JP2015168785A - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有する層を形成することのできる新規な表面処理剤を提供する。
【解決手段】（１）特定の構造式で表される、少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および、（２）特定の構造式で表される、少なくとも１種のポリシロキサン基含有シラン化合物、を含んでなる表面処理剤。
【選択図】なし

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、ポリシロキサン基含有シラン化合物とを含んで成る表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。このパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応することにより結合して、表面処理層を形成し得る。

特表２００８−５３４６９６号公報 国際公開第９７／０７１５５号

近年、スマートフォンやタブレット型端末が急速に普及する中、タッチパネルの用途においては、ユーザが指でディスプレイパネルに触れて操作した際に優れた触感（使用感）を提供することが望まれている。

しかしながら、従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる表面滑り性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有する層を形成することのできる新規な表面処理剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、ポリシロキサン基含有シラン化合物とを併用することによって、撥水性、撥油性および防汚性に加え、優れた表面滑り性を有する表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第１の要旨によれば、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：

［式中：
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
Ｒ^１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^１２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｒ^１５は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し；
Ｘは、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表し、
Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^３ _ｐＲ^４ _３−ｐを表し、
Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：
Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、またはＱ’を表し、
Ｑ’は、Ｑと同意義であり、
ｐは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３の整数であって、ｐの総和は１以上であり、
Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
ｘは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
ｙは、それぞれ独立して、０または１であり；
ｚは、それぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、０〜２の整数であり；
ｎは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
αは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
および
（２）下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）のいずれかで表される少なくとも１種のポリシロキサン基含有シラン化合物：

［式中：
Ｒ^２１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２３は、各出現において、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜６個のアルキル基を表し、
Ｒ^２４は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜６個のアルキル基を表し、
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表し、
Ｙ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
Ｑ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ^ａ−ＳｉＲ^３ａ _ｐ’Ｒ^４ａ _３−ｐ’を表し、
Ｚ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：
Ｒ^３ａは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
Ｒ^４ａは、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、またはＱ^ａ’を表し、
Ｑ^ａ’は、Ｑ^ａと同意義であり、
ｐ’は、各Ｑ^ａおよびＱ^ａ’において、それぞれ独立して、０〜３の整数であって、ｐ’の総和は１以上であり、
Ｑ^ａ中、Ｚ^ａ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
ｌは、２〜１００の整数であり；
ｍ’は、βを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、０〜２の整数である。
ｎ’は、βを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
βは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
を含んでなる、表面処理剤が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記本発明の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、ポリシロキサン基含有シラン化合物とを含む表面処理剤によれば、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

以下、本発明の表面処理剤について説明する。

本明細書において用いられる場合、「２〜７価の有機基」とは、炭素を含有する２〜７価の基を意味する。かかる２〜７価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１〜６個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。

本発明は、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（以下、「パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）」または単に「化合物（１）」ともいう）：

および
（２）下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）のいずれかで表される少なくとも１種のポリシロキサン基含有シラン化合物（以下、「ポリシロキサン基含有シラン化合物（２）」または単に「化合物（２）」ともいう）：

で表される少なくとも１種の化合物を含んでなる、表面処理剤を提供する（以下、「本発明の表面処理剤」ともいう）。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和が少なくとも１であれば特に限定されるものではない。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１以上２００以下の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１以上１００以下の整数である。さらに好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは上記と同意義である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上または１以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは１０以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは上記と同意義である）である。例えば、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｃおよびｄは上記と同意義である）であってもよい。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ^１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ^１２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、ｍは、０〜２の整数であり、好ましくは０である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^１３は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^１４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^１５は、各出現において、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ｘは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｙは、各出現において、それぞれ独立して、０または１であり、ｚは、各出現において、それぞれ独立して、０〜２の整数である。

一の具体例において、Ｒ^１５はフッ素原子であり、ｙは１である。

上記式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｘは、各出現において、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表す。当該Ｘ基は、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−部または−Ｒｆ−部）と、加水分解して基材との結合能を提供するシラン部（−ＳｉＲ^１１ _ｍＲ^１２ _３−ｍ部または−ＳｉＱ_ｎＹ_３−ｎ部）とを連結するリンカーと解される。したがって、当該Ｘ基は、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜７価の有機基であってもよい。また、Ｘ基の価数に応じて、式中のαは、１〜６の整数となり、例えば、Ｘが２価の有機基の場合、αは１であり、Ｘが７価の有機基の場合、αは６である。

好ましい態様において、Ｘは２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、より好ましくは、Ｘは２価の有機基であり、αは１である。

上記Ｘの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^３２−
［式中：
Ｒ^３１は、−（ＣＨ_２）_ｓ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、
Ｒ^３２は、−（ＣＨ_２）_ｔ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ−であり、
Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−を表し、
Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−および−（ＣＨ_２）_ｎ−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎは、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｓは、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
ｔは、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数であり、
ｒは、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐは、０または１であり、
ｑは、０または１である。］
で表される基が挙げられる。

好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^３−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^４−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、ｓおよびｔは、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４、ｍおよびｖは、上記と同意義であり、
ｕは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^３は、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
を表す。

より好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘは、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、各記号は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｘの具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、

などが挙げられる。

また、別のＸ基の例としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）の分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、Ｓｉ原子に結合する。］

さらに別のＸ基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、各Ｘ基において、Ｔのうち任意の１つは、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）の分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

であり、別のＴの少なくとも１つは、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）の分子主鎖のＳｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基である。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表す。加水分解可能な基は、上記Ｒ^１２に関する記載と同様のものが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記Ｙは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ（式中、ＲはＣ_１−１２アルキル基、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはＣ_１−３アルキル基を表す）、Ｃ_１−１２アルキル基、Ｃ_２−１２アルケニル基、Ｃ_２−１２アルキニル基、またはフェニル基であり、より好ましくは、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ(ＣＨ_３)_２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^３ _ｐＲ^４ _３−ｐを表す。

上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表す。

上記Ｚは、好ましくは、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−（式中、ｓ’は、１〜６の整数であり、ｔ’は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｕ’−（式中、ｕ’は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。好ましくは、Ｒ^３は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−２２アルキル基、またはＱ’を表す。

上記Ｑ’は、Ｑと同意義である。

上記ｐは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３から選択される整数であり、ｐの総和は１以上である。各ＱまたはＱ’において、上記ｐが０である場合、そのＱまたはＱ’中のＳｉは、水酸基および加水分解可能な基を有しないことになる。このような水酸基および加水分解可能な基が存在しない場合、基材との接着力が低く、耐久性が低くなる。したがって、ＱまたはＱ’中の少なくとも１つのＳｉは、少なくとも１つの水酸基または加水分解可能な基を有している必要がある。還元換言すれば、上記ｐの総和は、少なくとも１以上でなければならない。

パーフルオロポリエーテル基を有する分子主鎖の末端のＳｉ原子に結合する、−Ｑ−Ｑ’_０−５鎖の末端のＱ’（Ｑ’が存在しない場合、Ｑ）において、上記ｐは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

上記ＱにおけるＲ^４の少なくとも１つがＱ’である場合、Ｑ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在する。かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｑ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＱ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｑ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

本発明の好ましい態様において、下記に示すように、「Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｑ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個（すなわち、Ｑ中にＳｉ原子は１個のみ存在する）または２個、好ましくは１個である。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ｎは、１〜３から選択される整数であり、好ましくは２以上、より好ましくは３である。ｎを３とすることにより、基材との結合が強固となり、高い摩擦耐久性を得ることができる。

一の具体例において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）または式（Ａ２）のいずれかで表される化合物である。

一の具体例において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）または式（Ｂ２）のいずれかで表される化合物である。

一の具体例において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）のいずれかで表される化合物である。

一の態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、ＱにおけるＲ^４が、Ｃ_１−２２アルキル基である式（Ｃ１）または式（Ｃ２）で表される化合物である。

一の態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、ＱにおけるＲ^４の少なくとも１つがＱ’である式（Ｃ１）または式（Ｃ２）で表される化合物である。

上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分および−ＰＦＰＥ−部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

上記式で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、公知の方法、例えば特許文献１および特許文献２に記載の方法により製造することができる。

Ｘが２価である式（Ｃ１）または式（Ｃ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、下記工程：
工程（１）：式（Ｃ１−１）または式（Ｃ２−１）：

（式中、ＲｆおよびＰＦＰＥは上記と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（Ｃ１−２）または式（Ｃ２−２）：

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ’およびＭは、上記と同意義である。）
で表される化合物を得る工程；
工程（２）：上記式（Ｃ１−２）または式（Ｃ２−２）で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価のリンカー基を表し、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは上記と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−３）または式（Ｃ２−３）：

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｎ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物を得る工程；および
工程（３）：式（Ｃ１−３）または式（Ｃ２−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）および、所望により
式：Ｒ^３ _ｉＬ’（式中、Ｒ^１は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^３と結合可能な基を表し、ｉは１〜３の整数である。）
で表される化合物、および／または
式：Ｒ^４’ _ｊＬ”（式中、Ｒ^４’は、Ｃ_１−２２アルキル基を表し、Ｌ”は、Ｒ^４’と結合可能な基を表し、ｊは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程、
を含む方法により製造することができる。

別法として、工程（２）を、下記工程（２’）に置換してもよい。
工程（２’）：
上記式（Ｃ１−２）または式（Ｃ２−２）で表される化合物を、
式：Ｇ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｚ’は結合または２価の有機基を表し、Ｇは、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｙ_ｈＬ（式中、Ｙは請求項１の記載と同意義であり、Ｌは、Ｙと結合可能な基を表し、ｈは１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（Ｃ１−３）または式（Ｃ２−３）：

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ’、ＹおよびＺ’は、上記と同意義であり、ｎ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物を得る工程。

上記式（Ｓ１）および（Ｓ２）中、Ｒ^２１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式（Ｓ１）および（Ｓ２）中、Ｒ^２２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。好ましくは、Ｒ^２２は、−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

上記式（Ｓ１）および（Ｓ２）中、ｍ’は、０〜２の整数であり、好ましくは０である。

上記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）中、Ｒ^２３は、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜６個のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくはメチル基を表す。

上記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）中、Ｒ^２４は、各出現において、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜６個のアルキル基を表す。Ｒ^２４は、好ましくは、炭素数１〜６個のアルキル基であり、より好ましくは、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。

上記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）中、Ｘ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表す。当該Ｘ^ａ基は、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）で表される化合物において、シロキサン部と、加水分解して基材との結合能を提供するシラン部とを連結するリンカーと解される。したがって、当該Ｘ基は、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜７価の有機基であってもよい。また、Ｘ^ａ基の価数に応じて、式中のβは、１〜６の整数となり、例えば、Ｘ^ａが２価の有機基の場合、βは１であり、Ｘ^ａが７価の有機基の場合、βは６である。

好ましい態様において、Ｘ^ａは２価の有機基であり、βは１である。

当該Ｘ^ａ基は、上記した式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中のＸ基と同様のものであり得る。

好ましくは、Ｘ^ａは、−（Ｒ^３１）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^３２−
［式中：
Ｒ^３１は、−（ＣＨ_２）_ｓ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、
Ｒ^３２は、−（ＣＨ_２）_ｔ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ−であり、
Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−を表し、
Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−および−（ＣＨ_２）_ｎ−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎは、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｓは、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
ｔは、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数であり、
ｒは、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐは、０または１であり、
ｑは、０または１である。］
で表される基が挙げられる。

当該Ｘ^ａ基は、酸素原子、ＯＨ、炭素数１〜６のアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｘ^ａの具体的な例としては、例えば：
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＯＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＯ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＮＨＣＯ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_２Ｈ_４−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−Ｃ_２Ｈ_４Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−ＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＯＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
が挙げられる。

さらに別のＸ^ａ基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、各Ｘ基において、Ｔのうち任意の１つは、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）の分子主鎖のシロキサン基に結合する以下の基：
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＯＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＯ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＮＨＣＯ−Ｃ_３Ｈ_６−
−（ＣＨ₂）_２−
−（ＣＨ₂）₃−
−（ＣＨ₂）₄−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−Ｃ_２Ｈ_４Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−ＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ−ＣＯＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
−Ｃ_３Ｈ_６−ＣＯＮＨ−Ｃ_２Ｈ_４−ＮＨ−Ｃ_３Ｈ_６−
であり、別のＴの少なくとも１つは、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）の分子主鎖の末端Ｓｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基である。］

上記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）中、ｌは、２〜１００の整数であり、好ましくは１０〜１００の整数である。

上記式（Ｓ３）および（Ｓ４）中、Ｙ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基であり得、好ましくは、水酸基、−ＯＲ（式中、ＲはＣ_１−１２アルキル基、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはＣ_１−３アルキル基を表す）、Ｃ_１−１２アルキル基、Ｃ_２−１２アルケニル基、Ｃ_２−１２アルキニル基、またはフェニル基であり、より好ましくは、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２ＣＨ_３、−ＯＣＨ(ＣＨ_３)_２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（Ｓ３）および（Ｓ４）中、Ｑ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ^ａ−ＳｉＲ^３ａ _ｐ’Ｒ^４ａ _３−ｐ’を表す。

上記Ｚ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表す。

上記Ｚ^ａは、好ましくは、式（Ｓ３）および（Ｓ４）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^ａは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−（式中、ｓ’は、１〜６の整数であり、ｔ’は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｕ’−（式中、ｕ’は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｒ^３ａは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。好ましくは、Ｒ^３ａは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記Ｒ^４ａは、各出現において、それぞれ独立して、Ｃ_１−２２アルキル基、またはＱ^ａ’を表す。

上記Ｑ^ａ’は、Ｑ^ａと同意義である。

上記ｐ’は、各Ｑ^ａおよびＱ^ａ’において、それぞれ独立して、０〜３から選択される整数であり、ｐ’の総和は１以上である。各Ｑ^ａまたはＱ^ａ’において、上記ｐ’が０である場合、そのＱ^ａまたはＱ^ａ’中のＳｉは、水酸基および加水分解可能な基を有しないことになる。したがって、上記ｐ’の総和は、少なくとも１以上でなければならない。

分子主鎖の末端のＳｉ原子に結合する、−Ｑ^ａ−Ｑ^ａ’_０−５鎖の末端のＱ^ａ’（Ｑ^ａ’が存在しない場合、Ｑ^ａ）において、上記ｐ’は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

上記Ｑ^ａにおけるＲ^４ａの少なくとも１つがＱ^ａ’である場合、Ｑ^ａ中にＺ^ａ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在する。かかるＺ^ａ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｑ^ａ中のＺ^ａ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｑ^ａ中において直鎖状に連結される−Ｚ^ａ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

上記式（Ｓ３）および（Ｓ４）中、ｎ’は、１〜３から選択される整数であり、好ましくは２以上、より好ましくは３である。ｎ’を３とすることにより、基材との結合が強固となり、高い摩擦耐久性を得ることができる。

一の具体例において、ポリシロキサン基含有シラン化合物（２）は、式（Ｓ１）および（Ｓ２）のいずれかで表される化合物である。

一の具体例において、ポリシロキサン基含有シラン化合物（２）は、式（Ｓ３）および（Ｓ４）のいずれかで表される化合物である。

上記ポリシロキサン基含有シラン化合物の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。かかる範囲とすることにより、より優れた摩擦耐久性および表面滑り性を得ることができる。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１Ｈ−ＮＭＲにより測定される値とする。

上記式（Ｓ１）および（Ｓ２）で示されるポリシロキサン基含有シラン化合物は、公知の方法により製造することができる。また、当業者であれば、上記式（Ｓ３）および（Ｓ４）で示されるポリシロキサン基含有シラン化合物は、公知の方法および上記式（Ｃ１）または式（Ｃ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の製造方法を参照することにより製造することができる。

一の態様において、本発明の表面処理剤中、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）は、質量比で、１：５０〜５０：１、好ましくは１：４〜４：１、さらに好ましくは１：２〜４：１、より好ましくは１：１〜２：１で含まれる。かかる範囲とすることにより、より優れた表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒、および
イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１−ブタノール、２−ブタノール、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群から選択される炭化水素系溶媒
等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。好ましい溶媒としては、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、ならびに、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５とキシレンヘキサフルオリドの混合溶媒等が挙げられる。

本発明の表面処理剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒ^４１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^４２ ・・・（３）
式中、Ｒ^４１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒ^４２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^４１およびＲ^４２は、より好ましくは、それぞれ独立して、炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒ^４１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^４２ ・・・（３ａ）
Ｒ^４１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^４２ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒ^４１およびＲ^４２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは２５〜４００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記式パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）の溶液と、ポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の溶液とを使用直前に混合する形態であってもよい。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）およびポリシロキサン基含有シラン化合物（２）の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中の化合物（１）および化合物（２）のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。

水分の供給は、例えば０〜５００℃、好ましくは１００℃以上で、３００℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば５００℃以下、好ましくは３００℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基（上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）のいずれかで表される化合物においてＲ^１２、Ｒ^２２、Ｙ^ａおよびＹ^ａが水酸基である場合にはその水酸基である。以下も同様）同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。この結果、化合物（１）および化合物（２）間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する４種の繰り返し単位（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。

・パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合成
・合成例１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０６ｇ、トリクロロシラン１．３６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０９４ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）１９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃

・合成例２
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）１９ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を２６．４ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）２０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

・合成例３
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン３．１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１４１ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

・合成例４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．７８ｇとオルソギ酸トリメチル３６ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）１７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

・合成例５
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OH（ただし、混合物中には(CF₂CF₂CF₂CF₂O)および／または(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位を微量含む化合物も微量含まれる）で表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体３０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、ＮａＯＨ０．８ｇを仕込み、６５℃で４時間撹拌した。続いて、アリルブロマイド２．４ｇを加えた後、６５℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、パーフルオロヘキサン２０ｇ加えて不溶物をろ過し、分液ロートで３Ｎ塩酸による洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、塩酸層（水相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｅ）２４ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｅ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH=CH₂

・合成例６
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にアリルオキシ基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ化合物（Ｅ）２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０６ｇ、トリクロロシラン１．８０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）２０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃

・合成例７
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例６にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｆ）２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を３５．２ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｇ）１８ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｇ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

・合成例８
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例７にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｍ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン４．２ｇ仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｈ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｈ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

・合成例９
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例８にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｈ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．０４ｇとオルソギ酸トリメチル４８ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）１６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
（なお、平均組成としては、(CF₂CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）

・ポリシロキサン基含有シラン化合物の合成
・合成例１０
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ_２で表されるポリシロキサン基含有エポキシ化合物２５ｇ、エチルアルコール９．８６ｇ、アミノプロピルトリエトキシシラン２．０１ｇを仕込み、窒素気流下、６０℃で８時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリエチルシリル基を有する下記式のポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）２７ｇを得た。
・ポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）
C₄H₉Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂₀Si(CH₃)₂-C₃H₆OCH₂CH(OH)CH₂NHCH₂CH₂CH₂Si(OC₂H₅)₃

・合成例１１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＨ_２（Ｏ）ＣＨＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ_２で表されるポリシロキサン基含有エポキシ化合物２０ｇ、エチルアルコール７．８９ｇ、アミノプロピルトリエトキシシラン４．４２ｇを仕込み、窒素気流下、６０℃で８時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリエチルシリル基を有する下記式のポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｐ）２４ｇを得た。
・ポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｐ）
(Si(CH₃)₂O)₂₀[Si(CH₃)₂-C₃H₆OCH₂CH(OH)CH₂NHCH₂CH₂CH₂Si(OC₂H₅)₃]₂

実施例１
上記合成例４で得たパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）および合成例１０で得たポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）を、質量比２：１で、ノベック７２００（スリーエム社製）／１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン／エチルアルコール（質量比６０：３８：２）の混合溶媒に溶解させて、濃度１０ｗｔ％になるように、表面処理剤１を調製した。
上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２４ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．２６ｍｇおよび化合物（Ｏ）を０．１３ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。

実施例２〜２１
下記表に示すように、化合物（１）として、化合物（Ｄ）、合成例９で得たパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）、下記の構造を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）、化合物（Ｍ）または化合物（Ｎ）を用い、化合物（２）として、化合物（Ｏ）または化合物（Ｐ）を用い、下記表に示す配合比としたこと以外は、実施例１に記載のように、実施例２〜２１の表面処理層を形成した。

・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）
CF₃CF₂CF₂O(CF(CF₃)CF₂O)₂₀CF(CF₃)C(O)NHCH₂CH₂CH₂Si(OC₂H₅)₃
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｍ）
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂[CH₂CH(Si(OCH₃)₃)]₃H
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｎ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₇(CF₂O)₁₈CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃

比較例１〜７
ポリシロキサン基含有シラン化合物（２）を用いずに、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）、（Ｊ）、（Ｌ）、（Ｍ）または（Ｎ）をそれぞれ単独で用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１〜５の表面処理層を形成した。また、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（１）を用いずに、ポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）または（Ｐ）を単独で用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例６〜７の表面処理層を形成した。

試験例１
・表面滑り性評価（動摩擦係数（ＣＯＦ）の測定）
上記の実施例１〜２１および比較例１〜７にて基材表面に形成された表面処理層について、動摩擦係数を測定した。具体的には、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製 ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。結果を表２に示す。

試験例２
触感評価
上記の実施例１〜２１および比較例１〜７にて基材表面に形成された表面処理層について、触感を評価した。具体的には、２０代〜５０代の被験者５０名に、２３±２℃、３０〜４０ＲＨ％環境下において、自身の指先で基材表面に形成された表面処理層を触り、標品としてパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｎ）を５点とした際の触感の位置づけを０〜１０点で評価し、その集計結果の平均点を算出した。評価基準は、下記の通りである。
◎…７．５以上１０以下、
○…５以上７．５未満、
△…２．５以上５未満、
×…０以上２．５未満
結果を表２に示す。

試験例３
初期静的接触角
上記の実施例１〜２１および比較例１〜７にて基材表面に形成された表面処理層について、水およびｎ−ヘキサデカンの初期接触角を測定した。具体的には、初期静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水およびｎ−ヘキサデカンそれぞれ１μＬにて実施した。結果を表２に示す。

表２の結果から理解されるように、本発明の表面処理剤を用いた実施例１〜２１の表面処理層は、優れた撥水撥油性に加え、優れた表面滑り性（低い動摩擦係数）を示すことが確認された。特に、実施例５および６では、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）単独の比較例２およびポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）単独の比較例６よりも低い動摩擦係数となっており、相乗効果が確認された。同様に、実施例２０および２１でも、比較例２およびポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｐ）単独の比較例７よりも低い動摩擦係数となっており、相乗効果が確認された。本発明はいかなる理論によっても拘束されないが、これは、基材表面上に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物とポリシロキサン基含有シラン化合物の両方が結合し、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の密度が適度に下がったため、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のパーフルオロポリエーテル部分の運動性が向上し、その結果、優れた表面滑り性が得られたと考えられる。

試験例４
・摩擦耐久性評価
上記の実施例１、２、４および５および比較例１および２にて基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数１０００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表３に示す。なお、実施例４および５は、１０，０００回の時点で試験を中止した。

実施例１、２、４および５では、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）または（Ｊ）あるいはポリシロキサン基含有シラン化合物（Ｏ）単独の比較例１、２および６よりも、高い消しゴム耐久となっており、顕著な相乗効果が確認された。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (32)

1. （１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：
   

   

   ［式中：
   Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
   ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
   Ｒ^１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
   Ｒ^１２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
   Ｒ^１４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   Ｒ^１５は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し；
   Ｘは、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表し、
   Ｙは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
   Ｑは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^３ _ｐＲ^４ _３−ｐを表し、
   Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：
   Ｒ^３は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
   Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、またはＱ’を表し、
   Ｑ’は、Ｑと同意義であり、
   ｐは、各ＱおよびＱ’において、それぞれ独立して、０〜３の整数であって、ｐの総和は１以上であり、
   Ｑ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
   ｘは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
   ｙは、それぞれ独立して、０または１であり；
   ｚは、それぞれ独立して、０〜２の整数であり；
   ｍは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、０〜２の整数であり；
   ｎは、αを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
   αは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
   および
   （２）下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）のいずれかで表される少なくとも１種のポリシロキサン基含有シラン化合物：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^２１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
   Ｒ^２２は、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^２３は、各出現において、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜６個のアルキル基を表し、
   Ｒ^２４は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜６個のアルキル基を表し、
   Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２〜７価の有機基を表し、
   Ｙ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基、または炭化水素基を表し、
   Ｑ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、−Ｚ^ａ−ＳｉＲ^３ａ _ｐ’Ｒ^４ａ _３−ｐ’を表し、
   Ｚ^ａは、各出現において、それぞれ独立して、２価の有機基を表し：
   Ｒ^３ａは、各出現において、それぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し、
   Ｒ^４ａは、各出現において、それぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキル基、またはＱ^ａ’を表し、
   Ｑ^ａ’は、Ｑ^ａと同意義であり、
   ｐ’は、各Ｑ^ａおよびＱ^ａ’において、それぞれ独立して、０〜３の整数であって、ｐ’の総和は１以上であり、
   Ｑ^ａ中、Ｚ^ａ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
   ｌは、２〜１００の整数であり；
   ｍ’は、βを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、０〜２の整数である。
   ｎ’は、βを付して括弧でくくられた単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
   βは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
   を含んでなる、表面処理剤。
2. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
3. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、ＰＦＰＥが下記式（ａ）または（ｂ）：
   （ａ）−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−
   （式（ａ）中、ｂは１以上２００以下の整数である）；
   （ｂ）−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
   （式（ｂ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）
   である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
4. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、ＰＦＰＥにおいて：
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−であり、
   −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−であり、
   −（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−である、
   請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
5. 式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）において、Ｘが２〜４価の有機基であり、αが１〜３である、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理剤。
6. 式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）において、Ｘが２価の有機基であり、αが１である、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤。
7. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｘが、−（Ｒ^３１）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^３２−
   ［式中：
   Ｒ^３１は、−（ＣＨ_２）_ｓ−（式中、ｓは、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
   Ｒ^３２は、−（ＣＨ_２）_ｔ−（式中、ｔは、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
   Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−（式中、ｒは、１〜１０の整数である）を表し、
   Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ−（式中、ｎは１〜２０の整数である）からなる群から選択される基を表し、
   Ｒ^３３は、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
   Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
   ｐは、０または１であり、
   ｑは、０または１であり、
   Ｒ^３１、Ｒ^３２およびＸ^１は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
   で表される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の表面処理剤。
8. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−Ｒ^３１−Ｘ^３−Ｒ^３２−、または−Ｘ^４−Ｒ^３２−
   ［式中、Ｘ^３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数である）、−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数であり、ｕは１〜２０の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数であり、ｕは１〜２０の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｎ（Ｒ^３４）−（式中、ｎは１〜２０の整数である）、または−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−を表し、
   Ｘ^４は、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数であり、ｕは１〜２０の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｎ（Ｒ^３４）−（式中、ｎは１〜２０の整数である）、または−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−を表し、
   Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３およびＲ^３４は、請求項７の記載と同意義である。］
   である、請求項１〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
9. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）−
   ［式中、Ｒ^３３は、請求項７の記載と同意義であり、
   ｍは、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり、
   ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
   ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
   ｕは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
   ｖは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
   である、請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
10. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｘが：
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −（ＣＨ_２）_２−、
    −（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）_４−、
    −（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
    −Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）₂Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
    −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
    −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
    −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
    −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
    

    

    からなる群から選択される、請求項１〜９のいずれかに記載の表面処理剤。
11. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｙにおいて、加水分解可能な基が−ＯＲ（式中、ＲはＣ_１−１２アルキル基を表す）である、請求項１〜１０のいずれかに記載の表面処理剤。
12. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｑ中、ｐが３である、請求項１〜１１のいずれかに記載の表面処理剤。
13. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｒｆが、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、
    ＰＦＰＥが下記式（ａ）または（ｂ）：
    （ａ）−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−
    （式中、ｂは１以上２００以下の整数である）；
    （ｂ）−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
    （式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）
    であり、
    Ｘが、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）−
    ［式中、Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
    ｍは、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり、
    ｓは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
    ｔは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
    ｕは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
    ｖは、それぞれ独立して、１〜２０の整数である。］
    であり、
    ｎが３であり、
    ｐが３である、
    請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
14. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ａ１）および（Ａ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理剤。
15. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ｂ１）および（Ｂ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜１０のいずれかに記載の表面処理剤。
16. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤。
17. ポリシロキサン基含有シラン化合物において、ｎ’が３であり、ｐ’が３である、請求項１〜１６のいずれかに記載の表面処理剤。
18. ポリシロキサン基含有シラン化合物において、Ｘ^ａが２価の有機基であり、βが１である、請求項１〜１７のいずれかに記載の表面処理剤。
19. ポリシロキサン基含有シラン化合物において、Ｘ^ａが、−（Ｒ^３１）_ｐ−（Ｘ^１）_ｑ−Ｒ^３２−
    ［式中：
    Ｒ^３１は、−（ＣＨ_２）_ｓ−（式中、ｓは、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
    Ｒ^３２は、−（ＣＨ_２）_ｔ−（式中、ｔは、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
    Ｘ^１は、−（Ｘ^２）_ｒ−（式中、ｒは、１〜１０の整数である）を表し、
    Ｘ^２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍは１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ−（式中、ｎは１〜１００の整数である）からなる群から選択される基を表し、
    Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
    Ｒ^３４は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
    ｐは、０または１であり、
    ｑは、０または１であり、
    Ｒ^３１、Ｒ^３２およびＸ^１は、酸素原子、ＯＨ、炭素数１〜６のアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
    で表される基である、請求項１〜１８のいずれかに記載の表面処理剤。
20. ポリシロキサン基含有シラン化合物が、式（Ｓ１）および（Ｓ２）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜１９のいずれかに記載の表面処理剤。
21. （１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）ポリシロキサン基含有シラン化合物との質量比が、１：５０〜５０：１である、請求項１〜２０のいずれかに記載の表面処理剤。
22. （１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）ポリシロキサン基含有シラン化合物との質量比が、１：４〜４：１である、請求項１〜２１のいずれかに記載の表面処理剤。
23. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤。
24. 含フッ素オイルが、式（３）：
    Ｒ^４１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^４２
    ・・・（３）
    ［式中：
    Ｒ^４１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^４２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２３に記載の表面処理剤。
25. 含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
    Ｒ^４１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^４２ ・・・（３ａ）
    Ｒ^４１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^４２ ・・・（３ｂ）
    ［式中：
    Ｒ^４１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^４２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
    式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
    添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項２３または２４に記載の表面処理剤。
26. さらに溶媒を含む、請求項１〜２５のいずれかに記載の表面処理剤。
27. 防汚性コーティング剤として使用される、請求項１〜２６のいずれかに記載の表面処理剤。
28. 真空蒸着用である、請求項１〜２７のいずれかに記載の表面処理剤。
29. 請求項１〜２８のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
30. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜２８のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
31. 前記物品が光学部材である、請求項３０に記載の物品。
32. 前記物品がディスプレイである、請求項３０に記載の物品。