WO2023095806A1

WO2023095806A1 - 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法

Info

Publication number: WO2023095806A1
Application number: PCT/JP2022/043230
Authority: WO
Inventors: 卓也岩瀬; 元志青山
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2021-11-25
Filing date: 2022-11-22
Publication date: 2023-06-01

Abstract

下記式（１）又は下記式（２）で表される含フッ素エーテル化合物。　Ａ１－（ＯＲｆ１）ｙ１－Ｒ１－Ｑ１－Ｒ２－Ｌ１－（Ｒ３－Ｔ１）ｘ１　・・・式（１）　（Ｔ３－Ｒ９）ｘ３－Ｌ３－Ｒ８－Ｑ３－Ｒ７－Ｒｆ－（ＯＲｆ２）ｙ２－Ｒ４－Ｑ２－Ｒ５－Ｌ２－（Ｒ６－Ｔ２）ｘ２　・・・式（２）　ただし、式中の各符号は明細書に記載のとおりである。

Description

化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法

　本発明は、化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法に関する。

　フッ素原子を有する含フッ素エーテル化合物は、低屈折率、低誘電率、撥水・撥油性、耐熱性、耐薬品性、化学的安定性、透明性等の諸特性に優れており、電気・電子材料、半導体材料、光学材料、表面処理剤等の多種多様な分野に利用されている。

　例えば、ペルフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）及び拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、例えば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として用いられる。

　耐摩擦性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、ペルフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物が提案されている（特許文献１）。

特開２０１６－０３７５４１号公報

　上述のとおり含フッ素エーテル化合物は、上記各種の物性を付与するための表面処理剤として有用であり、様々な環境下で使用可能な含フッ素エーテル化合物の要求が高まっている。本発明者らは更なる耐摩擦性及び耐光性の向上を目的として検討を行った。

　本発明は、耐摩擦性及び耐光性に優れる化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法の提供を目的とする。

　本発明は、下記［１］～［１１］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法を提供する。
［１］　下記式（１）又は下記式（２）で表される化合物。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２－Ｌ^１－（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１　・・・式（１）
　（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３－Ｌ^３－Ｒ^８－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５－Ｌ^２－（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２　・・・式（２）
　ただし、
　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基であり、
　Ｒ^２は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ１価の基であって、Ｒ^２及びＲ^３に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^３は、アルキレン基、もしくはＬ^１側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^３が複数ある場合、複数あるＲ^３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^１は、－ＳｉＲ^ａ１ _ｚ１Ｒ^ａ１１ _３－ｚ１であって、
　Ｒ^ａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１１は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ１は０～３の整数であって、ｚ１が複数ある場合、複数あるｚ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ１のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ１は１以上の整数であり、
　ｙ１は１以上の整数であり、
　Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^４は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^２は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^４及びＲ^５と結合する２価の基であり、
　Ｒ^５は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^２は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ２価の基であって、Ｒ^５及びＲ^６に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^６は、アルキレン基、もしくはＬ^２側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^６が複数ある場合、複数あるＲ^６は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^２は、－ＳｉＲ^ａ２ _ｚ２Ｒ^ａ１２ _３－ｚ２であって、
　Ｒ^ａ２は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１２は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ２は０～３の整数であって、ｚ２が複数ある場合、複数あるｚ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ２のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　Ｒ^７は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^３は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^７及びＲ^８と結合する２価の基であり、
　Ｒ^８は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^３は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ３価の基であって、Ｒ^８及びＲ^９に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^９は、アルキレン基、もしくはＬ^３側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^９が複数ある場合、複数あるＲ^９は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^３は、－ＳｉＲ^ａ３ _ｚ３Ｒ^ａ１３ _３－ｚ３であって、
　Ｒ^ａ３は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１３は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ３は０～３の整数であって、ｚ３が複数ある場合、複数あるｚ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ３のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ２及びｘ３は各々独立に１以上の整数であり、
　ｙ２は１以上の整数である。
［２］　Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３のうち少なくとも一つが、１個の単環又は縮合環を含む２価の基である請求項［１］の化合物。
［３］　Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３のうち少なくとも一つが、環を構成し互いに隣接する炭素原子に結合手を有する２価の基である［１］又は［２］の化合物。
［４］　Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^７のうち少なくとも一つが、アルキレン基である［１］～［３］のいずれかの化合物。
［５］　Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^８のうち少なくとも一つが、単結合又はアルキレン基である［１］～［４］のいずれかの化合物。
［６］　［１］～［５］のいずれかの化合物と、他の含フッ素エーテル化合物とを含有する組成物。
［７］　［１］～［５］のいずれかの化合物、又は［６］の組成物を含む、表面処理剤。
［８］　［１］～［５］のいずれかの化合物、又は［６］の組成物と、液状媒体とを含む、コーティング液。
［９］　［１］～［５］のいずれかの化合物、［６］の組成物、又は、［７］の表面処理剤から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
［１０］　［１］～［５］のいずれかの化合物、［６］の組成物、［７］の表面処理剤、又は［９］のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、表面層を形成する、物品の製造方法。
［１１］　下記式（３）又は（４）で表される化合物。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２１－Ｄ^１　・・・式（３）
　Ｄ^３－Ｒ^８１－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５１－Ｄ^２　・・・式（４）
　ただし、
　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基であり、
　Ｒ^２１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｄ^１はハロゲン原子であり、
　ｙ１は１以上の整数であり、
　Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^４は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^２は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^４及びＲ^５と結合する２価の基であり、
　Ｒ^５１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｒ^７は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^３は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^７及びＲ^８と結合する２価の基であり、
　Ｒ^８１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｄ^２及びＤ^３は各々独立にハロゲン原子であり、
　ｙ２は１以上の整数である。

　本発明により、耐摩擦性及び耐光性に優れる化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法が提供される。

本発明の物品の一例を示す模式断面図である。

　本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物等もこれに準ずる。
　「（ポリ）オキシフルオロアルキレン」とは、オキシフルオロアルキレンとポリオキシフルオロアルキレンとの総称である。
　フルオロアルキル基とは、ペルフルオロアルキル基とパーシャルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。またパーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわちフルオロアルキル基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
　「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基及びシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）の総称であり、「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
　「有機基」とは、置換基を有していてもよく、炭素鎖中にヘテロ原子又は他の結合を有してもよい炭化水素基を意味する。「炭化水素基」とは、脂肪族炭化水素基（直鎖アルキレン基、分岐を有するアルキレン基、シクロアルキレン基等）、芳香族炭化水素基（フェニレン基等）及びこれらの組み合わせからなる基である。
　「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
　フルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される数平均分子量である。
　数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。

［化合物］
　本発明の化合物は、下記式（１）又は下記式（２）で表されることを特徴とする。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２－Ｌ^１－（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１　・・・式（１）
　（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３－Ｌ^３－Ｒ^８－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５－Ｌ^２－（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２　・・・式（２）
　ただし、
　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基であり、
　Ｒ^２は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ１価の基であって、Ｒ^２及びＲ^３に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^３は、アルキレン基、もしくはＬ^１側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^３が複数ある場合、複数あるＲ^３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^１は、－ＳｉＲ^ａ１ _ｚ１Ｒ^ａ１１ _３－ｚ１であって、
　Ｒ^ａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１１は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ１は０～３の整数であって、ｚ１が複数ある場合、複数あるｚ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ１のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ１は１以上の整数であり、
　ｙ１は１以上の整数であり、
　Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^４は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^２は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^４及びＲ^５と結合する２価の基であり、
　Ｒ^５は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^２は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ２価の基であって、Ｒ^５及びＲ^６に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^６は、アルキレン基、もしくはＬ^２側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^６が複数ある場合、複数あるＲ^６は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^２は、－ＳｉＲ^ａ２ _ｚ２Ｒ^ａ１２ _３－ｚ２であって、
　Ｒ^ａ２は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１２は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ２は０～３の整数であって、ｚ２が複数ある場合、複数あるｚ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ２のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　Ｒ^７は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^３は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^７及びＲ^８と結合する２価の基であり、
　Ｒ^８は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^３は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ３価の基であって、Ｒ^８及びＲ^９に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^９は、アルキレン基、もしくはＬ^３側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^９が複数ある場合、複数あるＲ^９は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^３は、－ＳｉＲ^ａ３ _ｚ３Ｒ^ａ１３ _３－ｚ３であって、
　Ｒ^ａ３は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１３は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ３は０～３の整数であって、ｚ３が複数ある場合、複数あるｚ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ３のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ２及びｘ３は各々独立に１以上の整数であり、
　ｙ２は１以上の整数である。

　化合物１は、概略すると「フルオロポリエーテル鎖－環構造を含む連結基－反応性シリル基」の構造を有する。また、化合物２は、概略すると「反応性シリル基－環構造を含む連結基－フルオロポリエーテル鎖－環構造を含む連結基－反応性シリル基」の構造を有する。
　本化合物はフルオロポリエーテル鎖を有するため、本化合物を用いて得られる表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性に優れる。
　本化合物は反応性シリル基を有する。当該反応性シリル基は基材と強固に化学結合するため得られる表面層は耐摩擦性などの耐久性に優れる。
　化合物１及び２は、環構造を含む連結基によって、フルオロエーテル鎖と、反応性シリル基とが連結されている。環構造を含む連結基は、例えば、摩擦や光の照射によって環構造に含まれる結合の一部が切断されたとしても、ポリフルオロエーテル鎖と、反応性シリル基との連結を維持できる。従って、本化合物により形成された表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性に優れ、耐摩擦性及び耐光性に優れる。
　以下、各化合物の構成について説明するが、同様の構造を有する符号についてはそのことを示し、適宜読み替えて参照できるものとする。

＜化合物１＞
　化合物１は、下記式（１）で表される構造を有する。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２－Ｌ^１－（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１　・・・式（１）
　ただし、式（１）中の各符号は上述の通りである。

　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基である。当該フルオロアルキル基は、直鎖アルキル基であってもよく、分岐及び／又は環構造を有するアルキル基であってもよい。耐摩耗性の点から直鎖フルオロアルキル基が好ましい。また、合成の容易性等の観点から、フルオロアルキル基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。

　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１は、フルオロポリエーテル鎖であり、ｙ１は１以上の整数である。

　（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１におけるフルオロポリエーテル鎖は、下記式（Ｇ１）で表される構造を有することが好ましい。
　－［（ＯＧ^ｆ１）_ｍ１（ＯＧ^ｆ２）_ｍ２（ＯＧ^ｆ３）_ｍ３（ＯＧ^ｆ４）_ｍ４（ＯＧ^ｆ５）_ｍ５（ＯＧ^ｆ６）_ｍ６］－　・・・式（Ｇ１）
　ただし、
　Ｇ^ｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり、
　Ｇ^ｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり、
　Ｇ^ｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
　Ｇ^ｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
　Ｇ^ｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
　Ｇ^ｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基であり、
　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表し、　ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は１～２００の整数である。
　なお、式（Ｇ１）における（ＯＧ^ｆ１）～（ＯＧ^ｆ６）の結合順序は任意である。式（Ｇ１）のｍ１～ｍ６は、それぞれ、（ＯＧ^ｆ１）～（ＯＧ^ｆ６）の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（ＯＧ^ｆ５）_ｍ５は、（ＯＧ^ｆ５）の数がｍ５個であることを表し、（ＯＧ^ｆ５）_ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（ＯＧ^ｆ１）～（ＯＧ^ｆ６）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
　また上記炭素数３～６のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、又は環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。

　Ｇ^ｆ１の具体例としては、－ＣＦ_２－、－ＣＨＦ－が挙げられる。
　Ｇ^ｆ２の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦ－などが挙げられる。
　Ｇ^ｆ３の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－などが挙げられる。
　Ｇ^ｆ４の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－などが挙げられる。
　Ｇ^ｆ５の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－などが挙げられる。
　Ｇ^ｆ６の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－などが挙げられる。
　ここで、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。

　（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１は、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性により優れる点から、中でも、下式（Ｇ２）～下式（Ｇ４）で表される構造を有することが好ましい。
　　（ＯＧ^ｆ１）_ｍ１－（ＯＧ^ｆ２）_ｍ２　・・・式（Ｇ２）
　　（ＯＧ^ｆ２）_ｍ２－（ＯＧ^ｆ４）_ｍ４　・・・式（Ｇ３）
　　（ＯＧ^ｆ３）_ｍ３　・・・式（Ｇ４）
　ただし、式（Ｇ２）～式（Ｇ４）の各符号は、前記式（Ｇ１）と同様である。

　式（Ｇ２）及び式（Ｇ３）において、（ＯＧ^ｆ１）と（ＯＧ^ｆ２）、（ＯＧ^ｆ２）と（ＯＧ^ｆ４）の結合順序は各々任意である。例えば（ＯＧ^ｆ１）と（ＯＧ^ｆ２）が交互に配置されてもよく、（ＯＧ^ｆ１）と（ＯＧ^ｆ２）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｇ３）においても同様である。
　式（Ｇ２）において、ｍ１は１～５０が好ましく、１～３０がより好ましい。またｍ２は１～５０が好ましく、１～３０がより好ましい。
　式（Ｇ３）において、ｍ２は１～５０が好ましく、１～３０がより好ましい。またｍ４は１～５０が好ましく、１～３０がより好ましい。
　式（Ｇ４）において、ｍ３は１～５０が好ましく、１～３０がより好ましい。

　前記フルオロポリエーテル鎖（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１中のフッ素原子の割合［｛フッ素原子数／（フッ素原子数＋水素原子数）｝×１００（％）］は、撥水撥油性及び指紋除去性に優れる点から、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。
　また、フルオロポリエーテル鎖（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１部分の分子量は、耐摩耗性の点から、２００～３０，０００が好ましく、６００～２５，０００がより好ましく、１，０００～２０，０００が更に好ましい。
　なお、Ｒ^ｆ１中のＲ^１又はＱ^１と結合する炭素原子は、少なくとも１個のフッ素原子と結合する。

　Ｒ^１は、単結合又は２価の基である。
　Ｒ^１が単結合である場合、本化合物は、フルオロアルキレン鎖の末端に位置するＲ^ｆ１が、Ｑ^１に直接結合した構造を有する。
　Ｒ^１が２価の基である場合、Ｒ^１は、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－より選択される結合Ｂ^１、もしくは、Ｒ^ｆ１側末端、Ｑ^１側末端、又は炭素－炭素原子間に、前記結合Ｂ^１を有していてもよいアルキレン基などが挙げられる。
　ただし、Ｒ^Ｎは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
　上記アルキレン基は、直鎖であってもよく、分岐を有してもよい。耐摩耗性の点から直鎖アルキレン基が好ましい。また、合成の容易性等の観点から、アルキレン基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。また、アルキレン基が有していてもよい結合Ｂ^１としては、－Ｏ－が好ましい。Ｒ^１は合成容易性の点から、下記式（ｇ１）で表される基が好ましい。
　＊－Ｒ^３１－（Ｏ－Ｒ^３２）_ａ１－＊＊　・・・式（ｇ１）
　ただし、
　Ｒ^３１は単結合又は炭素数１～６の直鎖アルキレン基であり、
　Ｒ^３２は炭素数１～６の直鎖アルキレン基であり、
　ａ１は０～３の整数であり、
　＊はＲ^ｆ１側結合手であり、＊＊はＱ^１側結合手である。
　なお、Ｒ^３１がアルキレン基の場合、Ｒ^ｆ１の、Ｒ^３１と結合する炭素原子は１個以上のフッ素原子と結合しているものとする。

　更に、Ｒ^１は合成容易性の点から、下記式（ｇ１ａ）で表される基がより好ましい。
　＊－（Ｏ）_ａ２－Ｒ^３３－＊＊　・・・式（ｇ１ａ）
　ただし、
　Ｒ^３３は炭素数１～６の直鎖アルキレン基であり、
　ａ２は０又は１の整数であり、
　＊はＲ^ｆ１側結合手であり、＊＊はＱ^１側結合手である。
　なお、ａ２が０の場合、Ｒ^ｆ１の、Ｒ^３３と結合する炭素原子は１個以上のフッ素原子と結合しているものとする。

　更に合成の容易性等の観点から、Ｒ^１はアルキレン基であることが好ましく、炭素数１～３の直鎖アルキレン基がより好ましい。

　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基である。具体的にＱ^１は、下記式（Ｑ１）で表すことができる。
　＊－Ｊ^１－（Ｒ^Ｊ１－Ｊ^２）_ｋ１－＊＊　・・・式（Ｑ１）
　ただし、
　Ｊ^１及びＪ^２は各々独立に環構造であり、Ｊ^２が複数ある場合、当該Ｊ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^Ｊ１は単結合又は２価の基であり、Ｒ^Ｊ１が複数ある場合、当該Ｒ^Ｊ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｋ１は０以上の整数であり、
　＊はＲ^１側結合手であり、＊＊はＲ^２側結合手である。

　Ｑ^１が含む環構造Ｊ^１及びＪ^２としては、単環構造、縮合環構造のいずれであってもよく、ヘテロ原子を有していてもよく環構造内に更に架橋構造を有していてもよい。ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｓｉなどが挙げられる。各環構造は、当該環構造の安定性の観点から、３～１１員環であることが好ましく、４～８員環であることがより好ましく、５～８員環であることが更に好ましい。

　上記単環構造としては、例えば、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、ピラン、ピリジン、ピラゾール、オキサゾール、イミダゾール、チアゾール等の芳香族環由来の構造；シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン等の二重結合を有していてもよい脂肪族環由来の構造；オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル由来の構造；ピロリジン、ピロリドン、ピペリジンなどの環状アミン由来の構造などが挙げられる。
　上記縮合環構造としては、ナフタレン、アントラセン、ベンゾフラン、チオナフテン、カルバゾール、ベンゾ－ピロン、キノリン、アクリジン、フタラジン、キノキサリンなどの多環芳香族環由来の構造；デカヒドロナフタレンなどの縮合脂肪族環由来の構造；テトラリンなどの芳香族環と脂肪族環との縮合環などが挙げられる。
　また、環構造内に架橋構造を有する構造としては、ノルボルナン、ビシクロ［２，２，２］オクタン、アダマンタン等が挙げられる。
　なお上記Ｊ^１及びＪ^２における環構造は上記環の任意の２つの水素原子が結合手となった構造をいう。

　Ｒ^Ｊ１が２価の基である場合、Ｒ^Ｊ１は、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ１－、－ＮＲ^Ｎ１Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－より選択される結合Ｂ^２、もしくは、Ｊ^１側末端、Ｊ^２側末端、又は炭素－炭素原子間に、前記結合Ｂ^２を有していてもよく、炭素－炭素二重結合を有していてもよいアルキレン基などが挙げられる。
　ただし、Ｒ^Ｎ１は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基である。

　ｋ１は０以上の整数である。ｋ１が０の場合、Ｑ^１は環構造Ｊ^１のみからなる基、すなわち、１個の単環構造又は縮合環構造を含む基である。ｋ１が１以上の場合、Ｑ^１は複数の環構造が連結した基である。このようなＱ^１の具体例としては、ビフェニル、ターフェニル、ジフェニルメタン、スチルベン、ジフェニルエーテル由来の構造などが挙げられる。
　合成容易性の点及び耐摩擦性、耐光性の点から、ｋ１は０～２が好ましく、０～１がより好ましく、０が更に好ましい。

　Ｑ^１が含む環構造は、耐摩擦性及び耐光性等の観点から、ヘテロ原子を有しない炭素環構造であることが好ましい。
　合成の容易性や、耐摩擦性、耐光性の観点から、Ｑ^１が含む環構造は、環を構成し互いに隣接する炭素原子に結合手を有する２価の基であることが好ましい。ただし、Ｑ^１が含む環構造は、環を構成し互いに隣接する炭素原子が結合手を有する構造に限定されず、例えば、環を構成し互いに隣接していない炭素原子が結合手を有する構造であってもよい。

　Ｑ^１が含む環構造の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。
　ただし、Ｒ^Ｑは、環構造中に含まれるアミノ基を保護する保護基でもよいし、１価の炭化水素基であってもよいし、Ｒ^１又はＲ^２と結合する結合手であってもよい。また、ｎ１は各々独立に１～３の整数である。

　Ｒ^２は、単結合又は２価の基である。
　Ｒ^２が単結合である場合、本化合物は、Ｑ^１がＬ^１に直接結合した構造を有する。
　Ｒ^２が２価の基である場合、Ｒ^２は、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ２－、－ＮＲ^Ｎ２Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ^２－、－ＳＯ_２ＮＲ^Ｎ２－、－Ｓｉ（Ｒ^Ｎ２）_２－、－ＯＳｉ（Ｒ^Ｎ２）_２－より選択される結合Ｂ^３、もしくは、Ｑ^１側末端、Ｌ^１側末端、又は炭素－炭素原子間に、前記結合Ｂ^３を有していてもよいアルキレン基である。
　ただし、Ｒ^Ｎ２は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
　上記アルキレン基は、直鎖であってもよく、分岐を有してもよい。耐摩耗性の点から直鎖アルキレン基が好ましい。また、合成の容易性等の観点から、アルキレン基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。また、アルキレン基が有していてもよい結合Ｂ^１としては、－Ｏ－が好ましい。Ｒ^２は合成容易の点から下記式（ｇ２）で表される基が好ましい。
　＊－Ｒ^３４－（Ｏ－Ｒ^３５）_ａ３－＊＊　・・・式（ｇ２）
　ただし、
　Ｒ^３４は炭素数１～６の直鎖アルキレン基であり、
　Ｒ^３５は炭素数１～６の直鎖アルキレン基であって、Ｒ^３４が複数ある場合、当該Ｒ^３４は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ａ３は０～３の整数であり、
　＊はＱ^１側結合手であり、＊＊はＬ^１側結合手である。
　さらに、合成の容易性等の観点から、Ｒ^２はアルキレン基であることが好ましく、炭素数１～３の直鎖アルキレン基がより好ましい。

　Ｌ^１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ１価の基であって、Ｒ^２及びＲ^３に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、もしくは、水酸基又は分岐点を構成する炭素原子である。

　Ｌ^１が単結合の場合、式（１）のＲ^２とＲ^３は直接結合する。

　Ｌ^１が３価以上の基の場合、Ｌ^１はＣ、Ｎ、Ｓｉ、環構造及び（１＋ｘ１）価のオルガノポリシロキサン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の分岐点（以下、「分岐点Ｐ^１」と記す。）を有する。

　Ｎが分岐点Ｐ^１となる場合、分岐点Ｐ^１は、例えば＊－Ｎ（－＊＊）_２で表される。ただし、＊はＲ^２側の結合手であり、＊＊はＲ^３側の結合手である。
　Ｃが分岐点Ｐ^１となる場合、分岐点Ｐ^１は、例えば＊－Ｃ（－＊＊）_３又は＊－ＣＲ^２９（－＊＊）_２で表される。ただし、＊はＲ^２側の結合手であり、＊＊はＲ^３側の結合手であり、Ｒ^２９は１価の基であり、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
　Ｓｉが分岐点Ｐ^１となる場合、分岐点Ｐ^１は、例えば＊－Ｓｉ（－＊＊）_３又は＊－ＳｉＲ^２９（－＊＊）_２で表される。ただし、＊はＲ^２側の結合手であり、＊＊はＲ^３側の結合手であり、Ｒ^２９は１価の基であり、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。

　分岐点Ｐ^１を構成する環構造としては、本化合物を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる点から、３～８員環の脂肪族環、３～８員環の芳香族環、３～８員環のヘテロ環、及びこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる１種が好ましく、下式に挙げられる環構造が特に好ましい。環構造は、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等の置換基を有してもよい。

　分岐点Ｐ^１を構成するオルガノポリシロキサン残基としては、例えば、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^２５は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。Ｒ^２５のアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１がより好ましい。

　２価以上のＬ^１は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２６）－、－Ｎ（Ｒ^２６）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^２６）－、－Ｓ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２６）－、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^２６）－、－Ｎ（Ｒ^２６）ＳＯ_２－、－Ｓｉ（Ｒ^２６）_２－、－ＯＳｉ（Ｒ^２６）_２－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｐｈ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－及び２価のオルガノポリシロキサン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合（以下、「結合Ｂ^４」と記す。）を有していてもよい。
　ただし、Ｒ^２６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、Ｐｈは、フェニレン基である。Ｒ^２６のアルキル基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。

　２価のオルガノポリシロキサン残基としては、例えば、下式の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^２７は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。Ｒ^２７のアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１がより好ましい。

　結合Ｂ^４としては、本化合物を製造しやすい点から、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^２６－、－Ｎ（Ｒ^２６）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－、及び－ＮＲ^２６－からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合が好ましく、表面層の耐光性及び耐薬品性がさらに優れる点から、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^２６－、－Ｎ（Ｒ^２６）Ｃ（Ｏ）－又は－Ｃ（Ｏ）－がより好ましい。

　３価以上のＬ^１は、Ｒ^２およびＲ^３に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、またはオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ^２およびＲ^３に隣接する原子が各々結合Ｂ^４または分岐点Ｐ^１の構成元素である。３価以上のＬ^１の具体例としては、１個以上の分岐点Ｐ^１（例えば｛＊－Ｐ^１（－＊＊）_ｘ１｝）、１個以上の分岐点Ｐ^１と１個以上の結合Ｂ^４との組み合わせ（例えば、｛＊－Ｂ^４－Ｒ^２８－Ｐ^１（－＊＊）_ｘ１｝、｛＊－Ｂ^４－Ｒ^２８－Ｐ^１（－Ｒ^２８－Ｂ^４－＊＊）_ｘ１｝）などが挙げられる。ただし、Ｒ^２８は単結合または２価の有機基であり、＊はＲ^２側の結合手であり、＊＊はＲ^３側の結合手である。

　また、２価のＬ^１としては、Ｒ^２およびＲ^３に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子またはオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ^２およびＲ^３に隣接する原子が各々結合Ｂ^４の構成元素である。２価以上のＬ^１の具体例としては、単結合、１個以上の結合Ｂ^４（例えば、＊－Ｂ^４－＊＊、＊－Ｂ^４－Ｒ^２８－Ｂ^４－＊＊）などが挙げられる。ただし、Ｒ^２８は単結合または２価の有機基であり、＊はＲ^２側の結合手であり、＊＊はＲ^３側の結合手である。

　上記Ｒ^２８における２価の有機基としては、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（アルキレン基、シクロアルキレン基等）、２価の芳香族炭化水素基（フェニレン基等）が挙げられ、炭素数２以上の炭化水素基の炭素－炭素原子間に結合Ｂ^４を有していてもよい。２価の有機基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。

　前記Ｌ^１としては、本化合物を製造しやすい点から、下式（Ｅ１）～（Ｅ７）のいずれかで表される基が好ましい。

　・・・式（Ｅ１）
　－Ｅ^１－Ｃ（Ｒ^Ｅ２）_３－ｅ３（－Ｅ^２２－）_ｅ３　・・・式（Ｅ２）
　－Ｅ^２－Ｎ（－Ｅ^２３－）_２　・・・式（Ｅ３）
　－Ｅ^３－Ｚ^１（－Ｅ^２４－）_ｅ４　・・・式（Ｅ４）
　－Ｅ^２－Ｓｉ（Ｒ^Ｅ３）_３－ｅ３（－Ｅ^２５－）_ｅ３　・・・式（Ｅ５）
　－Ｅ^１－Ｅ^２６－　・・・式（Ｅ６）
　－Ｅ^１－ＣＨ（－Ｅ^２２－）－Ｓｉ（Ｒ^Ｅ３）_３－ｅ５（－Ｅ^２５－）_ｅ５　・・・式（Ｅ７）
　ただし、式（Ｅ１）～式（Ｅ７）においては、Ｅ^１、Ｅ^２又はＥ^３側が式（１）のＲ^２と接続し、Ｅ^２２、Ｅ^２３、Ｅ^２４、Ｅ^２５又はＥ^２６側がＲ^３に接続する。
　ここで、Ｅ^１は、単結合、－Ｂ^５－、－Ｂ^６－Ｒ^４０－、又は－Ｂ^６－Ｒ^４０－Ｂ^５－であって、Ｒ^４０はアルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^Ｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^Ｅ６－、又は－Ｏ－を有する基であり、Ｂ^５は、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^Ｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^Ｅ６－又は－Ｏ－であり、
Ｂ^６は－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^Ｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、又は－ＮＲ^Ｅ６－であり、
　Ｅ^２は、単結合又は－Ｂ^６－Ｒ^４０－であり、
　Ｅ^３は、Ｅ^３が結合するＺ^１における原子が炭素原子の場合、Ｅ^１であり、Ｅ^３が結合するＺ^１における原子が窒素原子の場合、Ｅ^２であり、
　Ｅ^１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^Ｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^Ｅ６－又は－Ｏ－を有する基であり、
　Ｅ^２２は、単結合、－Ｂ^５－、－Ｒ^４０－Ｂ^６－又は－Ｂ^５－Ｒ^４０－Ｂ^６－であり、Ｅ^２２を２以上有する場合、２以上のＱ^２２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｅ^２３は、単結合又は－Ｒ^４０－Ｂ^６－であり、２個のＥ^２３は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｅ^２４は、Ｅ^２４が結合するＺ^１における原子が炭素原子の場合、Ｅ^２２であり、Ｅ^２４が結合するＺ^１における原子が窒素原子の場合、Ｅ^２３であり、Ｅ^２４を２以上有する場合、２以上のＥ^２４は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｅ^２５は、単結合、又は－Ｒ^４０－Ｂ^６－であり、Ｅ^２５を２以上有する場合、２以上のＥ^２５は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｅ^２６は、単結合又は－Ｒ^４０－Ｂ^６－であり、
　Ｚ^１は、Ｅ^３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＥ^２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（ｅ４＋１）価の環構造を有する基であり、
　Ｒ^Ｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^Ｅ１を２以上有する場合、２以上のＲ^Ｅ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^Ｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基であり、
　Ｒ^Ｅ３は、アルキル基であり、
　Ｒ^Ｅ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、
　　ｅ１は０～３の整数であり、ｅ２は０～３の整数であって、ｅ１＋ｅ２は１～６の整数であり、
　　ｅ３は、１～３の整数であり、
　　ｅ４は、１以上の整数であり、
　　ｅ５は、１～３の整数である。
　なお、ｅ１＋ｅ２＝ｘ１、ｅ３＝ｘ１、ｅ４＝ｘ１、ｅ５＝ｘ１である。

　Ｒ^４０のアルキレン基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。

　Ｚ^１における環構造としては、上述した分岐点Ｐ^１を構成する環構造の(ｅ４＋１)価の残基が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ^１における環構造にはＥ^２４が直接結合するため、環構造に例えばアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＥ^２４が連結することはない。

　Ｒ^Ｅ１、Ｒ^Ｅ２又はＲ^Ｅ３のアルキル基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　Ｒ^Ｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物１を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｇ４は、本化合物を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が更に好ましい。

　前記Ｌ^１の他の形態としては、下式（Ｅ１１）～（Ｅ１７）のいずれかで表される基が挙げられる。

・・・式（Ｅ１１）
　－Ｅ^１－Ｃ（Ｒ^Ｅ２）_３－ｅ３（－Ｅ^２２－Ｅ^Ｇ）_ｅ３　・・・式（Ｅ１２）
　－Ｅ^２－Ｎ（－Ｅ^２３－Ｅ^Ｇ）_２　・・・式（Ｅ１３）
　－Ｅ^３－Ｚ^１（－Ｅ^２４－Ｅ^Ｇ）_ｅ４　・・・式（Ｅ１４）
　－Ｅ^２－Ｓｉ（Ｒ^Ｅ３）_３－ｅ３（－Ｅ^２５－Ｅ^Ｇ）_ｅ３　・・・式（Ｅ１５）
　－Ｅ^１－Ｅ^２６－Ｅ^Ｇ　・・・式（Ｅ１６）
　－Ｅ^１－ＣＨ（－Ｅ^２２－）－Ｓｉ（Ｒ^Ｅ３）_３－ｅ５（－Ｅ^２５－Ｅ^Ｇ）_ｅ５　・・・式（Ｅ１７）

　ただし、式（Ｅ１１）～式（Ｅ１７）においては、Ｅ^１、Ｅ^２又はＥ^３側が式（１）のＲ^２と接続し、Ｅ^２２、Ｅ^２３、Ｅ^２４、Ｅ^２５又はＥ^２６側がＲ^３に接続する。Ｅ^Ｇは、下記式（Ｅ^Ｇ）であり、Ｌ^１が有する２以上のＥ^Ｇは同一であっても異なっていてもよい。Ｇ以外の符号は、式（Ｅ１）～式（Ｅ７）における符号と同じである。
　－Ｓｉ（Ｒ^２３）_３－ｋ（－Ｅ^３－）_ｋ　式（Ｅ^Ｇ）
　ただし、式（Ｅ^Ｇ）において、Ｓｉ側がＥ^２２、Ｅ^２３、Ｅ^２４、Ｅ^２５又はＥ^２６に接続し、Ｅ^３側がＲ^３に接続する。Ｒ^２３は、アルキル基である。Ｅ^３は、単結合、又は－Ｒ^４５－Ｂ^６－であって、Ｒ^４５は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^４６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ^４６－又は－Ｏ－を有する基、又は－（ＯＳｉ（Ｒ^２４）_２）_ｐ－Ｏ－であり、２以上のＥ^３は同一であっても異なっていてもよい。ｋは、２又は３である。Ｒ^４６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ^２４は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ^２４は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ^２４）_２）は同一であっても異なっていてもよい。

　Ｅ^３のアルキレン基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｒ^２３のアルキル基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　Ｒ^２４のアルキル基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　Ｒ^２４のアルコキシ基の炭素数は、本化合物の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｐは、０又は１が好ましい。

　Ｒ^３は、Ｌ^１に結合する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であって、Ｒ^３が複数ある場合、複数あるＲ^３は互いに同一であっても異なっていてもよい。当該Ｒ^３としては、下式（ｇ５）で表わす基であることが好ましい。
　＊－（Ｏ）_ａ４－（Ｒ^ｇ１Ｏ）_ａ５－Ｒ^ｇ２－＊＊　・・・（ｇ５）
　ただし、
　Ｒ^ｇ１は、炭素数１～１２のアルキレン基であり、複数あるＲ^ｇ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ｇ２は、炭素数１～１８のアルキレン基であり、
　ａ４は０又は１であり、
　ａ５は０以上の整数であり、
　＊はＬ^１結合する結合手であり、
　＊＊はＴ^１に結合する結合手である。

　ａ４が０の場合は結合手＊を有する原子が炭素原子となり、ａ３が１の場合は結合手＊を有する原子が酸素原子となる。本化合物においてａ３は０又は１のいずれでもよく、合成などの点から適宜選択すればよい。
　ａ５はＲ^ｇ１Ｏの繰り返し数であり、表面層としての耐久性などの点から、０～６が好ましく、０～３がより好ましく、０～１が更に好ましい。
　Ｒ^ｇ１のアルキレン基は炭素数１～１２の直鎖又は分岐を有するアルキレン基であればよく、炭素数１～６のアルキレン基が好ましく、炭素数１～３のアルキレン基がより好ましい。又当該アルキレン基は直鎖アルキレン基が好ましい。
　Ｒ^ｇ２のアルキレン基は、炭素数１～１８の直鎖又は分岐を有するアルキレン基であればよく、炭素数１～１２のアルキレン基が好ましく、炭素数１～８のアルキレン基がより好ましく、炭素数２～６のアルキレン基が更に好ましく、炭素数２～３のアルキレン基が特に好ましい。又当該アルキレン基は直鎖アルキレン基が好ましい。

　Ｔ^１は、－ＳｉＲ^ａ１ _ｚ１Ｒ^ａ１１ _３－ｚ１である。
　Ｒ^ａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ^ａ１１は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　ｚ１は０～３の整数であって、ｚ１が複数ある場合、複数あるｚ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ただし、ｚ１のうち少なくとも一つは１～３の整数である。

　Ｒ^ａ１が水酸基の場合、Ｓｉ原子と共にシラノール（Ｓｉ－ＯＨ）基を構成する。また、加水分解性基は加水分解反応によって水酸基となる基である。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。本化合物Ａ１はＴ^１を１以上有することにより、表面層形成後の耐摩耗性に優れる。

　Ｒ^ａ１の加水分解性基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基（－ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数１～６のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数１～６のアシルオキシ基が好ましい。
　Ｒ^ａ１は、本化合物の製造のしやすさの点から、中でも、炭素数１～４のアルコキシ基又はハロゲン原子が好ましい。Ｒ^ａ１におけるアルコキシ基は、本化合物の保存安定性に優れ、反応時のアウトガスが抑制される点から、中でも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、長期の保存安定性の点からはエトキシ基が特に好ましく、加水分解反応委時間を短時間にする点からはメトキシ基が特に好ましい。又はロゲン原子としては、中でも塩素原子が好ましい。

　Ｒ^ａ１１の非加水分解性基としては、水素原子又は１価の炭化水素基である。炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、製造の容易性などの点から、アルキル基が好ましい。また、製造の容易性などの点から、炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。

　１つのＴ^１内における、Ｒ^ａ１の数ｚ１は、１～３であればよく、基材との密着性の点からは、２又は３が好ましく、３がより好ましい。
　Ｔ^１の具体例としては、－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、－ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、－Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、－ＳｉＣｌ_３、－Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_３、－Ｓｉ（ＮＣＯ）_３などが挙げられる。製造における取扱いやすさの点から、－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が特に好ましい。

　化合物１の１分子中のＴ^１の数ｘ１は、１～２０であればよく、合成の容易性や、化合物Ａ１の取り扱いの容易性などの点から、ｘ１は１～１２が好ましく、１～６がより好ましい。
　化合物１の１分子中に２個以上のＴ^１がある場合、当該Ｔ^１は、互いに同一の構造であってもよく、異なる構造であってもよい。

　化合物１の具体例としては、例えば下記が挙げられる。
　ただし、ｎは各々独立に１以上の整数であり、ｎ１は各々独立に１～３の整数である。

＜化合物２＞
　化合物２は、下記式（２）で表される化合物である。
　（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３－Ｌ^３－Ｒ^８－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５－Ｌ^２－（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２　・・・式（２）
　ただし、式中の各符号は上述の記載のとおりである。

Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基である。当該フルオロアルキレン基はＲ^ｆ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^ｆ２および（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２は、化合物１のＲ^ｆ、及び（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１に対応する。Ｒ^ｆ２および（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２の構造は、各々独立にＲ^ｆ、及び（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
　（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３及び（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２は、化合物１の（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１に対応する。（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３及び（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２の構造は、各々独立に（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^４及びＲ^７は、化合物１のＲ^１に対応する。Ｒ^４及びＲ^７の構造は、各々独立にＲ^１と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｑ^２及びＱ^３は、化合物１のＱ^１に対応する。Ｑ^２及びＱ^３の構造は、各々独立にＱ^１と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^５及びＲ^８は、化合物１のＲ^２に対応する。Ｒ^５及びＲ^８の構造は、各々独立にＲ^２と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｌ^２及びＬ^３は、化合物１のＬ^１に対応する。Ｌ^２及びＬ^３の構造は、各々独立にＬ^１と同様であり、好ましい態様も同様である。

　化合物２の具体例としては、例えば下記が挙げられる。
　ただし、ｎは各々独立に１以上の整数である。

（化合物１及び化合物２の製造方法）
　化合物１及び化合物２の製造方法は特に限定されるものではないが、高収率が得られる点から、例えば、下記式（５）で表される化合物又は下記式（６）で表される化合物と、下記式（１０１）で表される化合物１０１とをヒドロシリル化反応させる方法が好ましい。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２－Ｌ^１－（Ｒ^Ｃ１－ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｘ１　・・・式（５）
　（ＣＨ_２＝ＣＨ－Ｒ^Ｃ３）_ｘ３－Ｌ^３－Ｒ^８－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５－Ｌ^２－（Ｒ^Ｃ２－ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｘ２　・・・式（６）
　ＨＳｉＲ^ａ１ _ｚ１Ｒ^ａ１１ _３－ｚ１　・・・式（１０１）
　ただし、
　Ｒ^Ｃ１、Ｒ^Ｃ２及びＲ^Ｃ３は、各々独立に、Ｌ^１、Ｌ^２又はＬ^３側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ^Ｃ１、Ｒ^Ｃ２又はＲ^Ｃ３が複数ある場合、当該Ｒ^Ｃ１、Ｒ^Ｃ２又はＲ^Ｃ３は各々独立に互いに同一であっても異なっていてもよく、
　他の各符号は、前記式（１）又は式（２）における各符号と同様であり好ましい態様も同様である。
　なお、Ｒ^Ｃ１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、反応後に式（１）におけるＲ^３に対応し、Ｒ^Ｃ１－ＣＨ＝ＣＨ_２は反応後に式（２）におけるＲ^６に対応し、ＣＨ_２＝ＣＨ－Ｒ^Ｃ３は反応後に式（２）におけるＲ^９に対応する。

　前記化合物５及び化合物６は、例えば、下記式（３）で表される化合物又は下記式（４）で表される化合物と、下記式（１０２）で表される化合物とを、遷移金属触媒及び配位子の存在下でカップリング反応させることで製造することができる。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２１－Ｄ^１　・・・式（３）
　Ｄ^３－Ｒ^８１－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５１－Ｄ^２　・・・式（４）
　Ｄ^１１－Ｒ^２２－Ｌ^１－（Ｒ^Ｃ１－ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｘ１　・・・式（１０２）
　ただし、
　Ｄ^１、Ｄ^２及びＤ^３は、各々独立にハロゲン原子であり、
　Ｄ^１１は、Ｒ^２２と直接結合している、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、及びＡｌから成る群から選ばれるいずれか１つの原子を含む原子団であり、
　Ｒ^２２は、単結合又はアルキレン基であり、
　他の符号は前述の通りである。ただし、式（１０２）を式（４）と反応させた場合、式（１０２）のＬ^１はＬ^２又はＬ^３に相当し、Ｒ^Ｃ１はＲ^Ｃ２又はＲ^Ｃ３に相当し、ｘ１はｘ２又はｘ３に相当する。
　なお、反応後、－Ｒ^２１－Ｒ^２２－が－Ｒ^２－に対応し、－Ｒ^５１－Ｒ^２２－が－Ｒ^５－に対応し、－Ｒ^８１－Ｒ^２２－が－Ｒ^８－に対応する。

　前記遷移金属触媒としては、例えば、ＣｕＣｌ_２等の銅塩などが挙げられる。また、前記配位子としては、例えば、１－フェニル－１－プロピン等の炭素－炭素多重結合が金属原子に配位するパイ配位子などが挙げられる。
　化合物１０２は、例えば、国際公開第２０２１／０５４４１３号公報の方法等を参照して合成することができる。

　化合物３及び化合物４はフルオロポリエーテル鎖の少なくとも一方の末端に環構造が結合する新規化合物である。化合物３及び化合物４は、上記化合物１及び化合物２の製造に適した化合物である。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２１－Ｄ^１　・・・式（３）
　Ｄ^３－Ｒ^８１－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５１－Ｄ^２　・・・式（４）
　ただし、式中の各符号は前述の通りであり、
　Ｄ^１、Ｄ^２及びＤ^３におけるハロゲン原子は、反応性の点から、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれかであることが好ましく、ヨウ素原子であることが特に好ましい。

　Ｒ^２１が単結合である場合、本化合物は、Ｑ^１がＤ^１に直接結合した構造を有する。
　Ｒ^２１が２価の基である場合、Ｒ^２１は、例えば、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又はアルキレン基である。
　Ｒ^２がアルキレン基である場合、Ｑ^１と結合する側の末端、あるいは炭素－炭素結合間のいずれかに－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又はＣ（＝Ｏ）－を有してもよく、Ｄ^１と結合する側の末端に－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又はＣ（＝Ｏ）－を有していてもよい。
　合成の容易性等の観点から、Ｒ^２１はアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
　化合物４におけるＲ^５１及びＲ^８１は、化合物３のＲ^２１と同様であり好ましい態様も同様である。

　Ｄ^１は、ハロゲン原子である。
　反応性等の観点から、Ｄ^１は塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれかであることが好ましく、ヨウ素原子であることが特に好ましい。
　化合物４におけるＤ^２及びＤ^３は、化合物３のＤ^１と同様であり、好ましい態様も同様である。

（化合物３及び化合物４の製造方法）
　化合物３及び化合物４の合成方法としては、例えば、（Ｉ）フルオロポリエーテル鎖の末端に反応性基を導入し、当該反応性基と付加反応する置換基と環構造とを有する化合物とを付加反応する方法や、（ＩＩ）下記式（７）で表される化合物又は下記式（８）で表される化合物と、ジエンとを、ラジカル開始剤存在下で、ラジカル環化反応させる方法などが挙げられる。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｄ^１　・・・式（７）
　Ｄ^３－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｄ^２　・・・式（８）
　ただし、式中の各符号は前述の通りである。

　なお、化合物７及び化合物８は、例えば、国際公開第２０１９／１６３２８２号に記載の製造方法によって製造できる。
　前記ラジカル開始剤としては、例えば、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、有機過酸化物などが挙げられる。

　上記ジエンとして、例えば、下記式（１０３）で表される化合物が挙げられる。
　例えば、当該化合物１０３と上記化合物７を用いた場合、反応生成物として下記式（３Ａ）及び式（３Ｂ）で表される化合物３Ａ及び化合物３Ｂが混合物として得られる場合がある。
　化合物３Ａ及び３Ｂは、いずれも化合物３として用いることができる。化合物３Ａ及び３Ｂは、分離精製して用いてもよいし、２種類の化合物３を含んだ混合物として用いてもよい。
　ＣＨ_２＝ＣＨ－Ｒ^１０３－ＣＨ＝ＣＨ_２　・・・式（１０３）
　ただし、Ｒ^１０３は、エーテル性酸素もしくは－ＮＲ^Ｎ－を有していてもよいアルキレン基であり、合成の容易性等の観点から、主鎖に含まれる原子が３～６個であることが好ましい。

・・・式（３Ａ）

・・・式（３Ｂ）

　また、化合物３における基Ｑ^１がアリール基である場合、化合物７と、下記式（１０４）で表される化合物１０４とを、適切な遷移金属触媒及び適切な配位子の存在下でカップリング反応させることによって化合物３を製造してもよい。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｄ^１３　・・・式（７）
　Ｄ^１４－Ｑ^１－Ｒ^２１－Ｄ^１　・・・式（１０４）
　ただし、
　Ｄ^１は、ハロゲンであり、
　Ｄ^１３は、Ｒ^１と直接結合している、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｂ、Ｓｉ、及びＡｌから成る群から選ばれるいずれか１つの原子を含む原子団であり、
　Ｄ^１４は、ハロゲン原子、又は－ＯＴｓ等の脱離基であり、
　Ｔｓはトシル基である。

［含フッ素化合物含有組成物］
　本発明の含フッ素化合物含有組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、本化合物である含フッ素エーテル化合物の１種以上と、本化合物以外の他の含フッ素エーテル化合物とを含む。本組成物は本化合物として、例えば、化合物１と化合物２の両方を含んでいてもよい。また、化合物３Ａから合成された化合物１と、化合物３Ｂから合成された化合物１との両方を含んでいてもよい。なお、本組成物は、後述する液状媒体を含まない。

　他の含フッ素エーテル化合物としては、不可避的に含まれる化合物、用途等に応じて組み合わせて用いる化合物の両方が挙げられる。

　本化合物と組み合わせて用いる化合物としては、公知の含フッ素エーテル化合物、含フッ素オイルが挙げられる。

　含フッ素オイルとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）が挙げられる。

　また、公知の含フッ素エーテル化合物としては、例えば、表面処理剤として市販されている含フッ素エーテル化合物が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、本化合物の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
　公知の含フッ素エーテル化合物としては、例えば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
　日本特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
　日本特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
　日本特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
　日本特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
　日本特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
　日本特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
　日本特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
　米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、日本特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
　国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
　国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
　日本特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
　国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、日本特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
　日本特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
　日本特開２０１５－１９９９０６号公報、日本特開２０１６－２０４６５６号公報、日本特開２０１６－２１０８５４号公報、日本特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン
　国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、日本特開２０１９－４４１５８号公報、国際公開第２０１９／０４４４７９号、国際公開第２０１９／１６３２８２号に記載の含フッ素エーテル化合物。
　また、含フッ素化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＳＵＲＥＣＯ（登録商標）　２１０１ＳなどのＳＵＲＥＣＯ　ＡＦシリーズ、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。

　本組成物において、本化合物に公知の含フッ素エーテル化合物を組み合わせる場合、含有比率は用途等に応じて、適宜調整すればよい。本組成物中の本化合物の含有割合は、中でも、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、２５～７５質量％がさらに好ましい。上記範囲とすることで、本化合物の特性を十分に発揮するとともに、組み合わせて用いる含フッ素エーテル化合物の特性も十分に得られる。

　不可避的に含まれる化合物としては、本化合物の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物（以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。）が挙げられる。
　副生含フッ素エーテル化合物としては、例えば、未反応の含フッ素化合物（例えば、化合物３又は化合物４）、本化合物の製造におけるヒドロシリル化の際にアリル基の一部がインナーオレフィンに異性化した含フッ素エーテル化合物が挙げられる。

　本組成物が副生含フッ素エーテル化合物を含む場合、当該副生含フッ素エーテル化合物は精製により除去することも可能であるが、本化合物の特性を十分に発揮できる範囲で、本組成物中に含有していてもよい。これにより、副生含フッ素エーテル化合物の精製工程を簡略化することができる。
　公知の含フッ素エーテル化合物を組み合わせない場合、
　本組成物中の本化合物の含有量は、本組成物のうち、６０質量％以上１００質量％未満が好ましく、７０質量％以上１００質量％未満がより好ましく、８０質量％以上１００質量％未満が特に好ましい。
　副生含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
　本化合物の含有量及び副生含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる。

　また、不可避的に含まれる化合物として、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。
　これらの含有量は、本組成物のうち、０～９．９９９質量％が好ましく、０～０．９９質量％が特に好ましい。

［表面処理剤］
　本含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤（以下、本表面処理剤ともいう。）は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）及び拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、例えば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として好適に用いられる。

［コーティング液］
　本発明のコーティング液（以下、本コーティング液ともいう。）は、本含フッ素エーテル化合物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
　本コーティング液は、本含フッ素エーテル化合物を含んでいればよく、本含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
　本含フッ素エーテル化合物の濃度は、本コーティング液中、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。

　液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、含フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
　含フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
　フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
　フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
　フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
　フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
　フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
　非フッ素系有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
　本コーティング液は、液状媒体を７５～９９．９９９質量％含むことが好ましく、８５～９９．９９質量％含むことが好ましく、９０～９９．９質量％含むことが特に好ましい。

　本コーティング液は、本含フッ素エーテル化合物と液状媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、それら以外の他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
　本コーティング液における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。

　本コーティング液の本含フッ素エーテル化合物と他の成分の合計の濃度（以下、固形分濃度ともいう。）は、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．０１～１０質量％が更に好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。
　コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。

［物品］
　図１は本発明の物品の一例を示す模式断面図である。本発明の第１の物品は、基材１２と、下地層１４と、表面層２２とをこの順で有する物品２０であって、下地層１４がケイ素を含む酸化物を含有し、表面層２２が、前記本組成物の縮合体を含有する。

　上記第１の物品における基材１２の材質及び形状は、本物品２０の用途等に応じて適宜選択すればよい。基材１２の材質としては、ガラス、樹脂、サファイア、金属、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。特に、撥水撥油性が求められる基材１２として、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、電子機器の筐体を構成する基材などが挙げられる。タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ　Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ　９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。

　基材１２は、下地層１４が設けられる面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理を施したものであってもよい。表面処理を施した表面は、基材１２と下地層１４の接着性がさらに優れ、その結果、表面層２２の耐摩耗性がさらに向上する。表面処理としては、表面層２２の耐摩耗性がさらに優れる点から、コロナ放電処理又はプラズマ処理が好ましい。

　下地層１４は少なくともケイ素を含む酸化物を含有する層であり、更に他の元素を有していてもよい。下地層１４が酸化ケイ素を含有することで、前記本組成物のＴ^１が脱水縮合し、下地層１４との間でＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成され摩耗耐久性に優れた表面層２２が形成される。

　下地層１４中の酸化ケイ素の含有量は、６５質量％以上であればよく、８０質量％以上が好ましく、８５質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。酸化ケイ素の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、下地層１４においてＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が充分に形成され、下地層１４の機械特性が充分に確保される。酸化ケイ素の含有量は、他の元素の合計の含有量（酸化物の場合は酸化物換算した量）の合計を下地層１４の質量から除いた残部である。

　表面層２２の耐久性の点から、下地層１４中の酸化物は、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、白金族元素、ホウ素、アルミニウム、リン、チタン、ジルコニウム、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン、及びタングステンより選択される１種以上の元素を含有することが好ましい。これらの元素を含有することで、下地層１４と前記本組成物との結合が強くなり耐摩耗性が向上する。

　下地層１４が、鉄、ニッケル及びクロムより選択される１種以上を含む場合、これらの合計の含有量は、酸化ケイ素に対する割合で１０～１１００質量ｐｐｍが好ましく、５０～１１００質量ｐｐｍがより好ましく、５０～５００質量ｐｐｍが更に好ましく、５０～２５０質量ｐｐｍが特に好ましい。
　下地層１４が、アルミニウム及びジルコニウムより選択される１種以上を含む場合、これらの合計の含有量は、１０～２５００質量ｐｐｍが好ましく、１５～２０００質量ｐｐｍがより好ましく、２０～１０００質量ｐｐｍが更に好ましい。
　下地層１４が、アルカリ金属元素を含む場合、これらの合計の含有量は、０．０５～１５質量％が好ましく、０．１～１３質量％がより好ましく、１．０～１０質量％が更に好ましい。なお、アルカリ金属元素としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムが挙げられる。
　下地層１４が、白金族元素を含む場合、これらの合計の含有量は、０．０２質量ｐｐｍ以上８００質量ｐｐｍ以下が好ましく、０．０４質量ｐｐｍ以上６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、０．７質量ｐｐｍ以上２００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。なお白金族元素としては、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムが挙げられる。
　下地層１４が、ホウ素及びリンより選択される１種以上を含む場合、これらの合計の含有量は、表面層２２の耐摩耗性の点から、ケイ素のモル濃度に対する、ホウ素及びリンの合計のモル濃度の比として０．００３～９が好ましく、０．００３～２が好ましく、０．００３～０．５が更に好ましい。
　下地層１４が、アルカリ土類金属元素を含む場合、これらの合計の含有量は、表面層２２の耐摩耗性の点から、ケイ素のモル濃度に対する、アルカリ土類金属元素の合計のモル濃度の比として０．００５～５が好ましく、０．００５～２が好ましく、０．００７～２が更に好ましい。なお、アルカリ土類金属元素としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムが挙げられる。

　本組成物の接着性を向上し、物品２０の撥水撥油性及び耐摩耗性の向上の点から、下地層１４は、アルカリ金属原子を含む酸化ケイ素層であることが好ましい。中でも当該酸化ケイ素層において、表面層２２と接する面からの深さが０．１～０．３ｎｍの領域におけるアルカリ金属原子の濃度の平均値が、２．０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であることが好ましい。一方、酸化ケイ素層の機械特性を充分に確保する点から、前記アルカリ金属原子の濃度の平均値は、４．０×１０^２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。

　下地層１４の厚さは、１～２００ｎｍが好ましく、２～２０ｎｍが特に好ましい。下地層１４の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、下地層１４による接着性の向上効果が充分に得られやすい。下地層１４の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、下地層１４自体の耐摩耗性が高くなる。下地層１４の厚さを測定する方法としては、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ等）による下地層１４の断面観察による方法や、光干渉膜厚計、分光エリプソメータ、段差計等を用いる方法が挙げられる。

　下地層１４の形成方法は、例えば、基材１２の表面に、所望の下地層１４の組成を有する蒸着材料を蒸着する方法などが挙げられる。
　蒸着法は一例として、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材１２の表面に付着させる方法である。
　蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置するボートの温度）は、１００～３０００℃が好ましく、５００～３０００℃が特に好ましい。
　蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置する槽内の絶対圧は、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下が特に好ましい。
　蒸着材料を用いて下地層１４を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
　蒸着材料の蒸発方法としては、高融点金属製の抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法等が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない点から、電子銃法が好ましい。電子銃法に用いる蒸着材料としては、気流が生じても飛散しにくい点から、溶融粒状体又は焼結体が好ましい。

　下地層１４上の表面層２２は、本組成物に含まれる化合物の縮合体を含有する。本化合物の縮合体は、本組成物に含まれる化合物中の加水分解性シリル基が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）が形成され、シラノール基が分子間で縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成されたもの、及び、本化合物中のシラノール基が下地層１４の表面のシラノール基又はＳｉ－ＯＭ基（ただし、Ｍはアルカリ金属元素である。）と縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成されたものを含む。また、表面層２２は本組成物に含まれる化合物以外の含フッ素化合物の縮合体を含んでいてもよい。すなわち、表面層２２は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を、含フッ素化合物の反応性シリル基の一部又は全部が縮合反応した状態で含む。

　表面層２２の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層２２の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面層２２による効果が充分に得られる。表面層２２の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。
　表面層２２の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計で得られた厚さである。表面層２２の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。

　本発明の第２の物品は、下地層付き基材１０と、表面層２２とをこの順で有する物品２０であって、下地層付き基材１０がケイ素を含む酸化物を含有し、表面層２２が、前記本組成物の縮合体を含有する。

　第２の物品は、下地層付き基材１０が前記第１の物品における下地層１４の組成を有するため、下地層付き基材１０に直接表面層２２を形成しても表面層２２の摩耗耐久性に優れている。
　第２の物品における下地層付き基材１０の材質は、下地層１４の組成を有するものであればよく、例えば、ガラス基材などであってもよい。下地層付き基材１０の材質の詳細は、基材１２及び下地層１４の材質と同様であるため、ここでの説明は省略する。また、表面層２２の構成も前記第１の物品と同様であるため、ここでの説明は省略する。

［物品の製造方法］
　本発明にかかる物品の製造方法は、前記含フッ素エーテル化合物、前記表面処理剤、又は前記コーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、表面層を形成する方法である。

　本含フッ素エーテル化合物及び本表面処理剤は、ドライコーティング法にそのまま用いることができる。また、本組成物及び本表面処理剤は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本組成物の分解を抑える点、及び装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。
　真空蒸着には、鉄や鋼等の金属材料からなる金属多孔体に本組成物を担持させたペレット状物質を使用してもよい。本組成物を担持させたペレット状物質は、金属多孔体に本組成物の溶液を含浸し、乾燥して液状媒体を除去することにより製造できる。本組成物の溶液としては、本コーティング液を用いることができる。

　本コーティング液は、ウェットコーティング法に好適に用いることができる。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。

　表面層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、本組成物と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
　たとえば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。

　以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１～例５が実施例であり、例６～例７が比較例である。

［例１］
（合成例１－１）
　国際公開第２０１９／１６３２８２号の例２－２に記載の合成方法に従い、下記化合物１－１を得た。
　ＣＦ_３－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｉ　・・・式７－１
　ただし、繰り返し単位ｎ２の平均値は１３である。

（合成例１－２）
　国際公開第２０２１／０５４４１３号の例２に記載の合成方法に従い、下記化合物１－２を得た。

　・・・式１－２

（合成例１－３）
　５０ｍＬのナスフラスコに、合成例１－１で得た化合物１－１の５ｇ、ジアリルエーテルの０．３６ｇ、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）の０．２３ｇ、ＡＣ－６０００の７．２ｇを入れ、８０℃で３時間攪拌した。ナスフラスコ内を２５℃にし、アセトンを加えて分液し、下相を取り、溶媒を除去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１－３の２．４ｇを得た。

・・・式（１－３）

　化合物３－１のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：４．１～４．０（２Ｈ）、３．８～３．６（２Ｈ）、３．０～２．７（２Ｈ）、２．６～２．３（２Ｈ）、２．３～２．１（２Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１１．０～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ３の平均値：１３。

（合成例１－４）
　２０ｍＬのナスフラスコに、合成例１－３で得た化合物１－３の２ｇ、１－フェニル－１－プロピンの４．９ｍｇ、ＣｕＣｌ_２の２．８ｍｇ、ＡＥ－３０００の４ｇ、合成例１－２で得た化合物１－２の０．２６ｇを入れ、４０度で２０時間攪拌した。ナスフラスコ内を２５℃にし、塩酸を入れ、分液し、有機層を回収して溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムで精製し、化合物１－４の１．３ｇを得た。

・・・式（１－４）

　化合物１－４のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９～５．７（３Ｈ）、５．１～４．９（６Ｈ）、４．１～４．０（２Ｈ）、３．８～３．６（２Ｈ）、２．５～１．１（１４Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．７～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ４の平均値：１３。

（合成例１－５）
　１０ｍＬのナスフラスコに、合成例１－４で得た化合物１－４の１ｇ、トリメトキシシランの０．１１ｇ、アニリンの１．３ｍｇ、ＡＣ－６０００の１ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の３．６ｍｇを入れ、４０℃で攪拌した。溶媒を減圧留去し、化合物（Ｉ）の１．１ｇを得た。

・・・式（Ｉ）

　化合物（Ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：４．１～４．０（２Ｈ）、３．８～３．６（２Ｈ）、３．６（２７Ｈ）、２．６～０．８（２０Ｈ）、０．６（６Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．５～－１１４．７（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ５の平均値：１３。

［例２］
（合成例２－１）
　前記合成例１－３において、ジアリルエーテルを、１，６－ヘプタジエンの０．２１ｇに変更した以外は、前記合成例１－３と同様にして、化合物２－１の４．２ｇを得た。

・・・式（２－１）

　化合物２－１のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．５～３．０（２Ｈ）、２．６～１．３（１０Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１１．０～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ６の平均値：１３。

（合成例２－２）
　前記合成例１－４において、化合物１－３を、上記化合物２－１に変更した以外は、合成例１－４と同様にして、化合物２－２の１．６ｇを得た。

・・・式（２－２）

　化合物２－２のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９～５．７（３Ｈ）、５．１～４．９（６Ｈ）、２．５～１．１（２０Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．７～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ７の平均値：１３。

（合成例２－３）
　前記合成例１－５において、化合物１－４を、上記化合物２－２に変更した以外は、合成例１－５と同様にして、化合物（ＩＩ）の１．１ｇを得た。

・・・式（ＩＩ）

　化合物（ＩＩ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．６（２７Ｈ）、２．６～０．８（２６Ｈ）、０．６（６Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．５～－１１４．７（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ８の平均値：１３。

［例３］
（合成例３－１）
　前記合成例１－３において、ジアリルエーテルを、１，５－ヘキサジエンの０．２８ｇに変更した以外は、前記合成例１－３と同様にして、化合物３－１の２．６ｇを得た。

・・・式（３－１）

　化合物３－１のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．２～２．７（２Ｈ）、２．５～１．９（８Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．４～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ９の平均値：１３。

（合成例３－２）
　前記合成例１－４において、化合物１－３を、上記化合物３－１に変更した以外は、合成例１－４と同様にして、化合物３－２の１．４ｇを得た。

・・・式（３－２）

　化合物５－３のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９～５．７（３Ｈ）、５．１～４．９（６Ｈ）、２．５～１．１（１８Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．２～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ１０の平均値：１３。

（合成例３－３）
　前記合成例１－５において、化合物１－４を、上記化合物３－２に変更した以外は、合成例１－５と同様にして、化合物（ＩＩＩ）の１．１ｇを得た。

・・・式（ＩＩＩ）

　化合物（ＩＩＩ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．６（２７Ｈ）、２．６～０．８（２４Ｈ）、０．６（６Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．１～－１１４．６（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ１１の平均値：１３。

［例４］
（合成例４－１）
　前記合成例１－３において、ジアリルエーテルを、１，７－オクタジエンの０．３６ｇに変更した以外は、合成例１－３と同様にして、化合物４－１の２．７ｇを得た。

・・・式（４－１）

　化合物４－１のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．１～２．７（２Ｈ）、２．５～１．２（１２Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．６～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ１２の平均値：１３。

（合成例４－２）
　前記合成例１－４において、化合物１－３を、上記化合物４－１に変更した以外は、合成例１－４と同様にして、化合物４－２の１．３ｇを得た。

・・・式（４－２）

　化合物４－２のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９～５．７（３Ｈ）、５．１～４．９（６Ｈ）、２．５～１．１（２２Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．４～－１１４．９（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ１３の平均値：１３。

（合成例４－３）
　前記合成例１－５において、化合物１－４を上記化合物４－２に変更した以外は、合成例１－５と同様にして、化合物（ＩＶ）の１．０ｇを得た。

・・・式（ＩＶ）

　化合物（ＩＶ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．６（２７Ｈ）、２．６～０．８（２８Ｈ）、０．６（６Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８２．３（５４Ｆ）、－８７．８（５４Ｆ）、－８９．９（２Ｆ）、－１１０．２～－１１４．６（２Ｆ）、－１２４．８（５２Ｆ）、―１２５．４（２Ｆ）
　ｎ１４の平均値：１３。

［例５］
　上記化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）を５０：５０の質量比で混合し、例５の組成物を得た。

［例６］
　特開２０１４－２１８６３９号公報の実施例に記載の合成方法に従い、下記化合物（ＶＩ）を得た。
　ただし、ｎ１５の平均値は１３である。

・・・式（ＶＩ）

［例７］
　国際公開第２０１７／０３８８３０号の実施例に記載の合成方法に従い、下記（ＶＩＩ）を得た。

　ただし、ｎ１６の平均値は１３である。

・・・式（ＶＩＩ）

［物品の製造及び評価］
　上記製法にて得られた組成物及び化合物を用いて基材を表面処理し物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法及びウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表に示す。

［ドライコーティング法］
　ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。
　膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＡＧＣ社製、ＡＫ－２２５）にて洗浄して、基材の表面に表面層を有する物品を得た。

［ウェットコーティング法］
　各化合物と、媒体としてのＣ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間静置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。
　塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して、基材の表面に表面層を有する物品を得た。

（評価方法）
　＜接触角の測定方法＞
　表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水又はｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

　＜初期接触角＞
　表面層について、初期水接触角及びｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法により測定した。評価基準は下記のとおりである。
　Ａ（優）　：１１５度以上である。
　Ｂ（良）　：１１０度以上１１５度未満である。
　Ｃ（可）　：１００度以上１１０度未満である。
　Ｄ（不可）：１００度未満である。

　＜耐摩擦性（スチールウール）＞
　表面層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、前記方法により水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　Ａ（優）　：１万５千回往復後の水接触角の変化が２度以下である。
　Ｂ（良）　：１万５千回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下である。
　Ｃ（可）　：１万５千回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下である。
　Ｄ（不可）：１万５千回往復後の水接触角の変化が１０度超である。

　＜耐摩擦性（スチールウール）＞
　表面層について、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ　ＸＬＳ＋）を用い、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ^２、３００～７００ｎｍ）を１０００時間照射した後、前記方法により水接触角を測定した。光線照射後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　Ａ（優）　：光線照射後の水接触角の変化が２度以下である。
　Ｂ（良）　：光線照射後の水接触角の変化が２度超５度以下である。
　Ｃ（可）　：光線照射後の水接触角の変化が５度超１０度以下である。
　Ｄ（不可）：光線照射後の水接触角の変化が１０度超である。

　表１に示される通り、本組成物を用いて形成された表面層は、耐摩擦性及び耐光性に優れていることが明らかとなった。

　さらに、種々の含フッ素エーテル化合物を合成した。以下に合成例を示す。
［例８］
　特許第６０４４２１１号の実施例１に記載の合成方法に従い、下記化合物８－０を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ７－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１７－ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｉ　・・・式（８－０）
　ただし、繰り返し単位ｍ７、ｎ１７の平均値はそれぞれ２２、２４である。

（合成例８－１）
　前記合成例２－１において、化合物１－１を、化合物８－０の５ｇに変更した以外は、前記合成例２－１と同様にして、化合物８－１の４．１ｇを得た。

・・・式（８－１）

　化合物８－１のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．５～３．０（２Ｈ）、２．６～１．３（１０Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５２．０～－５８．２（４４F）、－８５．８（２F）、－８９．２（３F）、－８９．６～－９２．３（９８F）、１１０．９～－１１５．８（２Ｆ）
　ｍ８の平均値：２２、ｎ１８の平均値：２４。

（合成例８－２）
　前記合成例２－２において、化合物２－１を、上記化合物８－１に変更した以外は、合成例２－２と同様にして、化合物８－２の１．４ｇを得た。

・・・式（８－２）

　化合物８－２のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９～５．７（３Ｈ）、５．１～４．９（６Ｈ）、２．５～１．１（２０Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５２．０～－５８．２（４４F）、－８５．８（２F）、－８９．２（３F）、－８９．６～－９２．３（９８F）、１１０．６～－１１５．８（２Ｆ）
　ｍ９の平均値：２２、ｎ１９の平均値：２４。

（合成例８－３）
　前記合成例２－３において、化合物２－２を、上記化合物８－２に変更した以外は、合成例２－３と同様にして、化合物（ＶＩＩＩ）の１．０ｇを得た。

・・・式（ＶＩＩＩ）
化合物（８－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．６（２７Ｈ）、２．６～０．８（２６Ｈ）、０．６（６Ｈ）
　^１９Ｈ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５２．０～－５８．２（４４F）、－８５．８（２F）、－８９．２（３F）、－８９．６～－９２．３（９８F）、１１０．４～－１１５．７（２Ｆ）
　ｍ１０の平均値：２２、ｎ２０の平均値：２４。

　本化合物を含む表面層を備えた物品は、一例として、下記の製品の部品の一部として使用される光学物品、タッチパネル、反射防止フィルム、反射防止ガラス、ＳｉＯ_２処理ガラス、強化ガラス、サファイアガラス、石英基板、金型金属等として有用である。
　製品：カーナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯情報端末（ＰＤＡ）、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、医療用器機（胃カメラ等）、複写機、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フィルム、反射防止フィルム、反射防止ガラス、ナノインプリントのテンプレート、金型等。

　この出願は、２０２１年１１月２５日に出願された日本出願特願２０２１－１９１３８７号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

　１０：下地層付き基材、　　　１２：基材、　　　１４：下地層、
　２０：物品、　　　２２：表面層

Claims

　下記式（１）又は下記式（２）で表される化合物。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２－Ｌ^１－（Ｒ^３－Ｔ^１）_ｘ１　・・・式（１）
　（Ｔ^３－Ｒ^９）_ｘ３－Ｌ^３－Ｒ^８－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５－Ｌ^２－（Ｒ^６－Ｔ^２）_ｘ２　・・・式（２）
　ただし、
　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基であり、
　Ｒ^２は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ１価の基であって、Ｒ^２及びＲ^３に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^３は、アルキレン基、もしくはＬ^１側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^３が複数ある場合、複数あるＲ^３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^１は、－ＳｉＲ^ａ１ _ｚ１Ｒ^ａ１１ _３－ｚ１であって、
　Ｒ^ａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１１は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１１が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ１は０～３の整数であって、ｚ１が複数ある場合、複数あるｚ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ１のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ１は１以上の整数であり、
　ｙ１は１以上の整数であり、
　Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^４は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^２は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^４及びＲ^５と結合する２価の基であり、
　Ｒ^５は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^２は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ２価の基であって、Ｒ^５及びＲ^６に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^６は、アルキレン基、もしくはＬ^２側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^６が複数ある場合、複数あるＲ^６は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^２は、－ＳｉＲ^ａ２ _ｚ２Ｒ^ａ１２ _３－ｚ２であって、
　Ｒ^ａ２は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１２は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１２が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ２は０～３の整数であって、ｚ２が複数ある場合、複数あるｚ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ２のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　Ｒ^７は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^３は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^７及びＲ^８と結合する２価の基であり、
　Ｒ^８は、単結合又は２価の基であり、
　Ｌ^３は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ３価の基であって、Ｒ^８及びＲ^９に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ原子、分岐点を構成する炭素原子、もしくは、水酸基又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
　Ｒ^９は、アルキレン基、もしくはＬ^３側の末端又は炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基であって、Ｒ^９が複数ある場合、複数あるＲ^９は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔ^３は、－ＳｉＲ^ａ３ _ｚ３Ｒ^ａ１３ _３－ｚ３であって、
　Ｒ^ａ３は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ^ａ３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^ａ１３は非加水分解性基であり、Ｒ^ａ１３が複数ある場合、複数あるＲ^ａ１３は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　ｚ３は０～３の整数であって、ｚ３が複数ある場合、複数あるｚ３は互いに同一であっても異なっていてもよく、ただし、ｚ３のうち少なくとも一つは１～３の整数であり、
　ｘ２及びｘ３は各々独立に１以上の整数であり、
　ｙ２は１以上の整数である。
　Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３のうち少なくとも一つが、１個の単環又は縮合環を含む２価の基である請求項１に記載の化合物。
　Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３のうち少なくとも一つが、環を構成し互いに隣接する炭素原子に結合手を有する２価の基である請求項１又は２に記載の化合物。
　Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^７のうち少なくとも一つが、アルキレン基である請求項１～３のいずれか一項に記載の化合物。
　Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^８のうち少なくとも一つが、単結合又はアルキレン基である請求項１～４のいずれか一項に記載の化合物。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物と、他の含フッ素エーテル化合物とを含有する組成物。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物、又は請求項６に記載の組成物を含む、表面処理剤。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物、又は請求項６に記載の組成物と、液状媒体とを含む、コーティング液。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物、請求項６に記載の組成物、又は、請求項７に記載の表面処理剤から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物、請求項６に記載の組成物、請求項７に記載の表面処理剤、又は請求項８に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、表面層を形成する、物品の製造方法。
　下記式（３）又は（４）で表される化合物。
　Ａ^１－（ＯＲ^ｆ１）_ｙ１－Ｒ^１－Ｑ^１－Ｒ^２１－Ｄ^１　・・・式（３）
　Ｄ^３－Ｒ^８１－Ｑ^３－Ｒ^７－Ｒ^ｆ－（ＯＲ^ｆ２）_ｙ２－Ｒ^４－Ｑ^２－Ｒ^５１－Ｄ^２　・・・式（４）
　ただし、
　Ａ^１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^１は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^１及びＲ^２と結合する２価の基であり、
　Ｒ^２１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｄ^１はハロゲン原子であり、
　ｙ１は１以上の整数であり、
　Ｒ^ｆは、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^４は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^２は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^４及びＲ^５と結合する２価の基であり、
　Ｒ^５１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｒ^７は、単結合又は２価の基であり、
　Ｑ^３は、１個以上の環構造を含み、環構造を構成する原子が、Ｒ^７及びＲ^８と結合する２価の基であり、
　Ｒ^８１は、単結合又は２価の基であり、
　Ｄ^２及びＤ^３は各々独立にハロゲン原子であり、
　ｙ２は１以上の整数である。