JP2014218639A - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびそれを含む表面処理組成物を提供する。【解決手段】式（１ａ）または式（１ｂ）：で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。【選択図】なし

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に関する。また、本発明は、かかるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法、およびこれを含む表面処理剤等にも関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。例えば、特許文献１には、パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖と、加水分解可能な基を有するＳｉ原子が、シロキサン結合を含むリンカー部を介して連結された含フッ素シラン化合物が記載されている。また、特許文献２には、パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖の末端にアミドを有し、該アミドのＮ原子に、リンカーを介して、加水分解可能な基を有するＳｉ原子が２個結合した含フッ素シラン化合物が記載されている。さらに、特許文献３には、パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖の末端に、複数の加水分解可能な基を有するＳｉ原子を有する含フッ素シラン化合物が記載されている。

特開２００２−３４８３７０号公報 特開２０００−３２７７７２号公報 特開２０１２−７２２７２号公報

表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期に亘って提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されており、とりわけこれらの用途において、摩擦耐久性の一層の向上が要求されている。

しかしながら、上記したような従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。また、本発明は、かかるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法、これを含む表面処理剤等を提供することを目的とする。さらに、本発明は、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造における中間体およびかかる中間体の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物であって、パーフルオロ（ポリ）エーテル基を有する分子主鎖の末端にＳｉ原子を有し、該Ｓｉ原子に、少なくとも１個の別のＳｉ原子が、リンカーを介して結合し、該別のＳｉ原子のいずれかに水酸基または加水分解可能な基が結合している化合物が、撥水性、撥油性および防汚性に加え、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第１の要旨によれば、式（１ａ）または式（１ｂ）：

（式中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表し、
Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
Ｘは、２価の有機基を表し、
Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎを表し、
Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：ただし、Ｚは、式（１ａ）または式（１ｂ）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを除く、
Ｒ^１は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
Ｒ^２は、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−２２アルキル基、またはＱ’を表し、
Ｑ’は、Ｑと同意義であり、
ｎは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３から選択される整数であって、ｎの総和は１以上であり、
Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
ｋは、それぞれ独立して、１〜３から選択される整数である。）
で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法であって、下記工程：
工程（１）：式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）：

（式中、ＡおよびＲｆは上記と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’およびＭは、上記と同意義である。）
で表される化合物を得る工程；
工程（２）：上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは上記と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｋ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物を得る工程；および
工程（３）：式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは上記と同意義である）および／または
式：Ｒ^１ _ｉＬ’（式中、Ｒ^１は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。）
で表される化合物、および所望により
式：Ｒ^２’ _ｊＬ”（式中、Ｒ^２’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^２’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程、
を含む方法が提供される。

本発明の第３の要旨によれば、式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）：

（式中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表し、
Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
Ｘは、２価の有機基を表し、
Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
Ｚ’は、結合または２価の有機基である。）
で表される化合物が提供される。かかる化合物は、上記式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法における中間体である。

本発明の第４の要旨によれば、上記式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）で表される化合物の製造方法であって：
式（１ａ−２’）または式（１ｂ−２’）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、ＸおよびＭは、上記と同意義である。）
で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は、上記と同意義であり、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは上記と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程を含む方法が提供される。

本発明の第５の要旨によれば、上記式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する表面処理剤が提供される。

本発明の第６の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物または上記表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。さらに、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を使用して得られる表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

以下、本発明の化合物について説明する。

本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。

本発明は、式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基（以下、「ＰＦＰＥ」ともいう）含有シラン化合物を提供する（以下、「本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物」ともいう）。

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基における「Ｃ_１−１６アルキル基」は、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜１６のアルキル基であり、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ａは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。

該Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和が少なくとも１であれば特に限定されるものではない。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１以上２００以下の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１以上１００以下の整数である。さらに好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、Ｒｆは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは上記と同意義である）である。

別の態様において、Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上または１以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは上記と同意義である）である。

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、Ｘは、２価の有機基を表す。当該Ｘ基は、式（１ａ）および式（１ｂ）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ａ−Ｒｆ−部または−Ｒｆ−部）と、加水分解して基材との結合能を提供するシラン部（−ＳｉＱ_ｋＹ_３−ｋ部）とを連結するリンカーと解される。したがって、当該Ｘ基は、式（１ａ）および式（１ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２価の有機基であってもよい。

上記Ｘの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^６）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^７−
［式中：
Ｒ^６は、−（ＣＨ_２）_ｓ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、
Ｒ^７は、−（ＣＨ_２）_ｔ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ−であり、
Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−を表し、
Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−および−（ＣＨ_２）_ｖ−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^５は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｖは、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｓは、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
ｔは、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数であり、
ｒは、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐは、０または１であり、
ｑは、０または１である。］
で表される基が挙げられる。

好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^６−Ｘ^３−Ｒ^７−、または
−Ｘ^４−Ｒ^７−
［式中、Ｒ^６およびＲ^７は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、ｓおよびｔは、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、
−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、または
−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−
［式中、Ｒ^３、Ｒ^５、ｍおよびｖは、上記と同意義であり、
ｕは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^３は、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５−、
−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、または
−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−
を表す。

より好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
である。

上記Ｘ基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｘの具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、

などが挙げられる

また、別のＸ基の例としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、式（１ａ）および式（１ｂ）の分子主鎖のＡ−Ｒｆ−に結合し、Ｅは、式（１ａ）および式（１ｂ）の分子主鎖のＳｉ原子に結合する。］

さらに別のＸ基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、各Ｘ基において、Ｔのうち任意の１つは、式（１ａ）および式（１ｂ）の分子主鎖のＡ−Ｒｆ−に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

であり、
、別の任意の１つは、式（１ａ）および式（１ｂ）の分子主鎖のＳｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、残りは、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基である。］

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、Ｙは、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表す。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。かかる加水分解可能な基としては、特に限定されるものではないが、−ＯＲ^４、−ＯＣＯＲ^４、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ^４）_２、−Ｎ（Ｒ^４）_２、−ＮＨＲ^４、ハロゲン原子（これら式中、Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基を表す）などが挙げられる。

上記Ｙは、好ましくは、水酸基、−Ｏ（Ｒ^５）（式中、Ｒ^５はＣ_１−１２アルキル基、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはＣ_１−３アルキル基を表す）、Ｃ_１−１２アルキル基、Ｃ_２−１２アルケニル基、Ｃ_２−１２アルキニル基、またはフェニル基であり、より好ましくは、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ(ＣＨ_３)_２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、Ｑは、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎを表す。

上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表す。

上記Ｚは、好ましくは、式（１ａ）または式（１ｂ）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−（式中、ｓ’は、１〜６の整数であり、ｔ’は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｕ’−（式中、ｕ’は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｒ^１は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。好ましくは、Ｒ^１は、−ＯＲ^６（式中、Ｒ^６は、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記Ｒ^２は、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−２２アルキル基、またはＱ’を表す。

上記Ｑ’は、Ｑと同意義である。

上記ｎは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３から選択される整数であり、ｎの総和は１以上である。各ＱまたはＱ’において、上記ｎが０である場合、そのＱまたはＱ’中のＳｉは、水酸基および加水分解可能な基を有さないことになる。したがって、上記ｎの総和は、少なくとも１以上でなければならない。

パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖の末端のＳｉ原子に結合する、−Ｑ−Ｑ’_０−５鎖の末端のＱ’において、上記ｎは、好ましくは２であり、より好ましくは３である。

上記ＱにおけるＲ^２の少なくとも１つがＱ’である場合、Ｑ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在する。かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｑ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＱ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｑ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

本発明の好ましい態様において、下記に示すように、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個（すなわち、Ｑ中にＳｉ原子は１個のみ存在する）または２個、好ましくは１個である。

上記式（１ａ）および式（１ｂ）中、ｋは、１〜３から選択される整数であり、好ましくは２以上、より好ましくは３である。ｋを３とすることにより、基材との結合が強固となり、高い摩擦耐久性を得ることができる。

一の態様において、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、ＱにおけるＲ^２が、Ｃ_１−２２アルキル基である式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物である。

一の態様において、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、ＱにおけるＲ^２の少なくとも１つがＱ’である式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物である。

上記式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物において、Ａ−Ｒｆ−部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

上記式（１ａ）または式（１ｂ）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

次に、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の製造方法について説明する。

式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、下記工程：
工程（１）：式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）：

（式中、ＡおよびＲｆは上記と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’およびＭは、上記と同意義である。）
で表される化合物を得る工程；
工程（２）：上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価のリンカー基を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは上記と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｋ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物を得る工程；および
工程（３）：式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）および、所望により
式：Ｒ^１ _ｉＬ’（式中、Ｒ^１は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。）
で表される化合物、および／または
式：Ｒ^２’ _ｊＬ”（式中、Ｒ^２’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^２’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程、
を含む方法により製造することができる。

別法として、工程（２）を、下記工程（２’）に置換してもよい。
工程（２’）：
上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｇは、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｋ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物を得る工程；および

以下、上記工程（１）について、より詳細に説明する。

工程（１）において、式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）：

で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３と反応させて、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）：

で表される化合物を得る。

上記式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）中、ＡおよびＲｆは、上記式（１ａ）および式（１ｂ）の記載と同意義である。

上記式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）中、Ｘ’は２価の有機基を表す。なお、Ｘ’−ＣＨ_２ＣＨ_２−が、上記式（１ａ）および式（１ｂ）中のＸに対応する。

式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）で表される化合物は、市販されているか、または市販されている化合物から、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

工程（１）おいて用いられるＨＳｉＭ_３中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ等）またはＣ_１−６アルコキシ基であり、好ましくはハロゲン原子であり、より好ましくはＣｌである。該化合物は、市販されているか、または市販されている化合物から、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

上記ＨＳｉＭ_３の量は、上記式（１ａ−１）および／または式（１ｂ−１）で表される化合物の末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基（２種以上の化合物を用いる場合にはその合計、以下も同様）１モルに対して、１モル以上であることが好ましい。

工程（１）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われることが好ましい。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等が挙げられる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜２４０分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

以下、上記工程（２）について、より詳細に説明する。

工程（２）において、上記工程（１）で得られた式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ
で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：

で表される化合物を得る。

上記工程（２）における式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２中、Ｈａｌはハロゲン原子（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ等）を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｚ’は結合または２価の有機基を表す。当該「２価の有機基」は、上記式（１ａ）および式（１ｂ）中のＺにおける「２価の有機基」と同意義である。なお、Ｚ’−ＣＨ_２ＣＨ_２−基が、上記式（１ａ）および式（１ｂ）中のＺに対応する。

式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２で表される化合物は、好ましくはＪがＭｇである化合物であり、この化合物は、グリニャール試薬として当該技術分野で公知のものであり、市販されているか、または市販されている化合物から当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

工程（２）おいて用いられるＨａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２で表される化合物の量は、特に限定されるものではないが、上記式（１ａ−２）および／または式（１ｂ−２）で表される化合物の末端ＳｉＣｌ_３基１モルに対して、好ましくは２モル以上であり、より好ましくは２〜４モルである。なお、この量は、下記するＹ_ｈＬで表される化合物の使用量に応じて変化し得ることは理解されるだろう。

上記工程（２）における式：Ｙ_ｈＬ中、Ｙは、上記式（１ａ）および式（１ｂ）の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。かかる「Ｙと結合可能な基」は、Ｙと結合可能であり、上記の反応においてＹが脱離できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば水素原子、リチウム、ナトリウム等が挙げられる。かかるＹと結合可能な基は、複数のＹ基を有し得る基、例えば＝ＣＨ_２、≡ＣＨであってもよく、この場合、Ｙ_ｈＬで表される化合物は、それぞれ、ＣＨ_２Ｙ_２、ＣＨＹ_３であり得る。当業者であれば、反応させる化合物の種類、溶媒、温度等の条件に応じて、適当なＹと結合可能な基を選択することができる。

工程（２）おいてＹ_ｈＬで表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＹ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

かかる反応は、式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２で表される化合物と式：Ｙ_ｈＬで表される化合物を同時に反応させてもよく、あるいは、いずれか一方の化合物を先に反応させ、ついで他方の化合物を反応させて２段階で行ってもよい。当業者であれば、反応させる化合物の種類、目的の化合物等に応じて、同時に反応させるか、またはどちらの化合物から順次反応させるか適宜選択することができる。

工程（２）の反応は、適当な溶媒中で行われることが好ましい。また、適当な触媒の存在下行ってもよい。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等が挙げられる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、−７８〜１５０℃、好ましくは−２０〜３０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜７２０分、好ましくは１２０〜２４０分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

以下、上記工程（２’）について、より詳細に説明する。

工程（２’）において、上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ
で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：

で表される化合物を得る。

上記工程（２’）は、工程（２）の、Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２の代わりにＧ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２を用いたものと理解できる。

上記式Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｇは、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表す。当該「２価の有機基」は、上記式（１ａ）および式（１ｂ）中のＺにおける「２価の有機基」と同意義である。なお、Ｚ’−ＣＨ_２ＣＨ_２−基が、上記式（１ａ）および式（１ｂ）中のＺに対応する。

工程（２’）おいて用いられるＧ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２で表される化合物の量は、特に限定されるものではないが、上記式（１ａ−２）および／または式（１ｂ−２）で表される化合物の末端ＳｉＣｌ_３基１モルに対して、好ましくは２モル以上であり、より好ましくは２〜４モルである。なお、この量は、下記するＹ_ｈＬで表される化合物の使用量に応じて変化し得ることは理解されるだろう。

上記工程（２’）における式：Ｙ_ｈＬは、工程（２）における式：Ｙ_ｈＬと同意義である。

工程（２’）おいてＹ_ｈＬで表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＹ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

かかる反応は、式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２で表される化合物と式：Ｙ_ｈＬで表される化合物を同時に反応させてもよく、あるいは、いずれか一方の化合物を先に反応させ、ついで他方の化合物を反応させて２段階で行ってもよい。当業者であれば、反応させる化合物の種類、目的の化合物等に応じて、同時に反応させるか、またはどちらの化合物から順次反応させるか適宜選択することができる。

工程（２’）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われることが好ましい。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等が挙げられる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、−７８〜１５０℃、好ましくは−２０〜３０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜７２０分、好ましくは１２０〜２４０分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

以下、上記工程（３）について、より詳細に説明する。

工程（３）において、上記工程（２）で得られた式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、上記と同意義であり、好ましくはハロゲン原子であり、より好ましくはＣｌである）および、所望により式：Ｒ^１ _ｉＬ’で表される化合物、および／または式：Ｒ^２’ _ｊＬ”で表される化合物と反応させる。

上記工程（３）における式：Ｒ^１ _ｉＬ’中、Ｒ^１は、上記式（１ａ）および式（１ｂ）の記載と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。

上記工程（３）における式：Ｒ^２’ _ｊＬ”中、Ｒ^２’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^２’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。

それぞれ上記Ｌ’およびＬ”で表される「Ｒ^１と結合可能な基」および「Ｒ^２’と結合可能な基」は、それぞれ、Ｒ^１およびＲ^２’に結合可能であり、上記の反応において、Ｒ^１およびＲ^２’が脱離できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、上記Ｌと同様のものであり得る。当業者であれば、反応させる化合物の種類、溶媒、温度等の条件に応じて、適当なＲ^１と結合可能な基およびＲ^２’と結合可能な基を選択することができる。

工程（３）おいて用いられるＨＳｉＭ_３の量は、上記式（１ａ−３）および／または式（１ｂ−３）で表される化合物の末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基１モルに対して、１モル以上であればよいが、好ましくは２モルである。

工程（３）おいてＲ^１ _ｉＬ’で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲ^１基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

工程（３）おいてＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲ^２基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

工程（３）の反応においては、最初に、上記式（１ａ−３）および／または式（１ｂ−３）で表される化合物の末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基とＨＳｉＭ_３が反応して、末端が−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＭ_３基に変換される。末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基が全て−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＭ_３基に変換される場合、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）中のｋ’は、式（１ａ）または式（１ｂ）中のｋと等しくなる。ついで、この末端−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＭ_３基と、Ｒ^１ _ｉＬ’で表される化合物および／またはＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物が反応して、ＭがＲ^１またはＲ^２’により置換される。なお、Ｒ^１ _ｉＬ’で表される化合物およびＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物は、同時または別個に反応させてもよい。

しかしながら、本発明の一の態様においては、ＨＳｉＭ_３、Ｒ^１ _ｉＬ’で表される化合物、およびＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物を、ＨＳｉ（Ｒ^１ _ｉ）（Ｒ^２’ _ｊ）（この場合、ｉ＋ｊは３である）で表される化合物として用いることもできる。ＨＳｉ（Ｒ^１ _ｉ）（Ｒ^２’ _ｊ）で表される化合物は、当業者であれば、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

別の態様において、工程（３）におけるＲ^１ _ｉＬ’で表される化合物および／またはＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（１ａ−３）および／または式（１ｂ−３）で表される化合物の末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基１モルに対して３モル以上とする。かかる態様によれば、工程（３）の反応において生じる末端−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＭ_３のＭを、実質的にすべてＲ^１またはＲ^２’により置換することができる。すなわち、ＱにおいてＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数が１つである上記式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物を得ることができる。

さらに別の態様において、工程（３）におけるＲ^１ _ｉＬ’で表される化合物および／またはＲ^２’ _ｊＬ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（１ａ−３）および／または式（１ｂ−３）で表される化合物の末端−ＣＨ＝ＣＨ_２基１モルに対して０以上３モル未満とする。かかる態様によれば、工程（３）の反応において生じる末端−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＭ_３のＭのすべてまたはいくつかが、Ｒ^１またはＲ^２’により置換されることなく残り得る。このように残ったＳｉ−Ｍ部を、上記工程（２）と同様に、式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｊは、Ｍｇ、ＣｕまたはＺｎを表し、Ｚ’は結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させることにより、再度、末端部を−ＣＨ＝ＣＨ_２とすることができ、工程（３）と同様の反応に付すことが可能になる。この操作を繰り返すことにより、上記式（１ａ）または式（１ｂ）で示される化合物の末端に、Ｚ基を介してＳｉ原子をツリー状に連結させることができる。

工程（３）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われることが好ましい。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えばＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。

工程（１）および（３）の反応は、適当な転位防止剤の存在下で行われることが好ましい。

適当な転位防止剤としては、特に限定されるものではないが、カルボン酸化合物が挙げられる。当該カルボン酸化合物は、（ａ）カルボン酸、（ｂ）カルボン酸無水物、（ｃ）シリル化カルボン酸、および／または（ｄ）工程（３）の反応において上記のカルボン酸化合物（即ち、（ａ）、（ｂ）または（ｃ））を生成する物質を含み得る。これらのカルボン酸化合物は、１種のみで用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

転位防止剤が（ａ）カルボン酸を含む場合に、カルボキシル基を有するいずれかのカルボン酸を用いてよい。適当なカルボン酸の例としては、特に限定されるものではないが、飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、およびジカルボン酸が挙げられる。適当なカルボン酸の具体例としては、特に限定されるものではないが、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、イソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウリン酸、およびステアリン酸などの飽和モノカルボン酸；シュウ酸およびアジピン酸などの飽和ジカルボン酸；安息香酸およびｐ−フタル酸などの芳香族カルボン酸；クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−クロロ安息香酸、およびトリメチルシリル酢酸などの、これらのカルボン酸の炭化水素基の炭素上の水素原子がハロゲン原子または有機シリル基で置換されているカルボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、およびオレイン酸などの不飽和脂肪酸；カルボキシル基に加えて、ヒドロキシ基、カルボニル基、またはアミノ基を有する化合物、即ち、乳酸などのヒドロキシ酸、アセト酢酸などのケト酸、グリオキシル酸などのアルデヒド酸、およびグルタミン酸などのアミノ酸を含む。

（ｂ）カルボン酸無水物の例としては、特に限定されるものではないが、酢酸無水物、プロピオン酸無水物および安息香酸無水物が挙げられる。これらのカルボン酸無水物は、工程（３）の反応系において生じるものであってもよく、塩化アセチル、塩化ブチリル、塩化ベンゾイル、および他のカルボン酸ハロゲン化物；酢酸亜鉛、酢酸タリウムなどのカルボン酸金属塩；および、(２−ニトロベンジル)プロピオネートのような光または熱により分解されるカルボン酸エステルを含む。

（ｃ）シリル化カルボン酸の例としては、特に限定されるものではないが、トリメチルシリルホルメート、トリメチルシリルアセテート、トリエチルシリルプロピオネート、安息香酸トリメチルシリルおよびトリフルオロ酢酸トリメチルシリルのようなトリアルキルシリル化カルボン酸；および、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ジ−ｔ−ブトキシジアセトキシシラン、およびシリコンテトラ安息香酸塩などのジ−、トリ−またはテトラカルボキシシリレートが挙げられる。

転位防止剤は、特に限定されるものではないが、０．００１〜２０重量％、例えば０．０１〜５重量％、または０．０１〜１重量％の量で用いられる。当業者であれば、用いる転位防止剤の量は、反応させる化合物、試薬、溶媒、その他の条件に応じて適宜選択することができる。転位防止剤は、例えば、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ、ＭＩ）から市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＥＴＳ９００またはＸＩＡＭＥＴＥＲ（登録商標）ＯＦＳ−１５７９ Ｓｉｌａｎｅとして市販されている。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等が挙げられる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、３０〜６００分、好ましくは６０〜２４０分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

また、本発明は、式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）：

（式中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表し、
Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
Ｘは、２価の有機基を表し、
Ｙは、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
Ｚ’は、結合または２価の有機基である。）
で表される化合物、すなわち上記製造方法における中間体を提供する。

さらに、本発明は、上記式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）で表される化合物の製造方法であって：
式（１ａ−２’）または式（１ｂ−２’）：

（式中、Ａ、Ｒｆ、およびＸは、上記と同意義であり、Ｍは、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である。）
で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は、上記と同意義であり、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは、上記と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程を含む方法も提供する。かかる方法は、上記本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の製造方法における工程（２）に対応する。

次に、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤として好適に使用され得る。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、ｋが３である式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される化合物を少なくとも１種含む。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉが１個または２個である式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される化合物を少なくとも１種含む。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、Ａが、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基である式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される化合物を少なくとも１種含む。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、ＱにおけるＲ^２が、Ｃ_１−２２アルキル基である式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される化合物を少なくとも１種含む。

別の態様において、本発明の表面処理剤は、式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を２種以上含む。この場合、該化合物のすべてのｋの平均値は、１以上３以下であってもよく、例えば２以上３以下であってもよいが、好ましくは３である。

さらに別の態様において、本発明の表面処理剤は、ＱにおけるＲ^２がＣ_１−２２アルキル基であり、ｋが３である式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される１種またはそれ以上のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む。かかる態様において、本発明の表面処理剤に含まれるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（１ａ）で表される１種またはそれ以上の化合物であってもよい。

上記ｋの平均値とは、表面処理剤に含まれる、式（１ａ）および式（１ｂ）で表される個々のＰＦＰＥ含有シラン化合物のｋ値（式（１ｂ）で表される化合物は、両末端にｋを有する、すなわち２つのｋを有する）の平均値を意味する。かかる平均値は、例えば、Ｓｉ−ＮＭＲを用いて測定することができる。また、Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することもできる。このような測定は当業者であれば容易に行うことができ、例えば、下記式：
Ａ−Ｒｆ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_ｋ（ＯＣＨ_３）_３−ｋ
で表され、ｋが異なる複数の化合物が混合物として表面処理剤に含まれる場合、Ｓｉ−ＮＭＲを用いて測定する場合、かかる混合物のＳｉ−ＮＭＲスペクトルを取得し、Ｓｉのピーク面積の比を求めることにより、測定することができる。また、Ｈ−ＮＭＲを用いて測定する場合、かかる混合物のＨ−ＮＭＲスペクトルを取得し、ＣＨ_２ＯＣＨ_２に結合した水素原子およびＳｉ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉに結合した水素原子のピーク面積の比を求めることにより、測定することができる。

上記表面処理剤は、式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒ^２１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^２２ ・・・（３）
式中、Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^２１およびＲ^２２は、より好ましくは、それぞれ独立して、炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ａ）
Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒ^２１およびＲ^２２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは２５〜４００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。

一の好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、Ｒｆが−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ｂは１〜２００の整数である）である式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物、および式（３ｂ）で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着法により表面処理層を形成することにより、優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

一のより好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、Ｒｆが−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下の整数である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）で表される化合物、および式（３ｂ）で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着により表面処理層を形成することにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

これらの態様において、式（３ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。

これらの態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、乾燥被覆法、例えば真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、８，０００〜３０，０００であることが好ましく、湿潤被覆法、例えばスプレー処理により表面処理層を形成する場合には、２，０００〜１０，０００、特に３，０００〜５，０００であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような式（１ａ）または式（１ｂ）で表される化合物および含フッ素オイルの平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ａ’−Ｆ（式中、Ａ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。Ａ’−Ｆで表される化合物は、ＡがＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記式（１ａ）および式（１ｂ）で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物または表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。

水分の供給は、例えば０〜５００℃、好ましくは１００℃以上で、３００℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば５００℃以下、好ましくは３００℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基（上記式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで表される化合物においてＲ^１が全て水酸基である場合にはその水酸基である。以下も同様）同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。この結果、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、その製造方法、およびそれを含む表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する４種の繰り返し単位（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。

（合成例）
合成例１〜７の手順に従って、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を合成した。

・合成例１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０６ｇ、トリクロロシラン１．３６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０９４ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）１９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃

・合成例２
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）１９ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を２６．４ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）２０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

・合成例３
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン３．１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１４１ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

・合成例４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．７８ｇとオルソギ酸トリメチル３６ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）１７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

・合成例５
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を７．０６ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを４ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記の式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリル体の混合物（Ｅ）９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体の混合物（Ｅ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)_2.2(OCH₃)_0.8

・合成例６
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｅ）５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン７ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０２ｇ、トリクロロシラン１．３０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０４５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記の式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物の混合物（Ｆ）６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物の混合物（Ｆ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)_2.2(OCH₃)_0.8

・合成例７
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの４つ口フラスコに、合成例６にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有トリアリル体（Ｆ）６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２１ｇとオルソギ酸トリメチル１０ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記の式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の混合物（Ｇ）５ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の混合物（Ｇ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]_2.2(OCH₃)_0.8

・合成例８
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）２．５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン３．０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を９．０ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを２ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｈ）２．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｈ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)_2.5(OCH₃)_0.5]₃

・合成例９
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例８にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｈ）２．２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、トリアセトキシメチルシラン７．０ｍｇ、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０４ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）２．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)_2.5(OCH₃)_0.5]₃

・合成例１０
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例９にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）２．２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．５ｇとオルソギ酸トリメチル１７ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）１．９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si{CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]_2.5(OCH₃)_0.5}₃

・合成例１１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OH（ただし、混合物中には(CF₂CF₂CF₂CF₂O)および／または(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位を微量含む化合物も微量含まれる）で表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体３０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、ＮａＯＨ０．８ｇを仕込み、６５℃で４時間撹拌した。続いて、アリルブロマイド２．４ｇを加えた後、６５℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、パーフルオロヘキサン２０ｇ加えて不溶物をろ過し、分液ロートで３Ｎ塩酸による洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、塩酸層（水相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｋ）２４ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｋ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH=CH₂

・合成例１２
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１１にて合成した末端にアリルオキシ基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ化合物（Ｋ）２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０６ｇ、トリクロロシラン１．８０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）２０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃

・合成例１３
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１２にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｌ）２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を３５．２ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｍ）１８ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｍ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

・合成例１４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１３にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｍ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン４．２ｇ仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｎ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

・合成例１５
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１４にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｎ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．０４ｇとオルソギ酸トリメチル４８ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
（なお、平均組成としては、(CF₂CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）

・表面処理剤の調製および表面処理層の形成（真空蒸着処理）
（実施例１）
上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。
上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。

（実施例２〜４）
化合物（Ｄ）に代えて、それぞれ、上記合成例７で得た化合物（Ｇ）、上記合成例１０で得た化合物（Ｊ）および上記合成例１５で得た化合物（Ｏ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例１〜５）
化合物（Ｄ）に代えて、下記対照化合物１〜５を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物１

（式中、ｍは１〜６の整数である。）
・対照化合物２
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃
・対照化合物３
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₇(CF₂O)₁₈CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃
・対照化合物４
(CH₃O)₃SiCH₂CH₂CH₂OCH₂CF₂O(CF₂CF₂O)₂₈(CF₂O)₂₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃
・対照化合物５
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CON[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₂

（試験例１）
・摩擦耐久性評価
上記の実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。

まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数 ゼロ回）。

その後、摩擦耐久性評価として、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数１，０００回毎に水の静的接触角（度）を測定した（接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。

実施例１〜４の結果を表１に、比較例１〜５の結果を表２に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

上記の表１および表２から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた実施例１〜４は、従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた比較例１〜５に比べて摩擦耐久性が著しく向上することが確認された。

（実施例５）
化学強化ガラス１枚あたりの表面処理剤の量を３ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．６ｍｇ含有）としたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例６）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｏ）を用いたこと以外は、実施例５と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（実施例７）
化学強化ガラス１枚あたりの表面処理剤の量を１．５ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．３ｍｇ含有）としたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例８）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｏ）を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例６）
化合物（Ｄ）に代えて、対象化合物１を用いたこと以外は、実施例５と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例７）
化合物（Ｄ）に代えて、対象化合物３を用いたこと以外は、実施例５と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例８）
化合物（Ｄ）に代えて、対象化合物１を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例９）
化合物（Ｄ）に代えて、対象化合物３を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（試験例２）
・摩擦耐久性評価
上記の実施例５〜８および比較例６〜９にて基材表面に形成された表面処理層について、上記試験例１と同様に、水の静的接触角を測定した。なお、実施例６は、２０，０００回往復した時点で、スチールウールが磨り減り、それ以上試験を続けることができなかった。

実施例５〜８の結果を表３に、比較例６〜９の結果を表４に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

表１〜表４から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤は、処理量を３ｍｇに増やした場合であっても（実施例５および６）、１．５ｍｇに減らした場合であっても（実施例７および８）、優れた摩擦耐久性を与えることが示された。一方、従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤は、処理量を３ｍｇに増やした場合には（比較例６および７）、２ｍｇの場合（比較例１および３）と同様の効果を発揮したが、上記本発明の表面処理剤と比較すると、摩擦耐久性は大きく劣っていた。また、処理量を１．５ｍｇに減らした場合（比較例８および９）には、摩擦耐久性が非常に低い値になり、特に比較例９は摩擦耐久性がほぼ無くなった。これらの結果から、本発明の表面処理剤は、従来の表面処理剤と比較して、少ない処理量でも優れた摩擦耐久性を発揮し得ることが確認された。

（実施例９）
化合物（Ｄ）および下記の平均分子量が約２５，０００のパーフルオロポリエーテル化合物（Ｐ）（Ｓｏｌｖａｙ社製、ＦＯＭＢＬＩＮ（品番）Ｍ６０）を、質量比２：１の割合で、濃度２０ｗｔ％（化合物（Ｄ）および化合物（Ｐ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した以外は、実施例１と同様にして（即ち、化学強化ガラス１枚あたりの表面処理剤の量は２ｍｇ）、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル化合物（Ｐ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₃₉(CF₂O)₁₂₂(CF₂CF₂CF₂O)₄(CF₂CF₂CF₂CF₂O)₄CF_３

（実施例１０）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｏ）を用いたこと以外は、実施例９と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（実施例１１）
化学強化ガラス１枚あたりの表面処理剤の量を３ｍｇにしたこと以外は、実施例９と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例１２）
化合物（Ｄ）と化合物（Ｐ）の割合を、質量比１：１として表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１１と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例１３）
化合物（Ｄ）と化合物（Ｐ）の割合を、質量比１：２として表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１１と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例１４）
化学強化ガラス１枚あたりの表面処理剤の量を３ｍｇにしたこと以外は、実施例１０と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例１５）
化合物（Ｏ）と化合物（Ｐ）の割合を、質量比１：１として表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１４と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例１６）
化合物（Ｏ）と化合物（Ｐ）の割合を、質量比１：２として表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１４と同様にして、表面処理層を形成した。

（試験例３）
・摩擦耐久性評価
上記の実施例９〜１６にて基材表面に形成された表面処理層について、上記試験例１と同様に、水の静的接触角を測定した。なお、実施例１０〜１２および１４〜１６は、２０，０００回往復した時点で、スチールウールが磨り減り、それ以上試験を続けることができなかった。

結果を表５に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

上記の表５から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と、含フッ素オイルである化合物（Ｐ）を混合することにより、摩擦耐久性が向上することが確認された。なお、実施例１３は、摩擦耐久性が９，０００回であり、化合物（Ｄ）単独よりも劣っているが、これは化合物（Ｄ）と化合物（Ｐ）の比が１：２であり、化合物（Ｄ）の量が実質的に１／３となって少なすぎた為と考えられる。また、化合物（Ｏ）と化合物（Ｐ）を混合した実施例１４〜１６の摩擦耐久性は、化合物（Ｏ）単独の実施例６と同じく２０，０００回以上であるが、試験を続けた場合には、化合物（Ｐ）の混合効果は現われると考えられる。

（試験例４）
・滑り性の評価
上記の実施例１〜１６および比較例１〜９にて基材表面に形成された表面処理層について、動摩擦係数を測定した。

表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製 ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。

結果を表６に示す。

上記の表６から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤は、優れた滑り性を示すことが確認された。特に、化合物（Ｏ）を用いた場合（実施例４、６および８）、ならびに、含フッ素オイルである化合物（Ｐ）と混合した場合（実施例９〜１６）には、より優れた滑り性を示すことが確認された。

・表面処理剤の調製および表面処理層の形成（スプレー処理）
（実施例１７）
上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を、濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤２を調製した。
次に、市販の２流体ノズルを搭載したスプレー塗布装置を用いて、上記で調製した表面処理剤２をヘッドスピード７０ｍｍ／ｓｅｃとして、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に均一にスプレー塗布した。スプレー塗布の直前に、大気圧プラズマ発生装置（エネルコン・インダストリーズ社製、Ｄｙｎｅ−Ａ−Ｍｉｔｅ ＩＴ）を用いて、化学強化ガラス表面をプラズマ処理した。表面処理剤の塗布量は、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤０．２ｍｌとした。その後、スプレー処理膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で４８時間静置した。これにより、スプレー処理膜が硬化して、表面処理層が形成された。

（実施例１８）
化合物（Ｄ）および下記の平均分子量が約４，０００のパーフルオロポリエーテル化合物（Ｑ）（Ｓｏｌｖａｙ社製、ＦＯＭＢＬＩＮ（品番）Ｍ０３）を、質量比２：１の割合で、濃度０．１ｗｔ％（化合物（Ｄ）および化合物（Ｑ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した以外は、実施例１７と同様にして、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル化合物（Ｑ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₉(CF₂CF₂CF₂O)₁(CF₂CF₂CF₂CF₂O)₁CF_３

（実施例１９）
化合物（Ｄ）および平均分子量が約４,０００のパーフルオロポリエーテル化合物（Ｑ）を、質量比１：１の割合で、濃度０．１ｗｔ％（化合物（Ｄ）および化合物（Ｑ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した以外は、実施例１７と同様にして、表面処理層を形成した。

（実施例２０）
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１５で得た化合物（Ｏ）を用いたこと以外は、実施例１７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例１０）
化合物（Ｄ）に代えて、上記対照化合物１を用いたこと以外は、実施例１７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例１１）
対照化合物１および平均分子量が約４,０００のパーフルオロポリエーテル化合物（Ｑ）を、質量比２：１の割合で、濃度０．１ｗｔ％（対照化合物１および化合物（Ｑ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した以外は、実施例１７と同様にして、表面処理層を形成した。

（比較例１２）
対照化合物１および平均分子量が約４,０００のパーフルオロポリエーテル化合物（Ｑ）を、質量比１：１の割合で、濃度０．１ｗｔ％（対照化合物１および化合物（Ｑ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した以外は、実施例１７と同様にして、表面処理層を形成した。

（比較例１３）
化合物（Ｄ）に代えて対照化合物３を用いたこと以外は、実施例１７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（試験例５）
・摩擦耐久性評価
上記の実施例１７〜２０および比較例１０〜１３にて基材表面に形成された表面処理層について、上記試験例１と同様に、水の静的接触角を測定した。

結果を表７に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

（試験例６）
・滑り性の評価
上記の実施例１７〜２０および比較例１０〜１３にて基材表面に形成された表面処理層について、上記試験例４と同様に、動摩擦係数を測定した。

結果を表８に示す。

表７から理解されるように、スプレー処理で表面処理層を形成した場合でも、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた実施例１７〜２０は、比較例１０〜１３に比べて摩擦耐久性が著しく向上することが確認された。さらに、表８から、スプレー処理で表面処理層を形成した場合でも、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理剤は、優れた滑り性を示すことが確認された。特に、含フッ素オイルである化合物（Ｑ）と混合した場合（実施例１８および１９）、ならびに化合物（Ｏ）を用いた場合（実施例２０）には、より優れた滑り性を示すことが確認された。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

・合成例４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．７８ｇとオルソギ酸トリメチル３６ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）１７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

・合成例７
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの４つ口フラスコに、合成例６にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシランの混合物（Ｆ）６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２１ｇとオルソギ酸トリメチル１０ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の混合物（Ｇ）５ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の混合物（Ｇ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]_2.2(OCH₃)_0.8

・合成例１０
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例９にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）２．２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．５ｇとオルソギ酸トリメチル１７ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）１．９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si{CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]_2.5(OCH₃)_0.5}₃

・合成例１１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OH（ただし、混合物中には(CF₂CF₂CF₂CF₂O)および／または(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位を微量含む化合物も微量含まれる）で表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体３０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、ＮａＯＨ０．８ｇを仕込み、６５℃で４時間撹拌した。続いて、アリルブロマイド２．４ｇを加えた後、６５℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、パーフルオロヘキサン２０ｇ加えて不溶物をろ過し、分液ロートで３Ｎ塩酸による洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、塩酸層（水相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリルオキシ基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ化合物（Ｋ）２４ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ化合物（Ｋ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH=CH₂

・合成例１４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１３にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｍ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン４．２ｇ仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｎ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｎ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

・合成例１５
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１４にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｎ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．０４ｇとオルソギ酸トリメチル４８ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
（なお、平均組成としては、(CF₂CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）

Claims (41)

1. 式（１ａ）または式（１ｂ）：
   

   

   （式中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表し、
   Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
   Ｘは、２価の有機基を表し、
   Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
   Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎを表し、
   Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：ただし、Ｚは、式（１ａ）または式（１ｂ）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを除く、
   Ｒ^１は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
   Ｒ^２は、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−２２アルキル基、またはＱ’を表し、
   Ｑ’は、Ｑと同意義であり、
   ｎは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３から選択される整数であって、ｎの総和は１以上であり、
   Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
   ｋは、それぞれ独立して、１〜３から選択される整数である。）
   で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
2. ｋが３である、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
3. Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉが１個または２個である、請求項１または２に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
4. Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉが１個である、請求項１〜３のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
5. Ａが、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基である、請求項１〜４のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
6. Ｒｆが下記式（ａ）または（ｂ）：
   （ａ）−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−
   （式中、ｂは１以上２００以下の整数である）；または
   （ｂ）−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
   （式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）
   である、
   請求項１〜５のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
7. Ｒｆにおいて：
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−であり、
   −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−であり、
   −（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−である、
   請求項１〜６のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
8. Ｘが、−（Ｒ^６）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^７−
   ［式中：
   Ｒ^６は、−（ＣＨ_２）_ｓ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
   Ｒ^７は、−（ＣＨ_２）_ｔ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
   Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−を表し、
   Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、−ＮＲ^５−、−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−および−（ＣＨ_２）_ｖ−からなる群から選択される基を表し、
   Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
   Ｒ^５は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
   ｍは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり、
   ｖは、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
   ｓは、１〜２０の整数であり、
   ｔは、１〜２０の整数であり、
   ｒは、１〜１０の整数であり、
   ｐは、０または１であり、
   ｑは、０または１である。］
   で表される基である、請求項１〜７のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
9. Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−Ｒ^６−Ｘ^３−Ｒ^７−、または−Ｘ^４−Ｒ^７−
   ［式中、Ｘ^３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５−、−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、
   −ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、または−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−を表し、
   Ｘ^４は、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−、−ＣＯＮＲ^５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^５）−、または−ＣＯＮＲ^５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−を表し、
   ｕは１〜２０の整数であり、
   Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、ｍおよびｖは、請求項８の記載と同意義である。］
   である、請求項１〜８のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
10. Ｒ^６が−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、Ｒ^７が−（ＣＨ_２）_ｔ−である［式中、ｓおよびｔは、請求項８の記載と同意義である。］、請求項８または９に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
11. Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−
    ［式中、Ｒ^３、ｓ、ｔおよびｍは、請求項８の記載と同意義であり、ｕは、請求項９の記載と同意義である。］
    である、請求項１〜１０のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
12. Ｘが：
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −（ＣＨ_２）_２−、
    −（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）₄−、
    −（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
    −Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
    −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
    −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
    

    

    からなる群から選択される、請求項１〜９のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
13. Ｙが、各出現において、それぞれ独立して、水酸基、−Ｏ（Ｒ^５）（式中、Ｒ^５はＣ_１−１２アルキル基を表す）、Ｃ_１−１２アルキル基、Ｃ_２−１２アルケニル基、Ｃ_２−１２アルキニル基およびフェニル基からなる群から選択される、請求項１〜１２のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
14. Ｙが、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または−Ｏ（Ｒ^５）（式中、Ｒ^５はＣ_１−１２アルキル基を表す）である、請求項１〜１３のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
15. Ｑ中、ｎが３である、請求項１〜１３のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
16. Ａが、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、
    Ｒｆが下記式（ａ）または（ｂ）：
    （ａ）−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−
    （式中、ｂは１以上２００以下の整数である）；または
    （ｂ）−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
    （式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）
    であり、
    Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−
    ［式中、 ｓは、１〜２０の整数であり、
    ｔは、１〜２０の整数であり、
    Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキル基を表し、
    ｍは１〜１００の整数であり、
    ｕは１〜２０の整数である］
    であり、
    ｎが３であり、
    ｋが３である、
    請求項１〜１５のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
17. Ａ−Ｒｆ−部の数平均分子量が、５００〜３０，０００である、請求項１〜１６のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
18. ２，０００〜３２，０００の数平均分子量を有する、請求項１〜１７のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
19. 請求項１に記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法であって、下記工程：
    工程（１）：式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）：
    

    

    （式中、ＡおよびＲｆは請求項１の記載と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
    で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’およびＭは、上記と同意義である。）
    で表される化合物を得る工程；
    工程（２）：上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
    式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
    で表される化合物、および、所望により
    式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｋ’は１〜３の整数である。）
    で表される化合物を得る工程；および
    工程（３）：式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは上記と同意義である）および、所望により
    式：Ｒ^１ _ｉＬ’（式中、Ｒ^１は請求項１の記載と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。）
    で表される化合物、および／または
    式：Ｒ^２’ _ｊＬ”（式中、Ｒ^２’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^２’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させる工程、
    を含む方法。
20. 請求項１に記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法であって、下記工程：
    工程（１）：式（１ａ−１）または式（１ｂ−１）：
    

    

    （式中、ＡおよびＲｆは請求項１の記載と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
    で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’およびＭは、上記と同意義である。）
    で表される化合物を得る工程；
    工程（２’）：上記式（１ａ−２）または式（１ｂ−２）で表される化合物を、
    式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｇは、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表す。）
    で表される化合物、および、所望により
    式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させて、式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｋ’は１〜３の整数である。）
    で表される化合物を得る工程；および
    工程（３）：式（１ａ−３）または式（１ｂ−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは上記と同意義である）および、所望により
    式：Ｒ^１ _ｉＬ’（式中、Ｒ^１は請求項１の記載と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^１と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。）
    で表される化合物、および／または
    式：Ｒ^２’ _ｊＬ”（式中、Ｒ^２’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^２’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させる工程、
    を含む方法。
21. 式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）：
    

    

    （式中、Ａは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基を表し、
    Ｒｆは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
    Ｘは、２価の有機基を表し、
    Ｙは、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
    Ｚ’は、結合または２価の有機基である。）
    で表される化合物。
22. 請求項２１に記載の式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）で表される化合物の製造方法であって：
    式（１ａ−２’）または式（１ｂ−２’）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、およびＸは、請求項２１の記載と同意義であり、Ｍは、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である。）
    で表される化合物を、
    式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は、請求項６の記載と同意義であり、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
    で表される化合物、および、所望により
    式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは、請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させる工程を含む方法。
23. 請求項２１に記載の式（１ａ−３’）または式（１ｂ−３’）で表される化合物の製造方法であって：
    式（１ａ−２’）または式（１ｂ−２’）：
    

    

    （式中、Ａ、Ｒｆ、およびＸは、請求項２１の記載と同意義であり、Ｍは、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である。）
    で表される化合物を、
    式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｇは、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表す。）
    で表される化合物、および、所望により
    式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは、請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
    で表される化合物と反応させる工程を含む方法。
24. 請求項１〜１８のいずれかに記載の式（１ａ）および／または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
25. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項２４に記載の表面処理剤。
26. 含フッ素オイルが、式（３）：
    Ｒ^２１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^２２
    ・・・（３）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２５に記載の表面処理剤。
27. 含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ａ）
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ｂ）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
    式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
    添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２５または２６に記載の表面処理剤。
28. 少なくとも式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む、請求項２７に記載の表面処理剤。
29. 式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物を、１：１〜１：３０の質量比で含む、請求項２７または２８に記載の表面処理剤。
30. 式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物を、１：１〜１：１０の質量比で含む、請求項２７〜２９のいずれかに記載の表面処理剤。
31. 請求項１〜４のいずれかに記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比が、４：１〜１：４である、請求項２８〜３０のいずれかに記載の表面処理剤。
32. 式（３ａ）で表される化合物が、２，０００〜８，０００の数平均分子量を有する、請求項２７〜３１のいずれかに記載の表面処理剤。
33. 式（３ｂ）で表される化合物が、２，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する、請求項２７〜３１のいずれかに記載の表面処理剤。
34. 式（３ｂ）で表される化合物が、８，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する、請求項２７〜３１のいずれかに記載の表面処理剤。
35. さらに溶媒を含む、請求項２４〜３４のいずれかに記載の表面処理剤。
36. 防汚性コーティング剤として使用される、請求項２４〜３５のいずれかに記載の表面処理剤。
37. 真空蒸着用である、請求項２４〜３６のいずれかに記載の表面処理剤。
38. 請求項２４〜３７のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
39. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜１８のいずれかに記載の化合物または請求項２４〜３７のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
40. 前記物品が光学部材である、請求項３９に記載の物品。
41. 前記物品がディスプレイである、請求項３９に記載の物品。