JP6388086B2 - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含む表面処理剤 - Google Patents

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含む表面処理剤、より具体的には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含む表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。

特表２００８−５３４６９６号公報 国際公開第９７／０７１５５号

上記のような表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期に亘って提供するべく、高い耐久性が求められる。しかしながら、本発明者らは、上記のような表面処理層は、光、特に紫外線（ＵＶ）に曝露した場合の耐久性が十分でないことがあると気付いた。

本発明は、高い光安定性、特に高い紫外線耐性を有する層を形成することのできる新規な表面処理剤を提供することを目的とする。

本発明の第１の要旨によれば、
以下の式：

［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、（−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ１が、１〜３の整数であり；
Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１を表し；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表し；
Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義であり；
Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^５１ _ｐ２Ｒ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２を表し；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ１’を表し；
Ｒ^ｄ１’は、Ｒ^ｄ１と同意義であり；
Ｒ^ｄ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^５５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^５６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２）単位毎に独立して、０〜３の整数を表し；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］
よりなる群より選ばれる少なくとも１つのパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および以下の式：

［式中、
Ｒｆ^１は、Ｒｆ^２と同意義であり；
ＰＦＰＥは、上記と同意義であり；
Ｘは、２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^ｇは、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基であり；
ε１は、１〜９の整数であり；
ε１’は、１〜９の整数である。］
で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含有する表面処理剤、が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。

本発明の第３の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記の表面処理剤により形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基（以下、「ＰＦＰＥ」と称することがある）含有シラン化合物およびＰＦＰＥ含有化合物を含む表面処理剤が提供される。さらに、この表面処理剤を含有するペレットが提供される。本発明によれば、上記表面処理剤により形成された層を含む物品が提供される。

本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

（表面処理剤）
以下、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物およびＰＦＰＥ含有化合物を含む。

本発明の表面処理剤を用いると、摩耗耐久性および耐ＵＶ性の良好な表面処理層が形成できる。上記表面処理層の基材側にはＰＦＰＥ含有シラン化合物が比較的多く存在し、基材と結合して摩耗耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与していると考えられる。上記表面処理層において、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基を有するＰＦＰＥ含有化合物が耐ＵＶ性の良好な表面処理層の形成に寄与していると考えられる。上記ＰＦＰＥ含有化合物は、好ましくは表面処理層の基材とは反対側（表面側）に比較的多く存在すると考えられる。

本発明の表面処理剤を用いて形成された表面処理層（好ましくは表面処理層の表面側）にラジカル捕捉基または紫外線吸収基を有するＰＦＰＥ含有化合物が存在することにより、ＵＶ照射後の表面処理層の物性も良好に維持されると考えられる。即ち、本発明の表面処理剤を用いて形成された表面処理層は、優れた耐ＵＶ性を有する。

上記耐ＵＶ性は、例えば、後述するように、形成された表面処理層のＵＶ照射前後の物性（例えば接触角、摩擦耐久性）の変化を測定することによって評価できる。

上記接触角の変化は、例えば、ＵＶ照射前後の表面処理層の水の接触角の変化を測定し、ＵＶ照射前後の結果を比較することによって評価できる。

上記摩擦耐久性の変化は、例えば、ＵＶ照射前後の表面処理層にそれぞれ摩擦を生じさせ、摩擦によって生じる表面処理層の物性（例えば接触角）の変化を測定し、ＵＶ照射前後の結果を比較することによって評価できる。摩擦は、例えば加重を付加した状態のスチールウールを表面処理層上において移動させることによって生じさせることができる。

本発明の表面処理剤に含まれるＰＦＰＥ含有シラン化合物とＰＥＰＥ含有化合物との質量比（ＰＦＰＥ含有シラン化合物：ＰＥＰＥ含有化合物）は、特に限定されないが、１００：０．００１〜１００：１００の範囲にあってもよく、１００：０．００１〜１００：６０の範囲にあることが好ましく、１００：０．０１〜１００：１０の範囲にあることがより好ましく、１００：０．１〜１００：１０の範囲にあることがさらに好ましく、１００：１〜１００：１０の範囲にあることが特に好ましく、１００：３〜１００：１０の範囲にあることが特に好ましい。上記のような質量比でＰＦＰＥ含有シラン化合物およびＰＥＰＥ含有化合物を含有する表面処理剤を用いて形成された表面処理層では、ＵＶ照射後であっても、ＵＶ照射前の表面処理層の物性（例えば接触角、摩擦耐久性）と同等の物性を得ることができ、さらにＵＶ照射前の物性（例えば接触角）も良好となり得る。

一の態様において、本発明の表面処理剤中、ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部に対して、ＰＥＰＥ含有化合物は、０．００１質量部以上含まれることが好ましく、３質量部以上含まれることがより好ましく、５質量部以上含まれることがさらに好ましい。本発明の表面処理剤中、ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部に対して、ＰＥＰＥ含有化合物は、１１０質量部以下含まれることが好ましく、１０５質量部以下含まれることがより好ましい。

一の態様において、表面処理剤に含まれるＰＦＰＥ含有シラン化合物とＰＥＰＥ含有化合物との質量比（ＰＦＰＥ含有シラン化合物：ＰＥＰＥ含有化合物）は、１００：０．００１〜１００：１１０の範囲にあることが好ましく、１００：３〜１００：１１０の範囲にあることがより好ましく、１００：５〜１００：１０５の範囲にあることがさらに好ましい。

上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物の数平均分子量は、好ましくは３，０００以上、より好ましくは６，０００以上であり、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１０，０００以下である。このような数平均分子量を有することは、摩擦耐久性の観点から好ましい。「ＰＦＰＥ含有シラン化合物の数平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲ及び^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができる。

上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、表面処理剤１００質量部に対し、好ましくは０．０１〜１００質量部、より好ましくは０．１〜３０質量部含まれる。

上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、以下の式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物よりなる群より選ばれる少なくとも１つである。摩擦耐久性が特に良好な観点からは、ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ２）および（Ｄ２）で表される化合物よりなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましく、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物よりなる群より選ばれる少なくとも１つであることがより好ましい。

［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、（−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ１が、１〜３の整数であり；
Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１を表し；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表し；
Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義であり；
Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^５１ _ｐ２Ｒ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２を表し；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ１’を表し；
Ｒ^ｄ１’は、Ｒ^ｄ１と同意義であり；
Ｒ^ｄ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^５５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^５６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２）単位毎に独立して、０〜３の整数を表し；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］

式（Ａ１）および（Ａ２）：

上記式中、Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｊは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｊ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｊ−である。

上記ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５．０以下であり、より好ましくは０．２以上２．０以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。上記数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００であり得る。

上記式中、Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記式中、Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記式中、Ｒ^２１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

上記式中、Ｒ^２２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記式中、ｎ１は、（−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは０〜２であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ^２３が存在する。

上記式中、Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、α１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、α１は１〜９の整数であり、α１’は１〜９の整数である。これらα１およびα１’は、Ｘ^１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、α１およびα１’の和は、Ｘ^１の価数と同じである。例えば、Ｘ^１が１０価の有機基である場合、α１およびα１’の和は１０であり、例えばα１が９かつα１’が１、α１が５かつα１’が５、またはα１が１かつα１’が９となり得る。また、Ｘ^１が２価の有機基である場合、α１およびα１’は１である。式（Ａ２）においては、α１はＸ^１の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１は２〜４価の有機基であり、α１は１〜３であり、α１’は１である。

別の態様において、Ｘ^１は２価の有機基であり、α１は１であり、α１’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。

上記Ｘ^１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ^３１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^３１およびＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^１は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^１基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｘ^１基は、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^１基としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎｅ−（ｎｅは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

上記Ｘ^１の具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘ^１は、式：−（Ｒ^１６）_ｘ−（ＣＦＲ^１７）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^１８−（式中、Ｒ^１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１６は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^１９）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９−（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

この態様において、Ｘ^１は、好ましくは、式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。

上記式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_ｚ””、および−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＦ_２）_ｙ”−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。

別の好ましい態様において、Ｘ^１は、−Ｏ−ＣＦＲ^２０−（ＣＦ_２）_ｅ’−である。

上記Ｒ^２０は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。ここで低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

上記ｅ’は、それぞれ独立して、０または１である。

一の具体例において、Ｒ^２０はフッ素原子であり、ｅ’は１である。

さらに別の態様において、Ｘ^１基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基である。

この態様において、Ｘ^１、Ｘ^３およびＸ^４は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

上記式中、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ^２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。

好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−ＣＦＲ^２０−（ＣＦ_２）_ｅ’−であり；
Ｒ^２０は、各出現においてそれぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^２は、−（ＣＨ_２）_ｕ−であり；
ｕは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。］
で表される化合物である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ_２ＣＲ^２２（Ｘ^２−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）−に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。

式（Ｂ１）および（Ｂ２）：

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ^２、ＰＦＰＥ、Ｒ^２３、Ｒ^２４およびｎ１は、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中のβ１は、１〜９の整数であり、β１’は、１〜９の整数である。これらβ１およびβ１’は、Ｘ^３の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、β１およびβ１’の和は、Ｘ^３の価数と同じである。例えば、Ｘ^３が１０価の有機基である場合、β１およびβ１’の和は１０であり、例えばβ１が９かつβ１’が１、β１が５かつβ１’が５、またはβ１が１かつβ１’が９となり得る。また、Ｘ^３が２価の有機基である場合、β１およびβ１’は１である。式（Ｂ２）において、β１はＸ^３の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^３は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^３は２〜４価の有機基であり、β１は１〜３であり、β１’は１である。

別の態様において、Ｘ^３は２価の有機基であり、β１は１であり、β１’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。

上記Ｘ^３の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^３は、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ^３は、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−または−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−である］
で表される化合物である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特開２０１３−１１７０１２号公報に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。

式（Ｃ１）および（Ｃ２）：

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｒｆ^２およびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^４は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^４は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中のγ１は、１〜９の整数であり、γ１’は、１〜９の整数である。これらγ１およびγ１’は、Ｘ^４の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γ１およびγ１’の和は、Ｘ^４の価数と同じである。例えば、Ｘ^４が１０価の有機基である場合、γ１およびγ１’の和は１０であり、例えばγ１が９かつγ１’が１、γ１が５かつγ１’が５、またはγ１が１かつγ１’が９となり得る。また、Ｘ^４が２価の有機基である場合、γ１およびγ１’は１である。式（Ｃ２）において、γ１はＸ^４の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^４は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^４は２〜４価の有機基であり、γ１は１〜３であり、γ１’は１である。

別の態様において、Ｘ^４は２価の有機基であり、γ１は１であり、γ１’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。

上記Ｘ^４の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^４は、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１を表す。

式中、Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚ^１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ａ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表す。Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義である。

Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａ１において、Ｒ^１１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ１中にＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ１中において直鎖状に連結される−Ｚ^１−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ａ１中においてＺ^１基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ^１Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ^１Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ^１基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺ^１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺ^１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ１中には、Ｚ^１Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ａ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。「加水分解可能な基」は、上記と同意義である。

好ましくは、Ｒ^１２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ１中の末端のＲ^ａ１’（Ｒ^ａ１’が存在しない場合、Ｒ^ａ１）において、上記ｑ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ１の末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１）_２または−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１）_３であり得る。式中、（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１）の単位は、好ましくは（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^１−ＳｉＲ^１２ _３）_３であり得る。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり、すなわち、少なくとも１つのＲ^１２が存在する。

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｂ１は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は、３である。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載のように合成することができる。

式（Ｄ１）および（Ｄ２）：

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、Ｒｆ^２およびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^５は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ^２−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δ１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^５は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、δ１は１〜９の整数であり、δ１’は１〜９の整数である。これらδ１およびδ１’は、Ｘ^５の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δ１およびδ１’の和は、Ｘ^５の価数と同じである。例えば、Ｘ^５が１０価の有機基である場合、δ１およびδ１’の和は１０であり、例えばδ１が９かつδ１’が１、δ１が５かつδ１’が５、またはδ１が１かつδ１’が９となり得る。また、Ｘ^５が２価の有機基である場合、δ１およびδ１’は１である。式（Ｄ２）においては、δ１はＸ^５の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^５は２〜４価の有機基であり、δ１は１〜３であり、δ１’は１である。

別の態様において、Ｘ^５は２価の有機基であり、δ１は１であり、δ１’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。

上記Ｘ^５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^５は、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記式中、Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^５１ _ｐ２Ｒ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２を表す。

式中、Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ１’を表す。Ｒ^ｄ１’は、Ｒ^ｄ１と同意義である。

Ｒ^ｄ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄ１において、Ｒ^５１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ１中にＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ１中のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｄ１中において直鎖状に連結される−Ｚ^２−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ１中のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ１のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表す。

Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｚ^３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

上記Ｒ^５５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）と同様のものが挙げられる。

好ましくは、Ｒ^５５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。

上記Ｒ^５６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｎ２は、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

上記Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ２、ｑ２およびｒ２の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ１中の末端のＲ^ｄ１’（Ｒ^ｄ１’が存在しない場合、Ｒ^ｄ１）において、上記ｑ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ１の末端部の少なくとも１つは、−Ｃ（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２）_２または−Ｃ（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２）_３、好ましくは−Ｃ（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２）_３であり得る。式中、（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２）の単位は、好ましくは（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ｄ１の末端部は、すべて−Ｃ（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２）_３、好ましくは−Ｃ（−Ｚ^２−ＳｉＲ^５２ _３）_３であり得る。

上記式中、Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表す。ここに、Ｚ^３、Ｒ^５５、Ｒ^５６およびｎ２は、上記Ｒ^５２における記載と同意義である。

上記式中、Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。

一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｌ２は２または３であり、好ましくは３である。

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２基が存在する。

式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘ^５が２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。

ＨＯ−Ｘ^５−Ｃ（Ｚ^３ＯＨ）_３（式中、Ｘ^５およびＺ^３は、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ−Ｘ^５−Ｃ（Ｚ^３−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、Ｒ^ＰＦＰＥ−ＯＨ（式中、Ｒ^ＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、Ｒ^ＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ^５−Ｃ（Ｚ^３−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_３を得る。次いで、末端の−ＣＨ＝ＣＨ_２と、ＨＳｉＣｌ_３およびアルコールまたはＨＳｉＲ^５５ _３と反応させて、Ｒ^ＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ^５−Ｃ（Ｚ^３−Ｏ−Ｒ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳｉＲ^５５ _３）_３を得ることができる。

上記ＰＦＰＥ含有化合物は、以下の式によって表される化合物である。

Ｒｆ^１は、Ｒｆ^２と同意義である。ＰＦＰＥは上記と同意義である。尚、表面処理剤に含まれるＰＦＰＥ含有シラン化合物におけるＰＦＰＥと、ＰＦＰＥ含有化合物におけるＰＦＰＥは同じであっても、異なっていてもよい。

上記式中、Ｘは、２〜１０価の有機基である。当該Ｘ基は、式（１）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ−部）と、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基であるＲ^ｇとを連結するリンカーと解される。したがって、当該Ｘ基は、式（１）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、ε１は１〜９の整数であり、ε１’は１〜９の整数である。これらε１およびε１’は、Ｘの価数に応じて変化し得る。ε１およびε１’の和は、Ｘの価数と同じである。例えば、Ｘが１０価の有機基である場合、ε１およびε１’の和は１０であり、例えばε１が９かつε１’が１、ε１が５かつε１’が５、またはε１が１かつε１’が９となり得る。また、Ｘが２価の有機基である場合、ε１およびε１’は１である。

上記Ｘは、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘは２〜４価の有機基であり、ε１は１〜３であり、ε１’は１である。

別の態様において、Ｘは２価の有機基であり、ε１は１であり、ε１’は１である。この場合、式（１）は、下記式（１’）で表される。

上記Ｘの例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも好ましい具体的なＸは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記式中、Ｒ^ｇは、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。

ラジカル捕捉基は、光照射、特にＵＶ照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。ラジカル捕捉基としては、特にヒンダードアミン類の残基であることが好ましい。

上記「残基」とは、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類に由来する基であり、上記構造の一部（例えば、水素原子等）が脱離した基をいう。例えば、ヒンダードアミン類の残基とは、ヒンダードアミン類の分子末端の水素原子が脱離した構造をいう。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

上記「残基」とは、ベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、またはベンゾキサゾール類に由来する基であり、上記構造の一部（例えば、水素原子等）が脱離した基をいう。

好ましいＲ^ｇとしては、抗酸化剤または重合禁止剤として機能し得るものを用いることができ、例えば、以下に示す基、

あるいは、下記の化合物に由来する基を挙げることができる。
α―トコフェロール、（＋）−カテキン、クエルセチン、ビタミンＣ、グルタチオン、５,５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−ｉ−プロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４，４’−ジクミル−ジフェニルアミン、４，４’−ジオクチル−ジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール、ピペリジン−１−オキシル、ピロリジン−１−オキシル，２，２，６，６−テトラメチル−４−オキソピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ジニトロクレゾール、α−ピネン、α−テルピネン、１，４−シネオール、Ｄ−リモネン、１，８−シネオール、γ−テルピネン、ｐ−シメン、テルピノーレン。これらの化合物は、上記化合物の分子内に存在する官能基（水酸基、アミノ基、カルボキシル基もしくはチオール基）またはＣＨ、ＣＨ_２もしくはＣＨ_３基の炭素原子（具体的には、ＣＨ、ＣＨ_２もしくはＣＨ_３基の水素原子を還元した後の炭素原子）を介して、（Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ）_ε１’−Ｘ−と結合し得る。

上記式中、Ｒ^ｇ１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、またはフェニル基であり、好ましくはメチル基である。

より好ましいＲ^ｇとしては、以下に示す基を挙げる事ができる。上記式中、Ｒ^ｇ１は、上記と同意義である。

Ｒ^ｇは、特に、以下の式（２）で表される基であることが好ましい。

（式中、Ｒ^ｇ１は上記と同意義である。）

Ｒ^ｇを有する化合物を含むことによって、本発明の表面処理剤は、耐ＵＶ性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

上記ＰＦＰＥ含有化合物は、例えば以下に説明する方法により製造できる。

以下の製造方法は、式（２ａ）で表される化合物および式（２ｂ）で表される化合物を混合し、式（２ｃ）で表される化合物を含む生成物を得る工程を含む。

（式中、Ｒ^８は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、好ましくはメトキシ基である。Ｒ^ｇ１、Ｒｆ^１およびＰＦＰＥは上記と同意義である。）

上記工程において、化合物（２ａ）と化合物（２ｂ）との混合比（モル比）は、例えば、１：０．８０〜１：１０の範囲にある。

上記工程において、反応溶媒は特には限定されないが、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテルを用いることができる。

上記工程において、反応温度は特には限定されないが、例えば、２０〜１５０℃の範囲において行うことができる。

上記工程後、上記工程において得られた生成物に、例えばパーフルオロヘキサンおよびメタノール等の抽出用溶媒を加えて、式（２ｃ）で表される化合物を抽出する工程を含むことができる。

上記ＰＦＰＥ含有化合物は、特に限定されるものではないが、１０００〜５００００の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２０００〜２００００、好ましくは２０００〜１００００、より好ましくは２０００〜８０００の平均分子量を有することが、形成される表面処理層の摩擦耐性が良好となる観点から好ましい。上記「平均分子量」は数平均分子量を言い、^１９Ｆ−ＮＭＲ及び^１Ｈ−ＮＭＲにより測定することができる。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の数平均分子量よりも、ＰＦＰＥ含有化合物の数平均分子量を大きくしてもよい。例えば、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の数平均分子量よりも、ＰＦＰＥ含有化合物の数平均分子量を、２，０００以上、好ましくは３，０００以上、より好ましくは５，０００以上大きくしてもよい。このような数平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と耐ＵＶ性を得ることができる。特に、上記のような数平均分子量とすることにより、表面処理層の表面付近にラジカル捕捉基または紫外線吸収基を有するＰＦＰＥ化合物が多く存在し得、表面処理層の耐ＵＶ性の向上に寄与し得る。

上記ＰＦＰＥ含有化合物は、本発明の表面処理剤１００質量部に対し、好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．０１〜１０質量部含まれる。ＰＦＰＥ含有化合物が上記の範囲含まれることによって、本発明の表面処理剤は、形成される表面処理層の摩擦耐性および耐ＵＶ性の維持に寄与し得る。

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。

上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。

本発明の表面処理剤は、さらに他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”−（ＯＣＦ_２）_ｄ”−Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物および上記ＰＦＰＥ含有化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物および上記ＰＦＰＥ含有化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０であることが好ましく、４：１〜１：４であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物および上記ＰＦＰＥ含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、Ｒｆ^１がＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物および上記ＰＦＰＥ含有化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物および上記ＰＦＰＥ含有化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。

本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個の上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物の溶液と、上記ＰＦＰＥ含有化合物の溶液とを使用直前に混合する形態であってもよい。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性および高い摩擦耐久性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

（物品）
次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

（合成例１）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、および下記の化合物（Ａ）０．４３ｇを仕込み、窒素気流下、７０℃において８時間撹拌させた。フラスコ内の溶液の温度が室温になるまで放冷後、上記フラスコにパーフルオロヘキサン２０ｇおよびメタノール１０ｇを加え、３０分間撹拌させた。その後、分液操作を行い、パーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下において上記層から揮発成分を留去することにより、末端にアミノ基を有する下記式により表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物（Ｂ）１０ｇを得た。
・化合物（Ａ）：

・パーフルオロポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：

（合成例２）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１５ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、およびトリクロロシラン０．７５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃において３０分間撹拌させた。続いて、上記フラスコに１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０４ｍｌ加えた後、フラスコ内の溶液の温度を６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌させた。その後、減圧下で上記溶液から揮発成分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₁₅CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃

（合成例３）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成された末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１０．１ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃において３０分間撹拌させた。続いて、上記フラスコにアリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を１３ｍｌ加えた後、フラスコ内の溶液の温度を室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、フラスコ内の溶液の温度を５℃まで冷却した。その後、フラスコにメタノールを４ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン１０ｇを加えて、３０分撹拌した。その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下において上記層の揮発成分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｄ）９．８ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｄ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₁₅CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

（合成例４）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｄ）９．８ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇ、およびトリクロロシラン１．４４ｇを仕込み、窒素気流下、５℃において３０分間撹拌した。続いて、上記フラスコに１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、フラスコ内の溶液の温度を６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で上記溶液から揮発成分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₁₅CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

（合成例５）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例４にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、上記フラスコにメタノール０．３０ｇおよびオルソギ酸トリメチル５．８ｇの混合溶液を加えた後、上記フラスコ内の溶液の温度を５５℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で上記溶液から揮発成分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）１０．０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₁₅CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（実施例１〜１２および比較例１〜４）
下記表１に示す混合物または化合物を、合計濃度が２０ｗｔ％になるように、それぞれハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、表面処理剤を調製した。

実施例および比較例で用いた化合物Ｇ〜Ｉは、以下の通りである。
・化合物Ｇ

・化合物Ｈ
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₄CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・化合物Ｉ
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₂CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

上記で調製した表面処理剤を、それぞれ、基材である化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとした。まず、二酸化ケイ素を５ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて、二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、実施例１〜４では化合物（Ｂ）およびパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物０．４ｍｇ、比較例１〜４ではパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物０．４ｍｇをそれぞれ含有）を蒸着させた。その後、表面処理剤を蒸着させた化学強化ガラスを、温度１５０℃で３０分加熱処理し、その後、温度２１℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置し、表面処理層を形成した。

（評価）
・静的接触角の測定
上記の実施例１〜１２および比較例１〜４で得られた表面処理層の水の静的接触角を測定した。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて２１℃、６５％湿度の環境下で実施した。

まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した。

上記の実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層に、キセノンランプを用いてＵＶを４００時間照射した。その後、ＵＶ照射後の表面処理層の水の静的接触角を測定した。キセノンランプを用いたＵＶの照射は、波長４２０ｎｍにおいて放射照度２．２Ｗ／ｍ^２において行い、ランプと基材表面との距離は、１０ｃｍとした。静的接触角の測定値、およびＵＶ照射前の水の静的接触角に対するＵＶ照射後の水の静的接触角の比率（１００×ＵＶ照射後の水の静的接触角／ＵＶ照射前の水の静的接触角）を下表に示す。

・摩擦耐久性評価
ＵＶ照射前の表面処理層およびＵＶ照射後の表面処理層のそれぞれについて、スチールウールを用いた摩擦耐久性試験を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平に配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で水平方向に往復させた。往復回数１，０００回毎に表面処理層の水の静的接触角（度）を測定することを、接触角の測定値が１００度未満となるまで繰り返した（接触角の測定値が１００度未満となるまで繰り返した）。表３に、接触角の測定値が１００度未満となった時のスチールウールの往復回数を、スチールウール耐久性として示す。また、表３に、ＵＶ照射前のスチールウール耐久性に対するＵＶ照射後のスチールウール耐久性の比率（１００×ＵＶ照射後のスチールウール耐久性／ＵＶ照射前のスチールウール耐久性）を示す。

実施例１〜１２で形成された表面処理層の接触角の数値は、ＵＶ照射前後において低下していないことが分かった（表２）。表２の結果から、実施例１〜１２で形成された表面処理層は、ＵＶ照射によっても撥水性の低下が生じにくく、優れた耐ＵＶ性を示すことが確認された。また、表３の結果から、実施例１〜１２の表面処理層は、ＵＶ照射後であってもＵＶ照射前と同等のスチールウール耐久性を有することが確認された。

さらに、実施例１〜８、特に実施例１〜４で形成された表面処理層の接触角の数値は、ＵＶ照射前においても特に良好な値となった（表２）。表２の結果から、実施例１〜８で形成された表面処理層は、ＵＶ照射前から特に良好な撥水性を有することが確認された。ＵＶ照射によってもこの撥水性の低下が生じにくく、実施例１〜８で形成された表面処理層は、優れた耐ＵＶ性を示すことが確認された。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (17)

1. 以下の式：
   

   

   ［式中：
   ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
   （式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
   で表される基であり；
   Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
   Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
   Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
   Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｎ１は、（−ＳｉＲ^２３ _ｎ１Ｒ^２４ _３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ１が、１〜３の整数であり；
   Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
   ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
   α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^１１ _ｐ１Ｒ^１２ _ｑ１Ｒ^１３ _ｒ１を表し；
   Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ１’を表し；
   Ｒ^ａ１’は、Ｒ^ａ１と同意義であり；
   Ｒ^ａ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
   Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、式（Ｃ１）および（Ｃ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
   Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
   ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
   Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^５１ _ｐ２Ｒ^５２ _ｑ２Ｒ^５３ _ｒ２を表し；
   Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ１’を表し；
   Ｒ^ｄ１’は、Ｒ^ｄ１と同意義であり；
   Ｒ^ｄ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
   Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
   Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
   Ｒ^５５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^５６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｎ２は、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２）単位毎に独立して、０〜３の整数を表し；
   ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
   Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^５５ _ｎ２Ｒ^５６ _３−ｎ２を表し；
   Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］
   よりなる群より選ばれる少なくとも１つのパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および以下の式：
   

   

   ［式中、
   Ｒｆ^１は、Ｒｆ^２と同意義であり；
   ＰＦＰＥは、上記と同意義であり；
   Ｘは、２〜１０価の有機基であり；
   Ｒ^ｇは、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基であり；
   ε１は、１〜９の整数であり；
   ε１’は、１〜９の整数である。］
   で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含有する表面処理剤であり、
   上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物とが、質量比において１００：３〜１００：１１０の範囲で含まれる、表面処理剤。
2. Ｒｆ^１およびＲｆ^２が、各出現において独立して、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
3. ＰＦＰＥが、各出現において独立して、下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
   −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
   ［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
   ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
   ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
   ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
   添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
   −（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ− （ｃ）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
   ｊは、２〜１００の整数である。］
   である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
4. Ｒ^ｇは、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、トリアジン類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、および、ベンゾキサゾール類の残基よりなる群から選ばれる少なくとも１である、請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
5. Ｒ^ｇは、
   

   

   （式中、Ｒ^ｇ１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、またはフェニル基である。）で表される基であることを特徴とする、請求後１〜４のいずれかに記載の表面処理剤。
6. Ｘは、２価の有機基である、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤。
7. Ｘ^１、Ｘ^３、Ｘ^４およびＸ^５は、各出現において独立して、２価の有機基である、請求項１〜６のいずれかに記載の表面処理剤。
8. Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ部およびＲｆ^２−ＰＦＰＥ部の数平均分子量が、それぞれ独立して、５００〜３０，０００である、請求項１〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
9. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物の数平均分子量が、２０００〜８０００の範囲にある、請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
10. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜９のいずれかに記載の表面処理剤。
11. さらに溶媒を含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の表面処理剤。
12. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１１のいずれかに記載の表面処理剤。
13. 真空蒸着用である、請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
15. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤により形成された層とを含む物品。
16. 前記物品が光学部材である、請求項１５に記載の物品。
17. 前記物品がディスプレイである、請求項１５または１６に記載の物品。