され、そして場合により実験式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zに従った組成を有することができる。これは一般的に原子比Ｓｉ_wＯ_xＣ_yを有し、ここでｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、好ましくはｗは１であり、ｘは約０．５〜１．５であり、そしてｙは０．９〜２．０であり、より好ましくはｗは１であり、ｘは０．７〜１．２であり、そしてｙは０．９〜２．０である。原子比はＸＰＳ（Ｘ線光電子スペクトル分析）により測定できる。Ｈ原子を考慮すれば、被覆材は１つの態様において式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zを有し、例えばここで、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、そしてｚは約２〜約９である。典型的には、原子比は、本発明の特定の被覆材においてはＳｉ１００：Ｏ８０-１１０：Ｃ１００−１５０である。特記すれば原子比はＳｉ１００：Ｏ９２−１０７：Ｃ１１６−１３３であってもよく、そしてそのような被覆材は１００％炭素＋酸素＋ケイ素に標準化すれば３６％〜４１％炭素を含有する。

「摩擦抵抗」は、静的摩擦抵抗及び／又は動的摩擦抵抗である場合がある。本発明の任意の実施形態の１つに、潤滑性被覆材で被覆されたシリンジの部品、例えばシリンジバレル又はプランジャーが挙げられる。この熟考された実施形態において、本発明の文脈における静的摩擦抵抗は本明細書で定義する起動力であり、本発明の文脈における動的摩擦抵抗は本明細書で定義するプランジャースライド力である。例えば、本明細書で定義し決定するプランジャースライド力は、被覆材がシリンジ又はシリンジ部品、例えばシリンジバレル内壁に塗布されるときはいつでも、本発明の文脈における潤滑性被覆材の有無及び潤滑性特性を決定するのに適する。起動力は、充填済みシリンジに対する被覆材作用の評価に特定の関連があり、すなわち、被覆後に充填され、プランジャーを再び動かす（「起動」する）まで一定期間（数カ月又は数年）保存されるシリンジに関する。

「スライド可能に」とは、プランジャー、閉包部、又は取り外しできる部品をシリンジバレル内でスライドできる状態であることを指す。

本発明の文脈において、「実質上固定」とは、いかなる組立部品も互いに大幅に位置を変えることなしに、組立部品（以下でさらに説明するポート、ダクト、筺体）を１つのユニットとして移動可能であることを意味する。具体的には、ホース又は通常の使用において部品同士の実質的な相対的移動を引き起こす類似部品により、接続されている部品はないということである。実質上固定状態のこれらの部品の提供により、容器ホルダー上の装填済み容器の位置が、筺体に固定されているこれらの部品の位置とほぼ同様に既知かつ正確であることが可能となる。

以下において、まず本発明を実行する装置を説明し、その後被覆方法、被覆材と被覆容器、そして次に本発明のガス放出方法を更に詳述する。

Ｉ．複数処理ステーションと複数容器ホルダーを有する容器処理システム

Ｉ．容器処理システムが第１処理ステーション、第２処理ステーション、多数の容器ホルダー、及びコンベヤーからなると考えられる。第１処理ステーションは、開口部及び内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。第２処理ステーションは、第１処理ステーションから離れて設置され、開口部及び内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。

Ｉ．少なくとも一部の、場合によりすべての容器ホルダーは、第１処理ステーションにおいて容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポートを含む。コンベヤーは、第２処理ステーションにおいて容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第１処理ステーションから第２処理ステーションへと一連の容器ホルダー及び装填済み容器を搬送するよう設定される。

Ｉ．まず図１を参照にして、容器処理システム（通常２０）を示す。容器処理システムは、より広範には処理機器と考えられる処理ステーションを含む。図示された実施形態の容器処理システム２０は、射出成形機２２（処理ステーション又は機器と見なされる場合あり）、追加の処理ステーション又は機器２４、２６、２８、３０、３２、及び３４、及び出力３６（処理ステーション又は機器と見なされる場合あり）を含む。最低要件として、システム２０は少なくとも第１処理ステーション（例えばステーション２８）、及び第２処理ステーション（例えば３０、３２、又は３４）を有する。

Ｉ．図示された実施形態の処理ステーション２２〜３６のいずれかを第１処理ステーションに、別の処理ステーションを第２処理ステーションに、と設定可能である。

Ｉ．図１に図示された実施形態は、以下の８つの処理ステーション又は機器を含む：２２、２４、２６、２８、３０、３２、３４、及び３６。模範的容器処理システム２０は、射出成形機２２、モールド後検査ステーション２４、被覆前検査ステーション２６、被覆ステーション２８、被覆後検査ステーション３０、被覆材層厚決定のための光学源透過ステーション３２、被覆材欠陥検出のための光学源透過ステーション３４、出力ステーション３６を含む。

Ｉ．システム２０は、容器を射出成形機２２から容器ホルダー３８へと移動させるための搬送機構７２を含む。搬送機構７２は、例えば容器成形機２２から容器８０を取り出して容器ホルダー（３８など）に設置するための、容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。

Ｉ．システム２０はまた、処理ステーション７４において、装填済み容器（８０など）の内面を処理し、その後容器を１つ以上の容器ホルダー（６６など）から取り出すための搬送機構を含む（図１）。容器８０は、したがって、容器ホルダー６６から包装、保管又はその他の適切な領域又は処理手順（通常３６）へと移動可能である。搬送機構７４は、例えば容器ホルダー３８などから容器８０を取り出してステーション３６のその他の機器上に装填するための、容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。

Ｉ．図１に示す処理ステーション又は機器３２、３４、及び３６は、個々の容器８０を容器ホルダー６４などから取り出した後に、被覆及び検査システム２０の終盤工程で場合により１つ以上の適切な手順を実行可能である。ステーション又は機器３２、３４、及び３６の機能の限定されない例の一部には以下が含まれる。
・ 処理装置に向けての、処理済又は検査済み容器８０のコンベヤー上への留置、
・ 容器への化学物質の添加、
・ 容器への蓋の添付、
・ 適切な処理ラックへの容器の留置、
・ 容器の包装、及び
・ 包装済み容器の滅菌。

Ｉ．図１に示す容器処理システム２０はまた、多数の容器ホルダー（又は「パック」、一部実施形態内のものがホッケーパックに類似しているため）（それぞれ３８〜６８）及び１つ以上の容器ホルダー３８〜６８、したがって容器８０などを処理ステーション２２、２４、２６、２８、３０、３２、３４、及び３６へと／から搬送するための循環調帯７０で通常表されるコンベヤーを含む。

Ｉ．処理ステーション又は機器２２は、容器８０を形成するための機器である場合がある。１つの考えられる機器２２として、射出成形機が挙げられる。別の考えられる機器２２として、ブロー成形機が挙げられる。真空モールド機、流し成形機、裁断機又はフライス盤、ガラス又はその他の流し成形可能素材用のガラス流し機、又はその他の種類の容器成形機もまた考えられる。場合により、容器が既に成形済みである場合、容器成形ステーション２２は省略可能である。

ＩＩ．容器ホルダー
ＩＩ．Ａ．容器処理の間、開口部を有する容器を把持及び搬送するため、携帯型容器ホルダー３８〜６８を用意する。容器ホルダーは、容器ポート、第２ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。

ＩＩ．Ａ．容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。第２ポートは、外気供給を受入又は放出するよう設定される。ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第２ポートの間で１種以上のガスを通気させるよう設定される。容器ポート、第２ポート、及びダクトは、搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。場合により、携帯型容器ホルダーの重量は５ポンド未満である。容器ホルダーを軽量化することで、１つの処理ステーションから次の処理ステーションへとより容易に搬送可能となる。

ＩＩ．Ａ．容器ホルダーの特定の実施形態において、ダクトはより具体的には、真空ダクトであり、そして第２ポートは、より具体的にには真空ポートである。真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。真空ポートは、真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。容器ポート、真空ダクト、及び真空ポートは、搬送可能筺体に実質上固定状態で装着可能である。

ＩＩ．Ａ．実施形態ＩＩ．Ａ．及びＩＩ．Ａ．１．の容器ホルダーは、例えば図２に示される。容器ホルダー５０は、容器８０の開口部収受し装填するよう設定される容器ポート８２を有する。装填済み容器８０の内面を、容器ポート８２経由で処理可能である。容器ホルダー５０には、容器ポート９２上に装填済みの容器８０からガスを吸引するためのダクト、例えば真空ダクト９４が含まれる。容器ホルダーには、真空ダクト９４と外部真空源、例えば真空ポンプ９８の間を通過する第２ポート、例えば真空ポート９６が含まれる。容器ポート９２及び真空ポート９６は封止素子、例えばオーリング隣接密閉部（それぞれ１００及び１０２）を有する、又は容器ポート８２のシリンダー状の内／外壁と容器８０のシリンダー状の内／外壁の間の側密閉部を有する場合があり、それにより容器８０又は外部真空源９８と共に密閉部を収受し形成しながら、ポートを通しての通過を可能とする。ガスケット又はその他の密閉装備もまた、使用可能である。

ＩＩ．Ａ．容器ホルダー５０などはいずれかの素材、例えば熱可塑性素材及び／又は非導電性素材で作成可能である。又は、容器ホルダー５０などは、一部を又は大部分を導電性素材から作成可能であり、例えば、容器ポート９２、真空ダクト９４、及び真空ポート９６より定義される経路において非導電素材と対面させることが可能である。容器ホルダー５０に適切な素材の例は以下の通り：ポリアセタール（例えばデラウェア州ウィルミントンのＥ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙが販売するＤｅｌｒｉｎＲアセタール素材）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）（例えばデラウェア州ウィルミントンのＥ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙが販売するＴｅｆｌｏｎ（登録商標）ＰＴＦＥ、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、又はその他の当技術分野で既知の又は新開発された素材。

ＩＩ．Ａ．図２により、容器ホルダー５０などが、ポート９２上に接近する又は装填済みである容器８０をセンタリングするための、カラー１１６を有する場合があることも図示される。

容器ホルダーの配列

ＩＩ．Ａ．部品を製造システム内で処理、検査、及び／又は移動するためのさらなる別のアプローチとして、容器ホルダーの配列を使用することが可能である。配列は個々のパックから、又は機器を装填する間断ない配列からなる場合がある。配列により、１つ以上の機器、場合により多数の機器で同時に試験、搬送、処理／被覆を実行可能である。配列は、例えばグループ化して線状ラックを形成する一次元式、又はタブやトレーに類似の二次元式である場合がある。

ＩＩ．Ａ．図４、図５、及び図１４は、３配列のアプローチを示す。図４は、機器又は容器８０が装填される間断ない配列１２０を示す。この場合、機器又は容器８０が間断ない配列として製造処理内を移動し、しかしながら製造処理の間にそれらを取り出して個別の容器ホルダーへと搬送可能である。単一容器ホルダー１２０は、ユニットとして移動する装填済み容器８０などの配列を搬送するための、複数の容器ポート１２２などを有する。本実施形態においては、真空源９８の配列を収受するために複数の個別真空ポート９６などを提供可能である。又は、容器ポート９６などに接続する単一真空ポートを提供可能である。複数ガス吸入プローブ１０８なども配列に提供可能である。ガス吸入プローブ又は真空源の配列は、多数の容器８０などを同時にユニットとして移動させるために装着可能である。又は、複数容器ポート１２２などは、処理ステーション内で一列／複数列ごとに同時に、又は個別に処理可能である。配列内の機器の数は、単一手順でモールドされる機器の数、又は処理中に作業効率化のためのその他の試験又は手順に関する場合がある。配列を処理／被覆する場合、電極は（より大きな電極へと）カップリングする場合、又はそれぞれの電力供給装置を有する個別の電極である場合がある。上述アプローチはすべて、さらに（電極形状、周波数などの観点から）適用可能である。

ＩＩ．Ａ．図５において、個別のパック又は容器ホルダー（上述）は、外部フレーム１３０で包囲されて一配列へとまとめられる。この装備により、所望の場合は図４の間断ない配列の利点が提供され、また容器８０を異なる配列で又は個別に処理するその他の処理手順のために、配列を分解することも可能である。

ＩＩ．Ａ．図１４は線状ラックを示すか、又は図４に類似の図である。線状ラックを使用する場合、上述手順に加えて別の選択肢として、処理ステーションにおいてラックを一列縦隊で搬送し容器を逐次処理することが挙げられる。

ＩＩ．Ｂ．オーリング装備を含む容器ホルダー

ＩＩ．Ｂ．図４２及び図４３は順に容器ホルダー４５０の断片詳細縦断面図及び詳細図であり、容器ホルダーは、容器ホルダー上に容器を装填するために例えば図２、図３、図６、図７、図１９、図１２、図１３、図１６、図１８、図１９、図７、及び図４３の容器ホルダー実施形態と併用可能な、代替の密閉装備を有する。図４２を参照して、容器ホルダー４５０に装填済みの容器、例えばシリンジバレル４３８は、通常溝付き釘（及び一般に面取りをした又は円形の）縁４５２、及び通常シリンダー状の側壁４５４により定義される、後開口部４４２を有する。医学的流体採集管には一般に、同類の縁４５２はあるがフランジ４４０はない。したがって、代わりに容器ホルダー４５０上に装填可能である。

ＩＩ．Ｂ．図示する本実施形態の容器ホルダー４５０には通常シリンダー状の内面４５６が含まれ、内面は図示する本実施形態において、シリンジバレル４３８の通常シリンダー状の側壁４５４を収受するガイド面として機能する。壁はさらに、シリンジバレル４３８が容器ホルダー４５０上に装填済みである場合に溝付き釘縁４５２が当接する、通常溝付き釘である当接部４５８により定義される。内面４５６により形成される通常溝付き釘であるポケット部又は溝４６０は、封止素子、例えばオーリング４６２を保持するために提供される。ポケット部４６０の半径方向深さは、封止素子、例えばオーリング４６２（図４２に図示）の半径方向断面未満であり、場合によってはオーリング４６２の内径は溝付き釘縁４５２の外径よりやや小さい。

ＩＩ．Ｂ．相対的寸法により、オーリング４６２の半径方向断面は図４２に示すように、少なくともポケット部４６０の外壁４６４及びシリンジバレル４３８の通常シリンダー状の側壁４５４の間を、図４２に示すように容器４３８などが装填済みである場合に、水平方向に圧迫する。この圧迫により、オーリング４６２の支持面が平板化され、少なくともポケット部４６０の外壁４６４及びシリンジバレル４３８の通常シリンダー状の側壁４５４の間に密閉部が形成される。

ＩＩ．Ｂ．ポケット部４６０は場合により、オーリング４６２の寸法と関連させて、底壁４６６／頂壁４６８と側壁４５４との間２つ以上の密閉部を、頂壁４６８と底壁４６６の距離を対応するオーリング４６２の半径方向断面と同等に離すことにより、形成可能である。オーリング４６２が外壁４６４とポケット部４６０の通常シリンダー状の側壁４５４の間で圧搾される場合、図４３に示すように、その復元力により上下方向への拡張が起こり、したがって、頂壁４６６及び底壁４６４に係合しそれらに当たって平板化する。オーリング４６２は場合により、したがって垂直及び水平方向に変形し、通常円形の断面が四角形になる傾向がある。また、当接部４５８に装填済みの溝付き釘縁４５２は、ＰＥＣＶＤ処理反応物質及び、後開口部４４２を通して／隣接して導入されるその他のガスと素材の流量を制限する。

ＩＩ．Ｂ．この任意の構造の結果として、図４３に示すように、オーリング４６２の右下角にあるギャップのみが、オーリングの外部にあり、したがって容器４３８の内部に導入される／で生成される処理ガス、プラズマなどに曝露する。本構造は、不要なＰＥＣＶＤ堆積及びプラズマ内の活性化学種からオーリング４６２及び（側壁４３８の外面の）隣接面を保護する。また容器４３８は、当接部４５８の硬表面によりさらに確実に位置されており、その他の図内で図示するオーリングへの直接の溝付き釘縁４５２の当接装填により提示される弾性表面とは対照的である。さらには、容器４３８を拘束し多大な揺動を阻止しているため、オーリング４６２の主要周辺に対応する部位への力は一様に分配される。

ＩＩ．Ｂ．又は、ポケット部４６０は、図４３に示す当接部４５８の上に、その底壁４６６で形成可能である。別の実施形態において、二重又はより高レベルの密閉部を提供するため、及び容器４３８が当接部４５８に対して装填済みである場合に揺動に対する拘束を強化するため、１つ以上の軸方向乖離ポケット部４６０を提供可能である。

ＩＩ．Ｂ．図１１は、例えば他の図の実施形態と併用可能な容器ホルダー４８２の別の構造である。容器ホルダー４８２は、結合部４８８で結合する上部４８４及び底部４８６からなる。密閉部、例えばオーリング４９０（リングの右側はそれを保持するポケット部を説明するよう切除されている）は、結合部４８８にある上部４８４と底部４８６の間で拘束される。図示する実施形態においてオーリング４９０は、上部４８４が底部４８６へと結合する場合にオーリングを位置付けるために、溝付き釘ポケット部４９２内に収受される。

ＩＩ．Ｂ．本実施形態においてオーリング４９０は、この場合ネジ４９８及び５００により捕捉され、上部４８４及び底部４８６が結合する場合に、ポケット部４９２の一部を定義する放射状に伸延する壁４９６及び放射状に伸延する当接部表面４９４を支持する。オーリング４９０はしたがって、上部４８４と底部４８６の間に装填される。上部４８４と底部４８６の間に捕捉されるオーリング４９０はまた、容器８０（その他の特徴図示を明確にするため本図においては省略）を収受し、図４２の容器後開口部４４２のオーリング密閉部装備に類似している、容器８０開口部の容器ポート５０２の第１オーリング密閉部を形成する。

ＩＩ．Ｂ．本実施形態において、必須ではないが、容器ポート５０２は第１オーリング４９０密閉部と第２軸方向乖離オーリング５０４密閉部の両方を有し、どちらも容器ポート５０２と容器８０などの間を密閉するための容器８０などの（図４３の側壁４５４に類似している）外径を収受するサイズの内径５０６などを有する。オーリング４９０及び５０４の間の空間により、軸方向に乖離する２つの地点で容器８０などの支持体が提供され、容器８０などのオーリング４９０及び５０４又は容器ポート５０２による歪曲を防止する。本実施形態において、必須ではないが、放射状に伸延する当接部表面４９４は、オーリング４９０及び５０６密閉部及び真空ダクト５０８の周囲の近位部に位置する。

ＩＩＩ．容器の搬送方法-容器ホルダーに装填済みの容器の処理
ＩＩＩ．Ａ．処理ステーションへの容器ホルダーの搬送
ＩＩＩ．Ａ．図１、図２、及び図１０は、容器８０の処理方法を示す。方法は以下の通り実行可能である。

ＩＩＩ．Ａ．開口部８２及び内面８８を定義する壁８６を有する容器８０を用意可能である。一実施形態として、容器８０をモールド２２など内で成形し、その後取除去することが可能である。場合により、モールドからの容器の除去後６０秒以内、３０秒以内、２５秒以内、２０秒以内、１５秒以内、１０秒以内、５秒以内、３秒以内、１秒以内に、又は処理中に歪曲されることなし（高温で製造され漸進的に冷却されると想定）に容器８０を除去した直後に、容器開口部８２を該容器ポート９２上に装填可能である。容器８０をモールド２２から容器ポート９２へと迅速に移動させることで、表面８８に付着する粉塵又はその他の不純物を削減し、遮断膜又はその他の種類の被覆材９０への付着を遮蔽又は防止する。また、製造後すぐに容器８０に真空を引くほど、粒子状不純物が内面８８に付着する可能性を低下させることができる。

ＩＩＩ．Ａ．容器ポート９２からなる容器ホルダー５０などを用意可能である。容器８０の開口部８２を容器ポート９２上に装填可能である。容器８０の開口部８２を容器ポート９２上に装填する前、最中、後に、容器ホルダー４０などを搬送して１つ以上の支持面２２０〜２４０と係合させ、処理機器又はステーション２４などに関して容器ホルダー４０を位置付けることが可能である。

ＩＩＩ．Ａ．１つ、２つ以上、又はすべての処理ステーションは、処理ステーション又は機器２４などにおいて装填済み容器８０の内面８８を処理する間に、１つ以上の容器ホルダー４０などを所定の位置で支持するための支持面を含む。これらの支持面は、例えば容器ホルダー４０などを容器処理中にガイドし位置付ける行路又はガイドといった、定常構造又は運動性構造の一部である場合がある。例えば、下向き支持面２２２及び２２４は容器ホルダー４０を位置付け、反応面のように機能して、プローブ１０８が容器ホルダー４０に挿入されている場合の容器ホルダー４０の上方への移動を防止する。反応面２３６は容器ホルダーを位置付け、真空源９８（図２）が真空ポート９６上に装填済みである場合の容器ホルダー４０の左側への移動を防止する。支持面２２０、２２６、２２８、２３２、２３８、及び２４０は同様に、容器ホルダー４０を位置付け、処理中の水平移動を防止する。支持面２３０及び２３４は同様に、容器ホルダー４０などを位置付け、垂直方向への位置ずれを防止する。したがって、第１支持面、第２支持面、第３支持面、又はそれ以降は、各処理ステーションに提供される可能性がある。

ＩＩＩ．Ａ．装填済み容器８０の内面８８を第１処理ステーションにおける容器ポート９２経由で処理可能であり、１つの例として、図２で示す遮断膜塗布又はその他の種類の被覆材塗布の被覆ステーション２８である場合がある。容器ホルダー５０及び装填済み容器８０は、第１処理ステーション２８から第２処理ステーション、例えば処理ステーション３２へと搬送される。装填済み容器８０の内面８８を、第２処理ステーション３２などにおける容器ポート９２経由で処理可能である。

ＩＩＩ．Ａ．上記方法のいずれも、第２処理ステーション又は機器における装填済み容器８０の内面８８の処理の後に、容器ホルダー６６などから容器８０を除去する、さらなる手順を含む場合がある。

ＩＩＩ．Ａ．上記方法のいずれも、除去手順の後に、開口部８２及び内面８８を定義する壁８６を有する第２容器８０を提供する、さらなる手順を含む場合がある。第２容器８０などの開口部８２を、別の容器ホルダー３８などの容器ポート９２上に装填可能である。装填済み第２容器８０の内面を、第１処理ステーション又は機器２４などにおける容器ポート９２経由で処理可能である。容器ホルダー３８など及び装填済み第２容器８０は、第１処理ステーション又は機器２４から第２処理ステーション又は機器２６などへと搬送可能である。装填済み第２容器８０を、第２処理ステーション又は機器２６により容器ポート９２経由で処理可能である。

ＩＩＩ．Ｂ．容器ホルダーへの処理機器の搬送又はその逆。
ＩＩＩ．Ｂ．又は、処理ステーションはより広範には処理機器である可能性があり、容器ホルダーの処理機器に応じた搬送、処理機器の容器ホルダーに応じた搬送、又は各装備の一部の任意システム内での提供のいずれかが可能である。また別の装備において容器ホルダーは、１つ以上のステーションへと搬送可能であり、２つ以上の処理機器は少なくとも１つのステーションへと／に隣接して配置可能である。したがって、処理機器と処理ステーションの間の相関的通信は必要ない。

ＩＩＩ．Ｂ．複数部品を含む容器の処理方法が考えられる。第１処理機器、例えばプローブ１０８（図２）及び第２処理機器、例えば光源１７０を、処理容器８０などのために用意する。開口部８２及び内面８８を定義する壁８６を有する容器８０を用意する。容器ポート９２からなる容器ホルダー５０を用意する。容器８０の開口部８２を容器ポート９２上に装填する。

ＩＩＩ．Ｂ．第１処理機器、例えばプローブ１０８を移動させ、容器ホルダー５０と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器８０の内面８８を、第１処理機器又はプローブ１０８を使用して容器ポート９２経由で処理する。

ＩＩＩ．Ｂ．第２処理機器をその後移動させ、容器ホルダー５０と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器８０の内面８８を、第２処理機器、例えば光源１７０を使用して容器ポート９２経由で処理する。

ＩＩＩ．Ｂ．場合により、複数の追加処理手順を提供可能である。例えば、第３処理機器３４を、容器８０の処理のために提供可能である。第３処理機器３４を移動させ、容器ホルダー５０と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器８０の内面を、第３処理機器３４を利用して容器ポート９２経由で処理可能である。

ＩＩＩ．Ｂ．容器処理の別の方法において、開口部８２及び内面８８を定義する壁８６を有する容器８０を用意可能である。容器ポート９２からなる容器ホルダー５０などを用意可能である。容器８０の開口部８２を容器ポート９２上に装填可能である。装填済み容器８０の内面８８を第１処理機器により容器ポート９２経由で処理可能であり、１つの例として、図２で示す遮断膜又はその他の種類の被覆材の被覆機器２８である場合がある。容器ホルダー５０及び装填済み容器８０は、第１処理機器２８から第２処理機器、例えば図１及び１０に示す処理機器３４へと搬送される。装填済み容器８０の内面８８を、第２処理機器３４などにより容器ポート９２経由で処理可能である。

ＩＶ．容器製造のためのＰＥＣＶＤ装置
ＩＶ．Ａ．容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むＰＥＣＶＤ装置
ＩＶ．Ａ．別の実施形態は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給装置からなるＰＥＣＶＤ装置であり、これはガス放出検査を実施するように設定される。容器ホルダーに装填済みの容器は、場合により真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。場合により、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、又はこれら２つ以上の組合せを用意可能である。場合により、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、ポートに装填済みの容器内部から／へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。

ＩＶ．Ａ．ＰＥＣＶＤ装置は外気圧ＰＥＣＶＤのために使用可能であり、その場合、プラズマ反応チャンバは真空チャンバとして機能する必要はない。

ＩＶ．Ａ．図２に図示する実施形態において、容器ホルダー５０は容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポート１０４からなる。ガス吸入ポート１０４は、少なくとも１つのオーリング１０６又は一連の２つのオーリング又は一連の３つのオーリングにより提供されるスライド式密閉部を有し、密閉部はシリンダー状のプローブ１０８がガス吸入ポート１０４を通して挿入される際に前記プローブ１０８に対して装填可能である。プローブ１０８は、ガス供給ポートの遠位端１１０へと伸延するガス吸入導管である場合がある。図示する実施形態の遠位端１１０は、１つ以上のＰＥＣＶＤ反応物質及びその他の処理ガスを提供するために、容器８０の奥へと挿入可能である。

ＩＶ．Ａ．場合により、図２に図示する実施形態において、又はより一般に、いずれかの開示実施形態において、プラズマ遮蔽体６１０は、通常プラズマ遮蔽体６１０を超える容量で容器８０内で生成されるプラズマを収容するために提供される。プラズマ遮蔽体６１０は導電性の多孔質材であり、複数の実施形態において、スチールウール、多孔質焼結金属、又は導電性素材で被覆されたセラミック材であり、金属（例えば真鍮）又はその他の導電性素材を原料とする小孔性プレート又はディスクである。例は、ガス吸入部１０８を通すサイズである中央部孔を有する一対の金属ディスクであり、ディスクはさらに、中心間距離０．０４インチ（１ｍｍ）で乖離する直径０．０２インチ（０．５ｍｍ）の孔を有し、孔はディスクの表面積の２２％に当たる開口領域を提供する。

ＩＶ．Ａ．プラズマ遮蔽体６１０は、例えばプローブ１０８が対向電極としても機能する実施形態については、管の開口部８２、シリンジバレル、又はその他の処理対象容器８０にある／付近にあるガス吸入部１０８に対して密接な電気接触をもたらす可能性がある。或いは、プラズマ遮蔽体６１０は接地される場合があり、場合によりガス吸入部１０８と共通の電位を有する。プラズマ遮蔽体６１０は、容器ホルダー５０及びその内部経路と接続（例：真空ダクト９４、ガス吸入ポート１０４、オーリング１０６付近、真空ポート９６、オーリング１０２、及びその他ガス吸入１０８に隣接する装置）内のプラズマを低減又は消滅させる。同時に、プラズマ遮蔽体が多孔性であるため、容器８０から真空ポート９６及び終盤工程装置への処理ガス、大気、及び類似体の流出が可能となる。

ＩＶ．Ａ．図１２は、被覆ステーション２８の追加の任意の詳細図を示し、ステーションは例えば図１、図２、図４〜図５、及び図７の実施形態と併用可能である。被覆ステーション２８はまた、圧力センサー１５２へと繋がる真空管路５７６内にメイン真空弁５７４を有している。手動バイパス弁５７８をバイパス管路５８０内に用意する。通気弁５８２は流量を制御する。

ＩＶ．Ａ．ＰＥＣＶＤガス源１４４からの流量は、メイン反応物供給管路５８６を通して流量を調整するメイン反応性ガス弁５８４により制御される。ガス源１４４の一構成要素として、有機ケイ素流体貯留層５８８が挙げられる。貯留層５８８の内容物は、所望の流速率を提供するのに適した長さで提供される有機ケイ素キャピラリー線５９０を通して引かれる。有機ケイ素蒸気の流量は、有機ケイ素遮断弁５９２により制御される。流体貯留層５８８のヘッドスペース６１４に圧力を適用し、例えば圧力管路６１８によりヘッドスペース６１４へと接続される圧搾空気といった圧力源６１６からの０〜１５ｐｓｉ（０〜７８ｃｍ．Ｈｇ）の範囲の圧力を適用して、気圧（及びその振動）に依存しない反復可能な有機ケイ素流体供給を確立する。貯留層５８８は密閉されており、キャピラリー接続６２０は貯留層５８８の底部にあり、（ヘッドスペース６１４からの加圧ガスではなく）純有機ケイ素流体のみがキャピラリー管５９０を流れるよう確保している。有機ケイ素流体は、場合により、温度、有機ケイ素蒸気生成のため有機ケイ素流体を蒸発させることが必須又は望ましい場合は、気温以上に加熱可能である。質量流速制御装置５９８で制御され酸素遮断弁６００が搭載される酸素供給管路５９６経由で、酸素タンク５９４から酸素を提供する。

ＩＶ．Ａ．図１の装置において、容器被覆ステーション２８は、さらに後に説明するように、例えば、図２に示すようにＳｉＯ_x遮断膜又はその他の種類の被覆材９０を容器８０の内面８８に堆積するのに適した条件下で動作する、ＰＥＣＶＤ装置である場合がある。

ＩＶ．Ａ．特に図１及び図２を参照にして、処理ステーション２８は、処理中に容器８０内にプラズマを生成するための電界を提供するための無線周波電力供給装置１６２により供給を受ける、電極１６０を含む場合がある。この実施形態において、プローブ１０８はまた導電性でありかつ接地されており、容器８０内に対向電極を提供する。或いはいかなる実施形態においても、外部電極１６０は接地可能であり、プローブ１０８は電力供給装置１６２へと直接接続可能である。

ＩＶ．Ａ．図２の実施形態において、外部電極１６０は、図２に図示するように通常シリンダー状であるか、図２に図示するように通常Ｕ字型である場合がある。各図示実施形態は、１つ以上の側壁１６４及び１６６などを、場合により、上端部１６８を有し、それらは容器８０に近接して付帯する。

ＩＶ．Ａ．図２に示す電極１６０は、ページへの長さを有する「Ｕ」字型チャネルである場合があり、パック又は容器ホルダー５０は活性（電力）電極を通して処理／被覆工程中に移動可能である。外部及び内部電極が使用されているため、本装置は、電力供給装置１６２からＵ字型チャネル電極１６０に対して適用される周波数５０Ｈｚ〜１ＧＨｚの間で利用可能であることに、注意されたい。プローブ１０８は電気回路を完了させるため接地可能であり、それにより、電流が容器８０内の低圧ガスを通るようになる。電流の生成するプラズマにより、機器の内面８８の選択処理及び／又は被覆が可能となる。

ＩＶ．Ａ．図２に示す電極は、パルス電力供給装置を動力源電力としている場合もある。パルスにより、反応性ガスの空乏、活性化前の副産物の除去、（再度の）反応性ガスの空乏が可能となる。パルス電力システムは通常、電界（及び、したがってプラズマが）存在する時間を決定する負荷サイクルにより特徴付けられる。電力投入時間は電源遮断時間と相対関係にある。例えば１０％の負荷サイクルは、電力が時間の９０％の間遮断されているサイクルの１０％の時間の電力に相当する場合がある。具体例として、電力は０．１秒間投入され、１秒間遮断される場合がある。パルス電力システムは、遮断時間により処理時間が増加するため、任意の電力供給装置１６２の有効電力入力を低減する。システムがパルスされる場合、生成される被覆材が極めて純粋となる場合がある（副産物／汚染なし）。パルスシステムによる別の結果として、原子層堆積（ＡＬＤ）の可能性が挙げられる。この場合、負荷サイクルを調整して、電源投入時間により好ましい素材の単層堆積を生成可能である。本手法において、単一原子層が各サイクルで堆積されると考えられる。本アプローチにより、高度に純粋で高度に化学構造された被覆材を生成可能である（ただし、ポリマー表面への堆積に必要な温度については、場合により低温（１００℃未満）に保つものとし、及び低温度被覆材は非晶質である場合がある）。

ＩＶ．Ａ．代替被覆ステーションは外部電極の代わりにマイクロ波空洞部を利用している。適用エネルギーは、例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波周波数である場合がある。しかしながら本発明の文脈においては高周波が好ましい。

Ｖ．被覆製造のためのＰＥＣＶＤ法
Ｖ．１ＰＥＣＶＤ被覆用前駆体
本発明のＰＥＣＶＤ被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。本明細書における有機金属前駆体は、例えば炭化水素残基、アミノカーボン残基、オキシカーボン残基といった有機残基を有する、周期表の第ＩＩＩ族及び／又は第ＩＶ族からの金属元素化合物と定義される。本明細書で定義する有機金属化合物には、ケイ素又はその他の第ＩＩＩ族／第ＩＶ族金属原子に直接結合する、又は場合により酸素又は窒素原子を通して結合する、有機部分を有するいずれかの前駆体が含まれる。関連する周期表第ＩＩＩ族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウム及びホウ素であることが望ましい。関連する周期表第ＩＶ族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、及びトリウムであり、ケイ素及びスズが望ましい。その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。

有機ケイ素前駆体が考えられ、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも１つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される。
又は、

直前の第１の化学構造は、酸素原子１つ及び有機炭素原子１つ（有機炭素原子は少なくとも１つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。直前の第２の化学構造は、-ＮＨ-結合１つ及び有機炭素原子１つ（有機炭素原子は少なくとも１つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。場合により有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれらの前駆体２つ以上の複合体からなる群から選択される。また、前述の２つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。

酸素を含む前駆体（例：シロキサン）を使用する場合、疎水性又は潤滑性被覆材を生成する条件下のＰＥＣＶＤから導かれる典型として推定される経験的組成は、定義のセクションにおいて定義されるＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zである。一方、遮断性被覆材を生成する条件下のＰＥＣＶＤから導かれる典型として推定される実験式は、ＳｉＯ_x（本公式のｘは約１．５〜約２．９）である。窒素を含む前駆体（例：シラザン）を使用する場合、推定される組成物はＳｉ_w*Ｎ_x*Ｃ_y*Ｈ_z*である。すなわち、定義のセクションにおいて特定されるＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zにおいては、ＯはＮに置換され指標はＮの原子価がＯより高くなるよう（２ではなく３）適合される。後者の適合は通常、シロキサンにおけるｗ、ｘ、ｙ、及びｚがそれに相当するａｚａ構造の指標に対する割合に従う。本発明の特定態様において、Ｓｉ_w*Ｎ_x*Ｃ_y*Ｈ_z*のｗ_*、ｘ^*、ｙ^*、及びｚ^*は、シロキサンにおけるｗ、ｘ、ｙ、及びｚと同様に定義されるが、水素原子数の逸脱の選択肢として扱われる。

上記実験式を有する前駆体出発物質の一種に線状シロキサンがあり、例えば以下の式を有する物質である。
公式の各Ｒは独立して、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基から選択され、ｎは１、２、３、４、又はそれ以上であり、場合により２以上である。考えられる線状シロキサンのいくつかの例は、
・ ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、
・ オクタメチルトリシロキサン、
・ デカメチルテトラシロキサン、
・ ドデカメチルペンタシロキサン、
又はこれら２つ以上の複合体である。上記化学構造における-ＮＨ−を酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、又はこれら２つ以上の複合体である。

Ｖ．Ｃ．別の種類に前駆体出発物質に単環シロキサンがあり、例えば以下の構造式を有する物質である。

ここで、Ｒは線状化学構造のものと同様に定義され「ａ」は３〜約１０であり、又は類似単環シラザンである。考えられるヘテロ置換及び非置換単環シロキサン及びシラザンのいくつかの例には以下が含まれる。
・ １，３，５−トリメチル−１，３，５−トリス（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチル]シクロトリシロキサン
・ ２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、
・ ペンタメチルシクロペンタシロキサン、
・ ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
・ ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
・ ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、
・ オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、
・ オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
・ デカメチルシクロペンタシロキサン、
・ ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
・ メチル（３，３，３−トリフルオロプロピル）シクロシロキサン、
・ 以下のような環状オルガノシラザンも考えられる。
・ オクタメチルシクロテトラシラザン、
・ １，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシラザンヘキサメチルシクロトリシラザン、
・ オクタメチルシクロテトラシラザン、
・ デカメチルシクロペンタシラザン、
・ ドデカメチルシクロヘキサシラザン、又は
又はこれら２つ以上の複合体。

Ｖ．Ｃ．別の種類の前駆体出発物質に多環シロキサンがあり、例えば以下の構造式のいずれかを有する物質である。
ここで、Ｙは酸素又は窒素である場合があり、Ｅはケイ素であり、Ｚは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。各Ｙが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Ｙが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。

Ｖ．Ｃ．別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、実験式ＲＳｉＯ_1.5及び構造式を有するポリシルセスキオキサンである。

ここで、各Ｒは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。この種の２つの市販物質は、各ＲがメチルであるＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン）、及びＲ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）である。本物質は、例えばテトラヒドロフランの１０％溶液において入手可能である。又はこれら２つ以上の複合体も考えられる。考えられる前駆体のその他の例には、ＣＡＳＮｏ．２２８８−１３−３の各Ｙが酸素及びＺがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Ｒが場合によりメチルであるポリ（メチルシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン））、Ｒ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン））又はこれらの２つ以上の複合体がある。

Ｖ．Ｃ．上記化学構造における-ＮＨ−を酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Ｒがメチルであるポリ（メチルシルセスキアザン）、及びＲ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるポリ（メチル−ヒドリドシルセスキアザン）である。又はこれら２つ以上の複合体も考えられる。

Ｖ．Ｃ．特に、本発明に記載の潤滑性層のための考えられる前駆体の１つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。

特に、本発明に記載の疎水性層のための考えられる前駆体の１つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。

特に、本発明に記載の遮断性被覆材のための考えられる前駆体の１つとして、線状シロキサン、例えばＨＭＤＳＯが挙げられる。

Ｖ．Ｃ．本発明に記載のいずれかの被覆方法において、塗布手順は場合により、前駆体の気化により行われ、基板付近に提供される。例えばＯＭＣＴＳは、ＰＥＣＶＤ装置への塗布前に約５０℃に加熱して気化する。

Ｖ．２一般的ＰＥＣＶＤ法
本発明の文脈においては、以下の手順を含むＰＥＣＶＤ法を一般的に適用する。

(ａ)本明細書において定義する通りの前駆体（典型的には、有機ケイ素前駆体）、場合により搬送ガス、場合によりＯ₂、及び場合により炭化水素を含む処理ガスの提供、及び、

(ｂ) 処理ガスからプラズマを発生させることにより、プラズマ促進化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）による基板表面への被覆材の形成。

本明細書において使用されるプラズマ 被覆技術はプラズマ 促進化学蒸着 （ＰＥＣＶＤ）に基づいている。該ＰＥＣＶＤ被覆を実施するために適する方法及び装置は２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５５．２；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７６０．２；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５６．０；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５８．６；２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７６１．０；及び２０１０年５月１２日出願のＥＰ１０１６２７５７．８に記載されている。これらに記載されているＰＥＣＶＤ法及び装置は本発明を実施するために適しており、そしてそのため、参照により本明細書に組み込まれる。

ＰＥＣＶＤ技術の好ましい実施形態を以下のセクションに記載する。

工程はコンテナ内部で減圧（ミリトール範囲−大気圧は７６０トールである）において酸素と混合されえるケイ素含有蒸気を利用する。

例えば１３．５６ＭＨｚ[高周波範囲]において発生する電場を外部電極と内部の接地されたガス導入口との間に印加し、プラズマを発生させる。コンテナを被覆するために使用する圧力及び電力において、プラズマ工程は電子衝撃イオン化により駆動され、これは工程における電子が化学過程の後方にある駆動力であることを意味している。特記すれば、プラズマはケイ素含有素材[例えばヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又は他の反応体、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）]の電子衝撃イオン化を介して化学反応を駆動し、その結果コンテナの内面に堆積した二酸化ケイ素又はＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_z被覆材が生じる。被覆材は典型的な実施態様においては層厚で２０ナノメーター以上のオーダーである。ＨＭＤＳＯはケイ素原子に連結したメチル基６個を有するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ骨格よりなる。工程はＳｉ−Ｃ結合を破壊し、そして（管又はシリンジの表面において）酸素と反応して二酸化ケイ素を発生する。被覆材は原子レベルで成長するため、２０〜３０ナノメートルの層厚を有する緻密な絶縁保護被覆材は顕著な遮断特性を達成できる。二酸化ケイ素は気体、水分、及び小型有機分子に対して物理的遮蔽物として作用し、そして市販のガラスよりも高純度である。ＯＭＣＴＳは潤滑性又は抗接着特性を有する被覆材をもたらす。それらの平均の層厚は一般的にＳｉＯ_x遮断性被覆材の層厚よりもこうちであり、例えば平均で３０〜１０００ｎｍである。

その技術は以下の通り幾つかの態様において画期的である。

(ａ)前記工程は真空チャンバとして剛性のコンテナを利用する。ＰＥＣＶＤは従来は二次真空容器を使用しており、その中に部品をロードして被覆している。コンテナを真空チャンバとして利用することは工程装置を顕著に簡素化し、そしてサイクル／処理時間、延いては製造コスト及び資金を低減する。このアプローチはまたスケールアップがスループット条件に合致するために必要な管又はシリンジの数を倍加することと同程度に簡素であることから、スケールアップの問題点も低減する。

(ｂ)プラズマの高周波励起は部品の加熱を殆ど伴わずにイオン化ガスにエネルギーを与えることを可能とする。部品そのものの内部の水分子に多大なエネルギーを与えることになるＰＥＣＶＤにおいて典型的に使用されているマイクロ波励起エネルギーとは異なり、高周波は重合体の管又はシリンジを優先的に加熱することはない。制御された熱吸収は、プラスチックのガラス転移点にまで基板温度が上昇して寸法完全性が損失（真空下に崩壊）することを防止するために重要である。

(ｃ) 単層ガス遮断性被覆材−新しい技術は部品の内面に直接に酸化ケイ素の単層を形成することができる。大部分の他の遮蔽技術（薄層)は少なくとも２つの層を必要とする。

(ｄ)遮断性−潤滑性被覆材の組み合わせ−新しい技術は複合ＳｉＯ_x／Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_z被覆材を利用することにより多数の性能属性（遮断性／潤滑性）を与える。

好ましい態様におけるプラズマ堆積技術は簡素な製造設定を利用している。システムは「パック」に基づいており、これは被覆ステーションの内外への管及びシリンジの輸送において使用される。機器-パック界面(図６参照）は、被覆材／特性化条件がパイロットスケールにおいて確立されればフルスケール生産への移行時のスケーリングの問題が生じないため、重要であり、即ちパック数を同工程に渡って単に増加させればよい。パックは重合体素材(例えばＤｅｌｒｉｎ（登録商標））から製造され、電気絶縁された基材を与える。コンテナ（例えば図６の管）をパックに搭載し、その際、最大の開口部がオーリングを密閉するようにする（パックそのものに搭載）。オーリングは部品とパックの間に真空密閉部をもたらし、これにより周囲の空気（主に窒素及び酸素と一部の水蒸気）が除去され（減圧）、そして処理ガスが導入される。パックはオーリング密閉以外の幾つかの重要な特徴を有している。パックは真空ポンプ（大気ガス及びに酸化ケイ素反応の副生成物を排出する）への連結手段、部品中のガス吸入部に正確に整合する手段、及びパックとガス吸入部の間の真空密閉を与える手段をもたらす。

次いで、ＳｉＯ₂堆積のために、ＨＭＤＳＯ及び酸素ガスを部品中に伸長する接地されたガス吸入部を通過してコンテナ内に導入する。この時点で、パックとコンテナは電極領域内に移動する。電極は導電性素材(例えば銅）から構築されており、そして部品が通過するトンネルを与える。電極はコンテナ又はパックとは物理的に接触せず、そして独立して支持されている。ＲＦインピーダンスマッチのネットワーク及び電力供給装置を電極に直接連結する。電力供給装置はインピーダンスマッチのネットワークに対してエネルギー（１３．５６ＭＨｚ）を提供する。ＲＦマッチネットワークはイオン化ガスの複合（静電及び誘導）インピーダンスに電力供給装置の出力インピーダンスをマッチさせる作用を有する。マッチしたネットワークはイオン化ガスに最大電力配送を配送し、これにより二酸化ケイ素被覆材の堆積が確実になる。

コンテナが被覆された後（パックが定常状態である電極チャンネルを通過してコンテナを移動させる際に）、ガスを停止し、大気（又は純粋な窒素）を、パック／コンテナ内部において大気圧に戻させる。この時点で、コンテナはパックから取り出すことができ、そして次の処理ステーションに移動できる。

上記は１つのみの開口部を有するコンテナを被覆する手段を明確に説明している。シリンジはパックに装填する前後に追加的な手順を必要とする。シリンジは両端（１つは針との接続、そして２つ目はプランジャーの搭載のため）において開口部を有しているため、針の端部は被覆前に密閉されていなければならない。上記した工程により、反応ガスはプラスチック部品の内部に受領されることができ、電流は部品の内部のガスを通過することができ、そしてプラズマが部品内部に生じることができる。プラズマ（ＨＭＤＳＯ又はＯＭＣＴＳ及び酸素ガスのイオン化成分）はプラズマ被覆材の化学的特徴及び堆積を駆動するものである。

前記方法において、被覆材の特性は有利には以下の１つ以上の条件により設定される：プラズマの性質、プラズマにかける圧力、プラズマ生成のためにかける電力、ガス状反応物質内のＯ₂の有無及び相対量、プラズマの容量、及び有機ケイ素前駆体。場合により、被覆材の特性は、ガス状反応物質内のＯ₂有無及び相対量、及び／又はプラズマ生成のためにかける電力により設定される。

本発明のすべての実施形態において、随意の態様におけるプラズマは、ＳｉＯ_x被覆材を調製する場合は、非ホロー陰極プラズマである。

さらに望ましい態様において、プラズマは（雰囲気圧又は大気圧と比較して）減圧下で生成される。場合により、減圧は３００ｍトール未満、場合により２００ｍトール未満、さらに場合により１００ｍトール未満である。

ＰＥＣＶＤは、場合により前駆体を含むガス状反応物質を、マイクロ波又は無線周波、場合により無線周波の周波数を動力源とする電極で加圧することで実行される。本発明の実施形態の実施に望ましい無線周波数は、「ＲＦ周波数」とも呼ばれる。本発明の実行における通常の無線周波数範囲は、１０ｋＨｚ〜３００ＭＨ未満、場合により１〜５０ＭＨｚ、さらに場合により１０〜１５ＭＨｚの周波数である。１３．５６ＭＨｚの周波数が最も望ましく、これはＰＥＣＶＤ作業実施に関する政府認可の周波数である。

マイクロ波源と比べ、ＲＦ電力源を使用する場合の利点がいくつかある：ＲＦは低電力で動作するため、基板／容器の加熱度が減少する。本発明の焦点はプラズマ被覆材をプラスチック基板上に被覆することであるため、基板の溶解／歪曲を防止するため低温の処理温度が望ましい。マイクロ波ＰＥＣＶＤ使用時は基板の過熱防止のため、マイクロ波ＰＥＣＶＤをパルス電力による短時間噴出で塗布する。電力パルスにより、被覆材のサイクル時間が延び、これは本発明において好ましくない。またより高周波のマイクロ波は、プラスチック基板に残存水、オリゴマー、その他の物質といった揮発性物質のオフガスを引き起こす場合がある。このオフガスは、ＰＥＣＶＤ被覆を阻害する恐れがある。これはまた、それが被覆基板中の揮発性化合物の含有量及び組成を変化させることになるため、本発明のガス放出測定を妨害する可能性がある。ＰＥＣＶＤのためのマイクロ波使用における最大の懸念は、被覆材の基板からの剥離である。剥離は、被覆層堆積前にマイクロ波が該基板表面に変化を及ぼすことが原因で発生する。剥離の可能性を低減するため、被覆材と基板の間の良好な結合を達成する、マイクロ波ＰＥＣＶＤ用の界面被覆層が開発されている。ＲＦ ＰＥＣＶＤには剥離の恐れはないため、かかる界面被覆層は必要ない。最後に、本発明に記載の潤滑性層及び疎水性層は、有利に低電力を使用して塗布される。ＲＦ電力は低電力で動作し、ＰＥＣＶＤ処理に対する制御において、マイクロ波電力より優れている。それにもかかわらず、マイクロ波電力は、望ましさの点では劣るが、適切な処理条件下で利用可能である。

さらには、本明細書に記載のすべてのＰＥＣＶＤ法について、プラズマ生成に使用する電力（単位：ワット）とプラズマが生成される内腔の容量との間に、特定の相関関係が認められる。一般に内腔は、本発明に従い被覆される容器の内腔である。ＲＦ電力は、同一電極システムを利用する場合、容器の容量で計測するべきである。前駆体の対Ｏ₂比率といったガス状反応物質の組成、及びその他すべてのＰＥＣＶＤ被覆方法パラメーター（電力を除く）が一旦設定されると、容器の形状が維持されその容量のみが変化する場合は一般的にそれらの変更は行われない。この場合、電力は容量に正比例する。したがって、本記載により提供される電力の対容量比から開始することで、同一形状かつ異サイズの容器内に同一又は類似の被覆材を得るために適用するべき電力を、容易に探し出すことが可能である。容器形状が適用電力に与える影響を、管の実施例をシリンジバレルの実施例と比較した結果を用いて図示した。

本発明のいかなる被覆材についても、プラズマは、基表面上に被覆材を生成するのに十分な電力を動力源とする電極により生成される。潤滑性被覆材又は疎水性被覆材については、本発明の実施形態に記載の方法において、プラズマは場合により；

（ｉ）０．１〜２５Ｗ、場合により１〜２２Ｗ、場合により１〜１０Ｗ、さらに場合により１〜５Ｗ、場合により２〜４Ｗ、例えば３Ｗ、場合により３〜１７Ｗ、さらに場合により５〜１４Ｗ、例えば６又は７．５Ｗ、場合により７〜１１Ｗ、例えば８Ｗの電力を受ける電極で生成される、及び／又は（ｉｉ）電極電力の対プラズマ量比が１０Ｗ／ｍｌ未満、場合により６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により３Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍl、場合により２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌである。

本発明者等によれば、潤滑性被覆材を調製するためには低電力レベル（例えば２〜３．５Ｗの電力レベル及び実施例に記載する電力レベル）が最も好都合であると考えられる。

遮断性被覆材又はＳｉＯｘ被覆材のためには、プラズマは場合により；

（ｉ）８〜５００Ｗ、場合により２０〜４００Ｗ、場合により３５〜３５０Ｗ、また場合により４４〜３００Ｗ、場合により４４〜７０Ｗの電力を供給される電極で生成され；及び／又は、

（ｉｉ）電極電力の対プラズマ量比は５Ｗ／ｍｌ以上、場合により６Ｗ／ｍｌ〜１５０Ｗ／ｍｌ、場合により７Ｗ／ｍｌ〜１００Ｗ／ｍｌ、場合により７Ｗ／ｍｌ〜２０Ｗ／ｍｌである。

容器形状はまた、ＰＥＣＶＤ被覆に使用するガス吸入部の選択にも影響を与える可能性がある。特定の態様において、シリンジは開口管吸入で被覆される場合があり、管は管へと伸延する小型孔を有するガス吸入部で被覆される場合がある。

ＰＥＣＶＤに使用する電力（単位：ワット）はまた、被覆材の性質にも影響を与える。通常、電力が増加すると被覆材の遮断性が増加し、電力が減少すると被覆材の潤滑性及び疎水性が増加する。例えば、容量約３ｍｌのシリンジバレル内壁上の被覆材については、主に潤滑性被覆材である被覆材に３０Ｗ未満の電力が通され、主に遮断性被覆材である被覆材に３０Ｗ以上の電力が通される（実施例を参照）。これは参照により本明細書に組み込まれるＥＰ２２５１４５５Ａ２の実施例においても明らかにされる。

被覆性を決定するさらなるパラメーターとして、プラズマの生成に使用されるガス状反応物質内におけるＯ₂（又はその他の酸化剤）の対前駆体（例：有機ケイ素前駆体）比率が挙げられる。通常、ガス状反応物質内のＯ₂比率が増加すると被覆材の遮断性が増加し、Ｏ₂比率が減少すると被覆材の潤滑性及び疎水性が増加する。

潤滑層又は被覆材が望まれる場合はＯ₂を場合により０：１〜５：１、場合により０：１〜１：１、更には場合により０：１〜０．５：１又は更には０：１〜０．１：１のガス状反応体に対するｖ／ｖ比で存在させる。いくらかのＯ₂が、場合により有機ケイ素前駆体に対して０．０１：１〜０．５：１、更には場合により０．０５：１〜０．４：１、特に０．１：１〜０．２：１の量で存在することが好ましい。有機ケイ素前駆体に対して約５％〜約３５％（ｓｃｃｍでｖ／ｖ）、特に約１０％〜約２０％の容量で、そして実施例に記載した比においてＯ₂が存在することが、潤滑性被覆材を得るためには特に適している。

同様のことが疎水性層にも当てはまる。一方、遮断性又はＳｉＯ_x被覆材が望まれる場合は、Ｏ₂は場合により、ガス状反応体に対するｖ／ｖ比において、ケイ素含有前駆体に関しては１：１〜１００：１、場合により５：１〜３０：１の比で、場合により１０：１〜２０：１の比で、更に場合により１５：１の比で存在する。

Ｖ．Ａ．実質上ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを使用する、ＳｉＯ_x遮断性被覆材塗布のためのＰＥＣＶＤ
Ｖ．Ａ．本発明の特定実施形態は、ケイ素、酸素、及び場合によりその他の元素を含む被覆材として（特定の事例において別途指定される場合を除き）本明細書内で定義されるＳｉＯ_x（酸素の対ケイ素原子比であるｘは約１．５〜約２．９、或いは１．５〜約２．６、或いは約２）の遮断性被覆材の塗布方法である。ｘに関するこれらの代替定義は、本明細書内で使用されるすべての用語ＳｉＯ_xに適用される。遮断性被覆材は容器、例えば検体採取管、シリンジバレル、又はその他の種類の容器の内部に塗布される。方法はいくつかの手順からなる。

Ｖ．Ａ．容器の壁を用意し、またプラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、場合により酸化ガス、場合により炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。

Ｖ．Ａ．プラズマが、実質上ホロー陰極プラズマを含まない反応混合物内に生成される。容器壁は反応混合物と接触し、ＳｉＯ_x被覆材は容器壁の少なくとも一部に堆積する。

Ｖ．Ａ．特定の実施形態においては、ＳｉＯ_x被覆材の生成が酸素に対するよりよい遮断性をもたらす場合もあるため、被覆する容器部分を通してプラズマが均一に生成されることが考えられる。均一なプラズマとは、ホロー陰極プラズマ（標準プラズマより高い発光強度を有し、標準プラズマのより均一な強度に支障を及ぼす強度の高い局部として現れる）を大量に含むことのない標準プラズマを意味する。

Ｖ．Ａ．ホロー陰極効果は、共通のアノードに関して同一の負電位で対立し合う対の導電性表面により、生じる。空間が生成され（圧力及びガスの種類により異なる）空間電荷シースがオーバラップする場合、対立壁シースの反射電位の間で電子が振動を開始し、シース領域の電位勾配により電子が加速するにつれて複数衝突が起こる。電子は空間電荷シースオーバラップ内に収容され、非常に高電離かつ高イオン密度のプラズマが生成される。この現象が、ホロー陰極効果と称される。当技術分野の当事者は、電力レベル及びガスの供給率又は圧力といった処理条件を変更して、全域に均一なプラズマを生成すること、又はさまざまな程度のホロー陰極プラズマを含むプラズマを生成することが可能である。

Ｖ．Ａ．プラズマは典型的には上記した理由からＲＦエネルギーを用いて発生させる。代替のそれほど典型的ではない方法においては、マイクロ波エネルギーを用いてＰＥＣＶＤ工程においてプラズマを発生させる。処理条件は異なる場合があるが、熱可塑性容器へのマイクロ波エネルギーの適用は水分子を励起（振動）させることになる。プラスチック素材中に少量の水が存在するため、マイクロ波はプラスチックを加熱することになる。プラスチックが加熱されるに従い、機器外部の大気圧に対する機器内部の真空により生じた大きい駆動力が素材を自在に、又は容易に内面８８まで引き込み、そこでそれらは揮発するか、表面に弱く結合することになる。次に弱く結合した素材が後の被覆材（プラズマから堆積）が機器のプラスチック内面８８に付着することを妨害することができる界面を発生させることになる。

Ｖ．Ａ．この被覆防止作用を否定する方法として、被覆材を非常に低い電力（本実施例において５〜２０ワット、２．４５ＧＨｚ）で堆積して、後続被覆材が接着できるキャッピングを生成することが可能である。これにより、２手順の被覆材処理（及び２層の被覆材）となる。上記実施例において、（キャッピング層のための）初期ガス流速は、約２〜１０秒間５〜２０ワットの処理電力を有する、２ｓｃｃｍ（「立方センチメートル毎分」）ＨＭＤＳＯ及び２０ｓｃｃｍ酸素に変更可能である。その後、上述実施例での流量へとガスを調整し電力レベルを２０〜５０ワットに増大することで、ＳｉＯ_x被覆材（本公式のｘは約１．５〜約２．９、或いは約１．５〜約２．６、或いは約２）を堆積可能である。特定の実施形態においてキャッピング層は、より高い電力でのＳｉＯ_x被覆材堆積中における素材の容器内面８８への移動を阻止することを除き、ほとんど又はまったく機能しない可能性があることに注意されたい。機器壁内物質の容易な脱着の移動は、大部分のＲＦ範囲といった低周波数においては通常問題とならないことにも注意されたい。なぜなら、低周波は分子種を励起（振動）しないからである。

Ｖ．Ａ．前述の被覆防止作用を否定する別の方法として、マイクロ波エネルギーを適用する前に滞留水を除去するために容器８０を乾燥させることが可能である。容器８０の乾燥は、例えば、電熱器又は強制空気加熱を利用した容器８０の温熱性加熱により、達成可能である。容器８０の乾燥はまた、乾燥剤への容器８０の内部の曝露により、又は容器８０の内部のガス接触により、達成可能である。真空乾燥といったその他の容器乾燥手段も使用可能である。手段は、図示する１つ以上のステーション又は機器において、又は個別のステーション又は機器により実行可能である。

Ｖ．Ａ．また上述被覆防止作用は、容器８０のモールド原料である樹脂を選択又は処理して樹脂が含有する水量を最低限に抑えることで、対処可能である。

Ｖ．Ｂ．容器の制限的開口部（シリンジキャピラリー）を被覆するＰＥＣＶＤ被覆材
Ｖ．Ｂ．図４及び図５は、通常管状である処理対象容器２５０の制限開口部２９４、例えばシリンジバレル２５０の制限前開口部２９４の内面２９２を、ＰＥＣＶＤにより被覆する方法及び装置（通常２９０）を示す。前述処理は、制限的開口部２９４の処理容器２９６への接続により、及び場合によりその他の修正の実行により、修正される。

Ｖ．Ｂ．通常管状である処理対象容器２５０には、外面２９８、内腔３００を定義する内面２５４、内径を有する大開口部３０２、内面２９２により定義されかつ大開口部３０２の内径より小さな内径を有する制限的開口部２９４が含まれる。

Ｖ．Ｂ．処理容器２９６は内腔３０４及び処理容器開口部３０６を有し、開口部は、その他の実施形態において場合により処理中は閉口となる第２開口部を提供可能であるが、場合により唯一の開口部である。処理容器開口部３０６を容器２５０の制限的開口部２９４に接続し、処理される容器２５０の内腔３００と処理容器の内腔の間の通過を制限的開口部２９４経由で確立する。

Ｖ．Ｂ．処理される容器２５０の内腔３００及び処理容器２９６の内腔３０４内で、少なくとも一部を真空状態にする。ＰＥＣＶＤ反応物質がガス源１４４から第１開口部３０２を通り、その後処理される容器２５０の内腔３００、制限的開口部２９４、処理容器２９６の内腔３０４へと流入する。

Ｖ．Ｂ．内部経路３１０、近位端３１２、遠位端３１４、及び遠位開口部３１６を有する通常管状である内部電極３０８の提供により、ＰＥＣＶＤ反応物質を容器２５０の大開口部３０２を通して導入可能である。代替実施形態においては、複数の遠位開口部を遠位端３１４に隣接して提供し内部経路３１０と連絡させることが可能である。電極３０８の遠位端は、処理される容器２５０の大開口部３０２に隣接して／の内部に位置付け可能である。反応性ガスを、電極３０８の遠位開口部３１６を通して処理される容器２５０の内腔３００へと供給可能である。ＰＥＣＶＤ反応物質導入前の初期に引かれた真空状態より高圧でＰＥＣＶＤ反応物質が提供される範囲内において、反応物質は制限的開口部２９４を通り、その後内腔３０４へと流入する。

Ｖ．Ｂ．制限的開口部２９４の内面２９２上にＰＥＣＶＤ反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマ３１８を制限的開口部２９４に隣接して生成する。図４に示す実施形態において、ＲＦエネルギーを通常Ｕ字型外部電極１６０と接地する内部電極３０８とに供給して、プラズマを生成する。電極への供給及び接地接続を無効にすることが可能であるが、プラズマ生成時に処理される容器２５０と内部電極３０８がＵ字型外部電極を通る場合、この無効化により複雑性が生じる可能性がある。

Ｖ．Ｂ．処理の少なくとも一部の間に容器２５０内に生成されるプラズマ３１８は、制限的開口部２９４及び／又は処理容器内腔３０４の内部に生成されるホロー陰極プラズマを含む。ホロー陰極プラズマ３１８の生成により、制限的開口部２９４に遮断性被覆材を成功裏に塗布する能力がもたらされる。ただし本発明は、作業理論の正確性又は適用可能性により制限されるものではない。したがって、作業の考えられる１モードにおいて、処理の一部を、均一プラズマを容器２５０及びガス吸入全域に生成する条件下で実行可能であり、また一部を、ホロー陰極プラズマを例えば制限的開口部２９４に隣接して生成する条件下で実行可能である。

Ｖ．Ｂ．本明細書で説明し図面で示すように、プラズマ３１８はシリンジ内腔３００及び制限的開口部２９４の実質上全域に伸延するため、処理はかかる条件下で動作されることが望ましい。プラズマ３１８もまた、シリンジ内腔３００、制限的開口部２９４、及び処理容器２９６の内腔３０４の実質上全域に伸延することが望ましい。これにより、容器２５０の内部２５４の均一な被覆が望ましいと仮定される。その他の実施形態においては、不均一プラズマが望ましい可能性がある。

Ｖ．Ｂ．プラズマ３１８は、シリンジ内腔３００及び制限的開口部２９４が全域において実質上均一な色であること、及び場合により、シリンジ内腔３００、制限的開口部２９４、及び処理容器２９６の内腔３０４の実質上全域において実質上均一な色であることが、通常望ましい。プラズマは、シリンジ内腔３００及び制限的開口部２９４全域において、及び場合により処理容器２９６の内腔３０４全域においても、実質上不変であることが望ましい。

Ｖ．Ｂ．本方法の手順順序は、重要とは見なされていない。

Ｖ．Ｂ．図４及び図５の実施形態において、制限的開口部２９４は第１取付部３３２を有し、処理容器開口部３０６は第１取付部３３２に装填するよう適合される第２取付部３３４を有し、処理容器２９６の内腔３０４と処理される容器２５０の内腔３００の間の通過を確立する。

Ｖ．Ｂ．図４及び図５の実施形態において、第１及び第２取付部は雄及び雌ルアーロック取付部３３２及び３３４であり、それぞれ、制限的開口部２９４及び処理容器開口部３０６を定義する構造と一体となっている。取付部の１つ（この場合は雄ルアーロック取付部３３２）は、ねじ式内面を有し軸方向対向の通常溝付き釘第１当接部３３８を定義するロックカラー３３６からなり、もう１つの取付部３３４は、取付部３３２及び３３４が係合する場合に第１当接部３３８に向き合う軸方向対向の通常溝付き釘第２当接部３４０からなる。

Ｖ．Ｂ．図示する実施形態において、密閉部、例えばオーリング３４２は、第１取付部３３２と第２取付部３３４の間に位置する場合がある。例えば溝付き釘密閉部は、第１当接部３３８と第２当接部３４０の間で係合する場合がある。雌ルアー取付部３３４はまた、ロックカラー３３６のねじ式内面と係合して第１取付部３３２と第２取付部３３４の間でオーリング３４２を捕捉するドッグ３４４も含む。場合により、制限的開口部２９４経由で、処理される容器２５０の内腔３００と処理容器２９６の内腔３０４の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である。

Ｖ．Ｂ．さらなる選択肢として、ルアーロック取付部３３２及び３３４のいずれか、又は両方を、導電性素材、例えばステンレス鋼から作成することが可能である。制限的開口部２９４を形成する又は隣接する本構成素材は、制限的開口部２９４内でのプラズマの生成に寄与する可能性がある。

Ｖ．Ｂ．処理容器２９６の内腔３０４の望ましい容量は、被覆されていることが好ましい製品表面から反応物質流速をそらすことがない小容量と、内腔３０４が十分に充填され（制限的開口部２９４において圧力差を減少させることにより）望ましい値より低い流速率へと減少される前に制限的開口部２９４を通る寛大な反応性ガス流速率を支持する大容量との間の、トレードオフとなることが考えられる。内腔３０４の考えられる容量は、ある実施形態において、処理される容器２５０の内腔３００の容量の３倍未満であり、又は処理される容器２５０の内腔３００の容量の２倍未満であり、又は処理される容器２５０の内腔３００の容量未満であり、又は処理される容器２５０の内腔３００の容量の５０％未満であり、又は処理される容器２５０の内腔３００の容量の２５％未満である。また、それぞれの内腔の容量のその他の効果的関係も考えられる。

Ｖ．Ｂ．本発明者は、前図に示される内部電極の位置ほど容器２５０の内腔３００へ侵入しないよう電極３０８の遠位端を容器２５０と関連させて再位置付けすることにより、特定実施形態における被覆材の均一性が向上することを発見した。例えば、特定の実施形態において遠位開口部３１６は、制限的開口部２９４に隣接するように位置付けられる場合があるが、別の実施形態において遠位開口部３１６は、反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部３０２から制限的開口部２９４までの距離の７／８未満、場合により３／４未満、場合により半分未満の箇所に位置付けられる場合がある。又は、遠位開口部３１６は、反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部から制限的開口部２９４までの距離の４０％未満、３０％未満、２０％未満、１５％未満、１０％未満、８％未満、６％未満、４％未満、２％未満、１％未満の箇所に位置付けられる場合がある。

Ｖ．Ｂ．又は、電極３０８の遠位端はやや内側又は外側に位置付け可能であり、又は、容器２５０の内部へと通過し反応性ガスを供給しながら、処理される容器２５０の大開口部３０２と共にフラッシュ可能である。処理される容器２５０と関連する遠位開口部３１６の位置付けは、特定の寸法及びさまざまの位置での試験によるその他の処理条件に関して最適化可能である。シリンジバレル２５０の処理のために考えられる電極３０８の特定の位置の１つは、大開口部３０２上部の容器内腔３００内に約１／４インチ（約６ｍｍ）侵入する遠位端３１４と共にある位置である。

Ｖ．Ｂ．本発明者は現在、少なくとも容器２５０内の電極３０８の遠位端３１４を位置付けて電極として適切に機能させることが、必ずしも必須ではないにしろ、有利であると考察している。驚くべきことに、容器２５０内に生成されるプラズマ３１８は、制限的開口部２９４を通り処理容器内腔３０４へとより均一に伸延可能であり、電極３０８は以前の利用と比べて内腔３００内部に侵入しない。閉口容器の処理といったその他の装備により、電極３０８の遠位端３１４は一般に、その入口よりも容器の閉口端に近接して位置付けられる。

Ｖ．Ｂ．また電極３０８の遠位端３１４は、制限的開口部２９４に、又は制限的開口部２９４を超えて、例えば図３３に図示する処理容器内腔３０４内に、位置付けられる場合がある。例えば制限的開口部２９４を通るガス流速を向上させるよう処理容器２９６を形成するといった、さまざまな手段を場合により提供可能である。

Ｖ．Ｂ．別の代替方法として、合成内部電極及びガス供給管３９８は、場合により大開口部３０２近隣に位置する遠位ガス供給開口部４００などを有する場合があり、また、遠位ガス供給開口部４００の遠位に伸延する、場合により制限的開口部２９４に隣接する遠位端に伸延する、場合により処理容器３２４へとさらに伸延する、突出し電極４０２を有する場合がある。この構造は、制限的開口部２９４に隣接する内面２９２内のプラズマ生成を促進すると考えられる。

Ｖ．Ｂ．さらに別の考えられる実施形態において、内部電極３０８は、図４に示す通り、処理中に移動可能であり、例えば、まず処理容器内腔３０４へと伸延して、その後処理を進めるにつれて漸進的に近位へと引き揚げることができる。本手段は、容器２５０が選択された処理条件の下で細長く、内部電極が内面２５４のより均一な処理を促進する場合に、特に考えられる。本手段を利用すると、例えばガス供給率、真空吸引率、外部電極１６０に適用する電気エネルギー、内部電極３０８の吸引率、又はその他の要素といった処理条件が、処理が進むにつれ変化し、処理される容器の異なる部分へと処理をカスタマイズできる。

Ｖ．Ｂ．便宜上、本明細書で説明するその他の処理にあるように、処理される容器２５０の大開口部３０２を容器支持体３２０のポート３２２上に装填することにより、通常管状である処理される容器２５０の大開口部は容器支持体３２０上に位置付けられる場合がある。その後、処理される容器２５０の内腔３００内で少なくとも一部を真空状態にする前に、内部電極３０８を容器支持体３２０に装填された容器２５０内に位置付け可能である。

Ｖ．Ｃ．潤滑性層の塗布方法
Ｖ．Ｃ．別の実施形態は、有機ケイ素前駆体由来の潤滑性被覆材を塗布する方法である。この方法及び潤滑性被覆材及び被覆品目はまた２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７にも記載されている。このような方法、被覆材及び被覆品目及びそれらの特徴を指摘するために該出願を参照する。

「潤滑性層」又は類似用語は通常、非被覆表面と比較して、被覆表面の摩擦抵抗を減少させる被覆材として定義される。被覆物体がシリンジ（又はシリンジ部品、例えばシリンジバレル）又は通常プランジャーに含まれるその他の品目又は被覆表面に接触するスライド式可動部品である場合、摩擦抵抗は主に２種類の態様-起動力及びプランジャースライド力を有する。

プランジャースライド力試験は、シリンジ内をスライドするプランジャーの摩擦の係数に特化した試験であり、通常平板表面上で測定されるスライド摩擦の係数に関連する標準的な力は、プランジャー／その他のスライド式構成要素と管／プランジャーのスライドするその他の容器との間の装着性を標準化することにより対応可能であるという事実を説明する。通常計測されるスライド摩擦係数に関連する並行力は、本明細書の記載通りに測定されたプランジャースライド力と比較可能である。プランジャースライド力は例えば、ＩＳＯ７８８６−１：１９９３試験で規定される通りに測定可能である。

プランジャースライド力試験はまた、例えば管内に停止部材を保持する摩擦といったその他の種類の摩擦抵抗を測定するよう、装置及び手順に適切な変更を加えて適合可能である。ある実施形態において、プランジャーは閉包部により置換可能であり、閉包部を除去又は挿入するための吸引力をプランジャースライド力の対照として測定可能である。

また、プランジャースライド力の代わりに、起動力を測定可能である。起動力は、定常プランジャーがシリンジバレル内を移動するよう起動させるのに必要な力、又は装填済みの定常閉包部の装填を解除して移動を開始するのに必要な類似の力である。起動力は、ゼロまた低い値から始まりプランジャーが動きだす時点まで増加する、プランジャーに適用する力により測定される。シリンジの保管期間が長いと、プランジャーとバレルとの間の潤滑剤の分解が原因である、充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、又はバレルへの粘着が起こり、起動力が増加する傾向がある。起動力は、プランジャーとバレルの間の粘着力を指す業界用語である「ｓｔｉｃｋｔｉｏｎ（粘着摩擦力）」を打開するのに必要な力であり、これを打開してプランジャーを起動し移動を可能としなければなれない。

Ｖ．Ｃ．容器全体又は一部を潤滑性層で被覆するための装備の一部は、例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触し、シリンジ内のピストン又は検体管内の停止部材といったスライド式構成要素の停止部材又は経路の挿入又は除去を容易にする。容器はガラス製である場合があり、又は例えばポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレン（ＰＥＴ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリプロピレンといったオレフィン、又はその他の素材である、ポリマー材製である場合がある。ＣＯＣはシリンジ及びシリンジバレルに特に適している。ＰＥＣＶＤによる潤滑性層の塗布は、ＰＥＣＶＤ処理による堆積と比較してより多量に適用されることが一般的である有機ケイ素又はその他の潤滑剤の噴霧、浸漬、別方法の塗布で該容器壁又は閉包部を被覆する必要性を、回避する又は低減する場合がある。

Ｖ．Ｃ．上記実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、プラズマを、基板付近に生成可能である。

実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、前駆体は場合により、実質上窒素が存在しない環境へと提供可能である。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、前駆体は場合により、絶対圧が１トール未満である環境へと提供可能である。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、前駆体は場合により、プラズマ発光付近の環境へと提供可能である。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．の何れにおいても、被覆材は場合により、厚み１〜５０００ｎｍ、又は１０〜１０００ｎｍ、又は１０〜５００ｎｍ、又は１０〜２００ｎｍ、又は２０〜１００ｎｍ、又は３０〜１０００ｎｍ、又は３０〜５００ｎｍの層厚で基板に塗布できる。典型的な層厚は３０〜１０００ｎｍ又は２０〜１００ｎｍであり、極めて典型的な層厚は８０〜１５０ｎｍである。これらの範囲は代表的な平均層厚であり、その理由は特定の粗度が潤滑性被覆材の潤滑特性を増強させる場合があるためである。即ち、層厚は好都合にも被覆材全体に渡って均一ではない（下記参照）。しかしながら均一な厚みの潤滑性被覆材も想定できる。

単一の測定点における潤滑性被覆材の絶対層厚は平均層厚の範囲限度よりも高値又は低値であることができ、最大の偏差は平均層厚保から好ましくは±５０％、より好ましくは±２５％そして更により好ましくは±１５％である。しかしながら、それは典型的には本明細書の平均層厚に関して記載した層厚範囲内で変動する。

本被覆材又はその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）で測定可能である。

Ｖ．Ｃ．ＴＥＭは、例えば以下の通り実行可能である。集束イオンビーム（ＦＩＢ）断面法のため、２方向に検体を準備する。いずれかの検体をまず炭素の薄層（層厚５０−１００ｎｍ）で被覆し、その後Ｋ５７５ＸＥｍｉｔｅｃｈ被覆システムを利用してプラチナのスパッタ層（層厚５０〜１００ｎｍ）で被覆可能である。又は、検体を保護スパッタプラチナ層で直接被覆可能である。被覆検体を、ＦＥＩＦＩＢ２００ＦＩＢシステムに留置する。関心領域に３０ｋＶガリウムのイオンビームをラスターしながら有機金属ガスを射出することで、追加のプラチナ層をＦＩＢ堆積可能である。各検体の関心領域は、シリンジバレルの長さ半分にあたる場所で選択可能である。長さ約１５μｍ（「マイクロメートル」）、幅２μｍ、奥行１５μｍの断面を、独自のｉｎ−ｓｉｔｕＦＩＢリフトアウト法を利用して、成形面から抽出可能である。ＦＩＢ堆積プラチナを使用して、断面を２００メッシュ銅製ＴＥＭグリッドへと装着可能である。各セクションのサイズ〜８μｍ幅の１〜２つのウィンドウを、ＦＥＩＦＩＢのガリウムイオンビームを使用して、電子透かしへと薄膜化可能である。

Ｖ．Ｃ．準備した検体の断面画像分析を、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）、又は走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、又は両方を利用して実行可能である。すべての画像データをデジタル記録可能である。ＳＴＥＭ画像については、薄肉ホイル付きのグリッドをＳＴＥＭ専用のＨｉｔａｃｈｉＨＤ２３００へと転送可能である。走査型電子顕微鏡画像は、原子数造影モード（ＺＣ）及び透過電子モード（ＴＥ）において適切な倍率で取得可能である。以下の機器設定を利用可能である。

Ｖ．Ｃ．ＴＥＭ分析については、検体グリッドをＨｉｔａｃｈｉ ＨＦ２０００透過電子顕微鏡へと転送可能である。転送された電子画像は、適切な倍率で取得可能である。画像取得の際に使用する関連機器設定は以下のものである場合がある。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、基板はガラス又は、例えばポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー、テレフタル酸ポリエチレンポリマー、又はこれら２種以上の複合体といったポリマーからなる場合がある。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、ＰＥＣＶＤは場合により、上記で定義される、例えば周波数が１０ｋＨｚ〜３００ＭＨ未満、場合により１〜５０ＭＨｚ、場合により１０〜１５ＭＨｚ、場合により１３．５６ＭＨｚである、ＲＦ周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで実行可能である。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、潤滑性層を形成するのに十分な電力供給を受ける、電極を有する前駆体からなるガス状反応物質を加圧することにより、プラズマを生成可能である。場合により、プラズマは０．１〜２５Ｗ、場合により１〜２２Ｗ、場合により１〜１０Ｗ、さらに場合により１〜５Ｗ、場合により２〜４Ｗ、例えば３Ｗ、場合により３〜１７Ｗ、さらに場合により５〜１４Ｗ、例えば６又は７．５Ｗ、場合により７〜１１Ｗ、例えば８Ｗの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。電極電力の対プラズマ量比は１０Ｗ／ｍｌ未満であり、場合により６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌである場合がある。本発明者等によれば、潤滑性被覆材を調製するためには低電力レベル（例えば２〜３．５Ｗの電力レベル及び実施例に記載する電力レベル）が最も好都合であると考えられる。電力レベルは、シリンジや検体管、及びその内部でＰＥＣＶＤプラズマが生成され１〜３ｍＬの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きい又はより小さい物体については、基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加又は減少させるべきであると考えられる。

Ｖ．Ｃ．実施形態Ｖ．Ｃ．のいずれにおいても、１つの好ましい処理ガスの組み合わせは、酸化ガスとしての酸素及び搬送ガスとしてのアルゴンの存在下のオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又は前駆体としての他の環状シロキサンを包含する。この理論の正確さに拘束されないが、本発明者等はこの特定の組み合わせが以下の理由から有効であると考える。

Ｖ．Ｃ．ＯＭＣＴＳ又は他の環状シロキサン分子は他のシロキサン素材を超えた幾つかの利点を与える。第１にその環構造は緻密度のより低い被覆材を与える（ＨＭＤＳＯから調製した被覆材と比較した場合）。分子はまた、被覆材の最終構造及び化学組成がプラズマ出力の適用を介して直接制御できるような選択的イオン化を可能とする。他の有機ケイ素分子は、分子の元の構造を維持することがより困難となるように、容易にイオン化（断片化）される。

Ｖ．Ｃ．アルゴンガスの添加は潤滑性の性能を向上させる（後述の実施例参照）ため、アルゴン存在下の分子の追加的イオン化は潤滑性を与えることに寄与すると考えられる。分子のＳｉ-Ｏ-Ｓｉ結合は高い結合エネルギーを有し、その次に来るのがＳｉ−Ｃであり、そしてＣ−Ｈ結合が最も弱い。潤滑性は、Ｃ−Ｈ結合の一部分が破壊されたときに達成されると考えられる。これにより構造が成長するに従ってその連結(架橋）が可能となる。酸素（＋アルゴン）の添加はこの過程を増強すると考えられる。少量の酸素もまた他の分子が結合できるＣ−Ｏ結合を与えることができる。Ｃ−Ｈ結合を破壊することと、全て低値の圧力及び電力で酸素を添加することを組み合わせることにより、潤滑性を与えつつ固体である化学構造がもたらされる。

本発明の特定の実施形態において、潤滑性はまた本明細書に記載する前駆体及び条件を用いながらＰＥＣＶＤ工程から生じる潤滑性被覆材の粗度により影響される場合もある。今回、走査電子顕微鏡検査（ＳＥＭ）及び原子力顕微鏡検査（ＡＦＭ）を実施することにより本発明の文脈において意外にもわかった点は、粗放で非連続なＯＭＣＴＳプラズマ被覆材は平滑で連続的なＯＭＣＴＳプラズマ被覆材よりも低値のプランジャー力（２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７中の記載によればＦｉ、Ｆｍ）を与える。これは２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７の実施例Ｏ〜Ｖにより明らかにされている。

理論に制約されないが、本発明者等はこの特定の作用は、部分的には以下の機械的作用の一方又は両方に基づいていると推定する。

(ａ)プランジャーの運動の初期及び／又は全体における潤滑性被覆材とのプランジャーの低値の表面接触(例えば粗放な被覆材のピークのみと接触している環状の剛性のプランジャー表面）により、接触及びその結果として生じる摩擦が全体的に低値となること。

(ｂ)プランジャー移動の際に、プランジャーは初期非均一粗放被覆材を展延平滑化して非被覆の「バレー（谷）」を形成する。

潤滑性被覆材の粗度はプラズマを加圧する電力（ワット）を低下させる場合に、そして上記した量のＯ₂の存在により上昇する。粗度はＡＦＭにより測定される「ＲＭＳ粗度」又は「ＲＭＳ」として表すことができる。ＲＭＳはＡＦＭ画像における最高及び最低の点の間の差の標準偏差である（差は「Ｚ」と標記される）。これは以下の式に従って計算される。
Ｒ_q＝｛Σ（Ｚ₁−Ｚ_avg）²／Ｎ｝^-2
式中、Ｚ_avgは画像内の平均Ｚ値であり；Ｚ₁はＺの現在の値であり；そしてＮは画像における点の数である。

この特定の実施形態におけるＲＭＳの範囲は典型的には７〜２０ｎｍ、好ましくは１２〜２０ｎｍである。しかしながらより低値のＲＭＳもなお潤滑特性を満足させる場合がある。

Ｖ．Ｃ．１つの考えられる製品は場合により、実施形態Ｖ．Ｃ．の何れか１つ以上の方法により処理されたバレルを有するシリンジであることができる。該シリンジは本発明の潤滑性被覆材のみを有するか、又は、それは潤滑性被覆材及び追加的に１つ以上の他の被覆材、例えば潤滑性被覆材の上下何れかのＳｉＯ_x遮断性被覆材を有することができる。

Ｖ．Ｄ．液体塗布被覆材
Ｖ．Ｄ．ＰＥＣＶＤ適用被覆材又は本明細で開示するその他のＰＥＣＶＤ処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材又はその他の種類の被覆材のもう１つの例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、又は容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材９０である場合があり、容器内面への塗布は直接、又は本明細書に記載した１種以上の介在性ＰＥＣＶＤ適用被覆材、例えばＳｉＯ_xと共に、定義のセクションにおいて定義されるとおり特性化された潤滑層と共に、又は両方と共に行われる。

Ｖ．Ｄ．適切な流体遮断膜又はその他の種類の被覆材９０はまた、場合により、例えば流体モノマー又はその他のポリマー、又は硬化材料を容器８０の内面に塗布することにより、流体モノマーを硬化、ポリマー化、又は架橋させて固体ポリマーを形成することにより、塗布可能である。適切な流体遮断又はその他の種類の被覆材９０はまた、溶媒分散ポリマーの表面８８への塗布及び溶媒の除去により、提供可能である。

Ｖ．Ｄ．上記いずれかの方法に、処理ステーション又は機器２８における容器ポート９２経由で容器８０の内部８８上に被覆材９０を形成する手順が含まれる場合がある。一例として、流体被覆材、例えば硬化性モノマー、プレポリマー、又はポリマー分散の容器８０の内面８８への塗布、及び容器８０の内容物を内面８８から物理的に隔離する膜を形成するための硬化が挙げられる。先行技術により、ポリマー被覆技術はプラスチック製採血管の被覆に適切であると記述される。例えば、参照することにより本明細書に含まれる米国特許６，１６５，５６６に記載の、アクリル及びポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）被覆材及び被覆方法を利用可能である。

Ｖ．Ｄ．また上記いずれかの方法に、容器８０の外壁上に被覆材を形成する手順が含まれる場合がある。被覆材は、遮断性被覆材であり、場合により酸素遮断性被覆材であり、場合により水遮断性被覆材である場合がある。適切な被覆材の例の１つに、水遮断性及び酸素遮断性の両方の機能を有するポリ塩化ビニリデンがある。場合により、遮断性被覆材を水系被覆材として塗布可能である。被覆材は場合により、容器の浸漬、容器への噴霧、又はその他の手段により、塗布可能である。上述の外部遮断性被覆材を有する容器もまた、考えられる。

ＶＩ．容器の検査
ＶＩ．本発明のガス放出方法による容器検査をいかにより詳細に説明する。しかしながら方法は容器以外の他の品目、例えばプラスチックフィルム又は固体の３次元物体を検査する場合にも適用されると理解すべきである。そのような他の品目の検査もまた本発明に包含される。

ＶＩ．図１に示すステーション又は機器は、容器壁又は容器壁のガス放出を通しての大気圧損失又は質量流速率又は体積流速率の測定により、欠陥検出のため容器８０の内面を検査するよう設定可能である、処理ステーション又は機器３０である。機器３０は機器２６と同様の動作が可能であるが、例外として、機器３０により提供される検査に合格するには容器のより良いパフォーマンス（任意処理条件におけるより低い漏出度又は透過度）が必要とされる場合がある。なぜなら、図示する実施形態において、ステーション又は機器３０に到達する前に、遮断膜又はその他の種類の被覆材がステーション又は機器２８により塗布されているからである。一実施形態において、被覆容器８０の本検査は、機器又はステーション２６における同一容器８０の検査と比較可能である。ステーション又は機器３０におけるより低い漏出度又は透過度により、遮断性被覆材が少なくともある程度機能していることが示される。

ＶＩ．２つの異なるステーション又は機器で測定される容器８０の同一性は、個別の同定用標識、例えばバーコード、その他の記号、又は無線周波数識別（ＲＦＩＤ）機器又はマーカーを各容器ホルダー３８〜６８に貼付して、図１に示す循環コンベヤーの２つ以上の異なる地点で測定される容器の同一性を一致させることにより、確認可能である。容器ホルダーは再利用可能であるため、新規容器８０が容器ホルダー４０上に装填される直後に、それらが図１の容器ホルダー４０の位置に到達する時点で、コンピューターデータ又はその他のデータ保存構造内に登録可能である。また、処理の終点で／近くで、例えば図１の容器ホルダー６６の位置に到達した時点で又は後で、データ登録から除去可能であり、処理容器８０は搬送機構７４により除去される。

ＶＩ．処理ステーション又は機器３２は、例えば容器へと塗布される遮断膜又はその他の種類の被覆材の欠陥検出のために、容器を検査するよう設定可能である。

ＶＩ．本明細書の容器検査方法は容器あたり30秒以下、容器あたり25秒以下、容器あたり20秒以下、容器あたり15秒以下、容器あたり10秒以下、容器あたり5秒以下、容器あたり4秒以下、容器あたり3秒以下、容器あたり2秒以下、容器あたり1秒以下の経過時間以内の検査手順（即ちガス放出揮発性種の測定）の実行が含まれる場合がある。これは例えば遮断性又は他の型の被覆容器壁の有効性を測定することにより可能となりえる。

ＶＩ．上記実施形態の何れかにおいて、検査手順は、遮蔽物又は他の型の被覆材９０が容器８０内の初期の真空レベル（即ち周囲に対する圧力の初期の低下）を、それが先ず脱気され、そしてその壁８６が周囲雰囲気に曝露された場合に、少なくとも１２ヶ月、又は少なくとも１８ヶ月、又は少なくとも２年間のシェルフライフの間、２０％超、場合により１５％超、場合により１０％超、場合により５％超、場合により２％超の減少を防止するために有効であることを判定するために十分な数の容器８０の内面８８全体を網羅する点において実施できる。

ＶＩ．初期真空レベルは高真空、残留気圧が１０トール未満である場合があり、又はより低真空、例えば陽圧（すなわち全真空を超える過剰圧）２０トール未満、５０トール未満、１００トール未満、１５０トール未満、２００トール未満、２５０トール未満、３００トール未満、３５０トール未満、３８０トール未満である場合がある。真空採血管の初期真空レベルは、例えば、多くの場合、管を使用する試験の種類により、すなわち、製造時に管に添加される試薬の種類及び適量により決定される。初期真空レベルは一般に、管に含まれる試薬と結合させるのに適正な量の血液を引きこむよう設定される。

ＶＩ．場合により遮蔽物又は他の型の被覆材９０の検査手順は、遮蔽物又は他の型の被覆材９０が容器８０内の圧力を、それが先ず脱気され、そしてその壁が周囲雰囲気に曝露された場合に、少なくとも１年のシェルフライフの間、周囲大気圧の１５％超、又は１０％超の増大を防止するために有効であることを判定するために十分な数の容器内面８８全体を網羅する点において実施できる。

図１５は上記及び後述する検査方法を実施するために適合された装置（即ち１つ以上の処理ステーション）を含む本発明の実施形態による処理システム２０を示す。処理システム２０は容器処理システムで合ってよくそして、とりわけ、第１処理ステーション５５０１を含み、そして第２処理ステーション５５０２を含んでも含まなくても良い。そのような処理ステーションの例は例えば図１の参照番号２４、２６、２８、３０、３２及び３４に示されている。

第１容器処理ステーション５５０１は、装填済み容器８０を把持する容器ホルダー３８を含む。図１５に血液管８０が描写されているが、容器はシリンジ本体、バイアル、カテーテル、又は例えば検査すべき表面を有するピペットや何れかの他の物体であってよい。容器は、例えばガラス製又はプラスチック製である場合がある。プラスチック容器の場合、第1処理ステーションはまたプラスチック容器をモールドするためのモールドからなる場合がある。

第１処理ステーションでの第１処理（処理は、容器のモールド、容器の欠陥検出のための第１検査、容器内面の被覆、及び容器、特に内部被覆材の欠陥検出のための第２検査からなる）の後に、容器ホルダー３８を容器８２と共に第２容器処理ステーション５５０２に搬送する。この搬送は、コンベヤー装備７０、７２、７４により実行される。例えば、容器／ホルダー複合体を次の処理ステーション５５０２に移動させるため、容器ホルダー３８及び／又は容器８０を把持する１つの把持部又は複数の把持部を用意する場合がある。或いは、把持部なしで容器を移動する場合がある。しかし、把持部を適合するとコンベヤー装備による搬送が可能となるため、把持部と容器を共に移動することは有利である場合がある。

処理ステーションの１つ以上は、検査すべき表面の近隣まで、例えば容器の内部容積内に、揮発性種を供給するための管を含んでよい。更にまた、被覆表面に隣接する気層内への検査物体からの少なくとも１種の揮発性種の放出を測定するためにガス検出器を設けてよい。

図１６は、本発明の別の実施形態に記載の容器処理システム２０を示す。ここでも、２つの容器処理ステーション５５０１、５５０２を用意する。さらに、追加の容器処理ステーション５５０３、５５０４を連続して配備し、容器を処理、すなわち検査及び／又は被覆できるようにする。

容器は、ストックから左側の処理ステーション５５０４へと移動可能である。或いは容器は、第１処理ステーション５５０４でモールド可能である。どちらの場合も、モールド、検査及び／又は被覆（次に第２検査を行う場合がある）といった第１容器処理は、処理ステーション５５０４で実行する。その後、容器を次の処理ステーション５５０１にコンベヤー装備７０、７２、７４経由で移動する。一般に、容器は容器ホルダーと共に移動する。第２処理を第２処理ステーション５５０１で実施し、その後、容器と把持部を第３処理を実施する次の処理ステーション５５０２へと移動する。容器をその後（再び把持部と共に）、第４処理のために第４処理ステーション５５０３に移動し、その後保管するために搬送する。

容器を処理する各被覆手順又はモールド手順又はその他の手順の前及び後に、容器全体の、容器の一部の、及び特に容器の内面の検査を実施する場合がある。各検査の結果を、中央処理装置５５０５にデータバス５５０７経由で送信する。各処理ステーションをデータバス５５０７と接続する。上記したプログラム要素はプロセッサ５５０５上で走らせてよく、そして中央制御及び調節装置の形態で採用してよいプロセッサは、システムを制御し、そして検査データを処理するように適合させて良く、これにより、データを分析し、最後の処理手順が成功であったかどうかを判定する。

例えば被覆材に孔があるため、又は被覆材の表面が標準であり又は十分に平滑でないため、最後の処理手順が不成功であったと判定される場合、容器は次の処理ステーションに進むことなく製造工程（コンベヤーセクション７００１、７００２、７００３、７００４参照）から除去されるか、再処理するために返送される。

プロセッサ５５０５は、制御／調整パラメーターを入力するためのユーザーインターフェース５５０６に接続する。

図１７は、本発明の実施形態に記載の容器処理ステーション５５０１を示す。ステーションは、容器内面を被覆するためのＰＥＣＶＤ装置５７０１からなる。さらに、容器検査用の複数の検出器５７０２〜５７０７を用意する。かかる検出器は、例えば電気計測を実施する電極、光学検出器、ＣＣＤカメラ類、ガス検出器、又は圧力検出器である場合がある。

図１８は、本発明の実施形態に記載の容器ホルダー３８と共に、複数の検出器５７０２、５７０３、５７０４及びガス吸入ポート１０８、１１０を有する電極を示す。

電極と検出器５７０２は、容器が把持部３８に装填済みである場合、容器８０の内腔に移動するよう適合される場合がある。

例えば装填済み容器８０の外部に配置される光学検出器５７０３、５７０４ を利用して、又はさらには容器８０の内腔内に配置される光学検出器５７０５を利用して、特に被覆手順中に、光学検査を実施する場合がある。

検出器はカラーフィルターからなる場合があり、異なる波長を被覆処理中に検出可能である。処理装置５５０５は光学データを分析し、被覆が成功であったか所定の確実性レベルに達していないかどうかを判定する。被覆材がおそらく不成功であったと判定される場合、それぞれの容器を処理システムから隔離する、又は再処理する。

ＶＩ．Ａ．被覆前及び被覆後検査を含む容器処理
ＶＩ．Ａ．さらなる別の実施形態は、開口部及び内面を定義する壁を有するモールドプラスチック容器を処理する、容器処理方法である。方法は、モールド時の又は被覆直前の容器内面の欠陥検出のための検査、検査後に型どおりに容器内面への被覆材の塗布、及び被覆材の欠陥検出のための検査により、実行される。

ＶＩ．Ａ．別の実施形態は、検査後に型どおりに遮断性被覆材を容器に塗布する容器処理方法であり、容器内面は遮断性被覆材の塗布後に検査欠陥検出のために検査される。

ＶＩ．Ａ．場合により、ステーションにおける又は機器２６による容器検査は、基板に関する前盤工程でヘリウムといった検査ガスを、容器８０の内部又は外部のいずれかに提供することにより、及び終盤工程でそれを検出することにより、修正可能である。水素といった低分子量ガス、又は酸素や窒素といった廉価／入手が容易なガスも、検査ガスとして利用可能である。

ＶＩ．Ａ．ヘリウムは、大気中の窒素や酸素といったよくある環境ガスと比べて非常に迅速に、不完全な遮断膜又はその他の種類の被覆材を通り抜けるため、又は漏出密閉部を通過するため、漏出／透過検出率を増加させる検出検査ガスとして考えられる。ヘリウムは、以下の特徴により多くの間断ない基板又は小ギャップを通る高搬送率を有する：（１）不活性であるため、多大に基板により吸収されない、（２）容易にイオン化されないため、電子と原子核の間の引力が高く分子が非常にコンパクトである、及び（３）分子量４であるため、窒素（分子量２８）や酸素（分子量３２）とは対照的に、分子がよりコンパクトであり多孔質基板又はギャップを容易に通り抜けられる。これらの要素によりヘリウムは、任意の透過性を有する遮断膜を通って多くのその他のガスより迅速に移動する。また、大気が通常包含するヘリウムは非常に少量であるため、特に漏出・透過を測定するためにヘリウムを容器８０内に導入し容器８０外部で検出する場合、追加されたヘリウムの存在は比較的容易に検出可能である。ヘリウムは、基板上流の圧力降下により、又は基板を通過した下流ガスの分光分析といったその他の手段により検出可能である。

ＶＩ．Ａ．機器８０をモールドした後に、ステーション２２において、後続の処理又は被覆を不完全に又は無効に塗布する、複数の潜在的問題が生じる場合がある。これらの問題に関する被覆を行う前に機器を検査する場合、所望の結果を確保するよう場合により６シグマ制御で高度に最適化された処理で、機器を被覆可能である。

ＶＩ．Ａ．処理及び被覆を妨害する可能性がある潜在的問題の一部には、以下が含まれる（生成する被覆物質の性質により異なる）。

ＶＩ．Ａ．１．大密度の粒子汚染欠陥（例えば、各最長寸法１０マイクロメートル以上）、又は小密度の大粒子汚染（例えば、各最長寸法１０マイクロメートル以上）。

ＶＩ．Ａ．２．化学的又はその他の表面汚染（例えば、ケイ素離型剤又は油）。

ＶＩ．Ａ．３．多数の鋭利な凸部及び／又は凹部により特徴付けられる、高い表面粗度。これはまた、１００ｎｍ未満であるべき平均粗度（Ｒａ）を定量化することによっても、特徴付けられる場合がある。

ＶＩ．Ａ．４．真空の創出を不可能とする、例えば孔といった機器における欠陥。

ＶＩ．Ａ．５．密閉部（例えば検体採取管の開口端）を創出するために使用される、機器の表面上の欠陥。

ＶＩ．Ａ．６．処理又は被覆中に厚さを通る電力カップリングを妨害する又は修正する可能性がある、大幅な壁の厚さの不均一性。

ＶＩ．Ａ．７．遮断膜又はその他の種類の被覆材を無効に塗布する、その他の欠陥。

ＶＩ．Ａ．処理／被覆作業におけるパラメーターを使用して処理／被覆作業の成功を確保するため、機器を１つ以上の上記潜在的問題又はその他の問題について事前検査可能である。以前、機器の把持のための装置（パック又は容器ホルダー３８〜６８など）を開示し、装置をさまざまな試験及び処理／被覆作業を含む製造処理を通して移動させた。機器を処理/被覆のための適切な表面を確実に有するようにするため、複数の可能な試験を実施可能である。これらには容器壁のガス放出が包含され、これは場合により被覆後検査の下に後述するとおり測定することによりガス放出ベースラインを判定できる。

ＶＩ．Ａ．上記試験は、図２に示すステーション２４において実行可能である。本図において、機器（例えば検体採取管８０）を所定の位置に保持することができ、そして適切な検出器１３４を配置して所望の結果を測定可能である。

ＶＩ．Ａ．真空漏出が検出される場合、容器ホルダー及び機器を、管へと挿入される真空ポンプ及び測定機器へと結合可能である。試験はまた、明細書の別箇所で詳述する通りに実施可能である。

ＶＩ．Ａ．上記システムは、複数手順からなる製造及び検査方法へと統合可能である。

ＶＩ．Ａ．図１（前述）は、可能な方法の手順の配置図を示す（ただし本発明は単一概念又はアプローチに制限されるものではない）。まず、容器８０をステーションにおいて又は機器２４により目視で検査する。検査には、容器８０の寸法測定が含まれる場合がある。欠陥が見つかった場合、機器又は容器８０を不合格とし、パック又は容器ホルダー３８などを欠陥検出のため検査、再利用、又は除去する。

ＶＩ．Ａ．次に、その他の容器ホルダー３８及び装填済み容器８０のアセンブリの漏出率又はその他の特性を、ステーション２６において試験し、被覆後の比較のために保管する。パック又は容器ホルダー３８はその後、例えば被覆手順２８へと移動する。機器又は容器８０を、例えば１３．５６ ＭＨｚの電力供給周波数で、ＳｉＯ_x又はその他の遮断層又はその他の種類の被覆材で被覆する。被覆された容器ホルダーは、漏出率又はその他の特性について再試験を行う（これは、試験ステーション２６又は複製／類似ステーション３０などにおいて第２試験として実行可能である - 複製ステーションの利用によりシステム処理量を増大可能である）。

ＶＩ．Ａ．被覆測定は、非被覆測定と比較可能である。値の比率が事前設定された必須レベルを超える場合、被覆材のパフォーマンスが全体的に合格であることを示し、容器ホルダー及び機器は次工程に進む。機器が不合格である又は追加被覆のため再利用される場合は、値は事前設定制限を超えることが必須である可能性がある。次に（不合格ではなかった機器については）、第２光学試験ステーション３４を使用可能である。この場合、点光源を管又は容器８０の内部に挿入し、測定値が得られたら徐々に管状ＣＣＤ検出器配列と共に管の外部に取り出す。データはその後、欠陥密度分布を判定するためコンピューター分析を行う。測定値に基づき、機器は合格となり最終包装が行われるか、不合格となる。

ＶＩ．Ａ．上記データは場合により、６シグマ品質を保つため統計的プロセス制御技術を利用して（例えば、電子的に）ログ又はプロット可能である。

ＶＩ．Ｂ．遮断層を通過するコンテナ壁のガス放出を検出することによる容器検査
ガス放出測定により遮断層に関する検査物体を検査する方法を以下に記載する。方法において、第１の素材の少なくとも部分で作成されている物体（基板）を準備する。物体は表面を有し、そして場合により少なくとも部分的遮断層を第１の素材と表面の間に有する。開示した技術の最も広い態様において、特定の状況では容器が遮断性被覆材を有するか否かを判断するために検査されるため、任意である。場合により、第１の素材中に可溶であるか、それにより吸収又は吸着される充填素材を準備する。物体はこの場合充填素材と接触される。次に表面の少なくとも一部分からのガス放出を測定する。方法は遮断層の有無を判定するために有効な条件下で実施する。

「被覆されている」と「非被覆である」の間の判別は、それぞれの流速の初期傾きに基づいて行うことができる。これらの流速の傾きは（ａ）直接の傾きの計算（Δ流量／Δ時間）、又は（ｂ）流速ｖｓ時間曲線から逆に計算された傾きを当てはめるアルゴリズムのいずれかにより判別可能でなければならない。被覆品目と非被覆品目の間の傾きの差は、再現性がある限りにおいて、本発明を実施するために十分であるためには極めて低値であることができる（実施例参照）。しかしながら一般的には、差は少なくとも０．１秒、より好ましくは少なくとも０．３〜１０秒、更により好ましくは少なくとも１秒〜５秒でなければならない。傾きの差の上限は数分、例えば１５又は３０分であることができる。典型的には、傾きの差は１秒〜１５分、より典型的には１秒〜１分、１秒〜３０秒、又は１秒〜１０秒の範囲である。

本明細書において別途、図８に関して説明する場合の６シグマ評価は試験に合格したか不合格であるかを判別するための極めて役に立つツールである。実施例において本発明者等により適用されるシグマ数は６であり、これはまた本発明を実施するための最も好ましい数である。しかしながら所望の信頼性に応じて、シグマ数は２〜８、好ましくは３〜７、より好ましくは４〜７、又は５〜７に変動できる。信頼性ｖｓシグマ数は相殺されるものであり：本明細書の実施の際により長い検査時間が許容される場合は、より大きいシグマ数が得られる。

測定する揮発性種は被覆材から放出された揮発性種、基板から放出された揮発性種、又は両方の組み合わせであることができる。１つの態様において、揮発性種は被覆材から放出された揮発性種であり、場合により揮発性被覆材成分であり、そして検査は、被覆材の存在、特性及び／又は組成を測定するために実施される。別の態様においては揮発性種は基板材から放出された揮発性種であり、そして検査は、被覆材の存在、特性及び／又は被覆材の遮蔽作用を測定するために実施される。特に揮発性種は大気の構成成分、例えば窒素、酸素、水、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、又は周囲空気であってよい。

遮断層を配設されることができる適当な物体の一部の例はフィルム又は容器である。一部の特定の考えられる容器は、シリンジ又はシリンジバレル、医療用資料採取容器、バイアル、アンプル、及び／又は一端が閉鎖され一端が開放されている管、例えば血液又は他の医療用試料の採取管である。

物体はプラスチック、例えば熱可塑性プラスチックの壁を有する容器であることができる。第１の素材、即ちプラスチック壁を形成する素材は、例えば熱可塑性素材、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、又はポリエチレンナフタレート又はこれらの組み合わせ又はインターポリマーを含むか、本質的にこれよりなるか、これよりなることができる。第１の素材は例えばオレフィン重合体、例えば環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、環状オレフィン重合体（ＣＯＰ）、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレン共重合体、又はこれらの組み合わせ又はインターポリマーを含むか、本質的にこれよりなるか、これよりなることができる。その他の考えられる第１の素材はポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ナイロン、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリメチルペンテン、アイオノマー樹脂、例えばＳｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂を含む。

何れの実施形態においても、第１の素材は環状オレフィン共重合体を含むか、環状オレフィン共重合体より本質的になるか、又は環状オレフィン共重合体樹脂組成物よりなることができる。本実施形態においては、「よりなる」とは完全な成形組成物を作成するために純粋な環状オレフィン共重合体とブレンドする他の素材を排除するわけではない。「よりなる」のこの定義は明細書全体を通じて全ての素材に適用する。「よりなる」とはまた、記載した樹脂組成物及び異なる組成物の他の層よりなる少なくとも１種の層を有する層状の素材を除外しない。

何れの実施形態においても、第１の素材はポリエチレンテレフタレートを含むか、
ポリエチレンテレフタレートより本質的になるか、又はポリエチレンテレフタレート樹脂組成物よりなることができる。

第１の素材（例えばＳｉＯ_x被覆材で被覆された管の素材）と揮発性構成成分の特に好ましい組み合わせは、ＣＯＣと二酸化炭素である。

特に好ましい組み合わせ（例えばＳｉＯ_x被覆材で被覆された管の素材）と揮発性構成成分はＰＥＴ及び水である。

第１の素材（例えばＳｉＯ_x被覆材で被覆された管の素材）と揮発性構成成分の更に好ましい組み合わせは、ＣＯＣとアルゴンである。

何れの実施形態においても、遮断層はｘが約１．５から約２．９のＳｉＯ_x、又は本明細書に別途記載する何れかの他の適当な素材を含むかそれよりなることができる。「遮断層」は何らかの他の主要な機能、例えば潤滑性、疎水性、又は他の表面特性を有する層、例えば本明細書に記載した何れかの層であることができる。遮断層を適用するための本明細書に記載した何れかの方法を使用できる。

充填素材は素材からガス放出させるためのガスを提供することによりガス放出の測定を容易にする何れかの素材であることができる。一部の非限定的な考えられる例は大気の構成成分、例えば窒素、酸素、水、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン又は周囲空気である。本明細書において考えられる他の型の充填素材は遮断層を形成するために使用される処理素材を含む。例えば、充填素材有機ケイ素素材、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、又は前駆体又は処理素材として本明細書に開示する他のガスの何れかを包含できる。考えられる他の型の充填素材は例えば被覆処理に使用される搬送ガスである。

遮断性被覆材は場合により、充填素材が接触する前、充填素材が接触した後、充填素材が接触している間、又はこれらの段階の２つ以上の何れかに塗布するか、存在することができる。

接触の手順は充填素材を含有する堆積に物体を曝露することによるなど、種々の方法で実施できる。接触は充填素材を含有する周囲空気に物体を曝露することにより実施できる。１つの考えられる充填素材は水であり、これは湿潤空気の形態で提供され得る。接触は例えばガス放出を計測する前に、相対湿度３５％〜１００％、場合により４０％〜１００％、場合により４０％〜５０％、場合により少なくとも５０％、場合により少なくとも６０％、場合により少なくとも７０％、場合により少なくとも８０％、場合により少なくとも９０％、場合により少なくとも９５％、場合により１００％で遮断層を空気に接触させることにより実施できる。

充填素材に物体を接触させることは、充填素材を含むガスに物体を曝露することによるか、又は充填素材を含む液体に物体を曝露することにより実施できる。

模範的接触時間は、０．１秒〜１時間、場合により１秒〜５０分、場合により１０秒〜４０分、場合により１分〜３０分、場合により５分〜２５分、場合により１０分〜２０分である。しかしながら、接触時間はかなり短くても良い。より短い接触時間（例えば実施例の１２分より短い）を達成するための１つの選択肢は、充填素材との物体の接触の間の温度を上昇させることである。この温度上昇は検査品目を介する、例えばプラスチック基板を介する接触素材の拡散を加速する場合がある。例えばＰＥＴボトルの壁を通過するＣＯ₂の拡散は、３０〜４０℃に温度が上昇した場合にかなり増大した。

ＣＯ₂を充填するための典型的なパラメーター及び条件はＣＯ₂を充填するための基本的プロトコルにおいて示している。底に記載されているパラメーターは充填を実施する際には±５０％以下の変動があってよい。本明細書に記載した他の充填素材の異なる物理化学的特性を考慮しながら適宜変更された同様の条件は、該別の充填素材の充填を行う場合に適している。

本発明による充填素材による品目の充填を包含するガス放出測定における非被覆と被覆プラスチック品目、例えば遮断層で被覆された品目の判別の増強は後の脱気測定（マイクログラム／分）のために樹脂中にガスを吸収させるプラスチック品目の能力に依存している。これは充填素材としてＡｒ、Ｎ₂又はＣＯ₂を使用する実施例において明らかにされる。プラスチック中のガスの溶解度はプラスチック樹脂中に滞留できるガスの量の重要な決定要因であり、従って特定の充填ガスについて良好な非被覆ｖｓ被覆品目の判別ができる能力の良好な推定基準となりえる。プラスチック樹脂中の種々のガスの溶解度の実験的な測定は極めて限定されるが、ガスの溶解度ＳとＬｅｎｎａｒｄ−Ｊｏｎｅｓガス温度［ガス潜在エネルギー定数（イプシロン）をボルツマン定数（ｋ）で割ったもの］との間の直線的な関係（方程式１）が±０．６の精度でガラス状ポリオレフィンについてＶａｎ Ａｍｅｒｏｎｇｅｎ，Ｍｉｃｈａｅｌｓ，ａｎｄ Ｂｉｘｌｅｒにより測定されている（Ｄ．Ｗ．ＶａｎＫｒｅｖｅｌｅｎ，Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，３^rdＥｄ．，１９９０，ｐｐ．５３８−５４２及びその参考文献)。
ｌｏｇＳ（２９８）＝−７．４＋０．０１０＊（イプシロン／ｋ）（方程式１）

表Ｈはガス（実施例で使用した二酸化炭素及び窒素ガスを包含）、そのＬｅｎｎａｒｄ−Ｊｏｎｅｓガス温度（イプシロン／ｋ比）、計算値ｌｏｇＳパラメーター、及び非被覆のＳｉＯ_x被覆に対する最大分離のＡＴＣ（マイクログラム／分）シグナルの平均の比の一覧表である。計算値ｌｏｇＳを二酸化炭素、アルゴン、及び窒素の実験ＡＴＣ比に対してプロットすることにより（図５）、高値のガス溶解度を有するガスの好適度が高く、低値のガス溶解度を有するガスの好適度が低いことが示される。換言すれば高値の溶解度を有するガス（表Ｈ中下部）はガス放出測定に基づけば遮断性被覆と非被覆基板のより良好な分離を可能にしている。
*表Ｆ及びＧならびに図１９から得られた比

同様の原理は、他の被覆材又は異なるガス吸収及び吸着を示す異なる素材の判別に適用される。

従って、本発明の文脈においては検査されたプラスチック素材における良好な溶解度を有する充填ガスを使用することが好ましい。試験の感度を上昇させるためには、充填素材はプラスチック中でより高い溶解度を有する充填素材を補給するか、それで置き換えることができる。

本発明の特定の態様において、充填素材は表Ｈに列挙した素材に関して選択される。

別の特定の態様において、それは−７．５より高値、好ましくは−７より高値、更に好ましくは−６．９より高値のｌｏｇＳを有するガスの群から選択される。特定の実施形態においては、充填ガスは−７．５〜−４．５、好ましくは−６．９〜−５．１の範囲のｌｏｇＳを有する。

表面の少なくとも一部分からのガス放出の測定は、例えば表面上に少なくとも部分的な真空引きを行うこと、及び、表面からのガス放出の流速を測定することにより実施できる。本明細書に記載した何れかのガス放出測定が意図される。

ガス放出は、例えばガス放出測定中被覆表面上に真空引きを行うことにより、０．１トール〜１００トール、場合により０．２トール〜５０トール、場合により０．５トール〜４０トール、場合により１トール〜３０トール、場合により５トール〜１００トール、場合により１０トール〜８０トール、場合により１５トール〜５０トールの圧力で測定できる。

ガス放出は−１０℃〜１５０℃、場合により０℃〜１００℃、場合により０℃〜５０℃、場合により０℃〜２１℃、場合により５℃〜２０℃の温度で測定できる。第１の素材（基板）及び測定されるガス放出ガスの物理化学的特性に応じて、他の温度が適当である場合もある。ＣＯＣのような一部の素材はより高温でより高値の透過性を有するが、歪を起こすほどの高温まで加熱しないようにすることも重要である。例えばＣＯＣ（約７０℃〜約１８０℃の範囲にガラス転移点を有する）についてはガス放出測定のための温度は、ガラス転移点より低温であり、そして歪が起こらない限りにおいて、約８０℃以上である。

本明細書に記載した実施形態の何れかにおいて、第１の素材は場合により外面及び内面を有する壁を有する容器の形態において提供される場合があり、その内面は内腔を封入している。場合により、遮断層は容器壁の内面に配置されることができる。

場合により、内腔を少なくとも部分的に真空にすることにより遮断層に渡る差圧を与えることができる。これは例えば内腔を少なくとも部分的に真空にするために真空源にダクトを介して内腔を接続することにより実施できる。

ガス放出測定セルを配設し、内腔と真空源の間を連絡することができる。

ガス放出は時間間隔ごとに遮断層を通過するガス放出素材の量を計測することにより測定できる。

ガス放出は微小流動技術を用いて測定できる。

ガス放出はガス放出素材の質量流速率として測定できる.

ガス放出は作業の分子流モードにおいて測定できる。

ガス放出は本明細書に記載する通りマイクロカンチレバー技術を用いて測定できる。

場合により、遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。別の選択肢において、放出ガスは圧力差の提供なしに拡散を許容する場合がある。放出ガスを測定する。遮断層において圧力差を提供する場合、ガス放出を遮断層の高圧側又は低圧側で測定可能である。

ＶＩ．Ｂ．また、（上記で塗布した）内部被覆材の有効性の測定を、（被覆前に）特定種又は機器の壁に吸収された物質の拡散率を測定することにより、実行可能である。非被覆（未処理）管と比較する場合、この種の測定は、被覆又は処理の遮断性又はその他の種類の性質、或いは被覆又は処理の有無の直接的測定を提供可能である。検出された被覆又は処理は、遮断層に加えて／の代わりに、潤滑層、疎水層、装飾被覆材、又は基板のガス放出を増加又は低減して修正するその他の種類の層である場合がある。

ＶＩ．Ｂ．本開示では、「透過」、「漏出」、及び「表面拡散」又は「ガス放出」を区別している。

ここで容器に関連して用いられる「透過」とは、図６の経路３５０又はその逆の経路に沿った容器外部から内部へ又はその逆といった、壁３４６又はその他の障害物を通る物質の移動を指す。

ガス放出とは、吸収又は例えばガス分子３５４又は３５７又は３５９といった吸収物質の、図６の壁３４６又は被覆材３４８の内部から外方向への、例えば被覆材３４８（存在する場合）を通る及び容器３５８の内側（図６右側）への移動を指す。ガス放出はまた、図６に示すように、壁３４６から左側への、したがって図示する容器３５７の外部への、物質３５４又は３５７などの移動を指す場合がある。ガス放出はまた、例えば遮断性被覆材９０の露出面からのガス分子３５５といった、物質表面からの吸収物質の除去を指す場合がある。

漏出とは、壁３４６及び被覆材３４８に代表される障害物周辺の物質の移動であり、障害物の表面の通過／からの分離というよりは、閉包部で閉口される容器の閉包部と壁との間の通過などを指す。

ＶＩ．Ｂ．透過は、ギャップ／欠陥がなく漏出又はガス放出に関連しない物質を通るガス移動率の指標となる。遮断性被覆材３４８を有する容器壁又はその他の基板３４６を示す図６を参照に、透過は完全に基板３４６及び被覆材３４８を通り経路３５０に沿って両方の層を通るガスの移動である。透過は熱力学的であると見なされ、したがって比較的緩やかなプロセスである。

ＶＩ．Ｂ．透過の測定は、透過性ガスが無傷のプラスチック材の壁を完全に通り抜けなければならないため、非常に時間がかかる。真空採血管の場合、容器が経時的に真空を喪失する傾向の直接的指標として、壁を通るガスの透過測定が従来使用されている。しかし一般に測定に非常に時間がかかり、通常６日間の試験期間を必要とするため、ライン上の被覆材検査を支持する迅速性としては十分ではない。かかる試験は通常、ライン外での容器検体試験に使用される。

ＶＩ．Ｂ．透過試験はまた、厚肉基板上の薄肉被覆の被覆材有効性の測定において感度に欠ける。すべてのガス流量が被覆材及び基板の両方を通るため、厚肉基板を通る流量の変動により被覆材自体の遮断性有効性が原因ではない変動が生じる。

ＶＩ．Ｂ．本発明者は、被覆材の遮断性を測定するより迅速で潜在的により感度の高い方法を発見した。具体的には、被覆材を通る、容器壁内で急速に分離する大気又はその他のガス状又は揮発性成分のガス放出の測定である。ガス状又は揮発性成分は、実際にガス放出するいずれかの物質である場合があり、検出される１つ以上の特定物質から選択可能である。成分には、酸素、窒素、大気、二酸化炭素、水蒸気、ヘリウム、アルコールといった揮発性有機物、ケトン、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、被覆材前駆体、基板成分、揮発性有機ケイ素といった被覆材調整時の副産物、被覆基板調整時の副産物、偶然存在する又は基板のスパイキングにより生じるその他の成分、又はこれらの混合体又は複合体、が含まれる可能性があるがそれらに限定されない。

ガス放出は３４８のような被覆材の存在及び遮断特性の遥かに迅速な測定（透過と比較して）を可能にする。ガス放出は図６における壁３４６の全層厚を通過する必要が無いため、より迅速な試験となる。それは遮断性被覆材３４８の壁３４６又は容器の内面（被覆材が無い場合）の内部に存在することができ、これによりそれは壁３４６の層厚の極めて少ない比率を横断できる。遮断性被覆材は容器壁より数倍薄層であるため、ガス放出の測定は、ガスが容器内部で検出可能となる前に通過しなければならない壁の層厚を減少させることにより透過試験のために必要な遅延の実質的に全てを取り除く。移動すべき距離を減少させることは、行程の長さを減少させる。

容器壁により容易に取り込まれるが、遮断性被覆材により取り込まれないガスで試験すべき表面を充填することにより、更に高感度で、そしてそのため更に迅速にガス放出を実施できる。試験すべき容器の内部を充填ガスに曝露し、次にガス放出に関して試験する。有効な遮断性被覆材が存在する場合は、ガスが容器壁に侵入するのを遮断性被覆材がブロックするため、充填は殆ど起こらない。遮断性被覆材が存在しなければ、充填ガスは、たとえ極めて短時間であっても、容器壁のかなりの割合に取り込まれることになる。壁に侵入するガスの量及び遮断性被覆材の有無は、容器の内部へのガス放出の量を決定することになる。

最後にガス放出を測定する方法は以下に迅速に測定できるかを決定する。好ましい測定手法は微小流動技術として知られている。本明細書の方法において使用される微小流動技術は数秒、潜在的には1秒以下のうちに、遮断性被覆材の存在及び効力を評価可能としている。

ガス放出方法は数秒以内に、さらには1秒以内に、被覆と非被覆のプラスチック管を区別することができる。

表面拡散とガス放出は同義語である。各用語は、例えば容器壁といった壁３４６上／内に初期に吸収された流体が、壁を有する容器内で真空を引き（図６の矢印３５２により示される大気移動を創出）壁の流体を容器の内部へと移動させるといった、ある種の原動力により隣接空間へと通り抜ける事を指す。ガス放出又は拡散は動的であると見なされ、比較的迅速なプロセスである。経路３５０に沿って透過するのに大幅な抵抗を有する壁３４６に関しては、壁３４６と遮断層３４８との間の界面３５６に最も近接する分子３５４が、ガス放出により迅速に除去されていると考えられる。この差分ガス放出は、界面３５６に近接しガス放出として現れる多数の分子３５４などにより、及びガス放出として現れない界面３５６から離れているその他の多数の分子３５８などにより、示唆される。

ＶＩ．Ｂ．したがって、また別の方法が、複数手順を含む、蒸気をガス放出する素材上の遮断膜を検査する方法として考えられる。ガス放出する及び少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。遮断層において圧力差を提供して、初期にガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。試験中に遮断層の低圧側に搬送される放出ガスを測定し、遮断膜性が存在するかどうか又は遮断膜としてどの程度効果的であるかといった情報を判定する。

ＶＩ．Ｂ．本方法において、ガス放出する物質は、ポリマー化合物、熱可塑性化合物、又は両方の性質を有する１つ以上の化合物を含む場合がある。ガス放出する物質は、ポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレンを含む場合がある。ガス放出物質は、ポリオレフィン、２つの例に関してはポリプロピレン、環状オレフィン共重合体、又はこれらの複合体を含む場合がある。ガス放出物質は、少なくとも１つが蒸気をガス放出する２つの異なる物質の合成物である場合がある。一例は、ポリプロピレン及びテレフタル酸ポリエチレンの２層構造である。別の例は、環状オレフィン共重合体及びテレフタル酸ポリエチレンの２層構造である。これらの物質及び合成物は模範的であり、いずれかの適切な物質又は物質の複合体を使用可能である。

ＶＩ．Ｂ．場合により、ガス放出物質を、外面及び内面を有する壁を有し内面が内腔を封入する容器の形態で用意する。本実施形態において、遮断層は容器壁に、場合により容器壁の内面に付着する。遮断層は容器壁に、容器壁の外面にも付着する可能性がある。場合により、ガス放出物質は、膜の形態で用意可能である。

ＶＩ．Ｂ．遮断層は、いかなる本記述の遮断層の全体又は一部被覆である場合がある。遮断層は、５００ｎｍ未満の層厚、又は３００ｎｍ未満の層厚、又は１００ｎｍ未満の層厚、又は８０ｎｍ未満の層厚、又は６０ｎｍ未満の層厚、又は５０ｎｍ未満の層厚、又は４０ｎｍ未満の層厚、又は３０ｎｍ未満の層厚、又は２０ｎｍ未満の層厚、又は１０ｎｍ未満の層厚、又は５ｎｍ未満の層厚である場合がある。典型的には、ＳｉＯ_x遮断層である場合は、それは約２０〜３０ｎｍの層厚であってよい。

ＶＩ．Ｂ．被覆壁の場合において、本発明者は拡散／ガス放出を被覆完全性を判定するために使用可能であることを発見した。場合により、容器の内腔又は内部を少なくとも一部真空化することにより、遮断層において圧力差を提供可能である。これは、例えば内腔をダクト経由で真空源と接続して内腔の少なくとも一部を真空化することにより、実行可能である。例えば、周囲空気に曝露している容器の非被覆ＰＥＴ壁３４６は、真空化後しばらくしてから、その内面から一定の酸素及びその他のガス分子３５４をガス放出する。同一ＰＥＴ壁の内部が遮断性被覆材３４８で被覆される場合、遮断性被覆材は本ガス放出を遮断、減速、又は低減する。これは、プラスチック表面よりガス放出が少ないＳｉＯ_x遮断性被覆材３４８の例に関して真である。被覆ＰＥＴ壁と非被覆ＰＥＴ壁との間のこの差分ガス放出を測定することにより、ガス放出物質に関する被覆材３４８の遮断性作用を迅速に判定可能である。

ＶＩ．Ｂ．既知の又は理論上の孔、割れ目、ギャップ、又は層厚／密度／組成が不十分である領域が原因で、遮断性被覆材３４８が不完全である場合、ＰＥＴ壁は、選択的に不完全部を通してガス放出し、したがってガス放出の総量が増加する。収集ガスは主に、物質の外側からではなく、被覆に隣接するプラスチック材の（下位）表面内の溶存ガス又は気化可能成分から供給される。基礎水準を超えるガス放出量（例えば、不完全性が一切ない、又は不完全性が最低限である、又は不完全性が平均的／容認可能である標準被覆材により通過／放出される量）を、さまざまな方法で測定して被覆材の完全性を判定可能である。

ＶＩ．Ｂ．測定は、例えば内腔と真空源との間を通過するガス放出測定セルの提供により、実行可能である。

ＶＩ．Ｂ．測定セルは、さまざまな異なる測定技術を実施可能である。適切な測定技術の例の１つに、微小流量技術がある。例えば、ガス放出物質の質量流量率を測定可能である。測定は、作業の分子流モードにおいて実行可能である。模範的測定として、遮断層を通してガス放出するガス容量の時間間隔あたりの判定が挙げられる。

ＶＩ．Ｂ．遮断層の低圧側の放出ガスを、遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下で測定可能である。場合により、遮断層の有無の判別するのに効果的な条件に、１分未満、又は５０秒未満、又は４０秒未満、又は３０秒未満、又は２０秒未満、又は１５秒未満、又は１０秒未満、又は８秒未満、又は６秒未満、又は４秒未満、又は３秒未満、又は２秒未満、又は１秒未満の試験期間が含まれる。

ＶＩ．Ｂ．場合により、遮断層の有無の測定は、上記で同定した時間間隔のいずれかの間に、少なくともシックスシグマレベルの確実性で確認可能である。

ＶＩ．Ｂ．場合により、遮断層の低圧側の放出ガスを、遮断層の遮断改善度（ＢＩＦ）を判定するのに効果的な条件下で測定し、遮断層なしの同一素材と比較する。ＢＩＦは、例えば２群に分ける同一容器を提供し、一群の容器に遮断層を追加し、遮断膜を有する容器の遮断性性質（例えばマイクログラム毎分を単位とするガス放出率又は別の適切な測定）を試験し、遮断膜なしの容器について同一試験を実施し、容器の性質の対遮断膜なし容器比を取得することにより、判定可能である。例えば、遮断膜を通るガス放出率が遮断膜なしの場合のガス放出率の３分の１である場合、遮断膜のＢＩＦは３である。

ＶＩ．Ｂ．場合により、多数の異なるガスの放出を、例えば放出大気の場合における窒素と酸素といった、２種以上のガスが存在する事例において、測定可能である。場合により、実質上すべて又はすべての放出ガスのガス放出を測定可能である。場合により、すべてのガスの複合質量流量といった物理的測定を利用して、実質上すべての放出ガスのガス放出を同時に測定可能である。

ＶＩ．Ｂ．検体からガス放出される個別のガス種（酸素、ヘリウム、ＣＯ₂又は水蒸気など）の数又は分圧の測定は、気圧試験より迅速に実行可能であるが、試験速度は、ガス放出の一部のみが測定種である程度まで低下する。例えば、窒素と酸素が大気約４：１の比率でＰＥＴ壁からガス放出されるが酸素のガス放出のみが測定される場合、（検出される十分な統計的品質の結果を得るための分子の数の観点において）容器壁からガス放出されるすべての種を測定する同等感度の試験と比較して、試験を５倍長く実施する必要がある可能性がある。

ＶＩ．Ｂ．任意の感度レベルについては、表面からガス放出されるすべての種の容量を明らかにする方法の方が、酸素原子といった特定種のガス放出を測定する試験より、望ましい信頼度をより迅速に提供するであろうと考えられる。結果として、ライン内測定において実用性があるガス放出データが生成される。かかるライン内測定は場合によりすべての製造された容器について実行可能であり、したがって特異な又は隔離する欠陥の数を減少させ、それらを（少なくとも測定時においては）潜在的に消滅させる。

ＶＩ．Ｂ．実用測定において、ガス放出の量を明白に変化させる要素は、ガス放出試験において真空を引く時の真空レセプタクル上に装填される容器の密閉部といった、不完全な密閉部を通過する漏出である。漏出とは、物質の間断ない壁をバイパスする流体、例えば血液管とその閉包部の間、シリンジプランジャーとシリンジバレルの間、容器とその蓋の間、又は容器口が装填済み（不完全又は誤装填された密閉部が原因で）である場合の容器口と密閉部の間を、通過する流体を指す。用語「漏出」は通常、プラスチック素材の開口部を通るガスの移動を示す。

ＶＩ．Ｂ．漏出及び（必要に応じて任意の状況で）透過はガス放出の基本レベルに組み入れることが可能であり、それにより、容器が真空レセプタクル上に適切に装填済みであり（したがってその装填済み表面が無傷で適切に成形及び位置付けされている）、容器壁が透過の容認不可なレベルを支持しない（したがって容器壁が無傷で適切に成形されている）こと、及び被覆材が十分な遮断性完全性を有していることの両方が、容認可能な試験結果により保証される。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出はさまざまな方法で、例えば、気圧測定（初期真空化後の任意の経過時間における容器内の圧力変化の測定）により、又は検体から放出されるガスの分圧又は流量率の測定により、測定可能である。作業の分子流モードにおける質量流量率を測定する機器を、利用可能である。市販されている微小流量技術を利用するこの種の機器の例として、インディアナ州インディアナポリスのＡＴＣ，Ｉｎｃ．の製品が挙げられる。この既知の機器の詳細情報については、参照することにより本明細書に含まれる米国特許５８６１５４６号、６３０８５５６号、６５８４８２８号、及びＥＰ１３５６２６０号を参照されたい。また、遮断膜で被覆されたテレフタル酸ポリエチレン（ＰＥＴ）管と非被覆管を迅速かつ確実に判別するためのガス放出測定の実施例を示す、ＥＰ２２５１６７１Ａ２号の実施例８も参照されたい。

ＶＩ．Ｂ．テレフタル酸ポリエチレン（ＰＥＴ）製の容器については、微小流動率はＳｉＯ_x被覆表面対非被覆表面に関して異なる。例えば、ＥＰ２２５１６７１Ａ２号の実施例８において、ＰＥＴの微小流動率は、図８に示すように、試験を３０秒間実施した後に８マイクログラム以上であった。この非被覆ＰＥＴの率は、再び図８に示すように、試験を３０秒間実施した後に６マイクログラム未満であったＳｉＯ_x被覆ＰＥＴの測定率よりはるかに高かった。

ＶＩ．Ｂ．この流量率における差異についての可能な説明の１つとして、非被覆ＰＥＴが約０．７パーセントの平衡水分を包含することが挙げられる。これは、高い微小流動率を引き起こすと考えられている高い水分含量である。ＳｉＯ_x被覆ＰＥＴプラスチックにより、ＳｉＯ_x被覆材は、非被覆ＰＥＴ表面より高いレベルの表面水分を有する可能性がある。試験条件下では、しかしながら、遮断性被覆材はバルクＰＥＴプラスチックからの水分の追加脱着を防止し、微小流動率を低下させると考えられている。非被覆ＰＥＴプラスチック対ＳｉＯ_x被覆ＰＥＴからの酸素又は窒素の微小流動率も、識別可能であることが見込まれる。

ＶＩ．Ｂ．その他の物質を使用する場合、ＰＥＴ管のための上記試験を変更することが適切である場合がある。例えば、ポリオレフィンプラスチックは水分含量をほとんど含まない傾向がある。水分含量が低いポリオレフィンの例として、ＰＥＴよりはるかに低い平衡水分含有量（０．０１パーセント）及び水分透過度を有するＴＯＰＡＳ（登録商標）環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）が挙げられる。ＣＯＣの場合も、非被覆ＣＯＣプラスチックはＳｉＯ_x被覆ＣＯＣプラスチックと同様の、又はさらに少ない微小流動率を有する場合がある。これは、ＳｉＯ_x被覆材の表面水分含量が高く、平衡バルク水分含量が低く、非被覆ＣＯＣプラスチック表面の透過度が低い事が原因であると見られる。これにより、非被覆及び被覆ＣＯＣ物質の区別がより困難となる。

本発明では、試験対象のＣＯＣ物質表面を蒸気（非被覆及び被覆）に曝露することで、非被覆ＣＯＣプラスチックとＳｉＯ_x被覆ＣＯＣプラスチックとの間の微小流動の分離が向上し一定することを解明する。これは、ＥＰ２２５１６７１Ａ２号の実施例１９及び図１３に示す。水分暴露は、相対湿度に制御された部屋内での、又は暖湿源（加湿器）又は冷湿源（噴霧器）への直接的曝露（後者が望ましい）のいずれかにおける、３５％〜１００％の範囲の相対湿度への単なる曝露である場合がある

ＶＩ．Ｂ．本発明の有効性及び範囲はこの理論の正確性に従い制限されるものではないが、非被覆ＣＯＣプラスチックを蒸気ドーピング又はスパイキングすることによりその蒸気又はその他のガス放出量が、すでに飽和したＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ表面と比較して増加することが示唆される。これはまた、二酸化炭素、酸素、窒素、水蒸気、又はそれらの混合体（例：大気）を含むその他のガスへと被覆管及び非被覆管を曝露することによっても、達成可能である。二酸化炭素曝露（又は「スパイキング」）は管がＣＯＣにより作成されている場合にこの点において特に有効である。

ＶＩ．Ｂ．従って放出ガスを測定する前に、遮断層は水分、例えば水蒸気に接触する場合がある。水蒸気は、例えば相対湿度が３５％〜１００％で、或いは４０％〜１００％で、或いは４０％〜５０％である大気と遮断層を接触させることにより、提供可能である。水分の代わりに／に加えて、酸素、窒素、又は酸素と窒素の混合体（例：大気）と遮断層を接触させることも可能である。二酸化炭素、窒素及び希ガス（例えばアルゴン）を包含する他の素材もガス放出を試験するために使用できる。接触時間は、０．１秒〜１時間、場合により１秒〜５０分、場合により１０秒〜４０分、場合により１分〜３０分、場合により５分〜２５分、場合により１０分〜２０分である場合がある。

或いは、例えば図１１の壁３４６の左側を壁３４６へと吸収する物質へと曝露させその後図６に示すように左側又は右側のいずれかへと放出することで、ガス放出をするガス壁３４６を遮断層３４８に対立する側からスパイク又は補填可能である。壁又はその他の物質３４６などをガス吸収により左側からスパイクして、その後スパイクした物質のガス放出を右側から測定する（又はその逆）ことは、透過測定とは区別される。なぜなら、被覆材を通るガスが測定される時に壁を通る完全な経路３５０を移動する物質が測定されるのとは対照的に、スパイクした物質はガス放出を測定時には壁３４６内にあるからである。ガス吸収は、被覆材３４８の塗布前の一実施形態、及び被覆材３４８の塗布後及びガス放出の試験前の一実施形態に示すように、長期間にわたり行われる場合がある。

ＶＩ．Ｂ．非被覆プラスチックとＳｉＯ_x被覆プラスチックとの間の微小流動反応の分離を増加させるもう１つの可能な方法として、測定圧力及び／又は温度の修正が挙げられる。ガス放出測定時の圧力の増加又は温度の減少により、ＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ内の水分子が非被覆ＣＯＣ内のものより多く相対結合する場合がある。したがって放出ガスは、０．１トール〜１００トール、或いは０．２トール〜５０トール、或いは０．５トール〜４０トール、或いは１トール〜３０トール、或いは５トール〜１００トール、或いは１０トール〜８０トール、或いは１５トール〜５０トールの圧力で測定可能である。放出ガスは、−１０℃〜１５０℃、場合により０℃〜１００℃、場合により０℃〜５０℃、場合により０℃〜２１℃、場合により５℃〜２０℃の温度で測定可能である。ＣＯＣに関しては、温度は約８０℃以上であることができる。

別の特定の実施形態はプラズマ被覆ＣＯＣプラスチック品目又は表面と非被覆品目又は表面を、ＣＯＣ品目又は表面の二酸化炭素注入又は充填を測定することにより判別するための進歩したシステム及び進歩した方法である。

かなりの溶存水分（約０．１〜０．２重量％）を有するＰＥＴ樹脂とは対照的に、ＴＯＰＡＺブランドの樹脂を包含する環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）組成物は遥かに低値の平衡水分（約０．０１％）を有する。水分ガス放出を用いて非被覆及びプラズマ被覆のＣＯＣの間でガス放出率を区別するための微小流動分析はより困難である。

ＣＯＣ品目又は表面への二酸化炭素（ＣＯ₂）の注入又は充填は非被覆及びプラズマ被覆射出成形ＣＯＣ品目の間の進歩した微小流動シグナル分離をもたらす。この増強された判別は、性能最適化のための被覆材の均一性のより良好な判定、及び、許容可能又は許容不可能な被覆品目のリアルタイムのインラインの評価のより迅速な判別を可能とする。即ち、ＣＯ₂は本発明に従って検査品目を充填することを包含するガス放出方法を実施するための好ましい充填素材である。

充填素材の使用のため、例えば充填素材としてのＣＯ₂の使用のための好ましい条件を以下に示す。

充填時間：０．１秒〜１時間、場合により１秒〜５０分、場合により１０秒〜４０分、場合により１分〜３０分、場合により５分〜２５分、場合により１０分〜２０分。１２〜１４分の充填時間が特に考えられる。

充填圧力：１６ｐｓｉ（１気圧）〜４８ｐｓｉ（３気圧）、好ましくは２０ｐｓｉ〜３０ｐｓｉ、そして２５ｐｓｉが特に好ましい。充填を実施する際、３気圧より高値の圧力は、被覆容器及び被覆材が伸展し、被覆材及び／又は基板に亀裂及び拡張のような欠陥をもたらす場合があるため、望ましくない。

ＣＯ₂を充填するための典型的なパラメーター及び条件はＣＯ₂充填に関する基本的プロトコルに記載する。そこに記載されているパラメーターは充填を実施する際には±５０％以下の変動があっても良い。同様の条件は、本明細書に記載した他の素材の異なる物理化学的特性を考慮しながら適宜変更すれば、該他の充填素材の１つの充填を実施するためにも適している。

ＣＯ₂又は他の充填素材は被覆直後の被覆品目に充填することができる。

微小流動方法を用いた進歩した非被覆ｖｓプラズマ被覆脱ガス判別のために考えられる他の注入又は充填ガスは、特徴的には、低い大気中天然豊富度及びＣＯＣ樹脂中の高い溶解度を有し、例えば限定しないが、ヘリウム、アルゴン、ネオン、水素、及びアセチレンが包含される。しかしながら実施例が示す通り、Ｎ₂もまた良好に使用できる。標準温度及び圧力（７６０トール）において液体であるが、分析条件下では蒸気である液体（例えばケイ素物質種及びハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン）が挙げられる。

プラスチック品目へのＣＯ₂の注入又は充填は微小流動測定手順の間のパージガスとして、プラズマ被覆作業における仕上げ手順の部分として、又は別個の作業として実施できる。

ＶＩ．Ｂ．本開示のいずれかの実施形態における、ガス放出測定のための考えられるある方法として、マイクロカンチレバー測定技術が挙げられる。かかる技術は、潜在的に１０^-12ｇ（ピコグラム）〜１０^-15ｇ（フェムトグラム）といった、より微小なガス放出の質量差を測定可能であると考えられている。このより微小な質量検出により、被覆表面と非被覆表面の区別及び被覆材の種類の判別が、１秒未未満で、場合により０．１秒未満で、場合によりマイクロ秒の単位で可能となる。

ＶＩ．Ｂ．マイクロカンチレバー（ＭＣＬ）センサーは場合によっては、分子吸収度に起因する屈伸又は移動や形状の変化により、ガス放出された又は別方法で提供された物質の有無に、対応可能である。マイクロカンチレバー（ＭＣＬ）センサーは場合によっては、共鳴周波数シフトにより対応可能である。その他の場合、ＭＣＬセンサーはこれらの両方の方法又はその他の方法で変更される場合がある。これらは、ガス状環境、流体、又は真空といった異なる環境において、動作可能である。ガス内において、マイクロカンチレバーセンサーは人工鼻のように動作可能であり、それにより、８つのポリマー被覆ケイ素カンチレバーの微細加工配列の屈曲パターンが、溶媒、香味料、飲料からの異なる蒸気の特徴を示す。いずれかの技術によるその他の種類の電子鼻の利用もまた、考えられる。

化学物質に曝露されたＭＣＬの移動、形状の変更、又は周波数の変更の測定を行うために、ピエゾ抵抗、圧電性、容量性アプローチを含む複数のＭＣＬ電子デザインが適用され、考慮される。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出測定の一特定実施例を以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも１つのマイクロカンチレバーを用意する。マイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下で、マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露する。移動又は異なる形状が、その後検出される。

ＶＩ．Ｂ．一例として、マイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの移動又は形状変化部からのエネルギー入射光線の照射により、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定により、移動又は異なる形状を検出可能である。任意条件下の光線のふれ幅が光線の反射点から測定点まで距離に比例するため、形状はカンチレバーから離れた点で測定するのは随意である。

ＶＩ．Ｂ．エネルギー入光線のいくつかの適切な例として、光子光線、電子光線、又はこれら２種以上の複合体が挙げられる。或いは、ＭＣＬからの２種以上の異なる光線を異なる入射 及び／又は反射経路に沿って反射させて、１つ以上の視点から移動又は形状変化を判定可能である。具体的に考えられる種類のエネルギー入射光線の１つに、レーザービームといったコヒーレント光子光線がある。本明細書で述べる「光子」は、波エネルギー及び粒子又は光子エネルギー自体を含むよう、両立的に定義される。

ＶＩ．Ｂ．測定の代替例は、共鳴周波数変更を達成するのに効果的な量の環境物質に接触すると共鳴周波数を変更する、特定ＭＣＬの性質を利用している。この種の測定は以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも１つのマイクロカンチレバーを用意する。マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下で、マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露可能である。異なる共鳴周波数は、その後適切な手段で検出する。

ＶＩ．Ｂ．一例として、異なる共鳴周波数は、エネルギーをマイクロカンチレバーへと入力してマイクロカンチレバーをガス放出へと曝露する前及び後にその共鳴を誘導することで、検出可能である。ガス放出への曝露前及び後のＭＣＬの共鳴周波数の差異を、判定する。或いは、共鳴周波数の差異を判定する代わりに、十分な濃度又は量のガス放出物質が存在する場合に特定の共鳴周波数を有することで知られる、ＭＣＬを提供可能である。異なる共鳴周波数又は十分な量のガス放出物質の存在を示す共鳴周波数は、調和振動センサーを使用して検出する。

ガス放出測定のためのＭＣＬ技術を利用する例の１つとして、ＭＣＬ機器を容器及び真空ポンプに接続される水晶真空管に搭載可能である。市販のピエゾ抵抗カンチレバーを使用する調和振動センサー、ホイートストンブリッジ回路、正フィードバック制御装置、励起ピエゾアクチュエータ及び位相ロックループ（ＰＬＬ）復調器を、構成可能である。例えば、
・Ｈａｙａｔｏ Ｓｏｎｅ、Ｙｏｓｈｉｎｏｒｉ Ｆｕｊｉｎｕｍａ及びＳｕｍｉｏ Ｈｏｓａｋａによる「Ｐｉｃｏｇｒａｍ Ｍａｓｓ Ｓｅｎｓｏｒ Ｕｓｉｎｇ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｈｉｆｔ ｏｆ Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ」Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４３（２００４）３６４８、
・Ｈａｙａｔｏ Ｓｏｎｅ、Ａｙｕｍｉ Ｉｋｅｕｃｈｉ、Ｔａｋａｓｈｉ Ｉｚｕｍｉ１、Ｈａｒｕｋｉ Ｏｋａｎｏ及びＳｕｍｉｏ Ｈｏｓａｋａによる「Ｆｅｍｔｏｇｒａｍ Ｍａｓｓ Ｂｉｏｓｅｎｓｏｒ Ｕｓｉｎｇ Ｓｅｌｆ−Ｓｅｎｓｉｎｇ Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ ｆｏｒ Ａｌｌｅｒｇｙ Ｃｈｅｃｋ」Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌｎ．Ｐｈｙｓ．４３（２００６）２３０１を参照されたい。
ＭＣＬの検出準備のため、マイクロカンチレバーの片面にゼラチンを塗布できる。例えば、Ｈａｎｓ Ｐｅｔｅｒ Ｌａｎｇ、Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈ Ｇｅｒｂｅｒ、ＳＴＭ ａｎｄ ＡＦＭ Ｓｔｕｄｉｅｓ ｏｎ （Ｂｉｏ）ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｙｓｔｅｍｓ： Ｕｎｒａｖｅｌｌｉｎｇ ｔｈｅ Ｎａｎｏｗｏｒｌｄ，Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌｕｍｅ ２８５／２００８を参照されたい。真空被覆容器表面からの水蒸気脱着がゼラチンと結合し、カンチレバーの屈曲とその共鳴周波数の変動が生じてカンチレバー表面からのレーザー偏差により測定される。非被覆容器と被覆容器の質量の変化は、わずか数秒で解決可能であり、再現性が高いと考えられる。カンチレバー技術に関連する上記物質は、ガス放出される種の検出及び定量化に使用可能である特定のＭＣＬ及び機器装備の開示として、参照することにより本明細書に組み込まれる。

蒸気検出（リン酸）又は酸素検出のための代替被覆材を、上述ゼラチン被覆材の代わりに／に加えてＭＣＬへと塗布可能である。

ＶＩ．Ｂ．さらには、現在考えられるガス放出試験設定を被覆ステーション、例えばＳｉＯ_x被覆材を与える場合があるＰＥＣＶＤ被覆ステーションと複合可能であることも考えられる。かかる装備において、測定セル３６２を、ＰＥＣＶＤのためのメイン真空チャネルをバイパス３８６として使用して、上記図示通りにすることも可能である。一実施形態において、図７の測定セル（通常３６２）は容器ホルダー５０などに搭載可能であり、その場合、バイパスチャネル３８６はメイン真空ダクト９４として設定され測定セル３６２はサイドチャネルである。

ＶＩ．Ｂ．測定セル３６２と容器ホルダー５０の組合せは、場合によりＰＥＣＶＤのために使用される真空の中断なしにガス放出測定の実行を可能とする。場合により、ＰＥＣＶＤのための真空ポンプを短時間、好ましくは標準化された一定時間動作して、被覆手順後に残った一部の又はすべての残存反応性ガスを排出可能である（１トール未満のポンプダウン、少量の大気、窒素、酸素、又はその他のガスを入れてのポンプダウン前の処理ガスのフラッシュ又は希薄化を伴う）。これにより、容器の被覆と遮断性レベルの有無に関する被覆材の試験の複合処理を、促進可能である。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出測定値は遮断層の有効性の判定以外にも／に加えて多くの目的のために使用可能であるという事実は、本明細書の審議後に、当技術分野の当事者により高く評価されるであろう。例えば試験は、容器壁のガス放出の度合いを判定するために非被覆容器又は被覆容器に使用可能である。本試験は例えば、非被覆ポリマーが指定量未満のガス放出を行うことが必須である場合に使用可能である。

ＶＩ．Ｂ．別の例に関しては、やはりガス放出測定値を、膜が測定セルを越える時のガス放出の変動を測定するために静的試験又はライン上試験として、遮断性被覆膜又は非被覆膜に使用可能である。試験は、アルミニウム被覆材又はＥＶＯＨ遮断性被覆材又は包装フィルムの層といった、その他の種類の被覆材の連続性及び遮断性有効性を判定するために、使用可能である。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出測定値をやはり使用して、例えば容器壁の外部に塗布し容器壁の内部へとガス放出するよう調査する遮断層といった、容器壁の側面、膜、又は測定セルに対立する同種のものに塗布した遮断層の有効性を判定可能である。この事例において、流量差分は遮断性被覆材を通る透過、その後基板膜又は壁を通る透過に関するものである場合がある。本測定は、例えば極めて薄い又は多孔性の膜又は壁といった、基板膜又は壁が完全に透過性である事例において、特に有用である場合がある。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出測定値をやはり使用して、測定セルにより、測定セル及びガス放出に隣接する層を通る、遮断層を通る、遮断層の又は遮断層と比較して測定セルからより遠隔の層のガス放出が検出される可能性がある、容器壁、膜、又は同種のものの内部層である遮断層の有効性を判定可能である。

ＶＩ．Ｂ．ガス放出測定値を使用して、ガス放出する物質上の遮断性素材のパターンの被覆率を判定可能である。具体的には、物質のいかなる一部にも遮断膜が存在しない場合に予測されるガス放出量の比率として、一部遮断被覆された物質のガス放出の度合いを判定する。

ＶＩ．Ｂ．明細書におけるいかなるガス放出試験実施形態とも併用可能である、容器のガス放出試験の率を増加させるために使用可能である試験技術は、プランジャー又は閉包部を容器内に挿入することにより、容器の空隙容量を減少させるためのものである。空隙容量の減少により、容器は任意の真空レベルへとより迅速にポンプダウンし、したがって試験間隔が減少する。

ＶＩ．Ｂ．現在記述するガス放出測定値及びその他記述済みのすべての遮断膜測定技術に関するその他多くの用途は、本明細書の審議後に、当業者により明白となるだろう。

ＶＩＩ．ＰＥＣＶＤ処理された容器
ＶＩＩ．容器は（例えば図２に示す）遮断性被覆材９０を有すると考えられ、被覆材は少なくとも２ｎｍ、少なくとも４ｎｍ、少なくとも７ｎｍ、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２０ｎｍ、少なくとも３０ｎｍ、少なくとも４０ｎｍ、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも１００ｎｍ、少なくとも１５０ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、少なくとも３００ｎｍ、少なくとも４００ｎｍ、少なくとも ５００ｎｍ、少なくとも６００ｎｍ、少なくとも７００ｎｍ、少なくとも８００ｎｍ、少なくとも９００ｎｍの層厚に塗布されるＳｉＯ_x被覆材である場合がある。被覆材は、最大１０００ｎｍ、最大９００ｎｍ、最大８００ｎｍ、最大７００ｎｍ、最大６００ｎｍ、最大５００ｎｍ、最大４００ｎｍ、最大３００ｎｍ、最大２００ｎｍ、最大１００ｎｍ、最大９０ｎｍ、最大８０ｎｍ、最大７０ｎｍ、最大６０ｎｍ、最大５０ｎｍ、最大４０ｎｍ、最大３０ｎｍ、最大２０ｎｍ、最大１０ｎｍ、最大５ｎｍの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか１つ、及び上記最大層厚のいずれか１つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。ＳｉＯ_x又はその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）で測定可能であり、その組成物はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定可能である。

ＶＩＩ．被覆材の透過を妨げる素材の選択及び適用するＳｉＯ_x被覆材の性質によっては、その遮断性に影響が出る可能性が考えられる。例えば、一般に除外を意図する２つの物質の例は、酸素及び水／水蒸気である。物質は一般に、片方に対してよりもう一方に対する遮断性の方が優れている。これは少なくとも一部はそう信じられており、なぜなら、酸素は水の透過とは異なる機構で被覆材を透過するからである。

ＶＩＩ．酸素の透過は、被覆材の層厚、割れの有無、その他の被覆材の物理的詳細といった、物理的特徴により影響を受ける。その一方で水の透過は、一般に、物理的要素より化学的要素（被覆材の原料など）により影響を受けると考えられる。本発明者はまた、少なくとも１つの化学的要素は被覆材のＯＨ部分の高濃度であり、それにより遮断膜を通る水の透過率がより高められると確信している。ＳｉＯ_x被覆材は多くの場合ＯＨ部分を包含し、したがってＯＨ部分を多く含む物理的に堅固な被覆材は水に対してより酸素に対しての遮断性の方が優れている。非晶質炭素又はダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）といった、物理的に堅固な炭素系遮断膜は一般に、ＳｉＯ_x被覆材より水に対する遮断性に優れる。なぜなら、炭素系遮断膜は一般に低濃度のＯＨ部分を有するからである。

ＶＩＩ．しかしながら、その酸素遮断性及びガラスや水晶との化学的類似性といったその他の要素により、ＳｉＯ_x被覆材の優先傾向が導き出される。ガラス及び水晶（容器の原材料として使用される場合）は、酸素及び水に対する高い遮断性を示し、また容器内に一般に含まれる多くの物質を実質的に不活性にすると長く知られてきた２つの物質である。したがって、水分透過遮断層として機能する異なる又は追加の種類の被覆材を選択するより、ＳｉＯ_x被覆材の水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）といった水分遮断性を最適化することが、一般に望ましい。

ＶＩＩ．ＳｉＯ_x被覆材の水蒸気透過速度向上のために検討可能な方法を、以下に示す。

ＶＩＩ．堆積被覆材における有機部分（炭素及び水素化合物）の対ＯＨ部分濃度比を、増加可能である。これは例えば、供給ガスにおける酸素の比率を増加させる（酸素供給率を増加させる又は１つ以上のその他成分の供給率を減少させる）ことにより、実行可能である。ＯＨ部分低発現率は、酸素供給がケイ素源の水素と反応する度合いが増加し、ＰＥＣＶＤ排出内により多くの揮発性水が生成され低濃度のＯＨ部分が被覆材に捕捉された／組込まれた結果であると、信じられている。

ＶＩＩ．ＰＥＣＶＤ処理において、プラズマ生成電力レベルを上昇させるか、電力をより長い期間適用するか、又はその両方により、高エネルギーを適用可能である。適用エネルギーの上昇は、管がプラズマ生成電力を吸収する程度まで処理対象容器を歪曲する可能性があるため、プラスチック管又はその他の機器の被覆に使用する場合は注意を払って用いることが必須である。用途の文脈においてＲＦ電力が望ましいのは、このためである。医学機器の歪曲は、間に冷却期間を挟む２つ以上の一連のパルスでのエネルギーの利用、エネルギー適用中の容器の冷却、短時間の被覆材の塗布（一般に層厚は薄くなる）、被覆用に選択した基材への吸収が最低限である被覆材塗布周波数の選択、及び／又はそれぞれのエネルギー塗布手順の合間の１つ以上の被覆材の塗布により、低減又は消失させることが可能である。例えば、処理ガスを継続的に供給しながら、負荷サイクルを１ミリ秒オン、９９ミリ秒オフにして、高電力パルスを使用可能である。処理ガスは、パルスの合間で流れを保持しながらその後冷却剤となる。別の代替方法は、プラズマを収容するための磁気を追加して有効電力適用（加熱又は不要な被覆材に繋がる無駄な電力とは対照的に、実際被覆材の漸増に繋がる電力）を増加させることにより、電力適用装置を再設定することである。この手段により、適用エネルギーの総ワット数につき、より多くの被覆形成エネルギーを塗布可能となる。例えば米国特許５，９０４，９５２号を参照のこと。

ＶＩＩ．被覆材の酸素後処理を、以前堆積された被覆材からＯＨ部分を除去するために適用可能である。本処理としては、残存揮発性有機ケイ素化合物又はケイ素の除去又は追加ＳｉＯ_x形成のための被覆材の酸化も考えられる。

ＶＩＩ．プラスチック基材管は予熱可能である。

ＶＩＩ．ケイ素の異なる揮発性源、例えばヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＺ）を一部の又はすべてのケイ素供給源として使用可能である。ＨＭＤＺへの供給ガスを変更することで問題に対処可能であると考えられる。なぜなら、本化合物は供給時点で酸素部分を一切有しないからである。ＨＭＤＳＯ源被覆材におけるＯＨ部分の供給源の１つは、未反応ＨＭＤＳＯ内に存在する少なくとも一部の酸素原子の水素化であると考えられる。

ＶＩＩ．ＳｉＯ_xと結合させた炭素系被覆材といった、合成被覆材を使用可能である。これは例えば、反応条件を変更することにより、又はアルカン、アルケン、又はアルキンといった置換又は非置換炭化水素を供給ガス及び有機ケイ素化合物に追加することにより、実行可能である。例えば米国特許５，９０４，９５２号を参照のこと 番は関連部分において以下のように述べている：「例えばプロピルといった低炭化水素を含有することで炭素部分を提供し、堆積膜のほとんどの性質（光透過を除く）を改善できる。また結合分析により、膜が本来は二酸化ケイ素であることが示される。しかし、メタン、メタノール、アセチレンの使用により、本来はケイ素である膜が生成される。ガス流に少量のガス状窒素を含有させることにより、堆積膜内に窒素部分を提供し、堆積率を増大させ、ガラスの透過及び反射光学性質を改善し、さまざまな量のＮ₂に対する反応における屈折率を変化させることができる。亜酸化窒素をガス流に追加することにより、堆積率が増大し、光学性質が改善するが、膜硬度は低下する傾向がある。適する炭化水素はメタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、又はこれら２つ以上の組み合わせを包含する。

ＶＩＩ．ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）被覆材は、主要の又は唯一の堆積被覆材として形成可能である。これは例えば、反応条件を変更することにより、又はメタン、水素、ヘリウムをＰＥＣＶＤ処理へと供給することにより、実行可能である。反応供給は酸素を含まないため、ＯＨ部分が形成される可能性はない。例えば、ＳｉＯ_x被覆材は管内部又はシリンジバレル内部に塗布可能であり、外部ＤＬＣ被覆材は管外面又はシリンジバレル外面に塗布可能である。又は、ＳｉＯ_x及びＤＬＣ被覆材はどちらも、内部管又はシリンジバレルの単層又は複数層被覆材として、塗布可能である。

ＶＩＩ．図２を参照して、遮断膜又はその他の種類の被覆材９０は、容器８０へのその内面８８を通る大気ガスの透過を低減させる。又は、遮断膜又はその他の種類の被覆材９０は、容器８０の内容物のその内面８８への接触を減少させる。遮断層又はその他の種類の被覆材は、例えば、ＳｉＯ_x、非晶質（例えばダイヤモンド状）炭素、又はこれらの複合体からなる場合がある。

ＶＩＩ．本明細書に記載のいかなる被覆材も、例えばプラスチック表面といった、表面の被覆に使用可能である。さらには、例えば遮断膜はガス又は流体を遮断し、好ましくは水蒸気、酸素及び／又は大気を遮断する遮断膜といった、遮断層として使用可能である。また、表面が非被覆である場合に被覆表面化合物又は組成物上に及ぼす可能性がある、機械的及び／又は化学的作用を防止又は低減させるために使用可能である。例えばインスリン沈殿又は血液凝固又は血小板活性化といった、化合物又は組成の沈殿を防止又は低減可能である。

ＶＩＩ．Ａ．被覆された容器
本明細書に記載した被覆材はプラスチック又はガラスから形成された種々の容器、特にプラスチックの管及びシリンジに適用できる。例えばシリンジのバレル内部といった基板に潤滑性の層又は被覆材を塗布する処理が考えられ、記述済み前駆体の１〜５０００ｎｍ、１０〜１０００ｎｍ、又は１０〜５００ｎｍ、又は１０〜２００ｎｍ、又は２０〜１００ｎｍ、又は３０〜１０００ｎｍ、又は３０〜５００ｎｍ、又は３０〜１０００ｎｍ、又は２０〜１００ｎｍ、又は８０〜１５０ｎｍの層厚での基板上／付近への塗布すること、及び潤滑表面を提供するための被覆材の、場合によりＰＥＣＶＤ処理における架橋又は重合（又は両方）からなる。本処理により塗布される被覆材はまた、新規であると考えられる。

定義のセクションにおいて定義されるとおりのＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zの被覆材は疎水性層としての実用性を有する。この種の被覆材は疎水性であると考えられ、潤滑性層として機能するかどうかに依存しない。表面のぬれ張力を対応する非被覆表面又は未処理表面と比較して低下させる場合に、被覆又は処理は「疎水性」であると定義される。疎水性は、したがって、非処理基板及び処理の両方の機能である。

被覆材の疎水性の度合いは、その組成、性質、又は堆積方法により異なる。例えば、炭化水素をほとんど又はまったく含有しないＳｉＯ_x被覆材は、定義のセクションにおいて定義されるとおりのＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_z被覆材より親水性である。一般に、被覆材のＣ−Ｈ_x部分（例：ＣＨ、ＣＨ₂、又はＣＨ₃）含有量が多いほど、そのケイ素含有量と比較して、重量、容量、又はモル濃度比で、被覆材の疎水性が高くなる。

疎水性の層又は被覆材は極めて薄肉であり、少なくとも４ｎｍ、又は少なくとも７ｎｍ、又は少なくとも１０ｎｍ、又は少なくとも２０ｎｍ、又は少なくとも３０ｎｍ、又は少なくとも４０ｎｍ、又は少なくとも５０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも１５０ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍ、又は少なくとも３００ｎｍ、又は少なくとも４００ｎｍ、又は少なくとも５００ｎｍ、又は少なくとも６００ｎｍ、又は少なくとも７００ｎｍ、又は少なくとも８００ｎｍ、又は少なくとも９００ｎｍの層厚を有する場合がある。被覆材は、最大１０００ｎｍ、最大９００ｎｍ、最大８００ｎｍ、最大７００ｎｍ、最大６００ｎｍ、最大５００ｎｍ、最大４００ｎｍ、最大３００ｎｍ、最大２００ｎｍ、最大１００ｎｍ、最大９０ｎｍ、最大８０ｎｍ、最大７０ｎｍ、最大６０ｎｍ、最大５０ｎｍ、最大４０ｎｍ、最大３０ｎｍ、最大２０ｎｍ、最大１０ｎｍ、最大５ｎｍの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか１つ、及び上記最大層厚のいずれか１つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。

そのような疎水性層又は被覆材の１つの利用性は、管内部に収集された血液から、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）から作成された熱可塑性管壁を隔離することである。疎水性層又は被覆材は管の内面上の親水性のＳｉＯ_x被覆材の上面上に塗布できる。ＳｉＯ_x被覆材は熱可塑性管の遮断特性を増強し、そして疎水性層又は被覆材 は管壁との血液接触面の面エネルギーを変化させる。疎水性層は被覆材本明細書に記載するものから選択される前駆体を提供することにより作成できる。例えば疎水性層又は被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又はオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）を含むことができる。

疎水性の層又は被覆材の別の使用方法として、ガラス製細胞調製管の作成が挙げられる。管は内腔を定義する壁、及びガラス壁の内面の疎水性の層又は被覆材を有し、クエン酸塩試薬を包含する。疎水性の層又は被覆材は、本明細書別箇所で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。別の例として、疎水性の層は被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又はオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）からなる場合がある。疎水性被覆材の別の原材料として、以下公式のアルキルトリメトキシシランＲ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃が挙げられ、公式の各Ｒは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。又はこれら２つ以上の複合体も考えられる。

上述のアルキルトリメトキシシラン前駆体を使用して、酸又は塩基触媒作用と加熱を組合わせることにより、前駆体を凝結（ＲＯＨ副産物を除去）させて、架橋ポリマーを形成可能である。これは場合により、代替方法経由でさらに架橋可能である。特定実施例の１つとして、Ｓｈｉｍｏｊｉｍａ等、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００７，１７，６５８ - ６６３が挙げられる。

潤滑性層は、ＳｉＯ_x遮断性被覆材を容器８０の内面８８に塗布した後の後続被覆材として塗布し、特に潤滑性の層又は被覆材が流体オルガノシロキサン化合物である場合に被覆材処理の最後に潤滑性表面を提供可能である。

場合により、潤滑性の層又は被覆材の塗布後に、ＰＥＣＶＤ処理後の後硬化が可能である。紫外線開始型（フリーラジカル又はカチオン系）、電子光線（Ｅ光線）及び「Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｏｆ Ｎｏｖｅｌ Ｃｙｃｌｏａｌｉｐｈａｔｉｃ Ｓｉｌｏｘａｎｅｓ Ｆｏｒ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎｄ ＵＶ−Ｃｕｒａｂｌｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」（Ｒｕｂｙ Ｃｈａｋｒａｂｏｒｔｙ Ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ，２００８）で記述される温熱性を含む、放射線硬化アプローチを利用可能である。

潤滑性の層又は被覆材を提供する別のアプローチとして、潤滑被覆する熱可塑性容器を射出成形する場合のケイ素離型剤の使用が挙げられる。例えば、モールド処理中に原位置熱潤滑性被覆材の形成を生じさせる、いずれかの離型剤及び潜在的モノマーを使用可能であると考えられる。又は、上述モノマーを伝統的な離型剤にドープして、同一結果を達成可能である。

潤滑性層は特に、以下でさらに述べるように、シリンジバレルの内面のために考えられる。シリンジバレルの潤滑性内面により、シリンジ操作中にバレル内のプランジャーを前進させるのに必要なプランジャースライド力、又は、例えばプランジャーとバレルとの間の潤滑剤の分解が原因で起こる充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、又はバレルへの粘着の発生後に、プランジャーの移動を開始させるための起動力を、減少させることができる。本明細書内別箇所で説明する通り、潤滑性の層又は被覆材も、容器８０の内面８８に塗布して後続ＳｉＯ_x被覆材の付着力を改善可能である。

したがって、被覆材９０は、ＳｉＯ_x層及び定義のセクションにおいて定義されるとおり潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層からなる。Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zの潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材は、ＳｉＯｘ層又は被覆材と容器内面との間に堆積可能である。又は、ＳｉＯ_x層又は被覆材は、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材と容器内面との間に堆積可能である。又は、これら２種の被覆材組成（１）ＳｉＯ_x層又は被覆材及び（２）潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層の間で交互に切換わる又は累遷する３種以上の層を、使用可能である。又は、ＳｉＯ_x層又は被覆材は、少なくとも１つの別素材の介在層又は被覆材と共に、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材に隣接させて、又は遠隔で堆積可能である。又は、ＳｉＯ_x層又は被覆材は、容器内面に隣接させて堆積可能である。又は、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材は、容器内面に隣接させて堆積可能である。

本明細書における、隣接するＳｉＯ_x層及び潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層として考えられる別の手段は、定義のセクションにおいて定義されるとおりのＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zの段階的合成物である。段階的組成物は、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材とＳｉＯ_xの間の中間組成の遷移又は界面を伴うそれらの分離層であるか、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材とＳｉＯｘの間の中間組成物の中間特異層又は被覆材を伴うそれらのの分離層であるか、被覆が通常方向に進むにつれ潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材の組成からよりＳｉＯ_xのものへと継続的に又は段階的に変化する単一の層又は被覆材である可能性がある。

段階的合成物の段階は、どちらの方向にも進む場合がある。例えば、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材は基板へと直接塗布可能であり、ＳｉＯｘ表面から離れている組成物へと累遷可能である。又は、組成物ＳｉＯｘは基板へと直接塗布可能であり、潤滑性層又は被覆材及び／又は疎水性層又は被覆材の表面から離れている組成物へと累遷可能である。累遷被覆材は特に、ある組成の被覆材がその他のものより基板への付着性に優れる場合に考えられ、その場合、付着性に優れる組成は例えば基板に直接塗布される場合がある。段階的被覆材のより離れた部分は、段階的被覆材の隣接部と比べて基板との相性に劣ると考えられている。なぜなら被覆材のいずれかの点において性質は徐々に変化するからであり、その結果、被覆材とほとんど同一の深さにある隣接部はほとんど同一の組成を有し、実質上異なる深さにあり物理的により離れている部分はより多様な性質を有する場合がある。また、基板への／から物質搬送に対してより良い遮断性を形成する被覆部は、基板上に直接塗布して、機能に劣る遮断膜を形成するより遠隔にある被覆部が遮断膜が除外又は妨害しようとする物質により汚染されるのを防止可能である、と考えられる。

被覆材は段階的である代わりに、場合により組成の実質的勾配なしにある層から別の層へと急激に遷移する可能性がある。かかる被覆材は例えば、ガスを提供して非プラズマ状態で定常流動である層又は被覆材を生成し、その後プラズマ放電で短時間加圧して基板上に被覆材を形成することにより、生成可能である。後続被覆材を塗布する場合、最初の被覆材のためのガスを除去してから次の被覆材のためのガスをプラズマを加圧する前に定常方法で塗布して、再度、界面におけるほとんど段階的遷移なしに基板表面の離れた層又は被覆材又はその最外部の最初の被覆材を形成する。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．例示される容器
ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．図２を参照して、容器８０などをさらに詳細に示す。図示容器８０は通常管状である可能性があり、容器の一端に開口部８２を、反対側に閉口端８４を有する。容器８０はまた、内面８８を定義する壁８６を有する。容器８０の一例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．容器ホルダー８０は、例えば熱可塑性素材を原料とする場合がある。適切な熱可塑性素材の例の一部として、例えばポリプロピレン又は環状ポリオレフィン共重合体といった、テレフタル酸ポリエチレン又はポリオレフィンが挙げられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．容器８０は、射出成形、ブロー成形、機械加工、管ストックからの製造、又はその他の適切な手段といった、いずれかの適切な方法により製造可能である。ＰＥＣＶＤは、ＳｉＯ_xの内面上に被覆材を形成するために使用可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．真空採血管としての利用を意図する場合、容器８０は、７６０トールの外圧又は気圧及びその他の被覆材処理条件に曝露しても実質上変形しない実質上全内部真空に耐える強度を有することが望ましい。本性質は熱可塑性容器８０において、例えば直径及び素材に関して十分な壁厚を有するシリンダー状の壁８６といった、適切な寸法及び被覆材処理の温度より高いガラス遷移温度を有する適切な素材で製造された容器８０を提供することにより、提供可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．検体採取管及びシリンジといった医療用容器／コンテナは比較的小型であり、雰囲気圧により圧潰されることなく真空化可能である比較的厚肉の壁で射出成形される。したがって、炭酸ソフトドリンクボトル又はその他のより大きいか、より薄壁のプラスチックコンテナより、堅固である。真空容器として利用するために設計される検体採取管は通常、保管期間中に全真空に耐えるよう構成されており、真空チャンバとして使用可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．かかる容器をそれ自体の真空チャンバへと適合させることで、通常極めて低圧で実行される容器のＰＥＣＶＤ処理用真空チャンバ内への留置の必要性がなくなる可能性がある。容器をそれ自体の真空チャンバとして利用することにより、処理時間が迅速となり（個別の真空チャンバからの部品の搭載・非搭載が必要ないため）、装置設定の簡略化が可能となる。さらに特定の実施形態については、機器を（ガス管やその他の装置へと位置合わせするため）把持し、機器を（容器ホルダーを真空ポンプへと装着して真空を創出可能とするため）密閉し、及びモールドと後続処理手順との間で機器を移動する、容器ホルダーが考えられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ａ．真空採血管として使用する容器８０は、意図する塗布のために有用な減圧へと内部が真空化されている一方で、保存可能期間中に大気又はその他の大気中ガスが大幅に管（閉包部をバイパスすることにより）へと漏出する又は壁８６を通して透過することなしに、外部気圧に耐えるよう設計されているべきである。モールドされた時点での容器８０がこの要件に満たない場合、遮断膜又はその他の種類の被覆材９０で内面８８を被覆することで処理可能である。これらの機器（検体採取管やシリンジバレルなど）の内面を処理及び／又は被覆して、既存のポリマー機器を超える利点を提供する及び／又は既存のガラス製品を模倣するさまざまな性質を付与することが望ましい。処理又は被覆の前及び／又は後に、機器のさまざまな性質を測定することが望ましい。

別の例示される容器は本明細書に記載するシリンジである。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．疎水性被覆材で被覆された壁を有する容器
ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．別の実施形態は、疎水性被覆材又は層で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する容器である。疎水性層又は被覆材は、容器内面の親水性ＳｉＯｘ被覆材の上に塗布することも可能である。ＳｉＯ_x被覆材はプラスチック容器の遮断性を増加させ、疎水性層又は被覆材は容器壁との容器内部の組成物又は化合物の接触面の界面エネルギーを変化させる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．実施形態ＶＩＩ．Ａ．１．ｂに記載の容器は、本明細書での説明の通りに適用される管内面上の第１ＳｉＯ_x層又は被覆材を有し、酸素遮断層として機能して熱可塑性素材製真空採血管の保存可能期間を延長することが可能である。定義のセクションにおいて定義されるとおり特徴付けられる疎水性層の第２の層又は被覆材を次に容器内面の遮断性層又は被覆材上に塗布して、疎水性表面を提供可能である。採血管又はシリンジにおいて、被覆材は、場合により、同種類の非被覆壁と比較して、内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．ＰＥＣＶＤは、内面上に疎水性の層又は被覆材を形成するために使用される。従来のクエン酸塩採血管とは異なり、本明細書において定義した疎水性層を有する採血管は、管の疎水性表面を生成するのに通常用いられる、容器壁のケイ素上で焼成する被覆材を必要としない。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．両方の層を、例えばＨＭＤＳＯ又はＯＭＣＴＳといった同一前駆体、及び異なるＰＥＣＶＤ反応条件を使用して塗布可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｂ．採血管を調整する場合には、クエン酸ナトリウム抗凝固剤をその後管内に入れ、閉包部を用いて真空化及び密閉化して真空採血管を生成する。剤の成分及び公式は、当技術分野の当事者にとって既知である。含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．ＳｉＯ_x遮断膜被覆される２層壁プラスチック容器 - ＣＯＣ、ＰＥＴ、ＳｉＯ_x層
ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．別の実施形態は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層又は被覆材を有する。１つのポリマー層は、少なくとも層厚０．１ｍｍの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）樹脂の層又は被覆材である。別のポリマー層は、少なくとも層厚０．１ｍｍの、ポリエステル樹脂の層又は被覆材である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．壁には、約１０〜５００オングストロームの層厚を有するＳｉＯ_x酸素遮断層又は被覆材が含まれる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．図１０に図示する実施形態において、容器８０は内壁４０８及び外壁４１０を有する二重壁容器である場合があり、それぞれ同一の又は異なる物質を原料とする場合がある。この種の特定実施形態の１つは、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）からモールドされた壁及びテレフタル酸ポリエチレン（ＰＥＴ）といったポリエステルからモールドされたその他の壁で構成され、内面４１２上に前述のＳｉＯ_x被覆材を有する場合がある。必要に応じて、連結被覆材又は連結層又は被覆材を内壁と外壁との間に挿入して、それらの間の付着力を促進可能である。この壁構造の利点として、異なる性質を有する壁を組合わせて各壁のそれぞれの性質を有する合成物を形成可能であることが挙げられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．一例として、内壁４０８はＳｉＯ_x遮断層を有する内面４１２上のＰＥＴ被覆から生成可能であり、外壁４１０はＣＯＣから生成可能である。本明細書内別箇所で示す通り、ＳｉＯ_xを有するＰＥＴ被覆は優良な酸素遮断層であり、一方ＣＯＣは優良な水蒸気遮断層であり、それにより水蒸気遷移速度（ＷＶＴＲ）が低下する。本合成容器は、酸素及び水蒸気の両方について優良な遮断性を有する場合がある。本構造は、例えば製造時に水性試薬を包含しかつ実質的な保存可能期間を有する真空化された医療用検体採取管のために考えられており、保存可能期間に合成壁を通る水蒸気の外方向への搬送又は酸素又はその他のガスの内方向への搬送を防止するための遮断性を有するものとする。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｃ．別の例として、内壁４０８はＳｉＯ_x遮断層を有する内面４１２上のＣＯＣ被覆から生成可能であり、外壁４１０はＰＥＴから生成可能である。本構造は、例えば製造時に水性無菌液を包含する充填済みシリンジのために考えられている。ＳｉＯ_x遮断層は、酸素がその壁を通りシリンジに侵入するのを防止する。ＣＯＣ内壁は、例えば水といったその他の物質の侵入又は放出を防止し、したがって水性無菌液内の水が壁素材からシリンジへと浸出するのを防止する。ＣＯＣ内壁はまた、水性無菌液由来の水がシリンジから透過する（したがって水性無菌液が望ましくなく濃縮される）ことを防止するために考えられており、非無菌液又はシリンジ外部のその他の流体がシリンジ壁を通って侵入し含有物が非無菌液となることを、防止する。またＣＯＣ内壁は、シリンジの内壁に対するプランジャーの破断力又は摩擦を減少させるのに有用であると考えられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．２層壁プラスチック容器の製造方法 - ＣＯＣ、ＰＥＴ、ＳｉＯ_x層
ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．別の実施形態は、外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層又は被覆材を有し１つの層又は被覆材がＣＯＣ製でもう１つの層がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。容器は、ＣＯＣ層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．任意の追加手順として、内部被覆材、外部被覆材、又は層の間に位置する中間層被覆材としての、非晶質炭素被覆材の容器へのＰＥＣＶＤによる塗布が挙げられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．任意の追加手順として、前述通りにＳｉＯ_xが定義される容器壁内面へのＳｉＯ_x遮断層又は被覆材の塗布が挙げられる。別の任意の追加手順として、ガス状反応体又は本質的に酸素からなり及び本質的に揮発性ケイ素化合物を含まない処理ガスによるＳｉＯ_x層又は被覆材の後処理が挙げられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．場合により、ＳｉＯ_x被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから形成可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．図１０に示す容器８０は、一例として、第１モールド空洞部に内壁を射出成形して、その後核及びモールドされた内壁を第１モールド空洞部からより大きい第２モールド空洞部へと取り出し、その後第２モールド空洞部において内壁に対して外壁を射出成形することにより、内から外へ成形可能である。場合により、外壁を連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた内壁の外面へと連結層又は被覆材を提供可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．又は図１０に示す容器８０は、一例として、モールド空洞部内に第１核を挿入し、モールド空洞部内で外壁を射出成形し、その後第１核をモールドした第１壁から取り出しより小さい第２核を挿入し、その後モールド空洞部にそのまま内在している外壁に対して該内壁を射出成形することにより、外から中へ成形可能である。場合により、内壁を連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた外壁の内面へと連結層又は被覆材を提供可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｄ．又は図１０に示す容器８０は、２段成形で製造される場合がある。これは、一例として、内壁用の部材を内部ノズルから及び外壁用の部材を同心の外部ノズルから射出成形することにより、実行可能である。場合により、内部ノズルと外部ノズルの間に付帯する第３同心ノズルから、連結層を提供可能である。複数ノズルにより、それぞれの壁材料を同時に供給可能である。有用な手段の１つとして、内部ノズルを通して内壁材料を供給する少し前に、外部ノズルを通して外壁材料を供給し始めることが挙げられる。中間同心ノズルが存在する場合、工程順は外部ノズルから始まり、順に中間ノズルから、そして内部ノズルからと続く。又は、供給開始順は内部ノズルから始まり、前述のものとは反対に外方向へと進めることが可能である。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｅ．ガラス製の容器又は被覆材
ＶＩＩ．Ａ．１．ｅ．別の実施形態は、容器、遮断性被覆材、及び閉包部を含む容器である。容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。容器は、内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口及び内腔を有する。少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、壁の内面に存在する。閉包部が口を覆い、容器の内腔を周囲空気から隔絶させる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｅ．容器８０は例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、又はその他のガラス処方といった、医療又は研究に使用されるいかなる種類のガラスを原料とすることが可能である。いかなる材料から製造されるいかなる形状又はサイズを有するその他の容器もまた、システム２０での使用のために考えられる。ガラス容器の被覆の機能の１つとして、ガラスから容器の含有物（真空採血管内の試薬又は血液など）への、意図的又は不純物（ナトリウム、カルシウム、その他）としてのイオンのガラス内への侵入を低減させることが挙げられる。例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触するといった、ガラス容器全体又は一部を被覆することの別の機能は、例えばシリンジ内のピストンといったスライド式構成要素の停止部材又は経路の挿入又は除去を容易にするために、被覆材に潤滑性を提供することである。ガラス容器を被覆するさらに別の理由として、容器内の試薬又は意図する検体（血液など）の容器壁への付着、又は容器壁に接触する血液の凝固率増加を防止することが挙げられる。

ＶＩＩ．Ａ．１．ｅ．ｉ．関連する実施形態として、遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製又はホウケイ酸ガラス製又はその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。

ＶＩＩ．Ｂ．シリンジ
ＶＩＩ．Ｂ．以上の記述は主に、例えば採血管又はより一般的には検体収受管８０といった１つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。装置はかかる機器に制限されない。

ＶＩＩ．Ｂ．図３に示す、適切な容器の別の例は医療用シリンジ２５２のためのシリンジバレル２５０である。かかるシリンジ２５２は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、又は同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ２５２も、例えば保存中のシリンジバレル２５０のように、事前充填済みシリンジ２５２の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面２５４上のＳｉＯ_x遮断層又はその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。遮断膜又はその他の種類の被覆材は、プラスチック成分が内面２５４を通してバレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．シリンジバレル２５０はモールド時には一般に、プランジャー２５８を収受する後端部２５６と、シリンジ２５２の含有物を投与するための／物質をシリンジ２５２へと収受するための皮下注射針、ノズル、又はタブを収受する前端部２６０の両方が開口している場合がある。しかし充填済みシリンジ２５２が使用される前に、前端部２６０には場合により蓋が付けられ、プランジャー２５８は場合により所定の位置に装着され、バレル２５０の両端は閉口される場合があ。蓋２６２を設置する目的は、シリンジバレル２５０又は組立てられたシリンジを処理するため、又は蓋２６２を除去し（場合により）皮下注射針又はシリンジ２５２の使用準備のためその他の搬送導管を前端部２６０に装着する時まで充填済みシリンジ２５２を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。

別の適当な容器は２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７及び２０１０年６月２９日出願のＵＳ６１／３５９，４３４に記載されている「スタックニードルシリンジ」、即ち、固定された（スタックされた）中空針を有するシリンジバレルである。

ＶＩＩ．Ｂ．シリンジ
ＶＩＩ．Ｂ．以上の記述は主に、例えば採血管又はより一般的には検体収受管８０といった１つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。装置はかかる機器に制限されない。

ＶＩＩ．Ｂ．図３に示す、適切な容器の別の例は医療用シリンジ２５２のためのシリンジバレル２５０である。かかるシリンジ２５２は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、又は同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ２５２も、例えば保存中のシリンジバレル２５０のように、事前充填済みシリンジ２５２の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面２５４上のＳｉＯ_x遮断層又はその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。遮断膜又はその他の種類の被覆材は、プラスチック成分が内面２５４を通してバレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．シリンジバレル２５０はモールド時には一般に、プランジャー２５８を収受する後端部２５６と、シリンジ２５２の含有物を投与するための／物質をシリンジ２５２へと収受するための皮下注射針、ノズル、又はタブを収受する前端部２６０の両方が開口している場合がある。しかし充填済みシリンジ２５２が使用される前に、前端部２６０には場合により蓋が付けられ、プランジャー２５８は場合により所定の位置に装着され、バレル２５０の両端は閉口される場合がある。蓋２６２を設置する目的は、シリンジバレル２５０又は組立てられたシリンジを処理するため、又は蓋２６２を除去し（場合により）皮下注射針又はシリンジ２５２の使用準備のためその他の搬送導管を前端部２６０に装着する時まで充填済みシリンジ２５２を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。

別の適当なシリンジは２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７及び２０１０年６月２９日出願のＵＳ ６１／３５９，４３４に記載されている「ステーキドニードルシリンジ」即ち固定された（スタックされた）中空針を有するシリンジバレルである。

典型的には、シリンジバレルを被覆する場合は、被覆基板表面がバレルの内面の部分又は全部であり、ＰＥＣＶＤ反応のためのガスがバレルの内側内腔に充満し、そしてバレルの内側腔の部分又は全部の内部でプラズマを発生させるように本明細書に記載したＰＥＣＶＤ被覆方法を実施する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．潤滑性層で被覆されたバレルを有するシリンジ
ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．潤滑性層を有するタイプのシリンジは以下の処理により作成できる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記で定義される前駆体を用意する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減する潤滑表面を生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．実施形態ＶＩＩ及び下位部分に関して、塗布手順は場合により、前駆体の気化により行われ、基板付近に提供される。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．プラズマを、基板付近に生成する。場合により、前駆体を実質上窒素が存在しない環境へと提供する。場合により、前駆体を絶対圧が１トール未満である環境へと提供する。場合により、前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。場合により、前駆体及びその反応生成物を基板へと１〜５０００ｎｍ、又は１０〜１０００ｎｍ、又は１０〜５００ｎｍ、又は１０〜２００ｎｍ、又は２０〜１００ｎｍ、又は３０〜１０００ｎｍ、又は３０〜５００ｎｍ、又は３０〜１０００ｎｍ、又は２０〜１００ｎｍ、又は８０〜１５０ｎｍ、の層厚で塗布する。場合により、基板はガラスからなる。場合により基板は、ポリマーから、場合によりポリカーボネートポリマーから、場合によりオレフィン重合体から、場合により環状オレフィン共重合体から、場合によりポリプロピレンポリマーから、場合によりポリエステルポリマーから、場合によりテレフタル酸ポリエチレンポリマーからなる。ＣＯＣはシリンジ及びシリンジバレルのために特に考慮される。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合によりプラズマを、上記で定義される、例えば周波数が１０ｋＨｚ〜３００ＭＨ未満、より好ましくは１〜５０ＭＨｚ、さらにより好ましくは１０〜１５ＭＨｚ、最も好ましくは１３．５６ＭＨｚである、ＲＦ周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により、プラズマは０．１〜２５Ｗ、好ましくは１〜２２Ｗ、より好ましくは３〜１７Ｗ、さらにより好ましくは５〜１４Ｗ、最も好ましくは７〜１１Ｗ、特に８Ｗの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。電極電力の対プラズマ量比は１０Ｗ／ｍｌ未満であり、好ましくは６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、好ましくは５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、より好ましくは４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、最も好ましくは２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌである場合がある。潤滑性被覆材を調製するためには、低電力レベルは本発明者等によれば最も好都合であると考えられる（例えば２〜３．５Ｗの電力レベル及び実施例に示す電力レベル）。電力レベルは、シリンジや検体管、及びその内部でＰＥＣＶＤプラズマが生成され１〜３ｍＬの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性層の塗布に適している。より大きい又はより小さい物体については、基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加又は減少させるべきであると考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．別の実施形態はシリンジバレルの内壁上の本発明の潤滑性被覆材である。被覆材は以下の素材及び条件を用いたＰＥＣＶＤ工程より製造される。環状前駆体を場合により使用し、それは潤滑層に関して本明細書に別途定義するとおり、単環シロキサン、多環シロキサン、又はこれらの２種以上の組み合わせから選択される。適当な環状前駆体の一例は 場合により何れかの比率で他の前駆体と混合したオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）を含む。場合により環状前駆体はオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）より本質的になり、このことは得られる潤滑層の基本的及び新規な特性、即ちその被覆表面のプランジャースライド力又は起動力の低下を変化させない量において他の前駆体も存在できることを意味している。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．十分にプラズマを生成する電力入力、例えば本明細書の１つ以上の実施例において成功裏に使用される又は本明細書に記述されるいかなる電力レベルを供給して、被覆材生成を誘導する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．利用する素材及び条件は、シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力又は起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも２５パーセント、或いは少なくとも４５パーセント、或いは少なくとも６０パーセント、或いは６０パーセント以上減少させるのに効果的である。プランジャースライド力又は起動力を２０〜９５パーセント、或いは３０〜８０パーセント、或いは４０〜７５パーセント、或いは６０〜７０パーセント減少させる範囲が、考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．別の実施形態は、内壁上に定義のセクションで定義したとおりに特徴付けられる疎水性の層を有する容器である。被覆材は、類似組成の潤滑被覆材に関する説明通りに、しかし未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成するのに効果的な条件下で、生成される。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により、基板はガラス又はポリマーからなる。ガラスは、場合によりホウケイ酸ガラスである。ポリマーは、場合によりポリカーボネートポリマー、場合によりオレフィン重合体、場合により環状オレフィン共重合体、場合によりポリプロピレンポリマー、場合によりポリエステルポリマー、場合によりテレフタル酸ポリエチレンポリマーである。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．別の実施形態は、プランジャー、シリンジバレル、及び潤滑層を含むシリンジである。シリンジバレルは、スライディングのためのプランジャーを収受する内面を含有する。潤滑性の層又は被覆材はシリンジバレル内面の部分又は全ての上に付着される。潤滑性の層又は被覆材は場合により１０００ｎｍ未満の層厚であることができ、起動力又はバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。プランジャースライド力の減少は、或いはバレル内でのプランジャーのスライド摩擦係数の減少又はプランジャー力の減少（これらの用語は本明細書内において同義であると見なす）として表現される。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａシリンジ５４４は、プランジャー５４６及びシリンジバレル５４８からなる。シリンジバレル５４８は、スライディングのためのプランジャー５４６を収受する内面５５２を有する。さらにシリンジバレル５４８の内面５５２は、潤滑性の層又は被覆材５５４からなる。潤滑性の層又は被覆材は１０００ｎｍ未満、場合により５００ｎｍ未満、場合により２００ｎｍ未満、場合により１００ｎｍ未満、場合により５０ｎｍ未満の層厚であり、保管後のプランジャーの付着状態を打開するのに必要な起動力、又は起動後にバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。潤滑性の層又は被覆材は、非被覆表面より低いプランジャースライド力又は起動力を有することにより、特徴付けられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記いずれかの前駆体を単体で、又は２種以上の複合体で使用して潤滑性層を提供可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．真空処理の利用に加えて、低温度大気（非真空）プラズマ処理も利用して、場合により、好ましくはヘリウム又はアルゴンなど非酸化大気において、前駆体モノマー蒸気供給を通しての分子イオン化及び堆積を誘導可能である。個別に、温熱性ＣＶＤを閃光熱分解堆積経由で検討可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記アプローチは、表面被覆及び架橋機構が同時に生じる可能性がある真空ＰＥＣＶＤに類似する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．いかなる被覆材又は本明細書に記載の被覆材に関するまた別の考えられる手段として、容器の内部８８全体に不均一に塗布される被覆材が挙げられる。例えば、異なる又は追加の被覆材を、選択的に容器内部のシリンダー状部分へと塗布し、容器内部の閉口端８４にある半球状部分と比較する、又はその逆が可能である。本手段は特に、以下に記述するシリンジバレル又は検体採取管に関して考えられる。シリンジバレルにおいて、プランジャー又はピストン又は閉包部がスライドするが別箇所はスライドしないバレルのシリンダー状部分の一部又は全部に、潤滑性の層又は被覆材を提供可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により前駆体は、窒素の存在下、実質的非存在下、又は非存在下で、提供可能である。考えられる一実施形態において、前駆体単体を基板へと搬送し、ＰＥＣＶＤを施し被覆材を塗布・硬化する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により、前駆体を絶対圧が１トール未満である環境へと提供する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により、前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記実施形態のいずれにおいても、基板はガラス又は、例えば１種以上のポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体（例えば環状オレフィン共重合体又はポリプロピレンポリマー）、ポリエステルポリマー（例えばテレフタル酸ポリエチレンポリマー）といったポリマーからなる場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記実施形態のいずれにおいても、本記述で定義するＲＦ周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物を加圧することにより、プラズマを生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上記実施形態のいずれにおいても、潤滑性層の生成に十分な電力の供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物を加圧することにより、プラズマを生成する。場合により、プラズマは０．１〜２５Ｗ、場合により１〜２２Ｗ、より場合により３〜１７Ｗ、さらにより場合により５〜１４Ｗ、最も場合により７〜１１Ｗ、特に８Ｗの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。電極電力の対プラズマ量比は１０Ｗ／ｍｌ未満であり、場合により６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、場合により５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、より場合により４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、最も場合により２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌである場合がある。潤滑性被覆材を調製するためには、低電力レベルは本発明者等によれば最も好都合であると考えられる（例えば２〜３．５Ｗの電力レベル及び実施例に示す電力レベル）。電力レベルは、シリンジや検体管、及びその内部でＰＥＣＶＤプラズマが生成され１〜３ｍＬの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性層の塗布に適している。より大きい又はより小さい物体については、基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加又は減少させるべきであると考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．被覆材の重合、架橋又はその両方により被覆材を硬化して、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減させる潤滑表面を生成可能である。硬化は、例えばＰＥＣＶＤといった塗布処理の間に起こる可能性があり、又は別処理により実行される又は少なくとも完了される場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．被覆材の特性を明示するため本明細書ではプラズマ堆積を使用しているが、出発物質の化学的組成を維持し底部基板に付着する間断ない膜を堆積することが可能である限り、別の堆積方法を使用可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．例えば、被覆材の噴霧又は基板の被覆材への浸漬により、被覆材原料を（流体状態から）シリンジバレル上に塗布可能であり、その場合、被覆材は純前駆体又は溶媒希釈前駆体（より薄い被覆材の機械的堆積を可能とする）のいずれかである。被覆材は場合により、温熱性エネルギー、ＵＶエネルギー、電子光線エネルギー、プラズマエネルギー、又はこれらの組み合わせを利用して架橋可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．上述のケイ素前駆体の表面への塗布とその後の個別の硬化手順もまた、考えられる。塗布及び硬化の条件は、商標ＴｒｉｂｏＧｌｉｄｅＲの下で実践される処理である、被覆前ポリフルオロアルキルエーテルの大気プラズマ硬化に使用されているものと、類似している場合がある。本処理の詳細については、ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｔｒｉｂｏｇｌｉｄｅ．ｃｏｍ／ｐｒｏｃｅｓｓ．ｈｔｍを参照されたい。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．かかる処理において、被覆対象部位の領域を場合により大気プラズマで前処理可能である。本前処理により表面が浄化及び活性化されるため、次手順で噴霧される潤滑剤を受容可能となる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．潤滑性流体、この場合前述前駆体又は重合前駆体の１つを、その後処理対象表面に噴霧する。例えば、ＩＶＥＫ精密分配技術を使用して、流体を正確に霧化し均一な被覆材を創出可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．その後被覆材を、再度大気中プラズマ場を利用して、部分へと結合又は架橋する。これにより、被覆材を固定し潤滑剤のパフォーマンスを改善できる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．場合により、大気プラズマを容器内の周囲空気から生成可能であり、その場合、ガス供給装置及び真空化装置は不要である。しかしながら容器は場合により、電力要件を最小限としプラズマの容器外部の表面・素材への接触を防止するため、少なくともプラズマ生成中は実質上閉口である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．潤滑性被覆材：ＳｉＯ_x遮断層、潤滑層、表面処理
表面処理
ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．別の実施形態は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．場合により、本明細書内別箇所で説明する通り、バレル内面をＳｉＯ_x遮断層又は被覆材で被覆する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．潤滑性の層又は被覆材を、バレル内面、プランジャー、又は両方、又は先に塗布されたＳｉＯ_x遮断層に塗布する。潤滑性の層又は被覆材を、実施形態 ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ又は本明細書内別箇所で定義するとおりに提供、塗布又は硬化可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．例えば潤滑性の層又は被覆材は、いずれかの実施形態において、ＰＥＣＶＤにより塗布される場合がある。潤滑性の層又は被覆材は有機ケイ素前駆体を原料として堆積され、層厚１０００ｎｍ未満である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．潤滑性の層又は被覆材上での表面処理を、潤滑性被覆材、熱可塑性基材、又は両方の浸出又は抽出物を低減させるのに効果的な量で、実行する。処理表面は、したがって溶質保持部材として機能する。本表面処理は結果としてスキン塗となる、例えば１ｎｍ以上の層厚、１００ｎｍ未満の層厚、又は５０ｎｍ未満の層厚、又は４０ｎｍ未満の層厚、又は３０ｎｍ未満の層厚、又は２０ｎｍ未満の層厚、又は１０ｎｍ未満の層厚、又は５ｎｍ未満の層厚、又は３ｎｍ未満の層厚、又は２ｎｍ未満の層厚、又は１ｎｍ未満の層厚、又は０．５ｎｍ未満の層厚のスキン塗となる可能性がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．本明細書で使用される「浸出」とは、例えば容器壁といった基板から例えばシリンジといった容器の含有物への、物質の搬送を指す。一般に浸出物は、意図する含有物で充填された容器を保管し、その後含有物を分析して容器壁から意図する含有物へと浸出した物質を判定することにより、測定する。「抽出」とは、容器の意図する含有物の他に溶媒又は分散媒質を導入して試験条件下で基板から抽出媒質へと除去可能な物質を判定することによる、基板からの物質の除去を指す。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．場合により溶質保持部材をもたらす表面処理は、各々本明細書で既に定義済みであるＳｉＯ_x層又は被覆材、又は定義のセクションにおいて定義したとおりに特徴付けられる疎水性の層である可能性がある。一実施形態において、表面処理はＳｉＯ_x又は疎水性層のＰＥＣＶＤ堆積により塗布可能である。場合により、潤滑層の生成で使用するものより高い電力、より強い酸化条件、又は両方を使用して、表面処理を塗布可能であり、したがってより硬質、薄肉、継続的な溶質保持部材５３９を提供可能である。表面処理は、潤滑性層の深部１００ｎｍ未満、場合により５０ｎｍ未満、場合により４０ｎｍ未満、場合により３０ｎｍ未満、場合により２０ｎｍ未満、場合により１０ｎｍ未満、場合により５ｎｍ未満、場合により３ｎｍ未満、場合により１ｎｍ未満、場合により０．５ｎｍ未満、場合により０．１〜５０ｎｍある場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．溶質保持部材は、下層潤滑性及び必要に応じて基板を含むその他の層に対して、低い溶質浸出性を提供すると考えられる。本保持部材は、ガス（Ｏ₂／Ｎ₂／ＣＯ₂／水蒸気）遮断層ではなく、溶質大分子及びオリゴマー（例えば、ＨＭＤＳＯ、ＯＭＣＴＳといったシロキサンモノマー、それらの断片及び潤滑剤由来の移動性オリゴマー、例えば「浸出物保持部材」）に対する溶質保持部材であることのみが求められる。溶質保持部材は、しかしながら、ガス遮断膜（例えば本発明に記載のＳｉＯ_x被覆材）である可能性もある。真空又は大気中ＰＥＣＶＤ処理により、ガス遮断性を伴わない良好な浸出物保持部材を創出可能である。「浸出物遮断膜」が十分に薄肉であることが望ましく、シリンジプランジャーの移動については、プランジャーがスライド式プランジャー突起を直下の潤滑層に曝露しながら「溶質保持部材」へ容易に侵入し、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低下させる潤滑表面を生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．別の実施形態において、プラズマ環境における表面の酸素への曝露のように、以前塗布した潤滑層の表面の酸化により実施可能である。本明細書で説明するプラズマ環境を使用して、ＳｉＯ_x被覆材を形成可能である。又は、酸素環境において大気プラズマ条件を利用可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．潤滑性の層又は被覆材及び溶質保持部材は、しかしながら形成され、場合により、同時に硬化可能である。別の実施形態において、潤滑性の層又は被覆材は少なくとも一部を硬化可能であり、場合により全体を硬化可能であり、その後、表面処理を提供・塗布可能及び溶質保持部材を硬化可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．潤滑性の層又は被覆材及び溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、又は両方を、潤滑性の層又は被覆材及び表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。言い換えれば、溶質保持部材の層厚及び組成は、潤滑の層又は被覆材からの物質のシリンジ含有物への浸出を低下させ、下層潤滑性の層又は被覆材でプランジャーを潤滑化するためのものである。溶質保持部材は容易に剥離し、潤滑性の層又は被覆材がプランジャーの移動を潤滑化する機能を果たすのに十分な薄さであることが、考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．考えられる一実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、バレル内面に塗布可能である。考えられる別の実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、プランジャーに塗布可能である。考えられるまた別の実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、バレル内面とプランジャーの両方に塗布可能である。実施形態のいずれかにおいて、シリンジバレル内部の任意のＳｉＯ_x遮断層又は被覆材は存在又は非存在である可能性がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．考えられる一実施形態は、シリンジバレルの内面に塗布する複数層（例えば３層）設定である。層又は被覆材１は、酸化性大気内でＨＭＤＳＯ、ＯＭＣＴＳ又は両方のＰＥＣＶＤにより生成されるＳｉＯ_xガス遮断膜である場合がある。かかる大気は例えば、本明細書に記載のＰＥＣＶＤ被覆装置へのＨＭＤＳＯ及び酸素ガスの供給により、提供可能である。層又は被覆材２は、非酸化性大気内で塗布するＯＭＣＴＳを使用する潤滑層又は被覆材である場合がある。かかる非酸化性大気は例えば、本明細書に記載のＰＥＣＶＤ被覆装置へのＯＭＣＴＳの供給により、場合により実質上又は完全な酸素非存在下で、提供可能である。二次溶質保持部材を、ＳｉＯ_x又は疎水性の層又は被覆材の表面薄層又は被覆材を生成する処理により、ＯＭＣＴＳ及び／又はＨＭＤＳＯを使用してより高い電力と酸素を使用する溶質保持部材として、形成可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．特定の複数層又は被覆材の被覆材は、少なくともある程度、以下の１つ以上の任意の利点を有していると考えられる。溶質保持部材は内部ケイ素を収容しシリンジの含有物又は別箇所へと移動するのを防止する可能性があるため、それらにより報告されているケイ素取扱い困難性に対処できる可能性がある。その結果、可能なシリンジの含有物内のケイ素粒子が減少し、潤滑性の層又は被覆材とシリンジの含有物との間の相互作用の機会が低下する。また、潤滑層が潤滑点から離れて移動する問題に対処して、シリンジバレルとプランジャーの間の界面の潤滑性を改善できる可能性がある。例えば、打破力が低下し、移動プランジャー上の抗力が低下し、場合により両方が低下する場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．溶質保持部材が破損している場合、溶質保持部材は該潤滑性被覆材及びシリンジバレルへと付着し続け、いかなる粒子のシリンジの搬送可能含有物内への取り込みを阻害する可能性がある、と考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ａ．ｉ．また、特定の被覆材は製造上の利点を、特に遮断性被覆材、潤滑性の層又は被覆材、及び表面処理が同一装置、例えば図示するＰＥＣＶＤ装置において塗布される場合に、提供する。場合により、ＳｉＯ_x遮断性被覆、潤滑性層、及び表面処理はすべて１つのＰＥＣＶＤ装置において適用可能であり、したがって取扱い要件が大幅に削減される。

遮断性被覆材、潤滑性の層又は被覆材、及び溶質保持部材を同一前駆体を使用して生成することにより、及び処理を修正することにより、さらなる利点を取得可能である。例えば、ＳｉＯ_xガス遮断層又は被覆材は高電力／高Ｏ₂の条件下でＯＭＣＴＳ前駆体を使用して塗布可能となり、そして潤滑層又は被覆材は低電力及び／又は実質上又は完全な無酸素の条件下でＯＭＣＴＳ前駆体を使用して塗布可能となり、最後に表面処理は中間電力及び酸素の条件下でＯＭＣＴＳ前駆体を使用して塗布可能となる。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ ＳｉＯ_x層被覆内部及び遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジ
ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．図５０に図示するさらなる別の実施形態は、プランジャー５４６、バレル５４８、内部及び外部遮断性被覆材５５４及び６０２を含むシリンジ５４４である。バレル５４８は、内腔６０４を定義する熱可塑性基材を原料とする場合がある。バレル５４８は、スライディングのためのプランジャー５４６を収受する内面５５２と、外面６０６を有する場合がある。ＳｉＯ_x製（ｘは約１．５〜約２．９）の遮断性被覆材５５４がバレル５４８の内面５５２に提供される場合がある。樹脂製の遮断性被覆材６０２をバレル５４８の外面６０６に提供する場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．いずれかの実施形態において、熱可塑性基材は場合により、ポリプロピレン又は環状オレフィン共重合体（例：商標ＴＯＰＡＳＲの下で販売される素材）といったポリオレフィン、テレフタル酸ポリエチレンやポリカーボネート（例：ビスフェノールＡ ポリカーボネート熱可塑性素材又はその他の素材）といったポリエステルを含む場合がある。いずれか１つの素材を外層として、同一又は異なる素材を内層として有する、合成シリンジバレルが考えられる。本明細書内別箇所で記述する合成シリンジバレル又は検体管の素材の組合せも、使用可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．いずれかの実施形態において、樹脂は場合により、単独重合体又は共重合体の形態のポリ塩化ビニリデンを含む場合がある。例えば、参照することにより本明細書に組み込まれる米国特許６，１６５，５６６号に記載の、ＰＶｄＣ単独重合体（慣用名：サラン）又は共重合体を利用可能である。樹脂を場合により、ラテックス又はその他の分散形態で、バレルの外面に塗布する場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．いずれかの実施形態において、シリンジバレル５４８には場合により、プランジャー及び遮断性ＳｉＯ_x被覆材の間に配置される潤滑性層が含まれる場合がある。適切な潤滑性層を本明細書内別箇所で記述している。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．いずれかの実施形態において、潤滑性被覆材は場合によりＰＥＣＶＤにより塗布される場合があり、場合により定義のセクションにおいて定義したとおりに特性化される材質を含む場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ．いずれかの実施形態において、シリンジバレル５４８は場合により、潤滑性層を覆う表面処理を、内腔６０４への潤滑性層、熱可塑性基材の成分、又は両方の浸出を低減させるのに効果的な量で、含む場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ ＳｉＯ_x層被覆内部及び遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジの製造方法
ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、内部及び外部遮断性被覆材を含む、ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ部のいかなる実施形態に記載のシリンジの製造方法である。スライディングのためにプランジャーを収受する内面と、外面を有するバレルを用意する。ＳｉＯ_x遮断性被覆材は、ＰＥＣＶＤによりバレルの外面に提供される。樹脂製の遮断性被覆材をバレルの外面に提供する。プランジャー及びバレルを組立てることで、シリンジを用意する。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．水性ラテックスを用いるプラスチック材の効果的な（均一湿潤）被覆として、ラテックスの表面張力をプラスチック基板へと一致させることがが有用であると考えられる。これは、例えば（界面活性剤又は溶媒を用いる）ラテックスの表面張力の低減、及び／又はプラスチック材のコロナ前処理、及び／又はプラスチック材の化学プライミングといった、複数のアプローチを個別に又は組合わせて達成可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．樹脂を場合により、バレルの外面へのラテックスの浸漬被覆、バレルの外面へのラテックスの噴霧被覆、又は両方により塗布し、改善されたガス・蒸気遮断力をもたらすプラスチック材を提供可能である。非積層プラスチック材と比較して大いに優れたガス遮断力を提供する、ポリ塩化ビニリデンプラスチック積層材を生成可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．いずれかの実施形態において、樹脂は場合により熱硬化可能である。樹脂は場合により 水分を除去することにより熱硬化可能である。樹脂の熱硬化、樹脂の一部真空又は低湿度環境への曝露、樹脂の触媒的硬化、又はその他の手段により、水分を除去可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．効果的な温熱硬化スケジュールとして、最後に乾燥させてＰＶｄＣ結晶化を可能とし遮断力を提供することが考えられる。一次硬化を、例えば１８０〜３１０°Ｆ（８２〜１５４℃）の高温で実行する場合があり、もちろん熱可塑性基材の耐熱性により異なる。一次硬化の後の遮断力は場合により、最終硬化の後に達成される約８５％の極限的遮断力である場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．最終硬化は、６５〜７５°Ｆ（１８〜２４℃）といった周囲温度での長期間（２週間など）から、１２２°Ｆ（５０℃）といった高温での短期間（４時間など）までの範囲で、実行可能である。

ＶＩＩ．Ｂ．１．ｃ．ＰＶｄＣプラスチック積層材は、優れた遮断力に加え、場合により無色透明、良好な光沢、耐摩耗性、印刷適性、機械的歪抵抗といった１種以上の好ましい性質を提供すると考えられる。

ＶＩＩ．Ｂ．２．プランジャー
ＶＩＩ．Ｂ．２．ａ．遮断性被覆ピストン前面
ＶＩＩ．Ｂ．２．ａ．別の実施形態は、ピストン及びプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、及び後部を有しており、側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。前面は遮断性被覆材を有する。プッシュロッドを後部と係合させ、シリンジバレル内でピストンを押し進めるよう設定する。

ＶＩＩ．Ｂ．２．ｂ．側面と接合する潤滑性被覆材
ＶＩＩ．Ｂ．２．ｂ．また別の実施形態は、ピストン、潤滑性被覆材、及びプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。潤滑性層は側面と接合させる。プッシュロッドはピストン後部と係合し、シリンジバレル内でピストンを押し進めるよう設定される。

ＶＩＩ．Ｂ．３．ａ．２部構成シリンジ及びルアー取付部
ＶＩＩ．Ｂ．３．ａ別の実施形態は、プランジャー、シリンジバレル、及びルアー取付部を含むシリンジである。シリンジには、スライディングのためにプランジャーを収受する内面を有するバレルが含まれる。ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として形成され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。ルアーテーパーの内部経路は遮断性ＳｉＯ_x被覆材を有する。

ＶＩＩ．Ｂ．３．ｂ．ステーキドニードルシリンジ
ＶＩＩ．Ｂ．３．ｂ．別の実施形態は２０１１年５月１１日出願のＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７及び２０１０年６月２９日出願のＵＳ６１／３５９，４３４に記載されているプランジャー、シリンジバレル及びステーキドニードルを含むシリンジ（「ステーキドニードルシリンジ」）である。針は中空であり、１８〜２９ゲージの範囲の典型的なサイズを有する。シリンジバレルはプランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。ステーキドニードルはシリンジの射出成形の間にシリンジに固定してよく、或いは、接着剤を使用して形成されたシリンジに組み立てても良い。シリンジアセンブリを密閉するためにステーキドニードル上にカバーを置く。シリンジアセンブリはＰＥＣＶＤ被覆処理を可能となるようにシリンジ内部に真空が維持できるように密閉なければならない。

ＶＩＩ．Ｂ．４．一般的な潤滑性の層又は被覆材
ＶＩＩ．Ｂ．４．ａ．工程別及び潤滑性別の生成物
ＶＩＩ．Ｂ．４．ａ．また別の実施形態は、潤滑性層である。本被覆材は、本明細書に記載した潤滑性被覆材を調整するための工程により生成される種類のものである場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ａ．本明細書において別途記載する潤滑性被覆材のためのいずれかの前駆体を、単体で又は複合体で使用可能である。前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」又は「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ａ．別の実施形態は、潤滑性層を塗布する方法である。有機ケイ素前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減する潤滑表面を生成する。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．工程別及び分析特性別の生成物
ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、場合により有機ケイ素前駆体からなる、場合により線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体からなる供給ガスから、ＰＥＣＶＤにより堆積される潤滑性の層又は被覆材である。被覆材の密度は、Ｘ線反射率（ＸＲＲ）により決定される通り、１．２５〜１．６５ｇ／ｃｍ³、場合により１．３５〜１．５５ｇ／ｃｍ³、場合により１．４〜１．５ｇ／ｃｍ³、場合により１．４４〜１．４８ｇ／ｃｍ³である。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、場合により有機ケイ素前駆体からなる、場合により線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体からなる供給ガスから、ＰＥＣＶＤにより堆積される潤滑性の層又は被覆材である。被覆材は、ガスクロマトグラフィー／質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ− 部分を含む１種以上のオリゴマーを有する。場合により、被覆材は実施形態ＶＩＩ．Ｂ．４．ａの制限を満たす。場合により、被覆材ガス放出成分は、ガス クロマトグラフィー／質量分析法により判定される通り、実質上トリメチルシラノールを含まない。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．場合により、被覆ガス放出成分は、以下の試験条件を使用するガスクロマトグラフィー／質量分析法により判定されるとおり、反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ−部分を含む少なくとも試験あたり１０ｎｇのオリゴマーを有する。
・ＧＣカラム：３０ｍ×０．２５ｍｍＤＢ−５ＭＳ（Ｊ＆Ｗ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）、０．２５μｍ膜層厚
・流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、定流量モード
・検出器：質量選択検出器（ＭＳＤ）
・射出モード：分割射出（分割率１０：１）
・ガス放出条件：１ 1/2インチ（３７ｍｍ）チャンバ、３時間、８５℃、６０ｍｌ／分の流量でパージ
・炉温度：４０℃（５分）から始め１０℃／分で３００℃まで加熱、３００℃を５分間保持。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．場合により、ガス放出成分は、反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ−部分を含む少なくとも試験あたり２０ｎｇのオリゴマーを含む場合がある。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．場合により供給ガスは、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体、例えば、単環シロキサン、単環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン）からなる。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．いずれかの実施形態の潤滑性層は、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）により測定される１〜５０００ｎｍの、又は１０〜１０００ｎｍの、又は１０〜２００ｎｍの、又は２０〜１００ｎｍの、又は３０〜１０００ｎｍの、又は３０〜５００ｎｍの平均層厚を有する。好ましい範囲は３０〜１０００ｎｍ及び２０〜１００ｎｍ、そして特に好ましい範囲は８０〜１５０ｎｍである。単一の測定点における絶対的層厚は平均層厚の範囲限界より高値又は低値であることができる。しかしながら、典型的には平均層厚に関して記載した層厚の範囲内で変動する。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体からなる供給ガスから、ＰＥＣＶＤにより堆積される潤滑性被覆材である。被覆材は、１００％炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により判定される通り、供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。場合により、被覆材は実施形態ＶＩＩ．Ｂ．４．ａ又はＶＩＩ．Ｂ．４．ｂＡの制限を満たす。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．場合により、酸素の原子濃度は、潤滑性被覆材を作成する場合の有機ケイ素前駆体中の炭素の原子濃度との関連において、１〜８０原子パーセント（ＥＰ２２５１４５５の実施例１５のＸＰＳ条件に基づき計算）、或いは １０〜７０原子パーセント、或いは２０〜６０原子パーセント、或いは３０〜５０原子パーセント、或いは３５〜４５原子パーセント、或いは３７〜４１原子パーセント増加する。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら２つ以上の複合体からなる供給ガスから、ＰＥＣＶＤにより堆積される潤滑性被覆材である。被覆材は、１００％炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により判定される通り、供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。ＥＰ２２５１４５５の実施例１５参照。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．場合により、ケイ素の原子濃度は１〜８０原子パーセント（ＥＰ ２２５１ ４５５の実施例１５のＸＰＳ条件に基づき計算）、或いは１０〜７０原子パーセント、或いは２０〜６０原子パーセント、或いは３０〜５５原子パーセント、或いは４０〜５０原子パーセント、或いは４２〜４６原子パーセント減少する。

ＶＩＩ．Ｂ．４．ｂ．断面図ＶＩＩ．Ｂ．４に列挙される２つ以上の性質の組合せを有する潤滑性層もまた、明示的に考えられる。

ＶＩＩ．Ｃ．一般的容器
ＶＩＩ．Ｃ．本明細書に記載の及び／又は本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器又は容器は、化合物又は組成物の収受及び／又は保管及び／又は供給のために使用可能である。化合物又は組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性及び／又は機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。生物学的に活性な化合物又は組成物、例えばインスリン又はインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。別の態様において、生物学的流体、場合により、血液又は血液分画といった体液である場合がある。本発明の特定の態様において、化合物又は組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液（供血者から受血者への輸血又は患者から採取した血液の患者への再導入）又はインスリンといった注入生成物である。

ＶＩＩ．Ｃ．本明細書に記載の及び／又は本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器又は容器はさらに、内腔に含まれる化合物又は組成物の非被覆容器素材表面の機械的及び／又は化学的作用からの保護のために使用可能である。例えばインスリン沈殿又は血液凝固又は血小板活性化といった、前述化合物又は組成物成分の沈殿及び／又は凝固又は血小板活性化を防止又は低減させるのに使用可能である。

ＶＩＩ．Ｃ．さらには、例えば容器周辺の環境からの１つ以上の化合物の容器内腔への侵入を防止又は低減させることで、内部に包含する化合物又は組成物を容器外部の環境から保護するために使用可能である。かかる環境化合物はガス又は流体、例えば酸素、大気、及び／又は水蒸気を包含する大気中ガス又は流体である場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．本明細書に記載の被覆容器はまた、真空であり真空状態で保管される場合がある。例えば被覆材は、対応する非被覆容器と比べて、真空状態をより良好に維持可能である。本実施形態の一態様において、被覆容器は採血管である。前述管は、例えばＥＤＴＡ又はヘパリンといった、血液凝固又は血小板活性化を防止するための薬剤を包含する場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．いずれかの上述実施形態は、例えば容器として長さ約１ｃｍ〜約２００ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約１５０ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約１２０ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約１００ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約８０ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約６０ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約４０ｃｍ、場合により約１ｃｍ〜約３０ｃｍの管を提供し、後述の通りプローブ電極と共に処理することにより、実行可能である。特に上述範囲における長さが長いほど、被覆材形成中のプローブと容器との間の相対運動が有用である可能性があると考えられる。これは例えば、プローブに対して容器を移動する、又は容器に対してプローブを移動することにより、実行可能である。

ＶＩＩ．Ｃ．これらの実施形態において、被覆材は薄肉である、又は遮断性被覆材として望ましいものと比較して完全性に劣る場合があると考えられる。なぜなら、一部実施形態における容器は真空採血管の高い遮断性完全性を必要としないからである。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器は中心軸を有する。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器の外径の１００倍を超えない大きさの中心軸での曲げ半径に対して少なくとも実質的に直線である範囲において、温度２０℃で壁を破損することなく少なくとも１回屈曲するのに十分なたわみを、容器壁は有する。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、中心軸での曲げ半径は容器外径の９０倍を超えない、又は８０倍を超えない、又は７０倍を超えない、又は６０倍を超えない、又は５０倍を超えない、又は４０倍を超えない、又は３０倍を超えない、又は２０倍を超えない、又は１０倍を超えない、又は９倍を超えない、又は８倍を超えない、又は７倍を超えない、又は６倍を超えない、又は５倍を超えない、又は４倍を超えない、又は３倍を超えない、又は２倍又は１倍を超えない大きさである。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器壁は可撓性素材を原料とする流体接触表面である場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器内腔はポンプの流体流路である場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器は血液を医療用途の場合の良好な条件に保持するよう適合される血液バッグである場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．，ＶＩＩ．Ｄ．前述実施形態の任意の機能として、ポリマー素材は、２例として、シリコンエラストマー又は熱可塑性ポリウレタンである、又は血液又はインスリンと接触するのに適したいずれかの素材である場合がある。

ＶＩＩ．Ｃ．，ＶＩＩ．Ｄ．任意の実施形態において、容器は少なくとも２ｍｍ、又は少なくとも４ｍｍの内径を有する。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、容器は管である。

ＶＩＩ．Ｃ．前述実施形態の任意の機能として、内腔は少なくとも２つの開口端を有する。

全ての実施形態に関して共通の条件
本明細書において考えられるいずれかの実施形態において、例えば以下に示すものの何れかのような多くの共通の条件をいずれかの組み合わせにおいて使用できる。或いは、本明細書又は請求項において別途記載する何れかの異なる条件も使用できる。

Ｉ．いずれかの実施形態の基板
Ｉ．Ａ．いずれかの実施形態の容器
容器は試料収集管、例えば採血管、又はシリンジ、又はシリンジの部分、例えばバレル又はピストン又はプランジャー；バイアル；導管；又はキュベットであることができる。基板は閉末端の管、例えば医療用の試料収集管であることができる。基板は内腔を有する容器の側壁であることができ、内腔は０．５〜５０ｍＬ、場合により１〜１０ｍＬ、場合により０．５〜５ｍＬ、場合により１〜３ｍＬの空隙容積を有する。基板表面は少なくとも１種の開口部及び内面を有する容器の内面の部分又は全てであることができ、ここでガス状の反応体が容器の内側の内腔に充満し、そしてプラズマが容器の内側の内腔の部分又は全てにおいて発生することができる。

Ｉ．Ｂ．シリンジ及び部品
基板シリンジバレルであることができる。シリンジバレルはプランジャースライド表面を有することができ、そして被覆材はプランジャースライド表面の少なくとも一部分に配置することができる。被覆材は潤滑層であることができる。潤滑層又は被覆材はバレル内面にあることができる。潤滑層又は被覆材はプランジャー上にあることができる。特定の態様において、基板はステーキドニードルシリンジ又はステーキドニードルシリンジの部品である。

Ｉ．Ｃ．ストッパーを収受する容器
基板は容器の口部中のストッパー収受面であることができる。基板は一般的にストッパーを収受するように適合された容器の開口部の円筒状の円錐又は円筒状の内面であることができる。

Ｉ．Ｄ．ストッパー
基板はストッパーのスライド面であることができる。基板は単一の実質的に真空にされた容器中に所在するストッパー多数を与えることにより被覆されることができる。化学蒸着プラズマ−促進化学蒸着であることができ、そしてストッパーはプラズマと接触させることができる。化学蒸着はプラズマ−促進化学蒸着であることができる。プラズマはストッパーの上流で形成して、プラズマ製品を生産することができ、そしてプラズマ製品をストッパーと接触させることができる。

閉包部は被覆材でコーティングされた基板、場合により潤滑層で被覆されたストッパーを画定することができる。基板は内腔を画定する容器中に装填された閉包部であることができ、そして、内腔に面している閉包部の表面は被覆材で被覆されることができる。

被覆材は容器の内腔の中へのストッパーの金属イオン成分の透過を低減するために有効である場合がある。

I.E．いずれかの実施形態の基板
基板は容器壁であることができる。閉包部の壁接触内面と接触している容器壁の一部分を被覆材で被覆することができる。被覆材は第１及び第２の層を有する素材のコンポジットであることができる。第１の層又は被覆材はエラストマーストッパーと界面接触していることができる。被覆材の第１の層は容器内腔へのストッパーの構成成分１つ以上の透過を低減するために有効である。第２の層又は被覆材は容器の内壁と界面接触していることができる。被覆材の第２の層は容器上にストッパーを装填することができる場合に、ストッパーと容器内壁の間の摩擦を低減するために有効である場合がある。

或いは、何れかの実施形態の第１及び第２の層は炭素及び水素を含有する累遷特性の被覆材により画定されることができ、その場合、炭素及び水素の割合は、第２の層よりも第１の層又は被覆材において高値となる。

何れかの実施形態の被覆材はプラズマ促進化学蒸着により塗布できる。

何れかの実施形態の基板は、ガラス、或いは重合体、或いはポリカーボネート重合体、或いはオレフィン重合体、或いは環状オレフィン共重合体、或いはポリプロピレン重合体、或いはポリエステル重合体、或いはポリエチレンテレフタレート重合体、或いはポリエチレンナフタレート重合体、或いは上記素材の何れかの２種以上の組み合わせ、複合体又は混合物を含むことができる。

ＩＩ．何れかの実施形態のガス状反応体又は処理ガスの制限
ＩＩ．Ａ．何れかの実施形態の堆積条件
ＰＥＣＶＤのためのプラズマは、使用する場合、減圧下に発生させることができ、そして減圧は３００ミリトール未満、場合により２００ミリトール未満、更に場合により１００ミリトール未満であることができる。被覆材の物理的及び化学的な特性は、ガス状反応体中での有機ケイ素前駆体に対するＯ₂の比を設定することにより、及び／又は、プラズマを発生させるために使用される電力を設定することにより、設定することができる。

ＩＩ．Ｃ．何れかの実施形態の前駆体
有機ケイ素前駆体は本明細書に別途説明されている。

有機ケイ素化合物は、特定の態様において、特に潤滑性被覆材を形成する場合は、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）を含むことができる。該特定の態様の何れかの実施形態に関する有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサン(ＯＭＣＴＳ)より本質的になることができる。有機ケイ素化合物は特定の態様において、特に遮断性被覆材を形成する場合は、ヘキサメチルジシロキサンであるか、それを含むことができる。

反応ガスはまた炭化水素を包含することができる。炭化水素はメタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、又はこれらの２種以上の組み合わせを含むことができる。

有機ケイ素前駆体は６ｓｃｃｍ以下、場合により２．５ｓｃｃｍ以下、場合により１．５ｓｃｃｍ以下、場合により１．２５ｓｃｃｍ以下の比率で供給されることができる。より大型の容器又は条件又はのその他の変化は、ある程度の前駆体を必要としてよい。前駆体は１トール未満の絶対圧で与えることができる。

ＩＩ．Ｄ．いずれかの実施形態の搬送ガス
搬送ガスは不活性ガス、例えば、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、堆積条件下で処理ガスの他の成分に対して不活性である他のガス、又はこれらの２種以上の何れかの組み合わせを含むか、これよりなることができる。

ＩＩ．Ｅ．いずれかの実施形態の酸化ガス
酸化ガスは酸素（Ｏ₂及び／又はＯ₃（一般的にはオゾンとして知られている））、亜硝酸ガス、又は使用条件においてＰＥＣＶＤの間に前駆体を酸化させる何れかの他のガスを含むか、それよりなることができる。酸化ガスは約１標準堆積の酸素を含む。ガス状反応体又は処理ガスは少なくとも実質的に窒素非含有であることができる。

ＩＩＩ．何れかの実施形態のプラズマ
何れかのＰＥＣＶＤ実施形態のプラズマは基板の近接部において形成できる。プラズマは特定の例において、特にＳｉＯ_x被覆材を調製する場合は、非中空カソードプラズマであることができる。他の特定の例において、特に潤滑性被覆材を調製する場合は、非中空カソードプラズマは望ましくない。プラズマは減圧下にガス状反応体から形成できる。基板上の被覆材形成を誘導するために十分なプラズマ発生電力入力を与えることができる。

ＩＶ．いずれかの実施形態のＲＦ電力
前駆体は１０ｋＨｚ〜２．４５ＧＨｚ、或いは約１３〜約１４ＭＨｚの周波数で電力を与えられた電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。

前駆体は場合により１０ｋＨｚ〜３００ＭＨｚ未満、場合により１〜５０ＭＨｚ、更に場合により１０〜１５ＭＨｚ、場合により１３．５６ＭＨｚの周波数の高周波で電力を与えられた電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。

前駆体は０．１〜２５Ｗ、場合により１〜２２Ｗ、場合により１〜１０Ｗ、更に場合により１〜５Ｗ、場合により２〜４Ｗ、例えば３Ｗ、場合により３〜１７Ｗ、更に場合により５〜１４Ｗ、例えば６又は７．５Ｗ、場合により７〜１１Ｗ、例えば８Ｗの電力を供給された電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。

前駆体は１０Ｗ／ｍｌ未満のプラズマ量、或いは６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、或いは５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、或いは４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、或いは２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌのプラズマ量の電力密度を供給された電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。

プラズマは電磁気エネルギー、或いはマイクロ波エネルギーで反応混合物を励起することにより形成することができる。

V．いずれかの実施形態の他の工程選択肢
基板に被覆材を適用する適用手順は前駆体を気化させること、及び、それを基板の近接部に提供することにより行える。

使用する化学蒸着はＰＥＣＶＤであり、そして堆積時間は１〜３０秒、或いは２〜１０秒、或いは３〜９秒であることができる。場合により堆積時間を制限する目的は基板の過熱防止、製造率の上昇、及び処理ガスとその成分の使用の低減であることができる。場合により堆積時間を延長する目的は特定の堆積条件に対してより厚い被覆材を提供することであることができる。

ＶＩ．いずれかの実施形態の被覆材特性
ＶＩ．Ａ．いずれかの実施形態の潤滑性特性
本発明による潤滑性被覆材を用いた容器（例えば、シリンジバレル及び／又はプランジャー）被覆は非被覆容器よりも高値の潤滑性（例えばＦｉ及び／又はＦｍを測定することにより調べる）を有する。それらはまた本明細書に記載したＳｉＯ_x被覆材で被覆した容器よりも高値の潤滑性を有する。実施形態は未処理基板よりも低値のスライド力又は起動力（又は場合により両方）を有する基板の潤滑性表面を形成するために有効な条件下に実施できる。場合により、素材及び条件は、非被覆シリンジバレルと相対比較して少なくとも２５パーセント、或いは少なくとも４５パーセント、或いは少なくとも６０パーセント、或いは６０パーセント超、スライド力又は起動力を低減するために有効であることができる。別様に表現すれば、被覆材は被覆表面よりも低値の摩擦抵抗を有することができ、その場合、摩擦抵抗は被覆表面と比較して場合により少なくとも２５％、場合により少なくとも４５％、更に場合により少なくとも６０％まで低減できる。

ブレイクルース力（Ｆｉ）及びグライド力（Ｆｍ）は潤滑性被覆材の有効性に関する重要な性能尺度である。Ｆｉ及びＦｍに関しては、低値であるが、低すぎない値を有することが望ましい。低すぎるレベルの抵抗（究極はゼロ）を意味する低すぎるＦｉの場合、早期／意図しない流動が生じる場合があり、これは、例えば充填済みシリンジの内容物の意図せぬ早期熟成又は制御不能な排出をもたらす場合がある。

十分な潤滑性を達成するため（例えばシリンジプランジャーがシリンジ内で移動できることを確保するが、プランジャーの非制御移動を回避するため）には、以下の範囲のＦｉ及びＦｍを好都合に維持すべきである。
Ｆｉ：２．５〜５ｌｂｓ．、好ましくは２．７〜４．９ｌｂｓ．、特に２．９〜４．７ｌｂｓ．；
Ｆｍ：２．５〜８．０ｌｂｓ．、好ましくは３．３〜７．６ｌｂｓ．、特に３．３〜４ｌｂｓ。

更に好都合なＦｉ及びＦｍ値は実施例の表中に記載する。

潤滑性被覆材は場合によりブレイクルース力（Ｆｉ）及びグライド力（Ｆｍ）の間の差を低減する一貫したプランジャー力を与える。

ＶＩ．Ｂ．何れかの実施形態の疎水特性
実施形態は基板上に疎水性層又は被覆材を形成するために有効な条件下で実施できる。場合により、被覆材の疎水特性はガス状反応体中の有機ケイ素前駆体に対するＯ₂の比を設定することにより、及び／又は、プラズマを発生させるために使用する電力を設定することにより設定できる。場合により、被覆材は非被覆表面よりも低値の湿潤張力、場合により２０〜７２ダイン／ｃｍ、場合により３０〜６０ダイン／ｃｍ、場合により３０〜４０ダイン／ｃｍ、場合により３４ダイン／ｃｍの湿潤張力を有することができる。場合により、被覆材は非被覆表面よりも更に疎水性であることができる。

ＶＩ．Ｃ．何れかの実施形態の層厚
場合により、被覆材は本開示に記載した何れかの量の透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）測定値としての層厚を有することができる。

本明細書に記載した潤滑性被覆材に関しては、記載した層厚範囲は代表的な平均層厚であるが、それは特定の粗度が潤滑性被覆材の潤滑特性を増強する場合があるためである。即ち、潤滑性被覆材の層厚は好都合には被覆材全体に渡って均一ではない（上記参照）。しかしながら、均一な暑さの潤滑性被覆材もまた考えられる。単一の測定における絶対的な潤滑性被覆材の層厚は平均層厚の範囲限度よりも高値又は低値であることができ、最大の偏差は平均層厚から好ましくは±５０％、より好ましくは±２５％、そして更により好ましくは±１５％である。しかしながら、それは典型的には本明細書における平均層厚に対して示された層厚範囲内で変動する。

ＶＩ．Ｄ．何れかの実施形態の組成
場合により、潤滑性被覆材はＳｉ_wＯ_xＣ_yＨ_z又はＳｉ_wＮ_xＣ_yＨ_zを有することができる。それは一般的に原子比Ｓｉ_wＯ_xＣ_yを有し、式中、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、好ましくはｗは１であり、ｘは約０．５〜１．５であり、そしてｙは０．９〜２．０であり、より好ましくはｗは１であり、ｘは０．７〜１．２そしてｙは０．９〜２．０である。原子比はＸＰＳ（Ｘ線光電子顕微鏡観察）により測定できる。Ｈ原子を考慮すれば、被覆材は即ち１態様においては式Ｓｉ_wＯ_xＣ_yＨ_zを有し、式中例えば、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、そしてｚは約２〜約９である。典型的には、原子比は本発明の特定の被覆材においてはＳｉ＝１００：Ｏ＝８０〜１１０：Ｃ＝１００〜１５０である。特に、原子比はＳｉ＝１００：Ｏ＝９２〜１０７：Ｃ＝１１６〜１３３であってよく、そしてそのためそのような被覆材は１００％炭素＋酸素＋ケイ素に対して標準化した場合に３６％〜４１％の炭素を含有する。

或いは、ｗは１であることができ、ｘは約０．５〜１．５であることができ、ｙは約２〜約３であることができ、そしてｚは６〜約９であることができる。或いは、被覆材はＸ線光電子顕微鏡観察（ＸＰＳ）で測定した場合の１００％炭素、酸素及びケイ素に標準化した原子濃度として、炭素５０％未満及びケイ素２５％超を有することができる。或いは原子濃度は炭素２５〜４５％、ケイ素２５〜６５％、及び酸素１０〜３５％である。或いは原子濃度は炭素３０〜４０％、ケイ素３２〜５２％、及び酸素２０〜２７％である。或いは原子濃度は炭素３３〜３７％、ケイ素３７〜４７％、及び酸素２２〜２６％である。

場合により、Ｘ線光電子顕微鏡観察（ＸＰＳ）で測定した場合の１００％炭素、酸素及びケイ素に標準化した炭素の原子濃度は、有機ケイ素前駆体の原子式における炭素の原子濃度より高値であることができる。例えば、炭素原子の原子濃度が１〜８０原子パーセント、或いは１０〜７０原子パーセント、或いは２０〜６０原子パーセント、或いは３０〜５０原子パーセント、或いは３５〜４５原子パーセント、或いは３７〜４１原子パーセント増加する実施形態が考えられる。

場合により、被覆材中の酸素に対する炭素の原子比は有機ケイ素前駆体と比較して増加することができ、及び／又は、ケイ素に対する酸素の原子比は有機ケイ素前駆体と比較して減少することができる。

場合により、被覆材は供給ガスの原子式におけるケイ素の原子濃度より低値の、Ｘ線光電子顕微鏡観察（ＸＰＳ）で測定した場合の１００％炭素、酸素及びケイ素に標準化したケイ素の原子濃度はを有することができる。例えば、ケイ素の原子濃度が１〜８０原子パーセント、或いは１０〜７０原子パーセント、或いは２０〜６０原子パーセント、或いは３０〜５５原子パーセント、或いは４０〜５０原子パーセント、或いは４２〜４６原子パーセント減少する実施形態が考えられる。

別の選択肢として、有機ケイ素前駆体の総和式と比較して原子比Ｃ：Ｏが増加、及び／又は原子比Ｓｉ：Ｏが減少することができる総和式を特徴とする被覆材が考えられる。

ＶＩ．Ｅ．いずれかの実施形態のガス放出種
有機ケイ素前駆体から作成された被覆材、例えば、本明細書に記載した潤滑性又はＳｉＯ_x遮断性被覆材はガスクロマトグラフィー／質量スペクトルにより測定した場合に反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ−部分を含有するオリゴマー１つ以上を放出ガス成分として有することができる。被覆材放出ガス成分はガスクロマトグラフィー／質量スペクトルにより測定できる。例えば、被覆材放出ガス成分は下記の試験条件を用いて測定した場合に反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ−部分を含有するオリゴマーを少なくとも１０ｎｇ／試験、或いは、反復−（Ｍｅ）₂ＳｉＯ−部分を含有するオリゴマーを少なくとも２０ｎｇ／試験、有することができる。
・ＧＣカラム：３０ｍ×０．２５ｍｍＤＢ−５ＭＳ（Ｊ＆ＷＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），０．２５μｍ膜厚
・流速１．０ｍｌ／分、一定流動モード
・検出器：質量選択検出器（ＭＳＤ）
・インジェクションモード：スプリットインジェクション（１０：１スプリット比）
・ガス放出条件：１ 1/2”（３７ｍｍ）チャンバ、８５℃で３時間パージ、流量６０ｍｌ／分
・オーブン温度：上昇速度１０℃／分で４０℃（５分）〜３００℃；３００℃で５分保持。

場合により、潤滑性被覆材はトリメチルシラノールを少なくとも実質的に非含有の放出ガス成分を有することができる。

ＶＩ．Ｅ．いずれかの実施形態の他の被覆材特性
被覆材はＸ線反射（ＸＲＲ）で測定した場合、１．２５〜１．６５ｇ／ｃｍ³、或いは１．３５〜１．５５ｇ／ｃｍ³、或いは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ³、或いは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ³、或いは１．４４〜１．４８ｇ／ｃｍ³の密度を有することができる。場合により、有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンであることができ、そして被覆材は同じＰＥＣＶＤ反応条件下に有機ケイ素化合物としてのＨＭＤＳＯから作成した被覆材の密度よりも高値であることができる密度を有することができる。

被覆材は場合により被覆材と接触している化合物又は組成物の成分の沈殿を防止又は低減することができ、特に、前駆体としてＨＭＤＳＯを使用しながら非被覆表面及び／又は遮断性被覆表面と比較してインスリンの沈殿又は血液の凝固を防止又は低減することができる。

基板は非被覆基板の表面の機械的及び／又は化学的な作用に対向して被覆容器中に含有又は収受された化合物又は組成物を保護するための容器であることができる。

基板は容器の内面と接触している化合物又は組成物成分の沈殿及び／又は凝固を防止又は低減するための容器であることができる。化合物又は組成物は生物学的に活性な化合物又は組成物、例えば医薬であることができ、例えば、化合物又は組成物はインスリンを含むことができ、その場合、インスリンの沈殿を低減又は防止できる。或いは、化合物又は組成物は生物学的な流体、例えば体液、例えば血液又は血液画分であることができ、その場合、凝血を低減又は防止できる。

管を形成、被覆及び試験するための基本プロトコル
後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って形成及び被覆された。以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメーター値（例えば電力、処理ガス流量、など）は一般値である。一般値と比較してパラメーター値が変更された場合はいつでも、後続実施例内において表示する。処理ガスの種類及び組成についても同様とする。

ＣＯＣ管を形成するためのプロトコル
一般に真空採血管（「ＣＯＣ管」）として使用される形状及びサイズの環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）管は、ドイツ、フランクフルトのＨｏｅｃｈｓｔ ＡＧが市販するＴｏｐａｓ（登録商標）８００７−０４環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）樹脂を原料に以下の寸法で射出成形した：長さ７５ｍｍ、外径１３ｍｍ、及び壁の厚さ０．８５ｍｍ、各容量は約７．２５ｃｍ³で丸みを帯びた閉口端を有する。

管内部をＳｉＯ_xで被覆するためのプロトコル
容器ホルダー５０は、米国デラウェア州ウィルミントンのＥ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．が市販するＤｅｌｒｉｎ（登録商標）アセタール樹脂を原料として、外径１．７５インチ（４４ｍｍ）及び高さ１．７５インチ（４４ｍｍ）で作成した。容器ホルダー５０は、機器の電極（１６０）への出入りを可能とするＤｅｌｒｉｎＲ構造内に格納した。

電極１６０は、銅及びＤｅｌｒｉｎ（登録商標）遮蔽体から作成した。Ｄｅｌｒｉｎ（登録商標）遮蔽体は、銅電極１６０の外部周辺に共形させた。電極１６０の寸法は、（内部）高さ約３インチ（７６ｍｍ）であり、幅は約０．７５インチ（１９ｍｍ）であった。

容器８０として使用した管を容器ホルダー５０底部へと挿入して、Ｖｉｔｏｎ（登録商標）オーリング４９０、５０４（Ｖｉｔｏｎ（登録商標）は米国デラウェア州ウィルミントンのＤｕｐｏｎｔ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ ＬＬＣの商標である）で管（図１１）の外部周辺を密閉した。管８０を、伸延された（定常の）１／８インチ（３ｍｍ）径真鍮プローブ又は対向電極１０８の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。

銅プラズマ遮蔽体６１０は、管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材（米国イリノイ州、シカゴのＫ＆Ｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、部品番号：ＬＸＭＵＷ５銅メッシュ）で、管挿入（図１１を参照）の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面４９４により所定の位置に固定した。銅メッシュ２枚を真鍮プローブ又は対向電極１０８の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。

真鍮プローブ又は対向電極１０８を管内部へと約７０ｍｍ伸延し、８０番ワイヤ（直径＝０．０１３５インチ又は０．３４３ｍｍ）を配列した。真鍮プローブ又は対向電極１０８を容器ホルダー５０下部にあるＳｗａｇｅｌｏｋ（登録商標）取付部（米国オハイオ州ソロンのＳｗａｇｅｌｏｋ Ｃｏ．が市販）を通して伸延し、容器ホルダー５０底部構造を通して伸延した。真鍮プローブ又は対向電極１０８を、ＲＦ一致ネットワークのケーシングへと接地した。

ガス供給ポート１１０は、管（４側面上の３つが互いに９０度に配向される）の長さに沿ったプローブ又は対向電極１０８における１２の孔、及びガス供給ポート１１０の端部に差し込まれるアルミニウム蓋における２つの孔であった。ガス供給ポート１１０を、真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計及びバイパス弁を内蔵するＳｗａｇｅｌｏｋ（登録商標）取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、ガスシステムをガス供給ポート１１０に接続して、処理ガス、酸素及びヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）がガス供給ポート１１０（処理圧力下で）を通り管内部に流入するようにした。

ガスシステムは、Ａａｌｂｏｒｇ（登録商標）ＧＦＣ１７質量流量計（部品番号：ＥＷ−３２６６１−３４、米国イリノイ州バーリントンのＣｏｌｅ−Ｐａｒｍｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏ．製）からなり、流量計は、酸素を７０ｓｃｃｍ（又は特定実施例で報告された特定流量）で処理及び長さ５２．５インチ（１．３３ｍ）のポリエーテルエーテルケトン（「ＰＥＥＫ」）キャピラリー（外径１／１６インチ（１．５ｍｍ）、内径０．００４インチ（０．１ｍｍ））に制御可能に流入させるためのものであった。ＰＥＥＫキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン（「ＨＭＤＳＯ」、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ(登録商標)部品番号Ｌ１６９７０、ＮＭＲ、Ｇｒａｄｅ、ロンドンのＪｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ ＰＬＣ製）へと挿入した。流体ＨＭＤＳＯを、処理中の管内の低圧力により、キャピラリーを通して吸引した。ＨＭＤＳＯはその後、低圧力領域に到達した時点でキャピラリー終端で蒸気となった。ガス吸入圧力は７．２トールであった。

この点を超えた流体ＨＭＤＳＯの結露を防止するため、Ｓｗａｇｅｌｏｋ（登録商標）３方弁経由での処理のため管内部へと流入しないガス流（酸素を含む）を、ポンプラインへと迂回させた。管設置後に、真空ポンプ弁を容器ホルダー５０及び管内部へと開口した。

Ａｌｃａｔｅｌ回転翼真空ポンプ及びブロワーで、真空ポンプシステムを構成した。ポンプシステムは、処理ガスを表示率で流入しながら、管内部を２００ｍトール未満の圧力に低減することを可能とした。

底部真空レベル達成後に、容器ホルダー５０アセンブリを電極１６０アセンブリ内に移動した。ガス流（酸素及びＨＭＤＳＯ蒸気）を、真鍮ガス供給ポート１１０（３方弁をポンプラインからガス供給ポート１１０へと調整）に流入させた。管内の圧力は、真空を制御する弁に近接するポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ（ＭＫＳ）により測定される通り、約３００ｍトールであった。管圧力に加えて、ガス供給ポート１１０及びガスシステム内の圧力もまた、ガスシステムに接続される熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、８トール未満であった。

ガスを管内部に流入させた後に、ＲＦ電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ＥＮＩのＡＣＧ−６の６００ワットのＲＦ電力供給装置を、調整された約７０ワットの電力レベルにおいて（１３．５６ＭＨｚで）使用した。出力電力については、この／後述のすべてのプロトコル及び実施例において、被覆装置の作業中に電力供給装置のＲＦ出力に接続されたＢｉｒｄ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎモデル４３のＲＦ電力計を使用して、キャリブレートした。ＲＦ電力供給装置を、プラズマの複素インピーダンス（管において創出するため）を５０オームのＥＮＩのＡＣＧ−６ＲＦ電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、ＣＯＭＤＥＬ ＣＰＭＸ１０００自動整合装置に接続した。順方向電力は７０ワット（又は特定実施例で報告された特定値）及び反射電力は０ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。ＲＦ電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、電力をオンにする時間は６秒（又は特定実施例で報告された特定の期間）に設定した。ＲＦ電力を開始し、均一プラズマを管内部に定着させた。ＲＦ電力がタイマーにより遮断されるまで、プラズマを完全に６秒間保持した。プラズマにより、層厚約２０ｎｍの酸化ケイ素被覆材（又は特定実施例で報告された特定の層厚）を管表面内部に生成した。

被覆後に、ガス流入を真空管路へと戻し、真空弁を閉口した。通気弁をその後開口し、管内部を大気圧（約７６０トール）に戻した。管をその後、容器ホルダー５０アセンブリから（容器ホルダー５０アセンブリを電極１６０アセンブリから除去した後に）慎重に除去した。

ＣＯ₂を血液管に充填するためのプロトコル
ＣＯ₂を充填すべき管を上記容器ホルダー５０に搭載し、そして前記したＡｌｃａｔｅｌ回転羽根真空ポンプ及びブロワー（真空ポンプシステムを含む）及びＣＯ₂源に連結した。一部の例においては、後に示す通り、ＳｉＯ_x被覆材を適用し、そして処理ガスを除去した直後に被覆装置中でＣＯ₂充填を実施した。別の例においてはＳｉＯ_x被覆材を適用し、管を被覆装置から取り外し、そして後にＣＯ₂充填装置上に搭載した。

上記説明したＣＯ₂充填の何れかの型において、真空ポンプシステムを先ず使用することにより０．３〜１トールの圧力まで管を真空にした。処理ガスを真空化するために真空を３〜３０秒間維持した。次に真空化された管に２５ｐｓｉ（１２３０トール）絶対圧まで加圧されたＣＯ₂を充填し、１〜１４分間、又は実動実施例において別様に示す時間、その圧力で維持した。充填した管を次に後述するプロトコルにおいて記載したガス放出測定装置に移した。

ガス放出測定のためのプロトコル
ＶＩ．Ｂ．米国特許６，５８４，８２８号の図１５を適合させた本図７は、微小流量技術測定セル（通常３６２）の上流端部に密閉部３６０を用いて装填済みのＣＯＣ管を形成するためのプロトコルに従って作成したＣＯＣ管３５８の壁３４６の内部上に、管内部をＳｉＯ_xで被覆すためのプロトコルに従って塗布したＳｉＯ_x遮断性被覆材３４８を通る、ガス放出を測定する実施例で使用した試験設定の概略図である。

ＶＩ．Ｂ．真空ポンプ３６４を市販の測定セル３６２（漏出試験機器モデルＭＥ２搭載型Ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｔ Ｇａｓ Ｌｅａｋ Ｓｙｓｔｅｍ、第２世代ＩＭＦＳセンサー（全範囲は特定の例において示されるとおり、２又は１４μ／分）付き、絶対圧センサー範囲：０〜１０トール、流量測定不確実性：測定値の＋／− ５％、キャリブレートする範囲において、（ＰＣによる）自動データ取得及び時間比漏出流量の痕跡／プロットのためのＬｅａｋ−Ｔｅｋプログラムを利用。本装置はＡＴＣ Ｉｎｃが提供。）の下流端部に接続した。また、その壁から容器３５８へと放出される蒸気の質量流量率を判定するため、容器３５８の内部から矢印の方向に測定セル３６２を通ってガスを吸入するよう設定した。

ＶＩ．Ｂ．本明細書で概略的に示し記述する測定セル３６２は、実質上以下のように動作すると解釈した。ただし本情報は、実際に使用した装置の動作からある程度逸脱する可能性があり、そしてモデル数によりプロトコル中でより特定的に識別される。函３６２は、ガス放出が流れる方向に走る円錐経路３６８を有する。圧力を、経路３６８に沿って縦方向に配置される２つの横向内径３７０及び３７２において適用し、順にチャンバ３７４及び３７６（一部隔膜３７８及び３８０により形成される）へと供給した。各チャンバ３７４及び３７６に蓄積された圧力は、各隔膜３７８及び３８０を偏向させる。偏向は適切な方法で測定され、例えば隔膜３７８及び３８０の導電性表面と近接する導電性表面３８２及び３８４などとの間のキャパシタンスにおける変動を測定する。バイパス３８６を場合により提供して、試験実施における所望の真空レベルが達成されるまで測定セル３６２をバイパスすることにより、初期ポンプダウンを高速化可能である。

ＶＩ．Ｂ．本試験で使用した容器のＣＯＣ壁３５０の厚さは０．８５ｍｍで、被覆材３４８の層厚は約２０ｎｍ（ナノメートル）であった。したがって、壁３５０の対被覆材３４８厚さ比は約５０，０００：１であった。

ＶＩ．Ｂ．容器密閉部３６０を含む測定セル３６２を通す流量を判定するため、実質上容器３５８と同一サイズ・同一構造であるガラス容器を連続的に容器密部３６０上に装填し、１トールの内部圧力へとポンプダウンし、その後、測定セル３６２に関してキャパシタンスデータを収集して「ガス放出」流量へと変換した。試験を、各容器について２回実施した。第１実行の後に、真空を窒素を用いて解除し、追加的実行があればそれに進む前に容器に平衡となるための回復時間を与えた。ガラス容器はほとんどガス放出せず本質的にその壁は不浸透性であると考えられているため、本測定の少なくともほとんどは、容器の漏出量及び測定セル３６２との関連の目安であるといえる。また、正確なガス放出又は透過（ある場合）はほとんど反映されない。

ＶＩ．Ｂ．
特定の実施例のガス放出結果を示すために提示されたプロットとデータ表の群は個々の管の分当たりのマイクログラムとしても「ガス放出」流速を示している。一部の流速は漏出に起因する。表中の数値としての流速データポイントは特定の試験時間のものとして報告している（ＡＴＣ上の試験辺りの分数）。

実動実施例
実施例はＥＰ２２５１６７１Ａ２のガス放出を参照する実施例、特に、実施例８、実施例１６、実施例１９及びＥＰ２２５１６７１Ａ２のこれらの実施例が参照している図面及び表を包含するものと理解しなければならない。

実施例１
ＣＯ₂充填非被覆ＣＯＣ管上のガス放出測定
ＶＩ．Ｂ．本初期試験はＣＯ₂ガスをそのＣＯＣに充填することによりそのＡＴＣガス放出流速を実質的に増大できるかどうかを調べるために実施した。３０個の非被覆ＣＯＣ管をＣＯＣ管形成に関するプロトコルに従って作成した。ＣＯ₂充填前、ガス放出を試験するためのプロトコルに従ってガス放出に関して管を試験した。流速は１４μｇ／分のセンサーによりＡＴＣを用いて測定した。ＣＯ₂充填の前のＡＴＣ流速を表Ａに示す。この測定を各管に対して実施した後、同じ管に、１０分間のＣＯ₂充填時間を用いながらＣＯ₂を血液管に充填するためのプロトコルに従ってＣＯ₂を充填した。流速を同じ方法で再度測定し、そして結果を再度表Ａに報告する。

表Ａを参照すれば、ＣＯ₂充填前のＣＯＣ管の平均ガス放出流速は分当たり１．４３マイクログラムであった。ＣＯ₂充填後のＣＯＣ管の平均ガス放出流速は分当たり３．４８マイクログラムであった。この結果はＡＴＣガス放出測定を実質的に促進するために十分な量で非被覆管上にＣＯ₂が吸着できたことを示している。

実施例２
ＣＯ₂充填時間ｖｓガス放出速度
本実施例においてはＣＯ₂充填時間の長さを変化させることによりガス放出に対するその作用を示した。ＡＴＣ試験時間もまた５分間まで延長されており、そのため本試験の結果は実施例１のものとは直接比較されない。試験はその他の点に関しては実施例１の「ＣＯ₂充填後」と同様に実施した。

結果は表Ｂに示す通りであり、これは充填時間の増大に従ってガス放出流速も増大することを示しているが、重点の分辺りの流速の増大は充填時間が延長されるに従って小さくなっている。

実施例３
二酸化炭素（ＣＯ₂）パージによる非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離
１０個の非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）１３ｘ７５ｍｍ（０．８５ｍｍ厚）射出成形管を個々にプラズマ被覆材装置上で２５ｐｓｉの二酸化炭素（ＣＯ₂）圧下に１２分間加圧した。ＳｉＯ_x被覆はプロトコルに記載したプラズマ被覆装置上で実施した。ＳｉＯ_x被覆管被覆後、ＣＯ₂加圧前に周囲温度にまで放冷し; 標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いたＣＯ₂圧力シリンダーによるＣＯ₂加圧を可能にし;管はＣＯ₂加圧直後に評価した。

ＣＯ₂加圧の後、前記した分析条件の下に０〜１４マイクログラム／リットル（μｇ／Ｌ）微小流動範囲ＡＴＣ機で管を分析した。１０平均読み取り値の結果（表Ｃ）は４μｇ／Ｌ単位超の優れた分離を非被覆及びＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ管の間で示した。比較のため、ＣＯ₂加圧非存在下では、（ａ）微小流動値は非被覆及び被覆管の両方で低値（１．２５〜２．００μｇ／Ｌ）であり、そして（ｂ）非被覆及びＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ管の間の分離は達成されていない。

実施例４
二酸化炭素（ＣＯ₂）パージによる非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体の迅速な６シグマ微小流動分離
１０個の非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）13x75 mm (0.85mm厚）射出成形管を個々にプラズマ被覆材装置上で25ｐｓｉの二酸化炭素（ＣＯ₂）圧下に１２分間加圧した。ＳｉＯ_x被覆は前記プラズマ被覆装置上で実施した。ＳｉＯ_x被覆管被覆後、周囲温度にまで放冷した後にＣＯ₂加圧を行い; 標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いたＣＯ₂圧力シリンダーによるＣＯ₂加圧を可能にし;管はＣＯ₂加圧直後に評価した。

ＣＯ₂加圧の後、前記した分析条件の下に０〜１４マイクログラム／リットル（μｇ／Ｌ）微小流動範囲ＡＴＣ機で管を分析した。各管に関する微小流動データは０．３秒ごとに収集した。

データ分析：

統計学的有意性を達成するために、非被覆及びＳｉＯ_x被覆微小流動速度の間の６シグマ分離、平均非被覆管微小流動 (−３標準偏差)は平均ＳｉＯ_x被覆管微小流動 (＋３標準偏差）より高値であることを必要とした。この条件は表Ｅに示す通り、測定開始後、０．９６〜１．２９秒で達成される。

実施例５
真空下／加圧工程による二酸化炭素注入又は充填
圧力容器に数個の非被覆及びＳｉＯ_x−プラズマ被覆ＣＯＣ１３ｘ７５ｍｍ管を入れた。容器を３０分間１トールにまで真空化し; その後３０分間二酸化炭素シリンダーから３〜１０ｐｓｉｇに加圧した。次に管を実施例１に記載の条件下でＡＴＣ微小流動機により評価する。非被覆及びプラズマ被覆ＣＯＣ管の間で観察された微小流動の判別性は非被覆及びＳｉＯ_x被覆PET管(図８及び図９)で観察されたものに匹敵し、そしてパージガスとして窒素を用いた場合よりはるかに良好である。

実施例６
加圧工程による二酸化炭素注入又は充填
管を加圧チャンバ中に搭載し、そして７５ｐｓｉ及び２３℃で１．５時間ＣＯ₂ガスで加圧した。ＡＴＣ装置上、上記条件を用いて管を測定した。管は被覆及び非被覆８００７ＣＯＣ１３ｘ７５ｍｍ管の間で良好な分離を示した。

実施例７
アルゴン（Ａｒ）パージによる非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離
１０個の非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）１３ｘ７５（０．８５ｍｍ厚）射出成形管を個々にプラズマ被覆装置上で２５ｐｓｉアルゴン（Ａｒ）圧下に１２分間加圧した。ＳｉＯ_x被覆は前記のプラズマ被覆装置上で実施し；ＳｉＯ_x被覆管は被覆後に周囲温度にまで戻した後、Ａｒ加圧し；標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いながらＡｒ加圧シリンダーによりＡｒ加圧を行ない；Ａｒ加圧直後に管を評価した。

Ａｒ加圧後、前記した分析条件の下に０〜１４マイクログラム／リットル（μｇ／Ｌ）微小流動範囲ＡＴＣ機で管を分析した。１０平均読み取り値の結果（表Ｆ）は非被覆及びＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ管の間で１μｇ／Ｌ単位超の良好な分離を示している。

実施例8
窒素（Ｎ₂）パージによる非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離
１０個の非被覆及びＳｉＯ_x被覆環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）１３ｘ７５（０．８５ｍｍ厚）射出成形管を個々にプラズマ被覆装置上で２５ｐｓｉ窒素（Ｎ₂）圧下に１２分間加圧した。ＳｉＯ_x被覆は前記のプラズマ被覆装置上で実施し；ＳｉＯ_x被覆管は被覆後に周囲温度にまで戻した後、Ｎ₂加圧し；標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いながらＮ₂加圧シリンダーによりＮ₂加圧を行ない；Ｎ₂加圧直後に管を評価した。

Ｎ₂加圧後、前記した分析条件の下に０〜１４マイクログラム／リットル（μｇ／Ｌ）微小流動範囲ＡＴＣ機で管を分析した。１０平均読み取り値の結果（表Ｇ）は非被覆及びＳｉＯ_x被覆ＣＯＣ管の間の良好な分離を示している。

実施例９
微小流動測定におけるＣＯ₂パージガス
本実施例は１秒もの短いＣＯ₂充填時間を用いてガス放出検出結果を向上させることができることを示している。それぞれＣＯＣ８００７及びＣＯＣ６０１５から作成した非被覆のＣＯＣ容器を図２のものと同様の装置中で真空化し、次に１秒間窒素ガス又は二酸化炭素でパージすることにより真空を破壊した。次に図７に示す機器を用いて管のガス放出を測定した。窒素を置きかえる二酸化炭素のパージ時間１秒で、非被覆ＣＯＣ射出成形１３ｘ７５管（表Ｉ）に関して増大した微小流動増幅シグナルがもたらされた。

実施例10
追加的微小流動測定
圧力容器中に数点の非被覆及びＳｉＯ_x−プラズマ被覆ＣＯＣ１３ｘ７５ｍｍ管を入れた。容器を３０分間１トールにまで真空化し，その後３０分間二酸化炭素シリンダーから３〜１０ｐｓｉｇに加圧した。次に管を図７に示す機器で評価した。図１９から明らかな通り、非被覆及びプラズマ被覆ＣＯＣ管の間で観察された微小流動の判別性は非被覆及びＳｉＯ_x被覆PET管(ＥＰ２２５１６７１Ａ２の図８及び図９と同一である本出願の図８及び図９)で観察されたものに匹敵し、そしてパージガスとして窒素を用いた場合よりはるかに良好である。

本発明を図面及び以上の記述において詳細に図示及び説明してきたが、かかる図解及び説明は実例的又は模範的と見なされるべきであり、制限的と見なされるべきではない。本発明は開示された実施形態に制限されるものではない。開示された実施形態のその他の変型が、図面、開示、及び添付請求項を研究することから、当技術分野の当事者により及び請求発明の実行により、理解されもたらされる可能性がある。請求項において、用語「からなる」はその他の要素又は手順が含まれる場合があり、単数形物質は複数である場合がある。相互に異なり依存する請求項に特定の測定値が列挙されるという単なる事実は、これらの測定の組合せを利益を得るために使用不可であることを示すものではない。請求項の引用符号は、範囲を制限すると解釈されるべきではない。

20 容器処理システム
22 射出成形機
24 目視検査ステーション
26 検査ステーション（被覆前）
28 被覆ステーション
30 検査ステーション（被覆後）
32 光学供給源透過ステーション（層厚）
34 光学供給源透過ステーション（欠陥）
36 出力
38 容器ホルダー
40 容器ホルダー
42 容器ホルダー
44 容器ホルダー
46 容器ホルダー
48 容器ホルダー
50 容器ホルダー
52 容器ホルダー
54 容器ホルダー
56 容器ホルダー
58 容器ホルダー
60 容器ホルダー
62 容器ホルダー
64 容器ホルダー
66 容器ホルダー
68 容器ホルダー
70 コンベヤー
72 搬送機構（オン）
74 搬送機構（オフ）
80 容器
82 開口部
84 閉口端
86 壁
88 内面
90 遮断層
92 容器ポート
94 真空ダクト
96 真空ポート
98 真空源
100 （９２の）オーリング
102 （９６の）オーリング
104 ガス吸入ポート
106 （１００の）オーリング
108 プローブ（対向電極）
110 （１０８の）ガス供給ポート
112 容器ホルダー（図３）
114 （５０又は１１２の）筐体
116 カラー
118 （８０の）外面
120 容器ホルダー（配列）
122 容器ポート（図１４）
130 フレーム（図５）
132 光源
134 サイドチャンネル
136 遮断弁
138 プローブポート
140 真空ポート
142 ＰＥＣＶＤガス吸入ポート
144 ＰＥＣＶＤガス源
146 （９８の）真空管路
148 遮断弁
150 （１３４の）たわみ管路
152 圧力計
154 容器８０の内部
160 電極
162 電力供給装置
164 （１６０の）側壁
166 （１６０の）側壁
168 （１６０の）閉口端
170 光源（図１０）
172 検出器
174 （１７２の）画素
176 （１７２の）内面
182 （１８６の）アパーチャ
184 （１８６の）壁
186 積分球
190 マイクロ波電力供給装置
192 導波管
194 マイクロ波空洞部
196 ギャップ
198 （１９４の）上端部
200 電極
202 管搬送
204 吸着カップ
208 モールド核
210 モールド空洞部
212 モールド空洞部ライナー
220 支持面（図２）
222 支持面（図２）
224 支持面（図２）
226 支持面（図２）
228 支持面（図２）
230 支持面（図２）
232 支持面（図２）
234 支持面（図２）
236 支持面（図２）
238 支持面（図２）
240 支持面（図２）
250 シリンジバレル
252 シリンジ
254 （２５０の）内面
256 （２５０の）後端部
258 （２５２の）プランジャー
260 （２５０の）前端部
262 蓋
264 （２６２の）内面
266 取付部
268 容器
270 閉包部
272 表面向き内面
274 内腔
276 壁−接触内面
278 （２８０の）内面
280 容器壁
282 ストッパー
284 遮蔽体
286 潤滑層
288 遮断層
290 被覆装置、例えば、２５０
292 （２９４の）内面
294 （２５０の）制限的開口部
296 処理容器
298 （２５０の）外面
300 （２５０の）内腔
302 （２５０の）大開口部
304 処理容器内腔
306 処理容器開口部
308 内部電極
310 （３０８の）内部経路
312 （３０８の）近位端
314 （３０８の）遠位端
316 （３０８の）遠位開口部
318 プラズマ
320 容器支持体
322 （３２０の）ポート
324 処理容器（導管タイプ）
326 （３２４の）容器開口部
328 （３２４の）第２開口部
330 （３２８を収受する）真空ポート
332 第１取付部（雄ルアーテーパー）
334 第２取付部（雌ルアーテーパー）
336 （３３２の）ロックカラー
338 （３３２の）第１当接部
340 （３３２の）第２当接部
342 オーリング
344 ドッグ
346 壁
348 （３４６上の）被覆材
350 透過経路
352 真空
354 ガス分子
355 ガス分子
356 （３４６と３４８の間の）界面
357 ガス分子
358 ＰＥＴ容器
359 ガス分子
360 密閉部
362 測定セル
364 真空ポンプ
366 矢線
368 円錐経路
370 穿孔機
372 穿孔機
374 チャンバ
376 チャンバ
378 隔膜
380 隔膜
382 導電表面
384 導電表面
386 バイパス
390 プロット（ガラス管）
392 プロット（ＰＥＴ非被覆）
394 メインプロット（ＳｉＯ２被覆）
396 外座層（ＳｉＯ２被覆）
398 内部電極及びガス供給管
400 遠位開口部
402 突き出し対向電極
404 通気孔（図７）
406 弁
408 内壁（図１０）
410 外壁（図１０）
412 内面（図１０）
414 平板電極（図３７）
416 平板電極（図３７）
418 真空導管
420 容器ホルダー
422 真空チャンバ
424 容器ホルダー
426 対向電極
428 容器ホルダー（図３９）
430 電極アセンブリ
432 ４３０により封入される容量
434 圧力比例弁
436 真空チャンバ導管
438 シリンジバレル（図４２）
440 （４３８の）フランジ
442 （４３８の）後開口部
444 （４３８の）バレル壁
450 容器ホルダー（図４２）
452 溝付き釘縁
454 （４３８の）通常シリンダー状の側壁
456 （４５０の）通常シリンダー状の内面
458 当接部
460 ポケット部
462 オーリング
464 （４６０の）外壁
466 （４６０の）底壁
468 （４６０の）頂壁
470 内部電極（図４４）
472 （４７０の）遠位部
474 （４７２の）多孔性側壁
476 （４７２の）内部経路
478 （４７０の）近位部
480 （４７０の）遠位端
482 容器ホルダー本体
484 （４８２の）上部
486 （４８２の）基底部
488 （４８４と４８６の間の）結合部
490 オーリング
492 溝付き釘ポケット部
494 放射状に伸延する当接部表面
496 放射状に伸延する壁
498 ネジ
500 ネジ
502 容器ポート
504 第２オーリング
506 （４９０の）内径
508 （４８２の）真空ダクト
510 内部電極
512 内部電極
514 挿入及び除去機構
516 たわみホース
518 たわみホース
520 たわみホース
522 弁
524 弁
526 弁
528 電極浄化ステーション
530 内部電極駆動
532 浄化反応器
534 通気弁
536 第２把持部
538 コンベヤー
539 溶質保持部品
540 （５３２の）開口端
542 （５３２の）内腔
544 シリンジ
546 プランジャー
548 本体
550 バレル
552 （５５０の）内面
554 被覆材
556 ルアー取付部
558 ルアーテーパー
560 （５５８の）内部経路
562 内面
564 カップリング
566 （５６４の）雄部
568 （５６４の）雌部
570 遮断層
572 ロックカラー
574 メイン真空弁
576 真空管路
578 手動バイパス弁
580 バイパス管路
582 通気弁
584 メイン反応性ガス弁
586 メイン反応物供給管路
588 有機ケイ素流体貯留層
590 有機ケイ素供給管路（キャピラリー）
592 有機ケイ素遮断弁
594 酸素タンク
596 酸素供給管路
598 質量流速制御装置
600 酸素遮断弁
602 シリンジ外部遮断性被覆材
604 内腔
606 バレル外面
610 プラズマ遮蔽体
612 プラズマ遮蔽体空洞部
614 ヘッドスペース
616 圧力源
618 圧力管路
620 キャピラリー接続
630 非被覆ＣＯＣ用プロット
632 ＳｉＯｘ被覆ＣＯＣ用プロット
634 ガラス用プロット
5501 第１処理ステーション
5502 第２処理ステーション
5503 第３処理ステーション
5504 第４処理ステーション
5505 プロセッサ
5506 ユーザーインターフェース
5507 バス
5701 ＰＥＣＶＤ装置
5702 第１検出器
5703 第２検出器
5704 検出器
5705 検出器
5706 検出器
5707 検出器
7001 コンベヤー退出分岐部
7002 コンベヤー退出分岐部
7003 コンベヤー退出分岐部
7004 コンベヤー退出分岐部

Claims (32)

1. 被覆材を基板表面に塗布して被覆表面を形成する被覆処理製品の検査方法であって、前記方法は以下の手順からなる：
   （ａ）検査物体としての生成物の提供、
   （ｃ）前記被覆表面に隣接する気層へ検査物体から放出される少なくとも１種の揮発性種の測定、及び
   （ｄ）手順（ｃ）の結果と同一試験条件下での少なくとも１種の参照物体に関する手順（ｃ）の結果との比較、したがって前記被覆材の有無及び／又は前記被覆材の物理的及び／又は化学的性質の判定。
2. 前記被覆材の物理的及び／又は化学的性質が、遮断性、ぬれ張力、及び組成物からなる群から選択されて決定される、及び好ましくは遮断性である、請求項１に記載の方法。
3. 前記被覆表面に隣接する前期気層内の少なくとも１種の揮発性種の質量流速率又は体積流速率を測定することにより手順（ｃ）が実行される、請求項１又は２に記載の方法。
4. 以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法：
   （ｉ）前記参照物体が非被覆基板である、又は
   （ｉｉ）前記参照物体が参照被覆材で被覆された基板である。
5. 手順（ａ）と（ｃ）の間の追加手順として以下の手順を含む、前記いずれかの請求項に記載の方法：
   （ｂ）前期被覆表面を通して圧力差が提供される、及び、圧力差なしでより高い揮発性種の質量流速率又は体積流速率が実現される可能性があるといった、前期被覆表面に隣接する前記気層における気圧の変更。
6. 前記基板の前記被覆表面と真空源の間に介在する測定セルを利用して測定を実行する、請求項５に記載の方法。
7. 前記揮発性種が試験条件においてガス又は蒸気であり、好ましくは大気、窒素、酸素、二酸化炭素、希ガス、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基板成分、及びそれらの組み合わせからなる群から選択され、より好ましくは大気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気、又はそれらの組み合わせである、前記いずれかの請求項に記載の方法。
8. 前記検査物体の素材上又は内への前記揮発性種の吸着又は吸収を可能とするために前記検査物体が手順（ａ）において揮発性種、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、二酸化炭素、アルゴン及びそれらの組み合わせからなる群から選択される揮発性種に接触しており、その後の前記検査物体からの前記揮発性種の放出が測定された揮発性種の総放出の部分として手順（ｃ）において測定される、前記いずれかの請求項に記載の方法。
9. 複数の異なる揮発性種が手順（ｃ）で測定され、好ましくは前記検査物体から放出された実質上すべての揮発性種が手順（ｃ）で測定される、前記いずれかの請求項に記載の方法。
10. 前記基板がポリマー化合物であり、好ましくはポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、又はそれらの組み合わせである、前記いずれかの請求項に記載の方法。
11. 前記基板がＣＯＣである請求項１０記載の方法。
12. 前記揮発性種が二酸化炭素である請求項１１記載の方法。
13. 前記揮発性種がアルゴンである請求項１１記載の方法。
14. 前記基板がＰＥＴである請求項１０記載の方法。
15. 前記揮発性種が水である請求項１４記載の方法。
16. 前記被覆材が有機ケイ素前駆体からＰＥＣＶＤにより生成された被覆材である、前記いずれかの請求項に記載の方法。
17. 以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法：
    （ｉ）前記被覆材が遮断被覆材であり、好ましくはＳｉＯ_x層（ｘは約１．５〜約２．９）である、及び／又は
    （ｉｉ）前記被覆材が被覆基板の潤滑性及び／又は表面張力を変更する被覆であり、好ましくはＳｉｗＯｘＣｙＨｚ層（ｗは１、ｘは約０．５〜２．４、ｙは約０．６〜約３、ｚは２〜約９）である。
18. 前記揮発性種が前記被覆材から放出される揮発性種であり、好ましくは揮発性被覆材成分であり、前記検査は前記被覆材の有無、性質、及び／又は組成物を判定するために行なわれる、前記いずれかの請求項に記載の方法。
19. 前記揮発性種が前記基板から放出される揮発性種であり、前記検査は前記被覆材の有無及び／又は前記被覆材の遮断性を判定するために行われる、前記いずれかの請求項に記載の方法。
20. 前記基板は壁を有する容器であり、前記被覆処理中にその内面又は外面の少なくとも一部が被覆されており、好ましくは前記被覆材が前記容器壁の内面に付着される、前記いずれかの請求項に記載の方法。
21. 前記容器腔と外部との圧力差を確立して、前記被覆容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する、請求項２０に記載の方法。
22. 前記容器内の気層を少なくとも一部真空化することにより前記圧力差を達成する、請求項２０又は２１に記載の方法。
23. 前記被覆材の有無の判別、及び／又は前記被覆材の物理的及び／又は化学的性質の判定に有効な条件が、１時間未満、又は１分未満、又は５０秒未満、又は４０秒未満、又は３０秒未満、又は２０秒未満、又は１５秒未満、又は１０秒未満、又は８秒未満、又は６秒未満、又は４秒未満、又は３秒未満、又は２秒未満、又は１秒未満の試験期間を含む、前記いずれかの請求項に記載の方法。
24. 大気圧及び／又は温度及び／又は湿度を変更することで、前期揮発性種の放出率が変更され、その結果、前記放出率及び／又は前記測定された揮発性種の種類に関して参照物体と検査物体との差異が増大する、前記いずれかの請求項に記載の方法。
25. 前記方法を被覆材処理のインライン処理制御法として利用して、所定の基準に満たない被覆製品又は破損した被覆製品を同定して除去する、前記いずれかの請求項に記載の方法。
26. 前記被覆材が真空条件下で実行されるＰＥＣＶＤ被覆材であり、そして後続するガス放出測定をＰＥＣＶＤに使用した真空状態を中断することなく行う、前記いずれかの請求項に記載の方法。
27. 前記被覆材が真空条件下に実施されるＰＥＣＶＤ被覆材であり、そして後続するガス放出測定が前記被覆後に揮発性種を前記被覆製品に充填すること、及び、後続してガス放出測定を実施することにより行われる前記請求項の何れかに記載の方法。
28. 測定をマイクロカンチレバー測定技術を用いて行う、前記いずれかの請求項に記載の方法。
29. 以下により測定を行う、請求項２８に記載の方法。
    （ｉ）
    （ａ）ガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも１つのマイクロカンチレバーの提供、
    （ｂ）マイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、及び
    （ｃ）移動又は異なる形状の検出、好ましくはマイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線、例えばレーザービームの照射による、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定による検出、又は
    （ｉｉ）
    （ａ）ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも１つのマイクロカンチレバーの提供、
    （ｂ）マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、及び
    （ｃ）異なる共鳴周波数の検出、例えば調和振動センサーの使用。
30. 請求項１〜２８のいずれかに記載の方法を実行するための装置。
31. 容器処理システム（２０）のプロセッサにより実行される場合に、容器処理システムをそれが請求項１〜２８の１つの方法を実施するように制御するようにプロセッサを指示するように適合された被覆処理製品を検査するためのコンピュータープログラムが格納されているコンピューター読み取り可能な媒体。
32. 容器処理システム（２０）のプロセッサにより実行される場合に、容器処理システムをそれが請求項１〜２９の１つの方法を実施するように制御するようにプロセッサを指示するように適合された被覆処理製品を検査するためのプログラム要素。