JP2021020984A - 反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーから、経済的で簡易かつ効率的にスズ不純物を除去して、高い生産性で安定的に反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを製造する方法の提供。【解決手段】スズ含有量が１０ｐｐｍ以下である末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法に関する。
パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー（パーフルオロポリエーテル基含有ポリマー）は、分子鎖末端を各種反応性有機基で変性することによって、紙・繊維などの撥水撥油防汚剤、磁気記録媒体の滑剤、精密機器の防油剤、離型剤、化粧料、保護膜などに用いられている。
特にパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの末端を、エーテル結合（−Ｃ−Ｏ−Ｃ−結合）を介して加水分解性シリル基等の反応性シリル基で変性したパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーは、保護膜等として用いることで、撥水撥油性、離型性、耐薬品性、潤滑性、耐久性、防汚性、指紋拭き取り性などを示す表面を提供できる（特許文献１）。しかしながら、このパーフルオロポリエーテル変性シラン（パーフルオロオキシアルキレン変性シラン）中に含まれる−Ｃ−Ｏ−Ｃ−結合は、炭素と炭素の間に酸素原子（ヘテロ原子）を有していることから、熱的安定性、化学的安定性に劣るため、これらの特性が求められる用途には不向きであった。
一方、特許文献２では、パーフルオロオキシアルキレン基含有末端ヨージドポリマーとアリルトリアルキルスズとをラジカル開始剤存在下で反応させる、末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法が開示されている。
前記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーは、ポリマー末端にヘテロ原子を含まず、連結部位が炭素−炭素（Ｃ−Ｃ）結合のみで形成されているため、撥水撥油性、離型性、耐薬品性、潤滑性、耐久性、防汚性、指紋拭き取り性に優れるという特性に加えて、さらに、熱的安定性、化学的安定性、耐候性にも優れる。
また、分子鎖末端が加水分解性シリル基等の反応性シリル基で変性されたパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーは、上記特性に加えて、該加水分解性シリル基が、空気中の水分（湿気）などによって自己縮合反応を起こして被膜を形成し強固な被膜となるという特性があるため有用である。
そこで、前記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供し、反応性シリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを製造する方法が考えられるが、従来は生成物の収率が低く、生産性が十分ではなかった。
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓоｃ．１９７８，１００，３６３６-３６３８
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７９，４４，４４９-４５０
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、加水分解性シリル基等の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの原料として使用するためには、触媒毒として悪影響をもたらす、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーに含有されているスズ不純物を除去して、塩化白金酸触媒等のヒドロシリル化反応触媒の被毒を防止する必要があることを本件発明者らは見出した。
物質中に不純物として含まれる微量成分を選択的に除去する方法としては、活性炭やアミノシリカゲルなどを用いる方法がある。活性炭やアミノシリカゲルは、金属スカベンジャーとして作用することが知られている。また、非特許文献１、非特許文献２には、トリアルキルスズハライドを、フッ化カリウムで処理することで、水、及び／又は有機溶媒に不溶なトリアルキルスズフルオリドに変換し、ろ過により除去する方法が開示されている。
しかしながら、これらの処理方法による精製では、末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ不純物の除去効率は必ずしも十分ではなかった。
物質中に不純物として含まれる微量成分を選択的に除去する方法としては、活性炭やアミノシリカゲルなどを用いる方法がある。活性炭やアミノシリカゲルは、金属スカベンジャーとして作用することが知られている。また、非特許文献１、非特許文献２には、トリアルキルスズハライドを、フッ化カリウムで処理することで、水、及び／又は有機溶媒に不溶なトリアルキルスズフルオリドに変換し、ろ過により除去する方法が開示されている。
しかしながら、これらの処理方法による精製では、末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ不純物の除去効率は必ずしも十分ではなかった。
従って、本発明は、ヒドロシリル化反応に十分精製した末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを供給し得、かかる末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーと反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応において高い生産性で安定的に目的物を得ることができる反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スズを不純物として１０ｐｐｍ以下含有する末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを使用することにより、本発明の課題を解決し得ることを見出して、本発明を完成した。
従って、本発明は下記の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法を提供する。
［１］
スズ含有量が１０ｐｐｍ以下である末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［２］
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［３］
パーフルオロオキシアルキレン基含有末端ヨージドポリマーとアリルトリ（オルガノ）スズ化合物とをラジカル開始剤の存在下で反応させる工程により末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを得、
次いで、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［４］
精製を分子蒸留により行うものである［２］又は［３］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［５］
分子蒸留の温度が１００℃〜４００℃である［４］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［６］
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーが下記一般式（１）で表されるものであり、ポリスチレン換算での数平均分子量が１，０００〜５０，０００である請求項［１］〜［５］のいずれかに記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
（式中、Ｒｆは１価又は２価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、ｍは１又は２であり、ＸはＦ又はＣＦ3であり、ｎは０〜１０の整数であり、αは１又は２である。）
［７］
一般式（１）中のαが１であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（２）で表される１価の基である［６］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
（式中、ｐ、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ０〜２００の整数で、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝４〜２００であり、各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、ＹはＦ又はＣＦ3である。）
［８］
一般式（１）中のαが２であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（３）で表される２価の基である［６］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
（式中、ｐ’、ｑ’、ｒ’、ｓ’はそれぞれ０〜２００の整数で、ｐ’＋ｑ’＋ｒ’＋ｓ’＝４〜２００であり、各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、Ｙ’はＦ又はＣＦ3である。）
［１］
スズ含有量が１０ｐｐｍ以下である末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［２］
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［３］
パーフルオロオキシアルキレン基含有末端ヨージドポリマーとアリルトリ（オルガノ）スズ化合物とをラジカル開始剤の存在下で反応させる工程により末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを得、
次いで、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［４］
精製を分子蒸留により行うものである［２］又は［３］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［５］
分子蒸留の温度が１００℃〜４００℃である［４］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［６］
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーが下記一般式（１）で表されるものであり、ポリスチレン換算での数平均分子量が１，０００〜５０，０００である請求項［１］〜［５］のいずれかに記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［７］
一般式（１）中のαが１であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（２）で表される１価の基である［６］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
［８］
一般式（１）中のαが２であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（３）で表される２価の基である［６］に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
本発明によれば、高い生産性で加水分解性シリル基等の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを工業的に安定して製造することが可能となる。特に、末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの精製を経済的で、簡易かつ効率的に行え、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーと反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化付加反応において触媒活性の低下を十分に抑止できる。
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明の一態様は、スズ含有量が１０ｐｐｍ以下である末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法である。
末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーとしては下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
（式中、Ｒｆは１価又は２価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、ｍは１又は２であり、ＸはＦ又はＣＦ3であり、ｎは０〜１０の整数、好ましくは０又は１であり、αは１又は２である。）
上記一般式（１）中のαが１の場合、Ｒｆで示される１価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基としては、下記一般式（２）で表される１価のパーフルオロオキシアルキレン基が好ましい。
（式中、ｐ、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ０〜２００の整数、好ましくは１０〜１００の整数で、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝４〜２００、好ましくは１０〜１００であり、各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、ＹはＦ又はＣＦ3である。）
このような１価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基として、具体的には以下のものを例示することができる。
上記一般式（１）中のαが２の場合、Ｒｆで示される２価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基としては、下記一般式（３）で表される２価のパーフルオロオキシアルキレン基が好ましい。
（式中、ｐ’、ｑ’、ｒ’、ｓ’はそれぞれ０〜２００、好ましくは１０〜１００の整数で、ｐ’＋ｑ’＋ｒ’＋ｓ’＝４〜２００、好ましくは１０〜１００であり、各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、Ｙ’はＦ又はＣＦ3である。）
このような２価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基として、具体的には以下のものを例示することができる。
上記一般式（１）で表される末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの数平均分子量は１，０００〜５０，０００であり、好ましくは１，５００〜１０，０００の範囲である。数平均分子量が１，０００未満ではパーフルオロアルキレンエーテル構造の特徴である撥水撥油性、防汚性などを十分に発揮できない場合があり、５０，０００を超えると末端官能基（アリル基）の濃度が低くなりすぎて、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応を経て得られる最終目的物である反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中の末端官能性基（即ち、加水分解性シリル基等の反応性シリル基）の濃度が低くなり過ぎるため、基材との反応性や密着性が低下する場合がある。なお、本発明中で言及する数平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレンを標準物質とした数平均分子量を指す。
［測定条件］
展開溶媒：ハイドロクロロフルオロカーボン（ＨＣＦＣ）−２２５
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ．
検出器：蒸発光散乱検出器
カラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ
７．８ｍｍφ×３０ｃｍ ２本使用
カラム温度：３５℃
試料注入量：１００μＬ（濃度０．３重量％のＨＣＦＣ−２２５溶液）
展開溶媒：ハイドロクロロフルオロカーボン（ＨＣＦＣ）−２２５
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ．
検出器：蒸発光散乱検出器
カラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ
７．８ｍｍφ×３０ｃｍ ２本使用
カラム温度：３５℃
試料注入量：１００μＬ（濃度０．３重量％のＨＣＦＣ−２２５溶液）
上記一般式（１）で表される末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法としては、例えば、下記一般式（４）で表されるパーフルオロオキシアルキレン基含有末端ヨージドポリマーとアリルトリ（アルキル）スズ等のアリルトリ（オルガノ）スズ化合物とをラジカル開始剤存在下で反応させる方法が好ましい。
（式中、Ｒｆは１価又は２価のパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、ｍは１又は２であり、ＸはＦ又はＣＦ3であり、ｎは０〜１０の整数であり、αは１又は２である。）
アリルトリ（オルガノ）スズ化合物として以下のものが使用できる。
例えば、アリルトリブチルスズ、アリルトリフェニルスズ、アリルトリメチルスズ、アリルトリエチルスズ、アリルトリプロピルスズ、アリルトリベンジルスズ等のアリルトリ（アルキル）スズ化合物、アリルトリ（アリール）スズ化合物、及びアリルトリ（アラルキル）スズ化合物などである。
例えば、アリルトリブチルスズ、アリルトリフェニルスズ、アリルトリメチルスズ、アリルトリエチルスズ、アリルトリプロピルスズ、アリルトリベンジルスズ等のアリルトリ（アルキル）スズ化合物、アリルトリ（アリール）スズ化合物、及びアリルトリ（アラルキル）スズ化合物などである。
ラジカル開始剤としては、以下のものが使用できる。
例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）（ＡＢＣＮ，ＶＡＺＯ（登録商標））、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオキシドなどである。
例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）（ＡＢＣＮ，ＶＡＺＯ（登録商標））、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオキシドなどである。
本発明の製造方法において原料として使用される末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーは、種々の方法によって製造されたものを用いることができるが、スズ含有量は１０ｐｐｍ以下である。
また、本発明の別の態様は、スズを不純物として１０ｐｐｍを超える量を含有する末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法である。
スズを不純物として１０ｐｐｍを超える量を含有する上記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを使用する場合、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを精製する。精製方法としては例えば、単蒸留、超臨界抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、フラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィーや分子蒸留等の手段があげられる。中でも、工業的観点から、分子蒸留が好ましい。
スズを不純物として１０ｐｐｍを超える量を含有する上記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを使用する場合、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを精製する。精製方法としては例えば、単蒸留、超臨界抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、フラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィーや分子蒸留等の手段があげられる。中でも、工業的観点から、分子蒸留が好ましい。
本発明において分子蒸留に使用する装置は、従来公知の装置を使用すればよく特に制限されないが、例えば、ポット式分子蒸留装置、流下膜式分子蒸留装置、遠心式分子蒸留装置、薄膜式蒸留装置、及び薄膜蒸発装置等を使用することができる。分子蒸留は、０．１Ｐａ以下の真空中１００℃〜４００℃の範囲にある温度で行うのがよい。中でも、高真空中１００℃〜３００℃の温度範囲で分子蒸留して低沸点成分を除去した後、高真空中１５０℃〜４００℃の温度範囲で分子蒸留して高沸点成分を除去することが望ましい。ただし、精製の対象物が狭い沸点分布を有する時には、上述した低沸点成分の除去または高沸点成分の除去のいずれか一方のみを行えばよい。真空度は高い方がより低い温度で目的物を得られるため好ましく、５．０×１０-2Ｐａ以下であることが好ましい。
原料としての末端アリル基変性フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中に含有されるスズは、１０ｐｐｍ以下（０〜１０ｐｐｍ）であり、５ｐｐｍ以下（０〜５ｐｐｍ）であることが好ましい。スズ含有量が１０ｐｐｍ超であると、原料としての末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーと後述する加水分解性基等の官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化付加反応において、塩化白金酸触媒に代表される白金族金属化合物を触媒とするヒドロシリル化付加反応触媒が被毒され、反応が進行しない。
そして、原料としての末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの末端のアリル基を、加水分解性基等の官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化付加反応に供することで、該末端アリル基を反応性シリル基に変性する。
ここでヒドロシリル化付加反応に用いられる官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物としては、ケイ素原子に結合した水素原子（ＳｉＨで示されるヒドロシリル基）を分子中に１個有すると共に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ-ブトキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基等の炭素数１〜４の非置換又はアルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子）等の加水分解性基を分子中に２個又は３個有するオルガノハイドロジェンシラン化合物が挙げられる。なお、上記加水分解性基を分子中に２個有する場合、ケイ素原子に結合する残余の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基などの炭素数1〜８の一価炭化水素基が挙げられる。これらの官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物としては、例えば、トリメトキシシラン（即ち、トリメトキシ（ハイドロジェン）シラン、以下同様。）、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリ（メトキシエトキシ）シラン、トリクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン等が挙げられる。
この官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物（あるいは該化合物中のＳｉＨ基）は、上記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のアリル基１モルに対して、好ましくは１〜１０モル程度、より好ましくは２〜５モル程度の比率でヒドロシリル化付加反応に供することが望ましい。
ここでヒドロシリル化付加反応に用いられる官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物としては、ケイ素原子に結合した水素原子（ＳｉＨで示されるヒドロシリル基）を分子中に１個有すると共に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ-ブトキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基等の炭素数１〜４の非置換又はアルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子）等の加水分解性基を分子中に２個又は３個有するオルガノハイドロジェンシラン化合物が挙げられる。なお、上記加水分解性基を分子中に２個有する場合、ケイ素原子に結合する残余の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基などの炭素数1〜８の一価炭化水素基が挙げられる。これらの官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物としては、例えば、トリメトキシシラン（即ち、トリメトキシ（ハイドロジェン）シラン、以下同様。）、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリ（メトキシエトキシ）シラン、トリクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン等が挙げられる。
この官能性基（反応性基）を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物（あるいは該化合物中のＳｉＨ基）は、上記末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のアリル基１モルに対して、好ましくは１〜１０モル程度、より好ましくは２〜５モル程度の比率でヒドロシリル化付加反応に供することが望ましい。
ヒドロシリル化反応触媒としては、例えば以下のものが挙げられる。白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖片末端又は分子鎖両末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは１〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
また、上記反応には溶剤を用いることができる。このとき用いる溶剤は、特に限定されないが、反応化合物がフッ素化合物である点からフッ素系溶剤を用いることが好ましい。フッ素系溶剤としては、ヘキサフルオロメタキシレン（１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）、トリフルオロメチルベンゼン、３Ｍ社から販売されているＨＦＥ系溶剤（ＮＯＶＥＣ７１００：Ｃ4Ｆ9ＯＣＨ3、ＮＯＶＥＣ７２００：Ｃ4Ｆ9ＯＣ2Ｈ5、ＮＯＶＥＣ７３００：Ｃ2Ｆ5−ＣＦ（ＯＣＨ3）−ＣＦ（ＣＦ3）2など）、同じく３Ｍ社から販売されているパーフルオロ系溶剤（ＰＦ５０８０、ＰＦ５０７０、ＰＦ５０６０など）などが挙げられる。
ヒドロシリル化付加反応は、上記のヒドロシリル化反応触媒（例えば、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液）の存在下、通常、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃付近の温度で、通常、１〜７２時間、好ましくは２０〜３６時間、より好ましくは約２４時間程度の条件で反応を進行させることができる。
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、下記例において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値である。
［実施例１］
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（１−ａ）で表される化合物４３０ｇ（１．２×１０-1ｍｏｌ、数平均分子量３，６００）、アリルトリブチルスズ４７．５ｇ（１．４×１０-1ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン４３０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ １．９６ｇ（１．２×１０-2ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（１−ａ）で表される化合物４３０ｇ（１．２×１０-1ｍｏｌ、数平均分子量３，６００）、アリルトリブチルスズ４７．５ｇ（１．４×１０-1ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン４３０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ １．９６ｇ（１．２×１０-2ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
その後、反応生成物を室温まで冷やし、分液操作で下層を分取した。得られた下層をヘキサン４３０ｇで洗浄し、続いてアセトン４３０ｇで洗浄した。洗浄後の下層中の溶剤を減圧留去し、下記式（１−ｂ）で表される片末端にアリル基を有するアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを３７３ｇ（数平均分子量４，１４０）得た。
（ｉｉ）精製工程
上記工程（ｉ）で得られたポリマー１０５ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４５．４ｇ（数平均分子量３，５７０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
上記工程（ｉ）で得られたポリマー１０５ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４５．４ｇ（数平均分子量３，５７０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
（ｉｉｉ）ヒドロシリル化工程
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（５．６×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．７ｇ（２．２×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液２．１×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として６．２×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（１−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（５．６×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．７ｇ（２．２×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液２．１×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として６．２×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（１−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
［実施例２］
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（２−ａ）で表される化合物１００ｇ（５．６×１０-2ｍｏｌ、数平均分子量１，７９０）、アリルトリブチルスズ２２．３ｇ（６．７×１０-2ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン１００ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．９２ｇ（５．６×１０-3ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（２−ａ）で表される化合物１００ｇ（５．６×１０-2ｍｏｌ、数平均分子量１，７９０）、アリルトリブチルスズ２２．３ｇ（６．７×１０-2ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン１００ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．９２ｇ（５．６×１０-3ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
その後、反応生成物を室温まで冷やし、分液操作で下層を分取した。得られた下層をヘキサン１００ｇで洗浄し、続いてアセトン１００ｇで洗浄した。洗浄後の下層中の溶剤を減圧留去し、下記式（２−ｂ）で表される片末端にアリル基を有するアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを８４ｇ（数平均分子量１，６４０）得た。
（ｉｉ）精製工程
上記工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを２３．７ｇ（数平均分子量１，５８０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
上記工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを２３．７ｇ（数平均分子量１，５８０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
（ｉｉｉ）ヒドロシリル化工程
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（１．３×１０-2ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン６．４ｇ（５．２×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液４．６×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として１．４×１０-7ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（２−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（１．３×１０-2ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン６．４ｇ（５．２×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液４．６×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として１．４×１０-7ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（２−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
［実施例３］
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（３−ａ）で表される化合物２０ｇ（１．０×１０-2ｍｏｌ、数平均分子量３，８５０）、アリルトリブチルスズ４．１ｇ（１．２×１０-2ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン２０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．１６ｇ（１．０×１０-3ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（３−ａ）で表される化合物２０ｇ（１．０×１０-2ｍｏｌ、数平均分子量３，８５０）、アリルトリブチルスズ４．１ｇ（１．２×１０-2ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン２０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．１６ｇ（１．０×１０-3ｍｏｌ）を添加し、９０℃で１６時間撹拌した。
その後、反応生成物を室温まで冷やし、分液操作で下層を分取した。得られた下層をヘキサン２０ｇで洗浄し、続いてアセトン２０ｇで洗浄した。洗浄後の下層中の溶剤を減圧留去し、下記式（３−ｂ）で表される両末端にアリル基を有するアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを１８．４ｇ（数平均分子量３，６５０）得た。
（ｉｉ）精製工程
上記工程（ｉ）を数回繰り返して得られたポリマー５０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４５．２ｇ（数平均分子量３，６００）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
上記工程（ｉ）を数回繰り返して得られたポリマー５０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４５．２ｇ（数平均分子量３，６００）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２ｐｐｍであった。
（ｉｉｉ）ヒドロシリル化工程
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られた化合物２０ｇ（５．０×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．４ｇ（２．０×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．８×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として５．５×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（３−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られた化合物２０ｇ（５．０×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．４ｇ（２．０×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．８×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として５．５×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（３−ｃ）で表される液状の生成物２０ｇを得た。
［実施例４］
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（４−ａ）で表される化合物２０ｇ（２．５×１０-3ｍｏｌ、数平均分子量４，３００）、アリルトリブチルスズ１．２ｇ（３．６×１０-3ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン２０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．０５０ｇ（３．０×１０-4ｍｏｌ）を添加し、９０℃で３時間撹拌した。
（ｉ）末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造
反応容器に、下記式（４−ａ）で表される化合物２０ｇ（２．５×１０-3ｍｏｌ、数平均分子量４，３００）、アリルトリブチルスズ１．２ｇ（３．６×１０-3ｍｏｌ）及びヘキサフルオロメタキシレン２０ｇを入れて混合し、窒素を通気した。続いて、該反応容器に、ＡＩＢＮ ０．０５０ｇ（３．０×１０-4ｍｏｌ）を添加し、９０℃で３時間撹拌した。
その後、反応生成物を室温まで冷やし、分液操作で下層を分取した。得られた下層をヘキサン２０ｇで洗浄し、続いてアセトン２０ｇで洗浄した。洗浄後の下層中の溶剤を減圧留去し、下記式（４−ｂ）で表される片末端にアリル基を有するアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを１７．０ｇ（数平均分子量４，２００）得た。
（ｉｉ）精製工程
上記工程（ｉ）を数回繰り返して得られたポリマー６０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４８．０ｇ（数平均分子量４，０９０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は３ｐｐｍであった。
上記工程（ｉ）を数回繰り返して得られたポリマー６０ｇを２×１０-2Ｐａ、２５０℃で分子蒸留することにより高沸点成分を除去し、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを４８．０ｇ（数平均分子量４，０９０）得た。このアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は３ｐｐｍであった。
（ｉｉｉ）ヒドロシリル化工程
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（４．９×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．４ｇ（２．０×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．８×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として５．４×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（４−ｃ）で表される液状の生成物１９ｇを得た。
反応容器に、上記精製工程（ｉｉ）で得られたポリマー２０ｇ（４．９×１０-3ｍｏｌ）、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．４ｇ（２．０×１０-2ｍｏｌ）、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．８×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として５．４×１０-8ｍｏｌを含有）を入れて混合し、８０℃で２４時間熟成させた。その後、混合物中の溶剤及び未反応物を減圧留去し、下記式（４−ｃ）で表される液状の生成物１９ｇを得た。
［比較例１］
実施例１の（ｉｉ）精製工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に実験を行い、上記式（１−ｃ）で表される液状の生成物５０ｇを得た。なお、実施例１の工程（ｉ）により得られたアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２５０ｐｐｍであった。
実施例１の（ｉｉ）精製工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に実験を行い、上記式（１−ｃ）で表される液状の生成物５０ｇを得た。なお、実施例１の工程（ｉ）により得られたアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は２５０ｐｐｍであった。
［比較例２］
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ａ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。精製工程（Ａ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は４０ｐｐｍであった。
（Ａ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇにヘキサフルオロメタキシレン２０ｇ、及びアミノシリカゲル（関東化学製）５ｇを添加し、５０℃で３時間攪拌した。その後、ろ過によりアミノシリカゲルを除去し、溶剤を減圧留去することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４１．７ｇを得た。
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ａ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。精製工程（Ａ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は４０ｐｐｍであった。
（Ａ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇにヘキサフルオロメタキシレン２０ｇ、及びアミノシリカゲル（関東化学製）５ｇを添加し、５０℃で３時間攪拌した。その後、ろ過によりアミノシリカゲルを除去し、溶剤を減圧留去することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４１．７ｇを得た。
［比較例３］
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ｂ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。精製工程（Ｂ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は６０ｐｐｍであった。
（Ｂ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇに活性炭であるシラサギＡＳ（日本エンバイロケミカルズ社製）１．０ｇを添加し、室温で１時間撹拌した。その後、ろ過によりシラサギＡＳを除去した。この操作を再度繰り返し、溶剤を留去することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４１．７ｇを得た。
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ｂ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。精製工程（Ｂ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は６０ｐｐｍであった。
（Ｂ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇに活性炭であるシラサギＡＳ（日本エンバイロケミカルズ社製）１．０ｇを添加し、室温で１時間撹拌した。その後、ろ過によりシラサギＡＳを除去した。この操作を再度繰り返し、溶剤を留去することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４１．７ｇを得た。
［比較例４］
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ｃ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。
（Ｃ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇにヘキサフルオロメタキシレン１５０ｇ及び１０ｗｔ％フッ化カリウム水溶液２５ｇを添加し、室温で１時間攪拌した。その後、下層を分取し、アセトン２０ｇで洗浄した。下層を分取後、溶剤を減圧留去し、ろ過することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４５．８ｇを得た。精製工程（Ｃ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は１００ｐｐｍであった。
実施例１の（ｉｉ）精製工程を、下記に示す精製工程（Ｃ）に変更したこと以外は、実施例１と同様に実験を行った。
（Ｃ）工程（ｉ）で得られたポリマー５０ｇにヘキサフルオロメタキシレン１５０ｇ及び１０ｗｔ％フッ化カリウム水溶液２５ｇを添加し、室温で１時間攪拌した。その後、下層を分取し、アセトン２０ｇで洗浄した。下層を分取後、溶剤を減圧留去し、ろ過することで、アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー４５．８ｇを得た。精製工程（Ｃ）後のアリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量は１００ｐｐｍであった。
得られたアリル基変性フルオロオキシアルキレン基含有ポリマーについて、以下の方法で評価した。
（１）官能試験方法
実施例１及び比較例１〜４において、それぞれ工程（ｉｉ）の後のポリマーの収量が５０ｇ以上となるよう工程（ｉ）及び／又は工程（ｉｉ）を繰り返し、工程（ｉｉ）の後のポリマー５０ｇをガラス容器に入れ、４人のパネリストにより、下記評価基準で分類した。
○：スズ臭を申告したパネリストが０名
△：スズ臭を申告したパネリストが１〜２名
×：スズ臭を申告したパネリストが３〜４名
実施例１及び比較例１〜４において、それぞれ工程（ｉｉ）の後のポリマーの収量が５０ｇ以上となるよう工程（ｉ）及び／又は工程（ｉｉ）を繰り返し、工程（ｉｉ）の後のポリマー５０ｇをガラス容器に入れ、４人のパネリストにより、下記評価基準で分類した。
○：スズ臭を申告したパネリストが０名
△：スズ臭を申告したパネリストが１〜２名
×：スズ臭を申告したパネリストが３〜４名
比較例１〜４では、ポリマーはスズ臭を呈したのに対し、実施例１ではスズ臭を呈さない結果となった。
さらに実施例１及び比較例１、２で得られた工程（ｉｉ）の後の精製ポリマー中のスズの定量分析と、ヒドロシリル化反応における精製ポリマーのアリル基消費率の算出を行った
（２）スズの定量
実施例１及び比較例１、２において、それぞれ工程（ｉｉ）の後のポリマーが含有するスズの定量分析を、ＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社、ＩＣＰ−７３０）により行った。
実施例１及び比較例１、２において、それぞれ工程（ｉｉ）の後のポリマーが含有するスズの定量分析を、ＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社、ＩＣＰ−７３０）により行った。
（３）1Ｈ−ＮＭＲによる精製ポリマーのアリル基消費率の算出
原料のアリル基消費率の算出は、下記式に基づき行った。
〔原料のアリル基消費率（％）〕＝１００−Ａ÷（Ａ＋Ｂ）×１００
ここで、上記式中のＡ及びＢは、それぞれ下記の下線を付したプロトンの積分値を示す。
原料のアリル基消費率の算出は、下記式に基づき行った。
〔原料のアリル基消費率（％）〕＝１００−Ａ÷（Ａ＋Ｂ）×１００
ここで、上記式中のＡ及びＢは、それぞれ下記の下線を付したプロトンの積分値を示す。
スズの含有量が２ｐｐｍの実施例１では、ヒドロシリル化反応における原料のアリル基消費率は１００％であった一方、スズの含有量が２５０ｐｐｍの比較例１では、ヒドロシリル化反応における原料のアリル基消費率は０％であり、また、スズ含有量が４０ｐｐｍである比較例２では、ヒドロシリル化反応における原料のアリル基消費率は２．３％にとどまり、実施例１に劣るものであった。
本発明によれば、末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーからスズ不純物を除去する際に、経済的で、簡易かつ効率的に行え、ヒドロシリル化反応に十分精製した末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを供給可能となる。そのため、かかる末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化付加反応において高い生産性で安定的に反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを製造することが可能となり、商業的に非常に価値がある技術といえる。
Claims (8)
- スズ含有量が１０ｐｐｍ以下である末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを、反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- 末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- パーフルオロオキシアルキレン基含有末端ヨージドポリマーとアリルトリ（オルガノ）スズ化合物とをラジカル開始剤の存在下で反応させる工程により末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーを得、
次いで、該末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー中のスズ含有量を１０ｐｐｍ以下に精製した後、これを反応性基を有するオルガノハイドロジェンシラン化合物とのヒドロシリル化反応に供する工程を有する、反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。 - 精製を分子蒸留により行うものである請求項２又は３に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- 分子蒸留の温度が１００℃〜４００℃である請求項４に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- 末端アリル基変性パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーが下記一般式（１）で表されるものであり、ポリスチレン換算での数平均分子量が１，０００〜５０，０００である請求項１〜５のいずれか１項に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- 一般式（１）中のαが１であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（２）で表される１価の基である請求項６に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
- 一般式（１）中のαが２であり、パーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基Ｒｆが下記一般式（３）で表される２価の基である請求項６に記載の反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法。
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| JP2022138616A (ja) * | 2021-03-10 | 2022-09-26 | 株式会社富士通ゼネラル | 空気調和機及び空気調和システム |
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