WO2022059620A1 - 撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法 - Google Patents

撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2022059620A1
WO2022059620A1 PCT/JP2021/033352 JP2021033352W WO2022059620A1 WO 2022059620 A1 WO2022059620 A1 WO 2022059620A1 JP 2021033352 W JP2021033352 W JP 2021033352W WO 2022059620 A1 WO2022059620 A1 WO 2022059620A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
repellent
water
oil
compound
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/033352
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
隆太 高下
豊和 遠田
Original Assignee
Agc株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agc株式会社 filed Critical Agc株式会社
Priority to KR1020237003301A priority Critical patent/KR20230069905A/ko
Priority to JP2022550530A priority patent/JPWO2022059620A1/ja
Priority to CN202180063695.6A priority patent/CN116194226A/zh
Publication of WO2022059620A1 publication Critical patent/WO2022059620A1/ja
Priority to US18/104,853 priority patent/US20230256469A1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B05D5/08Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
    • B05D5/083Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface involving the use of fluoropolymers
    • B05D5/086Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface involving the use of fluoropolymers having an anchoring layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/60Deposition of organic layers from vapour phase
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/24Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/50Multilayers
    • B05D7/52Two layers
    • B05D7/54No clear coat specified
    • B05D7/548No curing step for the last layer
    • B05D7/5483No curing step for any layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/321Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds
    • C08G65/323Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds containing halogens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2203/00Other substrates
    • B05D2203/30Other inorganic substrates, e.g. ceramics, silicon
    • B05D2203/35Glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2350/00Pretreatment of the substrate
    • B05D2350/60Adding a layer before coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2401/00Form of the coating product, e.g. solution, water dispersion, powders or the like
    • B05D2401/30Form of the coating product, e.g. solution, water dispersion, powders or the like the coating being applied in other forms than involving eliminable solvent, diluent or dispersant
    • B05D2401/33Form of the coating product, e.g. solution, water dispersion, powders or the like the coating being applied in other forms than involving eliminable solvent, diluent or dispersant applied as vapours polymerising in situ
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2506/00Halogenated polymers
    • B05D2506/10Fluorinated polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/28Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
    • C08G2650/46Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
    • C08G2650/48Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers

Definitions

  • the present invention relates to a base material with a water-repellent oil-repellent layer and a method for manufacturing a base material with a water-repellent oil-repellent layer.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a base material with a water-repellent oil-repellent layer and a base material with a water-repellent oil-repellent layer having excellent wear resistance.
  • the present invention is the following [1] to [12]. [1] It has a base material, a base layer formed on the surface of the base material, and a water-repellent and oil-repellent layer formed on the surface of the base layer.
  • the underlayer is at least one selected from the group consisting of silicon and the group 1 element, the 2nd group element, the 4th group element, the 5th group element, the 13th group element, and the 15th group element in the periodic table. Contains oxides containing one specific element and
  • the water-repellent oil-repellent layer is composed of a hydrolyzed condensate of a fluorine-containing ether compound selected from the group consisting of a compound represented by the formula (A1) and a compound represented by the formula (A2).
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R f1 is a fluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R f2 is a hydrocarbon group having a (1 + b) -valent fluorine atom, and when at least the carbon atom bonded to R 1 has a fluorine atom and there are a plurality of R f2s , even if the R f2s are the same. May be different, R 1 is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. R 2 is an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 2 may be the same or different.
  • R 3 is an alkyl group which may have a hydrogen atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, and when there are a plurality of R 3 , the plurality of R 3 may be the same but different.
  • T is ⁇ Si (R) 3-c (L) c , and a plurality of Ts may be the same or different.
  • R is an alkyl group L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and two or more Ls in T may be the same or different.
  • m is an integer from 1 to 20 and a is an integer of 1 to 3, and when there are a plurality of a, the plurality of a may be the same or different.
  • b is an integer of 1 or more, and when there are a plurality of b, the plurality of b may be the same or different.
  • c is 2 or 3, and a plurality of cs may be the same or different.
  • b is 1, a is 2 or 3.
  • the R f2 has b partial structures "-CQC- * (where Q is a hydrogen atom, a fluorine atom or CF 3 , and-* is a bond that bonds to R 1 )".
  • the specific element is any one of [1] to [3], which is at least one selected from the group consisting of Group 1 elements, Group 2 elements, and Group 13 elements in the periodic table.
  • [5] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of [1] to [4], wherein the specific element is a Group 1 element in the periodic table.
  • [6] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of [1] to [5], wherein b is 1.
  • Base material With the water- and oil-repell
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R f1 is a fluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R f2 is a hydrocarbon group having a (1 + b) -valent fluorine atom, and when at least the carbon atom bonded to R 1 has a fluorine atom and there are a plurality of R f2s , even if the R f2s are the same. May be different, R 1 is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 2 is an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 2 may be the same or different.
  • R 3 is an alkyl group which may have a hydrogen atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, and when there are a plurality of R 3 , the plurality of R 3 may be the same but different.
  • T is ⁇ Si (R) 3-c (L) c , and a plurality of Ts may be the same or different.
  • R is an alkyl group L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and two or more Ls in T may be the same or different.
  • m is an integer from 1 to 20 and a is an integer of 1 to 3, and when there are a plurality of a, the plurality of a may be the same or different.
  • b is an integer of 1 or more, and when there are a plurality of b, the plurality of b may be the same or different.
  • c is 2 or 3, and a plurality of cs may be the same or different.
  • b is 1, a is 2 or 3.
  • the R f2 has b partial structures "-CQF- * (where Q is a hydrogen atom, a fluorine atom or CF 3 , and-* is a bond that binds to R 1 )".
  • the present invention it is possible to provide a base material with a water-repellent oil-repellent layer and a base material with a water-repellent oil-repellent layer having excellent wear resistance.
  • the compound represented by the formula (A1) is referred to as a compound (A1).
  • Compounds and the like represented by other formulas are also similar to these.
  • the meanings of the following terms in the present specification are as follows.
  • the "reactive silyl group” is a general term for a hydrolyzable silyl group and a silanol group (Si—OH).
  • the reactive silyl group is, for example, T in formula (A1) or formula (A2), i.e. —Si (R) 3-c (L) c .
  • the "hydrolyzable silyl group” means a group capable of forming a silanol group by a hydrolyzing reaction.
  • the "molecular weight" of the polyfluoropolyether chain is determined by 1 H-NMR and 19 F-NMR. It is a number average molecular weight calculated by obtaining the number (average value) of oxyfluoroalkylene units based on the terminal group.
  • the terminal group is, for example, R f in the formula (A1) or T in the formula (A1) or the formula (A2).
  • the "molecular weight" of the polyfluoropolyether chain is R f by 1 H-NMR and 19 F-NMR. It is a molecular weight calculated by determining the structure.
  • the base material with a water-repellent oil-repellent layer of the present invention has a base material, a base layer, and a water-repellent oil-repellent layer in this order.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a base material with a water-repellent and oil-repellent layer of the present invention.
  • the base material 10 with a water- and oil-repellent layer has a base material 12, a base layer 14 formed on one surface of the base material 12, and a water- and oil-repellent layer 16 formed on the surface of the base layer 14.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a base material with a water-repellent and oil-repellent layer of the present invention.
  • the base material 10 with a water- and oil-repellent layer has a base material 12, a base layer 14 formed on one surface of the base material 12, and a water- and oil-repellent layer 16 formed on the surface of the base
  • the base material 12 and the base layer 14 are in contact with each other, but the base material with a water-repellent and oil-repellent layer is not shown between the base material 12 and the base layer 14. It may have a layer of. Further, in the example of FIG. 1, the base layer 14 and the water-repellent oil-repellent layer 16 are in contact with each other, but the base material with the water-repellent oil-repellent layer has another material (not shown) between the base layer 14 and the water-repellent oil-repellent layer 16. It may have a layer. In the example of FIG.
  • the base layer 14 is formed on the entire surface of one surface of the base material 12, but the base layer 14 is not limited to this, and the base layer 14 is formed only on a part of the region of the base material 12. May be good.
  • the water- and oil-repellent layer 16 is formed on the entire surface of the base layer 14, but the water- and oil-repellent layer 16 is not limited to this, and the water- and oil-repellent layer 16 is formed only in a part of the base layer 14. It may be formed.
  • the base layer 14 and the water-repellent oil-repellent layer 16 are formed only on one surface of the base material 12, but the base layer 14 and the water-repellent layer 16 are not limited to this.
  • the oil repellent layer 16 may be formed.
  • the base material is not particularly limited as long as it is a base material that is required to be imparted with water and oil repellency.
  • Specific examples of the material of the base material include metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, and composite materials thereof.
  • the glass may be chemically strengthened.
  • As the base material a touch panel base material and a display base material are preferable, and a touch panel base material is particularly preferable.
  • the base material for the touch panel preferably has translucency. "Having translucency" means that the vertically incident visible light transmittance according to JIS R3106: 1998 (ISO 9050: 1990) is 25% or more.
  • the material of the base material for the touch panel is preferably glass or a transparent resin. Further, examples of the base material include the following.
  • the glass or resin is used for the exterior portion (excluding the display unit) of a device such as a glass or resin, a mobile phone (for example, a smartphone), a mobile information terminal, a game machine, or a remote control.
  • the shape of the base material may be a plate shape or a film shape.
  • the base material may be a base material having one surface or both sides subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, and plasma graft polymerization treatment.
  • surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, and plasma graft polymerization treatment.
  • the surface-treated surface has better adhesion between the base material and the base layer, and as a result, the water- and oil-repellent layer has better wear resistance. Therefore, it is preferable to apply a surface treatment to the surface of the base material on the side in contact with the base layer.
  • the underlayer is at least one selected from the group consisting of silicon and group 1 elements, group 2 elements, group 4 elements, group 5 elements, group 13 elements, and group 15 elements of the periodic table. It is a layer containing an oxide containing a specific element.
  • Group 1 elements of the periodic table mean lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium.
  • Group 1 elements include lithium, sodium, and potassium because a water- and oil-repellent layer can be formed more uniformly on the underlayer without defects, or the composition of the underlayer can be more suppressed from variation between samples. Is preferable, and sodium and potassium are particularly preferable.
  • the underlayer may contain two or more Group 1 elements.
  • Group 2 element in the periodic table means beryllium, magnesium, calcium, strontium and barium.
  • Group 2 elements include magnesium, calcium, and barium because a water- and oil-repellent layer can be formed more uniformly on the base layer without defects, or the variation in the composition of the base layer between samples is further suppressed. Is preferable, and magnesium and calcium are particularly preferable.
  • the underlayer may contain two or more Group 2 elements.
  • Group 4 elements of the periodic table mean titanium, zirconium, and hafnium.
  • Group 4 element titanium and zirconium are preferable because the water- and oil-repellent layer can be formed more uniformly on the base layer without defects, or the variation in the composition of the base layer between the samples is further suppressed.
  • Titanium is particularly preferred.
  • the base layer may contain two or more Group 4 elements.
  • Group 5 elements in the periodic table mean vanadium, niobium and tantalum.
  • vanadium is particularly preferable because the water- and oil-repellent layer has more excellent wear resistance.
  • the base layer may contain two or more Group 5 elements.
  • the 13th group element (hereinafter, also referred to as "13th group element") in the periodic table means boron, aluminum, gallium and indium.
  • Group 13 elements boron, aluminum, and gallium are used because a water- and oil-repellent layer can be formed more uniformly on the base layer without defects, or the variation in the composition of the base layer between samples is further suppressed. Is preferable, and boron and aluminum are particularly preferable.
  • the underlayer may contain two or more Group 13 elements.
  • the 15th group element (hereinafter, also referred to as "15th group element") in the periodic table means nitrogen, phosphorus, arsenic, antimony and bismuth.
  • Group 15 elements include phosphorus, antimony, and bismuth because a water- and oil-repellent layer can be formed more uniformly on the base layer without defects, or the variation in the composition of the base layer between samples is further suppressed. Is preferable, and phosphorus and bismuth are particularly preferable.
  • the underlayer may contain two or more Group 15 elements.
  • Group 1 elements, Group 2 elements, and Group 13 elements are preferable because the water- and oil-repellent layer has better wear resistance, and Group 1 and Group 2 elements are more. Group 1 elements are preferred, and Group 1 elements are particularly preferred. As the specific element, only one kind of element may be contained or two or more kinds of elements may be contained.
  • the oxide contained in the base layer may be a mixture of oxides of the above elements (silicon and a specific element) alone (for example, a mixture of silicon oxide and an oxide of a specific element), or the above elements may be used. It may be a composite oxide containing two or more kinds, or it may be a mixture of an oxide of the above element alone and a composite oxide.
  • the ratio of the total molar concentration of the specific element in the base layer to the molar concentration of silicon in the base layer (specific element / silicon) is 0.02 to 2. It is preferably 90, more preferably 0.10 to 2.00, and particularly preferably 0.20 to 1.80.
  • the molar concentration (mol%) of each element in the underlayer can be measured, for example, by depth direction analysis by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using ion sputtering.
  • the base layer may be a single layer or a plurality of layers.
  • the base layer may have irregularities on the surface.
  • the thickness of the base layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and particularly preferably 2 to 20 nm.
  • the thickness of the base layer is at least the above lower limit value, the adhesiveness of the water-repellent oil-repellent layer by the base layer is further improved, and the wear resistance of the water-repellent oil-repellent layer is more excellent.
  • the thickness of the base layer is not more than the above upper limit value, the wear resistance of the base layer itself is excellent.
  • the thickness of the base layer is measured by observing the cross section of the base layer with a transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the water- and oil-repellent layer is composed of a hydrolyzed condensate of a fluorine-containing ether compound selected from the group consisting of the compound (A1) and the compound (A2).
  • the fluorine-containing ether compound is a fluorine-containing compound having a reactive silyl group. That is, the water- and oil-repellent layer contains a condensate in which some or all of the reactive silyl groups of the fluorine-containing compound have undergone a hydrolysis reaction and a dehydration condensation reaction.
  • the water-repellent and oil-repellent layer may be composed of a hydrolyzed condensate of the compound (A1), may be composed of a hydrolyzed condensate of the compound (A2), or may be composed of a compound ( It may be composed of both the hydrolyzed condensate of A1) and the hydrolyzed condensate of compound (A2).
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R f1 is a fluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R f2 is a hydrocarbon group having a (1 + b) -valent fluorine atom, and when at least the carbon atom bonded to R 1 has a fluorine atom and there are a plurality of R f2s , even if the R f2s are the same. May be different, R 1 is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 2 is an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 2 may be the same or different.
  • R 3 is an alkyl group which may have a hydrogen atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, and when there are a plurality of R 3 , the plurality of R 3 may be the same but different.
  • T is ⁇ Si (R) 3-c (L) c , and a plurality of Ts may be the same or different.
  • R is an alkyl group L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and two or more Ls in T may be the same or different.
  • m is an integer from 1 to 20 and a is an integer of 1 to 3, and when there are a plurality of a, the plurality of a may be the same or different.
  • b is an integer of 1 or more, and when there are a plurality of b, the plurality of b may be the same or different.
  • c is 2 or 3, and a plurality of cs may be the same or different.
  • b is 1, a is 2 or 3.
  • Both the compound (A1) and the compound (A2) react with the polyfluoropolyether chain [R f -O- (R f1 O) m- ] or [-O- (R f1 O) m- ]. It has a sex silyl group and a specific linking group -R f2 [-R 1 -C (-R 2- ) a ] b that links the polyfluoropolyether chain to the reactive silyl group.
  • the compound (A1) is a compound having a structure of "monovalent polyfluoropolyether chain-linking group-reactive silyl group”
  • the compound (A2) is a "reactive silyl group-linking group-2 valent”. It is a compound having a structure of "polyfluoropolyether chain-linking group-reactive silyl group”.
  • the linking group is composed of a hydrocarbon group. Therefore, the chemical stability is improved with respect to the linking group containing an ether bond and the like contained in the compounds widely used conventionally.
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms of the fluoroalkyl group of Rf is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 3 from the viewpoint of having more excellent water and oil repellency or abrasion resistance of the water and oil repellent layer. ..
  • a perfluoroalkyl group is preferable because the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or abrasion resistance.
  • the compound (A1) in which R f is a perfluoroalkyl group has a terminal CF 3- .
  • a water- and oil-repellent layer having low surface energy can be formed, so that the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent resistance and abrasion resistance.
  • the fluoroalkyl group of R f include CF 3- , CF 3 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF (CF 3 )-.
  • the structure represented by the following formula (D1) is preferable from the viewpoint that the water-repellent oil-repellent layer has more excellent water-repellent and oil-repellent properties or friction resistance.
  • R f11 O m1 (R f12 O) m2 (R f13 O) m3 (R f14 O) m4 (R f15 O) m5 (R f16 O) m6 ...
  • R f11 is a fluoroalkylene group having 1 carbon atom.
  • R f12 is a fluoroalkylene group having 2 carbon atoms.
  • R f13 is a fluoroalkylene group having 3 carbon atoms.
  • R f14 is a fluoroalkylene group having 4 carbon atoms.
  • R f15 is a fluoroalkylene group having 5 carbon atoms.
  • R f16 is a fluoroalkylene group having 6 carbon atoms.
  • m1, m2, m3, m4, m5, and m6 independently represent integers of 0 or 1 or more, m1 + m2 + m3 + m4 + m5 + m6 are integers of 1 to 200, and when there are a plurality of R f11 to R f16 , the plurality of R f11 ⁇ R f16 may be the same or different.
  • the binding order of (R f11 O) to (R f16 O) in the formula (D1) is arbitrary.
  • M1 to m6 in the formula (D1) represent the number of (R f11 O) to (R f16 O ), respectively, and do not represent the arrangement.
  • (R f15 O) m5 indicates that the number of (R f15 O) is m5, and does not represent the block arrangement structure of (R f5 O) m5 .
  • the description order of (R f11 O) to (R f16 O) does not represent the binding order of each unit.
  • the fluoroalkylene group having 3 to 6 carbon atoms may be a linear fluoroalkylene group, or may be a fluoroalkylene group having a branched or ring structure.
  • R f1 it is preferable that 50 to 100% of the total number of m is a perfluoroalkylene group, more preferably 80 to 100% is a perfluoroalkylene group, and all of them are perfluoroalkylene groups. It is particularly preferable to have.
  • R f11 include CHF and CF 2 .
  • Specific examples of R f12 include CF 2 CF 2 , CF 2 CHF, and CF 2 CH 2 .
  • R f13 examples include CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CHF, CF 2 CHF CF 2 , CF 2 CF 2 CH 2 , CF 2 CH 2 CF 2 , and CF (CF 3 ) CF 2 . ..
  • R f14 include CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 , CHF CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CH 2 CF 2 CF 2 , CF (CF 3 ) CF 2 CF.
  • Perfluorocyclobutane-1,2-diyl group can be mentioned.
  • R f15 examples include CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 , CHF CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CH 2 CF 2 CF 2 .
  • R f16 include CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CHF.
  • R f2 is a hydrocarbon group having a (1 + b) -valent fluorine atom, and at least the carbon atom bonded to R 1 has a fluorine atom.
  • R f2 a hydrocarbon having b partial structures "-CQF- * (where Q is a hydrogen atom, a fluorine atom or CF 3 and-* is a bond that bonds to R 1 )". It is preferably a group.
  • the hydrocarbon group include linear or branched chain hydrocarbon groups, aliphatic hydrocarbon rings, aromatic hydrocarbon rings, and combinations thereof. Hydrocarbon groups may have double or triple bonds in the carbon chain.
  • Examples of the combination include those in which a chain hydrocarbon group and an aliphatic hydrocarbon ring are bonded, and those in which a chain hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon ring are bonded.
  • the carbon number of R f2 is preferably 1 to 18, and more preferably 1 to 16.
  • R f2 is a divalent group.
  • R f2 in this case include a fluoroalkylene group.
  • R f2 in the case of b is preferably a fluoroalkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and perfluoro having 1 to 6 carbon atoms.
  • An alkylene group is particularly preferred.
  • Specific examples of R f2 in this case are -CHF- *, -CF 2- *, CF 2 CF 2- *, CF 2 CHF- * , CH 2 CF 2- *, CF 2 CF 2 CF 2- *.
  • R f2 is a (1 + b) valence group having one or more branch points P selected from a tertiary carbon atom, a quaternary carbon atom, and a ring structure.
  • branch point As the carbon atoms constituting the branch point, tertiary carbon atoms and quaternary carbon atoms are preferable because the compound can be easily produced and the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or friction resistance. ..
  • the ring structure constituting the branch point is a 3- to 8-membered aliphatic ring, 6 to 8 because it is easy to produce a compound and the water- and oil-repellent layer has better water- and oil-repellent properties or abrasion resistance. Examples thereof include an aromatic ring of a member ring and a fused ring composed of two or more of these rings. Examples of the ring structure constituting the branch point include the ring structure shown in the following equation. The following ring structure may be substituted with a fluorine atom. Further, the ring structure may have an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group or the like which may have a halogen atom as a substituent.
  • R f2 a combination of two or more divalent fluoroalkylene groups and one or more branching points P is preferable.
  • R f2 has a hydrocarbon ring
  • a combination of a hydrocarbon ring having three or more branch points P and two or more divalent fluoroalkylene groups is preferable.
  • R f2 is trivalent or higher is shown below.
  • RF represents ( R f1 O) m
  • ⁇ * represents a bond that binds to R 1
  • RF does not constitute R f 2 .
  • R 1 is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. R 1 does not have a fluorine atom.
  • the carbon number of R 1 is preferably 5 to 20, and particularly preferably 7 to 10 from the viewpoint that the water and oil repellent layer has more excellent water and oil repellency or abrasion resistance. Further, from the viewpoint that the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or abrasion resistance, the carbon number of R 1 is preferably an odd number, and particularly preferably 3, 5, 7 or 9.
  • R 2 is an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 20 carbon atoms.
  • the carbon number of R2 is preferably 3 to 20 and more preferably 3 to 10 from the viewpoint that the water and oil repellent layer is more excellent in water and oil repellency or abrasion resistance. It is preferable that at least one of the plurality of R 2 has 3 to 10 carbon atoms because the water-repellent oil-repellent layer has more excellent water-repellent and friction-resistant properties.
  • R 3 is an alkyl group which may have a hydrogen atom or a fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • R3 an alkyl group which may have a hydrogen atom and a fluorine atom having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and a hydrogen atom is preferable because the water- and oil-repellent layer has more excellent water-repellent and oil-repellent properties or abrasion resistance. Is more preferable.
  • T is —Si (R) 3-c (L) c and is a reactive silyl group.
  • a reactive silyl group is a group in which either one or both of a hydrolyzable group and a hydroxyl group are bonded to a silicon atom.
  • a hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group by a hydrolytic reaction. That is, the hydrolyzable silyl group becomes a silanol group (Si—OH) by the hydrolysis reaction. The silanol group further undergoes an intramolecular dehydration condensation reaction to form a Si—O—Si bond.
  • the silanol group undergoes a dehydration condensation reaction with a hydroxyl group (base material-OH) on the surface of the base material to form a chemical bond (base material-O-Si).
  • the hydrolyzable group include an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an acyl group, an acyloxy group, and an isocyanate group.
  • the alkoxy group an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • the halogen atom a chlorine atom is preferable.
  • the acyl group an acyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • an alkoxy group and a halogen atom are preferable from the viewpoint of easy production of a compound.
  • an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable because there is little outgas during coating and the compound is excellent in storage stability, and an ethoxy group is used when long-term storage stability of the compound is required. Is particularly preferable, and a methoxy group is particularly preferable when the reaction time after coating is short.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group of R is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2 from the viewpoint of easy production of a compound.
  • c, 2 and 3 are preferable, and 3 is more preferable, from the viewpoint that the adhesion of the water-repellent and oil-repellent layer becomes stronger.
  • the plurality of Ts may be the same or different. From the viewpoint of easy production of the compound, it is preferable that a plurality of T's are the same group.
  • two or more Ts are arranged at each end from the viewpoint that the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or friction resistance.
  • a is 2 or 3.
  • b is preferably 1 from the viewpoint that the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or abrasion resistance.
  • all b are 1.
  • a is preferably 3 from the viewpoint that the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties or abrasion resistance.
  • all a are 3.
  • Examples of the compound (A1) and the compound (A2) include the compounds of the following formulas. Further, from the viewpoint of durability, the present compound preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.2 or less.
  • n3 and n4 in the formula represent the number of repeating units, and each is an integer of 1 to 100 independently.
  • the compound (A1) can be produced, for example, by a method in which the following compound (A11) and the compound (1a) are hydrosilylated.
  • the compound (A2) can be produced, for example, by a method in which the following compound (A21) and the compound (1a) are hydrosilylated.
  • These hydrosilylation reactions can be carried out by known methods.
  • R f -O- (R f1 O) m -R f2 [-R 1 -C (-R 20 -CH CH 2 ) a (-R 3 ) 3-a ] b ...
  • the compound (A11) can be produced, for example, by a method of reacting the following compound (A12) with the following compound (B2).
  • the compound (A21) can be produced, for example, by a method of reacting the following compound (A22) with the following compound (B2).
  • A12) L 2 -CH 2 -R f2- O- (R f1 O) m -R f2- CH 2 -L 2 ...
  • L 2 is a sulfonate group (-O-SO 2 -R 22 )
  • R 22 is an organic group.
  • the reaction of the above scheme (1) can be carried out under relatively mild conditions and in high yield.
  • Specific examples of the sulfonate group include a tosylate group (OTs), a mesylate group (OMs), a triflate group (OTf), and a nonaflate group (ONf). Of these, a triflate group is preferable from the viewpoint of the reaction yield of the scheme (1).
  • the compound (A12) or the compound (A22) is a compound represented by the following compound (A13) or the compound (A23) in the presence of an organic amine compound such as triethylamine or pyridine, and trifluoromethanesulfonic anhydride, tosil lolide, and the like. It can be produced by a method of reacting mesylate or the like to form a sulfonate.
  • a 1 , A 2 and n in the formula are as described above.
  • Compound (A13) and compound (A23) can be produced with reference to, for example, International Publication No. 2017/038830.
  • the compound (B2) can be produced, for example, by a method of reacting the following compound (B1) with metallic magnesium.
  • (CH 2 CH-R 20- ) a (R 3- ) 3-a C-R 21 -X ... (B1)
  • R 20 , R 21 , R 3 , X and a in the formula are the same as those of compound (B2).
  • the amount of the compound (B2) used is 1 to 1 to the total number of the sulfonate groups L2 contained in the compound (A12) or the compound (A12) from the viewpoint of improving the yield of the target product. It is preferably 30 equivalents, more preferably 3 to 20 equivalents, and particularly preferably 5 to 15 equivalents.
  • a transition metal compound as a catalyst from the viewpoint of improving reactivity and increasing yield.
  • the transition metal compound can be appropriately selected and used from known catalysts used in the Grignard reaction.
  • the transition metal compound the compound containing the elements of Group 3 to 12 of the periodic table is preferable as the transition metal, and the compound containing the elements of Group 8 to Group 11 is particularly preferable.
  • the Group 8 to Group 11 elements preferably contain one or more elements selected from the group consisting of copper, nickel, palladium, cobalt, and iron, and particularly preferably contain copper. preferable.
  • the transition metal compound contains copper
  • the copper may be any of 0-valent, monovalent, divalent, and trivalent compounds, but from the viewpoint of catalytic ability, a salt of monovalent or divalent copper or a salt of divalent copper or It is preferably a complex salt. Further, copper chloride is more preferable from the viewpoint of easy availability.
  • the amount of the transition metal compound used is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 1 to 30 mol%, and 2 to 20 mol% with respect to the total number of sulfonate groups L2. Is particularly preferred.
  • a ligand may be used in combination with the transition metal compound.
  • the yield of the target product is improved by using the ligand.
  • the ligand may not be used.
  • Specific examples of the ligand include 1,3-butadiene, phenylpropine, and tetramethylethylenediamine (TMEDA).
  • TEDA tetramethylethylenediamine
  • the reaction of scheme (1) is usually carried out in a solvent.
  • the solvent can be appropriately selected from the solvents capable of dissolving the compound (A12), the compound (A13) and the compound (B2).
  • the solvent may be a mixed solvent of one kind alone or a combination of two or more kinds.
  • the solvent may be a solvent inert to the reaction. There is no particular limitation.
  • ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane are preferable, and tetrahydrofuran is more preferable.
  • a mixed solvent in which an ether solvent and a fluorine solvent are combined is preferable.
  • fluorocarbon solvents include hydrofluorocarbons (1H, 4H-perfluorobutane, 1H-perfluorohexane, 1,1,1,3,3-pentafluorobutane, 1,1,2,2,3,3).
  • reaction of the scheme (1) for example, a solution containing the compound (A12) or the compound (A13) is prepared, a transition metal compound and a ligand are added if necessary, and then the separately prepared compound (B2) is added. It can be carried out by adding a solution.
  • the reaction temperature of the scheme (1) may be, for example, ⁇ 20 ° C. to 66 ° C. (boiling point of tetrahydrofuran), preferably ⁇ 20 ° C. to 40 ° C.
  • the thickness of the water-repellent and oil-repellent layer is preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 50 nm.
  • the thickness of the water-repellent oil-repellent layer is at least the lower limit, the effect of the water-repellent oil-repellent layer can be sufficiently obtained.
  • the thickness of the water-repellent and oil-repellent layer is not more than the above upper limit, the utilization efficiency is high.
  • the thickness of the water- and oil-repellent layer can be calculated from the vibration cycle of the reflected X-ray interference pattern obtained by the X-ray reflectivity method (XRR) using an X-ray diffractometer for thin film analysis.
  • a base layer containing an oxide containing silicon and the above-mentioned specific element is formed on the base material, and then the compound (A1) and the compound (A1) and the compound (A1) are formed on the base layer.
  • a water- and oil-repellent layer made of a hydrolysis condensate of a fluorine-containing ether compound selected from the group consisting of the compound (A2) is formed.
  • the base layer is formed by a vapor deposition method using a vapor deposition material or a wet coating method.
  • the vapor deposition material used in the vapor deposition method includes silicon and oxides containing specific elements.
  • Specific examples of the form of the vapor-deposited material include powder, melt, sintered body, granulated body, and crushed body, and from the viewpoint of handleability, melted body, sintered body, and granulated body are preferable.
  • the molten material means a solid material obtained by melting the powder of the vapor-filmed material at a high temperature and then cooling and solidifying it.
  • the sintered body means a solid substance obtained by firing the powder of the vapor-filmed material, and if necessary, the powder is press-formed and the molded body is used instead of the powder of the vapor-filmed material. May be good.
  • the granulated material means a solid substance obtained by kneading a powder of a vapor-deposited material and a liquid medium (for example, water, an organic solvent) to obtain particles, and then drying the particles.
  • the thin-film deposition material can be produced, for example, by the following method. -A method of obtaining a powder of a vapor-deposited material by mixing a powder of silicon oxide and a powder of an oxide of a specific element. -A method of obtaining granules of a vapor-deposited material by kneading the powder and water of the vapor-deposited material to obtain particles and then drying the particles.
  • -Silicon-containing powder for example, silicon oxide powder, silica sand, silica gel
  • specific element-containing powder for example, specific element oxide powder, carbonate, sulfate, nitrate, oxalic acid
  • a method of obtaining a sintered body by drying a mixture of (salt, hydroxide) and water, and then firing the dried mixture or a compact obtained by press-molding the dried mixture.
  • -Powder containing silicon for example, powder made of silicon oxide, silica sand, silica gel
  • powder containing a specific element for example, powder of oxide of a specific element, carbonate, sulfate, nitrate, oxalic acid.
  • a method of obtaining a melt by melting a salt (salt, hydroxide) at a high temperature and then cooling and solidifying the melt.
  • the vapor deposition method using a vapor deposition material include a vacuum vapor deposition method.
  • the vacuum vapor deposition method is a method in which a vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber and adhered to the surface of a base material.
  • the temperature at the time of vapor deposition (for example, when a vacuum vapor deposition apparatus is used, the temperature of the boat on which the vapor deposition material is placed) is preferably 100 to 3000 ° C, particularly preferably 500 to 3000 ° C.
  • the pressure at the time of vapor deposition (for example, when a vacuum vapor deposition apparatus is used, the pressure in the tank in which the vapor deposition material is placed) is preferably 1 Pa or less, and particularly preferably 0.1 Pa or less.
  • one thin-film deposition material may be used, or two or more thin-film deposition materials containing different elements may be used.
  • the vapor deposition material evaporation method include a resistance heating method in which the vapor deposition material is melted and evaporated on a refractory metal resistance heating boat, an electron beam is applied to the vapor deposition material, and the vapor deposition material is directly heated to surface.
  • the refractory substance can also be evaporated, and since the temperature is low where the electron beam does not hit, there is no risk of reaction with the container or contamination of impurities.
  • the gun method is preferred.
  • a plurality of boats may be used, or all the vaporized materials may be put in a single boat and used.
  • the vapor deposition method may be co-deposited or alternate vapor deposition or the like.
  • silica and a specific source are mixed and used in the same boat
  • silica and a specific element source are co-deposited in separate boats
  • silica and a specific element source are co-deposited in separate boats and alternately vapor-deposited.
  • the conditions and order of vapor deposition are appropriately selected depending on the composition of the underlying layer.
  • a base layer is formed on a substrate by a wet coating method using a coating liquid containing a compound containing silicon, a compound containing a specific element, and a liquid medium.
  • silicon compound examples include silicon oxide, silicic acid, a partial condensate of silicic acid, alkoxysilane, and a partial hydrolysis condensate of alkoxysilane.
  • Specific examples of compounds containing specific elements include oxides of specific elements, alkoxides of specific elements, carbonates of specific elements, sulfates of specific elements, nitrates of specific elements, oxalates of specific elements, and water of specific elements. Examples include oxides.
  • liquid medium examples include water and an organic solvent.
  • organic solvent examples include a fluorinated organic solvent and a non-fluorinated organic solvent.
  • the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • fluorinated organic solvent examples include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, and fluoroalcohols.
  • the fluorinated alkane is preferably a compound having 4 to 8 carbon atoms, for example, C 6 F 13 H (AC-2000: product name, manufactured by AGC), C 6 F 13 C 2 H 5 (AC-6000: product name). , AGC), C 2 F 5 CHFCHFCF 3 (Bertrel: product name, manufactured by DuPont).
  • fluorinated aromatic compound examples include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, and 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene.
  • fluoroalkyl ether a compound having 4 to 12 carbon atoms is preferable, and for example, CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AE-3000: product name, manufactured by AGC), C 4 F 9 OCH 3 (Novec-7100).
  • fluorinated alkylamine include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
  • fluoroalcohol include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol and hexafluoroisopropanol.
  • non-fluorine-based organic solvent a compound consisting only of a hydrogen atom and a carbon atom and a compound consisting only of a hydrogen atom, a carbon atom and an oxygen atom are preferable, and specifically, a hydrocarbon-based organic solvent and a ketone-based organic solvent are used.
  • a hydrocarbon-based organic solvent and a ketone-based organic solvent are used.
  • Ether-based organic solvent, ester-based organic solvent, alcohol-based organic solvent and examples.
  • Specific examples of the hydrocarbon-based organic solvent include hexane, heptane, and cyclohexane.
  • Specific examples of the ketone-based organic solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.
  • ether-based organic solvent examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, and tetraethylene glycol dimethyl ether.
  • ester-based organic solvent examples include ethyl acetate and butyl acetate.
  • alcohol-based organic solvent examples include isopropyl alcohol, ethanol, and n-butanol.
  • the content of the liquid medium is preferably 0.01 to 20% by mass, particularly preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total mass of the coating liquid used for forming the base layer.
  • the wet coating method for forming the base layer include a spin coating method, a wipe coating method, a spray coating method, a squishy coating method, a dip coating method, a die coating method, an inkjet method, a flow coating method, and a roll coating method.
  • the cast method, the Langmuir Brodget method, and the gravure coat method can be mentioned.
  • the drying temperature of the coating film is preferably 20 to 200 ° C, particularly preferably 80 to 160 ° C.
  • the water- and oil-repellent layer is dried using a composition containing compound (A1) or compound (A2), or compound (A1) or compound (A2) and a liquid medium (hereinafter, also referred to as "composition"). It can be formed by either a coating method or a wet coating method. Specific examples of the liquid medium contained in the composition are the same as those of the liquid medium mentioned in the coating liquid for forming the base layer, and thus the description thereof will be omitted.
  • the water-repellent and oil-repellent layer can be produced, for example, by the following method.
  • the dry coating method include a vacuum vapor deposition method, a CVD method, and a sputtering method.
  • the vacuum vapor deposition method is preferable from the viewpoint of suppressing the decomposition of the fluorine-containing compound and the simplicity of the apparatus.
  • a pellet-like substance obtained by impregnating a metal porous body such as iron or steel with a compound (A1) or a compound (A2) or a composition may be used.
  • the drying temperature after the composition is wet-coated is preferably 20 to 200 ° C, particularly preferably 80 to 160 ° C.
  • the content of the compound (A1) or the compound (A2) in the composition is preferably 0.01 to 50% by mass, particularly preferably 1 to 30% by mass, based on the total mass of the composition.
  • the content of the liquid medium in the composition is preferably 50 to 99.99% by mass, particularly preferably 70 to 99% by mass, based on the total mass of the composition.
  • an operation for promoting the reaction between the compound (A1) or the compound (A2) and the base layer may be performed, if necessary.
  • the operation include heating, humidification, and light irradiation.
  • a substrate with a base layer on which a water- and oil-repellent layer is formed is heated in a water-containing atmosphere to hydrolyze the reactive silyl group contained in the compound (A1) or the compound (A2) into a silanol group.
  • the formation of a siloxane bond by the condensation reaction of the silanol group, the condensation reaction between the silanol group on the surface of the base layer and the silanol group of the fluorine-containing compound, and the like can be promoted.
  • the compounds in the water-repellent and oil-repellent layer that are not chemically bonded to other compounds or the silicon oxide layer may be removed, if necessary.
  • Specific methods include, for example, a method of pouring a solvent over the water-repellent oil-repellent layer, a method of wiping with a cloth soaked with the solvent, and a method of acid-cleaning the surface of the water-repellent oil-repellent layer.
  • the base material with a water- and oil-repellent layer of the present invention is an optical member, a touch panel, an antireflection film, an antireflection glass, a SiO 2 treated glass, a tempered glass, a sapphire glass, and a quartz substrate used as a part of the following product parts. , Useful as mold metal, etc.
  • Products Car navigation, mobile phones, digital cameras, digital video cameras, mobile information terminals (PDAs), portable audio players, car audio, game equipment, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, medical equipment (gastric cameras, etc.) ), Copies, personal computers (PCs), liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays, protective films, antireflection films, antireflection glass, nanoimprint templates, molds, etc.
  • Examples 1 and 8 to 11 are comparative examples, and examples 2 to 7 and 12 are examples. However, the present invention is not limited to these examples.
  • the blending amount of each component in the table described later indicates a mass standard.
  • the obtained solution was washed with methanol and then subjected to flash column chromatography using silica gel to obtain 0.202 g of the following compound (A-3') which is a precursor of the compound (A-3).
  • the average value of the number of repeating units p is 22, and the average value of q is 25.
  • Example 1 30 g of silicon oxide (manufactured by Canon Optron) and 0.11 g of compound (A-1) were placed as a vapor deposition material (vapor deposition source) on a molybdenum boat in a vacuum vapor deposition apparatus (VTR-350M manufactured by ULVAC Kiko). .. A glass substrate was placed in the vacuum vapor deposition apparatus, and the inside of the vacuum vapor deposition apparatus was exhausted until the pressure became 5 ⁇ 10 -3 Pa or less. The boat on which silicon oxide was placed was heated to 2,000 ° C. and vacuum-deposited on a glass substrate to form a base layer having a thickness of 10 nm.
  • the boat on which the compound (A-1) is placed is heated to 700 ° C.
  • the compound (A-1) is vacuum-deposited on the surface of the base layer to form a water- and oil-repellent layer having a thickness of 10 nm, and then 140. Heat-treated at ° C for 30 minutes. In this way, the base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 1 was obtained.
  • Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 1 obtained in the following procedure was used as the vapor deposition material for the base layer to obtain a base material with a water-repellent and oil-repellent layer of Example 2.
  • Erich Intensive Mixer EL-1 manufactured by Japan Eirich, hereinafter referred to as "EL-1"
  • EL-1 Erich Intensive Mixer
  • 2.5 g of soda ash manufactured by Soda Ash Japan
  • silica particles SC5500-SQ trade name, Admatex
  • the stirring speed was changed to 4800 rpm, 40.2 g of distilled water was added while stirring, and the mixture was further stirred at 4800 rpm for 60 seconds. Finally, the mixture was stirred at 1200 rpm for 60 seconds.
  • the obtained particles were taken out from EL-1 and dried at 150 ° C. for 30 minutes, and then fired at 1,150 ° C. for 1 hour to obtain a sintered body 1.
  • Example 3 The amount of soda ash (manufactured by Soda Ash Japan) added is 7.5 g, the amount of silica particles SC5500-SQ (trade name, manufactured by Admatex) is 250 g, and the same procedure as in Example 2 is carried out for firing. I got unity 2. The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 2 was used to obtain a substrate with a water-repellent and oil-repellent layer of Example 3.
  • Example 4 The amount of soda ash (manufactured by Soda Ash Japan) added is 25 g, the amount of silica particles SC5500-SQ (trade name, manufactured by Admatex) is 250 g, and the same procedure as in Example 2 is carried out to carry out the sintered body. I got 3. The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 3 was used to obtain a substrate with a water-repellent and oil-repellent layer of Example 4.
  • Example 5 The amount of soda ash (manufactured by Soda Ash Japan) added is 50 g, the amount of silica particles SC5500-SQ (trade name, manufactured by Admatex) is 250 g, and the same procedure as in Example 2 is carried out to carry out the sintered body. I got 4. The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 3 was used to obtain a substrate with a water-repellent and oil-repellent layer of Example 5.
  • Example 6 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 5 obtained in the following procedure was used as the vapor deposition material for the base layer to obtain the base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 6.
  • EL-1 7.5 g of magnesium oxide (MgO manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 250 g of silica particles SC5500-SQ (trade name, manufactured by Admatex Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred and mixed at 2400 rpm for 30 seconds. The stirring speed was changed to 4800 rpm, 40.2 g of distilled water was added while stirring, and the mixture was further stirred at 4800 rpm for 60 seconds. Finally, the mixture was stirred at 1200 rpm for 60 seconds. The obtained particles were taken out from EL-1 and dried at 150 ° C. for 30 minutes, and then fired at 1,150 ° C. for 1 hour to obtain a sintered body 5.
  • MgO magnesium oxide
  • SC5500-SQ trade
  • Example 7 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the sintered body 6 obtained in the following procedure was used as the vapor deposition material of the base layer to obtain a base material with a water-repellent and oil-repellent layer of Example 7.
  • EL-1 7.5 g of boric acid particles (Optibor: product name, manufactured by Hayakawa Shoji Co., Ltd.) and 250 g of silica particles SC5500-SQ (trade name, manufactured by Admatex Co., Ltd.) are added, and the mixture is stirred and mixed at 2400 rpm for 30 seconds. did.
  • the stirring speed was changed to 4800 rpm, 40.2 g of distilled water was added while stirring, and the mixture was further stirred at 4800 rpm for 60 seconds. Finally, the mixture was stirred at 1200 rpm for 60 seconds.
  • the obtained particles were taken out from EL-1 and dried at 150 ° C. for 30 minutes, and then fired at 1,150 ° C. for 1 hour to obtain a sintered body 6.
  • Example 8 The base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 8 was formed in the same manner as in Example 1 except that 0.12 g of the compound (A-2) was arranged as the vapor deposition material (deposited source).
  • Example 9 The sintered body 2 was used in the same manner as in Example 3 except that 0.15 g of the compound (A-2) was arranged as the vapor deposition material (deposit source) to form the base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 9. ..
  • Example 10 The sintered body 7 was formed in the same manner as in Example 7 except that 0.15 g of the compound (A-2) was arranged as the vapor deposition material (deposited source) to form the base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 10.
  • Example 11 The base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 11 was formed in the same manner as in Example 1 except that 0.16 g of the compound (A-3) was arranged as the vapor deposition material (deposited source).
  • Example 12 The base material with the water-repellent and oil-repellent layer of Example 12 was formed in the same manner as in Example 3 except that 0.14 g of the compound (A-3) was arranged as the vapor deposition material (deposited source).
  • the end point B is the point where the molar concentration (mol%) of any element present only in the substrate with respect to all the elements detected by XPS analysis exceeds 30% of the molar concentration (mol%) in the substrate for the first time. And said.
  • the starting point A to the ending point B was defined as the base layer, and the ratio of the average value of the molar concentration (mol%) of the target element to the average value of the molar concentration (mol%) of silicon in the base layer was calculated.
  • X-ray photoelectron spectroscopy analyzer ESCA-5500 manufactured by ULVAC-PHI ⁇ Measurement conditions> X-ray source; Monochromatic AlK ⁇ ray Photoelectron detection angle; 75 degree pass energy with respect to sample surface; 117.4 eV Step energy; 0.5 eV / step Spatter ion; C 60 ion spatter gun raster size with acceleration voltage of 10 kV; 3 x 3 mm 2 Spatter interval; 0.4 minutes Spatter rate of thermal oxide film (SiO 2 film) on silicon wafer of spatter gun; 2.20 nm / min Measurement pitch; 0.88 nm (converted to thermal oxide film on silicon wafer)
  • ⁇ Measurement method of contact angle> The contact angle of about 2 ⁇ L of distilled water placed on the surface of the water- and oil-repellent layer was measured using a contact angle measuring device (DM-500, manufactured by Kyowa Surface Science Co., Ltd.). Measurements were made at five different points on the surface of the water- and oil-repellent layer, and the average value was calculated. The 2 ⁇ method was used to calculate the contact angle.
  • ⁇ Initial contact angle> For the water- and oil-repellent layer, the initial water contact angle was measured by the above measuring method. The evaluation criteria are as follows. Initial water contact angle: ⁇ (excellent): 115 degrees or more. ⁇ (possible): 105 degrees or more and less than 115 degrees. ⁇ (impossible): Less than 105 degrees.
  • ⁇ Abrasion resistance (steel wool)> For the water- and oil-repellent layer, a reciprocating traverse tester (manufactured by KENT) was used in accordance with JIS L0849: 2013 (ISO 105-X12: 2001), and the steel wool bonster (# 0000) was pressured at 98.07 kPa and speed. : After reciprocating 10,000 times at 320 cm / min, the water contact angle was measured. The smaller the decrease in water repellency (water contact angle) after rubbing, the smaller the decrease in performance due to friction, and the better the friction resistance. The evaluation criteria are as follows. ⁇ (Hide): The change in water contact angle after 10,000 round trips is less than 1 degree.
  • ⁇ (Good) The change in water contact angle after 10,000 round trips is 2 degrees or more and less than 3 degrees.
  • ⁇ (impossible) Change in water contact angle after 10,000 round trips is 4 degrees or more.
  • the base layer contains a specific element
  • the water-repellent and oil-repellent layer is the addition of compound (A1) (that is, compound (A-1)) or compound (A2) (that is, compound (A-3)).
  • the initial water contact angle was more than acceptable, and the wear resistance was more than good.
  • wear resistance was not possible.
  • Examples 9 and 10 in which the base layer contains a specific element but the water- and oil-repellent layer is formed by using a compound other than the compound (A1) and the compound (A2) (that is, the compound (A-2)) are wear-resistant. Was acceptable and inadequate.
  • Examples 2 to 6 and 12 in which the base layer contains a group 1 element (Na) and a group 2 element (Mg) as specific elements have excellent wear resistance or higher.
  • Examples 3, 4, 12 in which the base layer contains a Group 1 element (Na) as a specific element and the ratio of the total molar concentration of the specific element to the molar concentration of silicon in the base layer is 0.02 to 2.90. was excellent in wear resistance.
  • Base material with water-repellent and oil-repellent layer 12 Base material 14 Base layer 16 Water- and oil-repellent layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

耐摩耗性に優れた撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法の提供。 基材と、基材の表面に形成された下地層と、下地層の表面に形成された撥水撥油層と、を有し、下地層が、ケイ素と、特定元素とを含む酸化物を含み、撥水撥油層は、式(A1)で表される化合物、および、式(A2)で表される化合物からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる、撥水撥油層付き基材。 R-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1) [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)

Description

撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法
 本発明は、撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法に関する。
 基材の表面に撥水撥油性、指紋汚れ除去性、潤滑性(指で触った際の滑らかさ)等を付与するために、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を用いた表面処理によって、基材の表面に含フッ素化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成することが知られている(特許文献1参照)。
国際公開2017/022437号公報
 近年、撥水撥油層に対する要求性能がより高くなっており、撥水撥油性および耐摩耗性により優れた撥水撥油層が求められている。
 特許文献1に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を用いて形成した撥水撥油層は、耐摩耗性が不十分であった。
 本発明は、上記問題に鑑みてなされ、耐摩耗性に優れた撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法の提供を課題とする。
 本発明は、以下の[1]~[12]である。
 [1] 基材と、前記基材の表面に形成された下地層と、前記下地層の表面に形成された撥水撥油層と、を有し、
 前記下地層が、ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第4族元素、第5族元素、第13族元素、および第15族元素からなる群から選択される少なくとも1つの特定元素とを含む酸化物を含み、
 前記撥水撥油層は、式(A1)で表される化合物、および、式(A2)で表される化合物からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる、撥水撥油層付き基材。
-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1)
 [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)
 ただし、
 Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基であり、
 Rf1は、炭素数1~6のフルオロアルキレン基であり、
 Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有し、Rf2が複数ある場合、当該Rf2は同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、炭素数が1~20のアルキレン基であり、
 Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基であって、Rが複数ある場合、当該複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Tは、-Si(R)3-c(L)であって、複数あるTは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、アルキル基であり、
 Lは、加水分解性基または水酸基であり、Tにおける2以上のLは同一であっても異なっていてもよく、
 mは、1~20の整数であり、
 aは、1~3の整数であって、aが複数ある場合、複数あるaは同一であっても異なっていてもよく、
 bは、1以上の整数であり、bが複数ある場合、複数あるbは同一であっても異なっていてもよく、
 cは、2または3であり、複数あるcは同一であっても異なっていてもよく、
 bが1の場合、aは、2または3である。
 [2] 前記Rf2が、b個の部分構造「-CQF-*(ただし、Qは水素原子、フッ素原子またはCFであり、-*はRと結合する結合手である。)」を有する炭化水素基である、[1]に記載の撥水撥油層付き基材。
 [3] 前記bが1であり、前記Rf2が炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基である、[1]または[2]に記載の撥水撥油層付き基材。
 [4] 前記特定元素が、周期表の第1族元素、第2族元素、および第13族元素からなる群から選択される少なくとも1つである、[1]~[3]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 [5] 前記特定元素が、周期表の第1族元素である、[1]~[4]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 [6] 前記bが1である、[1]~[5]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 [7] 前記aが3である、[1]~[6]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 [8] 前記下地層におけるケイ素のモル濃度に対する、特定元素の合計モル濃度の比が0.02~2.90である、[1]~[7]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 [9] 基材と、下地層と、撥水撥油層とをこの順で有する撥水撥油層付き基材の製造方法であって、
 前記基材上に、ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第4族元素、第5族元素、第13族元素、および第15族元素からなる群から選択される少なくとも1つの特定元素とを含む酸化物を含む下地層を形成し、
 次いで、前記下地層上に、式(A1)で表される化合物、および、式(A2)で表される化合物からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成する、撥水撥油層付き基材の製造方法。
-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1)
 [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)
 ただし、
 Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基であり、
 Rf1は、炭素数1~6のフルオロアルキレン基であり、
 Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有し、Rf2が複数ある場合、当該Rf2は同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、炭素数が1~20のアルキレン基であり、
 Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基であって、Rが複数ある場合、当該複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Tは、-Si(R)3-c(L)であって、複数あるTは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、アルキル基であり、
 Lは、加水分解性基または水酸基であり、Tにおける2以上のLは同一であっても異なっていてもよく、
 mは、1~20の整数であり、
 aは、1~3の整数であって、aが複数ある場合、複数あるaは同一であっても異なっていてもよく、
 bは、1以上の整数であり、bが複数ある場合、複数あるbは同一であっても異なっていてもよく、
 cは、2または3であり、複数あるcは同一であっても異なっていてもよく、
 bが1の場合、aは、2または3である。
 [10] 前記Rf2が、b個の部分構造「-CQF-*(ただし、Qは水素原子、フッ素原子またはCFであり、-*はRと結合する結合手である。)」を有する炭化水素基である、[9]に記載の撥水撥油層付き基材の製造方法。
 [11] 前記bが1であり、前記Rf2が炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基である、[9]または[10]の撥水撥油層付き基材の製造方法。
 [12] 光学部材として用いられる、[1]~[8]のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
 本発明によれば、耐摩耗性に優れた撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法を提供できる。
本発明の撥水撥油層付き基材の一例を模式的に示す断面図である。
 本明細書において、式(A1)で表される化合物を化合物(A1)と記す。他の式で表される化合物等もこれらに準ずる。
 本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
 「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基およびシラノール基(Si-OH)の総称である。反応性シリル基は、例えば式(A1)または式(A2)中のT、すなわち-Si(R)3-c(L)である。
 「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
 含フッ素エーテル化合物が、ポリフルオロポリエーテル鎖の鎖長が異なる複数の含フッ素エーテル化合物の混合物である場合、ポリフルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン単位の数(平均値)を求めて算出される数平均分子量である。末端基は、例えば式(A1)中のRまたは式(A1)または式(A2)中のTである。
 含フッ素エーテル化合物が、ポリフルオロポリエーテル鎖の鎖長が単一の含フッ素エーテル化合物である場合、ポリフルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、H-NMRおよび19F-NMRによってRの構造を決定して算出される分子量である。
[撥水撥油層付き基材]
 本発明の撥水撥油層付き基材は、基材と、下地層と、撥水撥油層とをこの順で有する。
 図1は、本発明の撥水撥油層付き基材の一例を模式的に示す断面図である。撥水撥油層付き基材10は、基材12と、基材12の一方の表面に形成された下地層14と、下地層14の表面に形成された撥水撥油層16と、を有する。
 図1の例では、基材12と下地層14とが接しているが、これに限定されず、撥水撥油層付き基材は、基材12と下地層14との間に、図示しない他の層を有していてもよい。また、図1の例では、下地層14と撥水撥油層16とが接しているが、撥水撥油層付き基材は、下地層14と撥水撥油層16との間に図示しない他の層を有していてもよい。
 図1の例では、基材12の一方の表面の全体に下地層14が形成されているが、これに限定されず、基材12の一部の領域のみに下地層14が形成されていてもよい。また、図1の例では、下地層14の表面の全体に撥水撥油層16が形成されているが、これに限定されず、下地層14の一部の領域のみに撥水撥油層16が形成されていてもよい。
 図1の例では、基材12の一方の面のみに、下地層14および撥水撥油層16が形成されているが、これに限定されず、基材12の両面に下地層14および撥水撥油層16が形成されていてもよい。
(基材)
 基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
 基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、JIS R3106:1998(ISO 9050:1990)に準じた垂直入射型可視光透過率が25%以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂であるのが好ましい。
 また基材としては、下記の例が挙げられる。建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器(たとえば、自動車)、看板・掲示板、飲用器・食器、水槽、観賞用器具(たとえば、額、箱)、実験器具、家具、アート・スポーツ・ゲームに使用する、ガラスまたは樹脂、携帯電話(たとえば、スマートフォン)、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分(表示部を除く)に使用する、ガラスまたは樹脂であるのも好ましい。基材の形状は、板状、フィルム状でもよい。
 基材は、一方の表面または両面が、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理が施された基材であってもよい。表面処理が施された表面は、基材と下地層との接着性がより優れ、その結果、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる。そのため、基材の下地層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。
(下地層)
 下地層は、ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第4族元素、第5族元素、第13族元素、および第15族元素からなる群から選択される少なくとも1つの特定元素とを含む酸化物を含む層である。
 周期表の第1族元素(以下、「第1族元素」ともいう。)とは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウムを意味する。第1族元素としては、下地層上に撥水撥油層を欠陥なくより均一に形成できる点、または、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される点から、リチウム、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウム、カリウムが特に好ましい。下地層には、第1族元素が2種以上含まれていてもよい。
 周期表の第2族元素(以下、「第2族元素」ともいう。)とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムを意味する。第2族元素としては、下地層上に撥水撥油層を欠陥なくより均一に形成できる点、または、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される点から、マグネシウム、カルシウム、バリウムが好ましく、マグネシウム、カルシウムが特に好ましい。下地層には、第2族元素が2種以上含まれていてもよい。
 周期表の第4族元素(以下、「第4族元素」ともいう。)とは、チタン、ジルコニウム、およびハフニウムを意味する。第4族元素としては、下地層上に撥水撥油層を欠陥なくより均一に形成できる点、または、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される点から、チタン、ジルコニウムが好ましく、チタンが特に好ましい。下地層には、第4族元素が2種以上含まれていてもよい。
 周期表の第5族元素(以下、「第5族元素」ともいう。)とは、バナジウム、ニオブおよびタンタルを意味する。第5族元素としては、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる点から、バナジウムが特に好ましい。下地層には、第5族元素が2種以上含まれていてもよい。
 周期表の第13族元素(以下、「第13族元素」ともいう。)とは、ホウ素、アルミニウム、ガリウムおよびインジウムを意味する。第13族元素としては、下地層上に撥水撥油層を欠陥なくより均一に形成できる点、または、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される点から、ホウ素、アルミニウム、ガリウムが好ましく、ホウ素、アルミニウムが特に好ましい。下地層には、第13族元素が2種以上含まれていてもよい。
 周期表の第15族元素(以下、「第15族元素」ともいう。)とは、窒素、リン、ヒ素、アンチモンおよびビスマスを意味する。第15族元素としては、下地層上に撥水撥油層を欠陥なくより均一に形成できる点、または、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される点から、リン、アンチモン、ビスマスが好ましく、リン、ビスマスが特に好ましい。下地層には、第15族元素が2種以上含まれていてもよい。
 下地層に含まれる特定元素としては、第1族元素、第2族元素、第13族元素が撥水撥油層の耐摩耗性がより優れるため好ましく、第1族元素、第2族元素がより好ましく、第1族元素が特に好ましい。
 特定元素として、1種のみの元素が含まれていても2種以上の元素が含まれていてもよい。
 下地層に含まれる酸化物は、上記元素(ケイ素および特定元素)単独の酸化物の混合物(たとえば、酸化ケイ素と、特定元素の酸化物と、の混合物)であってもよいし、上記元素を2種以上含む複合酸化物であってもよいし、上記元素単独の酸化物と複合酸化物との混合物であってもよい。
 下地層中のケイ素のモル濃度に対する、下地層中の特定元素の合計モル濃度の比(特定元素/ケイ素)は、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる点から、0.02~2.90であるのが好ましく、0.10~2.00であるのがより好ましく、0.20~1.80であるのが特に好ましい。
 下地層中の各元素のモル濃度(モル%)は、例えば、イオンスパッタリングを用いたX線光電子分光法(XPS)による深さ方向分析によって測定できる。
 下地層は、単層であっても複層であってもよい。下地層は、表面に凹凸を有していてもよい。
 下地層の厚みとしては、1~100nmが好ましく、1~50nmがより好ましく、2~20nmが特に好ましい。下地層の厚みが上記下限値以上であれば、下地層による撥水撥油層の接着性がより向上して、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚みが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。
 下地層の厚みは、透過電子顕微鏡(TEM)による下地層の断面観察によって測定される。
(撥水撥油層)
 撥水撥油層は、化合物(A1)および化合物(A2)からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる。
 上記含フッ素エーテル化合物は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物である。すなわち、撥水撥油層は、含フッ素化合物の反応性シリル基の一部または全部が加水分解反応および脱水縮合反応した縮合物を含む。
 より具体的には、撥水撥油層は、化合物(A1)の加水分解縮合物から構成されていてもよいし、化合物(A2)の加水分解縮合物から構成されていてもよいし、化合物(A1)の加水分解縮合物および化合物(A2)の加水分解縮合物の両方で構成されていてもよい。
 R-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1)
 [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)
 ただし、
 Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基であり、
 Rf1は、炭素数1~6のフルオロアルキレン基であり、
 Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有し、Rf2が複数ある場合、当該Rf2は同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、炭素数が1~20のアルキレン基であり、
 Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基であって、Rが複数ある場合、当該複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
 Tは、-Si(R)3-c(L)であって、複数あるTは同一であっても異なっていてもよく、
 Rは、アルキル基であり、
 Lは、加水分解性基または水酸基であり、Tにおける2以上のLは同一であっても異なっていてもよく、
 mは、1~20の整数であり、
 aは、1~3の整数であって、aが複数ある場合、複数あるaは同一であっても異なっていてもよく、
 bは、1以上の整数であり、bが複数ある場合、複数あるbは同一であっても異なっていてもよく、
 cは、2または3であり、複数あるcは同一であっても異なっていてもよく、
 bが1の場合、aは、2または3である。
 上記化合物(A1)および化合物(A2)は、いずれも、ポリフルオロポリエーテル鎖[R-O-(Rf1O)-]または[-O-(Rf1O)-]と、反応性シリル基と、ポリフルオロポリエーテル鎖と反応性シリル基とを連結する特定の連結基-Rf2[-R-C(-R-)とを有する。
 化合物(A1)は、「1価のポリフルオロポリエーテル鎖-連結基-反応性シリル基」の構造を有する化合物であり、化合物(A2)は、「反応性シリル基-連結基-2価のポリフルオロポリエーテル鎖-連結基-反応性シリル基」の構造を有する化合物である。
 化合物(A1)および化合物(A2)は、上記連結基が炭化水素基により構成される。そのため、従来広く用いられている化合物に含まれる、エーテル結合等を含む連結基に対して化学的安定性が向上している。
 Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基である。
 Rのフルオロアルキル基の炭素数としては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、1~6が好ましく、1~4がより好ましく、1~3が特に好ましい。
 Rのフルオロアルキル基としては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、ペルフルオロアルキル基が好ましい。Rがペルフルオロアルキル基である化合物(A1)は、末端がCF-となる。末端がCF-である化合物(A1)によれば、低表面エネルギーの撥水撥油層を形成できるため、撥水撥油層の撥水撥油性および耐摩擦性がより優れる。
 Rのフルオロアルキル基としては、例えば、CF-、CFCF-、CFCFCF-、CFCFCFCF-、CFCFCFCFCF-、CFCFCFCFCFCF-、CFCF(CF)-が挙げられる。
 (Rf1O)としては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、下式(D1)で表される構造が好ましい。
 (Rf11O)m1(Rf12O)m2(Rf13O)m3(Rf14O)m4(Rf15O)m5(Rf16O)m6 ・・・(D1)
 ただし、
 Rf11は、炭素数1のフルオロアルキレン基であり、
 Rf12は、炭素数2のフルオロアルキレン基であり、
 Rf13は、炭素数3のフルオロアルキレン基であり、
 Rf14は、炭素数4のフルオロアルキレン基であり、
 Rf15は、炭素数5のフルオロアルキレン基であり、
 Rf16は、炭素数6のフルオロアルキレン基であり、
 m1、m2、m3、m4、m5、m6は、それぞれ独立に0または1以上の整数を表し、m1+m2+m3+m4+m5+m6は1~200の整数であり、Rf11~Rf16が複数ある場合、当該複数あるRf11~Rf16は同一であっても異なっていてもよい。
 なお、式(D1)における(Rf11O)~(Rf16O)の結合順序は任意である。式(D1)のm1~m6は、それぞれ、(Rf11O)~(Rf16O)の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、(Rf15O)m5は、(Rf15O)の数がm5個であることを表し、(Rf5O)m5のブロック配置構造を表すものではない。同様に、(Rf11O)~(Rf16O)の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
 また、炭素数3~6のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、または環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。
 Rf1としては、その全数m個のうち数にして50~100%がペルフルオロアルキレン基であることが好ましく、80~100%がペルフルオロアルキレン基であることがより好ましく、そのすべてがペルフルオロアルキレン基であることが特に好ましい。
 Rf11の具体例としては、CHF、CFが挙げられる。Rf12の具体例としては、CFCF、CFCHF、CFCHが挙げられる。Rf13の具体例としては、CFCFCF、CFCFCHF、CFCHFCF、CFCFCH、CFCHCF、CF(CF)CFが挙げられる。Rf14の具体例としては、CFCFCFCF、CFCFCFCH、CHFCFCFCF、CFCHCFCF、CF(CF)CFCF、ペルフルオロシクロブタン-1,2-ジイル基が挙げられる。Rf15の具体例としては、CFCFCFCFCF、CFCFCFCFCH、CHFCFCFCFCF、CFCFCHCFCFが挙げられる。Rf16の具体例としては、CFCFCFCFCFCF、CFCFCFCFCFCH、CFCFCFCFCFCHFが挙げられる。
 Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有する。Rf2としては、b個の部分構造「-CQF-*(ただし、Qは水素原子、フッ素原子またはCFであり、-*はRと結合する結合手である。)」を有する炭化水素基であることが好ましい。
 上記炭化水素基としては、直鎖状または分岐状の鎖状炭化水素基、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環およびこれらの組み合わせが挙げられる。炭化水素基は炭素鎖中に二重結合または三重結合を有していてもよい。組み合わせとしては、例えば鎖状炭化水素基と脂肪族炭化水素環が結合したもの、鎖状炭化水素基と芳香族炭化水素環が結合したものが挙げられる。
 Rf2の炭素数は、1~18が好ましく、1~16がより好ましい。
 bが1の場合、Rf2は2価の基である。この場合のRf2としては、フルオロアルキレン基が挙げられる。撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、bが1の場合のRf2は、中でも、炭素数1~6のフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。この場合のRf2の具体例としては、-CHF-*、-CF-*、CFCF-*、CFCHF-*、CHCF-*、CFCFCF-*、CFCFCHF-*、CFCHFCF-*、CHCFCF-*、CFCHCF-*、CF(CF)CF-*、CFCFCFCF-*、CHCFCFCF-*、CHFCFCFCF-*、CFCHCFCF-*、CF(CF)CFCF-*、CFCFCFCFCF-*、CHCFCFCFCF-*、CHFCFCFCFCF-*、CFCFCHCFCF-*、CFCFCFCFCFCF-*、CHCFCFCFCFCF-*、CFCFCFCFCFCHF-*が挙げられる。
 bが2以上の場合、Rf2は第3級炭素原子、第4級炭素原子、および環構造から選ばれる1種以上の分岐点Pを有する(1+b)価の基である。
 分岐点を構成する炭素原子としては、化合物を製造やすい点、および、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、第3級炭素原子、第4級炭素原子が好ましい。
 分岐点を構成する環構造としては、化合物を製造やすい点、および、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、3~8員環の脂肪族環、6~8員環の芳香族環、およびこれらの環のうちの2つ以上からなる縮合環等が挙げられる。分岐点を構成する環構造としては、下式に示す環構造が挙げられる。下記環構造は、フッ素原子により置換されていてもよい。また環構造は、置換基として、ハロゲン原子を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 Rf2としては、2個以上の2価のフルオロアルキレン基と1個以上の分岐点Pとの組み合わせが好ましい。Rf2が炭化水素環を有する場合は、3個以上の分岐点Pを有する炭化水素環と2個以上の2価のフルオロアルキレン基との組合せが好ましい。
 Rf2が3価以上の場合の好ましい具体例を下記に示す。なお、下式中、Rは(Rf1O)を表し、-*はRと結合する結合手を表し、RはRf2を構成しない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 Rは、炭素数が1~20のアルキレン基である。Rは、フッ素原子を有していない。Rの炭素数としては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、5~20が好ましく、7~10が特に好ましい。また、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、Rの炭素数は奇数個であることが好ましく、3、5、7または9個であることが特に好ましい。
 Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基である。Rの炭素数としては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、3~20が好ましく、3~10がより好ましい。なお、複数あるRのうち、少なくとも一つの炭素数が3~10であることが、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から好ましい。
 Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基である。Rとしては、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、水素原子、および炭素数1~8のフッ素原子を有していてもよいアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
 Tは、-Si(R)3-c(L)であり、反応性シリル基である。
 反応性シリル基は、加水分解性基および水酸基のいずれか一方または両方がケイ素原子に結合した基である。
 加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、加水分解性シリル基は、加水分解反応によってシラノール基(Si-OH)となる。シラノール基は、さらに分子間で脱水縮合反応してSi-O-Si結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基(基材-OH)と脱水縮合反応して、化学結合(基材-O-Si)を形成する。
 加水分解性基の具体例としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1~6のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アシル基としては、炭素数1~6のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数1~6のアシルオキシ基が好ましい。
 加水分解性基としては、化合物を製造しやすい点から、アルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。加水分解性基としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性に優れる点から、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、コーティング後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
 Rのアルキル基の炭素数としては、化合物を製造しやすい点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 cとしては、撥水撥油層の密着性がより強固になる点から、2および3が好ましく、3がより好ましい。
 複数のTは、同一であっても異なっていてもよい。化合物を製造しやすい点からは、複数のTは同一の基であることが好ましい。
 また、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、各末端にTは2個以上配置されることが好ましい、このような観点から、bが1の場合、aは2または3である。
 また、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、bが1であることが好ましい。bが複数ある場合、全てのbが1であることが好ましい。
 また、撥水撥油層の撥水撥油性または耐摩擦性がより優れる点から、aが3であることが好ましい。aが複数ある場合、全てのaが3であることが好ましい。
 化合物(A1)および化合物(A2)としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。また、本化合物は、耐久性の点から、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.2以下であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 なお、式中のn3およびn4は繰り返し単位数を表し、各々独立に1~100の整数である。
(化合物(A1)および化合物(A2)の製造方法)
 化合物(A1)は、例えば、下記化合物(A11)と、化合物(1a)とをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。化合物(A2)は、例えば、下記化合物(A21)と、化合物(1a)とをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。これらヒドロシリル化反応は公知の方法で行うことができる。
 R-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R20-CH=CH(-R3-a ・・・(A11)
 [(CH=CH-R20-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R20-CH=CH(-R3-a ・・・(A21)
 HSi(R)3-c(L) ・・・(1a)
 ただし、式中のR20は単結合か、または、炭素数1~8のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、R20以外の符号は上記式(A1)または式(A2)における符号と同一である。
 -R20-CH=CHは、ヒドロシリル化後にRとなる。R20としては、Rと同様な基が挙げられ、好ましい形態も同様である。
(化合物(A11)および化合物(A21)の製造方法)
 化合物(A11)は、例えば、下記化合物(A12)と、下記化合物(B2)とを反応させる方法によって製造できる。化合物(A21)は、例えば、下記化合物(A22)と、下記化合物(B2)とを反応させる方法によって製造できる。
 R-O-(Rf1O)-Rf2-CH-L ・・・(A12)
 L-CH-Rf2-O-(Rf1O)-Rf2-CH-L ・・・(A22)
 (CH=CH-R20-)(R-)3-aC-R21-MgX ・・・(B2)
 ただし、
 Lはスルホナート基であり、
 R21は単結合か、炭素数が1~19のアルキレン基であり、
 Xは塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、
 その他の符号は上記式(A1)または式(A2)における符号と同一である。
 化合物(A12)または化合物(A22)と、化合物(B2)とは、下記スキーム(1)のように反応する。
 スキーム(1)
  -Rf2-CH-L + XMg-R21- → -Rf2-CH-R21
 ただし、スキーム(1)中の各符号は前述のとおりである。
 なお、上記反応後のCH-R21が、化合物のRに相当する。
 Lがスルホナート基(-O-SO-R22)であるため、反応が進行する。なおR22は有機基である。Lとしてスルホナート基を選択することにより、上記スキーム(1)の反応を比較的温和な条件で、且つ、高収率で実施することができる。
 スルホナート基の具体例としては、トシラート基(OTs)、メシラート基(OMs)、トリフラート基(OTf)、ノナフラート基(ONf)が挙げられる。中でも、スキーム(1)の反応収率の点から、トリフラート基が好ましい。
 化合物(A12)または化合物(A22)は、トリエチルアミンやピリジン等の有機アミン化合物存在下で、下記化合物(A13)または化合物(A23)で表される化合物に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、トシルクロリド、メシルクロリド等を反応させて、スルホナート化する方法等により製造できる。
 R-O-(Rf1O)-Rf2-CH-OH ・・・(A13)
 L-CH-Rf2-O-(Rf1O)-Rf2-CH-OH ・・・(A23)
 ただし、式中のA、Aおよびnは前述のとおりである。
 化合物(A13)および化合物(A23)は、例えば、国際公開第2017/038830号等を参照して製造できる。
 化合物(B2)は、例えば、下記化合物(B1)と金属マグネシウムを反応させる方法により製造できる。
  (CH=CH-R20-)(R-)3-aC-R21-X ・・・(B1)
 ただし、式中のR20、R21、R、Xおよびaは化合物(B2)と同様である。
 化合物(B2)の好適な具体例として、下記のものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 スキーム(1)の反応において、化合物(B2)の使用量は、目的物の収率向上の点から、化合物(A12)または化合物(A12)が有するスルホナート基Lの総数に対して、1~30当量であることが好ましく、3~20当量であることがより好ましく、5~15当量であることが特に好ましい。
 スキーム(1)の反応においては、反応性を向上し、高収率化が可能な点から、触媒として遷移金属化合物を用いることが好ましい。遷移金属化合物はグリニャール反応に用いられる公知の触媒の中から適宜選択して用いることができる。遷移金属化合物としては、遷移金属として周期表第3族元素~第12族元素を含む化合物が好ましく、中でも、第8族元素~第11族元素を含む化合物が好ましい。第8族元素~第11族元素としては、中でも、銅、ニッケル、パラジウム、コバルト、および、鉄からなる群から選択される1種以上の元素を含むことが好ましく、更に銅を含むことが特に好ましい。
 遷移金属化合物が銅を含む場合、当該銅は0価、1価、2価、3価のいずれの化合物であってもよいが、触媒能の点から、1価または2価の銅の塩または錯塩であることが好ましい。更に入手の容易性の点から、塩化銅であることがより好ましい。
 遷移金属化合物の使用量は、スルホナート基Lの総数に対して、0.1~50モル%であることが好ましく、1~30モル%であることがより好ましく、2~20モル%であることが特に好ましい。
 また、遷移金属化合物に配位子を組み合わせて用いてもよい。配位子を用いることで目的物の収率が向上する。一方、本製造方法においては配位子を用いなくても十分な収率が得られるため、当該配位子は使用しなくてもよい。
 上記配位子の具体例としては、1,3-ブタジエン、フェニルプロピン、テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)が挙げられる。配位子を使用する場合、使用量は目的物の収率向上の点から、スルホナート基Lの総数に対して、0.01~2.0当量用いることが好ましく、0.1~1.2当量がより好ましい。
 またスキーム(1)の反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒は、上記化合物(A12)、化合物(A13)および化合物(B2)を溶解し得る溶媒の中から適宜選択して用いることができる。溶媒は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせた混合溶媒であってもよい。
 例えば、化合物(A12)または化合物(A13)が比較的フッ素原子含有量(化合物分子の分子量に占めるフッ素原子の割合)の低い化合物である場合には、溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。反応に不活性な溶媒としては、中でも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好ましく、テトラヒドロフランがより好ましい。
 また、化合物(A12)または化合物(A13)が比較的フッ素原子含有量の高い化合物である場合には、エーテル系溶媒と、フッ素系溶媒とを組み合わせた混合溶媒が好ましい。
 フッ素系溶媒の具体例としては、ハイドロフルオロカーボン類(1H,4H-ペルフルオロブタン、1H-ペルフルオロヘキサン、1,1,1,3,3-ペンタフルオロブタン、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン、2H,3H-ペルフルオロペンタン等)、ハイドロクロロフルオロカーボン類(3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロパン、1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3-ペンタフルオロプロパン(HCFC-225cb)等)、ハイドロフルオロエーテル類(CFCHOCFCFH(AE3000)、(ペルフルオロブトキシ)メタン、(ペルフルオロブトキシ)エタン等)、ハイドロクロロフルオロオレフィン類((Z)-1-クロロ-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテン(HCFO-1437dycc(Z)体)、(E)-1-クロロ-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテン(HCFO-1437dycc(E)体)、(Z)-1-クロロ-2,3,3-トリフルオロ-1-プロペン(HCFO-1233yd(Z)体)、(E)-1-クロロ-2,3,3-トリフルオロ-1-プロペン(HCFO-1233yd(E)体)等)、含フッ素芳香族化合物類(ペルフルオロベンゼン、m-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(SR-ソルベント)、p-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等)が挙げられる。
 スキーム(1)の反応は、例えば、化合物(A12)または化合物(A13)を含む溶液を準備し、遷移金属化合物と、必要に応じて配位子を添加した後、別途調製した化合物(B2)溶液を添加することで実施できる。
 スキーム(1)の反応温度は、例えば、-20℃~66℃(テトラヒドロフランの沸点)とすればよく、-20℃~40℃とすることが好ましい。
 撥水撥油層の厚みは、1~100nmであることが好ましく、1~50nmであることが特に好ましい。撥水撥油層の厚みが下限値以上であれば、撥水撥油層による効果が充分に得られる。撥水撥油層の厚みが上記上限値以下であれば、利用効率が高い。
 撥水撥油層の厚みは、薄膜解析用X線回折計を用いて、X線反射率法(XRR)によって反射X線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
[撥水撥油層付き基材の製造方法]
 本発明の撥水撥油層付き基材の製造方法では、基材上に、ケイ素と、上記特定元素とを含む酸化物を含む下地層を形成し、次いで、下地層上に化合物(A1)および化合物(A2)からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成する。
(下地層の形成)
 下地層は、蒸着材料を用いた蒸着法、またはウェットコーティング法により形成する。
<蒸着法>
 蒸着法で用いる蒸着材料は、ケイ素および特定元素を含む酸化物を含む。
 蒸着材料の形態の具体例としては、粉体、溶融体、焼結体、造粒体、破砕体が挙げられ、取り扱い性の観点から、溶融体、焼結体、造粒体が好ましい。
 ここで、溶融体とは、蒸着材料の粉体を高温で溶融させた後、冷却固化して得られた固形物を意味する。焼結体とは、蒸着材料の粉体を焼成して得られた固形物を意味し、必要に応じて、蒸着材料の粉体の代わりに、粉体をプレス形成して成形体を用いてもよい。造粒体とは、蒸着材料の粉体と液状媒体(たとえば、水、有機溶媒)とを混錬して粒子を得た後、粒子を乾燥させて得られた固形物を意味する。
 蒸着材料は、たとえば、以下の方法で製造できる。
・酸化ケイ素の粉体と、特定元素の酸化物の粉体と、を混合して、蒸着材料の粉体を得る方法。
・上記蒸着材料の粉体および水を混錬して粒子を得た後、粒子を乾燥させて、蒸着材料の造粒体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体(たとえば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル)と、特定元素を含む粉体(たとえば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物)と、水と、を混合した混合物を乾燥させた後、乾燥後の混合物またはこれをプレス成形した成形体を焼成して、焼結体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体(たとえば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル)と、特定元素を含む粉体(たとえば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物)と、を高温で溶融させた後、溶融物を冷却固化して、溶融体を得る方法。
 蒸着材料を用いた蒸着法の具体例としては、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
 蒸着時の温度(たとえば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置するボートの温度)としては、100~3000℃が好ましく、500~3000℃が特に好ましい。
 蒸着時の圧力(たとえば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置する槽内の圧力)としては、1Pa以下が好ましく、0.1Pa以下が特に好ましい。
 蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、1つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む2つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
 蒸着材料の蒸発方法の具体例としては、高融点金属製抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない点から、電子銃法が好ましい。
 蒸着材料の蒸発方法としては、複数のボートを用いてもよく、単独のボートに全ての蒸着材料を入れて用いてもよい。蒸着方法は、共蒸着であってもよく、交互蒸着等でもよい。具体的には、シリカと特定源を同一のボートに混合して用いる例、シリカと特定元素源とを別々のボートに入れて共蒸着する例、同様に別々のボートに入れて交互蒸着する例が挙げられる。蒸着の条件、順番等は下地層の構成により適宜選択される。
<ウェットコーティング法>
 ウェットコーティング法では、ケイ素を含む化合物と、特定元素を含む化合物と、液状媒体と、を含むコーティング液を用いたウェットコーティング法によって、基材上に下地層を形成する。
 ケイ素化合物の具体例としては、酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシラン、アルコキシシランの部分加水分解縮合物が挙げられる。
 特定元素を含む化合物の具体例としては、特定元素の酸化物、特定元素のアルコキシド、特定元素の炭酸塩、特定元素の硫酸塩、特定元素の硝酸塩、特定元素のシュウ酸塩、特定元素の水酸化物が挙げられる。
 液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。有機溶媒は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
 フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
 フッ素化アルカンは、炭素数4~8の化合物が好ましく、たとえば、C13H(AC-2000:製品名、AGC社製)、C13(AC-6000:製品名、AGC社製)、CCHFCHFCF(バートレル:製品名、デュポン社製)が挙げられる。
 フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンが挙げられる。
 フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数4~12の化合物が好ましく、たとえば、CFCHOCFCFH(AE-3000:製品名、AGC社製)、COCH(ノベック-7100:製品名、3M社製)、COC(ノベック-7200:製品名、3M社製)、CCF(OCH)C(ノベック-7300:製品名、3M社製)が挙げられる。
 フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
 フルオロアルコールの具体例としては、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
 非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
 炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
 ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
 エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
 エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
 アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコール、エタノール、n-ブタノールが挙げられる。
 液状媒体の含有量は、下地層の形成に使用するコーティング液の全質量に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.1~10質量%であることが特に好ましい。
 下地層を形成するためのウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
 コーティング液をウェットコーティングした後、塗膜を乾燥させるのが好ましい。塗膜の乾燥温度としては、20~200℃が好ましく、80~160℃が特に好ましい。
(撥水撥油層の形成)
 撥水撥油層は、化合物(A1)もしくは化合物(A2)、または化合物(A1)もしくは化合物(A2)と液状媒体とを含む組成物(以下、「組成物」ともいう。)を用いて、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造方法でも形成できる。
 組成物に含まれる液状媒体の具体例は、下地層を形成するためのコーティング液で挙げた液状媒体と同様であるので、その説明を省略する。
 撥水撥油層は、たとえば、以下の方法で製造できる。
・化合物(A1)もしくは化合物(A2)または組成物を用いたドライコーティング法によって下地層の表面を処理して、下地層の表面に撥水撥油層を形成する方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を下地層の表面に塗布し、乾燥させて、下地層の表面に撥水撥油層を形成する方法。
 ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、CVD法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、含フッ素化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に化合物(A1)もしくは化合物(A2)または組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
 ウェットコーティング法の具体例は、下地層をウェットコーティング法で形成する場合と同様であるので、その説明を省略する。
 組成物をウェットコーティングした後の乾燥温度としては、20~200℃が好ましく、80~160℃が特に好ましい。
 組成物中の化合物(A1)または化合物(A2)の含有量は、組成物の全質量に対して、0.01~50質量%が好ましく、1~30質量%が特に好ましい。
 組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、50~99.99質量%であることが好ましく、70~99質量%であることが特に好ましい。
 撥水撥油層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、化合物(A1)または化合物(A2)と下地層との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で撥水撥油層が形成された下地層付き基材を加熱して、化合物(A1)または化合物(A2)に含まれる反応性シリル基のシラノール基への加水分解反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、下地層の表面のシラノール基と含フッ素化合物のシラノール基との縮合反応等の反応を促進できる。
 表面処理後、撥水撥油層中の化合物であって他の化合物や酸化ケイ素層と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、撥水撥油層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法、撥水撥油層表面を酸洗浄する方法等が挙げられる。
 本発明の撥水撥油層付き基材は、下記の製品の部品の一部として使用される光学部材、タッチパネル、反射防止フィルム、反射防止ガラス、SiO処理ガラス、強化ガラス、サファイアガラス、石英基板、金型金属等として有用である。
 製品:カーナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯情報端末(PDA)、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、医療用器機(胃カメラ等)、複写機、パーソナルコンピュータ(PC)、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フィルム、反射防止フィルム、反射防止ガラス、ナノインプリントのテンプレート、金型等。
 以下、例を挙げて本発明を詳細に説明する。例1、例8~11は比較例、例2~7、12は実施例である。ただし本発明はこれらの例に限定されない。なお、後述する表中における各成分の配合量は、質量基準を示す。
[合成例1:化合物(1-1)の合成]
 国際公開2013/121984号の実施例7に記載の方法に従い、下記化合物(1-1)を得た。
 CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)(CFCFO)-CFCFCF-CHOH ・・・(1-1)
 繰り返し単位数nの平均値は13である。
[合成例2:化合物(1-2)の合成]
 上記化合物(1-1)(6.80g,1.48mmol)、2,6-ルチジン(0.759g,7.08mmol)、AE3000(28.0g)を混合し、得られた溶液を0℃で撹拌した。得られた溶液に無水トリフルオロメタンスルホン酸(0.987g,3.50mol)を加えた後、室温で撹拌した。得られた溶液を水で洗浄した後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物(1-2)を6.81g得た。
 CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)(CFCFO)-CFCFCF-CHOTf ・・・(1-2)
 繰り返し単位数nの平均値は13であり、OTfはトリフラート:-O-S(=O)(-CF)である。
 化合物(1-2)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):4.78(t,J=12.3Hz,2H).
 19F-NMR(376MHz,Chloroform-d) δ(ppm):-55.28,-74.11,-82.86,-88.07,-90.20,-119.84,-125.28,-126.16.
[合成例3:化合物(2-1)の合成]
 DiethylDiallylmalonate(60.0g,250mmol)、塩化リチウム(23.7g,559mmol)、水(6.45g,360mmol)、ジメチルスルホキシド(263g)を混合し、得られた溶液を160℃で撹拌した。得られた溶液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。ヘキサンを得られた有機層に加えた後、飽和食塩水で洗浄し、さらに硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液から溶媒を留去することで、下記化合物(2-1)を39.5g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 化合物(2-1)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):(ddt,J=17.1,10.1,7.0Hz,2H),5.06~4.94(m,4H),4.09(q,J=7.1Hz,2H),2.47(ddd,J=14.0,8.0,6.1Hz,1H),2.33(dt,J=14.9,7.5Hz,2H),2.22(dt,J=14.1,6.5Hz,2H),1.21(t,J=7.1Hz,3H).
[合成例4:化合物(2-2)の合成]
 THF(260mL)、ジイソプロピルアミン(41.5mL,294mmol)を混合した後、溶液を-78℃まで冷却した。得られた溶液にn-ブチルリチウムヘキサン溶液(2.76M,96.6mL,294mmol)を加え、0℃まで昇温した。溶液を撹拌した後、-78℃まで冷却し、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)のTHF溶液を調製した。上記化合物(2-1)(39.5g,235mmol)をTHF溶液に加え、撹拌した後、得られた溶液に臭化アリル(24.1mL,278mmol)を加えた。得られた溶液を0℃に昇温し、1M塩酸(100mL)を加え、THFを減圧留去した。得られた成分をジクロロメタンで抽出した後、得られた溶液に硫酸ナトリウムを加えた。得られた溶液をろ過後、ろ液から溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、化合物(2-2)を45.0g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 化合物(2-2)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.74~5.62(m,3H),5.04(dd,J=13.6,1.9Hz,6H),4.10(q,J=7.1Hz,2H),2.29(d,J=7.4Hz,6H),1.22(t,J=7.1Hz,3H).
[合成例5:化合物(2-3)の合成]
 上記化合物(2-2)(45.0g,216mmol)をTHF(620mL)に溶解させ、得られた溶液を0℃に冷却した。得られた溶液に水素化リチウムアルミニウムのTHF溶液(104mL,260mmol)を加え、撹拌した。得られた溶液に水、15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で撹拌した後、ジクロロメタンで希釈した。得られた溶液をろ過後、ろ液から溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物(2-3)を31.3g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 化合物(2-3)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.90~5.76(m,3H),5.10~5.02(m,6H),3.38(s,2H),2.03(dt,J=7.5,1.2Hz,6H),1.45(s,1H).
[合成例6:化合物(B1-1)の合成]
 アセトニトリル(380mL)、上記化合物(2-3)(31.3g,188mmol)、トリフェニルホスフィン(64.3g,245mmol)、四塩化炭素(33.9g,221mmol)を混合し、得られた溶液を90℃で撹拌した。得られた溶液を濃縮した後、酢酸エチル/ヘキサンを加え撹拌した。得られた溶液をろ過し、ろ液を濃縮した後、蒸留(70℃,3hPa)によって、下記化合物(B1-1)を28.2g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 化合物(B1-1)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.83~5.67(m,3H),5.16~5.01(m,6H),3.32(s,2H),2.05(dt,J=7.5,1.1Hz,6H).
[合成例7:化合物(B2-1)の合成]
 マグネシウム(2.36g,97.2mmol)にTHF(35mL)、ヨウ素(0.180g,0.71mmol)を加えて、得られた溶液を室温で撹拌した。得られた溶液に上記化合物(B1-1)(14.0g,75.9mmol)のTHF(35mL)溶液を加え、2時間加熱還流することで、下記化合物(B2-1)の溶液(1.0M)を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
[合成例8:化合物(A-1´)の合成]
 CuCl(16.0mg,0.119mmol)、1-フェニル-1-プロピン(0.052g,0.45mmol)、1,3-ビストリフルオロメチルベンゼン(24mL)、上記化合物(1-2)(4.00g)を混合した後、得られた溶液に上記化合物(B2-1)(5.0mL,1.0M,5.0mmol)を加えた。得られた溶液を室温で撹拌した後、1M塩酸で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液から溶媒を留去し、AC6000を加えた。得られた溶液をメタノールで洗浄した後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、化合物(A-1)の前駆体となる下記化合物(A-1´)を0.139g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 繰り返し単位数nの平均値は10である。
 化合物(A-1´)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.77(ddt,J=14.9,10.7,7.4Hz,3H),5.07~4.99(m,6H),2.19~2.05(m,2H),1.97(d,J=7.4Hz,6H),1.59~1.50(m,2H).
 19F-NMR(376MHz,Chloroform-d) δ(ppm):-55.29,-82.90,-88.13,-90.24(d,J=8.0Hz),-114.62,-125.34,-126.49.
[合成例9:化合物(A-1)の合成]
 AC2000(0.89g)、上記化合物(A-1´)(0.139g)、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量2%,5.5mg)、アニリン(0.8mg)、トリメトキシシラン(22.7mg,0.185mmol)を混合して、得られた溶液を40℃で撹拌した。その後、得られた溶液から溶媒を減圧留去することで、下記化合物(A-1)を0.140g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 繰り返し単位数nの平均値は10である。
 化合物(A-1)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ3.60(s,27H),2.23~1.95(m,2H),1.63~1.28(m,14H),0.67(t,J=7.6Hz,6H).
 19F-NMR(376MHz,Chloroform-d) δ-55.33,-82.95,-88.17,-90.13~-90.40(m),-114.07~-114.32(m),-125.38,-126.04.
[合成例10:化合物(A-2)の合成]
 国際公開2017/038830号の実施例6に記載の方法に従い、下記化合物(A-2)を得た。
 CF-O-(CFCFO-CFCFCFCFO)(CFCFO)-CFCFCF-CHOCH-C[CHCHCH-Si(OCH ・・・(A-2)
 繰り返し単位数nの平均値は13である。
[合成例11:化合物(B1-2)の合成]
 1-ブロモ-3-クロロプロパン(2.90g,18.3mmol)、1-フェニル-1-プロピン(0.220g,1.89mmol)、CuCl(0.051g,0.38mmol)を混合し、得られた溶液を0℃で撹拌した。得られた溶液に化合物(B2-1)(0.80M,26.0mL,20.9mmol)を加え、さらに撹拌した。得られた溶液に1M塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出し、硫酸ナトリウムを加えた。得られた溶液をろ過して、ろ液を濃縮した後、蒸留(100℃,3hPa)によって、下記化合物(B1-2)を3.29g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 化合物(B1-2)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.76(ddt,J=16.6,10.6,7.4Hz,3H),5.09~4.93(m,6H),3.50(t,J=6.7Hz,2H),1.96(dt,J=7.4,1.2Hz,6H),1.76~1.61(m,2H),1.45~1.29(m,2H),1.24~1.08(m,2H).
[合成例12:化合物(B2-2)の合成]
 マグネシウム(0.174g,7.16mmol)に、THF(2.6mL)、ヨウ素(12.7mg,0.050mmol)を加えて、得られた溶液を室温で撹拌した。得られた溶液に上記化合物(B1-2)(1.30g,5.74mmol)のTHF(2.6mL)溶液を加え、加熱還流することで、下記化合物(B2-2)の溶液(1.0M)を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
[合成例13:化合物(3-1)の合成]
 FLUOROLINK D4000(ソルベイスペシャルティポリマーズ社製)(4.03g)、2,6-ルチジン(0.759g,7.08mmol)、AE3000(28.0g)を混合し、得られた溶液を0℃で撹拌した。得られた溶液に無水トリフルオロメタンスルホン酸(0.987g,3.50mol)を加えた後、さらに室温で撹拌した。得られた溶液を水で洗浄した後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物(3-1)を3.56g得た。
 TfOCHCF(OCF(OCFCF-OCFCHOTf ・・・(3-1)
 繰り返し単位数pの平均値は22、qの平均値は25であり、OTfはトリフラートである。
 化合物(3-1)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):4.89(q,J=8.4Hz,1H).
[合成例14:化合物(A-3´)の合成]
 CuCl(7.0mg,0.052mmol)、1-フェニル-1-プロピン(0.026g,0.22mmol)、1,3-ビストリフルオロメチルベンゼン(15mL)、上記化合物(1-2)(1.62g)を混合した後、得られた溶液に上記化合物(3-1)(4.0mL,1.0M,4.0mmol)を加えた。得られた溶液を室温で撹拌した後、1M塩酸で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液から溶媒を留去し、AC6000を加えた。得られた溶液をメタノールで洗浄後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、化合物(A-3)の前駆体となる下記化合物(A-3´)を0.202g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 繰り返し単位数pの平均値は22、qの平均値は25である。
 化合物(A-3´)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):5.90~5.66(m,6H),5.07~4.90(m,12H),2.19~1.92(m,16H),1.70~1.10(m,16H).
[合成例15:化合物(A-3)の合成]
 AC2000(1.2g)、上記化合物(A-3´)(0.202g)、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量2%,7.0mg)、アニリン(1.4mg)、トリメトキシシラン(51.7mg,0.423mmol)を混合し、得られた溶液を40℃で18時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去することで、下記に示す化合物(A-3)を0.188g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 繰り返し単位数pの平均値は22、qの平均値は25である。
 化合物(A-3)のNMRスペクトル;
 H-NMR(400MHz,Chloroform-d) δ(ppm):3.61(s,54H),2.17~1.90(m,4H),1.70~1.14(m,40H),0.74~0.59(m,12H).
[例1]
 真空蒸着装置(アルバック機工社製VTR-350M)内のモリブデン製ボートに蒸着材料(蒸着源)として酸化ケイ素(キヤノンオプトロン社製)の30gと、化合物(A-1)の0.11gを配置した。真空蒸着装置内にガラス基材を配置し、真空蒸着装置内を5×10-3Pa以下の圧力になるまで排気した。
 酸化ケイ素を載せたボートを2,000℃になるまで加熱し、ガラス基材に真空蒸着させ、厚み10nmの下地層を形成した。
 さらに、化合物(A-1)を載せたボートを700℃になるまで加熱し、下地層の表面に化合物(A-1)を真空蒸着して、厚み10nmの撥水撥油層を形成後、140℃30分間熱処理した。このようにして、例1の撥水撥油層付き基材を得た。
[例2]
 下地層の蒸着材料として、以下の手順で得た焼結体1を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例2の撥水撥油層付き基材を得た。
 アイリッヒインテンシブミキサーEL-1(日本アイリッヒ社製、以下、「EL-1」という。)に、ソーダ灰(ソーダアッシュジャパン社製)の2.5g、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の250gを添加し、2400rpmで30秒間撹拌混合した。撹拌速度を4800rpmに変更し、撹拌しながら蒸留水40.2gを加え、さらに4800rpmで60秒間撹拌した。最後に1200rpmで60秒間撹拌した。得られた粒子をEL-1から取り出して、150℃で30分間乾燥した後、1,150℃で1時間焼成して焼結体1を得た。
[例3]
 ソーダ灰(ソーダアッシュジャパン社製)の添加量を7.5gとし、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の添加量を250gとして、例2と同様の手順を実施して焼結体2を得た。焼結体2を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例3の撥水撥油層付き基材を得た。
[例4]
 ソーダ灰(ソーダアッシュジャパン社製)の添加量を25gとし、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の添加量を250gとして、例2と同様の手順を実施して焼結体3を得た。焼結体3を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例4の撥水撥油層付き基材を得た。
[例5]
 ソーダ灰(ソーダアッシュジャパン社製)の添加量を50gとし、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の添加量を250gとして、例2と同様の手順を実施して焼結体4を得た。焼結体3を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例5の撥水撥油層付き基材を得た。
[例6]
 下地層の蒸着材料として、以下の手順で得た焼結体5を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例6の撥水撥油層付き基材を得た。
 EL-1に、酸化マグネシウム(和光純薬工業社製、MgO)の7.5g、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の250gを添加し、2400rpmで30秒間撹拌混合した。撹拌速度を4800rpmに変更し、撹拌しながら蒸留水40.2gを加え、さらに4800rpmで60秒間撹拌した。最後に1200rpmで60秒間撹拌した。得られた粒子をEL-1から取り出して、150℃で30分間乾燥した後、1,150℃で1時間焼成して焼結体5を得た。
[例7]
 下地層の蒸着材料として、以下の手順で得た焼結体6を用いた以外、例1と同様の手順を実施して、例7の撥水撥油層付き基材を得た。
 EL-1に、ホウ酸粒子(Optibor:製品名、早川商事社製)の7.5g、シリカ粒子SC5500-SQ(商品名、アドマテックス社製)の250gを添加し、2400rpmで30秒間撹拌混合した。撹拌速度を4800rpmに変更し、撹拌しながら蒸留水40.2gを加え、さらに4800rpmで60秒間撹拌した。最後に1200rpmで60秒間撹拌した。得られた粒子をEL-1から取り出して、150℃で30分間乾燥した後、1,150℃で1時間焼成して焼結体6を得た。
[例8]
 蒸着材料(蒸着源)として、化合物(A-2)の0.12gを配置した以外、例1と同様にして、例8の撥水撥油層付き基材を形成した。
[例9]
 蒸着材料(蒸着源)として、化合物(A-2)の0.15gを配置した以外、例3と同様に焼結体2を使用して、例9の撥水撥油層付き基材を形成した。
[例10]
 蒸着材料(蒸着源)として、化合物(A-2)の0.15gを配置した以外、例7と同様に焼結体7をして、例10の撥水撥油層付き基材を形成した。
[例11]
 蒸着材料(蒸着源)として、化合物(A-3)の0.16gを配置した以外、例1と同様にして、例11の撥水撥油層付き基材を形成した。
[例12]
 蒸着材料(蒸着源)として、化合物(A-3)の0.14gを配置した以外、例3と同様にして、例12の撥水撥油層付き基材を形成した。
[物性および評価]
(下地層中の各元素の含有量)
 C60イオンスパッタリングを用いたX線光電子分光法(XPS)によって、各元素のモル濃度(モル%)の深さ方向プロファイルを取得した。ここで、XPS分析にて検出された全元素に対する撥水撥油層由来のフッ素のモル濃度(モル%)が、撥水撥油層付き基材の深さ方向プロファイルの表面側から考えて、フッ素のモル濃度が10モル%以下になる点を起点Aとした。また、XPS分析にて検出された全元素に対する基材のみに存在する任意の元素のモル濃度(モル%)が、基材中のモル濃度(モル%)の30%をはじめて超える点を終点Bとした。この起点Aから終点Bまでを下地層と定義し、下地層中におけるケイ素のモル濃度(モル%)の平均値に対する、対象元素のモル濃度(モル%)の平均値の比を算出した。
<装置>
 X線光電子分光分析装置:アルバック・ファイ社製のESCA-5500
<測定条件>
 X線源;単色化AlKα線
 光電子検出角度;試料面に対して75度
 パスエネルギー;117.4eV
 ステップエネルギー;0.5eV/step
 スパッタイオン;加速電圧10kVのC60イオン
 スパッタ銃のラスターサイズ;3×3mm2
 スパッタの間隔;0.4分
 スパッタ銃のシリコンウェハ上熱酸化膜(SiO2膜)のスパッタレート;2.20nm/分
 測定ピッチ;0.88nm(シリコンウェハ上熱酸化膜換算)
<接触角の測定方法>
 撥水撥油層の表面に置いた約2μLの蒸留水の接触角を、接触角測定装置(協和界面科学社製、DM-500)を用いて測定した。撥水撥油層の表面における異なる5箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には2θ法を用いた。
<初期接触角>
 撥水撥油層について、初期水接触角を上記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
 初期水接触角:
○(優) :115度以上。
△(可) :105度以上115度未満。
×(不可):105度未満。
<耐摩擦性(スチールウール)>
 撥水撥油層について、JIS L0849:2013(ISO 105-X12:2001)に準拠して往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用い、スチールウールボンスター(♯0000)を圧力:98.07kPa、速度:320cm/分で1万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性(水接触角)の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(秀) :1万回往復後の水接触角の変化が1度未満。
〇(優) :1万回往復後の水接触角の変化が1度以上2度未満。
□(良) :1万回往復後の水接触角の変化が2度以上3度未満。
△(可) :1万回往復後の水接触角の変化が3度以上4度未満
×(不可) :1万回往復後の水接触角の変化が4度以上。
 上記各例について、上述の物性の測定および評価試験を行った。評価結果を表1-1および表1-2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
 表1に示す通り、下地層が特定元素を含み、撥水撥油層が化合物(A1)(すなわち、化合物(A-1))または化合物(A2)(すなわち、化合物(A-3))の加水分解縮合物からなる例2~7、12は、いずれも初期水接触角が可以上であり、耐摩耗性が良以上であった。下地層が特定元素を含まない例1、8、11はいずれも耐摩耗性が不可であった。下地層が特定元素を含むが、撥水撥油層が化合物(A1)および化合物(A2)以外の化合物(すなわち、化合物(A-2))を用いて形成された例9、10は耐摩耗性が可であり、不十分であった。下地層が特定元素として、第1族元素(Na)、第2族元素(Mg)を含む例2~6、12は耐摩耗性が優以上であった。下地層が特定元素として、第1族元素(Na)を含み、下地層におけるケイ素のモル濃度に対する、特定元素の合計モル濃度の比が0.02~2.90である例3、4、12は耐摩耗性が秀であった。撥水撥油層が化合物(A1)の加水分解縮合物からなる例2~7が初期水接触角が優であった。
 なお、2020年09月16日に出願された日本特許出願2020-155248号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
 10 撥水撥油層付き基材
 12 基材
 14 下地層
 16 撥水撥油層

Claims (12)

  1.  基材と、
     前記基材の表面に形成された下地層と、
     前記下地層の表面に形成された撥水撥油層と、を有し、
     前記下地層が、ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第4族元素、第5族元素、第13族元素、および第15族元素からなる群から選択される少なくとも1つの特定元素とを含む酸化物を含み、
     前記撥水撥油層は、式(A1)で表される化合物、および、式(A2)で表される化合物からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる、撥水撥油層付き基材。
    -O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1)
     [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)
     ただし、
     Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基であり、
     Rf1は、炭素数1~6のフルオロアルキレン基であり、
     Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有し、Rf2が複数ある場合、当該Rf2は同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、炭素数が1~20のアルキレン基であり、
     Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基であって、Rが複数ある場合、当該複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
     Tは、-Si(R)3-c(L)であって、複数あるTは同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、アルキル基であり、
     Lは、加水分解性基または水酸基であり、Tにおける2以上のLは同一であっても異なっていてもよく、
     mは、1~20の整数であり、
     aは、1~3の整数であって、aが複数ある場合、複数あるaは同一であっても異なっていてもよく、
     bは、1以上の整数であり、bが複数ある場合、複数あるbは同一であっても異なっていてもよく、
     cは、2または3であり、複数あるcは同一であっても異なっていてもよく、
     bが1の場合、aは、2または3である。
  2.  前記Rf2が、b個の部分構造「-CQF-*(ただし、Qは水素原子、フッ素原子またはCFであり、-*はRと結合する結合手である。)」を有する炭化水素基である、請求項1に記載の撥水撥油層付き基材。
  3.  前記bが1であり、前記Rf2が炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基である、請求項1または2に記載の撥水撥油層付き基材。
  4.  前記特定元素が、周期表の第1族元素、第2族元素、および第13族元素からなる群から選択される少なくとも1つである、請求項1~3のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
  5.  前記特定元素が、周期表の第1族元素である、請求項1~4のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
  6.  前記bが1である、請求項1~5のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
  7.  前記aが3である、請求項1~6のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
  8.  前記下地層におけるケイ素のモル濃度に対する、特定元素の合計モル濃度の比が0.02~2.90である、請求項1~7のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
  9.  基材と、下地層と、撥水撥油層とをこの順で有する撥水撥油層付き基材の製造方法であって、
     前記基材上に、ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第4族元素、第5族元素、第13族元素、および第15族元素からなる群から選択される少なくとも1つの特定元素とを含む酸化物を含む下地層を形成し、
     次いで、前記下地層上に、式(A1)で表される化合物、および、式(A2)で表される化合物からなる群から選択される含フッ素エーテル化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成する、撥水撥油層付き基材の製造方法。
    -O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A1)
     [(T-R-)(R-)3-aC-R-]f2-O-(Rf1O)-Rf2[-R-C(-R-T)(-R3-a ・・・(A2)
     ただし、
     Rは、炭素数1~20のフルオロアルキル基であり、
     Rf1は、炭素数1~6のフルオロアルキレン基であり、
     Rf2は、(1+b)価のフッ素原子を有する炭化水素基であり、少なくともRと結合する炭素原子がフッ素原子を有し、Rf2が複数ある場合、当該Rf2は同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、炭素数が1~20のアルキレン基であり、
     Rは、炭素数2~20のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、水素原子、または炭素数1~10のフッ素原子を有していてもよいアルキル基であって、Rが複数ある場合、当該複数あるRは同一であっても異なっていてもよく、
     Tは、-Si(R)3-c(L)であって、複数あるTは同一であっても異なっていてもよく、
     Rは、アルキル基であり、
     Lは、加水分解性基または水酸基であり、Tにおける2以上のLは同一であっても異なっていてもよく、
     mは、1~20の整数であり、
     aは、1~3の整数であって、aが複数ある場合、複数あるaは同一であっても異なっていてもよく、
     bは、1以上の整数であり、bが複数ある場合、複数あるbは同一であっても異なっていてもよく、
     cは、2または3であり、複数あるcは同一であっても異なっていてもよく、
     bが1の場合、aは、2または3である。
  10.  前記Rf2が、b個の部分構造「-CQF-*(ただし、Qは水素原子、フッ素原子またはCFであり、-*はRと結合する結合手である。)」を有する炭化水素基である、請求項9に記載の撥水撥油層付き基材の製造方法。
  11.  前記bが1であり、前記Rf2が炭素数1~6のペルフルオロアルキレン基である、請求項9または10に記載の撥水撥油層付き基材の製造方法。
  12.  光学部材として用いられる、請求項1~8のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。
PCT/JP2021/033352 2020-09-16 2021-09-10 撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法 WO2022059620A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020237003301A KR20230069905A (ko) 2020-09-16 2021-09-10 발수 발유층이 형성된 기재, 및 발수 발유층이 형성된 기재의 제조 방법
JP2022550530A JPWO2022059620A1 (ja) 2020-09-16 2021-09-10
CN202180063695.6A CN116194226A (zh) 2020-09-16 2021-09-10 带拒水拒油层的基材和带拒水拒油层的基材的制造方法
US18/104,853 US20230256469A1 (en) 2020-09-16 2023-02-02 Substrate with water and oil repellent layer, and method for producing substrate with water and oil repellent layer

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020155248 2020-09-16
JP2020-155248 2020-09-16

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US18/104,853 Continuation US20230256469A1 (en) 2020-09-16 2023-02-02 Substrate with water and oil repellent layer, and method for producing substrate with water and oil repellent layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022059620A1 true WO2022059620A1 (ja) 2022-03-24

Family

ID=80776667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/033352 WO2022059620A1 (ja) 2020-09-16 2021-09-10 撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20230256469A1 (ja)
JP (1) JPWO2022059620A1 (ja)
KR (1) KR20230069905A (ja)
CN (1) CN116194226A (ja)
WO (1) WO2022059620A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023140105A1 (ja) * 2022-01-18 2023-07-27 ダイキン工業株式会社 防汚性物品

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018169002A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物
WO2018235778A1 (ja) * 2017-06-21 2018-12-27 Agc株式会社 撥水撥油層付き物品およびその製造方法
WO2020100759A1 (ja) * 2018-11-13 2020-05-22 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020100760A1 (ja) * 2018-11-13 2020-05-22 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137999A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、およびそれを用いた下地層付き基材、撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137990A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137992A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137993A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110054769B (zh) 2015-07-31 2021-01-05 大金工业株式会社 含有全氟(聚)醚基的硅烷化合物

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018169002A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物
WO2018235778A1 (ja) * 2017-06-21 2018-12-27 Agc株式会社 撥水撥油層付き物品およびその製造方法
WO2020100759A1 (ja) * 2018-11-13 2020-05-22 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020100760A1 (ja) * 2018-11-13 2020-05-22 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137999A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、およびそれを用いた下地層付き基材、撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137990A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137992A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137993A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 Agc株式会社 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023140105A1 (ja) * 2022-01-18 2023-07-27 ダイキン工業株式会社 防汚性物品

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230069905A (ko) 2023-05-19
CN116194226A (zh) 2023-05-30
US20230256469A1 (en) 2023-08-17
JPWO2022059620A1 (ja) 2022-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7439769B2 (ja) 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法
CN114867730A (zh) 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法
WO2022059620A1 (ja) 撥水撥油層付き基材、および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2021060537A1 (ja) 含フッ素化合物、含フッ素化合物含有組成物、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
JP7472794B2 (ja) 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2021251396A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法
WO2022186269A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び化合物
JP7428142B2 (ja) 蒸着材料、およびそれを用いた下地層付き基材、撥水撥油層付き基材の製造方法
JP7415951B2 (ja) 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
CN114945620B (zh) 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法
JP7468355B2 (ja) 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137993A1 (ja) 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法
JP2021172842A (ja) 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137990A1 (ja) 蒸着材料、下地層付き基材の製造方法、撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2021054413A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物
WO2023074874A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法
WO2023095806A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
WO2024038873A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
WO2024038866A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
WO2022039172A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
WO2024038870A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法
WO2023204020A1 (ja) 化合物、組成物、表面処理剤、物品の製造方法、及び物品
KR20240107358A (ko) 화합물, 조성물, 표면 처리제, 코팅액, 물품, 및 물품의 제조 방법
CN118302475A (en) Compound, composition, surface treatment agent, coating liquid, article, and method for producing article

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21869307

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022550530

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21869307

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1