JP6127985B2 - 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物またはコーティング液に関する。本発明は、該化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液を用いて、表面処理層を有する基材を製造する方法および該方法によって製造された表面処理層を有する基材に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。該表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。該含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。

該含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。

含フッ素エーテル化合物としては、具体的には、下記（１）〜（４）の含フッ素エーテル化合物が知られている。
（１）（ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）とがランダムに連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献１）。
（２）（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）からなる群より選択される２種以上がランダムに連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献２〜５）。
（３）（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）または（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）のみが連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献６、７）。
（４）（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）のみが連結した構造を有し、末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（特許文献８）。

特許第４１３８９３６号公報 特表２００８−５３４６９６号公報 国際公開第２０１１／０６００４７号 国際公開第２０１１／０５９４３０号 特許第２８７４７１５号公報 特開２０００−１４４０９７号公報 特開平１１−０２９５８５号公報 特表２００２−５０６８８７号公報

本発明者らの知見によれば、（１）の含フッ素エーテル化合物は、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が比較的良好であるものの、繰り返し摩擦される前の初期の撥水撥油性が不充分なことがある。
（２）の含フッ素エーテル化合物は、（１）の含フッ素エーテル化合物に比べ初期の撥水撥油性が改善されているものの、いまだ不充分なことがあり、耐摩擦性、指紋汚れ除去性は（１）の含フッ素エーテル化合物より劣る。
（３）、（４）の含フッ素エーテル化合物は、初期の撥水撥油性に優れるものの、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が不充分である。

本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液の提供を目的とする。
本発明は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材およびその製造方法の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［１４］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法を提供する。

［１］炭素数１〜２のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（α）の１〜３つと、炭素数３〜６のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（β）の１〜３つとを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）基を単位とし、前記単位の２つ以上が連結してなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物であり、下式（１）で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ ^ｆ１ Ｏ） _ｘ１ （Ｒ ^ｆ２ Ｏ） _ｘ２ （Ｒ ^ｆ３ Ｏ） _ｘ３ （Ｒ ^ｆ４ Ｏ） _ｘ４ （Ｒ ^ｆ５ Ｏ） _ｘ５ （Ｒ ^ｆ６ Ｏ） _ｘ６ ］ _ｎ −Ｂ ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｎ：２以上の整数。
ｘ１〜ｘ２：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ１＋ｘ２は１〜３の整数である。
ｘ３〜ｘ６：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ３＋ｘ４＋ｘ５＋ｘ６は１〜３の整数である。
Ｒ ^ｆ１ ：炭素数１のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ ^ｆ２ ：炭素数２のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ ^ｆ３ ：炭素数３のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ ^ｆ４ ：炭素数４のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ ^ｆ５ ：炭素数５のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ ^ｆ６ ：炭素数６のペルフルオロアルキレン基。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−５）で表される基。
−Ｒ ^ｆ７ ＣＸ _２ Ｏ（ＣＨ _２ ） _３ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−１）、
−Ｒ ^ｆ７ ＣＸ _２ ＯＣＨ _２ ＣＨ（ＣＨ _３ ）−ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−２）、
−Ｒ ^ｆ７ Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ _ｋ Ｈ _２ｋ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−３）、
−Ｒ ^ｆ７ （ＣＨ _２ ） _２ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−４）、
−Ｒ ^ｆ７ （ＣＨ _２ ） _３ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−５）。
ただし、式（２−１）〜（２−５）中の記号は下記の通りである。
Ｒ ^ｆ７ ：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基またはイソシアナート基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。
［２］前記単位において、一端が前記基（α）であり、他端が前記基（β）であるように基（α）と基（β）が配置されている、［１］の含フッ素エーテル化合物。

［３］前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一端の炭素原子に、酸素原子を介
して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２
〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の他端の酸素原子に、連結基を介して加
水分解性シリル基が結合し、
前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一端の炭素原子が、前記基（α）の炭素原子であり、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の他端の酸素原子が、前記基（β）の酸素原子である、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。

［４］数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
［５］前記基（β）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、［１］〜［４］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。

［６］前記［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。
［７］前記［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
［８］前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、［７］のコーティング液。

［９］前記［１］〜［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［１０］前記［７］または［８］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
［１１］前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、［１０］の表面処理層を有する基材の製造方法。
［１２］前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、［９］〜［１１］のいずれかの表面処理層を有する基材の製造方法。

［１３］前記［６］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
［１４］前記［６］の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。

本発明の含フッ素エーテル化合物、該含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。
本発明の表面処理層を有する基材は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する。
本発明の表面処理層を有する基材の製造方法によれば、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を有する基材を製造できる。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物、前駆体も同様に記す。
本発明における基（α）と基（β）とを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）基である単位を、以下「単位（αβ）」と記す。また、該単位（αβ）の２つ以上が連結してなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を、以下「鎖（（αβ）_ｎ）」と記す。
本発明における主鎖とは、該主鎖以外のすべての分子鎖が側鎖と見なされるような線状分子鎖である。
本発明における加水分解性シリル基とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基である。たとえば式（１）中の−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍである。
本発明におけるエーテル性酸素原子とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子である。
本発明における連結基とは、鎖（（αβ）_ｎ）と加水分解性シリル基とを連結するための基であり、たとえば式（１）中のΒから−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍを除いた基であり、該基自体が前記鎖（（αβ）_ｎ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。

本発明における含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＴＭＳ）および^１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、内部標準：ＣＦＣｌ_３）によって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（１）中のＡまたはΒである。

本発明において、オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。基（α）と基（β）とを有する単位（αβ）であるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）基は線状の２価の基であり、両末端の一方は炭素原子に結合した結合手（この結合手を有する炭素原子を末端炭素原子と記す。）であり、他方は酸素原子の結合手（この結合手を有する酸素原子を末端酸素原子と記す。）である。単位（αβ）の２つ以上が連結してなる鎖（（αβ）_ｎ）であるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の化学式も末端酸素原子を右側に記載して表すものとする。

本発明における表面処理層とは、本発明の含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液で基材を表面処理することによって、基材の表面に形成される層である。

［含フッ素エーテル化合物］
本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、本化合物と記す。）は、炭素数１〜２のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（α）の１〜３つと、炭素数３〜６のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（β）の１〜３つとを有する単位（αβ）を単位とし、前記単位（αβ）の２つ以上が連結してなる鎖（（αβ）_ｎ）を有し、かつ該鎖（（αβ）_ｎ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する化合物である。

本化合物は、鎖（（αβ）_ｎ）の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する。鎖（（αβ）_ｎ）は主鎖に有することが好ましい。連結基に結合する加水分解性シリル基の数は２以上であってもよく、１〜３であることが好ましく、１または２がより好ましく、１であることが特に好ましい。連結基は鎖（（αβ）_ｎ）側に結合する結合手を１つ、加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手を１つ以上有する多価の基であり、連結基に結合する加水分解性シリル基の数が１の場合には連結基は２価の基である。連結基の鎖（（αβ）_ｎ）側に結合する結合手は、連結基が鎖（（αβ）_ｎ）の末端酸素原子に結合する場合は炭素原子の結合手であり、連結基が鎖（（αβ）_ｎ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子の結合手である。連結基の加水分解性シリル基のケイ素原子に結合する結合手は、炭素原子の結合手である。

本化合物が鎖（（αβ）_ｎ）の一方の末端側に連結基を介した加水分解性シリル基を有しない場合、その末端には１価の有機基を有する。１価の有機基が鎖（（αβ）_ｎ）の末端炭素原子に結合する場合は酸素原子を介して結合する、該有機基としては、ペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキル基が好ましい。

本化合物は、鎖（（αβ）_ｎ）に属さない他のオキシペルフルオロアルキレン基を有していてもよい。
本化合物は、鎖（（αβ）_ｎ）の一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよく、鎖（（αβ）_ｎ）の両方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有していてもよい。表面処理層に耐摩擦性を充分に付与する点からは、鎖（（αβ）_ｎ）の一方の末端のみに加水分解性シリル基を有することが好ましい。
本化合物は、単一化合物であってもよく、鎖（（αβ）_ｎ）、末端基、連結基等が異なる２種類以上の混合物であってもよい。

単位（αβ）中に基（α）が２以上存在する場合、単位（αβ）中の基（α）は、炭素数が同じ１種のオキシペルフルオロアルキレン基のみから構成されていてもよく、炭素数が異なる２種のオキシペルフルオロアルキレン基から構成されていてもよい。

単位（αβ）中に基（β）が２以上存在する場合、単位（αβ）中の基（β）は、炭素数が同じ１種のオキシペルフルオロアルキレン基のみから構成されていてもよく、炭素数が異なる２種以上のオキシペルフルオロアルキレン基から構成されていてもよい。
基（β）としては、表面処理層に充分に高い初期の撥水撥油性を付与できる点から、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）を有するものが好ましい。

単位（αβ）中の基（α）と基（β）の合計数は２〜４が好ましく、２または３が特に好ましい。単位（αβ）中の基（α）と基（β）の合計数が３の場合、２つ存在する基はいずれでもよいが、基（β）が２つ存在する方が好ましい。
単位（αβ）中の基（α）と基（β）の順は特に限定されない。例えば、基（α）が２つ存在する場合、２つの基（α）は連結していてもよく、少なくとも１つの基（β）を介して結合していてもよい。単位（αβ）中の基（α）と基（β）の合計数が３以上の場合、単位（αβ）中の一方の端部は基（α）であり、他方の端部は基（β）であることが好ましい。すなわち、単位（αβ）においては、一端が基（α）であり、他端が基（β）であるように基（α）と基（β）が配置されていることが好ましい。
本化合物が、基（α）を有することによって表面処理層に優れた耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与できる。また、基（β）を有することによって表面処理層に高い初期の撥水撥油性を付与できる。

本化合物は、単位（αβ）の２つ以上が連結してなる鎖（（αβ）_ｎ）を有する。単位（αβ）の一方の端部が基（α）であり、他方の端部が基（β）である場合、鎖（（αβ）_ｎ）としては、単位（αβ）の２つ以上が、単位間で基（α）と基（β）とが交互に配置されるように連結することが好ましい。すなわち、隣接する単位（αβ）が頭−尾構造（ヘッド ツー テイル構造）となるように結合していることが好ましい。単位間で基（α）と基（β）とが交互に配置されると、基（α）による特性および基（β）による特性の両方を効率的に発揮できる。すなわち、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性が著しく優れる。

本化合物は、鎖（（αβ）_ｎ）の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、鎖（（αβ）_ｎ）の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合している化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性がさらに優れる。
本化合物は、末端にペルフルオロアルキル基を有すると、表面処理層における初期の撥水撥油性がさらに優れる。

本化合物は、単位（αβ）において、ペルフルオロアルキル基に近い側が、基（α）であり、加水分解性シリル基に近い側が、基（β）である化合物が好ましい。このような構成であると、表面処理層における初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性がさらに優れる。この理由は、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与する基（α）が表面処理層の表面に近いほうに存在できるためと考えられる。

本化合物の数平均分子量は、２，０００〜１０，０００が好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、耐摩擦性に優れる。本化合物の数平均分子量は、２，１００〜９，０００が好ましく、２，４００〜８，０００が特に好ましい。
通常、含フッ素エーテル化合物においては、数平均分子量が小さいほど、基材との化学結合が強固となると考えられる。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が多くなるためと考えられる。しかしながら、数平均分子量が前記範囲の下限値未満であると、耐摩擦性が低下しやすいことを、本発明者等は確認した。また、数平均分子量が前記範囲の上限値を超えると、耐摩擦性が低下する。この理由は、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数の減少による影響が大きくなるためであると考えられる。

本化合物は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有するため、フッ素原子の含有量が多い。さらに、上述したように、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与する基（α）と、表面処理層に初期の高い撥水撥油性を付与する基（β）とが連結した単位（αβ）の２つ以上が基（α）と基（β）とが交互に配置されるように連結している。そのため、本化合物は、初期の撥水撥油性が高く、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面処理層を形成できる。

本化合物、含フッ素エーテル組成物またはコーティング液による表面処理においては、後述するように、本化合物中の加水分解性シリル基（−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ）が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が形成され、該シラノール基は分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成され、または該シラノール基が基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。すなわち、本発明における表面処理層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応した状態で含む。

（化合物（１））
本化合物の好ましい態様は、具体的には、下式（１）で表される。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Β ・・・（１）。
ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
ｎ：２以上の整数。
ｘ１〜ｘ２：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ１＋ｘ２は１〜３の整数である。
ｘ３〜ｘ６：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ３＋ｘ４＋ｘ５＋ｘ６は１〜３の整数である。
Ｒ^ｆ１：炭素数１のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ^ｆ２：炭素数２のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ^ｆ３：炭素数３のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ^ｆ４：炭素数４のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ^ｆ５：炭素数５のペルフルオロアルキレン基。
Ｒ^ｆ６：炭素数６のペルフルオロアルキレン基。
Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基、またはΒ。
Ｂ：下式（２−１）〜（２−５）で表される基。
−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（２−１）、
−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（２−２）、
−Ｒ^ｆ７Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（２−３）、
−Ｒ^ｆ７（ＣＨ_２）_２−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（２−４）、
−Ｒ^ｆ７（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（２−５）。
ただし、式（２−１）〜（２−５）中の記号は下記の通りである。
Ｒ^ｆ７：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｋ：１以上の整数。
ｍ：１〜３の整数。

＜単位（αβ）＞
式（１）において、単位（αβ）は［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］で表された部分であり、鎖（（αβ）_ｎ）は［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎで表された部分である。また、基（α）は（Ｒ^ｆ１Ｏ）および（Ｒ^ｆ２Ｏ）であり、基（β）は（Ｒ^ｆ３Ｏ）、（Ｒ^ｆ４Ｏ）、（Ｒ^ｆ５Ｏ）および（Ｒ^ｆ６Ｏ）である。前記のように、単位（αβ）中の基（α）と基（β）の結合順序は限定されるものではなく、上記単位（αβ）の化学式は各基（α）、各基（β）の記載順に結合していることを表すものではない。また、ｘ１〜ｘ６は、単位（αβ）中の各基がそれらの数連続して結合していることを表すものではなく、単位（αβ）中の各基の数を表すものである。
ｎは、２以上の整数である。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、耐摩耗性が低下する点から、ｎの上限は４５が好ましい。ｎは、４〜４０が好ましく、５〜３５が特に好ましい。

ｘ１は、０〜３の整数である。（Ｒ^ｆ１Ｏ）の熱的または化学的安定性が不充分である点から、０が好ましい。
ｘ２は、０〜３の整数である。表面処理層に充分な耐摩耗性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、１〜３の整数が好ましく、１が特に好ましい。
ｘ１＋ｘ２は、１〜３の整数である。表面処理層に充分な耐摩耗性と指紋汚れ除去性を付与しつつ、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、１または２が好ましく、１が特に好ましい。

ｘ３は、０〜３の整数である。表面処理層に充分な初期の撥水撥油性を付与できる点から、１〜３の整数が好ましく、１または２が特に好ましい。
ｘ４は、０〜３の整数である。表面処理層に充分な初期の撥水撥油性を付与できる点から、１〜３の整数が好ましく、１または２がより好ましく、１が特に好ましい。
ｘ５は、０〜３の整数である。表面処理層に充分な初期の撥水撥油性を付与しつつ、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、１が好ましく、０が特に好ましい。
ｘ６は、０〜３の整数である。表面処理層に充分な初期の撥水撥油性を付与しつつ、化合物（１）の数平均分子量を大きくし過ぎない点から、１が好ましく、０が特に好ましい。

Ｒ^ｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基、すなわちＣＦ_２である。
Ｒ^ｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ２は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

Ｒ^ｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ３は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。
Ｒ^ｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

Ｒ^ｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ５は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。
Ｒ^ｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ６は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性を付与する点からは、直鎖状、すなわちＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２が好ましい。

単位（αβ）において、基（α）基（β）の結合順序は限定されない。すなわち、基（α）と基（β）がランダムに配置されてもよく、基（α）と基（β）とが交互に配置されてもよく、複数の基からなるブロックの２以上が連結してもよい。基（α）による特性および基（β）による特性の両方をさらに効率的に発揮できる点から、Ａに近い側の末端が、基（α）であり、Βに近い側の末端が、基（β）であることが好ましい。

単位（αβ）の具体例としては、下記が挙げられる。
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、

（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）等。

単位（αβ）としては、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）。

＜Ａ基＞
Ａは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基、またはΒである。耐摩擦性の点からは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基が好ましい。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
なお、本発明における化学式の表現に従えば、鎖（（αβ）_ｎ）の左側が炭素原子の結合手であることより、前記式（１）で表したようにＡを化学式の左側に記載した場合にはＡは酸素原子を介して鎖（（αβ）_ｎ）と結合している表現となる。一方、Ａを化学式の右側に記載する場合、すなわちＡが鎖（（αβ）_ｎ）の末端酸素原子に結合している表現の場合は、Ａは鎖（（αβ）_ｎ）の末端酸素原子に酸素原子を介することなく直接結合している表現となる。

Ａの具体例としては、下記が挙げられる。
炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基として：
ＣＦ_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等。

エーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基として：
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２）_５−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−等。

Ａとしては、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
ＣＦ_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_３−、
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４−、
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−。

＜Ｂ基＞
化合物（１）は、鎖（（αβ）_ｎ）の一端または両端にΒを有する。Βが分子内に２つある場合には、同一であってもよく、異なっていてもよい。なお、前記のように、本発明における化学式の表現に従えば、Ｂを化学式の左側に記載した場合にはＢは酸素原子を介して鎖（（αβ）_ｎ））の末端炭素原子に結合した表現、すなわちＢ−Ｏ−が鎖（（αβ）_ｎ）の左側に結合している表現となる。
Βは、式（２−１）〜（２−５）で表される基であり、化合物（１）は、末端に−ＳｉＬ_ｍＲ_ｍ−３で表される加水分解性シリル基を有する。工業的な製造における取扱いやすさの点から、式（２−３）で表される基が特に好ましい。

以下、Βが式（２−１）で表される基である化合物（１）を化合物（１−１）、Βが式（２−２）で表される基である化合物（１）を化合物（１−２）、Βが式（２−３）で表される基である化合物（１）を化合物（１−３）、Βが式（２−４）で表される基である化合物（１）を化合物（１−４）、Βが式（２−５）で表される基である化合物（１）を化合物（１−５）と記す。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−１）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−２）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ_ｋＨ_２ｋ−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−３）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７（ＣＨ_２）_２−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−４）、
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−５）。

Ｒ^ｆ７は、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基である。ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下記が好ましい。
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）−。

Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、化合物（１）の末端のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成する。化合物（１）は、末端に加水分解性シリル基を有するため、基材との密着性が良好で、かつ耐摩擦性が良好であり、基材の表面の撥水撥油性化が可能な化合物である。

Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Ｒとしては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
Ｒとしては、合成が簡便である点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。

ｋは１以上の整数であり、２〜６の整数が好ましく、特に３が好ましい。ｋが３以上の場合、Ｃ_ｋＨ_２ｋは直鎖でも分岐していてもよいが、直鎖が好ましい。
ｍは、１〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬが複数存在することによって、基材の表面との結合がより強固になる。
ｍが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

加水分解性シリル基（−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ）としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、−ＳｉＣｌ_３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が特に好ましい。

＜好ましい態様＞
化合物（１）としては、上述した好ましいＡと、上述した好ましい単位（αβ）とを組み合わせた化合物が好ましく、下式（１−１Ｈａ）、下式（１−１Ｆａ）、下式（１−３ａ）、下式（１−４ａ）および下式（１−５ａ）で表される化合物が特に好ましい。式の番号中、Ｈは、式（１−１）のＸが水素原子であることを示し、Ｆは、式（１−１）のＸがフッ素原子であることを示す。化合物（１−１Ｈａ）、化合物（１−１Ｆａ）、化合物（１−３ａ）、化合物（１−４ａ）および化合物（１−５ａ）は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与できる。

Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−１Ｈａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−１Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−３ａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−４ａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２（ＣＨ_２）_３−ＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ ・・・（１−５ａ）。
ただし、Ａは、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−またはＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−である。

［含フッ素エーテル化合物の製造方法］
化合物（１）は、Ｂが式（２−１）または式（２−２）で表される基である場合、下式（３）で表される前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３）。

前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て化合物（１）を製造すると、Ｂが式（２−１）で表される基である化合物（１−１）が得られるとともに、Ｂが式（２−２）で表される基である化合物（１−２）が副生成物として得られる。たとえば、前駆体（３）とＨＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−１）および化合物（１−２）を得ることができる。ヒドロシリル化反応は、白金（Ｐｔ）等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。

化合物（１）は、Ｂが式（２−３）で表される基である場合、下式（４）で表される前駆体（４）とアミノアルキルシラン化合物とを反応させる工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。式（４）において、Ｒ^１はアルキル基であり、合成の容易さの点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１ ・・・（４）。

たとえば、前駆体（４）とＨ_２ＮＣ_ｋＨ_２ｋＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍ、ｋは、式（１）と同じ数値である。）とのアミド化反応によって、化合物（１−３）を得ることができる。

化合物（１）は、Ｂが式（２−４）で表される基である場合、下式（１３）で表される前駆体（１３）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１３）。
たとえば、前駆体（１３）とＨＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−４）を得ることができる。

化合物（１）は、Ｂが式（２−５）で表される基である場合、下式（１４）で表される前駆体（１４）をヒドロシリル化する工程を経て、末端に加水分解性シリル基を導入する方法によって、製造できる。
Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−Ｒ^ｆ７ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１４）。
たとえば、前駆体（１４）とＨＳｉＬ_ｍＲ_３−ｍ（ただし、Ｌ、Ｒは、式（１）と同じ種類の原子または基であり、ｍは、式（１）と同じ数値である。）とをヒドロシリル化反応して、化合物（１−５）を得ることができる。

前駆体（３）、前駆体（４）、前駆体（１３）または前駆体（１４）は、Ａ−Ｏ−［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｘ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｘ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｘ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｘ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｘ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｘ６］_ｎ−の構造に応じて公知の方法で製造できる。前駆体（３）、前駆体（４）、前駆体（１３）または前駆体（１４）の製造方法は、下記の通りである。

（前駆体（３）の製造方法）
前駆体（３）の製造方法について、下式（３ａ）で表される前駆体（３ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３ａ）。

以下、式（３ａ）のＸがフッ素原子である場合を前駆体（３Ｆａ）、Ｘが水素原子である場合を前駆体（３Ｈａ）と記し、それぞれの製造方法の例を説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｆａ）、
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｈａ）。

＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉ）＞
下式（７ａ）で表される化合物（７ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で加熱してエステルの熱分解を行った後、臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）を反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。式（７ａ）において、Ｒ^ｆ８は、炭素数１〜１１のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のペルフルオロアルキル基である。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ｆ８ ・・・（７ａ）。

＜前駆体（３Ｆａ）の製造方法（ｉｉ）＞
前記前駆体（３Ｆａ）は、以下の方法でも製造できる。
下式（８ａ）で表される化合物（８ａ）を、金属フッ化物触媒（ＮａＦ、ＣｓＦ、ＫＦ、ＡｇＦ等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）と反応させることによって、前駆体（３Ｆａ）が得られる。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ ・・・（８ａ）。

＜前駆体（３Ｈａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、Ｒ^２ＯＨと記す。Ｒ^２は、アルキル基である。）を作用させることによって、下式（６ａ）で表される化合物（６ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^２ ・・・（６ａ）。

次に、化合物（６ａ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、下式（５ａ）で表される化合物（５ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（５ａ）。

得られた化合物（５ａ）を、塩基（水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）と反応させることによって、前駆体（３Ｈａ）が得られる。

（前駆体（４）の製造方法）
前駆体（４）の製造方法について、下式（４ａ）で表される前駆体（４ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１ ・・・（４ａ）。

＜前駆体（４ａ）の製造方法＞
前駆体（４ａ）は、化合物（６ａ）とはＲ^１とＲ^２が異なる以外には同様の化合物である。上述したように、化合物（７ａ）または化合物（８ａ）にアルコールを作用させることによって製造できる。

＜化合物（７ａ）の製造方法＞
化合物（７ａ）の製造方法を、−Ｒ^ｆ８が−ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３の場合を例にとり、説明する。

下式（１１ａ）で表される化合物（１１ａ）とアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２−メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等。以下、Ａ^１−ＯＨと記す。）とを塩基あるいは４級アンモニウム塩（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等）の存在下で反応させて、下式（１０ａ）で表されるオリゴマー化合物（１０ａ）を得る。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（１１ａ）、
Ａ^１−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｈ ・・・（１０ａ）。

化合物（１１ａ）に対するＡ^１−ＯＨの添加量を制御することによって、目的とする数平均分子量を有するオリゴマー化合物（１０ａ）を合成できる。または、Ａ^１−ＯＨが化合物（１１ａ）自身であってもよく、反応時間の制御や生成物の分離精製によって、目的とする数平均分子量を有するオリゴマー化合物（１０ａ）を合成できる。
化合物（１１ａ）の合成およびその重付加反応による化合物（１０ａ）の合成は、米国特許第５１３４２１１号明細書に記載の公知の方法にしたがって実施できる。

化合物（１０ａ）とＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとのエステル化反応によって、下式（９ａ）で表される化合物（９ａ）を得る。該エステル化反応は、化合物（１０ａ）と上例のようなペルフルオロ酸フロリドとの反応に限定されず、含フッ素あるいはフッ素を含まない炭化水素系の酸フロリド、酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等との反応であってもよい。
Ａ^１−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（９ａ）。

さらに、フッ素ガスを用いて化合物（９ａ）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（７ａ）を得る。該フッ素化工程は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。

（前駆体（１３）の製造方法）
前駆体（１３）の製造方法について、下式（１３ａ）で表される前駆体（１３ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１３ａ）。

＜前駆体（１３ａ）の製造方法＞
化合物（８ａ）を、ヨウ素化剤（ヨウ化リチウム、ヨウ素／炭酸カリウム等）を用いてヨウ素化することによって、下式（１５ａ）で表される化合物（１５ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ ・・・（１５ａ）。
次に、化合物（１５ａ）を、ラジカル発生剤存在下にエチレンを作用させることによって、下式（１６ａ）で表される化合物（１６ａ）を得る。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｉ ・・・（１６ａ）。
得られた化合物（１６ａ）を、塩基性化合物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の存在下で臭化アリル（Ｂｒ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）と反応させて脱ヨウ化水素することによって、前駆体（１３ａ）が得られる。

（前駆体（１４）の製造方法）
前駆体（１４）の製造方法について、下式（１４ａ）で表される前駆体（１４ａ）を例にとり、説明する。
Ａ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１４ａ）。

＜前駆体（１４ａ）の製造方法＞
化合物（１５ａ）を、ラジカル発生剤存在下にアリル化剤（アリルトリブチルスズ、アリルトリス（トリメチルシリル）シラン等）を作用させることによって、前駆体（１４ａ）が得られる。

［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物と記す。）は、本化合物を９５質量％以上含む組成物である。

本組成物は、本化合物以外の不純物を含んでいてもよい。本化合物以外の不純物とは、本化合物の製造上不可避の化合物を意味する。具体的には、本化合物の製造工程で生成した副生成物および本化合物の製造工程で混入した成分である。本組成物は、後述する液状の媒体を含まない。本組成物中の本化合物以外の不純物の含有量は、５質量％以下が好ましい。

本組成物中の本化合物の含有量は、９８質量％以上が特に好ましい。すなわち不純物の含有量は、２質量％以下が特に好ましい。本化合物の含有量が前記範囲であれば、基材の表面処理に用いたときの、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる。

本組成物中の副生成物の同定および定量は、^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）および^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）によって行う。たとえば、前駆体（３）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−１）および化合物（１−２）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物（式（１）におけるＢが下式（２−６）で表される化合物）に由来するスペクトルピークが検出されない場合を、副生成物の含有量がゼロであると定義する。また、該副生成物に由来するスペクトルピークが観測された場合は、内部標準による定量によって該副生成物の含有量を求める。
−Ｒ^ｆ７ＣＸ_２Ｏ−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３ ・・・（２−６）。

同様に、前駆体（１３）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−４）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物は式（１）におけるＢが下式（２−７）で表される化合物（以下、化合物（１７）と記す。）である。
−Ｒ^ｆ７ＣＨ_２ＣＨ_３ ・・・（２−７）。

同様に、前駆体（１４）をヒドロシリル化する工程を経て、目的の化合物（１−５）を製造する場合、ヒドロシリル化によって副生成物が生じ得る。該副生成物は式（１）におけるＢが下式（２−８）で表される化合物である。
−Ｒ^ｆ７ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３ ・・・（２−８）。

また、目的の化合物（１−４）および化合物（１−５）を製造する場合、化合物（８）をヨウ素化して化合物（１５）を得る反応では、副生成物として式（１）におけるＢが下式（２−９）で表される化合物（以下、化合物（１８）と記す。）を生じ得る。
−Ｒ^ｆ７Ｈ ・・・（２−９）。

［表面処理層を有する基材の製造方法］
（ドライコーティング法）
本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって基材の表面を処理して、表面処理層を有する基材を製造する方法に、そのまま用いることができる。本化合物および本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面処理層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。

真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０^−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０^−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、本化合物または本組成物の蒸着源が充分な蒸気圧を有する温度であれば特に制限はない。具体的には３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度が良好になる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、基材の表面に初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、基材温度は室温（２０〜２５℃）から２００℃までの範囲であることが好ましい。基材温度が２００℃以下であれば、成膜速度が良好になる。基材温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。

本化合物または本組成物を用い、ドライコーティング法によって基材の表面を処理する場合、該処理によって基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚は、たとえば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。

特に、真空蒸着法においては、本組成物中の本化合物の含有量が多く、不純物の含有量が少ないため、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性の向上効果が大きい。これは、不純物である分子量が小さい副生成物が、本化合物よりも先に基材の表面に蒸着し、その結果、性能の発現を担う本化合物と基材の表面との化学結合が妨げられるのが、抑えられるためと考えられる。

（ウェットコーティング法）
本化合物を含むコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させることによって、表面処理層を有する基材を製造することができる。
コーティング液の塗布方法としては、公知の手法を適宜用いることができる。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
乾燥させる方法は、媒体を乾燥除去できる方法であればよく、公知の手法を適宜用いることができる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。

媒体を乾燥除去した後に、基材の表面に形成される表面処理層は、膜厚として、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。該表面処理層の膜厚が前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。なお、膜厚の測定は、ドライコーティング法で形成される表面処理層の膜厚の測定方法と同様に行うことができる。

（後処理）
前記ドライコーティング法やウェットコーティング法により基材表面に表面処理層を形成した後に、該表面処理層の摩擦に対する耐久性を向上させるために、必要に応じて、含フッ素エーテル化合物と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、基材表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進することができる。
表面処理後、表面処理層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面処理層に溶剤をかけ流す方法や、溶剤をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。

（コーティング液）
本発明のコーティング液（以下、本コーティング液と記す。）は、本化合物と媒体とを含む。媒体は、液状であることが好ましい。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本コーティング液は、本化合物を含んでいればよく、本化合物の製造工程で生成した副生成物等の不純物を含んでもよい。したがって、本コーティング液は、本組成物と媒体とを含んでもよい。
本化合物の濃度は、本コーティング液中、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。

＜媒体＞
媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。

フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
非フッ素系有機溶媒としては、本化合物の溶解性の点で、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。

媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、ならびに、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルから選ばれるフッ素系有機溶媒が好ましい。
媒体としては、フッ素系有機溶媒であるフッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を、合計で媒体全体の９０質量％以上含むことが、本化合物の溶解性を高める点で好ましい。
本コーティング液は、媒体を９０〜９９．９９９質量％含むことが好ましく、９９〜９９．９９質量％含むことが特に好ましい。

本コーティング液は、本化合物および媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
本コーティング液における、その他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

本コーティング液の固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。また、本組成物の濃度は、固形分濃度と、本組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。

（基材）
本発明において、表面処理の対象となる基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の表面の材料としては、金属、樹脂、ガラス、セラミック、これらの複合材料が挙げられる。

本化合物、これを含む本組成物または本コーティング液を用いて基材の表面を処理して表面処理層が形成されることによって、良好な初期の撥水撥油性が付与されるとともに、該表面が繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい優れた耐摩擦性、および基材の表面の指紋汚れを容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が得られる。したがって、このようにして得られる、表面処理層を有する基材は、良好な初期の撥水撥油性を有するとともに、優れた耐摩擦性および指紋汚れ除去性を有するため、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置を意味する。タッチパネルは、基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。基材の表面処理層を有する面をタッチパネルの入力面とすることにより、良好な指紋除去性を有するタッチパネルが得られる。
タッチパネル用基材の材質は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。

タッチパネル用基材の材質としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。透明樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
また、本発明における基材として、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイの最表面を構成するディスプレイ用基材も好適であり、本化合物、本組成物または本コーティング液を用いた表面処理によって表面処理層を形成することによって、良好な指紋汚れ除去性が得られる。

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１〜９、例１１〜１２、例２１〜２９および例３１〜３２は実施例、例１０および例３０は比較例である。

［例１：組成物（Ａ）の製造］
（例１−１）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の１４．１ｇを取り入れ、ＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）の３５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１２ａ）の１００ｇ、メタノールの１５．８ｇ、ＡＫ−２２５の２２ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの１０ｇとＡＫ−２２５の１０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、エバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（１１ａ）の８０．６ｇ（収率８８％）を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３ ・・・（１２ａ）、
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（１１ａ）。

化合物（１１ａ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．２（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８５．６（２Ｆ）、−１１４．０（１Ｆ）、−１２２．２（１Ｆ）、−１２３．３（２Ｆ）、−１２７．４（２Ｆ）、−１３５．２（１Ｆ）。

（例１−２−１）
還流冷却器を接続した５００ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１１ａ）の３００ｇ、トリフルオロエタノール（以下、ＴＦＥＯとも記す。）の１３．５ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の９．３４ｇを加えた。窒素雰囲気下、６５℃で１時間撹拌した後、７時間かけて１００℃まで昇温し、さらに３時間撹拌した。ＮＭＲで化合物（１１ａ）のビニルエーテル基が完全に消失したことを確認した。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの２７９ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５の１１０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。下式（１０ａ−１）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉ）の４７ｇ、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１９ｇを得た。
ＣＦ_３ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｈ ・・・（１０ａ−１）。

（例１−２−２）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、ＴＦＥＯの６．６４ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の７．３２ｇを加えた。窒素雰囲気下、７５℃で撹拌しながら、例１−１で得た化合物（１１ａ）の１９．８７ｇを加え、１時間撹拌した。続いて１２０℃まで昇温し、化合物（１１ａ）の１１３．３４ｇを内温が１３０℃以下になるように制御しながら、ゆっくりと滴下した。全量滴下した後、１２０℃に保ちながらさらに１時間撹拌し、加熱を止めて室温に下がるまで撹拌を続けた。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーを得た。再び、ＡＫ−２２５の１５０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。上式（１０ａ−１）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉ）の４８．５ｇ、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１３．２ｇを得た。

化合物（１０ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．８（１６Ｈ）、６．７〜６．９（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７４．２（３Ｆ）、−８４．３〜−８５．１（１６Ｆ）、−８９．４〜−９０．５（１６Ｆ）、−１２０．２（１４Ｆ）、−１２２．０（２Ｆ）、−１２６．６（１４Ｆ）、−１２７．０（２Ｆ）、−１４５．１（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。

化合物（１０ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．８（２８Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７４．２（３Ｆ）、−８４．３〜−８５．１（２８Ｆ）、−８９．４〜−９０．５（２８Ｆ）、−１２０．２（２６Ｆ）、−１２２．０（２Ｆ）、−１２６．６（２６Ｆ）、−１２７．０（２Ｆ）、−１４５．１（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。

（例１−３）
還流冷却器を接続した３００ｍＬのナスフラスコに、例１−２で得た化合物（１０ａ−１ｉ）の１１３．３３ｇ、フッ化ナトリウム粉末の５．０ｇ、ＡＫ−２２５の１５０ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの８４．７５ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で１３時間撹拌した後、７０℃で３時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、下式（９ａ−１）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が８である、化合物（９ａ−１ｉ）の１００．６７ｇ（収率８０％）を得た。
ＣＦ_３ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（９ａ−１）。

化合物（９ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４（１６Ｈ）、４．９（２Ｈ）、６．０−６．２（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７５．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８２．７（３Ｆ）、−８４．７〜−８５．０（１６Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−９０．５〜−９３．０（１６Ｆ）、−１２１．１（２Ｆ）、−１２１．５（１４Ｆ）、−１２８．０（１６Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．３（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。

（例１−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３（ＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌ_２）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、２５℃、流速３．２Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１−３で得た化合物（９ａ−１ｉ）の１３０ｇをＲ−１１３の４４８ｇに溶解した溶液を、２２時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の８ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．６ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（７ａ−１ｉ）の１５２．１ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（７ａ−１）。

化合物（７ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．０（３０Ｆ）、−８６．７〜８７．８（６Ｆ）、−８９．２（３４Ｆ）、−１２６．５（３２Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例１−５）
５００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（以下、ＰＦＡと記す。）製丸底ナスフラスコに、例１−４で得た化合物（７ａ−１ｉ）の１２０ｇおよびＡＫ−２２５の２４０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの６．１ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、下式（４ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、前駆体（４ａ−１ｉ）の１０８．５ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ_３ ・・・（４ａ−１）。

前駆体（４ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．０（３０Ｆ）、−８８．２（３Ｆ）、−８９．２（３４Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例１−６）
３００ｍＬのナスフラスコに、例１−５で得た前駆体（４ａ−１ｉ）の９２．５ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の６．５１ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−１ｉ）の９８％が化合物（１−３ａ−１ｉ）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、下式（１−３ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−３ａ−１ｉ）を９７％含む組成物（Ａ）を得た。化合物（１−３ａ−１ｉ）の数平均分子量は、２，９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−３ａ−１）。

化合物（１−３ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．９（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

［例２：組成物（Ｂ）の製造］
（例２−１）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、例１−２−１で得た化合物（１０ａ−１ｉｉ）の１１４．７２ｇ、フッ化ナトリウム粉末の８．１ｇ、ＡＫ−２２５の１０１．７２ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの９５．１８ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で１２時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、上式（９ａ−１）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が１４である、化合物（９ａ−１ｉｉ）の９４．５７ｇ（収率７７％）を得た。

化合物（９ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４（２８Ｈ）、４．９（２Ｈ）、６．０−６．２（１４Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７５．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８２．７（３Ｆ）、−８４．７〜−８５．０（２８Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−９０．５〜−９３．０（２８Ｆ）、−１２１．１（２Ｆ）、−１２１．５（２６Ｆ）、−１２８．０（２８Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．３（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。

（例２−２）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積３Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の２，３５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速４．２Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例２−１で得た化合物（９ａ−１ｉｉ）の２１３ｇをＲ−１１３の７３２ｇに溶解した溶液を、２９時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．００９ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の５ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．４ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、上式（７ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（７ａ−１ｉｉ）の２５０．１ｇ（収率９９％）を得た。

化合物（７ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８０．３（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．２（５４Ｆ）、−８６．９〜８８．０（６Ｆ）、−８９．４（５８Ｆ）、−１２６．６（５６Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例２−３）
５００ｍＬのＰＦＡ製丸底ナスフラスコに、例２−２で得た化合物（７ａ−１ｉｉ）の１１０ｇおよびＡＫ−２２５の２２０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３．５ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、上式（４ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、前駆体（４ａ−１ｉｉ）の１０３ｇ（収率１００％）を得た。

前駆体（４ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．０（５４Ｆ）、−８８．２（３Ｆ）、−８９．２（５８Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（５４Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例２−４）
３００ｍＬのナスフラスコに、例２−３で得た前駆体（４ａ−１ｉｉ）の１００．５ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の４．３８ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−１ｉｉ）の９８％が化合物（１−３ａ−１ｉｉ）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして、上式（１−３ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−３ａ−１ｉｉ）を９７％含む組成物（Ｂ）を得た。化合物（１−３ａ−１ｉｉ）の数平均分子量は、４,９００であった。結果を表１に示す。

化合物（１−３ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．９（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

［例３：混合物（Ｃ）の製造］
（例３−１）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコに、塩化リチウムの０．９２ｇをエタノールの９１．６ｇに溶解させた。これに例１−５で得た前駆体（４ａ−１ｉ）、すなわち化合物（６ａ−１ｉ）の１２０．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの３．７５ｇをエタノールの１１２．４ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１００ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、下式（５ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（５ａ−１ｉ）の１１９．０ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（５ａ−１）。

化合物（５ａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．８（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例３−２）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの２．２６ｇをテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す。）の２２．６ｇに懸濁した。これに例３−１で得た化合物（５ａ−１ｉ）の１１８．５ｇをＡＣ−２０００（製品名、旭硝子社製）の２１２．４ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの１５．７ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。得られた反応粗液を水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、下式（３Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、前駆体（３Ｈａ−１ｉ）の９９．９ｇ（収率８３％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｈａ−１）。

前駆体（３Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例３−３）
１００ｍＬのポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥと記す。）製密閉式耐圧容器に、例３−２で得た前駆体（３Ｈａ−１ｉ）の４９．０ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．２６ｇ、トリクロロシランの２３．７ｇおよびＨＦＥ−７３００（製品名、３Ｍ社製）の２４．５ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、ＨＦＥ−７３００の５０ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液１５．０ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、下式（１−１Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）と、下式（１−２Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）との混合物（Ｃ）の４９．５ｇ（収率９７％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）と化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）とのモル比は、ＮＭＲより９３：７であった。混合物（Ｃ）の数平均分子量は、２,９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−１Ｈａ−１）、
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−２Ｈａ−１）。

化合物（１−１Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−１ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

［例４：混合物（Ｄ）の製造］
（例４−１）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコに、塩化リチウムの０．５７ｇをエタノールの５７．０ｇに溶解させた。これに例２−３で得た前駆体（４ａ−１ｉｉ）、すなわち化合物（６ａ−１ｉｉ）の１２８．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの２．３３ｇをエタノールの６９．９ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１００ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、上式（５ａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（５ａ−１ｉｉ）の１２７．３ｇ（収率１００％）を得た。

化合物（５ａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．１（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例４−２）
５００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの１．４０ｇをＴＨＦの１４．０ｇに懸濁した。これに例４−１で得た化合物（５ａ−１ｉｉ）の１２７．０ｇをＡＣ−２０００の２１１．５ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの９．７１ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。得られた反応粗液を水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、上式（３Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）の１０３．４ｇ（収率８１％）を得た。

前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例４−３）
１００ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例４−２で得た前駆体（３Ｈａ−１ｉｉ）の５１．０ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．１６ｇ、トリクロロシランの１２．６ｇおよびＨＦＥ−７３００の３０．６ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、ＨＦＥ−７３００の５０ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液９．１ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、上式（１−１Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）と、上式（１−２Ｈａ−１）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）との混合物（Ｄ）の５１．１ｇ（収率９８％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）と化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）とのモル比は、ＮＭＲより９３：７であった。混合物（Ｄ）の数平均分子量は、４，９００であった。結果を表１に示す。

化合物（１−１Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−１ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（５４Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（５８Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

［例５：化合物（Ｅ）の製造］
（例５−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−４で得た化合物（７ａ−１ｉ）の１０．５ｇおよびＣｓＦの０．３２ｇを入れ、８０℃まで昇温しエステルの熱分解を行い、副生成物である低沸点成分を系外に除去するため、８０℃に保ったまま１０ｍｍＨｇまで減圧し、１時間保持した。一部を抜き取ってＮＭＲにて分析したところ、化合物（８ａ−１）の生成を確認した。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ ・・・（８ａ−１）。

（例５−２）
続いて、テトラグライムの８．０ｇ、ＣｓＦの１．１２ｇをナスフラスコに添加後、窒素雰囲気下、５０℃で１時間撹拌した。５０℃に保ったまま、臭化アリルの０．８０ｇを滴下した。温度を８０℃まで昇温し、窒素雰囲気下、１２時間反応させた。反応終了後、フッ素系溶媒であるＨＦＥ−７３００と水により抽出、洗浄を行い、２層分離後の有機相を回収した。有機相に５％の水酸化ナトリウム水溶液を加え３０分間撹拌させた後、２層分離後の有機相を回収した。回収した有機相の溶媒を減圧留去し、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタに通して前駆体（３Ｆａ−１）の２．３ｇ（収率２４％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｆａ−１）。

前駆体（３Ｆａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．５（２Ｈ）、５．３（２Ｈ）、５．９（２Ｈ。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８６．１（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２６．１（２Ｆ）、−１２６．６（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例５−３）
２５ｍＬのナスフラスコに、例５−２で得た前駆体（３Ｆａ−１）の２．３ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．００５ｇおよびトリクロロシランの０．５５ｇを入れ、６０℃で４時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液０．７５ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｆａ−１）（以下、化合物（Ｅ）とも記す。）の２．０ｇ（収率８３％）を得た。化合物（Ｅ）の数平均分子量は、３，０００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−１Ｆａ−１）。

化合物（１−１Ｆａ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．８（２Ｈ）、３．６（９Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（３０Ｆ）、−８６．２（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．３（３４Ｆ）、−１２６．１（２Ｆ）、−１２６．５（３０Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

［例６：組成物（Ｆ）の製造］
（例６−１）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１１ａ）の５．０１ｇ、メタノールの５．０６ｇを取り入れ、水酸化カリウムのペレット０．５４ｇを加えた。窒素雰囲気下、２５℃で終夜撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することで、メタノール付加体の５．１４ｇを得た。再び、還流冷却器を接続した５０ｍＬナスフラスコにメタノール付加体の１．０ｇ、水酸化カリウムのペレットの０．１３ｇを加え、１００℃に加熱しながら、化合物（１１ａ）の１０．８６ｇを滴下した。１００℃を保ったまま更に９時間撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの１１ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。下式（１０ａ−２）中、（ｎ＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−２ｉ）の４．７６ｇを得た。
ＣＨ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｈ ・・・（１０ａ−２）。：

化合物（１０ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１４Ｈ）、６．０〜６．２（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．７〜−８７．０（１６Ｆ）、−８９．４〜−９１．６（１６Ｆ）、−１２１．５（１４Ｆ）、−１２３．４（２Ｆ）、−１２８．０（１６Ｆ）、−１４５．３（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。

（例６−２）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例６−１で得た化合物（１０ａ−２ｉ）の１１．３５ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２．０５ｇ、ＡＫ−２２５の７８ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの９．８２ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２４時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、下式（９ａ−２）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が８である、化合物（９ａ−２ｉ）の９．４８ｇ（収率７５％）を得た。
ＣＨ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（９ａ−２）。

化合物（９ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．７（１４Ｈ）、５．２（２Ｈ）、６．７−６．９（８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７９．０（１Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８３．７〜−８５．０（１６Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−８９．０〜−９２．０（１６Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２０．２（１４Ｆ）、−１２６．６（１６Ｆ）、−１２９．３（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．０（８Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：８。

（例６−３）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積５００ｍＬ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の３１２ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例６−２で得た化合物（９ａ−２ｉ）の８．４ｇをＲ−１１３の８４ｇに溶解した溶液を、３．６時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の９ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の６ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．３３ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７ａ−２）中、単位数（ｎ）の平均値が７である、化合物（７ａ−２ｉ）の８．８ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（７ａ−２）。

化合物（７ａ−２ｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８６．７〜８７．８（３Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２６．５（３２Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例６−４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例６−３で得た化合物（７ａ−２ｉ）の８．８ｇ、フッ化ナトリウム０．９９ｇ、およびＡＫ−２２５の１０．３ｇを入れた。窒素雰囲気下、メタノールの２．１ｇを加え、５０℃で２時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウムを除去した後、反応混合物をエバポレータで濃縮し、前駆体（４ａ−２）の８．５ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ_３ ・・・（４ａ−２）。

前駆体（４ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．０（３０Ｆ）、−８９．２（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２６．５（２８Ｆ）、−１２７．８（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例６−５）
６ｍＬのスクリュー瓶に、例６−４で得た前駆体（４ａ−２）の２．０２ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓ（ＯＣＨ_３）_３の０．１８ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ａ−２）の９７％が化合物（１−３ａ−２）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして化合物（１−３ａ−２）を９６％含む組成物（Ｆ）を得た。化合物（１−３ａ−２）の数平均分子量は、２，９００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−３ａ−２）。

化合物（１−３ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．３（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２０．８（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２７．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

［例７：混合物（Ｇ）の製造］
（例７−１）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコ内にて、水素化アルミニウムリチウムの０．０７ｇをＴＨＦの２．７ｇに懸濁させた。氷浴で冷却しながら、例６−４で得た前駆体（４ａ−２）、すなわち化合物（６ａ−２）の６．１ｇをＡＣ−６０００（製品名、旭硝子社製）の６．０ｇで希釈した溶液をゆっくりと滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（５ａ−２）の５．９ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（５ａ−２）。

化合物（５ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．０（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（２８Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．７（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例７−２）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコ内にて、水素化ナトリウムの０．１１ｇをＴＨＦの１．１ｇに懸濁した。これに例７−１で得た化合物（５ａ−２）の５．９ｇをＡＣ−６０００の１０ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの１．１ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。ＡＫ−２２５の５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、前駆体（３Ｈａ−２）の３．８ｇ（収率６３％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｈａ−２）。

前駆体（３Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

（例７−３）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例７−２で得た前駆体（３Ｈａ−２）の３．６ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．０３ｇ、トリクロロシランの１．１ｇおよびＨＦＥ−７３００の３．６ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液１．０ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｈａ−２）と化合物（１−２Ｈａ−２）との混合物（Ｇ）の３．０ｇ（収率８１％）を得た。化合物（１−１Ｈａ−２）と化合物（１−２Ｈａ−２）とのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。混合物（Ｇ）の数平均分子量は、４，９００であった。結果を表１に示す。

ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−１Ｈａ−２）、
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−２Ｈａ−２）。

化合物（１−１Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（３０Ｆ）、−８９．３（３０Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．７（２Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：７。

［例８：組成物（Ｈ）の製造］
（例８−１）
５００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の２８．２ｇを取り入れ、ＡＫ−２２５の１５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１２ｂ）の３００ｇ、メタノールの４５．５ｇ、ＡＫ−２２５の１００ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの３０ｇとＡＫ−２２５の３０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で終夜撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、エバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（１１ｂ）の２６２．６ｇ（収率９４％）を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３ ・・・（１２ｂ）、
ＣＦ_２＝ＣＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（１１ｂ）。

化合物（１１ｂ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．１（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８３．８（２Ｆ）、−８５．４（２Ｆ）、−８６．２（２Ｆ）、−１１３．１（１Ｆ）、−１２１．６（１Ｆ）、−１２６．５（２Ｆ）、−１２９．２（２Ｆ）、−１３５．１（１Ｆ）。

（例８−２）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例８−１で得た化合物（１１ｂ）の３１．０ｇ、ＴＦＥＯの１．１ｇを取り入れ、炭酸カリウムの粉末１．５ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で３時間撹拌した後、６０℃で８時間撹拌し、さらに室温で終夜撹拌した。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの３２．０ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求め、（ｎ＋１）の平均値が５〜８のフラクションを合わせた化合物（１０ｂ−１）の８．３ｇを得られた。
ＣＦ_３ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＨＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｈ ・・・（１０ｂ−１）。

化合物（１０ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．１（２Ｈ）、４．７（１２Ｈ）、６．７−６．９（６Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７４．２（３Ｆ）、−８３．３（１２Ｆ）、−８４．１〜−８５．０（１２Ｆ）、−８５．３（１２Ｆ）、−８９．６〜−９０．６（１２Ｆ）、−１２３．５（２Ｆ）、−１２５．３（１０Ｆ）、−１２８．８（１２Ｆ）、−１４５．３（６Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：６。

（例８−３）
還流冷却器を接続した１００ｍＬのナスフラスコに、例８−２で得た化合物（１０ｂ−１）の８．３１ｇ、フッ化ナトリウム粉末の１．８６ｇ、ＡＫ−２２５の２５．１３ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの９．６８ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で１０時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、化合物（９ｂ−１）の９．３８ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＨＦＯ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（９ｂ−１）。

化合物（９ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．７（１２Ｈ）、５．３（２Ｈ）、６．７−６．９（６Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７４．３（３Ｆ）、−７９．２（１Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８３．３（１２Ｆ）、−８３．６〜−８５．０（１２Ｆ）、−８５．３（１２Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−８９．４〜−９０．６（１２Ｆ）、−１２３．０（２Ｆ）、−１２３．４（１０Ｆ）、−１２８．８（１２Ｆ）、−１２９．４（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．３（６Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：６。

（例８−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積５００ｍＬ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３の３１２ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速１．４Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例８−３で得た化合物（９ｂ−１）の８．９ｇをＲ−１１３の８９ｇに溶解した溶液を、４時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の９ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の６ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．３３ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（７ｂ−１）の１０．４ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３ ・・・（７ｂ−１）。

化合物（７ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８０．０（１Ｆ）、−８２．５（３Ｆ）、−８２．８（３Ｆ）、−８４．３（４６Ｆ）、−８６．７〜８８．１（６Ｆ）、−８９．４（２４Ｆ）、−１２９．８（２Ｆ）、−１３０．２（２４Ｆ）、−１３０．６（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

（例８−５）
５０ｍＬのナスフラスコに、例８−４で得た化合物（７ｂ−１）の１０．４ｇ、フッ化ナトリウム０．６８ｇおよびＡＫ−２２５の１３．７２ｇを入れた。窒素雰囲気下、メタノールの２．０ｇを加え、５０℃で２時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウムを除去した後、反応混合物をエバポレータで濃縮し、前駆体（４ｂ−１）の９．０ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ_３ ・・・（４ｂ−１）。

前駆体（４ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．３（４４Ｆ）、−８６．４（２Ｆ）、−８８．１（３Ｆ）、−８９．４（２６Ｆ）、−１２２．４（２Ｆ）、−１３０．２（２２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

（例８−６）
６ｍＬのスクリュー瓶に、例８−５で得た前駆体（４ｂ−１）の１．４３ｇおよびＨ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の０．１２ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、前駆体（４ｂ−１）の９７％が化合物（１−３ｂ−１）に変換していることを確認した。また、Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３のすべてが反応しており、副生物であるメタノールが生成していた。このようにして化合物（１−３ｂ−１）を９６％含む組成物（Ｈ）を得た。化合物（１−３ｂ−１）の数平均分子量は、３,０００であった。結果を表１に示す。

ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−３ｂ−１）。

化合物（１−３ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（４４Ｆ）、−８５．７（２Ｆ）、−８７．９（３Ｆ）、−８９．２（２６Ｆ）、−１２３．５（２Ｆ）、−１２９．９（２２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

［例９：混合物（Ｉ）の製造］
（例９−１）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコに、水素化アルミニウムリチウムの０．０９ｇをＴＨＦの３．６ｇに懸濁させた。氷浴で冷却しながら、例８−５で得た前駆体（４ｂ−１）、すなわち化合物（６ｂ−１）の６．８ｇをＡＣ−６０００の７．０ｇで希釈した溶液をゆっくりと滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＫ−２２５の１５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（５ｂ−１）の６．６ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ ・・・（５ｂ−１）。

化合物（５ｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．８（１Ｈ）、４．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（４４Ｆ）、−８６．５（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．２（２６Ｆ）、−１２７．０（２Ｆ）、−１２９．９（２２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

（例９−２）
５０ｍＬの２つ口ナスフラスコに、水素化ナトリウムの０．１５ｇをＴＨＦの１．５ｇに懸濁した。これに例９−１で得た化合物（５ｂ−１）の６．３ｇをＡＣ−６０００の１１．６ｇで希釈した溶液を滴下し、さらに臭化アリルの１．３５ｇを滴下した。油浴で７０℃として５時間撹拌した。ＡＫ−２２５の５ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、ヘキサンで３回洗浄し、前駆体（３Ｈｂ−１）の５．４ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（３Ｈｂ−１）。

前駆体（３Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（４４Ｆ）、−８６．４（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．２（２６Ｆ）、−１２３．７（２Ｆ）、−１２９．９（２２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

（例９−３）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例９−２で得た前駆体（３Ｈｂ−１）の５．５ｇ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドの０．０３ｇ、トリクロロシランの２．１ｇおよびＨＦＥ−７３００の５．５ｇを入れ、１２０℃で８時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液１．８ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．０５ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−１Ｈｂ−１）と化合物（１−２Ｈｂ−１）との混合物（Ｉ）の４．６ｇ（収率８０％）を得た。化合物（１−１Ｈｂ−１）と化合物（１−２Ｈｂ−１）とのモル比は、ＮＭＲより９２：８であった。混合物（Ｉ）の数平均分子量は、３，０００であった。結果を表１に示す。

ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−１Ｈｂ−１）、
ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−２Ｈｂ−１）。

化合物（１−１Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（４４Ｆ）、−８６．４（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．２（２６Ｆ）、−１２３．８（２Ｆ）、−１２９．９（２２Ｆ）。
化合物（１−２Ｈｂ−１）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．１（３Ｈ）、１．８（１Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．１（４４Ｆ）、−８６．４（２Ｆ）、−８７．７（３Ｆ）、−８９．２（２６Ｆ）、−１２３．８（２Ｆ）、−１２９．９（２２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：５。

［例１０：化合物（Ｊ）の製造］
（ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）との組み合わせからなる含フッ素エーテル化合物を、米国特許第５２５８１１０号明細書、米国特許第３８４７９７８号明細書等に記載の方法にしたがって合成した。得られた含フッ素エーテル化合物の酸フロリド（−ＣＯＦ）末端を、アルコールとの反応によってエステル化し、アミノプロピルシラン化合物を反応させて、末端を加水分解性のトリメトキシシリル基に変換し、化合物（Ｊ）を得た。

［例１１：混合物（Ｋ）の製造］
（例１１−１）
還流冷却器を接続した１Ｌの三口フラスコに、メタノールの３７．６１ｇを取り入れ、炭酸カリウム粉末の５４．０２ｇを加えた。窒素雰囲気下、１２０℃で撹拌しながら、例１−１で得た化合物（１１ａ）の２，４００ｇをゆっくりと滴下した。全量滴下した後、１２０℃に保ちながらさらに１時間撹拌し、加熱を止めて室温に下がるまで撹拌を続けた。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、２，４０６ｇの高粘度のオリゴマーを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を^１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。上式（１０ａ−２）中、（ｎ＋１）の平均値が１３〜１６のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−２ｉｉ）の５１４．４ｇ（収率２１％）を得た。

化合物（１０ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（２６Ｈ）、６．０〜６．２（１４Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．７〜−８７．０（２８Ｆ）、−８９．４〜−９１．６（２８Ｆ）、−１２１．５（２６Ｆ）、−１２３．４（２Ｆ）、−１２８．０（２８Ｆ）、−１４５．３（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。

（例１１−２）
還流冷却器を接続した３００ｍＬの三口フラスコに、例１１−１で得た化合物（１０ａ−２ｉｉ）の１９２．６ｇ、フッ化ナトリウム粉末の２４．３５ｇを取り入れ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦの８０．３ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２４時間撹拌した後、室温で終夜撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦを減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）で高極性の不純物を除去し、上式（９ａ−２）中、単位数（ｎ＋１）の平均値が１４である、化合物（９ａ−２ｉｉ）の１９５．４ｇ（収率９４％）を得た。

化合物（９ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．７（２６Ｈ）、５．２（２Ｈ）、６．７−６．９（１４Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−７９．０（１Ｆ）、−８１．１（３Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８３．７〜−８５．０（２８Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−８９．０〜−９２．０（２８Ｆ）、−１１９．８（２Ｆ）、−１２０．２（２６Ｆ）、−１２６．６（２８Ｆ）、−１２９．３（２Ｆ）、−１３１．５（１Ｆ）、−１４５．０（１４Ｆ）。
単位数（ｎ＋１）の平均値：１４。

（例１１−３）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ_２ＣＦＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（以下、ＣＦＥ−４１９と記す。）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速３．６Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１１−２で得た化合物（９ａ−２ｉｉ）の１０７．０ｇをＣＦＥ−４１９の３７０ｇに溶解した溶液を、１７．３時間かけて注入した。

次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、上式（７ａ−２）中、単位数（ｎ）の平均値が１３である、化合物（７ａ−２ｉｉ）の１２２．５ｇ（収率９７％）を得た。

化合物（７ａ−２ｉｉ）のＮＭＲスペクトル；
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８６．７〜８７．８（３Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１２６．５（５６Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１１−４）
リービッヒ冷却管を装着した１００ｍＬの三口フラスコに、例１１−３で得た化合物（７ａ−２ｉｉ）の６０．０ｇ、およびフッ化カリウム０．１５ｇを入れた。窒素雰囲気下、８０℃で２時間撹拌した。さらに減圧にして、副生するＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（＝Ｏ）Ｆを留去した。加圧ろ過器でフッ化カリウムを除去し、化合物（８ａ−２）の５４．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｆ ・・・（８ａ−２）。

化合物（８ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：２４．０（１Ｆ）、−５６．２（３Ｆ）、−８４．７（５４Ｆ）、−８９．１（５４Ｆ）、−９０．１（２Ｆ）、−１１９．１（２Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２７．３（２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１１−５）
還流冷却器を接続した１００ｍＬの三口フラスコに、例１１−４で得た化合物（８ａ−２）の５４．５ｇおよびヨウ化リチウムの２．５ｇを入れ、１８０℃にて１０時間撹拌した。反応粗液から固形分をろ別することによって、５３．２ｇの生成物を得た。これは目的とする化合物（１５ａ−１）と副生成物である化合物（１８ａ−１）（式（１）におけるＢが式（２−９）で表される化合物）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ ・・・（１５ａ−１）。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ ・・・（１８ａ−１）。

化合物（１５ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．１（０．１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−５９．８（１．８Ｆ）、−８２．０（１．８Ｆ）、−８４．７（５２Ｆ）、−８９．１（５４Ｆ）、−９０．１（２Ｆ）、−１１７．６（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１１−６）
３０ｍＬのＳＵＳ製オートクレーブに、例１１−５で得た化合物（１５ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物の３０．０ｇ、アゾ系開始剤Ｖ−５９（商品名、和光純薬工業社製）の０．０５８ｇ、およびＣＦＥ−４１９の５．０ｇを入れた。反応器を密閉し、反応器内圧が−０．０９９ＭＰａ（Ｇ）になるまで脱気した後、エチレンを反応器内圧が１．５０ＭＰａ（Ｇ）になるまで圧入した。その後、８０℃にて５時間攪拌した。反応粗液からＣＦＥ−４１９と留去することによって、３０．２ｇの生成物を得た。これは目的とする化合物（１６ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｉ ・・・（１６ａ−１）。

化合物（１６ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．７（１．８Ｈ）、３．２（１．８Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１６．２（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２７．６（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１１−７）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１１−６で得た化合物（１６ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物の２９．２ｇ、１０質量％水酸化カリウムの８．８ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１４．６ｇを入れ、８０℃にて５時間撹拌した。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、２８．２ｇの生成物を得た。これは目的とする前駆体（１３ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１３ａ−１）。

前駆体（１３ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７−６．０（２．８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１５．２（１．８Ｆ）、−１２６．５（５２Ｆ）、−１２８．１（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１１−８）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例１１−７で得た前駆体（１３ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０１５ｇ、トリクロロシランの０．１３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、室温で２４時間撹拌した。減圧濃縮して未反応物や溶媒等を留去した後、滴下ロートを備えたフラスコに入れ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを入れて室温で撹拌した。オルト蟻酸トリメチルとメタノールの混合溶液０．７５ｇ（オルト蟻酸トリメチル：メタノール＝２５：１［ｍｏＬ：ｍｏＬ］）を滴下し、６０℃にて３時間反応させた。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．１ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−４ａ−１）、化合物（１８ａ−１）、および副生成物である化合物（１７ａ−１）（式（１）におけるＢが式（２−７）で表される化合物）との混合物（Ｋ）の１．９ｇ（収率９３％）を得た。化合物（１−４ａ−１）、化合物（１８ａ−１）、および化合物（１７ａ−１）のモル比は、ＮＭＲより７５：１０：１５であった。混合物（Ｋ）の数平均分子量は、４,８００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−４ａ−１）、
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_３ ・・・（１７ａ−１）。

混合物（Ｋ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．８（１．５Ｈ）、１．１（０．４５Ｈ）、２．１（１．８Ｈ）、３．６（８．１Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１７．８（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

［例１２：混合物（Ｌ）の製造方法］
（例１２−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１１−５で得た化合物（１５ａ−１）と化合物（１８ａ−１）の混合物の１０．０ｇ、アゾ系開始剤Ｖ−６０（商品名、和光純薬工業社製）の０．０１５ｇ、アリルトリブチルスズの３．７３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０．０ｇを入れ、９０℃にて６時間攪拌した。反応粗液をヘキサンで３回、アセトンで３回洗浄し、下層を回収した。回収した下層をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮することによって、９．０ｇの生成物を得た。これは目的とする前駆体（１４ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物であり、そのモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（１４ａ−１）。

前駆体（１４ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．８（１．８Ｈ）、５．３（１．８Ｈ）、５．８−５．９（１．０Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１１４．４（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．４（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

（例１２−２）
５０ｍＬのＰＴＦＥ製密閉式耐圧容器に、例１２−１で得た前駆体（１４ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０１１ｇ、トリメトキシシランの０．５３ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、残渣に０．１ｇの活性炭を加えて１時間撹拌した後、０．５μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１−５ａ−１）と化合物（１８ａ−１）との混合物（Ｌ）の２．０ｇ（収率９８％）を得た。化合物（１−５ａ−１）および化合物（１８ａ−１）のモル比は、ＮＭＲより９０：１０であった。混合物（Ｌ）の数平均分子量は、４，８００であった。結果を表１に示す。
ＣＦ_３−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３ ・・・（１−５ａ−１）。

混合物（Ｌ）のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（１．８Ｈ）、１．７（１．８Ｈ）、２．１（１．８Ｈ）、３．６（８．１Ｈ）、５．９（０．１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．３（２Ｆ）、−１１５．５（１．８Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２７．８（１．８Ｆ）、−１３３．３（０．２Ｆ）、−１３８．０（０．２Ｆ）。
単位数（ｎ）の平均値：１３。

［例２１〜３２：表面処理層を有する基材の製造および評価］
例１〜１２で得られた各化合物、混合物または組成物を用いて基材の表面処理を行い、例２１〜３２とした。各例について下記のドライコーティング法とウェットコーティング法とをそれぞれ用いて表面処理層を有する基材を製造した。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた表面処理層を有する基材について、下記の方法で評価した。結果を表２に示す。

（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ−３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１〜１２で得られた各化合物、混合物または組成物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^−３Ｐａ以下に排気した。化合物、混合物または組成物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒をこえた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。化合物、混合物または組成物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、その後、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。

（ウェットコーティング法）
例１〜１２で得られた各化合物、混合物または組成物と、媒体としてのノベック−７２００（製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。基材を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、基材を引き上げた。基材を２００℃で３０分間乾燥させ、含フッ素溶媒であるＡＫ−２２５（製品名、旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面処理層を有する基材を得た。

（評価方法）
＜水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法＞
表面処理層を有する基材の、表面処理された表面に置いた、約２μＬの蒸留水あるいはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。基材の表面処理された面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜初期の水およびｎ−ヘキサデカン接触角＞
ドライコーティング法およびウェットコーティング法でそれぞれ表面処理した基材（表面処理層を有する基材）について、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。

＜耐摩擦性＞
例２１〜３２で製造した表面処理層を有する基材について、ＪＩＳ Ｌ ０８４９に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）を荷重１ｋｇで１０万回往復させた後、水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を測定した。
摩擦回数を増大させたときの撥水性（水接触角）および撥油性（ｎ−ヘキサデカン接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。

＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを例２１〜３２で製造した表面処理層を有する基材上に乗せ、１Ｋｇの荷重にて１０秒間押しつけた。この時に、指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータ（東洋精機社製）にて測定した。この時の値を初期値とした。次に、指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが目視で確認できない数値に達したら合格とした。

表２の結果に示されるように、本化合物を用いた例２１〜２９および例３１〜３２の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角に優れ、特にドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、１０万回摩擦したときでも、接触角の低下が小さかった。基（α）と基（β）とを有する本化合物は、基材の表面に良好な初期の撥水撥油性を付与できるとともに、指紋汚れ除去性が良好で、耐摩擦性に優れ、繰り返し摩擦によっても撥水撥油性が低下しにくく、効率的に製造が可能であることが確認できた。

例２１および例２２の結果から、数平均分子量が高い本化合物を用いた例２２の方が、接触角の低下がより小さいことが確認された。
（ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）とを有する含フッ素エーテル化合物を用いた例３０の表面処理層を有する基材は、初期の水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角がやや劣り、ドライコーティング法で形成した表面処理層を有する基材は、摩擦による接触角の低下が大きかった。

本発明の含フッ素エーテル化合物は、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理に好適に用いることができる。
なお、２０１２年２月１７日に出願された日本特許出願２０１２−０３２７８４号および２０１２年１０月９日に出願された日本特許出願２０１２−２２４２６２号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (14)

1. 炭素数１〜２のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（α）の１〜３つと、炭素数３〜６のオキシペルフルオロアルキレン基の少なくとも１種からなる基（β）の１〜３つとを有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）基を単位とし、前記単位の２つ以上が連結してなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、かつ該ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の少なくとも一方の末端に連結基を介して加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物であり、
   下式（１）で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
   Ａ−Ｏ−［（Ｒ ^ｆ１ Ｏ） _ｘ１ （Ｒ ^ｆ２ Ｏ） _ｘ２ （Ｒ ^ｆ３ Ｏ） _ｘ３ （Ｒ ^ｆ４ Ｏ） _ｘ４ （Ｒ ^ｆ５ Ｏ） _ｘ５ （Ｒ ^ｆ６ Ｏ） _ｘ６ ］ _ｎ −Ｂ ・・・（１）。
   ただし、式（１）中の記号は以下の通りである。
   ｎ：２以上の整数。
   ｘ１〜ｘ２：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ１＋ｘ２は１〜３の整数である。
   ｘ３〜ｘ６：それぞれ独立に０〜３の整数であり、ｘ３＋ｘ４＋ｘ５＋ｘ６は１〜３の整数である。
   Ｒ ^ｆ１ ：炭素数１のペルフルオロアルキレン基。
   Ｒ ^ｆ２ ：炭素数２のペルフルオロアルキレン基。
   Ｒ ^ｆ３ ：炭素数３のペルフルオロアルキレン基。
   Ｒ ^ｆ４ ：炭素数４のペルフルオロアルキレン基。
   Ｒ ^ｆ５ ：炭素数５のペルフルオロアルキレン基。
   Ｒ ^ｆ６ ：炭素数６のペルフルオロアルキレン基。
   Ａ：炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基。
   Ｂ：下式（２−１）〜（２−５）で表される基。
   −Ｒ ^ｆ７ ＣＸ _２ Ｏ（ＣＨ _２ ） _３ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−１）、
   −Ｒ ^ｆ７ ＣＸ _２ ＯＣＨ _２ ＣＨ（ＣＨ _３ ）−ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−２）、
   −Ｒ ^ｆ７ Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ _ｋ Ｈ _２ｋ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−３）、
   −Ｒ ^ｆ７ （ＣＨ _２ ） _２ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−４）、
   −Ｒ ^ｆ７ （ＣＨ _２ ） _３ −ＳｉＬ _ｍ Ｒ _３−ｍ ・・・（２−５）。
   ただし、式（２−１）〜（２−５）中の記号は下記の通りである。
   Ｒ ^ｆ７ ：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基。
   Ｘ：水素原子またはフッ素原子。
   Ｌ：アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基またはイソシアナート基。
   Ｒ：水素原子または１価の炭化水素基。
   ｋ：１以上の整数。
   ｍ：１〜３の整数。
2. 前記単位において、一端が前記基（α）であり、他端が前記基（β）であるように基（α）と基（β）が配置されている、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
3. 前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一端の炭素原子に、酸素原子を介して炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜６のペルフルオロアルキル基が結合し、
   前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の他端の酸素原子に、連結基を介して加水分解性シリル基が結合し、
   前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一端の炭素原子が、前記基（α）の炭素原子であり、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の他端の酸素原子が、前記基（β）の酸素原子である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
4. 数平均分子量が、２，０００〜１０，０００である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
5. 前記基（β）が、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物を９５質量％以上含む、含フッ素エーテル組成物。
7. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物と、媒体とを含む、コーティング液。
8. 前記媒体が、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を含む、請求項７に記載のコーティング液。
9. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物を基材の表面に真空蒸着する工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
10. 請求項７または８に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させる工程を有する、表面処理層を有する基材の製造方法。
11. 前記コーティング液を前記基材の表面に塗布する方法が、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法である、請求項１０に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
12. 前記基材の材質が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の表面処理層を有する基材の製造方法。
13. 請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材。
14. 請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物で処理されてなる表面処理層を有する基材を入力面に有する、タッチパネル。