BR112012028897B1 - Métodos para inspecionar o produto de um processo de revestimento - Google Patents

Abstract

MÉTODOS PARA A INSPEÇÃO DA DESGASEIFICAÇÃO DE VASOS Um método para a inspeção do produto de um processo de revestimento é fornecido. No mesmo,a liberação de pelo menos um espécime volátil a parti da superfície revestida para o espaço de gás adjacente à superfície revestida é medida e o resultado é comparado com o resultado de pelo menos um objeto de referência medido sob as mesmas condições de teste.Assim,a presença ou ausência do revestimento,e/ou da propriedade física e/ou química do revestimento pode ser determinada. O método é útil para a inspeção de quaisquer artigos revestidos,por exemplo,vasos.é também divulgada a sua aplicação na inspeção de revestimento em PECVD realizados a parti de precursores de organossilício,especialmente de revestimento de barreira.

Description

Os pedidos provisórios nos EUA com n° de série 61/177,984 depositado em 13 de maio, 2009; 61/222,727, depositado em 2 de julho, 2009; 61/213,904, depositado em 24 de julho, 2009; 61/234,505, depositado em 17 de agosto, 2009; 61/261,321, depositado em 14 de novembro, 2009; 61/263,289, depositado em 20 de novembro, 2009; 61/285,813, depositado em 11 de dezembro, 2009; 61/298,159, depositado em 25 de janeiro, 2010; 61/299,888, depositado em 29 de janeiro, 2010; 61/318,197, depositado em 26 de março, 2010; 61/333,625, depositado em 11 de maio, 2010; e 61/413,334, depositado em 12 de novembro, 2010; e o documento nos EUA com n° de série 12/779,007, depositado em 12 de maio, 2010, são todos incorporados na sua totalidade no presente documento a título de referência.

Também são incorporados a título de referência, na sua totalidade, os seguintes pedidos de Patente Europeia: EP10162755.2 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162760.2 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162756.0 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162758.6 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162761.0 depositado em 12 de maio, 2010; e EP10162757.8 depositado em 12 de maio, 2010. Esses pedidos de patente europeia descrevem aparelhos, vasos, precursores, revestimentos e métodos (em especial métodos de revestimento e métodos de controle para a verificação dos revestimentos) que podem ser geralmente utilizados na realização da presente invenção, a menos que indicado em contrário no presente documento. Os documentos também descrevem revestimentos de barreira em SiOx e revestimentos de lubricidade, aos quais é feita aqui referência.

Também é incorporado a título de referência o pedido PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011, que também descreve revestimentos e artigos revestidos (em em particular, seringas), que podem ser inspecionados pelo método da presente invenção.

Ao longo da presente descrição, é feita referência ao documento EP2251671 A2 (que corresponde ao pedido EP 10162758.6 mencionado acima, e que também forma um pedido de prioridade do presente pedido). Nesse documento, o método de desgaseificação geral que constitui a base do presente invento é descrito e exemplificado, e o seu conteúdo, a este respeito são, por conseguinte, especificamente aqui incorporados aqui a título de referência.

CAMPO DA INVENÇÃO

A presente invenção se refere ao campo técnico de fabricação de vasos revestidos para armazenar compostos biologicamente ativos ou sangue. Em particular, a invenção se refere a um sistema de processamento de vaso para revestir um vaso, um sistema de processamento de vaso para revestir e inspecionar um vaso, um retentor de vaso portátil para um sistema de processamento de vaso, a um aparelho de deposição química por vapor assistida por plasma para o revestimento de uma superfície interna de um vaso, a um método para o revestimento de uma superfície interna de um vaso, a um método para o revestimento e inspeção de um vaso, a um método de processamento de um vaso, ao uso de um sistema de processamento de vaso, a um meio legível por computador e a um elemento de programa.

Um método para a inspeção do produto de um processo de revestimento é fornecido. No mesmo, a liberação de pelo menos um espécime volátil a partir da superfície revestida para o espaço de gás adjacente à superfície revestida é medida e o resultado é comparado com o resultado de pelo menos um objeto de referência medido sob as mesmas condições de teste. Assim, a presença ou ausência do revestimento, e/ou da propriedade física e/ou química do revestimento pode ser determinada. O método é útil para a inspeção de quaisquer artigos revestidos, por exemplo, vasos. É também divulgada a sua aplicação na inspeção de revestimentos em PECVD realizados a partir de precursores de organossilício, especialmente de revestimento de barreira.

A presente divulgação se refere, adicionalmente, a métodos aperfeiçoados para o processamento de vasos, por exemplo, múltiplos vasos idênticos usados para a punção venosa e demais coleta médica da amostra, armazenagem e entrega da preparação farmacêutica e outras finalidades. Tais vasos são utilizados abundantemente para esses fins, em que a fabricação precisa ser relativamente econômica sendo, ainda, altamente confiáveis em termos de armazenamento e uso.

ANTECEDENTES DA INVENÇÃO

Os tubos de coleta de sangue são utilizados para extrair sangue de um paciente para análise médica. Os tubos são vendidos submetidos a vácuo. O sangue do paciente comunicase com o interior de um tubo quando se insere uma extremidade de uma agulha hipodérmica de ponta dupla no interior do vaso sanguíneo do paciente e empala a tampa do tubo de coleta de sangue submetido a vácuo na outra extremidade da agulha de ponta dupla. O vácuo no tubo de coleta de sangue submetido a vácuo extrai o sangue (ou mais precisamente, a pressão sanguínea do paciente empurra o sangue) através da agulha para o interior do tubo de coleta de sangue submetido a vácuo, aumentando a pressão dentro do tubo e, portanto, diminuindo a diferença de pressão para ocasionar o fluxo sanguíneo. O fluxo sanguíneo continua, tipicamente, até que o tubo seja retirado da agulha ou a diferença de pressão seja tão pequena ao ponto de suportar o fluxo.

Os tubos de coleta de sangue submetidos a vácuo deveriam ter uma vida útil substancial para facilitar a distribuição e armazenamento eficazes e convenientes dos tubos antes do uso. Por exemplo, uma vida útil de um ano é desejável e tempos progressivamente mais longos de vida útil como 18 meses, 24 meses ou 36 meses também são desejados em alguns casos. Desejavelmente, o tubo permanece plena e essencialmente submetido a vácuo, pelo menos, ao grau necessário para extrair sangue o suficiente para análise (um padrão convencional é que o tubo retenha pelo menos 90 % do volume original extraído), por todo o tempo de vida útil, apresentando bem poucos (otimamente nenhuns) tubos defeituosos.

É provável que um tubo defeituoso faça com que o flebógrafo que o está utilizando não extraia sangue suficiente. O flebógrafo, então, poderia precisar obter e usar um ou mais tubos adicionais a fim de conseguir uma amostra sanguínea adequada.

As seringas pré-carregadas são preparadas e vendidas convencionalmente de forma que a seringa não precise ser carregada antes do uso. A seringa pode ser pré-carregada com solução salina, um corante para injeção, ou uma preparação farmaceuticamente ativa, como alguns exemplos.

Comumente, a seringa pré-carregada é tapada na extremidade distal, como uma tampa, e é fechada na extremidade proximal por seu êmbolo extraído. A seringa pré- carregada pode ser embrulhada em uma embalagem estéril antes do uso. A fim de usar a seringa pré-carregada, a embalagem e a tampa são removidas, opcionalmente uma agulha hipodérmica ou outra conduta de entrega é fixada à extremidade distal do tambor, a conduta de entrega ou seringa é movida para uma posição de uso (como pela inserção da agulha hipodérmica no vaso sanguíneo de um paciente ou no interior do aparelho a ser enxaguado com os conteúdos da seringa), e o êmbolo é avançado no tambor a fim de injetar os conteúdos do tambor.

Uma importante consideração acerca da fabricação de seringas pré-carregadas é sobre os conteúdos da seringa que terão desejavelmente um tempo de vida útil substancial, durante o qual é importante isolar a carga de material de seringa da parede de tambor que o contém, a fim de evitar lixiviação do material proveniente do tambor para o interior dos conteúdos pré-carregados ou vice-versa.

Uma consideração adicional quanto ao assunto das seringas é assegurar que o êmbolo possa se mover quando é comprimido no interior do tambor. Para esse efeito, um revestimento de lubricidade, por exemplo como o revestimento de lubricidade descrito nos pedido citados em cima, é desejável.

Considerando-se que muitos desses vasos são baratos e utilizados em grandes quantidades, em determinadas aplicações, seria útil obter, de forma confiável, o tempo de vida útil necessário sem aumentar os custos de fabricação a níveis proibitivos.

Durante décadas, a maioria das terapêuticas parenterais foram administradas aos usuários finais em recipientes de vidro de borossilicato da classe médica do Tipo I, tais como frascos ou seringas pré-carregadas. A superfície relativamente forte, impermeável e inerte do vidro de borossilicato era realizada de forma adequada para a maioria dos produtos fármacos. No entanto, o recente advento dos produtos biológicos caros, complexos e sensíveis, assim como os sistemas de distribuição avançados como os injetores automáticos expôs deficiências físicas e químicas do vidro, incluindo a possível contaminação por metais e a quebra, entre outros problemas. Além disso, o vidro contém vários componentes que podem lixiviar para fora durante o armazenamento e causar danos ao material armazenado. Em mais detalhe, os vasos de borossilicato apresentam uma série de desvantagens: • O vidro é fabricado a partir de areia que contém uma mistura heterogênea de muitos elementos (silício, oxigênio, boro, alumínio, sódio, cálcio), com níveis vestigiais de outros metais alcalinos e terrosos. O vidro de borossilicato do Tipo I consiste de aproximadamente 76 % de SiO2, 10,5 % de B2O3, 5 % de Al2O3, 7 % de Na2O e 1,5 % de CaO e frequentemente contém metais vestigiais, tais como o ferro, magnésio, zinco, cobre e outros. A natureza heterogênea do vidro de borossilicato cria uma química de superfície não uniforme, a nível molecular. Processos de formação de vidro usados para criar recipientes de vidro expõem algumas partes dos recipientes a temperaturas tão elevadas como 1200 °C. Sob tais altas temperaturas, os íons alcalinos migram para a superfície local e formam óxidos. A presença de íons extraídos a partir de dispositivos de vidro de borossilicato pode estar envolvida na degradação, agregação e desnaturação de alguns produtos biológicos. Muitas proteínas e outros produtos biológicos devem ser liofilizados (seco por congelação), porque não são suficientemente estáveis em solução em frascos de vidro ou seringas. • Em seringas de vidro, o óleo de silício é tipicamente usado como um lubrificante para permitir que o êmbolo deslize no tambor. O óleo de silício tem sido implicado na precipitação de soluções de proteínas como a insulina e alguns outros produtos biológicos. Além disso, o revestimento de óleo de silício é frequentemente não uniforme, resultando em falhas de seringas no mercado. • Os vasos de vidro são propensos à ruptura ou degradação durante o fabrico, operações de enchimento, transporte e utilização, o que significa que as partículas de vidro podem penetrar no fármaco. A presença de partículas de vidro conduziu a muitas Cartas de Advertência da FDA e a reclamações de produtos. • Os processos de formação de vidro não produzem as tolerâncias dimensionais rigorosas necessárias para alguns dos mais recentes sistemas de auto-injetores e de entrega.

Como resultado disso, algumas empresas têm se voltado para vasos de plástico, que proporcionem maior tolerância dimensional e menores quebras do que o vidro, mas não têm sua impermeabilidade.

Apesar de o plástico ser superior ao vidro com relação à propensão de quebra, as tolerâncias dimensionais e a uniformidade da superfície, o uso do plástico para o embalamento de produtos farmacêuticos primários permanece limitado devido às seguintes deficiências: • Características de superfície: Os plásticos apropriados para pré-seringas e frascos geralmente exibem superfícies hidrofóbicas, que frequentemente reduzem a estabilidade do fármaco biológico contido no dispositivo. • Permeabilidade ao gás (oxigênio): O plástico permite a permeação dos gases de pequenas moléculas para o interior (ou a partir) do dispositivo. A permeabilidade do plástico aos gases é significativamente maior do que a do vidro e, em muitos casos (tal como no caso de fármacos sensíveis ao oxigênio, tais como a epinefrina), os plásticos são inaceitáveis por essa razão. • Transmissão de vapor de água: O plástico permite que vapores de água passem através de dispositivos num grau maior do que o vidro. Isto pode ser prejudicial para a vida útil de um fármaco (liofilizado) sólido. Alternativamente, um produto líquido pode perder água em um ambiente árido. • Lixiviáveis e extraíveis: Os vasos plásticos contêm compostos orgânicos que podem lixiviar ou ser extraídos para o interior do fármaco. Estes compostos podem contaminar o fármaco e/ou ter um impacto negativo sobre a estabilidade do fármaco.

É evidente que, enquanto que os vasos de plástico e vidro oferecem, cada um, algumas vantagens em embalagens de produtos farmacêuticos primários, nenhum é ideal para todos os medicamentos, produtos biológicos ou outros produtos terapêuticos. Assim, há um desejo face a vasos de plástico, em especial, as seringas de plástico, com propriedades de barreira ao gás e de soluto que abordem as propriedades do vidro. Além disso, há uma necessidade de seringas de plástico com suficientes propriedades de lubricidade e um revestimento de lubricidade que seja compatível com os conteúdos da seringa.

O revestimento de vasos de plástico com um revestimento de barreira ou revestimento de lubricidade feito por PECVD utilizando precursores de organossilício, tal como descrito em um dos pedidos acima mencionados, pode proporcionar tais vasos desejados. No entanto, a fim de assegurar a sua produção econômica, um método de inspeção que permite a inspeção do revestimento também é necessário.

Uma lista não minuciosa de patentes de possível relevância inclui as patentes nos EUA 6,068,884 e 4,844,986 e os Pedidos Publicados sob números nos EUA 20060046006 e 20040267194.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

A presente invenção proporciona um método para a inspeção de uma superfície, em particular uma superfície revestida e, especificamente, uma superfície de plástico revestida com um revestimento feito de PECVD a partir de precursores de organossilício. A inspeção feita por detecção de desgaseificação a partir do item inspecionado, em particular a desgaseificação a partir do substrato revestido. A invenção, na sua principal aplicação proporciona um método para a inspeção de vasos através da detecção da desgaseificação de uma parede do vaso, por exemplo, através de uma camada de barreira revestida sobre a parede do vaso. A invenção diz respeito ainda a um método compreendendo o revestimento e a inspeção de um vaso, em que a inspeção é realizada pelo método de desgaseificação de acordo com a presente invenção. Em um aspecto particular, a invenção diz respeito a um método compreendendo uma etapa de revestimento de PECVD e uma etapa de inspeção em que esta última é realizada pelo método de desgaseificação.

O método de desgaseificação da presente invenção permite uma determinação rápida e precisa das propriedades de um material inspecionado. Por exemplo, isto permite a determinação rápida e precisa se um revestimento, por exemplo, um revestimento de barreira está presente em um substrato plástico.

A invenção diz respeito ainda a um aparelho (por exemplo, uma estação de processamento de vasos de um sistema de processamento de vasos) configurado para realizar as etapas do método mencionadas acima e/ou abaixo. Exemplos de tais estações de processamento 20, 30, 5501-5504 são descritos nas FIGS. 1 e 15-17, por exemplo.

A invenção diz respeito ainda a um meio legível por computador, no qual um programa de computador para a inspeção de uma superfície é armazenado, o qual, quando está sendo executado por um processador de um aparelho, tal como um sistema de processamento de vasos, é adaptado para instruir o processador para controlar o aparelho de tal modo que realiza as etapas do método mencionadas acima e/ou abaixo.

A invenção diz respeito ainda a um elemento de programa ou programa de computador para a inspeção de uma superfície, o qual, quando está sendo executado por um processador de um aparelho, tal como um sistema de processamento de vasos, é adaptado para instruir o processador para controlar o aparelho de tal modo que realiza as etapas do método mencionadas acima e/ou abaixo.

O processador pode portanto ser equipado de modo a realizar modalidades exemplares dos métodos da presente invenção. O programa de computador pode ser escrito em qualquer linguagem de programação adequada, por exemplo, C++ e pode ser armazenado no meio legível por computador, tal como em um CD-ROM. Para além disso, o programa de computador pode estar disponível a partir de uma rede, tal como a WorldWideWeb, a partir da qual pode ser descarregado para unidades de processamento de imagem ou processadores, ou quaisquer computadores adequados.

Um aspecto da presente invenção é um método e sistema para a inspeção de um revestimento ou camada de barreira sobre um substrato ou de outro objeto feito de um primeiro material e que possui uma superfície, por exemplo, um revestimento de SiOx sobre um substrato termoplástico moldado de copolímero de olefina cíclica ("COC" ) como o objeto feito do primeiro material, tal como uma seringa ou um tubo de coleta de sangue, através da medição de um espécime volátil desgaseificado pelo artigo revestido, que pode ser um espécime volátil proveniente do material do item inspecionado ou proveniente de um material de carga, por exemplo um material de carga compreende, por exemplo, dióxido de carbono, azoto, árgon, xénon, crípton, um hidrocarboneto inferior tendo de 1 a 4 átomos de carbono, por exemplo, etileno, etano, ou metano, um hidrocarboneto halogenado inferior tendo de 1 a quatro átomos de carbono, por exemplo, cloreto de metila, cloreto de metileno, fluoreto de metila ou trifluoroetano, ou um éter de hidrocarboneto inferior possuindo de 1 a quatro átomos de carbono, por exemplo éter dietílico ou éter dimetílico ou etil-metil-éter, o qual é posto em contato com o item inspecionado antes de a medição do espécime volátil desgaseificado ocorrer ("método de desgaseificação"). O método pode ser usado para inspecionar o produto de um processo de revestimento sendo que um revestimento foi aplicado à superfície de um substrato para formar uma superfície revestida. O método é realizado sob condições eficazes para determinar, por exemplo, a presença ou ausência de uma camada de barreira. Por exemplo, o método pode ser usado como um controle de processo em linha para um processo de revestimento a fim de identificar e eliminar produtos revestidos que não satisfazem um padrão predeterminado ou produtos com revestimento danificado.

Em geral, o "espécime volátil" é um gás ou vapor em condições de teste, e pode ser selecionado a partir do grupo que consiste de um gás nobre, dióxido de carbono, um hidrocarboneto, um hidrocarboneto halogenado, um éter, ar, azoto, oxigênio, o vapor de água, componentes voláteis do revestimento, componentes voláteis do substrato, produtos de reação voláteis do revestimento, e uma combinação dos mesmos, opcionalmente sendo ar, azoto, oxigênio, dióxido de carbono, árgon, vapor de água, ou uma combinação dos mesmos. O espécime volátil pode ser carregado no item inspecionado antes da inspeção, ou pode estar presente no material, sem carga (por exemplo, como componentes do substrato voláteis ou produtos de reação residuais do revestimento). O método pode ser usado para medir apenas uma ou poucos espécimes voláteis, mas, opcionalmente, uma pluralidade de espécimes voláteis diferentes é medida e, opcionalmente, substancialmente todos os espécimes voláteis liberados a partir do objeto de inspeção são medidos.

Um outro aspecto da invenção é um método para inspecionar um objeto, por exemplo, quanto à presença de uma camada de barreira, em que o método compreende o carregamento do objeto inspecionado com um material de carregamento. Neste método, um objeto é fornecido, feita pelo menos em parte de um primeiro material, o objeto tendo uma superfície, o objeto, opcionalmente tendo pelo menos uma camada de barreira parcial entre o primeiro material e a superfície (em um aspecto, a camada de barreira forma a superfície do objeto, ou seja, o objeto é revestido com a camada de barreira). Opcionalmente, um material de carga é fornecido o qual é solúvel em, absorvido por, ou adsorvido pelo primeiro material, e o objeto está em contato com o material de carga. A desgaseificação é medida a partir de pelo menos uma porção da superfície. O método é realizado sob condições eficazes para determinar, por exemplo, a presença ou ausência de uma camada de barreira.

O material de carga pode aumentar a sensibilidade do método de desgaseificação. Em particular, pode simplificar a discriminação entre dois espécimes inspecionados, por exemplo, um substrato que é revestido uma vez e não revestido uma vez. O material de carga também pode permitir a discriminação entre dois materiais se estiver ligado e for desgaseificado por materiais diferentes em diferentes quantidades.

A discriminação de artigos de plástico não revestidos versus artigos revestidos com SiOx assenta na capacidade de um artigo de plástico assimilar os gases (por exemplo, um material de carga), que podem ser posteriormente desgaseificados e medidos. A solubilidade de gases no plástico é um fator determinante da quantidade de gás que pode residir num plástico, e, portanto, uma boa estimativa do potencial de um gás particular fornecer uma discriminação adequada de artigos não revestidos versus artigos revestidos. Em um aspecto da presente invenção, é vantajoso aumentar a quantidade de gás que é absorvido ou adsorvido no plástico por carregamento de plástico com um material de carga. Isto pode resultar em maiores quantidades de espécimes voláteis desgaseificados emitidos durante a medição da desgaseificação e, assim, aumenta a leitura.

Em um aspeto específico da presente invenção, a sensibilidade aumentada da medição de desgaseificação pode ser realizada através do uso de uma descarga de dióxido de carbono e/ou por perfuração do substrato com dióxido de carbono (por exemplo gás de dióxido de carbono), N2, Ar, xénon, crípton, um hidrocarboneto inferior tendo de 1 a 4 átomos de carbono, por exemplo, etileno, etano, ou metano, um hidrocarboneto halogenado inferior tendo de 1 a quatro átomos de carbono, por exemplo, cloreto de metila, cloreto de metileno, fluoreto de metila ou trifluoroetano, ou um éter de hidrocarboneto inferior possuindo de 1 a quatro átomos de carbono, por exemplo éter dietílico ou éter dimetílico ou etil-metil-éter. A utilização de CO2 é particularmente útil no teste de substratos de COC, em que a solubilidade ao azoto, água e oxigênio é reduzida.

De um modo geral, o método de desgaseificação de acordo com a presente invenção compreende as etapas de: (a) fornecer um produto como objeto de inspeção; (c) medir a liberação de ao menos um espécime volátil do objeto de inspeção para o interior do espaço de gás adjacente a uma superfície revestida; e (d) comparar o resultado da etapa (c) com o resultado da etapa (c) com ao menos um objeto de referência medido sob as mesmas condições de teste, determinando assim a presença ou ausência de um material específico ou componente específico do objeto de inspeção, por exemplo, um revestimento em um substrato.

Tipicamente, um método de desgaseificação para a inspeção de um substrato revestido de acordo com a presente invenção, compreende as etapas de: (a) fornecer um produto compreendendo um revestimento, como objeto de inspeção; (c) medir a liberação de ao menos um espécime volátil do objeto de inspeção para o interior do espaço de gás adjacente à superfície revestida; e (d) comparar o resultado da etapa (c) com o resultado da etapa (c) com ao menos um objeto de referência medido sob as mesmas condições de teste, determinando assim a presença ou ausência do revestimento, e/ou de uma propriedade física e/ou química do revestimento ou do substrato revestido.

No método de desgaseificação, a propriedade física e/ou química do revestimento a ser determinada pode ser selecionada do grupo que consiste em seu efeito de barreira, sua tensão de umedecimento, e sua composição, e, opcionalmente, seu efeito de barreira.

Vantajosamente, a etapa (c) é executada através da medição da taxa de fluxo de massa ou da taxa de fluxo de volume do ao menos um espécime volátil no espaço de gás adjacente à superfície revestida.

Opcionalmente, o objeto de referência (i) é um substrato não revestido; ou (ii) é um substrato revestido com um revestimento de referência. Isto depende, por exemplo, de se o método de desgaseificação é usado para determinar a presença ou a ausência de um revestimento (então, o objeto de referência pode ser um substrato não revestido) ou para determinar as propriedades do revestimento, por exemplo, em comparação com um revestimento com propriedades conhecidas ou, por exemplo, do material inspecionado em geral, em comparação com um material conhecido. Para determinar a identidade do revestimento com um revestimento específico, um revestimento de referência também será uma escolha típica.

O método de desgaseificação pode compreender também como uma etapa adicional entre as etapas (a) e (c), a etapa de (b) alterar a pressão atmosférica no espaço de gás adjacente à superfície revestida, de tal modo que um diferencial de pressão através da superfície revestida seja fornecido e uma taxa de fluxo de massa ou taxa de fluxo de volume do espécime volátil possam ser realizadas sem o diferencial de pressão. Nesse caso, o espécime volátil irá migrar para a direção do lado inferior do diferencial de pressão. Se o objeto revestido é um vaso, o diferencial de pressão é estabelecido entre o lúmen do vaso e o exterior a fim de medir a desgaseificação do espécime volátil da parede de vaso revestida. O diferencial de pressão pode, por exemplo, ser fornecido através de pelo menos a evacuação parcial do espaço de gás no vaso. Nesse caso, o espécime volátil pode ser medido, o qual é desgaseificado no interior do lúmen do vaso.

Se um vácuo for aplicado para criar um diferencial de pressão, a medição pode ser executada através do uso de uma célula de medição interposicionada entre a superfície revestida do substrato e uma fonte de vácuo.

Em um outro aspecto, o objeto de inspeção pode ser colocado em contato com um espécime volátil na etapa (a), opcionalmente, um espécime volátil selecionado do grupo que consiste em ar, azoto, oxigênio, vapor de água, dióxido de carbono, um gás nobre, e uma combinação dos mesmos, opcionalmente, a fim de permitir a adsorção ou absorção do espécime volátil sobre ou no interior do material do objeto de inspeção. Então, a liberação subsequente do dito espécime volátil a partir do objeto de inspeção é medida na etapa (c). Tendo em vista que materiais diferentes (como, por exemplo, o revestimento e o substrato) possuem diferentes características de adsorção e absorção, isto pode simplificar a determinação da presença e das características de um revestimento.

O substrato pode ser um composto polimérico, opcionalmente, é um poliéster, uma poliolefina, um copolímero de olefina cíclica, um policarbonato ou uma combinação destes. O método de desgaseificação da presente invenção é de particular interesse para a inspeção de COC, tereftalato de polietileno e de polipropileno.

No contexto da presente invenção, o revestimento caracterizado pelo método de desgaseificação pode ser qualquer revestimento, mas é tipicamente um revestimento preparado por PECVD a partir de, por exemplo, um precursor de organossilício, tal como descrito aqui e nos pedidos citados nos parágrafos 1 a 3 desta descrição, a cujos pedidos é feita aqui referência expressa, a fim de indicar os revestimentos nos quais a presente invenção pode ser aplicada. Por exemplo, o revestimento pode ser uma camada de barreira, opcionalmente sendo uma camada de SiOx em que x é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9. Num outro exemplo, o revestimento pode ser uma camada de lubricidade, caracterizada tal como definido na Secção de Definições ou nos pedidos citados e/ou uma camada hidrofóbica, caracterizada tal como definido na Secção de Definições ou nos pedidos citados.

Quando o processo de revestimento cujo produto é inspecionado pelo método de desgaseificação é um revestimento de PECVD executado sob condições de vácuo, a medição de desgaseificação subsequente pode ainda ser conduzida sem a ruptura do vácuo usado para PECVD.

O espécime volátil medido pode ser um espécime volátil liberado do revestimento, uma liberação do espécime volátil a partir do substrato ou uma combinação de ambos. Em um aspecto, o espécime volátil é um espécime volátil liberado do revestimento, opcionalmente, é um componente de revestimento volátil, e a inspeção é executada para determinar a presença, as propriedades e/ou a composição do revestimento. Em um outro aspecto, o espécime volátil é um espécime volátil liberado do substrato e a inspeção é executada para determinar a presença do revestimento e/ou o efeito de barreira do revestimento.

O método de desgaseificação da presente invenção é particularmente adequado para determinar a presença e as características de um revestimento em uma parede de vaso. Dessa forma, o substrato revestido pode ser um vaso que tem uma parede que é ao menos parcialmente revestida em sua superfície externa ou interna durante o processo de revestimento. Por exemplo, o revestimento é disposto sobre a superfície interna da parede de vaso.

As condições eficazes para distinguir a presença ou a ausência do revestimento, e/ou para determinar uma propriedade física e/ou química do revestimento podem incluir uma duração de teste menor que uma hora, ou menor que um minutos, ou menor que 50 segundos, ou menor que 40 segundos, ou menor que 30 segundos, ou menor que 20 segundos, ou menor que 15 segundos, ou menor que 10 segundos, ou menor que 8 segundos, ou menor que 6 segundos, ou menor que 4 segundos, ou menor que 3 segundos, ou menor que 2 segundos, ou menor que 1 segundo.

A fim de aumentar, por exemplo, a diferença entre um objeto de referência e o objeto de inspeção em relação à taxa de liberação e/ou ao tipo do espécime volátil medido, a taxa de liberação do espécime volátil pode ser modificada através da modificação da pressão e/ou temperatura ambiente, e/ou umidade. A utilização de um material de carga de acordo com a presente invenção serve o mesmo propósito. A medição pode, por exemplo, ser realizada usando uma técnica de microfluxo,

Em um aspecto, a desgaseificação é medida com o uso de uma técnica de medição de microcantiléver. Por exemplo, a medição pode ser executada através de (i) (a) fornecer ao menos um microcantiléver que tem a propriedade, quando na presença de um material desgaseificado, de mover ou alterar para um formato diferente; (b) expor o microcantiléver ao material desgaseificado sob condições eficazes para fazer com que o microcantiléver se mova o se altere para um formato diferente; e (c) detectar o movimento ou formato diferente, opcionalmente, através da reflexão de um feixe incidente energético, por exemplo, um feixe de laser, a partir de uma porção do microcantiléver que altera o formato, antes e depois da exposição do microcantiléver à desgaseificação, e medir a deflexão resultante do feixe refletido em um ponto espaçado do cantiléver; ou (ii) (a) fornecer ao menos um microcantiléver que ressoa em uma frequência diferente quando na presença de um material desgaseificado; (b) expor o microcantiléver ao material desgaseificado sob condições eficazes para fazer com que o microcantiléver ressoe em uma frequência diferente; e (c) detectar a frequência ressonante diferente, por exemplo, com o uso de um sensor de vibração harmônica.

Também é considerado um aparelho para executar o método de desgaseificação, por exemplo, um aparelho que compreende um microcantiléver conforme descrito acima.

Com o uso do método de desgaseificação da presente invenção, por exemplo, uma camada de barreira em um material que desgaseifica um vapor pode ser inspecionada, sendo que o método de inspeção tem várias etapas. Uma amostra de material que desgaseifica um gás e tem pelo menos uma camada de barreira parcial é fornecida. Em um aspecto da invenção, é fornecido um diferencial de pressão por toda a camada de barreira, de tal modo que ao menos algum material que desgaseifica está no lado de pressões mais altas da camada de barreira. O gás desgaseificado que atravessa a camada de barreira é medido. Se um diferencial de pressão estiver presente, a medição é tipicamente executada no lado com pressões mais baixas da camada de barreira.

Outros aspectos da invenção se tornarão evidentes a partir desta descrição e dos desenhos em anexo. BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS A FIG. 1 é um diagrama esquemático que mostra um sistema de processamento de vaso de acordo com uma modalidade da revelação. A FIG. 2 é uma vista esquemática em corte de um retentor de vaso em uma estação de revestimento de acordo com uma modalidade da revelação. A FIG. 3 é uma vista em corte longitudinal explodida de uma seringa e de uma tampa adaptada para uso como uma seringa pré-carregada. A FIG. 4 é uma vista esquemática em corte de outra modalidade da invenção para o processamento de tambores de seringas e outros vasos. A FIG. 5 é uma vista detalhada ampliada do vaso de processamento da FIG. 4. A FIG. 6 é uma vista esquemática que mostra a desgaseificação de um material através de um revestimento. A FIG. 7 é uma vista esquemática em corte de uma configuração de teste para ocasionar a desgaseificação da parede de um vaso para o interior do vaso e a medição da desgaseificação com o uso de uma célula de medição interposicionada entre o vaso e uma fonte de vácuo. A FIG. 8 é um gráfico de taxa de fluxo de massa de desgaseificação medida na configuração de teste da FIG. 7 para múltiplos vasos. A FIG. 9 é um gráfico de barras que mostra uma análise estatística dos dados de ponto final mostrados na FIG. 8. A FIG. 10 é uma vista em perspectiva de uma montagem para tubos de coleta de sangue de parede dupla. A FIG. 11 é uma construção alternativa de um retentor de vaso utilizável, por exemplo, com as modalidades das FIGS. 1, 2, e 4. A FIG. 12 é uma vista esquemática de uma montagem para tratamento de vasos. A montagem é utilizável com o aparelho de qualquer uma das figuras anteriores. A FIG. 13 é um gráfico de taxa de fluxo de massa de desgaseificação medido no Exemplo 19 do documento EP2251671 A2. A FIG. 14 mostra uma prateleira linear. A FIG. 15 mostra uma representação esquemática de um sistema de processamento de vaso de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. A FIG. 16 mostra uma representação esquemática de um sistema de processamento de vaso de acordo com uma outra modalidade exemplificadora da presente invenção. A FIG. 17 mostra uma estação de processamento de um sistema de processamento de vaso de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. A FIG. 18 mostra um retentor de vaso portátil de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. A FIG. 19 é um gráfico de taxa de fluxo de massa de desgaseificação medida na configuração de teste da FIG. 7, representando os dados do Exemplo 10, do documento EP2251671 A2.

Empregam-se nas figuras dos desenhos os seguintes números de referência:

DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO

A presente invenção será agora descrita de maneira mais completa inter alia com referência aos desenhos em anexo, nos quais várias modalidades são mostradas. A presente invenção pode, no entanto, ser incorporada em muitas formas diferentes e não deve ser interpretada como limitada às modalidades aqui apresentadas. De preferência, essas modalidades são exemplos da invenção, que tem o escopo completo indicado pela linguagem das reivindicações. Números semelhantes se referem a elementos semelhantes ou correspondentes por todo o documento.

SECÇÃO DE DEFINIÇÕES

No contexto da presente invenção, as seguintes definições e abreviações são utilizadas: RF é radiofrequência; sccm significa centímetros cúbicos padrão por minuto.

O termo “pelo menos” no contexto da presente invenção significa “igual ou maior” do que o número inteiro que segue o dito termo. A palavra “compreendendo” não exclui outros elementos ou etapas, e o artigo indefinido “um” ou “uma” não exclui uma pluralidade exceto quando indicado em contrário. Sempre que for indicado um intervalo de parâmetros, tal pretende revelar os valores de parâmetros dados como limites do intervalo e todos os valores do parâmetro são abrangidos dentro do referido intervalo.

“Primeiro” e “segundo” ou referências similares a, por exemplo, estações de processamento ou dispositivos de processamento se referem à quantidade mínima de estações ou dispositivos de processamento que estão presentes, mas não representam necessariamente a ordem ou número total de estações e dispositivos de processamento. Esses termos não limitam o número de estações de processamento ou o processamento particular executado nas estações respectivas.

Para propósitos da presente invenção, um “precursor de organossilício” é um composto que tem pelo menos um dentre a ligação:

que é um átomo de silício tetravalente conectado a um átomo de oxigênio e a um átomo de carbono orgânico (um átomo de carbono orgânico sendo um átomo de carbono ligado a pelo menos um átomo de hidrogênio). Um precursor de organossilício volátil, definido como um precursor que pode ser suprido como um vapor em um aparelho de PECVD, é um precursor de organossilício opcional. Opcionalmente, o precursor de organossilício é selecionado do grupo que consiste em um siloxano linear, um siloxano monocíclico, um siloxano policíclico, um polissilssesquioxano, um trimetoxissilano alquila, um silazano linear, um silazano monocíclico, um silazano policíclico, um polissilssesquiazano e uma combinação de quaisquer dois ou mais desses precursores.

Os valores de alimentação de precursores de PECVD, reagentes gasosos ou gases de processo e de gás transportador são por vezes expressos em "volumes padrão" na descrição e reivindicações. O volume padrão de uma carga ou de outro valor fixo de gás é o volume da quantidade fixa que o gás ocuparia a uma temperatura e pressão padrão (sem considerar a temperatura real e a pressão de entrega). Os volumes padrão podem ser medidos usando diferentes unidades de volume, e ainda estar dentro do âmbito da presente revelação e reivindicações. Por exemplo, a mesma quantidade fixa de gás poderia ser expressa como o número de centímetros cúbicos padrão, o número de metros cúbicos padrão, ou o número de pés cúbicos padrão. Os volumes padrão também podem ser definidos usando diferentes temperaturas e pressões padrão, e ainda estar dentro do âmbito da presente revelação e reivindicações. Por exemplo, a temperatura padrão pode ser de 0 °C e a pressão padrão pode ser de 760 Torr (como é convencional), ou a temperatura padrão pode ser de 20 °C e a pressão padrão pode ser de 1 Torr. Mas seja qual for o sistema usado num dado caso, quando se comparam as quantidades relativas de dois ou mais gases diferentes, sem especificar parâmetros particulares, as mesmas unidades de volume, temperatura padrão e pressão padrão devem ser usados em relação a cada um dos gases, salvo indicação em contrário.

As taxas de alimentação correspondentes de precursores de PECVD, reagentes gasosos ou gases de processo e de gás transportador são expressas em volumes padrão por unidade de tempo na descrição. Por exemplo, nos exemplos de trabalho, os caudais são expressos em centímetros cúbicos padrão por minuto, abreviado como sccm. Tal como acontece com os outros parâmetros, outras unidades de tempo podem ser utilizadas, tais como os segundos ou horas, mas devem ser usados parâmetros consistentes quando se comparam os caudais de dois ou mais gases, salvo indicação em contrário.

Um “vaso” no contexto da presente invenção pode ser qualquer tipo de vaso com pelo menos uma abertura e uma parede definindo uma superfície interna. O substrato de revestimento pode ser a parede interna de um vaso com um lúmen. Apesar de a presente invenção não se limitar necessariamente a vasos com um volume particular, são contemplados vasos nos quais o lúmen tenha um volume de vazio desde 0,5 a 50 mL, opcionalmente de 1 a 10 mL, opcionalmente de 0,5 a 5 mL, opcionalmente de 1 a 3 mL. A superfície do substrato pode fazer parte de toda a superfície interna de um vaso tendo pelo menos uma abertura e uma superfície interna.

O termo “pelo menos” no contexto da presente invenção significa “igual ou maior” do que o número inteiro que segue o dito termo. Dessa forma, um vaso no contexto da presente invenção tem uma ou mais aberturas. Uma ou mais aberturas, como as aberturas de um tubo de amostra (uma abertura) ou de um tambor de seringa (duas aberturas) são preferenciais. Se o vaso tiver duas aberturas, essas podem ter tamanhos iguais ou diferentes. Se houver mais de uma abertura, uma abertura pode ser usada para a entrada de gás para um método de revestimento de PECVD de acordo com a presente invenção, enquanto que as outras aberturas são tampadas ou abertas. Um vaso de acordo com a presente invenção pode ser um tubo de amostra, por exemplo, para coletar ou armazenar fluidos biológicos como sangue ou urina, uma seringa (ou uma parte da mesma, por exemplo, um tambor de seringa) para armazenagem ou aplicação de uma composição ou composto biologicamente ativo, por exemplo, um medicamento ou composição farmacêutica, um frasco para armazenagem de materiais biológicos ou de composições ou compostos biologicamente ativos, uma tubulação, por exemplo, um cateter para transporte de materiais biológicos ou de composições ou compostos biologicamente ativos ou uma cubeta para retenção de fluidos, por exemplo, para retenção de materiais biológicos ou de composições ou compostos biologicamente ativos.

Um vaso pode ter qualquer formato, sendo preferencial um vaso que tenha uma parede substancialmente cilíndrica adjacente a pelo menos uma de suas extremidades abertas. Em geral, a parede interna do vaso é conformada cilindricamente, como, por exemplo, em um tubo de amostra ou em um tambor de seringa. Os tubos de amostra e seringas ou suas partes (por exemplo, tambor de seringas) são contemplados.

Uma “camada hidrofóbica” no contexto da presente invenção significa que o revestimento diminui a tensão de umedecimento de uma superfície revestida com o revestimento, comparada à superfície não revestida correspondente. A capacidade hidrofóbica é, então, uma função tanto do substrato não revestido quanto do revestimento. O mesmo se aplica com alterações apropriadas para outros contextos em que o termo “hidrofóbico” é usado. O termo “hidrofílico” significa o oposto, isto é, que a tensão de umedecimento é aumentada comparada à amostra de referência. As presentes camadas hidrofóbicas são essencialmente definidas pela sua hidrofobicidade e as condições do processo que fornecem hidrofobicidade e, opcionalmente, podem ter uma composição de acordo com a composição empírica ou fórmula total SiwOxCyHz.

Geralmente tem uma razão atômica de SiwOxCy em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, de preferência w é 1, x é de cerca de 0,5 a 1,5, e y é de 0,9 a 2,0, mais preferivelmente w é 1, x é de 0,7 a 1,2 e y é de 0,9 a 2,0. a razão atômica pode ser determinada por XPS (espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X). Considerando os átomos H, o revestimento pode portanto ter em um aspeto a fórmula SiwOxCyHz, por exemplo, em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, e z é de cerca de 2 a cerca de 9. Tipicamente, as razões atômicas são Si 100: O 80-110: C 100-150 em um revestimento particular da presente invenção.

Especificamente, a razão atômica pode ser Si 100: O 92-107: C 116-133, e tal revestimento conteria portanto 36 % a 41 % de carbono normalizado para 100 % de carbono mais oxigênio mais silício.

Esses valores de w, x, y e z são aplicáveis à composição empírica SiwOxCyHz, ao longo da presente descrição. Os valores de w, x, y e z usados por toda a descrição devem ser compreendidos como razões ou fórmula empírica (por exemplo, para um revestimento), em vez de um limite do número ou tipo de átomos em uma molécula. Por exemplo, o octametilciclotetrassiloxano, que tem a composição molecular Si4O4C8H24, pode ser descrito pela seguinte fórmula empírica, conseguida pela divisão de cada um dos w, x, y, e z na fórmula molecular por 4, o fator comum maior: Si1O1C2H6. Os valores de w, x, y e z também não estão limitados a números inteiros. Por exemplo, o octametiltrissiloxano(acíclico), com a composição molecular Si3O2C8H24, pode ser reduzido para Si1O0,67C2,67H8.

A “tensão de umedecimento” é uma medida específica para a capacidade hidrofóbica ou hidrofílica de uma superfície. Um método opcional de medição da tensão de umedecimento, no contexto da presente invenção é a norma ASTM D 2578, ou uma modificação do método descrito na norma ASTM D 2578. Esse método usa soluções de tensão de umedecimento padrão (chamadas soluções de dine) para determinar que a solução chegue mais perto de molhar a superfície de um filme plástico durante exatamente dois segundos. Essa é a tensão de umedecimento do filme. O procedimento utilizado é variado na presente invenção a partir da ASTM D 2578 em que os substratos não são filmes plásticos planos, mas são tubos produzidos de acordo com o Protocolo para a Formação de Tubo de PET e (exceto para controles) revestidos de acordo com o Protocolo para o Revestimento do Interior do Tubo com uma Camada Hidrofóbica (ver Exemplo 9 do documento EP2251671 A2).

Uma “camada de lubricidade” de acordo com a presente invenção é um revestimento que tem uma resistência ao atrito inferior à superfície não revestida. Em outras palavras, ela reduz a resistência ao atrito da superfície revestida em comparação com uma superfície de referência que é não revestida. As presentes camadas de lubricidade são essencialmente definidas pela sua baixa resistência ao atrito do que a superfície não revestida e as condições do processo fornecendo uma resistência ao atrito mais baixa do que a superfície não revestida, e, opcionalmente, pode ter uma composição de acordo com a composição empírica SiwOxCyHz. Geralmente tem uma razão atômica de SiwOxCy em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, de preferência w é 1, x é de cerca de 0,5 a 1,5, e y é de 0,9 a 2,0, mais preferivelmente w é 1, x é de 0,7 a 1,2 e y é de 0,9 a 2,0. a razão atômica pode ser determinada por XPS (espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X). Considerando os átomos H, o revestimento pode portanto ter em um aspeto a fórmula SiwOxCyHz, por exemplo, em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, e z é de cerca de 2 a cerca de 9. Tipicamente, as razões atômicas são Si 100: O 80-110: C 100-150 em um revestimento particular da presente invenção. Especificamente, a razão atômica pode ser Si 100: O 92-107: C 116-133, e tal revestimento conteria portanto 36 % a 41 % de carbono normalizado para 100 % de carbono mais oxigênio mais silício.

A “resistência ao atrito” pode ser resistência ao atrito estática e/ou resistência ao atrito cinética. Um das modalidades opcionais da presente invenção é uma parte da seringa, por exemplo, um tambor de seringa ou êmbolo, revestido com uma camada de lubricidade. Nessa modalidade contemplada, a resistência ao atrito estática relevante no contexto da presente invenção é a força de rompimento como definida mais adiante no presente documento, e a resistência ao atrito cinética relevante no contexto da presente invenção é a força de deslizamento do êmbolo como definida mais adiante no presente documento. Por exemplo, a força de deslizamento do êmbolo como definida e determinada no presente documento é adequada para determinar a presença ou ausência e as características de lubricidade de uma camada de lubricidade no contexto da presente invenção toda vez que o revestimento é aplicado em qualquer seringa ou parte da seringa, por exemplo, na parede interna de um tambor de seringa. A força de rompimento é de relevância particular para a avaliação do efeito de revestimento em uma seringa pré-carregada, isto é, uma seringa que é carregada após o revestimento e pode ser armazenada durante algum tempo, por exemplo, por vários meses ou mesmo anos, antes de o êmbolo ser movido novamente (tem que ser “rompida”).

"Capacidade de deslizamento" significa que o êmbolo, fecho, ou outra peça amovível é permitida em um tambor de seringa ou outro vaso.

No contexto dessa invenção, “substancialmente rígidos” significa que os componentes montados (portas, dutos e alojamento, explicados adicionalmente abaixo) podem ser movidos como uma unidade através do manuseio do alojamento, sem deslocamento significativo de qualquer um dos componentes montados em relação aos outros. Especificamente, nenhum dos componentes é conectado por mangotes ou similares que permitam movimento relativo substancial entre as partes em uso normal. A provisão de uma relação substancialmente rígida dessas partes permite que a localização do vaso assentado sobre o retentor de vaso seja quase tão bem conhecida e precisa quanto as localizações dessas partes fixadas no alojamento.

A seguir, o aparelho para a realização da presente invenção será primeiramente descrito, seguido dos métodos de revestimento, revestimentos e vasos revestidos e então será descrito em maior detalhe o método de desgaseificação de acordo com a presente invenção. I. SISTEMA DE PROCESSAMENTO DE VASO QUE APRESENTA MÚLTIPLAS ESTAÇÕES DE PROCESSAMENTO E MÚLTIPLOS RETENTORES DE VASOS I. Um sistema de processamento de vaso é contemplado, o qual compreende uma primeira estação de processamento, uma segunda estação de processamento, uma multiplicidade de retentores de vaso e uma disposição transportadora. A primeira estação de processamento é configurada para processar um vaso que tem uma abertura e uma parede definindo uma superfície interna. A segunda estação de processamento está espaçada em relação à primeira estação de processamento e configurada para processar um vaso que tem uma abertura e uma parede definindo uma superfície interna. I. Pelo menos alguns, opcionalmente, todos dentre os retentores de vaso incluem uma porta de vaso configurada para receber e assentar a abertura de um vaso para processar a superfície interna de um vaso assentado por meio da porta de vaso na primeira estação de processamento. A disposição transportadora é configurada para transportar uma série dos retentores de vaso e vasos assentados a partir da primeira estação de processamento para a segunda estação de processamento para processar a superfície interna de um vaso assentado por meio da porta de vaso na segunda estação de processamento. I. Fazendo primeiramente referência à FIG. 1, um sistema de processamento de vaso geralmente indicado como 20, é mostrado. O sistema de processamento de vaso pode incluir estações de processamento que são contempladas de modo mais abrangente como sendo dispositivos de processamento. O sistema de processamento de vaso 20 da modalidade ilustrada pode incluir uma máquina de moldagem por injeção 22 (que pode ser considerada como um dispositivo ou estação de processamento), dispositivos ou estações de processamento adicionais 24, 26, 28, 30, 32 e 34, e uma saída 36 (que pode ser considerada como um dispositivo ou estação de processamento). Em um mínimo, o sistema 20 tem pelo menos uma primeira estação de processamento, por exemplo, a estação 28, e uma segunda estação de processamento, por exemplo, 30, 32 ou 34. I. Qualquer uma das estações de processamento 22-36 na modalidade ilustrada pode ser uma primeira estação de processamento, qualquer outra estação de processamento pode ser uma segunda estação de processamento, e daí em diante. I. A modalidade ilustrada na FIG. 1 pode incluir oito dispositivos ou estações de processamento: 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34, e 36. O sistema de processamento de vaso exemplificador 20 inclui uma máquina de moldagem por injeção 22, uma estação de inspeção pós-moldagem 24, uma estação de inspeção pré-revestimento 26, uma estação de revestimento 28, uma estação de inspeção pós-revestimento 30, uma estação de transmissão de fonte óptica 32 para determinar a espessura do revestimento, uma estação de transmissão de fonte óptica 34 para examinar o revestimento quanto aos defeitos e uma estação de saída 36. I. O sistema 20 pode incluir um mecanismo de transferência 72 para movimentar os vasos desde a máquina de moldagem por injeção 22, para um retentor de vaso 38. O mecanismo de transferência 72 pode ser configurado, por exemplo, como um braço robótico que localiza, se move, agarra, transfere, orienta, assenta e libera os vasos 80 para removê-los da máquina formadora de vaso 22 e instalá-los nos retentores de vaso como 38. I. O sistema 20 também pode incluir um mecanismo de transferência em uma estação de processamento 74 para remover o vaso de um ou mais retentores de vaso como 66, seguindo o processamento da superfície interna do vaso assentado como 80 (FIG. 1). Os vasos 80 são assim móveis desde o retentor de vaso 66 até ao embalamento, armazenamento, ou outra área apropriada ou etapa do processo, geralmente indicados como 36. O mecanismo de transferência 74 pode ser configurado, por exemplo, como um braço robótico que localiza, se move, agarra, transfere, orienta, assenta e libera os vasos 80 para removê-los dos retentores de vaso como 38 e colocá-los em outro equipamento na estação 36. I. As estações ou dispositivos de processamento 32, 34 e 36 mostradas na FIG. 1, realizam opcionalmente uma ou mais etapas apropriadas a jusante do revestimento e sistema de inspeção 20, depois de os vasos individuais 80 serem removidos dos retentores de vaso como 64. Alguns exemplos não limitativos de funções das estações ou dispositivos 32, 34, e 36 incluem: colocar os vasos tratados e inspecionados 80 sobre uma disposição transportadora para o aparelho de processamento adicional; adicionar produtos químicos aos vasos; tampar os vasos; colocar os vasos em prateleiras de processamento adequadas; embalar os vasos; e esterilizar os vasos embalados. I. O sistema de processamento de vaso 20 conforme ilustrado na FIG. 1 também pode incluir uma multiplicidade de retentores de vaso (ou “discos,” visto que podem, em algumas modalidades, lembrar um disco de hóquei) respectivamente, 38 a 68, e uma disposição transportadora, em geral, indicada como uma faixa interminável 70 para o transporte de um ou mais dentre os retentores de vaso 38-68 e, dessa forma, vasos como 80 para ou a partir das estações de processamento 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34 e 36. I. A estação ou dispositivo de processamento 22 pode ser um dispositivo para a formação dos vasos 80. Um dispositivo contemplado 22 pode ser uma máquina de moldagem por injeção.

Outro dispositivo contemplado 22 pode ser uma máquina de moldagem por sopro. Também são contempladas máquinas de moldagem a vácuo, máquinas de moldagem por extração, máquinas de corte ou de moagem, máquinas de extração de vidro para vidro ou outros materiais moldáveis por extração, ou outros tipos de máquinas de formação de vaso. Opcionalmente, a estação de formação de vaso 22 pode ser omitida, visto que vasos podem ser obtidos já formados. II. RETENTORES DE VASO II.A. Os retentores de vaso portáteis 38-68 são fornecidos para retenção e transporte de um vaso que tem uma abertura enquanto o vaso é processado. O retentor de vaso inclui uma porta de vaso, uma segunda porta, um duto e um alojamento transportável. II.A. A porta de vaso é configurada para assentar uma abertura de vaso em uma relação de mútua comunicação. A segunda porta é configurada para receber um suprimento de gás exterior ou uma ventilação. O duto é configurado para a passagem de um ou mais gases entre uma abertura de vaso assentada sobre a porta de vaso e a segunda porta. A porta de vaso, segunda porta e duto são fixados em uma relação substancialmente rígida com o alojamento transportável. Opcionalmente, o retentor de vaso portátil pesa menos que cinco libras. Uma vantagem de um retentor de vaso de peso leve é que esse pode mais rapidamente transportado de uma estação de processamento para outra. II.A. Em certas modalidades do retentor de vaso, o duto mais especificamente é um duto de vácuo e a segunda porta, mais especificamente, é uma porta de vácuo. O duto de vácuo é configurado para extrair um gás através da porta de vaso a partir de um vaso assentado sobre a porta de vaso. A porta de vácuo é configurada para a comunicação entre o duto de vácuo e uma fonte de vácuo externa. A porta de vaso, duto de vácuo e porta de vácuo podem ser fixados em uma relação substancialmente rígida com o alojamento transportável. II.A. Os retentores de vaso das modalidades II.A e II.A.1. são mostrados, por exemplo, na FIG. 2. O retentor de vaso 50 tem uma porta de vaso 82 configurada para receber e assentar a abertura de um vaso 80. A superfície interna de um vaso assentado 80 pode ser processada através da porta de vaso 82. O retentor de vaso 50 pode incluir um duto, por exemplo, um duto de vácuo 94, para a retirada de um gás a partir de um vaso 80 assentado na porta de vaso 92. O retentor de vaso pode incluir uma segunda porta, por exemplo uma porta de vácuo 96 comunicando entre o duto de vácuo 94 e uma fonte externa de vácuo, tal como a bomba de vácuo 98. A porta de vaso 92 e a porta de vácuo 96 podem ter elementos de vedação, por exemplo anéis-em-O de vedação, respectivamente, 100 e 102, ou vedantes laterais entre uma parede interior ou exterior cilíndrica da porta do vaso 82 e uma parede interior ou exterior cilíndrica do vaso 80 para receber e formar uma vedação com o vaso 80 ou fonte de vácuo externa 98, ao mesmo tempo permitindo a comunicação através da porta. Também podem ser usadas gaxetas ou outras disposições de vedação. II.A. O retentor de vaso como 50 pode ser produzido de qualquer material, por exemplo, material termoplástico e/ou material eletricamente não condutor. Ou, o retentor de vaso como 50 pode ser produzido parcialmente ou mesmo, principalmente, de material eletricamente condutor e coberto com material eletricamente não condutor, por exemplo, nas passagens definidas pela porta de vaso 92, duto de vácuo 94 e porta de vácuo 96. Os exemplos de materiais adequados para o retentor de vaso 50 são: um poliacetal, por exemplo, material acetal Delrin® vendido por E. I. du Pont De Nemours and Company, Wilmington Delaware; politetrafluoro etileno (PTFE), por exemplo, PTFE Teflon® vendido por E. I. du Pont De Nemours and Company, Wilmington Delaware; Polietileno de Peso Molecular Ultra Alto (UHMWPE); Polietileno de Alta Densidade (HDPE); ou outros materiais conhecidos na técnica ou recentemente descobertos. II.A. A FIG. 2 também ilustra que o retentor de vaso, por exemplo, 50, pode ter um colar 116 para centralizar o vaso 80 quando o mesmo se aproxima da ou é assentado sobre a porta 92.

Matriz de Retentores de Vaso II.A. Ainda outra abordagem para tratar, inspecionar e/ou mover as partes através de um sistema de produção pode ser o uso de uma matriz de retentores de vaso. A matriz pode consistir em discos individuais ou ser uma matriz sólida na qual os dispositivos são carregados. Uma matriz pode permitir que mais de um dispositivo, opcionalmente, muitos dispositivos, sejam testados, transportados ou tratados/revestidos simultaneamente. A matriz pode ser unidimensional, por exemplo, agrupada para formar uma prateleira linear ou bidimensional, similar a um pote ou bandeja. II.A. A FIG. 14 mostra uma abordagem de matriz. FIG. 14 mostra uma matriz sólida 120 em (ou sobre) a qual os dispositivos ou vasos 80 são carregados. Nesse caso, os dispositivos ou vasos 80 podem se mover através do processo de produção como uma matriz sólida, embora possam ser removidos durante o processo de produção e transferidos para retentores de vaso individuais. Um único retentor de vaso 120 tem múltiplas portas de vaso como 122 para transportar uma matriz de vasos assentados como 80, que se movem como uma unidade. Nessa modalidade, múltiplas portas de vácuo individuais como 96 podem ser fornecidas para receber uma matriz de fontes de vácuo 98. Ou, uma única porta de vácuo conectada a todas as portas de vaso como 96 pode ser fornecida. Múltiplas sondas de entrada de gás como 108 podem também ser fornecidas em uma matriz. As matrizes de sondas de entrada de gás ou fontes de vácuo podem ser montadas para se moverem como uma unidade para processar muitos vasos como 80 simultaneamente. Ou, as múltiplas portas de vaso como 122 podem ser direcionadas em uma ou mais fileiras por vez ou individualmente em uma estação de processamento. O número de dispositivos na matriz pode ser relacionado ao número de dispositivos que são moldados em uma única etapa ou a outros testes ou etapas que podem permitir uma eficiência durante a operação. No caso de tratamento/revestimento de uma matriz, os elétrodos podem ser acoplados (para formar um elétrodo grande), ou podem ser elétrodos individuais cada um com seu próprio suprimento de energia. Todas dentre as abordagens acima podem ainda ser aplicáveis (a partir do ponto de vista da geometria do elétrodo, frequência, etc.). II.A. FIG. 14 mostra uma prateleira linear. Se uma prateleira linear for usada, outra opção, em adição àquelas explicadas acima, é transportar a prateleira em um modo de fileira única através de uma estação de processamento, processando os vasos em série. II.B. Retentor de Vaso Incluindo Disposição de Anel-em-O II.B. A FIG. 11 é uma construção alternativa de um retentor de vaso 482 utilizável, por exemplo, com as modalidades de qualquer outra figura. O retentor de vaso 482 compreende uma porção superior 484 e uma base 486 unidas a uma junta 488. Um elemento de vedação, por exemplo um anel-em-O 490 (cujo lado direito está cortado para permitir que o bolso que o retêm possa ser descrito) é capturado entre a porção superior 484 e a base 486, na junta 488. Na modalidade ilustrada, o anel-em-O 490 é recebido num bolso anular 492 para localizar o anel-em-O, quando a porção superior 484 é unida à base de 486. II.B. Na presente modalidade, o anel-em-O 490 é capturado e se apoia contra uma superfície de contra-apoio que se estende radialmente 494 e a parede que se estende radialmente 496 em parte definindo o bolso 492 quando a porção superior 484 e a base 486 são unidas, neste caso, pelos parafusos 498 e 500. O anel-em-O 490 assenta, portanto, entre a parte superior 484 e a base 486. O anelem-O 490 capturado entre a porção superior 484 e a base 486 recebe também o vaso 80 (removido nesta figura por razões de clareza de ilustração de outras características) e forma uma primeira vedação de anel-em-O da porta de vaso 502 em torno da abertura do vaso 80. II.B. Nesta modalidade, embora não seja um requisito, a porta do vaso 502 tem tanto a primeira vedação de anel-em-O 490, como uma segunda vedação de anel-em-O axialmente espaçada 504, cada uma tendo um diâmetro interno, tais como 506, dimensionado para receber o diâmetro externo de um vaso tal como 80 para a vedação entre a porta de vaso 502 e um vaso tal como 80. O espaçamento entre os anéis-em-O 490 e 504 fornece suporte para um vaso tal como 80 em dois pontos espaçados axialmente, impedindo que o vaso tal como 80 seja inclinado com respeito aos anéis-em-O 490 e 504 ou porta de vaso 502. Nesta modalidade, embora não seja um requisito, a superfície de contra-apoio que se estende radialmente 494 está localizada de modo proximal às vedações de anel-em-O 490 e 506 e em torno do duto de vácuo 508. III. MÉTODOS PARA O TRANSPORTE DE VASOS - PROCESSAMENTO DE VASOS ASSENTADOS SOBRE RETENTORES DE VASO III.A. Transporte de Retentores de Vaso Para Estações de Processamento III.A. As FIGS. 1 e 2 mostram um método para o processamento de um vaso 80. O método pode ser executado da seguinte forma. III.A. Pode ser fornecido um vaso 80 que tem uma abertura 82 e uma parede 86 definindo uma superfície interna 88. Como uma modalidade, o vaso 80 pode ser formado e em seguida, removido de um molde tal como 22. Opcionalmente dentro de 60 segundos, ou dentro de 30 segundos, ou dentro de 25 segundos, ou dentro de 20 segundos, ou dentro de 15 segundos, ou dentro de 10 segundos, ou dentro de 5 segundos, ou dentro de 3 segundos, ou dentro de 1 segundo após a remoção do vaso a partir do molde, ou logo que o vaso 80 possa ser movido sem distorcê-lo durante o processamento (assumindo que ele é feito a uma temperatura elevada, a partir da qual arrefece progressivamente), a abertura do vaso 82 pode ser encaixada na porta do vaso 92. A deslocação rápida do vaso 80 a partir do molde 22 para a porta de vaso 92 reduz a poeira e outras impurezas que possam atingir a superfície 88 e ocluir ou impedir a adesão da barreira ou de outro tipo de revestimento 90. Além disso, quanto mais depressa o vácuo é aplicado no vaso 80, depois de ser feito, menor será a possibilidade de impurezas em partículas aderirem à superfície interior 88. III.A. Um retentor de vaso como 50 que compreende uma porta de vaso 92 pode ser fornecido. A abertura 82 do vaso 80 pode ser assentada sobre a porta de vaso 92. Antes, durante ou depois do assentamento da abertura 82 do vaso 80 sobre a porta de vaso 92, o retentor de vaso como 40 pode ser transportado formando um engate com uma ou mais superfícies de apoio para posicionar o retentor de vaso 40 em relação à estação ou dispositivo de processamento como 24. III.A. Uma, mais do que uma, ou todas as estações de processamento podem incluir uma superfície de apoio para suportar um ou mais retentores de vaso, tais como 40, em uma posição predeterminada durante o processamento da superfície interior 88 do vaso 80 assentado na estação ou dispositivo de processamento, tal como 24. Estas superfícies de apoio podem fazer parte da estrutura estacionária ou móvel, por exemplo, faixas ou guias que orientam e posicionam o retentor de vaso, como 40, enquanto o vaso está sendo processado. Por exemplo, as superfícies de apoio viradas para baixo 222 e 224 localizam o retentor de vaso 40 e atuam como uma superfície de reação para impedir que o retentor de vaso 40 se mova para cima, quando a sonda 108 está sendo inserida no retentor de vaso 40. A superfície de reação 236 localiza o retentor de vaso e evita que o retentor de vaso 40 se mova para a esquerda, enquanto uma fonte de vácuo 98 (como na FIG. 2) está assente na porta de vácuo 96. As superfícies de apoio 220, 226, 228, 232, 238, e 240, de forma semelhante localizam o retentor de vaso 40 e evitam o movimento horizontal durante o processamento. As superfícies de apoio 230 e 234 alocam de modo similar o retentor de vaso como 40 e evitam que o mesmo se mova verticalmente para fora da posição. Dessa forma, uma primeira superfície de apoio, uma segunda superfície de apoio, uma terceira superfície de apoio ou mais podem ser fornecidas em cada dentre as estações de processamento. III.A. A superfície interna 88 do vaso assente 80 pode então ser processada através da porta de vaso 92 na primeira estação de processamento, a qual pode ser, por exemplo, a aplicação de barreira ou outro tipo de estação de revestimento 28, mostrada na FIG. 2. O retentor de vaso 50 e o vaso assentado 80 são transportados a partir da primeira estação de processamento 28 até à segunda estação de processamento, por exemplo a estação de processamento 32. A superfície interna 88 do vaso assentado 80 pode ser processada através da porta de vaso 92 na segunda estação de processamento, tal como 32. III.A. Qualquer um dos métodos acima pode incluir a etapa adicional de remoção do vaso 80 a partir do retentor de vaso como 66 que segue o processamento da superfície interna 88 do vaso assentado 80 na segunda estação ou dispositivo de processamento. III.A. Qualquer um dos métodos acima pode incluir a etapa adicional, após a etapa de remoção, de proporcionar um segundo vaso 80 que tem uma abertura 82 e uma parede 86, que define uma superfície interior 88. A abertura 82 do segundo vaso, como 80, pode ser assentada na porta de vaso 92 de outro retentor de vaso, como 38. A superfície interna do vaso assentado 80 pode ser processada através da porta de vaso 92 na primeira estação ou dispositivo de processamento, como 24. O retentor de vaso 38 e o segundo vaso assentado 80 podem ser transportados a partir da primeira estação ou dispositivo de processamento 24 até à segunda estação ou dispositivo de processamento, como 26. O segundo vaso assentado 80 pode ser processado através da porta de vaso 92 pela segunda estação ou dispositivo de processamento 26. III.B. Transportar Dispositivos de Processamento para Retentores de Vaso ou vice-versa. III.B. Ou, as estações de processamento podem mais amplamente ser dispositivos de processamento e, ou os retentores de vaso podem ser transportados em relação aos dispositivos de processamentos, os dispositivos de processamento podem ser transportados em relação aos retentores de vaso ou alguma de cada disposição pode ser fornecida em um dado sistema. Ainda em outra disposição, os retentores de vaso podem ser transportados para uma ou mais estações, e mais de um dispositivo de processamento pode ser empregado em ou próximo a pelo menos uma das estações. Dessa forma, não há necessariamente uma correspondência de um para um entre os dispositivos de processamento e estações de processamento. III.B. Um método que inclui várias partes é contemplado para o processamento de um vaso. Um primeiro dispositivo de processamento tal como a sonda 108 (FIG. 2) e um segundo dispositivo de processamento, tal como uma fonte de luz 170 são fornecidas para o processamento de vasos tais como 80. É fornecido um vaso 80 que tem uma abertura 82 e uma parede 86 definindo uma superfície interna 88. Apresenta-se um retentor de vaso 50 que compreende uma porta de vaso 92. A abertura 82 do vaso 80 é assentada sobre a porta de vaso 92. III.B. O primeiro dispositivo de processamento como a sonda 108 é movido para formar um engate operacional com o retentor de vaso 50 ou vice-versa. A superfície interna 88 do vaso assentado 80 é processada através da porta de vaso 92 com o uso do primeiro dispositivo de processamento ou sonda 108. III.B. O segundo dispositivo de processamento é, então, movido para o engate operacional com o retentor de vaso 50, ou vice-versa. A superfície interna 88 do vaso assentado 80 é processada através da porta de vaso 92 com o uso do segundo dispositivo de processamento como uma fonte de luz. III.B. Opcionalmente, qualquer número de etapas de processamento adicionais pode ser fornecido. Por exemplo, pode ser fornecido um terceiro dispositivo de processamento 34 para processar os vasos 80. O terceiro dispositivo de processamento 34 pode ser movido para o engate operacional com o retentor de vaso 50, ou vice-versa. A superfície interna do vaso assentado 80 pode ser processada através da porta de vaso 92 com o uso do terceiro dispositivo de processamento 34. III.B. Em uma outra modalidade para o processamento de um vaso, pode ser fornecido o vaso 80 que tem uma abertura 82 e uma parede 86 definindo uma superfície interna 88. Um retentor de vaso como 50 que compreende uma porta de vaso 92 pode ser fornecido. A abertura 82 do vaso 80 pode ser assentada sobre a porta de vaso 92. A superfície interna 88 do vaso assente 80 pode então ser processada através da porta de vaso 92 na primeira estação de processamento, a qual pode ser, por exemplo, a aplicação de barreira ou outro tipo de dispositivo de revestimento 28, mostrado na FIG. 2. O retentor de vaso 50 e o vaso assentado 80 são transportados a partir da primeira estação de processamento 28 até à segunda estação de processamento, por exemplo a estação de processamento 34, mostrada na FIG. 1. A superfície interna 88 do vaso assentado 80 pode ser então processada através da porta de vaso 92 pelo segundo dispositivo de processamento, tal como 34. IV. APARELHO DE PECVD PARA FABRICAÇÃO DE VASOS IV.A. Aparelho de PECVD que Inclui Retentor de Vaso, Elétrodo Interno, Vaso como Câmara de Reação IV.A. Outra modalidade é um aparelho de PECVD que está configurado para executar a inspeção de desgaseificação, incluindo um retentor de vaso, um elétrodo interno, um elétrodo externo e um suprimento de energia. Um vaso assentado sobre o retentor de vaso define uma câmara de reação de plasma que, opcionalmente, pode ser uma câmara de vácuo. Opcionalmente, uma fonte de vácuo, uma fonte de gás reagente, uma alimentação de gás ou uma combinação de dois ou mais desses pode ser fornecida. Opcionalmente, um dreno de gás, que não inclui necessariamente uma fonte de vácuo, é fornecido para transferir gás para ou a partir do interior de um vaso assentado sobre a porta para definir uma câmara fechada. IV.A. O aparelho de PECVD pode ser usado para a PECVD de pressão atmosférica, no caso em que a câmara de reação de plasma não precisa funcionar como uma câmara de vácuo. IV.A. Na modalidade ilustrada na FIG. 2, o retentor de vaso 50 compreende uma porta de entrada de gás 104 para transportar um gás para um vaso assentado sobre a porta de vaso. A porta de entrada de gás 104 tem uma vedação deslizante provida de pelo menos um anel-em-O 106, ou dois anéis-em-O em série, ou três anéis-em-O em série, que pode assentar contra uma sonda cilíndrica 108, quando a sonda 108 é inserida através da porta de entrada de gás 104. A sonda 108 pode ser uma conduta de entrada de gás que se estende até uma porta de distribuição de gás na sua extremidade distal 110. A extremidade distal 110 da modalidade ilustrada pode ser inserida profundamente para dentro do vaso 80 para o fornecimento de um ou mais reagentes PECVD e outros gases de processo. IV.A. Opcionalmente, na modalidade ilustrada na FIG. 2, ou, mais geralmente, em qualquer modalidade revelada, uma tela de plasma 610 pode ser fornecida para confinar o plasma formado no interior do vaso 80, geralmente para o volume acima da tela de plasma 610. A tela de plasma 610 é um material condutor poroso, vários exemplos da qual são a lã de aço, o metal sinterizado poroso ou o material cerâmico revestido com material condutor, ou um disco ou placa porosa feitos de metal (por exemplo bronze) ou outro material condutor. Um exemplo é um par de discos metálicos tendo orifícios centrais dimensionados para a passagem da entrada de gás 108 e tendo orifícios com diâmetro de 0,02 polegadas (0,5 mm) espaçados em 0,04 polegadas (1 mm), de centro a centro, sendo que os orifícios fornecem 22 % de área aberta como uma proporção da área superficial do disco. IV.A. A tela de plasma 610, por exemplo, para as modalidades nas quais a sonda 108 também funciona como um contra-elétrodo, pode fazer um contato elétrico íntimo com a entrada de gás 108 em ou próxima da abertura 82 do tubo, tambor de seringa ou de outro vaso 80 a ser processado. Em alternativa, a tela de plasma 610 pode ser ligada à terra, tendo, opcionalmente, um potencial comum com a entrada de gás 108. A tela de plasma 610 reduz ou elimina o plasma no retentor de vaso 50 e suas passagens internas e ligações, por exemplo o duto de vácuo 94, a porta de entrada de gás 104, a proximidade do anel-em-O 106, a porta de vácuo 96, o anel-em- O 102, e outros aparelhos adjacentes à entrada de gás 108. Ao mesmo tempo, a porosidade fa tela de plasma permite que gases de processo, o ar, e outros semelhantes fluam para fora do vaso 80 para o interior da porta de vácuo 96 e aparelho a jusante. IV.A. A FIG. 12 mostra detalhes adicionais opcionais da estação de revestimento 28, que são utilizáveis, por exemplo, com as modalidades das FIGS. 1, 2, 4-5, e 7. A estação de revestimento 28 pode também ter uma válvula de vácuo principal 574, na sua linha de vácuo 576 que conduz ao sensor de pressão 152. Uma válvula de desvio manual 578 é fornecida na linha de desvio 580. Uma válvula de ventilação 582 controla o fluxo. IV.A. O fluxo para fora da fonte de gás PECVD 144 é controlado por uma válvula de gás reagente principal 584 que regula o fluxo através da linha de alimentação de reagente principal 586. Um componente da fonte de gás 144 é o reservatório de líquido de organossilício 588. Os conteúdos do reservatório 588 são puxados através da linha capilar de de organossilício 590, que é fornecida a um comprimento adequado para proporcionar a taxa de fluxo desejada. O fluxo de vapor de organossilício é controlado pela válvula de interrupção de organossilício 592. A pressão é aplicada no espaço livre 614 do reservatório para líquidos 588, por exemplo, uma pressão na faixa de 0 a 15 psi (0 A 78 cm.Hg) a partir de uma fonte de pressão 616 como ar pressurizado conectado ao espaço livre 614 por uma linha de pressão 618 para estabelecer a aplicação de líquido de organossilício repetível que não é dependente da pressão atmosférica (e das flutuações na mesma). O reservatório 588 é selado e a conexão capilar 620 está na parte inferior do reservatório 588 para assegurar que apenas o líquido de organossilício puro (não o gás pressurizado a partir do espaço livre 614) flui através do tubo capilar 590. O líquido de organossilício opcionalmente pode ser aquecido acima da temperatura ambiente, se necessário ou desejável, para fazer com que o líquido de organossilício evapore, formando um vapor de organossilício. O oxigênio é fornecido a partir do tanque de oxigênio 594 por meio de uma linha de alimentação de oxigênio 596 controlada por um controlador de fluxo de massa 598 e dotada de uma válvula de interrupção de oxigênio 600. IV.A. No aparelho da FIG. 1, a estação de revestimento de vaso 28 pode ser, por exemplo, um aparelho de PECVD conforme adicionalmente descrito a seguir, operado sob condições adequadas para depositar uma barreira de SiOx ou outro tipo de revestimento 90 sobre a superfície interna 88 de um vaso 80, conforme mostrado na FIG. 2. IV.A. Com referência especificamente às FIGS. 1 e 2, a estação de processamento 28 pode incluir um elétrodo 160 alimentado por um suprimento de energia de radiofrequência 162 para fornecer um campo elétrico a fim de gerar plasma dentro do vaso 80 durante o processamento. Nessa modalidade, a sonda 108 é também eletricamente condutora e está ligada à terra, assim fornecendo um contra-elétrodo dentro do vaso 80. Em alternativa, em qualquer modalidade, o elétrodo externo 160 pode estar ligado à terra e a sonda 108 diretamente ligada à fonte de alimentação 162. IV.A. Na modalidade da FIG. 2, o elétrodo externo 160 pode ser geralmente cilíndrico, tal como ilustrado na FIG. 2 ou ser um canal alongado com forma geralmente em U, tal como ilustrado na FIG. 2. Cada modalidade ilustrada tem uma ou mais paredes laterais, como 164 e 166 e, opcionalmente, uma extremidade de topo 168, dispostas em torno do vaso 80 em proximidade. IV.A O elétrodo 160 mostrado na FIG. 2 pode ser conformado como um canal em “U” com seu comprimento na página e o disco ou retentor de vaso 50 pode se mover através do elétrodo ativado (energizado) durante o processo de tratamento/revestimento. É de notar que uma vez que os elétrodos internos e externos são utilizadas, este aparelho pode empregar uma frequência entre 50 Hz e 1 GHz aplicados a partir de uma fonte de alimentação 162 para o elétrodo de canal U 160. A sonda 108 pode ser ligada à terra para completar o circuito elétrico, permitindo que a corrente flua através do(s) gás(gases) de baixa pressão dentro do vaso 80. A corrente cria plasma para permitir o tratamento seletivo e/ou o revestimento da superfície interior 88 do dispositivo. IV.A O elétrodo na FIG. 2 pode também ser energizado por suprimento de energia pulsada. A pulsação permite a depleção de gases reativos e, então, a remoção de subprodutos antes da ativação e depleção (novamente) dos gases reativos. Os sistemas de energia pulsada são tipicamente caracterizados por seu ciclo de trabalho que determina a quantidade de tempo que o campo elétrico (e, portanto, o plasma) está presente. O tempo de atividade é relativo ao tempo de inatividade. Por exemplo, um ciclo de trabalho de 10 % pode corresponder a um tempo de atividade de 10 % de um ciclo onde a energia esteve inativada por 90 % do tempo. Como um exemplo específico, a energia deve ser ligada por 0,1 segundo e desligada por 1 segundo. Os sistemas de energia pulsada reduzem a entrada de energia eficaz para um dado suprimento de energia 162, visto que o período de inatividade resulta no tempo de processamento aumentado. Quando o sistema é pulsado, o revestimento resultante pode ser muito puro (nenhum subproduto ou contaminantes). Outro resultado de sistemas pulsados é a possibilidade de alcançar a deposição de camada atômica (ALD). Nesse caso, o ciclo de trabalho pode ser ajustado, tal que o tempo de atividade resulte na deposição de uma única camada de um material desejado. Nesse modo, uma única camada atômica é contemplada para ser depositada em cada ciclo. Essa abordagem pode resultar em revestimentos altamente estruturados e altamente puros (embora nas temperaturas necessárias para a deposição sobre superfícies poliméricas, as temperaturas, opcionalmente, são mantidas baixas (<100°C) e os revestimentos de baixa temperatura podem ser amorfos).

Uma estação de revestimento alternativa emprega uma cavidade de micro-ondas em vez de um elétrodo externo. A energia aplicada pode ser uma frequência de micro-ondas, por exemplo, de 2,45 GHz. No entanto, no contexto da presente invenção, é preferida um radiofrequência. MÉTODOS DE PECVD PARA A PRODUÇÃO DE REVESTIMENTOS V.1 Precursores para o Revestimento de PECVD

O precursor para o revestimento de PECVD da presente invenção é amplamente definido como um precursor organometálico. Um precursor organometálico é definido na presente descrição como compreendendo compostos de elementos de metal do Grupo III e/ou Grupo IV da Tabela Periódica que têm resíduos orgânicos, por exemplo, resíduos de hidrocarboneto, aminocarbono ou de oxicarbono. Os compostos organometálicos conforme definidos presentemente incluem qualquer precursor que tem porções orgânicas ligadas a silício ou a outros átomos de metal do Grupo III/IV diretamente ou, opcionalmente, ligadas através de átomos de oxigênio ou azoto. Os elementos relevantes do Grupo III da Tabela Periódica são Boro, Alumínio, Gálio, Índio, Tálio, Escândio, Ítrio e Lantânio, sendo o Alumínio e o Boro preferenciais. Os elementos relevantes do Grupo IV da Tabela Periódica são o Silício, Germânio, Estanho, Chumbo, Titânio, Zircônio, Háfnio e Tório, sendo o Silício e o Estanho preferenciais. Outros compostos orgânicos voláteis podem, também, ser contemplados. Entretanto, os compostos de organossilícios são preferenciais para realizar a presente invenção.

Um precursor de organossilício é contemplado, onde um “precursor de organossilício” é definido através da presente descrição mais amplamente como um composto que tem pelo menos uma dentre as ligações:

A primeira estrutura imediatamente acima é um átomo de silício tetravalente conectado a um átomo de oxigênio e a um átomo de carbono orgânico (sendo um átomo de carbono orgânico um átomo de carbono ligado a pelo menos um átomo de hidrogênio). A segunda estrutura imediatamente acima é um átomo de silício tetravalente conectado a uma ligação -NH- e a um átomo de carbono orgânico (sendo um átomo de carbono orgânico um átomo de carbono ligado a pelo menos um átomo de hidrogênio). Opcionalmente, o precursor de organossilício é selecionado do grupo que consiste em um siloxano linear, um siloxano monocíclico, um siloxano policíclico, um polissilsesquioxano, um silazano linear, um silazano monocíclico, um silazano policíclico, um polissilsesquiazano e uma combinação de quaisquer dois ou mais desses precursores. Também é contemplado como um precursor, apesar de não estar dentro das duas fórmulas imediatamente acima, um alquil trimetoxissilano.

Se um precursor contendo oxigênio (por exemplo, um siloxano) for usado, uma composição empírica representativa prevista resultante de PECVD em condições que formam um revestimento hidrofóbico ou lubrificante seria SiwOxCyHz Tal como definido na Secção de Definições, enquanto que uma composição empírica prevista representativa resultante de PECVD sob condições que formam um revestimento de barreira seria SiOx, em que x neste fórmula é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9. Se um precursor contendo azoto (por exemplo, um siloxano) for usado, a composição prevista seria Siw*Nx*Cy*Hz*, i.e. em SiwOxCyHz tal como especificado na Secção de definições, O é substituído por N e os índices são adaptados para a valência superior de N, quando comparada com O (3 em vez de 2). A última adaptação citada geralmente seguirá a razão de w, x, y e z em um siloxano para os índices correspondentes em sua contraparte aza. Em um aspeto particular da invenção, Siw*Nx*Cy*Hz* em que w*, x*, y*, e z* são definidos da mesma forma que w, x, y, e z para as contrapartes de siloxano, mas para um desvio opcional no número de átomos de hidrogênio.

Um tipo de material de partida precursor que tem a fórmula empírica acima é um siloxano linear, por exemplo, um material que tem a seguinte fórmula:

em que cada R é independentemente selecionado a partir de alquila, por exemplo, metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, t-butila, vinila, alcina ou outros e n é 1, 2, 3, 4 ou maior, opcionalmente, dois ou maior. Inúmeros exemplos de siloxanos lineares contemplados são: hexametil dissiloxano (HMDSO), octametil trissiloxano, decametil tetrassiloxano, dodecametil pentassiloxano, ou combinações de dois ou mais desses. Os silazanos análogos nos quais -NH- é substituído pelo átomo de oxigênio na estrutura acima também são úteis para a produção de revestimentos análogos. Inúmeros exemplos de silazanos lineares contemplados são octametil trissilazano, decametil tetrassilazano ou combinações de dois ou mais desses. V.C. Outro tipo de material de partida precursor é um siloxano monocíclico, por exemplo, um material que tem a seguinte fórmula estrutural:

na qual R é definida como para a estrutura linear e “a” é de 3 a cerca de 10 ou os silazanos monocíclicos análogos. Inúmeros exemplos contemplados de silazanos e siloxanos não substituídos e hetero-substituídos incluem 1,3,5-trimetil-1,3,5-tris(3,3,3- trifluoropropil)metil]ciclotrisiloxano 2,4,6,8-tetrametil-2,4,6,8-tetravinil ciclotetrasiloxano, pentametil ciclopentassiloxano, pentavinilpentametil ciclopentassiloxano, hexametil ciclotrissiloxano, hexafenil ciclotrissiloxano, octametil ciclotetrasiloxano (OMCTS), octafenil ciclotetrasiloxano, decametil ciclopentassiloxano dodecametil cicloexassiloxano, metil(3,3,3-trifluoropropil)ciclossiloxano,

Os organossilazanos cíclicos também são contemplados, como Octametil ciclotetrassilazano, 1,3,5,7-tetravinil-1,3,5,7-tetrametil ciclotetrassilazano hexametil ciclotrissilazano, octametil ciclotetrassilazano, decametil ciclopentassilazano, dodecametil ciclohexassilazano, ou combinações de quaisquer dois ou mais desses. V .C. Outro tipo de material de partida precursor é um siloxano policíclico, por exemplo, um material que tem uma dentre as seguintes fórmulas estruturais:

nas quais Y pode ser oxigênio ou azoto, E é silício e Z é um átomo de hidrogênio ou um substituinte orgânico, por exemplo, alquila como metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, t-butila, vinila, alcina ou outros. Quando cada Y é oxigênio, as estruturas respectivas, a partir da esquerda para a direita, são um silatrano, um silquasilatrano e um silproatrano. Quando Y é azoto, as estruturas respectivas são um azassilatrano, um azassilquasiatrano e um azassilproatrano. V .C. Outro tipo de material de partida precursor de siloxano policíclico é um polissilsesquioxano, com a fórmula empírica RSiO1,5 e a fórmula estrutural:

na qual cada R é um átomo de hidrogênio ou um substituinte orgânico, por exemplo, alquila como metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, t-butila, vinila, alcina ou outros. Dois materiais comerciais dessa classificação são poli(metil silsesquioxano) SST-eM01, no qual cada R é metila, e poli(metil-hidridossilsesquioxano) SST-3MH1.1, no qual 90 % dos grupos R são metila, 10 % são átomos de hidrogênio. Esse material está disponível em uma solução a 10 % em tetraidrofurano, por exemplo. As combinações de dois ou mais desses também são contempladas. Outros exemplos de um precursor contemplado são metilsilatrano, n° CAS 2288-13-3, no qual cada Y é oxigênio e Z é metila, metilazassilatrano, poli(metil silsesquioxano) (por exemplo, poli(metil silsesquioxano)SST-eM01), no qual cada R, opcionalmente, pode ser metila, poli(metil- hidridossilsesquioxano) SST-3MH1.1 (por exemplo, poli(metil- hidridossilsesquioxano) SST-3MH1.1), no qual 90 % dos grupos R são metila e 10 % são átomos de hidrogênio ou uma combinação de quaisquer dois ou mais desses. V .C. Os polissilsesquiazanos análogos nos quais -NH- é substituído pelo átomo de oxigênio na estrutura acima também são úteis para a produção de revestimentos análogos. Os exemplos de polissilsesquiazanos contemplados são um poli(metilsilsesquiazano), no qual cada R é metila, e um poli(metil-hidridossilsesquiazano, no qual 90 % dos grupos R são metila, 10 % são átomos de hidrogênio. As combinações de dois ou mais desses também são contempladas. V.C. Um precursor particularmente contemplado para a camada de lubricidade de acordo com a presente invenção é um siloxano monocíclico, por exemplo, é octametil ciclotetrasiloxano.

Um precursor particularmente contemplado para a camada hidrofóbica de acordo com a presente invenção é um siloxano monocíclico, por exemplo, é octametil ciclotetrasiloxano.

Um precursor particularmente contemplado para o revestimento de barreira de acordo com a presente invenção é um siloxano linear, por exemplo, é HMDSO. V .C. Em qualquer um dos métodos de revestimento de acordo com a presente invenção, a etapa de aplicação pode ser, opcionalmente, executada através da vaporização do precursor e fornecendo o mesmo nas imediações do substrato. Por exemplo, OMCTS é usualmente vaporizado através do aquecimento do mesmo a cerca de 50 °C antes da aplicação do mesmo no aparelho de PECVD. V .2 Método de PECVD Geral

No contexto da presente invenção, o método de PECVD a seguir é geralmente aplicado, sendo que o mesmo contém as seguintes etapas: (a) fornecer um gás de processo compreendendo um precursor tal como definido no presente documento (tipicamente um precursor de organossilício), opcionalmente um gás transportador, opcionalmente O2 , e opcionalmente um hidrocarboneto; e (b) gerar um plasma a partir do gás de processo, dessa maneira, formando um revestimento sobre a superfície do substrato através da deposição química por vapor melhorada por por plasma(PECVD).

A tecnologia de revestimento de plasma usada no presente documento se baseia na Deposição Química por Vapor Melhorada por Plasma (PECVD). Os métodos e aparelho adequados para realizar os referidos revestimento de PECVD são descritos nos documentos EP10162755.2 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162760.2 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162756.0 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162758.6 depositado em 12 de maio, 2010; EP10162761.0 depositado em 12 de maio, 2010; e EP10162757.8 depositado em 12 de maio, 2010. Os métodos e aparelho de PECVD tal como descritos no presente documento são adequados a executar a presente invenção e são portanto incorporados aqui a título de referência. Uma modalidade exemplificativa preferida da tecnologia PECVD será descrita nas secções que seguem.

O processo utiliza um vapor contendo silício que pode ser combinado com oxigênio a pressões reduzidas (gama de mTorr - pressão atmosférica é de 760 Torr) dentro de um recipiente.

Um campo elétrico gerado em, por exemplo, 13,56 MHz [gama de radiofrequência] é, então, aplicado entre um elétrodo externo e uma entrada de gás interna ligada à terra para criar um plasma. Às pressões e potências que são utilizadas para o revestimento de um recipiente, o processo de plasma é conduzido por ionização de impacto de eletrões, o que significa que os eletrões no processo são a força motriz da química. Especificamente, o plasma conduz a reação química por meio de ionização por impacto de eletrões do material contendo silício [por exemplo, hexametildissiloxano (HMDSO), ou outros reagentes como octametilciclotretrasiloxano (OMCTS)], resultando num revestimento de dióxido de silício ou SiwOxCyHz depositado nas superfícies interiores do recipiente. Estes revestimentos têm em uma modalidade típica da ordem de 20 ou mais nanômetros de espessura. O HMDSO consiste de uma cadeia principal de Si-O-Si, com seis (6) grupos metila ligados aos átomos de silício. O processo rompe as ligações Si-C e (na superfície do tubo ou seringa) reage com o oxigênio para formar dióxido de silício. Uma vez que o revestimento é cultivado numa base atômica, os revestimentos densos isolantes com espessuras de 20-30 nanômetros podem conseguir propriedades de barreira significativas. O óxido de silício atua como uma barreira física para os gases, umidade, e pequenas moléculas orgânicas, e é de maior pureza do que o vidro comercial. O OMCTS resulta em revestimentos com propriedades de lubricidade ou anti-adesão. A sua espessura média é geralmente maior do que a espessura do revestimento de barreira de SiOx, por exemplo de 30 a 1000 nm em média.

A tecnologia é única em diversos aspectos: (a) O processo utiliza o recipiente rígido como câmara de vácuo. A PECVD convencionalmente usa um vaso de vácuo secundário no qual são carregadas as parte(s) e revestidas. A utilização do recipiente, como uma câmara de vácuo simplifica significativamente o aparelho do processo e reduz o tempo de ciclo/processamento e, portanto, o custo de fabricação e capital. Essa abordagem também reduz questões de aumentos, visto que os aumentos são tão simples como replicar o número de tubos ou seringas necessários para cumprir com os requisitos de taxa. (b) a excitação por Radiofrequência do plasma permite que a energia seja transmitida para o gás ionizado com pouco aquecimento da peça. Ao contrário das energias de excitação por micro-ondas, normalmente utilizadas em PECVD, que transmitem energia significativa para as moléculas de água na peça em si mesma, a radiofrequência não irá preferencialmente aquecer os tubos poliméricos ou seringas. A absorção de calor controlada é fundamental para evitar o aumento da temperatura do substrato que se aproxima das temperaturas de transição vítrea do plástico, causando perda de integridade dimensional (colapso sob vácuo). (c) revestimento de barreira ao gás de camada simples - que a nova tecnologia pode gerar uma única camada de dióxido de silício diretamente na superfície interior da peça. A maioria das outras tecnologias de barreira (filme fino) requerem pelo menos duas camadas. (d) Revestimentos de barreira-lubricidade combinados - a nova tecnologia utiliza um revestimento combinado de SiOx/SiwOxCyHz para proporcionar múltiplos atributos de desempenho (barreira/lubricidade).

A tecnologia da deposição de plasma, num aspecto preferido, utiliza uma configuração de fabrico simples. O sistema baseia-se num "disco", que é utilizado no transporte de tubos e seringas para dentro e para fora da estação de revestimento. A interface do dispositivo-disco (ver Figura 6) é fundamental, já que uma vez que as condições de revestimento/caracterização são estabelecidas na dimensão piloto, não há problemas de dimensão quando se muda para a produção em grande escala; um simplesmente aumenta o número de discos ao longo do mesmo processo. O disco é fabricado a partir de um material polimérico (por exemplo Delrin™) para proporcionar uma base isolada eletricamente. O recipiente (por exemplo, um tubo como na Fig. 6) é montado no disco, em que a abertura maior é vedada contra um anel-em-O (montado no disco propriamente dito). O anel-em-O proporciona a vedação de vácuo entre a peça e o disco de modo que o ar ambiente (principalmente o azoto e oxigênio, com algum vapor de água) pode ser removido (pressão reduzida), e os gases de processo são introduzidos. O disco tem várias características primordiais, para além do anel-em-O. O disco fornece um meio de ligação com a bomba de vácuo (que bombeia para longe os gases atmosféricos e os subprodutos da reação de dióxido de silício), um meio de alinhamento com precisão da entrada de gás na peça, e um meio de fornecer uma vedação de vácuo entre o disco e a entrada de gás.

Para a deposição de SiO2 , HMDSO e gases de oxigênio são então admitidos no recipiente através da entrada de gás ligada à terra, que se projeta para o interior da peça. Nesta altura, o disco e o recipiente são movidos para a área do elétrodo. O elétrodo é construído a partir de um material condutor (por exemplo cobre) e fornece um túnel através do qual passa a peça. O elétrodo não entra em contato físico com o recipiente ou o disco e é apoiado de forma independente. Uma rede de impedância de correspondência de RF e fonte de alimentação são conectadas diretamente ao elétrodo. A fonte de energia fornece energia (em 13,56 MHz) à rede de impedância correspondente. A rede de correspondência RF age para fazer corresponder a impedância de saída da fonte de alimentação para a impedância complexa (capacitiva e indutiva) dos gases ionizados. A rede correspondente proporciona a entrega de potência máxima ao gás ionizado que assegura a deposição do revestimento de dióxido de silício.

Uma vez que o recipiente é revestido (à medida que o disco move o recipiente através do canal de elétrodos - que é estacionário), os gases são interrompidos e o ar atmosférico (ou azoto puro) é deixado entrar no interior do disco/recipiente para restabelecer a pressão atmosférica. Neste momento, o recipiente pode ser removido a partir do disco e ser transferido para a estação de processamento seguinte.

A descrição acima descreve claramente o meio de revestimento de um recipiente que tem apenas uma abertura. As seringas requerem uma etapa adicional antes e após o carregamento no disco. Uma vez que as seringas têm aberturas em ambas as extremidades (uma para ligação a uma agulha e a segunda para a instalação de um êmbolo), a extremidade da agulha deve ser selada antes do revestimento. O processo descrito acima permite que os gases de reação sejam admitidos para o interior da peça de plástico, que uma corrente elétrica passe através do gás no interior da peça e que um plasma seja estabelecido no interior da peça. O plasma (uma composição ionizada de HMDSO ou OMCTS e gases de oxigênio) é o que dirige a química e a deposição do revestimento de plasma.

No método, as características de revestimento são vantajosamente definidas por uma ou mais das seguintes condições: as propriedades de plasma, a pressão sob a qual o plasma é aplicado, a energia aplicada para gerar o plasma, a presença e quantidade relativa de O2 no reagente gasoso, o volume de plasma, e o precursor de organossilício. Opcionalmente, as características de revestimento são ajustadas pela presença e quantidade relativa de O2 no reagente gasoso e/ou a energia aplicada para gerar o plasma.

Em todas as modalidades da presente invenção, o plasma é, em um aspeto opcional, um plasma de cátodo não oco, quando é preparado um revestimento de SiOx.

Em um aspecto preferencial adicional, o plasma é gerado em pressão reduzida (quando comparada à pressão atmosférica ou ambiente). Opcionalmente, a pressão reduzida é menor que 300 mTorr, opcionalmente menor que 200 mTorr, mais opcionalmente menor que 100 mTorr.

A PECVD é opcionalmente realizada através da energização do reagente gasoso que contém o precursor com elétrodos energizados a uma frequência em micro-ondas ou radiofrequência e, opcionalmente, a uma radiofrequência. A radiofrequência preferencial para executar uma modalidade da invenção também será denominada como “frequência RF”. Uma faixa de radiofrequência típica para desempenhar a presente invenção é uma frequência de cerca de 10 kHz até menos que 300 MHz, opcionalmente de cerca de 1 a 50 MHz, mais opcionalmente ainda de cerca de 10 a 15 MHz. Uma frequência de 13,56 MHz é da máxima preferência, sendo essa uma frequência sancionada pelo governo para a realização de trabalho de PECVD. Existem inúmeras vantagens para o uso de uma fonte de alimentação de RF versus uma fonte de micro-ondas: Visto que a RF opera em uma energia baixa, há menor aquecimento do substrato/vaso. Como o foco da presente invenção é colocar um revestimento de plasma sobre substratos plásticos, as temperaturas de processamento inferiores são desejadas para evitar a fusão/distorção do substrato. Para evitar que o substrato superaqueça durante o uso de PECVD com micro-ondas, a PECVD com micro-ondas é aplicada em explosões curtas, através da pulsação da energia. A pulsação da energia estende o tempo de ciclo para o revestimento, o que é indesejado na presente invenção. As micro-ondas de frequência mais elevada podem, também, causar a desgaseificação de substâncias voláteis como água residual, oligômeros e outros materiais no substrato plástico. Essa desgaseificação pode interferir no revestimento de PECVD. Também pode interferir com a medição da desgaseificação da presente invenção, uma vez que alterará o teor e composição de compostos voláteis no substrato revestido. Uma preocupação principal com o uso de micro-ondas para PECVD é a delaminação do revestimento a partir do substrato. A delaminação ocorre porque as micro-ondas alteram a superfície do substrato antes da deposição da camada de revestimento. Para mitigar a possibilidade de delaminação, as camadas de revestimento de interface são desenvolvidas por PECVD com micro-ondas para alcançar uma boa ligação entre o revestimento e o substrato. Nenhuma camada de revestimento de interface é necessária com PECVD de RF visto que não existe risco de delaminação. Finalmente, a camada de lubricidade e a camada hidrofóbica de acordo com a presente invenção são Vantajosamente aplicadas com o uso de energia inferior. A energia de RF opera em energia inferior e fornece maior controle sobre o processo de PECVD do que a energia de micro-ondas. Apesar de tudo, a energia de micro-ondas, embora menos preferencial, é utilizável sob condições de processo adequadas.

Adicionalmente, para todos os métodos de PECVD descritos na presente invenção, há uma correlação específica entre a energia (em Watts) usada para gerar o plasma e o volume do lúmen em que o plasma é gerado. Tipicamente, o lúmen é o lúmen de um vaso revestido de acordo com a presente invenção. A energia de RF deve ser escalonada com o volume do vaso se o mesmo sistema de elétrodo for empregado. Uma vez que a composição de um reagente gasoso, por exemplo, a razão entre o precursor e O2, e todos os outros parâmetros do método de revestimento de PECVD, exceto a energia, tiverem sido ajustados, esses tipicamente não alterarão quando a geometria de um vaso for mantida e apenas seu volume for variado. Nesse caso, a energia será diretamente proporcional ao volume. Dessa forma, iniciando a partir das razões entre energia e volume fornecidas pela presente descrição, a energia que tem que ser aplicada a fim de alcançar o revestimento igual ou um similar em um de mesma geometria, porém com tamanho diferente, pode facilmente ser encontrada. A influência da geometria do vaso sobre a energia a ser aplicada é ilustrada pelos resultados dos exemplos para tubos em comparação aos exemplos para tambores de seringa.

Para qualquer revestimento da presente invenção, o plasma é gerado com elétrodos energizados com energia suficiente para formar um revestimento sobre a superfície do substrato. Para um revestimento de lubricidade, ou revestimento hidrofóbico, no método de acordo com qualquer modalidade da invenção, o plasma é opcionalmente gerado. (i) com elétrodos fornecidos com uma potência elétrica de desde 0,1 a 25 W, opcionalmente de 1 a 22 W, opcionalmente de 1 a 10 W, ainda opcionalmente de 1 a 5 W, opcionalmente de 2 a 4 W, por exemplo de 3 W, opcionalmente de 3 a 17 W, ainda opcionalmente de 5 a 14 W, por exemplo, 6 ou 7,5 W, opcionalmente de 7 a 11 W, por exemplo, de 8 W.; e/ou (ii) em que a razão entre a potência do elétrodo para o volume de plasma é inferior a 10 W/mL, opcionalmente de 6 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 5 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 4 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 3 W/mL a 0,2 W/mL, opcionalmente de 2 W/mL a 0,2 W/mL.

Os níveis de baixa potência são acreditados pelos inventores como sendo mais vantajosos (por exemplo, os níveis de potência de 2 a 3,5 W e os níveis de potência dados nos Exemplos) para preparar um revestimento de lubricidade.

Para um revestimento de barreira ou revestimento SiOx o plasma é gerado opcionalmente (i) com os elétrodos fornecidos com uma potência elétrica de 8 a 500 W, opcionalmente de 20 a 400 W, opcionalmente de 35 a 350 W, ainda mais opcionalmente de 44 a 300 W, opcionalmente de 44 a 70 W; e/ou (ii) a razão entre a potência do elétrodo e o volume de plasma é igual ou maior que 5 W/mL, opcionalmente de 6 W/mL a 150 W/mL, opcionalmente de 7 W/mL a 100 W/mL, opcionalmente de 7 W/mL a 20 W/mL.

A geometria de vaso pode, também, influenciar a escolha da entrada de gás usada para o revestimento de PECVD. Em um aspecto particular, uma seringa pode ser revestida com uma entrada de tubo aberta, e um tubo pode ser revestido com uma entrada de gás que tem pequenos orifícios que se estendem no tubo.

A energia (em Watts) usada para PECVD tem, também, uma influência sobre as propriedades de revestimento. Tipicamente, um aumento da energia aumentará as propriedades de barreira do revestimento, e uma redução da energia aumentará a lubricidade e capacidade hidrofóbica do revestimento. Por exemplo, para um revestimento sobre a parede interna de um tambor de seringa que tem um volume de cerca de 3 mL, uma energia menor que 30 W levará a um revestimento que é predominantemente um revestimento de lubricidade, enquanto que uma energia maior que 30 W levará a um revestimento que é predominantemente um revestimento de barreira (ver Exemplos). Isso é também demonstrado nos <exemplos do documento EP 2 251 455 A2, ao qual é aqui feita referência explícita.

Um parâmetro adicional que determina as propriedades de revestimento é a razão entre O2 (ou outro agente oxidante) e o precursor (por exemplo, precursor de organossilício) no reagente gasoso usado para gerar o plasma. Tipicamente, um aumento do teor de O2 no reagente gasoso aumentará as propriedades de barreira do revestimento, e uma redução do teor de O2 aumentará a lubricidade e capacidade hidrofóbica do revestimento.

Se uma camada de lubricidade for desejada, então, O2 está, de preferência, presente em uma razão de volume-volume para o reagente gasoso de cerca de 0:1 a 5:1, opcionalmente de 0:1 a 1:1, mais opcionalmente de 0:1 a 0,5:1 ou mesmo de 0:1 a 0,1:1. Se prefere que algum O2 esteja presente, opcionalmente, em uma quantidade de 0,01:1 a 0,5:1, mais opcionalmente de 0,05:1 a 0,4:1, em particular de 0,1:1 a 0,2:1 em relação ao precursor de organossilício. A presença de O2 em um volume de cerca de 5 % a cerca de 35 % (v/v em sccm) em relação ao precursor de organossilício, em particular de cerca de 10 % a cerca de 20 % e em uma razão tal como a dada nos Exemplos, é especialmente adequada para atingir um revestimento de lubricidade.

O mesmo se aplica a uma camada hidrofóbica. Se, por outro lado, um revestimento de barreira ou de SiOx for desejado, então o O2 está opcionalmente presente em uma razão volume : volume para com o reagente gasoso de 1 : 1 a 100 : 1 em relação ao precursor contendo o silício, opcionalmente em uma razão de 5 : 1 a 30 : 1, opcionalmente em uma razão de 10 : 1 a 20 : 1, ainda opcionalmente em uma razão de 15 : 1. V.A. PECVD para aplicar revestimento de barreira de SiOx, com o uso de plasma que é substancialmente isento de plasma de cátodo oco V.A. Uma modalidade específica é um método de aplicação de um revestimento de barreira de SiOx, definido na presente descrição (exceto quando especificado de outra maneira em uma instância particular) como um revestimento contendo silício, oxigênio e, opcionalmente, outros elementos, no qual x, a razão entre oxigênio e átomos de silício, é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9 ou 1,5 a cerca de 2,6 ou cerca de 2. Essas definições alternativas de x se aplicam a qualquer uso do termo SiOx na presente descrição. O revestimento de barreira é aplicado no interior de um vaso, por exemplo, um tubo de coleta de amostra, um tambor de seringa ou outro tipo de vaso. O método inclui várias etapas. V.A. Apresenta-se uma parede de vaso, tal como é uma mistura de reação que compreende gás formador de plasma, isto é, um gás de composto de organossilício, opcionalmente, um gás oxidante e, opcionalmente, um gás hidrocarboneto. V.A. O plasma é formado na mistura de reação que é substancialmente isenta de plasma de cátodo oco. A parede de vaso é colocada em contato com a mistura de reação e o revestimento de SiOx é depositado sobre pelo menos uma porção da parede de vaso. V.A. Em certas modalidades, a geração de um plasma uniforme através de toda a porção do vaso a ser revestido é contemplada, visto que o mesmo revelou em certas instâncias gerar um revestimento de SiOx que fornece uma melhor barreira contra o oxigênio. O plasma uniforme significa plasma regular que não inclui uma quantidade substancial de plasma de cátodo oco (que tem uma intensidade de emissão mais elevada do que o plasma regular e é manifestado como uma área localizada de intensidade superior que interrompe a intensidade mais uniforme do plasma regular). V.A. O efeito de cátodo oco é gerado por um par de superfícies condutoras opostas entre si com o mesmo potencial negativo em relação a um ânodo comum. Se o espaçamento for feito (dependendo da pressão e tipo de gás) tal que as bainhas de carga de espaço se sobreponham, os elétrons começam a oscilar entre os potenciais de reflexão das bainhas de parede oposta levando a múltiplas colisões, à medida que os elétrons são acelerados pelo gradiente potencial através da região da bainha. Os elétrons são confinados na sobreposição de bainha de carga de espaço que resulta em uma ionização muito alta e em plasmas de alta densidade de íons. Esse fenômeno é descrito como o efeito de cátodo oco. Os peritos na técnica são capazes de variar as condições de processamento, como o nível de energia e as taxas de alimentação ou pressão dos gases, para formar um plasma uniforme através de ou para formar plasma incluindo vários graus de plasma de cátodo oco. V.A. O plasma é tipicamente gerado usando energia de RF pelas razões dadas anteriormente. Em um método alternativo, mas menos típico, a energia de micro-ondas pode ser usada para gerar o plasma em um processo PECVD As condições de processamento podem ser diferentes, entretanto, a energia de micro-ondas aplicada em um vaso termoplástico excitará (vibrará) as moléculas de água. Desde que exista uma pequena quantidade de água em materiais plásticos, as micro-ondas aquecerão o plástico. À medida que o plástico esquenta, a grande força de acionamento criada pelo vácuo dentro do dispositivo em relação à pressão atmosférica fora do dispositivo irá puxar ou facilmente dessorver materiais livres para a superfície interna 88 onde se tornarão voláteis ou serão fracamente ligados à superfície. Os materiais fracamente ligados criarão, então, uma interface que pode retardar revestimentos subsequentes (depositados a partir do plasma) de se aderirem à superfície interna plástica 88 do dispositivo. V.A. Como um modo para negar esse efeito de retardamento do revestimento, um revestimento pode ser depositado em energia muito baixa (no exemplo acima de 5 a 20 Watts em 2,45 GHz) criando uma tampa sobre a qual revestimentos subsequentes podem se aderir. Isso resulta em um processo de revestimento de duas etapas (e duas camadas de revestimento). No exemplo acima, os fluxos de gás inicial (para a camada de tampamento) podem ser alterados para 2 sccm (“centímetros cúbicos padrão por minuto”) de HMDSO e 20 sccm de oxigênio com uma energia de processo de 5 a 20 Watts por aproximadamente 2 a 10 segundos. Então, os gases podem ser ajustados aos fluxos no exemplo acima e o nível de energia aumentado para 20-50 Watts, tal que um revestimento de SiOx, no qual x nessa fórmula é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9, alternativamente, de cerca de 1,5 a cerca de 2,6, alternativamente de cerca de 2, possa ser depositado. Note- se que a camada de tampamento pode fornecer pouca a nenhuma funcionalidade em determinadas modalidades, exceto para evitar que materiais migrem para a superfície interna do vaso 88 durante a deposição de revestimentos de SiOxx de energia superior. Nota-se também que a migração de materiais facilmente dessorvidos nas paredes de dispositivo, tipicamente, não é um problema em frequências inferiores como a maioria das faixas de RF, visto que as frequências inferiores não excitam (vibram) espécie molecular. V.A. Como outro modo para negar o efeito de retardamento do revestimento descrito acima, o vaso 80 pode ser seco para remover a água integrada antes da aplicação de energia de micro-ondas. A dessecação ou secagem do vaso 80 pode ser realizada, por exemplo, pelo termo-aquecimento do vaso 80, através do uso de um aquecedor elétrico ou aquecimento de ar forçado. A dessecação ou secagem do vaso 80 podem, também, ser realizadas pela exposição do interior do vaso 80, ou colocando o gás em contato com o interior do vaso 80, a um dessecante. Outros expedientes para a secagem do vaso, como a secagem a vácuo, podem também ser usados. Esses expedientes podem ser executados em uma ou mais dentre as estações ou dispositivos ilustrados ou por uma estação ou dispositivo espaçados. V.A. Adicionalmente, o efeito de retardamento do revestimento descrito acima pode ser tratado através da seleção ou processamento da resina a partir da qual os vasos 80 são moldados para minimizar o teor de água da resina. V .B. Abertura restringida por Revestimento de PECVD de vaso (capilar de seringa) V .B. As FIGS. 4 e 5 mostram um método e aparelho geralmente indicados em 290 para o revestimento de uma superfície interna 292 de uma abertura restringida 294 de um vaso geralmente tubular 250 a ser processado, por exemplo, a abertura frontal restringida 294 de um tambor de seringa 250, por PECVD. O processo anteriormente descrito é modificado através da conexão da abertura restringida 294 a um vaso em processamento 296 e, opcionalmente, da efetuação de determinadas modificações. V .B. O vaso geralmente tubular 250 a ser processado inclui uma superfície externa 298, uma superfície interna ou interior 254 definindo um lúmen 300, uma abertura maior 302 que tem um diâmetro interno, e uma abertura restringida 294 que é definida por uma superfície interna 292 e tem um diâmetro interno menor que o diâmetro interno da abertura maior 302. V .B. O vaso em processamento 296 tem um lúmen 304 e uma abertura de vaso em processamento 306, que opcionalmente é a única abertura, embora em outras modalidades uma segunda abertura possa ser fornecida que está opcionalmente fechada durante o processamento. A abertura de vaso em processamento 306 está conectada à abertura restringida 294 do vaso 250 a ser processado a fim de estabelecer comunicação entre o lúmen 300 do vaso 250 a ser processado e o lúmen do vaso em processamento através da abertura restringida 294. V .B. Ao menos um vácuo parcial é extraído do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado e do lúmen 304 do vaso em processamento 296. Um reagente de PECVD flui desde a fonte de gás 144, através da primeira abertura 302, depois através d lúmen 300 do vaso 250 a ser processado, e então através da abertura restringida 294, então para o interior do lúmen 304 do vaso em processamento 296. V .B. O reagente de PECVD pode ser introduzido através da maior abertura 302 do vaso 250 ao fornecer um elétrodo interno geralmente tubular 308 tendo uma passagem interna 310, uma extremidade proximal 312, uma extremidade distal 314 e uma abertura distal 316, em uma modalidade alternativa, múltiplas aberturas distais podem ser fornecidas adjacentes à extremidade distal 314 e que comunicam com a passagem interna 310. A extremidade distal do elétrodo 308 pode ser colocada adjacente a ou na maior abertura 302 do vaso 250 a ser processado. Um gás reagente pode ser alimentado através da abertura distal 316 do elétrodo 308 para o lúmen 300 do vaso 250 a ser processado. O reagente irá fluir através da abertura restringida 294, então para o lúmen 304, na medida em que o reagente de PECVD for fornecido a uma pressão superior que o vácuo inicialmente extraído antes da introdução do reagente de PECVD. V .B. O plasma 318 é gerado em posição adjacente à abertura restringida 294 sob condições eficazes para depositar um revestimento de um produto de reação de PECVD sobre a superfície interna 292 da abertura restringida. Na modalidade ilustrada na FIG. 4, o plasma é gerado pela alimentação de energia de RF para o elétrodo externo geralmente em forma de U 160 e pela ligação à terra do elétrodo interno 308. A alimentação e as ligações à terra para os elétrodos pode também ser invertida, embora esta inversão possa introduzir complexidade se o vaso 250 a ser processado, e assim também o elétrodo interno 308, se estiverem movendo através do elétrodo externo em forma de U, enquanto o plasma está sendo gerado. V .B. O plasma 318 gerado no vaso 250 durante pelo menos uma porção do processamento pode incluir plasma de cátodo oco gerado no interior da abertura restringida 294 e/ou o lúmen do vaso em processamento 304. A geração de plasma de cátodo oco 318 pode contribuir para a capacidade de aplicar com êxito um revestimento de barreira na abertura restringida 294, embora a invenção não esteja limitada de acordo com a precisão ou aplicabilidade desta teoria de funcionamento. Desta forma, em um modo previsto de operação, o processamento pode ser executado parcialmente sob condições gerando um plasma uniforme através do vaso 250 e a entrada de gás e, parcialmente, sob condições gerando um plasma de cátodo oco, por exemplo, adjacente à abertura restringida 294. V .B. O processo é desejavelmente operado em condições tais, tal como explicado aqui e mostrado nos desenhos, que o plasma 318 se estende substancialmente ao longo do lúmen da seringa 300 e a abertura restringida 294. O plasma 318 também desejavelmente se estende substancialmente ao longo do lúmen da seringa 300, da abertura restringida 294, e do lúmen 304 do vaso em processamento 296. Isto pressupõe que um revestimento uniforme do interior 254 do vaso 250 é desejado. Em outras modalidades, o plasma não-uniforme pode ser desejado. V .B. Em geral, é desejável que o plasma 318 tenha uma cor substancialmente uniforme ao longo do lúmen da seringa 300 e abertura restringida 294 durante o processamento, e, opcionalmente, uma cor substancialmente uniforme, substancialmente em todo o lúmen da seringa 300, abertura restringida 294, e lúmen 304 do vaso em processamento 296. O plasma é desejavelmente substancialmente estável ao longo do lúmen da seringa 300 e da abertura restringida 294, e, opcionalmente, também ao longo do lúmen 304 do vaso em processamento 296. V .B. A ordem de etapas neste método não é prevista como crítica. V .B. Na modalidade das FIGS. 4 e 5, a abertura restringida 294 tem um primeiro encaixe 332 e a abertura de vaso em processamento 306 tem um segundo encaixe 334 adaptado para assentar no primeiro encaixe 332 a fim de estabelecer comunicação entre o lúmen 304 do vaso em processamento 296 e o lúmen 300 do vaso 250 a ser processado. V .B. Na modalidade das FIGS. 4 e 5, os primeiro e segundo encaixes são encaixes de travamento Luer macho e fêmea 332 e 334, respectivamente integrantes da estrutura que define a abertura restringida 294 e a abertura do vaso em processamento 306. Um dos encaixes, neste caso, o encaixe de travamento Luer macho 332, compreende um colar de travamento 336 com uma superfície de rosca interna e que define um primeiro contra-apoio 338 geralmente anular virado de modo axial e o outro encaixe 334 compreende um segundo contra- apoio geralmente anular, virado de modo axial 340, que está virado para o primeiro contra-apoio 338 quando os encaixes 332 e 334 são encaixados. V .B. Na modalidade ilustrada, uma vedação, por exemplo um anel-em-O 342, pode ser posicionada entre os primeiro e segundo encaixes 332 e 334. Por exemplo, uma vedação anular pode ser engatada entre os primeiro e segundo contra-apoios 338 e 340. O encaixe Luer fêmea 334 inclui também garras 344 que engatam na superfície roscada interna do colar de travamento 336 para capturar o anel-em-O 342 entre os primeiro e segundo encaixes 332 e 334. Opcionalmente, a comunicação estabelecida entre o lúmen 300 do vaso 250 a ser processado e o lúmen 304 do vaso em processamento 296 via a abertura restringida 294 é pelo menos substancialmente à prova de fugas. V .B. Como uma opção adicional, um ou ambos dentre os encaixes de travamento de Luer 332 e 334 podem ser produzidos de um material eletricamente condutor, por exemplo, aço inoxidável. Esta formação de material de construção ou adjacente à abertura restringida 294 pode contribuir para a formação do plasma na abertura restringida 294. V .B. O volume desejável do lúmen 304 do vaso em processamento 296 é previsto como sendo uma troca entre um pequeno volume que não irá se desviar muito do fluxo de reagente na direção contrária às superfícies do produto desejados a serem revestidas e um grande volume que irá suportar uma taxa de fluxo de reagente de reagente generosa através da abertura restringida 294 antes da carga do lúmen 304 de maneira eficaz para reduzir aquela taxa de fluxo a um valor menor desejável (através da redução da diferença de pressão ao longo da abertura restringida 294). O volume previsto do lúmen 304, em uma modalidade, é menor que três vezes o volume do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado, ou menos que duas vezes o volume do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado, ou menos que o volume do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado, ou menos que 50 % do volume do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado, ou menos que 25 % do volume do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado. Outras relações eficazes entre os volumes dos respectivos lúmens também são previstas. V .B. Os inventores verificaram que a uniformidade do revestimento pode ser aperfeiçoada em determinadas modalidades através do reposicionamento da extremidade distal do elétrodo 308 em relação ao vaso 250 já que a mesma não penetra tão longe no lúmen 300 do vaso 250 como a posição do elétrodo interno mostrado nas Figuras anteriores. Por exemplo, embora em determinadas modalidades a abertura distal 316 possa ser posicionada adjacente à abertura restringida 294, em outras modalidades, a abertura distal 316 pode ser posicionada menos que 7/8 da distância, opcionalmente menos que ^ da distância, opcionalmente menos que metade da distância em relação à abertura restringida 294 da maior abertura 302 do vaso a ser processado enquanto alimenta o gás reagente. Ou, abertura distal 316 pode ser posicionada a menos de 40 %, a menos de 30 %, a menos de 20 %, a menos de 15 %, a menos de 10 %, a menos de 8 %, a menos de 6 %, a menos de 4 %, a menos de 2 %, ou a menos de 1 % da distância da abertura restringida 294 da maior abertura do vaso a ser processado enquanto alimenta o gás reagente. V .B. Ou, a extremidade distal do elétrodo 308 pode ser posicionada ligeiramente para dentro ou para fora, ou ser alinhada com a abertura maior 302 do vaso 250 a ser processado durante a comunicação com, e alimentação do gás reagente para o interior do vaso 250. O posicionamento da abertura distal 316 em relação ao vaso 250 a ser processado pode ser optimizada para obter as dimensões específicas e outras condições de tratamento, testando-a em várias posições. Uma posição particular do elétrodos 308 contemplada para o tratamento de tambores de seringa 250 é com a extremidade distal 314 penetrando cerca de um quarto de polegada (cerca de 6 mm) para o interior do lúmen do vaso 300 acima da maior abertura 302. V .B. Os inventores contemplam atualmente que é vantajoso colocar pelo menos a extremidade distal 314 do elétrodo 308 no interior do vaso 250 de modo a funcionar adequadamente como um elétrodo, embora não seja necessariamente uma exigência. Surpreendentemente, o plasma 318 gerado no vaso 250 pode ser feito de maneira mais uniforme, se estendendo através da abertura restringida 294 para o interior do lúmen de vaso em processamento 304, com menos penetração do elétrodo 308 no interior do lúmen 300 do que o que foi empregado anteriormente. Com outras disposições, como o processamento de um vaso de extremidade fechada, a extremidade distal 314 do elétrodo 308 é comumente colocada mais próxima à extremidade fechada do vaso do que à sua entrada. V .B. Ou, a extremidade distal 314 do elétrodo 308 pode ser posicionada na abertura restringida 294 ou além da abertura restringida 294, por exemplo, dentro do lúmen do vaso em processamento 304, como ilustrado por exemplo na FIG. 33. Vários expedientes podem, opcionalmente, ser fornecidos, como a formação do vaso em processamento 296 para melhorar o fluxo de gás através da abertura restringida 294. V .B. Como outra alternativa, o elétrodo interno compósito e o tubo de abastecimento de gás podem ter aberturas de abastecimento de gás distais, opcionalmente localizadas próximas à maior abertura 302 e um elétrodo de extensão que se estende distalmente das aberturas de abastecimento de gás distais, se estendendo, opcionalmente, para uma extremidade distal adjacente à abertura restringida 294 e, opcionalmente, se estendendo adicionalmente para o interior do vaso em processamento. Essa construção é contemplada para facilitar a formação de plasma no interior da superfície interna 292 adjacente à abertura restringida 294. V .B. Em ainda outra modalidade contemplada, o elétrodo interno 308, como mostrado na FIG. 4, pode ser movido durante o processamento, por exemplo, primeiramente se estendendo para o interior do lúmen do vaso em processamento 304, então, sendo retirado progressivamente de maneira proximal à medida que o processo prossegue. Este expediente é particularmente contemplado, se o vaso 250, sob as condições de processamento selecionadas, for longo, e o movimento do elétrodo interno facilitar um tratamento mais uniforme da superfície interior 254. Usando este expediente, as condições de processamento, tais como a taxa de alimentação de gás, a taxa de extração de vácuo, a energia elétrica aplicada ao elétrodo externo 160, a taxa de extração do elétrodo interno 308, ou outros factores, podem ser variados à medida que o processo prossegue, assim personalizando o processo a diferentes partes de um vaso a ser tratado. V .B. De forma conveniente, tal como nos outros processos descritos na presente descrição, a maior abertura do vaso geralmente tubular 250 a ser processado pode ser colocada sobre um suporte de vaso, tal como assentar a maior abertura 302 do vaso 250 a ser processado em uma porta do suporte de vaso. Em seguida, o elétrodo interno 308 pode ser posicionado dentro do vaso 250 encaixado no suporte de vaso antes de extrair, pelo menos, um vácuo parcial no interior do lúmen 300 do vaso 250 a ser processado. V .C. Método de Aplicação de uma Camada de Lubricidade V .C. Outra modalidade é um método de aplicação de uma camada de lubricidade derivada de um precursor de organossilício. Esse método e os revestimentos de lubricidade e artigos revestidos são também descritos no documento PCT/US11/36097 depositado a 11 de maio 2011. É aqui feita referência explícita ao referido pedido de modo a salientar tais métodos, revestimentos e artigos revestidos e suas características.

Uma ”camada de lubricidade” ou qualquer termo similar é geralmente definido como um revestimento que reduz a resistência ao atrito da superfície revestida, em relação à superfície não revestida. Se o objeto revestido for uma seringa (ou parte da seringa, por exemplo, o tambor da seringa) ou qualquer outro item que contém geralmente um êmbolo ou parte móvel em contato deslizante com a superfície revestida, a resistência ao atrito tem dois aspectos principais - força de rompimento e força de deslizamento do êmbolo.

O teste da força de deslizamento do êmbolo é um teste especializado do coeficiente de atrito de deslizamento do êmbolo no interior de uma seringa, levando em consideração o fato de que a força normal associada a um coeficiente de atrito de deslizamento como usualmente medido em uma superfície plana está direcionada para padronizar o ajuste entre o êmbolo ou outro elemento de deslizamento e o tubo ou outro vaso no qual ele desliza. A força paralela associada a um coeficiente de atrito de deslizamento como usualmente medido é comparável à força de deslizamento do êmbolo medida conforme descrito na presente descrição. A força de deslizamento do êmbolo pode ser medida, por exemplo, conforme fornecido no teste ISO 7886-1:1993.

O teste da força de deslizamento do êmbolo pode também ser adaptado para medir outros tipos de resistência ao atrito, por exemplo, o atrito que retém um batente no interior de um tubo, através de variações adequadas no aparelho e procedimento. Em uma modalidade, o êmbolo pode ser substituído por um fechamento e a força de extração para remover ou inserir o fechamento pode ser medida como a contraparte da força de deslizamento do êmbolo.

Além ou ao invés da força de deslizamento do êmbolo, a força de rompimento pode ser medida. A força de rompimento é a força necessária para iniciar um êmbolo estacionário em movimento no interior de um tambor da seringa, ou a força comparável necessária para desfazer o assentamento de um fechamento estacionário assentado e começar seu movimento. A força de rompimento é medida com o uso de uma força no êmbolo que inicia em zero ou em um valor baixo e aumenta até que o êmbolo comece a se mover. A força de rompimento tende a aumentar com o armazenamento de uma seringa, após o êmbolo da seringa pré-carregada ter empurrado o lubrificante interveniente ou ter aderido ao tambor devido à decomposição do lubrificante entre o êmbolo e o tambor. A força de rompimento é a força necessária para superar o efeito “sticktion”, um termo industrial para a adesão entre o êmbolo e o tambor que precisa ser superada para quebrar o êmbolo e permitir que o mesmo comece a se mover. V .C. Algumas utilidades de revestir um vaso completamente ou em parte com uma camada de lubricidade, como seletivamente em superfícies em contato, em uma relação deslizante, com outras partes, é facilitar a inserção ou remoção de um batente ou passagem de um elemento de deslizamento como um pistão em uma seringa ou um batente em um tubo de amostra. O vaso pode ser fabricado em vidro ou em um material polimérico como o poliéster, por exemplo, tereftalato de polietileno (PET), um copolímero de olefina cíclica (COC), uma olefina como o polipropileno, ou outros materiais. O COC é particularmente adequado para seringas e tambores de seringas. A aplicação de uma camada de lubricidade através de PECVD pode evitar ou reduzir a necessidade de revestir a parede de vaso ou fechamento com um organossilício aspergido, banhado ou aplicado de outra forma ou outro lubrificante que seja comumente aplicado em uma quantidade muito ampla que seria depositada através de um processo de PECVD. V .C. Em qualquer uma das modalidades V.C. acima, um plasma é formado na adjacência do substrato.

Em qualquer uma das modalidades V.C., o precursor pode ser opcionalmente fornecido na ausência substancial de azoto. V.C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o precursor pode ser opcionalmente fornecido em menos que 1 Torr de pressão absoluta. V .C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o precursor pode ser opcionalmente fornecido às imediações de uma emissão de plasma. V.C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o revestimentos pode ser opcionalmente aplicado ao substrato a uma espessura de 1 a 5000 nm, ou 10 a 1000 nm, ou 10 a 500 nm, ou 10 a 200 nm, ou 20 a 100 nm, ou 30 a 1000 nm, ou 30 a 500 nm. Uma espessura típica é de 300 a 1000 nm, ou de 20 a 100 nm, uma espessura muito típica sendo de 80 a 150 nm. Estes intervalos estão representando espessuras médias, visto que uma certa rugosidade pode melhorar as propriedades lúbricas do revestimento de lubricidade. Assim, a sua espessura não é vantajosamente uniforme ao longo do revestimento (ver abaixo). No entanto, um revestimento de espessura uniforme de lubricidade é também considerado.

A espessura total do revestimento de lubricidade em pontos de medição individuais pode ser maior ou menor do que os limites da gama de espessura média, com desvios máximos de preferência de +/- 50 %, mais preferivelmente +/- 25 % e ainda mais preferencialmente +/- 15 % da espessura média. No entanto, isto tipicamente varia nos intervalos de espessura determinados para a espessura média nesta descrição.

A espessura deste e de outros revestimentos pode ser medida, por exemplo, através de microscopia eletrônica de transmissão (TEM). V.C. A TEM pode ser executada, por exemplo, como se segue. As amostras podem ser preparadas para seção transversal de Feixe de Íon Focalizado (FIB) em duas formas. Ou as amostras podem ser primeiramente revestidas com uma camada fina de carbono (50 a 100 nm de espessura) e, então, revestidas com uma camada pulverizada de platina (50 a 100 nm de espessura) com o uso um sistema de revestimento K575X Emitech, ou as amostras podem ser revestidas diretamente com a camada de Pt pulverizada protetora. As amostras revestidas podem ser colocadas em um sistema FEI FIB200 FIB. Uma camada adicional de platina pode ser depositada por FIB através da injeção de um gás organometálico enquanto rastreia o feixe de íons de gálio 30kV sobre a área de interesse. A área de interesse para cada amostra pode ser escolhida como um local meio caminho abaixo do comprimento do tambor da seringa. As seções transversais delgadas que medem aproximadamente 15μm (“micrômetros”) de comprimento, 2μm de largura e 15μm de profundidade podem ser extraídas da superfície da matriz com o uso de uma técnica de levantamento de FIB in-situ do proprietário. As seções transversais podem ser fixadas a uma grade TEM de cobre de 200 mesh com o uso da platina depositada por FIB. Uma ou duas janelas em cada secção, medindo ~ 8μm de largura, podem ter a transparência do elétron diminuída com o uso do feixe de íon de gálio do FEI FIB. V.C. A análise de imagens em seção transversal das amostras preparadas pode ser realizada com a utilização, ou de Microscopia Eletrônica de Transmissão (TEM), ou Microscopia Eletrônica de Transmissão por Varredura (STEM), ou ambas. Todos os dados de formação de imagem podem ser gravados digitalmente. Para a formação de imagem por STEM, a grade com as folhas diminuídas pode ser transferida para um STEM dedicado HD2300 Hitachi. As imagens eletrônicas transmitidas por varredura podem ser capturadas em ampliações apropriadas em modo de contraste de número atômico (ZC) e modo eletrônico transmitido (TE). As seguintes configurações de instrumento podem ser usadas.

V.C. Para análise por TEM, as grades de amostra podem ser transferidas para um microscópio eletrônico de transmissão HF2000 Hitachi. As imagens eletrônicas transmitidas podem ser capturadas em ampliações apropriadas. As configurações do instrumento relevantes usadas durante a captura de imagem podem ser aquelas dadas abaixo.

V.C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o substrato pode compreender vidro ou um polímero, por exemplo, um polímero de policarbonato, um polímero de olefinas, um copolímero de olefina cíclica, um polímero de polipropileno, um polímero de poliéster, um polímero de tereftalato de polietileno ou uma combinação de quaisquer dois ou mais destes. V.C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o PECVD pode ser opcionalmente realizado através da energização do reagente gasoso que contém o precursor com elétrodos alimentados a uma frequência RF conforme definida acima, por exemplo, uma frequência de 10 kHz a menos que 300 MHz, opcionalmente de 1 a 50 MHz, mais opcionalmente de 10 a 15 MHz, opcionalmente a uma frequência de 13,56 MHz. V.C. Em qualquer uma das modalidades V.C., o plasma pode ser gerado através da energização do reagente gasoso que compreende o precursor com os elétrodos abastecidos com energia elétrica suficiente para formar uma camada de lubricidade. Opcionalmente, o plasma é gerado pela energização do reagente gasoso contendo o precursor com elétrodos fornecidos com uma potência elétrica de desde 0,1 a 25 W, opcionalmente de 1 a 22 W, opcionalmente de 1 a 10 W, ainda opcionalmente de 1 a 5 W, opcionalmente de 2 a 4 W, por exemplo de 3 W, opcionalmente de 3 a 17 W, ainda opcionalmente de 5 a 14 W, por exemplo, 6 ou 7,5 W, opcionalmente de 7 a 11 W, por exemplo, de 8 W. A razão entre a potência do elétrodo para o volume de plasma pode ser inferior a 10 W/mL, opcionalmente de 6 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 5 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 4 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 2 W/mL a 0,2 W/mL. Os níveis de baixa potência são acreditados pelos inventores como sendo mais vantajosos (por exemplo, os níveis de potência de 2 a 3,5 W e os níveis de potência dados nos Exemplos) para preparar um revestimento de lubricidade. Esses níveis de energia são adequados para a aplicação de revestimentos de lubricidade a seringas e tubos e vasos de amostra de geometria similar que têm um volume de espaço vazio de 1 a 3 mL em que o plasma de PECVD é gerado. Contempla-se que, para objetos maiores ou menores, a energia aplicada deveria ser aumentada ou reduzida em conformidade para dimensionar o processo para o tamanho do substrato. V .C. Em qualquer uma das modalidades VC, uma combinação preferida de gases de processo inclui octametilciclotetrassiloxano (OMCTS) ou outro siloxano cíclico como o precursor, na presença de oxigênio, como o gás oxidante e árgon como gás de transporte. Sem estar ligado a exatidão desta teoria, os inventores acreditam que esta combinação particular é eficaz, pelos seguintes motivos. V .C. Acredita-se que o OMCTS ou outra molécula cíclica de siloxano fornece várias vantagens sobre outros materiais de siloxano. Em primeiro lugar, sua estrutura de anel ocasiona um revestimento menos denso (em comparação com os revestimentos preparados a partir de HMDSO). A molécula também permite a ionização seletiva de modo que a estrutura final e a composição química do revestimento pode ser diretamente controlada através da aplicação da potência do plasma. Outras moléculas de organossilício são facilmente ionizadas (fraturadas) de modo que é mais difícil de reter a estrutura original da molécula. V .C. Uma vez que a adição de gás Árgon melhora o desempenho de lubricidade (ver os exemplos de trabalho a seguir), acredita-se que a ionização adicional da molécula na presença de Argon contribui para fornecer lubricidade. As ligações Si-O-Si da molécula têm uma energia de ligação elevada seguida por Si-C, com as ligações C-H sendo as mais fracas. A lubricidade parece ser conseguida quando uma porção das ligações C-H é quebrada. Isso permite a ligação (reticulação) da estrutura à medida que cresce. A adição de oxigênio (com o Árgon) é entendida como melhorando este processo. Uma pequena quantidade de oxigênio pode também proporcionar uma ligação C-O à qual se podem ligar outras moléculas. A combinação de ligações quebradas C-H e a adição de oxigênio, todas a baixa pressão e alimentação, conduz a uma estrutura química que é sólida ao mesmo tempo que proporciona lubricidade.

Numa modalidade específica da presente invenção, a lubricidade pode também ser influenciada pela rugosidade do revestimento de lubricidade que resulta do processo de PECVD usando os precursores e condições aqui descritas. Foi agora surpreendentemente verificado no contexto da presente invenção, através da realização de microscopia eletrônica de varrimento (SEM) e microscopia de força atômica (AFM), que um revestimento rugoso, não contínuo de plasma OMCTS oferece menor força no êmbolo (Fi, Fm como descrito no PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011) do que um revestimento de plasma OMCTS contínuo e suave. Isso é demonstrado pelos Exemplos O a V do PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011.

Embora não limitados pela teoria, os inventores assumem que este efeito particular pode ser determinado, em parte, com base em um ou ambos os efeitos mecânicos seguintes: (a) contato da superfície inferior do êmbolo, com o revestimento de lubricidade (por exemplo, a superfície do êmbolo circular rígida contata apenas os picos de um revestimento rugoso), quer inicialmente, e/ou durante o movimento do êmbolo, o que resulta em um contato global e, portanto, atrito mais baixos. (b) aquando do movimento do êmbolo, o êmbolo faz com que o primeiro revestimento não uniforme rugoso seja espalhado e alisado nos "vales" não revestidos.

A rugosidade do revestimento de lubricidade é aumentada com a energia decrescente (em Watts) que energiza o plasma e pela presença de O2 nas quantidades descritas em cima. A rugosidade pode ser expressa como "rugosidade RMS" ou "RMS" determinada por AFM. RMS é o desvio padrão da diferença entre os pontos mais altos e mais baixos de uma imagem AFM (a diferença é designada como "Z"). Seu cálculo é feito de acordo com a fórmula: Rq= {∑(Z1-Zavg)2/N}-2 em que Zavg é o valor Z médio dentro da imagem; Z1 é o valor atual de Z; e N é o número de pontos da imagem.

O intervalo RMS, nesta modalidade específica é tipicamente de 7 a 20 nm, de preferência de 12 a 20 nm. Um RMS mais baixo pode, no entanto, levar ainda a propriedades satisfatórias de lubricidade. V. C. Um produto contemplado pode ser opcionalmente uma seringa que tem um tambor tratado através do método de qualquer uma ou mais dentre as modalidades V.C. A referida seringa pode ter apenas um revestimento de lubricidade de acordo com apresente invenção, ou pode ter no revestimento de lubricidade e um ou mais outros revestimentos adicionais, por exemplo, um revestimento de barreira de SiOx sob ou por cima do revestimento de lubricidade. VI. . Revestimentos Aplicados em Forma Líquida VII. Outro exemplo de uma barreira adequada ou outro tipo de revestimento, útil em conjunto com revestimentos aplicados por PECVD ou outro tratamento por PECVD conforme descrito no presente documento, pode ser uma barreira líquida, lubrificante, formatação da energia de superfície, ou outro tipo de revestimento 90 aplicado à superfície interna de um vaso, ou diretamente ou com um ou mais revestimentos aplicados por PECVD intervenientes descritos na presente descrição, por exemplo, SiOx, uma camada de lubricidade, tal como definida na Secção de Definições, ou ambos. VIII. As barreiras líquidas adequadas ou outros tipos de revestimentos 90 também podem ser opcionalmente aplicados, por exemplo, com o uso de um monômero líquido ou outro material polimerizável ou curável à superfície interna do vaso 80 e que cura, polimeriza ou reticula o monômero líquido para formar um polímero sólido. A barreira líquida adequada ou outros tipos de revestimentos 90 podem também ser fornecidos com o uso de um polímero disperso por solvente à superfície 88 e da remoção do solvente. IX. . Qualquer um dos métodos acima mencionados pode incluir, como etapa de formação de um revestimento 90, no interior 88 de um vaso 80, através da porta de vaso 92 em uma estação ou dispositivo de processamento 28. Um exemplo é a aplicação de um revestimento líquido, por exemplo, de um monômero curável, pré-polímero, ou uma dispersão de polímero, para a superfície interior 88 de um vaso 80 e curando-o para formar uma película que isola fisicamente o conteúdo do vaso 80 a partir da sua superfície interior 88. O estado da técnica descreve a tecnologia de revestimento de polímero como adequado para o revestimento de tubos de coleta de sangue em plástico. Por exemplo, os materiais de revestimento de acrílico e cloreto de polivinilideno (PVdC) e métodos de revestimento descritos na Patente U.S. n° 6,165,566, que está incorporada ao presente documento a título de referência, podem ser opcionalmente usados. X. D. Qualquer um dos métodos acima mencionados pode também incluir como uma etapa de formação de um revestimento sobre a parede exterior externa de um vaso 80. O revestimento pode ser, opcionalmente, um revestimento de barreira, opcionalmente, um revestimento de barreira ao oxigênio, ou, opcionalmente, um revestimento de barreira de água. Um exemplo de um revestimento adequado é o cloreto de polivinilideno, que funciona tanto como uma barreira de água quanto uma barreira ao oxigênio. Opcionalmente, o revestimento de barreira pode ser aplicado como um revestimento à base de água. O revestimento pode ser opcionalmente aplicado através da imersão do vaso no mesmo, através da aspersão do mesmo sobre o vaso ou outros expedientes. Um vaso que tem um revestimento de barreira exterior conforme descrito acima também foi contemplado. XI. INSPEÇÃO DO VASO XII. A inspeção do vaso pelo método de desgaseificação da presente invenção será descrita a seguir com mais pormenor. Deve ser entendido que o método, no entanto, também é aplicável para inspecionar outros artigos que não o vaso, como por exemplo películas de plástico ou objetos sólidos. A inspeção de tais outros artigos é também englobada pela presente invenção. XIII. Uma estação ou dispositivo mostrados na FIG. 1 é a estação ou dispositivo de processamento 30, que podem ser configurados para inspecionar a superfície interna de um vaso 80 quanto a defeitos, através da medição da perda de pressão de ar ou da taxa de fluxo de massa ou da taxa de fluxo de volume através de uma parede de vaso ou da desgaseificação de uma parede de vaso. O dispositivo 30 pode operar similarmente ao dispositivo 26, exceto que um melhor desempenho (menor tendência a vazamento ou permeação em determinadas condições de processo) pode ser exigido para que o vaso passe a inspeção fornecida pelo dispositivo 30, já que na modalidade ilustrada, uma barreira ou outro tipo de revestimento foi aplicada pela estação ou dispositivo 28 antes da estação ou dispositivo 30 serem alcançados. Numa modalidade, esta inspeção do vaso revestido 80 pode ser comparada com a inspeção do mesmo vaso 80 no dispositivo ou estação 26. Uma menor fuga ou permeação na estação ou dispositivo 30 indica que o revestimento de barreira está a funcionar pelo menos até certo ponto. XIV. A identidade de um vaso 80 medido em duas estações diferentes ou por dois dispositivos diferentes pode ser determinada através da colocação de características de identificação individuais, tais como códigos de barras, outras marcas, ou um dispositivo ou marcador de identificação de radiofrequência (RFID), em cada um dos retentores de vaso 38-68 e a combinação da identidade dos vasos medidos em dois ou mais pontos diferentes sobre o transportador sem fim mostrado na FIG. 1. Uma vez que os retentores de vaso podem ser reutilizados, eles podem ser registrados em um banco de dados de computador ou outra estrutura de armazenamento de dados à medida que atingem a posição do retentor de vaso 40 mostrada na FIG. 1, logo após um novo vaso 80 ter sido encaixado no retentor de vaso 40, e removido a partir do registro de dados no ou perto do fim do processo, como por exemplo, quando ou após atingirem a posição do retentor de vaso 66 mostrada na FIG. 1 e o vaso processado 80 ser removido pelo mecanismo de transferência 74. XV. A estação ou dispositivo de processamento 32 pode ser configurada para inspecionar um vaso, por exemplo, uma barreira ou outro tipo de revestimento aplicado ao vaso, quanto a defeitos. XVI. O método de inspeção de vasos de acordo com a invenção pode incluir a realização da etapa de inspeção (isto é, a medição do espécime volátil desgaseificado) dentro de um tempo decorrido de 30 ou menos segundos por vaso, ou 25 ou menos segundos por vaso, ou 20 ou menos segundos por vaso, ou 15 ou menos segundos por vaso, ou 10 ou menos segundos por vaso, ou 5 ou menos segundos por vaso, ou 4 ou menos segundos por vaso, ou 3 ou menos segundos por vaso, ou 2 ou menos segundos por vaso, ou 1 ou menos segundos por vaso. Isto pode ser possibilitado, por exemplo, através da medição da eficácia da barreira ou outro tipo de parede de vaso revestida. XVII. Em qualquer uma das modalidades acima, a etapa de inspeção pode ser executada em um número suficiente de posições ao longo da superfície interna 88 do vaso 80 para determinar que a barreira ou outro tipo de revestimento 90 será eficaz para evitar que o nível de vácuo inicial (isto é, redução inicial de pressão versus ambiente) no interior do vaso 80, quando é inicialmente evacuado e sua parede 86 é exposta à atmosfera ambiente, diminua mais de 20 %, opcionalmente mais de 15 %, opcionalmente mais de 10 %, opcionalmente mais de 5 %, opcionalmente mais de 2 %, durante a vida útil de pelo menos 12 meses, ou pelo menos 18 meses, ou pelo menos dois anos. XVIII. O nível de vácuo inicial pode ser alto vácuo, isto é, uma pressão remanescente de menos que 10 Torr, ou um vácuo mais baixo como menos que 20 Torr de pressão positiva (isto é, o excesso de pressão em relação a um vácuo total), ou menos que 50 Torr, ou menos que 100 Torr, ou menos que 150 Torr, ou menos que 200 Torr, ou menos que 250 Torr, ou menos que 300 Torr, ou menos que 350 Torr, ou menos que 380 Torr de pressão positiva. O nível de vácuo inicial dos tubos de coleta de sangue evacuado, por exemplo, é em muitas instâncias determinado pelo tipo de teste no qual o tubo deve ser usado e, deste modo, o tipo e quantidade apropriada de um reagentes que é adicionado ao tubo no momento da fabricação. O nível de vácuo inicial é comumente configurado para extrair o volume correto de sangue a fim de combinar com a carga de reagentes no tubo. XIX. Opcionalmente, a etapa de inspeção da barreira ou outro tipo de revestimento 90 pode ser executada em um número suficiente de posições ao longo da superfície interna do vaso 88 a fim de determinar que a barreira ou outro tipo de revestimento 90 será eficaz para evitar que a pressão no interior do vaso 80, quando é inicialmente evacuado e sua parede é exposta à atmosfera ambiente, aumente para mais que 15 %, ou mais que 10 %, da pressão atmosférica ambiente durante a vida útil de pelo menos um ano. Fig. 15 mostra um sistema de processamento 20 de acordo com uma modalidade exemplar da presente invenção, compreendendo o aparelho (isto é, uma ou mais estações de processamento) adaptado para executar o método de inspeção descrito acima e abaixo. O sistema de processamento 20 pode ser um sistema de processamento de vaso e compreende, entre outras coisas, uma primeira estação de processamento 5501 e pode ou não incluir igualmente uma segunda estação de processamento 5502. Exemplos de tais estações de processamento são por exemplo ilustrados na Fig. 1, com os números de referência 24, 26, 28, 30, 32 e 34.

A primeira estação de processamento de vaso 5501 contém um retentor de vaso 38, que retém um vaso assentado 80. Embora a Fig. 15 mostre um tubo de sangue 80, o vaso pode também ser um corpo de seringa, um frasco, um cateter, ou, por exemplo, uma pipeta ou qualquer outro objeto que tenha uma superfície a ser inspecionada. O vaso pode, por exemplo, ser feito de vidro ou plástico. No caso dos vasos de plástico, a primeira estação de processamento também pode compreender um molde para moldagem do vaso de plástico.

Depois do primeiro processamento na primeira estação de processamento (cujo processamento pode compreender a moldagem do vaso, uma primeira inspeção do vaso em termos de defeitos, o revestimento da superfície interior do vaso e uma segunda inspeção do vaso em termos de defeitos, em particular do revestimento interior), o retentor do vaso 38 pode ser transportado em conjunto com o vaso 82 para a segunda estação de processamento de vaso 5502. Este transporte é realizado por uma instalação de transportadores 70, 72, 74. Por exemplo, uma pinça ou várias pinças podem ser fornecidas para prender o retentor de vaso 38 e/ou o vaso 80, a fim de mover a combinação vaso/retentor para a estação de processamento seguinte 5502. Alternativamente, apenas o vaso pode ser movido sem o retentor. Entretanto, pode ser vantajoso mover o retentor juntamente com o vaso, em cujo caso o retentor é adaptado de modo que possa ser transportado pela disposição transportadora.

Uma ou mais estações de processamento compreendem uma tubagem para alimentar um espécime volátil na proximidade da superfície a ser inspecionada, por exemplo no volume interior do vaso. Para além disso, um detetor de gás pode ser fornecido para medir a liberação de ao menos um espécime volátil do objeto de inspeção para o interior do espaço de gás adjacente à superfície revestida. A Figura 16 mostra um sistema de processamento de vaso 20 de acordo com outra modalidade exemplificadora da presente invenção. Novamente, duas estações de processamento de vaso 5501, 5502 são fornecidas. Além disso, estações de processamento de vaso adicionais 5503, 5504 podem ser fornecidas, as quais são dispostas em série e nas quais o vaso pode ser processado, isto é, inspecionado e/ou revestido.

Um vaso pode ser movido de um estoque para a estação de processamento à esquerda 5504. Em alternativa, o vaso pode ser moldado na primeira estação de processamento 5504. Em qualquer caso, um primeiro processamento de vaso é feito na estação de processamento 5504, tal como uma moldagem, uma inspeção e/ou um revestimento, que pode ser seguido por uma segunda inspeção. Em seguida, o vaso é movido para a estação de processamento seguinte 5501 por meio da disposição do transportador 70, 72, 74. Tipicamente, o vaso é deslocado em conjunto com o retentor de vaso. Um segundo processamento é executado na segunda estação de processamento 5501, período após o qual o vaso e o retentor são movidos para a próxima estação de processamento 5502 na qual um terceiro processamento é executado. O vaso é então movido (mais uma vez juntamente com o retentor) para a quarta estação de processamento 5503 para um quarto processamento, período após o qual o mesmo é transportado para um armazenamento.

Antes e depois de cada etapa de revestimento ou etapa de moldagem ou qualquer outra etapa que manipule o vaso para uma inspeção de sua totalidade, de sua parte e, em particular, de uma superfície interna do mesmo, pode ser executada. O resultado de cada inspeção pode ser transferido para uma unidade de processamento central 5505 por meio de um barramento de dados 5507. Cada estação de processamento é ligada ao barramento de dados 5507. O elemento de programa acima descrito pode ser executado no processador 5505, e o processador, o qual pode ser adaptado na forma de uma unidade de controlo e regulação central, controla o sistema pode também ser adaptado para processar os dados de inspeção, para analisar os dados e para determinar se a última etapa de processamento foi bem sucedida.

Caso seja determinado que a última etapa de processamento não foi executada com êxito, uma vez que, por exemplo, o revestimento compreende orifícios ou uma vez que a superfície do revestimento é determinada como regular ou não lisa o suficiente, o vaso não ingressa na próxima estação de processamento, sendo ou removido do processo de produção (vide seções transportadoras 7001, 7002, 7003, 7004) ou é transportado de volta a fim de que seja reprocessado.

O processador 5505 pode estar conectado a uma interface do usuário 5506 para inserir parâmetros de controle ou regulação. A Figura 17 mostra uma estação de processamento de vaso 5501 de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. A estação compreende um aparelho de PECVD 5701 para revestimento de uma superfície interna do vaso. Além disso, vários detectores 5702-5707 podem ser fornecidos para a inspeção do vaso. Tais detectores podem ser, por exemplo, elétrodos para realização de medições elétricas, detectores ópticos, como câmeras de CCD, detectores de gás ou detectores de pressão. A Fig. 18 mostra um retentor de vaso 38 de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção, juntamente com vários detectores 5702, 5703, 5704 e um elétrodo com portas de entrada de gás 108, 110.

O elétrodo e o detector 5702 podem ser adaptados para serem movidos para o espaço interno do vaso 80 quando o vaso for assentado sobre o retentor 38.

A inspeção óptica pode ser executada em particular durante uma etapa de revestimento, por exemplo, com o auxílio de detectores ópticos 5703, 5704 que são dispostos fora do vaso assentado 80 ou mesmo com o auxílio de um detector óptico 5705 disposto no espaço interno do vaso 80.

Os detectores podem compreender filtros coloridos de modo que diferentes comprimentos de onda possam ser detectados durante o processo de revestimento. Uma unidade de processamento 5505 analisa os dados ópticos e determina se o revestimento foi realizado com êxito, ou não, em um nível de certeza predeterminado. Caso seja determinado que o revestimento foi realizado muito provavelmente sem êxito, o respectivo vaso é espaçado do sistema de processamento ou é reprocessado. V I.A. Processamento de Vaso Incluindo Inspeção Pré- revestimento e Pós-revestimento V I.A. Ainda outra modalidade é um método de processamento de vaso para o processamento de um vaso de plástico moldado tendo um abertura e uma parede definindo uma superfície interna. O método é executado através da inspeção da superfície interna do vaso, quando moldado ou logo antes do revestimento, quanto a defeitos; da aplicação de um revestimento à superfície interna do vaso após inspecionar o vaso quando moldado; e da inspeção do revestimento quanto a defeitos. V I.A. Outra modalidade é um método de processamento de vaso no qual um revestimento de barreira é aplicado ao vaso após inspeção do vaso quando moldado, e a superfície interna do vaso é inspecionada quanto a defeitos após a aplicação do revestimento de barreira. V I.A. Opcionalmente, a inspeção do vaso na estação ou através do dispositivo 26 pode ser modificada através do fornecimento de um gás de inspeção, como hélio, sobre um lado a montante com relação ao substrato, quer dentro quer fora do vaso 80, e detectando isto sobre o lado a jusante. Um gás de baixo peso molecular, como hidrogênio, ou um gás menos dispendioso ou mais disponível, como oxigênio ou azoto, pode também ser usado como um gás de inspeção. V I.A. O hélio é contemplado como um gás de inspeção que pode aumentar a taxa de vazamento ou a detecção de permeação, enquanto atravessa uma barreira ou outro tipo de revestimento imperfeito, ou passa uma vedação de vazamento, muito mais rapidamente que os gases de ambiente usuais como o azoto e o oxigênio no ar comum. O hélio tem uma alta taxa de transferência através de muitos substratos sólidos ou pequenos espaços vazios porque: (1) é inerte, de modo a não ser absorvido pelo substrato em nenhum grau, (2) não é ionizado facilmente, de modo que suas moléculas são muito compactas devido ao alto nível de atração entre seus elétrons e núcleos, e (3) tem um peso molecular de 4, em oposição ao azoto (peso molecular de 28) e oxigênio (peso molecular de 32), novamente fazendo com que as molécula sejam mais compactas e atravessem facilmente um substrato poroso ou espaço vazio. Devido a estes fatores, o hélio irá percorrer uma barreira tendo uma dada permeabilidade muito mais rapidamente que muitos outros gases. Além disso, a atmosfera contém uma proporção extremamente pequena de hélio natural, de modo que a presença de hélio adicional pode ser relativamente fácil de detectar, particularmente se o hélio for introduzido no interior do vaso 80 e detectado fora do vaso 80 para medir o vazamento e permeação. O hélio pode ser detectado através de uma queda de pressão a montante do substrato ou através de outros meios, como a análise espectroscópica do gás a jusante que atravessou o substrato. V I.A. Após moldar um dispositivo 80, como na estação 22, vários problemas potenciais podem surgir o que produzirá um tratamento ou revestimento subsequente imperfeito e, possivelmente, ineficaz. Se os dispositivos são inspecionados antes do revestimento para estes problemas, os dispositivos podem ser revestidos com um processo controlado com opcionalmente até 6 sigma altamente otimizado que irá assegurar um resultado desejado (ou resultados). V I.A. Alguns dos problemas potenciais que podem interferir no tratamento e no revestimento incluem (dependendo da natureza do artigo revestido a ser produzido): V I.A. 1. Grande densidade de defeitos de contaminação de particulado (por exemplo, cada um maior que 10 micrômetros em sua dimensão mais longa), ou uma densidade menor de grande contaminação de particulado (por exemplo, cada um maior que 10 micrômetros em sua dimensão mais longa). V I.A. 2. Contaminação química ou outra contaminação de superfície (por exemplo, óleo ou liberação de molde de silício). V I.A. 3. Alta rugosidade de superfície, caracterizada pelo alto/grande número de vales e/ou picos acentuados. Isto pode também ser caracterizado através da quantificação da rugosidade média (Ra) que deveria ser menor que 100 nm. V I.A. 4. Qualquer defeito no dispositivo como um orifício não irá permitir que um vácuo seja criado. V I.A. 5. Qualquer defeito sobre a superfície do dispositivo que irá ser usada para criar uma vedação (por exemplo, a extremidade aberta de um tubo de coleta de amostra). V I.A. 6. Grandes não uniformidades de espessura de parede que podem impedir ou modificar o acoplamento elétrico através da espessura durante o tratamento ou revestimento. V I.A. 7. Outros defeito que irão produzir a barreira ou outro tipo de revestimento ineficaz. V I.A. Para assegurar que a operação de tratamento/revestimento seja completada com sucesso com o uso dos parâmetros na operação de tratamento/revestimento, o dispositivo pode ser pré-inspecionado para um ou mais dos problemas potenciais citados acima ou outros problemas. Anteriormente, um aparelho foi apresentado para retenção de um dispositivo (um disco ou retentor de vaso como 38-68) e que o move através de um processo de produção, incluindo vários testes e uma operação de tratamento/revestimento. Diversos testes possíveis podem ser implantados para assegurar que um dispositivo terá a superfície apropriada para o tratamento/revestimento. Estes incluem a desgaseificação da parede de vaso, que pode ser opcionalmente medida conforme descrito abaixo sob inspeção de pós- revestimento para determinar uma linha de base de desgaseificação. V I.A. O teste mencionado em cima pode ser conduzido em uma estação 28, tal como mostrado na FIG. 2. Nesta figura, o dispositivo (por exemplo um tubo de coleta de amostra 80) pode ser retido no lugar e um detetor apropriado pode ser posicionado para medir o resultado desejado V I.A. No caso de detecção de vazamento de vácuo, o retentor de vaso e o dispositivo podem ser acoplados a uma bomba de vácuo e a um dispositivo de medição inserido no tubo. O teste pode também ser conduzido conforme detalhado em qualquer lugar da descrição. V I.A. Os sistemas acima podem ser integrados em um método de fabricação e inspeção que compreende múltiplas etapas. V I.A. A FIG. 1, conforme previamente descrito, mostra um desenho esquemático das etapas de um método possível (embora esta invenção não esteja limitada a um único conceito ou abordagem). Primeiro, o vaso 80 é inspecionado visualmente na estação ou pelo dispositivo 24, o qual pode incluir a medição dimensional do vaso 80. Se houver quaisquer defeitos encontrados, o dispositivo ou o vaso 80 é rejeitado e o disco ou retentor de vaso, como 38, é inspecionado quanto a defeitos, reciclado ou removido. V I.A. Posteriormente, a taxa de vazamento ou outras características da montagem de um retentor de vaso 38 e do vaso assentado 80 é testada, como na estação 26, e armazenada para comparação após revestimento. O disco ou retentor de vaso 38 move-se então, por exemplo, para a etapa de revestimento 28. O dispositivo ou vaso 80 é revestido com SiOx ou outra barreira ou outro tipo de revestimento, a uma frequência de alimentação de energia de, por exemplo, 13,56 MHz. Uma vez revestido, o retentor de vaso é novamente testado quanto à sua taxa de vazamento ou outras características (isto pode ser executado como um segundo teste na estação de teste 26 ou numa estação duplicada ou similar como 30 - o uso de uma estação duplicada pode aumentar o rendimento do sistema). V I.A. A medição revestida pode ser comparada à medição não revestida. Se a razão destes valores exceder um nível exigido pré-configurado, indicando um desempenho de revestimento geral aceitável, o retentor de vaso e o dispositivo são movidos. O valor pode ser exigido para exceder um limite pré-configurado no qual o dispositivo é rejeitado ou reciclado para revestimento adicional. Posteriormente, (para os dispositivos que não são rejeitados), uma segunda estação de teste óptico 34 pode ser usada. Nesse caso, uma fonte de luz pontual pode se inserida dentro do tubo ou vaso 80 e retirada lentamente enquanto as medições são tomadas com um arranjo detector de CCD tubular no exterior do tubo. Os dados são então analisados por computador a fim de determinar a distribuição da densidade do defeito. Com base nas medições, o dispositivo ou é aprovado para o embalamento final, ou é rejeitado. V I.A. Os dados acima podem ser opcionalmente registrados e organizados (por exemplo, eletronicamente) com o uso de técnicas de controle de processos estatísticos a fim de assegurar qualidade até 6-sigma. V I.B. Inspeção de Vaso por Detecção de Desgaseificação da Parede do Recipiente através da Camada de Barreira

Um método para inspecionar um objeto para uma camada de barreira por medição de desgaseificação, é descrita a seguir. No método, é fornecido um objeto feito pelo menos em parte de um primeiro material (substrato). O objeto tem uma superfície e, opcionalmente, tem pelo menos uma camada de barreira parcial entre o primeiro material e a superfície. No aspecto mais lato da tecnologia divulgada, a camada de barreira é opcional, pois, numa situação particular, o vaso pode ser inspecionado para determinar se tem, ou não, um revestimento de barreira. Opcionalmente, um material de carga é fornecido, o qual é solúvel em, absorvido por, ou adsorvido pelo primeiro material. O objeto está, neste caso, em contato com o material de carga. A desgaseificação é então medida a partir de pelo menos uma porção da superfície. O método é realizado sob condições eficazes para determinar a presença ou ausência de uma camada de barreira.

A discriminação entre "revestido" e "não revestido" pode ser feita com base nas inclinações iniciais dos caudais respectivos. Estas inclinações dos caudais têm de ser distinguidas umas das outras, quer por (a) um cálculo da inclinação direta (fluxo delta/tempo delta) ou (b) algoritmos que interpolem uma inclinação calculada de volta a partir de um caudal vs. curva de tempo. A diferença nas inclinações entre um artigo revestido e um artigo não revestido pode ser muito pequena para ser suficiente para realizar a invenção, desde que sejam reprodutíveis (ver os Exemplos). Mas, geralmente, a diferença deverá ser de pelo menos 0,1 seg, mais preferivelmente pelo menos de 0,3 seg a 10 seg, mesmo mais preferencialmente pelo menos de 1 seg a 5 seg. O limite superior da diferença de inclinação pode ser de vários minutos, por exemplo, 15 ou 30 minutos. Normalmente, a diferença de inclinação varia de 1 segundo a 15 minutos, mais tipicamente de 1 seg a 1 min, de 1 seg a 30 seg, ou de 1 seg a 10 seg.

A avaliação de seis sigma, tal como explicada em relação à Fig. 8, noutro ponto da presente descrição, é uma ferramenta muito útil para distinguir a aprovação ou reprovação na inspeção. O número sigma aplicado pelos inventores nos Exemplos foi de seis, e este é também o número mais preferido para a realização da invenção. Dependendo da fiabilidade pretendida, o número sigma pode, no entanto, variar de 2 a 8, de preferência de 3 a 7, mais preferencialmente de 4 a 7, ou de 5 a 7. A fiabilidade versus o número sigma é uma troca: se tempos mais longos de inspeção forem aceitáveis ao realizar a invenção, obtém-se um número sigma maior.

O espécime volátil medido pode ser um espécime volátil liberado do revestimento, um espécime volátil liberado a partir do substrato, ou uma combinação de ambos. Em um aspecto, o espécime volátil é um espécime volátil liberado do revestimento, opcionalmente, é um componente de revestimento volátil, e a inspeção é executada para determinar a presença, as propriedades e/ou a composição do revestimento. Em um outro aspecto, o espécime volátil é um espécime volátil liberado do substrato e a inspeção é executada para determinar a presença do revestimento e/ou o efeito de barreira do revestimento. Em particular, o espécime volátil pode ser um constituinte atmosférico, por exemplo, azoto, oxigênio, água, dióxido de carbono, árgon, hélio, néon, crípton, xénon, ou ar ambiente.

Alguns exemplos de objetos adequados que podem ser fornecidos com camadas de barreira são películas ou vasos. Alguns vasos específicos contemplados são uma seringa, ou corpo de seringa, um vaso de coleta de amostra clínica, um frasco, uma ampola, e/ou um tubo com uma extremidade fechada e a outra extremidade aberta, por exemplo, um tubo de coleta de sangue ou de outra amostra clínica.

O objeto pode ser um vaso com uma parede de plástico, por exemplo, uma parede termoplástica. O primeiro material, isto é, o material que forma a parede de plástico, pode compreender, consistir essencialmente em, ou consistir de, por exemplo, um material termoplástico, por exemplo um poliéster, por exemplo, tereftalato de polietileno (PET), tereftalato de polibutileno (PBT), ou naftalato de polietileno ou combinações ou interpolímeros dos mesmos. O primeiro material pode compreender, consistir essencialmente em, ou consistir de, por exemplo, um polímero de olefina, por exemplo um copolímero de olefina cíclica (COC), um polímero de olefina cíclica (COP), homopolímero de polipropileno, um copolímero de polipropileno, ou combinações ou interpolímeros dos mesmos. Outros primeiros materiais contemplados compreendem poliestireno, policarbonato, policloreto de vinila, nylon, poliuretano, resina epoxi, poliacrilonitrila (PAN), polimetilpenteno, uma resina ionomérica, por exemplo, resina ionomérica Surlyn®.

Em qualquer modalidade, o primeiro material pode compreender copolímero de olefina cíclica, consistir essencialmente de copolímero de olefina cíclica, ou consistir numa composição de resina de copolímero de olefina cíclica. Nesta modalidade, "consistindo em" não exclui outros materiais misturados com o copolímero de olefina cíclica pura para fazer uma composição de moldagem total. Esta definição de "consistindo em" aplica-se ao longo desta descrição, a todos os materiais. "Consistindo em" também não exclui materiais laminares possuindo pelo menos uma camada consistindo na composição de resina indicada e outras camadas de composição diferente.

Em qualquer modalidade, o primeiro material pode compreender tereftalato de polietileno, consistir essencialmente em tereftalato de polietileno, ou consistir em uma composição de resina de tereftalato de polietileno.

Uma combinação especialmente preferida do primeiro material (por exemplo, o material de um tubo revestido com um revestimento de SiOx) e constituinte volátil é COC e dióxido de carbono.

Uma combinação especialmente preferida (por exemplo, o material de um tubo revestido com um revestimento de SiOx) e constituinte volátil é PET e água.

Uma outra combinação preferida de primeiro material (por exemplo, o material de um tubo revestido com um revestimento de SiOx) e constituinte volátil é COC e árgon.

Em qualquer modalidade, a camada de barreira pode compreender ou consistir em SiOx, em que x é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9, ou qualquer outro material adequado, tal como descrito em qualquer outra parte da presente descrição. A "camada de barreira", pode ser uma camada que tem uma outra função primária, tal como conferindo lubricidade, hidrofobicidade, ou outras propriedades de superfície, tal como qualquer camada descrita na presente descrição. Qualquer método descrito na presente descrição para a aplicação de uma camada de barreira pode ser usado.

O material de carga pode ser qualquer material que facilite uma medição da desgaseificação através do fornecimento de um gás para desgaseificar a partir do material. Alguns exemplos não limitativos contemplados são um constituinte atmosférico, por exemplo, azoto, oxigênio, água, dióxido de carbono, árgon, hélio, néon, crípton, xénon, ou ar ambiente. Outro tipo de material de carga contemplado aqui compreende um material de processo utilizado para formar a camada de barreira. Por exemplo, o material de carga pode incluir um material de organossilício, por exemplo, octametilciclotetrassiloxano, hexametildissiloxano, ou qualquer dos outros gases divulgados nesta descrição como precursores ou materiais de processo. Outro tipo de material de carga contemplado é um gás de transporte utilizado, por exemplo, no processo de revestimento.

O revestimento de barreira, opcionalmente, pode ser aplicado ou apresentar-se antes de o material de carga ser colocado em contato, depois de o material de carga ser colocado em contato, enquanto o material de carga é posto em contato, ou em duas ou mais das referidas etapas.

A etapa de contato pode ser realizada de várias formas, tais como através da exposição do objeto a um volume que contém o material de carga. O contato pode ser realizado expondo o objeto ao ar ambiente que contém o material de carga. Um material de carga contemplado é a água, que pode ser fornecida na forma de ar úmido. O contato pode ser realizado, por exemplo, antes de medir a desgaseificação, por contato da camada de barreira com o ar a uma umidade relativa de 35 % a 100 %, opcionalmente, 40 % a 100 %, opcionalmente, 40 % a 50 %, opcionalmente pelo menos 50 %, opcionalmente, pelo menos 60 %, opcionalmente pelo menos 70 %, opcionalmente pelo menos 80 %, opcionalmente pelo menos 90 %, opcionalmente pelo menos 95 %, opcionalmente 100 %. o contato do objeto com o material de carga pode ser realizado expondo o objeto a um gás que compreende o material de carga, ou por exposição do objeto a um líquido que compreende o material de carga.

Um tempo exemplificativo de contato é de 0,1 segundo a uma hora, opcionalmente de 1 segundo a 50 minutos, opcionalmente, de 10 segundos a 40 minutos, opcionalmente, de um minuto a trinta minutos, opcionalmente, de 5 minutos a 25 minutos, opcionalmente de 10 minutos a 20 minutos. No entanto, o tempo de contato pode também ser consideravelmente mais curto. Uma opção para conseguir um tempo de contato mais curto (menor do que, por exemplo, 12 min dos Exemplos) é o aumento da temperatura durante o contato do objeto com o material de carga. Este aumento de temperatura pode acelerar a difusão do material de contato através do item inspecionado, por exemplo, por meio de um substrato de plástico. Por exemplo, a difusão de CO2 através da parede de garrafas de PET foi consideravelmente aumentada quando a temperatura foi aumentada para uma temperatura entre 30 e 40 C.

Os parâmetros típicos e as condições de carregamento com CO2 são indicados no Protocolo Básico de Carregamento com CO2. Os parâmetros aí fornecidos podem ser variados por +/-50 %, ou menos, ao executar o carregamento. Condições similares, se for caso disso modificadas tendo em conta as diferentes propriedades físico-químicas dos outros materiais de carga aqui descritos, são adequadas para efetuar o carregamento com um dos outros materiais de carga referidos.

A discriminação melhorada de artigos de plástico não revestidos contra artigos de plástico revestidos, por exemplo, de artigos revestidos com uma camada de barreira, em uma medição de gaseificação, incluindo o carregamento do artigo com um material de carga de acordo com a invenção, baseia-se na capacidade de o artigo de plástico absorver gases, no interior da resina, para a medição subsequente de desgaseificação (em microgramas/minuto) durante o que é demonstrado nos Exemplos, utilizando Ar, N2 ou Co2 como o material de carga. A solubilidade de gases no plástico é um fator determinante da quantidade de gás que pode residir numa resina plástica, e, portanto, uma boa estimativa do potencial de um gás de carga particular fornecer uma boa discriminação de artigos não revestidos versus artigos revestidos. Embora a determinação experimental de várias solubilidades de gases em resinas de plástico é muito limitada, uma relação linear (Equação 1) entre a solubilidade do gás, S, e a temperatura do gás de Lennard-Jones [= constante da energia potencial de gás (epsilon) dividida pela constante de Boltzmann (k )] foi determinada por Van Amerongen, Michaels e Bixler (DW Van Krevelen, Properties of Polymers, Elsivier, 3a Ed., 1990, pp 538-542 e referências nele contidas) para polímeros vítreos com uma precisão de +/- 0,6. log S (298) = -7,4 + 0,010 * (épsilon/k) (Equação 1)

Na Tabela H é fornecida uma listagem de gases (incluindo os gases dióxido de carbono, árgon e azoto utilizados nos Exemplos a), a sua temperatura de gás de Lennard-Jones (razão épsilon/K), parâmetro log S calculado, e a razão média do sinal de ATC Não revestido para Revestido com SiOx (microgramas/min) de separação máxima. Traçando as razões calculadas de log S versus ATC experimental de dióxido de carbono, árgon, e azoto (Figura 5), indica que os gases com solubilidades de gás mais elevadas são preferidos e os gases que têm solubilidades inferiores de gás são menos preferidos.

Por outras palavras, os gases com maior solubilidade (mais abaixo na Tabela H) proporcionaram uma melhor separação de substratos revestidos com barreira versus substratos não revestidos, com base em uma medição de desgaseificação. Tabela H. Lista de gases, Temperaturas de Lennard-Jones, log S calculado (298) e Resposta ATC Não revestido/Revestido com SiOx.

* razões das Tabelas F e G e da Fig. 19

O mesmo princípio aplica-se a outros revestimentos ou a discriminação de diferentes materiais mostrou absorção e adsorção de gás diferentes.

Por isso, prefere-se no contexto da presente invenção a utilização de um gás de carga com uma boa solubilidade no material plástico inspecionado. A fim de aumentar a sensibilidade de um teste, o material de carga pode ser suplementado ou substituído por um material de carga com uma solubilidade mais elevada no plástico.

Em um aspecto particular da invenção, o material de carga é selecionado para os materiais listados na Tabela H.

Num outro aspecto particular, ele é selecionado a partir do grupo de gases com log S superior a -7,5, de preferência de mais do que -7, ainda mais preferencialmente de mais de - 6,9. Numa modalidade específica, o gás de carga tem um log S na gama de desde -7,5 a -4,5, de preferência de desde -6,9 a -5,1.

A medição da desgaseificação de pelo menos uma porção da superfície pode ser realizada, por exemplo, através da extração de, pelo menos, um vácuo parcial sobre a superfície e a medição da taxa de fluxo de desgaseificação a partir da superfície. Qualquer medição de desgaseificação descrita na presente descrição é contemplada.

A desgaseificação pode ser medida a uma pressão de 0,1 Torr a 100 Torr, opcionalmente de 0,2 Torr a 50 Torr, opcionalmente de 0,5 Torr a 40 Torr, opcionalmente de 1 Torr a 30 Torr, opcionalmente de 5 Torr a 100 Torr, opcionalmente de 10 Torr a 80 Torr, opcionalmente de 15 Torr a 50 Torr, por exemplo, através da extração de um vácuo sobre a superfície revestida durante a medição de desgaseificação.

A desgaseificação pode ser medida a uma temperatura de - 10 °C a 150 °C, opcionalmente a partir de 0 °C a 100 °C, opcionalmente a partir de 0 °C a 50 °C, opcionalmente a partir de 0 °C a 21 °C, opcionalmente a partir de 5 °C a 20 °C. Dependendo das propriedades físico-químicas do primeiro material (substrato) e dos gases desgaseificados medidos, outras temperaturas podem também ser apropriadas. Alguns materiais, tais como COC, têm maior permeabilidade a temperaturas elevadas, embora também seja importante não os aquecer ao ponto de causar a distorção. Por exemplo, para COC (que tem uma temperatura de transição vítrea na gama de desde cerca de 70 °C a cerca de 180 °C) a temperatura para a medição da desgaseificação poderia ser de cerca de 80 °C ou mais elevada, desde que se mantenha abaixo da temperatura de transição vítrea e desde que a distorção seja evitada.

Em qualquer uma das modalidades descritas na presente descrição, o primeiro material pode ser opcionalmente fornecido sob a forma de um vaso que tem uma parede que tem uma superfície externa e uma superfície interna, a superfície interna encerrando um lúmen. Opcionalmente, a camada de barreira pode ser disposta sobre a superfície interna da parede do vaso.

Opcionalmente, um diferencial de pressão pode ser fornecido através da camada de barreira através de pelo menos uma evacuação parcial do lúmen. Isto pode ser feito, por exemplo, ao conectar o lúmen através de um duto a uma fonte de vácuo para pelo menos parcialmente evacuar o lúmen.

Uma célula de medição de desgaseificação pode ser proporcionada, a qual faz a comunicação entre o lúmen e a fonte de vácuo.

A desgaseificação pode ser medida através da determinação do volume de material desgaseificado que passa através da camada de barreira por intervalo de tempo.

A desgaseificação pode ser medida através da tecnologia de microfluxo. A desgaseificação pode ser medida como a taxa de fluxo de massa do material desgaseificado. A desgaseificação pode ser medida em um modo de fluxo molecular de operação.

A desgaseificação pode ser medida utilizando a tecnologia de microcantiléver como descrito na presente descrição.

Opcionalmente, um diferencial de pressão pode ser fornecido ao longo da camada de barreira, de tal modo que pelo menos algum material que desgaseifica esteja sobre o lado de pressões mais altas da camada de barreira. Em uma outra opção, pode-se permitir que o gás desgaseificado difunda sem o fornecimento de uma diferença de pressão. O gás desgaseificado é medido. Se um diferencial de pressão for fornecido ao longo da camada de barreira, a desgaseificação pode ser medida sobre o lado de pressões mais altas ou de pressões mais baixas da camada de barreira. V I.B. Além disso, uma medição da eficácia do revestimento interno (aplicado acima) pode ser feita mediante a medição da taxa de difusão de um espécime específico ou de materiais adsorvidos na parede do dispositivo (antes do revestimento). Quando comparada a um tubo não revestido (não tratado), este tipo de medição pode fornecer uma medição direta da barreira ou outro tipo de propriedades do revestimento ou tratamento, ou a presença ou a ausência do revestimento ou tratamento. O revestimento ou tratamento detectado, em adição a ou ao invés de ser uma camada de barreira, pode ser uma camada de lubricidade, uma camada hidrofóbica, um revestimento decorativo, ou outros tipos de camadas que modificam a desgaseificação do substrato, ou aumentando ou diminuindo isto. V I.B. Distinções são feitas nesta descrição entre “permeação”, “vazamento” e “difusão de superfície” ou “desgaseificação”.

“Permeação” para uso no presente documento em referência a um vaso é transversal a um material através de uma parede 346 ou outra obstrução, de fora do vaso para dentro ou vice- versa ao longo da trajetória 350 na FIG. 6 ou reversa da trajetória.

A desgaseificação se refere ao movimento de um material absorvido ou adsorvido, tal como a molécula de gás 354 ou 357 ou 359 para o exterior a partir de dentro da parede 346 ou revestimento 348 na FIG. 6, por exemplo, através do revestimento 348 (se estiver presente) e para dentro do vaso 358 (para a direita na FIG. 6). A desgaseificação pode também se referir ao movimento de um material como 354 ou 357 para fora da parede 346, para a esquerda conforme mostrado na FIG. 6, assim para fora do vaso 357 conforme ilustrado. A desgaseificação pode também se referir à remoção de material adsorvido a partir da superfície de um artigo, por exemplo, a molécula de gás 355 da superfície exposta do revestimento de barreira 90.

O vazamento se refere ao movimento de um material ao redor da obstrução representada pela parede 346 e pelo revestimento 348 em vez de através ou fora da superfície da obstrução, ao passar entre um fechamento e a parede de um vaso fechado com um fechamento. V I.B. A permeação é indicativa da taxa de movimento de gás através de um material, desprovido de vãos/defeitos e não está relacionada a vazamentos ou desgaseificação. Com referência à FIG. 6, que mostra uma parede de vaso ou outro substrato 346 que tem um revestimento de barreira 348, a permeação é transversal a um gás completamente através do substrato 346 e o revestimento 348 ao longo da trajetória 350 através de ambas as camadas. A permeação é considerada um processo termodinâmico, desta forma, relativamente lento. V I.B. As medições da permeação são muito lentas, já que o gás de permeação tem de passar completamente através de uma parede não quebrada do artigo de plástico. No caso de tubos de coleta de sangue evacuados, uma medição de permeação de gás através de sua de parede é convencionalmente usada como uma indicação direta da propensão do vaso perder vácuo ao longo do tempo, mas comumente é uma medição extremamente lenta, que exige comumente uma duração de teste de seis dias, não sendo rápida o suficiente para suportar a inspeção do revestimento on-line. Tal teste é ordinariamente usado para teste off-line de uma amostra de vasos. V I.B. O teste de permeação também não é uma medição muito sensível da eficácia de barreira de um revestimento delgado em um substrato espesso. Já que todo fluxo de gás ocorre através do revestimento e do substrato, as variações no fluxo através do substrato espesso irão introduzir variação não devida à eficácia da barreira do revestimento em si. V I.B. Os inventores descobriram um modo muito mais rápido e potencialmente mais sensível de medir as propriedades de barreira de um revestimento - a medição da desgaseificação de ar rapidamente separado ou de outros constituintes gasosos ou voláteis na parede do vaso ao longo do revestimento. Os constituintes gasosos ou voláteis podem ser qualquer material que, em de fato seja desgaseificado, ou podem ser selecionados a partir de um ou mais materiais específicos a serem detectados. Os constituintes podem incluir, mas não se limitam a, oxigênio, azoto, ar, dióxido de carbono, vapor de água, hélio, materiais orgânicos voláteis como álcoois, cetonas, hidrocarbonetos, hidrocarbonetos halogenados, éteres, precursores de revestimento, componentes de substrato, subprodutos da preparação do revestimento como organossilícios voláteis, subprodutos da preparação do substrato revestido, outros constituintes que estão presentes ou são introduzidos ao furar o substrato, ou misturas ou combinações de qualquer um destes.

A desgaseificação pode fornecer uma medição muito mais rápida (em comparação com a permeação) das propriedades de barreira e da presença de um revestimento tal como 348. A desgaseificação é um teste mais rápido porque o gás não necessita de passar através de toda a espessura da parede 346 na FIG. 6. Ela pode estar presente na parede 346 perto do revestimento de barreira 348 ou superfície interna do vaso (se não houver revestimento), de modo que pode atravessar uma proporção muito pequena da espessura da parede 346. Uma vez que o revestimento de barreira é milhares de vezes mais fino do que a parede do vaso, a medição da desgaseificação remove praticamente todo o atraso necessário para o teste de permeação através da redução da espessura de parede, o gás deve passar antes de ser detectável no interior do vaso. A redução da distância a ser percorrida reduz a duração da viagem.

A desgaseificação pode ser feita de modo mais sensível e, portanto, mais rapidamente através do carregamento da superfície a ser testada, com um gás que é facilmente absorvido pela parede do vaso, mas não pela camada de barreira. O interior do vaso a ser testado é exposto ao gás de carga, em seguida, é testado quanto à gaseificação. Se um revestimento de barreira eficaz estiver presente, muito pouco gás será carregado porque o revestimento de barreira irá bloquear a sua entrada na parede do vaso. Se nenhum revestimento de barreira estiver presente, o gás de carga será absorvido em uma proporção substancial pela parede do vaso, mesmo num período de tempo muito curto. A quantidade de gás que entra na parede e a presença ou ausência de um revestimento de barreira vai determinar a quantidade de desgaseificação para o interior do vaso.

Por fim, o método de medição da desgaseificação irá determinar a rapidez com que pode ser medida. A técnica de medição preferida é conhecida como tecnologia de microfluxo. A tecnologia de microfluxo utilizada no presente método permitiu que a presença e eficácia do revestimento de barreira fossem verificadas em poucos segundos, eventualmente em um segundo ou menos.

Se verificou que o método de desgaseificação pode diferenciar tubos de plástico com e sem revestimento em poucos segundos, e até mesmo em menos de um segundo.

A difusão de superfície e a desgaseificação são sinônimos. Cada termo se refere ao fluido inicialmente adsorvido ou absorvido em uma parede 346, como a parede de um vaso, e induzido a passar no espaço adjacente através de alguma força de motivação, como a extração de um vácuo (criando movimento de ar indicado pela grande seta da FIG. 6) no interior de um vaso que tem uma parede para forçar o fluido para fora da parede para o interior do vaso. A desgaseificação ou difusão é considerada como um processo cinético, relativamente rápido. Se contempla que, para uma parede 346 tendo uma resistência substancial à permeação ao longo da trajetória 350, a desgaseificação irá rapidamente desalojar as moléculas, tais como 354, que se encontram mais próximas da interface 356 entre a parede 346 e a camada de barreira 348. Esta desgaseificação diferencial é sugerida pelo elevado número de moléculas, tais como 354 perto da interface 356 mostradas como a desgaseificação, e pelo grande número de outras moléculas, tais como 358, que estão ainda mais afastadas a partir da interface 356 e não são mostradas como a desgaseificação. V I.B. Em conformidade, é verificado ainda outro método para inspecionar uma camada de barreira sobre um material que desgaseifica um vapor, incluindo diversas etapas. Uma amostra de material é fornecida que desgaseifica um gás e tem pelo menos uma camada de barreira parcial. Um diferencial de pressão é fornecido ao longo da camada de barreira, de tal modo que pelo menos algum do material que desgaseifica inicialmente esteja sobre o lado de pressões mais altas da camada de barreira. O gás desgaseificado transportado para o lado de pressões mais baixas da camada de barreira durante um teste é medido para determinar informação como se a barreira está presente ou quão eficaz é enquanto barreira. V I.B. Neste método, o material que desgaseifica um gás pode incluir um composto polimérico, um composto termoplástico, ou um ou mais compostos que têm ambas as propriedades. O material que desgaseifica um gás pode incluir poliéster, por exemplo, tereftalato de polietileno. O material que desgaseifica um gás pode incluir uma poliolefina, para dois exemplos de polipropilenos, um copolímero de olefina cíclica, ou uma combinação destes. O material que desgaseifica um gás pode ser um compósito de dois materiais diferentes, pelo menos um dos mesmos desgaseificando um vapor. Um exemplo é uma estrutura em duas camadas de polipropileno e tereftalato de polietileno. Outro exemplo é uma estrutura em duas camadas de copolímero de olefina cíclica e tereftalato de polietileno. Estes materiais e compósitos são exemplificadores; pode ser usado qualquer material adequado ou combinação de materiais. V I.B. Opcionalmente, o material que desgaseifica um gás é fornecido sob a forma de um vaso que tem uma parede que tem uma superfície externa e uma superfície interna, em que a superfície interna confina um lúmen. Nesta modalidade, a camada de barreira é opcionalmente disposta sobre a parede de vaso, opcionalmente sobre a superfície interna da parede de vaso. A camada de barreira poderia ou também está disposta sobre a superfície externa da parede de vaso. Opcionalmente, o material que desgaseifica um gás pode ser fornecido sob a forma de um filme. V I.B. A camada de barreira pode ser um revestimento completo ou parcial de qualquer uma dentre as camadas de barreira presentemente descritas. A camada de barreira pode ter menos que 500 nm de espessura, ou menos que 300 nm de espessura, ou menos que 100 nm de espessura, ou menos que 80 nm de espessura, ou menos que 60 nm de espessura, ou menos que 50 nm de espessura, ou menos que 40 nm de espessura, ou menos que 30 nm de espessura, ou menos que 20 nm de espessura, ou menos que 10 nm de espessura, ou menos que 5 nm de espessura. Tipicamente, quando se trata de uma camada de barreira de SiOx , ela pode ter cerca de 20 a 30 nm de espessura. V I.B. No caso de uma parede revestida, os inventores descobriram que a difusão/desgaseificação pode ser usada para determinar a integridade do revestimento. Opcionalmente, um diferencial de pressão pode ser fornecido ao longo da camada de barreira através pelo menos da evacuação parcial do lúmen ou do espaço interior do vaso. Isto pode ser feito, por exemplo, ao conectar o lúmen através de um duto a uma fonte de vácuo para pelo menos parcialmente evacuar o lúmen. Por exemplo, uma parede de PET não revestida 346 de um vaso que foi exposto ao ar ambiente irá desgaseificar de sua superfície interna um número determinado de moléculas de oxigênio e outras moléculas de gás como 354 durante algum tempo após um vácuo ser extraído. Se a mesma parede de PET for aplicada como revestimento sobre o interior com um revestimento de barreira 348, o revestimento de barreira irá parar, diminuir ou reduzir esta desgaseificação. Isto é verdadeiro, por exemplo, para um revestimento de barreira de SiOx 348, que desgaseifica menos que uma superfície plástica. Mediante a medição deste diferencial de desgaseificação entre as paredes de PET revestidas e não revestidas, o efeito de barreira do revestimento 348 para o material desgaseificado pode ser rapidamente determinado. V I.B. Se o revestimento de barreira 348 for imperfeito, devido a furos, frestas, vãos ou áreas conhecidas ou hipotéticas de espessura ou densidade ou composição insuficiente, a parede de PET irá desgaseificar, de preferência, através das imperfeições, aumentando assim a quantidade total de desgaseificação. A fonte primária do gás coletado é derivada do gás dissolvido ou constituintes vaporizáveis na (sub)superfície do artigo plástico próximo ao revestimento, não fora do artigo. A quantidade de desgaseificação além de um nível básico (por exemplo, a quantidade que passou ou foi liberada por um revestimento padrão com nenhuma imperfeição, ou o menor grau atingível de imperfeição, ou um grau médio e aceitável de imperfeição) pode ser medida de várias formas a fim de determinar a integridade do revestimento. V I.B. A medição pode ser executada, por exemplo, através do fornecimento de uma célula de medição de desgaseificação em comunicação entre o lúmen e a fonte de vácuo. V I.B. A célula de medição pode implementar qualquer uma dentre tecnologias diferentes de medição. Um exemplo de uma tecnologia de medição adequada é a tecnologia de microfluxo. Por exemplo, a taxa de fluxo de massa de material desgaseificado pode ser medida. A medição pode ser executada em um modo de fluxo molecular de operação. Uma medição exemplificadora é uma determinação do volume de gás desgaseificado através da camada de barreira por intervalo de tempo. V I.B. O gás desgaseificado no lado de pressões mais baixas da camada de barreira pode ser medido sob condições eficazes para distinguir a presença ou ausência da camada de barreira. Opcionalmente, as condições eficazes para distinguir a presença ou ausência da camada de barreira incluem uma duração de teste menor que um minuto, ou menos que 50 segundos, ou menos que 40 segundos, ou menos que 30 segundos, ou menos que 20 segundos, ou menos que 15 segundos, ou menos que 10 segundos, ou menos que 8 segundos, ou menos que 6 segundos, ou menos que 4 segundos, ou menos que 3 segundos, ou menos que 2 segundos, ou menos que 1 segundo. V I.B. Opcionalmente, a medição da presença ou ausência da camada de barreira pode ser confirmada a pelo menos um nível de seis sigma de certeza dentre de qualquer um dos intervalos de tempo identificados acima. V I.B. Opcionalmente, o gás desgaseificado no lado de pressões mais baixas da camada de barreira é medido sob condições eficazes a fim de determinar o fator de aprimoramento de barreira (BIF) da camada de barreira, comparado ao mesmo material sem uma camada de barreira. Um BIF pode ser determinado, por exemplo, através do fornecimento de dois grupos de recipientes idênticos, da adição de uma camada de barreira a um grupo de recipientes, do teste de uma propriedade da barreira (como a taxa de desgaseificação em microgramas por minuto ou outra medida adequada) em recipientes que têm uma barreira, ao fazer o mesmo teste em recipientes desprovidos de uma barreira, e ao adotar uma razão das propriedades dos materiais com barreira versus os materiais sem uma barreira. Por exemplo, se a taxa de desgaseificação através da barreira for um terço da taxa de desgaseificação sem barreira, a barreira tem um BIF de 3. V I.B. Opcionalmente, a desgaseificação de uma pluralidade de diferentes gases pode ser medida, nos casos em que mais que um tipo de gás está presente, tanto como azoto quanto oxigênio no caso de ar desgaseificado. Opcionalmente, a desgaseificação de substancialmente todos ou todos os gases desgaseificados pode ser medida. Opcionalmente, a desgaseificação de substancialmente todos os gases desgaseificados pode ser medida simultaneamente, através do uso de uma medição física como o taxa de fluxo de massa combinada de todos os gases. V I.B. A medição do número ou da pressão parcial de espécimes de gases individuais (como o oxigênio, hélio, CO2, ou vapor de água) desgaseificados da amostra pode ser feita mais rapidamente que o teste barométrico, mas a taxa de teste é reduzida até o ponto em que apenas uma fração da desgaseificação seja dos espécimes medidos. Por exemplo, se o azoto e oxigênio forem desgaseificados da parede de PET na proporção aproximadamente de 4:1 da atmosfera, mas apenas a desgaseificação do oxigênio for medida, o teste precisaria ser operado cinco vezes enquanto um teste igualmente sensível (em termos do número de moléculas detectadas para obter resultados de qualidade estatística suficiente) que mede todos os espécimes desgaseificados da parede de vaso. V I.B. Para um determinado nível de sensibilidade, se contempla que um método que considera o volume de todos os espécimes desgaseificados a partir da superfície irá fornecer o nível desejado de confiança mais rapidamente que um teste que mede a desgaseificação de um espécime específica, tal como os átomos de oxigênio. Consequentemente, os dados de desgaseificação que têm utilidade prática para medições inline podem ser gerados. Tais medições in-line podem, opcionalmente, ser executadas em todo o vaso fabricado, reduzindo assim o número de defeitos idiossincráticos ou isolados e eliminando potencialmente os mesmos (pelo menos no momento da medição). V I.B. Em uma medição prática, um fator que muda a quantidade aparente de desgaseificação é o vazamento que passa uma vedação imperfeita, como a vedação do vaso assentado sobre um receptáculo de vácuo enquanto o vácuo é extraído no teste de desgaseificação. O vazamento significa um fluido que passa uma parede sólida do artigo, por exemplo, fluido que passa entre um tubo de sangue e seu fechamento, entre um êmbolo da seringa e o tambor da seringa, entre um vaso e sua tampa, ou entre uma boca de vaso e uma vedação sobre a qual a boca de vaso está assentada (devido a uma vedação imperfeita ou assentada de forma incorreta). A palavra “vazamento” é usualmente indicativa do movimento de gás/gás através de uma abertura no artigo plástico. V I.B. O vazamento e (se necessário em uma dada situação) a permeação podem ser factorizados no nível básico de desgaseificação, enquanto um resultado de teste aceitável assegura que o vaso está adequadamente assentado sobre o receptáculo de vácuo (desta forma, suas superfícies assentadas estão intactas e adequadamente formadas e posicionadas), a parede de vaso não suporta um nível inaceitável de permeação (desta forma, a parede de vaso está intacta e adequadamente formada) e o revestimento tem uma integridade de barreira suficiente. V I.B. A desgaseificação pode ser medida de várias formas, como através de medição barométrica (que mede a mudança de pressão no interior do vaso em uma dada quantidade de tempo após o vácuo inicial ser extraído) ou mediante a medição da pressão parcial ou taxa de fluxo de gás desgaseificado da amostra. Existe equipamento disponível que mede uma taxa de fluxo de massa em um modo de fluxo molecular de operação. Um exemplo de equipamento comercialmente disponível deste tipo, que emprega a Tecnologia de Microfluxo está disponível pela ATC, Inc., Indianápolis, IN. Consultar patentes U.S. n° 5861546, 6308556, 6584828 e EP1356260, que estão aqui incorporadas a título de referência, para uma descrição adicional deste equipamento conhecido. Ver também Exemplo 8 na patente EP2251671, mostrando um exemplo de medição de desgaseificação para distinguir os tubos de tereftalato de polietileno (PET) revestidos com barreira dos tubos não revestidos mais rápida e confiavelmente. V I.B. Para um vaso produzido a partir de tereftalato de polietileno (PET), a taxa de microfluxo é muito diferente para a superfície revestida de SiOx versus uma superfície não revestida. Por exemplo, no Exemplo de Trabalho 8 do documento EP EP2251671 A2, a taxa de microfluxo de PET era de 8 ou mais microgramas após o ensaio ter sido feito durante 30 segundos, tal como mostrado na FIG. 8. Esta taxa de PET não revestido foi muito mais elevada do que a taxa medida para o PET revestido com SiOx, que foi inferior a 6 microgramas após o ensaio ter sido realizado durante 30 seg, uma vez mais, tal como mostrado na FIG. 8. V I.B. Uma explicação possível para esta diferença na taxa de fluxo é que o PET não revestido contém aproximadamente 0,7 porcento de umidade em equilíbrio; acredita-se que este alto teor de umidade cause a alta taxa de microfluxo observada. Com um plástico de PET revestido com SiOx, o revestimento de SiO x pode ter um nível maior de umidade superficial que uma superfície de PET não revestida. Sob as condições de teste, entretanto, acredita-se que o revestimento de barreira evita dessorção adicional de umidade do plástico de PET a granel, resultando em uma taxa inferior de microfluxo. Espera-se que as taxas de microfluxo de oxigênio ou azoto do plástico de PET não revestido versus o PET revestido com SiOx sejam distinguíveis. V I.B. As modificações do teste acima para um tubo de PET deveriam ser apropriadas ao usar outros materiais. Por exemplo, os plásticos de poliolefina tendem a ter um teor menor de umidade. Um Exemplo de uma poliolefinas que tem baixo teor de umidade é o copolímero de olefina cíclica TOPAS® (COC), que tem um teor de umidade em equilíbrio (0,01 porcento) e taxa de permeação de umidade muito menor que para PET. No caso de COC, o plástico de COC não revestido pode ter uma taxa de microfluxo similar a, ou ainda menor que, o plástico de COC revestido com SiOx. Isto é mais provável devido ao teor mais lato de umidade superficial do revestimento de SiOx e ao teor mais baixo de umidade a granel em equilíbrio e à taxa mais baixa de permeação de uma superfície plástica de COC não revestida. Isto faz com que a diferenciação de artigos de COC não revestidos e revestidos seja mais difícil.

A presente invenção mostra que a exposição das superfícies a serem testadas de artigos de COC à umidade (não revestido e revestido) resulta em separação de microfluxo aperfeiçoada e consistente entre plásticos COC não revestidos e revestidos com SiOx. Isto é mostrado no Exemplo 19 do documento EP2251671 A2 e FIG. 13. A exposição à umidade pode ser simplesmente a exposição à umidade relativa na faixa de 35 % a 100 %, ou em um ambiente de umidade relativa controlada ou exposição direta a uma fonte de umidade quente (umidificadora) ou fria (vaporizadora), sendo a última preferencial. V I.B. Enquanto a validade e o escopo da invenção não se limitam de acordo com a precisão desta teoria, parece que a dosagem da umidade ou a perfuração do plástico de COC não revestido aumenta seu teor de umidade ou outro desgaseificável em relação à superfície de COC revestida com SiOx já saturada. Isto também pode ser realizado ao expor os tubos revestidos e não revestidos a outros gases incluindo o dióxido de carbono, oxigênio, azoto, vapor de água, ou suas misturas, por exemplo, ar. A exposição ao dióxido de carbono (ou "perfuração") é especialmente eficaz a este respeito, quando os tubos são produzidos em COC. V I.B Desta forma, antes de medir o gás desgaseificado, a camada de barreira pode ser colocada em contato com água, por exemplo, vapor de água. O vapor de água pode ser fornecido, por exemplo, ao colocar a camada de barreira em contato com o ar a uma umidade relativa de 35 % a 100 %, alternativamente de 40 % a 100 %, alternativamente de 40 % a 50 %. Ao invés de, ou além da água, a camada de barreira pode ser colocada em contato com oxigênio, azoto ou uma mistura de oxigênio e azoto, por exemplo, o ar ambiente. Outros materiais também podem ser usados para testas a desgaseificação, incluindo o dióxido de carbono, o azoto e gases nobres (por exemplo, o árgon). O tempo contato pode ser de 0,1 segundo a uma hora, opcionalmente de 1 segundo a 50 minutos, opcionalmente, de 10 segundos a 40 minutos, opcionalmente, de um minuto a trinta minutos, opcionalmente, de 5 minutos a 25 minutos, opcionalmente de 10 minutos a 20 minutos.

Em alternativa, a parede 346 que será desgaseificada pode ser perfurada ou completada a partir do lado oposto de uma camada de barreira 348, por exemplo, expondo o lado esquerdo da parede 346, como mostrado na FIG. 11 a um material que vai gaseificar na parede 346 e, em seguida, desgaseificar, quer para a esquerda ou para a direita, como mostrado na FIG. 6. A perfuração de uma parede ou de outro material, tais como 346, a partir da esquerda por gaseificação, em seguida, medir a desgaseificação do material perfurado a partir da direita (ou vice-versa) é distinto da medição de permeação, porque o material perfurado está no interior da parede 346 na altura em que a desgaseificação é medida, em oposição ao material que percorre a trajetória completa 350, através da parede na altura em que o gás apresentado através do revestimento está sendo medido. A gaseificação pode ocorrer durante um longo período de tempo, conforme uma modalidade antes do revestimento 348 ser aplicado, e conforme outra modalidade após o revestimento 348 ser aplicado e antes de ser testado para desgaseificação. V I.B. Outro método potencial para aumentar a separação de resposta do microfluxo entre plásticos revestidos com SiOx e não revestidos é modificar a temperatura e/ou pressão de medição. O aumento da pressão ou a diminuição da temperatura durante a medição da desgaseificação pode resultar em uma aglutinação relativa mais elevada de moléculas de água em, por exemplo, COC revestido com SiOx do que em COC não revestido. Assim, o gás desgaseificado pode ser medido a uma pressão de 0,1 Torr a 100 Torr, alternativamente de 0,2 Torr a 50 Torr, alternativamente de 0,5 Torr a 40 Torr, alternativamente de 1 Torr a 30 Torr, alternativamente de 5 Torr a 100 Torr, alternativamente de 10 Torr a 80 Torr, alternativamente de 15 Torr a 50 Torr. O gás desgaseificado pode ser medido a uma temperatura de -10°C a 150°C, opcionalmente de 0°C a 100 °C, opcionalmente de 0°C a 50°C, opcionalmente de 0°C a 21°C, opcionalmente de 5°C a 20°C. Para COC, a temperatura pode ser de cerca de 80°C, ou superior.

Uma outra modalidade específica é um sistema melhorado e um método melhorado para a discriminação de artigos de plástico ou superfícies em COC revestidos com plasma, contra os artigos ou superfícies não revestidos, através da medição da infusão de dióxido de carbono, ou carregamento dos artigos ou superfícies de COC.

Em contraste com as resinas de PET que têm umidade substancial dissolvida (ca. 0,1-0,2 porcento em peso), as composições de copolímeros de olefinas cíclicas (COC), incluindo resinas da marca TOPAZ, têm uma umidade de equilíbrio muito inferior (cerca de 0,01 %). A análise de

Microfluxo para distinguir a taxa de desgaseificação entre COCs não revestidos e revestidos por plasma, através da utilização de desgaseificação de umidade, é mais difícil.

Foi descoberto que a infusão ou carregamento de dióxido de carbono (CO2) no artigo ou superfície de COC proporciona uma separação de sinal melhorada de microfluxo entre artigos de COC de moldagem por injeção revestidos e não revestidos por plasma. Esta discriminação aumentada irá proporcionar uma melhor determinação da uniformidade do revestimento para a optimização do desempenho e discriminação mais rápida da avaliação em tempo real in-line de artigos revestidos aceitáveis ou inaceitáveis. Assim, o CO2 é um material de carga preferido para executar o método de desgaseificação, incluindo o carregamento do item inspecionado de acordo com a invenção invenção.

As presentes condições para utilização do material de carga, por exemplo, para a utilização de CO2 como material de carga, são as seguintes:

Tempo de carregamento: 0,1 segundo a uma hora, opcionalmente de 1 segundo a 50 minutos, opcionalmente de 10 segundos a 40 minutos, opcionalmente de um minuto a trinta minutos, opcionalmente de 5 minutos a 25 minutos, opcionalmente de 10 minutos a 20 minutos. É particularmente considerado um tempo de carregamento de 12-14 min.

Pressão de carregamento: de 16 psi (1 atm) a 48 psi (3 atm), de preferência de 20 psi a 30 psi, e sendo 25 psi particularmente preferidos. Pressões mais altas do que 3 atm ao executar o processo de carga não são desejáveis, pois o vaso revestido e o revestimento podem ser então estirados, o que resulta em defeitos como fissuras e distensões no revestimento e/ou no substrato.

Os parâmetros típicos e as condições de carregamento com CO2 são indicados no Protocolo Básico de Carregamento com CO2.

Os parâmetros aí fornecidos podem ser variados por +/-50 %, ou menos, ao executar o carregamento. Condições similares, se for caso disso modificadas tendo em conta as diferentes propriedades físico-químicas dos outros materiais de carga aqui descritos, são adequadas para efetuar o carregamento com um dos outros materiais de carga referidos. O CO2 ou outro material de carga podem ser carregados no artigo revestido imediatamente após o revestimento.

Outros gases de infusão ou de carregamento considerados para melhorar a discriminação de desgaseificação não revestida vs revestida com plasma, usando métodos de microfluxo teria caracteristicamente pouca abundância atmosférica natural e uma alta solubilidade em resinas COC, incluindo mas não se limitando ao hélio, árgon, néon, hidrogénio, e acetileno. No entanto, como é apresentado pelos Exemplos, N2 também podem ser utilizado com sucesso. Os fluidos que são líquidos à temperatura e pressão padrão (760 Torr), mas que evaporam sob condições de análise (por exemplo ca. 1-5 Torr) também podem ser considerados como candidatos alternativos para análise, por exemplo, o hexametildissiloxano e espécimes de organossilício voláteis semelhantes e hidrocarbonetos halogenados como o cloreto de metileno.

A infusão ou carregamento de CO2 em artigos de plástico pode ser realizada como um gás de purga durante a etapa de medição por microfluxo, como parte de uma etapa de acabamento na operação de revestimento de plasma, ou como uma operação em separado. V I.B. Uma forma contemplada para medir a desgaseificação, em qualquer modalidade da presente revelação, é empregar uma técnica de medição de microcantiléver. Tal técnica é contemplada para permitir a medição de diferenças de massas menores na desgaseificação, potencialmente na ordem de 10-12 g (picogramas) a 10-15 g (femtogramas). Esta detecção de massas menores permite a diferenciação de superfícies revestidas versus não revestidas bem como diferentes revestimentos em menos de um segundo, opcionalmente menos que 0,1 seg, opcionalmente em uma questão de microssegundos. V I.B. Os sensores de microcantiléver (MCL), em alguns casos, podem responder à presença de um material desgaseificado ou outro material fornecido através da flexão ou do movimento ou da alteração do formato devido à absorção de moléculas. Os sensores de microcantiléver (MCL), em alguns casos, podem responder à mudança na frequência da ressonância. Em outras instâncias, os sensores de MCL podem mudar tanto destas maneiras ou de outras maneiras. Os mesmos podem ser operados em diferentes ambientes como ambientes gasosos, líquidos ou de vácuo. Em gás, os sensores de microcantiléver podem ser operados como um nariz artificial, através do qual o padrão de flexão de um arranjo microfabricado de oito cantiléveres de silício revestido com polímero é característico dos diferentes vapores de solventes, sabores e bebidas. O uso de qualquer outro tipo de nariz eletrônico, operado por qualquer tecnologia, também foi contemplado.

Diversos modelos eletrônicos de MCL, incluindo abordagens piezorresistivas, piezoelétricas e capacitivas, foram aplicados e são contemplados para medir o movimento, mudança de formato, ou a mudança de frequência dos MCLs mediante exposição a produtos químicos. V I.B. Um exemplo específico de medição da desgaseificação pode ser executado como se segue. Pelo menos um microcantiléver é fornecido que tem a propriedade, quando na presença de um material desgaseificado, de mover ou mudar para um formato diferente. O microcantiléver é exposto ao material desgaseificado sob condições eficazes para fazer com que o microcantiléver se mova ou mude para um formato diferente. O movimento ou formato diferente é, então, detectado. V I.B. Como um exemplo, o movimento ou formato diferente pode ser detectado através da reflexão de um feixe incidente energético de uma porção do microcantiléver que se move ou muda o formato, antes e depois de expor o microcantiléver à desgaseificação, e da medição da deflexão resultante do feixe refletido em um ponto espaçado em relação ao cantiléver. O formato é, opcionalmente, medido em um ponto espaçado em relação ao cantiléver devido à quantidade de deflexão do feixe sob dadas condições ser proporcional à distância do ponto de medição a partir do ponto de reflexão do feixe. V I.B. Diversos exemplos adequados de um feixe incidente energético são um feixe de fótons, um feixe de elétrons ou uma combinação de dois ou mais destes. Alternativamente, dois ou mais feixes diferentes podem ser refletidos do MCL ao longo de diferentes trajetórias incidentes e/ou refletidas, a fim de determinar movimento ou mudança de formato de mais que uma perspectiva. Um tipo especificamente contemplado de feixe incidente energético é um feixe de fótons coerentes, como um feixe de laser. “Fótons” conforme discutido na presente descrição são inclusivamente definidos como incluindo energia de onda bem como energia de fóton ou de partículas em si. V I.B. Um exemplo alternativo de medição beneficia da propriedade de determinados MCLs de mudança na frequência ressonante ao encontrar um material ambiental em uma quantidade eficaz para realizar uma mudança na frequência ressonante. Este tipo de medição pode ser executado como segue. Pelo menos um microcantiléver é fornecido que ressoa em uma frequência diferente quando na presença de um material desgaseificado. O microcantiléver pode ser exposto ao material desgaseificado sob condições eficazes para fazer com que o microcantiléver ressoe a uma frequência diferente. A frequência ressonante diferente é, então, detectada através de qualquer meio adequado. V I.B. Como um exemplo, a frequência ressonante diferente pode ser detectada ao emitir energia para o microcantiléver a fim de induzir que o mesmo ressoe antes e após a exposição do microcantiléver à desgaseificação. As diferenças entre as frequências ressonantes do MCL antes e depois da exposição à desgaseificação são determinadas. Alternativamente, ao invés de determinar a diferença na frequência ressonante, um MCL pode ser fornecido, o qual é conhecido por ter uma determinada frequência ressonante quando na presença de uma concentração suficiente ou quantidade de um material desgaseificado. A frequência ressonante diferente ou a frequência ressonante que sinaliza a presença de uma quantidade suficiente do material desgaseificado é detectada com o uso de um sensor de vibração harmônico.

Como um exemplo de utilização de tecnologia de MCL para a medição da desgaseificação, um dispositivo de MCL pode ser incorporado em um tubo de vácuo de quartzo ligado a um vaso e uma bomba de vácuo. Um sensor de vibração harmônico que utiliza um cantiléver piezoresistivo comercialmente disponível, circuitos de ponte de Wheatstone, um controlador de retorno positivo, um piezoatuator de excitação e um demodulador de malha de fase fechada (PLL) pode ser construído. Consultar, por exemplo,

Hayato Sone, Yoshinori Fujinuma e Sumio Hosaka Picogram Mass Sensor Using Resonance Frequency Shift of Cantilever, Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 3648;

Hayato Sone, Ayumi Ikeuchi, Takashi Izumi, Haruki Okano e Sumio Hosaka Femtogram Mass Biosensor Using Self-Sensing Cantilever for Allergy Check, Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2006) 2301).

Para preparar o MCL para detecção, um lado do microcantiléver pode ser revestido com uma gelatina. Consultar, por exemplo, Hans Peter Lang, Christoph Gerber, STM and AFM Studies on (Bio)molecular Systems: Unravelling the Nanoworld, Topics in Current Chemistry, Volume 285/2008. A dessorção do vapor de água da superfície do vaso revestido evacuado se liga à gelatina, fazendo com que o cantiléver se flexione e sua frequência ressonante mude, conforme medido através da deflexão de laser de uma superfície do cantiléver. A mudança na massa de um vaso não revestido versus revestido é prevista para ser resolvida em frações de segundos e ser altamente reproduzível. Os artigos citados acima em conjunto com a tecnologia do cantiléver estão incorporados no presente documento por referência pelas suas revelações de disposições específicas de MCLs e equipamentos que podem ser usados para detectar e quantificar espécimes desgaseificados.

Os revestimentos alternativos para detecção de umidade (ácido fosfórico) ou detecção de oxigênio podem ser aplicados a MCLs no lugar de ou além do revestimento de gelatina descrito acima. VI. B. Se contempla ainda que qualquer uma das configurações de teste de desgaseificação presentemente contempladas podem ser combinadas com uma estação de revestimento, por exemplo, uma estação de revestimento de PECVD que pode proporcionar um revestimento de SiOx. Numa tal disposição, a célula de medição 362 pode ser tal como ilustrada acima, utilizando o canal de vácuo principal para PECVD como o desvio 386. Numa modalidade, a célula de medição genericamente indicada como 362 da FIG. 7 pode ser incorporada em um retentor de vaso, tal como 50, em que o canal de desvio 386 é configurado como o duto de vácuo principal 94, e a célula de medição 362 é um canal lateral. VII. . Esta combinação da célula de medição 362 com o retentor de vaso 50 permitiria opcionalmente a medição da desgaseificação a ser conduzida sem ruptura do vácuo usado para PECVD. Opcionalmente, a bomba de vácuo para PECVD seria operada por um pequeno período de tempo, de preferência, padronizado para bombear alguns ou todos os gases reagentes residuais que permanecem após a etapa de revestimento (um bombeamento menor que um Torr, com uma opção adicional de admissão de uma pequena quantidade de ar, azoto, oxigênio ou outro gás para limpar ou diluir os gases do processo antes do bombeamento). Isto iria agilizar os processos combinados de revestimento do vaso e de teste do revestimento quanto ao nível de barreira e presença. VIII. Será adicionalmente observado por peritos na técnica, após análises da presente descrição, que medições de desgaseificação podem ser usadas para muitos propósitos que não ou além da determinação da eficácia de uma camada de barreira. Para um exemplo, o teste pode ser usado em vasos não revestidos ou revestidos a fim de determinar o grau de desgaseificação das paredes de vasos. Este teste pode ser usado, por exemplo, em casos nos quais um polímero não revestido é exigido para desgaseificar menos que uma quantidade específica. IX. B. Para outro exemplo, estas medições de desgaseificação podem ser usadas em filmes de barreira revestidos ou não revestidos, seja como um teste estático ou como um teste in-line para medir variações na desgaseificação de um filme enquanto atravessa a célula de medição. O teste pode ser usado para determinar a continuidade ou a eficácia da barreira de outros tipos de revestimentos, como revestimentos de alumínio ou revestimentos de barreira e de EVOH ou camadas de filmes de embalagem. X. .B. Estas medições de desgaseificação também podem ser usadas para determinar a eficácia de uma camada de barreira aplicada sobre o lado de uma parede de vaso, filme, ou similares opostos à célula de medição, como uma camada de barreira aplicada ao exterior de uma parede de vaso e apurada para desgaseificação em relação ao interior da parede de vaso. Nesta instância, o diferencial de fluxo seria para a permeação através do revestimento de barreira seguido de permeação através da parede ou filme de substrato. Esta medição seria particularmente útil nos casos em que a parede ou filme de substrato é bem permeável, como uma parede ou filme muito delgados ou porosos. XI. B. Estas medições de desgaseificação também podem ser usadas para determinar a eficácia de uma camada de barreira que é uma camada interior de uma parede de vaso, filme, ou similar, caso no qual a célula de medição detectaria qualquer desgaseificação através da camada adjacente à célula de medição mais desgaseificação, através da camada de barreira, da camada ou camadas mais remotas da célula de medição que a camada de barreira. XII. . Estas medições de desgaseificação também podem ser usadas para determinar a porcentagem de cobertura de um padrão de material de barreira em relação a um material que desgaseifica, através da determinação do grau de desgaseificação do material de barreira parcialmente revestido como uma proporção da quantidade de desgaseificação esperada se nenhuma barreira for apresentada sobre qualquer parte do material. XIII. Uma técnica de teste que pode ser usada para aumentar a taxa de teste para desgaseificação de um vaso, que pode ser usada com qualquer modalidade de teste de desgaseificação na descrição, é reduzir o volume do espaço vazio do vaso, ao inserir um êmbolo ou fechamento no vaso a fim de reduzir o volume do espaço vazio da porção do vaso testado. Diminuir o volume do espaço vazio permite que o vaso seja bombeado mais rapidamente para um dado nível de vácuo, diminuindo assim o intervalo de teste. XIV. . Muitas outras aplicações para as medições de desgaseificação atualmente descritas e todas as outras técnicas de medição de barreira se tornarão evidentes para o perito na técnica após revisão da presente descrição. XV. . VASOS TRATADOS POR PECVD XVI. Os vasos, que são contemplados, têm um revestimento de barreira 90 (mostrado na FIG. 2, por exemplo), que pode ser um revestimento de SiOx aplicado a uma espessura de pelo menos 2 nm, ou pelo menos 4 nm, ou pelo menos 7 nm, ou pelo menos 10 nm, ou pelo menos 20 nm, ou pelo menos 30 nm, ou pelo menos 40 nm, ou pelo menos 50 nm, ou pelo menos 100 nm, ou pelo menos 150 nm, ou pelo menos 200 nm, ou pelo menos 300 nm, ou pelo menos 400 nm, ou pelo menos 500 nm, ou pelo menos 600 nm, ou pelo menos 700 nm, ou pelo menos 800 nm, ou pelo menos 900 nm. O revestimento pode ter até 1000 nm, ou no máximo 900 nm, ou no máximo 800 nm, ou no máximo 700 nm, ou no máximo 600 nm, ou no máximo 500 nm, ou no máximo 400 nm, ou no máximo 300 nm, ou no máximo 200 nm, ou no máximo 100 nm, ou no máximo 90 nm, ou no máximo 80 nm, ou no máximo 70 nm, ou no máximo 60 nm, ou no máximo 50 nm, ou no máximo 40 nm, ou no máximo 30 nm, ou no máximo 20 nm, ou no máximo 10 nm, ou no máximo 5 nm de espessura. As faixas de espessura específicas compostas de qualquer uma dentre as espessuras mínimas expressas acima, mais qualquer uma igual ou maior dentre as espessuras máximas expressas acima, são expressamente previstas. A espessura do revestimento de SiOx ou outro revestimento pode ser medida, por exemplo, através de microscopia eletrônica de transmissão (TEM), e sua composição pode ser medida através de espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS). XVII. Se prevê que a escolha do material a ser barrado a partir da permeação do revestimento e a natureza do revestimento de SiOx aplicado pode afetar sua eficácia de barreira. Por exemplo, dois exemplos de materiais comumente previstos para serem barrados são vapor de água/água e oxigênio. Os materiais comumente são uma melhor barreira para um do que para outro. Acredita-se ser assim pelo menos em parte devido ao fato de o oxigênio ser transmitido através do revestimento por um mecanismo diferente do que a água é transmitida. XVIII. A transmissão de oxigênio é afetada pelas características físicas do revestimento, como sua espessura, a presença de fissuras, e outros detalhes físicos do revestimento. Acredita-se que a transmissão de água, por outro lado, seja comumente afetada por fatores químicos, isto é, o material a partir do qual o revestimento é feito, mais que os fatores físicos. Os inventores também acreditam que pelo menos um destes fatores químicos é uma concentração substancial de porções de OH no revestimento, que leva a uma taxa mais alta de transmissão de água através da barreira. Um revestimento de SiOx contém, frequentemente, porções de OH e, desta forma, um revestimento fisicamente inteiro que contém uma alta proporção de porções de OH é uma barreira melhor para oxigênio do que para água. Uma barreira à base de carbono fisicamente inteira, como carbono amorfo ou carbono tipo diamante (Diamond Like Carbon, ou DLC) comumente é uma barreira melhor para água do que é um revestimento de SiOx devido ao fato de que a barreira à base de carbono mais comumente tem uma concentração inferior de porções de OH. XIX. Outros fatores levam a uma preferência por um revestimento de SiOx, no entanto, tal como sua eficácia de barreira de oxigênio e sua próxima semelhança ao vidro e ao quartzo. O vidro e o quartzo (quando usado como o material base de um vaso) são dois materiais bem conhecidos por apresentar uma barreira muito alta para transmissão de oxigênio e água bem como inércia substancial a muitos materiais comumente transportados em vasos. Desta forma, é comumente desejável otimizar as propriedades de barreira de água como a taxa de transmissão de vapor de água (WVTR) de um revestimento de SiOx, ao invés de escolher um tipo diferente ou adicional de revestimento para servir como uma barreira de transmissão de água. XX. . Diversas formas previstas para otimizar a WVTR de um revestimento de SiOx são como segue. XXI. A razão de concentração de porções orgânicas (compostos de carbono e hidrogênio) para porções de OH no revestimento depositado pode ser diminuída. Isto pode ser concluído, por exemplo, mediante o aumento da proporção de oxigênio nos gases de alimentação (mediante o aumento de taxa de alimentação de oxigênio ou através da diminuição da taxa de alimentação de um ou mais outros constituintes). Acredita-se que a incidência diminuída de porções de OH resulta do aumento do grau de reação da alimentação de oxigênio com o hidrogênio na fonte de silício para produzir água mais volátil na exaustão de PECVD e uma concentração mais baixa de porções de OH aprisionadas ou incorporadas ao revestimento. XXII. Pode ser aplicada uma energia maior no processo de PECVD, quer por elevação do nível de potência de geração de plasma, quer com o uso da potência durante um período mais longo, ou ambos. Um aumento na energia aplicada deve ser empregado com cuidado quando usada para revestir um tubo plástico ou outro dispositivo, visto ter também uma tendência para distorcer o vaso a ser tratado, na medida em que o tubo absorve a potência de geração de plasma. É por isso que a potência de RF é contemplada no contexto do presente pedido. A distorção dos dispositivos médicos pode ser reduzida ou eliminada através do emprego da energia em uma série de dois ou mais pulsos espaçados através do tempo de resfriamento, através do resfriamento dos vasos durante aplicação de energia, com o uso do revestimento em um tempo mais curto (comumente fazendo isto mais delgado), através da seleção de uma frequência do revestimento aplicado que é minimamente absorvido pelo material base selecionado para ser revestido, e/ou com o uso de mais que um revestimento, com tempo entre as etapas de aplicação de energia respectivas. Por exemplo, um pulso de alta potência pode ser usado com um ciclo de trabalho de 1 milissegundo ligado, 99 milissegundos desligado, enquanto continua a alimentar o gás de processo. O gás de processo é, então, o líquido refrigerante, enquanto mantém o fluxo entre os pulsos. Outra alternativa é reconfigurar o aplicador de potência, pela adição de imãs para confinar o aumento de plasma da aplicação de potência eficaz (a potência que realmente resulta em revestimento incremental, oposta à potência residual que resulta no aquecimento ou revestimento não desejado). Este expediente resulta na aplicação de mais energia de formação de revestimento por Watt-hora total de energia aplicada. Ver, por exemplo, a patente U.S. n° 5,904,952. XXIII. Um pós-tratamento de oxigênio do revestimento pode ser aplicado a fim de remover as porções de OH do revestimento anteriormente depositado. Se prevê que este tratamento também remova os compostos de organossilício voláteis residuais ou silícios ou oxide o revestimento para formar SiOx adicional. XXIV. O tubo de material base de plástico pode ser pré- aquecido. XXV. Uma fonte volátil diferente de silício, como hexametildissilazano (HMDZ), pode ser usada como parte ou toda a alimentação de silício. Se prevê que a mudança do gás de alimentação para HMDZ abordará o problema devido a este composto não ter porções de oxigênio, conforme fornecido. Se prevê que uma fonte de porções de OH no revestimento de fonte de HMDSO seja a hidrogenação de pelo menos alguns dentre os átomos de oxigênio presentes no HMDSO não-reagido. XXVI. Um revestimento compósito pode ser usado, como um revestimento à base de carbono combinado com SiOx. Isto pode ser realizado, por exemplo, através da mudança das condições de reação ou pela adição de um hidrocarboneto substituído ou não-substituído, como um alcano, alceno, ou alcino, ao gás de alimentação bem como um composto à base de organossilício. Consulte, por exemplo, patente U.S. n° 5,904,952, que relata em parte relevante: “Por exemplo, a inclusão de um hidrocarboneto inferior como propileno fornece porções de carbono e otimiza a maioria das propriedades dos filmes depositados (exceto pela transmissão de luz), e a análise de aglutinação indica o filme como dióxido de silício natural. O uso de metano, metanol ou acetileno, no entanto, produz filmes que são silício por natureza. A inclusão de uma pequena quantidade de azoto gasoso à corrente de gás fornece porções de azoto nos filmes depositados e aumenta a taxa de deposição, otimiza as propriedades ópticas de transmissão e reflexão no vidro, e varia o índice de refração em resposta a quantidades variadas de N2. A adição de óxido nitroso à corrente de gás aumenta a taxa de deposição e otimiza as propriedades ópticas, mas tende a diminuir a dureza do filme.” Hidrocarbonetos adequados incluem o metano, etano, etileno, propano, acetileno, ou uma combinação de dois ou mais destes. XXVII. Um revestimento de carbono tipo diamante (DLC) pode ser formado como o revestimento primário ou único depositado. Isto pode ser realizado, por exemplo, através da mudança das condições de reação ou através da alimentação de metano, hidrogênio e hélio a um processo de PECVD. Estas alimentações de reação não têm oxigênio, portanto, nenhuma porção de OH pode ser formada. Como Exemplo, um revestimento de SiOx pode ser aplicado ao interior de um tubo ou tambor da seringa e um revestimento externo de DLC pode ser aplicado à superfície externa de um tubo ou tambor da seringa. Ou, os revestimentos de SiOx e DLC podem, ambos, ser aplicados como uma camada simples ou camadas múltiplas de um revestimento de tubo interior ou de tambor da seringa. XXVIII. Com referência à FIG. 2, a barreira ou outro tipo de revestimento 90 reduz a transmissão de gases atmosféricos para dentro do vaso 80, através da sua superfície interior 88. Ou, a barreira ou outro tipo de revestimento 90 reduz o contato dos conteúdos no vaso 80 com a superfície interior 88. A barreira ou outro tipo de revestimento pode compreender, por exemplo, SiOx, carbono amorfo (por exemplo, tipo diamante), ou uma combinação destes. XXIX. Qualquer revestimento aqui descrito pode ser usado para revestir uma superfície, por exemplo, uma superfície plástica. Pode ser adicionalmente usado como uma camada de barreira, por exemplo, como uma barreira contra um gás ou líquido, opcionalmente, contra vapor de água, oxigênio e/ou ar. Também pode ser usado para evitar ou reduzir os efeitos mecânicos e/ou químicos que a superfície revestida teria sobre um composto ou composição se a superfície fosse não revestida. Por exemplo, pode evitar ou reduzir a precipitação de um composto de um composto ou composição, por exemplo, precipitação de insulina ou coagulação de sangue ou ativação de plaquetas. XXX. A. Vasos Revestidos

Os revestimentos aqui descritos podem ser aplicados a uma variedade de vasos produzidos de plástico ou vidro, muito principalmente a tubos de plástico e seringas. Um processo é contemplado para a aplicação de uma camada ou revestimento de lubricidade sobre um substrato, por exemplo, o interior do tambor de uma seringa, que compreende a aplicação de um dos precursores descritos em ou próximo a um substrato a uma espessura de 1 a 5000 nm, ou de 10 a 1000 nm, ou de 10 a 500 nm, ou de 10 a 200 nm, ou de 20 a 100 nm, ou de 30 a 1000 nm, ou de 30 a 500 nm de espessura, ou de 30 a 1000 nm, ou de 20 a 100 nm, ou de 80 a 150 nm, e reticulação ou polimerização (ou ambas) do revestimento, opcionalmente em um processo de PECVD, a fim de fornecer uma superfície lubrificada. O revestimento aplicado através deste processo também é ponderado como novo.

Um revestimento de SiwOxCyHz, tal como definido na Secção de Definições pode ter utilidade como camada hidrofóbica. Pondera-se que os revestimentos deste tipo sejam hidrofóbicos, independentemente se os mesmos funcionam como camadas de lubricidade. Um revestimento ou tratamento é definido como “hidrofóbico” se o mesmo baixar a tensão de umedecimento de uma superfície, comparada à superfície não revestida ou não-tratada correspondente. A capacidade hidrofóbica é, desta forma, uma função tanto do substrato não-tratado como do tratamento.

O grau de capacidade hidrofóbica de um revestimento pode ser variado através da variação de sua composição, propriedades ou métodos de deposição. Por exemplo, um revestimento de SiOx com pouco ou nenhum teor de hidrocarbonetos, é mais hidrofílico do que um revestimento de SiwOxCyHz, tal como definido na Secção de Definições. Em geral, quanto maior for o teor da porção de C-Hx (por exemplo, CH, CH2 ou CH3) do revestimento, seja em peso, volume ou molaridade, em relação ao seu teor de silício, mais hidrofóbico é o revestimento.

Uma camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser muito delgados, tendo uma espessura de pelo menos 4 nm, ou pelo menos 7 nm, ou pelo menos 10 nm, ou pelo menos 20 nm, ou pelo menos 30 nm, ou pelo menos 40 nm, ou pelo menos 50 nm, ou pelo menos 100 nm, ou pelo menos 150 nm, ou pelo menos 200 nm, ou pelo menos 300 nm, ou pelo menos 400 nm, ou pelo menos 500 nm, ou pelo menos 600 nm, ou pelo menos 700 nm, ou pelo menos 800 nm, ou pelo menos 900 nm. O revestimento pode ter até 1000 nm, ou no máximo 900 nm, ou no máximo 800 nm, ou no máximo 700 nm, ou no máximo 600 nm, ou no máximo 500 nm, ou no máximo 400 nm, ou no máximo 300 nm, ou no máximo 200 nm, ou no máximo 100 nm, ou no máximo 90 nm, ou no máximo 80 nm, ou no máximo 70 nm, ou no máximo 60 nm, ou no máximo 50 nm, ou no máximo 40 nm, ou no máximo 30 nm, ou no máximo 20 nm, ou no máximo 10 nm, ou no máximo 5 nm de espessura. As faixas de espessura específicas compostas de qualquer uma dentre as espessuras mínimas expressas acima, mais qualquer uma igual ou maior dentre as espessuras máximas expressas acima, são expressamente previstas.

Uma utilidade para tal camada ou revestimento hidrofóbicos é isolar uma parede do tubo termoplástico, feita, por exemplo, de tereftalato de polietileno (PET), do sangue coletado no interior do tubo. A camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser aplicados no topo de um revestimento de SiOx hidrofílico sobre a superfície interna do tubo. O revestimento de SiOx aumenta as propriedades de barreira do tubo termoplástico e a camada ou revestimento hidrofóbicos mudam a energia da superfície da superfície de contato do sangue com a parede do tubo. A camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser feitos através do fornecimento de um precursor selecionado a partir daqueles identificados na presente descrição. Por exemplo, o precursor da camada ou revestimento hidrofóbicos pode compreender hexametil dissiloxano (HMDSO) ou octametilciclotetrassiloxano (OMCTS).

Outro uso para uma camada ou revestimento hidrofóbicos é preparar um tubo de preparação de célula de vidro. O tubo tem uma parede definindo um lúmen, uma camada ou revestimento hidrofóbicos na superfície interna da parede de vidro, e contém um reagente de citrato. A camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser feitos através do fornecimento de um precursor selecionado a partir daqueles identificados em qualquer lugar da presente descrição. Por outro exemplo, o precursor da camada ou revestimento hidrofóbicos pode compreender hexametil dissiloxano (HMDSO) ou octametilciclotetrassiloxano (OMCTS). Outro material de fonte para camadas hidrofóbicas é um alquil trimetoxissilano com a seguinte fórmula: R-Si(OCH3)3 em que R é um átomo de hidrogênio ou um substituinte orgânico, por exemplo, metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, t-butila, vinila, alcino, epóxido ou outros. As combinações de dois ou mais desses também são contempladas.

As combinações de catálise ácida ou básica e aquecimento, com o uso de um precursor de alquil trimetoxissilano conforme descrito acima, podem condensar o precursor (remoção de sub-produtos de ROH) para formar polímeros reticulados, que podem opcionalmente ser adicionalmente reticulados através de um método alternativo. Um exemplo específico é dado por Shimojima et. al. J. Mater. Chem., 2007, 17, 658 - 663.

Uma camada de lubricidade pode ser aplicada como um revestimento subsequente após a aplicação de um revestimento de barreira de SiOx à superfície interior 88 do vaso 80 a fim de fornecer uma camada de lubricidade, particularmente se a camada ou revestimento de lubricidade for um composto de organossiloxano líquido no final do processo de revestimento.

Opcionalmente, após a camada ou revestimento de lubricidade serem aplicados, eles podem ser pós-curados após o processo de PECVD. As abordagens de cura por radiação, incluindo iniciada por UV (radial ou catiônica livre), feixe de elétrons (E-feixe), e térmica conforme descrito em Development of Novel Cycloaliphatic Siloxanes For Thermal And UV-Curable Applications (Ruby Chakraborty Dissertation, 2008) podem ser utilizadas.

Outra abordagem para fornecer uma camada ou revestimento de lubricidade é usar um agente desmoldante de silício ao moldar por injeção o vaso termoplástico a ser lubrificado. Por exemplo, prevê-se que qualquer um dentre os agentes desmoldantes e monômeros latentes que fazem com que a formação da camada ou revestimento de lubricidade térmicos in-situ durante o processo de moldagem possa ser usada. Ou, os monômeros supracitados podem ser administrados em agentes desmoldantes tradicionais para alcançar o mesmo resultado.

Uma camada de lubricidade é particularmente prevista para a superfície interna de um tambor da seringa conforme adicionalmente descrito a seguir. Uma superfície interna lubrificada de um tambor da seringa pode reduzir a força de deslizamento do êmbolo necessária para avançar um êmbolo no tambor durante operação de uma seringa, ou a força de rompimento para iniciar um êmbolo que se move após o êmbolo da seringa pré-carregada ter empurrado o lubrificante interveniente ou aderido ao tambor, por exemplo, devido à decomposição do lubrificante entre o êmbolo e o tambor. Tal como explicado noutro ponto da presente descrição, uma camada ou revestimento de lubricidade também podem ser aplicados na superfície interior 88 do vaso 80 para melhorar a adesão de um revestimento subsequente de SiOx.

Assim, o revestimento 90 pode compreender uma camada ou revestimento de SiOx e uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada hidrofóbica, caracterizados tal como definido na Secção de Definições. A camada ou revestimento de lubricidade e/ou a camada ou revestimento hidrofóbicos de SiwOxCyHz podem ser depositados entre a camada ou revestimento de SiOx e a superfície interior do vaso. Ou, a camada ou revestimento de SiOx podem ser depositados entre a camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos e a superfície interior do vaso. Ou, três ou mais camadas, seja alternantes ou graduadas entre estas duas composições de revestimento: (1) uma camada ou revestimento de SiOx e (2) a camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada hidrofóbica; também podem ser usados. a camada ou revestimento de SiOx podem ser depositados de modo adjacente à camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos, ou remotamente, com pelo menos uma camada ou revestimento intervenientes ou outro material. A camada ou revestimento de SiOx podem ser depositados de modo adjacente à superfície interior do vaso. Ou, a camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser depositados de modo adjacente à superfície interior do vaso.

Um outro expediente aqui contemplado, para camadas adjacentes de SiOx e uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada hidrofóbica, é um compósito graduado de SiwOxCyHz, tal como definido na Secção de Definições. Um composto graduado podem ser camadas separadas de uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos e SiOx com uma transição ou interface de composição intermédia entre eles, ou camadas separadas de uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos e SiOx com uma camada intermédia distinta ou revestimento de composição intermédia entre elas, ou uma única camada ou revestimento que muda continuamente, ou em etapas, a partir de uma composição de uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos para uma composição mais parecida com SiOx, passando através do revestimento numa direção normal.

O grau no compósito graduado pode ir em qualquer direção. Por exemplo, a camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada ou revestimento hidrofóbicos podem ser aplicados diretamente no substrato e serem graduados para uma composição adicional a partir da superfície de SiOx. Ou, a composição de SiOx pode ser aplicada diretamente ao substrato e ser preparada em uma composição adicionalmente a partir da superfície de uma camada ou revestimento de lubricidade e/ou camada hidrofóbica. Um revestimento graduado é particularmente contemplado, se um revestimento de uma composição for melhor para a aderência ao substrato do que o outro, caso em que a composição melhor aderente pode, por exemplo, ser aplicada diretamente ao substrato. É contemplado que as porções mais distantes dos revestimentos graduados podem ser menos compatíveis com o substrato do que as porções adjacentes do revestimento graduado, uma vez que, em qualquer ponto o revestimento está a mudar gradualmente em propriedades, de modo que as porções adjacentes quase à mesma profundidade do revestimento têm composição quase idêntica, e porções separadas fisicamente de modo mais amplo em profundidades substancialmente diferentes podem ter propriedades mais diversas. Prevê-se, também, que uma porção de revestimento que forma uma melhor barreira contra a transferência de material para ou do substrato pode estar diretamente contra o substrato, a fim de evitar que a porção de revestimento mais remota, que forma uma barreira menos satisfatória, seja contaminada com o material previsto para ser barrado ou impedido pela barreira.

O revestimento, ao invés de ser graduado, pode ter opcionalmente transições agudas entre uma camada ou revestimento e os seguintes, sem um gradiente substancial de composição. Tais revestimentos podem ser feitos, por exemplo, através do fornecimento dos gases a fim de produzir uma camada ou revestimento como um fluxo de regime permanente em um estado de não-plasma, energizando então o sistema com uma breve descarga de plasma para formar um revestimento sobre o substrato. Se um revestimento subsequente tiver de ser aplicado, os gases para o revestimento anterior são removidos e os gases para o próximo revestimento são aplicados de uma forma de estado regime permanente antes da energização do plasma e da formação, novamente, de uma camada ou revestimento distintos sobre a superfície do substrato ou seu revestimento anterior mais externo, com pouca, se houver, transição gradual na interface. V II.A.1.a. Vasos Exemplificativos V II.A.1.a. Com referência à FIG. 2, mais detalhes do vaso como 80 são mostrados. O vaso ilustrado 80 pode ser, em geral, tubular tendo uma abertura 82 numa extremidade do vaso, oposta por uma extremidade fechada 84. O vaso 80 também tem uma parede 86, que define uma superfície interior 88. Um exemplo do vaso 80 é um tubo de amostra clínica, tal como um tubo de coleta de sangue evacuado, como é comumente utilizado por um flebotomista para receber uma amostra de punção venosa de sangue de um doente para utilização num laboratório clínico. V II.A.1.a. O vaso 80 pode ser feito, por exemplo, de material termoplástico. Alguns exemplos de material termoplástico adequado são tereftalato de polietileno ou uma poliolefinas como polipropilenos ou um copolímero de poliolefina cíclica. V II.A.1.a. O vaso 80 pode ser feito através de qualquer método adequado, como através de moldagem por injeção, através de moldagem por sopro, através de usinagem, através de fabricação do estoque da tubagem, ou através de outros meios adequados. PECVD pode ser usado para formar um revestimento sobre a superfície interna de SiOx. V II.A.1.a. Se destinado ao uso como um tubo de coleta de sangue evacuado, o vaso 80 pode ser, desejavelmente, forte o suficiente para resistir a um vácuo interno substancialmente total substancialmente sem deformação quando exposto a uma pressão externa de 760 Torr ou pressão atmosférica e outras condições de processamento de revestimento. Esta propriedade pode ser fornecida, em um vaso termoplástico 80, através do fornecimento de um vaso 80 produzido a partir de materiais adequados que tem dimensões adequadas e um temperatura de transição vítrea maior que a temperatura de processamento do processo de revestimento, por exemplo, uma parede cilíndrica 86 que tem espessura suficiente de parede para seu diâmetro e material. V II.A.1.a. Os recipientes ou vasos medicinais como tubos de coleta de amostra e seringas são relativamente pequenos e são moldados por injeção com paredes relativamente espessas, que os tornam capazes de serem evacuados sem serem comprimidos pela pressão atmosférica ambiente. Os mesmos são, deste modo, mais fortes que garrafas de bebida refrigerante carbonatadas ou outros recipientes de plástico com paredes mais delgadas ou maiores. Já que os tubos de coleta de amostra designados para uso como vasos evacuados são tipicamente construídos para resistir a um vácuo total durante armazenamento, os mesmos podem ser usados como câmaras de vácuo. V II.A.1.a. Tal adaptação dos vasos para serem suas próprias câmaras de vácuo pode eliminar a necessidade de colocar os vasos em uma câmara de vácuo para tratamento de PECVD, que tipicamente é executado em uma pressão muito baixa. O uso de um vaso como sua própria câmara de vácuo pode resultar em tempo mais rápido de processamento (já que a carga e descarga das partes de uma câmara de vácuo separada não é necessária) e pode levar a configurações de equipamento simplificadas. Adicionalmente, prevê-se um retentor de vaso, para determinadas modalidades, que irá reter o dispositivo (para alinhamento aos tubos de gás e outros aparelhos), vedar o dispositivo (de modo que o vácuo possa ser criado através da fixação do retentor de vaso a uma bomba de vácuo) e mover o dispositivo entre as etapas de moldagem e de processamento subsequente. V II.A.1.a. Um vaso 80 usado como um tubo de coleta de sangue evacuado deveria ser capaz de resistir à pressão atmosférica externa, enquanto internamente evacuado a uma pressão reduzida útil para a aplicação prevista, sem um volume substancial de vazamento de ar ou de outro gás atmosférico para o tubo (tal como o desvio do fechamento) ou da permeação através da parede 86 durante sua vida útil. Se o vaso tal como moldado 80 não poder cumprir com este requisito, ele poderá ser processado por revestimento da superfície interior 88 com uma barreira ou outro tipo de revestimento 90. É desejável o tratamento e/ou revestimento das superfícies internas destes dispositivos (tais como os tubos de coleta de amostra e os tambores de seringa) para conferir várias propriedades que ofereçam vantagens em relação aos já existentes dispositivos poliméricos e/ou para imitar os produtos de vidro existentes. É desejável, também, medir várias propriedades dos dispositivos antes e/ou depois do tratamento ou revestimento.

Outros vasos exemplificativos são as seringas aqui descritas. V II.A.1.b. Vaso com Parede Revestida com Revestimento Hidrofóbico V II.A.1.b. Outra modalidade é um vaso que tem uma parede dotada de uma camada ou revestimento hidrofóbicos em sua superfície interna e que contém um reagente de citrato de sódio aquoso. A camada ou revestimento hidrofóbicos também podem ser aplicados no topo de um revestimento de SiOx hidrofílico sobre a superfície interna do vaso. O revestimento de SiOx aumenta as propriedades de barreira do vaso plástico e a camada ou revestimento hidrofóbicos mudam a energia da superfície da superfície de contato da composição ou composto no interior do vaso com a parede de vaso. V II.A.1.b. A parede é produzida a partir de material termoplástico que tem uma superfície interna que define um lúmen. V II.A.1.b. Um vaso de acordo com a modalidade VII.A.1.b pode ter uma primeira camada ou revestimento de SiOx sobre a superfície interna do tubo, aplicada conforme explicado na presente invenção, para funcionar como uma barreira ao oxigênio e para estender a vida útil de um tubo de coleta de sangue evacuado produzido a partir de material termoplástico. Uma segunda camada ou revestimento de uma camada hidrofóbica, caracterizados tal como na Secção de Definições, podem então ser aplicados sobre a camada ou revestimento de barreira na superfície interna do vaso, para proporcionar uma superfície hidrofóbica. Em um tubo ou seringa de coleta de sangue, o revestimento é opcionalmente eficaz na redução da ativação de plaquetas do plasma de sangue tratado com um aditivo de citrato de sódio e exposto à superfície interna, comparado ao mesmo tipo de parede não revestida. V II.A.1.b. O PECVD é usado para formar uma camada ou revestimento hidrofóbicos sobre a superfície interna. Ao contrário dos tubos de coleta de sangue de citrato convencionais, um tubo de coleta de sangue que tem uma camada hidrofóbica tal como aqui definida não exige um revestimento de silício cozido sobre a parede de vaso, ao ser convencionalmente aplicado para fazer com que a superfície do tubo seja hidrofóbica. V II.A.1.b. Ambas as camadas podem ser aplicadas com o uso do mesmo precursor, por exemplo, HMDSO ou OMCTS, e diferentes condições de reação de PECVD. V II.A.1.b. Ao preparar um tubo ou seringa de coleta de sangue, um reagente de anticoagulação de citrato de sódio pode, então, ser colocado no interior do tubo e é evacuado e vedado com um fechamento para produzir um tubo de coleta de sangue evacuado. Os componentes e formulações do reagente são conhecidos dos peritos na técnica. O reagente de citrato de sódio aquoso é disposto no lúmen do tubo em uma quantidade eficaz para inibir a coagulação de sangue introduzido no tubo. V II.A.1.c. Vaso de Plástico de Parede Dupla Revestida de Barreira de SiOx - camadas de COC, PET, SiOx V II.A.1.c. Outra modalidade é um vaso que tem uma parede que confina pelo menos parcialmente um lúmen. A parede tem uma camada polimérica interna ou revestimento confinados por uma camada polimérica externa. Uma dentre as camadas poliméricas é uma camada ou revestimento com pelo menos 0,1 mm de espessura de uma resina de copolímero de olefina cíclica (COC) definindo uma barreira de vapor de água. Outra dentre as camadas poliméricas é uma camada ou revestimento com pelo menos 0,1 mm de espessura de uma resina de poliéster. V II.A.1.c. A parede inclui uma camada ou revestimento de barreira para oxigênio de SiOx que tem uma espessura de cerca de 10 a cerca de 500 angstroms. V II.A.1.c. Na modalidade ilustrada na FIG. 10, o vaso 80 pode ser um vaso de parede dupla que tem uma parede interna 408 e uma parede externa 410, respectivamente produzidas a partir do mesmo ou de diferentes materiais. Uma modalidade particular deste tipo pode ser produzida com uma parede moldada de um copolímero de olefina cíclica (COC) e a outra parede moldada de um poliéster como tereftalato de polietileno (PET), com um revestimento de SiOx conforme previamente descrito, sobre a superfície interna. Conforme necessário, uma camada ou revestimento justo podem ser inseridos entre as paredes interna e externa a fim de promover a adesão entre as mesmas. Uma vantagem desta construção de parede é que as paredes que têm propriedades diferentes podem ser combinadas para formar um compósito que tem as respectivas propriedades de cada parede. V II.A.1.c. Como um exemplo, a parede interna 408 pode ser produzida de PET revestido sobre a superfície interna com uma camada de barreira de SiOx, e a parede externa 410 pode ser produzida de COC. O PET revestido com SiOx, conforme mostrado em outro lugar na presente descrição, é uma excelente barreira ao oxigênio, enquanto COC é uma excelente barreira para vapor de água, fornecendo uma baixa taxa de transição de vapor de água (WVTR). Este vaso compósito pode ter propriedades de barreira superiores tanto para oxigênio quanto para o vapor de água. Esta construção é prevista, por exemplo, para um tubo de coleta de amostra medicinal evacuado que contém um reagente aquoso quando fabricado, e tem uma vida útil substancial, por isso deve ter uma barreira que evita a transferência de vapor de água para fora ou transferência de oxigênio ou outros gases para dentro através de sua parede compósita durante sua vida útil. V II.A.1.c. Como um outro exemplo, a parede interna 408 pode ser produzida de COC revestido sobre a superfície interna 412 com uma camada de barreira de SiOx, e a parede externa 410 pode ser produzida de PET. Esta construção é prevista, por exemplo, para uma seringa pré-carregada que contém um fluido estéril aquoso quando fabricada. A barreira de SiOx irá evitar que o oxigênio entre na seringa através de sua parede. A parede interna de COC irá evitar o ingresso ou egresso de outros materiais como a água, evitando assim que a água no fluido estéril aquoso lixivie materiais do material da parede para a seringa. A parede interna de COC também é prevista para evitar que a água derivada do fluido estéril aquoso passe da seringa (desta forma, concentrando indesejavelmente o fluido estéril aquoso), e irá evitar que a água não-estéril ou outros fluidos fora da seringa entrem através da parede da seringa e façam com que os conteúdos se tornem não-estéreis. A parede interna de COC também é prevista para ser útil para a diminuição da força de ruptura ou de atrito do êmbolo contra a parede interna de uma seringa. V II.A.1.d. Método de Fabricação de um Vaso de Plástico de Parede Dupla - Camadas de COC, PET, SiOx V II.A.1.d. Outra modalidade é um método para fabricação de um vaso que tem uma parede que tem uma camada polimérica interna ou revestimento confinados por uma camada polimérica externa, uma camada ou revestimento produzidos a partir de COC e a outra feita de poliéster. O vaso é produzido através de um processo incluindo a introdução de camadas de resina de COC e poliéster em um molde para injeção através de bocais de injeção concêntricos. V II.A.1.d. Uma etapa adicional opcional é a aplicação de um revestimento de carbono amorfo ao vaso através de PECVD, como um revestimento interno, um revestimento externo ou como um revestimento de camadas intermediárias colocado entre as camadas. V II.A.1.d. Uma etapa adicional opcional consiste em aplicar uma camada ou revestimento de barreira de SiOx no interior da parede de vaso, onde SiOx é definido como antes. Outra etapa adicional opcional é o pós-tratamento da camada ou revestimento de SiOx com um reagente gasoso ou gás de processo consistindo essencialmente em oxigênio e sendo essencialmente isento de um composto de silício volátil. V II.A.1.d. Opcionalmente, o revestimento de SiOx pode ser formado ao menos parcialmente a partir de um gás de alimentação de silazano. V II.A.1.d. O vaso 80 mostrado na FIG. 10 pode ser produzido a partir de dentro para fora, por um exemplo, através de moldagem por injeção da parede interna em uma primeira cavidade de molde, então a remoção do núcleo e da parede interna moldada da primeira cavidade de molde para uma segunda cavidade de molde maior, então da moldagem por injeção da parede externa contra a parede interna na segunda cavidade de molde. Opcionalmente, uma camada de fixação ou revestimento podem ser fornecidos à superfície externa da parede interna moldada antes da moldagem com sobreposição da parede externa sobre a camada de fixação. V II.A.1.d. Ou, o vaso 80 mostrado na FIG. 10 pode ser produzido a partir de fora para dentro, por um exemplo, através da inserção de um primeiro núcleo na cavidade de molde, da moldagem por injeção da parede externa na cavidade de molde, então a remoção do primeiro núcleo da primeira parede moldada e da inserção de um segundo núcleo menor, então da moldagem por injeção da parede interna contra a parede externa que ainda reside na cavidade de molde. Opcionalmente, uma camada de fixação ou revestimento podem ser fornecidos à superfície interna da parede interna moldada antes da moldagem com sobreposição da parede interna sobre a camada de fixação. V II.A.1.d. Ou, o vaso 80 mostrado na FIG. 10 pode ser produzido em uma moldagem de duas injeções. Isso pode ser realizado, por exemplo, pela moldagem por injeção do material para a parede interna a partir de um bocal interno e o material para a parede externa, a partir de um bocal externo concêntrico. Opcionalmente, uma camada de fixação ou revestimento podem ser fornecidos de um terceiro bocal concêntrico disposto entre os bocais interno e externo. Os bocais podem alimentar os respectivos materiais da parede simultaneamente. Um expediente útil é começar a alimentar o material da parede externa através do bocal externo levemente antes da alimentação do material da parede interna através do bocal interno. Se existir um bocal concêntrico intermediário, a ordem de fluxo pode começar a partir do bocal externo e continuar em sequência a partir do bocal intermediário e, então, a partir do bocal interno. Ou, a ordem de início de alimentação pode começar a partir do bocal interno e trabalhar para fora, em ordem inversa se comparado à descrição precedente. V II.A.1.e. Vaso, ou Revestimento produzido a partir de vidro V II.A.1.e. Outra modalidade é um vaso que inclui um vaso, um revestimento de barreira e um fechamento. O vaso é, em geral, tubular e produzido a partir de material termoplástico. O vaso tem uma boca e um lúmen ligados pelo menos parcialmente por uma parede que tem uma superfície interna que faz interface com o lúmen. Há um revestimento de barreira produzido a partir de vidro pelo menos essencialmente contínuo na superfície interna da parede. Um fechamento cobre a boca e isola o lúmen do vaso de ar ambiente. V II.A.1.e. O vaso 80 também pode ser feito, por exemplo, de vidro de qualquer tipo usado em aplicações médicas ou de laboratório, como vidro de cal soldada, vidro de borossilicato, ou outras formulações de vidro. Outros vasos com qualquer formato ou dimensão, produzidos a partir de qualquer material, são também contemplados para utilização no sistema 20. Uma função de revestimento de um vaso de vidro pode ser reduzir o ingresso de íons no vidro, seja intencionalmente ou como impurezas, por exemplo, sódio, cálcio ou outros, a partir do vidro para os conteúdos do vaso, tal como um reagente ou sangue em um tubo de coleta de sangue evacuado. Outra função de revestimento de um vaso de vidro integral ou parcialmente, como seletivamente em superfícies que entram em contato em relação de deslizamento com outras partes, é fornecer lubricidade ao revestimento, por exemplo, para facilitar a inserção ou remoção de um batente ou passagem de um elemento de deslizamento tal como um pistão em uma seringa. Ainda outra razão para revestir um vaso de vidro é evitar que um reagente ou amostra destinada para o vaso, como sangue, cole na parede do vaso ou evitar um aumento na taxa de coagulação do sangue em contato com a parede do vaso. V II.A.1.e.i. Uma modalidade relacionada é um vaso conforme descrito no parágrafo anterior, no qual o revestimento de barreira é produzido a partir de vidro de cal soldada, vidro de borossilicato, ou outro tipo de vidro. V II.B. Seringas V II.B. A descrição precedente tratou amplamente da aplicação de um revestimento de barreira a um tubo com uma extremidade permanentemente fechada, como um tubo de coleta de sangue ou, de modo mais genérico, um tubo de recebimento de um espécime 80. O aparelho não se limita a tal dispositivo. V II.B. Outro exemplo de vaso adequado, mostrado na FIG. 3 é um tambor de seringa 250 para uma seringa clínica 252. Tais seringas 252 são por vezes fornecidas pré-carregadas com solução de salina, uma preparação farmacêutica, ou semelhantes para a utilização em técnicas clínicas. As seringas pré-carregadas 252 também são contempladas para beneficiar de uma barreira de SiOx ou outro tipo de revestimento na superfície interior 254 para manter os conteúdos da seringa pré-carregada 252 fora de contato com o plástico da seringa, por exemplo, do tambor da seringa 250 durante o armazenamento. A barreira ou outro tipo de revestimento podem ser usados para evitar a lixiviação de componentes do plástico nos conteúdos do tambor através da superfície interna 254. V II.B. Um tambor de seringa 250 tal como moldado, pode normalmente ser aberto, tanto na extremidade posterior 256, para receber um êmbolo 258, como na extremidade frontal 260, para receber uma agulha hipodérmica, um bocal, ou tubagem para a descarga dos conteúdos da seringa 252, ou para receber material para o interior da seringa 252. Mas a extremidade frontal 260 pode ser opcionalmente tampada e o êmbolo 258 pode opcionalmente ser adaptado em posição antes de a seringa pré-carregada 252 ser usada, através do fecho do tambor 250 em ambas as extremidades. Uma tampa 262 pode ser instalada ou com o propósito de processar o tambor da seringa 250 ou seringa montada, ou para permanecer no lugar durante o armazenamento da seringa pré-carregada 252, até o momento em que a tampa 262 é removida e (opcionalmente) uma agulha hipodérmica ou outra conduta de entrega é ajustada na extremidade frontal 260 para preparar a seringa 252 para uso.

Outro vaso adequado é a "seringa de agulha incorporada” descrita no documento PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011 e no US61/359,434, depositado em 29 de junho de 2010, i.e. um tambor de seringa com uma agulha oca afixa (“incorporada”). V II.B. Seringas V II.B. A descrição precedente tratou amplamente da aplicação de um revestimento de barreira a um tubo com uma extremidade permanentemente fechada, como um tubo de coleta de sangue ou, de modo mais genérico, um tubo de recebimento de um espécime 80. O aparelho não se limita a tal dispositivo. V II.B. Outro exemplo de um vaso adequado, mostrado na FIG. 3 é um tambor de seringa 250 para uma seringa clínica 252. Tais seringas 252 são por vezes fornecidas pré- carregadas com solução de salina, uma preparação farmacêutica, ou semelhantes para a utilização em técnicas clínicas. As seringas pré-carregadas 252 também são contempladas para beneficiar de uma barreira de SiOx ou outro tipo de revestimento na superfície interior 254 para manter os conteúdos da seringa pré-carregada 252 fora de contato com o plástico da seringa, por exemplo, do tambor da seringa 250 durante o armazenamento. A barreira ou outro tipo de revestimento podem ser usados para evitar a lixiviação de componentes do plástico nos conteúdos do tambor através da superfície interna 254. V II.B. Um tambor de seringa 250 tal como moldado, pode normalmente ser aberto, tanto na extremidade posterior 256, para receber um êmbolo 258, como na extremidade frontal 260, para receber uma agulha hipodérmica, um bocal, ou tubagem para a descarga dos conteúdos da seringa 252, ou para receber material para o interior da seringa 252. Mas a extremidade frontal 260 pode ser opcionalmente tampada e o êmbolo 258 pode opcionalmente ser adaptado em posição antes de a seringa pré-carregada 252 ser usada, através do fecho do tambor 250 em ambas as extremidades. Uma tampa 262 pode ser instalada ou com o propósito de processar o tambor da seringa 250 ou seringa montada, ou para permanecer no lugar durante o armazenamento da seringa pré-carregada 252, até o momento em que a tampa 262 é removida e (opcionalmente) uma agulha hipodérmica ou outro conduto de entrega é ajustado na extremidade frontal 260 para preparar a seringa 252 para uso.

Outra seringa adequada é a "seringa de agulha incorporada” descrita no documento PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011 e no US 61/359,434, depositado em 29 de junho de 2010, i.e. um tambor de seringa com uma agulha oca afixa (“incorporada”).

Tipicamente, quando o tambor da seringa é revestido, os métodos de revestimento em PECVD aqui descritos são realizados de tal modo que a superfície do substrato revestido é parte integrante ou a totalidade da superfície interna do tambor, o gás para a reação de PECVD enche o lúmen interior do cano, e o plasma é gerado no interior de parte ou de todo o lúmen interior do tambor. V II.B.1.a. Seringa com Tambor Revestido com Camada de Lubricidade V II.B.1.a. Uma seringa com uma camada de lubricidade do tipo pode ser realizada pelo processo que se segue. V II.B.1.a. Um precursor é fornecido conforme definido acima. V II.B.1.a. O precursor é aplicado a um substrato sob condições eficazes para formar um revestimento. O revestimento é polimerizado ou reticulado, ou ambos, para formar uma superfície lubrificada que tem uma baixa força de deslizamento ou força de rompimento do êmbolo do que o substrato não tratado. V II.B.1.a. Em relação a qualquer uma das Modalidades VII e subpartes, opcionalmente, a etapa de aplicação é executada pela vaporização do precursor e pelo fornecimento próximo ao substrato. V II.B.1.a. Um plasma é formado na proximidade do substrato. Opcionalmente, o precursor é fornecido na ausência substancial de azoto. Opcionalmente, o precursor é fornecido em menos que 1 Torr de pressão absoluta. Opcionalmente, o precursor é fornecido nas imediações de uma emissão de plasma. Opcionalmente, o precursor de seu produto de reação é aplicado ao substrato com uma espessura média de 1 a 5000 nm, ou 10 a 1000 nm, ou 10 a 500 nm, ou 10 a 200 nm, ou 20 a 100 nm, ou 30 a 1000 nm, ou 30 a 500 nm, ou 30 a 1000 nm, ou 20 a 100 nm, ou 80 a 150 nm de espessura. Opcionalmente, o substrato compreende vidro. Opcionalmente, o substrato compreende um polímero, opcionalmente um polímero de policarbonato, opcionalmente um polímero de olefina, opcionalmente um copolímero de olefina cíclica, opcionalmente um polímero de polipropileno, opcionalmente um polímero de poliéster, opcionalmente um polímero de tereftalato de polietileno. O COC é particularmente considerado para seringas e tambores de seringas. V II.B.1.a. Opcionalmente, o plasma é gerado ao energizar o reagente gasoso contendo o precursor com elétrodos energizados, por exemplo, a uma frequência de RF conforme definido acima, por exemplo uma frequência de 10 kHz a menos que 300 MHz, opcionalmente de 1 a 50 MHz, mais opcionalmente de 10 a 15 MHz, opcionalmente uma frequência de 13,56 MHz. V II.B.1.a. Opcionalmente, o plasma é gerado pela energização do reagente gasoso contendo o precursor com elétrodos fornecidos com uma potência elétrica de desde 0,1 a 25 W, opcionalmente de 1 a 22 W, opcionalmente de 3 a 17 W, ainda opcionalmente de 5 a 14 W, opcionalmente de 7 a 11 W, opcionalmente de 8 W. A razão entre a potência do elétrodo para o volume de plasma pode ser inferior a 10 W/mL, opcionalmente de 6 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 5 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 4 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 2 W/mL a 0,2 W/mL. Os níveis de baixa potência são acreditados pelos inventores como sendo mais vantajosos (por exemplo, os níveis de potência de 2 a 3,5 W e os níveis de potência dados nos Exemplos) para preparar um revestimento de lubricidade. Esses níveis de energia são adequados para a aplicação de camadas de lubricidade a seringas e tubos e vasos de amostra de geometria similar que têm um volume de espaço vazio de 1 a 3 mL em que o plasma de PECVD é gerado. Contempla-se que, para objetos maiores ou menores, a energia aplicada deveria ser aumentada ou reduzida em conformidade para dimensionar o processo para o tamanho do substrato. V II.B.1.a. Outra modalidade é um revestimento de lubricidade da presente invenção na parede interna de um tambor de seringa. O revestimentos é produzido a partir de um processo de PECVD com o uso dos seguintes materiais e condições. Um precursor cíclico é, opcionalmente, empregado, selecionado a partir de um siloxano monocíclico, um siloxano policíclico ou uma combinação de dois ou mais destes, conforme definido em outras partes da presente descrição para revestimentos de lubricidade. Um exemplo de um precursor cíclico adequado compreende octametilciclotetrassiloxano (OMCTS), opcionalmente misturado com outros materiais precursores em qualquer proporção. Opcionalmente, o precursor cíclico consiste essencialmente em octameticiclotetrassiloxano (OMCTS), o que significa que outros precursores podem estar presentes em quantidades que não mudam as propriedades básicas e inovadoras da camada de lubricidade resultante, isto é, sua redução da força de deslizamento do êmbolo ou força de rompimento da superfície revestida. V II.B.1.a. Uma entrada de energia de geração de plasma suficiente, por exemplo, qualquer nível de energia usado sem problemas em um ou mais exemplos de trabalho da presente descrição ou descrito na presente descrição, é fornecida para induzir a formação de revestimento. V II.B.1.a. Os materiais e condições empregados são eficazes para reduzir a força de deslizamento de êmbolo da seringa ou a força de rompimento que se move pelo tambor da seringa pelo menos 25 porcento, alternativamente pelo menos 45 porcento, alternativamente pelo menos 60 porcento, alternativamente mais que 60 porcento, em relação a um tambor de seringa não revestido. Faixas de redução de força de deslizamento de êmbolo ou força de rompimento de 20 a 95 porcento, alternativamente de 30 a 80 porcento, alternativamente de 40 a 75 porcento, alternativamente de 60 a 70 porcento, são contempladas. V II.B.1.a. Outra modalidade é um vaso tendo uma camada hidrofóbica caracterizada tal como definido na Secção de Definições, na parede interna. O revestimento é feito conforme explicado para o revestimento lubrificante de composição similar, mas sob condições eficazes para formar uma superfície hidrofóbica tendo um ângulo de contato mais alto do que o substrato não tratado. V II.B.1.a. Opcionalmente, o substrato compreende vidro ou um polímero. O vidro, opcionalmente, é vidro de borossilicato. O polímero é, opcionalmente, um polímero de policarbonato, opcionalmente um polímero de olefina, opcionalmente, um copolímero de olefina cíclica, opcionalmente, um polímero de polipropileno, opcionalmente, um polímero de poliéster, opcionalmente, um polímero de tereftalato de polietileno. V II.B.1.a. Outra modalidade é uma seringa incluindo um êmbolo, um tambor de seringa, e uma camada de lubricidade. O tambor de seringa inclui uma superfície interna que recebe o êmbolo para deslizamento. A camada ou revestimento de lubricidade são dispostos em parte ou na totalidade da superfície interior do tambor de seringa. A camada ou revestimento de lubricidade pode opcionalmente ser menor que 1000 nm de espessura e eficaz para reduzir a força de rompimento ou a força de deslizamento do êmbolo necessária para mover o êmbolo no interior do tambor. A redução da força de deslizamento do êmbolo é alternativamente expressa como reduzindo o coeficiente de atrito deslizante do êmbolo no tambor ou reduzindo a força do êmbolo; esses termos são interpretados como tendo o mesmo significado na presente descrição. V II.B.1.a. A seringa compreende um êmbolo e um tambor de seringa. O tambor de seringa tem uma superfície interna 552 que recebe o êmbolo para deslizamento. A superfície interior do tambor de seringa compreende ainda uma camada ou revestimento de lubricidade. A camada ou revestimento de lubricidade é menor que 1000 nm de espessura, opcionalmente menor que 500 nm de espessura, opcionalmente menor que 200 nm de espessura, opcionalmente menor que 100 nm de espessura, opcionalmente menor que 50 nm de espessura, e é eficaz para reduzir a força de rompimento necessária para superar a adesão do êmbolo após o armazenamento ou a força de deslizamento do êmbolo necessária para mover o êmbolo no interior do tambor após ter rompido. A camada ou revestimento de lubricidade são caracterizados por terem uma força de deslizamento de êmbolo ou força de rompimento inferior àquela da superfície não revestida. V II.B.1.a. Qualquer um dos precursores acima de qualquer tipo pode ser usado sozinho ou em combinações de dois ou mais dos mesmos para fornecer uma camada de lubricidade. V II.B.1.a. Em adição à utilização de processos a vácuo, processos de plasma de baixas temperaturas atmosféricas (não- vácuo) também podem ser utilizados para induzir a ionização molecular e a deposição através da entrega de vapor de monômero de precursor, opcionalmente em uma atmosfera não- oxidante como hélio ou árgon. Espaçadamente, o CVD térmico pode ser considerado através de deposição de termólise rápida. V II.B.1.a. As abordagens acima são similares ao PECVD a vácuo na medida em que o revestimento de superfície e os mecanismos de reticulação podem ocorrer simultaneamente. V II.B.1.a. Ainda outro expediente contemplado para qualquer revestimento ou revestimentos descritos aqui é um revestimento que não é aplicado uniformemente sobre todo o interior 88 de um vaso. Por exemplo, um revestimento diferente ou adicional pode ser aplicado seletivamente à porção cilíndrica do vaso interior, se comparado à porção hemisférica do vaso interior em sua extremidade fechada 84, ou vice-versa. Esse expediente é particularmente contemplado para um tambor de seringa ou um tubo de coleta de amostra conforme descrito abaixo, em que uma camada ou revestimento de lubricidade podem ser fornecidos em parte de ou toda a porção cilíndrica do tambor, onde o êmbolo ou pistão ou fechamento desliza e não em outro local. V II.B.1.a. Opcionalmente, o precursor pode ser fornecido na presença, ausência substancial, ou ausência de azoto. Em uma modalidade contemplada, o precursor sozinho é aplicado ao substrato e submetido a PECVD para aplicar e curar o revestimento. V II.B.1.a. Opcionalmente, o precursor pode ser fornecido em menos que 1 Torr de pressão absoluta. V II.B.1.a. Opcionalmente, o precursor pode ser fornecido às imediações de uma emissão de plasma. V II.B.1.a. Em qualquer uma das modalidades acima, o substrato pode compreender vidro, ou um polímero, por exemplo um ou mais dentre um polímero de policarbonato, um polímero de olefina (por exemplo um copolímero de olefina cíclica ou um polímero de polipropileno), ou um polímero de poliéster (por exemplo, um polímero de tereftalato de polietileno). V II.B.1.a. Em qualquer uma das modalidades acima, o plasma é gerado pela energização do reagente gasoso que contém o precursor com elétrodos energizados a uma frequência RF conforme definido nessa descrição. V II.B.1.a. Em qualquer uma das modalidades acima, o plasma é gerado pela energização do reagente gasoso que contém o precursor com elétrodos fornecidos com energia elétrica o suficiente para gerar uma camada de lubricidade. Opcionalmente, o plasma é gerado pela energização do reagente gasoso contendo o precursor com elétrodos fornecidos com uma potência elétrica de desde 0,1 a 25 W, opcionalmente de 1 a 22 W, opcionalmente de 3 a 17 W, ainda opcionalmente de 5 a 14 W, opcionalmente de 7 a 11 W, opcionalmente de 8 W. A razão entre a potência do elétrodo para o volume de plasma pode ser inferior a 10 W/mL, opcionalmente de 6 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 5 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 4 W/mL a 0,1 W/mL, opcionalmente de 2 W/mL a 0,2 W/mL. Os níveis de baixa potência são acreditados pelos inventores como sendo mais vantajosos (por exemplo, os níveis de potência de 2 a 3,5 W e os níveis de potência dados nos Exemplos) para preparar um revestimento de lubricidade. Esses níveis de energia são adequados para a aplicação de camadas de lubricidade a seringas e tubos e vasos de amostra de geometria similar que têm um volume de espaço vazio de 1 a 3 mL em que o plasma de PECVD é gerado. Contempla-se que, para objetos maiores ou menores, a energia aplicada deveria ser aumentada ou reduzida em conformidade para dimensionar o processo para o tamanho do substrato. V II.B.1.a. O revestimento pode ser curado, como por polimerização ou reticulação do revestimento, ou ambos, para formar uma superfície lubrificada que tem uma força de deslizamento de êmbolo ou força de rompimento inferior àquela do substrato não tratado. A cura pode ocorrer durante o processo de aplicação como PECVD, ou pode ser realizada ou pelo menos completada por processamento espaçado. V II.B.1.a. Embora a deposição por plasma tenha sido usada aqui para demonstrar as características de revestimento, métodos de deposição alternativos podem ser usados contanto que a composição química do material de partida seja preservada o máximo possível enquanto ainda deposita um filme sólido que é aderido ao substrato de base. V II.B.1.a. Por exemplo, o material de revestimento pode ser aplicado no tambor da seringa (a partir do estado líquido) por aspersão do revestimento ou imersão do substrato no revestimento, em que o revestimento é, ou o precursor puro, ou um precursor diluído em solvente (permitindo a deposição mecânica de um revestimento mais fino). O revestimento pode, opcionalmente, ser reticulado com o uso de energia térmica, energia UV, energia de feixe de elétrons, energia de plasma, ou qualquer combinação destes. V II.B.1.a. A aplicação de um precursor de silício conforme descrito acima em uma superfície seguida de uma etapa de cura separada também é contemplada. As condições de aplicação e cura podem ser análogas àquelas usadas para a cura de plasma atmosférico de éteres de polifluoroalquila pré-revestidos, um processo praticado sob a marca comercial TriboGlide®. Mais detalhes desse processo podem ser encontrados em http://www.triboglide.com/process.htm. V II.B.1.a. Em tal processo, a área da parte a ser revestida pode opcionalmente ser pré-tratada com um plasma atmosférico. Esse pré-tratamento limpa e ativa a superfície de modo que seja receptiva ao lubrificante que é borrifado na próxima etapa. V II.B.1.a. O fluido de lubrificação, nesse caso um dos precursores acima ou um precursor polimerizado, é, então, aplicado por aspersão à superfície a ser tratada. Por exemplo, a tecnologia de dispensação de precisão de IVEK pode ser usada para atomizar de maneira precisa o fluido e criar um revestimento uniforme. V II.B.1.a. O revestimento é, então, ligado ou reticulado à parte, novamente com o uso de um campo de plasma atmosférico. Isso imobiliza o revestimento e otimiza o desempenho do lubrificante. V II.B.1.a. Opcionalmente, o plasma atmosférico pode ser gerado a partir de ar ambiente no vaso, em cujo caso nenhuma alimentação de gás e nenhum equipamento de extração de vácuo é necessário. Opcionalmente, entretanto, o vaso é pelo menos substancialmente fechado enquanto o plasma é gerado, para minimizar o requisito de energia e evitar contato do plasma com as superfícies ou materiais fora do vaso. V II.B.1.a.i. Camada de Lubricidade: Camada de SiOx, Camada de Lubricidade, Tratamento de Superfície Tratamento de superfície V II.B.1.a.i. Outra modalidade é uma seringa que compreende um tambor que define um lúmen e tem uma superfície interna que recebe de maneira deslizante um êmbolo, isto é, recebe um êmbolo para contato deslizante com a superfície interna. V II.B.1.a.i. O tambor de seringa é feito de material base termoplástico. V II.B.1.a.i. Opcionalmente, a superfície interna do tambor é revestida com uma camada ou revestimento de barreira de SiOx conforme descrito em outras partes da presente descrição. V II.B.1.a.i. Uma camada ou revestimento de lubricidade são aplicados a parte ou na totalidade da superfície interna do tambor, do êmbolo, ou ambos, ou à camada de barreira de SiOx previamente aplicada. A camada ou revestimento de lubricidade podem ser fornecidos, aplicados, e curados conforme apresentado na modalidade VII.B.1.a ou em outra parte da presente descrição. V II.B.1.a.i. Por exemplo, a camada ou revestimento de lubricidade podem ser aplicados, em qualquer modalidade, por PECVD. A camada ou revestimento de lubricidade são depositados a partir de um precursor de organossilício, sendo menor que 1000 nm de espessura. V II.B.1.a.i. Um tratamentos de superfície é executado na camada ou revestimento de lubricidade em uma quantidade eficaz para reduzir a lixiviação ou extraíveis da camada de lubricidade, do material base termoplástico, ou ambos. A superfície tratada pode, portanto, agir como um retentor de soluto. Esse tratamento de superfície pode resultar em um revestimento de pele, por exemplo, um revestimento de pele que tem pelo menos 1 nm de espessura e pelo menos 100 nm de espessura, ou menos que 50 nm de espessura, ou menos que 40 nm de espessura, ou menos que 30 nm de espessura, ou menos que 20 nm de espessura, ou menos que 10 nm de espessura, ou menos que 5 nm de espessura, ou menos que 3 nm de espessura, ou menos que 2 nm de espessura, ou menos que 1 nm de espessura, ou menos que 0,5 nm de espessura. V II.B.1.a.i. Conforme usado aqui, “lixiviação” refere-se ao material transferido para fora de um substrato, como uma parede de vaso, nos conteúdos de um vaso, por exemplo, uma seringa. Comumente, lixiviáveis são medidos ao armazenar o vaso carregado com os conteúdos destinados, então, analisar os conteúdos para determinar que material lixiviou da parede de vaso para os conteúdos destinados. “Extração” se refere ao material removido de um substrato ao introduzir um solvente ou meio de dispersão diferente dos conteúdos destinados do vaso, para determinar que material pode ser removido do substrato para o meio de extração sob as condições do teste. V II.B.1.a.i. O tratamento de superfície que resulta em um retentor de soluto pode ser, opcionalmente, uma camada ou revestimento de SiOx tal como anteriormente definido na presente descrição, ou uma camada hidrofóbica, caracterizada tal como definido na Secção de Definições. Em uma modalidade, o tratamento de superfície pode ser aplicado por depósito de PECVD de SiOx ou de uma camada hidrofóbica. Opcionalmente, o tratamento de superfície pode ser aplicado com o uso de condições de energia mais alta ou de oxidação mais forte do que aquelas usadas para criar a camada de lubricidade, ou ambos, fornecendo, assim, um retentor de soluto mais rígido, mais fino, contínuo. O tratamento de superfície pode ser menor que 100 nm de profundidade, opcionalmente menor que 50 nm de profundidade, opcionalmente menor que 40 nm de profundidade, opcionalmente menor que 30 nm de profundidade, opcionalmente menor que 20 nm de profundidade, opcionalmente menor que 10 nm de profundidade, opcionalmente menor que 5 nm de profundidade, opcionalmente menor que 3 nm de profundidade, opcionalmente menor que 1 nm de profundidade, opcionalmente menor que 0,5 nm de profundidade, opcionalmente entre 0,1 e 50 nm de profundidade na camada de lubricidade. V II.B.1.a.i. O retentor de soluto é contemplado para fornecer baixo desempenho de lixiviação de soluto à lubricidade subjacente e outras camadas, incluindo o substrato, conforme exigido. Seria apenas necessário que esse retentor fosse um retentor de soluto para oligômeros e moléculas de soluto grandes (por exemplo, monômero de siloxano como HMDSO, OMCTS, seus fragmentos e oligômeros móveis derivados de lubrificantes, por exemplo, um "retentor de lixiviáveis") e não uma camada de barreira gasosa (O2/N2/CO2/vapor de água). Um retentor de soluto também pode, entretanto, ser uma barreira de gás (por exemplo, o revestimento de SiOx, de acordo com a presente invenção. Um indivíduo pode criar um bom retentor lixiviável sem desempenho de barreira gasosa, ou por vácuo ou processos de PECVD baseados em pressão atmosférica. É desejável que a "barreira de lixiviáveis" seja suficientemente fina que, mediante o movimento do êmbolo da seringa, o êmbolo penetrará prontamente o "retentor de soluto" expondo o bocal do êmbolo deslizante à camada de lubricidade imediatamente abaixo para formar uma superfície lubrificada tendo uma força de deslizamento de êmbolo ou força de rompimento inferior ao substrato não tratado. V II.B.1.a.i. Em outra modalidade, o tratamentos de superfície pode ser realizado ao oxidar a superfície de uma camada de lubricidade previamente aplicada, como por expor a superfície a oxigênio em um ambiente de plasma. O ambiente de plasma descrito na presente descrição para a formação de revestimentos de SiOx pode ser usado. Ou condições de plasma atmosféricas podem ser empregadas em um ambiente rico em oxigênio. V II.B.1.a.i. A camada ou revestimento de lubricidade e retentor de soluto, formados de qualquer maneira, podem, opcionalmente, ser curadas ao mesmo tempo. Em outra modalidade, a camada ou revestimento de lubricidade podem ser pelo menos parcialmente curados, opcionalmente totalmente curados, após o que o tratamento de superfície pode ser fornecido, aplicado, e o retentor de soluto pode ser curado. V II.B.1.a.i. A camada ou revestimento de lubricidade e o retentor de soluto são compostos, e presentes em quantidades relativas, de maneira eficaz para fornecer uma força de rompimento, força de deslizamento de êmbolo, ou ambas que sejam menores do que a força correspondente exigida na ausência da camada ou revestimento de lubricidade e tratamento de superfície. Em outras palavras, a espessura e a composição do retentor de soluto são tais de modo a reduzir a lixiviação do material da camada ou revestimento de lubricidade nos conteúdos da seringa, enquanto permite que a camada ou revestimento de lubricidade subjacente lubrifique o êmbolo. Contempla-se que o retentor de soluto romperá facilmente e será fino o suficiente para que a camada ou revestimento de lubricidade ainda funcione para lubrificar o êmbolo quando é movido. V II.B.1.a.i. Em uma modalidade contemplada, a lubricidade e os tratamentos de superfície podem ser aplicados à superfície interna do tambor. Em outra modalidade contemplada, a lubricidade e os tratamentos de superfície podem ser aplicados no êmbolo. Em ainda outra modalidade contemplada, a lubricidade e os tratamentos de superfície podem ser aplicados ambos na superfície interna do tambor e no êmbolo. Em qualquer uma dessas modalidades, a camada ou revestimento de barreira de SiOx opcional no interior do tambor de seringa pode ou estar presente ou ausente. V II.B.1.a.i. Uma modalidade contemplada é uma configuração de camada plural, por exemplo, três camadas, aplicada à superfície interna de um tambor de seringa. A camada ou revestimento 1 podem ser uma barreira gasosa de SiOx feita por PECVD de HMDSO, OMCTS, ou ambos, em uma atmosfera oxidante. Tal atmosfera pode ser fornecida, por exemplo, ao fornecer HMDSO e gás oxigênio a um aparelho de revestimento de PECVD conforme descrito na presente descrição. A camada ou revestimento 2 podem ser uma camada ou revestimento de lubricidade com o uso de OMCTS aplicado em uma atmosfera não oxidante. Tal atmosfera não oxidante pode ser fornecida, por exemplo, pela alimentação de OMCTS a um aparelho de revestimento de PECVD, conforme descrito na presente descrição, opcionalmente na ausência substancial ou completa de oxigênio. Um retentor de soluto subsequente pode ser formado por um tratamento que forma uma camada ou revestimento de pele fina de SiOx ou camada hidrofóbica ou revestimento como um retentor de soluto com o uso de mais energia e oxigênio com o uso de OMCTS e/ou HMDSO. V II.B.1.a.i. Certos destes revestimentos de várias camadas ou revestimentos são contemplados para ter uma ou mais das seguintes vantagens opcionais, pelo menos em algum grau. Eles podem contemplar a dificuldade relatada de manuseio de silício, já que o retentor de soluto pode confinar o silício interior e evitar que migre para os conteúdos da seringa ou outra parte, resultando em menos partículas de silício nos conteúdos de produto final da seringa e menos oportunidade de interação entre a camada ou revestimento de lubricidade e os conteúdos da seringa. Eles também podem contemplar a questão da migração da camada ou revestimento de lubricidade para longe do ponto de lubrificação, melhorando a lubricidade da interface entre o tambor de seringa e o êmbolo. Por exemplo, a força de rompimento pode ser reduzida e o arrasto no êmbolo em movimento pode ser reduzido, ou, opcionalmente, ambos. V II.B.1.a.i. Contempla-se que quando o retentor de soluto está rompido, o retentor de soluto continuará aderindo à camada ou revestimento de lubricidade e o tambor de seringa, que pode evitar que quaisquer partículas sejam levadas para os conteúdos de administração da seringa. V II.B.1.a.i. Alguns desses revestimentos também fornecerão vantagens de fabricação, particularmente se o revestimento de barreira, camada ou revestimento de lubricidade e tratamento de superfície forem aplicados no mesmo aparelho, por exemplo, o aparelho de PECVD ilustrado. Opcionalmente, o revestimento de barreira de SiOx, camada de lubricidade, e tratamento de superfície podem, todos, ser aplicados em um aparelho de PECVD, reduzindo enormemente, dessa forma, a quantidade de manuseio necessária. Vantagens adicionais podem ser obtidas ao formar o revestimento de barreira, camada de lubricidade, e o retentor de soluto com o uso dos mesmos precursores e variando o processo. Por exemplo, uma camada ou revestimento de barreira gasosa de SiOx pode ser aplicada com o uso de um precursor de OMCTS sob condições de alta energia/alto O2, seguida pela aplicação de uma camada ou revestimento de lubricidade aplicados com o uso de um precursor de OMCTS sob baixa energia e/ou na ausência substancial ou completa de oxigênio, terminando com um tratamento de superfície com o uso de um precursor de OMCTS sob energia e oxigênio intermediários. V II.B.1.b Seringa com tambor com interior revestido de SiOx e exterior revestido com barreira V II.B.1.b. Ainda em uma outra modalidade, se encontra uma seringa incluindo um êmbolo, um tambor, e revestimentos de barreira interior e exterior. O tambor pode ser produzido a partir de material base termoplástico que define um lúmen. O tambor pode ter uma superfície interior que recebe o êmbolo para deslizamento e uma superfície exterior. Um revestimento de barreira, de SiOx, em que x é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9, pode ser proporcionada sobre a superfície interior do tambor. Um revestimento de barreira de uma resina pode ser fornecido na superfície externa do tambor. V II.B.1.b. Em qualquer modalidade, o material base termoplástico pode incluir, opcionalmente, uma poliolefina, por exemplo, polipropileno ou um copolímero de olefina cíclica (por exemplo, o material comercializado sob a marca comercial TOPAS®), um poliéster, por exemplo tereftalato de polietileno, um policarbonato, por exemplo, um termoplástico de policarbonato de bisfenol A, ou outros materiais. Tambores de seringa compósitos são contemplados como tendo qualquer um desses materiais como uma camada externa e o mesmo ou um material diferente desses materiais como uma camada interna. Qualquer uma das combinações dos tambores de seringas compósitos ou tubos de amostra descritos em outra parte da presente descrição também podem ser usadas. V II.B.1.b. Em qualquer modalidade, a resina pode incluir, opcionalmente, cloreto de polivinilideno em forma de homopolímero ou copolímero. Por exemplo, os homopolímeros de PVdC (nome comum: Saran) ou copolímeros descritos na patente US 6,165,566, incorporada aqui por referência, podem ser empregados. A resina pode ser, opcionalmente, aplicada na superfície externa do tambor na forma de um látex ou outra dispersão. V II.B.1.b. Em qualquer modalidade, o tambor de seringa pode incluir, opcionalmente, uma camada de lubricidade disposta entre o êmbolo e o revestimento de barreira de SiOx. Camadas de lubricidade adequadas são descritas em outras partes na presente descrição. V II.B.1.b. Em qualquer modalidade, a camada de lubricidade pode ser, opcionalmente, aplicada por PECVD e pode incluir, opcionalmente, um material caracterizado tal como definido na SEcção de Definições. V II.B.1.b. Em qualquer modalidade, o tambor de seringa pode incluir, opcionalmente, um tratamentos de superfície que cobre a camada de lubricidade em uma quantidade eficaz para reduzir a lixiviação da camada de lubricidade, dos constituintes do material base termoplástico, ou ambos no interior do lúmen. V II.B.1.c Método de Fabricação de Seringa que tem Tambor com Interior Revestido de SiOx e Exterior Revestido por Barreira V II.B.1.c. Ainda outra modalidade é um método de fabricação de uma seringa, conforme descrito em qualquer uma das modalidades da parte VII.B.1.b, incluindo um êmbolo, um tambor, e revestimentos de barreira interior e exterior. Um tambor é fornecido tendo uma superfície interior para receber o êmbolo para deslizamento e uma superfície externa. Um revestimento de barreira de SiOx é fornecido na superfície interna do tambor por PECVD. Um revestimento de barreira de uma resina é fornecido na superfície externa do tambor. O êmbolo e o tambor são montados para fornecer uma seringa. V II.B.1.c. Para o revestimento eficaz (umedecimento uniforme) do artigo plástico com o látex aquoso, é contemplado ser útil combinar a tensão superficial do látex com o substrato plástico. Isso pode ser realizado por diversas abordagens, independentes ou combinadas, por exemplo, reduzindo a tensão superficial do látex (com tensioativos ou solventes), e/ou pré-tratamento de corona do artigo plástico, e/ou preparação química do artigo plástico. V II.B.1.c. A resina pode ser, opcionalmente, aplicada através de revestimento por imersão do látex na superfície externa do tambor, revestimento por aspersão do látex na superfície externa do tambor, ou ambos, fornecendo artigos com base plástica que oferecem desempenho de barreira de vapor e gás aperfeiçoado. Artigos de laminado de plástico de cloreto de polivinilideno podem ser feitos que fornecem desempenho de barreira de gás significativamente aperfeiçoado versus o artigo plástico não-laminado. V II.B.1.c. Em qualquer modalidade, a resina pode ser, opcionalmente, curada por calor. A resina pode ser, opcionalmente, curada pela remoção de água. A água pode ser removida por cura por calor da resina, expondo a resina a um vácuo parcial ou ambiente de baixa umidade, curando de maneira catalítica a resina, ou outros expedientes. V II.B.1.c. Um cronograma de cura térmica eficaz é contemplado para fornecer a secagem final para permitir a cristalização de PVdC, oferecendo desempenho de barreira. A cura primária pode ser realizada a uma temperatura elevada, por exemplo, entre 180 - 310°F (82-154 °C), dependendo, é claro, da tolerância ao calor do material base termoplástico.

O desempenho de barreira após a cura primária pode ser, opcionalmente, de cerca de 85 % do último desempenho de barreira alcançado após a cura final. V II.B.1.c. Uma cura final pode ser realizada a temperaturas que variam da temperatura ambiente, como cerca de 65 - 75 °F (18 a 24 °C) por um longo período de tempo (como 2 semanas) a uma temperatura elevada, como 122 °F (50 °C), durante um curto período, como quatro horas. V II.B.1.c. Os artigos laminados de plástico-PVdC, em adição ao desempenho de barreira superior, são, opcionalmente, contemplados para fornecer uma ou mais propriedades desejáveis como transparência incolor, bom brilho, resistência à abrasão, passível de impressão, e resistência à tensão mecânica. V II.B.2. Êmbolos V II.B.2.a. Com Face Frontal de Pistão Revestido de Barreira V II.B.2.a. Outra modalidade é um êmbolo para uma seringa, incluindo um pistão e um bastão de pressão. O pistão tem uma face frontal, uma face lateral em geral cilíndrica e uma porção posterior, sendo que a face lateral é configurada para assentar de maneira móvel no interior de um tambor de seringa. A face frontal tem um revestimento de barreira. O bastão de pressão engata a porção posterior e é configurado para avançar o pistão em um tambor de seringa. V II.B.2.b. Com Camada de lubricidade Fazendo Interface com a Face Lateral V II.B.2.b. Ainda outra modalidade é um êmbolo para uma seringa, incluindo um pistão, uma camada de lubricidade e um bastão de pressão. O pistão tem uma face frontal, uma face lateral em geral cilíndrica e uma porção posterior. A face lateral é configurada para assentar de maneira móvel no interior de um tambor de seringa. A camada de lubricidade faz interface com a face lateral. O bastão de pressão engata a porção posterior do pistão e é configurado para avançar o pistão em um tambor de seringa. V II.B.3.a Seringa de Duas Partes e Encaixe Luer V II.B.3.a Outra modalidade é uma seringa que inclui um êmbolo, um tambor de seringa e um encaixe Luer. A seringa inclui um tambor com uma superfície interna que recebe o êmbolo para deslizamento. O encaixe Luer inclui um estreitamento de Luer que tem uma passagem interna definida por uma superfície interna. O encaixe Luer é formado como uma parte espaçada do tambor de seringa e unido ao tambor de seringa por um acoplamento. A passagem interna do estreitamento de Luer tem opcionalmente um revestimento de barreira de SiOx. V II.B.3.b Seringa de Agulha incorporada V II.B.3.b Outra modalidade é uma seringa incluindo um êmbolo, um tambor de seringa e uma agulha incorporada (uma "seringa de agulha incorporada"), como descrito por exemplo, no documento PCT/US11/36097 depositado em 11 de maio de 2011 e no documento US 61/359,434 depositado em 29 de junho de 2010. A agulha é oca com uma dimensão típica que varia de 1829 de calibre. O tambor de seringa tem uma superfície interior que recebe de maneira deslizante o êmbolo. A agulha incorporada pode ser afixa na seringa durante a moldagem por injeção da seringa, ou pode ser montada na seringa formada usando um adesivo. Uma tampa é colocada sobre a agulha incorporada para selar a montagem de seringa. A montagem de seringa deve ser selada de modo a que um vácuo possa ser mantido no interior da seringa para permitir o processo de revestimento por PECVD. V II.B.4. Camada ou Revestimento de Lubricidade Em Geral V II.B.4.a. Produto por Processo e Lubricidade V II.B.4.a. Ainda outra modalidade é uma camada de lubricidade. Este revestimento pode ser do tipo feito pelo processo para a preparação de um revestimento de lubricidade, conforme aqui descrito. V II.B.4.a. Qualquer um dos precursores para revestimentos de lubricidade mencionados em outras partes na presente descrição pode ser usado, sozinho ou combinado. O precursor é aplicado a um substrato sob condições eficazes para formar um revestimento. O revestimento é polimerizado ou reticulado, ou ambos, para formar uma superfície lubrificada que tem uma baixa força de deslizamento ou força de rompimento do êmbolo do que o substrato não tratado. V II.B.4.a. Outra modalidade é um método de ampliação de uma camada de lubricidade. Um precursor de organossilício é aplicado a um substrato sob condições eficazes para formar um revestimento. O revestimento é polimerizado ou reticulado, ou ambos, para formar uma superfície lubrificada que tem uma baixa força de deslizamento ou força de rompimento do êmbolo do que o substrato não tratado. V II.B.4.b. Produto por Processo e Propriedades Analíticas V II.B.4.b. Ainda outro aspecto da invenção é uma camada ou revestimento de lubricidade depositados por PECVD a partir de um gás de alimentação que compreende um precursor organometálico, opcionalmente um precursor de organossilício, opcionalmente um siloxano linear, um silazano linear, um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, um siloxano policíclico, um silazano policíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes. O revestimento pode ter uma densidade entre 1,25 e 1,65 g/cm3, opcionalmente entre 1,35 e 1,55 g/cm3, opcionalmente entre 1,4 e 1,5 g/cm3, opcionalmente entre 1,44 e 1,48 g/cm3 conforme determinado pela refletividade de raios X (XRR). V II.B.4.b. Ainda outro aspecto da invenção é uma camada ou revestimento de lubricidade depositados por PECVD a partir de um gás de alimentação que compreende um precursor organometálico, opcionalmente um precursor de organossilício, opcionalmente um siloxano linear, um silazano linear, um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, um siloxano policíclico, um silazano policíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes. O revestimento tem como um componente de gás de saída um ou mais oligômeros que contêm porções de repetição -(Me)2SiO-, conforme determinado pela cromatografia gasosa/espectrometria de massa. Opcionalmente, o revestimento cumpre as limitações de qualquer uma das modalidades VII.B.4.a. Opcionalmente, o componentes de desgaseificação do revestimento conforme determinado por cromatografia gasosa/espectrometria de massa é substancialmente isento de trimetilssilanol. V II.B.4.b. Opcionalmente, o componente de desgaseificação de revestimento pode ser de pelo menos 10 ng/teste de oligômeros contendo porções repetidas de -(Me)2SiO-, conforme determinado por cromatografia gasosa/espectrometria de massa com o uso das seguintes condições de teste: Coluna de CG: 30m X 0,25mm DB-5MS (J&W Scientific), espessura de película de 0,25μm Taxa de fluxo: 1,0 mL/min., modo de fluxo constante Detector: Detector Seletivo de Massa (MSD) Modo de Injeção: Injeção dividida (razão de divisão 10:1)

Condições de Desgaseificação: Câmara de 1V' (37 mm), purgar por três horas a 85 °C, fluxo de 60 mL/min Temperatura de Forno: 40°C (5 min.) a 300 °C a 10°C/min.; manter por 5 minutos a 300°C. V II.B.4.b. Opcionalmente, o componente de desgaseificação pode incluir pelo menos 20 ng/teste de oligômeros que contêm porções repetidas de -(Me)2SiO-. V II.B.4.b. Opcionalmente, o gás de alimentação compreende um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, um siloxano policíclico, um silazano policíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes, por exemplo um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes, por exemplo octametilciclotetrassiloxano. V II.B.4.b. A camada ou revestimento de lubricidade de qualquer modalidade pode ter uma espessura média medida por microscopia eletrônica de transmissão (TEM) de 1 a 5000 nm, ou 10 a 1000 nm, ou 10 a 200 nm, ou 20 a 100 nm, ou 30 a 1000 nm, ou 30 a 500 nm de espessura. Intervalos preferidos vão de 300 a 1000 nm, e de 20 a 100 nm, um intervalo particularmente preferido vai de 80 a 150 nm. A espessura absoluta do revestimento em pontos de medição individuais pode ser superior ou inferior do que os limites de intervalo da espessura média. No entanto, isto tipicamente varia nos intervalos de espessura determinados para a espessura média. V II.B.4.b. Outro aspecto da invenção é uma camada ou revestimento de lubricidade depositados por PECVD a partir de um gás de alimentação que compreende um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, um siloxano policíclico, um silazano policíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes. O revestimento tem uma concentração atômica de carbono, normalizada para 100 % de carbono, oxigênio e silício, conforme determinado por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS), maior do que a concentração atômica de carbono na fórmula atômica para o gás de alimentação. Opcionalmente, o revestimento cumpre com as limitações das modalidades VII.B.4.a ou VII.B.4.b.A. V II.B.4.b. Opcionalmente, a concentração atômica de carbono aumenta de 1 a 80 em porcentagem atômica (conforme calculado e com base nas condições de XPS no Exemplo 15 do documento EP 2 251 455), alternativamente de 10 a 70 em porcentagem atômica, alternativamente de 20 a 60 em porcentagem atômica, alternativamente de 30 a 50 em porcentagem atômica, alternativamente de 35 a 45 em porcentagem atômica, alternativamente de 37 a 41 em porcentagem atômica. V II.B.4.b. Um aspecto adicional da invenção é uma camada ou revestimento de lubricidade depositados por PECVD a partir de um gás de alimentação que compreende um siloxano monocíclico, um silazano monocíclico, um siloxano policíclico, um silazano policíclico, ou qualquer combinação de dois ou mais destes. O revestimento tem uma concentração atômica de silício, normalizada para 100 % de carbono, oxigênio e silício, conforme determinado por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS), menor que a concentração atômica de silício na fórmula atômica para o gás de alimentação. Ver Exemplo 15 do documento EP 2 251 455. V II.B.4.b. Opcionalmente, a concentração atômica de silício diminui de 1 a 80 em porcentagem atômica (conforme calculado e baseado nas condições de XPS no Exemplo 15 do documento EP 2251 455), alternativamente de 10 a 70 em porcentagem atômica, alternativamente de 20 a 60 em porcentagem atômica, alternativamente de 30 a 55 em porcentagem atômica, alternativamente de 40 a 50 em porcentagem atômica, alternativamente de 42 a 46 em porcentagem atômica. V II.B.4.b. Camadas de lubricidade que têm combinações de quaisquer duas ou mais propriedades citadas na Secção VII.B.4 também são expressamente contempladas. V II.C. Vasos, em geral V II.C. Um vaso ou recipiente revestido conforme descrito no presente documento e/ou preparado de acordo com um método descrito aqui pode ser usado para a recepção e/ou armazenamento e/ou aplicação de um composto ou composição. O composto ou composição pode ser sensível, por exemplo, sensível ao ar, sensível ao oxigênio, sensível à umidade e/ou sensível às influências mecânicas. Pode ser uma composição ou composto biologicamente ativo, por exemplo, um medicamento como a insulina ou uma composição que compreenda insulina. Em outro aspecto, pode ser um fluido biológico, de preferência um fluido corporal, por exemplo, sangue ou uma fração de sangue. Em certos aspectos da presente invenção, o composto ou composição é um produto para ser administrado a um sujeito que precise da mesma, por exemplo, um produto para ser injetado, como sangue (como em uma transfusão de sangue a partir de um doador para um recipiente ou reintrodução de sangue de um paciente de volta para o paciente) ou insulina. V II.C. Um vaso ou recipiente revestido, conforme descrito aqui e/ou preparado de acordo com um método descrito aqui pode, ainda, ser usado para proteger um composto ou composição contida em seu espaço interior contra efeitos mecânicos e/ou químicos da superfície do material de vaso não revestido. Por exemplo, pode ser usado para evitar ou reduzir a precipitação e/ou coagulação ou ativação de plaqueta do composto ou um componente da composição, por exemplo, precipitação de insulina ou coagulação sanguínea ou ativação de plaqueta. V II.C. O mesmo pode ser usado, ainda, para proteger um composto ou composição contida em seu interior contra o ambiente fora do vaso, por exemplo, ao evitar ou reduzir a entrada de um ou mais compostos do ambiente circundando o vaso no espaço interior do vaso. Tal composto ambiental pode ser um gás ou líquido, por exemplo, um gás atmosférico ou oxigênio contendo líquido, ar, e/ou vapor de água. V II.C. Um vaso revestido, conforme descrito aqui, também pode ser evacuado e armazenado em um estado evacuado. Por exemplo, o revestimento permite uma melhor manutenção do vácuo em comparação a um vaso não revestido correspondente. Em um aspecto dessa modalidade, o vaso revestido é um tubo de coleta de sangue. O tubo também pode conter um agente para evitar a coagulação de sangue ou ativação de plaqueta, por exemplo, EDTA ou heparina. V II.C. Qualquer uma das modalidades descritas acima pode ser feita, por exemplo, ao fornecer como o vaso um comprimento de tubulação de cerca de 1 cm a cerca de 200 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 150 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 120 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 100 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 80 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 60 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 40 cm, opcionalmente de cerca de 1 cm a cerca de 30 cm de comprimento e processá-lo com um elétrodo de sonda conforme descrito a seguir. Particularmente para os comprimentos mais longos nas faixas acima, contempla-se que o movimento relativo entre a sonda e o vaso pode ser útil durante a formação de revestimento. Isso pode ser feito, por exemplo, ao mover o vaso em relação à sonda ou mover a sonda em relação ao vaso. V II.C. Nessas modalidades, se contempla-se que o revestimento possa ser mais fino ou menos completo do que o que pode ser preferido para um revestimento de barreira, já que o vaso em algumas modalidades não exigirá a integridade de barreira mais alta de um tubo de coleta de sangue evacuado. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o vaso tem um eixo central. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriores, a parede de vaso é suficientemente flexível para ser flexionada pelo menos uma vez a 20°C, sem romper a parede, através de uma faixa de pelo menos substancialmente reta a um raio de flexão no eixo central de não mais que 100 vezes tão grande quanto o diâmetro externo do vaso. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o raio de flexão no eixo central não é maior que 90 vezes tão grande quanto, ou não mais que 80 vezes tão grande quanto, ou não mais que 70 vezes tão grande quanto, ou não mais que 60 vezes tão grande quanto, ou não mais que 50 vezes tão grande quanto, ou não mais que 40 vezes tão grande quanto, ou não mais que 30 vezes tão grande quanto, ou não mais que 20 vezes tão grande quanto, ou não mais que 10 vezes tão grande quanto, ou não mais que 9 vezes tão grande quanto, ou não mais que 8 vezes tão grande quanto, ou não mais que 7 vezes tão grande quanto, ou não mais que 6 vezes tão grande quanto, ou não mais que 5 vezes tão grande quanto, ou não mais que 4 vezes tão grande quanto, ou não mais que 3 vezes tão grande quanto, ou não mais que 2 vezes tão grande quanto, ou não mais que, o diâmetro externo do vaso. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, a parede de vaso pode ser uma superfície de contato com fluido produzida a partir de material flexível. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o lúmen do vaso pode ser a passagem de fluxo de fluido de uma bomba. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o vaso pode ser uma bolsa de sangue adaptada para manter o sangue em boas condições para uso médico. V II.C., VII.D. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o material polimérico pode ser um elastômero de silício ou um poliuretano termoplástico, como dois exemplos, ou qualquer material adequado para contato com sangue, ou com insulina. V II.C., VII.D. Em uma modalidade opcional, o vaso tem um diâmetro interno de pelo menos 2 mm, ou pelo menos 4 mm. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o vaso é um tubo. V II.C. Como uma característica opcional de qualquer uma das modalidades anteriormente mencionadas, o lúmen tem pelo menos duas extremidades abertas. CONDIÇÕES COMUNS A TODAS AS MODALIDADES

Em qualquer modalidade aqui contemplada, muitas condições comuns podem ser usadas, por exemplo, qualquer uma das seguintes, em qualquer combinação. Alternativamente, quaisquer condições diferentes descritas em outra parte desta descrição ou reivindicações podem ser empregadas. I. SUBSTRATO DE QUALQUER MODALIDADE I.A. Vaso de qualquer modalidade O vaso pode ser um tubo de coleta de amostras, por exemplo, um tubo de coleta de sangue, ou uma seringa, ou uma parte de uma seringa, por exemplo um tambor ou pistão ou êmbolo, um frasco; uma conduta; ou uma cuvete. O substrato pode ser um tubo fechado, por exemplo, um tubo de coleta da amostra médica. O substrato pode ser a parede interna de um vaso com um lúmen, o lúmen tendo um volume de vazio desde 0,5 a 50 mL, opcionalmente de 1 a 10 mL, opcionalmente de 0,5 a 5 mL, opcionalmente de 1 a 3 mL. A superfície do substrato pode ser parte ou toda a superfície interna de um vaso que tem ao menos uma abertura e uma superfície interna, e em que o reagente gasoso preenche o lúmen interior do vaso e o plasma pode ser gerado em parte ou todo o lúmen interior do vaso. I.B. Seringa e partes

O substrato pode ser um tambor de seringa. O tambor de seringa pode ter uma superfície de deslizamento de êmbolo e o revestimento pode ser disposto em pelo menos uma porção da superfície de deslizamento do êmbolo. O revestimento pode ser um uma camada de lubricidade. A camada ou revestimento de lubricidade podem estar na superfície interior do tambor. A camada ou revestimento de lubricidade podem estar no êmbolo. Em um aspeto particular, o substrato é uma seringa de agulha incorporada ou parte de uma seringa de agulha incorporada. I.C. Vaso para receber o Batente

O substrato pode ser uma superfície que recebe um batente na boca do vaso. O substrato pode ser uma superfície interna geralmente cônica ou cilíndrica de uma abertura de um vaso adaptado para receber um batente. I.D. Batente

O substrato pode ser uma superfície deslizante de um batente. Os substratos podem ser revestidos através do fornecimento de uma multiplicidade de batentes situados em um único vaso substancialmente evacuado. A deposição química por vapor pode ser deposição de vapor químico melhorada por plasma e o batente pode ser contatado pelo plasma. A deposição química por vapor pode ser deposição de vapor químico melhorada por plasma. O plasma pode ser formado a montante do batente, com a produção de produto de plasma, e o produto de plasma pode ser contatado pelo batente.

Um fechamento pode definir um substrato revestido com um revestimento, opcionalmente, um batente revestido com uma camada de lubricidade. O substrato pode ser um fechamento encaixado em um vaso que define um lúmen e uma superfície do fechamento virada para o lúmen pode ser revestida com o revestimento.

O revestimento pode ser eficaz para reduzir a transmissão de um constituinte de íon metálico do batente para dentro do lúmen do vaso. I .E. Substrato de qualquer modalidade

O substrato pode ser uma parede de vaso. Uma porção da parede de vaso em contato com uma superfície de contato da parede de um fechamento pode ser revestida com o revestimento. O revestimento pode ser um compósito de material com primeira e segunda camadas. A primeira camada ou revestimento pode fazer interface com o batente elastomérico. A primeira camada do revestimento pode ser eficaz para reduzir a transmissão de um ou mais constituintes do batente para o interior do lúmen do vaso. A segunda camada ou revestimento pode fazer a interface com a parede interna do vaso. A segunda camada pode ser eficaz para reduzir o atrito entre o batente e a parede interna do vaso, quando o batente poder ser assentado no vaso.

Em alternativa, a primeira e a segunda camadas de qualquer modalidade podem ser definidas por um revestimento de propriedades graduadas contendo carbono e hidrogênio, em que as proporções de carbono e hidrogênio são maiores na primeira camada ou revestimento do que na segunda camada. O revestimento de qualquer modalidade pode ser aplicado por deposição química por vapor melhorada por plasma.

O substrato de qualquer modalidade pode compreender vidro, em alternativa um polímero, em alternativa um polímero de policarbonato, em alternativa um polímero de olefina, em alternativa um copolímero de olefina cíclica, em alternativa um polímero de polipropileno, em alternativa um polímero de poliéster, em alternativa um polímero de tereftalato de polietileno, em alternativa um polímero de naftalato de polietileno, em alternativa uma combinação, composto, ou mistura de qualquer dois ou mais dos materiais acima referidos. II . LIMITAÇÕES DO REAGENTE GASOSO OU DO GÁS DE PROCESSO DE QUALQUER MODALIDADE III A Condições de deposição de qualquer modalidade

O plasma para PECVD, se utilizado, pode ser gerado a pressão reduzida e a pressão reduzida pode ser inferior a 300 mTorr, opcionalmente menos de 200 mTorr, ainda opcionalmente menos de 100 mTorr. As propriedades físicas e químicas do revestimento podem ser ajustadas ajustando a taxa de O2 para o precursor de organossilício no reagente gasoso, e/ou ajustando a energia elétrica utilizada para gerar o plasma. IV .C. Precursor de qualquer modalidade O precursor de organossilício tem sido descrito em outra parte nesta descrição.

O composto de organossilício pode, em certos aspectos, particularmente quando um revestimento de lubricidade é formado, compreender octametilciclotetrassiloxano (OMCTS). O composto de organossilício para qualquer modalidade dos referidos certos aspectos pode consistir essencialmente em octametilciclotetrassiloxano (OMCTS). O composto de organossilício pode, em certos aspectos, particularmente quando um revestimento de barreira é formado, ser ou compreender hexametildissiloxano.

O gás de reação pode também incluir um hidrocarboneto. O hidrocarboneto pode compreender metano, etano, etileno, propano, acetileno, ou uma combinação de dois ou mais destes.

O precursor de organossilício pode ser entregue a uma taxa igual ou inferior a 6 sccm, opcionalmente igual ou inferior a 2,5 sccm, opcionalmente igual ou inferior a 1,5 sccm, opcionalmente igual ou inferior a 1,25 sccm. Vasos maiores ou outras alterações nas condições ou escala podem exigir mais ou menos do precursor. O precursor pode ser fornecido a menos de 1 Torr de pressão absoluta. V I.D. Gás transportador de qualquer modalidade

O gás transportador pode compreender ou consistir de um gás inerte, por exemplo, árgon, hélio, xénon, néon, um outro gás que seja inerte para os outros componentes do gás de processo sob as condições de deposição, ou qualquer combinação de dois ou mais destes. VI .E. Gás Oxidante de qualquer modalidade

O gás oxidante pode compreender ou consistir em oxigênio (O2 e/ou O3 (vulgarmente conhecido como o ozono)), óxido nitroso, ou qualquer outro gás que oxide o precursor durante a PECVD nas condições empregues. O gás oxidante compreende cerca de 1 volume padrão de oxigênio. O gás reagente ou gás de processo pode ser, pelo menos, substancialmente isento de azoto. VII . PLASMA DE QUALQUER MODALIDADE

O plasma de qualquer modalidade de PECVD podem ser formado na proximidade do substrato. O plasma pode, em certos casos, especialmente ao preparar um revestimento de SiOx, ser um plasma de cátodo não-oco. Em outros casos determinados, especialmente na preparação de um revestimento de lubricidade, um plasma de cátodo não-oco não é desejado. O plasma pode ser formado a partir do reagente gasoso sob pressão reduzida. Uma entrada de energia suficiente de geração de plasma pode ser fornecida para induzir a formação de revestimento sobre o substrato. VIII ENERGIA RF DE QUALQUER MODALIDADE

O precursor pode ser contatado com um plasma feito pela energização da proximidade do precursor com elétrodos alimentados a uma frequência de 10 kHz a 2,45 GHz, alternativamente, de cerca de 13 a cerca de 14 MHz.

O precursor pode ser contatado com um plasma feito pela energização da proximidade do precursor com elétrodos alimentados a uma radiofrequência, opcionalmente, a uma radiofrequência entre 10 kHz a menos de 300 MHz, opcionalmente desde 1 a 50 MHz, ainda opcionalmente, a partir de 10 a 15 MHz, opcionalmente, a 13,56 MHz.

O precursor pode ser contatado com um plasma feito pela energização da proximidade do precursor com os elétrodos fornecidos com energia elétrica de 0,1 a 25 W, opcionalmente de 1 a 22 W, opcionalmente de 1 a 10 W, ainda opcionalmente de 1 a 5 W, opcionalmente de 2 a 4 W, por exemplo, de 3 W, opcionalmente de 3 a 17 W, ainda opcionalmente de 5 a 14 W, por exemplo de 6 ou 7,5 W, opcionalmente de 7 a 11 W, por exemplo 8 W.

O precursor pode ser contatado com um plasma feito pela energização da proximidade do precursor com os elétrodos fornecidos com a densidade de potência elétrica de menos de 10 W/mL de volume de plasma, em alternativa a partir de 6 W/mL a 0,1 W/mL de volume de plasma, em alternativa, a partir de 5 W/mL a 0,1 W/mL de volume de plasma, em alternativa, a partir de 4 W/mL a 0,1 W/mL de volume de plasma, em alternativa a partir de 2 W/mL a 0,2 W/mL de volume de plasma.

O plasma pode ser formado por estimulação da mistura de reação com energia eletromagnética, em alternativa com energia de micro-ondas. IX OUTRAS OPÇÕES DE PROCESSO DE QUALQUER MODALIDADE

A etapa de aplicação de um revestimento ao substrato pode ser realizada por vaporização do precursor e fornecendo- o na proximidade do substrato.

A deposição química de vapor aplicada pode ser PECVD e o tempo de deposição pode ser de 1 a 30 seg, em alternativa, 2 a 10 seg, alternativamente 3 a 9 seg. Os intuitos para, opcionalmente, limitar o tempo de deposição podem ser para evitar o sobreaquecimento do substrato, para aumentar a taxa de produção, e para reduzir o uso de gás de processo e dos seus componentes. Os intuitos para, opcionalmente, prolongar o tempo de deposição podem ser para proporcionar um revestimento mais espesso para as condições de deposição particulares. X I. PROPRIEDADES DE REVESTIMENTO DE QUALQUER MODALIDADE XI .A. Propriedades de Lubricidade de qualquer modalidade

Os vasos (por exemplo tambores de seringa e/ou êmbolos) revestidos com um revestimento de lubricidade de acordo com a presente invenção têm uma maior lubricidade (determinada, por exemplo, pela medição de Fi e/ou Fm) do que os vasos não revestidos. Eles também têm uma maior lubricidade do que os vasos revestidos com um revestimento de SiOx, como aqui descrito. Uma modalidade pode ser realizada sob condições eficazes para formar uma superfície lubrificada do substrato com uma menor força de deslizamento ou força de rompimento (ou, opcionalmente, em ambas) do que o substrato não tratado. Opcionalmente, os materiais e condições podem ser eficazes para reduzir a força de deslizamento ou força de rompimento em pelo menos 25 por cento, alternativamente pelo menos 45 por cento, alternativamente pelo menos 60 por cento, alternativamente mais que 60 por cento, em relação a um tambor de seringa não revestido. Expresso por outras palavras, o revestimento pode ter uma resistência ao atrito inferior à da superfície não revestida, sendo que, opcionalmente, a resistência ao atrito pode ser reduzida em ao menos 25 %, opcionalmente em ao menos 45 %, mais opcionalmente, ao menos 60 % em comparação com a superfície não revestida.

A força de rompimento livre (Fi) e da força de deslizamento (Fm) são medidas de desempenho importantes para a eficácia de um revestimento de lubricidade. Para Fi e Fm, deseja-se ter um valor baixo, mas não muito baixo. Com uma Fi demasiado baixa, o que significa que um nível muito baixo de resistência (o extremo sendo zero), pode ocorrer um fluxo prematuro/indesejado, o que poderia, por exemplo, levar a uma descarga involuntária prematura ou descontrolada do conteúdo de uma seringa pré-carregada.

A fim de atingir uma lubricidade suficiente (por exemplo, para assegurar que um êmbolo da seringa possa ser movido na seringa mas, para evitar o movimento não controlado do êmbolo), as seguintes gamas de Fi e Fm devem ser vantajosamente mantidas: Fi: 2,5 a 5 lbs, de preferência 2,7 a 4,9 lbs, e em particular 2,9 a 4,7 lbs; Fm: 2,5 a 8,0 lbs, de preferência 3,3 a 7,6 lbs, e em particular 3,3 a 4 lbs; Valores de Fi e Fm ainda mais vantajosos podem ser encontrados nas Tabelas dos Exemplos.

O revestimento de lubricidade proporciona opcionalmente uma força de êmbolo consistente que reduz a diferença entre a força de rompimento livre (Fi) e a força de deslizamento (Fm). V I.B. Propriedades Hidrofóbicas de qualquer modalidade

Uma modalidade pode ser realizada sob condições eficazes para formar uma camada ou revestimento hidrofóbicos sobre o substrato. Opcionalmente, as propriedades hidrofóbicas do revestimento podem ser ajustadas ajustando a taxa de O2 para o precursor de organossilício no reagente gasoso, e/ou ajustando a energia elétrica utilizada para gerar o plasma. Opcionalmente, o revestimento pode ter uma tensão mais baixa de umedecimento do que a superfície não revestida, opcionalmente, uma tensão de umedecimento de 20 a 72 dines/cm, opcionalmente de 30 a 60 dines/cm, opcionalmente de 30 a 40 dines/cm, opcionalmente de 34 dines/cm. Opcionalmente, o revestimento pode ser mais hidrofóbico do que a superfície não revestida. V I.C. Espessura de qualquer modalidade

Opcionalmente, o revestimento pode ter uma espessura determinada por microscopia eletrônica de transmissão (TEM) de qualquer quantidade definida na presente revelação.

Para os revestimentos de lubricidade aqui descritos, os intervalos de espessura indicados estão representando espessuras médias, visto que uma certa rugosidade pode melhorar as propriedades lúbricas do revestimento de lubricidade. Assim, a espessura do revestimento de lubricidade não é vantajosamente uniforme ao longo do revestimento (ver acima). No entanto, um revestimento de lubricidade de espessura uniforme é também considerado. A espessura total do revestimento de lubricidade em pontos de medição individuais pode ser maior ou menor do que os limites da gama da espessura média, com desvios máximos de preferência de +/- 50 %, mais preferivelmente +/- 25 % e ainda mais preferencialmente +/- 15 % da espessura média. No entanto, isto tipicamente varia nos intervalos de espessura determinados para a espessura média nesta descrição. V I.D. Composição de qualquer modalidade

Opcionalmente, o revestimento de lubricidade pode ser composto por SiwOxCyHz ou SiwNxCyHz. Geralmente tem uma razão atômica de SiwOxCy em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, de preferência w é 1, x é de cerca de 0,5 a 1,5, e y é de 0,9 a 2,0, mais preferivelmente w é 1, x é de 0,7 a 1,2 e y é de 0,9 a 2,0. A razão atômica pode ser determinada por XPS(espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X). Considerando os átomos H, o revestimento pode portanto ter em um aspeto a fórmula SiwOxCyHz, por exemplo, em que w é 1, x é de cerca de 0,5 a cerca de 2,4, y é de cerca de 0,6 a cerca de 3, e z é de cerca de 2 a cerca de 9. Tipicamente, as razões atômicas são Si 100: O 80-110: C 100-150 em um revestimento particular da presente invenção. Especificamente, a razão atômica pode ser Si 100: O 92-107: C 116-133, e tal revestimento conteria portanto 36 % a 41 % de carbono normalizado para 100 % de carbono mais oxigênio mais silício.

Em alternativa, w pode ser 1, x pode ser de cerca de 0,5 a 1,5, y pode ser de cerca de 2 a cerca de 3, e z pode ser de 6 a cerca de 9. Em alternativa, o revestimento pode ter concentrações atômicas normalizadas em 100 % de carbono, oxigênio e silício, conforme determinado por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) menor que 50 % de carbono e maior que 25 % de silício. Em alternativa, as concentrações atômicas são de 25 a 45 % de carbono, 25 a 65 % de silício, e 10 a 35 % de oxigênio. Em alternativa, as concentrações atômicas são de 3 a 40 % de carbono, 32 a 52 % de silício, e 20 a 27 % de oxigênio. Em alternativa, as concentrações atômicas são de 33 a 37 % de carbono, 37 a 47 % de silício, e 22 a 26 % de oxigênio.

Opcionalmente, a concentração atômica de carbono, normalizada para 100 % de carbono, oxigênio, e silício, tal como determinada por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS), pode ser maior do que a concentração atômica de carbono na fórmula atômica para o precursor de organossilício. Por exemplo, são contempladas modalidades em que a concentração atômica de carbono aumenta em desde 1 a 80 de porcentagem atômica, alternativamente de 10 a 70 de porcentagem atômica, alternativamente de 20 a 60 de porcentagem atômica, alternativamente de 30 a 50 de porcentagem atômica, alternativamente de 35 a 45 de porcentagem atômica, alternativamente de 37 a 41 de porcentagem atômica.

Opcionalmente, a razão atômica de carbono para oxigênio no revestimento pode ser aumentada em comparação ao precursor de organossilício, e/ou a razão atômica de oxigênio para silício pode ser diminuída em comparação ao precursor de organossilício.

Opcionalmente, o revestimento pode ter uma concentração atômica de silício, normalizada para 100 % de carbono, oxigênio e silício, conforme determinado por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS), menor que a concentração atômica de silício na fórmula atômica para o gás de alimentação. Por exemplo, são contempladas modalidades em que a concentração atômica de silício diminui em desde 1 a 80 de porcentagem atômica, alternativamente de 10 a 70 de porcentagem atômica, alternativamente de 20 a 60 de porcentagem atômica, alternativamente de 30 a 55 de porcentagem atômica, alternativamente de 40 a 50 de porcentagem atômica, alternativamente de 42 a 46 de porcentagem atômica.

Como outra opção, um revestimento está contemplado que pode ser caracterizado por uma fórmula total em que a razão atômica C: O pode ser aumentada e/ou a razão atômica Si: O pode ser reduzida em comparação com a fórmula total do precursor de organossilício. VI.E. Espécime de desgaseificação de qualquer modalidade

O revestimento feito a partir de um precursor de organossilício, por exemplo. A lubricidade ou revestimento de barreira de SIOx aqui descritos, podem ter como um componente de desgaseificação um ou mais oligômeros contendo quantidades repetidas de -(Me)2SiO-, tal como determinado por cromatografia de gás/espectrometria de massa. O componente de desgaseificação do revestimento pode ser determinado por cromatografia de gás/espectrometria de massa. Por exemplo, o componente de desgaseificação de revestimento pode ter, pelo menos, 10 ng/teste de oligômeros contendo quantidades repetidas de -(Me)2SiO-, em alternativa, pelo menos, 20 ng/teste de oligômeros contendo quantidades repetidas de - (Me) 2SiO-, tal como determinado usando as seguintes condições de teste: Coluna de CG: 30m X 0,25mm DB-5MS (J&W Scientific), 0,25μm de espessura do filme Taxa de fluxo 1,0 mL/min., modo de fluxo constante Detector: Detector Seletivo de Massa (MSD) Modo de Injeção: Injeção dividida (razão de divisão 10:1)

Condições de Desgaseificação: Câmara de 37 mm (1V'), purgar por três horas a 85°C, fluxo de 60 mL/min. Temperatura de Forno: 40°C (5 min.) a 300°C a 10°C/min.; constante por 5 min. a 300°C

Opcionalmente, o revestimento de lubricidade pode ter um componente de desgaseificação pelo menos substancialmente isento de trimetilsilanol. VI.E. Outras Propriedades de Revestimento de qualquer modalidade

O revestimento pode ter uma densidade entre 1,25 e 1,65 g/cm3, opcionalmente entre 1,35 e 1,55 g/cm3, opcionalmente entre 1,4 e 1,5 g/cm3, opcionalmente entre 1,4 e 1,5 g/cm3, opcionalmente entre 1,44 e 1,48 g/cm3 conforme determinado pela refletividade de raios X (XRR). Opcionalmente, o composto de organossilício pode ser octametilciclotetrasiloxano e o revestimento pode ter uma densidade que pode ser maior do que a densidade de um revestimento feito a partir de HMDSO como o composto de organossilício sob as mesmas condições da reação de PECVD.

Opcionalmente o revestimento pode impedir ou reduzir a precipitação de um composto ou componente de uma composição em contato com o revestimento, em particular, pode impedir ou reduz a precipitação de insulina ou a coagulação de sangue, em comparação com a superfície não revestida e/ou a uma superfície de barreira revestida com o uso de HMDSO como precursor.

O substrato pode ser um vaso, para a proteção de um composto ou composição contidos ou recebidos no vaso revestido contra efeitos mecânicos e/ou químicos da superfície do substrato não revestido.

O substrato pode ser um vaso, para prevenir ou reduzir a precipitação e/ou coagulação de um composto ou de um componente da composição em contato com a superfície interior do vaso. O composto ou composição podem ser um composto ou composição biologicamente ativos, por exemplo, um medicamento, por exemplo, o composto ou a composição podem compreender insulina, em que a precipitação de insulina pode ser reduzida ou evitada. Alternativamente, o composto ou composição podem ser um fluido biológico, por exemplo um fluido corporal, por exemplo sangue ou uma fracção de sangue, em que a coagulação do sangue pode ser reduzida ou evitada. PROTOCOLOS BÁSICOS PARA A FORMAÇÃO, REVESTIMENTO E TUBOS DE TESTE

Os vasos testados nos exemplos de trabalho subsequentes foram formados e revestidos de acordo com os seguintes protocolos exemplificadores, exceto quando é indicado de outra forma em exemplos individuais. Valores de parâmetro particulares dados nos seguintes protocolos básicos, por exemplo, a energia elétrica e o fluxo de gás de processo, são valores típicos. Sempre que os valores de parâmetro forem mudados em comparação com esses valores típicos, isso será indicado nos exemplos de trabalho subsequentes. O mesmo se aplica ao tipo e composição do gás de processo.

Protocolo para a Formação do Tubo em COC Tubos de copolímero de olefina cíclica (COC) do formato e tamanho comumente usados como tubos de coleta de sangue evacuados (“tubos de COC”) foram moldados por injeção a partir da resina de copolímero de olefina cíclica (COC) Topas® 8007-04, comercializada pela Hoechst AG, Frankfurt am Main, Alemanha, tendo essas dimensões: 75 mm de comprimento, 13 mm de diâmetro externo e 0,85 mm de espessura de parede, cada um tendo um volume de cerca de 7,25 cm3 e uma extremidade fechada, arredondada. Protocolo para o Revestimento do Interior do Tubo com SiOx

O retentor de vaso 50 foi feito a partir de resina acetal Delrin®, comercializada pela E.I. du Pont de Nemours and Co., Wilmington Delaware, EUA, com um diâmetro externo de 1,75 polegadas (44 mm) e uma altura de 1,75 polegadas (44 mm). O retentor de vaso 50 foi alojado em uma estrutura de Delrin® que permitiu que o dispositivo movesse para dentro e para fora do elétrodo (160).

O elétrodo 160 foi produzido a partir de cobre com uma blindagem Delrin®. A blindagem Delrin® era uniforme em torno do exterior do elétrodo de cobre 160. O elétrodo 160 media aproximadamente 3 polegadas (76 mm) de altura (no interior) e aproximadamente 0,75 polegadas (19 mm) de largura.

O tubo usado como o vaso 80 foi inserido na vedação base de retentor de vaso 50 com anéis-em-O Viton® 490, 504 (Viton® é uma marca comercial de Dupont Performance Elastomers LLC, Wilmington Delaware, EUA) em volta do exterior do tubo (FIG. 11). O tubo 80 foi cuidadosamente movido para a posição de vedação sobre a sonda de bronze de diâmetro 1/8 polegadas (3 mm) prolongado (estacionário) ou contra elétrodo 108 e pressionado contra uma tela de plasma de cobre.

A tela de plasma de cobre 610 era um material de folha de cobre perfurada (K&S Engineering, Chicago Illinois, EUA, malha de cobre Número de Peça LXMUW5) cortada para se ajustar ao diâmetro externo do tubo e foi mantida no lugar por uma superfície de contra-apoio que se estende radialmente 494 que atuava como um batente para a inserção de tubo (consultar a FIG. 45). Duas partes da malha de cobre foram ajustadas firmemente em volta da sonda de bronze ou contra-elétrodo 108, garantindo um bom contato elétrico.

A sonda de bronze ou contra-elétrodo 108 se estendia aproximadamente 70 mm para o interior do tubo e tinha um arranjo de número 80 fios (diâmetro = 0,0343 mm ou 0,0135 polegada). A sonda de bronze ou contra-elétrodo 108 se estendia através de um encaixe Swagelok® (comercializado pela Swagelok Co., Solon Ohio, EUA) localizado no fundo do retentor de vaso 50, se estendo através da estrutura base do retentor de vaso 50. A sonda de bronze ou contra-elétrodo 108 foi ligada à terra no compartimento da rede de combinação RF.

A porta de distribuição de gás 110 eram 12 orifícios na sonda ou contra-elétrodo 108 ao longo do comprimento do tubo (três em cada um dos quatro lados orientados a 90 graus entre si) e dois orifícios na tampa de alumínio que encaixava na extremidade da porta de distribuição de gás 110. A porta de distribuição de gás 110 foi conectada a uma montagem de aço inoxidável composta de encaixes Swagelok® que incorpora uma válvula de esfera manual para ventilação, um calibre de pressão de termopar e uma válvula de desvio conectada à linha de bombeamento a vácuo. Além disso, o sistema de gás foi conectado à porta de distribuição de gás 110 permitindo que os gases de processo, oxigênio e hexametil dissiloxano (HMDSO) sejam fluidos através da porta de distribuição de gás 110 (sob pressões de processo) no interior do tubo.

O sistema de gás era composto por um medidor de fluxo de massa Aalborg® GFC17 (Peça no EW-32661-34, Cole-Parmer Instrument Co., Barrington Illinois, EUA) para fluir de maneira controlada oxigênio a 70 sccm (ou no fluxo específico relatado para um exemplo particular) no processo e um capilar de cetona de éter de poliéter (“PEEK”) (diâmetro externo, “OD” de 1/16 polegada (1,5 mm), diâmetro interno, “ID” de 0,004 polegada (0,1 mm)) de comprimento de 52,5 polegadas (1,33 m). A extremidade capilar de PEEK foi inserida em hexametil dissiloxano líquido (“HMDSO,” Alfa Aesar® Número da parte L16970, grau NMR, comercializado pela Johnson Matthey PLC, Londres). O HMDSO líquido foi puxado através do capilar devido à baixa pressão no tubo durante o processamento. O HMDSO foi, então, vaporizado em um vapor na saída do capilar conforme ele entra na região de baixa pressão. A pressão de entrada de gás era de 7,2 Torr.

Para assegurar que nenhuma condensação do HMDSO líquido ocorra depois desse ponto, o fluxo de gás (incluindo o oxigênio) foi desviado para a linha de bombeamento quando não estava fluindo para o interior do tubo para processamento através de uma válvula de três vias Swagelok®. Uma vez que o tubo foi instalado, a válvula de bomba de vácuo foi aberta para o retentor de vaso 50 e o interior do tubo.

Uma bomba de vácuo de pá de hélice rotatória Alcatel e soprador compunham o sistema de bomba de vácuo. O sistema de bombeamento permitiu que o interior do tubo fosse reduzido para uma pressão(ões) menor(es) que 200 mTorr, enquanto os gases do processo estavam fluindo nas taxas indicadas.

Uma vez que o nível de vácuo de base foi atingido, a instalação de retentor de vaso 50 foi transferida para a instalação do elétrodo 160. O fluxo de gás (oxigênio e vapor de HMDSO) fluiu para a porta de distribuição de gás de bronze 110 (através do ajuste da válvula de 3 vias a partir da linha de bombeamento para a porta de distribuição de gás 110). A pressão dentro do tubo era de aproximadamente 300 mTorr conforme medida por um manômetro de capacitância (MKS) instalado na linha de bombeamento próxima à válvula que controlava o vácuo. Em adição à pressão do tubo, a pressão dentro da porta de distribuição de gás 110 e sistema de gás também foi medida com o calibre de vácuo de termopar que conectava ao sistema de gás. Essa pressão era tipicamente menor que 8 Torr.

Uma vez que o gás estava fluindo para o interior do tubo, a fonte de alimentação RF foi ativada para seu nível de energia fixo. Uma fonte de alimentação RF de 600 Watt ENI ACG-6 foi usada (a 13,56 MHz) a um nível de energia fixo de aproximadamente 70 Watts. A energia de saída foi calibrada com base nisso e todos os Protocolos e Exemplos seguintes que usam um medidor de Watt de RF Modelo Bird Corporation 43 conectado à saída de RF da fonte de alimentação durante a operação do aparelho de revestimento. A fonte de alimentação de RF foi ligada a um alinhador automático COMDEL CPMX1000 que fez corresponder a impedância complexa do plasma (a ser criado no tubo) com a impedância de saída de 50 ohm da fonte de alimentação de RF ENI ACG-6. A potência de entrada foi de 70 Watts (ou a quantidade específica relatada por um exemplo particular) e a potência reflectida foi de 0 Watts, de modo que a potência aplicada foi administrada ao interior do tubo. A fonte de alimentação de RF era controlada por um temporizador de laboratório e tempo de ativação configurado para 6 segundos (ou período de tempo específico relatado para um exemplo particular). Mediante a iniciação da energia de RF, um plasma uniforme foi estabelecido no interior do tubo. O plasma foi mantido por todos os 6 segundos até que a energia de RF fosse terminada pelo temporizador. O plasma produziu um revestimento de óxido de silício de aproximadamente 20 nm de espessura (ou a espessura específica relatava em um exemplo particular) no interior da superfície de tubo.

Após o revestimento, o fluxo de gás foi desviado de volta para a linha de vácuo e a válvula de vácuo foi fechada. A válvula de ventilação foi, então, aberta, voltando ao interior do tubo para a pressão atmosférica (aproximadamente 760 Torr). O tubo foi, então, cuidadosamente removido da montagem de retentor de vaso 50 (após mover a montagem de retentor de vaso 50 para fora da montagem de elétrodo 160). Protocolo para o Carregamento de Tubos de Sangue com CO2

Os tubos a serem carregados com CO2 foram montados no retentor de vaso 50 descrito acima e ligados à bomba de vácuo de pá de hélice rotatória Alcatel e soprador anteriormente descritos (compreendendo o sistema de bomba de vácuo) e a uma fonte de CO2. Em alguns casos, como indicado abaixo, o carregamento de CO2 foi realizado no aparelho de revestimento, imediatamente após a aplicação do revestimento de SiOx e limpando os gases de processo. Noutros casos, o revestimento de SiOx foi aplicado, o tubo foi retirado do aparelho de revestimento, e depois instalado no aparelho de carregamento de CO2.

Em ambos os tipos de carregamento de CO2, como explicado acima, o sistema de bomba de vácuo foi primeiramente utilizado para evacuar o tubo a uma pressão de 0,3 a 1 Torr. O vácuo foi mantido durante 3-30 seg. para evacuar os gases de processo. O tubo evacuado foi então preenchido com CO2 pressurizado a 25 psi (1230 Torr) de pressão absoluta e mantido a essa pressão durante 1-14 minutos, ou durante a quantidade de tempo que for de outro modo indicada, em um exemplo de trabalho. O tubo carregado foi então transferido para o aparelho de medição de desgaseificação descrito no protocolo abaixo.

Protocolo para a Medição de Desgaseificação V I.B. A presente FIG. 7, adaptada a partir da FIG. 15 da patente U.S. 6,584,828, é uma vista esquemática de uma configuração de teste que foi usada em um exemplo de trabalho para medir a desgaseificação através de um revestimento de barreira de SiOx 348 aplicado de acordo com o Protocolo para Revestir o Interior do Tubo com SiOx no interior da parede 346 de um tubo de COC 358 produzido de acordo com o Protocolo para a Formação de Tubo de COC assentado com uma vedação 360 na extremidade a montante de uma célula de medição de Tecnologia de Microfluxo em geral indicada a 362. V I.B. Uma bomba de vácuo 364 foi conectada à extremidade a jusante de uma célula de medição comercialmente disponível 362 (um Sistema de Vazamento de Gás Inteligente com Instrumento de Teste de Vazamento Modelo ME2, com um sensor IMFS de segunda geração, (a 2 ou 14 14μ/min faixa total, tal como indicado em um exemplo particular), faixa do Sensor de Pressão Absoluta: 0-10 Torr, incerteza da medição de Fluxo: +/- 5 % de leituras, a uma faixa calibrada, empregando o Programa Leak-Tek para a aquisição de dados automática (com PC) e assinaturas/plotagens de fluxo de vazamento versus tempo. Esse equipamento é fornecido pela ATC Inc.), e foi configurado para extrair gás do interior do vaso 358 na direção das setas através da célula de medição 362 para a determinação da taxa de fluxo de massa de vapor desgaseificado no vaso 358 a partir de suas paredes. V I.B. A célula de medição 362 mostrada e descrita esquematicamente aqui foi compreendida como trabalhando substancialmente conforme se segue, embora essas informações possam desviar de certa forma da operação do equipamento que foi, de fato, usado e identificado mais especificamente no protocolo por número de modelo. A célula 362 tem uma passagem cônica 368 através da qual o fluxo desgaseificado é direcionado. A pressão é ramificada através de dois orifícios laterais espaçados longitudinalmente 370 e 372 ao longo da passagem 368 e é alimentada, respectivamente, às câmaras 374 e 376 formadas em parte pelos diafragmas 378 e 380. As pressões acumuladas nas respectivas câmaras 374 e 376 desviam os diafragmas respectivos 378 e 380. Estas deflexões são medidas de uma maneira adequada, tal como através da medição da alteração na capacitância entre as superfícies condutoras dos diafragmas 378 e 380 e nas proximidades de superfícies condutoras, tais como 382 e 384. Um desvio 386 pode, opcionalmente, ser fornecido para acelerar o bombeamento inicial por desvio da célula de medição 362 até que o nível de vácuo desejado para a execução do teste seja alcançado. V I.B. As paredes de COC 350 dos vasos usados nesse teste tinham 0,85 mm de espessura e o revestimento 348 estava na ordem de 20 nm (nanômetros) de espessura. Portanto, a razão da espessura da parede 350 para o revestimento 348 estava na ordem de 50.000:1. V I.B. Para determinar a taxa de fluxo através da célula de medição 362, incluindo a vedação de vaso 360, um vaso de vidro substancialmente idêntico em tamanho e construção ao vaso 358 foram sucessivamente assentado sobre a vedação de vaso 360, bombeado a uma pressão interna de 1 Torr, então, os dados de capacitância foram coletados com a célula de medição 362 e convertidos para uma taxa de fluxo de “desgaseificação”. O teste foi realizado duas vezes em cada vaso. Após a primeira passagem, o vácuo foi liberado com azoto e permitiu-se aos vasos tempo de recuperação para se alcançar o equilíbrio antes de prosseguir com outra passagem, se aplicável. Já que se acredita que um vaso de vidro tem muito pouca desgaseificação e é essencialmente impermeável por sua parede, entende-se que essa medição é, pelo menos predominantemente, uma indicação da quantidade de vazamento do vaso e conexões no interior da célula de medição 362, e reflete pouca ou nenhuma desgaseificação ou permeação verdadeira. V I.B. A família de plotagens ou tabela de dados fornecidos para mostrar os resultados de desgaseificação de certos exemplos mostra a taxa de fluxo de "desgasificação", também em microgramas por minuto, de tubos individuais. Alguma da taxa de fluxo é atribuída ao vazamento. Os pontos numéricos de dados da taxa de fluxo nas tabelas são apresentados como de um certo tempo de teste (minutos por teste na ATC). Exemplos de Trabalho

Os exemplos de trabalho devem ser entendidos como abrangendo os Exemplos referentes à desgaseificação da EP2251671 A2, em particular o Exemplo 8, Exemplo 16, Exemplo 19, e as Figuras e tabelas às quais estes Exemplos da EP2251671 A2 se referem. Exemplo 1

Medição da desgaseificação em tubos de COC não revestidos, carregados com CO2 VI.B. Este teste inicial foi realizado para determinar se o CO2 pode ser carregado em COC para aumentar substancialmente a sua taxa de fluxo de desgaseificação ATC. Trinta tubos de COC não revestidos foram produzidos de acordo com o Protocolo para a Formação de Tubo de COC. Antes de carregar o CO2 , os tubos foram testados quanto à desgaseificação de acordo com o Protocolo de Teste da Desgaseificação. A taxa de fluxo foi medida usando ATC com um sensor de 14 ug/min. A taxa de fluxo de ATC antes do carregamento com CO2 é mostrada na Tabela A. Após esta medição ter sido realizada em cada tubo, o mesmo tubo foi então carregado com CO2 de acordo com o Protocolo para Carregamento de Tubos de Sangue com CO2, utilizando um tempo de carregamento de CO2 de 10 minutos. A taxa de fluxo foi medida novamente da mesma maneira, e o resultado é mais uma vez apresentado na Tabela A.

Com referência à Tabela A, a taxa média de fluxo de desgaseificação dos tubos de COC antes do carregamento com CO2foi de 1,43 microgramas por minuto. A taxa média de fluxo de desgaseificação dos tubos de COC depois do carregamento com CO2 foi de 3,48 microgramas por minuto. Este resultado demonstrou que o CO2 pode ser adsorvido em quantidade suficiente sobre os tubos não revestidos para facilitar substancialmente a medição da desgaseificação de ATC. Tabela A: Efeito do carregamento com CO2 sobre COC na Desgaseificação

Exemplo 2

Tempo de carregamento com CO2 vs. Taxa de Desgaseificação Neste Exemplo, o tempo de carregamento do CO2 foi variado para demonstrar o seu efeito sobre a desgaseificação. O tempo de teste de ATC foi também aumentado para cinco minutos, para que os resultados deste teste não sejam diretamente comparáveis com os do Exemplo 1. De resto, o teste foi realizado de forma semelhante ao teste "Depois do Carregamento com CO2" do Exemplo 1.

Os resultados estão apresentados na Tabela B, que mostra que a taxa de fluxo de desgaseificação aumenta à medida que aumenta o tempo de carregamento, embora o aumento da taxa de fluxo por minuto de carga seja menor à medida que o tempo de carga é prolongado. Tabela B: Efeito do Tempo de Carregamento com CO2 na Taxa de Fluxo de ATC

Exemplo 3

Separação de Microfluxo Melhorada de Copolímeros de Olefina Cíclica Não revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Dióxido de Carbono (CO2).

Dez tubos moldados por injeção de copolímero de olefina cíclica (COC), com dimensão de 13x75 mm (0,85 mm de espessura), não revestidos e revestidos com SiOx foram individualmente pressurizados no aparelho de revestimento de plasma a uma pressão de 25 psi de dióxido de carbono (CO2) durante 12 minutos. O revestimento de SiOx foi realizado no aparelho de revestimento de plasma descrito no protocolo. Os tubos revestidos com SiOx foram deixados a arrefecer até à temperatura ambiente após o revestimento, antes da pressurização de CO2; o aparelho de revestimento de plasma padrão foi modificado com válvulas para permitir a pressurização de CO2 , com um cilindro de pressão de CO2 através uso do retentor de tubos padrão; os tubos foram avaliados imediatamente após a pressurização de CO2

Depois de pressurização de CO2, os tubos foram analisados com um instrumento de ATC com intervalo de microfluxo de 0-14 microgramas/litro (ug/L), sob condições de análise descritas anteriormente. Os resultados de dez leituras médias (Tabela C) indicam uma excelente separação superior a 4 unidades de ug/L entre tubos COC não revestidos e revestidos com SiOx. Comparativamente, na ausência de pressurização de CO2, (a) os valores de microfluxo para ambos os tubos não revestidos e revestidos são mais baixos (1,252,00 ug/L) e (b) não é alcançada separação entre os tubos de COC não revestidos e revestidos com SiOx. Tabela C. Parâmetros de Revestimento de Plasma.

Tabela D. Microfluxo Médio entre Tubos de COC não revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de CO2.

Exemplo 4

Separação de Microfluxo Rápida e de Seis-Sigma de Copolímeros de Olefina Cíclica Não Revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Dióxido de Carbono (CO2).

Dez tubos moldados por injeção de copolímero de olefina cíclica (COC), com dimensão de 13x75 mm (0,85 mm de espessura), não revestidos e revestidos com SiOx foram individualmente pressurizados no aparelho de revestimento de plasma a uma pressão de 25 psi de dióxido de carbono (CO2) durante 12 minutos. O revestimento de SiOx foi realizado em um aparelho de revestimento de plasma descrito anteriormente. Os tubos revestidos com SiOx foram deixados a arrefecer até à temperatura ambiente após o revestimento, antes da pressurização de CO2; o aparelho de revestimento de plasma padrão foi modificado com válvulas para permitir a pressurização de CO2, com um cilindro de pressão de CO2 através uso do retentor de tubos padrão; os tubos foram avaliados imediatamente após a pressurização de CO2.

Depois de pressurização de CO2, os tubos foram analisados com um instrumento de ATC com intervalo de microfluxo de 0-14 microgramas/litro (ug/L), sob condições de análise descritas anteriormente. Os dados de microfluxo para cada tubo foram recolhidos em aproximadamente 0,3 segundos. Análise de dados:

Para atingir estatisticamente uma separação significativa, de seis sigma entre as taxas de microfluxo não revestido e revestido com SiOx, o Microfluxo Médio de Tubo Não Revestido (menos três desvios padrão) deve ser maior do que o Microfluxo Médio de Tubo Revestido com SiOx (mais três desvios padrão). Esta condição é alcançada entre 0,96 e 1,29 segundos após o início da medição, como se mostra na Tabela E. Tabela E. Tempo de Microfluxo do Tubo Não Revestido (menos 3 Desvios Padrão) e do Microfluxo do Tubo Revestido com SiOx (mais 3 Desvios Padrão)

* média de dez amostras Exemplo 5 Infusão de dióxido de carbono ou carregamento através de processo de evacuação/pressurização

Num vaso de pressão são colocados vários tubos de COC com dimensão de 13x75 mm, não revestidos e revestidos de plasma de SiOx. O vaso é evacuado para 1 Torr durante 30 minutos; seguido por pressurização de 3-10 psig de um cilindro de dióxido de carbono durante 30 minutos. Os tubos são então avaliados com o instrumento de microfluxo ATC sob as condições descritas no Exemplo 1. A discriminação do microfluxo observada entre os tubos de COC não revestidos e revestidos de plasma é comparável ao observado para os tubos de PET não revestidos e revestidos com SiOx (Figuras 31 & 32), e é muito melhor do que o uso de azoto como gás de purga. Exemplo 6 Infusão de dióxido de carbono ou carregamento através de processo de pressurização

Os tubos foram montados numa câmara de pressurização e foram pressurizados com gás de CO2 a 75 psi e 23 ° C durante 1,5 horas. Os tubos foram medidos usando as condições mencionadas acima na unidade ATC. Os tubos mostraram uma boa separação entre os tubos de COC revestidos e não revestidos 8007, com dimensões de 13 x 75 mm. Exemplo 7

Separação de Microfluxo Melhorada de Copolímeros de Olefina Cíclica Não revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Árgon(Ar).

Dez tubos moldados por injeção de copolímero de olefina cíclica (COC), com dimensão de 13x75 mm (0,85 mm de espessura), não revestidos e revestidos com SiOx foram individualmente pressurizados no aparelho de revestimento de plasma a uma pressão de 25 psi de árgon (Ar) durante 12 minutos. O revestimento de SiOx foi realizado num aparelho de revestimento de plasma descrito anteriormente; os tubos revestidos com SiOx foram deixados a arrefecer até à temperatura ambiente após o revestimento e antes da pressurização com Ar; o aparelho de revestimento de plasma padrão foi modificado com válvulas para permitir a pressurização de Ar com um cilindro de pressão de Ar utilizando o retentor de tubos padrão; os tubos foram avaliados imediatamente após a pressurização com Ar.

Depois de pressurização de Ar, os tubos foram analisados com um instrumento de ATC com intervalo de microfluxo de 0-14 microgramas/litro (ug/L), sob condições de análise descritas anteriormente. Os resultados de dez leituras médias (Tabela F) indicam uma boa separação superior a 1 unidades de ug/L entre tubos COC não revestidos e revestidos com SiOx. Tabela F. Microfluxo Médio entre Tubos de COC Não Revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Ar.

* média de nove amostras Exemplo 8

Separação de Microfluxo Melhorada de Copolímeros de Olefina Cíclica Não Revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Azoto (N2).

Dez tubos moldados por injeção de copolímero de olefina cíclica (COC), com dimensão de 13x75 mm (0,85 mm de espessura), não revestidos e revestidos com SiOx foram individualmente pressurizados no aparelho de revestimento de plasma a uma pressão de 25 psi de azoto (N2) durante 12 minutos. O revestimento de SiOx foi realizado num aparelho de revestimento de plasma descrito anteriormente; os tubos revestidos com SiOx foram deixados a arrefecer até à temperatura ambiente após o revestimento e antes da pressurização com N2; o aparelho de revestimento de plasma padrão foi modificado com válvulas para permitir a pressurização de N2 com um cilindro de pressão de N2 utilizando o retentor de tubos padrão; os tubos foram avaliados imediatamente após a pressurização com N2.

Depois de pressurização de N2, os tubos foram analisados com um instrumento de ATC com intervalo de microfluxo de 0-14 microgramas/litro (ug/L), sob condições de análise descritas anteriormente. Os resultados de dez leituras médias (Tabela G) indicam uma boa separação entre tubos COC não revestidos e revestidos com SiOx. Tabela G. Microfluxo Médio entre Tubos de COC Não Revestidos e Revestidos com SiOx com Purga de Azoto.

* média de nove amostras Exemplo 9

Gás de Purga de CO2 na Medição de Microfluxo Este exemplo mostra que um tempo de carregamento de CO2 tão curto quanto um segundo pode ser usado para melhorar o resultado da detecção de desgaseificação. Vasos de COC não revestidos respectivamente feitos de COC 8007 e COC 6015 foram evacuados em um aparelho semelhante ao da Fig. 2, em seguida, foram purgados com gás de azoto ou dióxido de carbono durante um segundo para quebrar o vácuo. A desgaseificação dos tubos foi então medida utilizando o equipamento mostrado na FIG. 7. Um tempo de purga de 1 segundo, com o dióxido de carbono a substituir o azoto resultou em um sinal de amplitude aumentada do microfluxo para tubos de COC não revestidos de moldagem por injeção, com dimensão de 13x75 (Tabela I). Tabela I. Comparação da Amplitude de Microfluxo (após 90 seg) de Tubos Não Revestidos TOPAS 8007 & 6015

Exemplo 10 Medição do Microfluxo Adicional

Num vaso de pressão são colocados vários tubos de COC com dimensão de 13x75 mm, não revestidos e revestidos de plasma de SiOx. O vaso é evacuado para 1 Torr durante 30 minutos, seguido por pressurização de 3-10 psig de um cilindro de dióxido de carbono durante 30 minutos. Os tubos são então evacuados utilizando o equipamento mostrado na FIG. 7. Tal como pode ser visto na Fig. 19, a discriminação do microfluxo observada entre tubos de COC não revestidos e revestidos com plasma é comparável à observada para tubos PET não revestidos e revestidos com SIOx (FIGS. 8 e 9 do presente pedido, as quais são idênticas às 8 e 9 da EP2251671 A2) e muito melhor do que usando azoto como gás de purga.

Embora a invenção tenha sido ilustrada e descrita em detalhes nos desenhos e na descrição supracitada, tal ilustração e descrição devem ser consideradas ilustrativas ou exemplificadoras e não restritivas; e a invenção não está limitada às modalidades apresentadas. Outras variações das modalidades apresentadas podem ser compreendidas e efetuadas pelos peritos na técnica e por meio da prática da invenção reivindicada, a partir de um estudo dos desenhos, da descrição e das reivindicações em anexo. Nas reivindicações, a palavra “que compreende” não exclui outros elementos ou etapas, e o artigo indefinido “um” ou “uma” não exclui uma pluralidade. O mero fato de certas medidas serem referidas em reivindicações dependentes mutuamente diferentes não indica que uma combinação dessas medidas não possa ser usada em benefício. Qualquer sinal de referência nas reivindicações não deve ser interpretado como limitador do escopo.

Claims (31)

1. Método para inspecionar o produto de um processo de revestimento, em que um revestimento foi aplicado a pelo menos uma porção da superfície de um vaso para formar uma superfície revestida, caracterizado pelo fato de o método compreender as etapas de: (a) fornecer um produto do processo de revestimento tendo uma superfície revestida, definida por um revestimento preparado por PECVD a partir de um precursor de organossilício; (b) fornecer um espaço adjacente à superfície revestida que é um lúmen do vaso; (c) por um teste de duração de menos de 30 segundos, medir a característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil no espaço de gás adjacente à superfície revestida; (d) identificar a característica de liberação da pelo menos uma espécie volátil de uma superfície aceitavelmente revestida do objeto de inspeção; e (e) comparar e determinar se a característica de liberação medida na etapa (c) satisfaz a característica de liberação identificada na etapa (d), determinando assim a presença ou ausência do revestimento e/ou uma propriedade física e/ou química do revestimento.

2. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o vaso compreende material de base termoplástica ou um poliéster, polipropileno ou um copolímero de olefina cíclica.

3. Método, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que o vaso é uma peça termoplástica moldada por injeção ou uma peça termoplástica moldada por sopro.

4. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o vaso é um tambor de seringa ou um frasco.

5. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por compreender ainda extrair pelo menos um vácuo parcial no lúmen antes de medir a característica de liberação.

6. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por compreender ainda, antes de medir a característica de liberação, colocar o revestimento em contato com um gás.

7. Método, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que o gás compreende pelo menos um dentre vapor de água, oxigênio ou dióxido de carbono.

8. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida pela determinação do volume de material desgaseificado para o espaço adjacente à superfície revestida por intervalo de tempo.

9. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida usando tecnologia de microfluxo, é determinada pela medição da taxa de fluxo de massa no espaço adjacente à superfície revestida, ou é medida em um modo de operação de fluxo molecular.

10. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o revestimento é uma camada de barreira com uma espessura inferior a 500 nm.

11. Método, de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a camada de barreira compreende SiOx, em que x, a razão atômica de oxigênio para átomos de silício, é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9 conforme medido por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios-X (XPS).

12. Método, de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida sob condições eficazes para distinguir a presença ou ausência da barreira.

13. Método, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a medição da presença ou ausência da camada de barreira é confirmada a pelo menos um nível de certeza de seis sigma.

14. Método para inspecionar o produto de um processo de revestimento, em que um revestimento foi aplicado por deposição química por vapor melhorada por plasma (PECVD) na superfície de um vaso para formar uma superfície revestida, o método caracterizado por compreender: (a) fornecer o produto do processo de revestimento tendo um revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma na superfície; (b) fornecer um espaço que é um lúmen do vaso, adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma; (c) em um modo de operação de fluxo molecular, medir a liberação de pelo menos uma espécie volátil do objeto de inspeção para o espaço adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma; (d) identificar a característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil de uma superfície aceitavelmente revestida do objeto de inspeção; e (e) comparar e determinar se a característica de liberação medida na etapa (c) satisfaz a característica de liberação identificada na etapa (d), determinando assim a presença ou ausência do revestimento e/ou uma propriedade física e/ou química do revestimento.

15. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que o vaso é um tubo de coleta de sangue evacuado, um tambor de seringa ou um frasco.

16. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado por compreender ainda conectar o lúmen através de um duto a uma fonte de vácuo e extrair pelo menos um vácuo parcial no lúmen antes de medir a característica de liberação.

17. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado por compreender ainda, antes de medir a característica de liberação, colocar o revestimento em contato com um gás.

18. Método, de acordo com a reivindicação 17, caracterizado pelo fato de que o gás compreende pelo menos um dentre vapor de água, oxigênio ou dióxido de carbono.

19. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que o revestimento é uma camada de barreira com uma espessura inferior a 500 nm.

20. Método, de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelo fato de que a camada de barreira compreende SiOx, em que x, a razão atômica de oxigênio para átomos de silício, é de cerca de 1,5 a cerca de 2,9 conforme medido por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios-X (XPS).

21. Método, de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida sob condições eficazes para distinguir a presença ou ausência da camada de barreira a pelo menos um nível de certeza de seis sigma.

22. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que o revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma é preparado a partir de um precursor de organossilício.

23. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida usando tecnologia de microfluxo ou medindo a taxa de fluxo de massa no espaço adjacente à superfície revestida.

24. Método para inspecionar o produto de um processo de revestimento, em que um revestimento foi aplicado por deposição química por vapor melhorada por plasma (PECVD) a a pelo menos uma porção da superfície de um vaso para formar uma superfície revestida, o método caracterizado por compreender: (a) fornecer um produto do processo de revestimento tendo um revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma na superfície; (b) fornecer um espaço que é um lúmen do vaso adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma; (c) medir uma característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil no espaço adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma usando tecnologia de microfluxo; (d) identificar a característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil de uma superfície aceitavelmente revestida do objeto de inspeção; e (e) comparar e determinar se a característica de liberação medida na etapa (c) satisfaz a característica de liberação identificada na etapa (d), determinando assim a presença ou ausência do revestimento e/ou uma propriedade física e/ou química do revestimento.

25. Método, de acordo com a reivindicação 24, caracterizado por compreender ainda conectar o lúmen através de um duto a uma fonte de vácuo e extrair pelo menos um vácuo parcial no lúmen antes de medir a característica de liberação.

26. Método, de acordo com a reivindicação 24, caracterizado por compreender ainda, antes de medir a característica de liberação, colocar o revestimento em contato com um gás, no qual a característica de liberação é medida sob condições eficazes para distinguir a presença ou ausência do revestimento a pelo menos um nível de certeza de seis sigma.

27. Método para inspecionar o produto de um processo de revestimento, em que um revestimento foi aplicado por deposição química por vapor melhorada por plasma (PECVD) a pelo menos uma porção da superfície de um vaso para formar uma superfície revestida, o método caracterizado por compreender: (a) fornecer um produto do processo de revestimento tendo um revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma na superfície; (b) fornecer um espaço que é um lúmen do vaso adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma; (c) medir uma característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil no espaço adjacente ao revestimento de deposição química por vapor melhorada por plasma pela medição da taxa de fluxo de massa para o espaço adjacente à superfície revestida; (d) identificar a característica de liberação de pelo menos uma espécie volátil de uma superfície aceitavelmente revestida do objeto de inspeção; e (e) comparar e determinar se a característica de liberação medida na etapa (c) satisfaz a característica de liberação identificada na etapa (d), determinando assim a presença ou ausência do revestimento e/ou uma propriedade física e/ou química do revestimento.

28. Método, de acordo com a reivindicação 27, caracterizado por compreender ainda conectar o lúmen através de um duto a uma fonte de vácuo e extrair pelo menos um vácuo parcial no lúmen antes de medir a característica de liberação.

29. Método, de acordo com a reivindicação 27, caracterizado por compreender ainda o fornecimento de uma célula de medição de desgaseificação que se comunica entre o lúmen e a fonte de vácuo, na qual o lúmen é evacuado a uma pressão de 0,1 Torr a 100 Torr.

30. Método, de acordo com a reivindicação 27, caracterizado por compreender ainda, antes de medir a característica de liberação, colocar o revestimento em contato com um gás, no qual a característica de liberação é medida sob condições eficazes para distinguir a presença ou ausência do revestimento a pelo menos um nível de certeza de seis sigma.

31. Método, de acordo com a reivindicação 27, caracterizado pelo fato de que a característica de liberação é medida usando tecnologia de microfluxo.

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