KR20230079209A - 표면 처리제 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기 식 (I): RF1-R4-(OR3)m-R5-SiR1 nR2 3-n[식 중, 각 기호는, 명세서에 기재된 바와 같음.]으로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 제공한다.
Description
본 개시는 표면 처리제 및 해당 표면 처리제로 형성된 층을 갖는 물품에 관한 것이다.
어느 종의 불소 함유 실란 화합물은, 기재의 표면 처리에 사용하면, 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 불소 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제로부터 얻어지는 층(이하, 「표면 처리층」이라고도 함)은 소위 기능성 박막으로서, 예를 들어 유리, 플라스틱, 섬유, 위생 용품, 건축 자재 등 여러 가지 다양한 기재에 실시되고 있다(특허문헌 1).
특허문헌 1에 기재된 불소 함유 실란 화합물은, 우수한 기능을 갖는 표면 처리층을 부여할 수 있지만, 더 높은 마찰 내구성 및 내약품성을 갖는 표면 처리층이 요구되고 있다.
본 개시는, 마찰 내구성, 내약품성이 보다 높은 표면 처리층을 형성할 수 있는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시는, 이하의 양태를 포함한다.
[1] 하기 식 (I):
RF1-R4-(OR3)m-R5-SiR1 nR2 3-n
(I)
[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Op-이고;
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는, 0 또는 1이고;
R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z-SiR11 qR12 3-q이고;
Z는, 2가의 유기기이고;
R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이고;
R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
q는, 1 내지 3의 정수이고;
R2는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
n은, 2 또는 3이고;
R3은, C1-6 알킬렌기이고;
m은, 2 내지 10의 정수이고;
R4는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기이고;
R5는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기임.]
로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[2] Rf1은, C1-16 퍼플루오로알킬기인, 상기 [1]에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[3] RF는, 식:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
[식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이며, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상임.]
로 표현되는 기인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[4] RFa는, 불소 원자인, 상기 [3]에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[5] RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):
-(OC3F6)d-(OC2F4)e-
(f1)
[식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는 0 또는 1임.],
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f2)
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임.],
-(R6-R7)g-
(f3)
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
g는, 2 내지 100의 정수임.],
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f4)
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f5)
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
로 표현되는 기인, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[6] R3은, C1-3 알킬렌기인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[7] m은, 2 내지 6의 정수인, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[8] Z는, C1-6 알킬렌기인, 상기 [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[9] q는 3인, 상기 [1] 내지 [8] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물.
[10] 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물을 함유하는, 표면 처리제.
[11] 불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 상기 [10]에 기재된 표면 처리제.
[12] 추가로 용매를 포함하는, 상기 [10] 또는 [11]에 기재된 표면 처리제.
[13] 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 상기 [10] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제.
[14] 진공 증착용인, 상기 [10] 내지 [13] 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제.
[15] 상기 [10] 내지 [14] 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제를 함유하는 펠릿.
[16] 기재와, 해당 기재의 표면에, 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 또는 상기 [10] 내지 [14] 중 어느 것에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.
[17] 광학 부재인, 상기 [16]에 기재된 물품.
본 개시에 의하면, 보다 양호한 마찰 내구성 및 내약품성을 갖는 표면 처리층을 갖는 물품을 제공할 수 있다.
이하, 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물에 대하여 설명한다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「1가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 1가의 기를 의미한다. 1가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 탄화수소기 또는 그의 유도체일 수 있다. 탄화수소기의 유도체란, 탄화수소기의 말단 또는 분자쇄 중에, 1개 또는 그 이상의 N, O, S, Si, 아미드, 술포닐, 실록산, 카르보닐, 카르보닐옥시 등을 갖고 있는 기를 의미한다. 또한, 단순히 「유기기」라고 나타내는 경우, 1가의 유기기를 의미한다. 또한, 「2 내지 10가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 2 내지 10가의 기를 의미한다. 이러한 2 내지 10가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 유기기로부터 추가로 1 내지 9개의 수소 원자를 탈리시킨 2 내지 10가의 기를 들 수 있다. 예를 들어, 2가의 유기기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 유기기로부터 추가로 1개의 수소 원자를 탈리시킨 2가의 기를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」란, 탄소 및 수소를 포함하는 기이며, 탄화수소로부터 1개의 수소 원자를 탈리시킨 기를 의미한다. 이러한 탄화수소기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-20 탄화수소기, 예를 들어 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 들 수 있다. 상기 「지방족 탄화수소기」는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상 중 어느 것이어도 되고, 포화 또는 불포화 중 어느 것이어도 된다. 또한, 탄화수소기는, 1개 또는 그 이상의 환 구조를 포함하고 있어도 된다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」의 치환기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 할로겐 원자, 1개 또는 그 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, C2-6 알키닐기, C3-10 시클로알킬기, C3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시크릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시크릴기, C6-10 아릴기 및 5 내지 10원의 헤테로아릴기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 기를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「가수 분해성기」란, 가수 분해 반응을 받을 수 있는 기를 의미하고, 즉, 가수 분해 반응에 의해, 화합물의 주골격으로부터 탈리할 수 있는 기를 의미한다. 가수 분해성기의 예로서는, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, -NCO, 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환된 C1-4 알킬기를 나타냄) 등을 들 수 있다.
본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 하기 식 (I):
RF1-R4-(OR3)m-R5-SiR1 nR2 3-n
(I)
[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Op-이고;
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는, 0 또는 1이고;
R1은, -Z-SiR11 qR12 3-q이고;
Z는, 2가의 유기기이고;
R11은, 수산기 또는 가수 분해성기이고;
R12는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
q는, 1 내지 3의 정수이고;
R2는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
n은, 2 또는 3이고;
R3은, C1-6 알킬렌기이고;
m은, 2 내지 10의 정수이고;
R4는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기이고;
R5는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기임.]
으로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물이다.
본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, RF1과 SiR1 nR2 3-n 사이에 -(OR3)m-을 가짐으로써, 더 높은 마찰 내구성 및 내약품성을 갖는 표면 처리층을 형성할 수 있다.
상기 식 (I)에 있어서, RF1은, Rf1-RF-Oq-이다.
상기 식에 있어서, Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이다.
상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기에 있어서의 「C1-16 알킬기」는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 알킬기, 특히 C1-3 알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 알킬기, 특히 C1-3 알킬기이다.
상기 Rf1은, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-16 알킬기이고, 보다 바람직하게는 CF2H-C1-15 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C1-16 퍼플루오로알킬기이다.
상기 C1-16 퍼플루오로알킬기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF3, -CF2CF3 또는 -CF2CF2CF3이다.
상기 식에 있어서, p는, 0 또는 1이다. 하나의 양태에 있어서, p는 0이다. 다른 양태에 있어서 p는 1이다.
상기 식 (I)에 있어서, RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이다.
RF는, 바람직하게는 식:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
[식 중:
RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상임. a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상임.]
로 표현되는 기이다.
상기 RFa는, 바람직하게는 수소 원자 또는 불소 원자이고, 보다 바람직하게는, 불소 원자이다. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상이다.
a, b, c, d, e 및 f는, 바람직하게는 각각 독립적으로, 0 내지 100의 정수일 수 있다.
a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하이며, 예를 들어 50 이하 또는 30 이하여도 된다.
이들 반복 단위는, 직쇄상이어도, 분지쇄상이어도 된다. 예를 들어, -(OC6F12)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC5F10)-은, -(OCF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC4F8)-은, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 -(OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC3F6)-(즉, 상기 식 중, RFa는 불소 원자임)은, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 -(OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 -(OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 직쇄상이다. 상기 반복 단위를 직쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 표면 미끄럼성, 마찰 내구성 등을 향상시킬 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 분지쇄상이다. 상기 반복 단위를 분지쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 운동 마찰 계수를 크게 할 수 있다.
하나의 양태에 있어서, RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1) 내지 (f5) 중 어느 것으로 표현되는 기이다.
-(OC3F6)d-(OC2F4)e-
(f1)
[식 중, d는, 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 또는 1임.] ;
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f2)
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, e 및 f는, 각각 독립적으로 1 이상 200 이하의 정수이고,
c, d, e 및 f의 합은 2 이상이고,
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임.] ;
-(R6-R7)g-
(f3)
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
g는, 2 내지 100의 정수임.] ;
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f4)
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(f5)
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
상기 식 (f1)에 있어서, d는, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 100, 더욱 바람직하게는 15 내지 50, 예를 들어 25 내지 35의 정수이다. 상기 식 (f1)에 있어서의 OC3F6은, 바람직하게는 (OCF2CF2CF2), (OCF(CF3)CF2) 또는 (OCF2CF(CF3))이고, 보다 바람직하게는, (OCF2CF2CF2)이다. 상기 식 (f1)에 있어서의 (OC2F4)는, 바람직하게는 (OCF2CF2) 또는 (OCF(CF3))이고, 보다 바람직하게는, (OCF2CF2)이다. 하나의 양태에 있어서, e는 0이다. 다른 양태에 있어서, e는 1이다.
상기 식 (f2)에 있어서, e 및 f는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 200의 정수이다. 또한, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. 하나의 양태에 있어서, 상기 식 (f2)는, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-로 표현되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 식 (f2)는 -(OC2F4)e-(OCF2)f-로 표현되는 기여도 된다.
상기 식 (f3)에 있어서, R6은, 바람직하게는 OC2F4이다. 상기 (f3)에 있어서, R7은, 바람직하게는 OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고, 보다 바람직하게는, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이다. OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 -OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC4F8-, -OC3F6OC2F4-, -OC3F6OC3F6-, -OC3F6OC4F8-, -OC4F8OC4F8-, -OC4F8OC3F6-, -OC4F8OC2F4-, -OC2F4OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC2F4OC4F8-, -OC2F4OC3F6OC2F4-, -OC2F4OC3F6OC3F6-, -OC2F4OC4F8OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC3F6-, -OC3F6OC3F6OC2F4- 및 -OC4F8OC2F4OC2F4- 등을 들 수 있다. 상기 식 (f3)에 있어서, g는, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 5 이상의 정수이다. 상기 g는, 바람직하게는 50 이하의 정수이다. 상기 식 (f3)에 있어서, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12는, 직쇄 또는 분지쇄 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 직쇄이다. 이 양태에 있어서, 상기 식 (f3)은, 바람직하게는 -(OC2F4-OC3F6)g- 또는 -(OC2F4-OC4F8)g-이다.
상기 식 (f4)에 있어서, e는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
상기 식 (f5)에 있어서, f는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1)로 표현되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f2)로 표현되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f3)으로 표현되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f4)로 표현되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f5)로 표현되는 기이다.
상기 RF에 있어서, f에 대한 e의 비(이하, 「e/f비」라고 함)는 0.1 내지 10이고, 바람직하게는 0.2 내지 5이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 2이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5이고, 보다 더 바람직하게는 0.2 내지 0.85이다. e/f비를 10 이하로 함으로써, 이 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 미끄럼성, 마찰 내구성 및 내케미컬성(예를 들어, 인공 땀에 대한 내구성)이 보다 향상된다. e/f비가 보다 작을수록, 표면 처리층의 미끄럼성 및 마찰 내구성은 보다 향상된다. 한편, e/f비를 0.1 이상으로 함으로써, 화합물의 안정성을 보다 높일 수 있다. e/f비가 보다 클수록, 화합물의 안정성은 보다 향상된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 0.2 내지 0.95이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.9이다.
하나의 양태에 있어서, 내열성의 관점에서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 1.0 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0이다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물에 있어서, RF1 부분의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,500 내지 30,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000이다. 본 명세서에 있어서, RF1 및 RF2의 수 평균 분자량은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.
다른 양태에 있어서, RF1 부분의 수 평균 분자량은, 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,000 내지 20,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 15,000, 보다 더 바람직하게는 2,000 내지 10,000, 예를 들어 3,000 내지 6,000일 수 있다.
다른 양태에 있어서, RF1 부분의 수 평균 분자량은, 4,000 내지 30,000, 바람직하게는 5,000 내지 10,000, 보다 바람직하게는 6,000 내지 10,000일 수 있다.
상기 식 (I)에 있어서, R1은, -Z-SiR11 qR12 3-q이다.
상기 식 중, Z는, 2가의 유기기이다.
상기 Z는, 바람직하게는 C1-6 알킬렌기, -(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z2는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는 -(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z4는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)이다. 이러한 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다.
바람직한 양태에 있어서, Z1은, C1-6 알킬렌기 또는 -(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-, 바람직하게는 -페닐렌-(CH2)z4-이다. Z1이 이러한 기인 경우, 광 내성, 특히 자외선 내성이 보다 높아질 수 있다.
다른 바람직한 양태에 있어서, 상기 Z는, C1-3 알킬렌기이다. 하나의 양태에 있어서, Z는, -CH2CH2CH2-일 수 있다. 다른 양태에 있어서, Z는, -CH2CH2-일 수 있다.
상기 식 중, R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이다.
R11은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가수 분해성기이다.
R11은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, -NCO 또는 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환된 C1-4 알킬기를 나타냄)이고, 보다 바람직하게는 -ORh(즉, 알콕시기)이다. Rh로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 등의 비치환 알킬기; 클로로메틸기 등의 치환 알킬기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 알킬기, 특히 비치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. 하나의 양태에 있어서, Rh는, 메틸기이고, 다른 양태에 있어서, Rh는, 에틸기이다.
상기 식 중, R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수 분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.
R12에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.
상기 식 중, q는, (SiR11 qR12 3-q) 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 3, 보다 바람직하게는 3이다.
상기 식 (I)에 있어서, R2는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수 분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.
R2에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.
상기 식 (I)에 있어서, n은, 2 또는 3이다. 하나의 양태에 있어서, n은 2이다. 다른 양태에 있어서, n은 3이다.
상기 식 (I)에 있어서, R3은, C1-6 알킬렌기이다.
R3에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄이다.
상기 R3은, 바람직하게는 C1-4 알킬렌기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬렌기, 특히 바람직하게는 -CH2CH2-이다. R3을 상기의 것으로 함으로써, 기재 밀착성 및 습윤성이 향상될 수 있다.
R3에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄이다.
상기 식 (I)에 있어서, m은, 2 내지 10의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 4의 정수이다. m을 상기의 범위로 함으로써, 기재 밀착성 및 습윤성이 향상될 수 있다.
상기 식 (I)에 있어서, R4는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기이다.
R4에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄이다.
상기 R4는, 바람직하게는 C1-6 알킬렌기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬렌기, 특히 바람직하게는 메틸렌기이다.
상기 식 (I)에 있어서, R5는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기이다.
R5에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄이다.
상기 R5는, 바람직하게는 C1-6 알킬렌기, 보다 바람직하게는 C1-3 알킬렌기, 특히 바람직하게는 메틸렌기이다.
상기 식 (I)로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×102 내지 1×105의 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2,000 내지 32,000, 보다 바람직하게는 2,500 내지 12,000의 평균 분자량을 갖는 것이, 마찰 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 「평균 분자량」은 수 평균 분자량을 말하고, 「평균 분자량」은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.
상기 식 (I)로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 자체 공지된 방법에 의해, 예를 들어 플루오로폴리에테르기 함유 알코올로 제조할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 표면 처리제에 대하여 설명한다.
본 개시의 표면 처리제는, 식 (I)로 표현되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 함유한다.
본 개시의 표면 처리제는, 발수성, 발유성, 방오성, 마찰 내구성, 내약품성을 기재에 대하여 부여할 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 적합하게 사용될 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 용매, 불소 함유 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 플루오로폴리에테르 화합물, 바람직하게는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물(이하, 통합하여 「불소 함유 오일」이라고 함), 실리콘 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 실리콘 화합물(이하, 「실리콘 오일」이라고 함), 알코올류, 촉매, 계면 활성제, 중합 금지제, 증감제 등을 포함할 수 있다.
상기 용매로서는, 예를 들어 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 미네랄 스피릿 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 나프탈렌, 솔벤트 나프타 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 아세트산카르비톨, 디에틸옥살레이트, 피루브산에틸, 에틸-2-히드록시부티레이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트산아밀, 락트산메틸, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-히드록시이소부티르산메틸, 2-히드록시이소부티르산에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헥사논, 시클로헥사논, 메틸아미노케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜모노알킬에테르 등의 글리콜에테르류; 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, sec-부탄올, 3-펜탄올, 옥틸알코올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, tert-아밀알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 디옥산 등의 환상 에테르류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 이소프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르 알코올류; 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트; 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄, 1,2-디클로로-1,1,2,2-테트라플루오로에탄, 디메틸술폭시드, 1,1-디클로로-1,2,2,3,3-펜타플루오로프로판(HCFC225), 제오로라H, HFE7100, HFE7200, HFE7300, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH 등의 불소 함유 용매 등을 들 수 있다. 혹은 이들의 2종 이상의 혼합 용매 등을 들 수 있다.
불소 함유 오일로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 이하의 일반식 (3)으로 표현되는 화합물(퍼플루오로(폴리)에테르 화합물)을 들 수 있다.
Rf5-(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-Rf6
(3)
식 중, Rf5는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16의 퍼플루오로알킬기)를 나타내고, Rf6은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16 퍼플루오로알킬기), 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, Rf5 및 Rf6은, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로, C1-3 퍼플루오로알킬기이다.
a', b', c' 및 d'은, 폴리머의 주골격을 구성하는 퍼플루오로(폴리)에테르의 4종의 반복 단위 수를 각각 나타내고, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이고, a', b', c' 및 d'의 합은 적어도 1, 바람직하게는 1 내지 300, 보다 바람직하게는 20 내지 300이다. 첨자 a', b', c' 또는 d'을 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다. 이들 반복 단위 중, -(OC4F8)-은, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 (OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)-이다. -(OC3F6)-은, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 (OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)-이다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 (OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2)-이다.
상기 일반식 (3)으로 표현되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물의 예로서, 이하의 일반식 (3a) 및 (3b) 중 어느 것으로 나타내어지는 화합물(1종 또는 2종 이상의 혼합물이어도 됨)을 들 수 있다.
Rf5-(OCF2CF2CF2)b"-Rf6
(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a"-(OCF2CF2CF2)b"-(OCF2CF2)c"-(OCF2))d"-Rf6
(3b)
이들 식 중, Rf5 및 Rf6은 상기한 바와 같고; 식 (3a)에 있어서, b"은 1 이상 100 이하의 정수이고; 식 (3b)에 있어서, a" 및 b"은, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, c" 및 d"은 각각 독립적으로 1 이상 300 이하의 정수이다. 첨자 a", b", c", d"을 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.
또한, 다른 관점에서, 불소 함유 오일은, 일반식 Rf3-F(식 중, Rf3은 C5-16 퍼플루오로알킬기임.)로 표현되는 화합물이어도 된다. 또한, 클로로트리플루오로에틸렌 올리고머여도 된다.
상기 불소 함유 오일은, 500 내지 10000의 평균 분자량을 갖고 있어도 된다. 불소 함유 오일의 분자량은, GPC를 사용하여 측정할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 대하여 예를 들어 0 내지 50질량%, 바람직하게는 0 내지 30질량%, 보다 바람직하게는 0 내지 5질량% 포함될 수 있다. 하나의 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제는, 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다. 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는 것은, 불소 함유 오일을 전혀 포함하지 않거나, 또는 극미량의 불소 함유 오일을 포함하고 있어도 되는 것을 의미한다.
하나의 양태에 있어서, 불소 함유 실란 화합물의 평균 분자량보다, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 크게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 특히 진공 증착법에 의해 표면 처리층을 형성하는 경우에 있어서, 보다 우수한 마찰 내구성과 표면 미끄럼성을 얻을 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 불소 함유 실란 화합물의 평균 분자량보다, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 작게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 이러한 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 투명성의 저하를 억제하면서, 높은 마찰 내구성 및 높은 표면 미끄럼성을 갖는 경화물을 형성할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성된 층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.
상기 실리콘 오일로서는, 예를 들어 실록산 결합이 2,000 이하인 직쇄상 또는 환상의 실리콘 오일을 사용할 수 있다. 직쇄상의 실리콘 오일은, 소위 스트레이트 실리콘 오일 및 변성 실리콘 오일이어도 된다. 스트레이트 실리콘 오일로서는, 디메틸 실리콘 오일, 메틸페닐 실리콘 오일, 메틸하이드로겐 실리콘 오일을 들 수 있다. 변성 실리콘 오일로서는, 스트레이트 실리콘 오일을, 알킬, 아르알킬, 폴리에테르, 고급 지방산 에스테르, 플루오로알킬, 아미노, 에폭시, 카르복실, 알코올 등에 의해 변성한 것을 들 수 있다. 환상의 실리콘 오일은, 예를 들어 환상 디메틸실록산 오일 등을 들 수 있다.
본 개시의 표면 처리제 중, 이러한 실리콘 오일은, 상기 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물의 합계 100질량부(2종 이상인 경우에는 이들의 합계, 이하도 마찬가지)에 대하여 예를 들어 0 내지 300질량부, 바람직하게는 50 내지 200질량부로 포함될 수 있다.
실리콘 오일은, 표면 처리층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.
상기 알코올류로서는, 예를 들어 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 6의 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, tert-부탄올, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH를 들 수 있다. 이들 알코올류를 표면 처리제에 첨가함으로써, 표면 처리제의 안정성을 향상시키고, 또한 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물과 용매의 상용성을 개선시킨다.
상기 알코올류는, 표면 처리제 중, 상기 금속 화합물에 대하여, 몰비로, 바람직하게는 0.1 내지 5배, 보다 바람직하게는 0.5 내지 3배, 더욱 바람직하게는 0.8 내지 1.2배의 양으로 포함된다. 알코올류의 함유 비율을 상기의 범위로 함으로써, 표면 처리층의 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.
상기 촉매로서는, 산(예를 들어 아세트산, 트리플루오로아세트산 등), 염기(예를 들어 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸아민 등), 전이 금속(예를 들어 Ti, Ni, Sn 등) 등을 들 수 있다.
촉매는, 본 개시의 불소 함유 실란 화합물의 가수 분해 및 탈수 축합을 촉진하고, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성되는 층의 형성을 촉진한다.
다른 성분으로서는, 상기 이외에, 예를 들어 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란 등도 들 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 다공질 물질, 예를 들어 다공질의 세라믹 재료, 금속 섬유, 예를 들어 스틸 울을 면상으로 굳힌 것에 함침시켜, 펠릿으로 할 수 있다. 당해 펠릿은, 예를 들어 진공 증착에 사용할 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 상기한 성분에 더하여, 불순물로서, 예를 들어 Pt, Rh, Ru, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 트리페닐포스핀, NaCl, KCl, 실란의 축합물 등을 미량 포함할 수 있다.
이하, 본 개시의 물품에 대하여 설명한다.
본 개시의 물품은, 기재와, 해당 기재 표면에 본 개시의 화합물 또는 표면 처리제로 형성된 층(표면 처리층)을 포함한다.
본 개시에 있어서 사용 가능한 기재는, 예를 들어 유리, 수지(천연 또는 합성 수지, 예를 들어 일반적인 플라스틱 재료여도 됨), 금속, 세라믹스, 반도체(실리콘, 게르마늄 등), 섬유(직물, 부직포 등), 모피, 피혁, 목재, 도자기, 석재 등, 건축 부재 등, 위생 용품, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다.
예를 들어, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면을 구성하는 재료는, 광학 부재용 재료, 예를 들어 유리 또는 투명 플라스틱 등이어도 된다. 또한, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면(최외층)에 어떠한 층(또는 막), 예를 들어 하드 코트층이나 반사 방지층 등이 형성되어 있어도 된다. 반사 방지층에는, 단층 반사 방지층 및 다층 반사 방지층의 어느 것을 사용해도 된다. 반사 방지층에 사용 가능한 무기물의 예로서는, SiO2, SiO, ZrO2, TiO2, TiO, Ti2O3, Ti2O5, Al2O3, Ta2O5, Ta3O5, Nb2O5, HfO2, Si3N4, CeO2, MgO, Y2O3, SnO2, MgF2, WO3 등을 들 수 있다. 이들 무기물은, 단독으로, 또는 이들의 2종 이상을 조합하여(예를 들어 혼합물로서) 사용해도 된다. 다층 반사 방지층으로 하는 경우, 그 최외층에는 SiO2 및/또는 SiO를 사용하는 것이 바람직하다. 제조해야 할 물품이, 터치 패널용의 광학 유리 부품인 경우, 투명 전극, 예를 들어 산화인듐주석(ITO)이나 산화인듐아연 등을 사용한 박막을, 기재(유리)의 표면의 일부에 갖고 있어도 된다. 또한, 기재는, 그 구체적 사양 등에 따라, 절연층, 점착층, 보호층, 장식 프레임층(I-CON), 안개화막층, 하드 코팅막층, 편광 필름, 상위차 필름 및 액정 표시 모듈 등을 갖고 있어도 된다.
상기 기재의 형상은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 판상, 필름, 기타의 형태여도 된다. 또한, 표면 처리층을 형성해야 할 기재의 표면 영역은, 기재 표면의 적어도 일부이면 되고, 제조해야 할 물품의 용도 및 구체적 사양 등에 따라 적절히 결정될 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 수산기를 원래 갖는 재료로 이루어지는 것이어도 된다. 이러한 재료로서는, 유리를 들 수 있고, 또한 표면에 자연 산화막 또는 열산화막이 형성되는 금속(특히 비금속), 세라믹스, 반도체 등을 들 수 있다. 혹은, 수지 등과 같이, 수산기를 갖고 있어도 충분하지 않은 경우나, 수산기를 원래 갖고 있지 않은 경우에는, 기재에 어떠한 전처리를 실시함으로써, 기재의 표면에 수산기를 도입하거나, 증가시키거나 할 수 있다. 이러한 전처리의 예로서는, 플라스마 처리(예를 들어 코로나 방전)나, 이온빔 조사를 들 수 있다. 플라스마 처리는, 기재 표면에 수산기를 도입 또는 증가시킬 수 있음과 함께, 기재 표면을 청정화하기(이물 등을 제거하기) 위해서도 적합하게 이용될 수 있다. 또한, 이러한 전처리의 다른 예로서는, 탄소-탄소 불포화 결합기를 갖는 계면 흡착제를 LB법(랭뮤어-블로젯법)이나 화학 흡착법 등에 의해, 기재 표면에 미리 단분자막의 형태로 형성하고, 그 후, 산소나 질소 등을 포함하는 분위기 하에서 불포화 결합을 개열하는 방법을 들 수 있다.
다른 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 다른 반응성기, 예를 들어 Si-H기를 1개 이상 갖는 실리콘 화합물이나, 알콕시실란을 포함하는 재료로 이루어지는 것이어도 된다.
바람직한 양태에 있어서, 상기 기재는 유리이다. 이러한 유리로서는, 사파이어 유리, 소다석회 유리, 알칼리 알루미노규산염 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리, 크리스탈 유리, 석영 유리가 바람직하고, 화학 강화한 소다석회 유리, 화학 강화한 알칼리 알루미노규산염 유리 및 화학 결합한 붕규산 유리가 특히 바람직하다.
본 개시의 물품은, 상기 기재의 표면에, 상기의 본 개시의 화합물 또는 표면 처리제의 층을 형성하고, 이 층을 필요에 따라 후처리하고, 이에 의해, 본 개시의 표면 처리제로 층을 형성함으로써 제조할 수 있다.
본 개시의 표면 처리제의 층 형성은, 상기 표면 처리제를 기재의 표면에 대하여 해당 표면을 피복하도록 적용함으로써 실시할 수 있다. 피복 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 습윤 피복법 및 건조 피복법을 사용할 수 있다.
습윤 피복법의 예로서는, 침지 코팅, 스핀 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅 및 유사한 방법을 들 수 있다.
건조 피복법의 예로서는, 증착(통상, 진공 증착), 스퍼터링, CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다. 증착법(통상, 진공 증착법)의 구체예로서는, 저항 가열, 전자 빔, 마이크로파 등을 사용한 고주파 가열, 이온빔 및 유사한 방법을 들 수 있다. CVD 방법의 구체예로서는, 플라스마-CVD, 광학 CVD, 열 CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다.
또한, 상압 플라스마법에 의한 피복도 가능하다.
습윤 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 용매로 희석되고 나서 기재 표면에 적용될 수 있다. 본 개시의 조성물의 안정성 및 용매의 휘발성의 관점에서, 다음 용매가 바람직하게 사용된다: 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, C6F13CH2CH3(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록상표) AC-6000), 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄(예를 들어, 닛폰 제온 가부시키가이샤제의 제오로라(등록상표) H); 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C3F7OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7000), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7100), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7200), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C2F5CF(OCH3)C3F7)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7300) 등의 알킬퍼플루오로알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 됨), 혹은 CF3CH2OCF2CHF2(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록상표) AE-3000)) 등. 이들 용매는, 단독으로, 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 히드로플루오로에테르가 바람직하고, 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3) 및/또는 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)가 특히 바람직하다.
건조 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 그대로 건조 피복법을 거치게 해도 되고, 또는, 상기한 용매로 희석하고 나서 건조 피복법을 거치게 해도 된다.
표면 처리제의 층 형성은, 층 중에서 본 개시의 표면 처리제가, 가수 분해 및 탈수 축합을 위한 촉매와 함께 존재하도록 실시하는 것이 바람직하다. 간편하게는, 습윤 피복법에 의한 경우, 본 개시의 표면 처리제를 용매로 희석한 후, 기재 표면에 적용하기 직전에, 본 개시의 표면 처리제의 희석액에 촉매를 첨가해도 된다. 건조 피복법에 의한 경우에는, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 그대로 증착(통상, 진공 증착) 처리하거나, 혹은 철이나 구리 등의 금속 다공체에, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 함침시킨 펠릿상 물질을 사용하여 증착(통상, 진공 증착) 처리를 해도 된다.
촉매에는, 임의의 적절한 산 또는 염기를 사용할 수 있다. 산 촉매로서는, 예를 들어 아세트산, 포름산, 트리플루오로아세트산 등을 사용할 수 있다. 또한, 염기 촉매로서는, 예를 들어 암모니아, 유기 아민류 등을 사용할 수 있다.
본 개시의 물품에 포함되는 표면 처리층은, 높은 마찰 내구성과 높은 내약품성의 양쪽을 갖는다. 또한, 상기 표면 처리층은, 높은 마찰 내구성 및 내약품성에 더하여, 사용하는 표면 처리제의 조성에 따라 다르기도 하지만, 발수성, 발유성, 방오성(예를 들어 지문 등의 오염의 부착을 방지함), 방수성(전자 부품 등에의 물의 침입을 방지함), 표면 미끄럼성(또는 윤활성, 예를 들어 지문 등의 오염의 닦아 내기성이나, 손가락에 대한 우수한 촉감) 등을 가질 수 있어, 기능성 박막으로서 적합하게 이용될 수 있다.
따라서, 본 개시는 또한, 상기 표면 처리층을 최외층에 갖는 광학 재료에 관한 것이기도 하다.
광학 재료로서는, 후기에 예시하는 디스플레이 등에 관한 광학 재료 외에, 다종 다양한 광학 재료를 바람직하게 들 수 있다: 예를 들어, 음극선관(CRT; 예를 들어, 퍼스컴 모니터), 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 박막 EL 도트 매트릭스 디스플레이, 배면 투사형 디스플레이, 형광 표시관(VFD), 전계 방출 디스플레이(FED; Field Emission Display) 등의 디스플레이 또는 이들 디스플레이의 보호판, 또는 이들의 표면에 반사 방지막 처리를 실시한 것.
본 개시의 물품은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학 부재일 수 있다. 광학 부재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 안경 등의 렌즈; PDP, LCD 등의 디스플레이의 전방면 보호판, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대 전화, 휴대 정보 단말기 등의 기기의 터치 패널 시트; 블루레이(Blu-ray(등록상표)) 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광 디스크의 디스크면; 광 파이버; 시계의 표시면 등.
또한, 본 개시의 물품은, 의료 기기 또는 의료 재료여도 된다.
또한, 본 개시에 의해 얻어지는 층을 갖는 물품은, 자동차 내외장 부재여도 된다. 외장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 윈도우, 라이트 커버, 사외품 카메라 커버. 내장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 인스트루먼트 패널 커버, 내비게이션 시스템 터치 패널, 가식 내장재.
상기 층의 두께는, 특별히 한정되지는 않는다. 광학 부재의 경우, 상기 층의 두께는, 1 내지 50nm, 1 내지 30nm, 바람직하게는 1 내지 15nm의 범위인 것이, 광학 성능, 표면 미끄럼성, 마찰 내구성 및 방오성의 점에서 바람직하다.
이상, 본 개시의 물품에 대하여 상세하게 설명하였다. 또한, 본 개시의 물품 및 물품의 제조 방법 등은, 상기에서 예시한 것에 한정되지는 않는다.
실시예
본 개시의 폴리에테르기 함유 화합물에 대하여 이하의 실시예를 통해 보다 구체적으로 설명하지만, 본 개시는 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서, 퍼플루오로폴리에테르를 구성하는 반복 단위의 존재 순서는 임의이며, 이하에 나타내어지는 화학식은 평균 조성을 나타낸다.
(합성예 1)
CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≒21, n≒35) 3.0g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 1.5g과 디에틸렌글리콜디메틸에테르 3.0g에 용해시켰다. 이것에 수산화나트륨 0.4g을 첨가하여, 80℃에서 2시간 교반하고, 브로모아세트산 0.3g을 격렬하게 교반하면서 첨가한 후, 또한 110℃에서 8시간 교반하였다. 반응의 종점은 19F-NMR에 의해 CF3(OCF2CF2)m-(OCF2)nCH2OH의 수산기 β 위치 -CF2-의 케미컬 시프트가 저자장으로 시프트한 것, 및 1H-NMR에 의해 브로모아세트산의 카르보닐기 α 위치의 메틸렌프로톤이 고자장으로 시프트한 것을 관찰함으로써 확인하였다. 반응액을 실온으로 냉각하여, 액상과 고상을 분리시켰다. 액상을 제거하고, 고상에 10g의 AK-225를 첨가하여, 교반하면서 10g의 1N-염산 수용액을 첨가하여 30분 교반하였다. 이어서, 10wt% 황산 수용액 1ml를 첨가하여, 20분간 교반 후, 정치하여, 하층을 분리하였다. 하층을 2회 수세 후, 황산마그네슘으로 건조시키고, 여과하고, 농축하였다. 얻어진 농축물을 퍼플루오로헥산에 용해하였다. 해당 용액을 아세톤으로 3회 세정함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (A)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (A):
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCH2O-CH2CO2H
(m≒21, n≒35)
(합성예 2)
수소화붕소나트륨 0.2g과, 트리플루오로붕소디에틸에테레이트 0.2g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 3.0g과 디에틸렌글리콜디메틸에테르 3.0g의 혼합 용매에 분산하고, 130℃로 가열하였다. 이 혼합물에 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g에 용해한 합성예 1에서 얻어진 폴리에테르기 함유 화합물 (A) 3.0g을 적하하였다. 반응 혼합액을 130℃에서 3시간 교반하였다. 반응의 종점은 19F-NMR에 의해 CF3O-(CF2CF2O)m-(CF2O)n-CF2CH2O-의 에테르기 β 위치 -CF2-의 케미컬 시프트가 고자장으로 시프트한 것을 관찰함으로써 확인하였다. 반응액을 실온으로 되돌리고, 아세톤 3.0g을 첨가하여 1시간 교반하고, 1N-염산 3ml를 첨가하였다. 분액한 하층을 수세하고, 황산마그네슘으로 건조시키고, 여과하고, 농축하였다. 얻어진 농축물은 퍼플루오로헥산에 용해하고, 아세톤으로 3회 세정함으로써 폴리에테르기 함유 화합물 (B)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (B):
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCF2CH2OCH2CH2OH
(m≒21, n≒35)
(합성예 3)
합성예 2에서 얻어진 폴리에테르기 함유 화합물 (B) 3.0g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 6g에 용해하고, 수산화나트륨 0.4g을 첨가하여, 80℃에서 1시간 교반하였다. 이 용액에 CH2=CH2CH2OCH2CH2OTf(Tf는 트리플루오로메탄술포닐기) 0.5g을 첨가하여, 80℃에서 1시간 반응하였다. 반응의 종점은 1H-NMR에 의해 화합물 (B)의 말단 수산기 α 위치 -CH2-의 케미컬 시프트가 저자장으로 시프트한 것을 관찰함으로써 확인하였다. 반응액을 실온으로 되돌리고, 1N-염산 3ml를 첨가하였다. 분액한 하층을 수세하여 황산마그네슘으로 건조시키고, 여과하고, 농축함으로써 폴리에테르기 함유 화합물 (C)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (C)
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCF2CH2OCH2CH2OCH2CH2OCH2CH=CH2
(m≒21, n≒35)
(합성예 4)
합성예 3에서 얻어진 폴리에테르기 함유 화합물 (C) 2.5g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5g에 용해하고, 트리아세톡시메틸실란 0.01g, 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산의 Pt 착체 2%를 포함하는 크실렌 용액 0.04ml를 첨가한 후, 트리클로로실란 0.4g을 투입하고, 10℃에서 30분간 교반하였다. 계속해서, 60℃로 가열하고, 4시간 교반하였다. 1H-NMR로 알릴 위치의 프로톤이 관측되지 않게 된 것을 확인한 후, 감압 하에서 휘발분을 증류 제거하였다. 이 반응액을 빙랭하여 알릴마그네슘브로마이드(0.7mol/L 디에틸에테르 용액) 3.0ml를 적하하고, 실온에서 철야 반응시켰다. 반응액에, 메탄올 1.0ml와 퍼플루오로헥산 5ml를 첨가하여 여과하고, 분액하여, 하층을 농축하였다. 얻어진 농축물을 퍼플루오로헥산에 용해하고, 아세톤으로 3회 세정함으로써 폴리에테르기 함유 화합물 (D)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (D):
(m≒21, n≒35)
(합성예 5)
합성예 4에서 얻어진 폴리에테르기 함유 화합물 (D) 2.5g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5ml에 용해하고, 트리아세톡시메틸실란 0.01g, 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산의 Pt 착체 2%를 포함하는 크실렌 용액 0.03ml를 첨가한 후, 트리클로로실란 0.5g을 투입하고, 10℃에서 30분간 교반하였다. 계속해서, 60℃로 가열하고, 4시간 교반하였다. 그 후, 감압 하에서 휘발분을 증류 제거한 후, 메탄올 0.1g 및 오르토포름산트리메틸 1.0g의 혼합 용액을 첨가한 후, 60℃로 가열하고 3시간 교반하였다. 그 후, 정제를 행함으로써, 말단에 트리메톡시실릴기를 갖는 하기의 폴리에테르기 함유 화합물 (E)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (E)
(m≒21, n≒35)
(합성예 6)
CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≒21, n≒35) 3.0g을 사용한 것 이외는 합성예 3과 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (F)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (F)
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCF2CH2OCH2CH2OCH2CH=CH2
(m≒21, n≒35)
(합성예 7)
폴리에테르기 함유 화합물 (F) 2.5g을 사용한 것 이외는 합성예 4와 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (G)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (G):
(m≒21, n≒35)
(합성예 8)
폴리에테르기 함유 화합물 (G) 2.5g을 사용한 것 이외는 합성예 5와 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (H)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (H)
(m≒21, n≒35)
(합성예 9)
메틸디클로로실란을 사용한 것 이외는 합성예 7 및 합성예 8과 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (I)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (I)
(합성예 10)
CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≒22, n≒21) 4.0g을, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 8g에 용해하고, 수산화나트륨 0.4g을 첨가하여 80℃에서 1시간 교반하였다. 이 용액에 CH2=CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OTf 1.0g을 첨가하여 80℃에서 1시간 반응하였다. 반응의 종점은 1H-NMR에 의해 화합물 (B)의 말단 수산기 α 위치 -CH2-의 케미컬 시프트가 저자장으로 시프트한 것에 의해 확인하였다. 반응액을 실온으로 되돌리고 1N-염산 3ml를 첨가하였다. 분액한 하층을 수세하여 황산마그네슘으로 건조, 여과, 농축함으로써 폴리에테르기 함유 화합물 (J)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (J)
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCF2CH2OCH2CH2OCH2CH2OCH2CH=CH2
(m≒22, n≒21)
(합성예 11)
폴리에테르기 함유 화합물 (J) 2.5g을 사용한 것 이외는 합성예 4 및 합성예 5와 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (K)를 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (K)
(m≒22, n≒21)
(합성예 12)
CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≒22, n≒21) 3.0g을 사용한 것 이외는 합성예 6, 합성예 7 및 합성예 8과 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (L)을 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (L)
(m≒22, n≒21)
(합성예 13)
메틸디클로로실란을 사용한 것 이외는 합성예 12와 마찬가지로 처리함으로써, 폴리에테르기 함유 화합물 (M)을 얻었다.
폴리에테르기 함유 화합물 (M)
(m≒22, n≒21)
(실시예 1)
상기 합성예 5에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (E)를 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (1)을 조제하였다.
(실시예 2)
상기 합성예 7에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (H)를 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (2)를 조제하였다.
(실시예 3)
상기 합성예 8에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (I)를 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (3)을 조제하였다.
(실시예 4)
상기 합성예 11에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (K)를 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (4)를 조제하였다.
(실시예 5)
상기 합성예 12에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (L)을 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (5)를 조제하였다.
(실시예 6)
상기 합성예 13에서 얻은 폴리에테르기 함유 화합물 (M)을 농도 0.1mass%가 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 표면 처리제 (6)을 조제하였다.
(비교예 1 및 2)
폴리에테르기 함유 화합물 (D) 대신에, 하기 대조 화합물 (1) 및 (2)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 행하고, 비교 표면 처리제 (1) 및 (2)를 각각 조제하였다.
대조 화합물 (1)
대조 화합물 (2)
(경화막의 형성)
표면 처리제 (1) 내지 (6), 및 비교 표면 처리제 (1) 내지 (2)를 각각 사용하여, 이하와 같이 경화막을 형성하였다.
표면 처리제 또는 비교 표면 처리제를, 스핀 코터를 사용하여, 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 유리, 두께 0.7mm) 상에 도포하였다. 스핀 코트의 조건은, 300회전/분으로 3초간, 2000회전/분으로 30초였다. 도포 후의 유리를, 대기하에, 항온조 내에서 150℃ 30분간 가열하여, 경화막을 형성하였다.
[경화막의 특성 평가]
얻어진 경화막의 특성을 이하와 같이 평가하였다.
<정적 접촉각>
정적 접촉각은 전자동 접촉각계 DropMaster700(교와 가이멘 가가쿠사제)을 사용하여 다음 방법으로 측정하였다.
(정적 접촉각의 측정 방법)
정적 접촉각은, 수평으로 둔 기판에 마이크로시린지로부터 물을 2μL 적하하고, 적하 1초 후의 정지 화상을 비디오 마이크로스코프로 촬영함으로써 구하였다.
(초기 평가)
먼저, 초기 평가로서, 경화막 형성 후, 그 표면에 아직 아무것도 접촉하지 않은 상태에서, 물의 정적 접촉각을 측정하였다.
(에탄올 닦기 후의 평가)
다음으로, 상기 경화막을, 에탄올을 충분히 스며들게 한 킴와이프(상품명. 쥬죠 킴벌리(주)제)를 사용하여 5왕복 닦은 후, 건조시켰다. 건조 후의 경화막의 물의 정적 접촉각을 측정하였다.
<지문 부착성 및 닦아 내기성>
(지문 부착성)
표면 처리제 또는 비교 표면 처리제를 사용하여 형성된 경화막에 손가락을 압박하여, 지문의 부착 용이성을 눈으로 보아 판정하였다. 평가는, 다음 기준에 기초하여 판단하였다.
A: 지문이 부착되기 어렵지만, 부착되어도 지문이 눈에 띄지 않았다.
B: 지문의 부착이 적지만, 그 지문을 충분히 확인할 수 있었다.
C: 미처리의 유리 기판과 동일 정도로 명확하게 지문이 부착되었다.
(지문 닦아 내기성)
상기의 지문 부착성 시험 후, 부착된 지문을 킴와이프(상품명. 쥬죠 킴벌리(주)제)로 5왕복 닦아 내고, 부착된 지문의 닦아 내기 쉬움을 눈으로 보아 판정하였다. 평가는 다음 기준에 기초하여 판단하였다.
A: 지문을 완전히 닦아 낼 수 있었다.
B: 지문의 닦아 내기 자국이 남았다.
C: 지문의 닦아 내기 자국이 넓어져, 제거하는 것이 곤란하였다.
상기의 일련의 평가 결과를 이하의 표 1에 정리하였다.
표면 처리제 (1) 내지 (6)을 사용하여 형성된 경화막의 접촉각은, 에탄올을 사용하여 닦은 경우에도 저하되지 않았다. 한편, 비교 표면 처리제 (1) 및 (2)를 사용하여 형성된 경화막의 접촉각은, 에탄올을 사용하여 닦음으로써 저하되었다. 이것은, 비교 표면 처리제 (1) 또는 (2)로 형성된 경화막에서는, 케미컬 내성(내용제성)이 나쁘기 때문이라고 생각된다.
<경화막의 내마모성 평가>
얻어진 경화막의 내마모성을 이하와 같이 평가하였다.
(내지우개 마모성 시험)
러빙 테스터(신토 가가쿠사제)를 사용하여, 하기 조건에서 2500회 문지를 때마다 내수 접촉각을 측정하고, 10000회 혹은 100° 미만이 될 때까지 시험을 계속하였다. 시험 환경 조건은 25℃, 습도 40% RH이다.
지우개: Raber Eraser(Minoan사제)
접지 면적: 6mmφ
이동 거리(편도): 30mm
이동 속도: 3,600mm/분
하중: 1kg/6mmφ
상기의 평가 결과를 이하의 표 2에 정리하였다.
상기의 결과로부터, 플루오로폴리에테르기와 가수 분해성기를 갖는 Si 원자 사이에 폴리에테르 구조를 갖는 본 발명의 화합물을 포함하는 표면 처리제는, 높은 마모 내구성을 나타내는 것이 확인되었다.
본 개시의 물품은, 여러 가지 다양한 용도, 예를 들어 터치 패널 등의 광학 부재로서 적합하게 이용될 수 있다.
Claims (17)
- 하기 식 (I):
RF1-R4-(OR3)m-R5-SiR1 nR2 3-n (I)
[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Op-이고;
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이고;
RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는, 0 또는 1이고;
R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z-SiR11 qR12 3-q이고;
Z는, 2가의 유기기이고;
R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이고;
R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
q는, 1 내지 3의 정수이고;
R2는, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
n은, 2 또는 3이고;
R3은, C1-6 알킬렌기이고;
m은, 2 내지 10의 정수이고;
R4는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기이고;
R5는, 단결합 또는 C1-6 알킬렌기임.]
로 표현되는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항에 있어서,
Rf1은, C1-16 퍼플루오로알킬기인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
RF는, 식:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
[식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이며, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상임.]
로 표현되는 기인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제3항에 있어서,
RFa는, 불소 원자인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):
-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)
[식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는 0 또는 1임.],
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임.],
-(R6-R7)g- (f3)
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
g는, 2 내지 100의 정수임.],
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임.]
로 표현되는 기인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
R3은, C1-3 알킬렌기인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
m은, 2 내지 6의 정수인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
Z는, C1-6 알킬렌기인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
q는 3인, 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물을 함유하는, 표면 처리제.
- 제10항에 있어서,
불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 표면 처리제. - 제10항 또는 제11항에 있어서,
추가로 용매를 포함하는, 표면 처리제. - 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 표면 처리제. - 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
진공 증착용인, 표면 처리제. - 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제를 함유하는 펠릿.
- 기재와, 해당 기재의 표면에, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 또는 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.
- 제16항에 있어서,
광학 부재인, 물품.
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