JP2019070100A

JP2019070100A - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物

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Publication number: JP2019070100A
Application number: JP2018047543A
Authority: JP
Inventors: 尚志三橋; Hisashi Mitsuhashi; 雅聡能勢; Masaaki Nose; 孝史野村; Takashi Nomura; 真也高野; Shinya Takano; 内藤　真人; Masato Naito; 真人内藤; 香織小澤; Kaori Ozawa; 裕介渡邊; Yusuke Watanabe; ピーター・ハップフィールド; Hupfield Peter
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2017-03-17
Filing date: 2018-03-15
Publication date: 2019-05-09
Anticipated expiration: 2038-03-15
Also published as: CN110431145B; KR20190104614A; US11814537B2; US20200002567A1; CN116515098A; EP3597654A4; WO2018169002A1; JP6501016B1; EP3597654A1; KR102262121B1; CN110431145A

Abstract

【課題】撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い耐ＵＶ性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］。【選択図】なし

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。

特表２００８−５３４６９６号公報国際公開第９７／０７１５５号

表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期に亘って提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。

しかしながら、上記したような従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、紫外線（ＵＶ）に曝されることによりその機能が低下する可能性があることがわかった。特に、メガネや携帯機器のタッチパネルなど屋外での使用が想定される場合に、その可能性が大きくなる。

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い耐ＵＶ性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の構造を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いることにより、表面処理層の耐ＵＶ性が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の第１の要旨によれば、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）または（Ｂ２）：

［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
αは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２を表し；
Ｒ^２３は、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、水素原子または１価の有機基を表し；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２毎において、ｒ２およびｓ２の和は３であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１を表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表し；
Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義であり；
Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１毎において、ｐ１、ｑ１、ｒ１およびｓ１の和は３であり；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基または１価の有機基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり、
式（Ａ１）および（Ａ２）において、少なくとも１つのＲ^ａまたはＲ^ａ’が結合し、さらに少なくともＲ^１３またはＲ^２３のいずれかを含むＲ^ｂまたはＲ^ｂ’が結合していてもよいＳｉ原子であって、該Ｒ^ａ、Ｒ^ａ’、Ｒ^ｂおよびＲ^ｂ’の合計が２以上であるＳｉ原子が存在し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^７３ _ｎ４Ｒ^７４ _３−ｎ４を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｎ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ’−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表し；
Ｙ’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｎ３は、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５を表し；
Ｚ’は、Ｚと同意義であり；
Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表し；
Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義であり；
Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ’を表し；
Ｒ^ｆ’は、Ｒ^ｆと同意義であり；
Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、水素原子または１価の有機基を表し；
Ｒ^ｆ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
ｐ５は、０〜３の整数であり；
ｑ５は、０〜３の整数であり；
ｒ５は、０〜３の整数であり；
ｓ５は、０〜３の整数であり；
但し、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５毎において、ｐ５、ｑ５、ｒ５、およびｓ５の和は３であり；
Ｒ^ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
但し、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２毎において、ｋ２、ｌ２、ｍ２およびｎ２の和は３であり；
式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^ｄまたはＲ^ｄ’が存在し、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在する。］
のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤が提供される。

本発明の第３の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。

本発明の第４の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物または上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。さらに、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を使用して得られる表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた光耐性を有する表面処理層を形成することができる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「加水分解可能な基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、即ち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。本明細書において、加水分解可能な基と並記される水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

本明細書において用いられる場合、「１〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する１〜１０価の基を意味する。かかる１価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基が挙げられる。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。

［パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物］
以下、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物について説明する。

本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）または（Ｂ２）のいずれかで表される化合物である。

一の態様において、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）または式（Ａ２）のいずれかで表される化合物である。

一の態様において、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）または式（Ｂ２）のいずれかで表される化合物である。

式（Ａ１）または式（Ａ２）のいずれかで表される化合物について説明する。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。

式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

一のの態様において、上記ＰＦＰＥは、好ましくは−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−であり、ｄは１０以上１００以下の整数、より好ましくはｄは１５以上５０以下の整数、さらに好ましくはｄは２５以上３５以下の整数である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｊ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｊ−である。

ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

上記安定性は、ＰＦＰＥ含有化合物に含まれるＰＥＰＥ鎖の分解しにくさを示す。安定性の高い化合物とは、該化合物に含まれるＰＦＰＥ鎖が、例えば、熱、酸またはアルカリによって分解しにくい化合物であることを示す。上記耐ケミカル性とは、ＰＦＰＥ鎖の分解しにくさ、および、ガラスとＰＦＰＥ含有化合物との結合部分（シロキサン結合）の分解しにくさを示す。表面処理層の耐ケミカル性が良好であるとは、該表面処理層において加水分解反応が生じにくいこと、例えば、酸性またはアルカリ性においても加水分解反応が生じにくいことを意味する。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基またはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。なお、アルキレン基とは、−（Ｃ_βＨ_２β）−構造を有する基である。本明細書において、パーフルオロアルキレン基とは、アルキレン基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

一の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、好ましくは、３，０００〜６，０００、より好ましくは４，０００〜５，５００、さらに好ましくは、４，５００〜５，５００である。

別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。

別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００であり得る。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記Ｘ^１における２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ^１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ^１の価数と同じである。例えば、Ｘ^１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ^１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ^１の価数から１を引いた値である。

一の態様において、Ｘ^１は単結合または２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。

別の態様において、Ｘ^１は単結合または２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。

一の態様において、Ｘ^１は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは、単結合、アルキレン基または−Ｃ_６Ｈ_４−（即ち−フェニレン−。以下、フェニレン基を示す。）、−ＣＯ−（カルボニル基）、−ＮＲ^４−および−ＳＯ_２−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記Ｒ^４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはＣ_１〜６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子、またはメチル基である。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＮＲ^４−または−ＳＯ_２−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。ここで、分子主鎖とは、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子中で相対的に最も長いＰＦＰＥを含む結合鎖を表す。

本態様において、Ｘ^１は、より好ましくは、単結合、アルキレン基または−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、および−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、または−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。

本態様において、Ｘ^１中、ＰＦＰＥ基とＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ基を連結する原子の数は、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは６以下であり得る。尚、一のＰＦＰＥ基と一のＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ基を連結する経路が複数存在する場合、上記「ＰＦＰＥ基とＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ基を連結する原子の数」とは、ＰＦＰＥ基とＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ基間を最短で結ぶ原子の数を意味する。

別の態様において、上記Ｘ^１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜１０の整数、より好ましくは１〜６の整数、特に好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ^３１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^３１およびＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、特に好ましくはＣ_１−１０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、特に好ましくはＣ_１−１０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

一の態様において、Ｘ^１は、−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−（Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｆ３））_ｔ３−Ｒ^ｆ４−で表される基であり得る。

上記ｔ１は、０または１である。

上記Ｒ^ｆ１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ１は、Ｃ_２−６フルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ^ｆ１に含まれる水素原子の数は、１〜４の範囲にあることが好ましく、１または２であることがより好ましい。

上記（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２において、２種以上のＲ^ｆ１Ｏが存在する場合、各（Ｒ^ｆ１Ｏ）の存在順序は式中において任意である。

上記ｔ２は、０〜４の整数であり、０〜２の整数であることがより好ましい。

上記Ｒ^ｆ２は、単結合、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。上記パーフルオロアルキレン基、またはフルオロアルキレン基は、１〜１０の炭素原子を含むことが好ましい。

上記Ｒ^ｆ３は、水素原子、または、アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−４アルキル基）である。

上記ｔ３は、０または１である。

ｔ３が０の場合、Ｒ^ｆ２は単結合であることが好ましい。この場合（すなわち、（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２およびＲ^ｆ４が直接結合している場合）、（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２の中のＲ^ｆ４と結合する（Ｒ^ｆ１Ｏ）は（Ｒ^ｆ５ＣＨ_２Ｏ）で表される基であることが好ましい。Ｒ^ｆ５は、Ｒ^ｆ１よりも炭素数が１個少ない基であって、パーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ５はパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。（Ｒ^ｆ５ＣＨ_２Ｏ）は、（ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）等が好ましい。この場合、ｔ２は１であることが好ましい。
ｔ３が１の場合、ｔ２は０〜２であり、かつ、Ｒ^ｆ２はパーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基であることが好ましく、パーフルオロアルキレン基であることがより好ましく、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基であることが特に好ましい。

上記Ｒ^ｆ４は、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜１０のアルキレン基の末端（ただし、（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）と結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の末端（ただし、（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）と結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。エーテル性酸素原子を有する基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−等が挙げられる。

上記Ｒ^ｆ４は、単結合、または、Ｃ_１−４アルキレン基であることが好ましく、単結合、または、Ｃ_１−２アルキレン基であることがより好ましい。

上記Ｘ^１は、例えば、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−_、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_２−
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ６ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ６ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−、または
−（Ｏ）_ｔ１−Ｒ^ｆ６ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−（例えば、−（Ｏ）_ｔ１−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−）
等を挙げることができる。Ｒ^ｆ１、Ｒ^ｆ２、Ｒ^ｆ４、ｔ１およびｔ２は、上記と同意義である。ｔ１は好ましくは１である。Ｒ^ｆ６は、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基である。

上記Ｘ^１基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

別の態様において、Ｘ^１基としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎｅ−（ｎｅは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

上記Ｘ^１の具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

別の好ましい態様において、Ｘ^１は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、−Ｒ^５１−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯＮＲ^４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯ−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２−Ｒ^５２−、または−Ｒ^５１−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−である。Ｒ^５１およびＲ^５２は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数１〜３のアルキレン基である。Ｒ^４は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。

本態様において、Ｘ^１は、さらに好ましくは、
単結合、
炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基
−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＣＯ−Ｒ^５２’−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｒ^５１’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＣＯ−、
−Ｒ^５１’−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２ＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮＲ^４’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２−、または
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
（式中、Ｒ^５１’およびＲ^５２’は、それぞれ独立して、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキレン基であり、
Ｒ^４’は、水素原子またはメチルである。）。
であり得る。

本態様において、Ｘ^１の具体例としては、例えば、
単結合、
炭素数１〜６のアルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２ＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２−、
−ＳＯ_２−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
などが挙げられる。

一の態様において、Ｘ^１は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材層との結合能を有する基（即ち、（Ａ１）および（Ａ２）においては、αを付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。

さらに別の態様において、Ｘ^１基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

この態様において、Ｘ^１は、３〜１０価の有機基であり得る。

一の態様において、Ｘ^１は、−Ｘ^１１（ＯＨ）_ｎ１（Ｘ^１２）_３−ｎ１または−Ｘ^１１（ＯＸ^１２）_ｎ１（Ｘ^１２）_３−ｎ１で表される。Ｘ^１１は、炭素原子である。Ｘ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜６価の炭化水素基であり、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。Ｘ^１２は、Ｘ^１１および−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ間を連結する。ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは１である。

本態様において、式（Ａ１）および式（Ａ２）は、例えば、下記式（Ａ１”）、式（Ａ２”）、式（Ａ１”’）および式（Ａ２”’）で表される。

式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ^１１およびＸ^１２は、上記と同意義である。ｈは、１〜５の整数である。Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、ｋ、ｌおよびｍは、後述するとおりである。

好ましい一態様において、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−である。本態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、より良好なＵＶ耐久性および／または摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る。

上記態様において、Ｘ^１は、より好ましくは−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２を表す。

上記式中、Ｒ^２３は、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は、上記と同意義である。

上記式中、Ｒ^２４は、水素原子または１価の有機基を表す。

上記１価の有機基は、好ましくは、上記加水分解可能な基以外の基である。

１価の有機基は、より好ましくは、低級アルキル基またはフェニル基であり、さらに好ましくは低級アルキル基である。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２毎において、ｒ２およびｓ２の和は３である。

ｒ２は、好ましくは２以上、より好ましくは３である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）において、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１を表す。

上記式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。２価の有機基は、上記と同意義である。

上記Ｚは、好ましくは、２価の有機基である。また、２価の有機基は、好ましくは式（Ａ１）または式（Ａ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ｂが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚは、好ましくは、アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ１−（式中、ｇ１は、０〜６の整数、好ましくは１〜６の整数であり、ｈ１は、０〜６の整数、好ましくは１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ１−（式中、ｉ１は、０〜６の整数である）ある。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。耐ＵＶ性が特に良好な観点からは、上記Ｚは、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Ｚのアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは１〜６の範囲にあり、より好ましくは１〜３の範囲にある。最も好ましくは、Ｚは−ＣＨ_２ＣＨ_２−である。なお、アルキレン基については上記のとおりである。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表す。Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義である。

Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｂにおいて、Ｒ^１２が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｂ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｂ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ｂ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ｂ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は、上記と同意義である。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表す。１価の有機基は、上記と同意義である。Ｒ^１４は、好ましくは、水素原子または低級アルキル基である。低級アルキル基は、上記と同意義である。

上記式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１毎において、ｐ１、ｑ１、ｒ１およびｓ１の和は３である。

別の好ましい態様において、Ｒ^ｂまたはＲ^ｂ’において、ｑ１は０であり、ｐ１は好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは３である。また、ｐ１が１または２である場合、ｐ１とｒ１の合計が３であることが好ましい。

好ましい態様において、Ｒ^ｂ中の末端のＲ^ｂ’（Ｒ^ｂ’が存在しない場合、Ｒ^ｂ）において、上記ｒ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

別の好ましい態様において、Ｒ^ｂ中の末端のＲ^ｂ’（Ｒ^ｂ’が存在しない場合、Ｒ^ｂ）において、上記ｐ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

尚、末端のＲ^ｂ’およびＲ^ｂとは、ｑ１が０であるＲ^ｂ’およびＲ^ｂを意味する。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基または１価の有機基を表す。加水分解可能な基、および１価の有機基については、上記と同意義である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）において、少なくとも１つのＲ^ａまたはＲ^ａ’が結合し、さらに少なくともＲ^１３またはＲ^２３のいずれかを含むＲ^ｂまたはＲ^ｂ’が結合していてもよいＳｉ原子であって、該Ｒ^ａ、Ｒ^ａ’、Ｒ^ｂおよびＲ^ｂ’の合計が２以上であるＳｉ原子が存在する。

一の態様において、少なくとも１つのｋは２または３であり、好ましくは３である。かかる態様において、ｋが２である−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ中、ｌは０であり得る。即ち、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍは、−ＳｉＲ^ａ _２Ｒ^ｃであり得る。

一の態様において、ｋは２または３であり、好ましくは３である。かかる態様において、ｋが２である−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ中、ｌは０であり得る。即ち、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍは、−ＳｉＲ^ａ _２Ｒ^ｃであり得る。

上記のような構造、特に、Ｒ^ａまたはＲ^ａ’を有することによって、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、より耐ＵＶ性および酸またはアルカリに対する耐久性のより良好な表面処理層の形成に寄与する。

好ましい態様において、上記式（Ａ１）および（Ａ２）は、末端に以下の式（ａ１）〜（ａ４）の少なくともいずれか１つを有する。
−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｃ _ｍ _・・・（ａ１）
［式中、ｋとｍとの和は３、および、ｋは２または３、より好ましくは、ｋが３。］、
−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ _・・・（ａ２）
［式中、ｋ、ｌおよびｍの和は３；
ｋは１〜３の整数であり、ｋが１の場合には、ｌが１または２、かつ、Ｒ^ｂが（−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１）で表され、該Ｒ^ｂ中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和が３、および、ｐ１またはｒ１の少なくともいずれかが１〜３の整数。
より好ましくは、ｋが２または３。
さらに好ましくは、ｋが２または３であり、ｋが２の場合には、ｌが１、かつｒ１が１〜３の整数。
特に好ましくは、ｋが３。］、
−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１ _・・・（ａ３）
［式中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和は３；ｐ１は２または３。
より好ましくは、ｐ１が２かつｒ１が１、または、ｐ１が３、
特に好ましくは、ｐ１が３。］、または
−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１ _・・・（ａ４）
［式中、ｐ１、ｑ１、ｒ１およびｓ１の和は３；
ｐ１は１〜３の整数であり、ｐ１が１の場合には、ｑ１が１または２、かつ、Ｒ^１２が（−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１）で表され、該Ｒ^１２中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和が３、およびｐ１またはｒ１の少なくともいずれかが１〜３の整数。
より好ましくは、ｐ１が２または３、
特に好ましくは、ｐ１が３。］。

上記式（ａ１）〜（ａ４）において、特に好ましくは、ｒ２が３である。

別の好ましい態様において、少なくとも１つ、好ましくは全ての−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍにおいて、それぞれ独立して、ｋは１、２または３、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｌは０、１または２、好ましくは０または１、より好ましくは０であり、ｍは０であり、Ｒ^ｂが存在する場合、Ｒ^ｂは、−Ｚ−ＳｉＲ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１であり、ｒ１は１、２または３、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｓ１は０、１または２、好ましくは０または１、より好ましくは０であり得る。即ち、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍは、−ＳｉＲ^ａ _ｋ（−Ｚ−ＳｉＲ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１）_ｌ（式中、ｋは１〜３の整数であり、ｌは０〜２の整数であり、ｒ１は１〜３の整数であり、ｓ１は０〜２の整数であり、Ｒ^ａ、Ｒ^１３、Ｒ^１４、およびＺは、上記と同意義である）であり得る。好ましい態様において、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍは、−ＳｉＲ^ａ _ｋ（−Ｚ−ＳｉＲ^１３ _３）_ｌ（式中、ｋは１〜３の整数、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｌは０〜２の整数、好ましくは０または１、より好ましくは０であり、Ｒ^ａ、Ｒ^１３およびＺは、上記と同意義である）であり得る。

好ましい一態様において、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、より好ましくは−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、末端に以下の式（ａ１’）または（ａ２’）を有する。
−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ _・・・（ａ１’）
［式中、ｋ、ｌおよびｍの和は３；
ｋは１〜３の整数であり、ｋが１の場合には、ｌが１または２、かつ、Ｒ^ｂが（−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１）で表され、該Ｒ^ｂ中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和が３、および、ｐ１またはｒ１の少なくともいずれかが１〜３の整数。
より好ましくは、ｋが２または３。
さらに好ましくは、ｋが２または３であり、ｋが２の場合には、ｌが１、かつｒ１が１〜３の整数。
特に好ましくは、ｋが３。］、
−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１ _・・・（ａ２’）
［式中、ｐ１、ｑ１、ｒ１およびｓ１の和は３；
ｐ１は１〜３の整数であり、ｐ１が１の場合には、ｑ１が１または２、かつ、Ｒ^１２が（−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１）で表され、該Ｒ^１２中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和が３、およびｐ１またはｒ１の少なくともいずれかが１〜３の整数。
より好ましくは、ｐ１が２または３、
特に好ましくは、ｐ１が３。］。

さらに好ましくは、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、より好ましくは−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、末端に以下の（ａ１”）または（ａ２”）を有する。
−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｃ _ｍ _・・・（ａ１”）
［式中、ｋとｍとの和は３、および、ｋは２または３、より好ましくは、ｋが３。］
−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１ _・・・（ａ２”）
［式中、ｐ１、ｒ１およびｓ１の和は３；ｐ１は２または３。
より好ましくは、ｐ１が２かつｒ１が１、または、ｐ１が３、
特に好ましくは、ｐ１が３。］。

上記態様において、好ましくは、Ｚが−ＣＨ_２ＣＨ_２−である。

好ましい一態様において、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、より好ましくは−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、ｒ２が３であり、より好ましくはｐ１が３またはｋが３である。

上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３２，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において、特に記載のない場合、「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、３，５００〜１０，０００の数平均分子量を有することが好ましく、４，０００〜８，０００の数平均分子量を有することが好ましく、４，０００〜６，５００の数平均分子量を有することがより好ましい。

一の態様において、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、４，５００〜６，５００の数平均分子量を有することが好ましく、５，０００〜６，０００の数平均分子量を有することがより好ましい。

一の態様において、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、１，０００〜４０，０００、好ましくは１，０００〜３２，０００、より好ましくは１，０００〜２０，０００、さらにより好ましくは１，０００〜１２，０００の数平均分子量を有し得る。

一の態様において、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、分子量が３，０００以下であるＰＦＰＥ含有シラン化合物の割合が９ｍｏｌ％以下である。

表面処理剤中のＰＦＰＥ含有シラン化合物全体に対する、分子量が３，０００以下であるＰＦＰＥ含有シラン化合物の割合を９ｍｏｌ％以下とする方法としては、特に限定されず、例えば、蒸留等によって低分子量の化合物を取り除く方法が挙げられる。蒸留は、分子蒸留が好ましく、ＰＦＰＥ含有シラン化合物に対して行ってもよく、あるいは、原料、例えばＰＦＰＥを有する酸フルオライドに対して行ってもよい。蒸留の条件は、当業者であれば、蒸留の対象となる化合物に応じて、適宜選択することができる。

表面処理剤中のＰＦＰＥ含有シラン化合物全体に対する分子量３，０００以下であるＰＦＰＥ含有シラン化合物の割合は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析によって測定することができる。かかるＧＰＣ測定は、例えば、検出器としてＴＤＡ−３０２を備えるＧＰＣｍａｘ（ＨＰＬＣシステム：Malvern Instruments社製）を用いて行うことができる。

本態様において、上記分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定される。

一の態様において、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、重量平均分子量が４０００〜６０００の範囲にあり、重量平均分子量／数平均分子量が１．２以下の範囲にある。上記重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定される。

以下、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の製造方法について説明する。

式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、例えば以下のような方法によって製造できる。

工程（１）：式（Ａ１−１）または（Ａ２−１）：

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥは上記と同意義であり、Ｘ’は２価の有機基を表す。）
で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）と反応させて、式（Ａ１−２）または式（Ａ１−２）：
）

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ’およびＭは上記と同意義である。）
で表される化合物を得る工程；
工程（２）：上記式（Ａ１−２）または式（Ａ２−２）で表される化合物を、
式：Ｈａｌ−Ｊ−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｒ^ｃ _ｈ’Ｌ（式中、Ｒ^ｃは上記と同意義であり、Ｌは、Ｒ^ｃと結合可能な基を表し、ｈ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、式（Ａ１−３）または式（Ａ２−３）：

（式中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｘ’、およびＲ^ｃは、上記と同意義であり、ｍ’’は１〜３の整数、ｋ’は１〜３の整数、ｋ’とｍ’’との和は３である。）
で表される化合物を得る工程；および
工程（３）：式（Ａ１−３）または式（Ａ２−３）で表される化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１−６アルコキシ基である）、および、所望により
式：Ｒ^２３ _ｉ’Ｌ’（式中、Ｒ^２３は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^２３と結合可能な基を表し、ｉ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｒ^２４ _ｊ’Ｌ”（式中、Ｒ^２４は上記と同意義であり、Ｌ”は、Ｒ^２４と結合可能な基を表し、ｊ^’は１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程、
を含む方法により製造することができる。

式（Ｂ１）または式（Ｂ２）のいずれかで表される化合物について説明する。

Ｒｆ、およびＰＦＰＥは、上記と同意義である。なお、（Ａ１）または（Ａ２）におけるＲｆまたはＰＦＰＥと、（Ｂ１）または（Ｂ２）におけるＲｆまたはＰＦＰＥとは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。

式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^２は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、γを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^２は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記Ｘ^２における２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

上記式中、γは１〜９の整数であり、γ’は１〜９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ^２の価数に応じて変化し得る。式（Ｂ１）においては、γおよびγ’の和は、Ｘ^２の価数と同じである。例えば、Ｘ^２が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ^２が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｂ２）においては、γはＸ^２の価数から１を引いた値である。

一の態様において、Ｘ^２は単結合または２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。

別の態様において、Ｘ^２は単結合または２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。

上記Ｘ^２の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^２は、
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

好ましい態様において、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^７３ _ｎ４Ｒ^７４ _３−ｎ４を表す。

上記式中、Ｒ^７３は、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は、上記と同意義である。

上記式中、Ｒ^７４は、水素原子または１価の有機基を表す。

上記１価の有機基は、より好ましくは、低級アルキル基またはフェニル基であり、さらに好ましくは低級アルキル基である。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数である。

上記ｎ４は、好ましくは２以上、より好ましくは３である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ’−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表す。

上記Ｙ’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。２価の有機基は、上記と同意義である。

Ｙ’は、より好ましくは、−ＣＨ_２ＣＨ_２−以外の２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｙ’は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｙ’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｙ’が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は上記と同意義である。

Ｒ^８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表す。

ｎ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。

上記ｎ３は、好ましくは２以上、より好ましくは３である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５を表す。

上記式中、Ｚ’は、Ｚと同意義である。

上記Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表す。Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義である。

上記Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表す。

上記Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。２価の有機基は、上記と同意義である。

Ｙは、好ましくは、−ＣＨ_２ＣＨ_２−以外の２価の有機基である。

Ｙは、より好ましくは、Ｙ’と同意義である。

Ｒ^８３、Ｒ^８４およびｎ３は上記と同意義である。

Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ’を表す。Ｒ^ｆ’は、Ｒ^ｆと同意義である。

Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、水素原子または１価の有機基を表す。

Ｒ^ｆ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｆにおいて、Ｒ^６３が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｆ中にＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｆ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｆ中において直鎖状に連結される−Ｚ’−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｆ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｆのＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

上記式中、ｐ５は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ５は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ５は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｓ５は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５毎において、ｐ５、ｑ５、ｒ５、およびｓ５の和は３である。

別の好ましい態様において、Ｒ^ｆまたはＲ^ｆ’において、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５毎において、ｒ５は０であり、ｐ５は好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは３である。また、ｐ５が１または２である場合、ｐ５とｑ５の合計が３であり、かつＲ^６２におけるｎ３が１〜３の整数であることが好ましい。

別の好ましい態様において、Ｒ^ｆ中の末端のＲ^ｆ’（Ｒ^ｆ’が存在しない場合、Ｒ^ｆ）において、上記ｐ５は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

尚、末端のＲ^ｆ’およびＲ^ｆとは、ｒ５が０であるＲ^ｆ’およびＲ^ｆを意味する。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ^ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基を表す。１価の有機基は、上記と同意義である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２毎において、ｋ２、ｌ２、ｍ２およびｎ２の和は３である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^ｄまたはＲ^ｄ’が存在し、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在する。

一の態様において、式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも２つのＲ^ｄまたはＲ^ｄ’が存在し、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在する。

一の態様において、上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^ｄまたはＲ^ｄ’が結合し、さらに少なくともＲ^８３を含むＲ^ｅまたはＲ^６２が結合していてもよいＣ原子であって、該Ｒ^ｄ、Ｒ^ｄ’、Ｒ^ｅおよびＲ^６２の合計が２以上であるＣ原子が存在し得る。

一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。かかる態様において、ｋ２が２である−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２中、ｍ２は０であり得る。即ち、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２は、−ＣＲ^ｄ _２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｇ _ｎ２であり得る。かかる態様において、ｋ２が２である−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２中、好ましくは、ｍ２が０、ｌ２が１であり、ｎ２が０である。即ち、好ましくは、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２は、−ＣＲ^ｄ _２Ｒ^ｅであり得る。

一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。かかる態様において、ｋ２が２である−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２中、ｍ２は０であり得る。即ち、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２は、−ＣＲ^ｄ _２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｇ _ｎ２であり得る。かかる態様において、ｋ２が２である−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２中、好ましくは、ｍ２が０、ｌ２が１であり、ｎ２が０である。即ち、好ましくは、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２は、−ＣＲ^ｄ _２Ｒ^ｅであり得る。

上記のような構造、特に、Ｒ^ｄまたはＲ^ｄ’を有することによって、式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、より耐ＵＶ性および酸またはアルカリに対する耐久性のより良好な表面処理層の形成に寄与する。

一の態様において、上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、末端に以下の式（ｂ１）で表される基を有し得る。
−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２（ｂ１）
［式中、Ｒ^ｆは、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５を表し；
ｋ２およびｐ５の和は１以上、好ましくは２以上、より好ましくはｋ２またはｐ５のいずれかが３；
但し、ｋ２およびｐ５の和が１の場合、ｌ２およびｑ５の和が１以上、かつ、Ｒ^ｅおよびＲ^６２中、ｎ３は１〜３の整数。］

より好ましくは、上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、末端に以下の式（ｂ２）で表される基を有する。
−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｇ _ｎ２（ｂ２）
［式中、ｋ２、ｌ２およびｎ２の和は３；
ｋ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３；
ｋ２が１の場合には、ｌ２が１または２、かつ、Ｒ^ｅ中、ｎ３が１〜３の整数。］

さらに好ましくは、上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、末端に以下の式（ｂ３）で表される基を有する。
−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２（ｂ３）
［式中、ｋ２とｌ２との和は３、および、ｋ２は２または３、より好ましくは、ｋ２が３；
Ｒ^ｅ中、ｎ３が１〜３の整数であることが好ましい。］

別の態様において、上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、末端に以下の式（ｂ４）で表される基を有する。
−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｇ _ｎ２（ｂ４）
［式中、ｋ２とｎ２との和は３、および、ｋ２は２または３、より好ましくは、ｋ２が３。］。

上記式（ｂ１）〜（ｂ４）において、Ｒ^ｄは−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^７３ _ｎ４Ｒ^７４ _３−ｎ４で表され、ｎ４が３であることが好ましい。

別の好ましい態様において、少なくとも１つ、好ましくは全ての−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２において、それぞれ独立して、ｋ２は１、２または３、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｌ２は０、１または２、好ましくは０または１、より好ましくは０、ｍ２は０、１または２、好ましくは０または１、より好ましくは０であり、ｎ２は０であり、Ｒ^ｆが存在する場合、Ｒ^ｆは−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５であり、ｐ５は１、２または３であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３であり、ｐ５とｑ５との和は３であり、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在する。即ち、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２は、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２（−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５）_ｍ２（式中、ｋ２は１〜３の整数であり、ｌ２は０〜２の整数であり、ｍ２は０〜２の整数であり、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３であり、ｐ５は１〜３の整数であり、ｐ５とｑ５との和は３である。）であり、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在することが好ましい（Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｚ’、Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^７３、およびＲ^８３は、上記と同意義である。）。

好ましい一態様において、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、末端に上記式（ｂ１）で表される基を有し、好ましくは末端に上記式（ｂ２）で表される基を有し、さらに好ましくは上記式（ｂ３）で表される基を有する。上記式（ｂ１）〜（ｂ３）において、Ｒ^ｄは−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^７３ _ｎ４Ｒ^７４ _３−ｎ４で表され、ｎ４が３であることが好ましい。

より好ましい一態様において、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；ｎ４は３であり、かつ、ｋ２が３またはｐ５が３である。

上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

一の態様において、上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物においてＲｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、好ましくは、２，５００〜６，０００、より好ましくは３，０００〜５，５００、さらに好ましくは、３，０００〜４，０００である。

上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３２，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において、特に記載のない場合、「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、３，０００〜６，０００の数平均分子量を有することが好ましく、３，０００〜４，５００の数平均分子量を有することが好ましい。

一の態様において、上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、１，０００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜３０，０００、より好ましくは１，０００〜３０，０００、さらにより好ましくは１，０００〜１０，０００の数平均分子量を有し得る。

一の態様において、上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、分子量が３，０００以下であるＰＦＰＥ含有シラン化合物の割合が９ｍｏｌ％以下である。

一の態様において、上記式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、重量平均分子量が４，０００〜６，０００の範囲にあり、重量平均分子量／数平均分子量が１．２以下の範囲にある。上記重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定される。

式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。

［表面処理剤］
次に、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される少なくとも１種のＰＦＰＥ含有シラン化合物を含有する。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される少なくとも１種のＰＦＰＥ含有シラン化合物を含有する。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、式（Ｂ１）または式（Ｂ２）で表される少なくとも１種のＰＦＰＥ含有シラン化合物を含有する。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

本発明の表面処理剤は、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物を、表面処理剤１００質量部に対し、好ましくは０．０１〜１００質量部、より好ましくは０．１〜３０質量部含む。

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１ＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。

上記溶媒としては、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３を用いてもよい。

上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。

本発明の表面処理剤は、さらに他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６・・・（１）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^６・・・（１ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^６・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

一般式（１ａ）で示される化合物および一般式（１ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（１ａ）で示される化合物よりも、一般式（１ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（１ａ）で表される化合物と、一般式（１ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（１ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、式（１ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０であることが好ましく、４：１〜１：４であることがより好ましい。

一の態様において、式（１ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。

一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００〜３０，０００であることが好ましい。

別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００〜８，０００であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を大きくしてもよい。例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を、２，０００以上、好ましくは３，０００以上、より好ましくは５，０００以上大きくしてもよい。このような数平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。

上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、または窒素原子を含むことがより好ましい。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、Ｐ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基およびスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことが好ましく、Ｐ＝Ｏ基およびＳ＝Ｏ基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことがより好ましい。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物および芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。

上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。

［ペレット］
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、高い摩擦耐久性および耐ＵＶ性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

［物品］
次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびパーフルオロポリエーテル変性化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、良好な耐ＵＶ性を有する。また、この表面処理層は、良好な耐ＵＶ性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、高い摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

即ち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜３０ｎｍ、特に好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

別の形態としては、基材の表面に別途層を形成した後、その層の表面に本発明によって得られる表面処理層の膜を形成してもよい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物および表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

（合成例１）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリクロロシラン１．０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

（合成例２）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）１０．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１０ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、３０分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｂ）１０．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｂ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH=CH₂)₃

（合成例３）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｂ）９．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇ、トリクロロシラン３．０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）９．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例４）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）９．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．４０ｇとオルソギ酸トリメチル１３．２ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）９．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（合成例５）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_１６ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇ、トリクロロシラン１．２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０８ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

（合成例６）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を９．５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを６ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン２０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｆ）１０．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｆ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH=CH₂)₃

（合成例７）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例６にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｆ）６．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇ、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）６．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例８）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例７にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）６．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２５ｇとオルソギ酸トリメチル８．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）６．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（合成例９）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_２８ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体５．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇ、トリクロロシラン０．５１ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０４ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）５．０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

（合成例１０）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例９にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｉ）５．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を４．３ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを３ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン１０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｊ）４．９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｊ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH=CH₂)₃

（合成例１１）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１０にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｊ）４．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５ｇ、トリクロロシラン１．０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０７ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｋ）３．９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｋ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例１２）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた５０ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｋ）３．９ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．１３ｇとオルソギ酸トリメチル４．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）４．０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）（ｅ／ｆ比０．７１）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（合成例１３）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３０ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリクロロシラン０．７ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０４ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

（合成例１４）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１3にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）１０．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を７．５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、３０分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｎ）１０．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｎ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH=CH₂)₃

（合成例１５）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１４にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｎ）９．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇ、トリクロロシラン２．４ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０７ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｏ）９．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｏ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例１６）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｏ）９．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．３２ｇとオルソギ酸トリメチル１０．６ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｐ）９．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｐ）：
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（合成例１７）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた３００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_１６ＣＦ_２Ｉで表されるパーフルオロポリエーテル変性ヨウ素体を１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを１００ｇ、Ｃ（ＣＨ＝ＣＨ_２）_４を３０ｇ仕込み、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド０．３ｇを加えて１２０度で１６時間撹拌した。その後、５度まで冷却し、亜鉛粉末０．８４ｇ、メタノール５ｍｌ加えて、４５度で７時間攪拌した。続いて、パーフルオロヘキサン１００ｇとアセトン３０ｇを加えて３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にヨウ素を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｑ）９．８ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体Ｑ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C(CH=CH₂)₃

（合成例１８）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１７にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｑ）９．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１３ｇ、トリクロロシラン２．３ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０９ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｒ）９．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｒ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C(CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例１９）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１８にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｒ）６．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２５ｇとオルソギ酸トリメチル８．２ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｓ）６．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｓ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（実施例１）
上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。

（実施例２）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｈ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（実施例３〜５）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｌ）、化合物（Ｐ）、化合物（Ｓ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（比較例１および２）
化合物（Ｄ）に代えて、下記対照化合物１または２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物１
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・対照化合物２
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（評価）
・静的接触角の測定
上記の実施例１〜５および比較例１〜２で得られた表面処理層の水の静的接触角を測定した。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて２１℃、６５％湿度の環境下で実施した。

・摩擦耐久性の評価
初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した。

上記の実施例または比較例にて基材表面に形成された表面処理層に、スーパーキセノンウェザーメーター・型式ＳＸ７５（スガ試験機株式会社）を用いて、７．５ｋｗ水冷式キセノンランプを３００時間、ＵＶ照射した。照射条件は、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍにおいて放射照度６２Ｗ／ｍ^２とし、基材のブラックパネル温度は、５５度で、ランプと基材表面との距離は、２９ｃｍとした。

ＵＶ照射前の表面処理層およびＵＶ照射後の表面処理層のそれぞれについて、以下のように摩擦耐久性試験を実施した。

表面処理層の形成されたサンプル物品を水平配置し、以下の摩擦子を表面処理層の表面に接触（接触面は直径１ｃｍの円）させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦子を最大４０００回往復させ、往復回数（摩擦回数）１０００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。水の静的接触角の測定値が６０度未満となった時点で試験を中止した。結果を表１および２に示す（表中、記号「−」は測定せず）。
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面（直径１ｃｍ）を、下記に示す組成の人工汗を浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ−５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。

表１および２の結果から理解されるように、ＵＶ照射前の実施例１〜５の表面処理層は、ＵＶ照射前の比較例１および２の表面処理層と比べて、接触角の低下が抑制され、優れた摩擦耐久性を有することが確認された。これは、実施例１〜５の表面処理剤がケイ素−ケイ素間のリンカーとして−ＣＨ_２ＣＨ_２−を有する影響でＰＦＰＥ鎖が密に配向され、表面処理層の耐摩擦性が向上したためと思われる。

更に、ＵＶ照射後の実施例１〜５の表面処理層は、ＵＶ照射後の比較例１および２の表面処理層と比べて、ＵＶの照射に伴う接触角の低下が抑制された。これは、実施例１〜５で形成された表面処理層では、ＵＶ照射に起因する表面処理層の分解が抑制されているためと思われる。すなわち、ケイ素−ケイ素間のリンカーとして−ＣＨ_２ＣＨ_２−を用いる本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いると、形成される表面処理層の耐ＵＶ性が向上することが確認された。

実施例２の表面処理剤に含まれる化合物（Ｈ）のｅ／ｆ比は１．２５であり、実施例３の表面処理剤では化合物（Ｌ）のｅ／ｆ比は０．７１である。実施例３の表面処理剤では、化合物（Ｌ）に含まれる（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）ユニットの含有量が（ＣＦ_２Ｏ）ユニットの含有量より少ないため、形成された表面処理層が滑りやすくなり、摩擦耐久性が更に向上したと考えられる。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）または（Ｂ２）：

［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
αは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２を表し；
Ｒ^２３は、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、水素原子または１価の有機基を表し；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^２３ _ｒ２Ｒ^２４ _ｓ２毎において、ｒ２およびｓ２の和は３であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１を表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表し；
Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義であり；
Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−Ｚ−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１Ｒ^１４ _ｓ１毎において、ｐ１、ｑ１、ｒ１およびｓ１の和は３であり；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、加水分解可能な基または１価の有機基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり、
式（Ａ１）および（Ａ２）において、少なくとも１つのＲ^ａまたはＲ^ａ’が結合し、さらに少なくともＲ^１３またはＲ^２３のいずれかを含むＲ^ｂまたはＲ^ｂ’が結合していてもよいＳｉ原子であって、該Ｒ^ａ、Ｒ^ａ’、Ｒ^ｂおよびＲ^ｂ’の合計が２以上であるＳｉ原子が存在し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＲ^７３ _ｎ４Ｒ^７４ _３−ｎ４を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｎ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ’−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表し；
Ｙ’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｎ３は、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５を表し；
Ｚ’は、Ｚと同意義であり；
Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表し；
Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義であり；
Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８３ _ｎ３Ｒ^８４ _３−ｎ３を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ’を表し；
Ｒ^ｆ’は、Ｒ^ｆと同意義であり；
Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、水素原子または１価の有機基を表し；
Ｒ^ｆ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
ｐ５は、０〜３の整数であり；
ｑ５は、０〜３の整数であり；
ｒ５は、０〜３の整数であり；
ｓ５は、０〜３の整数であり；
但し、−Ｚ’−ＣＲ^６１ _ｐ５Ｒ^６２ _ｑ５Ｒ^６３ _ｒ５Ｒ^６４ _ｓ５毎において、ｐ５、ｑ５、ｒ５、およびｓ５の和は３であり；
Ｒ^ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
但し、−ＣＲ^ｄ _ｋ２Ｒ^ｅ _ｌ２Ｒ^ｆ _ｍ２Ｒ^ｇ _ｎ２毎において、ｋ２、ｌ２、ｍ２およびｎ２の和は３であり；
式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^ｄまたはＲ^ｄ’が存在し、かつ、−ＳｉＲ^７３または−ＳｉＲ^８３で表される基が少なくとも２つ存在する。］
のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
式（Ａ１）または式（Ａ２）のいずれかで表される、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
式（Ｂ１）または式（Ｂ２）のいずれかで表される、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｒｆが、各出現において独立して、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
ＰＦＰＥが、各出現において独立して、下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｒｆ−ＰＦＰＥ部の数平均分子量が、それぞれ独立して、５００〜３０，０００である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｘ^１が、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、αおよびα’が、それぞれ１である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
ｒ２が３である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｚが２価の有機基である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｚが−ＣＨ_２ＣＨ_２−である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
少なくとも１つのｋが２以上であるか、少なくとも１つのｐ１が２以上である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
少なくとも１つのｋが３以上であるか、少なくとも１つのｐ１が３以上である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
ｋが３である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
Ｘ^２が、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
ｋ２が３である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する表面処理剤。
含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、および分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１６に記載の表面処理剤。
さらに溶媒を含む、請求項１６または１７に記載の表面処理剤。
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
真空蒸着用である、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
基材と、該基材の表面に、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物または請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
前記物品が光学部材である、請求項２２に記載の物品。