CN110431145B

CN110431145B - 含全氟（聚）醚基的硅烷化合物

Info

Publication number: CN110431145B
Application number: CN201880018453.3A
Authority: CN
Inventors: 三桥尚志; 能势雅聪; 野村孝史; 高野真也; 内藤真人; 小泽香织; 渡边裕介; P·胡普菲尔德
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2017-03-17
Filing date: 2018-03-15
Publication date: 2023-05-30
Anticipated expiration: 2038-03-15
Also published as: KR20190104614A; US11814537B2; WO2018169002A1; EP3597654A4; KR102262121B1; CN116515098A; JP6501016B1; CN110431145A; JP2019070100A; EP3597654A1; US20200002567A1

Abstract

本发明提供一种式(A1)、(A2)、(B1)或(B2)所示的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物[式中，各符号的含义与说明书中的记载相同]。(Rf‑PFPE)_α’‑X¹‑(SiR^a _kR^b _lR^c _m)_α…(A1)(R^c _mR^b _lR^a _kSi)_α‑X¹‑PFPE‑X¹‑(SiR^a _kR^b _lR^c _m)_α…(A2)(Rf‑PFPE)_γ’‑X²‑(CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B1)(R^g _n2R^f _m2R^e _l2R^d _k2C)_γ‑X²‑PFPE‑X²‑(CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B2)。

Description

含全氟(聚)醚基的硅烷化合物

技术领域

本发明涉及含全氟(聚)醚基的硅烷化合物。

背景技术

已知某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下又称“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施加于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等多种多样的基材上。

作为这样的含氟化合物，已知在分子主链具有全氟聚醚基、在分子末端或末端部具有与Si原子键合的能够水解的基团的含全氟聚醚基的硅烷化合物(参照专利文献1～2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2008－534696号公报

专利文献2：国际公开第97/07155号

发明内容

发明要解决的技术问题

为了长期地对基材提供所希望的功能，上述的表面处理层需要高的耐久性。由含有含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层即使是薄膜也能够发挥上述的功能，因而适合用于需求光透过性或透明性的眼镜或触摸面板等的光学部件。

但是，已知上述那样的由含有含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层存在因暴露于紫外线(UV)而导致功能变差的可能性。特别是在眼镜或便携设备的触摸面板等设想在室外使用的情况下，该可能性增大。

本发明的目的在于提供一种能够形成具有拨水性、拨油性、防污性、并且具有高耐UV性的层的新型的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物。

用于解决技术问题的技术手段

本发明的发明人进行了深入研究，结果发现通过使用具有特定结构的含全氟聚醚基的硅烷化合物，表面处理层的耐UV性提高，从而完成了本发明。

根据本发明的第一要点，提供一种式(A1)、(A2)、(B1)或(B2)的任一式所示的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物。

(Rf-PFPE)_α，-X¹-(SiR^a _kR^b _lR^e _m)_α…(A1)

(R^c _mR^b _lR^a _kSi)_α-X¹-PFPE-X¹-(SiR^a _kR^b _tR^c _m)_α…(A2)

(Rf-PFPE)_γ，-X²-(CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B1)

(R^g _n2R^f _m2R^e _l2R^d _k2C)_γ-X²-PFPE-X²-(CR^d _k2R^e ₁₂R^f _m2R^g _n2)_γ…(B2)

[式中，

PFPE在每次出现时分别独立地表示式：-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-所示的基团(a、b、c、d、e和f分别独立地0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标注a、b、c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的)；

Rf在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；

X¹在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

α在每次出现时分别独立地为1～9的整数；

α′分别独立地为1～9的整数；

R^a在每次出现时分别独立地表示-CH₂CH₂-SiR²³ _r2R²⁴ _s2；

R²³表示羟基或能够水解的基团；

R²⁴表示氢原子或1价的有机基团；

r2在每次出现时分别独立地为1～3的整数；

s2在每次出现时分别独立地为0～2的整数；

其中，在每个－CH₂CH₂－SiR²³ _r2R²⁴ _s2中，r2和s2之和为3；

R^b在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1；

Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；

R¹¹在每次出现时分别独立地表示R^a′；

R^a′的含义与R^a相同；

R¹²在每次出现时分别独立地表示R^b′；

R^b′的含义与R^b相同；

R^b中，经由Z基连接成直链状的Si最多为5个；

R¹³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R¹⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团；

p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

s1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个－Z－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1中，p1、q1、r1和s1之和为3；

R^c在每次出现时分别独立地表示氢原子、羟基、能够水解的基团或1价的有机基团；

k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

m在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个－SiR^a _kR^b _lR^c _m中，k、l和m之和为3，

在式(A1)和(A2)中，存在键合有至少1个R^a或R^a′、还可以键合有至少包含R¹³或R²³中任一个的R^b或R^b′的Si原子，该R^a、R^a′、R^b和R^b′的合计为2以上；

X²在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；

γ在每次出现时分别独立地为1～9的整数；

γ′分别独立地为1～9的整数；

R^d在每次出现时分别独立地表示－CH₂CH₂－SiR⁷³ _n4R⁷⁴ _3－n4；

R⁷³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R⁷⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团；

n4在每次出现时分别独立地为1～3的整数；

R^e在每次出现时分别独立地表示－Y′－SiR⁸³ _n3R⁸⁴ _3－n3；

Y′在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团；

R⁸³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R⁸⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团；

n3为0～3的整数；

R^f在每次出现时分别独立地表示－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5；

Z′的含义与Z相同；

R⁶¹在每次出现时分别独立地表示R^d′；

R^d′的含义与R^d相同；

R⁶²在每次出现时分别独立地表示－Y－SiR⁸³ _n3R⁸⁴ _3－n3；

Y在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团；

R⁶³在每次出现时分别独立地表示R^f′；

R^f′的含义R^f与相同；

R⁶⁴在每次出现时分别独立地表示羟基、氢原子或1价的有机基团；

R^f中，经由Z′基连接成直链状的C最多为5个；

p5为0～3的整数；

q5为0～3的整数；

r5为0～3的整数；

s5为0～3的整数；

其中，在每个－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5中，p5、q5、r5和s5之和为3；

R^g在每次出现时分别独立地表示氢原子、羟基或1价的有机基团；

k2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

l2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

m2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

n2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

其中，在每个－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，k2、l2、m2和n2之和为3；

在式(B1)和(B2)中，存在至少1个R^d或R^d′，并且存在至少2个－SiR⁷³或－SiR⁸³所示的基团。]

根据本发明的第二要点，提供含有上述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的表面处理剂。

根据本发明的第三要点，提供含有上述表面处理剂的粒料。

根据本发明的第四要点，提供包括基材、和在该基材的表面由上述全氟(聚)醚基的硅烷化合物或上述表面处理剂形成的层的物品。发明效果

根据本发明，能够提供一种新型的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物。还能够提供使用本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物而得到的表面处理剂。通过使用它们，能够形成具有拨水性、拨油性、防污性、并且具有优异的光耐性的表面处理层。

具体实施方式

在本说明书中使用时，“烃基”是含有碳和氢的基团，意指从烃脱离了1个氢原子的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可以列举可以取代有1个或1个以上的取代基的碳原子数1～20的烃基，例如可以列举脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”可以为直链状、支链状或环状的任意一种，也可以为饱和或不饱和的任意一种。另外，烃基可以包含1个或1个以上的环结构。并且，这样的烃基可以在其末端或分子链中具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺、磺酰基、硅氧烷、羰基、羰氧基等。

在本说明书中使用时，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，可以列举例如：卤原子；选自可以取代有1个或1个以上的卤原子的、C_1－6烷基、C_2－6烯基、C_2－6炔基、C_3－10环烷基、C_3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C_6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。

在本说明书中，烷基和苯基只要没有特别说明，可以为非取代，也可以被取代。作为这些基团的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤原子、C_1－6烷基、C_2－6烯基和C_2－6炔基中的1个或1个以上的基团。

在本说明书中使用时，“能够水解的基团”意指能够发生水解反应的基团，即，能够通过水解反应从化合物的主骨架上脱离的基团。作为能够水解的基团的示例，可以列举-OR、-OCOR、-O-N＝CR₂、-NR₂、-NHR、卤素(这些式中，R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)等，优选为-OR(即烷氧基)。R的例子包括甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些之中，优选烷基、特别是非取代烷基，更优选为甲基或乙基。在本说明书中，与能够水解的基团并列记载的羟基没有特别限定，可以为能够水解的基团发生水解而生成的羟基。

在本说明书中使用时，“1～10价的有机基团”意指含碳的1～10价的基团。作为这样的1价的有机基团，没有特别限定，可以列举烃基。作为这样的2～10价的有机基团，没有特别限定，可以列举从烃基进一步脱离了1～9个氢原子的2～10价的基团。

[含全氟(聚)醚基的硅烷化合物]

以下对本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物进行说明。

本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物是式(A1)、(A2)、(B1)或(B2)的任一式所示的化合物。

(Rf-PFPE)_α’-X¹-(SiR^a _kR^b _lR^c _m)_α…(A1)

(R^c _mR^b ₁R^a _kSi)_α-X¹-PFPE-X¹-(SiR^a _kR^b ₁R^c _m)_α…(A2)

(Rf-PFPE)_γ’-X²-(CR^d _k2Re_l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B1)

(R^g _n2R^f _m2R^e ₁₂R^d _k2C)_γ-X²-PFPE-X²-(CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B2)

在一个方式中，本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物为式(A1)或式(A2)的任一式所示的化合物。

在一个方式中，本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物为式(B1)或式(B2)的任一式所示的化合物。

对式(A1)或式(A2)的任一式所示的化合物进行说明。

(Rf-PFPE)_α’-X¹-(SiR^a _kR^b _lR^c _m)_α…(A1)

(R^c _mR^b ₁R^a _kSi)_α-X¹-PFPE-X¹-(SiR^a _kR^b _lR^c _m)_α…(A2)

在上述式(A1)和(A2)中，PFPE在每次出现时分别独立地为式：－(OC₆F₁₂)_a－(OC₅F₁₀)_b－(OC₄F₈)_c－(OC₃F₆)_d－(OC₂F₄)_e－(OCF₂)_f－所示的基团。

式中，a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1。优选a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上100以下的整数。优选a、b、c、d、e和f之和为5以上，更优选为10以上。优选a、b、c、d、e和f之和为200以下，更优选为100以下，例如为10以上200以下，更具体地为10以上100以下。另外，标注a、b、c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。

这些重复单元可以为直链状、也可以为支链状，优选为直链状。例如，－(OC₆F₁₂)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF(CF₃))－等，优选为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)。－(OC₅F₁₀)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃))－等，优选为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)－。－(OC₄F₈)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF(CF₃)CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF(CF₃))－、－(OC(CF₃)₂CF₂)－、－(OCF₂C(CF₃)₂)－、－(OCF(CF₃)CF(CF₃))－、－(OCF(C₂F₅)CF₂)－和－(OCF₂CF(C₂F₅))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)－。－(OC₃F₆)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂)－和－(OCF₂CF(CF₃))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂CF₂)－。另外，－(OC₂F₄)－可以为－(OCF₂CF₂)－和－(OCF(CF₃))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂)－。

在一个方式中，上述PFPE为－(OC₃F₆)_d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。优选PFPE为－(OCF₂CF₂CF₂)_d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)或－(OCF(CF₃)CF₂)_d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。更优选PFPE为－(OCF₂CF₂CF₂)_d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。

在一个方式中，上述PFPE优选为－(OC₃F₆)_d－，d为10以上100以下的整数，更优选d为15以上50以下的整数，进一步优选d为25以上35以下的整数。

在另外的方式中，PFPE为－(OC₄F₈)_c－(OC₃F₆)_d－(OC₂F₄)_e－(OCF₂)_f－(式中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数，c、d、e和f之和至少为5以上、优选为10以上，标注角标c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的)。优选PFPE为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)_c－(OCF₂CF₂CF₂)_d－(OCF₂CF₂)_e－(OCF₂)_f－。在一个方式中，PFPE可以为－(OC₂F₄)_e－(OCF₂)_f－(式中，e和f分别独立地为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数，标注角标e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的)。

在又一个方式中，PFPE为－(R⁶－R⁷)_j－所示的基团。式中，R⁶为OCF₂或OC₂F₄，优选为OC₂F₄。式中，R⁷为选自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀和OC₆F₁₂的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合。优选R⁷为选自OC₂F₄、OC₃F₆和OC₄F₈的基团、为选自OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀和OC₆F₁₂中的基团、或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合。作为从OC₂F₄、OC₃F₆和OC₄F₈中独立地选择的2个或3个基团的组合，没有特别限定，例如可以列举－OC₂F₄OC₃F₆－、－OC₂F₄OC₄F₈－、－OC₃F₆OC₂F₄－、－OC₃F₆OC₃F₆－、－OC₃F₆OC₄F₈－、－OC₄F₈OC₄F₈－、－OC₄F₈OC₃F₆－、－OC₄F₈OC₂F₄－、－OC₂F₄OC₂F₄OC₃F₆－、－OC₂F₄OC₂F₄OC₄F₈－、－OC₂F₄OC₃F₆OC₂F₄－、－OC₂F₄OC₃F₆OC₃F₆－、－OC₂F₄OC₄F₈OC₂F₄－、－OC₃F₆OC₂F₄OC₂F₄－、－OC₃F₆OC₂F₄OC₃F₆－、－OC₃F₆OC₃F₆OC₂F₄－和－OC₄F₈OC₂F₄OC₂F₄－等。上述j为2以上、优选为3以上、更优选为5以上、且为100以下、优选为50以下的整数。在上述式中，OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀和OC₆F₁₂可以为直链或支链的任一种，优选为直链。在该方式中，PFPE优选为－(OC₂F₄－OC₃F₆)_j－或－(OC₂F₄－OC₄F₈)_j－。

在PFPE中，e相对于f之比(以下记作“e/f比”)为0.1以上10以下、优选为0.2以上5以下、更优选为0.2以上2以下、进一步优选为0.2以上1.5以下、更进一步优选为0.2以上0.85以下。通过使e/f比在10以下，由该化合物得到的表面处理层的滑动性、摩擦耐久性和耐化学性(例如对于人工汗的耐久性)进一步提高。e/f比越小，表面处理层的滑动性和摩擦耐久性越好。另一方面，通过使e/f比在0.1以上，能够进一步提高化合物的稳定性。e/f比越大，化合物的稳定性越好。

上述稳定性表示含PFPE的化合物所含的PEPE链的难以分解的程度。稳定性高的化合物表明该化合物所含的PFPE链难以因例如热、酸或碱而分解的化合物。上述耐化学性表示PFPE链的难以分解的程度、以及玻璃与含PFPE的化合物的键合部分(硅氧烷键)的难以分解的程度。表面处理层的耐化学性好表明在该表面处理层中难以发生水解反应，例如在酸性或碱性的条件下也难以发生水解反应。

在上述式(A1)和(A2)中，Rf在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基。

上述的可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基中的“碳原子数1～16的烷基”可以为直链也可以为支链，优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的烷基。

上述Rf优选为被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基，更优选为CF₂H－C_1－15全氟亚烷基或C_1－16全氟烷基，进一步优选为C_1－16全氟烷基。其中，亚烷基意指具有－(C_βH_2β)－结构的基团。在本说明书中，全氟亚烷基意指亚烷基的所有的氢原子被氟原子取代的基团。

该碳原子数1～16的全氟烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的全氟烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的全氟烷基，具体而言为－CF₃、－CF₂CF₃或－CF₂CF₂CF₃。

Rf－PFPE－部分的平均分子量没有特别限定，为500～30,000、优选为1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。

在一个方式中，Rf－PFPE－部分或－PFPE－部分的数均分子量优选为3,000～6,000、更优选为4,000～5,500、进一步优选为4,500～5,500。

在另外的方式中，Rf－PFPE部分的数均分子量为500～30,000、优选为1,000～20,000、更优选为2,000～15,000。

在另外的方式中，Rf－PFPE－部分或－PFPE－部分的数均分子量为4,000～30,000、优选为5,000～10,000。

在上述式(A1)和(A2)中，X¹在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团。该X¹可以理解为在式(A1)和(A2)所示的化合物中将主要提供拨水性和表面滑动性等的全氟聚醚部分(即Rf－PFPE部分或－PFPE－部分)和提供与基材的键合能力的部分(即标注α且用括号括起来的基团)连接的连接基。因此，该X¹只要使式(A1)和(A2)所示的化合物能够稳定存在即可，可以为任意的有机基团。

上述X¹中的2～10价的有机基团优选为2～7价、更优选为2～4价、进一步优选为2价的有机基团。

在上述式中，α为1～9的整数，α′为1～9的整数。这些α和α′可以根据X¹的价数而变化。在式(A1)中，α与α′之和与X¹的价数相同。例如，在X¹为10价的有机基团时，α与α′之和为10，例如α为9且α′为1、α为5且α′为5、或者α为1且α′为9。另外，在X¹为2价的有机基团时，α和α′为1。在式(A2)中，α是X¹的价数减去1的值。

在一个方式中，X¹为单键或2～4价的有机基团，α为1～3，α′为1。

在另外的方式中，X¹为单键或2价的有机基团，α为1、α′为1。在这种情况下，式(A1)和(A2)由下述式(A1′)和(A2′)表示。

在一个方式中，X¹表示单键或2～10价的有机基团，优选表示具有选自单键、亚烷基或－C₆H₄－(即－亚苯基－，以下表示亚苯基)、－CO－(羰基)、－NR⁴－和－SO₂－中的至少1个的2～10价的有机基团。上述R⁴分别独立地表示氢原子、苯基或C_1～6烷基(优选为甲基)，优选为氢原子或甲基。上述的－C₆H₄－、－CO－、－NR⁴－或－SO₂－优选包括在含PFPE的硅烷化合物的分子主链中。其中，分子主链表示在含PFPE的硅烷化合物的分子中相对最长的含PFPE的键合链。

在本方式中，X¹更优选表示具有选自单键、亚烷基或－C₆H₄－、－CONR⁴－、－CONR⁴－C₆H₄－、－CO－、－CO－C₆H₄－、－SO₂NR⁴－、－SO₂NR⁴－C₆H₄－、－SO₂－和－SO₂－C₆H₄－中的至少1种的2～10价的有机基团。上述的－C₆H₄－、－CONR⁴－、－CONR⁴－C₆H₄－、－CO－、－CO－C₆H₄－、－SO₂NR⁴－、－SO₂NR⁴－C₆H₄－、－SO₂－或－SO₂－C₆H₄－优选包括在含PFPE的硅烷化合物的分子主链中。

在本方式中，X¹中，将PFPE基与SiR^a _kR^b _lR^c _m基连接的原子数优选为20以下、更优选为10以下、进一步优选为6以下。其中，在存在多个将一个PFPE基与一个SiR^a _kR^b _lR^c _m基连接的路径的情况下，上述的“将PFPE基与SiR^a _kR^b _lR^c _m基连接的原子数”意指将PFPE基与SiR^a _kR^b _lR^c _m基之间以最短的方式连接的原子数。

在另外的方式中，作为上述X¹的示例，没有特别限定，例如可以列举下述式：－(R³¹)_p′－(X^a)_q′－所示的2价基团。

[式中，

R³¹表示单键、－(CH₂)_s′－、或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为－(CH₂)_s′－，

s′为1～20的整数、优选为1～10的整数、更优选为1～6的整数、特别优选为1～3的整数、进一步更优选为1或2，

X^a表示－(X^b)_l′－，

X^b在每次出现时分别独立地表示选自－O－、－S－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基、－C(O)O－、－Si(R³³)₂－、－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－、－CONR³⁴－、－O－CONR³⁴－、－NR³⁴－和－(CH₂)_n′－中的基团，

R³³在每次出现时分别独立地表示苯基、C_1－6烷基或C_1－6烷氧基，优选为苯基或C_1－6烷基，更优选为甲基，

R³⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子、苯基或C_1－6烷基(优选为甲基)，

m′在每次出现时分别独立地为1～100的整数、优选为1～20的整数，

n′在每次出现时分别独立地为1～20的整数、优选为1～6的整数、更优选为1～3的整数，

l′为1～10的整数、优选为1～5的整数、更优选为1～3的整数，

p′为0或1，

q′为0或1，

其中，p′和q′的至少一个为1，标注p′或q′且用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的。]

其中，R³¹和X^a(典型地R³¹和X^a的氢原子)可以被选自氟原子、C_1－3烷基和C_1－3氟代烷基中的1个或1个以上的取代基取代。

上述X¹优选为－(R³¹)_p′－(X^a)_q′－R³²－。R³²表示单键、－(CH₂)_t′－、或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为－(CH₂)_t′－。t′为1～20的整数、优选为2～6的整数、更优选为2～3的整数。其中，R³²(典型地R³²的氢原子)可以被选自氟原子、C_1－3烷基和C_1－3氟代烷基中的1个或1个以上的取代基取代。

上述X¹优选为：

单键、

C_1－20亚烷基、

－R³¹－X^c－R³²－、或

－X^d－R³²－。

[式中，R³¹和R³²的含义同上]。

上述X¹更优选为：

单键、

C_1－20亚烷基、特别优选C_1－10亚烷基、

－(CH₂)_s′－X^c－、

－(CH₂)_s′－X^c－(CH₂)_t′－

－X^d－、或

－X^d－(CH₂)_t′－。

[式中，s′和t′的含义同上。]

上述式中，X^c表示：

－O－、

－S－、

－C(O)O－、

－CONR³⁴－、

－O－CONR³⁴－、

－Si(R³³)₂－、

－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－、

－O－(CH₂)_u′－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－、

－O－(CH₂)_u′－Si(R³³)₂－O－Si(R³³)₂－CH₂CH₂－Si(R³³)₂－O－Si(R³³)₂－、

－O－(CH₂)_u′－Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂－、

－CONR³⁴－(CH₂)_u′－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－、

－CONR³⁴－(CH₂)_u′－N(R³⁴)－、或

－CONR³⁴－(邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基)－Si(R³³)₂－。

[式中，R³³、R³⁴和m′的含义同上，u′为1～20的整数、优选为2～6的整数、更优选为2～3的整数。]

X^c优选为－O－。

上述式中，X^d表示：

－S－、

－C(O)O－、

－CONR³⁴－、

－CONR³⁴－(CH₂)_u′－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－、

－CONR³⁴－(CH₂)_u′－N(R³⁴)－、或

[式中，各符号的含义同上。]

上述X¹更优选为：

单键、

C_1－20亚烷基、

－(CH₂)_s′－X^c－(CH₂)_t′－、或

－X^d－(CH₂)_t′－。

[式中，各符号的含义同上。]

上述X¹更优选为：

单键、

C_1－20亚烷基、特别优选C_1－10亚烷基、

－(CH₂)_s′－O－(CH₂)_t′－、

－(CH₂)_s′－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－(CH₂)_t′－、

－(CH₂)_s′－O－(CH₂)_u′－(Si(R³³)₂O)_m′－Si(R³³)₂－(CH₂)_t′－、或

－(CH₂)_s′－O－(CH₂)_t′－Si(R³³)₂－(CH₂)_u′－Si(R³³)₂－(C_vH_2v)－。

[式中，R³³、m′、s′、t′和u′的含义同上，v为1～20的整数、优选为2～6的整数、更优选为2～3的整数。]

上述式中，－(C_vH_2v)－可以为直链，也可以为支链，例如可以为－CH₂－、－CH₂CH₂－、－CH₂CH₂CH₂－、－CH(CH₃)－、－CH(CH₃)CH₂－。

在一个方式中，X¹可以为－(O)_t1－(R^f1O)_t2－R^f2－(C(＝O)N(R^f3))_t3－R^f4－所示的基团。

上述t1为0或1。

上述R^f1为含有1个以上氢原子的不具有支链结构的氟代亚烷基。R^f1优选为C_2－6氟代亚烷基。R^f1所含的氢原子数优选在1～4的范围内，更优选为1或2。

在上述(R^f1O)_t2中存在2种以上R^f1O的情况下，各(R^f1O)的存在顺序在式中是任意的。

上述t2为0～4的整数，更优选为0～2的整数。

上述R^f2为单键、不具有支链结构的全氟亚烷基、或含有1个以上氢原子的不具有支链结构的氟代亚烷基。上述全氟亚烷基或氟代亚烷基优选含有1～10个碳原子。

上述R^f3为氢原子或烷基(优选C_1－4烷基)。

上述t3为0或1。

在t3为0时，优选R^f2为单键。此时(即(R^f1O)_t2和R^f4直接键合时)，(R^f1O)_t2中的与R^f4键合的(R^f1O)优选为(R^f5CH₂O)所示的基团。R^f5是碳原子数比R^f1少1个的基团，为全氟亚烷基、或具有1个以上氢原子的氟代亚烷基。R^f5优选为全氟亚烷基。(R^f5CH₂O)优选为(CF₂CH₂O)、(CF₂CF₂CH₂O)、(CF₂CF₂CF₂CH₂O)、(CF₂CF₂CF₂CF₂CH₂O)等。此时，t2优选为1。

在t3为1时，优选t2为0～2、并且R^f2为全氟亚烷基或具有1个以上氢原子的氟代亚烷基，更优选为全氟亚烷基，特别优选为C_1－6全氟亚烷基。

上述R^f4为单键、碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数1～10的亚烷基的末端(其中与(SiR^a _kR^b _lR^c _m)键合的一侧的末端)具有醚性氧原子的基团、碳原子数2～10的亚烷基的碳－碳原子间具有醚性氧原子的基团、或者碳原子数2～10的亚烷基的末端(其中与(SiR^a _kR^b _lR^c _m)键合的一侧的末端)以及碳－碳原子间具有醚性氧原子的基团。作为具有醚性氧原子的基团，例如可以列举－CH₂CH₂－O－、－CH₂CH₂－O－CH₂－等。

上述R^f4优选为单键或C_1－4亚烷基，更优选为单键或C_1－2亚烷基。

上述X¹例如可以列举：

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－CH₂O－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－CH₂OCH₂－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－CH₂O－(CH₂)₂－O－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－CH₂O－(CH₂)₂－O－CH₂－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－R^f2－C(O)NH－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－R^f2－C(O)NHCH₂－、

－(O)_t1－(R^f1O)_t2－R^f2－C(O)NH(CH₂)₂－、

－(O)_t1－(R^f6CH₂O)－CH₂－、

－(O)_t1－(R^f6CH₂O)－CH₂－O－CH₂－、

－C(O)NH－R^f4－、或

－(O)_t1－R^f6CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－C(O)NH－R^f4－(例如－(O)_t1－CF₂CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－C(O)NH－R^f4－)等。

R^f1、R^f2、R^f4、t1和t2的含义同上。t1优选为1。R^f6为不具有支链结构的全氟亚烷基。

上述X¹基可以被选自氟原子、C_1－3烷基和C_1－3氟代烷基(优选C_1－3全氟烷基)中的1个或1个以上的取代基取代。

在另外的方式中，作为X¹基，例如可以列举下列基团：

/>

[式中，R⁴¹分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C_1－6烷氧基，优选为甲基；

D为选自：

－CH₂O(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃－、

－CF₂O(CH₂)₃－、

－(CH₂)₂－、

－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₄－、

－CONH－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CON(Ph)－(CH₂)₃－(式中，Ph表示苯基)、和

(式中，R⁴²分别独立地表示氢原子、C_1－6的烷基或C_1－6的烷氧基，优选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基)中的基团，

E为－(CH₂)_ne－(ne为2～6的整数)，

D与分子主链的PFPE键合，E与PFPE相反侧的基团键合。]

作为上述X¹的具体例，例如可以列举：

单键、

－CH₂OCH₂－、

－CH₂O(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃－、

－CH₂O(CH₂)₆－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₃Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₁₀Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂₀Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－C(O)NH－CH₂－、

－CH₂OCH₂(CH₂)₇CH₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₃－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₂CH₃)₂OSi(OCH₂CH₃)₂(CH₂)₃－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₂CH₃)₂OSi(OCH₂CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂－、

－(CH₂)₂－、

－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₄－、

－(CH₂)₅－、

－(CH₂)₆－、

－CO－、

－CONH－、

－CONH－CH₂－、

－CONH－(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CON(Ph)－(CH₂)₃－(式中，Ph表示苯基)、

－CONH－(CH₂)₆－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₆－、

－CON(Ph)－(CH₂)₆－(式中，Ph表示苯基)、

－CONH－(CH₂)₂NH(CH₂)₃－、

－CONH－(CH₂)₆NH(CH₂)₃－、

－CH₂O－CONH－(CH₂)₃－、

－CH₂O－CONH－(CH₂)₆－、

－S－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₂S(CH₂)₃－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₃Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₁₀Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂₀Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－C(O)O－(CH₂)₃－、

－C(O)O－(CH₂)₆－、

－CH₂－O－(CH₂)₃－Si(CH₃)₂－(CH₂)₂－Si(CH₃)₂－(CH₂)₂－、

－CH₂－O－(CH₂)₃－Si(CH₃)₂－(CH₂)₂－Si(CH₃)₂－CH(CH₃)－、

－CH₂－O－(CH₂)₃－Si(CH₃)₂－(CH₂)₂－Si(CH₃)₂－(CH₂)₃－、

－CH₂－O－(CH₂)₃－Si(CH₃)₂－(CH₂)₂－Si(CH₃)₂－CH(CH₃)－CH₂－、

－OCH₂－、

－O(CH₂)₃－、

－OCFHCF₂－、

等。

在另外的优选的方式中，X¹为单键、碳原子数1～6的亚烷基、－R⁵¹－C₆H₄－R⁵²－、－R⁵¹－CONR⁴－R⁵²－、－R⁵¹－CONR⁴－C₆H₄－R⁵²－、－R⁵¹－CO－R⁵²－、－R⁵¹－CO－C₆H₄－R⁵²－、－R⁵¹－SO₂NR⁴－R⁵²－、－R⁵¹－SO₂NR⁴－C₆H₄－R⁵²－、－R⁵¹－SO₂－R⁵²－或－R⁵¹－SO₂－C₆H₄－R⁵²－。R⁵¹和R⁵²分别独立地表示单键或碳原子数1～6的亚烷基，优选为单键或碳原子数1～3的亚烷基。R⁴的含义同上。上述亚烷基可以取代或非取代，优选为非取代。作为上述亚烷基的取代基，例如可以列举卤原子，优选列举氟原子。上述亚烷基为直链或支链，优选为直链。

在本方式中，X¹更优选为：

单键、

碳原子数1～6、优选碳原子数1～3的亚烷基、

－C₆H₄－R^52′－、

－CONR^4′－R^52′－、

－CONR^4′－C₆H₄－R^52′－、

－CO－R^52′－、

－CO－C₆H₄－R^52′－、

－SO₂NR^4′－R^52′－、

－SO₂NR^4′－C₆H₄－R^52′－、

－SO₂－R^52′－、

－SO₂－C₆H₄－R^52′－、

－R^51′－C₆H₄－、

－R^51′－CONR^4′－、

－R^51′－CONR^4′－C₆H₄－、

－R^51′－CO－、

－R^51′－CO－C₆H₄－、

－R^51′－SO₂NR^4′－、

－R^51′－SO₂NR^4′－C₆H₄－、

－R^51′－SO₂－、

－R^51′－SO₂－C₆H₄－、

－C₆H₄－、

－CONR^4′－、

－CONR^4′－C₆H₄－、

－CO－、

－CO－C₆H₄－、

－SO₂NR^4′－、

－SO₂NR^4′－C₆H₄－、

－SO₂－、或

－SO₂－C₆H₄－。

(式中，R^51′和R^52′分别独立地为碳原子数1～6、优选碳原子数1～3的直链的亚烷基，

R^4′为氢原子或甲基。)

在本方式中，作为X¹的具体例，例如可以列举：单键、

碳原子数1～6的亚烷基、

－CONH－、

－CONH－CH₂－、

－CONH－(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－、

－CON(CH₃)－CH₂－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₂－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CH₂－CONH－、

－CH₂－CONH－CH₂－、

－CH₂－CONH－(CH₂)₂－、

－CH₂－CONH－(CH₂)₃－、

－CONH－C₆H₄－、

－CON(CH₃)－C₆H₄－、

－CH₂－CON(CH₃)－CH₂－、

－CH₂－CON(CH₃)－(CH₂)₂－、

－CH₂－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－C₆H₄－、

－CO－、

－CO－C₆H₄－、

－C₆H₄－、

－SO₂NH－、

－SO₂NH－CH₂－、

－SO₂NH－(CH₂)₂－、

－SO₂NH－(CH₂)₃－、

－SO₂NH－C₆H₄－、

－SO₂N(CH₃)－、

－SO₂N(CH₃)－CH₂－、

－SO₂N(CH₃)－(CH₂)₂－、

－SO₂N(CH₃)－(CH₂)₃－、

－SO₂N(CH₃)－C₆H₄－、

－SO₂－、

－SO₂－CH₂－、

－SO₂－(CH₂)₂－、

－SO₂－(CH₂)₃－、

－SO₂－C₆H₄－等。

在一个方式中，X¹为单键。在本方式中，PFPE和具有与基材层的结合能力的基团(即，(A1)和(A2)中标注α且用括号括起来的基团)直接键合。

在又一个方式中，作为X¹基的示例，可以列举下列基团：

[式中，

R⁴¹分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C_1－6烷氧基，优选为甲基；

在各X¹基中，T中的任意几个为与分子主链的PFPE键合的以下基团：

－CH₂O(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃－、

－CF₂O(CH₂)₃－、

－CH₂－、

－(CH₂)₂－、

－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₄－、

－CONH－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CON(Ph)－(CH₂)₃－(式中，Ph表示苯基)或

[式中，R⁴²分别独立地表示氢原子、C_1－6的烷基或C_1－6的烷氧基，优选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基。]

另外的T的几个为与分子主链的PFPE的相反侧的基团键合的－(CH₂)_n″－(n″为2～6的整数)，在存在时剩余的T分别独立地为甲基、苯基、C_1－6烷氧基、或者自由基捕捉基或紫外线吸收基。]

自由基捕捉基只要能够捕捉由于光照射而产生的自由基即可，没有特别限定，例如可以列举二苯甲酮类、苯并三唑类、苯甲酸酯类、水杨酸苯酯类、巴豆酸类、丙二酸酯类、有机丙烯酸酯类、受阻胺类、受阻酚类或三嗪类的残基。

紫外线吸收基只要能够吸收紫外线即可，没有特别限定，例如可以列举苯并三唑类、羟基二苯甲酮类、取代和未取代苯甲酸或水杨酸化合物的酯类、丙烯酸酯或烷氧基肉桂酸酯类、草酰胺类、草酰替苯胺类、苯并噁嗪酮类、苯并噁唑类的残基。

在优选的方式中，作为优选的自由基捕捉基或紫外线吸收基，可以列举：

在该方式中，X¹可以为3～10价的有机基团。

在一个方式中，X¹由－X¹¹(OH)_n1(X¹²)_3－n1或－X¹¹(OX¹²)_n1(X¹²)_3－n1表示。X¹¹为碳原子。X¹²在每次出现时分别独立地为单键或2～6价的烃基，可以具有硅原子和/或硅氧烷键。X¹²将X¹¹与－SiR^a _kR^b _lR^c _m之间连接。n1在每次出现时分别独立地为1～3的整数，优选为1。

在本方式中，式(A1)和式(A2)例如由下述式(A1″)、式(A2″)、式(A1″′)和式(A2″′)表示。

式中，Rf、PFPE、X¹¹和X¹²的含义同上。h为1～5的整数。R^a、R^b、R^c、k、l和m如后所述。

在优选的一个方式中，X¹在每次出现时分别独立地为－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－。在本方式中，式(A1)或(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物有助于形成具有更好的UV耐久性和/或摩擦耐久性的表面处理层。

在上述方式中，X¹更优选为－CH₂CH₂CH₂－。

在上述式(A1)和(A2)中，R^a在每次出现时分别独立地表示－CH₂CH₂－SiR²³ _r2R²⁴ _s2。

在上述式中，R²³表示羟基或能够水解的基团。能够水解的基团的含义同上。

在上述式中，R²⁴表示氢原子或1价的有机基团。

上述1价的有机基团优选为上述能够水解的基团以外的基团。

1价的有机基团更优选为低级烷基或苯基，进一步优选为低级烷基。该低级烷基优选为碳原子数1～20的烷基、更优选为碳原子数1～6的烷基、进一步优选为甲基。

在上述式中，r2在每次出现时分别独立地为1～3的整数；s2在每次出现时分别独立地为0～2的整数。其中，在每个－CH₂CH₂－SiR²³ _r2R²⁴ _s2中，r2和s2之和为3。

r2优选为2以上、更优选为3。

在上述式(A1)和(A2)中，R^b在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1。

在上述式中，Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团。2价的有机基团的含义同上。

上述Z优选为2价的有机基团。并且，优选2价的有机基团不包括与式(A1)或式(A2)中的分子主链的末端的Si原子(键合有R^b的Si原子)形成硅氧烷键的基团。

上述Z优选为亚烷基、－(CH₂)_g1－O－(CH₂)_h1－(式中，g1为0～6的整数、优选为1～6的整数，h1为0～6的整数、优选为1～6的整数)或－亚苯基－(CH₂)_i1－(式中，i1为0～6的整数)。这些基团可以被选自例如氟原子、C_1－6烷基、C_2－6烯基和C_2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代。从耐UV性特别好的观点出发，上述Z更优选为直链或支链的亚烷基，进一步优选为直链的亚烷基。构成上述Z的亚烷基的碳原子数优选在1～6的范围内，更优选在1～3的范围内。最优选Z为－CH₂CH₂－。其中，亚烷基如上所述。

在上述式中，R¹¹在每次出现时分别独立地表示R^a′。R^a′的含义与R^a相同。

在上述式中，R¹²在每次出现时分别独立地表示R^b′。R^b′的含义与R^b相同。

R^b中，经由Z基连接成直链状的Si最多为5个。即，在上述R^b中至少存在1个R¹²时，R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子存在2个以上，但该经由Z基连接成直链状的Si原子数最多为5个。其中，“R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子数”等于R^b中连接成直链状的－Z－Si－的重复数。

例如，下面表示R^b中Si原子经由Z基连接的一例。

在上述式中，＊意指与主链的Si键合的部位，…意指键合ZSi以外的规定的基团，即在Si原子的3个价键均为…时，意指ZSi的重复的结束部位。另外，Si的右上角的数字意指从＊数起经由Z基连接成直链状的Si的出现数。即，在为Si²时，ZSi重复结束的链的“R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子数”为2个，同样在为Si³、Si⁴和Si⁵时，ZSi重复结束的链的“R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子数”分别为3、4和5个。其中，由上述式可知，R^b中存在多个ZSi链，但它们并不需要都为同样的长度，可以分别为任意的长度。

在优选的方式中，如下所述，“R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子数”在所有的链中为1个(左式)或2个(右式)。

在一个方式中，R^b中经由Z基连接成直链状的Si原子数为1个或2个，优选为1个。

在上述式中，R¹³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团。能够水解的基团的含义同上。

在上述式中，R¹⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团。1价的有机基团的含义同上。R¹⁴优选为氢原子或低级烷基。低级烷基的含义同上。

在上述式中，p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；s1在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，在每个－Z－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1中，p1、q1、r1和s1之和为3。

在另外的优选的方式中，在R^b或R^b′中，q1为0，p1优选为1以上、更优选为2以上、进一步优选为3。另外，p1为1或2时，p1与r1的合计优选为3。

在优选的方式中，R^b中的末端的R^b′(不存在R^b′时为R^b)中，上述r1优选为2以上、例如为2或3、更优选为3。

在另外的优选的方式中，R^b中的末端的R^b′(不存在R^b′时为R^b)中，上述p1优选为2以上、例如为2或3、更优选为3。

其中，末端的R^b′和^b意指q1为0的R^b′和R^b。

在上述式(A1)和(A2)中，R^c在每次出现时分别独立地表示氢原子、羟基、能够水解的基团或1价的有机基团。能够水解的基团和1价的有机基团的含义同上。

在上述式(A1)和(A2)中，k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，在每个－SiR^a _kR^b _lR^c _m中，k、l和m之和为3。

在上述式(A1)和(A2)中，存在键合有至少1个R^a或R^a′、还可以键合有至少包含R¹³或R²³中任一个的R^b或R^b′的Si原子，该R^a、R^a′、R^b和R^b′的合计为2以上。

在一个方式中，至少1个k为2或3、优选为3。在该方式中，k为2的－SiR^a _kR^b _lR^c _m中，l可以为0。即，－SiR^a _kR^b _lR^c _m可以为－SiR^a ₂R^c。

在一个方式中，k为2或3、优选为3。在该方式中，k为2的－SiR^a _kR^b _lR^c _m中，l可以为0。即，－SiR^a _kR^b _lR^c _m可以为－SiR^a ₂R^c。

通过具有上述那样的结构，特别是通过具有R^a或R^a′，本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物有助于形成更耐UV性和对于酸或碱的耐久性更好的表面处理层。

在优选的方式中，上述式(A1)和(A2)的末端具有以下的式(a1)～(a4)的至少任一个。

－SiR^a _kR^c _m...(a1)

[式中，k与m之和为3，并且k为2或3，更优选k为3。]

－SiR^a _kR^b _lR^c _m...(a2)

[式中，k、l和m之和为3；

k为1～3的整数，k为1时，l为1或2、并且R^b由(－Z－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1)表示，该R^b中，p1、r1和s1之和为3，并且p1或r1中的至少任一个为1～3的整数。

更优选k为2或3。

进一步优选k为2或3，在k为2时，l为1、并且r1为1～3的整数。

特别优选k为3。]

－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1...(a3)

[式中，p1、r1和s1之和为3；p1为2或3。

更优选p1为2且r1为1、或者p1为3，

特别优选p1为3。]

－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1...(a4)

[式中，p1、q1、r1和s1之和为3；

p1为1～3的整数，p1为1时，q1为1或2、且R¹²由(－Z－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1)表示，该R¹²中，p1、r1和s1之和为3、并且p1或r1的至少任一个为1～3的整数。

更优选p1为2或3，

特别优选p1为3。]

在上述式(a1)～(a4)中，特别优选r2为3。

在另外的优选的方式中，在至少1个、优选全部的－SiR^a _kR^b _lR^c _m中，分别独立地，k为1、2或3、优选为2或3、更优选为3，l为0、1或2、优选为0或1、更优选为0，m为0，在存在R^b时，R^b为－Z－SiR¹³ _r1R¹⁴ _s1，r1为1、2或3、优选为2或3、更优选为3，s1为0、1或2、优选为0或1、更优选为0。即，－SiR^a _kR^b _lR^c _m可以为－SiR^a _k(－Z－SiR¹³ _r1R¹⁴ _s1)_l(式中，k为1～3的整数，l为0～2的整数，r1为1～3的整数，s1为0～2的整数，R^a、R¹³、R¹⁴和Z的含义同上)。在优选的方式中，－SiR^a _kR^b _lR^c _m可以为－SiR^a _k(－Z－SiR¹³ ₃)_l(式中，k为1～3的整数、优选为2或3、更优选为3，l为0～2的整数、优选为0或1、更优选为0，R^a、R¹³和Z的含义同上。)

在优选的一个方式中，X¹在每次出现时分别独立地为－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－，更优选为－CH₂CH₂CH₂－，式(A1)或(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物的末端具有以下的式(a1′)或(a2′)。

－SiR^a _kR^b _lR^c _m...(a1′)

[式中，k、l和m之和为3；

k为1～3的整数，在k为1时，l为1或2、并且R^b由(－Z－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1)表示，该R^b中，p1、r1和s1之和为3，并且p1或r1的至少任一个为1～3的整数。

更优选k为2或3。

进一步优选k为2或3，在k为2时，l为1，并且r1为1～3的整数。

特别优选k为3。]

－SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1...(a2′)

[式中，p1、q1、r1和s1之和为3；

p1为1～3的整数，在p1为1时，q1为1或2，并且R¹²由(－Z－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1)表示，该R¹²中，p1、r1和s1之和为3，并且p1或r1的至少任一个为1～3的整数。

更优选p1为2或3，

特别优选p1为3。]

进一步优选X¹在每次出现时分别独立地为－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－，更优选为－CH₂CH₂CH₂－，式(A1)或(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物的末端具有以下的(a1″)或(a2″)。

－SiR^a _kR^c _m...(a1″)

[式中，k与m之和为3，并且k为2或3，更优选k为3。]

－SiR¹¹ _p1R¹³ _r1R¹⁴ _s1...(a2″)

[式中，p1、r1与s1之和为3；p1为2或3。

更优选p1为2且r1为1、或者p1为3，

特别优选p1为3。]

在上述方式中，优选Z为－CH₂CH₂－。

在优选的一个方式中，X¹在每次出现时分别独立地为－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－，更优选为－CH₂CH₂CH₂－，r2为3，更优选p1为3或k为3。

在上述式(A1)或式(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物中，Rf－PFPE部分的平均分子量没有特别限定，为500～30,000、优选为1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。

上述式(A1)或式(A2)所示的本发明的含PFPE的硅烷化合物可以具有5×10²～1×10⁵的平均分子量，但没有特别限定。在该范围中，从摩擦耐久性的观点出发，优选具有2,000～32,000的平均分子量，更优选具有2,500～12,000的平均分子量。其中，在本发明中，在没有特别说明时，“平均分子量”意指数均分子量，“平均分子量”为通过¹⁹F－NMR测得的值。

上述式(A1)或式(A2)所示的本发明的含PFPE的硅烷化合物优选具有3,500～10,000的数均分子量，更优选具有4,000～8,000的数均分子量，进一步优选具有4,000～6,500的数均分子量。

在一个方式中，上述式(A1)或式(A2)所示的本发明的含PFPE的硅烷化合物优选具有4,500～6,500的数均分子量，更优选具有5,000～6,000的数均分子量。

在一个方式中，上述式(A1)或式(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物可以具有1,000～40,000、优选1,000～32,000、更优选1,000～20,000、进一步更优选1,000～12,000的数均分子量。

在一个方式中，上述式(A1)或式(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物中，分子量为3,000以下的含PFPE的硅烷化合物的比例为9mol％以下。

作为使表面处理剂中分子量为3,000以下的含PFPE的硅烷化合物相对于全部含PFPE的硅烷化合物的比例为9mol％以下的方法，没有特别限定，例如可以列举通过蒸馏等去除低分子量的化合物的方法。蒸馏优选为分子蒸馏，可以对含PFPE的硅烷化合物进行，或者也可以对原料、例如具有PFPE的酰氟进行。对于本领域技术人员而言，蒸馏的条件可以根据作为蒸馏对象的化合物适当选择。

表面处理剂中分子量为3,000以下的含PFPE的硅烷化合物相对于全部含PFPE的硅烷化合物的比例可以通过GPC(凝胶渗透色谱)分析进行测定。该GPC测定例如可以使用具有TDA－302的GPCmax(HPLC系统：Malvern Instruments公司生产)作为检测器进行。

在本方式中，上述分子量可以通过GPC(凝胶渗透色谱)分析进行测定。

在一个方式中，上述式(A1)或式(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物的重均分子量在4000～6000的范围内，重均分子量/数均分子量在1.2以下的范围内。上述重均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱)分析进行测定。

以下对本发明的含PFPE的硅烷化合物的制造方法进行说明。

式(A1)或(A2)所示的含PFPE的硅烷化合物例如可以通过以下所示的方法制造。

可以通过包括如下工序(1)～工序(3)的方法制造。

工序(1)：使式(A1－1)或(A2－1)所示的化合物与HSiM₃(式中，M分别独立地为卤原子或C_1－6烷氧基)反应，得到式(A1－2)或式(A1－2)所示的化合物的工序，

Rf-PFPE-X′-CH＝CH₂…(A1-1)

CH₂＝CH-X′-PFPE-X′-CH＝CH₂…(A2-1)

(式中，Rf、PFPE的含义同上，X′表示2价的有机基团。)

Rf-PFPE-X′-CH₂CH₂-SiM₃…(A1-2)

M₃Si-CH₂CH₂-X′-PFPE-X′-CH₂CH₂-SiM₃…(A2-2)

(式中，Rf、PFPE、X′和M的含义同上)；

工序(2)：使上述式(A1-2)或式(A2-2)所示的化合物与式：Hal-J-CH＝CH₂(式中，J表示Mg、Cu、Pd或Zn，Hal表示卤原子)所示的化合物以及根据需要的式：R^c _h′L(式中，R^c的含义同上，L表示能够与R^c键合的基团，h′为1～3的整数)所示的化合物反应，得到式(A1-3)或式(A2-3)所示的化合物的工序，

Rf-PFPE-X′-CH₂CH₂-SiR^c _m”(CH＝CH₂)_k’…(A1-3)

(CH₂＝CH)_k’R^c _m″Si-CH₂CH₂-X-PFPE-X′-CH₂CH₂-SiR^c _m″(CH＝CH₂)_k′…(A2-3)

(式中，Rf、PFPE、X′和R^c的含义同上，m″为1～3的整数、k′为1～3的整数、k′与m″之和为3)；

工序(3)：使式(A1-3)或式(A2-3)所示的化合物与HSiM₃(式中，M分别独立地为卤原子或C_1-6烷氧基)、以及根据需要的式：R²³ _i′L′(式中，R²³的含义同上，L′表示能够与R²³键合的基团，i′为1～3的整数)所示的化合物和根据需要的式：R²⁴ _j′L″(式中，R²⁴的含义同上，L″表示能够与R²⁴键合的基团，j′为1～3的整数)所示的化合物反应的工序。

对式(B1)或式(B2)的任一式所示的化合物进行说明。

(Rf-PFPE)_γ，-X²-(CR^d _k2R^e ₁₂R^f _m2R^g _n2)_γ…(B1)(R^g _n2R^f _m2R^e _l2R^d _k2C)_γ-X²-PFPE-X²-(CR^d _k2R^e ₁₂R^f _m2R^g _n2)_γ…(B2)

Rf和PFPE的含义同上。其中，(A1)或(A2)中的Rf或PFPE与(B1)或(B2)中的Rf或PFPE可以相同也可以不同。

在式(B1)和(B2)中，X²在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团。该X²可以理解为在式(B1)和(B2)所示的化合物中将主要提供拨水性和表面滑动性等的全氟聚醚部分(即Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)、和提供与基材的键合能力的部分(即标注γ且用括号括起来的基团)连接的连接基。因此，该X²只要能够使式(B1)和(B2)所示的化合物稳定存在即可，可以为任意的有机基团。

上述X²中的2～10价的有机基团优选为2～7价、更优选为2～4价、进一步优选为2价的有机基团。

在上述式中，γ为1～9的整数，γ′为1～9的整数。这些γ和γ′可以与X²的价数相应地变化。在式(B1)中，γ和γ′之和与X²的价数相同。例如，在X²为10价的有机基团时，γ与γ′之和为10，例如γ为9且γ′为1、γ为5且γ′为5、或者γ为1且γ′为9。另外，在X²为2价的有机基团时，γ和γ′为1。在式(B2)中，γ为X²的价数减去1的值。

在一个方式中，X²为单键或2～4价的有机基团，γ为1～3，γ′为1。

在另外的方式中，X²为单键或2价的有机基团，γ为1，γ′为1。此时，式(B1)和(B2)由下述式(B1′)和(B2′)表示。

Rf-PFPE-X²-CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2…(B1′)

R^g _n2R^f _m2R^e _l2R^d _k2C-X²-PFPE-X²-CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2…(B2′)

作为上述X²的示例，没有特别限定，例如可以列举关于X¹记载的同样的基团。

其中，优选的具体的X²可以列举：

单键、

-CH₂OCH₂-、

-CH₂O(CH₂)₂-、

-CH₂O(CH₂)₃-、

-CH₂O(CH₂)₆-、

-CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂-、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂O(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₃Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CF₂CF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂－、

－CH₂OCH₂CHFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF₂CF₂CF₂－、

－CH₂OCF₂CHFOCF₂CF₂CF₂－C(O)NH－CH₂－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₃－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₂CH₃)₂OSi(OCH₂CH₃)₂(CH₂)₃－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₂CH₃)₂OSi(OCH₂CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CH₂－、

－(CH₂)₂－、

－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₄－、

－(CH₂)₅－、

－(CH₂)₆－、

－CO－、

－CONH－、

－CONH－CH₂－、

－CONH－(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₃－、

－CON(Ph)－(CH₂)₃－(式中，Ph表示苯基)、

－CONH－(CH₂)₆－、

－CON(CH₃)－(CH₂)₆－、

－CON(Ph)－(CH₂)₆－(式中，Ph表示苯基)、

－CONH－(CH₂)₂NH(CH₂)₃－、

－CONH－(CH₂)₆NH(CH₂)₃－、

－CH₂O－CONH－(CH₂)₃－、

－CH₂O－CONH－(CH₂)₆－、

－S－(CH₂)₃－、

－(CH₂)₂S(CH₂)₃－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂OSi(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₂Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－CONH－(CH₂)₃Si(CH₃)₂O(Si(CH₃)₂O)₃Si(CH₃)₂(CH₂)₂－、

－C(O)O－(CH₂)₃－、

－C(O)O－(CH₂)₆－、

－OCH₂－、

－O(CH₂)₃－、

－OCFHCF₂－、

等。

在优选的方式中，X²在每次出现时分别独立地为单键、－CH₂－、－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－。

在上述式(B1)和(B2)中，R^d在每次出现时分别独立地表示－CH₂CH₂－SiR⁷³ _n4R⁷⁴ _3－n4。

在上述式中，R⁷³表示羟基或能够水解的基团。能够水解的基团的含义同上。

在上述式中，R⁷⁴表示氢原子或1价的有机基团。

上述1价的有机基团优选为上述能够水解的基团以外的基团。

上述1价的有机基团更优选为低级烷基或苯基，进一步优选为低级烷基。该低级烷基优选为碳原子数1～20的烷基、更优选为碳原子数1～6的烷基、进一步优选为甲基。

在上述式中，n4在每次出现时分别独立地为1～3的整数。

上述n4优选为2以上、更优选为3。

在上述式(B1)和(B2)中，R^e在每次出现时分别独立地表示－Y′－SiR⁸³ _n3R⁸⁴ _3－n3。

上述Y′在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团。2价的有机基团的含义同上。

Y′更优选为－CH₂CH₂－以外的2价的有机基团。

在优选的方式中，Y′为C_1－6亚烷基、－(CH₂)_g′－O－(CH₂)_h′－(式中，g′为0～6的整数、例如1～6的整数，h′为0～6的整数、例如1～6的整数)或亚苯基－(CH₂)_i′－(式中，i′为0～6的整数)。这些基团可以被选自例如氟原子、C_1－6烷基、C_2－6烯基和C_2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代。

在一个方式中，Y′可以为C_1－6亚烷基或亚苯基－(CH₂)_i′－。在Y′为上述基团时，光耐受性、特别是紫外线耐受性进一步提高。

R⁸³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团。能够水解的基团的含义同上。

R⁸⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团。

上述1价的有机基团优选为上述能够水解的基团以外的基团。

n3在每次出现时分别独立地为0～3的整数。

上述n3优选为2以上、更优选为3。

在上述式(B1)和(B2)中，R^f在每次出现时分别独立地表示－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5。

在上述式中，Z′的含义与Z相同。

上述R⁶¹在每次出现时分别独立地表示R^d′。R^d′的含义与R^d相同。

上述R⁶²在每次出现时分别独立地表示－Y－SiR⁸³ _n3R⁸⁴ _3－n3。

上述Y在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团。2价的有机基团的含义同上。

Y优选为－CH₂CH₂－以外的2价的有机基团。

Y更优选与Y′的含义相同。

R⁸³、R⁸⁴和n3的含义同上。

R⁶³在每次出现时分别独立地表示R^f′。R^f′的含义与R^f相同。

R⁶⁴在每次出现时分别独立地表示羟基、氢原子或1价的有机基团。

上述1价的有机基团更优选为低级烷基或苯基，进一步优选为低级烷基。该低级烷基优选为碳原子数1～20的烷基、进一步优选为碳原子数1～6的烷基、更进一步优选为甲基。

R^f中，经由Z′基连接成直链状的C最多为5个。即，在上述R^f中至少存在1个R⁶³时，R^f中经由Z′基连接成直链状的C原子存在2个以上，但经由该Z′基连接成直链状的C原子数最多为5个。其中，“R^f中经由Z′基连接成直链状的C原子数”等于R^f中连接成直链状的－Z′－C－的重复数。

在优选的方式中，如下所述，“R^f中经由Z′基连接成直链状的C原子数”在所有链中为1个(左式)或2个(右式)。

在一个方式中，R^f的经由Z′基连接成直链状的C原子数为1个或2个，优选为1个。

在上述式中，p5在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q5在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r5在每次出现时分别独立地为0～3的整数；s5在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，在每个－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5中，p5、q5、r5和s5之和为3。

在另外的优选的方式中，在R^f或R^f′中，在每个－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5中，r5为0，p5优选为1以上、更优选为2以上、进一步优选为3。另外，在p5为1或2时，优选p5与q5的合计为3、且R⁶²中的n3为1～3的整数。

在另外的优选的方式中，在R^f中的末端的R^f′(在不存在R^f′时为R^f)中，上述p5优选为2以上、例如为2或3、更优选为3。

其中，末端的R^f′和R^f意指r5为0的R^f′和R^f。

在上述式(B1)和(B2)中，R^g在每次出现时分别独立地表示氢原子、羟基或1价的有机基团。1价的有机基团的含义同上。

在上述式(B1)和(B2)中，k2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m2在每次出现时分别独立地为0～3的整数；n2在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，在每个－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，k2、l2、m2和n2之和为3。

在上述式(B1)和(B2)中，存在至少1个的R^d或R^d′，并且存在至少2个的－SiR⁷³或－SiR⁸³所示的基团。

在一个方式中，在式(B1)和(B2)中，存在至少2个的R^d或R^d′，并且存在至少2个的－SiR⁷³或－SiR⁸³所示的基团。

在一个方式中，在上述式(B1)和(B2)中，存在键合有至少1个R^d或R^d′、并且可以键合有至少包含R⁸³的R^e或R⁶²的C原子，该R^d、R^d′、R^e和R⁶²的合计为2以上。

在一个方式中，至少1个k2为2或3，优选为3。在该方式中，在k2为2的－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，m2可以为0。即，－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2可以为－CR^d ₂R^e _l2R^g _n2。在该方式中，在k2为2的－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，优选m2为0、l2为1且n2为0。即，优选－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2为－CR^d ₂R^e。

在一个方式中，k2为2或3、优选为3。在该方式中，在k2为2的－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，m2可以为0。即，－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2可以为－CR^d ₂R^e _l2R^g _n2。在该方式中，在k2为2的－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2中，优选m2为0、l2为1且n2为0。即，优选－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2为－CR^d ₂R^e。

通过上述那样的结构、特别是具有R^d或R^d′，式(B1)或(B2)所示的本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物更有助于形成耐UV性和对于酸或碱的耐久性更好的表面处理层。

在一个方式中，上述式(B1)和(B2)的末端可以具有以下的式(b1)所示的基团。

－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2 (b1)

[式中，R^f表示－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5R⁶³ _r5R⁶⁴ _s5；

k2和p5之和为1以上、优选为2以上、更优选k2或p5的任一个为3；

其中，在k2和p5之和为1时，l2和q5之和为1以上、并且R^e和R⁶²中n3为1～3的整数。]

更优选上述式(B1)和(B2)的末端具有以下的式(b2)所示的基团。

－CR^d _k2R^e _l2R^g _n2 (b2)

[式中，k2、l2和n2之和为3；

k2为1～3的整数、优选为2或3、更优选为3；

在k2为1时，l2为1或2、且R^e中n3为1～3的整数。]

进一步优选上述式(B1)和(B2)的末端具有以下的式(b3)所示的基团。

－CR^d _k2R^e _l2 (b3)

[式中，k2与l2之和为3、并且k2为2或3，更优选k2为3；

优选R^e中n3为1～3的整数。]

在另外的方式中，上述式(B1)和(B2)的末端具有以下式(b4)所示的基团。

－CR^d _k2R^g _n2 (b4)

[式中，k2与n2之和为3，并且k2为2或3，更优选k2为3。]

在上述式(b1)～(b4)中，R^d由－CH₂CH₂－SiR⁷³ _n4R⁷⁴ _3－n4表示，n4优选为3。

在另外的优选的方式中，在至少1个、优选全部的－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2，分别独立地，k2为1、2或3、优选为2或3、更优选为3，l2为0、1或2、优选为0或1、更优选为0，m2为0、1或2、优选为0或1、更优选为0，n2为0，在存在R^f时，R^f为－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5，p5为1、2或3，优选为2或3，更优选为3，p5与q5之和为3，并且－SiR⁷³或－SiR⁸³所示的基团至少存在2个。即，优选－CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2为－CR^d _k2R^e _l2(－Z′－CR⁶¹ _p5R⁶² _q5)_m2(式中，k2为1～3的整数，l2为0～2的整数，m2为0～2的整数，k2、l2和m2之和为3，p5为1～3的整数，p5与q5之和为3)、并且存在至少2个－SiR⁷³或－SiR⁸³所示的基团(R^d、R^e、Z′、R⁶¹、R⁶²、R⁷³和R⁸³的含义同上)。

在优选的一个方式中，X²在每次出现时分别独立地为单键、－CH₂－、－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－；上述式(B1)和(B2)的末端具有上述式(b1)所示的基团，优选末端具有上述式(b2)所示的基团，更优选上述式(b3)所示的基团。在上述式(b1)～(b3)中，R^d由－CH₂CH₂－SiR⁷³ _n4R⁷⁴ _3－n4表示，优选n4为3。

在更优选的一个方式中，X²在每次出现时分别独立地为单键、－CH₂－、－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－；n4为3、并且k2为3或p5为3。

在上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物中，Rf－PFPE部分的平均分子量没有特别限定，为500～30,000、优选为1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。

在一个方式中，在上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物中，Rf－PFPE－部分或－PFPE－部分的数均分子量优选为2,500～6,000、更优选为3,000～5,500、进一步优选为3,000～4,000。

上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物可以具有5×10²～1×10⁵的平均分子量，但没有特别限定。在该范围中，从摩擦耐久性的观点出发，优选具有2,000～32,000的平均分子量，更优选具有2,500～12,000的平均分子量。其中，在本发明中，在没有特别说明时，“平均分子量”意指数均分子量，“平均分子量”为通过¹⁹F－NMR测得的值。

上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物优选具有3,000～6,000的数均分子量，更优选具有3,000～4,500的数均分子量。

在一个方式中，上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物可以具有1,000～30,000、优选1,000～30,000、更优选1,000～30,000、进一步更优选1,000～10,000的数均分子量。

在一个方式中，上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物中，分子量为3,000以下的含PFPE的硅烷化合物的比例为9mol％以下。

在一个方式中，上述式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物的重均分子量在4,000～6,000的范围内，重均分子量/数均分子量在1.2以下的范围内。上述重均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱)分析进行测定。

式(B1)或式(B2)所示的含PFPE的硅烷化合物可以通过将公知的方法组合而制造。

[表面处理剂]

下面对本发明的表面处理剂进行说明。

本发明的表面处理剂含有式(A1)、(A2)、(B1)或(B2)所示的至少1种的含PFPE的硅烷化合物。

在一个方式中，本发明的表面处理剂含有式(A1)或式(A2)所示的至少1种的含PFPE的硅烷化合物。

在一个方式中，本发明的表面处理剂含有式(B1)或式(B2)所示的至少1种的含PFPE的硅烷化合物。

本发明的表面处理剂能够对基材赋予拨水性、拨油性、防污性、表面滑动性、摩擦耐久性，可以作为防污性涂敷剂或防水性涂敷剂使用，但没有特别限定。

本发明的表面处理剂中，相对于表面处理剂100质量份，含有上述含PFPE的硅烷化合物优选0.01～100质量份、更优选0.1～30质量份。

本发明的表面处理剂可以利用溶剂稀释。作为这样的溶剂，没有特别限定，例如可以列举选自下列物质的含氟原子的溶剂等：

全氟己烷、CF₃CF₂CHCl₂、CF₃CH₂CF₂CH₃、CF₃CHFCHFC₂F₅、1，1，1，2，2，3，3，4，4，5，5，6，6－十三氟辛烷、1，1，2，2，3，3，4－七氟环戊烷((ZEORORA H(商品名)等)、C₄F₉OCH₃、C₄F₉OC₂H₅、CF₃CH₂OCF₂CHF₂、C₆F₁₃CH＝CH₂、六氟化二甲苯、全氟苯、甲基十五氟庚基酮、三氟乙醇、五氟丙醇、六氟异丙醇、HCF₂CF₂CH₂OH、甲基三氟甲烷磺酸酯、三氟乙酸和CF₃O(CF₂CF₂O)_m1(CF₂O)_n1CF₂CF₃[式中，m1和n1分别独立地为0以上1000以下的整数，标注m1或n1且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，但m1与n1之和为1以上]、1，1－二氯－2，3，3，3－四氟－1－丙烯、1，2－二氯－1，3，3，3－四氟－1－丙烯、1，2－二氯－3，3，3－三氟－1－丙烯、1，1－二氯－3，3，3－三氟－1－丙烯、1，1，2－三氯－3，3，3－三氟－1－丙烯、1，1，1，4，4，4－六氟－2－丁烯。

作为上述溶剂，可以使用C₆F₁₃OCH₃。

上述溶剂中所含的水分含量以质量换算计优选为20ppm以下。上述水分含量可以使用卡尔-费歇法测定。通过为这样的水分含量，表面处理剂的保存稳定性提高。

本发明的表面处理剂可以进一步含有其他成分。作为这样的其他成分，没有特别限定。例如可以列举：其他的表面处理化合物、可以认为是含氟油的(非反应性的)氟代聚醚化合物、优选全氟(聚)醚化合物(以下称为“含氟油”)、可以认为是硅油的(非反应性的)有机硅化合物(以下称为“硅油”)、醇、催化剂、过渡金属、卤化物离子、分子结构内包含具有非共享电子对的原子的化合物等。

作为上述含氟油，没有特别限定，例如可以列举以下通式(1)所示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。

Rf⁵－(OC₄F₈)_a′－(OC₃F₆)_b′－(OC₂F₄)_c′－(OCF₂)_d′－Rf⁶…(1)

式中，Rf⁵表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选C_1―16的全氟烷基)，Rf⁶表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选C_1－16全氟烷基)、氟原子或氢原子，Rf⁵和Rf⁶更优选分别独立地为C_1－3全氟烷基。

a′、b′、c′和d′分别表示构成聚合物的主骨架的全氟(聚)醚的4种重复单元的数量，彼此独立地为0以上300以下的整数，a′、b′、c′和d′之和至少为1、优选为1～300、更优选为20～300。标注角标a′、b′、c′或d′且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。在这些重复单元中，－(OC₄F₈)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂CF₂)－、－(OCF₂CF(CF₃)CF₂)－、－(OCF₂CF₂CF(CF₃))－、－(OC(CF₃)₂CF₂)－、－(OCF₂C(CF₃)₂)－、－(OCF(CF₃)CF(CF₃))－、－(OCF(C₂F₅)CF₂)－和－(OCF₂CF(C₂F₅))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)－。－(OC₃F₆)－可以为－(OCF₂CF₂CF₂)－、－(OCF(CF₃)CF₂)－和－(OCF₂CF(CF₃))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂CF₂)－。－(OC₂F₄)－可以为－(OCF₂CF₂)－和－(OCF(CF₃))－的任一种，优选为－(OCF₂CF₂)－。

作为上述通式(1)所示的全氟(聚)醚化合物的示例，可以列举以下的通式(1a)和(1b)的任一式所示的化合物(可以为1种或2种以上的混合物)。

Rf⁵－(OCF₂CF₂CF₂)_b″－Rf⁶…(1a)

Rf⁵－(OCF₂CF₂CF₂CF₂)_a″－(OCF₂CF₂CF₂)_b″－(OCF₂CF₂)_c″－(OCF₂)_d″－Rf⁶…(1b)

这些式中，Rf⁵和Rf⁶如上所述；式(1a)中，b″为1以上100以下的整数；式(1b)中，a″和b″分别独立地为1以上30以下的整数，c″和d″分别独立地为1以上300以下的整数。标注角标a″、b″、c″、d″且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。

上述含氟油可以具有1,000～30,000的平均分子量。由此能够获得高的表面滑动性。

本发明的表面处理剂中，含氟油相对于上述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物和上述羧酸酯化合物的合计100质量份(分别为2种以上时为它们的合计，下同)含有例如0～500质量份、优选0～400质量份、更优选5～300质量份。

通式(1a)所示的化合物和通式(1b)所示的化合物可以分别单独使用，也可以组合使用。与通式(1a)所示的化合物相比，使用通式(1b)所示的化合物时能够获得更高的表面滑动性，因而优选。在将它们组合使用时，通式(1a)所示的化合物与通式(1b)所示的化合物的质量比优选为1：1～1：30，更优选为1：1～1：10。通过这样的质量比，能够获得表面滑动性与摩擦耐久性的平衡优异的表面处理层。

在一个方式中，含氟油含有通式(1b)所示的1种或1种以上的化合物。在这种方式中，表面处理剂中的上述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物与式(1b)所示的化合物的质量比优选为10：1～1：10，更优选为4：1～1：4。

在一个方式中，式(1a)所示的化合物的平均分子量优选为2,000～8,000。

在一个方式中，式(1b)所示的化合物的平均分子量优选为8,000～30,000。

在另外的方式中，式(1b)所示的化合物的平均分子量优选为3,000～8,000。

在优选的方式中，在通过真空蒸镀法形成表面处理层时，含氟油的数均分子量可以大于含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的数均分子量。例如可以使含氟油的数均分子量比含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的数均分子量大2,000以上、优选3,000以上、更优选5,000以上。通过为这样的数均分子量，能够获得更优异的摩擦耐久性和表面滑动性。

并且，从其他的观点出发，含氟油可以为通式Rf′－F(式中，Rf′为C_5－16全氟烷基)所示的化合物。还可以为氯三氟乙烯低聚物。从能够获得与Rf为C_1－16全氟烷基的上述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的高亲和性的观点出发，优选Rf′－F所示的化合物和氯三氟乙烯低聚物。

含氟油有助于提高表面处理层的表面滑动性。

作为上述硅油，例如可以使用硅氧烷键为2,000以下的直链或环状的硅油。直链的硅油可以为所谓的普通硅油和改性硅油。作为普通硅油，可以列举二甲基硅油、甲基苯基硅油、甲基氢化硅油。作为改性硅油，可以列举利用烷基、芳烷基、聚醚、高级脂肪酸酯、氟代烷基、氨基、环氧基、羧基、醇等将普通硅油改性而得到的硅油。环状的硅油例如可以列举环状二甲基硅氧烷油等。

本发明的表面处理剂中，这样的硅油相对于上述含PFPE的硅烷化合物100质量份(为2种以上时为它们的合计，下同)例如含有0～300质量份、优选0～200质量份。

硅油有助于提高表面处理层的表面滑动性。

作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。

催化剂促进上述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的水解和脱水缩合，促进表面处理层的形成。

上述过渡金属，可以列举铂、钌、铑等。

作为上述卤化物离子，可以列举氯化物离子等。

上述分子结构内包含具有非共享电子对的原子的化合物优选含有选自氮原子、氧原子、磷原子和硫原子中的至少1种原子，更优选含有硫原子或氮原子。

上述分子结构内包含具有非共享电子对的原子的化合物更优选为分子结构内包含选自氨基、酰胺基、亚磺酰基、P＝O基、S＝O基和磺酰基中的至少1种官能团，更优选包含选自P＝O基和S＝O基中的至少1种官能团。

上述分子结构内包含具有非共享电子对的原子的化合物优选为选自脂肪族胺化合物、芳香族胺化合物、磷酸酰胺化合物、酰胺化合物、尿素化合物和亚砜化合物中的至少1种的化合物，更优选为选自脂肪族胺化合物、芳香族胺类、磷酸酰胺、尿素化合物和亚砜化合物中的至少1种的化合物，特别优选为选自亚砜化合物、脂肪族胺化合物和芳香族胺化合物中的至少1种的化合物，进一步优选为亚砜化合物。

作为上述脂肪族胺化合物，例如可以列举二乙基胺、三乙基胺等。作为上述芳香族胺化合物，例如可以列举苯胺、吡啶等。作为上述磷酸酰胺化合物，例如可以列举六甲基磷酰胺等。作为上述酰胺化合物，例如可以列举N，N－二乙基乙酰胺、N，N－二乙基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺、N－甲基甲酰胺、N，N－二甲基甲酰胺、N－甲基吡咯烷酮等。作为上述尿素化合物，可以列举四甲基尿素等。作为上述亚砜化合物，可以列举二甲基亚砜(DMSO)、四亚甲基亚砜、甲基苯基亚砜、二苯基亚砜等。这些化合物中，优选使用二甲基亚砜或四亚甲基亚砜。

作为其他成分，除上述成分以外，例如还可以列举四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷等。

作为其他成分，除上述成分以外，例如还可以列举碳原子数1～6的醇化合物。

[粒料]

本发明的表面处理剂能够浸渗于多孔物质、例如多孔的陶瓷材料、将金属纤维、例如钢丝绒固化成丝棉状的物质中，制成粒料。该粒料例如能够用于真空蒸镀。

本发明的表面处理剂能够对基材赋予拨水性、拨油性、防污性、防水性、高的摩擦耐久性和耐UV性，因而适合作为表面处理剂使用。具体而言，本发明的表面处理剂没有特别限定，适合作为防污性涂敷剂或防水性涂敷剂使用。

[物品]

下面对本发明的物品进行说明。

本发明的物品包括基材、和在该基材的表面由本发明的表面处理剂形成的层(表面处理层)。该物品例如能够如下操作制造。

首先，准备基材。本发明中能够使用的基材例如可以由玻璃、树脂(天然或合成树脂、例如可以为通常的塑料材料，可以为板状、膜、其他的形态)、金属(可以为铝、铜、铁等金属单质或合金等的复合体)、陶瓷、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、木材、陶瓷、石材等、建筑部件等任意的适当材料构成。

作为上述玻璃，优选蓝宝石玻璃、钠钙玻璃、碱铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃、水晶玻璃、石英玻璃，特别优选经过化学强化的钠钙玻璃、经过化学强化的碱铝硅酸盐玻璃和经过化学结合的硼硅酸玻璃。

作为树脂，优选丙烯酸树脂、聚碳酸酯。

例如，在想要制造的物品是光学部件的情况下，构成基材的表面的材料可以为光学部件用材料，例如玻璃或透明塑料等。另外，在想要制造的物品是光学部件的情况下，也可以在基材的表面(最外层)形成某种层(或膜)，例如硬涂层或防反射层等。防反射层可以使用单层防反射层和多层防反射层的任意一种。作为能够用于防反射层的无机物的示例，可以列举SiO₂、SiO、ZrO₂、TiO₂、TiO、Ti₂O₃、Ti₂O₅、Al₂O₃、Ta₂O₅、CeO₂、MgO、Y ₂O₃、SnO₂、MgF₂、WO₃等。这些无机物可以单独使用或将它们中的2种以上组合(例如作为混合物)使用。在为多层防反射层的情况下，优选其最外层使用SiO₂和/或SiO。在想要制造的物品是触摸面板用的光学玻璃部件的情况下，基材(玻璃)的表面的一部分可以具有透明电极，例如使用了氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌等的薄膜。另外，基材根据其具体的规格等，可以具有绝缘层、粘接层、保护层、装饰框层(I-CON)、雾化膜层、硬涂膜层、偏光膜、相位差膜和液晶显示模块等。

基材的形状没有特别限定。另外，需要形成表面处理层的基材的表面区域只要为基材表面的至少一部分即可，可以根据想要制造的物品的用途和具体的规格等适当确定。

作为这样的基材，至少其表面部分可以由原本具有羟基的材料构成。作为这样的材料，可以列举玻璃，另外，可以列举表面形成有自然氧化膜或热氧化膜的金属(特别是贱金属)、陶瓷、半导体等。或者，如树脂等，在即使具有羟基也不充分的情况、或原本不具有羟基的情况下，通过对基材实施某些前处理，能够在基材的表面导入羟基，或使羟基增加。作为这样的前处理的例子，可以列举等离子处理(例如电晕放电)或离子束照射。等离子处理可以在基材表面导入羟基或使其增加，并且也能够将基材表面清洁化(除去异物等)，因而适合利用。另外，作为这样的前处理的另一个例子，可以列举利用LB法(Langmuir-Blodgett法)或化学吸附法等预先在基材表面以单分子膜的形态形成具有碳-碳不饱和键基团的表面吸附剂，之后，在含有氧或氮等的气氛下使不饱和键断开的方法。

另外，或者作为这样的基材，可以为至少其表面部分由具有1个以上其他的反应性基团例如Si-H基的有机硅化合物、或含有烷氧基硅烷的材料构成。

接着，在这样的基材的表面形成上述的本发明的表面处理剂的膜，根据需要对该膜进行后处理，由此，由本发明的表面处理剂形成表面处理层。

本发明的表面处理剂的膜形成能够通过将本发明的表面处理剂对于基材的表面、以被覆该表面的方式应用来实施。被覆方法没有特别限定。例如能够使用湿润被覆法和干燥被覆法。

作为湿润被覆法的例子，可以列举浸渍涂布、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂布以及类似的方法。

作为干燥被覆法的例子，可以列举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD以及类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以列举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束以及类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以列举等离子-CVD、光学CVD、热CVD以及类似的方法。

此外，也能够利用常压等离子法进行被覆。

在使用湿润被覆法的情况下，本发明的表面处理剂能够用溶剂稀释后应用于基材表面。从本发明的表面处理剂的稳定性和溶剂的挥发性的观点出发，优选使用如下的溶剂：C_5－12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟－1，3－二甲基环己烷)；多氟代芳香烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟代脂肪族烃(例如C₆F₁₃CH₂CH₃(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AC－6000)、1，1，2，2，3，3，4－七氟环戊烷(例如日本瑞翁株式会社生产的ZEORORA(注册商标)H)；氢氟烃(HFC)(例如1，1，1，3，3－五氟丁烷(HFC－365mfc))；氢氯氟烃(例如HCFC－225(ASAHIKLIN(注册商标)AK225))；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C₃F₇OCH₃)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标名)7000)、全氟丁基甲基醚(C₄F₉OCH₃)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标名)7100)、全氟丁基乙基醚(C₄F₉OC₂H₅)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标名)7200)、全氟己基甲基醚(C₂F₅CF(OCH₃)C₃F₇)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标名)7300)等烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状)、或者CF₃CH₂OCF₂CHF₂(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AE－3000))、1，2－二氯－1，3，3，3－四氟－1－丙烯(例如Dupont-Mitsui Fluoro chemicals Co.,Ltd.生产的Vertrel(注册商标)Sion)等。这些溶剂可以单独使用，或者将2种以上组合作为混合物使用。并且，例如为了调节含全氟(聚)醚基的硅烷化合物和全氟聚醚改性化合物的溶解性等，也可以与其他的溶剂混合。

在使用干燥被覆法的情况下，本发明的表面处理剂可以直接用于干燥被覆法，或者也可以用上述溶剂稀释后用于干燥被覆法。

膜形成优选以本发明的表面处理剂与用于水解和脱水缩合的催化剂在膜中一起存在的方式实施。简言之，在利用湿润被覆法的情况下，将本发明的表面处理剂用溶剂稀释后、即将应用于基材表面之前，在本发明的表面处理剂的稀释液中添加催化剂即可。在利用干燥被覆法的情况下，可以将添加了催化剂的本发明的表面处理剂直接进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理，或者使用在铁或铜等金属多孔体中浸渗添加了催化剂的本发明的表面处理剂而得到的粒料状物质，进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理。

催化剂能够使用任意的适当的酸或碱。作为酸催化剂，例如能够使用乙酸、甲酸、三氟乙酸等。另外，作为碱催化剂，例如能够使用氨、有机胺类等。

接着，根据需要，对膜进行后处理。该后处理没有特别限定，例如可以依次实施水分供给和干燥加热，更详细而言，可以如下操作来实施。

如上所述操作在基材表面形成本发明的表面处理剂的膜后，对该膜(以下也称为“前体膜”)供给水分。水分的供给方法没有特别限定，例如可以使用利用前体膜(和基材)与周围气氛的温度差造成的结露、或喷出水蒸气(蒸汽)等的方法。

水分的供给例如能够以0～250℃、优选60℃以上、更优选100℃以上，优选以180℃以下、更优选150℃以下的气氛实施。通过在这样的温度范围内供给水分，能够使水解进行。此时的压力没有特别限定，简便地可以设为常压。

接着，在该基材的表面以超过60℃的干燥气氛对该前体膜进行加热。干燥加热方法没有特别限定，可以将前体膜与基材一起，配置在超过60℃、优选超过100℃的温度且例如在250℃以下、优选180℃以下的温度，并且在不饱和水蒸气压的气氛下。此时的压力没有特别限定，简便地可以设为常压。

在这样的气氛下时，在本发明的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物之间，水解后的与Si键合的基团彼此迅速地脱水缩合。另外，在这样的化合物与基材之间，该化合物的水解后的与Si键合的基团与存在于基材表面的反应性基团之间迅速反应，在存在于基材表面的反应性基团为羟基时发生脱水缩合。其结果，在含全氟(聚)醚基的硅烷化合物与基材之间成键。

上述的水分供给和干燥加热可以通过使用过热水蒸气连续地实施。

能够如上操作实施后处理。这样的后处理可以为了进一步提高摩擦耐久性而实施，但需要注意这并不是制造本发明的物品所必须的。例如，也可以在将本发明的表面处理剂应用于基材表面之后，仅直接静置。

如上所述操作，在基材的表面形成来自本发明的表面处理剂的膜的表面处理层，制造本发明的物品。由此得到的表面处理层具有良好的耐UV性。另外，该表面处理层不仅具有良好的耐UV性，而且根据所使用的组合物的组成，还可以具有拨水性、拨油性、防污性(例如防止指纹等污渍附着)、表面滑动性(或润滑性、例如指纹等污渍的擦拭性、或对手指优异的触感)、高摩擦耐久性等，能够适合作为功能性薄膜利用。

即本发明还涉及最外层具有上述固化物的光学材料。

作为光学材料，除了可以列举后述例示的与显示器等相关的光学材料以外，还优选列举多种多样的光学材料：例如阴极射线管(CRT，例如TV、电脑屏幕)、液晶显示器、等离子显示器、有机EL显示器、无机薄膜EL点阵显示器、背投型显示器、荧光显示管(VFD)、场发射显示器(FED：Field Emission Display)等显示器或这些显示器的保护板、或者对它们的表面实施了防反射膜处理的材料。

具有通过本发明得到的表面处理层的物品没有特别限定，可以为光学部件。光学部件的例子可以列举如下例子：眼镜等的镜片；PDP、LCD等的显示器的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩光板；便携电话、便携信息终端等设备的触摸面板片材；蓝光(Blu－ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD－R、MO等的光盘的盘面；光纤等。

另外，具有通过本发明得到的表面处理层的物品可以为医疗设备或医疗材料。

表面处理层的厚度没有特别限定。在光学部件的情况下，表面处理层的厚度为1～50nm、优选1～30nm、更优选1～15nm的范围，从光学性能、表面滑动性、摩擦耐久性和防污性的观点来看优选。

作为另外的方式，还可以在基材的表面形成另外的层之后，在该层的表面形成由本发明得到的表面处理层的膜。

以上，对使用本发明的表面处理剂得到的物品进行了详细说明。但本发明的表面处理剂的用途、使用方法或物品的制造方法等不限于上述例示的情况。

实施例

通过以下的实施例对本发明的含PFPE的硅烷化合物和表面处理剂进行具体说明，但本发明不限于这些实施例。

(合成例1)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入平均组成由CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH＝CH₂表示的全氟聚醚改性烯丙基体10g、1，3－双(三氟甲基)苯10g、三氯硅烷1.0g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.05ml，之后升温至60℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述式的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(A)10.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(A)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

(合成例2)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中加入合成例1中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(A)10.1g、1，3－双(三氟甲基)苯15g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有1.6mol/L乙烯基氯化镁的四氢呋喃溶液10ml，之后，升温至室温，在该温度搅拌10小时。之后，冷却至5℃，添加甲醇5ml后，添加全氟己烷并搅拌30分钟，之后，使用分液漏斗分取出全氟己烷层。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有乙烯基的下述的含全氟聚醚基的乙烯基体(B)10.2g。

·含全氟聚醚基的乙烯基体(B)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH＝CH₂)₃

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例2中合成的末端具有乙烯基的含全氟聚醚基的乙烯基体(B)9.0g、1，3－双(三氟甲基)苯12g、三氯硅烷3.0g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.1ml，之后升温至60℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(C)9.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(C)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃(合成例4)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例3中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(C)9.1g、1，3－双(三氟甲基)苯12g，在氮气流下以50℃搅拌30分钟。接着，添加甲醇0.40g和原甲酸三甲酯13.2g的混合溶液后，升温至55℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含全氟聚醚基的硅烷化合物(D)9.2g。

·含全氟聚醚基的硅烷化合物(D)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(合成例5)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入平均组成由CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH＝CH₂表示的全氟聚醚改性烯丙基体10g、1，3－双(三氟甲基)苯12g、三氯硅烷1.2g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.08ml，之后升温至60℃，在该温度搅拌4小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述式的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(E)10.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(E)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

(合成例6)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例5中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(E)10.1g、1，3－双(三氟甲基)苯12g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。之后，加入含有1.6mol/L乙烯基氯化镁的四氢呋喃溶液9.5ml后，升温至室温，在该温度搅拌12小时。之后，冷却至5℃，添加甲醇6ml后，添加全氟己烷20g，搅拌30分钟，之后，使用分液漏斗分取出全氟己烷层。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有乙烯基的下述的含全氟聚醚基的乙烯基体(F)10.2g。

·含全氟聚醚基的乙烯基体(F)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH＝CH₂)₃

(合成例7)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例6中合成的末端具有乙烯基的含全氟聚醚基的乙烯基体(F)6.0g、1，3－双(三氟甲基)苯9g、三氯硅烷1.5g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.06ml，之后，升温至60℃，在该温度搅拌2小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(G)6.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(G)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

(合成例8)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例7中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(G)6.1g、1，3－双(三氟甲基)苯9g，在氮气流下以50℃搅拌30分钟。接着，添加甲醇0.25g和原甲酸三甲酯8.3g的混合溶液后，升温至55℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含全氟聚醚基的硅烷化合物(H)6.2g。

·含全氟聚醚基的硅烷化合物(H)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(合成例9)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的50mL的三口烧瓶中，加入平均组成由CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH＝CH₂表示的全氟聚醚改性烯丙基体5.0g、1，3－双(三氟甲基)苯6g、三氯硅烷0.51g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.04ml后，升温至60℃，在该温度搅拌4小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述式的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(I)5.0g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(I)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

(合成例10)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的50mL的三口烧瓶中，加入合成例9中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(I)5.0g、1，3－双(三氟甲基)苯6g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有1.6mol/L的乙烯基氯化镁的四氢呋喃溶液4.3ml后，升温至室温，在该温度搅拌12小时。之后，冷却至5℃，添加甲醇3ml后，添加全氟己烷10g，搅拌30分钟，之后，使用分液漏斗分取出全氟己烷层。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有乙烯基的下述的含全氟聚醚基的乙烯基体(J)4.9g。

·含全氟聚醚基的乙烯基体(J)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH＝CH₂)₃

(合成例11)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的50mL的三口烧瓶中，加入合成例10中合成的末端具有乙烯基的含全氟聚醚基的乙烯基体(J)4.0g、1，3－双(三氟甲基)苯5g、三氯硅烷1.0g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.07ml，之后，升温至60℃，在该温度搅拌2小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(K)3.9g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(K)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃

(合成例12)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的50mL的三口烧瓶中，加入合成例11中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(K)3.9g、1，3－双(三氟甲基)苯5g，在氮气流下以50℃搅拌30分钟。接着，添加甲醇0.13g和原甲酸三甲酯4.3g的混合溶液后，升温至55℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含全氟聚醚基的硅烷化合物(L)4.0g。

·含全氟聚醚基的硅烷化合物(L)(e/f比0.71)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(合成例13)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入平均组成由CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH＝CH₂表示的全氟聚醚改性烯丙基体10g、1，3－双(三氟甲基)苯10g、三氯硅烷0.7g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.04ml后，升温至60℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述式的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(M)10.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(M)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂SiCl₃

(合成例14)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例13中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(M)10.1g、1，3－双(三氟甲基)苯15g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有1.6mol/L乙烯基氯化镁的四氢呋喃溶液7.5ml后，升温至室温，在该温度搅拌10小时。之后，冷却至5℃，添加甲醇5ml后，添加全氟己烷，搅拌30分钟，之后，使用分液漏斗分取出全氟己烷层。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有乙烯基的下述的含全氟聚醚基的乙烯基体(N)10.2g。

·含全氟聚醚基的乙烯基体(N)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH＝CH₂)₃

(合成例15)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例14中合成的末端具有乙烯基的含全氟聚醚基的乙烯基体(N)9.0g、1，3－双(三氟甲基)苯12g、三氯硅烷2.4g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.07ml后，升温至60℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(O)9.1g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(O)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂SiCl₃)₃(合成例16)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例15中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(O)9.1g、1，3－双(三氟甲基)苯12g，在氮气流下以50℃搅拌30分钟。接着，添加甲醇0.32g和原甲酸三甲酯10.6g的混合溶液后，升温至55℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含全氟聚醚基的硅烷化合物(P)9.2g。

·含全氟聚醚基的硅烷化合物(P)：

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃(合成例17)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的300mL的四口烧瓶中，加入平均组成由CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂I表示的全氟聚醚改性碘体10g、1，3－双(三氟甲基)苯100g、C(CH＝CH₂)₄ 30g，添加过氧化二叔丁基0.3g，以120度搅拌16小时。之后，冷却至5度，添加锌粉末0.84g、甲醇5ml，以45度搅拌7小时。接着，添加全氟己烷100g和丙酮30g，搅拌30分钟，之后，使用分液漏斗分取全氟己烷层，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有碘的下述式的含全氟聚醚基的乙烯基体(Q)9.8g。

·含全氟聚醚基的乙烯基体(Q)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C(CH＝CH₂)₃

(合成例18)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例17中合成的末端具有乙烯基的含全氟聚醚基的乙烯基体(Q)9.0g、1，3－双(三氟甲基)苯13g、三氯硅烷2.3g，在氮气流下以5℃搅拌30分钟。接着，添加含有2％的1，3－二乙烯基－1，1，3，3－四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物的二甲苯溶液0.09ml后，升温至60℃，在该温度搅拌2小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三氯硅烷的下述的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(R)9.2g。

·含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(R)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C(CH₂CH₂SiCl₃)₃

(合成例19)

在安装有回流冷却器、温度计和搅拌器的100mL的四口烧瓶中，加入合成例18中合成的末端具有三氯硅烷的含全氟聚醚基的三氯硅烷化合物(R)6.0g、1，3－双(三氟甲基)苯9g，在氮气流下以50℃搅拌30分钟。接着，添加甲醇0.25g和原甲酸三甲酯8.2g的混合溶液后，升温至55℃，在该温度搅拌3小时。之后，在减压下蒸馏除去挥发成分，从而得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含全氟聚醚基的硅烷化合物(S)6.1g。

·含全氟聚醚基的硅烷化合物(S)：

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂C[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

(实施例1)

使上述合成例4中得到的化合物(D)以20wt％的浓度溶解在氢氟醚(3M株式会社生产、Novec HFE7200)中，制备表面处理剂1。

将上述制备的表面处理剂1真空蒸镀在化学强化玻璃(Corning公司制、“Gorilla”玻璃、厚度0.7mm)上。真空蒸镀的处理条件设为压力3.0×10^-3Pa。首先，将二氧化硅以7nm的厚度蒸镀在该化学强化玻璃的表面，形成二氧化硅膜，接着，对每1片化学强化玻璃(55mm×100mm)蒸镀表面处理剂2mg(即含有化合物(D)0.4mg)。之后，带有蒸镀膜的化学强化玻璃在温度20℃和湿度65％的气氛下静置24小时。由此，蒸镀膜固化，形成了表面处理层。

(实施例2)

除了使用化合物(H)代替化合物(D)以外，与实施例1同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。

(实施例3～5)

除了使用化合物(L)、化合物(P)、化合物(S)代替化合物(D)以外，与实施例1同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。

(比较例1和2)

除了使用下述对照化合物1或2代替化合物(D)以外，与实施例1同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。

·对照化合物1

CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

·对照化合物2

CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

(评价)

·静态接触角的测定

测定上述实施例1～5和比较例1～2中得到的表面处理层的水的静态接触角。测定水的静态接触角时，使用接触角测定装置(协和界面科学株式会社生产)，用水1μL在21℃、65％湿度的环境下实施。·摩擦耐久性的评价

作为初始评价，在形成表面处理层形成后、其表面未接触任何物质的状态下，测定表面处理层的水的静态接触角。

对于上述实施例或比较例中在基材表面形成的表面处理层，使用超级氙灯耐候试验机·型号SX75(Suga Test Instruments Co.,Ltd.)，由7.5kw水冷式氙灯照射UV 300小时。关于照射条件，在波长300nm～400nm下，放射照度设为62W/m²，基材的黑面板温度为55度，灯与基材表面的距离设为29cm。

对于UV照射前的表面处理层和UV照射后的表面处理层分别如下所述实施摩擦耐久性试验。

将形成有表面处理层的试样物品水平配置，使如下的摩擦件与表面处理层的表面接触(接触面为直径1cm的圆)，在其上施加5N的荷重，之后，在施加了荷重的状态下使摩擦件以40mm/秒的速度往复。使摩擦件最多往复4000次，每往复1000次(摩擦系数)测定水的静态接触角(度)。在水的静态接触角的测定值小于60度的时刻，中止试验。将结果示于表1和2(表中，符号“－”为未测定)。

·摩擦件

利用浸渍了以下组成的人工汗的棉花覆盖下述的硅橡胶加工品的表面(直径1cm)，将其作为摩擦件。

·人工汗的组成

无水磷酸氢二钠：2g

氯化钠：20g

85％乳酸：2g

组氨酸盐酸盐：5g

蒸馏水：1Kg

·硅橡胶加工品

将TIGERS POLYMER CORPORATION生产的硅橡胶栓SR－51加工成直径1cm、厚度1cm的圆柱状的加工品。

[表1]

[表2]

根据表1和2的结果可以理解，UV照射前的实施例1～5的表面处理层与UV照射前的比较例1和2的表面处理层相比，接触角的下降得到抑制，可以确认具有优异的摩擦耐久性。可以认为这是由于实施例1～5的表面处理剂具有－CH₂CH₂－作为硅－硅之间的连接基，因该影响而使得PFPE链紧密排列，表面处理层的耐摩擦性提高的缘故。

并且，UV照射后的实施例1～5的表面处理层与UV照射后的比较例1和2的表面处理层相比，伴随UV照射的接触角下降得到抑制。可以认为这是由于在实施例1～5中形成的表面处理层中，因UV照射而引起的表面处理层的分解得到抑制的缘故。即，在利用使用－CH₂CH₂－作为硅－硅之间的连接基的本发明的含全氟聚醚基的硅烷化合物时，可以确认所形成的表面处理层的耐UV性提高。

实施例2的表面处理剂所含的化合物(H)的e/f比为1.25，实施例3的表面处理剂中化合物(L)的e/f比为0.71。可以认为在实施例3的表面处理剂中，由于化合物(L)所含的(CF₂CF₂O)单元的含量小于(CF₂O)单元的含量，因而所形成的表面处理层容易滑动，摩擦耐久性进一步提高。

产业上的可利用性

本发明适合用于在各种各样的基材、特别是要求透过性的光学部件的表面形成表面处理层。

Claims

1.一种含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

由式(A1)或(B1)中的任一式表示，

(Rf-PFPE)_α’-X¹-(SiR^a _kR^b ₁R^c _m)_α…(A1)

(Rf-PFPE)_γ’-X²-(CR^d _k2R^e _l2R^f _m2R^g _n2)_γ…(B1)

式中，

PFPE在每次出现时分别独立地为式：-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃F₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-所示的基团，其中，a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标注a、b、c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意；

X¹在每次出现时分别独立地表示碳原子数1～3的亚烷基；

α为1；

α′为1；

R^a在每次出现时分别独立地表示-CH₂CH₂-SiR²³ _r2R²⁴ _s2；

R²³表示羟基或能够水解的基团；

R²⁴表示氢原子或1价的有机基团；

r2在每次出现时分别独立地为1～3的整数；

s2在每次出现时分别独立地为0～2的整数；

其中，在每个-CH₂CH₂-SiR²³ _r2R²⁴ _s2中，r2和s2之和为3；

R^b在每次出现时分别独立地表示-Z-SiR¹¹ _p1R¹² _q1R¹³ _r1R¹⁴ _s1；

Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；

R¹¹在每次出现时分别独立地表示R^a′；

R^a′的含义与R^a相同；

R¹²在每次出现时分别独立地表示R^b′；

R^b′的含义与R^b相同；

R^b中，经由Z基连接成直链状的Si最多为5个；

R¹³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

R¹⁴在每次出现时分别独立地表示氢原子或1价的有机基团；

p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

s1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；

k为3；

l和m为0；

X²在每次出现时分别独立地表示碳原子数1～3的亚烷基；

γ为1；

γ′为1；

R⁷³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

n4在每次出现时分别独立地为1～3的整数；

Y′在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团；

R⁸³在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；

n3为0～3的整数；

Z′的含义与Z相同；

R⁶¹在每次出现时分别独立地表示R^d′；

R^d′的含义与R^d相同；

Y在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团；

R⁶³在每次出现时分别独立地表示R^f′；

R^f′的含义与R^f相同；

R^f中，经由Z′基连接成直链状的C最多为5个；

p5为0～3的整数；

q5为0～3的整数；

r5为0～3的整数；

s5为0～3的整数；

k2为3；

l2、m2和n2为0。

2.如权利要求1所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：所述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物由式(A1)表示。

3.如权利要求1所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：所述含全氟(聚)醚基的硅烷化合物由式(B1)表示。

4.如权利要求1～3中任一项所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

Rf在每次出现时独立地为碳原子数1～16的全氟烷基。

5.如权利要求1～3中任一项所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

PFPE在每次出现时独立地为下述式(a)、(b)或(c)，

－(OC₃F₆)_d－ (a)

式(a)中，d为1～200的整数；

－(OC₄F₈)_c－(OC₃F₆)_d－(OC₂F₄)_e－(OCF₂)_f－ (b)

式(b)中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数；

e和f分别独立地为1以上200以下的整数；

c、d、e和f之和为10以上200以下的整数；

标注角标c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意；

－(R⁶－R⁷)_j－ (c)

式(c)中，R⁶为OCF₂或OC₂F₄；

R⁷为选自OC₂F₄、OC₃F₆、OC₄F₈、OC₅F₁₀和OC₆F₁₂中的基团、或者为从这些基团中选择的2个或3个基团的组合；

j为2～100的整数。

6.如权利要求1～3中任一项所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

Rf－PFPE部分的数均分子量分别独立地为500～30,000。

7.如权利要求1或2所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

X¹在每次出现时分别独立地为－CH₂－、－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－。

8.如权利要求1或2所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：r2为3。

9.如权利要求1或3所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：

X²在每次出现时分别独立地为－CH₂－、－CH₂CH₂－或－CH₂CH₂CH₂－。

10.如权利要求1或3所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物，其特征在于：n4为3。

11.一种表面处理剂，其特征在于：

含有权利要求1～10中任一项所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物。

12.如权利要求11所述的表面处理剂，其特征在于：

还含有选自含氟油、硅油、醇、催化剂、过渡金属、卤化物离子、和分子结构内包含具有非共享电子对的原子的化合物中的1种或1种以上的其他成分。

13.如权利要求11或12所述的表面处理剂，其特征在于：

还含有溶剂。

14.如权利要求11或12所述的表面处理剂，其特征在于：

所述表面处理剂作为防污性涂敷剂或防水性涂敷剂使用。

15.如权利要求11或12所述的表面处理剂，其特征在于：

所述表面处理剂用于真空蒸镀。

16.一种含有权利要求11～15中任一项所述的表面处理剂的粒料。

17.一种包含基材、和在该基材的表面由权利要求1～10中任一项所述的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物或权利要求11～15中任一项所述表面处理剂形成的层的物品。

18.如权利要求17所述的物品，其特征在于：

所述物品为光学部件。