WO2018216630A1

WO2018216630A1 - 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法

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Publication number: WO2018216630A1
Application number: PCT/JP2018/019371
Authority: WO
Inventors: 星野　泰輝; 誠人宇野; 伊藤　昌宏
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2017-05-26
Filing date: 2018-05-18
Publication date: 2018-11-29
Also published as: CN115215999B; US20200071251A1; JPWO2018216630A1; JP7156276B2; KR20200011415A; US11155508B2; CN115215999A; CN110662785B; CN110662785A; TW201902907A; US11634374B2; KR102599697B1; US20210403402A1

Abstract

初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物；該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液；初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を有する物品およびその製造方法の提供。　炭素数５または６のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（α）と、炭素数４以下のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基およびシラノール基の少なくとも一方を有する、含フッ素エーテル化合物。

Description

含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法

　本発明は、含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法に関する。

　ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。

　耐摩擦性および指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、下記のものが提案されている。
　炭素数４のオキシペルフルオロアルキレン単位（α）と、該単位（α）以外のオキシペルフルオロアルキレン単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する、含フッ素エーテル化合物（特許文献１）。

国際公開第２０１３／１２１９８６号

　最近では、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面層には、さらなる耐摩擦性および耐光性の向上が求められることがある。そのため、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物が必要となることがある。

　本発明は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物；該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液；初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を有する物品およびその製造方法の提供を目的とする。
　また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。

　本発明は、下記［１］～［１５］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、および該物品の製造方法を提供する。

　［１］炭素数５または６のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（α）と、炭素数４以下のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基およびシラノール基の少なくとも一方を有する、含フッ素エーテル化合物。
　［２］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖において、前記単位（α）と前記単位（β）の合計数に対する前記単位（α）の数の割合が０．０２～０．５である、［１］の含フッ素エーテル化合物。
　［３］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置されている構造を含む、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
　［４］前記単位（α）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、［１］～［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
　［５］前記単位（β）が、（ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、［１］～［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。

　［６］下式（１１）で表される化合物である、［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^１　（１１）
　ただし、
　　Ａ^１は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１であり、
　　Ｒ^ｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数であり、
　　Ｂ^１は、－Ｑ［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、
　　Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数であり、
　　ｋは、１～１０の整数である。

　［７］前記Ｂ^１が、下式（ｇ１）～（ｇ７）のいずれかで表される基である、［６］の含フッ素エーテル化合物。
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ　（ｇ１）
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ２）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ３）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ４）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ
　（ｇ５）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ６）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^７１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^７２　（ｇ７）
　ただし、
　　Ｒ^ｆ７は、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数である。
　式（ｇ１）において、
　　Ｘ^１は、エーテル性酸素原子または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）－（ただし、ＮはＱ^１に結合する。）であり、
　　Ｒ^１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｐは、０または１であり、
　　Ｑ^１は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。
　式（ｇ２）において、
　　Ｘ^２は、エーテル性酸素原子、－ＮＨ－または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）－（ただし、ＮはＱ^２１に結合する。）であり、
　　Ｒ^２は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｒは、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）であり、
　　Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－もしくは－ＯＣ（Ｏ）－を有する基であり、
　　Ｑ^２２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　２個の［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ３）において、
　　Ｒ^３１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｓは、０または１であり、
　　Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　ｔは、０または１（ただし、Ｑ^３１が単結合の場合は０である。）であり、
　　ｕは、０または１であり、
　　Ｑ^３２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基であり、
　　Ｒ^３２は、水素原子またはアルキル基であり、
　　３個の［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ４）において、
　　Ｑ^４１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｑ^４２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　３個の［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ５）において、
　　Ｒ^５は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｖは、０または１であり、
　　Ｑ^５１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｚは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基であり、
　　Ｑ^５２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　ｗは、２～７の整数であり、
　　ｗ個の［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ６）において、
　　Ｑ^６１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｇは、炭素原子またはケイ素原子であり、
　　Ｒ^６は、水酸基またはアルキル基であり、
　　Ｑ^６２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　２個の［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ７）において、
　　Ｑ^７１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｒ^７１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　Ｑ^７２は、単結合またはアルキレン基であり、
　　Ｒ^７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、
　　ｙは、１～１０の整数であり、
　　２～１０個の［－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　［８］前記式（１１）において、Ａ^１が炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、すべての（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）の位置がＡ^１-Ｏ－側から数えて［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目よりもＡ^１-Ｏ－側にある、［６］または［７］の含フッ素エーテル化合物。
　［９］下式（１０）で表される化合物である、［１］～［５］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　［Ａ^１０－Ｏ－｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６｝］_ｊ－Ｂ^１０　（１０）
　ただし、
　　Ａ^１０は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１０であり、
　　Ｒ^ｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、かつｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数であり、
　　ｊは２～１０の整数であり、
　　Ｂ^１０は、Ｑ^１０［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、
　　Ｑ^１０は、（ｋ＋ｊ）価の連結基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数であり、
　　ｋは、１～１０の整数である。
　［１０］前記式（１０）において、Ａ^１０が炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、すべての（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）の位置がＡ^１０-Ｏ－側から数えて［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目よりもＡ^１０-Ｏ－側にある、［９］の含フッ素エーテル化合物。

　［１１］前記［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む、含フッ素エーテル組成物。
　［１２］前記［１］～［１０］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［１１］の含フッ素エーテル組成物と、
　液状媒体とを含む、コーティング液。
　［１３］前記［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物または［１１］の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
　［１４］前記［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物または［１１］の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面層を前記基材の表面に形成する、物品の製造方法。
　［１５］ウェットコーティング法によって［１２］のコーティング液を基材の表面に塗布し、液状媒体を除去して、表面層を前記基材の表面に形成する、物品の製造方法。

　また、本発明は、上記含フッ素エーテル化合物を製造するための中間体として有用な、下式（１２）で表される含フッ素エーテル化合物、下式（１３）で表される含フッ素エーテル化合物、下式（１４）で表される含フッ素エーテル化合物、および、下式（１５）で表される含フッ素エーテル化合物、である。
　Ａ^２－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^２　（１２）
　Ａ^３－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^３　（１３）
　Ａ^４－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^４　（１４）
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^５　（１５）
　ただし、Ａ^２は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^２であり、Ｂ^２は、－Ｒ^ｆ７－Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８であり、Ｒ^８は、水素原子または１価の有機基である。
　Ａ^３は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^３であり、Ｂ^３は、－Ｒ^ｆ７－ＣＨ_２ＯＨである。
　Ａ^４は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^４であり、Ｂ^４は、－Ｒ^ｆ７－Ｉである。
　Ａ^５は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^５であり、Ｂ^５は、－Ｑ^ａ［－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ｑ^ａは、（ｋ＋１）価の連結基である。
　また、式（１２）～（１５）に共通して、
　Ｒ^ｆ１は炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２は炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ３は炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ４は炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ５は炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ６は炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ７は炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、
　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数である。

　さらに、前記式（５）におけるＢ^５である、－Ｑ^ａ［－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋとしては、下式（ｇ１１）～（ｇ１６）のいずれかで表される基であることが好ましい。なお、下式におけるＲ^ｆ７は、前記式（１２）～（１４）におけるＲ^ｆ７と同じ基である。
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２　（ｇ１１）
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（ｇ１２）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（ｇ１３）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（ｇ１４）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｗ　（ｇ１５）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^７１－Ｇ（Ｒ^７）［－Ｑ^７２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（ｇ１６）
　ただし、
　式（ｇ１１）において、Ｘ^１は、エーテル性酸素原子または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）－（ただし、ＮはＱ^１ａに結合する。）であり、Ｒ^１は、水素原子またはアルキル基であり、ｐは、０または１であり、Ｑ^１ａは、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。
　式（ｇ１２）において、Ｘ^２は、エーテル性酸素原子、－ＮＨ－または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）－（ただし、ＮはＱ^２１に結合する。）であり、Ｒ^２は、水素原子またはアルキル基であり、ｒは、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）であり、Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－もしくは－ＯＣ（Ｏ）－を有する基であり、Ｑ^２２ａは、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２個の［－Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１３）において、Ｒ^３１は、水素原子またはアルキル基であり、ｓは、０または１であり、Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、ｔは、０または１（ただし、Ｑ^３１が単結合の場合は０である。）であり、ｕは、０または１であり、Ｑ^３２ａは、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基であり、Ｒ^３２は、水素原子またはアルキル基であり、３個の［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１４）において、Ｑ^４１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｑ^４２ａは、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、３個の［－Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１５）において、Ｒ^５は、水素原子またはアルキル基であり、ｖは、０または１であり、Ｑ^５１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｚは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基であり、Ｑ^５２ａは、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、ｗは、２～７の整数であり、ｗ個の［－Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１６）において、Ｑ^６１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｇは、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｒ^６は、水酸基またはアルキル基であり、Ｑ^６２ａは、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２個の［－Ｑ^６２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

　本発明の含フッ素エーテル化合物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる。
　本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる。
　本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を形成できる。
　本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を有する。
　本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および耐光性に優れる表面層を有する物品を製造できる。

　本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
　また、式（ｇ１）で表される基を基（ｇ１）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
　本明細書における以下の用語の意味や化学式の記載様式は、以下の通りである。
　オキシペルフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
　単位（α）と単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（以下、「鎖（αβ）」とも記す。）は線状の２価の基であり、両末端の一方は炭素原子に結合した結合手（この結合手を有する炭素原子を末端炭素原子と記す。）であり、他方は酸素原子の結合手（この結合手を有する酸素原子を末端酸素原子と記す。）である。鎖（αβ）の化学式も、末端酸素原子を右側に記載して表すものとする。
　「エーテル性酸素原子」とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子を意味する。
　「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成し得る基を意味する。たとえば、式（１）中のＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎである。
　「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
　含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（１）中のＡ^１のペルフルオロアルキル基またはＢ^１のＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎである。

［含フッ素エーテル化合物］
　本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、「本化合物」とも記す。）は、炭素数５または６のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（α）と、炭素数４以下のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、すなわち鎖（αβ）、を有し、かつ該鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基およびシラノール基の少なくとも一方（以下、加水分解性シリル基およびシラノール基をまとめて「加水分解性シリル基等」とも記す。）を有する化合物である。

　本化合物が有する鎖（αβ）の本数は、１本であっても、２本以上であってよい。本発明の効果が充分に発揮される点からは、１本が好ましい。本化合物が２本以上の鎖（αβ）を有する場合、本化合物は、２価の連結基を介して直列に２本以上の鎖（αβ）が連結した化合物であってもよく、３価以上の連結基を分岐点として１本の鎖（αβ）の末端から２本以上の鎖（αβ）が分岐した化合物であってもよく、２価の連結基を介して直列に２本以上の鎖（αβ）が連結し、かつ３価以上の連結基を分岐点として１本の鎖（αβ）の末端から２本以上の鎖（αβ）が分岐した化合物であってもよい。
　本化合物が有する加水分解性シリル基等の数は、１個であっても、２個以上であってもよい。本発明の効果が充分に発揮される点からは、２個以上が好ましい。

　本化合物が有する鎖（αβ）の本数が１本である場合、本化合物は、鎖（αβ）の一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基等を有していてもよく、鎖（αβ）の両方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基等を有していてもよい。
　本化合物としては、表面層における耐摩擦性がさらに優れる点からは、鎖（αβ）の一方の末端側のみに加水分解性シリル基等を有することが好ましい。
　本化合物が鎖（αβ）の一方の末端側に連結基を介した加水分解性シリル基等を有しない場合、その末端には１価の有機基を有する。

　本化合物が有する鎖（αβ）の本数が１本である場合、本化合物としては、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、鎖（αβ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基が結合し、鎖（αβ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している化合物が好ましい。

（鎖（αβ））
　鎖（αβ）は、本発明の効果を充分に発揮できる点から、末端基と連結基の間または連結基間で単位が直鎖状または分岐状に連なった分子鎖を構成することが好ましい。
　鎖（αβ）は、単位（α）および単位（β）以外のオキシアルキレン単位を有していてもよい。他の単位としては、１個以上の水素原子を有するオキシポリフルオロアルキレン単位等が挙げられる。鎖（αβ）は、単位（α）および単位（β）のみからなることが好ましい。
　鎖（αβ）には、単位（α）として１種の単位（α）のみが存在しても、炭素数が異なる２種の単位（α）が存在してもよい。
　鎖（αβ）には、単位（β）として１種の単位（β）のみが存在しても、炭素数が異なる２種以上の単位（β）が存在してもよい。

　単位（α）におけるペルフルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。単位（α）としては、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性および耐光性がさらに優れる点から、直鎖状、すなわち、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が好ましい。

　単位（β）としては、表面層における指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、直鎖状のオキシペルフルオロアルキレン単位が好ましく、（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）がより好ましく、表面層における滑り性がさらに優れる点から、（ＣＦ_２Ｏ）が特に好ましい。

　鎖（αβ）が、単位（α）を有することによって表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性および耐光性が優れる。ただし、単位（α）のみからなる場合、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性が高くなりすぎるため、指紋汚れ除去性が不充分となる。そこで、単位（β）を含ませることによって、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性を低下させ、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性をバランスよく発揮できる。
　鎖（αβ）において、単位（α）の割合（すなわち、単位（α）の単位数／（単位（α）の単位数＋単位（β）の単位数）は０．０２～０．５が好ましく、０．０２～０．２が特に好ましい。すなわち後述する式（１１）等において（ｍ５＋ｍ６）／（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）は、０．０２～０．５が好ましく、０．０２～０．２が特に好ましい。この範囲にすることで、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性をよりバランスよく発揮できる。
　特に式（１１）等において、Ａ^１等が炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、すべての（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）の位置がＡ^１-Ｏ－側等から数えて［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目よりもＡ^１-Ｏ－側にあることが好ましい。すなわち、Ａ^１-Ｏ－側等から数えて１番目から［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目の間にあることが好ましい。ただしｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６が奇数の場合はその０．５倍を超えない自然数である。

　鎖（αβ）においては、単位（α）と単位（β）との結合順序は限定されず、ランダム、ブロック、交互のいずれに配置されてもよい。表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性を効率的に発揮できる点から、単位（α）と単位（β）とが交互に配置された構造を含むことが好ましい。

（連結基）
　連結基としては、表面処理剤として用いられる公知の含フッ素エーテル化合物において、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と加水分解性シリル基等とを連結している公知の連結基が挙げられる。公知の連結基は、本発明の効果を損なわない範囲において構造が変更されてもよい。連結基としてどのような構造の基を採用するかは、当業者の技術常識の範囲において適宜決定すればよい。

（末端基）
　加水分解性シリル基等としては、本化合物の保存安定性に優れる点から、加水分解性シリル基が好ましい。
　連結基に結合する加水分解性シリル基等の数は、本発明の効果を充分に発揮できる点から、１～１０が好ましく、１～３がより好ましく、２または３が特に好ましい。
　本化合物が鎖（αβ）の一方の末端側に連結基を介した加水分解性シリル基等を有しない場合に、その末端に存在する１価の有機基としては、ペルフルオロアルキル基およびエーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキル基が好ましく、ペルフルオロアルキル基が特に好ましい。

（本化合物）
　本化合物は、単一化合物であってもよく、鎖（αβ）、末端基、連結基等が異なる２種類以上の混合物であってもよい。
　本化合物の数平均分子量は、２，０００～１０，０００が好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、表面層における耐摩擦性がさらに優れる。本化合物の数平均分子量は、２，１００～９，０００が好ましく、２，４００～８，０００が特に好ましい。

　本化合物は、鎖（αβ）を有するため、フッ素原子の含有量が多い。さらに、上述したように、表面層に初期の高い撥水撥油性、耐摩擦性および耐光性を付与する単位（α）と、単位（α）によって高くなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の結晶性を低下させる単位（β）とを有する鎖（αβ）を有している。そのため、本化合物は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性に優れる表面層を形成できる。

　本化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液による表面処理においては、後述するように、本化合物中の加水分解性シリル基（ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）が形成され、該シラノール基が分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）が形成される。すなわち、本発明における表面層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。

（化合物（１））
　本化合物としては、本発明の効果を充分に発揮できる点から、化合物（１）が好ましい。
　Ａ^１－Ｏ－（Ｒ^ｆＯ）_ｍ－Ｂ^１　（１）
　ただし、Ａ^１は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１であり、Ｒ^ｆは、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２～２００の整数であり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍは、単位（α）と単位（β）とを有し、Ｂ^１は、－Ｑ［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基であり、Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｋは、１～１０の整数である。

　＜鎖（αβ）＞
　鎖（αβ）、すなわち（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて、単位（α）と単位（β）との結合順序は限定されず、ランダム、ブロック、交互のいずれに配置されてもよい。表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性を効率的に発揮できる点から、単位（α）と単位（β）とが交互に配置された構造を含むことが好ましい。

　鎖（αβ）としては、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性がさらに優れる点からは、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の少なくとも一方と、（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の少なくとも一方とを有するものが好ましい。

　鎖（αβ）としては、鎖（αβ）の少なくとも一部に下記の構造を有するものが好ましい。ただし、下記構造式のうち、ｘ１個の単位（α）とｘ２個の単位（β）を有する構造式は、ｘ１個の単位（α）とｘ２個の単位（β）とがランダム配置またはブロック配置されている構造を表し、単位（α）と単位（β）とが結合した結合体がＸ３個有する構造は、単位（α）と単位（β）とが交互配置されている構造を表す。なお、交互配置されている構造において、単位（α）と単位（β）の合計数が奇数の場合は、（Ｘ３－１）個の結合体とその単位（α）側末端に１個の単位（β）を有する構造、または、（Ｘ３－１）個の結合体とその単位（β）側末端に１個の単位（α）を有する構造となる。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　ただし、ｘ１およびｘ２は、それぞれ１以上の整数であり、ｘ１＋ｘ２は、２～２００の整数であり、ｘ３は、１～１００の整数である。
　上記の鎖（αβ）としては、化合物（１）を製造しやすい点から、下記のものが好ましい。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ

　鎖（αβ）としては、さらに、単位（α）と単位（β）とのランダム配置、ブロック配置および交互配置のいずれか２以上が組み合わされた配置を有する下記の構造を有するものも好ましい。なお、下記式において、ｘ２１、ｘ２２、ｘ３１およびｘ４はそれぞれ１以上の整数である。
　（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３１－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ：ただし、ｘ３１＋ｘ４は、２～９９の整数。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３１－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ：ただし、ｘ３１＋ｘ４は、２～９９の整数。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３１－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２：ただし、ｘ２１＋ｘ２２＋ｘ３１×２＋ｘ４×２は、６～２００の整数。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３１－（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ：ただし、ｘ２１＋Ｘ２２＋Ｘ３１×２＋ｘ４×２は、７～１９９の整数。
　ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２：ただし、ｘ２１＋ｘ２２は、２～１９７の整数。
　ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ：ただし、ｘ４は１～９８の整数。

　化合物（１）における（Ｒ^ｆＯ）_ｍは、［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］で表すこともできる。すなわち、化合物（１）は、下記式（１１）で表すこともできる。
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^１　（１１）
　上記式において、Ｒ^ｆ１は炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ２は炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ３は炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ４は炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ５は炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ６は炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表す。ただし、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数である。
　上記式における、（Ｒ^ｆ１Ｏ）、（Ｒ^ｆ２Ｏ）、（Ｒ^ｆ３Ｏ）および（Ｒ^ｆ４Ｏ）で表される単位はいずれも単位（β）であり、（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）で表される単位はいずれも単位（α）である。また、上記式におけるｍ１～ｍ６は、それぞれ、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）それぞれの単位の数を表すものであり、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）それぞれの単位の配置を表すものではない。たとえば、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５は、（Ｒ^ｆ５Ｏ）の数がｍ５個であることを表し、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
　前記のように、Ｒ^ｆ２～Ｒ^ｆ６は、それぞれ、直鎖状のペルフルオロアルキレン基であることが好ましい。すなわち、Ｒ^ｆ２は（ＣＦ_２）_２、Ｒ^ｆ３は（ＣＦ_２）_３、Ｒ^ｆ４は（ＣＦ_２）_４、Ｒ^ｆ５は（ＣＦ_２）_５、Ｒ^ｆ６は（ＣＦ_２）_６であることが好ましい。

　ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は、表面層における初期の撥水撥油性がさらに優れる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、４５以下の整数が好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
　ｍ３およびｍ４は、表面層における指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、０が好ましい。
　ｍ５＋ｍ６は、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性および耐光性がさらに優れる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。ｍ５＋ｍ６は、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、８０以下の整数が好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。
　また、前記のように、（ｍ５＋ｍ６）／（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）は、０．０２～０．５が好ましく、０．０２～０．２が特に好ましい。

　＜Ａ^１基＞
　Ａ^１は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１である。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。表面層における潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点からは、炭素数１～１０のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１～６のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。

　Ａ^１としては、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）－等が挙げられる。
　Ａ^１としては、表面層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性がさらに優れる点からは、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－が好ましい。

　＜Ｂ^１基＞
　化合物（１）は、鎖（αβ）、すなわち（Ｒ^ｆＯ）_ｍの一端または両端にＢ^１を有する。Ｂ^１が分子内に２つある場合には、２つのＢ^１は同一であっても異なっていてもよい。なお、前記のように、本発明における化学式の表現にしたがえば、Ｂ^１を化学式の左側に記載した場合にはＢ^１は酸素原子を介して鎖（αβ）の末端炭素原子に結合した表現、すなわちＢ－Ｏ－が鎖（αβ）の左側に結合している表現となる。

　Ｂ^１は、－Ｑ［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋで表される基であり、化合物（１）は、末端にＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎで表される加水分解性シリル基等を有する。
　Ｑとしては、表面処理剤として用いられている公知の含フッ素エーテル化合物における連結基と同様のものが挙げられ、後述する基（ｇ１）～（ｇ７）からＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎを除いた基が好ましい。

　Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、化合物（１）の末端の加水分解性シリル基は、加水分解反応によりシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。化合物（１）は、末端に加水分解性シリル基等を有するため、基材との密着性が良好で、かつ耐摩擦性が良好であり、基材の表面の撥水撥油性化が可能な化合物である。

　Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（－ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
　Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

　Ｒの１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
　Ｒとしては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
　Ｒとしては、合成が簡便である点から、炭素数が１～６のアルキル基が好ましく、炭素数が１～３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１～２のアルキル基が特に好ましい。

　ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。分子中にＬが複数存在することによって、基材の表面との結合がより強固になる。
　ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

　加水分解性シリル基（ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）としては、－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、－ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、－Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、－ＳｉＣｌ_３、－Ｓｉ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３）_３、－Ｓｉ（ＮＣＯ）_３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が特に好ましい。

　さらに、Ｂ^１、すなわち、－Ｑ［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋで表される基、としては、下式（ｇ１）～（ｇ７）のいずれかで表される基であることが好ましい。
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ　（ｇ１）
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ２）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ３）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ４）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ
　（ｇ５）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ６）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^７１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^７２　（ｇ７）
　ただし、Ｒ^ｆ７は、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、ｎは、０～２の整数である。
　式（ｇ１）において、Ｘ^１は、エーテル性酸素原子または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）－（ただし、ＮはＱ^１に結合する。）であり、Ｒ^１は、水素原子またはアルキル基であり、ｐは、０または１であり、Ｑ^１は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。
　式（ｇ２）において、Ｘ^２は、エーテル性酸素原子、－ＮＨ－または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）－（ただし、ＮはＱ^２１に結合する。）であり、Ｒ^２は、水素原子またはアルキル基であり、ｒは、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）であり、Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－もしくは－ＯＣ（Ｏ）－を有する基であり、Ｑ^２２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２個の［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ３）において、Ｒ^３１は、水素原子またはアルキル基であり、ｓは、０または１であり、Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、ｔは、０または１（ただし、Ｑ^３１が単結合の場合は０である。）であり、ｕは、０または１であり、Ｑ^３２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基であり、Ｒ^３２は、水素原子またはアルキル基であり、３個の［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ４）において、Ｑ^４１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｑ^４２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、３個の［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ５）において、Ｒ^５は、水素原子またはアルキル基であり、ｖは、０または１であり、Ｑ^５１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｚは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基であり、Ｑ^５２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、ｗは、２～７の整数であり、ｗ個の［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ６）において、Ｑ^６１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｇは、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｒ^６は、水酸基またはアルキル基であり、Ｑ^６２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２個の［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ７）において、Ｑ^７１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｒ^７１は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ^７２は、単結合またはアルキレン基であり、Ｒ^７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、ｙは、１～１０の整数であり、２～１０個の［－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。

　Ｂ^１としては、本発明の効果をさらに充分に発揮できる点から、基（ｇ２）、基（ｇ３）、基（ｇ４）、基（ｇ５）および基（ｇ６）が特に好ましい。
　以下、式（１１）で表される化合物（１）において、Ｂ^１が基（ｇ１）である化合物（１）を化合物（１１ａ）、Ｂ^１が基（ｇ２）である化合物（１）を化合物（１１ｂ）、Ｂ^１が基（ｇ３）である化合物（１）を化合物（１１ｃ）、Ｂが基（ｇ４）である化合物（１）を化合物（１１ｄ）、Ｂ^１が基（ｇ５）である化合物（１）を化合物（１１ｅ）、Ｂ^１が基（ｇ６）である化合物（１）を化合物（１１ｆ）、Ｂ^１が基（ｇ７）である化合物（１）を化合物（１１ｇ）と記す。
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ　（１１ａ）、
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（１１ｂ）、
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（１１ｃ）、
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（１１ｄ）、
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ　（１１ｅ）、
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（１１ｆ）。
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－Ｑ^７１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^７２　（１１ｇ）。

　Ｒ^ｆ７は、直鎖状でも分岐状でもよい。Ｒ^ｆ７としては、化合物（１）を製造しやすい点から、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－が好ましい。
　Ｒ、Ｌ、ｎおよびＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎの好ましい形態は、化合物（１）におけるＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎの好ましい形態と同様である。
　基（ｇ１）～基（ｇ６）における２価のオルガノポリシロキサン残基としては、下式の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、またはフェニル基である。Ｒ^ａのアルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１が特に好ましい。

　基（ｇ１）、基（ｇ３）におけるシルフェニレン骨格は、－Ｓｉ（Ｒ^ｂ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｂ）_２－（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｂは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｂは、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
　基（ｇ１）、基（ｇ３）におけるジアルキルシリレン基は、－Ｓｉ（Ｒ^ｃ）_２－（ただし、Ｒ^ｃはアルキル基である。）で表される基である。Ｒ^ｃは、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。

　＜化合物（１１ａ）＞
　Ｒ^１としては、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、化合物（１１ａ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
　Ｑ^１としては、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基が好ましい。Ｑ^１としては、化合物（１１ａ）を製造しやすい点から、（Ｘ^１）_ｐが単結合の場合は、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましく、（Ｘ^１）_ｐが－Ｏ－の場合は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましく、（Ｘ^１）_ｐが－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　化合物（１１ａ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、ペルフルオロポリエーテル鎖、すなわち鎖（αβ）の一端にＢ^１を有する場合はＡ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－であり、鎖（αβ）の両端にＢ^１を有する場合は－Ｒ^ｆ７－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－である。ＰＦＰＥの好ましい形態は、上述した好ましいＡ^１、鎖（αβ）およびＲ^ｆ７を組み合わせたものとなる。

　＜化合物（１１ｂ）＞
　（Ｘ^２）_ｒとしては、化合物（１１ｂ）を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
　Ｒ^２としては、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、化合物（１１ｂ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
　Ｑ^２１としては、（Ｘ^２）_ｒが単結合の場合は、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは－ＮＨ－を有する基が好ましく、化合物（１１ｂ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２－が特に好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。
　Ｑ^２２としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは－ＮＨ－を有する基が好ましく、化合物（１１ｂ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が特に好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　化合物（１１ｂ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、化合物（１１ａ）のＰＦＰＥと同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（１１ｃ）＞
　Ｒ^３１としては、化合物（１１ｃ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。Ｒ^３１のアルキル基としては、炭素数１～４のアルキル基が好ましい。
　Ｑ^３１としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－としては、化合物（１１ｃ）の製造のしやすさの点から、ｓが０の場合は、単結合、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が好ましく（ただし、左側がＲ^ｆ７に結合する。）、ｓが１の場合は、単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　Ｒ^３２としては、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、化合物（１１ｃ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
　Ｑ^３２としては、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基が好ましい。－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－としては、化合物（１１ｃ）の製造のしやすさの点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

　化合物（１１ｃ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、化合物（１１ａ）のＰＦＰＥと同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（１１ｄ）＞
　Ｑ^４１としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、化合物（１１ｄ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　Ｑ^４２としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基が好ましく、化合物（１１ｄ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎに結合する。）。

　化合物（１１ｄ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、化合物（１１ａ）のＰＦＰＥと同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（１１ｅ）＞
　Ｒ^５としては、水素原子または炭素数１～４のアルキル基が好ましく、化合物（１１ｅ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
　Ｑ^５１としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、化合物（１１ｅ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい（ただし、右側がＺに結合する。）。
　Ｑ^５２としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基が好ましく、化合物（１１ｅ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　Ｚの（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、またはフェニル基である。Ｒ^ａのアルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１が特に好ましい。

　＜化合物（１１ｆ）＞
　Ｑ^６１としては、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、化合物（１１ｆ）を製造しやすい点から、単結合が特に好ましい。
　Ｇ（Ｒ^６）としては、化合物（１１ｆ）を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ^６ａ）（ただし、Ｒ^６ａはアルキル基である。炭素数は１～１０が好ましく、１が特に好ましい。）が好ましい。
　Ｑ^６２としては、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、化合物（１１ｆ）を製造しやすい点から、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－が好ましい。

　化合物（１１ｆ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、化合物（１１ａ）のＰＦＰＥと同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（１１ｇ）＞
　Ｑ^７１としては、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または炭素数２～１０のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、化合物（１１ｇ）を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
　Ｒ^７１としては、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、化合物（１１ｇ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。Ｒ^７１のアルキル基としては、メチル基が好ましい。
　Ｑ^７２としては、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、化合物（１１ｇ）を製造しやすい点から、単結合または－ＣＨ_２－が好ましい。
　Ｒ^７２としては、化合物（１１ｇ）を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

　化合物（１１ｇ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。ただし、ＰＦＰＥは、化合物（１１ａ）のＰＦＰＥと同様であり、好ましい形態も同様である。

（化合物（１０））
　化合物（１）以外の本化合物としては、本発明の効果を発揮できる点から、下記式（１０）で表される化合物（１０）が好ましい。前記式（１）や式（１１）で表される化合物（１）は、鎖（αβ）を１個有する化合物であることに対して、化合物（１０）は、鎖（αβ）を２個以上有する化合物である。
　［Ａ^１０－Ｏ－｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６｝］_ｊ－Ｂ^１０　（１０）
　ただし、Ａ^１０は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１０であり、Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６は、前記式（１１）のＲ^ｆ１～Ｒ^ｆ６と同様であり、ｍ１～ｍ６は、前記式（１１）のｍ１～ｍ６と同様であり、ｊは２～１０の整数であり、Ｂ^１０は、Ｑ^１０［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、Ｑ^１０は、（ｋ＋ｊ）価の連結基であり、Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｋは、１～１０の整数である。
　鎖（αβ）の好ましい形態は、化合物（１）における鎖（αβ）の好ましい形態と同様である。
　Ａ^１０における炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基の好ましい形態は、化合物（１）におけるＡ^１における炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基の好ましい形態と同様である。

　化合物（１０）は、Ｂ^１０を１～（１＋ｊ）個有する。Ｂ^１０が分子内に複数ある場合には、同一であっても異なっていてもよい。
　Ｂ^１０は、Ｑ^１０［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋで表される基であり、化合物（１０）は、末端にＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎで表される加水分解性シリル基等を有する。ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎの好ましい形態は、化合物（１）におけるＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎの好ましい形態と同様である。
　Ｑ^１０としては、表面処理剤として用いられている公知の含フッ素エーテル化合物における連結基と同様のものが挙げられる。具体的なＱ^１０としては、ｊ本の鎖（αβ）が直接または２価の連結基を介して結合する炭素原子又は窒素原子を有し、かつ、ｋ個のＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎのが直接または２価の連結基を介して結合する炭素原子又は窒素原子を有するｋ＋ｊ価の環構造を有する基が挙げられる。該２価の連結基としては、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－またはアルキレン基が挙げられる。

［含フッ素エーテル化合物の製造方法］
　本化合物は、ポリフルオロポリエーテル鎖の一部または全部として特定の鎖（αβ）またはその前駆体鎖を有する原料を用いる以外は、表面処理剤として用いられている公知の含フッ素エーテル化合物と同様の製造方法によって製造できる。

（化合物（１）の製造方法）
　本化合物が化合物（１）である場合、化合物（１）は、たとえば、下記の方法によって製造できる。
　・エステル末端含フッ素エーテル化合物（後述の化合物（２））、水酸基末端含フッ素エーテル化合物（後述の化合物（３））、またはヨウ素末端含フッ素エーテル化合物（後述の化合物（４））の末端に公知の方法によって炭素－炭素不飽和二重結合を導入して不飽和二重結合末端含フッ素エーテル化合物（後述の化合物（５））を得た後、化合物（５）とＨＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎとをヒドロシリル化反応させて化合物（１）を得る方法。
　・ヨウ素末端含フッ素エーテル化合物（化合物（４））を開始剤としてＣＨ_２＝ＣＨ－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ、ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ等を重合させて化合物（１）を得る方法。

　＜化合物（２）＞
　化合物（２）は、下記式（２）で表される化合物であり、また下記式（１２）で表すこともできる。下記式（１２）で表した化合物を、以下、「化合物（１２）」と記す。
　Ａ^２－Ｏ－（Ｒ^ｆＯ）_ｍ－Ｂ^２　（２）
　Ａ^２－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^２　（１２）
　ただし、Ａ^２は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^２であり、Ｂ^２は、－Ｒ^ｆ７－Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８であり、Ｒ^８は、水素原子または１価の有機基である。
　Ａ^２の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基は、化合物（１）のＡ^１の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｒ^ｆ７は、化合物（１）における好ましいＢ^１（式（ｇ１）～（ｇ７）で表されるＢ^１）中のＲ^ｆ７と同様であり、好ましい形態も同様である。
　Ｒ^８としては、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１が特に好ましい。

　＜化合物（３）＞
　化合物（３）は、下記式（３）で表される化合物であり、また下記式（１３）で表すこともできる。下記式（１３）で表した化合物を、以下、「化合物（１３）」と記す。
　Ａ^３－Ｏ－（Ｒ^ｆＯ）_ｍ－Ｂ^３　（３）
　Ａ^３－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^３　（１３）
　ただし、Ａ^３は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^３であり、Ｂ^３は、－Ｒ^ｆ７－ＣＨ_２ＯＨである。
　Ａ^３の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基は、化合物（１）のＡ^１の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｒ^ｆ７は、化合物（１）における好ましいＢ^１（式（ｇ１）～（ｇ７）で表されるＢ^１）中のＲ^ｆ７と同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（４）＞
　化合物（４）は、下記式（４）で表される化合物であり、また下記式（１４）で表すこともできる。下記式（１４）で表した化合物を、以下、「化合物（１４）」と記す。
　Ａ^４－Ｏ－（Ｒ^ｆＯ）_ｍ－Ｂ^４　（４）
　Ａ^４－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^４　（１４）
　ただし、Ａ^４は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^４であり、Ｂ^４は、－Ｒ^ｆ７－Ｉである。
　Ａ^４の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基は、化合物（１）のＡ^１の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｒ^ｆ７は、化合物（１）における好ましいＢ^１（式（ｇ１）～（ｇ７）で表されるＢ^１）中のＲ^ｆ７と同様であり、好ましい形態も同様である。

　＜化合物（５）＞
　化合物（５）は、下記式（５）で表される化合物であり、また下記式（１５）で表すこともできる。下記式（１５）で表した化合物を、以下、「化合物（１５）」と記す。
　Ａ^５－Ｏ－（Ｒ^ｆＯ）_ｍ－Ｂ^５　（５）
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^５　（１５）
　ただし、Ａ^５は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^５であり、Ｂ^５は、－Ｑ^ａ［－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ｑ^ａは、（ｋ＋１）価の連結基である。
　Ａ^５の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基は、化合物（１）のＡ^１の炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基と同様であり、好ましい形態も同様である。ｋは、化合物（１）のｋと同様であり、好ましい形態も同様である。Ｒ^ｆ７は、化合物（１）における好ましいＢ^１（式（ｇ１）～（ｇ７）で表されるＢ^１）中のＲ^ｆ７と同様であり、好ましい形態も同様である。

　化合物（５）において、Ｂ^５としては前記化合物（１）における式（ｇ１）～（ｇ７）で表される基に対応する下式（ｇ１１）～（ｇ１６）で表される基であることが好ましい。
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２　（ｇ１１）
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（ｇ１２）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（ｇ１３）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（ｇ１４）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｗ　（ｇ１５）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（ｇ１６）
　式（ｇ１１）において、Ｘ^１およびｐは、式（ｇ１）のＸ^１およびｐと同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^１ａは、アルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。Ｑ^１ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ１）のＱ^１の少なくとも一部を構成する。
　式（ｇ１２）において、Ｘ^２、Ｒ^２、ｒおよびＱ^２１は、式（ｇ２）のＸ^２、Ｒ^２、ｒおよびＱ^２１と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^２２ａは、アルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、または炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ２）のＱ^２２の少なくとも一部を構成する。２個の［－Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１３）において、Ｒ^３１、ｓ、Ｑ^３１、ｔ、ｕおよびＲ^３２は、式（ｇ３）のＲ^３１、ｓ、Ｑ^３１、ｔ、ｕおよびＲ^３２と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^３２ａは、ルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ３）のＱ^３２の少なくとも一部を構成する。３個の［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１４）において、Ｑ^４１は、式（ｇ４）のＱ^４１と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^４２ａは、アルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、または炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ４）のＱ^４２の少なくとも一部を構成する。３個の［－Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１５）において、Ｒ^５、ｖ、Ｑ^５１、Ｚおよびｗは、式（ｇ５）のＲ^５、ｖ、Ｑ^５１、Ｚと同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^５２ａは、アルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、または炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ５）のＱ^５２の少なくとも一部を構成する。ｗ個の［－Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ１６）において、Ｑ^６１、ＧおよびＲ^６は、式（ｇ６）のＱ^６１、ＧおよびＲ^６と同様であり、好ましい形態も同様である。Ｑ^６２ａは、アルキレン基（好ましくは炭素数１～８のアルキレン基）、または炭素数２以上（好ましくは２～８）のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。Ｑ^６２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２は、後述するヒドロシリル化反応後に式（ｇ６）のＱ^６２の少なくとも一部を構成する。２個の［－Ｑ^６２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

　以下、Ｂ^５が基（ｇ１１）である化合物（１５）を化合物（１５ａ）、Ｂ^５が基（ｇ１２）である化合物（１５）を化合物（１５ｂ）、Ｂ^５が基（ｇ１３）である化合物（１５）を化合物（１５ｃ）、Ｂ^５が基（ｇ１４）である化合物（１５）を化合物（１５ｄ）、Ｂ^５が基（ｇ１５）である化合物（１５）を化合物（１５ｅ）、Ｂ^５が基（ｇ１６）である化合物（１５）を化合物（１５ｆ）と記す。
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２　（１５ａ）、
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（１５ｂ）、
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（１５ｃ）、
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_３　（１５ｄ）、
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｗ　（１５ｅ）、
　Ａ^５－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２ａ－ＣＨ＝ＣＨ_２］_２　（１５ｆ）。

（各化合物の製造方法の具体例）
　＜化合物（１２）の製造方法（その１）＞
　米国特許第４，７４０，５７９号明細書に記載の方法にしたがい、酸の存在下、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨとＨＣ（Ｏ）Ｈとを反応させて化合物（２１－１）（１，３－ジオキサ－５，５，６，６，７，７－ヘキサフルオロシクロオクタン）を得る。

　米国特許第４，７４０，５７９号明細書に記載の方法にしたがい、酸およびＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨの存在下、化合物（２１－１）を開環重合させることによって化合物（２２－１）を得る。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（２２－１）

　化合物（２２－１）と酸ハライド（たとえば、Ｒ^ｆ８Ｃ（Ｏ）Ｆ（ただし、Ｒ^ｆ８は、ペルフルオロアルキル基または炭素数２以上のペルフルオロアルキル基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。））との反応によってエステル化して化合物（２３－１）を得た後、さらにフッ素化することによって化合物（２４－１）を得る。
　Ｒ^ｆ８Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２３－１）
　Ｒ^ｆ８Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２４－１）

　化合物（２１－１）および化合物（２２－１）を得る際のＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨの代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨを用いることによって、化合物（２４－１）の代わりに化合物（２４－２）を得ることもできる。
　Ｒ^ｆ８Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２４－２）

　また、化合物（２２－１）を得る際にモノオール（たとえば、ＣＨ_３ＯＨ、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ等）を用いることによって、化合物（２４－１）の代わりに化合物（２４－３）、または化合物（２４－２）の代わりに化合物（２４－４）を得ることもできる。
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２４－３）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２４－４）
　ただし、Ｒ^ｆ９は、モノオールに由来する炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基である。

　化合物（２４－１）～化合物（２４－４）とＲ^８ＯＨとの反応によって化合物（１２－１）～化合物（１２－４）を得る。
　Ｒ^８ＯＣ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－１）
　Ｒ^８ＯＣ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－２）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－３）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－４）

　＜化合物（１２）の製造方法（その２）＞
　Ｊｏｕｎａｌ　ｏｆ　Ｆｌｕｏｒｉｎｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２６巻，２００５年，ｐ．５２１－５２７には、ＨＯ（ＣＨ_２）_４ＯＨからＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３を合成する方法が記載されている。該方法において、ＨＯ（ＣＨ_２）_４ＯＨの代わりにＨＯ（ＣＨ_２）_５ＯＨまたはＨＯ（ＣＨ_２）_６ＯＨを用いることによって、化合物（３１－１）または化合物（３１－２）を得る。
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_４Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（３１－１）
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_５Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（３１－２）

　化合物（３１－１）または化合物（３１－２）を還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、化合物（３２－１）または化合物（３２－２）を得る。
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_４ＣＨ_２ＯＨ　（３２－１）
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＯＨ　（３２－２）

　特許文献１には、ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＯＨからＲ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８を合成し、さらには、Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８を合成する方法が記載されている。該方法において、ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＯＨの代わりに化合物（３２－１）または化合物（３２－２）を用いることによって、化合物（２４－５）または化合物（２４－６）、さらには化合物（１２－５）または化合物（１２－６）を得る。
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８
　（２４－５）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）Ｒ^ｆ８　（２４－６）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－５）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８　（１２－６）

　＜化合物（１３）の製造方法＞
　化合物（１２－１）～化合物（１２－６）を還元剤を用いて水素還元することによって、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）を得る。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－１）
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－２）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－３）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－４）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－５）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（１３－６）

　＜化合物（１４）の製造方法＞
　金属フッ化物（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）と化合物（２４－１）とを反応させることによって、化合物（２５－１）を得る。
　ＦＣ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ　（２５－１）

　化合物（２５－１）を、ヨウ素化剤（ＬｉＩ、ヨウ素／炭酸カリウム等）を用いてヨウ素化することによって、化合物（１４－１）を得る。
　ＩＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－１）

　また、化合物（２４－１）の代わりに化合物（２４－２）～化合物（２４－６）を用いることによって、化合物（１４－１）の代わりに化合物（１４－２）～化合物（１４－６）を得ることもできる。
　ＩＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－２）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－３）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－４）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－５）
　Ｒ^ｆ９Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（１４－６）

　＜化合物（１１ａ）の製造方法＞
　化合物（１１ａ）は、たとえば、特許文献１または特開２０１２－０７２２７２号等に記載の方法にしたがい、化合物（１２－１）～化合物（１２－６）、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）または化合物（１４－１）～化合物（１４－６）を出発物質とし、化合物（１５ａ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｂ）の製造方法＞
　化合物（１１ｂ）は、たとえば、国際公開第２０１７／０３８８３２号に記載の方法にしたがい、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）を出発物質とし、化合物（１５ｂ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｃ）の製造方法＞
　化４に示す化合物（１１ｃ）は、たとえば、国際公開第２０１７／０３８８３０号に記載の方法にしたがい、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）を出発物質とし、ｓ＝０である化合物（１５ｃ）を経由して製造できる。
　化５に示す化合物（１１ｃ）は、たとえば、特開２０１６－２０４６５６号公報に記載の方法にしたがい、化合物（１２－１）～化合物（１２－６）を出発物質とし、Ｇ（Ｒ^６）がＣ（ＯＨ）である化合物（１５ｆ）を経由して製造できる。
　化６に示す化合物（１１ｃ）は、たとえば、国際公開第２０１７／０３８８３０号に記載の方法にしたがい、化合物（１２－１）～化合物（１２－６）を出発物質とし、ｓ＝１である化合物（１５ｃ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｄ）の製造方法＞
　化合物（１１ｄ）は、たとえば、特開２０１６－０３７５４１号公報または国際公開第２０１６／１２１２１１号に記載の方法にしたがい、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）を出発物質とし、化合物（１５ｄ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｅ）の製造方法＞
　化合物（１１ｅ）は、たとえば、特開２０１２－０７２２７２号公報に記載の方法にしたがい、化合物（１３－１）～化合物（１３－６）を出発物質とし、ｖ＝０である化合物（１５ｅ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｆ）の製造方法＞
　Ｇ（Ｒ^６）がＣ（ＯＨ）である化合物（１１ｆ）は、たとえば、特開２０１６－０３７５４１号公報に記載の方法にしたがい、化合物（１２－１）～化合物（１２－６）を出発物質とし、化合物（１５ｆ）を経由して製造できる。

　＜化合物（１１ｇ）の製造方法＞
　化合物（１１ｇ）は、たとえば、国際公開第２０１６／１２１２１１号に記載の方法にしたがい、化合物（１４－１）～化合物（１４－６）を開始剤として、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３等を重合させることによって製造できる。

［含フッ素エーテル組成物］
　本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、本化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。

　他の含フッ素エーテル化合物としては、本化合物の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物（以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。）、本化合物と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
　他の含フッ素エーテル化合物としては、本化合物の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。

　副生含フッ素エーテル化合物としては、未反応の化合物（２）～化合物（５）；上述した化合物（１）の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基の一部がインナーオレフィンに異性化した含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
　公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、本化合物の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。

　本化合物の含有量は、本組成物のうち、６０質量％以上１００質量％未満が好ましく、７０質量％以上１００質量％未満がより好ましく、８０質量％以上１００質量％未満が特に好ましい。
　他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
　本化合物の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、８０～１００質量％が好ましく、８５～１００質量％が特に好ましい。
　本化合物の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および耐光性がさらに優れる。

　本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、本化合物および他の含フッ素エーテル化合物以外の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、本化合物や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物（ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。）、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
　また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
　他の成分の含有量は、本組成物のうち、０～９．９９９質量％が好ましく、０～０．９９質量％が特に好ましい。

［コーティング液］
　本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」とも記す。）は、本化合物または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。

　液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒でも非フッ素系有機溶媒でもよく、両溶媒を含んでもよい。
　フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
　フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
　フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
　フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
　フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
　フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
　非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。

　本化合物または本組成物の含有量は、本コーティング液のうち、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。
　液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、９０～９９．９９９質量％が好ましく、９９～９９．９９質量％が特に好ましい。

［物品］
　本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、本化合物または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
　表面層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。

　表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。

　基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ_２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材が好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。

［物品の製造方法］
　本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
　・本化合物または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面層を基材の表面に形成する方法。
　・ウェットコーティング法によってコーティング液を基材の表面に塗布し、液状媒体を除去して、表面層を基材の表面に形成する方法。

　ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に本化合物または本組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。

　ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。

　以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１、３、５、７、９、１１は実施例であり、例２、４、６、８、１０、１２は比較例である。

［例１］
（例１－１）
　１００ｍＬの３つ口フラスコに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨの３．５０ｇ、米国特許第４，７４０，５７９号明細書の例１に記載の方法で得た化合物（２１－１）の３９．５ｇを入れ、６０℃で撹拌した。これにトリフルオロメタンスルホン酸の０．６４ｇを滴下し、２４時間撹拌した。粗生成物に３００ｍＬのジクロロメタンを加えて溶解させた後、５０ｍＬの３５質量％過酸化水素水、１００ｍＬの１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、および２５０ｍＬの飽和食塩水の混合溶液で２回洗浄し、さらに３００ｍＬの飽和食塩水で２回洗浄した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ－３０００））で精製して化合物（２２－１）の３５．５ｇ（収率８２．６％）を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（２２－１）

　化合物（２２－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：４．８（２２Ｈ）、４．０（４８Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－１２１（４４Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（２４Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２２－１）の数平均分子量：２，６８０。

（例１－２）
　１００ｍＬのナスフラスコに、例１－１で得た化合物（２２－１）の３５．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２．７５ｇ、ＡＥ－３０００の３０ｇを入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの２１．７ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）ＦおよびＡＥ－３０００を減圧留去した。得られた粗生成物をＣ_６Ｆ_１３Ｈ（旭硝子社製、ＡＣ－２０００）で希釈し、シリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（２３－１－１）の４２．１ｇ（収率９７．５％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２３－１－１）

　化合物（２３－１－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：４．８（２６Ｈ）、４．０（４４Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７９（２Ｆ）、－８１（６Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８６（２Ｆ）、－１２０（４８Ｆ）、－１２６（２４Ｆ）、－１２９（４Ｆ）、－１３２（２Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２３－１－１）の数平均分子量：３，３００。

（例１－３）
　５００ｍＬのニッケル製オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
　オートクレーブにＣｌＣＦ_２ＣＦＣｌ_２（以下、「Ｒ－１１３」とも記す。）の２５０ｇを入れ、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速４．７Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１－２で得た化合物（２３－１－１）の２０．０ｇをＲ－１１３の１００ｇに溶解した溶液を、４時間かけて注入した。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ－１１３中に０．０３ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分間撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに４回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．６ｇであった。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（２４－１－１）の２７．５ｇ（収率９９．５％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２４－１－１）

　化合物（２４－１－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８０（２Ｆ）、－８１（６Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８４（４Ｆ）、－８５（４４Ｆ）、－８７（２Ｆ）、－１１８（４Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２５（４４Ｆ）、－１３０（４Ｆ）、－１３３（２Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２４－１－１）の数平均分子量：４，５６０。

（例１－４）
　テトラフルオロエチレン－ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（以下、「ＰＦＡ」とも記す。）製丸底フラスコに、例１－３で得た化合物（２４－１－１）の２７．０ｇおよびＡＥ－３０００の３０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの１．９ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（１２－１－１）の２２．９ｇ（収率９８．７％）を得た。
　ＣＨ_３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（１２－１－１）

　化合物（１２－１－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（６Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４４Ｆ）、－１１８（４Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（４４Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１２－１－１）の数平均分子量：３，９２０。

（例１－５）
　５０ｍＬのナスフラスコに、例１－４で得た化合物（１２－１－１）の１０．０ｇ、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．９０ｇおよびＡＥ－３０００の１０ｇを入れ、１２時間撹拌した。得られた反応混合物をＡＥ－３０００の３０．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ－３０００）で精製し、化合物（１５ｃ－１）の１０．２ｇ（収率９５．５％）を得た。

　化合物（１５ｃ－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（１２Ｈ）、３．４（４Ｈ）、５．２（１２Ｈ）、６．２～５．９（６Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４４Ｆ）、－１２０（４Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（４４Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１５ｃ－１）の数平均分子量：４，１９０。

（例１－６）
　１０ｍＬのＰＦＡ製サンプル管に、例１－５で得た化合物（１５ｃ－１）の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の０．０３ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の１．４３ｇ、アニリンの０．０１ｇ、１，３―ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５．０ｇを入れ、４０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１１ｃ－１）の５．８２ｇ（収率９９．１％）を得た。

　化合物（１１ｃ－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（１２Ｈ）、１．３～１．６（２４Ｈ）、３．４（４Ｈ）、３．７（５４Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４４Ｆ）、－１２０（４Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（４４Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１１ｃ－１）の数平均分子量：４，９２０。単位（α）の割合は、ｍ１＝１１、ｍ４＝１、ｍ５＝１０であるので、０．４５である。

［例２］
（例２－１）
　５０ｍＬのナスフラスコに、両末端にカルボキシ基を有し、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン鎖）の単位として（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）がランダムに結合したペルフルオロポリエーテル化合物（ソルベイソレクシス社製、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）ＺＤＩＡＣ４０００）の２０．０ｇ、メタノールの５．０ｇおよびＡＥ－３０００の２０ｇを入れ、５０℃で１２時間撹拌した。得られた反応混合物から溶媒等を留去し、ＡＥ－３０００の５０．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ－３０００）で精製し、化合物（４２－１）の１４．３ｇ（収率７１．０％）を得た。
　ＣＨ_３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ_２Ｏ｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（４２－１）

　化合物（４２－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（６Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５２～－５６（３８Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－８０（２Ｆ）、－８９～－９１（８４Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２０、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（４２－１）の数平均分子量：３，９９０。

（例２－２）
　例１－５の化合物（１２－１－１）を化合物（４２－１）の１０．０ｇに変更した以外は例１－５と同様にして、化合物（４５ｃ－１）の１０．３ｇ（収率９６．６％）を得た。

　化合物（４５ｃ－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（１２Ｈ）、３．４（４Ｈ）、５．２（１２Ｈ）、６．２～５．９（６Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５２～－５６（３８Ｆ）、－７７（２Ｆ）、－７９（２Ｆ）、－８９～－９１（８４Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２０、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（４５ｃ－１）の数平均分子量：４，２６０。

（例２－３）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（４５ｃ－１）の５．０ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（４１ｃ－１）の５．７８ｇ（収率９８．６％）を得た。

　化合物（４１ｃ－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（１２Ｈ）、１．３～１．６（２４Ｈ）、３．４（４Ｈ）、３．７（５４Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５２～－５６（３８Ｆ）、－７７（２Ｆ）、－７９（２Ｆ）、－８９～－９１（８４Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２０、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（４１ｃ－１）の数平均分子量：４，９９０。単位（α）の割合は、ｍ５＝ｍ６＝０であるので、０である。

［例３］
（例３－１）
　例１－１のＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨをＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨの１．５ｇに変更し、化合物（２１－１）の量を３５．０ｇに変更し、トリフルオロメタンスルホン酸の量を０．７０ｇに変更した以外は例１－１と同様にして、化合物（２２－３－１）の２４．４ｇ（収率６６．８％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（２２－３－１）

　化合物（２２－３－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：４．８（２２Ｈ）、４．０（４４Ｈ）、３．９（２Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７５（３Ｆ）、－１２１（４２Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（２２Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２２－３－１）の数平均分子量：２，５７０。

（例３－２）
　例１－２の化合物（２２－１）を化合物（２２－３－１）の２４．０ｇに変更し、フッ化ナトリウムの量を１．９６ｇに変更し、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの量を９．３２ｇに変更した以外は例１－２と同様にして、化合物（２３－３－１）の２６．３ｇ（収率９７．７％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２３－３－１）

　化合物（２３－３－１）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：４．８（２４Ｈ）、４．０（４２Ｈ）、３．９（２Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）　δ（ｐｐｍ）：－７５（３Ｆ）、－７９（１Ｆ）、－８１（３Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８６（１Ｆ）、－１２０（４４Ｆ）、－１２６（２２Ｆ）、－１２９（２Ｆ）、－１３２（１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２３－３－１）の数平均分子量：２，８８０。

（例３－３）
　例１－３の化合物（２３－１－１）を化合物（２３－３－１）の２０．０ｇに変更した以外は例１－３と同様にして、化合物（２４－３－１）の２８．２ｇ（収率９８．９％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２４－３－１）

　化合物（２４－３－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８０（１Ｆ）、－８１（３Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８４（２Ｆ）、－８５（４２Ｆ）、－８７（４Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２５（４２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１３３（１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１１、化合物（２４－３－１）の数平均分子量：４，１００。

（例３－４）
　例１－４の化合物（２４－１－１）を化合物（２４－３－１）の２７．０ｇに変更し、メタノールの量を１．０５ｇに変更した以外は例１－４と同様にして、化合物（１２－３－１）の２４．４ｇ（収率９８．０％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（１２－３－１）

　化合物（１２－３－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４２Ｆ）、－８７（３Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（４２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１２－３－１）の数平均分子量：３，７８０。

（例３－５）
　例１－５の化合物（１２－１－１）を化合物（１２－３－１）の１０．０ｇに変更し、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の量を０．５０ｇに変更した以外は例１－５と同様にして、化合物（１５ｃ－２）の９．９ｇ（収率９５．６％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（１５ｃ－２）

　化合物（１５ｃ－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（６Ｈ）、３．４（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、６．２～５．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４２Ｆ）、－８７（３Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（４２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１５ｃ－２）の数平均分子量：３，９１０。

（例３－６）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（１５ｃ－２）の５．０ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．０２ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の量を０．７８ｇに変更し、アニリンの量を０．００５ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（１１ｃ－２）の５．４５ｇ（収率９９．７％）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（１１ｃ－２）

　化合物（１１ｃ－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５１（２２Ｆ）、－８５（４２Ｆ）、－８７（３Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（４２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：１０、化合物（１１ｃ－２）の数平均分子量：４，２８０。単位（α）の割合は、ｍ１＝１１、ｍ５＝１０であるので、０．４８である。

［例４］
　国際公開第２０１７／３８８３０号の例１６に記載の方法によって化合物（４１ｃ－２）を得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（４１ｃ－２）

　化合物（４１ｃ－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５２～－５６（３８Ｆ）、－７８（２Ｆ）、－８０（２Ｆ）、－８９～－９１（８４Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：１９、化合物（４１ｃ－２）の数平均分子量：４，４８０。単位（α）の割合は、ｍ５＝ｍ６＝０であるので、０である。

［例５］
（例５－１）
　Ｊｏｕｎａｌ　ｏｆ　Ｆｌｕｏｒｉｎｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１２６巻，２００５年，ｐ．５２１－５２７に記載された方法において、ＨＯ（ＣＨ_２）_４ＯＨをＨＯ（ＣＨ_２）_６ＯＨに変更することによって、化合物（３１－２）を得た。
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_５Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（３１－２）

　化合物（３１－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８５（２Ｆ）、－１１４（１Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（３Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１３５（１Ｆ）。

（例５－２）
　特許文献１の例１－１に記載の方法によって化合物（３１－２）を還元して化合物（３２－２）を得た。
　ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＯＨ　（３２－２）

　化合物（３２－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：４．０（２Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８５（２Ｆ）、－１１４（１Ｆ）、－１２１（２Ｆ）、－１２２（３Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１３５（１Ｆ）。

（例５－３）
　特許文献１の例６に記載の方法によって化合物（３２－２）を重付加し、カラム精製して化合物（２２－６－１）を得た。
　ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（２２－６－１）

　化合物（２２－６－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１８Ｈ）、６．１（１０Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８６（２０Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２１（３８Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（２０Ｆ）、－１４５（１０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（２２－６－１）の数平均分子量：３，８１０。

（例５－４）
　例１－２の化合物（２２－１）を化合物（２２－６－１）の３０．０ｇに変更し、フッ化ナトリウム粉末の量を１．９６ｇに変更し、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの量を９．３２ｇに変更した以外は例１－２と同様にして、化合物（２３－６－１）の３２．１ｇ（収率９８．９％）を得た。
　ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２３－６－１）

　化合物（２３－６－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．４（１８Ｈ）、４．８（２Ｈ）、６．１（１０Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７９（１Ｆ）、－８１（３Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８６（２１Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２１（３８Ｆ）、－１２２（２０Ｆ）、－１２６（２０Ｆ）、－１２９（２Ｆ）、－１３１（１Ｆ）、－１４５（１０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（２３－６－１）の数平均分子量：４，１２０。

（例５－５）
　例１－３の化合物（２３－１－１）を化合物（２３－６－１）の２０．０ｇに変更した以外は例１－３と同様にして、化合物（２４－６－１）の２２．４ｇ（収率９７．９％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（２４－６－１）

　化合物（２４－６－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８０（１Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８３（２Ｆ）、－８５（３８Ｆ）、－８７（１Ｆ）、－９１（４０Ｆ）、－１２２（４０Ｆ）、－１２５（４０Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１３２（１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（２４－６－１）の数平均分子量：４，７２０。

（例５－６）
　例１－４の化合物（２４－１－１）を化合物（２４－６－１）の２２．０ｇに変更し、メタノールの量を０．７５ｇに変更した以外は例１－４と同様にして、化合物（１２－６－１）の２０．２ｇ（収率９８．５％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（１２－６－１）

　化合物（１２－６－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８５（３８Ｆ）、－９１（４０Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（３８Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２５（３８Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（１２－６－１）の数平均分子量：４，４００。

（例５－７）
　例１－５の化合物（１２－１－１）を化合物（１２－６－１）の１０．０ｇに変更し、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の量を０．４５ｇに変更した以外は例１－５と同様にして、化合物（１５ｃ－３）の９．６ｇ（収率９６．１％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（１５ｃ－３）

　化合物（１５ｃ－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（６Ｈ）、３．４（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、６．２～５．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８５（３８Ｆ）、－９１（４０Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（３８Ｆ）、－１２５（４０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（１５ｃ－３）の数平均分子量：４，５３０。

（例５－８）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（１５ｃ－３）の５．０ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．０２ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の量を０．６７ｇに変更し、アニリンの量を０．００５ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（１１ｃ－３）の５．３２ｇ（収率９８．４％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（１１ｃ－３）

　化合物（１１ｃ－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８５（３８Ｆ）、－９１（４０Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（３８Ｆ）、－１２５（４０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（１１ｃ－３）の数平均分子量：４，９００。単位（α）の割合は、ｍ２＝１１、ｍ６＝１０であるので、０．４８である。

［例６］
（例６－１）
　国際公開第２０１７／３８８３０号の例１１に記載の方法によって化合物（４１ｃ－３）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（４１ｃ－３）
　単位数ｘ３の平均値：１４、化合物（４１ｃ－３）の数平均分子量：５，２７０。単位（α）の割合は、ｍ５＝ｍ６＝０であるので、０である。

［例７～１２：物品の製造および評価］
　例１～６で得た各化合物を用いて基材の表面処理を行い、例７～１２の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。

（ドライコーティング法）
　ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ－３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１～６、１３～１６で得た各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ－２２５）にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する物品を得た。

（ウェットコーティング法）
　例１～６、１３～１６で得た各化合物と、媒体としてのＣ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する物品を得た。

（評価方法）
　＜接触角の測定方法＞
　表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

　＜初期接触角＞
　表面層について、初期水接触角および初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
　初期水接触角：
　◎（優）　：１１５度以上。
　○（良）　：１１０度以上１１５度未満。
　△（可）　：１００度以上１１０度未満。
　×（不可）：１００度未満。
　初期ｎ－ヘキサデカン接触角：
　◎（優）　：６６度以上。
　○（良）　：６５度以上６６度未満。
　△（可）　：６３度以上６５度未満。
　×（不可）：６３度未満。

　＜耐摩擦性（スチールウール）＞
　表面層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
　○（良）　：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
　△（可）　：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
　×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。

　＜耐摩擦性（消しゴム）＞
　表面層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、Ｒｕｂｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）を荷重：４．９Ｎ、速度：６０ｒｐｍで３万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
　○（良）　：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
　△（可）　：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
　×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。

　＜指紋汚れ除去性＞
　人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ－３）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：拭き取り回数が３回以下。
　○（良）　：拭き取り回数が４～５回。
　△（可）　：拭き取り回数が６～８回。
　×（不可）：拭き取り回数が９回以上。

　＜耐光性＞
　表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ　ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ^２、３００～７００ｎｍ）を１，０００時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度以下。
　○（良）　：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
　△（可）　：促進耐光試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
　×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超。

　＜潤滑性＞
　人工皮膚（出光テクノファイン社製、ＰＢＺ１３００１）に対する表面層の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学社製、ＨＨＳ２０００）を用い、接触面積：３ｃｍ×３ｃｍ、荷重：０．９８Ｎの条件で測定した。動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：動摩擦係数が０．２以下。
　○（良）　：動摩擦係数が０．２超０．３以下。
　△（可）　：動摩擦係数が０．３超０．４以下。
　×（不可）：動摩擦係数が０．４超。

　本化合物を用いた例７、９および１１は、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、耐光性に優れていることを確認した。
　（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）からなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の両末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物（４１ｃ－１）を用いた例８は、初期の撥油性、耐摩擦性、耐光性に劣っていた。
　（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）からなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の片末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物（４１ｃ－２）を用いた例１０は、耐摩擦性、耐光性に劣っていた。
　（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）からなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の片末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物（４１ｃ－３）を用いた例１２は、耐摩擦性、耐光性に劣っていた。

［例１３］
（例１３－１）
　５００ｍＬの３つ口フラスコに、ＨＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨの４０ｇ、４８％ＫＯＨ水溶液の５９ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールの６８ｇ、イオン交換水６１ｇをいれ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ＝ＣＦ_２の２３ｇを加えた。窒素雰囲気下、撹拌した。希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収し、減圧下で濃縮することによって、粗生成物（５１－１）の２７ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨＦ－ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ　（５１－１）

化合物（５１－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．３（４Ｈ）、１．７（４Ｈ）、２．５（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、３．９（２Ｈ）、５．８（１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８２（３Ｆ）、－８４～８７（２Ｆ）、－８９（２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１４６（１Ｆ）

（例１３－２）
　５００ｍＬの３つ口フラスコに、例１３－１で得た化合物（５１－１）の２９ｇ、ＡＥ－３０００の２９４ｇ、トリエチルアミンの１２ｇを入れ、ｐ－トルエンスルホン酸クロリドの１９ｇを加えた。窒素雰囲気下、撹拌した。希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。エバポレータで濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、生成物（５１－２）の１８ｇを得た。（ＯＴｓ＝－Ｏ－ＳＯ_２－Ｐｈ－ＣＨ_３）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨＦ－ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＴｓ　（５１－２）

化合物（５１－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．３（４Ｈ）、１．７（４Ｈ）、２．５（３Ｈ）、３．９（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、５．８（１Ｈ）、７．１～７．８（４Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８２（３Ｆ）、－８４～８７（２Ｆ）、－８９（２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１４６（１Ｆ）

（例１３－３）
　３００ｍＬの３つ口フラスコに、例１３－２で得た化合物（５１－２）の４ｇ、化合物（６０－１）（ソルベイソレクシス社製、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ（登録商標）Ｄ４０００）の３１ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１６０ｇを入れ、炭酸セシウムの１２ｇを加えた。窒素雰囲気下、７０℃で撹拌した。固体をろ過後、水で洗浄し、有機相を回収した。減圧下で濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、生成物（５１－３）の９ｇを得た。
　ＨＯ－ＣＨ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－ＣＨ_２－ＯＨ　（６０－１）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨＦ－ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－ＣＨ_２－ＯＨ　（５１－３）

化合物（５１－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．３（４Ｈ）、１．７（４Ｈ）、２．５（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、３．８（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、５．８（１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９（１Ｆ）、－８０（１Ｆ）、－８１（１Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８４（１Ｆ）、－８５～－８８（２Ｆ）、－８９～－９１（８２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１４６（１Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－３）の数平均分子量：４，０５０。

（例１３－４）
　１００ｍＬのナスフラスコに、化合物（５１－３）の１２ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２．３ｇを入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの９．３ｇを加えた。窒素雰囲気下、撹拌した。ろ過でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆを減圧留去し、化合物（５１－４）の１２ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨＦ－ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－ＣＨ_２－ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５１－４）

　化合物（５１－４）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．３（４Ｈ）、１．７（４Ｈ）、２．５（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、４．７（２Ｈ）、５．８（１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９～－８８（１６Ｆ）、－８９～－９１（８２Ｆ）、－１３０（４Ｆ）、－１３３（２Ｆ）、－１４６（１Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－４）の数平均分子量：４，４５０。

（例１３－５）
　１Ｌのニッケル製オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
　オートクレーブにＣｌＣＦ_２ＣＦＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（以下、ＣＦＥ－４１９とも記す。）の７５０ｇを入れ、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物（５１－４）の６．０ｇをＣＦＥ－４１９の５４ｇに溶解した溶液を、１時間かけて注入した。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分間撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（５１－５）の５．７ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５１－５）

　化合物（５１－５）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９～－８８（２０Ｆ）、－８９～－９１（９０Ｆ）、－１２１（４Ｆ）、－１２４（４Ｆ）、－１３０（４Ｆ）、－１３３（１Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－５）の数平均分子量：４，５５０。

（例１３－６）
　ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物（５１－５）の５．７ｇおよびＡＫ－２２５の１０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの１０ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（５１－６）の５．３ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（５１－６）

　化合物（５１－６）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９～－８８（１０Ｆ）、－８９～－９１（９０Ｆ）、－１２１（４Ｆ）、－１２４（４Ｆ）、－１３０（２Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－６）の数平均分子量：４，２００。

（例１３－７）
　５０ｍＬのナスフラスコに、例１３－６で得た化合物（５１－６）の４．７ｇ、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．３ｇおよびＡＣ－６０００の１０ｇを入れ、１２時間撹拌した。得られた反応混合物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物（５１－７）の３．１ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（５１－７）

　化合物（５１－７）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（６Ｈ）、３．４（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、５．９～６．２（３Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９～－８８（１０Ｆ）、－８９～－９１（９０Ｆ）、－１２１（４Ｆ）、－１２４（４Ｆ）、－１３０（２Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－７）の数平均分子量：３，７００。

（例１３－８）
　１０ｍＬのＰＦＡ製サンプル管に、例１３－７で得た化合物（５１－７）の１．５ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の０．０２ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．５２ｇ、アニリンの０．０１ｇ、ＡＣ－６０００の２．３ｇを入れ、４０℃で撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（５１－８）の１．５ｇを得た。
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２Ｏ）｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２｝－ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３　（５１－８）

　化合物（５１－８）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：　－５２～－５６（４２Ｆ）、－７９～－８８（１０Ｆ）、－８９～－９１（９０Ｆ）、－１２１（４Ｆ）、－１２４（４Ｆ）、－１３０（２Ｆ）。
　単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５１－８）の数平均分子量：３，７００。単位（α）の割合は、ｍ１＝２１、ｍ２＝２２、ｍ６＝１であるので、０．０２である。

［例１４］
（例１４－１）
　５０ｍＬの３つ口フラスコに、メタノールの２５ｇ、炭酸カリウムの０．５ｇをいれ、化合物（３２－２）の８ｇを加え、常温にて１２ｈ撹拌した。濃縮後希塩酸水溶液で洗浄し、有機相を回収し、濃縮することによって、生成物（５２－１）の８ｇを得た。
ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ　（５２－１）
化合物（５２－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．１（２Ｈ）、６．０（１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８５（２Ｆ）、－９３（２Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２４（２Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１４５（１Ｆ）。

（例１４－２）
　メタノール付加体として化合物（５２－１）を用いた以外は特許文献１に記載の方法によって重付加し、カラム精製して化合物（５２－２）を得た。
ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（５２－２）
化合物（５２－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（２０Ｈ）、６．１（１１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８６（２０Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２０（２Ｆ）－１２１（２０Ｆ）、－１２２（２Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１２８（２２Ｆ）－１４５（１１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（５２－２）の数平均分子量：３，１９０。

（例１４－３）
　例１－２の化合物（２２－１）を化合物（５２－２）の２２ｇに変更し、フッ化ナトリウム粉末の量を４．３ｇに変更し、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの量を１１．５ｇに変更した以外は例１－２と同様にして、化合物（５２－３）の２４ｇ（収率９７．３％）を得た。
ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５２－３）

　化合物（５２－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．４（２０Ｈ）、４．８（２Ｈ）、６．１（１１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７９（１Ｆ）、－８１（３Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８６（２１Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２０（２Ｆ）－１２１（２２Ｆ）、－１２２（２Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（２Ｆ）、－１２８（２２Ｆ）、－１３１（２Ｆ）、－１３３（１Ｆ）、－１４５（１１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（５２－３）の数平均分子量：３５００。

（例１４－４）
　例１－３の化合物（２３－１－１）を化合物（５２－３）の２０．０ｇに変更した以外は例１－３と同様にして、化合物（５２－４）の２３．４ｇ（収率９８．８％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５２－４）
　化合物（５２－４）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８０（１Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８４（２Ｆ）－８５（３８Ｆ）、－８７（３Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－８９（２Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１３２（１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：１０、化合物（５２－４）の数平均分子量：４，１５０。

（例１４－５）
　例１－４の化合物（２４－１－１）を化合物（５２－４）の４．０ｇに変更し、メタノールの量を０．３４ｇに変更した以外は例１－４と同様にして、化合物（５２－５）の３．６ｇ（収率９４．８％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（５２－５）
　化合物（５２－５）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８４（４０Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２３（４Ｆ）、－１２４（３８Ｆ）－１２５（２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５２－５）の数平均分子量：３８３０。

（例１４－６）
　例１－５の化合物（１２－１－１）を化合物（５２－５）の３．６ｇに変更し、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の量を０．４６ｇに変更した以外は例１－５と同様にして、化合物（５２－６）の２．９ｇ（収率７８．４％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（５２－６）
　化合物（５２－６）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（６Ｈ）、３．４（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、６．２～５．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８１（２Ｆ）、－８３（２Ｆ）、－８４（３８Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）。－１２６（４０Ｆ）
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５２－６）の数平均分子量：３９６０。

（例１４－７）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（５２－６）の２．９ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．００８ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の量を０．３０ｇに変更し、アニリンの量を０．００３ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（５２－７）の２．７１ｇ（収率９９．１％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（５２－７）

　化合物（５２－７）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８１（２Ｆ）、－８３（２Ｆ）、－８４（３８Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）。－１２６（４０Ｆ）
　単位数ｘ３の平均値：９、化合物（５２－７）の数平均分子量：４，３２０。単位（α）の割合は、ｍ２＝１１、ｍ４＝９、ｍ６＝１であるので、０．０５である。

［例１５］
（例１５－１）
　アルミホイルで遮光した５００ｍＬのナスフラスコに、ピリチオンナトリウムの１．２ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（商品名ＳＲ－ソルベント）の５０ｇを入れ、氷冷下撹拌した。次いで、例１４－４で得た合成した化合物（５２－４）の１０．０ｇをゆっくり添加し、氷冷のまま２時間撹拌した。ヨウ素の２．７ｇ、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（商品名Ｖ－５９）の０．４ｇを入れ、遮光していたアルミホイルを取り除き、８５℃で一晩撹拌した。温度を２５℃室温に戻し、メタノールを加え充分撹拌した後、ＡＣ－６０００を加え２層分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物（５３－１）を７．９ｇ（収率８５％）で得た。
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ　（５３－１）

　化合物（５３－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）　δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－５８（２Ｆ）、－８１（２Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８８（４２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）、－１２６（３８Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５３－１）の数平均分子量：３，８２０。

（例１５－２）
　５０ｍＬのナスフラスコに例１５－１で得た化合物（５３－１）の７．９ｇ、アゾ系開始剤ＡＩＢＮ（商品名、和光純薬工業社製）の０．０１７ｇ、アリルトリブチルスズの４．１ｇ、およびＳＲ－ソルベントの７．９ｇを入れ、８５℃にて１２時間撹拌した。反応粗液をヘキサンおよびアセトンで洗浄し、下層を回収した。回収した下層をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮することによって化合物（５３－２）を６．９ｇ（収率８７％）で得た。
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２　（５３－２）

　化合物（５３－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．８（２Ｈ）、５．５（２Ｈ）、５．８（１Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）　δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８８（４０Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１４（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）、－１２６（３８Ｆ）、－１２７（２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５３－２）の数平均分子量：３，８１０。

（例１５－３）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（５３－２）の６．７ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．０２３ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３をＨＳｉＣｌ_３の２．３８ｇに変更し、アニリンを無くした以外は例１－６と同様にして、化合物（５３－３）の７．４ｇ（収率９９．３％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３（５３－３）

（例１５－４）
　５０ｍＬのナスフラスコに例１５－３で得た化合物（５３－３）の７．４ｇと、ＡＣ－２０００の７．４ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、アリルマグネシウムクロリド（１．０ｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン溶液）の１０．５ｍＬをゆっくり滴下した。室温に戻し、１２時間撹拌した後希塩酸水溶液を加え、充分撹拌したのちＡＣ－２０００を加え２相分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮することによって化合物（５３－４）の５．３ｇ（収率７１．９％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（５３－４）

　化合物（５３－４）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．９（２Ｈ）、１．７（６Ｈ）、１．９（２Ｈ）、２．３（２Ｈ）、５．０（６Ｈ）、６．０（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）　δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８８（４０Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１４（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）、－１２６（３８Ｆ）、－１２７（２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５３－４）の数平均分子量：４，２１０。

（例１５－５）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（５３－４）の２．０ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．００７ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の量を０．２３ｇに変更し、アニリンの量を０．００２ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（５３－５）の２．２ｇ（収率９９．３％）を得た。
　ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３　（５３－５）

　化合物（５３－５）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．８（１４Ｈ）、１．６（８Ｈ）、２．１（２Ｈ）、３．６（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）　δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８８（４０Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１４（２Ｆ）、－１２２（４Ｆ）、－１２５（４Ｆ）、－１２６（３８Ｆ）、－１２７（２Ｆ）。
　単位数ｘ３－１の平均値：９、化合物（５３－５）の数平均分子量：４，５７０。単位（α）の割合は、ｍ２＝１１、ｍ４＝９、ｍ６＝１であるので、０．０５である。

［例１６］
（例１６－１）
　メタノール付加体の量を３ｇに変更し、化合物（３２－２）の量を５．５ｇに変更し、水酸化カリウムを炭酸カリウムの１．０ｇに変更した以外は特許文献１の例６に記載の方法によって化合物（３２－２）を重付加し、カラム精製して化合物（５４－１）を得た。
　ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３Ｈ　（５４－１）
化合物（５４－１）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１８Ｈ）、６．１（１０Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８６（６Ｆ）、－９１（６Ｆ）、－１２１（４Ｆ）、－１２２（６Ｆ）、－１２３（２Ｆ）、－１２６（６Ｆ）、－１４５（３Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：３、化合物（５４－１）の数平均分子量：１，１７０。

（例１６－２）
　メタノール付加体を化合物（５４－１）の６．６ｇに変更し、化合物（３２－２）を５．５ｇに変更し、化合物（１１ａ）の量を１１．７ｇに変更し、水酸化カリウムを炭酸カリウムの０．７ｇに変更した以外は特許文献１の例６に記載の方法によって化合物（１１ａ）を重付加し、カラム精製して化合物（５４－２）を得た。
　ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ４Ｈ　（５４－２）
化合物（５４－２）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１８Ｈ）、６．１（１０Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８６（２０Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２０（６Ｆ）－１２１（１４Ｆ）、－１２２（６Ｆ）、－１２３（８Ｆ）、－１２６（６Ｆ）、－１２８（－１４Ｆ）－１４５（１０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４の平均値：７、化合物（５４－２）の数平均分子量：３，１１０。

（例１６－３）
　例１－２の化合物（２２－１）を化合物（５４－２）の７．６ｇに変更し、フッ化ナトリウム粉末の量を１．５ｇに変更し、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｆの量を４．０ｇに変更した以外は例１－２と同様にして、化合物（５４－３）の８．２ｇ（収率９７．９％）を得た。
　ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＨＦＯ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘ４Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５４－３）
　化合物（５４－３）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．４（２０Ｈ）、４．８（２Ｈ）、６．１（１０Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７９（１Ｆ）、－８１（３Ｆ）、－８２（３Ｆ）、－８６（２１Ｆ）、－９１（２０Ｆ）、－１２０（６Ｆ）－１２１（１４Ｆ）、－１２２（６Ｆ）、－１２３（６Ｆ）、－１２６（６Ｆ）、－１２８（－１４Ｆ）、－１３１（２Ｆ）、－１３３（１Ｆ）、－１４５（１０Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４の平均値：７、化合物（５４－３）の数平均分子量：３４３０。

（例１６－４）
例１－３の化合物（２３－１－１）を化合物（５４－３）の８．２ｇに変更した以外は例１－３と同様にして、化合物（５４－４）の９．５ｇ（収率９８．６％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３　（５４－４）
　化合物（５４－４）のＮＭＲスペクトル；
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８０（１Ｆ）、－８２（６Ｆ）、－８３（４０Ｆ）、－８４（２Ｆ）－８５（３８Ｆ）、－８７（３Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－８９（２Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２２（１２Ｆ）、－１２５（４２Ｆ）、－１３０（２Ｆ）、－１３２（１Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４の平均値：７、化合物（５４－４）の数平均分子量：４，０４０。

（例１６－５）
　例１－４の化合物（２４－１－１）を化合物（５４－４）の４．０ｇに変更し、メタノールの量を０．４ｇに変更した以外は例１－４と同様にして、化合物（５４－５）の３．７ｇ（収率９９．５％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３　（５４－５）
　化合物（５４－５）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８４（４０Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１１８（２Ｆ）、－１２２（１２Ｆ）、－１２３（１２Ｆ）、－１２４（－２６Ｆ）－１２５（２Ｆ）。
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４－１の平均値：６、化合物（５４－５）の数平均分子量：３７６０。

（例１６－６）
　例１－５の化合物（１２－１－１）を化合物（５４－５）の３．７ｇに変更し、Ｈ_２ＮＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の量を０．４７ｇに変更した以外は例１－５と同様にして、化合物（５４－６）の２．９ｇ（収率７５．６％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３　（５４－６）
　化合物（５４－６）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：２．１（６Ｈ）、３．４（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、６．２～５．９（３Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８１（２Ｆ）、－８３（２Ｆ）、－８４（３８Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（１２Ｆ）、－１２５（１２Ｆ）。－１２６（２８Ｆ）
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４－１の平均値：６、化合物（５４－６）の数平均分子量：３８９０。

（例１６－７）
　例１－６の化合物（１５ｃ－１）を化合物（５４－６）の２．９ｇに変更し、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：３％）の量を０．００８ｇに変更し、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の量を０．３０ｇに変更し、アニリンの量を０．００３ｇに変更した以外は例１－６と同様にして、化合物（５４－７）の２．６８ｇ（収率９８．６％）を得た。
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ３（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ４－１ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３　（５４－７）

　化合物（５４－７）のＮＭＲスペクトル；
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３～１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８１（２Ｆ）、－８３（２Ｆ）、－８４（３８Ｆ）、－８９（４０Ｆ）、－９１（２Ｆ）、－１２０（２Ｆ）、－１２２（１２Ｆ）、－１２５（１２Ｆ）。－１２６（２８Ｆ）
　単位数ｘ３の平均値：３、単位数ｘ４－１の平均値：６、化合物（５４－７）の数平均分子量：４２５０。単位（α）の割合は、ｍ２＝１０、ｍ４＝６、ｍ６＝３であるので、０．１６である。

［例１７～２０：物品の製造および評価］
　例１３～１６で得た各化合物を用いて基材の表面処理を行い、例１７～２０の物品を得た。表面処理方法として、各例について例７～１２と同様のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、前記例７～１２と同様の方法で評価した。結果を表２に示す。
　表２に示すように、例１７～２０の含フッ素ポリエーテル化合物は、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、耐光性に優れていることを確認した。

　本発明の含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
　なお、２０１７年０５月２６日に出願された日本特許出願２０１７－１０４７３１号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

　炭素数５または６のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（α）と、炭素数４以下のオキシペルフルオロアルキレン単位である単位（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基およびシラノール基の少なくとも一方を有する、含フッ素エーテル化合物。
　前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖において、前記単位（α）と前記単位（β）の合計数に対する前記単位（α）の数の割合が０．０２～０．５である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が、前記単位（α）と前記単位（β）とが交互に配置されている構造を含む、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記単位（α）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、請求項１～３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記単位（β）が、（ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、請求項１～４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
　下式（１１）で表される化合物である、請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
　Ａ^１－Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｂ^１　（１１）
　ただし、
　　Ａ^１は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１であり、
　　Ｒ^ｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数であり、
　　Ｂ^１は、－Ｑ［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、
　　Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数であり、
　　ｋは、１～１０の整数である。
　前記Ｂ^１が、下式（ｇ１）～（ｇ７）のいずれかで表される基である、請求項６に記載の含フッ素エーテル化合物。
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^１）_ｐ－Ｑ^１－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ　（ｇ１）
　－Ｒ^ｆ７－（Ｘ^２）_ｒ－Ｑ^２１－Ｎ［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ２）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３１）］_ｓ－Ｑ^３１－（Ｏ）_ｔ－Ｃ［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ３）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^４１－Ｓｉ［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_３　（ｇ４）
　－Ｒ^ｆ７－［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５）］_ｖ－Ｑ^５１－Ｚ［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｗ
　（ｇ５）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^６１－Ｇ（Ｒ^６）［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_２　（ｇ６）
　－Ｒ^ｆ７－Ｑ^７１－［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ）］_ｙ－Ｒ^７２　（ｇ７）
　ただし、
　　Ｒ^ｆ７は、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数である。
　式（ｇ１）において、
　　Ｘ^１は、エーテル性酸素原子または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１）－（ただし、ＮはＱ^１に結合する。）であり、
　　Ｒ^１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｐは、０または１であり、
　　Ｑ^１は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｘ^１）_ｐと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基である。
　式（ｇ２）において、
　　Ｘ^２は、エーテル性酸素原子、－ＮＨ－または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）－（ただし、ＮはＱ^２１に結合する。）であり、
　　Ｒ^２は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｒは、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）であり、
　　Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－もしくは－ＯＣ（Ｏ）－を有する基であり、
　　Ｑ^２２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－ＮＨ－もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　２個の［－Ｑ^２２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ３）において、
　　Ｒ^３１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｓは、０または１であり、
　　Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　ｔは、０または１（ただし、Ｑ^３１が単結合の場合は０である。）であり、
　　ｕは、０または１であり、
　　Ｑ^３２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間もしくは（Ｏ）_ｕと結合する側の末端に－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^３２）－、２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基であり、
　　Ｒ^３２は、水素原子またはアルキル基であり、
　　３個の［－（Ｏ）_ｕ－Ｑ^３２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ４）において、
　　Ｑ^４１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｑ^４２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　３個の［－Ｑ^４２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ５）において、
　　Ｒ^５は、水素原子またはアルキル基であり、
　　ｖは、０または１であり、
　　Ｑ^５１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｚは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基であり、
　　Ｑ^５２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　ｗは、２～７の整数であり、
　　ｗ個の［－Ｑ^５２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ６）において、
　　Ｑ^６１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｇは、炭素原子またはケイ素原子であり、
　　Ｒ^６は、水酸基またはアルキル基であり、
　　Ｑ^６２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、
　　２個の［－Ｑ^６２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式（ｇ７）において、
　　Ｑ^７１は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
　　Ｒ^７１は、水素原子またはアルキル基であり、
　　Ｑ^７２は、単結合またはアルキレン基であり、
　　Ｒ^７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、
　　ｙは、１～１０の整数であり、
　　２～１０個の［－Ｑ^７２－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　前記式（１１）において、Ａ^１が炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、すべての（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）の位置がＡ^１-Ｏ－側から数えて［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目よりもＡ^１-Ｏ－側にある、請求項６または７に記載の含フッ素エーテル化合物。
　下式（１０）で表される化合物である、請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
　［Ａ^１０－Ｏ－｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６｝］_ｊ－Ｂ^１０　（１０）
　ただし、
　　Ａ^１０は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基またはＢ^１０であり、
　　Ｒ^ｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、
　　Ｒ^ｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基であり、
　　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ、０または１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１以上の整数であり、ｍ５＋ｍ６は１以上の整数であり、かつｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は２～２００の整数であり、
　　ｊは２～１０の整数であり、
　　Ｂ^１０は、Ｑ^１０［－ＳｉＲ_ｎＬ_３－ｎ］_ｋであり、
　　Ｑ^１０は、（ｋ＋ｊ）価の連結基であり、
　　Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基であり、
　　Ｌは、加水分解性基または水酸基であり、
　　ｎは、０～２の整数であり、
　　ｋは、１～１０の整数である。
　前記式（１０）において、Ａ^１０が炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、すべての（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）の位置がＡ^１０－Ｏ－側から数えて［０．５×（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６）］番目よりもＡ^１０－Ｏ－側にある、請求項９に記載の含フッ素エーテル化合物。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む、含フッ素エーテル組成物。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項１１に記載の含フッ素エーテル組成物と、
　液状媒体とを含む、コーティング液。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項１１に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項１１に記載の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面層を前記基材の表面に形成する、物品の製造方法。
　ウェットコーティング法によって請求項１２に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、液状媒体を除去して、表面層を前記基材の表面に形成する、物品の製造方法。