JP2013528117A - 潤滑性容器被覆材、被覆処理および装置 - Google Patents
潤滑性容器被覆材、被覆処理および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013528117A JP2013528117A JP2013510276A JP2013510276A JP2013528117A JP 2013528117 A JP2013528117 A JP 2013528117A JP 2013510276 A JP2013510276 A JP 2013510276A JP 2013510276 A JP2013510276 A JP 2013510276A JP 2013528117 A JP2013528117 A JP 2013528117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- container
- syringe
- optionally
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 title claims description 100
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 854
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 778
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 261
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 221
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 188
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 152
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 150
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 122
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 70
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 367
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 241
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 164
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 139
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 claims description 139
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 139
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 127
- NOESYZHRGYRDHS-UHFFFAOYSA-N insulin Chemical compound N1C(=O)C(NC(=O)C(CCC(N)=O)NC(=O)C(CCC(O)=O)NC(=O)C(C(C)C)NC(=O)C(NC(=O)CN)C(C)CC)CSSCC(C(NC(CO)C(=O)NC(CC(C)C)C(=O)NC(CC=2C=CC(O)=CC=2)C(=O)NC(CCC(N)=O)C(=O)NC(CC(C)C)C(=O)NC(CCC(O)=O)C(=O)NC(CC(N)=O)C(=O)NC(CC=2C=CC(O)=CC=2)C(=O)NC(CSSCC(NC(=O)C(C(C)C)NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(CC=2C=CC(O)=CC=2)NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(C)NC(=O)C(CCC(O)=O)NC(=O)C(C(C)C)NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(CC=2NC=NC=2)NC(=O)C(CO)NC(=O)CNC2=O)C(=O)NCC(=O)NC(CCC(O)=O)C(=O)NC(CCCNC(N)=N)C(=O)NCC(=O)NC(CC=3C=CC=CC=3)C(=O)NC(CC=3C=CC=CC=3)C(=O)NC(CC=3C=CC(O)=CC=3)C(=O)NC(C(C)O)C(=O)N3C(CCC3)C(=O)NC(CCCCN)C(=O)NC(C)C(O)=O)C(=O)NC(CC(N)=O)C(O)=O)=O)NC(=O)C(C(C)CC)NC(=O)C(CO)NC(=O)C(C(C)O)NC(=O)C1CSSCC2NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(NC(=O)C(CCC(N)=O)NC(=O)C(CC(N)=O)NC(=O)C(NC(=O)C(N)CC=1C=CC=CC=1)C(C)C)CC1=CN=CN1 NOESYZHRGYRDHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 104
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 100
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 99
- -1 monocyclic siloxane Chemical class 0.000 claims description 89
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 claims description 87
- 239000008280 blood Substances 0.000 claims description 87
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 74
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 68
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 67
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 67
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 59
- 102000004877 Insulin Human genes 0.000 claims description 52
- 108090001061 Insulin Proteins 0.000 claims description 52
- 229940125396 insulin Drugs 0.000 claims description 52
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 37
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 29
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 27
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims description 26
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 25
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 25
- 229940079593 drug Drugs 0.000 claims description 24
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 19
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 19
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 11
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000013060 biological fluid Substances 0.000 claims description 8
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 8
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 6
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 claims description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract description 71
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 39
- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 401
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 108
- 230000008569 process Effects 0.000 description 105
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 60
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 55
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 52
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 50
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 46
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 33
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 31
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 29
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 29
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 28
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 26
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 25
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 23
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 23
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 23
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 21
- 230000006870 function Effects 0.000 description 21
- 230000010118 platelet activation Effects 0.000 description 20
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 20
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 19
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 19
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 19
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 18
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 16
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 16
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 16
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000023555 blood coagulation Effects 0.000 description 15
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 15
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 15
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 15
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 14
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 14
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 14
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 13
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 11
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 11
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 11
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 11
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000003570 air Substances 0.000 description 10
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 10
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 10
- 229940071643 prefilled syringe Drugs 0.000 description 10
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 10
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 206010053567 Coagulopathies Diseases 0.000 description 8
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 8
- 230000035602 clotting Effects 0.000 description 8
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 8
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 7
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 7
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 7
- 210000005166 vasculature Anatomy 0.000 description 7
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 6
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HTTJABKRGRZYRN-UHFFFAOYSA-N Heparin Chemical compound OC1C(NC(=O)C)C(O)OC(COS(O)(=O)=O)C1OC1C(OS(O)(=O)=O)C(O)C(OC2C(C(OS(O)(=O)=O)C(OC3C(C(O)C(O)C(O3)C(O)=O)OS(O)(=O)=O)C(CO)O2)NS(O)(=O)=O)C(C(O)=O)O1 HTTJABKRGRZYRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 5
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960002897 heparin Drugs 0.000 description 5
- 229920000669 heparin Polymers 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 5
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 4
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000560 X-ray reflectometry Methods 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 4
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000074 biopharmaceutical Drugs 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 4
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000282472 Canis lupus familiaris Species 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 3
- 210000001124 body fluid Anatomy 0.000 description 3
- 239000010839 body fluid Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 3
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 3
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000013536 elastomeric material Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 210000000416 exudates and transudate Anatomy 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 239000012633 leachable Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 3
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920003209 poly(hydridosilsesquioxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 3
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000894007 species Species 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000008174 sterile solution Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- FIADVASZMLCQIF-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetrazatetrasilocane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 FIADVASZMLCQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZLQWMNVOBAZGC-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-4,6,11-trioxa-1-aza-5-silabicyclo[3.3.3]undecane Chemical compound O1CCN2CCO[Si]1(C)OCC2 DZLQWMNVOBAZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009007 Diagnostic Kit Methods 0.000 description 2
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 2
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 2
- 229940039227 diagnostic agent Drugs 0.000 description 2
- 239000000032 diagnostic agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 229940126534 drug product Drugs 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- CKHJYUSOUQDYEN-UHFFFAOYSA-N gallium(3+) Chemical compound [Ga+3] CKHJYUSOUQDYEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 230000036512 infertility Effects 0.000 description 2
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 2
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 2
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000008194 pharmaceutical composition Substances 0.000 description 2
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 2
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCTWMZQNUQWSLP-VIFPVBQESA-N (R)-adrenaline Chemical compound CNC[C@H](O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 UCTWMZQNUQWSLP-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 229930182837 (R)-adrenaline Natural products 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLJDKBHNCLNSAT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8,10,10-decamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentazapentasilecane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 LLJDKBHNCLNSAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octakis-phenyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexakis-phenyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatrisilinane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBXBDQPVXIIXJS-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentakis(ethenyl)-2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 ZBXBDQPVXIIXJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWALPEXSVOIFMC-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetrazatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)N[Si](C)(C=C)N[Si](C)(C=C)N[Si](C)(C=C)N1 TWALPEXSVOIFMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFNIPKMNMDDDB-UHFFFAOYSA-K 2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetate;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].OCCN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O YPFNIPKMNMDDDB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- XBRVPWBNRAPVCC-UHFFFAOYSA-N 4,6,11-trioxa-1-aza-5$l^{3}-silabicyclo[3.3.3]undecane Chemical compound C1CO[Si]2OCCN1CCO2 XBRVPWBNRAPVCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N Dodecamethylcyclohexasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124602 FDA-approved drug Drugs 0.000 description 1
- 240000000731 Fagus sylvatica Species 0.000 description 1
- 235000010099 Fagus sylvatica Nutrition 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000032843 Hemorrhage Diseases 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920010741 Ultra High Molecular Weight Polyethylene (UHMWPE) Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical compound [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIWYZKVHTDTHLD-UHFFFAOYSA-N [[[[[dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]amino]-dimethylsilyl]amino]-dimethylsilyl]methane Chemical compound C[Si](N[Si](N[Si](N[Si](C)(C)C)(C)C)(C)C)(C)C DIWYZKVHTDTHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOWCIXIMZMPAY-UHFFFAOYSA-N [[[dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]amino]-dimethylsilyl]methane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C NHOWCIXIMZMPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 230000000181 anti-adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003146 anticoagulant agent Substances 0.000 description 1
- 229940127219 anticoagulant drug Drugs 0.000 description 1
- 210000001742 aqueous humor Anatomy 0.000 description 1
- 238000005815 base catalysis Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 208000034158 bleeding Diseases 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 210000004204 blood vessel Anatomy 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 235000012174 carbonated soft drink Nutrition 0.000 description 1
- 238000007675 cardiac surgery Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012611 container material Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006880 cross-coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- FBZANXDWQAVSTQ-UHFFFAOYSA-N dodecamethylpentasiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C FBZANXDWQAVSTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087203 dodecamethylpentasiloxane Drugs 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229960005139 epinephrine Drugs 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000012953 feeding on blood of other organism Effects 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000001722 flash pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008241 heterogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 230000001617 migratory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002103 nanocoating Substances 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 1
- 238000011020 pilot scale process Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004845 protein aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000006920 protein precipitation Effects 0.000 description 1
- 239000012460 protein solution Substances 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000024042 response to gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007920 subcutaneous administration Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124597 therapeutic agent Drugs 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002366 time-of-flight method Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000936 topical exposure Toxicity 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011123 type I (borosilicate glass) Substances 0.000 description 1
- 210000002700 urine Anatomy 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
- A61M5/178—Syringes
- A61M5/31—Details
- A61M5/3129—Syringe barrels
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
- A61M5/178—Syringes
- A61M5/31—Details
- A61M5/315—Pistons; Piston-rods; Guiding, blocking or restricting the movement of the rod or piston; Appliances on the rod for facilitating dosing ; Dosing mechanisms
- A61M5/31511—Piston or piston-rod constructions, e.g. connection of piston with piston-rod
- A61M5/31513—Piston constructions to improve sealing or sliding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/08—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D25/00—Details of other kinds or types of rigid or semi-rigid containers
- B65D25/14—Linings or internal coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/08—Investigating permeability, pore-volume, or surface area of porous materials
- G01N15/082—Investigating permeability by forcing a fluid through a sample
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0096—Testing material properties on thin layers or coatings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
- A61M5/178—Syringes
- A61M5/31—Details
- A61M5/3129—Syringe barrels
- A61M2005/3131—Syringe barrels specially adapted for improving sealing or sliding
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M2205/00—General characteristics of the apparatus
- A61M2205/02—General characteristics of the apparatus characterised by a particular materials
- A61M2205/0222—Materials for reducing friction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Public Health (AREA)
- Vascular Medicine (AREA)
- Anesthesiology (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Hematology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Infusion, Injection, And Reservoir Apparatuses (AREA)
- Medical Preparation Storing Or Oral Administration Devices (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
Abstract
PECVDによる基板表面の被覆方法を提供し、当該方法は、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質からプラズマを生成する手法からなる。当該被覆材の潤滑性、疎水性および/または遮断性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。特に、前述方法により生成される潤滑性被覆材を提供する。 前述方法により被覆される容器、および非被覆容器表面の機械的および/または化学的作用から前述の被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するためのかかる容器の使用法も提供する。
Description
2009年5月13日出願の米国特許仮出願番号第61/177,984号、2009年7月2日出願の第61/222,727号、2009年7月24日出願の第61/213,904号、2009年8月17日出願の第61/234,505号、2009年11月14日出願の 第61/261,321号、2009年11月20日出願の第61/263,289号、2009年12月11日出願の第61/285,813号、2010年1月25日出願の第61/298,159号、2010年1月29日出願の第61/299,888号、2010年3月26日出願の第61/318,197号、2010年5月11日出願の第61/333,625号、2010年11月12日出願の第61/413,334号、および2010年5月12日出願の米国特許出願番号第12/779,007号はすべて、全体として参照することにより本書に含まれる。
また、以下の欧州特許出願もすべて、全体として参照することにより本書に含まれる: 2010年5月12日出願のEP10162755.2、2010年5月12日出願のEP10162760.2、2010年5月12日出願のEP10162756.0、2010年5月12日出願のEP10162758.6、2010年5月12日出願のEP10162761.0、2010年5月12日出願のEP10162757.8。これらの欧州特許出願は、特に明記がない限り、本発明を実施するのに通常利用可能である装置、容器、前駆体、被覆材、および方法 (特に被覆法および当該被覆材を調べる試験方法) について説明する。 これらはまた、本書で述べられているSiOx遮断性被覆材について説明する。
発明の利用分野
本発明は、生物学的に活性な化合物または血液を保存するための被覆容器を製造する技術分野に関する。 例えば本発明は、容器を被覆するための容器処理システム、容器を被覆および検査するための容器処理システム、容器内面を被覆するためのプラズマ促進化学蒸着装置、容器内面を被覆するための方法、容器を被覆および検査するための方法、容器処理の方法、容器処理システムの使用法、コンピュータに読み込み可能な媒体、およびプログラム要素に関する。
本発明は、生物学的に活性な化合物または血液を保存するための被覆容器を製造する技術分野に関する。 例えば本発明は、容器を被覆するための容器処理システム、容器を被覆および検査するための容器処理システム、容器内面を被覆するためのプラズマ促進化学蒸着装置、容器内面を被覆するための方法、容器を被覆および検査するための方法、容器処理の方法、容器処理システムの使用法、コンピュータに読み込み可能な媒体、およびプログラム要素に関する。
PECVDによる基板表面の被覆方法を提供し、当該方法は、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質からプラズマを生成する手法からなる。 搬送ガスが含まれる場合もある。 当該被覆材の潤滑性、疎水性および/または遮断性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体および搬送ガスの比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。 特に、前述方法により生成される潤滑性被覆材を提供する。 前述方法により被覆される容器、および非被覆容器表面の機械的および/または化学的作用から前述の被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するためのかかる容器の使用法も提供する。 さらに、潤滑性被覆材で被覆される表面、および前述潤滑性被覆材の生成方法も提供する。
本開示はまた、例えば静脈穿刺やその他の医学的検体採集、医薬品の保管と配送、およびその他の目的に使用する複数の同一容器といった、容器処理の改良方法に関する。 かかる容器はこれらの目的で多量に使用されるため、製造費用が比較的安価でありながら保管および使用における信頼性が高いことが必須である。
発明の背景
シリンジに関する重要検討事項として、プランジャーをバレルに押し込む際に一定の速さおよび一定の力で移動可能であることを確保することが挙げられる。 この目的に関して、当該バレルおよび当該プランジャーのいずれかまたは両方に潤滑層を施すことが望ましい。 同様の検討事項は、停止部材により閉口されるべき容器、当該停止部材そのもの、およびより一般に特定の潤滑性を持つあらゆる表面に適用される。
シリンジに関する重要検討事項として、プランジャーをバレルに押し込む際に一定の速さおよび一定の力で移動可能であることを確保することが挙げられる。 この目的に関して、当該バレルおよび当該プランジャーのいずれかまたは両方に潤滑層を施すことが望ましい。 同様の検討事項は、停止部材により閉口されるべき容器、当該停止部材そのもの、およびより一般に特定の潤滑性を持つあらゆる表面に適用される。
充填済みシリンジを製造する場合、さらに考慮に入れるべき検討事項がある。 使用前にシリンジを薬剤で充填する手間を省く充填済みシリンジが、一般に製造・販売されている。 当該シリンジは、一部の例では、食塩水、注射用染料、または薬学的に活性な製剤で充填される。
一般に、充填済みシリンジの遠位端は蓋で覆われており、近位端はプランジャーで塞がれている。 当該充填済みシリンジは使用前に無菌パッケージ材で包装されている場合がある。 当該充填済みシリンジを使用するには、当該包装および蓋を除去し、随意に皮下注射針またはその他の搬送導管をバレル遠位端に装着し、当該搬送導管またはシリンジを使用位置に移動し（皮下注射針を患者の血管に挿入する、シリンジの内容物を洗浄するための装置へと挿入する、など）、当該プランジャーをバレル内へと前進させてバレルの内容物を注入する。
充填済みシリンジの製造における重要事項の1つとして、好ましくはシリンジの含有物が実質的な保存可能期間を有することが挙げられ、当該期間中には、当該シリンジを満たす物質をそれを包含するバレル壁から分離して、充填済み含有物へのバレルの構成物質の浸出を防止すること、またはその逆が重要となる。
これらの容器の多くは安価で多量に使用されるため、特定の用途については、製造費用を高額なレベルに増加させることなく、信頼性のある必要保存可能期間が得られることが有用である。 何十年間も、ほとんどの非経口治療薬は、バイアルや充填済みシリンジといった、タイプI医療グレードのホウケイ酸ガラス製容器に入れた上で、エンドユーザーへと納品されている。 比較的強度が高く不浸透性かつ不活性なホウケイ酸ガラス表面は、ほとんどの薬剤製品に適した素材である。 しかし近年、高額かつ複雑で慎重に扱うべき生物製剤や、自動注入装置といった高度供給システムの出現により、起こりうる金属からの汚染、破損、その他の問題を含む、ガラスの物理的および化学的欠点が明らかになっている。 さらには、ガラスは複数の成分を含むため、保管中に浸出が起こり、保管物に損害を与える可能性もある。 さらに詳しく述べれば、ホウケイ酸容器には以下の多数の欠点が見られる:
・ガラスは、微量レベルのその他のアルカリおよび土類金属を含む多くの元素 (ケイ素、酸素、ホウ素、アルミニウム、ナトリウム、カルシウム) の不均一混合物を含む砂から製造される。 タイプIホウケイ酸ガラスはおおよそ、76%の SiO2、10.5%のB2O3、5%のAl2O3、7%のNa2O、および1.5%のCaOからなり、多くの場合、鉄、マグネシウム、亜鉛、銅、その他の微量金属を含む。 このホウケイ酸ガラスの不均一特性により、分子レベルで不均一な界面化学が生み出される。 ガラス容器作成に使用されるガラス製造過程では、当該容器の一部を最大1,200℃の温度に曝露する。このような高温では、アルカリイオンが局所表面へと移動して酸化物が形成される。 ホウケイ酸ガラス機器から抽出されたイオンの存在は、生物製剤の劣化、凝集、変性に関与する可能性がある。 多くのタンパク質および生物製剤は、ガラス製バイアルまたはシリンジ内の溶液では十分に不変性を保てないため、凍結乾燥 (フリーズドライ) されなければならない。
・ガラスは、微量レベルのその他のアルカリおよび土類金属を含む多くの元素 (ケイ素、酸素、ホウ素、アルミニウム、ナトリウム、カルシウム) の不均一混合物を含む砂から製造される。 タイプIホウケイ酸ガラスはおおよそ、76%の SiO2、10.5%のB2O3、5%のAl2O3、7%のNa2O、および1.5%のCaOからなり、多くの場合、鉄、マグネシウム、亜鉛、銅、その他の微量金属を含む。 このホウケイ酸ガラスの不均一特性により、分子レベルで不均一な界面化学が生み出される。 ガラス容器作成に使用されるガラス製造過程では、当該容器の一部を最大1,200℃の温度に曝露する。このような高温では、アルカリイオンが局所表面へと移動して酸化物が形成される。 ホウケイ酸ガラス機器から抽出されたイオンの存在は、生物製剤の劣化、凝集、変性に関与する可能性がある。 多くのタンパク質および生物製剤は、ガラス製バイアルまたはシリンジ内の溶液では十分に不変性を保てないため、凍結乾燥 (フリーズドライ) されなければならない。
・ガラス製シリンジ内で、シリコン油は通常潤滑剤として利用され、プランジャーをバレル内でスライド可能にする。 シリコン油は、インスリンやその他の生物製剤といった、タンパク質溶液の沈殿に関与する。 また、シリコン油被覆材は不均一であることが多く、市場におけるシリンジ不良につながる。
・ガラス容器は製造中、充填作業中、配送中、使用中に破損・劣化する傾向があり、これはガラス微粒子が当該薬剤に入り込む可能性があることを意味する。 そのようなガラス微粒子の存在は、FDA行政警告の対象となり製品リコールにつながる。
・ガラス製造過程では、一部の新しい自動注入装置および供給システムで必要な厳密な寸法公差は得られない。
結果として一部企業は、寸法公差に優れガラスより破損の危険性が低く、しかし不浸透性に欠ける、プラスチック容器に変更している。
プラスチックは破損、寸法公差、表面均一性の面ではガラスより優れているが、一次的薬剤パッケージとしてのプラスチックの利用は以下の欠点により制限されたままである:
・表面特性: 充填済みシリンジおよびバイアルに適したプラスチックには通常、疎水性表面が見られ、多くの場合、当該機器に含まれる生物製剤の不変性が低下する。
・表面特性: 充填済みシリンジおよびバイアルに適したプラスチックには通常、疎水性表面が見られ、多くの場合、当該機器に含まれる生物製剤の不変性が低下する。
・ガス (酸素) 透過性: プラスチックは小分子ガスを当該機器内へ (または外へ) 透過させる。 プラスチックのガス透過性はガラスに比べて極めて大きく、多くの場合 (エピネフリンのような酸素感受性薬剤など)、上記理由によりプラスチックの利用は容認されない。
・水蒸気透過率: プラスチックは、ガラスより大幅に機器へと水蒸気を透過させる。 これは、固形 (凍結乾燥) 薬剤の保存可能期間に弊害をもたらす可能性がある。 一方、液状製品は乾燥した環境において水分を失う可能性がある。
・浸出物および抽出物: プラスチック容器には、薬剤製品へと浸出または抽出する可能性がある有機化合物が含まれる。 これらの化合物は、当該薬剤を汚染するおよび/または当該薬剤の不変性にマイナスの影響を与える場合がある。
明らかに、プラスチック容器およびガラス容器には一次的薬剤パッケージとしての特定の利点があるが、どちらも、すべての薬剤、生物製剤、その他の治療薬に最適であるわけではない。 したがって、ガラスの性質に近い、ガスおよび溶質遮断性を持つプラスチック容器、特にプラスチック製シリンジが求められている。 さらには、十分な潤滑性を持つプラスチック製シリンジ、および当該シリンジ内容物と適合する潤滑性被覆材が必要とされている。
関連性が見込まれる特許の限定的リストには、米国特許第6,068,884号および第4,844,986号、および米国公開特許出願第20060046006号および第20040267194号が含まれる。
発明の概要
本発明は、有機ケイ素前駆体から生成される薄肉PECVD被覆材で被覆されるプラスチック容器、特にバイアルおよびシリンジに関する。 これらの新しい機器は、ガラスの遮断性およびプラスチックの寸法公差、破損耐性の優れた特質を提供し、両素材の欠点を打ち消すものである。 当該PECVD処理への計画的な変更により、当該被覆材の界面化学は予想可能で異なる場合がある。 特に、プラズマ被覆材 (SiOxCyHz) は潤滑性 (「潤滑性被覆材」) を向上させるため、従来のシリコン油潤滑剤の必要性がなくなる (シリンジ内など)。 本発明のさらなる実施例は、前述被覆材およびその結果得られる被覆機器の疎水性/親水性に影響を与える方法である。 本発明の特殊な実施例は、シリンジ内部に潤滑性を提供し従来のシリコン油からの抽出物を消失させる、SiwOxCyHz被覆材で被覆されるプラスチック (特に COC) シリンジである。 当該潤滑性被覆材は、シリンジバレル、プランジャー (またはその部品の1つ、ピストンの側壁など)、または両方に被覆可能である。 かかるシリンジには、本発明に従いPECVDにより生成されるSiOx遮断性被覆材を追加することも可能である。 非常に特殊な実施例は、環状オレフィン共重合体 (COC) バレル、前述バレルの内壁上のSiOx遮断層、前述遮断層上の潤滑層を有するシリンジである。SiOx遮断性被覆材は通常、20〜30nmの層厚である。
本発明は、有機ケイ素前駆体から生成される薄肉PECVD被覆材で被覆されるプラスチック容器、特にバイアルおよびシリンジに関する。 これらの新しい機器は、ガラスの遮断性およびプラスチックの寸法公差、破損耐性の優れた特質を提供し、両素材の欠点を打ち消すものである。 当該PECVD処理への計画的な変更により、当該被覆材の界面化学は予想可能で異なる場合がある。 特に、プラズマ被覆材 (SiOxCyHz) は潤滑性 (「潤滑性被覆材」) を向上させるため、従来のシリコン油潤滑剤の必要性がなくなる (シリンジ内など)。 本発明のさらなる実施例は、前述被覆材およびその結果得られる被覆機器の疎水性/親水性に影響を与える方法である。 本発明の特殊な実施例は、シリンジ内部に潤滑性を提供し従来のシリコン油からの抽出物を消失させる、SiwOxCyHz被覆材で被覆されるプラスチック (特に COC) シリンジである。 当該潤滑性被覆材は、シリンジバレル、プランジャー (またはその部品の1つ、ピストンの側壁など)、または両方に被覆可能である。 かかるシリンジには、本発明に従いPECVDにより生成されるSiOx遮断性被覆材を追加することも可能である。 非常に特殊な実施例は、環状オレフィン共重合体 (COC) バレル、前述バレルの内壁上のSiOx遮断層、前述遮断層上の潤滑層を有するシリンジである。SiOx遮断性被覆材は通常、20〜30nmの層厚である。
本書に記載の被覆材はガラスのようであるが、ホウ素、ナトリウム、カルシウム、アルミニウム、ガラス内に見られる不純物といった、その他の元素を含まない。
当該被覆材は、タイプI医療グレードのホウケイ酸ガラスに見られる有害な元素および不純物を含まない表面を有する。当該被覆材は、有機ケイ素を利用するプラズマからプラスチック基板上に堆積され、均一層を生成する。
本発明はさらに、前述および/または後述の方法手順を実行するよう設定される処理ステーション装備からなる、容器を被覆する容器処理システムに関する。 かかる処理ステーションの実施例5501〜5504は、図１２〜１４で描写される。
本発明はさらに、前述および/または後述方法手順を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システムのプロセッサにより実行される、容器被覆のためのコンピュータープログラムが保管されている、コンピューターに読み込み可能な媒体に関する。
本発明はさらに、前述および/または後述方法手順を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システムのプロセッサにより実行される、容器被覆のためのプログラム要素またはコンピュータープログラムに関する。
当該プロセッサは、本発明の方法の模範的実施例を実施するため、搭載される場合がある。 当該コンピュータープログラムは、例えばC++など、いかなる適したプログラミング言語で書くことも可能であり、CD-ROMなど、コンピューターに読み込み可能な媒体に保管可能である。 また当該コンピュータープログラムは、ワールドワイドウェブといったネットワークから利用可能であり、そこから画像処理装置またはプロセッサまたはその他適切なコンピューターにダウンロード可能である。
以下では、本発明による被覆方法およびこれらの方法で製造される本発明による被覆機器を説明する。 当該方法は、同じく以下で説明する装置 (容器処理システムおよび容器ホルダー) 上で実行可能である。
PECVD被覆の方法
本発明は、プラズマ促進化学蒸着処理（PECVD）により被覆材を製造する方法、例えば容器の内面を被覆する方法に関する。
本発明は、プラズマ促進化学蒸着処理（PECVD）により被覆材を製造する方法、例えば容器の内面を被覆する方法に関する。
表面、例えば容器の内面を用意し、また有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガス、および随意に搬送ガスからなる反応混合物を用意する。 潤滑性被覆材の生成については、有機ケイ素前駆体 (OMCTSなど)、酸素、アルゴンの混合物が望ましい。
当該表面を当該反応混合物に接触させる。 プラズマが当該反応混合物内に生成される。 該被覆材は、容器内壁の一部といった、表面の少なくとも一部に堆積する。
当該方法は以下の通り実行される。
前駆体を用意する。 好ましくは前述前駆体は有機ケイ素化合物（以下において「有機ケイ素前駆体」とも指名される）であり、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、これら前駆体のaza類似体（線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン）、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される有機ケイ素化合物である。 当該前駆体を、PECVDによる被覆材生成に効果的な条件下で基板に塗布する。 当該前駆体はしたがって、重合、交差結合、一部または完全な酸化、またはこれらを組合わせた状態である。
本発明の一態様において、当該被覆材は潤滑性被覆材であり、すなわち非被覆基板より摩擦抵抗の低い表面を成形する。
本発明の別の態様において、当該被覆材は保護膜、例えば被覆表面との接触において組成物成分の沈殿の減少をもたらす疎水性被覆材である。 かかる疎水性被覆材は、非被覆素材と比較してぬれ張力が低いという特徴がある。
本発明の潤滑性被覆材は保護膜である可能性があり、またその逆である可能性もある。
本発明のさらなる態様において、当該被覆材は例えばSiOx被覆材といった遮断性被覆材である。 一般に当該遮断膜はガスまたは流体を遮断し、好ましくは水蒸気、酸素および/または大気を遮断する。 当該遮断膜はまた、遮断性被覆材で被覆される容器の内部（例：採血管の内部）の真空状態を確立および/または維持するために使用される。
また本発明の方法は、同様のまたは異なる反応条件の下で、同様のまたは異なる有機ケイ素前駆体からPECVDにより生成される、1種以上の被覆材の塗布からなる場合がある。例えば、シリンジはまず有機ケイ素前駆体としてHMDSOを利用するSiOx遮断性被覆材で被覆され、その後、有機ケイ素前駆体としてOMCTSを利用する潤滑性被覆材で被覆される。
潤滑性被覆材
主要な態様において本発明は潤滑性被覆材を提供する。
主要な態様において本発明は潤滑性被覆材を提供する。
当該被覆材は、有利にはPECVD方法により生成され、上述の前駆体を使用する。 当該潤滑性被覆材のための望ましい前駆体は単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）である。
例えば、本発明は基板表面の被覆材の潤滑性を設定する方法を提供し、当該方法は以下の手順からなる：
(a) 基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガス (アルゴンなど) からなるガスの提供、および
(b) 当該ガス状反応物質内におけるO2の対有機ケイ素前駆体比率の設定、および/または当該プラズマ生成に使用する電力の設定、および/または希ガスの対有機ケイ素前駆体比率の設定により、当該被覆材の潤滑特性が決定される、当該ガスからのプラズマ生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着 (PECVD) による当該基板表面上への被覆材の生成。
(a) 基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガス (アルゴンなど) からなるガスの提供、および
(b) 当該ガス状反応物質内におけるO2の対有機ケイ素前駆体比率の設定、および/または当該プラズマ生成に使用する電力の設定、および/または希ガスの対有機ケイ素前駆体比率の設定により、当該被覆材の潤滑特性が決定される、当該ガスからのプラズマ生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着 (PECVD) による当該基板表面上への被覆材の生成。
生成される被覆表面は未処理基板と比較して摩擦抵抗が低い。 例えば、当該被覆表面がシリンジバレル および/またはシリンジプランジャーの内面である場合、当該潤滑性被覆材は、起動力、プランジャースライド力またはその両方を潤滑性被覆材なしの場合と比べて低下させるのに効果的である。
当該潤滑性被覆材で被覆された物質は、潤滑性被覆材を壁上に有する容器である場合があり、好ましくは内部壁（例：シリンジバレル）上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋（例：シリンジプランジャーまたは容器蓋）上に有する。
当該潤滑性被覆材は通常、公式SiwOxCyHzで表される。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該潤滑性被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。通常当該原子比率は、本発明の特定の潤滑性被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、かかる潤滑性被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36%〜41%を含む可能性がある。
保護（例えば疎水性）被覆材
本発明に記載の当該保護被覆材は、例えば疎水性被覆材である。
当該保護（例えば疎水性）被覆材のための望ましい前駆体は線状シロキサン、例えばヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）である。
本発明に記載の当該保護被覆材は、例えば疎水性被覆材である。
当該保護（例えば疎水性）被覆材のための望ましい前駆体は線状シロキサン、例えばヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）である。
本発明に記載の保護被覆材は、当該容器内に包含される化合物または組成物に対する非被覆表面の機械的および/または化学的作用を防止または低減する。 例えば、当該表面に接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止または低減し、具体的には血液凝固または血小板活性化またはインスリンの沈殿、または房水による非被覆表面湿潤を防止する。
本発明の特定の態様は、公式SiwOxCyHzで表される疎水性被覆材を有する表面である。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該疎水性被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。通常当該原子比率は、本発明の特定の疎水性被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、 かかる被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した36%〜41%炭素を含む可能性がある。
当該保護被覆材で被覆される物質は、被覆材を壁上に有する容器であり、好ましくは内部壁（例：管）上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋（例：容器蓋）上に有する。
当該保護被覆材で被覆される物質は、被覆材を壁上に有する容器であり、好ましくは内部壁（例：管）上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋（例：容器蓋）上に有する。
容器の被覆
容器をPECVDを使用する前述被覆方法で被覆する場合、当該被覆方法はいくつかの手順からなる。 開口端、閉口端、内面を有する容器を用意する。 当該容器内に少なくとも1種のガス状反応物質を導入する。 当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、当該容器内でプラズマを生成する。すなわち、当該容器の内面上に被覆材を生成する。
容器をPECVDを使用する前述被覆方法で被覆する場合、当該被覆方法はいくつかの手順からなる。 開口端、閉口端、内面を有する容器を用意する。 当該容器内に少なくとも1種のガス状反応物質を導入する。 当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、当該容器内でプラズマを生成する。すなわち、当該容器の内面上に被覆材を生成する。
好ましくは、当該方法は本明細書で説明するように当該容器の開口端を容器ホルダー上に装填して実行し、当該容器ホルダーと当該容器内部の間の通過密閉を確立する。 この望ましい態様においては、当該ガス状反応物質を当該容器ホルダーを通して当該容器へと導入する。 本発明の特定の望ましい態様においては、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給からなるプラズマ促進化学蒸着（PECVD）装置を本発明に記載の被覆方法のために使用する。
当該容器ホルダーは、処理のために容器を装填位置に収受するためのポートを有する。 当該内部電極は 容器ホルダー上に装填済みの容器内に収受されるよう位置付けられる。 当該外部電極は、容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する。 当該電力供給装置は内部および/または外部電極へと電流を交流させ、当該容器ホルダー上に装填済みの容器内にプラズマを生成する。 一般に、内部電極が接地されている場合、当該電力供給装置は外部電極へと電流を交流させる。 本実施例において、当該容器はプラズマ反応チャンバを定義する。
本発明特定の態様において、前段落で説明した当該PECVD装置は必ずしも真空源を含まないガス排出管からなり、当該ポート上に装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。
さらなる本発明の特定の態様において、当該PECVD装置は、容器ホルダー、第1把持部、容器ホルダー上の装填部、反応物質供給装置、プラズマ生成装置、および容器解除装置からなる。
当該容器ホルダーは、容器の開口端を装填するよう設定される。 第1把持部は当該容器の閉口端を選択的に把持および解除し、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送するよう設定される。 当該容器ホルダーは、当該容器ホルダーと当該第1容器の内腔との間の通過密閉を確立するよう設定される装填部を有する。
当該反応物質供給装置は、当該容器ホルダーを通して少なくとも1種のガス状反応物質を当該第1 容器へと導入するよう、動作可能に接続される。 当該プラズマ生成装置は、第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内でプラズマを生成するよう設定される。
当該容器解除装置は、第1容器を当該容器ホルダーから装填解除するよう提供される。 第1把持部またはその他の把持部である把持部は、第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離して搬送し、その後第1容器の装填を解除するよう設定される。
本発明の特定の態様において、当該方法は容器の制限開口部、例えば通常管状である容器の内面をPECVDにより被覆するためのものである。 当該容器には、外面、内腔を定義する内面、内径を有するより大きめの開口部、内面により定義され大きめの開口部の内径より小さな内径を有する制限的開口部が含まれる。 内腔および処理容器開口部を有する処理容器を用意する。 当該処理容器開口部を容器の制限的開口部に接続し、処理される容器の内腔と処理容器の内腔との間の通過性を制限的開口部経由で確立する。 処理される容器の内腔および処理容器の内腔内で、少なくとも一部を真空状態にする。 PECVD反応物質が第1開口部を通り、その後処理される容器の内腔、制限的開口部、処理容器の内腔へと流入する。 制限的開口部内面上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマを制限的開口部に隣接して生成する。
被覆容器および容器部品
本発明はさらに、上記で説明する方法から生成される被覆材、前述被覆材で被覆される表面、および前述被覆材で被覆される容器を提供する。
本発明はさらに、上記で説明する方法から生成される被覆材、前述被覆材で被覆される表面、および前述被覆材で被覆される容器を提供する。
当該被覆材で被覆される表面、例えば容器壁またはその一部はガラス製またはポリマー製であり、好ましくは熱可塑性ポリマーであり、より好ましくはポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである。 例えば、環状オレフィン共重合体 (COC)、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである。 シリンジ バレルについては、COCを特に検討されたい。
本発明の特定の態様において、当該容器壁は少なくとも1つの外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層を有する。 当該ポリマーは同一または別のものである可能性がある。 例えば、1つのポリマー層は（例えば、水蒸気遮断性を定義する）環状オレフィン共重合体（COC）樹脂であり、別のポリマー層はポリエステル樹脂である。 かかる容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される場合がある。
本発明の当該被覆容器は、空、真空、化合物または組成物で充填済みである場合がある。
本発明の特定の態様は保護被覆材、例えば上記で定義される疎水性被覆材を有する容器である。
さらなる本発明の特定の態様は、例えば上記で定義される潤滑性被覆材を有する表面である。 当該表面は、潤滑性被覆材を壁上に有する容器である場合があり、好ましくは内部壁（例：シリンジバレル）上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋（例：シリンジプランジャーまたは容器蓋）である。
本発明の特定の態様は、上記で定義されるプランジャー、シリンジバレル、および潤滑性被覆材を、1つまたは両方のシリンジ部品上に、好ましくはシリンジバレルの内壁上に含むシリンジである。 当該シリンジバレルには、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルが含まれる。 当該潤滑性被覆材は、シリンジバレルの内面、またはバレルに接触するプランジャーの表面、または前述表面の両方に付着する場合がある。 当該潤滑性被覆材は、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を削減するのに効果的である。
さらなる本発明の特定の態様は、前段落で定義される潤滑性被覆材で被覆されるシリンジバレルである。
前述被覆シリンジバレルの特定の態様において、当該シリンジバレルは、内腔を定義しプランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルからなる。 当該シリンジバレルは、有利には熱可塑性素材を原料とする。 プラズマ促進化学蒸着（PECVD）により、バレル内面、プランジャー、または両方に、潤滑性被覆材を塗布する。 溶質保持部材を、表面処理により潤滑性被覆材上に、例えば潤滑性被覆材、熱可塑性素材、または両方の当該内腔への浸出を削減するのに効果的な量で塗布する。 当該潤滑性被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑性被覆材および溶質保持部材なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。
本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、内部および外部被覆材を含むシリンジである。 当該バレルは、プランジャーをスライド可能に収受する内面と、外面を有する。 潤滑性被覆材が当該内面にあり、追加の遮断性SiOX被覆材（xは約1.5〜約2.9）が当該バレル内面に提供される場合がある。 遮断性被覆材（例：樹脂製またはさらなるSiOx被覆材製）を、当該バレルの外面にさらに提供可能である。
本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである (「固定針シリンジ」)。 当該針は空洞で、通常サイズは18〜29ゲージである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。 当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。 当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。 当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。 かかる固定針付きシリンジは、２０１０年６月２４日に出願された米国特許仮出願番号第６１／３５９４３４号で説明されている。
本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。 当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。 当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。 当該ルアーテーパーの内部経路は遮断性SiOX被覆材（xは約1.5〜約2.9）を有する。
本発明の別の態様は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。 当該プランジャーはその側面上に、本発明に記載の潤滑性被覆材を有する。 当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。 当該プランジャーもSiOx被覆材からなる場合がある。
さらなる本発明の態様は、開口部を1つのみ有する容器であり、すなわち化合物または組成物を採集または保管する容器である。 かかる容器は、特定の態様においては管であり、例えば検体採取管、例えば採血管である。 前述管は閉包部、例えば蓋または停止部材で閉じられている場合がある。 かかる蓋または停止部材は、当該管に接触する面に本発明に記載の潤滑性被覆材を含む、および/または当該管内腔と向かい合う面に本発明に記載の保護被覆材を包含する場合がある。 特定の態様において、かかる停止部材またはその部品は、エラストマー材を原料とする場合がある。
かかる停止部材は以下のように作成される場合がある： 当該停止部材を実質上真空チャンバ内に位置付ける。 有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。 当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。 該被覆材が、停止部材の少なくとも一部に堆積する。
さらなる本発明の態様は、本発明に記載の遮断性被覆材を有する容器である。 当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする場合がある。 当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。 当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。 好適な態様において、上記で定義したSiOx製の少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を当該壁の内面に塗布する。 当該遮断性被覆材は、少なくとも24カ月の保存可能期間中に、少なくとも最初の真空レベルの90%を、随意に最初の真空レベルの95%を容器内に維持するのに有効である。 当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
本明細書で説明する、被覆材を生成するPECVDおよび有機ケイ素前駆体を使用するPECVD被覆法はまた、 カテーテルまたはキュベットを被覆して遮断性被覆材、疎水性被覆材、潤滑性被覆材、またはそれらの組合せを成形するのに有用である。 キュベットは円または四角い断面を有し一端が密閉されている小型管で、ポリマー、ガラス、または溶融水晶（紫外線用）を原料として製造され、分光実験用の検体を把持するよう設計される。 最良のキュベットは限りなく透明で、分光学的計測に影響を与える可能性がある不純物を含まない。 試験管と同様、キュベットは外気に通じる開口部またはそれを密閉する蓋を有する場合がある。 本発明のPECVD塗布被覆材は非常に薄く、透明で、光学的に平坦であり、したがって当該キュベットまたはその含有物の光学試験を阻害することはない。
（事前）充填済み被覆容器
本発明の特定の態様は、内腔に化合物または組成物を充填したまたは充填するために使用される、上述の被覆容器である。 前述化合物または組成物は以下である場合がある：
(i) 生物学的に活性な化合物または組成物、好ましくは薬剤、より好ましくはインスリンまたはインスリンからなる組成物、または
(ii) 生物学的流体、好ましくは体液、より好ましくは血液または血液分画（例：血球）、または
(iii) 当該容器内に直接包含される別の化合物または組成物と結合される化合物または組成物、例えば、クエン酸塩またはクエン酸塩包含組成物のような、採血管内での血液凝固や血小板活性化を防止するための化合物。
本発明の特定の態様は、内腔に化合物または組成物を充填したまたは充填するために使用される、上述の被覆容器である。 前述化合物または組成物は以下である場合がある：
(i) 生物学的に活性な化合物または組成物、好ましくは薬剤、より好ましくはインスリンまたはインスリンからなる組成物、または
(ii) 生物学的流体、好ましくは体液、より好ましくは血液または血液分画（例：血球）、または
(iii) 当該容器内に直接包含される別の化合物または組成物と結合される化合物または組成物、例えば、クエン酸塩またはクエン酸塩包含組成物のような、採血管内での血液凝固や血小板活性化を防止するための化合物。
本発明の被覆容器は通常、非被覆容器基材の表面の機械的および/または化学的作用に敏感である化合物および組成物の採取および保管に特に有用であり、好ましくは容器内面と接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止および削減するためのものである。
例えば、本発明の疎水性被覆材で被覆される壁を有し含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する細胞調製管は、採血に適しており血液凝固を防止/削減する。 当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。
本発明の特定の態様は、血液の採取/受容のための容器または血液包含容器である。 当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。 当該壁の内面は、本発明の疎水性被覆材で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである (平均または当該被覆材全体で)。 当該容器に採取/保管される血液は、好ましくは被覆と接触する内腔内に充填され患者の血管系へと戻すことが可能である。 当該被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
本発明の別の態様は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。 当該内面は、本発明の疎水性被覆材で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nm (平均または当該被覆材全体で) である。 インスリンまたはインスリンからなる組成物が、当該被覆材と接触する内腔内に付着する。 随意に、当該被覆材は同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
本発明の特定の態様は充填済みシリンジであり、例えば、当該シリンジを利用しての投与を意図する薬剤、診断化合物または組成物、生物学的/化学的に活性な化合物または組成物で充填されたシリンジである。
本発明はしたがって、被覆方法、被覆製品、前述製品の使用法に関する以下の実施例を提供する：
1. プラスチック基板上に潤滑性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる：
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガスからなるガスの提供、および (b) 当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上での被覆材の形成。
1. プラスチック基板上に潤滑性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる：
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガスからなるガスの提供、および (b) 当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上での被覆材の形成。
2. 当該有機ケイ素前駆体が単環シロキサンであり、好ましくはOMCTSである、(1) の方法。
3. O2が、好ましくは0:1〜0.5:1の対有機ケイ素前駆体体積/体積比率で存在し、随意に0.01:1〜0.5:1で存在する、(1) 〜 (2) のいずれかに記載の方法。
4. アルゴンが希ガスとして存在する、(1) 〜 (3) のいずれかに記載の方法。
5. 当該ガスが、1〜6の標準体積の有機ケイ素前駆体、1〜100の標準体積の希ガス、0.1〜2の標準体積のO2からなる、前項のいずれかに記載の方法。
5. 当該ガスが、1〜6の標準体積の有機ケイ素前駆体、1〜100の標準体積の希ガス、0.1〜2の標準体積のO2からなる、前項のいずれかに記載の方法。
6. アルゴンとO2の両方が存在する、前項のいずれかに記載の方法。
7. 当該プラズマが0.1〜25Wの電力、好ましくは2〜4Wの電力で生成される、および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満、好ましくは6W/ml〜0.1W/mlである、前項のいずれかに記載の方法。
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満、好ましくは6W/ml〜0.1W/mlである、前項のいずれかに記載の方法。
8. 生成される被覆材の粗度が、AFMにより判定されRMSとして表される場合0〜25nmであり、好ましくは7〜20nmであり、随意に10〜20nmであり、随意に13〜17であり、随意に13〜15nmである、前項のいずれかに記載の方法。
9. 潤滑性被覆材を塗布する前に基板上に遮断性被覆材を生成する追加手順からなり、当該追加手順が
(a) 基板表面付近における、有機ケイ素前駆体とO2からなるガスの提供、および
(b) ガスからのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上でのSiOx遮断性被覆材の形成からなる、、前項のいずれかに記載の方法。
(a) 基板表面付近における、有機ケイ素前駆体とO2からなるガスの提供、および
(b) ガスからのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上でのSiOx遮断性被覆材の形成からなる、、前項のいずれかに記載の方法。
10. 当該遮断性被覆材生成手順が、
(i) 当該プラズマが、当該基板表面にSiOx遮断性被覆材を生成するのに十分な電力を受ける電極で生成される、好ましくは8〜500W、より好ましくは20〜400W、さらにより好ましくは35〜350W、さらに好ましくは44〜300W、最も好ましくは44〜70Wの電力を受ける電極で生成される; および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上である、好ましくは6W/ml〜150W/ml、より好ましくは7W/ml〜100W/ml、最も好ましくは7W/ml〜20W/mlである; および/または
(iii) O2がケイ素含有前駆体に対して1 : 1〜100 : 1の体積/体積比で、好ましくは5 : 1〜30 : 1の比率で、より好ましくは10 : 1〜20 : 1の比率で、さらに好ましくは15 : 1の比率で存在する、(9) に記載の方法。
(i) 当該プラズマが、当該基板表面にSiOx遮断性被覆材を生成するのに十分な電力を受ける電極で生成される、好ましくは8〜500W、より好ましくは20〜400W、さらにより好ましくは35〜350W、さらに好ましくは44〜300W、最も好ましくは44〜70Wの電力を受ける電極で生成される; および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上である、好ましくは6W/ml〜150W/ml、より好ましくは7W/ml〜100W/ml、最も好ましくは7W/ml〜20W/mlである; および/または
(iii) O2がケイ素含有前駆体に対して1 : 1〜100 : 1の体積/体積比で、好ましくは5 : 1〜30 : 1の比率で、より好ましくは10 : 1〜20 : 1の比率で、さらに好ましくは15 : 1の比率で存在する、(9) に記載の方法。
11. 当該遮断性被覆材のための有機ケイ素前駆体が線状シロキサンである、好ましくはHMDSOである、(9) または (10) に記載の方法。
12. 当該基板がポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである、および好ましくは環状オレフィン共重合体、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである、さらに好ましくはCOCである、前項のいずれかに記載の方法。
13. 当該プラズマが高周波電極により生成され、好ましくは13.56 MHzで生成される、前項のいずれかに記載の方法。
14. 生成される潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCy（wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3）を有する、 前項のいずれかに記載の方法。
15. 前項のいずれかに記載の方法により得られる潤滑性被覆材で被覆され、前項のいずれかで定義される特性を持つ、被覆基板。
16. 当該潤滑性被覆材が、非被覆表面より低い摩擦抵抗、好ましくは非被覆表面と比較して少なくとも25%減、より好ましくは少なくとも45%減、さらに好ましくは少なくとも60%減の摩擦抵抗を有する、(15) に記載の被覆基板。
17. さらに、以下を満たす少なくとも1層のSiOx膜（xは1.5〜2.9）からなる、(15) または (16) に記載の被覆基板。
(i) 当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、
(ii) 当該潤滑性被覆材が2層のSiOxの間に位置する、またはその逆、あるいは、
(iii) 当該SiOx層と潤滑性被覆材がSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物である、またはその逆。
(i) 当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、
(ii) 当該潤滑性被覆材が2層のSiOxの間に位置する、またはその逆、あるいは、
(iii) 当該SiOx層と潤滑性被覆材がSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物である、またはその逆。
18. 当該SiOx遮断性被覆材の層厚が20〜30nmであり、当該潤滑性被覆材の平均層厚が1〜5000nm、好ましくは30〜1000nm、より好ましくは80〜150nmである、 (17) に記載の被覆基板。
19. 当該潤滑性被覆材が以下を有する、(15)〜(18) のいずれかに記載の被覆基板 。
(i) 非被覆表面より低いぬれ張力、好ましくは20〜72ダイン/cm、より好ましくは30〜60ダイン/cm、より好ましくは30〜40ダイン/cm、好ましくは34ダイン/cmのぬれ張力、および/または
(iv) 非被覆表面より高い疎水性。
(i) 非被覆表面より低いぬれ張力、好ましくは20〜72ダイン/cm、より好ましくは30〜60ダイン/cm、より好ましくは30〜40ダイン/cm、好ましくは34ダイン/cmのぬれ張力、および/または
(iv) 非被覆表面より高い疎水性。
20. 内部表面の少なくとも一部が被覆されている、すなわち (15)〜(19) のいずれかに記載の被覆基板を形成する容器であり、好ましくは以下の品目である：
(i) 検体採取管、特に採血管、または
(ii) バイアル、または
(iii) シリンジまたはシリンジ部品、特定のシリンジバレルまたはシリンジプランジャー、またはシリンジピストン、または
(iv) 導管、または
(v) キュベット。
(i) 検体採取管、特に採血管、または
(ii) バイアル、または
(iii) シリンジまたはシリンジ部品、特定のシリンジバレルまたはシリンジプランジャー、またはシリンジピストン、または
(iv) 導管、または
(v) キュベット。
21. 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、(20) に記載の被覆容器。
22. 内面を有するバレル、当該バレル内面と係合する外面を有するピストンまたはプランジャーからなるシリンジであり、少なくとも1つの前述内面および外面が (15)〜(19) に記載の被覆基板である、(20) または (21) に記載の被覆容器。
23. 当該プランジャーの開始力Fiが2.5〜5ポンドであり、当該プランジャーの維持力Fmが2.5〜8ポンドである、(22) のシリンジ。
24. 当該潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCy（wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3）を有する、 (22) または (23) のシリンジ。
25. 当該潤滑性被覆材の平均層厚が10〜1000nmである、 (22)〜(24) のシリンジ。
26. 当該プラスチック基板がCOCであり、手順 (a) のガスがオクタメチルシクロテトラシロキサン、O2、アルゴンからなり、当該シリンジ内腔量に関してプラズマを生成する電力が6W/ml〜0.1W/mlである、(1)〜(14) のいずれかに記載の方法で生成されたシリンジ部品の全部または1つ以上である、(22)〜(25) のいずれかのシリンジ。
27. 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、(22)〜(26) のいずれかに記載のシリンジ。
28. (1)〜(14) のいずれかの方法を実行するよう設定される、処理ステーション装備 (5501、5502、5503、5504、5505、5506、70、72、74) からなる、容器 (80) を被覆するための容器処理システム (20)。
27. 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、(22)〜(26) のいずれかに記載のシリンジ。
28. (1)〜(14) のいずれかの方法を実行するよう設定される、処理ステーション装備 (5501、5502、5503、5504、5505、5506、70、72、74) からなる、容器 (80) を被覆するための容器処理システム (20)。
29. (1)〜(14) のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システム (20) のプロセッサにより実行される、容器 (80) 被覆のためのコンピュータープログラムが保管されている、コンピューターに読み込み可能な媒体。
30. (1)〜(14) のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システム (20) のプロセッサにより実行される、容器 (80) 被覆のためのプログラム要素。
当該プラスチック基板がCOCであり、手順 (a) のガスがオクタメチルシクロテトラシロキサン、O2、アルゴンからなり、当該シリンジ内腔量に対してプラズマを生成する電力が6W/ml〜0.1W/ml、特定の態様において0.8〜1.3W/mlである、(1) に記載の方法で生成されたシリンジ部品を形成する可能性がある、本発明による特定のシリンジバレル。
本発明の一態様は、基板上に被覆材を塗布する方法である。 当該方法は、基板の提供、気化可能有機ケイ素前駆体の提供、化学蒸着による当該前駆体の当該基板への塗布を含む。 当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で塗布する。 本発明の望ましい態様においては、1〜6の標準体積の当該前駆体、5〜100の標準体積の搬送ガス、0.1〜2の標準体積の酸化剤の標準体積比を有する、ガス状反応物質または処理ガスが利用されている。
本発明の別の態様は、前述処理により生成される種類の被覆材である。
本発明の別の態様は、基板を定義する表面により定義される内腔を含む容器である。 被覆材が、当該基板の少なくとも一部に存在する。 当該被覆は、先に定義済みである処理により行なわれる。
本発明のさらに別の態様は、被覆材を基板へと塗布する化学蒸着装置である。 当該化学蒸着装置には、有機ケイ素前駆体供給源、搬送ガス供給源、酸化剤供給源が含まれる。 当該化学蒸着装置にはさらに、1〜6の標準体積の当該前駆体、5〜100の標準体積の当該搬送ガス、0.1〜2の標準体積の当該酸化剤からなるガス状反応物質または処理ガスを、当該基板へと搬送するための1つ以上の導管が含まれる。 当該化学蒸着装置にはさらに、マイクロ波または無線周波エネルギー供給源、および当該ガス状反応物質または処理ガス内でプラズマを生成するための、当該マイクロ波または無線周波エネルギー供給源による電力適用装置が含まれる。
さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、および被覆材からなるシリンジである。 当該バレルは容器であり、当該容器内腔を定義し、スライドする当該プランジャーを収受する内面を有する。 当該容器の内表面は基板である。 当該被覆材は、当該基板、当該プランジャー、両方の上の潤滑層/被覆材であり、化学蒸着により塗布され、1〜6標準体積の有機ケイ素前駆体、5〜100標準体積の搬送ガス、0.1〜2標準体積の酸化剤からなる当該ガス状反応物質または処理ガスを利用する。
さらなる本発明の別の態様は、ピストン、被覆材、およびプッシュロッドからなるシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは前面、通常シリンダー状である基板からなる側面、後部を有する。 当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。 当該被覆材は基板上にあり、側面と接合する潤滑層/被覆材である。 当該潤滑層/被覆材は、先に定義したガス状反応物質または処理ガスを利用する、化学蒸着(CVD) 処理により生成される。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
本発明の別の態様は、停止部材である。 当該停止部材には、基板を定義し、停止されるべき開口部内に収受されるよう適合される、スライド表面が含まれる。 当該基板は、有機ケイ素化合物からなる前駆体の提供; および上記で定義されるガス状反応物質または処理ガスを利用する化学蒸着による当該スライド表面の少なくとも一部への当該前駆体の塗布により生成された、潤滑性被覆材で被覆されている。
本発明のさらなる別の態様は、前述実施例のいずれかで定義される基板上に前述実施例のいずれかで定義される被覆材を有する容器を含む、医療/診断キットである。 随意に、当該キットにはさらに、当該被覆材と接触する当該被覆容器に包含される薬剤または診断薬、および/または皮下注射針、両頭針、またはその他の搬送導管、および/または使用説明書が含まれる。
本発明のその他の態様には、以下の1つ以上が含まれる:
表面を被覆するための上述で説明したいずれかの実施例に記載の、したがって、当該被覆材と接触する化合物または組成物の表面の機械的および/または化学的作用を防止するまたは低減させる、当該被覆材の使用法。
潤滑層として、説明したいずれかの実施例に記載の当該被覆材の使用法。
表面を被覆するための上述で説明したいずれかの実施例に記載の、したがって、当該被覆材と接触する化合物または組成物の表面の機械的および/または化学的作用を防止するまたは低減させる、当該被覆材の使用法。
潤滑層として、説明したいずれかの実施例に記載の当該被覆材の使用法。
当該被覆材と接触する化合物または組成物の、非被覆容器の表面の機械的および/または化学的作用からの保護について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。
当該被覆材と接触する組成物の化合物または成分の、沈殿および/または凝固あるいは血小板活性化の防止または低減について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。
1つのオプションとして、当該組成物の化合物または成分物はインスリンであり、当該インスリンの沈殿が防止または低減される。 別のオプションとして、当該組成物の化合物または成分物は血液または血液分画であり、血液凝固または血小板活性化が防止または低減される。 別のオプションとして、当該被覆容器は採血管である。 随意に当該採血管は、例えばエチレンジアミン四酢酸 (EDTA)、 そのナトリウム塩、またはヘパリンなどの、血液凝固または血小板活性化を防止するための溶剤を含む場合がある。
1つのオプションとして、当該組成物の化合物または成分物はインスリンであり、当該インスリンの沈殿が防止または低減される。 別のオプションとして、当該組成物の化合物または成分物は血液または血液分画であり、血液凝固または血小板活性化が防止または低減される。 別のオプションとして、当該被覆容器は採血管である。 随意に当該採血管は、例えばエチレンジアミン四酢酸 (EDTA)、 そのナトリウム塩、またはヘパリンなどの、血液凝固または血小板活性化を防止するための溶剤を含む場合がある。
本発明の利用の追加オプションには、以下の1つ以上が含まれる:
化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。
化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。
インスリンの保管を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。
血液の保管を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。 随意に当該保管血液は、患者の血管系へと戻すことが可能である。
(i) 非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑層/被覆材、および/または (ii) 非被覆表面より疎水性が高い疎水層/被覆材を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆材の使用法。
(i) 非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑層/被覆材、および/または (ii) 非被覆表面より疎水性が高い疎水層/被覆材を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆材の使用法。
本発明のその他の態様は、当技術分野の当事者による、本開示および請求項の審議後に明白となるだろう。
詳細な説明
本発明について、とりわけ、複数の実施例を示す添付図面を参照しながら、ここからより詳細な説明を行う。 しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施例に制限されるものではない。 むしろこれらの実施例は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。 類似番号は、類似または対応する要素に言及する。 以下の開示は、具体的に特定の実施例に制限される場合を除き、すべての実施例に関連する。
本発明について、とりわけ、複数の実施例を示す添付図面を参照しながら、ここからより詳細な説明を行う。 しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施例に制限されるものではない。 むしろこれらの実施例は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。 類似番号は、類似または対応する要素に言及する。 以下の開示は、具体的に特定の実施例に制限される場合を除き、すべての実施例に関連する。
定義セクション
本発明の文脈において、以下の定義および略称を使用する：
RFは無線周波数（radio frequency）、sccmは標準立方センチメートル毎分（standard cubic centimeters per minute）を指す。
本発明の文脈において、以下の定義および略称を使用する：
RFは無線周波数（radio frequency）、sccmは標準立方センチメートル毎分（standard cubic centimeters per minute）を指す。
本発明の文脈における用語「少なくとも」は、当該用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。 用語「からなる」はその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は別途指定がない限り複数である場合がある。 パラメータ範囲が示される場合は常に、当該範囲の限度としておよび、前述範囲内にあるすべてのパラメータ値として与えられた、当該パラメータ値を開示することを意図する。
「第1」および「第2」または類似の、例えば処理 ステーションまたは処理機器を指す用語は、存在する処理ステーションまたは機器の最低数を示すが、必ずしも処理ステーションおよび機器の順番または合計数を表すものではない。 これらの用語は、処理ステーションまたは各ステーションで行われる特定の処理の数を制限するものではない。
本発明の目的において、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物である：
または
当該結合は、酸素または窒素原子1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 PECVD装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体が、随意の有機ケイ素前駆体である。 随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。
当該結合は、酸素または窒素原子1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 PECVD装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体が、随意の有機ケイ素前駆体である。 随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。
PECVD前駆体、 ガス状反応物質または処理ガス、搬送ガスの供給量は、本明細書および請求項において「標準体積」と表現されることがある。 ガスの電荷量またはその他の固定量の標準体積は、標準の気温および気圧に占める当該ガスの固定量である (供給時の実際の気温および気圧は不問)。 標準体積は、量の異なる単位を利用して測定可能であり、なおも本開示および請求項に従う。 例えば、同一固定量のガスは、当該標準立方センチメートルの数値、当該標準立方メートルの数値、または当該標準立方フィートの数値で表される可能性がある。 標準体積は、異なる標準気温および気圧を利用して定義可能であり、なおも本開示および請求項に従う。 例えば、当該標準気温は0℃および当該標準気圧は760トール (従来と同様)である可能性があり、または当該標準気温は20℃および当該標準気圧は1トールである可能性がある。 ただし所定の例でどのような標準を利用しようとも、特定のパラメータを指定せずに2種以上の異なるガスの相対量を比較する場合、別途指定がない限り、それぞれのガスについて同一の容積単位、標準気温、標準気圧を利用するべきである。
対応するPECVD前駆体、ガス状反応物質または処理ガス、搬送ガスの供給率は、本明細書における時間単位あたりの標準体積で表される。例えば、当該実施例で流量率は、分あたりの標準立方センチメートル（sccm）として表されている。 その他のパラメータについては、秒または時間といったその他の時間単位を利用可能であるが、2種以上のガス流量率を比較する場合は、別途指定がない限り、一定のパラメータを利用するべきである。
本発明の文脈における「容器」は、少なくとも1つの開口部と内面を定義する壁を有するあらゆる種類の容器である場合がある。 基板は、内腔を有する容器の内壁である場合がある。 本発明は必ずしも特定量の容器に限定されるものではないが、容器は、内腔の隙容量が0.5〜50mL、随意に1〜10mL、随意に0.5〜5mL、随意に1〜3mLであると考察されている。 当該基板表面は、少なくとも1つの開口部と1つの内面を有する容器の内面の、一部またすべてである場合がある。
本発明の文脈における用語「少なくとも」は、当該用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。 したがって、本発明の文脈における容器は、1つ以上の開口部を有する。 検体管の開口部（1つ）またはシリンジバレルの開口部（2つ）のように、1つまたは2つの開口部が望ましい。 当該容器が2つの開口部を有する場合、それらは同一または異なるサイズである場合がある。 開口部が1つ以上である場合、1つの開口部は本発明に記載のPECVD被覆法のガス吸入のために使用し、その他の開口部は蓋をするか開口状態にすることが可能である。 本発明に記載の容器は、例えば血液、尿などの生物学的流体を採取/保管する検体管、 生物学的に活性な化合物または組成物（薬剤または医薬組成物）を保管/搬送するシリンジ（またはシリンジバレルなどその一部）、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を保管するバイアル、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を搬送する導管（例えばカテーテル）、流体、例えば生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を把持するキュベットである可能性がある。
容器はあらゆる形状をとる場合があり、少なくとも1つの開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器が望ましい. 通常、当該容器の内部壁は、例えば検体管またはシリンジバレルのようにシリンダー状の形状をしている。 検体管またはシリンジまたはその一部（例えばシリンジバレル）が考察される。
本発明の文脈における「疎水層」は、被覆材で被覆される表面のぬれ張力を、非被覆表面と比較して低下させる被覆材を意味する。 疎水性は、したがって、非被覆基板および被覆の両方の機能である。 適切な変更を伴う同様のことが、用語 「疎水性」が使用されるその他の文脈に適用される。 用語「親水性」はその反対を意味し、すなわち参照検体と比較してぬれ張力が増大することを意味する。 本疎水層は、疎水性および疎水性を提供する処理条件により、主に定義される。また随意に、経験的組成物または総和公式SiwOxCyHzによる組成物を含む場合がある。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。 通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36%〜41%を含む可能性がある。
これらのw、x、y、zの値は、本明細書を通して経験的組成物SiwOxCyHzに適用可能である。 本明細書を通して使用されるw、x、y、zの値は、分子内の原子の数や種類の制限ではなく、比率または経験的公式 (例: 被覆材のための) として理解されるべきである。 例えば、分子組成Si4O4C8H24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、以下経験的公式により記述可能であり、分子式内の各w、x、y、zを4で割ることにより最大共通因数: Si1O1C2H6が求められる。 w、x、y、およびzの値は、また整数に限定されるものではない。 例えば、分子組成Si3O2C8H24である（非環状）オクタメチルトリシロキサンは、Si1O0.67C2.67H8に約分可能である。
「ぬれ張力」とは、表面の疎水性または親水性の特定の測定値である。 本発明の文脈における随意の ぬれ張力の測定方法は、ASTM D 2578またはASTM D 2578内で説明される方法の改良法である。当該方法では、標準のぬれ張力溶液（ダイン溶液と呼ばれる）を使用して、当該溶液が2秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。 これが当該膜のぬれ張力である。 本明細書内で使用される手順はASTM D 2578のものとは異なり、当該基板は平板プラスチック膜ではなく、「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され（対照を除き）「管内部を疎水層/被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い被覆された管である（EP2251671 A2の実施例9を参照）。
本発明に記載の「潤滑性の層」は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材を指す。 言い換えれば、非被覆の参照表面と比較して被覆表面の摩擦抵抗を低下させる被覆材である。 本潤滑層は主に、非被覆表面より低い摩擦抵抗および非被覆表面より低い摩擦抵抗を提供する条件により定義され、随意に、本書で定義される経験的組成物SiwOxCyHzに従う組成物を有する場合がある。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。 通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36%〜41%を含む可能性がある。
「摩擦抵抗」は、静的摩擦抵抗 および/または動的摩擦抵抗である場合がある。
本発明の随意の実施例の1つに、潤滑層で被覆されたシリンジの部品、例えばシリンジバレルまたはプランジャーが挙げられる。 この考察実施例において、本発明の文脈における静的摩擦抵抗は本明細書で定義する起動力であり、本発明の文脈における動的摩擦抵抗は本明細書で定義するプランジャースライド力である。 例えば、本明細書で定義し決定するプランジャースライド力は、当該被覆材がシリンジまたはシリンジ部品、例えばシリンジバレル内壁に塗布されるときはいつでも、本発明の文脈における潤滑層/被覆材の有無および潤滑特性を決定するのに適する。 当該起動力は、充填済みシリンジに対する被覆材作用の評価に特定の関連があり、すなわち、被覆後に充填され当該シリンジを再び動かす（「起動」する）まで長期保存（数カ月または数年）可能であるシリンジに関する。
本発明の文脈における「プランジャースライド力」 (本説明でも使用されている、「グライド力」、「維持力、Fm」と同義) は、例えば吸引または投与の際にシリンジバレル内でのプランジャーの移動を維持するのに必要な力である。 これは有利に、本明細書内で述べるおよび当技術分野で周知のISO 7886-1:1993試験を利用して決定される場合がある。当技術分野で使用される「プランジャースライド力」の類義語として、「プランジャー力」または「プッシュ力」が挙げられる。
本発明の文脈における「プランジャー起動力」 (本説明でも使用されている、「起動力」、「ブレイクルース力」、「開始力、Fi」と同義) は、例えば充填済みシリンジにおいて、シリンジバレル内でプランジャーを移動させるのに必要な最初の力である。
「プランジャースライド力」と「プランジャー起動力」およびそれらの測定方法は、後続セクションでより詳細に説明する。 これらの2つの力は本書内で、N、ポンド、kg、およびこれらの3つすべての単位で表される場合がある。 これらの単位の相関性は以下の通りである:1N = 0.102 kg = 0.2248 lbs (ポンド)。
スライド力および起動力は本書では、 停止部材またはその他の閉包部を容器（医療サンプル管またはバイアル）内へと前進させ当該停止部材を容器内に装填して当該容器を閉口するのに必要な力を、説明するために使用されている。 その使用は、シリンジとそのプランジャーの状況における使用に類似する。また、容器およびその閉包部のこれらの力の測定は、シリンジのそれらの力の測定に類似すると考察される。ただし少なくともほとんどの場合、閉包部を装填位置まで前進させる際に容器から流体が一切排出されない場合を除く。
「スライド可能に」とは、当該プランジャー、閉包部、その他の取り外し可能部品をシリンジバレルまたはその他の容器内でスライドできる状態であることを指す。
本発明の文脈において、「実質上固定」とは、いかなる当該組立部品も互いに大幅に位置を変えることなしに、当該組立部品（以下でさらに説明するポート、ダクト、筺体）を1つのユニットとして移動可能であることを意味する。 具体的には、ホースまたは通常の使用において当該部品同士の実質的な相対的移動を引き起こす類似部材により、接続されている部品はないということである。 実質上固定状態のこれらの部品の提供により、当該容器ホルダー上の装填済み容器の位置が、当該筺体に固定されているこれらの部品の位置とほぼ同様に既知かつ正確であることが可能となる。
説明セクション
本発明の一実施例は、容器80 (図１)、容器268 (図６)、停止部材282 (図６〜７)、シリンジ252 (図４) などの基板上に、90などの被覆材を塗布する方法である。 当該方法は、あらゆる開示実施例で利用可能である。 当該方法は、基板の提供（例えば、前述の実施例のいずれかのもの）、気化可能有機ケイ素前駆体の提供（例えば、本明細書で開示されているいずれかのもの）、化学蒸着による当該前駆体の当該基板への塗布を含む。 当該前駆体は、段落 [002] で引用されたEP用途の、図2、26の装置において、または被覆材を有効に生成する条件であるその他の実施例において、塗布される。
本発明の一実施例は、容器80 (図１)、容器268 (図６)、停止部材282 (図６〜７)、シリンジ252 (図４) などの基板上に、90などの被覆材を塗布する方法である。 当該方法は、あらゆる開示実施例で利用可能である。 当該方法は、基板の提供（例えば、前述の実施例のいずれかのもの）、気化可能有機ケイ素前駆体の提供（例えば、本明細書で開示されているいずれかのもの）、化学蒸着による当該前駆体の当該基板への塗布を含む。 当該前駆体は、段落 [002] で引用されたEP用途の、図2、26の装置において、または被覆材を有効に生成する条件であるその他の実施例において、塗布される。
ガス状反応物質または処理ガスは、例えば潤滑性被覆材が生成される場合は、以下の標準体積を利用可能である:
1〜6の標準体積の、随意に2〜4の標準体積の、随意に6以下の標準体積の、随意に2.5以下の標準体積の、随意に1.5以下の標準体積の、随意に1.25以下の標準体積の当該前駆体、
1〜100の標準体積の、随意に5〜100の標準体積の、随意に10〜70標準体積の 搬送ガス、
0.1〜2の標準体積の、随意に0.2〜1.5の標準体積の、随意に0.2〜1の標準体積の、随意に0.5〜1.5の標準体積の、随意に0.8〜1.2の標準体積の酸化剤。
1〜6の標準体積の、随意に2〜4の標準体積の、随意に6以下の標準体積の、随意に2.5以下の標準体積の、随意に1.5以下の標準体積の、随意に1.25以下の標準体積の当該前駆体、
1〜100の標準体積の、随意に5〜100の標準体積の、随意に10〜70標準体積の 搬送ガス、
0.1〜2の標準体積の、随意に0.2〜1.5の標準体積の、随意に0.2〜1の標準体積の、随意に0.5〜1.5の標準体積の、随意に0.8〜1.2の標準体積の酸化剤。
別の実施例は、例えば図７の実施例286の被覆材、または、いずれかの実施例における前述処理により生成される種類と同等の被覆材である。
別の実施例は、容器80 (図１)、容器 268 (図６)、シリンジ 252 (図４) などの基板を定義する表面により定義される内腔を含む容器である。 被覆材は、当該基板の少なくとも一部に存在する。 当該被覆は、先に定義済みである処理により行なわれる。
さらなる別の実施例は、図１１の装置28 (またはその他の図示された被覆装置、例えば、図１、２、８、１０、１２〜１５に図示する装置など) といった、被覆材を基板に塗布するための化学蒸着装置である。
図１２は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。 容器処理システム20は、とりわけ、第1処理ステーション5501からなり、さらに第2処理ステーション5502からなる場合とならない場合がある。 かかる処理ステーションの実施例は、例えば、図1の参照数表示で描写される。
当該第1容器処理ステーション5501は、装填済み容器80を把持する容器ホルダー38を含む。 図１２に血液管80が描写されているが、当該容器はシリンジ本体、バイアル、カテーテル、または例えばピペットである場合がある。 当該容器は、例えばガラス製またはプラスチック製である場合がある。 プラスチック容器の場合、当該第1処理ステーションはまた当該プラスチック容器をモールドするためのモールドからなる場合がある。
当該第1処理ステーションでの第1処理（当該処理は、当該容器のモールド、当該容器の欠陥検出のための第1検査、当該容器内面の被覆、および当該容器、特に当該内部被覆材の欠陥検出のための第2検査からなる）の後に、当該容器ホルダー38を当該容器82と共に第2容器処理ステーション5502に搬送する。 この搬送は、コンベヤー装備70、72、74により実行される。 例えば、当該容器/ホルダー複合体を次の処理ステーション5502に移動させるため、当該容器ホルダー38および/または当該容器80を把持する1つの把持部または複数の把持部を用意する場合がある。 あるいは、当該把持部なしで当該容器を移動する場合がある。 しかし、当該把持部を適合すると当該コンベヤー装備による搬送が可能となるため、当該把持部と当該容器を共に移動することは有利である場合がある。
図１３は、本発明の別の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。 ここでも、2つの容器処理ステーション5501、5502を用意する。 さらに、追加の容器処理ステーション5503、5504を連続して配備し、当該容器を処理、すなわち検査および/または被覆できるようにすることが可能である。
図１３は、本発明の別の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。 ここでも、2つの容器処理ステーション5501、5502を用意する。 さらに、追加の容器処理ステーション5503、5504を連続して配備し、当該容器を処理、すなわち検査および/または被覆できるようにすることが可能である。
容器は、ストックから左側の処理ステーション5504へと移動可能である。 あるいは当該容器は、第1処理ステーション5504でモールド可能である。 どちらの場合も、モールド、検査および/または被覆（次に第2検査を行う場合がある）といった第1容器処理は、当該処理ステーション5504で実行する。 その後、当該容器を次の処理ステーション5501に当該コンベヤー装備70、72、74経由で移動する。 一般に、当該容器は当該容器ホルダーと共に移動する。 第2処理を当該第2処理ステーション5501で実施し、その後、当該容器と把持部を第3処理を実施する次の処理ステーション5502へと移動する。 当該容器をその後（再び当該把持部と共に）、第4処理のために当該第4処理ステーション5503に移動し、その後保管するために搬送する。
当該容器を処理する各被覆手順またはモールド手順またはその他の手順の前および後に、当該容器全体の、当該容器の一部の、および特に当該容器の内面の検査を実施する場合がある。 各検査の結果を、中央処理装置5505にデータバス5507経由で送信する。 各処理ステーションを当該データバス5507と接続する。 先に説明したプログラム要素はプロセッサ5505上で実行される場合があり、中央制御調整装置の形態に適合される場合がある当該プロセッサは、当該システムを制御する、さらには、検査データを処理し、当該データを分析し、最後の処理手順が成功であったかどうかを判定するよう適合される場合がある。
例えば当該被覆材に孔があるため、または当該被覆材の表面が標準でありまたは十分に平滑でないため、最後の処理手順が不成功であったと判定される場合、当該容器は次の処理ステーションに進むことなく当該製造工程（コンベヤーセクション7001、7002、7003、7004）から除去されるか、再処理するために返送される。
当該プロセッサ5505は、制御/調整パラメータを入力するためのユーザーインターフェース5506に接続する場合がある。
図１４は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理ステーション5501を示す。 当該ステーションは、当該容器内面を被覆するためのPECVD装置5701からなる。 さらに、容器検査用の複数の検出器5702〜5707を用意する場合がある。 かかる検出器は、例えば電気計測を実施する電極、光学検出器、CCDカメラ類、ガス検出器、または圧力検出器である場合がある。
図１５は、本発明の模範的実施例に記載の容器ホルダー38と共に、複数の検出器5702、5703、5704およびガス吸入ポート108、110を有する電極を示す。
当該電極と当該検出器5702は、当該容器が当該把持部38に装填済みである場合、当該容器80の内腔に移動するよう適合される場合がある。
例えば当該装填済み容器80の外部に配置される光学検出器5703、5704 を利用して、またはさらには当該容器80の内腔内に配置される光学検出器5705を利用して、特に被覆手順中に、当該光学検査を実施する場合がある。
当該検出器はカラーフィルターからなる場合があり、異なる波長を当該被覆処理中に検出可能である。 当該処理装置5505は当該光学データを分析し、当該被覆が成功であったか所定の確実性レベルに達していないかどうかを判定する。 当該被覆材がおそらく不成功であったと判定される場合、それぞれの容器を当該処理システムから隔離する、または再処理する。
また図１１を参照に、当該化学蒸着装置には、有機ケイ素前駆体供給源（貯留層588など）、搬送ガス供給源（602など）、酸化剤供給源（594）が含まれる。 当該化学蒸着装置にはさらに、1〜6の標準体積の当該前駆体、5〜100の標準体積の当該搬送ガス、0.1〜2の標準体積の当該酸化剤からなるガス状反応物質または処理ガスを、当該基板へと搬送するための1つ以上の導管（導管108、586、590、604、596など）が含まれる。 当該化学蒸着装置にはさらに、マイクロ波または無線周波エネルギー供給源162、および当該ガス状反応物質または処理ガス内でプラズマを生成するための、当該マイクロ波または無線周波エネルギー供給源による電力適用装置または電極（160 など）が含まれる。
さらなる別の実施例は、 プランジャー258、バレル250、内面264上の被覆材からなるシリンジ（252など）である。 当該バレル250は容器であり、当該容器内腔274を定義し、スライドする当該プランジャー258を収受する内面264を有する。 当該容器の内面264は基板である。 当該被覆材は、当該基板264、当該プランジャー258、両方の上の潤滑層であり、化学蒸着により塗布され、1〜6の標準体積の有機ケイ素前駆体、5〜100の標準体積の搬送ガス、0.1〜2の標準体積の酸化剤からなる当該ガス状反応物質または処理ガスを利用する。 この潤滑性被覆材に加えて、当該シリンジは1つ以上のその他の被覆材（本書で説明するSiOx遮断性被覆材など）を含む場合がある。 前述の追加被覆材は、当該潤滑性被覆材の下または上に塗布される場合がある（被覆基板付近またはシリンジ内腔付近など）。
ガラスシリンジからプラスチックシリンジに切替える際の懸念事項は、プラスチックからの浸出物に関するものに集中している。 HMDSO自体は微量金属を一切含んでおらず、無機質、金属、有機溶質遮断材として機能するため、これらの物質の基板からシリンジの流体への浸出を防止する。 プラスチックシリンジの浸出の制御に加えて、同一のプラズマ被覆技術は、浸出物性レベルがより高い有機オリゴマーや触媒を含有するプラスチック組成物であるエラストマープラスチック組成物であることが通常なプランジャー端部に、溶質遮断性を提供する可能性がある。
さらには、合成および生物学的な製剤処方を充填した特定のシリンジは、酸素と湿度の影響を非常に強く受ける。 ガラス製シリンジバレルからプラスチック製シリンジバレルへの切替えにおける最重要要素は、プラスチックが酸素および湿度を遮断する機能の向上であろう。 酸素および湿度から保護するSiOx遮断性被覆材を提供できる、プラズマ被覆技術が適している。
また別の実施例は、ピストン、被覆材、およびプッシュロッドを含むシリンジ252用のプランジャー258である。 当該ピストンは前面、通常シリンダー状である基板からなる側面、後部を有する。 当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。 当該被覆材は基板上にあり、側面と接合する潤滑層である。 当該潤滑層は、先に定義したガス状反応物質または処理ガスを利用する、化学蒸着(CVD) 処理により生成される。 当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
別の実施例は、282などの停止部材である (図６〜７)。 当該停止部材282には、基板を定義し、停止されるべき開口部内に収受されるよう適合される、スライド表面276が含まれる。 当該基板は、有機ケイ素化合物からなる前駆体の提供、および上記で定義されるガス状反応物質または処理ガスを利用する化学蒸着による当該スライド表面の少なくとも一部に当該前駆体の塗布により生成された、潤滑性被覆材288で被覆されている。
さらなる別の実施例は、前述実施例のいずれかで定義される基板上に前述実施例のいずれかで定義される被覆材を有する容器を含む、医療/診断キットである。 随意に、当該キットにはさらに、当該被覆材と接触する当該被覆容器に包含される薬剤または診断薬、および/または皮下注射針、両頭針、またはその他の搬送導管、および/または使用説明書が含まれる。
本発明のその他の態様には、以下の1つ以上が含まれる:
表面を被覆するための上述で説明したいずれかの実施例に記載の、したがって、当該被覆材と接触する化合物または組成物の表面の機械的および/または化学的作用を防止するまたは低減させる、当該被覆材の使用法。
潤滑層として、説明したいずれかの実施例に記載の当該被覆材の使用法。
表面を被覆するための上述で説明したいずれかの実施例に記載の、したがって、当該被覆材と接触する化合物または組成物の表面の機械的および/または化学的作用を防止するまたは低減させる、当該被覆材の使用法。
潤滑層として、説明したいずれかの実施例に記載の当該被覆材の使用法。
当該被覆材と接触する化合物または組成物の、非被覆容器の表面の機械的および/または化学的作用からの保護について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。
当該被覆材と接触する組成物の化合物または成分の、沈殿および/または凝固あるいは血小板活性化の防止または低減について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。
1つのオプションとして、当該組成物の化合物または成分物はインスリンであり、当該インスリンの沈殿が防止または低減される。 別のオプションとして、当該組成物の化合物または成分物は血液または血液分画であり、血液凝固または血小板活性化が防止または低減される。 別のオプションとして、当該被覆容器は採血管である。 随意に当該採血管は、例えばエチレンジアミン四酢酸 (EDTA)、 そのナトリウム塩、またはヘパリンなどの、血液凝固または血小板活性化を防止するための溶剤を含む場合がある。
1つのオプションとして、当該組成物の化合物または成分物はインスリンであり、当該インスリンの沈殿が防止または低減される。 別のオプションとして、当該組成物の化合物または成分物は血液または血液分画であり、血液凝固または血小板活性化が防止または低減される。 別のオプションとして、当該被覆容器は採血管である。 随意に当該採血管は、例えばエチレンジアミン四酢酸 (EDTA)、 そのナトリウム塩、またはヘパリンなどの、血液凝固または血小板活性化を防止するための溶剤を含む場合がある。
本発明の利用の追加オプションには、以下の1つ以上が含まれる:
例えば検体採取管といった容器、例えば採血管および/または閉口端検体採取管/バイアル/導管/キュベットまたは容器部品、例えば停止部材またはシリンジまたはシリンジ部品、例えばバレルまたはピストンなどの、化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。
例えば検体採取管といった容器、例えば採血管および/または閉口端検体採取管/バイアル/導管/キュベットまたは容器部品、例えば停止部材またはシリンジまたはシリンジ部品、例えばバレルまたはピストンなどの、化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。
前述実施例のいずれかに記載の被覆基板は、インスリン保管のため使用されることが考察される。
前述実施例のいずれかに記載の被覆基板は、血液保管のため使用されることが考察される。 随意に当該保管血液は、患者の血管系へと戻すことが可能である。
前述実施例のいずれかに記載の被覆材は、(i) 非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑層、および/または (ii) 非被覆表面より疎水性が高い疎水層として使用されることが考察される。
前述実施例のいずれかに記載の被覆材は、(i) 非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑層、および/または (ii) 非被覆表面より疎水性が高い疎水層として使用されることが考察される。
本発明のその他の態様は、要約セクションにおいて上記で定義される使用法のいずれかを含む。
以下に、本発明のより詳細な説明を示す。 本発明の潤滑性被覆材および疎水性被覆材の一般的説明から始まり、本発明の被覆材の生成に適した装置を説明し、その後、被覆材の実施例、被覆容器、それらの製造方法を説明する。
IA. 潤滑性被覆材
非経口製剤を供給するよう設計された装置は、当該製剤を当該装置から押し出すための動作可能なエラストマー製プランジャーを有する。 プランジャーには多くの場合、当該プランジャーを容易に動かすための潤滑性表面が提供されている。 遊離シリコン油は従来、潤滑性表面を創り出すために利用されているが, 遊離油はタンパク質の凝集および変性に関与している。
低分子量ポリジメチルシロキサン (PDMS) であるシリコン油は、ガラス表面およびプラスチック表面を潤滑にするための従来の主要方法であり、エラストマー製プランジャーとの相性に優れている。 通常、当該装置の内部に噴霧または塗布される。 これらの方法では、シリコン油の薄い流体層を付着させる。 焼き工程を通して当該油を当該装置表面に恒久的に付着させる試みにより、付着性は向上するが、シリコン油抽出物はなおも見られる。 装置上のシリコン油の不均一性が問題となり、シリンジの破損、自動注入装置利用時の投薬失敗に繋がる場合がある。
非経口製剤を供給するよう設計された装置は、当該製剤を当該装置から押し出すための動作可能なエラストマー製プランジャーを有する。 プランジャーには多くの場合、当該プランジャーを容易に動かすための潤滑性表面が提供されている。 遊離シリコン油は従来、潤滑性表面を創り出すために利用されているが, 遊離油はタンパク質の凝集および変性に関与している。
低分子量ポリジメチルシロキサン (PDMS) であるシリコン油は、ガラス表面およびプラスチック表面を潤滑にするための従来の主要方法であり、エラストマー製プランジャーとの相性に優れている。 通常、当該装置の内部に噴霧または塗布される。 これらの方法では、シリコン油の薄い流体層を付着させる。 焼き工程を通して当該油を当該装置表面に恒久的に付着させる試みにより、付着性は向上するが、シリコン油抽出物はなおも見られる。 装置上のシリコン油の不均一性が問題となり、シリンジの破損、自動注入装置利用時の投薬失敗に繋がる場合がある。
シリコン油の不均一性は当該油の不適切なまたは不良な塗布により発生し、重力の影響およびプランジャーからの圧力を受けて時間と共に沈降/浮遊する。 プランジャーを当該装置へと真空状態に位置付けると、当該プランジャーは機器上部から下部の当該プランジャーの最終装填位置へとシリコン油を押し出す（図３Ａを参照）。 当該プランジャーの肋材と当該装置のガラス表面との間のシリコン油は、時間の経過と共に、当該プランジャーの圧力を受けてプランジャーとシリンジ壁から浸出する。 さらにはシリコン油は、当該油の分布を変化させる重力を受けて、「沈殿」または浸出することが明らかになっている。 図３Ａ〜３Ｃは、シリコン油の不均一性の例を示す。
シリコン油の不均一性は、蓄積油への製剤の局所的曝露、高いブレークルース力、変化するグライド力が原因の当該装置の非円滑な動作などを含む、さまざまな問題に関与する。 変化するグライド力および高いブレークルース力は特に、自動注入装置の場合に問題となる。なぜなら、既知かつ一定の力で動作するよう設計されているからである。
本発明の潤滑性被覆材は、均一かつ強く付着された被覆材を作り出すプラズマから生成される。 これは、ぬれ張力、プランジャー力、抽出物、浸出物を比較する、既存の潤滑性手法と比較して優れた性能を有する。
本発明の潤滑性被覆材は、プラズマを生成するために有機ケイ素 前駆体 (好ましくは、環状有機ケイ素前駆体、特にオクタメチルシクロテトラシロキサン (OMCTS))、酸素、高周波、荷電電極を通常利用する、PECVD処理を利用して堆積される。 理論によって拘束されることなく、使用圧力と電力において当該プラズマ処理は、電子衝撃イオン化により引き起こされると確証される。すなわち、当該電子が本化学反応の裏にある駆動力であると確証される。 当該処理は高周波を利用して電子を励起し、その結果、プラズマ内で電子にエネルギーを付加するその他の標準的方法である、マイクロ波より低温度となる。 高エネルギー電子および当該ガスのイオンの混合物を含有する当該プラズマは、ケイ素および酸素および当該ケイ素に付着するメチル基を含有する被覆材を堆積する。 高エネルギー電子が、当該基板表面および、当該表面と当該OMCTSからのケイ素/酸素/メチル種との間の結合再形成を活性化する。 共有結合され均一かつ継続的な被覆材が、当該表面に堆積される。
当該被覆材はプラズマから堆積されるため、当該プラズマは当該容器内に分子レベルで均一に充填されるため、均一組成被覆材が得られると確証される。 当該潤滑性被覆材は本質的に、ケイ素、酸素、メチル基からなる。 AFM、FTIR、TOF/SIMS、XPS、および走査電子顕微鏡法により、純度および均一性が確認されている。
当該被覆材はプラズマから堆積されるため、当該プラズマは当該容器内に分子レベルで均一に充填されるため、均一組成被覆材が得られると確証される。 当該潤滑性被覆材は本質的に、ケイ素、酸素、メチル基からなる。 AFM、FTIR、TOF/SIMS、XPS、および走査電子顕微鏡法により、純度および均一性が確認されている。
当該ぬれ張力測定の精度は、+/- 3ダイン/cmである。
前述の表Iは、SiOxCyHz潤滑性被覆材で被覆されたCOCシリンジ、シリコン油 (Dow Corning Medical社製、医療グレード360) で被覆されたホウケイ酸ガラスシリンジおよび、Triboglide被覆材 (別名、液体潤滑剤) で被覆されたCOC容器で測定されたぬれ張力を示す。 30ダイン/cmのぬれ張力 は非常に疎水性であると見なされ、70ダイン/cmのぬれ張力は非常に親水性であると見なされる。 したがって、3種類の表面はすべて、相当の疎水性を示す。 本発明の潤滑性被覆材は、シリコン油と同様の疎水性を示すが、Triboglideよりは劣っている。
発明の潤滑性被覆材はまた、SiOx遮断性被覆材上に塗布可能である。 これは、SiO2層上の潤滑性被覆材のTEM画像を含む、図２１に示されている。
模範的潤滑性被覆材の抽出物特性の判定は、実施例Zで説明されている。当該潤滑性被覆材は、好ましくはシリコン油で被覆される ガラスシリンジより抽出物が少なく (実施例 Z)、 通常は後者より10%未満抽出物が少ない。概して、当該潤滑性被覆材抽出物の量は1〜500μg/Lの範囲であり、好ましくは5〜300μg/Lの範囲である。通常、判定の静的方法に基づき、80〜300μg/Lの範囲である場合がある。
当該潤滑性被覆材は被覆表面に付着するため、当該被覆材は時間が経過しても均一のままとなり、再生可能なブレークルース力およびグライド力が維持される。 模範的なブレークルース力およびグライド力を表IIに示す。
当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力 (Fi) とグライド力 (Fm) との間の差を低減させる。 これらの2種類の力は、潤滑性被覆材の有効性に関する重要な性能測定値である。 FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。 Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎる (極端な場合はゼロである) ことを意味し、時期尚早な/意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。
十分な潤滑性 (シリンジプランジャーがシリンジ内を移動でき、しかし当該プランジャーの制御不能な動きを回避するなど) を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm:8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm:8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。 当該実施例から、前述の範囲より低いFi値およびFm値が得られる場合が見られる可能性がある。 かかる低い値を有する被覆材もまた、本発明に包含されると見なされる。
表IIは、本発明に記載の潤滑性被覆材をシリコン油およびTriboglide潤滑性被覆材と比較したものである。 当該結果により、好ましい潤滑性被覆材はFiとFmとの間の一定性に優れていることが示される。
ブレークルース力およびグライド力は、装置の保存可能期間を通して、特に自動注入装置といった自動機器において重要である。 ブレークルース力および/またはグライド力の変動は、自動注入装置の投薬失敗に繋がる可能性がある。
本潤滑性被覆材は随意に、シリコン油で被覆されるシリンジと比較して、ケイ素抽出物が10分の1未満である。 当該PECVD処理の間、当該潤滑性被覆材は当該シリンジへと結合する。 これにより、劇的に抽出物が低下する。 処理の最適化により、当該潤滑性被覆材からのケイ素抽出物総量はさらに低下する場合がある。
本潤滑性被覆材は随意に、シリコン油で被覆されるシリンジと比較して、ケイ素抽出物が10分の1未満である。 当該PECVD処理の間、当該潤滑性被覆材は当該シリンジへと結合する。 これにより、劇的に抽出物が低下する。 処理の最適化により、当該潤滑性被覆材からのケイ素抽出物総量はさらに低下する場合がある。
本発明に記載の潤滑性被覆材は通常、有機ケイ素前駆体およびO2を利用するPECVDにより生成される。 特殊な実施例においてこれらの2種類の前駆体は搬送ガス、通常には希ガス、最も通常にはアルゴンと混合される。
当該有機ケイ素前駆体は、本説明に記載のいずれかの前駆体である可能性がある。 しかし環状有機ケイ素前駆体、特に単環有機ケイ素前駆体 (本説明に記載の単環前駆体など)、具体的にはOMCTS、は潤滑性被覆材を得るのに特に適している。
O2の存在および/または搬送ガス、特にアルゴンの存在により、得られる被覆材の潤滑性が増大する場合がある。 O2とアルゴンの両方が当該有機ケイ素前駆体と共に存在する場合、特に有利である。 通常潤滑性被覆材を得るためには、O2は当該有機ケイ素の量をあまり超えない量 (例えば、単位sccmの流量率で表わすことが可能)、好ましくは当該有機ケイ素より少ない量であることが示される。 対照的に、遮断性被覆材を得るためには、O2の量は通常、有機ケイ素前駆体の量より少なくとも1段階高くなる。 特に、潤滑性被覆材の有機ケイ素前駆体に対するO2の体積比 (単位sccm) は、0:1〜1:1であり、さらに随意に0:1〜0.5:1、さらに0:1〜0.1:1である。ある程度O2が存在していることが望ましく、当該有機ケイ素前駆体に対して随意に0.01:1〜0.5:1、さらに随意に0.05:1〜0.4:1、特に0.1:1〜0.2:1の量が望ましい。 当該O2の存在を量で表すと、当該有機ケイ素前駆体に対して約5%〜35% (v/v 単位 sccm) であり、特に約10%〜20%であり、さらには本実施例で示す比率であることが、特に潤滑性被覆材を得るのに適している。
本発明の一態様において、搬送ガスは反応混合物内に存在せず、本発明の別の態様では存在する。 本発明の特定の態様では当該搬送ガスは存在し、それはアルゴンである。 アルゴンが当該搬送ガスである場合、それは当該反応混合物内に存在し、通常は当該有機ケイ素前駆体の量 (および存在する場合はO2の量) を超える量で存在する。
通常、当該PECVD処理において当該プラズマはRF周波数で生成される。 当該プラズマは通常0.1〜25Wの電力で生成され、随意に1〜22W、随意に1〜10 W、随意に1〜5W、随意に2〜4W、例えば 3W、随意に3〜17W、随意に5〜14W、例えば6または7.5W、随意に7〜11W、例えば8Wで生成される。電極電力のプラズマ量に対する比率は、10 /ml未満、随意に5 /ml〜0.1 /ml、随意に6 W/ml〜0.1 W/ml、随意に4 W/ml〜0.1 W/ml、随意に2 W/ml〜0.2 W/mlである場合がある。 低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。 当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。
当該潤滑性被覆材の基板は通常、プラスチック製の表面 (プラスチックシリンジの内面) である。 通常のプラスチック製基板については、本説明内に記載されている。 本発明の文脈において特に適した基板はCOC、PET、ポリプロピレンであり、具体的にはCOCが適している。
本発明のの特殊な態様において、当該基板は、SiOx遮断性被覆材などの被覆材ですでに被覆されているプラスチックである。 前述の既存の被覆材上に、当該潤滑性被覆材が塗布される。 またはその逆に、当該潤滑性被覆材は、遮断性被覆材などの別の被覆材で被覆される場合もある。
本発明の非常に特殊な態様において、当該潤滑性は、当該潤滑性被覆材の粗度により影響を受ける。 驚くべきことに当該被覆材の粗表面は、強化された潤滑性と相関していることが明らかになっている。 当該潤滑性被覆材の粗度は、当該プラズマを加圧する電力 (単位ワット) を低減させること、および先に説明した量内のO2の存在により、増加する。
本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器 (シリンジ バレルおよび/またはプランジャー) は、非被覆容器より高い潤滑性 (Fiおよび/またはFmの測定により判定) を有する。 これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。
本発明の非常に特殊な態様において、当該潤滑性は、当該潤滑性被覆材の粗度により影響を受ける。 驚くべきことに当該被覆材の粗表面は、強化された潤滑性と相関していることが明らかになっている。 当該潤滑性被覆材の粗度は、当該プラズマを加圧する電力 (単位ワット) を低減させること、および先に説明した量内のO2の存在により、増加する。
本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器 (シリンジ バレルおよび/またはプランジャー) は、非被覆容器より高い潤滑性 (Fiおよび/またはFmの測定により判定) を有する。 これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。
直径1/8インチの管を有する3 mlの検体サイズシリンジ (端部開口) で、本発明に記載の潤滑性被覆材を生成する模範的反応条件は以下の通りである:
流量範囲：
OMCTS: 0.5 - 5.0 sccm
酸素: 0.1 - 5.0 sccm
アルゴン: 1.0 - 20 sccm
電力: 0.1 -10ワット
特定流量率:
OMCTS: 2.0 sccm
酸素: 0.7 sccm
アルゴン: 7.0 sccm
電力: 3.5ワット
当該被覆材装置は有利に、加熱された管路供給を、OMCTS貯留層排出部からシリンジへのガス吸入部へと、できる限り接近させることが可能である。
流量範囲：
OMCTS: 0.5 - 5.0 sccm
酸素: 0.1 - 5.0 sccm
アルゴン: 1.0 - 20 sccm
電力: 0.1 -10ワット
特定流量率:
OMCTS: 2.0 sccm
酸素: 0.7 sccm
アルゴン: 7.0 sccm
電力: 3.5ワット
当該被覆材装置は有利に、加熱された管路供給を、OMCTS貯留層排出部からシリンジへのガス吸入部へと、できる限り接近させることが可能である。
当該潤滑性被覆材は、以下のV.Cでより詳細に説明する。
IB. 疎水性被覆材
ケイ素は炭素と同様四価であり、したがって4つ合わさって結合することを好む。 ガラスでは、ケイ素は酸素と結合して、それがまた別のケイ素と結合して (シロキサン結合、Si-O-Si)、その結果SiO2ポリマーとなる。 シロキサン結合のネットワークが構成され、シリカを生成する。 シリカの表面には、その他のケイ素原子と結合していない酸素原子が、シラノールとして知られるヒドロキシル (OH) 基として存在している。 ガラス表面の末端基は、したがって、1つ以上のOH基またはシロキサン結合を有するシラノールである。 本書に記載のSiOx被覆材といった結晶シリカ表面に、孤立シラノールが見られる。 従来のガラスといった非晶質シリカには、孤立シラノールおよび近接シラノールの両方が見られる。 理論によって拘束されることなく、この界面化学の化学的特性は主に、面上のシラノール基の密度により判定されると確証される。 可能な限り最大のシラノールの密度を有する、完全にヒドロキシル化されたガラス表面は、非常に親水性である。 当該シラノールが凝結してシロキサン結合を形成する (シラノールの最低密度) 表面は、疎水性の特質を有する。 本書に記載の被覆材技術を利用して、当該被覆材表面上のシラノールの密度を制御可能である。 プラズマ堆積の化学は、完全にヒドロキシル化した親水性表面または最低限にヒドロキシル化した疎水性表面のいずれかへと、制御可能である。
ケイ素は炭素と同様四価であり、したがって4つ合わさって結合することを好む。 ガラスでは、ケイ素は酸素と結合して、それがまた別のケイ素と結合して (シロキサン結合、Si-O-Si)、その結果SiO2ポリマーとなる。 シロキサン結合のネットワークが構成され、シリカを生成する。 シリカの表面には、その他のケイ素原子と結合していない酸素原子が、シラノールとして知られるヒドロキシル (OH) 基として存在している。 ガラス表面の末端基は、したがって、1つ以上のOH基またはシロキサン結合を有するシラノールである。 本書に記載のSiOx被覆材といった結晶シリカ表面に、孤立シラノールが見られる。 従来のガラスといった非晶質シリカには、孤立シラノールおよび近接シラノールの両方が見られる。 理論によって拘束されることなく、この界面化学の化学的特性は主に、面上のシラノール基の密度により判定されると確証される。 可能な限り最大のシラノールの密度を有する、完全にヒドロキシル化されたガラス表面は、非常に親水性である。 当該シラノールが凝結してシロキサン結合を形成する (シラノールの最低密度) 表面は、疎水性の特質を有する。 本書に記載の被覆材技術を利用して、当該被覆材表面上のシラノールの密度を制御可能である。 プラズマ堆積の化学は、完全にヒドロキシル化した親水性表面または最低限にヒドロキシル化した疎水性表面のいずれかへと、制御可能である。
以下の表IIIは、異なる4種類の製剤容器表面のぬれ張力を示したものである。 20ダイン/cmのぬれ張力 は非常に疎水性であると見なされ、80ダイン/cmのぬれ張力は非常に親水性であると見なされる。 表IIIのデータは、当SiO2遮断性被覆材が従来のガラスと同等に親水性であることを示す。 対照的に、本発明の潤滑性被覆材 (表内ではSiOxCyHz被覆材と指定) はCOCのものと同様に疎水性である。
当該ぬれ張力測定の精度は、+/- 3ダイン/cmであった。
本発明の文脈において「疎水性」とは、非被覆基板 (プラスチックまたはその他の被覆材である場合あり) より疎水性であることを意味する。 しかし図２３に示すように、比較対象の疎水性表面 (図２３d内のCOC表面など) と同等に疎水性であることを意味する場合もある。 「疎水性」は、好ましくは60ダイン/cm未満の, より好ましくは50ダイン/cm未満の、特に15ダイン/cm〜46ダイン/cmまたは20ダイン/cm〜35ダイン/cmの、ぬれ張力を意味する。
疎水性表面被覆材のためのPECVD条件は、潤滑性被覆材の条件と同様であると考察され、実際のところ、ある被覆材が両機能を有用な程度に提供することは可能である。
疎水性被覆材をSiOx被覆材に塗布する条件における差異は、SiOx被覆材プロトコル (US2010/0298738 A1, par. 1000 to 1011) を疎水性被覆材プロトコル (US2010/0298738 A1, par. 1012 to 1023) と比較することで示される。 当該装置および当該前駆体 (HMDSO) は、これらの2つのプロトコルにおいて同一であるが、条件は異なっており、以下の模範的条件が示すように、通常疎水性被覆材についてのほうが緩やかである。
パラメータ SiOxプロトコル 疎水性プロトコル
O2流量率 90 sccm 60 sccm
ガス供給中の管内圧力
300 mトール 270 mトール
PECVD RF電力 50ワット 39ワット
電源ON時間 5秒 7秒
疎水性被覆の有利な特性は、SiOx被覆材および/または潤滑性被覆材と同一の装置を利用して、随意に塗布可能であることである。そのためすべてのPECVD被覆材は、条件を微調整して、単一処理内で連続して塗布可能である。
O2流量率 90 sccm 60 sccm
ガス供給中の管内圧力
300 mトール 270 mトール
PECVD RF電力 50ワット 39ワット
電源ON時間 5秒 7秒
疎水性被覆の有利な特性は、SiOx被覆材および/または潤滑性被覆材と同一の装置を利用して、随意に塗布可能であることである。そのためすべてのPECVD被覆材は、条件を微調整して、単一処理内で連続して塗布可能である。
疎水性被覆材は、非被覆表面より低いぬれ張力を有する場合があり、随意に20〜72ダイン/cm、随意に30〜60ダイン/cm、随意に30〜50ダイン/cm、30〜40ダイン/cm、随意に34ダイン/cmのぬれ張力である場合がある。提案されたぬれ張力、具体低には34ダイン/cmのぬれ張力は、ホウケイ酸ガラス (30ダイン/cm) 状の流体ケイ素被覆材のものと同等である。
図２３は、本発明に記載の疎水性被覆の作用および本発明に記載の親水性被覆材の作用を示す。
容器ホルダー
II.A. 本発明の被覆材を生成するために、容器ホルダーを用意する。 当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するため、当該携帯型容器ホルダー38、50、および482を用意する。 当該容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。
II.A. 本発明の被覆材を生成するために、容器ホルダーを用意する。 当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するため、当該携帯型容器ホルダー38、50、および482を用意する。 当該容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。
II.A. 当該容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。 当該第2ポートは、外気供給を受入または放出するよう設定される。 当該ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させるよう設定される。 当該容器ポート、第2ポート、およびダクトは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。 随意に、当該携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。 容器ホルダーを軽量化することで、1つの処理ステーションから次の処理ステーションへとより容易に搬送可能となる。
II.A. 当該容器ホルダーの特定の実施例において、当該ダクトはより具体的には、真空ダクトであり、そして当該第2ポートは、より具体的にには真空ポートである。 当該真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。 当該真空ポートは、当該真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。 当該容器ポート、真空ダクト、および真空ポートは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着可能である。
II.A. 当該容器ホルダーは、例えば図１に示される。当該容器ホルダー50は、設定容器80の開口部を収受し装填するよう設定される容器ポート82を有する。装填済み容器80の内面は、容器ポート82経由で処理可能である。当該容器ホルダー50は、容器ポート92には装填済みの容器80からガスを引き出すための、例えば真空ダクト94といったダクトが含まれる。当該容器ホルダーには、当該真空ダクト94と外部真空源、例えば真空ポンプ98の間を通過する第2ポート、例えば真空ポート96が含まれる。当該容器ポート92および真空ポート96は封止素子、例えば オーリング隣接密閉部（それぞれ100および102）を有する、または当該容器ポート82のシリンダー状の内/外壁と当該容器80のシリンダー状の内/外壁の間の側密閉部を有する場合があり、それにより当該容器80または外部真空源98と共に密閉部を収受し成形しながら、当該ポートを通しての通過を可能とする。ガスケットまたはその他の密閉装備もまた、使用可能である。
II.A. 当該容器ホルダー50などはあらゆる素材、例えば熱可塑性素材および/または非導電性素材で作成可能である。 または、当該容器ホルダー50などは、一部をまたは大部分を導電性素材から作成可能であり、例えば当該容器ポート92、真空ダクト94、および真空ポート96より定義される当該経路において非導電素材と対面させることが可能である。当該容器ホルダー50に適切な素材の例は以下の通り: ポリアセタール（例えばデラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Companyが販売するDelrin（商標）アセタールl素材）、ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）（例えばデラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Companyが販売するTeflon（商標） PTFE、超高分子量ポリエチレン（UHMWPE）、高密度ポリエチレン（HDPE）、またはその他の当技術分野で既知のまたは新開発された素材。
II.A. 図１により、 当該容器ホルダー50などが、当該ポート92上に接近するまたは装填済みである当該容器80をセンタリングするための、カラー116を有する場合があることも図示される。
図１０は、例えばその他いずれかの図の実施例と併用可能な、容器ホルダー482の別の構造である。 当該容器ホルダー482は、結合部488で結合する上部484および底部486からなる。密閉部、例えばオーリング490（当該リングの右側はそれを保持する当該ポケット部を説明するよう切除されている）は、当該結合部488にある当該上部484と当該底部486の間で拘束される。図示する当該実施例において当該オーリング490は、当該上部484が当該底部486へと結合する場合に当該オーリングを位置付けるために、溝付き釘ポケット部492内に収受される。
II.B. 本実施例において当該オーリング490は、この場合当該ネジ498および500により捕捉され、当該上部484および当該底部486が結合する場合に、当該ポケット部492の一部を定義する当該放射状に伸延する壁496および放射状に伸延する当接部表面494を支持する。当該オーリング490はしたがって、当該上部484と底部486の間に装填される。当該上部484と底部486の間に捕捉される当該オーリング490はまた、当該容器80（その他の特徴図示を明確にするため本図においては省略）を収受し、当該容器後開口部のオーリング密閉部装備に類似している、当該容器80開口部の当該容器ポート502の第1オーリング密閉部を成形する。
II.B. 本実施例において、必須ではないが、当該容器ポート502は第1オーリング490密閉部と第2軸方向乖離オーリング504密閉部の両方を有し、どちらも当該容器ポート502と容器80などの間を密閉するための容器80などの（側壁に類似している）外径を収受するサイズの内径506などを有する。当該オーリング490および504の間の空間により、軸方向に乖離する2つの地点で容器80などの支持体が提供され、当該容器80などの当該オーリング490および504または当該容器ポート502による歪曲を防止する。本実施例において、必須ではないが、当該放射状に伸延する当接部表面494は、当該オーリング490および506密閉部および真空ダクト508の周囲の近位部に位置する。
容器ホルダーに装填済みの容器の処理
III.A. 図１は容器80を処理する方法を示す。当該方法は以下の通り実行可能である。
III.A. 図１は容器80を処理する方法を示す。当該方法は以下の通り実行可能である。
III.A. 開口部82および内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。一実施例として、当該容器80をモールド22など内で成形し、その後除去することが可能である。随意に、当該モールドからの容器の除去後60秒以内、30秒以内、25秒以内、20秒以内、15秒以内、10秒以内、5秒以内、3秒以内、1秒以内に、または処理中に歪曲されることなし（高温で製造され漸進的に冷却されると想定）に当該容器80を除去した直後に、当該容器開口部82を該容器ポート92上に装填可能である。当該容器80を当該モールド22から当該容器ポート92へと迅速に移動させることで、当該表面88に付着する粉塵またはその他の不純物を削減し、遮断膜またはその他の種類の被覆材90への付着を遮蔽または防止する。また、製造後すぐに当該容器80に真空を引くほど、粒子状不純物が当該内面88に付着する可能性を低下させることができる。
III.A. 容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。当該容器80の開口部82は、容器ポート92上に装填可能である。当該容器80の開口部82を当該容器ポート92上に装填する前、最中、後に、（例えば図6内の）当該容器ホルダー40などを搬送して1つ以上の当該支持面220〜240と係合させ、当該処理機器またはステーション24などに関して当該容器ホルダー40を位置付けることが可能である。
III.A. 当該装填済み容器80の内面88を第1処理ステーションにおける容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜塗布またはその他の種類の被覆材塗布の被覆ステーションである場合がある。当該容器ホルダー50および装填済み容器80は、第1処理ステーション28から第2処理ステーション、例えば処理ステーション32へと搬送される。
III.A. 上記方法のいずれも、第2処理ステーションまたは機器における当該装填済み容器80の内面88の処理の後に、当該容器ホルダー66などから当該容器80を除去する、さらなる手順を含む場合がある。
III.A. 上記方法のいずれも、当該除去手順の後に、開口部82および内面88を定義する壁86を有する第2容器80を提供する、さらなる手順を含む場合がある。当該第2容器80などの開口部82を、別の容器ホルダー38などの容器ポート92上に装填可能である。当該装填済み第2容器80の内面を、第1処理ステーションまたは機器24などにおける容器ポート92経由で処理可能である。当該容器ホルダー38などおよび装填済み第2容器80は、第1処理ステーションまたは機器24から第2処理ステーションまたは機器26などへと搬送可能である。
容器製造のためのPECVD装置
IV.A. 容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置
IV.A. 本発明の実行に適したPECVD装置は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給を含む。 当該容器ホルダーに装填済みの容器は、随意に真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。 随意に、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、またはこれら2つ以上の組合せを用意可能である。 随意に、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、当該ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。
IV.A. 容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置
IV.A. 本発明の実行に適したPECVD装置は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給を含む。 当該容器ホルダーに装填済みの容器は、随意に真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。 随意に、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、またはこれら2つ以上の組合せを用意可能である。 随意に、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、当該ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。
IV.A. 当該PECVD装置は外気圧PECVDのために使用可能であり、その場合、当該プラズマ反応チャンバは真空チャンバとして機能する必要はない。
IV.A. 図１において、当該容器ホルダー50は当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポート104からなる。 当該ガス吸入ポート104は、少なくとも1つのオーリング106または一連の2つのオーリングまたは一連の3つのオーリングにより提供されるスライド式密閉部を有し、当該密閉部はシリンダー状のプローブ108が当該ガス吸入ポート104を通して挿入される場合に当該プローブ108に対して装填可能である。当該プローブ108は、ガス供給ポートの遠位端110へと伸延するガス吸入導管である場合がある。図示する当該実施例の当該遠位端110は、1つ以上のPECVD反応物質およびその他の処理ガスを提供するために、当該容器80の奥へと挿入可能である。
IV.A. 図１１は、例えば図示されたすべての実施例と併用可能な、被覆ステーション28の追加オプション詳細図を示す。 当該被覆ステーション28はまた、当該圧力センサー152へと繋がる真空管路576内にメイン真空弁574を有している。手動バイパス弁578を当該バイパス管路580内に用意する。通気弁582は当該通気孔404からの流量を制御する。
IV.A. 当該PECVDガス源144からの流量は、当該メイン反応物供給管路586を通して流量を調整するメイン反応性ガス弁584により制御される。当該ガス源144の一構成要素として、有機ケイ素流体貯留層588が挙げられる。当該貯留層588の内容物は、所望の流量率を提供するのに適した長さで提供される当該有機ケイ素キャピラリー線590を通して引かれる。 有機ケイ素蒸気の流量は、当該有機ケイ素遮断弁592により制御される。当該流体貯留層588のヘッドスペース614に圧力を適用し、例えば圧力管路618により当該ヘッドスペース614へと接続される圧搾空気といった圧力源616からの0〜15psi（0〜78cm.Hg）の範囲の圧力を適用して、気圧（およびその振動）に依存しない反復可能な有機ケイ素流体供給を確立する。 当該貯留層588は密閉されており、当該キャピラリー接続620は当該貯留層588の底部にあり、（当該ヘッドスペース614からの加圧ガスではなく）純有機ケイ素流体のみが当該キャピラリー管590を流れるよう確保している。当該有機ケイ素流体は、随意に、温度、有機ケイ素蒸気生成のため当該有機ケイ素流体を蒸発させることが必須または望ましい場合は、気温以上に加熱可能である。 質量流量制御装置598で制御され酸素遮断弁600が搭載される酸素供給管路596経由で、当該酸素タンク594から酸素を提供する。
IV.A. 特に図１を参照にして、当該処理ステーション28は、処理中に当該容器80内にプラズマを生成するための電界を提供するための無線周波電力供給装置162により供給を受ける、電極160を含む場合がある。 この実施例において、当該プローブ108はまた導電性でありかつ接地されており、当該容器80内に対向電極を提供する。あるいはいかなる実施例においても、当該外部電極160は接地可能であり、当該プローブ108は当該電力供給装置162へと直接接続可能である。
IV.A. 図 １の実施例において、当該外部電極160は、図１および２に図示するように通常シリンダー状であるか、図１に図示するように通常U字型である 場合がある（図２は、図１の切断線Ａ−Ａに沿った断面図の代替実施例である）。 各図示実施例は、1つ以上の側壁164および166などを、随意に、上端部168を有し、それらは当該容器80に近接して付帯する。
IV.A 図１に示す電極160は、当該ページへの長さを有する「U」字型チャネルである場合があり、当該パックまたは容器ホルダー50は当該活性（電力）電極を通して当該処理/被覆工程中に移動可能である。 外部および内部電極が使用されているため、本装置は、電力供給装置162から当該U字型チャネル電極160に対して適用される周波数50Hz〜1GHzの間で利用可能であることに、注意されたい。当該プローブ108は当該電気回路を完了させるため接地可能であり、それにより、電流が当該容器80内の低圧ガスを通るようになる。当該電流の生成するプラズマにより、当該機器の内面88の選択処理および/または被覆が可能となる。
IV.A 図１に示す電極は、パルス電力供給装置を動力源電力としている場合もある。 パルスにより、反応性ガスの空乏、活性化前の副産物の除去、（再度の）反応性ガスの空乏が可能となる。 パルス電力システムは通常、当該電界（および、したがってプラズマが）存在する時間を決定する負荷サイクルにより特徴付けられる。 電力投入時間は電源遮断時間と相対関係にある。 例えば10%の負荷サイクルは、当該電力が当該時間の90%の間遮断されているサイクルの10%の時間の電力に相当する場合がある。 特定の実施例として、当該電力は0.1秒間投入され、1秒間遮断される場合がある。 パルス電力システムは、当該遮断時間により処理時間が増加するため、任意の電力供給装置162の有効電力入力を低減する。 当該システムがパルスされる場合、生成される被覆材が極めて純粋となる場合がある（副産物/汚染なし）。 パルスシステムによる別の結果として、原子層/被覆材堆積（ALD）の可能性が挙げられる。 この場合、当該負荷サイクルを調整して、当該 電源投入時間により好ましい素材の単層/被覆材堆積を生成可能である。 本手法において、単一原子層/被覆材が各サイクルで堆積されると考えられる。 本アプローチにより、高度に純粋で高度に化学構造された被覆材を生成可能である（ただし、ポリマー表面への堆積に必要な温度については、随意に低温（100℃未満）に保つものとし、および低温度被覆材は非晶質である場合がある）。
IV.A. 代替の被覆ステーションは、外部電極の代わりにマイクロ波空洞部を利用している。 適用エネルギーは、例えば2.45GHzのマイクロ波周波数である場合がある。 ただし本発明の文脈においては、高周波が望ましい。
V.1 PECVD被覆用前駆体
本発明のPECVD被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。 有機金属前駆体は、本明細書において、例えば炭化水素残渣、アミノカーボン残渣、オキシカーボン残渣といった有機残渣を有する、周期表の第III族および/または第IV族からの金属元素化合物と定義される。 本書で定義する有機金属化合物には、ケイ素またはその他の第III族/第IV族金属原子に直接結合する、または随意に酸素または窒素原子を通して結合する、有機部分を有するあらゆる前駆体が含まれる。 関連する周期表第III族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウムおよびホウ素であることが望ましい。 関連する周期表第IV族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、およびトリウムであり、ケイ素およびスズであることが望ましい。 その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。 しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。
有機ケイ素前駆体が考察され、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される：
または
直前の第1の化学構造は、酸素原子1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 直前の第2の化学構造は、-NH-結合1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。 また、前述の2つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。
本発明のPECVD被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。 有機金属前駆体は、本明細書において、例えば炭化水素残渣、アミノカーボン残渣、オキシカーボン残渣といった有機残渣を有する、周期表の第III族および/または第IV族からの金属元素化合物と定義される。 本書で定義する有機金属化合物には、ケイ素またはその他の第III族/第IV族金属原子に直接結合する、または随意に酸素または窒素原子を通して結合する、有機部分を有するあらゆる前駆体が含まれる。 関連する周期表第III族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウムおよびホウ素であることが望ましい。 関連する周期表第IV族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、およびトリウムであり、ケイ素およびスズであることが望ましい。 その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。 しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。
有機ケイ素前駆体が考察され、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される：
直前の第1の化学構造は、酸素原子1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 直前の第2の化学構造は、-NH-結合1つおよび有機炭素原子1つ（有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子）と結合する四価ケイ素原子である。 随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。 また、前述の2つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。
酸素を含む前駆体（例：シロキサン）を使用する場合、疎水性または潤滑性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiwOxCyHz（wは1、本公式のxは約0.5〜約1、yは約2〜約3、zは6〜約9）である。一方、遮断性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiOx（本公式のxは約1.5〜約2.9）である。 窒素を含む前駆体（例：シラザン）を使用する場合、推定される組成物はSiw*Nx*Cy*Hz*である。すなわち、SiwOxCyHzにおいては定義セクションで指定した通り、OはNに置換され指標はNの原子価がOより高くなるよう（2ではなく3）適合される。 後者の適合は通常、シロキサンにおけるw、x、y、およびzがそれに相当するaza構造の指標に対する割合に従う。 本発明の特定態様において、Siw*Nx*Cy*Hz*のw*、x*、y*、およびz*は、シロキサンのw、x、yと同様に定義されるが、水素原子数の逸脱のオプションとして扱われる。
上記経験的公式を有する前駆体出発物質の一種に線状シロキサンがあり、例えば以下の公式を有する物質である：
当該公式の各Rは独立して、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基から選択され、nは1、2、3、4、またはそれ以上であり、随意に2以上である。考えられる線状シロキサンのいくつかの例は、
ヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）、
オクタメチルトリシロキサン、
デカメチルテトラシロキサン、
ドデカメチルペンタシロキサン、
またはこれら2つ以上の複合体である。 上記化学構造における-NH-を酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。 考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、またはこれら2つ以上の複合体である。
ヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）、
オクタメチルトリシロキサン、
デカメチルテトラシロキサン、
ドデカメチルペンタシロキサン、
またはこれら2つ以上の複合体である。 上記化学構造における-NH-を酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。 考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、またはこれら2つ以上の複合体である。
V.C. 別の種類に前駆体出発物質に単環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式を有する物質である：
当該公式のRは線状化学構造のものと同様に定義され「a」は3〜約10であり、または当該類似単環シラザンである。 考えられるヘテロ置換および非置換単環シロキサンおよびシラザンのいくつかの例には以下が含まれる：
1,3,5-トリメチル-1,3,5-トリス（3,3,3-トリフルオロプロピル）メチル]シクロトリシロキサン
2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、
ペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
デカメチルシクロペンタシロキサン、
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
メチル（3,3,3-トリフルオロプロピル）シクロシロキサン、
以下のような環状オルガノシラザンも考えられる：
オクタメチルシクロテトラシラザン、
1,3,5,7-テトラビニル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシラザン ヘキサメチルシクロトリシラザン、
オクタメチルシクロテトラシラザン、
デカメチルシクロペンタシラザン、
ドデカメチルシクロヘキサシラザン、または
またはこれら2つ以上の複合体。
当該公式のRは線状化学構造のものと同様に定義され「a」は3〜約10であり、または当該類似単環シラザンである。 考えられるヘテロ置換および非置換単環シロキサンおよびシラザンのいくつかの例には以下が含まれる：
1,3,5-トリメチル-1,3,5-トリス（3,3,3-トリフルオロプロピル）メチル]シクロトリシロキサン
2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、
ペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
デカメチルシクロペンタシロキサン、
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
メチル（3,3,3-トリフルオロプロピル）シクロシロキサン、
以下のような環状オルガノシラザンも考えられる：
オクタメチルシクロテトラシラザン、
1,3,5,7-テトラビニル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシラザン ヘキサメチルシクロトリシラザン、
オクタメチルシクロテトラシラザン、
デカメチルシクロペンタシラザン、
ドデカメチルシクロヘキサシラザン、または
またはこれら2つ以上の複合体。
V.C. 別の種類の前駆体出発物質に多環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式のいずれかを有する物質である：
当該公式のYは酸素または窒素である場合があり、Eはケイ素であり、Zは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。 各Yが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Yが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。
当該公式のYは酸素または窒素である場合があり、Eはケイ素であり、Zは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。 各Yが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Yが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。
V.C. 別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、経験的公式RSiO1.5および当該構造公式を有するポリシルセスキオキサンである:
当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。 この種の2つの市販物質は、各RがメチルであるSST-eM01ポリ（メチルシルセスキオキサン）、および当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ（メチル-ヒドリドシルセスキオキサン）である。 本物質は、例えばテトラヒドロフランの10%溶液において入手可能である。 またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。 考えられる前駆体のその他の実施例には、CAS番号2288-13-3の各Yが酸素およびZがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Rが随意にメチルであるポリ（メチルシルセスキオキサン）(SST-eM01ポリ(メチルシルセスキオキサン) など)、当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ（メチル-ヒドリドシルセスキオキサン）(SST-3MH1.1ポリ (メチル-ヒドリドシルセスキオキサン) など),、またはこれらの2つ以上の複合体がある。
当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。 この種の2つの市販物質は、各RがメチルであるSST-eM01ポリ（メチルシルセスキオキサン）、および当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ（メチル-ヒドリドシルセスキオキサン）である。 本物質は、例えばテトラヒドロフランの10%溶液において入手可能である。 またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。 考えられる前駆体のその他の実施例には、CAS番号2288-13-3の各Yが酸素およびZがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Rが随意にメチルであるポリ（メチルシルセスキオキサン）(SST-eM01ポリ(メチルシルセスキオキサン) など)、当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ（メチル-ヒドリドシルセスキオキサン）(SST-3MH1.1ポリ (メチル-ヒドリドシルセスキオキサン) など),、またはこれらの2つ以上の複合体がある。
V.C. 上記化学構造における-NH-を酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。 考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Rがメチルであるポリ（メチルシルセスキアザン）、および当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるポリ（メチル-ヒドリドシルセスキアザン）である。 またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。
V.C. 特に、本発明に記載の潤滑層/被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。
特に、本発明に記載の疎水層/被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。 特に、本発明に記載の疎水層/被覆材のための考えられる別の前駆体として、線状シロキサン、例えばHMDSOが挙げられる。
特に、本発明に記載の遮断性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、線状シロキサン、例えばHMDSOが挙げられる。
V.C. 本発明に記載のいずれかの被覆方法において、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。 例えばOMCTSは、当該PECVD装置への塗布前に約50℃に加熱して気化する。
V.2 一般的PECVD法
本発明の文脈においては、以下の手順を含むPECVD法を一般的に適用する：
(a) 本書で定義する前駆体からなる処理ガス、随意に酸化ガス、随意に搬送ガス、随意に炭化水素の提供、および
(b) 処理ガスからのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上での被覆材の形成。
本発明の文脈においては、以下の手順を含むPECVD法を一般的に適用する：
(a) 本書で定義する前駆体からなる処理ガス、随意に酸化ガス、随意に搬送ガス、随意に炭化水素の提供、および
(b) 処理ガスからのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上での被覆材の形成。
本書で利用する当該プラズマ被覆技術は、プラズマ促進化学蒸着 (PECVD) に基づく。 前述PECVD被覆の実行に適した方法および装置は、2010年5月12日出願のEP10162755.2、2010年5月12日出願のEP10162760.2、2010年5月12日出願のEP10162756.0、2010年5月12日出願のEP10162758.6、2010年5月12日出願の EP10162761.0、2010年5月12日出願の、2010年5月12日出願のEP10162757.8で説明されている。これらで説明するPECVD方法および装置は本発明の実行に適しており、したがって参照することにより本書に含まれる。
理論によって拘束されることなく、本発明のPECVD処理において、当該被覆材は当該被覆表面 (プラスチック基板表面または、SiOx遮断性被覆材など当該基板表面にすでに存在する被覆材の表面である場合がある) へと共有結合すると仮定される。 当該処理はケイ素供給源 (HMDSOまたはOMCTSなど)、酸素、高周波 (RF)、荷電電極を利用して、当該プラズマを生成する。 随意に、アルゴンといった搬送ガスが存在する場合がある。 特定の用途においては、炭化水素ガスも存在する場合がある。 使用圧力と電力において、当該プラズマ処理が電子衝撃イオン化により引き起こされる。すなわち、当該電子が本反応の駆動力である。 当該処理はRFを利用して電子を励起し、その結果、プラズマ内で電子を加圧する従来の標準的方法（マイクロ波など）より低温度となる。
高エネルギー電子および当該ガスのイオンの混合物を含有する当該プラズマは、ケイ素および酸化物を含有する被覆材を当該プラスチック (COCなど) 表面へと堆積する。 当該プラズマの電子は、プラズマ反応が開始されるとポリマー表面と相互に作用し、C-H 結合を切断して当該表面に「エッチング」する (同様の「結合切断によるエッチング」が、被覆材が再び被覆される場合に起こる。例: 潤滑性被覆材をSiOx遮断性被覆材上に塗布する場合)。 適切な条件の下、これらの位置はその後、当該Si-O-Si主鎖 (当該ガス相内のケイ素含有分子のイオン化から形成) が当該ポリマーと結合する、核生成点として機能すると確証される。そこから当該被覆材が成長し、最終的に均一で継続的な被覆材が当該ポリマー表面全体に生成される。 当該有機ケイ素前駆体内でのケイ素-炭素 (ケイ素対メチル基) 結合は、酸素と反応して当該メチル基とケイ素との間の結合を切断し、当該プラスチック表面または当該表面上に既存のその他のSi-O基との結合を再形成する場合がある。
当該被覆材はイオン化ガスであるプラズマから生成されるため、当該容器を完全に充填して占め、分子レベルにおいて密で均一かつ共形な被覆材が得られる。 図２１および２２を参照されたい。当該被覆材の純度は、純度の高い前駆体ガスの利用により保証される。 本処理により、均一で制御可能なエネルギーを有する表面が生成される。 原子間力顕微鏡法 (AFM)、FTIR、TOF-SIMS、XPS、X線電子分光法 (ESCA) and 走査電子顕微鏡法による被覆材の解析評価で、当該純度および均一性を確認可能である。
当該PECVD技術の模範的な望ましい実施例は、以下のセクションで説明する。
当該処理は、容器内において低圧 (mトール範囲、大気圧は760トール) で酸素と混合可能なケイ素含有蒸気を利用する。
例えば13.56 MHz [無線周波範囲] で生成される電場を、外部電極と内部接地ガス吸入部との間にかけて、プラズマを生成する。 容器被覆に使用する圧力と電力において、当該プラズマ処理が電子衝撃イオン化により引き起こされる。すなわち、当該電子が本化学反応の裏にある駆動力である。 具体的に、当該プラズマはケイ素含有物 [ヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）、またはオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）といったその他の反応物質、など] の電子衝撃イオン化により化学反応を引き起こしており、その結果、当該容器の内面に堆積される二酸化ケイ素またはSiwOxCyHz被覆材を生成している。 これらの被覆材は、通常の実施例において、約20ナノメートル以上の層厚である。 HMDSOは、6のメチル基がケイ素原子に結合しているSi-O-Si主鎖からなる。 当該処理によりSi-C結合が切断され、(当該管またはシリンジの表面で) 酸素と反応して二酸化ケイ素が生成される。 当該被覆材は原子振動で成長するため、層厚20〜30ナノメートルの密で共形な被覆材は顕著な遮断性特性を得る場合がある。 当該ケイ素酸化物はガス、湿度、小型有機分子の物理的遮断材として機能し、市販のガラスより純度が高い。 OMCTSにより、潤滑性または抗付着性特性を有する被覆材が生成される。 これらの平均層厚は通常、SiOx遮断性被覆材の層厚より厚い（例: 平均して30〜1000nm）。 特定の粗度が当該潤滑性被覆の潤滑特性を強化する可能性があり、したがって、被覆材全域において層厚は有利に不均一である (以下を参照)。 しかし、均一な潤滑性被覆材もまた検討される。
当該技術は複数の態様において固有である:
(a) 当該処理は、硬質容器を真空チャンバとして利用する。 PECVDは従来、2次的真空容器を利用して、そこに部品を入れ被覆を行なっている。 当該容器を真空チャンバとして利用することにより、処理装置が大幅に簡素化され、サイクル/処理時間が削減され、したがって製造コストと資本が削減される。 またこのアプローチにより、拡張の問題が軽減される。なぜなら拡張は、処理量要件を満たすのに必要なだけ管またはシリンジの数を増やすばかりとなるからである。
(a) 当該処理は、硬質容器を真空チャンバとして利用する。 PECVDは従来、2次的真空容器を利用して、そこに部品を入れ被覆を行なっている。 当該容器を真空チャンバとして利用することにより、処理装置が大幅に簡素化され、サイクル/処理時間が削減され、したがって製造コストと資本が削減される。 またこのアプローチにより、拡張の問題が軽減される。なぜなら拡張は、処理量要件を満たすのに必要なだけ管またはシリンジの数を増やすばかりとなるからである。
(b) 当該プラズマの高周波励起により、エネルギーがイオン化ガスへと付与され、当該部品の加熱はほとんど観察されない。 PECVDで通常使用されるマイクロ波励起エネルギーとは異なり、高周波は多大なエネルギーを部品自体の水分子へと付与し、選択的に当該ポリマー管またはシリンジは加熱しない。 熱吸収の制御は、基板温度が上昇して、寸法上の整合性を失わせる (真空において崩壊する)、プラスチックガラス遷移温度に接近するのを防止するため重要である。
(c) 単一層ガス遮断性被覆材 - 当該新技術により、当該部品の内面に直接二酸化ケイ素の単一層を生成可能である。 ほとんどのその他遮断性技術 (薄膜) では少なくとも2層を必要とする。
(d) 遮断性-潤滑性被覆材の併用 - 当該新技術はSiOx / SiwOxCyHz被覆材を併用して、複数の性能属性 (遮断性/潤滑性) を提供する。 当該潤滑性被覆材はまた、遮断性被覆材で再び被覆可能である。
望ましい態様における当該プラズマ堆積技術は、シンプルな製造設定を利用している。 当該システムは、被覆ステーションへと/から管およびシリンジを搬送するのに利用する「パック」に基づいている。 装置とパックの接合部は重要である。なぜなら、いったん被覆材/特性評価条件がパイロット規模で設定されると、全面的な生産へと移行する場合に規模はもはや問題はなく、パックの数を同一処理を通して増やすだけであるからである。 当該パックは、ポリマー素材 (例：Delrin(商標)) から製造され、電気的に絶縁された底部を持つ。 当該容器は、大きいほうの開口部を (パック自体に装着されている) オーリングに対して密閉するよう、当該パックへと装着される。当該オーリングは、当該部品と当該パックとの間に真空密閉部を提供するため、大気 (主に窒素と酸素、およびある程度の水蒸気) が取り除かれ (圧力が低減し)、当該処理ガスが導入される。 当該パックは、当該オーリング密閉部に加え、いくつかの主要機能を有する。 当該パックは、真空ポンプ (大気および二酸化ケイ素反応の副産物をポンプ排出する) 真空ポンプへの接続手段、当該ガス吸入部を当該部品へと正確に位置合わせする手段、および真空密閉部を当該パックとガス吸入部の間に提供する手段を提供する。
SiO2堆積については、HMDSOと酸素ガスが、当該接地ガス吸入部を通して当該容器内に入れられ、当該部品内へと拡張する。 この時点で、当該パックおよび容器は電極エリアへと移動される。 当該電極は導電性素材 (例えば銅) で構成されており、当該部品が通るトンネルを提供する。 当該電極は当該容器または当該パックには物理的に接触しておらず、個別に支持されている。 RFインピーダンス一致ネットワークおよび電力供給装置が、当該電極へと直接接続される。 当該電力供給装置は、エネルギー (13.56 MHz) を当該インピーダンス一致ネットワークへと提供する。 当該RF一致ネットワークは、当該電力供給装置の出力インピーダンスを当該イオン化ガスの複素 (誘導性および容量性) インピーダンスと一致させるよう機能する。 当該一致ネットワークは、当該イオン化ガスへの電力供給を最大化して、二酸化ケイ素被覆材の堆積を確保する。
当該容器の被覆が済むと (当該パックが、定常である電極チャネルを通して当該容器を移動させると)、当該ガスは停止され大気 (または純粋な窒素) が当該パック/容器の内部へと入り、大気圧が回復される。 この時点で、当該容器は当該パックから取り外し可能となり、次の処理ステーションへと移動される。
上記は明確に、開口部が1つのみの容器を被覆する手段を説明している。 シリンジは、当該パックへの装着前および後に、追加の手順を必要とする。 シリンジは両端に開口部 (一方は針を接続する側、もう一方はプランジャーを装着する側) を有するため、当該針端部は被覆前に密閉されなければならない。 前述処理により、反応ガスが当該プラスチック部品内へと入り当該部品内に電流が通り、当該部品内でプラズマが生成される。 当該プラズマ (HMDSOまたはOMCTSおよび酸素ガスのイオン化組成物) が、当該化学反応および当該プラズマ被覆材の堆積を引き起こす主体である。
当該方法において、当該被覆材特性は有利に、以下の1つ以上の条件により設定される:当該プラズマの特性、当該プラズマ適用時の圧力、当該プラズマ生成のために適用する電力、当該ガス状反応物質内のO2の存在および相対量、当該ガス状反応物質内の搬送ガス（アルゴンなど）の存在および相対量、当該プラズマの量、当該有機ケイ素前駆体。 随意に、当該被覆材の特性は、当該ガス状反応物質内のO2の存在および相対量、および/または当該ガス状反応物質内の搬送ガス（アルゴンなど）の存在および相対量、および/または当該プラズマ生成のために適用する電力により設定される。
本発明のすべての実施例において、当該 プラズマは、随意の態様で、特にSiOx被覆材を生成する場合に、非ホロー陰極プラズマである。 別の随意の態様において、特に潤滑性被覆材を生成する場合に、ホロー陰極プラズマが見られる。
さらに望ましい態様において、プラズマは（環境気圧または大気圧と比較して）減圧下で生成される。 随意に、当該減圧は300mトール未満、随意に200mトール未満、さらに随意に100mトール未満である。
当該PECVDは、随意に当該前駆体を含むガス状反応物質を、マイクロ波または無線周波、随意に無線周波の周波数を動力源とする電極で加圧することで実行される。 本発明の実施例の実施に望ましい当該無線周波数は、「RF周波数」とも呼ばれる。 本発明の実行における通常の無線周波数範囲は、10kHz〜300MH未満、随意に1〜50MHz、さらに随意に10〜15MHzの周波数である。 13.56MHzの周波数が最も望ましく、これはPECVD作業実施に関する政府認可の周波数である。
マイクロ波源と比べ、RF電力源を使用する場合の利点がいくつかある: RFは低電力で動作するため、当該基板/容器の加熱度が減少する。 本発明の焦点はプラズマ被覆材をプラスチック基板上に被覆することであるため、当該基板の溶解/歪曲を防止するため低温の処理温度が望ましい。 マイクロ波PECVD使用時は基板の過熱防止のため、当該マイクロ波PECVDをパルス電力による短時間噴出で塗布する。 当該電力パルスにより、当該被覆材のサイクル時間が延び、これは本発明において好ましくない。 またより高周波のマイクロ波は、当該プラスチック基板に残存水、オリゴマー、その他の物質といった揮発性物質のオフガスを引き起こす場合がある。 このオフガスは、当該 PECVD被覆を阻害する恐れがある。 PECVDのためのマイクロ波使用における最大の懸念は、当該被覆材の当該基板からの剥離である。 剥離は、当該被覆層堆積前に当該マイクロ波が該基板表面に変化を及ぼすことが原因で発生する。 剥離の可能性を低減するため、当該被覆材と当該基板の間の良好な結合を達成する、マイクロ波PECVD用の界面被覆層が開発されている。 RF PECVDには剥離の恐れはないため、かかる界面被覆層/被覆材は必要ない。 最後に、本発明に記載の当該潤滑層/被覆材および疎水層/被覆材は、有利に低電力を使用して塗布される。 RF電力は低電力で動作し、当該PECVD処理に対する制御において、マイクロ波電力より優れている。 それにもかかわらず、マイクロ波電力は、望ましさの点では劣るが、適切な処理条件下で利用可能である。
さらには、本明細書に記載のすべてのPECVD法について、プラズマ生成に使用する電力（単位：ワット）とプラズマが生成される内腔の容量との間に、特定の相関関係が認められる。 一般に当該内腔は、本発明に従い被覆される容器の内腔である。 当該RF電力は、同一電極システムを利用する場合、当該容器の容量で計測するべきである。 当該前駆体の対O2比率といったガス状反応物質の組成、およびその他すべてのPECVD被覆法パラメータ（電力を除く）が一旦設定されると、容器の形状が維持され、その容量のみが変化する場合は一般的にそれらの変更は行われない。 この場合、当該電力は当該容量に正比例する。 したがって、本記載により提供される当該電力の対容量比から開始することで、同一形状かつ異なるサイズの容器内に同一または類似の被覆材を得るために適用するべき電力を、容易に探し出すことが可能である。 当該容器形状が適用電力に与える影響を、管の実施例をシリンジバレルの実施例と比較した結果を用いて図示した。
本発明のいかなる被覆材についても、当該プラズマは、当該基表面上に被覆材を生成するのに十分な電力を動力源とする電極により生成される。 潤滑層/被覆材または疎水層/被覆材について (単層も潤滑性および疎水性両方である場合がある) は、本発明の実施例に記載の方法において、当該プラズマは随意に、
(i) 0.1〜25 W、随意に1〜22 W、随意に1〜10 W、さらに随意に1〜5 W、随意に2〜4 W、例えば3 W、、随意に3〜17 W、さらに随意に5〜14 W、例えば6または7.5 W、随意に7〜11 W、例えば8 Wの電力を受ける電極で生成される、および/または (ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満、随意に6 W/ml〜0.1 W/ml、随意に5 W/ml〜0.1 W/ml、随意に4 W/ml〜0.1 W/ml、随意に3 W/ml〜0.2 W/ml、随意に2 W/ml〜0.2 W/mlである場合に生成される。
(i) 0.1〜25 W、随意に1〜22 W、随意に1〜10 W、さらに随意に1〜5 W、随意に2〜4 W、例えば3 W、、随意に3〜17 W、さらに随意に5〜14 W、例えば6または7.5 W、随意に7〜11 W、例えば8 Wの電力を受ける電極で生成される、および/または (ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満、随意に6 W/ml〜0.1 W/ml、随意に5 W/ml〜0.1 W/ml、随意に4 W/ml〜0.1 W/ml、随意に3 W/ml〜0.2 W/ml、随意に2 W/ml〜0.2 W/mlである場合に生成される。
低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。
遮断性被覆材またはSiOx被覆材については、当該プラズマは随意に、
(i) 8〜500 W、随意に20〜400 W、随意に35〜350 W、さらに随意に44〜300 W、随意に44〜70 Wの電力を受ける電極で生成される、および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上、随意に6W/ml〜150W/ml、随意に7W/ml〜100W/ml、随意に7W/ml〜20W/mlである場合に生成される。
(i) 8〜500 W、随意に20〜400 W、随意に35〜350 W、さらに随意に44〜300 W、随意に44〜70 Wの電力を受ける電極で生成される、および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上、随意に6W/ml〜150W/ml、随意に7W/ml〜100W/ml、随意に7W/ml〜20W/mlである場合に生成される。
低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。 当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。 より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。
当該容器形状はまた、当該PECVD被覆に使用するガス吸入部の選択にも影響を与える可能性がある。 特定の態様において、シリンジは開口管吸入で被覆される場合があり、管は当該管へと伸延する小型孔を有するガス吸入部で被覆される場合がある。
PECVDに使用する電力（単位：ワット）はまた、当該被覆材の性質にも影響を与える。 通常、当該電力が増加すると被覆材の遮断性が増加し、当該電力が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。 これは、いくつかの実施例、特に実施例E〜Vにおいて実証されている。また、本書で明白に述べた、EP 2 251 455 A2の実施例においても実証されている。
被覆性を決定するさらなるパラメータとして、プラズマの生成に使用されるガス状反応物質内におけるO2（またはその他の酸化剤）の対前駆体（例：有機ケイ素前駆体）比率が挙げられる。 通常、当該ガス状反応物質内のO2比が増加すると被覆材の遮断性が増加し、O2比が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。
潤滑層/被覆材が所望される場合、O2は当該ガス状反応物質に対する体積/体積比で随意に0:1〜5:1、随意に0:1〜1:1、さらに随意に0:1〜0.5:1、さらに0:1〜0.1:1で存在する。O2はある程度存在し、当該有機ケイ素前駆体に対して随意に0.01:1〜0.5:1、さらに随意に0.05:1〜0.4:1、特に0.1:1〜0.2:1の比率で存在することが望ましい。 当該O2の存在を体積で表すと、当該有機ケイ素前駆体に対して約5%〜35% (v/v 単位 sccm) であり、特に約10%〜20%であり、さらには本実施例で示す比率であることが、特に潤滑性被覆材を得るのに適している。
一方、遮断性被覆材またはSiOx被覆材が所望される場合、当該O2のガス状反応物質に対する体積/体積比は随意に1 : 1〜100 : 1（ケイ素含有前駆体に対して）であり 、随意に5 : 1〜30 : 1の比率であり、より好ましくは10 : 1の比率であり、さらに随意に15 : 1の比率である。
V.A. 実質上ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを使用する、SiOx遮断性被覆材塗布のためのPECVD
V.A. 本発明の特定実施例は、ケイ素、酸素、および随意にその他の元素を含む被覆材として（特定の事例において別途指定される場合を除き）本明細書内で定義されるSiOx（酸素の対ケイ素原子比であるxは約1.5〜約2.9、あるいは1.5〜約2.6、あるいは約2）の遮断性被覆材の塗布方法を含む。xに関するこれらの代替定義は、本明細書内で使用されるすべての用語SiOxに適用される。 当該遮断性被覆材は容器、例えば検体採取管、シリンジバレル、またはその他の種類の容器の内部に塗布される。 当該方法はいくつかの手順からなる。
V.A. 本発明の特定実施例は、ケイ素、酸素、および随意にその他の元素を含む被覆材として（特定の事例において別途指定される場合を除き）本明細書内で定義されるSiOx（酸素の対ケイ素原子比であるxは約1.5〜約2.9、あるいは1.5〜約2.6、あるいは約2）の遮断性被覆材の塗布方法を含む。xに関するこれらの代替定義は、本明細書内で使用されるすべての用語SiOxに適用される。 当該遮断性被覆材は容器、例えば検体採取管、シリンジバレル、またはその他の種類の容器の内部に塗布される。 当該方法はいくつかの手順からなる。
V.A. 容器の壁を用意し、またプラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。
V.A. プラズマが、実質上ホロー陰極プラズマを含まない当該反応混合物内に生成される。 当該容器壁は反応混合物と接触し、当該SiOx被覆材は容器壁の少なくとも一部に堆積する。
V.A. 特定の実施例においては、SiOx被覆材の生成が酸素に対するよりよい遮断性をもたらす場合もあるため、被覆する容器部分を通してプラズマが均一に生成されることが考察される。 均一なプラズマとは、ホロー陰極プラズマ（標準プラズマより高い発光強度を有し、当該標準プラズマのより均一な強度に支障を及ぼす強度の高い局部として現れる）を大量に含むことのない標準プラズマを意味する。
V.A. 当該ホロー陰極作用は、共通のアノードに関して同一の負電位で対立し合う対の導電性表面により、生成される。 当該空間が生成され（圧力およびガスの種類により異なる）当該空間電荷シースがオーバラップする場合、当該対立壁シースの反射電位の間で電子が振動を開始し、当該シース領域の電位勾配により当該電子が加速するにつれて複数衝突が起こる。 当該電子は当該空間電荷シースオーバラップ内に収容され、非常に高電離かつ高イオン密度のプラズマが生成される。 この現象が、ホロー陰極作用と称される。 当技術分野の当事者は、当該電力レベルおよび当該ガスの供給率または圧力といった処理条件を変更して、全域に均一なプラズマを生成すること、またはさまざまな程度のホロー陰極プラズマを含むプラズマを生成することが可能である。
V.A. 当該プラズマは通常、前述の理由によりRFエネルギーを利用して生成される。 しかしあまり典型的でない代替方法において、マイクロ波エネルギーを利用してPECVD処理においてプラズマを生成する場合がある。 しかしながら、熱可塑性容器へと適用されるマイクロ波エネルギーが水分子を励起する（振動する）ため、当該処理条件は異なる場合がある。 少量の水が純プラスチック素材内に入っているため、当該プラスチックは当該マイクロ波より加熱される。 当該プラスチックが加熱されるにつれ、当該機器外部の気圧と相対的な当該機器内部の真空により創出される大規模な駆動力により、素材が自由にまたは容易に当該内面88へと脱着し、それらは揮発性となる、または当該表面に弱く結合する。 弱い結合物質はその後、（当該プラズマから堆積される）後続の被覆材の当該機器のプラスチック内面88への粘着を防止可能である界面を創出する。
V.A. この被覆防止作用を否定する方法として、被覆材を非常に低い電力（本実施例において5〜20ワット、2.45GHz）で堆積して、後続被覆材が接着できるキャッピングを生成することが可能である。 これにより、2手順の被覆材処理（および2層の被覆材）となる。 上記実施例において、（当該キャッピング層のための）当該初期ガス流量は、約2〜10秒間5〜20ワットの処理電力を有する、2sccm（「立方センチメートル毎分」）HMDSOおよび20sccm酸素に変更可能である。 その後、上述実施例での流量へと当該ガスを調整し当該電力レベルを例えば20〜50ワットに増大することで、SiOx被覆材（本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2）を堆積可能である。 特定の実施例においてキャッピング層/被覆材は、より高い電力でのSiOx被覆材堆積中における素材の容器内面88への移動を阻止することを除き、ほとんどまたはまったく機能しない可能性があることに注意されたい。 当該機器壁内物質の容易な脱着の移動は、大部分のRF範囲といった低周波数においては通常問題とならないことにも注意されたい。なぜなら、当該低周波は分子種を励起（振動）しないからである。
V.A. 前述の被覆防止作用を否定する別の方法として、マイクロ波エネルギーを適用する前に滞留水を除去するために当該容器80を乾燥させることが可能である。 当該容器80の乾燥は、例えば、電熱器または強制空気加熱を利用した当該容器80の温熱性加熱により、達成可能である。 当該容器80の乾燥はまた、乾燥剤への当該容器80の内部の曝露により、または当該容器80の内部のガス接触により、達成可能である。 真空乾燥といったその他の容器乾燥手段も使用可能である。 当該手段は、図示する1つ以上の当該ステーションまたは機器において、または個別のステーションまたは機器により実行可能である。
V.A. また上述被覆防止作用は、当該容器80のモールド原料である当該樹脂を選択または処理して当該樹脂が含有する水量を最低限に抑えることで、対処可能である。
V.B. 容器の制限的開口部（シリンジキャピラリー）を被覆するPECVD被覆材
V.B. 図８および９は、通常管状である処理対象容器250の制限開口部294、例えばシリンジバレル250の制限前開口部294の内面292を、PECVDにより被覆する方法および装置（通常290）を示す。 前述処理は、当該制限的開口部294の処理容器296への接続により、および随意にその他の修正の実行により、修正される。
V.B. 図８および９は、通常管状である処理対象容器250の制限開口部294、例えばシリンジバレル250の制限前開口部294の内面292を、PECVDにより被覆する方法および装置（通常290）を示す。 前述処理は、当該制限的開口部294の処理容器296への接続により、および随意にその他の修正の実行により、修正される。
V.B. 通常管状である処理対象容器250には、外面298、内腔300を定義する内面254、内径を有する大開口部302、内面292により定義されかつ大開口部302の内径より小さな内径を有する制限的開口部294が含まれる。
V.B. 当該処理容器296は内腔304および処理容器開口部306を有し、当該開口部は、その他の実施例において随意に処理中は閉口となる第2開口部を提供可能であるが、随意に唯一の開口部である。 当該処理容器開口部306を当該容器250の制限的開口部294に接続し、処理される容器250の内腔300と処理容器の内腔の間の通過を制限的開口部294経由で確立する。
V.B. 処理される容器250の内腔300および処理容器296の内腔304 内で、少なくとも一部を真空状態にする。PECVD反応物質がガス源144から第1開口部302を通り、その後処理される容器250の内腔300、制限的開口部294、処理容器296の内腔304へと流入する。
V.B. 内部経路310、近位端312、遠位端314、および遠位開口部316を有する通常管状である内部電極308の提供により、当該PECVD反応物質を当該容器250の大開口部302を通して導入可能である。代替実施例においては、複数の遠位開口部を当該遠位端314に隣接して提供し当該内部経路310と連絡させることが可能である。当該電極308の遠位端は、処理される容器250の大開口部302に隣接して/の内部に位置付け可能である。 反応性ガスを、当該電極308の遠位開口部316を通して処理される容器250の内腔300へと供給可能である。 当該PECVD反応物質導入前の初期に引かれた真空状態より高圧で当該PECVD反応物質が提供される範囲内において、当該反応物質は当該制限的開口部294を通り、その後当該内腔304へと流入する。
V.B. 制限的開口部294の内面292上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマ318を制限的開口部294に隣接して生成する。図８に示す当該実施例において、RFエネルギーを当該通常U字型外部電極160と接地する当該内部電極308とに供給して、当該プラズマを生成する。当該電極への供給および接地接続を無効にすることが可能であるが、当該プラズマ生成時に処理される容器250と当該内部電極308が当該U字型外部電極を通る場合、この無効化により複雑性が生じる可能性がある。
本発明の一態様は、2010年6月29日出願の米国特許番号第61/359,434号に記載の、針、バレルを含むシリンジ (「固定針シリンジ」”) である。本発明の当該態様の針には、外面、一方の端に供給口、もう1つの端に底部、当該底部から当該供給口へと伸延する内部経路がある。 当該バレルには、例えば通常シリンダー状の内面があり、内腔を定義している。 また当該バレルには、当該針の外面と接触する流体密閉部の周りおよび内部に前部経路がモールド形成されている。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジは随意に、当該針の供給口を環境大気から隔離するよう設定される蓋をさらに含む。
いずれかの「固定針」実施例の蓋は随意に、周縁部により定義され供給口を収受可能なサイズの、開口部を有する内腔をさらに含む。当該周縁部は、当該バレルの外部部位に対して装填可能である。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該バレルは随意に、その前部経路に隣接する通常半球状の内面部位を含む場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該針の底部は随意に、当該バレル半球状内面部位と共に少なくとも実質上フラッシュ可能である。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジは随意に、当該バレルの半球状内面部位の少なくとも1つの上に、PECVD塗布遮断性被覆材 をさらに含む場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該針の底部と当該バレルの通常シリンダー状の内面部位との間に遮断性を形成する場合がある。
図２４の「固定針」実施例において、当該蓋7126は、従来のルアーロック装備で、当該シリンジ7120の鼻部71110上で定位置に固定される。 当該シリンジのテーパー状鼻部71110は対応する当該蓋7126のテーパー状のど部71112と嵌合し、当該シリンジは、当該テーパー71110および71112を共にロックする当該蓋7126のドッグ71118および71120を収受する内部ねじ山71116付きのカラー71114を有する。 当該蓋7126は、実質上硬質である場合がある。
ここで図２５を参照して、当該「固定針」実施例のシリンジバレル71122および蓋71124の変型が示される。 本実施例において、当該蓋71124は底部に、当該シリンジバレル71122と湿度密閉部を形成するための柔軟性縁密閉部7172を含む。
随意に図２４および２５の「固定針」実施例において、当該蓋7126および71124は当該PECVD被覆材処理の間、真空に耐えることが可能である。 当該蓋7126および71124は、LDPE製である場合がある。 代替の硬質プラスチック素材、例えばポリプロピレンも使用可能である。 追加の密閉要素の提供も可能である。
図２６に示される「固定針」実施例のもう1つのオプションにおいては、当該蓋71126は柔軟であり、当該シリンジ7120の上端部を覆って密閉するよう設計される。ゴムまたは熱可塑性エラストマー (TPE) といった、変形可能な素材を当該蓋71126に利用可能である。望ましいTPE素材には、フルオロエラストマー、特に医療グレードのフルオロエラストマーが含まれる。 例として、VITON（商標）およびTECHNOFLON（商標）が挙げられる。 VITON（商標）は一部の実施例で望ましい。 適したゴムの例は、EPDMゴムである。
モールドの間、 (例えば図２６に図示される) 特定の「固定針」実施例において、少量の当該蓋素材71132が、当該針7122の端部または供給口7134へと引き入れられ、密閉部が生成される。 当該素材71132は、適量の素材が当該針7122へと引き入れられ、当該針7122へと引き入れられた当該素材が取り外される時に当該蓋71126へと装着され続け、当該針7122使用時に栓を抜くことができるよう、デュロメーターを有するべきである。
別の「固定針」実施例において、当該蓋素材71132は、当該供給口7134へと引き入れられることなく、 当該針7122の供給口をブロックする場合がある。望ましい目的を達成するための適切な材料選択は、当技術分野の当事者の能力の範囲内とされる。
追加の密閉部を、当該シリンジバレル内に形成されるアンダーカット71134と当該蓋71126の内部の突起部71138を結合させ、当該蓋71126を維持するための結合部を定義することにより、作成可能である。代替の「固定針」実施例には、前述の密閉部のいずれかまたは両方が含まれる場合がある。
随意に図２５を参照して、当該蓋71124は、当該蓋7126を当該バレル上の装填位置へと固定するよう設定される、底部7168および結合部7170を有する。 代替としてまたはさらに、柔軟性縁密閉部7172は随意に、当該蓋71124が当該バレル71122上に固定される場合に当該バレル71122に対して装填するため、当該蓋71124の底部7168に提供される場合がある。
随意にここで図２６を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。 本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入/放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。
随意にここで図２６を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。 本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入/放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。
随意に当該「固定針」実施例において、当該結合部7170は、バレル71122および蓋71124いずれかの上の戻り止めまたは溝7174、および別のバレル 71122および蓋71124の上の突起部または肋材7176を含む場合がある。当該突起部 7176は、当該蓋7126が当該バレル上の装填位置にある場合に、当該戻り止め7174と嵌合するよう適合される。 ある考察される実施例において、戻り止め7174は当該バレル上に、突起部7176は当該蓋7126条上にある場合がある。別の考察実施例において、戻り止め7174は当該蓋7126上に、突起部7176は当該 バレル上にある場合がある。 また別の考察される実施例において、第1戻り止め7174は当該バレル上に、当該戻り止め7174と嵌合する第1突起部7176は当該蓋7126上にある場合があり、一方第2戻り止め7175は当該蓋7126上に、嵌合する当該第2突起部7177は当該バレル上にある場合がある。 戻り止め7174は、当該モールド内の7192および7194といった側部吸引を組み入れることにより、アンダーカットとして当該シリンジバレル内にモールドされる場合がある。
当該戻り止め7174は、予備突起部7176と嵌合して、当該蓋7126を当該シリンジ7120へと組立て (スナップを付け) る。この点において当該蓋7126は、当該戻り止め7174および突起部7176をスナップ係合するため十分に変形可能であるよう、十分に柔軟であることが望ましい。
当該「固定針」実施例における7126、71124、71126といった当該蓋は、射出成形またはその他の方法で（例えば熱可塑性素材から）成形可能である。 適切な熱可塑性素材のいくつかの例として、環状オレフィンSiO2ポリマー (COP)、環状オレフィン共重合体 (COC)、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。 当該蓋7126は、熱可塑性エラストマー (TPE) またはその他のエラストマー素材を含む/から作られる場合がある。 当該蓋7126はまた、テレフタル酸ポリエチレン (PET)、ポリカーボネート樹脂、その他の適切な素材から作られる場合がある。 随意に当該蓋7126の素材は、真空に耐え当該シリンジ7120内の滅菌性を維持するものを選択可能である。
V.B. 処理の少なくとも一部の間に当該容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294および/または当該処理容器内腔304の内部に生成されるホロー陰極プラズマを含む。ホロー陰極 プラズマ318の生成により、当該制限的開口部294に遮断性被覆材を成功裏に塗布する能力がもたらされる。ただし本発明は、当該作業理論の正確性または適用可能性により制限されるものではない。 したがって、作業の考えられる1モードにおいて、当該処理の一部を、均一プラズマを当該容器250および当該ガス吸入全域に生成する条件下で実行可能であり、また一部を、ホロー陰極プラズマを例えば当該制限的開口部294に隣接して生成する条件下で実行可能である。
V.B. 本明細書で説明し当該図面で示すように、当該プラズマ318は当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294の実質上全域に伸延するため、当該処理はかかる条件下で動作されることが望ましい。当該プラズマ318もまた、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域に伸延することが望ましい。これにより、容器250の内部254の均一な被覆が望ましいと仮定される。 その他の実施例においては、不均一プラズマが望ましい可能性がある。
V.B. 当該プラズマ318は、シリンジ内腔300および制限的開口部294が全域において実質上均一な色であること、および好ましくは、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域において実質上均一な色であることが、通常望ましい。当該プラズマは、当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294全域において、および好ましくは当該処理容器296の内腔304全域においても、実質上不変であることが望ましい。
V.B. 本方法の手順順序は、重要とは見なされていない。
V.B. 図８および９の実施例において、当該制限的開口部294は第1取付部332を有し、当該処理容器開口部306は第1取付部332に装填するよう適合される第2取付部334を有し、処理容器296の内腔304と処理される容器250の内腔300の間の通過を確立する。
V.B. 図８および９の実施例において、当該第1および第2取付部は雄および雌ルアーロック取付部332および334であり、それぞれ、当該制限的開口部294および当該処理容器開口部306を定義する構造と一体となっている。当該取付部の1つ（この場合は当該雄ルアー ロック取付部332）は、ねじ式内面を有し軸方向対向の通常溝付き釘第1当接部338を定義するロックカラー336からなり、もう1つの当該取付部334は、当該取付部332および334が係合する場合に当該第1当接部338に向き合う軸方向対向の通常溝付き釘第2当接部340からなる。
V.B. 図示する当該実施例において、密閉部、例えばオーリング342は、当該第1取付部332と第2取付部334の間に位置する場合がある。例えば溝付き釘密閉部は、当該第1当接部338と第2当接部340の間で係合する場合がある。当該雌ルアー取付部334はまた、当該ロックカラー336のねじ式内面と係合して当該第1取付部332と第2取付部334の間で当該オーリング342を捕捉するドッグ344も含む。随意に、制限的開口部294経由で、処理される容器250の内腔300と処理容器296の内腔304の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である。
V.B. 図示する当該実施例において、密閉部、例えばオーリング342は、当該第1取付部332と第2取付部334の間に位置する場合がある。例えば溝付き釘密閉部は、当該第1当接部338と第2当接部340の間で係合する場合がある。当該雌ルアー取付部334はまた、当該ロックカラー336のねじ式内面と係合して当該第1取付部332と第2取付部334の間で当該オーリング342を捕捉するドッグ344も含む。随意に、制限的開口部294経由で、処理される容器250の内腔300と処理容器296の内腔304の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である。
V.B. さらなるオプションとして、当該ルアーロック取付部332および334のいずれか、または両方を、導電性素材、例えばステンレス鋼から作成することが可能である。 当該制限的開口部294を成形するまたは隣接する本構成素材は、当該制限的開口部294内での当該プラズマの生成に寄与する可能性がある。
V.B. 当該処理容器296の当該内腔304の望ましい容量は、被覆されていることが好ましい当該製品表面から当該反応物質流量をそらすことがない小容量と、当該内腔304が十分に充填され（当該制限的開口部294において当該圧力差を減少させることにより）望ましい値より低い流量率へと減少される前に当該制限的開口部294を通る豊富な反応性ガス流量率を支持する大容量との間の、トレードオフとなることが考えられる。 当該内腔304の考えられる容量は、ある実施例において、処理される容器250の内腔300の容量の3倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の2倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の50%未満であり、またはまたは処理される容器250の内腔300の容量の25%未満である。 また、それぞれの内腔の容量のその他の効果的関係も考えられる。
V.B. 本発明者は、前図に示される当該内部電極の位置ほど当該容器250の内腔300へ侵入しないよう当該電極308の遠位端を当該容器250と関連させて再位置付けすることにより、特定実施例における当該被覆材の均一性が向上することを発見した。 例えば、特定の実施例において当該遠位開口部316は、当該制限的開口部294に隣接するように位置付けられる場合があるが、別の実施例において当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部302から当該制限的開口部294までの距離の7/8未満、随意に3/4 未満、随意に半分未満の箇所に位置付けられる場合がある。 または、当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部から当該制限的開口部294までの距離の40%未満、30%未満、20%未満、15%未満、10%未満、8%未満、6%未満、4%未満、2%未満、1%未満の箇所に位置付けられる場合がある。
V.B. または、当該電極308の遠位端はやや内側または外側に位置付け可能であり、または、当該容器250の内部へと通過し反応性ガスを供給しながら、処理される容器250の大開口部302と共にフラッシュ可能である。処理される容器250と関連する当該遠位開口部316の位置付けは、特定の寸法およびさまざまの位置での試験によるその他の処理条件に関して最適化可能である。 シリンジバレル250の処理のために考えられる当該電極308の特定の位置の1つは、当該大開口部302上部の当該容器内腔300内に約1/4インチ（約6mm）侵入する当該遠位端314と共にある位置である。
V.B. 本発明者は現在、少なくとも当該容器250内の当該電極308の当該遠位端314を位置付けて電極として適切に機能させることが、必ずしも必須ではないにしろ、有利であると考察している。 驚くべきことに、容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294を通り処理容器内腔304へとより均一に伸延可能であり、当該電極308は以前の利用と比べて当該内腔300内部に侵入しない。 閉口容器の処理といったその他の装備により、当該電極308の遠位端314は一般に、その入口よりも当該容器の閉口端に近接して位置付けられる。
V.B. また当該電極308の遠位端314は、当該制限的開口部294に、または当該制限的開口部294を超えて、例えば処理容器内腔304内に、位置付けられる場合がある。例えば当該制限的開口部294を通る当該ガス流量を向上させるよう当該処理容器296を成形するといった、さまざまな手段を随意に提供可能である。
V.B. さらに別の考えられる実施例において、当該内部電極308は、図８に示す通り、処理中に移動可能であり、例えば、まず当該処理容器内腔304へと伸延して、その後当該処理を進めるにつれて漸進的に近位へと引き揚げることができる。 本手段は、当該容器250が選択された当該処理条件の下で、当該内部電極が当該内面254のより均一な処理を促進する場合に、当該内部電極を細長くすることが特に考えられる。本手段を利用すると、例えばガス供給率、真空吸引率、当該外部電極160に適用する電気エネルギー、当該内部電極308の吸引率、またはその他の要素といった当該処理条件が、当該処理が進むにつれ変化し、処理される容器の異なる部分へと当該処理をカスタマイズできる。
V.B. 便宜上、本明細書で説明するその他の処理にあるように、処理される容器250の大開口部302を当該容器支持体320のポート322上に装填することにより、通常管状である処理される容器250の大開口部は容器支持体320上に位置付けられる場合がある。その後、処理される容器250の内腔300内で少なくとも一部を真空状態にする前に、内部電極308を容器支持体320に装填された容器250内に位置付け可能である。
V.C. 潤滑性被覆材塗布方法、および潤滑性被覆材
本発明の主要な実施例は、有機ケイ素前駆体由来の潤滑層または被覆材を塗布する方法、その結果生成される被覆材および被覆された品目である。 「潤滑層」または類似用語は通常、当該非被覆表面と比較して、当該被覆表面の摩擦抵抗を減少させる被覆材として定義される。 当該被覆物体がシリンジ（またはシリンジ部品、例えばシリンジバレル）または通常プランジャーに含まれるその他の品目または当該被覆表面に接触するスライド式可動部品である場合、当該摩擦抵抗は主に2種類の態様 - 起動力およびプランジャースライド力を有する。
本発明の主要な実施例は、有機ケイ素前駆体由来の潤滑層または被覆材を塗布する方法、その結果生成される被覆材および被覆された品目である。 「潤滑層」または類似用語は通常、当該非被覆表面と比較して、当該被覆表面の摩擦抵抗を減少させる被覆材として定義される。 当該被覆物体がシリンジ（またはシリンジ部品、例えばシリンジバレル）または通常プランジャーに含まれるその他の品目または当該被覆表面に接触するスライド式可動部品である場合、当該摩擦抵抗は主に2種類の態様 - 起動力およびプランジャースライド力を有する。
当該プランジャースライド力試験は、シリンジ内をスライドするプランジャーの摩擦の係数に特化した試験であり、通常平板表面上で測定されるスライド摩擦の係数に関連する標準的な力は、当該プランジャー/その他のスライド式構成要素と当該管/当該プランジャーのスライドするその他の容器との間の装着性を標準化することにより対応可能であるという事実を説明する。 通常計測されるスライド摩擦係数に関連する当該並行力は、本明細書の記載通りに測定された当該プランジャースライド力と比較可能である。 プランジャースライド力は例えば、ISO 7886-1:1993試験で規定される通りに測定可能である。
当該プランジャースライド力試験はまた、例えば管内に停止部材を保持する摩擦といったその他の種類の摩擦抵抗を測定するよう、当該装置および手順に適切な変更を加えて適合可能である。 ある実施例において、当該プランジャーは閉包部により置換可能であり、当該閉包部を除去または挿入するための吸引力をプランジャースライド力の対照として測定可能である。
また、当該プランジャースライド力の代わりに、起動力を測定可能である。 当該起動力は、定常プランジャーがシリンジバレル内を移動するよう起動させるのに必要な力、または装填済みの定常閉包部の装填を解除して移動を開始するのに必要な類似の力である。 当該起動力は、ゼロまた低い値から始まり当該プランジャーが動きだす時点まで増加する、当該プランジャーに適用する力により測定される。 シリンジの保管期間が長いと、当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因である、当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着が起こり、当該起動力が増加する傾向がある。 当該起動力は、当該プランジャー とバレルの間の粘着力を指す業界用語である「sticktion（粘着摩擦力）」を打開するのに必要な力であり、これを打開して当該プランジャーを起動し移動を可能としなければなれない。
ブレークルース力 (Fi) およびグライド力 (Fm) は、潤滑性被覆材の有効性を測るための、重要な性能測定値である。 FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。 Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎる (極端な場合はゼロである) ことを意味し、時期尚早な/意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。
十分な潤滑性 (シリンジプランジャーがシリンジ内を移動でき、しかし当該プランジャーの制御不能な動きを回避する、など) を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm: 8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm: 8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。
当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力 (Fi) とグライド力 (Fm) との間の差を低減させる。
V.C. 容器全体または一部を潤滑層で被覆するための装備の一部は、例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触し、シリンジ内のピストンまたは検体管内の停止部材といったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にする。 当該容器はガラス製である場合があり、または例えばポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレン（PET）、環状オレフィン共重合体（COC）、ポリプロピレンといったオレフィン、またはその他の素材である、ポリマー材製である場合がある。 COCは特にシリンジに適している。 PECVDによる潤滑層/被覆材の塗布は、PECVD処理による堆積と比較してより多量に適用されることが一般的である有機ケイ素またはその他の潤滑剤の噴霧、浸漬、別方法の塗布で該容器壁または閉包部を被覆する必要性を、回避するまたは低減する場合がある。
V.C. 前述の実施例V.C.のいずれにおいても、プラズマは当該基板付近で生成される。
実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、実質上酸素が存在しない環境へと提供可能である。 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、絶対圧が1トール未満である環境へと提供可能である。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、プラズマ発光付近の環境へと提供可能である。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、プラズマ発光付近の環境へと提供可能である。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該被覆材は随意に、当該基板へと1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜500nm、または10〜200nm、または20〜100nm、または30〜1000nm、または 30〜500nmの層厚で塗布可能である。通常の層厚は30〜1000nm、または20〜100nm、非常によくある層厚は80〜150nmである。 特定の粗度が当該潤滑性被覆材の潤滑特性を強化するため、これらの範囲が表すのは、平均層厚である。したがって層厚は、当該被覆材全域にわたり、有利に不均一である (以下を参照)。 しかし、均一な層厚の潤滑性被覆材もまた検討される。
当該潤滑性被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合があり、当該平均層厚からの最大偏差は、好ましくは+/- 50%、より好ましくは+/- 25%、さらにより好ましくは+/- 15%である。 しかし通常は、本説明内で平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。
本被覆材またはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法（TEM）で測定可能である。 潤滑性被覆材の模範的TEM画像を、図２１に示す。 SiO2遮断性被覆材の模範的TEM画像 (別箇所で詳述する) を、図２２に示す。
V.C. TEMは、例えば以下の通り実行可能である。 集束イオンビーム（FIB）断面法のため、2方向に検体を準備する。 いずれかの検体をまず炭素の薄層/被覆材（層厚50-100nm）で被覆し、その後K575X Emitech被覆システムを利用してプラチナのスパッタ層/被覆材（層厚50〜100nm）で被覆可能である。または、当該検体を保護スパッタプラチナ層で直接被覆可能である。 当該被覆検体を、FEI FIB200 FIBシステムに留置する。 関心領域に30kVガリウムのイオンビームをラスターしながら有機金属ガスを射出することで、追加のプラチナ層/被覆材をFIB堆積可能である。 各検体の関心領域は、シリンジバレルの長さ半分にあたる場所で選択可能である。 長さ約15μm（「マイクロメートル」）、幅2μm、奥行15μmの断面を、独自の原位置FIBリフトアウト法を利用して、成形型表面から抽出可能である。 FIB堆積プラチナを使用して、当該断面を200メッシュ銅製TEMグリッドへと装着可能である。 各セクションのサイズ〜8μm幅の1〜2つのウィンドウを、FEI FIBのガリウムイオンビームを使用して、電子透かしへと薄膜化可能である。
V.C. 準備した検体の断面画像分析を、透過電子顕微鏡（TEM）、または走査型透過電子顕微鏡（STEM）、または両方を利用して実行可能である。 すべての画像データをデジタル記録可能である。 STEM画像については、薄肉ホイル付きの当該グリッドをSTEM専用のHitachi HD2300へと転送可能である。 転送された電子画像のスキャンは、原子数造影モード（ZC）および転送電子モード（TE）において適切な倍率で取得可能である。 以下の機器設定を利用可能である。
V.C. TEM分析については、当該検体グリッドをHitachi HF2000透過電子顕微鏡へと転送可能である。 転送された電子画像は、適切な倍率で取得可能である。 画像取得の際に使用する関連機器設定は以下のものである場合がある。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えばポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー、テレフタル酸ポリエチレンポリマー、またはこれら2種以上の複合体といったポリマーからなる場合がある。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該PECVDは随意に、上記で定義される、例えば周波数が10kHz〜300MH未満、随意に1〜50MHz、さらに随意に10〜15MHz、随意に13.56MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで実行可能である。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、潤滑層を成形するのに十分な電力供給を受ける、電極を有する当該前駆体からなるガス状反応物質を加圧することにより、プラズマを生成可能である。 随意に当該プラズマは、0.1〜25 W、随意に1〜22 W、随意に1〜10 W、さらに随意に1〜5 W、随意に2〜4 W、例えば3 W、随意に3〜17 W、さらに随意に 5〜14 W、例えば 6または7.5 W、随意に7〜11 W、例えば8 Wの電力が供給される電極を有する、当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより生成される。当該電極電力の当該プラズマ量に対する比率は、10 W/ml未満、随意に6 W/ml〜0.1 W/ml、随意に5 W/ml〜0.1 W/ml、随意に4 W/ml〜0.1 W/ml、随意に2 W/ml〜0.2 W/mlである場合がある。 低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。 当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。 より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。
V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該酸化ガスとしての酸素および当該搬送ガスとしてのアルゴンの存在下で、ある処理ガスの望ましい複合体に、当該前駆体としてオクタメチルシクロテトラシロキサン (OMCTS) または別の環状シロキサンが含まれる。 本理論の正確性に拘束されることなく、本発明者はこの特定の複合体が有効であると以下の理由から確証する。
V.C. OMCTSまたはその他の環状シロキサン分子は、その他のシロキサン物質より優れるいくつかの利点を提供すると確証される。 第1に、その構造により、密度のより低い被覆材が生成される (HMDSOから生成される被覆材と比較して)。 また当該分子は選択的イオン化を可能とするため、当該最終構造および当該被覆材の化学的組成物を、当該プラズマ電力の適用を通して直接制御可能である。 その他の有機ケイ素分子は容易にイオン化 (破砕) されるため、当該分子の元の構造を保持することはより困難である。
V.C. アルゴンガスを追加すると当該潤滑性性能が向上するため (以下の実施例を参照)、アルゴンの存在における当該分子をさらにイオン化することで潤滑性がもたらされると確証される。 当該分子のSi-O-Si 結合は高い結合エネルギーを有し、その後にSi-Cが続き、C-H結合が最も弱い。潤滑性は、当該C-H結合のある部位が切断されると得られるようである。 これにより、成長に従い当該構造の結合 (交差結合) が可能となる。 酸素 (とアルゴン) を追加すると、本処理が強化されると理解されている。 また少量の酸素により、その他の分子が結合可能なC-O結合が提供される。 低圧低電力でのC-H結合の切断と酸素の追加を組合せると、潤滑性を提供すると同時に強固な化学構造が得られる。
本発明の特殊な実施例において、当該潤滑性はまた、当該潤滑性被覆材の粗度により影響を受ける可能性があり、それは当該前駆体および本書に記載の条件を利用するPECVD処理により起こる。 驚くべきことに、粗い非継続的OMCTS プラズマ被覆材のプランジャー力 (Fi, Fm) は平滑な継続的OMCTSプラズマ被覆材より低いということが、本発明の文脈において、走査電子顕微鏡法 (SEM) および原子間力顕微鏡法 (AFM) の実行により明らかになっている。 これは実施例O〜Vにより実証されている。
理論によって拘束されることなく、当該発明者はこの特定作用はある程度、以下の力学的作用のいずれかまたは両方に基づくと仮定している:
(a) 当該潤滑性被覆材で被覆されるプランジャーの表面接触 (例: 粗被覆材の凸部のみに接触する当該 円形硬質プランジャー表面) が少ないほど、当該プランジャー移動の初期および/または全体において、全般的に接触すなわち摩擦が低くなる。
(a) 当該潤滑性被覆材で被覆されるプランジャーの表面接触 (例: 粗被覆材の凸部のみに接触する当該 円形硬質プランジャー表面) が少ないほど、当該プランジャー移動の初期および/または全体において、全般的に接触すなわち摩擦が低くなる。
(b) プランジャー移動の下、当該プランジャーは当初の不均一で粗い被覆材を、非被覆「凹部」へと広げ平滑化する。
当該潤滑性被覆材の粗度は、当該プラズマを加圧する電力 (単位ワット) を低減させること、および先に説明した量内のO2の存在により、増加する。 当該粗度は、AFMにより判定される「RMS粗度」または「RMS」として表される。 RMSは、AFM画像における最高地点と最低地点の間の差異の標準偏差である (当該差異は「Z」として指定)。 以下の公式により計算する:
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}-2
Zavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}-2
Zavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。
この特殊な実施例における当該RMS範囲は通常、7〜20nm、好ましくは12〜20nmである。 しかしより低いRMSであっても、潤滑特性を満たす場合がある。
V.C. 考察された一製品は随意に、実施例V.C.のいずれか1つ以上の方法により処理されたバレルを有するシリンジである場合がある。前述シリンジは、本発明に記載の潤滑性被覆材のみを有する場合があり、または当該潤滑性被覆材とさらに1つ以上のその他の被覆材（例: 当該潤滑性被覆材の下の/上のSiOx遮断性被覆材）を有する場合がある。
V.D. 流体塗布被覆材
PECVD適用被覆材または本明細で開示するその他のPECVD処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材またはその他の種類の被覆材の1つの実施例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、または当該容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材90である場合があり、当該容器内面への塗布は直接、または本明細書で説明する1種以上の介在性PECVD塗布被覆材（SiOxなど）、または本発明に記載の潤滑層/被覆材、または両方と共に行われる。
PECVD適用被覆材または本明細で開示するその他のPECVD処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材またはその他の種類の被覆材の1つの実施例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、または当該容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材90である場合があり、当該容器内面への塗布は直接、または本明細書で説明する1種以上の介在性PECVD塗布被覆材（SiOxなど）、または本発明に記載の潤滑層/被覆材、または両方と共に行われる。
V.D. 適切な流体遮断膜またはその他の種類の被覆材90はまた、随意に、例えば流体モノマーまたはその他のポリマー、または硬化材料を当該容器80の内面に塗布することにより、当該流体モノマーを硬化、ポリマー化、または交差結合させて間断ないポリマーを成形することにより、塗布可能である。 適切な流体遮断またはその他の種類の被覆材90はまた、溶媒ポリマーの当該表面88への塗布および当該溶媒の除去により、提供可能である。
V.D. 上記いずれかの方法に、処理ステーションまたは機器28における当該容器ポート92経由で当該容器80の内部88上に被覆材90を成形する手順が含まれる場合がある。一実施例として、流体被覆材、例えば硬化性モノマー、プレポリマー、またはポリマー分散の当該容器80の内面88への塗布、および当該容器80の内容物を内面88から物理的に隔離する膜を成形するための硬化が挙げられる。先行技術により、ポリマー被覆技術はプラスチック製採血管の被覆に適切であると記述される。 例えば、参照することにより本書に含まれる米国特許6,165,566に記載の、アクリルおよびポリ塩化ビニリデン（PVdC）被覆材および被覆方法を利用可能である。
前述方法のいずれかも、容器80の外壁上に被覆材を生成する手順となる場合がある、または同手順として含まれる。 適切な被覆材の実施例の1つに、水遮断性および酸素遮断性の両方の機能を有するポリ塩化ビニリデンがある。 随意に、当該遮断性被覆材を水系被覆材として塗布可能である。 当該被覆材は随意に、当該容器の浸漬、当該容器への噴霧、またはその他の手段により、塗布可能である。 上述の外部遮断性被覆材を有する容器もまた、考えられる。
VII. PECVD処理容器
VII. 容器は（例えば図１に示す）遮断性被覆材90を有すると考えられ、当該被覆材は少なくとも2nm、少なくとも4nm、少なくとも7nm、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも30nm、少なくとも40nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、少なくとも150nm、少なくとも200nm、少なくとも300nm、少なくとも400nm、少なくとも 500nm、少なくとも600nm、少なくとも700nm、少なくとも800nm、少なくとも900nmの層厚に塗布されるSiOx被覆材である場合がある。 当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。 上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。 SiOxまたはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法（TEM）で測定可能であり、その組成物はX線光電子分光法（XPS）により測定可能である。
VII. 容器は（例えば図１に示す）遮断性被覆材90を有すると考えられ、当該被覆材は少なくとも2nm、少なくとも4nm、少なくとも7nm、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも30nm、少なくとも40nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、少なくとも150nm、少なくとも200nm、少なくとも300nm、少なくとも400nm、少なくとも 500nm、少なくとも600nm、少なくとも700nm、少なくとも800nm、少なくとも900nmの層厚に塗布されるSiOx被覆材である場合がある。 当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。 上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。 SiOxまたはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法（TEM）で測定可能であり、その組成物はX線光電子分光法（XPS）により測定可能である。
VII. 当該被覆材の透過を妨げる素材の選択および適用するSiOx被覆材の性質によっては、その遮断性に影響が出る可能性が考えられる。 例えば、一般に除外を意図する2つの物質の例は、酸素および水/水蒸気である。 物質は一般に、片方に対してよりもう一方に対する遮断性の方が優れている。 これは少なくとも一部はそう信じられており、なぜなら、酸素は水の透過とは異なる機構で当該被覆材を透過するからである。
VII. 酸素の透過は、当該被覆材の層厚、割れの有無、その他の当該被覆材の物理的詳細といった、物理的特徴により影響を受ける。 その一方で水の透過は、一般に、物理的要素より化学的要素（当該被覆材の原料など）により影響を受けると考えられる。 本発明者はまた、少なくとも1つの当該化学的要素は当該被覆材のOH部分の高濃度であり、それにより当該遮断膜を通る水の透過率がより高められると確信している。 SiOx被覆材は多くの場合OH部分を包含し、したがってOH部分を多く含む物理的に堅固な被覆材は水に対してより酸素に対しての遮断性の方が優れている。 非晶質炭素またはダイヤモンド状炭素（DLC）といった、物理的に堅固な炭素系遮断膜は一般に、SiOx被覆材より水に対する遮断性に優れる。なぜなら、当該炭素系遮断膜は一般に低濃度のOH部分を有するからである。
VII. しかしながら、その酸素遮断性およびガラスや水晶との化学的類似性といったその他の要素により、SiOx被覆材の優先傾向が導き出される。 ガラスおよび水晶（容器の原材料として使用される場合）は、酸素および水に対する高い遮断性を示し、また容器内に一般に含まれる多くの物質を実質的に不活性にすると長く知られてきた2つの物質である。 したがって、水分透過遮断層として機能する異なるまたは追加の種類の被覆材を選択するより、SiOx被覆材の水蒸気透過速度（WVTR）といった水分遮断性を最適化することが、一般に望ましい。
VII. SiOx被覆材の水蒸気透過速度向上のために検討可能な方法を、以下に示す。
VII. 当該堆積被覆材における有機部分（炭素および水素化合物）の対OH部分濃度比を、増加可能である。 これは例えば、当該供給ガスにおける酸素の比率を増加させる（酸素供給率を増加させるまたは1つ以上のその他成分の供給率を減少させる）ことにより、実行可能である。 当該OH部分低発現率は、当該酸素供給が当該ケイ素源の当該水素と反応する度合いが増加し、当該 PECVD排出内により多くの揮発性水が生成され低濃度のOH部分が当該被覆材に捕捉された/組込まれた結果であると、信じられている。
VII. 当該PECVD処理において、当該プラズマ生成電力レベルを上昇させるか、当該電力をより長い期間適用するか、またはその両方により、高エネルギーを適用可能である。 当該適用エネルギーの上昇は、当該管が当該プラズマ生成電力を吸収する程度まで当該処理対象容器を歪曲する可能性があるため、プラスチック管またはその他の機器の被覆に使用する場合は注意を払って用いることが必須である。 用途の文脈においてRF電力が考察されるのは、このためである。 当該医学機器の歪曲は、間に冷却期間を挟む2つ以上の一連のパルスでの当該エネルギーの利用、エネルギー適用中の当該容器の冷却、短時間の当該被覆材の塗布（一般に層厚は薄くなる）、被覆用に選択した当該基材への吸収が最低限である当該被覆材塗布周波数の選択、および/またはそれぞれのエネルギー塗布手順の合間の1つ以上の被覆材の塗布により、低減または消失させることが可能である。 例えば、当該ガス状反応物質または処理ガスを継続的に供給しながら、負荷サイクルを1ミリ秒オン、99ミリ秒オフにして、高電力パルスを使用可能である。 当該ガス状反応物質または処理ガスは、パルスの合間で流れを保持しながらその後冷却剤となる。 別の代替方法は、プラズマを収容するための磁気を追加して有効電力適用（加熱または不要な被覆材に繋がる無駄な電力とは対照的に、実際被覆材の漸増に繋がる当該電力）を増加させることにより、当該電力適用装置を再設定することである。 この手段により、適用エネルギーの総ワット数につき、より多くの被覆成形エネルギーを塗布可能となる。 例えば米国特許5,904,952番を参照のこと。
VII. 当該被覆材の酸素後処理を、以前堆積された被覆材からOH部分を除去するために適用可能である。 本処理としては、残存揮発性有機ケイ素化合物またはケイ素の除去または追加SiOx成形のための被覆材の酸化も考えられる。
VII. 当該プラスチック基材管は予熱可能である。
VII. ケイ素の異なる揮発性源、例えばヘキサメチルジシラザン（HMDZ）を一部のまたはすべてのケイ素供給源として使用可能である。 HMDZへの供給ガスを変更することで当該問題に対処可能であると考えられる。なぜなら、本化合物は供給時点で酸素部分を一切有しないからである。 当該HMDSO源被覆材におけるOH部分の供給源の1つは、未反応HMDSO内に存在する少なくとも一部の酸素原子の水素化であると考えられる。
VII. SiOxと結合させた炭素系被覆材といった、合成被覆材を使用可能である。 これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはアルカン、アルケン、またはアルキンといった置換または非置換炭化水素を当該供給ガスおよび有機ケイ素化合物に追加することにより、実行可能である。 例えば米国特許5,904,952番を参照のこと。 この特許では関連部分において以下のように述べている： 「例えばプロピルといった低炭化水素を含有することで炭素部分を提供し、当該堆積膜のほとんどの性質（光透過を除く）を改善できる。また結合分析により、当該膜が本来は二酸化ケイ素であることが示される。 しかし、メタン、メタノール、アセチレンの使用により、本来はケイ素である膜が生成される。 当該ガス流に少量のガス状窒素を含有させることにより、当該堆積膜内に窒素部分を提供し、当該堆積率を増大させ、ガラスの透過および反射光学性質を改善し、さまざまな量のN2に対する反応における屈折率を変化させることができる。 亜酸化窒素を当該ガス流に追加することにより、当該堆積率が増大し、当該光学性質が改善するが、当該膜硬度は低下する傾向がある。 適切な炭化水素には、メタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、これら2種以上の複合体などがある。
VII. ダイヤモンド状炭素（DLC）被覆材は、主要のまたは唯一の堆積被覆材として成形可能である。 これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはメタン、水素、ヘリウムをPECVD処理へと供給することにより、実行可能である。 当該反応供給は酸素を含まないため、OH部分が成形される可能性はない。 例えば、SiOx被覆材は管内部またはシリンジバレル内部に塗布可能であり、外部DLC被覆材は管外面またはシリンジバレル外面に塗布可能である。 または、SiOxおよびDLC被覆材はどちらも、内部管またはシリンジバレルの単層/被覆材または複数層被覆材として、塗布可能である。
VII. 図１を参照して、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器80へのその内面88を通る大気ガスの透過を低減させる。または、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器80の内容物のその内面88への接触を減少させる。当該遮断層またはその他の種類の被覆材は、例えば、SiOx、非晶質（例えばダイヤモンド状）炭素、またはこれらの複合体からなる場合がある。
VII. 本明細書に記載のいかなる被覆材も、例えばプラスチック表面といった、表面の被覆に使用可能である。 さらには、例えば当該遮断膜はガスまたは流体を遮断し、随意に水蒸気、酸素および/または大気を遮断する遮断膜といった、遮断層として使用可能である。 また、当該表面が非被覆である場合に当該被覆表面化合物または組成物上に及ぼす可能性がある、機械的および/または化学的作用を防止または低減させるために使用可能である。 例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、化合物または組成の沈殿を防止または低減可能である。
VII.A. 被覆容器
本書に記載の被覆材は、プラスチックまたはガラスから作られたさまざまな容器に最も顕著にプラスチック管およびシリンジに塗布可能である。 例えば当該シリンジのバレル内部といった基板に潤滑層/被覆材を塗布する処理が考えられる。当該処理は、当該記述済み前駆体の1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜500nm、または10〜200nm、または20〜100nm、または30〜1000nm、または30〜500nm層厚、または30〜1000nm、または20〜100nm、または80〜150nm層厚での基板上/付近への塗布、および潤滑表面を提供するための当該被覆材の、随意にPECVD処理における交差結合またはポリマー化（または両方）からなる。 本処理により塗布される当該被覆材はまた、新規であると考えられる。
本書に記載の被覆材は、プラスチックまたはガラスから作られたさまざまな容器に最も顕著にプラスチック管およびシリンジに塗布可能である。 例えば当該シリンジのバレル内部といった基板に潤滑層/被覆材を塗布する処理が考えられる。当該処理は、当該記述済み前駆体の1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜500nm、または10〜200nm、または20〜100nm、または30〜1000nm、または30〜500nm層厚、または30〜1000nm、または20〜100nm、または80〜150nm層厚での基板上/付近への塗布、および潤滑表面を提供するための当該被覆材の、随意にPECVD処理における交差結合またはポリマー化（または両方）からなる。 本処理により塗布される当該被覆材はまた、新規であると考えられる。
定義セクションで定義したSiwOxCyHzの被覆材は、疎水層としての実用性を有する場合がある。 この種の被覆材は疎水性であると考えられ、潤滑層として機能するかどうかに依存しない。 当該表面のぬれ張力を対応する非被覆表面または未処理表面と比較して低下させる場合に、被覆または処理は「疎水性」であると定義される。 疎水性は、したがって、非処理基板および処理の両方の機能である。
被覆材の疎水性の度合いは、その組成、性質、または堆積方法により異なる。 例えば、炭化水素をほとんどまたはまったく含有しないSiOx被覆材は、定義セクションで定義するSiwOxCyHz被覆材より親水性である。 一般に、当該被覆材のC-Hx部分（例：CH、CH2、またはCH3）含有量が多いほど、そのケイ素含有量と比較して、重量、容量、またはモル濃度比で、当該被覆材の疎水性が高くなる。
疎水層/被覆材は極めて薄肉であり、少なくとも4nm、または少なくとも7nm、または少なくとも10nm、または少なくとも20nm、または少なくとも30nm、または少なくとも40nm、または少なくとも50nm、または少なくとも100nm、または少なくとも150nm、または少なくとも200nm、または少なくとも300nm、または少なくとも400nm、または少なくとも500nm、または少なくとも600nm、または少なくとも700nm、または少なくとも800nm、または少なくとも900nmの層厚を有する場合がある。 当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。 上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。
かかる疎水層/被覆材の実用性の1つとして、例えばテレフタル酸ポリエチレン（PET）製の熱可塑性管壁を当該管内の採集血液から隔離することが挙げられる。 当該疎水層/被覆材は、当該管内面の親水性SiOx被覆材の上に塗布可能である。 当該SiOx被覆材は熱可塑性管の遮断性を増加させ、当該疎水層/被覆材は管壁を伴う血液接触面の界面エネルギーを変化させる。 当該疎水層/被覆材は、本明細書で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。 例えば、当該疎水層/被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）またはオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）からなる場合がある。
疎水層/被覆材の別の使用法として、ガラス製細胞調製管の作成が挙げられる。 当該管は内腔を定義する壁、および当該ガラス壁の内面の疎水層/被覆材を有し、クエン酸塩試薬を包含する。 当該疎水層/被覆材は、本明細書で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。 別の例として、当該疎水層/被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）またはオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）からなる場合がある。 疎水層の別の原材料として、以下公式のアルキルトリメトキシシランが挙げられる：
R-Si(OCH3)3
当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。 またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。
R-Si(OCH3)3
当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。 またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。
上述のアルキルトリメトキシシラン前駆体を使用して、酸または塩基触媒作用と加熱を組合わせることにより、当該前駆体を凝結（ROH副産物を除去）させて、交差結合ポリマーを成形可能である。これは随意に、代替方法経由でさらに交差結合可能である。 特定実施例の1つとして、Shimojima et. al. J. Mater. Chem., 2007, 17, 658 - 663が挙げられる。
潤滑層 は、SiOx遮断性被覆材を容器80の内面88に塗布した後の後続被覆材として塗布し、特に当該潤滑層/被覆材が流体オルガノシロキサン化合物である場合に当該被覆材処理の最後に潤滑層を提供可能である。
随意に、潤滑層/被覆材の塗布後に、PECVD処理後の後硬化が可能である。 紫外線開始型（フリーラジカルまたはカチオン系）、電子光線（E光線）および「Development Of Novel Cycloaliphatic Siloxanes For Thermal And UV-Curable Applications」（Ruby Chakraborty Dissertation, can 2008）で記述される温熱性を含む、放射線硬化アプローチを利用可能である。
潤滑層/被覆材を提供する別のアプローチとして、潤滑被覆する当該熱可塑性容器を射出成形する場合のケイ素離型剤の使用が挙げられる。 例えば、当該モールド処理中に原位置温熱性潤滑層/被覆材の形成を生じさせる、あらゆる当該離型剤および潜在的モノマーを使用可能であると考えられる。 または、上述モノマーを伝統的な離型剤にドープして、同一結果を達成可能である。
潤滑層は特に、以下でさらに述べるように、当該シリンジバレルの内面のために考えられる。 シリンジバレルの潤滑性内面により、シリンジ操作中にバレル内のプランジャーを前進させるのに必要なプランジャースライド力、または、例えば当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因で起こる当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着の発生後に、プランジャーの移動を開始させるための起動力を、減少させることができる。 また本明細書別箇所で説明する通り、潤滑層/被覆材は、当該容器80の内面88に塗布して後続SiOx被覆材の付着力も改善可能である。
したがって当該被覆材90は、SiOx層/被覆材および潤滑層/被覆材および/または疎水性層からなる場合があり、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる。 当該潤滑層/被覆材および/またはSiwOxCyHz疎水層/被覆材は、当該SiOx層/被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。 またはSiOx層/被覆材は、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。 または、(1) SiOx層/被覆材および (2) 当該 潤滑層/被覆材および/または疎水層の、2種の被覆材組成の間で交互に切換わるまたは累遷する3種以上の層も、利用可能である。 当該SiOx層/被覆材は、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材に隣接させて、または少なくとも1種のその他の素材の介在層/被覆材と共に遠隔で、堆積可能である。 または、SiOx層/被覆材は、当該容器内面に隣接させて堆積可能である。 または、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材は、当該容器の内面に隣接させて堆積可能である。
したがって当該被覆材90は、SiOx層/被覆材および潤滑層/被覆材および/または疎水性層からなる場合があり、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる。 当該潤滑層/被覆材および/またはSiwOxCyHz疎水層/被覆材は、当該SiOx層/被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。 またはSiOx層/被覆材は、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。 または、(1) SiOx層/被覆材および (2) 当該 潤滑層/被覆材および/または疎水層の、2種の被覆材組成の間で交互に切換わるまたは累遷する3種以上の層も、利用可能である。 当該SiOx層/被覆材は、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材に隣接させて、または少なくとも1種のその他の素材の介在層/被覆材と共に遠隔で、堆積可能である。 または、SiOx層/被覆材は、当該容器内面に隣接させて堆積可能である。 または、当該潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材は、当該容器の内面に隣接させて堆積可能である。
本書における、隣接するSiOx層および潤滑層/被覆材および/または疎水性層として考えられる別の手段は、定義セクションで定義する通りのSiwOxCyHzの段階的合成物である。 段階的組成物は、潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材とSiOxの間の中間組成の遷移または界面を伴うそれらの分離層であるか、潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材とSiOxの間の中間組成物の中間特異層を伴うそれらのの分離層であるか、当該被覆が通常方向に進むにつれ潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材の組成からよりSiOxのものへと継続的にまたは段階的に変化する単層である可能性がある。
当該段階的合成物の段階は、どちらの方向にも進む場合がある。 例えば、潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材は当該基板へと直接塗布可能であり、SiOx表面から離れている組成物へと累遷可能である。または、当該組成物SiOxは当該基板へと直接塗布可能であり、潤滑層/被覆材および/または疎水層/被覆材の表面から離れている組成物へと累遷可能である。 累遷被覆材は特に、ある組成の被覆材がその他のものより当該基板への付着性に優れる場合に考えられ、その場合、当該付着性に優れる組成は例えば当該基板に直接塗布される場合がある。 当該段階的被覆材のより離れた部分は、当該段階的被覆材の隣接部と比べて当該基板との相性に劣ると考えられている。なぜなら当該被覆材のあらゆる点において性質は徐々に変化するからであり、その結果、当該被覆材とほとんど同一の深さにある隣接部はほとんど同一の組成を有し、実質上異なる深さにあり物理的により離れている部分はより多様な性質を有する場合がある。 また、当該基板への/から物質搬送に対してより良い遮断性を成形する被覆部は、当該基板上に直接塗布して、機能に劣る遮断膜を成形するより遠隔にある被覆部が当該遮断膜が除外または妨害しようとする物質により汚染されるのを防止可能であると考えられる。
当該被覆材は段階的である代わりに、随意に組成の実質的勾配なしにある層/被覆材から別の層/被覆材へと急激に遷移する可能性がある。 かかる被覆材は例えば、当該ガスを提供して非プラズマ状態で定常流動である層/被覆材を生成し、その後プラズマ放電で短時間加圧して当該基板上に被覆材を成形することにより、生成可能である。 後続被覆材を塗布する場合、最初の被覆材のためのガスを除去してから次の被覆材のためのガスを当該プラズマを加圧する前に定常方法で塗布して、再度、当該界面におけるほとんど段階的遷移なしに当該基板表面の離れた層/被覆材またはその最外部の最初の被覆材を成形する。
VII.A.1.a. 模範的容器
VII.A.1.a. 図１を参照して、容器80などをさらに詳細に示す。 当該図示容器80は通常管状である可能性があり、当該容器の一端に開口部82を、反対側に閉口端84を有する。当該容器80はまた、内面88を定義する壁86を有する。当該容器80の一実施例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。
VII.A.1.a. 図１を参照して、容器80などをさらに詳細に示す。 当該図示容器80は通常管状である可能性があり、当該容器の一端に開口部82を、反対側に閉口端84を有する。当該容器80はまた、内面88を定義する壁86を有する。当該容器80の一実施例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。
VII.A.1.a. 当該容器ホルダー80は、例えば熱可塑性素材を原料とする場合がある。 適切な熱可塑性素材の実施例の一部として、例えばポリプロピレンまたは環状ポリオレフィン共重合体といった、テレフタル酸ポリエチレンまたはポリオレフィンが挙げられる。
VII.A.1.a. 当該容器80は、射出成形、ブロー成形、機械加工、管ストックからの製造、またはその他の適切な手段といった、あらゆる適切な方法により製造可能である。 PECVDは、SiOxの内面上に被覆材を成形するために使用可能である。
VII.A.1.a. 真空採血管としての利用を意図する場合、当該容器80は、760トールの外圧または気圧およびその他の被覆材処理条件に曝露しても実質上変形しない実質上全内部真空に耐える強度を有することが望ましい。 本性質は熱可塑性容器80において、例えば直径および素材に関して十分な壁厚を有するシリンダー状の壁86といった、適切な寸法および当該被覆材処理の温度より高いガラス遷移温度を有する適切な素材で製造された容器80を提供することにより、提供可能である。
VII.A.1.a. 検体採取管およびシリンジといった医療用容器/コンテナは比較的小型であり、当該大気圧により圧潰されることなく真空化可能である比較的厚肉の壁で射出成形される。 したがって、炭酸ソフトドリンクボトルまたはその他のより大きいより薄壁のプラスチック容器より堅固である。 真空容器として利用するために設計される検体採取管は通常、保管期間中に全真空に耐えるよう構成されており、真空チャンバとして使用可能である。
VII.A.1.a. かかる容器をそれ自体の真空チャンバへと適合させることで、通常極めて低圧で実行される当該容器のPECVD処理用真空チャンバ内への留置の必要性がなくなる可能性がある。 容器をそれ自体の真空チャンバとして利用することにより、処理時間が迅速となり（個別の真空チャンバからの部品の搭載・非搭載が不要なため）、装置設定の簡略化が可能となる。 さらに特定の実施例については、当該機器を（ガス管やその他の装置へと位置合わせするため）把持し、当該機器を（当該容器ホルダーを真空ポンプへと装着して当該真空を創出可能とするため）密閉し、およびモールドと後続処理手順との間で当該機器を移動する、容器ホルダーが考えられる。
VII.A.1.a. 真空採血管として使用する容器80は、意図する塗布のために有用な減圧へと内部が真空化されている一方で、保存可能期間中に大気またはその他の大気中ガスが大幅に当該管（当該閉包部をバイパスすることにより）へと漏出するまたは当該壁86を通して透過することなしに、外部気圧に耐えるよう設計されているべきである。 モールドされた時点での容器80がこの要件に満たない場合、遮断膜またはその他の種類の被覆材90で当該内面88を被覆することで処理可能である。これらの機器（検体採取管やシリンジバレルなど）の内面を処理および/または被覆して、既存のポリマー機器を超える利点を提供するおよび/または既存のガラス製品を模倣するさまざまな性質を付与することが望ましい。 処理または被覆の前および/または後に、当該機器のさまざまな性質を測定することが望ましい。
さらなる模範的容器は、本書に記載のシリンジである。
VII.A.1.b. 疎水性被覆材で被覆された壁を有する容器
VII.A.1.b. 別の実施例は、疎水層/被覆材で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する容器である。 当該疎水層/被覆材は、当該容器内面の親水性SiOx被覆材の上にも塗布可能である。 当該SiOx被覆材は当該プラスチック容器の遮断性を増加させ、当該疎水層/被覆材は容器壁を有する当該容器内の組成物または化合物の接触面の界面エネルギーを変化させる。
VII.A.1.b. 別の実施例は、疎水層/被覆材で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する容器である。 当該疎水層/被覆材は、当該容器内面の親水性SiOx被覆材の上にも塗布可能である。 当該SiOx被覆材は当該プラスチック容器の遮断性を増加させ、当該疎水層/被覆材は容器壁を有する当該容器内の組成物または化合物の接触面の界面エネルギーを変化させる。
VII.A.1.b. 当該壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。
VII.A.1.b. 実施例VII.A.1.bに記載の容器は、本明細書での説明の通りに適用される当該管内面上の第1SiOx層/被覆材を有し、酸素遮断層として機能して熱可塑性素材製真空採血管の保存可能期間を延長することが可能である。 定義セクションで定義される通りの特徴を持つ疎水層の第2層/被覆材を、当該容器内面の遮断層/被覆材上に塗布して、疎水性表面を提供可能である。 採血管またはシリンジにおいて、当該被覆材は随意に、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.A.1.b. PECVDは、当該内面上に疎水層/被覆材を成形するために使用される。 従来のクエン酸塩採血管とは異なり、本書で定義する疎水層を有する採血管は、管の疎水性表面を生成するのに通常用いられる、容器壁のケイ素上で焼成する被覆材を必要としない。
両方の層を、例えばHMDSOまたはOMCTSといった同一前駆体、および異なるPECVD反応条件を使用して塗布可能である。
VII.A.1.b. 採血管またはシリンジを生成する場合、クエン酸ナトリウム抗凝固剤をその後当該管内に入れ、閉包部を用いて真空化および密閉化して真空採血管を生成可能である。 当該剤の成分および公式は、当技術分野の当事者にとって既知である。当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。
VII.A.1.c. SiOx遮断膜被覆される2層壁プラスチック容器 - COC、PET、SiOx層
VII.A.1.c. 別の実施例は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。 当該壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層/被覆材を有する。 1つのポリマー層/被覆材は、少なくとも層厚0.1 mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体（COC）樹脂の層である。 別のポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、ポリエステル樹脂の層/被覆材である。
VII.A.1.c. 別の実施例は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。 当該壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層/被覆材を有する。 1つのポリマー層/被覆材は、少なくとも層厚0.1 mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体（COC）樹脂の層である。 別のポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、ポリエステル樹脂の層/被覆材である。
VII.A.1.c. 当該壁には、約10〜500オングストロームの層厚を有するSiOx酸素遮断層/被覆材が含まれる。
VII.A.1.c. 代替実施例において、当該容器80は内壁408および外壁410を有する二重壁容器である場合があり、それぞれ同一のまたは異なる物質を原料とする場合がある。 この種の特定実施例の1つは、環状オレフィン共重合体（COC）からモールドされた壁およびテレフタル酸ポリエチレン（PET）といったポリエステルからモールドされたその他の壁で構成され、当該内面412上に前述のSiOx被覆材を有する場合がある。必要に応じて、連結被覆材または連結層を当該内壁と外壁との間に挿入して、それらの間の付着力を促進可能である。 この壁構造の利点として、異なる性質を有する壁を組合わせて各壁のそれぞれの性質を有する合成物を成形可能であることが挙げられる。
VII.A.1.c. 一実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のPET被覆から生成可能であり、当該外壁410はCOCから生成可能である。 本明細書内別箇所で示す通り、SiOxを有するPET被覆は優良な酸素遮断層であり、一方COCは優良な水蒸気遮断層であり、それにより水蒸気遷移速度（WVTR）が低下する。 本合成容器は、酸素および水蒸気の両方について優良な遮断性を有する場合がある。 本構造は、例えば製造時に水性試薬を包含しかつ実質的な保存可能期間を有する真空化された医療用検体採取管のために考えられており、保存可能期間に合成壁を通る水蒸気の外方向への搬送または酸素またはその他のガスの内方向への搬送を防止するための遮断性を有するものとする。
VII.A.1.c. 別の実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のCOC被覆から生成可能であり、当該外壁410はPETから生成可能である。 本構造は、例えば製造時に水性無菌液を包含する充填済みシリンジのために考えられている。 当該SiOx遮断層は、酸素がその壁を通りシリンジに侵入するのを防止する。 当該COC内壁は、例えば水といったその他の物質の侵入または放出を防止し、したがって当該水性無菌液内の水が当該壁素材から当該シリンジへと浸出するのを防止する。 当該COC内壁はまた、水性無菌液由来の水が当該シリンジから透過する（したがって当該水性無菌液が望ましくなく濃縮される）ことを防止するために考えられており、非無菌液または当該シリンジ外部のその他の流体が当該シリンジ壁を通って侵入し当該含有物が非無菌液となることを、防止する。 また当該COC内壁は、当該シリンジの内壁に対する当該プランジャーの破断力または摩擦を減少させるのに有用であると考えられる。
VII.A.1.d. 2層壁プラスチック容器の製造方法 - COC、PET、SiOx層
VII.A.1.d. 別の実施例は、 外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層/被覆材を有し1つの層/被覆材がCOC製でもう1つの層/被覆材がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。 当該容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。
VII.A.1.d. 別の実施例は、 外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層/被覆材を有し1つの層/被覆材がCOC製でもう1つの層/被覆材がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。 当該容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。
VII.A.1.d. オプションの追加手順として、内部被覆材、外部被覆材、または当該層の間に位置する中間層/被覆材としての、非晶質炭素被覆材の当該容器へのPECVDによる塗布が挙げられる。
VII.A.1.d. オプションの追加手順として、前述通りにSiOxが定義される当該容器壁内面へのSiOx遮断層/被覆材の塗布が挙げられる。 別のオプションの追加手順として、本質的に酸素からなりおよび本質的に揮発性ケイ素化合物を含まないガス状反応物質または処理ガスによるSiOx層/被覆材の後処理が挙げられる。
VII.A.1.d. 随意に、当該SiOx被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから成形可能である。
VII.A.1.d. 容器80は、一例として、第1モールド空洞部に当該内壁を射出成形して、その後当該核およびモールドされた内壁を第1モールド空洞部からより大きい第2モールド空洞部へと取り出し、その後当該第2モールド空洞部において当該内壁に対して当該外壁を射出成形することにより、内から外へ成形可能である。 随意に、当該外壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた内壁の外面へと連結層/被覆材を提供可能である。
VII.A.1.d. または容器80は、一例として、当該モールド空洞部内に第1核を挿入し、当該モールド空洞部内で当該外壁を射出成形し、その後当該第1核をモールドした第1壁から取り出しより小さい第2核を挿入し、その後当該モールド空洞部にそのまま内在している当該外壁に対して該内壁を射出成形することにより、外から中へ成形可能である。 随意に、当該内壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた外壁の内面へと連結層/被覆材を提供可能である。
VII.A.1.d. または容器80は、2段成形で製造される場合がある。 これは、一例として、当該内壁用の部材を内部ノズルからおよび当該外壁用の部材を同心の外部ノズルから射出成形することにより、実行可能である。 随意に、当該内部ノズルと外部ノズルの間に付帯する第3同心ノズルから、連結層/被覆材を提供可能である。 当該複数ノズルにより、それぞれの壁材料を同時に供給可能である。 有用な手段の1つとして、当該内部ノズルを通して当該内壁材料を供給する少し前に、当該外部ノズルを通して当該外壁材料を供給し始めることが挙げられる。 中間同心ノズルが存在する場合、工程順は当該外部ノズルから始まり、順に当該中間ノズルから、そして当該内部ノズルからと続く。 または、供給開始順は当該内部ノズルから始まり、前述のものとは反対に外方向へと進めることが可能である。
VII.A.1.e. ガラスを原料とする容器または被覆材
VII.A.1.e. 別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。 当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。 当該容器は、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。 少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、当該壁の内面に存在する。 閉包部が当該口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.1.e. 別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。 当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。 当該容器は、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。 少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、当該壁の内面に存在する。 閉包部が当該口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.1.e. 当該容器80は例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、またはその他のガラス処方といった、医療または研究に使用されるいかなる種類のガラスを原料とすることが可能である。 いかなる材料から製造されるいかなる形状またはサイズを有するその他の容器もまた、当該システム20での使用のために考えられる。ガラス容器の被覆の機能の1つとして、当該ガラスから当該容器の含有物（真空採血管内の試薬または血液など）への、意図的または不純物（ナトリウム、カルシウム、その他）としてのイオンのガラス内への侵入を低減させることが挙げられる。 例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触するといった、ガラス容器全体または一部を被覆することの別の機能は、例えばシリンジ内のピストンといったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にするために、当該被覆材に潤滑性を提供することである。 ガラス容器を被覆するさらに別の理由として、当該容器内の試薬または意図する検体（血液など）の当該容器壁への付着、または当該容器壁に接触する血液の凝固率増加を防止することが挙げられる。
VII.A.1.e.i. 関連する実施例として、当該遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製またはホウケイ酸ガラス製またはその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。
VII.A.2. 停止部材
VII.A.2. 図５〜７は、周囲環境から当該内腔274を隔離する閉包部270を有する真空採血管である場合がある、容器268を図示する。 当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。
VII.A.2. 図５〜７は、周囲環境から当該内腔274を隔離する閉包部270を有する真空採血管である場合がある、容器268を図示する。 当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。
VII.A.2.a. 潤滑層/被覆材の真空チャンバ内停止部材 への塗布方法
VII.A.2.a. 別の実施例として、エラストマー製停止部材282などの上に被覆材を塗布する方法が挙げられる。 当該停止部材282を当該容器268から離して、実質上真空チャンバ内に留置する。 プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。 当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。 定義セクションで定義した通りに特徴付けられる、潤滑および/または疎水層が、停止部材の少なくとも一部に堆積する。
VII.A.2.a. 別の実施例として、エラストマー製停止部材282などの上に被覆材を塗布する方法が挙げられる。 当該停止部材282を当該容器268から離して、実質上真空チャンバ内に留置する。 プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。 当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。 定義セクションで定義した通りに特徴付けられる、潤滑および/または疎水層が、停止部材の少なくとも一部に堆積する。
VII.A.2.a. 図示する当該実施例において、当該閉包部270の壁接触内面276を潤滑層/被覆材286で被覆する。
VII.A.2.a. 一部の実施例において、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる潤滑および/または疎水層は、当該停止部材の1つ以上の構成要素（停止部材または容器壁の金属イオン構成要素など）の容器腔への透過性を減少させる効果がある。 停止部材282の製作に有用な種類の特定のエラストマー組成には、微量の1種以上の金属イオンが含まれる。 当該イオンは、特に当該検体容器268が微量金属分析の検体採集に使用される場合、当該内腔274へと移行するべきではない、または当該容器含有物に多量に接触するべきではない場合がある。 例えば、比較的有機含有物をほとんど含まない（すなわち、定義セクションで定義する通りSiwOxCyHzのyおよびzが低量またはゼロである）被覆材は、本用途において金属イオン遮断膜として特に有用であることが考えられる。 金属イオン遮断膜としてのケイ石粉については、例えば、言及することで本書に記載済みの、Anupama Mallikarjunan、Jasbir Juneja、Guangrong Yang、Shyam P. Murarka、およびToh-Ming Luによる「The Effect of Interfacial Chemistry on Metal Ion Penetration into Polymeric Films」Mat. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 734, pp. B9.60.1 to B9.60.6 (Materials Research Society, 2003)、米国特許 5578103 および 6200658、欧州出願 EP0697378 A2を参照されたい。 しかしながら一部の有機含有物は、より弾性の被覆材を提供し、当該被覆材を当該停止部材282のエラストマー表面に付着させるのに、有用である可能性がある
VII.A.2.a. 一部の実施例において、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる潤滑および/または疎水層は、第1/内部層/被覆材288がエラストマー製停止部材282と結合する第1層および第2層を有する材質の合成物である可能性があり、当該停止部材282の1種以上の構成要素の容器腔への透過性を減少させる効果がある。 当該第2層/被覆材286は当該容器の内壁280と接合可能であり、当該停止部材282が当該容器268上/内に装填済である場合に、潤滑層/被覆材として当該停止部材282と当該容器の内壁280との間の摩擦を減少させるのに効果的である。 かかる合成物については、本明細書内の別箇所において、シリンジ被覆材に関連して記述する。
VII.A.2.a. 一部の実施例において、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる潤滑および/または疎水層は、第1/内部層/被覆材288がエラストマー製停止部材282と結合する第1層および第2層を有する材質の合成物である可能性があり、当該停止部材282の1種以上の構成要素の容器腔への透過性を減少させる効果がある。 当該第2層/被覆材286は当該容器の内壁280と接合可能であり、当該停止部材282が当該容器268上/内に装填済である場合に、潤滑層/被覆材として当該停止部材282と当該容器の内壁280との間の摩擦を減少させるのに効果的である。 かかる合成物については、本明細書内の別箇所において、シリンジ被覆材に関連して記述する。
VII.A.2.a. または、当該第1層288および第2層286は累遷性被覆材により定義され、その場合、当該第1層/被覆材における定義セクションで定義のyおよびzの値は当該第2層のものより大きくなる。
VII.A.2.a. 当該潤滑および/または疎水層/被覆材は、例えば、前述の通り実質上PECVDにより塗布可能である。 当該潤滑および/または疎水層/被覆材は、例えば層厚0.5〜5000nm（5〜50,000オングストローム）、または層厚1〜5000nm、または層厚5〜5000nm、または層厚10〜5000nm、または層厚20〜5000nm、または層厚50〜5000nm、または層厚100〜5000nm、または層厚200〜5000nm、または層厚500〜5000nm、または層厚1000〜5000nm、または層厚2000〜5000nm、または層厚3000〜5000nm、または層厚4000〜10,000nmである可能性がある。
VII.A.2.a. プラズマ被覆潤滑層に関して、より厚い（1ミクロン以上）従来の噴霧塗布式ケイ素潤滑剤より優れる、特定の利点が考えられる。 プラズマ被覆材は血液への遊走性が噴霧またはミクロンケイ素と比べてはるかに低い。なぜなら、プラズマ被覆物質が非常に低量であり、当該被覆表面へのより密接な塗布および所定の位置におけるより良い結合である可能性があるからである。
VII.A.2.a. 当該プラズマ被覆材はより平滑な表面を提供する傾向があるため、隣接面のスライドまたは隣接流体の流量のミクロ被覆材より低い抵抗を提供するための、PECVDによる塗布としてのナノ被覆が考えられる。
VII.A.2.a. また別の実施例は、潤滑および/または疎水層/被覆材をエラストマー製停止部材上に塗布する方法である。 当該停止部材は、例えば前述容器を閉口するために使用可能である。 当該方法はいくつかの部分からなる。 停止部材を実質上真空チャンバ内に留置する。 プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。 プラズマが当該反応混合物内に生成される。 当該停止部材は反応混合物と接触し、当該停止部材の少なくとも一部上に潤滑および/または疎水層/被覆材が堆積される。
VII.A.2.a. 本方法の実践において、定義セクションで定義される通りより高いyまたはzの値を得るため、さらに上述および後述するように、当該反応混合物は炭化水素ガスからなる場合があると考えられる。 随意に、yおよびzの値が低いまたはxの値が高いと考えられる場合、当該反応混合物は酸素を含む場合がある。 または、特に酸化を低減させyおよびzの値を増加させるため、当該反応混合物は本質的に酸化ガスを含まない可能性がある。
VII.A.2.a. 本方法の実践において、例えば当該停止部材282といった当該停止部材の特定の実施例を被覆するため、当該反応混合物を当該停止部材凹面に投射することは不要であると考えられる。 例えば、当該停止部材282の壁に接触する表面276および内部に対向する表面272は、本質的に凸面であり、したがってバッチ処理により簡単に処理できる。その場合、多数の停止部材282などは実質上真空である単一反応チャンバ内に位置し処理される可能性がある。 さらに一部の実施例において、当該被覆材286および288は酸素または水に対して、当該容器268の内面280上の遮断性被覆材ほど強力な遮断膜として示される必要がないと考えられる。なぜなら、当該停止部材282の材質がこの機能の大半を担うからである。
VII.A.2.a. 当該停止部材および当該停止部材の被覆処理の多くの変型が考えられる. 当該停止部材282は当該プラズマに接触可能である。 または当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材282の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部材282に接触可能である。 当該プラズマは、電磁エネルギーおよび/またはマイクロ波エネルギーを用いて当該反応混合物を励起させることにより、生成可能である。
VII.A.2.a. 当該反応混合物の変型が考えられる。 当該プラズマ生成ガスは不活性ガス（本書内で搬送ガスとも呼称される）を含む場合がある。 当該不活性ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、クリプトン、これら2種以上の複合体である場合がある。 特に、当該不活性ガスは、ネオン、アルゴン、ヘリウムである場合がある。 当該有機ケイ素化合物ガスは、HMDSO、OMCTS、本開示で述べるその他の有機ケイ素化合物、またはこれら2種以上の複合体である/を含む場合がある。 当該酸化ガスは、酸素、本開示で述べるその他のガス、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。 当該炭化水素ガスは、例えばメタン、メタノール、エタン、エチレン、エタノール、プロパン、プロピレン、プロパノール、アセチレン、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。
VII.A.2.b. PECVDによる第III族または第IV族元素および炭素の被覆材の停止部材上への塗布
VII.A.2.b. 別の実施例は、炭素または1種以上の第III族または第IV族元素を含む組成物の被覆材をエラストマー製停止部材に塗布する方法である。 本方法を実行するには、停止部材を堆積チャンバ内に位置付ける。
VII.A.2.b. 別の実施例は、炭素または1種以上の第III族または第IV族元素を含む組成物の被覆材をエラストマー製停止部材に塗布する方法である。 本方法を実行するには、停止部材を堆積チャンバ内に位置付ける。
VII.A.2.b. 第III族元素、第IV族元素、またはそれら2つ以上の複合体である気体源を有するプラズマ生成ガスを含む反応混合物を、堆積チャンバに用意する。 当該反応混合物は、随意に酸化ガスを包含し、随意に1種以上のC-H結合を有するガス状化合物を包含する。 当該反応混合物内にプラズマが生成され、当該停止部材が当該反応混合物に接触する。 第III族元素または化合物、第IV族元素または化合物、またはそれら2つ以上の複合体である被覆材を、当該停止部材の少なくとも一部に堆積させる。
VII.A.3. 24カ月95%の真空状態を維持する遮断性被覆材を有する停止部材付きプラスチック容器
VII.A.3. 別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。 当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。 当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。 当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。 少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を、当該壁の内面に塗布する。 当該遮断性被覆材は、実質的保存可能期間の提供に効果的である。 当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.3. 別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。 当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。 当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。 当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。 少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を、当該壁の内面に塗布する。 当該遮断性被覆材は、実質的保存可能期間の提供に効果的である。 当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.3. 図５〜７を参照に、例えば真空採血管またはその他の容器といった、容器268を示す。
VII.A.3. 当該容器は、本実施例において、少なくとも本質的に継続的な遮断性被覆材および閉包部を有する、通常管状の容器である。当該容器は熱可塑性素材を原料とし、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。 当該遮断性被覆材は当該壁内面に堆積され、少なくとも24カ月、随意に少なくとも30カ月、随意に少なくとも36カ月の保存可能期間中に、当該容器の最初の真空レベルの少なくとも95%を、または少なくとも90%を維持するのに有効である。 閉包部が当該容器の口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔離する。
VII.A.3. 当該閉包部、例えば図内に図示する当該閉包部270またはその他の種類の閉包部は、一部真空を維持するため、および/または検体を包含するため、およびその酸素への曝露または汚染を制限/防止するために提供される。 図５-７は、米国特許6,602,206番に含まれる図に基づいているが、本発見はこれまたはその他のいかなる特定の種類の閉包部にも制限されない。
VII.A.3. 当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。
VII.A.3. 図示する当該実施例において、当該停止部材 282は当該壁接触内面276および当該内面278を定義し、その一方で当該遮蔽体は大部分または全体が当停止された容器268の外部にあり、当該停止部材282の把持を保持および提供し、例えば当該容器268が開口され当該圧力差を均等化するため大気が急に増減する場合の当該容器268の内部と外部の圧力差が原因で当該容器268から放出される含有物に当該閉包部270を除去する人物が曝露しないよう遮蔽する。
VII.A.3. さらには、当該容器壁280上の当該被覆材および当該停止部材の当該壁接触表面276を整合させることが可能であると考えられる。 当該停止部材は潤滑性ケイ素層で被覆可能であり、例えばPET製またはガラス製である当該容器壁280はより硬質なSiOx層または下層のSiOx層/被覆材および潤滑性保護膜で被覆可能である。
VII.B. シリンジ
VII.B. 以上の記述は主に、例えば採血管またはより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。 当該装置はかかる機器に制限されない。
VII.B. 以上の記述は主に、例えば採血管またはより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。 当該装置はかかる機器に制限されない。
VII.B. 図４に示す、適切な容器の別の実施例は医療用シリンジ252のためのシリンジバレルである。 かかるシリンジ252は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、または同種のもので充填済みである場合がある。 事前充填済みシリンジ252も、例えば保存中のシリンジバレル250のように、事前充填済みシリンジ252の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面254上のSiOx遮断層またはその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。 当該遮断膜またはその他の種類の被覆材は、当該プラスチック成分が当該内面254を通して当該バレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。
VII.B. シリンジバレル250はモールド時には一般に、プランジャー258を収受する後端部256と、当該シリンジ252の含有物を投与するための/物質を当該シリンジ252へと収受するための皮下注射針、ノズル、またはタブを収受する前端部260の両方が開口している場合がある。 しかし当該充填済みシリンジ252が使用される前に、当該前端部260には随意に蓋が付けられ、当該プランジャー258は随意に所定の位置に装着され、当該バレル250の両端は閉口される場合がある。 蓋262を設置する目的は、当該シリンジバレル250または組立てられたシリンジを処理するため、または当該蓋262を除去し（随意に）皮下注射針または当該シリンジ252の使用準備のためその他の搬送導管を当該前端部260に装着する時まで当該充填済みシリンジ252を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。
図２４〜２６に示す適切な容器の別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである (「固定針シリンジ」)。当該針は空洞で、通常サイズは18〜29ゲージである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。 当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。 当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。 当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。
当該固定針シリンジの針には、外面、一方の端に供給口、もう1つの端に底部、当該底部から当該供給口へと伸延する内部経路がある。 当該バレルには、例えば通常シリンダー状の内面があり、内腔を定義している。 また当該バレルには、当該針の外面と接触する流体密閉部の周りおよび内部に前部経路がモールド形成されている。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジは随意に、当該針の供給口を環境大気から隔離するよう設定される蓋をさらに含む。
いずれかの「固定針」実施例の蓋は随意に、周縁部により定義され供給口を収受可能なサイズの、開口部を有する内腔をさらに含む。当該周縁部は、当該バレルの外部部位に対して装填可能である。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該バレルは随意に、その前部経路に隣接する通常半球状の内面部位を含む場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該針の底部は随意に、当該バレル半球状内面部位と共に少なくとも実質上フラッシュ可能である。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジは随意に、当該バレルの半球状内面部位の少なくとも1つの上に、PECVD塗布遮断性被覆材 をさらに含む場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。
いずれかの「固定針」実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該針の底部と当該バレルの通常シリンダー状の内面部位との間に遮断性を形成する場合がある。
図２４の「固定針」実施例において、当該蓋7126は、従来のルアーロック装備で、当該シリンジ7120の鼻部71110上で定位置に固定される。 当該シリンジのテーパー状鼻部71110は対応する当該蓋7126のテーパー状のど部71112と嵌合し、当該シリンジは、当該テーパー71110および71112を共にロックする当該蓋7126のドッグ71118および71120を収受する内部ねじ山71116付きのカラー71114を有する。 当該蓋7126は、実質上硬質である場合がある。
ここで図２５を参照して、当該「固定針」実施例のシリンジバレル71122および蓋71124の変型が示される。 本実施例において、当該蓋71124は底部に、当該シリンジバレル71122と湿度密閉部を形成するための柔軟性縁密閉部7172を含む。
随意に図２４および２５の「固定針」実施例において、当該蓋7126および71124は当該PECVD被覆材処理の間、真空に耐えることが可能である。 当該蓋7126および71124は、LDPE製である場合がある。 代替の硬質プラスチック素材、例えばポリプロピレンも使用可能である。 追加の密閉要素の提供も可能である。
図２６に示される「固定針」実施例のもう1つのオプションにおいては、当該蓋71126は柔軟であり、当該シリンジ7120の上端部を覆って密閉するよう設計される。ゴムまたは熱可塑性エラストマー (TPE) といった、変形可能な素材を当該蓋71126に利用可能である。望ましいTPE素材には、フルオロエラストマー、特に医療グレードのフルオロエラストマーが含まれる。 例として、VITON（商標）およびTECHNOFLON（商標）が挙げられる。 VITON（商標）は一部の実施例で望ましい。 適したゴムの例は、EPDMゴムである。
モールドの間、 (例えば図２６に図示される) 特定の「固定針」実施例において、少量の当該蓋素材71132が、当該針7122の端部または供給口7134へと引き入れられ、密閉部が生成される。 当該素材71132は、適量の素材が当該針7122へと引き入れられ、当該針7122へと引き入れられた当該素材が取り外される時に当該蓋71126へと装着され続け、当該針7122使用時に栓を抜くことができるよう、デュロメーターを有するべきである。
別の「固定針」実施例において、当該蓋素材71132は、当該供給口7134へと引き入れられることなく、 当該針7122の供給口をブロックする場合がある。望ましい目的を達成するための適切な材料選択は、当技術分野の当事者の能力の範囲内とされる。
追加の密閉部を、当該シリンジバレル内に形成されるアンダーカット71134と当該蓋71126の内部の突起部71138を結合させ、当該蓋71126を維持するための結合部を定義することにより、作成可能である。代替の「固定針」実施例には、前述の密閉部のいずれかまたは両方が含まれる場合がある。
随意に図２５を参照して、当該蓋71124は、当該蓋7126を当該バレル上の装填位置へと固定するよう設定される、底部7168および結合部7170を有する。 代替としてまたはさらに、柔軟性縁密閉部7172は随意に、当該蓋71124が当該バレル71122上に固定される場合に当該バレル71122に対して装填するため、当該蓋71124の底部7168に提供される場合がある。
随意にここで図２６を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。 本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入/放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。
随意にここで図２６を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。 本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入/放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。
随意に当該「固定針」実施例において、当該結合部7170は、バレル71122および蓋71124いずれかの上の戻り止めまたは溝7174、および別のバレル 71122および蓋71124の上の突起部または肋材7176を含む場合がある。当該突起部 7176は、当該蓋7126が当該バレル上の装填位置にある場合に、当該戻り止め76と嵌合するよう適合される。 ある考察される実施例において、戻り止め7174は当該バレル上に、突起部7176は当該蓋7126上にある場合がある。別の考察実施例において、戻り止め7174は当該蓋7126上に、突起部7176は当該 バレル上にある場合がある。 また別の考察される実施例において、第1戻り止め7174は当該バレル上に、当該戻り止め7174と嵌合する第1突起部7176は当該蓋7126上にある場合があり、一方第2戻り止め7175は当該蓋7126上に、嵌合する当該第2突起部7177は当該バレル上にある場合がある。 戻り止め7174は、当該モールド内の7192および7194といった側部吸引を組み入れることにより、アンダーカットとして当該シリンジバレル内にモールドされる場合がある。 当該戻り止め7174は、予備突起部7176と嵌合して、当該蓋7126を当該シリンジ7120へと組立て (スナップを付け) る。この点において当該蓋7126は、当該戻り止め7174および突起部7176をスナップ係合するため十分に変形可能であるよう、十分に柔軟であることが望ましい。
当該「固定針」実施例における7126、71124、71126といった当該蓋は、射出成形またはその他の方法で（例えば熱可塑性素材から）成形可能である。 適切な熱可塑性素材のいくつかの例として、環状オレフィンSiO2ポリマー (COP)、環状オレフィン共重合体 (COC)、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。 当該蓋7126は、熱可塑性エラストマー (TPE) またはその他のエラストマー素材を含む/から作られる場合がある。 当該蓋7126はまた、テレフタル酸ポリエチレン (PET)、ポリカーボネート樹脂、その他の適切な素材から作られる場合がある。 随意に当該蓋7126の素材は、真空に耐え当該シリンジ7120内の滅菌性を維持するものを選択可能である。
通常当該シリンジバレルを被覆する場合、当該被覆基板表面を当該バレルの内面の一部または全部とし、当該PECVD反応のためのガスが当該バレルの内部内腔に充填され、当該プラズマが当該バレルの内部内腔の一部または全部に生成されるよう、本書に記載のPECVD被覆方法を実行する。
VII.B.1.a. 潤滑層で被覆されるバレル付きシリンジ
VII.B.1.a. 当該種の潤滑層を有するシリンジは、以下の工程により生成可能である。
VII.B.1.a. 上記で定義される前駆体を用意する。
VII.B.1.a. 当該種の潤滑層を有するシリンジは、以下の工程により生成可能である。
VII.B.1.a. 上記で定義される前駆体を用意する。
VII.B.1.a. 当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。 当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。
VII.B.1.a. 実施例VIIおよび下位部分に関して、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。
VII.B.1.a. プラズマが当該基板付近で生成される。 随意に、当該前駆体を実質上窒素が存在しない環境へと提供する。 随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。 随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。 随意に、当該前駆体およびその反応生成物を当該基板へと1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜500nm、または10〜200nm、または20〜100nm、または30〜1000nm、または30〜500nm、または30〜1000nm、または20〜100nm、または80〜150nmの平均層厚で塗布する。 随意に、当該基板はガラスからなる。 随意に当該基板は、ポリマーから、随意にポリカーボネートポリマーから、随意にオレフィン重合体から、随意に環状オレフィン共重合体から、随意にポリプロピレンポリマーから、随意にポリエステルポリマーから、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーからなる。 COCは特に、シリンジおよびシリンジバレル用として検討される。
VII.B.1.a. 随意に当該プラズマを、上記で定義される、例えば周波数が10kHz〜300MH未満、随意に1〜50MHz、さらに随意に10〜15MHz、随意に13.56MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで生成する。
VII.B.1.a. 当該プラズマは、随意に0.1〜25W、随意に1〜22W、随意に3〜17W、さらに随意に5〜14W、随意に7〜11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成される。 当該電極電力の対プラズマ量比は10 W/ml未満であり、随意に6W/ml〜0.1W/ml、随意に5W/ml〜0.1W/ml、随意に4W/ml〜0.1W/ml、随意に2W/ml〜0.2W/mlである場合がある。 低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。 当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への潤滑層の塗布に適している。 より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。
VII.B.1.a 別の実施例は、シリンジバレルの内壁上の本発明の潤滑性被覆材である。 当該被覆材は、以下の素材および条件を使用してPECVD処理により生成される。 随意に環状前駆体を利用し、本明細書内別箇所で潤滑層に関して定義する、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、またはこれら2つ以上の複合体から選択する。 適切な環状前駆体の一実施例は、随意に、その他の前駆体原料といかなる割合で混合された、オクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）からなる。 随意に当該環状前駆体は、本質的にオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）からなり、すなわちその他の前駆体は生成された潤滑層の基本的および新しい性質を変化させる（例：当該被覆表面のプランジャースライド力または起動力を減少させる）ことのない量で示される可能性がある。
VII.B.1.a. 十分にプラズマを生成する電力入力、例えば本明細書の1つ以上の実施例において成功裏に使用されるまたは本明細書に記述されるいかなる電力レベルを供給して、被覆材生成を誘導する。
VII.B.1.a. 利用する当該素材および条件は、当該シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である。 プランジャースライド力または起動力を20〜95パーセント、あるいは30〜80パーセント、あるいは40〜75パーセント、あるいは60〜70パーセント減少させる範囲が考えられる。
VII.B.1.a. 別の実施例は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層を、当該内壁上に有する容器である。 当該被覆材は、類似組成の潤滑被覆材に関する説明通りに、しかし未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成するのに効果的な条件下で生成される。
VII.B.1.a. 実施例VII.A.1.a.iiに関して、当該基板はガラスまたはポリマーからなる。 当該ガラスは、随意にホウケイ酸ガラスである。 当該ポリマーは、随意にポリカーボネートポリマー、随意にオレフィン重合体、随意に環状オレフィン共重合体、随意にポリプロピレンポリマー、随意にポリエステルポリマー、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーである。
VII.B.1.a. 別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および潤滑層を含むシリンジである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を含有する。 当該潤滑層または被覆材は、当該シリンジバレルの内面の一部または全部の上に付帯される。 当該潤滑層/被覆材は1000nm未満の層厚である場合があり、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるために必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。 当該プランジャースライド力の減少は、あるいは当該バレル内での当該プランジャーのスライド摩擦係数の減少または当該プランジャー力の減少（これらの用語は本明細書内において同義であると見なす）として表現される。
VII.B.1.a. 当該シリンジ544は、プランジャー546およびシリンジバレル548からなる。 当該シリンジバレル548は、当該プランジャー546をスライド可能に収受する内面552を有する。 当該シリンジバレル548の内面552はさらに、潤滑層/被覆材554からなる。 当該潤滑層/被覆材は1000nm未満、随意に500nm未満、随意に200nm未満、随意に100nm未満、随意に50nm未満の層厚であり、保管後のプランジャーの付着状態を打開するのに必要な起動力、または起動後にバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。 当該潤滑層/被覆材は、当該非被覆表面より低いプランジャースライド力または起動力を有することにより特徴付けられる。
VII.B.1.a. 上記いずれかの前駆体を単体で、または2種以上の複合体で使用して潤滑層を提供可能である。
VII.B.1.a. 真空処理の利用に加えて、低温度大気（非真空）プラズマ処理も利用して、随意にヘリウムまたはアルゴンなど非酸化大気において、前駆体モノマー蒸気供給を通しての分子イオン化および堆積を誘導可能である。 個別に、温熱性CVDを閃光熱分解堆積経由で検討可能である。
VII.B.1.a. 上記アプローチは、当該表面被覆および交差結合機構が同時に生じる可能性がある真空PECVDに類似する。
VII.B.1.a. いかなる被覆材または本明細書に記載の被覆材に関するまた別の考えられる手段として、容器の内部88全体に不均一に塗布される被覆材が挙げられる。 例えば、異なるまたは追加の被覆材を、選択的に当該容器内部のシリンダー状部分へと塗布し、当該容器内部の閉口端84にある半球状部分と比較する、またはその逆が可能である。 本手段は特に、以下に記述するシリンジバレルまたは検体採取管に関して考えられる。当該シリンジバレルにおいて、当該プランジャーまたはピストンまたは閉包部がスライドするが別箇所はスライドしない当該バレルのシリンダー状部分の一部または全部に、潤滑層/被覆材を提供可能である。
VII.B.1.a. 随意に、窒素の存在下で、実質的非存在下で、または非存在下で、当該前駆体を提供可能である。 考えられる一実施例において、当該前駆体単体を当該基板へと搬送し、PECVDを施し被覆材を塗布・硬化する
VII.B.1.a. 随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。
VII.B.1.a. 随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。
VII.B.1.a. 随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。
VII.B.1.a. 上記実施例のいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えば1種以上のポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体（例えば環状オレフィン共重合体またはポリプロピレンポリマー）、ポリエステルポリマー（例えばテレフタル酸ポリエチレンポリマー）といったポリマーからなる場合がある。
VII.B.1.a. 上記実施例のいずれにおいても、本記述で定義するRF周波数を動力源とする電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。
VII.B.1.a. 上記実施例のいずれにおいても、潤滑層の生成に十分な電力の供給を受ける電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。 当該プラズマは、随意に0.1〜25W、随意に1〜22W、随意に3〜17W、さらに随意に5〜14W、随意に7〜11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成される。 当該電極電力の対プラズマ量比は10 W/ml未満であり、随意に6W/ml〜0.1W/ml、随意に5W/ml〜0.1W/ml、随意に4W/ml〜0.1W/ml、随意に2W/ml〜0.2W/mlである場合がある。 低い電力レベル (2〜3.5 Wの電力レベル、および当該実施例に示す電力レベル) は、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。 当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑層の塗布に適している。 より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。
VII.B.1.a. 被覆材の重合、交差結合またはまたはその両方により当該被覆材を硬化して、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減させる潤滑表面を生成可能である。 硬化は、例えばPECVDといった当該塗布処理の間に起こる可能性があり、または別処理により実行されるまたは少なくとも完了される場合がある。
VII.B.1.a. 当該被覆材の特性を明示するため本書ではプラズマ堆積を使用しているが、当該出発物質の化学的組成を維持し当該底部基板に付着する間断ない膜を堆積することが可能である限り、別の堆積方法を使用可能である。
VII.B.1.a. 例えば、当該被覆材の噴霧または当該基板の当該被覆材への浸漬により、当該被覆材原料を（流体状態から）当該シリンジバレル上に塗布可能であり、その場合、当該被覆材は当該純前駆体または溶媒希釈前駆体（より薄い被覆材の機械的堆積を可能とする）のいずれかである。 当該被覆材は随意に、温熱性エネルギー、UVエネルギー、電子光線エネルギー、プラズマエネルギー、またはこれらの複合体を利用して交差結合可能である。
VII.B.1.a. 上述のケイ素前駆体の表面への塗布とその後の個別の硬化手順もまた考えられる。 塗布および硬化の当該条件は、商標TriboGlide（商標）の下で実践される処理である被覆前ポリフルオロアルキルエーテルの当該大気プラズマ硬化に使用されているものと類似している場合がある。 本処理の詳細については、http://www.triboglide.com/process.htmを参照されたい。
VII.B.1.a. かかる処理において、被覆対象部位の領域を随意に大気プラズマで前処理可能である。 本前処理により当該表面がが浄化および活性化されるため、次手順で噴霧される当該潤滑剤を受容可能となる。
VII.B.1.a. 当該潤滑性流体、この場合前述前駆体または重合前駆体の1つを、その後処理対象表面に噴霧する。 例えば、IVEK精密分配技術を使用して、当該流体を正確に霧化し均一な被覆材を創出可能である。
VII.B.1.a. その後当該被覆材を、再度大気中プラズマ場を利用して、当該部分へと結合または交差結合する。 これにより、当該被覆材を固定し当該潤滑剤のパフォーマンスを改善できる。
VII.B.1.a. 随意に、当該大気プラズマを当該容器内の環境大気から生成可能であり、その場合、ガス供給装置および真空化装置は不要である。 しかしながら当該容器は随意に、当該電力要件を最小限とし当該プラズマの当該容器外部の表面・素材への接触を防止するため、少なくともプラズマ生成中は実質上閉口である。
VII.B.1.a.i. 潤滑層: SiOx遮断層、潤滑層、表面処理
表面処理
VII.B.1.a.i. 別の実施例は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち当該内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。
表面処理
VII.B.1.a.i. 別の実施例は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち当該内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。
VII.B.1.a.i. 当該シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする。
VII.B.1.a.i. 随意に、本明細書内別箇所で記述する通り、当該バレル内面をSiOx遮断層/被覆材で被覆する。
VII.B.1.a.i. 潤滑層/被覆材を、バレル内面の一部または全部、プランジャー、または両方、または先に塗布されたSiOx遮断層に塗布する。 当該潤滑層/被覆材を、実施例 VII.B.1.a または本明細書内別箇所で定義するとおりに提供、塗布または硬化可能である。
VII.B.1.a.i. 例えば当該潤滑層/被覆材は、あらゆる実施例において、PECVDにより塗布される場合がある。 当該潤滑層/被覆材は有機ケイ素前駆体を原料として堆積され、層厚1000nm未満である。
VII.B.1.a.i. 潤滑層/被覆材上での表面処理を、潤滑層、熱可塑性基材、または両方の浸出または抽出物を低減させるのに効果的な量で実行する。 当該処理表面は、したがって溶質保持部材として機能する場合がある。 本表面処理は結果としてスキン塗となる場合があり、例えば1nm以上の層厚、100nm未満の層厚、または50nm未満の層厚、または40nm未満の層厚、または30nm未満の層厚、または20nm未満の層厚、または10nm未満の層厚、または5nm未満の層厚、または3nm未満の層厚、または2nm未満の層厚、または1nm未満の層厚、または0.5nm未満の層厚のスキン塗となる可能性がある。
VII.B.1.a.i. 本書で使用される「浸出」とは、例えば容器壁といった基板から例えばシリンジといった容器の含有物への、物質の搬送を指す。 一般に浸出物は、意図する含有物で充填された当該容器を保管し、その後当該含有物を分析して当該容器壁から意図する含有物へと浸出した物質を判定することにより、測定する。 「抽出」とは、当該容器の意図する含有物の他に溶媒または分散媒質を導入して当該試験条件下で当該基板から抽出媒質へと除去可能な物質を判定することによる、基板からの物質の除去を指す。
VII.B.1.a.i. 随意に溶質保持部材をもたらす表面処理は、本明細書で既に定義済みであるSiOx層/被覆材、または定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層である可能性がある。 一実施例において、当該表面処理はSiOxまたは疎水性層のPECVD堆積により塗布可能である。 随意に、当該潤滑層の生成で使用するものより高い電力、より強い酸化条件、または両方を使用して、当該表面処理を塗布可能であり、したがってより硬質、薄肉、継続的な溶質保持部材539を提供可能である。表面処理は、当該潤滑層の深部100nm未満、随意に50nm未満、随意に40nm未満、随意に30nm未満、随意に20nm未満、随意に10nm未満、随意に5nm未満、随意に3nm未満、随意に1nm未満、随意に0.5nm未満、随意に0.1〜50nmである場合がある。
VII.B.1.a.i. 当該溶質保持部材は、当該下層潤滑性および必要に応じて当該基板を含むその他の層に対して、低い溶質浸出性を提供すると考えられる。本保持部材は、ガス（O2/N2/CO2/水蒸気）遮断層ではなく、溶質大分子およびオリゴマー（例えば、HMDSO、OMCTSといったシロキサンモノマー、それらの断片および潤滑剤由来の移動性オリゴマー、例えば「浸出物保持部材」）に対する溶質保持部材であることのみが求められる。 溶質保持部材は、しかしながら、ガス遮断膜（例えば本発明に記載のSiOx被覆材）である可能性もある。 真空または大気中PECVD処理により、ガス遮断性を伴わない良好な浸出物保持部材を創出可能である。 当該「浸出物遮断膜」が十分に薄肉であることが望ましく、シリンジプランジャーの移動については、当該プランジャーがスライド式プランジャー突起を直下の潤滑層/被覆材に曝露しながら「溶質保持部材」へ容易に侵入し、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低下させる潤滑表面を生成する。
VII.B.1.a.i. 別の実施例において、プラズマ環境における当該表面の酸素への曝露のように、以前塗布した潤滑層の表面の酸化により実施可能である。本明細書で説明する当該プラズマ環境を使用して、SiOx被覆材を成形可能である。 または、酸素環境において大気プラズマ条件を利用可能である。
VII.B.1.a.i. 当該潤滑層/被覆材および溶質保持部材は、しかしながら成形され、随意に、同時に硬化可能である。 別の実施例において、当該潤滑層/被覆材は少なくとも一部を硬化可能であり、随意に全体を硬化可能であり、その後、当該表面処理を提供・塗布可能および当該溶質保持部材を硬化可能である。
VII.B.1.a.i. 当該潤滑層/被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑層/被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。 言い換えれば、当該溶質保持部材の層厚および組成は、当該潤滑層/被覆材からの物質の当該シリンジ含有物への浸出を低下させ、当該下層潤滑層/被覆材で当該プランジャーを潤滑化するためのものである。 当該溶質保持部材は容易に剥離し、当該潤滑層/被覆材は当該プランジャーの移動を潤滑化する機能を果たすのに十分な薄さであることが考えられる。
VII.B.1.a.i. 考えられる一実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面に塗布可能である。 考えられる別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該プランジャーに塗布可能である。 考えられるまた別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面とプランジャーの両方に塗布可能である。 当該実施例のいずれかにおいて、当該シリンジバレル内部のオプションSiOx遮断層/被覆材は存在または非存在である可能性がある。
VII.B.1.a.i. 考えられる一実施例は、当該シリンジバレルの内面に塗布する複数層（例えば3層）設定である。層/被覆材1は、酸化性大気内でMDSO、OMCTSまたは両方のPECVDにより生成されるSiOxガス遮断膜である場合がある。 かかる大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのHMDSOおよび酸素ガスの供給により、提供可能である。 層/被覆材2は、非酸化性大気内で塗布するOMCTSを使用する潤滑層/被覆材である場合がある。 かかる非酸化性大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのOMCTSの供給により、随意に実質上または完全な酸素非存在下で、提供可能である。 二次溶質保持部材を、SiOxの表面薄層/被覆材または疎水層/被覆材を生成する処理により、OMCTSおよび/またはHMDSOを使用してより高い電力と酸素を使用する溶質保持部材として、成形可能である。
VII.B.1.a.i. 特定の当該複数層/被覆材は、少なくともある程度、以下の1つ以上のオプション利点を有していると考えられる。 当該溶質保持部材は当該内部ケイ素を収容し、当該シリンジの含有物または別箇所へと移動するのを防止する可能性があるため、それらにより報告されているケイ素取扱い困難性に対処できる可能性がある。その結果、当該可能な当該シリンジの含有物内のケイ素粒子が減少し、当該潤滑層/被覆材と当該シリンジの含有物との間の相互作用の機会が低下する。 また、当該潤滑層/被覆材が潤滑点から離れて移動する問題に対処して、当該シリンジバレルと当該プランジャー間の界面の潤滑性を改善できる可能性がある。 例えば、当該打破力が低下し、当該移動プランジャー上の抗力が低下し、随意に両方が低下する場合がある。
VII.B.1.a.i. 当該溶質保持部材が破損している場合、当該溶質保持部材は該潤滑層/被覆材および当該シリンジバレルへと付着し続け、いかなる粒子の当該シリンジの搬送可能含有物内への取り込みも阻害する可能性がある、と考えられる。
VII.B.1.a.i. また、特定の当該被覆材は製造上の利点を、特に当該遮断性被覆材、潤滑層/被覆材、および表面処理が当該同一装置、例えば当該図示するPECVD装置において塗布される場合に提供する。 随意に、当該SiOx遮断性被覆、潤滑層、および表面処理はすべて1つのPECVD装置において適用可能であり、したがって取扱い要件が大幅に削減される。
当該遮断性被覆材、潤滑層、および溶質保持部材を当該同一前駆体を使用して生成することにより、および当該処理を修正することにより、さらなる利点を取得可能である。 例えば、SiOxガス遮断層/被覆材は高電力/高O2の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、そして潤滑層/被覆材は低電力および/または実質上または完全な無酸素の条件下でlOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、最後に表面処理は中間電力および酸素の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となる。
VII.B.2. プランジャー
VII.B.2.a. 遮断性被覆ピストン前面
VII.B.2.a. 別の実施例は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。 当該前面は遮断性被覆材を有する。 当該プッシュロッドを当該後部と係合させ、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定する。
VII.B.2.a. 遮断性被覆ピストン前面
VII.B.2.a. 別の実施例は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。 当該前面は遮断性被覆材を有する。 当該プッシュロッドを当該後部と係合させ、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定する。
VII.B.2.b. 側面と接合する潤滑層/被覆材
VII.B.2.b. また別の実施例は、ピストン、潤滑層、およびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。 当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。 当該潤滑層/被覆材は当該側面と接合させる。 当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
VII.B.2.b. また別の実施例は、ピストン、潤滑層、およびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。 当該ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。 当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。 当該潤滑層/被覆材は当該側面と接合させる。 当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
VII.B.3.a 2部構成シリンジおよびルアー取付部
VII.B.3.a 別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。 当該シリンジは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルを含有する。 当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。 当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。 当該ルアーテーパーの内部経路は、随意にSiOx遮断性被覆材を有する。
VII.B.3.a 別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。 当該シリンジは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルを含有する。 当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。 当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。 当該ルアーテーパーの内部経路は、随意にSiOx遮断性被覆材を有する。
VII.B.3.b 固定針シリンジ
VII.B.3.b 別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである (「固定針シリンジ」)。 当該針は空洞で、通常サイズは18〜29ゲージである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。 当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。 当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。 当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。
VII.B.3.b 別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである (「固定針シリンジ」)。 当該針は空洞で、通常サイズは18〜29ゲージである。 当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。 当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。 当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。 当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。
VII.B.4. 潤滑層/被覆材一般
VII.B.4.a. 工程別および潤滑性別の生成物
VII.B.4.a. また別の実施例は、潤滑層である。 本被覆材は、本書に記載の潤滑性被覆材を生成する工程により作られる種類のものである場合がある。
VII.B.4.a. 工程別および潤滑性別の生成物
VII.B.4.a. また別の実施例は、潤滑層である。 本被覆材は、本書に記載の潤滑性被覆材を生成する工程により作られる種類のものである場合がある。
VII.B.4.a. 本明細書内別箇所で述べる潤滑性被覆材のためのあらゆる当該前駆体を、単体でまたは複合体で使用可能である。 当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。 当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。
VII.B.4.a. 別の実施例は、潤滑層を塗布する方法である。 有機ケイ素前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。 当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。
VII.B.4.b. 工程別および分析特性別の生成物
VII.B.4.b. さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、随意に有機ケイ素前駆体からなる、随意に線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層/被覆材である。 当該被覆材の密度は、X線反射率（XRR）により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3、随意に1.35〜1.55g/cm3、随意に1.4〜1.5g/cm3、随意に1.44〜1.48g/cm3である場合がある。
VII.B.4.b. さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、随意に有機ケイ素前駆体からなる、随意に線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層/被覆材である。 当該被覆材の密度は、X線反射率（XRR）により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3、随意に1.35〜1.55g/cm3、随意に1.4〜1.5g/cm3、随意に1.44〜1.48g/cm3である場合がある。
VII.B.4.b. さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、随意に有機ケイ素前駆体からなる、随意に線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層/被覆材である。 当該被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む1種以上のオリゴマーを有する。 随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aのいずれかの制限を満たす。 随意に、当該被覆材ガス放出成分は、ガス クロマトグラフィー/質量分析法により判定される通り、実質上トリメチルシラノールを含まない。
VII.B.4.b. 随意に、当該被覆ガス放出成分は、以下の試験条件を使用するガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも試験あたり10ngのオリゴマーを有する。
GCカラム： 30m X 0.25mm DB-5MS（J&W Scientific）、
0.25μm膜層厚
流量： 1.0 ml/min、定流量モード
検出器： 質量選択検出器（MSD）
射出モード: 分割射出（分割率10:1）
ガス放出条件: 1 1/2インチ（37mm）チャンバ、3時間、85℃、60 ml/分の流量で
パージ
炉温度: 40℃（5分）から始め10℃/分で300℃まで加熱、300℃を5分間保持
。
0.25μm膜層厚
流量： 1.0 ml/min、定流量モード
検出器： 質量選択検出器（MSD）
射出モード: 分割射出（分割率10:1）
ガス放出条件: 1 1/2インチ（37mm）チャンバ、3時間、85℃、60 ml/分の流量で
パージ
炉温度: 40℃（5分）から始め10℃/分で300℃まで加熱、300℃を5分間保持
。
VII.B.4.b. 随意に、当該ガス放出成分は、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも試験あたり20ngのオリゴマーを含む場合がある。
VII.B.4.b. 随意に当該供給ガスは、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体、（例：オクタメチルシクロテトラシロキサン）からなる。
あらゆる実施例の当該潤滑層/被覆材は、透過電子顕微鏡法（TEM）により測定される1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜200nm、または20〜100nm、または30〜1000nm、または30〜500nmの層厚を有する場合がある。 望ましい範囲は30〜1000nmおよび20〜100nm、および特に望ましい範囲は80〜150nmである。 当該被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合がある。 しかし通常は、平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。
VII.B.4.b. 本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層/被覆材である。 当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、X線光電子分光法（XPS）により判定される通り、当該供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。 随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.b.Aの制限を満たす。
VII.B.4.b. 随意に、当該炭素の原子濃度は、潤滑性被覆材生成時の当該有機ケイ素前駆体内の炭素の原子濃度に対して1〜80原子パーセント（EP 2 251 455の実施例15のXPS条件に基づき計算）、あるいは10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜50原子パーセント、あるいは35〜45原子パーセント、あるいは37〜41原子パーセント増加する。
VII.B.4.b. 本発明の追加の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層/被覆材である。 当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法（XPS）により判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。 EP 2 251 455の実施例15を参照されたい。
VII.B.4.b. 随意に、当該ケイ素の原子濃度は1〜80原子パーセント（EP 2251 455の実施例15のXPS条件に基づき計算）、あるいは from 10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜55原子パーセント、あるいは40〜50原子パーセント、あるいは42〜46原子パーセント減少する。
VII.B.4.b. 断面図VII.B.4に列挙される2つ以上の性質の複合体を有する潤滑層もまた、明示的に考えられる。
VII.C.容器一般
VII.C. 本明細書に記載のおよび/または本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器は、化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給のために使用可能である。 当該化合物または組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性および/または機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。 生物学的に活性な化合物または組成物、例えばインスリンまたはインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。 別の態様において、生物学的流体、随意に血液または血液分画といった体液である場合がある。 本発明の特定の態様において、当該化合物または組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液（供血者から受血者への輸血または患者から採取した血液の当該患者への再導入）またはインスリンといった注入生成物である。
VII.C. 本明細書に記載のおよび/または本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器は、化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給のために使用可能である。 当該化合物または組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性および/または機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。 生物学的に活性な化合物または組成物、例えばインスリンまたはインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。 別の態様において、生物学的流体、随意に血液または血液分画といった体液である場合がある。 本発明の特定の態様において、当該化合物または組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液（供血者から受血者への輸血または患者から採取した血液の当該患者への再導入）またはインスリンといった注入生成物である。
VII.C. 本明細書に記載のおよび/または本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器はさらに、内腔に含まれる化合物または組成物の非被覆容器素材表面の機械的および/または化学的作用からの保護のために使用可能である。 例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、当該化合物または組成物成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止または低減させるのに使用可能である。
VII.C. さらには、例えば当該容器周辺の環境からの1つ以上の化合物の当該容器内腔への侵入を防止または低減させることで、内部に包含する化合物または組成物を当該容器外部の環境から保護するために使用可能である。 かかる環境化合物はガスまたは流体、例えば酸素、大気、および/または水蒸気を包含する大気中ガスまたは流体である場合がある。
VII.C. 本明細書に記載の被覆容器はまた、真空であり真空状態で保管される場合がある。 例えば当該被覆材は、対応する非被覆容器と比べて、当該真空状態をより良好に維持可能である。 本実施例の一態様において、当該被覆容器は採血管である。 当該管は、例えばEDTAまたはヘパリンといった、血液凝固または血小板活性化を防止するための薬剤を包含する場合がある。
VII.C. あらゆる上述実施例は、例えば当該容器として長さ約1cm〜約200cm、随意に約1cm〜約150cm、随意に約1cm〜約120cm、随意に約1cm〜約100cm、随意に約1cm〜約80cm、随意に約1cm〜約60cm、随意に約1cm〜約40cm、随意に約1cm〜約30cmの管を提供し、後述の通りプローブ電極と共に処理することにより、実行可能である。 特に上述範囲における長さが長いほど、被覆材成形中の当該プローブと当該容器との間の相対運動が有用である可能性があると考えられる。 これは例えば、当該プローブに対して当該容器を移動する、または当該容器に対して当該プローブを移動することにより、実行可能である。
VII.C. これらの実施例において、当該被覆材は薄肉である、または遮断性被覆材として望ましいものと比較して完全性に劣る場合があると考えられる。なぜなら、一部実施例における当該容器は真空採血管の高い遮断性完全性を必要としないからである。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は中心軸を有する。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器の外径の100倍を超えない大きさの当該中心軸での曲げ半径に対して少なくとも実質的に直線である範囲において、温度20℃で壁を破損することなく少なくとも1回屈曲するのに十分なたわみを、当該容器壁は有する。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該 中心軸での曲げ半径は当該容器外径の90倍を超えない、または80倍を超えない、または70倍を超えない、または60倍を超えない、または50倍を超えない、または40倍を超えない、または30倍を超えない、または20倍を超えない、または10倍を超えない、または9倍を超えない、または8倍を超えない、または7倍を超えない、または6倍を超えない、または5倍を超えない、または4倍を超えない、または3倍を超えない、または2倍または１倍を超えない大きさである。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器壁は可撓性素材を原料とする流体接触表面である場合がある。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器内腔はポンプの流体流路である場合がある。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は血液を医療用途の場合の良好な条件に保持するよう適合される血液バッグである場合がある。
VII.C., VII.D. 当該前述実施例のオプション機能として、ポリマー素材は、2例として、シリコンエラストマーまたは熱可塑性ポリウレタンである、または血液またはインスリンと接触するのに適したあらゆる素材である場合がある。
VII.C., VII.D. オプション実施例において、当該容器は少なくとも2mm、または少なくとも4mmの内径を有する。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は管である。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該内腔は少なくとも2つの開口端を有する。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は管である。
VII.C. 当該前述実施例のオプション機能として、当該内腔は少なくとも2つの開口端を有する。
VII.C.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有する生存血液包含容器
VII.C.1. さらなる別の実施例は、血液包含容器である。 かかる容器の非限定的例の一部として、輸血バッグ、検体を採集するための血液検体採集容器、人工心肺の管、可撓性壁の採血バッグ、手術中に患者血液を採集し当該血液を当該患者の血管系へと再導入する管などが挙げられる。 当該容器が血液を送り出すポンプである場合、特に適切なポンプは遠心式ポンプまたは蠕動式ポンプである。 当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。 当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.1. さらなる別の実施例は、血液包含容器である。 かかる容器の非限定的例の一部として、輸血バッグ、検体を採集するための血液検体採集容器、人工心肺の管、可撓性壁の採血バッグ、手術中に患者血液を採集し当該血液を当該患者の血管系へと再導入する管などが挙げられる。 当該容器が血液を送り出すポンプである場合、特に適切なポンプは遠心式ポンプまたは蠕動式ポンプである。 当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。 当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.1. 一実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する、血液包含容器である。 当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材はSiOx（xは本明細書で定義）からなる、または本質的にSiOxからなる可能性がある。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの範囲内である。 当該容器には、当該疎水性層/被覆材と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.2. 容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
VII.C.2. 別の実施例は、壁を有する容器である。 当該壁は内腔を定義する内面を有し、当該壁は疎水層（随意にw、x、y、およびzは先に定義セクションで定義した通り）で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 当該被覆材は、疎水層で被覆されていない同種類の壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.2. 別の実施例は、壁を有する容器である。 当該壁は内腔を定義する内面を有し、当該壁は疎水層（随意にw、x、y、およびzは先に定義セクションで定義した通り）で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 当該被覆材は、疎水層で被覆されていない同種類の壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.2. 疎水層/被覆材の組込みにより、未処理のポリマーまたはSiOx表面に接触する血液の性質と比較して、血液の付着力または凝塊成形性質が減少すると考えられる。 本性質は、心臓手術中に人工心肺を使用する場合に、当該患者からの血液除去とその後の当該患者への再導入を必要とする種類の手術を受ける患者において必要なヘパリンの血液濃度を低減させることにより、血液のヘパリン処理の必要性を低減させる/潜在的になくすと考えられる。 ヘパリンの使用に起因する出血性合併症を低減させることにより、かかる容器を通る血液経路に関する手術の合併症が減少すると考えられる。
VII.C.2. 別の実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する容器である。 当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの厚さである。当該被覆材は、当該内面に曝露する血液の凝固または血小板活性化を低減させるのに効果的である。
VII.C.3. 第III族または第IV族元素の被覆材を有する生存血液包含容器
VII.C.3. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含む血液包含容器である。 当該内面は少なくとも一部が、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。 当該被覆材の層厚は、両立的に、内面上で単分子〜約1000nmである。 当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.3. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含む血液包含容器である。 当該内面は少なくとも一部が、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。 当該被覆材の層厚は、両立的に、内面上で単分子〜約1000nmである。 当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.4. 容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
VII.C.4. 随意に、前段落の容器において、第III族または第IV族元素の被覆材は、当該容器壁内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.4. 随意に、前段落の容器において、第III族または第IV族元素の被覆材は、当該容器壁内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.D. 医薬品供給容器
VII.D. 本書に記載の被覆容器または容器は、当該容器に含まれる化合物または組成物の当該容器周辺の環境への漏出を防止または低減させるために使用可能である。
VII.D. 本書に記載の被覆容器または容器は、当該容器に含まれる化合物または組成物の当該容器周辺の環境への漏出を防止または低減させるために使用可能である。
また、本明細書に記載の当該被覆材および容器のさらなる利用は、当該部の記述および請求項から明らかであると考えられる。
VII.D.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有するインスリン包含容器
VII.D.1. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。 当該内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 インスリンは、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填される。
VII.D.1. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。 当該内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 インスリンは、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填される。
VII.D.1. また別の実施例は、壁を包含し、かつ内腔を定義する内面を有するインスリン包含容器である。 当該内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層の被覆材で少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの厚さである。 インスリン（例えばヒトへの使用についてFDA認可済みの薬剤インスリン）を、疎水層と接触する内腔内に充填する。
VII.D.1. 定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層の組込みにより、未処理のポリマー表面に接触するインスリンの性質と比較して、インスリンポンプの供給管内インスリンの付着力または沈殿成形性質が減少すると考えられる。 本性質は、当該供給管を通るインスリンをフィルタリングして固体沈殿物を除去する必要性を低減させる/潜在的に消失させると考えられる。
VII.D.2. 容器内のインスリン沈殿を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
VII.D.2. 随意に、前段落の容器において、当該疎水層/被覆材は同種類の疎水層非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.2. 随意に、前段落の容器において、当該疎水層/被覆材は同種類の疎水層非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.2. さらに別の実施例は、再び、壁を包含しかつ内腔を定義する内面を有する容器である。 当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの範囲内である。 当該被覆材は、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を低減させるのに有効である。
VII.D.3. 第III族または第IV族元素被覆材を有するインスリン包含容器
VII.D.3. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。 当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 インスリンは、当該被覆材と接触する管腔内に充填される。
VII.D.3. 別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。 当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。 当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。 インスリンは、当該被覆材と接触する管腔内に充填される。
VII.D.4. 容器内インスリンの沈殿を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
VII.D.4. 随意に、前段落の容器において、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.4. 随意に、前段落の容器において、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
すべての実施例に関する共通条件
本書で考察されるあらゆる実施例において、例えば以下のいずれか、またはいかなる組合せの、多くの共通条件を利用可能である。 あるいは、本明細書または請求項の別箇所で説明するいかなる異なる条件も利用可能である。
本書で考察されるあらゆる実施例において、例えば以下のいずれか、またはいかなる組合せの、多くの共通条件を利用可能である。 あるいは、本明細書または請求項の別箇所で説明するいかなる異なる条件も利用可能である。
あらゆる実施例の基板
I.A. あらゆる実施例の容器
当該容器は、採血管、シリンジ、シリンジ部品（例えばバレル、ピストン、プランジャー）といった検体採取管、バイアル、導管、キュベットである場合がある。 当該基板は、医療用検体採取管といった閉口端管である場合がある。 当該基板は内腔を有する容器の内壁である場合があり、当該内腔の空隙容量は0.5〜50mL、随意に1〜10mL、随意に0.5〜5mL、随意に1〜3mLである。 当該基板表面は少なくとも1つの開口部と内面を有する容器内面の一部または全部である場合があり、当該ガス状反応物質は当該容器の内部内腔を満たし、当該プラズマが当該容器の内部内腔の一部または全部において生成される場合がある。
I.A. あらゆる実施例の容器
当該容器は、採血管、シリンジ、シリンジ部品（例えばバレル、ピストン、プランジャー）といった検体採取管、バイアル、導管、キュベットである場合がある。 当該基板は、医療用検体採取管といった閉口端管である場合がある。 当該基板は内腔を有する容器の内壁である場合があり、当該内腔の空隙容量は0.5〜50mL、随意に1〜10mL、随意に0.5〜5mL、随意に1〜3mLである。 当該基板表面は少なくとも1つの開口部と内面を有する容器内面の一部または全部である場合があり、当該ガス状反応物質は当該容器の内部内腔を満たし、当該プラズマが当該容器の内部内腔の一部または全部において生成される場合がある。
I.B. シリンジおよび部品
当該基板はシリンジバレルである場合がある。 当該シリンジバレルは、プランジャーがスライドする表面を有する場合があり、当該被覆材は当該プランジャースライド表面の一部上に付帯される場合がある。 当該被覆材は潤滑層である場合がある。 当該潤滑層/被覆材は当該バレル内面上に被覆される場合がある。 当該潤滑層/被覆材は当該プランジャー上に被覆される場合がある。 特定の態様において、当該基板は固定針シリンジまたは固定針シリンジの部品である。
当該基板はシリンジバレルである場合がある。 当該シリンジバレルは、プランジャーがスライドする表面を有する場合があり、当該被覆材は当該プランジャースライド表面の一部上に付帯される場合がある。 当該被覆材は潤滑層である場合がある。 当該潤滑層/被覆材は当該バレル内面上に被覆される場合がある。 当該潤滑層/被覆材は当該プランジャー上に被覆される場合がある。 特定の態様において、当該基板は固定針シリンジまたは固定針シリンジの部品である。
I.C. 停止部材を収受する容器
当該基板は、容器口における停止部材収受表面である場合がある。 当該基板は、停止部材を収受するよう適合される、通常円錐状またはシリンダー状の容器開口部内面である場合がある。
当該基板は、容器口における停止部材収受表面である場合がある。 当該基板は、停止部材を収受するよう適合される、通常円錐状またはシリンダー状の容器開口部内面である場合がある。
I.D. 停止部材
当該基板は、停止部材のスライド表面である場合がある。 当該基板は、単一の実質的真空容器内に位置する多数の停止部材を提供することで被覆される場合がある。 当該化学蒸着はプラズマ強化された化学蒸着である場合があり、当該停止部材は当該プラズマに接触する場合がある。 当該化学蒸着は、プラズマ強化された化学蒸着である場合がある。 当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部に接触可能である。
当該基板は、停止部材のスライド表面である場合がある。 当該基板は、単一の実質的真空容器内に位置する多数の停止部材を提供することで被覆される場合がある。 当該化学蒸着はプラズマ強化された化学蒸着である場合があり、当該停止部材は当該プラズマに接触する場合がある。 当該化学蒸着は、プラズマ強化された化学蒸着である場合がある。 当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部に接触可能である。
閉包部は被覆材で被覆された基板を定義する場合があり、随意に停止部材は潤滑層で被覆される。 当該基板は内腔を定義する容器内に装填される閉包部である場合があり、当該内腔に対向する閉包部表面は当該被覆材で被覆される場合がある。
当該被覆材は、当該停止部材の金属イオン構成要素の当該容器の内腔への透過性を減少させる効果がある場合がある。
I.E. あらゆる実施例の基板
当該基板は容器壁である場合がある。 閉包部の壁接触表面と接触する容器壁の部位は、当該被覆材で被覆される場合がある。 当該被覆材は、第1層および第2層を有する素材の組成物である場合がある。 当該第1層/被覆材は、当該エラストマー製停止部材と接合する場合がある。 当該被覆材の第1層は、当該停止部材1種以上の構成要素の当該容器内腔への透過性を、減少させる効果がある場合がある。 当該第2層/被覆材は、当該容器の内壁と接合する場合がある。 当該第2層は、当該停止部材が当該容器上に装填可能である場合、当該停止部材と当該容器内壁との間の摩擦を、減少させる効果がある場合がある。
当該基板は容器壁である場合がある。 閉包部の壁接触表面と接触する容器壁の部位は、当該被覆材で被覆される場合がある。 当該被覆材は、第1層および第2層を有する素材の組成物である場合がある。 当該第1層/被覆材は、当該エラストマー製停止部材と接合する場合がある。 当該被覆材の第1層は、当該停止部材1種以上の構成要素の当該容器内腔への透過性を、減少させる効果がある場合がある。 当該第2層/被覆材は、当該容器の内壁と接合する場合がある。 当該第2層は、当該停止部材が当該容器上に装填可能である場合、当該停止部材と当該容器内壁との間の摩擦を、減少させる効果がある場合がある。
あるいは、いかなる実施例の第1層および第2層も、炭素および水素を含有する累遷性被覆材により定義される場合があり、その場合、当該第1層/被覆材における炭素および水素の比率は当該第2層のものより大きくなる。
いかなる実施例の被覆材も、プラズマ促進化学蒸着により塗布可能である。
いかなる実施例の基板も、ガラス、あるいは、ポリマー、あるいはポリカーボネート ポリマー、あるいはオレフィンポリマー、あるいは環状オレフィン共重合体、あるいはポリプロピレンポリマー、あるいはポリエステルポリマー、あるいはテレフタル酸ポリエチレンポリマー、あるいはポリエチレンナフタレートポリマー、あるいは上記2種以上の複合体/組成物 /混合体といったポリマーからなる場合がある。
あらゆる実施例のガス状反応物質または処理ガスの制限
II.A あらゆる実施例の堆積条件
PECVDを使用する場合、当該PECVDのためのプラズマは減圧下で生成され、当該減圧は300mトール未満、随意に200mトール未満、さらに随意に100mトール未満である場合がある。 当該被覆材の物理的および化学的性質は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。
II.A あらゆる実施例の堆積条件
PECVDを使用する場合、当該PECVDのためのプラズマは減圧下で生成され、当該減圧は300mトール未満、随意に200mトール未満、さらに随意に100mトール未満である場合がある。 当該被覆材の物理的および化学的性質は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。
II.B. あらゆる実施例のガスの相対的比率
当該処理ガスは、潤滑性被覆材を生成するため以下の比率のガスを含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
当該処理ガスは、潤滑性被覆材を生成するため以下の比率のガスを含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積
の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積
の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
1〜100標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
3〜70標準体積の搬送ガス、
0.2〜1標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積
の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積
の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.1〜2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.5〜1.5標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
5〜100標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
1〜6標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
あるいは以下の比率を含有可能である:
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
2〜4標準体積の当該前駆体、
10〜70標準体積の搬送ガス、
0.8〜1.2標準体積の酸化剤。
II.C. あらゆる実施例の前駆体
当該有機ケイ素前駆体については、本説明の別箇所で述べられている。
当該有機ケイ素前駆体については、本説明の別箇所で述べられている。
当該有機ケイ素化合物は、特に潤滑性被覆材が生成され、オクタメチルシクロテトラシロキサン (OMCTS) からなる、特定の態様である場合がある。 前述特定態様の実施例のための当該有機ケイ素化合物は、本質的にオクタメチルシクロテトラシロキサン (OMCTS) からなる場合がある。 当該有機ケイ素化合物は、特に遮断性被覆材が生成され、ヘキサメチルジシロキサンである/からなる、特定の態様である場合がある。
また当該反応ガスは、炭化水素を含む場合がある。 炭化水素は、メタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、これら2種以上の複合体からなる場合がある。
当該有機ケイ素前駆体は、6sccm以下、随意に2.5sccm以下、随意に1.5sccm以下、随意に1.25sccm以下の速度で供給される場合がある。 より大きな容器またはその他の条件/規模の変更により、より多くの/少ない前駆体が必要となる場合がある。 当該前駆体は、絶対圧が1トール未満である環境へと提供される場合がある。
II.D. あらゆる実施例の搬送ガス
当該搬送ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオンといった不活性ガス、当該堆積条件の下で当該処理ガスのその他の構成要素に対して不活性である別のガス、またはこれら2種以上の複合体からなる場合がある。
当該搬送ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオンといった不活性ガス、当該堆積条件の下で当該処理ガスのその他の構成要素に対して不活性である別のガス、またはこれら2種以上の複合体からなる場合がある。
II.E. あらゆる実施例の酸化ガス
当該酸化ガスは、酸素 (O2および/またはO3 (一般にオゾンとして知られる))、亜酸化窒素、または当該条件を利用するPECVD中に当該前駆体を酸化させるその他のガスからなる場合がある。 当該酸化ガスは、約1標準体積の酸素からなる。 当該ガス状反応物質または処理ガスは、少なくとも実質上窒素を含まない場合がある。
当該酸化ガスは、酸素 (O2および/またはO3 (一般にオゾンとして知られる))、亜酸化窒素、または当該条件を利用するPECVD中に当該前駆体を酸化させるその他のガスからなる場合がある。 当該酸化ガスは、約1標準体積の酸素からなる。 当該ガス状反応物質または処理ガスは、少なくとも実質上窒素を含まない場合がある。
あらゆる実施例のプラズマ
あらゆるPECVD実施例のプラズマは、当該基板付近で形成可能である。 当該プラズマは特定の場合に、特にSiOx被覆材を生成する場合に、非ホロー陰極プラズマである場合がある。 別の特定の場合において、特に潤滑性被覆材を生成する場合には、非ホロー陰極プラズマは望ましくない。 当該プラズマは、減圧下で当該ガス状反応物質から形成可能である。 プラズマを生成するのに十分な電力を、当該基板上への被覆材形成を誘導するため、提供可能である。
あらゆるPECVD実施例のプラズマは、当該基板付近で形成可能である。 当該プラズマは特定の場合に、特にSiOx被覆材を生成する場合に、非ホロー陰極プラズマである場合がある。 別の特定の場合において、特に潤滑性被覆材を生成する場合には、非ホロー陰極プラズマは望ましくない。 当該プラズマは、減圧下で当該ガス状反応物質から形成可能である。 プラズマを生成するのに十分な電力を、当該基板上への被覆材形成を誘導するため、提供可能である。
あらゆる実施例のRF電力
当該前駆体は、周波数10 kHz〜2.45 GHz、あるいは約13〜14 MHzで電力供給される電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。
当該前駆体は、周波数10 kHz〜2.45 GHz、あるいは約13〜14 MHzで電力供給される電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。
当該前駆体は、随意に周波数10 kHz〜300 MHz未満、随意に1〜50 MHz、さらに随意に10〜15 MHz、随意に13.56 MHzの高周波で電力供給される電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。
当該前駆体は、0.1〜25W、随意に1〜22W、随意に1〜10W、随意に1〜5W、随意に2〜4W、例えば3 W、随意に3〜17W、さらに随意に5〜14W、例えば6または7.5 W、随意に7〜11W、例えば8Wの電力を受ける電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。
当該前駆体は、10 W/mlのプラズマ量、あるいは6 W/ml〜0.1 W/mlのプラズマ量、あるいは5 W/ml〜0.1 W/mlのプラズマ量、あるいは4 W/ml〜0.1 W/mlの プラズマ量、あるいは2 W/ml〜0.2 W/mlのプラズマ量の電力密度を受ける電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。
当該プラズマは、電磁エネルギーあるいはマイクロ波エネルギーを用いて当該反応混合物を励起させることにより、生成可能である。
あらゆる実施例のその他工程オプション
当該基板へと被覆材を塗布する塗布手順は、前駆体の気化および当該基板付近への提供により行なわれる場合がある。
当該基板へと被覆材を塗布する塗布手順は、前駆体の気化および当該基板付近への提供により行なわれる場合がある。
利用する化学蒸着はPECVDである場合があり、当該堆積時間は1〜30秒、あるいは2〜10、あるいは3〜9である場合がある。 随意に堆積時間を制限する目的は、当該基板の過熱を防止し、生産速度を向上させ、処理ガスおよびその構成要素の利用量を削減するためである場合がある。 随意に堆積時間を延長する目的は、特定の堆積条件のためにより厚い被覆材を提供するためである場合がある。
あらゆる実施例の被覆材特性
VI.A. あらゆる実施例の潤滑特性
本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器 (シリンジ バレルおよび/またはプランジャー) は、非被覆容器より高い潤滑性 (Fiおよび/またはFmの測定により判定) を有する。 これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。 実施例は、未処理の基板よりスライド力または起動力 (または随意に両方) が低い当該基板の潤滑表面生成に効果的な条件下で実行可能である。 随意に、当該素材および条件は当該ライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント パーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である可能性がある。 言い換えれば当該被覆材は、非被覆表面より低い摩擦抵抗、随意に非被覆表面と比較して少なくとも25%減、随意に少なくとも45%減、さらに随意に少なくとも60%減の摩擦抵抗を有する場合がある。
VI.A. あらゆる実施例の潤滑特性
本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器 (シリンジ バレルおよび/またはプランジャー) は、非被覆容器より高い潤滑性 (Fiおよび/またはFmの測定により判定) を有する。 これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。 実施例は、未処理の基板よりスライド力または起動力 (または随意に両方) が低い当該基板の潤滑表面生成に効果的な条件下で実行可能である。 随意に、当該素材および条件は当該ライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント パーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である可能性がある。 言い換えれば当該被覆材は、非被覆表面より低い摩擦抵抗、随意に非被覆表面と比較して少なくとも25%減、随意に少なくとも45%減、さらに随意に少なくとも60%減の摩擦抵抗を有する場合がある。
ブレークルース力 (Fi) およびグライド力 (Fm) は、潤滑性被覆材の有効性を測るための、重要な性能測定値である。 FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。 Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎる (極端な場合はゼロである) ことを意味し、時期尚早な/意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。
十分な潤滑性 (シリンジプランジャーがシリンジ内を移動でき、しかし当該プランジャーの制御不能な動きを回避する、など) を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm: 8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
Fi: 5ポンドに対し2.5、好ましくは4.9ポンドに対し2.7、特に4.7 ポンドに対し2.9、
Fm: 8.0ポンドに対し2.5、好ましくは7.6ポンドに対し3.3、特に4 ポンドに対し3.3。
さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。
当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力 (Fi) とグライド力 (Fm) との間の差を低減させる。
VI.B. あらゆる実施例の疎水特性
実施例は、当該基板上での疎水層/被覆材生成に効果的な条件下で実行可能である。 当該被覆材の疎水性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。 随意に、当該被覆材は非被覆表面より低いぬれ張力を有する場合があり、随意に20〜72ダイン/cm、随意に30〜60ダインs/cm、随意に30〜40ダインs/cm、随意に34ダイン/cmのぬれ張力を有する場合がある。随意に、当該被覆材は非被覆表面より疎水性が高い場合がある。
実施例は、当該基板上での疎水層/被覆材生成に効果的な条件下で実行可能である。 当該被覆材の疎水性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。 随意に、当該被覆材は非被覆表面より低いぬれ張力を有する場合があり、随意に20〜72ダイン/cm、随意に30〜60ダインs/cm、随意に30〜40ダインs/cm、随意に34ダイン/cmのぬれ張力を有する場合がある。随意に、当該被覆材は非被覆表面より疎水性が高い場合がある。
VI.C. あらゆる実施例の層厚
随意に、当該被覆材は、透過電子顕微鏡法 (TEM) により判定される、本開示で述べるいかなる量の層厚を有する場合がある。
随意に、当該被覆材は、透過電子顕微鏡法 (TEM) により判定される、本開示で述べるいかなる量の層厚を有する場合がある。
本書に記載の当該潤滑性被覆材については、特定の粗度が当該潤滑性被覆材の潤滑特性を強化するため、当該層厚範囲に示されているのは平均層厚である。 したがって、当該潤滑性被覆材の層厚は当該被覆材全域において有利に不均一である (前述を参照)。 しかし、均一な層厚の潤滑性被覆材もまた検討される。 当該潤滑性被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合があり、当該平均層厚からの最大偏差は、好ましくは+/- 50%、より好ましくは+/- 25%、さらにより好ましくは+/- 15%である。 しかし通常は、本説明内で平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。
VI.D. あらゆる実施例の組成
随意に、当該潤滑性被覆材はSiwOxCyHzまたはSiwNxCyHzの組成からなる場合がある。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。 通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36%〜41%を含む可能性がある。
随意に、当該潤滑性被覆材はSiwOxCyHzまたはSiwNxCyHzの組成からなる場合がある。 これは通常、wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、好ましくはwは1、xは約0.5〜1.5、yは0.9〜2.0、より好ましくはwは1、xは0.7〜1.2、yは0.9〜2.0である原子比率SiwOxCyを有する。 当該原子比率は、XPS (X線光電子分光法) により決定可能である。 水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3、zは約2〜9である。 通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si 100 : O 80-110 : C 100-150である。 具体的には当該原子比率は、Si 100 : O 92-107 : C 116-133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36%〜41%を含む可能性がある。
あるいは、wは1、xは約0.5〜1.5、yは約2〜3、zは6〜9である場合がある。 あるいは、当該被覆材は100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した原子濃度を有し、X線光電子分光法（XPS）により判定される通り、50%未満炭素および25%を超えるケイ素原子濃度を有する場合がある。 あるいは、当該原子濃度は25〜45%炭素、25〜65%ケイ素、10〜35%酸素である。 あるいは、当該原子濃度は30〜40%炭素、32〜52%ケイ素、20〜27%酸素である。 あるいは、当該原子濃度は33〜37%炭素、37〜47%ケイ素、22〜26%酸素である。
随意に、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度は、X線光電子分光法（XPS）により判定される通り、当該有機ケイ素前駆体の原子公式における炭素の原子濃度を上回る可能性がある。 例えば、当該炭素の原子濃度が1〜80原子パーセント、あるいは10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜50原子パーセント、あるいは35〜45原子パーセント、あるいは37〜41原子パーセント増加する実施例が考えられる。
随意に、当該被覆材内の酸素に対する炭素の原子比率は、有機ケイ素前駆体と比較して増加する場合があり、および/またはケイ素原子に対する酸素の原子比率は、有機ケイ素前駆体と比較して減少する可能性がある。
随意に、当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法（XPS）により判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る場合がある。 例えば、当該ケイ素の原子濃度が1〜80原子パーセント、あるいは10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜55原子パーセント、あるいは40〜50原子パーセント、あるいは42〜46原子パーセント減少する実施例が考えられる。
被覆材のもう1つのオプションとして、有機ケイ素前駆体の総和公式と比較して原子比率C : Oが増加するおよび/または原子比率Si : Oが減少する総和公式により特徴付けられる場合がある、被覆材が考えられる。
VI.E. あらゆる実施例のガス放出種
当該潤滑性被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む1種以上のオリゴマーを有する場合がある。 当該被覆材ガス放出成分は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定可能である。 例えば当該被覆材ガス放出成分は、以下の試験条件を利用して判定される通り、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも10ng/試験のオリゴマーを、 あるいは反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも20ng/試験のオリゴマーを有する場合がある:
GCカラム: 30m X 0.25mm DB-5MS (J&W Scientific)、0.25μm膜層厚
流量 1.0 ml/min、定流量モード
検出器： 質量選択検出器（MSD）
射出モード: 分割射出（分割率10:1）
ガス放出条件: 1 1/2インチ（37mm）チャンバ、3時間、85℃、60 ml/分の流量でパージ
炉温度： 40℃（5分）から始め10℃/分で300℃まで加熱、300℃を5分間保持。
当該潤滑性被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む1種以上のオリゴマーを有する場合がある。 当該被覆材ガス放出成分は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定可能である。 例えば当該被覆材ガス放出成分は、以下の試験条件を利用して判定される通り、反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも10ng/試験のオリゴマーを、 あるいは反復 -(Me)2SiO- 部分を含む少なくとも20ng/試験のオリゴマーを有する場合がある:
GCカラム: 30m X 0.25mm DB-5MS (J&W Scientific)、0.25μm膜層厚
流量 1.0 ml/min、定流量モード
検出器： 質量選択検出器（MSD）
射出モード: 分割射出（分割率10:1）
ガス放出条件: 1 1/2インチ（37mm）チャンバ、3時間、85℃、60 ml/分の流量でパージ
炉温度： 40℃（5分）から始め10℃/分で300℃まで加熱、300℃を5分間保持。
随意に、当該潤滑性被覆材は、少なくとも実質上トリメチルシラノールを含まないガス放出成分を有する場合がある。
VI.E. あらゆる実施例のその他の被覆材特性
当該被覆材の密度は、X線反射率（XRR）により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3、あるいは1.35〜1.55g/cm3、あるいは1.4〜1.5g/cm3、あるいは1.4〜1.5 g/cm3、あるいは1.44〜1.48g/cm3である場合がある。 随意に、当該有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンである場合があり、当該被覆材は、同一のPECVD反応条件下でHMDSOを有機ケイ素化合物として生成した被覆材の密度より、高い密度を有する場合がある。
当該被覆材の密度は、X線反射率（XRR）により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3、あるいは1.35〜1.55g/cm3、あるいは1.4〜1.5g/cm3、あるいは1.4〜1.5 g/cm3、あるいは1.44〜1.48g/cm3である場合がある。 随意に、当該有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンである場合があり、当該被覆材は、同一のPECVD反応条件下でHMDSOを有機ケイ素化合物として生成した被覆材の密度より、高い密度を有する場合がある。
当該被覆材は随意に、当該非被覆表面および/または前駆体としてHMDSOを利用する遮断性被覆表面と比較して、当該被覆材と接触する化合物または組成の沈殿を防止または低減可能であり、特にインスリン沈殿または血液凝固を防止または低減可能である。
当該基板は、非被覆基板表面の機械的および/または化学的作用から当該被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するための、容器である場合がある。
当該基板は、容器内面と接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固を防止および削減するための、容器である場合がある。当該化合物または組成物は、生物学的に活性な化合物または組成物、例えば薬剤、例えばインスリンからなる化合物または組成物である場合があり、その場合、インスリン沈殿は低減または防止される可能性がある。 あるいは、当該化合物または組成物は生物学的流体、例えば体液、例えば血液または血液分画である場合があり、その場合、血液凝固は低減または防止される可能性がある。
追加のSIOX被覆材、あらゆる実施例のオプション
基板（例えば容器壁）の上の被覆材は、潤滑性被覆材からなると共に、さらに、少なくとも1層以上のSiOx被覆材からなる場合がある。この場合SiOx（xは1.5〜2.9）は、当該基板上の被覆材に隣接する、あるいは当該被覆材と当該基板の間に位置する、あるいは当該基板とは反対側の当該被覆材上に位置する場合がある。 随意に、SiOx層と当該被覆材はシャープな界面またはSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物（またはその逆）のいずれかを生成する場合がある。 潤滑性被覆材で被覆された当該基板はさらに、当該被覆材、当該基板、または両方の浸出を低減させるのに効果的な量での当該被覆材の表面処理を構成する場合がある。 例えば, 当該被覆材および表面処理は、起動力、スライド力、または両方を、当該被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供することが可能である。 随意に、当該表面処理は、当該潤滑層深部100nm未満、あるいは50nm未満、あるいは40nm未満、あるいは30 nm未満、あるいは20nm未満、あるいは10 nm未満、あるいは5 nm未満、あるいは3nm未満、あるいは1nm未満、あるいは0.5nmである場合がある。 別の考えられるオプションとして、当該表面処理は当該潤滑層深部0.1〜50nmである場合がある。
基板（例えば容器壁）の上の被覆材は、潤滑性被覆材からなると共に、さらに、少なくとも1層以上のSiOx被覆材からなる場合がある。この場合SiOx（xは1.5〜2.9）は、当該基板上の被覆材に隣接する、あるいは当該被覆材と当該基板の間に位置する、あるいは当該基板とは反対側の当該被覆材上に位置する場合がある。 随意に、SiOx層と当該被覆材はシャープな界面またはSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物（またはその逆）のいずれかを生成する場合がある。 潤滑性被覆材で被覆された当該基板はさらに、当該被覆材、当該基板、または両方の浸出を低減させるのに効果的な量での当該被覆材の表面処理を構成する場合がある。 例えば, 当該被覆材および表面処理は、起動力、スライド力、または両方を、当該被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供することが可能である。 随意に、当該表面処理は、当該潤滑層深部100nm未満、あるいは50nm未満、あるいは40nm未満、あるいは30 nm未満、あるいは20nm未満、あるいは10 nm未満、あるいは5 nm未満、あるいは3nm未満、あるいは1nm未満、あるいは0.5nmである場合がある。 別の考えられるオプションとして、当該表面処理は当該潤滑層深部0.1〜50nmである場合がある。
当該オプション表面処理は、xが約1.5〜2.9であるSiOxからなる場合がある。 随意に、少なくとも第2層またはSiOx被覆材（xは1.5〜2.9）は当該被覆材と当該基板表面との間に塗布可能である。
内腔および外面を定義する内面を有する容器が当該基板である、実施例が考えられる。 当該潤滑性被覆材は当該容器の内面上に被覆されている場合があり、当該容器はSiOx（xは1.5〜2.9）の外面上に少なくとも1層以上の層/被覆材を含む可能性がある あるいは、当該外面上のさらなる層/被覆材は、ポリ塩化ビニリデン (PVDC) からなる場合がある。 当該外面上のさらなる層/被覆材は随意に、遮断性被覆材である場合がある。
容器追加内容物由来の生成物、あらゆる実施例のオプション
あらゆる実施例において、当該基板は内腔および外面を定義する内面を有する容器である場合があり、当該被覆材は当該容器の内面上に被覆されている場合があり、当該容器は化合物または組成物（インスリンまたはインスリン含有組成物など）をその内腔に包含する場合がある。 インスリンといった注入可能なまたはその他の流体薬剤を包含する、充填済みシリンジが特に検討される。
あらゆる実施例において、当該基板は内腔および外面を定義する内面を有する容器である場合があり、当該被覆材は当該容器の内面上に被覆されている場合があり、当該容器は化合物または組成物（インスリンまたはインスリン含有組成物など）をその内腔に包含する場合がある。 インスリンといった注入可能なまたはその他の流体薬剤を包含する、充填済みシリンジが特に検討される。
実施例
以下の実施例は、ある程度EP 2 251 455ですでに開示済みである。 不必要な重複を避けるため、本書ではEP 2 251 455 A2に記載の全実施例は繰り返されていないが、明確な参照は行なわれている。
以下の実施例は、ある程度EP 2 251 455ですでに開示済みである。 不必要な重複を避けるため、本書ではEP 2 251 455 A2に記載の全実施例は繰り返されていないが、明確な参照は行なわれている。
シリンジバレルを成形・被覆するための基本プロトコル
後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って成形および被覆された。 以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメータ値（例えば当該電力、ガス状反応物質または処理ガス流量、など）は一般値である。 当該一般値と比較してパラメータ値が変更された場合はいつでも、当該後続実施例内において表示する。 当該ガス状反応物質または処理ガスの種類および組成についても同様とする。
後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って成形および被覆された。 以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメータ値（例えば当該電力、ガス状反応物質または処理ガス流量、など）は一般値である。 当該一般値と比較してパラメータ値が変更された場合はいつでも、当該後続実施例内において表示する。 当該ガス状反応物質または処理ガスの種類および組成についても同様とする。
管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル
特定の考えられる実施例である、図１０の封止機構を有する図１で示す装置を使用した。 当該容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Co.が市販するDelrin（商標）アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ（44mm）および高さ1.75インチ（44mm）で作成した。 当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極（160）への出入りを可能とするDelrin（商標）構造内に格納した。
特定の考えられる実施例である、図１０の封止機構を有する図１で示す装置を使用した。 当該容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Co.が市販するDelrin（商標）アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ（44mm）および高さ1.75インチ（44mm）で作成した。 当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極（160）への出入りを可能とするDelrin（商標）構造内に格納した。
当該電極160は、銅およびDelrin（商標）遮蔽体から作成した。 当該Delrin（商標）遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。 当該電極160の寸法は、（内部）高さ約3インチ（76mm）であり、幅は約0.75インチ（19mm）であった。
当該容器80として使用した当該管を当該容器ホルダー50底部へと挿入して、Viton（商標）オーリング490、504（Viton（商標）は米国デラウェア州ウィルミントンのDuPont Performance Elastomers LLCの商標である）で当該管（図１０）の外部周辺を密閉した。 当該管80を、伸延された（定常の）1/8インチ（3mm）径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。
当該銅プラズマ遮蔽体610は、当該管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材（米国イリノイ州、シカゴのK&S Engineering、部品番号：LXMUW5 copper mesh）で、当該管挿入（図１０を参照）の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。 当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。
当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該管内部へと約70mm伸延し、80番ワイヤ（直径 = 0.0135インチまたは0.343mm）を配列した。 当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok（商標）取付部（米国オハイオ州ソロンのSwagelok Co.が市販）を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。 当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。
当該ガス供給ポート110は、当該管（4側面上の3つが互いに90度に配向される）の長さに沿った当該プローブまたは対向電極108における12の孔、および当該ガス供給ポート110の端部に差し込まれる当該アルミニウム蓋における2つの孔であった。 当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok（商標）取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。 さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）が当該ガス供給ポート110（処理圧力下で）を通り当該管内部に流入するようにした。
当該ガスシステムは、Aalborg（商標） GFC17質量流量計（部品番号：EW-32661-34、米国イリノイ州バーリントンのCole-Parmer Instrument Co.製）からなり、当該流量計は、酸素を90sccm（または特定実施例で報告された特定流量）で当該処理および長さ49.5インチ（1.26m）のポリエーテルエーテルケトン（「PEEK」）キャピラリー（外径1/16インチ（1.5mm）、内径0.004インチ（0.1mm））に制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン（「HMDSO」、Alfa Aesar（商標） 部品番号L16970、NMR、Grade、ロンドンのJohnson Matthey PLC製）へと挿入した。 当該流体HMDSOを、処理中の当該管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引した。 当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達する際に当該キャピラリー終端で蒸気となった。
この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok（商標登録） 3方弁経由での処理のため当該管内部へと流入しない当該ガス流（酸素を含む）を当該ポンプラインへと迂回させた。 当該管設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該管内部へと開口した。
Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。 当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該管内部を200mトール未満の圧力に低減することを可能とした。
当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。 当該ガス流（酸素およびHMDSO蒸気）を、当該真鍮ガス供給ポート110（当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へ調整）に流入させた。 当該管内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ（MKS）により測定される通り、約300mトールであった。 当該管圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。 本圧力は通常、8トール未満であった。
当該ガスを当該管内部に流入させた後に、当該 RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。 ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約50ワットの電力レベルにおいて（13.56MHzで）使用した。 当該出力電力については、この/後述のすべてのプロトコルおよび実施例において、当該被覆装置の作業中に当該電力供給装置のRF出力に接続されたBird Corporationモデル43のRF電力計を使用して、キャリブレートした。 当該電力供給装置上のダイヤル設定と当該出力電力との間に以下の関係が見られた： RF電力出力 = 55 x ダイヤル設定。 先行塗布の対現行塗布比において係数100を使用したが、それは誤りであった。 当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス（当該管において創出するため）を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続した。 順方向電力は50ワット（または特定実施例で報告された特定値）および反射電力は0ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。 当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒（または特定実施例で報告された特定の期間）に設定した。 当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該管内部に定着させた。 当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間保持した。 当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材（または特定実施例で報告された特定の層厚）を当該管表面内部に生成した。
被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へ戻し、当該真空弁を閉口した。 当該通気弁をその後開口し、当該管内部を大気圧（約760トール）に戻した。 当該管をその後、当該容器ホルダー50アセンブリから（当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に）慎重に除去した。
COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル
それぞれ総容積2.8mL（当該ルアー取付部を除く）および名目的出し容積1mLを有する伸延バレルシリンジ用のシリンジバレル（「COC シリンジバレル」）、CV把持部品11447、またはプランジャー変位、ルアー適合種類を、ドイツ、フランクフルトのHoechstが市販するTopas（商標）8007-04環状オレフィン共重合体（COC）樹脂を原料として以下のを寸法で射出成形した：前長約51mm、シリンジバレル内径8.6mm、当該シリンダー状部分の壁の厚さ1.27mm、合わせて長さ9.5mmの1つの端部にモールドされた針キャピラリールアーアダプタおよびもう1方の端部近隣にモールドされた2つのフィンガーフランジ。
それぞれ総容積2.8mL（当該ルアー取付部を除く）および名目的出し容積1mLを有する伸延バレルシリンジ用のシリンジバレル（「COC シリンジバレル」）、CV把持部品11447、またはプランジャー変位、ルアー適合種類を、ドイツ、フランクフルトのHoechstが市販するTopas（商標）8007-04環状オレフィン共重合体（COC）樹脂を原料として以下のを寸法で射出成形した：前長約51mm、シリンジバレル内径8.6mm、当該シリンダー状部分の壁の厚さ1.27mm、合わせて長さ9.5mmの1つの端部にモールドされた針キャピラリールアーアダプタおよびもう1方の端部近隣にモールドされた2つのフィンガーフランジ。
COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル
射出成形COCシリンジバレルの内部をSiOxで被覆可能である。 図１で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正した。 また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する（図８に図示）ポリプロピレン蓋から作成し、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることを可能とした。
射出成形COCシリンジバレルの内部をSiOxで被覆可能である。 図１で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正した。 また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する（図８に図示）ポリプロピレン蓋から作成し、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることを可能とした。
当該容器ホルダー50は、Delrin（商標）アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ（44mm）および高さ1.75インチ（44mm）で作成可能である。 当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin（商標）構造内に格納可能である。
当該電極160は、銅およびDelrin（商標）遮蔽体から作成可能である。 当該Delrin（商標）遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形可能である。 当該電極160の寸法は、（内部）高さ約3インチ（76mm）であり、幅は約0.75インチ（19mm）である場合がある。 当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、底部をViton（商標）オーリングで密閉可能である。
COCシリンジバレルを、当該伸延された（定常の）1/8インチ（3mm）径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付け可能である。 当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材（K&S Engineering、部品番号：LXMUW5 Copper mesh）で、当該COCシリンジバレル挿入の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定可能である。 当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。
当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと約20mm伸延し、その端部を開口可能である。 当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok（商標）取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。 当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地可能である。
当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok（商標）取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続可能である。 さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）が当該ガス供給ポート110（処理圧力下で）を通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにできる。
当該ガスシステムは、Aalborg（商標）GFC17質量流量計（Cole Parmer部品番号：EW-32661-34）からなる場合があり、当該流量計は、酸素を90sccm（または特定実施例で報告された特定流量）で当該処理および長さ49.5インチ（1.26m）のPEEKキャピラリー（外径1/16インチ（3mm）、内径0.004インチ（0.1mm））に制御可能に流入させるためのものであった。 当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン（Alfa Aesar（商標）部品番号L16970、NMR、Grade）へと挿入可能である。 当該流体HMDSOを、処理中の当該COCシリンジバレル管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引可能である。 当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達した時点で当該キャピラリー終端で蒸気となる場合がある。
この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok（商標）3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流（酸素を含む）を、当該ポンプラインへと迂回可能である。
当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口可能である。 Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。 当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を150mトール未満の圧力に低減することを可能とした。 当該管とは対照的に、当該COCシリンジバレルを用いて低いポンプ圧力を達成可能である。なぜなら、当該COCシリンジバレルはより少量の内容量を有するからである。
当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。 当該ガス流（酸素およびHMDSO蒸気）を、当該真鍮ガス供給ポート110（当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整）に流入させた。 当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ（MKS）により測定される通り、約200mトールである。 当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定する。 本圧力は通常、8トール未満である。
当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整する。 ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約30ワットの電力レベルにおいて（13.56MHzで）使用する。 当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス（当該COCシリンジバレルにおいて創出するため）を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続する。 順方向電力は30ワット（または実施例で報告されているいかなる値）および反射電力は0ワットであるため、電力はCOCシリンジバレル内部に送達される。 当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒（または特定実施例で報告された特定の期間）に設定する。
当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させる。 当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間（または特定実施例において指示されたその他の被覆時間）保持する。 当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材（または特定実施例で報告された層厚）を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。
被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口する。 当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を大気圧（約760トール）に戻す。 当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから（当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に）慎重に除去する。
COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層/被覆材で被覆するためのプロトコル
先に同定したCOCシリンジバレルを、潤滑層で内部被覆した。 図１で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正する。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する（図８に図示）ポリプロピレン蓋から作成する。 ブナNオーリングを当該ルアー取付部に設置することで、気密な密閉が可能となり、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることが可能となった。
先に同定したCOCシリンジバレルを、潤滑層で内部被覆した。 図１で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正する。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する（図８に図示）ポリプロピレン蓋から作成する。 ブナNオーリングを当該ルアー取付部に設置することで、気密な密閉が可能となり、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることが可能となった。
当該容器ホルダー50は、Delrin（商標）アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ（44mm）および高さ1.75インチ（44mm）で作成する。 当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin（商標）構造内に格納する。
当該電極160は、銅およびDelrin（商標）遮蔽体から作成する。 当該Delrin（商標）遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させる。 当該電極160の寸法は、（内部）高さ約3インチ（76mm）であり、幅は約0.75インチ（19mm）である。 当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、当該フィンガーフランジの底部および当該COCシリンジバレルの縁をViton（商標）オーリングで密閉する。
COCシリンジバレルを、当該伸延された（定常の）1/8インチ（3mm）径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付ける。 当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材（K&S Engineering、部品番号：LXMUW5 Copper mesh）で、当該COCシリンジバレル挿入の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定する。 当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。
当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと（別途指示がない限り）約20mm伸延し、その端部を開口する。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok（商標）取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。 当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地する。
当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok（商標）取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続する。 さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガスおよびオクタメチルシクロテトラシロキサン（OMCTS）（または特定実施例で報告された特定のガス状反応物質または処理ガス）が当該ガス供給ポート110（処理圧力下で）を通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにできる。
当該ガスシステムを、当該OMCTSを約100℃にまで高温化する市販のHoriba VC1310/SEF8240 OMCTS 10SC 4CR熱質量流量気化システムで構成する。 当該Horibaシステムを、内径1/16インチ（1.5mm）である外径1/8インチ（3mm）のPFA管を通して、流体オクタメチルシクロテトラシロキサン（Alfa Aesar（商標）、部品番号：A12540、98%）へと接続する。 当該OMCTS流量は1.25sccm（また特定実施例で報告された特定の有機ケイ素前駆体の流量）に設定する。 この点を超えた当該気化OMCTSの結露を防止するため、Swagelok（商標） 3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流を、当該ポンプラインへと迂回させる。
当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口する。 Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成する。 当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を100mトール未満の圧力に低減することを可能とする。 本事例において、前述の管およびCOCシリンジバレルの実施例と比較してより低い圧力を実現できる。なぜなら本事例におけるガス状反応物質または処理ガス流量は全般的に低いからである。
当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動する。 当該ガス流（OMCTS蒸気）を、当該真鍮ガス供給ポート110（当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整）に流入させる。 当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ（MKS）により測定される通り、約140mトールである。 当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定する。 本圧力は通常、6トール未満である。
当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整する。 ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約6ワット（また特定実施例で指示されるその他の電力レベル）の電力レベルにおいて（13.56MHzで）使用する。 当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス（当該COCシリンジバレルにおいて創出するため）を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続する。 順方向電力は6ワットおよび反射電力は0ワットであるため、6ワットの電力（または任意実施例で搬送される異なる電力レベル）は当該COCシリンジバレル内部に送達される。 当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は10秒（または任意実施例で述べられた異なる期間）に設定する。
当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させる。 当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを全被覆時間の間保持する。 当該プラズマにより、潤滑層/被覆材を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。
被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口する。 当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を大気圧（約760トール）に戻す。 当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから（当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に）慎重に除去する。
COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコル
また、HMDSOをOMCTSで置換する場合を除き、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層/被覆材で被覆するためのプロトコル」を使用して、HMDSO被覆材を塗布した。
また、HMDSOをOMCTSで置換する場合を除き、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層/被覆材で被覆するためのプロトコル」を使用して、HMDSO被覆材を塗布した。
潤滑性試験のためのプロトコル
VII.B.1.a. 以下の部材を本試験で使用する：
市販の（BD Hypak（商標） PRTC）ガラス製事前充填可能シリンジ、Luer-lok（商標）端部付き（ca 1mL）；
COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成した、COC シリンジバレル；
Becton Dickinson製品番号306507から採取した市販のプラスチックシリンジプランジャー、エラストマー端部付き（生理食塩水事前充填シリンジとして取得）；
標準生理食塩水（Becton-Dickinson製品番号306507事前充填シリンジから採取）；
Advanced Forceゲージ（モデルAFG-50N）付きDillon試験台；
シリンジ把持部材および排出管ジグ（当該Dillon試験台に装着するよう組立て）。
VII.B.1.a. 以下の部材を本試験で使用する：
市販の（BD Hypak（商標） PRTC）ガラス製事前充填可能シリンジ、Luer-lok（商標）端部付き（ca 1mL）；
COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成した、COC シリンジバレル；
Becton Dickinson製品番号306507から採取した市販のプラスチックシリンジプランジャー、エラストマー端部付き（生理食塩水事前充填シリンジとして取得）；
標準生理食塩水（Becton-Dickinson製品番号306507事前充填シリンジから採取）；
Advanced Forceゲージ（モデルAFG-50N）付きDillon試験台；
シリンジ把持部材および排出管ジグ（当該Dillon試験台に装着するよう組立て）。
VII.B.1.a. 以下の手順を本試験で使用する。
VII.B.1.a. 当該ジグを当該Dillon試験台に設置する。 当該プラットフォームプローブの移動を6インチ/分（2.5mm/秒）に調整し、上部および下部の停止位置を設定する。当該停止位置を、空のシリンジバレルを利用して確認した。 当該市販生理食塩水充填シリンジをラベル付けし、当該プランジャーを取り外し、当該食塩水を当該シリンジバレルの開口端経由で排出する（再利用するため）。 当該COCおよびガラスバレルで使用するための、予備のプランジャーを同一方法で取得した。
VII.B.1.a. シリンジプランジャーを当該COCシリンジバレルに挿入し、各プランジャーの当該第2水平モールド点を当該シリンジバレル縁（当該端部から約10mm）と均等にする。 別のシリンジと針アセンブリを使用して、当該キャピラリー端部経由で食塩水2〜3mlを当該試験シリンジに充填した。その際、当該キャピラリー端部を最上に位置付けた。 当該シリンジ側部を軽く叩いて当該プランジャー/流体界面および当該壁に沿って付いた大きめの気泡を除去し、当該プランジャーをその垂直配向に維持しながら当該気泡を当該シリンジから慎重に排出させた。
VII.B.1.a. 各充填済みシリンジバレル/プランジャーアセンブリを当該シリンジジグに設置する。 当該試験台のダウンスイッチを押下して当該試験を開始し、移動式金槌を当該プランジャーの方へと前進させる。 当該移動式金槌が当該プランジャー上部に接触する5mm以内となったら、Dillonモジュール上のデータボタンを繰り返し押して、当該シリンジプランジャーとの初期接触前から当該プランジャーが当該シリンジバレル前壁と接触して停止するまでの、各データボタンを押下した期間の当該力を記録する。
VII.B.1.a. すべてのベンチマークおよび被覆シリンジバレルについて、5回反復して行った（毎回新しいプランジャーおよびバレルを使用）。
VII.B.1.a. 「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成したCOCシリンジバレルを、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層/被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い（ただし電力は7.5ワット）OMCTS潤滑層で被覆し、組立後生理食塩水で充填し、潤滑層に関して本実施例で上述した通りに試験した。 「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層/被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い使用した当該ポリプロピレンチャンバは、当該OMCTS蒸気（および追加される場合は酸素）の当該シリンジバレルを通しておよび当該シリンジキャピラリーを通しての当該ポリプロピレンチャンバへの流入を可能にした（ただし潤滑層/被覆材は、本事例の当該シリンジの当該キャピラリー部には不必要な場合がある）。 異なる被覆条件を試験した。 すべての堆積を、同一製造バッチからのCOCシリンジバレル上に行った。
VII.B.1.a. 当該検体は、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコル」に従いCOCシリンジバレル被覆することにより、創出した。 本書記載の当該技術の代替実施例は、例えば「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い被覆した、SiOxといった別の薄膜被覆上に当該潤滑層/被覆材を塗布する場合がある。
Dillon試験台および排出管ジグの代わりに、Genesis Packaging プランジャー力試験器 (Model SFT-01シリンジ力試験器、ペンシルバニア州ライオンヴィルGenesis Machinery社製) を、FiおよびFmの測定に関する製造業者の指示に従って、利用することも可能である。 当該Genesis試験器で使用するパラメータは以下の通り:
開始: 10mm
速度: 100mm/分
範囲: 20
単位: ニュートン
開始: 10mm
速度: 100mm/分
範囲: 20
単位: ニュートン
実施例
本発明の実施例としても理解されている、EP 2 251 455 A2で示された当該実施例に追加。
本発明の実施例としても理解されている、EP 2 251 455 A2で示された当該実施例に追加。
検体A−D
シリンジ検体を以下のように作成した。 COC 8007伸延バレルシリンジを、「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成した。 「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い、SiOx被覆材を一部のシリンジに塗布した。 以下のように変更された「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコル」に従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。 当該OMCTSは、揮発度が低かったため 噴霧器により供給された。 アルゴン搬送ガスを使用した。 当該工程条件は以下のように設定された:
OMCTS - 3 sccm
アルゴンガス - 65 sccm
電力 - 6ワット
時間 - 10秒
当該被覆器は、当該表内で同定される当該L2検体の作成中に、小規模の漏れがあることが後に判定され、当該漏れは推定酸素流量1.0 sccmであった。 当該L3検体は酸素を導入することなく作成した。
シリンジ検体を以下のように作成した。 COC 8007伸延バレルシリンジを、「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成した。 「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い、SiOx被覆材を一部のシリンジに塗布した。 以下のように変更された「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコル」に従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。 当該OMCTSは、揮発度が低かったため 噴霧器により供給された。 アルゴン搬送ガスを使用した。 当該工程条件は以下のように設定された:
OMCTS - 3 sccm
アルゴンガス - 65 sccm
電力 - 6ワット
時間 - 10秒
当該被覆器は、当該表内で同定される当該L2検体の作成中に、小規模の漏れがあることが後に判定され、当該漏れは推定酸素流量1.0 sccmであった。 当該L3検体は酸素を導入することなく作成した。
数個のシリンジの潤滑性を、「潤滑性試験のためのプロトコル」に従い、Genesis Packagingプランジャー力試験器 (Model SFT-01 シリンジ力試験器、ペンシルバニア州ライオンヴィルGenesis Machinery社製) を利用して試験した。 開始力および維持力 (単位ニュートン) の両方について非被覆検体と比較して言及し、表1に報告した。
シリコン油で被覆されるシリンジは現在の業界標準であるため、参照として含めた。
検体E-H
シリンジ検体を以下のように作成した。 COC 8007伸延バレルシリンジを、「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成した。 「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い、SiOx被覆材を当該シリンジバレルに塗布した。 以下のように変更された「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコル」に従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。 当該OMCTSは、揮発度が低かったため 噴霧器により供給された。 表2で言及したアルゴン搬送ガスおよび酸素を利用した。 以下の通り、または表2で言及した通りに工程条件を設定した:
OMCTS -3 sccm (使用する場合)
アルゴンガス -7.8 sccm (使用する場合)
酸素 0.38 sccm (使用する場合)
電力 - 3ワット
電源ON時間 - 10秒
これらの条件で作成されたシリンジEおよびF、潤滑性被覆材を除くこれらの条件で作成されたシリンジG、およびシリンジH (シリコン油で被覆される市販のシリンジ) の潤滑性を、「潤滑性試験のためのプロトコル」に従い、Genesis Packagingプランジャー力試験器を利用して、試験した。 開始力および維持力 (単位ニュートン) の両方について非被覆検体と比較して言及し、表2に報告した。 シリコン油で被覆されるシリンジは現在の業界標準であるため、参照として含めた。
シリンジ検体を以下のように作成した。 COC 8007伸延バレルシリンジを、「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成した。 「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い、SiOx被覆材を当該シリンジバレルに塗布した。 以下のように変更された「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコル」に従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。 当該OMCTSは、揮発度が低かったため 噴霧器により供給された。 表2で言及したアルゴン搬送ガスおよび酸素を利用した。 以下の通り、または表2で言及した通りに工程条件を設定した:
OMCTS -3 sccm (使用する場合)
アルゴンガス -7.8 sccm (使用する場合)
酸素 0.38 sccm (使用する場合)
電力 - 3ワット
電源ON時間 - 10秒
これらの条件で作成されたシリンジEおよびF、潤滑性被覆材を除くこれらの条件で作成されたシリンジG、およびシリンジH (シリコン油で被覆される市販のシリンジ) の潤滑性を、「潤滑性試験のためのプロトコル」に従い、Genesis Packagingプランジャー力試験器を利用して、試験した。 開始力および維持力 (単位ニュートン) の両方について非被覆検体と比較して言及し、表2に報告した。 シリコン油で被覆されるシリンジは現在の業界標準であるため、参照として含めた。
当該潤滑性結果を表2に (開始力および維持力) に示し、これらの試験条件に加えて、シリンジE およびF上の潤滑性被覆材が潤滑性被覆材の欠如したシリンジGと比較して顕著に潤滑性が向上したことを図示した。 またシリンジEおよびF上の潤滑性被覆材は、業界標準の潤滑性被覆で被覆されるシリンジHと比較して顕著に潤滑性が向上した。
また誘導結合質量分析 (ICP-MS) 法を利用して、シリンジE、F、Gを試験して総抽出物ケイ素レベル (有機ケイ素ベースのPECVD被覆材の抽出物を表す) を判定した。
塩水温浸法を利用してケイ素を抽出した。 各シリンジプランジャーの端部をPTFEテープで被覆して、エラストマー製端部物質からの抽出を防止し、その後当該シリンジバレル底部へと挿入した。 当該シリンジバレルに、当該シリンジのルアー端部を通して挿入した皮下注射針経由で、2mlの0.9%水性食塩液を充填した。 これは抽出物に適した試験である。なぜなら充填済みシリンジの多くは、食塩液を含み供給するために利用されるからである。 当該ルアー端部を、適切な直径のPTFEビーディング部に差し込んだ。 当該シリンジをルアー端部付きPTFE試験スタンドに上向きに設置し、50℃の炉内に72時間留置した。
その後、静的モードまたは動的モードを利用して、当該食塩液を当該シリンジバレルから取り除いた。 表2に示される当該静的モードに従い、当該シリンジ プランジャーを当該試験スタンドから取り外し、当該シリンジ内の流体を容器へと静かに移した。 表2に示される当該動的モードに従い、当該ルアー端部密閉部を取り外し、当該プランジャーを押圧して当該シリンジバレルを通して流体を押し出し、当該内容物を容器へと放出した。 どちらの場合も、各シリンジバレルから得られる流体は18.2MΩ*cmの脱イオン水を利用して50mlの量にし、さらに2倍に希釈して分析中のナトリウムのバックグラウンドを最低限にした。 当該CVHバレルの容量は2ml、当該市販バレルの容量は2.32mlであった。
次に、誘導結合プラズマ質量分析 (ICP-MS) 法を利用して、各シリンジからら回収された流体の抽出物ケイ素を試験した。 使用した装置は、 Cetac ASX-520自動サンプラーを搭載したPerkin Elmer Elan DRC IIであった。 以下のICP‐MS条件を利用した:
噴霧器: Quartz Meinhard
噴霧チャンバ: Cyclonic
RF (高周波) 電力: 1550ワット
アルゴン (Ar) 流量: 15.0 L/分
補助Ar流量: 1.2 L/分
噴霧器ガス流量: 0.88 L/分
積分時間: 80秒
走査モード: 凸部ホッピング
CeO (m/z 156) としてのセリウムのRPq (RPqは阻止パラメータである): < 2 %
シリンジE、F、Gから得られた水性希釈物のアリコートを注入して、マイクログラム/Lの濃度単位でSiを分析した。 本試験の結果は表2に記載する。 当該結果は定量的ではないが、当該潤滑性被覆材からの抽出物が当該SiOx遮断層のみからの抽出物より高くないことを明確に示す。 また当該静的モードは、予想通り、当該動的モードよりはるかに少ない抽出物を産生した。
噴霧器: Quartz Meinhard
噴霧チャンバ: Cyclonic
RF (高周波) 電力: 1550ワット
アルゴン (Ar) 流量: 15.0 L/分
補助Ar流量: 1.2 L/分
噴霧器ガス流量: 0.88 L/分
積分時間: 80秒
走査モード: 凸部ホッピング
CeO (m/z 156) としてのセリウムのRPq (RPqは阻止パラメータである): < 2 %
シリンジE、F、Gから得られた水性希釈物のアリコートを注入して、マイクログラム/Lの濃度単位でSiを分析した。 本試験の結果は表2に記載する。 当該結果は定量的ではないが、当該潤滑性被覆材からの抽出物が当該SiOx遮断層のみからの抽出物より高くないことを明確に示す。 また当該静的モードは、予想通り、当該動的モードよりはるかに少ない抽出物を産生した。
検体I-K
3種の異なる潤滑性被覆材を利用するシリンジ検体I、J、Kは、以下のまたは表3に示す条件を除き、検体E-Hと同様に作成した:
OMCTS - 2.5 sccm
アルゴンガス -7.6 sccm (使用する場合)
酸素 0.38 sccm (使用する場合)
電力 - 3ワット
電源ON時間 - 10秒
3種の異なる潤滑性被覆材を利用するシリンジ検体I、J、Kは、以下のまたは表3に示す条件を除き、検体E-Hと同様に作成した:
OMCTS - 2.5 sccm
アルゴンガス -7.6 sccm (使用する場合)
酸素 0.38 sccm (使用する場合)
電力 - 3ワット
電源ON時間 - 10秒
シリンジIは、OMCTS、酸素、搬送ガスを利用した3成分被覆材で被覆した。 シリンジJは、搬送ガスを除く、OMCTS、酸素、を利用した2成分被覆材で被覆した。 シリンジKは1成分被覆材 (OMCTSのみ) で被覆した。 シリンジI、J、Kの潤滑性をその後、検体E-Hに記載の通りに試験した。
当該潤滑性結果を表3 (開始力および維持力) に示す。 OMCTS、酸素、搬送ガスを利用する3成分被覆材で被覆されるシリンジIは、開始力と維持力の両方について最も優れた潤滑性結果を示した。 搬送ガスを除外したシリンジJは、中間の結果を示した。 1成分被覆材 (OMCTSのみ) で被覆されたシリンジKは、最も低い潤滑性を示した。 本検体により、当該試験条件の下、搬送ガスおよび酸素の両方を当該処理ガスに追加することで、潤滑性が向上することが明らかになった。
検体L-N
OMCTS前駆体ガスを利用した検体I-Kを、検体L-Nにおいて反復した。ただし、検体L-Nで前駆体として利用したHMDSOを除く。 当該結果は表3に示す。 試験した3成分、2成分、1成分潤滑性被覆材について、当該OMCTS被覆材はより低い抵抗を示し、したがって当該HMDSO被覆材より潤滑性に優れていたことが、当該結果により示されており、潤滑性被覆材のための当該前駆体ガスとしてのOMCTSの値を実証している。
OMCTS前駆体ガスを利用した検体I-Kを、検体L-Nにおいて反復した。ただし、検体L-Nで前駆体として利用したHMDSOを除く。 当該結果は表3に示す。 試験した3成分、2成分、1成分潤滑性被覆材について、当該OMCTS被覆材はより低い抵抗を示し、したがって当該HMDSO被覆材より潤滑性に優れていたことが、当該結果により示されており、潤滑性被覆材のための当該前駆体ガスとしてのOMCTSの値を実証している。
検体O-V、W、X、Y
これらの検体において、当該潤滑性被覆材の表面粗度は潤滑性性能と相関していた。
これらの検体において、当該潤滑性被覆材の表面粗度は潤滑性性能と相関していた。
OMCTS被覆材を先に説明した装置により、特定の指示工程条件 (表5) で、1mLのCOC 6013 モールド シリンジバレルに塗布した。 プランジャー力測定 (Fi、Fm) (表5) を、先に説明した装置により同一のプロトコルで行なった。 走査電子分光法 (SEM) 顕微鏡写真 (表5、図１６〜２０) および原子間力顕微鏡法 (AFM) 二乗平均平方根 (RMS) およびその他の粗度判定 (表5および6) を、後述手順を利用して行なった。 平均RMS値を、当該表面の3種の異なるRMS測定値から得る。 表5で報告した当該プランジャー力試験、AFM、SEM試験は、全試験を1つの検体で行なうことを禁止する個々の試験特性により、異なる検体で実施した。
SEM顕微鏡写真に対するFi/FmとAFM平均RMS値とを比較すると、非継続的で粗度の高いOMCTSプラズマ被覆表面でより低いプランジャー力が実現されることが明確に示されている (検体O〜Q対R〜V、図１８〜２０を参照)。
姉妹検体実施例W、X、Yについて順に実施例Q、T、Vと同様の条件の下でさらなる試験を実施して、当該AFM粗度データに対応するFi値およびFm値を示した。 方面粗度の高い (図１８の検体Q、表5と比較) 検体WのFiおよびFm摩擦値 (表6) は、検体X (図１９の実施例Tと比較) またはYより低い。 表6で示すFm試験は、当該Fm値が高すぎたため、当検体XおよびYのFm測定値に到達する前に中断された。
SEM手順
SEM検体作成: 各シリンジ検体を長辺に沿って (内面を曝露するよう) 半分に切断した。 当該検体を小さくするため、当該シリンジ上部 (ルアー端部) を切り落とした。
SEM検体作成: 各シリンジ検体を長辺に沿って (内面を曝露するよう) 半分に切断した。 当該検体を小さくするため、当該シリンジ上部 (ルアー端部) を切り落とした。
当該検体を当該検体ホルダーに導電性グラファイト接着剤で装着した。その後Denton Desk IV SEM検体作成システムへと留置し、薄肉 (約50Å) 厚肉金被覆材を当該シリンジの内面にスパッタリングした。 当該金被覆材は、測定中に当該表面に帯電が起こらないようにするため、必要である。
当該検体を当該スパッタシステムから取り外し、Jeol JSM 6390 SEM (走査型電子顕微鏡) の当該検体ステージに装着した。 当該検体を、検体コンパートメント内で1 x 10-6 トール以下に減圧した。 当該検体が必要な真空レベルに到達したら、当該スリット弁を開いて当該検体分析ステーションへと移動させた。
当該検体はまず粗い解像度で画像化され、その後、より倍率の高い画像を蓄積した。 当該図に示されているSEM画像は、端から端まで5μm (横幅および縦幅) である。
AFM (原子間力顕微鏡法) 手順。
NanoScope III Dimension 3000装置 (米国カリフォルニア州サンタバーバラ、Digital Instruments社製) を利用して、AFM画像を収集した。 当該装置は、NISTトレーサブル標準を用いて較正した。 エッチングされたケイ素の走査プローブ顕微鏡法 (SPM) 端部を利用した。 自動平板化、面適合化、畳み込みを含む画像処理手順を利用した。 10 μm x 10 μmの面積を画像化した。 粗度分析を行い以下により表した: (1) 二乗平均平方根粗度、RMS；(2) 平均粗度、Ra；および (3) 最大高さ (凸部から凹部まで)、Rmax、すべて単位nmで測定 (表5および図１８〜２０を参照)。 当該粗度分析のため、各検体を10 μm x 10 μmの面積を超えて画像化し、その後当該10 μm x 10 μm 画像内の特徴を通って切断するよう3種の断面を分析者が選択した。 当該特徴の垂直深さは、断面ツールを利用して測定した。 各断面については、二乗平均平方根粗度 (RMS) を単位ナノメートルで報告した。 これらのRMS値は、各検体の3種の断面の平均と共に表5に記載する。
NanoScope III Dimension 3000装置 (米国カリフォルニア州サンタバーバラ、Digital Instruments社製) を利用して、AFM画像を収集した。 当該装置は、NISTトレーサブル標準を用いて較正した。 エッチングされたケイ素の走査プローブ顕微鏡法 (SPM) 端部を利用した。 自動平板化、面適合化、畳み込みを含む画像処理手順を利用した。 10 μm x 10 μmの面積を画像化した。 粗度分析を行い以下により表した: (1) 二乗平均平方根粗度、RMS；(2) 平均粗度、Ra；および (3) 最大高さ (凸部から凹部まで)、Rmax、すべて単位nmで測定 (表5および図１８〜２０を参照)。 当該粗度分析のため、各検体を10 μm x 10 μmの面積を超えて画像化し、その後当該10 μm x 10 μm 画像内の特徴を通って切断するよう3種の断面を分析者が選択した。 当該特徴の垂直深さは、断面ツールを利用して測定した。 各断面については、二乗平均平方根粗度 (RMS) を単位ナノメートルで報告した。 これらのRMS値は、各検体の3種の断面の平均と共に表5に記載する。
図１８〜２０ (検体Q、T、V) により表される当該 10 μm x 10 μm 画像の追加の分析を行なった。 本分析のため、3種の断面を各画像から抽出した。 当該断面の位置は、当該画像の特徴を通って切断するよう分析者が選択した。 当該特徴の垂直深さは、断面ツールを利用して測定した。
当該Digital Instruments Nanoscope III AFM/STMは、表面の3-D描写をデジタル形式で取得し保管する。 これらの表面は、さまざまな方法で分析可能である。
Nanoscope IIIソフトウェアは、あらゆるAFMまたはSTM画像の粗度分析を実行可能である。 本分析の生成物は単色ページであり、上部ビューにおいて選択画像が再生成される。 当該画像の右上は「画像統計値」ボックスとなっており、ここには、全画像から阻止帯域により除外された面積 (Xの付いたボックス) を減じて計算した特性が表示される。 同様の追加統計値を、当該画像の選択部位について計算可能であり、これらは当該ページの右下の「ボックス統計値」内に表示される。 以下は、これらの統計値の記述および説明である。
画像統計値:
Z 範囲 (Rp): 当該画像内の最高地点および最低地点の間の差異である。 本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。
Z 範囲 (Rp): 当該画像内の最高地点および最低地点の間の差異である。 本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。
平均: 当該画像面積におけるすべてのZ値の平均である。 本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。
RMS (Rq): 当該画像におけるZ値 (またはRMS粗度) の標準偏差である。 以下の公式により計算する:
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}
Zavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。 本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}
Zavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。 本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。
平均粗度 (Ra): 当該表面の中央面に対する平均値であり、以下の公式を利用して計算する:
Ra＝[1／(LxLy)]∫o Ly∫o Lx｛f(x，y)｝dxdy
f(x,y) は中央面に対する当該表面、Lx および Ly は当該表面の寸法である。
Ra＝[1／(LxLy)]∫o Ly∫o Lx｛f(x，y)｝dxdy
f(x,y) は中央面に対する当該表面、Lx および Ly は当該表面の寸法である。
最大高さt (Rmax): 平均面に対する当該表面の最大/最低地点間の高さの差異である。
表面面積: (光学計算): 当該画像面積の 3-D表面の面積である。 当該画像全域の3つの隣り合うデータポイントにより形成される、三角形の面積を合計することにより計算される。
表面面積差異: (随意の計算) 当該表面面積が当該画像面積を超過している量である。 パーセントで表され、以下の公式に従って計算する:
表面面積差異 = 100[(表面面積/S12)-1]
S1は当該スキャン面積から阻止帯域により除外されら面積を減じたものの長さ (および幅) である。
表面面積差異 = 100[(表面面積/S12)-1]
S1は当該スキャン面積から阻止帯域により除外されら面積を減じたものの長さ (および幅) である。
中央面: 当該平均面に対して平行な平面である。 中央面の上および下の当該画像表面により囲まれた量は同一である。
平均面: 当該画像データは本平板面について最低変数が設定されている。 一次最小二乗から求められ、当該Zデータに適合する。
潤滑性測定値の概要
表8は、前述OMCTS被覆材およびそれらのFi値およびFm値の概要を示す。 初期の潤滑性被覆材検体 (C-K；粗度不明) は、達成可能な最低のプランジャー力を同定するためのものであった、と理解されるべきである。 後続の市場情報により、達成可能な最低のプランジャー力は、一般説明で述べた理由 (時期尚早な開放、など) により、必ずしも最も望ましいものではないと判定された。 したがって、当該PECVD反応パラメータを変更して、実践的市場利用のためのプランジャー力を得た。
表8は、前述OMCTS被覆材およびそれらのFi値およびFm値の概要を示す。 初期の潤滑性被覆材検体 (C-K；粗度不明) は、達成可能な最低のプランジャー力を同定するためのものであった、と理解されるべきである。 後続の市場情報により、達成可能な最低のプランジャー力は、一般説明で述べた理由 (時期尚早な開放、など) により、必ずしも最も望ましいものではないと判定された。 したがって、当該PECVD反応パラメータを変更して、実践的市場利用のためのプランジャー力を得た。
検体Z: 潤滑性被覆材抽出物
総ケイ素抽出物を、ICP-MS分析法を利用して測定した。 当該シリンジを、静的および動的状況の両方において評価した。 以下は当該試験手順の説明である:
・シリンジを2mlの0.9%食塩液で充填する
・シリンジをスタンドに設置し、50℃で72時間保管する。
総ケイ素抽出物を、ICP-MS分析法を利用して測定した。 当該シリンジを、静的および動的状況の両方において評価した。 以下は当該試験手順の説明である:
・シリンジを2mlの0.9%食塩液で充填する
・シリンジをスタンドに設置し、50℃で72時間保管する。
・72時間後、食塩液の総ケイ素を試験する
・シリンジを通して食塩液を放出する前および後に総ケイ素を測定。
・シリンジを通して食塩液を放出する前および後に総ケイ素を測定。
シリコン油被覆ガラスシリンジ、潤滑性被覆およびSiO2被覆COCシリンジからの抽出物のケイ素レベルを、表7に示す。 当該ICP-MS総ケイ素測定値の精度は、+/- 3%である。
本発明を当該図面および以上の記述において詳細に図示および説明してきたが、かかる図解および説明は実例的または模範的と見なされるべきであり、制限的と見なされるべきではない。本発明は当該開示実施例に制限されるものではない。 当該開示実施例のその他の変型が、当該図面、当該開示、および当該添付請求項を研究することから、当技術分野の当事者によりおよび当該請求発明の実行により、理解されもたらされる可能性がある。 当該請求項において、用語「からなる」はその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は複数である場合がある。 相互に異なり依存する請求項に特定の測定値が列挙されるという単なる事実は、これらの測定の組合せを利益を得るために使用不可であることを示すものではない。 当該請求項の引用符号は、当該範囲を制限すると解釈されるべきではない。
20 容器処理システム
28 検査ステーション
38 容器ホルダー
50 容器ホルダー
70 コンベヤー
72 搬送機構 (オン)
74 搬送機構 (オフ)
80 容器
82 開口部
84 閉口端
86 壁
88 内面
90 遮断層
92 容器ポート
94 真空ダクト
96 真空ポート
98 真空源
100 (92の) オーリング
102 (96の) オーリング
104 ガス吸入ポート
106 (100の) オーリング
108 プローブ (対向電極)
110 (108の) ガス供給ポート
114 (50または112の) 筺体
116 カラー
118 (80の) 外面
144 PECVDガス源
152 圧力計
160 電極
162 電力供給装置
164 (160の) 側壁
166 (160の) 側壁
168 (160の) 閉口端
200 電極
250 シリンジバレル
252 シリンジ
254 (250の) 内面
256 (250の) 後端部
258 (252の) プランジャー
260 (250の) 前端部
262 蓋
264 (262の) 内面
268 容器
270 閉包部
272 表面向き内面
274 内腔
276 壁接触内面
278 (280の) 内面
280 容器壁
282 停止部材
284 遮蔽体
286 潤滑層
288 遮断層
290 被覆装置、例えば、250
292 (294の) 内面
294 (250の) 制限的開口部
296 処理容器
298 (250の) 外面
300 (250の) 内腔
302 (250の) 大開口部
304 処理容器内腔
306 処理容器開口部
308 内部電極
310 (308の) 内部経路
312 (308の) 近位端
314 (308の) 遠位端
316 (308の) 遠位開口部
318 プラズマ
332 第1取付部 (雄ルアーテーパー)
334 第2取付部 (雌ルアーテーパー)
336 (332の) ロックカラー
338 (332の) 第1当接部
340 (332の) 第2当接部
342 オーリング
344 ドッグ
408 内壁 (図36)
410 外壁 (図36)
482 容器ホルダー本体
484 (482の) 上部
486 (482の) 基底部
488 (484と486の間の) 結合部
490 オーリング
492 溝付き釘ポケット部
494 放射状に伸延する当接部表面
496 放射状に伸延する壁
498 ネジ
500 ネジ
502 容器ポート
504 第2オーリング
506 (490の) 内径
508 (482の) 真空ダクト
574 メイン真空弁
576 真空管路
578 手動バイパス弁
580 バイパス管路
582 通気弁
584 メイン反応性ガス弁
586 メイン反応物供給管路
588 有機ケイ素流体貯留層
590 有機ケイ素供給管路 (キャピラリー)
592 有機ケイ素遮断弁
594 酸素タンク
596 酸素供給管路
598 質量流量制御装置
600 酸素遮断弁
614 ヘッドスペース
616 圧力源
618 圧力管路
620 キャピラリー接続
5501 第1処理ステーション
5502 第2処理ステーション
5503 第3処理 ステーション
5504 第4処理 ステーション
5505 プロセッサ
5506 ユーザーインターフェース
5507 バス
5701 PECVD装置
5702 第1検出器
5703 第2検出器
5704 検出器
5705 検出器
5706 検出器
5707 検出器
7001 コンベヤー退出分岐部
7002 コンベヤー退出分岐部
7003 コンベヤー退出分岐部
7004 コンベヤー退出分岐部
7120 シリンジ
7122 針
7124 バレル
7126 蓋
7128 遮断性被覆材
7130 潤滑性被覆材
7132 外表面
7134 供給口
7136 (22の) 底部
7138 内部経路
7140 通常シリンダー状の内表面部分
7142 通常半球状の内表面部分
7144 前部経路
7146 内腔
7148 内腔
7150 周囲空気
7152 周縁部
7154 (7124の) 外部
7156 開口部
7158 流体
7160 (7124の) 素材
7164 (7122の) 非シリンダー状部分
7166 プランジャー
7168 底部
7170 カップリング
7172 柔軟性縁密閉部
7174 戻り止め
7176 突起部
7196 (7126の) 内部
7198 (7126の) 外部
71106 (バレルの) 後部経路
71110 (7120の) テーパー状鼻部
71112 (7126の) テーパー状のど部
71114 (シリンジの) カラー
71116 (71114の) 内部ねじ山
71118 (26の) ドッグ
71120 (26の) ドッグ
71122 シリンジバレル
71124 シリンジ蓋
71126 (柔軟な) シリンジ蓋
71128 蓋-シリンジ接合部
71130 シリンジバレル
71134 供給口
71136 (22の) 底部
71140 指把持部
71144 たわみ隔膜
28 検査ステーション
38 容器ホルダー
50 容器ホルダー
70 コンベヤー
72 搬送機構 (オン)
74 搬送機構 (オフ)
80 容器
82 開口部
84 閉口端
86 壁
88 内面
90 遮断層
92 容器ポート
94 真空ダクト
96 真空ポート
98 真空源
100 (92の) オーリング
102 (96の) オーリング
104 ガス吸入ポート
106 (100の) オーリング
108 プローブ (対向電極)
110 (108の) ガス供給ポート
114 (50または112の) 筺体
116 カラー
118 (80の) 外面
144 PECVDガス源
152 圧力計
160 電極
162 電力供給装置
164 (160の) 側壁
166 (160の) 側壁
168 (160の) 閉口端
200 電極
250 シリンジバレル
252 シリンジ
254 (250の) 内面
256 (250の) 後端部
258 (252の) プランジャー
260 (250の) 前端部
262 蓋
264 (262の) 内面
268 容器
270 閉包部
272 表面向き内面
274 内腔
276 壁接触内面
278 (280の) 内面
280 容器壁
282 停止部材
284 遮蔽体
286 潤滑層
288 遮断層
290 被覆装置、例えば、250
292 (294の) 内面
294 (250の) 制限的開口部
296 処理容器
298 (250の) 外面
300 (250の) 内腔
302 (250の) 大開口部
304 処理容器内腔
306 処理容器開口部
308 内部電極
310 (308の) 内部経路
312 (308の) 近位端
314 (308の) 遠位端
316 (308の) 遠位開口部
318 プラズマ
332 第1取付部 (雄ルアーテーパー)
334 第2取付部 (雌ルアーテーパー)
336 (332の) ロックカラー
338 (332の) 第1当接部
340 (332の) 第2当接部
342 オーリング
344 ドッグ
408 内壁 (図36)
410 外壁 (図36)
482 容器ホルダー本体
484 (482の) 上部
486 (482の) 基底部
488 (484と486の間の) 結合部
490 オーリング
492 溝付き釘ポケット部
494 放射状に伸延する当接部表面
496 放射状に伸延する壁
498 ネジ
500 ネジ
502 容器ポート
504 第2オーリング
506 (490の) 内径
508 (482の) 真空ダクト
574 メイン真空弁
576 真空管路
578 手動バイパス弁
580 バイパス管路
582 通気弁
584 メイン反応性ガス弁
586 メイン反応物供給管路
588 有機ケイ素流体貯留層
590 有機ケイ素供給管路 (キャピラリー)
592 有機ケイ素遮断弁
594 酸素タンク
596 酸素供給管路
598 質量流量制御装置
600 酸素遮断弁
614 ヘッドスペース
616 圧力源
618 圧力管路
620 キャピラリー接続
5501 第1処理ステーション
5502 第2処理ステーション
5503 第3処理 ステーション
5504 第4処理 ステーション
5505 プロセッサ
5506 ユーザーインターフェース
5507 バス
5701 PECVD装置
5702 第1検出器
5703 第2検出器
5704 検出器
5705 検出器
5706 検出器
5707 検出器
7001 コンベヤー退出分岐部
7002 コンベヤー退出分岐部
7003 コンベヤー退出分岐部
7004 コンベヤー退出分岐部
7120 シリンジ
7122 針
7124 バレル
7126 蓋
7128 遮断性被覆材
7130 潤滑性被覆材
7132 外表面
7134 供給口
7136 (22の) 底部
7138 内部経路
7140 通常シリンダー状の内表面部分
7142 通常半球状の内表面部分
7144 前部経路
7146 内腔
7148 内腔
7150 周囲空気
7152 周縁部
7154 (7124の) 外部
7156 開口部
7158 流体
7160 (7124の) 素材
7164 (7122の) 非シリンダー状部分
7166 プランジャー
7168 底部
7170 カップリング
7172 柔軟性縁密閉部
7174 戻り止め
7176 突起部
7196 (7126の) 内部
7198 (7126の) 外部
71106 (バレルの) 後部経路
71110 (7120の) テーパー状鼻部
71112 (7126の) テーパー状のど部
71114 (シリンジの) カラー
71116 (71114の) 内部ねじ山
71118 (26の) ドッグ
71120 (26の) ドッグ
71122 シリンジバレル
71124 シリンジ蓋
71126 (柔軟な) シリンジ蓋
71128 蓋-シリンジ接合部
71130 シリンジバレル
71134 供給口
71136 (22の) 底部
71140 指把持部
71144 たわみ隔膜
Claims (30)
- プラスチック基板上に潤滑性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる：
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガスからなるガスの提供、および (b) 当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上での被覆材の形成。 - 当該有機ケイ素前駆体が単環シロキサンであり、好ましくはOMCTSである、請求項1に記載の方法。
- O2が、好ましくは0:1〜0.5:1の対有機ケイ素前駆体体積/体積比率で存在し、随意に0.01:1〜0.5:1で存在する、請求項1〜2のいずれかに記載の方法。
- アルゴンが希ガスとして存在する、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 当該ガスが、1〜6の標準体積の有機ケイ素前駆体、1〜100の標準体積の希ガス、0.1〜2の標準体積のO2からなる、前記いずれかの請求項に記載の方法。
- アルゴンと酸素の両方が存在する、前記いずれかの請求項に記載の方法。
- 以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法：
(i) 当該プラズマが0.1〜25Wの電力、好ましくは2〜4Wの電力で生成される、および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満、好ましくは6W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは2.2 W/ml〜1 W/mlである。 - 生成される被覆材の粗度が、AFMにより判定されRMSとして表される場合0〜25nmであり、好ましくは7〜20nmであり、随意に10〜20nmであり、随意に13〜17nmであり、随意に13〜15nmである、前記いずれかの請求項に記載の方法。
- 潤滑性被覆材を塗布する前に基板上に遮断性被覆材を生成する追加手順からなり、当該追加手順が
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体とO2からなるガスの提供、および (b) 当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着（PECVD）による基板表面上でのSiOx遮断性被覆材の形成からなる、前記いずれかの請求項に記載の方法。 - 遮断性被覆材を生成する当該手順において、(i) 当該プラズマは好ましくは8〜500W、より好ましくは20〜400W、さらにより好ましくは35〜350W、さらに好ましくは44〜300W、最も好ましくは44〜70Wの電力を受ける電極で生成される、および/または (ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上である、好ましくは6W/ml〜150W/ml、より好ましくは7W/ml〜100W/ml、最も好ましくは7W/ml〜20W/mlである、および/または
(iii) O2がケイ素含有前駆体に対して1 : 1〜100 : 1の体積/体積比で、好ましくは5 : 1〜30 : 1の比率で、より好ましくは10 : 1〜20 : 1の比率で、さらに好ましくは15 : 1の比率で存在する、請求項9に記載の方法。 - 当該遮断性被覆材のための有機ケイ素前駆体が線状シロキサンである、好ましくはHMDSOである、請求項9または10に記載の方法。
- 当該基板がポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである、および好ましくは環状オレフィン共重合体、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである、さらに好ましくはCOCである、前記いずれかの請求項に記載の方法。
- 当該プラズマが高周波電極により生成され、その周波数が好ましくは10kHz〜300MH未満、より好ましくは1〜50MHz、さらにより好ましくは10〜15MHz、最も好ましくは13.56MHzである、前記いずれかの請求項に記載の方法。
- 生成される潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCy（wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3）を有する、 前記いずれかの請求項に記載の方法。
- 前記いずれかの請求項に記載の方法により得られる潤滑性被覆材で被覆され、前記いずれかの請求項で定義される特性を持つ、被覆基板。
- 当該潤滑性被覆材が、非被覆表面より低い摩擦抵抗、好ましくは非被覆表面と比較して少なくとも25%減、より好ましくは少なくとも45%減、さらに好ましくは少なくとも60%減の摩擦抵抗を持つ、請求項15に記載の被覆基板。
- さらに、以下を満たす少なくとも1層のSiOx膜（xは1.5〜2.9）からなる、請求項15または16に記載の被覆基板。
(i) 当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、
(ii) 当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、
(iii) 当該SiOx層と潤滑性被覆材がSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物である、またはその逆。 - 当該SiOx遮断性被覆材の層厚が20〜30nmであり、当該潤滑性被覆材の平均層厚が1〜5000nm、好ましくは30〜1000nm、より好ましくは80〜150nmである、 請求項17に記載の被覆基板。
- 当該潤滑性被覆材が以下を有する、請求項15〜18のいずれかに記載の被覆基板。
(i) 非被覆表面より低いぬれ張力、好ましくは20〜72ダイン/cm、より好ましくは30〜60ダイン/cm、より好ましくは30〜40ダイン/cm、好ましくは34ダイン/cmのぬれ張力、および/または (iv) 非被覆表面より高い疎水性。 - 内部表面の少なくとも一部が被覆されている、すなわち請求項15〜19のいずれかに記載の被覆基板を形成する容器であり、好ましくは以下の品目である：
(i) 検体採取管、特に採血管、または
(ii) バイアル、または
(iii) シリンジまたはシリンジ部品、特定のシリンジバレルまたはシリンジプランジャー、またはシリンジピストン、または
(iv) 導管、または
(v) キュベット。 - 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、請求項20に記載の被覆容器。
- 内面を有するバレル、当該バレル内面と係合する外面を有するピストンまたはプランジャーからなるシリンジであり、少なくとも1つの前述内面および外面が請求項15〜19に記載の被覆基板である、請求項20または21に記載の被覆容器。
- 当該プランジャーの開始力Fiが2.5〜5ポンドであり、当該プランジャーの維持力Fmが2.5〜8ポンドである、請求項22のシリンジ。
- 当該潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCy（wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜3）を有する、請求項22または23のシリンジ。
- 当該潤滑性被覆材の平均層厚が10〜1000nmである、請求項22〜24のいずれかのシリンジ。
- 当該プラスチック基板がCOCであり、手順 (a) のガスがオクタメチルシクロテトラシロキサン、O2、アルゴンからなり、当該シリンジ内腔量に関してプラズマを生成する電力が6W/ml〜0.1W/mlである、請求項1〜14のいずれかに記載の方法で生成されたシリンジ部品の全部または1つ以上である、請求項22〜25のいずれかのシリンジ。
- 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、請求項22〜26のいずれかに記載のシリンジ。
- 請求項1〜14のいずれかの方法を実行するよう設定される、処理ステーション装備 (5501、5502、5503、5504、5505、5506、70、72、74) からなる、容器 (80) を被覆するための容器処理システム (20)。
- 請求項1〜14のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システム (20) のプロセッサにより実行される、容器 (80) 被覆のためのコンピュータープログラムが保管されている、コンピューターに読み込み可能な媒体。
- 請求項1〜14のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システム (20) のプロセッサにより実行される、容器 (80) 被覆のためのプログラム要素。
Applications Claiming Priority (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP10162761.0 | 2010-05-12 | ||
| PCT/US2010/034586 WO2010132591A2 (en) | 2009-05-13 | 2010-05-12 | Pecvd coating using an organosilicon precursor |
| US12/779,007 | 2010-05-12 | ||
| EP10162761.0A EP2251455B1 (en) | 2009-05-13 | 2010-05-12 | PECVD coating using an organosilicon precursor |
| US12/779,007 US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2010-05-12 | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
| USPCT/US2010/034586 | 2010-05-12 | ||
| US35943410P | 2010-06-29 | 2010-06-29 | |
| US61/359,434 | 2010-06-29 | ||
| US41333410P | 2010-11-12 | 2010-11-12 | |
| US61/413,334 | 2010-11-12 | ||
| US201161452526P | 2011-03-14 | 2011-03-14 | |
| US61/452,526 | 2011-03-14 | ||
| PCT/US2011/036097 WO2011143329A2 (en) | 2010-05-12 | 2011-05-11 | Lubricity vessel coating, coating process and apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013528117A true JP2013528117A (ja) | 2013-07-08 |
| JP6196152B2 JP6196152B2 (ja) | 2017-09-13 |
Family
ID=44924900
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013510276A Active JP6196152B2 (ja) | 2010-05-12 | 2011-05-11 | 潤滑性容器被覆材、被覆処理および装置 |
| JP2013510325A Pending JP2013526710A (ja) | 2010-05-12 | 2011-05-12 | 容器ガス放出検査方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013510325A Pending JP2013526710A (ja) | 2010-05-12 | 2011-05-12 | 容器ガス放出検査方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7985188B2 (ja) |
| EP (1) | EP2579996B1 (ja) |
| JP (2) | JP6196152B2 (ja) |
| KR (2) | KR102028690B1 (ja) |
| CN (2) | CN102917805B (ja) |
| AU (1) | AU2011252925A1 (ja) |
| CA (2) | CA2799213C (ja) |
| NZ (1) | NZ603471A (ja) |
| RU (1) | RU2561759C2 (ja) |
| SG (1) | SG185520A1 (ja) |
| WO (1) | WO2011143329A2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015524882A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-08-27 | カーディアック ペースメイカーズ， インコーポレイテッド | 医療用リードのための向上した低摩擦コーティングおよび製造方法 |
| JP2019529104A (ja) * | 2016-08-22 | 2019-10-17 | インナノ アクティーゼルスカブ | 面に対して処理を施すための方法およびシステム |
| JP2019196806A (ja) * | 2018-05-10 | 2019-11-14 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | 流体のシール構造、シール部品、シール部品を備えた装置 |
Families Citing this family (195)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101970964B (zh) * | 2008-03-19 | 2012-05-23 | 株式会社盛本医药 | 冷冻干燥方法及冷冻干燥装置 |
| US8197476B2 (en) * | 2008-10-21 | 2012-06-12 | Hermes Innovations Llc | Tissue ablation systems |
| US8540708B2 (en) * | 2008-10-21 | 2013-09-24 | Hermes Innovations Llc | Endometrial ablation method |
| US8372068B2 (en) * | 2008-10-21 | 2013-02-12 | Hermes Innovations, LLC | Tissue ablation systems |
| US8500732B2 (en) * | 2008-10-21 | 2013-08-06 | Hermes Innovations Llc | Endometrial ablation devices and systems |
| US8821486B2 (en) | 2009-11-13 | 2014-09-02 | Hermes Innovations, LLC | Tissue ablation systems and methods |
| US9662163B2 (en) | 2008-10-21 | 2017-05-30 | Hermes Innovations Llc | Endometrial ablation devices and systems |
| US8191183B2 (en) * | 2008-12-17 | 2012-06-05 | G-G Distribution and Development, Co., Inc. | Suction fitting for bathing installations |
| KR20120042748A (ko) | 2009-05-13 | 2012-05-03 | 씨브이 홀딩스 엘엘씨 | 코팅된 표면 검사를 위한 가스제거 방법 |
| US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
| US8343276B2 (en) * | 2009-06-18 | 2013-01-01 | Haibiao Wang | High-temperature ionic state compound crystallization technology |
| US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
| DE102009041132B4 (de) | 2009-09-14 | 2014-08-14 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung einer Gleitschicht und pharmazeutisches Packmittel mit Gleitschicht |
| US20110111132A1 (en) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | Electric Power Research Institute, Inc. | System and method for depositing coatings on inner surface of tubular structure |
| US11896282B2 (en) | 2009-11-13 | 2024-02-13 | Hermes Innovations Llc | Tissue ablation systems and method |
| EP2569611B1 (en) * | 2010-05-12 | 2018-10-03 | SiO2 Medical Products, Inc. | Vessel outgassing inspection methods |
| US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
| JP5900825B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2016-04-06 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 一体化された針を備えるシリンジ |
| JP5837060B2 (ja) | 2010-07-16 | 2015-12-24 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 射出成形工程およびそれを使用して製造される製品 |
| US9510897B2 (en) | 2010-11-05 | 2016-12-06 | Hermes Innovations Llc | RF-electrode surface and method of fabrication |
| US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
| DE102011009057B4 (de) * | 2011-01-20 | 2015-12-10 | Schott Ag | Plasma-Behandlungsvorrichtung zur Herstellung von Beschichtungen und Verfahren zur innenseitigen Plasmabehandlung von Behältern |
| CN102141504B (zh) * | 2011-01-27 | 2013-06-12 | 中国商用飞机有限责任公司 | 在铺层厚度方向上测试气体渗透率的测试装置及其方法 |
| CN102183444B (zh) * | 2011-01-27 | 2013-09-25 | 中国商用飞机有限责任公司 | 在铺层面内方向上测试气体渗透率的测试装置及其方法 |
| CN103459664B (zh) * | 2011-03-25 | 2015-10-07 | Lg电子株式会社 | 等离子体增强式化学气相沉积设备及其控制方法 |
| US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
| WO2012143840A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Measurement device and method for vapour deposition applications |
| US8561483B1 (en) * | 2011-04-26 | 2013-10-22 | Sandia Corporation | Preconcentrator with high volume chiller for high vapor pressure particle detection |
| US20120312233A1 (en) * | 2011-06-10 | 2012-12-13 | Ge Yi | Magnetically Enhanced Thin Film Coating Method and Apparatus |
| US9378445B2 (en) * | 2011-06-17 | 2016-06-28 | I-Property Holding Corp. | 3D laser coding in glass |
| ES2467145T3 (es) * | 2011-07-18 | 2014-06-12 | Essilor International (Compagnie Générale d'Optique) | Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad y procedimiento para utilizar la máquina |
| US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
| JP6095678B2 (ja) | 2011-11-11 | 2017-03-15 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 薬剤パッケージ用の不動態化、ｐＨ保護又は滑性皮膜、被覆プロセス及び装置 |
| CA2856196C (en) | 2011-12-06 | 2020-09-01 | Masco Corporation Of Indiana | Ozone distribution in a faucet |
| KR102047016B1 (ko) | 2012-02-28 | 2019-11-20 | 코닝 인코포레이티드 | 저-마찰 코팅을 갖는 유리 제품 |
| US11497681B2 (en) | 2012-02-28 | 2022-11-15 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
| US10737973B2 (en) | 2012-02-28 | 2020-08-11 | Corning Incorporated | Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction |
| DE102012204689A1 (de) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | Krones Ag | Absaugventil in Plasmabeschichtungsvorrichtung |
| EP2846755A1 (en) | 2012-05-09 | 2015-03-18 | SiO2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
| JP5817646B2 (ja) * | 2012-05-29 | 2015-11-18 | 株式会社島津製作所 | サンプルホルダ |
| US10273048B2 (en) | 2012-06-07 | 2019-04-30 | Corning Incorporated | Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings |
| US9034442B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance |
| US20150297800A1 (en) * | 2012-07-03 | 2015-10-22 | Sio2 Medical Products, Inc. | SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS |
| WO2014008138A2 (en) | 2012-07-03 | 2014-01-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS |
| FR2994851B1 (fr) * | 2012-09-04 | 2015-08-21 | Rexam Healthcare La Verpillier | Dispositif d'injection de liquide pharmaceutique configure pour etre pre-rempli |
| WO2014052792A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Halogenated or parylene polymer coating |
| WO2014059012A1 (en) * | 2012-10-12 | 2014-04-17 | Sio2 Medical Products, Inc. | Process for the internal coating of hollow bodies |
| US9428287B2 (en) | 2012-10-31 | 2016-08-30 | BIOMéRIEUX, INC. | Methods of fabricating test sample containers by applying barrier coatings after sealed container sterilization |
| US9358738B2 (en) | 2012-10-31 | 2016-06-07 | Biomerieux, Inc. | Aseptic blow, fill and seal methods of fabricating test sample containers and associated systems and containers |
| CA2890066C (en) | 2012-11-01 | 2021-11-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
| EP2920567B1 (en) | 2012-11-16 | 2020-08-19 | SiO2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
| AU2013347996B2 (en) | 2012-11-21 | 2016-08-11 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Medical electrodes with layered coatings |
| US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
| WO2014085346A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Hollow body with inside coating |
| US10117806B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass containers resistant to delamination and damage |
| KR101992896B1 (ko) * | 2012-12-13 | 2019-06-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 디스펜서와 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법 |
| US11143030B2 (en) | 2012-12-21 | 2021-10-12 | Raytheon Technologies Corporation | Coating process for gas turbine engine component with cooling holes |
| WO2014120152A1 (en) | 2013-01-30 | 2014-08-07 | United Technologies Corporation | Coating process for gas turbine engine component with cooling holes |
| TWI470098B (zh) * | 2013-02-01 | 2015-01-21 | Adpv Technology Ltd | Gas release device for coating process |
| US9523110B2 (en) | 2013-02-15 | 2016-12-20 | Biomerieux, Inc. | Culture containers with internal top coating over gas barrier coating and associated methods |
| EP2961858B1 (en) * | 2013-03-01 | 2022-09-07 | Si02 Medical Products, Inc. | Coated syringe. |
| KR101483846B1 (ko) * | 2013-03-07 | 2015-01-19 | 성균관대학교산학협력단 | 플라즈마를 이용하여 내부 표면이 개질된 튜브 및 이의 제조방법 |
| US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
| CA2904611C (en) * | 2013-03-11 | 2021-11-23 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coated packaging |
| US8959793B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-02-24 | International Thermal Systems, Inc. | Pin oven with a continuous U-shaped duct |
| EP2971227B1 (en) | 2013-03-15 | 2017-11-15 | Si02 Medical Products, Inc. | Coating method. |
| US9901394B2 (en) | 2013-04-04 | 2018-02-27 | Hermes Innovations Llc | Medical ablation system and method of making |
| WO2014165727A1 (en) * | 2013-04-04 | 2014-10-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antimicrobial treatment of medical device surfaces |
| EP2792379B1 (de) * | 2013-04-15 | 2016-04-13 | Genigo GmbH | Hydrophil innenbeschichtetes medizintechnisches Gerät |
| JP5855598B2 (ja) * | 2013-04-26 | 2016-02-09 | 富士フイルム株式会社 | プレフィルド注射器用ガスケット |
| WO2014190225A1 (en) | 2013-05-24 | 2014-11-27 | Sio2 Medical Products, Inc | Syringe assembly and barrel for use in such an assembly |
| CN103272737B (zh) * | 2013-06-17 | 2015-11-18 | 上海纳铁福传动系统有限公司 | 花键表面均匀定量涂油脂方法及涂油脂装置 |
| US10369600B2 (en) * | 2013-07-03 | 2019-08-06 | Wyatt Technology Corporation | Method and apparatus to control sample carryover in analytical instruments |
| US20150024152A1 (en) | 2013-07-19 | 2015-01-22 | Agilent Technologies, Inc. | Metal components with inert vapor phase coating on internal surfaces |
| US10767259B2 (en) | 2013-07-19 | 2020-09-08 | Agilent Technologies, Inc. | Components with an atomic layer deposition coating and methods of producing the same |
| WO2015038850A2 (en) * | 2013-09-12 | 2015-03-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Rapid, non-destructive, selective infrared spectrometry analysis of organic coatings on molded articles |
| EP3055007B1 (en) | 2013-10-07 | 2020-12-02 | SiO2 Medical Products, Inc. | Convertible plungers, film coated plungers and related syringe assemblies |
| JP2016533210A (ja) | 2013-10-15 | 2016-10-27 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 射出成形壁構造体のための方法及び装置 |
| US9649125B2 (en) | 2013-10-15 | 2017-05-16 | Hermes Innovations Llc | Laparoscopic device |
| CN104588288B (zh) * | 2013-10-31 | 2017-05-17 | 北新集团建材股份有限公司 | 一种金邦板表面处理工艺 |
| KR101475831B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2014-12-23 | 한국해양대학교 산학협력단 | 저류층 암석 코어 시료 공극률 측정장치 및 측정방법 |
| GB2527169B (en) | 2014-02-28 | 2018-10-24 | Waters Technologies Corp | Dispensing needle for a fraction collector |
| KR102254473B1 (ko) * | 2014-03-03 | 2021-05-25 | 피코순 오와이 | Ald 코팅에 의한 가스 컨테이너 내부의 보호 방법 |
| RU2016136052A (ru) * | 2014-03-03 | 2018-04-03 | Пикосан Ой | Защита внутренней части полого тела покрытием, полученным способом атомно-слоевого осаждения |
| US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
| JP2015195813A (ja) | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 住友ゴム工業株式会社 | プレフィルドシリンジ用ガスケットおよびその製造方法 |
| DE102014105219A1 (de) * | 2014-04-11 | 2015-10-15 | Plasma Electronic Gmbh | Analysebehältnis sowie Analysesystem |
| DK2947265T3 (en) * | 2014-05-20 | 2024-06-17 | Schlumberger Technology Bv | Optical and electrical sensing of a multiphase fluid |
| JP6360770B2 (ja) * | 2014-06-02 | 2018-07-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| US9382623B2 (en) * | 2014-06-13 | 2016-07-05 | Nordson Corporation | Apparatus and method for intraluminal polymer deposition |
| US10279531B2 (en) * | 2014-07-21 | 2019-05-07 | Gea Procomac S.P.A. | Moulding device for moulding a container starting with a parison in plastic material and moulding machine comprising this device |
| WO2016037083A1 (en) | 2014-09-05 | 2016-03-10 | Corning Incorporated | Glass articles and methods for improving the reliability of glass articles |
| EP3785751B1 (en) * | 2014-09-10 | 2022-06-29 | Si02 Medical Products, Inc. | Three-position plungers and related syringe assemblies |
| US9725802B2 (en) * | 2014-11-11 | 2017-08-08 | Graham Packaging Company, L.P. | Method for making pet containers with enhanced silicon dioxide barrier coating |
| WO2016085867A1 (en) | 2014-11-26 | 2016-06-02 | Corning Incorporated | Methods for producing strengthened and durable glass containers |
| US10490429B2 (en) * | 2014-11-26 | 2019-11-26 | Applied Materials, Inc. | Substrate carrier using a proportional thermal fluid delivery system |
| US10492856B2 (en) | 2015-01-26 | 2019-12-03 | Hermes Innovations Llc | Surgical fluid management system and method of use |
| CA2977801C (en) | 2015-02-26 | 2024-03-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cycloolefin polymer container with a scratch resistant and anti-static coating |
| CA2979743A1 (en) | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Sio2 Medical Products, Inc. | Methods and apparatuses for injection molding walled structures |
| JP6814746B2 (ja) | 2015-04-29 | 2021-01-20 | シーラス テクノロジーズ リミテッド | 医療用アブレーションデバイスおよび使用方法 |
| CN107743441B (zh) | 2015-04-30 | 2021-07-06 | Sio2医药产品公司 | 致使稀释生物分子对热塑性制品的粘附降低的使用非聚合化合物的等离子体处理 |
| WO2016182648A1 (en) * | 2015-05-08 | 2016-11-17 | Applied Materials, Inc. | Method for controlling a processing system |
| JP6050860B1 (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-21 | 株式会社日本製鋼所 | プラズマ原子層成長装置 |
| JP6054470B2 (ja) | 2015-05-26 | 2016-12-27 | 株式会社日本製鋼所 | 原子層成長装置 |
| JP6054471B2 (ja) | 2015-05-26 | 2016-12-27 | 株式会社日本製鋼所 | 原子層成長装置および原子層成長装置排気部 |
| JP6968050B2 (ja) | 2015-07-14 | 2021-11-17 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 切り替え可能なプランジャー、および医療用筒内でのその組み立て方法 |
| JP6907188B2 (ja) | 2015-08-13 | 2021-07-21 | ダイアックス コーポレーション | 接触系活性化の評価のためのプロテアーゼ阻害剤を含む真空採血管 |
| CA2995225C (en) * | 2015-08-18 | 2023-08-29 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
| KR102417178B1 (ko) * | 2015-09-03 | 2022-07-05 | 삼성전자주식회사 | 마이크로파 탐침, 그 탐침을 구비한 플라즈마 모니터링 시스템, 및 그 시스템을 이용한 반도체 소자 제조방법 |
| US11896204B2 (en) | 2015-09-07 | 2024-02-13 | Plasmatica Ltd. | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| US11246480B2 (en) | 2015-09-07 | 2022-02-15 | Plasmatica Ltd. | Preventing fog on a medical device viewport |
| US11896203B2 (en) | 2015-09-07 | 2024-02-13 | Plasmatica Ltd. | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| US20180312955A1 (en) * | 2015-09-30 | 2018-11-01 | Thyssenkrupp Steel Europe Ag | Flat Steel Product Having a Zn-Galvannealed Protective Coating, and Method for the Production Thereof |
| EP3150564B1 (en) | 2015-09-30 | 2018-12-05 | Corning Incorporated | Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings |
| RU2729081C2 (ru) | 2015-10-30 | 2020-08-04 | Корнинг Инкорпорейтед | Изделия из стекла со смешанными полимерными и металлоксидными покрытиями |
| US11248100B2 (en) | 2015-11-16 | 2022-02-15 | Sio2 Medical Products, Inc | Polymeric surface having reduced biomolecule adhesion to thermoplastic articles of such substrate |
| CN108883057A (zh) * | 2015-11-18 | 2018-11-23 | Sio2医药产品公司 | 用于眼科配制品的药物包装 |
| CA3005117C (en) | 2015-11-18 | 2023-01-24 | Formycon Ag | Pre-filled pharmaceutical package comprising a liquid formulation of a vegf-antagonist |
| WO2017086366A1 (ja) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | テルモ株式会社 | シリンジ用バレル、プレフィルドシリンジ及びそれらの製造方法 |
| CN108463437B (zh) | 2015-12-21 | 2022-07-08 | 德尔塔阀门公司 | 包括消毒装置的流体输送系统 |
| US10052149B2 (en) | 2016-01-20 | 2018-08-21 | RELIGN Corporation | Arthroscopic devices and methods |
| JP6643495B2 (ja) * | 2016-01-25 | 2020-02-12 | ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 光学的パラメータ検出システム |
| KR102092213B1 (ko) * | 2016-03-23 | 2020-03-23 | 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디. | 임피던스 매칭 시스템, 임피던스 매칭 방법 및 반도체 공정장비 |
| WO2017177120A1 (en) | 2016-04-08 | 2017-10-12 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method for applying a pecvd lubricity layer with a moving gas inlet |
| EP3445258B1 (en) | 2016-04-22 | 2024-06-19 | Relign Corporation | Arthroscopic devices |
| WO2017209800A1 (en) | 2016-05-31 | 2017-12-07 | Sio2 Medical Products, Inc. | Convertible plungers and methods for assembling the same in a medical barrel |
| WO2018005382A1 (en) | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Aaron Germain | Arthroscopic devices and methods |
| DE102016114292A1 (de) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | Khs Corpoplast Gmbh | Verfahren zum Beschichten von Kunststoffbehältern |
| USD977142S1 (en) | 2016-08-18 | 2023-01-31 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vial |
| EP3491376B1 (en) * | 2016-09-02 | 2024-03-06 | Corning Incorporated | Methods and apparatuses for detecting volatile organic compounds in glass packaging processes |
| DE102016124209A1 (de) * | 2016-12-13 | 2018-06-14 | Jokey Plastik Wipperfürth GmbH | Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren für Kunststoffbehälter |
| USD870278S1 (en) | 2017-01-13 | 2019-12-17 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe plunger assembly |
| US10208999B2 (en) * | 2017-03-02 | 2019-02-19 | Haier Us Appliance Solutions, Inc. | Refrigeration heating assembly and method of operation |
| CA3061891A1 (en) | 2017-04-12 | 2018-10-18 | Urigen Pharmaceuticals, Inc. | Article of manufacture comprising local anesthetic, buffer, and glycosaminoglycan in syringe with improved stability |
| EP3630043A1 (en) | 2017-05-24 | 2020-04-08 | Formycon AG | Sterilizable pre-filled pharmaceutical packages comprising a liquid formulation of a vegf-antagonist |
| US20200171244A1 (en) * | 2017-05-24 | 2020-06-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | Sterilizable pharmaceutical package for ophthalmic formulations |
| CN107385411B (zh) * | 2017-06-24 | 2019-03-29 | 淮阴医疗器械有限公司 | 手术缝合针表面的等离子体前处理方法及处理装置 |
| US11709155B2 (en) * | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
| JP6703648B2 (ja) * | 2017-10-18 | 2020-06-03 | イーライ リリー アンド カンパニー | 注射器におけるシリコーンドレナージの促進試験方法 |
| WO2019079727A1 (en) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | Sio2 Medical Products, Inc. | CELL CULTURE POLYMER SURFACE HAVING HIGH CELL ADHESION |
| BE1025937B1 (fr) * | 2018-01-22 | 2019-08-21 | Sybermat | Element de prehension d'un objet |
| FR3076999B1 (fr) * | 2018-01-22 | 2023-07-28 | Sybermat | Element de prehension d'un objet. |
| AU2019231552B2 (en) * | 2018-03-06 | 2022-03-31 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Medical delivery devices having low lubricant hydrophobic syringe barrels |
| US10668511B2 (en) * | 2018-03-20 | 2020-06-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method of cleaning process chamber |
| CN108317396B (zh) * | 2018-03-26 | 2023-08-15 | 北京石油化工学院 | 水下原油管道蜡堵电加热解除模拟装置 |
| CN112639162A (zh) * | 2018-03-27 | 2021-04-09 | Sio2医药产品公司 | 涂覆有水阻挡涂层的器皿、容器和表面 |
| US20210128840A1 (en) | 2018-04-09 | 2021-05-06 | Sio2 Medical Products, Inc. | Stretchable plunger assemblies |
| GB2573570A (en) * | 2018-05-11 | 2019-11-13 | Univ Southampton | Hollow cathode apparatus |
| DE102018116560A1 (de) * | 2018-07-09 | 2020-01-09 | Gerresheimer Regensburg Gmbh | Verfahren zur beschichtung eines glasspritzenkörpers für eine hypodermische fertigglasspritze, hypodermische fertigglasspritze sowie plasmabehandlungsvorrichtung für glasspritzenkörper hypodermischer fertigglasspritzen |
| CN113507950B (zh) * | 2018-10-29 | 2024-03-12 | Sio2医药产品公司 | 具有改善的蛋白质药物稳定性和低免疫反应的主容器 |
| CN113853290B (zh) | 2018-11-13 | 2024-07-12 | Sio2医药产品公司 | 基本上平底的聚合物小瓶及其注射拉伸吹塑成型制造方法 |
| EP3890808A1 (en) | 2018-12-07 | 2021-10-13 | Robert S. Abrams | Improved syringe and gasket systems |
| US20220016622A1 (en) | 2018-12-17 | 2022-01-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Container and cap assembly for cryogenic storage |
| DE102018133338A1 (de) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Schott Ag | Beleuchtungssystem mit einem Lichtleiter mit im Wesentlichen radial abstrahlendem Diffusor-Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
| EP3908243A1 (en) | 2019-01-07 | 2021-11-17 | SiO2 Medical Products, Inc. | Polymer process bags and methods for manufacturing the same |
| TWI724362B (zh) * | 2019-01-11 | 2021-04-11 | 研能科技股份有限公司 | 致動透氣材料結構 |
| KR102028999B1 (ko) * | 2019-01-16 | 2019-10-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 디스펜서와 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법 |
| WO2020165894A1 (en) * | 2019-02-11 | 2020-08-20 | Nanoscent Ltd. | System and method of detecting surface related volatile compounds event |
| JP2022526993A (ja) | 2019-04-05 | 2022-05-27 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | Ｐｅｃｖｄコーティング又は層でコーティングされたコーヒーポッド等の生分解性及び堆肥化可能容器 |
| CN109913856A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-06-21 | 佛山市思博睿科技有限公司 | 一种微通道内等离子增强化学气相沉积疏水膜的方法 |
| RU2702663C1 (ru) * | 2019-06-20 | 2019-10-09 | Акционерное общество "Государственный Ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт химии и технологии элементоорганических соединений" (АО "ГНИИХТЭОС") | Кремнийорганическая смазка для глубокого вакуума |
| US11554214B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-01-17 | Meditrina, Inc. | Fluid management system |
| CN110455655B (zh) * | 2019-08-23 | 2024-05-28 | 水利部杭州机械设计研究所 | 一种热喷涂涂层高通量检测装置及测试方法 |
| GB2602913B (en) * | 2019-09-06 | 2024-03-27 | Alltrista Plastics Llc | Rapid measurement systems and methods for plastic articles |
| EP4041932A2 (en) | 2019-10-11 | 2022-08-17 | SiO2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube and uses thereof |
| DE202019004415U1 (de) * | 2019-10-28 | 2019-11-06 | K.W.H. Ciclosport Vertriebs GmbH | Sensorvorrichtung |
| USD948743S1 (en) | 2019-11-06 | 2022-04-12 | Sio2 Medical Products, Inc. | Collection tube assembly |
| USD962466S1 (en) | 2019-11-06 | 2022-08-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Collection tube assembly |
| CN111077346A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 武汉市陆刻科技有限公司 | 基于微悬臂梁的土壤湿度监测方法、装置、设备及介质 |
| JP2023532849A (ja) | 2020-06-16 | 2023-08-01 | エスアイオー２ メディカル プロダクツ，インコーポレイテッド | 例えば製品の最初の使用後などの汚染を防止するための抗菌性コーティングを備えたパッケージ |
| WO2021262764A1 (en) | 2020-06-22 | 2021-12-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Atomic layer deposition coated pharmaceutical packaging and improved syringes and vials, e.g. for lyophilized/cold-chain drugs/vaccines |
| WO2022211865A1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | Sio2 Medical Products, Inc. | Atomic layer deposition coated pharmaceutical packaging and improved syringes and vials, e.g. for lyophilized/cold-chain drugs/vaccines |
| WO2022026586A1 (en) | 2020-07-28 | 2022-02-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and package for reducing the degradation of a drug and/or excipient, e.g. polysorbate stabilizer, in a pharmaceutical product |
| WO2022026798A1 (en) | 2020-07-30 | 2022-02-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Common contact surfaces for use in the manufacture, packaging, delivery, and assessment of biopharmaceutical products |
| EP4197021A2 (en) | 2020-08-12 | 2023-06-21 | SiO2 Medical Products, Inc. | Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system |
| WO2022104053A1 (en) * | 2020-11-13 | 2022-05-19 | Kester Julian Batchelor | Ultrahydrophobic coating and method for lumens |
| CN117241773A (zh) | 2020-11-20 | 2023-12-15 | Sio2医疗产品有限公司 | 具有标准外部尺寸和减小的内部体积的聚合物药瓶 |
| CA3202686A1 (en) | 2020-12-18 | 2022-06-23 | Kenneth Wade KELLY | Methods for inspecting pharmaceutical containers for particles and defects |
| EP4074611A1 (de) * | 2021-04-15 | 2022-10-19 | KOCH Pac-Systeme GmbH | Kontaktlinsenverpackung sowie verfahren und verpackungsmaschine zur herstellung derselben |
| CA3216142A1 (en) * | 2021-04-22 | 2022-10-27 | Shuki Wolfson | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| EP4340908A1 (en) | 2021-05-21 | 2024-03-27 | SiO2 Medical Products, Inc. | Plungers, plunger assemblies, syringes, and methods of making and using same |
| US20220375723A1 (en) * | 2021-05-24 | 2022-11-24 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for medical packaging |
| US20240216613A1 (en) * | 2021-07-29 | 2024-07-04 | Merz Pharma Gmbh& Co. Kgaa | Syringe barrel with varying silicone layer thicknesses, syringe comprising same and uses thereof |
| CN113862641B (zh) * | 2021-08-16 | 2023-09-12 | 江汉大学 | 一种原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用 |
| US11756925B2 (en) | 2021-10-22 | 2023-09-12 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for vacuum processing a substrate |
| KR20230077436A (ko) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 재단법인 한국전자기계융합기술원 | 대기중으로 빔을 인출하는 빔 가공 장치 및 그 제어 방법 |
| US12020992B2 (en) | 2022-01-26 | 2024-06-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for processing a substrate |
| CN114184339B (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-13 | 常州迪瑞尔医用新材料有限公司 | 一种生物储运系统的密封性能检测设备 |
| CN114577697B (zh) * | 2022-02-21 | 2024-08-27 | 中国食品药品检定研究院 | 三法联合标定水蒸气透过量标准膜及其制备方法 |
| CN114539589B (zh) * | 2022-02-25 | 2023-04-14 | 南京航空航天大学 | 一种环烯烃聚合物注射器表面纳米抗菌涂层及其制备方法 |
| WO2023168118A1 (en) | 2022-03-04 | 2023-09-07 | Sio2 Medical Products, Inc. | Improved syringe and gasket systems |
| WO2023250385A1 (en) | 2022-06-21 | 2023-12-28 | Sio2 Medical Products, Inc. | Methods and systems for coating, cleaning, and inspecting pharmaceutical containers for particles and defects |
| CN114965225B (zh) * | 2022-07-04 | 2023-07-07 | 湖北省建筑材料节能检测中心有限公司 | 一种建筑工程管理用建筑外墙渗水测量系统 |
| WO2024077046A2 (en) * | 2022-10-04 | 2024-04-11 | Becton, Dickinson And Company | Gas backfill of vacutainer tubes and packaging to improve blood gas and shelf life performance |
| CN117826738B (zh) * | 2024-03-04 | 2024-05-21 | 山东鲁玻玻璃科技有限公司 | 一种应用于玻璃原料配比自动控制系统及方法 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01270872A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-10-30 | Becton Dickinson & Co | 潤滑化された表面の作製法 |
| JPH0578844A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 固体潤滑性を有する非晶質薄膜およびその製造方法 |
| JPH07304127A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリヤー性包装材料およびその製造方法 |
| JPH10500609A (ja) * | 1994-03-03 | 1998-01-20 | モンサント カンパニー | 柔軟な基体のための高い耐摩耗性及び柔軟なコーティング |
| JPH10130844A (ja) * | 1996-09-06 | 1998-05-19 | Osamu Takai | 撥水性酸化シリコン皮膜、および撥水性酸化シリコン皮膜の製造方法、並びに硬質撥水性酸化シリコン皮膜 |
| JP2000143850A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-26 | Sam Yang Co Ltd | 濡れ性の優れた表面を有する弗素系樹脂 |
| JP2004538176A (ja) * | 2001-08-07 | 2004-12-24 | カール−ツアイス−シュティフツンク | 基体材料およびバリヤー層材料からなる複合材料 |
| JP2005200044A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器およびその製造法 |
| JP2009523105A (ja) * | 2006-01-11 | 2009-06-18 | ショット アクティエンゲゼルシャフト | 多機能表面を有する医薬品包装および医薬品包装に多機能表面を調製する方法 |
| JP2010512260A (ja) * | 2006-12-12 | 2010-04-22 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 製品残留物の排出し易さ（ｅａｓｅｏｆｄｉｓｃｈａｒｇｅｐｒｏｄｕｃｔｒｅｓｉｄｕｅ）が改善された容器、及びその製造方法 |
Family Cites Families (484)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1147836B (de) | 1959-09-26 | 1963-04-25 | Nadler Werke | Verfahren zum Sterilisieren von breifoermigen vegetabilischen Nahrungsmitteln |
| DE1147838B (de) | 1960-10-12 | 1963-04-25 | Andre Michels | Antrieb der Ecken-Verriegelungsorgane eines Stempels in einer Vorrichtung zum Aufrichten eines Zuschnitts aus Papier, Pappe od. dgl. zu einer Schachtel |
| US3442686A (en) * | 1964-03-13 | 1969-05-06 | Du Pont | Low permeability transparent packaging films |
| US3590634A (en) * | 1969-05-05 | 1971-07-06 | Stanford Research Inst | Instrument for determining permeation rates through a membrane |
| US3957653A (en) * | 1975-04-03 | 1976-05-18 | Becton, Dickinson And Company | Apparatus for collection, separation and isolation of blood |
| US4187952A (en) * | 1976-03-04 | 1980-02-12 | Becton, Dickinson And Company | Cannula pierceable, self-sealing closure |
| US4111326A (en) * | 1976-03-04 | 1978-09-05 | Becton, Dickinson And Company | Closure for air evacuated container |
| US4162528A (en) * | 1976-05-18 | 1979-07-24 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | X-ray-fluorescence measurement of thin film thicknesses |
| US4168330A (en) * | 1977-10-13 | 1979-09-18 | Rca Corporation | Method of depositing a silicon oxide layer |
| JPS5627330A (en) | 1979-08-15 | 1981-03-17 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | Heat treatment for internal wall surface of saturated polyester resin biaxially stretched bottle |
| US4293078A (en) * | 1979-11-01 | 1981-10-06 | Becton, Dickinson And Company | Vacuum indicator closure for a blood collection tube |
| US4486378A (en) * | 1980-05-07 | 1984-12-04 | Toyo Seikan Kaisha Ltd. | Plastic bottles and process for preparation thereof |
| US4391128A (en) * | 1981-04-20 | 1983-07-05 | Air Products And Chemicals, Inc. | Back-diffusion quality control method for barrier treated containers |
| US4452679A (en) * | 1981-10-07 | 1984-06-05 | Becton Dickinson And Company | Substrate with chemically modified surface and method of manufacture thereof |
| JPS58154602A (ja) | 1982-03-10 | 1983-09-14 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | テイン・フリ−・スチ−ルの表面被膜厚測定方法及び装置 |
| US4522510A (en) * | 1982-07-26 | 1985-06-11 | Therma-Wave, Inc. | Thin film thickness measurement with thermal waves |
| DE3239379A1 (de) * | 1982-10-23 | 1984-04-26 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
| JPS5987307A (ja) | 1982-11-11 | 1984-05-19 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 表面被膜の膜厚測定装置 |
| JPS59168310A (ja) | 1983-03-02 | 1984-09-22 | エナ−ジ−・コンバ−シヨン・デバイセス・インコ−ポレ−テツド | 薄膜の厚みを測定する方法及び装置 |
| US4478873A (en) * | 1983-05-23 | 1984-10-23 | American Optical Corporation | Method imparting anti-static, anti-reflective properties to ophthalmic lenses |
| US4552791A (en) * | 1983-12-09 | 1985-11-12 | Cosden Technology, Inc. | Plastic container with decreased gas permeability |
| AT379069B (de) * | 1984-01-11 | 1985-11-11 | Greiner & Soehne C A | Blutprobenroehrchen |
| GR850153B (ja) * | 1984-02-06 | 1985-03-29 | Obrist Ag Crown | |
| DE3444270A1 (de) * | 1984-12-05 | 1986-06-05 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
| CH667528A5 (de) * | 1985-03-15 | 1988-10-14 | Alusuisse | Verfahren zum bestimmen der dicke von transparenten lackschichten und vorrichtung zu dessen ausfuehrung. |
| US4767414A (en) * | 1985-05-16 | 1988-08-30 | Becton, Dickinson And Company | Ionizing plasma lubricant method |
| US4667620A (en) * | 1985-10-29 | 1987-05-26 | Cosden Technology, Inc. | Method and apparatus for making plastic containers having decreased gas permeability |
| US4824444A (en) * | 1986-04-11 | 1989-04-25 | Applied Membrane Technology, Inc. | Gas permselective composite membrane prepared by plasma polymerization coating techniques |
| US4778721A (en) * | 1986-07-09 | 1988-10-18 | Battelle Memorial Institute | Method of forming abrasion-resistant plasma coatings and resulting articles |
| US4697717A (en) * | 1986-08-18 | 1987-10-06 | Becton, Dickinson And Company | Rubber/plastic stopper composite with mechanical adhesive joints |
| DE3632748A1 (de) | 1986-09-26 | 1988-04-07 | Ver Foerderung Inst Kunststoff | Verfahren zur beschichtung von hohlkoerpern |
| US4756964A (en) * | 1986-09-29 | 1988-07-12 | The Dow Chemical Company | Barrier films having an amorphous carbon coating and methods of making |
| US4725481A (en) * | 1986-10-31 | 1988-02-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Vapor-permeable, waterproof bicomponent structure |
| US4741446A (en) * | 1986-12-29 | 1988-05-03 | Becton, Dickinson And Company | Computer generated stopper |
| US5028566A (en) * | 1987-04-10 | 1991-07-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method of forming silicon dioxide glass films |
| ZA884511B (en) | 1987-07-15 | 1989-03-29 | Boc Group Inc | Method of plasma enhanced silicon oxide deposition |
| JPS6428509A (en) * | 1987-07-23 | 1989-01-31 | Nippon Kokan Kk | Apparatus for measuring thickness of film |
| US4809876A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-07 | Aluminum Company Of America | Container body having improved gas barrier properties |
| GB2210826B (en) | 1987-10-19 | 1992-08-12 | Bowater Packaging Ltd | Barrier packaging materials |
| DE3738993A1 (de) * | 1987-11-17 | 1989-05-24 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur glimmentladungsaktivierten reaktiven abscheidung von metall aus einer gasphase |
| US5798027A (en) | 1988-02-08 | 1998-08-25 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Process for depositing optical thin films on both planar and non-planar substrates |
| US5041303A (en) * | 1988-03-07 | 1991-08-20 | Polyplasma Incorporated | Process for modifying large polymeric surfaces |
| US5275299A (en) * | 1988-04-15 | 1994-01-04 | C. A. Greiner & Sohne Gesellschaft Mbh | Closure device for an in particular evacuable cylindrical housing |
| US4880675A (en) * | 1988-04-25 | 1989-11-14 | Air Products And Chemicals, Inc. | Hot-fillable plastic containers |
| US4883686A (en) * | 1988-05-26 | 1989-11-28 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method for the high rate plasma deposition of high quality material |
| US4948628A (en) * | 1988-07-01 | 1990-08-14 | Becton, Dickinson And Company | Method for plasma treatment of small diameter tubes |
| US4846101A (en) * | 1988-07-01 | 1989-07-11 | Becton, Dickinson And Company | Apparatus for plasma treatment of small diameter tubes |
| JPH0224502A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 膜厚測定方法 |
| US4869203A (en) * | 1988-07-18 | 1989-09-26 | Vapor Technologies Inc. | Apparatus for coating a metal gas-pressure bottle or tank |
| DE3926023A1 (de) * | 1988-09-06 | 1990-03-15 | Schott Glaswerke | Cvd-beschichtungsverfahren zur herstellung von schichten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| US5472660A (en) * | 1989-03-08 | 1995-12-05 | Fortex, Inc. | Method for the manufacture of shaped products of biaxially oriented polymeric material |
| DE3908418C2 (de) | 1989-03-15 | 1999-06-02 | Buck Chem Tech Werke | Verfahren zum Innenbeschichten von Kunststoff-Behältern und Vorrichtung zum Beschichten |
| US5042951A (en) * | 1989-09-19 | 1991-08-27 | Therma-Wave, Inc. | High resolution ellipsometric apparatus |
| US4999014A (en) * | 1989-05-04 | 1991-03-12 | Therma-Wave, Inc. | Method and apparatus for measuring thickness of thin films |
| JPH02298024A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-10 | Tadahiro Omi | リアクティブイオンエッチング装置 |
| AT401341B (de) * | 1990-03-09 | 1996-08-26 | Greiner & Soehne C A | Verschlussvorrichtung für ein, insbesondere evakuierbares gehäuse |
| DE4008405C1 (ja) * | 1990-03-16 | 1991-07-11 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
| JPH04374A (ja) | 1990-04-16 | 1992-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラスチック基板表面の硬化保護膜製造方法 |
| JPH04375A (ja) | 1990-04-16 | 1992-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラスチック基板表面の硬化保護膜製造方法 |
| JPH04373A (ja) | 1990-04-16 | 1992-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラスチック基板表面の硬化保護膜製造方法 |
| US5084356A (en) * | 1990-04-20 | 1992-01-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Film coated with glass barrier layer with metal dopant |
| US5085904A (en) * | 1990-04-20 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Barrier materials useful for packaging |
| JPH0414440A (ja) | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Toray Ind Inc | 積層フィルム |
| US5443645A (en) * | 1990-05-19 | 1995-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Microwave plasma CVD apparatus comprising coaxially aligned multiple gas pipe gas feed structure |
| US5131752A (en) * | 1990-06-28 | 1992-07-21 | Tamarack Scientific Co., Inc. | Method for film thickness endpoint control |
| EP0470777A3 (en) * | 1990-08-07 | 1993-06-02 | The Boc Group, Inc. | Thin gas barrier films and rapid deposition method therefor |
| CA2051219C (en) * | 1990-09-14 | 2001-06-19 | Yuji Komiya | Method of preparing laminated packaging material |
| US5330578A (en) * | 1991-03-12 | 1994-07-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma treatment apparatus |
| DE4109619C1 (ja) * | 1991-03-23 | 1992-08-06 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
| CA2067691C (en) * | 1991-05-13 | 1995-12-12 | James A. Burns | Stopper-shield combination closure |
| US5633711A (en) | 1991-07-08 | 1997-05-27 | Massachusettes Institute Of Technology | Measurement of material properties with optically induced phonons |
| US5271274A (en) * | 1991-08-14 | 1993-12-21 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Thin film process monitoring techniques using acoustic waves |
| US5204141A (en) * | 1991-09-18 | 1993-04-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Deposition of silicon dioxide films at temperatures as low as 100 degree c. by lpcvd using organodisilane sources |
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
| ES2086667T3 (es) | 1991-10-03 | 1996-07-01 | Becton Dickinson Co | Tubo para la recogida de sangre. |
| US5333049A (en) * | 1991-12-06 | 1994-07-26 | Hughes Aircraft Company | Apparatus and method for interferometrically measuring the thickness of thin films using full aperture irradiation |
| DE4204082A1 (de) * | 1992-02-12 | 1993-08-19 | Leybold Ag | Verfahren zur herstellung einer haftvermittelnden schicht auf werkstueckoberflaechen |
| DE4209384C1 (ja) * | 1992-03-23 | 1993-04-22 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | |
| CA2095674A1 (en) | 1992-05-13 | 1993-11-14 | Nicholas A. Grippi | Blood collection tube assembly |
| MX9303141A (es) | 1992-05-28 | 1994-04-29 | Polar Materials Inc | Metodos y aparatos para depositar recubrimientos de barrera. |
| US5486701A (en) * | 1992-06-16 | 1996-01-23 | Prometrix Corporation | Method and apparatus for measuring reflectance in two wavelength bands to enable determination of thin film thickness |
| US5308649A (en) * | 1992-06-26 | 1994-05-03 | Polar Materials, Inc. | Methods for externally treating a container with application of internal bias gas |
| JPH0610132A (ja) | 1992-06-29 | 1994-01-18 | Nagasaki Pref Gov | 有機シリコン化合物薄膜の製造方法 |
| US5812261A (en) | 1992-07-08 | 1998-09-22 | Active Impulse Systems, Inc. | Method and device for measuring the thickness of opaque and transparent films |
| CA2100275A1 (en) | 1992-07-22 | 1994-01-23 | Mitchell K. Antoon, Jr. | Blood collection assembly |
| US5531683A (en) | 1992-08-13 | 1996-07-02 | Science Incorporated | Mixing and delivery syringe assembly |
| US5260095A (en) * | 1992-08-21 | 1993-11-09 | Battelle Memorial Institute | Vacuum deposition and curing of liquid monomers |
| GB9219450D0 (en) * | 1992-09-15 | 1992-10-28 | Glaverbel | Thin film thickness monitoring and control |
| JP2501490Y2 (ja) | 1992-11-24 | 1996-06-19 | 正雄 筑波 | 額縁類取付具 |
| AU669754B2 (en) | 1992-12-18 | 1996-06-20 | Becton Dickinson & Company | Barrier coating |
| CA2110761A1 (en) | 1992-12-18 | 1994-06-19 | Yelena G. Tropsha | Barrier label |
| US5298587A (en) * | 1992-12-21 | 1994-03-29 | The Dow Chemical Company | Protective film for articles and method |
| TW249313B (ja) | 1993-03-06 | 1995-06-11 | Tokyo Electron Co | |
| US5632396A (en) | 1993-05-06 | 1997-05-27 | Becton, Dickinson And Company | Combination stopper-shield closure |
| US5494170A (en) | 1993-05-06 | 1996-02-27 | Becton Dickinson And Company | Combination stopper-shield closure |
| PE9895A1 (es) | 1993-05-13 | 1995-05-15 | Coca Cola Co | Metodo para obtener un envase para bebidas teniendo una superficie interna con una permeabilidad/absorcion relativamente baja |
| IL109589A0 (en) | 1993-05-14 | 1994-08-26 | Hughes Aircraft Co | Apparatus and method for performing high spatial resolution thin film layer thickness metrology |
| DE4316349C2 (de) | 1993-05-15 | 1996-09-05 | Ver Foerderung Inst Kunststoff | Verfahren zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern mit organischen Deckschichten durch Plasmapolymerisation, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| WO1994027745A1 (de) | 1993-06-01 | 1994-12-08 | Kautex Werke Reinold Hagen Aktiengesellschaft | Verfahren und einrichtung zum herstellen einer polymeren beschichtung an kunststoff-hohlkörpern |
| CH685755A5 (de) * | 1993-06-03 | 1995-09-29 | Tetra Pak Suisse Sa | Verfahren zur Herstellung eines Schichtstoffes. |
| JP2803017B2 (ja) | 1993-06-07 | 1998-09-24 | 工業技術院長 | 抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
| US5361921A (en) * | 1993-06-29 | 1994-11-08 | Becton Dickinson And Company | Combination stopper-shield closure |
| JP3369261B2 (ja) | 1993-08-02 | 2003-01-20 | 東洋紡績株式会社 | ガスバリア性容器 |
| JP3183759B2 (ja) | 1993-08-26 | 2001-07-09 | 株式会社三協精機製作所 | 負荷測定装置 |
| US5433786A (en) * | 1993-08-27 | 1995-07-18 | The Dow Chemical Company | Apparatus for plasma enhanced chemical vapor deposition comprising shower head electrode with magnet disposed therein |
| CA2130388A1 (en) | 1993-09-23 | 1995-03-24 | Joel L. Williams | Process for barrier coating of plastic objects |
| US5364666A (en) * | 1993-09-23 | 1994-11-15 | Becton, Dickinson And Company | Process for barrier coating of plastic objects |
| US5440446A (en) * | 1993-10-04 | 1995-08-08 | Catalina Coatings, Inc. | Acrylate coating material |
| ATE233939T1 (de) | 1993-10-04 | 2003-03-15 | 3M Innovative Properties Co | Vernetztes acrylatbeschichtungsmaterial zur herstellung von kondensatordielektrika und sauerstoffbarrieren |
| KR100276736B1 (ko) | 1993-10-20 | 2001-03-02 | 히가시 데쓰로 | 플라즈마 처리장치 |
| US5449432A (en) * | 1993-10-25 | 1995-09-12 | Applied Materials, Inc. | Method of treating a workpiece with a plasma and processing reactor having plasma igniter and inductive coupler for semiconductor fabrication |
| FR2711647B1 (fr) | 1993-10-27 | 1996-01-19 | Europ Propulsion | Procédé d'infiltration chimique en phase vapeur d'un matériau au sein d'un substrat poreux à température de surface contrôlée. |
| US5679412A (en) | 1993-10-28 | 1997-10-21 | Manfred R. Kuehnle | Method and apparatus for producing gas impermeable, chemically inert container structures for food and volatile substances |
| JPH07126419A (ja) | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層体 |
| AT400802B (de) | 1993-12-16 | 1996-03-25 | Greiner & Soehne C A | Haltevorrichtung für ein blutprobenentnahmeröhrchen einer blutabnahmevorrichtung |
| US5871700A (en) | 1993-12-21 | 1999-02-16 | C.A. Greiner & Sohne Gesellschaft M.B.H. | Holding device with a cylindrical container and blood sampling tube with such a holding device |
| US5439736A (en) * | 1994-01-21 | 1995-08-08 | Neomecs Incorporated | Gas plasma polymerized permselective membrane |
| CH687601A5 (de) | 1994-02-04 | 1997-01-15 | Tetra Pak Suisse Sa | Verfahren zur Herstellung von im Innern sterilen Verpackungen mit hervorragenden Sperreigenschaften. |
| US5565248A (en) | 1994-02-09 | 1996-10-15 | The Coca-Cola Company | Method and apparatus for coating hollow containers through plasma-assisted deposition of an inorganic substance |
| DK0693975T4 (da) | 1994-02-16 | 2003-08-18 | Coca Cola Co | Hule beholdere med indifferent eller uigennemtrængelig indre overflade gennem plasmaunderstøttet overfladereaktion eller polymerisation på overfladen |
| US6149982A (en) | 1994-02-16 | 2000-11-21 | The Coca-Cola Company | Method of forming a coating on an inner surface |
| US5569810A (en) | 1994-03-18 | 1996-10-29 | Samco International, Inc. | Method of and system for processing halogenated hydrocarbons |
| US5620523A (en) | 1994-04-11 | 1997-04-15 | Canon Sales Co., Inc. | Apparatus for forming film |
| US5593550A (en) | 1994-05-06 | 1997-01-14 | Medtronic, Inc. | Plasma process for reducing friction within the lumen of polymeric tubing |
| US5514246A (en) | 1994-06-02 | 1996-05-07 | Micron Technology, Inc. | Plasma reactors and method of cleaning a plasma reactor |
| US5452082A (en) * | 1994-07-05 | 1995-09-19 | Uop | Flow cell with leakage detection |
| JPH0825244A (ja) | 1994-07-21 | 1996-01-30 | Besutoma Kk | ボルト継手における締結力の管理装置 |
| US5578103A (en) | 1994-08-17 | 1996-11-26 | Corning Incorporated | Alkali metal ion migration control |
| US5521351A (en) * | 1994-08-30 | 1996-05-28 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method and apparatus for plasma surface treatment of the interior of hollow forms |
| US5510155A (en) | 1994-09-06 | 1996-04-23 | Becton, Dickinson And Company | Method to reduce gas transmission |
| US5545375A (en) | 1994-10-03 | 1996-08-13 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| DE4437050A1 (de) | 1994-10-17 | 1996-04-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen von Hohlkörpern, insbesondere von Innenflächen von Kraftstofftanks |
| DE4438359C2 (de) | 1994-10-27 | 2001-10-04 | Schott Glas | Behälter aus Kunststoff mit einer Sperrbeschichtung |
| US6083628A (en) | 1994-11-04 | 2000-07-04 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Hybrid polymer film |
| DE4445427C2 (de) | 1994-12-20 | 1997-04-30 | Schott Glaswerke | Plasma-CVD-Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht |
| DE4445969C1 (de) | 1994-12-22 | 1996-03-14 | Schott Glaswerke | Spritzenzylinder für eine Zweikammer-Fertigspritze, Zweikammer-Fertigspritze und Verfahren zum Herstellen und Füllen derselben |
| JP3022229B2 (ja) | 1994-12-26 | 2000-03-15 | 東洋製罐株式会社 | プラスチックス材料からなる立体形状の容器に均一の膜厚の珪素酸化物被膜を形成する方法 |
| US5877895A (en) | 1995-03-20 | 1999-03-02 | Catalina Coatings, Inc. | Multicolor interference coating |
| US5485091A (en) * | 1995-05-12 | 1996-01-16 | International Business Machines Corporation | Contactless electrical thin oxide measurements |
| US5513515A (en) * | 1995-05-15 | 1996-05-07 | Modern Controls, Inc. | Method for measuring permeability of a material |
| US5555471A (en) | 1995-05-24 | 1996-09-10 | Wyko Corporation | Method for measuring thin-film thickness and step height on the surface of thin-film/substrate test samples by phase-shifting interferometry |
| JPH095038A (ja) | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Nkk Corp | クロメート処理鋼板のクロメート被膜厚測定方法及び装置 |
| CH690582A5 (de) | 1995-06-26 | 2000-10-31 | Gen Electric | Verbundmaterial mit durch mehrere Ueberzüge geschütztem Wärmesperren-Ueberzug. |
| US5591898A (en) | 1995-10-12 | 1997-01-07 | Modern Controls, Inc. | Method for measuring material permeability characteristics |
| CN1074006C (zh) | 1995-10-13 | 2001-10-31 | 陶氏化学公司 | 涂覆的塑料基材 |
| US6210791B1 (en) | 1995-11-30 | 2001-04-03 | General Electric Company | Article with a diffuse reflective barrier coating and a low-emissity coating thereon, and its preparation |
| US5955161A (en) | 1996-01-30 | 1999-09-21 | Becton Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| TW434301B (en) | 1996-01-30 | 2001-05-16 | Becton Dickinson Co | Non-ideal barrier coating composition comprising organic and inorganic materials |
| US5716683A (en) | 1996-01-30 | 1998-02-10 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| US5683771A (en) | 1996-01-30 | 1997-11-04 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| US5702770A (en) * | 1996-01-30 | 1997-12-30 | Becton, Dickinson And Company | Method for plasma processing |
| US5686157A (en) | 1996-01-30 | 1997-11-11 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| US5738920A (en) | 1996-01-30 | 1998-04-14 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| US5763033A (en) | 1996-01-30 | 1998-06-09 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| US5737179A (en) | 1996-02-07 | 1998-04-07 | Catalina Coatings, Inc. | Metallized film capacitor |
| US5667840A (en) | 1996-02-27 | 1997-09-16 | Becton Dickinson And Company | Lubricant soluble fluorescent agent and method for its use in a system for detection of lubricant coatings |
| US6200675B1 (en) | 1996-04-22 | 2001-03-13 | N.V. Bekaert S.A. | Diamond-like nanocomposite compositions |
| JP3256459B2 (ja) | 1996-05-20 | 2002-02-12 | 株式会社大協精工 | 衛生品用容器及びその製造方法 |
| EP0814114A1 (en) | 1996-06-18 | 1997-12-29 | Becton, Dickinson and Company | Barrier coating |
| JPH108254A (ja) | 1996-06-21 | 1998-01-13 | Toyota Motor Corp | 二酸化ケイ素層の形成方法 |
| US6190992B1 (en) | 1996-07-15 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Method to achieve rough silicon surface on both sides of container for enhanced capacitance/area electrodes |
| US6161712A (en) | 1996-07-22 | 2000-12-19 | Becton Dickinson And Company | Ball and socket closure |
| DE19629877C1 (de) | 1996-07-24 | 1997-03-27 | Schott Glaswerke | CVD-Verfahren und Vorrichtung zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern |
| US5900284A (en) | 1996-07-30 | 1999-05-04 | The Dow Chemical Company | Plasma generating device and method |
| AT404317B (de) | 1996-08-02 | 1998-10-27 | Greiner & Soehne C A | Verschlussvorrichtung, trennvorrichtung sowie aufnahmebehälter für eine aufnahmeeinrichtung |
| US5691007A (en) | 1996-09-30 | 1997-11-25 | Becton Dickinson And Company | Process for depositing barrier film on three-dimensional articles |
| US5792940A (en) | 1996-09-30 | 1998-08-11 | Becton, Dickinson And Company | Rapid evaluation of thin-film barrier coatings on thick substrates via transient response measurements |
| US5766362A (en) | 1996-09-30 | 1998-06-16 | Becton Dickinson And Company | Apparatus for depositing barrier film on three-dimensional articles |
| US5807343A (en) | 1996-09-30 | 1998-09-15 | Becton Dickinson And Company | Protective sealing barrier for a syringe |
| US6112695A (en) | 1996-10-08 | 2000-09-05 | Nano Scale Surface Systems, Inc. | Apparatus for plasma deposition of a thin film onto the interior surface of a container |
| DE19706255C2 (de) | 1997-02-18 | 2000-11-30 | Schott Glas | Sterilisierbarer Glasbehälter für medizinische Zwecke, insbesondere zur Aufbewahrung pharmazeutischer oder diagnostischer Produkte |
| DE19707645A1 (de) | 1997-02-26 | 1998-08-27 | Leybold Ag | Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner Schichten |
| US6223683B1 (en) | 1997-03-14 | 2001-05-01 | The Coca-Cola Company | Hollow plastic containers with an external very thin coating of low permeability to gases and vapors through plasma-assisted deposition of inorganic substances and method and system for making the coating |
| US20020155299A1 (en) | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
| US6017317A (en) | 1997-03-26 | 2000-01-25 | Becton Dickinson And Company | Assembly for collecting blood or other body fluids |
| US5800880A (en) | 1997-03-26 | 1998-09-01 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Process for coating the interior wall of a container with a SiOx barrier layer |
| US6261643B1 (en) | 1997-04-08 | 2001-07-17 | General Electric Company | Protected thermal barrier coating composite with multiple coatings |
| US5837888A (en) | 1997-05-14 | 1998-11-17 | Modern Controls, Inc. | Process for measuring vapor transmission through materials |
| US6110544A (en) | 1997-06-26 | 2000-08-29 | General Electric Company | Protective coating by high rate arc plasma deposition |
| JPH1171676A (ja) | 1997-06-26 | 1999-03-16 | General Electric Co <Ge> | プラズマ活性形蒸発法による二酸化珪素の付着法 |
| US6135053A (en) | 1997-07-16 | 2000-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus for forming a deposited film by plasma chemical vapor deposition |
| US6001429A (en) | 1997-08-07 | 1999-12-14 | Becton Dickinson And Company | Apparatus and method for plasma processing |
| DE19739321C2 (de) | 1997-09-09 | 2001-09-27 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Verfahren und Einrichtung zum Bestimmen der Meßunsicherheit bei Röntgenfluoreszenz-Schichtdickenmessungen |
| US5972297A (en) | 1997-09-12 | 1999-10-26 | Becton, Dickinson & Company | Ball and socket closure for specimen collection container incorporating a septum |
| US6032813A (en) | 1997-09-12 | 2000-03-07 | Becton, Dickinson And Company | Ball and socket closure for specimen collection container incorporating an integral flexible seal |
| US6350415B1 (en) | 1997-09-12 | 2002-02-26 | Becton, Dickinson And Company | Ball and socket closure for specimen collection container incorporating a dimple locking mechanism |
| US5919420A (en) | 1997-09-12 | 1999-07-06 | Becton Dickinson And Company | Ball and socket closure for specimen collection container incorporating a resilient elastomeric seal |
| US5948364A (en) | 1997-09-12 | 1999-09-07 | Becton Dickinson & Company | Ball and socket closure for specimen collection container |
| US6757056B1 (en) | 2001-03-26 | 2004-06-29 | Candela Instruments | Combined high speed optical profilometer and ellipsometer |
| BR9812701A (pt) | 1997-09-30 | 2000-08-22 | Tetra Laval Holdings & Finance | Método e aparelho para o tratamento da superfìcie interna de garrafas plásticas em um processo intensificado por plasma |
| AU9092298A (en) | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Tetra Laval Holdings & Finance Sa | Device and method for treating the inside surface of a plastic container with a narrow opening in a plasma enhanced process |
| WO1999023273A1 (de) | 1997-11-03 | 1999-05-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Beschichtungsverfahren und vorrichtung |
| GB9723222D0 (en) | 1997-11-04 | 1998-01-07 | Pilkington Plc | Coating glass |
| US5961911A (en) | 1997-12-05 | 1999-10-05 | Becton Dickinson And Company | Process for manufacture of closure assembly |
| JPH11193470A (ja) | 1997-12-26 | 1999-07-21 | Canon Inc | 堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法 |
| DE19801861C2 (de) | 1998-01-20 | 2001-10-18 | Schott Glas | Verfahren zum Herstellen eines hohlen, innenbeschichteten Glasformkörpers |
| JPH11218418A (ja) | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Seiko Instruments Inc | インライン蛍光ｘ線膜厚モニタ |
| JP3669138B2 (ja) | 1998-03-05 | 2005-07-06 | 日新電機株式会社 | プラズマｃｖｄ法、プラズマｃｖｄ装置及び電極 |
| US6243938B1 (en) * | 1998-03-17 | 2001-06-12 | Becton, Dickinson And Company | Low silicone plastic prefillable syringe |
| DE19912737A1 (de) | 1998-03-19 | 2000-06-21 | Henning Nagel | Verfahren zur Herstellung von porösen SiO¶x¶-Schichten und poröse SiO¶x¶-Schichten |
| FR2776540B1 (fr) | 1998-03-27 | 2000-06-02 | Sidel Sa | Recipient en matiere a effet barriere et procede et appareil pour sa fabrication |
| WO1999054924A1 (fr) | 1998-04-21 | 1999-10-28 | Hitachi, Ltd. | Dispositif et procede permettant de mesurer l'epaisseur d'un film mince, et procede et dispositif de production d'un film mince utilisant les premiers |
| US6068884A (en) | 1998-04-28 | 2000-05-30 | Silcon Valley Group Thermal Systems, Llc | Method of making low κ dielectric inorganic/organic hybrid films |
| US6035717A (en) | 1998-05-12 | 2000-03-14 | Krautkramer Branson, Inc. | Method and apparatus for measuring the thickness of a coated material |
| US6271047B1 (en) | 1998-05-21 | 2001-08-07 | Nikon Corporation | Layer-thickness detection methods and apparatus for wafers and the like, and polishing apparatus comprising same |
| US6015595A (en) | 1998-05-28 | 2000-01-18 | Felts; John T. | Multiple source deposition plasma apparatus |
| JPH11344316A (ja) | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Futec Inc | 膜厚測定方法 |
| US20010042510A1 (en) | 1998-07-08 | 2001-11-22 | The Coca-Cola Company | Hollow containers with inert or impermeable inner surface through plasma-assisted surface reaction or on-surface polymerization |
| DE19830794B4 (de) | 1998-07-09 | 2005-10-27 | Singulus Technologies Ag | Schichtdickenmeßsystem und -verfahren |
| US6018987A (en) | 1998-08-03 | 2000-02-01 | Mocon, Inc. | Apparatus for measuring gas transmission through container closures |
| US6125687A (en) | 1998-08-20 | 2000-10-03 | International Business Machines Corporation | Apparatus for measuring outgassing of volatile materials from an object |
| US6009743A (en) | 1998-08-24 | 2000-01-04 | Mocon, Inc. | Apparatus and method for online or offline measurement of vapor transmission through sheet materials |
| EP0992610A3 (en) | 1998-09-30 | 2003-10-15 | Becton Dickinson and Company | Barrier coating on plastic substrates and process for its deposition |
| US6165138A (en) | 1998-09-30 | 2000-12-26 | Becton Dickinson And Company | Self-sealing closure for a medical speciman collection container |
| JP2000109076A (ja) | 1998-10-01 | 2000-04-18 | Toppan Printing Co Ltd | 内面コートボトルおよびその製造方法 |
| US6236459B1 (en) | 1998-11-05 | 2001-05-22 | University Of Miami | Thin film measuring device and method |
| US6596401B1 (en) | 1998-11-10 | 2003-07-22 | C. R. Bard Inc. | Silane copolymer compositions containing active agents |
| US6486081B1 (en) | 1998-11-13 | 2002-11-26 | Applied Materials, Inc. | Gas distribution system for a CVD processing chamber |
| US6263249B1 (en) | 1999-02-26 | 2001-07-17 | Medtronic, Inc. | Medical electrical lead having controlled texture surface and method of making same |
| US6204922B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-03-20 | Filmetrics, Inc. | Rapid and accurate thin film measurement of individual layers in a multi-layered or patterned sample |
| US6207238B1 (en) | 1998-12-16 | 2001-03-27 | Battelle Memorial Institute | Plasma enhanced chemical deposition for high and/or low index of refraction polymers |
| US6165542A (en) | 1998-12-23 | 2000-12-26 | United Technologies Corporation | Method for fabricating and inspecting coatings |
| AT407007B (de) | 1998-12-23 | 2000-11-27 | Greiner Labortechnik Gmbh | Aufnahmeeinrichtung für ein einsatzelement |
| US6188079B1 (en) | 1999-01-12 | 2001-02-13 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Measurement of hot container wall thickness |
| US6774018B2 (en) | 1999-02-01 | 2004-08-10 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Barrier coatings produced by atmospheric glow discharge |
| WO2000048172A2 (en) * | 1999-02-12 | 2000-08-17 | General Electric Company | Data storage media |
| SE520491C2 (sv) | 1999-04-07 | 2003-07-15 | Tetra Laval Holdings & Finance | Förpackningslaminat med barriäregenskaper mot gas och aromämnen |
| DE59912579D1 (de) | 1999-04-28 | 2006-02-02 | Alcan Tech & Man Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Packungen |
| DE19921303C1 (de) | 1999-05-07 | 2000-10-12 | Schott Glas | Glasbehälter für medizinische Zwecke |
| US6399944B1 (en) | 1999-07-09 | 2002-06-04 | Fei Company | Measurement of film thickness by inelastic electron scattering |
| US6185992B1 (en) | 1999-07-15 | 2001-02-13 | Veeco Instruments Inc. | Method and system for increasing the accuracy of a probe-based instrument measuring a heated sample |
| JP3226512B2 (ja) | 1999-07-19 | 2001-11-05 | 東洋ガラス株式会社 | ガラス容器のコーティング検査方法及び装置 |
| US6083313A (en) | 1999-07-27 | 2000-07-04 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Hardcoats for flat panel display substrates |
| US6054188A (en) | 1999-08-02 | 2000-04-25 | Becton Dickinson And Company | Non-ideal barrier coating architecture and process for applying the same to plastic substrates |
| DE19938724A1 (de) | 1999-08-16 | 2001-02-22 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zur Herstellung von Kunststoffbehältern mittels Streckblasformen |
| EP1077086B1 (en) | 1999-08-18 | 2004-10-27 | Becton Dickinson and Company | Stopper-shield assembly |
| US6410926B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-06-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating with optical taggent |
| US6623861B2 (en) | 2001-04-16 | 2003-09-23 | Battelle Memorial Institute | Multilayer plastic substrates |
| US6413645B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
| SE0004353L (sv) | 1999-12-06 | 2001-06-07 | Greiner Bio One Gmbh | Anordning i form av ett kärl och/eller förslutning |
| US6584828B2 (en) | 1999-12-17 | 2003-07-01 | Atc, Inc. | Method and apparatus of nondestructive testing a sealed product for leaks |
| US6308556B1 (en) | 1999-12-17 | 2001-10-30 | Atc, Inc. | Method and apparatus of nondestructive testing a sealed product for leaks |
| DE19963122A1 (de) | 1999-12-24 | 2001-06-28 | Tetra Laval Holdings & Finance | Anordnung zum Einkoppeln von Mikrowellenenergie in eine Behandlungskammer |
| AU2001229866A1 (en) | 2000-01-27 | 2001-08-07 | Greiner Bio-One Gmbh | Container for holding fluids |
| DE10004274A1 (de) | 2000-02-01 | 2001-08-02 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zum Beschichten der inneren Oberfläche eines Hohlkörpers |
| EP1279002B1 (en) | 2000-03-01 | 2005-12-28 | Plastic Technologies, Inc. | Measuring average wall thickness of a plastic container |
| US20010038894A1 (en) | 2000-03-14 | 2001-11-08 | Minoru Komada | Gas barrier film |
| DE10012446B4 (de) | 2000-03-15 | 2007-06-14 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Verfahren zum Messen der Gasdurchlässigkeit einer Beschichtung auf einer Kunststoffwandung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| AT414209B (de) | 2000-03-17 | 2006-10-15 | Greiner Bio One Gmbh | Sammelgefäss für flüssigkeiten |
| US6382441B1 (en) | 2000-03-22 | 2002-05-07 | Becton, Dickinson And Company | Plastic tube and resealable closure having protective collar |
| GB0012170D0 (en) | 2000-05-20 | 2000-07-12 | Harcostar Drums Limited | Treatment of plastics containers |
| CA2409282A1 (en) | 2000-06-06 | 2001-12-13 | Ing-Feng Hu | Barrier layer for polymers and containers |
| US6375022B1 (en) | 2000-06-30 | 2002-04-23 | Becton, Dickinson And Company | Resealable closure for containers |
| US6346596B1 (en) | 2000-07-14 | 2002-02-12 | Valspar Corporation | Gas barrier polymer composition |
| US6354452B1 (en) | 2000-07-25 | 2002-03-12 | Becton, Dickinson And Company | Collection container assembly |
| US6749078B2 (en) | 2000-07-25 | 2004-06-15 | Becton, Dickinson And Company | Collection assembly |
| JP2002107134A (ja) | 2000-07-27 | 2002-04-10 | Seiko Instruments Inc | 蛍光ｘ線膜厚計 |
| US7256517B2 (en) * | 2000-08-23 | 2007-08-14 | Lsi Corporation | Interface circuit for providing a computer logic circuit with first and second voltages and an associated method |
| US6720052B1 (en) | 2000-08-24 | 2004-04-13 | The Coca-Cola Company | Multilayer polymeric/inorganic oxide structure with top coat for enhanced gas or vapor barrier and method for making same |
| US6638876B2 (en) | 2000-09-19 | 2003-10-28 | Mattson Technology, Inc. | Method of forming dielectric films |
| US6806951B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-10-19 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining at least one characteristic of defects on at least two sides of a specimen |
| CH694949A5 (de) | 2000-09-22 | 2005-09-30 | Tetra Laval Holdings & Finance | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Oberflaechen mit Hilfe eines Glimmentladungs-Plasmas. |
| DK1326718T3 (da) | 2000-10-04 | 2004-04-13 | Dow Corning Ireland Ltd | Fremgangsmåde og apparat til dannelse af en belægning |
| US6551267B1 (en) | 2000-10-18 | 2003-04-22 | Becton, Dickinson And Company | Medical article having blood-contacting surface |
| AU2001222223A1 (en) | 2000-12-21 | 2002-07-01 | Mitsubishi Shoji Plastics Corporation | Apparatus for manufacturing dlc-film-coated plastic container, method of manufacturing the same, and method for cleaning inner electrode |
| US6680621B2 (en) | 2001-01-26 | 2004-01-20 | Semiconductor Diagnostics, Inc. | Steady state method for measuring the thickness and the capacitance of ultra thin dielectric in the presence of substantial leakage current |
| US6640615B1 (en) | 2001-01-26 | 2003-11-04 | Darrell R. Morrow | System for determining the integrity of a package or packaging material based on its transmission of a test gas |
| US6597193B2 (en) | 2001-01-26 | 2003-07-22 | Semiconductor Diagnostics, Inc. | Steady state method for measuring the thickness and the capacitance of ultra thin dielectric in the presence of substantial leakage current |
| DE10114401B4 (de) | 2001-03-23 | 2005-03-17 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Verfahren zum Blasformen eines Behälters aus Kunststoff und zum Beschichten des Behälterinneren |
| JP3954319B2 (ja) | 2001-03-28 | 2007-08-08 | 株式会社東芝 | 薄膜の膜厚モニタリング方法及び基板温度測定方法 |
| US20040161623A1 (en) | 2001-03-29 | 2004-08-19 | Domine Joseph D | Ionomer laminates and articles formed from ionomer laminates |
| AT500247B1 (de) | 2001-03-30 | 2007-06-15 | Greiner Bio One Gmbh | Aufnahmeeinrichtung, insbesondere für körperflüssigkeiten, mit einer trennvorrichtung sowie trennvorrichtung hierzu |
| DE10119571C1 (de) | 2001-04-21 | 2002-11-28 | Schott Glas | Verfahren zum gleichmäßigen Beschichten von Hohlkörpern und deren Verwendung |
| TW570876B (en) | 2001-05-11 | 2004-01-11 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | Silicon oxide film |
| DE10124225B4 (de) | 2001-05-18 | 2006-03-02 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Permeation einer Barriereschicht |
| US7362425B2 (en) | 2001-05-18 | 2008-04-22 | Meeks Steven W | Wide spatial frequency topography and roughness measurement |
| US20030215652A1 (en) | 2001-06-04 | 2003-11-20 | O'connor Paul J. | Transmission barrier layer for polymers and containers |
| JP3678361B2 (ja) | 2001-06-08 | 2005-08-03 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリアフィルム |
| US6397776B1 (en) | 2001-06-11 | 2002-06-04 | General Electric Company | Apparatus for large area chemical vapor deposition using multiple expanding thermal plasma generators |
| JP4774635B2 (ja) | 2001-06-15 | 2011-09-14 | 凸版印刷株式会社 | ３次元中空容器への薄膜成膜装置及びそれを用いた薄膜成膜方法 |
| CA2450639C (en) | 2001-06-18 | 2012-03-20 | Becton, Dickinson And Company | Multilayer containers and process for forming multilayer containers |
| JP3932836B2 (ja) | 2001-07-27 | 2007-06-20 | 株式会社日立製作所 | 薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いたデバイスの製造方法 |
| JP2003050115A (ja) | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Seiko Instruments Inc | Ｘ線膜厚計 |
| EP1419286A1 (en) | 2001-08-20 | 2004-05-19 | Nova-Plasma Inc. | Coatings with low permeation of gases and vapors |
| US7286242B2 (en) | 2001-09-21 | 2007-10-23 | Kmac | Apparatus for measuring characteristics of thin film by means of two-dimensional detector and method of measuring the same |
| US6766682B2 (en) | 2001-10-19 | 2004-07-27 | Desert Cryogenics Llc | Precise measurement system for barrier materials |
| EP1448807A4 (en) | 2001-10-30 | 2005-07-13 | Massachusetts Inst Technology | FLUORO CARBON ORGANOSILICIUM COPOLYMERS AND COATINGS MADE ACCORDING TO THE HFCVD PROCEDURE |
| DE10154404C1 (de) | 2001-11-06 | 2003-06-18 | Ovd Kinegram Ag Zug | Verfahren und Vorrichtung zur Messung physikalischer Kenngrößen von dünnen, optisch transparenten Schichten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| US6948448B2 (en) | 2001-11-27 | 2005-09-27 | General Electric Company | Apparatus and method for depositing large area coatings on planar surfaces |
| JP4067817B2 (ja) | 2001-12-07 | 2008-03-26 | 日精エー・エス・ビー機械株式会社 | 容器のコーティング装置 |
| AU2002354470B2 (en) | 2001-12-13 | 2007-05-10 | Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems, Ltd. | System for forming carbon film on inner surface of plastic container and method for producing plastic container having inner surface coated with carbon film |
| DE10201110B4 (de) | 2002-01-15 | 2006-09-28 | Schott Ag | Behälter für Parenteralia/Injectabila |
| JP3953821B2 (ja) | 2002-01-17 | 2007-08-08 | ファブソリューション株式会社 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
| EP1472387B1 (en) | 2002-02-05 | 2008-07-23 | Dow Global Technologies Inc. | Corona-generated chemical vapor deposition on a substrate |
| US6684683B2 (en) | 2002-02-27 | 2004-02-03 | General Electric Company | Method and apparatus for characterizing the barrier properties of members of combinatorial libraries |
| US6816570B2 (en) | 2002-03-07 | 2004-11-09 | Kla-Tencor Corporation | Multi-technique thin film analysis tool |
| JP4031654B2 (ja) | 2002-03-12 | 2008-01-09 | 三菱商事プラスチック株式会社 | Ｃｖｄ成膜装置及びｃｖｄ成膜装置用内部電極の清掃方法 |
| JP4124609B2 (ja) | 2002-04-03 | 2008-07-23 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 半導体製造工程におけるパターン部膜厚の測定方法と測定装置 |
| US20060228497A1 (en) | 2002-05-08 | 2006-10-12 | Satyendra Kumar | Plasma-assisted coating |
| US20050233091A1 (en) | 2002-05-08 | 2005-10-20 | Devendra Kumar | Plasma-assisted coating |
| AU2003245890A1 (en) | 2002-05-24 | 2003-12-12 | Schott Ag | Multistation coating device and method for plasma coating |
| WO2003100115A1 (de) | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Sig Technology Ltd. | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken |
| DE50301940D1 (de) | 2002-05-24 | 2006-01-19 | Schott Ag | Beschichtungsvorrichtung mit transporteinrichtung |
| DE50302862D1 (de) | 2002-05-24 | 2006-05-18 | Schott Ag | Vorrichtung für CVD-Beschichtungen |
| AU2003232621A1 (en) | 2002-05-24 | 2003-12-12 | Sig Technology Ltd. | Method and device for plasma treating workpieces |
| AU2003237678A1 (en) | 2002-05-24 | 2003-12-12 | Schott Ag | Device and method for treating workpieces |
| AU2003229286A1 (en) | 2002-05-24 | 2003-12-12 | Sig Technology Ltd. | Method and device for the plasma treatment of workpieces |
| JP4386832B2 (ja) | 2002-05-24 | 2009-12-16 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | Ｃｖｄコーティング用の回転装置 |
| ATE326557T1 (de) | 2002-05-24 | 2006-06-15 | Schott Ag | Vorrichtung für cvd-behandlungen |
| AU2003241765B2 (en) | 2002-05-28 | 2009-08-06 | Kirin Beer Kabushiki Kaisha | DLC film coated plastic container, and device and method for manufacturing the plastic container |
| JP4168671B2 (ja) | 2002-05-31 | 2008-10-22 | 凸版印刷株式会社 | ３次元中空容器の薄膜成膜装置 |
| EP1510595A4 (en) | 2002-06-05 | 2007-05-09 | Mitsubishi Shoji Plastics Corp | METHOD AND DEVICE FOR CLEANING A GAS INSERTION TUBE OF RAW MATERIALS USED IN A VAPOR PHASE CHEMICAL DEPOSITION FILM FORMING APPARATUS |
| US7052736B2 (en) | 2002-06-11 | 2006-05-30 | Southwest Research Institute | Method for depositing coatings on the interior surfaces of tubular structures |
| US6764714B2 (en) | 2002-06-11 | 2004-07-20 | Southwest Research Institute | Method for depositing coatings on the interior surfaces of tubular walls |
| JP4080799B2 (ja) | 2002-06-28 | 2008-04-23 | 三井金属鉱業株式会社 | 金属材表面への誘電体フィラー含有ポリイミド被膜の形成方法並びにプリント配線板用のキャパシタ層形成用の銅張積層板の製造方法及びその製造方法で得られた銅張積層板 |
| JP4385657B2 (ja) | 2002-07-15 | 2009-12-16 | 凸版印刷株式会社 | 成膜装置および成膜方法 |
| US6995377B2 (en) | 2002-08-02 | 2006-02-07 | Plastipak Packaging, Inc. | Process and apparatus for testing bottles |
| US7399500B2 (en) | 2002-08-07 | 2008-07-15 | Schott Ag | Rapid process for the production of multilayer barrier layers |
| US7109070B2 (en) | 2002-08-07 | 2006-09-19 | Schot Glas | Production of a composite material having a biodegradable plastic substrate and at least one coating |
| EP2284087B1 (en) | 2002-08-20 | 2017-05-17 | Becton, Dickinson and Company | Method for collecting a sample |
| US7959866B2 (en) | 2002-09-04 | 2011-06-14 | Becton, Dickinson And Company | Collection assembly |
| DE10242086A1 (de) | 2002-09-11 | 2004-04-15 | Sig Technology Ltd. | Behälter zur Verpackung von Produkten, Vorrichtung zur Verarbeitung von Kunstoff sowie Verfahren zur Behälterherstellung |
| AT413648B (de) | 2002-10-02 | 2006-04-15 | Greiner Bio One Gmbh | Aufnahmevorrichtung mit verstellbarem abdeckelement |
| US6863731B2 (en) | 2002-10-18 | 2005-03-08 | Controls Corporation Of America | System for deposition of inert barrier coating to increase corrosion resistance |
| JP2004156444A (ja) | 2002-11-01 | 2004-06-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 遮熱コーティング劣化診断方法 |
| CN100347229C (zh) | 2002-11-12 | 2007-11-07 | 陶氏环球技术公司 | 在容器中沉积等离子体涂层的方法和设备 |
| US6965221B2 (en) | 2002-11-12 | 2005-11-15 | O2Micro International Limited | Controller for DC to DC converter |
| BR0315487B1 (pt) | 2002-11-12 | 2013-12-03 | Processo e aparelho para preparar uma barreira protetora para um recipiente tendo uma superfície interna | |
| JP3970169B2 (ja) | 2002-11-20 | 2007-09-05 | 三菱商事プラスチック株式会社 | Ｄｌｃ膜コーティングプラスチック容器の製造方法 |
| US6891158B2 (en) | 2002-12-27 | 2005-05-10 | Revera Incorporated | Nondestructive characterization of thin films based on acquired spectrum |
| US6800852B2 (en) | 2002-12-27 | 2004-10-05 | Revera Incorporated | Nondestructive characterization of thin films using measured basis spectra |
| AT413947B (de) | 2003-01-27 | 2006-07-15 | Greiner Bio One Gmbh | Medizinische baugruppe sowie eine schutzvorrichtung, ein einstichelement und eine handhabungsvorrichtung für diese baugruppe |
| JP2004229750A (ja) | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Nipro Corp | プレフィルドシリンジ及びそのバレルの製造方法 |
| US6989675B2 (en) | 2003-03-13 | 2006-01-24 | Multimetrixs Llc | Method and apparatus for precision measurement of film thickness |
| US7288311B2 (en) | 2003-02-10 | 2007-10-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Barrier film |
| JP2004253683A (ja) | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Komatsu Ltd | レジストアウトガス計測装置 |
| US20060169026A1 (en) * | 2003-02-28 | 2006-08-03 | Tsuyoshi Kage | Method of measuring gas barrier property of plastic molding |
| US7332227B2 (en) | 2003-03-14 | 2008-02-19 | Becton, Dickinson And Company | Non-volatile lubricant system for medical devices |
| US6946164B2 (en) | 2003-03-26 | 2005-09-20 | E.I. Du Pont Nemours And Company | Thin nanometer-controlled polymer film gradient |
| KR101162377B1 (ko) * | 2003-03-28 | 2012-07-09 | 도요 세이칸 가부시키가이샤 | 플라즈마 ｃｖｄ법에 의한 화학 증착막 및 그 형성 방법 |
| JP4252347B2 (ja) | 2003-04-07 | 2009-04-08 | 三菱商事プラスチック株式会社 | ガスバリア性薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法 |
| AT500525A1 (de) | 2003-04-17 | 2006-01-15 | Greiner Bio One Gmbh | Aufnahmevorrichtung sowie aus einer dichtungsvorrichtung und kappe gebildete verschlussvorrichtung |
| US7431989B2 (en) | 2003-05-06 | 2008-10-07 | Tribofilm Research, Inc. | Article with lubricated surface and method |
| KR100509298B1 (ko) | 2003-05-31 | 2005-08-22 | 한국과학기술연구원 | 무기질 박막이 코팅된 직접메탄올 연료전지용 복합고분자 전해질막의 제조 방법 |
| JP4202841B2 (ja) | 2003-06-30 | 2008-12-24 | 株式会社Ｓｕｍｃｏ | 表面研磨装置 |
| US20050057754A1 (en) | 2003-07-08 | 2005-03-17 | Smith David E. A. | Measurement of thin film properties using plasmons |
| JP2005035597A (ja) | 2003-07-14 | 2005-02-10 | Fuji Seal International Inc | プラスチック製容器におけるガスバリア性薄膜の保護方法 |
| JP4179941B2 (ja) | 2003-07-24 | 2008-11-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 薄膜状試料用ｘ線回折測定容器 |
| JP3811150B2 (ja) | 2003-09-05 | 2006-08-16 | 株式会社東芝 | 膜厚測定方法、膜厚測定システム、半導体装置の製造方法及び膜厚測定システム制御プログラム |
| US7150299B2 (en) | 2003-09-12 | 2006-12-19 | Air Products And Chemicals, Inc. | Assembly and method for containing, receiving and storing fluids and for dispensing gas from a fluid control and gas delivery assembly having an integrated fluid flow restrictor |
| US7087437B2 (en) | 2003-09-16 | 2006-08-08 | Vici Gig Harbor Group, Inc. | Direct vial surface sorbent micro extraction device and method |
| US20070017870A1 (en) | 2003-09-30 | 2007-01-25 | Belov Yuri P | Multicapillary device for sample preparation |
| JP2005114461A (ja) | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Hitachi Industries Co Ltd | 薄膜厚さ測定方法及び装置 |
| US6844075B1 (en) | 2003-10-06 | 2005-01-18 | General Electric Company | Environmental barrier coating |
| JP2005132416A (ja) | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 酸化珪素薄膜コーティング中空容器 |
| US6981403B2 (en) | 2003-10-31 | 2006-01-03 | Mocon, Inc. | Method and apparatus for measuring gas transmission rates of deformable or brittle materials |
| EP1713577B1 (en) | 2003-11-20 | 2020-05-13 | Sigma-Aldrich Co. LLC | Polysilazane thermosetting polymers for use in chromatographic systems and applications |
| TW200527513A (en) | 2003-11-20 | 2005-08-16 | Hitachi Int Electric Inc | Method for manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus |
| DE10354625A1 (de) * | 2003-11-22 | 2005-06-30 | Sig Technology Ltd. | Verfahren zur Bestimmung der Gasdurchlässigkeit von Behälterwandungen, Behälter mit Oberflächenbeschichtung sowie Beschichtungseinrichtung mit Messvorrichtung |
| US7513953B1 (en) | 2003-11-25 | 2009-04-07 | Nano Scale Surface Systems, Inc. | Continuous system for depositing films onto plastic bottles and method |
| WO2005051525A1 (en) | 2003-11-25 | 2005-06-09 | Polyvalor, Limited Partnership | Permeation barrier coating or layer with modulated properties and methods of making the same |
| WO2005089107A2 (en) | 2004-01-08 | 2005-09-29 | University Of Virginia Patent Foundation | Apparatus and method for applying coatings onto the interior surfaces of components and related structures produced therefrom |
| AT500459B1 (de) | 2004-01-23 | 2010-08-15 | Greiner Bio One Gmbh | Verfahren zum zusammenbau einer kappe mit einem aufnahmebehälter |
| JP3914925B2 (ja) | 2004-01-28 | 2007-05-16 | 株式会社リガク | 膜厚測定方法及び装置 |
| US20050196629A1 (en) | 2004-02-12 | 2005-09-08 | Valspar Sourcing, Inc. | Methods of coating interior container surfaces and containers containing internal coatings |
| US7534733B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
| JP2005241524A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Sii Nanotechnology Inc | 走査型プローブ顕微鏡および該顕微鏡による測定方法 |
| JP5039907B2 (ja) | 2004-03-09 | 2012-10-03 | エグザテック・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー | 非平面状基体のためのプラズマ被覆装置 |
| EP2261392B1 (en) | 2004-03-09 | 2018-10-03 | Exatec, LLC. | Expanding thermal plasma deposition system |
| JP4323991B2 (ja) | 2004-03-19 | 2009-09-02 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 分光反射率測定装置、膜厚測定装置および分光反射率測定方法 |
| JP2005271997A (ja) | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Kazuo Saito | ペットボトルの内壁保護膜 |
| WO2005103605A1 (en) | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Opo Sprl | Instrument for measuring the thickness of a coating on bottles |
| US20080131638A1 (en) | 2004-05-04 | 2008-06-05 | Becton, Dickinson And Company | Multilayer barrier containers having increased adhesion and durability |
| US7112541B2 (en) | 2004-05-06 | 2006-09-26 | Applied Materials, Inc. | In-situ oxide capping after CVD low k deposition |
| GB0410749D0 (en) | 2004-05-14 | 2004-06-16 | Dow Corning Ireland Ltd | Coating apparatus |
| US7444955B2 (en) | 2004-05-19 | 2008-11-04 | Sub-One Technology, Inc. | Apparatus for directing plasma flow to coat internal passageways |
| ES2293416T3 (es) | 2004-05-29 | 2008-03-16 | Gerresheimer Bunde Gmbh | Cierre de jeringa y procedimiento para la fabricacion e un cierre de jeringa. |
| RU2285235C2 (ru) * | 2004-06-09 | 2006-10-10 | Войсковая часть 75360 | Устройство для визуального и измерительного контроля внутренних полостей |
| WO2005121025A1 (ja) | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | 金属酸化物ナノ多孔体、それを得るための被覆組成物、及びそれらの製造方法 |
| DE102004028369B4 (de) | 2004-06-11 | 2007-05-31 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einer Rundläuferanlage |
| US7300684B2 (en) | 2004-07-15 | 2007-11-27 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating internal surfaces of prefabricated process piping in the field |
| US7118538B2 (en) | 2004-07-19 | 2006-10-10 | Greiner Bio-One Gmbh | Holding device for a medical device |
| US7736728B2 (en) | 2004-08-18 | 2010-06-15 | Dow Corning Corporation | Coated substrates and methods for their preparation |
| FR2874606B1 (fr) | 2004-08-26 | 2006-10-13 | Saint Gobain | Procede de transfert d'une molecule organique fonctionnelle sur un substrat transparent |
| US20060046006A1 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-02 | Bastion Bradley J | Multilayer polymeric barrier film, flexible packaging made therewith, and methods |
| DE102004042431B4 (de) | 2004-08-31 | 2008-07-03 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabeschichtung von Werkstücken mit spektraler Auswertung der Prozessparameter und Verwendung der Vorrichtung |
| GB0419772D0 (en) | 2004-09-07 | 2004-10-06 | Scalar Technologies Ltd | Method and apparatus for thin film metrology |
| JP2008512128A (ja) | 2004-09-09 | 2008-04-24 | マイクロフルイディク システムズ インコーポレイテッド | 抽出装置及び試料準備方法 |
| US20070048456A1 (en) | 2004-09-14 | 2007-03-01 | Keshner Marvin S | Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method |
| US7480363B2 (en) | 2004-09-15 | 2009-01-20 | Ge Betz, Inc. | Converting a digital radiograph to an absolute thickness map |
| JP4545073B2 (ja) | 2004-09-17 | 2010-09-15 | 三菱重工業株式会社 | ガスバリア膜及び容器 |
| EP1640031A3 (en) | 2004-09-28 | 2006-06-07 | Nipro Corporation | Syringe coated with lubricant containing silicone oil and silica powder |
| FR2876094B1 (fr) | 2004-10-04 | 2009-01-09 | Saint Gobain | Substrat en verre pour ecran de visualisation. |
| MX2007003850A (es) | 2004-10-05 | 2007-11-21 | Genzyme Corp | Canula escalonada. |
| MX2007004481A (es) | 2004-10-13 | 2007-05-09 | Dow Global Technologies Inc | Proceso para recubrimiento de plasma. |
| JP4171452B2 (ja) | 2004-10-18 | 2008-10-22 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | バリア膜形成用内部電極及び成膜装置 |
| BE1016251A3 (fr) | 2004-10-27 | 2006-06-06 | Ct Rech Metallurgiques Asbl | Procede ameliore et appareil pour la mesure de l'epaisseur d'une couche d'oxyde. |
| AT414322B (de) | 2004-11-29 | 2007-03-15 | Greiner Bio One Gmbh | Trennvorrichtung, insbesondere für körperflüssigkeiten, sowie aufnahmeeinrichtung mit einer derartigen trennvorrichtung |
| JP2006153770A (ja) | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Omron Corp | 分光計測装置 |
| JP4566719B2 (ja) | 2004-12-02 | 2010-10-20 | 麒麟麦酒株式会社 | 炭素膜コーティングプラスチック容器の製造方法、プラズマｃｖｄ成膜装置及びそのプラスチック容器 |
| US8097725B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-17 | Roche Diagnostics Operations, Inc. | Luminescent indicator dye and optical sensor |
| US7534615B2 (en) | 2004-12-03 | 2009-05-19 | Cryovac, Inc. | Process for detecting leaks in sealed packages |
| CN101091101A (zh) | 2004-12-27 | 2007-12-19 | 新科实业有限公司 | 通过俄歇电子能谱测量纳米薄膜厚度的方法 |
| JP4929727B2 (ja) | 2005-02-14 | 2012-05-09 | 東洋製罐株式会社 | プラズマ処理用ガス供給管 |
| JP4515280B2 (ja) | 2005-02-17 | 2010-07-28 | 麒麟麦酒株式会社 | ガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置及びその製造方法 |
| US7339682B2 (en) | 2005-02-25 | 2008-03-04 | Verity Instruments, Inc. | Heterodyne reflectometer for film thickness monitoring and method for implementing |
| US7541069B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-06-02 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating internal surfaces using reverse-flow cycling |
| US7608151B2 (en) | 2005-03-07 | 2009-10-27 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating sections of internal surfaces |
| US20060210425A1 (en) | 2005-03-21 | 2006-09-21 | Laura Mirkarimi | Inorganic coatings for optical and other applications |
| JP5124751B2 (ja) | 2005-04-15 | 2013-01-23 | ラクセル・バイオサイエンシズ・リミテッド | 生物学的又は化学的試料の評価 |
| EP1715289A1 (en) | 2005-04-21 | 2006-10-25 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | An optical light reflection method |
| DE102005023582B4 (de) | 2005-05-18 | 2009-04-16 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von innenvergüteten Glasrohren |
| EP1888150A1 (en) | 2005-05-31 | 2008-02-20 | Baxter International Inc. | Polypropylene hollow barrel with sliding coated rubber piston |
| JP4847527B2 (ja) | 2005-08-17 | 2011-12-28 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 流体機械の少なくとも１個の翼のｔｂｃ被覆の層厚を検出する方法と、この方法を実施するためのｔｂｃ被覆層厚測定装置と、この方法およびｔｂｃ被覆層厚測定装置の利用 |
| JP2007050898A (ja) | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Toppan Printing Co Ltd | 成膜容器の製造方法およびその製造装置 |
| US9212947B2 (en) | 2005-08-24 | 2015-12-15 | New Sts Limited | Measurement, coating and monitoring system and method |
| DE102005040266A1 (de) | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur innenseitigen Plasmabehandlung von Hohlkörpern |
| JP5275543B2 (ja) | 2005-08-31 | 2013-08-28 | 株式会社吉野工業所 | 高いバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| US8786439B2 (en) | 2005-09-02 | 2014-07-22 | Wg Security Products | Active antenna |
| JP5103184B2 (ja) | 2005-09-20 | 2012-12-19 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性積層フィルム |
| US20080268252A1 (en) | 2005-09-20 | 2008-10-30 | Juan Garces | Process for Plasma Coating a Nanocomposite Object |
| FR2891279B1 (fr) | 2005-09-27 | 2007-12-14 | Centre Nat Rech Scient | Nouvelles puces pour la detection par le plasmon de surface (spr) |
| AT502522A3 (de) | 2005-10-04 | 2007-12-15 | Greiner Bio One Gmbh | Trennvorrichtung, aufnahmeeinrichtung sowie verfahren zum trennen |
| ES2383226T3 (es) | 2005-11-07 | 2012-06-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Barnices con eliminador de oxígeno y eventualmente función indicadora de oxígeno para el recubrimiento o la adhesión así como productos producidos con los mismos |
| US7409313B2 (en) | 2005-12-16 | 2008-08-05 | General Electric Company | Method and apparatus for nondestructive evaluation of insulative coating |
| US20070148326A1 (en) | 2005-12-28 | 2007-06-28 | Hastings Mitchell R | Syringe |
| DE102006009822B4 (de) | 2006-03-01 | 2013-04-18 | Schott Ag | Verfahren zur Plasmabehandlung von Glasoberflächen, dessen Verwendung sowie Glassubstrat und dessen Verwendung |
| JP2007231386A (ja) | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Toppan Printing Co Ltd | プラズマを使用した容器処理装置 |
| US8521471B2 (en) | 2006-03-24 | 2013-08-27 | University Of Utah Research Foundation | Measurement of thickness of dielectric films on surfaces |
| US7943242B2 (en) * | 2006-03-30 | 2011-05-17 | Becton, Dickinson And Company | Sealing members, articles using the same and methods of reducing sticktion |
| US8075995B2 (en) | 2006-03-30 | 2011-12-13 | Becton, Dickinson And Company | Coating system, articles and assembly using the same and methods of reducing sticktion |
| US20070243618A1 (en) | 2006-04-11 | 2007-10-18 | Oxysense, Inc. | Device and method for non-invasive oxygen sensing of sealed packages |
| US20070259184A1 (en) | 2006-05-04 | 2007-11-08 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method of mounting objects for chemical vapour deposition |
| WO2007133378A1 (en) | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Dow Global Technologies Inc. | Multi-wall plastic sheet having an internal plasma-enhanced chemical vapor deposition coating and process for manufacturing the same |
| DE102006023018A1 (de) | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Strämke, Siegfried, Dr. | Plasmaverfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken |
| AT503747B1 (de) | 2006-05-18 | 2009-05-15 | Greiner Bio One Gmbh | Aufnahmeeinrichtung für eine medizinische vorrichtung |
| ITRM20060277A1 (it) | 2006-05-24 | 2007-11-25 | Sipa Societa Industrializzazio | Impianto e processo di verniciatura di contenitori |
| US7624622B1 (en) | 2006-05-26 | 2009-12-01 | Mocon, Inc. | Method of measuring the transmission rate of a permeant through a container and determining shelf life of a packaged product within the container |
| US20070277734A1 (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-06 | Applied Materials, Inc. | Process chamber for dielectric gapfill |
| US7825038B2 (en) | 2006-05-30 | 2010-11-02 | Applied Materials, Inc. | Chemical vapor deposition of high quality flow-like silicon dioxide using a silicon containing precursor and atomic oxygen |
| FR2903622B1 (fr) | 2006-07-17 | 2008-10-03 | Sidel Participations | Dispositif pour le depot d'un revetement sur une face interne d'un recipient |
| US8197452B2 (en) | 2006-07-28 | 2012-06-12 | Becton, Dickinson And Company | Vascular access device non-adhering surfaces |
| JP5127180B2 (ja) | 2006-07-31 | 2013-01-23 | 株式会社大協精工 | 医療用容器および該医療用容器の処理方法 |
| US20080050932A1 (en) | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Applied Materials, Inc. | Overall defect reduction for PECVD films |
| DE102006061585B4 (de) | 2006-08-23 | 2013-11-28 | Singulus Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Rotationsbeschichtung von Substraten |
| US7555934B2 (en) | 2006-09-07 | 2009-07-07 | 3M Innovative Properties Company | Fluid permeation testing apparatus employing mass spectrometry |
| US7552620B2 (en) | 2006-09-07 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Fluid permeation testing method employing mass spectrometry |
| EP2061529B1 (en) | 2006-09-15 | 2013-07-24 | Becton, Dickinson & Company | Medical components having coated surfaces exhibiting low friction and methods of reducing sticktion |
| CN101528280B (zh) | 2006-09-15 | 2013-06-05 | 贝克顿·迪金森公司 | 具有显示出低摩擦的涂布表面的医疗组件和降低粘附的方法 |
| JP2008086855A (ja) | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 生化学用器具 |
| JP5257915B2 (ja) | 2006-09-29 | 2013-08-07 | 国立大学法人東北大学 | 膜塗布装置および膜塗布方法 |
| EP2079431A1 (en) | 2006-10-05 | 2009-07-22 | Greiner Bio-One GmbH | Thermoplastic elastomers containing organoclays |
| DE102006048658B4 (de) | 2006-10-14 | 2014-03-27 | Khs Corpoplast Gmbh | PICVD-Beschichtung für Kunststoffbehälter und Verfahren zu deren Herstellung |
| US20080139003A1 (en) | 2006-10-26 | 2008-06-12 | Shahid Pirzada | Barrier coating deposition for thin film devices using plasma enhanced chemical vapor deposition process |
| US20080102206A1 (en) * | 2006-11-01 | 2008-05-01 | Sigurd Wagner | Multilayered coatings for use on electronic devices or other articles |
| AT504533A1 (de) | 2006-12-05 | 2008-06-15 | Greiner Bio One Gmbh | Probenbehältnis |
| EP2121305B1 (en) | 2007-01-29 | 2015-04-29 | Greenkote (Israel) Ltd. | Methods of preparing thin polymetal diffusion coatings |
| TW200916561A (en) * | 2007-05-07 | 2009-04-16 | Martinswerk Gmbh | Flame retarded thermosets |
| US8029875B2 (en) | 2007-05-23 | 2011-10-04 | Southwest Research Institute | Plasma immersion ion processing for coating of hollow substrates |
| CN201056331Y (zh) | 2007-05-31 | 2008-05-07 | 许奕新 | 一种带涂层的包装瓶 |
| KR20080105617A (ko) | 2007-05-31 | 2008-12-04 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 화학기상증착장치 및 플라즈마강화 화학기상증착장치 |
| KR20080111801A (ko) | 2007-06-20 | 2008-12-24 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 공정장치 및 그 방법 |
| FR2918301B1 (fr) | 2007-07-06 | 2011-06-24 | Sidel Participations | Revetement barriere depose par plasma comprenant au moins trois couches, procede d'obtention d'un tel revetement et recipient revetu d'un tel revetement |
| CN100529212C (zh) * | 2007-08-01 | 2009-08-19 | 浙江理工大学 | 氮化硅涂层钢领的制备方法 |
| WO2009021257A1 (de) | 2007-08-13 | 2009-02-19 | Greiner Bio-One Gmbh | Medizinische trenneinrichtung |
| US20090061237A1 (en) | 2007-08-28 | 2009-03-05 | International Business Machines Corporation | LOW k POROUS SiCOH DIELECTRIC AND INTEGRATION WITH POST FILM FORMATION TREATMENT |
| WO2009030976A1 (en) | 2007-09-03 | 2009-03-12 | Becton Dickinson France | Medical device and smooth coating therefor |
| WO2009030975A1 (en) | 2007-09-03 | 2009-03-12 | Becton Dickinson France | Medical device comprising a siliconized chamber and a coated closure means |
| KR100917913B1 (ko) | 2007-09-05 | 2009-09-16 | 한국표준과학연구원 | Ｃａｒｓ 현미경을 이용한 유기 박막의 화학종 및 두께동시 광학분석장치 |
| WO2009053947A2 (en) | 2007-10-22 | 2009-04-30 | Becton Dickinson France | Surface coating to prevent cation leaching |
| CN100566764C (zh) | 2007-10-26 | 2009-12-09 | 哈尔滨医科大学 | 一种用于药物涂层血管支架的药物涂层载体及药物涂层血管支架的制备方法 |
| DE102007062977B4 (de) | 2007-12-21 | 2018-07-19 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Prozessgasen für die Dampfphasenabscheidung |
| JP5286553B2 (ja) | 2008-02-05 | 2013-09-11 | 東洋製罐株式会社 | 高周波プラズマ処理装置及び高周波プラズマ処理方法 |
| US8505480B2 (en) | 2008-03-12 | 2013-08-13 | Alytus Corporation S.A. | Plasma system |
| FR2929295A1 (fr) | 2008-03-25 | 2009-10-02 | Becton Dickinson France Soc Pa | Appareil pour le traitement par plasma de corps creux |
| US20090263668A1 (en) | 2008-04-21 | 2009-10-22 | 3M Innovative Properties Company | Durable coating of an oligomer and methods of applying |
| US8062470B2 (en) | 2008-05-12 | 2011-11-22 | Yuri Glukhoy | Method and apparatus for application of thin coatings from plasma onto inner surfaces of hollow containers |
| US7967945B2 (en) | 2008-05-30 | 2011-06-28 | Yuri Glukhoy | RF antenna assembly for treatment of inner surfaces of tubes with inductively coupled plasma |
| US8668972B2 (en) | 2008-10-24 | 2014-03-11 | Gvd Corporation | Coating methods and coated syringe |
| JP5012762B2 (ja) | 2008-10-30 | 2012-08-29 | 大日本印刷株式会社 | プラスチック製容器の製造法 |
| US9260781B2 (en) | 2009-02-18 | 2016-02-16 | Council Of Scientific And Industrial Research | Process to deposit diamond like carbon as surface of a shaped object |
| US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
| KR20120042748A (ko) | 2009-05-13 | 2012-05-03 | 씨브이 홀딩스 엘엘씨 | 코팅된 표면 검사를 위한 가스제거 방법 |
| CN102460131A (zh) * | 2009-05-13 | 2012-05-16 | Cv控股有限责任公司 | 用于检查涂覆表面的放气方法 |
-
2010
- 2010-05-12 US US12/779,007 patent/US7985188B2/en active Active
-
2011
- 2011-05-11 WO PCT/US2011/036097 patent/WO2011143329A2/en active Application Filing
- 2011-05-11 JP JP2013510276A patent/JP6196152B2/ja active Active
- 2011-05-11 CN CN201180023474.2A patent/CN102917805B/zh active Active
- 2011-05-11 CA CA2799213A patent/CA2799213C/en active Active
- 2011-05-11 US US13/697,048 patent/US20130209766A1/en not_active Abandoned
- 2011-05-11 EP EP11731554.9A patent/EP2579996B1/en active Active
- 2011-05-12 SG SG2012083077A patent/SG185520A1/en unknown
- 2011-05-12 NZ NZ603471A patent/NZ603471A/en unknown
- 2011-05-12 RU RU2012153671/28A patent/RU2561759C2/ru active
- 2011-05-12 KR KR1020187025058A patent/KR102028690B1/ko active IP Right Grant
- 2011-05-12 JP JP2013510325A patent/JP2013526710A/ja active Pending
- 2011-05-12 KR KR1020127032502A patent/KR101895367B1/ko active IP Right Grant
- 2011-05-12 CA CA2799220A patent/CA2799220C/en active Active
- 2011-05-12 CN CN2011800234615A patent/CN102884412A/zh active Pending
- 2011-05-12 AU AU2011252925A patent/AU2011252925A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01270872A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-10-30 | Becton Dickinson & Co | 潤滑化された表面の作製法 |
| JPH0578844A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 固体潤滑性を有する非晶質薄膜およびその製造方法 |
| JPH10500609A (ja) * | 1994-03-03 | 1998-01-20 | モンサント カンパニー | 柔軟な基体のための高い耐摩耗性及び柔軟なコーティング |
| JPH07304127A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリヤー性包装材料およびその製造方法 |
| JPH10130844A (ja) * | 1996-09-06 | 1998-05-19 | Osamu Takai | 撥水性酸化シリコン皮膜、および撥水性酸化シリコン皮膜の製造方法、並びに硬質撥水性酸化シリコン皮膜 |
| JP2000143850A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-26 | Sam Yang Co Ltd | 濡れ性の優れた表面を有する弗素系樹脂 |
| JP2004538176A (ja) * | 2001-08-07 | 2004-12-24 | カール−ツアイス−シュティフツンク | 基体材料およびバリヤー層材料からなる複合材料 |
| JP2005200044A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器およびその製造法 |
| JP2009523105A (ja) * | 2006-01-11 | 2009-06-18 | ショット アクティエンゲゼルシャフト | 多機能表面を有する医薬品包装および医薬品包装に多機能表面を調製する方法 |
| JP2010512260A (ja) * | 2006-12-12 | 2010-04-22 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 製品残留物の排出し易さ（ｅａｓｅｏｆｄｉｓｃｈａｒｇｅｐｒｏｄｕｃｔｒｅｓｉｄｕｅ）が改善された容器、及びその製造方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015524882A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-08-27 | カーディアック ペースメイカーズ， インコーポレイテッド | 医療用リードのための向上した低摩擦コーティングおよび製造方法 |
| US9737905B2 (en) | 2012-08-29 | 2017-08-22 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Enhanced low friction coating for medical leads and methods of making |
| JP2019529104A (ja) * | 2016-08-22 | 2019-10-17 | インナノ アクティーゼルスカブ | 面に対して処理を施すための方法およびシステム |
| US11161139B2 (en) | 2016-08-22 | 2021-11-02 | Mosshydro As | Method and system for treating a surface |
| JP7001905B2 (ja) | 2016-08-22 | 2022-01-20 | モスハイドロ アクティーゼルスカブ | 面に対して処理を施すための方法およびシステム |
| JP2019196806A (ja) * | 2018-05-10 | 2019-11-14 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | 流体のシール構造、シール部品、シール部品を備えた装置 |
| JP7162801B2 (ja) | 2018-05-10 | 2022-10-31 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | 流体のシール構造、シール部品、シール部品を備えた装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102917805A (zh) | 2013-02-06 |
| US20100298738A1 (en) | 2010-11-25 |
| US20130209766A1 (en) | 2013-08-15 |
| JP2013526710A (ja) | 2013-06-24 |
| CA2799213C (en) | 2022-08-23 |
| JP6196152B2 (ja) | 2017-09-13 |
| CN102884412A (zh) | 2013-01-16 |
| CA2799220A1 (en) | 2011-11-17 |
| CA2799220C (en) | 2020-03-31 |
| WO2011143329A3 (en) | 2012-03-01 |
| SG185520A1 (en) | 2012-12-28 |
| US7985188B2 (en) | 2011-07-26 |
| CA2799213A1 (en) | 2011-11-17 |
| EP2579996A2 (en) | 2013-04-17 |
| WO2011143329A2 (en) | 2011-11-17 |
| CN102917805B (zh) | 2016-07-06 |
| NZ603471A (en) | 2015-02-27 |
| RU2012153671A (ru) | 2014-06-20 |
| KR20130117648A (ko) | 2013-10-28 |
| KR101895367B1 (ko) | 2018-09-07 |
| EP2579996B1 (en) | 2019-01-02 |
| KR102028690B1 (ko) | 2019-10-04 |
| AU2011252925A1 (en) | 2012-12-13 |
| RU2561759C2 (ru) | 2015-09-10 |
| KR20180100710A (ko) | 2018-09-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6196152B2 (ja) | 潤滑性容器被覆材、被覆処理および装置 | |
| US10537273B2 (en) | Syringe with PECVD lubricity layer | |
| US11884446B2 (en) | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus | |
| US11123491B2 (en) | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods | |
| US20210330869A1 (en) | SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS | |
| EP2870273B1 (en) | Coating process | |
| JP5710600B2 (ja) | 被覆表面検査のためのガス放出方法 | |
| US11624115B2 (en) | Syringe with PECVD lubrication | |
| WO2014052792A1 (en) | Halogenated or parylene polymer coating | |
| JP2015526693A (ja) | Ｐｅｃｖｄ皮膜の検査方法 | |
| JP7282520B2 (ja) | 可動ガス注入口を用いてｐｅｃｖｄ潤滑層を適用する方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140422 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150331 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150618 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150930 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160308 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160608 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160808 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170124 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170524 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170601 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170725 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170817 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6196152 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |