CN107922445B - 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 - Google Patents
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- CN107922445B CN107922445B CN201680050219.XA CN201680050219A CN107922445B CN 107922445 B CN107922445 B CN 107922445B CN 201680050219 A CN201680050219 A CN 201680050219A CN 107922445 B CN107922445 B CN 107922445B
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- -1 ether compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 195
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 158
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 154
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 149
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 149
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 67
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 58
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 55
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 673
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 70
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 49
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims description 24
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims description 7
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 34
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 127
- 238000000034 method Methods 0.000 description 69
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 58
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 58
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 57
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 43
- RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N allyl radical Chemical compound [CH2]C=C RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 21
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 21
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N deuterated chloroform Substances [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 18
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 12
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 11
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 10
- 244000061458 Solanum melongena Species 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N osmium dioxide Inorganic materials O=[Os]=O XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- GGQQNYXPYWCUHG-RMTFUQJTSA-N (3e,6e)-deca-3,6-diene Chemical compound CCC\C=C\C\C=C\CC GGQQNYXPYWCUHG-RMTFUQJTSA-N 0.000 description 7
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 7
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 6
- 229910005948 SO2Cl Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LPZOCVVDSHQFST-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-3-ethylpyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C(=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2)CC LPZOCVVDSHQFST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 4
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 4
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 3
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,2,4-oxadiazol-5-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NOC(=N1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXZCIYUJYUESMD-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-3-(morpholin-4-ylmethyl)pyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C(=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2)CN1CCOCC1 XXZCIYUJYUESMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWSJZGAPAVMETJ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-3-ethoxypyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C(=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2)OCC WWSJZGAPAVMETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYELSNVLZVIGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-5-ethylpyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C=NN(C=1CC)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 FYELSNVLZVIGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRPAUEVGEGEPFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]pyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 ZRPAUEVGEGEPFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVKRKMWZYMKVTQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]pyrazol-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C=NN(C=1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JVKRKMWZYMKVTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N (6E,10E,14E,18E)-2,6,10,15,19,23-hexamethyltetracosa-2,6,10,14,18,22-hexaene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CCCC=C(C)CCC=C(C)CCC=C(C)C YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1F USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[5-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CC=1OC(=NN=1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUFQTNFCRMXOAE-UHFFFAOYSA-N 1-methylmethylene Chemical compound C[CH] UUFQTNFCRMXOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWVRASTUFJRTHW-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(azetidin-3-yloxy)-4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]pyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound O=C(CN1C=C(C(OC2CNC2)=N1)C1=CN=C(NC2CC3=C(C2)C=CC=C3)N=C1)N1CCC2=C(C1)N=NN2 VWVRASTUFJRTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNANKDXVBMDKE-UHFFFAOYSA-N 5-bromopent-1-ene Chemical compound BrCCCC=C LPNANKDXVBMDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 5-carboxy-2',7'-dichlorofluorescein Chemical compound C12=CC(Cl)=C(O)C=C2OC2=CC(O)=C(Cl)C=C2C21OC(=O)C1=CC(C(=O)O)=CC=C21 JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N Cloperastine hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(Cl)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)OCCN1CCCCC1 UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N Tetramethylsqualene Natural products CC(=C)C(C)CCC(=C)C(C)CCC(C)=CCCC=C(C)CCC(C)C(=C)CCC(C)C(C)=C BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000002009 alkene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N dodecahydrosqualene Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000006341 heptafluoro n-propyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229950008618 perfluamine Drugs 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N perfluorotripropylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229940031439 squalene Drugs 0.000 description 1
- TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N squalene Natural products CC(=CCCC(=CCCC(=CCCC=C(/C)CCC=C(/C)CC=C(C)C)C)C)C TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000010896 thin film analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
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Abstract
本发明提供能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及具有表面层的物品。以A1‑O‑(Rf1O)m1‑Q1‑[C(O)N(R1)]p1‑R11‑C[‑R12‑SiR13 n1X1 3‑n1]3表示的含氟醚化合物。其中，A1：碳数1～20的全氟烷基，Rf1：不具有分支结构的氟代亚烷基，m1：2～210的整数，Q1：单键或不具有分支结构的氟代亚烷基，R1：氢原子等，p1：0或1，R11：单键、亚烷基等，R12：亚烷基等，R13：1价烃基等，X1：水解性基团，n1：0～2的整数。
Description
技术领域
本发明涉及含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品。
背景技术
含氟化合物呈现高润滑性和斥水斥油性等，因此适合用于表面处理剂。如果通过该表面处理剂赋予基材表面斥水斥油性，则容易拭去基材表面的污迹，污迹除去性得到提高。该含氟化合物中，具有在全氟烷基链的中途存在醚键(-O-)的聚(氧基全氟亚烷基)链的含氟醚化合物对油脂等污迹的除去性特别优良。
含有该含氟醚化合物的表面处理剂在要求长期维持即使用手指反复摩擦斥水斥油性也不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭能够容易地除去附着于表面的指纹的性能(指纹污迹除去性)的用途中，例如用作构成触摸面板的手指接触面的部件的表面处理剂。
为了赋予形成于基材表面的表面层耐摩擦性，例如在含氟醚化合物的末端引入水解性甲硅烷基、使含氟醚化合物与基材化学结合即可。作为以形成耐摩擦性优良的表面层为目的的含氟醚化合物，提出了在含氟醚化合物的两末端分别通过由季戊四醇带来的分支结构引入3个水解性甲硅烷基而得的含氟醚化合物(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2014-070163号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
根据本发明人的见解，专利文献1中记载的含氟醚化合物存在以下问题。
·含氟醚化合物的两末端的水解性甲硅烷基与基材反应或发生分子间反应，导致含氟醚化合物的两末端被固定化。因此，表面层的润滑性(手指接触表面层时的顺滑度)和耐摩擦性不充分。
·聚(氧基全氟亚烷基)链具有分支结构，因此表面层的指纹污迹除去性和润滑性不充分。
·末端的非氟部分(季戊四醇带来的分支结构以及3个水解性甲硅烷基)的含量多，因此表面层的外观容易变差。认为其原因在于，在含氟醚化合物分子间水解性甲硅烷基之间容易发生凝聚，在涂布液中或将涂布液涂布至基材表面后，在干燥过程中，水解性甲硅烷基之间发生凝聚并反应而形成不均匀的层。
本发明的目的在于提供能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及具有斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层的物品。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明提供具有下述[1]～[14]的构成的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及物品。
[1]以下述式(1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-(Rf1O)m1-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1)
其中，
A1是碳数1～20的全氟烷基，
Rf1是不具有分支结构的氟代亚烷基，
m1是2～210的整数，
(Rf1O)m1可以由2种以上的Rf1O形成，
Q1是单键或不具有分支结构的氟代亚烷基，
R1是氢原子或烷基，
p1为0或1，
R11是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)具有醚性氧原子的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
R12是亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与Si结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
R13是氢原子或1价的烃基，
X1是水解性基团，
n1是0～2的整数，
3个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]可不全为相同的基团。
[2]如[1]所述的含氟醚化合物，其中，所述以式(1)表示的含氟醚化合物是以下述式(1-1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-(Rf5O)m5(RF1O)m10(Rf6O)m6-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1-1)
其中，
A1、Q1、R1、p1、R11、R12、R13、X1和n1与所述式(1)相同，
RF1是不具有分支结构的全氟亚烷基，m10是2以上的整数，(RF1O)m10可以由2种以上的RF1O形成，
Rf5是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m5是0～4的整数，m5是2～4的整数时(Rf5O)m5可以由2种以上的Rf5O形成，
Rf6是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m6是0～4的整数，m6是2～4的整数时(Rf6O)m6可以由2种以上的Rf6O形成，
m10+m5+m6＝m1。
[3]如[2]所述的含氟醚化合物，其中，所述RF1是碳数1～6的全氟亚烷基，Rf5、Rf6分别独立地是碳数2～6的氟代亚烷基。
[4]如[2]或[3]所述的含氟醚化合物，其中，Rf5、Rf6分别独立地是氢原子数为1或2的氟代亚烷基。
[5]如[2]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述p1为0时，m6为1或2且Q1为单键，与R11结合的(Rf6O)是以(Rf7CH2O)表示的基团，
所述p1为1时，m6为0且Q1为氟代亚烷基。
[6]如[2]～[5]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述m10在5以上。
[7]如[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述Q1为氟代亚烷基时，该氟代亚烷基为碳数1～6的全氟亚烷基。
[8]如[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述p1为0时，所述R11为碳数1～4的亚烷基，所述p1为1时，所述R11为单键或碳数1～4的亚烷基。
[9]如[1]～[8]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述R12为碳数2～6的亚烷基或在碳原子间具有醚性氧原子的碳数3～8的亚烷基。
[10]如[1]～[9]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，数均分子量为500～20000。
[11]含氟醚组合物，它是含有所述[1]～[10]中任一项所述的含氟醚化合物、和除所述以式(1)表示的含氟醚化合物以外的含氟醚化合物的含氟醚组合物，
所述含氟醚组合物中的所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计的比例相对于含氟醚组合物为80～100质量％，
相对于所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计，所述其他含氟醚化合物的比例超过0质量％且低于40质量％。
[12]如[11]所述的含氟醚组合物，其中，所述其他含氟醚化合物是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种，
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3被-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1～3的整数。
[13]涂布液，其包含所述[1]～[10]中任一项所述的含氟醚化合物或者[11]或[12]所述的含氟醚组合物、以及液态介质。
[14]物品，其具有由所述[1]～[10]中任一项所述的含氟醚化合物或者[11]或[12]所述的含氟醚组合物所形成的表面层。
发明效果
通过本发明的含氟醚化合物、含氟醚组合物以及涂布液，能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层。
本发明的物品具有斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层。
具体实施方式
本说明书中，以式(1)表示的化合物记为化合物(1)。以其他式表示的化合物也同样如此记载。
本说明书中的以下用语的含义如下所述。
“全氟烷基”是指烷基的全部氢原子被氟原子取代而得的基团。
“氟代亚烷基”是指亚烷基的1个以上的氢原子被氟原子取代而得的基团。
“全氟亚烷基”是指亚烷基的全部氢原子被氟原子取代而得的基团。
此处，氧基全氟亚烷基的化学式以其氧原子位于全氟亚烷基的右侧的化学式表示。
“醚性氧原子”是指在碳原子-碳原子间形成醚键(-O-)的氧原子。
“水解性甲硅烷基”是指，能够通过水解反应来形成硅烷醇基(Si-OH)的基团。例如，式(1)中的SiR13 n1X1 3-n1。
“表面层”是指在基材的表面形成的层。
使用NMR分析法，通过下述方法算出含氟醚化合物的“数均分子量”。
利用1H-NMR和19F-NMR，以末端基团为基准求出氧基全氟亚烷基的数量(平均值)，从而算出数均分子量。末端基团例如是式(1)中的A1或SiR13 n1X1 3-n1。
[含氟醚化合物]
本发明的含氟醚化合物(以下也记为本化合物)是化合物(1)。
A1-O-(Rf1O)m1-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1)
其中，A1是碳数1～20的全氟烷基；Rf1是不具有分支结构的氟代亚烷基；m1是2～210的整数；(Rf1O)m1可以由2种以上的Rf1O形成；Q1是单键或不具有分支结构的氟代亚烷基；R1是氢原子或烷基；p1为0或1；R11是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)具有醚性氧原子的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；R12是亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与Si结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；R13是氢原子或1价的烃基；X1是水解性基团；n1是0～2的整数；3个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]可不全为相同的基团。
(A1基团)
作为A1，从表面层的润滑性和耐摩擦性更为优良的角度考虑，优选碳数1～10的全氟烷基，更优选碳数1～6的全氟烷基，特别优选碳数1～3的全氟烷基。
A1在末端具有CF3-，因此化合物(1)的一侧的末端为CF3-，另一侧的末端为水解性甲硅烷基。利用该结构的化合物(1)，能够形成低表面能的表面层，因此该表面层的润滑性和耐摩擦性优良。另一方面，两末端具有水解性甲硅烷基的以往的含氟醚化合物的情况下，表面层的润滑性和耐摩擦性不充分。
((Rf1O)m1)
Rf1可以是不具有分支结构的全氟亚烷基，也可以是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基。
作为Rf1，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选碳数1～6的不具有分支结构的氟代亚烷基，更优选碳数1～4的不具有分支结构的氟代亚烷基，从表面层的润滑性更为优良的角度考虑，特别优选碳数1～2的不具有分支结构的氟代亚烷基。
化合物(1)具有(Rf1O)m1，因此氟原子的含量多。从而能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性优良的表面层。
另外，Rf1是不具有分支结构的氟代亚烷基，因此(Rf1O)m1为直链结构。利用该结构的化合物(1)，则表面层的耐摩擦性和润滑性优良。另一方面，在聚(氧基全氟亚烷基)链具有分支结构的以往的含氟醚化合物的情况下，表面层的耐摩擦性和润滑性不充分。
m1是2～210的整数，优选为5～160的整数，特别优选为10～110的整数。m1如果在所述范围的下限值以上，则表面层的斥水斥油性优良。m1如果在所述范围的上限值以下，则表面层的耐摩擦性优良。即，化合物(1)的数均分子量如果过大，则每单位分子量中存在的水解性甲硅烷基的数量减少，耐摩擦性降低。
(Rf1O)m1中，存在2种以上的Rf1O的情况下，各Rf1O的结合顺序没有限定。例如，存在2种Rf1O的情况下，2种Rf1O可无规配置、交互配置和嵌段配置。
存在2种以上的Rf1O是指，Rf1为全氟亚烷基的情况下存在碳数不同的2种以上的Rf1O。Rf1是具有氢原子的氟代亚烷基的情况下，是指碳数、氢原子数以及氢原子的结合位置中至少有一者不同或者存在2种以上的Rf1O。
关于2种以上的Rf1O的配置，例如在实施例的含氟醚化合物的情况下，以{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}表示的结构表示x1个(CF2O)与x2个(CF2CF2O)无规配置。另外，以(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3表示的结构表示x3个的(CF2CF2O)与x3个的(CF2CF2CF2CF2O)交互配置。
(Q1基团)
Q1可以是单键，也可以是不具有分支结构的全氟亚烷基，还可以是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基。利用不具有分支结构的化合物(1)，则能够形成耐摩擦性和润滑性优良的表面层。
Q1可以是来自Rf1的氟代亚烷基，也可以是来自制造化合物(1)时使用的具有酰胺基和水解性甲硅烷基的化合物(例如后述化合物(30))的氟代亚烷基。
Q1不为单键的情况下，其碳数优选为1～10。
([C(O)N(R1)]p1基团)
p1为0和1时，含氟醚化合物的特性几乎无变化。p为1时具有酰胺键，但由于Q1的与[C(O)N(R1)]结合侧的末端的碳原子至少结合了1个氟原子，因此酰胺键的极性变小，表面层的斥水斥油性不易降低。能够从容易制造的角度来选择p1为0或1。
作为[C(O)N(R1)]p1基中的R1，从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选氢原子。
R1为烷基的情况下，作为烷基，优选碳数1～4的烷基。
(R11基团)
作为R11，优选单键、碳数1～10的亚烷基、在碳数1～10的亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)具有醚性氧原子的基团、在碳数2～10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在碳数2～10的亚烷基的末端(但是，是与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团。
p1为0的情况下，作为R11，从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选单键和碳数4以下的亚烷基，更优选单键、亚甲基和二亚甲基。作为具有醚性氧原子的基团，可例举-CH2CH2O-、-CH2CH2OCH2-等。
p1为1的情况下，作为R11，从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选单键和碳数4以下的亚烷基，更优选单键、亚甲基和二亚甲基。
(R12基团)
作为R12，优选碳数1～10的亚烷基、在碳数1～10的亚烷基的末端(但是，与Si结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、或在碳数2～10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团。从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选为选自-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2OCH2CH2CH2-、-CH2OCH2CH2CH2CH2CH2-、-OCH2CH2CH2-中的基团(其中，右侧与Si结合)。
作为R12，从表面层的耐光性优良的角度考虑，特别优选不具有醚性氧原子。对于在室外使用的触摸面板(自动售货机、指示板等的电子标识)、车载触摸面板等，要求表面层具有耐光性。
化合物(1)中的3个R12可全为相同的基团，也可不全为相同的基团。
(SiR13 n1X1 3-n1基团)
SiR13 n1X1 3-n1是水解性甲硅烷基。
化合物(1)在末端具有3个水解性甲硅烷基。该结构的化合物(1)与基材牢固地化学结合，因此表面层的耐摩擦性优良。
另外，化合物(1)仅在一侧的末端具有水解性甲硅烷基。该结构的化合物(1)不易凝聚，因此表面层的外观优良。
X1是水解性基团。水解性基团是通过水解反应形成羟基的基团。即，化合物(1)的末端的Si-X1通过水解反应形成硅烷醇基(Si-OH)。硅烷醇基分子之间进一步反应形成Si-O-Si键。另外，硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应，形成化学键(基材-O-Si)。
作为X1，可例举烷氧基、卤原子、乙酰基、异氰酸酯基(-NCO)等。作为烷氧基，优选碳数1～4的烷氧基。
作为X1，从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选碳数1～4的烷氧基或卤原子。作为卤原子，特别优选氯原子。作为X1，从涂布时逸气少(日文：アウトガス)、化合物(1)的保存稳定性优良的角度考虑，优选碳数1～4的烷氧基，在化合物(1)必需具有长期保存稳定性时特别优选乙氧基，在涂布后的反应时间短时特别优选甲氧基。
R13是氢原子或1价的烃基。作为1价烃基，可例举烷基、环烷基、烯基、烯丙基等。
作为R13，优选1价的烃基，特别优选1价的饱和烃基。1价的饱和烃基的碳数优选为1～6，更优选1～3，特别优选1～2。R13的碳数如果是该范围，则容易制造化合物(1)。
n1优选为0或1，特别优选为0。通过使1个水解性甲硅烷基中存在多个X1，与基材的密合性更为牢固。
作为SiR13 n1X1 3-n1，优选Si(OCH3)3、SiCH3(OCH3)2、Si(OCH2CH3)3、SiCl3、Si(OCOCH3)3、Si(NCO)3。从工业制造中的操作容易度的角度考虑，特别优选Si(OCH3)3。
化合物(1)中的3个SiR13 n1X1 3-n1可全为相同的基团，也可不全为相同的基团。从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选全为相同的基团。
(化合物(1)的优选形态)
作为化合物(1)，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选化合物(1-1)。
A1-O-(Rf5O)m5(RF1O)m10(Rf6O)m6-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1-1)
其中，
A1、Q1、R1、p1、R11、R12、R13、X1和n1与所述式(1)相同，
RF1是不具有分支结构的全氟亚烷基，m10是2以上的整数，(RF1O)m10可以由2种以上的RF1O形成，
Rf5是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m5是0～4的整数，m5是2～4的整数时(Rf5O)m5可以由2种以上的Rf5O形成，
Rf6是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m6是0～4的整数，m6是2～4的整数时(Rf6O)m6可以由2种以上的Rf6O形成，
m10+m5+m6＝m1。
((Rf5O)m5)
Rf5是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，优选为碳数2～6的氟代亚烷基，特别优选碳数2的氟代亚烷基。氢原子数优选为1～4，特别优选为1或2。作为(Rf5O)，优选(CHFCF2O)和(CH2CF2O)。
m5优选为0～2的整数，更优选为0或2。m为2时，作为(Rf5O)2，优选(CHFCF2O)-(CH2CF2O)。
((RF1O)m10)
作为Rf1，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选碳数1～6的不具有分支结构的全氟亚烷基，更优选碳数1～4的不具有分支结构的全氟亚烷基，从表面层的润滑性更为优良的角度考虑，特别优选碳数1～2的不具有分支结构的全氟亚烷基。
化合物(1-1)具有(RF1O)m10，因此氟原子的含量更多。从而能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性更为优良的表面层。
另外，RF1是不具有分支结构的全氟亚烷基，因此(RF1O)m10为直链结构。利用该结构的化合物(1-1)，则表面层的耐摩擦性和润滑性优良。
(RF1O)m10中，存在2种以上的碳数不同的RF1O的情况下，各RF1O的结合顺序没有限定。例如，存在CF2O和CF2CF2O的情况下，CF2O和CF2CF2O可无规配置、交互配置和嵌段配置。
作为(RF1O)m10，从表面层的耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性更为优良的角度考虑，优选(CF2O)m11(CF2CF2O)m12、(CF2CF2O)m13、(CF2CF2CF2O)m14、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m15，特别优选(CF2O)m11(CF2CF2O)m12。
其中，m11是1以上的整数，m12是1以上的整数，m11个CF2O和m12个CF2CF2O的结合顺序无限定。优选为以{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}表示的无规配置的结构。m13和m14是2～200的整数，m15是1～100的整数。
((Rf6O)m6)
Rf6是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，优选为碳数2～6的氟代亚烷基。氢原子数优选为1～4，特别优选为1或2。m6优选为0～2。
p1为0时，Q1优选为单键。该情况下(即、(Rf6O)m6与R11直接结合的情况下)，(Rf6O)m6中的与R11结合的(Rf6O)优选为以(Rf7CH2O)表示的基团。Rf7是碳数比Rf6少1个的基团，是全氟亚烷基或具有氢原子的氟代亚烷基。Rf7优选为全氟亚烷基。作为具体的(Rf7CH2O)，优选(CF2CH2O)、(CF2CF2CH2O)、(CF2CF2CF2CH2O)、(CF2CF2CF2CF2CH2O)等。该情况下，m6优选为1。
p1为1时，优选m6为0～2且Q1为氟代亚烷基。该情况下，Q1优选为全氟亚烷基。作为全氟亚烷基的Q1的碳数，更优选为1～6。
m10+m5+m6是2～200的整数，优选为5～150的整数，特别优选为10～110的整数。m10+m5+m6如果在所述范围的下限值以上，则表面层的斥水斥油性优良。m10+m5+m6如果在所述范围的上限值以下，则表面层的耐摩擦性优良。即，化合物(1-1)的数均分子量如果过大，则每单位分子量中存在的水解性甲硅烷基的数量减少，耐摩擦性降低。
m10更优选为5以上的整数，特别优选在10以上。
(化合物(1-1)的优选形态)
作为化合物(1-1)，例如可例举下式的化合物。从工业上容易制造、容易操作、表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性和外观更为优良的角度考虑，优选该化合物。
·Q1为单键且p1＝0的化合物(1-1)。
另外，下式中的“PFPE-CH2O-”和除此以外的“PFPE-”表示A1-O-(Rf5O)m5(RF1O)m10(Rf6O)m6-。
[化1]
·Q1为全氟亚烷基且p1＝1的化合物(1-1)。
另外，下式中的“PFPE-RF-”表示A1-O-(Rf5O)m5(RF1O)m10(Rf6O)m6-Q1-。
[化2]
(化合物(1)的制造方法)
p1为0时，作为化合物(1)的制造方法，可例举例如下述方法(10)～(15)。
p1为1时，作为化合物(1)的制造方法，可例举例如下述方法(20)～(25)。
<方法(10)>
使用市售的化合物(10)作为起始物质。
HO-CH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OH···(10)
在碱性化合物的存在下，使A1-O-CF＝CF2与化合物(10)反应，得到化合物(11)、化合物(3A)和未反应的化合物(10)的混合物。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OH···(11)
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCF2CHF-O-A1···(3A)
从混合物中分离化合物(11)，通过化合物(11)与CF3CF2CF2OCF(CF3)C(O)F的酯化反应，得到化合物(12)。该酯化反应可以是化合物(11)与其他酰基氟、酰基氯、酰基溴、酸酐等的反应。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OC(O)CF(CF3)OCF2CF2CF3···(12)
通过使用氟气体将化合物(12)的氢原子取代为氟原子，得到化合物(13)。该氟化工序可按照例如国际公开第2000/56694号记载的方法等来实施。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x(CF2CF2O)-C(O)CF(CF3)OCF2CF2CF3···(13)
通过使醇(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等，以下记为R10OH，R10是烷基)作用于化合物(13)，得到化合物(14)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)OR10···(14)
通过使用还原剂(硼氢化钠、氢化铝锂等)将化合物(14)氢化还原，得到化合物(15)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OH···(15)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(15)反应，得到化合物(16)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OSO2CF3···(16)
在碱性化合物的存在下，通过使HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3与化合物(16)反应，得到化合物(17)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17)
通过使化合物(17)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化(日文：ヒドロシリル化)反应，得到化合物(1A)。氢化硅烷化反应优选使用铂等过渡金属催化剂或有机过氧化物等自由基引发剂来进行。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1A)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1A)如下表示。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)-CH2C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1A)
<方法(11)>
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(11)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OH···(11)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(11)反应，得到化合物(16B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OSO2CF3···(16B)
在碱性化合物的存在下，通过使HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3与化合物(16B)反应，得到化合物(17B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17B)
通过使化合物(17B)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1B)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1B)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)-CH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1B)
<方法(12)>
作为起始物质，使用由国际公开第2013/121984号中记载的方法所得的化合物(15C)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OH···(15C)
其中，Q12是不具有分支结构的全氟亚烷基。
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(15C)反应，得到化合物(16C)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OSO2CF3···(16C)
在碱性化合物的存在下，通过使HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3与化合物(16C)反应，得到化合物(17C)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17C)
通过使化合物(17C)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1C)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1C)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1C)如下表示。
A1-O-(RF1O)x(Q12CH2O)-CH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1C)
<方法(13)>
通过使HOCH2C(CH2CH＝CH2)3与(CF3SO2)2O反应，得到化合物(20)。
CF3SO2OCH2C(CH2CH＝CH2)3···(20)
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(15)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OH···(15)
其中，x为1～198的整数。
在碱性化合物的存在下，通过使化合物(20)与化合物(15)反应，得到化合物(17D)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17D)
通过使化合物(17D)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1D)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1D)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1D)如下表示。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)-CH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1D)
<方法(14)>
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(11)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OH···(11)
在碱性化合物的存在下，通过使方法(13)中所得的化合物(20)与化合物(11)反应，得到化合物(17E)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17E)
通过使化合物(17E)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1E)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1E)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1E)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)-CH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1E)
<方法(15)>
作为起始物质，使用由国际公开第2013/121984号中记载的方法所得的化合物(15C)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OH···(15C)
其中，Q12是不具有分支结构的全氟亚烷基。
在碱性化合物的存在下，通过使方法(13)中所得的化合物(20)与化合物(15C)反应，得到化合物(17E)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17F)
通过使化合物(17F)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1F)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1F)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1F)如下表示。
A1-O-(RF1O)x(Q12CH2O)-CH2-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1F)
<方法(20)>
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(14)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)OR10···(14)
使H2N-R11-C(CH2CH＝CH2)3与化合物(14)反应，得到化合物(17G)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3···(17G)
通过使化合物(17G)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1G)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1G)
<方法(21)>
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(11)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2-OH···(11)
按照J.Org.Chem.，第64卷，1999年，2564-2566页中记载的方法，将化合物(11)氧化，得到化合物(13H)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)OH···(13H)
通过使R10OH作用于化合物(13H)来获得化合物(14H)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)OR10···(14H)
使H2N-R11-C(CH2CH＝CH2)3与化合物(14H)反应，得到化合物(17H)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3···(17H)
通过使化合物(17H)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1H)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1H)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1H)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)(RF1O)x-CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1H)
<方法(22)>
作为起始物质，使用由国际公开第2013/121984号中记载的方法所得的化合物(14I)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-C(O)OR10···(14I)
其中，Q12是不具有分支结构的全氟亚烷基。
使H2N-R11-C(CH2CH＝CH2)3与化合物(14I)反应，得到化合物(17I)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3···(17I)
通过使化合物(17I)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1I)。
A1-O-(RF1O)x-Q12-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1I)
<方法(23)>
通过使CF2＝CFOCF2CF2CF2-C(O)OCH3与H2N-R11-C(CH2CH＝CH2)3反应，得到化合物(30)。
CF2＝CFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3···(30)
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(15)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OH···(15)
其中，x为1～198的整数。
在碱性化合物的存在下，通过使化合物(30)与化合物(15)反应，得到化合物(17J)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3
···(17J)
通过使化合物(17J)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1J)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1J)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1J)如下表示。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)(CF2CHFO)-CF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1J)
<方法(24)>
作为起始物质，使用方法(10)中所得的化合物(11)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2-CH2OH
···(11)
在碱性化合物的存在下，通过使方法(23)中所得的化合物(30)与化合物(11)反应，得到化合物(17K)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3···(17K)
通过使化合物(17K)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1K)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF1O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1K)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1K)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)(RF1O)x(CF2CH2O)(CF2CHFO)-CF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1K)
<方法(25)>
作为起始物质，使用由国际公开第2013/121984号中记载的方法所得的化合物(15C)。
A1-O-(RF1O)x-RFCH2OH···(15C)
其中，x为1～200的整数，RF是不具有分支结构的全氟亚烷基。
在碱性化合物的存在下，通过使方法(23)中所得的化合物(30)与化合物(15C)反应，得到化合物(17L)。
A1-O-(RF1O)x-RFCH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C(CH2CH＝CH2)3
···(17L)
通过使化合物(17L)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到化合物(1L)。
A1-O-(RF1O)x-RFCH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1L)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1L)如下表示。
A1-O-(RF1O)x(RFCH2O)(CF2CHFO)-CF2CF2CF2-C(O)NH-R11-C[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1L)
(本化合物)
本化合物可以是由1种化合物(1)构成的单一化合物，也可以是由A1、(Rf1O)m1、Q1、R1、p1、R11、R12、SiR13 n1X1 3-n1等不同的2种以上的化合物(1)构成的混合物。
本发明中作为单一化合物的化合物(1)是指，除了m1的数量具有分布以外的同一化合物群。例如在化合物(1-1)的情况下，(RF1O)m10为{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}时，除了m11和m12具有分布以外是同一化合物群，以及以{(CF2O)m11/m10(CF2CF2O)m12/m10}m10表示时，除了m10的数量具有分布以外是同一化合物群。市售的化合物(10)通常是在上述含义下可视为单一化合物的化合物，从而其(RF1O)x部分未产生变化的衍生物只要其他部分(A1、Q11、Q12、R1、p1、R11、R12、SiR13 n1X1 3-n1等)相同，则可视为单一化合物。
本化合物的数均分子量优选为500～20000，更优选800～10000，特别优选1000～8000。如果数均分子量在该范围内，则耐摩擦性优良。
[含氟醚组合物]
本发明的含氟醚组合物(以下也记为本组合物)是含有化合物(1)和除化合物(1)以外的含氟醚化合物的组合物。作为除化合物(1)以外的含氟醚化合物(以下也记为其他含氟醚化合物)，可例举化合物(1)的制造过程中作为副产物生成的含氟醚化合物以及用于与化合物(1)同样用途的公知的(特别是市售的)含氟醚化合物等。优选其他含氟醚化合物是不太可能降低化合物(1)的特性的化合物，且相对于本组合物中化合物(1)的相对含量是不太可能降低化合物(1)的特性的量。
其他含氟醚化合物是在化合物(1)的制造过程中作为副产物产生的含氟醚化合物的情况下，化合物(1)的制造中化合物(1)的纯化变得容易，并且能够简化纯化工序。其他含氟醚化合物是用于和化合物(1)同样用途的公知的含氟醚化合物的情况下，有时会发挥对化合物(1)的特性进行补充等新的作用效果。
作为所述其他含氟醚化合物，优选是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种。
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物。
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物。
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3被-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1～3的整数。
从不太可能降低化合物(1)的特性的角度考虑，作为含氟醚化合物(2)优选后述的化合物(2)，作为含氟醚化合物(3)优选后述的化合物(3)，作为含氟醚化合物(4)优选后述的化合物(4)。
(化合物(2))
化合物(2)是以下式(2)表示的含氟醚化合物。
[X2 3-n2R23 n2Si-R22-]3C-R21-[N(R2)C(O)]p2-(Rf2O)m2-Q2-[C(O)N(R2)]p2-R21-C[-R22-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2)
其中，Rf2是不具有分支结构的氟代亚烷基；m2是2～210的整数；(Rf2O)m2可以由2种以上的Rf2O形成；Q2是不具有分支结构的氟代亚烷基；R2是氢原子或烷基；p2为0或1，2个p2可不为相同的数；R21是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，是与[X2 3-n2R23 n2Si-R22-]3C结合侧的末端)具有醚性氧原子的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，是与[X2 3-n2R23 n2Si-R22-]3C结合侧的末端)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；2个R21可不为相同的基团；R22是亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与Si结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；R23是氢原子或1价的烃基；X2是水解性基团；n2是0～2的整数；6个[-R22-SiR23 n2X2 3-n2]可不全为相同的基团。
作为(Rf2O)m2、Q2、R2、p2、R21、R22、SiR23 n2X2 3-n2，可分别例举与化合物(1)中的(Rf1O)m1、Q1、R1、p1、R11、R12、SiR13 n1X1 3-n1相同的基团，优选方式也相同。
p2为0、Rf2为含有2个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、且R21的与Rf2结合侧的末端不存在醚性氧原子的情况下，Rf2的与R21结合侧的末端的碳原子与至少1个氟原子结合。
p2为0、Q2为含有2个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、且R21的与Q2结合侧的末端不存在醚性氧原子的情况下，Q2的与R21结合侧的末端的碳原子与至少1个氟原子结合。
(化合物(2)的优选形态)
作为化合物(2)，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选化合物(2-1)。
[X2 3-n2R23 n2Si-R22-]3C-R21-[N(R2)C(O)]p2-Q21-(RF2O)m20-Q22-[C(O)N(R2)]p2-R21-C[-R22-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2-1)
其中，R2、p2、R21、R22、R23、X2和n2与所述式(2)相同；Q21是单键、含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基的末端(其中，与C(O)结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(其中，与C(O)结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团(其中，氧原子数在10以下)；RF2是不具有分支结构的全氟亚烷基；m20为2～200的整数；(RF2O)m20可由碳数不同的2种以上的RF2O形成；Q22是不具有分支结构的全氟亚烷基、含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、或在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团。
作为Q21、(RF2O)m20、Q22，可分别例举与化合物(1-1)中的Q11、(RF1O)m10、Q12相同的基团，优选方式也相同。
Q21为含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、或在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团的情况下、并且在Q21的与(RF2O)m20结合侧的末端不存在醚性氧原子的情况下，Q21的与(RF2O)m20结合侧的末端的碳原子至少与1个氢原子结合。
(化合物(2)的制造方法)
p2为0时，作为化合物(2)的制造方法，可例举例如下述方法(30)和(31)。
p2为1时，作为化合物(2)的制造方法，可例举例如下述方法(40)和(41)。
<方法(30)>
使用市售的化合物(10)作为起始物质。
HO-CH2-CF2O(RF2O)x-CF2-CH2-OH···(10)
其中，x为1～199的整数。
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(10)反应，得到化合物(18)。
CF3SO2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2OSO2CF3
···(18)
在碱性化合物的存在下，通过使HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3与化合物(18)反应，得到化合物(19)。
(CH2＝CHCH2OCH2)3C-CH2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(19)
通过使化合物(19)与HSiR23 n2X2 3-n2进行氢化硅烷化反应，得到化合物(2A)。
[X2 3-n2R23 n2Si-CH2CH2CH2OCH2]3C-CH2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2A)
<方法(31)>
使用市售的化合物(10)作为起始物质。
HO-CH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2-OH···(10)
其中，x为1～199的整数。
在碱性化合物的存在下，通过使方法(13)中所得的化合物(20)与化合物(10)反应，得到化合物(19B)。
(CH2＝CHCH2)3C-CH2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(19B)
通过使化合物(19B)与HSiR23 n2X2 3-n2进行氢化硅烷化反应，得到化合物(2B)。
[X2 3-n2R23 n2Si-CH2CH2CH2]3C-CH2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2B)
<方法(40)>
使用市售的化合物(10)作为起始物质。
HO-CH2-CF2O(RF2O)x-CF2-CH2-OH···(10)
其中，x为1～199的整数。
按照J.Org.Chem.，第64卷，1999年，2564-2566页中记载的方法，将化合物(10)氧化，得到化合物(25)。
HOC(O)-(CF2O)(RF2O)x-CF2-C(O)OH···(25)
通过使R10OH作用于化合物(25)来获得化合物(26)。
R10OC(O)-(CF2O)(RF2O)x-CF2-C(O)OR10···(26)
使H2N-R21-C(CH2CH＝CH2)3与化合物(26)反应，得到化合物(27)。
(CH2＝CHCH2)3C-R21-NHC(O)-(CF2O)(RF2O)x-CF2-C(O)NH-R21-C(CH2CH＝CH2)3···(27)
通过使化合物(27)与HSiR23 n2X2 3-n2进行氢化硅烷化反应，得到化合物(2C)。
[X2 3-n2R23 n2Si-CH2CH2CH2]3C-R21-NHC(O)-(CF2O)(RF2O)x-CF2-C(O)NH-R21-C[CH2CH2CH2-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2C)
<方法(41)>
使用市售的化合物(10)作为起始物质。
HOCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2CH2OH···(10)
其中，x为1～199的整数。
在碱性化合物的存在下，通过使方法(23)中所得的化合物(30)与化合物(10)反应，得到化合物(27D)。
(CH2＝CHCH2)3C-R21-NHC(O)-CF2CF2CF2OCHFCF2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R21-C(CH2CH＝CH2)3···(27D)
通过使化合物(27D)与HSiR23 n2X2 3-n2进行氢化硅烷化反应，得到化合物(2D)。
[X2 3-n2R23 n2Si-CH2CH2CH2]3C-R21-NHC(O)-CF2CF2CF2OCHFCF2OCH2-(CF2O)(RF2O)x-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-R21-C[CH2CH2CH2-SiR23 n2X2 3-n2]3···(2D)
(化合物(3))
化合物(3)是以下式(3)表示的含氟醚化合物。
A31-O-(Rf3O)m3-A32···(3)
其中，A31和A32分别独立地是碳数1～20的全氟烷基；Rf3是不具有分支结构的氟代亚烷基；m3是2～210的整数；(Rf3O)m3可由碳数不同的2种以上的Rf3O形成。
作为A31、(Rf3O)m3、A32，可分别例举与化合物(1)中的A1、(Rf1O)m1、A1相同的基团，优选方式也相同。从能够有效利用化合物(1)的制造过程中作为副产物生成的化合物的角度考虑，优选分别与化合物(1)的A1、(Rf1O)m1、A1相同。
(化合物(3)的优选形态)
作为化合物(3)，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选化合物(3-1)。
A31-O-Q31-(RF3O)m30-[Q32-O]p3-A32···(3-1)
其中，A31和A32分别独立地是碳数1～20的全氟烷基；Q31是单键、含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基的末端(其中，与A31-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(其中，与A31-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团(其中，氧原子数在10以下)；Q32是含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、或在含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团(其中，氧原子数在10以下)；RF3是不具有分支结构的全氟亚烷基；m30为2～200的整数；(RF3O)m30可由碳数不同的2种以上的RF3O形成；p3在Q31为单键时为0、在Q31不为单键时为1。
作为A31、Q31、(RF3O)m30、Q32、A32，可分别例举与化合物(1-1)中的A1、Q11、(RF1O)m10、Q11(其中，单键除外)、A1相同的基团，优选方式也相同。从能够有效利用化合物(1-1)的制造过程中作为副产物生成的化合物的角度考虑，优选分别与化合物(1-1)的A1、Q11、(RF1O)m10、Q11(其中，单键除外)、A1相同。
Q31为含有1个以上氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基、或在含有1个以上氢原子的不具有分支结构的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团的情况下、并且在Q31的与(RF3O)m30结合侧的末端不存在醚性氧原子的情况下，Q31的与(RF3O)m30结合侧的末端的碳原子至少与1个氢原子结合。
(化合物(3)的制造方法)
作为化合物(3)的制造方法，可例举例如下述方法(50)和(51)。
<方法(50)>
从方法(10)所得的化合物(11)、化合物(3A)以及未反应的化合物(10)的混合物中将化合物(3A)分离。
A31-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(RF3O)x-CF2-CH2OCF2CHF-O-A32···(3A)
<方法(51)>
用氟气体将化合物(3A)氟化，得到化合物(3B)。
A31-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(RF3O)x(CF2CF2O)(CF2CF2O)-A32···(3B)
作为Q31为单键且p3为0的化合物(3)，可使用市售品。作为市售品，可例举FOMBLIN(注册商标)M、FOMBLIN(注册商标)Y、FOMBLIN(注册商标)Z(以上为苏维苏立克士公司(ソルベイ·ソレクシス社)制)、Krytox(注册商标)(杜邦公司(デュポン社)制)、デムナム(注册商标)(大金工业株式会社(ダイキン工業社)制)等。
化合物(4)是化合物(1)的-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3被取代为-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t的化合物，-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t以外的部分与化合物(1)相同。R15是通过氢化硅烷化反应而形成[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]的基团或其异构体基团，t为1～3的整数。
如前所述，通过对在末端具有不饱和基团的烯基部分加成HSiR13 n1X1 3-n1的氢化硅烷化反应生成[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]。例如，通过对-C(CH2CH＝CH2)3加成HSiR13 n1X1 3-n1，形成-C[-CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]3。此时的(CH2CH＝CH2)为R15。氢化硅烷化反应中，有时会发生生成R15的末端不饱和基团处于非末端位置的异构化的、称作内烯烃的烯基的副反应。例如，-CH2CH＝CH2异构化为-CH＝CHCH3。在非末端位置具有不饱和基团的烯基部分不与HSiR13 n1X1 3-n1反应而残留。
化合物(1)的制造过程的氢化硅烷化反应中，R15未反应而残留的情况下或R15发生了异构化的情况下，末端为-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t的化合物作为副产物生成，该化合物为化合物(4)。
(本组合物的组成)
本组合物中的本化合物和其他含氟醚化合物的总计比例优选为80～100质量％，特别优选为85～100质量％。即，杂质的比例优选在20质量％以下，特别优选在15质量％以下。本化合物及其他含氟醚化合物的比例如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性和外观优良。
相对于本化合物及其他含氟醚化合物的总计，其他含氟醚化合物的比例优选超过0质量％且低于40质量％，更优选超过0质量％且在30质量％以下，特别优选超过0质量％且在20质量％以下。即，本化合物的比例优选超过60质量％且低于100质量％，更优选在70质量％以上且低于100质量％，特别优选在80质量％以上且低于100质量％。本化合物及其他含氟醚化合物的比例如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性和外观优良。
另外，含有化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)中的至少1种作为其他含氟醚化合物的情况下，本组合物的组成如下所述。
本醚组合物中的本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计比例优选超过60质量％且在100质量％以下，更优选为70～100质量％，特别优选为80～100质量％。即，除本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)以外的含氟醚化合物与杂质的总计比例优选低于40质量％，更优选在30质量％以下，特别优选在20质量％以下。
相对于本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计，化合物(2)的比例优选在0质量％以上且低于40质量％，更优选为0～30质量％，特别优选为0～20质量％。化合物(3)和化合物(4)的比例也与化合物(2)的比例相同。
相对于本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计，化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计比例优选超过0质量％且低于40质量％，特别优选超过0质量％且在30质量％以下。
含有化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)中的至少1种作为其他含氟醚化合物的情况下，本组合物的组成如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性和外观优良。
本组合物也可含有除本化合物和其他含氟醚化合物以外的杂质。作为除本化合物和其他含氟醚化合物以外的杂质，可例举本化合物和其他含氟醚化合物的制造中不可避免的化合物等。本组合物不含后述的液态的液态介质。
[涂布液]
本发明的涂布液(以下也记为本涂布液)含有本化合物或本组合物、以及液态介质。本涂布液为液态即可，可以是溶液，也可以是分散液。
本涂布液含有本化合物或本组合物即可，也可含有本化合物的制造工序中生成的副产物等杂质。
本化合物或本组合物在本涂布液中的浓度优选为0.001～10质量％，特别优选0.1～1质量％。
作为液态介质，优选有机溶剂。有机溶剂可以是氟类有机溶剂，也可以是非氟类有机溶剂，也可以包含这两种溶剂。
作为氟类有机溶剂，可例举氟代烷烃、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、氟代烷基胺、氟代醇等。
作为氟代烷烃，优选碳数4～8的化合物。作为市售品，可例举例如C6F13H(旭硝子株式会社(旭硝子社)制，アサヒクリン(注册商标)AC-2000)、C6F13C2H5(旭硝子株式会社制，アサヒクリン(注册商标)AC-6000)、C2F5CHFCHFCF3(科幕公司(ケマーズ社)制、Vertrel(バートレル)(注册商标)XF)等。
作为氟代芳香族化合物，可例举例如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。
作为氟代烷基醚，优选碳数4～12的化合物。作为市售品，可例举例如CF3CH2OCF2CF2H(旭硝子株式会社制、アサヒクリン(注册商标)AE-3000)、C4F9OCH3(3M公司(3M社)制、Novec(ノベック)(注册商标)7100)、C4F9OC2H5(3M公司制、Novec(注册商标)7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(3M公司制、Novec(注册商标)7300)等。
作为氟代烷基胺，可例举例如全氟三丙胺、全氟三丁胺等。
作为氟代醇，可例举例如2,2,3,3-四氟代丙醇、2,2,2-三氟代乙醇、六氟代异丙醇等。
作为非氟类有机溶剂，优选仅由氢原子和碳原子构成的化合物、仅由氢原子、碳原子和氧原子构成的化合物，可例举烃类有机溶剂、醇类有机溶剂、酮类有机溶剂、醚类有机溶剂、酯类有机溶剂等。
本涂布液中优选含有90～99.999质量％的液态介质，特别优选含有99～99.9质量％的液态介质。
本涂布液除了本化合物和液态介质以外，在不损害本发明的效果的范围内也可含有其他成分。
作为其他成分，可例举例如促进水解性甲硅烷基的水解和缩合反应的酸催化剂和碱性催化剂等公知的添加剂。
本涂布液中的其他成分的比例优选在10质量％以下，特别优选在1质量％以下。
本涂布液的固体成分浓度优选为0.001～10质量％，特别优选0.01～1质量％。涂布液的固体成分浓度是根据加热前的涂布液的质量和用120℃的对流式干燥机加热4小时后的质量计算的值。另外，本组合物的浓度能够通过固体成分浓度、本组合物和溶剂等的加入量算出。
[物品]
本发明的物品在基材表面具有由本化合物或本组合物形成的表面层。
(表面层)
本化合物或本组合物中，本化合物中的水解性甲硅烷基(SiR13 n1X1 3-n1)通过水解反应形成硅烷醇基(Si-OH)，该硅烷醇基发生分子间反应而形成Si-O-Si键，或者该硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应而形成化学键(基材-O-Si)。即，本发明的表面层以本化合物的水解性甲硅烷基的一部分或全部发生了水解反应的状态含有本化合物。
表面层的厚度优选为1～100nm，特别优选1～50nm。表面层的厚度如果在所述范围的下限值以上，容易充分获得表面处理的效果。表面层的厚度如果在所述范围的上限值以下，则利用效率高。另外，表面层的厚度例如可通过使用薄膜解析用X射线衍射仪(理学株式会社(RIGAKU社)制，ATX-G)，由X射线反射率法得到反射X射线的干涉图案，从该干涉图案的振动周期算出。
(基材)
本发明的基材只要是需要赋予斥水斥油性的基材即可，无特别限定。作为基材的材料，可例举金属、树脂、玻璃、蓝宝石、陶瓷、石、它们的复合材料等。玻璃也可经化学强化。基材也可用SiO2等进行表面处理。
作为基材，较好是触摸面板用基材、显示器用基材，特别优选为触摸面板用基材。触摸面板用基材具有透光性。“具有透光性”是指，按照JIS R 3106:1998(ISO 9050:1990)的垂直入射型可见光透射率在25％以上。作为触摸面板用基材的材料，优选玻璃或透明树脂。
(物品的制造方法)
本发明的物品例如可通过以下方法制造。
·通过使用了本化合物或本组合物的干法涂布法处理基材的表面以得到本发明的物品的方法。
·通过湿法涂布法将本涂布液涂布于基材的表面并干燥以得到本发明的物品的方法。
<干法涂布法>
本化合物和本组合物可直接用于干法涂布法。本化合物和本组合物适于通过干法涂布法形成密合性优良的表面层。作为干法涂布法，可例举真空蒸镀、CVD、溅射等方法。从抑制本化合物的分解以及装置的简易度的角度考虑，适合采用真空蒸镀法。
<湿法涂布法>
作为湿法涂布法，可例举旋涂法、擦涂(日文：ワイプコート)法、喷涂法、刮板涂布(日文：スキージーコート)法、浸涂法、模涂法、喷墨法、流涂法、辊涂法、铸涂法、朗缪尔-布洛尔杰特法、凹版涂布法等。
<后处理>
为了提高表面层的耐摩擦性，根据需要也可进行用于促进本化合物与基材的反应的操作。作为该操作，可例举加热、加湿、光照等。例如，在含有水分的大气中加热形成有表面层的基材，能够促进水解性甲硅烷基向硅烷醇基的水解反应、基材表面的羟基与硅烷醇基的反应、硅烷醇基的缩合反应带来的硅氧烷键的生成等反应。
表面处理后，未与作为表面层中的化合物的其他化合物及基材化学结合的化合物可根据需要除去。作为具体方法，可例举例如用溶剂冲洗表面层的方法、用浸有溶剂的布擦拭表面层的方法等。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于这些实施例。
以下，只要没有特别限定，“％”表示“质量％”。另外，由2种以上的化合物(1)形成的混合物记为“化合物”、由化合物(1)与其他含氟醚化合物形成的混合物记为“组合物”。
例1～6、11～16、17～22、27～36、38～41、43～45和48～53是实施例，例7～10、23～26、37、42、46和47是比较例。
[例1：化合物(1A-1)、化合物(3A-1)的制造]
(例1-1)
在300mL的3口烧瓶中加入24.4g的24％KOH水溶液、33g叔丁醇、220g化合物(10-1)(苏维苏立克士公司制、FLUOROLINK(注册商标)D4000)，添加了19.4g的CF3CF2CF2-O-CF＝CF2(东京化成工业株式会社(東京化成工業社)制)。在氮气气氛下于60℃下搅拌了8小时。用稀盐酸水溶液清洗1次后，回收有机相，用蒸发器进行浓缩，得到233g的粗生成物(a)。用硅胶柱色谱展开粗生成物(a)，进行了分离。作为展开溶剂，依次使用了C6F13CH2CH3(旭硝子株式会社制、AC-6000)、AC-6000/CF3CH2OCF2CF2H(旭硝子株式会社制、AE-3000)＝1/2(质量比)、AE-3000/乙酸乙酯＝9/1(质量比)。对于各级分(日文：フラクション)，由1H-NMR和19F-NMR的积分值算出末端基团的结构和结构单元的单元数(x1、x2)的平均值。可知，粗生成物(a)中化合物(11-1)、化合物(3A-1)和化合物(10-1)各自的含量为42摩尔％、49摩尔％和9摩尔％。得到了化合物(11-1)98.6g(产率：44.8％)和化合物(3A-1)51.9g(产率：23.6％)。
HO-CH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OH···(10-1)
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OH
···(11-1)
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCF2CHF-O-CF2CF2CF3···(3A-1)
化合物(11-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(2H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(1F)、-80.8(1F)、-81.4(1F)、-82.2(3F)、-83.5(1F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(11-1)的数均分子量：4150。
化合物(3A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(4H)、5.8～6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-80.7(2F)、-82.2(6F)、-85.3～-88.2(4F)、-89.4～-91.1(84F)、-130.5(4F)、-145.1(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(3A-1)的数均分子量：4420。
(例1-2)
在100mL的茄型烧瓶中加入30.0g化合物(11-1)、0.9g氟化钠粉末、30g二氯五氟丙烷(旭硝子株式会社制、AK-225)，添加了3.5g的CF3CF2CF2OCF(CF3)C(O)F。在氮气气氛下于50℃下搅拌了24小时。使用加压过滤器将氟化钠粉末除去后，减压馏去了过量的CF3CF2CF2OCF(CF3)C(O)F和AK-225。用C6F13H(旭硝子株式会社制、AC-2000)将所得的粗生成物稀释并通过硅胶柱，用蒸发器将回收的溶液浓缩，得到了化合物(12-1)31.8g(产率98.8％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OC(O)CF(CF3)OCF2CF2CF3···(12-1)
化合物(12-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(2H)、4.7(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8～-88.2(17F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.3(2F)、-130.5(2F)、-132.5(1F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(12-1)的数均分子量：4460。
(例1-3)
在1L的镍制高压釜的气体出口以串联的方式设置保持为20℃的冷却器、NaF颗粒填充层、以及保持为0℃的冷却器。设置了使从保持为0℃的冷却器凝集的液体返回高压釜的液体返送管线。
向高压釜中加入750g的ClCF2CFClCF2OCF2CF2Cl(以下也记为CFE-419)，保持为25℃的同时进行搅拌。向高压釜中于25℃吹入氮气1小时后，以25℃、流速2.0L/小时吹入1小时的20％的氟气。一边以相同的流速吹入20％氟气，一边用4.3小时向高压釜中注入将31.0g的化合物(12-1)溶解于124g的CFE-419中而得的溶液。一边以相同的流速吹入20％氟气，一边将高压釜的内压加压至0.15MPa(表压)。在高压釜内，将4ml的在CFE-419中含有0.05g/mL的苯的苯溶液自25℃加热至40℃的同时进行注入，关闭了高压釜的苯溶液注入口。搅拌15分钟后，再次将4mL的苯溶液保持为40℃的同时进行注入，关闭注入口。进一步重复3次同样的操作。苯的注入总量为0.17g。以相同的流速吹入20％氟气的同时继续搅拌1小时。将高压釜内的压力设为大气压，吹入1小时的氮气。用蒸发器将高压釜的内容物浓缩，得到了31.1g的化合物(13-1)(产率98.5％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}(CF2CF2O)-C(O)CF(CF3)OCF2CF2CF3···(13-1)
化合物(13-1)的NMR谱；
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-78.8～-88.1(11F)、-89.4～-91.1(92F)、-91.5(2F)、-130.3(2F)、-130.5(2F)、-132.5(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(13-1)的数均分子量：4550。
(例1-4)
在四氟乙烯-全氟(烷氧基乙烯基醚)共聚物(以下也记为PFA)制圆底烧瓶中加入了30.0g化合物(13-1)和60g的AK-225。用冰浴冷却的同时进行搅拌，在氮气气氛下，自滴液漏斗慢慢滴加2.0g的甲醇。用氮气鼓泡的同时搅拌了12小时。用蒸发器将反应混合物浓缩，得到了27.6g的化合物(14-1)(产率98.8％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)OCH3···(14-1)
化合物(14-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(92F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(14-1)的数均分子量：4230。
(例1-5)
在100mL的3口茄型烧瓶中，将0.18g的氯化锂溶解于18.3g的乙醇。在其中加入25.0g的化合物(14-1)并用冰浴冷却，同时慢慢滴加了0.75g的硼氢化钠溶解于22.5g的乙醇而得的溶液。移除冰浴，一边慢慢升温至室温一边继续搅拌。在室温下搅拌12小时后，滴加盐酸水溶液直至酸碱度变为酸性。添加20mL的AC-2000，用水清洗1次，用饱和食盐水清洗1次，回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的有机相，得到了24.6g的化合物(15-1)(产率99.0％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OH···(15-1)。
化合物(15-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-81.4(1F)、-82.2(3F)、-83.4(1F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(15-1)的数均分子量：4200。
(例1-6)
在100mL的2口茄型烧瓶中加入20.0g的化合物(15-1)、20.0g的1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)、1.01g的CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社(和光純薬工業社)制)以及1.00g的三乙胺，在氮气气氛下于室温下搅拌了4小时。反应结束后，添加15g的AK-225，用水和饱和食盐水各清洗1次，回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的有机相，得到了20.3g的化合物(16-1)(产率99％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(16-1)
化合物(16-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.6(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-74.1(3F)、-76.1(1F)、-79.5(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(16-1)的数均分子量：4340。
(例1-7)
在50mL的茄型烧瓶中，使0.13g的氢化钠(55％/石蜡)在5.0g的1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)中悬浊，在室温下滴加了10.0g的化合物(16-1)。在其中加入0.91g的HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3(大阪曹达株式会社(ダイソー社)制、ネオアリル(注册商标)P-30M的纯化物)，升温至70℃，搅拌了12小时。反应结束后，添加15g的AK-225，水洗回收有机相，用蒸发器进行了浓缩。用硅胶柱色谱法(展开溶剂：AE-3000/乙酸乙酯＝99/1(质量比))对其进行纯化，得到了2.6g的化合物(17-1)(产率26％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17-1)
化合物(17-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.6(6H)、3.7～3.9(10H)、5.1(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17-1)的数均分子量：4450。
(例1-8)
在10mL的PFA制容器中加入2.0g化合物(17-1)、0.002g铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、0.24g的HSi(OCH3)3、0.003g的二甲亚砜和0.15g的1,3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)，在40℃下搅拌了4小时。反应结束后，减压馏去溶剂等，用孔径0.2μm的膜滤器过滤，得到了1.9g的由化合物(17-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1A-1)以及化合物(17-1)的3个烯丙基的一份或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物构成的组合物(1)(产率92％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17-1)残留。氢化硅烷化的选择率为85％。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1A-1)
化合物(1A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(44H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1A-1)的数均分子量：4810。
[例2：化合物(1B-1)的制造]
(例2-1)
除了将化合物(15-1)变更为例1-1所得的化合物(11-1)30.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为30.0g、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为1.44g、将三乙胺的量变更为1.45g以外，与例1-6同样地得到了30.6g化合物(16B-1)(产率99％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(16B-1)
化合物(16B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(2H)、4.6(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-74.1(3F)、-77.6(1F)、-77.6(2F)、-79.0(1F)、-79.5(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(16B-1)的数均分子量：4280。
(例2-2)
除了将化合物(16-1)变更为化合物(16B-1)、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3的量变更为0.92g以外，与例1-7同样地得到了2.4g的化合物(17B-1)(产率24％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17B-1)
化合物(17B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.6(6H)、3.7～3.9(10H)、4.2(2H)、5.1(6H)、5.7～6.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17B-1)的数均分子量：4390。
(例2-3)
除了将化合物(17-1)变更为例2-2所得的化合物(17B-1)1.8g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.22g以外，与例1-8同样地得到了1.7g的由化合物(17B-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1B-1)以及化合物(17B-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(2)(产率87％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17B-1)残留。氢化硅烷化的选择率为87％。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1B-1)
化合物(1B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(44H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1B-1)的数均分子量：4760。
[例3：化合物(1C-1)的制造]
(例3-1)
根据国际公开第2013/121984号的实施例7记载的方法，得到了化合物(15C-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OH···(15C-1)。
化合物(15C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.0(1H)、4.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-56.2(3F)、-84.1(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-123.7(2F)、-126.6(52F)、-128.7(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(15C-1)的数均分子量：4700。
(例3-2)
除了将化合物(15-1)变更为例3-1所得的化合物(15C-1)、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为0.86g、将三乙胺的量变更为1.02g以外，与例1-6同样地得到了30.6g化合物(16C-1)(产率99％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OSO2CF3···(16C-1)
化合物(16C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.7(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-74.0(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)-122.7(2F)、-123.6(2F)、-126.6(52F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(16C-1)的数均分子量：4830。
(例3-3)
除了将氢化钠(55％/石蜡)的量变更为0.14g、将化合物(16-1)变更为例3-2所得的化合物(16C-1)、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3的量变更为0.95g、在反应结束后不用AK-225稀释以外，与例1-7同样地得到了3.9g化合物(17C-1)(产率38％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(17C-1)
化合物(17C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.6(6H)、3.7～3.9(8H)、4.0(2H)、5.1(6H)、5.7～6.0(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17C-1)的数均分子量：4940。
(例3-4)
除了将化合物(17-1)变更为例3-3所得的化合物(17C-1)3.0g、将铂络合物溶液的量变更为0.004g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.40g、将二甲亚砜的量变更为0.006g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.30g以外，与例1-8同样地得到了3.0g的由化合物(17C-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1C-1)以及化合物(17C-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(3)(产率93％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17C-1)残留。氢化硅烷化的选择率为85％。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1C-1)
化合物(1C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(44H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1C-1)的数均分子量：5300。
[例4：化合物(1D-1)的制造]
(例4-1)
在200mL的茄型烧瓶中，加入10g的HOCH2C(CH2CH＝CH2)3、20.0g的1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)和25.5g的(CF3SO2)2O，在氮气气氛下以0℃的温度滴加了19.3g的2,6-二甲基吡啶。升温至室温，搅拌了1小时。反应结束后，水洗回收有机相，用蒸发器进行了浓缩。用硅胶柱色谱法(展开溶剂：己烷/乙酸乙酯＝85/15(质量比))对其进行纯化，得到了15.1g的化合物(20)(产率85％)。
CF3SO2OCH2C(CH2CH＝CH2)3···(20)
化合物(20)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、4.3(2H)、5.0～5.2(6H)、5.6～5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-74.0(3F)。
(例4-2)
除了将化合物(16-1)变更为例4-1所得的化合物(20)0.70g、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3变更为例1-5所得的化合物(15-1)10.0g以外，与例1-7同样地得到了5.1g化合物(17D-1)(产率51％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17D-1)
化合物(17D-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、3.7(4H)、5.0～5.2(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17D-1)的数均分子量：4350。
(例4-3)
除了将化合物(17-1)变更为例4-2所得的化合物(17D-1)、将HSi(OCH3)3的量变更为0.25g以外，与例1-8同样地得到了1.9g化合物(17D-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1D-1)(产率90％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17D-1)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17D-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3···(1D-1)
化合物(1D-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(37H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1D-1)的数均分子量：4710。
[例5：化合物(1E-1)的制造]
(例5-1)
除了将化合物(16-1)变更为例4-1所得的化合物(20)0.72g、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3变更为例1-1所得的化合物(11-1)10.0g、反应结束后不用AK-225稀释以外，与例1-7同样地得到了5.0g化合物(17E-1)(产率50％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17E-1)
化合物(17E-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、3.7～3.9(4H)、4.2(2H)、5.0～5.2(6H)、5.7～6.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17E-1)的数均分子量：4300。
(例5-2)
除了将化合物(17-1)变更为例5-1所得的化合物(17E-1)1.8g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.23g以外，与例1-8同样地得到了1.7g化合物(17E-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1E-1)(产率87％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17E-1)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17E-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1E-1)
化合物(1E-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(37H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1E-1)的数均分子量：4660。
[例6：化合物(1F-1)的制造]
(例6-1)
除了将化合物(16-1)变更为例4-1所得的化合物(20)0.64g、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3变更为例3-1所得的化合物(15C-1)10.0g、反应结束后不用AK-225稀释以外，与例1-7同样地得到了4.9g化合物(17F-1)(产率48％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17F-1)
化合物(17F-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、3.7～3.9(4H)、5.0～5.2(6H)、5.7～6.0(3H)。19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17F-1)的数均分子量：4850。
(例6-2)
除了将化合物(17-1)变更为例6-1所得的化合物(17F-1)、将HSi(OCH3)3的量变更为0.23g以外，与例1-8同样地得到了1.9g化合物(17F-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1F-1)(产率90％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17F-1)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17F-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1F-1)
化合物(1F-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(37H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1F-1)的数均分子量：5210。
[例7：化合物(2A-1)的制造]
(例7-1)
除了将化合物(15-1)变更为化合物(10-1)30.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为30.0g、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为2.9g、将三乙胺的量变更为3.0g以外，与例1-6同样地得到了31.0g化合物(18-1)(产率97％)。
CF3SO2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(18-1)
化合物(18-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.6(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-74.1(6F)、-77.0(2F)、-79.0(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(18-1)的数均分子量：4150。
(例7-2)
除了将氢化钠(55％/石蜡)的量变更为0.25g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为10.0g、将化合物(16-1)变更为例7-1所得的化合物(18-1)、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)1.3的量变更为1.6g、在反应结束后不用AK-225稀释以外，与例1-7同样地得到了1.5g化合物(19-1)(产率14％)。
(CH2＝CHCH2OCH2)3C-CH2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(19-1)
化合物(19-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.6(12H)、3.7～3.9(20H)、5.1(12H)、5.8(6H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-74.1(6F)、-77.3(2F)、-79.2(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(19-1)的数均分子量：4360。
(例7-3)
除了将化合物(17-1)变更为例7-2所得的化合物(19-1)1.0g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.40g以外，与例1-8同样地得到了1.1g的由化合物(19-1)的6个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(2A-1)以及化合物(19-1)的6个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(7)(产率96％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(19-1)残留。氢化硅烷化的选择率为84％。
[(CH3O)3Si-CH2CH2CH2OCH2]3C-CH2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(2A-1)
化合物(2A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(12H)、1.7(12H)、3.4-3.8(86H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.7(2F)、-79.7(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(2A-1)的数均分子量：5010。
[例8：化合物(4-1)的制造]
(例8-1)
除了将化合物(15-1)变更为化合物(21-1)(SynQuest Laboratories公司(シンクエストラボラトリーズ)制)、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为4.0g、将三乙胺的量变更为4.5g以外，与例1-6同样地得到了21.5g化合物(22-1)(产率98％)。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OH···(21-1)
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OSO2CF3···(22-1)
化合物(22-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-74.2(3F)、-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-135.0(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(22-1)的数均分子量：1440。
(例8-2)
除了将氢化钠(55％/石蜡)的量变更为0.05g、将化合物(16-1)变更为例8-1所得的化合物(22-1)、将HOCH2C(CH2OCH2CH＝CH2)3的量变更为0.31g、在反应结束后不用AK-225稀释以外，与例1-7同样地得到了2.1g化合物(23-1)(产率20％)。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH＝CH2)3···(23-1)
化合物(23-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.6(6H)、3.7～3.9(8H)、4.0(2H)、5.1(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-132.0(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(23-1)的数均分子量：1550。
(例8-3)
除了将化合物(17-1)变更为例8-2所得的化合物(23-1)、将铂络合物溶液的量变更为0.006g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.66g、将二甲亚砜的量变更为0.01g以外，与例1-8同样地得到了2.1g的由化合物(23-1)的3个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(4-1)以及化合物(23-1)的3个烯丙基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(8)(产率85％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(23-1)残留。氢化硅烷化的选择率为85％。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(4-1)
化合物(4-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.4-3.8(41H)、4.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-132.0(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(4-1)的数均分子量：1920。
[例9：化合物(5-1)的制造]
(例9-1)
在100mL的2口茄型烧瓶中加入20.0g的例1-5所得的化合物(15-1)、0.21g的硫酸氢四丁铵、1.76g的BrCH2CH＝CH2以及2.6g的30％氢氧化钠水溶液，60℃下搅拌了8小时。反应结束后，添加20g的AC-2000，用稀盐酸水溶液清洗1次，回收了有机相。使回收的有机相通过硅胶柱，用蒸发器将回收的溶液浓缩，得到了19.8g的化合物(24-1)(产率98.2％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH＝CH2···(24-1)。
化合物(24-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.7(2H)、4.1(2H)、5.2～5.3(2H)、5.9(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.1(1F)、-80.1(1F)、-82.1(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(24-1)的数均分子量：4250。
(例9-2)
除了将化合物(17-1)变更为例9-1所得的化合物(24-1)5.0g、将铂络合物溶液的量变更为0.005g、将HSi(OCH3)-1的量变更为0.25g、将二甲亚砜的量变更为0.005g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.20g、将反应时间变更为4小时以外，与例1-8同样地得到了4.9g的由化合物(24-1)的1个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(5-1)以及化合物(24-1)的1个烯丙基异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(9)(产率95％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(24-1)残留。氢化硅烷化的选择率为87％。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3···(5-1)
化合物(5-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.6(11H)、3.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.2(1F)、-80.2(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(5-1)的数均分子量：4370。
[例10：化合物(5-2)的制造]
(例10-1)
除了将化合物(15-1)变更为例1-1所得的化合物(11-1)52.0g、将硫酸氢四丁铵的量变更为0.52g、将BrCH2CH＝CH2的量变更为4.4g、将30％氢氧化钠水溶液的量变更为6.5g、将AC-2000的量变更为50g以外，与例9-1同样地得到了52.4g化合物(24-2)(产率99.9％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-CH＝CH2···(24-2)
化合物(24-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.7(2H)、4.1(2H)、4.2(2H)、5.2～5.3(2H)、5.8～6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.1(1F)、-78.7(1F)、-80.2(1F)、-80.7(1F)、-82.2(3F)、-85.4～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(86F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(24-2)的数均分子量：4190。
(例10-2)
除了将化合物(24-1)变更为例10-1所得的化合物(24-2)以外，与例9-2同样地得到了4.8g的由化合物(24-2)的1个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(5-2)以及化合物(24-2)的1个烯丙基异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(10)(产率93％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(24-2)残留。氢化硅烷化的选择率为85％。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3···(5-2)
化合物(5-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.6(11H)、3.8(2H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.2(1F)、-78.7(1F)、-80.3(1F)、-80.7(1F)、-82.2(3F)、-85.4～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(5-2)的数均分子量：4310。
[例11：化合物(1I-1)的制造]
(例11-1)
根据国际公开第2013/121984号的实施例6记载的方法，得到了化合物(14I-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-C(O)OCH3···(14I-1)
化合物(14I-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-55.2(3F)、-82.1(54F)、-88.1(54F)、-90.2(2F)、-118.2(2F)、-125.4(52F)、-126.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(14I-1)的数均分子量：4700。
(例11-2)
在50ml的茄型烧瓶中加入9.0g由例11-1而得的化合物(14I-1)和0.45g的H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3，搅拌了12小时。通过NMR确认化合物(14I-1)全部转换成了化合物(17I-1)。另外，生成了作为副产物的甲醇。用9.0g的AE-3000稀释所得溶液，用硅胶柱色谱法(展开溶剂：AE-3000)进行纯化，得到了7.6g的化合物(17I-1)(产率84％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17I-1)
化合物(17I-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、3.4(2H)、5.2(6H)、6.2～5.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-55.2(3F)、-82.1(54F)、-88.1(54F)、-90.2(2F)、-119.6(2F)、-125.4(52F)、-126.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17I-1)的数均分子量：4800。
(例11-3)
在10mL的PFA制试样管中加入6.0g例11-2所得的化合物(17I-1)、0.07g铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、0.78g的HSi(OCH3)3、0.02g的二甲亚砜和0.49g的1.3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)，在40℃下搅拌了10小时。反应结束后，将溶剂等减压馏去，用1.0μm孔径的膜滤器进行过滤，得到了6.7g的化合物(1I-1)(产率100％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1I-1)
化合物(1I-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.6(12H)、3.4(2H)、3.7(27H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-55.2(3F)、-82.1(54F)、-88.1(54F)、-90.2(2F)、-119.6(2F)、-125.4(52F)、-126.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1I-1)的数均分子量：5400。
[例12：化合物(1I-2)的制造]
(例12-1)
除了使用0.41g的H2N-C(CH2CH＝CH2)3替代0.45g的H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3以外，与例11-2同样地得到了7.5g的化合物(17I-2)(产率84％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-C(O)NH-C(CH2CH＝CH2)3···(17I-2)
化合物(17I-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.3(6H)、5.2(6H)、5.9～6.2(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-55.2(3F)、-82.1(54F)、-88.1(54F)、-90.2(2F)、-119.4(2F)、-125.4(52F)、-126.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17I-2)的数均分子量：4800。
(例12-2)
除了使用例12-1所得的化合物(17I-2)替代化合物(17I-1)以外，与例11-3同样地得到了6.7g的化合物(1I-2)(产率100％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-C(O)NH-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1I-2)
化合物(1I-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.6(12H)、3.7(27H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-55.2(3F)、-82.1(54F)、-88.1(54F)、-90.2(2F)、-119.4(2F)、-125.4(52F)、-126.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1I-2)的数均分子量：5,400。
[例13：化合物(1H-1)的制造]
(例13-1)
按照J.Org.Chem.，第64卷，1999年，2564-2566页中记载的方法，将例1-1所得的化合物(11-1)氧化，得到化合物(13H-1)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)OH···(13H-1)
化合物(13H-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-80.5(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(13H-1)的数均分子量：4150。
(例13-2)
在50ml的茄型烧瓶中加入6.2g由例13-1而得的化合物(13H-1)和20mL的甲醇，在室温下搅拌了12小时。通过NMR确认化合物(13H-1)全部转换成了化合物(14H-1)。将溶剂减压馏去，得到了6.2g的化合物(14H-1)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)OCH3···(14H-1)
化合物(14H-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-77.8(1F)、-78.8(1F)、-79.5(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(14H-1)的数均分子量：4150。
(例13-3)
除了将化合物(14I-1)变更为例13-2所得的化合物(14H-1)5.7g、将H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3的量变更为0.26g以外，与例11-2同样地得到了4.8g化合物(17H-1)(产率76％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-CH2-C(CH2CH＝CH2)3
···(17H-1)
化合物(17H-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.2(6H)、3.3(2H)、3.5(1H)、4.2(2H)、5.2(6H)、5.8～6.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17H-1)的数均分子量：4250。
(例13-4)
除了将化合物(17I-1)变更为例13-3所得的化合物(17H-1)3.5g、将铂络合物溶液的量变更为0.03g、将HSi(OCH3)3的量变更为0.5g、将二甲亚砜的量变更为0.01g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.35g以外，与例11-3同样地得到了3.8g化合物(1H-1)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-CH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1H-1)
化合物(1H-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.6(12H)、3.4(2H)、3.7(27H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1H-1)的数均分子量：4600。
[例14：化合物(1H-2)的制造]
(例14-1)
除了使用0.24g的H2N-C(CH2CH＝CH2)3替代0.26g的H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3以外，与例13-3同样地得到了4.7g的化合物(17H-2)(产率80％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-C(CH2CH＝CH2)3···(17H-2)
化合物(17H-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.4(6H)、3.5(1H)、5.2(6H)、5.8～6.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17H-2)的数均分子量：4250。
(例14-2)
除了使用例14-1所得的化合物(17H-2)替代化合物(17H-1)以外，与例13-4同样地得到了3.8g的化合物(1H-2)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1H-2)
化合物(1H-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.7(12H)、3.4(2H)、3.7(27H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1H-2)的数均分子量：4600。
[例15：化合物(1K-1)的制造]
(例15-1)
在50mL的茄型烧瓶中加入1.0g的CF2＝CFOCF2CF2CF2-C(O)OCH3和0.55g的H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3，搅拌了12小时。通过NMR确认CF2＝CFOCF2CF2CF2-C(O)OCH3全部转换成了化合物(30-1)。另外，生成了作为副产物的甲醇。用6.0g的AE-3000稀释所得溶液，用硅胶柱色谱法(展开溶剂：AE-3000)进行纯化，得到了1.3g的化合物(30-1)(产率84％)。
CF2＝CFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-C(CH2CH＝CH2)3···(30-1)
化合物(30-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.1(6H)、3.4(2H)、5.2(6H)、5.9～6.2(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-84.2(2F)、-113.4～114.2(1F)、-119.5(2F)、-121.1～-121.9(1F)、-125.3(2F)、-134.5～-135.3(1F)。
(例15-2)
在50mL的茄型烧瓶中加入1.0g的例15-1所得的化合物(30-1)、10g例1-1所得的化合物(11-1)、2g的48质量％氢氧化钠水溶液、0.1g的(CH3)3COH，在60℃下搅拌了5小时。通过NMR确认化合物(11-1)全部转换成了化合物(17K-1)。向所得的溶液中加入20g的1N盐酸，确认到水层变为酸性后，分离有机层，馏去溶剂，藉此得到11g的化合物(17K-1)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17K-1)
化合物(17K-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.2(6H)、3.3(2H)、3.5(1H)、4.2(4H)、5.2(6H)、5.8～6.0(5H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-84.2(2F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-119.5(2F)、-125.3(2F)、-130.5(4F)、-145.1(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17K-1)的数均分子量：4520。
(例15-3)
除了将化合物(17I-1)变更为例15-2所得的化合物(17K-1)5g、将铂络合物溶液的量变更为0.5mg、将HSi(OCH3)3的量变更为0.5g、将二甲亚砜的量变更为0.01g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.2g以外，与例11-3同样地得到了5.4g化合物(1K-1)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1K-1)
化合物(1K-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.6(12H)、3.3(2H)、3.5(27H)、4.2(4H)、5.8～6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-79.6(1F)、-80.8(1F)、-82.2(3F)、-84.2(2F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-119.5(2F)、-125.3(2F)、-130.5(4F)、-145.1(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1K-1)的数均分子量：4950。
[例16：化合物(1G-1)的制造]
(例16-1)
根据国际公开第2014/163004号的实施例4记载的方法，得到了化合物(14-1)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)OCH3···(14-1)
化合物(14-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(92F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(14-1)的数均分子量：4230。
(例16-2)
除了将化合物(14I-1)变更为例16-1所得的化合物(14-1)5.0g、将H2N-CH2-C(CH2CH＝CH2)3的量变更为0.2g以外，与例11-2同样地得到了4.4g化合物(17G-1)(产率85％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-CH2-C(CH2CH＝CH2)3···(17G-1)
化合物(17G-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.2(6H)、3.3(2H)、3.5(1H)、5.2(6H)、5.8～6.0(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(92F)、-130.8(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17G-1)的数均分子量：4360。
(例16-3)
除了将化合物(17I-1)变更为例16-2所得的化合物(17G-1)4g、将铂络合物溶液的量变更为0.4mg、将HSi(OCH3)3的量变更为0.33g、将二甲亚砜的量变更为0.01g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.2g以外，与例11-3同样地得到了4.3g化合物(1G-1)(产率100％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)NH-CH2-C[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1G-1)
化合物(1G-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.75(6H)、1.3～1.6(12H)、3.4(2H)、3.7(27H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(92F)、-130.8(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1G-1)的数均分子量：4720。
[例48：化合物(1D-2)的制造]
(例48-1)
在50mL的3口烧瓶内加入了3.0g的季戊四醇(关东化学株式会社(関東化学社)制)、7.4g的48％NaOH水溶液、10.8g的二甲亚砜。加热至60℃，加入11.5g的5-溴-1-戊烯(东京化成工业株式会社制)，搅拌了4小时。用稀盐酸水溶液清洗1次，加入16g环戊基甲基醚(关东化学株式会社制)，回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的溶液，得到了6.1g粗生成物。用硅胶柱色谱法(展开溶剂：己烷/乙酸乙酯＝90/10(质量比))对粗生成物进行展开，得到了3.7g的HOCH2C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3(产率49％)。
(例48-2)
在50mL的茄型烧瓶中，加入3.0g的例48-1所得的HOCH2C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3、9.0g的AE-3000和1.4g的2,6-二甲基吡啶，在氮气气氛下以0℃的温度滴加了3.8g的(CF3SO2)2O。升温至室温，搅拌了1小时。反应结束后，水洗回收有机相，用蒸发器进行了浓缩。用硅胶柱色谱法(展开溶剂：AE-3000)对其进行纯化，得到了4.2g的化合物(20-2)(产率99％)。
CF3SO2OCH2C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3···(20-2)
化合物(20-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：1.6(6H)、2.0(6H)、3.4(12H)、4.5(2H)、5.0(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-75.0(3F)。
(例48-3)
在25mL的茄型烧瓶中加入8.9g的例1-5所得的化合物(15-1)、1.0g例48-2所得的化合物(20-2)、11g的1,3-二(三氟甲基)苯和1.4g的碳酸铯，在氮气气氛下于80℃下搅拌了8小时。反应结束后，水洗回收有机相，用蒸发器进行了浓缩。用硅胶柱色谱法(展开溶剂：AE-3000，接着为AE-3000/乙酸乙酯＝9/1(质量比))对其进行纯化，得到了8.2g的化合物(17D-2)(产率85％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3···(17D-2)
化合物(17D-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：1.6(6H)、2.1(6H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.7(2H)、3.9(2H)、4.8～5.0(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17D-2)的数均分子量：4540。
(例48-4)
除了将化合物(17-1)变更为例48-3所得的化合物(17D-2)以外，与例1-8同样地得到了2.1g化合物(17D-2)的3个乙烯基被氢化硅烷化而得的化合物(1D-2)(产率97％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17D-2)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17D-2)的3个乙烯基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3···(1D-2)
化合物(1D-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.4-1.6(18H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.6(27H)、3.7(2H)、3.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.3～-55.6(42F)、-77.2(1F)、-79.4(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.0(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1D-2)的数均分子量：4900。
[例49：化合物(1E-2)的制造]
(例49-1)
除了使用例1-1所得的化合物(11-1)8.8g替代化合物(15-1)以外，与例48-3同样地得到了7.9g的化合物(17E-2)(产率83％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3···(17E-2)
化合物(17E-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：1.6(6H)、2.1(6H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.7(2H)、3.9(2H)、4.2(2H)、4.8～5.0(6H)、5.8～6.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17E-1)的数均分子量：4490。
(例49-2)
除了将化合物(17D-2)变更为例49-1所得的化合物(17E-2)以外，与例1-8同样地得到了2.0g化合物(17E-2)的3个乙烯基被氢化硅烷化而得的化合物(1E-2)(产率92％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17E-2)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17E-2)的3个乙烯基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1E-2)
化合物(1E-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.4-1.6(18H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.6(27H)、3.7(2H)、3.9(2H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.2(1F)、-77.7(1F)、-79.3(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1E-2)的数均分子量：4850。
[例50：化合物(1F-2)的制造]
(例50-1)
除了使用例3-1所得的化合物(15C-1)9.9g替代化合物(15-1)以外，与例48-3同样地得到了8.8g的化合物(17F-2)(产率83％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C(CH2OCH2CH2CH2CH＝CH2)3···(17F-2)
化合物(17F-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：1.6(6H)、2.1(6H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.7(2H)、3.9(2H)、4.8～5.0(6H)、5.8(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17F-2)的数均分子量：5040。
(例50-2)
除了将化合物(17D-2)变更为例50-1所得的化合物(17F-2)以外，与例1-8同样地得到了2.1g的化合物(17F-2)的3个乙烯基被氢化硅烷化而得的化合物(1F-2)(产率98％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17F-2)残留。氢化硅烷化的选择率为100％，没有生成化合物(17F-2)的3个乙烯基的一部分或全部异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)的副产物。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OCH2-C[CH2OCH2CH2CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]3···(1F-2)
化合物(1F-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.4-1.6(18H)、3.4(6H)、3.5(6H)、3.6(27H)、3.7(2H)、3.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)、-120.5(2F)、-126.6(52F)、-128.6(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1F-1)的数均分子量：5400。
[例17～32以及51～53：物品的制造和评价]
使用例1～16以及48～50所得的各化合物或组合物对基材进行表面处理，得到了例17～32以及51～53的物品。作为表面处理方法，在各例中分别使用了下述的干法涂布法和湿法涂布法。使用了化学强化玻璃作为基材。对于所得的物品，用下述的方法评价。结果示于表1～4中。
(干法涂布法)
干法涂布法通过真空蒸镀装置(ULVAC公司(ULVAC社)制，VTR-350M)进行(真空蒸镀法)。将0.5g的例1～16以及48～50所得的各化合物或组合物填充至真空蒸镀装置内的钼制蒸发舟(日文：ボート)，将真空蒸镀装置内排气至1×10-3Pa以下。以10℃/分钟以下的升温速度对配置有组合物的蒸发舟进行加热，晶体振荡式膜厚仪所测的蒸镀速度超过1nm/秒时打开闸片(日文：シャッター)，开始在基材表面成膜。膜厚为约50nm时关闭闸片，结束在基材表面的成膜。在200℃下将堆积有组合物的基材热处理30分钟，用AK-225清洗，得到了在基材表面具有表面处理层的物品。
(湿法涂布法)
将例1～16以及48～50所得的各化合物或组合物与作为液态介质的C4F9OC2H5(3M公司制，ノベック(注册商标)7200)混合，配制了固体成分浓度为0.05％的涂布液。将基材浸渍于该涂布液中，放置30分钟后，将基材提起(浸涂法)。在200℃下将涂膜干燥30分钟，用AK-225清洗，得到了在基材表面具有表面处理层的物品。
(评价方法)
<接触角的测定方法>
使用接触角测定装置(协和界面科学株式会社(協和界面科学社)制，DM-500)测定位于表面层的表面的约2μL的蒸馏水或正十六烷的接触角。对表面层的表面的5处不同的位置进行测定，算出其平均值。使用2θ法计算接触角。
<初期接触角>
用所述测定方法测定了表面层的初期水接触角和初期正十六烷接触角。评价基准如下所述。
初期接触角：
◎(优)：115度以上。
○(良)：110度以上且低于115度。
△(可)：100度以上且低于110度。
×(不可)：低于100度。
初期正十六烷接触角：
◎(优)：66度以上。
○(良)：65度以上且低于66度。
△(可)：63度以上且低于65度。
×(不可)：低于63度。
＜耐摩擦性＞
对于表面层，按照JIS L0849:2013(ISO 105-X12:2001)使用往返式横向试验机(KNT株式会社(ケイエヌテー社)制)，以压力98.07kPa、速度320cm/分钟的条件用钢丝绒(日文：スチールウールボンスター)(#0000)往返1万次后，测定了水接触角。摩擦后的斥水性(水接触角)的下降越小，由摩擦引起的性能的下降越小，耐摩擦性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：1万次往返后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：1万次往返后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：1万往返后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：1万次往返后的水接触角的变化超过20度。
＜外观＞
用浊度计(东洋精机株式会社(東洋精機社)制)测定了物品的雾度。雾度越小则含氟醚化合物的涂布越均匀，外观越优良。评价基准如下所述。
◎(优)：雾度在0.1％以下。
○(良)：雾度超过0.1％且在0.2％以下。
△(可)：雾度超过0.2％且在0.3％以下。
×(不可)：雾度超过0.3％。
＜指纹污物除去性＞
使人工指纹液(由油酸和鲨烯构成的液体)附着在硅橡胶塞的平坦面后，用无纺布(旭化成株式会社制，ベンコット(注册商标)M-3)拭去多余的油分，准备了指纹的印模(日文：スタンプ)。将该指纹印模置于表面层上，以9.8N的荷重按压了10秒。用浊度计测定附着有指纹的部位的雾度，作为初期值。对于附着有指纹的部位，使用带有面巾纸的往返式横向试验机(KNT株式会社制)，以4.9N的荷重擦拭。每往返擦拭一次则测定一次雾度值，测定了雾度从初期值降至10％以下时的擦拭次数。擦拭次数越少则越容易除去指纹污迹，指纹污迹除去性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：擦拭次数在3次以下。
○(良)：擦拭次数为4～5次。
△(可)：擦拭次数为6～8次。
×(不可)：擦拭次数在9次以上。
＜耐光性＞
针对表面层，使用台式氙弧灯式加速耐光性试验机(东洋精机株式会社制，SUNTEST XLS+)，在黑色面板温度63℃的条件下照射500小时的光线(650W/m2、300～700nm)后，测定了水接触角。加速耐光性试验后的水接触角的下降越小，则由光导致的性能的降低越小，耐光性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：加速耐光试验后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过20度。
<润滑性>
使用荷重变动型摩擦摩耗试验系统(新东科学株式会社(新東科学社)制，HHS2000)，以接触面积3cm×3cm、荷重0.98N的条件测定了表面层相对于人工皮肤(出光泰克诺法因株式会社(出光テクノファイン社)制，PBZ13001)的动态摩擦系数。动态摩擦系数越小，则润滑性越优良。评价基准如下所述。
◎(优)：动态摩擦系数在0.3以下。
○(良)：动态摩擦系数超过0.3且在0.4以下。
△(可)：动态摩擦系数超过0.4且在0.5以下。
×(不可)：动态摩擦系数超过0.5。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
使用了在一侧的末端具有3个水解性甲硅烷基的本化合物或含有本化合物的组合物的例17～22、27～32以及51～53的斥水斥油性、耐摩擦性、外观、指纹污迹除去性、耐光性和润滑性优良。
使用了含有在两末端具有3个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)的组合物的例23的耐摩擦性、外观、指纹污迹除去性和耐光性差。认为指纹擦拭性差的原因在于，未反应的末端基团降低了表面物性。认为外观和耐摩擦性差的原因在于，末端的非氟部分的凝聚导致了均一性的降低。认为耐摩擦性差的原因在于两末端固定化到了基材上。
使用了含有聚(氧基全氟亚烷基)链具有分支结构的化合物(4-1)的组合物的例24，认为由于其具有分支结构而导致分子运动性降低，进而导致润滑性大幅下降，作为原因之一，也导致了耐摩擦性的大幅降低。
使用了含有在1侧的末端仅具有1个水解性甲硅烷基的化合物(5-1)或化合物(5-2)的组合物的例25、26的耐摩擦性和耐光性差。
[例33～47：物品的制造和评价]
准备了在例1-1中分离的化合物(3A-1)。
对含有例2-3所得的化合物(1B-1)的组合物进行纯化，得到了化合物(1B-1)。
对含有例7-3所得的化合物(2A-1)的组合物进行纯化，得到了化合物(2A-1)。
按表5所示的比例混合化合物(1B-1)、化合物(2A-1)、化合物(3A-1)，配制了组合物。使用各组合物，通过上述的湿法涂布法制造了物品。对物品实施了接触角的测定以及耐摩擦性和润滑性的评价。结果示于表5。
[表5]
由例33～37可知，向在一侧的末端具有3个水解性甲硅烷基的本化合物中加入了在两末端具有3个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)的情况下，如果化合物(2A-1)的比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(2A-1)的比例的增加，耐摩擦性和润滑性呈现降低的倾向。
由例38～42可知，向在一侧的末端具有3个水解性甲硅烷基的本化合物中加入了在两末端不具有水解性甲硅烷基的化合物(3A-1)的情况下，如果化合物(3A-1)的比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(3A-1)的比例的增加，耐摩擦性呈现降低的倾向。
由例43～47可知，向在一侧的末端具有3个水解性甲硅烷基的本化合物中同时加入了在两末端具有3个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)以及在两末端不具有水解性甲硅烷基的化合物(3A-1)的情况下，如果化合物(2A-1)和化合物(3A-1)的总计比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(2A-1)和化合物(3A-1)的总计比例的增加，耐摩擦性呈现降低的倾向。
产业上利用的可能性
本发明的含氟醚化合物适用于赋予触摸面板的构成手指接触面的部件等的基材的表面以斥水斥油性的表面处理。
另外，这里引用2015年9月1日提出申请的日本专利申请2015-171986号的说明书、权利要求书和摘要的全部内容作为本发明的说明书的揭示。
Claims (15)
1.以下述式(1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-(Rf1O)m1-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1)
其中，
A1是碳数1～20的全氟烷基，
Rf1是不具有分支结构的氟代亚烷基，
m1是2～210的整数，
(Rf1O)m1由同1种或2种以上的Rf1O形成，
Q1是单键或不具有分支结构的氟代亚烷基，
R1是氢原子或烷基，
p1为0或1，
R11是单键、亚烷基、在亚烷基的与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端具有醚性氧原子的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在碳数2以上的亚烷基的与C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3结合侧的末端及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
R12是亚烷基、或在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
R13是氢原子或1价的烃基，
X1是水解性基团，
n1是0～2的整数，
3个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]全为相同的基团或不同的基团。
2.如权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述R12是亚烷基。
3.如权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述以式(1)表示的含氟醚化合物是以下述式(1-1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-(Rf5O)m5(RF1O)m10(Rf6O)m6-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3···(1-1)
其中，
A1、Q1、R1、p1、R11、R12、R13、X1和n1与所述式(1)相同，
RF1是不具有分支结构的全氟亚烷基，m10是2以上的整数，(RF1O)m10由同1种或2种以上的RF1O形成，
Rf5是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m5是0～4的整数，m5是2～4的整数时(Rf5O)m5由同1种或2种以上的Rf5O形成，
Rf6是含有1个以上的氢原子的不具有分支结构的氟代亚烷基，m6是0～4的整数，m6是2～4的整数时(Rf6O)m6由同1种或2种以上的Rf6O形成，
m10+m5+m6＝m1。
4.如权利要求3所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述RF1是碳数1～6的全氟亚烷基，Rf5、Rf6分别独立地是碳数2～6的氟代亚烷基。
5.如权利要求3所述的含氟醚化合物，其特征在于，Rf5、Rf6分别独立地是氢原子数为1或2的氟代亚烷基。
6.如权利要求3所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述p1为0时，m6为1或2且Q1为单键，与R11结合的(Rf6O)是以(Rf7CH2O)表示的基团，且Rf7是碳数比Rf6少1个的基团，是全氟亚烷基或具有氢原子的氟代亚烷基，
所述p1为1时，m6为0且Q1为氟代亚烷基。
7.如权利要求3所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述m10在5以上。
8.如权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述Q1为氟代亚烷基时，该氟代亚烷基为碳数1～6的全氟亚烷基。
9.如权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述p1为0时，所述R11为碳数1～4的亚烷基，
所述p1为1时，所述R11为单键或碳数1～4的亚烷基。
10.如权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述R12为碳数2～6的亚烷基或在碳原子间具有醚性氧原子的碳数3～8的亚烷基。
11.如权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，数均分子量为500～20000。
12.含氟醚组合物，它是含有权利要求1～11中任一项所述的含氟醚化合物、和除所述以式(1)表示的含氟醚化合物以外的含氟醚化合物的含氟醚组合物，其特征在于，
所述含氟醚组合物中的所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计的比例相对于含氟醚组合物为80～100质量％，
相对于所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计，所述其他含氟醚化合物的比例超过0质量％且低于40质量％。
13.如权利要求12所述的含氟醚组合物，其特征在于，所述其他含氟醚化合物是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种，
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf1O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3被-C[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]3-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1～3的整数。
14.涂布液，其特征在于，包含权利要求1～11中任一项所述的含氟醚化合物或者权利要求12或13所述的含氟醚组合物、以及液态介质。
15.物品，其特征在于，具有由权利要求1～11中任一项所述的含氟醚化合物或者权利要求12或13所述的含氟醚组合物所形成的表面层。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010691696.2A CN111732720B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂布液和物品 |
| CN202010691124.4A CN111690127B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 表面处理剂 |
| CN202010691655.3A CN111662445B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物及其制造方法 |
| CN202010691749.0A CN111732721B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物、表面处理剂、涂布液和物品 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015-171986 | 2015-09-01 | ||
| JP2015171986 | 2015-09-01 | ||
| PCT/JP2016/075354 WO2017038830A1 (ja) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010691655.3A Division CN111662445B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物及其制造方法 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107922445A CN107922445A (zh) | 2018-04-17 |
| CN107922445B true CN107922445B (zh) | 2020-07-28 |
Family
ID=58188067
Family Applications (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202010691655.3A Active CN111662445B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物及其制造方法 |
| CN201680050219.XA Active CN107922445B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 |
| CN202010691749.0A Active CN111732721B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 含氟醚化合物、表面处理剂、涂布液和物品 |
| CN202010691124.4A Active CN111690127B (zh) | 2015-09-01 | 2016-08-30 | 表面处理剂 |
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US10550288B2 (zh) |
| EP (3) | EP3345912B1 (zh) |
| JP (4) | JP6791146B2 (zh) |
| KR (2) | KR20240031417A (zh) |
| CN (5) | CN111662445B (zh) |
| TW (2) | TWI765444B (zh) |
| WO (1) | WO2017038830A1 (zh) |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP3345912B1 (en) | 2015-09-01 | 2020-10-07 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and aticle |
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| WO2020166487A1 (ja) | 2019-02-13 | 2020-08-20 | Ａｇｃ株式会社 | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 |
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| CN113874334B (zh) | 2019-05-31 | 2023-07-18 | Ａｇｃ株式会社 | 带防污层的透明基板 |
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| CN118725281A (zh) | 2019-09-26 | 2024-10-01 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基化合物 |
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| JP5589960B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2014-09-17 | 信越化学工業株式会社 | 液状フッ素エラストマー用ベースコンパウンドの製造方法 |
| JP5747699B2 (ja) * | 2011-07-12 | 2015-07-15 | 信越化学工業株式会社 | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
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| JP5790423B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2015-10-07 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素ポリエーテル化合物およびその製造法 |
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| JP2014070163A (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 表面改質剤、処理基材、化合物の製造方法、及び化合物 |
| JP6127438B2 (ja) * | 2012-10-15 | 2017-05-17 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル組成物、該組成物から形成された表面層を有する基材およびその製造方法 |
| JP5952750B2 (ja) | 2013-01-30 | 2016-07-13 | 東ソ−・エフテック株式会社 | ペンタエリスリトール骨格を有する新規フッ素含有アルコキシシラン化合物、それを用いた表面改質剤およびその中間体 |
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| WO2016095937A1 (en) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | Knauf Gips Kg | Drywall profile for drywall constructions having at least one separate intermediate layer of plasterboards |
| CN107428786B (zh) * | 2015-07-31 | 2019-04-30 | 大金工业株式会社 | 含有全氟(聚)醚基的硅烷化合物 |
| EP3345912B1 (en) * | 2015-09-01 | 2020-10-07 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and aticle |
-
2016
- 2016-08-30 EP EP16841861.4A patent/EP3345912B1/en active Active
- 2016-08-30 WO PCT/JP2016/075354 patent/WO2017038830A1/ja active Application Filing
- 2016-08-30 JP JP2017538054A patent/JP6791146B2/ja active Active
- 2016-08-30 CN CN202010691655.3A patent/CN111662445B/zh active Active
- 2016-08-30 CN CN201680050219.XA patent/CN107922445B/zh active Active
- 2016-08-30 EP EP21213188.2A patent/EP4008740B1/en active Active
- 2016-08-30 EP EP20196433.5A patent/EP3778700B1/en active Active
- 2016-08-30 CN CN202010691749.0A patent/CN111732721B/zh active Active
- 2016-08-30 CN CN202010691124.4A patent/CN111690127B/zh active Active
- 2016-08-30 CN CN202010691696.2A patent/CN111732720B/zh active Active
- 2016-08-30 KR KR1020247005718A patent/KR20240031417A/ko active Application Filing
- 2016-08-30 KR KR1020187005129A patent/KR102643184B1/ko active IP Right Grant
- 2016-08-31 TW TW109142609A patent/TWI765444B/zh active
- 2016-08-31 TW TW105128028A patent/TWI709622B/zh active
-
2018
- 2018-01-23 US US15/877,489 patent/US10550288B2/en active Active
-
2019
- 2019-12-16 US US16/715,155 patent/US10829666B2/en active Active
-
2020
- 2020-08-26 JP JP2020142837A patent/JP6977833B2/ja active Active
- 2020-09-30 US US17/038,304 patent/US12071563B2/en active Active
- 2020-12-11 US US17/118,665 patent/US11643572B2/en active Active
-
2021
- 2021-11-10 JP JP2021183554A patent/JP7298664B2/ja active Active
-
2023
- 2023-05-26 JP JP2023086870A patent/JP7556425B2/ja active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2018180561A1 (ja) | 含フッ素エーテル組成物およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: Tokyo, Japan Applicant after: AGC Corporation Address before: Tokyo, Japan Applicant before: Asahi Glass Co., Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |