KR102273744B1 - 용기 가스　제거 검사 방법 - Google Patents

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존 티. 펠츠
토마스 이. 피스크
로버트 에스. 아브람스
존 페르구손
조나단 알. 프리드만
로버트 제이. 팽본
피터 제이. 사고나
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에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크.
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Abstract

코팅　공정　제품을　검사하는　방법이　제공된다． 코팅된 표면과 인접한 가스 공간으로 적어도 하나의 휘발성 종의 코팅된　표면으로부터의　방출을 측정하고　그　결과를　동일한　시험　조건에서　측정된　적어도　하나의　기준　대상에　대한　결과와　비교한다． 이로써，　코팅의 존재 또는 부재 및/또는 코팅의 물리적 및/또는 화학적 특성을 결정할　수　있다. 이러한　방법은　임의의　코팅된　제품，　예를　들어，　용기를　검사하는　데　유용하다． 특히　유기실리콘　전구체로　만들어진　ＰＥＣＶＤ　코팅，　특히　배리어　코팅의　검사에　대한　응용　또한　개시된다．

Description

용기 가스　제거 검사 방법{VESSEL OUTGASSING INSPECTION METHODS}
미국 임시 출원 번호 ２００９년　5 월１３일에　출원된　61/177,984; ２００９년　７월２일에　출원된　61/222,727; ２００９년　７월24일에　출원된　61/213,904; ２００９년　８월１７일에　출원된　61/234,505; ２００９년　１１월14일에　출원된　61/261,321; ２００９년　１１월２０일에　출원된　61/263,289; ２００９년　１２월１１일에　출원된　61/285,813; ２０１０년　１월２５일에　출원된　61/298,159; ２０１０년　１월２９일에　출원된　61/299,888; ２０１０년　３월２６일에　출원된　61/318,197; ２０１０년　５월１１일에　출원된　61/333,625; 및 ２０１０년　１１월１２일에　출원된　61/413,334; 그리고 ２０１０년　５월１２일에　출원된　US Ser.No.12/779,007　모두는　그　전체가　참조로　본원에　포함된다．
또한　아래의　유럽특허출원도　그　전체가　참조로　포함된다： ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162755.2; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162760.2; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162756.0; ２０１０년　５월１２일에　출언된　EP10162758.6; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162761.0; 및 ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162757.8. 이러한　유럽특허출원들은　본원에서　달리　설명하고　있지　않는　한　일반적으로　본　발명을　수행하는　데　사용될　수　있는　장치，　용기，　전구체，　코팅　및　방법（특히，　코팅　방법　및　코팅을　검사하기　위한　검사　방법）을　기술한다． 이들은　또한　ＳｉＯx　방지　코팅　및　윤활　코팅을　기술하고　있는　데，　이는　본원에서　참조하고　있다．
２０１１월　5월１１일자　출원된　PCT/US11/36097도　추가로　참조로　포함되는　데，　여기서는　본　발명의　방벙에　의해　검사될　수　있는　코팅　및　코팅된　제품（특히　주사기）에　대해　기술하고　있다．
본　명세서　전체에　걸쳐，　EP2251671 A2를　참조한다（위에서　언급한　EP 10162758.6 에　해당하며　이는　또한　본　발명에　대해　선출원의　지위에　있다）． 이들에서는，　본　발명의　기초를　이루는　일반적인　가스제거　방법이　기술되고　예시되며，　따라서　이　점에　있어서는　그　내용이　본원에　참조로서　구체적으로　포함된다．
발명의 분야
본 발명은 생물학적으로 활성인 화합물 또는 혈액을 저장하기 위한 코팅된 용기들의 제작의 기술 분야에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 용기의 코팅을 위한 용기 처리 시스템인 용기의 코팅 및 검사를 위한 용기 처리 시스템에 관한 것이고, 용기 처리 시스템을 위한 휴대용 용기 지지대에 관한 것이고, 용기의 내부 표면을 코팅하기 위한 플라즈마 강화 화학적 증착 기구에 관한 것이고, 용기의 내부 표면 코팅 방법에 관한 것이고, 용기의 코팅 및 검사 방법에 관한 것이고, 용기 처리 방법에 관한 것이고, 용기 처리 시스템의 용도에 관한 것이고, 컴퓨터 판독가능한 매체에 관한 것이며, 프로그램 구성요소에 관한 것이다.
코팅　공정　제품을　검사하는　방법이　제공된다． 코팅된 표면과 인접한 가스 공간으로 적어도 하나의 휘발성 종의 코팅된　표면으로부터의　방출을 측정하고　그　결과를　동일한　시험　조건에서　측정된　적어도　하나의　기준　대상에　대한　결과와　비교한다． 이로써，　코팅의 존재 또는 부재 및/또는 코팅의 물리적 및/또는 화학적 특성을 결정할　수　있다. 이러한　방법은　임의의　코팅된　제품，　예를　들어，　용기를　검사하는　데　유용하다． 특히　유기실리콘　전구체로　만들어진　ＰＥＣＶＤ　코팅，　특히　배리어　코팅의　검사에　대한　응용　또한　개시된다．
또한, 본 개시물은 예를 들면, 정맥 천자 및 다른 의학 시료 수집, 약학적 제제 저장 및 전달 및 다른 목적들을 위해 사용된 복수개의 동일한 용기들인 용기들의 처리를 위한 향상된 방법들에 관한 것이다. 그러한 용기들은 이러한 목적들을 위해 대량으로 사용되며, 제작에 상대적으로 경제적이어야 하고 저장 및 사용시에 고도로 신뢰성이 있어야 한다.
진공된 혈액 수집 튜브들은 의학적 분석을 위해 환자로부터 채혈하는데 사용된다. 상기 튜브들은 진공된 상태로 판매된다. 환자의 혈액은 양쪽을 사용하는 피하주사 바늘의 한쪽 끝을 환자의 혈관에 삽입하여 상기 진공된 혈액 수집 튜브의 클로저（closure）를 상기 양쪽을 사용하는 바늘의 다른쪽 끝으로 꿰뚫어서 튜브의 내부로 통하게 된다. 상기 진공된 혈액 수집 튜브내의 진공으로 인하여 상기 진공된 혈액 수집 튜브로 통한 바늘을 통해 채혈하여(또는 더 정확하게는 환자의 혈압이 혈액을 밀어낸다), 상기 튜브 내에서 압력을 증가시켜서 혈액이 흐르도록 하는 압력차를 감소시킨다. 통상적으로, 혈액 흐름은 상기 튜브가 상기 바늘로부터 제거되거나 상기 압력차가 너무 적어 흐름을 지지하지 못할 때까지 계속된다.
진공 혈액 수집 튜브들은 사용전에 상기 튜브들을 효율적이고 간편하게 배분 및 저장을 용이하게 하는 실질적인 저장 수명(shelf life)을 가져야 한다. 예를 들면, 1년의 저장 수명이 바람직하며, 18 개월, 24 개월 또는 36 개월과 같이 점차 더 긴 저장 수명들도 일부 경우에 바람직하다. 바람직하게는, 결함이 있는 튜브들의 거의 적게(최적으로는 전혀) 공급되지 않으면서, 전체 저장 수명 동안에 상기 튜브는 적어도 분석에 충분한 혈액을 뽑을 수 있는데 필요한 정도로 충분히 진공된 상태를 유지한다（공통　기준은　상기　튜브가　원래　흡입된　부피의　적어도　９０％를　유지한다）.
결함이 있는 튜브는 상기 튜브를 사용하는 사혈 전문의가 충분한 혈액을 채혈하는데 실패하기 쉽다. 상기 사혈 전문의는 이후 충분한 혈액 시료를 얻기 위하여 하나 이상의 다른 튜브들을 얻어서 사용할 필요가 있다.
예비충진된 주사기들은 상기 주사기가 사용전에 충진될 필요가 없도록 공통적으로 준비되고 판매된다. 예를 들자면, 상기 주사기는 식염수, 주사용 염료 또는 약학적으로 활성인 제제로 예비충진될 수 있다.
통상적으로, 상기 예비충진된 주사기는 캡을 사용하여 원위단에서 캡핑되며, 주사기의 뽑혀진 플런저에 의하여 근위단에서 폐쇄된다. 상기 예비충진된 주사기는 사용전에 멸균 포장으로 포장될 수 있다. 상기 예비충진된 주사기를 사용하기 위하여, 상기 포장과 캡을 제거하고, 선택적으로 피하주사 바늘 또는 다른 전달 수도(conduit)가 배럴의 원위단에 부착되고, 상기 전달 수도 또는 주사기는 사용 위치로 이동되며(피하주사 바늘을 환자의 혈관으로 삽입하거나 상기 주사기의 내용물들로 헹구기 위해 장치로 삽입하는 것과 같이), 플런저는 상기 배럴 내에서 전진하여 상기 배럴의 내용물들을 주입하게 된다.
예비충진된 주사기들을 제작하는데 있어서 한가지 중요한 고려사항은 상기 주사기의 내용물들이 바람직하게는 수명 기간 동안에 상기 주사기를 채우는 물질을 포함하는 배럴 벽으로부터 이를 분리하는 것이 중요한 실질적인 수명을 가지고 있어서, 상기 베럴로부터 예비충진된 내용물들로 물질을 걸러내거나 그 반대를 실행하는 것을 회피할 것이라는 사항이다.
주사기들을 고려하는 경우 다른 고려사항으로는 플런저가 베럴 속으로 압축되는 경우에 일정한 속도 및 일정한 힘으로 이동할 수 있도록 하는 것이다. 이를 위해, 예를 들어, 상기 인용된 출원에 기술된 윤활성 코팅과 같은 윤활성 코팅이 바람직하다.
이러한 용기들은 상당수는 비싸고 대량으로 사용되기 때문에, 특정한 용도를 위해, 제작 비용을 금지된 수준으로 증가시키지 않으면서 필요한 저장 수명을 신뢰성있게 얻는 것이 유용할 것이다.
수십년간 대부분의 비경구적 치료법은 바이알이나 예비충진된 주사기와 같은 １타입 의학적 등급의 붕규산 유리 용기에서 최종 사용자에게 전달되어져 왔다. 붕규산　유리의　상대적으로　강하고，　불투과성이며　비활성인　표면은　부분의　의약품에　대하여　적절히　행해져　왔다． 그러나，　자동　주입기와　같은　고급　전달　시스템뿐만　아니라　값비싸고，　복잡하며　민감한　생물제재의　최근　도래로　다른　문제들　중에서　금속　및　파손으로　인해　있을　수　있는　오염을　포함한　유리의　물리적　화학적　단점이　밝혀지고　있다． 또한，　유리는　보관　중에　침출될　수　있으며　저장　물질에　피해를　야기할　수　있는　몇몇　성분을　포함하고　있다． 보다　상세하게는　붕규산　용기는　많은　단점을　나타낸다：
ㆍ 유리는　미량의　기타　알칼리　및　알칼리토금속과　함께　여러가지　성분（실리콘，　산소，　붕소，　알루미늄，　나트륨，　칼슘）의　이종　혼합물을　포함하는　모래로부터　제조된다． 타입１의　붕규산　유리는　대략　７６％　ＳｉＯ２，　１０．５％　B2O3, 5% Al2O3, 7% Na2O 및　１．５％　ＣａＯ로　이루어지며，　흔히　철，　마그네슘，　아연，　구리　등과　같은　미량금속을　포함한다． 붕규산　유리의　이종　속성은　분자　수준의　불균일한　표면　화학을　만든다． 유리　용기를　만드는　데　사용되는　유리　형성　공정은　용기의　일부분을　１２００℃　만큼이나　높은　온도에　노출한다． 이러한　높은　온도　하에서　알칼리　이온은　국부적인　표면으로　이동하여　산화물을　형성한다． 붕규산　유리장치로부터　추출된　이온의　존재는　일부　생물제재의　퇴화，　응집　및　변성에　관여할　수　있다． 많은　단백질과　기타　생물제재는　유리　바이알　또는　주사기에서　충분히　안정되지　못하므로　동결건조（냉동　건조）되어야　한다.
ㆍ 유리　주사기에서，　실리콘　오일은　통상　플런저가　배럴　내에서　슬라이드할　수　있도록　윤활유로서　사용된다． 실리콘　오일은　인슐린　및　일부　다른　생물제제와　같은　단백질　용액의　침전과　관련되어　있었다． 또한，　실리콘　오일　코팅은　종종　뷸균일하여　시장에서　주사기　불량을　초래한다．
ㆍ 유리　용기는　제조，　충진작업，　출하　및　사용　중에　파손　또는　열화되기　쉬운　데，　이는　유리　미립자가　약품에　들어갈　수　있음을　의미한다． 유리　미립자의　존재는　여러번　ＦＤＡ　경고장과　제품　리콜　사태로　이어졌다．
ㆍ 유리　형성　공정은　몇몇　새로운　자동　주입기　및　전달　시스템에　필요한　엄격한　치수공차를　산출하지　못한다．
ㆍ 그　결과，　일부　회사들은　플라스틱　용기로　전환하였고　이는　큰　치수　공차를　제공하며　유리보다　덜　파손되지만　불투과성이　부족하다．
ㆍ 플라스틱이　파손에　대해　유리보다　우월하지만　치수　공차　및　표면　균일성，　１차　의약품　포장에　대한　플라스틱의　사용은　아래의　단점으로　인해　제한적인　채로　남아　있다：
ㆍ 표면　특성： 예비　주사기　및　바이알에　적합한　플라스틱은　일반적으로　소수성　표면을　나타내는　데　이는　흔히　장치　내에　함유된　생물학적　약물의　안정성을　감소시킨다．
ㆍ 기체（산소）　투과성： 플라스틱은　작은　분자　기체가　장치　내로（밖으로）　투과하도록　한다． 플라스틱의　기체에　대한　투과성은　유리보다　현저히　크며，　여러　경우에　있어서（에피테프린과　같은　산소　민감성　약물과　같이），　플라스틱은　그러한　이유로　허용될　수　없다．
ㆍ 수증기　전달： 플라스틱은　유리보다　더　높은　정도로　수증기를　장치　내로　통과하도록　한다． 이는　고체（동결건조된）　약품의　유통기한에　유해할　수　있다． 대안적으로，　액체　제품은　매우　건조한　환경에서　수분이　손실될　수　있다．
ㆍ 여과물과　추출물： 플라스틱　용기는　여과되거나　약품으로　추출될　수　있는　유기　화합물을　포함한다． 이러한　화합물은　약물을　오염시키고／시키거나　약물의　안정성에　부정적인　영향을　줄　수　있다．
분명히，　플라스틱　및　유리　용기　각각은　약학적　１차　포장에서　어떤　이점을　주지만　어느　것도　모든　약물，　샐물제제나　기타　치료에　최적이　아니다． 따라서，　유리의　특성에　접근한　기체　및　용질　방지　특성을　갖는　플라스틱　용기，　특히　플라스틱　주사기에　대한　욕구가　있다． 게다가，　주사기　내용물과　양립할　수　있는　충분한　윤활성　및　윤활　코팅을　가지는　플라스틱　주사기에　대한　요구가　있다．
상기　언급한　출원　중　하나에서　기술한　유기실리콘　전구체를　이용한　ＰＥＣＶＤ에　의한　방지　코팅　또는　윤활　코팅으로　플라스틱　용기를　코팅을　함으로써　이러한　요구의　용기를　제공할　수　있다． 하지만，　경제적　생산을　확보하기　위해서는　코팅　검사를　가능하게　하는　검사방법이　또한　요구된다．
가능한 관련 특허들의 비한정적 목록으로는 미국 특허 6,068,884 및 4,844,986호 및 미국을 포함한다. 공개 출원20060046006 및 20040267194 호.
본　발명은　표면，　특히　코팅된　표면과　구체적으로는　유기실리콘　전구체로부터　만들어진　ＰＥＣＶＤ　코팅으로　코팅된　플라스틱　표면을　검사하는　방법을　제공한다． 검사는　검사　대상으로부터　가스제거，　특히　코팅된　표면으로부터　가스제거를　검출함으로써　실시된다． 주요　출원의　발명은　예를　들어，　용기　벽에　코팅된　방지막을　통해　용기　벽의　가스　제거화를　검출함으로써　용기를　검사하는　방법을　제공한다． 본　발명은　또한　코팅을　포함고　용기를　검사하는　방법에　관한　것으로，　검사는　본　발명에　따른　가스　제거　방법에　의해　수행된다． 특별한　태양에서，　본　발명은　ＰＥＣＶＤ　코팅　단계　및　검사　단계를　포함하는　방법에　관한　것으로　검사　단계는　가스　제거　방법에　의해　수행된다．
본　발명의　가스　제거　방법은　검사　물질의　물성을　신속하고　정확하게　판단할　수　있도록　한다． 예를　들어，　가스　제거　방법은　방지　코팅과　같은　코팅이　플라스틱　기판에　존재하는　지를　신속하고　정확하게　판단할　수　있도록　한다．
본　발명은　또한　상기　및／또는　하기　언급되는　방법　단계들을　수행하기　위해　구성된　장치（예를　들어，　용기　처리　시스템의　용기　처리　스테이션）에　관한　것이다． 그러한　처리　스테이션（２０，　３０，　５５０１－５５０４）의　예는　예를　들어　도　１　및　５９－６１에　묘사된다．
본　발명은　또한　용기 처리 시스템과　같은　장치의　프로세서에 의하여 실행되는 경우, 상기 또는 하기 언급된 방법 단계들을 수행하도록 하는　장치를　제어하기　위해　프로세서를　지시하도록　적응된, 표면 검사를 위한 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 컴퓨터-판독가능한 매체에　관한　것이다.
본　발명은　또한　용기 처리 시스템과　같은　장치의　프로세서에 의하여 실행되는 경우, 상기 또는 하기 언급된 방법 단계들을 수행하도록 하는　장치를　제어하기　위해　프로세서를　지시하도록　적응된, 표면 검사를 위한 프로그램　요소　또는　컴퓨터 프로그램에　관한　것이다.
따라서　프로세서는　본　발명의　방법의　예시적인　실시예들을　수행하도록　갖추어질　수　있다． 컴퓨터　프로그램은　Ｃ＋＋과　같은　임의의　적절한　프로그램　언어로　작성될　수　있으며，　ＣＤ－ＲＯＭ과　같은　컴퓨터－판독가능한　매체에　저장될　수　있다． 또한，　컴퓨터　프로그램은　영상　처리　수단이나　프로세서　또는　임의의　적절한　컴퓨터로　다운로드될　수　있는　월드와이드　웹（Ｗｏｒｌｄｗｉｄｅ　Ｗｅｂ）과　같은　네트워크로부터　사용될　수　있다．
본　발명의　태양은 코팅된 제품에 의해 가스가 제거된 휘발성 종을 측정함으로써 제1물질로 이루어지며 표면을 가지는 기판 또는 다른 물체 상에서 코팅막 또는 차단성 막-예를 들어, 주사기 또는 혈액 채집 튜브와 같은 상기 제1물질로 이루어진 물체로서 사이클릭 올레핀 공중합체("COC") 열가소성 성형된 기판 상의 SiOx 코팅-을 검사하기 위한 방법 및 시스템이다. 여기서, 휘발성 종은 검사 대상 물질로 부터 기원되거나 충진재로부터 기원되는 데, 예를 들어 이산화 탄소, 질소, 아르곤, 제논, 크립톤, 탄소수　１　내지　４의　저급　탄화수소（예，　에틸렌，　에탄，　또는　메탄），　탄소수　１　내지　４의　저급　할로겐화　탄화수소（예，　염화메틸，　염화메틸렌，　불화메틸　또는　트리플루오로에탄）　또는　탄소수　１　내지　４의　저급　탄화수소　에테르（예，　다이에틸　에테르　또는　다이메틸에테르　또는　에틸－메틸－에테르）를 포함하는 충진재로부터 기원되며, 이를 가스 제거된 휘발성 종의 측정이 이루어 지기 전에 검사 대상과 접촉시킨다 ("가스 제거 방법"). 상기 방법은 코팅이 기판의 표면에 도포되어 코팅된 표면을 형성하는 코팅 공정의 생성물을 검사하는데 사용될 수 있다. 상기　방법은　예를　들어，　상기 방지막의 존부를 구별하기에 효과적인 조건하에서 수행된다． 예를　들어, 상기 방법은 소정의 기준을 만족하지 않는 코팅된 생성물들 또는 손상된 코팅 생성물들을 구별하고 제거하기 위하여 코팅 공정에 대한 인라인 공정 제어로 사용될 수 있다.
일반적으로, "휘발성 종"은 시험 조건에서의 가스 또는 증기이고, 비활성　기체，　이산화탄소，　탄화수소，　할로겐화　탄화수소，　에테르，　공기，　질소，　산소，　수증기，　휘발성　코팅성분，　휘발성　기질　성분，　휘발성　코팅　반응물，　및　그　조합으로　이루어진　군에서　선택될　수　있으며，　선택적으로는 공기, 질소, 산소, 수증기 또는 이들의 조합이다. 휘발성　종은　검사　전에　검사　대상에　충진될　수　있으며，충진되지　않고　물질에　（예를　들어，　휘발성　기질　성분　또는　코팅의　잔류　반응산물로）존재할　수도　있다． 상기 방법은 단지 하나 이상의 휘발성 종들을 측정하는데 사용될 수 있지만, 선택적으로는 복수개의 다른 휘발성 종이 측정되고, 선택적으로는　실질적으로 상기 검사 대상으로부터 배출된 모든 휘발성 종들이 측정된다.
본　발명의　다른　태양은　예를　들어　방지막의　존재를　알기　위한　대상물의　검사방법으로서　상기　방법은　충진　물질을　가지는　검사　대상체를　충진하는　것을　포함한다． 이　방법에서，　적어도　일부가　제１물질로　만들어진　물체로서，　상기　물체는　표면을　갖으며（제１　태양에서，　방지막은　방지막으로　코팅된　물체와　같은　물체의　표면을　형성한다）　제１물질과　표면　사이에　적어도　일부　방지막을　가진다． 선택적으로，　제１물질에　용해되거나，　흡수되거나　흡착되는　충진　물질이　제공되며，　물체는　충진　물질과　접촉된다． 가스제거는 표면의 적어도 일 부분으로부터　측정된다. 상기　방법은　예를　들어，　상기 방지막의 존부를 판단하기에 효과적인 조건하에서 수행된다．
충진　물질은　가스제거　방법의　감도를　향상시킬　수　있다． 특히，　２개의　검사　종，　예를　들어　한번은　코팅되고　한번은　코팅되지　않은　기질　간의　구별을　단순화할　수　있다． 충진　물질은　다른　양의　서로　다른　물질에　의해　제약되고　가스제거되는　경우　２　물질　간의　구별을　가능하게　할　수도　있다．
코팅되지　않은　플라스틱　제품과　ＳｉＯｘ－코팅된　플라스틱　제품의　구별은　나중에　제거되고　측정될　수　있는　기체를　흡수하는　플라스틱　제품의　용량에　달려　있다． 플라스틱에서의　가스의　용해도는　플라스틱　내에　있을　수　있는　가스량을　결정하는　중요한　요인이고　따라서　적절한　코팅되지　않은　제품　대　코팅된　제품의　구별을　제공하기　위한　특정　기체에　대한　가능성의　좋은　추정치이다． 본　발명의　한　태양에서는　충진　물질로　플라스틱을　충진함으로써　플라스틱　내에　흡수　또는　흡착하게　되는　가스량을　증가시키는　데　유리하다． 이는　가스　제거　측정　중　가스　제거된　휘발종의　높은 함량을　초래할　수　있어　판독을　향상시킬　수　있다．
본　발명의　구체적인　태양에서，　가스　제거　측정의　향상된　감도는　이산화탄소　플러시를　사용하고／하거나　기질에　이산화탄소（예，　이산화탄소　기체），　Ｎ２，　Ａｒ，　제논，　크립톤，탄소수　１　내지　４의　저급　탄화수소（예，　에틸렌，　에탄，　또는　메탄），　탄소수　１　내지　４의　저급　할로겐화　탄화수소（예，　염화메틸，　염화메틸렌，　불화메틸　또는　트리플루오로에탄）　또는　탄소수　１　내지　４의　저급　탄화수소　에테르（예，　다이에틸　에테르　또는　다이메틸에테르　또는　에틸－메틸－에테르）를　섞음으로써　구현될　수　있다． ＣＯ２의　이용은　질소，　물　및　산소에　대한　용해도가　낮은　경우　ＣＯＣ　기질의　테스트　시　특히　유용하다．
일반적으로，　본　발명에　따른　상기 가스제거 방법은 다음과 같은 단계들을 포함한다:
(a) 생성물을 검사 대상으로 제공하는 단계;
(c) 상기 검사 대상으로부터 상기 대상의　표면과 인접한 가스 공간으로 적어도 하나의 휘발성 종의 방출을 측정하는 단계; 및
(d) 동일한 시험 조건 하에서 측정된 적어도 하나의 기준 대상에 대하여 (c) 단계의 결과를 (c) 단계의 결과와 비교하여, 상기 검사　대상의　특정　물질　또는　특정　성분의，　예를　들어　기질　상의　코팅의， 존재 또는 부재를 측정하는 단계.
통상적으로，　본　발명에　따른　코팅된　기질을　검사하기　위한 가스제거 방법은 다음과 같은 단계들을 포함한다:
(a) 코팅을 포함하는 생성물을 검사 대상으로 제공하는 단계;
(c) 상기 검사 대상으로부터 상기 코팅된 표면과 인접한 가스 공간으로 적어도 하나의 휘발성 종의 방출을 측정하는 단계; 및
(d) 동일한 시험 조건 하에서 측정된 적어도 하나의 기준 대상에 대하여 (c) 단계의 결과를 (c) 단계의 결과와 비교하여, 상기 코팅의 존재 또는 부재 및/또는 상기 코팅　또는　코팅된　기질의 물리적 및/또는 화학적 특성을 측정하는 단계.
상기 기체제거 방법에 있어서, 측정되어야 할 상기 코팅의 물리적 및/또는 화학적 특성은 차단 효과, 습윤 장력 및 그 조성으로 이루어진 그룹으로부터 선택될　수　있고, 선택적으로는 차단 효과이다.
유리하게는, 단계 (c)는 상기 코팅된 표면과 인접한 가스 공간에서 적어도 하나의 휘발성 종의 질량 유량 또는 부피 유량을 측정함으로써 수행된다.
선택적으로, 상기 기준 대상(i)은 코팅되지 않은 기판; 또는 (ii) 기준 코팅으로 코팅된 기판이다. 이는 예컨대, 알려진 특성을 갖는 코팅과 비교하여, 예컨대, 상기 가스제거 방법이 코팅의 존재 또는 부재(이후 상기 기준 대상은 코팅되지 않은 기판일 수 있다)를 결정하거나 알려진　물질과　비교하여　일반적으로　검사된　물질의　특성을 결정하는데 사용되는지의 여부에 의존한다. 상기 코팅의 동일성을 특이적인 코팅으로 결정하기 위하여, 기준 코팅도 통상적인 선택일 수 있다.
또한, 상기 가스제거 방법은 코팅된 표면을 통해 압력 차등이 제공되고 상기 압력 차등이 없을 때보다 더 높은 상기 휘발성 종의 질량 유량 또는 부피 유량이 구현될 수 있도록 상기 코팅된 표면과 인접한 가스 공간에서 대기압을 변화시키는 단계인 단계 (b)를 단계 (a) 및 단계 (c) 사이의 추가 단계로서 포함할 수 있다. 이 경우에, 상기 휘발성 종은 상기 압력 차등의 더 낮은 측면의 방향으로 이동할 것이다. 만약 상기 코팅된 대상이 용기이면, 상기 코팅된 용기 벽으로부터 상기 휘발성 종의 가스 제거　상태를 측정하기 위하여 상기 용기 루멘과 외부 사이의 압력 차등이 설정된다. 상기 압력 차등은 예컨대, 상기 용기 내의 가스 공간을 적어도 부분적으로 진공시켜 제공될 수 있다. 이　경우에，　용기의　루멘으로　가스제거되는　상기　휘발성　종이　측정될　수　있다．
만약 진공이 적용되어 압력 차등을 생성한다면, 상기 측정은 상기 기판의 코팅된 표면과 진공원 사이에 개재된 측정 셀을 이용하여 수행될 수 있다.
다른 측면에 있어서, 상기 검사 대상은 단계 (a)의 휘발성 종, 선택적으로는 상기 검사 대상의 물질 상으로 또는 그 내부로 상기 휘발성 종의 흡착 또는 흡수를 가능하게 하기 위하여, 선택적으로 공기, 질소, 산소, 수증기，이산화탄소，불활성　기체　및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 휘발성 종과 접촉될 수 있다. 이후, 상기 검사 대상으로부터 상기 휘발성 종의 후속적인 배출은 단계 (c)에서 측정된다. 상이한 물질들(예컨대, 상기 코팅 및 상기 기판 등)이 상이한 흡착 및 흡수 특징을 가지므로, 이는 코팅의 존재와 특징들의 결정을 단순화시킬 수 있다.
상기 기판은 중합체 화합물, 선택적으로는 폴리에스테르, 폴리올레핀, 사이클릭 올레핀 공중합체, 폴리카보네이트 또는 이들의 조합일　수　있다. 본　발명의　가스　제거　방법은　ＣＯＣ，　폴리에틸렌테레프탈레이트　및　폴리프로필렌의　검사에　특히　흥미롭다．
본 발명의 문맥에 있어서, 상기 가스제거 방법에 의하여 특징된 코팅은 어떠한　코팅도　될　수　있으나，　예컨대, 상세한　설명의　단락　１　내지　３에　인용되는　출원들－즉，　본　발명이　적용될　수　있는　코팅을　언급하기　위해　여기에　분명한　참조로　되는　출원들－　및　본 명세서에서　기술된 유기실리콘 전구체들로부터 통상적으로 ＰＥＣＶＤ에 의하여 제조된 코팅이다． 예를　들어，　코팅은　차단막일　수　있으며，　선택적으로　ｘ가　１．５　내지　２．９인　SiOx　막이다． 다른　예로，　코팅은　정의　절에서　또는　인용된　출원들에서　정의한　것과　같은　특징이　있는　윤활성　코팅，　및／또는　정의　절에서　또는　인용된　출원들에서　정의한　것과　같은　특징이　있는　소수성막일　수　있다．
상기 가스제거 방법에 의하여 그 생성물이 검사되는 코팅 공정이 진공 조건하에서 수행되는 ＰＥＣＶＤ 코팅인 경우, 이후의 가스제거 측정은 ＰＥＣＶＤ용으로 사용되는 진공을 깨뜨리지 않고 수행될 수 있다.
측정된 상기 휘발성 종은 상기 코팅으로부터 배출된 휘발성 종, 상기 기판으로부터 배출된 휘발성 종 또는 이들의 조합일 수 있다. 일 측면에 있어서, 상기 휘발성 종은 상기 코팅으로부터 배출된 휘발성 종이고, 선택적으로는 휘발성 코팅 성분이며, 상기 검사는 상기 코팅의 존재, 특성 및/또는 조성을 측정하기 위해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. 다른 측면에 있어서, 상기 휘발성 종은 상기 기판으로부터 배출된 휘발성 종이며, 상기 검사는 상기 코팅의 존재 및/또는 상기 코팅의 차단 효과를 측정하기 위해 수행된다.
본 발명의 가스제거 방법은 용기 벽상에 코팅의 존재 및 특징들을 측정하는데 적합하다. 따라서, 상기 코팅된 기판은 상기 코팅 공정 중에 그 내부 또는 외부 표면상에 적어도 부분적으로 코팅된 벽을 갖는 용기일 수 있다. 예를 들면, 상기 코팅은 상기 용기 벽의 내부 표면상에 제공된다.
상기 코팅의 존부를 구별하고/하거나 상기 코팅의 물리적 및/또는 화학적 특성을 측정하는데 효과적인 조건은 1 시간 미만, 또는 1 분 미만, 또는 50 초 미만 또는 40 초 미만, 또는 30 초 미만, 또는 20 초 미만, 또는 15 초 미만, 또는 10 초 미만, 또는 8 초 미만, 또는 6 초 미만, 또는 4 초 미만, 또는 3 초 미만, 또는 2 초 미만, 또는 1 초 미만의 시험 지속기간을 포함할 수 있다.
예를　들어，　상기 기준 대상과 상기 검사 대상 사이에 배출 속도 및/또는 측정된 휘발성 종의 종류에 대하여 그 차이를 증가시키기 위하여, 상기 휘발성 종의 배출 속도는 주변 압력 및/또는 온도 및/또는 습도를 변경함으로써 변화될 수 있다. 본　발명에　따른　충진물질의　사용은　동일한　목적을　제공한다．
측정은，　예를　들어　마이크로흐름　기술을　이용하여　실시될　수　있다.
일 측면에 있어서, 상기 가스 제거는 마이크로캔틸레버 측정 기법을 이용하여 측정된다. 예컨대, 상기 측정은 하기를 수행하여 이루어질 수 있다.
(i) (a) 가스제거된 물질이 존재하는 경우, 상이한 형상으로 이동 또는 변화되는 특성을 갖는 적어도 하나의 마이크로캔틸레버를 제공하는 단계;
(b) 상기 마이크로캔틸레버를 상이한 형상으로 이동하거나 변화하게 하는데 효과적인 조건하에서 상기 마이크로캔틸레버를 상기 가스제거된 물질에 노출시키는 단계; 및
(c) 선택적으로는, 상기 마이크로캔틸레버를 상기 가스제거에 노출하기 전후에 형상을 변화시키는 상기 마이크로캔틸레버의 일 부분으로부터 예컨대, 레이저 빔과 같은 에너지 입사 빔을 반사하고, 상기 캔틸레버로부터 이격된 지점에서 이렇게 반사된 빔의 편향을 측정하고; 또는 하기와 같이 하여 이동 또는 상이한 형상을 검출하는 단계
(ii) (a) 가스제거된 물질이 존재하는 경우, 상이한 주파수에서 공명하는 적어도 하나의 마이크로캔틸레버를 제공하는 단계;
(b) 상기 마이크로캔틸레버를 상이한 주파수에서 공명하게 하는데 효과적인 조건하에서 상기 마이크로캔틸레버를 상기 기체제거된 물질에 노출시키는 단계; 및
(c) 예컨대, 조화 진동 센서를 사용하여, 상기 상이한 공명 주파수를 측정하는 단계.
또한, 상기 가스제거 방법을 수행하는 장치, 예를 들면 상술한 마이크로캔틸레버를 포함하는 장치가 고려된다.
본 발명의 가스제거 방법을 이용하여, 예를 들면 증기를 제거하는 물질상의 차단성 막이 검사되는데, 상기 검사 방법은 몇가지 단계들을 갖는다. 가스를 제거하고 적어도 하나의 부분적인 차단성 막을 갖는 물질의 시료가 제공된다. 본 발명의 일 측면에 있어서, 가스제거하는 물질의 적어도 일부가 상기 차단막의 고압 측면상에 존재하도록 압력 차등이 상기 차단막에 걸쳐 제공된다. 상기 차단막을 통과하는 가스제거된 가스가 측정된다. 만약 압력 차등이 존재하면, 상기 측정은 상기 차단막의 더 낮은 압력 측면상에서 통상적으로 수행된다.
본 발명의 다른 측면들은 이 개시물 및 첨부한 도면들로부터 명백할 것이다.
도　1은 본 개시물의 일 실시예에 따른 용기 처리 시스템을 도시하는 개략도이다.
도　2는 본 개시물의 일 실시예에 다른 코팅 스테이션에서 용기 지지대의 간략한 단면도이다.
도　20은 예비충진된 주사기로 사용하기 위해 맞춰진 주사기와 캡(cap)의 펼쳐진 길이방향 단면도이다.
도　26은 주사기 베럴들 및 다른 용기들을 처리하기 위한 본 발명의 다른 실시예의 도 22와 유사한 도면이다.
도　27은 도 26의 처리 용기의 확대된 상세도이다.
도　29는 코팅을 통해 물질의 가스제거를 보여주는 개략도이다.
도　30은 용기와 진공원 사이에 개재된 측정 셀을 사용하여, 용기에서 상기 용기의 내부로 가스제거 및 상기 가스제거의 측정을 수행하게 하는 시험 셋업(set-up)을 보여주는 간략한 단면도이다.
도　31은 다수개의 용기들을 위한 도 30의 상기 시험 셋업상에 측정된 가스제거 질량 유량의 플롯이다.
도　32는 도 31에 도시된 종말점 데이터의 통계 분석을 보여주는 바 그래프이다.
도　36은 본 발명의 또 다른 실시예에 다른 이중벽 혈액 수집 튜브 조립체의 사시도이다.
도　４５는　예를　들면，　도　１，　２　및　２６의　실시예들과　사용가능한　용기　지지대를 위한 다른　구조물이다.
도　５３은　용기들을　처리하는　조립체의　개략도이다． 조립체는 선행하는 도면 중 어느 하나의 장치와 함께 사용할 수 있다.
도　５７은 EP2251671 A2의　실시예　１９에서　측정된　가스제거　질량　유량의　플롯이다．
도　５８은　 선형　랙（ｒａｃｋ）을　도시한다．
도　５９는　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템을　간략히　도시한　것이다．
도　６０은　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템을　간략히　도시한　것이다．
도　６１은　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템의　처리　스테이션을　도시한　것이다．
도　６２는　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　휴대용　용기　지지대를　도시한　것이다.
도　６３은　EP2251671 A2의　실시예　10의　데이터를　나타내는　도 30의 상기 시험 셋업상에 측정된 가스제거 질량 유량의 플롯이다.
하기　참조　글자들은　도면　번호에　사용된다：
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Figure 112020096621774-pat00002

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몇몇 실시예들이 도시되어 있는 첨부 도면들을 참조하여 본 발명을 특히 보다 더 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 많은 다른 형태들로 실시될 수 있으며 여기에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 오히려, 이러한 실시예들은 청구의 범위에서 사용한 언어에 의해 나타내어진 전체 범위를 갖는, 본 발명의 예들이다. 유사한 번호들은 명세서 전체에 걸쳐서 해당되는 유사한 구성요소를 지칭한다.
정의 절
본 발명의 맥락에서, 하기 정의들 및 약어들이 사용된다:
RF는 무선 주파수이고; sccm은 분당 표준 입방 센티미터이다.
본 발명의 맥락에서 "적어도"라는 용어는 그 용어를 따르는 정수와 "같거나 초과하는"을 의미한다. "포함하는"이라는 단어는 다른 구성요소들 또는 단계들을 배제하지 않으며, "하나" 또는 "한"이라는 부정 관사는 달리 지시하지 않는 한 복수형을 배제하지 않는다. 파라미터 범위가 표시된 경우는 언제든지 그 범위의 한계 및 상기 범위 내의 파라티터의 모든 값으로서 파라미터 값을 개시하는 것으로 한다.
"제 1 " 및 "제 2" 또는 유사한 참조, 예컨대, 처리 스테이션 또는 처리 장치는 존재하고 있는 최소 숫자의 처리 스테이션 또는 장치를 지칭하지만, 처리 스테이션 및 장치의 순서 또는 전체 숫자를 반드시 나타내는 것은 아니다. 이러한 용어들은 처리 스테이션들의 숫자 또는 개별 스테이션들에서 수행되는 특정 처리를 제한하지 않는다.
본 발명의 목적을 위해, "유기실리콘 전구체"는 적어도 하나의　연결을 가지는 화합물：
Figure 112020096621774-pat00011
또는
Figure 112020096621774-pat00012
하나의　산소　원자　및　유기　탄소　원자（유기　탄소　원자는　적어도　하나의　산소　원자에　결합된　탄소　원자이다）에　연결된　４가　실리콘　원자이다． ＰＥＣＶＤ 장치에서 수증기로 공급될 수 있는 전구체로 정의된 휘발성 유기실리콘 전구체는 선택적인 유기실리콘 전구체이다. 선택적으로, 상기 유기실리콘 전구체는 선형 실록산, 모노사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 알킬 트리메톡시실란, 선형 실라잔, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 이 전구체들 중 2 이상의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
PECVD 전구체, 가스 반응물 또는 공정 가스, 및 캐리어 가스의 공급량들은 명세서 및 청구범위에서 종종 "표준 부피"로 표현된다. 전하의 표준 부피 또는 기타 가스의 고정량은 (실제 전달 온도 및 압력에 관계 없이) 고정량의 가스가 표준 온도와 압력에서 차지하는 부피이다. 표준 부피는 서로다른 부피 단위를 사용하여 측정될 수 있으며 본 개시서 및 청구범위의 범주 내에 여전히 있을 수 있다. 예를 들어, 가스의 동일한 고정량은 표준 입장 센티미터의 수, 표준 입방 미터의 수, 또는 표준 입방 피트의 수로서 나타낼 수 있다. 표준 부피는 서로다른 표준 온도 및 압력을 이용하여 정의될 수도 있으며, 본 개시서 및 청구범위의 범주 내에 여전히 있을 수 있다. 예를 들어, (종래와 같이) 표준 온도는 0℃일 수 있고 표준 압력은 760 Torr이거나, 표준 온도는 20℃이고 표준 압력은 1 Torr일 수 있다. 하지만 주어진 경우에서 어떠한 표준이 사용되든지, 특정 파라미터를 구체화하지 않은 채 둘 이상의 서로 다른 가스의 상대량을 비교하시, 달리 표시하지 않는 한 동일한 부피 단위, 표준 온도 및 표준 압력이 각 가스에 대해 사용될 것이다.
해당하는 PECVD 전구체, 가스 반응물 또는 공정 가스, 및 캐리어 가스의 공급 속도들은 명세서에서 종종 단위 시간당 표준 부피로 표현된다. 예를 들어, 작업예들에서, 유속은 sccm으로 약칭되는 분당 표준 입방 센티미터로 표현된다. 다른 파라미터들과 마찬가지로, 초나 시간과 같은 다른 시간 단위가 사용될 수 있으나, 달리 표현되지 않는 한 둘 이상의 가사를 비교 시 일치된 파라미터가 사용될 것이다.
본 발명의 맥락에서 "용기"는 적어도 하나의 개구부, 및 내부 표면을 정의하는 벽을 갖는 임의의 형태의 용기일 수 있다. 코팅 기판은 루멘을 가지는 용기의 내측벽일 수 있다. 본 발명은 특정 부피의 용기에 반드시 제한되는 것은 아니나, 루멘이 0.5 내지 50 mL, 선택적으로는 1 내지 10 mL, 더 바람직하게는 0.5 내지 5 mL, 선택적으로는 1 내지 3 mL의 공극 부피를 갖는 용기가 고려된다. 상기 기판 표면은 적어도 하나의 개구부 및 내부 표면을 갖는 용기의 내부 표면의 일부 또는 전부일 수 있다.
본 발명의 맥락에서 "적어도"라는 용어는 그 용어를 따르는 정수와 "같거나 초과하는"을 의미한다. 따라서, 본 발명의 맥락에서 용기는 하나 이상의 개구부를 갖는다. 시료 튜브(하나의 개구부) 또는 주사기 베럴(두 개의 개구부들)의 개구부들과 같이, 하나 또는 두 개의 개구부들이 바람직하다. 만약 상기 용기가 두 개의 개구부들을 갖는다면, 이들은 동일하거나 상이한 크기일 수 있다. 만약 하나를 초과하는 개구부가 있다면, 하나의 개구부는 본 발명에 따른 ＰＥＣＶＤ 코팅 방법을 위한 가스 입구에 사용될 수 있는 반면에, 나머지 개구부들은 캡핑되거나 개방된다. 본 발명에 따른 용기는 예컨대, 혈액 또는 뇨와 같은 생물학적 유체들을 수집하거나 저장하는 시료 튜브, 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물, 예컨대, 약제 또는 약학적 조성물을 저장하거나 전달하는 주사기(또는 그 부품, 예를 들면, 주사기 베럴), 예컨대, 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물을 저장하는 바이알, 예컨대, 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물을 수송하는 도관과 같은 파이프, 또는 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물을 지지하는 것과 같이, 유체들을 지지하는 큐베트일 수 있다.
용기는 임의의 유형일 수 있으며, 그 개방단들 중 적어도 하나에 인접한 실질적으로 실린더 형상의 벽을 갖는 용기가 바람직하다. 일반적으로, 상기 용기의 내부 벽은 예컨대, 시료 튜브 또는 주사기 베럴에서와 같이 실린더형의 형상이다. 시료 튜브들 및 주사기들 또는 그 부품들(예를 들면, 주사기 베럴들)이 고려되어진다.
본 발명의 맥락에서 "소수성 막"은 코팅이 코팅되지 않은 해당 표면과 비교하여, 상기 코팅으로 코팅된 표면의 젖음 장력을 낮추는 것을 의미한다. 따라서, 소수성은 코팅되지 않은 기판 및 코팅 양쪽 모두의 기능이다. 동일한 사항이 적절히 변형되어 "소수성"이라는 용어가 사용되는 다른 문맥들에 적용된다. "친수성"이라는 용어는 그 반대, 즉, 젖음 장력이 기준 시료에 비하여 증가되는 것을 의미한다. 본 소수성 막은 그 소수성에 의해 주로 정의되며 소수성을 제공하는 공정 조건 및 선택적으로 실험 조성이나 합계공식 SiwOxCyHz. 에 따른 조성물을 가질 수 있다.
일반적으로 SiwOxCy의 원자비를 가지는 데, 여기서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이며, 바람직하게는 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 1.5이고, y는 0.9 내지 2.0이며, 더욱 바람직하게는 w는 1이고, x는 0.7 내지 1.2이고, y는 0.9 내지 2.0이다. 원자비는 X선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)에 의해 정해질 수 있다. 수소 원자를 고려하여, 코팅은 따라서 일 측면에서 예를 들면, w는 1이고, x는 w로서 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이고, z는 약 2 내지 약 9인 식 SiwOxCyHz를 가질 수 있다. 전형적으로, 원자비는 본 발명의 특정 코팅에서 Si 100: O 80-110: C 100-150이다. 구체적으로, 원자비는 Si 100: O 92-107: C 116-133 일 수 있으며, 이러한 코팅은 따라서 탄소와 산소와 실리콘 100%로 정규화된 36% 내지 41%의 탄소를 함유한다.
w, x, y 및 z의 이러한 값들은 본 명세서 전체에 걸쳐 실험식 SiwOxCyHz에 적용될 수 있다. 본 명세서 전반에 걸쳐 사용된 w, x, y 및 z의 수치들은 하나의 분자에서 원자들의 수에 대한 제한이라기 보다는 비유율 또는 실험식(예컨대, 코팅에 대해)으로 이해되어야 한다. 예를 들면, Si4O4C8H24의 분자 조성을 갖는 옥타메틸시클로테트라실록산은 최대 공통 인수인 4로 분자식에 있는 w, x, y 및 z의 각각을 나누어서 이르게 된 하기 실험식으로 기재될 수 있다: Si1O1C2H6. 또한, w, x, y 및 z의 수치들은 정수에 한정되지 않는다. 예를 들면, Si3O2C8H24의 분자 조성인 (어사이클릭) 옥타메틸트리실록산은 Si1O0.67C2.67H8으로 환원될 수 있다.
"젖음 장력"은 표면의 소수성 또는 친수성에 대한 특정한 척도이다. 본 발명의 맥락에서 선택적인 젖음 장력 측정 방법은 ASTM D 2578이거나, ASTM D 2578에 기술된 방법의 변형이다. 이 방법은 정확히 2 초 동안 플라스틱 필름 표면을 적시는데 가장 가까운 용액을 측정하기 위해 표준 젖음 장력 용액들(다인(dyne) 용액들이라고 함)을 사용한다. 이것은 필름의 젖음 장력이다. 여기에 사용된 절차는 기판들이 평평한 플라스틱 필름들이 아니고, PET 튜브를 형성하기 위한 프로토콜에 따라 제작되고 튜브 내부를 소수성 막으로 코팅하기 위한 프로토콜에 따라 코팅된(대조군들 제외) 튜브들이라는 점에서, ASTM D 2578과는 변형된 것이다 (EP2251671 A2의 실시예 9 참조).
본 발명에 따른 "윤활성 막"은 코팅되지 않은 표면보다 더 낮은 마찰 저항을 갖는 코팅이다. 즉, 코팅되지 않은 기준 표면과 비교하여 코팅된 표면의 마찰 저항을 감소시킨다. 본 윤활성 막은 코팅되지 않은 표면 보다 낮은 마찰저항성에 의해 주로 정의되며 코팅되지 않은 표면 보다 더 낮은 마찰저항성을 제공하는 공정 조건 및 선택적으로 실험 조성이나 합계공식 SiwOxCyHz에 따른 조성물을 가질 수 있다. 일반적으로 SiwOxCy의 원자비를 가지는 데, 여기서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이며, 바람직하게는 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 1.5이고, y는 0.9 내지 2.0이며, 더욱 바람직하게는 w는 1이고, x는 0.7 내지 1.2이고, y는 0.9 내지 2.0이다. 원자비는 X선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)에 의해 정해질 수 있다. 수소 원자를 고려하여, 코팅은 따라서 일 측면에서 예를 들면, w는 1이고, x는 w로서 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이고, z는 약 2 내지 약 9인 식 SiwOxCyHz를 가질 수 있다. 전형적으로, 원자비는 본 발명의 특정 코팅에서 Si 100: O 80-110: C 100-150이다. 구체적으로, 원자비는 Si 100: O 92-107: C 116-133 일 수 있으며, 이러한 코팅은 따라서 탄소와 산소와 실리콘 100%로 정규화된 36% 내지 41%의 탄소를 함유한다.
"마찰 저항"은 정지 마찰 저항 및/또는 운동 마찰 저항일 수 있다. 본 발명의 선택적인 실시예들 중 하나는 윤활성 막으로 코팅된 주사기 부품, 예컨대, 주사기 베럴 또는 플런저이다. 본 고려되는 실시예에서, 본 발명의 맥락에서의 적절한 정지 마찰 저항이란 본 명세서에 정의된 브레이크아웃 힘이며, 본 발명의 맥락에서 적절한 운동 마찰 저항이란 본 명세서에 정의된 플런저 활동력이다. 예를 들면, 본 명세서에 정의되고 측정된 플런저 활동력은 코팅이 임의의 주사기 또는 주사기 부품, 예컨대, 주사기 베럴의 내부 벽에 도포되는 경우에 본 발명의 맥락에서 윤활성 막의 존부 및 윤활 특징을 결정하는데 적당하다. 브레이크아웃 힘은 예비충진된 주사기, 즉, 코팅 이후에 충진되고 플런저가 다시 이동되기("브로큰 아웃(broken out)"되어야만 되는) 전에 일정 시간, 예컨대, 몇달 또는 심지어 몇년 동안 저장될 수 있는 주사기에 미치는 코팅 효과의 평가에 특히 적당한 것이다.
"활강가능하게"는 플런저，클로져，　또는　기타　제거가능한　부분이　주사기　베럴이나　다른　용기　내에서 활강하는 것을 의미한다.
본 발명의 맥락에서, "실질적으로 견고한"은 조립된 부재들(아래에서 더 설명되는, 포트들, 덕트 및 하우징)이 상기 조립된 부재들 중 어느 하나가 나머지 다른 것들에 대하여 현저히 변위되지 않으면서, 상기 하우징을 조작하여 하나의 단위로 이동될 수 있는 것을 의미한다. 구체적으로, 상기 부재들 중 어느 것도 정상적인 사용시에는 상기 부품들 사이에서 실질적인 상대 운동을 하도록 하는 호스 등에 의하여 연결되지 않는다. 이러한 부품들의 실질적으로 견고한 관계를 제공하면 용기 지지대 상에 안착된 용기의 위치가 하우징에 고정된 이 부품들의 위치들만큼 알수 있게 되고 정확해진다.
하기에서, 본 발명을 수행하는 장치가 먼저 기술되고, 이어서 본 발명에 따른 코팅 방법들, 코팅과 코팅된 용기들 및 가스　제거　방법이 보다　상세히　기술될 것이다.
I． 다중 처리 스테이션 및 다중 용기 지지대를 갖는 용기 처리과정 시스템
I. 제 1 처리 스테이션, 제 2 처리 스테이션, 복수개의 용기 지지대들 및 컨베이어를 포함하는 용기 처리 시스템이 고려된다. 상기 제 1 처리 스테이션은 개구부를 갖는 용기 및 내부 표면을 정의하는 벽을 처리하도록 맞춰져 있다. 상기 제 2 처리 스테이션은 상기 제 1 처리 스테이션으로부터 이격되어 있으며 개구부를 갖는 용기 및 내부 표면을 정의하는 벽을 처리하도록 맞춰져 있다.
I. 상기 용기 지지대의 적어도 일부, 선택적으로는 모두는 용기 포트는 상기　제　１　처리에서　상기　용기　포트를　통해　상기　안착된　용기의　내부　표면을　처리하는　상기　용기의　개구부를　수용하고 안착하도록　구성된 용기 포트를 포함한다. 상기 컨베이어는 제 1 처리 스테이션으로부터 상기 제 2 처리 스테이션에서 상기 안착된 용기의 내부 표면의 처리를 위한 제 2 처리 스테이션으로 일련의 상기 용기 지지대 및 안착된 용기를 이송하기 위해 구성되어 있다.
I. 우선 도 1을 참조하면, 개괄적으로 20으로 표시된 용기 처리 시스템이 도시되어 있다. 상기 용기 처리 시스템은 처리 장치들로 더 광범위하게 고려되는 처리 스테이션들을 포함할 수 있다. 상기 도시된 실시예의 용기 처리 시스템(20)은 (처리 스테이션 또는 장치로 간주될 수 있는) 사출 성형기(22), 추가적인 처리 스테이션들 또는 장치들(24, 26, 28, 30, 32, 및 34) 및 (처리 스테이션 또는 장치로 간주될 수 있는) 아웃풋(36)을 포함할 수 있다. 최소한도에서, 상기 시스템(20)은 적어도 제 1 처리 스테이션, 예를 들면, 스테이션(28), 및 제 2 처리 스테이션, 예를 들면, 30, 32 또는 34를 갖는다.
I. 예시된 실시예에서 처리 스테이션들(22 내지 36) 중 하나는 제 1 처리 스테이션일 수 있고, 임의의 다른 처리 스테이션은 제 2 처리 스테이션 등일 수 있다.
I. 도 1에 도시된 실시예는 하기 8 개 처리 스테이션들 또는 장치들을 포함할 수 있다: 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34, 및 36. 상기 예시적인 용기 처리 시스템(20)은 사출 성형기(22), 사후-성형 검사 스테이션(24), 사전-코팅 검사 스테이션(26), 코팅 스테이션(28), 사후-코팅 검사 스테이션(30), 코팅의 두께를 측정하는 광학원 전달 스테이션(32), 결함 여부를 알아보기 위해 코팅을 검사하는 광학원 전달 스테이션(34) 및 아웃풋 스테이션(36)을 포함한다.
I. 상기 시스템(20)은 용기들을 상기 사출 성형기(22)로부터 용기 지지대(38)로 이동시키는 전달 메커니즘(72)을 포함할 수 있다. 상기 전달 메커니즘(72)은 예를 들면, 상기 용기들(80)을 발견하고, 이동하고, 집고, 전달하고, 방향잡고, 안착시키고 배출시켜 이들을 상기 용기 형성 기계(22)로부터 제거하고 (38)과 같은 상기 용기 지지대들상에 이들을 설치하는 로보트 팔로 구성될 수 있다.
I. 또한, 상기 시스템(20)은 (80)과 같은 안착된 용기의 내부 표면을 처리하는 단계 이후에, (66)과 같은 하나 이상의 용기 지지대들로부터 상기 용기를 제거하는 처리 스테이션(74)에서 전달 메커니즘을 포함할 수 있다(도　１）． 따라서, 상기 용기들(80)은 상기 용기 지지대(66)로부터 일반적으로 36으로 표시된, 포장, 저장 또는 다른 적당한 영역 또는 공정 단계로 이동가능하다. 상기 전달 메커니즘(74)은 예를 들면, 상기 용기들(80)을 발견하고, 이동하고, 집고, 전달하고, 방향잡고, 안착시키고 배출시켜 이들을 상기 용기 지지대들(38)로부터 제거하고 상기 스테이션(36)에서 다른 장비상에 이들을 설치하는 로보트 팔로 구성될 수 있다.
I. 도 1에 도시된 처리 스테이션들 또는 장치들(32, 34 및 36)은 상기 개별 용기들(80)이 (64)와 같은 상기 용기 지지대들로부터 제거된 이후에, 코팅 및 검사 시스템(20)의 아래로 하나 이상의 적절한 단계들을 선택적으로 수행한다. 처리 스테이션들 또는 장치들(32, 34 및 36)의　기능들의　일부　비한정적인　예들은　다음을　포함한다：
ㆍ 상기 처리되고 검사된 용기들(80)을 컨베이어상에 놓아 다른 처리 장치로 이동시키는 단계;
ㆍ 상기 용기들에 화학물질들을 첨가하는 단계；
ㆍ 상기 용기들을 캡핑하는 단계;
ㆍ 상기 용기들을 적절한 처리 랙들 내에 위치시키는 단계;
ㆍ 상기 용기들을 포장하는 단계; 및
ㆍ 상기 포장된 용기들을 살균하는 단계
I. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 용기 처리 시스템(20)은 각각 38에서 68인 복수개의 용기 지지대들(또는 "퍽들" 이들이 일부 실시예들에서 하키 퍽을 닮았으므로) 및 일반적으로 끝이 없는 밴드(70)로 표기된, 하나 이상의 용기 지지대들(38 내지 68) 및 따라서, (80)과 같은 용기들을 상기 처리 스테이션들(22, 24, 26, 28, 30, 32, 34 및 36)로 왕복 수송하는 컨베이어를 포함할 수 있다.
I. 상기 처리 스테이션 또는 장치(22)는 상기 용기들(80)을 형성하는 장치일 수 있다. 고려되는 하나의 장치(22)는 사출 성형기일 수 있다. 또 다른 고려되는 장치(22)는 중공(blow) 성형기일 수 있다. 또한, 진공 성형기, 인출 성형기, 절단 또는 밀링기, 유리 또는 다른 인출 성형가능한 물질들을 인출하는 유리 인출 성형기 또는 다른 유형의 용기 형성 기계들도 고려된다. 선택적으로, 상기 용기 형성 스테이션(22)은 이미 형성된 용기들을 구할 수 있으므로, 생략될 수 있다.
II. 용기 지지대
II.A. 휴대용 용기 지지대들(38 내지 68)은 상기 용기가 처리되는 동안에 개구부를 갖는 용기를 지지하고 이동하도록 제공된다. 상기 용기는 용기 포트, 제 2 포트, 덕트 및 이동가능한 하우징을 포함한다.
II.A. 상기 용기 포트는 서로 연통하는 관계인 용기 개구부를 안착시키도록 구성되어 있다. 상기 제 2 포트는 외부　가스　공급기　또는　배출구를　수용하도록 구성되어 있다. 상기　용기　포트상에　안착된　용기　개구부와　상기　제　２　포트　사이에서　하나 이상의 가스를　통과시키도록 구성되어 있다． 상기 용기 포트, 제 2 포트 및 덕트는 상기 이동가능한 하우징에 실질적으로 견고하게 부착되어 있다. 선택적으로, 상기　휴대용 용기　지지대는　5 파운드 미만의 무게가 나간다． 경량 용기 지지대의 장점은 하나의 처리 스테이션에서 다른 스테이션으로 더 용이하게 수송될 수 있다는 것이다.
II.A. 상기 용기 지지대의 특정 실시예들에서, 상기 덕트는 특이적으로는 진공 덕트이며 상기 제 2 포트는 특이적으로는 진공 포트이다. 상기 진공 덕트는 상기　용기　포트상에　안착된　용기로부터　가스를　회수하도록 구성되어 있다. 상기 진공 포트는 상기 진공 덕트 및 외부 진공원 사이에서 연통하도록 구성되어 있다. 상기 용기 포트, 진공 덕트 및 진공 포트는 상기 이동가능한 하우징에 실질적으로 견고하게 부착되어 있다.
II.A. 실시예 II.A 및 II.A.1.의 상기 용기 지지대들은 예를 들면, 도2 에 도시되어 있다. 상기 용기 지지대(50)는 용기(80)의 개구부를 수용하고 안착시키도록 구성된 용기 포트(82)를 갖는다. 안착된 용기(80)의 내부 표면은 상기　용기　포트(82)를　통해 처리될 수 있다. 상기 용기 지지대(50)는 상기　용기　포트(92)상에　안착된　용기(80)로부터　가스를　회수하는 덕트, 예를 들면, 진공 덕트(94)를 포함할 수 있다. 상기 용기 지지대는 상기 진공 덕트(94) 및, 상기 진공 펌프(98)와 같은 외부 진공원 사이에서 연통하는 제 2 포트, 예를 들면, 진공 포트(96)를 포함할 수 있다. 상기 용기 포트(92) 및 진공 포트(96)는 상기 용기 포트(82)의 내부 또는 외부 실린더형 벽 및 상기 용기(80)의 내부 또는 외부 실린더형 벽 사이에 예를 들면, O-링 지지 실들, 각각 (100) 및 (102)인 밀봉 구성용소들을 가져, 상기 포트를 통해 연통이 가능하게 하면서 상기 용기(80) 또는 외부 진공원(98)과 실을 수용하고 형성할 수 있다. 또한，가스킷 또는 다른 밀봉 방식들도 사용될 수 있다.
II.A. (50)과 같은 상기 용기 지지대는 임의의 물질, 예를 들면, 열가소성 물질 및/또는 전기적으로 비전도성인 물질로 제작될 수 있다. 또한, (50)과 같은 용기 지지대는 전기적으로 전도성인 물질로 부분적으로 또는 주로 제작되고, 특히 상기 용기 포트(92), 진공 덕트(94) 및 진공 포트(96)에 의하여 정의되는 통로들에서 전기적으로 비전도성인 물질과 대항할 수 있다. 상기 용기 지지대(50)에 적합한 물질들의 예들은 다음과 같다: 폴리아세탈, 예를 들면, 델라웨어 주 Wilmington 소재 E. I. 듀퐁 데 네무어스 회사가 판매하는 Delrin® 아세탈 물질; 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 예를 들면, 델라웨어 주 Wilmington 소재 E. I. 듀퐁 데 네무어스 회사가 판매하는 Teflon® PTFE; 초고분자량 폴리에틸렌(UHMWPE); 고밀도 폴리에틸렌(HDPE); 또는 업계에 공지되거나 새롭게 발견된 다른 물질들.
II.A. 또한, 2는 예를 들면 (50)인 용기 지지대가 상기 포트(92)에 접근하거나 안착되는 경우 상기 용기(80)를 중심잡게 하는 고리(116)를 가질 수 있다.
용기 지지대들의　어레이
II.A. 생산 시스템을 통해 부품들을 처리, 검사 및/또는 이동시키는 또 다른 접근법은 용기 지지대들의　어레이를 사용하는 것일 수 있다. 상기 어레이들은 개별 퍽들로 구성될 수 있거나 장치들이 적재되는 고체 어레이일 수 있다. 어레이는 하나 이상의 장치, 선택적으로는 많은 장치들이 동시에 시험되고, 이동되거나 처리/코팅되도록 할 수 있다. 상기 어레이는 예를 들면, 함께 그룹되어 선형 랙을 형성하는 1차원적이거나 텁(tub) 또는 트레이(tray)와 유사한 2차원적일 수 있다.
II.A. 도 4, 5 및 58은 세가지 어레이 접근법들을 도시한다. 도　4는 상기 장치들 또는 용기들(80)이 적재되는 고체 어레이(120)를 도시한다. 이 경우에, 상기 장치들 또는 용기들(80)은 이들이 상기 생산 공정을 통해 이동되고 개별 용기 지지대들로 이동될 수 있다고 하더라도, 고체 어레이로서 생산 공정을 통해 이동할 수 있다. 단일 용기 지지대(120)는 한 단위로서 이동하는 (80)과 같은 안착된 용기들의 어레이를 이동시키기 위한 (122)와 같은 복수개의 용기 포트들을 갖는다. 본 실시예에서, (96)과 같은 복수개의 개별 진공 포트들은 진공원들의 어레이(98)를 수용하도록 제공될 수 있다. 또한, (96)과 같은 모든 용기 포트들에 연결된 단일 진공 포트가 제공될 수 있다. 또한, (108)과 같은 복수개의 가스 입력 프로브들이 어레이에 제공될 수 있다. 가스 입력 프로브들 또는 진공원들의 어레이들은 장착되어 한 단위로서 이동하여 (80)과 같은 다수의 용기들을 동시에 처리할 수 있다. 또한, (122)와 같은 복수개의 용기 포트들은 처리 스테이션에서 한번에 한 줄 이상으로, 또는 개별적으로 처리될 수 있다. 상기 어레이에서 장치들의 숫자는 단일 단계에서 성형되는 장치들의 숫자 또는 작동 도중에 효율을 가능하게 할 수 있는 다른 시험들 또는 단계들과 관련될 수 있다. 어레이를 처리/코팅하는 경우, 전극들이 함께 커플링되어(하나의 대형 전극을 형성하고) 또는 자신의 전력 공기와의 개별 전극들일 수 있다. 상기 모든 접근법들은 (전극의 기하학적 구조, 주파수 등의 관점에서) 여전히 적용가능할 수 있다.
II.A. 도 5에서, 개별 퍽들 또는 용기 지지대들(상기에서 다뤄짐)은 이들을 외부 프레임(130)으로 둘러쌈으로서 함께 어레이 속으로 가져가게 된다. 이러한 배열은 이를 원하는 경우에, 도 4의 고체 어레이의 장점들을 제공하며, 또한, 상기 용기들(80)이 다른 어레이들에서 또는 단독으로 처리되는 다른 처리 단계들을 위해 상기 어레이가 해체되도록 한다.
II.A. 도　５８은　도　４와　유사한　선형　랙（ｒａｃｋ）을　도시한다． 만약 선형 랙이 사용되면, 상기 설명된 것 이외에, 다른 옵션은 처리 스테이션을 통해 단일 파일 형식으로 상기 랙을 수송하여, 상기 용기들을 직렬로 처리한다.
II.B. O-링 배열을 포함하는 용기 지지대
II.B. 도 42 및 43은 각각 용기 지지대상에 용기를 안착시키기 위한 도 2, 3, 6, 7, 19, 12, 13, 16, 18, 19, 30 및 43의 용기 지지대 실시예들과 사용가능한，　대체적인　실링　배열로　제공되는　용기 지지대(450)의 단편적인 상세 길이방향 단면 및 상세도이다. 도 42를 참조하면, 상기 용기, 예를 들면, 상기 용기 지지대(450)상에 안착된 주사기 베럴(438)은 대략 실린더형 측벽(454)뿐만 아니라 일반적으로 환상(및 공통적으로 모서리를 깍아내거나 둥근) 립(452)에 의하여 정의된 후위 개구부(442)를 갖는다. 의료 체액 수집 튜브는 공통적으로 동일한 유형의 립(452)을 갖지만, 플랜지(440)가 없어서, 대신에 상기 용기 지지대(450)상에 안착될 수 있다.
II.B. 도시된 실시예에서 상기 용기 지지대(450)는 상기 도시된 실시예에서 가이드 표면　역할을　하여 상기 주사기 베럴(438)의 대략 실린더형인 측벽(454)을 수용하는 대략 실린더형인 내부 표면(456)을 포함한다. 또한, 상기 벽은 상기 주사기 베럴(438)이 상기 용기 지지대(450)상에 안착되는 경우 상기 환상 립(452)이 접합하게 되는 일반적으로 환상 접합부(458)에 의하여 정의된다. 상기 내부 표면(456)에 형성된 일반적으로 환상 포켓 또는 홈(460)은 밀봉 구성요소, 예를 들면, O-링(462)을 지탱하도록 제공된다. 상기 포켓(460)의 방사상 깊이는 상기 밀봉 구성요소, 예를 들면 O-링(462)(도 42에 도시됨)의 방사상 단면보다 작으며, 바람직하게는 상기 O-링(462)의 내경이 상기 환상 립(452)의 외경보다 약간 더 작다.
II.B. 이러한 상대적 치수들은 (438)과 같은 용기가 도 에서 도시된 바와 같이 안착되는 경우, 도 42에 도시된 바와 같이, 적어도 상기 포켓(460)의 외부 벽(464)과 상기 주사기 베럴(438)의 대략 실린더형 측벽(454) 사이에서 상기 O-링(462)의 방사상 단면이 수평으로 압축하도록 한다. 이 압축은 상기 O-링(462)의 베어링 표면들을 평평하게 하여, 적어도 상기 포켓(460)의 외부 벽(464)과 상기 주사기 베럴(438)의 대략 실린더형 측벽(454) 사이에서 실을 형성하게 된다.
II.B. 상기 포켓(460)은 선택적으로는, O-링(462)의 수치들과 관련하여, 상단 및 하단 벽들(468 및 466)을 상기 O-링(462)의 해당 방사상 단면 직경만큼 멀리 이격시켜 상기 하단 및 상단 벽들(466 및 468)과 상기 측벽(454) 사이에서 둘 이상의 실들을 형성하도록 제작될 수 있다. 상기 O-링(462)은 상기 외부 벽(464)과 상기 포켓(460)의 대략 실린더형 측벽(454) 사이에서 압착되는 경우, 그 복원력으로 인하여 도 43에 도시된 바와 같이 위 아래로 확장하여, 상기 상단 및 하단 벽들(466 및 464)과 맞물리게 되고 이들에 대해 평평하게 된다. 선택적으로는, 상기 O-링(462)은 수직 및 수평으로 변형되어 정상적으로는 둥근 단면을 사각형으로 만드는 경향이 있다. 또한, 상기 접합부(458)에 안착된 환상 립(452)은 상기 후위 개구부(442)를 통하여 도입되거나 이와 인접한 ＰＥＣＶＤ 공정 반응물질들 및 다른 가스들의 흐름을 제한할 것이다.
II.B. 이러한 선택적인 구조의 결과로서, 도 43에 도시된 바와 같이, 상기 O-링(462)의 하부 우측 모서리에 있는 갭만이 상기 O-링들의 외부에 있게 되어, 상기 용기(438)의 내부로 도입되거나 내부에서 생성되는 공정 가스들, 플라즈마 등에 노출되게 된다. 이 구조는 ＰＥＣＶＤ 증착물들의 원하지 않는 축적 및 플라즈마 내에서 활성화된 화학종에 의한 공격으로부터 상기 O-링(462) 및 인접한 표면들(상기 측벽(438)의 외부 표면으로서)을 보호한다. 또한, 상기 용기(438)는 다른 도면들의 일부에서 도시된 바와 같이, 상기 O-링에 대해 직접적으로 상기 환상 립(452)의 접합 좌석(butt seat)에 의해 제공되는 탄성 표면들과는 달리, 상기 접합부(458)의 단단한 표면에 의하여 더 적극적으로 장소가 정해진다. 또한, 상기 O-링(462)의 주 원주(major circumference) 주변의 각각의 부분들에 작용하는 힘들은 상기 용기(438)가 임의의 실질적인 로킹(rocking)에 대해 조여짐에 따라, 더 고르게 분포된다.
II.B. 또한, 상기 포켓(460)은 도 43에 도시된 접합부(458) 위에 바닥 벽(466)과 함께 형성될 수 있다. 다른 실시예에서, 축상으로 이격된 하나 이상의 포켓(460)은 이중 또는 더 높은 수준의 실을 제공하고 상기 접합부(458)에 대하여 안착되는 경우 로킹에 대해 상기 용기(438)를 더 조여지도록 제공될 수 있다.
II.B.도　４５는　예를　들면，　다른　도면의　실시예들과　함께　사용가능한　용기　지지대(482)를 위한 다른　구조물이다. 상기 용기 지지대(482)는 조인트(488)에서 함께 접합된 상부 부위(484) 및 베이스(486)를 포함한다. 실링 구성요소, 예를 들면, O-링(490)(이것의 우측면은 잘려져 있어 이를 지탱하는 포켓이 설명되도록 하고 있다)은 상기 조인트(488)에서 상기 상부 부위(484) 및 베이스(486) 사이에서 포획된다. 도시된 실시예에서, 상기 O-링(490)은 상기 상부 부위(484)가 상기 베이스(486)에 연결되는 경우 환상 포켓(492) 내에 수용되어 상기 O-링에 위치하게 된다.
II.B. 이 실시예에서, 상기 O-링(490)은 포획되고, 상기 상부 부위(484) 및 상기 베이스(486)가 연결되는 경우, 이 경우에 나사들(498 및 500)에 의하여 방사상으로 연장하는 접합부 표면(494) 및 상기 포켓(492)을 부분적으로 정의하는 상기 방사상으로 연장하는 벽(496)에 대하여 지탱하게 된다. 따라서, 상기 O-링(490)은 상기 상부 부위(484) 및 베이스(486) 사이에 안착한다. 또한, 상기 상부 부위(484) 및 상기 베이스(486) 사이에서 포획된 O-링(490)은 상기 용기(80)(이 도면에서는 다른 특징들이 도시되는 경우 명료함을 위해 제거되었음)를 수용하고, 도 ４２에서 상기 용기 후위 개구부(442) 주위의 상기 O-링 밀봉 배열과 유사한, 상기 용기(80) 개구부 주위에 상기 용기 포트(502)의 제 1 O-링 실을 형성한다.
II.B. 이 실시예에서, 비록 필수적인 것은 아니지만, 상기 용기 포트(502)는 상기 제 1 O-링(490) 실 및 제 2 축상으로 이격된 O-링(504) 실 양쪽 모두를 갖는데, 각각은 상기 용기 포트(502)와 (80)과 같은 용기 사이에 밀봉을 위해 (80)과 같은 용기의 외경(도 43에서 측벽(454)과 유사)을 수용하도록 크기 조절된 (506)과 같은 내경을 갖는다. 상기 O-링들(490 및 504) 사이의 공간은 두 개의 축상으로 이격된 지점들에서 (80)과 같은 용기에 대한 지지를 제공하여, (80)과 같은 용기가 상기 O-링들(490 및 504) 또는 상기 용기 포트(502)에 대하여 뒤틀리는 것을 방지한다. 이 실시예에서, 비록 필수적인 것은 아니지만, 방사상으로 연장되는 접합부 표면(494)은 상기 O-링(490 및 506) 실들 가까이 위치되고 상기 진공 덕트(508)를 둘러싸고 있다.
III. 용기 이송 방법-용기 지지대 상에 안착된 용기 처리
III.A. 용기 지지대를 처리 스테이션으로 수송하는 단계
III.A. 도 1, 2 및 10은 용기(80)를 처리하는 방법을 보여준다. 상기 방법은 다음과 같이 수행될 수 있다.
III.A. 개구부(82) 및 내부 표면(88)을 정의하는 벽(86)을 갖는 용기(80)가 제공될 수 있다. 일 실시예로서, 상기 용기(80)는 (22)와 같은 성형틀 내에 형성되고 이후 이로부터 제거될 수 있다. 선택적으로는, 상기 용기를 상기 성형틀로부터 제거한 후 60 초 이내 또는 30 초 이내, 또는 25 초 이내, 또는 20 초 이내, 또는 15 초 이내, 또는 10 초 이내, 또는 5 초 이내, 또는 3 초 이내, 또는 1 초 이내 또는 용기(80)를 처리하는 도중에 이를 뒤틀리게 하지 않고 상기 용기(80)가 이동될 수 있도록 하자마자(고온에서 제작되어, 이로부터 점진적으로 냉각된다고 가정하자), 상기 용기 개구부(82)는 상기 용기 포트(92)상에 안착될 수 있다. 상기 용기(80)를 상기 성형틀(22)로부터 상기 용기 포트(92)로 제빨리 이동시키면 상기 표면(88)에 도달할 수 있는 먼지 또는 다른 불순물들을 줄이고 상기 차단성 코팅 또는 다른 유형의 코팅(90)의 접착을 막거나 방지하게 된다. 또한, 상기 용기(80)가 제작된 이후에 상기 용기(80)상에 진공을 재빨리 뽑으면 뽑을수록, 미세입자 불순물들이 상기 내부 표면(88)에 부착할 가능성이 더 낮아진다.
III.A. 용기 포트(92)를 포함하는 (50)과 같은 용기 지지대가 제공될 수 있다. 상기 용기(80)의 개구부(82)는 상기 용기 포트(92)상에 안착될 수 있다． 상기 용기 포트(92)상에 상기 용기(80)의 개구부(82)를 안착시키기 이전, 안착 도중 또는 안착 이후에, (40)과 같은 상기 용기 지지대는 이송되어 하나 이상의 상기 베어링 표면들(220 내지 240)과 맞물려서 (24)와 같은 처리 장치 또는 스테이션에 대하여 상기 용기 지지대(40)에 위치할 수 있다.
III.A. 하나, 둘 이상 또는 모든 처리 스테이션들은 (24)와 같은 처리 스테이션 또는 장치에서 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)을 처리하는 동안 (40)과 같은 하나 이상의 용기 지지대들을 소정의 위치에서 지지하도록 하는, 하나 이상의 베어링 표면들을 포함할 수 있다. 이러한 베어링 표면들은 예를 들면, 상기 용기가 처리되는 동안에 (40)과 같은 용기 지지대를 가이드하고 위치시키는 트랙들 또는 가이드들과 같은 정지 또는 이동 구조의 일부분 일 수 있다. 예를 들면, 상기 아래방향으로 향하는 베어링 표면들(222 및 224)은 상기 용기 지지대(40)에 위치하여, 프로브(108)가 상기 용기 지지대(40)로 삽입되는 경우에 상기 용기 지지대(40)가 윗 방향으로 이동하지 못하도록 반응 표면으로 작용한다. 상기 반응 표면(236)은 진공원(98)(도 2)이 상기 진공 포트(96)상에 안착되는 동안에 상기 용기 지지대에 위치하고 상기 용기 지지대(40)가 좌측으로 이동하는 것을 방지한다. 상기 베어링 표면들(220, 226, 228, 232, 238 및 240)은 유사하게는 상기 용기 지지대(40)에 위치하여 처리되는 동안에 수평 이동을 방지한다. 상기 베어링 표면들(230 및 234)은 유사하게는 (40)과 같은 상기 용기 지지대에 위치하여 수직으로 위치를 이탈하여 이동하는 것을 방지한다. 따라서, 제1 베어링 표면, 제2 베어링 표면, 제3 베어링 표면, 또는 그 이상은 각각의 처리 스테이션에 제공될 수 있다.
III.A. 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 일례로 차단 또는 도２ 에 도시된 다른 유형의 코팅 장치(28)일 수 있는 상기　제　１　처리　스테이션에서　상기　용기　포트(92)를　통해 처리될 수 있다. 상기 용기 지지대(50) 및 안착된 용기(80)는 상기 제 1 처리 스테이션(28)으로부터 상기 제 2 처리 스테이션, 예를 들면, 상기 처리 스테이션(32)으로 수송된다. 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 (32)와 같은 상기　제　2　처리　스테이션에서　상기　용기　포트(92)를　통해 처리될 수 있다.
III.A. 상기 방법들 중 하나는 상기 제 2 처리 스테이션 또는 장치에서 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)을 처리한 이후에 (66)과 같은 용기 지지대로부터 상기 용기(80)를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
III.A. 상기 방법들 중 하나는 상기 제거 단계 이후에, 개구부(82)를 갖는 제 2 용기(80)와 내부 표면(88)을 정의하는 벽(86)을 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다. (80)과 같은 상기 제 2 용기의 개구부(82)는 (38)과 같은 다른 용기 지지대의 용기 포트(92)상에 안착될 수 있다． 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면은 (24)와 같은 상기　제　1　처리　스테이션 또는 장치에서　상기　용기　포트(92)를　통해 처리될 수 있다. (38)과 같은 상기 용기 지지대 및 안착된 제 2 용기(80)는 상기 제 1 처리 스테이션 또는 장치(24)로부터 (26)과 같은 상기 제 2 처리 스테이션으로 수송될 수 있다. 상기 안착된 제 2 용기(80)는 상기　제　2　처리　스테이션 또는 장치(26)에 의해 상기 용기 포트(92)를 통해 처리될 수 있다.
III.B. 처리 장치를 용기 지지대로 또는 그 반대로 수송하는 단계.
III.B. 또한, 상기 처리 스테이션들은 더 광범하게는 처리 장치들일 수 있으며, 상기 용기 지지대들은 상기 처리 장치들에 대하여 전달될 수 있고, 상기 처리 장치들은 상기 용기 지지대들에 대하여 이동될 수 있거나, 각각의 배열의 일부가 주어진 시스템에 제공될 수 있다. 또 다른 배열에서, 상기 용기 지지대들은 하나 이상의 스테이션들로 이동될 수 있으며, 하나 이상의 처리 장치는 상기 스테이션들 중 적어도 하나에서 또는 그 근처에 배치될 수 있다. 따라서, 상기 처리 장치들과 처리 스테이션들 사이에 1 대 1 대응이 항상 있는 것은 아니다.
III.B. 일부 부분들을 포함하는 용기 처리 방법이 고려된다. 상기 프로브(108)（도２）와 같은 상기 제 1 처리 장치와　광원(170)과　같은　제２처리　장치가 (８0)과　같은　처리　용기에　제공될　수　있다． 내부 표면(88)을 정의하는 벽(86) 및 개구부(82)를 갖는 용기(80)가 제공된다. 용기 포트(92)를 포함하는 용기 지지대(50)가 제공된다. 상기 용기(80)의 개구부(82)는 상기 용기 포트(92)상에 안착된다.
III.B. 상기 프로브(108)와 같은 상기 제 1 처리 장치는 상기 용기 지지대(50)와 작동가능하게 맞물려 이동하거나 그 반대 상태로 될 수 있다. 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 상기　제　１　처리　장치 또는 프로브(108)를 이용한　상기　용기　포트(92)를　통해 처리된다.
III.B. 이후, 상기 제 2 처리 장치는 상기 용기 지지대（５０）와 작동가능하게 맞물리거나 그 반대 상태로 이동된다. 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 광원(170)과 같은 제 2 처리 장치를 사용하여 상기 용기 포트(92)를 통해 처리된다.
III.B. 선택적으로는, 임의의 수의 다른 처리 단계들이 제공될 수 있다. 예를 들면, 제 3 처리 장치(34)는 용기들(80)을 처리하기 위해 제공될 수 있다. 상기 제 3 처리 장치(34)는 상기 용기 지지대(50)와 작동가능하게 맞물려 이동하거나 그 반대 상태로 될 수 있다. 안착된 용기(80)의 내부 표면은 상기 제 3 처리 장치(34)를 사용하여 상기　용기　포트(92)를　통해 처리될 수 있다.
III.B. 용기를 처리하는 다른 방법에 있어서, 개구부(82) 및 내부 표면(88)을 정의하는 벽(86)을 갖는 용기(80)가 제공될 수 있다. 용기 포트(92)를 포함하는 (50)과 같은 용기 지지대가 제공될 수 있다. 상기 용기(80)의 개구부(82)는 상기 용기 포트(92)상에 안착될 수 있다． 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 일례로 차단 또는 도２ 에 도시된 다른 유형의 코팅 장치(28)일 수 있는 상기　제　１　처리　스테이션에서　상기　용기　포트(92)를　통해 처리될 수 있다. 상기 용기 지지대(50) 및 안착된 용기(80)는 상기 제 1 처리 장치(28)로부터 상기 제 2 처리 장치, 예를 들면, 도 1 및 10에 도시된 상기 처리 장치(34)로 수송된다. 상기 안착된 용기(80)의 내부 표면(88)은 이후 (34)와 같은 제 2 처리 장치에 의하여 상기 용기 포트(92)를 통해 처리될 수 있다.
IV. 용기 제작용 ＰＥＣＶＤ 장치
IV.A. 용기 지지대, 내부 전극, 반응 챔버로서 용기를 포함하는 ＰＥＣＶＤ 장치
IV.A. 다른 실시예는 배출가스　검사를　수행하도록　구성된　용기 지지대, 내부 전극, 외부 전극 및 전원 공급기를 포함하는 ＰＥＣＶＤ 장치이다. 상기 용기 지지대상에 안착된 용기는 선택적으로는 진공 챔버일 수 있는 플라즈마 반응 챔버를 정의한다. 선택적으로는, 진공원, 반응물질 가스원, 가스 공급 또는 이들 중 둘 이상의 조합이 공급될 수 있다. 선택적으로는, 폐쇄된 챔버를 정의하기 위하여, 진공원을 필수적으로 포함하는 것은 아닌 가스 배기구가 제공되어 상기 포트상에 안착된 용기의 내부로 또는 내부로부터 가스를 전달한다.
IV.A. 상기 ＰＥＣＶＤ 장치는 상기 플라즈마 반응 챔버가 진공 챔버로서 기능할 필요가 없는 경우에, 대기압 ＰＥＣＶＤ를 위해 사용될 수 있다.
IV.A. 도 2에 도시된 실시예에서, 상기 용기 지지대(50)는 상기 용기 포트상에 안착된 용기로 가스를 전달하는 가스 입력 포트(104)를 포함한다. 상기 가스 입력 포트(104)는 상기 프로브(108)가 상기 가스 입력 포트(104)를 통해 삽입되는 경우에 실린더형 프로브(108)에 대하여 안착할 수 있는, 적어도 하나의 O-링(106) 또는 직렬로 연결된 두 개의 O-링들 또는 직렬로 연결된 세 개의 O-링들에 의하여 제공된 활강 실을 갖는다. 상기 프로브(108)는 원위단(110)에서 가스 전달 포트로 연장하는 가스 입력 수도일 수 있다. 도시된 실시예의 원위단(110)은 하나 이상의 ＰＥＣＶＤ 반응물질들 및 다른 공정 가스들을 제공하는 용기(80)로 깊이 삽입될 수 있다.
IV.A. 도 ２에 도시된 실시예에서　선택적으로 또는　 　개시된　실시예들에서 보다 일반적으로，플라즈마 스크린(610)은 상기 용기(80) 내에서 형성된 플라즈마를 일반적으로는 상기 플라즈마 스크린(610) 위의 부피까지 한정하도록 제공될 수 있다. 상기 플라즈마 스크린(610)은 전도성, 다공성 물질로서, 이의 몇몇 예들은 강철솜, 다공성 소결 금속 또는 전도성 물질로 코팅된 세락믹 물질 또는 금속(예를 들면, 황동) 또는 다른 전도성 물질로 제작된 유공성 플레이트 또는 디스크이다. 일례는 상기 가스 입구(108)를 통과하도록 크기 조절된 중심 구멍들을 가지며 0.04 인치(1 mm) 이격된 0.02 인치(0.5 mm) 인, 중심-대-중심 구멍들로서, 상기 구멍들은 상기 디스크의 표면적의 일부로서 22% 개방된 면적을 제공하는 구멍들을 갖는, 한 쌍의 금속 디스크이다.
IV.A. 예를　들어, 상기 프로브(108)가 상대 전극으로서 기능하는 실시예들에 대하여, 상기 플라즈마 스크린(610)은 처리되는 상기 튜브, 주사기 베럴 또는 다른 용기(80)의 개구부(82)에서 또는 그 부근에서 상기 가스 입구(108)와 긴밀한 접촉을 할 수 있다. 또한, 선택적으로는 상기 가스 입구(108)와 공통의 전위를 갖는 상기 플라즈마 스크린(610)은 접지될 수 있다. 상기 플라즈마 스크린(610)은 상기 용기 지지대(50) 및 예를 들면, 상기 진공 덕트(94), 상기 가스 입력 포트(104), 상기 O-링(106)의 부근, 상기 진공 포트(96), 상기 O-링(102) 및 상기 가스 입구(108)에 인접한 다른 장치에서 플라즈마를 감소시키거나 제거한다. 동시에, 상기 플라즈마 스크린의 다공성은 가스들, 공기 등이 상기 용기(80)로부터 나와 상기 진공 포트(96) 및 하류 장치로 흘러가게 한다.
IV.A. 도 53은 예를 들면, 도 1, 2, 26-27 및　30의 실시예들과 사용가능한 코팅 스테이션(28)의 다른 선택적인 상세사항들을 도시한다. 또한, 상기 코팅 스테이션(28)은 압력 센서(152)로 이어지는 진공 라인(576)에서 주 진공 밸브(574)를 가질 수 있다. 수동 바이패스 밸브(578)는 바이패스 라인(580) 내에 제공된다. 배기 밸브(582)는 흐름을 제어한다.
IV.A. ＰＥＣＶＤ 가스원(144)으로부터 나오는 유량은 주 반응물질 공급 라인(586)을 통해 유량을 조절하는 주 반응물질 가스 밸브(584)에 의해 제어된다. 상기 가스원(144)의 하나의 성분은 유기실리콘 액체 저장조(588)이다. 상기 저장조(588)의 내용물들은 원하는 유량을 제공하는 적당한 길이로 제공되는 유기실리콘 모세관 라인(590)을 통해 회수된다. 유기실리콘 증기의 유량은 유기실리콘 차단 밸브(592)에 의하여 제어된다. 압력은 예를 들면, 대기압에 의존하지 않는(그리고 그 내에서 변동하는) 반복성 유기실리콘 액체 전달을 수립하기 위해 압력 라인(618)에 의하여 공간 부분(614)으로 연결된 압축 공기와 같은 압력원(616)으로부터 0 내지 15 psi(0 내지 78 cm. Hg) 범위의 압력이, 상기 액체 저장조(588)의 공간 부분(614)으로 가해진다. 상기 저장조(588)는 밀봉되고 상기 모세관 연결(620)은 상기 저장조(588)의 바닥에 있어서 순 유기실리콘 액체(상기 공간 부분(614)으로부터 압축된 가스가 아닌)만이 상기 모세관 튜브(590)를 통해 흐르도록 한다. 상기 유기실리콘 액체는 상기 유기실리콘 액체가 증발하여, 유기실리콘 증기를 형성하는 것이 필요하거나 원하는 경우, 선택적으로는 주위 온도 이상으로 가열될 수 있다. 산소는 질량 흐름 제어기(598)에 의하여 제어되는 산소 공급 라인(596)을 통하고 산소 차단 밸브(600)와 함께 제공되는 산소 탱크(594)로부터 제공된다.
IV.A. 도 1의 장치에서, 상기 용기 코팅 스테이션(28)은 예를 들면, 도２ 에 도시된 바와 같이 용기(80)의 내부 표면(88)상에 SiOx차단　코팅　또는　다른　유형의　코팅（９０）을　증착시키는데　적합한　조건하에서　작동되는，아래에서　더　설명되는　ＰＥＣＶＤ　장치일　수　있다.
IV.A. 특히，　도　１　및　２를　참조하면，　상기　처리　스테이션（２８）은　처리　도중에　상기　용기（８０）내에서　플라즈마를　생성하는　전기장을　제공하는　무선　주파수　전원　공급기（１６２）에　의하여　공급된　전극（１６０）을　포함할　수　있다． 이　실시예에서，　상기　프로브（１０８）는　전기적으로　전도성이며　접지되어　있어서，　상기　용기（８０）　내에서　상대　전극을　제공한다． 또한，　임의의　실시예에서，　상기　외부　전극（１６０）은　접지될　수　있으며　상기　프로브（１０８）은　상기　전력　공급기（１６２）에　직접　연결될　수　있다．
IV.A. 도 2의 실시예에서, 상기　외부　전극（１６０）은　도　２　에　도시된　바와　같이　일반적으로　실린더형일　수　있거나　또는　도　２에서　도시된　바와　같은　일반적으로　Ｕ자형의　긴　채널일　수　있다． 각각의　도시된　실시예는　（１６４）　및　（１６６）과　같은　하나　이상의　측벽들과　선택적으로는，　상단（１６８）을　가지며，　이　모두는　상기　용기（８０）　주위로　가까이　배치되어　있다．
IV.A 도 2에 도시된 전극(160)은 그 길이로 페이지쪽으로 "U"자 채널과 같이 형상될 수 있으며, 상기 퍽 또는 용기 지지대(50)는 상기 처리/코팅 공정 도중에 활성화된(전력 공급된) 전극을 통해 이동할 수 있다. 외부 및 내부 전극들이 사용되기 때문에, 이러한 장치는 전력 공급기(162)로부터 상기 U 채널 전극(160)으로 적용된, 50 Hz에서 1 GHz 사이의 주파수를 사용할 수 있다. 프로브(108)는 전기 회로를 완성하도록 접지되어, 전류가 상기 용기(80)의 내부에 있는 저압 가스(들)를 통해 흐르게 할 수 있다. 상기 전류는 플라즈마를 생성하여 상기 장치의 내부 표면(88)의 선택적 처리 및/또는 코팅을 가능하게 한다.
IV.A 또한, 도 2의 전극은 펄스 전력 공급기에 의하여 전력 공급될 수 있다. 펄싱으로 인하여 반응 가스들의 고갈을 가능하게 하며 이후 상기 가스들의 활성화 및 (재)고갈이 일어나기 이전에 부산물들의 제거를 가능하게 한다. 펄스 전력 시스템은 통상적으로 전기장 (및 따라서 플라즈마)이 존재하는 시간의 양을 측정하는 듀티 사이클(duty cycle)에 의하여 특징된다. 파워-온(power-on) 시간은 파워-오프(power-off) 시간에 상대적이다. 예를 들면, 10%의 듀티 사이클은 전력이 90%의 시간 동안 오프 상태인 사이클의 10%의 파워 온 시간에 해당할 수 있다. 특정 실시예로서, 상기 전력은 0.1 초 동안 온 상태이고 1 초 동안 오프 상태일 수 있다. 펄스 파워 시스템은 오프-시간이 처리 시간의 증가를 초래하기 때문에, 주어진 전원 공급기(162)에 대하여 유효 전력 공급을 감소시킨다. 상기 시스템이 펄스되는 경우, 이로 인한 코팅은 매우 순수할 수 있다(부산물 또는 오염물이 전혀 없다). 펄스된 시스템들의 다른 결과는 원자 층 증착(ALD)을 달성할 수 있는 가능성이다. 이 경우에, 상기 듀티 사이클은 파워-온 시간이 원하는 물질의 단일층 증착이 이루어지도록 조정될 수 있다. 이와 같은 방식으로, 단일 원자층은 각각의 사이클에서 증착되는 것으로 고려된다. 이러한 접근법은 (비록 중합체 표면상에서 증착에 요구되는 온도에서, 온도가 선택적으로는 낮게 유지되고(<100℃) 낮은 온도 코팅들이 비정질일 수 있다고 하여도) 매우 순수하고 매우 구조적인 코팅을 생성할 수 있다.
다른 코팅 스테이션이　외부 전극 대신에 마이크로파 캐비티를 채용한다． 가해진 에너지는 예를 들면, 2.45 GHz인 마이크로파 주파수일 수 있다. 그러나，　본　발명의　맥락에서　무선주파수가　선호된다．
V. 용기를　제작하는　ＰＥＣＶＤ 방법들
Ｖ．１　ＰＥＣＶＤ　코팅용　전구체들
본　발명의　ＰＥＣＶＤ　코팅용　전구체는　유기금속　전구체로　광범위하게　정의된다． 유기　실리콘　전구체는　유기　잔기들，　예컨대　탄화수소，　아미노카본（ａｍｉｎｏｃａｒｂｏｎ）　또는　옥시카본（ｏｘｙｃａｒｂｏｎ）　잔기들을　갖는，　주기율표의　III족　및／또는　IV족　금속　원소들의　화합물들을　포괄하는　것으로　본　명세서에서　모든　목적들을　위해　정의된다． 제시된　것과　같이　정의된　유기금속　화합물들은　실리콘　또는　다른　III족／IV족　금속　원자들에　직접　결합되거나　선택적으로는　산소　또는　질소　원자들을　통해　결합된　유기　모이어티들을　갖는　임의의　전구체를　포함한다． 주기율표의　III족의　해당　원소들은　붕소，　알루미늄，　갈륨，　인듐，　탈륨，　스칸듐，　이트륨　및　란타늄이며，　알루미늄　및　붕소가　바람직하다． 주기율표의　IV족의　해당　원소들은　실리콘，　게르마늄，　주석，　납，　티타늄，　지르코늄，　하프늄　및　토륨이며，　실리콘　및　주석이　바람직하다． 또한, 다른 휘발성 유기 화합물들도 고려될 수 있다. 그러나, 유기실리콘 화합물들은 본 발명을 수행하는데 바람직하다.
"유기실리콘 전구체"는 본　명세서　전반에　걸쳐 하기　연결들　중　적어도　하나를　갖는　화합물로　광범위하게　정의된，　유기실리콘　전구체가　바람직하다：
Figure 112020096621774-pat00013
또는
Figure 112020096621774-pat00014
바로　위　제　１　구조는　하나의　산소　원자　및　유기　탄소　원자（유기　탄소　원자는　적어도　하나의　산소　원자에　결합된　탄소　원자이다）에　연결된　４가　실리콘　원자이다． 바로　위　제　２　구조는　하나의　－ＮＨ－　결합　및　유기　탄소　원자（유기　탄소　원자는　적어도　하나의　산소　원자에　결합된　탄소　원자이다）에　연결된　４가　실리콘　원자이다． 선택적으로는, 상기 유기실리콘 전구체는 선형 실록산, 모노사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실라잔, 폴리실세스퀴아잔　및 이 전구체들 중 2 이상의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 또한，　상기　바로　위　두　개의　공식들은　아닐지라도，　알킬　트리메톡시실란이　전구체로서　고려된다． 산소-함유 전구체(예컨대, 실록산)가 사용되는　경우, 소수성 또는 윤활성 코팅을 형성하는 조건하에서 ＰＥＣＶＤ로부터 얻을 수 있는 대표적인 예상되는 조성물은 정의　절에서　규정된　바와　같이　SiwOxCyHz이고, 반면에, 차단성 코팅을 형성하는 조건하에서 ＰＥＣＶＤ로부터 얻을 수 있는 대표적인 예상되는 실험 조성물은 SiOx로서, 이 식에서 x는 약 1.5 내지 약 2.9이다. 질소-함유 전구체(예컨대, 실라잔)가 사용되는　경우, 예상되는 조성물은 Siw*Nx*Cy*Hz*이다. 즉, 정의절에서　규정된　바와　같은 SiwOxCyHz에 있어서, 산소(O)는 질소(N)로 대체되고, 지수들은 산소 O에 비해 N의 더 높은 가수로 맞춰진다(2 대신에 3). 후자는 실록산에서 w, x, y 및 z 대 그 아자(aza) 대응물에 있어서 해당 지수들의 비율을 일반적으로 따를 것이다. 본 발명의 특정한 일 측면에 있어서, Siw*Nx*Cy*Hz*는 w*, y* 및 z*는 실록산 대응물들에서　ｗ，ｘ，ｙ　및　ｚ　와　동일하게 정의되지만, 수소　원자들의 갯수에 있어서 선택적으로 편차가 있다.
상기 실험식을 갖는 전구체 시작 물질의 일 유형은 선형 실록산, 예를 들면 다음의 식을 갖는 물질이다:
Figure 112020096621774-pat00015
각각의 R은 알킬, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 비닐, 알카인 등으로부터 독립적으로 선택되며, n은 1, 2, 3, 4, 또는 그 이상이며, 선택적으로는 2 이상이다. 고려되는 선형 실록산들의 일부 예들은
ㆍ 헥사메틸디실록산(HMDSO),
ㆍ 옥타메틸트리실록산,
ㆍ 데카메틸테트라실록산,
ㆍ 도데카메틸펜타실록산,
또는 이들의 2 이상의 조합들이다. 또한, 상기 구조에서 -NH-가 산소 원자로 치환된 유사한 실라잔들은 유사한 코팅들을 제작하는데 유용하다. 고려되는 선형 실라잔들의 일부 예들은 옥타메틸트리실라잔, 데카메틸테트라실라잔 또는 이들의 2 이상의 조합들이다.
V.C. 전구체 시작 물질의 다른 유형은 선형 실록산, 예를 들면 다음의 구조식을 갖는 물질이다:
Figure 112020096621774-pat00016
여기서, R은 선형 구조로 정의되며 "a"는 3 내지 약 10이거나 유사한 모노사이클릭 실라잔들이다. 고려되는 헤테로-치환 및 미치환 모노사이클릭 실록산들 및 실라잔들의 일부 예들은 다음을 포함한다.
ㆍ 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리스(3,3,3-트리플루오로프로필)메틸]시클로트리실록산
ㆍ 2,4,6,8-테트라메틸-2,4,6,8-테트라비닐시클로테트라실록산,
ㆍ 펜타메틸시클로펜타실록산,
ㆍ 펜타비닐펜타메틸시클로펜타실록산,
ㆍ 헥사메틸시클로트리실록산,
ㆍ 헥사페닐시클로트리실록산,
ㆍ 옥타메틸시클로테트라실록산(OMCTS),
ㆍ 옥타페닐시클로테트라실록산,
ㆍ 데카메틸시클로펜타실록산
ㆍ 도데카메틸시클로헥사실록산,
ㆍ 메틸(3,3,3,-트리플루오로프로플)시클로실록산,
ㆍ 옥타메틸시클로테트라실라잔,
ㆍ 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸시클로테트라실라잔 헥사메틸시클로트리실라잔,
ㆍ 옥타메틸시클로테트라실라잔,
ㆍ 데카메틸시클로펜타실라잔,
ㆍ 도데카메틸시클로헥사실라잔 또는 이들의 2 이상의 임의의 조합들과 같은 시클로 유기실라잔들도 고려된다.
V.C. 전구체 시작 물질의 다른 유형은 예를 들면, 다음의 구조식들 중 하나를 갖는 물질인 폴리사이클릭 실록산이다:
Figure 112020096621774-pat00017
여기서, Y는 산소 또는 질소일 수 있고, E는 실리콘이며, Z는 수소 원자 또는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 비닐, 알카인 등과 같은 알킬인 유기 치환체이다. 각각의 Y가 산소인 경우, 왼쪽에서 오른쪽으로 가는 각각의 구조들은 실라트란, 실콰실라트란 및 실프로아트란이다. Y가 질소인 경우, 각각의 구조들은 아자실라트란, 아자실콰시아트란 및 아자실프로아트란이다.
V.C. 폴리사이클릭 실록산 전구체 시작 물질의 다른 유형은 RSiO1.5의 실험식 및 하기 구조식의 폴리실세스퀴옥산이다:
Figure 112020096621774-pat00018
각각의 R은 수소 원자 또는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 비닐, 알카인 등과 같은 알킬인 유기 치환체이다. 이러한 종류의 시판되는 2 가지 물질들은 각각의 R이 메틸인 SST-eM01 폴리(메틸실세스퀴옥산) 및 R 기들의 90%가 메틸이고, 10%가 수소 원자들인 SST-3MH1.1 폴리(메틸-히드리도실세스퀴옥산)이다. 이 물질은 예를 들면, 테트라하이드로퓨란의 10% 용액에서 이용될 수 있다. 또한, 이러한 것들의 둘 이상의 조합들도 고려된다. 각각의 Y가 산소이고 Z는 메틸인 CAS 번호 2288-13-3인 메틸실라트란, 메틸아자실라트란, 각각의 R이 선택적으로는 메틸일 수 있는 폴리(메틸실세스퀴옥산)（예를　들어　SST-eM01폴리(메틸실세스퀴옥산)）, R 기들의 90%가 메틸이고 10%가 수소 원자들인 폴리(메틸-히드리도실세스퀴옥산) （예를　들어　SST-3MH1.1 폴리(메틸-히드리도실세스퀴옥산)） 또는 이들의 둘 이상의 조합이다.
V.C. 또한, 상기 구조에서 -NH-가 산소 원자로 치환된 유사한 폴리실세스퀴아잔들은 유사한 코팅들을 제작하는데 유용하다. 고찰된 폴리실세스퀴아잔들의 예들은 각각의 R이 메틸인 폴리(메틸실세스퀴아잔) 및 R 기들의 90%가 메틸이고, 10%가 수소 원자들인 폴리(메틸-히드리도실세스퀴아잔)이다. 또한, 이러한 것들의 둘 이상의 조합들도 고려된다.
V.C. 본 발명에 따른 윤활성 층을 위해 특별히 고려되는 하나의 전구체는 예를 들면, 옥타메틸시클로테트라실록산인 모노사이클릭 실록산이다.
본 발명에 따른 소수성 층을 위해 특별히 고려되는 하나의 전구체는 예를 들면, 옥타메틸시클로테트라실록산인 모노사이클릭 실록산이다.
본 발명에 따른 차단성 코팅을 위해 특별히 고려되는 하나의 전구체는 예를 들면, HMDSO인 선형 실록산이다.
V.C. 본 발명에 따른 코팅 방법들 중 어느 하나에 있어서, 상기 도포 단계는 선택적으로는 상기 전구체를 증발시키고 이를 기판 근처에 제공함으로써 수행될 수 있다. 예컨대, OMCTS는 주로 이를 ＰＥＣＶＤ 장치에 적용하기 이전에 이를 약 50℃로 가열하여 증발된다.
V.2 일반적인 ＰＥＣＶＤ 방법
본 발명의 맥락에서, 다음의 단계들을 포함하는 하기 ＰＥＣＶＤ 방법이 일반적으로 적용된다:
(a) 본 명세서에 정의된 바와 같은 전구체를　포함하는　가스, 선택적으로　캐리어　가스，선택적으로 O2 및　선택적으로　탄화수소를 제공하는 단계; 및
(b) 상기 공정　가스로부터 플라즈마를 생성하여 플라즈마 강화 화학 기상 증착법（ＰＥＣＶＤ）에 의해 상기 기판 표면상에 코팅을 형성하는 단계,
본　명세서에서　상기　플라즈마　코팅　기술은　플라즈마　강화　화학적　기상　증착（ＰＥＣＶＤ）에　기초한다． 상기　ＰＥＣＶＤ　코팅을　수행하기에　적합한　장치　및　방법은　２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162755.2; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162760.2; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162756.0; ２０１０년　５월１２일에　출언된　EP10162758.6; ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162761.0; 및 ２０１０년　５월１２일에　출원된　EP10162757.8.에서　설명되었다． 여기서　설명된　장치　및　ＰＥＣＶＤ　방법들은　본　발명을　수행하기에　적합하고　따라서　참조에　의해　여기서　통합된다.
ＰＥＣＶＤ기술의　예시적인　바람직한　실시예는　다음　절에서　설명될　것이다．
공정은　용기내에서　감압되어（ｍＴｏｒｒ　범위－대기압은　７６０　Ｔｏｒｒ）산소와　결합될　수　있는　증기를　포함하는　실리콘을　활용한다．
예를　들어　１３．５６ＭＨｚ（무선주파수　범위）에서　발생되는　전기장이　외부　전극과　내부　접지　가스　입고　사이에서　플라즈마를　발생시키기　위해　인가된다． 용기를　코팅하기　위해　사용되는　파워와　압력에서，　플라즈마　공정은，　공정에서의　전자가　화학반응　배후의　구동력임을　의미하는　전자　충돌　이온화（ｅｌｃｔｒｏｎ　ｉｍｐａｃｔ　ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ）에　의해　유도된다． 특히，　플라즈마는　실리콘을　포함하는　재료（예를　들어，　헥사메틸디실록산（ＨＭＤＳＯ）또는　옥타메틸시클로트레트라실록산（ＯＭＣＴＳ）와　같은　다른　반응물）의　전자　충돌　이온화가　용기의　내부　표면위에　증착되는　이산화실리콘　또는　SiwOxCyHz 코팅을　일으켜　화학반응을　유도한다． 이러한　코팅은　두께에　있어　２０나노미터　이상의　단위에서　통상적인　실시예이다． ＨＭＤＳＯ는　실리콘　원자들에　붙은　여섯(6)개의　메틸　그룹들이　있는　Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ　백본（ｂａｃｋｂｏｎｅ）으로　구성된다． 공정은　Ｓｉ－Ｃ　결합을　깨고　（튜브　또는　주사기의　표면에서）산소와　반응해　이산화실리콘을　생성한다． 코팅은　원자적인　기반으로　성장하기　때문에，　２０～３０나노미터　두께를　갖는　치밀한　컨포멀　코팅（ｃｏｎｆｏｒｍａｌ　ｃｏａｔｉｎｇ）은　현저한　차단　특성들을　얻을　수　있다． 가스，　습기，　및　작은　유기　분자들에　에　대한　물리적　차단으로서　실리콘　산화물은　작용하고，　상업적　유리보다　더　높은　순도를　갖는다． ＯＭＣＴＳ는　윤활성　또는　비점착성을　갖는　코팅이　되도록한다． 이들의　평균　두께는　일반적으로　SiOx 차단코팅의　두께，　예를　들어　평균　３０내지　１０００ｎｍ　보다　더　크다.
상기　기술은　몇가지　관점에서　독자적이다．
（ａ）상기　공정은　진공　챔버로서　단단한　용기를　활용한다． ＰＥＣＶＤ는　부분들이　장착되고　코팅되는　２차　진공　용기를　종래와　같이　사용한다． 진공　챔버로서　용기를　활용함은　공정　장치를　현저하게　단순화하고　사이클／공정　시간과　이에　따른　제조　비용과　자금을　줄인다． 이러한　접근은　또한，스케일　업（ｓｃａｌｅ－ｕｐ）이　요구　처리량을　만족하기　위해　요구되는　여러　주사기　또는　튜브들을　복제함과　같이　단순하기　때문에　스케일　업　문제들을　줄여준다.
（ｂ）플라즈마의　무선주파수　여기는　부품의　작은　가열로　이온화된　가스로　에너지가　부여되도록　한다. 일반적으로　ＰＥＣＶＤ에서　사용되는，부품　그　자체에　있는　물　분자에　상당한　에너지를　부여하는　마이크로파　여기　에너지와　다르게，무선주파수는　폴리머　튜브　또는　주사기를　우선적으로　가열하지는　않을　것이다. 제어되는　열　흡수는　기판이　플라스틱　유리전이온도에　접근하여　치수적　결합성을　잃어버지게　되는　온도가　증가하는　것을　막기위해　중요하다．
（ｃ）단일층　가스　차단　코팅－새로운　기술은　부품의　내부표면에　직접적으로　이산화실리콘의　단일층을　형성할　수　있다． 대부분의　다른　차단　기술（박막）은　적어도　두　층을　필요로　한다．
（ｄ）차단성－윤활성　코팅　조합－새로운　기술은　여러　성능　기여（차단／윤활）를　제공하기　위한　SiOx / SiwOxCyHz코팅　조합을　활용한다.
바람직한　태양에서　플라즈마　증착　기술은　단순한　제조　구성을　활용한다． 시스템은　코팅　스테이션의　안과　밖의　튜브들과　주사기들의　이동에　사용되는　＂퍽＂에　기초한다． 장치－퍽　인터페이스（도　６）는，　한번　코팅／특성　조건들이　파일롯　단계에서　수립되어，　양산　단계로　갈　때　단순히　동일　공정을　통한　퍽의　수를　증가시키면　규모에　대한　문제는　없기　때문에　중요하다． 퍽은　전기적으로　절연된　바닥을　제공하기　위해　폴리머　재료（예를　들어，Delrin®）로　만들어　진다． 용기 (예를　들어，도 ６에서와　같은　튜브）는　Ｏ－링（퍽　그　자체에　설치된）으로　밀봉하는　가장　큰　개구부를　갖는　퍽에　설치된다． Ｏ－링은　부품과　퍽　사이에서　진공　밀봉을　제공하여　대기（일부　수증기가　있는　주로　질소와　산소）가　제거되고（감압되고）　공정　가스가　주입되도록　한다． 퍽은　Ｏ－링　밀봉에　추가하여　몇　가지　특징을　갖는다． 퍽은　（대기　가스와　이산화실리콘반응의　부반응물을　빼내는）진공　펌프와　연결된　수단，부품에　있는　가스　주입구를　정밀하게　일치시키는　수단　및　퍽과　가스　주입구　사이에　진공　밀봉을　제공하는　수단을　제공한다．
SiO2 증착을　위해，　ＨＭＤＳＯ와　산소　가스가　부품으로　연장되는　접지된　가스　주입구를　통해　용기로　진입하게　된다． 이　때，　퍽과　용기는　전극　영역으로　이동하게　된다． 전극은　전도성　재료（예를　들어，　구리）로　구성되고　부품이　통과하는　터널을　제공한다． 전극은　용기　또는　퍽과　물리적　접촉을　만들지　않고　독립적으로　지지된다． ＲＦ　임피던스　정합　회로망과　전력　공급기는　전극에　직접　연결된다． 전력　공급기는　임피던스　정합된　회로망에　에너지（１３．５６ＭＨｚ에서）를　제공한다． ＲＦ정합　회로망은　전력　공급원의　임피던스　출력을　이온화된　가스의　복합（용량적　및　유도적）임피던스　에　맞추도록　작용한다． 정합　회로망은　이산화실리콘의　증착을　보장하는　이온화된　가스로　최대　파워　전달을　전달한다.
일단　용기가　코팅되면（정지된　전극　채널을　통해　퍽이　용기를　이동하게　하기　때문에），　가스는　멈추게　되고，대기（또는　순수　질소）는　퍽／용기　내부로　들어가　대기압으로　돌아가게　한다． 이　때에，　용기는　퍽으로부터　제거되고　다음　공정　스테이션으로　이동하게　된다．
상기　내용은　단지　하나만의　개구부를　갖는　용기를　코팅하는　수단을　명확하게　설명한다． 주사기들은　퍽에　장착되기　전과　후의　부가적　단계를　요구한다． 주사기들은　양　끝단（하나는　바늘에　연결을　위해　그리고　다른　하나는　플런저의　장착을　위해）에서　개구부를　갖기　때문에，바늘　끝은　코팅　전에　반드시　밀봉되어야　한다． 상기　공정은　반응　가스가　플라스틱　부품　내부로　들어가도록，　전기전류가　부품의　내부로　가스를　통해　흐르도록，그리고　부품　내부에서　플라즈마가　생성되도록　한다． 플라즈마（ＨＭＤＳＯ　또는　ＯＭＣＴＳ　및　산소　가스의　이온화된　조성）는　플라즈마　코팅의　증착과　화학반응을　유도하는　것이다．
이러한 방법에 있어서, 코팅 특징은 하나 이상의 하기 조건들에 의하여 유리하게 설정된다: 플라즈마 특성, 플라즈마가 적용된 압력, 플라즈마를 생성하는데 적용된 전원, 가스 반응물질에서 O2의 존재 및 상대적 양, 플라즈마 부피 및 유기실리콘 전구체. 선택적으로는, 코팅 특성은 가스 반응물질에서 O2의 존재 및 상대적 양 및/또는 플라즈마를 생성하는데 적용된 전원에 의하여 설정된다.
본 발명의 모든 실시예들에서, 플라즈마는 SiOx　코팅이　준비될　때　선택적 측면에서 비-중공-음극 플라즈마이다.
다른 바람직한 측면에 있어서, 상기 플라즈마는 (주변 또는 대기압과 비교하여) 감압에서 생성된다. 선택적으로는, 상기 감압은 300 mTorr 미만, 선택적으로는 200 mTorr 미만, 더 선택적으로는 100 mTorr 미만이다.
선택적으로는, 상기 ＰＥＣＶＤ는 전구체를 포함하는 가스 반응물질을 마이크로파의 주파수 또는 무선 주파수 및 선택적으로는 무선 주파수에서 전력을 받은 전극들과 함께 전류를 가함으로써 수행된다. 또한, 본 발명의 실시예를 수행하는데 바람직한 무선 주파수는 "RF 주파수"라고 할 것이다. 본 발명을 수행하는 통상적인 무선 주파수 범위는 10 kHz 내지 300 MHz 미만, 선택적으로는 1 내지 50 MHz, 더 선택적으로는 10 내지 15 MHz이다. 13.56 MHz의 주파수가 가장 바람직한데, 이는 ＰＥＣＶＤ 작업을 수행하기 위한 정부가 승인한 주파수이다.
마이크로파 원천에 대해 RF 전원을 사용하는 몇가지 장점들이 있다: RF가 더 낮은 전원을 작동하기 때문에, 상기 기판/용기의 가열이 더 낮다. 본 발명의 중심은 플라스틱 기판들상에 플라즈마 코팅을 주는 것이기 때문에, 더 낮은 처리 온도는 기판의 용융/왜곡을 방지하는데 바람직하다. 마이크로파 ＰＥＣＶＤ를 사용하는 경우 기판이 과열하는 것을 방지하기 위하여, 파이크로파 ＰＥＣＶＤ는 전력을 펄스하여 짧은 버스트(short bursts)에 적용된다. 전원 펄싱은 코팅을 위한 사이클 시간을 늘리는데, 이는 본 발명에서는 바람직하지 않다. 또한, 마이크로파 주파수가 높으면 높을수록 플라스틱 기판에서 잔류 수분, 올리고머들 및 다른 물질들과 같은 휘발성 물질들의 가스제거(offgassing)를 유발할 수 있다. 이러한 가스제거는 ＰＥＣＶＤ 코팅을 간섭할 수 있다. 이는 코팅된 기판에서의 휘발성 화합물의 함량과 조성을 변화시킬 것이므로 본 발명의 가스제거 측정을 간섭할 수도 있다. ＰＥＣＶＤ를 위해 마이크로파를 사용하는데 있어서 주요한 우려사항은 기판으로부터 코팅이 박리되는 것이다. 박리는 코팅층을 증착시키기 이전에 마이크로파들이 기판의 표면을 변하게 하기 때문에 발생하는 것이다. 박리가 발생하는 가능성을 줄이기 위해, 상기 코팅 및 상기 기판 사이에 양호한 결합을 이루기 위하여 마이크로파 ＰＥＣＶＤ를 위한 계면 코팅층들이 개발되었다. RF ＰＥＣＶＤ에 있어서는 박리의 위험이 없는 계면 코팅층이 요구되지 않는다. 최종적으로, 본 발명에 따른 윤활성 층 및 소수성 층은 더 낮은 전력을 사용하여 유리하게 적용된다. RF 전원은 더 낮은 전원에서 작동하며 마이크로파 전원보다는 ＰＥＣＶＤ 공정에 대하여 더 나은 제어를 제공한다. 그럼에도 불구하고, 비록 바람직하지는 않지만, 마이크로파 전원은 적절한 공정 조건하에서 사용가능하다.
또한, 본 명세서에 기술된 모든 ＰＥＣＶＤ 방법들에 대하여, 플라즈마를 생성하는 사용된 전원(와트)과 플라즈마가 생성된 루멘의 부피 사이에는 특정한 상관관계가 있다. 통상적으로, 루멘은 본 발명에 따라 코팅된 용기의 루멘이다. RF 전원은 동일한 전극 시스템이 채용된다면 용기의 부피로 스케일링되어야 한다. 일단 기체 반응물질의 조성, 예를 들면, 전구체 대 O2의 비율 및 전원을 제외한 PECVD 코팅 방법의 다른 모든 매개변수들이 일단 설정되면, 용기의 형상이 유지되고 그 부피만이 변하는 경우에 이들은 통상적으로 변하지 않는다. 이러한 경우, 전원은 직접적으로 부피에 비례할 것이다. 따라서, 본 설명에서 제공된 전원 대 부피 비율들로부터 시작하여, 동일한 형상이지만 크기는 상이한 용기에서 동일하거나 유사한 코팅을 달성하기 위하여 적용되어야 하는 전원은 쉽게 찾을 수 있다. 적용되는 전원에 미치는 용기 형상의 영향은 주사기 베럴들에 대한 실시예와 비교하여 튜브들에 대한 실시예들의 결과들로 도시된다.
본 발명의 임의의 코팅에 대하여, 플라즈마는 기판 표면상에 코팅을 형성하기에 충분한 전원으로 전력을 받은 전극들을 사용하여 생성된다. 윤활성　코팅　또는　소수성　코팅에　대해，　본　발명의　실시예에　따른　방법에서
플라즈마는 선택적으로 (i) 0.1 내지 25 W, 선택적으로는 1 내지 22 W, 선택적으로는　１내지　１０Ｗ，더 선택적으로는　１ 내지 ５ W, 선택적으로는　2　내지　４Ｗ，　예를　들어　３Ｗ，선택적으로는　３내지　１７Ｗ，더　선택적으로는　5 내지 14 W, 예를　들어　６　또는　７．５Ｗ，　선택적으로는 7 내지 11 W, 예를 들면, 8 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하고/하거나 (ii) 전력 대 플라즈마 부피의 비가 10 W/ml, 선택적으로는 ６ W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 5 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 4 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 ３ W/ml 내지 0.2 W/ml，선택적으로　２ W/ml 내지 0.２ W/ml　보다　작은 전극들을 사용하여 생성된다.
낮은　파워　수준은　윤활성　코팅을　준비하기에　가장　장점이　되는　것으로（예를　들어，　２　내지　３．５Ｗ의　파워　수준과　예시에서　주어진　파워　수준들）발명자들에의해　믿어진다．
차단　코팅　또는　SiOx을　위해，상기 플라즈마는
(i) 8 내지 500 W, 선택적으로는 20 내지 400 W, 선택적으로는 35 내지 350 W, 더욱 선택적으로는 44 내지 300 W, 선택적으로는 44 내지 70 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하여 생성되고/되거나;
(ii) 상기 전력 대 상기 플라즈마 부피의 비율은 5 W/ml 이하, 선택적으로 6 W/ml 내지 150 W/ml, 선택적으로 7 W/ml 내지 100 W/ml, 선택적으로 7 W/ml 내지 20 W/ml 이다.
또한, 상기 용기 형상은 ＰＥＣＶＤ 코팅에 대해 사용된 가스 입구의 선택에 영향을 줄 수 있다. 특정한 측면에 있어서, 주사기는 개방된 튜브 입구로 코팅될 수 있으며, 튜브는 상기 튜브속으로 연장되는 작은 구멍들을 갖는 가스 입구로 코팅될 수 있다.
또한, ＰＥＣＶＤ에 사용되는 전원(와트)은 코팅 특성에 영향을 준다. 통상적으로, 전원을 증가하면 코팅의 차단성을 증가시킬 것이고, 전원을 감소하면 코팅의 윤활성 및 소수성을 증가시킬 것이다. 예컨대, 약 3 ml의 부피를 갖는 주사기 베럴의 내부 벽상의 있는 코팅에 대하여, 30 W 미만의 전력은 압도적으로 윤활성 코팅인 코팅으로 이어지는 반면에, 30 W를 초과하는 전원은 압도적으로 차단성 코팅인 코팅으로 이어질 것이다(실시예 참조). 이것은　ＥＰ　２　２５１　４５５　Ａ２에서　또한　보여져，　분명한　참조가　여기서　만들어졌다．
코팅성을 결정하는 다른 매개변수는 플라즈마를 생성하는데 사용된 가스 반응물질에서 O2 (또는 다른 산화제) 대 전구체(예컨대, 유기실리콘 전구체)의 비율이다. 통상적으로, 가스 반응물질에서 O2 비율이 증가하면 코팅의 차단성이 증가되며, O2 비율이 감소하면 코팅의 윤활성 및 소수성이 증가된다.
만약 윤활성 층을 원한다면, O2는 상기 가스 반응물질에 대한 부피－부피 비로 선택적으로 0:1 내지 5:1, 선택적으로 0:1 내지 1:1, 선택적으로 0:1 내지 0.5:1, 또는 더 선택적으로 0:1 내지 0.1:1로 존재한다. 일부　O2는　유기실리콘　전구체와의　관계에서　０．０１：１　내지　０．５：１，더　선택적으로　0.05:1 내지 0.4:1，특별히　0.1:1 내지 0.2:1로　존재하는　것이　바람직하다. 유기실리콘　전구체와의　관계에서　약　５％ 내지　３５％（ｓｃｃｍ에서　ｖ／ｖ），특히　약　１０％내지　２０％　그리고　예시에서　주어진　바와　같은　비율의　부피로　O2가　존재하는　것은　윤활성　코팅을　얻기　위해　특히　적절하다.
동일한　방법이　소수성　층에　대해　적용된다． 이와는 달리, 차단성 또는 SiOx 코팅을 원한다면, O2는 선택적으로 실리콘 함유 프리커서에 대하여 상기 가스 반응 물질에 대한 부피:부피 비 1:1 내지 100: 1, 선택적으로는 5:1 내지 30:1, 선택적으로는 10:1 내지 20:1, 더욱 선택적으로는 15:1의 비율로 존재한다.
V.A. 중공 음극 플라즈마가 실질적으로 없는 플라즈마를 사용한 SiOx 차단성 코팅을 도포하기 위한 ＰＥＣＶＤ
V.A. 특이적인 실시예는 실리콘, 산소 및 선택적으로는 다른 원소들을 포함하는 코팅으로서 본 명세서에 정의된(특정한 경우에 달리 특정되지 않으면) SiOx의 차단성 코팅을 도포하는 방법으로서, 이 식에서 실리콘 원자들에 대한 산소의 비인 x는 약 1.5 내지 약 2.9이고, 또는 약 1.5 내지 약 2.6이고, 또는 약 2인, 차단성 코팅 도포 방법이다. x의 이러한 다른 정의들은 본 명세서에서 용어 SiOx의 사용에 적용된다. 차단성 코팅은 용기, 예를 들면, 시료 수집 튜브, 주사기 베럴 또는 다른 유형의 용기의 내부에 도포된다. 상기 방법은 일부 단계들을 포함한다.
V.A. 예컨대, 유기실리콘 화합물 가스, 선택적으로는 산화 가스 및 선택적으로는 탄화수소 가스를 포함하는 플라즈마 형성 가스를 포함하는 반응 혼합물로서, 용기 벽이 제공된다.
V.A. 플라즈마는 음극 중공 플라즈마가 실질적으로 없는 상기 반응 혼합물에서 형성된다. 상기 용기 벽은 반응 혼합물과 접촉되고, SiOx의 코팅은 상기 용기 벽의 적어도 일 부분상에 증착된다.
V.A. 특정 실시예에서, 코팅되는 용기의 부분 전체를 통해 균일한 플라즈마의 생성이 고려되는데, 이는 특정 예에서 산소에 대하여 더 나은 차단을 제공하는 SiOx 코팅을 생성하는 것을 알 수 있기 때문이다. 균일한 플라즈마는 (규칙적인 플라즈마보다 더 높은 방출 세기를 가지며 상기 규칙적인 플라즈마의 더 균일한 세기를 저지하는 더 높은 세기의 국부적인 영역으로 표시되는) 중공 음극 플라즈마의 실질적인 양을 포함하지 않는 규칙적인 플라즈마를 의미한다.
V.A. 중공 음극 효과는 공통의 음극에 대하여 동일한 음극 전위로 서로 대향하는 전도성 표면들의 한 쌍에 의하여 생성된다. 만약 (압력 및 가스 유형에 의존하여) 스페이싱이 이루어져 공간 전하 쉬스들(sheaths)이 겹친다면, 전자들이 쉬스 영역을 가로질러 전위 구배에 의하여 가속됨에 따라 반대 벽 쉬스들의 반사 전위들 사이에서 전자들이 요동치기 시작하여 다수가 충돌하게 된다. 상기 전자들은 매우 높은 이온화 및 높은 이온 밀도 플라즈마들로 이어지는 공간 전하 쉬스 중복에서 갇혀진다. 이러한 현상은 중공 음극 효과라고 기술된다. 당업자는 전체에 걸쳐서 균일한 플라즈마를 형성하거나 다양한 정도의 중공 음극 플라즈마를 포함하는 플라즈마를 형성하기 위하여 전력 수준 및 가스들의 공급 속도 또는 압력과 같은 처리 조건들을 변화시킬 수 있다.
V.A. 플라즈마는　일반적으로　상술한　이유들을　위해　ＲＦ　에너지를　이용하여　발생된다． 다른　방법이지만　다소　일반적인　방법에서, 마이크로파 에너지는 ＰＥＣＶＤ 공정에서 플라즈마를 생성하는데 사용될 수 있다. 그러나, 처리 조건들은 열가소성 용기에 적용되는 마이크로파 에너지가 물 분자들을 여기(진동)시킴에 따라 상이해 질 것이다. 모든 플라스틱 물질들에서는 소량의 물이 있기 때문에, 마이크로파들은 플라스틱을 가열할 것이다. 플라스틱이 가열함에 따라, 장치 외부의 대기압에 대한 장치 내부의 진공에 의하여 생성된 큰 원동력은 내부 표면(88)에 물질들을 자유롭게 모으거나 용이하게 탈착하여, 여기서 이들이 휘발성이 되거나 표면에 용이하게 결합될 것이다. 용이하게 결합된 물질들은 이후 (플라즈마로부터 증착된) 후속 코팅들이 장치의 플라스틱 내부 표면(88)에 부착하는 것을 방지할 수 있는 계면을 형성할 것이다.
V.A. 이러한 코팅 방지 효과가 일어나지 않게 하는 하나의 방법으로서, 후속 코팅들이 부착될 수 있는 캡을 생성하는 매우 낮은 전원(상기 예에서는 2.45 GHz에서 5 내지 20 와트)에서 코팅이 증착될 수 있다. 이는 2-단계 코팅 공정(및 2 개의 코팅층들)으로 이어진다. 상기 예에서, (상기 캐핑 층에 대한) 최초 가스 유량들은 대략 2 내지 10 초 동안 5 내지 20 와트의 공정 전력으로 2 sccm("분당 표준 평방 센티미터") HMDSO 및 20 sccm 산소로 변할 수 있다. 이후, 가스들은 상기 예에서의 유량들로 조정될 수 있으며 전원 수준은 ２０ 내지 50 W로 증가하여, 이 식에서 x는 약 1.5 내지 약 2.9이고, 또는 약 1.5 내지 약 2.6이고, 또는 약 2인 SiOx 코팅이 증착될 수 있다. 더 높은 전원의 SiOx 코팅 증착 도중에 물질들이 용기 내부 표면(88)으로 이동하지 않도록 하는 것을 제외하고는, 특정 실시예에서 캡핑층은 기능성을 거의 제공하지 않거나 기능성을 전혀 제공하지 않을 수 있다는 것을 주목하라. 또한, 더 낮은 주파수들은 분자 종들을 여기(진동)시키지 않기 때문에, 장치 벽들에서 용이하게 탈착된 물질들의 이동은 통상적으로 더 낮은 주파수들에서 문제가 되지 않는다는 것을 주목하라.
V.A. 상술한 코팅 방지 효과가 일어나지 않도록 하는 다른 방법으로서, 상기 용기(80)를 건조시켜 마이크로파 에너지를 적용하기 이전에 침투한 수분을 제거할 수 있다. 상기 용기(80)의 탈수 또는 건조는 예를 들면, 전기 히터 또는 강제 공기 가열을 이용하는 것과 같이 상기 용기(80)를 가열하여 수행될 수 있다. 또한, 상기 용기(80)의 탈수 또는 건조는 상기 용기(80)의 내부 또는 상기 용기(80)의 내부와 접촉하는 가스를 건조제에 노출시켜 수행될 수 있다. 또한, 진공 건조와 같은 용기를 건조시키는 다른 수단들도 사용될 수 있다. 이러한 수단들은 도시된 하나 이상의 스테이션들 또는 장치들에서 또는 개별 스테이션 또는 장치에 의하여 수행될 수 있다.
V.A. 또한, 상술한 코팅 방지 효과는 수지의 수분 함량을 최소화하기 위해 상기 용기들(80)이 성형되는 수지의 선택 또는 처리에 의하여 해결될 수 있다.
V.B. 용기(주사기 모세관)의 제한된 개구부를 코팅하는 ＰＥＣＶＤ
V.B. 도 26 및 27은 ＰＥＣＶＤ에 의하여 예를 들면, 주사기 베럴(250)의 제한된 정면 개구부(294)인 처리되는 일반적으로 튜브형 용기(250)의 제한된 개구부(294)의 내부 표면(292)을 코팅하는 방법 및 일반적으로 (290)으로 표시되는 장치를 도시한다. 앞에서 기술된 공정은 상기 제한된 개구부(294)를 처리 용기(296)에 연결시켜 변경되고 선택적으로는 특정한 다른 변경들을 가하여 변경된다.
V.B. 처리되는 상기 일반적으로 튜브형인 용기(250)는 외부 표면(298), 루멘(300)을 정의하는 내부 또는 내부 표면(254), 내경을 갖는 더 큰 개구부(302) 및, 내부 표면(292)에 의해 정의되고 더 큰 개구부(302)의 내경보다 더 작은 내경을 갖는 제한된 개구부(294)를 포함한다.
V.B. 처리 용기(296)는, 비록 다른 실시예들에서 처리 도중에 선택적으로는 폐쇄되는 제 2 개구부가 제공될 수 있지만, 루멘(304)과 선택적으로는 유일한 개구부인 처리 용기 개구부(306)를 갖는다. 상기 처리 용기 개구부(306)는 처리되는 상기 용기(250)의 제한된 개구부(294)와 연결되어 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)과 상기 제한된 개구부(294)를 통해 처리 용기 루멘 사이에서 연통이 이루어지게 된다.
V.B. 처리되는 용기(250)의 루멘(300) 및 처리 용기(296)의 루멘(304) 내에서 적어도 부분적인 진공을 이끌어낸다. ＰＥＣＶＤ 반응물질은 상기 제 1 개구부(302)를 통해, 이후 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)을 통해, 이후 상기 제한된 개구부(294)를 통해 상기 가스원(144)으로부터 상기 처리 용기(296)의 루멘(304)으로 흘러가게 된다.
V.B. 원위단(314)에 인접하여 복수개의 원위 개구불들이 제공될 수 있으며 내부 통로(310)와 연통하는 다른 실시예에서, 상기 ＰＥＣＶＤ 반응물질은 내부 통로(310), 근위단(312), 원위단(314) 및 원위 개구부(316)를 갖는 일반적으로 튜브형인 내부 전극(308)을 제공하여 상기 용기(250)의 더 큰 개구부(302)를 통해 도입될 수 있다. 상기 전극(308)의 원위단은 처리되는 상기 용기(250)의 더 큰 개구부(302)에 인접하거나 그 속에 위치될 수 있다. 반응물질 가스는 상기 전극(308)의 원위 개구부(316)를 통해 은 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300) 속으로 공급될 수 있다. 상기 반응물질은 상기 ＰＥＣＶＤ 반응물질을 도입하기 이전에 최초로 이루어진 진공보다 더 높은 압력에서 상기 ＰＥＣＶＤ 반응물질이 제공되는 정도로 상기 제한된 개구부(294)를 통해 이후 루멘(304)으로 흘러갈 것이다.
V.B. 상기 제한된 개구부(294)의 내부 표면(292)상에 ＰＥＣＶＤ 반응 생성물의 코팅을 증착시키는데 효과적인 조건 하에서 상기 제한된 개구부(294)와 인접한 곳에서 플라즈마(318)가 생성된다. 도 ２６에 도시된 실시예에서 상기 플라즈마는 RF 에너지를 일반적으로 U자형 외부 전극(160)에 제공하고 상기 내부 전극(308)을 접지시켜 생성된다. 또한, 상기 전극들로의 공급 및 접지 연결들도 바뀔 수 있는데, 비록 이러한 역전으로 인해 처리되는 상기 용기(250) 및 따라서 내부 전극(308)도 상기 플라즈마가 생성되는 동안에 상기 U자형 외부 전극을 통해 이동한다면 복잡성을 도입할 수 있다고 하더라도 그러하다.
V.B. 적어도 일부 처리되는 동안에 상기 용기(250)에서 생성된 플라즈마(318)는 상기 제한된 개구부(294) 및/또는 상기 처리 용기 루멘(304) 내부에서 생성된 중공 음극 플라즈마를 포함할 수 있다. 중공 음극 플라즈마(318)의 생성은 상기 제한된 개구부(294)에서 차단성 코팅을 성공적으로 도포하는 능력에 기여할 수 있는데, 비록 본 발명이 이 작동 이론의 정확성 또는 적용가능성에 따라 제한된다고 해도 그러하다. 따라서, 하나의 고찰되는 작동 모드에서, 상기 처리는 상기 용기(250) 및 가스 입구 전체를 통해 균일한 플라즈마를 생성하는 조건하에서 그리고 예를 들면, 부분적으로는 상기 제한된 개구부(294)에 인접하여 중공 음극 플라즈마를 생성하는 조건하에서 수행될 수 있다.
V.B. 상기 처리는 본 명세서에서 설명되고 도면들에서 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마(318)는 상기 주사기 루멘(300) 및 상기 제한된 개구부(294)를 전체를 통해 실질적으로 연장하는 조건하에서 바람직하게 작동된다. 또한, 상기 플라즈마(318)는 상기 주사기 루멘(300), 상기 제한된 개구부(294) 및 상기 처리 용기(296)의 루멘(304) 전체를 통해 실질적으로 연장한다. 이는 상기 용기(250)의 내부(254)의 균일한 코팅을 원한다는 것을 가정한 것이다. 다른 실시예들에서, 비균일성 플라즈마를 원할 수 있다.
V.B. 상기 플라즈마(318)는 처리 도중에 상기 주사기 루멘(300) 및 상기 제한된 개구부(294) 전체를 통해 실질적으로 균일한 색상을 가지며, 선택적으로는 상기 주사기 루멘(300), 상기 제한된 개구부(294) 및 상기 처리 용기(296)의 루멘(304) 전체를 통해 실질적으로 균일한 색을 갖는 것이 일반적으로 바람직하다. 바람직하게는, 상기 플라즈마가 상기 주사기 루멘(300) 및 상기 제한된 개구부(294) 전체를 통해, 그리고　선택적으로 상기 처리 용기(296)의 루멘(304) 전체를 통해 실질적으로 안정하다.
V.B. 이 방법에서 단계들의 순서는 결정적이라고 고려되지는 않는다.
V.B. 도 26 및 27의 실시예에서, 상기 제한된 개구부(294)는 제 1 핏팅(332)을 가지며 상기 처리 용기 개구부(306)는 상기 제 1 핏팅(332)으로 안착되어 상기 처리 용기(296)의 루멘(304)과 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300) 사이에서 연통이 이루어지도록 맞춰진 제 2 핏팅(334)을 갖는다.
V.B. 도 26 및 27의 실시예에서, 제１핏팅과　제２핏팅은　각각　상기　제한된　개구부（２９４）와　상기　처리　용기　개구부（３０６）를　규정하는　구조로　통합되는　숫　루어　락　핏팅（３３２）와　암　루어　락　핏팅（３３４）이　된다． 상기 핏팅들중 하나로서, 이 경우에 숫 루어 락 핏팅(332)은 나사선이 있는 내부 표면과 축상으로 접하면서, 일반적으로 환형 제 1 접합부(338)를 갖는 로킹 고리(336)를 포함하며, 나머지 다른 핏팅(334)은 상기 핏팅들(332 및 334)이 맞물리는 경우에 상기 제 1 접합부(338)와 마주하는 축상으로 향하는, 일반적으로 환형 제 2 접합부(340)를 포함한다.
V.B. 도시된 실시예에서, 예를 들면, O-링(342)인 실은 상기 제 1 및 제 2 핏팅들(332 및 334) 사이에 위치될 수 있다. 예를 들면, 환형 실은 상기 제 1 및 제 2 접합부들(338 및 340) 사이에서 맞물릴 수 있다. 또한, 상기 암 루어 핏팅(334)은 상기 로킹 고리(336)의 나사선이 있는 내부 표면과 맞물려서 상기 제 1 및 제 2 핏팅들(332 및 334) 사이에서 O-링(342)을 고정하는 도그들(344)을 포함한다. 선택적으로는, 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)과 상기 제한된 개구부(294)를 통해 처리 용기(296)의 루멘(304) 사이에서 형성된 연통은 적어도 실질적으로는 누출이 방지된 것이다.
V.B. 다른 옵션으로서, 상기 루어 록 핏팅들(332 및 334) 중 어느 하나 또는 양쪽 모두는 예를 들면, 스테인레스 스틸과 같은 전기적으로 전도성인 물질로 제작될 수 있다. 상기 제한된 개구부(294)를 형성하거나 이와 인접한 이 구조 물질은 상기 제한된 개구부(294)에서 플라즈마의 형성에 기여할 수 있다.
V.B. 상기 처리 용기(296)의 루멘(304)의 바람직한 부피는 코팅하기를 원하는 생성물 표면들로부터 반응물질 유량의 상당량을 다른 곳으로 돌리지 않을 소량의 부피와 (상기 제한된 개구부(294)를 가로질러 압력 차이를 감소시켜) 흐름 속도를 바람직하지 않은 값으로 감소시키기에 충분하게 상기 루멘(304)을 채우기 이전에 상기 제한된 개구부(294)를 통해 전체 반응물질 가스 흐름 속도를 지지할 큰 부피 사이에서 트레이드-오프(trade-off)인 것으로 생각된다. 일 실시예에서, 상기 루멘(304)의 고려되는 부피는 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)의 부피의 3 배 미만 또는 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)의 부피의 2 배 미만 또는 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)의 부피 미만 또는 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)의 부피의 50% 미만 또는 처리되는 상기 용기(250)의 루멘(300)의 부피의 25% 미만이다. 또한, 각각의 루멘들의 부피들의 다른 유효 관계들도 고려된다.
V.B. 본 발명자들은 특정 실시예들에서 코팅의 균일성이 상기 용기(250)에 대하여 전극(308)의 원위단을 재위치시켜 향상될 수 있어서, 앞의 도 에서 도시된 내부 전극의 위치로서 상기 용기(250)의 루멘(300)에 까지 침투되지 않는다는 것을 알게 되었다. 예를 들면, 비록 특정 실시예들에서 상기 원위 개구부(316)는 상기 제한된 개구부(294)에 인접하여 위치될 수 있다고 하더라도, 다른 실시예들에서는 상기 원위 개구부(316)는 반응물질 가스를 공급하는 동안에 처리되는 용기의 더 큰 개구부(302)로부터 상기 제한된 개구부(294)까지에 이르는 거리의 7/8 미만, 선택적으로는 상기 거리의 3/4 미만, 선택적으로는 절반 미만으로 위치될 수 있다. 또한, 상기 원위 개구부(316)는 반응물질 가스를 공급하는 동안에 처리되는 용기의 더 큰 개구부로부터 상기 제한된 개구부(294)까지에 이르는 거리의 40% 미만, 30% 미만, 20% 미만, 15% 미만, 10% 미만, 8% 미만, 6% 미만, 4% 미만, 2% 미만, 또는 1% 미만에 위치될 수 있다.
V.B. 또한, 상기 전극(308)의 원위단은 상기 용기(250)의 내부와 연통하고 상기 반응물질 가스를 공급하는 도중에 처리되는 상기 용기(250)의 더 큰 개구부(302)의 약간 내부 또는 외부로 위치되거나 같은 높이로 위치될 수 있다. 처리되는 상기 용기(250)에 대하여 상기 원위 부위(316)의 위치 맞추기는 여러 위치들에서 이를 시험하여 특정 치수들 및 처리의 다른 조건들에 대하여 최적화될 수 있다. 주사기 베럴들(250)을 처리하기 위해 고려되는 전극(308)의 특정한 하나의 위치는 더 큰 개구부(302) 상에 상기 용기 루멘(300)으로 약 4분의 1 인치(약 6 mm) 침투하는 원위단(314)과의 위치이다.
V.B. 본 발명자들은 비록 요구조건은 아니라고 할지라도, 상기 전극(308)의 적어도 원위단(314)을 상기 용기(250) 내에 두어 전극으로서 적절하게 기능할 것을 고려하고 있다. 놀랍게도, 상기 용기(250)에서 생성된 상기 플라즈마(318)는 더 균일해 질수 있어, 이전에 채용된 것과는 달리 상기 전극(308)이 상기 루멘(300)으로 덜 침투되면서, 상기 제한된 개구부(294)를 통해 상기 처리 용기 루멘(304)으로 연장될 수 있다. 폐쇄단 용기를 처리하는 것과 같이, 다른 배열들을 이용하여, 상기 전극(308)의 원위단(314)은 보통 이 입구보다 상기 용기의 폐쇄단에 더 가깝게 위치된다.
V.B. 또한, 도 33의 예에 대하여 도시된 바와 같이, 상기 전극(308)의 원위단(314)은 상기 제한된 개구부(294)에서 또는 상기 제한된 개구부(294)를 넘어서, 예를 들면, 상기 처리 용기 루멘(304) 내에서 위치될 수 있다. 상기 제한된 개구부(294)를 통해 가스 흐름을 향상시키기 위해 상기 처리 용기(296)를 형성하는 것과 같이 다양한 수단들이 선택적으로 제공될 수 있다.
V.B. 다른 대안으로서, 복합 내부 전극 및 가스 공급기 튜브(398)는 선택적으로는 더 큰 개구부(302) 근처에 위치된, (400)과 같은 원위 가스 공급 개구부들 및 선택적으로는 상기 제한된 개구부(294)에 인접한 원위단으로 연장하고 선택적으로는 상기 처리 용기(324)로 더 연장하는, 상기 원위 가스 공급 개구부들(400)의 원위부를 연장하는 연장 전극(402)을 가질 수 있다. 이 구조는 상기 제한된 개구부(294)에 인접한 내부 표면(292) 내에서 플라즈마의 형성을 용이하게 하는 것으로 고려된다.
V.B. 또 다른 고려된 일 실시예에서, 도 26에서와 같이 내부 전극(308)은 처리 도중에 이동하게 되어, 예를 들면 처음에는 상기 처리 용기 루멘(304)으로 연장되고, 이후 공정이 진행됨에 따라 가까운 쪽으로 점진적으로 물러나오게 될 수 있다. 이 수단은 선택된 처리 조건하에서 상기 용기(250)가 길이가 길며 상기 내부 전극의 이동으로 인하여 상기 내부 표면(254)의 더 균일한 처리를 용이하게 하는 경우 특히 고려되는 수단이다. 이러한 수단을 사용하여, 가스 공급 속도, 진공 배출 속도, 상기 외부 전극(160)에 적용된 전기 에너지, 상기 내부 전극(308)을 인출하는 속도 또는 다른 인자들과 같은 처리 조건들은 공정이 진행되어 상기 공정을 처리되는 용기의 다른 부분들로 맞춰줌에 따라 변경될 수 있다.
V.B. 이 명세서에 기술된 다른 공정들에서와 같이, 처리되는 일반적으로 튜브형 용기(250)의 더 큰 개구부는 처리되는 상기 용기(250)의 더 큰 개구부(302)를 상기 용기 지지대(320)의 포트(322)상에 안착시킴으로서 용기 지지대(320)상에 용이하게 위치될 수 있다. 이후, 상기 내부 전극(308)은 처리되는 용기(250)의 루멘(300) 내에서 적어도 부분적인 진공을 이끌어내기 이전에 상기 용기 지지대(320)상에 안착된 용기(250) 내에서 위치될 수 있다.
V.C. 윤활성 층을 도포하는 방법
V.C. 다른　실시예는　유기실리콘　전구체로부터　유도된　윤활성　층의　도포방법이다． 이　방법과　윤활성　코팅　및　코팅된　제품은　２０１１년　５월　１１일　출원된　ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７에서　또한　설명되었다． 이와　같은　방법들，　코팅　및　코팅된　제품　그리고　그　특성들을　지적하기　위해　상기　출원에　대해　분명한　참조가　여기서　이루어졌다．
＂윤활성　층＂　또는　이와　유사한　용어는　코팅되지　않은　표면에　대하여　코팅된　표면의　마찰　저항을　감소시키는　코팅으로　일반적으로　정의된다． 만약　코팅된　대상물이　주사기（또는　주사기　부품，　예컨대，　주사기　베럴）　또는　코팅된　표면과　슬라이딩　접촉을　하는　플런저　또는　이동가능한　부품을　일반적으로　포함하는　임의의　다른　품목이라면，　상기　마찰　저항은　두　개의　주된　측면들－브레이크아웃　힘　및　플런저　활동력을　갖는다.
플런저　슬라이딩　힘　시험은　주사기　내에서　상기　플런저의　슬라이딩　마찰　계수의　특별한　시험으로서，　이는　평평한　표면상에서　일반적으로　측정된　슬라이딩　마찰　계수와　연관된　수직항력이　상기　플런저　또는　다른　슬라이딩　구성요소와　상기　튜브　또는　상기　튜브가　슬라이딩하는　다른　용기　사이의　피트를　표준화시켜　처리된다는　사실을　설명하는　것이다． 주로　측정되는　슬라이딩　마찰　계수와　연관된　평행력은　본　명세서에　기술된　바와　같이　측정된　플런저　슬라이딩　힘에　필적할　만하다． 플런저　슬라이딩　힘은　예를　들면，　ＩＳＯ　７８８６－１：１９９３　시험에서　제공된　바와　같이　측정될　수　있다．
또한，　상기　플런저　슬라이딩　힘　테스트는　장치　및　절차에　관한　적당한　변이들에　의하여　다른　유형의　마찰　저항，　예를　들면，　튜브　내에서　스토퍼를　지탱하는　마찰을　측정하도록　맞춰질　수　있다． 일　실시예에서，　상기　플런저는　클로저에　의하여　교체될　수　있으며　상기　클로저를　제거하거나　삽입하는　발거력（ｗｉｔｈｄｒａｗｉｎｇ　ｆｏｒｃｅ）는　플런저　슬라이딩　힘의　대응으로　측정될　수　있다．
또한，　상기　플런저　슬라이딩　힘　대신에，　상기　브레이크아웃　힘이　측정될　수　있다． 브레이크아웃　힘은　주사기　베럴　내에서　이동하는　정지된　플런저를　시동하는데　요구되는　힘　또는　안착된　정지　클러저를　탈착시키고　그　이동을　개시하는데　요구되는　필적할　만한　힘이다． 상기　브레이크아웃　힘은　０　또는　낮은　값에서　시동하는　플런저에　힘을　가하여　측정되며，　상기　플런저가　이동하기　시작할　때까지　증가한다． 상기　브레이크아웃　힘은　예비충진된 주사기 플런저가 개재된 윤활제를 밀어 내버리거나 상기 플런저 및 상기 베럴 사이에서 상기 윤활제의 분해로 인해 상기 베럴에 부착된 이후에, 주사기의 저장과 함께 증가하는 경향이 있다. 상기 브레이크아웃 힘은 상기 플런저를 박차고 나오기 위해 극복되고 플런저가 이동하기 시작하도록 하는데 필요한 플런저와 베럴 사이에서의 부착에 대해 업계에서 사용하는 용어인, "스틱션(sticktion)"을 극복하는데 요구되는 힘이다.
V.C. 선택적으로는 다른 부품들에 슬라이딩으로 접촉되는 표면들에서와 같이 윤활성 층으로 용기 전체 또는 일부를 코팅하는 일부 설비들로 인하여 스토퍼의 삽입 또는 제거 또는주사기에서 피스톤 또는 시료 튜브에서의 스토퍼와 같은 슬라이딩 구성요소의 통행을 용이하게 한다. 상기 용기는 유리 또는 폴리에스테르, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 사이클릭 올레핀 공중합체(COC)와 같은 중합체 물질, 폴리프로필렌과 같은 올레핀 또는 다른 물질들로 제작될 수 있다. ＣＯＣ는　주사기　및　주사기　베럴에　대해　특히　적합하다． ＰＥＣＶＤ에 의하여 윤활성 층을 도포하면 스프레이, 침지 또는 도포되는 유기실리콘 또는 ＰＥＣＶＤ 공정에 의해 증착되는 것보다 훨씬 많은 양으로 일반적으로 도포되는 다른 윤활제로 상기 용기 벽 또는 클로저를 코팅할 필요를 회피하거나 감소시킬 수 있다.
V.C. 상기 실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, 플라즈마는 기판 부근에서 형성될 수 있다.
실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, 상기 전구체는 선택적으로는 질소가 실질적으로 부재한 가운데 제공될 수 있다.
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, 상기 전구체는 선택적으로는 1 Torr 절대 압력 미만에서 제공될 수 있다.
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, 상기 전구체는 선택적으로는 플라즈마 방출 부근에서 제공될 수 있다.
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C에 있어서, 상기 코팅은 선택적으로는 기판에 1 내지 5000 nm, 또는 10 내지 1000 nm 또는 10 내지　５00 nm 또는１0 내지 ２00 nm　또는　２０내지　１００ｎｍ　또는　３０　내지　１０００ｎｍ，　또는　３０　내지　５００ｎｍ　두께의 두께로 도포될 수 있다. 통상적인　두께는　30 내지 1000 nm 또는 20 내지 100 nm, 매우　통상적인　두께는 80 내지 150 nm　이다. 이러한　범위는　평균　두께를　나타내는　것으로，　약간의　거칠기가　윤활성　코팅의　윤활　특성들을　강화할　수　있다． 따라서，　이러한　두께는　코팅　전체로　균일하지　않은　것이　유리하다． 그러나，　균일한　두께의　윤활성　코팅이　또한　고려된다．
단일　측정점에서　윤활성　코팅의　절대　두께는，　평균　두께로부터　바람직하게　+/- 50%,　더　바람직하게는　+/- 25% 그리고　더욱　더　바람직하게는　+/- 15%의　최대　편차를　갖는　평균　두께의　제한　범위보다　높거나　또는　낮을　수　있다． 그러나，　이는　통상적으로　본　상세한　설명에서　평균　두께에　대한　주어진　두께　범위　내에서　변동한다．
이것과 다른 코팅들의 두께는 예를 들면, 투과 전자 현미경(TEM)으로 측정될 수 있다.
V.C. 상기 TEM은 예를 들면, 다음과 같이 수행될 수 있다. 시료들은 집속 이온빔(FIB) 단면 절단을 위해 두 가지 방식으로 제조될 수 있다. 시료들은 우선 탄소 박막(50 내지 100 nm 두께)으로 코팅된 이후에 K575X 에미테크(Emitech) 코팅 시스템을 이용하여 백금 스퍼터링 층(50 내지 100 nm 두께)으로 코팅될 수 있거나, 시료들은 보호성 스퍼터링된 Pt 층으로 직접 코팅될 수 있다. 상기 코팅된 시료들은 FEI FIB200 FIB 시스템에 놓일 수 있다. 플래티늄　추가막은　관심영역에　대하여　３０ｋＶ　갈륨　이온빔을　주사하는　동안　유기금속가스를　주입함으로써　ＦＩＢ　증착할　수　있다． 각　시료에　대한　관심영역은　주사기 베럴　길이의　１／２　아래의　위치로　선택될 수 있다. 길이 대략 15μm("마이크로미터") , 폭 2 μm 및 깊이 15 μm로 측정되는 얇은 단면들은 독점적인 인-시츄 FIB 리프트-아웃 기법을　사용한　다이　표면으로부터　추출될 수 있다. 상기 단면들은 FIB-증착된 백금을 사용하는 200 메쉬 구리 TEM 그리드에 부착될 수 있다. 넓이 약 8 μm로 측정되는 각각의 섹션에서의 하나 또는 두 개의 윈도우들은 상기 FEI FIB의 갈륨 이온빔을 이용하여 전자 투명도로 얇아질 수 있다.
V.C. 제조된 시료들의 단면 이미지 분석은 투과 전자 현미경(TEM) 또는 주사 투과 전자 현미경(STEM) 또는 양쪽 모두를 사용하여 수행될 수 있다. 모든 이미지 데이타는 디지털로 기록될 수 있다. STEM 이미지를 위해, 얇은 호일들을 갖는 그리드가 히타치(Hitachi) HD2300 전용 STEM으로 옮겨질 수 있다. 주사 투과된 전자 이미지들은 원자수 대비 모드(ZC) 및 전달된 전자 모드(TE)에서 적당히 확대하여 획득될 수 있다. 하기와 같은 도구 세팅들을 사용할 수 있다.
Figure 112020096621774-pat00019
V.C. TEM 분석을 위해, 시료 그리드들은 히타치 HF2000 투과 전자 현미경으로 옮겨질 수 있다. 투과된 전자 이미지들은 적당히 확대하여 획득될 수 있다. 영상 획득 도중에 사용된 적절한 도구 세팅들은 아래에 주어진 것들일 수 있다.
Figure 112020096621774-pat00020
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, 기판은 유리 또는 중합체, 예를 들면, 폴리카보네이트 중합체, 올레핀 중합체, 사이클릭 올레핀 공중합체, 폴리프로필렌 중합체, 폴리에스테르 중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 중합체 또는 이들 중 임의의 둘 이상의 조합을 포함할 수 있다.
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C.에 있어서, ＰＥＣＶＤ는 선택적으로는 상기 정의된 바와 같은 RF 주파수, 예를 들면, 10 kHz 내지 300 MHz 미만, 선택적으로 1 내지 50 MHz, 더 선택적으로는 10 내지 15 MHz 및 선택적으로 13.56 MHz의 주파수에서 전력을 받은 전극들을 사용하여 상기 전구체를 포함하는 가스 반응물질에 전력을 가하여 수행될 수 있다.
V.C. 실시예들 중 어느 하나 V.C에 있어서, 플라즈마는 윤활성 층을 형성하기에 충분한 전력으로 공급된 전극들을 사용하여 상기 전구체를 포함하는 가스 반응물질에 전력을 가하여 생성될 수 있다. 플라즈마는 선택적으로 0.1 내지 25 W, 선택적으로는 1 내지 22 W, 선택적으로는　１내지　１０Ｗ，　더 선택적으로는　１ 내지 ５ W, 선택적으로는　１　내지　４Ｗ， 예를　들어　３Ｗ，　선택적으로는　３내지　１７Ｗ，　더　선택적으로는　5 내지 14 W, 예를　들어　６　또는　７．５Ｗ，　선택적으로는 7 내지 11 W, 예를 들면, 8 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하여　전구체를　포함하는　가스　반응　물질에　에너지를　가해주어　생성된다．전력 대 플라즈마 부피의 비는 10 W/ml, 선택적으로는 ６ W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 4 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 ３ W/ml 내지 0.2 W/ml，선택적으로　２ W/ml 내지 0.２ W/ml　보다　작을　수　있다． 낮은　파워　수준은　윤활성　코팅을　준비하기에　가장　장점이　되는　것으로（예를　들어，　２　내지　３．５Ｗ의　파워　수준과　예시에서　주어진　파워　수준들）발명자들에의해　믿어진다． 이러한 전력 수준들은 ＰＥＣＶＤ 플라즈마가 생성되는 1 내지 3 mL의 공 부피(void volume)를 갖는 유사한 형상의 주사기들 및 시료 튜브들과 용기들에 윤활성 코팅들을 도포하는데 적합하다. 더 크거나 더 작은 대상물들에 대하여 적용된 전력은 기판의 크기에 대해 공정을 스케일링 함에 따라 증감할 것이라고 생각된다.
V.C. 실시예들　중　어느　하나　Ｖ．Ｃ에　있어서，　처리　가스의　하나의　바람직한　조합은　산화　가스로서　산소와　캐리어　가스로서　아르곤의　존재　하에，　전구체로서　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）　또는　다른　고리형　실록산을　포함한다． 이러한　이론의　정확성에　묶이지　않고，　발명자들은　이러한　특정　조합이　다음과　같은　이유로　효과적이라고　믿는다．
V.C. ＯＭＣＴＳ　또는　다른　고리형　실록산　분자는　다른　실록산　재료에　대해　몇가지　장점을　제공한다고　믿어진다． 첫째로，　이러한　고리형　구조는　덜　치밀한　코팅이　되도록　한다（ＨＭＤＳＯ로부터　만들어지는　코팅과　비교할　때） 분자는　또는　선택적인　이온화를　허용하여　코팅의　최종　구조와　화학　조성이　플라즈마　전력의　인가를　통해　직접적으로　제어될　수　있도록　한다． 다른　유기실리콘　분자들은　이미　이온화（파쇄）되어　분자의　원래　구조를　유지하기　더　어렵게한다．
V.C. 아르곤　가스의　추가는　윤활　성능을　향상시키기　때문에（아래　작동예　참조），아르곤의　존재　하에　분자의　추가적　이온화는　윤활성　제공에　기여를　하는　것으로　믿어진다． 분자의　Si-O-Si 결합은　Ｓｉ－Ｃ　결합이　뒤따르는　높은　에너지를　갖고，　Ｃ－Ｈ　결합이　가장　약하다． Ｃ－Ｈ　결합의　일부가　깨질　때　윤활성이　얻어지는　것으로　보인다． 이는　성장하는　동안　구조의　연결（교차결합）을　허용한다． 산소（아르곤과　함께）의　추가는　이러한　공정을　강화하는　것으로　이해된다． 작은　양의　산소는　다른　분자들이　결합하는　Ｃ－Ｏ결합을　또한　제공할　수　있다． 낮은　압력과　전력에서　산소를　추가하는　것과　Ｃ－Ｈ　결합을　깨는　것의　조합은　윤활성을　제공하는　동안　고체인　화학　구조를　유도한다．
본　발명의　특정　실시예에서，　윤활성은　본원에서　설명되는　전구체와　조건을　사용하는　ＰＥＣＶＤ　공정으로부터의　윤활성　코팅의　거칠기에　의해　또한　영향받을　수　있다． 놀랍게도　본　발명의　내용에서　주사　전자　현미경（ＳＥＭ）　및　원자　현미경（ＡＦＭ）을　통해，　거칠고，　연속적이지　않은　ＯＭＣＴＳ플라즈마　코팅이　매끈하고，　연속적인　ＯＭＣＴＳ　플라즈마　코팅　보다　더　낮은　플런저　힘을　제공함（２０１１년　５월　１１일　출원된　ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７에서　설명된　바와　같은　Ｆｉ，　Ｆｍ）이　발견되었다． 이는　２０１１년　５월　１１일　출원된　ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７의　예시　Ｏ　내지　Ｖ에의해　설명되었다．
이론에　얽매이지　않고，　발명자들은　이러한　특별한　효과가　다음의　기계적　효과들의　모두　또는　하나에　부분적으로　기초될　수　있다고　추정한다：
(a) ，윤활성　코팅과　플런저의　더　낮은　표면　접촉（예를　들어，　거친　코팅의　피크만을　접촉하는　원형의　단단한　플런저　표면）은，　플런저　이동　초기에　및／또는　전체로，　전체적으로　더　낮은　접촉과　그에　따른　마찰을　일으킴. (b) 플런저　움직임에　있어，　플런저는　처음의　불균일하고，　거친　코팅이　코팅되지　않은　＂밸리들（ｖａｌｌｅｙｓ）＂로　퍼지고　매끈하게　되도록　한다．
윤활성　코팅의　거칠기는　플라즈마를　인가하는　전력（와트）을　감소시킴에　따라　그리고　상술한　양에서　O2 의　존재에　의해　증가된다． 거칠기는　ＡＦＭ에　의해　결정되는　＂ＲＭＳ　거칠기＂　또는　＂ＲＭＳ＂로　표현될　수　있다． ＲＭＳ는　ＡＦＭ　영상에서　가장　높은　점과　가장　낮은　점　사이의　차이（그　편차는　＂Ｚ＂로　표시된다）의　표준편차이다． 다음　식에　따라　계산된다．
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}-2
여기서 Zavg은 영상 내의 평균 Z 값이며; Z1는 Z의 현재값이고; N은 영상 내의 지점의 갯수이다.
특정　실시예에서　ＲＭＳ　범위는는　통상　７　내지　２０ｎｍ，　바람직하게는　１２　내지　２０ｎｍ이다． 그러나，　더　낮은　ＲＭＳ는　여전히　윤활　특성들을　만족하도록　유도할　수　있다．
V.C. 선택적으로는, 생성물로 고찰되는 하나의 생성물은 실시예들 중 임의의 하나 이상인 V.C.의 방법에 의해 처리되는 베럴을 갖는 주사기일 수 있다. 상기　주사기는　본　발명에　따른　단지　윤활성　코팅만을　갖거나，　또는　윤활성과　하나　이상의　다른　코팅을，　예를　들어　윤활성　코팅　아래　또는　위로　SiOx 차단성　코팅을　추가로　가질　수　있다．
V.D. 액체-도포코팅들
V.D. 본 명세서에 개시된 바와 같이 ＰＥＣＶＤ 도포 코팅 또는 다른 ＰＥＣＶＤ 처리와 연계하여 사용할 수 있는 적당한 코팅의 차단 또는 다른 유형의 다른 예는， 직접 또는　본　명세서에서　설명된，하나 이상의 개재하는 ＰＥＣＶＤ　도포 코팅，　예를　들어　SiOx，정의　섹션에서　규정된　바와　같이　특징지워지는　윤활성　층과　함께　또는　그　둘　다의　경우로，　액체 차단, 윤활제, 표면 에너지 테일러링 또는 용기의 내부 표면에 도포된 다른 유형의 코팅(90)일 수 있다.
V.D. 또한, 선택적으로는 적당한 액체 차단 또는 다른 유형의 코팅들(90)은 예를 들면, 액체 단량체 또는 다른 중합성 또는 경화성 물질을 상기 용기(80)의 내부 표면에 도포하고, 상기 액체 단량체를 경화, 중합 또는 교차결합시켜 고체 중합체를 형성하여 도포될 수 있다. 또한, 적당한 액체 차단 또는 다른 유형의 코팅들(90)은 상기 표면(88)에 용매-분산된 중합체를 도포하고 상기 용매를 제거함으로써 제공될 수 있다.
V.D. 상기 방법들 중 어느 하나는 처리 스테이션 또는 장치(28)에서 상기 용기 포트(92)를 통해 용기(80)의 내부(88)상에 코팅(90)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 이에 대한 한 가지 예는 예를 들면, 경화성 단량체, 예비중합체, 또는 중합체 분산액의 액체 코팅을 용기(80)의 내부 표면(88)에 도포하고 이를 경화시켜 상기 용기(80)의 내용물들을 그 내부 표면(88)으로부터 물리적으로 분리하는 필름을 형성하는 단계이다. 선행 기술은 중합체 코팅 기술을 플라스틱 혈액 수집 튜브들의 코팅에 적합한 것으로 기술하고 있다. 예를 들면, 본 명세서에 참고로 포함되어 있는, 미국 특허 제 6,１６５，５６６호에　기재된　아크릴 및 폴리비닐리덴 클로라이드(PVdC) 코팅 물질들과 코팅 방법들이 선택적으로 사용될 수 있다.
V.D. 또한, 상기 방법들 중 어느 하나는 용기(80)의 외부 벽상에 코팅을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 선택적으로는, 상기 코팅은 차단 코팅, 선택적으로는 산소 차단 코팅 또는 선택적으로는 수분 차단 코팅일 수 있다. 적당한 코팅의 일례는 수분 차단 및 산소 차단막 양쪽 모두로 기능하는, 폴리비닐리덴 클로라이드이다. 선택적으로는, 상기 차단 코팅은 수계 코팅으로 도포될 수 있다. 선택적으로는, 상기 코팅은 상기 용기를 이에 침지하고, 이를 상기 용기상에 스프레이하거나 다른 수단들에 의하여 도포될 수 있다. 또한, 상술한 외부 차단 코팅을 갖는 용기도 고려된다.
VI. 용기 검사
VI. 하기에서, 본 발명의　가스　제거　방법에　의한　용기　검사가　보다　상세히　기술될 것이다. 그러나，　방법이　용기들，　예를　들어　플라스틱　필름　또는　고체의　３차원　물체　이외의　다른　제품들을　검사하는제　또한　적합할　수　있다． 이러한　다른　제품들의　검사는　또한　본　발명의　범위에　포함된다．
VI. 도 1에 도시된 하나의 스테이션 또는 장치는 용기 벽을 통해 공기압 손실 또는 질량 흐름 속도 또는 부피 흐름 속도를 측정하거나 용기 벽의 가스제거와 같이, 결함여부를 위해 용기(80)의 내부 표면을 검사하도록 구성될 수 있는 처리 스테이션 또는 장치(30)이다. 상기 장치(30)는 도시된 실시예에서, 상기 스테이션 또는 장치(30)에 도달되기 이전에 차단 또는 다른 유형의 코팅이 상기 스테이션 또는 장치(28)에 의하여 도포되기 때문에, 상기 장치(30)에 의하여 제공된 더 나은 성능(주어진 공정 조건들 하에서 누출 또는 침투가 더 적게 일어남)으로 인하여 상기 용기가 검사를 통과하도록 요구될 수 있다는 것을 제외하고는, 장치(26)와 유사하게 작동할 수 있다. 일 실시예에서, 상기 코팅된 용기(80)의 검사는 상기 장치 또는 스테이션(26)에서 동일한 용기(80)의 검사와 비견될 수 있다. 상기 스테이션 또는 장치(30)에서 누출 또는 침투가 적은 것은 최소한의 정도로 기능하는 것이다.
VI. 2 개의 다른 스테이션들에서 또는 2 개의 다른 장치들에 의하여 측정되는 용기(80)의 동일성은 상기 용기 지지대들(38 내지 68)의 각각에 대해 바 코드, 다른 마크들 또는 무선 주파수 식별(RFID) 장치 또는 마커와 같은 개별 식별 특징들을 확인하고 도1 에 도시된 무한 컨베이어 주위로 둘 이상의 다른 지점들에서 측정된 용기들의 동일성을 매치시켜 확인될 수 있다. 용기 지지대들은 재사용될 수 있기 때문에, 새로운 용기(80)가 상기 용기 지지대(40)상에 안착된 직후에, 도 1에 있는 용기 지지대(40)의 위치에 도달되기 때문에 이들은 컴퓨터 데이터베이스 또는 다른 데이터 저장 구조에 등록되고, 예를 들면, 이들이 도 1의 용기 지지대(66)의 위치에 도달되거나 도달된 이후에 상기 공정의 말미 또는 근처에 상기 데이터 레지스터로부터 제거될 수 있으며, 상기 처리된 용기(80)는 이송 메커니즘(74)에 의하여 제거된다.
VI. 상기 처리 스테이션 또는 장치(32)는 예를 들면, 결함 여부를 알아보기 위해 상기 용기에 도포된 차단 또는 다른 유형의 코팅이 된 용기를 검사하기 위해 구성될 수 있다.
VI. 본　발명에　따른　용기　검사　방법은 용기당 30 초 이하, 또는 용기당 25 초 이하, 또는 용기당 20 초 이하, 또는 용기당 15 초 이하, 또는 용기당 10 초 이하, 또는 용기당 5 초 이하, 또는 용기당 4 초 이하, 용기당 3 초 이하, 또는 용기당 2 초 이하, 또는 용기당 1 초 이하의 경과 시간 내에서 상기 검사 단계（즉，　가스　제거된　휘발성　물질의　측정）를 수행하는 단계를 포함할 수 있다. 이는 예를 들면, 차단 또는 다른 유형의 코팅된 용기 벽의 유효성을 측정함으로써 가능할 수 있다.
VI. 상기 실시예들 중 어느 하나에서, 상기 검사 단계는 용기가 최초에 진공이 되고 그 벽(86)이 주변 대기에 노출되는 경우, 차단성 또는 다른 유형의 코팅(90)이 상기 용기(80) 내에서 최초 진공 수준(즉, 압력 대 주변의 최초 감소)이 적어도 12 개월 또는 적어도 18 개월 또는 적어도 2년의 수명 동안에 주변 대기압의 20% 이상, 선택적으로는 15%, 선택적으로는 10%, 선택적으로는 5%, 선택적으로는 2% 이상으로 감소되는 것을 방지하기에 효과적이라는 것을 결정하기 위하여 상기 용기(80) 내부 표면(88) 전체를 통해 충분한 숫자의 위치들에서 상기 검사 단계가 수행될 수 있다.
VI. 상기 최초 진공 수준은 높은 진공, 즉, 10 Torr 미만의 잔류 압력, 또는 20 Torr 미만의 양압(즉, 완전 진공에 대한 여분의 압력)과 같은 더 낮은 진공, 또는 양압 50 Torr 미만, 또는 100 Torr 미만, 또는 150 Torr 미만, 또는 200 Torr 미만, 또는 250 Torr 미만, 또는 300 Torr 미만, 또는 350 Torr 미만, 또는 380 Torr 미만일 수 있다. 예를 들면, 진공된 혈액 수집 튜브들의 최초 진공 수준은 많은 경우에 있어서 사용되는 시험 튜브의 유형, 따라서 제조시에 상기 튜브에 첨가되는 시약의 유형 및 적절한 양에 의하여 결정된다. 상기 최초 진공 수준은 상기 튜브 내에서 시약 충전과 결합하기 위하여 정확한 혈액 부피를 뽑아내도록 공통적으로 설정되어 있다.
VI. 선택적으로, 상기 차단 또는 다른 유형의 코팅(90) 검사 단계는 용기가 최초에 진공이 되고 그 벽이 주변 대기에 노출되는 경우, 상기 차단 또는 다른 유형의 코팅(90)이 상기 용기(80) 내에서 압력이 적어도 1 년의 수명 동안에 주변 대기압의 15% 이상 또는 10% 이상으로 증가되는 것을 방지하기에 효과적이라는 것을 결정하기 위하여 상기 용기 내부 표면(88) 전체를 통해 충분한 숫자의 위치들에서 수행될 수 있다.
도 59는，　위와　아래에서　설명된　검사　방법을　수행하기　위해　적용된　장치（즉，　하나　이상의　처리　스테이션）를　포함하는，　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템(20)을 도시한다. 상기 처리 시스템(20)은 용기　처리　시스템일　수　있고　특히, 제 1 처리 스테이션(5501) 을　포함할　수　있고　그리고　제 2 처리 스테이션(5502)을 포함할　수도　또는　하지　않을　수도　있다. 그러한 처리 스테이션들에 대한 실시예들은 예를 들면, 도 1에서 참조 번호(24, 26, 28, 30, 32 및 34)로 도시되어 있다.
상기 제 1 용기 처리 스테이션(5501)은 안착된 용기(80)를 지지하는 용기 지지대(38)를 포함한다. 비록 도 59가 혈액 튜브(80)를 도시하고 있지만, 상기 용기는 주사기 몸체, 바이알, 도관, 예를 들면, 피펫　또는　검사되는　면을　갖는　다른　어떤　물건일 수 있다. 상기 용기는 예를 들면, 유리 또는 플라스틱으로 제작될 수 있다. 플라스틱 용기인 경우, 상기 제 1 처리 스테이션은 플라스틱 용기를 성형하는 성형틀을 포함할 수 있다.
상기 제 1 처리 스테이션에서 제 1 처리(처리는 용기의 성형, 결함 여부를 알아보기 위해 용기의 제 1 검사, 용기의 내부 표면의 코팅 및 특히, 내부 코팅의 결함 여부를 알아보기 위해 용기의 제 2 검사를 포함할 수 있다) 이후에, 상기 용기 지지대(38)는 용기(82)와 함께 제 2 용기 처리 스테이션(5502)으로 이송된다. 이러한 이송은 컨베이어 배열(70, 72, 74)에 의하여 수행된다. 예를 들면, 그리퍼 또는 일부 그리퍼들은 용기/지지대 조합을 다음번 처리 스테이션(5502)으로 이동시키기 위하여 용기 지지대(38) 및/또는 용기(80)를 잡기 위하여 제공될 수 있다. 또한, 용기만이 지지대 없이 이동될 수 있다. 그러나, 지지대가 컨베이어 배열에 의하여 수송될 수 있도록 개조되는 경우 지지대를 용기와 함께 이동시키는 것이 유리할 수 있다.
하나　이상의　처리　스테이션은　검사되는　면의　주변에，　예를　들면　용기의　내부　로　휘발성　물질을　공급하는　튜빙을　포함한다． 또한，　가스　검출기는 상기 검사 대상으로부터 상기 코팅된 표면과 인접한 가스 공간으로 적어도 하나의 휘발성 종의 방출을 측정하기　위해　제공될　수　있다．
도 60은　본　발명의　다른 예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템(20)을 도시한다. 또한, 2 개의 용기 처리 스테이션들(5501, 5502)이 제공된다. 또한, 직렬로 배열되며, 용기가 처리, 즉, 검사 및/또는 코팅되는 다른 용기 처리 스테이션들(5503, 5504)이 제공된다.
용기는 스탁으로부터 왼쪽 처리 스테이션(5504)으로 이동될 수 있다. 또한, 상기 용기는 제 1 처리 스테이션(5504) 내에서 성형될 수 있다. 어느 경우에 있어서, 성형, 검사 및/또는 코팅과 같은 제1 용기 처리가 처리 스테이션(5504)에서 수행되며, 이후 제 2 검사가 수행될 수도 있다. 이후, 상기 용기는 컨베이어 배열(70, 72, 74)을 통해 다음번 처리 스테이션(5501)으로 이동된다. 통상적으로, 상기 용기는 용기 지지대와 함께 이동된다. 제 2 처리는 제 2 처리 스테이션(5501)에서 수행되며, 이후 용기 및 지지대는 제 3 처리가 수행되는 다음번 처리 스테이션(5502)으로 이동된다. 이후, 상기 용기는 (다시 지지대와 함께) 제 4 처리를 위해 제 4 처리 스테이션(5503)으로 이동되며, 이후 저장소로 컨베이어로 전달된다.
각각의 코팅 단계 또는 성형 단계 또는 용기를 조작하는 다른 단계 이전 및 이후에, 전체 용기, 용기의 일부 및 특히 용기의 내부 표면의 검사는 수행될 수 있다. 각각의 검사의 결과는 데이터 버스(5507)를 통해 중앙 처리 단위(5505)로 전달될 수 있다. 각각의 처리 스테이션은 상기 데이터 버스(5507)에 연결되어 있다. 상술한　프로그램　소자는　프로세서（５５０５）에서　작동할　수　있고，그　중앙 제어 및 조절 단위의 형태로 개조될 수 있는 그　프로세서는 시스템을　제어하고　그리고　검사 데이터를 분석하며 최종 처리 단계가 성공적인지의 여부를 결정하기　위해　검사　데이터를　처리하도록　또한　개조될　수　있다．
최종 처리 단계가 성공적이지 않은 것으로 결정된다면, 코팅이 예를 들면, 홀들을 포함하거나 코팅 표면이 규칙적이거나 충분히 매끄럽지 않은 것으로 결정되기 때문에, 용기는 다음번 용기 처리 스테이션으로 들어가지 않지만 공정으로부터 제거되거나(컨베이어 섹션들(7001, 7002, 7003, 7004) 참조) 재 처리를 위하여 다시 컨베이어로 이동된다.
프로세서(5505)는 제어 또는 조절 매개변수들을 입력하는 사용자 인터페이스(5506)에 연결될　수　있다.
도６１은　본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　처리　시스템의　처리　스테이션(5501)을　도시한　것이다． 상기 스테이션은 용기의 내부 표면을 코팅하는 ＰＥＣＶＤ 장치(5701)를 포함한다. 또한, 몇몇 검출기들(5702 내지 5707)이 시각 검사를 위해 제공될　수　있다. 그러한 검출기들은 예를 들면, CCD 카메라, 가스 검출기 또는 압력 검출기와 같은 광학 검출기들로서 전자적 측정을 수행하기 위한 전극들일 수 있다.
도 62는　몇몇 검출기들(5702, 5703, 5704) 및 가스 입력 포트(108, 110)가 있는 전극과 함께, 본　발명의　예시적인　실시예에　따른　용기　지지대(38)를 도시한다.
상기 전극 및 검출기(5702)는 용기가 지지대(38)상에 안착되는 경우 용기(80)의 내부 공간으로 이동되도록 맞춰질 수 있다.
예를 들면, 안착된 용기(80) 외부에 배열된 광학 검출기들(5703, 5704)을 이용하거나 심지어 용기(80)의 내부 공간 내부에 배열된 광학 검출기(5705)를 이용하면,특히 코팅 단계 도중에 광학 검사를 수행할 수 있다.
상기 검출기들은 다른 파장들이 코팅 공정 도중에 검출될 수 있도록 컬러 필터들을 포함할 수 있다. 프로세싱 유닛(5505)은 광학 데이터를 분석하며 코팅이 소정의 화실성 수준으로 성공적인지의 여부를 결정한다. 코팅이 아마도 성공적이지 않다고 결정되면, 각각의 용기는 처리 시스템으로부터 분리되거나 재처리된다.
VI.A. 예비코팅 및 후코팅 검사를 포함하는 용기 처리
VI.A. 또 다른 실시예는 개구부 및 내부 표면을 정의하는 벽을 갖는 성형된 플라스틱 용기를 처리하는 용기 처리 방법이다. 상기 방법은 상기 용기의 내부 표면가 성형되었는지 여부를 검사하거나 결함 여부를 알아보기 위해 코팅 직전에 검사하고; 상기 용기를 성형되었는지 검사한 이후에 상기 용기의 내부 표면에 코팅을 도포하고; 그리고 결함 여부를 알아보기 위해 상기 코팅을 검사함으로써 수행된다.
VI.A. 다른 실시예는 상기 용기가 성형되었는지 검사한 이후에 상기 용기에 차단성 코팅이 도포되고, 상기 차단성 코팅을 도포한 이후에 결함 여부를 알아보기 위해 상기 용기의 내부 표면이 검사되는 용기 처리 방법이다.
VI.A. 선택적으로, 상기 스테이션에서 또는 상기 장치(26)에 의한 용기 검사는 상기 용기(80) 내 또는 외부에서 기판에 대하여 상류 측상에서 헬륨과 같은 검사 가스를 제공하고 이를 하류 측상에서 검출함으로써 변경될 수 있다. 또한, 수소와 같은 저분자량 가스 또는 산소 또는 질소와 같은 저비용의 이용가능한 가스는 검사 가스로 사용될 수 있다.
VI.A. 헬륨은 불안전한 차단 또는 다른 유형의 코팅 또는 누출 실을 지나서 통과함에 따라, 보통의 공기에서 질소 및 산소와 같은 보통의 주위 가스들보다 훨씬 더 빨리 누출 또는 침투 검출 속도를 증가시킬 수 있는 검사 가스로 고려된다. 헬륨은　많은　구체　기판들　또는　작은　틈을　통하는　높은　통과　속도를　갖는다． 헬륨은 (1) 비활성으로서, 어느 정도로 기판에 의해 흡착되지 않고, (2) 쉽게 이온화되지 않아서, 그 분자들이 그 전자들과 핵 사이에서 높은 수준의 인력으로 인하여 매우 밀집해 있으며, (3) 질소(분자량 28) 및 산소(분자량 32)와는 반대로 4의 분자량을 가져서, 상기 분자들을 더 밀집하게 하고 다공성 기판 또는 갭을 용이하게 통과하도록 하기 때문에, 많은 고체 기판들 또는 작은 갭들을 통한 높은 이전 속도를 갖는다. 이러한 인자들로 인하여, 헬륨은 많은 다른 가스들보다 훨씬 더 빨리 주어진 침투성을 갖는 장벽을 통해 이동할 것이다. 또한, 대기는 자연상에는 극히 적은양의 헬륨을 함유하기 때문에, 헬륨이 추가로 존재하는 것이 특히, 헬륨이 상기 용기(80) 내에 도입되고 누출 및 침투를 측정하기 위하여 상기 용기(80) 외부에서 검출된다면, 상대적으로 검출이 용이할 수 있다. 헬륨은 기판의 압력 강하 상류에 의하여 검출되거나 기판을 통과하는 하류 가스의 분광학적 분석과 같은 다른 수단들에 의하여 검출될 수 있다.
VI.A. 상기 스테이션(22)에서와 같이 장치(80)를 성형한 이후에, 임의의 후속 처리 또는 코팅을 불완전하게 하고 무용하게 할 수 있는 몇가지 잠재적인 문제들이 일어날 수 있다. 이러한 문제들을 위해 코팅 하기 이전에 상기 장치들을 검사한다면, 상기 장치들은 원하는 결과(또는 결과들)를 보장할 고도로 최적화되고, 선택적으로는 최대 6-시그마 제어 프로세스로 코팅될 수 있다.
VI.A. 처리 및 코팅을 간섭할 수 있는 일부 잠재적인 문제들은 (생성되는 코팅된 품목의 특성에 따라) 다음과 같은 사항을 포함한다:
VI.A. 1. 높은 밀도의 미립자 오염 결함들(예를 들면, 가장 큰 크기가 각각 10 마이크로미터 이상) 또는 더 적은 밀도의 크기가 큰 미립자 오염(예를 들면, 가장 큰 크기가 각각 10 마이크로미터 이상).
VI.A. 2. 화학적 또는 다른 표면 오염(예를 들면, 실리콘 몰드 방출 또는 오일).
VI.A. 3. 많은 수/대량의 급격한 피크들 및 밸리들(valleys)에 의해 특성화되는, 높은 표면 거칠기 또한, 이것은 100 nm 미만인 평균 거칠기(Ra)를 정량화하여 특성화될 수 있다.
VI.A. 4. 진공이 생성되지 않도록 하는 구멍과 같이 장치에 생기는 임의의 결함.
VI.A. 5. 실을 생성하는데 사용될 장치의 표면상에 있는 임의의 결함(예를 들면, 시료 수집 튜브의 개방단).
VI.A. 6. 처리 또는 코팅 도중에 두께를 통해 커플링하는 전력을 방해하거나 변경할 수 있는 대형 벽 두께 비균일성.
VI.A. 7. 상기 차단 또는 다른 유형의 코팅을 무용하게 할 다른 결함들.
VI.A. 상기 처리/코팅 조작에서 매개변수들을 사용하여 상기 처리/코팅 조작이 성공적이도록 하기 위하여, 장치는 하나 이상의 상기 잠재적인 문제들 또는 다른 문제들의 존재 여부에 대하여 예비 검사될 수 있다. 앞에서, 장치(38 내지 68)과 같은 퍽 또는 용기 지지대)를 지지하고 이를 다양한 시험들 및 처리/코팅 조작을 포함하는 생산 공정을 통해 이동시키는 장치가 개시되었다. 실시할 수 있는 일부 시험들은 장치가 처리/코팅을 위해 적절한 표면을 갖기 위해 실행될 수 있다. 이는　아래에 기술된 바와 같이, 선택적으로 기체제거 기준선을 측정하기 위해 후-코팅 검사 하에서 측정될 수 있는 용기 벽의 기체제거를　포함한다.
VI.A. 상기 시험은 도 ２에 도시된 바와 같이 스테이션(24)에서 수행될 수 있다. 이 도면에서, 상기 장치(예를 들면, 시료 수집 튜브(80))는　제자리에　둘　수　있고　원하는 결과를 측정하기　위해　적절한　검출기（１３４）가　위치될 수 있다.
VI.A. 진공 누출 검출의 경우, 상기 용기 지지대 및 장치는 상기 튜브에 삽입된 진공 펌프 및 측정 장치에 커플링될 수 있다. 또한, 본 명세서의 어딘가에 설명된 바와 같이 시험을 수행할 수 있다.
VI.A. 상기 시스템들은 복수개의 단계들을 포함하는 제작 및 검사 방법으로 통합될 수 있다.
VI.A. 앞에서 기술된 바와 같이　도 1은 한가지 가능한 방법의 단계들의 간략한 배치(비록 본 발명은 단일 개념 또는 접근법으로 한정된다)를 보여준다. 우선, 용기(80)는 스테이션에서 또는 장치(24)에 의해 시각적으로 검사되며, 이는 상기 용기(80)의 크기 측정을 포함할 수 있다. 만약 어떠한 결함들이라도 발견된다면, 상기 장치 또는 용기(80)는 거부되며 (38)과 같은 퍽 또는 용기 지지대는 결함여부를 알아보기 위하여 검사되고, 리사이클링 되거나 제거된다.
VI.A. 다음으로, 용기 지지대(38) 및 안착된 용기(80)의 조립체의 누출 속도 또는 다른 특징들이 스테이션(26)에서 시험되고 코팅 이후엔 비교를 위해 저장된다. 이후, 상기 퍽 또는 용기 지지대(38)는 예를 들면, 코팅 단계(28)로 이동한다. 상기 장치 또는 용기(80)는 예를 들면, 13.56 MHz의 전원 공급 주파수에서 SiOx 또는 다른 차단막 또는 다른 유형의 코팅으로 코팅된다. 일단 코팅되면, 상기 용기 지지대는 그 누출 속도 또는 다른 특징들에 대해 재시험된다(이는 시험 스테이션(26) 또는 (30)과 같은 이중 또는 유사한 스테이션에서 제 2 시험으로 수행될 수 있다 - 이중 스테이션을 이용하면 시스템 작업 처리량을 증가시킬 수 있다).
VI.A. 상기 코팅 측정은 코팅되지 않은 측정과 비교될 수 있다. 이러한 값들의 비율이 허용가능한 전체 코팅 성능을 나타내는 사전 설정된 필요 수준을 넘어선다면, 상기 용기 지지대 및 장치는 계속 이동한다. 상기 값은 장치가 거부되거나 추가로 코팅되기 위해 리사이클링되는 사전 설정된 한계를 초월하도록 요구될 수 있다. 다음으로(거부되지 않는 장치들을 위해), 제 2 광학 시험 스테이션(34)이 사용될 수 있다. 이 경우에, 점 광원이 상기 튜브 또는 용기(80)의 내부로 삽입되고 용기의 외부에서 튜브형 CCD 검출기 어레이와 함께 측정이 이루어지는 동안에 천천히 뽑혀질 수 있다. 이후, 데이터를 컴퓨터로 분석하여 결함 밀도 분포를 측정한다. 상기 측정에 기반하여, 장치는 최종 포장을 위해 승인되거나 거부된다.
VI.A. 상기 데이터는 선택적으로는 최대 6-시그마 품질을 보장하는 통계 공정 제어 기법들을 이용하여, (예를 들면, 전자적으로) 기록되고 플로팅될 수 있다.
VI.B. 차단막을 통해 용기 벽의 가스제거를 검출함으로써 수행되는 용기 검사
가스제거　측정에　의해　차단막을　위한　물체를　검사하는　방법을　다음에서　설명하였다． 이　방법에서，　제１물질의　적어도　일부로　만들어진　물체（기판）가　제공된다． 상기　물체는　표면을　갖고，　선택적으로　제１물질가　표면　사이의　적어도　부분적　차단막을　갖는다． 개시된　기술의　광범위한　태양에서，　차단막은，　특별한　경우에　있어　용기는　차단성　코팅을　갖고　있는지　여부를　결정하기　위해　검사될　수　있기　때문에　선택적이다． 선택적으로，　제１물질에　용해되거나，　흡수되거나　흡착되는　충진　물질이　제공된다． 상기　물체는　이　경우　충진　물질가　접촉된다. 이제　가스제거는 표면의 적어도 일 부분으로부터　측정된다. 상기　방법은　상기 방지막의 존부를 판단하기에 효과적인 조건하에서 수행된다．
＂코팅된＂과　＂코팅되지　않은(비코팅된)＂과의　차이는　각　유속의　초기　기울기에　기초하여　만들어질　수　있다． 이러한　유량　기울기는　（ａ）직접　기울기　계산（델타　흐름／델타　시간）또는　（ｂ）유량　대비　시간　곡선으로부터　다시　계산된　기울기를　보간하는　알고리즘에　의해　서로　구분될　수　있어야　한다． 코팅된　품목과　코팅되지　않은　품목　사이의　기울기에　있어　차이는　그것들이　다시　생산될　수　있는한　본　발명을　수행하기에　충분히　매우　작을　수　있다．（예시　참조） 그러나，　일반적으로，　차이는　적어도　０．１초，　더　바람직하게는　적어도　０．３초　내지　１０초，　더욱　더　바람직하게는　적어도　１초　내지　５초이어야　한다． 기울기　차이의　상한은　수　분，　예를　들어　１５　또는　３０분일　수　있다． 통상적으로，　기울기　차이는　１초　내지　１５분，　더　통상적으로는　１초　내지　１분，　１초　내지　３０초　또는　１초　내지　１０초　범위이다．
본　상세한　설명에서　도　３１과　관련하여　설명된　바와　같이　식스　시그마　평가는　검사에　대해　통과　또는　실패를　구분하기　위한　매우　도움이　되는　도구이다． 예시에서　발명자들에　의해　적용된　시그마　수는　６이었고，　이는　또한　발명을　수행하기　위해　가장　바람직한　수이다． 바람직한　신뢰성에　따라，　시그마　수는　２　내지　８，　바람직하게　３　내지　７，　더　바람직하게는　４　내지　７　또는　５　내지　７에서　변할　수　있다． 신뢰성　대　시그마　수는　트레이드　오프가　있다：만일　발명을　수행할　때　더　긴　검사　시간이　허락될　수　있다면，　더　높은　시그마　수를　취한다．
측정된 상기 휘발성 종은 상기 코팅으로부터 배출된 휘발성 종, 상기 기판으로부터 배출된 휘발성 종 또는 이들의 조합일 수 있다. 일 측면에 있어서, 상기 휘발성 종은 상기 코팅으로부터 배출된 휘발성 종이고, 선택적으로는 휘발성 코팅 성분이며, 상기 검사는 상기 코팅의 존재, 특성 및/또는 조성을 측정하기 위해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. 다른 측면에 있어서, 상기 휘발성 종은 상기 기판으로부터 배출된 휘발성 종이며, 상기 검사는 상기 코팅의 존재 및/또는 상기 코팅의 차단 효과를 측정하기 위해 수행된다. 특히，상기　휘발성　종은　대기　구성물，예를　들어　질소，　산소，　물，　이산화　탄소，　아르론，　헬륨，　네온，　크립톤，　또는　공기일　수　있다．
차단막이　제공될　수　있는　적절한　물체의　일부　예시는　필름　또는　용기이다． 일부　특정　고려된　용기는　주사기　또는　주사기　베럴，　의료　샘플　수집　용기，　바이얼，　앰플，　및／또는　한　끝단이　단히고　다른　끝단은　열린　튜브，　예를　들어　혈액이나　다른　의료　샘플　수집　튜브이다．
상기　물체는　플라스틱，　예를　들어　열가소성　벽을　갖는　용기일　수　있다． 제１물질，　즉　플라스틱　벽을　형성하는　재료는，　예를　들어　열가소성　재료，　예를　들어　폴리에틸렌　테레프탈레이트（ＰＥＴ），폴리　부틸렌　테레프탈레이트（ＰＢＴ），　또는　폴리에틸렌　나프탈레이트　또는　그들의　조합　또는　공중합체를　포함하는，기본적으로　구성되는　또는　구성될　수　있다． 제１물질은　예를　들어　올레핀　폴리머，　예를　들어　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ），　사이클릭　올레핀　폴리머（ＣＯＰ），　폴리프로필렌　호모폴리머，　폴리프로필렌　공중합체，　또는　그들의　조합　또는　공중합체를　포함하는，기본적으로　구성되는　또는　구성될　수　있다． 다른　고려되는　제１물질은　폴리스티렌，　폴리카보네이트，　폴리비닐　클로라이드，나일론，　폴리우레탄，　에폭시　레진，　폴리아크릴로니트릴（ＰＡＮ），　폴리메틸펜텐，이오노머（ｉｏｎｏｍｅｒｉｃ）　레진，　예를　들어　Surlyn®　이오노머　레진을　포함한다．
다른　실시예에서，　제１물질은　사이클릭　올레핀　공중합체를　포함할　수　있고，　사이클릭　올레핀　공중합체로　기본적으로　구성될　수　있거나　또는　사이클릭　올레핀　공중합체　레진　조성으로　구성될　수　있다． 본　실시예에서，　＂구성됨＂은　몰딩　조성을　완성하기　위해　순수한　사이클릭　올레핀　공중합체와　혼합되는　다른　재료를　배제하는　것은　아니다． ＂구성됨＂의　이러한　정의는　본　상세한　설명　전체로　모든　물질에　대해　적용된다． ＂구성됨＂은　또한　설명된　레진　조성으로　구성된　적어도　하나의　층과　그와　다른　조성의　다른　층　들을　갖는　층사의　재료를　배제하지　않는다．
다른　실시예에서，　제１물질은　폴리에틸렌　테레프탈레이트를　포함할　수　있고，　폴리에틸렌　테레프탈레이트로　기본적으로　구성될　수　있거나　또는　폴리에틸렌　테레프탈레이트　레진　조성물로　구성될　수　있다．
제１물질의　특별히　바람직한　조합（예를　들어， SiOx 코팅으로　코팅된　튜브의　재료）및　휘발성　구성성분은　ＣＯＣ와　이산화탄소이다．
제１물질의　특별히　바람직한　조합（예를　들어， SiOx 코팅으로　코팅된　튜브의　재료）및　휘발성　성분은　ＰＥＴ와　물이다．
제１물질의　더　바람직한　조합（예를　들어， SiOx 코팅으로　코팅된　튜브의　재료）및　휘발성　구성성분은　ＣＯＣ와　아르곤이다．
다른　실시예에서，　차단막은 x가 약 1.5 내지 약 2.9인 SiOX，또는　본　명세서에서　설명된　다른　적절한　재료를　포함하거나　이루어진다． ＂차단막＂은　윤활성，　소수성，　또는　본　명세서에서　설명되는　다른　층과　같은　다른　표면　특성을　부여하는　다른　다른　１차　기능을　갖는　층이　될　수　있다． 본 명세서에 기술된 차단막을　적용하기　위한　어떤　방법이 이용될 수 있다.
하전　물질은　재료로부터의　배출　가스에　가스를　제공함에　의해　가스　제거의　측정을　촉진시키는　물질이　될　수　있다． 일부　제한없이　고려된　예시들은　대기　구성물，예를　들어　질소，　산소，　물，　이산화　탄소，　아르론，　헬륨，　네온，　크립톤，　또는　공기일　수　있다． 고려되는　충진　물질의　다른　형태의　차단막을　형성하기　위해　사용되는　공정　재료를　포함한다． 예를　들어，　충진　물질은　유기실리콘　재료，　예를　들어　옥타메틸시클로테트라실록산，　헥사메틸디실록산，　또는　전구체나　공정　재료로서　본　명세서에서　개시된　다른　가스들을　포함할　수　있다． 고려되는　충진　물질의　다른　형태는　예를　들어　코팅　공정에서　사용되는　캐리어　가스이다．
차단성　코팅은　충진　물질이　접촉되기　전，　충진　물질이　접촉된　후，　충진　물질이　접촉하는　동안，　또는　이들　단계의　둘　이상에서　존재하거나　또는　도포될　수　있다．
접촉　단계는　하전　물질을　포함하는　용적으로　물체를　노출시킴과　같은　다양한　방법으로　수행될　수　있다． 접촉은　충진　물질을　포함하는　주변　공기로　물체를　노출시킴에　의해　수행될　수　있다． 고려되는　충진　물질　하나는　수분있는　공기의　형성에서　제공될　수　있는　물이다． 접촉은　예를　들면，가스　제거　측정　전에，　차단막을　３５％　내지　１００％，　선택적으로　４０％　내지　１００％，　선택적으로　４０％　내지　５０％，　선택적으로　적어도　５０％，　선택적으로　적어도　６０％，　선택적으로　적어도　７０％，　선택적으로　적어도　８０％，　선택적으로　적어도　９０％，　선택적으로　적어도　９５％，　선택적으로　１００％의　상대　습도의　공기와　접촉시켜　수행될　수　있다．
충진　물질과　물체를　접촉함은　물체를　충진　물질을　포함하는　가스에　노출시킴에　의해서　또는　충진　물질을　포함하는　액체에　노출시킴에　의해서　수행될　수　있다．
예시적　접촉　시간은　０．１　초　내지　한　시간，　선택적으로　１　초　내지　５０　분，　선택적으로　１０　초　내지　４０　분，　선택적으로　１　분　내지　３０　분，　선택적으로　５　분　내지　２５　분，　선택적으로　１０　분　내지　２０　분일　수　있다． 그러나，　접촉　시간은　또한　매우　짧을　수　있다． 더　짧은　시간（예를　들어　예시의　１２분　보다　더　짧은）을　얻기　위한　하나의　선택은　충진　물질에　물체를　접촉하는　동안　온도를　높이는　것이다． 온도　상승은　검사되는　제품，　예를　들어　플라스틱　기판을　통한　접촉　물질의　확산을　가속화　시킬　수　있다． 예를　들어，　ＰＥＴ병의　벽을　통한　CO2의　확산은　온도가　30 내지 40℃　사이의　온도로　상승되었을　때　상당히　증가되었다．
CO2로　충진하기　위한　전형적　매개변수들　및　조건들은　CO2로　충진하기　위한　기본　프로토콜에서　표시되었다． 기본　프로토콜에서　주어진　매개변수들은　충진을　수행할　때　＋／－５０％　또는　그　이하로　변동될　수　있다． 유사한　조건은，　만일　본원에서　설명되는　다른　충진　물질들의　다른　물리화학적　특정들을　고려하여　적절하게　수정된다면，상기　다른　충진　물질들　중　하나로　충진을　수행함을　위해　적절하다．
본　발명에　따라　충진　물질과　물품의　충진을　포함하는　가스　제거　측정에　있어서，　코팅된　플라스틱　물품들，　예를　들어　차단막으로　코팅된　물품들　대비　코팅되지　않은　것들의　강화된　차이는　연속적인　가스　제거　측정（마이크로그램／분）을　위해　레진으로　가스를　흡수하는　플라스틱　물품의　능력에　좌우된다． 이것은　충진　물질로서　아르곤，N2 또는 CO2를　사용하는　예시에서　설명되었다． 플라스틱에서의　가스의　용해도는　플라스틱　레진　내에　있을　수　있는　가스량을　결정하는　중요한　요인이고　따라서　코팅되지　않은　제품　대　코팅된　제품의　좋은　구별을　제공하기　위한　특정　충진　가스에　대한　가능성의　좋은　추정치이다． 플라스틱　레진에서의　다양한　가스　용해도의　실험적　결정이　매우　제한적인　동안，　가스　용해도　Ｓ　와　레나드－존스（Ｌｅｎｎａｒｄ－Ｊｏｎｅｓ）　가스　온도［＝볼쯔만　상수（ｋ）로　나뉘는　가스　포텐셜　에너지　상수（엡실론）］사이의　선형적　관계（식１）가　유리질　폴리머에　대해　＋／－０．６의　정확도로　반　아메론겐，　마이클과　빅슬러（D.W. Van Krevelen, Properties of Polymers, Elsevier, 3rd Ed., 1990, pp. 538-542, 과　그　참조문헌들）에　의해　결정되었다．
Figure 112020096621774-pat00021
표　Ｈ에서　가스의　목록에（예시에서　사용된　이산화탄소，　아르고　및　질소　가스를　포함하여）가스들의　레나드－존스　가스　온도（엡실론／ｋ　비），　계산된 log S　매개변수　및 코팅되지　않는　것에　대한　최대　분리의　SiOx-코팅된 ATC (micrograms/min) 신호의　평균　비율을　나타내었다． 계산된 log S　대비　이산화탄소，　아르곤，　및　질소의　실험적　ＡＴＣ비율（도　５）은　더　높은　가스　용해도를　갖는　가스들이　바람직하고　낮은　가스　용해도를　갖는　가스들은　덜　바람직한　것을　나타낸다．
다시　말해，　큰　용해도를　갖는　가스들（표　Ｈ에서　더　밑에）은　가스　제거　측정에　기초한　코팅　안된　기판에　비해　코팅된　기판에　더　나은　차단　분리를　제공한다．
Table H. 가스　목록,　레나드－존스　온도, 계산된　log S (298) 및 코팅안된/SiOx-코팅된 ATC 응답.
Figure 112020096621774-pat00022
동일한　원리가　다른　코팅들　또는　다른　가스　흡수성　및　부착성을　나타내는　다른　재료들의　차이에　적용될　수　있다．
따라서，　본　발명의　본문에서　검사된　플라스틱　재료에서　좋은　용해도를　갖는　가스를　충진함을　이용하는　것이　바람직하다． 테스트의　민감도를　향상시키기　위해，　충진　재료는　플라스틱에서　더　높은　용해도를　갖는　충진　재료에　의해　보충되거나　또는　교체될　수　있다．
본　발명의　특별한　태양에서，　충진　재료는　표　Ｈ에서　나타낸　재료들에　대해　선택된다．
다른　특별한　태양에서，　－７．５이상，　바람직하게는　－７이상，　더욱　바람직하게는　－６．９이상인　log S를　갖는　가스들의　그룹으로부터　선택된다． 특정　실시예에서，　충진　가스는　log S가　－７．５　내지　－４．５인，　바람직하게는　－６．９　내지　－５．１의　범위를　갖는다．
표면의　적어도　일부로부터　가스　제거　측정은　예를　들어，　표면에서의　적어도　부분적　진공에서　끌어냄과　표면으로부터　가스　제거의　유량을　측정함에　의해서　수행될　수　있다． 본 명세서에서 기술한 임의의 가스제거 방법이 고려된다.
기체제거된 가스는 0.1 Torr 내지 100 Torr, 선택적으로 0.2 Torr 내지 50 Torr, 선택적으로 0.5 Torr 내지 40 Torr, 선택적으로 1 Torr 내지 30 Torr, 선택적으로 5 Torr 내지 100 Torr, 선택적으로 10 Torr 내지 80 Torr, 선택적으로 15 Torr 내지 50 Torr의 압력으로，　예를　들어　가스　제거　측정　중　코팅된　표면에서　진공을　끌어냄에　의해　측정될 수 있다.
기체제거된 가스는 -10℃　내지 150℃, 선택적으로 0℃ 내지 100℃, 선택적으로 0℃ 내지 50℃, 선택적으로 0℃ 내지 21℃, 선택적으로 5℃ 내지 20℃의 온도로 측정될 수 있다. 측정된　기체제거된　가스와　제１물질（기판）의　물리화학적　특성들에　따라，　다른　온도들이　또한　적절할　수　있다． ＣＯＣ와　같은　일부　재료들은，　비록　변형을　일으킬　정도까지　가열하지　않는　것이　또한　중요하지만　상승된　온도에서　더　높은　투자율을　갖는다． 예를　들어，　ＣＯＣ（약 70℃ 내지　약 180℃　범위에서　유리전이온도를　갖는）에　대해，유리전이온도　이하로　유지되어　변형이　방지된다면　가스　제거　측정을　위한　온도는　약　80℃　또는　그　이상이　될　수　있다．
본　명세서에서　설명된　실시예　중　하나에서,　선택적으로　제１물질은 외부 표면과 내부 표면을 가지며, 상기 내부 표면이 루멘을 둘러싸는 벽을 갖는 용기의 형태로 제공된다. 선택적으로, 상기 차단막은 상기 용기 벽의 내부 표면상에 제공될 수 있다.
선택적으로는, 상기 용기의 루멘을 적어도 부분적으로 진공시켜 압력 차등이 상기 차단막을 가로질러 제공될 수 있다. 이는 예를 들면, 상기 루멘을 덕트를 통해 진공원에 연결시켜 상기 루멘을 적어도 부분적으로 진공시켜 수행될 수 있다.
가스　제거　측정　셀은　상기 루멘 및 상기 진공원 사이를 연통하여　제공될　수　있다.
가스　제거는　시간　간격당　상기　차단성　막을　통해　통과하는　가스　제거　물질의　부피를　결정함으로써　측정될　수　있다．
가스　제거는　미세　유량　기술을　사용하여　측정될　수　있다．
가스　제거는 가스　제거된　물질의 질량 흐름 속도로 측정될 수 있다.
가스　제거는　분자　흐름　작동　모드에서　측정될　수　있다．
가스　제거는　본　명세서에서　설명된　마이크로 캔틸레버 기술을　사용하여　측정될　수　있다．
선택적으로는, 가스제거하는 물질의 적어도 일 부분이 상기 차단막의 고압 측면상에 존재하도록 압력 차등이 상기 차단막을 가로질러 제공될 수 있다. 다른 옵션에서, 가스제거된 가스는 압력 차이를 제공하지 않으면서 확산되도록 할 수 있다. 가스제거된 가스가 측정된다. 만약 압력 차등이 상기 차단막을 가로질러 제공된다면, 상기 가스제거는 상기 차단막의 고압 또는 저압 측면상에서 측정될 수 있다.
VI.B. 또한, 상기 내부 코팅의 유효성 측정(상기 적용됨)은 (코팅 이전에) 장치의 벽내에 특이적인 종 또는 흡착된 물질들의 확산 속도를 측정하여 이루어질 수 있다. 코팅되지 않은(미처리) 튜브와 비교할 경우, 이런 유형의 측정은 상기 코팅 또는 처리의 차단 또는 다른 유형의 특성의 직접적인 측정 또는 상기 코팅 또는 처리의 존부를 제공할 수 있다. 차단 막 이외에 또는 차단 막 대신에, 검출되는 코팅 또는 처리는 윤활성 층, 소수성 층, 장식 코팅 또는 기판의 기체제거를 증가시키거나 감소시켜 이를 변경하는 다른 유형의 층들일 수 있다.
VI.B. 본 개시물에서는 "침투", "누출" 및 "표면 확산" 또는 "가스제거" 사이에 구별이 이루어져 있다.
용기를 참조하여 본 명세서에 사용된 "침투"는 도 29의 경로(350)를 따라 용기의 외부로부터 내부로 또는 그 반대로 또는 그 경로의 반대로, 벽(346) 또는 다른 장애물을 통해 물질이 횡단하는 것을 의미한다.
가스제거는 도 29의 벽(346) 또는 코팅(348) 내부로부터 바깥쪽으로 가스 분자(354 또는 357 또는 359)와 같은 흡수되거나 흡착된 물질이 예를 들면, (만약 존재한다면) 코팅(348) 그리고 상기 용기(358)(도 29에서 오른쪽으로)로 이동하는 것을 의미한다. 또한, 가스제거는 상기 벽(346)의 밖으로 나와 (354 또는 357)과 같은 물질이 도 29에 도시된 바와 같이 왼쪽으로 가서 도시된 바와 같이 용기(357)의 외부로 이동하는 것을 의미할 수 있다. 또한, 가스제거는 예를 들면, 상기 용기 코팅(90)의 노출된 표면으로부터 가스 분자(355)와 같이, 품목의 표면으로부터 흡착된 물질의 제거를 의미할 수 있다.
누출은 클로저 및 클로저와 함께 폐쇄된 용기의 벽 사이를 통과함으로써, 장애물의 표면을 통해 또는 그것을 벗어나기 보다는 벽(346) 및 코팅(348)에 의하여 제시된 장애물 주위로 물질이 이동하는 것을 의미한다.
VI.B. 침투는 갭/결함이 없으며 누출 또는 가스제거와 관련되지 않은 물질을 통한 가스 이동의 속도를 나타내는 것이다. VI.B. 침투는 갭/결함이 없으며 누출 또는 가스제거와 관련되지 않은 물질을 통한 가스 이동의 속도를 나타내는 것이다. 침투는 열역학적으로서 상대적으로 느린 공정으로 간주된다.
VI.B. 침투 측정은 침투 가스가 플라스틱 품목의 부서지지 않은 벽을 완전히 통과하여야 하기 때문에 매우 느린 것이다. 진공된 혈액 수집 튜브들의 경우에 있어서, 벽을 통한 가스의 침투 측정은 시간에 따라 용기가 진공을 상실하는 경향성의 직접적인 표시로 통상적으로 사용되지만, 보통은 6일의 시험 기간을 필요로 하는 극단으로 느린 측정이라서 온-라인 코팅 검사를 지지할 만큼 충분히 빠르지 않다. 그러한 시험은 일반적으로 용기들의 시료의 오프-라인 시험을 위해 사용된다.
VI.B. 또한, 침투 시험은 두꺼운 기판상에 얇은 코팅의 차단 유효성을 그다지 민감하게 측정하는 측정이 아니다. 모든 가스 흐름이 코팅 및 기판 양쪽 모두를 통한 것이기 때문에, 두꺼운 기판을 통한 흐름에 변화가 있으면 그 자체로 코팅의 차단 유효성으로 인한 것이 아닌 변화를 도입할 것이다.
VI.B. 본 발명자들은 코팅의 차단 특성을 측정하는 - 코팅을 통해 용기 벽에서 신속히 분리된 공기 또는 다른 가스 또는 휘발성 구성성분들의 가스제거를 측정하는 훨씬 더 신속하고 잠재적으로 더 민감한 방법을 발견하였다. 가스 또는 휘발성 구성성분들은 사실은 검출되는 하나 이상의 특이적인 물질을 기체제거 하거나 이로부터 선택될 수 있는 임의의 물질일 수 있다. 상기 구성성분들은 산소, 질소, 공기, 이산화탄소, 수증기, 헬륨, 알콜류, 케톤류, 탄화수소류, 할록겐화　탄화수소류，　에테르류，　코팅 전구체들, 기판 성분들, 휘발성 유기실리콘류와 같은 코팅 제조의 부산물들, 코팅된 기판 제조의 부산물들, 우연히 존재하거나 기판을 스파이크하여 도입된 다른 구성성분들 또는 이들 중 어느 하나의 혼합물들 또는 조합들을 포함할 수 있지만, 여기에 한정되는 것은 아니다.
가스 제거는 (348)과 같은 코팅의 존재와 차단 특성에 대한 훨씬 더 빠른 측정(침투에 비해)을 제공한다. 가스 제거는 도 29에서 벽(346)의 두께 전체를 통과해 나갈 필요는 없기 때문에 더 빠른 테스트가 된다. 가스 제거는 차단성 코팅(348)에 가까운 벽(346) 안에 또는 용기의 내부 표면에(만일 코팅이 없다면) 있을 수 있어, 벽(346)의 두께의 매우 작은 부분을 가로지를 수 있다. 차단성 코팅은 용기 벽 보다 수천배 얇기 때문에, 가스 제거 측정은 용기 내에서 검출가능하기 전에 가스가 통과해야 하는 벽 두께를 감소시킴에 의해 투과 테스트에 요구되는 실제적인 모든 지연을 제거한다. 이동해야하는 거리를 줄여줌은 이동의 길이를 줄여준다.
가스 제거는 보다 민감하게 하여 테스트할 표면을 차단성 코팅이 아닌 용기에 의해 소모되는 가스로 충진함으로써 보다 빠르게 할 수있다. 테스트되는 용기의 내부는 충진 가스에 노출되어, 가스 제거를 위해 테스트 된다. 효과적인 차단성 코팅이 있으면, 차단성 코팅이 용기 벽으로 들어가는 것을 막을 것이기 때문에 매우 작은양의 가스가 충진될 것이다. 만일 차단성 코팅이 없다면, 충진 가스는 매우 짧은 시간의 구간에 용기 벽에 의해 상당한 부분이 소모될 것이다. 벽으로 들어가는 가스의 양과 차단성 코팅의 존부는 용기 내부로의 가스 제거의 양을 결정할 것이다.
마지막으로, 가스 제거 측정의 방법은 그것이 얼마나 빠르게 측정될 수 있는지를 결정할 것이다. 바람직한 측정 기술은 마이크로흐름 기술로서 알려져있다. 본 방법에서 사용된 마이크로흐름 기술은 차단성 코팅의 존재와 효과가 수초내에, 잠재적으로 1초 또는 그이하로 확인되도록 한다.
가스 제거 방법은 수 초내에, 그리고 1 초 이하로 조차 코팅된 플라스틱 튜브와 코팅안된 플라스틱 튜브 사이를 구별할 수 있다.
표면 확산 및 기체제거는 동의어이다. 각각의 용어는 용기의 벽과 같이, 벽(346)에 최초로 흡착되거나 흡수되고 벽을 갖는 용기 내에서 (도 29의 화살표(352)에 의해 지시된 공기 이동을 생성하는) 진공을 뽑아내는 것과 같은 일부 모티브가 되는 힘에 의하여 인접한 공간으로 통과하여 상기 벽의 밖에서 유체를 상기 용기의 내부로 강제로 이동시키는 유체를 의미한다. 가스제거 또는 확산은 운동성이 있는 상대적으로 신속한 공정으로 간주된다. 경로(350)를 따른 침투에 실질적으로 저항성을 갖는 벽(346)에 대하여 가스제거는 상기 벽(346) 및 상기 차단막(348) 사이의 계면(356)과 가장 가까운, (354)와 같은 분자들을 신속하게 몰아내는 것으로 생각된다. 이러한 차등 가스제거는 가스제거로 도시된 계면(356) 근처의 (354)와 같은 대량의 분자들에 의하여 그리고 계면(356)으로부터 더 멀리 떨어져 있으며 가스제거로 도시되어 있지 않은 (358)과 같은 대량의 다른 분자들에 의하여 제시된다.
VI.B. 따라서, 또 다른 방법이 몇가지 단계들을 포함하는, 증기를 기체제거하는 물질상에 차단막을 검사하기 위해 고려된다. 가스를 가스제거하고 적어도 하나의 부분적인 차단성 막을 갖는 물질의 시료가 제공된다. 가스제거하는 물질의 적어도 일 부분이 상기 차단막의 고압 측면상에 최초로 존재하도록 압력 차등이 상기 차단막을 가로질러 제공된다. 시험 도중에 상기 차단막의 저압 측면으로 수송되는 기체제거된 가스는 차단막이 존재하는지 또는 그것이 차단막으로 얼마나 유효한지의 정보를 결정하기 위해 측정된다.
VI.B. 이 방법에 있어서, 가스를 기체제거하는 물질은 중합체 화합물, 열가소성 화합물 또는 양쪽 특성들을 갖는 하나 이상의 화합물들을 포함할 수 있다. 가스를 기체제거하는 물질은 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르를 포함할 수 있다. 가스를 기체제거하는 물질은 폴리올레핀, 두 가지 예로서, 폴리프로필렌, 사이클릭 올레핀 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 가스를 기체제거하는 물질은 두 가지 상이한 물질들의 복합체로서, 이들 중 적어도 하는 증기를 기체제거할 수 있다. 하나의 예는 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 이중층 구조이다. 다른 예는 사이클릭 올레핀 공중합체 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 이중층 구조이다. 이러한 물질들과 복합체들은 예시적인 것이다; 임의의 적당한 물질 또는 물질들의 조합이 사용될 수 있다.
VI.B. 선택적으로는, 가스를 기체제거하는 물질은 외부 표면과 내부 표면을 가지며, 상기 내부 표면이 루멘을 둘러싸는 벽을 갖는 용기의 형태로 제공된다. 이 실시예에서, 상기 차단막은 선택적으로는 상기 용기 벽상, 선택적으로는 상기 용기 벽의 내부 표면상에 제공된다. 또한, 상기 차단막은 상기 용기 벽의 외부 표면상에 제공될 수 있다. 선택적으로는, 가스를 기체제거하는 물질은 필름의 형태로 제공될 수 있다.
VI.B. 상기 차단막은 현재 기술된 차단막들 중 임의의 것의 전체 또는 부분적인 코팅일 수 있다. 상기 차단막은 500 nm 두께 미만, 또는 300 nm 두께 미만, 또는 100 nm 두께 미만, 또는 80 nm 두께 미만, 또는 60 nm 두께 미만, 또는 50 nm 두께 미만, 또는 40 nm 두께 미만, 또는 30 nm 두께 미만, 20 nm 두께 미만, 또는 10 nm 두께 미만, 또는 5 nm 두께 미만일 수 있다. 통상적으로, 상기 차단막은 SiOx차단막이 될 수 있고, 그 두께는 약 20 내지 30 nm가 될 수 있다.
VI.B. 코팅된 벽의 경우에, 본 발명자들은 확산/기체제거는 코팅 완전성을 측정하는데 사용될 수 있다는 것을 알게 되었다. 선택적으로는, 상기 용기의 루멘 또는 내부 공간을 적어도 부분적으로 진공시켜 압력 차등이 상기 차단막을 가로질러 제공될 수 있다. 이는 예를 들면, 상기 루멘을 덕트를 통해 진공원에 연결시켜 상기 루멘을 적어도 부분적으로 진공시켜 수행될 수 있다. 예를 들면, 주위 공기에 노출된 용기의 코팅되지 않은 PET 벽(346)은 진공이 뽑혀진 이후에 어느 정도의 시간 동안 그 내부 표면으로부터 일정수의 산소 및 (354)와 같은 다른 가스 분자들을 기체제거할 것이다. 만약 동일한 PET 벽이 차단성 코팅(348)으로 내부상에 코팅된다면, 상기 차단 코팅은 이 기체제거를 중단, 지연 또는 감소시킬 것이다. 이는 예를 들면, 플라스틱 표면보다 더 적게 가스제거를 하는 SiOx 차단성 코팅(348)에 대해서 사실이다. 코팅되고 코팅되지 않은 PET 벽들 사이에서 기체제거의 차등을 측정함으로써, 기체제거된 물질에 대한 코팅(348)의 차단 효과는 신속하게 측정될 수 있다.
VI.B. 만약 차단 코팅(348)이 알려지거나 이론적인 구멍, 크랙, 갭 또는 불충분한 두께 또는 밀도 또는 조성물의 면적들로 인하여 불완전하다고 하면, 상기 PET 벽은 이러한 불완전성을 통해 우선적으로 기체제거되어, 기체제거의 전체 양을 증가시킬 것이다. 수집된 기체의 제 1 원천은 상기 품목의 외부로부터 온 것이 아닌, 상기 코팅에 바로 옆의 플라스틱 품목의 (하부)표면에 있는 용해된 가스 또는 증기화가능한 구성성분들로부터 나온 것이다. 기초 수준을 벗어나 기체제거하는 양(예를 들면, 불완전성이 전혀 없이 또는 최소한도로 획득할 수 있는 불완전도 또는 평균 및 허용가능한 정도의 불완전도로 표준 코팅에 의하여 통과되거나 배출된 양)은 코팅의 완전성을 측정하는 다양한 방법들에서 측정될 수 있다.
VI.B. 상기 측정은 예를 들면, 상기 루멘 및 상기 진공원 사이를 연통하는 기체제거 측정 셀을 제공함으로써 수행될 수 있다.
VI.B. 상기 측정 셀은 상이한 측정 기법들 중 하나를 수행할 수 있다. 적당한 측정 기법의 하나의 예는 마이크로-흐름 기법이다. 예를 들면, 기체제거된 물질의 질량 흐름 속도가 측정될 수 있다. 상기 측정은 분자 흐름 작동 모드에서 수행될 수 있다. 예시적인 측정으로는 시간 간격당 차단막을 통해 기체제거된 가스의 부피의 측정이 있다.
VI.B. 상기 차단막의 저압 측면상에서 기체제거된 가스는 상기 차단막의 존부를 구별하는데 효과적인 조건 하에서 측정될 수 있다. 선택적으로는, 상기 차단막의 존부를 구별하는데 효과적인 조건은 1 분 미만, 또는 50 초 미만 또는 40 초 미만, 또는 30 초 미만, 또는 20 초 미만, 또는 15 초 미만, 또는 10 초 미만, 또는 8 초 미만, 또는 6 초 미만, 또는 4 초 미만, 또는 3 초 미만, 또는 2 초 미만, 또는 1 초 미만의 시험 지속기간을 포함한다.
VI.B. 선택적으로는, 상기 차단막의 존부재의 측정은 상기 확인된 시간 간격들 중 어느 하나 내에서 확실성의 적어도 6-시그마 수준으로 확인될 수 있다.
VI.B. 선택적으로는, 상기 차단막의 저압 측면상에서 기체제거된 가스는 차단막이 없는 동일한 물질과 비교하여, 상기 차단막의 차단 향상 인자(BIF)를 측정하는데 효과적인 조건 하에서 측정된다. BIF는 예를 들면, 동일한 용기들이 있는 2 개의 그룹들을 제공하고, 하나의 용기 그룹에 차단막을 첨가하고, 차단막을 갖는 용기들상에 (분당 또는 다른 적당한 척도의 기체제거 속도와 같은) 차단 특성을 시험하고, 차단막이 결여된 용기들상에 동일한 시험을 수행하고 차단막이 있는 물질과 차단막이 없는 물질의 특성의 비율을 취하여 측정될 수 있다. 예를 들면, 상기 차단막을 통한 기체제거의 속도가 차단막이 없는 기체제거 속도의 3분의 1이라면, 상기 차단막은 3의 BIF를 갖는다.
VI.B. 선택적으로는, 기체제거된 공기의 경우에 질소 및 산소 양쪽 모두와 같이 하나 이상의 유형의 가스가 존재하는 경우에 있어서, 복수개의 상이한 가스들의 기체제거가 측정될 수 있다. 선택적으로는, 상기 기체제거된 가스들의 실질적으로 모두 또는 모두의 기체제거는 측정될 수 있다. 선택적으로는, 상기 기체제거된 가스들의 실질적으로 모두 또는 모두의 기체제거는 모든 가스들의 조합된 질량 유속과 같은 물리적인 측정을 사용하여 동시에 측정될 수 있다.
VI.B. 시료로부터 기체제거된 (산소, 헬륨, CO2 또는 수증기와 같은) 개별 가스 종들의 숫자 또는 부분압의 측정은 대기압 시험보다 더 신속하게 수행될 수 있지만, 시험 속도는 상기 기체제거의 일 부분만이 상기 측정된 종일 정도로 감소된다. 예를 들면, 산소와 질소가 대기의 약 4:1의 비율로 상기 PET 벽으로부터 기체제거되지만, 산소 기체제거만이 측정된다면, 용기 벽으로부터 기체제거된 모든 종들을 측정하는 시험을　동일하게 민감한 시험으로서　５회　정도　실시할　필요가　있다（충분한　통계적　질의　결과를　얻기　위해　검출되는　분자수로　환산함）．
VI.B. 주어진　민감도　수준에　대하여，　표면으로부터　기체제거되는　모든　종들의　부피를　차지하는　방법은　산소　원자들과　같은　특이적인　종의　기체제거를　측정하는　시험보다　훨씬　더　신속하게　원하는　신뢰　수준을　제공할　것이라고　생각된다． 결국，　인－라인　측정을　위해　실제적인　효용성을　갖는　기체제거　데이터가　생성될　수　있다． 선택적으로는，　이러한　인－라인　측정은　제작된　모든　용기에　대하여　수행될　수　있어서，　특이하거나　분리된　결함들의　수를　감소시켜　잠재적으로는　이들을　제거할　것이다（적어도　측정시에）．
VI.B. 실제　측정에　있어서，　겉으로　보이는　기체제거　양을　변화시키는　인자는　상기　기체제거　시험에서　진공이　뽑혀짐에　따라　진공　수용체상에　안착된　용기의　실과　같은　불안전한　실을　빠져나가는　누출이다． 누출은　품목의　고체　벽을　우회하는　유체，　예를　들면，　혈액　튜브　및　그　클로저　사이，　주사기　플런저　및　주사기　베럴　사이，　용기　및　그　캡　사이　또는　용기　입구　및　상기　용기　입구가　안착되어（불안전하거나　잘못　안착된　실로　인하여）　있는　실　사이를　흐르는　유체를　의미한다． ＂누출＂이라는　단어는　주로　플라스틱　품목에　있는　개구부를　통해　가스／가스의　이동을　나타내는　것이다．
VI.B. 누출　및　（필요하다면　주어진　상황에서）　침투는　기체제거의　기본　수준으로　인자화될　수　있어서，　허용가능한　시험　결과는　용기가　진공　수용체사에　적당히　안착되고（그　안착된　표면이　손상되지　않으며　적절히　형성되고　위치됨），　용기　벽이　침투가　허용할　수　없는　수준을　지탱하지　않아서（용기　벽이　손상되지　않으며　적절히　형성됨）　그리고　코팅이　충분한　차단　완전성을　갖도록　보장한다．
VI.B. 기체제거는　대기압　측정（최초　진공이　뽑혀진　이후에　주어진　시간에　용기　내에서　압력　변화를　측정함）에　의하거나　시료로부터　기체제거된　가스의　부분압　또는　유속을　측정함으로써　다양하게　측정될　수　있다． 분자 흐름 작동 모드에서 질량　유속을　측정하는　장비를　사용할　수 있다. 마이크로－플로우　테크놀로지（Ｍｉｃｒｏ－Ｆｌｏｗ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）를　채용하는　이런　유형의　상업적으로　이용가능한　장비의　예는　인디애나주，　인디애나폴리스　소재　ＡＴＣ　사로부터　구입할　수　있다． 이 공지의 장비에 대한 추가 설명을 위해 본원에 참조로 통합된 미국 특허 제 5861546, 6308556, 6584828 및 EP1356260을 참조. 코팅되지　않은　튜브들로부터　차단막이　코팅된　폴리에틸렌　테레프탈레이트（ＰＥＴ）　튜브들을　매우　신속하고　신뢰성있게　구별짓는　기체제거　측정의　일례를　보여주는, EP2251671 A2에서의 예 8 을 또한 참조．
VI.B. 폴리에틸렌　테레프탈레이트（ＰＥＴ）로　제작된　용기에　대하여，　마이크로흐름　속도는　ＳｉＯｘ　코팅된　표면　대　코팅되지　않은　표면에　대해　상이하다． 예를　들면，　EP EP2251671 A2에서　작업예　８에서는，　도 31에　도시된　바와　같이，　시험이　３０　초　동안　실행된　이후에　ＰＥＴ에　대한　마이크로흐름　속도는　８또는　이상이었다． 코팅되지　않은　ＰＥＴ에　대한　이러한　속도는　도 31에　다시　도시된　바와　같이，　시험이　３０　초　동안　실행된　이후에　６　마이크로그램　미만이었던　ＳｉＯｘ－코팅된　ＰＥＴ에　대한　측정된　속도보다　훨씬　더　높았다．
VI.B. 유속에서의　이러한　차이에　대한　한가지　가능한　설명은　코팅되지　않은　ＰＥＴ는　대략　０．７　퍼센트　평형　수분을　함유한다는　것이다；　이러한　높은　수분　함유량은　관찰된　높은　마이크로흐름　속도를　유발하는　것으로　간주된다． ＳｉＯｘ－코팅된　ＰＥＴ　플라스틱을　사용하여，　ＳｉＯｘ　코팅은　코팅되지　않은　ＰＥＴ　표면보다　더　높은　수준의　표면　수분을　가질　수　있다． 그러나，　시험　조건하에서，　차단　코팅은　수분이　벌크　ＰＥＴ　플라스틱으로부터　더　탈착하는　것을　방지하여，　마이크로흐름　속도가　더　낮아진다고　간주된다． 상기 코팅되지 않은 PET 플라스틱 대 SiOx 코팅된 PET로부터 산소 또는 질소의 마이크로흐름 속도도 구별가능할 것으로 예상된다.
VI.B. ＰＥＴ　튜브에　대한　상기　시험의　변경은　다른　물질들을　사용하는　경우　적절할　수　있다． 예를　들면，　폴리올레핀　플라스틱류는　수분　함유량이　거의　없는　경향이　있다． 낮은　수분　함유량을　갖는　폴리올레핀의　예는　평형　수분　함유량（０．０１　퍼센트）　및　ＰＥＴ에　대한　것보다　훨씬　낮은　수분　침투　속도를　갖는，　TOPAS®　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）이다． COC의 경우, 코팅되지 않은 COC 플라스틱은 SiOx 코팅된 COC 플라스틱과 유사하거나 심지어 이 보다 낮은 마이크로흐름 속도를 가질 수 있다. 이는 상기 SiOx-코팅의 더 높은 표면 수분 함유량 및 코팅되지 않은 COC 플라스틱 표면의 더 낮은 평형 벌크 수분 함유량 및 더 낮은 침투 속도로 인한 것일 가능성이 높다. 이는　코팅되지　않고　코팅된　ＣＯＣ　품목들의　구별을　더　어렵게　한다.
본 발명은 시험되어야 할 COC 물품(코팅되지 않은　것과 코팅된　것)의 표면을 수분에 노출시키면 코팅되지 않은 플라스틱과 SiOx 코팅된 COC 플라스틱 사이에서 향상되고 일관된 마이크로흐름 분리로 나타난다는 것을 보여준다. 이는　EP2251671 A2의　실시예　１９　및　도　５７에　도시되어　있다. 상기　수분　노출은　제어된　상대　습도　룸에서　또는　온화한（가습기）　또는　냉한（기화기）　수분　원천에　직접　노출에서와　같이　３５％　내지　１００％에　이르는　상대　습도에　단순　노출일　수　있으며，　후자가　더　선호된다．
VI.B. 본 발명의 유효함 및 범위는 이 이론의 정확성에 따라 제한되지 않는 반면에, 코팅되지 않은 COC 플라스틱의 수분 도핑 또는 스파이킹은 이미 포화된 SiOx-코팅된 COC 표면에 대한 수분 또는 다른 기체제거가 가능한 함유량을 증가시키는 것처럼 보인다. 또한，　이는　이산화탄소, 산소，　질소，　수증기 또는　예를　들면　공기와　같은　다른　혼합물들을　포함하는　다른　가스들에　코팅되고　코팅되지　않은　튜브들을　노출시켜　수행될　수　있다． 이산화탄소 노출(또는 "스파이킹")은 튜브가 COC로 만들어진 경우에 이것과 관련하여 특별히 효과적이다.
ＶＩ．Ｂ　따라서，　기체제거된　가스를　측정하기　이전에，　차단막은　물，　예를　들면，　수증기와　접촉될　수　있다． 수증기는　예를　들면，　차단막을　３５％　내지　１００％，　또는　４０％　내지　１００％，　또는　４０％　내지　５０％의　상대　습도의　공기와　접촉시켜　제공될　수　있다． 물　대신에　또는　물에　더하여，　차단막은　산소，　질소　또는　산소　및　질소의　혼합물，　예를　들면，　주위　공기와　접촉될　수　있다． 또한 이산화탄소, 질소 및 비활성 가스(예를 들어 아르곤)를 포함하여 다른 물질들이 가스 제거 테스트에 사용될 수 있다. 예시적　접촉　시간은　０．１　초　내지　한　시간，　선택적으로　１　초　내지　５０　분，　선택적으로　１０　초　내지　４０　분，　선택적으로　１　분　내지　３０　분，　선택적으로　５　분　내지　２５　분，　선택적으로　１０　분　내지　２０　분일　수　있다.
또한，　기체제거하는　벽（３４６）은　예를　들면，　도　１１에　도시된　바와　같이　벽（３４６）의　왼쪽을　상기　벽（３４６）으로　기체유입하고　이후　도　２９에　도시된　바와　같이　왼쪽　또는　오른쪽　중　어느　하나로　기체제거하는　물질에　노출시켜　차단층（３４８）과　반대되는　측면으로부터　스파이크되거나　보충될　수　있다. 기체유입하고에　의하여　왼쪽으로부터　벽　또는　（３４６）과　같은　다른　물질을　스파이킹한　이후，　스파이크된　물질을　오른쪽으로부터（또는　그　반대로）　기체제거를　측정하는　것은　코팅을　통해　제시된　가스가　측정되는　때에　벽을　통해　전체　경로（３５０）를　이동하는　물질과는　반대로，　스파이크된　물질이　기체제거가　측정되는　때에　상기　벽（３４６）　내에　존재하기　때문에　침투　측정과는　구별된다． 기체유입은　상기　코팅（３４８）이　도포되기　이전에　일　실시예로서，　그리고　상기　코팅（３４８）이　도포된　이후　및　기체제거를　위해　시험되기　이전에　다른　실시예로서　오랜　시간에　걸쳐서　일어날　수　있다．
VI.B. 코팅되지 않은 플라스틱 및 SiOx 코팅된 플라스틱 사이에서 마이크로흐름 반응의 분리를 증가시키는 다른 가능한 방법은 측정 압력 및/또는 온도를 바꾸는 것이다. 기체제거를　측정하는　경우　압력을　증가시키거나　온도를　감소시키는　것은　코팅되지　않은　ＣＯＣ에서　보다　ＳｉＯｘ　코팅된　ＣＯＣ에서　물　분자들의　상대적인　결합을　더　많이　일어나게　할　수　있다． 따라서, 기체제거된 가스는 0.1 Torr 내지 100 Torr, 또는 0.2 Torr 내지 50 Torr, 또는 0.5 Torr 내지 40 Torr, 또는 1 Torr 내지 30 Torr, 또는 5 Torr 내지 100 Torr, 또는 10 Torr 내지 80 Torr, 또는 15 Torr 내지 50 Torr의 압력으로 측정될 수 있다. 기체제거된 가스는 -10℃　내지 150℃, 선택적으로 0℃ 내지 100℃, 선택적으로 0℃ 내지 50℃, 선택적으로 0℃ 내지 21℃, 선택적으로 5℃ 내지 20℃의 온도로 측정될 수 있다. COC에 대해 온도는 약 80℃ 또는 그 이상이 될 수 있다.
다른 특정 실시예는 플라즈마 코팅된 COC 플라스틱 물품들 또는 표면들 대비 코팅되지 않은 물품들 또는 표면들의 구분을 위한 개선된 방법 및 개선된 시스템이다.
실질적으로 용해된 수분(ca. 0.1 내지 0.2 중량 퍼센트)을 가지는 PET 수지와는 대조적으로, TOPAZ-상표 레진을 포함하는 사이클릭 올레핀 공중합체(COC) 조성물은 보다 낮은 평형 수분(ca. 0.01%)을 갖는다. 수분 가스 제거를 이용하여 코팅안된 그리고 플라즈마 코팅된 COC 사이의 가스 제거 속도를 구분하기 위한 마이크로흐름 분석은 더 어렵다.
COC 물품 또는 표면으로 이산화탄소(CO2)의 충진과 주입은 코팅안된 그리고 플라즈마 코팅된 인젝션 몰딩 COC 물품 사이의 마이크로흐름 신호 분리를 향상시킨다는 것이 발견되었다. 증가된 구별력은 성능 최적화를 위한 코팅 균일성의 더 나은 결정과 그리고 받아들일 수 있는 또는 받아들일 수 없는 코팅된 물품의 인-라인 실시간 평가의 더 빠른 구별을 제공할 것이다. 따라서, CO2는 본 발명에 따른 검사되는 제품을 충진시킴을 포함하는 가스 제거 방법을 수행하기 위해 바람직한 충진 물질이다.
충전 물질의 사용을 위한, 예를 들어 충진 물질로서 CO2의 사용을 위한 바람직한 조건은 다음과 같다:
충진 시간: ０．１　초　내지　한　시간，　선택적으로　１　초　내지　５０　분，　선택적으로　１０　초　내지　４０　분，　선택적으로　１　분　내지　３０　분，　선택적으로　５　분　내지　２５　분，　선택적으로　１０　분　내지　２０　분． 12 내지 14분 충진 시간이 특히 고려된다.
충진 압력:16 psi (1 atm) 내지 48 psi (3 atm), 바람직하게 20 psi 내지 30 psi, 그리고 특히 바람직하게 25 psi . 충진을 수행할 때 3 atm보다 더 높은 압력은 바람직하지 않은데, 코팅된 용기와 코팅은 코팅 및/또는 기판에서 크랙과 팽창과 같은 결함을 일으키면서 늘어날 수 있기 때문이다.
CO2로　충진하기　위한　전형적　매개변수들　및　조건들은　CO2로　충진하기　위한　기본　프로토콜에서　표시되었다． 기본　프로토콜에서　주어진　매개변수들은　충진을　수행할　때　＋／－５０％　또는　그　이하로　변동될　수　있다． 유사한　조건은，　만일　본원에서　설명되는　다른　충진　물질들의　다른　물리화학적　특정들을　고려하여　적절하게　수정된다면，상기　다른　충진　물질들　중　하나로　충진을　수행함을　위해　적절하다．
CO2 또는 다른 충진 물질이 코팅 이후 즉시 코팅된 물품으로 충진될 수 있다.
헬륨，　아르곤，　네온，　수소　및　아세틸렌을　포함하지만　이에　제한되지　않는，　마이크로흐름　방법을　사용한　향상된　코팅안된　대비　플라즈마　코팅된　가스제거　구분에　대해　고려된　다른　투입　또는　충진　가스들은，　낮은　대기　자연　존재비와　ＣＯＣ　레진에서　높은　용해도를　갖는다． 그러나，　예시가　보여주는　바와　같이，　N2 는　또한　성공적으로　사용될　수　있다． 표준　온도와　압력（７６０Ｔｏｒｒ）에서　액체인　유체，　그러나　분석　조건하에서는　증기（예를　들어，　실리콘　물질，　및　메틸렌　클로라이드　같은　할로겐화　탄화수소）.
플라스틱　제품으로　CO2주입　또는　충진함은　플라즈마　코팅　작동에서　마지막　단계의　일부로서，　또는　분리된　작동으로서　마이크로－흐름　측정　단계　동안　제거　가스로서　수행될　수　있다．
VI.B. 본　개시물의　임의의　실시예에서，　기체제거를　측정하기　위해　고찰되는　방법은　마이크로캔틸레버　측정　기법을　채용하는　것이다． 그러한　기법은　잠재적으로는　１０－１２　ｇ．（피코그램）　내지　１０－１５　ｇ．（펨토그램）의　크기로　기체제거에서　더　적은　질량　차이의　측정을　가능하게　하는　것으로　생각된다． 이러한　더　적은　질량　검출은　１　초，　선택적으로는　０．１　초　미만，　선택적으로는　마이크로　초로　다른　코팅들뿐만　아니라　코팅된　표면　대　코팅되지　않은　표면의　차이를　가능하게　한다．
VI.B. 일부　경우에　있어서，　마이크로캔틸레버（ＭＣＬ）　센서들은　기체제거되거나　분자들의　흡수로　인하여　형상을　굽히거나　또는　움직히거나　변화시켜　제공된　물질의　존재에　대응할　수　있다． 일부　경우에　있어서，　마이크로캔틸레버（ＭＣＬ）　센서들은　공명　주파수에서　쉬프팅으로　인하여　대응할　수　있다． 다른　경우에　있어서，　상기　ＭＣＬ　센서들은　이러한　양쪽　방식으로　또는　다른　방식으로　변화할　수　있다． 이들은　가스　환경，　액체　또는　진공과　같은　상이한　환경들에서　작동될　수　있다． 기체에서는，　마이크로캔틸레버　센서들은　인공　코로서　작동될　수　있는데，　이에　의하여　８　가지　중합체－코팅된　실리콘　캔틸레버들의　마이크로제작　어레이의　벤딩　패턴은　용매，　향미료　및　음료수와는　다른，　증기의　특성이　있다． 또한，　임의의　기술에　의해　작동되는，　임의의　다른　유형의　전자코(electronic nose)의　용도도　고려된다．
압저항，　압전　및　용량성　접근법들을　포함한，　일부　ＭＣＬ　전자　설계들이　적용되며　화학물질들에　노출시에　상기　ＭＣＬ들의　운동，　형상　변화　또는　주파수　변화를　측정하는　것으로　고찰된다．
VI.B. 기체제거를　측정하는　한가지　구체적인　예는 다음과 같이 수행될 수 있다. 가스제거된 물질이 존재하는 경우, 상이한 형상에 이동 또는 변경의 특성을 갖는 적어도 하나의 마이크로캔틸레버가　제공된다． 상기 마이크로캔틸레버를 상이한 형상으로 이동하거나 변화하게 하는데 효과적인 조건하에서 상기 마이크로캔틸레버를 상기 가스제거된 물질에 노출된다． 이후，　이동　또는　상이한　형상이　검출된다．
VI.B. 일　예로, 상기 마이크로캔틸레버를 상기 가스제거에 노출하기 전후에 형상을 이동시키거나　변화시키는 상기 마이크로캔틸레버의 일 부분으로부터 에너지 입사 빔을 반사하고, 상기 캔틸레버로부터 이격된 지점에서 이렇게 반사된 빔의 편향을 측정하여 이동 또는 상이한 형상을 검출할　수　있다． 선택적으로는，　상기　형상은　주어진　조건하에서　빔이　편향하는　양은　빔의　반사점으로부터　측정점의　거리에　비례하기　때문에　캔틸레버로부터　이격된　지점에서　측정된다．
VI.B. 에너지　입사　빔의　일부　적당한　예들은　광자　빔，　전자　빔　또는　이들　중　둘　이상의　조합이다． 또한，　２　이상의　다른　빔들은　상이한　입사　및／또는　반사된　경로들을　따라　상기　ＭＣＬ로부터　반사되어　하나　이상의　관점으로부터　이동　또는　형상　변화를　결정할　수　있다． 에너지　입사　빔의　특이적으로　고찰되는　한가지　유형은　레이저　빔과　같은　간섭성　광자들의　빔이다． 본　명세서에　서술된　＂광자＂는　그　자체로　입자　또는　광자　에너지뿐만　아니라　파동　에너지를　포함하는　것으로　함축적으로　정의된다．
VI.B. 측정의　다른　예는　공명　주파수에서　변화를　수행하는데　유효한　양으로　환경　물질을　만나는　경우　공명　주파수에서　변화의　특정한　ＭＣＬ들의　특성을　이용한다． 이러한　유형의　측정은　다음과 같이 수행될 수 있다. 가스제거된 물질이 존재하는 경우, 상이한 주파수에서 공명하는 적어도 하나의 마이크로캔틸레버가　제공된다． 상기 마이크로캔틸레버를 상이한 주파수에서 공명하게 하는데 효과적인 조건하에서 상기 마이크로캔틸레버를 상기 기체제거된 물질에 노출시킬　수　있다． 이후，　상이한　공명　주파수는　임의의　적절한　수단에　의하여　검출된다．
VI.B. 일례로，　상이한　공명　주파수는　상기　마이크로캔틸레버에　에너지를　입력하여　상기　마이크로캔틸레버를　기체제거에　노출시키기　이전　및　이후에　공명하도록　유도함으로써　검출될　수　있다． 기체제거에　노출하기　이전　및　이후에　상기　ＭＣＬ의　공명　주파수들　사이에　차이들이　측정된다． 또한，　공명　주파수에서　차이를　측정하는　대신에，　충분한　농도　또는　양의　기체제거된　물질이　존재하는　경우에　특정한　공명　주파수를　갖는　것으로　알려진　ＭＣＬ이　제공될　수　있다． 상이한　공명　주파수　또는　충분한　양의　기체제거된　물질이　존재하는　것을　신호하는　공평　주파수는　조화　진동　센서를　사용하여　검출된다．
기체제거를　측정하는　ＭＣＬ　기술의　일례로，　ＭＣＬ　장치는　용기　및　진공　펌프에　연결된　석영　진공　튜브로　통합될　수　있다． 상업적으로　이용가능한　압저항　캔틸레버，　휘트스톤　브리지　회로，　양성　피드백　제어기，　여기성　압전소자　및　위상　고정　루프（ＰＬＬ）　복조기를　사용하는　조화　진동　센서를　구성할　수　있다．
ㆍ 예컨대, Hayato Sone, Yoshinori Fujinuma and Sumio Hosaka Picogram Mass Sensor Using Resonance Frequency Shift of Cantilever, Jpn. J. Appl.Phys.43 (2004) 3648;
ㆍ Hayato Sone, Ayumi Ikeuchi, Takashi Izumi, Haruki Okano and Sumio Hosaka Femtogram Mass Biosensor Using Self-Sensing Cantilever for Allergy Check, Jpn. J. Appl.Phys.43 (2006) 2301).를 참조
검출용으로　상기　ＭＣＬ을　제조하기　위하여，　상기　마이크로캔틸레버의　한쪽　측면은　젤라틴으로　코팅될　수　있다． 예컨대，Hans Peter Lang, Christoph Gerber, STM and AFM Studies on (Bio)molecular Systems:　Unravelling the Nanoworld, Topics in Current Chemistry, Volume 285/2008 참조. 진공　코팅된　용기　표면으로부터　탈착하는　수증기는　젤라틴과　결합하여，　상기　캔틸레버의　표면으로부터　레이저　편향으로　측정된　바와　같이，　상기　캔틸레버가　굽어지고　그　공명　주파수는　변하게　된다． 코팅되지　않은　용기　대　코팅된　용기의　질량에서의　변화는　몇　초만에　변화할　수　있으며　재연성이　높은　것으로　고찰된다． 캔틸레버　기술과　연계하여　상기에서　인용된　품목들은　기제제거된　종들을　검출하고　정량하는데　사용될　수　있는　구체적인　ＭＣＬ들　및　장비　배열들을　개시하기　위하여　본　명세서에　참고로　포함된다.
수분　검출용（인산）　또는　산소　검출용의　다른　코팅들은　상술한　젤라틴　코팅을　대신하여　또는　이에　더하여　ＭＣＬ들에　도포될　수　있다．
VI.B. 또한，　현재　고찰되는　기체제거　시험　셋업들　중　어느　하나는　코팅 스테이션, 예를 들어 ＳｉＯｘ코팅을 제공할 수 있는　PECVD코팅　스테이션과　조합될　수　있다고　고찰된다． 그러한　배열에　있어서，　측정　셀（３６２）은　바이패스（３８６）와　같이　ＰＥＣＶＤ에　대하여　주　진공　채널을　사용하여，　상기에　도시된　바와　같을　수　있다． 일　실시예에　있어서，　도　３０의　（３６２）로　일반적으로　표시된　측정　셀은　상기　바이패스　채널（３８６）이　주　진공　덕트（９４）로　구성되고　상기　측정　셀（３６２）이　측면　채널인　（５０）과　같은　용기　지지대에　통합될　수　있다．
VI.B. 상기　측정　셀（３６２）과　상기　용기　지지대（５０）와의　이러한　조합은　선택적으로는　ＰＥＣＶＤ에　사용된　진공을　깨뜨리지　않으면서　기체제거　측정이　수행되도록　한다． 선택적으로는，　ＰＥＣＶＤ용　진공　펌프는　짧지만，　바람직하게는　코팅　단계　이후에　남아있는　잔류　반응물질　가스들의　일부　또는　모두를　펌핑하는데　표준화된　시간　동안　작동될　것이다（１　Ｔｏｒｒ　미만으로　펌프　다운되며，　펌프　다운　하기　이전에　소량의　공기，　질소　산소　또는　다른　가스가　왈칵　쏟아져　나오거나　공정　가스들을　희석시키도록　하는　다른　옵션을　가짐）． 이는　용기를　코팅하고　존재　및　차단　수준을　위해　코팅을　시험하는　조합된　공정들을　촉진시킬　것이다．
VI.B. 또한，　본　명세서를　검토한　이후에，　기체제거　측정은　차단막의　유효성을　측정하는　것　이외　또는　이에　더하여　많은　목적들을　위해　사용될　수　있다는　것을　알　것이다． 일례로，　용기　벽들의　기체제거　정도를　측정하기　위하여　코팅되지　않거나　코팅된　용기들에　대하여　시험이　이루어질　수　있다． 이　시험은　예를　들면，　특정량　미만을　기체제거하는데　코팅되지　않은　중합체가　필요한　경우에　이루어질　수　있다．
VI.B. 다른　예를　들면，　이러한　기체제거　측정들은　정지　시험　또는　필름이　상기　측정　셀을　횡단함에　따라　필름의　기체제거에　있어서　변화를　측정하는　인－라인　시험으로서　차단　코팅되거나　코팅되지　않은　필름들에　대하여　이용될　수　있다． 상기　시험은　알루미늄　코팅들　또는　ＥＶＯＨ　차단　코팅들　또는　포장　필름들의　층들과　같은　다른　유형의　코팅들의　연속성　또는　차단　유효성을　측정하는데　이용될　수　있다．
VI.B. 이러한　기체제거　측정은　또한 용기　벽의　외부에　도포되고　상기　용기　벽의　내부로　기체제거하기　위해　시험되는　차단막과　같은　측정　셀과　반대되는，용기　벽，　필름　등의　측면에　도포된　차단막의　유효성을　측정하는데　사용될　수　있다． 이　경우에　있어서，　차단　코팅을　통한　침투　이후에　기판　필름　또는　벽을　통한　침투를　위한　흐름　차등일　것이다． 이러한　측정은　아주　얇거나　다공성인　필름　또는　벽과　같은　기판　필름　또는　벽이　침투성인　경우에　특히　유용할　것이다．
VI.B. 이러한　기체제거　측정은 또한　용기 벽, 필름 등의 내부 층인 차단막의 유효성을 판단하는데 이용될 수 있으며, 이 경우, 측정 셀은 차단막보다, 측정 셀로부터 더 멀리 떨어진 층 또는 층들의 차단막을 통한 기체 제거에 추가하여 측정 셀에 인접한 층을 통한 임의의 기체제거를 검출할 것이다.
VI.B. 이러한　기체제거　측정은　또한　차단막이　물질의　임의의　부분상에　존재하지　않는다면　부분적으로　차단막　코팅된　물질의　기체제거　정도를　예상되는　기체제거　양의　비율로　측정하는　바와　같이，　기체제거하는　물질　상에서　차단　물질의　패턴의　커버리지의　퍼센티지를　측정하는데　사용될　수　있다．
VI.B. 본　명세서에　있는　임의의　기체제거　시험　실시예와　함께　사용될　수　있는，　용기의　기체제거를　위한　시험　속도를　증가시키는데　사용될　수　있는　한가지　시험　기법은　플런저　또는　클로저를　용기로　삽입하여　시험되는　용기의　일　부분의　공극　부피를　감소시켜　용기의　공극　부피를　감소시키는　것이다． 공극　부피를　감소시켜　용기가　주어진　진공　수준으로　더　신속하게　펌프　다운되도록　하여，　시험　간격을　줄인다．
VI.B. 현재　기술된　기체제거　측정법　및　다른　모든　기술된　차단막　측정　기법들에　대한　많은　다른　응용법들은　이　명세서를　검토하는　당업자가　이를　검토한　이후에　명백해　질　것이다．
VII. ＰＥＣＶＤ 처리된 용기들
VII. 적어도 2 nm, 또는　적어도 4 nm，또는　적어도 7 nm, 또는　적어도 10 nm, 또는　적어도 20 nm, 또는　적어도 30 nm, 또는　적어도 40 nm, 또는　적어도 50 nm, 또는　적어도 100 nm, 또는　적어도 150 nm, 또는　적어도 200 nm,또는　적어도 300 nm, 또는　적어도 400 nm, 또는　적어도 500 nm, 또는　적어도 600 nm, 또는　적어도 700 nm, 또는　적어도 800 nm, 또는　적어도 900 nm의　두께로　도표되는　SiOx 코팅일　수　있는 차단성 코팅(90)을 가지는 용기가 고찰된다. 코팅은　최대　１０００　ｎｍ，　또는　９００　ｎｍ　정도，　또는　８００　ｎｍ　정도，　또는　７００　ｎｍ　정도，　또는　６００　ｎｍ　정도，　또는　５００　ｎｍ　정도，　또는　４００　ｎｍ　정도，　또는　３００　ｎｍ　정도，　또는　２００　ｎｍ　정도，　또는　１００　ｎｍ　정도，　또는　９０　ｎｍ　정도，　또는　적어도　８０　ｎｍ　정도，　또는　７０　ｎｍ　정도，　또는　６０　ｎｍ　정도，　또는　５０　ｎｍ　정도，　또는　４０　ｎｍ　정도，　또는　３０　ｎｍ，　또는　２０　ｎｍ　정도，　또는　１０　ｎｍ　정도，　또는　５　ｎｍ　정도의　두께일　수　있다． 상기에　표시된　최소　두께　중　어느　하나로　이루어진　특이적인　두께　범위에　더하여　상기에　표시된　최대　두께　중　어느　하나　이상이　명시적으로　고찰된다． 상기 SiOx 또는 다른 코팅의 두께는 예를 들면, 투과 전자 현미경(TEM)으로 측정될 수 있으며, 그 조성은 X-선 광전자 분광법(XPS)으로 측정될 수 있다.
VII. 상기 코팅을 침투하지 않도록 하는 물질의 선택과 상기 도포된 SiOx 코팅의 특성은 차단 효능에 영향을 줄 수 있다고　생각된다． 예를　들면，　침투되지　않도록　공통적으로　의도된　물질　중　두　가지　예들로는　산소　및 물／수증기이다． 공통적으로는　물질들이　나머지　다른　것보다는　하나에　더　좋은　차단막이다． 이는　부분적으로는　산소가　물이　투과되는　것과는　다른　메커니즘에　의하여　코팅을　통해　투과되기　때문에　그러한　것으로　여겨진다．
VII. 산소　투과는　두께，　크랙의　존재　및　코팅의　다른　물리적　상세사항들과　같은　코팅의　물리적　특징들에　의하여　영향받는다． 이와　반면에，　수분　투과는　물리적　인자들　이상인　화학적　인자들，　예컨대，　코팅을　이루는　물질에　의하여　통상적으로　영향받는　것으로　여겨진다． 또한，　본　발명자들은　이러한　화학적　인자들　중　적어도　하나는　코팅에　있어서　ＯＨ　모이어티들의　실질적인　농도로서，　이는　차단막을　통한　물의　투과　속도를　더　높일　것이라고　간주한다． ＳｉＯｘ　코팅은　종종　ＯＨ　모이어티들을　포함하므로，　ＯＨ　모이어티들을　높은　비율로　포함하는　물리적으로　정상적인　코팅은　물보다는　산소에　대한　차단이　더　양호하다． 비정질　탄소　또는　다이아몬드　유사　탄소（ＤＬＣ）와　같은　물리적으로　정상적인　탄소계　차단막은　통상적으로　ＳｉＯｘ가　그러한　것보다　물에　대해　차단이　더　양호한데，　이는　통상적으로는　탄소계　차단막이　ＯＨ　모이어티들의　농도가　더　낮기　때문이다．
VII. 그러나, 다른 인자들은 산소 차단 효능 및 유리와 석영에 대한 밀접한 화학적 유사와 같은 SiOx 코팅에 대한 선호로 이어진다. 유리　및　석영은　（용기의　기본　물질로　사용되는　경우）　용기에　공통적으로　담겨진　많은　물질들에　대한　실질적인　비활성성　뿐만　아니라　산소　및　물　투과에　대하여　매우　높은　차단막을　제시하는　것으로　오래동안　알려진　두　물질들이다． 따라서, 상이하거나 다른 유형의 코팅을 선택하여 수투과 차단막으로 작용하기 보다는 SiOx 코팅의 수증기 투과 속도(WVTR)와 같은 수성 차단 특성을 최적화하는 것이 일반적으로 바람직하다.
VII. SiOx 코팅의 WVTR을 향상시키기 위해 고려되는 몇가지 방법들은 다음과 같다.
VII. 증착된　코팅에서　ＯＨ　모이어티들에　대한　유기　모이어티들（탄소　및　산소　화합물들）의　농도　비율은　증가될　수　있다． 이는　예를　들면，　（산소　공급　속도를　증가시키거나　하나　이상의　다른　구성성분들의　공급　속도를　낮춤으로써）　공급　가스들에서　산소의　비율을　증가시킴으로써　수행될　수　있다． ＯＨ　모이어티들의　입사가　더　낮은　것은　실리콘　원천에서　산소　공급과　수소의　반응　정도를　증가시켜　ＰＥＣＶＤ　배출구에서　휘발성　수분을　더　생성하고　코팅에　가둬지거나　통합된　ＯＨ　모이어티들의　농도를　감소시키는　것　때문인　것으로　여겨진다．
VII. 플라즈마　생성　전력　수준을　올리고，　전원을　더　오래동안　적용하거나　양쪽　모두를　수행하여　ＰＥＣＶＤ　공정에서　더　높은　에너지가　가해될　수　있다． 가해진　에너지의　증가는　처리되는　용기를　뒤틀리게　하는　경향이　있기　때문에，　플라스틱　튜브　또는　다른　장치를　코팅하는데　사용되는　경우　튜브가　플라즈마　생성　전력을　흡수할　정도로　신중하게　다루어야　한다． 이는　ＲＦ　전원이　본　출원의　맥락에서　고려되기　때문이다． 냉각　시간에　의하여　분리된　일련의　둘　이상의　펄스들에서　에너지를　채용하고，　에너지를　가하는　동안에　상기　용기들을　냉각시키고，　단기간에　코팅을　도포하고（따라서　코팅을　더　얇게하고），　코팅을　위해　선택된　기본　물질에　의해　최소한도로　흡수되는　도포된　코팅의　주파수를　선택하고／하거나　각각의　에너지　적용　단계들　사이의　시간과　함께，　하나　이상의　코팅을　도포함으로써　의료　장치들의　뒤틀림은　감소되거나　제거될　수　있다． 예를　들면，　공정　가스를　계속　공급하는　동안에，　１　밀리초　동안　가동하고，　９９　밀리초　동안　가동을　중단하는　듀티　사이클로　고　전원　펄싱이　이용될　수　있다． 이후，　펄스들　사이에서　계속　흐름에　따라，　공정　가스는　냉매이다． 다른　대안으로는　자석을　첨가하여　플라즈마를　한정함으로써　전원　에플리케이터（ｐｏｗｅｒ　ａｐｐｌｉｃａｔｏｒ）를　재조정하고，　유효　전원　에플리케이션（가열　또는　원하지　않는　코팅으로　이어지는　수력과　반대로，　실제적으로는　코팅을　조금씩　하게는　전원）을　증가시킨다． 이　수단으로　인하여　가해진　에너지의　전체　와트－시간당　더　많은　코팅　형성　에너지의　적용으로　이어진다． 예를　들면，　미국　특허　제５，９０４，９５２호　참조．
VII. 앞에서　증착된　코팅으로부터　ＯＨ　모이어티들을　제거하기　위해　코팅의　산소　후처리를　이용할　수　있다． 또한, 이 처리는 잔류 휘발성 유기실리콘 화합물들 또는 실리콘들을 제거하거나 상기 코팅을 산화시켜 다른 SiOx를 형성한다고　생각된다．
VII. 플라스틱　기본　물질　튜브는　예열될　수　있다．
VII. 헥사메틸디실라잔（ＨＭＤＺ）와　같은　다른　실리콘의　휘발성　원천은　실리콘　공급의　일부　또는　전부로　사용될　수　있다． 이러한　화합물은　공급　가스에서　산소　모이어티들을　가지고　있지　않기　때문에，　ＨＭＤＺ로　가는　공급　가스를　변화시키면　문제를　해결할　것이라고　고찰된다． ＨＭＤＳＯ－원천　코팅에서　ＯＨ　모이어티들　중　하나의　원천은　미반응　ＨＭＤＳＯ에　존재하는　산소　원자들의　적어도　일부의　수소첨가라는　것이　고찰된다．
VII. SiOx와 혼합된 탄소계 코팅과 같은 복합 코팅이 사용될 수 있다. 이는　예를　들면，　반응　조건들을　변화시키거나　공급　가스에　유기실리콘계　화합물　뿐만　아니라　알칸，　알켄　또는　알카인과　같은　치환　또는　미치환　탄화수소를　첨가하여　수행될　수　있다． 예를　들면，　관련　부분으로　언급된　미국　특허　제５，９０４，９５２호　참조． ＂예를　들면，　프로필렌과　같은　저급　탄화수소를　포함하면　탄소　모이어티를　제공하고，　증착된　필름들의　대부분의　특성（광　투과는　제외）을　향상시기며　결합　분석을　하면　상기　필름이　특성상　이산화규소라는　것을　나타낸다． 그러나，　메탄，　메탄올　또는　아세틸렌의　사용으로　인하여　특성상　실리콘인　필름들을　생성하게　된다． 가스　흐름에　미량의　가스성　질소를　포함시키면　증착된　필름들에서　질소　모이어티들을　제공하고　증착　속도를　증가시키고，　유리상에서　투과　및　반사　광학　특성들을　향상시키며　Ｎ２의　양　변화에　대응하여　굴절율을　변화시킨다． 가스　흐름에　산화　질소를　첨가하면　증착　속도를　증가시키고　광학　특성들을　향상시키지만，　필름　경도를　감소시킬　경향이　있다．＂ 적절한　탄화수소　가스는　메탄，　에탄，　에틸렌，　프로판，　아세틸렌　또는　이들　중　２　이상의　조합일　수　있다．
VII. 다이아몬드－유사　탄소（ＤＬＣ）　코팅은　증착된　제　１　또는　유일한　코팅으로서　형성될　수　있다． 이는　예를　들면，　반응　조건들을　변화시키거나　ＰＥＣＶＤ　공정에　메탄，　수소　및　헬륨을　공급하여　수행될　수　있다． 이러한　반응　공급물들은　산소를　가지고　있지　않기　때문에，　ＯＨ　모이어티들이　형성될　수　없다． 일례로서, SiOx 코팅은 튜브 또는 주사기 베럴의 내부상에 도포될 수 있으며 외부 DLC 코팅은 튜브 또는 주사기 베럴의 외부 표면상에 도포될 수 있다. 또는， SiOx 및 DLC 코팅들은 양쪽 모두 내부 튜브 또는 주사기 베럴 코팅의 단일층 또는 복수층들로서 도포될 수 있다.
VII. 도 2를 참조하면, 차단 또는 다른 유형의 코팅(90)은 내부 표면（８８）을　통해　용기（８０）　속으로　대기　가스들이　투과되는　것을　감소시킨다. 또는, 차단 또는 다른 유형의 코팅(90)은 내부 표면（８８）과 용기（８０）의　내용물들이　접촉하는　것을　감소시킨다. 상기 차단막 또는 다른 유형의 코팅은 예를 들면, SiOx, 비정질(예를 들면, 다이아몬드 유사) 탄소 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
VII. 본　명세서에　기술된　임의의　코팅은　예를　들면，　플라스틱　표면인　표면을　코팅하는데　사용될　수　있다． 또한, 이것은 예를　들면，　가스 또는 액체에 대한　차단막으로서，　선택적으로 수증기, 산소 및/또는 공기에 대한 차단막으로서　사용될　수　있다． 또한，　코팅된　표면은　표면이　코팅되지　않는다면　화합물　또는　조성물에　대해　가질　수　있는　기계적　및／또는　화학적　효과를　방지하거나　감소시키는데　사용될　수　있다． 예를　들면，　인슐린　침전　또는　혈액　응고　또는　혈소판　활성화　같은　화합물　또는　조성물의　침전을　방지하거나　감소시킬　수　있다．
VII.A. 코팅된　용기들
본원에서　설명된　코팅들은　플라스틱　또는　유리로　만들어진　다양한　용기들로，　가장　현저하게로는　플라스틱　튜브　및　주사기로　도포될　수　있다． １　내지　５０００　ｎｍ，　또는　１０　내지　１０００　ｎｍ，　또는　１０　내지　５００　ｎｍ，　또는　１０　내지　２００　ｎｍ，　또는　２０　내지　１００　ｎｍ，　또는　３０　내지　１０００　ｎｍ，　또는　３０　내지　５００　ｎｍ，　또는　３０　내지　１０００　ｎｍ，　또는　２０　내지　１００　ｎｍ，　또는　８０　내지　１５０　ｎｍ의　두께의　기판상　또는　기판　부근에　상기　기술된　전구체들　중　어느　하나를　도포하고，선택적으로　ＰＥＣＶＤ　공정에서　상기　코팅을　교차결합하거나　중합하여（또는　양쪽　모두　다　실행하여）　윤활　표면을　제공하는　단계를　포함하는，　기판，　예를　들면，　주사기의　베럴의　내부상에　윤활성　코팅을　도포하는　공정이　고찰된다． 또한，　이　공정에　의하여　도포된　코팅은　새로운　것으로　고찰된다．
정의절에서　규정된　바와　같은　SiwOxCyHz의　코팅은　소수성　막으로서　실용성을　갖는다． 이런　종류의　코팅들은　이들이　윤활성　막들로서　기능하느냐의　여부에　상관없이，　소수성인　것으로　고찰된다． 해당　코팅되거나　코팅되지　않은　표면과　비교하여，　표면의　젖음　장력을　낮춘다면　코팅　또는　처리는　＂소수성＂인　것으로　정의된다． 따라서, 소수성은 코팅되지 않은 기판 및 처리 양쪽 모두의 함수이다.
코팅의　소수성　정도는　그　조성，　특성　또는　증착　방법을　변경하여　변화할　수　있다． 예를 들면, 탄화수소 함유량을 거의 갖지 않거나 전혀 갖지 않는 SiOx의 코팅은 정의절에 정의된 바와 같은 SiwOxCyHz의 코팅보다 더 친수성이다. 일반적으로 말해서, 실리콘 함유량에 비하여 중량비, 부피비 또는 몰비 어느 것으로 상기 코팅의 C-Hx(예컨대, CH, CH2 또는 CH3) 모이어티 함유량이 높으면 높을수록 상기 코팅의 소수성이 더 높다.
소수성　막　또는　코팅은　매우　얇아서，적어도 4 nm, 또는　적어도 7 nm, 또는　적어도 10 nm, 또는　적어도 20 nm, 또는　적어도 30 nm, 또는　적어도 40 nm, 또는　적어도 50 nm, 또는　적어도 100 nm, 또는　적어도 150 nm, 또는　적어도 200 nm, 또는　적어도 300 nm, 또는　적어도 400 nm, 또는　적어도 500 nm, 또는　적어도 600 nm, 또는　적어도 700 nm, 또는　적어도 800 nm, 또는　적어도 900 nm의　두께를　가질　수　있다． 코팅은　최대　１０００　ｎｍ，　또는　９００　ｎｍ　정도，　또는　８００　ｎｍ　정도，　또는　７００　ｎｍ　정도，　또는　６００　ｎｍ　정도，　또는　５００　ｎｍ　정도，　또는　４００　ｎｍ　정도，　또는　３００　ｎｍ　정도，　또는　２００　ｎｍ　정도，　또는　１００　ｎｍ　정도，　또는　９０　ｎｍ　정도，　또는　적어도　８０　ｎｍ　정도，　또는　７０　ｎｍ　정도，　또는　６０　ｎｍ　정도，　또는　５０　ｎｍ　정도，　또는　４０　ｎｍ　정도，　또는　３０　ｎｍ，　또는　２０　ｎｍ　정도，　또는　１０　ｎｍ　정도，　또는　５　ｎｍ　정도의　두께일　수　있다． 상기에　표시된　최소　두께　중　어느　하나로　이루어진　특이적인　두께　범위에　더하여　상기에　표시된　최대　두께　중　어느　하나　이상이　명시적으로　고찰된다．
그러한　소수성　층　또는　코팅에　대하여　가지는　유용성　중　하나는　튜브　내에서　수집된　혈액으로부터　예를　들면，　폴리에틸렌　테레프탈레이트（ＰＥＴ）로　제작된　열가소성　튜브　벽을　분리하는　것이다． 상기 소수성 층　또는　코팅은 상기 튜브의 내부 표면상의 친수성 SiOx 코팅의 상부에 도포될 수 있다. 상기 SiOx 코팅은 열가소성 튜브의 차단 특성을 향상시키고 상기 소수성 층　또는　코팅은 튜브관과 혈액 접촉 표면의 표면 에너지를 변화시킨다. 소수성　층　또는　코팅은　본　명세서에　확인된　전구체들로부터　선택된　전구체를　제공하여　제작될　수　있다． 예를　들면，　상기　소수성　층　또는　코팅　전구체는　헥사메틸디실록산（ＨＭＤＳＯ）　또는　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）를　포함할　수　있다．
소수성　층　또는　코팅을　위한　다른　용도는　유리　셀　제조　튜브를　제조하는　것이다． 상기　튜브는　루멘을　정의하는　벽，　유리　벽의　내부　표면에서　소수성　층　또는　코팅을　가지며，　시트르산염　시약을　함유한다． 소수성　층　또는　코팅은　본　명세서에　확인된　전구체들로부터　선택된　전구체를　제공하여　제작될　수　있다． 다른　예를　들면，　상기　소수성　층　또는　코팅　전구체는　헥사메틸디실록산（ＨＭＤＳＯ）　또는　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）를　포함할　수　있다． 소수성　층을　위한　다른　소스　재료는　다음　화학식의　알킬　트리메톡시실란이다．
R-Si(OCH3)3
여기서，　R은 수소 원자 또는 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 비닐, 알카인，　에폭사이드 등과 같은 유기 치환체이다. 또한, 이러한 것들의 둘 이상의 조합들도 고려된다.
상술한　알킬　트리메톡시실란　전구체를　사용하여，　산　또는　염기　촉매작용　및　가열을　조합하면　상기　전구체를　응축하여（ＲＯＨ　부산물들을　제거하여）　선택적으로는　다른　방법을　통해　더　교차결합될　수　있는　교차결합된　중합체들을　형성할　수　있다． 구체적인　일례는　Shimojima et. al.　J. Mater.　Chem., 2007, 17, 658 - 663에　의한　것이다.
특히，　윤활성　층　또는　코팅이　코팅　공정의　말미에　액체　유기실록산　화합물이라면，　윤활성　표면을　제공하기　위하여　상기　용기（８０）의　내부　표면（８８）에　ＳｉＯｘ　차단　코팅을　도포한　이후에　후속　코팅으로서　도포될　수　있다．
선택적으로, 윤활성　막　또는 코팅이 도포된 이후에, 상기 ＰＥＣＶＤ 공정 이후에 후-경화될 수 있다. ＵＶ－개시된　（자유　라디칼　또는　양이온），　전자－빔（Ｅ－빔）　및　열　및　ＵＶ－경화성　용도를　위한　신규한　시클로지방족　실록산류의　개발（Ｒｕｂｙ　Ｃｈａｋｒａｂｏｒｔｙ　논문，　２００８）에　기술된　바와　같은　열을　포함하는　복사선　경화　접근법들이　이용될　수　있다．
윤활성　층　또는　코팅을　제공하는　다른　접근법은　윤활되는　열가소성　용기를　사출　성형하는　경우　실리콘　이형제（ｄｅｍｏｌｄｉｎｇ　ａｇｅｎｔ）를　사용하는　것이다． 예를　들면，　성형　공정　도중에　인－시츄　열　윤활성　층　또는　코팅　형성을　일으키는　상기　이형제들　및　잠재성　단량체들　중　어느　하나가　사용될　수　있다는　것이　고찰된다． 또는，　상술한　단량체들은　동일한　결과를　달성하기　위하여　전통적인　이형제들로　도핑될　수　있다．
특히，　아래에서　더　기술되는　바와　같이　주사기　베럴의　내부　표면에　대해　윤활성　층이　고려된다． 주사기　베럴의　윤활　내부　표면은　주사기를　작동하는　동안에　베럴에서　플런저를　전진시키는데　필요한　플런저　활동력　또는　예비충진된 주사기 플런저가 개재된 윤활제를 밀어 내버리거나 예를　들면，　상기 플런저 및 상기 베럴 사이에서 상기 윤활제의 분해로 인해 상기 베럴에 부착된 이후에, 플런저를　이동시키는데　필요한　브레이크아웃　힘을　감소시킬　수　있다． 본 명세서의 어딘가에서 설명된 바와 같이,　윤활성　층　또는　코팅도 용기(80)의 내부 표면(88)에 도포되어 SiOx의 후속 코팅의 접착을 향상시킬 수 있다.
따라서，　코팅（９０）은，　정의절에서　규정된　바와　같이　특징지워지는，SiOx 의　코팅　또는　층과　윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층을　포함할　수　있다． 윤활성　층　또는　코팅　및／또는　SiwOxCyHz의 코팅　또는　소수성　층은 SiOx 층　또는　코팅과 용기의 내부 표면 사이에 증착될 수 있다. 또는，　윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅과　용기의　내부　표면　사이에　SiOx 층　또는　코팅이 증착될 수 있다. 또는，　이　두개의　코팅　조성물들　사이에서　교대로　또는　누진적인　３개 이상의　층들이　사용될　수　있다． （１）SiOx 의　층　또는　코팅과　（２）윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층이　또한　사용될　수　있다． SiOx 의　층　또는　코팅은　윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅에　인접하여，　또는　다른　물질의　적어도　하나의　개재되는　층　또는　코팅과　멀리　떨어져　증착될　수　있다． SiOx의 층　또는　코팅은 용기의 내부 표면에 인접하게　증착될 수 있다. 또는，　윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅은　용기의　내부　표면에 인접하여　증착될 수 있다.
SiOx 와 윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층의　인접하는　층에　대해，　여기서　고려되는　다른　방책은，　정의절에서　규정된　바와　같이 SiwOxCyHz의　구배　복합체이다． 구배 복합체는　윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅　및 SiOx의 분리된 층들 사이에서 중간물질 조성의 전이 또는 계면을 갖는　분리된 층들이거나, 이들 사이에서 중간물질 조성의 중간물질 구별 층 또는 코팅을 갖는 윤활성　층　또는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅　및 SiOx분리된 층들, 또는 수직 방향으로 코팅을 경험하면서, SiOx와 더 유사한 조성물로 연속적으로 또는 단계적으로 변화하는 단일 층　또는　코팅일 수 있다.
상기　구배　복합체에서　구배는　어느　한　방향으로　갈　수　있다． 예를 들면, 윤활성　층　도는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅은　기판에　직접　도포되어　SiOx의 표면으로부터 점차 조성에　대해　변화할 수 있다. 또는, SiOx의　조성은　기판에　직접　도포되어　윤활성　층　도는　코팅　및／또는　소수성　층　또는　코팅의　표면으로부터 점차 조성에　대해　변화할 수 있다. 하나의　조성물의　코팅이　다른　것보다　상기　코팅에　부착되기에　더　나아서，　더　잘－부착하는　조성물이，　예를　들면，　기판에　직접　도포된다면，　구배　코팅이　특히　고려된다． 구배　코팅의　거리가　더　먼　부분들은　구배　코팅의　인접　부분보다　기판과　덜　융화될　수　있는데，　이는　임의의　지점에서　상기　코팅이　특성이　점진적으로　변화하여，　코팅의　거의　동일한　깊이에서　인접한　지점들은　거의　동일한　조성을　가지며，　실질적으로　상이한　깊이에서　물리적으로　더　넓게　구분된　부분들은　더　다양한　특성들을　가질　수　있다는　것이　고찰된다． 또한，　물질　전이에　대항하여　또는　기판으로부터　더　나은　차단막을　형성하는　코팅　부분은　품질이　더　떨어지는　차단막을　형성하는　더　먼쪽의　코팅　부분이　상기　차단막에　의하여　제지되거나　방해받게　되는　물질로　오염되지　않도록　방지하기　위하여　기판에　직접　대항할　수　있다는　것이　고찰된다．
상기　코팅은　구배되는　대신에，　선택적으로는　조성물의　실질적인　구배없이　하나의　층　또는　코팅과　다음　사이에서　급격한　전이를　가질　수　있다． 그러한　코팅들은　예를　들면，　층　또는　코팅을　비－플라즈마　상태에서　정상　상태　흐름으로　생성하는　기체들을　제공하고，　이후　상기　시스템을　짧은　플라즈마　방전으로　전력을　주어　기판상에　코팅을　형성하여　제조될　수　있다． 후속　코팅을　도포하려고　하면，　계면에서　점진적인　전이가　있다고　해도　거의　없이　이전의　코팅을　위한　가스들은　제거되고　다음번　코팅을　위한　가스들은　플라즈마를　활성화하고　다시　기판　또는　그　최외곽의　이전　코팅의　표면상에　다른　층　또는　코팅을　형성하기　이전에　정상－상태로　도포된다．
VII.A.1.a.　 예시적　용기들
VII.A.1.a. 도 2를 참조하면, （８０）과　같은　용기들의　더　상세한　사항들이　도시되어　있다． 상기　도시된　용기（８０）는　폐쇄단（８４）과는　반대로，　용기의　한쪽　말단에　개구부（８２）를　갖는　일반적으로　튜브형일　수　있다． 또한，　상기　용기（８０）는　내부 표면(88)을 정의하는 벽(86)을 갖는다. 상기　용기（８０）의　일례는　의료　실험실에서　사용을　위해　환자의　혈액의　정맥　천자　시료를　받는　사혈　전문의에　의하여　통상적으로　사용되는　것과　같이，　진공된　혈액　수집　튜브와　같은　의료　시료　튜브이다．
VII.A.1.a. 상기　용기(８０)는　예를　들면，　열가소성　물질로　제작될　수　있다． 적절한　열가소성　물질의　일부　예들은　폴리에틸렌　테레프탈레이트　또는　폴리프로필렌　또는　사이클릭　폴리올레핀　중합체와　같은　폴리올레핀이다．
VII.A.1.a. 상기　용기（８０）는　사출　성형，　중공　성형，　가공（ｍａｃｈｉｎｉｎｇ），　튜빙　스탁（ｔｕｂｉｎｇ　ｓｔｏｃｋ）으로부터　제작과　같은　임의의　적절한　방법　또는　다른　적절한　수단에　의하여　제작될　수　있다． ＰＥＣＶＤ는 SiOx의 내부 표면상에 코팅을 형성하는데 사용될 수 있다.
VII.A.1.a. 진공된　혈액　수집　튜브로　사용을　의도한다면，　상기　용기（８０）는　바람직하게는　７６０　Ｔｏｒｒ의　외부　압력　또는　대기압　및　다른　코팅　공정　조건들에　노출되는　경우　실질적으로　변형없이　실질적으로　전체　내부　진공을　견디기에　충분히　강할　수　있다． 열가소성　용기（８０）에서，　적절한　크기와　코팅　공정의　처리　온도보다　더　높은　유리　전이　온도를　갖는　적절한　물질들로　제작된　용기（８０），　예를　들면，　그　직경과　물질에　대하여　충분한　벽　두께를　갖는　실린더형　벽（８６）을　제공함으로써　이러한　특성이　제공될　수　있다．
VII.A.1.a. 시료　수집　튜브들　및　주사기들과　같은　의료　용기들　또는　컨테이너들은　상대적으로　소형이며　상대적으로　두꺼운　벽들을　주변　대기압에　의하여　압착되지　않으면서　진공될　수　있도록　하는，　사출　성형된다． 따라서，　이들은　탄산　음료수　병들　또는　다른　대형　또는　얇은　벽　플라스틱　컨테이너들보다　더　강하다． 진공된　용기로　사용을　위해　설계된　시료　수집　튜브들이　보관하는　동안에　완전　진공을　견뎌내도록　제작되어　있기　때문에，　이들은　진공　챔버로서　사용될　수　있다．
VII.A.1.a. 용기를　그　자신의　진공　챔버들로　맞추게　되면　용기들을　통상적으로　매우　낮은　압력에서　수행되는　ＰＥＣＶＤ　처리를　위한　진공　챔버에　위치시킬　필요가　없을　수　있다． 용기를　그　자신의　진공　챔버로서　사용하게　되면　（개별　진공　챔버로부터　부품들의　로딩과　언로딩이　필요하지　않기　때문에）　처리　시간이　더　빨라지며　장비　구성을　단순화시킬　수　있다． 또한，　특정한　실시예들에　대하여，　장치를　지지하고（가스　튜브들　및　다른　장치로의　정렬을　위해），　장치를　밀봉하며（용기　지지대를　진공　펌프에　부착시켜　진공을　생성시킬　수　있도록）　성형과　후속　처리　단계들　사이에　장치를　이동시킬　용기　지지대가　고려된다．
VII.A.1.a. 진공된　혈액　수집　튜브로　사용되는　용기（８０）는　공기　또는　다른　대기　가스의　상당한　부피를　상기　튜브（클로저를　우회시킴으로써）로　누출시키지　않거나　그　수명　기간　동안　벽（８６）을　통해　침투시키지　않으면서，　의도된　용도를　위해　유용한　감압으로　내부적으로　진공되는　동안에，　외부　대기압을　견대낼　수　있어야　한다． 상기　성형된　용기（８０）가　이러한　요구조건을　충족할　수　없다면，　이는　내부　표면（８８）을　차단 또는 다른 유형의 코팅(90)으로　코팅하여　처리될　수　있다． 시료　수집　튜브들　및　주사기　베럴들과　같은）　이러한　장치들의　내부　표면을　처리하고／하거나　코팅하여　기존의　중합체　장치들보다　나은　장점들을　제공할　다양한　특성들을　제공하고／하거나　기존　유리　제품들을　모방하는　것이　바람직하다． 또한，　처리　또는　코팅　이전　및／또는　이후에　장치들의　다양한　특성들을　측정하는　것이　바람직하다．
더　많은　예시적　용기들은　여기서　설명된　주사기들이다．
VII.A.1.b. 소수성 코팅으로 코팅된 벽을　갖는　용기
VII.A.1.b. 다른　실시예는　내부　표면상에　소수성 층　또는　코팅으로 제공된 벽을 가지고 수용성 시트르산 나트륨 시약을 함유하는 용기이다. 상기 소수성 층　또는　코팅은 또한　용기의 내부 표면상의 친수성 SiOx 코팅의 상부에 도포될 수 있다. 상기 SiOx 코팅은 플라스틱　용기의 차단 특성을 향상시키고 소수성 층　또는　코팅은 용기　벽을　갖는　용기　내부에　조성물　및　조성의　접촉 표면의 표면 에너지를 변화시킨다.
VII.A.1.b. 상기 벽은 루멘을 정의하는 내부 표면을 갖는 열가소성 물질로 제작된다.
VII.A.1.b. 실시예 VII.A.1.b에 따른 용기는 본 명세서에서 설명된 바와 같이　도포된, 산소 차단막으로 작용하고 열가소성 물질로 제작된 진공된 혈액 수집 튜브의 수명을 연장시키는, 상기 튜브의 내부 표면상에 SiOx의 제 1 층　또는　코팅을 가질 수 있다. 정의절에서　규정된　바와　같이　특징지워지는，　소수성　층　또는　코팅은　용기의　내부　표면에서　차단　막　또는　코팅　위에　도포되어　소수성　표면을　제공할　수　있다． 혈액　수집　튜브　또는　주사기에서，　코팅은 선택적으로　동일 유형의 코팅되지 않은 벽과 비교하여, 시트르산 나트륨 첨가제로 처리되고 내부 표면에 노출된 혈장의 혈소판 활성화를 감소시키는데 효과적이다.
VII.A.1.b. ＰＥＣＶＤ는 내부 표면상에 소수성　층　또는　코팅을 형성하는데 사용된다. 종래 시트르산염 혈액 수집 튜브들과는 달리, 여기서　규정된　바와　같은 소수성 층을 갖는 혈액 수집 튜브는 종래와 같이 도포되어 상기 튜브의 표면을 소수성으로 만드는 것과 같이, 상기 용기 벽상에서 실리콘상에 베이킹된 코팅을 필요로 하지 않는다.
VII.A.1.b. 예를　들면，　ＨＭＤＳＯ　또는　ＯＭＣＴＳ와　같은　동일한　전구체　및　상이한　ＰＥＣＶＤ　반응　조건들을　이용하여　양쪽　층들이　도포될　수　있다．
VII.A.1.b. 혈액　수집　튜브　또는　주사기를　준비했을　때，　시트르산　나트륨　항응고　시약이　튜브　내에　위치하게　될　수　있고，　그리고　튜브는　진공되고　클로저로　밀봉되어　진공된　혈액　수집　튜브를　생성하게　된다． 상기　시약의　구성성분들　및　제법은　당업자에게　공지되어　있다． 상기 수용성 시트르산 나트륨 시약은 상기 튜브로 도입된 혈액의 응고를 억제하는데 효과적인 양으로 상기 튜브의 루멘에 제공된다.
VII.A.1.c. SiOx 차단성 코팅된 이중벽 플라스틱 용기-COC, PET, SiOx 층들
VII.A.1.c. 다른　실시예는 루멘을 적어도 부분적으로 감싸는 벽을 갖는 용기이다. 상기 벽은 외부 폴리머 층에 의하여 둘러싸여진 내부 폴리머 층　또는　코팅을 갖는다. 상기 폴리머 층들 중 하나는 수증기 차단막을 정의하는 사이클릭 올레핀 공중합체(COC) 수지의 적어도 0.1 mm 두께인 층　또는　코팅이다. 상기 폴리머 층들 중 하나는 폴리에스테르 수지의 적어도 0.1 mm 두께인 층　또는　코팅이다.
VII.A.1.c. 상기 벽은 약 10 내지 약 500 옹스트롬의 두께를 갖는 SiOx의 산소 차단막　또는　코팅을 포함한다.
VII.A.1.c. 도 ３６에 도시된 일 실시예에서, 상기　용기（８０）는　각각　동일하거나　상이한　물질들로　제작된　내부　벽（４０８）　및　외부　벽（４１０）을　갖는　이중벽　용기일　수　있다. 이러한　유형의　특정한　일　실시예는　상기　내부　표면（４１２）에　대하여　앞에서　기술된　바와　같이　ＳｉＯｘ　코팅이　있는，사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）로　성형된　하나의　벽과　폴리에틸렌　테레프탈레이트（ＰＥＴ）와　같은　폴리에스테르로부터　성형된　다른　벽으로　제작될　수　있다. 필요하다면，　타이　코팅　또는　층　또는　코팅이　내부　및　외부　벽들　사이에　삽입되어　이들　사이의　부착을　촉진할　수　있다． 이　벽　구조의　장점은　다른　특성들을　갖는　벽들이　결합하여　각각의　벽의　개별　특성들을　갖는　복합체를　형성할　수　있다는　것이다．
VII.A.1.c. 일례로서, 상기 내부 벽(408)은 SiOx 차단막으로 상기 내부 표면(412)상에 코팅된 PET로 제작될 수 있으며, 상기 외부 벽(410)은 COC로 제작될 수 있다. 본 명세서의 어딘가에 도시된 바와 같이, SiOx로 코팅된 PET는 뛰어난 산소 차단막인 반면에, COC는 수증기에 대한 뛰어난 차단막으로서, 낮은 수증기 투과 속도(WVTR)를 제공한다. 이러한　복합체　용기는　산소　및　수증기　양쪽　모두에　대해　우수한　장벽　특성들을　가질　수　있다． 이　구조는　예를　들면，　제작된　바와　같이　수용성　시약을　함유하고　실질적인　수명을　갖는　진공된　의료　시료　수집　튜브에　대하여　고찰되며，　따라서，　이　튜브는　그　수명을　유지하는　동안에　그　복합체　벽을　통하여　수증기를　외부로　전달하거나　산소　또는　다른　가스들을　내부로　전달시키는　것을　방지하는　차단막을　가져야　한다．
VII.A.1.c. 다른 일례로, 상기 내부 벽(408)은 SiOx 차단막으로 상기 내부 표면(412)상에 코팅된 COC로 제작될 수 있으며, 상기 외부 벽(410)은 PET로 제작될 수 있다. 이　구조는　예를　들면，　제작된　바와　같이　수용성　멸균　유체를　함유하는　예비충진된　주사기에　대하여　고찰된다． 상기 SiOx 차단막은 산소가 벽을 통해 주사기로 들어가는 것을 방지할 것이다. ＣＯＣ　내부　벽은　물과　같은　다른　물질들의　유입　또는　유출을　방지하여，　상기　수용성　멸균　유체에　있는　물이　벽　물질로부터　나온　물질들을　상기　주사기로　걸러지는　것을　방지하게　된다． 또한，　상기　ＣＯＣ　내부　벽은　상기　수용성　멸균　유체로부터　도출된　물이　상기　주사기　밖으로　통과하는　것을　방지하여（수용성　멸균　유체를　원하지　않을만큼　농축시키는　것）으로　고찰되며　상기　주사기　외부의　멸균되지　않은　물　또는　다른　유체들이　주사기　속으로　유입하고　상기　내용물들이　멸균되지　않게　하는　것을　방지할　것이다． 또한，　ＣＯＣ　내부　벽은　주사기의　내부　벽에　대한　플런저의　브레이킹　힘　또는　마찰을　감소시키는데　유용한　것으로　고찰된다．
VII.A.1.d. 이중벽 플라스틱 용기를 제작하는 방법-COC, PET, SiOx 층들
VII.A.1.d. 다른　실시예는 외부 폴리머 층, COC로 제작된 하나의 층 또는　코팅　및 폴리에스테로로 제작된 다른 층　또는　코팅으로 둘러싸인 내부 중합체 층　또는　코팅을 갖는 벽을 갖는 용기를 제작하는 방법이다. 상기 용기는 COC 및 폴리에스테르 수지 층들을 동심원 사출 노즐들을 통해 사출 성형틀 속으로 도입하는 단계를 포함하는 공정에 의해 제작된다.
VII.A.1.d. 다른 선택적인 단계는 ＰＥＣＶＤ에 의하여 상기 용기로 비정질 탄소 코팅을 내부 코팅 및 외부 코팅 또는 상기 코팅들 사이에 위치한 층간 코팅으로 도포하는 단계이다.
VII.A.1.d. 선택적인 추가 단계는 SiOx가 전과 같이 정의되며 용기 벽의 내부에 SiOx 차단막　또는　코팅을 도포하는 단계이다. 다른 선택적인 추가 단계는 상기 SiOx 막　또는　코팅을 필수적으로 산소로 구성되어 있으며 휘발성 실리콘 화합물이 근본적으로 존재하지 않는 공정 가스　또는　가스　반응물로 후처리하는 단계이다.
VII.A.1.d. 선택적으로, 상기 SiOx 코팅은 적어도 부분적으로 실라잔 공급 가스로부터 형성될 수 있다.
VII.A.1.d. 도　３６에　도시된　용기（８０）는　예를　들면，　제　１　성형　캐비티에서　내부　벽을　사출　성형하고，　이후　상기　제　１　성형　캐비티로부터　제　２의　더큰　성형　캐비티로　중심　및　성형된　내부　벽을　이동한　이후에，　상기　제　２　성형　캐비티　내에서　내부　벽에　대하여　외부　벽을　성형함으로써　안에서　바깥으로　제작될　수　있다． 선택적으로는，　타이　층(tie layer)　또는　코팅은　상기　타이　층상으로　외부　벽을　과도　성형하기　이전에　성형된　내부　벽의　외부　표면에　제공될　수　있다．
VII.A.1.d. 또한，　도　３６에　도시된　용기（８０）은　예를　들면，　성형　캐비티에　제　１　코어를　삽입하고，　상기　성형　캐비티　내에　외부　벽을　사출　성형하고，　이후　상기　성형된　제　１　벽으로부터　상기　제　１　중심을　제거하고　크기가　더　작은　제　２　중심을　삽입한　이후에，　상기　성형　캐비티　내에서　여전히　남아있는　외부　벽에　대하여　내부　벽을　사출　성형함으로써　안에서　바깥으로　제작될　수　있다． 선택적으로는，　타이　층　또는　코팅은　상기　타이　층상으로　내부　벽을　과도　성형하기　이전에　성형된　외부　벽의　내부　표면에　제공될　수　있다．
VII.A.1.d. 또한，　도　３６에　도시된　용기（８０）은　２　개의　샷　금형으로　제작될　수　있다． 이는　예를　들면，　내부　노즐로부터　상기　내부　벽에　대한　물질　및　상기　외부　벽에　대한　물질을　동심원의　외부　노즐로부터　사출　성형하여　수행될　수　있다． 선택적으로는，　타이　층　또는　코팅은　상기　내부　및　최부　노즐들　사이에　배치된　제　３　의　동심　노즐로부터　제공될　수　있다． 상기　노즐들은　각각의　벽　물질들을　동시에　공급할　수　있다． 유용한　하나의　수단은　내부　노즐을　통해　상기　내부　벽　물질을　공급하기　직전에　외부　노즐을　통해　외부　벽　물질을　공급하기　시작하는　것이다． 중간물질　동심원　노즐이　있다면，　흐름　순서는　외부　노즐로　시작하여　중간물질　노즐로　계속하여　이후　내부　노즐로　부터　시작할　수　있다． 또한，　공급　시작　순서는　앞선　설명과　비교하여　반대　순서로，　내부　노즐로부터　시작하여　바깥쪽으로　작업할　수　있다．
VII.A.1.e. 유리로 제작된 코팅　또는　용기
VII.A.1.e. 다른　실시예는 용기, 차단성 코팅 및 클로저를 포함하는 용기이다. 상기 용기는 일반적으로 튜브형이며 열가소성 물질로 제작된다. 상기 용기는 입구 및 루멘과 계면하는 내부 표면을 갖는　벽에 의해 적어도 부분적으로 경계되는 루멘을 갖는다. 상기 벽의 내부 표면상에 유리로 제작된, 적어도 하나의 기본적으로 연속적인 차단성 코팅이 있다. 클로저는 상기 입구를 덮으며 상기 용기의 루멘을 주변 공기로부터 분리한다.
VII.A.1.e. 또한，　용기（８０）는　소다　석회　유리，　보로실리케이트　유리　또는　다른　유리　제형들과　같은　의료　또는　실험실　응용에　사용되는　임의의　유형의　유리로　제작될　수　있다． 또한，　임의의　물질로　제작된，　임의의　형상　또는　크기를　갖는　다른　용기들이　시스템（２０）에서　사용될　것으로　고찰된다． 유리　용기를　코팅하는　하나의　기능은　상기　유리로부터　진공된　혈액　수집　튜브에서　시약　또는　혈액과　같은　용기의　내용물들로，고의적으로　또는　예를　들면，　나트륨，　칼슘　등과　같은　불순물들로서　유리　내에　이온들의　유입을　감소시킬　수　있다는　것이다． 다른 부품들에 슬라이딩으로 접촉되는 표면들에서와 같이 유리　용기 전체 또는 일부를 코팅하는 다른　기능으로 인하여 코팅에　윤활성을　제공하여　예를　들면，　스토퍼의 삽입 또는 제거 또는　주사기에서 피스톤과　같은　슬라이딩 구성요소의 통행을 용이하게 한다. 유리　용기를　코팅하는　또　다른　이유는　시약　또는　혈액과　같이，　상기　용기에　대한　의도된　시료가　상기　용기의　벽에　들러붙거나　상기　용기의　벽과　접촉하는　혈액의　응고　속도　증가를　방지하는　것이다．
VII.A.1.e.i. 관련된 일 실시예는 상기 차단성 코팅이 소다 석회 유리 또는 보로실리케이트 유리 또는 다른 유형의 유리로 제작된, 앞선 문단에 기술된 용기이다.
VII.B. 주사기들
VII.B. 앞의　설명은　대개는　혈액　수집　튜브　또는　더　일반적으로는　시료　접수　튜브（８０）와　같이　한쪽　끝이　영구히　폐쇄된　튜브에　차단　코팅을　도포하는　단계를　다룬다． 장치는　그러한　장치에　한정되지　않는다.
VII.B. 　도　２０에　도시된，　적절한　용기의　다른　예는　의료용　주사기（２５２）용　주사기　베럴（２５０）이다． 그러한　주사기들（２５２）은　의료　기술에　사용되기　위하여　때때로　식염수，　약학적　제제　등으로　예비충진되어　공급된다． 또한, 예비충진된 주사기들(252)은 상기 예비충진된 주사기(252)의 내용물들이 상기 주사기의 플라스틱, 예를 들면, 저장중의 상기 주사기 베럴(250)의 플라스틱과 접촉하지 않도록 상기 내부 표면(254) 상의 SiOx 차단막 또는 다른 유형의 코팅으로부터 혜택을 받는 것으로 생각된다. 차단 또는 다른 유형의 코팅은 플라스틱의　탈색　구성성분들이　내부 표면（２５４）을　통해　상기　베럴의　내용물들로　변색하는　것을　회피하는데　사용될　수　있다.
VII.B. 일반적으로　성형된　주사기　베럴（２５０）은　플런저（２５８）를　받아들이는　후단（２５６）　및　피하　주사，노즐　또는　주사기의　내용물들을　배분하거나　물질을　주사기（２５２）로　받아들일　목적의　튜빙을　받아들이는　전단（２６０）　양쪽　모두에서　개방될　수　있다. 그러나，　전단（２６０）은　선택적으로는　캐핑될　수　있으며　플런저（２５８）는　선택적으로는　상기　예비충진　주사기（２５２）가　사용되기　이전에　제자리에　맞춰져서　양쪽　말단　모두에서　베럴（２５０）을　폐쇄할　수　있다． 캡은　상기　캡（２６２）이　제거되고　（선택적으로는）　피하　주사　또는　다른　전달　수로가　전단（２６０）상에　맞춰져서　상기　주사기（２５２）를　사용　목적으로　제조하게　될　때까지　상기　주사기　베럴（２５０）　또는　조립된　주사기를　처리하는　목적으로　또는　예비충진된　주사기（２５２）를　저장하는　동안에　제자리에　유지하도록　설치될　수　있다．
다른　적절한　용기는，　２０１１년　５월　１１일이　출원된　PCT/US11/36097 과 ２０１０년　６월　２９일　출원된 US61/359,434, 에서　설명된，　예를　들어　부착된（＂박힌＂）중공　바늘이　있는　주사기인　＂박힌　바늘　주사기＂이다．
VII.B. 주사기들
VII.B. 앞의　설명은　대개는　혈액　수집　튜브　또는　더　일반적으로는　시료　접수　튜브（８０）와　같이　한쪽　끝이　영구히　폐쇄된　튜브에　차단　코팅을　도포하는　단계를　다룬다． 장치는　그러한　장치에　한정되지　않는다.
VII.B. 　도　２０에　도시된，　적절한　용기의　다른　예는　의료용　주사기（２５２）용　주사기　베럴（２５０）이다． 그러한　주사기들（２５２）은　의료　기술에　사용되기　위하여　때때로　식염수，　약학적　제제　등으로　예비충진되어　공급된다． 또한, 예비충진된 주사기들(252)은 상기 예비충진된 주사기(252)의 내용물들이 상기 주사기의 플라스틱, 예를 들면, 저장중의 상기 주사기 베럴(250)의 플라스틱과 접촉하지 않도록 상기 내부 표면(254) 상의 SiOx 차단막 또는 다른 유형의 코팅으로부터 혜택을 받는 것으로 생각된다. 차단 또는 다른 유형의 코팅은 플라스틱의　탈색　구성성분들이　내부 표면（２５４）을　통해　상기　베럴의　내용물들로　변색하는　것을　회피하는데　사용될　수　있다.
VII.B. 일반적으로　성형된　주사기　베럴（２５０）은　플런저（２５８）를　받아들이는　후단（２５６）　및　피하　주사，노즐　또는　주사기의　내용물들을　배분하거나　물질을　주사기（２５２）로　받아들일　목적의　튜빙을　받아들이는　전단（２６０）　양쪽　모두에서　개방될　수　있다. 그러나，　전단（２６０）은　선택적으로는　캐핑될　수　있으며　플런저（２５８）는　선택적으로는　상기　예비충진　주사기（２５２）가　사용되기　이전에　제자리에　맞춰져서　양쪽　말단　모두에서　베럴（２５０）을　폐쇄할　수　있다． 캡은　상기　캡（２６２）이　제거되고　（선택적으로는）　피하　주사　또는　다른　전달　수로가　전단（２６０）상에　맞춰져서　상기　주사기（２５２）를　사용　목적으로　제조하게　될　때까지　상기　주사기　베럴（２５０）　또는　조립된　주사기를　처리하는　목적으로　또는　예비충진된　주사기（２５２）를　저장하는　동안에　제자리에　유지하도록　설치될　수　있다．
다른　적절한　주사기는，　２０１１년　５월　１１일이　출원된　PCT/US11/36097 과 ２０１０년　６월　２９일에　출원된 US　61/359,434, 에서　설명된，　예를　들어　부착된（＂박힌＂）중공　바늘이　있는　주사기인　＂박힌　바늘　주사기＂이다．
일반적으로，　주사기　베럴이　코팅되었을　때，　여기서　설명된　ＰＥＣＶＤ　코팅　방법들은　코팅된　기판　표면이　베럴의　내부　표면의　일부 또는 전부이고, ＰＥＣＶＤ　반응을　위한　가스가　베럴의　내부　루멘을　채우고　플라즈마는 베럴의　내부 루멘의 일부 또는 전부에서 생성되도록　수행된다.
VII.B.1.a. 윤활성　코팅으로　코팅된　베럴을　갖는　주사기
VII.B.1.a. 이러한　형태의　윤활성　코팅을　갖는　주사기는　하기의　공정에 의해 제작될　수　있다.
VII.B.1.a. 상기　정의된　바와　같이　전구체가 제공된다.
VII.B.1.a. 상기 전구체는 코팅을 형성하기에 효과적인 조건하에서 기판에 도포된다. 상기 코팅은 중합되거나 교차결합되거나 양쪽 모두 되어, 처리되지 않은 기판보다 더 낮은 플런저 활동력 또는 브레이크아웃 힘을 갖는 윤활성 표면을 형성한다.
VII.B.1.a. 실시예들　중　어느　하나　ＶＩＩ　또는　서브－파트들　각각에　대하여，　선택적으로는　도포　단계가　상기　전구체를 증발시키고 이를 기판 근처에 제공함으로써 수행된다.
VII.B.1.a. 플라즈마는 기판 부근에서 형성된다. 선택적으로는，　상기　전구체는　질소가 실질적으로 부재한 가운데 제공된다. 선택적으로는，　상기　전구체는 1 Torr 미만의 절대 압력에서 제공된다. 선택적으로는, 상기 전구체는 선택적으로는 플라즈마 방출 부근에서 제공된다. 선택적으로，전구체의　반응　생성물은 기판에 1 내지 5000 nm, 또는 10 내지 1000 nm 또는 10 내지　５00 nm 또는１0 내지 ２00 nm 또는　２０내지　１００ｎｍ　또는　３０　내지　１０００ｎｍ，또는　３０　내지　５００ｎｍ，또는　30 내지 1000 nm, 또는 20 내지 100 nm, 또는 80 내지 150 nm 두께의 평균　두께로 도포될 수 있다. 선택적으로는，　상기　기판은　유리를　포함한다． 선택적으로는，　기판은　중합체, 선택적으로는 폴리카보네이트 중합체, 선택적으로는　올레핀 중합체, 선택적으로는　사이클릭 올레핀 공중합체, 선택적으로는　폴리프로필렌 중합체, 선택적으로는　폴리에스테르 중합체, 선택적으로는　폴리에틸렌 테레프탈레이트 중합체를　포함한다． ＣＯＣ는　주사기　및　주사기　베럴에　대해　특히　고려된다．
VII.B.1.a. 선택적으로는，　플라즈마는　예를　들면， 상기 정의된 바와 같은 RF 주파수, 예를 들면, 10 kHz 내지 300 MHz 미만, 선택적으로 1 내지 50 MHz, 선택적으로 10 내지 15 MHz 및 선택적으로 13.56 MHz의 주파수에서 전력을 받은 전극들을 사용하여 상기 전구체를 포함하는 가스 반응물질에 전력을 가하여 생성된다.
VII.B.1.a. 플라즈마는 선택적으로 0.1 내지 25 W, 선택적으로는 1 내지 22 W, 선택적으로는　３내지　１７Ｗ，　더　선택적으로는　5 내지 14 W, 선택적으로는 7 내지 11 W, 선택적으로는 8 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하여　전구체를　포함하는　가스　반응　물질에　에너지를　가해주어　생성된다．전력 대 플라즈마 부피의 비는 10 W/ml, 선택적으로는 ６ W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 5 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 4 W/ml 내지 0.1 W/ml,선택적으로　２ W/ml 내지 0.２ W/ml　보다　작을　수　있다． 낮은　파워　수준은　윤활성　코팅을　준비하기에　가장　장점이　되는　것으로（예를　들어，　２　내지　３．５Ｗ의　파워　수준과　예시에서　주어진　파워　수준들）발명자들에의해　믿어진다． 이러한 전력 수준들은 ＰＥＣＶＤ 플라즈마가 생성되는 1 내지 3 mL의 기공 부피(void volume)를 갖는 유사한 형상의 주사기들 및 시료 튜브들과 용기들에 윤활성 층들을 도포하는데 적합하다. 더 크거나 더 작은 대상물들에 대하여 적용된 전력은 기판의 크기에 대해 공정을 스케일링 함에 따라 증감할 것이라고 생각된다.
VII.B.1.a. 다른 실시예는 주사기 베럴의 내부 벽상에　있는　본　발명의　윤활성 코팅이다. 상기 코팅은 하기 물질들 및 조건들을 이용하는 ＰＥＣＶＤ 공정으로부터 생성된다. 선택적으로　사이클릭　전구체가，윤활성　층들에　대해　이　명세서에서　어딘가에　정의된　바와　같이，　모노사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실록산, 또는 이들 중 2 이상의 조합으로부터 선택되어　채용된다. 적당한　사이클릭　전구체의　일예는　선택적으로는　다른　전구체　물질들과　임의의　비율로　혼합되는　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）을　포함한다． 선택적으로는，사이클릭　전구체는　필수적으로　옥타메티시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）로　구성되어　있는데，이는　이로인하여　생성된　윤활성　층의　기본적이고　신규한　특성들을　즉，코팅된　표면의　플런저　활동력　또는　브레이크아웃　힘을　감소와　같이，변화시키지　않는　양으로　존재할　수　있다는　것을　의미하는　것이다.
VII.B.1.a. 충분한　플라즈마　생성　전원　입력，　예를　들면，　본　명세서의　하나　이상의　작업예들에서　성공적으로　사용되거나　본　명세서에　기술된　임의의　전원　수준은　코팅　형성을 코팅 형성을 유도하는데 제공된다.
VII.B.1.a. 여기에　채용된　물질　및　조건은　상기　주사기　베럴을　통해　이동하는　주사기　플런저　활동력　또는　브레이크아웃　힘을　코팅되지　않은　주사기　베럴에　대해　적어도　약　２５％，또는　적어도　４５％，　또는　적어도　６０％，　또는　６０％　이상　감소시키는데　효과적이다． ２０　내지　９５　퍼센트，　또는　３０　내지　８０　퍼센트，　또는　４０　내지　７５　퍼센트，　또는　６０　내지　７０　퍼센트의　플런저　활동력　또는　브레이크　힘　감소　범위가　고찰된다．
VII.B.1.a. 다른　실시예는　내부　벽상에서，　정의절에서　규정된　바와　같이　특징지워지는　소수성 층을　갖는　용기이다： 상기 코팅은 유사한　조성의　윤활제　코팅에　대하여　설명된　바와　같이　제조되지만，　처리되지 않은 기판보다 더 높은 접촉각을 갖는 소수성 표면을 형성하는데　효과적인　조건하에서　제조된다.
VII.B.1.a. 선택적으로는，　상기　기판은　유리　또는　폴리머를　포함한다． 선택적으로는　상기　유리는　보로실리케이트　유리이다． 상기　중합체는　선택적으로는 폴리카보네이트 중합체, 선택적으로는　올레핀 중합체, 선택적으로는　사이클릭 올레핀 공중합체, 선택적으로는　폴리프로필렌 중합체, 선택적으로는　폴리에스테르 중합체, 선택적으로는　폴리에틸렌 테레프탈레이트 중합체이다．
VII.B.1.a. 다른　실시예는 플런저, 주사기 베럴 및 윤활성 층을 포함하는 주사기이다. 상기 주사기 베럴은 미끄러져　상기 플런저를 수용하는 내부 표면을 갖는다. 상기 윤활성 층　또는　코팅은 상기 주사기 베럴의 내부 표면의　일부　또는　전체에 제공된다． 상기 윤활성 층　또는　코팅　선택적으로　1000 nm 두께 미만일　수　있고 상기 베럴 내에서 상기 플런저를 이동시키는데 필요한 브레이크아웃 힘 또는 플런저 활동력을 감소시키는데 효과적일　수　있다. 또한，　플런저　활동력의　감소는　베럴　내에서　플런저의　활강　마찰　계수의　감소　또는　플런저　힘의　감소로　표현된다；　이　용어들은　본　명세서에　동일한　의미를　갖는　것으로　간주된다．
VII.B.1.a. 주사기（５４４）는　플런저（５４６）　및　주사기　베럴（５４８）을　포함한다. 주사기　베럴（５４８）은　플런저（５４６）를　미끄러져　받아들이는　내부　표면（５５２）을　갖는다． 또한，　주사기 베럴（５４８）의 내부 표면（５５２）은　윤활성　층　또는　코팅（５５４）을 포함한다. 상기 윤활성 층　또는　코팅은 1000 nm 두께 미만，　선택적으로는　５００　ｎｍ　두께　미만，　선택적으로는　２００　ｎｍ　두께　미만，　선택적으로는　１００　ｎｍ　두께　미만，　선택적으로는　５０　ｎｍ　두께　미만이며， 저장　이후에　플런저의　접착을　극복하는데　필요한　브레이크아웃　힘　또는　플런저　활동력이　풀린　이후에　상기 베럴 내에서 상기 플런저를 이동시키는데 필요한 플런저 활동력을 감소시키는데 효과적이다. 윤활성　층　또는　코팅은　코팅되지　않은　표면의　플런저　활동력　또는　브레이크아웃　힘을　갖는　것으로　특성화된다．
VII.B.1.a. 어느　유형의　전구체들　중　어느　하나는　단독으로　또는　이들　중　둘　이상의　조합으로　사용되어　윤활성　층을　제공할　수　있다．
VII.B.1.a. 진공　공정들을　활용하는　것에　더하여，　낮은　온도　대기（비－진공）　플라즈마　공정도　선택적으로는　헬륨　또는　아르곤과　같은　비－산화　대기에서　전구체　단량체　증기　전달을　통해　분자　이온화　및　증착을　유도하는데　활용될　수　있다． 또한，　열　ＣＶＤ는　플래쉬（ｆｌａｓｈ）　열분해　증착을　통해　이루어진　것으로　고려될　수　있다．
VII.B.1.a. 상기　접근법들은　표면　코팅　및　교차결합　메커니즘들이　동시에　발생할　수　있다는　점에서　진공　ＰＥＣＶＤ와　유사하다．
VII.B.1.a. 본　명세서에　기술된　임의의　코팅　또는　코팅들에　대하여　고찰되는　또　다른　수단은　용기의　내부（８８）　전체에　걸쳐서　균일하게　도포되지　않은　코팅이다． 예를　들면，　폐쇄단（８４）에서　용기　내부의　반원　부분과　비교하여，　상이하거나　다른　코팅이　용기　내부의　실린더형　부분에　선택적으로　도포될　수　있거나，　이와　반대일　수　있다． 이　수단은　플런저　피스톤　또는　클로저가　활강하는　베럴의　실린더형　부분의　일부　또는　모두에　윤활성　표면이　제공되고　어딘가에는　제공되지　않는，　아래에　기술된　주사기　베럴　또는　시료　수집　튜브에　대하여　특히　고찰된다．
VII.B.1.a. 선택적으로는，　상기　전구체는　질소가 있으면서，　실질적으로 부재　또는　부재한 가운데 제공될　수　있다. 고려되는　일　실시예에서，　전구체　홀로　기판에　전달되고　ＰＥＣＶＤ를　거쳐　코팅을　도포하고　경화한다.
VII.B.1.a. 선택적으로는，상기　전구체는　1Torr 미만의 절대 압력에서 제공될　수　있다.
VII.B.1.a. 선택적으로는, 상기 전구체는 플라즈마 방출 부근에서 제공될　수　있다.
VII.B.1.a. 실시예들 중 어느 하나에 있어서, 기판은 유리 또는 중합체, 예를 들면, 폴리카보네이트 중합체, 올레핀 중합체（예를　들면，　사이클릭　올레핀　공중합체　또는　폴리프로필렌　중합체）,　또는　폴리에스테르 중합체（예를　들면，　폴리에틸렌 테레프탈레이트 중합체）의　하나　이상을 포함할 수 있다.
VII.B.1.a. 상기　실시예들　중　어느　하나에서，　플라즈마는　본　명세서에서　정의된　바와　같이，　ＲＦ　주파수에서　전원공급된　전극들을　사용하여　상기　전구체를　함유하는　가스　반응물질에　전력을　가하여　생성된다．
VII.B.1.a. 상기　실시예들　중　어느　하나에서，　플라즈마는　윤활성　층을　생성하는데　충분한　전력으로　공급된　전극들을　사용하여　상기　전구체를　함유하는　가스　반응물질에　전력을　가하여　생성된다． 플라즈마는 선택적으로 0.1 내지 25 W, 선택적으로는 1 내지 22 W, 선택적으로는　３내지　１７Ｗ，　더　선택적으로는　5 내지 14 W, 예를　들어　６　또는　７．５Ｗ，선택적으로는 7 내지 11 W, 선택적으로는 8 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하여　전구체를　포함하는　가스　반응　물질에　에너지를　가해주어　생성된다．전력 대 플라즈마 부피의 비는 10 W/ml, 선택적으로는 ６ W/ml 내지 0.1 W/ml,　 선택적으로는 4 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 4 W/ml 내지 0.1 W/ml, 선택적으로는 ３ W/ml 내지 0.2 W/ml，선택적으로　２ W/ml 내지 0.２ W/ml　보다　작을　수　있다． 낮은　파워　수준은　윤활성　코팅을　준비하기에　가장　장점이　되는　것으로（예를　들어，　２　내지　３．５Ｗ의　파워　수준과　예시에서　주어진　파워　수준들）발명자들에의해　믿어진다． 이러한 전력 수준들은 ＰＥＣＶＤ 플라즈마가 생성되는 1 내지 3 mL의 기공 부피(void volume)를 갖는 유사한 형상의 주사기들 및 시료 튜브들과 용기들에 윤활성 층들을 도포하는데 적합하다. 더 크거나 더 작은 대상물들에 대하여 적용된 전력은 기판의 크기에 대해 공정을 스케일링 함에 따라 증감할 것이라고 생각된다.
VII.B.1.a. 코팅은 상기　코팅을　중합하거나　교차결합하거나　양쪽　모두를　수행함으로써　경화되어　처리되지 않은 기판보다 더 낮은 플런저 활동력 또는 브레이크아웃 힘을 갖는 윤활성 표면을 형성할　수　있다. 경화는　ＰＥＣＶＤ와　같은　도포　공정　도중에　발생할　수　있거나　다른　처리에　의하여　수행되거나　적어도　완수될　수　있다．
VII.B.1.a. 비록　본　명세서에서　플라즈마　증착이　코팅　특징들을　보여주기　위하여　사용되었다고　하더라도，　기본　기판에　부착된　고체　필름을　여전히　탈착하는　동안에　시작　물질의　화학적　조성물이　최대한　보존되는　한　다른　증착　방법들이　사용될　수　있다．
VII.B.1.a. 예를　들면，　코팅　물질은　코팅을　스프레이하거나　기판을　코팅이　순수한　전구체　이거나　용매－희석된　전구체인　코팅으로　침지하여　（더　얇은　코팅의　기계적　증착을　가능하게하여）（액체　상태로부터）　주사기　베럴상으로　도포될　수　있다． 바람직하게는，　상기　코팅은　열　에너지，　ＵＶ　에너지，　전자　빔　에너지，　플라즈마　에너지　또는　이들의　임의의　조합을　이용하여　교차결합될　수　있다．
VII.B.1.a. 또한，　상술한　바와　같이　실리콘　전구체를　표면상으로　도포하고　이후　별도의　경화　공정을　수행하는　것도　고찰된다． 도포　및　경화　조건들은　TriboGlide®　상표하에서　수행되는　공정인，예비－코팅된　폴리플루오로알킬　에테르류의　대기압　플라즈마　경화에　사용되는　조건들과　유사할　수　있다． 이　공정의　더　상세한　사항들은　http://www.triboglide.com/process.htm에서　찾을　수　있다．
VII.B.1.a. 그러한　공정에서，　코팅되는　부품의　부분은　선택적으로는　대기압　플라즈마로　예비－처리될　수　있다． 이　예비처리는　다음　단계에서　스프레이되는　윤활제에　수용되도록　표면을　세정하고　활성화한다．
VII.B.1.a. 상기　전구체들　중　어느　하나　또는　중합된　전구체인　경우，　윤활　유체는　이후　처리되는　표면으로　스프레이된다． 예를　들면，　ＩＶＥＫ　정밀　배분　기술을　이용하여　유체를　정확히　분무하고　균일한　코팅을　생성할　수　있다．
VII.B.1.a. 이후　상기　코팅은　다시　대기압　플라즈마　장을　이용하여，　부품에　결합되거나　교차결합된다． 이　모두는　코팅을　고정화하고　윤활제의　성능을　향상시킨다．
VII.B.1.a. 선택적으로，　대기압　플라즈마는　용기　내에서　주변　공기로부터　생성될　수　있는데，　이　경우　가스　공급과　진공　도출　장비는　필요하지　않다． 그러나，　선택적으로는　플라즈마가　생성되는　도중에　용기가　적어도　실질적으로　폐쇄되어　전원　요구를　최소화하고　용기　외부의　표면　또는　물질과　플라즈마의　접촉을　방지한다．
VII.B.1.a.i. 윤활성 코팅: ＳｉＯｘ차단，　윤활성　층，　표면 처리.
표면　처리
VII.B.1.a.i. 다른　실시예는　루멘을　정의하는　베럴을　포함하고　플런저를　활강가능하게　수용하는，　즉，　내부　표면과　슬라이딩　접촉하도록　플런저를　수용하는，　내부　표면을　주사기이다．
VII.B.1.a.i. 상기　주사기　베럴은　열가소성　계열　물질로　제작될　수　있다．
VII.B.1.a.i. 선택적으로, 상기 베럴의 내부 표면은 본 명세서의 어딘가에 기술된 바와 같이 SiOx 차단막　또는　코팅으로 코팅된다.
VII.B.1.a.i. 윤활성 층　또는　코팅은 상기 베럴 내부 표면의　모두　또는　일부에, 플런저 또는 양쪽 모두에, 또는 앞에서 도포된 SiOx 차단막에 도포된다. 윤활성　층　또는　코팅은　실시예　VII.B.1.a　또는　본　명세서의　어딘가에　설명된　바와　같이　제공되고，　도포되며　경화될　수　있다．
VII.B.1.a.i. 예를　들면, 상기 윤활성 층　또는　코팅은 임의의　실시예에서　ＰＥＣＶＤ에 의하여　도포될 수 있다． 상기　윤활성　층　또는　코팅은　유기실리콘　전구체로부터　증착되며，　１０００　ｎｍ　미만의　두께이다．
VII.B.1.a.i. 표면　처리는　상기　윤활성　층，　상기　열가소성　계열　물질　또는　양쪽　모두를　여과하거나　추출가능한　것을　감소시키는데　효과적인　양으로　상기　윤활성　층　또는　코팅상에　수행된다． 따라서，　처리된　표면은　용질　리테이너로서　작용할　수　있다． 이러한　표면　처리는　피부　코팅, 예컨대, 적어도　１　ｎｍ　두께　및　１００　ｎｍ　미만，또는　50 nm 두께 미만, 또는 ４０ nm 두께 미만, 또는 ３0 nm 두께 미만, 또는 ２0 nm 두께 미만, 또는 １0 nm 두께 미만, 또는 5 nm 두께 미만, 또는 ３ nm 두께 미만, 또는 ２ nm 두께 미만, 또는 1 nm 두께 미만, 또는 ０．5 nm 두께 미만인　피부　코팅를　얻을　수　있다.
VII.B.1.a.i. 본　명세서에　사용된　＂여과＂는　용기　벽과　같은　기판으로부터　예를　들면，　주사기와　같은　용기의　내용물들　속으로　전이된　물질을　가리킨다． 통상적으로，　여과가능물들은　의도된　내용물들로　용기를　저장하고，　이후　상기　내용물들을　분석하여　상기　용기　벽으로부터　의도된　내용물들　속으로　어떤　물질이　여과되는지를　결정함으로써　측정된다． ＂추출＂은　시험　조건　항에서　기판으로부터　추출　매질로　어떤　물질이　제거될　수　있는　지　결정하기　위하여，　용기의　의도된　내용물들이　아닌　용매　또는　분산매를　도입함으로써　기판으로부터　제거되는　물질을　가리킨다．
VII.B.1.a.i. 용질 리테이너로　되는 표면 처리는 선택적으로는　정의절에서　규정의된 바와 같이 특정지워진，　소수성　층　또는　본　명세서에서　앞서　규정된　바와　같은　SiOx 층　또는　코팅일 수 있다. 일　실시예에서，표면　처리는　ＳｉＯｘ　또는　소수성　층의　ＰＥＣＶＤ　증착에　의하여　적용될　수　있다． 선택적으로는，　상기　표면　처리는　윤활성　층을　생성하는데　사용되는　것보다　더　높은　전원　또는　강한　산화　조건，　또는　양쪽　모두를　이용하여　적용되어，　경도가　더　강하고，　더　얇은　연속적인　용질　리테이너（５３９）를　제공할　수　있다． 표면　처리는　윤활성　층에서　１００　ｎｍ　깊이　미만， 선택적으로는　5０　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　4０　ｎｍ　깊이　미만，선택적으로는　3０　ｎｍ　깊이　미만，선택적으로는　2０　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　１０　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　５　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　３　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　１　ｎｍ　깊이　미만，　선택적으로는　０．５　ｎｍ　깊이　미만，선택적으로는　０．１에서　５０　ｎｍ　깊이　사이일　수　있다．
VII.B.1.a.i. 상기　용질　리테이너는　기판을　포함하여，　기저　윤활성　및　다른　층들에　대하여　낮은　용질　여과　성능을　필요한　만큼　제공하는　것으로　고찰된다． 이 리테이너는 크기가 큰 용질 분자들 및 올리고머들(예를 들면, HMDSO, OMCTS, 그 단편들 및 예를 들면, "여과가능한 리테이너"와 같이, 윤활제로부터 유도된 이동상 올리고머들과 같은 실록산 모노머들)에 대한 용질 리테이너일 필요가 있고 가스(O2/N2/CO2/수증기) 차단막일 필요는 없다. 그러나，　용질　리테이너도　가스　차단막（예컨대，　본　발명에　따른　SiOx 코팅）일　수　있다． 진공　또는　대기압－계열　ＰＥＣＶＤ　공정들에　의하여　가스　차단　성능　없이도　양호한　여과가능한　리테이너를　생성할　수　있다． 상기 ＂여과가능성　차단막＂은　충분히　얇아서，　주사기　플런저　운동시에　플런저가　＂용질　리테이너＂를　용이하게　침투하여　슬라이딩　플런저　니플을　윤활성　층　또는　코팅　바로　아래로　노출시켜　처리되지 않은 기판보다 더 낮은 플런저 활동력 또는 브레이크아웃 힘을 갖는 윤활성 표면을 형성하게　된다.
VII.B.1.a.i. 다른　실시예에서，　표면　처리는　표면을　플라즈마　환경에서　산소에　노출시킴으로써　이전에　도포된　윤활성　층의　표면을　산화시켜　수행될　수　있다． 본 명세서에 기술된 SiOx 코팅을 형성하는 플라즈마 환경이 이용될 수 있다. 또한，　대기압　플라즈마　조건들은　산소가　풍부한　환경에서　채용될　수　있다．
VII.B.1.a.i. 형성된다고　하더라도，　윤활성　층　또는　코팅　및　용질　리테이너는　선택적으로는　동시에　경화될　수　있다． 다른　실시예에서，　윤활성　층　또는　코팅은　적어도　부분적으로　경화되고，　선택적으로는　완전히　경화되며，　경화　이후에　표면　처리가　제공，　적용될　수　있으며，　용질　리테이너는　경화될　수　있다．
VII.B.1.a.i. 상기 윤활성 층　또는　코팅 및 용질 리테이너는 브레이크아웃 힘， 플런저 활동력, 또는 상기 윤활성 층　또는　코팅 및 표면　처리가 없는 경우에 필요한 해당 힘보다 더 낮은 양쪽 모두의 힘을 제공하는데 효과적인 상대적 양으로 구성되고 존재한다. 즉，　용질　리테이너의　두께　및　조성은　아래에　있는　윤활성　층　또는　코팅이　플런저를　윤활하는　동안에　윤활성　층　또는　코팅으로부터　주사기의　내용물들로　물질의　여과를　감소시킨다． 용질　리테이너는　용이하게　풀어지며　플런저가　이동하는　경우　윤활성　층　또는　코팅이　여전히　기능하여　플런저를　윤활할　만큼　충분히　얇은　것으로　고찰된다.
VII.B.1.a.i. 고찰되는　일　실시예에서，　윤활성　및　표면　처리는　베럴　내부　표면상에　적용될　수　있다． 고찰되는　다른　실시예에서，　윤활성　및　표면　처리는　플런저상에　적용될　수　있다． 고찰되는　또　다른　실시예에서，　윤활성　및　표면　처리는　베럴　내부　표면　및　플런저상에　적용될　수　있다． 이러한　실시예들　중　어느　하나에　있어서，　주사기　베럴의　내부상에　선택적인　ＳｉＯｘ　차단　층　또는　코팅이　존재하거나　부재할　수　있다．
VII.B.1.a.i. 고찰되는　하나의　실시예는　다중층，　예컨대，　주사기　베럴의　내부　표면에　도포되는　구성인　３중　층이다． 층　또는　코팅（１）은　산화　대기압에서　ＨＭＤＳＯ，　ＯＭＣＴＳ　또는　양쪽　모두의　ＰＥＣＶＤ로　제조된　ＳｉＯｘ　가스　차단층일　수　있다． 그러한　대기는　예를　들면，　본　명세서에　기술된　ＰＥＣＶＤ　코팅　장치에　ＨＭＤＳＯ　및　산소　가스를　공급함으로써　제공될　수　있다． 층　또는　코팅(２)은　비－산화　대기에서　적용된　ＯＭＣＴＳ를　이용한　윤활성　층　또는　코팅일　수　있다． 그러한　비－산화　대기는　예를　들면，　본　명세서에　기술된　ＰＥＣＶＤ　코팅　장치에　ＨＭＤＳＯ를　선택적으로는　산소가　실질적으로　또는　완전히　부재한　채로　공급함으로써　제공될　수　있다． 후속 용질 리테이너는 SiOx 또는 소수성　층　또는　코팅의 얇은　표면　층　또는　코팅을 형성하는 처리에 의하여, OMCTS 및/또는 HMDSO를 사용하는 더 높은 전원 및 산소를 사용한 용질 리테이너로서 형성될 수 있다.
VII.B.1.a.i. 특정한　이러한　다중　층　또는　코팅들은　적어도　어느　정도　다음과　같은　선택적인　장점들　중　하나　이상을　가지는　것을　고찰된다． 용질　리테이너가　내부　실리콘을　한정할　수　있으며　주사기의　내용물들　또는　어딘가로　이동하는　것을　방지하여，　주사기의　전달가능한　내용물들에　실리콘　입자들이　덜　존재하게　되고　윤활성　층　또는　코팅　및　주사기의　내용물들　사이에서　상호작용에　대한　기회가　줄어들게　되므로，　이들은　실리콘을　다루는데　있어서　보고된　곤란한　점을　해결할　수　있다． 또한，　이들은　윤활점으로부터　윤활성　층　또는　코팅을　멀리　이동하는　문제를　해결할　수　있어서，　주사기　베럴　및　플런저　사이에서　계면을　향상시키게　된다． 예를　들면，　브레이크　프리　힘은　감소될　수　있으며　이동중인　플런저　상에　끌어당김을　감소시킬　수　있거나　선택적으로는　양쪽　모두　감소시킬　수　있다．
VII.B.1.a.i. 용질　리테이너가　파손되는　경우，　용질　리테이너는　계속해서　윤활성　층　또는　코팅　및　주사기　베럴에　부착하여，　입자들이　주사기의　전달가능하는　내용물에　비말동반되는　것을　억제할　수　있다．
VII.B.1.a.i. 또한，　이러한　특정　코팅들은　특히　차단　코팅，　윤활성　층　또는　코팅　및　표면　처리가　동일한　장치，　예를　들면，　도시된　ＰＥＣＶＤ　장치에　적용된다면　제작상의　장점들을　제공할　것이다． 선택적으로, 상기 SiOx 차단 코팅, 윤활성 층 및 표면 처리 모두는 하나의 ＰＥＣＶＤ 장치 내에서 적용되어, 필요한 취급량을 현저하게 감소시킬 수 있다.
다른　장점들은　동일한　전구체들을　사용하고　공정을　변화시켜　차단　코팅，　윤활성　층　및　용질　리테이너를　형성함으로써　획득할　수　있다． 예를　들면，　ＳｉＯｘ　가스　차단막　또는　코팅은　높은　전원／높은　Ｏ２　조건하에서　ＯＭＣＴＳ　전구체를　사용하여 도포될 수 있으며，　이어서　낮은　전원　및／또는　산소가　실질적으로　또는　완전히　존재하지　않는　가운데　ＯＭＣＴＳ　전구체를　사용하여　도포된　윤활성　막　또는　코팅을　도포하고　중간　정도의　전원과　산소　하에서　ＯＭＣＴＳ　전구체를　사용하여　표면　처리를　완료할 수　있다．
ＶＩＩ．Ｂ．１．ｂ ＳｉＯＸ　코팅된　내부　및　차단막이　코팅된　외부가　있는　베럴을　갖는　주사기
VII.B.1.b. 도 ５０에 도시된 또　다른　실시예는　플런저（５４６），　베럴（５４８）　및　내부　및　외부　차단　코팅들（５５４　및　６０２）를　포함하는　주사기（５４４）이다． 상기　베럴（５４８）은　루멘（６０４）을　정의하는　열가소성　계열　물질로　제작될　수　있다． 상기 베럴(５４８）은　활강을　위한　플런저（５４６）를 수용하는 내부 표면（５５２） 및 외부 표면（６０６）을 가질　수　있다. x는 약 1.5 내지 약 2.9인 SiOx의 차단 코팅(554)은 상기 베럴(548)의 내부 표면(552)상에 제공될 수 있다. 수지의 차단성 코팅（６０２）은 상기 베럴（５４８）의 외부 표면（６０６）상에 제공될　수　있다.
VII.B.1.b. 임의의　실시예에서，　열가소성　계열 물질은 선택적으로는 폴리올레핀, 예를 들면, 폴리프로필렌 또는 사이클릭 올레핀 공중합체(예를 들면, TOPAS® 상표명으로 시판되는 물질), 폴리에스테르, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 예를 들면, 비스페놀 A 폴리카보네이트 열가소성 물질 또는 기타 물질들을 포함할 수 있다. 이러한 물질들 중 어느 하나를 외부 층으로서 그리고 이러한 물질들 중 동일하거나 상이한 하나를 내부 층으로 갖는 복합체 주사기 베럴들이 고찰된다. 또한, 본 명세서의 어딘가에 기술된 복합체 주사기 베럴들 또는 시료 튜브들의 물질 조합 중 어느 하나가 사용될 수 있다.
VII.B.1.b. 임의의 실시예에서, 수지는 선택적으로는 폴리비닐리덴 클로라이드를 동종중합체 또는 공중합체 형태로 포함할 수 있다. 예를 들면, PvDC 동종중합체들(속명: 사란(Saran)) 또는 본 명세서에 참고로 포함된 미국 특허 제 6,165,566호에 기술된 공중합체들이 채용될 수 있다. 선택적으로는, 수지가 라텍스 또는 다른 분산액의 형태로 베럴의 외부 표면상에 도포될 수 있다.
VII.B.1.b. 임의의 실시예에서, 상기 주사기 베럴(548)은 상기 플런저와 SiOx의 차단성 코팅 사이에 배치된 윤활성 층을 선택적으로 포함할 수 있다. 적절한 윤활성 층들은 본 명세서에 기술되어 있다.
VII.B.1.b. 임의의 실시예에서, 상기 윤활성 층은 ＰＥＣＶＤ에 의하여 선택적으로 도포될 수 있으며 정의절에서　규정된　바와　같이　특징지워지는　물질을 선택적으로 포함할 수 있다.
VII.B.1.b. 임의의 실시예에서, 주사기 베럴(548)은 표면　처리는　상기　윤활성　층，　상기　열가소성　계열　물질의 구성성분들　또는　양쪽　모두를　루멘(604)으로 여과하는　것을　감소시키는데　효과적인　양으로　상기　윤활성　층을 다루는 표면 처리를 포함할 수 있다．
ＶＩＩ．Ｂ．１．c ＳｉＯＸ　코팅된　내부　및　차단막이　코팅된　외부가　있는　베럴을　갖는　주사기의　제작　방법
VII.B.1.c. 또 다른 실시예는 플런저, 베럴 및 내부 및 외부 차단　코팅들을 포함하는 파트 VII.B.1.b의 실시예들 중 어느 하나에 기술된 주사기의　제작　방법이다. 활강을　위한　플런저를 수용하는 내부 표면 및 외부 표면을 갖는　베럴이　제공된다. SiOx의 차단성 코팅은 ＰＥＣＶＤ에 의하여 상기 베럴의 내부 표면상에 제공된다. 수지의 차단성 코팅은 상기 베럴의 외부 표면상에 제공된다. 상기　플런저　및　베럴은　주사기를　제공하도록　조립된다．
VII.B.1.c. 수용성 라텍스로 플라스틱 물품의 효과적인 코팅(균일한 젖음)을 위해, 상기 라텍스의 표면 장력을 플라스틱 기판에 매칭시키는 것이 유용한 것으로 고찰된다. 이는 예를 들면, 라텍스의 표면 장력을 (계면활성제들 또는 용매들)로 감소시키고/감소시키거나 플라스틱 물품의 코로나 예비처리 및/또는 플라스틱 물품의 화학적 프라이밍을 독립적으로 또는 조합하여 수행하는 몇몇 접근법들에 의하여 수행될 수 있다.
VII.B.1.c. 선택적으로는, 수지는 라텍스를 베럴의 외부 표면상에 딥 코팅하고, 라텍스를 베럴의 외부 표면상에 스프레이 코팅하거나 양쪽 모두를 통해 도포되어, 향상된 가스 및 증기 차단 성능을 제공하는 플라스틱 계열 물품들을 제공할 수 있다. 향상된 가스 차단 성능 대 라미네이트되지 않은 플라스틱 물품을 제공하는 폴리비닐리덴 클로라이드 플라스틱 라미네이트 물품들이 제작될 수 있다.
VII.B.1.c. 임의의 실시예에서, 수지는 선택적으로는 열 경화될 수 있다. 수지는 선택적으로는 물을 제거하여 경화될 수 있다. 수지를 열 경화하고, 수지를 부분 진공 또는 낮은 습도 환경에 노출시키고, 수지를 촉매적으로 경화시키거나 다른 수단들에 의하여 물이 제거될 수 있다.
VII.B.1.c. 효과적인 열 경화 스케줄은 최종적으로 건조시켜 PvDC 결정화가 되도록 하여, 차단 성능을 제공하는 것으로 고찰된다. 1차 경화는 물론 열가소성 계열 물질의 열 내성에 따라, 예를 들면, 180 내지 310℉(82 내지 154℃)의 고온에서 수행될 수 있다. 상기 1차 경화 이후에 차단 성능은 선택적으로는 최종 경화 이후에 도달하는 최종 차단 성능의 약 85%일 수 있다.
VII.B.1.c. 최종 경화는 (2 주와 같은) 긴 시간 동안 약 65 내지 75°F (18 내지 24℃)와 같은 주변 온도로부터 4 시간과 같은 짧은 시간 동안에 122℉ (50℃)와 같은 고온에 이르는 온도에서 수행될 수 있다.
VII.B.1.c. 우수한 차단 성능 이외에 PvDC-플라스틱 라미네이트 물품들은 선택적으로는 무색 투명성, 양호한 광택, 내마모성, 인쇄 적성 및 기계적 변형 저항과 같은 하나 이상의 바람직한 특성들을 제공하는 것으로 고찰된다.
ＶＩＩ．Ｂ．２ 플런저들
ＶＩＩ．Ｂ．２．ａ 차단막이　코팅된　피스톤　정면을　이용
VII.B.2.a. 다른 실시예는 피스톤과 푸쉬 로드를 포함하는 주사기용 플런저이다. 상기 피스톤은 정면, 대략 실린더형인 주사기 베럴 내에서 이동가능하게 안착하도록 구성된 측면 및 후위 부위를 갖는다. 상기　정면은　차단　코팅을　갖는다． 상기 푸시 로드는 후위 부위와 맞물리며 주사기 베럴에서 상기 피스톤을 전진시키도록 구성되어 있다.
ＶＩＩ．Ｂ．２．ｂ． 측면과　서로 접촉하는　윤활성　층을　이용
VII.B.2.b. 또 다른 실시예는 피스톤, 윤활성 층 및 푸쉬 로드를 포함하는 주사기용 플런저이다. 상기 피스톤은 정면, 대략 실린더 형태의 측면　및　후위　부위를　갖는다. 상기 측면은　주사기　베럴　내에서　이동가능하게　안착하도록　구성되어　있다 상기　윤활성　층은　상기　측면과　서로 접촉한다． 상기 푸시 로드는 상기 피스톤의 후위 부위와 맞물리며 주사기 베럴에서 상기 피스톤을 전진시키도록 구성되어 있다.
ＶＩＩ．Ｂ．３．ａ 두　부분으로　된　주사기　및　루어　핏팅
VII.B.3.a　다른　실시예는 플런저, 주사기 베럴 및 루어 핏팅을 포함하는 주사기이다. 상기 주사기는 활강을　위한　플런저를 수용하는 내부 표면을 갖는 베럴을 포함한다. 상기 루어 핏팅은 내부 표면에 의하여 정의된 내부 통로를 갖는 루어 테이퍼를 포함한다. 상기 루어 핏팅은 상기 주사기 베럴로부터 분리된 구성요소로 형성되고 커플링에 의하여 상기 주사기 베럴에 접합된다. 루어 테이퍼의 내부 통로는 SiOx의 차단성 코팅을 선택적으로　갖는다.
VII.B.3.b 박힌　바늘 주사기
VII.B.3.b 　다른　실시예는，　２０１１년　５월　１１일이　출원된　PCT/US11/36097 과 ２０１０년　６월　２９일에　출원된 US　61/359,434, 에서　설명된，박힌　바늘（＂박힌　바늘　주사기＂），　주사기　베럴，　및　플런저를　포함하는　주사기이다． 바늘은　１８　내지　２９　게이지　범위의　통상적인　크기를　갖는　중공이다． 상기 주사기 베럴은 상기 플런저를 활강가능하게 수용하는 내부 표면을 갖는다. 박힌　바늘은　주사기의　인젝션　몰딩　중　주사기에　부착될　수　있고，　또는　접착제를　이용하여　형성된　주사기에　조립될　수　있다． 커버는　주사기　조립품을　밀봉하도록　박힌　바늘　위에　위치될　수　있다． 주사기　조립품은　진공이　주사기　내에서　유지되어　ＰＥＣＶＤ　코팅　공정이　가능하게　할　수　있도록　밀봉되어야　한다．
VII.B.4. 일반적인　윤활성　층　또는　코팅
VII.B.4.a. 공정에 의한 생성물 및 윤활성
VII.B.4.a. 또　다른 실시예는 윤활성 층이다. 이 코팅은 본원에서　설명된　바와　같이　윤활성　코팅을　준비하기　위한　공정에　의해　제작된 유형일 수 있다.
VII.B.4.a. 본 명세서에 언급된 윤활성　코팅을　위한　전구체들 중 어느 하나는 단독으로 또는 조합되어 사용될 수 있다. 상기 전구체는 코팅을 형성하기에 효과적인 조건하에서 기판에 도포된다. 상기 코팅은 중합되거나 교차결합되거나 양쪽 모두 되어, 처리되지 않은 기판보다 더 낮은 플런저 활동력 또는 브레이크아웃 힘을 갖는 윤활성 표면을 형성한다.
VII.B.4.a. 다른　실시예는　윤활성　층의　도포방법이다． 유기실리콘 전구체는 코팅을 형성하기에 효과적인 조건하에서 기판에 도포된다. 상기 코팅은 중합되거나 교차결합되거나 양쪽 모두 되어, 처리되지 않은 기판보다 더 낮은 플런저 활동력 또는 브레이크아웃 힘을 갖는 윤활성 표면을 형성한다.
VII.B.4.b. 공정에 의한 생성물 및 분석 특성
VII.B.4.b. 본 발명의 또 다른 측면은 유기금속 전구체, 선택적으로 유기실리콘 전구체, 선택적으로는 선형 실록산, 선형 실라잔, 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합을 포함하는 공급 가스로부터 ＰＥＣＶＤ에 의해 증착된 윤활성 층　또는　코팅이다. 상기 코팅은 X선 반사율(XRR)에 의하여 측정된 바와 같이 1.25에서 1.65 g/㎤ 사이, 선택적으로는 1.35에서 1.55 g/㎤, 선택적으로는 1.4에서 1.5 g/㎤, 선택적으로는 1.44에서 1.48 g/㎤ 사이의 밀도를 가질　수　있다.
VII.B.4.b. 본 발명의 또 다른 측면은 유기금속 전구체, 선택적으로 유기실리콘 전구체, 선택적으로는 선형 실록산, 선형 실라잔, 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합을 포함하는 공급 가스로부터 ＰＥＣＶＤ에 의해 증착된 윤활성 층　또는　코팅이다. 상기 코팅은 가스 크로마토그래피/질량 분광계에 의하여 측정된 바와 같이, 반복하는 -(Me)2SiO-모이어티들을 포함하는 하나 이상의 올리고머들을 가스제거 구성요소로서 갖는다. 선택적으로는, 상기 코팅은 실시예 VII.B.4.a 중 어느 하나의 제한들을 충족한다. 선택적으로는, 가스 크로마토그래피/질량 분광계에 의하여 측정된 코팅 기체제거 성분은 트리메틸실란올이 실질적으로 존재하지 않는다.
VII.B.4.b. 선택적으론, 상기 코팅 기체제거 성분은 하기 시험 조건들을 사용하는 가스 크로마토그래피/질량 분광계에 의하여 측정된 바와 같이, 반복하는 -(Me)2SiO-모이어티들을 포함하는 올리고머들의 적어도 10 ng/시험일 수 있다:
ㆍ GC 칼럼: 30m X 0.25mm DB-5MS(J&W Scientific),
0.25 μm 필름 두께
ㆍ 유량： 1.0 ml/분, 균일 흐름 모드
ㆍ 검출기: 질량 선택 검출기(MSD）
ㆍ 주사 모드: 분할 주사(10:1 분할비)
ㆍ 기체제거 조건들: 1½” (37mm) 챔버, 85℃에서 3 시간 동안 퍼지,
유속 60 ml/min
ㆍ 오븐 온도: 10℃/min의 속도로 40℃ (5 분) 내지 300℃;
300℃에서 5 분 동안 유지.
300℃.
VII.B.4.b. 선택적으로는, 기체제거 성분은 반복하는 -(Me)2SiO- 모이어티들을 포함하는 올리고머들의 적어도 20 ng/시험을 포함할 수 있다.
VII.B.4.b. 선택적으로는, 공급 가스는 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합, 예를 들면, 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합을 포함한다.
VII.B.4.b. 임의의　실시예의　윤활성　층　또는　코팅은,　투과전자현미경에　의해　측정된　1 내지 5000 nm, 또는 10 내지 1000 nm 또는 １0 내지 ２00 nm 또는　２０내지　１００ｎｍ　또는　３０　내지　１０００ｎｍ，또는　3０　내지　５００ｎｍ　의 평균두께를　가질　수　있다． 바람직한　범위는　30 내지 1000 nm 및 20 내지 100 nm, 그리고　매우　바람직한　범위는 80 내지 150 nm　이다. 단일　측정점에서　코팅의　절대　두께는，　평균　두께의　범위　한계보다　더　높거나　또는　더　낮을　수　있다． 그러나，　이는　통상적으로　평균　두께에　대한　주어진　두께　범위　내에서　변동한다．
VII.B.4.b. 본 발명의 다른 측면은 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합을 포함하는 공급 가스로부터 ＰＥＣＶＤ에 의해 증착된 윤활성 층　또는　코팅이다. 상기 코팅은 X-선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정된 바와 같이, 탄소, 산소 및 실리콘의 100%로 정규화되고, 상기 공급 가스에 대한 원자식에서 탄소의 원자 농도를 초과하는, 탄소의 원자 농도를 갖는다. 선택적으로는, 상기 코팅은 실시예 VII.B.4.a 또는VII.B.4.b.A의 제한들을 충족한다.
VII.B.4.b. 선택적으로는, 탄소의 원자 농도는 (ＥＰ　２２５１４５５의　실시예 15에서 XPS 조건들을 근거로 계산됨) 윤활성　코팅이　만들어질　때　유기실리콘　전구체에　있는　탄소의　원자　농도와의　관계에서　1 내지 80 원자 퍼센트, 또는 10 내지 70 원자 퍼센트, 또는 20 내지 60 원자 퍼센트, 또는 30 내지 50 원자 퍼센트, 또는 35 내지 45 원자 퍼센트, 또는 37 내지 41 원자 퍼센트만큼 증가한다.
VII.B.4.b. 본 발명의 또　다른 측면은 모노사이클릭 실록산, 모노사이클릭 실라잔, 폴리사이클릭 실록산, 폴리사이클릭 실라잔 또는 이들 중 2 이상의 임의의 조합을 포함하는 공급 가스로부터 ＰＥＣＶＤ에 의해 증착된 윤활성 층　또는　코팅이다. 상기 코팅은 X-선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정된 바와 같이, 탄소, 산소 및 실리콘의 100%로 정규화되고, 상기 공급 가스에 대한 원자식에서 실리콘의 원자 농도의 미만인, 실리콘의 원자 농도를 갖는다. ＥＰ２２５１４５５의　실시예　１５　참조
VII.B.4.b. 선택적으로는, 실리콘의 원자 농도는 (ＥＰ２２５１４５５의　실시예 15에서 XPS 조건들을 근거로 계산됨) 1 내지 80 원자 퍼센트, 또는 10 내지 70 원자 퍼센트, 또는 20 내지 60 원자 퍼센트, 또는 30 내지 55 원자 퍼센트, 또는 40 내지 50 원자 퍼센트, 또는 42 내지 46 원자 퍼센트만큼 증가한다.
VII.B.4.b. 또한, VII.B.4 절에 인용된 임의의 둘 이상의 특성들의 조합을 갖는 윤활성 층들이 명시적으로 고찰된다.
VII.C. 용기 일반
VII.C. 본 명세서에서 기술되고 본 명세서에 기술된 방법에 따라 제조된, 코팅된 용기 또는 컨테이너는 화합물 또는 조성물의 수용 및/또는 저장 및/또는 전달을 위해 사용될 수 있다. 상기 화합물 또는 조성물은 예를 들면, 공기-민감성, 산소-민감성, 습도에 민감하고/하거나 기계적 영향들에 민감하다. 이는 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물, 예를 들면, 인슐린 또는 인슐린을 포함하는 조성물과 같은 약제일 수 있다. 다른 측면에서, 생물학적 유체, 선택적으로는 체액, 예를 들면, 혈액 또는 혈액 분획물일 수 있다. 본 발명의 특정 측면들에 있어서, 상기 화합물 또는 조성물은 예를 들면, 혈액(기증자로부터 수증자로의 수혈 또는 환자로부터 그 환자로 다시 혈액의 재도입) 또는 인슐린과 같이, 주사되는 제품을 이를 필요로 하는 피검자에게 투여되는 제품이다.
VII.C. 또한, 본 명세서에서 기술되고 본 명세서에 기술된 방법에 따라 제조된, 코팅된 용기 또는 컨테이너는 코팅되지 않은 용기 물질의 표면의 기계적 및/또는 화학적 영향으로부터 그 내부 공간에 담겨진 화합물 또는 조성물을 보호하는데 사용될 수 있다. 예를　들면，　인슐린　침전　또는　혈액　응고　또는　혈소판　활성화　같이, 상기 화합물 또는 조성물의 성분의 침전 및/또는 응고 또는 혈소판 활성화를 방지하거나 감소시키는데 사용될 수 있다.
VII.C. 또한, 예를 들면, 상기 용기를 둘러싸는 환경으로부터 하나 이상의 화합물들이 용기의 내부 공간으로 유입되는 것을 방지하거나 감소시켜 용기의 외부의 환경으로부터 그 내부에 담겨진 화합물 또는 조성물을 보호하는데 사용될 수 있다. 그러한 환경 화합물은 가스 또는 액체, 예를 들면, 산소, 공기 및/또는 수증기를 포함하는 대기압 가스 또는 액체일 수 있다.
VII.C. 또한, 본 명세서에 기술된 바와 같이 코팅된 용기는 진공되고 진공된 상태로 저장될 수 있다. 예를 들면, 코팅은 코팅되지 않은 해당 용기와 비교하여 진공을 더 잘 유지하게 한다. 이 실시예의 일 측면에서, 코팅된 용기는 혈액 수집 튜브이다. 또한, 튜브는 예를 들면, EDTA 또는 헤파린과 같이, 혈액 응고 또는 혈소판 활성화를 방지는 작용제를 포함할 수 있다.
VII.C. 상술한 실시예들 중 어느 하나는 예를 들면, 약 1 cm 내지 약 200 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 150 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 120 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 100 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 80 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 60 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 40 cm, 선택적으로는 약 1 cm 내지 약 30 cm의 길이를 갖는 용기를 제공하고 이를 아래에 기술된 바와 같이 프로브 전극으로 처리하여 제작될 수 있다. 특히, 상기 범위에서 길이가 더 긴 것에 대하여, 프로브와 용기 사이의 상대 운동은 코팅 형성 동안에 유용할 수 있다는 것이 고찰된다. 이는 예를 들면, 프로브에 대하여 용기를 이동시키거나 용기에 대하여 프로브를 이동시켜 수행될 수 있다.
VII.C. 이러한 실시예들에서, 상기 코팅은 일부 실시예들에서 용기는 진공된 혈액 수집 튜브의 높은 차단 완전성을 요구하지 않기 때문에, 차단 코팅에 대하여 선호될 수 있는 것보다 더 얇거나 덜 완벽할 수 있다고 고찰된다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징은 중심축을 갖는다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 용기 벽은 벽을 파손시키지 않으면서, 적어도 실질적으로는 직선 내지 상기 용기의 외경의 100 배 길이 정도의 중심축에서 굽은 반경의 범위에 걸쳐 20℃에서 적어도 1회 휘어질 만큼 충분히 가요성이다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 중심축에서 굽은 반경은 상기 용기의 외경의 90 배 정도, 또는 80 배 정도, 또는 70 배 정도, 또는 60 배 정도, 또는 50 배 정도, 또는 40 배 정도, 또는 30 배 정도, 또는 20 배 정도, 또는 10 배 정도, 또는 9 배 정도, 또는 8 배 정도, 또는 7 배 정도, 또는 6 배 정도, 또는 5 배 정도, 또는 4 배 정도, 또는 3 배 정도, 또는 2 배 정도, 또는 상기 용기의 외경 정도이다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 용기 벽은 가요성 물질로 제작된 유체-접촉 표면일 수 있다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 용기 루멘은 펌프의 유체 흐름 통로일 수 있다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 용기는 의료용으로 상태가 양호한 혈액을 유지하도록 맞춰진 혈액 백(blood bag)일 수 있다.
VII.C., VII.D. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서 중합체 물질은 2가지 예들로서 실리콘 탄성체 또는 열가소성 폴리우레탄 또는 혈액 또는 인슐린과 접촉하기에 적합한 임의의 물질일 수 있다.
VII.C., VII.D. 선택적인 일 실시예에서, 용기는 적어도 2 mm, 또는 적어도 4 mm의 내경을 갖는다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 용기는 튜브이다.
VII.C. 앞의 실시예들 중 어느 하나의 선택적인 특징으로서, 루멘은 적어도 두 개의 개방단들을 갖는다.
모든　실시예들에　대한　공통　조건들
여기서　고려되는　임의의　실시예에서，　많은　공통　조건들이，　예를　들어　하기의　임의의　것이　임의의　조합으로　사용될　수　있다． 대안적으로，　본　명세서　또는　청구범위에서　설명된　임의의　상이한　조건들이　채용될　수　있다．
I. 임의의　실시예의　기판
I.A. 임의의　실시예의　용기
용기는　샘플　수집　튜브，　예를　들어　혈액　수집　튜브，　또는　주사기，　또는　주사기　부품，　예를　들어　베럴　또는　피스톤　또는　플런저；　바이알；　도관；　또는　큐베트일　수　있다． 기판은　끝이　막힌　튜브，　예를　들어　의료　샘플　수집　튜브일　수　있다． 기판은 0.5 내지 50 mL, 선택적으로는 1 내지 10 mL, 선택적으로는 0.5 내지 5 mL, 선택적으로는 1 내지 3 mL의 공극 부피를 갖는 루멘을 갖는 용기의 내부 벽이　될　수　있다． 기판 표면은 적어도 하나의 개구부 및 내부 표면을 갖는 용기의 내부 표면의 일부 또는 전부가　될　수　있고, 가스 반응물질은 상기 용기의 내부 루멘을 충진하며 상기 플라즈마는 상기 용기의 내부 루멘의 일부 또는 전부에서 생성될　수　있다．
I.B. 주사기　및　부품들
기판은　주사기　베럴이　될　수　있다． 주사기　베럴은　플런저　활강　표면을　가질　수　있고　코팅은　플런저　활강　표면의　적어도　일부에　배치될　수　있다． 코팅은 윤활성 층이　될　수　있다. 윤활성 층　또는　코팅은 베럴　내부　표면에　있을　수　있다． 윤활성 층　또는　코팅은 플런저에　있을　수　있다． 특별한　태양에　있어서，　기판은　박힌　바늘　주사기　또는　박힌　바늘　주사기의　일부일　수　있다．
I.C. 스토퍼를　수용하는　용기
기판은　용기의　입구에서　표면을　수용하는　스토퍼일　수　있다． 기판은　스토퍼를　수용하기　위해　적용된　용기의　개구부의　일반적으로　원뿔형　또는　원통형　내부　표면일　수　있다．
I.D. 스토퍼
기판은　스토퍼의　활강　표면일　수　있다． 기판은　단일의　실질적으로　진공된　용기에　위치되는　다수의　스토퍼를　제공함에　의해　코팅될　수　있다． 화학기상증착은　플라즈마　강화　화학　기상　증착일　수　있고，　스토퍼는　플라즈마와　접촉될　수　있다． 화학기상증착은　플라즈마　강화　화학　기상　증착일　수　있다． 플라즈마는　스토퍼의　상류에　형성되어，　플라즈마　생성물을　생성하며，　상기　플라즈마　생성물은　스토퍼와　접촉될　수　있다．
클로저는　코팅으로　코팅된　기판，　선택적으로　윤활성　층으로　코팅된　스토퍼를　규정할　수　있다． 기판은　루멘을　규정하는　용기에　안착된　마개일　수　있고，　루멘을　마주하는　클로저의　표면은　코팅으로　코팅될　수　있다．
코팅은 스토퍼의 금속 이온 구성성분의　용기 루멘으로의　투과를 감소시키는데　효과적이　될　수　있다．
I.E. 임의의　실시예의　기판
기판은　용기　벽이　될　수　있다． 클로저의 벽-접촉 표면과 접촉하는 용기 벽의 일 부분이 코팅으로 코팅될　수　있다． 코팅은 제　１　층과　제　２　층을　갖는　재료의　복합체일　수　있다． 제　１　층　또는　코팅은　탄성체　스토퍼와　맞닿을　수　있다． 코팅의　제　１　층은 스토퍼의 하나　이상의　금속 이온 구성성분의　용기 루멘으로의　투과를 감소시키는데　효과적이　될　수　있다． 제　２　층　또는　코팅은　용기의　내부　벽과　맞닿을　수　있다． 제　２　층은　스토퍼가　용기에　안착될　수　있을　때　용기의　내부　벽과　스토퍼　사이에서　마찰을　감소시키는데　효과적이다．
또한，　임의의　실시예의　제　１　및　제　２　층들은　탄소　및　수소를　포함하는　농후화된　특성들의　코팅에　의해　정의될　수　있고, 여기서 탄소와　수소의　비율은　제　２　층에서보다　제　１　층에서 더 크다.
임의의　실시예의　코팅은　플라즈마　강화　화학기상증착에　의해　도포될　수　있다．
임의의　실시예의　기판은 유리 또는 중합체, 또는 폴리카보네이트 중합체, 또는　올레핀 중합체, 또는　사이클릭 올레핀 공중합체, 또는　폴리프로필렌 중합체, 또는　폴리에스테르 중합체, 또는　폴리에틸렌 테레프탈레이트 중합체，또는　폴리에틸렌　나프탈레이트　중합체，　또는 이들 중 임의의 둘 이상의 조합，　복합체　또는　혼합을 포함할 수 있다.
II. 임의의　실시예의　가스　반응물　또는　공정　가스　제한들
II.A　임의의　실시예의　증착　조건들
사용된다면　ＰＥＣＶＤ를　위한　플라즈마는　감압되어　발생될　수　있고, 감압은 300 mTorr 미만, 선택적으로는 200 mTorr 미만, 더 선택적으로는 100 mTorr 미만일　수　있다. 코팅의 물리적 및 화학적 특성은 가스 반응물질 내의 O2와 유기실리콘 전구체의 비를 설정하고／하거나 플라즈마를 생성하기 위해 사용되는 전력을 설정함으로써 설정될　수　있다．
II.C. 임의의　실시예의　전구체
유기실리콘　전구체는　본　명세서에서　설명되었다．
유기실리콘　화합물은　일정　태양에서，　특히　윤활성　코팅이　형성되었을　때　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）를　포함할　수　있다． 위의　태양의　임의의　실시예에　대한　유기실리콘　화합물은　옥타메틸시클로테트라실록산（ＯＭＣＴＳ）으로　기본적으로　구성될　수　있다． 유기실리콘　화합물은　일정　태양에서，　특히　차단성　코팅이　형성되었을　때　헥사메틸디실록산이거나　또는　포함할　수　있다．
반응　가스는　또한　탄화수소를　포함할　수　있다． 탄화수소는　메탄，　에탄，　에틸렌，　프로판，　아세틸렌　또는　이들　중　２　이상의　조합을　포함할　수　있다．
유기실리콘　전구체는　６ｓｃｃｍ이하，선택적으로 2.5 sccm　이하, 선택적으로 1.5 sccm　이하, 선택적으로 1.25 sccm　이하의　속도로　전달될　수　있다． 더　큰　용기　또는　조건이나　크기에　있어서　다른　변화들이　전구체의　대부분을　요구한다． 전구체는　1Torr 미만의 절대 압력에서 제공될　수　있다.
II.D. 임의의　실시예의　캐리어　가스
캐리어　가스는　예를　들어　아르곤，　헬륨，　제논，　네온，　증착　조건에서　공정　가스의　다른　구성성분들에　대해　불활성인　다른　가스，　또는　이들　중　둘　이상의　임의의　조합인　불활성　가스를　포함하거나　또는　이들로　구성될　수　있다．
II.E. 임의의　실시예의　산화　가스
산화　가스는　산소（O2 및／또는 O3 (통상　오존으로　알려진))，　아산화　질소，　또는　채용된　조건에서　ＰＥＣＶＤ　중　전구체를　산화시키는　어떤　다른　가스를　포함하거나　또는　이들로　구성될　수　있다． 산화　가스는　약　１　산소의　표준　부피를　포함한다． 가스　반응물　또는　공정　가스는　적어도　실질적으로　질소가　없을　수　있다．
III 임의의　실시예의　플라즈마
임의의　ＰＥＣＶＤ　실시예의　플라즈마는 기판 부근에서 형성될　수　있다. 플라즈마는　일정한　경우에，　특히　SiOx 코팅을　준비할　때，　비－중공－음극　플라즈마일　수　있다． 다른　어떤　경우에，　특히　윤활성　코팅을　준비할　때，　비－중공－음극　플라즈마는　바람직하지　않다． 플라즈마는　감압되어　가스　반응물로부터　형성될　수　있다． 기판에　코팅 형성을 유도하는데 충분한 플라즈마 생성 전원 입력이 제공될　수　있다．
IV. 임의의　실시예의　ＲＦ　전원
전구체는　10 kHz 내지 2.45 GHz, 또는 약 13 내지 약 14 MHz의　주파수에서　충전되는　전극으로　전구체의　주변에　에너지를　가함에　의해　만들어지는　플라즈마와　접촉될　수　있다．
전구체는　무선　주파수，　선택적으로　10 kHz　내지 300 MHz　이하, 선택적으로 1 내지 50 MHz, 더　선택적으로 10 내지 15 MHz, 선택적으로 13.56 MHz의　주파수에서　충전되는　전극으로　전구체의　주변에　에너지를　가함에　의해　만들어지는　플라즈마와　접촉될　수　있다．
전구체는　0.1 내지 25 W, 선택적으로는 1 내지 22 W, 선택적으로는　１내지　１０Ｗ，　더 선택적으로는　１ 내지 ５ W, 선택적으로는　２　내지　４Ｗ，　예를　들어　３Ｗ，　선택적으로는　３내지　１７Ｗ，　더　선택적으로는　5 내지 14 W, 예를　들어　６　또는　７．５Ｗ，　선택적으로는 7 내지 11 W, 예를 들면, 8 W의 전력이 공급된 전극들을 사용하여　전구체의　주변에　에너지를　가함에　의해　만들어지는　플라즈마와　접촉될　수　있다．
전구체는　10 W/ml 이하의　플라즈마　부피， 또는 6 W/ml 내지 0.1 W/ml 의　플라즈마　부피, 또는 5 W/ml 내지 0.1 W/ml 의　플라즈마　부피, 또는　4 W/ml 내지 0.1 W/ml 의　플라즈마　부피, 또는　2 W/ml 내지 0.2 W/ml 의　플라즈마　부피에서의　전력　밀도가　공급된 전극들을 사용하여　전구체의　주변에　에너지를　가함에　의해　만들어지는　플라즈마와　접촉될　수　있다．
플라즈마는　반응　혼합물을　전자기　에너지，또는　마이크로파　에너지로　여기시켜　형성될　수　있다．
V. 임의의　실시예의　다른　공정　선택들
기판에　코팅을　도포하는　도포 단계는 전구체를 증발시키고 이를 기판 근처에 제공함으로써 수행될 수 있다.
채용된　화학기상증착은　ＰＥＣＶＤ일　수　있고　증착시간은　１　내지　３０　초，　도는　２　내지　１０　초，　대안적으로는　３　내지　９　초일　수　있다． 증착시간을　선택적으로　제한하는　목적은　기판이　과열되는　것을　방지하기　위해，　생산　속도를　증가시키기　위해，　그리고　공정　가스와　그　구성성분의　사용을　줄이기　위해서일　수　있다． 증착　시간을　선택적으로　연장하는　목적은　특정　증착　조건을　위해　더　두꺼운　코팅을　제공하기　위해서일　수　있다．
VI. 임의의　실시예의　코팅　특성들
VI.A. 임의의　실시예의　윤활성　특성들
본　발명에　따른　윤활성　코팅으로　코팅된　용기（예를　들어，　주사기　베럴　및／또는　플런저）는　코팅되지　않은　용기보다　더　높은　윤활성（소정의，　예를　들면　Ｆｉ및／또는Ｆｍ을　측정함에　의해）을　갖는다． 이들은　또한　상술한　SiOx코팅으로　코팅된　용기　보다　더　높은　윤활성을　가질　수　있다． 실시예는　처리되지 않은 기판보다 더 낮은 미끄럼　힘 또는 브레이크아웃 힘（또는　선택적으로　둘　모두）을 갖는 기판의　윤활성 표면을 형성하기에　효과적인　조건에서　수행될　수　있다． 선택적으로，　물질　및　조건은　미끄럼　힘 또는 브레이크아웃 힘을　코팅되지　않은　주사기　베럴에　대해　적어도　약　２５％，또는　적어도　４５％，　또는　적어도　６０％，　또는　６０％　이상　감소시키는데　효과적이다． 다르게　표현되어，　코팅은　코팅되지 않은 표면보다 더 낮은 마찰 저항을 가질　수　있고, 선택적으로 마찰 저항은 코팅되지 않은 표면과 비교하여 적어도 25%, 더 바람직하게는 적어도 45%, 더욱 더 바람직하게는 적어도 60% 만큼 감소되는 것을 특징으로 한다.
윤활성　코팅은　브레이크　상실　힘 (Fi) 과　활강　힘 (Fm)　사이의　차이를　줄여주는　일정한　플런저　힘을　선택적으로　제공한다． Fi 와 Fm　에　대해，　낮은　그러나　너무　낮지　않은　값을　갖는　것이　바람직하다． 저항이　너무　낮은　수준（극단적으로는　０인）임을　의미하는　너무　낮은　Fi로는，　시기가　빠른／의도되지　않은　흐름이　일어날수　있어，　예를　들어　미리　채워진　주사기　성분의　의도하지　않은　빠른　시기　또는　제어되지　않은　방전을　일으킬　수　있다．
충분한　윤활성을　얻기　위해（예를　들어，　주사기　플런저가　주사기에서　움직여질　수　있음을　보장하지만，　플런저의　제어되지　않는　움직임은　피하기　위해）， Fi 및 Fm 의　다음　범위는　유지되어야　함이　유리하다:
Fi: 2.5 내지 5 lbs., 바람직하게 2.7 내지 4.9 lbs., 특히 2.9 내지 4.7 lbs.;
Fm: 2.5 내지 8.0 lbs., 바람직하게 3.3 내지 7.6 lbs., 특히 3.3 to 4 lbs.
더　유리하게는　Fi 과　Fm 값은　예시의　표에서　발견될　수　있다．
윤활성　코팅은　브레이크　상실　힘 (Fi) 과　활강　힘 (Fm)　사이의　차이를　줄여주는　일정한　플런저　힘을　선택적으로　제공한다．
VI.B. 임의의　실시예의　소수성　특성들
실시예는 기판에 소수성　층　또는　코팅을 형성하기에　효과적인　조건하에　수행될　수　있다． 선택적으로， 코팅의　소수성　특징은　가스　반응물질　내의　산소（Ｏ２）와　유기실리콘　전구체의　비를　설정하고／하거나　플라즈마를　생성하기　위해　사용되는　전력을　설정함으로써　설정되는 것을 특징으로 하는 기판 상에 소수성 코팅을 제조하는 방법. 선택적으로　코팅은　코팅되지 않은 표면보다 더 낮은 젖음 장력, 선택적으로 20 내지 72 dyne/cm의 젖음 장력, 선택적으로 30 내지 60 dyne/cm의 젖음 장력, 선택적으로　３０　내지 40 dyne/cm, 선택적으로 34 dyne/cm의 젖음 장력을 가질　수　있다． 선택적으로，　코팅은 코팅되지 않은 표면보다 더 소수성일　수　있다．
VI.C. 임의의　실시예의　두께
선택적으로，　코팅은　본　개시에서　언급된　양의，　투과전자현미경（ＴＥＭ）에　의해　결정된　두께를　가질　수　있다．
여기서　바람직한　윤활성　코팅에　대해，표시된　두께　범위는　평균　두께를　나타내는　것으로，　약간의　거칠기가　윤활성　코팅의　윤활　특성들을　강화할　수　있다． 따라서，　이러한　윤활성　코팅의　두께는　코팅　전체로　유리하게　균일하지　않다．（위　참조） 그러나，　균일한　두께의　윤활성　코팅이　또한　고려된다． 단일　측정점에서　윤활성　코팅의　절대　두께는，　평균　두께로부터　바람직하게　+/- 50%,　더　바람직하게는　+/- 25% 그리고　더욱　더　바람직하게는　+/- 15%의　최대　편차를　갖는　평균　두께의　제한　범위보다　높거나　또는　낮을　수　있다． 그러나，　이는　통상적으로　본　상세한　설명에서　평균　두께에　대한　주어진　두께　범위　내에서　변동한다．
VI.D. 임의의　실시예의　조성
선택적으로，　윤활성　코팅은 SiwOxCyHz 또는 SiwNxCyHz로　구성될　수　있다． 일반적으로 SiwOxCy의 원자비를 가지는 데, 여기서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이며, 바람직하게는 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 1.5이고, y는 0.9 내지 2.0이며, 더욱 바람직하게는 w는 1이고, x는 0.7 내지 1.2이고, y는 0.9 내지 2.0이다. 원자비는 X선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)에 의해 정해질 수 있다. 수소 원자를 고려하여, 코팅은 따라서 일 측면에서 예를 들면, w는 1이고, x는 w로서 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이고, z는 약 2 내지 약 9인 식 SiwOxCyHz를 가질 수 있다. 전형적으로, 원자비는 본 발명의 특정 코팅에서 Si 100: O 80-110: C 100-150이다. 구체적으로, 원자비는 Si 100: O 92-107: C 116-133 일 수 있으며, 이러한 코팅은 따라서 탄소와 산소와 실리콘 100%로 정규화된 36% 내지 41%의 탄소를 함유한다.
또한，　ｗ는　１이　될　수　있고，　ｘ는　약　０．５　내지　１．５，　ｙ는　약　２　내지　약　３，　그리고　ｚ는　６　내지　약　９　일　수　있다． 또한，　코팅은 X-선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정된 바와 같이, 100% 탄소, 산소 및 실리콘, 50% 미만의 탄소 및 25%를 초과하는 실리콘으로 정규화된 원자 농도를 가질　수　있다. 또한，　원자　농도는　２５　내지　４５％　탄소，　２５　내지　６５％　실리콘，　그리고　１０　내지　３５％　산소이다． 또한，　원자　농도는　３０　내지　４０％　탄소，　３２　내지　５２％　실리콘，　그리고　２０　내지　２７％　산소이다． 또한，　원자　농도는　３３　내지　３７％　탄소，　３７　내지　４７％　실리콘，　그리고　２２　내지　２６％　산소이다．
선택적으로， 코팅은 X-선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정된 바와 같이, 탄소, 산소 및 실리콘의 100%로 정규화되고, 유기실리콘　전구체에 대한 원자식에서 탄소의 원자 농도보다　더　클　수　있는, 탄소의 원자 농도를 갖는다. 예를　들어，탄소의 원자 농도는 1 내지 80 원자 퍼센트, 또는 10 내지 70 원자 퍼센트, 또는 20 내지 60 원자 퍼센트, 또는 30 내지 50 원자 퍼센트, 또는 35 내지 45 원자 퍼센트, 또는 37 내지 41 원자 퍼센트만큼 증가하는　실시예들이　고려된다．
선택적으로，코팅에서 탄소 대 산소의 원자비는 상기 유기실리콘 전구체에 비하여 증가될　수　있고／있거나 산소 대 실리콘의 원자비는 상기 유기실리콘 전구체에 비하여 감소될　수　있다.
선택적으로，　코팅은 X-선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정된 바와 같이, 탄소, 산소 및 실리콘의 100%로 정규화되고, 상기 공급 가스에 대한 원자식에서 실리콘의 원자 농도의 미만인, 실리콘의 원자 농도를 가질　수　있다. 예를　들어，실리콘의 원자 농도는 1 내지 80 원자 퍼센트, 또는 10 내지 70 원자 퍼센트, 또는 20 내지 60 원자 퍼센트, 또는 30 내지 5５ 원자 퍼센트, 또는 ４０ 내지　５０ 원자 퍼센트, 또는 ４２ 내지 ４６ 원자 퍼센트만큼 감소하는　실시예들이　고려된다.
다른　선택으로서，　유기실리콘　전구체의　합계　식과　비교하여　Ｃ：Ｏ의　원자비가　증가될수　있고／있거나　Ｓｉ：Ｏ　원자비가　감소될　수　있는　합계　식으로　특징지워질　수　있는　코팅이　고려된다.
VI.E. 임의의　실시예의　기체제거　종류
상술한　유기실리콘　전구체，　예를　들어　윤활성　또는　SiOx　차단성　코팅으로　만들어진　코팅은 가스 크로마토그래피/질량 분광계에 의하여 측정된 바와 같이, 반복하는 -(Me)2SiO-모이어티들을 포함하는 하나 이상의 올리고머들을 가스제거 구성요소로서 갖는다. 코팅 기체제거 성분은 가스 크로마토그래피/질량 분광계에 의하여 측정될　수　있다． 예를　들어, 코팅 기체제거 성분은， 하기 시험 조건들을 사용하여　측정된　바와 같이, 반복하는 -(Me)2SiO-모이어티들을 포함하는 올리고머들의 적어도 10 ng/시험，　또한　적어도　２０ ng/시험　을　가질　수　있다．
ㆍ GC 칼럼: 30m X 0.25mm DB-5MS(J&W Scientific),0.25μm 필름　두께
ㆍ 유량： 1.0 ml/분, 균일 흐름 모드
ㆍ 검출기: 질량 선택 검출기(MSD）
ㆍ 주사 모드: 분할 주사(10:1 분할비)
ㆍ 기체제거　조건: 1½” (37mm) 챔버, 85℃에서 3 시간 동안 퍼지,흐름　60 ml/min
ㆍ 오븐 온도: 10℃/min의 속도로 40℃ (5 분) 내지 300℃; 300℃에서 5 분 동안 유지.
선택적으로，　윤활성　코팅은　트리메틸실라놀이　적어도　실질적으로　없는　기체제거　성분을　가질　수　있다．
VI.E. 임의의　실시예의　다른　코팅　특성들
상기 코팅은 X선 반사율(XRR)에 의하여 측정된 바와 같이 1.25에서 1.65 g/㎤ 사이, 또는 1.35에서 1.55 g/㎤사이, 또는 1.4에서 1.5 g/㎤사이, 또는 1.44　와 1.５ g/㎤ 사이，또는 1.44 와 1.48 g/㎤사이의　밀도를　가질　수　있다． 선택적으로，유기실리콘　화합물은 옥타메틸시클로테트라실록산일　수　있고， 코팅은 동일한 ＰＥＣＶＤ 반응 조건하에서 유기실리콘　화합물로서　HMDSO로부터 제작된 코팅의 밀도보다 더 큰 밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 코팅.
코팅은 선택적으로　코팅되지 않은 표면 및/또는 HMDSO를 전구체로서 사용하여　차단성　코팅　표면과 비교하여, 코팅과 접촉하는 화합물 또는 조성물의 성분의 침전을 방지하거나 감소시키고, 특히, 인슐린 침전 또는 혈액 응고를 방지하거나 감소시킬　수　있다.
기판은，코팅된　용기　내에　담겨지거나　수납된　화합물　또는　조성물을　코팅되지　않은　용기　물질　표면의　기계적　및／또는　화학적　영향으로부터　보호하기　위한　용기일　수　있다．
기판은，용기의　내부　표면과　접촉하는　조성물의　구성성분　또는　화합물의　침전　및／또는　응고를　방지하거나　줄여주기위한　용기일　수　있다． 화합물　또는　조성물은 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물，　예를　들면　약제일　수　있고, 예를 들면, 화합물　또는　조성물은　인슐린을　포함할　수　있어，침전이　줄여지거나　또는　방지될　수　있다. 대안적으로,하합물　또는　조성물은　생물학적 유체, 예를　들어 체액, 예를 들면, 혈액 또는 혈액 분획물일 수 있어，　혈액　응고가　줄여지거나　또는　방지될　수　있다．
성형，　코팅　및　테스트　튜브를　위한　기본적　프로토콜
이하 작업예들에서 시험된 용기들은 개별 실시예들에서 달리 지시된 바를 제외하고는, 하기 예시적인 프로토콜들에 따라 형성되고 코팅되었다. 하기 기본적인 프로토콜들에서 주어진 특정한 매개변수 수치들, 예컨대, 전력 및 공정 가스 흐름은 통상적인 수치들이다. 매개변수 수치들이 이러한 통상적인 수치들과 비교하여 변하였던 경우, 이는 후속 작업예들에서 표시될 것이다. 동일한 사항이 공정 가스의 유형과 조성에 적용된다.
COC 튜브를 형성하기 위한 프로토콜
진공 혈액 수집 튜브들로 흔히 사용되는 유형과 크기의 사이클릭 올레핀 공중합체(COC) 튜브들("COC 튜브들")은 아래와 같은 치수들을 가지면서, 독일 Frankfurt am Main 주 Hoechst AG로부터 구입할 수 있는 Topas® 8007-04 사이클릭 올레핀 공중합체(COC) 수지로부터 사출성형되었다: 길이 75 mm, 외경 13 mm 및 0.85 mm 벽 두께로, 각각은 약 7.25 ㎤의 부피와 폐쇄되고 둥근 말단을 갖는다.
SiOx로　튜브　내부를　코팅하기　위한　프로토콜
용기 지지대(50)는 미국 윌밍턴 델라웨어 주 소재 E.I. du Pont de Neumours 사로부터 구입가능한 Delrin® 아세탈 수지로 제작되었으며, 1.75 인치(44 mm) 의 외경과 1.75 인치(44 mm)의 높이를 갖는다. 용기 지지대(50)는 장치가 전극(160)의 안팎으로 이동하게 하는 Delrin® 구조에 수납되었다.
전극(160)은 Delrin® 쉴드를 가지며 구리로 제작되었다. 상기 Delrin® 쉴드는 구리 전극(160)의 외부 주위에서 균일하다. 전극(160)은 대략 3 인치(76 mm) 높이(내부)로 측정되고 넓이가 대략 0.75 인치(19 mm)였다.
용기(80)로 사용된 튜브는 튜브의 외부 주위로 Viton® O-링들(490, 504)(Viton®는 미국 윌밍턴 델라웨어 소재, Dupont Performance Elastomers LLC의 상표명이다)을 사용하여 용기 지지대(50) 기본 실링으로 삽입되었다(도 45). 튜브（８０）는　연장된（정지된）　１／８　인치（３　ｍｍ）　직경의　황동　프루브　또는　상대전극（１０８）위의　밀봉　위치로　조심스럽게　이동되어　구리　플라즈마　스크린에　대해　눌러졌다．
구리 플라즈마 스크린(610)은 튜브의 외경에 적합하도록 절단된 천공 구리 호일 물질(미국 일리노이 주 시카고 시 K&amp;S Engineering, 부품 #LXMUW5 구리 메쉬)이며, 튜브 삽입을 위한 스탑(stop)으로 작용하는 방사상으로 연장하는 접합부 표면(494)에 의하여 제자리에서 지탱하였다(도 참조 45). 상기 구리 메쉬 두 조각들은 황동 프로브 또는 상대 전극(108) 주위로 꼭 들어맞아서, 전기 접촉이 양호하게 유지되도록 하였다.
황동 프로브 또는 상대 전극(108)은 튜브의 내부로 대략 70 mm 연장하며 #80 와이어의 어레이(직경 = 0.0135 인치 또는 0.343 mm)를 가졌다. 황동 프로브 또는 상대 전극(108)은 용기 지지대(50)의 바닥에 있는 Swagelok® 핏팅(미국 솔론 오하이오 주 소재 Swagelok 사로부터 구입가능함)을 통해 연장되고, 용기 지지대(50) 기본 구조를 통해 연장하였다. 황동 프로브 또는 상대 전극(108)은 RF 매칭 네트워크의 케이징에 접지되었다.
가스 전달 포트(110)는 튜브의 길이를 따라 프로브 또는 상대 전극(108)에서 12 개 홀들(4면의 각각에 3 개씩 서로 90 도 방향이다) 이며 가스 전달 포트(110)의 말단을 막고 있는 알루미늄 캡에 있는 2 개의 홀들이다. 가스 전달 포트(110)는 배출용 수동 볼 밸브, 열전쌍 압력 게이지 및 진공 펌핑 라인에 연결된 우회 밸브를 통합하는 Swagelok® 핏팅들로 구성된 스테인레스 강 조립체에 연결되었다. 또한, 공정 가스들, 산소 및 헥사메틸디실록산(HMDSO)이 (공정 압력하에서) 가스 전달 포트(110)를 통해 튜브의 내부로 흘러가도록 하는 가스 전달 포트(110)에 연결되었다.
가스 시스템은 산소를 70 sccm에서 (또는 특정예를 위해 보고된 특정 흐름에서) 공정으로 제어가능하게 흘러가게 하기 위한 Aalborg® GFC17 질량 유량계(부품 # EW-32661-34, 미국 일리노이 주 배링턴 소재 Cole-Parmer Instrument 사) 및 길이 ５２．５ 인치(1.33 m)의 폴리에테르 에테르 케톤("PEEK") 모세관(외경, "OD" 1/16-인치(1.5-mm.), 내경, "ID" 0.004 인치(0.1 mm))로 구성되었다. PEEK 모세관 말단은 액체 헥사메틸디실록산("HMDSO", 런던 소재 Johnson Matthey PLC 사로부터 구입가능한 Alfa Aesar® 부품 번호 L16970, NMR 급)으로 삽입되었다. 액체 HMDSO는 공정 도중에 튜브 내의 더 낮은 압력으로 인하여 상기 모세관을 통해 흡인되었다. 이후 상기 HMDSO는 저압 영역으로 들어감에 따라 모세관의 배출구에서 증기로 기화되었다. 가스　주입　압력은　７．２Ｔｏｒｒ　였다．
이 지점을 지나는 액체 HMDSO의 응축이 일어나지 않게 하기 위하여, (산소를 포함하는) 가스 흐름은 Swagelok® 3-웨이 밸브를 통해 처리용 튜브의 내부로 흘러들어가지 않는 경우 펌핑 라인으로 전환되었다. 튜브가 일단 설치되면, 진공 펌프 밸브는 용기 지지대(50) 및 튜브의 내부로 개방되었다.
Alcatel 회전식 진공 펌프 및 블로워(blower)는 진공 펌프 시스템을 포함하였다. 펌핑 시스템으로 인하여 튜브의 내부는 공정 가스들이 표시된 속도로 흐르는 동안에 200 mTorr 미만의 압력으로 감소되도록 하였다.
기본 진공 수준에 일단 도달되면, 용기 지지대(50) 조립체는 전극(160) 조립체로 이동되었다. 가스 스트림(산소 및 HMDSO 증기)은 (펌핑 라인으로부터 가스 전달 포트(110)로 가는 3-웨이 밸브를 조절하여) 황동 가스 전달 포트(110)로 흘러들었다. 튜브 내부의 압력은 진공을 조절하는 밸브 근처의 펌핑 라인에 설치된 용량식 마노미터(MKS)에 의하여 측정된 바와 같이 대략 300 mTorr 였다. 상기 튜브 압력에 더하여, 가스 전달 포트(110) 및 가스 시스템 내부의 압력도 가스 시스템에 연결된 열전쌍 진공 게이지를 사용하여 측정되었다. 이 압력은 통상적으로 8 Torr 미만이었다.
가스가 튜브의 내부로 일단 흘러들어 가면, RF 전원 공급기는 고정된 전원 수준으로 작동되었다. ENI ACG-6 600 와트 RF 전원 공급기는 대략 ７０ 와트의 고정된 전원 수준에서　(13.56 MHz로) 사용되었다. 출력 전원은 코팅 장치가 장동하는 동안에 전원 공급기의 RF 출력에 연결된 Bird Corporation Model 43 RF 와트 계량기를 사용하여 이것과 다음 모든 프로토콜들 및 실시예들에서 보정되었다. RF 전원 공급기는 ENI ACG-6 RF 전원 공급기의 50 ohm 출력 임피던스로 (튜브 내에서 생성된) 플라즈마의 복소 임피던스와 매칭시키는 COMDEL CPMX1000 오토 매칭에 연결되었다. 순방향 전력은 ７０ 와트 (또는 특정 실시예에 대하여 보고된 특정량)였고 반사　전력은 0 와트여서 가해진 전력은 튜브의 내부로 전달되었다. RF 전원 공급기는 실험실 타이머 및 ６ 초(또는 특정 실시예에 대하여 보고된 특정한 시간 주기)로 설정된 시간에 대한 전력에 의하여 제어되었다. RF 전원이 개시되면, 튜브의 내부에 균일한 플라즈마가 확립되었다. 플라즈마는 RF 전원이 타이머에 의해 종료될 때까지 총 ６ 초 동안 유지되었다. 플라즈마는 튜브 표면의 내부상에 대략 20 nm 두께 (또는 특정예에서 보고된 특정한 두께)의 실리콘 옥사이드 코팅을 생성하였다.
코팅 이후에, 가스 흐름은 진공 라인으로 다시 되돌아 갔으며 진공 밸브는 폐쇄되었다. 이후, 배기 밸브가 개방되어, 튜브의 내부를 대기압(대략 760 Torr)으로 돌려 놓았다. 이후, 튜브는 (전극(160) 조립체로부터 용기 지지대(50) 조립체를 이동시킨 후) 용기 지지대(50) 조립체로부터 조심스럽게 제거되었다.
CO 2 로　혈액　튜브를　채우기　위한　프로토콜
ＣＯ２로　채워질　튜브가　상술한　용기　지지대（５０）에　장착되어　상술한　Alcatel 회전식 진공 펌프 및 블로워（진공 펌프 시스템을　포함）　및　ＣＯ２　소스와　연결되었다． 아래에　나타내는　일부의　경우에서　ＣＯ２　충진은　ＳｉＯｘ　코팅을　도포하고　공정　가스를　제거한　직후에　코팅장치에서　수행되었다． ＳｉＯｘ　코팅이　도포된　다른　경우에　튜브는　코팅　장치로부터　제거되어　나중에　ＣＯ２　충진　장치　상에　설치되었다．
위에서　설명한　ＣＯ２　충진의　어떤　유형에서든，０．３　내지　１　Ｔｏｒｒ　압력으로　튜브를　진공시키는　데　펌프　시스템이　먼저　사용되었다． 공정가스를　배출시키기　위하여　진공은　３　내지　３０초간　지속되었다． 진공화된　튜브는　２５ｐｓｉ（１２３０　Ｔｏｒｒ）　절대압력으로　가압된　ＣＯ２로　충진되고　작업예에서　달리　지시된　시간　크기동안　１　내지　１４분간　그　압력에서　유지되었다． 채워진　튜브는　이후　이하의　프로토콜에　기술된　가스제거　측정　장치로　이송되었다．
가스제거　측정을 위한 프로토콜
VI.B. 미국　특허　제６，５８４，８２８　호의　도　１５에서　채용된　본　도　３０은　（３６２）로　일반적으로　표시된　마이크로－플로우　기술　측정　셀의　상류　말단상에　실（３６０）을　사용하여　안착된　ＣＯＣ　튜브를　형성하기　위한　프로토콜에　따라　제작된　ＣＯＣ　튜브（３５８）의　벽　내부상에　ＳｉＯｘ로　튜브　내부를　코팅하기　위한　프로토콜에　따라　도포된　ＳｉＯｘ　차단　코팅（３４８）을　통해　기체제거를　측정하는　작업예에서　사용된　시험　세트－업의　개략도이다．
VI.B. 진공　펌프（３６４）는　제　２　생성　ＩＭＧＳ　센서，（특정　실시예에서　나타낸바와　같이　２　또는　１４　μ／분　전체　범위），　절대　압력　센서　범위：　０　내지　１０　Ｔｏｒｒ，　보정된　범위에서　+/- 5%　판독의　흐름　측정　불확실성을　가져　（ＰＣ를　사용한）　자동　데이터　획득을　위한　Ｌｅａｋ－Ｔｅｋ　프로그램　및　누출　흐름　대　시간의　신호／플랏（ｐｌｏｔ）을　채용하는　상업적으로　구입가능한　측정　셀（３６２）（누출　시험　도구　모델　ＭＥ２가　있는　지능형　가스　누출　시스템）의　하류　말단에　연결되었다． 이　장비는　ＡＴＣ　사에　의하여　공급되며，　벽들로부터　용기（３５８）속으로　기체제거된　증기의　질량　유속　측정을　위한　측정　셀（３６２）을　통해　용기（３５８）의　내부로부터　가스를　화살표　방향으로　이끌어　가도록　구성되어　있다．
VI.B. 여기에　간략하게　도시되고　기술된　측정　셀（３６２）는　비록　이　정보가　실제　사용되며　모델　번호　별로　보다　구체적으로　구별된　장비의　작동과는　약간　벗어날　수　있다고　하여도，　실질적으로　아래와　같이　작동하는　것으로　이해되었다． 상기　셀（３６２）은　기체제거된　흐름이　향하게　되는　원뿔형　통로（３６８）를　갖는다． 압력은　상기　통로（３６８）를　따라　길이　방향으로　이격된　２　개의　측면　구멍들（３７０　및　３７２）에서　시작되며　부분적으로는　격판들（３７８　및　３８０）에　의하여　형성된　챔버들（３７４　및　３７６）로　공급된다． 각각의　챔버들（３７４　및　３７６）에　축적된　압력들은　각각의　격판들（３７８　및　３８０）을　편향한다． 이러한　편향은　격판들（３７８　및　３８０）의　전도성　표면들과　（３８２　및　３８４）와　같은　근처의　전도성　표면들　사이의　전기용량의　변화를　측정함으로써　적절하게　측정된다． 시험을　수행하기　위한　원하는　진공　수준에　도달될　때까지　측정　셀（３６２）를　우회시켜　바이패스（３８６）가　선택적으로　제공되어　최초　펌프－다운을　가속할　수　있다．
VI.B. 이　시험에　사용된　용기들의　ＣＯＣ　벽들（３５０）은　０．８５　ｍｍ　두께　정도였으며，　코팅（３４８）은　２０　ｎｍ（나노미터）　두께　정도였다． 따라서，　벽（３５０）　대　코팅（３４８）　두께　비는　５０，０００：１　정도였다
VI.B. 용기　실（３６０）을　포함하는　측정　셀（３６２）을　통한　유량을　측정하기　위하여，　용기（３５８）와　크기와　구조에서　실질적으로　동일한　유리　용기가　１　Ｔｏｒｒ의　내부　압력까지　펌프　다운된　용기　실（３６０）상에　안착되었으며，　이후　전기용량　데이터는　측정　셀（３６２）을　사용하여　수집되었고　＂기체제거＂　유량으로　전환되었다． 시험은　각각의　용기에　대하여　２　회　수행되었다． 제　１　실행　이후에，　질소를　사용하여　진공이　해소되었으며　용기는　회복　시간　동안에　다른　실행（있는　경우）으로　진행하기　이전에　평형에　도달하도록　하였다． 유리　용기는　기체제거를　거의　하지　않는　것으로　여겨지고　그　벽을　통한　침투가　불가능하기　때문에，　이러한　측정은　적어도　압도적으로는　측정　셀（３６２）　내에서　용기의　누출　및　연결의　양의　표시인　것으로　이해되며，　진정한　기체제거　또는　침투가　있다고　한다면　거의　반영하지　않는다．
VI.B. 어떤　실시예의　가스제거　결과를　보여주도록　제공되는　플롯　패밀리　또는　데이터　표는　개별　튜브들의　분당　마이크로그램으로　표시된　＂기체제거＂　유량을　보여준다． 유량　일부는　누출에　기인한다． 표에서　수치화된　유량　데이터　지점은　일정한　시험　시간（ＡＴＣ　상에서　시험당　분）으로　기록된다．
작업예
작업예는　EP2251671 A2의　가스제거를　참조하는　실시예，　특히，　EP2251671 A2 의　예를　참조하고　있는　실시예　８，　실시예　１６，　실시예　１9，　도면　및　표를　포함하는　것으로　이해해야　한다．
실시예 1
ＣＯ ２ 가　채워지고　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브　상에서의　가스　제거　측정
VI.B. 이　초기　시험은　ＣＯ２가　ＣＯＣ에　채워져　실질적으로　ＡＴＣ　가스제거　유량을　증가시킬　수　있는　지를　판단하기　위해　실시하였다． ３０개의　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브들은　COC 튜브를 형성하기 위한 프로토콜에 따라 제작되었다． ＣＯ２가　채워지기　전에，　튜브는　가스제거　시험을　위한　프로토콜에　따라　가스제거를　하기　위해　테스트되었다． 유량은　14 μg/분　센서를　가지는　ＡＴＣ를　이용하여　측정되었다． ＣＯ２가　채워지기　전　ＡＴＣ　유량를　표　Ａ에　나타냈다．　각각의　튜브에　본　측정을　실시한　후에　１０분간의　ＣＯ２　충진　시간을　이용하여　ＣＯ２로　혈액　튜브를　충진하기　위한　프로토콜에　따라　ＣＯ２로　동일한　튜브를　충진하였다． 유량은　동일한　방식으로　재측정되었으며　결과를　다시　표　Ａ에　기록하였다，
표　Ａ를　참조하면，　ＣＯ２가　충진되기　전　ＣＯＣ　튜브의　평균　가스제거　유량은　분당　１．４３　마이크로그램이었다． ＣＯ２가　충진된 후 COC 튜브의 평균 가스제거 유량은 분당 3.48 마이크로그램이었다. 이러한　결과는　ＣＯ２가　코팅되지　않은　튜브　상에　충분한　양으로　흡착되어　실질적으로　ＡＴＣ　가스제거　측정을　용이하게　할　수　있음을　보여준다．
표　Ａ： ＣＯ ２ 　충진된　ＣＯＣ가　가스제거에　미치는　영향
Figure 112020096621774-pat00023
실시예 2
CO 2 　충진　시간　대　가스제거　속도
본　실시예에서는　ＣＯ２　충진　시간의　길이가　가스제거에　미치는　영향을　보여주기　위하여　변화를　주었다． ＡＴＣ　시험시간　또한　５분으로　증가시켰으므로　이　시험의　결과는　실시예　１의　결과와　직접적으로　비료할　수는　없다． 본　시험은　실시예　１의　＂ＣＯ２　충진　후＂와　유사하게　달리　실시하였다．
이　결과가　표　Ｂ에　제시되는　데，　이는　비록　충진시간이　늘어날　수록　충진의　분당　유량의　증가는　덜　하지만　가스제거　유량은　충진　시간이　증가할수록　증가함을　보여준다．
표　Ｂ： ＣＯ ２ 　충진시간이　ＡＴＣ　유량에　미치는　영향
Figure 112020096621774-pat00024
실시예 3
이산화탄소（ＣＯ ２ ）　퍼지를　한　상태에서　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체의　향상된　마이크로흐름　분리
１０개의　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）　１３ｘ７５ｍｍ（０．８５ｍｍ　두께）의　사출성형된　튜브를　플라즈마　코팅　장치　상에서　２５　ｐｓｉ　이산화탄소（ＣＯ２）　압력으로　１２분　동안　각각　가압하였다． ＳｉＯｘ　코팅이　프로토콜에서　설명된　플라즈마　코팅　장치　상에서　실시되었다． ＳｉＯｘ　코팅된　튜브가　ＣＯ２　가압　후에　주변　온도로　냉각되도록　하였으며；　표준　플라즈마　코팅　장치가　표준　튜브　지지대를　이용하여　밸브를　열어　ＣＯ２　압력　실린더로　ＣＯ２　가압하도록　변형되었고；　튜브는　ＣＯ２　가압　직후　평가되었다．
Ｃ０２　가압　후，　튜브는　이전에　언급했던　조건　하에서　０　내지　１４　마이크로그램／리터(μg/L)　유량　범위의　ＡＴＣ　장비로　분석하였다． １０개의　평균　값의　결과（표　Ｃ）는　코팅되지　않는　ＣＯＣ　튜브와　ＳｉＯｘ　코팅된　튜브　간에　4 μg/L 단위　보다　큰　양호한　분리를　나타냈다． 비교적　ＣＯ２　가압이　없는　경우　（ａ）　코팅되지　않은　튜브와　코팅된　튜브　모두에　대한　마이크로흐름　값이　(1.25-2.00 μg/L)　보다　작았으며　（ｂ）　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브와　SiOx　코팅된　ＣＯＣ　튜브　사이에　분리는　없었다．
표　Ｃ．　플라즈마　코팅　파라미터
Figure 112020096621774-pat00025
표　Ｄ．　ＣＯ ２ 　퍼지를　한　상태에서의　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브와　ＳｉＯｘ　코팅된　ＣＯＣ　튜브　간의　평균　마이크로흐름．
Figure 112020096621774-pat00026
실시예 4
이산화탄소（ＣＯ ２ ）　퍼지를　한　상태에서　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체의　빠른 식스 시그마 마이크로흐름　분리
１０개의　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）　１３ｘ７５ｍｍ（０．８５ｍｍ　두께）의　사출성형된　튜브를　플라즈마　코팅　장치　상에서　２５　ｐｓｉ　이산화탄소（ＣＯ２）　압력으로　１２분　동안　각각　가압하였다． ＳｉＯｘ　코팅이　앞서　설명된　플라즈마　코팅　장치　상에서　실시되었다． ＳｉＯｘ　코팅된　튜브가　ＣＯ２　가압　후에　주변　온도로　냉각되도록　하였으며；　표준　플라즈마　코팅　장치가　표준　튜브　지지대를　이용하여　밸브를　열어　ＣＯ２　압력　실린더로　ＣＯ２　가압하도록　변형되었고；　튜브는　ＣＯ２　가압　직후　평가되었다．
Ｃ０２　가압　후，　튜브는　이전에　언급했던　조건　하에서　０　내지　１４　마이크로그램／리터(μg/L)　유량　범위의　ＡＴＣ　장비로　분석하였다． 각 튜브에 대한 마이크로흐름 데이터가 대략 매 0.3초마다 수집되었다.
데이터 분석:
코팅되지 않은 마이크로 유량과 SiOx 코팅된 마이크로 유량 간의 통계적으로 중요한 식스-시그마 분리를 달성하기 위해, 코팅되지 않은 튜브의 마이크로흐름 평균(-3 표준편차)은 SiOx 코팅된 튜브의 마이크로흐름 평균(+3 표준편차) 보다 커야만 한다. 이러한 조건은 표 E에 나타낸 바와 같이, 측정 개시 후 0.96 및 1.29초 사이에 달성된다.
표 E. 코팅되지 않은 튜브의 마이크로흐름(-3 표준편차) 및 SiOx코팅된 튜브의 마이크로흐름(+3 표준편차)의 시간
Figure 112020096621774-pat00027
실시예 5
진공배기/가압 공정을 통한 이산화탄소의 주입 또는 충진
압력 용기 내로 몇몇 코팅되지 않은 COC 및 SiOx 플라즈마 코팅된 COC 13x75mm 튜브를 배치한다. 용기는 30분 동안 1Torr로 진공배기되고; 이어서 30분간 이산화탄소 실린더로부터 3-10 psig 가압된다. 이후 튜브는 실시예 1에서 기술한 조건 하에 ATC 마이크로흐름 기구를 이용하여 평가된다. 코팅되지 않은 COC 튜브와 플라즈마 코팅된 COC 튜브 사이에 관찰된 마이크로흐름 구별은 코팅되지 않은 PET 튜브와 SiOx 코팅된 PET 튜브(도 31 및 32)에 대해 관찰된 것과 유사하며, 퍼지 가스로 질소를 이용한 것 보다는 훨씬 양호했다.
실시예 6
가압 공정을 통한 이산화탄소의 주입 또는 충진
튜브는 가압 챔버 내에 장착되어 CO2 가스를 75 psi 23°C에서 1.5 시간 동안 가압하였다. 튜브는 ATC 유닛 상에서 상기 조건을 이용하여 측정되었다. 튜브는 코팅된 그리고 코팅되지 않은 8007 COC 13 x 75mm 튜브들 간에 양호한 분리를 보여줬다.
실시예 7
아르곤（Ar）　퍼지를　한　상태에서　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　SiOx　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체의　향상된　마이크로흐름　분리
１０개의　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）　１３ｘ７５（０．８５ｍｍ　두께）의　사출성형된　튜브를　플라즈마　코팅　장치　상에서　２５　ｐｓｉ　아르곤（Ar）　압력으로　１２분　동안　각각　가압하였다． SiOx 코팅이 앞서 설명한 플라즈마 코팅 장치 상에서 실시되었으고; ＳｉＯｘ　코팅된　튜브가　Ar　가압　후에　주변　온도로　냉각되도록　하였으며；　표준　플라즈마　코팅　장치가　표준　튜브　지지대를　이용하여　밸브를　열어　Ar　압력　실린더로　Ar　가압하도록　변형되었고；　튜브는　Ar　가압　직후　평가되었다．
Ar　가압　후，　튜브는　이전에　언급했던　조건　하에서　０　내지　１４　마이크로그램／리터(μg/L)　유량　범위의　ＡＴＣ　장비로　분석하였다． １０개의　평균　값의　결과（표　F）는　코팅되지　않는　ＣＯＣ　튜브와　ＳｉＯｘ　코팅된　튜브　간에　1 μg/L 단위　보다　큰　양호한　분리를　나타냈다．
표　F．　아르곤　퍼지를　한　상태에서의　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브와　SiOx　코팅된　ＣＯＣ　튜브　간의　평균　마이크로흐름．
Figure 112020096621774-pat00028
실시예 ８
질소（N ２ ）　퍼지를　한　상태에서　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체의　향상된　마이크로흐름　분리
１０개의　코팅되지　않은　사이클릭　올레핀　공중합체와　ＳｉＯｘ　코팅된　사이클릭　올레핀　공중합체（ＣＯＣ）　１３ｘ７５(０．８５ｍｍ　두께）의　사출성형된　튜브를　플라즈마　코팅　장치　상에서　２５　ｐｓｉ　질소（N２）　압력으로　１２분　동안　각각　가압하였다． SiOx 코팅이 앞서 설명한 플라즈마 코팅 장치 상에서 실시되었으고; ＳｉＯｘ　코팅된　튜브가　N2　가압　후에　주변　온도로　냉각되도록　하였으며；　표준　플라즈마　코팅　장치가　표준　튜브　지지대를　이용하여　밸브를　열어　N2　압력　실린더로　N2　가압하도록　변형되었고；　튜브는　N2　가압　직후　평가되었다．
Ｃ０２　가압　후，　튜브는　이전에　언급했던　조건　하에서　０　내지　１４　마이크로그램／리터(μg/L)　유량　범위의　ＡＴＣ　장비로　분석하였다． １０개의　평균　값의　결과（표　G）는　코팅되지　않는　ＣＯＣ　튜브와　ＳｉＯｘ　코팅된　튜브　간에　양호한　분리를　나타냈다．
표　G．　질소　퍼지를　한　상태에서의　코팅되지　않은　ＣＯＣ　튜브와　SiOx　코팅된　ＣＯＣ　튜브　간의　평균　마이크로흐름．
Figure 112020096621774-pat00029
실시예 ９
마이크로흐름 측정에서의 CO 2 퍼지 가스
본 실시예는 가스제거 검출 결과를 향상시키기 위해 1초와 같은 짧은 CO2 충진 시간이 사용될 수 있음을 보여준다. COC 8007 및 COC 6015로 만들어진 미코팅된 COC 용기들 각각이 도 2의 장치와 유사한 장치에서 진공 배기되었으며, 이후 질소 가스 또는 이산화탄소를 이용하여 1초간 퍼지되어 진공 상태를 깨드렸다. 그런 다음 튜브의 가스제거가 도 30에 도시된 장비에서 측정되었다. 질소 대신 이산화탄소를 이용한 1초간의 퍼지 시간은 코팅되지 않은 COC 사출 성형된 13x75 튜브(표 1)에 대해 증가된 마이크로흐름 진폭을 야기하였다.
표 I. 코팅도지 않은 TOPAS 8007 및 6015 튜브의 마이크로흐름 진폭(90초 후) 비교
Figure 112020096621774-pat00030
실시예　１０
추가 마이크로흐름 측정
압력 용기 내로 몇몇 코팅되지 않은 COC 및 SiOx 플라즈마 코팅된 COC 13x75mm 튜브를 배치한다. 용기는 30분 동안 1Torr로 진공배기되고; 이어서 30분간 이산화탄소 실린더로부터 3-10 psig 가압된다. 이후 튜브는 도 30에 도시된 장비에서 평가된다. 도 63에서 볼 수 있는 바와 같이, 코팅되지 않은 COC 튜브와 플라즈마 코팅된 COC 튜브 사이에 관찰된 마이크로흐름 구별은 코팅되지 않은 PET 튜브와 SiOx 코팅된 PET 튜브(EP2251671 A2의 도 31 및 32와 동일한 본 출원의 도 31 및 32)에 대해 관찰된 것과 유사하며, 퍼지 가스로 질소를 이용한 것 보다는 훨씬 양호했다.
본 발명은 도면들 및 선행하는 상세한 설명에서 상세히 예시되고 기술된 반면에, 그러한 도면 및 설명은 도면설명되거나 예시적인 것으로서, 한정적인 것은 아닌것으로 간주되어야 한다; 본 발명은 개시된 실시예들에 한정되지 않는다. 개시된 실시예들에 대한 다른 변형들은 도면들, 개시물 및 첨부된 청구의 범위들의 연구로부터 청구된 발명을 실행하는 당업자에 의하여 이해되고 수행될 수 있다. 청구의 범위에서, "포함하는"이라는 단어는 다른 구성요소들 또는 단계들을 배제하지 않으며, "하나" 또는 "한"이라는 부정 관사는 복수형을 배제하지 않는다. 특정한 조치들이 상호 다른 종속항들에서 인용된다는 사실만으로는 이러한 조치들의 조합이 유리하게 사용될 수 없다는 것을 지시하지는 않는다. 청구의 범위에서 임의의 참조 부호들은 범위를 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다.

Claims (31)

  1. 진공된 혈액 수집 튜브로서, 상기 튜브는
    ● 루멘을 정의하는 내부 표면 및 외부 표면을 갖는 벽, 및 상기 표면들 중 하나 또는 모두 위의 PECVD(플라즈마 강화 화학 기상 증착) 코팅 또는 층 또는 PECVD 코팅들; 상기 PECVD 코팅 또는 코팅들은 적어도 배리어 코팅 및 소수성 코팅을 포함하는 것;
    ● SiOx(여기서, x는 1.5 내지 2.9)의 코팅을 포함하는 배리어 코팅;
    ● SiwOxCyHz 또는 SiwNxCyHz(여기서, w는 1이고, x는 0.5 내지 2.4이며, y는 0.6 내지 3이고, z는 2 내지 9)의 코팅을 포함하는 소수성 코팅;
    을 포함하고;
    상기 튜브는 원하는 혈액 부피를 뽑아내기에 충분한 수준으로 최초 진공되는 것이고;
    최초 진공 수준은 적어도 12 개월의 저장 수명 동안에 20% 미만으로 감소하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  2. 제1항에 있어서, 최초 진공 수준은 15% 미만으로 감소하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  3. 제1항에 있어서, 최초 진공 수준은 10% 미만으로 감소하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  4. 제1항에 있어서, 최초 진공 수준은 5% 미만으로 감소하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  5. 제1항에 있어서, 최초 진공 수준은 2% 미만으로 감소하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 저장 수명은 18개월 이상인 진공된 혈액 수집 튜브.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 저장 수명은 2년 이상인 진공된 혈액 수집 튜브.
  8. 제1항에 있어서, 벽은 폴리에스테르, 폴리올레핀, 사이클릭 올레핀 공중합체, 사이클릭 올레핀 중합체, 및 폴리카보네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 중합체 화합물로 만들어진 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  9. 제1항에 있어서, 튜브는 시약을 함유하는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  10. 제9항에 있어서, 시약은 제조 시에 혈액 수집 튜브에 추가되는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 시약은 혈액 응고 또는 혈소판 활성화를 방지할 수 있는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
  12. 제1항에 있어서, SiOx의 층 또는 코팅과 튜브 벽의 내부 표면 사이에 증착된 SiwOxCyHz 또는 SiwNxCyHz의 소수성 코팅; 및 SiOx 코팅 위에 증착된 SiwOxCyHz 또는 SiwNxCyHz의 제2 소수성 코팅을 더 포함하는 진공된 혈액 수집 튜브.
  13. 제1항에 있어서, PECVD용 플라즈마는 무선 주파수(RF) 전원 공급기에 의하여 생성되는 것인 진공된 혈액 수집 튜브.
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