JP6635229B2 - 含フッ素エーテル化合物の製造方法、および物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。

上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されるのが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する化合物と、アルコキシシランと、を反応させて得られる、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、末端にケイ素原子に結合した加水分解性基を有する化合物が広く用いられている（特許文献１）。

国際公開第２０１４／１６３００４号

近年、含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤を用いて形成されてなる表面層に求められる物性はさらに向上している。
本発明者らが特許文献１に記載される含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤を用いて基材の表面に表面層を形成したところ、表面層の耐摩擦性が不充分である場合、または、凝集物に起因する粒状物が発生して、表面層の外観特性が劣る場合があるのを知見した。

本発明は、上記課題に鑑みて、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［１０］の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法を提供する。
［１］ ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物を製造する、含フッ素エーテル化合物の製造方法であって、
前記含フッ素エーテル化合物を得た後、前記含フッ素エーテル化合物と含水率が１．０質量％以下の吸着材とを接触させるか、または、
前記ヒドロシリル化触媒および含水率が１．０質量％以下の吸着材の存在下、前記反応を行うことを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。

［２］ 前記吸着材の含水率が０．１質量％以下である、［１］の製造方法。
［３］ 前記吸着材が、活性炭、モレキュラーシーブ、シリカゲルまたはセライトである、［１］または［２］の製造方法。
［４］ 前記ヒドロシリル化触媒が、第８族〜第１０族遷移金属触媒である、［１］〜［３］のいずれかの製造方法。

［５］ 前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物が、下記式（１）で表される化合物である、［１］〜［４］のいずれかの製造方法。
［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）
ただし、Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合ｊは１であり、
Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されず、
Ｚ^２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数である。

［６］ 前記ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物が、下記式（３）で表される化合物である、［１］〜［５］のいずれかの製造方法。
Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）
ただし、Ｒは１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｎは０〜２の整数であり、ｎが０または１である場合１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよく、ｎが２である場合１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。
［７］ 前記ｎが０または１であり、複数のＬがいずれも加水分解性基である、［６］の製造方法。

［８］ 前記吸着材の使用量が、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物の全質量に対して、１〜３０質量％である、［１］〜［７］のいずれかの製造方法。
［９］ 前記含フッ素エーテル化合物を得た後、前記含フッ素エーテル化合物と含水率が１．０質量％以下の吸着材とを液状媒体中で接触させる、［１］〜［８］のいずれかの製造方法。
［１０］ 前記［１］〜［９］のいずれかの製造方法により得られた含フッ素エーテル化合物を用いて、基材の表面に表面層を形成することを特徴とする物品の製造方法。

本発明によれば、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法を提供できる。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。式（１）で表される基を基１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」、「Ａ基を有していてもよいアルキレン基」とは、アルキレン基中の炭素原子−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよいことを意味する。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素原子−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１〜９の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。

「シルフェニレン骨格基」とは、−Ｓｉ（Ｒ^ｂ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｂ）_２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｂは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｂとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、−Ｓｉ（Ｒ^ｃ）_２−（ただし、Ｒ^ｃはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。）で表される基である。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解性基が結合したケイ素原子からなる基である。
「シラノール基」とは、ケイ素原子に結合した水酸基である。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。

本発明の製造方法（以下、「本製造方法」ともいう。）では、所定の含水率を示す吸着材を用いることを特徴としている。
従来技術の製造方法によって得られた含フッ素エーテル化合物を用いた場合に、所望の効果が得られない理由として、本発明者らは水が関連していることを知見している。より具体的には、特許文献１に記載の方法では含フッ素エーテル化合物を製造後に活性炭等の吸着材と接触させている。この吸着材中の含水率が高い場合、含フッ素エーテル化合物中のケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解反応が進行して、その後、縮合反応を経て凝集物が形成される。結果として形成される表面層に粒状物が観察されて外観特性が悪化すると共に、耐摩擦性も悪化する。本発明者らは、上記知見を基に、吸着材の含水率を制御することにより、上記課題を解決している。

本製造方法は、ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物（以下、「化合物Ａ」ともいう。）と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物（以下、「化合物Ｂ」ともいう。）とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびに加水分解性シリル基およびシラノール基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物（以下、「化合物Ｃ」ともいう。）を製造する、化合物Ｃの製造方法であって、上記化合物Ｃを得た後、化合物Ｃと含水率が１．０質量％以下の吸着材（以下、「特定吸着材」ともいう。）とを接触させるか、または、ヒドロシリル化触媒および特定吸着材の存在下、上記反応を行う、ことを特徴とする。
つまり、本製造方法の第１態様としては、ヒドロシリル化触媒の存在下、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて化合物Ｃを製造し、得られた化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる態様が挙げられる。
また、本製造方法の第２態様としては、ヒドロシリル化触媒および特定吸着材の存在下、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて化合物Ｃを製造する態様が挙げられる。
以下では、まず、本製造方法で使用される材料について詳述し、その後、各態様の手順について詳述する。

［化合物Ａ］
化合物Ａが有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、（Ｒ^ｆＯ）_ｍ（ただし、Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯからなるものであってもよい。）が好ましい。
（Ｒ^ｆＯ）_ｍの定義は、後段で詳述する。

化合物Ａはω−アルケニル基を複数有していてもよい。化合物Ａ中のω−アルケニル基の数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
ω−アルケニル基としては、アリル基、ビニル基、３−ブテニル基が挙げられる。

化合物Ａとしては、表面層の撥水撥油性がより優れる点で、化合物１が好ましい。
［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）

Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合、ｊは１である。

ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。

Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。ｋは１〜１０の整数である。よって、Ｑとしては、２〜１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（２−１）、式（２−２）、式（２−１−１）〜（２−１−６）から−ＣＨ＝ＣＨ_２を除いた基が挙げられる。

Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）である。オキシフルオロアルキレン基またはポリ（オキシフルオロアルキレン）基の炭素数は１〜１０が好ましい。

Ｚ^１としては、化合物を製造しやすい点から、単結合、−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−が好ましい（なお、上記式中、左側がＡ^１−Ｏに結合する。）。Ｚ^１としては、単結合、−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−が特に好ましい。

Ｒ^ｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜６が好ましい。
ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、表面層の撥水撥油性により優れる点から、直鎖状が好ましい。
なお、複数のＲ^ｆは、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯから構成されていてもよい。

ｍは、２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍが上記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がより優れる。ｍが上記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がより優れる。

（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されない。たとえば、２種のＲ^ｆＯが存在する場合、２種のＲ^ｆＯがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（Ｒ^ｆＯ）_ｍとしては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１６、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１７、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１８（ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１９（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が好ましく、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１８（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１９（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が特に好ましい。
ただし、ｍ１１およびｍ１２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数であり、ｍ１１個のＣＦ_２Ｏ、ｍ１２個のＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１３個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１４個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ１６およびｍ１７は、それぞれ２〜２００の整数であり、ｍ１５、ｍ１８およびｍ１９は、１〜９９の整数である。

Ｚ^２は、（ｊ＋ｑ）価の連結基である。
Ｚ^２は、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（２−１）、式（２−２）、式（２−１−１）〜（２−１−６）から−ＣＨ＝ＣＨ_２を除いた基が挙げられる。

ｊは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｑは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

化合物１としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、化合物１−１が好ましい。 Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−Ｚ^３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１、Ｚ^１、Ｒ^ｆおよびｍの定義は、式（１）中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３は、基２−１または基２−２である。
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^ａ−Ｘ（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｈ（−Ｒ^７）_ｉ （２−１）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^７１−［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−ＣＨ＝ＣＨ_２）］_ｙ−Ｒ^７２ （２−２）

Ｒ^ｆ７は、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｒ^ｆ７としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。

Ｑ^ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−Ｎ（Ｒ^ｄ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、アルキレン基−Ｏ−アルキレン基、アルキレン基−ＯＣ（Ｏ）−アルキレン基、アルキレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−フェニレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

Ｘは、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２〜８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘで表されるアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。 ２〜８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

Ｑ^ｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。

Ｒ^７は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｘが単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘが窒素原子の場合、ｈは１〜２の整数であり、ｉは０〜１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１〜３の整数であり、ｉは０〜２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘが２〜８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１〜７の整数であり、ｉは０〜６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１〜７を満たす。
（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^７が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｒ^７）は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^７１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｒ^７１は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。

Ｑ^７２は、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ^７２は、単結合または−ＣＨ_２−が好ましい。

Ｒ^７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｙは、１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−ＣＨ＝ＣＨ_２）］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１としては、基２−１−１〜２−１−６が好ましい。
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^１）_ｐ−Ｑ^１−ＣＨ＝ＣＨ_２ （２−１−１）
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^２）_ｒ１−Ｑ^２１−Ｎ［−（Ｑ^２２）_ｒ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_２ （２−１−２）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^３１−Ｇ（Ｒ^３）［−（Ｑ^３２）_ｃ−ＣＨ＝ＣＨ_２］_２ （２−１−３）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−Ｃ［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_３ （２−１−４）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^５１−Ｓｉ［−（Ｑ^５２）_ｅ−ＣＨ＝ＣＨ_２］_３ （２−１−５）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ１−Ｑ^６１−Ｚ^３［−（Ｑ^６２）_ｖ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｗ （２−１−６）
なお、式（２−１−１）〜（２−１−６）中のＲ^ｆ７の定義は、上述した通りである。

Ｘ^１は、−Ｏ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である（ただし、式中のＮはＱ^１に結合する）。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｐは、０または１である。

Ｑ^１は、単結合、または、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−を有することが好ましい。また、アルキレン基が、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｘ^１）_ｐと結合する側とは反対側の末端にこれらの基を有することが好ましい。

Ｑ^１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。

Ｑ^１としては、ｐが０の場合は、単結合、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２−が好ましい。（Ｘ^１）_ｐ１が−Ｏ−の場合は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい。（Ｘ^１）_ｐ１が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−の場合は、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^１に結合する）。Ｑ^１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

基２−１−１の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ^２１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^２１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^２１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。

ｒ１は、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
ｒ２は、０または１である。

Ｑ^２２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＮと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^２２で表される２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^２２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^２２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）。

２個の［−（Ｑ^２２）_ｒ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１−２の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
Ｑ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^３１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ^３は、水酸基またはアルキル基である。Ｒ^３で表されるアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましい。
ｃは、０または１である。
Ｇ（Ｒ^３）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ^３ａ）（ただし、Ｒ^３ａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。

Ｑ^３２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＧと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^３２で表される２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^３２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^３２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

２個の［−（Ｑ^３２）_ｃ−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１−３の具体例としては、以下の基が挙げられる。

式（２−１−４）中のＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓは、０または１である。
Ｑ^４１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^４１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^４１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
ｔは、０または１（ただし、Ｑ^４１が単結合の場合は０である。）である。
−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−としては、化合物を製造しやすい点から、ｓが０の場合は、単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましく（ただし、左側がＲ^ｆ７に結合する。）、ｓが１の場合は、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

Ｑ^４２は、アルキレン基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基であり、上記アルキレン基は−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−〔Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。〕、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−を有することが好ましい。また、アルキレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）_ｕ１と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。また、アルキレン基がシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）_ｕ１と結合する側とは反対側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^４２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。

ｕ１は、０または１である。
ｕ２は、０または１である。
−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−としては、化合物を製造しやすい点から、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）

３個の［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１−４の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｑ^５１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^５１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^５１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^５１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

ｅは、０または１である。

Ｑ^５２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＳｉと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^５２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^５２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^５２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）。

３個の［−（Ｑ^５２）_ｅ−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１−５の具体例としては、以下の基が挙げられる。

式（２−１−６）中のＲ^ｄの定義は、上述の通りである。
ｖ１は、０または１である。

Ｑ^６１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^６１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＺ^３に結合する。）。

Ｚ^３は、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２〜７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

ｖ２は、０または１である。

Ｑ^６２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＺ^３と結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^６２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^６２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−が好ましい。

ｗ個の［−（Ｑ^６２）_ｖ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

［化合物Ｂ］
化合物Ｂ中におけるケイ素原子に結合した水素原子の数は、１〜３が好ましく、１が特に好ましい。

化合物Ｂとしては、化合物３が好ましい。
Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）

Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。

Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、加水分解性シリル基から、加水分解反応によりシラノール基が形成される。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。

Ｌとしては加水分解性基が好ましく、加水分解性基としてはアルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物３の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物３の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが０または１である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。

化合物３としては、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ−ＳｉＣｌ_３、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３）_３、Ｈ−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３が好ましい。

［化合物Ｃ］
化合物Ｃは、化合物の保存安定性がより優れる点から、加水分解性シリル基を有することが好ましい。

化合物Ｃの数平均分子量は、５００〜２０，０００が好ましく、８００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。

化合物Ｃとしては、化合物４が好ましい。
［Ａ^２−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｑ （４）
式（４）中、Ａ^２は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｋである。
ただし、Ａ^２が−Ｑ［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｋである場合、ｊは１である。
他の各基の定義は、上述した通りである。

化合物４としては、化合物４−１が好ましい。
Ａ^２−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−Ｚ^４ （４−１）
式（４−１）中、Ａ^２、Ｚ^１、Ｒ^ｆ、および、ｍの定義は、上述した通りである。

Ｚ^４は、基５−１または基５−２である。
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^ａ−Ｘ（−Ｑ^ｂ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ）_ｈ（−Ｒ^７）_ｉ （５−１）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^７１−［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ）］_ｙ−Ｒ^７２ （５−２）
なお、式（５−１）および（５−２）中の各基の定義は、上述した通りである。

さらに、基５−１としては、基５−１−１〜５−１−６が好ましい。
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^１）_ｐ−Ｑ^１−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （５−１−１）
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^２）_ｒ１−Ｑ^２１−Ｎ［−（Ｑ^２２）_ｒ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_２ （５−１−２）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^３１−Ｇ（Ｒ^３）［−（Ｑ^３２）_ｃ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_２ （５−１−３） −Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−Ｃ［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_３ （５−１−４）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^５１−Ｓｉ［−（Ｑ^５２）_ｅ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_３ （５−１−５）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ１−Ｑ^６１−Ｚ^３［−（Ｑ^６２）_ｖ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｗ （５−１−６）
なお、式（５−１−１）および（５−１−６）中の各基の定義は、上述した通りである。

［ヒドロシリル化触媒］
ヒドロシリル化触媒は、遷移金属触媒が好ましく、第８族〜第１０族遷移金属触媒がより好ましく、白金（Ｐｔ）触媒、ルテニウム（Ｒｕ）触媒、ロジウム（Ｒｈ）触媒、鉄（Ｆｅ）触媒がさらに好ましく、ヒドロシリル化反応がより進行する観点から、白金触媒および鉄触媒が特に好ましい。なお、第８族〜第１０族とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による族番号である。
白金触媒の具体例としては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、ジビニルテトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンのＰｔ錯体、塩化白金酸、酸化白金が挙げられる。
鉄触媒の具体例としては、国際公開第２０１６／０２７８１９号公報に記載のヒドロシリル化鉄触媒が挙げられる。

［吸着材］
吸着材の含水率は１．０質量％以下であり、表面層の粒状物の発生がより抑制される点および耐摩擦性がより優れる点の少なくとも一方が得られる点（以下、「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、０．５質量％以下が好ましく、０．１質量％以下が特に好ましい。また、吸着材の含水率は、０．００１質量％以上の場合が多い。
吸着材の含水率は、吸着材全質量中における水の質量割合であり、乾燥減量法等によって測定できる。

なお、上記吸着材は、本製造方法の使用時に上記含水率の範囲を満たしていればよく、保管時等の使用前においては吸着材の含水率は上記範囲外（たとえば、２〜３質量％）であってもよい。
吸着材を使用する際には、たとえば、含水率が上記範囲超（１．０質量％超）の吸着材に対して脱水処理を施して、所定の含水率の吸着材とした後、本製造方法に適用してもよい。
上記脱水処理の方法としては、たとえば、吸着材に対して水含有量が少ないガス（たとえば、露点が０℃以下の窒素）を吹き付ける方法、吸着材を加熱する方法等が挙げられる。

吸着材の具体例としては、活性炭、モレキュラーシーブ、シリカゲル、セライトが挙げられ、なかでも、本発明の効果がより優れる点で、活性炭が好ましい。
活性炭は、主として炭素原子から構成される材料であり、たとえば、木質材、椰子殻、石炭等の天然材料を焼成して得られる活性炭でもよいし、合成有機高分子化合物等の人工材料を焼成して得られる活性炭でもよい。
活性炭の粒度は、５〜５０メッシュが好ましく、１０〜３０メッシュが特に好ましい。活性炭の粒度は、ＪＩＳ Ｋ１４７４：２０１４に記載の方法に準じて求められる。
活性炭は市販品であってもよく、たとえば、日本エンバイロケミカル社製の白鷺Ｇ２ｃ、白鷺ＧＭ２ｘ、白鷺ＧＨ２ｘ、白鷺ＷＨ２Ｃ、クラレ社製のクラレコールが挙げられる。

［その他の成分］
本製造方法においては、上述した成分以外の成分を用いてもよい。
たとえば、本製造方法においては、溶媒等の液状媒体を用いてもよい。つまり、液状媒体の存在下にて、化合物Ａと化合物Ｂとの反応を実施してもよい。液状媒体としては、化合物Ａ、化合物Ｂおよび化合物Ｃを溶解しうる溶媒が好ましい。
溶媒としては、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
有機溶媒の含水率は、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましい。

フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。

また、本製造方法においては、転位防止剤を用いてもよい。つまり、転位防止剤の存在下にて、化合物Ａと化合物Ｂとの反応を実施してもよい。転位防止剤としては、ＷＯ２０１４／０６９５９２号の段落０１１５に記載の化合物が挙げられる。

［第１態様］
本製造方法の第１態様は、ヒドロシリル化触媒の存在下、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて化合物Ｃを製造し、得られた化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる態様である。
まず、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させる際には、ヒドロシリル化触媒と化合物Ａと化合物Ｂとを混合して、必要に応じて、加熱処理を施して、反応を行う。
ヒドロシリル化触媒と化合物Ａと化合物Ｂとの混合方法は、一括して各成分を混合してもよいし、分割して各成分を混合してもよい。
なお、成分の混合順も特に限定されない。

ヒドロシリル化触媒の使用量としては、化合物Ａおよび化合物Ｂの合計量に対して、０．００００１〜０．１質量％が好ましく、０．００１〜０．０２質量％が特に好ましい。
化合物Ａと化合物Ｂの混合比としては、化合物の構造によって最適な比が選択されるが、化合物Ａ中のω−アルケニル基のモル数に対する、化合物Ｂ中のケイ素原子に結合した水素原子のモル数の比（水素原子／ω−アルケニル基）が１．０〜３．０であることが好ましい。

化合物Ａと化合物Ｂとを反応させる際の反応温度としては、０〜１００℃が好ましく、５０〜８０℃が特に好ましい。反応時間としては、３０〜６００分間が好ましく、６０〜３００分間が特に好ましい。

なお、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させた後、必要に応じて、得られた化合物Ｃ中の加水分解性基の種類を変更する反応を実施してもよい。たとえば、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて加水分解性基としてハロゲン原子を有する化合物Ｃを得た後、ハロゲン原子をアルコキシ基に変更する反応を実施してもよい。

次に、得られた化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる。
接触させる方法としては、化合物Ｃと特定吸着材とを混合する方法や、特定吸着材が充填されたフィルタに化合物Ｃを流通させる方法が挙げられる。
化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる際には、化合物Ｃと特定吸着材とを直接接触させてもよいし、化合物Ｃを溶媒に溶解させた溶液または分散媒に分散させた分散液を調製し、得られた溶液や分散液と特定吸着材とを接触させてもよい。好ましくは、化合物Ｃを溶媒に溶解させた溶液と特定吸着材とを接触させる。
使用される溶媒や分散媒は化合物Ｃを溶解または分散できる液状媒体であればよく、有機溶媒が好ましく、フッ素系有機溶媒が特に好ましい。フッ素系有機溶媒の具体例は上述した通りである。

化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる際に、特定吸着材の使用量は、化合物Ｃの全質量に対して、１〜３０質量％が好ましく、５〜２５質量％が特に好ましい。

接触時間としては、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜１８０分間が好ましく、１〜６０分間が特に好ましい。
接触時の温度としては、本発明の効果がより優れる点で、０〜４０℃が好ましく、１０〜３０℃が特に好ましい。

［第２態様］
本製造方法の第２態様は、ヒドロシリル化触媒および特定吸着材の存在下、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて化合物Ｃを製造する態様が挙げられる。
本態様の手順としては、ヒドロシリル化触媒、特定吸着材、化合物Ａおよび化合物Ｂを混合して、必要に応じて、加熱処理を施して、反応を行う。
ヒドロシリル化触媒と特定吸着材と化合物Ａと化合物Ｂとの混合方法としては、一括して各成分を混合してもよいし、分割して各成分を混合してもよい。
なお、成分の混合順も特に限定されない。
また、化合物Ａと化合物Ｂとの反応条件（使用量、反応温度、反応時間等）は、第１態様と同様である。

特定吸着材の使用量は、化合物Ａと化合物Ｂとの合計質量に対して、１〜３０質量％が好ましく、５〜２５質量％が特に好ましい。
接触時間としては、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜１８０分間が好ましく、１〜６０分間が特に好ましい。
接触時の温度としては、本発明の効果がより優れる点で、０〜４０℃が好ましく、１０〜３０℃が特に好ましい。

上記第１態様または第２態様の方法によって得られた化合物Ｃ（特定吸着材と接触後の化合物Ｃ）と、液状媒体とを混合して、組成物を製造してもよい。
液状媒体の具体例としては、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、前記フッ素系有機溶媒および前記非フッ素系有機溶媒が挙げられる。有機溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒の具体例は、上述した通りである。
また、上記第１態様または第２態様の方法において液状媒体を使用して得られた、化合物Ｃと液状媒体とを含む組成物を、上記組成物とすることもできる。さらに、得られた化合物Ｃと液状媒体とを含む組成物から化合物Ｃの濃度を調整して新たな組成物としてもよく、上記第１態様または第２態様の方法において使用された液状媒体を別の液状媒体に変換して新たな組成物としてもよい。

組成物中の化合物Ｃの含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１〜５０．００質量％が好ましく、１．００〜３０．００質量が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０．００〜９９．９９質量％が好ましく、７０．００〜９９．００質量％が特に好ましい。

本製造方法によって得られた化合物Ｃを用いて、基材の表面に表面層を形成できる。
より具体的には、上記化合物Ｃまたは組成物を用いることにより、基材の表面に、耐摩擦性に優れ、かつ、粒状物の発生が抑制された表面層を形成できる。つまり、基材と、基材の表面に配置された上記化合物Ｃまたは組成物から形成されてなる表面層と、を有する物品を製造できる。

基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、ＳｉＯ_２等で表面処理されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。

上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物Ｃまたは組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。

ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、化合物Ｃの分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に化合物Ｃまたは組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

上記手順によって形成される表面層には、化合物Ｃの加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の使用量は、質量基準を示す。例１〜７のうち、例１〜４、６〜７が実施例、例５が比較例である。

［評価方法］
（吸着材の含水率）
試料をオーブンにより加熱（１８０℃、２時間）し、加熱前後の質量を測定して算出した。
（外観特性）
評価サンプルの表面層を目視にて確認して、表面層における粒状物の有無に基づいて外観特性の評価を実施した。評価基準は次の通りである。
Ａ：表面層に１００μｍ程度の粒状物が無い。
Ｂ：表面層に１００μｍ程度の粒状物が有る。

（耐摩擦性）
耐摩擦性の試験前後の評価サンプルについて、水接触角を測定した。摩擦後の水接触角の低下が小さいほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
＜水接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ−５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜耐摩擦性の試験方法＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（＃００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた。

［合成例１］
ＷＯ２０１４／０６９５９２号の合成例１５に記載の方法に従って、化合物Ｃ−１を合成した。具体的には、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物（下記式（５）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリル体）と、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有する化合物であるトリクロロシランとを、ヒドロシリル化触媒である１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体存在下で反応させ、次いで得られた化合物の塩素原子をメトキシ基に置換させて下記式（６）で表される化合物Ｃ−１を得た。得られた化合物Ｃ−１を、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）（含水率：１０ｐｐｍ）に溶解させて、組成物１の１００ｇを調製した。

なお、上記化合物Ｃ−１においては、平均組成としては、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１７個および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。

［合成例２］
ＷＯ２０１７／０２２４３７号の合成例３に記載の方法に従って、化合物Ｃ−２を合成した。具体的には、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物（下記式（７）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体）と、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有する化合物であるトリクロロシランとを、ヒドロシリル化触媒である１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体存在下で反応させ、次いで得られた化合物の塩素原子をメトキシ基に置換させて下記式（８）で表される化合物Ｃ−２を得た。得られた化合物Ｃ−２を、濃度２０質量％になるように、ノベック−７２００（スリーエム社製）（含水率：１０ｐｐｍ）に溶解させて、組成物２の１００ｇを調製した。

［例１］
活性炭（クラレ社製、クラレコールＧＬＣ、標準粒度：１０〜３０メッシュ）の５ｇをろ過器に充填し、露点−２０℃の窒素を１分間流通させた。窒素流通後の活性炭の含水率は０．９質量％であった。
次に、得られた活性炭を、組成物１の１００ｇに添加して、２５℃にて５分間撹拌した後、活性炭をろ別し、組成物１１を得た。
得られた組成物１１を用いて、以下のドライコーティング法により基材（化学強化ガラス）の表面に表面層を形成した。まず、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ−３５０Ｍ）内のモリブデン製ボードに組成物１１の０．５ｇを充填し、真空蒸着装置内を１×１０^−３Ｐａ以下に排気した。組成物１１を配置したボードを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始した。膜厚が５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了した。得られた基材を２００℃で３０分間加熱処理して、アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名、旭硝子社）にて洗浄することによって、基材の表面に表面層が配置された物品を得た。物品の外観特性および耐摩擦性の評価を行い、結果を表１に示す。

［例２〜５］
窒素の流通時間、組成物の種類を変更した以外は例１と同様の手順に従って、表面層を形成した。物品の外観特性および耐摩擦性の評価を行い、結果を表１に示す。
［例６］
活性炭のかわりに、モレキュラーシーブ４Ａ（純正化学社製）を用いた以外は、例１と同様の手順に従って、表面層を形成した。物品の外観特性および耐摩擦性の評価を行い、結果を表１に示す。
［例７］
活性炭のかわりに、シリカゲル（ＡＧＣ Ｓｉｔｅｃｈ社製 Ｍ．Ｓ．ＧＥＬ（型番：Ｄ−７５−６０Ａ（Ｎ）平均粒径７５ミクロン、平均細孔径６０オングストローム）を用いた以外は、例１と同様の手順に従って、表面層を形成した。物品の外観特性および耐摩擦性の評価を行い、結果を表１に示す。

上記表１のように、含水率が１．０質量％以下の吸着材を用いた例１〜４、６〜７の場合、粒状物が発生せず外観が優れると共に初期の撥水性および耐摩擦性に優れた表面層が得られた。
また、例１〜３の比較より、吸着材の含水率が０．１質量％以下の場合、より効果が優れることが確認された。
一方、含水率が１．０質量％超の吸着材を用いた例５の場合、粒状物が発生して外観が不充分であり、また、耐摩擦性が不充分な表面層が得られた。

ＷＯ２０１７／０２２４３７号の合成例３に記載の方法に従って化合物Ｃ−２を合成する際に、例４で使用した含水率０．９質量％の活性炭をさらに使用して、上記活性炭およびヒドロシリル化触媒の存在下にて、ＷＯ２０１７／０２２４３７号の合成例３で使用される前記式（７）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体とトリクロロシランとを反応させて、化合物Ｃ−２を得た。得られた化合物Ｃ−２を用いて、例４と同様の手順に従って表面層を形成したところ、例４と同様の結果（外観特性および耐摩擦性）が得られた。

本製造方法で得られた含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０８月１８日に出願された日本特許出願２０１７−１５７９０２号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (10)

1. ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物を製造する、含フッ素エーテル化合物の製造方法であって、
   前記含フッ素エーテル化合物を得た後、前記含フッ素エーテル化合物と含水率が１．０質量％以下の吸着材とを接触させるか、または、
   前記ヒドロシリル化触媒および含水率が１．０質量％以下の吸着材の存在下、前記反応を行うことを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
2. 前記吸着材の含水率が０．１質量％以下である、請求項１に記載の製造方法。
3. 前記吸着材が、活性炭、モレキュラーシーブ、シリカゲルまたはセライトである、請求項１または２に記載の製造方法。
4. 前記ヒドロシリル化触媒が、第８族〜第１０族遷移金属触媒である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
5. 前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
   ［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）
   ただし、Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合ｊは１であり、
   Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
   Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
   Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されず、
   Ｚ^２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数である。
6. 前記ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物が、下記式（３）で表される化合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
   Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）
   ただし、Ｒは１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｎは０〜２の整数であり、ｎが０または１である場合１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよく、ｎが２である場合１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。
7. 前記ｎが０または１であり、複数のＬがいずれも加水分解性基である、請求項６に記載の製造方法。
8. 前記吸着材の使用量が、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物の全質量に対して、１〜３０質量％である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
9. 前記含フッ素エーテル化合物を得た後、前記含フッ素エーテル化合物と含水率が１．０質量％以下の吸着材とを液状媒体中で接触させる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法により得られた含フッ素エーテル化合物を用いて、基材の表面に表面層を形成することを特徴とする物品の製造方法。