JP7439769B2 - 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、撥水撥油層付き基材、およびその製造方法に関する。

基材の表面に撥水撥油性、指紋汚れ除去性、潤滑性（指で触った際の滑らかさ）等を付与するために、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖および反応性シリル基を有する含フッ素化合物を用いた表面処理によって、基材の表面に含フッ素化合物の縮合物からなる撥水撥油層を形成することが知られている。

また、撥水撥油層には、耐摩耗性が求められることから、基材と撥水撥油層との間の接着性を改良するために、これらの間に下地層を設けることが行われている。たとえば、基材と撥水撥油層との間に、蒸着によって酸化ケイ素層を設けること（特許文献１、２）、基材と撥水撥油層との間に、Ｓｉ（ＮＣＯ）_４等の（加水分解）縮合物からなる下地層を設けること（特許文献３）が行われている。

特開２０１４－２１８６３９号公報 特開２０１２－７２２７２号公報 国際公開第２０１４／１２６０６４号

特許文献１～３に記載の酸化ケイ素層や下地層では、基材と撥水撥油層との間の接着性が不充分なことがある。撥水撥油層には、耐摩耗性のさらなる向上が求められており、そのために、基材と撥水撥油層との間の接着性のさらなる向上も求められている。

一方、このような撥水撥油層は、光学物品、タッチパネル（指で触れる面等）などの用途に用いられるため、耐摩耗性が長期にわたって持続すること、すなわち、耐摩耗性の長期信頼性の向上が求められている。

そこで、本発明は、耐摩耗性の長期信頼性が向上した撥水撥油層付き基材およびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより、上記目的が達成されることを見出した。
［１］基材と、前記基材の表面に形成された下地層と、前記下地層の表面に形成された撥水撥油層とをこの順で有する撥水撥油層付き基材であって、
前記撥水撥油層は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなり、
前記下地層が、ケイ素を含む酸化物を含み、アルカリ金属およびアルミニウムを実質的に含まず、
前記基材が、アルカリ金属およびアルミニウムを含むシリカガラスからなり、
前記撥水撥油層の表面側からＣ_６０イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイル（測定ピッチ：２．０ｎｍ以下）から、下記（ａ），（ｂ），（ｃ）を特定した場合に、下記（ｃ）で求まるアルカリ欠乏指数が０．０超となることを特徴とする、撥水撥油層付き基材。
なお、深さ方向プロファイルの横軸の深さは、膜厚既知のシリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）のスパッタレートを用いて算出した換算深さとする。
（ａ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルにおいて、フッ素濃度が１０ａｔ％以下となる最初の点を、前記撥水撥油層と、前記下地層との境界とする。
（ｂ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルから、ケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）、およびケイ素に対するアルカリ金属元素の合計の割合（アルカリ金属元素／Ｓｉ）を求め、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値、および（アルカリ金属元素／Ｓｉ）の数値の平均値をそれぞれ１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）、および（アルカリ金属元素／Ｓｉ）をそれぞれ規格化し、（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値が０．５０以上となる最初の点を下地層と基材との境界とする。
（ｃ）（ｂ）で求まる下地層と基材との境界を起点とし、該起点から深さ方向に２０ｎｍまでの領域を領域Ｘとし、該領域Ｘについて、下記式で定義されるアルカリ欠乏指数を求める。
アルカリ欠乏指数＝〔領域Ｘにおける、規格化したＡｌ／Ｓｉの平均値 － 領域Ｘにおける、規格化したアルカリ金属元素／Ｓｉの平均値〕×２０

［２］前記アルカリ欠乏指数が０．５超である、［１］に記載の撥水撥油層付き基材。
［３］前記基材が、少なくとも一方の主面に化学強化処理が施された化学強化ガラスであり、前記化学強化処理が施された主面に、前記下地層が形成されている、［１］または［２］に記載の撥水撥油層付き基材。
［４］前記（ａ）で特定される前記撥水撥油層のフッ素濃度の平均値である平均フッ素濃度が１５ａｔ％以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。

［５］前記（ａ）および前記（ｂ）で特定される前記下地層の厚さが１．０～４５．０ｎｍである、［１］～［４］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
［６］前記（ａ）および前記（ｂ）で特定される前記下地層の厚さが７．０～２５．０ｎｍである、［１］～［５］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
［７］前記基材の厚さが０．１～１．５ｍｍである、［１］～［６］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。

［８］前記含フッ素化合物が、反応性シリル基を２個以上有する含フッ素化合物である、［１］～［７］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
［９］前記含フッ素化合物が、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖および反応性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物である、［１］～［８］のいずれかに記載の撥水撥油層付き基材。
［１０］前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、オキシペルフルオロアルキレン基を主とするポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖である、［９］に記載の撥水撥油層付き基材。

［１１］基材の表面に、ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成し、
次いで、前記下地層の表面に、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる撥水撥油層を形成し、
その後、撥水撥油層形成面側を水系媒体処理して、
［１］～［１０］のいずれかの撥水撥油層付き基材を製造することを特徴とする撥水撥油層付き基材の製造方法。
［１２］前記水系媒体処理が、酸水溶液で洗浄する処理、または、酸水溶液に浸漬する処理である、［１１］に記載の撥水撥油層付き基材の製造方法。

本発明によれば、耐摩耗性の長期信頼性が向上した撥水撥油層付き基材およびその製造方法を提供できる。

本発明の撥水撥油層付き基材の一例を示す断面図である。 本発明におけるアルカリ欠乏指数の算出手順を一例を示した図である。

本明細書において、式（１）で表される単位を「単位（１）」と記す。他の式で表される単位も同様に記す。式（２）で表される基を「基（２）」と記す。他の式で表される基も同様に記す。式（３）で表される化合物を「化合物（３）」と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素－炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基－Ａ基－のように末端にＡ基を有していてもよい。

本発明における用語の意味は以下の通りである。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲ^ｘは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１～９の整数が好ましく、１～４の整数が特に好ましい。

「シルフェニレン骨格基」とは、－Ｓｉ（Ｒ^ｙ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｙ）_２－（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｙは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｙとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、－Ｓｉ（Ｒ^ｚ）_２－（ただし、Ｒ^ｚはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。）で表される基である。
化合物の「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。

図１における寸法比は、説明の便宜上、実際のものとは異なったものである。

図１は、本発明の撥水撥油層付き基材の一例を模式的に示す断面図である。撥水撥油層付き基材１０は、基材１２と、基材１２の一方の表面に形成された下地層１４と、下地層１４の表面に形成された撥水撥油層１６と、をこの順で有する。
図１の例では、基材１２の一方の面のみに、下地層１４および撥水撥油層１６が形成されているが、これに限定されず、基材１２の両面に下地層１４および撥水撥油層１６が形成されていてもよい。

基材１２は、アルカリ金属およびアルミニウムを含むシリカガラスからなる。下地層１４は、ケイ素を含む酸化物を含み、アルカリ金属およびアルミニウムを実質的に含まない。撥水撥油層１６は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる。
基材１２、下地層１４および撥水撥油層１６の詳細については後述する。

本発明の撥水撥油層付き基材は、撥水撥油層の表面側からＣ_６０イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％（１００ａｔｏｍｉｃ％）とした深さ方向プロファイルが後述する条件を満たす。なお、本発明の基材が化学強化処理されたガラス基材の場合、アルカリ金属元素をリチウム以外のアルカリ金属元素に限定してもよい。リチウムは最もイオン半径の小さいアルカリ金属元素であり、リチウムを含有したガラス基材であっても、化学強化処理後の表層ではリチウム以外のアルカリ金属元素が主なアルカリ金属元素となるためである。また、本発明の基材がルビジウムとセシウムを実質的に含まず、かつナトリウムやカリウムを含む溶融塩を用いて化学強化処理されているガラス基材の場合、アルカリ金属元素をナトリウムとカリウムに限定してもよい。

Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いるのは、アルカリ金属元素について、正確な深さ方向プロファイルを得るためである。

深さ方向プロファイルの横軸の深さはスパッタ時間として与えられる。このスパッタ時間を深さに変換するためには、スパッタレートが必要となる。本発明では、膜厚既知のシリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）のスパッタレートを予め求めておき、この値を用いて算出したＳｉウェハ上熱酸化膜の換算深さを深さ方向プロファイルの横軸とする。
深さ方向プロファイルの測定ピッチは、シリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）の換算深さとして２．０ｎｍ以下とする。

作成した深さ方向プロファイルから、下記（ａ），（ｂ），（ｃ）を特定する。この手順については、図２を参照して説明する。なお、図２では「ａｔ％」を「ａｔｏｍｉｃ％」と記す。
図２は、硝酸カリウムの溶融塩を用いて化学強化されたアルカリ金属元素を含有するアルミノシリケートガラス（ＡＧＣ社製Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標））を基材として用いた撥水撥油層付き基材について、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルのうち、フッ素（Ｆ）の深さ方向プロファイルと、該深さ方向プロファイルから求めたケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）と、ケイ素に対する、ナトリウムおよびカリウムの合計の割合（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）とを示している。なお、該撥水撥油層付き基材においては、アルカリ金属元素をナトリウムとカリウムに限定することができる。

（ａ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルにおいて、フッ素濃度が１０ａｔ％以下となる最初の点（図２中、点Ａ）を、撥水撥油層と、下地層との境界とする。したがって、撥水撥油層表面から点Ａまでの深さが撥水撥油層の厚さとなる。

（ｂ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルから、ケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）、およびケイ素に対する、ナトリウムおよびカリウムの合計の割合（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）を求め、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）の数値の平均値をそれぞれ１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）をそれぞれ規格化する。図２では、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）の数値の平均値をそれぞれ１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）をそれぞれ規格化した値を示している。
（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値が０．５０以上となる最初の点（図２中、点Ｂ）を下地層と基材との境界とする。したがって、点Ａから点Ｂまでの深さが下地層の厚さとなる。
なお、点Ａから点Ｂまでの深さが０．０ｎｍ超かつ２．０ｎｍ以下と見積もられる場合、深さ方向プロファイルの測定ピッチは、シリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）の換算深さとして１．０ｎｍ以下に設定することが好ましい。

（ｃ）（ｂ）で求まる下地層と基材との境界を起点とし、該起点から深さ方向に２０ｎｍまでの領域を領域Ｘとし、該領域Ｘについて、下記式で定義されるアルカリ欠乏指数を求める。
アルカリ欠乏指数＝〔領域Ｘにおける、規格化したＡｌ／Ｓｉの平均値 － 領域Ｘにおける、規格化した（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉの平均値〕×２０
図２中、グレートーンで示した部位が、アルカリ欠乏指数に相当する。上記式中の２０は、グレートーンで示した部位をアルカリ欠乏指数と対応させる目的から、該領域Ｘの深さを指す数値（単位：ｎｍ）として、導入している。

本発明の撥水撥油層付き基材は、上記（ｃ）で求まるアルカリ欠乏指数が０．０超であり、０．５超であることが好ましく、１．０超であることがさらに好ましい。これにより、撥水撥油層の耐摩耗性の長期信頼性が向上する。アルカリ欠乏指数の上限は特に規定されないが、１８以下が好ましく、１５以下がより好ましい。
アルカリ欠乏指数が０．０超であると、撥水撥油層の耐摩耗性の長期信頼性が向上する理由について、本発明者らは以下のように推測する。

撥水撥油層の耐摩耗性の長期信頼性が向上するには、下地層からの撥水撥油層の剥離を抑制する必要がある。下地層からの撥水撥油層の剥離を抑制するため、本発明における下地層はアルカリ金属を実質的に含まない構成としている。アルカリ金属が下地層表面に存在すると、雰囲気中の水分と反応して、アルカリ金属イオンと水酸化物イオンが生じる。この水酸化物イオンにより撥水撥油層と下地層との界面のＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断され、下地層から撥水撥油層が剥離すると考えられる。しかしながら、長期の使用により、特に、高温高湿環境での長期の使用により、基材に含まれるアルカリ金属が、下地層に含まれる水素とイオン交換反応し、下地層へ移動すると考えられる。このようなアルカリ金属が下地層表面に表出すると、雰囲気中の水分と反応して、アルカリ金属イオンと水酸化物イオンが生じる。この水酸化物イオンにより撥水撥油層と下地層との界面のＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断され、下地層から撥水撥油層が剥離すると考えられる。
アルカリ欠乏指数が０．０超である場合、下地層と基材との境界から深さ方向に２０ｎｍまでの表面近傍領域は、基材内部に比べてアルカリ金属が欠乏している。そのため、基材から下地層へのアルカリ金属の移動が抑制される。その結果、上述した作用による撥水撥油層が抑制され、撥水撥油層の耐摩耗性の長期信頼性が向上すると考えられる。

以下、本発明の撥水撥油層付き基材についてさらに記載する。
（基材）
基材は、アルカリ金属およびアルミニウムを含むシリカガラスからなる。アルカリ金属としては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。基材中の各成分の含有量は、化学強化処理を施す場合、以下の範囲が好ましい。なお、下記の組成範囲を満たせば、他の成分が含まれていてもよい。
ＳｉＯ_２：５５～７５モル％
Ａｌ_２Ｏ_３：０．５～２０モル％
Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計濃度：５～２５モル％
上記した各成分の含有量は、酸化物基準のモル％である。
基材を構成するガラスとしては、たとえば、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスが挙げられる。

基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。
また基材としては、下記の例が挙げられる。建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（たとえば、自動車）、看板・掲示板、飲用器・食器、水槽、観賞用器具（たとえば、額、箱）、実験器具、家具、アート・スポーツ・ゲームに使用する、ガラス製品。携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス製品。

上記の用途に用いられる基材は、少なくとも一方の主面に化学強化処理が施された化学強化ガラスであることが好ましい。この場合、化学強化処理が施された主面に、下地層が形成されていることが好ましい。なお、上記化学強化ガラスは、対向する２つの主面の両方に化学強化処理が施されていることが好ましい。
工業的に広く使われている化学強化処理法としては、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬するイオン交換法が挙げられる。これは、ガラス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換し、イオン半径の違いにより圧縮応力を表面に発生させる方法である。例えば、ガラス内部のリチウムイオンと溶融塩中のナトリウムイオンのイオン交換や、ガラス内部のナトリウムイオンと溶融塩中のカリウムイオンのイオン交換などが挙げられる。これらイオン交換を、順次あるいは同時に実施する方法もある。

基材の厚さは０．１ｍｍ以上１．５ｍｍ以下が強度および軽量化の観点から好ましく、０．３ｍｍ以上１．２ｍｍ以下がより好ましく、０．４ｍｍ以上０．９ｍｍ以下がさらに好ましい。

（下地層）
上述したように、下地層に含まれるケイ素を含む酸化物は、アルカリ金属を実質的に含まない。本明細書において、アルカリ金属を実質的に含まないとは、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルにより求まる、下地層中のアルカリ金属元素の合計含有量、より具体的には、上述した（ａ），（ｂ）により求まる点Ａから点Ｂまでの深さ方向プロファイルのアルカリ金属元素の合計濃度の平均値が５．０ａｔ％以下を指す。下地層中のアルカリ金属元素の合計含有量は４．０ａｔ％以下が好ましく、３．０ａｔ％以下がより好ましい。下限は、０．０ａｔ％である。

また、下地層に含まれるケイ素を含む酸化物は、アルミニウムを実質的に含まない。本明細書において、アルミニウムを実質的に含まないとは、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルから、ケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）を求め、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値の平均値を１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）を規格化した深さ方向プロファイルにより求まる、下地層中の（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値、より具体的には、上述した（ａ），（ｂ）により求まる点Ａから点Ｂまでの深さ方向プロファイルの（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値の平均値が０．５０未満を指す。下地層中の（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値は０．４０以下が好ましく、０．３０以下がより好ましい。下限は、０．００である。

下地層中のケイ素を含む酸化物の含有量は、下地層の全質量に対して、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる点から、８０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましく、１００質量％（下地層の全てが酸化物であること）が特に好ましい。

下地層中の酸素濃度は、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルより求まる。より具体的には、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルより、上述した（ａ），（ｂ）により求まる点Ａから点Ｂまでの領域を、ＸＰＳにより取得した下地層に含まれる全元素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルへ適用し、点Ａから点Ｂまでの領域における酸素濃度の平均値として算出する。下地層中の酸素濃度は、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる点から、４０～７０ａｔ％が好ましく、５０～７０ａｔ％がより好ましく、６０～７０ａｔ％が特に好ましい。

下地層中のケイ素濃度は、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルより求まる。より具体的には、ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルより、上述した（ａ），（ｂ）により求まる点Ａから点Ｂまでの領域を、ＸＰＳにより取得した下地層に含まれる全元素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルへ適用し、点Ａから点Ｂまでの領域におけるケイ素濃度の平均値として算出する。下地層中のケイ素濃度は、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる点から、１５～４０ａｔ％が好ましく、２０～４０ａｔ％がより好ましく、２５～３５ａｔ％が特に好ましい。

上述した（ａ），（ｂ）により、点Ａから点Ｂまでの深さとして求まる下地層の厚さは、１．０～４５．０ｎｍが好ましく、３．０～３５．０ｎｍがより好ましく、７．０～２５．０ｎｍが特に好ましい。下地層の厚さが上記下限値以上であれば、下地層による撥水撥油層の接着性がより向上して、撥水撥油層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚さが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。下地層は、上述した範囲内であれば、組成分布（濃度分布）を有していてもよく、凹凸を有していてもよい。

（撥水撥油層）
上述したように、撥水撥油層は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる。反応性シリル基とは、加水分解性シリル基およびシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を意味する。加水分解性シリル基の具体例としては、後述の式（２）で表される基のＬが加水分解性基である基が挙げられる。
加水分解性シリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で脱水縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、下地層に含まれる酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。すなわち、反応性シリル基の少なくとも一部が加水分解性シリル基である場合、撥水撥油層は、含フッ素化合物の反応性シリル基が加水分解反応および脱水縮合反応した縮合物を含む。反応性シリル基のすべてがシラノール基である場合は、撥水撥油層は、含フッ素化合物のシラノール基が脱水縮合反応した縮合物を含む。含フッ素化合物が有する反応性シリル基としては、その少なくとも一部が加水分解性シリル基であることが好ましい。

上述した（ａ）により、撥水撥油層表面から点Ａまでの深さとして求まる撥水撥油層の厚さは、５．０ｎｍ以下が好ましく、２．０ｎｍ以下が特に好ましい。撥水撥油層の厚さが下限値以上であれば、撥水撥油層による効果が充分に得られる。撥水撥油層の厚さが上記上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、撥水撥油層の厚さは０ｎｍ超である。

撥水撥油層は、上述した（ａ）で撥水撥油層のフッ素濃度の平均値として特定される平均フッ素濃度が１５ａｔ％以上が、撥水撥油層による効果が充分に得られるため好ましく、２５ａｔ％以上がより好ましく、３５ａｔ％以上が特に好ましい。

＜反応性シリル基を有する含フッ素化合物＞
反応性シリル基を有する含フッ素化合物は、撥水撥油層の撥水撥油性が優れる点から、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖および反応性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物が好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、式（１）で表される単位を複数含む。
（ＯＸ） ・・・（１）

Ｘは、１個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基である。
フルオロアルキレン基の炭素数は、撥水撥油層の耐候性および耐食性がより優れる点から、２～６が好ましく、２～４が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
フルオロアルキレン基におけるフッ素原子の数としては、撥水撥油層の耐食性がより優れる点から、炭素原子の数の１～２倍が好ましく、１．７～２倍が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキレン基）であってもよい。

単位（１）の具体例としては、－ＯＣＨＦ－、－ＯＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－が挙げられる。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位（１）の繰り返し数ｍは２以上であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がさらに好ましく、５～１００の整数が特に好ましく、１０～５０の整数が最も好ましい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、２種以上の単位（１）を含んでいてもよい。２種以上の単位（１）としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位（１）、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位（１）、炭素数が同じであってもフッ素原子の数が異なる２種以上の単位（１）が挙げられる。
２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、指紋汚れ除去性の優れた膜とするために、オキシペルフルオロアルキレン基である単位（１）を主とするポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖であることが好ましい。（ＯＸ）_ｍで表されるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖において、単位（１）の全数ｍ個に対するオキシペルフルオロアルキレン基である単位（１）の数の割合は、５０～１００％であることが好ましく、８０～１００％であることがより好ましく、９０～１００％が特に好ましい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、および、片末端または両末端に水素原子を有するオキシフルオロアルキレン単位をそれぞれ１個または２個有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖がより好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ）_ｍとしては、（ＯＣＨ_ｍａＦ_{（２－ｍａ）}）_ｍ１１（ＯＣ_２Ｈ_ｍｂＦ_{（４－ｍｂ）}）_ｍ１２（ＯＣ_３Ｈ_ｍｃＦ_{（６－ｍｃ）}）_ｍ１３（ＯＣ_４Ｈ_ｍｄＦ_{（８－ｍｄ）}）_ｍ１４（ＯＣ_５Ｈ_ｍｅＦ_{（１０－ｍｅ）}）_ｍ１５（ＯＣ_６Ｈ_ｍｆＦ_{（１２－ｍｆ）}）_ｍ１６が好ましい。
ｍａは０または１であり、ｍｂは０～３の整数であり、ｍｃは０～５の整数であり、ｍｄは０～７の整数であり、ｍｅは０～９の整数であり、ｍｆは０～１１の整数である。
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６は２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、５～１００の整数がさらに好ましく、１０～５０の整数が特に好ましい。
なかでも、ｍ１２は２以上の整数が好ましく、２～２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ_３Ｈ_ｍｃＦ_{（６－ｍｃ）}、Ｃ_４Ｈ_ｍｄＦ_{（８－ｍｄ）}、Ｃ_５Ｈ_ｍｅＦ_{（１０－ｍｅ）}およびＣ_６Ｈ_ｍｆＦ_{（１２－ｍｆ）}は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。

なお、上記式は単位の種類とその数を表すものであり、単位の配列を表すものではない。すなわち、ｍ１１～ｍ１６は単位の数を表すものであり、たとえば、（ＯＣＨ_ｍａＦ_{（２－ｍａ）}）_ｍ１１は、（ＯＣＨ_ｍａＦ_{（２－ｍａ）}）単位がｍ１１個連続したブロックを表すものではない。同様に、（ＯＣＨ_ｍａＦ_{（２－ｍａ）}）～（ＯＣ_６Ｈ_ｍｆＦ_{（１２－ｍｆ）}）の記載順は、その記載順にそれらが配列していることを表すものではない。
上記式において、ｍ１１～ｍ１６の２以上が０でない場合（すなわち、（ＯＸ）_ｍが２種以上の単位から構成されている場合）、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列およびそれら配列の組合せのいずれであってもよい。
さらに、上記各単位も、また、その単位が２以上含まれている場合、それらの単位は異なっていてもよい。たとえば、ｍ１１が２以上の場合、複数の（ＯＣＨ_ｍａＦ_{（２－ｍａ）}）は同一であっても異なっていてもよい。

反応性シリル基としては、式（２）で表される基が好ましい。
－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ ・・・（２）

含フッ素エーテル化合物が有する基（２）の数は、１個以上であり、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点で、２個以上が好ましく、２～１０個がより好ましく、２～５個がさらに好ましく、２または３個が特に好ましい。
基（２）が１分子中に複数ある場合、複数ある基（２）は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。

Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、下地層に含まれる酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。

加水分解性基の具体例としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。アリールオキシ基としては、炭素数３～１０のアリールオキシ基が好ましい。ただしアリールオキシ基のアリール基としては、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アシル基としては、炭素数１～６のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数１～６のアシルオキシ基が好ましい。
Ｌとしては、含フッ素エーテル化合物の製造がより容易である点から、炭素数１～４のアルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、含フッ素エーテル化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、含フッ素エーテル化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎは、０～２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、撥水撥油層の下地層への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

含フッ素エーテル化合物としては、撥水撥油層の撥水撥油性および耐摩擦性により優れる点で、式（３）で表される化合物が好ましい。
［Ａ－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－］_ｊＺ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ ・・・（３）

Ａは、ペルフルオロアルキル基または－Ｑ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａが－Ｑ［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｋである場合、ｊは１である。

ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）－等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－が好ましい。

Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。後述するように、ｋは１～１０の整数である。よって、Ｑとしては、２～１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、基（ｇ２－１）～基（ｇ２－９）および基（ｇ３－１）～基（ｇ３－９）が挙げられる。

Ｒ、Ｌ、ｎ、Ｘおよびｍの定義は、上述の通りである。

Ｚは、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｚは、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、基（ｇ２－１）～基（ｇ２－９）および基（ｇ３－１）～基（ｇ３－９）が挙げられる。

ｊは、１以上の整数であり、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、１～５の整数が好ましく、化合物（３）を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｇは、１以上の整数であり、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、２～４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

化合物（３）としては、撥水撥油層の初期水接触角および耐摩擦性により優れる点から、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）が好ましい。これらの中でも、化合物（３－１１）および化合物（３－２１）は撥水撥油層の初期水接触角に特に優れ、化合物（３－３１）は、撥水撥油層の耐摩擦性に特に優れる。

Ｒ^ｆ１－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－Ｙ^１１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ１ ・・・（３－１１）
［Ｒ^ｆ２－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－］_ｊ２Ｙ^２１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ２ ・・・（３－２１）
［Ｌ_３－ｎ（Ｒ）_ｎＳｉ－］_ｋ３Ｙ^３２－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－Ｙ^３１［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ３ ・・・（３－３１）

式（３－１１）中、Ｘ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬはそれぞれ、式（３）におけるＸ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬの定義と同義である。
Ｒ^ｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロアルキル基の好適態様および具体例は上述の通りである。
Ｙ^１１は、（ｇ１＋１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＺと同じである。
ｇ１は、２以上の整数であり、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、２～１５の整数が好ましく、２～４の整数がより好ましく、２または３がさらに好ましく、３が特に好ましい。

式（３－２１）中、Ｘ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬはそれぞれ、式（３）におけるＸ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬの定義と同義である。
Ｒ^ｆ２は、ペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロアルキル基の好適態様および具体例は上述の通りである。
ｊ２は、２以上の整数であり、２～６の整数が好ましく、２～４の整数がより好ましい。
Ｙ^２１は、（ｊ２＋ｇ２）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＺと同じである。
ｇ２は、２以上の整数であり、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、２～１５の整数が好ましく、２～６がより好ましく、２～４がさらに好ましく、４が特に好ましい。

式（３－３１）中、Ｘ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬはそれぞれ、式（３）におけるＸ、ｍ、Ｒ、ｎおよびＬの定義と同義である。
ｋ３は、１以上の整数であり、１～４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。
Ｙ^３２は、（ｋ３＋１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＱと同じである。
Ｙ^３１は、（ｇ３＋１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＺと同じである。
ｇ３は、１以上の整数であり、１～４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

式（３－１１）におけるＹ^１１は、基（ｇ２－１）（ただし、ｄ１＋ｄ３＝１（つまり、ｄ１またはｄ３が０である。）、ｇ１＝ｄ２＋ｄ４、ｄ２＋ｄ４≧２である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｅ１＝１、ｇ１＝ｅ２、ｅ２≧２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ１＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｈ１＝１、ｇ１＝ｈ２、ｈ２≧２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｉ１＝１、ｇ１＝ｉ２、ｉ２≧２である。）、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ１＝ｉ３＋１である。）、基（ｇ２－８）（ただし、ｇ１＝ｉ４、ｉ４≧２である。）、または、基（ｇ２－９）（ただし、ｇ１＝ｉ５、ｉ５≧２である。）であってもよい。
式（３－２１）におけるＹ^２１は、基（ｇ２－１）（ただし、ｊ２＝ｄ１＋ｄ３、ｄ１＋ｄ３≧２、ｇ２＝ｄ２＋ｄ４、ｄ２＋ｄ４≧２である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｊ２＝ｅ１、ｅ１＝２、ｇ２＝ｅ２、ｅ２＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｊ２＝ｈ１、ｈ１≧２、ｇ２＝ｈ２、ｈ２≧２である。）、または、基（ｇ２－５）（ただし、ｊ２＝ｉ１、ｉ１＝２、ｇ２＝ｉ２、ｉ２＝２である。）であってもよい。
また、式（３－３１）におけるＹ^３１およびＹ^３２はそれぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｇ３＝ｄ２＋ｄ４、ｋ３＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｇ３＝ｅ２、ｋ３＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ３＝２、ｋ３＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｇ３＝ｈ２、ｋ３＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｇ３＝ｉ２、ｋ３＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ３＝１、ｋ３＝１である。）、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ３＝ｉ３＋１、ｋ３＝ｉ３＋１である。）、基（ｇ２－８）（ただし、ｇ３＝ｉ４、ｋ３＝ｉ４である。）、または、基（ｇ２－９）（ただし、ｇ３＝ｉ５、ｋ３＝ｉ５である。）であってもよい。

（－Ａ^１－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－）_ｅ２ ・・・（ｇ２－２）
－Ａ^１－Ｎ（－Ｑ^２３－）_２ ・・・（ｇ２－３）
（－Ａ^１－）_ｈ１Ｚ^１（－Ｑ^２４－）_ｈ２ ・・・（ｇ２－４）
（－Ａ^１－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－）_ｉ２ ・・・（ｇ２－５）
－Ａ^１－Ｑ^２６－ ・・・（ｇ２－６）
－Ａ^１－ＣＨ（－Ｑ^２２－）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－）_ｉ３ ・・・（ｇ２－７）
－Ａ^１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^ｅ４）（－Ｑ^２７－）］_ｉ４－Ｒ^ｅ５ ・・・（ｇ２－８）
－Ａ^１－Ｚ^ａ（－Ｑ^２８－）_ｉ５ ・・・（ｇ２－９）

ただし、式（ｇ２－１）～式（ｇ２－９）においては、Ａ^１側が（ＯＸ）_ｍに接続し、Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５、Ｑ^２６、Ｑ^２７およびＱ^２８側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。

Ａ^１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｏ－または－ＳＯ_２ＮＲ^６－を有する基であり、各式中、Ａ^１が２以上存在する場合、２以上のＡ^１は同一であっても異なっていてもよい。アルキレン基の水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｑ^２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基であり、各式中、Ｑ^２２が２以上存在する場合、２以上のＱ^２２は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ^２３は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基であり、２個のＱ^２３は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ^２４は、Ｑ^２４が結合するＺ^１における原子が炭素原子の場合、Ｑ^２２であり、Ｑ^２４が結合するＺ^１における原子が窒素原子の場合、Ｑ^２３であり、各式中、Ｑ^２４が２以上存在する場合、２以上のＱ^２４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ^２５は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基であり、各式中、Ｑ^２５が２以上存在する場合、２以上のＱ^２５は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ^２６は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基である。
Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基またはフェニル基である。
Ｑ^２７は、単結合またはアルキレン基である。
Ｑ^２８は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。

Ｚ^１は、Ａ^１が直接結合する炭素原子または窒素原子を有しかつＱ^２４が直接結合する炭素原子または窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。

Ｒ^ｅ１は、水素原子またはアルキル基であり、各式中、Ｒ^ｅ１が２以上存在する場合、２以上のＲ^ｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ^ｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基またはアシルオキシ基である。
Ｒ^ｅ３は、アルキル基である。
Ｒ^ｅ４は、水素原子またはアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。各式中、Ｒ^ｅ４を２以上存在する場合、２以上のＲ^ｅ４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ^ｅ５は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｄ１は、０～３の整数であり、１または２が好ましい。ｄ２は、０～３の整数であり、１または２が好ましい。ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
ｄ３は、０～３の整数であり、０または１が好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２または３が好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
ｄ１＋ｄ３は、Ｙ^１１またはＹ^２１においては１～５の整数であり、１または２が好ましく、Ｙ^１１、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１である。
ｄ２＋ｄ４は、Ｙ^１１またはＹ^２１においては２～５の整数であり、４または５が好ましく、Ｙ^３１およびＹ^３２においては３～５の整数であり、４または５が好ましい。
ｅ１＋ｅ２は、３または４である。ｅ１は、Ｙ^１１においては１であり、Ｙ^２１においては２～３の整数であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１である。ｅ２は、Ｙ^１１またはＹ^２１においては２または３であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては２または３である。
ｈ１は、Ｙ^１１においては１であり、Ｙ^２１においては２以上の整数（２が好ましい）であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１である。ｈ２は、Ｙ^１１またはＹ^２１においては２以上の整数（２または３が好ましい）であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１以上の整数（２または３が好ましい）である。
ｉ１＋ｉ２は、Ｙ^１１においては３または４であり、Ｙ^１２においては４であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては３または４である。ｉ１は、Ｙ^１１においては１であり、Ｙ^２１においては２であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１である。ｉ２は、Ｙ^１１においては２または３であり、Ｙ^１２においては２であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては２または３である。
ｉ３は、２または３である。
ｉ４は、Ｙ^１１においては２以上（２～１０の整数が好ましく、２～６の整数が特に好ましい）であり、Ｙ^３１およびＹ^３２においては１以上（１～１０の整数が好ましく、１～６の整数が特に好ましい）である。
ｉ５は、２以上であり、２～７の整数であることが好ましい。

Ｑ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５、Ｑ^２６、Ｑ^２７、Ｑ^２８のアルキレン基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点、および撥水撥油層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。

Ｚ^１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ^１における環構造にはＡ^１やＱ^２４が直接結合するため、環構造にたとえばアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＡ^１やＱ^２４が連結することはない。
Ｚ^ａは、（ｉ５＋１）価のオルガノポリシロキサン残基であり、下記の基が好ましい。ただし、下式におけるＲ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。

Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２、Ｒ^ｅ３またはＲ^ｅ４のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ^ｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
ｈ１は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
ｈ２は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２または３が特に好ましい。

Ｙ^１１の他の形態としては、基（ｇ３－１）（ただし、ｄ１＋ｄ３＝１（つまり、ｄ１またはｄ３が０である。）、ｇ１＝ｄ２×ｒ１＋ｄ４×ｒ１である。）、基（ｇ３－２）（ただし、ｅ１＝１、ｇ１＝ｅ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－３）（ただし、ｇ１＝２×ｒ１である。）、基（ｇ３－４）（ただし、ｈ１＝１、ｇ１＝ｈ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－５）（ただし、ｉ１＝１、ｇ１＝ｉ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－６）（ただし、ｇ１＝ｒ１である。）、基（ｇ３－７）（ただし、ｇ１＝ｒ１×（ｉ３＋１）である。）、基（ｇ３－８）（ただし、ｇ１＝ｒ１×ｉ４である。）、基（ｇ３－９）（ただし、ｇ１＝ｒ１×ｉ５である。）が挙げられる。
Ｙ^２１の他の形態としては、基（ｇ３－１）（ただし、ｊ２＝ｄ１＋ｄ３、ｄ１＋ｄ３≧２、ｇ２＝ｄ２×ｒ１＋ｄ４×ｒ１である。）、基（ｇ３－２）（ただし、ｊ２＝ｅ１、ｅ１＝２、ｇ２＝ｅ２×ｒ１、ｅ２＝２である。）、基（ｇ３－４）（ただし、ｊ２＝ｈ１、ｈ１≧２、ｇ２＝ｈ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－５）（ただし、ｊ２＝ｉ１、ｉ１は２または３、ｇ２＝ｉ２×ｒ１、ｉ１＋ｉ２は３または４である。）が挙げられる。
Ｙ^３１およびＹ^３２の他の形態としては、基（ｇ３－１）（ただし、ｇ３＝ｄ２×ｒ１＋ｄ４×ｒ１、ｋ３＝ｄ２×ｒ１＋ｄ４×ｒ１である。）、基（ｇ３－２）（ただし、ｇ３＝ｅ２×ｒ１、ｋ３＝ｅ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－３）（ただし、ｇ３＝２×ｒ１、ｋ３＝２×ｒ１である。）、基（ｇ３－４）（ただし、ｇ３＝ｈ２×ｒ１、ｋ３＝ｈ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－５）（ただし、ｇ３＝ｉ２×ｒ１、ｋ３＝ｉ２×ｒ１である。）、基（ｇ３－６）（ただし、ｇ３＝ｒ１、ｋ３＝ｒ１である。）、基（ｇ３－７）（ただし、ｇ３＝ｒ１×（ｉ３＋１）、ｋ３＝ｒ１×（ｉ３＋１）である。）、基（ｇ３－８）（ただし、ｇ３＝ｒ１×ｉ４、ｋ３＝ｒ１×ｉ４である。）、基（ｇ３－９）（ただし、ｇ３＝ｒ１×ｉ５、ｋ３＝ｒ１×ｉ５である。）が挙げられる。

（－Ａ^１－）_ｅ１Ｃ（Ｒ^ｅ２）_{４－ｅ１－ｅ２}（－Ｑ^２２－Ｇ^１）_ｅ２ ・・・（ｇ３－２）
－Ａ^１－Ｎ（－Ｑ^２３－Ｇ^１）_２ ・・・（ｇ３－３）
（－Ａ^１－）_ｈ１Ｚ^１（－Ｑ^２４－Ｇ^１）_ｈ２ ・・・（ｇ３－４）
（－Ａ^１－）_ｉ１Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_{４－ｉ１－ｉ２}（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ２ ・・・（ｇ３－５）
－Ａ^１－Ｑ^２６－Ｇ^１ ・・・（ｇ３－６）
－Ａ^１－ＣＨ（－Ｑ^２２－Ｇ^１）－Ｓｉ（Ｒ^ｅ３）_３－ｉ３（－Ｑ^２５－Ｇ^１）_ｉ３ ・・・（ｇ３－７）
－Ａ^１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^ｅ４）（－Ｑ^２７－Ｇ^１）］_ｉ４－Ｒ^ｅ５ ・・・（ｇ３－８）
－Ａ^１－Ｚ^ａ（－Ｑ^２８－Ｇ^１）_ｉ５ ・・・（ｇ３－９）

ただし、式（ｇ３－１）～式（ｇ３－９）においては、Ａ^１側が（ＯＸ）_ｍに接続し、Ｇ^１側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。

Ｇ^１は、基（ｇ３）であり、各式中、Ｇ^１が２以上存在する場合、２以上のＧ^１は同一であっても異なっていてもよい。Ｇ^１以外の符号は、式（ｇ２－１）～式（ｇ２－９）における符号と同じである。
－Ｓｉ（Ｒ^８）_３－ｒ１（－Ｑ^３－）_ｒ１ ・・・（ｇ３）
ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ^２２、Ｑ^２３、Ｑ^２４、Ｑ^２５、Ｑ^２６、Ｑ^２７およびＱ^２８に接続し、Ｑ^３側が［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］に接続する。Ｒ^８は、アルキル基である。Ｑ^３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^６－または－Ｏ－を有する基、または－（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）_ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ^３は同一であっても異なっていてもよい。ｒ１は、２または３である。Ｒ^６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基またはフェニル基である。Ｒ^９は、アルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、２個のＲ^９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ^９）_２）は同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^３のアルキレン基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
Ｒ^８のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ^９のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）を製造しやすい点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ^９のアルコキシ基の炭素数は、化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）の保存安定性に優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。
ｐは、０または１が好ましい。

化合物（３－１１）、化合物（３－２１）および化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性および耐薬品性がより優れ、なかでも耐光性が特に優れる点から好ましい。下式の化合物におけるＲ^ｆは、上述した式（３－１１）におけるＲ^ｆ１－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－または式（３－２１）におけるＲ^ｆ２－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－と同様であり、好適態様も同様である。下式の化合物におけるＱ^ｆは、式（３－３１）における－（ＯＸ）_ｍ－Ｏ－と同様であり、好適態様も同様である。

Ｙ^１１が基（ｇ２－１）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ２－２）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^２１が基（ｇ２－２）である化合物（３－２１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ２－３）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ２－４）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ２－５）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ２－７）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－１）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－２）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－３）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－４）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－５）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－６）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^１１が基（ｇ３－７）である化合物（３－１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^２１が基（ｇ２－１）である化合物（３－２１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－１）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－２）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－３）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－４）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－５）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－６）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ２－７）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

Ｙ^３１およびＹ^３２が基（ｇ３－２）である化合物（３－３１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。

含フッ素エーテル化合物としては、膜の撥水撥油性および耐摩擦性により優れる点で、式（３Ｘ）で表される化合物もまた好ましい。
［Ａ－（ＯＸ）_ｍ］_ｊＺ’［－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｇ ・・・（３Ｘ）
化合物（３Ｘ）は、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、式（３－１）で表される化合物が好ましい。
Ａ－（ＯＸ）_ｍ－Ｚ^３１ ・・・（３－１）
式（３－１）中、Ａ、Ｘおよびｍの定義は、式（３）中の各基の定義と同義である。

Ｚ’は（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｚ’は、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、酸素原子、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、および、式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－６）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。

Ｚ^３１は、基（３－１Ａ）または基（３－１Ｂ）である。
－Ｑ^ａ－Ｘ^３１（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）_ｈ（－Ｒ^３１）_ｉ ・・・（３－１Ａ）
－Ｑ^ｃ－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^３３ ・・・（３－１Ｂ）

Ｑ^ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－Ｎ（Ｒ^ｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５～２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。アルケニレン基としては、炭素数２～２０のアルケニレン基が好ましく、アルキニレン基としては、炭素数２～２０のアルキニレン基が好ましい。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２～８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０が特に好ましい。
２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

Ｑ^ｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。

Ｒ^３１は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｘ^３１が単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘ^３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ^３１が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ^３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^ｃは、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｒ^３２は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。

Ｑ^ｄは、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ^ｄは、単結合または－ＣＨ_２－が好ましい。

Ｒ^３３は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（－Ｑ^ｄ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－６）が好ましい。
－（Ｘ^３２）_ｓ１－Ｑ^ｂ１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ ・・・（３－１Ａ－１）
－（Ｘ^３３）_ｓ２－Ｑ^ａ２－Ｎ［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］_２ ・・・（３－１Ａ－２）
－Ｑ^ａ３－Ｇ（Ｒ^ｇ）［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_２ ・・・（３－１Ａ－３）
－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ４－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３ ・・・（３－１Ａ－４）
－Ｑ^ａ５－Ｓｉ［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_３ ・・・（３－１Ａ－５）
－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ－Ｑ^ａ６－Ｚ^ａ’［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ ・・・（３－１Ａ－６）
なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－６）中、Ｒ、Ｌ、および、ｎの定義は、上述した通りである。

Ｘ^３２は、－Ｏ－、または、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０または１である。

Ｑ^ｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。

Ｑ^ｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ１としては、ｓ１が０の場合は、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｏ－の場合は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。Ｑ^ｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

基（３－１Ａ－１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍとの結合位置を表す。

Ｘ^３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、または、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－である。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

Ｑ^ａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑ^ａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－または－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ａ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２－、－Ｃ（Ｏ）－が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。

ｓ２は、０または１（ただし、Ｑ^ａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。

Ｑ^ｂ２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑ^ｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

２個の［－Ｑ^ｂ２－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（３－１Ａ－２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍとの結合位置を表す。

Ｑ^ａ３は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ^ｇは、水酸基またはアルキル基である。Ｒ^ｇで表されるアルキル基の炭素数は、１～４が好ましい。
Ｇ（Ｒ^ｇ）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ^ｇａ）（ただし、Ｒ^ｇａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。

Ｑ^ｂ３は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

２個の［－Ｑ^ｂ３－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（３－１Ａ－３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍとの結合位置を表す。

式（３－１Ａ－４）中のＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０または１である。
Ｑ^ａ４は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
ｔ４は、０または１（ただし、Ｑ^ａ４が単結合の場合は０である。）である。
－Ｑ^ａ４－（Ｏ）_ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が好ましく（ただし、左側が（ＯＸ）_ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

Ｑ^ｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－（Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）－、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間または（Ｏ）_ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^ｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。

ｕ４は、０または１である。
－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

３個の［－（Ｏ）_ｕ４－Ｑ^ｂ４－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（３－１Ａ－４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍとの結合位置を表す。

Ｑ^ａ５は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

Ｑ^ｂ５は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎに結合する。）。

３個の［－Ｑ^ｂ５－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（３－１Ａ－５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）_ｍとの結合位置を表す。

式（３－１Ａ－６）中のＲ^ｄの定義は、上述の通りである。
ｖは、０または１である。

Ｑ^ａ６は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＺ^ａ’に結合する。）。

Ｚ^ａ’は、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２以上であり、２～７の整数であることが好ましい。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、前述した（ｉ５＋１）価のオルガノポリシロキサン残基と同じ基が挙げられる。

Ｑ^ｂ６は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

ｗ個の［－Ｑ^ｂ６－Ｓｉ（Ｒ）_ｎ３Ｌ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

化合物（３Ｘ）は、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、式（３－２）で表される化合物もまた好ましい。
［Ａ－（ＯＸ）_ｍ－Ｑ^ａ－］_ｊ３２Ｚ^３２［－Ｑ^ｂ－Ｓｉ（Ｒ）_ｎＬ_３－ｎ］_ｈ３２ ・・・（３－２）
式（３－２）中、Ａ、Ｘ、ｍ、Ｑ^ａ、Ｑ^ｂ、Ｒ、およびＬの定義は、式（３－１）中および式（３－１Ａ）中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３２は、（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基、または、炭化水素基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する炭素数２以上で（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基である。
Ｚ^３２としては、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましい。
Ｚ^３２としては、原料の入手容易性の点から、式（Ｚ－１）～式（Ｚ－５）で表される基が好ましい。ただし、Ｒ^３４は、アルキル基であり、メチル基またはエチル基が好ましい。

ｊ３２は２以上の整数であり、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、２～５の整数が好ましい
ｈ３２は１以上の整数であり、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、２～４の整数が好ましく、２または３がより好ましい。

含フッ素エーテル化合物の具体例としては、たとえば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
特開平１１－０２９５８５号公報および特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号および国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号、国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、国際公開第２０１９／０４９７５３号、国際公開第２０１９／１６３２８２号および特開２０１９－０４４１５８号公報、に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号および国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
国際公開第２０１８／１６９００２号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、
国際公開第２０１９／１５１４４２号に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、
国際公開第２０１９／１５１４４５号に記載の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、
国際公開第２０１９／０９８２３０号に記載のパーフルオロポリエーテル基含有化合物、
特開２０１５－１９９９０６号公報、特開２０１６－２０４６５６号公報、特開２０１６－２１０８５４号公報および特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
国際公開第２０１９／０３９０８３号および国際公開第２０１９／０４９７５４号に記載の含フッ素化合物。

含フッ素エーテル化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。

［撥水撥油層付き基材の製造方法］
本発明の撥水撥油層付き基材の製造方法では、基材の表面に、ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成し、次いで、下地層の表面に、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる撥水撥油層を形成する。ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成するのは、撥水撥油層との接着性に優れるためである。
但し、下地層がアルカリ金属を含むと、上述したように、下地層中のアルカリ金属が雰囲気中の水分と反応して、アルカリ金属イオンと水酸化物イオンが生じる。この水酸化物イオンにより撥水撥油層と下地層との界面のＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が切断され、下地層から撥水撥油層が剥離するため、撥水撥油層の耐摩耗性の長期信頼性が低下する。
そのため、本発明の撥水撥油層付き基材の製造方法では、撥水撥油層形成後、撥水撥油層形成面側を水系媒体処理して、下地層がアルカリ金属を実質的に含まない状態とする。

（下地層の形成）
ケイ素の酸化物の前駆体とアルカリ金属源とを含む下地層形成材料を用いて、基材の表面にケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成する。

ケイ素の酸化物の前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルカリ金属ケイ酸塩、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物、該シラン化合物の部分加水分解縮合物等が挙げられる。ケイ酸やその部分縮合物は脱水縮合させてケイ素の酸化物とすることができ、アルカリ金属ケイ酸塩は酸や陽イオン交換樹脂によりケイ酸やその部分縮合物とし、生成したケイ酸やその部分縮合物を脱水縮合させてケイ素の酸化物とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物における加水分解性基としては、アルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。該シラン化合物の加水分解性基を加水分解させて水酸基とし、生成するシラノール化合物を脱水縮合させてケイ素の酸化物とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のアルコキシシランやテトラクロロシラン等が挙げられる。
ケイ素の酸化物の前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、テトラアルコキシシランおよびテトラアルコキシシランの部分加水分解縮合物が好ましい。

アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物、水溶性アルカリ金属塩等が挙げられる。水溶性アルカリ金属塩としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属塩酸塩、アルカリ金属硝酸塩等が挙げられる。アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩が好ましい。
さらに、アルカリ金属ケイ酸塩はケイ素を含む酸化物の前駆体かつアルカリ金属源として用いることができる。上記の様に、アルカリ金属ケイ酸塩はケイ酸を経てケイ素の酸化物とすることができるが、その際に少量のアルカリ金属が生成するケイ素の酸化物中に残留することが少なくない。したがって、意図的に残留するアルカリ金属の量を調整して、所定量のアルカリ金属とケイ素とを含む酸化物を得ることができる。

ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成する方法としては、下記の（ａ１）または（ａ２）が好ましい。（ａ１）の方法はウェットコーティングを用いる方法であり、（ａ２）の方法はドライコーティングを用いる方法である。
（ａ１）：ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシランおよびその部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化ケイ素前駆体と、アルカリ金属源と、溶媒とを含むコーティング液を用いて、基材表面にケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成する方法。
（ａ２）：アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物を用いて、基材表面にケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成する方法。

（ａ１）
ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物層形成用のコーティング液としては、ケイ素を含む酸化物層を形成しやすい点から、ケイ素を含む酸化物の前駆体として、ケイ酸およびその部分縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、特にケイ酸の部分縮合物を含むことが特に好ましい。
ケイ酸やその部分縮合物の製造原料としてアルカリ金属ケイ酸塩を使用することが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩を使用することにより、生成するケイ素を含む酸化物層中に所定濃度のアルカリ金属原子を含ませることができる。また、アルカリ金属水酸化物等のアルカリ金属源を用いて、生成するケイ素を含む酸化物層中のアルカリ金属濃度を調整することもできる。
具体的には、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液を脱塩処理してケイ酸水溶液を得た後、ケイ酸水溶液に水溶性有機溶媒を加えることによって調製する方法が好ましい。脱塩処理条件を適宜選択することで、ケイ酸水溶液に好ましい量のアルカリ金属原子を含めることができる。脱塩処理の方法としては、たとえば、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液と陽イオン交換樹脂とを混合し、撹拌した後、陽イオン交換樹脂を除去する方法が挙げられる。この方法に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウムが好ましい。

アルカリ金属ケイ酸塩としては、Ｍ_２Ｏ・ｎＳｉＯ_２で表されるケイ酸塩が挙げられ、具体的には、メタケイ酸塩（Ｍ_２ＳｉＯ_３）、オルトケイ酸塩（Ｍ_４ＳｉＯ_４）、二ケイ酸塩（Ｍ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、四ケイ酸塩（Ｍ_２Ｓｉ_４Ｏ_９）が挙げられる。
たとえば、ケイ酸ナトリウムとしては、ＪＩＳ Ｋ１４０８－１９６６に規定されたＮａ_２Ｏ・ｎＳｉＯ_２が挙げられ、具体的には、メタケイ酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳｉＯ_３）、オルトケイ酸ナトリウム（Ｎａ_４ＳｉＯ_４）、二ケイ酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、四ケイ酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓｉ_４Ｏ_９）が挙げられる。

溶媒としては、水および水溶性有機溶媒が好ましい。水溶性有機溶媒としては、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒等が挙げられ、アルコール系有機溶媒が好ましい。アルコール系有機溶媒としては、イソプロピルアルコール、エタノール、ｎ－ブタノール等が挙げられる。
コーティング液の固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．１～３質量％が特に好ましい。

基材の表面にコーティング液をウェットコーティングする方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。

基材の表面にコーティング液をウェットコーティングし、ウェット膜を形成した後、ウェット膜の溶媒を除去し、ケイ酸およびその部分縮合物を縮合させることによって、酸化ケイ素層を形成する。
ウェット膜の溶媒除去における温度、およびケイ酸およびその部分縮合物の縮合における温度は、０～６００℃が好ましく、緻密な酸化ケイ素層を形成できる点から、２００～６００℃が特に好ましい。

（ａ２）
アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物を用いてドライコーティングを行う方法としては、プロセスの簡便性に優れる点から、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法等が挙げられる。装置の簡便さの点から、真空蒸着法が特に好ましい。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に、含フッ素化合物を含浸させたペレット状物質または組成物を含浸させ乾燥したペレット状物質を使用してもよい。
真空蒸着法において、２種以上の、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物を蒸着する場合には、それらを１つの蒸着源としてもよく、別々の蒸着源として共蒸着してもよい。特に、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物からなる１つの蒸着源を用いることが好ましい。たとえば、２種以上の、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物層を形成する場合は、２種以上の、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物からなる１つの蒸着源を用いることが好ましい。

真空蒸着法における蒸着源等のドライコーティング法に使用するアルカリ金属とケイ素とを含む酸化物としては、アルカリ金属の含有量がケイ素に対して２００ｐｐｍ以上の、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物であることが好ましい。アルカリ金属の含有量は、ケイ素に対して１，０００ｐｐｍ以上がより好ましく、１０，０００ｐｐｍ以上が特に好ましい。アルカリ金属の含有量が上記範囲の下限値以上であれば、形成された下地層と撥水撥油層との間の接着性に優れる。なお、アルカリ金属の含有量の上限は、ケイ素に対して２００，０００ｐｐｍが好ましく、１００，０００ｐｐｍが特に好ましい。
アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物の製造方法としては、二酸化ケイ素をアルカリ金属源含有水溶液に添加して撹拌し、水を除去する方法が挙げられる。二酸化ケイ素としては、シリカゲル等の多孔質二酸化ケイ素が好ましい。アルカリ金属源含有水溶液としては、アルカリ金属水酸物水溶液、アルカリ金属炭酸塩水溶液等が挙げられる。また、（ａ１）のケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物層形成用のコーティング液から、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物を製造することもできる。
また、ケイ酸ナトリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩から製造された、アルカリ金属を含む多孔質シリカゲル、該多孔質シリカゲルにさらにアルカリ金属源を含む水溶液を含浸し、乾燥や焼成を行って得られるアルカリ金属を含む多孔質シリカゲル、等を、アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物として用いることもできる。アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物は市販品を使用してもよく、Ｍ．Ｓ．ＧＥＬ（商品名：ＡＧＣエスアイテック社製）等の、ケイ酸ナトリウムから製造された多孔質球状シリカゲルが挙げられる。

アルカリ金属とケイ素とを含む酸化物の形状は問わず、粉体、ビーズ、ペレット、カレット等が挙げられる。蒸着源等として使用しやすい点からは、ビーズ、ペレット、カレットが好ましい。ペレットの製造方法は問わないが、たとえば、粉体を圧粉成形してペレット状成形体にする方法が挙げられる。ペレット状成形体の大きさは特に限定されないが、小さいとコーティング時に飛び過ぎて好ましくないことから、たとえば、直径１ｃｍ以上が好ましい。カレットの製造方法としては、カルシウムを添加してガラス化したものをカッターで切断する、粉砕する方法が挙げられる。

（撥水撥油層の形成）
撥水撥油層は、含フッ素化合物または含フッ素化合物と液状媒体とを含む組成物（以下、「組成物」ともいう。）を用いて、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造方法でも形成できる。
組成物に含まれる液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。

フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４～８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ－２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ－６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４～１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ－３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック－７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック－７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（ノベック－７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコール、エタノール、ｎ－ブタノールが挙げられる。

組成物中の含フッ素化合物の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０～９９．９９質量％が好ましく、７０～９９質量％が特に好ましい。

撥水撥油層は、たとえば、以下の方法で製造できる。
・含フッ素化合物または組成物を用いたドライコーティング法によって下地層の表面を処理して、下地層の表面に撥水撥油層を形成する方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を下地層の表面に塗布し、乾燥させて、下地層の表面に撥水撥油層を形成する方法。

ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、含フッ素化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に、含フッ素化合物を担持させた、または組成物を含浸させ乾燥させた、ペレット状物質を使用してもよい。

ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

組成物をウェットコーティングした後の乾燥温度は、２０～２００℃が好ましく、８０～１６０℃が特に好ましい。

撥水撥油層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、反応性シリル基を有する含フッ素化合物と下地層との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で撥水撥油層が形成された下地層付き基材を加熱して、反応性シリル基のシラノール基への加水分解反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、下地層の表面のシラノール基と含フッ素化合物のシラノール基との縮合反応等の反応を促進できる。
表面処理後、撥水撥油層中の化合物であって他の化合物や酸化ケイ素層と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、撥水撥油層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法、撥水撥油層表面を酸洗浄する方法等が挙げられる。

（水系媒体処理）
撥水撥油層形成面側を水系媒体処理する方法としては、撥水撥油層形成面側を酸の水溶液で洗浄する方法、撥水撥油層形成面側を上記の酸の水溶液に浸漬する方法がある。酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、塩酸などの無機酸や、有機カルボン酸（アスコルビン酸、クエン酸など）、有機ホスホン酸などの有機酸が挙げられるが、これらに限定されない。また、上記無機酸を使用した場合、ｐＨの変動を抑制するために、無機酸とともにこれらの酸の塩を加えることも可能である。また、酸の水溶液の代わりに、撥水撥油層形成面側を純水で洗浄する方法、撥水撥油層形成面側を純水に浸漬する方法が挙げられる。
水系媒体処理としては、酸の水溶液で洗浄する処理および酸の水溶液に浸漬する処理が好ましい。酸としては、以下の無機酸や有機酸が挙げられる。無機酸としては、硝酸、硫酸、塩酸が挙げられる。ただしフッ酸は酸化ケイ素層を腐食するため好ましくない。有機酸としては、アスコルビン酸、クエン酸等の有機カルボン酸、および、有機ホスホン酸等が挙げられる。これら無機酸と有機酸は、単独で使用しても、混合して使用してもよい。また、前記無機酸を使用した場合、ｐＨの変動を抑制するために、無機酸とともにこれらの酸の塩を加えてもよい。酸の水溶液のｐＨは１～３が好ましい。洗浄または浸漬時間としては１分～１時間が好ましい。

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。例１、例２、例６～９、例１１～１４は実施例であり、例３～例５、例１０は比較例である。

［物性および評価］
（アルカリ欠乏指数）
Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、撥水撥油層の表面側から、フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とする深さ方向プロファイルを作成した。深さ方向プロファイルは、膜厚既知のシリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）のスパッタレートを予め求めておき、この値を用いて算出したシリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）の換算深さを深さ方向プロファイルの横軸とした。深さ方向プロファイルの測定ピッチは、シリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）の換算深さとして２．０ｎｍ以下とした。測定装置および測定条件を以下に示す。
＜装置＞
Ｘ線光電子分光分析装置：アルバック・ファイ社製のＥＳＣＡ－５５００
＜測定条件＞
Ｘ線源：単色化ＡｌＫα線
光電子検出角度：試料面に対して７５度
パスエネルギー：１１７．４ｅＶ
ステップエネルギー：０．５ｅＶ／ｓｔｅｐ
スパッタイオン：加速電圧１０ｋＶのＣ_６０イオン
スパッタ銃のラスターサイズ：３×３ｍｍ^２
モニターした光電子ピーク：Ｆ１ｓ，Ｓｉ２ｐ，Ａｌ２ｐ，Ｎａ２ｓ，Ｋ２ｓ，Ｏ１ｓ

フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルにおいて、フッ素濃度が１０ａｔ％以下となる最初の点（点Ａ）を、撥水撥油層と、下地層との境界とした。
フッ素、ケイ素、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルから、ケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）、およびケイ素に対する、ナトリウムおよびカリウムの合計の割合（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）を求め、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）の数値の平均値をそれぞれ１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）、および（（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉ）をそれぞれ規格化した。
（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値が０．５０となる点（点Ｂ）を下地層と基材との境界とし、点Ａから点Ｂまでの深さを下地層の厚さとした。
点Ｂを起点とし、該起点から深さ方向に２０ｎｍまでの領域を領域Ｘとし、該領域Ｘについて、下記式で定義されるアルカリ欠乏指数を求めた。
アルカリ欠乏指数＝〔領域Ｘにおける、規格化したＡｌ／Ｓｉの平均値 － 領域Ｘにおける、規格化した（Ｎａ＋Ｋ）／Ｓｉの平均値〕×２０

（耐摩耗性１）
撥水撥油層形成後、温度３０℃、湿度７０％の環境に１週間保管後、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（番手：♯００００、寸法：５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を荷重：９．８Ｎ、速度：８０ｒｐｍで往復させた。往復４，０００回のスチールウール摩耗した後に、撥水撥油層の水の接触角を測定し、以下の評価基準にしたがって耐摩耗性を評価した。摩耗後の水の接触角の低下が小さいほど摩耗による性能の低下が小さく、耐摩耗性に優れる。
◎：水の接触角が１０５度以上
〇：水の接触角が１００度以上１０５度未満
×：水の接触角が１００度未満

（耐摩耗性２）
耐摩耗性１と同様に行った。ただし往復回数を１６，０００回とした。
◎：水の接触角が１００度以上
〇：水の接触角が９０度以上１００度未満
△：水の接触角が８０度以上９０度未満
×：水の接触角が８０度未満

［含フッ素化合物の合成］
［合成例１］
国際公開第２０１４／１２６０６４号に記載の化合物（ｉｉ－２）の製造方法を参考にして、化合物（３Ａ）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（３Ａ）
単位数ｎの平均値：１３、化合物（３Ａ）の数平均分子量：４，９２０。

［合成例２］
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例３に記載の方法にしたがい、化合物（１－１Ａ）を得た。
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｘ３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＨ_２－Ｎ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２ ・・・（１－１Ａ）
単位数ｘ３の平均値：１３、化合物（１－１Ａ）のＭｎ：５，０２０

［合成例３］
国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１１に記載の方法にしたがい、化合物（１－１Ｂ）を得た。
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３ ・・・（１－１Ｂ）
単位数ｎの平均値：１３、化合物（１－１Ｂ）のＭｎ：５，４００

［合成例４］
化合物（１－２Ｂ）を以下の手順にて合成した。

窒素置換した反応器内に、窒素置換ボックス中で秤量したＮａＨの２１．８ｇを脱水したＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに投入し、氷浴中で攪拌し、脱水したＴＨＦのマロノニトリルを溶解させた５０質量％マロノニトリル溶液の４０ｇを添加した後、臭化アリルの８０．６ｇを加え、氷浴中で４時間撹拌した。希塩酸水溶液を加え反応停止後、水および飽和食塩水で洗浄し、有機相を回収した。回収した溶液をエバポレータで濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して化合物（Ｘ５－１）の４２ｇを分取した。

窒素置換した容量３００ｍＬのナスフラスコ内に、ＬｉＡｌＨ_４の３１．１ｇ、脱水したＴＨＦの１００ｇを加え、氷浴で０℃になるまで攪拌した。化合物（Ｘ５－１）の４０ｇをゆっくりと滴下した。薄層クロマトグラフィにて化合物（Ｘ５－１）の消失を確認後、反応粗液にＮａ_２ＳＯ_４・１０Ｈ_２Ｏをゆっくり加えてクエンチした後、セライトでろ過して、水および飽和食塩水にて洗浄した。回収した有機層を減圧留去して、カラムクロマトグラフィにて精製し、化合物（Ｘ５－２）の３２．５ｇを得た。

５０ｍＬのナスフラスコに、化合物（Ｘ５－２）の０．４ｇおよびＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_１３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）－ＣＨ_３の２７ｇを加え、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物（Ｘ５－２）がすべて化合物（Ｘ５－３）に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＡＥ－３０００の９．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ－３０００）で精製し、化合物（Ｘ５－３）の１６．３ｇ（収率６６％）を得た。
なお、下式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_１３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

１００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物（Ｘ５－３）の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．５ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．３ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０２ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の５．０ｇを入れ、４０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物（Ｘ５－３）の２つアリル基がヒドロシリル化された化合物（１－２Ｂ）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であり、化合物（Ｘ５－３）は残存していなかった。
なお、下式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_１３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

化合物（１－２Ｂ）のＭｎ：９，８００

［合成例５］
下記化合物（１－３Ａ）と下記化合物（１－１Ｄ）を含む混合物（Ｍ１）を以下の手順にて合成した。

（合成例５－１）
国際公開第２０１３－１２１９８４号の実施例の例１－１に記載の方法にしたがって化合物（Ｘ６－１）を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（Ｘ６－１）

（合成例５－２）
２００ｍＬのナスフラスコに、ＨＯ－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－ＯＨの１６．２ｇ、炭酸カリウムの１３．８ｇを入れ、１２０℃で攪拌し、化合物（Ｘ４－１）の２７８ｇを加えて１２０℃で２時間攪拌した。２５℃に戻し、ＡＣ－２０００（製品名、ＡＧＣ社製、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ）および塩酸をそれぞれ５０ｇ入れ、分液し、有機相を濃縮した。得られた反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物（Ｘ６－２）の１１７．７ｇ（収率４０％）を得た。

化合物（Ｘ６－２）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：６．０（１２Ｈ）、４．６（２０Ｈ）、４．２（４Ｈ）、４．１（４Ｈ）。
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－８５（２４Ｆ）、－９０（２４Ｆ）、－１２０（２０Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（２４Ｆ）、－１４４（１２Ｆ）
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０。

（合成例５－３）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、合成例５－２で得た化合物（Ｘ６－２）の２０ｇ、フッ化ナトリウムの粉末２．４ｇ、ＡＣ－２０００の２０ｇ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの１８．８ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で２４時間攪拌した。室温に冷却した後、加圧ろ過機でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＣ－２０００を減圧留去し、化合物（Ｘ６－３）の２４ｇ（収率１００％）を得た。

化合物（Ｘ６－３）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：６．０（１２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．６（２０Ｈ）、４．２（４Ｈ）。
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－７９（４Ｆ）、－８１（６Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８５（２４Ｆ）、－９０（２４Ｆ）、－１１９（４Ｆ）、－１２０（２０Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２６（２４Ｆ）、－１２９（４Ｆ）、－１３１（２Ｆ）、－１４４（１２Ｆ）。
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０。

（合成例５－４）
５００ｍＬのニッケル製反応器に、ＣｌＣＦ_２ＣＦＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（以下、「ＣＦＥ－４１９」と記す。）の２５０ｍＬを入れ、窒素ガスをバブリングした。酸素ガス濃度が充分に下がった後、窒素ガスで希釈された２０体積％のフッ素ガスを１時間バブリングした。合成例５－３で得た化合物（Ｘ６－３）のＣＦＥ－４１９溶液（濃度：１０質量％、化合物（Ｘ６－３）：２４ｇ）を６時間かけて投入した。フッ素ガスの導入速度（ｍｏｌ／時間）と化合物（Ｘ６－３）中の水素原子の導入速度（ｍｏｌ／時間）との比は２：１になるように制御した。化合物（Ｘ６－３）の投入が終わった後、ベンゼンのＣＦＥ－４１９溶液（濃度：０．１質量％、ベンゼン：０．１ｇ）を断続的に投入した。ベンゼンの投入が終わった後、フッ素ガスを１時間バブリングし、最後に窒素ガスで反応器内を充分に置換した。溶媒を留去し、化合物（Ｘ６－４）の２５．３ｇ（収率９０％）を得た。

化合物（Ｘ６－４）のＮＭＲスペクトル：
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－７９（４Ｆ）、－８１（６Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８３（４８Ｆ）、－８７（４４Ｆ）、－１２４（４８Ｆ）、－１２９（４Ｆ）、－１３１（２Ｆ）。
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０。

（合成例５－５）
５０ｍＬのナスフラスコに、合成例５－４で得た化合物（Ｘ６－４）の２５．３ｇ、フッ化ナトリウムの２．２ｇ、ＡＣ－２０００の２５ｍＬを入れ、氷浴中で撹拌した。メタノールの１．７ｇを入れ、２５℃で１時間撹拌した。ろ過した後、ろ液をカラムクロマトグラフィにて精製した。化合物（Ｘ６－５）の１５ｇ（収率８０％）を得た。

化合物（Ｘ６－５）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：４．２（６Ｈ）。
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－８３（４４Ｆ）、－８７（４４Ｆ）、－１１９（４Ｆ）、－１２４（４４Ｆ）。
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０。

（合成例５－６）
５０ｍＬのナスフラスコに、合成例５－５で得た化合物（Ｘ６－５）の１５ｇ、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の３．２ｇ、ＡＣ－２０００の１５ｍＬを入れ、０℃で２４時間撹拌した。反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、目的物が含まれる留分３種にわけた。そのうち化合物（Ｘ６－６）は合わせて１１．２ｇ（収率７０％）を得た。３種のそれぞれの留分を（Ｃ４－６ａ）、（Ｃ４－６ｂ）、（Ｃ４－６ｃ）とした。また（Ｃ４－６ｃ）を再びカラムクロマトグラフィにて精製し、留分（Ｃ４－６ｄ）を得た。
留分（Ｃ４－６ａ）～（Ｃ４－６ｃ）には、化合物（Ｘ６－６）および化合物（Ｘ６－７）が含まれていた。そして、各留分を用いて^１９Ｆ－ＮＭＲによって、比（ＣＦ_３／ＣＦ_２）を求めた。なお、比におけるＣＦ_３は、化合物（Ｘ６－７）の一方の末端にある－ＣＦ_３基（式中の点線枠内の－ＣＦ_３基）のモル数を意味し、^１９Ｆ－ＮＭＲでは－８５～－８７ｐｐｍに観測される。また、比におけるＣＦ_２は、化合物（Ｘ６－７）の一方の末端近傍にある－ＣＦ_２－基（式中の点線枠内の－ＣＦ_２－基）と、化合物（Ｘ６－６）の両末端の近傍にある－ＣＦ_２－基（式中の点線枠内の－ＣＦ_２－基）と、の合計モル数を意味し、^１９Ｆ－ＮＭＲでは－１２０ｐｐｍに観測される。留分（Ｃ４－６ｄ）では化合物（Ｘ６－７）が非検出であることを確認した。
留分（Ｃ４－６ａ）におけるＣＦ_３／ＣＦ_２＝０．１１
留分（Ｃ４－６ｂ）におけるＣＦ_３／ＣＦ_２＝０．０６
留分（Ｃ４－６ｃ）におけるＣＦ_３／ＣＦ_２＝０．０５

化合物（Ｘ６－６）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：６．１（６Ｈ）、５．２（１２Ｈ）、３．４（４Ｈ）、２．１（１２Ｈ）。
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－８３（４４Ｆ）、－８７（４４Ｆ）、－１２０（４Ｆ）、－１２４（４４Ｆ）。
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０。

（合成例５－７）
５０ｍＬのナスフラスコに、合成例５－６で得た留分（Ｃ４－６ａ）の１ｇ、トリメトキシシランの０．２１ｇ、アニリンの０．００１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩攪拌した。溶媒等を減圧留去し、混合物（Ｍ１）の１．２ｇ（収率１００％）を得た。
なお、混合物（Ｍ１）には、化合物（１－１Ｄ）および化合物（１－３Ａ）が含まれていた。
混合物（Ｍ１）を用いて、^１９Ｆ－ＮＭＲによって合成例５－６と同様の手法で比（ＣＦ_３／ＣＦ_２）を求めた。式中の点線枠内の基は、^１９Ｆ－ＮＭＲの測定対象とした基である。
混合物（Ｍ１）におけるＣＦ_３／ＣＦ_２＝０．１１

化合物（１－３Ａ）のＮＭＲスペクトル：
^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：３．６（５４Ｈ）、３．４（４Ｈ）、１．３（２４Ｈ）、０．９（１２Ｈ）。
^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：－８３（４４Ｆ）、－８７（４４Ｆ）、－１２０（４Ｆ）、－１２４（４４Ｆ）。
単位数ｍ＋ｎの平均値：１０、化合物（１－３Ａ）のＭｎ：５，２００

留分（Ｃ４－６ｄ）を原料にし、合成例５－７と同様の手法にて、化合物（１－３Ａ）の分子量違いであるである化合物（１－４Ａ）を得た。なお、化合物（１－４Ａ）は^１９Ｆ－ＮＭＲでは－８５～－８７ｐｐｍに観測されるピークは非検出であった。
単位数ｍ＋ｎの平均値：９、化合物（１－４Ａ）のＭｎ：４，９００
化合物（１－３Ａ）と化合物（１－１Ｂ）とを５０質量％ずつ含む混合物を混合物（Ｍ４）とした。また化合物（１－１Ｂ）の３０質量％と化合物（１－３Ｂ）の７０質量％とを含む混合物を混合物（Ｍ５）とした。

［合成例６］
特開２０１５－１９９９０６号公報の実施例４にしたがい、化合物（１－３Ｂ）を得た。

上記式（１－３Ｂ）において、ｐ１：ｑ１≒４７：５３、ｐ１＋ｑ１≒４３である。
化合物（１－３Ｂ）のＭｎ：４，８００

［例１］
アイリッヒインテンシブミキサーＥＬ－１（日本アイリッヒ社製）に、ソーダ灰（ソーダアッシュジャパン社製）の１７．３６ｇ、シリカ粒子ＳＣ５５００－ＳＱ（商品名、アドマテックス社製）の２４３．６６ｇを添加し、２４００ｒｐｍで３０秒間撹拌混合した。撹拌速度を４８００ｒｐｍに変更し、撹拌しながら蒸留水３９ｇを加え、さらに４８００ｒｐｍで６０秒間撹拌した。最後に９００ｒｐｍで５分間撹拌した。得られた粒子をＥＬ－１から取り出して、１５０℃で３０分間乾燥した後、１，１５０℃で１時間焼成して焼結体１を得た。
真空蒸着装置（アルバック機工社製ＶＴＲ－３５０Ｍ）内のモリブデン製ボートに蒸着材料（蒸着源）として焼結体１の１０ｇと、化合物（３Ａ）の０．５ｇを配置した。真空蒸着装置内に、硝酸カリウムの溶融塩を用いて化学強化されたアルカリ金属元素を含有するアルミノシリケートガラス（ＡＧＣ社製Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標））をガラス基材として配置し、真空蒸着装置内を５×１０^－３Ｐａ以下の圧力になるまで排気した。
焼結体１を載せたボートを２，０００℃になるまで加熱し、ガラス基材に真空蒸着させ、厚み１０ｎｍの下地層を形成した。
さらに、化合物（３Ａ）を載せたボートを７００℃になるまで加熱し、下地層の表面に化合物（３Ａ）を真空蒸着して、厚み１０ｎｍの撥水撥油層を形成した。撥水撥油層形成後、１４０℃３０分間熱処理した後、撥水撥油層形成面側をｐＨ２の硝酸水溶液に室温で１０分間浸漬処理した。
点Ａ（撥水撥油層と下地層との境界となる点）を含む、撥水撥油層のフッ素濃度の平均値は、３７ａｔ％であった。

［例２］
硝酸水溶液による浸漬処理時間を３０分間とした以外は例１と同様の手順を実施した。撥水撥油層のフッ素濃度の平均値は、３６ａｔ％であった。

［例３］
硝酸水溶液による浸漬処理を実施しなかった以外は例１と同様の手順を実施した。撥水撥油層のフッ素濃度の平均値は、３６ａｔ％であった。

［例４］
真空蒸着装置（アルバック機工社製ＶＴＲ－３５０Ｍ）内のモリブデン製ボートに蒸着材料（蒸着源）として酸化ケイ素（キヤノンオプトロン社製）の３０ｇと、化合物（３Ａ）の５ｇを配置した。真空蒸着装置内に化学強化処理されたナトリウムとカリウムを含むアルミノシリケートガラスからなるガラス基材（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製Ｇｏｒｉｌｌａ Ｇｌａｓｓ ３（登録商標））を配置し、真空蒸着装置内を５×１０^－３Ｐａ以下の圧力になるまで排気した。
酸化ケイ素を載せたボートを２，０００℃になるまで加熱し、ガラス基材に真空蒸着させ、厚み１０ｎｍの下地層を形成した。
さらに、化合物（３Ａ）を載せたボートを７００℃になるまで加熱し、下地層の表面に化合物（３Ａ）を真空蒸着して、厚み１０ｎｍの撥水撥油層を形成した。撥水撥油層形成後、１４０℃３０分間熱処理した後、硝酸水溶液による浸漬処理は実施しなかった。撥水撥油層のフッ素濃度の平均値は、３８ａｔ％であった。

［例５］
例４と同様の手順で撥水撥油層形成後、撥水撥油層形成後、１４０℃３０分間熱処理した後、例２と同様の手順で硝酸水溶液による浸漬処理を３０分間実施した。撥水撥油層のフッ素濃度の平均値は、３７ａｔ％であった。
［例６～９、１１～１４］
含フッ素化合物を表１に記載の化合物または混合物とした以外は、例２と同様の手順で硝酸水溶液による浸漬処理を３０分間実施した。
［例１０］
含フッ素化合物を化合物（１－４Ａ）とした以外は、例４と同様の手順で試料を作成した。

表１に示す通り、アルカリ欠乏指数が０．０超の撥水撥油層付き基材は、耐摩耗性の長期信頼性が向上した。

本発明の撥水撥油層付き基材は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材、メガネ用等のレンズ、キッチン用防汚部材、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿部材や防汚部材、トイレタリー用防汚部材、導通しながら撥液が必要な部材、熱交換機の撥水・防水・滑水用部材、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器（たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルム、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルム）が挙げられる。上記以外にも、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水部材、熱交換機の撥水・防水・滑水用部材、太陽電池の撥水部材、プリント配線板の防水・撥水用部材、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水用部材、送電線の絶縁性向上用部材、各種フィルタの防水・撥水用部材、電波吸収材や吸音材の防水用部材、風呂、厨房機器、トイレタリー用の防汚部材、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品、工具等の表面保護用部材が挙げられる。
なお、２０１８年１２月２６日に出願された日本特許出願２０１８－２４２７３０号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

１０ 撥水撥油層付き基材
１２ 基材
１４ 下地層
１６ 撥水撥油層

Claims (11)

1. 基材と、前記基材の表面に形成された下地層と、前記下地層の表面に形成された撥水撥油層とをこの順で有する撥水撥油層付き基材であって、
   前記撥水撥油層は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなり、
   前記下地層が、ケイ素を含む酸化物を含み、アルカリ金属およびアルミニウムを実質的に含まず、
   前記基材が、アルカリ金属およびアルミニウムを含むシリカガラスからなり、
   前記撥水撥油層の表面側からＣ_６０イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイル（測定ピッチ：２．０ｎｍ以下）から、下記（ａ），（ｂ），（ｃ）を特定した場合に、下記（ｃ）で求まるアルカリ欠乏指数が０．５超となることを特徴とする、撥水撥油層付き基材。
   なお、深さ方向プロファイルの横軸の深さは、膜厚既知のシリコンウェハ上熱酸化膜（ＳｉＯ_２膜）のスパッタレートを用いて算出した換算深さとする。
   （ａ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルにおいて、フッ素濃度が１０ａｔ％以下となる最初の点を、前記撥水撥油層と、前記下地層との境界とする。
   （ｂ）ＸＰＳにより作成した、フッ素、ケイ素、アルミニウム、アルカリ金属元素、および酸素の合計濃度を１００ａｔ％とした深さ方向プロファイルから、ケイ素に対するアルミニウムの割合（Ａｌ／Ｓｉ）、およびケイ素に対するアルカリ金属元素の合計の割合（アルカリ金属元素／Ｓｉ）を求め、深さ７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下の領域における（Ａｌ／Ｓｉ）の数値、および（アルカリ金属元素／Ｓｉ）の数値の平均値をそれぞれ１として、深さ方向の各部位における（Ａｌ／Ｓｉ）、および（アルカリ金属元素／Ｓｉ）をそれぞれ規格化し、（Ａｌ／Ｓｉ）の規格化した数値が０．５０以上となる最初の点を下地層と基材との境界とする。
   （ｃ）（ｂ）で求まる下地層と基材との境界を起点とし、該起点から深さ方向に２０ｎｍまでの領域を領域Ｘとし、該領域Ｘについて、下記式で定義されるアルカリ欠乏指数を求める。
   アルカリ欠乏指数＝〔領域Ｘにおける、規格化したＡｌ／Ｓｉの平均値 － 領域Ｘにおける、規格化したアルカリ金属元素／Ｓｉの平均値〕×２０
2. 前記基材が、少なくとも一方の主面に化学強化処理が施された化学強化ガラスであり、前記化学強化処理が施された主面に、前記下地層が形成されている、請求項１に記載の撥水撥油層付き基材。
3. 前記（ａ）で特定される前記撥水撥油層のフッ素濃度の平均値である平均フッ素濃度が１５ａｔ％以上である、請求項１または２に記載の撥水撥油層付き基材。
4. 前記（ａ）および前記（ｂ）で特定される前記下地層の厚さが１．０～４５．０ｎｍである、請求項１～３のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材。
5. 前記（ａ）および前記（ｂ）で特定される前記下地層の厚さが７．０～２５．０ｎｍである、請求項１～４のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材。
6. 前記基材の厚さが０．１～１．５ｍｍである、請求項１～５のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材。
7. 前記含フッ素化合物が、反応性シリル基を２個以上有する含フッ素化合物である、請求項１～６のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材。
8. 前記含フッ素化合物が、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖および反応性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物である、請求項１～７のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材。
9. 前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、オキシペルフルオロアルキレン基を主とするポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖である、請求項８に記載の撥水撥油層付き基材。
10. 基材の表面に、ケイ素とアルカリ金属とを含む酸化物を含む下地層を形成し、
    次いで、前記下地層の表面に、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる撥水撥油層を形成し、
    その後、撥水撥油層形成面側を水系媒体処理して、アルカリ金属を実質的に含まない下地層を形成し、
    請求項１～９のいずれか一項に記載の撥水撥油層付き基材を製造することを特徴とする撥水撥油層付き基材の製造方法。
11. 前記水系媒体処理が、酸水溶液で洗浄する処理、または、酸水溶液に浸漬する処理である、請求項１０に記載の撥水撥油層付き基材の製造方法。

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