JP2022036343A - 含フッ素エーテル化合物および物品 - Google Patents

Abstract

【課題】汚れが目立ち難く、かつ、汚れの拭き取り性に優れた物品、および、含フッ素エーテル化合物の提供。【解決手段】本発明の物品は、基材と、上記基材の主表面に形成され、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層と、を有する。【選択図】なし

Description

本発明は、含フッ素エーテル化合物および物品に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、フルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（－Ｏ－）が存在するポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、一方の末端に加水分解性シリル基を有し、他方の末端に加水分解性シリル基またはフッ素原子を有していてもよいアルキル基を有する化合物が広く用いられている（特許文献１）。

国際公開第２０１４／０６９５９２号

上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、たとえば、スマートフォン等の指や掌で触れる面（たとえば、表示画面や表示画面とは反対側の面（裏面））を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
本発明者らは、基材の主表面に特許文献１に記載されているような含フッ素エーテル化合物を用いて形成された表面層を有する物品を評価したところ、皮脂等が付着した場合に、これに起因する汚れの拭き取り性は良好であるものの、これを拭き取る前の汚れが目立ってしまうことを見出した。

本発明は、上記問題に鑑みて、汚れが目立ち難く、かつ、汚れの拭き取り性に優れた物品、および、含フッ素エーテル化合物の提供を課題とする。

本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層を有する物品を用いれば、所望の効果が得られるのを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できるのを見出した。

［１］ 基材と、上記基材の主表面に形成され、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層と、を有することを特徴とする、物品。
［２］ 試料面と検出器の成す角度を７５度としたＸ線光電子分光法による上記主表面の分析において、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＣ濃度（Ｃ_ＰＦＰＥ）に対する、カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のＣ濃度（Ｃ_ＣＯＯ）の比（Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥ）が、０．０２５以上である、［１］に記載の物品。
［３］ Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法による上記主表面の分析において、上記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２ＨＯ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２ＨＯ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．０４０以上である、［１］に記載の物品。
［４］ Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法による上記主表面の分析において、上記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．００６以上である、［１］に記載の物品。
［５］ 上記親水性官能基が、カルボキシ基、水酸基および式－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_ｊで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の基である、［１］～［４］のいずれかに記載の物品。
ただし、式中、Ｒ_ｊは、水素原子、アミノ基または－ＯＲ_ｋで表される基である。Ｒ_ｋは、ヘテロ原子を含んでいてもよい、１価の炭化水素基または１価の芳香族炭化水素基である。
［６］ 式１で表されることを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
［Ｔ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－］_ｊＺ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ 式１
ただし、式中、Ｔは、親水性官能基である。Ａは、単結合または２価の連結基である。Ｘは、フルオロアルキレン基である。Ｚは、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｍ１は、２以上の整数である。ｎは、０～２の整数である。ｊは、１以上の整数である。ｇは、１以上の整数である。
［７］ 上記親水性官能基が、カルボキシ基、水酸基および式－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_ｊで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の基である、［６］に記載の含フッ素エーテル化合物。ただし、式中、Ｒ_ｊは、水素原子、アミノ基または－ＯＲ_ｋで表される基である。Ｒ_ｋは、ヘテロ原子を含んでいてもよい、１価の炭化水素基または１価の芳香族炭化水素基である。

本発明によれば、汚れが目立ち難く、かつ、汚れの拭き取り性に優れた物品、および、含フッ素エーテル化合物を提供できる。

図１は、実施例１５の表面層のＸＰＳスペクトル図である。

本明細書において、式１で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。式１Ａで表される繰り返し単位を単位１Ａと記す。他の式で表される繰り返し単位も同様に記す。式１－１Ａで表される基を基１－１Ａと記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」、「Ａ基を有していてもよいアルキレン基」とは、アルキレン基中の炭素－炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基－Ａ基－のように末端にＡ基を有していてもよいことを意味する。

本発明における用語の意味は以下の通りである。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲ^ｘは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１～９の整数が好ましく、１～４の整数が特に好ましい。

「シルフェニレン骨格基」とは、－Ｓｉ（Ｒ^ｙ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｙ）_２－（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｙは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｙとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、－Ｓｉ（Ｒ^ｚ）_２－（ただし、Ｒ^ｚはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。）で表される基である。
化合物の「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。

〔物品〕
本発明の物品（以下、「本物品」ともいう。）は、基材と、上記基材の主表面に形成され、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層と、を有する。
また、以下の説明において、基材のうち他の物品や人の手指を接触させて使用することがある、および／または、操作時に人の手指で持つことがある、主たる表面であって表面層が形成された表面を「主表面」という。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有し、親水性官能基を有さない表面層に皮脂等の汚れが付着した場合、汚れが拡がりにくいので、汚れがまとまり、ある大きさを有する塊のような汚れ部分を形成しやすい。このとき汚れ部分が離散的に点在する。このため当該汚れ部分に照射された光の散乱によって、汚れが白く目立つという問題がある。
この問題に対して、親水性官能基を有する表面層が形成された本物品によれば、表面層に汚れが付着した場合であっても、親水性官能基の作用によって皮脂等の汚れが表面層でまとまらずに表面層になじみ、拡がるので、汚れ部分が点在しにくく照射された光の散乱を抑制できると考えられる。その結果、表面層に付着した汚れが目立ちにくくなると推測される。
また、本物品における表面層は、親水性官能基とともにポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有するので、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖の作用によって、撥水撥油性や汚れ除去性にも優れると推測される。

（基材）
基材は、他の物品（たとえば、スタイラス）や人の手指を接触させて使用することがある基材、操作時に人の手指で持つことがある基材、および／または、他の物品（たとえば、載置台）の上に置くことがある基材であって、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
また、基材としては、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラスまたは樹脂フィルムも好ましい。

（表面層）
表面層は、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する層であり、基材の主表面に形成される。表面層は、主表面の全体に形成されていてもよく、主表面の一部に形成されていてもよい。また、表面層は、基材の主表面以外の面にも形成されていてもよい。
表面層は、基材主表面上に直接形成されてもよいし、基材の主表面に形成された他の層を介して基材上に形成されてもよい。上記他の層の具体例としては、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９～００９５に記載の化合物やＳｉＯ_２等で基材を下地処理して、基材の主表面に形成される下地層が挙げられる。

親水性官能基は、より汚れ難い物品が得られる点から、カルボキシ基、水酸基および式－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_ｊで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の基が好ましい。
式中、Ｒ_ｊは、水素原子、アミノ基または－ＯＲ_ｋで表される基である。アミノ基としては、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ_ｋおよび－Ｎ（Ｒ_ｋ）_２が挙げられる。
Ｒ_ｋは、ヘテロ原子を含んでいてもよい、炭化水素基または芳香族炭化水素基である。なお、－Ｎ（Ｒ_ｋ）_２における２つのＲ_ｋは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ_ｋにおける１価の炭化水素基としては、１価の飽和炭化水素基および１価の不飽和炭化水素基が挙げられ、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよい。Ｒ_ｋの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ_ｋにおける１価の芳香族炭化水素基は、炭素数５～２０が好ましく、たとえば、フェニル基が挙げられる。
また、Ｒ_ｋにおける１価の炭化水素基および１価の芳香族炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。この場合、ヘテロ原子はエーテル性酸素原子が好ましい。

なかでも、親水性官能基は、より汚れ難い物品が得られる点から、カルボキシ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ_ｋ）および水酸基が好ましく、カルボキシ基およびエステル基がより好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、式１Ａで表される単位を複数含む。
（ＯＸ） 式１Ａ

Ｘは、１個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基である。
フルオロアルキレン基の炭素数は、表面層の耐候性および耐食性がより優れる点から、２～６が好ましく、２～３が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
フルオロアルキレン基は、フッ素原子を１個以上有し、表面層の耐食性がより優れる点から、２～１０個が好ましく、２～４個が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキレン基）であってもよい。

単位１Ａの具体例としては、－ＯＣＨＦ－、－ＯＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－が挙げられる。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位１Ａの繰り返し数ｍ１は２以上であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がさらに好ましく、５～１００の整数が特に好ましく、１０～５０の整数が最も好ましい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位１Ａを含んでいてもよく、２種以上の単位１Ａを含んでいてもよい。２種以上の単位１Ａとしては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位１Ａ、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位１Ａ、炭素数が同じであってもフッ素原子の数が異なる２種以上の単位１Ａが挙げられる。
２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ）_ｍ１としては、（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４－ｍａ）}）_ｍ１１（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６－ｍｂ）}）_ｍ１２（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８－ｍｃ）}）_ｍ１３（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０－ｍｄ）}）_ｍ１４（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２－ｍｅ）}）_ｍ１５が好ましい。
ｍａは０～３の整数であり、ｍｂは０～５の整数であり、ｍｃは０～７の整数であり、ｍｄは０～９の整数であり、ｍｅは０～１１の整数である。
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４およびｍ１５は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５は２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、５～１００の整数がさらに好ましく、１０～５０の整数が特に好ましい。
なかでも、ｍ１１は２以上の整数が好ましく、２～２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６－ｍｂ）}、Ｃ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８－ｍｃ）}、Ｃ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０－ｍｄ）}およびＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２－ｍｅ）}は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。

なお、ｍ１１個の（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４－ｍａ）}）、ｍ１２個の（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６－ｍｂ）}）、ｍ１３個の（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８－ｍｃ）}）、ｍ１４個の（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０－ｍｄ）}）、ｍ１５個の（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２－ｍｅ）}）の結合順序は限定されない。
ｍ１１が２以上の場合、複数の（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４－ｍａ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ１２が２以上の場合、複数の（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６－ｍｂ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ１３が２以上の場合、複数の（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８－ｍｃ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ１４が２以上の場合、複数の（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０－ｍｄ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ１５が２以上の場合、複数の（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２－ｍｅ）}）は同一であっても異なっていてもよい。

試料面と検出器の成す角度を７５度としたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、主表面を分析し、得られたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＣ（炭素原子）濃度（Ｃ_ＰＦＰＥ）に対する、カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のＣ（炭素原子）濃度（Ｃ_ＣＯＯ）の比（Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥ）が、０．０２５以上であることが好ましく、０．０２５以上０．６００以下であることがより好ましく、０．０２５以上０．４５０以下であることがより一層好ましく、０．０２５以上０．３００以下であることがさらに好ましく、０．０２５以上０．２５０以下であることが特に好ましく、０．０２５以上０．１５０以下であることが最も好ましい。これにより、主表面にカルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基、すなわちカルボキシ基またはエステル基が適度に存在するといえるので、汚れの拭き取り性に優れつつ、より汚れが目立ち難い物品が得られる。以下、具体的なＸＰＳの分析手順を記す。
初めに、主表面の有機汚れを除去するために、エタノールを染み込ませたベンコット（商品名：旭化成社製）を用いて、主表面を拭く。その後、エタノールを染み込ませていないベンコットを用いて、主表面に残留したエタノールを拭き取る。次に、基材を適切な大きさに切り出し、ＸＰＳ装置へ搬送する。主表面と検出器の成す角度を７５度として、Ｆ１ｓとＣ１ｓのＸＰＳスペクトルを取得する。Ｆ１ｓのピークトップを６８９．０８ｅＶとして、Ｆ１ｓとＣ１ｓのＸＰＳスペクトルの横軸をキャリブレーションする。Ｃ１ｓのＸＰＳスペクトルをピークフィッティングし、２９１～２９５ｅＶ付近に現れるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＣの積分強度（Ｉ_ＰＦＰＥ）、２８９ｅＶ付近に現れるカルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のＣの積分強度（Ｉ_ＣＯＯ）、２８４～２８８ｅＶ付近に現れるその他のＣの積分強度（Ｉ_{ｏｔｈｅｒｓ}）を求め、Ｉ_ＰＦＰＥに対するＩ_ＣＯＯの比（Ｉ_ＣＯＯ／Ｉ_ＰＦＰＥ）を算出する。このＩ_ＣＯＯ／Ｉ_ＰＦＰＥは、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＣ濃度（Ｃ_ＰＦＰＥ）に対する、カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のＣ濃度（Ｃ_ＣＯＯ）の比（Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥ）に等しいため、Ｉ_ＣＯＯ／Ｉ_ＰＦＰＥがＣ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥとなる。

Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）により、主表面を分析し、得られたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２ＨＯ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２ＨＯ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．０４０以上が好ましく、０．０４０以上０．５００以下がより好ましく、０．０４０以上０．４００以下であることがさらに好ましく、０．０４０以上０．３５０以下であることが特に好ましく、０．０４０以上０．３００以下であることが最も好ましい。Ｃ_２ＨＯ^－のピークは親水性官能基由来と考えられる。これにより、主表面に親水性官能基（特に、カルボキシ基および上述の－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ_ｋ）が適度に存在するといえるので、汚れの拭き取り性に優れつつ、より汚れが目立ち難い物品が得られる。なお、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ分析前に、主表面の有機汚れを除去するために、エタノールを染み込ませたベンコットを用いて、主表面を拭く。その後、エタノールを染み込ませていないベンコットを用いて、主表面に残留したエタノールを拭き取る。次に、基材を適切な大きさに切り出し、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置へ搬送し、分析を行う。

Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）により、主表面を分析し、得られたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．００６以上であることが好ましく、０．００６以上０．０８０以下であることがより好ましく、０．００６以上０．０７０以下であることがさらに好ましく、０．００６以上０．０５５以下であることが特に好ましく、０．００６以上０．０４５以下であることが最も好ましい。Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－のピークは親水性官能基由来と考えられる。これにより、主表面に親水性官能基（特に、カルボキシ基および上述の－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ_ｋ）が適度に存在するといえるので、汚れの拭き取り性に優れつつ、より汚れが目立ち難い物品が得られる。なお、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ分析前に、主表面の有機汚れを除去するために、エタノールを染み込ませたベンコットを用いて、主表面を拭く。その後、エタノールを染み込ませていないベンコットを用いて、主表面に残留したエタノールを拭き取る。次に、基材を適切な大きさに切り出し、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置へ搬送し、分析を行う。

表面層の厚みは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚みは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。

（物品の製造方法）
本物品は、後述する式１で表される含フッ素エーテル化合物（以下、「化合物１」ともいう。）を用いて形成してもよいし、化合物１と液状媒体とを含む組成物を用いて形成してもよいし、化合物１と後述する式２で表される含フッ素エーテル化合物（以下、「化合物２」ともいう。）とを含む組成物を用いて形成してもよい。また、化合物２を用いて基材の主表面に形成された層に対して、酸化処理等の後処理を施して形成してもよい。
以下においては、本物品の製造方法の一例として、化合物１または化合物１と液状媒体とを含む組成物を用いて、基材の主表面に表面層を形成する方法を説明する。表面層は、化合物１または化合物１と液状媒体とを含む組成物を用いて、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも形成できる。

組成物に含まれる液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。

フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４～８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ－２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ－６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４～１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ－３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック－７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック－７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（ノベック－７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコールが挙げられる。

組成物中の化合物１の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１～５０．００質量％が好ましく、１．０～３０．００質量％が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０．００～９９．９９質量％が好ましく、７０．００～９９．００質量％が特に好ましい。

本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または組成物を用いたドライコーティング法によって基材の主表面を処理して、基材の主表面に表面層が形成された本物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を基材の主表面に塗布し、乾燥させて、基材の主表面に表面層が形成された本物品を得る方法。

ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、含フッ素エーテル化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に含フッ素エーテル化合物または組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。

ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

上記手順によって形成される表面層には、化合物１の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれている。

〔含フッ素エーテル化合物〕
本発明の含フッ素エーテル化合物は、式１で表される化合物（化合物１）である。化合物１は、本物品における表面層の形成に使用できる。
［Ｔ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－］_ｊＺ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ 式１

Ｔは、親水性官能基である。親水性官能基の好適態様は、上述した表面層の親水性官能基と同様である。
Ｔは、より汚れ難い物品が得られる点から、カルボキシ基、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ_ｋ）および水酸基が好ましく、カルボキシ基およびエステル基がより好ましい。

Ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５～２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。
また、２価の炭化水素基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。

Ａは、本発明の効果がより発揮される点から、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基が好ましく、フッ素原子を有するアルキレン基がより好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキレン基中の炭素数は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキレン基は、アルキレン基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキレン基）であってもよい。

フッ素原子を有していてもよいアルキレン基の具体例としては、－ＣＨ_２－、－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－Ｃ（ＣＦ_３）_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が挙げられる。

Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。後述するように、ｋは１～１０の整数である。よって、Ｑとしては、２～１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式１－１Ａ、式１－１Ｂ、式１－１Ａ－１～１－１Ａ－６からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基が挙げられる。

Ｘおよびｍ１の定義は、上述の通りである。

Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。

Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成できる。

Ｌの具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、含フッ素エーテル化合物の製造がより容易である点から、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、含フッ素エーテル化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、含フッ素エーテル化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎは、０～２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｚは、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｚは、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式１－１Ａ、式１－１Ｂ、式１－１Ａ－１～１－１Ａ－６からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基が挙げられる。

ｊは、１以上の整数であり、表面層の汚れの拭き取り性および汚れ難さのバランスにより優れる点から、１～５の整数が好ましく、化合物１を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｊが２以上の場合、複数あるＴ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
ｇは、１以上の整数であり、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、２～４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。
ｇが２以上の場合、複数ある－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎは、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

化合物１は、表面層の汚れの拭き取り性および汚れ難さのバランスにより優れる点から、式１１で表される化合物が好ましい。
Ｔ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－Ｚ^３１ 式１１
式１１中、Ｔ、Ａ、Ｘおよびｍ１の定義は、式１中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３１は、基１－１Ａまたは基１－１Ｂである。
－Ｑ^ａ－Ｘ^３１（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）_ｈ（－Ｒ^３１）_ｉ 式１－１Ａ
－Ｑ^ｃ－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^３３ 式１－１Ｂ

Ｑ^ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５～２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２～８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０が特に好ましい。
２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

Ｑ^ｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。

Ｒ^３１は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｘ^３１が単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘ^３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ^３１が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ^３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^ｃは、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｒ^３２は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。

Ｑ^ｄは、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ^ｄは、単結合または－ＣＨ_２－が好ましい。

Ｒ^３３は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。

基１－１Ａとしては、基１－１Ａ－１～１－１Ａ－６が好ましい。
－（Ｘ^３２）_ｓ１－Ｑ^ｂ１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ 式１－１Ａ－１
－（Ｘ^３３）_ｓ２－Ｑ^ａ２－Ｎ［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］_２ 式１－１Ａ－２
－Ｑ^ａ３－Ｇ（Ｒ^ｇ）［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２ 式１－１Ａ－３
－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３ 式１－１Ａ－４
－Ｑ^ａ５－Ｓｉ［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３ 式１－１Ａ－５
－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ－Ｑ^ａ６－Ｚ^ａ［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ 式１－１Ａ－６
なお、式１－１Ａ－１～１－１Ａ－６中、Ｒ、Ｌ、および、ｎの定義は、上述した通りである。

Ｘ^３２は、－Ｏ－、または、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０または１である。

Ｑ^ｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。

Ｑ^ｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ１としては、ｓ１が０の場合は、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｏ－の場合は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。Ｑ^ｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

基１－１Ａ－１の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍ１との結合位置を表す。

Ｘ^３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、または、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

Ｑ^ａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑ^ａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－または－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ａ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２－、－Ｃ（Ｏ）－が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。

ｓ２は、０または１（ただし、Ｑ^ａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。

Ｑ^ｂ２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑ^ｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

２個の［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基１－１Ａ－２の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍ１との結合位置を表す。

Ｑ^ａ３は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ^ｇは、水酸基またはアルキル基である。Ｒ^ｇで表されるアルキル基の炭素数は、１～４が好ましい。
Ｇ（Ｒ^ｇ）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ^ｇａ）（ただし、Ｒ^ｇａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。

Ｑ^ｂ３は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

２個の［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基１－１Ａ－３の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍ１との結合位置を表す。

式１－１Ａ－４中のＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０または１である。
Ｑ^ａ４は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
ｔ４は、０または１（ただし、Ｑ^ａ４が単結合の場合は０である。）である。
－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が好ましく（ただし、左側が（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

Ｑ^ｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－（Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間または（Ｏ）_ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^ｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

ｕ４は、０または１である。
－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

３個の［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基１－１Ａ－４の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍ１との結合位置を表す。

Ｑ^ａ５は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

Ｑ^ｂ５は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎに結合する。）。

３個の［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基１－１Ａ－５の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍ１との結合位置を表す。

式１－１Ａ－６中のＲ^ｄの定義は、上述の通りである。
ｖは、０または１である。

Ｑ^ａ６は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＺ^ａに結合する。）。

Ｚ^ａは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２～７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

Ｑ^ｂ６は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

ｗ個の［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

化合物１は、表面層の汚れの拭き取り性がより優れる点から、式１２で表される化合物が好ましい。
［Ｔ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－Ｑ^ａ－］_ｊ３２Ｚ^３２［－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｈ３２ 式１２
式１２中、Ｔ、Ａ、Ｘ、ｍ１、Ｑ^ａ、Ｑ^ｂ、Ｒ、およびＬの定義は、式１１中および式１－１Ａ中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３２は、（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基、または、炭化水素基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する炭素数２以上で（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基である。
Ｚ^３２としては、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましい。
Ｚ^３２としては、原料の入手容易性の点から、式Ｚ－１～式Ｚ－５で表される基が好ましい。ただし、Ｒ^３４は、アルキル基であり、メチル基またはエチル基が好ましい。

ｊ３２は２以上の整数であり、表面層の汚れの拭き取り性がより優れる点から、２～５の整数が好ましい
ｈ３２は１以上の整数であり、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、２～４の整数が好ましく、２または３がより好ましい。

〔組成物〕
上述したように、本物品は、上記化合物１と、式２で表される含フッ素エーテル化合物（化合物２）とを含む組成物を用いて形成してもよい。これにより、基材の主表面の一部の領域において、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層が形成された物品が得られやすい。
［Ａ^２－（ＯＸ^２）_ｍｓ－］_ｊｓＺ^２［－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎｓＬ^２ _３－ｎｓ］_ｇｓ 式２

Ａ^２は、ペルフルオロアルキル基または－Ｑ^２［－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎｓＬ^２ _３－ｎｓ］_ｋｓである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、膜の耐摩擦性がより優れる点から、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａ^２が－Ｑ^２［－Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎｓＬ^２ _３－ｎｓ］_ｋｓである場合、ｊｓは１である。

ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）－等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、膜の汚れの拭き取り性がより優れる点から、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－が好ましい。

Ｑ^２は、（ｋｓ＋１）価の連結基である。ｋｓは１～１０の整数である。よって、Ｑ^２としては、２～１１価の連結基が挙げられる。
Ｑ^２としては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、上述の式１－１Ａ、式１－１Ｂ、式１－１Ａ－１～１－１Ａ－６からＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎを除いた基が挙げられる。

Ｘ^２、ｍｓ、ｊｓ、Ｚ^２、Ｒ^２、ｎｓ、Ｌ^２およびｇｓの定義はそれぞれ、式１の上述のＸ、ｍ１、ｊ、Ｚ、Ｒ、ｎ、Ｌおよびｇと同義である。

化合物２の具体例としては、たとえば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１３／１２１９８５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１３／１２１９８６号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１４／１２６０６４号に記載の化合物、
国際公開第２０１４／１６３００４号に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
特開２０１４－０８０４７３号公報に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１４－２１８６３９号公報に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
国際公開第２０１５／０８７９０２号に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１５－１９９９０６号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン
特開２０１６－２０４６５６号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
特開２０１６－２１０８５４号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
国際公開第２０１７／０３８８３０号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１７／０３８８３２号に記載の含フッ素エーテル化合物、
国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１０４７３１に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１５９６９６に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１５９６９７に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１５９６９８に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１６７９７３に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－１６７９９９に記載の含フッ素エーテル化合物、
特願２０１７－２５１６１１に記載の含フッ素エーテル化合物。

化合物２の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。

化合物１と化合物２とを含む組成物において、化合物２に対する化合物１の含有割合は、特に限定されない。
化合物１と化合物２とを含む組成物には、上述した液状媒体が含まれていてもよい。
組成物が液状媒体を含む場合、組成物中の化合物１および化合物２の含有量の合計は、組成物の全質量に対して、０．０１～５０．００質量％が好ましく、１．０～３０．００質量％が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０．００～９９．９９質量％が好ましく、７０．００～９９．００質量％が特に好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例１１～１９のうち、例１１～１７が実施例、例１８および１９が比較例である。

〔評価方法〕

（撥水撥油性）
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、製品名「ＤＭ－５００」）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜初期接触角＞
表面層について、水およびｎ－ヘキサデカンの初期接触角を上記測定方法で測定した。評価基準は以下の通りである。
＜＜水の初期接触角＞＞
◎（優） ：１１０度以上
○（良） ：１００度以上１１０度未満
△（可） ：９０度以上１００度未満
×（不可）：９０度未満
＜＜ｎ－ヘキサデカンの初期接触角＞＞
◎（優） ：６６度以上
○（良） ：６３度以上６６度未満
△（可） ：６０度以上６３度未満
×（不可）：６０度未満

（汚れの目立ち難さ）
指に付着させた額の皮脂を表面層上に指で円弧を描くようにして付着させた後、汚れの目立ち度合いを目視にて評価した。評価基準は以下の通りである。
○：汚れが目立たない。
△：汚れが目立つが気にならない。
×：汚れが目立つ。

（皮脂汚れ拭き取り性）
汚れの目立ち難さの評価で使用したサンプルについて、ティッシュペーパーで皮脂汚れを拭き取った後、表面層の汚れ度合いを目視にて評価した。評価基準は以下の通りである。
○：汚れが完全に拭き取れた。
△：汚れが目立たないが、光を斜め方向から入射させた場合に、汚れが視認できる。
×：汚れが目立つ、又は、汚れが目立たないが汚れが明らかに付着したままである。

（耐摩擦性）
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（＃００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水の接触角を測定した。摩擦後における水の接触角の低下が小さいほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角度の変化が５度以下
○（良） ：１万回往復後の水接触角度の変化が５度超１０度以下
△（可） ：１万回往復後の水接触角度の変化が１０度超２０度以下
×（不可）：１万回往復後の水接触角度の変化が２０度超

（表面分析）
表面層について、以下の分析条件にしたがって表面分析を実施して、Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥ、Ｃ_２ＨＯ^－／Ｆ_２ ^－およびＣ_２Ｈ_３Ｏ^－／Ｆ_２ ^－を算出した。

＜ＸＰＳによるＣ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥの分析条件＞
装置：アルバックファイ社製ＰＨＩ５５００
Ｘ線：単色化されたＡｌＫα
検出角度（試料面と検出器の成す角度）；７５度
Ｆ１ｓのＸＰＳスペクトルの半値幅：１．８ｅＶ程度
解析ソフト：ＭｕｌｔｉＰａｋ Ｖｅｒｓｉｏｎ ９．３．０．３

＜ＴＯＦ－ＳＩＭＳによるＣ_２ＨＯ^－／Ｆ_２ ^－およびＣ_２Ｈ_３Ｏ^－／Ｆ_２ ^－の分析条件＞
装置：ＩＯＮ－ＴＯＦ社製ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５
一次イオンの種類：Ｂｉ_５ ^＋＋
一次イオンのバンチング：あり
一次イオンの加速電圧：２５ｋＶ
一次イオンの電流値：０．０５ｐＡ＠１０ｋＨｚ
サイクルタイム：１００μｓ
測定視野：３００×３００μｍ^２
解像度：２５６×２５６ｐｉｘｅｌｓ
スキャン数：３２ｓｃａｎｓ
解析ソフト：Ｓｕｒｆａｃｅ Ｌａｂ ６．７

〔例１：合成例〕
（例１－１）
後述の例５－２に記載の方法によって得られた化合物Ｘ１３の２１２ｇに、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの４．２ｇ、ＢｒＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨの６．１ｇ、３０％水酸化ナトリウム水溶液の６．７ｇ、ＡＣ－２０００（製品名、ＡＧＣ社製）の２００ｇを用いて、化合物ＸＸ１の１５４．１ｇ（収率７２％）を得た。

（例１－２）
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例１－８に参考にして、化合物１－１を得た。
具体的には、５００ｍＬのガラス製サンプル瓶に、化合物ＸＸ１の１００ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．５ｇ、ジメチルスルホキシドの０．２ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の５．７ｇを入れ、４０℃で８時間攪拌した。
反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物１－１の６１．７ｇ（収率６０％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であり、化合物ＸＸ１は残存していなかった。ヒドロシリル化の選択率は９１％であった。また、化合物１－１の生成後、末端ヒドロキシ基と逆側の末端シリル基が分子内および分子間の加水分解により一部縮合したような化合物も得られた。
繰り返し単位数ｎの平均値：１４、化合物１－１の数平均分子量：４，４００。

〔例２：合成例〕
（例２－１）
特開２０１４－２１８６３９号公報の合成例１２の方法を参考にして、化合物Ｘ２の３０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの３０ｇ、トリアセトキシメチルシランの０．０６ｇ、トリクロロシランの２．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．９ｇを用いて、化合物Ｘ３の１１．５ｇ（収率３７％）を得た。

（例２－２）
特開２０１４－２１８６３９号公報の合成例１３の方法を参考にして、化合物Ｘ３の１０ｇ、ＡＣ－２０００（上記文献における１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの代わり）の１０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。
続いて、アリルマグネシウムブロマイドを１ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を７．８ｍＬ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍＬ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。
続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をＡＣ－２０００で希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。
続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する化合物Ｘ４の６．８ｇ（収率６６％）を得た。

（例２－３）
５０ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物Ｘ４の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．１５ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の１．３ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０１ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の２．５ｇを入れ、４０℃で１０時間攪拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ４の３つアリル基がヒドロシリル化された化合物１－２の２．８ｇ（収率５４％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であったが、化合物１－２の生成後、末端ヒドロキシ基と逆側の末端シリル基が分子内および分子間の加水分解により一部縮合したような化合物も得られた。
繰り返し単位数ｍの平均値：２１、繰り返し単位数ｎの平均値：２０、化合物１－２の数平均分子量：４，６５０。

なお、上記式中、Ｍｅはメチル基を意味し、以下の示す式についても同様である。

〔例３：合成例〕
（例３－１）
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例１－６の方法を参考にして、５００ｍＬの２つ口ナスフラスコに、化合物Ｘ１の２０２．６ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の２００．５ｇ、ＣＦ_３ＳＯ_２Ｃｌ（和光純薬工業社製）の２１．１ｇおよびトリエチルアミンの１４０ｇを入れ、窒素雰囲気下、室温で４時間攪拌した。反応終了後、ＡＫ－２２５（製品名、ＡＧＣ社製）の１５０ｇを加え、水および飽和食塩水で各１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ５の１８１．９ｇ（収率８３％）を得た。

（例３－２）
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例１－７の方法を参考にして、５００ｍＬのナスフラスコ内に、化合物Ｘ５の１５０．６ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１５０．３ｇ、ＨＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（東京化成工業社製）の４１．８ｇ、およびトリエチルアミンの９．６ｇを入れ、窒素雰囲気下、９０℃で２４時間攪拌した。反応終了後、ＡＫ－２２５の１５０ｇを加え、水および飽和食塩水で各１回洗浄し、有機相を回収した後、シリカゲル２０．５ｇと混合し、フィルタろ過で有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ６の１１８．３６ｇ（収率８１％）を得た。

（例３－３）
化合物Ｘ６を用いて、米国特許第８８０９５８０号に記載の方法を参考にして、化合物Ｘ７を合成した。
具体的には、１０００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、９９．８ｇの化合物Ｘ６、１１．２ｇの２０％ＫＢｒ水溶液、２．０ｇのＴＥＭＰＯ、および１００ｇのアセトニトリルを加えて、混合物を得た。得られた混合物を攪拌し、３７４．４ｇの２５質量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液、および、２３．９ｇの炭酸水素ナトリウムの混合物をゆっくり添加し、４０℃に約４８時間加熱して、反応混合物を得た。得られた反応混合物を冷却した後、１００ｇの５％硫酸水溶液、３００ｇのＡＣ－２０００を加え、反応混合物を酸性化した。水および飽和食塩水で各３回洗浄し、有機相を回収した後、シリカゲル２０．０ｇと混合し、フィルタろ過で有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ７の９１．６ｇ（収率９１％）を得た。

（例３－４）
５０ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物Ｘ７の１０．１ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．３ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の３．８ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０５ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１０．０ｇを入れ、４０℃で８時間攪拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ７の２つアリル基がヒドロシリル化された化合物１－３の２．５ｇ（収率２２％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であったが、化合物１－３の生成後、末端カルボキシ基と逆側の末端シリル基が分子内および分子間の加水分解により一部縮合したような化合物も得られた。
繰り返し単位数ｍの平均値：９、繰り返し単位数ｎの平均値：８、化合物１－３の数平均分子量：１，９５０。

〔例４：合成例〕
（例４－１）
化合物Ｘ６を用いて、米国特許第８８０９５８０号に記載の方法を参考にして、化合物Ｘ８を合成した。
具体的には、１０００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに２５０．５ｇの化合物Ｘ６に、２０％ＫＢｒ水溶液９．３ｇ、ＴＥＭＰＯを２．０ｇ、および２５０ｇのアセトニトリルを加えて、混合物を得た。得られた混合物を攪拌し、１８６ｇの２５質量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液、および、２３．７ｇの炭酸水素ナトリウムの混合物をゆっくり添加し、４０℃で約４８時間加熱して、反応混合物を得た。得られた反応混合物を冷却した後、１０％硫酸水溶液を３００ｇ、ＡＣ－２０００を３００ｇ加え、反応混合物を酸性化した。水および飽和食塩水で各３回洗浄し、有機相を回収した後、シリカゲル２０．０ｇと混合し、フィルタろ過で有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ８の２３８．８ｇ（収率９５％）を得た。

（例４－２）
化合物Ｘ８を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１－４の方法を参考にして、化合物Ｘ９を得た。
具体的には、ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物Ｘ８の２００．８ｇおよびＡＣ－２０００の４０１．３ｇを入れた。氷浴で冷却しながら攪拌し、窒素雰囲気下、メタノールの１．９ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。４０℃に昇温し、窒素でバブリングしながら２４時間攪拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ９の１４５．１ｇ（収率７２％）を得た。

（例４－３）
化合物Ｘ９を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１１－２の方法を参考にして、化合物Ｘ１０を得た。
具体的には、３００ｍＬのナスフラスコに、化合物Ｘ９の１１０ｇおよびＨ_２Ｎ－ＣＨ_２－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の４．９ｇを入れ、２４時間攪拌した。得られた溶液をＡＥ－３０００の１００ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ－３０００）で精製し、化合物Ｘ１０の７７．３ｇ（収率７０％）を得た。

（例４－４）
５０ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物Ｘ１０の２０．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．５ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の２．９ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０４ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の２０．０ｇを入れ、４０℃で８時間攪拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ１０の３つアリル基がヒドロシリル化された化合物１－４の５．９ｇ（収率２７％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であったが、化合物１－４の生成後、末端カルボキシ基と逆側の末端シリル基が分子内および分子間の加水分解により一部縮合したような化合物も得られた。
繰り返し単位数ｍの平均値：２１、繰り返し単位数ｎの平均値：２０、化合物１－４の数平均分子量：４，５５０。

〔例５：合成例〕
（例５－１）
３００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに２０％ＮａＯＨ水溶液２１．６ｇ、エチレングリコールを１３４．４ｇ、及び６０ｇのＡＥ－３０００を加えた。４０℃にて混合物を攪拌しながら、３０．１ｇの化合物Ｘ１１をゆっくり添加し、約２時間加熱攪拌した。反応混合物を冷却した後、ＡＫ－２２５を１００ｇ、２Ｎ塩酸水溶液を４５ｇ加え、反応を停止させた。水および飽和食塩水で各３回洗浄し、有機相を回収した後、回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ１２の２８．７ｇ（収率７８％）を得た。

（例５－２）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６－１を参考にして、化合物Ｘ１３を合成した。
具体的には、還流冷却器を接続した２００ｍＬナスフラスコに化合物Ｘ１２の５．０ｇ、水酸化カリウムのペレットの３．２ｇを加え、１４０℃に加熱しながら、化合物Ｘ１１の５７．２ｇを滴下した。１４０℃を保ったまま更に１２時間攪拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ－２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの５９．１ｇを得た。
再び、ＡＫ－２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ－２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数ｎの平均値を１９Ｆ－ＮＭＲの積分値から求めた。式Ｘ１３中、ｎの平均値が１０～１５のフラクションを合わせた化合物Ｘ１３の２６．０ｇを得た。

（例５－３）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６－２を参考にして、化合物Ｘ１５を合成した。
具体的には、還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、化合物Ｘ１３の２５．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の７．０ｇ、ＡＫ－２２５の５０ｇを取り入れ、化合物Ｘ１４の３９．２ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２４時間攪拌した後、室温で終夜攪拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰の化合物Ｘ１４とＡＫ－２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ－２２５）で高極性の不純物を除去し、化合物Ｘ１５の２４．７ｇ（収率９２％）を得た。

（例５－４）
化合物Ｘ１５を用いて、国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６－３を参考にして、化合物Ｘ１６を合成した。

（例５－５）
ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物Ｘ１６の３０．０ｇおよびＡＥ－３０００の１００．１ｇを入れた。氷浴で冷却しながら攪拌し、窒素雰囲気下、２０％ＫＯＨ水溶液の２８．７ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。４０℃に昇温し、窒素でバブリングしながら２４時間攪拌した。反応混合物を冷却した後、２Ｎ塩酸水溶液５０ｇ加え、反応を停止させた。水および飽和食塩水で各３回洗浄し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、有機相を回収した後、回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ１７の２６．３ｇ（収率９９％）を得た。

（例５－６）
化合物Ｘ１７を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１－４の方法を参考にして、化合物Ｘ１８を得た。
具体的には、ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物Ｘ１７の２５．８ｇおよびＡＣ－２０００の３０．０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら攪拌し、窒素雰囲気下、メタノールの０．１８ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。４０℃に昇温し、窒素でバブリングしながら２４時間攪拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ１８の７．８ｇ（収率３０％）を得た。

（例５－７）
化合物Ｘ１８を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１１－２の方法を参考にして、化合物Ｘ１９を得た。
具体的には、１００ｍＬのナスフラスコに、化合物Ｘ１８の７．０ｇおよびＨ_２Ｎ－ＣＨ_２－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．２６ｇを入れ、７２時間攪拌した。得られた溶液をＡＥ－３０００の５０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ－３０００）で精製し、化合物Ｘ１９の４．２ｇ（収率５８％）を得た。

（例５－８）
化合物Ｘ１９を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１－８の方法を参考にして、化合物１－５を得た。
５０ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物Ｘ１９の４．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．１ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．５ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０１ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の４．１ｇを入れ、４０℃で８時間攪拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．１μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ１９の３つアリル基がヒドロシリル化された化合物（１－５の０．８ｇ（収率１９％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であったが、化合物１－５の生成後、末端カルボキシ基と逆側の末端シリル基が分子内および分子間の加水分解により一部縮合したような化合物も得られた。
繰り返し単位数ｎの平均値：１４、化合物１－５の数平均分子量：５，７２０。

〔例６：合成例〕
（例６－１）
ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物Ｘ１６の２５．０ｇおよびＡＣ－２０００の２５．０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら攪拌し、窒素雰囲気下、メタノールの１．５ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。４０℃に昇温し、窒素でバブリングしながら２４時間攪拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物Ｘ２０の２２．１ｇ（収率９９％）を得た。

（例６－２）
化合物Ｘ２０を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１１－２の方法を参考にして、化合物Ｘ２１を得た。
具体的には、１００ｍＬのナスフラスコに、化合物Ｘ２０の２０．２ｇおよびＨ_２Ｎ－ＣＨ_２－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．７ｇを入れ、４８時間攪拌した。得られた溶液をＡＣ－２０００の５０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で精製し、化合物Ｘ２１の１２．６ｇ（収率６１％）を得た。

（例６－３）
化合物Ｘ２１を用いて、国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１－８の方法を参考にして、化合物１－６を得た。
具体的には、５０ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物Ｘ２１の９．８ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．２５ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．９ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０１ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１０．０ｇを入れ、４０℃で８時間攪拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ２１の３つアリル基がヒドロシリル化された化合物１－６の９．６ｇ（収率９２％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であった。
繰り返し単位数ｎの平均値：１４、化合物１－６の数平均分子量：５，７３０。

〔例７：合成例〕
国際公開第２０１４／１２６０６４号に記載の化合物（ｉｉ－２）の製造方法を参考にして、化合物１－７を得た。
化合物１－７：ＣＦ_３ＣＦ_２－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
繰り返し単位数ｎの平均値：１１、化合物１－７の数平均分子量：４，２５０。

〔例８：合成例〕
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例３に記載の方法にしたがい、化合物１－８を得た。
化合物１－８：ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＨ_２－Ｎ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２
繰り返し単位ｎの平均値：１１、化合物１－８の数平均分子量：４，３５０

〔例１１〕
化合物１－１と、ハイドロフルオロエーテル（ノベックＨＦＥ７２００：製品名、スリーエム社製）とを混合して、化合物１－１の濃度が２０質量％である組成物を得た。
得られた組成物を用いて、以下の真空蒸着法にて基材の表面処理を行い、基材である化学強化ガラス（ドラゴントレイルガラス；製品名、ＡＧＣ社製）の主表面の全体に表面層が形成されてなる評価サンプル（物品）を得た。
具体的には、真空蒸着の処理条件を圧力３．０×１０^－３Ｐａとして、基材の主表面に二酸化ケイ素膜（膜厚７ｎｍ）を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、組成物２ｍｇ（すなわち、０．４ｍｇの化合物１－１）を蒸着させた。次に、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で、蒸着層が表面に形成された基材を２４時間静置した後、ＡＫ－２２５で洗浄して、基材の主表面の全体に表面層が形成された評価サンプル（物品）を得た。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。

〔例１２～１８〕
含フッ素エーテル化合物の種類を表１の通りに変更以外は、例１１と同様にして、評価サンプル（物品）を得た。２種類の含フッ素エーテル化合物を用いた例については、水の初期接触角が表１に示した結果になるように、２種類の含フッ素エーテル化合物を任意の割合で混合した。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。

表１の通り、基材の主表面に、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層を形成すれば、汚れが目立ち難く、かつ、汚れの拭き取り性に優れた物品が得られることを確認した（例１１～１６）。
これに対して、基材の主表面に、親水性官能基を有しない表面層を形成した場合、汚れの拭き取り性は優れるものの、汚れの目立ち難さが劣る物品が得られることを確認した（例１７および１８）。

ＸＰＳによる表面分析の具体例を図１に示す。図１は、例１５の表面層のＸＰＳスペクトル図である。
図１に示すように、２９１～２９５ｅＶ付近に現れる２つのピークが、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のピークであり、この２つのピークの合計積分強度がＩ_ＰＦＰＥとなる。また、２８９ｅＶ付近に現れるピークがカルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のピークであり、このピークの積分強度がＩ_ＣＯＯとなる。そして、２８４～２８８ｅＶ付近に現れる２つのピークがその他のＣ由来のピークであり、この２つのピークの合計積分強度がＩ_{ｏｔｈｅｒｓ}となる。
このようにして得られた値に基づいて、Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥを算出した。

なお、本発明者らは、ＸＰＳ解析に基づいて算出したＣ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥの値が、分子構造から形成が予想される膜表面のＣ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥの値よりも大きくなっていることを知見した。これは末端のカルボキシ基が最表面に凝集したために、Ｃ_ＣＯＯ強度が増大したためと考えられる。

本発明の物品は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材、キッチン用防汚部材；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿部材や防汚部材；トイレタリー用防汚部材；導通しながら撥液が必要な部材；熱交換機の撥水・防水・滑水用部材；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器（たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルム、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルム）、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水部材、熱交換機の撥水・防水・滑水用部材、太陽電池の撥水部材、プリント配線板の防水・撥水用部材、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水用部材、送電線の絶縁性向上用部材、各種フィルタの防水・撥水用部材、電波吸収材や吸音材の防水用部材、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚部材、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品、工具等の表面保護用部材等が挙げられる。

Claims (7)

1. 基材と、
   前記基材の主表面に形成され、親水性官能基と、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖とを有する表面層と、
   を有することを特徴とする、物品。
2. 試料面と検出器の成す角度を７５度としたＸ線光電子分光法による前記主表面の分析において、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＣ濃度（Ｃ_ＰＦＰＥ）に対する、カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基由来のＣ濃度（Ｃ_ＣＯＯ）の比（Ｃ_ＣＯＯ／Ｃ_ＰＦＰＥ）が、０．０２５以上である、請求項１に記載の物品。
3. Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法による前記主表面の分析において、前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２ＨＯ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２ＨＯ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．０４０以上である、請求項１に記載の物品。
4. Ｂｉ_５ ^＋＋を一次イオンに用いた飛行時間型二次イオン質量分析法による前記主表面の分析において、前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖由来のＦ_２ ^－の二次イオン強度に対する、Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－の二次イオン強度の比（Ｃ_２Ｈ_３Ｏ^－／Ｆ_２ ^－）が、０．００６以上である、請求項１に記載の物品。
5. 前記親水性官能基が、カルボキシ基、水酸基および式－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_ｊで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の物品。
   ただし、式中、Ｒ_ｊは、水素原子、アミノ基または－ＯＲ_ｋで表される基である。Ｒ_ｋは、ヘテロ原子を含んでいてもよい、１価の炭化水素基または１価の芳香族炭化水素基である。
6. 式１で表されることを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
   ［Ｔ－Ａ－（ＯＸ）_ｍ１－］_ｊＺ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ 式１
   ただし、式中、
   Ｔは、親水性官能基である。
   Ａは、単結合または２価の連結基である。
   Ｘは、フルオロアルキレン基である。
   Ｚは、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
   Ｒは、１価の炭化水素基である。
   Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
   ｍ１は、２以上の整数である。
   ｎは、０～２の整数である。
   ｊは、１以上の整数である。
   ｇは、１以上の整数である。
7. 前記親水性官能基が、カルボキシ基、水酸基および式－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_ｊで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の基である、請求項６に記載の含フッ素エーテル化合物。
   ただし、式中、Ｒ_ｊは、水素原子、アミノ基または－ＯＲ_ｋで表される基である。Ｒ_ｋは、ヘテロ原子を含んでいてもよい、１価の炭化水素基または１価の芳香族炭化水素基である。

Images