JP6127986B2

JP6127986B2 - 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法

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Description

本発明は、基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物またはコーティング液に関する。本発明は、該化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液を用いて、表面処理層を有する基材を製造する方法および該方法によって製造された表面処理層を有する基材に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。該表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。該含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。

該含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。

含フッ素エーテル化合物としては、具体的には、下記（１）〜（４）の含フッ素エーテル化合物が知られている。
（１）（ＣＦ_２Ｏ）単位と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位とがランダムに連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献１）。
（２）（ＣＦ_２Ｏ）単位、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位および（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）単位からなる群より選択される２種以上の単位がランダムに連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献２〜５）。
（３）（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位または（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）単位のみが連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献６、７）。
（４）（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位のみが連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献８）。

特許第４１３８９３６号公報特表２００８−５３４６９６号公報国際公開第２０１１／０６００４７号国際公開第２０１１／０５９４３０号特許第２８７４７１５号公報特開２０００−１４４０９７号公報特開平１１−０２９５８５号公報特表２００２−５０６８８７号公報

本発明者らの知見によれば、（１）の含フッ素エーテル化合物は、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が比較的良好であるものの、繰り返し摩擦される前の初期の撥水撥油性が不充分なことがある。
（２）の含フッ素エーテル化合物は、（１）の含フッ素エーテル化合物に比べ初期の撥水撥油性が改善されているものの、いまだ不充分なことがあり、耐摩擦性、指紋汚れ除去性は（１）の含フッ素エーテル化合物より劣る。
（３）、（４）の含フッ素エーテル化合物は、初期の撥水撥油性に優れるものの、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が不充分である。

本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液の提供を目的とする。
本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材およびその製造方法の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［１３］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法である。

［１］炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種の３つ以上からなるブロック（α）と、炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種を有し、かつ該炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の割合がブロック（β）を構成する全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの３０モル％以上であるブロック（β）とが連結した、ブロック（α）−ブロック（β）なる構造またはブロック（β）−ブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物であり、下式（１）で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ ^ｆ１Ｏ） _ｘ１｝｛（Ｒ ^ｆ２Ｏ） _ｘ２（Ｒ ^ｆ３Ｏ） _ｘ３｝］−Ｂ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｘ１：３以上の整数である。
ｘ２〜ｘ３：ｘ２は０または１以上の整数であり、ｘ３は１以上の整数であり、ｘ３／（ｘ２＋ｘ３）×１００は３０以上である。
Ｒ ^ｆ１：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ ^ｆ２：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ ^ｆ３：炭素数４〜１５のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−４）で表される基。
−Ｒ ^ｆ４ＣＸ _２Ｏ（ＣＨ _２） _３ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−１）、
−Ｒ ^ｆ４ＣＸ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＣＨ _３）−ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−２）、
−Ｒ ^ｆ４Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ _ｋＨ _２ｋ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−３）、
−Ｒ ^ｆ４（ＣＨ _２） _２ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−４）。
ただし、式（２−１）〜（２−４）中の記号は下記の通りである。
Ｒ ^ｆ４：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基またはイソシアナート基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。

［２］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）がブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、前記加水分解性シリル基が連結基を介して前記ブロック（β）の酸素原子に結合している、［１］の含フッ素エーテル化合物。

［３］数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
［４］前記ブロック（β）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位を有する、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。

［５］前記［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。

［６］前記［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
［７］前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、ならびに、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、［６］のコーティング液。

［８］前記［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［５］の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［９］前記［６］または［７］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［１０］前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、［９］の表面処理層を有する基材の製造方法。
［１１］前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、［８］〜［１０］のいずれかの表面処理層を有する基材の製造方法。

［１２］前記［５］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
［１３］前記［５］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。

本発明の含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。
本発明の表面処理層を有する基材は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する。
本発明の表面処理層を有する基材の製造方法によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材を製造できる。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物、前駆体も同様に記す。
本発明における主鎖とは、該主鎖以外のすべての分子鎖が側鎖と見なされるような線状分子鎖である。
本発明における加水分解性シリル基とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基である。たとえば式（１）中の−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍである。
本発明におけるエーテル性酸素原子とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子である。
本発明における連結基は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）と加水分解性シリル基とを連結するための基であり、たとえば式（１）中のＢから−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍを除いた基であり、該基自体が前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。なお、以下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を「鎖（αβ）」ともいう。

本発明における含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＴＭＳ）および^１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＣＦＣｌ_３）によって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（１）中のＡまたはＢである。

本発明において、オキシペルフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。ブロック（α）とブロック（β）は、いずれも、オキシペルフルオロアルキレン単位の繰り返しからなる２価の基であり、両末端の一方は炭素原子に結合した結合手であり、他方は酸素原子の結合手である。これらブロックの化学式は末端の酸素原子を右側に記載して表すものとする。上記ブロックが連結してなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）も線状の２価の基であり、両末端の一方は炭素原子に結合した結合手（この結合手を有する炭素原子を末端炭素原子と記す。）であり、他方は酸素原子の結合手（この結合手を有する酸素原子を末端酸素原子と記す。）である。ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の化学式も末端酸素原子を右側に記載して表すものとする。

本発明における表面処理層とは、本発明の含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液で基材を表面処理することによって、基材の表面に形成される層である。

［含フッ素エーテル化合物］
本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、本化合物と記す。）は、ブロック（α）−ブロック（β）なる構造を有する化合物であるか、または、ブロック（β）−ブロック（α）−ブロック（β）なる構造を有する化合物である。以下、前者を第１の態様の本化合物といい、後者を第２の態様の本化合物という。

本化合物は、鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する。鎖（αβ）は主鎖に有することが好ましい。連結基に結合する加水分解性シリル基の数は２以上であってもよく、１〜３であることが好ましく、１または２がより好ましく、１であることが特に好ましい。連結基は鎖（αβ）側に結合する結合手を１つ、加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手を１つ以上有する多価の基であり、連結基に結合する加水分解性シリル基の数が１の場合には連結基は２価の基である。連結基の鎖（αβ）側に結合する結合手は、連結基が鎖（αβ）の末端酸素原子に結合する場合は炭素原子の結合手であり、連結基が鎖（αβ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子の結合手である。連結基の加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手は、炭素原子の結合手である。

本化合物が鎖（αβ）の一方の末端側に連結基を介した加水分解性シリル基を有しない場合、その末端には１価の有機基を有する。１価の有機基が鎖（αβ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子を介して結合する。１価の有機基が鎖（αβ）の末端酸素原子に結合する場合は、１価の有機基は末端が炭素原子である有機基が好ましい。該有機基としては、ペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキル基が好ましい。

（第１の態様）
本発明の本化合物の第１の態様は、炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種の３つ以上からなるブロック（α）と、炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種を有し、かつ該炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の割合がブロック（β）を構成する全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの３０モル％以上であるブロック（β）とが連結した、ブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物である。鎖（αβ）は主鎖に有することが好ましい。

本化合物は、鎖（αβ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。
本化合物は、鎖（αβ）の一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよく、鎖（αβ）の両方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよい。表面処理層に耐摩擦性を充分に付与する点からは、鎖（αβ）の一方の末端側のみに加水分解性シリル基を有することが好ましい。
本化合物は、単一化合物であってもよく、鎖（αβ）、末端基、連結基等が異なる２種類以上の混合物であってもよい。

ブロック（α）は、炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位の３つ以上からなるブロックである。該ブロックは、炭素数が同じ１種のオキシペルフルオロアルキレン単位のみから構成されていてもよく、炭素数が異なる２〜３種のオキシペルフルオロアルキレン単位から構成されていてもよい。

ブロック（β）は、炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位を有し、かつ該炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の割合がブロック（β）を構成する全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの３０モル％以上であるブロックである。該ブロックは、炭素数が同じ１種のオキシペルフルオロアルキレン単位のみから構成されていてもよく、炭素数が異なる２種以上のオキシペルフルオロアルキレン単位から構成されていてもよい。また、該ブロックは、炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位を有していてもよい。
ブロック（β）としては、表面処理層に充分に高い初期の撥水撥油性を付与できる点から、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位を有するものが好ましい。

本化合物は、ブロック（α）を有することによって表面処理層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れ、ブロック（β）を有することによって表面処理層の初期の撥水撥油性に優れる。

本化合物は、鎖（αβ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、鎖（αβ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性にさらに優れる。

第１の態様の本化合物は、鎖（αβ）において、加水分解性シリル基が連結基を介してブロック（β）の酸素原子に結合している化合物が好ましい。言い換えれば、ペルフルオロアルキル基がブロック（α）の炭素原子に酸素原子を介して結合している化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における耐摩擦性、指紋汚れ除去性にさらに優れる。この理由は、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与するブロック（α）が表面処理層の表面に近い側に存在できるためと考えられる。

本化合物は、末端にペルフルオロアルキル基を有することによって、表面処理層における初期の撥水撥油性がさらに優れる。

（第２の態様）
本化合物の第２の態様は、炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種の３つ以上からなるブロック（α）と、炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種を有し、かつ該炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の割合がブロック（β）を構成する全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの３０モル％以上であるブロック（β）とが連結した、ブロック（β）−ブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物である。

本化合物は、鎖（αβ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。
本化合物は、鎖（αβ）の一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよく、鎖（αβ）の両方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよい。表面処理層に耐摩擦性を充分に付与する点からは、鎖（αβ）の両方の末端側に加水分解性シリル基を有することが好ましい。
本化合物は、単一化合物であってもよく、鎖（αβ）、末端基、連結基等が異なる２種類以上の混合物であってもよい。

ブロック（α）およびブロック（β）については、第１の態様と同様である。

第２の態様の本化合物は、鎖（αβ）の両端に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している化合物が特に好ましい。鎖（αβ）の両端に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合していれば、ブロック（β）が基材に近い側となり、その結果、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与するブロック（α）が表面処理層の表面に近い側に存在できる。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性にさらに優れる。

（第１の態様および第２の態様共通）
本化合物の数平均分子量は、２，０００〜１０，０００が好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、耐摩擦性に優れる。本化合物の数平均分子量は、２，１００〜９，０００が好ましく、２，４００〜８，０００が特に好ましい。
通常、含フッ素エーテル化合物においては、数平均分子量が小さいほど、基材との化学結合が強固となると考えられる。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が多くなるためと考えられる。しかしながら、数平均分子量が前記範囲の下限値未満であると、耐摩擦性が低下しやすいことを、本発明者等は確認した。また、数平均分子量が前記範囲の上限値を超えると、耐摩擦性が低下する。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数の減少による影響が大きくなるためであると考えられる。

本化合物は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有するため、フッ素原子の含有量が多い。さらに、上述したように、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与するブロック（α）と、表面処理層に初期の高い撥水撥油性を付与するブロック（β）とが連結したポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有している。そのため、本化合物は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。

本化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液による表面処理においては、後述するように、本化合物中の加水分解性シリル基（−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ）が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が形成され、該シラノール基は分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。すなわち、本発明における表面処理層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応した状態で含む。

（化合物（１））
本化合物の第１の態様の好ましい態様は、具体的には、下式（１）で表される。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｂ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｘ１：３以上の整数である。
ｘ２〜ｘ３：ｘ２は０または１以上の整数であり、ｘ３は１以上の整数であり、ｘ３／（ｘ２＋ｘ３）×１００は３０以上である。
Ｒ^ｆ１：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ^ｆ２：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ^ｆ３：炭素数４〜１５のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基、またはＢ。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−４）で表される基。
−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（２−１）、
−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（２−２）、
−Ｒ^ｆ４Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（２−３）、
−Ｒ^ｆ４（ＣＨ_２）_２−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（２−４）。
ただし、式（２−１）〜（２−４）中の記号は下記の通りである。
Ｒ^ｆ４：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。

＜ブロック（α）＞
式（１）において、ブロック（α）は｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝で表された部分である。
ｘ１は、３以上の整数である。表面処理層に充分な耐摩耗性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、４以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、耐摩耗性が低下する点から、ｘ１の上限は２０が好ましく、１５が特に好ましい。

Ｒ^ｆ１は、炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種である。化合物（１）の熱的または化学的安定性の点から、Ｒ^ｆ１としては、炭素数２〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種が好ましく、表面処理層に充分な耐摩耗性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、炭素数２のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。Ｒ^ｆ１は、炭素数が２〜３の場合、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２またはＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

ブロック（α）において、炭素数の異なる２〜３種の（Ｒ^ｆ１Ｏ）単位が存在する場合、各（Ｒ^ｆ１Ｏ）単位の結合順序は限定されない。

＜ブロック（β）＞
式（１）において、ブロック（β）は｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝で表された部分である。
ｘ２は、０または１以上の整数である。表面処理層に充分な初期撥液性を付与できる点からは、０〜１０の整数が好ましく、化合物（１）の工業的な製造が容易な点からは、ｘ３と同数が好ましい。

ｘ３は、１以上の整数である。表面処理層に充分な初期撥液性を付与できる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、耐摩耗性が低下する点から、ｘ３の上限は４５が好ましく、３０が特に好ましい。
ｘ３／（ｘ２＋ｘ３）×１００は、表面処理層に充分な初期撥液性を付与する点から、３０以上であり、５０以上が好ましい。すなわち、ブロック（β）における（Ｒ^ｆ３Ｏ）単位の割合は、全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの５０モル％以上であることが好ましい。

Ｒ^ｆ２は、炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種である。化合物（１）の熱的または化学的安定性の点から、Ｒ^ｆ２としては、炭素数２〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種が好ましく、化合物（１）の工業的な製造が容易な点から、炭素数２のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。Ｒ^ｆ２は、炭素数が２〜３の場合、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２またはＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

Ｒ^ｆ３は、炭素数４〜１５のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種である。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種が好ましく、炭素数４のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。Ｒ^ｆ３は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２、ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２、またはＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

ブロック（β）において、（Ｒ^ｆ２Ｏ）単位、（Ｒ^ｆ３Ｏ）単位の結合順序は限定されない。なお、化合物（１）の工業的な製造が容易な点、および表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、（Ｒ^ｆ２Ｏ）単位の１種と（Ｒ^ｆ３Ｏ）単位の１種とが交互に配置されていることが好ましく、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位と（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位とが交互に配置されていることが特に好ましい。

＜ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）＞
式（１）において、鎖（αβ）は[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］で表された部分である。
鎖（αβ）において、ブロック（α）、ブロック（β）の結合順序は限定されない。
ブロック（α）による特性およびブロック（β）による特性の両方をさらに効率的に発揮できる点から、Ａ−Ｏ−がブロック（α）の炭素原子に結合し、Ｂがブロック（β）の酸素原子に結合していることが好ましい。

鎖（αβ）としては、化合物（１）の工業的な製造が容易な点、および表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１）｝｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］、
［｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１３）｝｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］、
［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１４）｝｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２３｝］。
ただし、ｘ１１は、５〜１３の整数であり、ｘ１２は、１〜２０の整数であり、ｘ１３は、１〜１０の整数であり、ｘ１４は、３〜１０の整数であり、ｘ２１は、５〜２０の整数であり、ｘ２２は、５〜２０の整数であり、ｘ２３は、５〜２０の整数である。

＜Ａ基＞
Ａは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基、またはＢである。耐摩擦性の点からは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基が好ましい。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
なお、本発明における化学式の表現に従えば、鎖（αβ）の左側が炭素原子の結合手であることより、前記式（１）で表したようにＡを化学式の左側に記載した場合にはＡは酸素原子を介して鎖（αβ）と結合している表現となる。一方、Ａを化学式の右側に記載する場合、すなわちＡが鎖（αβ）の末端酸素原子に結合している表現の場合は、Ａは鎖（αβ）の末端酸素原子に酸素原子を介することなく直接結合している表現となる。

Ａの具体例としては、下記が挙げられる。
炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基として：
ＣＦ_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等。

エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基として：
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_５−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−等。

Ａとしては、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
ＣＦ_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−。

＜Ｂ基＞
化合物（１）は、鎖（αβ）の一端または両端にＢを有する。Ｂが分子内に２つある場合には、同一であってもよく、異なっていてもよい。なお、前記のように、本発明における化学式の表現に従えば、Ｂを化学式の左側に記載した場合にはＢは酸素原子を介して鎖（αβ）の末端炭素原子に結合した表現となる。
Ｂは、式（２−１）〜（２−４）で表される基であり、化合物（１）は、末端に−ＳｉＬ_ｍＲ_ｍ−３で表される加水分解性シリル基を有する。工業的な製造における取扱いやすさの点から、式（２−３）で表される基が特に好ましい。

以下、Ｂが式（２−１）で表される基である化合物（１）を化合物（１−１）、Ｂが式（２−２）で表される基である化合物（１）を化合物（１−２）、Ｂが式（２−３）で表される基である化合物（１）を化合物（１−３）、Ｂが式（２−４）で表される基である化合物（１）を化合物（１−４）と記す。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１）、
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−２）、
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−３）、
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４（ＣＨ_２）_２−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−４）。

Ｒ^ｆ４は、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基である。ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）−。

Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、化合物（１）の末端のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成する。化合物（１）は、末端に加水分解性シリル基を有するため、基材との密着性が良好で、かつ耐摩擦性が良好であり、基材の表面の撥水撥油性化が可能な化合物である。

Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Ｒとしては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
Ｒとしては、合成が簡便である点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。

ｋは１以上の整数であり、２〜６の整数が好ましく、特に３が好ましい。ｋが３以上の場合、Ｃ_ｋＨ_２ｋは直鎖でも分岐していてもよいが、直鎖が好ましい。
ｍは、１〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬが複数存在することによって、基材の表面との結合がより強固になる。
ｍが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

加水分解性シリル基（−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ）としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、−ＳｉＣｌ_３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が特に好ましい。

＜好ましい態様＞
化合物（１）としては、上述した好ましいＡと、上述した好ましい鎖（αβ）とを組み合わせた化合物が好ましく、下式で表される化合物が特に好ましい。式の番号中、Ｈは、式（１−１）のＸが水素原子であることを示し、Ｆは、式（１−１）のＸがフッ素原子であることを示す。下式で表される化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与できる。

Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｈａ）、
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−３ａ）、

Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１３）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｈｂ）、
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１３）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｆｂ）、
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１３）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−３ｂ）、

ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１４）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２３｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｈｃ）、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１４）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２３｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−１Ｆｃ）、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１４）｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２３｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ・・・（１−３ｃ）。
ただし、Ａは、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−またはＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−である。

［含フッ素エーテル化合物の製造方法］
化合物（１）は、Ｂが式（２−１）または式（２−２）で表される基である場合、下式（３）で表される前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２・・・（３）。

前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て化合物（１）を製造すると、Ｂが式（２−１）で表される基である化合物（１−１）が得られるとともに、Ｂが式（２−２）で表される基である化合物（１−２）が副生成物として得られる。たとえば、前駆体（３）とＨＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−１）および化合物（１−２）を得ることができる。ヒドロシリル化反応は、白金（Ｐｔ）等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。

化合物（１）は、Ｂが式（２−３）で表される基である場合、下式（４）で表される前駆体（４）とアミノアルキルシラン化合物とを反応させる工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。式（４）において、Ｒ^１はアルキル基であり、合成の容易さの点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−Ｒ^ｆ４Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１・・・（４）。

たとえば、前駆体（４）とＨ_２ＮＣ_ｋＨ_２ｋＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍ、ｋは、式（１）と同じ数値である。）とのアミド化反応によって、化合物（１−３）を得ることができる。

前駆体（３）または前駆体（４）は、Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１｝｛（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３｝］−の構造に応じて公知の方法で製造できる。前駆体（３）または前駆体（４）の製造方法は、下記の通りである。

（前駆体（３）の製造方法）
前駆体（３）の製造方法について、下式（３ａ）で表される前駆体（３ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２・・・（３ａ）。

以下、式（３ａ）のＸがフッ素原子である場合を前駆体（３Ｆａ）、Ｘが水素原子である場合を前駆体（３Ｈａ）と記し、それぞれの製造方法の例を説明する。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２・・・（３Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２・・・（３Ｈａ）。

＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉ）＞
下式（７ａ）で表される化合物（７ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で加熱してエステルの熱分解を行った後、臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）を反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。式（７ａ）において、Ｒ^ｆ５は、炭素数１〜１１のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のペルフルオロアルキル基である。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ｆ５・・・（７ａ）。

＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉｉ）＞
前記前駆体（３Ｆａ）は、以下の方法でも製造できる。
下式（８ａ）で表される化合物（８ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）と反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ・・・（８ａ）。

＜前駆体（３Ｈａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、Ｒ^２ＯＨと記す。Ｒ^２は、アルキル基である。）を作用させることによって、下式（６ａ）で表される化合物（６ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^２・・・（６ａ）。

次に、化合物（６ａ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、下式（５ａ）で表される化合物（５ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（５ａ）。

得られた化合物（５ａ）を、塩基（水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）と反応させることによって、前駆体（３Ｈａ）が得られる。

（前駆体（４）の製造方法）
前駆体（４）の製造方法について、下式（４ａ）で表される前駆体（４ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１・・・（４ａ）。

＜前駆体（４ａ）の製造方法＞
前駆体（４ａ）は、化合物（６ａ）とはＲ^１とＲ^２が異なる以外には同様の化合物である。上述したように、化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコールを作用させることによって製造できる。

＜化合物（７ａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）の製造方法を、Ｒ^ｆ５が−ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３の場合を例にとり、説明する。

米国特許第５１３４２１１号明細書に記載の公知の方法にしたがって、下式（１３ａ）で表される化合物（１３ａ）から下式（１２ａ）で表される化合物（１２ａ）を合成する。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３・・・（１３ａ）、
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（１２ａ）。

国際公開第２００９／００８３８０号記載の公知の方法にしたがって、下式（１１ａ）で表される化合物（１１ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（１１ａ）。

化合物（１２ａ）と化合物（１１ａ）とを塩基あるいは４級アンモニウム塩（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等）の存在下で反応させて、下式（１０ａ）で表されるオリゴマー化合物（１０ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２１＋１}｝］−Ｈ・・・（１０ａ）。

化合物（１２ａ）に対する化合物（１１ａ）の添加量を制御することによって、目的とする数平均分子量を有するオリゴマー化合物（１０ａ）を合成できる。
重付加反応による化合物（１０ａ）の合成は、米国特許第５１３４２１１号明細書に記載の公知の方法にしたがって実施できる。

化合物（１０ａ）とＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとのエステル化反応によって、下式（９ａ）で表される化合物（９ａ）を得る。該エステル化反応は、化合物（１０ａ）と上例のようなペルフルオロ酸フロリドとの反応に限定されず、含フッ素あるいはフッ素を含まない炭化水素系の酸フロリド、酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等との反応であってもよい。
Ａ−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２１＋１}｝］−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３・・・（９ａ）。

さらに、フッ素ガスを用いて化合物（９ａ）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（７ａ）を得る。該フッ素化工程は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。

［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物と記す。）は、本化合物を９５質量％以上含む組成物である。

本組成物は、本化合物以外の不純物を含んでいてもよい。本化合物以外の不純物とは、本化合物の製造上不可避の化合物を意味する。具体的には、本化合物の製造工程で生成した副生成物および本化合物の製造工程で混入した成分である。本組成物は、後述する液状の媒体を含まない。本組成物中の本化合物以外の不純物の含有量は、５質量％以下が好ましい。

本組成物中の本化合物の含有量は、９８質量％以上が特に好ましい。すなわち不純物の含有量は、２質量％以下が特に好ましい。本化合物の含有量が前記範囲であれば、基材の表面処理に用いたときの、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる。

本組成物中の副生成物の同定および定量は、^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）および^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）によって行う。たとえば、前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−１）および化合物（１−２）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物（式（１）におけるＢが下式（２−５）で表される化合物）に由来するスペクトルピークが検出されない場合を、副生成物の含有量がゼロであると定義する。また、該副生成物に由来するスペクトルピークが観測された場合は、内部標準による定量によって該副生成物の含有量を求める。
−Ｒ^ｆ４ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３・・・（２−５）。

［表面処理層を有する基材の製造方法］
（ドライコーティング法）
本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面処理層を有する基材を製造する方法に、そのまま用いることができる。本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面処理層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。

真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０^−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０^−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、本化合物または本組成物の蒸着源が充分な蒸気圧を有する温度であれば特に制限はない。具体的には３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度が良好になる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、基材の表面に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、基材温度は室温（２０〜２５℃）から２００℃までの範囲であることが好ましい。基材温度が２００℃以下であれば、成膜速度が良好になる。基材温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。

本化合物または本組成物を用い、ドライコーティング法によって基材の表面を処理する場合、該処理によって基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚は、たとえば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。

特に、真空蒸着法においては、本組成物中の本化合物の含有量が多く、不純物の含有量が少ないため、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性の向上効果が大きい。これは、不純物である分子量が小さい副生成物が、本化合物よりも先に基材の表面に蒸着し、その結果、性能の発現を担う本化合物と基材の表面との化学結合が妨げられるのが、抑えられるためと考えられる。

（ウェットコーティング法）
本化合物を含むコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させることによって、表面処理層を有する基材を製造することができる。
コーティング液の塗布方法としては、公知の手法を適宜用いることができる。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
乾燥させる方法は、媒体を乾燥除去できる方法であればよく、公知の手法を適宜用いることができる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。

媒体を乾燥除去した後に、基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚の測定は、ドライコーティング法で形成される表面処理層の膜厚の測定方法と同様に行うことができる。

（後処理）
前記いずれかの方法によって、表面処理層を有する基材を製造する際に、表面処理層の摩擦に対する耐久性を向上させるために、必要に応じて、加水分解シリル基と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
表面処理後、表面処理層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面処理層に溶剤をかけ流す方法や、溶剤をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。

（コーティング液）
本発明のコーティング液（以下、本コーティング液と記す。）は、本化合物と媒体とを含む。媒体は、液状であることが好ましい。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本コーティング液は、本化合物を含んでいればよく、本化合物の製造工程で生成した副生成物等の不純物を含んでもよい。したがって、本コーティング液は、本組成物と媒体とを含んでもよい。
本化合物の濃度は、本コーティング液中、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。

＜媒体＞
媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。

フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
非フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。

媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、ならびに、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルから選ばれるフッ素系有機溶媒が好ましい。
媒体としては、フッ素系有機溶媒であるフッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を、合計で媒体全体の９０質量％以上含むことが、本化合物の溶解性を高める点で好ましい。
本コーティング液は、媒体を９０〜９９．９９９質量％含むことが好ましく、９９〜９９．９９質量％含むことが特に好ましい。

本コーティング液は、本化合物および媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
本コーティング液における、その他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

本コーティング液の固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。また、本組成物の濃度は、固形分濃度と、本組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。

（基材）
本発明において、表面処理の対象となる基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の表面の材料としては、金属、樹脂、ガラス、セラミック、これらの複合材料が挙げられる。

本化合物、これを含む本組成物または本コーティング液を用いて基材の表面を処理して表面処理層が形成されることによって、良好な初期の撥水撥油性が付与されるとともに、該表面が繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい優れた耐摩擦性、および基材の表面の指紋汚れを容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が得られる。したがって、このようにして得られる、表面処理層を有する基材は、良好な初期の撥水撥油性を有するとともに、優れた耐摩擦性および指紋汚れ除去性を有するため、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置を意味する。タッチパネルは、基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。基材の表面処理層を有する面をタッチパネルの入力面とすることにより、良好な指紋除去性を有するタッチパネルが得られる。
タッチパネル用基材の材質は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳＲ３１０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。

タッチパネル用基材の材質としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。透明樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
また、本発明における基材として、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイの最表面を構成するディスプレイ用基材も好適であり、本化合物、本組成物または本コーティング液を用いた表面処理によって表面処理層を形成することによって、良好な指紋汚れ除去性が得られる。

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１、３、１１、１３は実施例、例２、１２は比較例である。

［例１：組成物（Ａ）の製造］
（例１−１）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の１４．１ｇを取り入れ、ＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）の３５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１３ａ）の１００ｇ、メタノールの１５．８ｇ、ＡＫ−２２５の２２ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの１０ｇとＡＫ−２２５の１０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、エバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（１２ａ）の８０．６ｇ（収率８８％）を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３・・・（１３ａ）、
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（１２ａ）。

化合物（１２ａ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．２（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８５．６（２Ｆ）、−１１４．０（１Ｆ）、−１２２．２（１Ｆ）、−１２３．３（２Ｆ）、−１２７．４（２Ｆ）、−１３５．２（１Ｆ）。

（例１−２）
国際公開第２００９／００８３８０号記載の公知の方法にしたがって下式（１１ａ−１）で表される化合物（１１ａ−１）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（１１ａ−１）。

（例１−３）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１２ａ）の２２．０ｇ、例１−２で得た化合物（１１ａ−１）の１０．０ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の１．４７ｇを加えた。窒素雰囲気下、６０℃で８時間撹拌した後、炭酸カリウム粉末の１．７４ｇを追加して、８０℃で２時間撹拌し、さらに室温で２４時間撹拌した。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの３２．６５ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５の３０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、下式（１０ａ−１）中の（ｘ２１＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。（ｘ２１＋１）の平均値が７〜１５のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１）の６．０６ｇを得た。
ＣＦ_３−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２１＋１}｝］−Ｈ・・・（１０ａ−１）。

化合物（１０ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．８（２２Ｈ）、６．７〜６．９（１１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．３（３Ｆ）、−７７．６（２Ｆ）、−８３．７〜−８５．１（２２Ｆ）、−８８．５（２４Ｆ）、−８９．３〜−９０．４（２２Ｆ）、−１２０．２（２０Ｆ）、−１２２．０（２Ｆ）、−１２６．６（２２Ｆ）、−１４５．１（１１Ｆ）。
（ｘ１１−１）の平均値：６、
（ｘ２１＋１）の平均値：１１。

（例１−４）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１−３で得た化合物（１０ａ−１）の８．０６ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．５５ｇ、ＡＫ−２２５の１６ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの９．３２ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で１４時間撹拌した後、加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、化合物（９ａ−１）の７．８１ｇ（収率８９％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{ｘ１１−１}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２１＋１}｝］−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３・・・（９ａ−１）。

化合物（９ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．８（２２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、６．７−６．９（１１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−７７．６（２Ｆ）、−７６．５〜−７７．６（１Ｆ）、−７９．４（３Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８３．７〜−８５．０（２２Ｆ）、−８５．７〜−８６．３（１Ｆ）、−８８．５（２４Ｆ）、−８９．０〜−９１．８（２２Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２０．２（２０Ｆ）、−１２６．６（２２Ｆ）、−１２９．３（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．１（１１Ｆ）。
（ｘ１１−１）の平均値：６、
（ｘ２１＋１）の平均値：１１。

（例１−５）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３（ＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌ_２）の３１２ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、２５℃、流速１．５Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１−４で得た化合物（９ａ−１）の７．６ｇをＲ−１１３の７６ｇに溶解した溶液を、３．５時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の９ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の６ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．４ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（７ａ−１）の８．６ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３・・・（７ａ−１）。

化合物（７ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−７９．７〜−８０．３（１Ｆ）、−８２．１（３Ｆ）、−８２．３（３Ｆ）、−８３．８（４２Ｆ）、−８６．７〜−８７．７（３Ｆ）、−８９．２（７０Ｆ）、−９１．０（２Ｆ）、−１２６．３（４４Ｆ）、−１３０．２（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
ｘ１１の平均値：７、
ｘ２１の平均値：１０。

（例１−６）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１−５で得た化合物（７ａ−１）の８．６ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．３９ｇ、およびＡＫ−２２５の６０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの２．１４ｇを滴下した。窒素雰囲気下、５０℃で４時間撹拌した後、加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去し、反応混合物をエバポレータで濃縮し、前駆体（４ａ−１）の７．７ｇ（収率９６％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ_３・・・（４ａ−１）。

前駆体（４ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．５（３Ｆ）、−８４．２（４２Ｆ）、−８９．４（７０Ｆ）、−９１．５（２Ｆ）、−１１９．５（２Ｆ）、−１２６．６（４０Ｆ）、−１２７．５（２Ｆ）。
ｘ１１の平均値：７、
ｘ２１の平均値：１０。

（例１−７）
６ｍＬのスクリュー瓶に、例１−６で得た前駆体（４ａ−１）の２．０ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．１１ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−１）の９７％が化合物（１−３ａ−１）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、化合物（１−３ａ−１）を９６％含む組成物（Ａ）を得た。化合物（１−３ａ−１）の数平均分子量は、４，７００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３−Ｏ−［｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ１１｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２１｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１−３ａ−１）。

化合物（１−３ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．３（３Ｆ）、−８４．１（４２Ｆ）、−８９．３（７０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．５（４０Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
ｘ１１の平均値：７、
ｘ２１の平均値：１０。

［例２：化合物（Ｂ）の製造］
（ＣＦ_２Ｏ）単位と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位との組み合わせからなる含フッ素エーテル化合物を、米国特許第５２５８１１０号明細書、米国特許第３８４７９７８号明細書等に記載の方法にしたがって合成した。得られた含フッ素エーテル化合物の酸フロリド（−ＣＯＦ）末端を、アルコールとの反応によってエステル化し、アミノプロピルシラン化合物を反応させて、末端を加水分解性のトリメトキシシリル基に変換し、化合物（Ｂ）を得た。

［例３：組成物（Ｃ）の製造］
（例３−１）
５００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水酸化カリウムの１．０４ｇを取り入れ、ｔｅｒｔ−ブタノールの８３ｇと１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１２５ｇを加えた。室温で攪拌して水酸化カリウムを溶解させ、これにＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫＤ１０／Ｈ（製品名、ソルベイ・ソレクシス社製）の２５０ｇを加えて１時間攪拌した。室温のまま、化合物（１４）の３８．２ｇを加え、さらに２４時間攪拌した。塩酸水溶液を加えて中和し、さらに水を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、反応粗液の２８８．０ｇを得た。再び、ＡＣ−２０００の１４４ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００およびＡＥ−３０００）に展開して分取した。これにより、分子の片末端にのみ化合物（１４）が付加した、化合物（１１ｂ−１）の１３６．２ｇ（収率４７％）を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３・・・（１４）、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{Ｘ１３−３}−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ・・・（１１ｂ−１）。

化合物（１１ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（１４Ｆ）、−７８．７（１Ｆ）、−８０．７（１Ｆ）、−８１．３（１Ｆ）、−８２．１（３Ｆ）、−８３．４（１Ｆ）、−８５．３〜−８８．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（３８Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．２（１Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３−３の平均値：１０。

（例３−２）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、例３−１で得た化合物（１１ｂ−１）の８０．０ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の３．２６ｇを加えた。窒素雰囲気下、１２０℃まで昇温し、例１−１で得た化合物（１２ａ）の１１０．７ｇを内温が１３０℃以下になるように制御しながら、ゆっくりと滴下した。全量滴下した後、１２０℃に保ちながらさらに１時間撹拌し、加熱を止めて室温に下がるまで撹拌を続けた。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの１８３．７ｇを得た。再び、ＡＣ−２０００の１１０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００およびＡＥ−３０００）に展開して分取した。各フラクションについて、下式（１０ｂ−１）中の（ｘ２２＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。（ｘ２２＋１）の平均値が６〜９のフラクションを合わせた化合物（１０ｂ−１）の８３．５ｇを得た。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{Ｘ１３−３}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＨＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２２＋１}｝］−Ｈ・・・（１０ｂ−１）。

化合物（１０ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（２Ｈ）、４．２（４Ｈ）、４．４（１２Ｈ）、５．９（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（１６Ｆ）、−７８．８（２Ｆ）、−８０．８（２Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８４．７〜−８８．２（１６Ｆ）、−８９．４〜−９２．２（５６Ｆ）、−１２１．５（１２Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２８．０（１４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．０（８Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３−３の平均値：１０、
ｘ２２＋１の平均値：７。

（例３−３）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例３−２で得た化合物（１０ａ−１ｂ）の８０．１ｇを取り入れ、酢酸クロリドの７．６３ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で１２時間撹拌した後、過剰の酢酸クロリドを減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、化合物（９ｂ−１）の７９．７ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_{Ｘ１３−３}−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ｝−｛（ＣＦ_２ＣＨＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_{ｘ２２＋１}｝］−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ_３・・・（９ｂ−１）。

化合物（９ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．１（３Ｈ）、４．２（４Ｈ）、４．４（１２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、５．９（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（１６Ｆ）、−７８．８（２Ｆ）、−８０．８（２Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８４．７〜−８８．２（１６Ｆ）、−８９．４〜−９２．２（５６Ｆ）、−１２０．９（２Ｆ）、−１２１．５（１２Ｆ）、−１２８．０（１４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．０（８Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３−３の平均値：１０、
ｘ２２＋１の平均値：７。

（例３−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ_２ＣＦＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（以下、ＣＦＥ−４１９と記す。）の３１２ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．３Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例３−３で得た化合物（９ｂ−１）の７５．０ｇをＣＦＥ−４１９の２３４ｇに溶解した溶液を、９．０時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．００６ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の５ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の５ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．２４ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（７ｂ−１）の８１．５ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１３｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ_３・・・（７ｂ−１）。

化合物（７ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５３．４〜−５６．８（１６Ｆ）、−７７．４（３Ｆ）、−８３．４（３Ｆ）、−８５．１（２６Ｆ）、−８６．２（２Ｆ）、−８８．３（２Ｆ）、−８９．９〜−９２．１（８０Ｆ）、−１２７．５（２８Ｆ）、−１３１．８（２Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３の平均値：１３、
ｘ２２の平均値：６。

（例３−５）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、例３−４で得た化合物（７ｂ−１）の８０．５ｇおよびＡＫ−２２５の１００ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３．０ｇを滴下した。窒素雰囲気下、室温で４時間撹拌した後、反応混合物をエバポレータで濃縮し、前駆体（４ｂ−１）の７７．９ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１３｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ_３・・・（４ｂ−１）。

前駆体（４ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５３．３〜−５６．７（１６Ｆ）、−８３．３（３Ｆ）、−８５．０（２６Ｆ）、−８６．１（２Ｆ）、−９０．０〜−９２．０（８０Ｆ）、−１２０．４（２Ｆ）、−１２７．４（２４Ｆ）、−１２８．４（２Ｆ）、−１３１．７（２Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３の平均値：１３、
ｘ２２の平均値：６。

（例３−６）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３−５で得た前駆体（４ｂ−１）の５０．０ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の１．９０ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ｂ−１）の９８％が化合物（１−３ｂ−１）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、化合物（１−３ｂ−１）を９７％含む組成物（Ｃ）を得た。化合物（１−３ｂ−１）の数平均分子量は、４，７００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−Ｏ−［｛（ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_Ｘ１３｝−｛（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ２２｝］−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１−３ｂ−１）。

化合物（１−３ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．５（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、３．２（２Ｈ）、３．４（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５３．３〜−５６．７（１６Ｆ）、−８３．３（３Ｆ）、−８５．０（２６Ｆ）、−８６．１（２Ｆ）、−９０．０〜−９２．０（８０Ｆ）、−１２１．６（２Ｆ）、−１２７．４（２４Ｆ）、−１２８．４（２Ｆ）、−１３１．７（２Ｆ）。
ｘ１２の平均値：８、
ｘ１３の平均値：１３、
ｘ２２の平均値：６。

［例１１〜１３：表面処理層を有する基材の製造および評価］
例１〜３で得た組成物または化合物を用いて基材の表面処理を行い、例１１〜１３とした。各例について下記のドライコーティング法とウェットコーティング法とをそれぞれ用いて表面処理層を有する基材を製造した。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた表面処理層を有する基材について、下記の方法で評価した。結果を表２に示す。

（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ−３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１〜３で得た組成物または化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^−３Ｐａ以下に排気した。組成物または化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒をこえた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。組成物または化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、その後、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。

（ウェットコーティング法）
例１〜３で得た組成物または化合物と、媒体としてのＨＦＥ−７２００（３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。基材を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、基材を引き上げた。基材を２００℃で３０分間乾燥させ、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。

（評価方法）
＜水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法＞
表面処理層を有する基材の、表面処理された表面に置いた、約２μＬの蒸留水あるいはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。基材の表面処理された面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜初期の水およびｎ−ヘキサデカン接触角＞
ドライコーティング法およびウェットコーティング法でそれぞれ表面処理した基材（表面処理層を有する基材）について、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。

＜耐摩擦性＞
例１１〜１３で製造した表面処理層を有する基材について、ＪＩＳＬ０８４９に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）を荷重１ｋｇで１０万回往復させた後、水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を測定した。
摩擦回数を増大させたときの撥水性（水接触角）および撥油性（ｎ−ヘキサデカン接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。

＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを例１１〜１３で製造した表面処理層を有する基材上に乗せ、１Ｋｇの荷重にて１０秒間押しつけた。この時に、指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータ（東洋精機社製）にて測定した。この時の値を初期値とした。次に、指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが目視で確認できない数値に達したら合格とした。

表２の結果に示されるように、本化合物を用いた例１１および１３の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角に優れ、特にドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、１０万回摩擦したときでも、接触角の低下が小さかった。ブロック（α）とブロック（β）とからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する本化合物は、基材の表面に良好な初期の撥水撥油性を付与できるとともに、指紋汚れ除去性が良好で、耐摩擦性に優れ、繰り返し摩擦によっても撥水撥油性が低下しにくく、効率的に製造が可能であることが確認できた。

（ＣＦ_２Ｏ）単位と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位とからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物を用いた例１２の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角がやや劣り、ドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、摩擦による接触角の低下が大きかった。

本発明の含フッ素エーテル化合物は、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる。
なお、２０１２年２月１７日に出願された日本特許出願２０１２−０３２７８５号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

炭素数１〜３のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種の３つ以上からなるブロック（α）と、炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の少なくとも１種を有し、かつ該炭素数４〜１５のオキシペルフルオロアルキレン単位の割合がブロック（β）を構成する全オキシペルフルオロアルキレン単位のうちの３０モル％以上であるブロック（β）とが連結した、ブロック（α）−ブロック（β）なる構造またはブロック（β）−ブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物であり、
下式（１）で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ−Ｏ−[｛（Ｒ ^ｆ１Ｏ） _ｘ１｝｛（Ｒ ^ｆ２Ｏ） _ｘ２（Ｒ ^ｆ３Ｏ） _ｘ３｝］−Ｂ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｘ１：３以上の整数である。
ｘ２〜ｘ３：ｘ２は０または１以上の整数であり、ｘ３は１以上の整数であり、ｘ３／（ｘ２＋ｘ３）×１００は３０以上である。
Ｒ ^ｆ１：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ ^ｆ２：炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ｒ ^ｆ３：炭素数４〜１５のペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−４）で表される基。
−Ｒ ^ｆ４ＣＸ _２Ｏ（ＣＨ _２） _３ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−１）、
−Ｒ ^ｆ４ＣＸ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＣＨ _３）−ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−２）、
−Ｒ ^ｆ４Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ _ｋＨ _２ｋ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−３）、
−Ｒ ^ｆ４（ＣＨ _２） _２ −ＳｉＬ _ｍＲ _３−ｍ・・・（２−４）。
ただし、式（２−１）〜（２−４）中の記号は下記の通りである。
Ｒ ^ｆ４：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基またはイソシアナート基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（αβ）がブロック（α）−ブロック（β）なる構造のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、前記加水分解性シリル基が連結基を介して前記ブロック（β）の酸素原子に結合している、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
前記ブロック（β）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）単位を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、ならびに、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、請求項６に記載のコーティング液。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
請求項６または７に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、請求項９に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
請求項５に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。