JP2019089332A

JP2019089332A - 基材

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Publication number: JP2019089332A
Application number: JP2018213462A
Authority: JP
Inventors: 尚志三橋; Hisashi Mitsuhashi; 香織小澤; Kaori Ozawa; 雅聡能勢; Masaaki Nose; 裕介渡邊; Yusuke Watanabe; ピーター・ハップフィールド; Hupfield Peter
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2017-11-15
Filing date: 2018-11-14
Publication date: 2019-06-13
Anticipated expiration: 2038-11-14
Also published as: JP6665915B2; WO2019098230A1; TW201936708A

Abstract

【課題】本発明は、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材を提供することを目的とする。【解決手段】表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である基材。【選択図】なし

Description

本発明は、基材、特に表面における撥水性の良好な基材に関する。

従来、表面における優れた撥水性を有する基材が、求められている。例えば、特許文献１には、表面における優れた撥水性を有する基材として、ある種のパーフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シランで処理された基材が記載されている。

特開２０１６−２０４６５６号公報

特許文献１に記載のような表面処理基材は、例えばタッチパネル、携帯電話もしくはスマートフォンの操作画面などの用途において用いられているが、これらの用途では摩擦耐久性が求められ、近年その要求は高まっている。しかしながら、特許文献１に記載のような表面処理基材は、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。本発明は、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材を提供することを目的とする。

本発明の第１の要旨によれば、本発明の基材は
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である。

本発明の第２の要旨によれば、本発明の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である。

本発明の第３の要旨によれば、本発明の基材は
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ^２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。

本発明によれば、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材が提供される。

以下、本発明の基材について説明する。

（態様１）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である。

上記試験用布としては、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥを用いる。上記試験用布は、一辺の長さが８ｃｍであり、該一辺に直交する他辺の長さが５ｃｍの矩形である。

上記ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥは、糸密度が、縦糸：２７０±１０本／ｄｍ、横糸：２７０±１０本／ｄｍ、かつ、糸番手が、縦糸：２９５±１０ｄｔｘ、横糸：２９５±１０ｄｔｘ、かつ、撚り数が、縦糸：２９５±１０Ｔ/ｍ、横糸：２９５±１０Ｔ/ｍ、かつ密度が１７０±１０ｇ／ｍ^２のコットンからなり、ＩＥＣ規格６０４５６のＡ．３．１．２に記載の組成物により汚染された布である。

上記ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥの表面粗さ（Ｒａ）は、１４〜２１μｍであってもよく、１６〜１９μｍであってもよい。

上記試験用布は、上記布に上記組成の人工汗が十分に浸透した状態にある。このような試験用布は、例えば、上記組成の人工汗に上記布を浸漬することによって得られる。上記布は、例えば、１０秒〜１０分間上記人工汗に浸漬される。なお、上記試験用布は、上記組成の人工汗に浸漬後の布を用いることができ、試験用布に付着している余分の人工汗の除去などを行う必要はない。

上記試験用布は、辺の長さが８ｃｍおよび５ｃｍの矩形に切断したものを用いる。上記の大きさの試験用布には、約１ｍｌ（例えば、０．５〜２．０ｍｌ）の人工汗が含まれ得る。

上記シリコーンは、試験用布を介して基材と接触する。即ち、上記摩擦子の基材と接触する面には、試験用布が存在する。上記試験用布と上記シリコーンとは、例えば、通常行われ得る手段（例えば接着剤、紐や輪ゴム）を用いて固定されていてもよい。但し、上記試験用布および上記シリコーンは、摩擦子と基材との接触面において凹凸部（例えば、試験用布の偏在により生じ得るシワ、たわみなど）は存在しないように固定されている。

上記試験用布で覆われたシリコーンよりなる摩擦子としては、例えば、直径２．５ｃｍの半球状のものを用いることができる。この場合、試験において基材を摩擦するのは、上記半球状の突起部（凸部）である。

上記摩擦試験は、上記摩擦子を基材の表面に沿うように反復移動させて行う。具体的には、上記摩擦試験は、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、基材の表面に、上記試験用布で覆われた摩擦子を設置し、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で、所定の距離（例えば２０ｍｍ）を往復させることによって行う。上記摩擦試験は、例えば、基材の表面が鉛直方向に沿って延在するように設置して行う。

上記摩擦試験に用いる機械としては、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄＡＢＲＥＸ（登録商標））を挙げることができる。

以下において、上記摩擦試験をより具体的に説明する。

まず、摩擦試験前の基材について、その表面における水の静的接触角の測定値（往復回数０回における水の静的接触角の測定値）を得る。

その後、基材の該表面において、摩擦試験を実施する。摩擦子の往復回数（即ち摩擦回数）１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が８０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。

より具体的には、摩擦子の往復回数が１０００回となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記１０００回の測定値が８０度未満である場合には、摩擦試験を中止する。上記１０００回の測定値が８０度以上である場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計２０００回）となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記２０００回の測定値が８０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記２０００回の測定値が８０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計３０００回）の場合の水の静的接触角の測定値を求める。上記３０００回の測定が８０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記３０００回の測定値が８０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数が４０００回の場合の水の静的接触角の測定値を求める。以下、水の静的接触角が８０度未満となるまで摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に水の静的接触角の測定値を求める。

次いで、上記の摩擦試験において得られた水の静的接触角の測定値と、摩擦子の往復回数との関係を求める。

一の態様において、摩擦子の往復回数が最大４０００回における、摩擦子の往復回数ｘ（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回での往復回数に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ_ｘ＝ηｘ＋θ（ηおよびθは定数）を求める。

ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。具体的には、摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回および１０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上であり、往復回数２０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、および２０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数２０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上であり、往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、２０００回および３０００回の値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上である場合には、往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回および４０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。

本態様の基材においては、上記の線形近似直線の勾配ηが−０．００９６超であり、好ましくは−０．００８５以上であり、より好ましくは−０．００８０以上、さらに好ましくは−０．００７０以上、特に好ましくは−０．００６０以上である。本態様の基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配ηの上限は特に限定されないが、例えば−０．０００１未満であってもよい。

上記線形近似直線におけるθは、例えば８０以上であり、具体的には９０以上であり、より具体的には１００以上であり、さらに具体的には１１０以上であり、１１４以上であってもよい。

別の態様において、摩擦子の往復回数が最大１００００回における、摩擦子の往復回数ｘ（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数ｘ（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ”_ｘ＝η”ｘ＋θ”（η”およびθ”は定数）を求める。ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。摩擦試験、水の静的接触角の測定値については、上記と同意義である。

本態様の基材においては、上記の線形近似直線の勾配η”が、好ましくは−０．００９６超であり、より好ましくは−０．００８５以上であり、さらに好ましくは−０．００８０以上であり、特に好ましくは−０．００７０以上であり、さらに好ましくは−０．００６０以上である。即ち、本態様の基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配η”の上限は特に限定されないが、例えば−０．０００１未満であってもよい。

上記線形近似直線におけるθ”は、例えば８０以上であり、具体的には９０以上であり、より具体的には１００以上であり、さらに具体的には１１０以上であり、１１４以上であってもよい。

本態様の基材は、摩擦試験前の静的接触角の測定値（即ち、往復回数０回の静的接触角の測定値）が高いことが好ましい。摩擦試験前の基材の接触角は、８０度以上であることが好ましく、１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることが特に好ましく、１１０度以上であることがさらに好ましい。

本態様の基材は、摩擦試験において、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは、８０度以上であり、より好ましくは、８４度以上であり、さらに好ましくは８５度以上であり、特に好ましくは、９０度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性が良好である。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。

摩擦子の往復回数０回の水の静的接触角の測定値に対する、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の割合は、０．７０以上にあってもよく、０．８０以上にあってもよい。上記割合の上限値は、特に限定されないが、例えば１．００以下、具体的には０．９８以下であってもよい。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。

本態様の基材は、摩擦試験において、摩擦子の往復回数５０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは、７５度以上であり、より好ましくは、８０度以上であり、さらに好ましくは、８５度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を特に良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。

本態様の基材において、ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満であることが好ましく、０．０３５未満であることがより好ましい。

好ましい態様において、本態様の基材は、さらに、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ^２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する紫外線照射後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。

紫外線（ＵＶ）の照射源としては、例えば、キセノンランプを用いることができる。上記ＵＶの照射は、より具体的には、基材のブラックパネル温度を５５度とし、ランプとＵＶの照射される基材の表面との距離を２９ｃｍとして行うことができる。

上記のようにＵＶを基材の表面に照射した後、摩擦試験前の該表面における水の静的接触角の測定値を求める。その後、該表面において摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。

具体的には、ＵＶ照射試験後の摩擦試験は、以下のように行う。

まず、ＵＶ照射試験後の基材で有り、かつ、摩擦試験前の基材について、その表面における水の静的接触角の測定値（即ち、往復回数０回のときの水の静的接触角の測定値）を得る。

その後、ＵＶ照射試験後の基材の表面に対して、摩擦試験を実施する。摩擦子の往復回数１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。

より具体的には、摩擦子の往復回数が１０００回となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記１０００回の測定値が５０度未満である場合には、摩擦試験を中止する。上記１０００回の測定値が５０度以上である場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計２０００回）となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記２０００回の測定値が５０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記２０００回の測定値が５０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計３０００回）の場合の水の静的接触角の測定値を求める。上記３０００回の測定値が５０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記３０００回の測定値が５０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数が４０００回の場合の水の静的接触角の測定値を求める。以下、水の静的接触角が５０度未満となるまで摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に水の静的接触角の測定値を求める。

次いで、上記の摩擦試験において得られたＵＶ照射後の水の静的接触角の測定値と、摩擦子の往復回数との関係を求める。

一の態様において、摩擦子の往復回数が最大３０００回における、摩擦子の往復回数ｘ’（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回での往復回数（回）に対するＵＶ照射試験後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ’_ｘ’＝η’ｘ’＋θ’（η’およびθ’は定数）を求める。

ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。具体的には、摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が５０度未満である場合には、往復回数０回および１０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が５０度以上であり、２０００回における水の静的接触角の測定値が５０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、および２０００回の値を用いて線形近似直線を形成する。

本態様の基材においては、上記のＵＶ照射試験後の線形近似直線の勾配η’が好ましくは−０．０２２２超であり、より好ましくは−０．０２００以上であり、さらに好ましくは−０．０１８０以上である。このような基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配η’の上限は特に限定されないが、例えば−０．００１未満であってもよい。

上記θ’は、例えば、９８以上であり、より具体的には１００以上である。

一の態様において、摩擦子の往復回数が最大６０００回における、摩擦子の往復回数ｘ’（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。該摩擦子の往復回数（回）に対するＵＶ照射試験後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ'''_ｘ'＝η'''ｘ'＋θ'''（η'''およびθ'''は定数）を求める。

上記線形近似直線においてη'''は、例えば、−０．０２２２超である。θ'''は、例えば、９８以上であり、より具体的には１００以上である。

本態様の基材は、上記ＵＶ照射試験後の摩擦試験において、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上であることが好ましく、５５度以上であることがより好ましく、６０度以上であることがさらに好ましく、７０度以上であることが特に好ましく、７５度以上であることがさらに好ましい。

本態様の基材は、少なくとも１の表面において、表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する。即ち、本態様の基材は、表面処理剤層と、ベース層とを含むことが好ましい。

上記ベース層は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、ベース層の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、ベース層の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、ベース層（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、ベース層は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

好ましい態様において、ベース層はガラスを含む。

上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが挙げられる。

一の態様において、上記ガラスは、化学強化ガラス、例えば化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスであり得る。

好ましい態様において、上記化学強化ガラスは、ＳｉＯ_２、およびＡｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＭｇＯ、Ｋ_２Ｏ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、およびＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される１つまたはそれ以上の酸化物を含む化学強化用ガラスを化学強化処理（典型的には、イオン交換）して得られるガラスであり得る。

好ましい態様において、上記化学強化用ガラスは、上記酸化物を、下記の割合（酸化物基準の重量百分率）で含有する。
ＳｉＯ_２：６０．０〜８０．０％
Ａｌ_２Ｏ_３：０．５〜１２．０％
Ｂ_２Ｏ_３：０〜３．０％
ＭｇＯ：０〜１２．０％
ＣａＯ：０〜５．０％
ＳｒＯ：０〜５．０％
ＢａＯ：０〜５．０％
Ｎａ_２Ｏ：３．０〜２０．０％
Ｋ_２Ｏ：０〜１０．０％

化学強化処理は、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、化学強化処理においては、大きなイオン半径の金属イオン（典型的には、Ｋイオン）を含む金属塩（例えば、硝酸カリウム）の融液に、浸漬などによってガラス板を接触させることにより、ガラス板中の小さなイオン半径の金属イオン（典型的には、ＮａイオンまたはＬｉイオン）が大きなイオン半径の金属イオンと置換される。

一の態様において、上記化学強化ガラスの圧縮応力層の厚みは、好ましくは３５μｍ以上、より好ましくは４０μｍ以上、さらに好ましくは４５μｍ以上であり得る。

上記化学強化ガラスの圧縮応力層の厚みは、化学強化用ガラスを化学強化する際の条件、化学強化用ガラスの組成等を調整することにより、適宜調整することができる。

ここに、圧縮応力層の厚みとは、ガラス板最表面を基準として圧縮応力が形成されている領域の深さである。かかる圧縮応力層の厚みは、表面応力計により測定することができる。例えば、圧縮応力層の厚みは、室温２５℃、湿度６０％の環境下、５８９ｎｍのＮａ光源にて、折原製作所社製表面応力計ＦＳＭ−６０００を用いて測定することができる。

ベース層の形状は特に限定されない。また、表面処理剤からなる層（表面処理層）を形成すべきベース層の表面領域は、ベース層の表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかるベース層としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、ベース層に何らかの前処理を施すことにより、ベース層の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、ベース層の表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、ベース層の表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、ベース層の表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかるベース層としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

上記表面処理剤は、パーフルオロポリエーテル基（以下、「ＰＦＰＥ基」ともいう）含有化合物を含み、ＰＦＰＥ基含有シラン化合物を含むことが好ましい。

上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、例えば、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）または（Ｄ２）で表される化合物である。

以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物について説明する。

本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

式（Ａ１）および（Ａ２）：

上記式中、Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基またはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、ＰＦＰＥは、各出現において独立して、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｊ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｊ−である。

ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、上記層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記式中、ｎ１は、（−ＳｉＲ^１３ _ｎ１Ｒ^１４ _３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは１〜３であり、より好ましくは３である。式中、少なくとも１つのｎ１が１〜３の整数であり、即ち、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ^１３が存在する。

一の態様において、式（Ａ１）および（Ａ２）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）において、ｎが１以上である−ＳｉＲ^１３ _ｎ１Ｒ^１４ _３−ｎ１構造（即ち、−ＳｉＲ^１３部分）が少なくとも２つ存在する。

上記式中、Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、α１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

別の態様において、Ｘ^１は、Ｘ^ｅであり得る。Ｘ^ｅは、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは、単結合または−Ｃ_６Ｈ_４−（すなわち−フェニレン−。以下、フェニレン基を示す。）、−ＣＯ−（カルボニル基）、−ＮＲ^４−および−ＳＯ_２−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記Ｒ^４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはＣ_１〜６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子、またはメチル基である。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＮＲ^４−または−ＳＯ_２−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。ここで、分子主鎖とは、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表す。

Ｘ^ｅは、より好ましくは、単結合または−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、および−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−、−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、または−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。

上記式中、α１は１〜９の整数であり、α１’は１〜９の整数である。これらα１およびα１’は、Ｘ^１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、α１およびα１’の和は、Ｘ^１の価数と同じである。例えば、Ｘ^１が１０価の有機基である場合、α１およびα１’の和は１０であり、例えばα１が９かつα１’が１、α１が５かつα１’が５、またはα１が１かつα１’が９となり得る。また、Ｘ^１が２価の有機基である場合、α１およびα１’は１である。式（Ａ２）においては、α１はＸ^１の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１は２〜４価の有機基であり、α１は１〜３であり、α１’は１である。

別の態様において、Ｘ^１は２価の有機基であり、α１は１であり、α１’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。

上記Ｘ^１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ^３１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^３１およびＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２中の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。なお、アルキレン基とは、−（Ｃ_δＨ_２δ）−構造を有する基であり、置換または非置換であってよく、直鎖状または分枝鎖状であってもよい。

さらに好ましくは、上記Ｘ^１は、
−Ｘ^ｆ−、
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
である。式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。
上記式中、Ｘ^ｆは、炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のアルキレン基、例えばメチレン基である。Ｘ^ｆ中の水素原子は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよく、好ましくは置換されている。Ｘ^ｆは、直鎖状または分枝鎖状であってもよく、好ましくは直鎖状である。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

特に好ましくは、上記Ｘ^１は、
−Ｘ^ｆ−、
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、Ｘ^ｆ、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
であり、
Ｘ^ｃが、−Ｏ−、または−ＣＯＮＲ^３４−、
Ｘ^ｄが、−ＣＯＮＲ^３４−、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表す。］
で表される基である。

一の態様において、上記Ｘ^１は、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、Ｘ^ｆ、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
であり、
Ｘ^ｃが、−ＣＯＮＲ^３４−、
Ｘ^ｄが、−ＣＯＮＲ^３４−、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表す。］
で表される基である。

より好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^１は、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^１基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｘ^１基は、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^１基としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎｅ−（ｎｅは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

上記Ｘ^１の具体的な例としては、例えば：
単結合
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記の中では、Ｘ^１は、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、または
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、
であることが好ましい。

上記の中では、より好ましくは、Ｘ^１は、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
である。

より好ましい態様において、Ｘ^１は、Ｘ^ｅ’を表す。Ｘ^ｅ’は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、−Ｒ^５１−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯＮＲ^４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯ−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２ＮＲ^４−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−、−Ｒ^５１−ＳＯ_２−Ｒ^５２−、または−Ｒ^５１−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２−である。Ｒ^５１およびＲ^５２は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数１〜３のアルキレン基である。Ｒ^４は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。

さらに好ましい態様において、Ｘ^ｅ’は、
単結合、
−Ｘ^ｆ−、
炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−６アルキレン基、好ましくは−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−３アルキレン基、より好ましくは−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２アルキレン基、
−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＣＯ−Ｒ^５２’−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２−Ｒ^５２’−、
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｒ^５１’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＣＯ−、
−Ｒ^５１’−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２ＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２−、
−Ｒ^５１’−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−
−ＣＯＮＲ^４’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−
−ＳＯ_２−、または
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
（式中、Ｒ^５１’およびＲ^５２’は、それぞれ独立して、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキレン基であり、上記したように、上記アルキレン基は、置換または非置換であり、上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。
Ｒ^４’は、水素原子またはメチルである。）
であり得る。

上記の中で、Ｘ^ｅ’は、好ましくは、
−Ｘ^ｆ−、
炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜３のアルキレン基、
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−６アルキレン基、好ましくは−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−３アルキレン基、より好ましくは−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２アルキレン基、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮＲ^４’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−、または
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
であり得る。式中、Ｘ^ｆ、Ｒ^４’、Ｒ^５１’およびＲ^５２’は、それぞれ上記と同意義である。

上記の中で、Ｘ^ｅ’は、より好ましくは、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｒ^５２’−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５２’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−、
−Ｒ^５１’−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮＲ^４’−、
−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−、または
−Ｘ^ｆ−ＣＯＮＲ^４’−Ｃ_６Ｈ_４−、
であり得る。

本態様において、Ｘ^ｅ’の具体例としては、例えば、
単結合、
炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキレン基（例えば、−ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_２−等）、
炭素数１〜６のアルキレン基、
−ＣＦ_２−Ｃ_１−６アルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２ＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２−、
−ＳＯ_２−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_３−、または
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
などが挙げられる。

上記列挙の中で、好ましいＸ^ｅ’としては、
炭素原子数１〜６のアルキレン基、
炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキレン基（例えば、−ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_２−等）、
−ＣＦ_２−Ｃ_１−６アルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−
−ＣＦ_２−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
などが挙げられる。

上記列挙の中で、より好ましいＸ^ｅ’としては、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−
−ＣＦ_２−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、または
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
などが挙げられる。

一の態様において、Ｘ^ｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ａ１）および（Ａ２）においては、α１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。

さらに別の態様において、Ｘ^１は、式：−（Ｒ^１６）_ｘ−（ＣＦＲ^１７）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^１８−（式中、Ｒ^１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１６は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^１９）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９−（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

この態様において、Ｘ^１は、好ましくは、式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。

上記式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_ｚ””、および−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＦ_２）_ｙ”−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。

別の好ましい態様において、Ｘ^１は、−Ｏ−ＣＦＲ^２０−（ＣＦ_２）_ｅ’−である。

上記Ｒ^２０は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。ここで低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

上記ｅ’は、それぞれ独立して、０または１である。

一の具体例において、Ｒ^２０はフッ素原子であり、ｅ’は１である。

さらに別の態様において、Ｘ^１基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

この態様において、Ｘ^１（および、下記するＸ^３、Ｘ^５およびＸ^７）は、３〜１０価の有機基であり得る。

上記式中、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ^２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。

上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−ＣＦＲ^２０−（ＣＦ_２）_ｅ’−であり；
Ｒ^２０は、各出現においてそれぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^２は、−（ＣＨ_２）_ｕ−であり；
ｕは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数である。］
で表される化合物である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ_２ＣＲ^１２（Ｘ^２−ＳｉＲ^１３ _ｎ１Ｒ^１４ _３−ｎ１）−に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。

式（Ｂ１）および（Ｂ２）：

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ^１３、Ｒ^１４およびｎ１は、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^１３ _ｎ１Ｒ^１４ _３−ｎ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

別の態様において、Ｘ^３は、Ｘ^ｅを表す。Ｘ^ｅは、上記と同意義である。

上記式中のβ１は、１〜９の整数であり、β１’は、１〜９の整数である。これらβ１およびβ１’は、Ｘ^３の価数に応じて変化し得る。式（Ｂ１）において、β１およびβ１’の和は、Ｘ^３の価数と同じである。例えば、Ｘ^３が１０価の有機基である場合、β１およびβ１’の和は１０であり、例えばβ１が９かつβ１’が１、β１が５かつβ１’が５、またはβ１が１かつβ１’が９となり得る。また、Ｘ^３が２価の有機基である場合、β１およびβ１’は１である。式（Ｂ２）において、β１はＸ^３の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^３は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^３は２〜４価の有機基であり、β１は１〜３であり、β１’は１である。

別の態様において、Ｘ^３は２価の有機基であり、β１は１であり、β１’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ^３は、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−または−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−である］
で表される化合物である。

上記Ｘ^３の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^３は、
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記の中では、Ｘ^３は、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、
であることが好ましい。

上記の中では、より好ましくは、Ｘ^３は、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
である。

別の好ましい態様において、Ｘ^３は、Ｘ^ｅ’を表す。Ｘ^ｅ’は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^ｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｂ１）および（Ｂ２）においては、β１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。

一の態様において、式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、ＳｉＲ^１３の構造が少なくとも２つ存在する。

好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ^３は、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−または−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−である。］
で表される化合物である。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特開２０１３−１１７０１２号公報に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。

式（Ｃ１）および（Ｃ２）：

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^５は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^ａ _ｋ１Ｒ^ｂ _ｌ１Ｒ^ｃ _ｍ１基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^５は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

別の態様において、Ｘ^５は、Ｘ^ｅを表す。Ｘ^ｅは、上記と同意義である。

上記式中のγ１は、１〜９の整数であり、γ１’は、１〜９の整数である。これらγ１およびγ１’は、Ｘ^５の価数に応じて変化し得る。式（Ｃ１）において、γ１およびγ１’の和は、Ｘ^５の価数と同じである。例えば、Ｘ^５が１０価の有機基である場合、γ１およびγ１’の和は１０であり、例えばγ１が９かつγ１’が１、γ１が５かつγ１’が５、またはγ１が１かつγ１’が９となり得る。また、Ｘ^５が２価の有機基である場合、γ１およびγ１’は１である。式（Ｃ２）において、γ１はＸ^５の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^５は２〜４価の有機基であり、γ１は１〜３であり、γ１’は１である。

別の態様において、Ｘ^５は２価の有機基であり、γ１は１であり、γ１’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。

上記Ｘ^５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^５は、
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記の中では、Ｘ^５は、好ましくは、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、
であることが好ましい。

上記の中では、より好ましくは、Ｘ^５は、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
である。

別の好ましい態様において、Ｘ^５は、Ｘ^ｅ’を表す。Ｘ^ｅ’は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^ｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、γ１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。

上記式中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１ _ｐ１Ｒ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１を表す。

式中、Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚ^３は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。紫外線耐久性が特に良好な観点からは、上記Ｚ^３は、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Ｚ^３のアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは１〜６の範囲にあり、より好ましくは１〜３の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。

式中、Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義である。

Ｒ^ａ中、Ｚ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａにおいて、Ｒ^７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ中にＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ中において直鎖状に連結される−Ｚ^３−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ａ中においてＺ^３基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ^３Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ^３Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ^３基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺ^３Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺ^３Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、Ｚ^３Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ａ中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。「加水分解可能な基」は、上記と同意義である。

好ましくは、Ｒ^７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１ _ｐ１Ｒ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）毎において、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ中の末端のＲ^ａ’（Ｒ^ａ’が存在しない場合、Ｒ^ａ）において、上記ｑ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）_２または−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）_３であり得る。式中、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）の単位は、好ましくは（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑ１Ｒ^７３ _ｒ１）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _３）_３であり得る。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり、すなわち、少なくとも１つのＲ^７２が存在する。

一の態様において、式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、ＳｉＲ^７２および／またはＳｉＲ^ｂの構造が少なくとも２つ存在する。

上記式中、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記Ｒ^ｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（ＳｉＲ^ａ _ｋ１Ｒ^ｂ _ｌ１Ｒ^ｃ _ｍ１）毎において、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は、３である。

一の態様において、ｋ１は、１〜３であることが好ましく、３であることがより好ましい。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基、次いで不飽和結合を有する基を導入し、最後に導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載のように合成することができる。

式（Ｄ１）および（Ｄ２）：

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。

上記式中、Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^７は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δ１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^７は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

別の態様において、Ｘ^７は、Ｘ^ｅを表す。Ｘ^ｅは、上記と同意義である。

上記式中、δ１は１〜９の整数であり、δ１’は１〜９の整数である。これらδ１およびδ１’は、Ｘ^７の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δ１およびδ１’の和は、Ｘ^７の価数と同じである。例えば、Ｘ^７が１０価の有機基である場合、δ１およびδ１’の和は１０であり、例えばδ１が９かつδ１’が１、δ１が５かつδ１’が５、またはδ１が１かつδ１’が９となり得る。また、Ｘ^７が２価の有機基である場合、δ１およびδ１’は１である。式（Ｄ２）においては、δ１はＸ^７の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^７は２〜４価の有機基であり、δ１は１〜３であり、δ１’は１である。

別の態様において、Ｘ^７は２価の有機基であり、δ１は１であり、δ１’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。

上記Ｘ^７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。

中でも、好ましい具体的なＸ^７は、
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

上記の中で、より好ましい具体的なＸ^７は、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−、
−（ＣＦ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、
であることが好ましい。

上記の中では、より好ましくは、Ｘ^７は、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
である。

より好ましい態様において、Ｘ^７は、Ｘ^ｅ’を表す。Ｘ^ｅ’は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^ｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｄ１）および（Ｄ２）においては、δ１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。このような構造を有することによって、ＰＦＰＥとδ１を付して括弧でくくられた基との結合力がより強くなると考えられる。また、ＰＦＰＥと直接結合する炭素原子（即ち、δ１を付して括弧でくくられた基においてＲ^ｄ _、Ｒ^ｅおよびＲ^ｆと結合する炭素原子）は電荷の偏りが少なく、その結果、上記炭素原子において求核反応等が生じにくく、当該化合物は基材と安定に結合すると考えられる。このような構造は、ＰＦＰＥシラン化合物により形成される層の摩擦耐久性をより向上させることができｒので、有利である。

上記式中、Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^４−ＣＲ^８１ _ｐ２Ｒ^８２ _ｑ２Ｒ^８３ _ｒ２を表す。

式中、Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表す。Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義である。

Ｒ^ｄ中、Ｚ^４基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄにおいて、Ｒ^８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ中にＺ^４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ中のＺ^４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ^４−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ中のＺ^４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄのＺ^４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^８２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２を表す。

Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。

好ましい態様において、Ｙは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｙは、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

上記Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）と同様のものが挙げられる。

好ましくは、Ｒ^８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。

上記Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）単位毎に独立して、０〜３の整数を表し、好ましくは１〜３の整数、より好ましくは２または３、特に好ましくは３である。

上記Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（−Ｚ^４−ＣＲ^８１ _ｐ２Ｒ^８２ _ｑ２Ｒ^８３ _ｒ２）毎において、ｐ２、ｑ２およびｒ２の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ中の末端のＲ^ｄ’（Ｒ^ｄ’が存在しない場合、Ｒ^ｄ）において、上記ｑ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄの末端部の少なくとも１つは、−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）_２または−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）_３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）_３であり得る。式中、（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）の単位は、好ましくは（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ｄ１の末端部は、すべて−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）_３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _３）_３であり得る。

上記式中、Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２を表す。ここに、Ｙ、Ｒ^８５、Ｒ^８６およびｎ２は、上記Ｒ^８２における記載と同意義である。

上記式中、Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。

一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｌ２は２または３であり、好ましくは３である。

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、−Ｙ−ＳｉＲ^８５で表される基が２以上存在する。より好ましくは、２以上の−Ｙ−ＳｉＲ^８５に結合した炭素原子が１以上存在する。即ち、−Ｃ−（Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２）_２で表される基が１以上存在することが好ましい（式中、ｎ２は１〜３の整数である。）。

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ｎ２は１〜３の整数であり、および、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｎ２Ｒ^８６ _３−ｎ２基が存在する。

式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘ^７が２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。

ＨＯ−Ｘ^７−Ｃ（ＹＯＨ）_３（式中、Ｘ^７およびＹは、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ−Ｘ^７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、Ｒ^ＰＦＰＥ−ＯＨ（式中、Ｒ^ＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、Ｒ^ＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ^７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_３を得る。次いで、末端の−ＣＨ＝ＣＨ_２と、ＨＳｉＣｌ_３およびアルコールまたはＨＳｉＲ^８５ _３と反応させて、Ｒ^ＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ^７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳｉＲ^８５ _３）_３を得ることができる。

上記したＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００、さらに好ましくは３，０００〜６，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において、数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

好ましくは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、上記式（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）または（Ｄ２）のいずれかで表される化合物である。

上記表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１ＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。

上記溶媒中に含まれる水分含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。

上記表面処理剤は、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６・・・（１）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^６・・・（１ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^６・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、高い表面滑り性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００〜８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００〜３０，０００である。

上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜１００質量部、より好ましくは１〜５０質量部、さらに好ましくは１〜５質量部で含まれ得る。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５０質量部、好ましくは０〜５質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。

上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。

上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。

上記表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

上記表面処理剤からなる層とベース層とを含む基材の形成は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、ベース層を準備する。ベース層については上記のとおりである。

ベース層の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成される場合、これらの層（または膜）は、これらの層（または膜）の形成される表面（本段落において、被処理層と称する）の表面をイオンクリーニング後に形成されることが好ましい。上記イオンクリーニングは、例えば、酸素ガス、および／または不活性ガス（例えば、アルゴン、キセノン、窒素など）を用いてイオンビームを被処理層の表面に照射することによって行い得る。上記照射にはイオン銃を用いることができる。イオンクリーニングすることにより、被処理層の表面から有機物などが除去され、反射防止層が被処理層に、より強固に接着し得る。

上記イオンクリーニングは、例えば、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガスを用いて行い得る。上記混合ガスとしては、酸素ガスを５〜１００ｃｃ／分、およびアルゴンガスを５〜１００ｃｃ／分含むガスを用いることが好ましく、酸素ガスを２０〜５０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜４０ｃｃ／分含むガスを用いることがより好ましく、酸素ガスを３０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜２０ｃｃ／分含むガスを用いることがさらに好ましい。

上記イオンビームの照射は、１０〜６００秒間照射することが好ましく、５０〜４００秒間照射することがより好ましく、２００〜３００秒間照射することがさらに好ましい。

好ましい態様において、上記イオンクリーニングは、酸素ガスを３０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜２０ｃｃ／分含むガスを用いて、イオンビームを２００〜３００秒間照射する。

ベース層の表面に反射防止層が形成される場合、反射防止層は（例えばガラスなどの表面に）蒸着（例えば、真空蒸着）により形成されたものであり得る。上記反射防止層（例えば二酸化ケイ素膜）の厚みは、例えば１０ｎｍ未満とすることができ、具体的には３〜８ｎｍ、より具体的には４．５ｎｍとすることができる。このような厚みとすることによって、より摩擦耐久性の良好な表面処理層を有する基材を形成し得る。

その後、ベース層の表面をイオンクリーニングする。イオンクリーニングは、例えば、酸素ガス、および／または不活性ガス（例えば、アルゴン、キセノン、窒素など）を用いてイオンビームをベース層の表面に照射することによって行い得る。上記照射にはイオン銃を用いることができる。イオンクリーニングすることにより、ベース層の表面から有機物などが除去され、表面処理剤からなる層がベース層に、より強固に接着し得る。

上記ベース層の表面のイオンクリーニングは、例えば、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガスを用いて行い得る。上記混合ガスとしては、酸素ガスを５〜１００ｃｃ／分、およびアルゴンガスを５〜１００ｃｃ／分含むガスを用いることが好ましく、酸素ガスを２０〜５０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜４０ｃｃ／分含むガスを用いることがより好ましく、酸素ガスを２５〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１５〜３０ｃｃ／分含むガスを用いることがさらに好ましい。

上記ベース層の表面のイオンクリーニングにおいて、上記イオンビームの照射は、１〜２００秒間照射することが好ましく、１〜１００秒間照射することがより好ましく、５〜４０秒間照射することがさらに好ましい。

好ましい態様において、上記ベース層の表面のイオンクリーニングは、酸素ガスを２５〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１５〜３０ｃｃ／分含むガスを用いて、イオンビームを５〜４０秒間照射する。

イオンクリーニング後のベース層の表面に、上記表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、上記表面処理剤から表面処理層を形成する。

上記表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤をベース層の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

その後、加熱処理を行う。

上記加熱処理は、６０℃以上で行うことが好ましく、１００℃以上で行うことがより好ましく、１４０℃以上で行うことがさらに好ましい。上記加熱処理は、３００℃以下で行うことが好ましく、２５０℃以下で行うことがより好ましく、２００℃以下で行うことがさらに好ましい。

上記加熱処理は、６０〜３００℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０〜２００℃の範囲の温度で行うことがより好ましく、１００〜１８０℃の範囲の温度で行うことがさらに好ましい。

上記加熱処理は、５分以上行うことが好ましく、１５分以上行うことがより好ましく、３０分以上行うことがさらに好ましい。上記加熱処理は、６００分以下行うことが好ましく、３００分以下行うことがより好ましく、９０分以下行うことがさらに好ましく、７０分以下行ってもよい。

上記加熱処理は、５〜３００分間行うことが好ましく、１５〜１２０分間行うことがより好ましく、３０〜９０分間行うことがさらに好ましい。

上記加熱処理は、６０〜２００℃の範囲の温度において５〜２００分間行うことが好ましく、１００〜１８０℃の範囲の温度において１５〜９０分間行うことがより好ましい。

好ましい態様においては、ベース層のイオンクリーニングを、酸素ガスを２０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜３０ｃｃ／分含むガスを用いて、１０〜４０℃の範囲の温度で、イオンビームを１０〜３００秒間照射し、その後、表面処理剤からなる層を形成し、加熱処理を１００〜１８０℃の範囲の温度において１５〜９０分間行う。

その後、形成された膜の表面処理を行うことが好ましい。表面処理は、エタノールを用いて行うことが好ましい。具体的には、キムワイプ（登録商標）ワイパーＳ−２００（日本製紙クレシア株式会社製）にエタノールをしみ混ませたもの（具体的には、キムワイプ１枚（１２０ｍｍ×２１５ｍｍ）あたりエタノールを１〜２ｍｌしみ混ませたもの）を用いて、形成された膜の表面を拭く。より具体的には、形成された膜の表面を、上記エタノールをしみ混ませたキムワイプを用いて２０往復させ拭く。その後、別途用意したキムワイプ（登録商標）ワイパーＳ−２００を用いて、膜の表面をから拭きする。このような処理を行うことにより、本発明の基材は、耐摩擦性の向上に寄与し得る。

上記のようにして、ベース層の表面に、上記表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成される。これにより得られる表面処理層は、帯電性が低い。また、この表面処理層は、低帯電性であることに加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、摩擦耐久性、透明性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本態様の基材は、表面処理層を最外層に有する光学材料にも用い得る。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本態様によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシートまたはそのカバーガラス；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本態様によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、好ましくは１０^１２Ω以下、より好ましくは１０^１０Ω以下、さらに好ましくは１０^９Ω以下、例えば１０^８Ω以下の表面抵抗値を有し得る。表面抵抗値を低くすることにより、物品の帯電性を低減することができる。また、上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、好ましくは１０^６Ω以上、より好ましくは１０^７Ω以上、さらに好ましくは１０^８Ω以上の表面抵抗値を有し得る。表面抵抗値を大きくすることにより、例えば静電容量方式のタッチパネルなどにおいて、タッチパネルの動作を担保することができる。好ましい態様において、上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、１０^６Ω以上１０^１２Ω以下、より好ましくは１０^８Ω以上１０^１０Ω以下の表面抵抗値を有し得る。

（態様２）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である。

本態様の説明において、摩擦試験、および水の静的接触角等、態様１の記載と重複する記載は省略することがある。

本態様の基材は、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは８４度以上であり、より好ましくは８５度以上であり、さらに好ましくは、９０度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性が良好である。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。

本態様の基材は、摩擦試験前の接触角の測定値が高いことが好ましい。摩擦試験前の基材の接触角は、８０度以上であることが好ましく、１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることが特に好ましく、１１０度以上であることがさらに好ましい。

ＵＶの照射試験については、上記態様１に記載のとおりである。

本態様の基材は、少なくとも１の表面において、表面処理剤からなる層を含み得る。即ち、本態様の基材は、表面処理剤からなる層と、ベース層とを含むことが好ましい。表面処理層、ベース層については、上記態様１に記載のとおりである。

（態様３）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ^２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する紫外線照射後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。

本態様の基材は、上記ＵＶ照射試験後の摩擦試験において、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上であることが好ましい。

ＵＶ照射試験後の基材において、摩擦子の往復回数０回の水の静的接触角の測定値に対する、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の割合は、０．３５以上にあってもよく、０．５０以上にあってもよい。上記割合の上限値は、特に限定されないが、例えば１．００以下、具体的には０．９８以下であってもよい。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。

本発明について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＣＦ_２Ｏ）、および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。また、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。

実施例および比較例で用いるＰＦＰＥ含有シラン化合物は以下のとおりである。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₂₈CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₉(CF₂O)₂₈CF₂CONHCH₂C[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CONHCH₂C[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

（実施例１）
化合物（Ａ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

上記表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、まず、圧力７．０×１０^−４Ｐａで、この化学強化ガラス表面を、２４０秒間イオンクリーニング（Ｏ_２ガス／Ａｒガス＝３５／１５ｃｃ／分）処理し、続いて、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、二酸化ケイ素を４．５ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成した。次に、その表面を２０秒間イオンクリーニング（Ｏ_２ガス／Ａｒガス＝３０／２０ｃｃ／分）処理し、その後、化学強化ガラス１枚（６８ｍｍ×１４２ｍｍ）あたり、表面処理剤１を４ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．８ｍｇ含有）蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度１５０℃で６０分間加熱処理し、最後に、エタノールで表面処理することで、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。

（実施例２〜５）
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）〜化合物（Ｅ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。

（比較例１）
上記表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、まず、圧力７．０×１０^−４Ｐａで、この化学強化ガラス表面を、２４０秒間イオンクリーニング（Ｏ_２ガス／Ａｒガス＝３５／１５ｃｃ／分）処理し、続いて、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、二酸化ケイ素を４．５ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成した。次に、その表面に化学強化ガラス１枚（６８ｍｍ×１４２ｍｍ）あたり、表面処理剤１を４ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．８ｍｇ含有）蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２１℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置し、最後に、エタノールで表面処理することで、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。

（比較例２〜５）
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）〜化合物（Ｅ）を用いた以外は、比較例１と同様にして、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。

実施例および比較例で得られた表面処理層の評価は以下のように行った。

・水の静的接触角の測定
水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水２μＬにて２１℃、６５％湿度の環境下で実施した。

・摩擦耐久性試験
摩擦耐久性試験は以下のように行った。

まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した（摩擦回数０回）。

次いで、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄＡＢＲＥＸ（登録商標））に、上記の実施例または比較例にて得られた表面に表面処理層を有する基材を取り付けた。ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機に備え付けのシリコーン摩擦子の表面を試験用布で覆った。試験用布としては、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）を、以下の組成の人工汗に浸漬したものを用いた。上記摩擦子に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を速度４０ｍｍ／秒、摩擦距離２０ｍｍで往復させた。摩擦子の往復回数（摩擦回数）１０００回毎に、水の静的接触角の測定値が８０度未満となるまで摩擦試験を行い、それぞれにおいて水の静的接触角の測定値を測定した。
・人工汗の組成
リン酸三ナトリウム：５．５ｇ
塩化ナトリウム：１０ｇ
乳酸：３．１ｇ
リシン：５ｇ
蒸留水：１００ｍｌ

実施例および比較例で得られた静的接触角の測定結果を、表１に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

表１の静的接触角の測定値および摩擦回数に基づいて、摩擦回数と水の静的接触角の測定値との関係を求めた。摩擦回数が最大４０００回のときの、摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ_ｘの関係を表す線形近似直線（ηおよびθは定数）、および、摩擦回数が最大１００００回のときの、摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ”_ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ”_ｘ＝η”ｘ＋θ”（η”およびθ”は定数）の式を表２にそれぞれ示す。

・表面滑り性評価（動摩擦係数の測定）
実施例にて形成された表面に表面処理層を有する基材について、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、実施例および比較例で形成された基材を水平に配置し、摩擦子である紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を基材の表面の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与した。その後、荷重を加えた状態で、摩擦子である紙を２００ｍｍ／秒の速度で平行移動させて、動摩擦係数を測定した。結果を、表３に示す。

上記のように、実施例１〜５で形成された基材は、優れた滑り性を有することが分かった。

・ＵＶ照射試験およびＵＶ照射後の摩耗耐久性試験
上記の実施例および比較例にて形成された表面に表面処理層を有する基材に、スーパーキセノンウェザーメーター型式ＳＸ７５（スガ試験機株式会社）を用いて、７．５ｋｗの水冷式キセノンランプを３００時間照射した。照射条件は、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍにおいて放射照度６２Ｗ／ｍ^２、基材のブラックパネル温度は、５５度で、ランプと基材の表面との距離は、２９ｃｍとした。

その後、ＵＶ照射後の基材について、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した（摩擦回数０回）。

次いで、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄＡＢＲＥＸ（登録商標））に、上記実施例および比較例にて得られた表面に表面処理層を有する基材であって、その後ＵＶ照射試験を行った基材を取り付けた。ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機に備え付けのシリコーン摩擦子の表面を、上記した組成の人工汗に浸漬した試験用布（ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆った。上記摩擦子に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を速度４０ｍｍ／秒、摩擦距離２０ｍｍで往復させた。摩擦子の往復回数（摩擦回数）１０００回毎に、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで摩擦試験を行い、それぞれにおいて水の静的接触角の測定値を測定した。結果を表４に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

表４の静的接触角の測定値および摩擦回数に基づいて、摩擦回数最大３０００回のときの摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ’_ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ’_ｘ＝η’ｘ＋θ’（η’およびθ’は定数）、および、摩擦回数最大６０００回のときの摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ'''_ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ'''_ｘ＝η'''ｘ＋θ'''（η'''およびθ'''は定数）を求めた。線形近似直線の式を表５に示す。

本発明の基材は、基材の表面において撥水性が求められる様々な分野に用い得る。

Claims

表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である基材。
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である、基材。
往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である、請求項１に記載の基材。
ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の基材。
ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０３５未満である、請求項１〜４のいずれかに記載の基材。
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ^２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）ｓｔａｎｄａｒｄｃｏｔｔｏｎｓｏｉｌｉｎｇｔｅｘｔｉｌｅＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である基材。
往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上である、請求項６に記載の基材。
ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満である、請求項６または７に記載の基材。
ＡＳＴＭＤ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０３５未満である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の基材。